KR20220044580A - Coloring composition, cured film, color filter and display device - Google Patents

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Abstract

적색 착색제를 포함하는 착색제와, 수지와, 중합성 화합물과, 광중합 개시제를 포함하는 착색 조성물. 상기 수지는, 블록 아이소사이아네이트기를 포함하는 반복 단위를 갖는 수지 BI를 포함한다. 상기 착색 조성물은, 파장 400~500nm의 광에 대한 흡광도의 최댓값 Amax1과 파장 550~700nm의 광에 대한 흡광도의 최솟값 Amin1의 비 Amax1/Amin1이 25 이상이며, 파장 500nm의 광에 대한 흡광도를 1로 했을 때, 흡광도가 0.3이 되는 파장이 570~620nm의 범위에 존재한다. 상술한 착색 조성물을 경화하여 얻어지는 경화막, 및, 상술한 경화막을 포함하는 컬러 필터 및 표시 장치.The coloring composition containing the coloring agent containing a red coloring agent, resin, a polymeric compound, and a photoinitiator. The resin includes resin BI having a repeating unit containing a blocked isocyanate group. In the coloring composition, the ratio A max1 /A min1 of the maximum absorbance value A max1 with respect to the light of a wavelength of 400 to 500 nm and the minimum value A min1 of the absorbance with respect to the light having a wavelength of 550 to 700 nm is 25 or more, and the light with a wavelength of 500 nm When the absorbance is 1, the wavelength at which the absorbance is 0.3 exists in the range of 570 to 620 nm. The cured film obtained by hardening|curing the coloring composition mentioned above, and the color filter and display apparatus containing the cured film mentioned above.

Description

착색 조성물, 경화막, 컬러 필터 및 표시 장치Coloring composition, cured film, color filter and display device

본 발명은, 착색 조성물에 관한 것이다. 보다 자세하게는, 컬러 필터의 적색 화소 형성 등에 이용되는 착색 조성물에 관한 것이다. 또, 본 발명은, 착색 조성물을 이용한 경화막, 컬러 필터 및 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a coloring composition. In more detail, it is related with the coloring composition used for red pixel formation of a color filter, etc. Moreover, this invention relates to the cured film using a coloring composition, a color filter, and a display apparatus.

각종 표시 장치에 있어서, 표시 화상의 컬러화를 위하여 컬러 필터가 일반적으로 이용되고 있다. 예를 들면, 특허문헌 1에는, p-아세톡시스타이렌 유래의 반복 단위와, 2-(3,5-다이메틸-1H-피라졸-1-카복시아마이드)에틸메타크릴레이트 유래의 반복 단위를 포함하는 수지와, 착색제와, 중합성 화합물과, 광중합 개시제를 포함하는 착색 조성물을 이용하여 컬러 필터 등을 제조하는 것이 기재되어 있다.In various display devices, a color filter is generally used for colorizing a display image. For example, in Patent Document 1, a repeating unit derived from p-acetoxystyrene and a repeating unit derived from 2-(3,5-dimethyl-1H-pyrazole-1-carboxyamide)ethyl methacrylate are It describes manufacturing a color filter etc. using the coloring composition containing resin, a coloring agent, a polymeric compound, and a photoinitiator contained.

특허문헌 1: 한국 공개특허공보 제10-2017-0118438호Patent Document 1: Korean Patent Publication No. 10-2017-0118438

일반적으로 컬러 필터는, 복수 색의 화소를 갖고 있다. 이와 같은 복수 색의 화소를 갖는 컬러 필터는, 각 색의 화소 형성용의 착색 조성물을 순차 패턴 형성하여 각 색의 화소를 형성하여 제조된다.In general, a color filter has pixels of a plurality of colors. The color filter which has such a multiple-color pixel pattern-forms the coloring composition for pixel formation of each color sequentially, and forms the pixel of each color, and is manufactured.

한편, 최근에 있어서는, 내열성이 낮은 부재(예를 들면, 유기 일렉트로 루미네선스 표시 소자 등의 유기 반도체 소자) 상에 컬러 필터를 형성하는 경우도 있다. 이와 같은 부재는 내열성이 낮기 때문에, 예를 들면 150℃ 이하의 저온 프로세스에서 컬러 필터의 화소를 형성하여, 지지체에 대한 열적 대미지를 억제하는 것이 바람직하다.On the other hand, in recent years, a color filter may be formed on the member with low heat resistance (For example, organic-semiconductor elements, such as an organic electroluminescent display element). Since such a member has low heat resistance, it is preferable to form the pixel of the color filter in a low-temperature process of, for example, 150° C. or less to suppress thermal damage to the support.

그러나, 저온 프로세스에서 화소를 형성한 경우, 화소의 경화 정도가 불충분한 경우가 있어, 타색(他色)의 화소를 형성할 때에, 타색의 착색 조성물과의 혼색이 발생하여 분광 특성이 변동되기 쉬운 경향이 있었다. 또, 본 발명자의 검토에 의하면, 특허문헌 1에 기재된 착색 조성물에 있어서도, 타색과의 혼색에 대하여 추가적인 개선의 여지가 있는 것을 알 수 있었다.However, when a pixel is formed in a low-temperature process, the degree of hardening of the pixel may be insufficient, and when forming a pixel of a different color, color mixing with the coloring composition of the other color occurs and the spectral characteristics are liable to fluctuate. tended to Moreover, according to examination of this inventor, also in the coloring composition of patent document 1, it turned out that there exists room for further improvement with respect to mixing with other colors.

따라서, 본 발명의 목적은, 타색과의 혼색이 억제된 경화막을 형성할 수 있는 착색 조성물, 경화막, 컬러 필터 및 표시 장치를 제공하는 것에 있다.Therefore, the objective of this invention is providing the coloring composition which can form the cured film by which color mixing with other colors was suppressed, a cured film, a color filter, and a display apparatus.

본 발명자의 검토에 의하면, 후술하는 착색 조성물을 이용함으로써 상기 목적을 달성할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 본 발명은 이하를 제공한다.According to examination of this inventor, it discovered that the said objective can be achieved by using the coloring composition mentioned later, and came to complete this invention. The present invention provides the following.

<1> 적색 착색제를 포함하는 착색제와, 수지와, 중합성 화합물과, 광중합 개시제를 포함하는 착색 조성물로서,<1> A coloring composition containing a colorant containing a red colorant, a resin, a polymerizable compound, and a photoinitiator, comprising:

상기 수지는, 블록 아이소사이아네이트기를 포함하는 반복 단위를 갖는 수지 BI를 포함하고,The resin comprises a resin BI having a repeating unit comprising a block isocyanate group,

상기 착색 조성물은, 파장 400~500nm의 광에 대한 흡광도의 최댓값 Amax1과 파장 550~700nm의 광에 대한 흡광도의 최솟값 Amin1의 비 Amax1/Amin1이 25 이상이며,The said coloring composition, ratio A max1 /A min1 of the maximum value A max1 of the absorbance with respect to the light of wavelength 400-500 nm, and the minimum value A min1 of the absorbance with respect to the light of wavelength 550-700 nm is 25 or more,

파장 500nm의 광에 대한 흡광도를 1로 했을 때, 흡광도가 0.3이 되는 파장이 570~620nm의 범위에 존재하는, 착색 조성물.When the absorbance with respect to the light of wavelength 500nm is made into 1, the wavelength from which the absorbance becomes 0.3 exists in the range of 570-620 nm.

<2> 상기 블록 아이소사이아네이트기는, 아이소사이아네이트기가, 옥심 화합물, 락탐 화합물, 페놀 화합물, 알코올 화합물, 아민 화합물, 활성 메틸렌 화합물, 피라졸 화합물, 머캅탄 화합물, 이미다졸 화합물 및 이미드 화합물로부터 선택되는 블록제로 보호된 구조를 갖는 기인, <1>에 기재된 착색 조성물.<2> The block isocyanate group is an isocyanate group, an oxime compound, a lactam compound, a phenol compound, an alcohol compound, an amine compound, an active methylene compound, a pyrazole compound, a mercaptan compound, an imidazole compound, and an imide The coloring composition as described in <1> which is group which has the structure protected with the blocking agent chosen from a compound.

<3> 상기 블록제의 분자량이 50~200인, <2>에 기재된 착색 조성물.<3> The coloring composition as described in <2> whose molecular weight of the said blocking agent is 50-200.

<4> 상기 블록 아이소사이아네이트기를 포함하는 반복 단위가 하기 식 (B-1)로 나타나는 반복 단위인, <1> 내지 <3> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물;<4> The coloring composition according to any one of <1> to <3>, wherein the repeating unit containing the block isocyanate group is a repeating unit represented by the following formula (B-1);

[화학식 1][Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

식 (B-1) 중, Rb1~Rb3은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로젠 원자 또는 알킬기를 나타내고, Rb4~Rb7은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로젠 원자, 알킬기, 알콕시기 또는 아릴기를 나타내며, Lb1은 단결합 또는 탄화 수소기를 나타낸다.In the formula (B-1), R b1 to R b3 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and R b4 to R b7 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group. or an aryl group, and L b1 represents a single bond or a hydrocarbon group.

<5> 상기 수지 BI는, 산기가 보호기로 보호된 기를 갖는 반복 단위를 포함하는, <1> 내지 <4> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<5> The coloring composition according to any one of <1> to <4>, wherein the resin BI includes a repeating unit having a group in which an acid group is protected by a protecting group.

<6> 상기 산기가 페놀성 하이드록시기, 또는, 카복시기인, <5>에 기재된 착색 조성물.<6> The coloring composition according to <5>, wherein the acid group is a phenolic hydroxyl group or a carboxy group.

<7> 상기 보호기는, 산 또는 염기의 작용에 의하여 분해되어 탈리되는 기인, <5> 또는 <6>에 기재된 착색 조성물.<7> The coloring composition according to <5> or <6>, wherein the protecting group is a group that is decomposed and detached by the action of an acid or a base.

<8> 상기 보호기는, 식 (Y1)~(Y5) 중 어느 하나로 나타나는 기인, <5> 내지 <7> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물;<8> The coloring composition according to any one of <5> to <7>, wherein the protecting group is a group represented by any one of formulas (Y1) to (Y5);

식 (Y1): -C(RY1)(RY2)(RY3)Formula (Y1): -C(R Y1 )(R Y2 )(R Y3 )

식 (Y2): -C(=O)OC(RY4)(RY5)(RY6)Formula (Y2): -C(=O)OC(R Y4 )(R Y5 )(R Y6 )

식 (Y3): -C(RY7)(RY8)(ORY9)Formula (Y3): -C(R Y7 )(R Y8 )(OR Y9 )

식 (Y4): -C(RY10)(H)(ArY1)Formula (Y4): -C(R Y10 )(H)(Ar Y1 )

식 (Y5): -C(=O)(RY11)Formula (Y5): -C(=O)(R Y11 )

식 (Y1) 중, RY1~RY3은, 각각 독립적으로 알킬기를 나타내고, RY1~RY3 중의 2개가 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다;In the formula (Y1), R Y1 to R Y3 each independently represent an alkyl group, and two of R Y1 to R Y3 may be bonded to each other to form a ring;

식 (Y2) 중, RY4~RY6은, 각각 독립적으로 알킬기를 나타내고, RY4~RY6 중의 2개가 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다;In the formula (Y2), R Y4 to R Y6 each independently represent an alkyl group, and two of R Y4 to R Y6 may be bonded to each other to form a ring;

식 (Y3) 중, RY7 및 RY8은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, RY7 및 RY8 중 적어도 일방이 알킬기 또는 아릴기이며, RY9는, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, RY7 또는 RY8과, RY9가 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다;In the formula (Y3), R Y7 and R Y8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, at least one of R Y7 and R Y8 is an alkyl group or an aryl group, and R Y9 represents an alkyl group or an aryl group , R Y7 or R Y8 and R Y9 may combine to form a ring;

식 (Y4) 중, ArY1은, 아릴기를 나타내고, RY10은, 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다;In formula (Y4), Ar Y1 represents an aryl group and R Y10 represents an alkyl group or an aryl group;

식 (Y5) 중, RY11은, 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다.In formula (Y5), R Y11 represents an alkyl group or an aryl group.

<9> 상기 산기가 보호기로 보호된 기를 갖는 반복 단위가, 하기 식 (B-2)로 나타나는 반복 단위인, <5> 내지 <8> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물;<9> The coloring composition according to any one of <5> to <8>, wherein the repeating unit having a group in which the acid group is protected by a protecting group is a repeating unit represented by the following formula (B-2);

[화학식 2][Formula 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

식 (B-2) 중, Rb11~Rb13은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로젠 원자 또는 알킬기를 나타내고, Lb11은 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내며, Xb11은 식 (X-1) 또는 식 (X-2)로 나타나는 기를 나타낸다;In formula (B-2), R b11 to R b13 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, L b11 represents a single bond or a divalent linking group, and X b11 represents a formula (X-1) Or group represented by Formula (X-2) is shown;

[화학식 3][Formula 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

식 (X-1) 및 식 (X-2) 중, Yb1은 보호기를 나타내고, 파선은 Lb11과 결합하는 부분을 나타낸다.In formulas (X-1) and (X-2), Y b1 represents a protecting group, and the broken line represents a portion bonded to L b11 .

<10> 상기 착색제는, 황색 착색제를 더 포함하는, <1> 내지 <9> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<10> The coloring composition according to any one of <1> to <9>, wherein the coloring agent further contains a yellow coloring agent.

<11> 상기 착색제 중의 상기 적색 착색제의 함유량이 70질량% 이상인, <1> 내지 <10> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.The coloring composition in any one of <1>-<10> whose content of the said red coloring agent in the <11> said coloring agent is 70 mass % or more.

<12> 전(全)공정을 통하여 150℃ 이하의 온도에서 경화막을 형성하기 위하여 이용되는, <1> 내지 <11> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.The coloring composition in any one of <1>-<11> used in order to form a cured film at the temperature of 150 degrees C or less through <12> all processes.

<13> 컬러 필터용인, <1> 내지 <12> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.The coloring composition in any one of <1>-<12> which is for <13> color filters.

<14> 표시 장치용인, <1> 내지 <13> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<14> The coloring composition in any one of <1>-<13> which is for display devices.

<15> <1> 내지 <14> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물을 경화하여 얻어지는 경화막.<15> Cured film obtained by hardening|curing the coloring composition in any one of <1>-<14>.

<16> <15>에 기재된 경화막을 갖는 컬러 필터.<16> The color filter which has a cured film as described in <15>.

<17> <15>에 기재된 경화막을 갖는 표시 장치.<17> A display device having the cured film according to <15>.

본 발명에 의하면, 타색과의 혼색이 억제된 경화막을 형성할 수 있는 착색 조성물, 이 착색 조성물을 이용한 경화막, 컬러 필터 및 표시 장치를 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the coloring composition which can form the cured film by which color mixing with other colors was suppressed, the cured film using this coloring composition, a color filter, and a display device can be provided.

이하에 있어서, 본 발명의 내용에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the content of the present invention will be described in detail.

본 명세서에 있어서의 기(원자단)의 표기에 있어서, 치환 및 무치환을 기재하고 있지 않은 표기는, 치환기를 갖지 않는 기(원자단)와 함께 치환기를 갖는 기(원자단)도 포함하는 것이다. 예를 들면, "알킬기"란, 치환기를 갖지 않는 알킬기(무치환 알킬기)뿐만 아니라, 치환기를 갖는 알킬기(치환 알킬기)도 포함하는 것이다.In the description of the group (atomic group) in the present specification, the description not describing substitution and unsubstitution includes a group having a substituent (atomic group) together with a group having no substituent (atomic group). For example, "alkyl group" includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).

본 명세서에 있어서 "노광"이란, 특별히 설명하지 않는 한, 광을 이용한 노광뿐만 아니라, 전자선, 이온빔 등의 입자선을 이용한 묘화도 노광에 포함시킨다. 또, 노광에 이용되는 광으로서는, 일반적으로, 수은등의 휘선 스펙트럼, 엑시머 레이저로 대표되는 원자외선, 극자외선(EUV광), X선, 전자선 등의 활성광선 또는 방사선을 들 수 있다.In the present specification, "exposure" includes not only exposure using light but also drawing using particle beams such as electron beams and ion beams in exposure unless otherwise specified. Moreover, as light used for exposure, actinic rays or radiation, such as a bright-line spectrum of a mercury vapor lamp, and far ultraviolet rays, extreme ultraviolet rays (EUV light), X-rays, and an electron beam, generally represented by an excimer laser.

본 명세서에 있어서 "~"를 이용하여 나타나는 수치 범위는, "~"의 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다.In this specification, the numerical range indicated using "-" means the range which includes the numerical value described before and after "-" as a lower limit and an upper limit.

본 명세서에 있어서, 전고형분이란, 조성물의 전체 성분으로부터 용제를 제외한 성분의 합계 질량을 말한다.In this specification, total solid means the total mass of the component except the solvent from all the components of a composition.

본 명세서에 있어서, "(메트)아크릴레이트"는, 아크릴레이트 및 메타크릴레이트의 쌍방, 또는, 어느 하나를 나타내고, "(메트)아크릴"은, 아크릴 및 메타크릴의 쌍방, 또는, 어느 하나를 나타내며, "(메트)알릴"은, 알릴 및 메탈릴의 쌍방, 또는, 어느 하나를 나타내고, "(메트)아크릴로일"은, 아크릴로일 및 메타크릴로일의 쌍방, 또는, 어느 하나를 나타낸다.In this specification, "(meth)acrylate" represents both, or either of acrylate and methacrylate, and "(meth)acryl" represents both, or either of acryl and methacryl. represents, "(meth)allyl" represents both of allyl and methacryloyl, or either, "(meth)acryloyl" represents both of acryloyl and methacryloyl, or either indicates.

본 명세서에 있어서 "공정"이라는 용어는, 독립적인 공정뿐만 아니라, 다른 공정과 명확하게 구별할 수 없는 경우이더라도 그 공정의 소기 작용이 달성되면, 본 용어에 포함된다.In the present specification, the term "process" is included in this term as long as the desired action of the process is achieved even if it is not clearly distinguishable from other processes as well as independent processes.

본 명세서에 있어서, 중량 평균 분자량(Mw) 및 수평균 분자량(Mn)은, 젤 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)에 의하여 측정한 폴리스타이렌 환산값으로서 정의된다.In this specification, a weight average molecular weight (Mw) and a number average molecular weight (Mn) are defined as polystyrene conversion values measured by gel permeation chromatography (GPC).

<착색 조성물><Coloring composition>

본 발명의 착색 조성물은, 적색 착색제를 포함하는 착색제와, 수지와, 중합성 화합물과, 광중합 개시제를 포함하는 착색 조성물로서,The coloring composition of this invention is a coloring composition containing the coloring agent containing a red coloring agent, resin, a polymeric compound, and a photoinitiator,

상기 수지는, 블록 아이소사이아네이트기를 포함하는 반복 단위를 갖는 수지 BI를 포함하고,The resin comprises a resin BI having a repeating unit comprising a block isocyanate group,

상기 착색 조성물은, 파장 400~500nm의 광에 대한 흡광도의 최댓값 Amax1과 파장 550~700nm의 광에 대한 흡광도의 최솟값 Amin1의 비 Amax1/Amin1이 25 이상이며,The said coloring composition, ratio A max1 /A min1 of the maximum value A max1 of the absorbance with respect to the light of wavelength 400-500 nm, and the minimum value A min1 of the absorbance with respect to the light of wavelength 550-700 nm is 25 or more,

파장 500nm의 광에 대한 흡광도를 1로 했을 때, 흡광도가 0.3이 되는 파장이 570~620nm의 범위에 존재하는 것을 특징으로 한다.When the absorbance for light having a wavelength of 500 nm is 1, the wavelength at which the absorbance is 0.3 is characterized in that it exists in the range of 570 to 620 nm.

본 발명의 착색 조성물에 의하면, 타색과의 혼색이 억제된 경화막을 형성할 수 있다. 특히, 150℃ 이하(바람직하게는 120℃ 이하, 더 바람직하게는 100℃ 이하)의 저온에서 경화막을 형성한 경우이더라도, 타색과의 혼색이 억제된 경화막을 형성할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to the coloring composition of this invention, the cured film by which color mixing with other colors was suppressed can be formed. In particular, even when the cured film is formed at a low temperature of 150°C or lower (preferably 120°C or lower, more preferably 100°C or lower), a cured film in which color mixing with other colors is suppressed can be formed.

이와 같은 효과가 얻어지는 상세한 이유는 불명확하지만, 상기 분광 특성을 갖는 착색 조성물 중에, 블록 아이소사이아네이트기를 포함하는 반복 단위를 갖는 수지 BI를 함유시킴으로써, 착색 조성물을 가열하여 경화할 때에, 열을 방출하기 어렵다는 이유에 의하여 열을 유효 이용하여 수지 BI의 블록 아이소사이아네이트기로부터 보호기(블록제)가 탈리되어 아이소사이아네이트기가 생성되기 쉽고, 착색 조성물의 경화가 신속하게 진행하여, 비교적 저온에서의 가열에서도 충분히 경화한 경화막을 형성할 수 있다고 추측된다. 이 때문에, 본 발명의 착색 조성물에 의하면, 타색과의 혼색이 억제된 경화막을 형성할 수 있다.Although the detailed reason for obtaining such an effect is not clear, when resin BI having a repeating unit containing a block isocyanate group is contained in the coloring composition having the above spectral properties, heat is released when the coloring composition is cured by heating. For the reason that it is difficult to do so, by effectively using heat, the protecting group (blocking agent) is detached from the blocked isocyanate group of the resin BI, so that the isocyanate group is easily generated, and the curing of the coloring composition proceeds quickly, so that at a relatively low temperature It is estimated that the cured film fully hardened|cured also by heating of can be formed. For this reason, according to the coloring composition of this invention, the cured film by which color mixing with other colors was suppressed can be formed.

또, 경화막의 형성 시에, 블록 아이소사이아네이트기로부터 보호기(블록제)가 탈리됨으로써, 막두께를 보다 감소시킬 수도 있어, 박막이고, 색가가 높은 경화막을 형성할 수도 있다. 여기에서, 일반적으로 적색 착색제는, 타색의 착색제와 비교하여 색가가 낮은 것이 많다. 컬러 필터에 있어서의 원하는 분광 특성을 유지하면서, 박막화를 달성하기 위한 하나의 수단으로서, 컬러 필터의 형성에 이용하는 착색 조성물 중의 착색제의 농도를 높이는 방법이 알려져 있다. 착색 조성물 중의 착색제의 농도를 높이면, 착색제 이외의 성분을 줄일 필요가 있어, 제막성이나 패턴 형성성 등에 지장이 발생하거나, 처방 설계의 자유도가 좁아질 우려가 있다. 이 때문에, 컬러 필터의 적색 화소에 대해서는 박막화는 곤란하다고 되어 있었다. 본 발명의 착색 조성물에 의하면, 경화막의 형성 시에 막두께를 감소시켜 박막화를 도모할 수 있으므로, 본 발명의 착색 조성물은, 컬러 필터의 적색 화소의 박막화에 있어서 특히 이용가치가 높다.Moreover, at the time of formation of a cured film, when a protective group (blocking agent) detach|desorbs from a block isocyanate group, a film thickness can also be reduced more and it is a thin film, and a cured film with a high color value can also be formed. Here, generally, a red coloring agent has many things with a low color value compared with the coloring agent of another color. As one means for achieving thin film formation, maintaining the desired spectral characteristic in a color filter, the method of raising the density|concentration of the coloring agent in the coloring composition used for formation of a color filter is known. When the density|concentration of the coloring agent in a coloring composition is raised, it is necessary to reduce components other than a coloring agent, and there exists a possibility that the film forming property, pattern formability, etc. may arise, or the freedom degree of prescription design may become narrow. For this reason, it was said that thin film formation was difficult about the red pixel of a color filter. According to the coloring composition of this invention, since a film thickness can be reduced at the time of formation of a cured film and thin film formation can be aimed at, the coloring composition of this invention has high utility value especially in thin film formation of the red pixel of a color filter.

소정의 파장 λ에 있어서의 흡광도 Aλ는, 이하의 식 (Ab1)에 의하여 정의된다.The absorbance Aλ at a predetermined wavelength λ is defined by the following formula (Ab1).

Aλ=-log(Tλ/100) …(Ab1)Aλ=-log(Tλ/100) … (Ab1)

Aλ는, 파장 λ에 있어서의 흡광도이고, Tλ는, 파장 λ의 광의 투과율(%)이다.Aλ is the absorbance at the wavelength λ, and Tλ is the transmittance (%) of light at the wavelength λ.

본 발명에 있어서, 착색 조성물의 흡광도의 값은, 용액의 상태에서 측정한 값이어도 되고, 착색 조성물을 이용하여 제막한 경화막의 값이어도 된다. 경화막의 상태에서 흡광도를 측정하는 경우는, 유리 기판 상에 스핀 코트 등의 방법에 의하여 착색 조성물을 도포하고, 핫플레이트 등을 이용하여 100℃, 2분간 건조하며, 이어서, 광조도 20mW/cm2, 노광량 1J/cm2의 조건으로 i선 노광하고, 이어서, 100℃의 핫플레이트 상에서 20분간 가열하여, 상온까지 방랭하여 얻어진 막(경화막)을 이용하여 측정하는 것이 바람직하다. 흡광도는 종래 공지의 분광 광도계를 이용하여 측정할 수 있다.In this invention, the value measured in the state of a solution may be sufficient as the value of the light absorbency of a coloring composition, and the value of the cured film formed into a film using the coloring composition may be sufficient as it. When measuring the absorbance in the state of a cured film, a coloring composition is apply|coated by methods, such as spin coating, on a glass substrate, 100 degreeC using a hotplate etc., and drying for 2 minutes, Then, light intensity 20mW/cm 2 , It is preferable to measure using a film (cured film) obtained by exposing i-line under the conditions of an exposure amount of 1 J/cm 2 , then heating it on a hot plate at 100° C. for 20 minutes, and allowing it to cool to room temperature. Absorbance can be measured using a conventionally known spectrophotometer.

본 발명의 착색 조성물은, 파장 400~500nm의 광에 대한 흡광도의 최댓값 Amax1과 파장 550~700nm의 광에 대한 흡광도의 최솟값 Amin1의 비 Amax1/Amin1이 25 이상이고, 50 이상인 것이 바람직하며, 100 이상인 것이 보다 바람직하다. 상기 비 Amax1/Amin1의 값은 높을수록, 상술한 본 발명의 효과가 보다 현저하게 얻어지고, 나아가서는, 타색과의 색분리성이 우수한 적색 화소로 하기 쉽다. 이 때문에, 상기 비 Amax1/Amin1의 값의 상한에 대해서는, 특별히 한정은 없지만, 예를 들면, 10000 이하로 할 수도 있고, 5000 이하로 할 수도 있으며, 1000 이하로 할 수도 있다.Ratio A max1 /A min1 of the maximum value A max1 of the absorbance with respect to the light of wavelength 400-500 nm, and the minimum value A min1 of the absorbance with respect to the light of wavelength 550-700 nm is 25 or more, and, as for the coloring composition of this invention, it is preferable that it is 50 or more and more preferably 100 or more. As the value of the ratio A max1 /A min1 is higher, the effect of the present invention described above can be obtained more conspicuously, and furthermore, it is easy to obtain a red pixel excellent in color separation properties from other colors. For this reason, although there is no limitation in particular about the upper limit of the value of the said ratio Amax1 / Amin1 , For example, it may be set as 10000 or less, may be set as 5000 or less, and may be set as 1000 or less.

본 발명의 착색 조성물이 나타내는 파장 500nm의 광에 대한 흡광도를 1로 했을 때, 흡광도가 0.3이 되는 파장이 570~620nm의 범위에 존재하고, 575~615nm의 범위에 존재하는 것이 바람직하며, 580~610nm의 범위에 존재하는 것이 보다 바람직하고, 585~605nm의 범위에 존재하는 것이 더 바람직하다.When the absorbance with respect to the light of wavelength 500nm which the coloring composition of this invention shows is 1, the wavelength at which the absorbance becomes 0.3 exists in the range of 570-620 nm, It is preferable to exist in the range of 575-615 nm, 580- It is more preferable to exist in the range of 610 nm, and it is more preferable to exist in the range of 585-605 nm.

본 발명의 착색 조성물이 나타내는 파장 500nm의 광에 대한 흡광도를 1로 했을 때, 흡광도가 0.5가 되는 파장은, 565~605nm의 범위에 존재하는 것이 바람직하고, 570~600nm의 범위에 존재하는 것이 보다 바람직하며, 575~595nm의 범위에 존재하는 것이 더 바람직하다.When the absorbance with respect to the light of wavelength 500nm shown by the coloring composition of this invention is made into 1, the wavelength at which the absorbance becomes 0.5, it is preferable to exist in the range of 565-605 nm, It is more preferable to exist in the range of 570-600 nm Preferably, it is more preferable to exist in the range of 575-595 nm.

본 발명의 착색 조성물은, 파장 400~500nm의 광에 대한 흡광도의 최댓값 Amax1과 파장 550nm의 광에 대한 흡광도 A550의 비 Amax1/A550이 2 이하인 것이 바람직하고, 1.75 이하인 것이 보다 바람직하며, 1.5 이하인 것이 더 바람직하다.In the coloring composition of the present invention, the ratio A max1 /A 550 of the maximum value A max1 of absorbance with respect to light having a wavelength of 400 to 500 nm and absorbance A 550 with respect to light having a wavelength of 550 nm is preferably 2 or less, and more preferably 1.75 or less. , more preferably 1.5 or less.

본 발명의 착색 조성물은, 파장 400~500nm의 광에 대한 흡광도의 최댓값 Amax1과 파장 600nm의 광에 대한 흡광도 A600의 비 Amax1/A600이 5~15인 것이 바람직하고, 6.5~13.5인 것이 보다 바람직하며, 8~12인 것이 더 바람직하다.It is preferable that ratio A max1 /A600 of the maximum value A max1 of the absorbance with respect to the light of wavelength 400-500 nm, and the absorbance A600 with respect to the light of wavelength 600nm is 5-15, and, as for the coloring composition of this invention, it is 6.5-13.5 It is more preferable, and it is more preferable that it is 8-12.

본 발명의 착색 조성물은, 파장 400~500nm의 광에 대한 흡광도의 최댓값 Amax1과 파장 650nm의 광에 대한 흡광도 A650의 비 Amax1/A650이 25 이상인 것이 바람직하고, 50 이상인 것이 보다 바람직하며, 100 이상인 것이 더 바람직하다.In the coloring composition of the present invention, the ratio A max1 /A 650 of the maximum value A max1 of absorbance with respect to light having a wavelength of 400 to 500 nm and absorbance A 650 with respect to light having a wavelength of 650 nm is preferably 25 or more, and more preferably 50 or more, , more preferably 100 or more.

본 발명의 착색 조성물은, 막두께가 0.5~3.0μm의 경화막을 형성했을 때에, 막의 두께 방향에 있어서의 파장 550~700nm의 광에 대한 투과율의 최댓값이 85% 이상이며, 또한, 평균 투과율이 50% 이상인 것이 바람직하고, 막의 두께 방향에 있어서의 파장 550~700nm의 광에 대한 투과율의 최댓값이 90% 이상이며, 또한, 평균 투과율이 55% 이상인 것이 보다 바람직하다.When the coloring composition of this invention forms the cured film of 0.5-3.0 micrometers in film thickness, the maximum value of the transmittance|permeability with respect to the light of wavelength 550-700 nm in the thickness direction of a film is 85 % or more, and an average transmittance is 50 % or more, the maximum transmittance of light having a wavelength of 550 to 700 nm in the thickness direction of the film is 90% or more, and it is more preferable that the average transmittance is 55% or more.

본 발명의 착색 조성물은, 막두께가 0.5~3.0μm의 경화막을 형성했을 때에, 파장 500nm의 광에 대한 투과율은 1% 이하인 것이 바람직하고, 0.75% 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.5% 이하인 것이 더 바람직하다. 또, 파장 400~500nm의 광에 대한 투과율의 최댓값은 1% 이하인 것이 바람직하고, 0.75% 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.5% 이하인 것이 더 바람직하다.When the coloring composition of this invention forms a cured film with a film thickness of 0.5-3.0 micrometers, it is preferable that the transmittance|permeability with respect to the light of wavelength 500nm is 1 % or less, It is more preferable that it is 0.75 % or less, It is more preferable that it is 0.5 % or less Do. Moreover, it is preferable that it is 1 % or less, and, as for the maximum value of the transmittance|permeability with respect to the light of wavelength 400-500 nm, it is more preferable that it is 0.75 % or less, It is more preferable that it is 0.5 % or less.

본 발명의 착색 조성물의 고형분 농도는, 5~25질량%인 것이 바람직하다. 상한은, 22.5질량% 이하가 바람직하고, 20질량% 이하가 보다 바람직하며, 18질량% 이하가 더 바람직하다. 고형분 농도가 상기 범위이면, 전공정을 통하여 150℃ 이하의 온도(바람직하게는 120℃ 이하의 온도)에서 경화막(화소)을 형성한 경우이더라도, 평탄성이 우수한 경화막(화소)을 형성할 수 있다.It is preferable that solid content concentration of the coloring composition of this invention is 5-25 mass %. 22.5 mass % or less is preferable, as for an upper limit, 20 mass % or less is more preferable, and its 18 mass % or less is more preferable. If the solid content concentration is within the above range, even if the cured film (pixel) is formed at a temperature of 150 ° C. or less (preferably a temperature of 120 ° C or less) through the previous process, a cured film (pixel) having excellent flatness can be formed. there is.

본 발명의 착색 조성물은, 컬러 필터의 화소 형성용의 착색 조성물로서 바람직하게 이용할 수 있으며, 컬러 필터의 적색 화소 형성용의 착색 조성물로서 보다 바람직하게 이용할 수 있다.The coloring composition of this invention can be used suitably as a coloring composition for pixel formation of a color filter, and can be used more preferably as a coloring composition for red pixel formation of a color filter.

본 발명의 착색 조성물은, 표시 장치용의 착색 조성물로서 바람직하게 이용할 수 있다. 보다 상세하게는, 표시 장치용의 컬러 필터의 화소 형성용의 착색 조성물로서 바람직하게 이용할 수 있으며, 표시 장치용의 컬러 필터의 적색 화소 형성용의 착색 조성물로서 보다 바람직하게 이용할 수 있다. 표시 장치의 종류로서는 특별히 한정은 없지만, 유기 일렉트로 루미네선스 표시 장치 등의 유기 반도체 소자를 광원으로서 갖는 표시 장치 등을 들 수 있다.The coloring composition of this invention can be used suitably as a coloring composition for display apparatuses. In more detail, it can use suitably as a coloring composition for pixel formation of the color filter for display devices, and can use it more preferably as a coloring composition for red pixel formation of the color filter for display devices. Although there is no limitation in particular as a kind of display apparatus, The display apparatus etc. which have organic-semiconductor elements, such as an organic electroluminescent display apparatus, are mentioned as a light source.

또, 본 발명의 착색 조성물은, 고체 촬상 소자용의 착색 조성물로서 이용할 수도 있다. 보다 상세하게는, 고체 촬상 소자용의 컬러 필터의 화소 형성용의 착색 조성물로서 바람직하게 이용할 수 있으며, 고체 촬상 소자용의 컬러 필터의 적색 화소 형성용의 착색 조성물로서 보다 바람직하게 이용할 수 있다.Moreover, the coloring composition of this invention can also be used as a coloring composition for solid-state image sensors. In more detail, it can use suitably as a coloring composition for pixel formation of the color filter for solid-state imaging elements, It can use more preferably as a coloring composition for red pixel formation of the color filter for solid-state imaging elements.

본 발명의 착색 조성물은, 전공정을 통하여 150℃ 이하의 온도(바람직하게는, 120℃ 이하의 온도)에서 경화막을 형성하기 위하여 이용되는 것인 것도 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서 전공정을 통하여 150℃ 이하의 온도에서 경화막을 형성한다는 것은, 착색 조성물을 이용하여 경화막을 형성하는 공정의 모두를 150℃ 이하의 온도에서 행하는 것을 의미한다.It is also preferable that the coloring composition of this invention is what is used in order to form a cured film at the temperature of 150 degrees C or less (preferably the temperature of 120 degrees C or less) through all processes. In addition, in this specification, forming a cured film at the temperature of 150 degrees C or less through all processes means performing all the processes of forming a cured film using a coloring composition at the temperature of 150 degrees C or less.

본 발명의 착색 조성물에 의하여 형성되는 경화막 및 화소의 두께는, 0.5~3.0μm인 것이 바람직하다. 하한은, 0.8μm 이상이 바람직하고, 1.0μm 이상이 보다 바람직하며, 1.1μm 이상이 더 바람직하다. 상한은, 2.5μm 이하가 바람직하고, 2.0μm 이하가 보다 바람직하며, 1.8μm 이하가 더 바람직하다.It is preferable that the thickness of the cured film and pixel formed with the coloring composition of this invention is 0.5-3.0 micrometers. 0.8 micrometer or more is preferable, as for a minimum, 1.0 micrometer or more is more preferable, and 1.1 micrometer or more is still more preferable. 2.5 micrometers or less are preferable, as for an upper limit, 2.0 micrometers or less are more preferable, and 1.8 micrometers or less are still more preferable.

또, 본 발명의 착색 조성물에 의하여 형성되는 화소의 선폭(패턴 사이즈)은, 2.0~10.0μm인 것이 바람직하다. 상한은, 7.5μm 이하가 바람직하고, 5.0μm 이하가 보다 바람직하며, 4.0μm 이하가 더 바람직하다. 하한은, 2.25μm 이상이 바람직하고, 2.5μm 이상이 보다 바람직하며, 2.75μm 이상이 더 바람직하다.Moreover, it is preferable that the line|wire width (pattern size) of the pixel formed with the coloring composition of this invention is 2.0-10.0 micrometers. 7.5 micrometers or less are preferable, as for an upper limit, 5.0 micrometers or less are more preferable, and 4.0 micrometers or less are still more preferable. 2.25 micrometers or more are preferable, as for a minimum, 2.5 micrometers or more are more preferable, and 2.75 micrometers or more are still more preferable.

이하, 본 발명의 착색 조성물에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the coloring composition of this invention is demonstrated in detail.

<<착색제>><<Colorant>>

본 발명의 착색 조성물은 착색제를 함유한다. 착색제로서는, 적색 착색제, 녹색 착색제, 청색 착색제, 황색 착색제, 자색 착색제, 오렌지색 착색제 등의 유채색 착색제를 들 수 있다. 본 발명에 있어서, 착색제는, 안료여도 되고, 염료여도 된다. 안료와 염료를 병용해도 된다. 또, 안료는, 무기 안료, 유기 안료 중 어느 것이어도 된다. 또, 안료에는, 무기 안료 또는 유기-무기 안료의 일부를 유기 발색단(團)으로 치환한 재료를 이용할 수도 있다. 무기 안료나 유기-무기 안료를 유기 발색단으로 치환함으로써, 색상 설계를 하기 쉽게 할 수 있다. 착색제로서 안료를 포함하는 것을 이용한 경우는, 내열성이나 내광성 등의 내구성이 우수한 경화막을 형성하기 쉽다. 착색제로서 염료를 포함하는 것을 이용한 경우는, 보다 적색의 색재현 영역이 높은 경화막을 형성하기 쉽다. 또, 일반적으로, 염료를 이용하여 얻어지는 경화막은, 안료를 이용하여 얻어지는 경화막보다 혼색이 발생하기 쉬운 경향이 있지만, 본 발명에 의하면, 착색제로서 염료를 이용한 경우이더라도, 색 전이가 억제된 경화막을 형성할 수 있으므로, 착색제로서 염료를 포함하는 것을 이용한 경우에 있어서 특히 효과적이다.The coloring composition of this invention contains a coloring agent. As a coloring agent, chromatic coloring agents, such as a red coloring agent, a green coloring agent, a blue coloring agent, a yellow coloring agent, a purple coloring agent, and an orange coloring agent, are mentioned. In this invention, a pigment may be sufficient as a coloring agent, and dye may be sufficient as it. You may use a pigment and dye together. Moreover, any of an inorganic pigment and an organic pigment may be sufficient as a pigment. Moreover, as a pigment, the inorganic pigment or the material which substituted a part of organic-inorganic pigment with the organic chromophore can also be used. By substituting an inorganic pigment or an organic-inorganic pigment with an organic chromophore, color design can be facilitated. When the thing containing a pigment is used as a coloring agent, it is easy to form the cured film excellent in durability, such as heat resistance and light resistance. When the thing containing dye is used as a coloring agent, it is easy to form the cured film with a higher red color reproduction area|region. Moreover, generally, although the cured film obtained using dye tends to produce color mixture more easily than the cured film obtained using a pigment, according to this invention, even when dye is used as a coloring agent, even if it is a case where color transition is suppressed, the cured film Since it can form, it is especially effective in the case where the thing containing a dye is used as a coloring agent.

안료의 평균 1차 입자경은, 1~200nm가 바람직하다. 하한은 5nm 이상이 바람직하고, 10nm 이상이 보다 바람직하다. 상한은, 180nm 이하가 바람직하고, 150nm 이하가 보다 바람직하며, 100nm 이하가 더 바람직하다. 안료의 평균 1차 입자경이 상기 범위이면, 착색 조성물 중에 있어서의 안료의 분산 안정성이 양호하다. 또한, 본 발명에 있어서, 안료의 1차 입자경은, 안료의 1차 입자를 투과형 전자 현미경에 의하여 관찰하여, 얻어진 화상 사진으로부터 구할 수 있다. 구체적으로는, 안료의 1차 입자의 투영 면적을 구하고, 그에 대응하는 원상당 직경을 안료의 1차 입자경으로서 산출한다. 또, 본 발명에 있어서의 평균 1차 입자경은, 400개의 안료의 1차 입자에 대한 1차 입자경의 산술 평균값으로 한다. 또, 안료의 1차 입자란, 응집이 없는 독립적인 입자를 말한다.As for the average primary particle diameter of a pigment, 1-200 nm is preferable. 5 nm or more is preferable and, as for a minimum, 10 nm or more is more preferable. 180 nm or less is preferable, as for an upper limit, 150 nm or less are more preferable, and its 100 nm or less is still more preferable. The dispersion stability of the pigment in a coloring composition is favorable as the average primary particle diameter of a pigment is the said range. In addition, in this invention, the primary particle diameter of a pigment can be calculated|required from the image photograph obtained by observing the primary particle of a pigment with a transmission electron microscope. Specifically, the projected area of the primary particles of the pigment is calculated, and the corresponding circular equivalent diameter is calculated as the primary particle diameter of the pigment. In addition, let the average primary particle diameter in this invention be the arithmetic average value of the primary particle diameters with respect to the primary particle of 400 pigments. In addition, the primary particle of a pigment means independent particle|grains without aggregation.

착색제에는 색소 다량체를 이용할 수도 있다. 색소 다량체는, 용제에 용해하여 이용되는 염료인 것이 바람직하다. 또, 색소 다량체는, 입자를 형성하고 있어도 된다. 색소 다량체가 입자인 경우는 통상 용제에 분산한 상태에서 이용된다. 입자 상태의 색소 다량체는, 예를 들면 유화 중합에 의하여 얻을 수 있고, 일본 공개특허공보 2015-214682호에 기재되어 있는 화합물 및 제조 방법을 구체예로서 들 수 있다. 색소 다량체는, 1분자 중에, 색소 구조를 2 이상 갖는 것이며, 색소 구조를 3 이상 갖는 것이 바람직하다. 상한은, 특별히 한정은 없지만, 100 이하로 할 수도 있다. 1분자 중에 갖는 복수의 색소 구조는, 동일한 색소 구조여도 되고, 상이한 색소 구조여도 된다. 색소 다량체의 중량 평균 분자량(Mw)은, 2000~50000이 바람직하다. 하한은, 3000 이상이 보다 바람직하며, 6000 이상이 더 바람직하다. 상한은, 30000 이하가 보다 바람직하며, 20000 이하가 더 바람직하다. 색소 다량체는, 일본 공개특허공보 2011-213925호, 일본 공개특허공보 2013-041097호, 일본 공개특허공보 2015-028144호, 일본 공개특허공보 2015-030742호, 국제 공개공보 제2016/031442호 등에 기재되어 있는 화합물을 이용할 수도 있다.A dye multimer can also be used for a coloring agent. It is preferable that a dye multimer is a dye used by melt|dissolving in a solvent. Moreover, the dye multimer may form particle|grains. When a dye multimer is particle|grains, it is used in the state disperse|distributed to the solvent normally. A particle-form dye multimer can be obtained by emulsion polymerization, for example, The compound and manufacturing method of Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-214682 are mentioned as a specific example. A dye multimer has two or more dye structures in 1 molecule, and it is preferable to have three or more dye structures. The upper limit is not particularly limited, but may be 100 or less. The plurality of dye structures in one molecule may have the same dye structure or different dye structures. As for the weight average molecular weight (Mw) of a dye multimer, 2000-50000 are preferable. As for a minimum, 3000 or more are more preferable, and 6000 or more are still more preferable. 30000 or less are more preferable, and, as for an upper limit, 20000 or less are still more preferable. The dye multimer is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-213925, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-041097, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-028144, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-030742, International Publication No. 2016/031442, etc. It is also possible to use the compounds described.

