KR20220126748A - Coloring composition, film, red pixel, color filter, solid-state image sensor, image display device and kit - Google Patents

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카즈야 오오타
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Abstract

안료를 포함하는 색재와, 수지와, 용제를 포함하는 착색 조성물로서, 상기 안료는, 컬러 인덱스 피그먼트 레드 272를 포함하고, 상기 수지는, 방향족 카복실기를 갖는 수지를 포함하는, 착색 조성물. 막, 적색 화소, 컬러 필터, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치 및 키트.A coloring composition containing a color material containing a pigment, a resin, and a solvent, wherein the pigment contains color index pigment red 272, and the resin contains a resin having an aromatic carboxyl group. Films, red pixels, color filters, solid-state imaging devices, image display devices and kits.

Description

착색 조성물, 막, 적색 화소, 컬러 필터, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치 및 키트Coloring composition, film, red pixel, color filter, solid-state image sensor, image display device and kit

본 발명은, 안료를 포함하는 착색 조성물에 관한 것이다. 또, 본 발명은, 착색 조성물을 이용한 막, 적색 화소, 컬러 필터, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치에 관한 것이다. 또, 본 발명은, 키트에 관한 것이다.This invention relates to the coloring composition containing a pigment. Moreover, this invention relates to the film|membrane which used the coloring composition, a red pixel, a color filter, a solid-state image sensor, and an image display apparatus. Moreover, this invention relates to a kit.

최근, 디지털 카메라, 카메라 장착 휴대전화 등의 보급으로부터, 전하 결합 소자(CCD) 이미지 센서 등의 고체 촬상 소자의 수요가 크게 늘고 있다. 디스플레이나 광학 소자의 키 디바이스로서 컬러 필터가 사용되고 있다. 컬러 필터는, 통상, 적색, 녹색 및 청색의 3원색의 화소를 구비하고 있으며, 투과광을 3원색으로 분해하는 역할을 하고 있다.In recent years, from the spread of digital cameras and camera-equipped mobile phones, the demand for solid-state imaging devices such as charge-coupled device (CCD) image sensors is increasing significantly. A color filter is used as a key device of a display or an optical element. A color filter is usually provided with pixels of three primary colors of red, green, and blue, and plays a role of decomposing transmitted light into three primary colors.

컬러 필터의 각 색의 착색 화소는, 안료 등의 색재를 포함하는 착색 조성물을 이용하여 제조되고 있다. 또, 적색 화소 형성용의 착색 조성물에는, 적색 안료로서 다이케토피롤로피롤 안료 등이 이용되고 있다. 예를 들면, 특허문헌 1에는, 다이케토피롤로피롤 안료로서 컬러 인덱스 피그먼트 레드 272 등의 적색 안료를 포함하는 착색 조성물을 이용하여 적색 화소를 형성하는 것이 기재되어 있다.The colored pixel of each color of a color filter is manufactured using the coloring composition containing color materials, such as a pigment. Moreover, a diketopyrrolopyrrole pigment etc. are used as a red pigment for the coloring composition for red pixel formation. For example, in patent document 1, forming a red pixel is described using the coloring composition containing red pigments, such as color index pigment red 272, as a diketopyrrolopyrrole pigment.

특허문헌 1: 일본 공개특허공보 2015-168725호Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-168725

본 발명자가, 컬러 인덱스 피그먼트 레드 272를 포함하는 착색 조성물에 대하여 예의 검토를 진행한 결과, 컬러 인덱스 피그먼트 레드 272는 다른 다이케토피롤로피롤 안료에 비하여 결정성이 높은 경향이 있고, 막중에서 결정화 등에 의한 응집이 발생하여, 이물로서 석출되기 쉬운 경향이 있는 것을 알 수 있었다. 특히, 컬러 인덱스 피그먼트 레드 272를 포함하는 착색 조성물을 이용하여 형성한 막을, 고온(예를 들면 220℃ 이상 등)으로 가열한 경우, 가열 후의 막중에서 컬러 인덱스 피그먼트 레드 272의 결정화 등에 의한 응집이 발생하여 이물로서 석출되기 쉬운 경향이 있었다.As a result of the present inventors intensively examining the coloring composition containing Color Index Pigment Red 272, Color Index Pigment Red 272 tends to have higher crystallinity than other diketopyrrolopyrrole pigments, and in the film It turned out that aggregation by crystallization etc. occurred and there existed a tendency which precipitated easily as a foreign material. In particular, when a film formed using a coloring composition containing Color Index Pigment Red 272 is heated to a high temperature (for example, 220° C. or higher), agglomeration due to crystallization of Color Index Pigment Red 272 in the film after heating There existed a tendency which this generate|occur|produced and it was easy to precipitate as a foreign material.

따라서, 본 발명의 목적은, 이물의 발생이 억제된 막을 형성할 수 있는 착색 조성물을 제공하는 것에 있다. 또, 착색 조성물을 이용한 막, 적색 화소, 컬러 필터, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치 및 키트를 제공하는 것에 있다.Therefore, the objective of this invention is providing the coloring composition which can form the film|membrane by which generation|occurrence|production of the foreign material was suppressed. Moreover, it is providing the film|membrane, a red pixel, a color filter, a solid-state image sensor, an image display apparatus, and a kit using a coloring composition.

본 발명자의 검토에 의하면, 후술하는 착색 조성물에 의하여 상기 목적을 달성할 수 있는 것을 알아내, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 따라서, 본 발명은 이하를 제공한다.According to examination of this inventor, it discovered that the said objective can be achieved with the coloring composition mentioned later, and came to complete this invention. Accordingly, the present invention provides the following.

<1> 안료를 포함하는 색재와, 수지와, 용제를 포함하는 착색 조성물로서,<1> As a coloring composition containing a color material containing a pigment, a resin, and a solvent,

상기 안료는, 컬러 인덱스 피그먼트 레드 272를 포함하고,The pigment includes color index pigment red 272,

상기 수지는, 방향족 카복실기를 갖는 수지를 포함하는, 착색 조성물.The said resin is a coloring composition containing resin which has an aromatic carboxyl group.

<2> 상기 컬러 인덱스 피그먼트 레드 272의 평균 1차 입자경이 10~40nm인, <1>에 기재된 착색 조성물.<2> The coloring composition as described in <1> whose average primary particle diameter of the said color index pigment red 272 is 10-40 nm.

<3> 상기 안료는, 컬러 인덱스 피그먼트 레드 272 이외의 적색 안료를 더 포함하는, <1> 또는 <2>에 기재된 착색 조성물.<3> The coloring composition as described in <1> or <2> in which the said pigment further contains red pigments other than color index pigment red 272.

<4> 상기 색재는, 황색 색재를 더 포함하는, <1> 내지 <3> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<4> The coloring composition according to any one of <1> to <3>, wherein the color material further contains a yellow color material.

<5> 색재 전량 중에 있어서의 컬러 인덱스 피그먼트 레드 272의 함유량이 10질량% 이상인, <1> 내지 <4> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.The coloring composition in any one of <1>-<4> whose content of the color index pigment red 272 in <5> color material whole quantity is 10 mass % or more.

<6> 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 상기 색재의 함유량이 50질량% 이상인, <1> 내지 <5> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.The coloring composition in any one of <1>-<5> whose content of the said color material in the total solid of <6> coloring composition is 50 mass % or more.

<7> 안료 유도체를 더 포함하는, <1> 내지 <6> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<7> The coloring composition in any one of <1>-<6> containing further a pigment derivative.

<8> 상기 안료 유도체는 다이케토피롤로피롤 화합물인, <7>에 기재된 착색 조성물.<8> The coloring composition according to <7>, wherein the pigment derivative is a diketopyrrolopyrrole compound.

<9> 중합성 화합물을 더 포함하는, <1> 내지 <8> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<9> The coloring composition in any one of <1>-<8> containing a polymeric compound further.

<10> 광중합 개시제를 더 포함하는, <1> 내지 <9> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<10> The coloring composition in any one of <1>-<9> containing further a photoinitiator.

<11> 상기 광중합 개시제는, 옥심 화합물 및 α-아미노케톤 화합물로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는, <10>에 기재된 착색 조성물.<11> The coloring composition according to <10>, wherein the photoinitiator contains at least one selected from an oxime compound and an α-aminoketone compound.

<12> 컬러 필터의 적색 화소 형성용의 착색 조성물인, <1> 내지 <11> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.The coloring composition in any one of <1>-<11> which is a coloring composition for red pixel formation of a <12> color filter.

<13> 포토리소그래피용의 착색 조성물인, <1> 내지 <12> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<13> The coloring composition according to any one of <1> to <12>, which is a coloring composition for photolithography.

<14> 고체 촬상 소자용의 착색 조성물인, <1> 내지 <13> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<14> The coloring composition in any one of <1>-<13> which is a coloring composition for solid-state image sensors.

<15> <1> 내지 <14> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물을 이용하여 얻어지는 막.<15> A film obtained by using the coloring composition according to any one of <1> to <14>.

<16> <1> 내지 <14> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물을 이용하여 얻어지는 적색 화소.<16> Red pixel obtained using the coloring composition in any one of <1>-<14>.

<17> <15>에 기재된 막을 갖는 컬러 필터.<17> The color filter which has the film|membrane as described in <15>.

<18> <16>에 기재된 적색 화소와, 청색 화소와, 녹색 화소를 갖는 컬러 필터.<18> The color filter which has a red pixel as described in <16>, a blue pixel, and a green pixel.

<19> <15>에 기재된 막을 갖는 고체 촬상 소자.<19> A solid-state imaging device having the film according to <15>.

<20> <15>에 기재된 막을 갖는 화상 표시 장치.<20> An image display device having the film according to <15>.

<21> <1> 내지 <14> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물과, 청색 화소 형성용의 착색 조성물과, 녹색 화소 형성용의 착색 조성물을 갖는 키트.<21> Kit which has the coloring composition in any one of <1>-<14>, the coloring composition for blue pixel formation, and the coloring composition for green pixel formation.

본 발명에 의하면, 이물의 발생이 억제된 막을 형성할 수 있는 착색 조성물, 막, 적색 화소, 컬러 필터, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치 및 키트를 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the coloring composition which can form the film|membrane by which generation|occurrence|production of a foreign material was suppressed, a film|membrane, a red pixel, a color filter, a solid-state image sensor, an image display apparatus, and a kit can be provided.

이하에 있어서, 본 발명의 내용에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the content of the present invention will be described in detail.

본 명세서에 있어서, "~"란 그 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 의미로 사용된다.In this specification, "~" is used in the meaning including the numerical value described before and after that as a lower limit and an upper limit.

본 명세서에 있어서의 기(원자단)의 표기에 있어서, 치환 및 무치환을 기재하고 있지 않은 표기는, 치환기를 갖지 않는 기(원자단)와 함께 치환기를 갖는 기(원자단)도 포함한다. 예를 들면, "알킬기"란, 치환기를 갖지 않는 알킬기(무치환 알킬기)뿐만 아니라, 치환기를 갖는 알킬기(치환 알킬기)도 포함한다.In the description of the group (atomic group) in this specification, the description which does not describe substitution and unsubstituted includes a group (atomic group) having a substituent together with a group (atomic group) having no substituent. For example, "alkyl group" includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).

본 명세서에 있어서 "노광"이란, 특별히 설명하지 않는 한, 광을 이용한 노광뿐만 아니라, 전자선, 이온빔 등의 입자선을 이용한 묘화도 노광에 포함시킨다. 또, 노광에 이용되는 광으로서는, 수은등의 휘선 스펙트럼, 엑시머 레이저로 대표되는 원자외선, 극자외선(EUV광), X선, 전자선 등의 활성광선 또는 방사선을 들 수 있다.In the present specification, "exposure" includes not only exposure using light but also drawing using particle beams such as electron beams and ion beams in exposure unless otherwise specified. Moreover, as light used for exposure, actinic rays or radiation, such as a bright-line spectrum of a mercury lamp, and a deep ultraviolet ray represented by an excimer laser, extreme ultraviolet (EUV light), X-ray, an electron beam, are mentioned.

본 명세서에 있어서, "(메트)아크릴레이트"는, 아크릴레이트 및 메타크릴레이트의 쌍방, 또는, 어느 하나를 나타내고, "(메트)아크릴"은, 아크릴 및 메타크릴의 쌍방, 또는, 어느 하나를 나타내며, "(메트)아크릴로일"은, 아크릴로일 및 메타크릴로일의 쌍방, 또는, 어느 하나를 나타낸다.In this specification, "(meth)acrylate" represents both, or either of acrylate and methacrylate, and "(meth)acryl" represents both, or either of acryl and methacryl. and "(meth)acryloyl" represents both or either of acryloyl and methacryloyl.

본 명세서에 있어서, 구조식 중의 Me는 메틸기를 나타내고, Et는 에틸기를 나타내며, Bu는 뷰틸기를 나타내고, Ph는 페닐기를 나타낸다.In the present specification, Me in the structural formula represents a methyl group, Et represents an ethyl group, Bu represents a butyl group, and Ph represents a phenyl group.

본 명세서에 있어서, 중량 평균 분자량 및 수평균 분자량은, GPC(젤 퍼미에이션 크로마토그래피)법에 의하여 측정한 폴리스타이렌 환산값이다.In this specification, a weight average molecular weight and a number average molecular weight are polystyrene conversion values measured by the GPC (gel permeation chromatography) method.

본 명세서에 있어서, 전고형분이란, 조성물의 전체 성분으로부터 용제를 제외한 성분의 총 질량을 말한다.In this specification, total solid means the total mass of the component except the solvent from all the components of a composition.

본 명세서에 있어서, 안료란, 용제에 대하여 용해되기 어려운 화합물을 의미한다.In this specification, a pigment means the compound which is hard to melt|dissolve with respect to a solvent.

본 명세서에 있어서 "공정"이라는 용어는, 독립적인 공정뿐만 아니라, 다른 공정과 명확하게 구별할 수 없는 경우이더라도 그 공정의 소기 작용이 달성되면, 본 용어에 포함된다.In the present specification, the term "process" is included in this term as long as the desired action of the process is achieved even if it is not clearly distinguishable from other processes as well as independent processes.

<착색 조성물><Coloring composition>

본 발명의 착색 조성물은, 안료를 포함하는 색재와, 수지와, 용제를 포함하는 착색 조성물로서, 상기 안료는, 컬러 인덱스 피그먼트 레드 272를 포함하고, 상기 수지는, 방향족 카복실기를 갖는 수지를 포함하는 것을 특징으로 한다.The coloring composition of the present invention is a coloring composition containing a color material containing a pigment, a resin, and a solvent, wherein the pigment contains Color Index Pigment Red 272, and the resin contains a resin having an aromatic carboxyl group. characterized in that

본 발명의 착색 조성물은, C. I.(컬러 인덱스) 피그먼트 레드 272를 포함하고 있음에도 불구하고, 얻어진 막을 고온(예를 들면 220℃ 이상 등)으로 가열한 경우이더라도, 이물의 발생이 억제된 막을 형성할 수 있다. 이와 같은 효과가 얻어지는 이유는, 이하에 의한 것이라고 추측된다.Although the coloring composition of the present invention contains C.I. (color index) Pigment Red 272, even when the obtained film is heated to a high temperature (for example, 220 ° C. or higher), a film in which the generation of foreign matter is suppressed. can The reason such an effect is acquired is estimated that it is based on the following.

C. I. 피그먼트 레드 272는, C. I. 피그먼트 레드 254 등의 다른 다이케토피롤로피롤 안료에 비하여 결정성이 높고, 그 때문에, 고온으로 가열 후의 막중에서 C. I. 피그먼트 레드 272의 결정화 등에 의한 응집이 발생하여, 이물로서 석출되기 쉬운 경향이 있다고 추측된다.C. I. Pigment Red 272 has higher crystallinity than other diketopyrrolopyrrole pigments such as C. I. Pigment Red 254, and therefore aggregation occurs due to crystallization of C. I. Pigment Red 272 in the film after heating to high temperature. , it is estimated that it tends to precipitate as a foreign material.

한편, 방향족 카복실기를 갖는 수지는, C. I. 피그먼트 레드 272의 표면에 적당히 흡착된다고 추측되고, 막중에 있어서 C. I. 피그먼트 레드 272의 입자 사이에 방향족 카복실기를 갖는 수지가 존재하고 있다고 추측된다. 이 때문에, 본 발명의 착색 조성물을 이용하여 얻어진 막은, 고온으로 가열한 후에도, C. I. 피그먼트 레드 272의 응집 등을 억제할 수 있어, 이물의 발생을 억제할 수 있었다고 추측된다.On the other hand, it is estimated that resin which has an aromatic carboxyl group is adsorbed to the surface of C.I. Pigment Red 272 suitably, and resin which has an aromatic carboxyl group exists between the particle|grains of C.I. Pigment Red 272 in a film|membrane. For this reason, even after heating the film|membrane obtained using the coloring composition of this invention to high temperature, it is estimated that the aggregation of C.I. pigment red 272, etc. could be suppressed, and generation|occurrence|production of a foreign material could be suppressed.

본 발명의 착색 조성물로 이용되는 C. I. 피그먼트 레드 272는, 종래의 적색 안료보다 적색의 색가(色價)가 높기 때문에, 박막이더라도 원하는 분광 특성을 갖는 경화막을 형성할 수 있다. 또, C. I. 피그먼트 레드 272는 종래의 적색 안료에 비하여 적색의 색가가 높기 때문에, 종래의 적색 안료와 동등한 분광 특성을 달성하기 위하여 필요하게 되는 배합량보다 적은 배합량으로 원하는 분광을 달성할 수 있기 때문에, 안료 이외의 성분의 배합량을 높일 수도 있어, 처방 설계의 자유도가 높다.Since C.I. Pigment Red 272 used as the coloring composition of the present invention has a higher red color value than a conventional red pigment, even a thin film can form a cured film having desired spectral properties. In addition, since C.I. Pigment Red 272 has a higher color value of red than that of a conventional red pigment, the desired spectrum can be achieved with a compounding amount smaller than that required to achieve spectral properties equivalent to that of a conventional red pigment, The compounding quantity of components other than a pigment can also be raised, and the freedom degree of prescription design is high.

본 발명의 착색 조성물은, 고체 촬상 소자용의 착색 조성물로서 바람직하게 이용할 수 있다. 또, 본 발명의 착색 조성물은, 컬러 필터용의 착색 조성물로서 바람직하게 이용할 수 있다. 구체적으로는, 컬러 필터의 화소 형성용의 착색 조성물로서 바람직하게 이용할 수 있으며, 컬러 필터의 적색 화소 형성용의 착색 조성물로서 보다 바람직하게 이용할 수 있다. 또, 본 발명의 착색 조성물은, 고체 촬상 소자에 이용되는 컬러 필터의 화소 형성용의 착색 조성물로서 바람직하게 이용할 수 있다. 또, 본 발명의 착색 조성물은, 포토리소그래피용의 착색 조성물 및 드라이 에칭용의 착색 조성물 중 어느 것으로서도 이용할 수 있지만, 기판에 대미지가 적다는 이유에서 포토리소그래피용의 착색 조성물로서 바람직하게 이용된다. 포토리소그래피용의 착색 조성물로서 이용하는 경우, 본 발명의 착색 조성물은, 수지와 중합성 화합물과 광중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하다.The coloring composition of this invention can be used suitably as a coloring composition for solid-state image sensors. Moreover, the coloring composition of this invention can be used suitably as a coloring composition for color filters. Specifically, it can use suitably as a coloring composition for pixel formation of a color filter, and can use it more preferably as a coloring composition for red pixel formation of a color filter. Moreover, the coloring composition of this invention can be used suitably as a coloring composition for pixel formation of the color filter used for a solid-state image sensor. Moreover, although the coloring composition of this invention can be used also as any of the coloring composition for photolithography and the coloring composition for dry etching, since there is little damage to a board|substrate, it is used preferably as a coloring composition for photolithography. When using as a coloring composition for photolithography, it is preferable that the coloring composition of this invention contains resin, a polymeric compound, and a photoinitiator.

이하, 본 발명의 착색 조성물에 이용되는 각 성분에 대하여 설명한다.Hereinafter, each component used for the coloring composition of this invention is demonstrated.

<<색재>><<Color material>>

본 발명의 착색 조성물은 색재를 함유한다. 색재로서는 안료를 포함하는 것이 이용된다. 색재 중에 있어서의 안료의 함유량은, 50질량% 이상인 것이 바람직하고, 70질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 80질량% 이상인 것이 더 바람직하고, 90질량% 이상인 것이 특히 바람직하다. 또, 색재는 안료만이어도 된다.The coloring composition of this invention contains a coloring material. As a color material, the thing containing a pigment is used. It is preferable that content of the pigment in a color material is 50 mass % or more, It is more preferable that it is 70 mass % or more, It is more preferable that it is 80 mass % or more, It is especially preferable that it is 90 mass % or more. Moreover, only a pigment may be sufficient as a color material.

본 발명의 착색 조성물에 있어서는, 상기 안료로서, C. I. 피그먼트 레드 272를 포함하는 것이 이용된다. C. I. 피그먼트 레드 272는 적색 안료이다.In the coloring composition of this invention, the thing containing C.I. Pigment Red 272 is used as said pigment. C. I. Pigment Red 272 is a red pigment.

C. I. 피그먼트 레드 272의 평균 1차 입자경은 10~100nm인 것이 바람직하고, 10~60nm인 것이 보다 바람직하며, 이물의 발생을 보다 효과적으로 억제할 수 있다는 이유에서 10~40nm인 것이 더 바람직하다.The average primary particle diameter of C. I. Pigment Red 272 is preferably 10 to 100 nm, more preferably 10 to 60 nm, and more preferably 10 to 40 nm from the reason that generation of foreign substances can be more effectively suppressed.

또한, 본 명세서에 있어서, 안료의 평균 1차 입자경은 이하의 방법으로 측정하여 구한 값을 이용한다. 즉, 안료를 투과형 전자 현미경에 의하여 관찰하여, 얻어진 사진으로부터 임의로 선택한 100개의 안료의 1차 입자에 대한 투영 면적을 측정하며, 그 투영 면적으로부터 원상당 직경을 구하고, 거기에 대응하는 원상당 직경을 안료의 1차 입자경으로서 산출한다. 얻어진 100개의 안료의 1차 입자경(원상당 직경)의 산술 평균값을 그 안료의 평균 1차 입자경으로 한다. 또한, 안료의 1차 입자란, 응집이 없는 독립적인 입자를 말한다.In addition, in this specification, the average primary particle diameter of a pigment uses the value calculated|required by the following method. That is, the pigment is observed with a transmission electron microscope, the projected area of 100 pigments arbitrarily selected from the obtained photograph is measured for the primary particle, and the equivalent circle diameter is obtained from the projected area, and the equivalent circle diameter corresponding thereto is measured. It calculates as a primary particle diameter of a pigment. Let the arithmetic mean value of the primary particle diameters (equivalent circle diameter) of 100 obtained pigments be the average primary particle diameter of this pigment. In addition, the primary particle of a pigment means independent particle|grains without aggregation.

착색 조성물에 포함되는 안료 전량 중에 있어서의 C. I. 피그먼트 레드 272의 함유량은, 10질량% 이상인 것이 바람직하고, 15질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 20질량% 이상인 것이 더 바람직하다. 상한은 100질량% 이하로 할 수도 있고, 95질량% 이하로 할 수도 있으며, 85질량% 이하로 할 수도 있고, 75질량% 이하로 할 수도 있으며, 50질량% 이하로 할 수도 있다.It is preferable that content of C.I. Pigment Red 272 in the pigment whole amount contained in a coloring composition is 10 mass % or more, It is more preferable that it is 15 mass % or more, It is more preferable that it is 20 mass % or more. The upper limit may be 100 mass % or less, 95 mass % or less, 85 mass % or less, 75 mass % or less, and may be 50 mass % or less.

또, 적색 안료 전량 중에 있어서의 C. I. 피그먼트 레드 272의 함유량은, 25~100질량%인 것이 바람직하고, 30~100질량%인 것이 보다 바람직하며, 40~100질량%인 것이 더 바람직하다. C. I. 피그먼트 레드 272의 함유량의 상한은 90질량% 이하로 할 수도 있으며, 80질량% 이하로 할 수도 있다.Moreover, it is preferable that content of C.I. pigment red 272 in red pigment whole quantity is 25-100 mass %, It is more preferable that it is 30-100 mass %, It is more preferable that it is 40-100 mass %. The upper limit of content of C.I. Pigment Red 272 may be 90 mass % or less, and may be 80 mass % or less.

본 발명의 착색 조성물에 이용되는 안료는, C. I. 피그먼트 레드 272 이외의 적색 안료를 더 포함하고 있어도 된다. 이 양태에 의하면, 착색 조성물을 이용하여 얻어지는 막을 습도가 높은 환경하에 장시간 방치한 경우이더라도, 이물의 발생을 보다 효과적으로 억제할 수 있다.The pigment used for the coloring composition of this invention may contain red pigments other than C.I. Pigment Red 272 further. According to this aspect, even when it is a case where the film|membrane obtained using a coloring composition is left to stand in a high humidity environment for a long time, generation|occurrence|production of a foreign material can be suppressed more effectively.

또, 본 발명의 착색 조성물에 이용되는 안료에 포함되는 적색 안료는, 실질적으로 C. I. 피그먼트 레드 272만으로 구성되어 있어도 된다. 이 양태에 의하면, 보다 색분리 성능이 높은 적색 화소를 제조할 수 있다. 적색 안료가, 실질적으로 C. I. 피그먼트 레드 272만으로 구성되어 있는 경우란, 적색 안료 중에 있어서의 C. I. 피그먼트 레드 272의 함유량이 99질량% 이상인 것을 의미하며, 99.9질량% 이상인 것이 바람직하고, 100질량%인 것이 보다 바람직하다.Moreover, the red pigment contained in the pigment used for the coloring composition of this invention may be comprised substantially only from C.I. Pigment Red 272. According to this aspect, a red pixel with higher color separation performance can be manufactured. When the red pigment is substantially composed of only C. I. Pigment Red 272, it means that the content of C. I. Pigment Red 272 in the red pigment is 99 mass % or more, preferably 99.9 mass % or more, and 100 mass % It is more preferable that

C. I. 피그먼트 레드 272 이외의 적색 안료로서는, 다이케토피롤로피롤 안료, 안트라퀴논 안료, 아조 안료, 나프톨 안료, 아조메타인 안료, 잔텐 안료, 퀴나크리돈 안료, 페릴렌 안료, 싸이오인디고 안료 등을 들 수 있으며, 다이케토피롤로피롤 안료, 안트라퀴논 안료, 아조 안료인 것이 바람직하고, 다이케토피롤로피롤 안료인 것이 더 바람직하다. 다른 적색 안료의 구체예로서는, C. I. 피그먼트 레드 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49, 49:1, 49:2, 52:1, 52:2, 53:1, 57:1, 60:1, 63:1, 66, 67, 81:1, 81:2, 81:3, 83, 88, 90, 105, 112, 119, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 155, 166, 168, 169, 170, 171, 172, 175, 176, 177, 178, 179, 184, 185, 187, 188, 190, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 216, 220, 224, 226, 242, 246, 254, 255, 264, 269, 270, 279, 291, 294, 295, 296, 297 등을 들 수 있으며, 상술한 효과가 보다 현저하게 얻어지기 쉽다는 이유에서, C. I. 피그먼트 레드 254, C. I. 피그먼트 레드 177, C. I. 피그먼트 레드 264인 것이 바람직하고, C. I. 피그먼트 레드 254인 것이 더 바람직하다.C. I. Examples of red pigments other than Pigment Red 272 include diketopyrrolopyrrole pigments, anthraquinone pigments, azo pigments, naphthol pigments, azomethine pigments, xanthene pigments, quinacridone pigments, perylene pigments, thioindigo pigments, etc. and diketopyrrolopyrrole pigments, anthraquinone pigments, and azo pigments are preferable, and diketopyrrolopyrrole pigments are more preferable. As a specific example of another red pigment, C.I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48:1, 48:2 , 48:3, 48:4, 49, 49:1, 49:2, 52:1, 52:2, 53:1, 57:1, 60:1, 63:1, 66, 67, 81:1 , 81:2, 81:3, 83, 88, 90, 105, 112, 119, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 155, 166, 168, 169, 170, 171, 172, 175, 176 , 177, 178, 179, 184, 185, 187, 188, 190, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 216, 220, 224, 226, 242, 246, 254, 255, 264, 269 , 270, 279, 291, 294, 295, 296, 297, etc., and C. I. Pigment Red 254, C. I. Pigment Red 177, C. I. Pigment Red from the reason that the above-described effect can be obtained more remarkably. 264, more preferably C.I. Pigment Red 254.

다른 적색 안료의 평균 1차 입자경은 10~100nm인 것이 바람직하고, 10~60nm인 것이 보다 바람직하며, 이물의 발생을 보다 효과적으로 억제할 수 있다는 이유에서 10~40nm인 것이 더 바람직하다.The average primary particle diameter of the other red pigments is preferably 10 to 100 nm, more preferably 10 to 60 nm, and still more preferably 10 to 40 nm from the reason that generation of foreign substances can be more effectively suppressed.

본 발명의 착색 조성물에 이용되는 색재는, 황색 색재를 더 포함하는 것이 바람직하다. 이 양태에 의하면, 적색의 화소에 적합한 분광 특성을 갖는 막을 형성하기 쉽다. 나아가서는, 착색 조성물의 보존 안정성을 향상시킬 수도 있다.It is preferable that the color material used for the coloring composition of this invention contains a yellow color material further. According to this aspect, it is easy to form the film|membrane which has the spectral characteristic suitable for a red pixel. Furthermore, the storage stability of a coloring composition can also be improved.

황색 색재로서는, 퀴노프탈론 화합물, 아이소인돌린 화합물, 아조 화합물, 아조메타인 화합물, 벤즈이미다졸온 화합물, 프테리딘 화합물 및 퀴녹살린 화합물을 들 수 있으며, 퀴노프탈론 화합물, 아이소인돌린 화합물, 아조 화합물, 아조메타인 화합물, 및, 프테리딘 화합물이 바람직하고, 아이소인돌린 화합물 및 아조 화합물이 보다 바람직하며, 적색에 보다 적합한 분광 특성을 갖는 막을 형성하기 쉽다는 이유에서 아이소인돌린 화합물이 특히 바람직하다. 또, 황색 색재는, 착색 조성물을 이용하여 얻어지는 막을 습도가 높은 환경하에 장시간 방치한 경우이더라도, 이물의 발생을 보다 효과적으로 억제할 수 있다는 이유에서 안료(황색 안료)인 것이 바람직하다. 또, 황색 안료의 평균 1차 입자경은 10~100nm인 것이 바람직하고, 10~60nm인 것이 보다 바람직하며, 이물의 발생을 보다 효과적으로 억제할 수 있다는 이유에서 10~40nm인 것이 더 바람직하다.Examples of the yellow color material include a quinophthalone compound, an isoindoline compound, an azo compound, an azomethine compound, a benzimidazolone compound, a pteridine compound, and a quinoxaline compound, and a quinophthalone compound, an isoindoline compound , an azo compound, an azomethine compound, and a pteridine compound are preferable, an isoindoline compound and an azo compound are more preferable, and an isoindoline compound because it is easy to form a film having spectral properties more suitable for red color This is particularly preferred. Moreover, it is preferable that a yellow color material is a pigment (yellow pigment) from the reason that generation|occurrence|production of a foreign material can be suppressed more effectively even if it is a case where the film obtained using a coloring composition is left to stand in a high humidity environment for a long time. Moreover, it is preferable that it is 10-100 nm, and, as for the average primary particle diameter of a yellow pigment, it is more preferable that it is 10-60 nm, It is more preferable that it is 10-40 nm from the reason that generation|occurrence|production of a foreign material can be suppressed more effectively.

황색 색재로서는, C. I. 피그먼트 옐로 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 20, 24, 31, 32, 34, 35, 35:1, 36, 36:1, 37, 37:1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 86, 93, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170, 171, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 179, 180, 181, 182, 185, 187, 188, 193, 194, 199, 213, 214, 215, 228, 231, 232(메타인계), 233(퀴놀린계), 234(아미노케톤계), 235(아미노케톤계), 236(아미노케톤계) 등(이상, 황색 안료)을 들 수 있다.Examples of the yellow color material include C. I. Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 20, 24, 31, 32, 34, 35, 35:1, 36, 36:1, 37, 37:1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 86, 93, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170, 171, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 179, 180, 181, 182, 185, 187, 188, 193, 194, 199, 213, 214, 215, 228, 231, 232 (metaphosphorus), 233 (quinoline), 234 (aminoketone) system), 235 (amino ketone system), 236 (amino ketone system), etc. (above, yellow pigment) are mentioned.

또, 황색 색재로서, 일본 공개특허공보 2017-201003호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-197719호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-171912호의 단락 번호 0011~0062, 0137~0276에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-171913호의 단락 번호 0010~0062, 0138~0295에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-171914호의 단락 번호 0011~0062, 0139~0190에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-171915호의 단락 번호 0010~0065, 0142~0222에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2013-054339호의 단락 번호 0011~0034에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2014-026228호의 단락 번호 0013~0058에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2018-062644호에 기재된 아이소인돌린 화합물, 일본 공개특허공보 218-203798호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2018-062578호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 특허공보 제6432077호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 특허공보 제6432076호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2018-155881호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2018-111757호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2018-040835호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2017-197640호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2016-145282호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2014-085565호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2014-021139호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2013-209614호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2013-209435호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2013-181015호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2013-061622호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2013-054339호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2013-032486호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2012-226110호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2008-074987호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2008-081565호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2008-074986호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2008-074985호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2008-050420호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2008-031281호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공고특허공보 소48-032765호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 일본 공개특허공보 2019-008014호에 기재된 퀴노프탈론 화합물, 식 (QP1)로 나타나는 화합물, 식 (QP2)로 나타나는 화합물, 한국 공개특허공보 제10-2014-0034963호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-095706호에 기재된 화합물, 대만 특허출원 공개공보 제201920495호에 기재된 화합물, 일본 특허공보 제6607427호에 기재된 화합물을 이용할 수도 있다. 또, 이들 화합물을 다량체화한 것도, 색가 향상의 관점에서 바람직하게 이용된다.Moreover, as a yellow color material, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-201003, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-197719, Paragraph Nos. 0011 - 0062 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-171912, 0137 - The compound of 0276 , the compound described in Paragraph Nos. 0010 to 0062 and 0138 to 0295 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-171913, the compounds described in Paragraph Nos. 0011 to 0062 and 0139 to 0190 of Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-171914, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-171915 Paragraph Nos. 0010 to 0065, the compounds described in 0142 to 0222, the quinophthalone compounds described in Paragraph Nos. 0011 to 0034 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-054339, Quinophthalone compounds described in Paragraph Nos. 0013 to 0058 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-026228 Nophthalone compound, the isoindoline compound described in JP-A-2018-062644, the quinophthalone compound described in JP-A-218-203798, the quinophthalone compound described in JP-A-2018-062578, Japan The quinophthalone compound described in Patent Publication No. 6432077, the quinophthalone compound described in Japanese Patent Publication No. 6432076, the quinophthalone compound described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2018-155881, The quinophthalone compound described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2018-111757 A quinophthalone compound, the quinophthalone compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2018-040835, the quinophthalone compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-197640, the quinophthalone compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2016-145282, The quinophthalone compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-085565, the quinophthalone compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-021139, The quinophthalone compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-209614, Unexamined-Japanese-Patent No. 2013 -The quinophthalone compound described in -209435, the quino described in Japanese Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-181015. A phthalone compound, the quinophthalone compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-061622, the quinophthalone compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-054339, The quinophthalone compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-032486, Japan The quinophthalone compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-226110, the quinophthalone compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-074987, The quinophthalone compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-081565, Unexamined-Japanese-Patent No. 2008- The quinophthalone compound described in 074986, the quinophthalone compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-074985, the quinophthalone compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-050420, The quin of Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-031281. Nophthalone compound, the quinophthalone compound described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 48-032765, the quinophthalone compound described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2019-008014, the compound represented by the formula (QP1), the compound represented by the formula (QP2) , the compound described in Korean Patent Application Laid-Open No. 10-2014-0034963, the compound described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-095706, the compound described in Taiwan Patent Application Laid-Open No. 201920495, the compound described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6607427 can also be used. Moreover, what multimerized these compounds is also used preferably from a viewpoint of color value improvement.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

식 (QP1) 중, X1~X16은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 할로젠 원자를 나타내고, Z1은 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타낸다. 식 (QP1)로 나타나는 화합물의 구체예로서는, 일본 특허공보 제6443711호의 단락 번호 0016에 기재되어 있는 화합물을 들 수 있다.In formula (QP1), X 1 to X 16 each independently represents a hydrogen atom or a halogen atom, and Z 1 represents an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms. As a specific example of the compound represented by Formula (QP1), the compound described in Paragraph No. 0016 of Unexamined-Japanese-Patent No. 6443711 is mentioned.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

식 (QP2) 중, Y1~Y3은, 각각 독립적으로 할로젠 원자를 나타낸다. n, m은 0~6의 정수, p는 0~5의 정수를 나타낸다. (n+m)은 1 이상이다. 식 (QP2)로 나타나는 화합물의 구체예로서는, 일본 특허공보 6432077호의 단락 번호 0047~0048에 기재되어 있는 화합물을 들 수 있다.In the formula (QP2), Y 1 to Y 3 each independently represent a halogen atom. n and m represent the integers of 0-6, and p represents the integer of 0-5. (n+m) is 1 or more. As a specific example of the compound represented by Formula (QP2), the compound described in Paragraph No. 0047 - 0048 of Unexamined-Japanese-Patent No. 6432077 is mentioned.