(적색 착색제)(red colorant)

본 발명의 착색 조성물은 적색 착색제를 함유한다. 적색 착색제는, 안료여도 되고, 염료여도 된다. 안료와 염료를 병용해도 된다.The coloring composition of this invention contains a red coloring agent. A pigment may be sufficient as a red coloring agent, and dye may be sufficient as it. You may use a pigment and dye together.

적색 착색제로서는, 잔텐 화합물, 안트라퀴논 화합물, 모노아조 화합물, 다이아조 화합물, 아조메타인 화합물, 아미노케톤 화합물, 퀴나크리돈 화합물, 페릴렌 화합물 및 다이케토피롤로피롤 화합물로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하고, 안트라퀴논 화합물, 퀴나크리돈 화합물, 페릴렌 화합물 및 다이케토피롤로피롤 화합물로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 보다 바람직하며, 안트라퀴논 화합물, 페릴렌 화합물 및 다이케토피롤로피롤 화합물로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 더 바람직하고, 안트라퀴논 화합물 및 다이케토피롤로피롤 화합물로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 보다 더 바람직하며, 보다 장파 측에 흡수를 갖는 화합물이며, 본 발명의 효과가 보다 현저하게 얻어지기 쉽다는 이유에서 안트라퀴논 화합물인 것이 특히 바람직하다.As a red colorant, it is at least 1 sort(s) selected from a xanthene compound, an anthraquinone compound, a monoazo compound, a diazo compound, an azomethine compound, an aminoketone compound, a quinacridone compound, a perylene compound, and a diketopyrrolopyrrole compound. Preferably, it is at least one selected from an anthraquinone compound, a quinacridone compound, a perylene compound, and a diketopyrrolopyrrole compound, more preferably an anthraquinone compound, a perylene compound, and a diketopyrrolopyrrole compound It is more preferably at least one type, and even more preferably at least one type selected from an anthraquinone compound and a diketopyrrolopyrrole compound, it is a compound having absorption on the longer wave side, and the effect of the present invention can be obtained more significantly It is especially preferable that it is an anthraquinone compound from the reason of easiness.

적색 안료로서는, 컬러 인덱스(C. I.) Pigment Red 1, 2, 3 ,4, 5, 6, 7, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49, 49:1, 49:2, 52:1, 52:2, 53:1, 57:1, 60:1, 63:1, 66, 67, 81:1, 81:2, 81:3, 83, 88, 90, 105, 112, 119, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 155, 166, 168, 169, 170, 171, 172, 175, 176, 177, 178, 179, 184, 185, 187, 188, 190, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 216, 220, 224, 226, 242, 246, 254, 255, 264, 269, 270, 272, 279, 291, 294(잔텐 화합물, Organo Ultramarine, Bluish Red), 295(모노아조 화합물), 296(다이아조 화합물), 297(아미노케톤계) 등을 들 수 있다.As a red pigment, color index (C.I.) Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48:1, 48:2 , 48:3, 48:4, 49, 49:1, 49:2, 52:1, 52:2, 53:1, 57:1, 60:1, 63:1, 66, 67, 81:1 , 81:2, 81:3, 83, 88, 90, 105, 112, 119, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 155, 166, 168, 169, 170, 171, 172, 175, 176 , 177, 178, 179, 184, 185, 187, 188, 190, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 216, 220, 224, 226, 242, 246, 254, 255, 264, 269 , 270, 272, 279, 291, 294 (xanthene compound, Organo Ultramarine, Bluish Red), 295 (monoazo compound), 296 (diazo compound), and 297 (amino ketone type).

적색 염료로서는, C. I. Acid Red 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 66, 73, 80, 87, 88, 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 183, 198, 211, 215, 216, 217, 249, 252, 257, 260, 266, 274 등을 들 수 있다.As a red dye, C.I. Acid Red 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 66, 73, 80 , 87, 88, 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 183, 198, 211, 215, 216, 217 , 249, 252, 257, 260, 266, 274, and the like.

적색 착색제로서, 일본 공개특허공보 2017-201384호에 기재된 구조 중에 적어도 하나의 브로민 원자가 치환된 다이케토피롤로피롤 화합물, 일본 특허공보 제6248838호의 단락 번호 0016~0022에 기재된 다이케토피롤로피롤 화합물, 국제 공개공보 제2012/102399호에 기재된 다이케토피롤로피롤 화합물, 국제 공개공보 제2012/117965호에 기재된 다이케토피롤로피롤 화합물, 일본 공개특허공보 2012-229344호에 기재된 나프톨아조 화합물, 일본 특허공보 제6516119호에 기재된 적색 착색제, 일본 특허공보 제6525101호에 기재된 적색 착색제 등을 이용할 수도 있다. 또, 적색 착색제로서, 방향족환에 대하여, 산소 원자, 황 원자 또는 질소 원자가 결합한 기가 도입된 방향족환기가 다이케토피롤로피롤 골격에 결합한 구조를 갖는 화합물을 이용할 수도 있다.As a red colorant, a diketopyrrolopyrrole compound in which at least one bromine atom is substituted in the structure described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-201384, and a diketopyrrolopyrrole compound described in Paragraph Nos. 0016 to 0022 of Japanese Patent Publication No. 6248838 , the diketopyrrolopyrrole compound described in International Publication No. 2012/102399, the diketopyrrolopyrrole compound described in International Publication No. 2012/117965, the naphtholazo compound described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-229344, Japan The red colorant described in Patent Publication No. 6516119, the red colorant described in Japanese Patent Publication No. 6525101, etc. can also be used. Moreover, as a red coloring agent, the compound which has a structure in which the aromatic ring group into which the group which the oxygen atom, the sulfur atom, or the nitrogen atom couple|bonded group couple|bonded with the aromatic ring couple|bonded with the diketopyrrolopyrrole skeleton can also be used.

적색 착색제로서는, 분광 특성이나 내구성 등의 관점에서, C. I. Pigment Red 122, 177, 179, 202, 254, 264, 269가 바람직하고, C. I. Pigment Red 177, 179, 202, 254, 264가 보다 바람직하며, C. I. Pigment Red 177, 254, 264가 더 바람직하다.As the red colorant, from the viewpoint of spectral characteristics and durability, etc., C. I. Pigment Red 122, 177, 179, 202, 254, 264, 269 is preferable, and C. I. Pigment Red 177, 179, 202, 254, 264 is more preferable, C. I. Pigment Red 177, 254, 264 are more preferred.

(다른 착색제)(other colorants)

본 발명의 착색 조성물은, 적색 착색제 이외의 다른 착색제를 더 함유하는 것이 바람직하다. 병용하는 다른 착색제로서는, 황색 착색제, 녹색 착색제, 자색 착색제, 청색 착색제, 오렌지색 착색제 등을 들 수 있고, 적색에 보다 적합한 분광 특성을 갖는 경화막을 형성하기 쉽다는 이유에서 황색 착색제인 것이 바람직하다.It is preferable that the coloring composition of this invention contains other coloring agents other than a red coloring agent further. Examples of the other colorant to be used in combination include a yellow colorant, a green colorant, a purple colorant, a blue colorant, an orange colorant, and the like, and a yellow colorant is preferable because it is easy to form a cured film having spectral properties more suitable for red.

황색 착색제로서는, 아조 화합물, 퀴노프탈론 화합물, 아이소인돌린온 화합물, 아이소인돌린 화합물 및 안트라퀴논 화합물 등을 들 수 있고, 아이소인돌린 화합물, 아조 화합물 및 퀴노프탈론 화합물이 바람직하며, 아이소인돌린 화합물 및 아조 화합물이 보다 바람직하고, 아이소인돌린 화합물이 특히 바람직하다.As a yellow colorant, an azo compound, a quinophthalone compound, an isoindolinone compound, an isoindoline compound, an anthraquinone compound, etc. are mentioned, An isoindoline compound, an azo compound, and a quinophthalone compound are preferable, and isoin A doline compound and an azo compound are more preferable, and an isoindoline compound is especially preferable.

황색 착색제로서는, C. I. Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 20, 24, 31, 32, 34, 35, 35:1, 36, 36:1, 37, 37:1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 86, 93, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170, 171, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 179, 180, 181, 182, 185, 187, 188, 193, 194, 199, 213, 214, 215, 228, 231, 232(메타인계), 233(퀴놀린계), 234(아미노케톤계), 235(아미노케톤계), 236(아미노케톤계) 등의 황색 안료를 들 수 있다.As the yellow colorant, C. I. Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 20, 24, 31, 32, 34, 35, 35 :1, 36, 36:1, 37, 37:1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 86, 93, 94 , 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 125, 126, 127, 128, 129, 137 , 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170, 171, 172, 173, 174, 175, 176 , 177, 179, 180, 181, 182, 185, 187, 188, 193, 194, 199, 213, 214, 215, 228, 231, 232 (metaphosphorus), 233 (quinoline), 234 (aminoketone) ), 235 (amino ketone type), 236 (amino ketone type), etc. yellow pigments are mentioned.

또, 황색 착색제로서, 일본 공개특허공보 2017-201003호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-197719호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-171912호의 단락 번호 0011~0062, 0137~0276에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-171913호의 단락 번호 0010~0062, 0138~0295에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-171914호의 단락 번호 0011~0062, 0139~0190에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-171915호의 단락 번호 0010~0065, 0142~0222에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2013-054339호의 단락 번호 0011~0034에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2014-026228호의 단락 번호 0013~0058에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2018-062644호에 기재된 아이소인돌린 화합물, 일본 공개특허공보 2018-203798호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2018-062578호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 특허공보 제6432076호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2018-155881호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2018-111757호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2018-040835호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2017-197640호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2016-145282호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2014-085565호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2014-021139호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2013-209614호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2013-209435호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2013-181015호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2013-061622호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2013-032486호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2012-226110호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2008-074987호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2008-081565호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2008-074986호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2008-074985호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2008-050420호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2008-031281호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공고특허공보 소48-032765호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2019-008014호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 하기 식 (QP1)로 나타나는 화합물, 일본 공개특허공보 2019-073695호에 기재된 메타인 염료, 일본 공개특허공보 2019-073696호에 기재된 메타인 염료, 일본 공개특허공보 2019-073697호에 기재된 메타인 염료, 일본 공개특허공보 2019-073698호에 기재된 메타인 염료, 하기 식 (QP2)로 나타나는 화합물을 이용할 수도 있다.Moreover, as a yellow coloring agent, the compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-201003, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-197719, Paragraph No. 0011 - 0062 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-171912, 0137 - The compound of 0276 , the compound described in Paragraph Nos. 0010 to 0062 and 0138 to 0295 of Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-171913, the compounds described in Paragraph Nos. 0011 to 0062 and 0139 to 0190 of Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-171914, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-171915 Paragraph Nos. 0010 to 0065, the compounds described in 0142 to 0222 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-054339, the quinophthalone compounds described in Paragraph Nos. 0011 to 0034, and the quinophthalone compounds described in Paragraph Nos. 0013 to 0058 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-026228 Nophthalone compound, the isoindoline compound described in JP-A-2018-062644, the quinophthalone compound described in JP-A-2018-203798, the quinophthalone compound described in JP-A 2018-062578, Japan The quinophthalone compound described in Patent Publication No. 6432076, the quinophthalone compound described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2018-155881, the quinophthalone compound described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2018-111757, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2018-040835 The quinophthalone compound described in , the quinophthalone compound described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-197640, the quinophthalone compound described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2016-145282, The quinophthalone described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-085565 The compound, the quinophthalone compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-021139, the quinophthalone compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-209614, The quinophthalone compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-209435, Unexamined-Japanese-Patent No. The quinophthalone compound described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-181015, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-061622 The described quinophthalone compound, the quinophthalone compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-032486, The quinophthalone compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-226110, The quinophthalone compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-074987 , The quinophthalone compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-081565, the quinophthalone compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-074986, The quinophthalone compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-074985, Unexamined-Japanese-Patent No. The quinophthalone compound described in 2008-050420, the quinophthalone compound described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-031281, the quinophthalone compound described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 48-032765, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2019-008014 The quinophthalone compound described in, the compound represented by the following formula (QP1), the metaine dye described in JP-A-2019-073695, the meta-dye described in JP-A-2019-073696, JP-A 2019- The compound represented by the metaine dye of 073697, the metaine dye of Unexamined-Japanese-Patent No. 2019-073698, and a following formula (QP2) can also be used.

[화학식 4][Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

식 (QP1) 중, X1~X16은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 할로젠 원자를 나타내고, Z1은 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타낸다. 식 (QP1)로 나타나는 화합물의 구체예로서는, 일본 특허공보 제6443711호의 단락 번호 0016에 기재되어 있는 화합물을 들 수 있다.In formula (QP1), X 1 to X 16 each independently represents a hydrogen atom or a halogen atom, and Z 1 represents an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms. As a specific example of the compound represented by Formula (QP1), the compound described in Paragraph No. 0016 of Unexamined-Japanese-Patent No. 6443711 is mentioned.

[화학식 5][Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

식 (QP2) 중, Y1~Y3은, 각각 독립적으로 할로젠 원자를 나타낸다. n, m은 0~6의 정수, p는 0~5의 정수를 나타낸다. (n+m)은 1 이상이다. 식 (QP2)로 나타나는 화합물의 구체예로서는, 일본 특허공보 6432077호의 단락 번호 0047~0048에 기재되어 있는 화합물을 들 수 있다.In formula (QP2), each of Y 1 to Y 3 independently represents a halogen atom. n and m represent the integers of 0-6, and p represents the integer of 0-5. (n+m) is 1 or more. As a specific example of the compound represented by Formula (QP2), the compound described in Paragraph No. 0047 - 0048 of Unexamined-Japanese-Patent No. 6432077 is mentioned.

황색 착색제로서는, 분광 특성이나 내구성 등의 관점에서, C. I. Pigment Yellow 139, 150, 185가 바람직하고, C. I. Pigment Yellow 139, 150이 보다 바람직하며, C. I. Pigment Yellow 139가 더 바람직하다.As a yellow colorant, from a viewpoint of a spectral characteristic, durability, etc., C.I. Pigment Yellow 139, 150, 185 are preferable, C. I. Pigment Yellow 139, 150 are more preferable, C. I. Pigment Yellow 139 is still more preferable.

녹색 착색제로서는, C. I. Pigment Green 7, 10, 36, 37, 58, 59, 62, 63, 64(프탈로사이아닌계), 65(프탈로사이아닌계), 66(프탈로사이아닌계) 등의 녹색 안료를 들 수 있다. 또, 녹색 착색제로서, 1분자 중의 할로젠 원자수가 평균 10~14개이고, 브로민 원자수가 평균 8~12개이며, 염소 원자수가 평균 2~5개인 할로젠화 아연 프탈로사이아닌 안료를 이용할 수도 있다. 구체예로서는, 국제 공개공보 제2015/118720호에 기재된 화합물을 들 수 있다. 또, 녹색 착색제로서 중국 특허출원 제106909027호에 기재된 화합물, 국제 공개공보 제2012/102395호에 기재된 인산 에스터를 배위자로서 갖는 프탈로사이아닌 화합물, 일본 공개특허공보 2019-008014호에 기재된 프탈로사이아닌 화합물 및 일본 공개특허공보 2018-180023호에 기재된 프탈로사이아닌 화합물, 일본 공개특허공보 2019-038958호에 기재된 화합물 등을 이용할 수도 있다.As the green colorant, C. I. Pigment Green 7, 10, 36, 37, 58, 59, 62, 63, 64 (phthalocyanine-based), 65 (phthalocyanine-based), 66 (phthalocyanine-based), etc. of green pigments. Further, as the green colorant, a halogenated zinc phthalocyanine pigment having an average number of halogen atoms in one molecule of 10 to 14, an average number of bromine atoms of 8 to 12, and an average number of chlorine atoms of 2 to 5 may be used. there is. As a specific example, the compound of International Publication No. 2015/118720 is mentioned. Moreover, as a green colorant, the compound described in Chinese Patent Application No. 106909027, the phthalocyanine compound which has the phosphoric acid ester described in International Publication No. 2012/102395 as a ligand, and the phthalocyanine described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2019-008014. An amine compound, the phthalocyanine compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2018-180023, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2019-038958, etc. can also be used.

녹색 착색제로서는, 분광 특성이나 내구성 등의 관점에서, C. I. Pigment Green 7, 36, 37, 58, 59, 65가 바람직하고, C. I. Pigment Green 7, 36, 58, 65가 보다 바람직하며, C. I. Pigment Green 7, 36이 더 바람직하다.As the green colorant, from the viewpoint of spectral characteristics and durability, etc., C. I. Pigment Green 7, 36, 37, 58, 59, 65 is preferable, C. I. Pigment Green 7, 36, 58, 65 is more preferable, C. I. Pigment Green 7 , 36 is more preferable.

청색 착색제로서는, C. I. Pigment Blue 1, 2, 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 29, 60, 64, 66, 79, 80, 87(모노아조계), 88(메타인계) 등의 청색 안료를 들 수 있다. 또, 청색 착색제로서, 인 원자를 갖는 알루미늄프탈로사이아닌 화합물을 이용할 수도 있다. 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2012-247591호의 단락 번호 0022~0030, 일본 공개특허공보 2011-157478호의 단락 번호 0047에 기재된 화합물을 들 수 있다.As a blue colorant, C. I. Pigment Blue 1, 2, 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 29, 60, 64, 66, 79, 80, 87 (monoazo type) and blue pigments, such as 88 (metaphosphorus type), are mentioned. Moreover, as a blue coloring agent, the aluminum phthalocyanine compound which has a phosphorus atom can also be used. As a specific example, Paragraph No. 0022 - 0030 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-247591, Paragraph No. 0047 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-157478 are mentioned.

청색 착색제로서는, 분광 특성이나 내구성 등의 관점에서, C. I. Pigment Blue 15, 15:4, 15:6, 16, 60, 64, 79가 바람직하고, C. I. Pigment Blue 15:4, 15:6, 16, 60, 64가 보다 바람직하며, C. I. Pigment Blue 15:4, 15:6이 더 바람직하다.As the blue colorant, C. I. Pigment Blue 15, 15:4, 15:6, 16, 60, 64, 79 is preferable, and C. I. Pigment Blue 15:4, 15:6, 16, 60 and 64 are more preferable, and C. I. Pigment Blue 15:4 and 15:6 are more preferable.

자색 착색제로서는, C. I. Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 32, 37, 42, 60(트라이아릴메테인계), 61(잔텐계) 등의 자색 안료를 들 수 있다.As a purple colorant, purple pigments, such as C.I. Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 32, 37, 42, 60 (triaryl methane type), 61 (xanthene type), are mentioned.

오렌지색 착색제로서는, C. I. Pigment Orange 2, 5, 13, 16, 17:1, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 71, 73 등의 오렌지색 안료를 들 수 있다.As the orange colorant, C. I. Pigment Orange 2, 5, 13, 16, 17:1, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64 and orange pigments such as 71 and 73.

착색제의 함유량은, 착색 조성물의 전고형분 중 5~70질량%가 바람직하다. 하한은, 10질량% 이상이 바람직하고, 15질량% 이상이 보다 바람직하며, 20질량% 이상이 더 바람직하다. 상한은, 60질량% 이하가 바람직하고, 55질량% 이하가 보다 바람직하며, 50질량% 이하가 보다 더 바람직하다.As for content of a coloring agent, 5-70 mass % is preferable in total solid of a coloring composition. 10 mass % or more is preferable, as for a minimum, 15 mass % or more is more preferable, and 20 mass % or more is still more preferable. 60 mass % or less is preferable, as for an upper limit, 55 mass % or less is more preferable, and 50 mass % or less is still more preferable.

착색제 중에 있어서의 적색 착색제의 함유량은, 70질량% 이상인 것이 바람직하고, 80질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 90질량% 이상인 것이 더 바람직하다.It is preferable that content of the red coloring agent in a coloring agent is 70 mass % or more, It is more preferable that it is 80 mass % or more, It is more preferable that it is 90 mass % or more.

착색 조성물에 포함되는 착색제는, 적색 착색제와 황색 착색제를 포함하는 것이 바람직하다. 또, 황색 착색제의 함유량은, 적색 착색제의 100질량부에 대하여, 3~45질량부인 것이 바람직하다. 하한은, 5질량부 이상인 것이 바람직하고, 8질량부 이상인 것이 보다 바람직하다. 상한은, 30질량부 이하인 것이 바람직하고, 15질량부 이하인 것이 보다 바람직하다. 또, 착색제 중에 있어서의 적색 착색제와 황색 착색제의 합계의 함유량은, 70질량% 이상인 것이 바람직하고, 80질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 90질량% 이상인 것이 더 바람직하다.It is preferable that the coloring agent contained in a coloring composition contains a red coloring agent and a yellow coloring agent. Moreover, it is preferable that content of a yellow coloring agent is 3-45 mass parts with respect to 100 mass parts of red coloring agents. It is preferable that it is 5 mass parts or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 8 mass parts or more. It is preferable that it is 30 mass parts or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 15 mass parts or less. Moreover, it is preferable that it is 70 mass % or more, and, as for content of the sum total of the red coloring agent and yellow coloring agent in a coloring agent, it is more preferable that it is 80 mass % or more, It is more preferable that it is 90 mass % or more.

<<수지>><<Resin>>

본 발명의 착색 조성물은 수지를 포함한다. 수지는, 예를 들면, 안료 등을 착색 조성물 중에서 분산시키는 용도나, 바인더의 용도로 배합된다. 또한, 주로 안료 등을 착색 조성물 중에서 분산시키기 위하여 이용되는 수지를 분산제라고도 한다. 단, 수지의 이와 같은 용도는 일례이며, 이와 같은 용도 이외의 목적으로서 수지를 사용할 수도 있다.The coloring composition of this invention contains resin. Resin is mix|blended for the use which disperse|distributes a pigment etc. in a coloring composition, and the use of a binder, for example. In addition, resin mainly used in order to disperse|distribute a pigment etc. in a coloring composition is also called a dispersing agent. However, such a use of resin is an example, and resin can also be used for purposes other than such a use.

(수지 BI)(Suzy BI)

본 발명의 착색 조성물은, 블록 아이소사이아네이트기를 포함하는 반복 단위를 갖는 수지(이하, 수지 BI라고도 한다)를 포함한다.The coloring composition of this invention contains resin (henceforth resin BI) which has a repeating unit containing a block isocyanate group.

수지 BI가 갖는 블록 아이소사이아네이트기로서는, 열에 의하여 아이소사이아네이트기를 생성하는 것이 가능한 기인 것이 바람직하고, 70~150℃의 열에 의하여 아이소사이아네이트기를 생성하는 것이 가능한 기인 것이 보다 바람직하다. 블록 아이소사이아네이트기로서는, 아이소사이아네이트기가 블록제에 의하여 화학적으로 보호된 구조의 기를 들 수 있다.As a block isocyanate group which resin BI has, it is preferable that it is a group which can produce|generate an isocyanate group with heat, and it is more preferable that it is a group which can produce|generate an isocyanate group with a heat|fever of 70-150 degreeC. As a blocked isocyanate group, group of the structure in which the isocyanate group was chemically protected by the blocking agent is mentioned.

블록 아이소사이아네이트기란, 아이소사이아네이트기가 블록제로 불리는 화합물에 의하여 보호된 구조를 갖는 기이며, 상온(예를 들면, 10~30℃)에서는 아이소사이아네이트기로서의 반응성은 나타내지 않지만, 가열 등에 의하여 블록 아이소사이아네이트기로부터 블록제가 탈리되어 아이소사이아네이트기가 생성되는 구조의 기이다.A blocked isocyanate group is a group in which the isocyanate group has a structure protected by a compound called a blocking agent, and does not show reactivity as an isocyanate group at room temperature (for example, 10 to 30°C), but is heated It is a group of a structure in which a blocking agent is detached from a blocked isocyanate group and an isocyanate group is generated.

수지 BI가 갖는 블록 아이소사이아네이트기로서는, 70~150℃의 열에 의하여 아이소사이아네이트기를 생성하는 것이 가능한 기인 것이 보다 바람직하다. 즉, 블록 아이소사이아네이트기의 아이소사이아네이트 생성 온도(블록제의 탈리 온도)는, 70~150℃인 것이 바람직하다. 아이소사이아네이트 생성 온도의 하한은, 보존 안정성의 관점에서 75℃ 이상인 것이 바람직하고, 80℃ 이상인 것이 보다 바람직하다. 아이소사이아네이트 생성 온도의 상한은, 경화성의 관점에서 130℃ 이하인 것이 바람직하고, 120℃ 이하인 것이 보다 바람직하다.As a block isocyanate group which resin BI has, it is more preferable that it is a group which can produce|generate an isocyanate group with the heat|fever of 70-150 degreeC. That is, it is preferable that the isocyanate formation temperature (desorption temperature of a blocking agent) of a blocked isocyanate group is 70-150 degreeC. It is preferable that it is 75 degreeC or more from a viewpoint of storage stability, and, as for the lower limit of the isocyanate formation temperature, it is more preferable that it is 80 degreeC or more. It is preferable that it is 130 degrees C or less from a sclerosis|hardenability viewpoint, and, as for the upper limit of the isocyanate formation temperature, it is more preferable that it is 120 degrees C or less.

블록 아이소사이아네이트기의 아이소사이아네이트기를 보호하는 블록제로서는, 옥심 화합물, 락탐 화합물, 페놀 화합물, 알코올 화합물, 아민 화합물, 활성 메틸렌 화합물, 피라졸 화합물, 머캅탄 화합물, 이미다졸 화합물, 이미드 화합물 등을 들 수 있으며, 보호 반응, 및 탈보호 반응의 용이성의 관점에서 옥심 화합물, 락탐 화합물, 활성 메틸렌 화합물, 피라졸 화합물이 바람직하고, 옥심 화합물, 활성 메틸렌 화합물, 피라졸 화합물이 보다 바람직하며, 옥심 화합물이 더 바람직하다.Examples of the blocking agent for protecting the isocyanate group of the blocked isocyanate group include an oxime compound, a lactam compound, a phenol compound, an alcohol compound, an amine compound, an active methylene compound, a pyrazole compound, a mercaptan compound, an imidazole compound, and an imidazole compound. od compound, etc., and from the viewpoint of the easiness of the protection reaction and deprotection reaction, an oxime compound, a lactam compound, an active methylene compound, and a pyrazole compound are preferable, and an oxime compound, an active methylene compound and a pyrazole compound are more preferable. and an oxime compound is more preferable.

옥심 화합물로서는, 아세톡심, 폼알독심, 사이클로헥세인옥심, 메틸에틸케톤옥심, 사이클로헥산온옥심, 및, 벤조페논옥심 등을 들 수 있다.As an oxime compound, acetoxime, form aldoxime, cyclohexane oxime, methyl ethyl ketone oxime, cyclohexanone oxime, benzophenone oxime, etc. are mentioned.

락탐 화합물로서는, ε-카프로락탐, 및, γ-뷰티로락탐 등을 들 수 있다.Examples of the lactam compound include ε-caprolactam and γ-butyrolactam.

페놀 화합물로서는, 페놀, 나프톨, 크레졸, 자일렌올, 및, 할로젠 치환 페놀 등을 들 수 있다.Examples of the phenol compound include phenol, naphthol, cresol, xyleneol, and halogen-substituted phenol.

알코올 화합물로서는, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 뷰탄올, 사이클로헥산올, 에틸렌글라이콜모노알킬에터, 프로필렌글라이콜모노알킬에터, 및, 락트산 알킬 등을 들 수 있다.Examples of the alcohol compound include methanol, ethanol, propanol, butanol, cyclohexanol, ethylene glycol monoalkyl ether, propylene glycol monoalkyl ether, and alkyl lactate.

아민 화합물로서는, 제1급 아민 및 제2급 아민을 들 수 있다. 아민 화합물은, 방향족 아민, 지방족 아민, 지환족 아민 중 어느 것이어도 되고, 아닐린, 다이페닐아민, 에틸렌이민, 및, 폴리에틸렌이민 등을 구체예로서 들 수 있다.Primary amines and secondary amines are mentioned as an amine compound. The amine compound may be any of aromatic amine, aliphatic amine, and alicyclic amine, and specific examples thereof include aniline, diphenylamine, ethyleneimine, and polyethyleneimine.

활성 메틸렌 화합물로서는, 말론산 다이에틸, 말론산 다이메틸, 아세토아세트산 에틸, 및, 아세토아세트산 메틸 등을 들 수 있다.Examples of the active methylene compound include diethyl malonate, dimethyl malonate, ethyl acetoacetate, and methyl acetoacetate.

피라졸 화합물로서는, 피라졸, 메틸피라졸, 및, 다이메틸피라졸 등을 들 수 있다.Examples of the pyrazole compound include pyrazole, methylpyrazole, and dimethylpyrazole.

머캅탄 화합물로서는, 알킬머캅탄, 및, 아릴머캅탄 등을 들 수 있다.Examples of the mercaptan compound include alkyl mercaptan and aryl mercaptan.

이미다졸 화합물로서는, 이미다졸, 1-메틸이미다졸, 1-에틸이미다졸, 1,2-다이메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-벤질-2-메틸이미다졸, 1-벤질-2-페닐이미다졸 등을 들 수 있다.Examples of the imidazole compound include imidazole, 1-methylimidazole, 1-ethylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, and 1-benzyl-2-methyl. imidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, etc. are mentioned.

이미드 화합물로서는, 말레이미드, 석신산 이미드, 프탈이미드, 및 그들의 유도체 등을 들 수 있다.Examples of the imide compound include maleimide, succinimide, phthalimide, and derivatives thereof.

블록제의 분자량은, 50~200인 것이 바람직하고, 50~160인 것이 보다 바람직하며, 50~120인 것이 더 바람직하다. 블록제의 분자량이 50 이상이면, 실온에서의 블록제의 탈리를 억제할 수 있어, 착색 조성물의 보존 안정성을 향상시킬 수 있다. 블록제의 분자량이 200 이하이면, 저온에서의 가열 처리(예를 들면 150℃ 이하)에서 블록제를 탈리시켜 경화 반응을 진행시키기 쉬워, 충분히 경화된 경화막을 형성하기 쉽다. 이 때문에, 타색과의 색 전이가 억제된 경화막을 형성하기 쉽다.It is preferable that it is 50-200, as for the molecular weight of a blocking agent, it is more preferable that it is 50-160, It is more preferable that it is 50-120. Desorption of the blocking agent at room temperature can be suppressed as the molecular weight of a blocking agent is 50 or more, and the storage stability of a coloring composition can be improved. When the molecular weight of the blocking agent is 200 or less, the blocking agent is easily removed by heat treatment at low temperature (for example, 150° C. or less) to advance a curing reaction, and it is easy to form a sufficiently cured cured film. For this reason, it is easy to form the cured film by which the color transition with another color was suppressed.

블록제로서는, 메틸에틸케톤옥심, 사이클로헥산온옥심, 아세톡심, 말론산 다이에틸, 아세토아세트산 에틸, ε-카프로락탐, γ-뷰티로락탐, 피라졸이 바람직하고, 메틸에틸케톤옥심, 아세톡심, 말론산 다이에틸, 피라졸이 보다 바람직하며, 메틸에틸케톤옥심이 더 바람직하다.As the blocking agent, methyl ethyl ketone oxime, cyclohexanone oxime, acetoxime, diethyl malonate, ethyl acetoacetate, ε-caprolactam, γ-butyrolactam and pyrazole are preferable, and methyl ethyl ketone oxime and acetoxime are preferable. , diethyl malonate and pyrazole are more preferable, and methyl ethyl ketone oxime is still more preferable.

블록 아이소사이아네이트기를 포함하는 반복 단위로서는, 하기 식 (Bi-1)로 나타나는 반복 단위를 들 수 있다.As a repeating unit containing a block isocyanate group, the repeating unit represented by a following formula (Bi-1) is mentioned.

[화학식 6][Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

식 (Bi-1)에 있어서, X1은 반복 단위의 주쇄를 나타내고, L1은 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내며, Z1은 블록 아이소사이아네이트기를 나타낸다.In the formula (Bi-1), X 1 represents the main chain of the repeating unit, L 1 represents a single bond or a divalent linking group, and Z 1 represents a block isocyanate group.

식 (Bi-1)에 있어서, X1이 나타내는 반복 단위의 주쇄로서는, 특별히 한정은 없다. 공지의 중합 가능한 모노머로 형성되는 연결기이면 특별히 제한 없다. 예를 들면, 폴리(메트)아크릴계 연결기, 폴리알킬렌이민계 연결기, 폴리에스터계 연결기, 폴리유레테인계 연결기, 폴리유레아계 연결기, 폴리아마이드계 연결기, 폴리에터계 연결기, 폴리스타이렌계 연결기 등을 들 수 있으며, 폴리(메트)아크릴계 연결기, 폴리스타이렌계 연결기가 바람직하고, 폴리(메트)아크릴계 연결기가 보다 바람직하다.In formula (Bi-1), there is no limitation in particular as a main chain of the repeating unit represented by X< 1 >. There is no restriction|limiting in particular if it is a coupling group formed from a well-known polymerizable monomer. For example, poly (meth) acrylic coupling group, polyalkyleneimine coupling group, polyester coupling group, polyurethane coupling group, polyurea coupling group, polyamide coupling group, polyether coupling group, polystyrene coupling group, etc. and a poly(meth)acrylic-based linking group and a polystyrene-based linking group are preferable, and a poly(meth)acrylic-based linking group is more preferable.

식 (Bi-1)에 있어서, L1이 나타내는 2가의 연결기로서는, 알킬렌기(바람직하게는 탄소수 1~12의 알킬렌기), 아릴렌기(바람직하게는 탄소수 6~20의 아릴렌기), -NH-, -SO-, -SO2-, -CO-, -O-, -COO-, -OCO-, -S- 및 이들의 2 이상을 조합하여 이루어지는 기를 들 수 있다. 알킬렌기는, 직쇄상, 분기상, 및, 환상 중 어느 것이어도 되고, 직쇄상 또는 분기상이 바람직하다. 또, 알킬렌기는, 치환기를 갖고 있어도 되고, 무치환이어도 된다. 치환기로서는, 하이드록시기, 알콕시기 등을 들 수 있다.In the formula (Bi-1), as the divalent linking group represented by L 1 , an alkylene group (preferably an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms), an arylene group (preferably an arylene group having 6 to 20 carbon atoms), —NH -, -SO-, -SO 2 -, -CO-, -O-, -COO-, -OCO-, -S-, and the group formed by combining two or more of these is mentioned. Any of linear, branched, and cyclic|annular form may be sufficient as an alkylene group, and linear or branched form is preferable. Moreover, the alkylene group may have a substituent, and unsubstituted may be sufficient as it. A hydroxyl group, an alkoxy group, etc. are mentioned as a substituent.

식 (Bi-1)에 있어서, Z1은 블록 아이소사이아네이트기를 나타낸다.In the formula (Bi-1), Z 1 represents a blocked isocyanate group.

식 (Bi-1)로 나타나는 반복 단위의 한 양태로서, 하기 식 (B-1)로 나타나는 반복 단위를 들 수 있다.As an aspect of the repeating unit represented by Formula (Bi-1), the repeating unit represented by a following formula (B-1) is mentioned.

[화학식 7][Formula 7]

Figure pct00007
Figure pct00007

식 (B-1) 중, Rb1~Rb3은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로젠 원자 또는 알킬기를 나타내고, Rb4~Rb7은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로젠 원자, 알킬기, 알콕시기 또는 아릴기를 나타내며, Lb1은 단결합 또는 탄화 수소기를 나타낸다.In the formula (B-1), R b1 to R b3 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and R b4 to R b7 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group. or an aryl group, and L b1 represents a single bond or a hydrocarbon group.

Rb1~Rb7이 나타내는 할로젠 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 아이오딘 원자 등을 들 수 있다.Examples of the halogen atom represented by R b1 to R b7 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

Rb1~Rb7이 나타내는 알킬기의 탄소수는, 1~20이 바람직하고, 1~10이 보다 바람직하며, 1~5가 더 바람직하다. 알킬기는, 직쇄상, 분기상, 환상 중 어느 것이어도 되지만, 직쇄상 또는 분기상인 것이 바람직하다.1-20 are preferable, as for carbon number of the alkyl group represented by Rb1 - Rb7 , 1-10 are more preferable, and 1-5 are still more preferable. The alkyl group may be any of linear, branched, and cyclic, but is preferably linear or branched.

Rb4~Rb7이 나타내는 알콕시기의 탄소수는, 1~20이 바람직하고, 1~10이 보다 바람직하며, 1~5가 더 바람직하다.1-20 are preferable, as for carbon number of the alkoxy group which Rb4-Rb7 represents , 1-10 are more preferable, and 1-5 are still more preferable.

Rb4~Rb7이 나타내는 아릴기의 탄소수는, 6~20이 바람직하고, 6~15가 보다 바람직하며, 6~10이 더 바람직하다.6-20 are preferable, as for carbon number of the aryl group which Rb4-Rb7 represents , 6-15 are more preferable, and 6-10 are still more preferable.

Lb1이 나타내는 탄화 수소기로서는, 알킬렌기(바람직하게는 탄소수 1~12의 알킬렌기), 아릴렌기(바람직하게는 탄소수 6~20의 아릴렌기) 및 이들을 조합한 기를 들 수 있다.Examples of the hydrocarbon group represented by L b1 include an alkylene group (preferably an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms), an arylene group (preferably an arylene group having 6 to 20 carbon atoms), and a group combining these groups.

수지 BI에 있어서, 블록 아이소사이아네이트기를 포함하는 반복 단위의 함유량은, 수지 BI의 전체 반복 단위 중 45질량% 이상인 것이 바람직하고, 50질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 55질량% 이상인 것이 더 바람직하다. 상한은, 100질량%로 할 수도 있고, 95질량% 이하로 할 수도 있으며, 85질량% 이하로 할 수도 있다.In Resin BI, the content of the repeating unit containing a block isocyanate group is preferably 45% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, and still more preferably 55% by mass or more, based on the total repeating units of Resin BI. Do. The upper limit may be 100 mass %, 95 mass % or less, and may be 85 mass % or less.

수지 BI는, 산기가 보호기로 보호된 기를 갖는 반복 단위를 포함하는 것이 바람직하다. 이 양태에 의하면, 착색 조성물의 보존 시에 있어서의 수지 BI의 반응의 진행 등을 억제할 수 있어, 착색 조성물의 보존 안정성을 향상시킬 있다.The resin BI preferably includes a repeating unit having a group in which an acid group is protected by a protecting group. According to this aspect, advancing of reaction of resin BI at the time of preservation|save of a coloring composition, etc. can be suppressed, and storage stability of a coloring composition can be improved.

상기 산기로서는, 페놀성 하이드록시기, 카복시기, 설포기, 인산기를 들 수 있고, 페놀성 하이드록시기, 카복시기인 것이 바람직하며, 탈보호 후의 아이소사이아네이트기와의 반응성이 높다는 이유에서 카복시기인 것이 보다 바람직하다.As said acid group, a phenolic hydroxyl group, a carboxy group, a sulfo group, and a phosphoric acid group are mentioned, It is preferable that they are a phenolic hydroxyl group and a carboxy group, Since the reactivity with the isocyanate group after deprotection is high, it is a carboxy group more preferably.

상기 보호기는, 산 또는 염기의 작용에 의하여 분해되어 탈리되는 기를 들 수 있다. 보호기는, 식 (Y1)~(Y5) 중 어느 하나로 나타나는 기인 것이 바람직하고, 탈보호하기 쉽다는 이유에서 식 (Y3), (Y5)로 나타나는 기인 것이 보다 바람직하다.Examples of the protecting group include a group that is decomposed and detached by the action of an acid or a base. The protecting group is preferably a group represented by any one of the formulas (Y1) to (Y5), and more preferably a group represented by the formulas (Y3) and (Y5) from the viewpoint of being easy to deprotect.

식 (Y1): -C(RY1)(RY2)(RY3)Formula (Y1): -C(R Y1 )(R Y2 )(R Y3 )

식 (Y2): -C(=O)OC(RY4)(RY5)(RY6)Formula (Y2): -C(=O)OC(R Y4 )(R Y5 )(R Y6 )

식 (Y3): -C(RY7)(RY8)(ORY9)Formula (Y3): -C(R Y7 )(R Y8 )(OR Y9 )

식 (Y4): -C(RY10)(H)(ArY1)Formula (Y4): -C(R Y10 )(H)(Ar Y1 )

식 (Y5): -C(=O)(RY11)Formula (Y5): -C(=O)(R Y11 )

식 (Y1) 중, RY1~RY3은, 각각 독립적으로 알킬기를 나타내고, RY1~RY3 중의 2개가 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다;In the formula (Y1), R Y1 to R Y3 each independently represent an alkyl group, and two of R Y1 to R Y3 may be bonded to each other to form a ring;

식 (Y2) 중, RY4~RY6은, 각각 독립적으로 알킬기를 나타내고, RY4~RY6 중의 2개가 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다;In the formula (Y2), R Y4 to R Y6 each independently represent an alkyl group, and two of R Y4 to R Y6 may be bonded to each other to form a ring;

식 (Y3) 중, RY7 및 RY8은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, RY7 및 RY8 중 적어도 일방이 알킬기 또는 아릴기이며, RY9는, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, RY7 또는 RY8과, RY9가 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다;In the formula (Y3), R Y7 and R Y8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, at least one of R Y7 and R Y8 is an alkyl group or an aryl group, and R Y9 represents an alkyl group or an aryl group , R Y7 or R Y8 and R Y9 may combine to form a ring;

식 (Y4) 중, ArY1은, 아릴기를 나타내고, RY10은, 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다;In formula (Y4), Ar Y1 represents an aryl group and R Y10 represents an alkyl group or an aryl group;

식 (Y5) 중, RY11은, 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다.In formula (Y5), R Y11 represents an alkyl group or an aryl group.

식 (Y1)의 RY1~RY3이 나타내는 알킬기의 탄소수는, 1~12가 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하며, 1~4가 더 바람직하다. 알킬기는, 직쇄상, 분기상, 환상 중 어느 것이어도 되지만, 직쇄상 또는 분기상인 것이 바람직하다. 식 (Y1)에 있어서, RY1~RY3 중 2개가 결합하여, 환을 형성해도 된다. RY1~RY3 중 2개가 결합하여 형성되는 환으로서는, 사이클로펜틸기나 사이클로헥실기 등의 단환의 사이클로알킬기, 노보닐기, 테트라사이클로데칸일기, 테트라사이클로도데칸일기, 및, 아다만틸기 등의 다환의 사이클로알킬기를 들 수 있고, 탄소수 5~6의 단환의 사이클로알킬기인 것이 바람직하다. 또, 상기의 사이클로알킬기에 있어서는, 환을 구성하는 메틸렌기의 하나가, 산소 원자 등의 헤테로 원자, 또는, 카보닐기 등의 헤테로 원자를 갖는 기로 치환되어 있어도 된다.1-12 are preferable, as for carbon number of the alkyl group which R Y1 -R Y3 of Formula (Y1) represents, 1-6 are more preferable, and 1-4 are still more preferable. The alkyl group may be any of linear, branched, and cyclic, but is preferably linear or branched. In the formula (Y1), two of R Y1 to R Y3 may combine to form a ring. Examples of the ring formed by bonding two of R Y1 to R Y3 include a monocyclic cycloalkyl group such as a cyclopentyl group or a cyclohexyl group, a norbornyl group, a tetracyclodecanyl group, a tetracyclododecanyl group, and an adamantyl group. A cyclic cycloalkyl group is mentioned, It is preferable that it is a C5-C6 monocyclic cycloalkyl group. Further, in the cycloalkyl group, one of the methylene groups constituting the ring may be substituted with a group having a hetero atom such as an oxygen atom or a hetero atom such as a carbonyl group.