황색 색재는, C. I. 피그먼트 옐로 129, C. I. 피그먼트 옐로 138, C. I. 피그먼트 옐로 139, C. I. 피그먼트 옐로 150, C. I. 피그먼트 옐로 185 및 C. I. 피그먼트 옐로 215로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하고, C. I. 피그먼트 옐로 129, C. I. 피그먼트 옐로 138, C. I. 피그먼트 옐로 139, C. I. 피그먼트 옐로 185인 것이 보다 바람직하며, 보다 색분리 성능이 높은 적색 화소를 제조할 수 있다는 이유에서 C. I. 피그먼트 옐로 139인 것이 더 바람직하다.The yellow color material is preferably at least one selected from C. I. Pigment Yellow 129, C. I. Pigment Yellow 138, C. I. Pigment Yellow 139, C. I. Pigment Yellow 150, C. I. Pigment Yellow 185 and C. I. Pigment Yellow 215, and C. I. Pigment Yellow 215. Pigment Yellow 129, C. I. Pigment Yellow 138, C. I. Pigment Yellow 139, C. I. Pigment Yellow 185 are more preferable, and C. I. Pigment Yellow 139 is more preferable because red pixels with higher color separation performance can be manufactured. more preferably.

본 발명의 착색 조성물에 포함되는 색재에는, 오렌지색 색재, 녹색 색재, 자색 색재, 청색 색재 등의 유채색 색재를 더 이용할 수도 있다. 이들 유채색 색재는 안료인 것이 바람직하다. 이들의 구체예로서는, 이하에 나타내는 것을 들 수 있다.Chromatic color materials, such as an orange color material, a green color material, a purple color material, and a blue color material, can also be further used for the color material contained in the coloring composition of this invention. It is preferable that these chromatic coloring materials are pigments. What is shown below is mentioned as these specific examples.

C. I. 피그먼트 오렌지 2, 5, 13, 16, 17:1, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 71, 73 등(이상, 오렌지색 안료),C. I. Pigment Orange 2, 5, 13, 16, 17:1, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 71, 73 light (above, orange pigment),

C. I. 피그먼트 그린 7, 10, 36, 37, 58, 59, 62, 63, 64(프탈로사이아닌계), 65(프탈로사이아닌계), 66(프탈로사이아닌계) 등(이상, 녹색 안료),C. I. Pigment Green 7, 10, 36, 37, 58, 59, 62, 63, 64 (phthalocyanine-based), 65 (phthalocyanine-based), 66 (phthalocyanine-based), etc. (above, green pigment),

C. I. 피그먼트 바이올렛 1, 19, 23, 27, 32, 37, 42, 60(트라이아릴메테인계), 61(잔텐계) 등(이상, 자색 안료),C. I. Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 32, 37, 42, 60 (triarylmethane-based), 61 (xanthene-based), etc. (above, purple pigment);

C. I. 피그먼트 블루 1, 2, 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 29, 60, 64, 66, 79, 80, 87(모노아조계), 88(메타인계) 등(이상, 청색 안료).C. I. Pigment Blue 1, 2, 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 29, 60, 64, 66, 79, 80, 87 (monoa crude), 88 (metaphosphorus), etc. (above, blue pigment).

또, 녹색 안료로서, 1분자 중의 할로젠 원자수가 평균 10~14개이고, 브로민 원자수가 평균 8~12개이며, 염소 원자수가 평균 2~5개인 할로젠화 아연 프탈로사이아닌 안료를 이용할 수도 있다. 구체예로서는, 국제 공개공보 제2015/118720호에 기재된 화합물을 들 수 있다. 또, 녹색 안료로서 중국 특허출원 제106909027호에 기재된 화합물, 국제 공개공보 제2012/102395호에 기재된 인산 에스터를 배위자로서 갖는 프탈로사이아닌 화합물, 일본 공개특허공보 2019-008014호에 기재된 프탈로사이아닌 화합물, 일본 공개특허공보 2018-180023호에 기재된 프탈로사이아닌 화합물, 일본 공개특허공보 2019-038958호에 기재된 화합물 등을 이용할 수도 있다.Moreover, as a green pigment, the average number of halogen atoms in 1 molecule is 10-14, the average number of bromine atoms is 8-12, and the average number of chlorine atoms is 2-5 halogenated zinc phthalocyanine pigments can also be used. have. As a specific example, the compound of International Publication No. 2015/118720 is mentioned. Moreover, as a green pigment, the compound described in Chinese Patent Application No. 106909027, the phthalocyanine compound which has the phosphate ester described in International Publication No. 2012/102395 as a ligand, and the phthalocyanine described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2019-008014. An amine compound, the phthalocyanine compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2018-180023, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2019-038958, etc. can also be used.

또, 청색 안료로서, 인 원자를 갖는 알루미늄프탈로사이아닌 화합물을 이용할 수도 있다. 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2012-247591호의 단락 0022~0030, 일본 공개특허공보 2011-157478호의 단락 0047에 기재된 화합물을 들 수 있다.Moreover, as a blue pigment, the aluminum phthalocyanine compound which has a phosphorus atom can also be used. As a specific example, Paragraph 0022 - 0030 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-247591, Paragraph 0047 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-157478 are mentioned.

또, 색재에는 염료를 더 이용할 수도 있다. 염료로서는 특별히 제한은 없고, 공지의 염료를 사용할 수 있다. 예를 들면, 피라졸아조 화합물, 아닐리노아조 화합물, 트라이아릴메테인 화합물, 안트라퀴논 화합물, 안트라피리돈 화합물, 벤질리덴 화합물, 옥소놀 화합물, 피라졸로트라이아졸아조 화합물, 피리돈아조 화합물, 사이아닌 화합물, 페노싸이아진 화합물, 피롤로피라졸아조메타인 화합물, 잔텐 화합물, 프탈로사이아닌 화합물, 벤조피란 화합물, 인디고 화합물, 피로메텐 화합물을 들 수 있다. 또, 일본 공개특허공보 2012-158649호에 기재된 싸이아졸 화합물, 일본 공개특허공보 2011-184493호에 기재된 아조 화합물, 일본 공개특허공보 2011-145540호에 기재된 아조 화합물을 바람직하게 이용할 수도 있다. 또, 염료로서는, 색소 다량체를 이용할 수도 있다. 색소 다량체는, 1분자 중에, 색소 구조를 2 이상 갖는 것이며, 색소 구조를 3 이상 갖는 것이 바람직하다. 상한은, 특별히 한정은 없지만, 100 이하로 할 수도 있다. 1분자 중에 갖는 복수의 색소 구조는, 동일한 색소 구조여도 되고, 상이한 색소 구조여도 된다. 색소 다량체의 중량 평균 분자량(Mw)은, 2000~50000이 바람직하다. 하한은, 3000 이상이 보다 바람직하며, 6000 이상이 더 바람직하다. 상한은, 30000 이하가 보다 바람직하며, 20000 이하가 더 바람직하다. 색소 다량체는, 일본 공개특허공보 2011-213925호, 일본 공개특허공보 2013-041097호, 일본 공개특허공보 2015-028144호, 일본 공개특허공보 2015-030742호, 일본 공개특허공보 2016-102191호, 국제 공개공보 제2016/031442호 등에 기재되어 있는 화합물을 이용할 수도 있다.Moreover, dye can also be further used for a color material. There is no restriction|limiting in particular as dye, A well-known dye can be used. For example, a pyrazolazo compound, an anilinoazo compound, a triarylmethane compound, an anthraquinone compound, an anthrapyridone compound, a benzylidene compound, an oxonol compound, a pyrazolotriazolazo compound, a pyridonazo compound, an anin compound, a phenothiazine compound, a pyrrolopyrazolazomethine compound, a xanthene compound, a phthalocyanine compound, a benzopyran compound, an indigo compound, and a pyrromethene compound. Moreover, the thiazole compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-158649, the azo compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-184493, and the azo compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-145540 can also be used preferably. Moreover, as dye, a dye multimer can also be used. A dye multimer has two or more dye structures in 1 molecule, and it is preferable to have three or more dye structures. The upper limit is not particularly limited, but may be 100 or less. The plurality of dye structures in one molecule may have the same dye structure or different dye structures. As for the weight average molecular weight (Mw) of a dye multimer, 2000-50000 are preferable. As for a minimum, 3000 or more are more preferable, and 6000 or more are still more preferable. 30000 or less are more preferable, and, as for an upper limit, 20000 or less are still more preferable. The dye multimer is disclosed in JP 2011-213925 , JP 2013-041097 , JP 2015-028144 , JP 2015-030742 , JP 2016-102191 , The compounds described in International Publication No. 2016/031442 and the like can also be used.

착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 색재의 함유량은, 30질량% 이상인 것이 바람직하고, 40질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 50질량% 이상인 것이 더 바람직하고, 55질량% 이상인 것이 보다 한층 바람직하며, 60질량% 이상인 것이 특히 바람직하다. 또, 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 색재의 함유량의 상한은, 90질량% 이하인 것이 바람직하고, 85질량% 이하인 것이 보다 바람직하며, 80질량% 이하인 것이 더 바람직하고, 75질량% 이하인 것이 보다 한층 바람직하며, 70질량% 이하인 것이 특히 바람직하다.The content of the color material in the total solid content of the coloring composition is preferably 30 mass % or more, more preferably 40 mass % or more, still more preferably 50 mass % or more, still more preferably 55 mass % or more, 60 It is especially preferable that it is mass % or more. Moreover, it is preferable that it is 90 mass % or less, and, as for the upper limit of content of the color material in the total solid of a coloring composition, it is more preferable that it is 85 mass % or less, It is more preferable that it is 80 mass % or less, It is still more preferable that it is 75 mass % or less. It is preferable, and it is especially preferable that it is 70 mass % or less.

또, 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 안료의 함유량은, 30질량% 이상인 것이 바람직하고, 40질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 50질량% 이상인 것이 더 바람직하고, 55질량% 이상인 것이 보다 한층 바람직하며, 60질량% 이상인 것이 특히 바람직하다. 또, 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 안료의 함유량의 상한은, 90질량% 이하인 것이 바람직하고, 85질량% 이하인 것이 보다 바람직하며, 80질량% 이하인 것이 더 바람직하고, 75질량% 이하인 것이 보다 한층 바람직하며, 70질량% 이하인 것이 특히 바람직하다.Further, the content of the pigment in the total solid content of the coloring composition is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, still more preferably 50% by mass or more, still more preferably 55% by mass or more, , 60% by mass or more is particularly preferred. Moreover, it is preferable that it is 90 mass % or less, and, as for the upper limit of content of the pigment in the total solid of a coloring composition, it is more preferable that it is 85 mass % or less, It is more preferable that it is 80 mass % or less, It is still more preferable that it is 75 mass % or less. It is preferable, and it is especially preferable that it is 70 mass % or less.

착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 C. I. 피그먼트 레드 272의 함유량은, 5질량% 이상인 것이 바람직하고, 10질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 15질량% 이상인 것이 더 바람직하다. 또, 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 C. I. 피그먼트 레드 272의 함유량의 상한은, 60질량% 이하인 것이 바람직하고, 50질량% 이하인 것이 보다 바람직하며, 35질량% 이하인 것이 더 바람직하다.It is preferable that content of C.I. pigment red 272 in total solid of a coloring composition is 5 mass % or more, It is more preferable that it is 10 mass % or more, It is more preferable that it is 15 mass % or more. Moreover, it is preferable that it is 60 mass % or less, and, as for the upper limit of content of C.I. Pigment Red 272 in the total solid of a coloring composition, it is more preferable that it is 50 mass % or less, It is more preferable that it is 35 mass % or less.

착색 조성물에 포함되는 색재 중에 있어서의 C. I. 피그먼트 레드 272의 함유량은, 10~100질량%인 것이 바람직하다. 하한은, 15질량% 이상인 것이 바람직하고, 20질량% 이상인 것이 보다 바람직하다. 상한은, 95질량% 이하로 할 수도 있고, 85질량% 이하로 할 수도 있으며, 75질량% 이하로 할 수도 있고, 50질량% 이하로 할 수도 있다.It is preferable that content of C.I. pigment red 272 in the color material contained in a coloring composition is 10-100 mass %. It is preferable that it is 15 mass % or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 20 mass % or more. The upper limit may be 95 mass % or less, 85 mass % or less, 75 mass % or less, and may be 50 mass % or less.

착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 C. I. 피그먼트 레드 272와 황색 색재의 합계의 함유량은, 50질량% 이상인 것이 바람직하고, 60질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 65질량% 이상인 것이 더 바람직하다. 또, 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 C. I. 피그먼트 레드 272와 황색 색재의 합계의 함유량의 상한은, 100질량%로 할 수도 있고, 80질량% 이하로 할 수도 있으며, 75질량% 이하로 할 수도 있다.The total content of the C.I. Pigment Red 272 and the yellow colorant in the total solid content of the coloring composition is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, and still more preferably 65% by mass or more. In addition, the upper limit of content of the total of C.I. Pigment Red 272 and yellow colorant in the total solid content of the coloring composition may be 100 mass %, may be 80 mass % or less, It may be made into 75 mass % or less have.

착색 조성물에 포함되는 안료가 다른 적색 안료를 포함하는 경우, 다른 적색 안료의 함유량은, C. I. 피그먼트 레드 272의 100질량부에 대하여 10~400질량부인 것이 바람직하다. 하한은, 20질량부 이상인 것이 바람직하고, 30질량부 이상인 것이 보다 바람직하며, 50질량부 이상인 것이 더 바람직하다. 상한은, 300질량부 이하인 것이 바람직하고, 250질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 200질량부 이하인 것이 더 바람직하다.When the pigment contained in a coloring composition contains another red pigment, it is preferable that content of another red pigment is 10-400 mass parts with respect to 100 mass parts of C.I. Pigment Red 272. It is preferable that a minimum is 20 mass parts or more, It is more preferable that it is 30 mass parts or more, It is more preferable that it is 50 mass parts or more. It is preferable that it is 300 mass parts or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 250 mass parts or less, It is more preferable that it is 200 mass parts or less.

착색 조성물에 포함되는 안료가 다른 적색 안료로서 C. I. 피그먼트 레드 254를 포함하는 경우, C. I. 피그먼트 레드 254의 함유량은, C. I. 피그먼트 레드 272의 100질량부에 대하여 10~400질량부인 것이 바람직하다. 하한은, 20질량부 이상인 것이 바람직하고, 30질량부 이상인 것이 보다 바람직하며, 50질량부 이상인 것이 더 바람직하다. 상한은, 300질량부 이하인 것이 바람직하고, 250질량부 이하인 것이 보다 바람직하며, 200질량부 이하인 것이 더 바람직하다.When the pigment contained in the coloring composition contains C.I. Pigment Red 254 as another red pigment, it is preferable that content of C.I. Pigment Red 254 is 10-400 mass parts with respect to 100 mass parts of C.I. Pigment Red 272. It is preferable that a minimum is 20 mass parts or more, It is more preferable that it is 30 mass parts or more, It is more preferable that it is 50 mass parts or more. It is preferable that it is 300 mass parts or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 250 mass parts or less, It is more preferable that it is 200 mass parts or less.

<<수지>><<Resin>>

본 발명의 착색 조성물은 수지를 포함한다. 수지는, 예를 들면, 안료를 조성물 중에서 분산시키는 용도나, 바인더의 용도로 배합된다. 또한, 주로 안료를 조성물 중에서 분산시키기 위하여 이용되는 수지를 분산제라고도 한다. 단, 수지의 이와 같은 용도는 일례이며, 이와 같은 용도 이외를 목적으로 하여 수지를 사용할 수도 있다.The coloring composition of this invention contains resin. Resin is mix|blended for the use which disperse|distributes a pigment in a composition, and the use of a binder, for example. In addition, a resin mainly used for dispersing the pigment in the composition is also referred to as a dispersant. However, such a use of resin is an example, and resin can also be used for purposes other than such a use.

본 발명의 착색 조성물에 있어서는, 수지로서 방향족 카복실기를 갖는 수지(이하, 수지 Ac라고도 한다)를 이용한다.In the coloring composition of this invention, resin (henceforth resin Ac) which has an aromatic carboxyl group is used as resin.

수지 Ac에 있어서, 방향족 카복실기는 반복 단위의 주쇄에 포함되어 있어도 되고, 반복 단위의 측쇄에 포함되어 있어도 된다. 본 발명의 효과가 보다 현저하게 발휘된다는 이유에서, 방향족 카복실기는 반복 단위의 주쇄에 포함되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서, 방향족 카복실기란, 방향족환에 카복실기가 1개 이상 결합한 구조의 기이다. 방향족 카복실기에 있어서, 방향족환에 결합한 카복실기의 수는, 1~4개인 것이 바람직하고, 1~2개인 것이 보다 바람직하다.Resin Ac WHEREIN: The aromatic carboxyl group may be contained in the main chain of a repeating unit, and may be contained in the side chain of a repeating unit. Since the effect of this invention is exhibited more notably, it is preferable that the aromatic carboxyl group is contained in the main chain of a repeating unit. In addition, in this specification, an aromatic carboxyl group is group of the structure which 1 or more carboxyl groups couple|bonded with the aromatic ring. Aromatic carboxyl group WHEREIN: It is preferable that it is 1-4, and, as for the number of the carboxyl groups couple|bonded with the aromatic ring, it is more preferable that it is 1-2.

수지 Ac는, 식 (Ac-1)로 나타나는 반복 단위 및 식 (Ac-2)로 나타나는 반복 단위로부터 선택되는 적어도 1종의 반복 단위를 포함하는 수지인 것이 바람직하고, 식 (Ac-2)로 나타나는 반복 단위를 포함하는 수지인 것이 보다 바람직하다. 방향족 카복실기를 갖는 수지가 식 (Ac-2)로 나타나는 반복 단위를 갖는 수지인 경우는, 이 수지는 분산제로서 바람직하게 이용된다.The resin Ac is preferably a resin containing at least one repeating unit selected from the repeating unit represented by the formula (Ac-1) and the repeating unit represented by the formula (Ac-2), and is represented by the formula (Ac-2) It is more preferable that it is resin containing the repeating unit which appears. When resin which has an aromatic carboxyl group is resin which has a repeating unit represented by Formula (Ac-2), this resin is used preferably as a dispersing agent.

[화학식 3][Formula 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

식 (Ac-1) 중, Ar1은 방향족 카복실기를 포함하는 기를 나타내고, L1은, -COO- 또는 -CONH-를 나타내며, L2는, 2가의 연결기를 나타낸다.In formula (Ac-1), Ar 1 represents a group containing an aromatic carboxyl group, L 1 represents -COO- or -CONH-, and L 2 represents a divalent linking group.

식 (Ac-2) 중, Ar10은 방향족 카복실기를 포함하는 기를 나타내고, L11은, -COO- 또는 -CONH-를 나타내며, L12는 3가의 연결기를 나타내고, P10은 폴리머쇄를 나타낸다.In formula (Ac-2), Ar 10 represents a group containing an aromatic carboxyl group, L 11 represents -COO- or -CONH-, L 12 represents a trivalent linking group, and P 10 represents a polymer chain.

식 (Ac-1)에 있어서 Ar1이 나타내는 방향족 카복실기를 포함하는 기로서는, 방향족 트라이카복실산 무수물로부터 유래하는 구조, 방향족 테트라카복실산 무수물로부터 유래하는 구조 등을 들 수 있다. 방향족 트라이카복실산 무수물 및 방향족 테트라카복실산 무수물로서는, 하기 구조의 화합물을 들 수 있다.Examples of the group containing the aromatic carboxyl group represented by Ar 1 in the formula (Ac-1) include a structure derived from an aromatic tricarboxylic acid anhydride, a structure derived from an aromatic tetracarboxylic acid anhydride, and the like. As aromatic tricarboxylic acid anhydride and aromatic tetracarboxylic acid anhydride, the compound of the following structure is mentioned.

[화학식 4][Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

상기 식 중, Q1은, 단결합, -O-, -CO-, -COOCH2CH2OCO-, -SO2-, -C(CF3)2-, 식 (Q-1)로 나타나는 기 또는 식 (Q-2)로 나타나는 기를 나타낸다.In the formula, Q 1 is a single bond, -O-, -CO-, -COOCH 2 CH 2 OCO-, -SO 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, a group represented by the formula (Q-1) Or group represented by Formula (Q-2) is shown.

[화학식 5][Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

방향족 트라이카복실산 무수물의 구체예로서는, 벤젠트라이카복실산 무수물(1,2,3-벤젠트라이카복실산 무수물, 트라이멜리트산 무수물[1,2,4-벤젠트라이카복실산 무수물] 등), 나프탈렌트라이카복실산 무수물(1,2,4-나프탈렌트라이카복실산 무수물, 1,4,5-나프탈렌트라이카복실산 무수물, 2,3,6-나프탈렌트라이카복실산 무수물, 1,2,8-나프탈렌트라이카복실산 무수물 등), 3,4,4'-벤조페논트라이카복실산 무수물, 3,4,4'-바이페닐에터트라이카복실산 무수물, 3,4,4'-바이페닐트라이카복실산 무수물, 2,3,2'-바이페닐트라이카복실산 무수물, 3,4,4'-바이페닐메테인트라이카복실산 무수물, 또는 3,4,4'-바이페닐설폰트라이카복실산 무수물을 들 수 있다. 방향족 테트라카복실산 무수물의 구체예로서는, 파이로멜리트산 이무수물, 에틸렌글라이콜다이무수 트라이멜리트산 에스터, 프로필렌글라이콜다이무수 트라이멜리트산 에스터, 뷰틸렌글라이콜다이무수 트라이멜리트산 에스터, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카복실산 이무수물, 3,3',4,4'-바이페닐설폰테트라카복실산 이무수물, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카복실산 이무수물, 2,3,6,7-나프탈렌테트라카복실산 이무수물, 3,3',4,4'-바이페닐에터테트라카복실산 이무수물, 3,3',4,4'-다이메틸다이페닐실레인테트라카복실산 이무수물, 3,3',4,4'-테트라페닐실레인테트라카복실산 이무수물, 1,2,3,4-퓨란테트라카복실산 이무수물, 4,4'-비스(3,4-다이카복시페녹시)다이페닐설파이드 이무수물, 4,4'-비스(3,4-다이카복시페녹시)다이페닐설폰 이무수물, 4,4'-비스(3,4-다이카복시페녹시)다이페닐프로페인 이무수물, 3,3',4,4'-퍼플루오로아이소프로필리덴다이프탈산 이무수물, 3,3',4,4'-바이페닐테트라카복실산 이무수물, 비스(프탈산)페닐포스핀옥사이드 이무수물, p-페닐렌-비스(트라이페닐프탈산) 이무수물, m-페닐렌-비스(트라이페닐프탈산) 이무수물, 비스(트라이페닐프탈산)-4,4'-다이페닐에터 이무수물, 비스(트라이페닐프탈산)-4,4'-다이페닐메테인 이무수물, 9,9-비스(3,4-다이카복시페닐)플루오렌 이무수물, 9,9-비스[4-(3,4-다이카복시페녹시)페닐]플루오렌 이무수물, 3,4-다이카복시-1,2,3,4-테트라하이드로-1-나프탈렌 석신산 이무수물, 또는 3,4-다이카복시-1,2,3,4-테트라하이드로-6-메틸-1-나프탈렌 석신산 이무수물 등을 들 수 있다.Specific examples of the aromatic tricarboxylic acid anhydride include benzene tricarboxylic acid anhydride (1,2,3-benzene tricarboxylic acid anhydride, trimellitic acid anhydride [1,2,4-benzene tricarboxylic acid anhydride], etc.), naphthalene tricarboxylic acid anhydride (1, 2,4-naphthalene tricarboxylic acid anhydride, 1,4,5-naphthalene tricarboxylic acid anhydride, 2,3,6-naphthalene tricarboxylic acid anhydride, 1,2,8-naphthalene tricarboxylic acid anhydride, etc.), 3,4,4' -benzophenone tricarboxylic acid anhydride, 3,4,4'-biphenyl ether tricarboxylic acid anhydride, 3,4,4'-biphenyl tricarboxylic acid anhydride, 2,3,2'-biphenyl tricarboxylic acid anhydride, 3, 4,4'-biphenylmethanetricarboxylic acid anhydride, or 3,4,4'-biphenylsulfonetricarboxylic acid anhydride. Specific examples of the aromatic tetracarboxylic acid anhydride include pyromellitic dianhydride, ethylene glycol dianhydride trimellitic acid ester, propylene glycol dimethyl anhydride trimellitic acid ester, butylene glycol dihydrate trimellitic acid ester, 3; 3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3 ,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenylethertetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-dimethyldiphenylsilane tetracarboxylic dianhydride , 3,3',4,4'-tetraphenylsilane tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-furantetracarboxylic dianhydride, 4,4'-bis(3,4-dicarboxyphenoxy) Diphenylsulfide dianhydride, 4,4'-bis(3,4-dicarboxyphenoxy)diphenylsulfone dianhydride, 4,4'-bis(3,4-dicarboxyphenoxy)diphenylpropane dianhydride , 3,3',4,4'-perfluoroisopropylidenediphthalic acid dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, bis(phthalic acid)phenylphosphine oxide dianhydride, p-phenylene-bis(triphenylphthalic acid) dianhydride, m-phenylene-bis(triphenylphthalic acid) dianhydride, bis(triphenylphthalic acid)-4,4'-diphenyl ether dianhydride, bis(tri Phenylphthalic acid) -4,4'-diphenylmethane dianhydride, 9,9-bis (3,4-dicarboxyphenyl) fluorene dianhydride, 9,9-bis [4- (3,4-dicarboxy) phenoxy) phenyl] fluorene dianhydride, 3,4-dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydro-1-naphthalene succinic dianhydride, or 3,4-dicarboxy-1,2,3; 4-tetrahydro-6-methyl-1-naphthalene succinic dianhydride; and the like.

Ar1이 나타내는 방향족 카복실기를 포함하는 기의 구체예로서는, 식 (Ar-11)로 나타나는 기, 식 (Ar-12)로 나타나는 기, 식 (Ar-13)으로 나타나는 기 등을 들 수 있다.Specific examples of the group containing the aromatic carboxyl group represented by Ar 1 include a group represented by the formula (Ar-11), a group represented by the formula (Ar-12), and a group represented by the formula (Ar-13).

[화학식 6][Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

식 (Ar-11) 중, n1은 1~4의 정수를 나타내며, 1 또는 2인 것이 바람직하고, 2인 것이 보다 바람직하다.In formula (Ar-11), n1 represents the integer of 1-4, it is preferable that it is 1 or 2, and it is more preferable that it is 2.

식 (Ar-12) 중, n2는 1~8의 정수를 나타내며, 1~4의 정수인 것이 바람직하고, 1 또는 2인 것이 보다 바람직하며, 2인 것이 더 바람직하다.In formula (Ar-12), n2 represents the integer of 1-8, it is preferable that it is an integer of 1-4, It is more preferable that it is 1 or 2, It is more preferable that it is 2.

식 (Ar-13) 중, n3 및 n4는 각각 독립적으로 0~4의 정수를 나타내며, 0~2의 정수인 것이 바람직하고, 1 또는 2인 것이 보다 바람직하며, 1인 것이 더 바람직하다. 단, n3 및 n4 중 적어도 일방은 1 이상의 정수이다.In formula (Ar-13), n3 and n4 each independently represent the integer of 0-4, It is preferable that it is an integer of 0-2, It is more preferable that it is 1 or 2, It is more preferable that it is 1. However, at least one of n3 and n4 is an integer of 1 or more.

식 (Ar-13) 중, Q1은, 단결합, -O-, -CO-, -COOCH2CH2OCO-, -SO2-, -C(CF3)2-, 상기 식 (Q-1)로 나타나는 기 또는 상기 식 (Q-2)로 나타나는 기를 나타낸다.In formula (Ar-13), Q 1 is a single bond, -O-, -CO-, -COOCH 2 CH 2 OCO-, -SO 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, the formula (Q- Group represented by 1) or group represented by said Formula (Q-2) is shown.

식 (Ar-11)~(Ar-13) 중, *1은 L1과의 결합 위치를 나타낸다.In formulas (Ar-11) to (Ar-13), *1 represents a bonding position with L 1 .

식 (Ac-1)에 있어서 L1은, -COO- 또는 -CONH-를 나타내고, -COO-를 나타내는 것이 바람직하다.In formula (Ac-1), L 1 represents -COO- or -CONH-, and it is preferable to represent -COO-.

식 (Ac-1)에 있어서 L2가 나타내는 2가의 연결기로서는, 알킬렌기, 아릴렌기, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-, -S- 및 이들의 2종 이상을 조합한 기를 들 수 있다. 알킬렌기의 탄소수는, 1~30이 바람직하고, 1~20이 보다 바람직하며, 1~15가 더 바람직하다. 알킬렌기는, 직쇄, 분기, 환상 중 어느 것이어도 된다. 아릴렌기의 탄소수는, 6~30이 바람직하고, 6~20이 보다 바람직하며, 6~10이 더 바람직하다. 알킬렌기 및 아릴렌기는 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 하이드록시기 등을 들 수 있다. L2가 나타내는 2가의 연결기는, -L2a-O-로 나타나는 기인 것이 바람직하다. L2a는, 알킬렌기; 아릴렌기; 알킬렌기와 아릴렌기를 조합한 기; 알킬렌기 및 아릴렌기로부터 선택되는 적어도 1종과, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- 및 -S-로부터 선택되는 적어도 1종을 조합한 기 등을 들 수 있고, 알킬렌기인 것이 바람직하다. 알킬렌기의 탄소수는, 1~30이 바람직하고, 1~20이 보다 바람직하며, 1~15가 더 바람직하다. 알킬렌기는, 직쇄, 분기, 환상 중 어느 것이어도 된다. 알킬렌기 및 아릴렌기는 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 하이드록시기 등을 들 수 있다.Examples of the divalent linking group represented by L 2 in the formula (Ac-1) include an alkylene group, an arylene group, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-, -S-, and these 2 The group which combined more than types is mentioned. 1-30 are preferable, as for carbon number of an alkylene group, 1-20 are more preferable, and 1-15 are still more preferable. The alkylene group may be linear, branched, or cyclic. 6-30 are preferable, as for carbon number of an arylene group, 6-20 are more preferable, and 6-10 are still more preferable. The alkylene group and the arylene group may have a substituent. A hydroxyl group etc. are mentioned as a substituent. It is preferable that the divalent coupling group represented by L 2 is a group represented by -L 2a -O-. L 2a is an alkylene group; arylene group; a group combining an alkylene group and an arylene group; The group etc. which combined at least 1 type selected from an alkylene group and an arylene group, and at least 1 type selected from -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-, and -S- are mentioned. and it is preferably an alkylene group. 1-30 are preferable, as for carbon number of an alkylene group, 1-20 are more preferable, and 1-15 are still more preferable. The alkylene group may be linear, branched, or cyclic. The alkylene group and the arylene group may have a substituent. A hydroxyl group etc. are mentioned as a substituent.

식 (Ac-2)에 있어서 Ar10이 나타내는 방향족 카복실기를 포함하는 기로서는, 식 (Ac-1)의 Ar1과 동일한 의미이며, 바람직한 범위도 동일하다.As group containing the aromatic carboxyl group which Ar< 10 > represents in Formula (Ac-2), it has the same meaning as Ar< 1 > of Formula (Ac-1), and a preferable range is also the same.

식 (Ac-2)에 있어서 L11은, -COO- 또는 -CONH-를 나타내고, -COO-를 나타내는 것이 바람직하다.In formula (Ac-2), L 11 represents -COO- or -CONH-, and preferably represents -COO-.

식 (Ac-2)에 있어서 L12가 나타내는 3가의 연결기로서는, 탄화 수소기, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-, -S- 및 이들의 2종 이상을 조합한 기를 들 수 있다. 탄화 수소기는, 지방족 탄화 수소기, 방향족 탄화 수소기를 들 수 있다. 지방족 탄화 수소기의 탄소수는, 1~30이 바람직하고, 1~20이 보다 바람직하며, 1~15가 더 바람직하다. 지방족 탄화 수소기는, 직쇄, 분기, 환상 중 어느 것이어도 된다. 방향족 탄화 수소기의 탄소수는, 6~30이 바람직하고, 6~20이 보다 바람직하며, 6~10이 더 바람직하다. 탄화 수소기는 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 하이드록시기 등을 들 수 있다. L12가 나타내는 3가의 연결기는, 식 (L12-1)로 나타나는 기인 것이 바람직하고, 식 (L12-2)로 나타나는 기인 것이 보다 바람직하다.Examples of the trivalent linking group represented by L 12 in the formula (Ac-2) include a hydrocarbon group, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-, -S-, and two or more thereof. A group combining the above can be mentioned. Examples of the hydrocarbon group include an aliphatic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group. 1-30 are preferable, as for carbon number of an aliphatic hydrocarbon group, 1-20 are more preferable, and 1-15 are still more preferable. The aliphatic hydrocarbon group may be linear, branched, or cyclic. 6-30 are preferable, as for carbon number of an aromatic hydrocarbon group, 6-20 are more preferable, and 6-10 are still more preferable. The hydrocarbon group may have a substituent. A hydroxyl group etc. are mentioned as a substituent. It is preferable that it is group represented by Formula ( L12-1 ), and, as for the trivalent coupling group represented by L12, it is more preferable that it is group represented by Formula (L12-2).

[화학식 7][Formula 7]

Figure pct00007
Figure pct00007

식 (L12-1) 중, L12b는 3가의 연결기를 나타내고, X1은 S를 나타내며, *1은 식 (Ac-2)의 L11과의 결합 위치를 나타내고, *2는 식 (Ac-2)의 P10과의 결합 위치를 나타낸다. L12b가 나타내는 3가의 연결기로서는, 탄화 수소기; 탄화 수소기와, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- 및 -S-로부터 선택되는 적어도 1종을 조합한 기 등을 들 수 있으며, 탄화 수소기 또는 탄화 수소기와 -O-를 조합한 기인 것이 바람직하다.In formula (L12-1), L 12b represents a trivalent linking group, X 1 represents S, *1 represents a bonding position with L 11 in formula (Ac-2), *2 represents a formula (Ac-) 2) shows the binding position with P 10 . Examples of the trivalent linking group represented by L 12b include a hydrocarbon group; a hydrocarbon group and a group obtained by combining at least one selected from -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-, and -S-, etc. are mentioned, A hydrocarbon group or a hydrocarbon group It is preferable that it is the group which combined -O-.

식 (L12-2) 중, L12c는 3가의 연결기를 나타내고, X1은 S를 나타내며, *1은 식 (Ac-2)의 L11과의 결합 위치를 나타내고, *2는 식 (Ac-2)의 P10과의 결합 위치를 나타낸다. L12c가 나타내는 3가의 연결기로서는, 탄화 수소기; 탄화 수소기와, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- 및 -S-로부터 선택되는 적어도 1종을 조합한 기 등을 들 수 있으며, 탄화 수소기인 것이 바람직하다.In formula (L12-2), L 12c represents a trivalent linking group, X 1 represents S, *1 represents a bonding position with L 11 in formula (Ac-2), *2 represents a formula (Ac-) 2) shows the binding position with P 10 . Examples of the trivalent linking group represented by L 12c include a hydrocarbon group; The group etc. which combined a hydrocarbon group and at least 1 sort(s) chosen from -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-, and -S- are mentioned, It is preferable that it is a hydrocarbon group.

식 (Ac-2)에 있어서 P10은 폴리머쇄를 나타낸다. P10이 나타내는 폴리머쇄는, 폴리(메트)아크릴 반복 단위, 폴리에터 반복 단위, 폴리에스터 반복 단위 및 폴리올 반복 단위로부터 선택되는 적어도 1종의 반복 단위를 갖는 것이 바람직하다. 폴리머쇄 P10의 중량 평균 분자량은 500~20000이 바람직하다. 하한은 1000 이상이 바람직하다. 상한은 10000 이하가 바람직하고, 5000 이하가 보다 바람직하며, 3000 이하가 더 바람직하다. P10의 중량 평균 분자량이 상기 범위이면 조성물 중에 있어서의 안료의 분산성이 양호하다.In the formula (Ac-2), P 10 represents a polymer chain. The polymer chain represented by P 10 preferably has at least one repeating unit selected from a poly(meth)acryl repeating unit, a polyether repeating unit, a polyester repeating unit, and a polyol repeating unit. As for the weight average molecular weight of polymer chain P10, 500-20000 are preferable. The lower limit is preferably 1000 or more. 10000 or less are preferable, as for an upper limit, 5000 or less are more preferable, and 3000 or less are still more preferable. The dispersibility of the pigment in a composition is favorable as the weight average molecular weight of P10 is the said range.

P10이 나타내는 폴리머쇄는, 가교성기를 포함하고 있어도 된다. 가교성기는, 에틸렌성 불포화 결합 함유기, 환상 에터기 및 블록 아이소사이아네이트기 등을 들 수 있으며, 에틸렌성 불포화 결합 함유기인 것이 바람직하다. 에틸렌성 불포화 결합 함유기로서는, 바이닐기, 바이닐페닐기, (메트)알릴기, (메트)아크릴로일기, (메트)아크릴로일옥시기, (메트)아크릴로일아마이드기 등을 들 수 있으며, (메트)알릴기, (메트)아크릴로일기 및 (메트)아크릴로일옥시기가 바람직하고, (메트)아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다. 환상 에터기로서는, 에폭시기, 옥세탄일기 등을 들 수 있다. 또한, 본 발명에 있어서의 블록 아이소사이아네이트기란, 열에 의하여 아이소사이아네이트기를 생성하는 것이 가능한 기이며, 예를 들면, 블록제와 아이소사이아네이트기를 반응시켜 아이소사이아네이트기를 보호한 기를 바람직하게 예시할 수 있다. 블록제로서는, 옥심 화합물, 락탐 화합물, 페놀 화합물, 알코올 화합물, 아민 화합물, 활성 메틸렌 화합물, 피라졸 화합물, 머캅탄 화합물, 이미다졸계 화합물, 이미드계 화합물 등을 들 수 있다. 블록제에 대해서는, 일본 공개특허공보 2017-067930호의 단락 번호 0115~0117에 기재된 화합물을 들 수 있고, 이 내용은 본 명세서에 원용된다. 또, 블록 아이소사이아네이트기는, 90~260℃의 열에 의하여 아이소사이아네이트기를 생성하는 것이 가능한 기인 것이 바람직하다.The polymer chain represented by P 10 may contain a crosslinkable group. Examples of the crosslinkable group include an ethylenically unsaturated bond-containing group, a cyclic ether group, and a block isocyanate group, and an ethylenically unsaturated bond-containing group is preferable. Examples of the ethylenically unsaturated bond-containing group include a vinyl group, a vinylphenyl group, a (meth)allyl group, a (meth)acryloyl group, a (meth)acryloyloxy group, and a (meth)acryloylamide group, ( A meth)allyl group, a (meth)acryloyl group, and a (meth)acryloyloxy group are preferable, and a (meth)acryloyloxy group is more preferable. As a cyclic ether group, an epoxy group, oxetanyl group, etc. are mentioned. In addition, the blocked isocyanate group in this invention is a group which can produce|generate an isocyanate group by heat, For example, the group which made the blocking agent and an isocyanate group react, and protected the isocyanate group. It can be exemplified preferably. Examples of the blocking agent include an oxime compound, a lactam compound, a phenol compound, an alcohol compound, an amine compound, an active methylene compound, a pyrazole compound, a mercaptan compound, an imidazole compound, and an imide compound. About a blocking agent, Paragraph No. 0115 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-067930 - the compound of 0117 are mentioned, This content is integrated in this specification. Moreover, it is preferable that a block isocyanate group is group which can produce|generate an isocyanate group by 90-260 degreeC heat|fever.

식 (Ac-2)에 있어서, P10이 나타내는 폴리머쇄는, 하기 식 (P-1)~(P-5)로 나타나는 반복 단위를 포함하는 폴리머쇄인 것이 바람직하고, (P-5)로 나타나는 반복 단위를 포함하는 폴리머쇄인 것이 보다 바람직하다.In the formula (Ac-2), the polymer chain represented by P 10 is preferably a polymer chain containing repeating units represented by the following formulas (P-1) to (P-5), and (P-5) It is more preferable that it is a polymer chain containing the repeating unit which appears.

[화학식 8][Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

상기 식에 있어서, RP1 및 RP2는, 각각 알킬렌기를 나타낸다. RP1 및 RP2로 나타나는 알킬렌기로서는, 탄소수 1~20의 직쇄상 또는 분기상의 알킬렌기가 바람직하고, 탄소수 2~16의 직쇄상 또는 분기상의 알킬렌기가 보다 바람직하며, 탄소수 3~12의 직쇄상 또는 분기상의 알킬렌기가 더 바람직하다.In the above formula, R P1 and R P2 each represent an alkylene group. As the alkylene group represented by R P1 and R P2 , a linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, a linear or branched alkylene group having 2 to 16 carbon atoms is more preferable, and a straight chain or branched alkylene group having 2 to 16 carbon atoms is more preferable. A chain or branched alkylene group is more preferable.

상기 식에 있어서, RP3은, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.In the above formula, R P3 represents a hydrogen atom or a methyl group.

상기 식에 있어서, LP1은, 단결합 또는 아릴렌기를 나타내고, LP2는, 단결합 또는 2가의 연결기를 나타낸다. LP1은, 단결합인 것이 바람직하다. LP2가 나타내는 2가의 연결기로서는, 알킬렌기(바람직하게는 탄소수 1~12의 알킬렌기), 아릴렌기(바람직하게는 탄소수 6~20의 아릴렌기), -NH-, -SO-, -SO2-, -CO-, -O-, -COO-, -OCO-, -S-, -NHCO-, -CONH-, 및 이들의 2 이상을 조합하여 이루어지는 기를 들 수 있다.In the formula, L P1 represents a single bond or an arylene group, and L P2 represents a single bond or a divalent linking group. It is preferable that L P1 is a single bond. Examples of the divalent linking group represented by L P2 include an alkylene group (preferably an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms), an arylene group (preferably an arylene group having 6 to 20 carbon atoms), -NH-, -SO-, -SO 2 -, -CO-, -O-, -COO-, -OCO-, -S-, -NHCO-, -CONH-, and the group formed by combining two or more of these are mentioned.

RP4는, 수소 원자 또는 치환기를 나타낸다. 치환기로서는, 하이드록시기, 카복실기, 알킬기, 아릴기, 헤테로아릴기, 알콕시기, 아릴옥시기, 헤테로아릴옥시기, 알킬싸이오에터기, 아릴싸이오에터기, 헤테로아릴싸이오에터기, 에틸렌성 불포화 결합 함유기, 환상 에터기, 블록 아이소사이아네이트기 등을 들 수 있다.R P4 represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include a hydroxyl group, a carboxyl group, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heteroaryloxy group, an alkylthioether group, an arylthioether group, a heteroarylthioether group, and an ethylenically unsaturated group. A bond-containing group, a cyclic ether group, a blocked isocyanate group, etc. are mentioned.

또, P10이 나타내는 폴리머쇄는, 측쇄에 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 포함하는 반복 단위를 갖는 폴리머쇄인 것이 보다 바람직하다. 또, P10을 구성하는 전체 반복 단위 중에 있어서의, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 측쇄에 포함하는 반복 단위의 비율은, 5질량% 이상인 것이 바람직하고, 10질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 20질량% 이상인 것이 더 바람직하다. 상한은, 100질량%로 할 수 있으며, 90질량% 이하인 것이 바람직하고, 60질량% 이하인 것이 더 바람직하다.Further, the polymer chain represented by P 10 is more preferably a polymer chain having a repeating unit containing an ethylenically unsaturated bond-containing group in a side chain. Moreover, the ratio of the repeating unit containing an ethylenically unsaturated bond-containing group in a side chain in all the repeating units constituting P 10 is preferably 5 mass % or more, more preferably 10 mass % or more, and 20 mass % More preferably. The upper limit can be 100 mass %, it is preferable that it is 90 mass % or less, and it is more preferable that it is 60 mass % or less.

또, P10이 나타내는 폴리머쇄는, 산기를 포함하는 반복 단위를 갖는 것도 바람직하다. 산기로서는, 카복실기, 인산기, 설포기, 페놀성 하이드록시기 등을 들 수 있다. 이 양태에 의하면, 착색 조성물 중에 있어서의 안료 등의 착색제의 분산성을 보다 향상시킬 수 있다. 나아가서는, 현상성을 보다 향상시킬 수도 있으며, 현상 잔사의 발생을 보다 억제할 수 있다. 산기를 포함하는 반복 단위의 비율은, 1~30질량%인 것이 바람직하고, 2~20질량%인 것이 보다 바람직하며, 3~10질량%인 것이 더 바람직하다.Moreover, it is also preferable that the polymer chain represented by P< 10 > has a repeating unit containing an acidic radical. As an acidic radical, a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfo group, phenolic hydroxyl group, etc. are mentioned. According to this aspect, the dispersibility of coloring agents, such as a pigment in a coloring composition, can be improved more. Furthermore, developability can also be improved more and generation|occurrence|production of the image development residue can be suppressed more. It is preferable that it is 1-30 mass %, as for the ratio of the repeating unit containing an acidic radical, it is more preferable that it is 2-20 mass %, It is more preferable that it is 3-10 mass %.

수지 Ac는, 식 (Ac-2)로 나타나는 반복 단위와, 식 (Ac-10)으로 나타나는 반복 단위를 포함하는 수지인 것도 바람직하다.It is also preferable that resin Ac is resin containing the repeating unit represented by Formula (Ac-2), and the repeating unit represented by Formula (Ac-10).

[화학식 9][Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

식 (Ac-10) 중, Ar21은 방향족 카복실기를 포함하는 기를 나타내고, L21 및 L22는 각각 독립적으로 -COO- 또는 -CONH-를 나타내며, R21은 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 포함하는 기를 나타낸다.In formula (Ac-10), Ar 21 represents a group containing an aromatic carboxyl group, L 21 and L 22 each independently represents -COO- or -CONH-, and R 21 represents a group containing an ethylenically unsaturated bond-containing group. indicates.

Ar21이 나타내는 방향족 카복실기를 포함하는 기로서는, 방향족 트라이카복실산 무수물로부터 유래하는 구조, 방향족 테트라카복실산 무수물로부터 유래하는 구조 등을 들 수 있다.Examples of the group containing the aromatic carboxyl group represented by Ar 21 include a structure derived from an aromatic tricarboxylic acid anhydride, a structure derived from an aromatic tetracarboxylic acid anhydride, and the like.

Ar21이 나타내는 방향족 카복실기를 포함하는 기의 구체예로서는, 식 (Ar-21)로 나타나는 기, 식 (Ar-22)로 나타나는 기, 식 (Ar-23)으로 나타나는 기 등을 들 수 있다.Specific examples of the group containing the aromatic carboxyl group represented by Ar 21 include group represented by formula (Ar-21), group represented by formula (Ar-22), group represented by formula (Ar-23), and the like.

[화학식 10][Formula 10]

Figure pct00010
Figure pct00010

식 (Ar-21) 중, n11은 1~3의 정수를 나타내며, 1 또는 2인 것이 바람직하다.In formula (Ar-21), n11 represents the integer of 1-3, and it is preferable that it is 1 or 2.

식 (Ar-22) 중, n12는 1~7의 정수를 나타내며, 1~4의 정수인 것이 바람직하고, 1 또는 2인 것이 보다 바람직하다.In formula (Ar-22), n12 represents the integer of 1-7, it is preferable that it is an integer of 1-4, and it is more preferable that it is 1 or 2.

식 (Ar-23) 중, n13 및 n14는 각각 독립적으로 0~4의 정수를 나타내며, 0~2의 정수인 것이 바람직하고, 1 또는 2인 것이 보다 바람직하며, 1인 것이 더 바람직하다. 단, n13 및 n14 중 적어도 일방은 1 이상의 정수이다.In formula (Ar-23), n13 and n14 each independently represent the integer of 0-4, It is preferable that it is an integer of 0-2, It is more preferable that it is 1 or 2, It is more preferable that it is 1. However, at least one of n13 and n14 is an integer of 1 or more.

식 (Ar-23) 중, Q1은, 단결합, -O-, -CO-, -COOCH2CH2OCO-, -SO2-, -C(CF3)2-, 상기 식 (Q-1)로 나타나는 기 또는 상기 식 (Q-2)로 나타나는 기를 나타낸다.In formula (Ar-23), Q 1 is a single bond, -O-, -CO-, -COOCH 2 CH 2 OCO-, -SO 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, the formula (Q- Group represented by 1) or group represented by said Formula (Q-2) is shown.

식 (Ac-10)에 있어서 L21 및 L22는 -COO-인 것이 바람직하다.In formula (Ac-10), it is preferable that L 21 and L 22 are -COO-.

식 (Ac-10)에 있어서의 R21이 나타내는 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 포함하는 기에 있어서의 에틸렌성 불포화 결합 함유기로서는, 바이닐기, 바이닐페닐기, (메트)알릴기, (메트)아크릴로일기, (메트)아크릴로일옥시기, (메트)아크릴로일아마이드기 등을 들 수 있으며, (메트)알릴기, (메트)아크릴로일기 및 (메트)아크릴로일옥시기가 바람직하고, (메트)아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다.Examples of the ethylenically unsaturated bond-containing group in the group containing the ethylenically unsaturated bond-containing group represented by R 21 in the formula (Ac-10) include a vinyl group, a vinylphenyl group, a (meth)allyl group, and a (meth)acryloyl group. , (meth)acryloyloxy group, (meth)acryloylamide group, etc. are mentioned, (meth)allyl group, (meth)acryloyl group, and (meth)acryloyloxy group are preferable, (meth) An acryloyloxy group is more preferable.

R21이 나타내는 기에 포함되는 에틸렌성 불포화 결합 함유기의 수는, 특별히 제한은 없지만, 1~10인 것이 바람직하고, 1~6인 것이 보다 바람직하며, 1 또는 2인 것이 더 바람직하고, 1인 것이 특히 바람직하다.The number of ethylenically unsaturated bond-containing groups contained in the group represented by R 21 is not particularly limited, but is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, still more preferably 1 or 2, and 1 It is particularly preferred.

식 (Ac-10)의 R21에 있어서, 에틸렌성 불포화 결합 함유기는, 식 (Ac-10)에 있어서의 Ar21에 직접 결합하고 있어도 되고, 연결기를 개재하여 결합하고 있어도 된다. 상기 연결기의 탄소수는, 특별히 제한은 없지만, 1~40인 것이 바람직하고, 1~20인 것이 보다 바람직하며, 2~9인 것이 더 바람직하고, 3~5인 것이 특히 바람직하다. 또, 상기 연결기는, 지방족기인 것이 바람직하고, 2가의 지방족 탄화 수소기, 또는, 1 이상의 2가의 지방족 탄화 수소기와, 에터 결합, 에스터 결합, 아마이드 결합, 유레테인 결합, 및, 유레아 결합으로 이루어지는 군으로부터 선택된 1 이상의 구조를 결합한 기인 것이 바람직하다. 또한, 상기 연결기는, 하이드록시기, 아미노기 등의 치환기를 갖고 있어도 된다. 그중에서도, 치환기로서는, 하이드록시기를 바람직하게 들 수 있다.In R 21 of Formula (Ac-10), the ethylenically unsaturated bond-containing group may be directly bonded to Ar 21 in Formula (Ac-10), or may be bonded via a linking group. Although carbon number in particular of the said coupling group is not restrict|limited, It is preferable that it is 1-40, It is more preferable that it is 1-20, It is more preferable that it is 2-9, It is especially preferable that it is 3-5. The linking group is preferably an aliphatic group, and consists of a divalent aliphatic hydrocarbon group, or one or more divalent aliphatic hydrocarbon groups, and an ether bond, an ester bond, an amide bond, a urethane bond, and a urea bond. It is preferably a group combining one or more structures selected from the group. Moreover, the said coupling group may have substituents, such as a hydroxyl group and an amino group. Especially, as a substituent, a hydroxyl group is mentioned preferably.

수지 Ac는, 방향족 테트라카복실산 무수물 및 방향족 트라이카복실산 무수물로부터 선택되는 적어도 1종의 산무수물과, 하이드록시기 함유 화합물을 반응시킴으로써 제조할 수 있다. 방향족 테트라카복실산 무수물 및 방향족 트라이카복실산 무수물로서는, 상술한 것을 들 수 있다. 하이드록시기 함유 화합물로서는, 분자 내에 하이드록시기를 갖고 있으면, 특별히 제한되지 않지만, 분자 내에 2개 이상의 하이드록시기를 갖는 폴리올인 것이 바람직하다. 또, 하이드록시기 함유 화합물로서, 분자 내에 2개의 하이드록시기와 1개의 싸이올기를 갖는 화합물을 이용하는 것도 바람직하다. 분자 내에 2개의 하이드록시기와 1개의 싸이올기를 갖는 화합물로서는, 예를 들면, 1-머캅토-1,1-메테인다이올, 1-머캅토-1,1-에테인다이올, 3-머캅토-1,2-프로페인다이올(싸이오글리세린), 2-머캅토-1,2-프로페인다이올, 2-머캅토-2-메틸-1,3-프로페인다이올, 2-머캅토-2-에틸-1,3-프로페인다이올, 1-머캅토-2,2-프로페인다이올, 2-머캅토에틸-2-메틸-1,3-프로페인다이올, 또는 2-머캅토에틸-2-에틸-1,3-프로페인다이올 등을 들 수 있다. 그 외의 하이드록시기 함유 화합물에 대해서는, 일본 공개특허공보 2018-101039호의 단락 번호 0084~0095에 기재된 화합물을 들 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.Resin Ac can be manufactured by making at least 1 sort(s) of acid anhydride chosen from aromatic tetracarboxylic acid anhydride and aromatic tricarboxylic acid anhydride, and a hydroxyl-group containing compound react. As aromatic tetracarboxylic acid anhydride and aromatic tricarboxylic acid anhydride, the thing mentioned above is mentioned. Although it will not restrict|limit especially as a hydroxyl-group containing compound as long as it has a hydroxyl group in a molecule|numerator, It is preferable that it is a polyol which has two or more hydroxyl groups in a molecule|numerator. Moreover, it is also preferable to use the compound which has two hydroxyl groups and one thiol group in a molecule|numerator as a hydroxyl-group containing compound. Examples of the compound having two hydroxyl groups and one thiol group in the molecule include 1-mercapto-1,1-methanediol, 1-mercapto-1,1-ethanediol, and 3-mer. Capto-1,2-propanediol (thioglycerin), 2-mercapto-1,2-propanediol, 2-mercapto-2-methyl-1,3-propanediol, 2- mercapto-2-ethyl-1,3-propanediol, 1-mercapto-2,2-propanediol, 2-mercaptoethyl-2-methyl-1,3-propanediol, or 2-mercaptoethyl-2-ethyl-1,3-propanediol etc. are mentioned. About another hydroxyl-group containing compound, Paragraph No. 0084 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2018-101039 - the compound of 0095 is mentioned, This content is integrated in this specification.

상기 산무수물 중의 산무수물기와, 하이드록시기 함유 화합물 중의 하이드록시기의 몰비(산무수물기/하이드록시기)는 0.5~1.5인 것이 바람직하다.It is preferable that the molar ratio (acid anhydride group/hydroxyl group) of the acid anhydride group in the said acid anhydride and the hydroxyl group in a hydroxyl-group containing compound is 0.5-1.5.

또, 상술한 식 (Ac-2)로 나타나는 반복 단위를 포함하는 수지는, 이하의 합성 방법 (1)~(2)에 나타내는 방법 등으로 합성할 수 있다.Moreover, the resin containing the repeating unit represented by Formula (Ac-2) mentioned above can be synthesize|combined by the method etc. shown to the following synthesis|combining methods (1)-(2).

〔합성 방법 (1)〕[Synthesis method (1)]

에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 중합성 모노머를 하이드록시기 함유 싸이올 화합물(바람직하게는 분자 내에 2개의 하이드록시기와 1개의 싸이올기를 갖는 화합물)의 존재하에서, 라디칼 중합하여 편 말단 영역에 2개의 하이드록시기를 갖는 바이닐 중합체를 합성하고, 이 합성한 바이닐 중합체와, 방향족 테트라카복실산 무수물 및 방향족 트라이카복실산 무수물로부터 선택되는 1종 이상의 방향족 산무수물을 반응시켜 제조하는 방법.A polymerizable monomer having an ethylenically unsaturated bond-containing group is radically polymerized in the presence of a hydroxyl group-containing thiol compound (preferably a compound having two hydroxyl groups and one thiol group in the molecule) to form two A method of synthesizing a vinyl polymer having a hydroxyl group, and reacting the synthesized vinyl polymer with at least one aromatic acid anhydride selected from aromatic tetracarboxylic acid anhydrides and aromatic tricarboxylic acid anhydrides.

〔합성 방법 (2)〕[Synthesis method (2)]

하이드록시기 함유 화합물(바람직하게는 분자 내에 2개의 하이드록시기와 1개의 싸이올기를 갖는 화합물)과, 방향족 테트라카복실산 무수물 및 방향족 트라이카복실산 무수물로부터 선택되는 1종 이상의 방향족 산무수물을 반응시킨 후, 얻어진 반응물의 존재하에서, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 중합성 모노머를 라디칼 중합하여 제조하는 방법. 합성 방법 (2)에 있어서는, 하이드록시기를 갖는 중합성 모노머를 라디칼 중합한 후, 추가로 아이소사이아네이트기를 갖는 화합물(예를 들면, 아이소사이아네이트기와 가교성기를 갖는 화합물)을 반응시켜도 된다. 이로써, 폴리머쇄 P10에 가교성기를 도입할 수 있다.After reacting a hydroxyl group-containing compound (preferably a compound having two hydroxyl groups and one thiol group in the molecule) and at least one aromatic acid anhydride selected from aromatic tetracarboxylic acid anhydrides and aromatic tricarboxylic acid anhydrides, the obtained A method for producing a polymerizable monomer having an ethylenically unsaturated bond-containing group by radical polymerization in the presence of a reactant. In the synthesis method (2), after radical polymerization of the polymerizable monomer having a hydroxyl group, a compound having an isocyanate group (for example, a compound having an isocyanate group and a crosslinkable group) may be further reacted. . Thereby, a crosslinkable group can be introduce|transduced into the polymer chain P10 .

또, 수지 Ac는, 일본 공개특허공보 2018-101039호의 단락 번호 0120~0138에 기재된 방법에 따라 합성할 수도 있다.Moreover, resin Ac can also be synthesize|combined according to the method of Paragraph No. 0120 - 0138 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2018-101039.

수지 Ac의 중량 평균 분자량은, 3000~35000인 것이 바람직하다. 상한은 25000 이하인 것이 바람직하고, 20000 이하인 것이 보다 바람직하며, 15000 이하인 것이 더 바람직하다. 하한은, 4000 이상인 것이 바람직하고, 6000 이상인 것이 보다 바람직하며, 7000 이상인 것이 더 바람직하다.It is preferable that the weight average molecular weights of resin Ac are 3000-35000. It is preferable that it is 25000 or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 20000 or less, It is more preferable that it is 15000 or less. It is preferable that a minimum is 4000 or more, It is more preferable that it is 6000 or more, It is more preferable that it is 7000 or more.

수지 Ac의 산가는 5~200mgKOH/g이 바람직하다. 상한은 150mgKOH/g 이하인 것이 바람직하고, 100mgKOH/g 이하인 것이 보다 바람직하며, 80mgKOH/g 이하인 것이 더 바람직하다. 하한은 10mgKOH/g 이상인 것이 바람직하고, 15mgKOH/g 이상인 것이 보다 바람직하며, 20mgKOH/g 이상인 것이 더 바람직하다. 수지 Ac의 산가가 상기 범위이면, 본 발명의 효과가 보다 현저하게 얻어진다. 또, 안료 흡착능이 적당히 얻어지고, 조성물 중의 C. I. 피그먼트 레드 272의 분산성을 높일 수 있다. 나아가서는, 착색 조성물의 보존 안정성도 향상시킬 수 있다.As for the acid value of resin Ac, 5-200 mgKOH/g is preferable. It is preferable that it is 150 mgKOH/g or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 100 mgKOH/g or less, It is more preferable that it is 80 mgKOH/g or less. The lower limit is preferably 10 mgKOH/g or more, more preferably 15 mgKOH/g or more, and still more preferably 20 mgKOH/g or more. If the acid value of resin Ac is in the said range, the effect of this invention is acquired more notably. Moreover, pigment adsorption ability is obtained moderately, and the dispersibility of C.I. Pigment Red 272 in a composition can be improved. Furthermore, the storage stability of a coloring composition can also be improved.

본 발명의 착색 조성물은, 상기 수지 Ac 이외의 수지(이하, 다른 수지라고도 한다)를 더 포함할 수 있다. 다른 수지는, 방향족 카복실기를 포함하지 않는 수지이다.The coloring composition of this invention can further contain resin (henceforth another resin) other than the said resin Ac. Another resin is resin which does not contain an aromatic carboxyl group.

다른 수지의 중량 평균 분자량(Mw)은, 3000~2000000이 바람직하다. 상한은, 1000000 이하가 바람직하고, 500000 이하가 보다 바람직하다. 하한은, 4000 이상이 바람직하고, 5000 이상이 보다 바람직하다.As for the weight average molecular weight (Mw) of other resin, 3000-200000 are preferable. 1000000 or less are preferable and, as for an upper limit, 500000 or less are more preferable. 4000 or more are preferable and, as for a minimum, 5000 or more are more preferable.

다른 수지로서는, (메트)아크릴 수지, (메트)아크릴아마이드 수지, 에폭시 수지, 엔·싸이올 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에터 수지, 폴리아릴레이트 수지, 폴리설폰 수지, 폴리에터설폰 수지, 폴리페닐렌 수지, 폴리아릴렌에터포스핀옥사이드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아마이드이미드 수지, 폴리올레핀 수지, 환상 올레핀 수지, 폴리에스터 수지, 스타이렌 수지, 실록세인 수지 등을 들 수 있다.Examples of other resins include (meth)acrylic resins, (meth)acrylamide resins, epoxy resins, ene thiol resins, polycarbonate resins, polyether resins, polyarylate resins, polysulfone resins, polyethersulfone resins, polyphenylene resin, polyarylene ether phosphine oxide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, styrene resin, siloxane resin, etc. are mentioned.

다른 수지로서, 산기를 갖는 수지를 이용하는 것도 바람직하다. 산기로서는, 예를 들면, 카복실기, 인산기, 설포기, 페놀성 하이드록시기 등을 들 수 있다. 산기를 갖는 수지는 알칼리 가용성 수지나, 분산제로서 이용할 수도 있다. 산기를 갖는 수지의 산가는, 30~500mgKOH/g이 바람직하다. 하한은, 50mgKOH/g 이상이 보다 바람직하며, 70mgKOH/g 이상이 더 바람직하다. 상한은, 400mgKOH/g 이하가 보다 바람직하며, 200mgKOH/g 이하가 더 바람직하고, 150mgKOH/g 이하가 특히 바람직하며, 120mgKOH/g 이하가 가장 바람직하다.As another resin, it is also preferable to use resin which has an acidic radical. As an acidic radical, a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfo group, phenolic hydroxyl group etc. are mentioned, for example. Resin which has an acidic radical can also be used as alkali-soluble resin and a dispersing agent. As for the acid value of resin which has an acidic radical, 30-500 mgKOH/g is preferable. As for a minimum, 50 mgKOH/g or more is more preferable, and 70 mgKOH/g or more is more preferable. The upper limit is more preferably 400 mgKOH/g or less, still more preferably 200 mgKOH/g or less, particularly preferably 150 mgKOH/g or less, and most preferably 120 mgKOH/g or less.

다른 수지로서, 염기성기를 갖는 수지를 이용하는 것도 바람직하다. 염기성기를 갖는 수지는, 염기성기를 측쇄에 갖는 반복 단위를 포함하는 수지인 것이 바람직하고, 염기성기를 측쇄에 갖는 반복 단위와 염기성기를 포함하지 않는 반복 단위를 갖는 공중합체인 것이 보다 바람직하며, 염기성기를 측쇄에 갖는 반복 단위와, 염기성기를 포함하지 않는 반복 단위를 갖는 블록 공중합체인 것이 더 바람직하다. 염기성기를 갖는 수지는 분산제로서 이용할 수도 있다. 염기성기를 갖는 수지의 아민가는, 5~300mgKOH/g이 바람직하다. 하한은, 10mgKOH/g 이상이 바람직하고, 20mgKOH/g 이상이 보다 바람직하다. 상한은, 200mgKOH/g 이하가 바람직하고, 100mgKOH/g 이하가 보다 바람직하다. 염기성기를 갖는 수지에 포함되는 염기성기로서는, 식 (a-1)로 나타나는 기, 식 (a-2)로 나타나는 기 등을 들 수 있다.As another resin, it is also preferable to use resin which has a basic group. The resin having a basic group is preferably a resin including a repeating unit having a basic group in the side chain, and more preferably a copolymer having a repeating unit having a basic group in the side chain and a repeating unit not containing a basic group, and a basic group in the side chain It is more preferable that it is a block copolymer which has the repeating unit which has and the repeating unit which does not contain a basic group. Resin which has a basic group can also be used as a dispersing agent. As for the amine titer of resin which has a basic group, 5-300 mgKOH/g is preferable. 10 mgKOH/g or more is preferable and, as for a minimum, 20 mgKOH/g or more is more preferable. 200 mgKOH/g or less is preferable and, as for an upper limit, 100 mgKOH/g or less is more preferable. As a basic group contained in resin which has a basic group, group represented by a formula (a-1), group represented by a formula (a-2), etc. are mentioned.

[화학식 11][Formula 11]

Figure pct00011
Figure pct00011

식 (a-1) 중, Ra1 및 Ra2는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, Ra1과 Ra2는 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다;In formula (a-1), R a1 and R a2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and R a1 and R a2 may be bonded to each other to form a ring;

식 (a-2) 중, Ra11은, 수소 원자, 하이드록시기, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기, 아실기 또는 옥시 라디칼을 나타내고, Ra12~Ra19는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다.In the formula (a-2), R a11 represents a hydrogen atom, a hydroxy group, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, an acyl group or an oxy radical, and R a12 to R a19 are each independently, A hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group is represented.

Ra1, Ra2, Ra11~Ra19가 나타내는 알킬기의 탄소수는, 1~30이 바람직하고, 1~15가 보다 바람직하며, 1~8이 더 바람직하고, 1~5가 특히 바람직하다. 알킬기는, 직쇄, 분기, 환상 중 어느 것이어도 되며, 직쇄 또는 분기가 바람직하고, 직쇄가 보다 바람직하다. 알킬기는 치환기를 갖고 있어도 된다.1-30 are preferable, as for carbon number of the alkyl group represented by R a1 , R a2 , R a11 -R a19 , 1-15 are more preferable, 1-8 are still more preferable, 1-5 are especially preferable. Any of linear, branched, and cyclic|annular chain may be sufficient as an alkyl group, A linear or branched is preferable, and a linear is more preferable. The alkyl group may have a substituent.

Ra1, Ra2, Ra11~Ra19가 나타내는 아릴기의 탄소수는, 6~30이 바람직하고, 6~20이 보다 바람직하며, 6~12가 더 바람직하다. 아릴기는 치환기를 갖고 있어도 된다.6-30 are preferable, as for carbon number of the aryl group represented by R a1 , R a2 , R a11 -R a19 , 6-20 are more preferable, and 6-12 are still more preferable. The aryl group may have a substituent.

Ra11이 나타내는 알콕시기의 탄소수는, 1~30이 바람직하고, 1~15가 보다 바람직하며, 1~8이 더 바람직하고, 1~5가 특히 바람직하다. 알콕시기는 치환기를 갖고 있어도 된다.1-30 are preferable, as for carbon number of the alkoxy group which R a11 represents, 1-15 are more preferable, 1-8 are still more preferable, 1-5 are especially preferable. The alkoxy group may have a substituent.

Ra11이 나타내는 아릴옥시기의 탄소수는, 6~30이 바람직하고, 6~20이 보다 바람직하며, 6~12가 더 바람직하다. 아릴옥시기는 치환기를 갖고 있어도 된다.6-30 are preferable, as for carbon number of the aryloxy group which R a11 represents, 6-20 are more preferable, 6-12 are still more preferable. The aryloxy group may have a substituent.

Ra11이 나타내는 아실기의 탄소수는, 2~30이 바람직하고, 2~20이 보다 바람직하며, 2~12가 더 바람직하다. 아실기는 치환기를 갖고 있어도 된다.2-30 are preferable, as for carbon number of the acyl group which R a11 represents, 2-20 are more preferable, 2-12 are still more preferable. The acyl group may have a substituent.

염기성기를 갖는 수지의 시판품으로서는, DISPERBYK-161, 162, 163, 164, 166, 167, 168, 174, 182, 183, 184, 185, 2000, 2001, 2050, 2150, 2163, 2164, BYK-LPN6919(이상, 빅케미·재팬사제), SOLSPERSE 11200, 13240, 13650, 13940, 24000, 26000, 28000, 32000, 32500, 32550, 32600, 33000, 34750, 35100, 35200, 37500, 38500, 39000, 53095, 56000, 7100(이상, 니혼 루브리졸사제), Efka PX 4300, 4330, 4046, 4060, 4080(이상, BASF사제) 등을 들 수 있다. 또, 염기성기를 갖는 수지는, 일본 공개특허공보 2014-219665호의 단락 번호 0063~0112에 기재된 블록 공중합체 (B), 일본 공개특허공보 2018-156021호의 단락 번호 0046~0076에 기재된 블록 공중합체 A1을 이용할 수도 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.Commercially available resins having a basic group include DISPERBYK-161, 162, 163, 164, 166, 167, 168, 174, 182, 183, 184, 185, 2000, 2001, 2050, 2150, 2163, 2164, BYK-LPN6919 ( Above, made by Big Chemie Japan), SOLSPERSE 11200, 13240, 13650, 13940, 24000, 26000, 28000, 32000, 32500, 32550, 32600, 33000, 34750, 35100, 35200, 37500, 38500, 39000, 53095, 56000, 7100 (above, the Nippon Lubrizol company make), Efka PX 4300, 4330, 4046, 4060, 4080 (above, the BASF company make) etc. are mentioned. In addition, the resin having a basic group is the block copolymer (B) described in Paragraph Nos. 0063 to 0112 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-219665, and the block copolymer A1 described in Paragraph Nos. 0046 to 0076 of Unexamined Patent Publication No. 2018-156021. may be used, the contents of which are incorporated herein by reference.

다른 수지로서는, 하기 식 (ED1)로 나타나는 화합물 및/또는 하기 식 (ED2)로 나타나는 화합물(이하, 이들 화합물을 "에터 다이머"라고 칭하는 경우도 있다.)에서 유래하는 반복 단위를 포함하는 수지를 이용하는 것도 바람직하다.As another resin, a resin containing a repeating unit derived from a compound represented by the following formula (ED1) and/or a compound represented by the following formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as “ether dimers”). It is also preferable to use

[화학식 12][Formula 12]

Figure pct00012
Figure pct00012

식 (ED1) 중, R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~25의 탄화 수소기를 나타낸다.In formula (ED1), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.

[화학식 13][Formula 13]

Figure pct00013
Figure pct00013

식 (ED2) 중, R은, 수소 원자 또는 탄소수 1~30의 유기기를 나타낸다. 식 (ED2)의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2010-168539호의 기재를 참조할 수 있다.In formula (ED2), R represents a hydrogen atom or a C1-C30 organic group. As a specific example of Formula (ED2), description of Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-168539 can be referred.

에터 다이머의 구체예에 대해서는, 일본 공개특허공보 2013-029760호의 단락 번호 0317을 참조할 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.About the specific example of an ether dimer, Paragraph No. 0317 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-029760 can be considered into consideration, and this content is integrated in this specification.

다른 수지로서는, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 수지를 이용하는 것도 바람직하다.As another resin, it is also preferable to use resin which has an ethylenically unsaturated bond containing group.

다른 수지로서는, 식 (X)로 나타나는 화합물 유래의 반복 단위를 포함하는 수지를 이용하는 것도 바람직하다.As another resin, it is also preferable to use resin containing the repeating unit derived from the compound represented by Formula (X).

[화학식 14][Formula 14]

Figure pct00014
Figure pct00014

식 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R21 및 R22는 각각 독립적으로 알킬렌기를 나타내며, n은 0~15의 정수를 나타낸다. R21 및 R22가 나타내는 알킬렌기의 탄소수는 1~10인 것이 바람직하고, 1~5인 것이 보다 바람직하며, 1~3인 것이 더 바람직하고, 2 또는 3인 것이 특히 바람직하다. n은 0~15의 정수를 나타내며, 0~5의 정수인 것이 바람직하고, 0~4의 정수인 것이 보다 바람직하며, 0~3의 정수인 것이 더 바람직하다.In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 21 and R 22 each independently represent an alkylene group, and n represents an integer of 0 to 15. It is preferable that carbon number of the alkylene group which R21 and R22 represent is 1-10, It is more preferable that it is 1-5, It is more preferable that it is 1-3, It is especially preferable that it is 2 or 3. n represents the integer of 0-15, it is preferable that it is an integer of 0-5, It is more preferable that it is an integer of 0-4, It is more preferable that it is an integer of 0-3.