식 (Y2)의 RY4~RY6이 나타내는 알킬기의 탄소수는, 1~12가 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하며, 1~4가 더 바람직하다. 알킬기는, 직쇄상, 분기상, 환상 중 어느 것이어도 되지만, 직쇄상 또는 분기상인 것이 바람직하다. 식 (Y2)의 RY4~RY6 중 적어도 2개는 메틸기인 것이 바람직하다. 식 (Y2)에 있어서, RY4~RY6 중 2개가 결합하여, 환을 형성하고 있어도 된다. 형성되는 환으로서는, 식 (Y1)에서 설명한 환을 들 수 있다.1-12 are preferable, as for carbon number of the alkyl group which R Y4 -R Y6 of Formula (Y2) represents, 1-6 are more preferable, and 1-4 are still more preferable. The alkyl group may be any of linear, branched, and cyclic, but is preferably linear or branched. It is preferable that at least 2 of R Y4 -R Y6 of Formula (Y2) are a methyl group. In the formula (Y2), two of R Y4 to R Y6 may be bonded to form a ring. As a ring to be formed, the ring demonstrated by Formula (Y1) is mentioned.

식 (Y3) 중, RY7 및 RY8은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, RY7 및 RY8 중 적어도 일방이 알킬기 또는 아릴기이며, RY9는, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, RY7 또는 RY8과, RY9가 결합하여 환을 형성해도 된다.In the formula (Y3), R Y7 and R Y8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, at least one of R Y7 and R Y8 is an alkyl group or an aryl group, and R Y9 represents an alkyl group or an aryl group , R Y7 or R Y8 and R Y9 may combine to form a ring.

알킬기는, 직쇄상, 분기상, 환상 중 어느 것이어도 된다. 알킬기의 탄소수는 1~12인 것이 바람직하고, 1~6인 것이 보다 바람직하며, 1~4인 것이 더 바람직하다. 아릴기의 탄소수는, 6~20이 바람직하고, 6~12가 보다 바람직하다. RY7 또는 RY8과, RY9가 결합하여 형성되는 환으로서는, 테트라하이드로퓨란일기, 테트라하이드로피란일기 등을 들 수 있다. 식 (Y3)에 있어서, RY7 또는 RY8과, RY9가 결합하여 환을 형성하고 있는 것이 바람직하다. 또, RY7 및 RY8 중 일방은 수소 원자인 것이 바람직하다.The alkyl group may be linear, branched, or cyclic. It is preferable that carbon number of an alkyl group is 1-12, It is more preferable that it is 1-6, It is more preferable that it is 1-4. 6-20 are preferable and, as for carbon number of an aryl group, 6-12 are more preferable. Examples of the ring formed by bonding R Y7 or R Y8 and R Y9 to each other include a tetrahydrofuranyl group and a tetrahydropyranyl group. In the formula (Y3), it is preferable that R Y7 or R Y8 and R Y9 are bonded to each other to form a ring. Moreover, it is preferable that one of R Y7 and R Y8 is a hydrogen atom.

식 (Y4) 중, ArY1은, 아릴기를 나타내고, RY10은, 알킬기 또는 아릴기를 나타내며, ArY1과 RY10은 서로 결합하여 환을 형성해도 된다. 알킬기의 탄소수는 1~12인 것이 바람직하고, 1~6인 것이 보다 바람직하며, 1~4인 것이 더 바람직하다. 아릴기의 탄소수는, 6~20이 바람직하고, 6~12가 보다 바람직하다. 식 (Y4)에 있어서 RY10은, 알킬기인 것이 바람직하다.In formula (Y4), Ar Y1 represents an aryl group, R Y10 represents an alkyl group or an aryl group, and Ar Y1 and R Y10 may be bonded to each other to form a ring. It is preferable that carbon number of an alkyl group is 1-12, It is more preferable that it is 1-6, It is more preferable that it is 1-4. 6-20 are preferable and, as for carbon number of an aryl group, 6-12 are more preferable. In formula (Y4), it is preferable that R Y10 is an alkyl group.

식 (Y5) 중, RY11은, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, 알킬기인 것이 바람직하다. 알킬기의 탄소수는 1~12인 것이 바람직하고, 1~6인 것이 보다 바람직하며, 1~4인 것이 더 바람직하다. 아릴기의 탄소수는, 6~20이 바람직하고, 6~12가 보다 바람직하다.In formula (Y5), R Y11 represents an alkyl group or an aryl group, and is preferably an alkyl group. It is preferable that carbon number of an alkyl group is 1-12, It is more preferable that it is 1-6, It is more preferable that it is 1-4. 6-20 are preferable and, as for carbon number of an aryl group, 6-12 are more preferable.

보호기의 분자량은 40~200인 것이 바람직하고, 40~150인 것이 보다 바람직하며, 40~120인 것이 더 바람직하다. 보호기의 분자량이 상기 범위이면 보존 안정성이 우수하고, 또한, 저온에서의 경화성이 우수한 착색 조성물로 할 수 있다.It is preferable that it is 40-200, as for the molecular weight of a protecting group, it is more preferable that it is 40-150, It is more preferable that it is 40-120. If the molecular weight of a protecting group is the said range, it can be set as the coloring composition excellent in storage stability and excellent in sclerosis|hardenability in low temperature.

보호기의 구체예로서는, 1-메톡시에틸기, 1-에톡시에틸기, 1-n-프로폭시에틸기, 1-n-뷰톡시에틸기, 1-t-뷰톡시에틸기, 1-사이클로펜틸옥시에틸기, 1-사이클로헥실옥시에틸기, 사이클로헥실(메톡시)메틸기, α-메톡시벤질기, α-에톡시벤질기, α-n-프로폭시벤질기, 2-페닐-1-메톡시에틸기, 2-페닐-1-에톡시에틸기, 2-페닐-1-i-프로폭시에틸기, 2-테트라하이드로퓨란일기, 2-테트라하이드로피란일기를 들 수 있고, 1-에톡시에틸기, 1-사이클로헥실옥시에틸기, 2-테트라하이드로퓨란일기, 2-테트라하이드로피란일기가 바람직하며, 1-에톡시에틸기, 1-사이클로헥실옥시에틸기가 보다 바람직하다.Specific examples of the protecting group include 1-methoxyethyl group, 1-ethoxyethyl group, 1-n-propoxyethyl group, 1-n-butoxyethyl group, 1-t-butoxyethyl group, 1-cyclopentyloxyethyl group, 1- Cyclohexyloxyethyl group, cyclohexyl (methoxy)methyl group, α-methoxybenzyl group, α-ethoxybenzyl group, α-n-propoxybenzyl group, 2-phenyl-1-methoxyethyl group, 2-phenyl- 1-ethoxyethyl group, 2-phenyl-1-i-propoxyethyl group, 2-tetrahydrofuranyl group, 2-tetrahydropyranyl group, 1-ethoxyethyl group, 1-cyclohexyloxyethyl group, 2 -Tetrahydrofuranyl group and 2-tetrahydropyranyl group are preferable, and 1-ethoxyethyl group and 1-cyclohexyloxyethyl group are more preferable.

산기가 보호기로 보호된 기를 갖는 반복 단위로서는, 하기 식 (Bi-2)로 나타나는 반복 단위를 들 수 있다.Examples of the repeating unit having a group in which an acid group is protected by a protecting group include a repeating unit represented by the following formula (Bi-2).

[화학식 8][Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

식 (Bi-2)에 있어서, X2는 반복 단위의 주쇄를 나타내고, L2는 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내며, Z2는 산기가 보호기로 보호된 기를 나타낸다.In the formula (Bi-2), X 2 represents the main chain of the repeating unit, L 2 represents a single bond or a divalent linking group, and Z 2 represents a group in which an acid group is protected by a protecting group.

식 (Bi-2)에 있어서, X2가 나타내는 반복 단위의 주쇄로서는, 특별히 한정은 없다. 공지의 중합 가능한 모노머로 형성되는 연결기이면 특별히 제한 없다. 예를 들면, 폴리(메트)아크릴계 연결기, 폴리알킬렌이민계 연결기, 폴리에스터계 연결기, 폴리유레테인계 연결기, 폴리유레아계 연결기, 폴리아마이드계 연결기, 폴리에터계 연결기, 폴리스타이렌계 연결기 등을 들 수 있으며, 폴리(메트)아크릴계 연결기, 폴리스타이렌계 연결기가 바람직하고, 폴리(메트)아크릴계 연결기가 보다 바람직하다.In the formula (Bi-2), the main chain of the repeating unit represented by X 2 is not particularly limited. There is no restriction|limiting in particular if it is a coupling group formed from a well-known polymerizable monomer. For example, poly (meth) acrylic coupling group, polyalkyleneimine coupling group, polyester coupling group, polyurethane coupling group, polyurea coupling group, polyamide coupling group, polyether coupling group, polystyrene coupling group, etc. and a poly(meth)acrylic-based linking group and a polystyrene-based linking group are preferable, and a poly(meth)acrylic-based linking group is more preferable.

식 (Bi-2)에 있어서, L2가 나타내는 2가의 연결기로서는, 알킬렌기(바람직하게는 탄소수 1~12의 알킬렌기), 아릴렌기(바람직하게는 탄소수 6~20의 아릴렌기), -NH-, -SO-, -SO2-, -CO-, -O-, -COO-, -OCO-, -S- 및 이들의 2 이상을 조합하여 이루어지는 기를 들 수 있다. 알킬렌기는, 직쇄상, 분기상, 및, 환상 중 어느 것이어도 되고, 직쇄상 또는 분기상이 바람직하다. 또, 알킬렌기는, 치환기를 갖고 있어도 되고, 무치환이어도 된다. 치환기로서는, 하이드록시기, 알콕시기 등을 들 수 있다.In the formula (Bi-2), as the divalent linking group represented by L 2 , an alkylene group (preferably an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms), an arylene group (preferably an arylene group having 6 to 20 carbon atoms), —NH -, -SO-, -SO 2 -, -CO-, -O-, -COO-, -OCO-, -S-, and the group formed by combining two or more of these is mentioned. Any of linear, branched, and cyclic|annular form may be sufficient as an alkylene group, and linear or branched form is preferable. Moreover, the alkylene group may have a substituent, and unsubstituted may be sufficient as it. A hydroxyl group, an alkoxy group, etc. are mentioned as a substituent.

식 (Bi-2)에 있어서, Z2는 산기가 보호기로 보호된 기를 나타낸다.In the formula (Bi-2), Z 2 represents a group in which an acid group is protected by a protecting group.

식 (Bi-2)로 나타나는 반복 단위의 한 양태로서, 하기 식 (B-2)로 나타나는 반복 단위를 들 수 있다.As an aspect of the repeating unit represented by Formula (Bi-2), the repeating unit represented by a following formula (B-2) is mentioned.

[화학식 9][Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

식 (B-2) 중, Rb11~Rb13은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로젠 원자 또는 알킬기를 나타내고, Lb11은 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내며, Xb11은 식 (X-1) 또는 식 (X-2)로 나타나는 기를 나타낸다;In formula (B-2), R b11 to R b13 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, L b11 represents a single bond or a divalent linking group, and X b11 represents a formula (X-1) Or group represented by Formula (X-2) is shown;

[화학식 10][Formula 10]

Figure pct00010
Figure pct00010

식 (X-1) 및 식 (X-2) 중, Yb1은 보호기를 나타내고, 파선은 Lb11과 결합하는 부분을 나타낸다.In formulas (X-1) and (X-2), Y b1 represents a protecting group, and the broken line represents a portion bonded to L b11 .

Rb11~Rb13이 나타내는 할로젠 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 아이오딘 원자 등을 들 수 있다.Examples of the halogen atom represented by R b11 to R b13 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

Rb11~Rb13이 나타내는 알킬기의 탄소수는, 1~20이 바람직하고, 1~10이 보다 바람직하며, 1~5가 더 바람직하다. 알킬기는, 직쇄상, 분기상, 환상 중 어느 것이어도 되지만, 직쇄상 또는 분기상인 것이 바람직하다.1-20 are preferable, as for carbon number of the alkyl group represented by Rb11 - Rb13 , 1-10 are more preferable, and 1-5 are still more preferable. The alkyl group may be any of linear, branched, and cyclic, but is preferably linear or branched.

Lb11이 나타내는 2가의 연결기로서는, 알킬렌기(바람직하게는 탄소수 1~12의 알킬렌기), 아릴렌기(바람직하게는 탄소수 6~20의 아릴렌기), -NH-, -SO-, -SO2-, -CO-, -O-, -COO-, -OCO-, -S- 및 이들의 2 이상을 조합하여 이루어지는 기를 들 수 있다. 알킬렌기는, 직쇄상, 분기상, 및, 환상 중 어느 것이어도 되고, 직쇄상 또는 분기상이 바람직하다. 또, 알킬렌기는, 치환기를 갖고 있어도 되고, 무치환이어도 된다. 치환기로서는, 하이드록시기, 알콕시기 등을 들 수 있다.Examples of the divalent linking group represented by L b11 include an alkylene group (preferably an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms), an arylene group (preferably an arylene group having 6 to 20 carbon atoms), -NH-, -SO-, -SO 2 -, -CO-, -O-, -COO-, -OCO-, -S-, and the group formed by combining two or more of these are mentioned. Any of linear, branched, and cyclic|annular form may be sufficient as an alkylene group, and linear or branched form is preferable. Moreover, the alkylene group may have a substituent, and unsubstituted may be sufficient as it. A hydroxyl group, an alkoxy group, etc. are mentioned as a substituent.

식 (X-1) 및 식 (X-2)의 Yb1이 나타내는 보호기로서는, 상술한 식 (Y1)~(Y5) 중 어느 하나로 나타나는 기를 들 수 있다. 식 (B-2)의 Xb11이 식 (X-1)로 나타나는 기인 경우, Yb1은 식 (Y5)인 것이 바람직하다. 식 (B-2)의 Xb11이 식 (X-2)로 나타나는 기인 경우, Yb1은 식 (Y3)인 것이 바람직하다.Examples of the protecting group represented by Y b1 in formulas (X-1) and (X-2) include groups represented by any one of formulas (Y1) to (Y5) described above. When X b11 of Formula (B-2) is group represented by Formula (X-1), it is preferable that Y b1 is Formula (Y5). When X b11 of Formula (B-2) is group represented by Formula (X-2), it is preferable that Y b1 is Formula (Y3).

식 (B-2)의 Xb11이 식 (X-1)로 나타나는 기인 경우는, 착색 조성물의 보존 안정성을 보다 향상시킬 수 있다. 식 (B-2)의 Xb11이 식 (X-2)로 나타나는 기인 경우는, 저온에서의 경화성이 우수한 착색 조성물로 할 수 있다.When X b11 of Formula (B-2) is group represented by Formula (X-1), the storage stability of a coloring composition can be improved more. When X b11 of Formula (B-2) is group represented by Formula (X-2), it can be set as the coloring composition excellent in sclerosis|hardenability in low temperature.

수지 BI 중에 있어서의 산기가 보호기로 보호된 기를 갖는 반복 단위의 함유량은, 수지 BI의 전체 반복 단위 중 25~45질량%인 것이 바람직하다. 상한은 42.5질량% 이하인 것이 바람직하고, 40질량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 하한은, 27.5질량% 이상이 바람직하고, 30질량% 이상이 보다 바람직하다.It is preferable that content of the repeating unit in which the acidic radical has the group protected by the protecting group in resin BI is 25-45 mass % with respect to all the repeating units of resin BI. It is preferable that it is 42.5 mass % or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 40 mass % or less. 27.5 mass % or more is preferable and, as for a minimum, 30 mass % or more is more preferable.

수지 BI는, 산기를 갖는 반복 단위를 함유하고 있어도 된다. 이 양태에 의하면, 현상 시 잔사를 저감시킨다는 효과를 기대할 수 있다. 수지 BI가 산기를 갖는 반복 단위를 함유하고 있는 경우, 수지 BI 중에 있어서의 산기를 갖는 반복 단위의 함유량은, 수지 BI의 전체 반복 단위 중 10~20질량%인 것이 바람직하다. 상한은 18질량% 이하인 것이 바람직하고, 16질량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 하한은, 12질량% 이상이 바람직하고, 14질량% 이상이 보다 바람직하다.Resin BI may contain the repeating unit which has an acidic radical. According to this aspect, the effect of reducing the residue at the time of image development can be expected. When the resin BI contains a repeating unit having an acid group, the content of the repeating unit having an acid group in the resin BI is preferably 10 to 20% by mass based on the total repeating units of the resin BI. It is preferable that it is 18 mass % or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 16 mass % or less. 12 mass % or more is preferable and, as for a minimum, 14 mass % or more is more preferable.

수지 BI는, 산기를 갖는 반복 단위를 실질적으로 함유하고 있지 않은 것도 바람직하다. 이 양태에 의하면, 보존 안정성과 저온에서의 경화성을 보다 높은 수준으로 할 수 있다는 효과를 기대할 수 있다. 수지 BI가 산기를 갖는 반복 단위를 실질적으로 함유하고 있지 않다는 것은, 수지 BI 중에 있어서의 산기를 갖는 반복 단위의 함유량이, 수지 BI의 전체 반복 단위 중 1질량% 이하인 것을 의미하고, 0.5질량% 이하인 것이 바람직하며, 0.1질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 함유하지 않는 것이 더 바람직하다.It is also preferable that resin BI does not contain the repeating unit which has an acidic radical substantially. According to this aspect, the effect that storage stability and sclerosis|hardenability in low temperature can be made to a higher level can be anticipated. That the resin BI does not substantially contain a repeating unit having an acid group means that the content of the repeating unit having an acid group in the resin BI is 1% by mass or less of the total repeating units of the resin BI, and 0.5% by mass or less It is preferable, and it is more preferable that it is 0.1 mass % or less, and it is more preferable that it does not contain it.

수지 BI는, 블록 아이소사이아네이트기를 포함하는 반복 단위, 산기가 보호기로 보호된 기를 갖는 반복 단위, 산기를 갖는 반복 단위 이외의 반복 단위(이하, 다른 반복 단위라고도 한다)를 함유하고 있어도 된다. 다른 반복 단위의 함유량은, 수지 BI의 전체 반복 단위 중 40질량% 이하인 것이 바람직하고, 20질량% 이하인 것이 보다 바람직하며, 10질량% 이하인 것이 더 바람직하다.Resin BI may contain a repeating unit (hereinafter also referred to as another repeating unit) other than a repeating unit containing a blocked isocyanate group, a repeating unit having a group protected by an acid group, and a repeating unit having an acid group. The content of the other repeating units is preferably 40% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, and still more preferably 10% by mass or less in all the repeating units of Resin BI.

(다른 수지)(other resins)

본 발명의 수지 조성물은, 상기 수지 BI 이외의 수지(이하, 다른 수지라고도 한다)를 더 포함할 수 있다. 다른 수지의 중량 평균 분자량(Mw)은, 2000~2000000이 바람직하다. 상한은, 1000000 이하가 바람직하고, 500000 이하가 보다 바람직하다. 하한은, 3000 이상이 바람직하고, 4000 이상이 보다 바람직하며, 5000 이상이 더 바람직하다.The resin composition of the present invention may further contain a resin (hereinafter, also referred to as other resin) other than the above-mentioned resin BI. As for the weight average molecular weight (Mw) of other resin, 2000-200000 are preferable. 1000000 or less are preferable and, as for an upper limit, 500000 or less are more preferable. 3000 or more are preferable, as for a minimum, 4000 or more are more preferable, and 5000 or more are still more preferable.

다른 수지로서는, 예를 들면, (메트)아크릴 수지, (메트)아크릴아마이드 수지, 에폭시 수지, 엔·싸이올 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에터 수지, 폴리아릴레이트 수지, 폴리설폰 수지, 폴리에터설폰 수지, 폴리페닐렌 수지, 폴리아릴렌에터포스핀옥사이드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아마이드이미드 수지, 폴리올레핀 수지, 환상 올레핀 수지, 폴리에스터 수지, 스타이렌 수지, 실록세인 수지 등을 들 수 있다.As other resin, for example, (meth)acrylic resin, (meth)acrylamide resin, epoxy resin, ene thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyether Tersulfone resin, polyphenylene resin, polyarylene ether phosphine oxide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, styrene resin, siloxane resin, etc. are mentioned. .

다른 수지는, 산기를 갖는 수지인 것도 바람직하다. 산기로서는, 예를 들면, 카복시기, 인산기, 설포기, 페놀성 하이드록시기 등을 들 수 있다. 산기를 갖는 수지는 알칼리 가용성 수지나, 분산제로서 이용할 수도 있다. 산기를 갖는 수지의 산가는, 30~500mgKOH/g이 바람직하다. 하한은, 50mgKOH/g 이상이 보다 바람직하며, 70mgKOH/g 이상이 더 바람직하다. 상한은, 400mgKOH/g 이하가 보다 바람직하며, 200mgKOH/g 이하가 더 바람직하고, 150mgKOH/g 이하가 특히 바람직하며, 120mgKOH/g 이하가 가장 바람직하다.It is also preferable that other resin is resin which has an acidic radical. As an acidic radical, a carboxy group, a phosphoric acid group, a sulfo group, phenolic hydroxyl group etc. are mentioned, for example. Resin which has an acidic radical can also be used as alkali-soluble resin and a dispersing agent. As for the acid value of resin which has an acidic radical, 30-500 mgKOH/g is preferable. As for a minimum, 50 mgKOH/g or more is more preferable, and 70 mgKOH/g or more is more preferable. The upper limit is more preferably 400 mgKOH/g or less, still more preferably 200 mgKOH/g or less, particularly preferably 150 mgKOH/g or less, and most preferably 120 mgKOH/g or less.

산기를 갖는 수지는, 말레이미드 화합물에서 유래하는 반복 단위를 갖고 있어도 된다. 말레이미드 화합물로서는, N-알킬말레이미드, N-아릴말레이미드 등을 들 수 있다. 말레이미드 화합물에서 유래하는 반복 단위로서는, 식 (C-mi)로 나타나는 반복 단위를 들 수 있다.Resin which has an acidic radical may have the repeating unit derived from a maleimide compound. As a maleimide compound, N-alkyl maleimide, N-aryl maleimide, etc. are mentioned. As a repeating unit derived from a maleimide compound, the repeating unit represented by Formula (C-mi) is mentioned.

[화학식 11][Formula 11]

Figure pct00011
Figure pct00011

식 (C-mi)에 있어서, Rmi는 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다. 알킬기의 탄소수는 1~20이 바람직하다. 알킬기는, 직쇄상, 분기상, 환상 중 어느 것이어도 된다. 아릴기의 탄소수는, 6~20이 바람직하고, 6~15가 보다 바람직하며, 6~10이 더 바람직하다. Rmi는 아릴기인 것이 바람직하다.In the formula (C-mi), Rmi represents an alkyl group or an aryl group. As for carbon number of an alkyl group, 1-20 are preferable. The alkyl group may be linear, branched, or cyclic. 6-20 are preferable, as for carbon number of an aryl group, 6-15 are more preferable, and 6-10 are still more preferable. Rmi is preferably an aryl group.

다른 수지는, 하기 식 (ED1)로 나타나는 화합물 및/또는 하기 식 (ED2)로 나타나는 화합물(이하, 이들 화합물을 "에터 다이머"라고 칭하는 경우도 있다.) 유래의 반복 단위를 포함하는 수지인 것도 바람직하다.Another resin is a resin containing a repeating unit derived from a compound represented by the following formula (ED1) and/or a compound represented by the following formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as “ether dimers”). desirable.

[화학식 12][Formula 12]

Figure pct00012
Figure pct00012

식 (ED1) 중, R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~25의 탄화 수소기를 나타낸다.In formula (ED1), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.

[화학식 13][Formula 13]

Figure pct00013
Figure pct00013

식 (ED2) 중, R은, 수소 원자 또는 탄소수 1~30의 유기기를 나타낸다. 식 (ED2)의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2010-168539호의 기재를 참조할 수 있다.In formula (ED2), R represents a hydrogen atom or a C1-C30 organic group. As a specific example of Formula (ED2), description of Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-168539 can be referred.

에터 다이머의 구체예에 대해서는, 일본 공개특허공보 2013-029760호의 단락 번호 0317을 참조할 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.About the specific example of an ether dimer, Paragraph No. 0317 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-029760 can be considered into consideration, and this content is integrated in this specification.

다른 수지는, 중합성기를 갖는 반복 단위를 포함하는 수지인 것도 바람직하다. 중합성기로서는, 바이닐기, (메트)알릴기, (메트)아크릴로일기 등의 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 들 수 있다.It is also preferable that other resin is resin containing the repeating unit which has a polymeric group. As a polymeric group, ethylenically unsaturated bond containing groups, such as a vinyl group, a (meth)allyl group, and a (meth)acryloyl group, are mentioned.

다른 수지는, 식 (III)으로 나타나는 화합물 유래의 반복 단위를 포함하는 수지를 함유하는 것도 바람직하다.It is also preferable that other resin contains resin containing the repeating unit derived from the compound represented by Formula (III).

[화학식 14][Formula 14]

Figure pct00014
Figure pct00014

식중, R1은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R21 및 R22는 각각 독립적으로 알킬렌기를 나타내며, n은 0~15의 정수를 나타낸다. R21 및 R22가 나타내는 알킬렌기의 탄소수는 1~10인 것이 바람직하고, 1~5인 것이 보다 바람직하며, 1~3인 것이 더 바람직하고, 2 또는 3인 것이 특히 바람직하다. n은 0~5의 정수인 것이 바람직하고, 0~4의 정수인 것이 보다 바람직하며, 0~3의 정수인 것이 더 바람직하다.In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 21 and R 22 each independently represent an alkylene group, and n represents an integer of 0 to 15. It is preferable that carbon number of the alkylene group which R21 and R22 represent is 1-10, It is more preferable that it is 1-5, It is more preferable that it is 1-3, It is especially preferable that it is 2 or 3. It is preferable that n is an integer of 0-5, It is more preferable that it is an integer of 0-4, It is more preferable that it is an integer of 0-3.

식 (III)으로 나타나는 화합물로서는, 파라큐밀페놀의 에틸렌옥사이드 또는 프로필렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 시판품으로서는, 아로닉스 M-110(도아 고세이(주)제) 등을 들 수 있다.As a compound represented by Formula (III), the ethylene oxide or propylene oxide modified|denatured (meth)acrylate of paracumyl phenol, etc. are mentioned. As a commercial item, Aronix M-110 (made by Toagosei Co., Ltd.) etc. are mentioned.

다른 수지는, 분산제인 것도 바람직하다. 분산제로서는, 산성 분산제(산성 수지), 염기성 분산제(염기성 수지)를 들 수 있다. 여기에서, 산성 분산제(산성 수지)란, 산기의 양이 염기성기의 양보다 많은 수지를 나타낸다. 산성 분산제(산성 수지)로서는, 산기의 양과 염기성기의 양의 합계량을 100몰%로 했을 때에, 산기의 양이 70몰% 이상을 차지하는 수지가 바람직하고, 실질적으로 산기만으로 이루어지는 수지가 보다 바람직하다. 산성 분산제(산성 수지)가 갖는 산기는, 카복시기가 바람직하다. 산성 분산제(산성 수지)의 산가는, 10~105mgKOH/g이 바람직하다. 또, 염기성 분산제(염기성 수지)란, 염기성기의 양이 산기의 양보다 많은 수지를 나타낸다. 염기성 분산제(염기성 수지)로서는, 산기의 양과 염기성기의 양의 합계량을 100몰%로 했을 때에, 염기성기의 양이 50몰%를 초과하는 수지가 바람직하다. 염기성 분산제가 갖는 염기성기는, 아미노기가 바람직하다.It is also preferable that other resin is a dispersing agent. As a dispersing agent, an acidic dispersing agent (acidic resin) and a basic dispersing agent (basic resin) are mentioned. Here, an acidic dispersing agent (acidic resin) shows resin with more quantity of an acidic radical than the quantity of a basic group. As the acidic dispersant (acidic resin), a resin in which the amount of acidic groups accounts for 70 mol% or more when the total amount of the amount of acidic groups and the amount of basic groups is 100 mol% is preferable, and a resin substantially composed of only acidic groups is more preferable . As for the acidic radical which an acidic dispersing agent (acidic resin) has, a carboxy group is preferable. As for the acid value of an acidic dispersing agent (acidic resin), 10-105 mgKOH/g is preferable. Moreover, a basic dispersing agent (basic resin) shows resin with more quantity of a basic group than the quantity of an acidic radical. As a basic dispersing agent (basic resin), when the total amount of the quantity of an acidic radical and the quantity of a basic group makes 100 mol%, resin in which the quantity of a basic group exceeds 50 mol% is preferable. As for the basic group which a basic dispersing agent has, an amino group is preferable.

분산제로서 이용하는 수지는, 산기를 갖는 반복 단위를 포함하는 것이 바람직하다. 분산제로서 이용하는 수지가 산기를 갖는 반복 단위를 포함함으로써, 포토리소그래피법에 의하여 패턴 형성할 때, 현상 잔사의 발생을 보다 억제할 수 있다.It is preferable that resin used as a dispersing agent contains the repeating unit which has an acidic radical. When resin used as a dispersing agent contains the repeating unit which has an acidic radical, when pattern-forming by the photolithographic method, generation|occurrence|production of a developing residue can be suppressed more.

분산제로서 이용하는 수지는, 그래프트 수지인 것도 바람직하다. 그래프트 수지의 상세는, 일본 공개특허공보 2012-255128호의 단락 번호 0025~0094의 기재를 참조할 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.It is also preferable that resin used as a dispersing agent is a graft resin. For the detail of graft resin, Paragraph No. 0025 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-255128 - description of 0094 can be considered into consideration, and this content is integrated in this specification.

분산제로서 이용하는 수지는, 주쇄 및 측쇄 중 적어도 일방에 질소 원자를 포함하는 폴리이민계 분산제인 것도 바람직하다. 폴리이민계 분산제로서는, pKa 14 이하의 관능기를 갖는 부분 구조를 갖는 주쇄와, 원자수 40~10000의 측쇄를 갖고, 또한 주쇄 및 측쇄 중 적어도 일방에 염기성 질소 원자를 갖는 수지가 바람직하다. 염기성 질소 원자란, 염기성을 나타내는 질소 원자이면 특별히 제한은 없다. 폴리이민계 분산제에 대해서는, 일본 공개특허공보 2012-255128호의 단락 번호 0102~0166의 기재를 참조할 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.It is also preferable that resin used as a dispersing agent is a polyimine type dispersing agent which contains a nitrogen atom in at least one of a main chain and a side chain. As the polyimine-based dispersant, a resin having a main chain having a partial structure having a functional group with a pKa of 14 or less, a side chain having 40 to 10000 atoms, and having a basic nitrogen atom in at least one of the main chain and the side chain is preferable. There is no restriction|limiting in particular as long as a basic nitrogen atom is a nitrogen atom which shows basicity. About a polyimine type dispersing agent, Paragraph No. 0102 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-255128 - description of 0166 can be considered into consideration, and this content is integrated in this specification.

분산제로서 이용하는 수지는, 코어부에 복수 개의 폴리머쇄가 결합한 구조의 수지인 것도 바람직하다. 이와 같은 수지의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2013-043962호의 단락 번호 0196~0209에 기재된 고분자 화합물 C-1~C-31 등을 들 수 있다.It is also preferable that resin used as a dispersing agent is resin of the structure in which the several polymer chain couple|bonded with the core part. As a specific example of such resin, Paragraph No. 0196 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-043962 - the polymeric compounds C-1 - C-31 of 0209, etc. are mentioned.

분산제로서 이용하는 수지는, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 측쇄에 갖는 반복 단위를 포함하는 수지인 것도 바람직하다. 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 측쇄에 갖는 반복 단위의 함유량은, 수지의 전체 반복 단위 중 10몰% 이상인 것이 바람직하고, 10~80몰%인 것이 보다 바람직하며, 20~70몰%인 것이 더 바람직하다.It is also preferable that resin used as a dispersing agent is resin containing the repeating unit which has an ethylenically unsaturated bond containing group in a side chain. The content of the repeating unit having an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain is preferably 10 mol% or more, more preferably 10-80 mol%, and still more preferably 20-70 mol%, based on the total repeating units of the resin. .

분산제는, 시판품으로서도 입수 가능하고, 그와 같은 구체예로서는, 빅케미사제의 Disperbyk 시리즈(예를 들면, Disperbyk-111, 2001 등), 니혼 루브리졸(주)제의 솔스퍼스 시리즈(예를 들면, 솔스퍼스 20000, 76500 등), 아지노모토 파인 테크노(주)제의 아지스퍼 시리즈 등을 들 수 있다. 또, 일본 공개특허공보 2012-137564호의 단락 번호 0129에 기재된 제품, 일본 공개특허공보 2017-194662호의 단락 번호 0235에 기재된 제품을 분산제로서 이용할 수도 있다. 또, 분산제로는, 일본 공개특허공보 2017-206689호의 단락 0041~0060에 기재된 수지, 일본 공개특허공보 2019-095548호에 기재된 힌더드 아민 4급염을 포함하는 수지도 적합하게 사용할 수 있다.A dispersing agent is also available as a commercial item, As such a specific example, the Disperbyk series (for example, Disperbyk-111, 2001 etc.) manufactured by Bikchemi, and Solsperse series made by Nippon Lubrizol Co., Ltd. (for example, , Solsperse 20000, 76500, etc.), Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd. Ajisper series, etc. are mentioned. Moreover, the product of Paragraph No. 0129 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-137564, and the product of Paragraph No. 0235 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-194662 can also be used as a dispersing agent. Moreover, as a dispersing agent, the resin containing the resin of Paragraph 0041 - 0060 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-206689, and the hindered amine quaternary salt of Unexamined-Japanese-Patent No. 2019-095548 can also be used suitably.

수지의 함유량은, 착색 조성물의 전고형분 중 5~50질량%인 것이 바람직하다. 상한은, 40질량% 이하인 것이 바람직하고, 30질량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 하한은, 7.5질량% 이상인 것이 바람직하고, 10질량% 이상인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that content of resin is 5-50 mass % in total solid of a coloring composition. It is preferable that it is 40 mass % or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 30 mass % or less. It is preferable that it is 7.5 mass % or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 10 mass % or more.

또, 상술한 수지 BI의 함유량은, 착색 조성물의 전고형분 중 5~50질량%인 것이 바람직하다. 상한은, 40질량% 이하인 것이 바람직하고, 30질량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 하한은, 7.5질량% 이상인 것이 바람직하고, 10질량% 이상인 것이 보다 바람직하다.Moreover, it is preferable that content of resin BI mentioned above is 5-50 mass % in total solid of a coloring composition. It is preferable that it is 40 mass % or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 30 mass % or less. It is preferable that it is 7.5 mass % or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 10 mass % or more.

또, 착색 조성물에 포함되는 수지 중에 있어서의 상술한 수지 BI의 함유량은, 80~100질량%인 것이 바람직하다. 상한은, 97.5질량% 이하인 것이 바람직하고, 95질량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 하한은, 82.5질량% 이상인 것이 바람직하고, 85질량% 이상인 것이 보다 바람직하다.Moreover, it is preferable that content of resin BI mentioned above in resin contained in a coloring composition is 80-100 mass %. It is preferable that it is 97.5 mass % or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 95 mass % or less. It is preferable that it is 82.5 mass % or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 85 mass % or more.

<<중합성 화합물>><<Polymerizable compound>>

본 발명의 착색 조성물은, 중합성 화합물을 함유한다. 중합성 화합물로서는, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 에틸렌성 불포화 결합 함유기로서는, 바이닐기, (메트)알릴기, (메트)아크릴로일기 등을 들 수 있다. 본 발명에서 이용되는 중합성 화합물은, 라디칼 중합성 화합물인 것이 바람직하다.The coloring composition of this invention contains a polymeric compound. As a polymeric compound, the compound etc. which have an ethylenically unsaturated bond containing group are mentioned. Examples of the ethylenically unsaturated bond-containing group include a vinyl group, (meth)allyl group, and (meth)acryloyl group. It is preferable that the polymeric compound used by this invention is a radically polymerizable compound.

중합성 화합물로서는, 모노머, 프리폴리머, 올리고머 등의 화학적 형태 중 어느 것이어도 되지만, 모노머가 바람직하다. 중합성 화합물의 분자량은, 100~3000이 바람직하다. 상한은, 2000 이하가 보다 바람직하며, 1500 이하가 더 바람직하다. 하한은, 150 이상이 보다 바람직하며, 250 이상이 더 바람직하다.Although any of chemical forms, such as a monomer, a prepolymer, and an oligomer, may be sufficient as a polymeric compound, A monomer is preferable. As for the molecular weight of a polymeric compound, 100-3000 are preferable. As for an upper limit, 2000 or less are more preferable, and 1500 or less are still more preferable. 150 or more are more preferable, and, as for a minimum, 250 or more are still more preferable.

중합성 화합물의 에틸렌성 불포화 결합 함유기가(이하, C=C가라고 한다)는, 착색 조성물의 경시 안정성의 관점에서 2~14mmol/g인 것이 바람직하다. 하한은, 3mmol/g 이상인 것이 바람직하고, 4mmol/g 이상인 것이 보다 바람직하며, 5mmol/g 이상인 것이 더 바람직하다. 상한은 12mmol/g 이하인 것이 바람직하고, 10mmol/g 이하인 것이 보다 바람직하며, 8mmol/g 이하인 것이 더 바람직하다. 중합성 화합물의 C=C가는, 중합성 화합물의 1분자 중에 포함되는 에틸렌성 불포화 결합 함유기의 수를 중합성 화합물의 분자량으로 나눔으로써 산출했다.It is preferable that the ethylenically unsaturated bond-containing group (henceforth C=C number) of a polymeric compound is 2-14 mmol/g from a viewpoint of the aging stability of a coloring composition. It is preferable that a minimum is 3 mmol/g or more, It is more preferable that it is 4 mmol/g or more, It is more preferable that it is 5 mmol/g or more. It is preferable that it is 12 mmol/g or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 10 mmol/g or less, It is more preferable that it is 8 mmol/g or less. The C=C value of the polymerizable compound was calculated by dividing the number of ethylenically unsaturated bond-containing groups contained in one molecule of the polymerizable compound by the molecular weight of the polymerizable compound.

중합성 화합물은, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 3개 이상 포함하는 화합물인 것이 바람직하고, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 3~15개 포함하는 화합물인 것이 보다 바람직하며, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 3~6개 포함하는 화합물인 것이 더 바람직하다. 또, 중합성 화합물은, 3~15관능의 (메트)아크릴레이트 화합물인 것이 바람직하고, 3~6관능의 (메트)아크릴레이트 화합물인 것이 보다 바람직하다. 중합성 화합물의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2009-288705호의 단락 번호 0095~0108, 일본 공개특허공보 2013-029760호의 단락 0227, 일본 공개특허공보 2008-292970호의 단락 번호 0254~0257, 일본 공개특허공보 2013-253224호의 단락 번호 0034~0038, 일본 공개특허공보 2012-208494호의 단락 번호 0477, 일본 공개특허공보 2017-048367호, 일본 특허공보 제6057891호, 일본 특허공보 제6031807호, 일본 공개특허공보 2017-194662호에 기재되어 있는 화합물을 들 수 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.It is preferable that a polymeric compound is a compound containing 3 or more ethylenically unsaturated bond containing groups, It is more preferable that it is a compound containing 3-15 ethylenically unsaturated bond containing groups, It is 3-6 ethylenically unsaturated bond containing groups. It is more preferable that it is a compound containing dogs. Moreover, it is preferable that it is a 3-15 functional (meth)acrylate compound, and, as for a polymeric compound, it is more preferable that it is a 3-6 functional (meth)acrylate compound. As a specific example of a polymeric compound, Paragraph Nos. 0095 to 0108 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-288705, Paragraph 0227 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-029760, Paragraph Nos. 0254 to 0257 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-292970, Unexamined-Japanese-Patent No. Paragraph Nos. 0034 to 0038 of 2013-253224, Paragraph No. 0477 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-208494, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-048367, Japanese Patent Publication No. 6057891, Japanese Patent Publication No. 6031807, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017 -194662, the contents of which are incorporated herein by reference.

중합성 화합물로서는, 다이펜타에리트리톨트라이아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-330; 닛폰 가야쿠(주)제), 다이펜타에리트리톨테트라아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-320; 닛폰 가야쿠(주)제), 다이펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-310; 닛폰 가야쿠(주)제), 다이펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD DPHA; 닛폰 가야쿠(주)제, NK 에스터 A-DPH-12E; 신나카무라 가가쿠 고교(주)제), 및 이들 (메트)아크릴로일기가 에틸렌글라이콜 및/또는 프로필렌글라이콜 잔기를 개재하여 결합하고 있는 구조의 화합물(예를 들면, 사토머사로부터 시판되고 있는, SR454, SR499)이 바람직하다. 또, 중합성 화합물로서는, 다이글리세린 EO(에틸렌옥사이드) 변성 (메트)아크릴레이트(시판품으로서는 M-460; 도아 고세이제), 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트(신나카무라 가가쿠 고교(주)제, NK 에스터 A-TMMT), 1,6-헥세인다이올다이아크릴레이트(닛폰 가야쿠(주)제, KAYARAD HDDA), RP-1040(닛폰 가야쿠(주)제), 아로닉스 TO-2349(도아 고세이(주)제), NK 올리고 UA-7200(신나카무라 가가쿠 고교(주)제), 8UH-1006, 8UH-1012(다이세이 파인 케미컬(주)제), 라이트 아크릴레이트 POB-A0(교에이샤 가가쿠(주)제) 등을 이용할 수도 있다.Examples of the polymerizable compound include dipentaerythritol triacrylate (KAYARAD D-330 as a commercial product; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and dipentaerythritol tetraacrylate (KAYARAD D-320 as a commercial product; Nippon Kayaku Co., Ltd.) ), dipentaerythritol penta (meth) acrylate (as a commercial item, KAYARAD D-310; Nippon Kayaku Co., Ltd. product), dipentaerythritol hexa(meth) acrylate (as a commercial item, KAYARAD DPHA; Co., Ltd., NK ester A-DPH-12E; Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), and these (meth)acryloyl groups are bonded through ethylene glycol and/or propylene glycol residues A compound of the structure (eg, SR454, SR499, commercially available from Sartomer) is preferable. Moreover, as a polymeric compound, diglycerol EO (ethylene oxide) modified|denatured (meth)acrylate (M-460 as a commercial item; manufactured by Toagosei), pentaerythritol tetraacrylate (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. product, NK) Ester A-TMMT), 1,6-hexanediol diacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD HDDA), RP-1040 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Aronix TO-2349 (Doa) Made by Kosei Co., Ltd.), NK Oligo UA-7200 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 8UH-1006, 8UH-1012 (manufactured by Daisei Fine Chemicals Co., Ltd.), light acrylate POB-A0 (Kyo) Eisha Chemical Co., Ltd. product) etc. can also be used.

중합성 화합물로서는, 트라이메틸올프로페인트라이(메트)아크릴레이트, 트라이메틸올프로페인프로필렌옥사이드 변성 트라이(메트)아크릴레이트, 트라이메틸올프로페인에틸렌옥사이드 변성 트라이(메트)아크릴레이트, 아이소사이아누르산 에틸렌옥사이드 변성 트라이(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트라이(메트)아크릴레이트 등의 3관능의 (메트)아크릴레이트 화합물을 이용하는 것도 바람직하다. 3관능의 (메트)아크릴레이트 화합물의 시판품으로서는, 아로닉스 M-309, M-310, M-321, M-350, M-360, M-313, M-315, M-306, M-305, M-303, M-452, M-450(도아 고세이(주)제), NK 에스터 A9300, A-GLY-9E, A-GLY-20E, A-TMM-3, A-TMM-3L, A-TMM-3LM-N, A-TMPT, TMPT(신나카무라 가가쿠 고교(주)제), KAYARAD GPO-303, TMPTA, THE-330, TPA-330, PET-30(닛폰 가야쿠(주)제) 등을 들 수 있다.Examples of the polymerizable compound include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified tri(meth)acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified tri(meth)acrylate, isocya It is also preferable to use trifunctional (meth)acrylate compounds, such as nuric-acid ethylene oxide modified|denatured tri(meth)acrylate and pentaerythritol tri(meth)acrylate. As a commercial item of a trifunctional (meth)acrylate compound, Aronix M-309, M-310, M-321, M-350, M-360, M-313, M-315, M-306, M-305 , M-303, M-452, M-450 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), NK Ester A9300, A-GLY-9E, A-GLY-20E, A-TMM-3, A-TMM-3L, A -TMM-3LM-N, A-TMPT, TMPT (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), KAYARAD GPO-303, TMPTA, THE-330, TPA-330, PET-30 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) ) and the like.