식 (X)로 나타나는 화합물로서는, 파라큐밀페놀의 에틸렌옥사이드 또는 프로필렌옥사이드 변성 (메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 시판품으로서는, 아로닉스 M-110(도아 고세이(주)제) 등을 들 수 있다.As a compound represented by Formula (X), the ethylene oxide or propylene oxide modified|denatured (meth)acrylate of paracumyl phenol, etc. are mentioned. As a commercial item, Aronix M-110 (made by Toagosei Co., Ltd.) etc. are mentioned.

다른 수지는, 분산제로서의 수지를 포함하는 것도 바람직하다. 분산제로서는, 산성 분산제(산성 수지), 염기성 분산제(염기성 수지)를 들 수 있다. 여기에서, 산성 분산제(산성 수지)란, 산기의 양이 염기성기의 양보다 많은 수지를 나타낸다. 또, 염기성 분산제(염기성 수지)란, 염기성기의 양이 산기의 양보다 많은 수지를 나타낸다.It is also preferable that other resin contains resin as a dispersing agent. As a dispersing agent, an acidic dispersing agent (acidic resin) and a basic dispersing agent (basic resin) are mentioned. Here, an acidic dispersing agent (acidic resin) shows resin with more quantity of an acidic radical than the quantity of a basic group. Moreover, a basic dispersing agent (basic resin) shows resin with more quantity of a basic group than the quantity of an acidic radical.

산성 분산제(산성 수지)로서는, 산기의 양과 염기성기의 양의 합계량을 100몰%로 했을 때에, 산기의 양이 70몰% 이상인 수지가 바람직하다. 산성 분산제(산성 수지)가 갖는 산기는, 카복실기가 바람직하다. 산성 분산제(산성 수지)의 산가는 5~200mgKOH/g이 바람직하다. 상한은 150mgKOH/g 이하인 것이 바람직하고, 100mgKOH/g 이하인 것이 보다 바람직하며, 80mgKOH/g 이하인 것이 더 바람직하다. 하한은 10mgKOH/g 이상인 것이 바람직하고, 15mgKOH/g 이상인 것이 보다 바람직하며, 20mgKOH/g 이상인 것이 더 바람직하다.As an acidic dispersing agent (acidic resin), when the total amount of the quantity of an acidic radical and the quantity of a basic group is 100 mol%, resin whose quantity of an acidic radical is 70 mol% or more is preferable. As for the acidic radical which an acidic dispersing agent (acidic resin) has, a carboxyl group is preferable. As for the acid value of an acidic dispersing agent (acidic resin), 5-200 mgKOH/g is preferable. It is preferable that it is 150 mgKOH/g or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 100 mgKOH/g or less, It is more preferable that it is 80 mgKOH/g or less. The lower limit is preferably 10 mgKOH/g or more, more preferably 15 mgKOH/g or more, and still more preferably 20 mgKOH/g or more.

염기성 분산제(염기성 수지)로서는, 산기의 양과 염기성기의 양의 합계량을 100몰%로 했을 때에, 염기성기의 양이 60몰% 이상인 수지가 바람직하다. 염기성 분산제가 갖는 염기성기는, 아미노기가 바람직하다. 염기성 분산제(염기성 수지)의 아민가는 5~100mgKOH/g이 바람직하다. 상한은 80mgKOH/g 이하인 것이 바람직하고, 60mgKOH/g 이하인 것이 보다 바람직하며, 45mgKOH/g 이하인 것이 더 바람직하다. 하한은 10mgKOH/g 이상인 것이 바람직하고, 15mgKOH/g 이상인 것이 보다 바람직하며, 20mgKOH/g 이상인 것이 더 바람직하다.As a basic dispersing agent (basic resin), when the total amount of the quantity of an acidic radical and the quantity of a basic group is 100 mol%, resin whose quantity of a basic group is 60 mol% or more is preferable. As for the basic group which a basic dispersing agent has, an amino group is preferable. As for the amine titer of a basic dispersing agent (basic resin), 5-100 mgKOH/g is preferable. It is preferable that it is 80 mgKOH/g or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 60 mgKOH/g or less, It is more preferable that it is 45 mgKOH/g or less. The lower limit is preferably 10 mgKOH/g or more, more preferably 15 mgKOH/g or more, and still more preferably 20 mgKOH/g or more.

분산제로서 이용하는 수지는, 그래프트 수지인 것도 바람직하다. 그래프트 수지의 상세는, 일본 공개특허공보 2012-255128호의 단락 번호 0025~0094의 기재를 참조할 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.It is also preferable that resin used as a dispersing agent is a graft resin. For the detail of graft resin, Paragraph No. 0025 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-255128 - description of 0094 can be considered into consideration, and this content is integrated in this specification.

분산제로서 이용하는 수지는, 주쇄 및 측쇄 중 적어도 일방에 질소 원자를 포함하는 폴리이민계 분산제인 것도 바람직하다. 폴리이민계 분산제로서는, pKa 14 이하의 관능기를 갖는 부분 구조를 갖는 주쇄와, 원자수 40~10000의 측쇄를 갖고, 또한 주쇄 및 측쇄 중 적어도 일방에 염기성 질소 원자를 갖는 수지가 바람직하다. 염기성 질소 원자는, 염기성을 나타내는 질소 원자이면 특별히 제한은 없다. 폴리이민계 분산제에 대해서는, 일본 공개특허공보 2012-255128호의 단락 번호 0102~0166의 기재를 참조할 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.It is also preferable that resin used as a dispersing agent is a polyimine type dispersing agent containing a nitrogen atom in at least one of a main chain and a side chain. As the polyimine-based dispersant, a resin having a main chain having a partial structure having a functional group of pKa of 14 or less, a side chain having 40 to 10000 atoms, and having a basic nitrogen atom in at least one of the main chain and the side chain is preferable. There is no restriction|limiting in particular as long as a basic nitrogen atom is a nitrogen atom which shows basicity. About a polyimine type dispersing agent, Paragraph No. 0102 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-255128 - description of 0166 can be considered into consideration, and this content is integrated in this specification.

분산제로서 이용하는 수지는, 코어부에 복수 개의 폴리머쇄가 결합된 구조의 수지인 것도 바람직하다. 이와 같은 수지로서는, 예를 들면 덴드라이머(별형 폴리머를 포함한다)를 들 수 있다. 또, 덴드라이머의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2013-043962호의 단락 번호 0196~0209에 기재된 고분자 화합물 C-1~C-31 등을 들 수 있다.It is also preferable that the resin used as a dispersing agent is resin of the structure in which the several polymer chain couple|bonded with the core part. Examples of such resin include dendrimers (including star-shaped polymers). Moreover, as a specific example of a dendrimer, Paragraph No. 0196 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-043962 - the polymeric compounds C-1 - C-31 of 0209, etc. are mentioned.

분산제로서 이용하는 수지는, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 측쇄에 갖는 반복 단위를 포함하는 수지인 것도 바람직하다. 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 측쇄에 갖는 반복 단위의 함유량은, 수지의 전체 반복 단위 중 10몰% 이상인 것이 바람직하고, 10~80몰%인 것이 보다 바람직하며, 20~70몰%인 것이 더 바람직하다. 또, 분산제는, 일본 공개특허공보 2018-087939호에 기재된 수지를 이용할 수도 있다.It is also preferable that resin used as a dispersing agent is resin containing the repeating unit which has an ethylenically unsaturated bond-containing group in a side chain. The content of the repeating unit having an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain is preferably 10 mol% or more, more preferably 10-80 mol%, and still more preferably 20-70 mol%, based on the total repeating units of the resin. . Moreover, as a dispersing agent, resin of Unexamined-Japanese-Patent No. 2018-087939 can also be used.

분산제는, 시판품으로서도 입수 가능하고, 그와 같은 구체예로서는, 빅케미·재팬사제의 DISPERBYK 시리즈, 니혼 루브리졸사제의 SOLSPERSE 시리즈, BASF사제의 Efka 시리즈, 아지노모토 파인 테크노(주)제의 아지스퍼 시리즈 등을 들 수 있다. 또, 일본 공개특허공보 2012-137564호의 단락 번호 0129에 기재된 제품, 일본 공개특허공보 2017-194662호의 단락 번호 0235에 기재된 제품을 분산제로서 이용할 수도 있다.A dispersing agent can also be obtained as a commercial item, As such a specific example, the DISPERBYK series made by Bikchemi Japan, the SOLSPERSE series made by Nippon Lubrizol, the Efka series made by BASF, Ajiper series made by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd. and the like. Moreover, the product of Paragraph No. 0129 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-137564, and the product of Paragraph No. 0235 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-194662 can also be used as a dispersing agent.

또, 분산제로서 이용하는 다른 수지는, 일본 특허공보 제6432077호의 단락 번호 0219~0221에 기재된 블록 공중합체 (EB-1)~(EB-9)를 이용할 수도 있다.Moreover, as another resin used as a dispersing agent, Paragraph No. 0219 - 0221 of Unexamined-Japanese-Patent No. 6432077 - Block copolymers (EB-1) - (EB-9) can also be used.

착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 수지의 함유량은, 0.1~70질량%인 것이 바람직하다. 하한은 0.5질량% 이상이 바람직하고, 1질량% 이상이 보다 바람직하며, 5질량% 이상이 더 바람직하고, 10질량% 이상인 것이 보다 한층 바람직하며, 15질량% 이상인 것이 더 한층 바람직하다. 상한은 50질량% 미만이 바람직하고, 45질량% 이하가 보다 바람직하며, 40질량% 이하인 것이 더 바람직하고, 35질량% 이하인 것이 보다 한층 바람직하며, 30질량% 이하인 것이 더 한층 바람직하고, 25질량% 이하인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that content of resin in the total solid of a coloring composition is 0.1-70 mass %. The lower limit is preferably 0.5 mass % or more, more preferably 1 mass % or more, still more preferably 5 mass % or more, still more preferably 10 mass % or more, and still more preferably 15 mass % or more. The upper limit is preferably less than 50 mass%, more preferably 45 mass% or less, still more preferably 40 mass% or less, still more preferably 35 mass% or less, still more preferably 30 mass% or less, and even more preferably 25 mass% or less. % or less is particularly preferred.

착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 수지 Ac(방향족 카복실기를 갖는 수지)의 함유량은, 5~40질량%인 것이 바람직하다. 상한은 35질량% 이하인 것이 바람직하고, 30질량% 이하인 것이 보다 바람직하며, 25질량% 이하인 것이 더 바람직하다. 하한은 10질량% 이상인 것이 바람직하고, 15질량% 이상인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that content of resin Ac (resin which has an aromatic carboxyl group) in total solid of a coloring composition is 5-40 mass %. It is preferable that it is 35 mass % or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 30 mass % or less, It is more preferable that it is 25 mass % or less. It is preferable that it is 10 mass % or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 15 mass % or more.

또, 수지 Ac의 함유량은, C. I. 피그먼트 레드 272의 100질량부에 대하여 5~60질량부인 것이 바람직하다. 상한은 50질량부 이하인 것이 바람직하고, 45질량부 이하인 것이 보다 바람직하다. 하한은 10질량부 이상인 것이 바람직하고, 15질량부 이상인 것이 보다 바람직하다.Moreover, it is preferable that content of resin Ac is 5-60 mass parts with respect to 100 mass parts of C.I. Pigment Red 272. It is preferable that it is 50 mass parts or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 45 mass parts or less. It is preferable that it is 10 mass parts or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 15 mass parts or more.

또, 착색 조성물에 포함되는 수지 중에 있어서의 수지 Ac의 함유량은 50~100질량%인 것이 바람직하다. 상한은 100질량% 이하인 것이 바람직하고, 95질량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 하한은 60질량% 이상인 것이 바람직하고, 70질량% 이상인 것이 보다 바람직하다.Moreover, it is preferable that content of resin Ac in resin contained in a coloring composition is 50-100 mass %. It is preferable that it is 100 mass % or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 95 mass % or less. It is preferable that it is 60 mass % or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 70 mass % or more.

<<용제>><<Solvent>>

본 발명의 착색 조성물은, 용제를 함유한다. 용제로서는, 유기 용제를 들 수 있다. 용제의 종류는, 각 성분의 용해성이나 착색 조성물의 도포성을 만족하면 기본적으로는 특별히 제한은 없다. 유기 용제로서는, 에스터계 용제, 케톤계 용제, 알코올계 용제, 아마이드계 용제, 에터계 용제, 탄화 수소계 용제 등을 들 수 있다. 이들의 상세에 대해서는, 국제 공개공보 제2015/166779호의 단락 번호 0223을 참조할 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다. 또, 환상 알킬기가 치환된 에스터계 용제, 환상 알킬기가 치환된 케톤계 용제도 바람직하게 이용할 수도 있다. 유기 용제의 구체예로서는, 폴리에틸렌글라이콜모노메틸에터, 다이클로로메테인, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 에틸셀로솔브아세테이트, 락트산 에틸, 다이에틸렌글라이콜다이메틸에터, 아세트산 뷰틸, 3-메톡시프로피온산 메틸, 2-헵탄온, 사이클로헥산온, 아세트산 사이클로헥실, 사이클로펜탄온, 에틸카비톨아세테이트, 뷰틸카비톨아세테이트, 프로필렌글라이콜모노메틸에터, 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트, 3-메톡시-N,N-다이메틸프로페인아마이드, 3-뷰톡시-N,N-다이메틸프로페인아마이드 등을 들 수 있다. 단 유기 용제로서의 방향족 탄화 수소류(벤젠, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠 등)는, 환경면 등의 이유에 의하여 저감시킨 편이 바람직한 경우가 있다(예를 들면, 유기 용제 전량에 대하여, 50질량ppm(parts per million) 이하로 할 수도 있고, 10질량ppm 이하로 할 수도 있으며, 1질량ppm 이하로 할 수도 있다).The coloring composition of this invention contains a solvent. As a solvent, an organic solvent is mentioned. There will be no restriction|limiting in particular in particular basically, if the kind of solvent satisfy|fills the solubility of each component and the applicability|paintability of a coloring composition. Examples of the organic solvent include an ester solvent, a ketone solvent, an alcohol solvent, an amide solvent, an ether solvent, and a hydrocarbon solvent. For details of these, reference may be made to paragraph No. 0223 of International Publication No. 2015/166779, the content of which is incorporated herein by reference. Moreover, the ester type solvent by which the cyclic alkyl group was substituted, and the ketone type solvent by which the cyclic alkyl group was substituted can also be used preferably. Specific examples of the organic solvent include polyethylene glycol monomethyl ether, dichloromethane, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl Ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexanone, cyclohexyl acetate, cyclopentanone, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene Glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxy-N,N-dimethylpropaneamide, 3-butoxy-N,N-dimethylpropaneamide, etc. are mentioned. However, there are cases where it is preferable to reduce the aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.) as the organic solvent for reasons such as environmental reasons (for example, 50 mass ppm based on the total amount of the organic solvent) (parts per million) or less, 10 mass ppm or less, or 1 mass ppm or less).

본 발명에 있어서는, 금속 함유량이 적은 유기 용제를 이용하는 것이 바람직하고, 유기 용제의 금속 함유량은, 예를 들면 10질량ppb(parts per billion) 이하인 것이 바람직하다. 필요에 따라 질량ppt(parts per trillion) 레벨의 유기 용제를 이용해도 되고, 그와 같은 유기 용제는 예를 들면 도요 고세이사가 제공하고 있다(가가쿠 고교 닛포, 2015년 11월 13일).In this invention, it is preferable to use the organic solvent with little metal content, and it is preferable that the metal content of an organic solvent is 10 mass ppb (parts per billion) or less, for example. If necessary, an organic solvent at a mass ppt (parts per trillion) level may be used, and such an organic solvent is provided by, for example, Toyo Kosei Corporation (Kagaku Kogyo Nippo, November 13, 2015).

유기 용제로부터 금속 등의 불순물을 제거하는 방법으로서는, 예를 들면, 증류(분자 증류나 박막 증류 등)나 필터를 이용한 여과를 들 수 있다. 여과에 이용하는 필터의 필터 구멍 직경으로서는, 10μm 이하가 바람직하고, 5μm 이하가 보다 바람직하며, 3μm 이하가 더 바람직하다. 필터의 재질은, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리에틸렌 또는 나일론이 바람직하다.As a method of removing impurities, such as a metal, from an organic solvent, distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) or filtration using a filter is mentioned, for example. As a filter pore diameter of the filter used for filtration, 10 micrometers or less are preferable, 5 micrometers or less are more preferable, and 3 micrometers or less are still more preferable. The material of the filter is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene, or nylon.

유기 용제에는, 이성체(원자수가 동일하지만 구조가 상이한 화합물)가 포함되어 있어도 된다. 또, 이성체는, 1종만이 포함되어 있어도 되고, 복수 종 포함되어 있어도 된다.The organic solvent may contain isomers (compounds having the same number of atoms but different structures). Moreover, only 1 type may be contained and multiple types of isomers may be contained.

유기 용제 중의 과산화물의 함유율은 0.8mmol/L 이하인 것이 바람직하고, 과산화물을 실질적으로 포함하지 않는 것이 보다 바람직하다.It is preferable that the content rate of the peroxide in an organic solvent is 0.8 mmol/L or less, and it is more preferable that a peroxide is not included substantially.

착색 조성물 중에 있어서의 용제의 함유량은, 10~95질량%인 것이 바람직하고, 20~90질량%인 것이 보다 바람직하며, 30~90질량%인 것이 더 바람직하다.It is preferable that content of the solvent in a coloring composition is 10-95 mass %, It is more preferable that it is 20-90 mass %, It is more preferable that it is 30-90 mass %.

또, 본 발명의 착색 조성물은, 환경 규제의 관점에서 환경 규제 물질을 실질적으로 함유하지 않는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서, 환경 규제 물질을 실질적으로 함유하지 않는다란, 착색 조성물 중에 있어서의 환경 규제 물질의 함유량이 50질량ppm 이하인 것을 의미하며, 30질량ppm 이하인 것이 바람직하고, 10질량ppm 이하인 것이 더 바람직하며, 1질량ppm 이하인 것이 특히 바람직하다. 환경 규제 물질은, 예를 들면 벤젠; 톨루엔, 자일렌 등의 알킬벤젠류; 클로로벤젠 등의 할로젠화 벤젠류 등을 들 수 있다. 이들은, REACH(Registration Evaluation Authorization and Restriction of CHemicals) 규칙, PRTR(Pollutant Release and Transfer Register)법, VOC(Volatile Organic Compounds) 규제 등을 기초로 하여 환경 규제 물질로서 등록되어 있고, 사용량이나 취급 방법이 엄격하게 규제되고 있다. 이들 화합물은, 착색 조성물에 이용되는 각 성분 등을 제조할 때에 용매로서 이용되는 경우가 있고, 잔류 용매로서 착색 조성물 중에 혼입되는 경우가 있다. 사람에 대한 안전성, 환경에 대한 배려의 관점에서 이들 물질은 가능한 한 저감하는 것이 바람직하다. 환경 규제 물질을 저감하는 방법으로서는, 계 내를 가열이나 감압하여 환경 규제 물질의 비점 이상으로 하고 계 내에서 환경 규제 물질을 증류 제거하여 저감하는 방법을 들 수 있다. 또, 소량의 환경 규제 물질을 증류 제거하는 경우에 있어서는, 효율을 높이기 위하여 해당 용매와 동등한 비점을 갖는 용매와 공비(共沸)시키는 것도 유용하다. 또, 라디칼 중합성을 갖는 화합물을 함유하는 경우, 감압 증류 제거 중에 라디칼 중합 반응이 진행되어 분자 사이에서 가교해 버리는 것을 억제하기 위하여 중합 금지제 등을 첨가하여 감압 증류 제거해도 된다. 이들 증류 제거 방법은, 원료의 단계, 원료를 반응시킨 생성물(예를 들면 중합한 후의 수지 용액이나 다관능 모노머 용액)의 단계, 또는 이들 화합물을 혼합하여 제작한 착색 조성물의 단계 등의 어느 단계에서도 가능하다.Moreover, it is preferable that the coloring composition of this invention does not contain an environmental regulation substance substantially from a viewpoint of environmental regulation. In addition, in this invention, it means that content of the environmental control substance in a coloring composition is 50 mass ppm or less, It is preferable that it is 30 mass ppm or less, It is 10 mass ppm or less that it does not contain an environmental control substance substantially in this invention. It is more preferable, and it is especially preferable that it is 1 mass ppm or less. Environmentally regulated substances include, for example, benzene; alkylbenzenes such as toluene and xylene; Halogenated benzenes, such as chlorobenzene, etc. are mentioned. These are registered as environmentally regulated substances based on REACH (Registration Evaluation Authorization and Restriction of CHemicals) rules, PRTR (Pollutant Release and Transfer Register) laws, VOC (Volatile Organic Compounds) regulations, etc., and their usage and handling methods are strict. is tightly regulated. These compounds may be used as a solvent when manufacturing each component etc. used for a coloring composition, and may mix in a coloring composition as a residual solvent. From the viewpoint of safety for humans and consideration for the environment, it is desirable to reduce these substances as much as possible. As a method of reducing an environmentally regulated substance, the method of reducing by heating or depressurizing the inside of a system, making it more than the boiling point of an environmentally regulated substance, and distilling off an environmentally regulated substance in a system is mentioned. Moreover, when distilling off a small amount of an environmental control substance, in order to raise efficiency, it is also useful to make it azeotrope with the solvent which has a boiling point equivalent to the said solvent. Moreover, when it contains the compound which has radical polymerizability, in order to suppress that a radical polymerization reaction advances and bridge|crosslinks between molecules during vacuum distillation, you may add a polymerization inhibitor etc. and may distill under reduced pressure. These distillation removal methods can be performed at any stage, such as the stage of the raw material, the stage of the product reacted with the raw material (for example, a resin solution or polyfunctional monomer solution after polymerization), or the stage of the coloring composition prepared by mixing these compounds. It is possible.

<<안료 유도체>><<Pigment Derivatives>>

본 발명의 착색 조성물은, 안료 유도체를 함유하는 것이 바람직하다. 안료 유도체로서는, 색소 골격에 산기 또는 염기성기가 결합된 구조를 갖는 화합물을 들 수 있으며, 이물의 발생이 보다 억제된 막을 형성하기 쉽다는 이유에서 색소 골격에 염기성기가 결합된 구조를 갖는 화합물인 것이 바람직하다. 안료 유도체를 구성하는 색소 골격으로서는, 퀴놀린 색소 골격, 벤즈이미다졸온 색소 골격, 벤즈아이소인돌 색소 골격, 벤조싸이아졸 색소 골격, 이미늄 색소 골격, 스쿠아릴륨 색소 골격, 크로코늄 색소 골격, 옥소놀 색소 골격, 피롤로피롤 색소 골격, 다이케토피롤로피롤 색소 골격, 아조 색소 골격, 아조메타인 색소 골격, 프탈로사이아닌 색소 골격, 나프탈로사이아닌 색소 골격, 안트라퀴논 색소 골격, 다이안트라퀴논 색소 골격, 퀴나크리돈 색소 골격, 다이옥사진 색소 골격, 페린온 색소 골격, 페릴렌 색소 골격, 싸이아진인디고 색소 골격, 싸이오인디고 색소 골격, 아이소인돌린 색소 골격, 아이소인돌린온 색소 골격, 퀴노프탈론 색소 골격, 이미늄 색소 골격, 다이싸이올 색소 골격, 트라이아릴메테인 색소 골격, 피로메텐 색소 골격 등을 들 수 있으며, 다이케토피롤로피롤 색소 골격, 벤즈아이소인돌 색소 골격, 안트라퀴논 색소 골격, 다이안트라퀴논 색소 골격, 싸이아진인디고 색소 골격, 아조 색소 골격, 퀴노프탈론 색소 골격, 및 퀴나크리돈 색소 골격인 것이 바람직하고, 다이케토피롤로피롤 색소 골격인 것이 보다 바람직하다. 즉, 안료 유도체는 다이케토피롤로피롤 화합물인 것이 바람직하다. 이 양태에 의하면, 적색의 색가가 보다 높은 막을 형성할 수 있으며, 적색 화소용의 착색 조성물로서 보다 바람직하게 이용된다.It is preferable that the coloring composition of this invention contains a pigment derivative. Examples of the pigment derivative include compounds having a structure in which an acidic group or a basic group is bonded to a dye skeleton, and a compound having a structure in which a basic group is bonded to a dye skeleton is preferable for the reason that it is easy to form a film in which the generation of foreign substances is more suppressed. do. As the dye skeleton constituting the pigment derivative, quinoline dye skeleton, benzimidazolone dye skeleton, benzisoindole dye skeleton, benzothiazole dye skeleton, iminium dye skeleton, squarylium dye skeleton, croconium dye skeleton, oxonol Dye skeleton, pyrrolopyrrole dye skeleton, diketopyrrolopyrrole dye skeleton, azo dye skeleton, azomethine dye skeleton, phthalocyanine dye skeleton, naphthalocyanine dye skeleton, anthraquinone dye skeleton, dianthraquinone dye Skeleton, quinacridone pigment skeleton, dioxazine pigment skeleton, perinone pigment skeleton, perylene pigment skeleton, thiazine indigo pigment skeleton, thioindigo pigment skeleton, isoindoline pigment skeleton, isoindolinone pigment skeleton, quinope Talon dye skeleton, iminium dye skeleton, dithiol dye skeleton, triarylmethane dye skeleton, pyromethene dye skeleton, etc. are mentioned, Diketopyrrolopyrrole dye skeleton, benzisoindole dye skeleton, anthraquinone dye skeleton , dianthraquinone dye skeleton, thiazine indigo dye skeleton, azo dye skeleton, quinophthalone dye skeleton, and quinacridone dye skeleton, more preferably diketopyrrolopyrrole dye skeleton. That is, the pigment derivative is preferably a diketopyrrolopyrrole compound. According to this aspect, the film|membrane with a higher red color value can be formed, and it is used more preferably as a coloring composition for red pixels.

안료 유도체로서는, 식 (Syn)으로 나타나는 화합물인 것이 바람직하다.As a pigment derivative, it is preferable that it is a compound represented by Formula (Syn).

P-(L)m ····(Syn)P-(L) m ...(Syn)

상기 식 중, P는 색소 골격을 나타내고,In the above formula, P represents a dye skeleton,

m은, 1~4의 정수를 나타내며,m represents an integer of 1-4,

L은, -OH; -SO3H, -COOH 또는 이들 기의 염; 프탈이미드메틸기; 하기 식 (a), (b), (c), (d), (e) 또는 (f)로 나타나는 기를 나타낸다.L is -OH; -SO 3 H, -COOH or salts of these groups; phthalimide methyl group; Group represented by a following formula (a), (b), (c), (d), (e) or (f) is shown.

[화학식 15][Formula 15]

Figure pct00015
Figure pct00015

상기 식 중, X는, -SO2-, -CO-, -CH2-, -CH2NHCOCH2-, -CH2NHSO2CH2-, 또는 단결합을 나타내고,In the formula, X represents -SO 2 -, -CO-, -CH 2 -, -CH 2 NHCOCH 2 -, -CH 2 NHSO 2 CH 2 -, or a single bond,

Y는, -NH-, -O-, -S-, 또는 단결합을 나타내며,Y represents -NH-, -O-, -S-, or a single bond,

n은, 1~10의 정수를 나타내고,n represents the integer of 1-10,

R16 및 R17은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~30의 알킬기 또는 탄소수 2~30의 알켄일기를 나타내며, R16과 R17은 결합하여 환을 형성하고 있어도 되고,R 16 and R 17 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, R 16 and R 17 may be bonded to each other to form a ring;

R18, R19, R20, R21 및 R22는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~20의 알킬기 또는 탄소수 2~20의 알켄일기를 나타내며,R 18 , R 19 , R 20 , R 21 and R 22 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms,

R23은, 식 (a)로 나타나는 기, 또는 식 (b)로 나타나는 기를 나타내고,R 23 represents group represented by formula (a) or group represented by formula (b),

R24는, 할로젠 원자, -OH, 알콕시기, 식 (a)로 나타나는 기, 또는 식 (b)로 나타나는 기를 나타내며,R 24 represents a halogen atom, -OH, an alkoxy group, a group represented by the formula (a), or a group represented by the formula (b),

Z는, -CONH-, -NHCO-, -SO2NH-, 또는 -NHSO2-를 나타내고,Z represents -CONH-, -NHCO-, -SO 2 NH-, or -NHSO 2 -,

R25는, 수소 원자, -NH2, -NHCOCH3, -NHR26 또는 식 (c)로 나타나는 기를 나타내며, R26은, 탄소수 1~20의 알킬기, 또는 탄소수 2~20의 알켄일기를 나타낸다.R 25 represents a hydrogen atom, -NH 2 , -NHCOCH 3 , -NHR 26 or a group represented by the formula (c), and R 26 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms.

식 (Syn)의 P가 나타내는 색소 골격으로서는, 퀴놀린 색소 골격, 벤즈이미다졸온 색소 골격, 벤즈아이소인돌 색소 골격, 벤조싸이아졸 색소 골격, 이미늄 색소 골격, 스쿠아릴륨 색소 골격, 크로코늄 색소 골격, 옥소놀 색소 골격, 피롤로피롤 색소 골격, 다이케토피롤로피롤 색소 골격, 아조 색소 골격, 아조메타인 색소 골격, 프탈로사이아닌 색소 골격, 나프탈로사이아닌 색소 골격, 안트라퀴논 색소 골격, 다이안트라퀴논 색소 골격, 퀴나크리돈 색소 골격, 다이옥사진 색소 골격, 페린온 색소 골격, 페릴렌 색소 골격, 싸이아진인디고 색소 골격, 싸이오인디고 색소 골격, 아이소인돌린 색소 골격, 아이소인돌린온 색소 골격, 퀴노프탈론 색소 골격, 이미늄 색소 골격, 다이싸이올 색소 골격, 트라이아릴메테인 색소 골격, 피로메텐 색소 골격 등을 들 수 있으며, 다이케토피롤로피롤 색소 골격, 벤즈아이소인돌 색소 골격, 안트라퀴논 색소 골격, 다이안트라퀴논 색소 골격, 싸이아진인디고 색소 골격, 아조 색소 골격, 퀴노프탈론 색소 골격, 및 퀴나크리돈 색소 골격인 것이 바람직하고, 다이케토피롤로피롤 색소 골격인 것이 보다 바람직하다.Examples of the dye skeleton represented by P in the formula (Syn) include a quinoline dye skeleton, a benzimidazolone dye skeleton, a benzisoindole dye skeleton, a benzothiazole dye skeleton, an iminium dye skeleton, a squarylium dye skeleton, and a croconium dye skeleton. , oxonol pigment skeleton, pyrrolopyrrole pigment skeleton, diketopyrrolopyrrole pigment skeleton, azo pigment skeleton, azomethine pigment skeleton, phthalocyanine pigment skeleton, naphthalocyanine pigment skeleton, anthraquinone pigment skeleton, dian Traquinone pigment skeleton, quinacridone pigment skeleton, dioxazine pigment skeleton, perinone pigment skeleton, perylene pigment skeleton, thiazine indigo pigment skeleton, thioindigo pigment skeleton, isoindoline pigment skeleton, isoindolinone pigment skeleton , quinophthalone dye skeleton, iminium dye skeleton, dithiol dye skeleton, triarylmethane dye skeleton, pyromethene dye skeleton, and the like, diketopyrrolopyrrole dye skeleton, benzisoindole dye skeleton, anthra It is preferable that they are a quinone dye skeleton, a dianthraquinone dye skeleton, a thiazine indigo dye skeleton, an azo dye skeleton, a quinophthalone dye skeleton, and a quinacridone dye skeleton, and it is more preferable that it is a diketopyrrolopyrrole dye skeleton.

식 (Syn)의 L이 나타내는 -SO3H 또는 -COOH의 염으로서는, 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 칼슘, 철, 또는 알루미늄 등의 1가~3가의 금속의 염, 암모늄염 등을 들 수 있다. 암모늄염으로서는, 옥틸아민, 라우릴아민 및 스테아릴아민 등의 장쇄 모노알킬아민의 암모늄염; 팔미틸트라이메틸암모늄염, 다이라우릴다이메틸암모늄염 및 다이스테아릴다이메틸암모늄염 등의 4급 알킬암모늄염을 들 수 있다.Examples of the salt of -SO 3 H or -COOH represented by L in the formula (Syn) include salts and ammonium salts of monovalent to trivalent metals such as sodium, potassium, magnesium, calcium, iron, or aluminum. Examples of the ammonium salt include ammonium salts of long-chain monoalkylamines such as octylamine, laurylamine and stearylamine; Quaternary alkylammonium salts, such as a palmityl trimethylammonium salt, a dilauryl dimethyl ammonium salt, and a distearyl dimethyl ammonium salt, are mentioned.

안료 유도체의 구체예로서는, 후술하는 실시예에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 소56-118462호, 일본 공개특허공보 소63-264674호, 일본 공개특허공보 평01-217077호, 일본 공개특허공보 평03-009961호, 일본 공개특허공보 평03-026767호, 일본 공개특허공보 평03-153780호, 일본 공개특허공보 평03-045662호, 일본 공개특허공보 평04-285669호, 일본 공개특허공보 평06-145546호, 일본 공개특허공보 평06-212088호, 일본 공개특허공보 평06-240158호, 일본 공개특허공보 평10-030063호, 일본 공개특허공보 평10-195326호, 국제 공개공보 제2011/024896호의 단락 번호 0086~0098, 국제 공개공보 제2012/102399호의 단락 번호 0063~0094, 국제 공개공보 제2017/038252호의 단락 번호 0082, 일본 공개특허공보 2015-151530호의 단락 번호 0171, 일본 공개특허공보 2011-252065호의 단락 번호 0162~0183, 일본 공개특허공보 2003-081972호, 일본 특허공보 제5299151호, 일본 공개특허공보 2015-172732호, 일본 공개특허공보 2014-199308호, 일본 공개특허공보 2014-085562호, 일본 공개특허공보 2014-035351호, 일본 공개특허공보 2008-081565호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-138417호의 단락 번호 0055~0073에 기재된 화합물을 들 수 있다.As a specific example of a pigment derivative, the compound described in the Example mentioned later, Unexamined-Japanese-Patent No. 56-118462, Unexamined-Japanese-Patent No. 63-264674, Unexamined-Japanese-Patent No. Hei 01-217077, Unexamined-Japanese-Patent No. Hei 03 -009961, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei03-026767, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei03-153780, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 03-045662, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei04-285669, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei06 -145546, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 06-212088, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 06-240158, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 10-030063, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 10-195326, International Publication No. 2011/ Paragraph Nos. 0086 to 0098 of 024896, Paragraph Nos. 0063 to 0094 of International Publication No. 2012/102399, Paragraph Nos. 0082 of International Publication No. 2017/038252, Paragraph Nos. 0171 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-151530, Japanese Patent Application Laid-Open No. Paragraph Nos. 0162 to 0183 of 2011-252065, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-081972, Japanese Patent Publication No. 5299151, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-172732, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-199308, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014- 085562, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-035351, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-081565, Paragraph No. 0055 of Unexamined-Japanese-Patent No. 0055 - 0073 are mentioned.

안료 유도체를 함유하는 경우, 안료 유도체의 함유량은, 안료 100질량부에 대하여 1~30질량부가 바람직하고, 1~20질량부가 보다 바람직하며, 2~10질량부가 더 바람직하고, 3~8질량부가 특히 바람직하다. 안료 유도체는 1종만을 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 2종 이상 병용하는 경우는 그들의 합계량이 상기 범위인 것이 바람직하다.When it contains a pigment derivative, 1-30 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of pigments, as for content of a pigment derivative, 1-20 mass parts is more preferable, 2-10 mass parts is still more preferable, 3-8 mass parts Especially preferred. Only 1 type may be used for a pigment derivative, and may use 2 or more types together. When using 2 or more types together, it is preferable that those total amounts are the said range.

<<중합성 화합물>><<Polymerizable compound>>

본 발명의 착색 조성물은, 중합성 화합물을 함유하는 것이 바람직하다. 중합성 화합물로서는, 라디칼, 산 또는 열에 의하여 가교 가능한 공지의 화합물을 이용할 수 있다. 본 발명에 있어서, 중합성 화합물은, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 갖는 화합물인 것이 바람직하다. 에틸렌성 불포화 결합 함유기로서는, 바이닐기, (메트)알릴기, (메트)아크릴로일기 등을 들 수 있다. 본 발명에서 이용되는 중합성 화합물은, 라디칼 중합성 화합물인 것이 바람직하다.It is preferable that the coloring composition of this invention contains a polymeric compound. As the polymerizable compound, a known compound that can be crosslinked by radical, acid or heat can be used. In the present invention, the polymerizable compound is preferably a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group. Examples of the ethylenically unsaturated bond-containing group include a vinyl group, (meth)allyl group, and (meth)acryloyl group. It is preferable that the polymeric compound used by this invention is a radically polymerizable compound.

중합성 화합물로서는, 모노머, 프리폴리머, 올리고머 등의 화학적 형태 중 어느 것이어도 되지만, 모노머가 바람직하다. 중합성 화합물의 분자량은, 100~3000이 바람직하다. 상한은, 2000 이하가 보다 바람직하며, 1500 이하가 더 바람직하다. 하한은, 150 이상이 보다 바람직하며, 250 이상이 더 바람직하다.Although any of chemical forms, such as a monomer, a prepolymer, and an oligomer, may be sufficient as a polymeric compound, A monomer is preferable. As for the molecular weight of a polymeric compound, 100-3000 are preferable. As for an upper limit, 2000 or less are more preferable, and 1500 or less are still more preferable. As for a minimum, 150 or more are more preferable, and 250 or more are still more preferable.