중합성 화합물로서는, 산기를 갖는 중합성 화합물을 이용할 수도 있다. 산기를 갖는 중합성 화합물을 이용함으로써, 현상 시에 미노광부의 착색 조성물이 제거되기 쉬워, 현상 잔사의 발생을 억제할 수 있다. 산기로서는, 카복시기, 설포기, 인산기 등을 들 수 있으며, 카복시기가 바람직하다. 산기를 갖는 중합성 화합물의 시판품으로서는, 아로닉스 M-305, M-510, M-520, 아로닉스 TO-2349(도아 고세이(주)제) 등을 들 수 있다. 산기를 갖는 중합성 화합물의 바람직한 산가로서는, 0.1~40mgKOH/g이고, 보다 바람직하게는 5~30mgKOH/g이다. 중합성 화합물의 산가가 0.1mgKOH/g 이상이면, 현상액에 대한 용해성이 양호하고, 40mgKOH/g 이하이면, 제조나 취급상, 유리하다.As the polymerizable compound, a polymerizable compound having an acid group can also be used. By using the polymeric compound which has an acidic radical, the coloring composition of an unexposed part is easy to remove at the time of image development, and generation|occurrence|production of the image development residue can be suppressed. As an acidic radical, a carboxy group, a sulfo group, a phosphoric acid group, etc. are mentioned, A carboxy group is preferable. As a commercial item of the polymeric compound which has an acidic radical, Aronix M-305, M-510, M-520, Aronix TO-2349 (made by Toagosei Co., Ltd.), etc. are mentioned. As a preferable acid value of the polymeric compound which has an acidic radical, it is 0.1-40 mgKOH/g, More preferably, it is 5-30 mgKOH/g. If the acid value of a polymeric compound is 0.1 mgKOH/g or more, the solubility to a developing solution is favorable, and if it is 40 mgKOH/g or less, it is advantageous on manufacture and handling.

중합성 화합물로서는, 카프로락톤 구조를 갖는 중합성 화합물을 이용할 수도 있다. 카프로락톤 구조를 갖는 중합성 화합물은, 예를 들면, 닛폰 가야쿠(주)로부터 KAYARAD DPCA 시리즈로서 시판되고 있으며, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120 등을 들 수 있다.As the polymerizable compound, a polymerizable compound having a caprolactone structure can also be used. The polymeric compound which has a caprolactone structure is marketed as KAYARAD DPCA series from Nippon Kayaku Co., Ltd., for example, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120 etc. are mentioned.

중합성 화합물로서는, 알킬렌옥시기를 갖는 중합성 화합물을 이용할 수도 있다. 알킬렌옥시기를 갖는 중합성 화합물은, 에틸렌옥시기 및/또는 프로필렌옥시기를 갖는 중합성 화합물이 바람직하고, 에틸렌옥시기를 갖는 중합성 화합물이 보다 바람직하며, 에틸렌옥시기를 4~20개 갖는 3~6관능 (메트)아크릴레이트 화합물이 더 바람직하다. 알킬렌옥시기를 갖는 중합성 화합물의 시판품으로서는, KAYARAD RP-1040(닛폰 가야쿠(주)제) 등을 들 수 있다.As a polymeric compound, the polymeric compound which has an alkyleneoxy group can also be used. The polymerizable compound having an alkyleneoxy group is preferably a polymerizable compound having an ethyleneoxy group and/or a propyleneoxy group, more preferably a polymerizable compound having an ethyleneoxy group, 3 to 6 having 4 to 20 ethyleneoxy groups Functional (meth)acrylate compounds are more preferred. As a commercial item of the polymeric compound which has an alkyleneoxy group, KAYARAD RP-1040 (made by Nippon Kayaku Co., Ltd.) etc. are mentioned.

중합성 화합물로서는, 플루오렌 골격을 갖는 중합성 화합물을 이용할 수도 있다. 플루오렌 골격을 갖는 중합성 화합물의 시판품으로서는, 오그솔 EA-0200, EA-0300(오사카 가스 케미컬(주)제, 플루오렌 골격을 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머) 등을 들 수 있다.As the polymerizable compound, a polymerizable compound having a fluorene skeleton can also be used. As a commercial item of the polymeric compound which has a fluorene skeleton, Ogsol EA-0200, EA-0300 (The Osaka Gas Chemical Co., Ltd. product, (meth)acrylate monomer which has a fluorene skeleton) etc. are mentioned.

중합성 화합물로서는, 톨루엔 등의 환경 규제 물질을 실질적으로 포함하지 않는 화합물을 이용하는 것도 바람직하다. 이와 같은 화합물의 시판품으로서는, KAYARAD DPHA LT, KAYARAD DPEA-12 LT(닛폰 가야쿠(주)제) 등을 들 수 있다.It is also preferable to use the compound which does not contain environmental control substances, such as toluene, substantially as a polymeric compound. As a commercial item of such a compound, KAYARAD DPHA LT, KAYARAD DPEA-12 LT (made by Nippon Kayaku Co., Ltd.), etc. are mentioned.

중합성 화합물로서는, 일본 공고특허공보 소48-041708호, 일본 공개특허공보 소51-037193호, 일본 공고특허공보 평02-032293호, 일본 공고특허공보 평02-016765호에 기재되어 있는 바와 같은 유레테인아크릴레이트류나, 일본 공고특허공보 소58-049860호, 일본 공고특허공보 소56-017654호, 일본 공고특허공보 소62-039417호, 일본 공고특허공보 소62-039418호에 기재된 에틸렌옥사이드계 골격을 갖는 유레테인 화합물도 적합하다. 또, 일본 공개특허공보 소63-277653호, 일본 공개특허공보 소63-260909호, 일본 공개특허공보 평01-105238호에 기재된 분자 내에 아미노 구조나 설파이드 구조를 갖는 중합성 화합물을 이용하는 것도 바람직하다. 또, 중합성 화합물은, UA-7200(신나카무라 가가쿠 고교(주)제), DPHA-40H(닛폰 가야쿠(주)제), UA-306H, UA-306T, UA-306I, AH-600, T-600, AI-600, LINC-202UA(교에이샤 가가쿠(주)제) 등의 시판품을 이용할 수도 있다.As the polymerizable compound, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 48-041708, Japanese Unexamined Patent Publication No. 51-037193, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 02-032293, and Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 02-016765. Urethane acrylates and ethylene oxide described in Japanese Patent Publication No. 58-049860, Japanese Publication No. 56-017654, Japanese Publication No. 62-039417, and Japanese Publication No. 62-039418 A urethane compound having a system skeleton is also suitable. Moreover, it is also preferable to use the polymeric compound which has an amino structure or a sulfide structure in a molecule|numerator as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 63-277653, Unexamined-Japanese-Patent No. 63-260909, and Unexamined-Japanese-Patent No. Hei01-105238. . The polymerizable compound is UA-7200 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), DPHA-40H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), UA-306H, UA-306T, UA-306I, AH-600 , T-600, AI-600, LINC-202UA (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) can also be used.

중합성 화합물의 함유량은, 착색 조성물의 전고형분 중 5.0~35질량%인 것이 바람직하다. 상한은, 30질량% 이하인 것이 바람직하고, 25질량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 하한은, 7.5질량% 이상인 것이 바람직하고, 10질량% 이상인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that content of a polymeric compound is 5.0-35 mass % in total solid of a coloring composition. It is preferable that it is 30 mass % or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 25 mass % or less. It is preferable that it is 7.5 mass % or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 10 mass % or more.

<<광중합 개시제>><<Photoinitiator>>

본 발명의 착색 조성물은 광중합 개시제를 함유한다. 광중합 개시제로서는, 특별히 제한은 없으며, 공지의 광중합 개시제 중에서 적절히 선택할 수 있다. 광중합 개시제는, 광라디칼 중합 개시제인 것이 바람직하다.The coloring composition of this invention contains a photoinitiator. There is no restriction|limiting in particular as a photoinitiator, It can select suitably from well-known photoinitiators. It is preferable that a photoinitiator is a photoradical polymerization initiator.

광중합 개시제로서는, 할로젠화 탄화 수소 유도체(예를 들면, 트라이아진 골격을 갖는 화합물, 옥사다이아졸 골격을 갖는 화합물 등), 아실포스핀 화합물, 헥사아릴바이이미다졸, 옥심 화합물, 유기 과산화물, 싸이오 화합물, 케톤 화합물, 방향족 오늄염, 하이드록시알킬페논 화합물, 아미노알킬페논 화합물 등을 들 수 있다. 광중합 개시제는, 노광 감도의 관점에서, 트라이할로메틸트라이아진 화합물, 벤질다이메틸케탈 화합물, 하이드록시알킬페논 화합물, 아미노알킬페논 화합물, 아실포스핀 화합물, 포스핀옥사이드 화합물, 메탈로센 화합물, 옥심 화합물, 트라이아릴이미다졸 다이머, 오늄 화합물, 벤조싸이아졸 화합물, 벤조페논 화합물, 아세토페논 화합물, 사이클로펜타다이엔-벤젠-철 착체, 할로메틸옥사다이아졸 화합물 및 3-아릴 치환 쿠마린 화합물인 것이 바람직하고, 옥심 화합물, 하이드록시알킬페논 화합물, 아미노알킬페논 화합물, 및, 아실포스핀 화합물로부터 선택되는 화합물인 것이 보다 바람직하며, 옥심 화합물인 것이 더 바람직하다. 또, 광중합 개시제로서는, 일본 공개특허공보 2014-130173호의 단락 0065~0111, 일본 특허공보 제6301489호에 기재된 화합물, MATERIAL STAGE 37~60p, vol. 19, No. 3, 2019에 기재된 퍼옥사이드계 광중합 개시제, 국제 공개공보 제2018/221177호에 기재된 광중합 개시제, 국제 공개공보 제2018/110179호에 기재된 광중합 개시제, 일본 공개특허공보 2019-043864호에 기재된 광중합 개시제, 일본 공개특허공보 2019-044030호에 기재된 광중합 개시제를 들 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.Examples of the photopolymerization initiator include halogenated hydrocarbon derivatives (eg, a compound having a triazine skeleton, a compound having an oxadiazole skeleton, etc.), an acylphosphine compound, hexaarylbiimidazole, an oxime compound, an organic peroxide, thi o compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, hydroxyalkylphenone compounds, aminoalkylphenone compounds, and the like. A photoinitiator is a trihalomethyltriazine compound, a benzyldimethyl ketal compound, a hydroxyalkylphenone compound, an aminoalkylphenone compound, an acylphosphine compound, a phosphine oxide compound, a metallocene compound, from a viewpoint of exposure sensitivity, Oxime compound, triarylimidazole dimer, onium compound, benzothiazole compound, benzophenone compound, acetophenone compound, cyclopentadiene-benzene-iron complex, halomethyloxadiazole compound and 3-aryl substituted coumarin compound It is preferable that it is a compound chosen from an oxime compound, a hydroxyalkylphenone compound, an aminoalkylphenone compound, and an acylphosphine compound, It is more preferable that it is an oxime compound. Moreover, as a photoinitiator, Paragraph 0065 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-130173 - 0111, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 6301489, MATERIAL STAGE 37-60p, vol. 19, No. 3, the peroxide-based photopolymerization initiator described in 2019, the photopolymerization initiator described in International Publication No. 2018/221177, the photopolymerization initiator described in International Publication No. 2018/110179, the photopolymerization initiator described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2019-043864, The photoinitiator of Unexamined-Japanese-Patent No. 2019-044030 is mentioned, This content is integrated in this specification.

아미노알킬페논 화합물로서는, 예를 들면, 일본 공개특허공보 평10-291969호에 기재된 아미노알킬페논 화합물을 들 수 있다. 또, 아미노알킬페논 화합물의 시판품으로서는, Omnirad 907, Omnirad 369, Omnirad 369E, Omnirad 379EG(이상, IGM Resins B. V.사제), Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 369E, Irgacure 379EG(이상, BASF사제) 등을 들 수 있다.As an aminoalkylphenone compound, the aminoalkylphenone compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 10-291969 is mentioned, for example. In addition, as commercially available aminoalkylphenone compounds, Omnirad 907, Omnirad 369, Omnirad 369E, Omnirad 379EG (above, manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 369E, Irgacure 379EG (above, manufactured by BASF), etc. can

아실포스핀 화합물로서는, 일본 특허공보 제4225898호에 기재된 아실포스핀 화합물 등을 들 수 있다. 구체예로서는, 비스(2,4,6-트라이메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드 등을 들 수 있다. 아실포스핀 화합물의 시판품으로서는, Omnirad 819, Omnirad TPO(이상, IGM Resins B. V.사제), Irgacure 819, Irgacure TPO(이상, BASF사제) 등을 들 수 있다.As an acylphosphine compound, the acylphosphine compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 4225898, etc. are mentioned. Specific examples include bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide. As a commercial item of an acylphosphine compound, Omnirad 819, Omnirad TPO (above, IGM Resins B.V. company make), Irgacure 819, Irgacure TPO (above, BASF company make) etc. are mentioned.

하이드록시알킬페논 화합물로서는, 하기 식 (V)로 나타나는 화합물을 들 수 있다.As a hydroxyalkylphenone compound, the compound represented by a following formula (V) is mentioned.

식 (V)Formula (V)

[화학식 15][Formula 15]

Figure pct00015
Figure pct00015

식 중 Rv1은, 치환기를 나타내고, Rv2 및 Rv3은, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 나타내며, Rv2와 Rv3이 서로 결합하여 환을 형성하고 있어도 되고, m은 0~5의 정수를 나타낸다.In the formula, Rv 1 represents a substituent, Rv 2 and Rv 3 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, Rv 2 and Rv 3 may be bonded to each other to form a ring, and m is an integer of 0 to 5 indicates

Rv1이 나타내는 치환기로서는, 알킬기(바람직하게는, 탄소수 1~10의 알킬기), 알콕시기(바람직하게는, 탄소수 1~10의 알콕시기)를 들 수 있다. 알킬기 및 알콕시기는, 직쇄 또는 분기가 바람직하고, 직쇄가 보다 바람직하다. Rv1이 나타내는 알킬기 및 알콕시기는, 무치환이어도 되고, 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 하이드록시기나, 하이드록시알킬페논 구조를 갖는 기 등을 들 수 있다. 하이드록시알킬페논 구조를 갖는 기로서는, 식 (V)에 있어서의 Rv1이 결합한 벤젠환 또는 Rv1로부터 수소 원자를 1개 제거한 구조의 기를 들 수 있다.Examples of the substituent represented by Rv 1 include an alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) and an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms). A straight chain or branch is preferable and, as for an alkyl group and an alkoxy group, a straight chain is more preferable. Unsubstituted may be sufficient as the alkyl group and alkoxy group which Rv< 1 > represents, and may have a substituent. As a substituent, a hydroxyl group, the group etc. which have a hydroxyalkylphenone structure are mentioned. As group which has a hydroxyalkylphenone structure, the group which removed one hydrogen atom from the benzene ring to which Rv1 in Formula (V) couple|bonded, or Rv1 is mentioned.

Rv2 및 Rv3은, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 나타낸다. 치환기로서는, 알킬기(바람직하게는 탄소수 1~10의 알킬기)가 바람직하다. 또, Rv2와 Rv3은 서로 결합하여 환(바람직하게는 탄소수 4~8의 환, 보다 바람직하게는, 탄소수 4~8의 지방족환)을 형성하고 있어도 된다. 알킬기는, 직쇄 또는 분기가 바람직하고, 직쇄가 보다 바람직하다.Rv 2 and Rv 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. As the substituent, an alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) is preferable. Further, Rv 2 and Rv 3 may be bonded to each other to form a ring (preferably a ring having 4 to 8 carbon atoms, more preferably an aliphatic ring having 4 to 8 carbon atoms). A straight chain or branch is preferable and, as for an alkyl group, a straight chain is more preferable.

식 (V)로 나타나는 화합물의 구체예로서는, 하기 화합물을 들 수 있다.The following compound is mentioned as a specific example of the compound represented by Formula (V).

[화학식 16][Formula 16]

Figure pct00016
Figure pct00016

하이드록시알킬페논 화합물의 시판품으로서는, Omnirad 184, Omnirad 1173, Omnirad 2959, Omnirad 127(이상, IGM Resins B. V.사제), Irgacure 184, Irgacure 1173, Irgacure 2959, Irgacure 127(이상, BASF사제) 등을 들 수 있다.Examples of commercially available hydroxyalkylphenone compounds include Omnirad 184, Omnirad 1173, Omnirad 2959, Omnirad 127 (above, manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 184, Irgacure 1173, Irgacure 2959, Irgacure 127 (above, manufactured by BASF), etc. there is.

옥심 화합물로서는, 일본 공개특허공보 2001-233842호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2000-080068호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2006-342166호에 기재된 화합물, J. C. S. Perkin II(1979년, pp.1653-1660)에 기재된 화합물, J. C. S. Perkin II(1979년, pp.156-162)에 기재된 화합물, Journal of Photopolymer Science and Technology(1995년, pp.202-232)에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2000-066385호에 기재된 화합물, 일본 공표특허공보 2004-534797호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2006-342166호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-019766호에 기재된 화합물, 일본 특허공보 제6065596호에 기재된 화합물, 국제 공개공보 제2015/152153호에 기재된 화합물, 국제 공개공보 제2017/051680호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-198865호에 기재된 화합물, 국제 공개공보 제2017/164127호의 단락 번호 0025~0038에 기재된 화합물, 국제 공개공보 제2013/167515호에 기재된 화합물 등을 들 수 있다. 옥심 화합물의 구체예로서는, 3-벤조일옥시이미노뷰탄-2-온, 3-아세톡시이미노뷰탄-2-온, 3-프로피온일옥시이미노뷰탄-2-온, 2-아세톡시이미노펜탄-3-온, 2-아세톡시이미노-1-페닐프로판-1-온, 2-벤조일옥시이미노-1-페닐프로판-1-온, 3-(4-톨루엔설폰일옥시)이미노뷰탄-2-온, 및 2-에톡시카보닐옥시이미노-1-페닐프로판-1-온 등을 들 수 있다. 시판품으로서는, Irgacure OXE01, Irgacure OXE02, Irgacure OXE03, Irgacure OXE04(이상, BASF사제), TR-PBG-304(창저우 강력 전자 신재료 유한공사(Changzhou Tronly New Electronic Materials Co., Ltd.)제), 아데카 옵토머 N-1919((주)ADEKA제, 일본 공개특허공보 2012-014052호에 기재된 광중합 개시제 2)를 들 수 있다. 또, 옥심 화합물로서는, 착색성이 없는 화합물이나, 투명성이 높아 변색되기 어려운 화합물을 이용하는 것도 바람직하다. 시판품으로서는, 아데카 아클즈 NCI-730, NCI-831, NCI-930(이상, (주)ADEKA제) 등을 들 수 있다.As an oxime compound, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-233842, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-080068, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-342166, J.C.S. Perkin II (1979, pp.1653) -1660), the compound described in J. C. S. Perkin II (1979, pp.156-162), the compound described in the Journal of Photopolymer Science and Technology (1995, pp.202-232), JP-A 2000- The compound described in 066385, the compound described in JP 2004-534797 A, the compound described in JP 2006-342166 , the compound described in JP 2017-019766 , the compound described in JP 6065596 A Compound, the compound described in International Publication No. 2015/152153, the compound described in International Publication No. 2017/051680, the compound described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-198865, Paragraph No. 0025 of International Publication No. 2017/164127 The compound of 0038, the compound of International Publication No. 2013/167515, etc. are mentioned. Specific examples of the oxime compound include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, 3-propionyloxyiminobutan-2-one, 2-acetoxyiminopentan-3-one , 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3-(4-toluenesulfonyloxy)iminobutan-2-one, and 2-ethoxycarbonyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, and the like. Commercially available products include Irgacure OXE01, Irgacure OXE02, Irgacure OXE03, Irgacure OXE04 (above, manufactured by BASF), TR-PBG-304 (manufactured by Changzhou Tronly New Electronic Materials Co., Ltd.); Adeka optomer N-1919 (made by ADEKA Corporation, the photoinitiator 2 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-014052) is mentioned. Moreover, as an oxime compound, it is also preferable to use the compound without coloring property, and the compound which transparency is high and is hard to change color. As a commercial item, ADEKA ARCL's NCI-730, NCI-831, NCI-930 (above, ADEKA Co., Ltd. make) etc. are mentioned.

광중합 개시제로서는, 플루오렌환을 갖는 옥심 화합물을 이용할 수도 있다. 플루오렌환을 갖는 옥심 화합물의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2014-137466호에 기재된 화합물을 들 수 있다.As a photoinitiator, the oxime compound which has a fluorene ring can also be used. As a specific example of the oxime compound which has a fluorene ring, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-137466 is mentioned.

광중합 개시제로서는, 카바졸환의 적어도 하나의 벤젠환이 나프탈렌환이 된 골격을 갖는 옥심 화합물을 이용할 수도 있다. 그와 같은 옥심 화합물의 구체예로서는, 국제 공개공보 제2013/083505호에 기재된 화합물을 들 수 있다.As a photoinitiator, the oxime compound which has frame|skeleton in which the at least 1 benzene ring of a carbazole ring became a naphthalene ring can also be used. As a specific example of such an oxime compound, the compound of international publication 2013/083505 is mentioned.

광중합 개시제로서는, 불소 원자를 갖는 옥심 화합물을 이용할 수도 있다. 불소 원자를 포함하는 옥심 화합물은, 식 (OX-1)로 나타나는 화합물이 바람직하다.As a photoinitiator, the oxime compound which has a fluorine atom can also be used. As for the oxime compound containing a fluorine atom, the compound represented by Formula (OX-1) is preferable.

(OX-1)(OX-1)

[화학식 17][Formula 17]

Figure pct00017
Figure pct00017

식 (OX-1)에 있어서, Ar1 및 Ar2는, 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 탄화 수소환을 나타내고, R1은, 불소 원자를 포함하는 기를 갖는 아릴기를 나타내며, R2 및 R3은, 각각 독립적으로, 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다.In formula (OX-1), Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent, R 1 represents an aryl group having a group containing a fluorine atom, R 2 and R 3 each independently represents an alkyl group or an aryl group.

식 (OX-1)의 Ar1 및 Ar2가 나타내는 방향족 탄화 수소환은, 단환이어도 되고, 축합환이어도 된다. 방향족 탄화 수소환의 환을 구성하는 탄소 원자수는, 6~20이 바람직하고, 6~15가 보다 바람직하며, 6~10이 특히 바람직하다. 방향족 탄화 수소환은, 벤젠환 및 나프탈렌환이 바람직하다. 그중에서도, Ar1은 벤젠환인 것이 바람직하다. Ar2가 벤젠환 또는 나프탈렌환인 것이 바람직하고, 나프탈렌환인 것이 보다 바람직하다.A monocyclic ring may be sufficient as the aromatic hydrocarbon ring which Ar1 and Ar2 of Formula (OX- 1 ) represent, and a condensed ring may be sufficient as it. 6-20 are preferable, as for the number of carbon atoms which comprises the ring of an aromatic hydrocarbon ring, 6-15 are more preferable, 6-10 are especially preferable. As for the aromatic hydrocarbon ring, a benzene ring and a naphthalene ring are preferable. Among them, Ar 1 is preferably a benzene ring. It is preferable that Ar2 is a benzene ring or a naphthalene ring, and it is more preferable that it is a naphthalene ring.

Ar1 및 Ar2가 가져도 되는 치환기로서는, 알킬기, 아릴기, 헤테로환기, 나이트로기, 사이아노기, 할로젠 원자, -ORX1, -SRX1, -CORX1, -COORX1, -OCORX1, -NRX1RX2, -NHCORX1, -CONRX1RX2, -NHCONRX1RX2, -NHCOORX1, -SO2RX1, -SO2ORX1, -NHSO2RX1 등을 들 수 있다. RX1 및 RX2는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기, 아릴기 또는 헤테로환기를 나타낸다.Examples of the substituent which Ar 1 and Ar 2 may have include an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a nitro group, a cyano group, a halogen atom, -OR X1 , -SR X1 , -COR X1 , -COOR X1 , -OCOR X1 , -NR X1 R X2 , -NHCOR X1 , -CONR X1 R X2 , -NHCONR X1 R X2 , -NHCOOR X1 , -SO 2 R X1 , -SO 2 OR X1 , -NHSO 2 R X1 etc. are mentioned. . R X1 and R X2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group.

할로젠 원자는, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 아이오딘 원자 등을 들 수 있고, 불소 원자가 바람직하다. 치환기로서의 알킬기, 및, RX1 및 RX2가 나타내는 알킬기의 탄소수는, 1~30이 바람직하다. 알킬기는, 직쇄, 분기, 환상 중 어느 것이어도 되지만, 직쇄 또는 분기가 바람직하다. 알킬기는, 수소 원자의 일부 또는 전부가 할로젠 원자(바람직하게는, 불소 원자)로 치환되어 있어도 된다. 또, 알킬기는, 수소 원자의 일부 또는 전부가, 상기 치환기로 치환되어 있어도 된다. 치환기로서의 아릴기, 및, RX1 및 RX2가 나타내는 아릴기의 탄소수는, 6~20이 바람직하고, 6~15가 보다 바람직하며, 6~10이 더 바람직하다. 아릴기는, 단환이어도 되고, 축합환이어도 된다. 또, 아릴기는, 수소 원자의 일부 또는 전부가, 상기 치환기로 치환되어 있어도 된다. 치환기로서의 헤테로환기, 및, RX1 및 RX2가 나타내는 헤테로환기는, 5원환 또는 6원환이 바람직하다. 헤테로환기는, 단환이어도 되고, 축합환이어도 된다. 헤테로환기를 구성하는 탄소 원자의 수는 3~30이 바람직하고, 3~18이 보다 바람직하며, 3~12가 보다 바람직하다. 헤테로환기를 구성하는 헤테로 원자의 수는 1~3이 바람직하다. 헤테로환기를 구성하는 헤테로 원자는, 질소 원자, 산소 원자 또는 황 원자가 바람직하다. 또, 헤테로환기는, 수소 원자의 일부 또는 전부가, 상기 치환기로 치환되어 있어도 된다.As for a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, etc. are mentioned, A fluorine atom is preferable. As for carbon number of the alkyl group as a substituent, and the alkyl group which R X1 and R X2 represent, 1-30 are preferable. The alkyl group may be any of linear, branched, and cyclic, but is preferably linear or branched. In the alkyl group, some or all of the hydrogen atoms may be substituted with a halogen atom (preferably a fluorine atom). Moreover, in the alkyl group, a part or all of hydrogen atoms may be substituted by the said substituent. 6-20 are preferable, as for carbon number of the aryl group as a substituent, and the aryl group which R X1 and R X2 represent, 6-15 are more preferable, and 6-10 are still more preferable. A monocyclic ring may be sufficient as an aryl group, and a condensed ring may be sufficient as it. Moreover, in the aryl group, part or all of the hydrogen atoms may be substituted by the said substituent. The heterocyclic group as a substituent and the heterocyclic group represented by R X1 and R X2 are preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring. The heterocyclic group may be monocyclic or a condensed ring may be sufficient as it. 3-30 are preferable, as for the number of carbon atoms which comprise a heterocyclic group, 3-18 are more preferable, 3-12 are more preferable. The number of hetero atoms constituting the heterocyclic group is preferably 1-3. The hetero atom constituting the heterocyclic group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom. Moreover, in the heterocyclic group, part or all of the hydrogen atoms may be substituted by the said substituent.

Ar1이 나타내는 방향족 탄화 수소환은, 무치환의 방향족 탄화 수소환인 것이 바람직하다. Ar2가 나타내는 방향족 탄화 수소환은, 치환기를 갖고 있는 것이 바람직하다. 치환기로서는, -CORX1이 바람직하다. RX1은, 알킬기, 아릴기 또는 헤테로환기가 바람직하고, 아릴기가 보다 바람직하다. 아릴기는 치환기를 갖고 있어도 되고, 무치환이어도 된다. 치환기로서는, 탄소수 1~10의 알킬기 등을 들 수 있다.The aromatic hydrocarbon ring represented by Ar 1 is preferably an unsubstituted aromatic hydrocarbon ring. It is preferable that the aromatic hydrocarbon ring represented by Ar 2 has a substituent. As a substituent, -COR X1 is preferable. An alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group is preferable, and, as for R X1 , an aryl group is more preferable. The aryl group may have a substituent and may be unsubstituted. As a substituent, a C1-C10 alkyl group etc. are mentioned.

식 (OX-1)의 R1은, 불소 원자를 포함하는 기를 갖는 아릴기를 나타낸다. 아릴기의 탄소수는, 6~20이 바람직하고, 6~15가 보다 바람직하며, 6~10이 더 바람직하다. 불소 원자를 포함하는 기는, 불소 원자를 갖는 알킬기(이하, 함불소 알킬기라고도 한다), 및, 불소 원자를 갖는 알킬기를 포함하는 기(이하, 함불소기라고도 한다)인 것이 바람직하다. 함불소기로서는, -ORF1, -SRF1, -CORF1, -COORF1, -OCORF1, -NRF1RF2, -NHCORF1, -CONRF1RF2, -NHCONRF1RF2, -NHCOORF1, -SO2RF1, -SO2ORF1 및-NHSO2RF1로부터 선택되는 적어도 1종의 기가 바람직하다. RF1은, 함불소 알킬기를 나타내고, RF2는, 수소 원자, 알킬기, 함불소 알킬기, 아릴기 또는 헤테로환기를 나타낸다. 함불소기는, -ORF1이 바람직하다.R 1 in formula (OX-1) represents an aryl group having a fluorine atom-containing group. 6-20 are preferable, as for carbon number of an aryl group, 6-15 are more preferable, and 6-10 are still more preferable. The group containing a fluorine atom is preferably an alkyl group having a fluorine atom (hereinafter also referred to as a fluorine-containing alkyl group) and a group containing an alkyl group having a fluorine atom (hereinafter also referred to as a fluorine-containing group). As the fluorine-containing group, -OR F1 , -SR F1 , -COR F1 , -COOR F1 , -OCOR F1 , -NR F1 R F2 , -NHCOR F1 , -CONR F1 R F2 , -NHCONR F1 R F2 , -NHCOOR F1 At least one group selected from , —SO 2 R F1 , —SO 2 OR F1 and —NHSO 2 R F1 is preferred. R F1 represents a fluorinated alkyl group, and R F2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a fluorinated alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group. The fluorine-containing group is preferably -OR F1 .

RF1 및 RF2가 나타내는 함불소 알킬기, 및 RF2가 나타내는 알킬기의 탄소수는, 1~20이 바람직하고, 1~15가 보다 바람직하며, 1~10이 더 바람직하고, 1~4가 특히 바람직하다. 함불소 알킬기 및 알킬기는, 직쇄, 분기, 환상 중 어느 것이어도 되지만, 직쇄 또는 분기가 바람직하다. 함불소 알킬기에 있어서, 불소 원자의 치환율은 40~100%인 것이 바람직하고, 50~100%인 것이 보다 바람직하며, 60~100%인 것이 더 바람직하다. 또한, 불소 원자의 치환율이란, 알킬기가 갖는 전체 수소 원자의 수에 대하여 불소 원자로 치환되어 있는 수의 비율(%)을 말한다.1-20 are preferable, as for carbon number of the fluorine-containing alkyl group represented by R F1 and R F2 , and the alkyl group represented by R F2 , 1-15 are more preferable, 1-10 are still more preferable, 1-4 are especially preferable. Do. The fluorinated alkyl group and the alkyl group may be linear, branched or cyclic, but linear or branched is preferable. In the fluorine-containing alkyl group, the substitution rate of fluorine atoms is preferably 40 to 100%, more preferably 50 to 100%, and still more preferably 60 to 100%. In addition, the substitution rate of a fluorine atom means the ratio (%) of the number substituted with the fluorine atom with respect to the number of the total hydrogen atoms which an alkyl group has.

RF2가 나타내는 아릴기의 탄소수는, 6~20이 바람직하고, 6~15가 보다 바람직하며, 6~10이 더 바람직하다.6-20 are preferable, as for carbon number of the aryl group which R F2 represents, 6-15 are more preferable, 6-10 are still more preferable.

RF2가 나타내는 헤테로환기는, 5원환 또는 6원환이 바람직하다. 헤테로환기는, 단환이어도 되고, 축합환이어도 된다. 축합수는, 2~8이 바람직하고, 2~6이 보다 바람직하며, 3~5가 더 바람직하고, 3~4가 특히 바람직하다. 헤테로환기를 구성하는 탄소 원자의 수는 3~40이 바람직하고, 3~30이 보다 바람직하며, 3~20이 보다 바람직하다. 헤테로환기를 구성하는 헤테로 원자의 수는 1~3이 바람직하다. 헤테로환기를 구성하는 헤테로 원자는, 질소 원자, 산소 원자 또는 황 원자가 바람직하고, 질소 원자가 보다 바람직하다.The heterocyclic group represented by R F2 is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring. The heterocyclic group may be monocyclic or a condensed ring may be sufficient as it. 2-8 are preferable, as for the number of condensation, 2-6 are more preferable, 3-5 are still more preferable, and 3-4 are especially preferable. 3-40 are preferable, as for the number of carbon atoms which comprise a heterocyclic group, 3-30 are more preferable, 3-20 are more preferable. The number of hetero atoms constituting the heterocyclic group is preferably 1-3. A nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom is preferable, and, as for the hetero atom which comprises a heterocyclic group, a nitrogen atom is more preferable.

불소 원자를 포함하는 기는, 식 (1) 또는 (2)로 나타나는 말단 구조를 갖는 것이 바람직하다. 식 중의 *는, 연결손을 나타낸다.It is preferable that the group containing a fluorine atom has a terminal structure represented by Formula (1) or (2). * in the formula represents a linking hand.

*-CHF2 (1)*-CHF 2 (1)

*-CF3 (2)*-CF 3 (2)

식 (OX-1)의 R2는, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, 알킬기가 바람직하다. 알킬기 및 아릴기는, 무치환이어도 되고, 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 상술한 Ar1 및 Ar2가 가져도 되는 치환기에서 설명한 치환기를 들 수 있다. 알킬기의 탄소수는, 1~20이 바람직하고, 1~15가 보다 바람직하며, 1~10이 더 바람직하고, 1~4가 특히 바람직하다. 알킬기는, 직쇄, 분기, 환상 중 어느 것이어도 되지만, 직쇄 또는 분기가 바람직하다. 아릴기의 탄소수는, 6~20이 바람직하고, 6~15가 보다 바람직하며, 6~10이 더 바람직하다.R 2 in formula (OX-1) represents an alkyl group or an aryl group, and an alkyl group is preferable. Unsubstituted may be sufficient as an alkyl group and an aryl group, and may have a substituent. Examples of the substituent include the substituents described above for the substituents Ar 1 and Ar 2 may have. 1-20 are preferable, as for carbon number of an alkyl group, 1-15 are more preferable, 1-10 are still more preferable, and 1-4 are especially preferable. The alkyl group may be any of linear, branched, and cyclic, but is preferably linear or branched. 6-20 are preferable, as for carbon number of an aryl group, 6-15 are more preferable, and 6-10 are still more preferable.

식 (OX-1)의 R3은, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, 알킬기가 바람직하다. 알킬기 및 아릴기는, 무치환이어도 되고, 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 상술한 Ar1 및 Ar2가 가져도 되는 치환기에서 설명한 치환기를 들 수 있다. R3이 나타내는 알킬기의 탄소수는, 1~20이 바람직하고, 1~15가 보다 바람직하며, 1~10이 더 바람직하다. 알킬기는, 직쇄, 분기, 환상 중 어느 것이어도 되지만, 직쇄 또는 분기가 바람직하다. R3이 나타내는 아릴기의 탄소수는, 6~20이 바람직하고, 6~15가 보다 바람직하며, 6~10이 더 바람직하다.R 3 of formula (OX-1) represents an alkyl group or an aryl group, and an alkyl group is preferable. Unsubstituted may be sufficient as an alkyl group and an aryl group, and may have a substituent. Examples of the substituent include the substituents described above for the substituents Ar 1 and Ar 2 may have. 1-20 are preferable, as for carbon number of the alkyl group which R< 3 > represents, 1-15 are more preferable, and 1-10 are still more preferable. The alkyl group may be any of linear, branched, and cyclic, but is preferably linear or branched. 6-20 are preferable, as for carbon number of the aryl group which R< 3 > represents, 6-15 are more preferable, and 6-10 are still more preferable.

불소 원자를 갖는 옥심 화합물의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2010-262028호에 기재된 화합물, 일본 공표특허공보 2014-500852호에 기재된 화합물 24, 36~40, 일본 공개특허공보 2013-164471호에 기재된 화합물 (C-3) 등을 들 수 있다.As a specific example of the oxime compound which has a fluorine atom, the compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-262028, the compound 24 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-500852, 36-40, and the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-164471. (C-3) etc. are mentioned.

광중합 개시제로서는, 나이트로기를 갖는 옥심 화합물을 이용할 수 있다. 나이트로기를 갖는 옥심 화합물은, 이량체로 하는 것도 바람직하다. 나이트로기를 갖는 옥심 화합물의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2013-114249호의 단락 번호 0031~0047, 일본 공개특허공보 2014-137466호의 단락 번호 0008~0012, 0070~0079에 기재되어 있는 화합물, 일본 특허공보 4223071호의 단락 번호 0007~0025에 기재되어 있는 화합물, 아데카 아클즈 NCI-831((주)ADEKA제)을 들 수 있다.As a photoinitiator, the oxime compound which has a nitro group can be used. It is also preferable to use the oxime compound which has a nitro group as a dimer. As a specific example of the oxime compound which has a nitro group, Paragraph Nos. 0031 to 0047 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-114249, Paragraph Nos. 0008 to 0012, 0070 to 0079 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-137466, Japanese Patent Publication The compound described in Paragraph No. 0007-0025 of 4223071, Adeka Arcles NCI-831 (made by ADEKA Corporation) is mentioned.

광중합 개시제로서는, 벤조퓨란 골격을 갖는 옥심 화합물을 이용할 수도 있다. 구체예로서는, 국제 공개공보 제2015/036910호에 기재되어 있는 OE-01~OE-75를 들 수 있다.As a photoinitiator, the oxime compound which has benzofuran frame|skeleton can also be used. As a specific example, OE-01 - OE-75 described in International Publication No. 2015/036910 are mentioned.

광중합 개시제로서는, 카바졸 골격에 하이드록시기를 갖는 치환기가 결합된 옥심 화합물을 이용할 수도 있다. 이와 같은 광중합 개시제로서는 국제 공개공보 제2019/088055호에 기재된 화합물 등을 들 수 있다.As a photoinitiator, the oxime compound which the substituent which has the hydroxyl group couple|bonded with the carbazole skeleton can also be used. As such a photoinitiator, the compound of International Publication No. 2019/088055, etc. are mentioned.

본 발명에 있어서 바람직하게 사용되는 옥심 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.Although the specific example of the oxime compound used preferably in this invention is shown below, this invention is not limited to these.

[화학식 18][Formula 18]

Figure pct00018
Figure pct00018

[화학식 19][Formula 19]

Figure pct00019
Figure pct00019

본 발명에서는, 광중합 개시제로서, 메탄올 중에서의 파장 365nm의 흡광 계수가 1.0×103mL/g·cm 이상인 광중합 개시제 A1과, 메탄올 중에서의 파장 365nm의 흡광 계수가 1.0×102mL/g·cm 이하이고, 또한, 파장 254nm의 흡광 계수가 1.0×103mL/g·cm 이상인 광중합 개시제 A2를 병용하는 것이 바람직하다. 이 양태에 의하면, 노광에 의하여 착색 조성물을 충분히 경화시키기 쉽고, 저온 프로세스(예를 들면 전공정을 통하여 150℃ 이하의 온도, 바람직하게는 120℃ 이하의 온도)에서, 평탄성이 양호하며, 또한, 내용제성 등의 특성도 우수한 경화막을 형성할 수 있다. 광중합 개시제 A1 및 광중합 개시제 A2로서는, 상술한 화합물 중으로부터 상기의 흡광 계수를 갖는 화합물을 선택하여 이용하는 것이 바람직하다.In the present invention, as the photopolymerization initiator, a photopolymerization initiator A1 having an extinction coefficient at a wavelength of 365 nm in methanol of 1.0×10 3 mL/g·cm or more, and an extinction coefficient at a wavelength of 365 nm in methanol of 1.0×10 2 mL/g·cm Below, it is preferable to use together photoinitiator A2 whose extinction coefficient of wavelength 254nm is 1.0x10 3 mL/g*cm or more. According to this aspect, it is easy to fully harden a coloring composition by exposure, and flatness is favorable in a low-temperature process (for example, the temperature of 150 degrees C or less, Preferably the temperature of 120 degrees C or less throughout the whole process), A cured film excellent in properties such as solvent resistance can also be formed. As photoinitiator A1 and photoinitiator A2, it is preferable to select and use the compound which has said extinction coefficient from the above-mentioned compound.

또한, 본 발명에 있어서, 광중합 개시제의 상기 파장에 있어서의 흡광 계수는, 이하와 같이 하여 측정한 값이다. 즉, 광중합 개시제를 메탄올에 용해시켜 측정 용액을 조제하고, 상술한 측정 용액의 흡광도를 측정함으로써 산출했다. 구체적으로는, 상술한 측정 용액을 폭 1cm의 유리 셀에 넣어, Agilent Technologies사제 UV-Vis-NIR 스펙트로미터(Cary5000)를 이용하여 흡광도를 측정하고, 하기 식에 적용시켜, 파장 365nm 및 파장 254nm에 있어서의 흡광 계수(mL/g·cm)를 산출했다.In addition, in this invention, the extinction coefficient in the said wavelength of a photoinitiator is the value measured as follows. That is, it computed by dissolving a photoinitiator in methanol, preparing the measurement solution, and measuring the absorbance of the measurement solution mentioned above. Specifically, the above-described measurement solution is placed in a glass cell having a width of 1 cm, absorbance is measured using a UV-Vis-NIR spectrometer (Cary5000) manufactured by Agilent Technologies, and applied to the following formula, at a wavelength of 365 nm and a wavelength of 254 nm The extinction coefficient (mL/g·cm) was calculated.

[수학식 1][Equation 1]

Figure pct00020
Figure pct00020

상기 식에 있어서 ε는 흡광 계수(mL/g·cm), A는 흡광도, c는 광중합 개시제의 농도(g/mL), l은 광로 길이(cm)를 나타낸다.In the above formula, ε is an extinction coefficient (mL/g·cm), A is an absorbance, c is a concentration of a photopolymerization initiator (g/mL), and l is an optical path length (cm).

광중합 개시제 A1의 메탄올 중에서의 파장 365nm에 있어서의 흡광 계수는, 1.0×103mL/g·cm 이상이며, 1.0×104mL/g·cm 이상인 것이 바람직하고, 1.1×104mL/g·cm 이상인 것이 보다 바람직하며, 1.2×104~1.0×105mL/g·cm인 것이 더 바람직하고, 1.3×104~5.0×104mL/g·cm인 것이 보다 더 바람직하며, 1.5×104~3.0×104mL/g·cm인 것이 특히 바람직하다.The extinction coefficient of the photoinitiator A1 in methanol at a wavelength of 365 nm is 1.0×10 3 mL/g·cm or more, preferably 1.0×10 4 mL/g·cm or more, and 1.1×10 4 mL/g·cm or more. cm or more, more preferably 1.2×10 4 to 1.0×10 5 mL/g·cm, still more preferably 1.3×10 4 to 5.0×10 4 mL/g·cm, and 1.5× It is particularly preferable that it is 10 4 to 3.0×10 4 mL/g·cm.

또, 광중합 개시제 A1의 메탄올 중에서의 파장 254nm의 광의 흡광 계수는, 1.0×104~1.0×105mL/g·cm인 것이 바람직하고, 1.5×104~9.5×104mL/g·cm인 것이 보다 바람직하며, 3.0×104~8.0×104mL/g·cm인 것이 더 바람직하다.Moreover, it is preferable that the extinction coefficient of the light of wavelength 254nm in methanol of photoinitiator A1 is 1.0x10 4 -1.0x10 5 mL/g*cm, and it is 1.5x10 4 -9.5x10 4 mL/g*cm. More preferably, 3.0×10 4 to 8.0×10 4 mL/g·cm is more preferable.

광중합 개시제 A1로서는, 옥심 화합물, 아미노알킬페논 화합물, 아실포스핀 화합물이 바람직하고, 옥심 화합물 및 아실포스핀 화합물이 보다 바람직하며, 옥심 화합물이 더 바람직하고, 조성물에 포함되는 다른 성분과의 상용성의 관점에서 불소 원자를 포함하는 옥심 화합물인 것이 특히 바람직하다. 광중합 개시제 A1의 구체예로서는, 1,2-옥테인다이온, 1-[4-(페닐싸이오)-, 2-(O-벤조일옥심)](시판품으로서는, 예를 들면, Irgacure OXE01, BASF사제), 에탄온, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심)(시판품으로서는, 예를 들면, Irgacure OXE02, BASF사제), 비스(2,4,6-트라이메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드(시판품으로서는, 예를 들면, Omnirad 819(IGM Resins B. V.사제), Irgacure 819(BASF사제)), 상기의 옥심 화합물의 구체예에서 나타낸 (C-13), (C-14) 등을 들 수 있다.As photoinitiator A1, an oxime compound, an aminoalkylphenone compound, and an acylphosphine compound are preferable, an oxime compound and an acylphosphine compound are more preferable, an oxime compound is still more preferable, Compatibility with other components contained in the composition It is especially preferable that it is an oxime compound containing a fluorine atom from a viewpoint. As a specific example of photoinitiator A1, 1,2-octanedione, 1-[4-(phenylthio)-, 2-(O-benzoyl oxime)] (As a commercial item, Irgacure OXE01, the BASF make, for example, ), ethanone, 1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]-, 1-(O-acetyloxime) (As a commercially available product, for example, Irgacure OXE02 , made by BASF), bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide (as a commercial item, for example, Omnirad 819 (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 819 (manufactured by BASF)), said oxime (C-13), (C-14), etc. shown in the specific example of a compound are mentioned.

광중합 개시제 A2의 메탄올 중에서의 파장 365nm의 광의 흡광 계수는, 1.0×102mL/g·cm 이하이며, 10~1.0×102mL/g·cm인 것이 바람직하고, 20~1.0×102mL/g·cm인 것이 보다 바람직하다. 또, 광중합 개시제 A1의 메탄올 중에서의 파장 365nm의 광의 흡광 계수와, 광중합 개시제 A2의 메탄올 중에서의 파장 365nm의 광의 흡광 계수의 차는, 9.0×102mL/g·cm 이상이고, 1.0×103mL/g·cm 이상인 것이 바람직하며, 5.0×103~3.0×104mL/g·cm인 것이 보다 바람직하고, 1.0×104~2.0×104mL/g·cm인 것이 더 바람직하다. 또, 광중합 개시제 A2의 메탄올 중에서의 파장 254nm의 광의 흡광 계수는, 1.0×103mL/g·cm 이상이고, 1.0×103~1.0×106mL/g·cm인 것이 바람직하며, 5.0×103~1.0×105mL/g·cm인 것이 보다 바람직하다.The extinction coefficient of light with a wavelength of 365 nm in methanol of the photoinitiator A2 is 1.0×10 2 mL/g·cm or less, preferably 10 to 1.0×10 2 mL/g·cm, and 20 to 1.0×10 2 mL It is more preferable that it is /g*cm. Moreover, the difference between the extinction coefficient of the light with a wavelength of 365 nm in methanol of the photoinitiator A1 and the light extinction coefficient of the light with a wavelength of 365 nm in methanol of the photoinitiator A2 is 9.0×10 2 mL/g·cm or more, and 1.0×10 3 mL It is preferably at least /g·cm, more preferably 5.0×10 3 to 3.0×10 4 mL/g·cm, and still more preferably 1.0×10 4 to 2.0×10 4 mL/g·cm. In addition, the extinction coefficient of the light with a wavelength of 254 nm in methanol of the photoinitiator A2 is 1.0×10 3 mL/g·cm or more, preferably 1.0×10 3 to 1.0×10 6 mL/g·cm, 5.0× It is more preferable that it is 10 3 -1.0×10 5 mL/g·cm.

광중합 개시제 A2로서는, 하이드록시알킬페논 화합물, 페닐글라이옥실레이트 화합물, 아미노알킬페논 화합물, 아실포스핀 화합물이 바람직하고, 하이드록시알킬페논 화합물 및 페닐글라이옥실레이트 화합물이 보다 바람직하며, 하이드록시알킬페논 화합물이 더 바람직하다. 또, 하이드록시알킬페논 화합물로서는, 상술한 식 (V)로 나타나는 화합물이 바람직하다. 광중합 개시제 A2의 구체예로서는, 1-하이드록시-사이클로헥실-페닐-케톤(시판품으로서는, 예를 들면, Omnirad 184(IGM Resins B. V.사제), Irgacure 184(BASF사제)), 1-[4-(2-하이드록시에톡시)-페닐]-2-하이드록시-2-메틸-1-프로판-1-온(시판품으로서는, 예를 들면, Omnirad 2959(IGM Resins B. V.사제), Irgacure 2959(BASF사제)) 등을 들 수 있다.As the photoinitiator A2, a hydroxyalkylphenone compound, a phenylglyoxylate compound, an aminoalkylphenone compound, and an acylphosphine compound are preferable, and a hydroxyalkylphenone compound and a phenylglyoxylate compound are more preferable, and hydroxy Alkylphenone compounds are more preferred. Moreover, as a hydroxyalkylphenone compound, the compound represented by Formula (V) mentioned above is preferable. Specific examples of the photopolymerization initiator A2 include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (as a commercial product, for example, Omnirad 184 (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 184 (manufactured by BASF)), 1-[4-(2) -Hydroxyethoxy)-phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one (as a commercial item, for example, Omnirad 2959 (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 2959 (manufactured by BASF)) and the like.

광중합 개시제 A1과 광중합 개시제 A2의 조합으로서는, 광중합 개시제 A1이 옥심 화합물이며, 광중합 개시제 A2가 하이드록시알킬페논 화합물인 조합이 바람직하고, 광중합 개시제 A1이 옥심 화합물이며, 광중합 개시제 A2가 상술한 식 (V)로 나타나는 화합물인 조합이 보다 바람직하고, 광중합 개시제 A1이 불소 원자를 포함하는 옥심 화합물이며, 광중합 개시제 A2가 상술한 식 (V)로 나타나는 화합물인 조합이 특히 바람직하다.The combination of the photoinitiator A1 and the photoinitiator A2 is preferably a combination in which the photoinitiator A1 is an oxime compound and the photoinitiator A2 is a hydroxyalkylphenone compound, the photoinitiator A1 is an oxime compound, and the photoinitiator A2 is the above formula ( A combination that is a compound represented by V) is more preferable, a combination in which the photoinitiator A1 is an oxime compound containing a fluorine atom and the photoinitiator A2 is a compound represented by the above formula (V) is particularly preferable.

광중합 개시제의 함유량은, 착색 조성물의 전고형분 중 0.1~17.5질량%인 것이 바람직하다. 하한은, 0.5질량% 이상인 것이 바람직하고, 1.0질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 1.5질량% 이상인 것이 더 바람직하다. 상한은, 15.0질량% 이하인 것이 바람직하고, 12.5질량% 이하인 것이 보다 바람직하며, 10.0질량% 이하인 것이 더 바람직하다.It is preferable that content of a photoinitiator is 0.1-17.5 mass % in total solid of a coloring composition. It is preferable that it is 0.5 mass % or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 1.0 mass % or more, It is more preferable that it is 1.5 mass % or more. It is preferable that it is 15.0 mass % or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 12.5 mass % or less, It is more preferable that it is 10.0 mass % or less.

또, 본 발명의 착색 조성물은, 중합성 화합물 100질량부에 대하여 광중합 개시제를 1.0~50질량부 함유하는 것이 바람직하다. 상한은, 40질량부 이하인 것이 바람직하고, 30질량부 이하인 것이 보다 바람직하다. 하한은, 2.5질량부 이상인 것이 바람직하고, 5.0질량부 이상인 것이 더 바람직하다. 이 양태에 의하면, 현상 후의 패턴 형상이 양호하다.Moreover, it is preferable that the coloring composition of this invention contains 1.0-50 mass parts of photoinitiators with respect to 100 mass parts of polymeric compounds. It is preferable that it is 40 mass parts or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 30 mass parts or less. It is preferable that it is 2.5 mass parts or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 5.0 mass parts or more. According to this aspect, the pattern shape after image development is favorable.

본 발명의 착색 조성물에 있어서, 광중합 개시제로서 상술한 광중합 개시제 A1을 이용한 경우, 광중합 개시제 A1의 함유량은, 착색 조성물의 전고형분 중 0.1~17.5질량%인 것이 바람직하다. 하한은, 0.5질량% 이상인 것이 바람직하고, 1.0질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 1.5질량% 이상인 것이 더 바람직하다. 상한은, 15.0질량% 이하인 것이 바람직하고, 12.5질량% 이하인 것이 보다 바람직하며, 10.0질량% 이하인 것이 더 바람직하다.The coloring composition of this invention WHEREIN: When using the above-mentioned photoinitiator A1 as a photoinitiator, it is preferable that content of photoinitiator A1 is 0.1-17.5 mass % in total solid of a coloring composition. It is preferable that it is 0.5 mass % or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 1.0 mass % or more, It is more preferable that it is 1.5 mass % or more. It is preferable that it is 15.0 mass % or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 12.5 mass % or less, It is more preferable that it is 10.0 mass % or less.

본 발명의 착색 조성물에 있어서, 광중합 개시제로서 상술한 광중합 개시제 A2를 이용한 경우, 광중합 개시제 A2의 함유량은, 착색 조성물의 전고형분 중 0.1~10.0질량%인 것이 바람직하다. 하한은, 0.5질량% 이상인 것이 바람직하고, 1.0질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 1.5질량% 이상인 것이 더 바람직하다. 상한은, 9.0질량% 이하인 것이 바람직하고, 8.0질량% 이하인 것이 보다 바람직하며, 7.0질량% 이하인 것이 더 바람직하다.The coloring composition of this invention WHEREIN: When using the above-mentioned photoinitiator A2 as a photoinitiator, it is preferable that content of photoinitiator A2 is 0.1-10.0 mass % in total solid of a coloring composition. It is preferable that it is 0.5 mass % or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 1.0 mass % or more, It is more preferable that it is 1.5 mass % or more. It is preferable that it is 9.0 mass % or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 8.0 mass % or less, It is more preferable that it is 7.0 mass % or less.

본 발명의 착색 조성물에 있어서, 광중합 개시제로서 상술한 광중합 개시제 A1과 광중합 개시제 A2를 이용한 경우, 본 발명의 착색 조성물은, 광중합 개시제 A1의 100질량부에 대하여, 광중합 개시제 A2를 50~200질량부 함유하는 것이 바람직하다. 상한은, 175질량부 이하인 것이 바람직하고, 150질량부 이하인 것이 보다 바람직하다. 하한은, 60질량부 이상인 것이 바람직하고, 70질량부 이상인 것이 더 바람직하다. 이 양태에 의하면, 저온 프로세스(예를 들면 전공정을 통하여 150℃ 이하의 온도, 바람직하게는 120℃ 이하의 온도)에서 내용제성 등의 특성이 우수한 경화막을 형성할 수 있다.The coloring composition of this invention WHEREIN: When the above-mentioned photoinitiator A1 and photoinitiator A2 are used as a photoinitiator, the coloring composition of this invention is 50-200 mass parts of photoinitiator A2 with respect to 100 mass parts of photoinitiator A1. It is preferable to contain It is preferable that it is 175 mass parts or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 150 mass parts or less. It is preferable that it is 60 mass parts or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 70 mass parts or more. According to this aspect, the cured film excellent in characteristics, such as solvent resistance, can be formed in a low-temperature process (For example, the temperature of 150 degrees C or less through a previous process, Preferably it is a temperature of 120 degrees C or less).

본 발명의 착색 조성물에 있어서, 광중합 개시제로서 상술한 광중합 개시제 A1과 광중합 개시제 A2를 이용한 경우, 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 광중합 개시제 A1과 광중합 개시제 A2의 합계의 함유량은, 0.1~20.0질량%인 것이 바람직하다. 하한은, 1.0질량% 이상인 것이 바람직하고, 2.0질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 2.5질량% 이상인 것이 더 바람직하다. 상한은, 17.5질량% 이하인 것이 바람직하고, 15.0질량% 이하인 것이 보다 바람직하며, 12.5질량% 이하인 것이 더 바람직하다.The coloring composition of this invention WHEREIN: When the above-mentioned photoinitiator A1 and photoinitiator A2 are used as a photoinitiator, content of the total of photoinitiator A1 and photoinitiator A2 in total solid of a coloring composition is 0.1-20.0 mass % It is preferable to be It is preferable that a minimum is 1.0 mass % or more, It is more preferable that it is 2.0 mass % or more, It is more preferable that it is 2.5 mass % or more. It is preferable that it is 17.5 mass % or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 15.0 mass % or less, It is more preferable that it is 12.5 mass % or less.

<<경화 촉매>><<curing catalyst >>

본 발명의 착색 조성물은 경화 촉매를 더 함유할 수 있다. 이 양태에 의하면, 저온 경화성이 우수한 착색 조성물로 할 수 있다. 경화 촉매로서는, 주석 화합물, 타이타늄 화합물, 비스무트 화합물, 지르코늄 화합물, 알루미늄 화합물 등을 들 수 있고, 비스무트 화합물, 지르코늄 화합물, 알루미늄 화합물인 것이 바람직하다. 경화 촉매의 구체예로서는, K-CAT 348, 4205, 5218, XK-635, XK-640, A-209(KING INDUSTRIES사제) 등을 들 수 있다.The coloring composition of this invention can contain a curing catalyst further. According to this aspect, it can be set as the coloring composition excellent in low temperature sclerosis|hardenability. As a curing catalyst, a tin compound, a titanium compound, a bismuth compound, a zirconium compound, an aluminum compound, etc. are mentioned, It is preferable that they are a bismuth compound, a zirconium compound, and an aluminum compound. Specific examples of the curing catalyst include K-CAT 348, 4205, 5218, XK-635, XK-640, and A-209 (manufactured by KING INDUSTRIES).

경화 촉매의 함유량은, 수지 BI의 100질량부에 대하여 0.1~5질량부인 것이 바람직하고, 0.15~4질량부인 것이 보다 바람직하며, 0.2~3질량부인 것이 더 바람직하다. 상기 착색 조성물은, 경화 촉매를 1종류만 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 경화 촉매를 2종류 이상 포함하는 경우는, 그들의 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.It is preferable that content of a curing catalyst is 0.1-5 mass parts with respect to 100 mass parts of resin BI, It is more preferable that it is 0.15-4 mass parts, It is more preferable that it is 0.2-3 mass parts. The said coloring composition may contain only 1 type of curing catalyst, and may contain it 2 or more types. When two or more types of curing catalysts are included, it is preferable that those total amounts become the said range.

<<퓨릴기 함유 화합물>><<Furyl group-containing compound>>

본 발명의 착색 조성물은, 퓨릴기를 포함하는 화합물(이하, 퓨릴기 함유 화합물이라고도 한다)을 함유할 수 있다. 이 양태에 의하면, 저온 경화가 우수한 착색 조성물로 할 수 있다.The coloring composition of this invention can contain the compound (henceforth a furyl group containing compound) containing a furyl group. According to this aspect, it can be set as the coloring composition excellent in low-temperature hardening.

퓨릴기 함유 화합물은, 퓨릴기(퓨란으로부터 1개의 수소 원자를 제거한 기)를 더 포함하고 있으면 특별히 그 구조가 한정되는 것은 아니다. 퓨릴기 함유 화합물에 대해서는, 일본 공개특허공보 2017-194662호의 단락 번호 0049~0089에 기재된 화합물을 이용할 수 있다. 또, 일본 공개특허공보 2000-233581호, 일본 공개특허공보 1994-271558호, 일본 공개특허공보 1994-293830호, 일본 공개특허공보 1996-239421호, 일본 공개특허공보 1998-508655호, 일본 공개특허공보 2000-001529호, 일본 공개특허공보 2003-183348호, 일본 공개특허공보 2006-193628호, 일본 공개특허공보 2007-186684호, 일본 공개특허공보 2010-265377호, 일본 공개특허공보 2011-170069호 등에 기재되어 있는 화합물을 이용할 수도 있다.The structure of the furyl group-containing compound is not particularly limited as long as it further contains a furyl group (group in which one hydrogen atom has been removed from furan). For the furyl group-containing compound, the compounds described in Paragraph Nos. 0049 to 0089 of JP-A-2017-194662 can be used. In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-233581, JP 1994-271558 , JP 1994-293830 , JP 1996-239421 , JP 1998-508655 , Japanese Patent Application Laid-Open No. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-001529, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-183348, JP 2006-193628 , JP 2007-186684 , JP 2010-265377 , JP 2011-170069 . The compound described in etc. can also be used.

퓨릴기 함유 화합물은, 모노머여도 되고, 폴리머여도 된다. 얻어지는 막의 내구성을 향상시키기 쉽다는 이유에서 폴리머인 것이 바람직하다. 폴리머의 경우, 중량 평균 분자량은, 2000~70000이 바람직하다. 상한은, 60000 이하가 바람직하고, 50000 이하가 보다 바람직하다. 하한은, 3000 이상이 바람직하고, 4000 이상이 보다 바람직하며, 5000 이상이 더 바람직하다. 또한, 폴리머 타입의 퓨릴기 함유 화합물은, 본 발명의 착색 조성물에 있어서의 수지에도 해당하는 성분이다.A monomer may be sufficient as a furyl group containing compound, and a polymer may be sufficient as it. It is preferable that it is a polymer from the reason that it is easy to improve the durability of the film|membrane obtained. In the case of a polymer, as for a weight average molecular weight, 2000-70000 are preferable. 60000 or less are preferable and, as for an upper limit, 50000 or less are more preferable. 3000 or more are preferable, as for a minimum, 4000 or more are more preferable, and 5000 or more are still more preferable. In addition, a polymer type furyl group containing compound is a component corresponding also to resin in the coloring composition of this invention.

퓨릴기 함유 화합물의 함유량은, 착색 조성물의 전고형분 중 0.1~70질량%인 것이 바람직하다. 하한은, 2.5질량% 이상인 것이 바람직하고, 5.0질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 7.5질량% 이상인 것이 더 바람직하다. 상한은, 65질량% 이하인 것이 바람직하고, 60질량% 이하인 것이 보다 바람직하며, 50질량% 이하인 것이 더 바람직하다. 퓨릴기 함유 화합물은, 1종 단독이어도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 2종 이상을 병용하는 경우는, 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.It is preferable that content of a furyl group containing compound is 0.1-70 mass % in total solid of a coloring composition. It is preferable that it is 2.5 mass % or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 5.0 mass % or more, It is more preferable that it is 7.5 mass % or more. It is preferable that it is 65 mass % or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 60 mass % or less, It is more preferable that it is 50 mass % or less. The furyl group containing compound may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. When using 2 or more types together, it is preferable that a total amount becomes the said range.

<<에폭시기를 갖는 화합물>><<Compound having an epoxy group>>

본 발명의 착색 조성물은, 에폭시기를 갖는 화합물을 더 함유할 수 있다. 에폭시기를 갖는 화합물로서는, 1분자 내에 에폭시기를 2개 이상 갖는 화합물이 바람직하다. 에폭시기는, 1분자 내에 2~100개 갖는 것이 바람직하다. 상한은, 예를 들면, 10개 이하로 할 수도 있고, 5개 이하로 할 수도 있다. 에폭시기를 갖는 화합물의 에폭시 당량(=에폭시기를 갖는 화합물의 분자량/에폭시기의 수)은 500g/eq 이하인 것이 바람직하고, 100~400g/eq인 것이 보다 바람직하며, 100~300g/eq인 것이 더 바람직하다. 에폭시기를 갖는 화합물은, 저분자 화합물(예를 들면, 분자량 1000 미만)이어도 되고, 고분자 화합물(macromolecule)(예를 들면, 분자량 1000 이상, 폴리머의 경우는, 중량 평균 분자량이 1000 이상) 중 어느 것이어도 된다. 에폭시기를 갖는 화합물의 분자량(폴리머의 경우는, 중량 평균 분자량)은, 200~100000이 바람직하고, 500~50000이 보다 바람직하다. 분자량(폴리머의 경우는, 중량 평균 분자량)의 상한은, 3000 이하가 바람직하고, 2000 이하가 보다 바람직하며, 1500 이하가 더 바람직하다.The coloring composition of this invention can contain the compound which has an epoxy group further. As the compound having an epoxy group, a compound having two or more epoxy groups in one molecule is preferable. It is preferable to have 2-100 epoxy groups in 1 molecule. The upper limit may be, for example, 10 or less, or 5 or less. The epoxy equivalent of the compound having an epoxy group (= molecular weight of the compound having an epoxy group/number of epoxy groups) is preferably 500 g/eq or less, more preferably 100 to 400 g/eq, and still more preferably 100 to 300 g/eq. . The compound having an epoxy group may be a low molecular weight compound (for example, molecular weight less than 1000), or a macromolecular compound (for example, molecular weight 1000 or more, in the case of a polymer, a weight average molecular weight of 1000 or more) do. 200-100000 are preferable and, as for the molecular weight (in the case of a polymer, a weight average molecular weight) of the compound which has an epoxy group, 500-50000 are more preferable. 3000 or less are preferable, as for the upper limit of molecular weight (in the case of a polymer, weight average molecular weight), 2000 or less are more preferable, and 1500 or less are still more preferable.

에폭시기를 갖는 화합물로서는, 일본 공개특허공보 2013-011869호의 단락 번호 0034~0036, 일본 공개특허공보 2014-043556호의 단락 번호 0147~0156, 일본 공개특허공보 2014-089408호의 단락 번호 0085~0092에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-179172호에 기재된 화합물을 이용할 수도 있다. 이들 내용은, 본 명세서에 원용된다.As a compound which has an epoxy group, Paragraph Nos. 0034 to 0036 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-011869, Paragraph Nos. 0147 to 0156 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-043556, Paragraph Nos. 0085 to 0092 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-089408 Compounds , a compound described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-179172 can also be used. These contents are incorporated herein by reference.

본 발명의 착색 조성물이 에폭시기를 갖는 화합물을 함유하는 경우, 에폭시기를 갖는 화합물의 함유량은, 착색 조성물의 전고형분 중, 0.1~40질량%인 것이 바람직하다. 하한은, 0.5질량% 이상이 보다 바람직하며, 1질량% 이상이 더 바람직하다. 상한은, 30질량% 이하가 보다 바람직하며, 20질량% 이하가 더 바람직하다. 에폭시기를 갖는 화합물은, 1종 단독이어도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 2종 이상을 병용하는 경우는, 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.When the coloring composition of this invention contains the compound which has an epoxy group, it is preferable that content of the compound which has an epoxy group is 0.1-40 mass % in total solid of a coloring composition. As for a minimum, 0.5 mass % or more is more preferable, and 1 mass % or more is still more preferable. 30 mass % or less is more preferable, and, as for an upper limit, 20 mass % or less is still more preferable. The compound which has an epoxy group may be individual 1 type, and may use 2 or more types together. When using 2 or more types together, it is preferable that a total amount becomes the said range.

<<용제>><<Solvent>>

본 발명의 착색 조성물은, 용제를 함유하는 것이 바람직하다. 용제로서는, 유기 용제를 들 수 있다. 용제는, 각 성분의 용해성이나 착색 조성물의 도포성을 만족시키면 기본적으로는 특별히 제한은 없다. 유기 용제로서는, 에스터계 용제, 케톤계 용제, 알코올계 용제, 아마이드계 용제, 에터계 용제, 탄화 수소계 용제 등을 들 수 있다. 이들의 상세에 대해서는, 국제 공개공보 제2015/166779호의 단락 0223을 참조할 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다. 또, 환상 알킬기가 치환된 에스터계 용제, 환상 알킬기가 치환된 케톤계 용제를 바람직하게 이용할 수도 있다. 유기 용제의 구체예로서는, 폴리에틸렌글라이콜모노메틸에터, 다이클로로메테인, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 에틸셀로솔브아세테이트, 락트산 에틸, 다이에틸렌글라이콜다이메틸에터, 아세트산 뷰틸, 3-메톡시프로피온산 메틸, 2-헵탄온, 사이클로헥산온, 아세트산 사이클로헥실, 사이클로펜탄온, 에틸카비톨아세테이트, 뷰틸카비톨아세테이트, 프로필렌글라이콜모노메틸에터, 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트, 3-메톡시-N,N-다이메틸프로판아마이드, 3-뷰톡시-N,N-다이메틸프로판아마이드 등을 들 수 있다. 단 용제로서의 방향족 탄화 수소류(벤젠, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠 등)는, 환경면 등의 이유에 의하여 저감시키는 편이 바람직한 경우가 있다(예를 들면, 유기 용제 전량에 대하여, 50질량ppm(parts per million) 이하로 할 수도 있고, 10질량ppm 이하로 할 수도 있으며, 1질량ppm 이하로 할 수도 있다).It is preferable that the coloring composition of this invention contains a solvent. As a solvent, an organic solvent is mentioned. A solvent will not have a restriction|limiting in particular in particular, if the solubility of each component and the applicability|paintability of a coloring composition are satisfy|filled basically. Examples of the organic solvent include an ester solvent, a ketone solvent, an alcohol solvent, an amide solvent, an ether solvent, and a hydrocarbon solvent. For details of these, reference may be made to paragraph 0223 of International Publication No. 2015/166779, the content of which is incorporated herein by reference. Moreover, the ester type solvent by which the cyclic alkyl group was substituted, and the ketone type solvent by which the cyclic alkyl group was substituted can also be used preferably. Specific examples of the organic solvent include polyethylene glycol monomethyl ether, dichloromethane, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl Ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexanone, cyclohexyl acetate, cyclopentanone, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene Glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxy-N,N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N,N-dimethylpropanamide, etc. are mentioned. However, there are cases where it is preferable to reduce the aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.) as a solvent for reasons such as environmental reasons (for example, 50 mass ppm ( parts per million) or less, 10 mass ppm or less, or 1 mass ppm or less).

본 발명에 있어서, 용제를 효율적으로 휘발시키는 관점에서, 용제로서는, 비점이 160℃ 이하의 유기 용제인 것이 바람직하다. 유기 용제의 비점은, 140℃ 이하인 것이 보다 바람직하며, 130℃ 이하인 것이 더 바람직하다. 비점의 하한은, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면 100℃ 이상인 것이 바람직하다. 이와 같은 유기 용제로서는, 예를 들면 아세트산 뷰틸, 프로필렌글라이콜모노메틸에터, 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트, 사이클로헥산온, 락트산 에틸 등을 들 수 있고, 아세트산 뷰틸, 프로필렌글라이콜모노메틸에터, 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트가 바람직하다.In this invention, it is preferable that a boiling point is an organic solvent of 160 degrees C or less as a solvent from a viewpoint of volatilizing a solvent efficiently. It is more preferable that it is 140 degrees C or less, and, as for the boiling point of the organic solvent, it is still more preferable that it is 130 degrees C or less. Although the lower limit in particular of a boiling point is not restrict|limited, For example, it is preferable that it is 100 degreeC or more. Examples of such an organic solvent include butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, cyclohexanone, and ethyl lactate, and butyl acetate and propylene glycol Monomethyl ether and propylene glycol monomethyl ether acetate are preferable.

본 발명에 있어서는, 금속 함유량이 적은 용제를 이용하는 것이 바람직하고, 용제의 금속 함유량은, 예를 들면 10질량ppb(parts per billion) 이하인 것이 바람직하다. 필요에 따라 질량ppt(parts per trillion) 레벨의 용제를 이용해도 되고, 그와 같은 고순도 용제는 예를 들면 도요 고세이사가 제공하고 있다(가가쿠 고교 닛포, 2015년 11월 13일).In this invention, it is preferable to use the solvent with little metal content, and it is preferable that the metal content of a solvent is 10 mass ppb (parts per billion) or less, for example. If necessary, a solvent having a mass ppt (parts per trillion) level may be used, and such a high-purity solvent is provided by, for example, Toyo Kosei Corporation (Kagaku Kogyo Nippo, November 13, 2015).

용제로부터 금속 등의 불순물을 제거하는 방법으로서는, 예를 들면, 증류(분자 증류나 박막 증류 등)나 필터를 이용한 여과를 들 수 있다. 여과에 이용하는 필터의 필터 구멍 직경으로서는, 10μm 이하가 바람직하고, 5μm 이하가 보다 바람직하며, 3μm 이하가 더 바람직하다. 필터의 재질은, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리에틸렌 또는 나일론이 바람직하다.As a method of removing impurities, such as a metal, from a solvent, distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) or filtration using a filter is mentioned, for example. As a filter pore diameter of the filter used for filtration, 10 micrometers or less are preferable, 5 micrometers or less are more preferable, and 3 micrometers or less are still more preferable. The material of the filter is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene, or nylon.

용제는, 이성체(원자수가 동일하지만 구조가 상이한 화합물)가 포함되어 있어도 된다. 또, 이성체는, 1종만이 포함되어 있어도 되고, 복수 종 포함되어 있어도 된다.The solvent may contain isomers (compounds having the same number of atoms but different structures). Moreover, only 1 type may be contained and multiple types of isomers may be contained.

본 발명에 있어서, 유기 용제 중의 과산화물의 함유율이 0.8mmol/L 이하인 것이 바람직하고, 과산화물을 실질적으로 포함하지 않는 것이 보다 바람직하다.In this invention, it is preferable that the content rate of the peroxide in an organic solvent is 0.8 mmol/L or less, and it is more preferable that a peroxide is not included substantially.

착색 조성물 중에 있어서의 용제의 함유량은, 60~95질량%인 것이 바람직하다. 또한, 상한은 90질량% 이하인 것이 바람직하고, 87.5질량% 이하인 것이 보다 바람직하며, 85질량% 이하인 것이 더 바람직하다. 또한, 하한은, 65질량% 이상인 것이 바람직하고, 70질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 75질량% 이상인 것이 더 바람직하다. 용제는, 1종 단독이어도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 2종 이상을 병용하는 경우는, 그들의 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.It is preferable that content of the solvent in a coloring composition is 60-95 mass %. Moreover, it is preferable that it is 90 mass % or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 87.5 mass % or less, It is more preferable that it is 85 mass % or less. Moreover, it is preferable that it is 65 mass % or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 70 mass % or more, It is more preferable that it is 75 mass % or more. A solvent may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. When using 2 or more types together, it is preferable that those total amounts become the said range.

또, 본 발명의 착색 조성물은, 환경 규제의 관점에서 환경 규제 물질을 실질적으로 함유하지 않는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서, 환경 규제 물질을 실질적으로 함유하지 않는다란, 착색 조성물 중에 있어서의 환경 규제 물질의 함유량이 50질량ppm 이하인 것을 의미하며, 30질량ppm 이하인 것이 바람직하고, 10질량ppm 이하인 것이 더 바람직하며, 1질량ppm 이하인 것이 특히 바람직하다. 환경 규제 물질은, 예를 들면 벤젠; 톨루엔, 자일렌 등의 알킬벤젠류; 클로로벤젠 등의 할로젠화 벤젠류 등을 들 수 있다. 이들은, REACH(Registration Evaluation Authorization and Restriction of CHemicals) 규칙, PRTR(Pollutant Release and Transfer Register) 법, VOC(Volatile Organic Compounds) 규제 등을 기초로 하여 환경 규제 물질로서 등록되어 있고, 사용량이나 취급 방법이 엄격하게 규제되고 있다. 이들 화합물은, 본 발명의 착색 조성물에 이용되는 각 성분 등을 제조할 때에 용제로서 이용되는 경우가 있고, 잔류 용제로서 착색 조성물 중에 혼입되는 경우가 있다. 사람에 대한 안전성, 환경에 대한 배려의 관점에서 이들 물질은 가능한 한 저감시키는 것이 바람직하다. 환경 규제 물질을 저감시키는 방법으로서는, 계 내를 가열이나 감압하여 환경 규제 물질의 비점 이상으로 하고 계 내로부터 환경 규제 물질을 증류 제거하여 저감시키는 방법을 들 수 있다. 또, 소량의 환경 규제 물질을 증류 제거하는 경우에 있어서는, 효율을 높이기 위하여 해당 용제와 동등한 비점을 갖는 용제와 공비(共沸)시키는 것도 유용하다. 또, 라디칼 중합성을 갖는 화합물을 함유하는 경우, 감압 증류 제거 중에 라디칼 중합 반응이 진행되어 분자 사이에서 가교해 버리는 것을 억제하기 위하여 중합 금지제 등을 첨가하여 감압 증류 제거해도 된다. 이들 증류 제거 방법은, 원료의 단계, 원료를 반응시킨 생성물(예를 들면 중합한 후의 수지 용액이나 다관능 모노머 용액)의 단계, 또는 이들 화합물을 혼합하여 제작한 착색 조성물의 단계 어느 단계에서도 가능하다.Moreover, it is preferable that the coloring composition of this invention does not contain an environmental regulation substance substantially from a viewpoint of environmental regulation. In addition, in this invention, it means that content of the environmental control substance in a coloring composition is 50 mass ppm or less, It is preferable that it is 30 mass ppm or less, It is 10 mass ppm or less that it does not contain an environmental control substance substantially in this invention. It is more preferable, and it is especially preferable that it is 1 mass ppm or less. Environmentally regulated substances include, for example, benzene; alkylbenzenes such as toluene and xylene; Halogenated benzenes, such as chlorobenzene, etc. are mentioned. They are registered as environmentally regulated substances based on REACH (Registration Evaluation Authorization and Restriction of CHemicals) rules, PRTR (Pollutant Release and Transfer Register) laws, VOC (Volatile Organic Compounds) regulations, etc., and their usage and handling methods are strict. is tightly regulated. These compounds may be used as a solvent when manufacturing each component etc. used for the coloring composition of this invention, and may mix in a coloring composition as a residual solvent. From the viewpoint of safety for humans and consideration for the environment, it is desirable to reduce these substances as much as possible. As a method of reducing an environmentally regulated substance, the method of heating or depressurizing the inside of a system to make it more than the boiling point of an environmentally regulated substance, and distilling and reducing an environmental regulated substance from the inside of a system is mentioned. Moreover, in the case of distilling off a small amount of environmentally regulated substances, it is also useful to azeotrope with a solvent having a boiling point equivalent to that of the solvent in order to increase efficiency. Moreover, when it contains the compound which has radical polymerizability, in order to suppress that a radical polymerization reaction advances and bridge|crosslinks between molecules during vacuum distillation, you may add a polymerization inhibitor etc. and vacuum distillation. These distillation removal methods can be performed at any stage of the stage of the raw material, the stage of the product reacted with the raw material (for example, a resin solution or polyfunctional monomer solution after polymerization), or the stage of the coloring composition prepared by mixing these compounds. .

<<안료 유도체>><<Pigment Derivatives>>

본 발명의 착색 조성물은, 안료 유도체를 함유할 수 있다. 안료 유도체로서는, 발색단의 일부분을, 산기, 염기성기 또는 프탈이미드메틸기로 치환한 구조를 갖는 화합물을 들 수 있다. 안료 유도체를 구성하는 발색단으로서는, 퀴놀린 골격, 벤즈이미다졸온 골격, 다이케토피롤로피롤 골격, 아조 골격, 프탈로사이아닌 골격, 안트라퀴논 골격, 퀴나크리돈 골격, 다이옥사진 골격, 페린온 골격, 페릴렌 골격, 싸이오인디고 골격, 아이소인돌린 골격, 아이소인돌린온 골격, 퀴노프탈론 골격, 트렌 골격, 금속 착체 골격 등을 들 수 있으며, 퀴놀린 골격, 벤즈이미다졸온 골격, 다이케토피롤로피롤 골격, 아조 골격, 퀴노프탈론 골격, 아이소인돌린 골격 및 프탈로사이아닌 골격이 바람직하고, 아조 골격 및 벤즈이미다졸온 골격이 보다 바람직하다. 안료 유도체가 갖는 산기로서는, 설포기, 카복시기가 바람직하고, 설포기가 보다 바람직하다. 안료 유도체가 갖는 염기성기로서는, 아미노기가 바람직하고, 3급 아미노기가 보다 바람직하다.The coloring composition of this invention can contain a pigment derivative. Examples of the pigment derivative include compounds having a structure in which a part of the chromophore is substituted with an acid group, a basic group, or a phthalimidemethyl group. Examples of the chromophore constituting the pigment derivative include a quinoline skeleton, a benzimidazolone skeleton, a diketopyrrolopyrrole skeleton, an azo skeleton, a phthalocyanine skeleton, an anthraquinone skeleton, a quinacridone skeleton, a dioxazine skeleton, a perinone skeleton, Perylene skeleton, thioindigo skeleton, isoindoline skeleton, isoindolinone skeleton, quinophthalone skeleton, threne skeleton, metal complex skeleton, etc. are mentioned, Quinoline skeleton, benzimidazolone skeleton, diketopyrrolo A pyrrole skeleton, an azo skeleton, a quinophthalone skeleton, an isoindoline skeleton, and a phthalocyanine skeleton are preferable, and an azo skeleton and a benzimidazolone skeleton are more preferable. As an acidic radical which a pigment derivative has, a sulfo group and a carboxy group are preferable and a sulfo group is more preferable. As a basic group which a pigment derivative has, an amino group is preferable and a tertiary amino group is more preferable.

안료 유도체의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 소56-118462호, 일본 공개특허공보 소63-264674호, 일본 공개특허공보 평01-217077호, 일본 공개특허공보 평03-009961호, 일본 공개특허공보 평03-026767호, 일본 공개특허공보 평03-153780호, 일본 공개특허공보 평03-045662호, 일본 공개특허공보 평04-285669호, 일본 공개특허공보 평06-145546호, 일본 공개특허공보 평06-212088호, 일본 공개특허공보 평06-240158호, 일본 공개특허공보 평10-030063호, 일본 공개특허공보 평10-195326호, 국제 공개공보 제2011/024896호의 단락 번호 0086~0098, 국제 공개공보 제2012/102399호의 단락 번호 0063~0094, 국제 공개공보 제2017/038252호의 단락 번호 0082, 일본 공개특허공보 2015-151530호의 단락 번호 0171, 일본 공개특허공보 2011-252065호의 단락 번호 0162~0183, 일본 공개특허공보 2003-081972호, 일본 특허공보 제5299151호, 일본 공개특허공보 2015-172732호, 일본 공개특허공보 2014-199308호, 일본 공개특허공보 2014-085562호, 일본 공개특허공보 2014-035351호, 일본 공개특허공보 2008-081565호, 일본 공개특허공보 2019-109512호, 일본 공개특허공보 2019-133154호에 기재된 화합물을 들 수 있다.As a specific example of a pigment derivative, Unexamined-Japanese-Patent No. 56-118462, Unexamined-Japanese-Patent No. 63-264674, Unexamined-Japanese-Patent No. Hei 01-217077, Unexamined-Japanese-Patent No. Hei 03-009961, Unexamined-Japanese-Patent No. Hei 03-026767, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 03-153780, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 03-045662, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 04-285669, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 06-145546, Japanese Unexamined Patent Publication Paragraph Nos. 0086 to 0098 of Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei06-212088, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei06-240158, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei10-030063, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei10-195326, International Publication No. 2011/024896; Paragraph Nos. 0063 to 0094 of International Publication No. 2012/102399, Paragraph No. 0082 of International Publication No. 2017/038252, Paragraph No. 0171 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-151530, Paragraph No. 0162 to of Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-252065 0183, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-081972, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5299151, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-172732, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-199308, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-085562, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014 -035351, Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-081565, Unexamined-Japanese-Patent No. 2019-109512, The compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2019-133154 is mentioned.

안료 유도체의 함유량은, 안료 100질량부에 대하여, 0.1~30질량부가 바람직하다. 이 범위의 하한은, 0.25질량부 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.5질량부 이상인 것이 더 바람직하며, 0.75질량부 이상인 것이 특히 바람직하고, 1질량부 이상인 것이 한층 바람직하다. 또, 이 범위의 상한은, 25질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 20질량부 이하인 것이 더 바람직하며, 15질량부 이하인 것이 특히 바람직하다. 안료 유도체의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 경시 안정성이 보다 향상된다는 효과가 있다. 안료 유도체는, 1종만을 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 2종 이상을 병용하는 경우는, 그들의 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.As for content of a pigment derivative, 0.1-30 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of pigments. As for the lower limit of this range, it is more preferable that it is 0.25 mass part or more, It is still more preferable that it is 0.5 mass part or more, It is especially preferable that it is 0.75 mass part or more, It is still more preferable that it is 1 mass part or more. Moreover, as for the upper limit of this range, it is more preferable that it is 25 mass parts or less, It is more preferable that it is 20 mass parts or less, It is especially preferable that it is 15 mass parts or less. When content of a pigment derivative exists in the said range, there exists an effect that aging stability improves more. Only 1 type may be used for a pigment derivative, and may use 2 or more types together. When using 2 or more types together, it is preferable that those total amounts become the said range.

<<경화 촉진제>><<curing accelerator>>

본 발명의 착색 조성물은, 중합성 화합물의 반응을 촉진시키거나, 경화 온도를 낮출 목적으로, 경화 촉진제를 첨가해도 된다. 경화 촉진제로서는, 분자 내에 2개 이상의 머캅토기를 갖는 다관능 싸이올 화합물 등을 들 수 있다. 다관능 싸이올 화합물은 안정성, 악취, 해상성, 현상성, 밀착성 등의 개량을 목적으로 하여 첨가해도 된다. 다관능 싸이올 화합물은, 2급의 알케인싸이올류인 것이 바람직하고, 식 (T1)로 나타나는 화합물인 것이 보다 바람직하다.The coloring composition of this invention accelerates|stimulates reaction of a polymeric compound, or may add a hardening accelerator for the purpose of lowering|hanging hardening temperature. As a hardening accelerator, the polyfunctional thiol compound etc. which have two or more mercapto groups in a molecule|numerator are mentioned. The polyfunctional thiol compound may be added for the purpose of improving stability, odor, resolution, developability, adhesiveness, and the like. It is preferable that it is secondary alkanethiols, and, as for a polyfunctional thiol compound, it is more preferable that it is a compound represented by Formula (T1).

식 (T1)Formula (T1)

[화학식 20][Formula 20]

Figure pct00021
Figure pct00021

식 (T1) 중, n은 2~4의 정수를 나타내고, L은 2~4가의 연결기를 나타낸다. 식 (T1)에 있어서, 연결기 L은 탄소수 2~12의 지방족기인 것이 바람직하고, n이 2이며, L이 탄소수 2~12의 알킬렌기인 것이 특히 바람직하다.In formula (T1), n represents the integer of 2-4, and L represents a 2-4 valent coupling group. In formula (T1), it is preferable that coupling group L is a C2-C12 aliphatic group, n is 2, and it is especially preferable that L is a C2-C12 alkylene group.

또, 경화 촉진제는, 메틸올계 화합물(예를 들면 일본 공개특허공보 2015-034963호의 단락 번호 0246에 있어서, 가교제로서 예시되어 있는 화합물), 아민류, 포스포늄염, 아미딘염, 아마이드 화합물(이상, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-041165호의 단락 번호 0186에 기재된 경화제), 염기 발생제(예를 들면, 일본 공개특허공보 2014-055114호에 기재된 이온성 화합물), 사이아네이트 화합물(예를 들면, 일본 공개특허공보 2012-150180호의 단락 번호 0071에 기재된 화합물), 알콕시실레인 화합물(예를 들면, 일본 공개특허공보 2011-253054호에 기재된 에폭시기를 갖는 알콕시실레인 화합물), 오늄염 화합물(예를 들면, 일본 공개특허공보 2015-034963호의 단락 번호 0216에 산발생제로서 예시되어 있는 화합물, 일본 공개특허공보 2009-180949호에 기재된 화합물) 등을 이용할 수도 있다.Further, the curing accelerator is a methylol compound (eg, a compound exemplified as a crosslinking agent in Paragraph No. 0246 of JP 2015-034963 A), amines, phosphonium salts, amidine salts, amide compounds (above, eg For example, the hardening|curing agent described in Paragraph No. 0186 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-041165), a base generator (For example, the ionic compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-055114), a cyanate compound (For example, The compound described in Paragraph No. 0071 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-150180), an alkoxysilane compound (For example, the alkoxysilane compound which has the epoxy group described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-253054), an onium salt compound (For example, For example, the compound illustrated as an acid generator in Paragraph No. 0216 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-034963, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-180949) etc. can also be used.