중합성 화합물은, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 3개 이상 포함하는 화합물인 것이 바람직하고, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 3~15개 포함하는 화합물인 것이 보다 바람직하며, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 3~6개 포함하는 화합물인 것이 더 바람직하다. 또, 중합성 화합물은, 3~15관능의 (메트)아크릴레이트 화합물인 것이 바람직하고, 3~6관능의 (메트)아크릴레이트 화합물인 것이 보다 바람직하다. 중합성 화합물의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2009-288705호의 단락 번호 0095~0108, 일본 공개특허공보 2013-029760호의 단락 0227, 일본 공개특허공보 2008-292970호의 단락 번호 0254~0257, 일본 공개특허공보 2013-253224호의 단락 번호 0034~0038, 일본 공개특허공보 2012-208494호의 단락 번호 0477, 일본 공개특허공보 2017-048367호, 일본 특허공보 제6057891호, 일본 특허공보 제6031807호에 기재되어 있는 화합물을 들 수 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.It is preferable that a polymeric compound is a compound containing 3 or more ethylenically unsaturated bond containing groups, It is more preferable that it is a compound containing 3-15 ethylenically unsaturated bond containing groups, It is 3-6 ethylenically unsaturated bond containing groups. It is more preferable that it is a compound containing dogs. Moreover, it is preferable that it is a 3-15 functional (meth)acrylate compound, and, as for a polymeric compound, it is more preferable that it is a 3-6 functional (meth)acrylate compound. As a specific example of a polymeric compound, Paragraph Nos. 0095 - 0108 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-288705, Paragraph 0227 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-029760, Paragraph Nos. 0254 - 0257 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-292970, Unexamined-Japanese-Patent No. Paragraph Nos. 0034 to 0038 of 2013-253224, Paragraph No. 0477 of Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2012-208494, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-048367, Japanese Patent Publication No. 6057891, and the compound described in Japanese Patent Publication No. 6031807 , the contents of which are incorporated herein by reference.

본 발명의 착색 조성물은, 이물의 발생이 보다 억제된 막을 형성할 수 있다는 이유에서, 관능기수가 상이한 중합성 화합물을 2종 이상 포함하는 것이 바람직하다. 이 경우, 3관능의 중합성 화합물과, 4관능 이상의 중합성 화합물을 병용하는 것이 바람직하고, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 3개 포함하는 화합물과, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 4개 이상 포함하는 화합물을 병용하는 것이 보다 바람직하다.Since the coloring composition of this invention can form the film|membrane by which generation|occurrence|production of a foreign material was suppressed more, it is preferable that the polymeric compound from which the number of functional groups differs contains 2 or more types. In this case, it is preferable to use a trifunctional polymerizable compound and a tetrafunctional or higher functional polymerizable compound together, a compound containing three ethylenically unsaturated bond-containing groups, and a compound containing four or more ethylenically unsaturated bond-containing groups It is more preferable to use together.

중합성 화합물로서는, 다이펜타에리트리톨트라이(메트)아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-330; 닛폰 가야쿠(주)제), 다이펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-320; 닛폰 가야쿠(주)제), 다이펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-310; 닛폰 가야쿠(주)제), 다이펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD DPHA; 닛폰 가야쿠(주)제, NK 에스터 A-DPH-12E; 신나카무라 가가쿠 고교(주)제), 및 이들 (메트)아크릴로일기가 에틸렌글라이콜 및/또는 프로필렌글라이콜 잔기를 개재하여 결합되어 있는 구조의 화합물(예를 들면, 사토머사로부터 시판되고 있는, SR454, SR499)이 바람직하다. 또, 중합성 화합물로서는, 다이글리세린 EO(에틸렌옥사이드) 변성 (메트)아크릴레이트(시판품으로서는 M-460; 도아 고세이제), 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트(신나카무라 가가쿠 고교(주)제, NK 에스터 A-TMMT), 1,6-헥세인다이올다이아크릴레이트(닛폰 가야쿠(주)제, KAYARAD HDDA), RP-1040(닛폰 가야쿠(주)제), 아로닉스 TO-2349(도아 고세이(주)제), NK 올리고 UA-7200(신나카무라 가가쿠 고교(주)제), DPHA-40H(닛폰 가야쿠(주)제), UA-306H, UA-306T, UA-306I, AH-600, T-600, AI-600, LINC-202UA(교에이샤 가가쿠(주)제), 8UH-1006, 8UH-1012(이상, 다이세이 파인 케미컬(주)제), 라이트 아크릴레이트 POB-A0(교에이샤 가가쿠(주)제) 등을 이용할 수도 있다.Examples of the polymerizable compound include dipentaerythritol tri(meth)acrylate (KAYARAD D-330 as a commercially available product; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol tetra(meth)acrylate (KAYARAD D-320 as a commercially available product; Nippon Kayaku Co., Ltd. product), dipentaerythritol penta (meth) acrylate (KAYARAD D-310 as a commercial product; Nippon Kayaku Co., Ltd. product), dipentaerythritol hexa(meth) acrylate (KAYARAD as a commercial product) DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., NK Ester A-DPH-12E; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), and these (meth)acryloyl groups are ethylene glycol and/or propylene glycol residues Compounds having a structure bonded via Moreover, as a polymeric compound, diglycerol EO (ethylene oxide) modified (meth)acrylate (as a commercial item, M-460; Toagosei make), pentaerythritol tetraacrylate (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. product, NK ester A-TMMT), 1,6-hexanediol diacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD HDDA), RP-1040 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Aronix TO-2349 (Doa) Kosei Co., Ltd.), NK Oligo UA-7200 (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), DPHA-40H (Nippon Kayaku Co., Ltd.), UA-306H, UA-306T, UA-306I, AH -600, T-600, AI-600, LINC-202UA (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), 8UH-1006, 8UH-1012 (above, manufactured by Daisei Fine Chemicals), light acrylate POB -A0 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) or the like can also be used.

또, 중합성 화합물에는, 트라이메틸올프로페인트라이(메트)아크릴레이트, 트라이메틸올프로페인프로필렌옥사이드 변성 트라이(메트)아크릴레이트, 트라이메틸올프로페인에틸렌옥사이드 변성 트라이(메트)아크릴레이트, 아이소사이아누르산 에틸렌옥사이드 변성 트라이(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트라이(메트)아크릴레이트 등의 3관능의 (메트)아크릴레이트 화합물을 이용할 수도 있다. 3관능의 (메트)아크릴레이트 화합물의 시판품으로서는, 아로닉스 M-309, M-310, M-321, M-350, M-360, M-313, M-315, M-306, M-305, M-303, M-452, M-450(도아 고세이(주)제), NK 에스터 A9300, A-GLY-9E, A-GLY-20E, A-TMM-3, A-TMM-3L, A-TMM-3LM-N, A-TMPT, TMPT(신나카무라 가가쿠 고교(주)제), KAYARAD GPO-303, TMPTA, THE-330, TPA-330, PET-30(닛폰 가야쿠(주)제) 등을 들 수 있다.Moreover, to a polymeric compound, trimethylol propane tri(meth)acrylate, trimethylol propane propylene oxide modified|denatured tri(meth)acrylate, trimethylol propane ethylene oxide modified|denatured tri(meth)acrylate, iso Trifunctional (meth)acrylate compounds, such as cyanuric-acid ethylene oxide modified|denatured tri(meth)acrylate and pentaerythritol tri(meth)acrylate, can also be used. As a commercial item of a trifunctional (meth)acrylate compound, Aronix M-309, M-310, M-321, M-350, M-360, M-313, M-315, M-306, M-305 , M-303, M-452, M-450 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), NK Ester A9300, A-GLY-9E, A-GLY-20E, A-TMM-3, A-TMM-3L, A -TMM-3LM-N, A-TMPT, TMPT (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), KAYARAD GPO-303, TMPTA, THE-330, TPA-330, PET-30 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) ) and the like.

또, 중합성 화합물에는, 산기를 갖는 화합물을 이용할 수도 있다. 산기를 갖는 중합성 화합물을 이용함으로써, 현상 시에 미노광부의 중합성 화합물이 제거되기 쉬워, 현상 잔사의 발생을 억제할 수 있다. 산기로서는, 카복실기, 설포기, 인산기 등을 들 수 있으며, 카복실기가 바람직하다. 산기를 갖는 중합성 화합물의 시판품으로서는, 아로닉스 M-510, M-520, 아로닉스 TO-2349(도아 고세이(주)제) 등을 들 수 있다. 산기를 갖는 중합성 화합물의 바람직한 산가로서는, 0.1~40mgKOH/g이고, 보다 바람직하게는 5~30mgKOH/g이다. 중합성 화합물의 산가가 0.1mgKOH/g 이상이면, 현상액에 대한 용해성이 양호하고, 40mgKOH/g 이하이면, 제조나 취급상, 유리하다.Moreover, the compound which has an acidic radical can also be used for a polymeric compound. By using the polymeric compound which has an acidic radical, the polymeric compound of an unexposed part is easy to remove at the time of image development, and generation|occurrence|production of the image development residue can be suppressed. As an acidic radical, a carboxyl group, a sulfo group, a phosphoric acid group, etc. are mentioned, A carboxyl group is preferable. As a commercial item of the polymeric compound which has an acidic radical, Aronix M-510, M-520, Aronix TO-2349 (made by Toagosei Co., Ltd.), etc. are mentioned. As a preferable acid value of the polymeric compound which has an acidic radical, it is 0.1-40 mgKOH/g, More preferably, it is 5-30 mgKOH/g. If the acid value of a polymeric compound is 0.1 mgKOH/g or more, solubility with respect to a developing solution is favorable, and if it is 40 mgKOH/g or less, it is advantageous on manufacture and handling.

또, 중합성 화합물에는, 카프로락톤 구조를 갖는 화합물을 이용할 수도 있다. 카프로락톤 구조를 갖는 중합성 화합물의 시판품으로서는, KAYARAD DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120(이상, 닛폰 가야쿠(주)제) 등을 들 수 있다.Moreover, the compound which has a caprolactone structure can also be used for a polymeric compound. As a commercial item of the polymeric compound which has a caprolactone structure, KAYARAD DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120 (above, Nippon Kayaku Co., Ltd. product) etc. are mentioned.

또, 중합성 화합물에는, 알킬렌옥시기를 갖는 중합성 화합물을 이용할 수도 있다. 알킬렌옥시기를 갖는 중합성 화합물은, 에틸렌옥시기 및/또는 프로필렌옥시기를 갖는 중합성 화합물이 바람직하고, 에틸렌옥시기를 갖는 중합성 화합물이 보다 바람직하며, 에틸렌옥시기를 4~20개 갖는 3~6관능 (메트)아크릴레이트 화합물이 더 바람직하다. 알킬렌옥시기를 갖는 중합성 화합물의 시판품으로서는, 예를 들면 사토머사제의 에틸렌옥시기를 4개 갖는 4관능 (메트)아크릴레이트인 SR-494, 닛폰 가야쿠(주)제의 아이소뷰틸렌옥시기를 3개 갖는 3관능 (메트)아크릴레이트인 KAYARAD TPA-330 등을 들 수 있다.Moreover, the polymeric compound which has an alkyleneoxy group can also be used for a polymeric compound. The polymerizable compound having an alkyleneoxy group is preferably a polymerizable compound having an ethyleneoxy group and/or a propyleneoxy group, more preferably a polymerizable compound having an ethyleneoxy group, and 3 to 6 having 4 to 20 ethyleneoxy groups. Functional (meth)acrylate compounds are more preferred. As a commercial item of the polymeric compound which has an alkyleneoxy group, SR-494 which is a tetrafunctional (meth)acrylate which has four ethyleneoxy groups made by Sartomer, for example, isobutyleneoxy group manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYARAD TPA-330 which is a trifunctional (meth)acrylate which has three, etc. are mentioned.

또, 중합성 화합물에는, 플루오렌 골격을 갖는 중합성 화합물을 이용할 수도 있다. 플루오렌 골격을 갖는 중합성 화합물의 시판품으로서는, 오그솔 EA-0200, EA-0300(오사카 가스 케미컬(주)제, 플루오렌 골격을 갖는 (메트)아크릴레이트 모노머) 등을 들 수 있다.Moreover, as a polymeric compound, the polymeric compound which has a fluorene skeleton can also be used. As a commercial item of the polymeric compound which has a fluorene skeleton, Ogsol EA-0200, EA-0300 (The Osaka Gas Chemical Co., Ltd. product, (meth)acrylate monomer which has a fluorene skeleton) etc. are mentioned.

중합성 화합물에는, 톨루엔 등의 환경 규제 물질을 실질적으로 포함하지 않는 화합물을 이용하는 것도 바람직하다. 이와 같은 화합물의 시판품으로서는, KAYARAD DPHA LT, KAYARAD DPEA-12 LT(닛폰 가야쿠(주)제) 등을 들 수 있다.It is also preferable to use the compound which does not contain environmental control substances, such as toluene, as a polymeric compound substantially. As a commercial item of such a compound, KAYARAD DPHA LT, KAYARAD DPEA-12 LT (made by Nippon Kayaku Co., Ltd.), etc. are mentioned.

착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 중합성 화합물의 함유량은 0.5~30질량%인 것이 바람직하다. 하한은 1질량% 이상이 바람직하고, 1.5질량% 이상이 보다 바람직하다. 상한은 25질량% 이하가 바람직하고, 20질량% 이하가 보다 바람직하다. 중합성 화합물은, 1종 단독이어도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 중합성 화합물을 2종 이상을 병용하는 경우는, 그들의 합계가 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.It is preferable that content of the polymeric compound in the total solid of a coloring composition is 0.5-30 mass %. 1 mass % or more is preferable and, as for a minimum, 1.5 mass % or more is more preferable. 25 mass % or less is preferable and, as for an upper limit, 20 mass % or less is more preferable. Single 1 type may be sufficient as a polymeric compound, and may use 2 or more types together. When using 2 or more types of polymeric compounds together, it is preferable that those sum total becomes the said range.

또, 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 중합성 화합물과 수지의 합계의 함유량은, 5~40질량%인 것이 바람직하다. 상한은 35질량% 이하인 것이 바람직하고, 30질량% 이하인 것이 보다 바람직하며, 25질량% 이하인 것이 더 바람직하다. 하한은 10질량% 이상인 것이 바람직하고, 15질량% 이상인 것이 보다 바람직하다.Moreover, it is preferable that content of the sum total of the polymeric compound and resin in the total solid of a coloring composition is 5-40 mass %. It is preferable that it is 35 mass % or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 30 mass % or less, It is more preferable that it is 25 mass % or less. It is preferable that it is 10 mass % or more, and, as for a minimum, it is more preferable that it is 15 mass % or more.

<<광중합 개시제>><<Photoinitiator>>

본 발명의 착색 조성물은 광중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하다. 특히 본 발명의 착색 조성물이 중합성 화합물을 포함하는 경우, 광중합 개시제를 더 포함하는 것이 바람직하다. 이와 같은 착색 조성물은, 포토리소그래피용의 착색 조성물로서 바람직하게 이용할 수 있다. 광중합 개시제로서는, 특별히 제한은 없으며, 공지의 광중합 개시제 중에서 적절히 선택할 수 있다. 예를 들면, 자외선 영역으로부터 가시 영역의 광선에 대하여 감광성을 갖는 화합물이 바람직하다. 광중합 개시제는, 광라디칼 중합 개시제인 것이 바람직하다.It is preferable that the coloring composition of this invention contains a photoinitiator. In particular, when the coloring composition of this invention contains a polymeric compound, it is preferable to contain a photoinitiator further. Such a coloring composition can be used suitably as a coloring composition for photolithography. There is no restriction|limiting in particular as a photoinitiator, It can select suitably from well-known photoinitiators. For example, a compound having photosensitivity to light in the visible region from the ultraviolet region is preferable. It is preferable that a photoinitiator is a photoradical polymerization initiator.

광중합 개시제로서는, 할로젠화 탄화 수소 유도체(예를 들면, 트라이아진 골격을 갖는 화합물, 옥사다이아졸 골격을 갖는 화합물 등), 아실포스핀 화합물, 헥사아릴바이이미다졸, 옥심 화합물, 유기 과산화물, 싸이오 화합물, 케톤 화합물, 방향족 오늄염, α-하이드록시케톤 화합물, α-아미노케톤 화합물 등을 들 수 있다. 광중합 개시제는, 노광 감도의 관점에서, 트라이할로메틸트라이아진 화합물, 벤질다이메틸케탈 화합물, α-하이드록시케톤 화합물, α-아미노케톤 화합물, 아실포스핀 화합물, 포스핀옥사이드 화합물, 메탈로센 화합물, 옥심 화합물, 트라이아릴이미다졸 다이머, 오늄 화합물, 벤조싸이아졸 화합물, 벤조페논 화합물, 아세토페논 화합물, 사이클로펜타다이엔-벤젠-철 착체, 할로메틸옥사다이아졸 화합물 및 3-아릴 치환 쿠마린 화합물인 것이 바람직하고, 옥심 화합물, α-하이드록시케톤 화합물, α-아미노케톤 화합물, 및, 아실포스핀 화합물로부터 선택되는 화합물인 것이 보다 바람직하며, 직사각형인 패턴을 형성할 수 있다는 이유에서 옥심 화합물 또는 α-아미노케톤 화합물인 것이 더 바람직하고, 옥심 화합물인 것이 특히 바람직하다. 또, 광중합 개시제로서는, 일본 공개특허공보 2014-130173호의 단락 0065~0111, 일본 특허공보 제6301489호에 기재된 화합물, MATERIAL STAGE 37~60p, vol. 19, No. 3, 2019에 기재된 퍼옥사이드계 광중합 개시제, 국제 공개공보 제2018/221177호에 기재된 광중합 개시제, 국제 공개공보 제2018/110179호에 기재된 광중합 개시제, 일본 공개특허공보 2019-043864호에 기재된 광중합 개시제, 일본 공개특허공보 2019-044030호에 기재된 광중합 개시제를 들 수 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.Examples of the photopolymerization initiator include halogenated hydrocarbon derivatives (eg, a compound having a triazine skeleton, a compound having an oxadiazole skeleton, etc.), an acylphosphine compound, hexaarylbiimidazole, an oxime compound, an organic peroxide, thi five compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, α-hydroxyketone compounds, α-aminoketone compounds, and the like. A photoinitiator is a trihalomethyltriazine compound, a benzyldimethyl ketal compound, (alpha)-hydroxyketone compound, (alpha)-amino ketone compound, an acylphosphine compound, a phosphine oxide compound, and a metallocene from a viewpoint of exposure sensitivity. compound, oxime compound, triarylimidazole dimer, onium compound, benzothiazole compound, benzophenone compound, acetophenone compound, cyclopentadiene-benzene-iron complex, halomethyloxadiazole compound and 3-aryl substituted coumarin It is preferably a compound, more preferably a compound selected from an oxime compound, an α-hydroxyketone compound, an α-aminoketone compound, and an acylphosphine compound, and from the reason that a rectangular pattern can be formed. Or it is more preferable that it is an alpha -amino ketone compound, and it is especially preferable that it is an oxime compound. Moreover, as a photoinitiator, Paragraph 0065 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-130173 - 0111, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 6301489, MATERIAL STAGE 37-60p, vol. 19, No. 3, the peroxide-based photopolymerization initiator described in 2019, the photopolymerization initiator described in International Publication No. 2018/221177, the photopolymerization initiator described in International Publication No. 2018/110179, the photopolymerization initiator described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2019-043864, The photoinitiator of Unexamined-Japanese-Patent No. 2019-044030 is mentioned, These content is integrated in this specification.

α-하이드록시케톤 화합물의 시판품으로서는, Omnirad 184, Omnirad 1173, Omnirad 2959, Omnirad 127(이상, IGM Resins B. V.사제), Irgacure 184, Irgacure 1173, Irgacure 2959, Irgacure 127(이상, BASF사제) 등을 들 수 있다. α-아미노케톤 화합물의 시판품으로서는, Omnirad 907, Omnirad 369, Omnirad 369E, Omnirad 379EG(이상, IGM Resins B. V.사제), Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 369E, Irgacure 379EG(이상, BASF사제) 등을 들 수 있다. 아실포스핀 화합물의 시판품으로서는, Omnirad 819, Omnirad TPO(이상, IGM Resins B. V.사제), Irgacure 819, Irgacure TPO(이상, BASF사제) 등을 들 수 있다.Examples of commercially available α-hydroxyketone compounds include Omnirad 184, Omnirad 1173, Omnirad 2959, Omnirad 127 (above, manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 184, Irgacure 1173, Irgacure 2959, Irgacure 127 (above, manufactured by BASF). can As a commercial item of α-aminoketone compound, Omnirad 907, Omnirad 369, Omnirad 369E, Omnirad 379EG (above, manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 369E, Irgacure 379EG (above, manufactured by BASF), etc. have. As a commercial item of an acylphosphine compound, Omnirad 819, Omnirad TPO (above, IGM Resins B.V. company make), Irgacure 819, Irgacure TPO (above, BASF company make) etc. are mentioned.

옥심 화합물로서는, 일본 공개특허공보 2001-233842호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2000-080068호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2006-342166호에 기재된 화합물, J. C. S. Perkin II(1979년, pp. 1653-1660)에 기재된 화합물, J. C. S. Perkin II(1979년, pp. 156-162)에 기재된 화합물, Journal of Photopolymer Science and Technology(1995년, pp. 202-232)에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2000-066385호에 기재된 화합물, 일본 공표특허공보 2004-534797호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2006-342166호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-019766호에 기재된 화합물, 일본 특허공보 제6065596호에 기재된 화합물, 국제 공개공보 제2015/152153호에 기재된 화합물, 국제 공개공보 제2017/051680호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-198865호에 기재된 화합물, 국제 공개공보 제2017/164127호의 단락 번호 0025~0038에 기재된 화합물, 국제 공개공보 제2013/167515호에 기재된 화합물 등을 들 수 있다. 옥심 화합물의 구체예로서는, 3-벤조일옥시이미노뷰탄-2-온, 3-아세톡시이미노뷰탄-2-온, 3-프로피온일옥시이미노뷰탄-2-온, 2-아세톡시이미노펜탄-3-온, 2-아세톡시이미노-1-페닐프로판-1-온, 2-벤조일옥시이미노-1-페닐프로판-1-온, 3-(4-톨루엔설폰일옥시)이미노뷰탄-2-온, 및 2-에톡시카보닐옥시이미노-1-페닐프로판-1-온 등을 들 수 있다. 시판품으로서는, Irgacure OXE01, Irgacure OXE02, Irgacure OXE03, Irgacure OXE04(이상, BASF사제), TR-PBG-304(창저우 강력 전자 신재료 유한공사(Changzhou Tronly New Electronic Materials Co., Ltd.)제), 아데카 옵토머 N-1919((주)ADEKA제, 일본 공개특허공보 2012-014052호에 기재된 광중합 개시제 2)를 들 수 있다. 또, 옥심 화합물로서는, 착색성이 없는 화합물이나, 투명성이 높아 변색되기 어려운 화합물을 이용하는 것도 바람직하다. 시판품으로서는, 아데카 아클즈 NCI-730, NCI-831, NCI-930(이상, (주)ADEKA제) 등을 들 수 있다.As an oxime compound, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-233842, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-080068, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-342166, J.C.S. Perkin II (1979, pp. 1653) -1660), the compound described in J. C. S. Perkin II (1979, pp. 156-162), the compound described in the Journal of Photopolymer Science and Technology (1995, pp. 202-232), Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000- The compound described in 066385, the compound described in JP 2004-534797 A, the compound described in JP 2006-342166 , the compound described in JP 2017-019766 , the compound described in JP 6065596 A The compound, the compound described in International Publication No. 2015/152153, the compound described in International Publication No. 2017/051680, the compound described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-198865, Paragraph No. 0025 to International Publication No. 2017/164127 The compound of 0038, the compound of International Publication No. 2013/167515, etc. are mentioned. Specific examples of the oxime compound include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, 3-propionyloxyiminobutan-2-one, 2-acetoxyiminopentan-3-one , 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3-(4-toluenesulfonyloxy)iminobutan-2-one, and 2-ethoxycarbonyloxyimino-1-phenylpropan-1-one and the like. Commercially available products include Irgacure OXE01, Irgacure OXE02, Irgacure OXE03, Irgacure OXE04 (above, manufactured by BASF), TR-PBG-304 (manufactured by Changzhou Tronly New Electronic Materials Co., Ltd.); Adeka optomer N-1919 (made by ADEKA, the photoinitiator 2 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-014052) is mentioned. Moreover, as an oxime compound, it is also preferable to use the compound which does not have coloring property, and the compound which transparency is high and is hard to change color. As a commercial item, Adeka Arcles NCI-730, NCI-831, NCI-930 (above, ADEKA Co., Ltd. product) etc. are mentioned.

광중합 개시제로서는, 플루오렌환을 갖는 옥심 화합물을 이용할 수도 있다. 플루오렌환을 갖는 옥심 화합물의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2014-137466호에 기재된 화합물을 들 수 있다.As a photoinitiator, the oxime compound which has a fluorene ring can also be used. As a specific example of the oxime compound which has a fluorene ring, the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-137466 is mentioned.

광중합 개시제로서는, 카바졸환의 적어도 하나의 벤젠환이 나프탈렌환이 된 골격을 갖는 옥심 화합물을 이용할 수도 있다. 그와 같은 옥심 화합물의 구체예로서는, 국제 공개공보 제2013/083505호에 기재된 화합물을 들 수 있다.As a photoinitiator, the oxime compound which has frame|skeleton in which the at least 1 benzene ring of a carbazole ring became a naphthalene ring can also be used. As a specific example of such an oxime compound, the compound of International Publication No. 2013/083505 is mentioned.

광중합 개시제로서는, 불소 원자를 갖는 옥심 화합물을 이용할 수도 있다. 불소 원자를 갖는 옥심 화합물의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2010-262028호에 기재된 화합물, 일본 공표특허공보 2014-500852호에 기재된 화합물 24, 36~40, 일본 공개특허공보 2013-164471호에 기재된 화합물 (C-3) 등을 들 수 있다.As a photoinitiator, the oxime compound which has a fluorine atom can also be used. As a specific example of the oxime compound which has a fluorine atom, the compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-262028, the compound 24, 36-40 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-500852, and the compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-164471. (C-3) etc. are mentioned.

광중합 개시제로서는, 나이트로기를 갖는 옥심 화합물을 이용할 수 있다. 나이트로기를 갖는 옥심 화합물은, 이량체로 하는 것도 바람직하다. 나이트로기를 갖는 옥심 화합물의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2013-114249호의 단락 번호 0031~0047, 일본 공개특허공보 2014-137466호의 단락 번호 0008~0012, 0070~0079에 기재되어 있는 화합물, 일본 특허공보 4223071호의 단락 번호 0007~0025에 기재되어 있는 화합물, 아데카 아클즈 NCI-831((주)ADEKA제)을 들 수 있다.As a photoinitiator, the oxime compound which has a nitro group can be used. It is also preferable to use the oxime compound which has a nitro group as a dimer. As a specific example of the oxime compound which has a nitro group, Paragraph Nos. 0031 to 0047 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-114249, Paragraph Nos. 0008 to 0012, 0070 to 0079 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-137466, Japanese Patent Publication The compound described in Paragraph No. 0007 - 0025 of 4223071, Adeka Arcles NCI-831 (made by ADEKA Corporation) is mentioned.

광중합 개시제로서는, 벤조퓨란 골격을 갖는 옥심 화합물을 이용할 수도 있다. 구체예로서는, 국제 공개공보 제2015/036910호에 기재되어 있는 OE-01~OE-75를 들 수 있다.As a photoinitiator, the oxime compound which has a benzofuran frame|skeleton can also be used. As a specific example, OE-01 - OE-75 described in International Publication No. 2015/036910 are mentioned.

광중합 개시제로서는, 카바졸 골격에 하이드록시기를 갖는 치환기가 결합된 옥심 화합물을 이용할 수도 있다. 이와 같은 광중합 개시제로서는 국제 공개공보 제2019/088055호에 기재된 화합물 등을 들 수 있다.As a photoinitiator, the oxime compound which the substituent which has the hydroxyl group couple|bonded with the carbazole skeleton can also be used. As such a photoinitiator, the compound of International Publication No. 2019/088055, etc. are mentioned.

광중합 개시제로서는, 방향족환에 전자 구인성기가 도입된 방향족환기 ArOX1을 갖는 옥심 화합물(이하, 옥심 화합물 OX라고도 한다)을 이용할 수도 있다. 상기 방향족환기 ArOX1이 갖는 전자 구인성기로서는, 아실기, 나이트로기, 트라이플루오로메틸기, 알킬설핀일기, 아릴설핀일기, 알킬설폰일기, 아릴설폰일기, 사이아노기를 들 수 있으며, 아실기 및 나이트로기가 바람직하고, 내광성이 우수한 막을 형성하기 쉽다는 이유에서 아실기인 것이 보다 바람직하며, 벤조일기인 것이 더 바람직하다. 벤조일기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 할로젠 원자, 사이아노기, 나이트로기, 하이드록시기, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기, 복소환기, 복소환 옥시기, 알켄일기, 알킬설판일기, 아릴설판일기, 아실기 또는 아미노기인 것이 바람직하고, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기, 복소환 옥시기, 알킬설판일기, 아릴설판일기 또는 아미노기인 것이 보다 바람직하며, 알콕시기, 알킬설판일기 또는 아미노기인 것이 더 바람직하다.As a photoinitiator, the oxime compound (henceforth an oxime compound OX) which has the aromatic ring group ArOX1 in which the electron withdrawing group was introduce|transduced into the aromatic ring can also be used. Examples of the electron withdrawing group possessed by the aromatic ring group Ar OX1 include an acyl group, a nitro group, a trifluoromethyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, and a cyano group. A nitro group is preferable, and since it is easy to form the film|membrane excellent in light resistance, it is more preferable that it is an acyl group, and it is more preferable that it is a benzoyl group. The benzoyl group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a hydroxyl group, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, an alkenyl group, an alkylsulfanyl group, an arylsulfanyl group, It is preferably an acyl group or an amino group, more preferably an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylsulfanyl group, an arylsulfanyl group or an amino group, and an alkoxy group, an alkylsulfanyl group or an amino group it is more preferable

옥심 화합물 OX는, 식 (OX1)로 나타나는 화합물 및 식 (OX2)로 나타나는 화합물로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하고, 식 (OX2)로 나타나는 화합물인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is at least 1 sort(s) chosen from the compound represented by a compound and formula (OX2), and, as for oxime compound OX, it is more preferable that it is a compound represented by a formula (OX2).

[화학식 16][Formula 16]

Figure pct00016
Figure pct00016

식 중, RX1은, 알킬기, 알켄일기, 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기, 복소환기, 복소환 옥시기, 알킬설판일기, 아릴설판일기, 알킬설핀일기, 아릴설핀일기, 알킬설폰일기, 아릴설폰일기, 아실기, 아실옥시기, 아미노기, 포스피노일기, 카바모일기 또는 설파모일기를 나타내고,In the formula, R X1 is an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, an alkylsulfanyl group, an arylsulfanyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an acyl group, an acyloxy group, an amino group, a phosphinoyl group, a carbamoyl group or a sulfamoyl group;

RX2는, 알킬기, 알켄일기, 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기, 복소환기, 복소환 옥시기, 알킬설판일기, 아릴설판일기, 알킬설핀일기, 아릴설핀일기, 알킬설폰일기, 아릴설폰일기, 아실옥시기 또는 아미노기를 나타내며,R X2 is an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, an alkylsulfanyl group, an arylsulfanyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group , an acyloxy group or an amino group,

RX3~RX14는, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 나타낸다;R X3 to R X14 each independently represent a hydrogen atom or a substituent;

단, RX10~RX14 중 적어도 하나는, 전자 구인성기이다.However, at least one of R X10 to R X14 is an electron withdrawing group.

상기 식에 있어서, RX1은, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기 또는 복소환기인 것이 바람직하고, 알킬기, 아릴기 또는 복소환기인 것이 보다 바람직하며, 알킬기인 것이 더 바람직하다. 또, RX2는, 알킬기, 알켄일기, 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기, 복소환기, 복소환 옥시기 또는 아실옥시기가 바람직하고, 알킬기, 알켄일기, 아릴기 또는 복소환기인 것이 보다 바람직하며, 알킬기인 것이 더 바람직하다.In the above formula, R X1 is preferably an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group or a heterocyclic group, more preferably an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and still more preferably an alkyl group. Further, R X2 is preferably an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group or an acyloxy group, more preferably an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group. , it is more preferably an alkyl group.

상기 식에 있어서, RX3~RX14는, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 나타낸다.In the above formula, R X3 to R X14 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.

RX3~RX5는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로젠 원자, 사이아노기, 나이트로기, 알킬기, 알켄일기, 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기, 복소환기, 복소환 옥시기, 알킬설판일기, 아릴설판일기, 아실기, 또는 아미노기인 것이 바람직하고, 수소 원자, 할로젠 원자, 나이트로기, 알킬기, 아릴기 또는 복소환기인 것이 보다 바람직하며, 수소 원자, 나이트로기, 알킬기 또는 아릴기인 것이 더 바람직하고, 수소 원자인 것이 특히 바람직하다.R X3 to R X5 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, an alkyl It is preferably a sulfanyl group, an arylsulfanyl group, an acyl group, or an amino group, more preferably a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, a hydrogen atom, a nitro group, an alkyl group or It is more preferable that it is an aryl group, and it is especially preferable that it is a hydrogen atom.

RX6~RX10은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로젠 원자, 사이아노기, 알킬기, 알켄일기, 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기, 복소환기, 복소환 옥시기, 알킬설판일기, 아릴설판일기, 알킬설핀일기, 아릴설핀일기, 알킬설폰일기, 아릴설폰일기, 아미노기, 식 (OR-11)로 나타나는 기 또는 식 (OR-12)로 나타나는 기인 것이 바람직하고, 수소 원자, 할로젠 원자, 사이아노기, 알킬기, 아릴기, 복소환기 또는 아미노기인 것이 보다 바람직하며, 수소 원자, 사이아노기, 알킬기 또는 아릴기인 것이 더 바람직하고, 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기인 것이 보다 한층 바람직하며, 수소 원자 또는 알킬기인 것이 더 한층 바람직하고, 수소 원자인 것이 특히 바람직하다.R X6 to R X10 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, an alkylsulfanyl group, an aryl A sulfanyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an amino group, a group represented by the formula (OR-11) or a group represented by the formula (OR-12) is preferable, and a hydrogen atom or a halogen atom , more preferably a cyano group, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group or an amino group, still more preferably a hydrogen atom, a cyano group, an alkyl group or an aryl group, still more preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and hydrogen It is still more preferable that it is an atom or an alkyl group, and it is especially preferable that it is a hydrogen atom.

[화학식 17][Formula 17]

Figure pct00017
Figure pct00017

식 중, ROX11은, 알킬기, 알켄일기, 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기, 복소환기, 복소환 옥시기, 알킬설판일기, 아릴설판일기, 알킬설핀일기, 아릴설핀일기, 알킬설폰일기, 아릴설폰일기, 아실기, 아실옥시기, 아미노기, 포스피노일기, 카바모일기 또는 설파모일기를 나타내고,wherein R OX11 is an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, an alkylsulfanyl group, an arylsulfanyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an acyl group, an acyloxy group, an amino group, a phosphinoyl group, a carbamoyl group or a sulfamoyl group;

ROX12는, 알킬기, 알켄일기, 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기, 복소환기, 복소환 옥시기, 알킬설판일기, 아릴설판일기, 알킬설핀일기, 아릴설핀일기, 알킬설폰일기, 아릴설폰일기, 아실옥시기 또는 아미노기를 나타내며,R OX12 is an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, an alkylsulfanyl group, an arylsulfanyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group , an acyloxy group or an amino group,

파선은 결합손을 나타낸다.The dashed line indicates the bonding hand.

RX10~RX14가 나타내는 치환기는, 나이트로기, 할로젠 원자, 사이아노기, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기, 복소환기, 복소환 옥시기, 알켄일기, 알킬설판일기, 아릴설판일기, 아실기 또는 아미노기인 것이 바람직하다. 단, RX10~RX14 중 적어도 하나는, 전자 구인성기이다.The substituents represented by R X10 to R X14 include a nitro group, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, an alkenyl group, an alkylsulfanyl group, and an aryl group. It is preferable that it is a sulfanyl group, an acyl group, or an amino group. However, at least one of R X10 to R X14 is an electron withdrawing group.