본 발명의 착색 조성물이 경화 촉진제를 함유하는 경우, 경화 촉진제의 함유량은, 착색 조성물의 전고형분 중 0.3~8.9질량%가 바람직하고, 0.8~6.4질량%가 보다 바람직하다.When the coloring composition of this invention contains a hardening accelerator, 0.3-8.9 mass % is preferable in total solid of a coloring composition, and, as for content of a hardening accelerator, 0.8-6.4 mass % is more preferable.

<<실레인 커플링제>><<Silane Coupling Agent>>

본 발명의 착색 조성물은, 실레인 커플링제를 함유할 수 있다. 실레인 커플링제로서는, 1분자 중에 적어도 2종의 반응성이 상이한 관능기를 갖는 실레인 화합물이 바람직하다. 실레인 커플링제는, 바이닐기, 에폭시기, 스타이렌기, 메타크릴기, 아미노기, 아이소사이아누레이트기, 유레이도기, 머캅토기, 설파이드기, 및, 아이소사이아네이트기로부터 선택되는 적어도 1종의 기와, 알콕시기를 갖는 실레인 화합물이 바람직하다. 실레인 커플링제의 구체예로서는, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸다이메톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교(주)제, KBM-602), N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트라이메톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교(주)제, KBM-603), 3-아미노프로필트라이메톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교(주)제, KBM-903), 3-아미노프로필트라이에톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교(주)제, KBE-903), 3-메타크릴옥시프로필트라이메톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교(주)제, KBM-503), 3-글리시독시프로필트라이메톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교(주)제, KBM-403) 등을 들 수 있다. 실레인 커플링제의 상세에 대해서는, 일본 공개특허공보 2013-254047호의 단락 번호 0155~0158의 기재를 참조할 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다. 본 발명의 착색 조성물이 실레인 커플링제를 함유하는 경우, 실레인 커플링제의 함유량은, 착색 조성물의 전고형분 중 0.001~20질량%가 바람직하고, 0.01~10질량%가 보다 바람직하며, 0.1질량%~5질량%가 특히 바람직하다. 본 발명의 착색 조성물은, 실레인 커플링제를, 1종만을 포함하고 있어도 되고, 2종 이상 포함하고 있어도 된다. 2종 이상 포함하는 경우는, 그들의 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition of this invention can contain a silane coupling agent. As a silane coupling agent, the silane compound which has a functional group from which at least 2 types of reactivity differ in 1 molecule is preferable. The silane coupling agent is at least one group selected from a vinyl group, an epoxy group, a styrene group, a methacryl group, an amino group, an isocyanurate group, an ureido group, a mercapto group, a sulfide group, and an isocyanate group; , a silane compound having an alkoxy group is preferable. As a specific example of a silane coupling agent, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane (Shinetsu Chemical Co., Ltd. product, KBM-602), N-2-(aminoethyl) )-3-Aminopropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM-603), 3-aminopropyl trimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM-903) ), 3-aminopropyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBE-903), 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM) -503) and 3-glycidoxypropyl trimethoxysilane (KBM-403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). About the detail of a silane coupling agent, Paragraph No. 0155 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-254047 - description of 0158 can be considered into consideration, and this content is integrated in this specification. When the coloring composition of this invention contains a silane coupling agent, 0.001-20 mass % is preferable in total solid of a coloring composition, as for content of a silane coupling agent, 0.01-10 mass % is more preferable, 0.1 mass % - 5 mass % are especially preferable. The coloring composition of this invention may contain 1 type, and may contain 2 or more types of silane coupling agents. When 2 or more types are included, it is preferable that those total amounts become the said range.

<<중합 금지제>><<Polymerization inhibitor>>

본 발명의 착색 조성물은, 중합 금지제를 함유할 수 있다. 중합 금지제로서는, 하이드로퀴논, p-메톡시페놀, 다이-t-뷰틸-p-크레졸, 파이로갈롤, t-뷰틸카테콜, 벤조퀴논, 4,4'-싸이오비스(3-메틸-6-t-뷰틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-뷰틸페놀), N-나이트로소페닐하이드록시아민염(암모늄염, 제1 세륨염 등) 등을 들 수 있다. 본 발명의 착색 조성물이 중합 금지제를 함유하는 경우, 중합 금지제의 함유량은, 착색 조성물의 전고형분 중 0.0001~5질량%가 바람직하다. 본 발명의 착색 조성물은, 중합 금지제를, 1종만을 포함하고 있어도 되고, 2종 이상 포함하고 있어도 된다. 2종 이상 포함하는 경우는, 그들의 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition of this invention can contain a polymerization inhibitor. Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, and 4,4'-thiobis(3-methyl-6). -t-butylphenol), 2,2'-methylenebis(4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine salt (ammonium salt, cerium salt, etc.), etc. are mentioned. there is. When the coloring composition of this invention contains a polymerization inhibitor, as for content of a polymerization inhibitor, 0.0001-5 mass % is preferable in total solid of a coloring composition. The coloring composition of this invention may contain 1 type, and may contain 2 or more types of polymerization inhibitors. When 2 or more types are included, it is preferable that those total amounts become the said range.

<<자외선 흡수제>><<Ultraviolet absorbent>>

본 발명의 착색 조성물은, 자외선 흡수제를 함유할 수 있다. 자외선 흡수제는, 공액 다이엔 화합물, 아미노다이엔 화합물, 살리실레이트 화합물, 벤조페논 화합물, 벤조트라이아졸 화합물, 아크릴로나이트릴 화합물, 하이드록시페닐트라이아진 화합물, 인돌 화합물, 트라이아진 화합물 등을 이용할 수 있다. 이들의 상세에 대해서는, 일본 공개특허공보 2012-208374호의 단락 번호 0052~0072, 일본 공개특허공보 2013-068814호의 단락 번호 0317~0334, 일본 공개특허공보 2016-162946호의 단락 번호 0061~0080의 기재를 참조할 수 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다. 자외선 흡수제의 시판품으로서는, 예를 들면, UV-503(다이토 가가쿠(주)제) 등을 들 수 있다. 또, 벤조트라이아졸 화합물로서는, 미요시 유시제의 MYUA 시리즈(가가쿠 고교 닛포, 2016년 2월 1일)를 들 수 있다. 또, 자외선 흡수제로서 일본 특허공보 제6268967호의 단락 번호 0049~0059에 기재된 화합물도 사용할 수 있다. 본 발명의 착색 조성물이 자외선 흡수제를 함유하는 경우, 자외선 흡수제의 함유량은, 착색 조성물의 전고형분 중 0.1~10질량%가 바람직하고, 0.1~5질량%가 보다 바람직하며, 0.1~3질량%가 특히 바람직하다. 또, 자외선 흡수제는, 1종만을 이용해도 되고, 2종 이상을 이용해도 된다. 2종 이상을 이용하는 경우는, 그들의 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition of this invention can contain a ultraviolet absorber. As the ultraviolet absorber, a conjugated diene compound, an aminodiene compound, a salicylate compound, a benzophenone compound, a benzotriazole compound, an acrylonitrile compound, a hydroxyphenyltriazine compound, an indole compound, a triazine compound, etc. may be used. can About these details, Paragraph Nos. 0052 to 0072 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-208374, Paragraph Nos. 0317-0334 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-068814, Paragraph No. 0061 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2016-162946 description of 0080 reference, the contents of which are incorporated herein by reference. As a commercial item of a ultraviolet absorber, UV-503 (made by Daito Chemical Co., Ltd.) etc. is mentioned, for example. Moreover, as a benzotriazole compound, the MYUA series (Kagaku Kogyo Nippo, February 1, 2016) manufactured by Miyoshi Yushi is mentioned. Moreover, the compound of Paragraph No. 0049 - 0059 of Unexamined-Japanese-Patent No. 6268967 can also be used as a ultraviolet absorber. When the coloring composition of this invention contains a ultraviolet absorber, 0.1-10 mass % is preferable in total solid of a coloring composition, as for content of a ultraviolet absorber, 0.1-5 mass % is more preferable, 0.1-3 mass % is Especially preferred. Moreover, only 1 type may be used for a ultraviolet absorber, and 2 or more types may be used for it. When using 2 or more types, it is preferable that those total amounts become the said range.

<<계면활성제>><<Surfactant>>

본 발명의 착색 조성물은, 계면활성제를 함유할 수 있다. 계면활성제로서는, 불소계 계면활성제, 비이온계 계면활성제, 양이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제, 실리콘계 계면활성제 등의 각종 계면활성제를 사용할 수 있다. 계면활성제에 대해서는, 국제 공개공보 제2015/166779호의 단락 번호 0238~0245에 기재된 계면활성제를 들 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.The coloring composition of this invention can contain surfactant. As surfactant, various surfactants, such as a fluorochemical surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone type surfactant, can be used. About surfactant, Paragraph No. 0238 of International Publication No. 2015/166779 - the surfactant of 0245 is mentioned, This content is integrated in this specification.

계면활성제는 불소계 계면활성제인 것이 바람직하다. 착색 조성물에 불소계 계면활성제를 함유시킴으로써 액 특성(특히, 유동성)이 보다 향상되어, 액 절감성을 보다 개선시킬 수 있다. 또, 두께 편차가 작은 막을 형성할 수도 있다.It is preferable that surfactant is a fluorochemical surfactant. By containing a fluorine-type surfactant in a coloring composition, liquid characteristic (especially fluidity|liquidity) can improve more and liquid saving property can be improved more. Moreover, a film|membrane with a small thickness dispersion|variation can also be formed.

불소계 계면활성제 중의 불소 함유율은, 3~40질량%가 적합하고, 보다 바람직하게는 5~30질량%이며, 특히 바람직하게는 7~25질량%이다. 불소 함유율이 이 범위 내인 불소계 계면활성제는, 도포막의 두께의 균일성이나 액 절감성의 점에서 효과적이며, 착색 조성물 중에 있어서의 용해성도 양호하다.As for the fluorine content rate in a fluorine-type surfactant, 3-40 mass % is suitable, More preferably, it is 5-30 mass %, Especially preferably, it is 7-25 mass %. The fluorine-containing surfactant having a fluorine content in this range is effective from the viewpoints of the uniformity of the thickness of the coating film and the liquid-saving properties, and the solubility in the coloring composition is also good.

불소계 계면활성제로서는, 일본 공개특허공보 2014-041318호의 단락 번호 0060~0064(대응하는 국제 공개공보 제2014/017669호의 단락 번호 0060~0064) 등에 기재된 계면활성제, 일본 공개특허공보 2011-132503호의 단락 번호 0117~0132에 기재된 계면활성제를 들 수 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다. 불소계 계면활성제의 시판품으로서는, 예를 들면, 메가팍 F171, F172, F173, F176, F177, F141, F142, F143, F144, R30, F437, F475, F479, F482, F554, F780, EXP, MFS-330(이상, DIC(주)제), 플루오라드 FC430, FC431, FC171(이상, 스미토모 3M(주)제), 서프론 S-382, SC-101, SC-103, SC-104, SC-105, SC-1068, SC-381, SC-383, S-393, KH-40(이상, AGC(주)제), PolyFox PF636, PF656, PF6320, PF6520, PF7002(이상, OMNOVA사제) 등을 들 수 있다.As a fluorochemical surfactant, Paragraph No. 0060-0064 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-041318 (paragraph No. 0060-0064 of Corresponding International Publication No. 2014/017669) etc., Paragraph number of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-132503 The surfactants described in 0117-0132 are mentioned, These content is integrated in this specification. Examples of commercially available fluorine-based surfactants include Megapac F171, F172, F173, F176, F177, F141, F142, F143, F144, R30, F437, F475, F479, F482, F554, F780, EXP, MFS-330 (above, manufactured by DIC Corporation), Fluorad FC430, FC431, FC171 (above, manufactured by Sumitomo 3M Corporation), Sufflon S-382, SC-101, SC-103, SC-104, SC-105, SC-1068, SC-381, SC-383, S-393, KH-40 (above, manufactured by AGC Corporation), PolyFox PF636, PF656, PF6320, PF6520, PF7002 (above, manufactured by OMNOVA), etc. are mentioned. .

또, 불소계 계면활성제는, 불소 원자를 함유하는 관능기를 갖는 분자 구조를 갖고, 열을 가하면 불소 원자를 함유하는 관능기의 부분이 절단되어 불소 원자가 휘발되는 아크릴계 화합물도 적합하게 사용할 수 있다. 이와 같은 불소계 계면활성제로서는, DIC(주)제의 메가팍 DS 시리즈(가가쿠 고교 닛포(2016년 2월 22일), 닛케이 산교 신분(2016년 2월 23일)), 예를 들면 메가팍 DS-21을 들 수 있다.In addition, the fluorine-based surfactant has a molecular structure having a functional group containing a fluorine atom, and when heat is applied, a portion of the functional group containing a fluorine atom is cleaved, and an acrylic compound in which the fluorine atom is volatilized can also be suitably used. As such a fluorine-based surfactant, Megapac DS series manufactured by DIC Corporation (Kagaku Kogyo Nippo (February 22, 2016), Nikkei Sangyo Shinbun (February 23, 2016)), for example, Megapac DS -21 can be mentioned.

또, 불소계 계면활성제는, 불소화 알킬기 또는 불소화 알킬렌에터기를 갖는 불소 원자 함유 바이닐에터 화합물과, 친수성의 바이닐에터 화합물의 중합체를 이용하는 것도 바람직하다. 이와 같은 불소계 계면활성제는, 일본 공개특허공보 2016-216602호에 기재된 불소계 계면활성제를 들 수 있고, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.Moreover, it is also preferable to use the polymer of the fluorine atom containing vinyl ether compound which has a fluorinated alkyl group or a fluorinated alkylene ether group, and a hydrophilic vinyl ether compound as a fluorine-type surfactant. As for such a fluorine-type surfactant, the fluorine-type surfactant of Unexamined-Japanese-Patent No. 2016-216602 is mentioned, This content is integrated in this specification.

불소계 계면활성제는, 블록 폴리머를 이용할 수도 있다. 불소계 계면활성제는, 불소 원자를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물에서 유래하는 반복 단위와, 알킬렌옥시기(바람직하게는 에틸렌옥시기, 프로필렌옥시기)를 2 이상(바람직하게는 5 이상) 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물에서 유래하는 반복 단위를 포함하는 함불소 고분자 화합물도 바람직하게 이용할 수 있다. 또, 일본 공개특허공보 2010-032698호의 단락 번호 0016~0037에 기재된 불소 함유 계면활성제나, 하기 화합물도 본 발명에서 이용되는 불소계 계면활성제로서 예시된다.A block polymer can also be used for a fluorochemical surfactant. The fluorine-based surfactant has two or more (preferably 5 or more) repeating units derived from a (meth)acrylate compound having a fluorine atom and an alkyleneoxy group (preferably an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group) (meth) ) A fluorine-containing high molecular compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound can also be preferably used. Moreover, the fluorine-containing surfactant of Paragraph No. 0016 - 0037 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-032698, and the following compound are also illustrated as a fluorochemical surfactant used by this invention.

[화학식 21][Formula 21]

Figure pct00022
Figure pct00022

상기의 화합물의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 3000~50000이고, 예를 들면, 14000이다. 상기의 화합물 중, 반복 단위의 비율을 나타내는 %는 몰%이다.The weight average molecular weight of said compound becomes like this. Preferably it is 3000-50000, for example, it is 14000. Among the above compounds, % indicating the proportion of the repeating unit is mol%.

또, 불소계 계면활성제는, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 측쇄에 갖는 함불소 중합체를 이용할 수도 있다. 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2010-164965호의 단락 번호 0050~0090 및 단락 번호 0289~0295에 기재된 화합물, DIC(주)제의 메가팍 RS-101, RS-102, RS-718K, RS-72-K 등을 들 수 있다. 또, 불소계 계면활성제는, 일본 공개특허공보 2015-117327호의 단락 번호 0015~0158에 기재된 화합물을 이용할 수도 있다.Further, as the fluorine-containing surfactant, a fluorinated polymer having an ethylenically unsaturated bond-containing group in a side chain may be used. As a specific example, the compound of Paragraph Nos. 0050 to 0090 and Paragraph Nos. 0289 to 0295 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-164965, DIC Corporation Megapac RS-101, RS-102, RS-718K, RS-72- K etc. are mentioned. Moreover, Paragraph No. 0015 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-117327 - the compound of 0158 can also be used for a fluorine-type surfactant.

비이온계 계면활성제로서는, 글리세롤, 트라이메틸올프로페인, 트라이메틸올에테인 및 그들의 에톡실레이트 및 프로폭실레이트(예를 들면, 글리세롤프로폭실레이트, 글리세롤에톡실레이트 등), 폴리옥시에틸렌라우릴에터, 폴리옥시에틸렌스테아릴에터, 폴리옥시에틸렌올레일에터, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에터, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에터, 폴리에틸렌글라이콜다이라우레이트, 폴리에틸렌글라이콜다이스테아레이트, 소비탄 지방산 에스터, 플루로닉 L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2(BASF사제), 테트로닉 304, 701, 704, 901, 904, 150R1(BASF사제), 솔스퍼스 20000(니혼 루브리졸(주)제), NCW-101, NCW-1001, NCW-1002(와코 준야쿠 고교(주)제), 파이오닌 D-6112, D-6112-W, D-6315(다케모토 유시(주)제), 올핀 E1010, 서피놀 104, 400, 440(닛신 가가쿠 고교(주)제) 등을 들 수 있다.Examples of the nonionic surfactant include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane, and their ethoxylates and propoxylates (eg, glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl Ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate , sorbitan fatty acid ester, Pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2 (manufactured by BASF), Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, 150R1 (manufactured by BASF), Solsperse 20000 (Japan) Lubrizol Co., Ltd.), NCW-101, NCW-1001, NCW-1002 (Wako Junyaku Kogyo Co., Ltd. product), Pionein D-6112, D-6112-W, D-6315 (Takemoto Yushi) Co., Ltd.), Olfin E1010, Surfinol 104, 400, 440 (manufactured by Nisshin Chemical Industry Co., Ltd.), and the like.

실리콘계 계면활성제로서는, 예를 들면, 도레이 실리콘 DC3PA, 도레이 실리콘 SH7PA, 도레이 실리콘 DC11PA, 도레이 실리콘 SH21PA, 도레이 실리콘 SH28PA, 도레이 실리콘 SH29PA, 도레이 실리콘 SH30PA, 도레이 실리콘 SH8400(이상, 도레이·다우 코닝(주)제), TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4460, TSF-4452(이상, 모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈사제), KP-341, KF-6001, KF-6002(이상, 신에쓰 실리콘 주식회사제), BYK307, BYK323, BYK330(이상, 빅케미사제) 등을 들 수 있다.As a silicone type surfactant, For example, Toray Silicone DC3PA, Toray Silicone SH7PA, Toray Silicone DC11PA, Toray Silicone SH21PA, Toray Silicone SH28PA, Toray Silicone SH29PA, Toray Silicone SH30PA, Toray Silicone SH8400 (above, Toray Dow Corning Co., Ltd.) ), TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4460, TSF-4452 (above, manufactured by Momentive Performance Materials), KP-341, KF-6001, KF-6002 (above, new S-Silicone Co., Ltd. make), BYK307, BYK323, BYK330 (above, the product made by Big Chemi), etc. are mentioned.

착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 계면활성제의 함유량은, 0.001~5.0질량%가 바람직하고, 0.005~3.0질량%가 보다 바람직하다. 계면활성제는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 된다. 2종 이상의 경우는, 그들의 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.0.001-5.0 mass % is preferable and, as for content of surfactant in the total solid of a coloring composition, 0.005-3.0 mass % is more preferable. One type may be sufficient as surfactant, and 2 or more types may be sufficient as it. In the case of 2 or more types, it is preferable that those total amounts become the said range.

<<그 외 첨가제>><<Other additives>>

본 발명의 착색 조성물에는, 필요에 따라, 각종 첨가제, 예를 들면, 충전제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 응집 방지제 등을 배합할 수 있다. 이들 첨가제로서는, 일본 공개특허공보 2004-295116호의 단락 번호 0155~0156에 기재된 첨가제를 들 수 있고, 이 내용은 본 명세서에 원용된다. 또, 산화 방지제로서는, 예를 들면 페놀 화합물, 인계 화합물(예를 들면 일본 공개특허공보 2011-090147호의 단락 번호 0042에 기재된 화합물), 싸이오에터 화합물 등을 이용할 수 있다. 시판품으로서는, 예를 들면 (주)ADEKA제의 아데카스타브 시리즈(AO-20, AO-30, AO-40, AO-50, AO-50F, AO-60, AO-60G, AO-80, AO-330 등)를 들 수 있다. 또, 산화 방지제로서, 국제 공개공보 제2017/006600호에 기재된 다관능 힌더드 아민 산화 방지제, 국제 공개공보 제2017/164024호에 기재된 산화 방지제, 일본 특허공보 제6268967호의 단락 번호 0023~0048에 기재된 산화 방지제를 이용할 수도 있다. 산화 방지제는 1종만을 이용해도 되고, 2종 이상을 이용해도 된다. 또, 본 발명의 착색 조성물은, 필요에 따라, 잠재(潛在) 산화 방지제를 함유해도 된다. 잠재 산화 방지제로서는, 산화 방지제로서 기능하는 부위가 보호기로 보호된 화합물로서, 100~250℃에서 가열하거나, 또는 산/염기 촉매 존재하에서 80~200℃에서 가열함으로써 보호기가 탈리되어 산화 방지제로서 기능하는 화합물을 들 수 있다. 잠재 산화 방지제의 구체예로서는, 국제 공개공보 제2014/021023호, 국제 공개공보 제2017/030005호, 일본 공개특허공보 2017-008219호에 기재된 화합물을 들 수 있다. 시판품으로서는, 아데카 아클즈 GPA-5001((주)ADEKA제) 등을 들 수 있다. 또, 본 발명의 착색 조성물은, 일본 공개특허공보 2004-295116호의 단락 0078에 기재된 증감제나 광 안정제, 동 공보의 단락 0081에 기재된 열중합 방지제, 일본 공개특허공보 2018-091940호의 단락 번호 0242에 기재된 저장 안정화제를 함유할 수 있다.Various additives, for example, a filler, an adhesion promoter, antioxidant, aggregation inhibitor, etc. can be mix|blended with the coloring composition of this invention as needed. As these additives, Paragraph No. 0155 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-295116 - the additive of 0156 are mentioned, This content is integrated in this specification. Moreover, as antioxidant, a phenol compound, a phosphorus compound (For example, the compound of Paragraph No. 0042 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-090147), a thioether compound, etc. can be used, for example. As a commercial item, For example, ADEKA Co., Ltd. ADEKA STAB series (AO-20, AO-30, AO-40, AO-50, AO-50F, AO-60, AO-60G, AO-80, AO) -330, etc.). Moreover, as antioxidant, the polyfunctional hindered amine antioxidant described in International Publication No. 2017/006600, the antioxidant described in International Publication No. 2017/164024, Paragraph Nos. 0023 to 0048 of Japanese Patent Publication No. 6268967 Antioxidants may also be used. Only 1 type may be used for antioxidant, and 2 or more types may be used for it. Moreover, the coloring composition of this invention may contain a latent antioxidant as needed. As a latent antioxidant, the site functioning as an antioxidant is a compound protected by a protecting group, and the protecting group is detached by heating at 100 to 250 ° C. or by heating at 80 to 200 ° C. in the presence of an acid/base catalyst to function as an antioxidant. compounds can be mentioned. As a specific example of a latent antioxidant, the compound of International Publication No. 2014/021023, International Publication No. 2017/030005, and Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-008219 is mentioned. As a commercial item, Adeka Arcles GPA-5001 (made by ADEKA Corporation) etc. are mentioned. Moreover, as for the coloring composition of this invention, the sensitizer and light stabilizer of Paragraph 0078 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-295116, the thermal polymerization inhibitor of Paragraph 0081 of the same publication, Paragraph No. 0242 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2018-091940. It may contain storage stabilizers.

<수용 용기><Receiving container>

본 발명의 착색 조성물의 수용 용기로서는, 특별히 한정은 없고, 공지의 수용 용기를 이용할 수 있다. 또, 수용 용기로서, 원재료나 착색 조성물 중으로의 불순물 혼입을 억제하는 것을 목적으로, 용기 내벽을 6종 6층의 수지로 구성하는 다층 보틀이나 6종의 수지를 7층 구조로 한 보틀을 사용하는 것도 바람직하다. 이와 같은 용기로서는 예를 들면 일본 공개특허공보 2015-123351호에 기재된 용기를 들 수 있다. 또, 용기 내벽은, 용기 내벽으로부터의 금속 용출을 방지하여, 조성물의 보존 안정성을 높이거나, 성분 변질을 억제하는 등의 목적으로, 유리제나 스테인리스제 등으로 하는 것도 바람직하다.There is no limitation in particular as a container for the coloring composition of this invention, A well-known container can be used. In addition, for the purpose of suppressing the mixing of impurities into the raw material or the coloring composition as the container, a multi-layer bottle in which the inner wall of the container is composed of 6 types of 6 layers of resin, or a bottle with 7 layers of 6 types of resins is used. It is also desirable As such a container, the container of Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-123351 is mentioned, for example. Further, the inner wall of the container is preferably made of glass, stainless steel, or the like for the purpose of preventing metal elution from the inner wall of the container, enhancing storage stability of the composition, or suppressing component deterioration.

<착색 조성물의 제조 방법><Method for producing a coloring composition>

본 발명의 착색 조성물은, 상술한 성분을 혼합하여 제조할 수 있다. 착색 조성물의 제조 시에는, 전체 성분을 동시에 용제에 용해 및/또는 분산하여 착색 조성물을 제조해도 되며, 필요에 따라, 각 성분을 적절히 2개 이상의 용액 또는 분산액으로 해두고, 사용 시(도포 시)에 이들을 혼합하여 착색 조성물을 제조해도 된다.The coloring composition of this invention can mix and manufacture the above-mentioned component. In the production of the coloring composition, the coloring composition may be prepared by simultaneously dissolving and/or dispersing all the components in a solvent. You may mix these with and may manufacture a coloring composition.

또, 착색 조성물의 제조 시에, 안료를 분산시키는 프로세스를 포함하고 있어도 된다. 안료를 분산시키는 프로세스에 있어서, 안료의 분산에 이용하는 기계력으로서는, 압축, 압착, 충격, 전단(剪斷), 캐비테이션 등을 들 수 있다. 이들 프로세스의 구체예로서는, 비즈 밀, 샌드 밀, 롤 밀, 볼 밀, 페인트 셰이커, 마이크로플루이다이저, 고속 임펠러, 샌드 그라인더, 플로젯 믹서, 고압 습식 미립화, 초음파 분산 등을 들 수 있다. 또 샌드 밀(비즈 밀)에 있어서의 안료의 분쇄에 있어서는, 직경이 작은 비즈를 사용하거나, 비즈의 충전율을 크게 하는 것 등에 의하여 분쇄 효율을 높인 조건에서 처리하는 것이 바람직하다. 또, 분쇄 처리 후에 여과, 원심 분리 등으로 조립자(粗粒子)를 제거하는 것이 바람직하다. 또, 안료를 분산시키는 프로세스 및 분산기는, "분산 기술 대전, 주식회사 조호키코 발행, 2005년 7월 15일"이나 "서스펜션(개/액분산계)을 중심으로 한 분산 기술과 공업적 응용의 실제 종합 자료집, 게이에이 가이하쓰 센터 출판부 발행, 1978년 10월 10일", 일본 공개특허공보 2015-157893호의 단락 번호 0022에 기재된 프로세스 및 분산기를 적합하게 사용할 수 있다. 또 안료를 분산시키는 프로세스에 있어서는, 솔트 밀링 공정으로 입자의 미세화 처리를 행해도 된다. 솔트 밀링 공정에 이용되는 소재, 기기, 처리 조건 등은, 예를 들면 일본 공개특허공보 2015-194521호, 일본 공개특허공보 2012-046629호의 기재를 참조할 수 있다.Moreover, in the case of manufacture of a coloring composition, you may include the process of disperse|distributing a pigment. In the process of dispersing the pigment, examples of the mechanical force used for dispersing the pigment include compression, compression, impact, shear, and cavitation. Specific examples of these processes include bead mills, sand mills, roll mills, ball mills, paint shakers, microfluidizers, high-speed impellers, sand grinders, flow jet mixers, high-pressure wet atomization, and ultrasonic dispersion. Moreover, in the grinding|pulverization of the pigment in a sand mill (bead mill), it is preferable to process under the conditions which improved grinding|pulverization efficiency by using small diameter beads, increasing the filling rate of beads, etc. In addition, it is preferable to remove the coarse particles by filtration, centrifugation, or the like after the pulverization treatment. In addition, the process and disperser for dispersing pigments are "Dispersion Technology Exhibition, Published by Johokiko Co., Ltd., July 15, 2005" and "Practical synthesis of dispersion technology and industrial applications centered on suspension (open/liquid dispersion system)" The process and disperser described in Paragraph No. 0022 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-157893 can be suitably used. Moreover, in the process of dispersing a pigment, you may perform the refinement|miniaturization process of particle|grains by a salt milling process. As for the material, apparatus, processing conditions, etc. used in the salt milling process, description of Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-194521 and Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-046629 can be referred, for example.

착색 조성물의 제조에 있어서, 이물의 제거나 결함의 저감 등의 목적으로, 착색 조성물을 필터로 여과하는 것이 바람직하다. 필터로서는, 종래부터 여과 용도 등에 이용되고 있는 필터이면 특별히 한정되지 않고 이용할 수 있다. 예를 들면, 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 등의 불소 수지, 나일론(예를 들면 나일론-6, 나일론-6,6) 등의 폴리아마이드 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌(PP) 등의 폴리올레핀 수지(고밀도, 초고분자량의 폴리올레핀 수지를 포함한다) 등의 소재를 이용한 필터를 들 수 있다. 이들 소재 중에서도 폴리프로필렌(고밀도 폴리프로필렌을 포함한다) 및 나일론이 바람직하다.Manufacture of a coloring composition WHEREIN: It is preferable to filter a coloring composition with a filter for the objective of removal of a foreign material, reduction of a defect, etc. As a filter, if it is a filter conventionally used for a filtration use, etc., it will not specifically limit, It can be used. For example, fluororesins such as polytetrafluoroethylene (PTFE), polyamide resins such as nylon (eg nylon-6, nylon-6,6), polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene (PP) ( and a filter using a material such as high-density and ultra-high molecular weight polyolefin resin). Among these materials, polypropylene (including high-density polypropylene) and nylon are preferable.

필터의 구멍 직경은, 0.01~7.0μm가 바람직하고, 0.01~3.0μm가 보다 바람직하며, 0.05~0.5μm가 더 바람직하다. 필터의 구멍 직경이 상기 범위이면, 미세한 이물을 보다 확실히 제거할 수 있다. 필터의 구멍 직경값에 대해서는, 필터 메이커의 공칭값을 참조할 수 있다. 필터는, 니혼 폴 주식회사(DFA4201NIEY 등), 어드밴텍 도요 주식회사, 니혼 인테그리스 주식회사(구(舊) 니혼 마이크롤리스 주식회사) 및 주식회사 키츠 마이크로 필터 등이 제공하는 각종 필터를 이용할 수 있다.0.01-7.0 micrometers is preferable, as for the pore diameter of a filter, 0.01-3.0 micrometers is more preferable, 0.05-0.5 micrometers is still more preferable. If the hole diameter of a filter is the said range, a fine foreign material can be removed more reliably. For the pore diameter value of the filter, the nominal value of the filter maker can be referred to. As the filter, various filters provided by Nippon Pole Co., Ltd. (DFA4201NIEY, etc.), Advantech Toyo Co., Ltd., Nippon Integris Co., Ltd. (formerly Nippon Microliss Co., Ltd.) and Kits Microfilter Co., Ltd. can be used.

또, 필터로서 파이버상의 여과재를 이용하는 것도 바람직하다. 파이버상의 여과재로서는, 예를 들면 폴리프로필렌 파이버, 나일론 파이버, 글라스 파이버 등을 들 수 있다. 시판품으로서는, 로키 테크노사제의 SBP 타입 시리즈(SBP008 등), TPR 타입 시리즈(TPR002, TPR005 등), SHPX 타입 시리즈(SHPX003 등)를 들 수 있다. 필터를 사용할 때, 상이한 필터(예를 들면, 제1 필터와 제2 필터 등)를 조합해도 된다. 그때, 각 필터를 이용한 여과는, 1회만이어도 되고, 2회 이상 행해도 된다. 또, 상술한 범위 내에서 상이한 구멍 직경의 필터를 조합해도 된다. 또, 제1 필터를 이용한 여과는, 분산액에 대해서만 행하고, 다른 성분을 혼합한 후에, 제2 필터로 여과를 행해도 된다.Moreover, it is also preferable to use a fiber-form filter medium as a filter. As a fibrous filter medium, a polypropylene fiber, a nylon fiber, a glass fiber, etc. are mentioned, for example. As a commercial item, the SBP type series (SBP008 etc.), the TPR type series (TPR002, TPR005 etc.) made by a Rocky Techno company, and the SHPX type series (SHPX003 etc.) are mentioned. When using a filter, you may combine different filters (for example, a 1st filter, a 2nd filter, etc.). In that case, the filtration using each filter may be performed only once, and may be performed 2 times or more. Moreover, you may combine filters of different pore diameters within the above-mentioned range. Moreover, after performing filtration using a 1st filter only with respect to a dispersion liquid, and mixing another component, you may filter with a 2nd filter.

<경화막><Cured film>

본 발명의 경화막은, 상술한 본 발명의 착색 조성물을 경화하여 얻어진 막이다. 본 발명의 경화막은, 컬러 필터 등에 이용할 수 있다. 구체적으로는, 컬러 필터의 착색층(화소)으로서 바람직하게 이용할 수 있고, 적색 화소로서 보다 바람직하게 이용된다. 본 발명의 경화막의 막두께는, 목적에 따라 적절히 조정할 수 있지만, 0.5~3.0μm인 것이 바람직하다. 하한은, 0.8μm 이상이 바람직하고, 1.0μm 이상이 보다 바람직하며, 1.1μm 이상이 더 바람직하다. 상한은, 2.5μm 이하가 바람직하고, 2.0μm 이하가 보다 바람직하며, 1.8μm 이하가 더 바람직하다.The cured film of this invention is a film|membrane obtained by hardening|curing the coloring composition of this invention mentioned above. The cured film of this invention can be used for a color filter etc. Specifically, it can be preferably used as a colored layer (pixel) of a color filter, and is used more preferably as a red pixel. Although the film thickness of the cured film of this invention can be suitably adjusted according to the objective, it is preferable that it is 0.5-3.0 micrometers. 0.8 micrometer or more is preferable, as for a minimum, 1.0 micrometer or more is more preferable, and 1.1 micrometer or more is still more preferable. 2.5 micrometers or less are preferable, as for an upper limit, 2.0 micrometers or less are more preferable, and 1.8 micrometers or less are still more preferable.

<경화막의 형성 방법><Method of forming a cured film>

다음으로, 경화막의 형성 방법에 대하여 설명한다.Next, the formation method of a cured film is demonstrated.

경화막의 형성 방법은, 본 발명의 착색 조성물을 지지체 상에 도포하여 착색 조성물층을 형성하는 공정과, 이 착색 조성물층을 노광하는 공정(노광 공정)과, 노광 후의 착색 조성물층을 가열 처리하는 공정(포스트베이크 공정)을 포함하는 것이 바람직하다. 또, 패턴상의 경화막(화소)을 형성하는 경우, 상기 노광 공정에 있어서, 착색 조성물층을 패턴상으로 노광하고, 그리고, 노광 공정과 포스트베이크 공정의 사이에 노광 후의 착색 조성물층을 현상하는 공정(현상 공정)을 더 포함하는 것이 바람직하다.The formation method of a cured film apply|coats the coloring composition of this invention on a support body, The process of forming a coloring composition layer, The process of exposing this coloring composition layer (exposure process), The process of heat-processing the coloring composition layer after exposure It is preferable to include (post-baking process). Moreover, when forming a pattern-shaped cured film (pixel), the said exposure process WHEREIN: The process of exposing a coloring composition layer in pattern shape, and developing the coloring composition layer after exposure between an exposure process and a post-baking process. It is preferable to further include (development process).

경화막을 형성함에 있어서, 본 발명에 있어서는, 전공정을 통하여 150℃ 이하의 온도에서 행하는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서, "전공정을 통하여 150℃ 이하의 온도에서 행한다"란, 착색 조성물을 이용하여 경화막을 형성하는 공정의 모두를, 150℃ 이하의 온도에서 행하는 것을 의미한다. 노광 후의 착색 조성물층을 현상한 후, 추가로 가열하는 공정을 마련하는 경우는, 이 가열하는 공정도 150℃ 이하의 온도에서 행하는 것을 의미한다. 이하, 각 공정에 대하여 상세를 설명한다.In forming a cured film, in this invention, it is preferable to carry out at the temperature of 150 degrees C or less through all processes. In addition, in this invention, "it carries out at the temperature of 150 degrees C or less through all processes" means performing all of the processes of forming a cured film using a coloring composition at the temperature of 150 degrees C or less. After developing the coloring composition layer after exposure, when providing the process of heating further, it means performing this heating process also at the temperature of 150 degrees C or less. Hereinafter, each process is demonstrated in detail.

착색 조성물층을 형성하는 공정에서는, 본 발명의 착색 조성물을 지지체 상에 도포하여 착색 조성물층을 형성한다. 지지체로서는, 유리 기판이나 수지 기판 등을 들 수 있다. 수지 기판으로서는, 폴리카보네이트 기판, 폴리에스터 기판, 방향족 폴리아마이드 기판, 폴리아마이드이미드 기판, 폴리이미드 기판 등을 들 수 있다. 이들 기판 상에는 유기 발광층이 형성되어 있어도 된다. 또, 지지체로는, 실리콘 기판을 이용할 수도 있다. 실리콘 기판에는, 전하 결합 소자(CCD), 상보형(相補型) 금속 산화막 반도체(CMOS), 투명 도전막 등이 형성되어 있어도 된다. 또, 지지체에는, 상부의 층과의 밀착성 개량, 물질의 확산 방지 혹은 기판 표면의 평탄화를 위하여 하지층이 마련되어 있어도 된다. 하지층의 표면 접촉각은, 다이아이오도메테인으로 측정했을 때에 20~70°인 것이 바람직하다. 또, 물로 측정했을 때에 30~80°인 것이 바람직하다. 하지층의 표면 접촉각이 상기 범위이면, 착색 조성물의 젖음성이 양호하다. 하지층의 표면 접촉각의 조정은, 예를 들면, 계면활성제의 첨가 등의 방법으로 행할 수 있다. 하지층은, 본 명세서에 기재된 착색 조성물로부터 착색제를 제거한 조성물이나, 본 명세서에 기재된 수지, 중합성 화합물, 계면활성제 등을 포함하는 조성물 등을 이용하여 형성해도 된다.At the process of forming a coloring composition layer, the coloring composition of this invention is apply|coated on a support body, and a coloring composition layer is formed. As a support body, a glass substrate, a resin substrate, etc. are mentioned. Examples of the resin substrate include a polycarbonate substrate, a polyester substrate, an aromatic polyamide substrate, a polyamideimide substrate, and a polyimide substrate. An organic light emitting layer may be formed on these substrates. Moreover, as a support body, a silicon substrate can also be used. A charge-coupled device (CCD), a complementary metal oxide semiconductor (CMOS), a transparent conductive film, or the like may be formed on the silicon substrate. Moreover, the base layer may be provided in the support body in order to improve adhesiveness with an upper layer, to prevent the diffusion of a substance, or to planarize a board|substrate surface. It is preferable that the surface contact angle of a base layer is 20-70 degrees when measured with diiodomethane. Moreover, when it measures with water, it is preferable that it is 30-80 degrees. The wettability of a coloring composition is favorable as the surface contact angle of a base layer is the said range. Adjustment of the surface contact angle of the base layer can be performed, for example, by a method such as addition of a surfactant. A base layer may be formed using the composition which removed the coloring agent from the coloring composition described in this specification, the composition containing resin, polymeric compound, surfactant, etc. described in this specification.

착색 조성물의 도포 방법으로서는, 공지의 방법을 이용할 수 있다. 예를 들면, 적하법(드롭 캐스트); 슬릿 코트법; 스프레이법; 롤 코트법; 회전 도포법(스핀 코팅); 유연(流延) 도포법; 슬릿 앤드 스핀법; 프리웨트법(예를 들면, 일본 공개특허공보 2009-145395호에 기재되어 있는 방법); 잉크젯(예를 들면, 온 디맨드 방식, 피에조 방식, 서멀 방식), 노즐젯 등의 토출계 인쇄, 플렉소 인쇄, 스크린 인쇄, 그라비어 인쇄, 반전 오프셋 인쇄, 메탈 마스크 인쇄법 등의 각종 인쇄법; 금형 등을 이용한 전사(轉寫)법; 나노 임프린트법 등을 들 수 있다. 잉크젯에서의 적용 방법으로서는, 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 "확산되는·사용할 수 있는 잉크젯 -특허로 보는 무한의 가능성-, 2005년 2월 발행, 스미베 테크노 리서치"에 나타난 방법 (특히 115페이지~133페이지)이나, 일본 공개특허공보 2003-262716호, 일본 공개특허공보 2003-185831호, 일본 공개특허공보 2003-261827호, 일본 공개특허공보 2012-126830호, 일본 공개특허공보 2006-169325호 등에 기재된 방법을 들 수 있다. 또, 착색 조성물의 도포 방법에 대해서는, 국제 공개공보 제2017/030174호, 국제 공개공보 제2017/018419호의 기재를 참조할 수 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.As a coating method of a coloring composition, a well-known method can be used. For example, the drip method (drop cast); slit coat method; spray method; roll coat method; spin coating (spin coating); soft coating method; slit and spin method; free-wet method (for example, the method described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-145395); Various printing methods, such as discharge system printing, such as inkjet (For example, an on-demand method, a piezo method, a thermal method), a nozzle jet, flexographic printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, and the metal mask printing method; a transfer method using a mold or the like; The nanoimprint method etc. are mentioned. The method of application in inkjet is not particularly limited, and for example, the method shown in "Diffuse and usable inkjet -infinite possibilities viewed as a patent -, published in February 2005, Sumibe Techno Research" (particularly page 115) ~133 pages), Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-262716, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-185831, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-261827, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-126830, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-169325 The method described in etc. is mentioned. Moreover, about the application|coating method of a coloring composition, description of International Publication No. 2017/030174 and International Publication No. 2017/018419 can be considered into consideration, and these content is integrated in this specification.

지지체 상에 형성된 착색 조성물층은, 건조(프리베이크)해도 된다. 프리베이크를 행하는 경우, 프리베이크 온도는, 80℃ 이하가 바람직하고, 70℃ 이하가 보다 바람직하며, 60℃ 이하가 더 바람직하며, 50℃ 이하가 특히 바람직하다. 하한은, 예를 들면, 40℃ 이상으로 할 수 있다. 프리베이크 시간은, 10~3600초가 바람직하다. 프리베이크는, 핫플레이트, 오븐 등으로 행할 수 있다.The coloring composition layer formed on the support body may be dried (prebaked). When prebaking, 80 degrees C or less is preferable, as for prebaking temperature, 70 degrees C or less is more preferable, 60 degrees C or less is still more preferable, and 50 degrees C or less is especially preferable. The lower limit can be, for example, 40°C or higher. As for prebaking time, 10 to 3600 second is preferable. Pre-baking can be performed with a hot plate, an oven, etc.