RX10~RX14가 나타내는 전자 구인성기로서는, 아실기, 나이트로기, 트라이플루오로메틸기, 알킬설핀일기, 아릴설핀일기, 알킬설폰일기, 아릴설폰일기, 사이아노기를 들 수 있으며, 아실기 및 나이트로기가 바람직하고, 내광성이 우수한 막을 형성하기 쉽다는 이유에서 아실기인 것이 보다 바람직하며, 벤조일기인 것이 더 바람직하다. 벤조일기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 할로젠 원자, 사이아노기, 나이트로기, 하이드록시기, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기, 복소환기, 복소환 옥시기, 알켄일기, 알킬설판일기, 아릴설판일기, 아실기 또는 아미노기인 것이 바람직하고, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기, 복소환 옥시기, 알킬설판일기, 아릴설판일기 또는 아미노기인 것이 보다 바람직하며, 알콕시기, 알킬설판일기 또는 아미노기인 것이 더 바람직하다.Examples of the electron withdrawing group represented by R X10 to R X14 include an acyl group, a nitro group, a trifluoromethyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, and a cyano group. A nitro group is preferable, and since it is easy to form the film|membrane excellent in light resistance, it is more preferable that it is an acyl group, and it is more preferable that it is a benzoyl group. The benzoyl group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a hydroxyl group, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, an alkenyl group, an alkylsulfanyl group, an arylsulfanyl group, It is preferably an acyl group or an amino group, more preferably an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylsulfanyl group, an arylsulfanyl group or an amino group, and an alkoxy group, an alkylsulfanyl group or an amino group it is more preferable

상기 식에 있어서, RX12가 전자 구인성기이며, RX10, RX11, RX13, RX14는 수소 원자인 것이 바람직하다.In the above formula, it is preferable that R X12 is an electron withdrawing group and R X10 , R X11 , R X13 , and R X14 are hydrogen atoms.

옥심 화합물 OX의 구체예로서는, 일본 특허공보 제4600600호의 단락 번호 0083~0105에 기재된 화합물을 들 수 있다.As a specific example of the oxime compound OX, the compound of Paragraph No. 0083 - 0105 of Unexamined-Japanese-Patent No. 4600600 is mentioned.

본 발명에 있어서 바람직하게 사용되는 옥심 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.Although the specific example of the oxime compound preferably used in this invention is shown below, this invention is not limited to these.

[화학식 18][Formula 18]

Figure pct00018
Figure pct00018

[화학식 19][Formula 19]

Figure pct00019
Figure pct00019

[화학식 20][Formula 20]

Figure pct00020
Figure pct00020

[화학식 21][Formula 21]

Figure pct00021
Figure pct00021

[화학식 22][Formula 22]

Figure pct00022
Figure pct00022

옥심 화합물은, 파장 350~500nm의 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 화합물이 바람직하고, 파장 360~480nm의 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 화합물이 보다 바람직하다. 또, 옥심 화합물의 파장 365nm 또는 파장 405nm에 있어서의 몰 흡광 계수는, 감도의 관점에서, 높은 것이 바람직하고, 1000~300000인 것이 보다 바람직하며, 2000~300000인 것이 더 바람직하고, 5000~200000인 것이 특히 바람직하다. 화합물의 몰 흡광 계수는, 공지의 방법을 이용하여 측정할 수 있다. 예를 들면, 분광 광도계(Varian사제 Cary-5 spectrophotometer)로, 아세트산 에틸 용매를 이용하여, 0.01g/L의 농도로 측정하는 것이 바람직하다.The compound which has a maximum absorption wavelength in the range of wavelength 350-500 nm is preferable, and, as for an oxime compound, the compound which has a maximum absorption wavelength in the range of wavelength 360-480 nm is more preferable. Moreover, it is preferable from a viewpoint of a sensitivity that the molar extinction coefficient in wavelength 365nm or wavelength 405nm of an oxime compound is high, It is more preferable that it is 1000-30000, It is more preferable that it is 2000-30000, It is 5000-20000 It is particularly preferred. The molar extinction coefficient of a compound can be measured using a well-known method. For example, it is preferable to measure with a spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian) at a concentration of 0.01 g/L using an ethyl acetate solvent.

광중합 개시제로서는, 2관능 혹은 3관능 이상의 광라디칼 중합 개시제를 이용해도 된다. 그와 같은 광라디칼 중합 개시제를 이용함으로써, 광라디칼 중합 개시제의 1분자로부터 2개 이상의 라디칼이 발생하기 때문에, 양호한 감도가 얻어진다. 또, 비대칭 구조의 화합물을 이용한 경우에 있어서는, 결정성이 저하되어 용제 등에 대한 용해성이 향상되고, 경시적으로 석출되기 어려워져, 착색 조성물의 경시 안정성을 향상시킬 수 있다. 2관능 혹은 3관능 이상의 광라디칼 중합 개시제의 구체예로서는, 일본 공표특허공보 2010-527339호, 일본 공표특허공보 2011-524436호, 국제 공개공보 제2015/004565호, 일본 공표특허공보 2016-532675호의 단락 번호 0407~0412, 국제 공개공보 제2017/033680호의 단락 번호 0039~0055에 기재되어 있는 옥심 화합물의 2량체, 일본 공표특허공보 2013-522445호에 기재되어 있는 화합물 (E) 및 화합물 (G), 국제 공개공보 제2016/034963호에 기재되어 있는 Cmpd 1~7, 일본 공표특허공보 2017-523465호의 단락 번호 0007에 기재되어 있는 옥심에스터류 광개시제, 일본 공개특허공보 2017-167399호의 단락 번호 0020~0033에 기재되어 있는 광개시제, 일본 공개특허공보 2017-151342호의 단락 번호 0017~0026에 기재되어 있는 광중합 개시제 (A), 일본 특허공보 제6469669호에 기재되어 있는 옥심에스터 광개시제 등을 들 수 있다.As a photoinitiator, you may use the photoradical polymerization initiator more than bifunctional or trifunctional. By using such a photo-radical polymerization initiator, since two or more radicals generate|occur|produce from 1 molecule of a photo-radical polymerization initiator, favorable sensitivity is acquired. Moreover, when the compound of an asymmetric structure is used, crystallinity falls and solubility with respect to a solvent etc. improves, it becomes difficult to precipitate with time, and it can improve the aging stability of a coloring composition. As a specific example of a bifunctional or trifunctional or more than trifunctional photoradical polymerization initiator, Paragraph of Japanese Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-527339, Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-524436, International Publication No. 2015/004565, Unexamined-Japanese-Patent No. 2016-532675. No. 0407-0412, the dimer of the oxime compound described in Paragraph No. 0039-0055 of International Publication No. 2017/033680, the compound (E) and the compound (G) described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-522445, Cmpd 1 to 7 described in International Publication No. 2016/034963, oxime ester photoinitiators described in Paragraph No. 0007 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-523465, Paragraph Nos. 0020 to 0033 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-167399 The photoinitiator described in, the photoinitiator (A) described in Paragraph Nos. 0017-0026 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-151342, the oxime ester photoinitiator etc. which are described in Unexamined-Japanese-Patent No. 6469669 etc. are mentioned.

착색 조성물의 전고형분 중의 광중합 개시제의 함유량은 0.1~20질량%가 바람직하다. 하한은, 0.5질량% 이상이 바람직하고, 1질량% 이상이 보다 바람직하다. 상한은, 10질량% 이하가 바람직하고, 7.5질량% 이하가 보다 바람직하며, 5질량% 이하가 더 바람직하다. 광중합 개시제는, 1종 단독이어도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 2종 이상을 병용하는 경우는, 그들의 합계가 상기 범위인 것이 바람직하다.As for content of the photoinitiator in the total solid of a coloring composition, 0.1-20 mass % is preferable. 0.5 mass % or more is preferable and, as for a minimum, 1 mass % or more is more preferable. 10 mass % or less is preferable, as for an upper limit, 7.5 mass % or less is more preferable, 5 mass % or less is still more preferable. A photoinitiator may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. When using 2 or more types together, it is preferable that those sum total is the said range.

<<환상 에터기를 갖는 화합물>><<Compound having a cyclic ether group>>

본 발명의 착색 조성물은, 환상 에터기를 갖는 화합물을 함유할 수 있다. 환상 에터기로서는, 에폭시기, 옥세탄일기 등을 들 수 있다. 환상 에터기를 갖는 화합물은, 에폭시기를 갖는 화합물(이하, 에폭시 화합물이라고도 한다)인 것이 바람직하다. 에폭시 화합물로서는, 일본 공개특허공보 2013-011869호의 단락 번호 0034~0036, 일본 공개특허공보 2014-043556호의 단락 번호 0147~0156, 일본 공개특허공보 2014-089408호의 단락 번호 0085~0092에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-179172호에 기재된 화합물을 이용할 수도 있다. 이들 내용은, 본 명세서에 원용된다.The coloring composition of this invention can contain the compound which has a cyclic ether group. As a cyclic ether group, an epoxy group, oxetanyl group, etc. are mentioned. It is preferable that the compound which has a cyclic ether group is a compound (henceforth an epoxy compound) which has an epoxy group. As an epoxy compound, Paragraph Nos. 0034 - 0036 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-011869, Paragraph Nos. 0147-0156 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-043556, Paragraph Nos. 0085 - 0092 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-089408, Japan The compound described in Unexamined Patent Publication No. 2017-179172 can also be used. These contents are integrated in this specification.

에폭시 화합물은, 저분자 화합물(예를 들면, 분자량 2000 미만, 나아가서는, 분자량 1000 미만)이어도 되고, 고분자 화합물(macromolecule)(예를 들면, 분자량 1000 이상, 폴리머의 경우는, 중량 평균 분자량이 1000 이상)이어도 된다. 에폭시 화합물의 중량 평균 분자량은, 200~100000이 바람직하고, 500~50000이 보다 바람직하다. 중량 평균 분자량의 상한은, 10000 이하가 바람직하고, 5000 이하가 보다 바람직하며, 3000 이하가 더 바람직하다.The epoxy compound may be a low molecular weight compound (for example, molecular weight less than 2000, furthermore, molecular weight less than 1000), or a high molecular weight compound (macromolecule) (for example, molecular weight 1000 or more, in the case of a polymer, a weight average molecular weight of 1000 or more ) may be 200-100000 are preferable and, as for the weight average molecular weight of an epoxy compound, 500-50000 are more preferable. 10000 or less are preferable, as for the upper limit of a weight average molecular weight, 5000 or less are more preferable, and 3000 or less are still more preferable.

에폭시 화합물로서는, 에폭시 수지를 바람직하게 이용할 수 있다. 에폭시 수지로서는, 예를 들면 페놀 화합물의 글리시딜에터화물인 에폭시 수지, 각종 노볼락 수지의 글리시딜에터화물인 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 지방족계 에폭시 수지, 복소환식 에폭시 수지, 글리시딜에스터계 에폭시 수지, 글리시딜아민계 에폭시 수지, 할로젠화 페놀류를 글리시딜화한 에폭시 수지, 에폭시기를 갖는 규소 화합물과 그 이외의 규소 화합물의 축합물, 에폭시기를 갖는 중합성 불포화 화합물과 그 이외의 다른 중합성 불포화 화합물의 공중합체 등을 들 수 있다. 에폭시 수지의 에폭시 당량은, 310~3300g/eq인 것이 바람직하고, 310~1700g/eq인 것이 보다 바람직하며, 310~1000g/eq인 것이 더 바람직하다.As the epoxy compound, an epoxy resin can be preferably used. Examples of the epoxy resin include an epoxy resin that is a glycidyl ether of a phenol compound, an epoxy resin that is a glycidyl ether of various novolac resins, an alicyclic epoxy resin, an aliphatic epoxy resin, a heterocyclic epoxy resin, A glycidyl ester-based epoxy resin, a glycidylamine-based epoxy resin, an epoxy resin obtained by glycidylating halogenated phenols, a condensate of a silicon compound having an epoxy group and other silicon compounds, and a polymerizable unsaturated compound having an epoxy group and copolymers of other polymerizable unsaturated compounds. It is preferable that it is 310-3300 g/eq, as for the epoxy equivalent of an epoxy resin, it is more preferable that it is 310-1700 g/eq, It is more preferable that it is 310-1000 g/eq.

환상 에터기를 갖는 화합물의 시판품으로서는, 예를 들면, EHPE3150((주)다이셀제), EPICLON N-695(DIC(주)제), 마프루프 G-0150M, G-0105SA, G-0130SP, G-0250SP, G-1005S, G-1005SA, G-1010S, G-2050M, G-01100, G-01758(이상, 니치유(주)제, 에폭시기 함유 폴리머) 등을 들 수 있다.Examples of commercially available compounds having a cyclic ether group include EHPE3150 (manufactured by Daicel Corporation), EPICLON N-695 (manufactured by DIC Corporation), Maproof G-0150M, G-0105SA, G-0130SP, G -0250SP, G-1005S, G-1005SA, G-1010S, G-2050M, G-01100, G-01758 (above, Nichiyu Co., Ltd. product, epoxy group-containing polymer) etc. are mentioned.

착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 환상 에터기를 갖는 화합물의 함유량은, 0.1~20질량%가 바람직하다. 하한은, 예를 들면, 0.5질량% 이상이 바람직하고, 1질량% 이상이 보다 바람직하다. 상한은, 예를 들면, 15질량% 이하가 바람직하고, 10질량% 이하가 더 바람직하다. 환상 에터기를 갖는 화합물은 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 된다. 2종 이상의 경우는, 그들의 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.As for content of the compound which has a cyclic ether group in total solid of a coloring composition, 0.1-20 mass % is preferable. 0.5 mass % or more is preferable, and, as for a minimum, 1 mass % or more is more preferable, for example. 15 mass % or less is preferable and, as for an upper limit, 10 mass % or less is more preferable, for example. One type may be sufficient as the compound which has a cyclic ether group, and 2 or more types may be sufficient as it. In the case of 2 or more types, it is preferable that those total amounts become the said range.

<<경화 촉진제>><<curing accelerator>>

본 발명의 착색 조성물은, 경화 촉진제를 포함해도 된다. 경화 촉진제로서는, 싸이올 화합물, 메틸올 화합물, 아민 화합물, 포스포늄염 화합물, 아미딘염 화합물, 아마이드 화합물, 염기 발생제, 아이소사이아네이트 화합물, 알콕시실레인 화합물, 오늄염 화합물 등을 들 수 있다. 경화 촉진제의 구체예로서는, 국제 공개공보 제2018/056189호의 단락 번호 0094~0097에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2015-034963호의 단락 번호 0246~0253에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2013-041165호의 단락 번호 0186~0251에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2014-055114호에 기재된 이온성 화합물, 일본 공개특허공보 2012-150180호의 단락 번호 0071~0080에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2011-253054호에 기재된 에폭시기를 갖는 알콕시실레인 화합물, 일본 특허공보 제5765059호의 단락 번호 0085~0092에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-036379호에 기재된 카복실기 함유 에폭시 경화제 등을 들 수 있다. 경화 촉진제를 함유하는 경우, 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 경화 촉진제의 함유량은, 0.3~8.9질량%가 바람직하고, 0.8~6.4질량%가 보다 바람직하다.The coloring composition of this invention may also contain a hardening accelerator. Examples of the curing accelerator include a thiol compound, a methylol compound, an amine compound, a phosphonium salt compound, an amidine salt compound, an amide compound, a base generator, an isocyanate compound, an alkoxysilane compound, and an onium salt compound. . As a specific example of a hardening accelerator, Paragraph No. 0094 - 0097 of International Publication No. 2018/056189, the compound of Paragraph No. 0246 - 0253 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-034963 Paragraph number of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-041165 The compound of 0186-0251, the ionic compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-055114, the compound of Paragraph No. 0071 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-150180 - the compound of 0080, The epoxy group of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-253054 The alkoxysilane compound which has, the compound of Paragraph Nos. 0085 - 0092 of Unexamined-Japanese-Patent No. 5765059, the carboxyl group containing epoxy curing agent of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-036379, etc. are mentioned. When it contains a hardening accelerator, 0.3-8.9 mass % is preferable and, as for content of the hardening accelerator in the total solid of a coloring composition, 0.8-6.4 mass % is more preferable.

<<자외선 흡수제>><<Ultraviolet absorbent>>

본 발명의 착색 조성물은, 자외선 흡수제를 함유할 수 있다. 자외선 흡수제는, 공액 다이엔 화합물, 아미노다이엔 화합물, 살리실레이트 화합물, 벤조페논 화합물, 벤조트라이아졸 화합물, 아크릴로나이트릴 화합물, 하이드록시페닐트라이아진 화합물, 인돌 화합물, 트라이아진 화합물 등을 이용할 수 있다. 이와 같은 화합물로서는, 일본 공개특허공보 2009-217221호의 단락 번호 0038~0052, 일본 공개특허공보 2012-208374호의 단락 번호 0052~0072, 일본 공개특허공보 2013-068814호의 단락 번호 0317~0334, 일본 공개특허공보 2016-162946호의 단락 번호 0061~0080의 기재된 화합물을 들 수 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다. 자외선 흡수제의 구체예로서는, 하기 구조의 화합물 등을 들 수 있다. 자외선 흡수제의 시판품으로서는, 예를 들면, UV-503(다이토 가가쿠(주)제) 등을 들 수 있다. 또, 벤조트라이아졸 화합물로서는, 미요시 유시제의 MYUA 시리즈(가가쿠 고교 닛포, 2016년 2월 1일)를 들 수 있다. 또, 자외선 흡수제는, 일본 특허공보 제6268967호의 단락 번호 0049~0059에 기재된 화합물을 이용할 수도 있다.The coloring composition of this invention can contain a ultraviolet absorber. As the ultraviolet absorber, a conjugated diene compound, an aminodiene compound, a salicylate compound, a benzophenone compound, a benzotriazole compound, an acrylonitrile compound, a hydroxyphenyltriazine compound, an indole compound, a triazine compound, etc. may be used. can As such a compound, Paragraph No. 0038-0052 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-217221, Paragraph No. 0052 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-208374, Paragraph No. 0317-0334 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-068814, Unexamined-Japanese-Patent No. Paragraph Nos. 0061 to 0080 of Publication No. 2016-162946 include the compounds described, the contents of which are incorporated herein by reference. As a specific example of a ultraviolet absorber, the compound of the following structure, etc. are mentioned. As a commercial item of a ultraviolet absorber, UV-503 (made by Daito Chemical Co., Ltd.) etc. is mentioned, for example. Moreover, as a benzotriazole compound, the MYUA series (Kagaku Kogyo Nippo, February 1, 2016) manufactured by Miyoshi Yushi is mentioned. Moreover, the compound of Paragraph No. 0049 - 0059 of Unexamined-Japanese-Patent No. 6268967 can also be used for a ultraviolet absorber.

[화학식 23][Formula 23]

Figure pct00023
Figure pct00023

자외선 흡수제를 함유하는 경우, 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 자외선 흡수제의 함유량은, 0.01~10질량%가 바람직하고, 0.01~5질량%가 보다 바람직하다. 본 발명에 있어서, 자외선 흡수제는 1종만을 이용해도 되고, 2종 이상을 이용해도 된다. 2종 이상을 이용하는 경우는, 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.When it contains a ultraviolet absorber, 0.01-10 mass % is preferable and, as for content of the ultraviolet absorber in the total solid of a coloring composition, 0.01-5 mass % is more preferable. In this invention, only 1 type may be used for a ultraviolet absorber, and 2 or more types may be used for it. When using 2 or more types, it is preferable that a total amount becomes the said range.

<<중합 금지제>><<Polymerization inhibitor >>

본 발명의 착색 조성물은, 중합 금지제를 함유할 수 있다. 중합 금지제로서는, 하이드로퀴논, p-메톡시페놀, 다이-tert-뷰틸-p-크레졸, 파이로갈롤, tert-뷰틸카테콜, 벤조퀴논, 4,4'-싸이오비스(3-메틸-6-tert-뷰틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-뷰틸페놀), N-나이트로소페닐하이드록시아민염(암모늄염, 제1 세륨염 등)을 들 수 있다. 그중에서도, p-메톡시페놀이 바람직하다. 중합 금지제를 함유하는 경우, 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 중합 금지제의 함유량은, 0.0001~5질량%가 바람직하다. 중합 금지제는, 1종류만이어도 되고, 2종류 이상이어도 된다. 2종류 이상의 경우는, 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition of this invention can contain a polymerization inhibitor. Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, tert-butylcatechol, benzoquinone, and 4,4'-thiobis(3-methyl-6). -tert-butylphenol), 2,2'-methylenebis(4-methyl-6-t-butylphenol), and N-nitrosophenylhydroxyamine salt (ammonium salt, cerium salt, etc.) are mentioned. . Among them, p-methoxyphenol is preferable. When it contains a polymerization inhibitor, as for content of the polymerization inhibitor in the total solid of a coloring composition, 0.0001-5 mass % is preferable. The number of polymerization inhibitors may be one, and two or more types may be sufficient as them. In the case of two or more types, it is preferable that a total amount becomes the said range.

<<실레인 커플링제>><<Silane Coupling Agent>>

본 발명의 착색 조성물은, 실레인 커플링제를 함유할 수 있다. 본 발명에 있어서, 실레인 커플링제는, 가수분해성기와 그 이외의 관능기를 갖는 실레인 화합물을 의미한다. 또, 가수분해성기란, 규소 원자에 직결되어, 가수분해 반응 및 축합 반응 중 적어도 어느 하나에 의하여 실록세인 결합을 발생할 수 있는 치환기를 말한다. 가수분해성기로서는, 예를 들면, 할로젠 원자, 알콕시기, 아실옥시기 등을 들 수 있으며, 알콕시기가 바람직하다. 즉, 실레인 커플링제는, 알콕시실릴기를 갖는 화합물이 바람직하다. 또, 가수분해성기 이외의 관능기로서는, 예를 들면, 바이닐기, (메트)알릴기, (메트)아크릴로일기, 머캅토기, 에폭시기, 옥세탄일기, 아미노기, 유레이도기, 설파이드기, 아이소사이아네이트기, 페닐기 등을 들 수 있으며, 아미노기, (메트)아크릴로일기 및 에폭시기가 바람직하다. 실레인 커플링제의 구체예로서는, N-β-아미노에틸-γ-아미노프로필메틸다이메톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교(주)제, 상품명 KBM-602), N-β-아미노에틸-γ-아미노프로필트라이메톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교(주)제, 상품명 KBM-603), N-β-아미노에틸-γ-아미노프로필트라이에톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교(주)제, 상품명 KBE-602), γ-아미노프로필트라이메톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교(주)제, 상품명 KBM-903), γ-아미노프로필트라이에톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교(주)제, 상품명 KBE-903), 3-메타크릴옥시프로필메틸다이메톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교(주)제, 상품명 KBM-502), 3-메타크릴옥시프로필트라이메톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교(주)제, 상품명 KBM-503) 등이 있다. 또, 실레인 커플링제의 구체예에 대해서는, 일본 공개특허공보 2009-288703호의 단락 번호 0018~0036에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2009-242604호의 단락 번호 0056~0066에 기재된 화합물을 들 수 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다. 실레인 커플링제를 함유하는 경우, 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 실레인 커플링제의 함유량은, 0.01~15.0질량%가 바람직하고, 0.05~10.0질량%가 보다 바람직하다. 실레인 커플링제는, 1종류만이어도 되고, 2종류 이상이어도 된다. 2종류 이상의 경우는, 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition of this invention can contain a silane coupling agent. In the present invention, the silane coupling agent means a silane compound having a hydrolyzable group and a functional group other than that. Moreover, a hydrolysable group means the substituent which is directly connected to a silicon atom and can generate|occur|produce a siloxane bond by at least any one of a hydrolysis reaction and a condensation reaction. As a hydrolysable group, a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, etc. are mentioned, for example, An alkoxy group is preferable. That is, as for a silane coupling agent, the compound which has an alkoxysilyl group is preferable. Moreover, as a functional group other than a hydrolysable group, For example, a vinyl group, (meth)allyl group, (meth)acryloyl group, mercapto group, epoxy group, oxetanyl group, amino group, ureido group, sulfide group, isocya A nate group, a phenyl group, etc. are mentioned, An amino group, a (meth)acryloyl group, and an epoxy group are preferable. Specific examples of the silane coupling agent include N-β-aminoethyl-γ-aminopropylmethyldimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM-602), N-β-aminoethyl-γ -Aminopropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM-603), N-β-aminoethyl-γ-aminopropyltriethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) manufactured by KBE-602), γ-aminopropyl trimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM-903), γ-aminopropyltriethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Co., Ltd. product, trade name KBE-903), 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. product, trade name KBM-502), 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM-503) and the like. Moreover, about the specific example of a silane coupling agent, the compound of Paragraph No. 0018-0036 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-288703, Paragraph No. 0056-0066 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-242604 are mentioned, These contents are incorporated herein by reference. When it contains a silane coupling agent, 0.01-15.0 mass % is preferable and, as for content of the silane coupling agent in total solid of a coloring composition, 0.05-10.0 mass % is more preferable. The number of silane coupling agents may be one, and two or more types may be sufficient as them. In the case of two or more types, it is preferable that a total amount becomes the said range.

<<계면활성제>><<Surfactant>>

본 발명의 착색 조성물은, 계면활성제를 함유할 수 있다. 계면활성제로서는, 불소계 계면활성제, 비이온계 계면활성제, 양이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제, 실리콘계 계면활성제 등의 각종 계면활성제를 사용할 수 있다. 계면활성제에 대해서는, 국제 공개공보 제2015/166779호의 단락 번호 0238~0245에 기재된 계면활성제를 들 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.The coloring composition of this invention can contain surfactant. As surfactant, various surfactants, such as a fluorochemical surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone type surfactant, can be used. About surfactant, Paragraph No. 0238 of International Publication No. 2015/166779 - the surfactant of 0245 is mentioned, This content is integrated in this specification.

계면활성제는 불소계 계면활성제인 것이 바람직하다. 착색 조성물에 불소계 계면활성제를 함유시킴으로써 액 특성(특히, 유동성)이 보다 향상되어, 액 절감성을 보다 개선시킬 수 있다. 또, 두께 불균일이 작은 막을 형성할 수도 있다.It is preferable that surfactant is a fluorochemical surfactant. By containing a fluorine-type surfactant in a coloring composition, liquid characteristic (especially fluidity|liquidity) improves more and liquid saving property can be improved more. Moreover, a film|membrane with a small thickness nonuniformity can also be formed.

불소계 계면활성제 중의 불소 함유율은, 3~40질량%가 적합하고, 보다 바람직하게는 5~30질량%이며, 특히 바람직하게는 7~25질량%이다. 불소 함유율이 이 범위 내인 불소계 계면활성제는, 도포막의 두께의 균일성이나 액 절감성의 점에서 효과적이며, 착색 조성물 중에 있어서의 용해성도 양호하다.As for the fluorine content rate in a fluorine-type surfactant, 3-40 mass % is suitable, More preferably, it is 5-30 mass %, Especially preferably, it is 7-25 mass %. The fluorine-containing surfactant having a fluorine content in this range is effective from the viewpoints of the uniformity of the thickness of the coating film and the liquid-saving properties, and the solubility in the coloring composition is also good.

불소계 계면활성제로서는, 일본 공개특허공보 2014-041318호의 단락 번호 0060~0064(대응하는 국제 공개공보 제2014/017669호의 단락 번호 0060~0064) 등에 기재된 계면활성제, 일본 공개특허공보 2011-132503호의 단락 번호 0117~0132에 기재된 계면활성제를 들 수 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다. 불소계 계면활성제의 시판품으로서는, 예를 들면, 메가팍 F171, F172, F173, F176, F177, F141, F142, F143, F144, R30, F437, F475, F479, F482, F554, F780, EXP, MFS-330(이상, DIC(주)제), 플루오라드 FC430, FC431, FC171(이상, 스미토모 3M(주)제), 서프론 S-382, SC-101, SC-103, SC-104, SC-105, SC-1068, SC-381, SC-383, S-393, KH-40(이상, AGC(주)제), PolyFox PF636, PF656, PF6320, PF6520, PF7002(이상, OMNOVA사제) 등을 들 수 있다.As a fluorine-type surfactant, Paragraph No. 0060 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-041318 (paragraph No. 0060 of Corresponding International Publication No. 2014/017669) Paragraph No. of Paragraph No. of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-132503 Surfactant etc. and surfactants described in 0117 to 0132, the contents of which are incorporated herein by reference. Examples of commercially available fluorinated surfactants include Megapac F171, F172, F173, F176, F177, F141, F142, F143, F144, R30, F437, F475, F479, F482, F554, F780, EXP, MFS-330 (above, manufactured by DIC Corporation), Fluorad FC430, FC431, FC171 (above, manufactured by Sumitomo 3M Corporation), Sufflon S-382, SC-101, SC-103, SC-104, SC-105, SC-1068, SC-381, SC-383, S-393, KH-40 (above, manufactured by AGC Corporation), PolyFox PF636, PF656, PF6320, PF6520, PF7002 (above, manufactured by OMNOVA), etc. are mentioned. .

또, 불소계 계면활성제는, 불소 원자를 함유하는 관능기를 갖는 분자 구조를 갖고, 열을 가하면 불소 원자를 함유하는 관능기의 부분이 절단되어 불소 원자가 휘발되는 아크릴계 화합물도 적합하게 사용할 수 있다. 이와 같은 불소계 계면활성제로서는, DIC(주)제의 메가팍 DS 시리즈(가가쿠 고교 닛포(2016년 2월 22일), 닛케이 산교 신분(2016년 2월 23일)), 예를 들면 메가팍 DS-21을 들 수 있다.In addition, the fluorine-based surfactant has a molecular structure having a functional group containing a fluorine atom, and when heat is applied, a portion of the functional group containing a fluorine atom is cleaved, and an acrylic compound in which the fluorine atom is volatilized can also be suitably used. As such a fluorine-based surfactant, Megapac DS series manufactured by DIC Corporation (Kagaku Kogyo Nippo (February 22, 2016), Nikkei Sangyo Shinbun (February 23, 2016)), for example, Megapac DS -21 can be mentioned.

또, 불소계 계면활성제는, 불소화 알킬기 또는 불소화 알킬렌에터기를 갖는 불소 원자 함유 바이닐에터 화합물과, 친수성의 바이닐에터 화합물의 중합체를 이용하는 것도 바람직하다. 이와 같은 불소계 계면활성제는, 일본 공개특허공보 2016-216602호에 기재된 불소계 계면활성제를 들 수 있고, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.Moreover, it is also preferable to use the polymer of the fluorine atom containing vinyl ether compound which has a fluorinated alkyl group or a fluorinated alkylene ether group, and a hydrophilic vinyl ether compound as a fluorine-type surfactant. As for such a fluorine-type surfactant, the fluorine-type surfactant of Unexamined-Japanese-Patent No. 2016-216602 is mentioned, This content is integrated in this specification.

불소계 계면활성제는, 블록 폴리머를 이용할 수도 있다. 불소계 계면활성제는, 불소 원자를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물에서 유래하는 반복 단위와, 알킬렌옥시기(바람직하게는 에틸렌옥시기, 프로필렌옥시기)를 2 이상(바람직하게는 5 이상) 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물에서 유래하는 반복 단위를 포함하는 함불소 고분자 화합물도 바람직하게 이용할 수 있다. 또, 일본 공개특허공보 2010-032698호의 단락 번호 0016~0037에 기재된 불소 함유 계면활성제나, 하기 화합물도 본 발명에서 이용되는 불소계 계면활성제로서 예시된다.A block polymer can also be used for a fluorochemical surfactant. The fluorine-based surfactant has two or more (preferably 5 or more) repeating units derived from a (meth)acrylate compound having a fluorine atom and an alkyleneoxy group (preferably an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group) (meth) ) A fluorine-containing high molecular compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound can also be preferably used. Moreover, the fluorine-containing surfactant of Paragraph No. 0016 - 0037 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-032698, and the following compound are also illustrated as a fluorochemical surfactant used by this invention.

[화학식 24][Formula 24]

Figure pct00024
Figure pct00024

상기의 화합물의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 3000~50000이고, 예를 들면, 14000이다. 상기의 화합물 중, 반복 단위의 비율을 나타내는 %는 몰%이다.The weight average molecular weight of said compound becomes like this. Preferably it is 3000-50000, for example, it is 14000. Among the above compounds, % indicating the proportion of the repeating unit is mol%.

또, 불소계 계면활성제는, 에틸렌성 불포화 결합 함유기를 측쇄에 갖는 함불소 중합체를 이용할 수도 있다. 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2010-164965호의 단락 번호 0050~0090 및 단락 번호 0289~0295에 기재된 화합물, DIC(주)제의 메가팍 RS-101, RS-102, RS-718K, RS-72-K 등을 들 수 있다. 또, 불소계 계면활성제는, 일본 공개특허공보 2015-117327호의 단락 번호 0015~0158에 기재된 화합물을 이용할 수도 있다.Further, as the fluorine-based surfactant, a fluorinated polymer having an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain may be used. As a specific example, the compound of Paragraph Nos. 0050 to 0090 and Paragraph Nos. 0289 to 0295 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-164965, DIC Corporation Megapac RS-101, RS-102, RS-718K, RS-72- K etc. are mentioned. Moreover, Paragraph No. 0015 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-117327 - the compound of 0158 can also be used for a fluorine-type surfactant.

비이온계 계면활성제로서는, 글리세롤, 트라이메틸올프로페인, 트라이메틸올에테인 및 그들의 에톡실레이트 및 프로폭실레이트(예를 들면, 글리세롤프로폭실레이트, 글리세롤에톡실레이트 등), 폴리옥시에틸렌라우릴에터, 폴리옥시에틸렌스테아릴에터, 폴리옥시에틸렌올레일에터, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에터, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에터, 폴리에틸렌글라이콜다이라우레이트, 폴리에틸렌글라이콜다이스테아레이트, 소비탄 지방산 에스터, 플루로닉 L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2(BASF사제), 테트로닉 304, 701, 704, 901, 904, 150R1(BASF사제), 솔스퍼스 20000(니혼 루브리졸(주)제), NCW-101, NCW-1001, NCW-1002(후지필름 와코 준야쿠(주)제), 파이오닌 D-6112, D-6112-W, D-6315(다케모토 유시(주)제), 올핀 E1010, 서피놀 104, 400, 440(닛신 가가쿠 고교(주)제) 등을 들 수 있다.Examples of the nonionic surfactant include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane and their ethoxylates and propoxylates (eg, glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl Ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate , sorbitan fatty acid ester, Pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2 (manufactured by BASF), Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, 150R1 (manufactured by BASF), Solsperse 20000 (Japan) Lubrizol Co., Ltd.), NCW-101, NCW-1001, NCW-1002 (Fujifilm Wako Junyaku Co., Ltd.), Pionin D-6112, D-6112-W, D-6315 (Yushi Takemoto) Co., Ltd. product), Olfin E1010, Surfinol 104, 400, 440 (made by Nisshin Chemical Industry Co., Ltd.), etc. are mentioned.

실리콘계 계면활성제로서는, 예를 들면, 도레이 실리콘 DC3PA, 도레이 실리콘 SH7PA, 도레이 실리콘 DC11PA, 도레이 실리콘 SH21PA, 도레이 실리콘 SH28PA, 도레이 실리콘 SH29PA, 도레이 실리콘 SH30PA, 도레이 실리콘 SH8400(이상, 도레이·다우 코닝(주)제), FZ-2122(다우·도레이(주)제), TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4460, TSF-4452(이상, 모멘티브·퍼포먼스·머티어리얼즈사제), KP-341, KF-6001, KF-6002(이상, 신에쓰 가가쿠 고교(주)제), BYK307, BYK323, BYK330(이상, 빅케미사제) 등을 들 수 있다.As a silicone type surfactant, For example, Toray Silicone DC3PA, Toray Silicone SH7PA, Toray Silicone DC11PA, Toray Silicone SH21PA, Toray Silicone SH28PA, Toray Silicone SH29PA, Toray Silicone SH30PA, Toray Silicone SH8400 (above, Toray Dow Corning Co., Ltd.) ), FZ-2122 (manufactured by Dow Toray Co., Ltd.), TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4460, TSF-4452 (above, manufactured by Momentive Performance Materials); KP-341, KF-6001, KF-6002 (above, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. product), BYK307, BYK323, BYK330 (above, the product made by Bikchemi) etc. are mentioned.

계면활성제를 함유하는 경우, 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 계면활성제의 함유량은, 0.001질량%~5.0질량%가 바람직하고, 0.005~3.0질량%가 보다 바람직하다. 계면활성제는, 1종류만이어도 되고, 2종류 이상이어도 된다. 2종류 이상의 경우는, 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.When it contains surfactant, 0.001 mass % - 5.0 mass % are preferable, and, as for content of surfactant in the total solid of a coloring composition, 0.005-3.0 mass % is more preferable. One type may be sufficient as surfactant, and two or more types may be sufficient as it. In the case of two or more types, it is preferable that a total amount becomes the said range.

<<산화 방지제>><<Antioxidant>>

본 발명의 착색 조성물은, 산화 방지제를 함유할 수 있다. 산화 방지제로서는, 페놀 화합물, 아인산 에스터 화합물, 싸이오에터 화합물 등을 들 수 있다. 페놀 화합물로서는, 페놀계 산화 방지제로서 알려진 임의의 페놀 화합물을 사용할 수 있다. 바람직한 페놀 화합물로서는, 힌더드 페놀 화합물을 들 수 있다. 페놀성 하이드록시기에 인접하는 부위(오쏘위)에 치환기를 갖는 화합물이 바람직하다. 상술한 치환기로서는 탄소수 1~22의 치환 또는 무치환의 알킬기가 바람직하다. 또, 산화 방지제는, 동일 분자 내에 페놀기와 아인산 에스터기를 갖는 화합물도 바람직하다. 또, 산화 방지제는, 인계 산화 방지제도 적합하게 사용할 수 있다. 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 산화 방지제의 함유량은, 0.01~20질량%인 것이 바람직하고, 0.3~15질량%인 것이 보다 바람직하다. 산화 방지제를 함유하는 경우, 산화 방지제는 1종만을 이용해도 되고, 2종 이상을 이용해도 된다. 2종 이상을 이용하는 경우는, 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition of this invention can contain antioxidant. As antioxidant, a phenol compound, a phosphorous acid ester compound, a thioether compound, etc. are mentioned. As the phenolic compound, any phenolic compound known as a phenolic antioxidant can be used. As a preferable phenol compound, a hindered phenol compound is mentioned. The compound which has a substituent in the site|part (orthosite) adjacent to a phenolic hydroxyl group is preferable. As the above-mentioned substituent, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms is preferable. Moreover, as for antioxidant, the compound which has a phenol group and a phosphite group in the same molecule is also preferable. Moreover, as antioxidant, phosphorus antioxidant can also be used suitably. It is preferable that it is 0.01-20 mass %, and, as for content of the antioxidant in the total solid of a coloring composition, it is more preferable that it is 0.3-15 mass %. When it contains antioxidant, only 1 type may be used for antioxidant, and 2 or more types may be used for it. When using 2 or more types, it is preferable that a total amount becomes the said range.

<<그 외 성분>><<Other ingredients>>

본 발명의 착색 조성물은, 필요에 따라, 증감제, 경화 촉진제, 필러, 열경화 촉진제, 가소제 및 그 외의 조제(助劑)류(예를 들면, 도전성 입자, 충전제, 소포제, 난연제, 레벨링제, 박리 촉진제, 향료, 표면 장력 조정제, 연쇄 이동제 등)를 함유해도 된다. 이들 성분을 적절히 함유시킴으로써, 막물성 등의 성질을 조정할 수 있다. 이들 성분은, 예를 들면, 일본 공개특허공보 2012-003225호의 단락 번호 0183 이후(대응하는 미국 특허출원 공개공보 제2013/0034812호의 단락 번호 0237)의 기재, 일본 공개특허공보 2008-250074호의 단락 번호 0101~0104, 0107~0109 등의 기재를 참조할 수 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다. 또, 본 발명의 착색 조성물은, 필요에 따라, 잠재(潛在) 산화 방지제를 함유해도 된다. 잠재 산화 방지제로서는, 산화 방지제로서 기능하는 부위가 보호기로 보호된 화합물로서, 100~250℃에서 가열하거나, 또는 산/염기 촉매 존재하에서 80~200℃에서 가열함으로써 보호기가 탈리되어 산화 방지제로서 기능하는 화합물을 들 수 있다. 잠재 산화 방지제로서는, 국제 공개공보 제2014/021023호, 국제 공개공보 제2017/030005호, 일본 공개특허공보 2017-008219호에 기재된 화합물을 들 수 있다. 잠재 산화 방지제의 시판품으로서는, 아데카 아클즈 GPA-5001((주)ADEKA제) 등을 들 수 있다. 또, 일본 공개특허공보 2018-155881호에 기재되어 있는 바와 같이, C. I. 피그먼트 옐로 129를 내후성(耐候性) 개량의 목적으로 첨가해도 된다.The coloring composition of this invention is a sensitizer, hardening accelerator, a filler, a thermosetting accelerator, a plasticizer, and other adjuvants (for example, electroconductive particle, a filler, an antifoamer, a flame retardant, a leveling agent, A peeling accelerator, a fragrance|flavor, a surface tension regulator, a chain transfer agent, etc.) may be contained. By containing these components appropriately, properties such as film properties can be adjusted. These components are, for example, after Paragraph No. 0183 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-003225 (paragraph No. 0237 of U.S. Patent Application Laid-Open No. 2013/0034812) Paragraph No. of Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-250074. Reference can be made to descriptions of 0101 to 0104, 0107 to 0109, and the like, the contents of which are incorporated herein by reference. Moreover, the coloring composition of this invention may contain a latent antioxidant as needed. As a latent antioxidant, the site functioning as an antioxidant is a compound protected by a protecting group, and the protecting group is detached by heating at 100 to 250 ° C. or by heating at 80 to 200 ° C. in the presence of an acid/base catalyst to function as an antioxidant. compounds can be mentioned. As a latent antioxidant, the compound of International Publication No. 2014/021023, International Publication No. 2017/030005, and Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-008219 is mentioned. As a commercial item of a latent antioxidant, Adeka Arcles GPA-5001 (made by ADEKA Corporation) etc. are mentioned. Moreover, as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2018-155881, you may add C.I. Pigment Yellow 129 for the purpose of improving a weather resistance.

본 발명의 착색 조성물은, 얻어지는 막의 굴절률을 조정하기 위하여 금속 산화물을 함유시켜도 된다. 금속 산화물로서는, TiO2, ZrO2, Al2O3, SiO2 등을 들 수 있다. 금속 산화물의 1차 입자경은 1~100nm가 바람직하고, 3~70nm가 보다 바람직하며, 5~50nm가 더 바람직하다. 금속 산화물은 코어-셸 구조를 갖고 있어도 된다. 또, 이 경우, 코어부는 중공상이어도 된다.The coloring composition of this invention may contain a metal oxide in order to adjust the refractive index of the film|membrane obtained. As a metal oxide, TiO2, ZrO2, Al2O3 , SiO2 , etc. are mentioned. 1-100 nm is preferable, as for the primary particle diameter of a metal oxide, 3-70 nm is more preferable, 5-50 nm is still more preferable. The metal oxide may have a core-shell structure. Moreover, in this case, hollow shape may be sufficient as a core part.

본 발명의 착색 조성물은, 내광성 개량제를 포함해도 된다. 내광성 개량제로서는, 일본 공개특허공보 2017-198787호의 단락 번호 0036~0037에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-146350호의 단락 번호 0029~0034에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-129774호의 단락 번호 0036~0037, 0049~0052에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-129674호의 단락 번호 0031~0034, 0058~0059에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-122803호의 단락 번호 0036~0037, 0051~0054에 기재된 화합물, 국제 공개공보 제2017/164127호의 단락 번호 0025~0039에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2017-186546호의 단락 번호 0034~0047에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2015-025116호의 단락 번호 0019~0041에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2012-145604호의 단락 번호 0101~0125에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2012-103475호의 단락 번호 0018~0021에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2011-257591호의 단락 번호 0015~0018에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2011-191483호의 단락 번호 0017~0021에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2011-145668호의 단락 번호 0108~0116에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2011-253174호의 단락 번호 0103~0153에 기재된 화합물 등을 들 수 있다.The coloring composition of this invention may also contain a light resistance improving agent. As a light resistance improving agent, Paragraph No. 0036 of Unexamined-Japanese-Patent No. 0036-0037 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-198787, Paragraph No. 0036 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-129774 Paragraph No. Compounds described in 0037, 0049 to 0052, Paragraph Nos. 0031 to 0034, 0058 to 0059 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-129674, Compounds described in Paragraph Nos. 0036 to 0037, 0051 to 0054 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-122803 , the compound described in Paragraph Nos. 0025 to 0039 of International Publication No. 2017/164127, the compound described in Paragraph Nos. 0034 to 0047 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-186546, Paragraph Nos. 0019 to 0041 of Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-025116 Compound, Paragraph No. 0101 - 0125 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-145604 The compound of Paragraph No. 0018 - 0021 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-103475 Paragraph No. 0015 - 0018 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-257591 Paragraph Nos. 0103 to 0153 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-253174, the compound of Paragraph No. 0017 - 0021 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-191483, the compound of Paragraph No. 0108 - 0116 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-145668, the compound of description. The compounds described in , etc. are mentioned.

본 발명의 착색 조성물의 함수율은, 통상 3질량% 이하이며, 0.01~1.5질량%가 바람직하고, 0.1~1.0질량%의 범위인 것이 보다 바람직하다. 함수율은, 칼 피셔법으로 측정할 수 있다.The water content of the coloring composition of this invention is 3 mass % or less normally, 0.01-1.5 mass % is preferable, and it is more preferable that it is the range of 0.1-1.0 mass %. The moisture content can be measured by the Karl Fischer method.

본 발명의 착색 조성물은, 막면상(膜面狀)(평탄성 등)의 조정, 막두께의 조정 등을 목적으로 하여 점도를 조정하여 이용할 수 있다. 점도의 값은 필요에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 예를 들면, 25℃에 있어서 0.3mPa·s~50mPa·s가 바람직하고, 0.5mPa·s~20mPa·s가 보다 바람직하다. 점도의 측정 방법으로서는, 예를 들면, 콘플레이트 타입의 점도계를 사용하여, 25℃에 온도 조정을 실시한 상태에서 측정할 수 있다.The coloring composition of this invention can be used by adjusting a viscosity for the purpose of adjustment of a film surface top (flatness etc.), adjustment of a film thickness, etc. Although the value of a viscosity can be suitably selected as needed, For example, 0.3 mPa*s - 50 mPa*s are preferable in 25 degreeC, and 0.5 mPa*s - 20 mPa*s are more preferable. As a measuring method of a viscosity, it can measure in the state which temperature-controlled at 25 degreeC using the corn-plate type viscometer, for example.

본 발명의 착색 조성물의 수용 용기로서는, 특별히 한정은 없고, 공지의 수용 용기를 이용할 수 있다. 또, 수용 용기로서, 원재료나 조성물 중으로의 불순물 혼입을 억제하는 것을 목적으로, 용기 내벽을 6종 6층의 수지로 구성하는 다층 보틀이나 6종의 수지를 7층 구조로 한 보틀을 사용하는 것도 바람직하다. 이와 같은 용기로서는 예를 들면 일본 공개특허공보 2015-123351호에 기재된 용기를 들 수 있다.There is no limitation in particular as a container for the coloring composition of this invention, A well-known container can be used. In addition, for the purpose of suppressing the mixing of impurities into the raw material and composition as the container, a multi-layer bottle in which the inner wall of the container is composed of 6 types of 6 layers of resin or a bottle with 6 types of resins in a 7-layer structure is also used. desirable. As such a container, the container of Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-123351 is mentioned, for example.

<착색 조성물의 조제 방법><The preparation method of a coloring composition>

본 발명의 착색 조성물은, 상술한 성분을 혼합하여 조제할 수 있다. 착색 조성물의 조제 시에는, 전체 성분을 동시에 용제에 용해 및/또는 분산하여 착색 조성물을 조제해도 되며, 필요에 따라, 각 성분을 적절히 2개 이상의 용액 또는 분산액으로 해두고, 사용 시(도포 시)에 이들을 혼합하여 착색 조성물을 조제해도 된다.The coloring composition of this invention can mix and prepare the above-mentioned component. When preparing the coloring composition, the coloring composition may be prepared by simultaneously dissolving and/or dispersing all the components in a solvent. You may mix these with and may prepare a coloring composition.

또, 착색 조성물의 조제 시에, 안료를 분산시키는 프로세스를 포함하는 것이 바람직하다. 안료를 분산시키는 프로세스에 있어서, 안료의 분산에 이용하는 기계력으로서는, 압축, 압착, 충격, 전단(剪斷), 캐비테이션 등을 들 수 있다. 이들 프로세스의 구체예로서는, 비즈 밀, 샌드 밀, 롤 밀, 볼 밀, 페인트 셰이커, 마이크로플루이다이저, 고속 임펠러, 샌드 그라인더, 플로젯 믹서, 고압 습식 미립화, 초음파 분산 등을 들 수 있다. 또 샌드 밀(비즈 밀)에 있어서의 안료의 분쇄에 있어서는, 직경이 작은 비즈를 사용하거나, 비즈의 충전율을 크게 하는 것 등에 의하여 분쇄 효율을 높인 조건으로 처리하는 것이 바람직하다. 또, 분쇄 처리 후에 여과, 원심 분리 등으로 조립자(粗粒子)를 제거하는 것이 바람직하다. 또, 안료를 분산시키는 프로세스 및 분산기는, "분산 기술 대전집, 주식회사 조호키코 발행, 2005년 7월 15일"이나 "서스펜션(고/액분산계)을 중심으로 한 분산 기술과 공업적 응용의 실제 종합 자료집, 게이에이 가이하쓰 센터 출판부 발행, 1978년 10월 10일", 일본 공개특허공보 2015-157893호의 단락 번호 0022에 기재된 프로세스 및 분산기를 적합하게 사용할 수 있다. 또 안료를 분산시키는 프로세스에 있어서는, 솔트 밀링 공정으로 입자의 미세화 처리를 행해도 된다. 솔트 밀링 공정에 이용되는 소재, 기기, 처리 조건 등은, 예를 들면 일본 공개특허공보 2015-194521호, 일본 공개특허공보 2012-046629호의 기재를 참조할 수 있다.Moreover, at the time of preparation of a coloring composition, it is preferable to include the process of disperse|distributing a pigment. In the process of dispersing the pigment, examples of the mechanical force used for dispersing the pigment include compression, compression, impact, shear, and cavitation. Specific examples of these processes include bead mills, sand mills, roll mills, ball mills, paint shakers, microfluidizers, high-speed impellers, sand grinders, flow jet mixers, high-pressure wet atomization, and ultrasonic dispersion. Moreover, in the grinding|pulverization of the pigment in a sand mill (bead mill), it is preferable to process under the conditions which improved grinding|pulverization efficiency by using small diameter beads, increasing the filling rate of beads, etc. Moreover, it is preferable to remove coarse particles by filtration, centrifugation, etc. after a grinding|pulverization process. In addition, the process and dispersing machine for dispersing pigments are "Dispersion Technology Collection, Published by Johokiko Co., Ltd., July 15, 2005" and "Dispersion technology centered on suspension (solid/liquid dispersion system) and practical application of industrial applications" Comprehensive data collection, published by Keiei Kaihatsu Center Publishing Co., Ltd., October 10, 1978", the process and disperser described in Paragraph No. 0022 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-157893 can be used suitably. Moreover, in the process of dispersing a pigment, you may perform the refinement|miniaturization process of particle|grains by a salt milling process. As for the raw material, apparatus, processing conditions, etc. used for a salt milling process, description of Unexamined-Japanese-Patent No. 2015-194521 and Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-046629 can be referred, for example.

착색 조성물의 조제에 있어서, 이물의 제거나 결함의 저감 등의 목적으로, 착색 조성물을 필터로 여과하는 것이 바람직하다. 필터로서는, 종래부터 여과 용도 등에 이용되고 있는 필터이면 특별히 한정되지 않고 이용할 수 있다. 예를 들면, 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE), 폴리 불화 바이닐리덴(PVDF) 등의 불소 수지, 나일론(예를 들면 나일론-6, 나일론-6,6) 등의 폴리아마이드 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌(PP) 등의 폴리올레핀 수지(고밀도, 초고분자량의 폴리올레핀 수지를 포함한다) 등의 소재를 이용한 필터를 들 수 있다. 이들 소재 중에서도 폴리프로필렌(고밀도 폴리프로필렌을 포함한다) 및 나일론이 바람직하다.Preparation of a coloring composition WHEREIN: It is preferable to filter a coloring composition with a filter for the purpose of removal of a foreign material, reduction of a defect, etc. As a filter, if it is a filter conventionally used for a filtration use, etc., it will not specifically limit, It can be used. For example, fluororesins such as polytetrafluoroethylene (PTFE) and polyvinylidene fluoride (PVDF), polyamide resins such as nylon (eg nylon-6, nylon-6,6), polyethylene, poly The filter using raw materials, such as polyolefin resin (high-density, ultra-high molecular weight polyolefin resin is included), such as propylene (PP) is mentioned. Among these materials, polypropylene (including high-density polypropylene) and nylon are preferable.

필터의 구멍 직경은, 0.01~7.0μm가 바람직하고, 0.01~3.0μm가 보다 바람직하며, 0.05~0.5μm가 더 바람직하다. 필터의 구멍 직경이 상기 범위이면, 미세한 이물을 보다 확실히 제거할 수 있다. 필터의 구멍 직경값에 대해서는, 필터 메이커의 공칭값을 참조할 수 있다. 필터는, 니혼 폴 주식회사(DFA4201NXEY, DFA4201NAEY, DFA4201J006P 등), 어드밴텍 도요 주식회사, 니혼 인테그리스 주식회사(구(舊) 니혼 마이크롤리스 주식회사) 및 주식회사 키츠 마이크로 필터 등이 제공하는 각종 필터를 이용할 수 있다.0.01-7.0 micrometers is preferable, as for the pore diameter of a filter, 0.01-3.0 micrometers is more preferable, 0.05-0.5 micrometers is still more preferable. If the hole diameter of a filter is the said range, a fine foreign material can be removed more reliably. For the pore diameter value of the filter, the nominal value of the filter maker can be referred to. As the filter, various filters provided by Nippon Pole Co., Ltd. (DFA4201NXEY, DFA4201NAEY, DFA4201J006P, etc.), Advantech Toyo Co., Ltd., Nippon Integris Co., Ltd. (formerly Nippon Microliss Co., Ltd.) and Kits Micro Filter Co., Ltd. can be used.

또, 필터로서 파이버상의 여과재를 이용하는 것도 바람직하다. 파이버상의 여과재로서는, 예를 들면 폴리프로필렌 파이버, 나일론 파이버, 글라스 파이버 등을 들 수 있다. 시판품으로서는, 로키 테크노사제의 SBP 타입 시리즈(SBP008 등), TPR 타입 시리즈(TPR002, TPR005 등), SHPX 타입 시리즈(SHPX003 등)를 들 수 있다. 필터를 사용할 때, 상이한 필터(예를 들면, 제1 필터와 제2 필터 등)를 조합해도 된다. 그때, 각 필터를 이용한 여과는, 1회만이어도 되고, 2회 이상 행해도 된다. 또, 상술한 범위 내에서 상이한 구멍 직경의 필터를 조합해도 된다. 또, 제1 필터를 이용한 여과는, 분산액에 대해서만 행하고, 다른 성분을 혼합한 후에, 제2 필터로 여과를 행해도 된다. 또 조성물의 친소수성에 맞추어, 적절히 필터를 선택할 수 있다.Moreover, it is also preferable to use a fiber-form filter medium as a filter. As a fibrous filter medium, a polypropylene fiber, a nylon fiber, a glass fiber, etc. are mentioned, for example. As a commercial item, the SBP type series (SBP008 etc.) made by Rocky Techno, TPR type series (TPR002, TPR005 etc.), and SHPX type series (SHPX003 etc.) are mentioned. When using a filter, you may combine different filters (for example, a 1st filter, a 2nd filter, etc.). In that case, the filtration using each filter may be performed only once or may be performed twice or more. Moreover, you may combine filters of different pore diameters within the above-mentioned range. Moreover, after performing filtration using a 1st filter only with respect to a dispersion liquid and mixing another component, you may filter with a 2nd filter. Moreover, according to the hydrophilicity of a composition, a filter can be selected suitably.

<막><act>

본 발명의 막은, 상술한 본 발명의 착색 조성물로부터 얻어지는 막이다. 본 발명의 막은, 컬러 필터 등에 이용할 수 있다. 구체적으로는, 컬러 필터의 착색 화소로서 바람직하게 이용할 수 있으며, 보다 구체적으로는, 컬러 필터의 적색 화소로서 바람직하게 이용할 수 있다. 본 발명의 막의 막두께는, 목적에 따라 적절히 조정할 수 있다. 예를 들면, 막두께는, 20μm 이하가 바람직하고, 10μm 이하가 보다 바람직하며, 5μm 이하가 더 바람직하다. 막두께의 하한은, 0.1μm 이상이 바람직하고, 0.2μm 이상이 보다 바람직하며, 0.3μm 이상이 더 바람직하다.The film|membrane of this invention is a film|membrane obtained from the coloring composition of this invention mentioned above. The film|membrane of this invention can be used for a color filter etc. Specifically, it can use suitably as a color pixel of a color filter, More specifically, it can use suitably as a red pixel of a color filter. The film thickness of the film of the present invention can be appropriately adjusted according to the purpose. For example, 20 micrometers or less are preferable, as for a film thickness, 10 micrometers or less are more preferable, and 5 micrometers or less are still more preferable. 0.1 micrometer or more is preferable, as for the lower limit of a film thickness, 0.2 micrometer or more is more preferable, and 0.3 micrometer or more is still more preferable.

<적색 화소><red pixel>

본 발명의 적색 화소는, 상술한 본 발명의 착색 조성물로부터 얻어지는 적색 화소이다. 본 발명의 적색 화소는, 컬러 필터 등에 이용할 수 있다. 본 발명의 적색 화소는, 색가가 높고, 박막으로 원하는 분광 특성을 달성할 수 있다.The red pixel of this invention is a red pixel obtained from the coloring composition of this invention mentioned above. The red pixel of the present invention can be used for a color filter or the like. The red pixel of the present invention has a high color value and can achieve desired spectral properties in a thin film.

적색 화소의 막두께는, 목적에 따라 적절히 조정할 수 있다. 예를 들면, 막두께는, 5μm 이하가 바람직하고, 1μm 이하가 보다 바람직하며, 0.6μm 이하가 더 바람직하다. 막두께의 하한은, 0.1μm 이상이 바람직하고, 0.2μm 이상이 보다 바람직하며, 0.3μm 이상이 더 바람직하다.The film thickness of a red pixel can be suitably adjusted according to the objective. For example, 5 micrometers or less are preferable, as for a film thickness, 1 micrometer or less is more preferable, and 0.6 micrometer or less is still more preferable. 0.1 micrometer or more is preferable, as for the lower limit of a film thickness, 0.2 micrometer or more is more preferable, and 0.3 micrometer or more is still more preferable.

적색 화소의 폭은 0.4~10.0μm인 것이 바람직하다. 하한은, 0.4μm 이상인 것이 바람직하고, 0.5μm 이상인 것이 보다 바람직하며, 0.6μm 이상인 것이 더 바람직하다. 상한은, 5.0μm 이하인 것이 바람직하고, 2.0μm 이하인 것이 보다 바람직하며, 1.0μm 이하인 것이 더 바람직하고, 0.8μm 이하인 것이 보다 한층 바람직하다.It is preferable that the width|variety of a red pixel is 0.4-10.0 micrometers. The lower limit is preferably 0.4 µm or more, more preferably 0.5 µm or more, and still more preferably 0.6 µm or more. It is preferable that it is 5.0 micrometers or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 2.0 micrometers or less, It is more preferable that it is 1.0 micrometer or less, It is still more preferable that it is 0.8 micrometer or less.

<화소의 형성 방법><Method of forming a pixel>

다음으로, 화소의 형성 방법에 대하여 설명한다. 화소의 형성 방법은, 상술한 본 발명의 착색 조성물을 지지체 상에 도포하여 착색 조성물층을 형성하는 공정과, 포토리소그래피법 또는 드라이 에칭법에 의하여 착색 조성물층에 대하여 패턴을 형성하는 공정을 거쳐 제조할 수 있다.Next, a method of forming a pixel will be described. The pixel formation method is manufactured through the process of apply|coating the coloring composition of this invention mentioned above on a support body, and forming a coloring composition layer, and the process of forming a pattern with respect to the coloring composition layer by the photolithographic method or dry etching method. can do.

(포토리소그래피법)(Photolithography method)

먼저, 포토리소그래피법에 의하여 패턴을 형성하여 화소를 형성하는 경우에 대하여 설명한다. 포토리소그래피법에 의한 패턴 형성은, 상술한 본 발명의 착색 조성물을 지지체 상에 도포하여 착색 조성물층을 형성하는 공정과, 착색 조성물층을 패턴상으로 노광하는 공정과, 노광 후의 착색 조성물층의 미노광부를 현상 제거하는 공정을 포함하는 것이 바람직하다. 이하, 각 공정에 대하여 설명한다.First, a case in which a pixel is formed by forming a pattern by a photolithography method will be described. The pattern formation by the photolithographic method apply|coats the coloring composition of this invention mentioned above on a support body, the process of forming a coloring composition layer, the process of exposing a coloring composition layer in pattern shape, Minnow of the coloring composition layer after exposure It is preferable to include the process of developing and removing a miner. Hereinafter, each process is demonstrated.

착색 조성물층을 형성하는 공정에서는, 착색 조성물을 지지체 상에 도포하여 착색 조성물층을 형성한다. 지지체로서는, 특별히 한정은 없으며, 용도에 따라 적절히 선택할 수 있다. 예를 들면, 유리 기판, 실리콘 기판 등을 들 수 있으며, 실리콘 기판인 것이 바람직하다. 또, 실리콘 기판에는, 전하 결합 소자(CCD), 상보형(相補型) 금속 산화막 반도체(CMOS), 투명 도전막 등이 형성되어 있어도 된다. 또, 실리콘 기판에는, 각 화소를 격리하는 블랙 매트릭스가 형성되어 있는 경우도 있다. 또, 실리콘 기판에는, 상부의 층과의 밀착성 개량, 물질의 확산 방지 혹은 기판 표면의 평탄화를 위하여 하지층(下地層)이 마련되어 있어도 된다. 하지층의 표면 접촉각은, 다이아이오도메테인으로 측정했을 때에 20~70°인 것이 바람직하다. 또, 물로 측정했을 때에 30~80°인 것이 바람직하다. 하지층의 표면 접촉각이 상기 범위이면, 착색 조성물의 도포성이 양호하다. 하지층의 표면 접촉각의 조정은, 예를 들면, 계면활성제의 첨가 등의 방법으로 행할 수 있다.At the process of forming a coloring composition layer, a coloring composition is apply|coated on a support body, and a coloring composition layer is formed. There is no limitation in particular as a support body, According to a use, it can select suitably. For example, a glass substrate, a silicon substrate, etc. are mentioned, It is preferable that it is a silicon substrate. In addition, a charge-coupled device (CCD), a complementary metal oxide semiconductor (CMOS), a transparent conductive film, or the like may be formed on the silicon substrate. Moreover, the black matrix which isolates each pixel may be formed in a silicon substrate. In addition, the silicon substrate may be provided with a base layer in order to improve adhesion with the upper layer, to prevent diffusion of substances, or to planarize the surface of the substrate. It is preferable that the surface contact angle of a base layer is 20-70 degrees when measured with diiodomethane. Moreover, when it measures with water, it is preferable that it is 30-80 degrees. If the surface contact angle of a base layer is the said range, the applicability|paintability of a coloring composition is favorable. Adjustment of the surface contact angle of the base layer can be performed, for example, by a method such as addition of a surfactant.

착색 조성물의 도포 방법으로서는, 공지의 방법을 이용할 수 있다. 예를 들면, 적하법(드롭 캐스트); 슬릿 코트법; 스프레이법; 롤 코트법; 스핀 코트법; 유연(流延) 도포법; 슬릿 앤드 스핀법; 프리웨트법(예를 들면, 일본 공개특허공보 2009-145395호에 기재되어 있는 방법); 잉크젯(예를 들면, 온 디맨드 방식, 피에조 방식, 서멀 방식), 노즐젯 등의 토출계 인쇄, 플렉소 인쇄, 스크린 인쇄, 그라비어 인쇄, 반전 오프셋 인쇄, 메탈 마스크 인쇄법 등의 각종 인쇄법; 금형 등을 이용한 전사(轉寫)법; 나노 임프린트법 등을 들 수 있다. 잉크젯에서의 적용 방법으로서는, 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 "확산되는·사용할 수 있는 잉크젯 -특허로 보는 무한의 가능성-, 2005년 2월 발행, 스미베 테크노 리서치"에 나타난 방법(특히 115페이지~133페이지)이나, 일본 공개특허공보 2003-262716호, 일본 공개특허공보 2003-185831호, 일본 공개특허공보 2003-261827호, 일본 공개특허공보 2012-126830호, 일본 공개특허공보 2006-169325호 등에 기재된 방법을 들 수 있다. 또, 착색 조성물의 도포 방법에 대해서는, 국제 공개공보 제2017/030174호, 국제 공개공보 제2017/018419호의 기재를 참조할 수 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.As a coating method of a coloring composition, a well-known method can be used. For example, the drip method (drop cast); slit coat method; spray method; roll coat method; spin coat method; soft coating method; slit and spin method; free wet method (for example, the method described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-145395); Various printing methods, such as discharge system printing, such as inkjet (For example, an on-demand method, a piezo method, a thermal method), a nozzle jet, flexographic printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, a metal mask printing method; a transfer method using a mold or the like; The nanoimprint method etc. are mentioned. The method of application in inkjet is not particularly limited, and for example, the method shown in "Diffused and usable inkjet -infinite possibilities viewed as a patent -, published in February 2005, Sumibe Techno Research" (particularly page 115) ~133 pages), Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-262716, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-185831, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-261827, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-126830, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-169325 The method described in etc. is mentioned. Moreover, about the application|coating method of a coloring composition, description of International Publication No. 2017/030174 and International Publication No. 2017/018419 can be considered into consideration, and these content is integrated in this specification.

지지체 상에 형성된 착색 조성물층은, 건조(프리베이크)해도 된다. 저온 프로세스에 의하여 막을 제조하는 경우는, 프리베이크를 행하지 않아도 된다. 프리베이크를 행하는 경우, 프리베이크 온도는, 150℃ 이하가 바람직하고, 120℃ 이하가 보다 바람직하며, 110℃ 이하가 더 바람직하다. 하한은, 예를 들면, 50℃ 이상으로 할 수 있으며, 80℃ 이상으로 할 수도 있다. 프리베이크 시간은, 10~300초가 바람직하고, 40~250초가 보다 바람직하며, 80~220초가 더 바람직하다. 프리베이크는, 핫플레이트, 오븐 등으로 행할 수 있다.The coloring composition layer formed on the support body may be dried (prebaked). When manufacturing a film|membrane by a low-temperature process, it is not necessary to pre-bake. When prebaking, 150 degrees C or less is preferable, as for prebaking temperature, 120 degrees C or less is more preferable, and 110 degrees C or less is still more preferable. The lower limit can be, for example, 50°C or higher, or 80°C or higher. 10-300 second is preferable, as for prebaking time, 40-250 second is more preferable, and 80-220 second is still more preferable. Pre-baking can be performed with a hot plate, an oven, etc.

다음으로, 착색 조성물층을 패턴상으로 노광한다(노광 공정). 예를 들면, 착색 조성물층에 대하여, 스테퍼 노광기나 스캐너 노광기 등을 이용하여, 소정의 마스크 패턴을 갖는 마스크를 통하여 노광함으로써, 패턴상으로 노광할 수 있다. 이로써, 노광 부분을 경화할 수 있다.Next, the coloring composition layer is exposed in pattern shape (exposure process). For example, by exposing through the mask which has a predetermined|prescribed mask pattern using a stepper exposure machine, a scanner exposure machine, etc. with respect to a coloring composition layer, it can expose in a pattern shape. Thereby, an exposure part can be hardened|cured.

노광 시에 이용할 수 있는 방사선(광)으로서는, g선, i선 등을 들 수 있다. 또, 파장 300nm 이하의 광(바람직하게는 파장 180~300nm의 광)을 이용할 수도 있다. 파장 300nm 이하의 광으로서는, KrF선(파장 248nm), ArF선(파장 193nm) 등을 들 수 있으며, KrF선(파장 248nm)이 바람직하다. 또, 300nm 이상의 장파인 광원도 이용할 수 있다.Examples of the radiation (light) that can be used during exposure include g-line, i-line, and the like. Moreover, light with a wavelength of 300 nm or less (preferably light with a wavelength of 180-300 nm) can also be used. Examples of the light having a wavelength of 300 nm or less include KrF line (wavelength 248 nm) and ArF line (wavelength 193 nm), and KrF line (wavelength 248 nm) is preferable. In addition, a light source having a long wavelength of 300 nm or more can also be used.

또, 노광 시에, 광을 연속적으로 조사하여 노광해도 되고, 펄스적으로 조사하여 노광(펄스 노광)해도 된다. 또한, 펄스 노광이란, 단시간(예를 들면, 밀리초(秒) 레벨 이하)의 사이클로 광의 조사와 휴지를 반복하여 노광하는 방식의 노광 방법이다.Moreover, in the case of exposure, you may expose by irradiating light continuously, and you may irradiate and expose by pulse (pulse exposure). In addition, pulse exposure is an exposure method of the system of repeating exposure of light irradiation and pause in a cycle of a short time (for example, a millisecond level or less).

조사량(노광량)은, 예를 들면, 0.03~2.5J/cm2가 바람직하고, 0.05~1.0J/cm2가 보다 바람직하다. 노광 시에 있어서의 산소 농도에 대해서는 적절히 선택할 수 있고, 대기하에서 행하는 것 외에, 예를 들면 산소 농도가 19체적% 이하인 저산소 분위기하(예를 들면, 15체적%, 5체적%, 또는, 실질적으로 무산소)에서 노광해도 되며, 산소 농도가 21체적%를 초과하는 고산소 분위기하(예를 들면, 22체적%, 30체적%, 또는, 50체적%)에서 노광해도 된다. 또, 노광 조도는 적절히 설정하는 것이 가능하고, 통상 1000W/m2~100000W/m2(예를 들면, 5000W/m2, 15000W/m2, 또는, 35000W/m2)의 범위로부터 선택할 수 있다. 산소 농도와 노광 조도는 적절히 조건을 조합해도 되고, 예를 들면, 산소 농도 10체적%이며 조도 10000W/m2, 산소 농도 35체적%이고 조도 20000W/m2 등으로 할 수 있다.The irradiation amount (exposure amount) is, for example, preferably 0.03 to 2.5 J/cm 2 , and more preferably 0.05 to 1.0 J/cm 2 . The oxygen concentration at the time of exposure can be appropriately selected, and in addition to carrying out in the atmosphere, for example, in a low-oxygen atmosphere having an oxygen concentration of 19% by volume or less (for example, 15% by volume, 5% by volume, or substantially anoxic) or in a high oxygen atmosphere (for example, 22% by volume, 30% by volume, or 50% by volume) in which the oxygen concentration exceeds 21% by volume. Moreover, exposure illuminance can be set suitably, and can select from the range of 1000W/ m2-100000W /m2 (for example, 5000W/m2, 15000W /m2, or 35000W /m2) normally. . The oxygen concentration and exposure illuminance may appropriately combine conditions, for example, an illuminance of 10000 W/m 2 with an oxygen concentration of 10 vol%, an illuminance of 20,000 W/m 2 with an oxygen concentration of 35 vol%, or the like.

다음으로, 노광 후의 착색 조성물층의 미노광부를 현상 제거한다(현상 공정). 착색 조성물층의 미노광부의 현상 제거는, 현상액을 이용하여 행할 수 있다. 이로써, 미노광부의 착색 조성물층이 현상액에 용출되어, 광경화된 부분만이 남는다. 현상액의 온도는, 예를 들면, 20~30℃가 바람직하다. 현상 시간은, 20~180초가 바람직하다. 또, 잔사 제거성을 향상시키기 위하여, 현상액을 60초마다 털어내고, 새롭게 현상액을 공급하는 공정을 수 회 더 반복해도 된다.Next, the unexposed part of the coloring composition layer after exposure is developed and removed (development process). The image development removal of the unexposed part of a coloring composition layer can be performed using a developing solution. Thereby, the coloring composition layer of an unexposed part elutes to a developing solution, and only the photocured part remains. As for the temperature of a developing solution, 20-30 degreeC is preferable, for example. As for image development time, 20 to 180 second is preferable. Moreover, in order to improve residue removability, you may repeat the process of shaking off a developing solution every 60 second, and supplying a new developing solution several times more.