다음으로, 착색 조성물층을 노광한다(노광 공정). 예를 들면, 착색 조성물층에 대하여, 스테퍼 노광기나 스캐너 노광기 등을 이용하여 행할 수 있다. 패턴상의 경화막(화소)을 형성하는 경우는, 착색 조성물층을 패턴상으로 노광한다. 예를 들면, 소정의 마스크 패턴을 갖는 마스크를 통하여 노광함으로써, 착색 조성물층을 패턴상으로 노광할 수 있다. 이로써, 노광 부분을 경화할 수 있다.Next, the coloring composition layer is exposed (exposure process). For example, it can carry out using a stepper exposure machine, a scanner exposure machine, etc. with respect to a coloring composition layer. When forming a patterned cured film (pixel), a coloring composition layer is exposed in pattern shape. For example, a coloring composition layer can be pattern-exposed by exposing through the mask which has a predetermined|prescribed mask pattern. Thereby, an exposure part can be hardened|cured.

노광에 있어서 이용할 수 있는 광으로서는, g선(파장 436nm), i선(파장 365nm) 등의 자외선을 들 수 있다. i선을 사용하는 노광은, 한국 공개특허공보 제1020170122130호에 기재되어 있는 바와 같이, i선보다 짧은 파장의 광을 커트하면서 행해도 된다. 또, 파장 300nm 이하의 광(바람직하게는 파장 180~300nm의 광)을 이용할 수도 있다. 파장 300nm 이하의 광으로서는, KrF선(파장 248nm), ArF선(파장 193nm) 등을 들 수 있으며, KrF선(파장 248nm)이 바람직하다. 또, 300nm 이상의 장파인 광원도 이용할 수 있다.Examples of the light usable in exposure include ultraviolet rays such as g-line (wavelength 436 nm) and i-line (wavelength 365 nm). The exposure using the i-line may be performed while cutting light having a wavelength shorter than that of the i-line, as described in Korean Patent Application Laid-Open No. 1020170122130. Moreover, light with a wavelength of 300 nm or less (preferably light with a wavelength of 180-300 nm) can also be used. Examples of the light having a wavelength of 300 nm or less include KrF line (wavelength 248 nm) and ArF line (wavelength 193 nm), and KrF line (wavelength 248 nm) is preferable. In addition, a light source having a long wavelength of 300 nm or more can also be used.

또, 노광 시에, 광을 연속적으로 조사하여 노광해도 되고, 펄스적으로 조사하여 노광(펄스 노광)해도 된다. 또한, 펄스 노광이란, 단시간(예를 들면, 밀리초(秒) 레벨 이하)의 사이클로 광의 조사와 휴지를 반복하여 노광하는 방식의 노광 방법이다.Moreover, in the case of exposure, you may expose by irradiating light continuously, and you may irradiate and expose by pulse (pulse exposure). In addition, pulse exposure is an exposure method of the system of repeating exposure of light irradiation and pause in a cycle of a short time (for example, a millisecond level or less).

조사량(노광량)은, 예를 들면, 0.03~2.5J/cm2가 바람직하고, 0.05~1.0J/cm2가 보다 바람직하다. 노광 시에 있어서의 산소 농도에 대해서는 적절히 선택할 수 있고, 대기하에서 행하는 것 외에, 예를 들면 산소 농도가 19체적% 이하인 저산소 분위기하(예를 들면, 15체적%, 5체적%, 또는, 실질적으로 무산소)에서 노광해도 되며, 산소 농도가 21체적%를 초과하는 고산소 분위기하(예를 들면, 22체적%, 30체적%, 또는, 50체적%)에서 노광해도 된다. 또, 노광 조도는 적절히 설정하는 것이 가능하고, 통상 1000W/m2~100000W/m2(예를 들면, 5000W/m2, 15000W/m2, 또는, 35000W/m2)의 범위로부터 선택할 수 있다. 산소 농도와 노광 조도는 적절히 조건을 조합해도 되고, 예를 들면, 산소 농도 10체적%이며 조도 10000W/m2, 산소 농도 35체적%이고 조도 20000W/m2 등으로 할 수 있다.The irradiation amount (exposure amount) is, for example, preferably 0.03 to 2.5 J/cm 2 , and more preferably 0.05 to 1.0 J/cm 2 . The oxygen concentration at the time of exposure can be appropriately selected, and in addition to carrying out under the atmosphere, for example, in a low-oxygen atmosphere having an oxygen concentration of 19% by volume or less (for example, 15% by volume, 5% by volume, or substantially anoxic), or exposure in a high oxygen atmosphere (for example, 22% by volume, 30% by volume, or 50% by volume) in which the oxygen concentration exceeds 21% by volume. Moreover, exposure illuminance can be set suitably, and can select from the range of 1000W/ m2-100000W /m2 (for example, 5000W/m2, 15000W /m2, or 35000W /m2) normally. . The oxygen concentration and exposure illuminance may suitably combine conditions, for example, an illuminance of 10000 W/m 2 with an oxygen concentration of 10 vol%, an illuminance of 20,000 W/m 2 with an oxygen concentration of 35 vol%, or the like.

경화막의 형성 방법에 있어서, 노광 후의 착색 조성물층을 현상하는 것도 바람직하다. 특히, 노광 공정에 있어서, 착색 조성물층을 패턴상으로 노광한 경우에는, 노광 후의 착색 조성물층을 현상함으로써, 착색 조성물층의 미노광부를 현상 제거하여 경화막을 패턴상으로 형성하여 화소를 형성할 수 있다. 착색 조성물층의 미노광부의 현상 제거는, 현상액을 이용하여 행할 수 있다. 이로써, 노광 공정에 있어서의 미노광부의 착색 조성물층이 현상액에 용출되어, 광경화된 부분만이 남는다. 현상액의 온도는, 예를 들면, 20~30℃가 바람직하다. 현상 시간은, 20~180초가 바람직하다. 또, 잔사 제거성을 향상시키기 위하여, 현상액을 60초마다 털어내고, 새롭게 현상액을 공급하는 공정을 수 회 더 반복해도 된다.In the formation method of a cured film, it is also preferable to develop the coloring composition layer after exposure. In particular, in the exposure step, when the coloring composition layer is exposed in a pattern shape, by developing the coloring composition layer after exposure, the unexposed portion of the coloring composition layer is developed and removed to form a cured film in a pattern shape to form a pixel. there is. The image development removal of the unexposed part of a coloring composition layer can be performed using a developing solution. Thereby, the coloring composition layer of the unexposed part in an exposure process elutes to a developing solution, and only the photocured part remains. As for the temperature of a developing solution, 20-30 degreeC is preferable, for example. As for image development time, 20 to 180 second is preferable. Moreover, in order to improve residue removability, you may repeat the process of shaking off a developing solution every 60 second and supplying a new developing solution several times more.

현상액으로서는, 유기 용제, 알칼리 현상액 등을 들 수 있으며, 알칼리 현상액인 것이 바람직하다. 알칼리 현상액으로서는, 알칼리제를 순수로 희석한 알칼리성 수용액(알칼리 현상액)이 바람직하다. 알칼리제로서는, 예를 들면, 암모니아, 에틸아민, 다이에틸아민, 다이메틸에탄올아민, 다이글라이콜아민, 다이에탄올아민, 하이드록시아민, 에틸렌다이아민, 테트라메틸암모늄하이드록사이드, 테트라에틸암모늄하이드록사이드, 테트라프로필암모늄하이드록사이드, 테트라뷰틸암모늄하이드록사이드, 에틸트라이메틸암모늄하이드록사이드, 벤질트라이메틸암모늄하이드록사이드, 다이메틸비스(2-하이드록시에틸)암모늄하이드록사이드, 콜린, 피롤, 피페리딘, 1,8-다이아자바이사이클로-[5.4.0]-7-운데센 등의 유기 알칼리성 화합물이나, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 탄산 나트륨, 탄산 수소 나트륨, 규산 나트륨, 메타규산 나트륨 등의 무기 알칼리성 화합물을 들 수 있다. 알칼리제는, 분자량이 큰 화합물인 편이 환경면 및 안전면에서 바람직하다. 알칼리성 수용액의 알칼리제의 농도는, 0.001~10질량%가 바람직하고, 0.01~1질량%가 보다 바람직하다. 또, 현상액은, 계면활성제를 더 함유하고 있어도 된다. 계면활성제로서는, 상술한 계면활성제를 들 수 있고, 비이온계 계면활성제가 바람직하다. 현상액은, 이송이나 보관의 편의 등의 관점에서, 일단 농축액으로서 제조하고, 사용 시에 필요한 농도로 희석해도 된다. 희석 배율은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 1.5~100배의 범위로 설정할 수 있다. 또, 현상 후 순수로 세정(린스)하는 것도 바람직하다. 또, 린스는, 현상 후의 착색 조성물층이 형성된 지지체를 회전시키면서, 현상 후의 착색 조성물층으로 린스액을 공급하여 행하는 것이 바람직하다. 또, 린스액을 토출시키는 노즐을 지지체의 중심부로부터 지지체의 둘레 가장자리부로 이동시켜 행하는 것도 바람직하다. 이때, 노즐의 지지체 중심부로부터 둘레 가장자리부로 이동시킴에 있어서, 노즐의 이동 속도를 서서히 저하시키면서 이동시켜도 된다. 이와 같이 하여 린스를 행함으로써, 린스의 면내 불균일을 억제할 수 있다. 또, 노즐을 지지체 중심부로부터 둘레 가장자리부로 이동시키면서, 지지체의 회전 속도를 서서히 저하시켜도 동일한 효과가 얻어진다.As a developing solution, an organic solvent, an alkali developing solution, etc. are mentioned, It is preferable that it is an alkali developing solution. As an alkali developing solution, the alkaline aqueous solution (alkali developing solution) which diluted the alkali agent with pure water is preferable. Examples of the alkali agent include ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, diglycolamine, diethanolamine, hydroxylamine, ethylenediamine, tetramethylammonium hydroxide, and tetraethylammonium hydroxide. hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, ethyltrimethylammonium hydroxide, benzyltrimethylammonium hydroxide, dimethylbis(2-hydroxyethyl)ammonium hydroxide, choline, Organic alkaline compounds such as pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo-[5.4.0]-7-undecene, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate Inorganic alkaline compounds, such as these are mentioned. The alkali agent is preferably a compound having a large molecular weight from the viewpoint of environment and safety. 0.001-10 mass % is preferable and, as for the density|concentration of the alkali agent of alkaline aqueous solution, 0.01-1 mass % is more preferable. Moreover, the developing solution may contain surfactant further. As surfactant, the surfactant mentioned above is mentioned, A nonionic surfactant is preferable. The developer may be once prepared as a concentrate from the viewpoints of transport and storage convenience, and then diluted to a concentration required at the time of use. Although the dilution ratio is not specifically limited, For example, it can set in the range of 1.5-100 times. Moreover, it is also preferable to wash|clean (rinse) with pure water after image development. Moreover, it is preferable to supply and perform rinsing liquid to the coloring composition layer after image development, rotating the support body in which the coloring composition layer after image development was formed. It is also preferable to move the nozzle for discharging the rinse liquid from the central portion of the support to the peripheral portion of the support. At this time, in moving from the center part of the support body of a nozzle to a peripheral part, you may move, reducing the moving speed of a nozzle gradually. By rinsing in this way, in-plane unevenness of rinsing can be suppressed. Moreover, the same effect is acquired even if it reduces the rotation speed of a support body gradually, moving a nozzle from a support body center part to a peripheral part.

현상 후, 건조를 실시한 후에 추가 노광 처리나 가열 처리(포스트베이크)를 행하는 것도 바람직하다. 추가 노광 처리나 포스트베이크는, 경화를 완전한 것으로 하기 위한 현상 후의 경화 처리이다.It is also preferable to perform an additional exposure process or a heat process (post-baking) after drying after image development. An additional exposure process and a post-baking are hardening processes after image development for making hardening complete.

포스트베이크를 행하는 경우, 가열 온도는 150℃ 이하가 바람직하다. 가열 온도의 상한은, 120℃ 이하가 보다 바람직하고, 100℃ 이하가 더 바람직하다. 가열 온도의 하한은, 조성물의 경화를 촉진할 수 있으면 특별히 제한되지 않지만, 50℃ 이상이 보다 바람직하며, 75℃ 이상이 더 바람직하다. 가열 시간은 1분 이상이 바람직하고, 5분 이상이 보다 바람직하며, 10분 이상이 더 바람직하다. 상한은 특별히 한정은 없지만, 생산성의 관점에서 20분 이하가 바람직하다. 포스트베이크는, 불활성 가스의 분위기하에서 행하는 것도 바람직하다. 이 양태에 의하면, 열중합을, 산소에 저해되는 일 없이, 매우 높은 효율로 진행시킬 수 있어, 전공정을 통하여 120℃ 이하의 온도에서 화소를 제조한 경우이더라도, 평탄성이 양호하고, 내용제성 등의 특성이 우수한 화소를 제조할 수 있다. 불활성 가스로서는, 질소 가스, 아르곤 가스, 헬륨 가스 등을 들 수 있고, 질소 가스인 것이 바람직하다. 포스트베이크 시의 산소 농도는, 100ppm 이하인 것이 바람직하다.When performing post-baking, 150 degrees C or less of heating temperature is preferable. As for the upper limit of heating temperature, 120 degrees C or less is more preferable, and 100 degrees C or less is still more preferable. The lower limit of the heating temperature is not particularly limited as long as curing of the composition can be promoted, and 50°C or more is more preferable, and 75°C or more is still more preferable. 1 minute or more is preferable, as for heating time, 5 minutes or more are more preferable, and 10 minutes or more are still more preferable. Although the upper limit is not specifically limited, 20 minutes or less is preferable from a viewpoint of productivity. It is also preferable to perform post-baking in the atmosphere of an inert gas. According to this aspect, thermal polymerization can proceed with very high efficiency without being inhibited by oxygen, and even when the pixel is manufactured at a temperature of 120° C. or less through the entire process, flatness is good, solvent resistance, etc. It is possible to manufacture a pixel having excellent properties. Nitrogen gas, argon gas, helium gas, etc. are mentioned as an inert gas, It is preferable that it is nitrogen gas. It is preferable that the oxygen concentration at the time of a post-baking is 100 ppm or less.

추가 노광 처리를 행하는 경우, 파장 254~350nm의 광을 조사하여 노광하는 것이 바람직하다. 보다 바람직한 양태로서는, 착색 조성물층을 패턴상으로 노광하는 공정(현상 전의 노광)은, 착색 조성물층에 대하여 350nm 초과 380nm 이하의 파장을 갖는 광(바람직하게는 파장 355~370nm의 광, 보다 바람직하게는 i선)을 조사하고 노광하여 행하며, 추가 노광 처리(현상 후의 노광)는, 현상 후의 착색 조성물층에 대하여, 파장 254~350nm의 광(바람직하게는 파장 254nm의 광)을 조사하여 노광하는 것이 바람직하다. 이 양태에 의하면, 최초의 노광(현상 전의 노광)으로 착색 조성물층을 적절히 경화시킬 수 있고, 다음의 노광(현상 후의 노광)으로 착색 조성물층 전체를 거의 완전하게 경화시킬 수 있으므로, 결과적으로, 저온 조건에서도, 착색 조성물층을 충분히 경화시켜, 내용제성, 밀착성 및 패턴의 직사각형성 등의 특성이 우수한 화소를 형성할 수 있다. 이와 같이 2단계로 노광을 행하는 경우, 착색 조성물에는, 광중합 개시제로서, 메탄올 중에서의 파장 365nm의 흡광 계수가 1.0×103mL/g·cm 이상인 광중합 개시제와, 메탄올 중에서의 파장 365nm의 흡광 계수가 1.0×102mL/g·cm 이하이며, 또한, 파장 254nm의 흡광 계수가 1.0×103mL/g·cm 이상인 광중합 개시제를 포함하는 것을 이용하는 것이 바람직하다.When performing an additional exposure process, it is preferable to irradiate and expose with the light of wavelength 254-350 nm. As a more preferable aspect, the process of exposing the coloring composition layer in pattern shape (exposure before development) is light with a wavelength of more than 350 nm and 380 nm or less with respect to the coloring composition layer (preferably light with a wavelength of 355-370 nm, More preferably is performed by irradiating and exposing the i-line), and the additional exposure treatment (exposure after development) is performed by irradiating and exposing the colored composition layer after development with light having a wavelength of 254 to 350 nm (preferably light having a wavelength of 254 nm). desirable. According to this aspect, the coloring composition layer can be properly cured by the first exposure (exposure before development), and the entire coloring composition layer can be almost completely cured by the subsequent exposure (exposure after development). As a result, the low temperature Even under conditions, a coloring composition layer can fully be hardened|cured and the pixel excellent in characteristics, such as solvent resistance, adhesiveness, and the rectangularity of a pattern, can be formed. When exposure is performed in two steps as described above, in the coloring composition, as a photopolymerization initiator, an extinction coefficient at a wavelength of 365 nm in methanol is 1.0×10 3 mL/g·cm or more, and an extinction coefficient at a wavelength of 365 nm in methanol is It is 1.0x10 2 mL/g*cm or less, and it is preferable to use what contains the photoinitiator whose extinction coefficient of wavelength 254nm is 1.0x10 3 mL/g*cm or more.

현상 후의 노광은, 예를 들면 자외선 포토레지스트 경화 장치를 이용하여 행할 수 있다. 자외선 포토레지스트 경화 장치로부터는, 예를 들면 파장 254~350nm의 광과 함께, 그 이외의 광(예를 들면 i선)이 조사되어도 된다.Exposure after development can be performed using, for example, an ultraviolet photoresist curing device. From an ultraviolet photoresist hardening apparatus, you may irradiate light (for example, i line|wire) other than that with the light of wavelength 254-350 nm, for example.

현상 후의 노광에서의 노광량(조사량)은, 30~4000mJ/cm2가 바람직하고, 50~3500mJ/cm2가 보다 바람직하다. 현상 전의 노광에서 이용되는 광의 파장과, 현상 후의 노광에서 이용되는 광의 파장의 차는, 200nm 이하인 것이 바람직하고, 100~150nm인 것이 보다 바람직하다.30-4000 mJ/cm< 2 > is preferable and, as for the exposure amount (irradiation amount) in exposure after image development, 50-3500 mJ/cm< 2 > is more preferable. It is preferable that it is 200 nm or less, and, as for the difference of the wavelength of the light used by the exposure before image development, and the wavelength of the light used by the exposure after image development, it is more preferable that it is 100-150 nm.

<컬러 필터><Color filter>

다음으로, 본 발명의 컬러 필터에 대하여 설명한다. 본 발명의 컬러 필터는, 상술한 본 발명의 경화막을 갖는다. 바람직하게는, 컬러 필터의 착색 화소로서, 보다 바람직하게는 적색 화소로서, 본 발명의 경화막을 갖는다.Next, the color filter of this invention is demonstrated. The color filter of this invention has the cured film of this invention mentioned above. Preferably, it is a colored pixel of a color filter, More preferably, it has the cured film of this invention as a red pixel.

본 발명의 컬러 필터는, 본 발명의 경화막의 화소 외에, 다른 색상의 착색 화소를 갖고 있는 것이 바람직하다. 다른 색상의 착색 화소로서는, 청색 화소, 녹색 화소, 황색 화소, 마젠타색 화소, 사이안색 화소 등을 들 수 있다. 본 발명의 컬러 필터의 바람직한 양태로서, 본 발명의 경화막으로 구성된 적색 화소와, 녹색 화소와, 청색 화소를 갖는 양태를 들 수 있다.It is preferable that the color filter of this invention has the colored pixel of another hue other than the pixel of the cured film of this invention. As a color pixel of another color, a blue pixel, a green pixel, a yellow pixel, a magenta pixel, a cyan pixel, etc. are mentioned. As a preferable aspect of the color filter of this invention, the aspect which has a red pixel comprised from the cured film of this invention, a green pixel, and a blue pixel is mentioned.

본 발명의 경화막의 화소와 조합하여 이용하는 것이 바람직한 녹색 화소 형성용의 착색 조성물은, 파장 400~450nm의 광에 대한 흡광도의 최댓값 Amax11과 파장 475~575nm의 광에 대한 흡광도의 최솟값 Amin12의 비 Amax11/Amin11이 15 이상인 것이 바람직하고, 20 이상인 것이 보다 바람직하며, 25 이상인 것이 더 바람직하다.The coloring composition for green pixel formation which it is preferable to use in combination with the pixel of the cured film of this invention is ratio of the maximum value A max11 of the absorbance with respect to the light of wavelength 400-450 nm, and the minimum value A min12 of the absorbance with respect to the light of wavelength 475-575 nm It is preferable that A max11 /A min11 is 15 or more, It is more preferable that it is 20 or more, It is more preferable that it is 25 or more.

또, 상기 녹색 화소 형성용의 착색 조성물이 나타내는 파장 450nm의 광에 대한 흡광도를 1로 했을 때, 흡광도가 0.3이 되는 파장이 455~505nm의 범위에 존재하는 것이 바람직하고, 460~500nm의 범위에 존재하는 것이 보다 바람직하며, 465~495nm의 범위에 존재하는 것이 더 바람직하고, 470~490nm의 범위에 존재하는 것이 특히 바람직하다.Moreover, when the absorbance with respect to the light of wavelength 450nm shown by the said coloring composition for green pixel formation is set to 1, it is preferable that the wavelength at which the absorbance becomes 0.3 exists in the range of 455-505 nm, and in the range of 460-500 nm It is more preferable to exist, it is more preferable to exist in the range of 465-495 nm, It is especially preferable to exist in the range of 470-490 nm.

본 발명의 경화막의 화소와 조합하여 이용하는 것이 바람직한 청색 화소 형성용의 착색 조성물은, 파장 550~650nm의 광에 대한 흡광도의 최댓값 Amax21과 파장 400~500nm의 광에 대한 흡광도의 최솟값 Amin21의 비 Amax21/Amin21이 10 이상인 것이 바람직하고, 12.5 이상인 것이 보다 바람직하며, 15 이상인 것이 더 바람직하다.Ratio A of the maximum value A max21 of the absorbance with respect to the light of wavelength 550-650 nm, and the minimum value Amin21 of the light absorbency with respect to the light of wavelength 400-500 nm, as for the coloring composition for blue pixel formation which it is preferable to use in combination with the pixel of the cured film of this invention It is preferable that max21 /A min21 is 10 or more, It is more preferable that it is 12.5 or more, It is more preferable that it is 15 or more.

또, 상기 청색 화소 형성용의 착색 조성물이 나타내는 파장 600nm의 광에 대한 흡광도를 1로 했을 때, 흡광도가 0.3이 되는 파장이 475~555nm의 범위에 존재하는 것이 바람직하고, 480~540nm의 범위에 존재하는 것이 보다 바람직하며, 485~525nm의 범위에 존재하는 것이 더 바람직하고, 490~510nm의 범위에 존재하는 것이 특히 바람직하다.Moreover, when the absorbance with respect to the light of wavelength 600nm shown by the said coloring composition for blue pixel formation is set to 1, it is preferable that the wavelength at which the absorbance becomes 0.3 exists in the range of 475-555 nm, and in the range of 480-540 nm It is more preferably present, more preferably in the range of 485 to 525 nm, and particularly preferably in the range of 490 to 510 nm.

본 발명의 컬러 필터는, 표시 장치나, CCD(전하 결합 소자)나 CMOS(상보형 금속 산화막 반도체) 등의 고체 촬상 소자 등에 이용할 수 있다.The color filter of the present invention can be used for a display device, a solid-state imaging device such as a CCD (charge coupled device) or a CMOS (complementary metal oxide semiconductor), and the like.

본 발명의 컬러 필터에 있어서 본 발명의 경화막의 막두께는, 목적에 따라 적절히 조정할 수 있지만, 0.5~3.0μm인 것이 바람직하다. 하한은, 0.8μm 이상이 바람직하고, 1.0μm 이상이 보다 바람직하며, 1.1μm 이상이 더 바람직하다. 상한은, 2.5μm 이하가 바람직하고, 2.0μm 이하가 보다 바람직하며, 1.8μm 이하가 더 바람직하다.In the color filter of this invention, although the film thickness of the cured film of this invention can be adjusted suitably according to the objective, it is preferable that it is 0.5-3.0 micrometers. 0.8 micrometer or more is preferable, as for a minimum, 1.0 micrometer or more is more preferable, and 1.1 micrometer or more is still more preferable. 2.5 micrometers or less are preferable, as for an upper limit, 2.0 micrometers or less are more preferable, and 1.8 micrometers or less are still more preferable.

본 발명의 컬러 필터에 있어서, 화소의 선폭(패턴 사이즈)이 2.0~10.0μm인 것이 바람직하다. 상한은, 7.5μm 이하가 바람직하고, 5.0μm 이하가 보다 바람직하며, 4.0μm 이하가 더 바람직하다. 하한은, 2.25μm 이상이 바람직하고, 2.5μm 이상이 보다 바람직하며, 2.75μm 이상이 더 바람직하다.The color filter of this invention WHEREIN: It is preferable that the line width (pattern size) of a pixel is 2.0-10.0 micrometers. 7.5 micrometers or less are preferable, as for an upper limit, 5.0 micrometers or less are more preferable, and 4.0 micrometers or less are still more preferable. As for a lower limit, 2.25 micrometers or more are preferable, 2.5 micrometers or more are more preferable, and 2.75 micrometers or more are still more preferable.

본 발명의 컬러 필터는, 본 발명의 경화막의 표면에 보호층이 마련되어 있어도 된다. 보호층을 마련함으로써, 산소 차단화, 저반사화, 친소수화, 특정 파장의 광(자외선, 근적외선 등)의 차폐 등의 다양한 기능을 부여할 수 있다. 보호층의 두께로서는, 0.01~10μm가 바람직하고, 0.1~5μm가 보다 바람직하다. 보호층의 형성 방법으로서는, 유기 용제에 용해된 수지 조성물을 도포하여 형성하는 방법, 화학 기상(氣相) 증착법, 성형한 수지를 접착재로 첩부하는 방법 등을 들 수 있다. 보호층을 구성하는 성분으로서는, (메트)아크릴 수지, 엔·싸이올 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에터 수지, 폴리아릴레이트 수지, 폴리설폰 수지, 폴리에터설폰 수지, 폴리페닐렌 수지, 폴리아릴렌에터포스핀옥사이드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아마이드이미드 수지, 폴리올레핀 수지, 환상 올레핀 수지, 폴리에스터 수지, 스타이렌 수지, 폴리올 수지, 폴리 염화 바이닐리덴 수지, 멜라민 수지, 유레테인 수지, 아라마이드 수지, 폴리아마이드 수지, 알키드 수지, 에폭시 수지, 변성 실리콘 수지, 불소 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리아크릴로나이트릴 수지, 셀룰로스 수지, Si, C, W, Al2O3, Mo, SiO2, Si2N4 등을 들 수 있고, 이들 성분을 2종 이상 함유해도 된다. 예를 들면, 산소 차단화를 목적으로 한 보호층의 경우, 보호층은 폴리올 수지와, SiO2와, Si2N4를 포함하는 것이 바람직하다. 또, 저반사화를 목적으로 한 보호층의 경우, 보호층은 (메트)아크릴 수지와 불소 수지를 포함하는 것이 바람직하다.As for the color filter of this invention, the protective layer may be provided in the surface of the cured film of this invention. By providing the protective layer, various functions such as oxygen blocking, low reflection, hydrophobicization, and shielding of light of a specific wavelength (ultraviolet rays, near infrared rays, etc.) can be provided. As thickness of a protective layer, 0.01-10 micrometers is preferable and 0.1-5 micrometers is more preferable. Examples of the method for forming the protective layer include a method of applying and forming a resin composition dissolved in an organic solvent, a chemical vapor deposition method, a method of affixing the molded resin with an adhesive, and the like. As a component constituting the protective layer, (meth)acrylic resin, ene thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene resin, poly Arylene ether phosphine oxide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, styrene resin, polyol resin, polyvinylidene chloride resin, melamine resin, urethane resin, Aramide resin, polyamide resin, alkyd resin, epoxy resin, modified silicone resin, fluororesin, polycarbonate resin, polyacrylonitrile resin, cellulose resin, Si, C, W, Al 2 O 3 , Mo, SiO 2 , Si 2 N 4 , etc. are mentioned, and two or more types of these components may be contained. For example, in the case of a protective layer for the purpose of blocking oxygen, the protective layer preferably includes a polyol resin, SiO 2 , and Si 2 N 4 . Moreover, in the case of the protective layer aimed at reducing reflection, it is preferable that a protective layer contains a (meth)acrylic resin and a fluororesin.

수지 조성물을 도포하여 보호층을 형성하는 경우, 수지 조성물의 도포 방법으로서는, 스핀 코트법, 캐스트법, 스크린 인쇄법, 잉크젯법 등의 공지의 방법을 이용할 수 있다. 수지 조성물에 포함되는 유기 용제는, 공지의 유기 용제(예를 들면, 프로필렌글라이콜1-모노메틸에터2-아세테이트, 사이클로펜탄온, 락트산 에틸 등)를 이용할 수 있다. 보호층을 화학 기상 증착법으로 형성하는 경우, 화학 기상 증착법으로서는, 공지의 화학 기상 증착법(열화학 기상 증착법, 플라즈마 화학 기상 증착법, 광화학 기상 증착법)을 이용할 수 있다.In the case where the protective layer is formed by applying the resin composition, a known method such as a spin coating method, a casting method, a screen printing method, and an inkjet method can be used as a method for applying the resin composition. As the organic solvent contained in the resin composition, a known organic solvent (eg, propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate, cyclopentanone, ethyl lactate, etc.) can be used. When the protective layer is formed by a chemical vapor deposition method, a known chemical vapor deposition method (thermochemical vapor deposition, plasma chemical vapor deposition, photochemical vapor deposition) can be used as the chemical vapor deposition method.

보호층은, 필요에 따라, 유기·무기 미립자, 특정 파장의 광(예를 들면, 자외선, 근적외선 등)의 흡수제, 굴절률 조정제, 산화 방지제, 밀착제, 계면활성제 등의 첨가제를 함유해도 된다. 유기·무기 미립자의 예로서는, 예를 들면, 고분자 미립자(예를 들면, 실리콘 수지 미립자, 폴리스타이렌 미립자, 멜라민 수지 미립자), 산화 타이타늄, 산화 아연, 산화 지르코늄, 산화 인듐, 산화 알루미늄, 질화 타이타늄, 산질화 타이타늄, 불화 마그네슘, 중공 실리카, 실리카, 탄산 칼슘, 황산 바륨 등을 들 수 있다. 특정 파장의 광의 흡수제는 공지의 흡수제를 이용할 수 있다. 이들 첨가제의 함유량은 적절히 조정할 수 있지만, 보호층의 전체 질량에 대하여 0.1~70질량%가 바람직하고, 1~60질량%가 더 바람직하다.The protective layer may contain additives such as organic/inorganic microparticles, an absorber of light of a specific wavelength (eg, ultraviolet, near-infrared, etc.), a refractive index modifier, an antioxidant, an adhesive, and a surfactant, if necessary. Examples of the organic/inorganic fine particles include, for example, polymer fine particles (eg, silicone resin fine particles, polystyrene fine particles, melamine resin fine particles), titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, indium oxide, aluminum oxide, titanium nitride, oxynitride Titanium, magnesium fluoride, hollow silica, silica, calcium carbonate, barium sulfate, etc. are mentioned. A well-known absorber can be used for the light absorber of a specific wavelength. Although content of these additives can be adjusted suitably, 0.1-70 mass % is preferable with respect to the total mass of a protective layer, and 1-60 mass % is more preferable.

또, 보호층으로서는, 일본 공개특허공보 2017-151176호의 단락 번호 0073~0092에 기재된 보호층을 이용할 수도 있다.Moreover, as a protective layer, Paragraph No. 0073 - 0092 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-151176 can also be used.

컬러 필터는, 하지(下地)층을 갖고 있어도 된다. 하지층은, 예를 들면, 상술한 본 발명의 착색 조성물로부터 착색제를 제거한 조성물 등을 이용하여 형성할 수도 있다. 하지층의 표면 접촉각은, 다이아이오도메테인으로 측정했을 때에 20~70°인 것이 바람직하다. 또, 물로 측정했을 때에 30~80°인 것이 바람직하다. 하지층의 표면 접촉각이 상기 범위이면, 수지 조성물의 젖음성이 양호하다. 하지층의 표면 접촉각의 조정은, 예를 들면, 계면활성제의 첨가 등의 방법으로 행할 수 있다.The color filter may have a base layer. A base layer can also be formed using the composition etc. which removed the coloring agent from the coloring composition of this invention mentioned above, for example. It is preferable that the surface contact angle of a base layer is 20-70 degrees when measured with diiodomethane. Moreover, when it measures with water, it is preferable that it is 30-80 degrees. The wettability of a resin composition is favorable in the surface contact angle of a base layer being the said range. Adjustment of the surface contact angle of the base layer can be performed, for example, by a method such as addition of a surfactant.

컬러 필터는, 격벽에 의하여 예를 들면 격자상으로 구획된 공간에, 각 착색 화소가 메워진 구조를 갖고 있어도 된다.The color filter may have a structure in which each color pixel is filled in, for example, a space partitioned in a grid shape by a partition wall.

<표시 장치><Display device>

본 발명의 표시 장치는, 상술한 본 발명의 경화막을 갖는다. 표시 장치로서는, 액정 표시 장치나 유기 일렉트로 루미네선스 표시 장치 등을 들 수 있다. 표시 장치의 정의나 각 표시 장치의 상세에 대해서는, 예를 들면 "전자 디스플레이 디바이스(사사키 아키오 저, (주)고교 초사카이, 1990년 발행)", "디스플레이 디바이스(이부키 스미아키 저, 산교 도쇼(주) 헤이세이 원년 발행)" 등에 기재되어 있다. 또, 액정 표시 장치에 대해서는, 예를 들면 "차세대 액정 디스플레이 기술(우치다 다쓰오 편집, (주)고교 초사카이, 1994년 발행)"에 기재되어 있다. 본 발명을 적용할 수 있는 액정 표시 장치에 특별히 제한은 없고, 예를 들면, 상기의 "차세대 액정 디스플레이 기술"에 기재되어 있는 다양한 방식의 액정 표시 장치에 적용할 수 있다.The display device of this invention has the cured film of this invention mentioned above. As a display device, a liquid crystal display device, an organic electroluminescent display device, etc. are mentioned. For the definition of a display device and the details of each display device, see, for example, "Electronic Display Device (author Akio Sasaki, Kokocho Chosakai, published in 1990)", "Display device (author Sumiaki Ibuki, Tosho Sangyo) Note) published in the first year of the Heisei year)", etc. Moreover, about a liquid crystal display device, it describes, for example in "Next-generation liquid crystal display technology (edited by Tatsuo Uchida, Kokocho Chosakai, published in 1994)". There is no particular limitation on the liquid crystal display device to which the present invention can be applied, and for example, the present invention can be applied to various types of liquid crystal display devices described in "Next-generation liquid crystal display technology".

유기 일렉트로 루미네선스 표시 장치는, 백색 유기 일렉트로 루미네선스 소자로 이루어지는 광원을 갖는 것이어도 된다. 백색 유기 일렉트로 루미네선스 소자로서는, 탠덤 구조인 것이 바람직하다. 유기 일렉트로 루미네선스 소자의 탠덤 구조에 대해서는, 일본 공개특허공보 2003-045676호, 미카미 아키요시 감수, "유기 EL 기술 개발의 최전선 -고휘도·고정밀도·장수명화·노하우집-", 기주쓰 조호 교카이, 326-328페이지, 2008년 등에 기재되어 있다. 유기 EL 소자가 발광하는 백색광의 스펙트럼은, 청색 영역(430nm-485nm), 녹색 영역(530nm-580nm) 및 황색 영역(580nm-620nm)에 강한 극대 발광 피크를 갖는 것이 바람직하다. 이들의 발광 피크에 더하여 적색 영역(650nm-700nm)에 극대 발광 피크를 더 갖는 것이 보다 바람직하다.The organic electroluminescent display device may have a light source which consists of a white organic electroluminescent element. As a white organic electroluminescent element, it is preferable that it is a tandem structure. Regarding the tandem structure of organic electroluminescent devices, Japanese Patent Laid-Open No. 2003-045676, supervised by Akiyoshi Mikami, "Forefront of organic EL technology development - high luminance, high precision, long life, know-how-", Kijutsu Joho Kyo Kai, pp. 326-328, 2008 et al. The spectrum of white light emitted by the organic EL device preferably has a strong maximum emission peak in the blue region (430 nm-485 nm), the green region (530 nm-580 nm), and the yellow region (580 nm-620 nm). In addition to these emission peaks, it is more preferable to further have a maximum emission peak in the red region (650 nm to 700 nm).

실시예Example

이하에 실시예를 들어 본 발명을 구체적으로 설명한다. 이하의 실시예에 나타내는 재료, 사용량, 비율, 처리 내용, 처리 수순 등은, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한, 적절히, 변경할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 이하에 나타내는 구체예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples. Materials, amounts of use, ratios, processing contents, processing procedures, etc. shown in the following examples can be appropriately changed without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific examples shown below.

<중량 평균 분자량(Mw)의 측정><Measurement of weight average molecular weight (Mw)>

측정 시료의 중량 평균 분자량(Mw)은, 이하의 조건에 따라, 젤 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)에 의하여 측정했다.The weight average molecular weight (Mw) of the measurement sample was measured by gel permeation chromatography (GPC) under the following conditions.

칼럼의 종류: TOSOH TSKgel Super HZM-H와, TOSOH TSKgel Super HZ4000과, TOSOH TSKgel Super HZ2000을 연결한 칼럼Column type: TOSOH TSKgel Super HZM-H, TOSOH TSKgel Super HZ4000, and TOSOH TSKgel Super HZ2000

전개(展開) 용매: 테트라하이드로퓨란Development solvent: tetrahydrofuran

칼럼 온도: 40℃Column temperature: 40°C

유량(샘플 주입량): 1.0μL(샘플 농도 0.1질량%)Flow rate (sample injection volume): 1.0 μL (sample concentration 0.1% by mass)

장치명: 도소(주)제 HLC-8220GPCDevice name: HLC-8220GPC manufactured by Tosoh Corporation

검출기: RI(굴절률) 검출기Detector: RI (Refractive Index) Detector

검량선 베이스 수지: 폴리스타이렌 수지Calibration curve base resin: polystyrene resin

<착색제 용액의 조제><Preparation of colorant solution>

하기 표에 기재된 원료를 균일하게 교반 혼합한 후, 직경 1mm의 지르코니아 비즈를 이용하여, 아이거 모터 밀(아이거 재팬사제 "미니 모델 M-250MKII")로 5시간 분산했다. 그 후, 구멍 직경 5μm의 필터로 여과하여 착색제 용액 P-R1~P-R11, P-RC1을 조제했다. 하기 표에 각 원료의 배합량을 질량부로 나타내고 있다.After uniformly stirring and mixing the raw materials described in the table below, using zirconia beads having a diameter of 1 mm, they were dispersed in an Eiger motor mill ("Mini Model M-250MKII" manufactured by Eiger Japan) for 5 hours. Then, it filtered with the filter of 5 micrometers in pore diameter, and the coloring agent solution P-R1 - P-R11, P-RC1 was prepared. In the table below, the blending amount of each raw material is shown in parts by mass.

[표 1][Table 1]

Figure pct00023
Figure pct00023

표 중의 약어로 나타낸 원료는 이하와 같다.The raw materials shown by the abbreviation in a table|surface are as follows.

(적색 착색제)(red colorant)

PR254: C. I. Pigment Red 254PR254: C. I. Pigment Red 254

PR177: C. I. Pigment Red 177PR177: C. I. Pigment Red 177

PR264: C. I. Pigment Red 264PR264: C. I. Pigment Red 264

PR269: C. I. Pigment Red 269PR269: C. I. Pigment Red 269

PR7: C. I. Pigment Red 7PR7: C. I. Pigment Red 7

AR249: C. I. Acid Red 249AR249: C. I. Acid Red 249

(황색 착색제)(yellow colorant)

PY139: C. I. Pigment Yellow 139PY139: C. I. Pigment Yellow 139

PY150: C. I. Pigment Yellow 150PY150: C. I. Pigment Yellow 150

PY185: C. I. Pigment Yellow 185PY185: C. I. Pigment Yellow 185

SY162: C. I. Solvent Yellow 162SY162: C. I. Solvent Yellow 162

(분산제)(dispersant)

분산제 1: 솔스퍼스 20000(니혼 루브리졸사제)Dispersant 1: Solsperse 20000 (manufactured by Nippon Lubrizol)

분산제 2: 이하의 방법으로 조제한 수지 용액 D2Dispersant 2: Resin solution D2 prepared by the following method

교반기, 온도계, 적하 장치, 환류 냉각기, 가스 도입관을 구비한 반응 용기에 사이클로헥산온 90.0질량부를 넣고, 용기에 질소 가스를 주입하면서 60℃로 가열하여, 동 온도에서 메타크릴산 20.0질량부, 메틸메타크릴레이트 10.0질량부, n-뷰틸메타크릴레이트 55.0질량부, 벤질메타크릴레이트 15질량부, 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴 2.5질량부의 혼합물을 2시간에 걸쳐 적하하여 중합 반응을 행했다. 적하 종료 후, 추가로 60℃에서 1시간 반응시킨 후, 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴 0.5질량부를 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트(PGMEA) 10.0질량부에 용해시킨 것을 첨가하고, 그 후 3시간, 동일한 온도에서 교반을 계속하여 수지(공중합체)를 얻었다. 실온으로 냉각 후, 사이클로헥산온으로 희석함으로써, 고형분 농도 20%의 수지 용액 D2를 얻었다. 얻어진 수지(공중합체)의 중량 평균 분자량은 30000이었다.90.0 parts by mass of cyclohexanone was put into a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping device, a reflux condenser, and a gas introduction tube, heated to 60° C. while injecting nitrogen gas into the vessel, and 20.0 parts by mass of methacrylic acid at the same temperature; A mixture of 10.0 parts by mass of methyl methacrylate, 55.0 parts by mass of n-butyl methacrylate, 15 parts by mass of benzyl methacrylate, and 2.5 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile is added dropwise over 2 hours and polymerized reaction was carried out. After completion|finish of dripping, after making it react at 60 degreeC for 1 hour further, what melt|dissolved 0.5 mass parts of 2,2'- azobisisobutyronitrile 10.0 mass parts of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) was added After that, stirring was continued at the same temperature for 3 hours to obtain a resin (copolymer). After cooling to room temperature, resin solution D2 having a solid content concentration of 20% was obtained by diluting with cyclohexanone. The weight average molecular weight of the obtained resin (copolymer) was 30000.

(안료 유도체)(pigment derivative)

안료 유도체 1: 하기 구조의 화합물Pigment derivative 1: a compound of the structure

[화학식 22][Formula 22]

Figure pct00024
Figure pct00024

<착색 조성물의 조제><Preparation of a coloring composition>

이하에 나타내는 원료를 혼합하고, 교반한 후, 구멍 직경 0.45μm의 나일론제 필터(니혼 폴(주)제)를 이용하여 여과하여 착색 조성물을 조제했다.After mixing and stirring the raw materials shown below, it filtered using the nylon filter (made by Nippon Pole Co., Ltd.) with a pore diameter of 0.45 micrometers, and the coloring composition was prepared.

[표 2][Table 2]

Figure pct00025
Figure pct00025

표 중의 약어로 나타낸 원료는 이하와 같다.The raw materials shown by the abbreviation in a table|surface are as follows.

(착색제 용액)(colorant solution)

P-R1~P-R11, P-RC1: 상기에서 제조한 착색제 용액 P-R1~P-R11, P-RC1P-R1 to P-R11, P-RC1: Colorant solution prepared above P-R1 to P-R11, P-RC1

(광중합 개시제)(Photoinitiator)

I-1: Irgacure OXE02(BASF사제, 하기 구조의 화합물, 메탄올 중에서의 파장 365nm에 있어서의 흡광 계수가 7749mL/g·cm이다.)I-1: Irgacure OXE02 (The compound of the following structure, manufactured by BASF, has an extinction coefficient of 7749 mL/g·cm in methanol at a wavelength of 365 nm.)

I-2: Omnirad 2959(IGM Resins B. V.사제, 하기 구조의 화합물, 메탄올 중에서의 파장 365nm에 있어서의 흡광 계수가 48.93mL/g·cm이고, 파장 254nm에 있어서의 흡광 계수가 3.0×104mL/g·cm이다.)I-2: Omnirad 2959 (manufactured by IGM Resins BV, a compound of the following structure, the extinction coefficient in methanol at a wavelength of 365 nm is 48.93 mL/g·cm, and the extinction coefficient at a wavelength of 254 nm is 3.0 × 10 4 mL/ g cm.)

I-3: 하기 구조의 화합물(메탄올 중에서의 파장 365nm의 광의 흡광 계수가 18900mL/g·cm이다.)I-3: Compound of the following structure (The extinction coefficient of light with a wavelength of 365 nm in methanol is 18900 mL/g·cm.)

[화학식 23][Formula 23]

Figure pct00026
Figure pct00026

(수지)(profit)

B-1: 하기 구조의 수지(블록 아이소사이아네이트기를 포함하는 반복 단위를 갖는 수지. 주쇄에 부기한 수치는 질량비이다.) B-1: Resin of the following structure (resin having a repeating unit containing a block isocyanate group. Numerical values appended to the main chain are mass ratios.)

[화학식 24][Formula 24]

Figure pct00027
Figure pct00027

반응 용기에 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트(PGMEA)를 넣고, 여기에, 열중합 개시제로서 2,2'-아조비스(2,4-다이메틸발레로나이트릴)을 5질량부와, 분자량 조절제로서 1-도데케인싸이올을 2.0질량부를 더했다. 이어서, 반응 용기에 모노머 (bm-2)의 60질량부와, 벤질메타크릴레이트의 40질량부를 투입한 후, 질소 분위기하에서 60℃를 유지하고, 12시간 반응시켜 수지 B-1을 합성했다. 합성된 수지 B-1의 중량 평균 분자량은 7000이었다.Put propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) in a reaction vessel, and 5 parts by mass of 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) as a thermal polymerization initiator thereto; 2.0 mass parts of 1-dodecanethiol was added as a molecular weight regulator. Next, 60 parts by mass of the monomer (bm-2) and 40 parts by mass of benzyl methacrylate were put into the reaction vessel, and then 60° C. was maintained in a nitrogen atmosphere to react for 12 hours to synthesize Resin B-1. The weight average molecular weight of the synthesized resin B-1 was 7000.

B-2: 하기 구조의 수지(블록 아이소사이아네이트기를 포함하는 반복 단위와, 산기가 보호기로 보호된 기를 갖는 반복 단위를 갖는 수지. 주쇄에 부기한 수치는 질량비이다.) B-2: Resin of the following structure (resin having a repeating unit containing a block isocyanate group and a repeating unit having a group in which an acid group is protected by a protecting group. Numerical values indicated in the main chain are mass ratios.)

[화학식 25][Formula 25]

Figure pct00028
Figure pct00028

반응 용기에 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트(PGMEA)를 넣고, 여기에, 열중합 개시제로서 2,2'-아조비스(2,4-다이메틸발레로나이트릴)을 5질량부와, 분자량 조절제로서 1-도데케인싸이올을 2.0질량부를 더했다. 이어서, 반응 용기에 모노머 (bm-1)의 34질량부와, 모노머 (bm-2)의 59질량부와, 벤질메타크릴레이트의 7질량부를 투입한 후, 질소 분위기하에서 60℃를 유지하고, 12시간 반응시켜 수지 B-2를 합성했다. 합성된 수지 B-2의 중량 평균 분자량은 7500이었다.Put propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) in a reaction vessel, and 5 parts by mass of 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) as a thermal polymerization initiator thereto; 2.0 mass parts of 1-dodecanethiol was added as a molecular weight regulator. Then, 34 parts by mass of the monomer (bm-1), 59 parts by mass of the monomer (bm-2), and 7 parts by mass of benzyl methacrylate were put into the reaction vessel, and then maintained at 60° C. under a nitrogen atmosphere, It was made to react for 12 hours, and resin B-2 was synthesize|combined. The weight average molecular weight of the synthesized resin B-2 was 7500.

B-3: 하기 구조의 수지(블록 아이소사이아네이트기를 포함하는 반복 단위와, 산기가 보호기로 보호된 기를 갖는 반복 단위를 갖는 수지. 주쇄에 부기한 수치는 질량비이다.) B-3: Resin of the following structure (resin having a repeating unit containing a block isocyanate group and a repeating unit having a group in which an acid group is protected by a protecting group. Numerical values indicated in the main chain are mass ratios.)

[화학식 26][Formula 26]

Figure pct00029
Figure pct00029

반응 용기에 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트(PGMEA)를 넣고, 여기에, 열중합 개시제로서 2,2'-아조비스(2,4-다이메틸발레로나이트릴)을 5질량부와, 분자량 조절제로서 1-도데케인싸이올을 2.0질량부를 더했다. 이어서, 반응 용기에 모노머 (bm-1)의 34질량부와, 모노머 (bm-3)의 59질량부와, 벤질메타크릴레이트의 7질량부를 투입한 후, 질소 분위기하에서 60℃를 유지하고, 12시간 반응시켜 수지 B-3을 합성했다. 합성된 수지 B-3의 중량 평균 분자량은 7200이었다.Put propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) in a reaction vessel, and 5 parts by mass of 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) as a thermal polymerization initiator thereto; 2.0 mass parts of 1-dodecanethiol was added as a molecular weight regulator. Then, 34 parts by mass of the monomer (bm-1), 59 parts by mass of the monomer (bm-3), and 7 parts by mass of benzyl methacrylate were put into the reaction vessel, and then maintained at 60° C. under a nitrogen atmosphere, It was made to react for 12 hours, and resin B-3 was synthesize|combined. The weight average molecular weight of the synthesized resin B-3 was 7200.

B-4: 하기 구조의 수지(블록 아이소사이아네이트기를 포함하는 반복 단위와, 산기가 보호기로 보호된 기를 갖는 반복 단위를 갖는 수지. 주쇄에 부기한 수치는 질량비이다.) B-4: Resin of the following structure (resin having a repeating unit containing a block isocyanate group and a repeating unit having a group in which an acid group is protected by a protecting group. Numerical values indicated in the main chain are mass ratios.)

[화학식 27][Formula 27]

Figure pct00030
Figure pct00030

반응 용기에 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트(PGMEA)를 넣고, 여기에, 열중합 개시제로서 2,2'-아조비스(2,4-다이메틸발레로나이트릴)을 5질량부와, 분자량 조절제로서 1-도데케인싸이올을 2.0질량부를 더했다. 이어서, 반응 용기에 모노머 (bm-1)의 34질량부와, 모노머 (bm-4)의 59질량부와, 벤질메타크릴레이트의 7질량부를 투입한 후, 질소 분위기하에서 60℃를 유지하고, 12시간 반응시켜 수지 B-4를 합성했다. 합성된 수지 B-4의 중량 평균 분자량은 6900이었다.Put propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) in a reaction vessel, and 5 parts by mass of 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) as a thermal polymerization initiator thereto; 2.0 mass parts of 1-dodecanethiol was added as a molecular weight regulator. Then, 34 parts by mass of the monomer (bm-1), 59 parts by mass of the monomer (bm-4), and 7 parts by mass of benzyl methacrylate were put into the reaction vessel, and then maintained at 60° C. under a nitrogen atmosphere, It was made to react for 12 hours, and resin B-4 was synthesize|combined. The weight average molecular weight of the synthesized resin B-4 was 6900.

B-5: 하기 구조의 수지(블록 아이소사이아네이트기를 포함하는 반복 단위와, 산기가 보호기로 보호된 기를 갖는 반복 단위를 갖는 수지. 주쇄에 부기한 수치는 질량비이다.) B-5: Resin of the following structure (resin having a repeating unit containing a block isocyanate group and a repeating unit having a group in which an acid group is protected by a protecting group. Numerical values indicated in the main chain are mass ratios.)

[화학식 28][Formula 28]

Figure pct00031
Figure pct00031

반응 용기에 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트(PGMEA)를 넣고, 여기에, 열중합 개시제로서 2,2'-아조비스(2,4-다이메틸발레로나이트릴)을 5질량부와, 분자량 조절제로서 1-도데케인싸이올을 2.0질량부를 더했다. 이어서, 반응 용기에 모노머 (bm-5)의 34질량부와, 모노머 (bm-3)의 59질량부와, 벤질메타크릴레이트의 7질량부를 투입한 후, 질소 분위기하에서 60℃를 유지하고, 12시간 반응시켜 수지 B-5를 합성했다. 합성된 수지 B-5의 중량 평균 분자량은 7100이었다.Put propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) in a reaction vessel, and 5 parts by mass of 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) as a thermal polymerization initiator thereto; 2.0 mass parts of 1-dodecanethiol was added as a molecular weight regulator. Then, 34 parts by mass of the monomer (bm-5), 59 parts by mass of the monomer (bm-3), and 7 parts by mass of benzyl methacrylate were put into the reaction vessel, and then maintained at 60° C. under a nitrogen atmosphere, It was made to react for 12 hours, and resin B-5 was synthesize|combined. The weight average molecular weight of the synthesized resin B-5 was 7100.

B-6: 하기 구조의 수지(블록 아이소사이아네이트기를 포함하는 반복 단위와, 산기가 보호기로 보호된 기를 갖는 반복 단위를 갖는 수지. 주쇄에 부기한 수치는 질량비이다.) B-6: Resin of the following structure (resin having a repeating unit containing a block isocyanate group and a repeating unit having a group in which an acid group is protected by a protecting group. Numerical values indicated in the main chain are mass ratios.)

[화학식 29][Formula 29]

Figure pct00032
Figure pct00032

반응 용기에 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트(PGMEA)를 넣고, 여기에, 열중합 개시제로서 2,2'-아조비스(2,4-다이메틸발레로나이트릴)을 5질량부와, 분자량 조절제로서 1-도데케인싸이올을 2.0질량부를 더했다. 이어서, 반응 용기에 모노머 (bm-6)의 34질량부와, 모노머 (bm-3)의 59질량부와, 벤질메타크릴레이트의 7질량부를 투입한 후, 질소 분위기하에서 60℃를 유지하고, 12시간 반응시켜 수지 B-6을 합성했다. 합성된 수지 B-6의 중량 평균 분자량은 7400이었다.Put propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) in a reaction vessel, and 5 parts by mass of 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) as a thermal polymerization initiator thereto; 2.0 mass parts of 1-dodecanethiol was added as a molecular weight regulator. Then, 34 parts by mass of the monomer (bm-6), 59 parts by mass of the monomer (bm-3), and 7 parts by mass of benzyl methacrylate were put into the reaction vessel, and then maintained at 60° C. under a nitrogen atmosphere, It was made to react for 12 hours, and resin B-6 was synthesize|combined. The weight average molecular weight of the synthesized resin B-6 was 7400.

수지 B-1~B-6의 합성에 이용한 모노머 (bm-1)~(bm-6)은 하기 구조의 화합물이다.The monomers (bm-1) to (bm-6) used in the synthesis of the resins B-1 to B-6 are compounds of the following structures.

[화학식 30][Formula 30]

Figure pct00033
Figure pct00033

(중합성 화합물)(Polymerizable compound)

M-1: 아로닉스 M-402(도아 고세이(주)제, 다이펜타에리트리톨헥사아크릴레이트와 다이펜타에리트리톨펜타아크릴레이트의 혼합물)M-1: Aronix M-402 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., a mixture of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate)

M-2: 하기 구조의 화합물(a+b+c=3)M-2: a compound of the following structure (a+b+c=3)

[화학식 31][Formula 31]

Figure pct00034
Figure pct00034

(용제)(solvent)

S-1: 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트(PGMEA)S-1: propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA)

S-2: 프로필렌글라이콜모노메틸에터(PGME)S-2: propylene glycol monomethyl ether (PGME)

<분광의 평가><Evaluation of Spectral>

스핀 코터를 이용하여, 각 착색 조성물을 건조 후의 막두께가 2μm가 되도록 유리 기판 상에 도포하고, 100℃의 핫플레이트 상에서 2분간 건조시켰다. 이어서, 초고압 수은 램프를 이용하여, 노광 조도 20mW/cm2, 노광량 1J/cm2의 조건으로 노광했다. 그리고, 100℃의 핫플레이트 상에서 20분간 가열하고, 방랭하여, 경화막을 형성했다. 경화막의 제작에 있어서, 기판의 온도는, 전공정을 통하여 20~100℃의 범위이다. 얻어진 경화막에 대하여, 자외 가시 근적외 분광 광도계(UV3600, (주)시마즈 세이사쿠쇼제)를 이용하고, 레퍼런스를 유리 기판으로 하여, 파장 300~800nm의 범위의 광의 흡광도를 측정하며, 파장 400~500nm의 광에 대한 흡광도의 최댓값 Amax1과 파장 550~700nm의 광에 대한 흡광도의 최솟값 Amin1의 비 Amax1/Amin1(이하, 흡광도비 1이라고 한다), 파장 500nm의 광에 대한 흡광도를 1로 했을 때, 흡광도가 0.3이 되는 파장(이하, 파장 1이라고 한다)을 각각 측정했다.Using a spin coater, each coloring composition was apply|coated on the glass substrate so that the film thickness after drying might be set to 2 micrometers, and it was made to dry for 2 minutes on a 100 degreeC hotplate. Next, using the ultrahigh pressure mercury lamp, it exposed on the conditions of exposure illuminance 20mW/cm< 2 >, and exposure amount 1J/cm< 2 >. And on a 100 degreeC hotplate, it heated for 20 minutes, stood to cool, and formed the cured film. Production of a cured film WHEREIN: The temperature of a board|substrate is the range of 20-100 degreeC through all processes. About the obtained cured film, using the ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer (UV3600, Shimadzu Corporation make), the absorbance of light in the range of wavelength 300-800 nm is measured using the reference glass substrate, and wavelength 400- Ratio A max1 /A min1 (hereinafter referred to as absorbance ratio 1) of the maximum absorbance value A max1 for light of 500 nm and the minimum value A min1 of absorbance for light with a wavelength of 550 to 700 nm, the absorbance for light with a wavelength of 500 nm is 1 When it is set as , the wavelength at which the absorbance becomes 0.3 (hereinafter referred to as wavelength 1) was measured, respectively.

<혼색의 평가><Evaluation of color mixing>

스핀 코터를 이용하여, 각 착색 조성물을 건조 후의 막두께가 2μm가 되도록 유리 기판 상에 도포하고, 100℃의 핫플레이트 상에서 2분간 건조시켰다. 이어서, 초고압 수은 램프를 이용하여, 노광 조도 20mW/cm2, 노광량 100mJ/cm2의 조건으로 노광했다. 이어서, 수산화 테트라메틸암모늄(TMAH) 0.3질량% 수용액을 이용하고, 23℃에서 60초간 퍼들 현상을 행했다. 그 후, 스핀 샤워로 린스를 행하고, 추가로 순수로 수세했다. 그리고, 100℃의 핫플레이트 상에서 20분간 가열하고, 방랭하여, 경화막을 형성했다. MCPD-3000(오쓰카 덴시(주)제)를 사용하여, 얻어진 경화막의 파장 450nm의 광의 투과율(T1)을 측정했다.Using a spin coater, each coloring composition was apply|coated on the glass substrate so that the film thickness after drying might be set to 2 micrometers, and it was made to dry for 2 minutes on a 100 degreeC hotplate. Next, using the ultrahigh pressure mercury lamp, it exposed under the conditions of exposure illuminance 20mW/cm< 2 >, and exposure amount 100mJ/cm< 2 >. Then, using 0.3 mass % aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide (TMAH), puddle image development was performed at 23 degreeC for 60 second. Thereafter, it was rinsed with a spin shower and further washed with pure water. And it heated for 20 minutes on a 100 degreeC hotplate, stood to cool, and formed the cured film. The transmittance (T1) of light with a wavelength of 450 nm of the obtained cured film was measured using MCPD-3000 (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.).

다음으로, 이 경화막 상에, 혼색 평가용의 착색 조성물을 건조 후의 막두께가 2μm가 되도록 스핀 코터를 이용하여 도포하고, 100℃의 핫플레이트 상에서 2분간 건조하여 혼색 평가용의 착색 조성물의 도막을 형성하여, 적층막을 형성했다. 혼색 평가용의 착색 조성물에는, 후술하는 실시예 1001의 청색 화소의 형성에 이용한 청색 착색 조성물을 사용했다.Next, on this cured film, the coloring composition for color mixing evaluation is applied using a spin coater so that the film thickness after drying becomes 2 µm, dried on a hot plate at 100°C for 2 minutes, and a coating film of the colored composition for color mixing evaluation was formed to form a laminated film. The blue coloring composition used for formation of the blue pixel of Example 1001 mentioned later was used for the coloring composition for color mixing evaluation.

이어서, 이 적층막이 형성된 유리 기판을 스핀·샤워 현상기(DW-30형, (주)케미트로닉스제)의 수평 회전 테이블 상에 재치하고, CD-2000(후지필름 일렉트로닉스 머티리얼즈(주)제)의 60% 희석액을 이용하여 23℃에서 60초간 퍼들 현상을 행하여, 경화막 상에 형성된 혼색 평가용의 착색 조성물의 도막을 현상 제거했다. 이어서, 상술한 유리 기판을 진공 척 방식으로 수평 회전 테이블에 고정하고, 회전 장치에 의하여 유리 기판을 회전수 50rpm으로 회전시키면서, 그 회전 중심의 상방으로부터 순수를 분출 노즐로부터 샤워상으로 공급하여 린스 처리를 행하며, 그 후 스프레이 건조했다.Next, the glass substrate on which this laminated film was formed was placed on a horizontal rotary table of a spin/shower developing machine (DW-30 type, manufactured by Chemtronics Co., Ltd.), and CD-2000 (Fujifilm Electronics Materials Co., Ltd.) was produced. Puddle development was performed at 23 degreeC for 60 second using a 60% dilution liquid, and the coating film of the coloring composition for color mixing evaluation formed on the cured film was removed. Next, the above-described glass substrate is fixed to a horizontal rotation table by a vacuum chuck method, and while the glass substrate is rotated at a rotation speed of 50 rpm by a rotation device, pure water is supplied from the upper side of the rotation center to the shower phase from the jet nozzle and rinsed and spray-drying after that.

MCPD-3000(오쓰카 덴시(주)제)을 사용하여, 혼색 평가용의 착색 조성물의 도막을 현상 제거한 후의 상기 경화막의 파장 450nm의 광의 투과율(T2)을 측정했다.The transmittance (T2) of the light with a wavelength of 450 nm of the said cured film after developing and removing the coating film of the coloring composition for color mixing evaluation was measured using MCPD-3000 (made by Otsuka Electronics Co., Ltd.).

하기 식으로부터 투과율의 변화율을 산출하고, 하기 평가 기준에 따라 혼색을 평가했다.The rate of change of transmittance was calculated from the following formula, and color mixture was evaluated according to the following evaluation criteria.

투과율의 변화율(%)={|투과율(T1)-투과율(T2)|/투과율(T1)}×100Change in transmittance (%) = {|Transmittance (T1) - Transmittance (T2)|/Transmittance (T1)}×100

S: 투과율의 변화율이 0.1% 미만이다S: The rate of change of transmittance is less than 0.1%

A: 투과율의 변화율이 0.1% 이상 0.25% 미만이다A: The rate of change of transmittance is 0.1% or more and less than 0.25%

B: 투과율의 변화율이 0.25% 이상 1% 미만이다B: The rate of change of transmittance is 0.25% or more and less than 1%

C: 투과율의 변화율이 1% 이상 2.5% 미만이다C: The rate of change of transmittance is 1% or more and less than 2.5%

D: 투과율의 변화율이 2.5% 이상 5% 미만이다D: The rate of change of transmittance is 2.5% or more and less than 5%

E: 투과율의 변화율이 5% 이상이다E: The rate of change of transmittance is 5% or more

<보존 안정성의 평가><Evaluation of storage stability>

상기에서 얻어진 제조 직후의 착색 조성물의 점도(V1)를, 도키 산교(주)제 "RE-85L"로 측정했다. 이 착색 조성물을 40℃의 온도 조건하에서 3일간 정치한 후, 점도(V2)를 측정했다. 하기 식으로부터 증점률을 산출하고, 하기 평가 기준에 따라 보존 안정성을 평가했다. 착색 조성물의 점도는 23℃로 온도 조정을 실시한 상태에서 측정했다. 평가 기준은 하기와 같이 하고, 평가 결과는 하기 표에 기재했다.The viscosity (V1) of the coloring composition immediately after manufacture obtained above was measured with "RE-85L" by Toki Sangyo Co., Ltd. product. After leaving this coloring composition still on 40 degreeC temperature conditions for 3 days, the viscosity ( V2 ) was measured. The thickening rate was computed from the following formula, and storage stability was evaluated according to the following evaluation criteria. The viscosity of the coloring composition was measured in the state which temperature-controlled at 23 degreeC. Evaluation criteria were as follows, and evaluation results were described in the table below.

증점률(%)={(점도(V2)-점도(V1))/점도(V1)}×100Thickening rate (%)={(Viscosity (V 2 )-Viscosity (V 1 ))/Viscosity (V 1 )}×100

S: 증점률이 0.1% 미만이다S: The thickening rate is less than 0.1%

A: 증점률이 0.1% 이상 0.25% 미만이다A: The thickening rate is 0.1% or more and less than 0.25%.

B: 증점률이 0.25% 이상 1% 미만이다B: The thickening rate is 0.25% or more and less than 1%.

C: 증점률이 1% 이상 2.5% 미만이다C: The thickening rate is 1% or more and less than 2.5%.

D: 증점률이 2.5% 이상 5% 미만이다D: The thickening rate is 2.5% or more and less than 5%

E: 증점률이 5% 이상이다E: The thickening rate is 5% or more

[표 3][Table 3]

Figure pct00035
Figure pct00035

상기 표에 나타내는 바와 같이, 실시예는 혼색의 평가가 우수했다.As shown in the said table|surface, the Example was excellent in evaluation of color mixing.

<실시예 1001><Example 1001>

실리콘 웨이퍼 상에, 녹색 착색 조성물을 제막 후의 막두께가 1.0μm가 되도록 스핀 코트법으로 도포했다. 이어서, 핫플레이트를 이용하여, 100℃에서 2분간 가열했다. 이어서, i선 스테퍼 노광 장치 FPA-3000i5+(캐논(주)제)를 이용하여, 한 변이 12μm인 정사각형의 도트 패턴의 마스크를 통하여 1000mJ/cm2의 노광량으로 노광했다. 이어서, 수산화 테트라메틸암모늄(TMAH) 0.3질량% 수용액을 이용하고, 23℃에서 60초간 퍼들 현상을 행했다. 그 후, 스핀 샤워로 린스를 행하고, 추가로 순수로 수세했다. 이어서, 100℃의 핫플레이트 상에서 20분간 가열하고, 방랭하여, 녹색의 착색 패턴(녹색 화소)을 형성했다. 동일하게 적색 착색 조성물, 청색 착색 조성물을 순차 패터닝하고, 적색의 착색 패턴(적색 화소), 청색의 착색 패턴(청색 화소)을 각각 형성하여 컬러 필터를 제작했다.On the silicon wafer, the green coloring composition was apply|coated by the spin coating method so that the film thickness after film formation might be set to 1.0 micrometer. Then, it heated at 100 degreeC for 2 minute(s) using the hotplate. Next, using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5+ (manufactured by Canon Co., Ltd.), exposure was performed at an exposure amount of 1000 mJ/cm 2 through a mask of a dot pattern having a square dot pattern having a side of 12 μm. Next, using 0.3 mass % aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide (TMAH), puddle development was performed at 23 degreeC for 60 second. Thereafter, it was rinsed with a spin shower and further washed with pure water. Then, it heated for 20 minutes on a 100 degreeC hotplate, and stood to cool, and the green coloring pattern (green pixel) was formed. Similarly, the red coloring composition and the blue coloring composition were sequentially patterned, the red coloring pattern (red pixel), the blue coloring pattern (blue pixel) were formed, respectively, and the color filter was produced.

적색 착색 조성물로서는, 실시예 11의 착색 조성물을 이용했다. 녹색 착색 조성물 및 청색 착색 조성물에 대해서는 후술한다. 얻어진 컬러 필터를 공지의 방법에 따라 유기 일렉트로 루미네선스 표시 장치에 도입했다. 이 유기 일렉트로 루미네선스 표시 장치는 적합한 화상 인식능을 갖고 있었다.As a red coloring composition, the coloring composition of Example 11 was used. A green coloring composition and a blue coloring composition are mentioned later. The obtained color filter was introduced into an organic electroluminescent display device according to a known method. This organic electroluminescent display device had a suitable image recognition ability.

[녹색 착색 조성물][Green Coloring Composition]

하기 성분을 혼합하여, 교반한 후, 구멍 직경 0.45μm의 나일론제 필터(니혼 폴(주)제)로 여과하여, 녹색 착색 조성물을 조제했다.After mixing and stirring the following components, it filtered with the nylon filter (made by Nippon Pole Co., Ltd.) with a pore diameter of 0.45 micrometers, and the green coloring composition was prepared.

Green 안료 분산액 …85질량부Green Pigment Dispersion … 85 parts by mass

광중합 개시제(Irgacure OXE02, BASF사제) …1.04질량부Photoinitiator (Irgacure OXE02, manufactured by BASF) … 1.04 parts by mass

광중합 개시제(Omnirad 2959, IGM Resins B. V.사제) …0.77질량부Photoinitiator (Omnirad 2959, manufactured by IGM Resins B.V.) … 0.77 parts by mass

수지 용액 1 …0.9질량부resin solution 1 … 0.9 parts by mass

퓨릴기 함유 화합물 용액 1 …1.4질량부Furyl group-containing compound solution 1 … 1.4 parts by mass

중합성 화합물(하기 구조의 화합물) …2.04질량부Polymerizable compound (compound of the following structure) … 2.04 parts by mass

[화학식 32][Formula 32]

Figure pct00036
Figure pct00036

계면활성제(하기 구조의 화합물, Mw=14000, 반복 단위의 비율을 나타내는 %의 수치는 몰%인, 불소계 계면활성제) …0.008질량부Surfactant (a compound of the following structure, Mw = 14000, the numerical value of % representing the proportion of repeating units is mole %, fluorine-based surfactant) … 0.008 parts by mass

[화학식 33][Formula 33]

Figure pct00037
Figure pct00037

프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트 …8.8질량부Propylene glycol monomethyl ether acetate … 8.8 parts by mass

[청색 착색 조성물][Blue coloring composition]

하기 성분을 혼합하여, 교반한 후, 구멍 직경 0.45μm의 나일론제 필터(니혼 폴(주)제)로 여과하여, 청색 착색 조성물을 조제했다.After mixing and stirring the following components, it filtered with the nylon filter (made by Nippon Pole Co., Ltd.) with a pore diameter of 0.45 micrometers, and the blue coloring composition was prepared.

Blue 안료 분산액 …51.0질량부Blue pigment dispersion … 51.0 parts by mass

광중합 개시제(Irgacure OXE01, BASF사제) …2.17질량부Photoinitiator (Irgacure OXE01, manufactured by BASF) … 2.17 parts by mass

광중합 개시제(Omnirad 2959, IGM Resins B. V.사제) …0.83질량부Photoinitiator (Omnirad 2959, manufactured by IGM Resins B.V.) … 0.83 parts by mass

수지 용액 1 …4.1질량부resin solution 1 … 4.1 parts by mass

퓨릴기 함유 화합물 용액 1 …6.2질량부Furyl group-containing compound solution 1 … 6.2 parts by mass

중합성 화합물(하기 구조의 화합물) …2.5질량부Polymerizable compound (compound of the following structure) … 2.5 parts by mass

[화학식 34][Formula 34]

Figure pct00038
Figure pct00038

계면활성제(KF-6001, 신에쓰 가가쿠 고교사제) …0.008질량부Surfactant (KF-6001, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) … 0.008 parts by mass

아세트산 뷰틸 …33.2질량부butyl acetate … 33.2 parts by mass

녹색 착색 조성물 및 청색 착색 조성물의 조제에 사용한 Green 안료 분산액, Blue 안료 분산액, 수지 용액 1, 퓨릴기 함유 화합물 용액 1은 이하와 같다.Green pigment dispersion liquid, Blue pigment dispersion liquid, resin solution 1, and furyl group containing compound solution 1 used for preparation of a green coloring composition and blue coloring composition are as follows.

(Green 안료 분산액)(Green pigment dispersion)

C. I. Pigment Green 36의 7.4질량부, C. I. Pigment Yellow 185의 5.2질량부, 안료 유도체 1의 1.4질량부, 분산제 1의 4.86질량부, PGMEA의 81.14질량부로 이루어지는 혼합액을, 비즈 밀(지르코니아 비즈 0.3mm 직경)에 의하여 3시간 혼합 및 분산하여, 안료 분산액을 조제했다. 그 후 다시, 감압 기구 장착 고압 분산기 NANO-3000-10(닛폰 비이이(주)제)을 이용하여, 2000kg/cm3의 압력하에서 유량 500g/min으로 하여 분산 처리를 행했다. 이 분산 처리를 10회 반복하여, Green 안료 분산액을 얻었다.A mixture consisting of 7.4 parts by mass of CI Pigment Green 36, 5.2 parts by mass of CI Pigment Yellow 185, 1.4 parts by mass of pigment derivative 1, 4.86 parts by mass of dispersant 1, and 81.14 parts by mass of PGMEA was mixed with a bead mill (zirconia beads 0.3 mm diameter ) was mixed and dispersed for 3 hours to prepare a pigment dispersion. After that, using a high-pressure disperser NANO-3000-10 (manufactured by Nippon BI Co., Ltd.) with a pressure reducing mechanism, dispersion treatment was performed at a flow rate of 500 g/min under a pressure of 2000 kg/cm 3 . This dispersion treatment was repeated 10 times to obtain a green pigment dispersion.

안료 유도체 1: 하기 구조의 화합물Pigment derivative 1: a compound of the structure

[화학식 35][Formula 35]

Figure pct00039
Figure pct00039

분산제 1: 하기 구조의 수지. 주쇄의 괄호에 붙인 수치는, 각 반복 단위의 몰비를 나타내고, 측쇄의 괄호에 붙인 수치는, 반복 단위의 반복수를 나타낸다. 중량 평균 분자량은 24000이다.Dispersant 1: A resin of the following structure. Numerical values in parentheses of the main chain indicate the molar ratio of each repeating unit, and numerical values in parentheses in side chains indicate the number of repeating units in the side chain. The weight average molecular weight is 24000.

[화학식 36][Formula 36]

Figure pct00040
Figure pct00040

(Blue 안료 분산액)(Blue pigment dispersion)

C. I. Pigment Blue 15:6의 9.5질량부, C. I. Pigment Violet 23의 5.0질량부, 분산제 1의 5.5질량부, PGMEA의 80.0질량부로 이루어지는 혼합액을, 비즈 밀(지르코니아 비즈 0.3mm 직경)에 의하여 3시간 혼합 및 분산하여, 안료 분산액을 조제했다. 그 후 다시, 감압 기구 장착 고압 분산기 NANO-3000-10(닛폰 비이이(주)제)을 이용하여, 2000kg/cm3의 압력하에서 유량 500g/min으로 하여 분산 처리를 행했다. 이 분산 처리를 10회 반복하여, Blue 안료 분산액을 얻었다.A mixture consisting of 9.5 parts by mass of CI Pigment Blue 15:6, 5.0 parts by mass of CI Pigment Violet 23, 5.5 parts by mass of dispersant 1, and 80.0 parts by mass of PGMEA was mixed with a bead mill (zirconia beads 0.3 mm diameter) for 3 hours. and dispersed to prepare a pigment dispersion. After that, using a high-pressure disperser NANO-3000-10 (manufactured by Nippon BI Co., Ltd.) with a pressure reducing mechanism, dispersion treatment was performed at a flow rate of 500 g/min under a pressure of 2000 kg/cm 3 . This dispersion treatment was repeated 10 times to obtain a blue pigment dispersion.

(수지 용액 1)(resin solution 1)

하기 방법으로 합성한 수지 A의 30질량% PGMEA 용액30 mass % PGMEA solution of resin A synthesized by the following method

온도계, 냉각관, 질소 가스 도입관, 적하관 및 교반 장치를 구비한 세퍼러블 4구 플라스크에 사이클로헥산온 70.0질량부를 넣고, 80℃로 승온하여, 플라스크 내를 질소 치환한 후, 적하관으로부터, n-뷰틸메타크릴레이트 13.3질량부, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트 4.6질량부, 메타크릴산 4.3질량부, 파라큐밀페놀에틸렌옥사이드 변성 아크릴레이트(도아 고세이(주)제, 아로닉스 M110) 7.4질량부 및 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴 0.4질량부의 혼합물을 2시간에 걸쳐 적하했다. 적하 종료 후, 추가로 3시간 반응을 계속하여 수지 A(Mw=26000)를 합성하고, PGMEA로 희석함으로써, 수지 A의 30질량% PGMEA 용액을 얻었다.70.0 parts by mass of cyclohexanone was put into a separable four-necked flask equipped with a thermometer, a cooling tube, a nitrogen gas introduction tube, a dropping tube and a stirring device, the temperature was raised to 80° C., the inside of the flask was replaced with nitrogen, and then from the dropping tube, n-butyl methacrylate 13.3 parts by mass, 2-hydroxyethyl methacrylate 4.6 parts by mass, methacrylic acid 4.3 parts by mass, paracumylphenol ethylene oxide modified acrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd., Aronix M110) 7.4 The mixture of mass parts and 0.4 mass parts of 2,2'- azobisisobutyronitrile was dripped over 2 hours. After completion|finish of dripping, reaction was continued for 3 hours, and resin A (Mw=26000) was synthesize|combined, and the 30 mass % PGMEA solution of resin A was obtained by diluting with PGMEA.

(퓨릴기 함유 화합물 용액 1)(Furyl group-containing compound solution 1)

하기 방법으로 합성한 퓨릴기 함유 화합물 F1의 20질량% PGMEA 용액20% by mass PGMEA solution of furyl group-containing compound F1 synthesized by the following method

교반기, 온도계, 적하 장치, 환류 냉각기, 가스 도입관을 구비한 반응 용기에 PGMEA 90.0질량부를 넣고, 용기에 질소 가스를 주입하면서 60℃로 가열하여, 동 온도에서 퓨퓨릴메타크릴레이트 50.0질량부, 2-메타크릴로일옥시에틸석신산 26.7질량부, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트 23.3질량부, 2,2'-아조비스(2,4-다이메틸발레로나이트릴) 2.5질량부의 혼합물을 2시간에 걸쳐 적하하여 중합 반응을 행했다. 적하 종료 후, 추가로 60℃에서 1시간 반응시킨 후, 2,2'-아조비스(2,4-다이메틸발레로나이트릴) 0.5질량부를 PGMEA 10.0질량부에 용해시킨 것을 첨가하고, 그 후 3시간, 동일한 온도에서 교반을 계속하여 공중합체를 얻었다. 실온으로 냉각 후, PGMEA로 희석함으로써, 퓨릴기 함유 화합물 F1(Mw=52000)의 20질량% PGMEA 용액을 얻었다.Putting 90.0 parts by mass of PGMEA into a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, dropping device, reflux condenser, and gas introduction tube, and heating to 60° C. while injecting nitrogen gas into the vessel, 50.0 parts by mass of furyl methacrylate at the same temperature, A mixture of 26.7 parts by mass of 2-methacryloyloxyethyl succinic acid, 23.3 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate, and 2.5 parts by mass of 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) Polymerization reaction was performed by dripping over 2 hours. After completion|finish of dripping, after making it react at 60 degreeC for 1 hour, what melt|dissolved 0.5 mass parts of 2,2'- azobis (2, 4- dimethylvaleronitrile) 10.0 mass parts of PGMEA is added, after that Stirring was continued for 3 hours at the same temperature to obtain a copolymer. The 20 mass % PGMEA solution of the furyl group containing compound F1 (Mw=52000) was obtained by diluting with PGMEA after cooling to room temperature.

Claims (17)

적색 착색제를 포함하는 착색제와, 수지와, 중합성 화합물과, 광중합 개시제를 포함하는 착색 조성물로서,
상기 수지는, 블록 아이소사이아네이트기를 포함하는 반복 단위를 갖는 수지 BI를 포함하고,
상기 착색 조성물은, 파장 400~500nm의 광에 대한 흡광도의 최댓값 Amax1과 파장 550~700nm의 광에 대한 흡광도의 최솟값 Amin1의 비 Amax1/Amin1이 25 이상이며,
파장 500nm의 광에 대한 흡광도를 1로 했을 때, 흡광도가 0.3이 되는 파장이 570~620nm의 범위에 존재하는, 착색 조성물.
A coloring composition comprising a colorant containing a red colorant, a resin, a polymerizable compound, and a photoinitiator, comprising:
The resin comprises a resin BI having a repeating unit comprising a block isocyanate group,
In the coloring composition, the ratio A max1 /A min1 of the maximum value A max1 of the absorbance with respect to light having a wavelength of 400 to 500 nm and the minimum value A min1 of the absorbance with respect to the light having a wavelength of 550 to 700 nm is 25 or more,
When the absorbance with respect to the light of wavelength 500nm is made into 1, the wavelength from which the absorbance becomes 0.3 exists in the range of 570-620 nm, the coloring composition.
청구항 1에 있어서,
상기 블록 아이소사이아네이트기는, 아이소사이아네이트기가, 옥심 화합물, 락탐 화합물, 페놀 화합물, 알코올 화합물, 아민 화합물, 활성 메틸렌 화합물, 피라졸 화합물, 머캅탄 화합물, 이미다졸 화합물 및 이미드 화합물로부터 선택되는 블록제로 보호된 구조를 갖는 기인, 착색 조성물.
The method according to claim 1,
The block isocyanate group is selected from the group consisting of an isocyanate group, an oxime compound, a lactam compound, a phenol compound, an alcohol compound, an amine compound, an active methylene compound, a pyrazole compound, a mercaptan compound, an imidazole compound, and an imide compound. A group having a structure protected by a blocking agent to be used, a coloring composition.
청구항 2에 있어서,
상기 블록제의 분자량이 50~200인, 착색 조성물.
3. The method according to claim 2,
The molecular weight of the said blocking agent is 50-200, The coloring composition.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 블록 아이소사이아네이트기를 포함하는 반복 단위가 하기 식 (B-1)로 나타나는 반복 단위인, 착색 조성물;
[화학식 1]
Figure pct00041

식 (B-1) 중, Rb1~Rb3은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로젠 원자 또는 알킬기를 나타내고, Rb4~Rb7은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로젠 원자, 알킬기, 알콕시기 또는 아릴기를 나타내며, Lb1은 단결합 또는 탄화 수소기를 나타낸다.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The coloring composition whose repeating unit containing the said block isocyanate group is a repeating unit represented by a following formula (B-1);
[Formula 1]
Figure pct00041

In the formula (B-1), R b1 to R b3 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and R b4 to R b7 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group. or an aryl group, and L b1 represents a single bond or a hydrocarbon group.
청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수지 BI는, 산기가 보호기로 보호된 기를 갖는 반복 단위를 포함하는, 착색 조성물.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The resin BI is a coloring composition comprising a repeating unit having a group in which an acid group is protected by a protecting group.
청구항 5에 있어서,
상기 산기가 페놀성 하이드록시기, 또는, 카복시기인, 착색 조성물.
6. The method of claim 5,
The said acid group is a phenolic hydroxyl group or a carboxy group, The coloring composition.
청구항 5 또는 청구항 6에 있어서,
상기 보호기는, 산 또는 염기의 작용에 의하여 분해되어 탈리되는 기인, 착색 조성물.
7. The method according to claim 5 or 6,
The said protecting group is a group which is decomposed|disassembled by the action of an acid or a base, and is a group, the coloring composition.
청구항 5 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
상기 보호기는, 식 (Y1)~(Y5) 중 어느 하나로 나타나는 기인, 착색 조성물;
식 (Y1): -C(RY1)(RY2)(RY3)
식 (Y2): -C(=O)OC(RY4)(RY5)(RY6)
식 (Y3): -C(RY7)(RY8)(ORY9)
식 (Y4): -C(RY10)(H)(ArY1)
식 (Y5): -C(=O)(RY11)
식 (Y1) 중, RY1~RY3은, 각각 독립적으로 알킬기를 나타내고, RY1~RY3 중의 2개가 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다;
식 (Y2) 중, RY4~RY6은, 각각 독립적으로 알킬기를 나타내고, RY4~RY6 중의 2개가 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다;
식 (Y3) 중, RY7 및 RY8은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, RY7 및 RY8 중 적어도 일방이 알킬기 또는 아릴기이며, RY9는, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, RY7 또는 RY8과, RY9가 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다;
식 (Y4) 중, ArY1은, 아릴기를 나타내고, RY10은, 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다;
식 (Y5) 중, RY11은, 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다.
8. The method according to any one of claims 5 to 7,
The said protecting group is group represented by any one of Formula (Y1)-(Y5), Color composition;
Formula (Y1): -C(R Y1 )(R Y2 )(R Y3 )
Formula (Y2): -C(=O)OC(R Y4 )(R Y5 )(R Y6 )
Formula (Y3): -C(R Y7 )(R Y8 )(OR Y9 )
Formula (Y4): -C(R Y10 )(H)(Ar Y1 )
Formula (Y5): -C(=O)(R Y11 )
In the formula (Y1), R Y1 to R Y3 each independently represent an alkyl group, and two of R Y1 to R Y3 may be bonded to each other to form a ring;
In the formula (Y2), R Y4 to R Y6 each independently represent an alkyl group, and two of R Y4 to R Y6 may be bonded to each other to form a ring;
In the formula (Y3), R Y7 and R Y8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, at least one of R Y7 and R Y8 is an alkyl group or an aryl group, and R Y9 represents an alkyl group or an aryl group , R Y7 or R Y8 and R Y9 may combine to form a ring;
In formula (Y4), Ar Y1 represents an aryl group and R Y10 represents an alkyl group or an aryl group;
In formula (Y5), R Y11 represents an alkyl group or an aryl group.
청구항 5 내지 청구항 8 중 어느 한 항에 있어서,
상기 산기가 보호기로 보호된 기를 갖는 반복 단위가, 하기 식 (B-2)로 나타나는 반복 단위인, 착색 조성물;
[화학식 2]
Figure pct00042

식 (B-2) 중, Rb11~Rb13은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로젠 원자 또는 알킬기를 나타내고, Lb11은 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내며, Xb11은 식 (X-1) 또는 식 (X-2)로 나타나는 기를 나타낸다;
[화학식 3]
Figure pct00043

식 (X-1) 및 식 (X-2) 중, Yb1은 보호기를 나타내고, 파선은 Lb11과 결합하는 부분을 나타낸다.
9. The method according to any one of claims 5 to 8,
a coloring composition in which the repeating unit having a group in which the acid group is protected by a protecting group is a repeating unit represented by the following formula (B-2);
[Formula 2]
Figure pct00042

In formula (B-2), R b11 to R b13 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, L b11 represents a single bond or a divalent linking group, and X b11 represents a formula (X-1) Or group represented by Formula (X-2) is shown;
[Formula 3]
Figure pct00043

In formulas (X-1) and (X-2), Y b1 represents a protecting group, and the broken line represents a portion bonded to L b11 .
청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 있어서,
상기 착색제는, 황색 착색제를 더 포함하는, 착색 조성물.
10. The method according to any one of claims 1 to 9,
The colorant further comprises a yellow colorant, the coloring composition.
청구항 1 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서,
상기 착색제 중의 상기 적색 착색제의 함유량이 70질량% 이상인, 착색 조성물.
11. The method according to any one of claims 1 to 10,
The coloring composition whose content of the said red coloring agent in the said coloring agent is 70 mass % or more.
청구항 1 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 있어서,
전공정을 통하여 150℃ 이하의 온도에서 경화막을 형성하기 위하여 이용되는, 착색 조성물.
12. The method according to any one of claims 1 to 11,
A coloring composition used to form a cured film at a temperature of 150° C. or less through the entire process.
청구항 1 내지 청구항 12 중 어느 한 항에 있어서,
컬러 필터용인, 착색 조성물.
13. The method according to any one of claims 1 to 12,
A coloring composition for a color filter.
청구항 1 내지 청구항 13 중 어느 한 항에 있어서,
표시 장치용인, 착색 조성물.
14. The method according to any one of claims 1 to 13,
The coloring composition for display devices.
청구항 1 내지 청구항 14 중 어느 한 항에 기재된 착색 조성물을 경화하여 얻어지는 경화막.The cured film obtained by hardening|curing the coloring composition in any one of Claims 1-14. 청구항 15에 기재된 경화막을 갖는 컬러 필터.The color filter which has the cured film of Claim 15. 청구항 15에 기재된 경화막을 갖는 표시 장치.The display device which has the cured film of Claim 15.
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