현상액은, 유기 용제, 알칼리 현상액 등을 들 수 있으며, 알칼리 현상액이 바람직하게 이용된다. 알칼리 현상액으로서는, 알칼리제를 순수로 희석한 알칼리성 수용액(알칼리 현상액)이 바람직하다. 알칼리제로서는, 예를 들면, 암모니아, 에틸아민, 다이에틸아민, 다이메틸에탄올아민, 다이글라이콜아민, 다이에탄올아민, 하이드록시아민, 에틸렌다이아민, 테트라메틸암모늄하이드록사이드, 테트라에틸암모늄하이드록사이드, 테트라프로필암모늄하이드록사이드, 테트라뷰틸암모늄하이드록사이드, 에틸트라이메틸암모늄하이드록사이드, 벤질트라이메틸암모늄하이드록사이드, 다이메틸비스(2-하이드록시에틸)암모늄하이드록사이드, 콜린, 피롤, 피페리딘, 1,8-다이아자바이사이클로-[5.4.0]-7-운데센 등의 유기 알칼리성 화합물이나, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 탄산 나트륨, 탄산 수소 나트륨, 규산 나트륨, 메타규산 나트륨 등의 무기 알칼리성 화합물을 들 수 있다. 알칼리제는, 분자량이 큰 화합물인 편이 환경면 및 안전면에서 바람직하다. 알칼리성 수용액의 알칼리제의 농도는, 0.001~10질량%가 바람직하고, 0.01~1질량%가 보다 바람직하다. 또, 현상액은, 계면활성제를 더 함유하고 있어도 된다. 현상액은, 이송이나 보관의 편의 등의 관점에서, 일단 농축액으로서 제조하고, 사용 시에 필요한 농도로 희석해도 된다. 희석 배율은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 1.5~100배의 범위로 설정할 수 있다. 또, 현상 후 순수로 세정(린스)하는 것도 바람직하다. 또, 린스는, 현상 후의 착색 조성물층이 형성된 지지체를 회전시키면서, 현상 후의 착색 조성물층으로 린스액을 공급하여 행하는 것이 바람직하다. 또, 린스액을 토출시키는 노즐을 지지체의 중심부로부터 지지체의 둘레 가장자리부로 이동시켜 행하는 것도 바람직하다. 이때, 노즐의 지지체 중심부로부터 둘레 가장자리부로 이동시킴에 있어서, 노즐의 이동 속도를 서서히 저하시키면서 이동시켜도 된다. 이와 같이 하여 린스를 행함으로써, 린스의 면내 불균일을 억제할 수 있다. 또, 노즐을 지지체 중심부로부터 둘레 가장자리부로 이동시키면서, 지지체의 회전 속도를 서서히 저하시켜도 동일한 효과가 얻어진다.As for a developing solution, an organic solvent, an alkali developing solution, etc. are mentioned, An alkali developing solution is used preferably. As an alkali developing solution, the alkaline aqueous solution (alkali developing solution) which diluted the alkali agent with pure water is preferable. Examples of the alkali agent include ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, diglycolamine, diethanolamine, hydroxylamine, ethylenediamine, tetramethylammonium hydroxide, and tetraethylammonium hydroxide. hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, ethyltrimethylammonium hydroxide, benzyltrimethylammonium hydroxide, dimethylbis(2-hydroxyethyl)ammonium hydroxide, choline, Organic alkaline compounds such as pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo-[5.4.0]-7-undecene, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate Inorganic alkaline compounds, such as these are mentioned. The alkali agent is preferably a compound having a large molecular weight from the viewpoint of environment and safety. 0.001-10 mass % is preferable and, as for the density|concentration of the alkali agent of alkaline aqueous solution, 0.01-1 mass % is more preferable. Moreover, the developing solution may contain surfactant further. The developer may be once prepared as a concentrate from the viewpoints of transport and storage convenience, and then diluted to a concentration required at the time of use. Although the dilution ratio is not specifically limited, For example, it can set in the range of 1.5-100 times. Moreover, it is also preferable to wash|clean (rinse) with pure water after image development. Moreover, it is preferable to supply and perform rinsing liquid to the coloring composition layer after image development, rotating the support body in which the coloring composition layer after image development was formed. It is also preferable to move the nozzle for discharging the rinse liquid from the central portion of the support to the peripheral portion of the support. At this time, in moving from the center part of the support body of a nozzle to a peripheral part, you may move, reducing the moving speed of a nozzle gradually. By rinsing in this way, in-plane unevenness of rinsing can be suppressed. Moreover, the same effect is acquired even if it reduces the rotation speed of a support body gradually, moving a nozzle from a support body center part to a peripheral part.

현상 후, 건조를 실시한 후에 추가 노광 처리나 가열 처리(포스트베이크)를 행하는 것이 바람직하다. 추가 노광 처리나 포스트베이크는, 경화를 완전한 것으로 하기 위한 현상 후의 경화 처리이다. 포스트베이크에 있어서의 가열 온도는, 예를 들면 100~240℃가 바람직하고, 200~240℃가 보다 바람직하다. 포스트베이크는, 현상 후의 막(화소)을, 상기 조건이 되도록 핫플레이트나 컨벡션 오븐(열풍 순환식 건조기), 고주파 가열기 등의 가열 수단을 이용하여, 연속식 혹은 배치(batch)식으로 행할 수 있다. 추가 노광 처리를 행하는 경우, 노광에 이용되는 광은, 파장 400nm 이하의 광인 것이 바람직하다. 또, 추가 노광 처리는, 한국 공개특허공보 제10-2017-0122130호에 기재된 방법으로 행해도 된다.It is preferable to perform an additional exposure process or a heat process (post-baking) after drying after image development. An additional exposure process and a post-baking are hardening processes after image development for making hardening complete. 100-240 degreeC is preferable, and, as for the heating temperature in a post-baking, 200-240 degreeC is more preferable, for example. Post-baking can be performed in a continuous or batch manner, using a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot air circulation dryer), or a high-frequency heater, so that the developed film (pixel) is subjected to the above conditions. . When performing additional exposure processing, it is preferable that the light used for exposure is light with a wavelength of 400 nm or less. Moreover, you may perform an additional exposure process by the method described in Korean Unexamined-Japanese-Patent No. 10-2017-0122130.

(드라이 에칭법)(dry etching method)

드라이 에칭법을 이용한 패턴 형성은, 상술한 본 발명의 착색 조성물을 이용하여 지지체 상에 착색 조성물층을 형성하고, 이 착색 조성물층의 전체를 경화시켜 경화물층을 형성하는 공정과, 이 경화물층 상에 포토레지스트층을 형성하는 공정과, 포토레지스트층을 패턴상으로 노광한 후, 현상하여 레지스트 패턴을 형성하는 공정과, 이 레지스트 패턴을 마스크로 하여 경화물층에 대하여 에칭 가스를 이용하여 드라이 에칭하는 공정을 포함하는 것이 바람직하다. 포토레지스트층의 형성에 있어서는, 프리베이크 처리를 추가로 실시하는 것이 바람직하다. 특히, 포토레지스트층의 형성 프로세스로서는, 노광 후의 가열 처리, 현상 후의 가열 처리(포스트베이크 처리)를 실시하는 형태가 바람직하다. 드라이 에칭법을 이용한 패턴 형성에 대해서는, 일본 공개특허공보 2013-064993호의 단락 번호 0010~0067의 기재를 참조할 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.The pattern formation using the dry etching method forms a coloring composition layer on a support body using the coloring composition of this invention mentioned above, the process of hardening the whole coloring composition layer to form a hardened|cured material layer, This hardened|cured material A step of forming a photoresist layer on the layer, a step of exposing the photoresist layer in a pattern, and developing a resist pattern to form a resist pattern, and using the resist pattern as a mask, an etching gas is applied to the cured product layer It is preferable to include the process of dry etching. In formation of a photoresist layer, it is preferable to perform a prebaking process further. In particular, as a formation process of a photoresist layer, the aspect which implements the heat processing after exposure and the heat processing after image development (post-baking process) is preferable. About pattern formation using the dry etching method, Paragraph No. 0010 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-064993 - description of 0067 can be considered into consideration, and this content is integrated in this specification.

<컬러 필터><Color filter>

다음으로, 본 발명의 컬러 필터에 대하여 설명한다. 본 발명의 컬러 필터는, 상술한 본 발명의 막을 갖는다. 구체적으로는, 컬러 필터의 착색 화소로서, 본 발명의 막을 갖는다. 본 발명의 컬러 필터는, 컬러 필터의 적색 화소로서, 본 발명의 막을 갖는 것이 바람직하다.Next, the color filter of this invention is demonstrated. The color filter of this invention has the film|membrane of this invention mentioned above. Specifically, it has the film|membrane of this invention as a color pixel of a color filter. It is preferable that the color filter of this invention has the film|membrane of this invention as a red pixel of a color filter.

또, 본 발명의 컬러 필터는, 상술한 본 발명의 착색 조성물을 이용하여 얻어지는 적색 화소와, 청색 화소와, 녹색 화소를 갖는 것인 것도 바람직하다.Moreover, it is also preferable that the color filter of this invention has a red pixel obtained using the coloring composition of this invention mentioned above, a blue pixel, and a green pixel.

본 발명의 컬러 필터는, CCD(전하 결합 소자)나 CMOS(상보형 금속 산화막 반도체) 등의 고체 촬상 소자나 화상 표시 장치 등에 이용할 수 있다.The color filter of the present invention can be used for a solid-state imaging device such as a CCD (charge coupled device) or a CMOS (complementary metal oxide semiconductor), an image display device, or the like.

본 발명의 컬러 필터에 있어서 막의 막두께는, 목적에 따라 적절히 조정할 수 있다. 막두께는, 5μm 이하가 바람직하고, 1μm 이하가 보다 바람직하며, 0.6μm 이하가 더 바람직하다. 막두께의 하한은, 0.1μm 이상이 바람직하고, 0.2μm 이상이 보다 바람직하며, 0.3μm 이상이 더 바람직하다.In the color filter of this invention, the film thickness of a film|membrane can be suitably adjusted according to the objective. 5 micrometers or less are preferable, as for a film thickness, 1 micrometer or less is more preferable, and 0.6 micrometer or less is more preferable. 0.1 micrometer or more is preferable, as for the lower limit of a film thickness, 0.2 micrometer or more is more preferable, and 0.3 micrometer or more is still more preferable.

컬러 필터에 포함되는 화소의 폭은 0.4~10.0μm인 것이 바람직하다. 하한은, 0.4μm 이상인 것이 바람직하고, 0.5μm 이상인 것이 보다 바람직하며, 0.6μm 이상인 것이 더 바람직하다. 상한은, 5.0μm 이하인 것이 바람직하고, 2.0μm 이하인 것이 보다 바람직하며, 1.0μm 이하인 것이 더 바람직하고, 0.8μm 이하인 것이 보다 한층 바람직하다. 또, 화소의 영률은 0.5~20GPa인 것이 바람직하고, 2.5~15GPa가 보다 바람직하다.It is preferable that the width|variety of the pixel contained in a color filter is 0.4-10.0 micrometers. The lower limit is preferably 0.4 µm or more, more preferably 0.5 µm or more, and still more preferably 0.6 µm or more. It is preferable that it is 5.0 micrometers or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 2.0 micrometers or less, It is more preferable that it is 1.0 micrometer or less, It is still more preferable that it is 0.8 micrometer or less. Moreover, it is preferable that it is 0.5-20 GPa, and, as for the Young's modulus of a pixel, 2.5-15 GPa is more preferable.

컬러 필터에 포함되는 각 화소는 높은 평탄성을 갖는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 화소의 표면 조도 Ra는, 100nm 이하인 것이 바람직하고, 40nm 이하인 것이 보다 바람직하며, 15nm 이하인 것이 더 바람직하다. 하한은 규정되지 않지만, 예를 들면 0.1nm 이상인 것이 바람직하다. 화소의 표면 조도는, 예를 들면 Veeco사제의 AFM(원자간력 현미경) Dimension3100을 이용하여 측정할 수 있다. 또, 화소 상의 물의 접촉각은 적절히 바람직한 값으로 설정할 수 있지만, 전형적으로는, 50~110°의 범위이다. 접촉각은, 예를 들면 접촉각계 CV-DT·A형(교와 가이멘 가가쿠(주)제)을 이용하여 측정할 수 있다. 또, 화소의 체적 저항값은 높은 것이 바람직하다. 구체적으로는, 화소의 체적 저항값은 109Ω·cm 이상인 것이 바람직하고, 1011Ω·cm 이상인 것이 보다 바람직하다. 상한은 규정되지 않지만, 예를 들면 1014Ω·cm 이하인 것이 바람직하다. 화소의 체적 저항값은, 예를 들면 초고저항계 5410(어드밴테스트사제)을 이용하여 측정할 수 있다.Each pixel included in the color filter preferably has high flatness. Specifically, it is preferable that it is 100 nm or less, and, as for surface roughness Ra of a pixel, it is more preferable that it is 40 nm or less, It is more preferable that it is 15 nm or less. Although a lower limit is not prescribed|regulated, For example, it is preferable that it is 0.1 nm or more. The surface roughness of the pixel can be measured using, for example, AFM (Atomic Force Microscope) Dimension3100 manufactured by Veeco. Moreover, although the contact angle of the water on a pixel can be set to a suitable value suitably, it is the range of 50-110 degrees typically. The contact angle can be measured using, for example, a contact angle meter CV-DT·A type (manufactured by Kyowa Kaimen Chemical Co., Ltd.). Moreover, it is preferable that the volume resistance value of a pixel is high. Specifically, the volume resistance value of the pixel is preferably 10 9 Ω·cm or more, and more preferably 10 11 Ω·cm or more. Although the upper limit is not prescribed|regulated, it is preferable that it is 10 14 ohm*cm or less, for example. The volume resistance value of the pixel can be measured using, for example, an ultra-high resistance meter 5410 (manufactured by Advanced Test Co., Ltd.).

컬러 필터에 있어서는, 본 발명의 막(화소)의 표면에 보호층이 마련되어 있어도 된다. 보호층을 마련함으로써, 산소 차단화, 저반사화, 친소수화, 특정 파장의 광(자외선, 근적외선 등)의 차폐 등의 다양한 기능을 부여할 수 있다. 보호층의 두께로서는, 0.01~10μm가 바람직하고, 0.1~5μm가 보다 바람직하다. 보호층의 형성 방법으로서는, 유기 용제에 용해된 수지 조성물을 도포하여 형성하는 방법, 화학 기상(氣相) 증착법, 성형한 수지를 접착재로 첩부하는 방법 등을 들 수 있다. 보호층을 구성하는 성분으로서는, (메트)아크릴 수지, 엔·싸이올 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에터 수지, 폴리아릴레이트 수지, 폴리설폰 수지, 폴리에터설폰 수지, 폴리페닐렌 수지, 폴리아릴렌에터포스핀옥사이드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아마이드이미드 수지, 폴리올레핀 수지, 환상 올레핀 수지, 폴리에스터 수지, 스타이렌 수지, 폴리올 수지, 폴리 염화 바이닐리덴 수지, 멜라민 수지, 유레테인 수지, 아라마이드 수지, 폴리아마이드 수지, 알키드 수지, 에폭시 수지, 변성 실리콘 수지, 불소 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리아크릴로나이트릴 수지, 셀룰로스 수지, Si, C, W, Al2O3, Mo, SiO2, Si2N4 등을 들 수 있으며, 이들 성분을 2종 이상 함유해도 된다. 예를 들면, 산소 차단화를 목적으로 한 보호층의 경우, 보호층은 폴리올 수지와, SiO2와, Si2N4를 포함하는 것이 바람직하다. 또, 저반사화를 목적으로 한 보호층의 경우, 보호층은 (메트)아크릴 수지와 불소 수지를 포함하는 것이 바람직하다.In a color filter, the protective layer may be provided on the surface of the film|membrane (pixel) of this invention. By providing the protective layer, various functions such as oxygen blocking, low reflection, hydrophobicization, and shielding of light of a specific wavelength (ultraviolet rays, near infrared rays, etc.) can be provided. As thickness of a protective layer, 0.01-10 micrometers is preferable and 0.1-5 micrometers is more preferable. Examples of the method for forming the protective layer include a method of forming by coating a resin composition dissolved in an organic solvent, a chemical vapor deposition method, a method of affixing the molded resin with an adhesive, and the like. As a component constituting the protective layer, (meth)acrylic resin, ene thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene resin, poly Arylene ether phosphine oxide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, styrene resin, polyol resin, polyvinylidene chloride resin, melamine resin, urethane resin, Aramide resin, polyamide resin, alkyd resin, epoxy resin, modified silicone resin, fluororesin, polycarbonate resin, polyacrylonitrile resin, cellulose resin, Si, C, W, Al 2 O 3 , Mo, SiO 2 , Si 2 N 4 , and the like, and two or more of these components may be included. For example, in the case of a protective layer for the purpose of blocking oxygen, the protective layer preferably includes a polyol resin, SiO 2 , and Si 2 N 4 . Moreover, in the case of the protective layer aimed at reducing reflection, it is preferable that a protective layer contains a (meth)acrylic resin and a fluororesin.

수지 조성물을 도포하여 보호층을 형성하는 경우, 수지 조성물의 도포 방법으로서는, 스핀 코트법, 캐스트법, 스크린 인쇄법, 잉크젯법 등의 공지의 방법을 이용할 수 있다. 수지 조성물에 포함되는 유기 용제는, 공지의 유기 용제(예를 들면, 프로필렌글라이콜1-모노메틸에터2-아세테이트, 사이클로펜탄온, 락트산 에틸 등)를 이용할 수 있다. 보호층을 화학 기상 증착법으로 형성하는 경우, 화학 기상 증착법으로서는, 공지의 화학 기상 증착법(열화학 기상 증착법, 플라즈마 화학 기상 증착법, 광화학 기상 증착법)을 이용할 수 있다.When the resin composition is applied to form a protective layer, a known method such as a spin coating method, a casting method, a screen printing method, and an inkjet method can be used as a method for applying the resin composition. As the organic solvent contained in the resin composition, a known organic solvent (eg, propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate, cyclopentanone, ethyl lactate, etc.) can be used. When the protective layer is formed by a chemical vapor deposition method, a known chemical vapor deposition method (thermochemical vapor deposition, plasma chemical vapor deposition, photochemical vapor deposition) can be used as the chemical vapor deposition method.

보호층은, 필요에 따라, 유기·무기 미립자, 특정 파장의 광(예를 들면, 자외선, 근적외선 등)의 흡수제, 굴절률 조정제, 산화 방지제, 밀착제, 계면활성제 등의 첨가제를 함유해도 된다. 유기·무기 미립자의 예로서는, 예를 들면, 고분자 미립자(예를 들면, 실리콘 수지 미립자, 폴리스타이렌 미립자, 멜라민 수지 미립자), 산화 타이타늄, 산화 아연, 산화 지르코늄, 산화 인듐, 산화 알루미늄, 질화 타이타늄, 산질화 타이타늄, 불화 마그네슘, 중공 실리카, 실리카, 탄산 칼슘, 황산 바륨 등을 들 수 있다. 특정 파장의 광의 흡수제는 공지의 흡수제를 이용할 수 있다. 이들 첨가제의 함유량은 적절히 조정할 수 있지만, 보호층의 전체 질량에 대하여 0.1~70질량%가 바람직하고, 1~60질량%가 더 바람직하다.The protective layer may contain additives such as organic/inorganic microparticles, an absorber of light of a specific wavelength (eg, ultraviolet, near-infrared, etc.), a refractive index modifier, an antioxidant, an adhesive, and a surfactant, if necessary. Examples of the organic/inorganic fine particles include, for example, polymer fine particles (eg, silicone resin fine particles, polystyrene fine particles, melamine resin fine particles), titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, indium oxide, aluminum oxide, titanium nitride, oxynitride. Titanium, magnesium fluoride, hollow silica, silica, calcium carbonate, barium sulfate, etc. are mentioned. A well-known absorber can be used for the light absorber of a specific wavelength. Although content of these additives can be adjusted suitably, 0.1-70 mass % is preferable with respect to the total mass of a protective layer, and 1-60 mass % is more preferable.

또, 보호층으로서는, 일본 공개특허공보 2017-151176호의 단락 번호 0073~0092에 기재된 보호층을 이용할 수도 있다.Moreover, as a protective layer, Paragraph Nos. 0073 - 0092 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2017-151176 can also be used.

컬러 필터는, 격벽에 의하여 예를 들면 격자상으로 구획된 공간에, 각 화소가 매립된 구조를 갖고 있어도 된다.The color filter may have a structure in which each pixel is embedded in a space partitioned, for example, in a grid shape by partitions.

<고체 촬상 소자><Solid-State Imaging Device>

본 발명의 고체 촬상 소자는, 상술한 본 발명의 막을 갖는다. 고체 촬상 소자의 구성으로서는, 본 발명의 막을 구비하고, 고체 촬상 소자로서 기능하는 구성이면 특별히 한정은 없지만, 예를 들면, 이하와 같은 구성을 들 수 있다.The solid-state imaging device of the present invention has the above-described film of the present invention. Although there will be no limitation in particular as a structure of a solid-state imaging element, if it is a structure provided with the film|membrane of this invention and functioning as a solid-state image sensor, For example, the following structures are mentioned.

기판 상에, 고체 촬상 소자(CCD(전하 결합 소자) 이미지 센서, CMOS(상보형 금속 산화막 반도체) 이미지 센서 등)의 수광 에어리어를 구성하는 복수의 포토다이오드 및 폴리실리콘 등으로 이루어지는 전송 전극을 갖고, 포토다이오드 및 전송 전극 상에 포토다이오드의 수광부만 개구된 차광막을 가지며, 차광막 상에 차광막 전체면 및 포토다이오드 수광부를 덮도록 형성된 질화 실리콘 등으로 이루어지는 디바이스 보호막을 갖고, 디바이스 보호막 상에, 컬러 필터를 갖는 구성이다. 또한, 디바이스 보호막 위이며 컬러 필터 아래(기판에 가까운 측)에 집광 수단(예를 들면, 마이크로 렌즈 등. 이하 동일)을 갖는 구성이나, 컬러 필터 상에 집광 수단을 갖는 구성 등이어도 된다. 또, 컬러 필터는, 격벽에 의하여 예를 들면 격자상으로 구획된 공간에, 각 착색 화소가 매립된 구조를 갖고 있어도 된다. 이 경우의 격벽은 각 착색 화소에 대하여 저굴절률인 것이 바람직하다. 이와 같은 구조를 갖는 촬상 장치의 예로서는, 일본 공개특허공보 2012-227478호, 일본 공개특허공보 2014-179577호, 국제 공개공보 제2018/043654호에 기재된 장치를 들 수 있다. 본 발명의 고체 촬상 소자를 구비한 촬상 장치는, 디지털 카메라나, 촬상 기능을 갖는 전자 기기(휴대전화 등) 외에, 차재 카메라나 감시 카메라용으로서도 이용할 수 있다.A plurality of photodiodes constituting a light receiving area of a solid-state image sensor (CCD (charge coupled device) image sensor, CMOS (complementary metal oxide semiconductor) image sensor, etc.) It has a light-shielding film on the photodiode and the transfer electrode in which only the light-receiving portion of the photodiode is opened, a device protective film made of silicon nitride or the like formed to cover the entire surface of the light-shielding film and the photodiode light-receiving portion on the light-shielding film, and a color filter on the device protective film configuration that has Moreover, the structure which has a light condensing means (for example, microlens etc., the same hereinafter) above a device protective film and below a color filter (side close to a board|substrate), a structure which has a light condensing means on a color filter, etc. may be sufficient. Moreover, the color filter may have the structure in which each color pixel was embedded in the space partitioned by the grid|lattice form by the partition, for example. It is preferable that the partition in this case has a low refractive index with respect to each color pixel. As an example of the imaging device which has such a structure, the apparatus of Unexamined-Japanese-Patent No. 2012-227478, Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-179577, and International Publication No. 2018/043654 are mentioned. The imaging device provided with the solid-state imaging element of the present invention can be used not only for a digital camera and an electronic device having an imaging function (such as a mobile phone), but also for an in-vehicle camera or a surveillance camera.

<화상 표시 장치><Image display device>

본 발명의 화상 표시 장치는, 상술한 본 발명의 막을 갖는다. 화상 표시 장치로서는, 액정 표시 장치나 유기 일렉트로 루미네선스 표시 장치 등을 들 수 있다. 화상 표시 장치의 정의나 각 화상 표시 장치의 상세에 대해서는, 예를 들면 "전자 디스플레이 디바이스(사사키 아키오 저, (주)고교 초사카이, 1990년 발행)", "디스플레이 디바이스(이부키 스미아키 저, 산교 도쇼(주) 헤이세이 원년 발행)" 등에 기재되어 있다. 또, 액정 표시 장치에 대해서는, 예를 들면 "차세대 액정 디스플레이 기술(우치다 다쓰오 편집, (주)고교 초사카이, 1994년 발행)"에 기재되어 있다. 본 발명을 적용할 수 있는 액정 표시 장치에 특별히 제한은 없고, 예를 들면, 상기의 "차세대 액정 디스플레이 기술"에 기재되어 있는 다양한 방식의 액정 표시 장치에 적용할 수 있다.The image display apparatus of this invention has the film|membrane of this invention mentioned above. As an image display apparatus, a liquid crystal display device, an organic electroluminescent display apparatus, etc. are mentioned. For the definition of an image display apparatus and the details of each image display apparatus, for example, "Electronic display device (author Akio Sasaki, Kokocho Chosakai, published in 1990)", "Display device (author Sumiaki Ibuki, Sangyo)" Tosho Co., Ltd. published in the first year of the Heisei)" and the like. Moreover, about a liquid crystal display device, it describes, for example in "Next-generation liquid crystal display technology (edited by Tatsuo Uchida, Kogyo Chosakai, published in 1994)". There is no particular limitation on the liquid crystal display device to which the present invention can be applied, and for example, it can be applied to various types of liquid crystal display devices described in "Next-generation liquid crystal display technology" above.

<키트><Kit>

본 발명의 키트는, 상술한 본 발명의 착색 조성물과, 청색 화소 형성용의 착색 조성물과, 녹색 화소 형성용의 착색 조성물을 갖는다. 본 발명의 키트는, 컬러 필터 제조용의 키트로서 바람직하게 이용된다. 키트에 이용되는 상술한 본 발명의 착색 조성물은, 적색 화소 형성용의 착색 조성물인 것이 바람직하다. 즉, 본 발명의 키트는, 적색 화소와 청색 화소와 녹색 화소를 구비한 컬러 필터 제조용의 키트인 것이 바람직하다.The kit of this invention has the coloring composition of this invention mentioned above, the coloring composition for blue pixel formation, and the coloring composition for green pixel formation. The kit of the present invention is preferably used as a kit for producing a color filter. It is preferable that the coloring composition of this invention mentioned above used for a kit is a coloring composition for red pixel formation. That is, it is preferable that the kit of this invention is a kit for color filter manufacture provided with a red pixel, a blue pixel, and a green pixel.

청색 화소 형성용의 착색 조성물, 및, 녹색 화소 형성용의 착색 조성물은, 각각 색재와, 경화성 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 경화성 화합물로서는 상술한 소재를 들 수 있다. 청색 화소 형성용의 착색 조성물, 및, 녹색 화소 형성용의 착색 조성물은 안료 유도체, 용제, 광중합 개시제, 계면활성제, 실레인 커플링제, 자외선 흡수제, 중합 금지제 등을 더 함유할 수 있다. 이들 소재에 대해서는 상술한 것을 들 수 있다.It is preferable that the coloring composition for blue pixel formation and the coloring composition for green pixel formation contain a color material and a sclerosing|hardenable compound, respectively. The above-mentioned raw material is mentioned as a sclerosing|hardenable compound. The coloring composition for blue pixel formation and the coloring composition for green pixel formation can further contain a pigment derivative, a solvent, a photoinitiator, surfactant, a silane coupling agent, a ultraviolet absorber, a polymerization inhibitor, etc. The above-mentioned thing is mentioned about these materials.

청색 화소 형성용의 착색 조성물에 이용되는 색재는, 청색 색재를 적어도 포함하는 것인 것이 바람직하고, 청색 색재와 자색 색재를 각각 포함하는 것인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that the color material used for the coloring composition for blue pixel formation contains a blue color material at least, and it is more preferable that it is a thing containing a blue color material and a purple color material, respectively.

녹색 화소 형성용의 착색 조성물에 이용되는 색재는, 녹색 색재를 적어도 포함하는 것인 것이 바람직하고, 녹색 색재와 황색 색재를 각각 포함하는 것인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that a green color material is contained at least, and, as for the color material used for the coloring composition for green pixel formation, it is more preferable that a green color material and a yellow color material are contained, respectively.

실시예Example

이하에 실시예를 들어 본 발명을 더 구체적으로 설명한다. 이하의 실시예에 나타내는 재료, 사용량, 비율, 처리 내용, 처리 수순 등은, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한, 적절히, 변경할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 이하에 나타내는 구체예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of Examples. Materials, usage amounts, ratios, processing contents, processing procedures, etc. shown in the following examples can be appropriately changed without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific examples shown below.

<중량 평균 분자량의 측정 방법><Measuring method of weight average molecular weight>

수지의 중량 평균 분자량(Mw)은, 하기 측정 조건하, GPC(Gel permeation chromatography) 측정에 의하여 산출했다.The weight average molecular weight (Mw) of the resin was calculated by GPC (Gel permeation chromatography) measurement under the following measurement conditions.

칼럼의 종류: TOSOH TSKgel Super HZM-H와, TOSOH TSKgel Super HZ4000과, TOSOH TSKgel Super HZ2000을 연결한 칼럼Column type: TOSOH TSKgel Super HZM-H, TOSOH TSKgel Super HZ4000, and TOSOH TSKgel Super HZ2000

전개(展開) 용매: 테트라하이드로퓨란Development solvent: tetrahydrofuran

칼럼 온도: 40℃Column temperature: 40°C

유량(샘플 주입량): 1.0μL(샘플 농도 0.1질량%)Flow rate (sample injection volume): 1.0 μL (sample concentration 0.1% by mass)

장치명: 도소(주)제 HLC-8220GPCDevice name: HLC-8220GPC manufactured by Tosoh Corporation

검출기: 시차 굴절계(RI 검출기)Detector: Differential Refractometer (RI Detector)

검량선 베이스 수지: 폴리스타이렌 수지Calibration curve base resin: polystyrene resin

<안료의 평균 1차 입자경의 측정 방법><Measuring method of average primary particle diameter of pigment>

안료를 투과형 전자 현미경에 의하여 관찰하여, 얻어진 사진으로부터 임의로 선택한 100개의 안료의 1차 입자에 대한 투영 면적을 측정하며, 그 투영 면적으로부터 원상당 직경을 구하고, 얻어진 100개의 안료의 1차 입자의 원상당 직경의 산술 평균값을 안료의 평균 1차 입자경으로서 산출했다.The pigment is observed with a transmission electron microscope, the projected area of the primary particles of 100 pigments randomly selected from the obtained photograph is measured, and the circle equivalent diameter is obtained from the projected area, and the circle of the primary particles of the obtained 100 pigments is determined. The arithmetic mean value of the equivalent diameter was computed as the average primary particle diameter of a pigment.

<분산액의 제조><Preparation of dispersion>

하기의 표에 기재된 소재를 혼합한 후, 직경 0.3mm의 지르코니아 비즈 230질량부를 더하고, 페인트 셰이커를 이용하여 5시간 분산 처리를 행하며, 비즈를 여과로 분리하여 분산액을 제조했다. 하기의 표의 각 소재의 배합량의 수치는 질량부이다.After mixing the materials described in the table below, 230 parts by mass of zirconia beads having a diameter of 0.3 mm were added, dispersion treatment was performed for 5 hours using a paint shaker, and the beads were separated by filtration to prepare a dispersion liquid. The numerical value of the compounding quantity of each raw material in the following table|surface is a mass part.

[표 1][Table 1]

Figure pct00025
Figure pct00025

상기 표의 약어로 기재된 원료는 이하와 같다.The raw materials described by the abbreviations in the above table are as follows.

(색재)(color material)

P-1: C. I. 피그먼트 레드 272(적색 안료, 평균 1차 입자경 35nm)P-1: C. I. Pigment Red 272 (red pigment, average primary particle diameter 35 nm)

P-1a: C. I. 피그먼트 레드 272(적색 안료, 평균 1차 입자경 25nm)P-1a: C. I. Pigment Red 272 (red pigment, average primary particle diameter of 25 nm)

P-1b: C. I. 피그먼트 레드 272(적색 안료, 평균 1차 입자경 45nm)P-1b: C. I. Pigment Red 272 (red pigment, average primary particle diameter 45 nm)

P-1c: C. I. 피그먼트 레드 272(적색 안료, 평균 1차 입자경 55nm)P-1c: C. I. Pigment Red 272 (red pigment, average primary particle diameter of 55 nm)

P-2: C. I. 피그먼트 레드 254(적색 안료, 평균 1차 입자경 35nm)P-2: C. I. Pigment Red 254 (red pigment, average primary particle diameter 35 nm)

P-3: C. I. 피그먼트 레드 177(적색 안료, 평균 1차 입자경 35nm)P-3: C. I. Pigment Red 177 (red pigment, average primary particle diameter 35 nm)

P-4: C. I. 피그먼트 레드 269(적색 안료, 평균 1차 입자경 35nm)P-4: C. I. Pigment Red 269 (red pigment, average primary particle diameter of 35 nm)

P-5: C. I. 피그먼트 옐로 139(황색 안료, 평균 1차 입자경 35nm)P-5: C. I. Pigment Yellow 139 (yellow pigment, average primary particle diameter of 35 nm)

P-6: C. I. 피그먼트 옐로 215(황색 안료, 평균 1차 입자경 35nm)P-6: C. I. Pigment Yellow 215 (yellow pigment, average primary particle diameter 35 nm)

P-7: C. I. 피그먼트 옐로 138(황색 안료, 평균 1차 입자경 35nm)P-7: C. I. Pigment Yellow 138 (yellow pigment, average primary particle diameter of 35 nm)

P-8: C. I. 피그먼트 옐로 185(황색 안료, 평균 1차 입자경 35nm)P-8: C. I. Pigment Yellow 185 (yellow pigment, average primary particle diameter 35 nm)

P-9: C. I. 피그먼트 옐로 150(황색 안료, 평균 1차 입자경 35nm)P-9: C. I. Pigment Yellow 150 (yellow pigment, average primary particle diameter 35 nm)

P-10: 하기 구조의 화합물(황색 안료, 평균 1차 입자경 35nm)P-10: a compound of the following structure (yellow pigment, average primary particle diameter of 35 nm)

[화학식 25][Formula 25]

Figure pct00026
Figure pct00026

P-11: 하기 구조의 화합물(황색 안료, 평균 1차 입자경 35nm)P-11: a compound of the following structure (yellow pigment, average primary particle diameter of 35 nm)

[화학식 26][Formula 26]

Figure pct00027
Figure pct00027

P-12: C. I. 피그먼트 옐로 129(황색 안료, 평균 1차 입자경 35nm)P-12: C. I. Pigment Yellow 129 (yellow pigment, average primary particle diameter of 35 nm)

P-13: C. I. 피그먼트 레드 291(적색 안료, 평균 1차 입자경 35nm)P-13: C. I. Pigment Red 291 (red pigment, average primary particle diameter 35 nm)

P-14: C. I. 피그먼트 레드 296(적색 안료, 평균 1차 입자경 35nm)P-14: C. I. Pigment Red 296 (red pigment, average primary particle diameter 35 nm)

P-15: C. I. 피그먼트 레드 297(적색 안료, 평균 1차 입자경 35nm)P-15: C. I. Pigment Red 297 (red pigment, average primary particle diameter 35 nm)

(안료 유도체)(pigment derivative)

Syn-1: 하기 구조의 화합물Syn-1: a compound of the following structure

[화학식 27][Formula 27]

Figure pct00028
Figure pct00028

Syn-2: 하기 구조의 화합물Syn-2: a compound of the following structure

[화학식 28][Formula 28]

Figure pct00029
Figure pct00029

Syn-3: 하기 구조의 화합물Syn-3: a compound of the following structure

[화학식 29][Formula 29]

Figure pct00030
Figure pct00030

(분산제)(dispersant)

D-1: 이하의 방법으로 합성한 수지 D-1의 수지 용액(고형분 농도 20질량%).D-1: The resin solution of resin D-1 synthesize|combined by the following method (solid content concentration 20 mass %).

메틸메타크릴레이트 50질량부, n-뷰틸메타크릴레이트 50질량부, PGMEA(프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트) 45.4질량부를 반응 용기에 투입하고, 분위기 가스를 질소 가스로 치환했다. 반응 용기 내를 70℃로 가열하고, 3-머캅토-1,2-프로페인다이올 6질량부를 첨가하며, 추가로 AIBN(아조비스아이소뷰티로나이트릴) 0.12질량부를 더하여, 12시간 반응시켰다. 고형분 측정에 의하여 95%가 반응한 것을 확인했다. 다음으로, 파이로멜리트산 무수물 9.7질량부, PGMEA 70.3질량부, 촉매로서 DBU(1,8-다이아자바이사이클로-[5.4.0]-7-운데센) 0.20질량부를 추가하여, 120℃에서 7시간 반응시켰다. 산가의 측정으로 98% 이상의 산무수물이 하프 에스터화되어 있는 것을 확인하고 반응을 종료시켰다. PGMEA를 더하여 불휘발분(고형분 농도)을 20질량%로 조정하여, 산가 43mgKOH/g, 중량 평균 분자량(Mw) 9000의 하기 구조의 수지 D-1의 수지 용액을 얻었다.50 parts by mass of methyl methacrylate, 50 parts by mass of n-butyl methacrylate, and 45.4 parts by mass of PGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate) were put into the reaction vessel, and the atmosphere gas was replaced with nitrogen gas. The inside of reaction container was heated at 70 degreeC, 6 mass parts of 3-mercapto-1,2- propanediol was added, 0.12 mass parts of AIBN (azobisisobutyronitrile) was further added, and it was made to react for 12 hours. . It was confirmed that 95% reacted by solid content measurement. Next, 9.7 parts by mass of pyromellitic anhydride, 70.3 parts by mass of PGMEA, and 0.20 parts by mass of DBU (1,8-diazabicyclo-[5.4.0]-7-undecene) as a catalyst were added, and 7 at 120°C time was reacted. By measuring the acid value, it was confirmed that 98% or more of the acid anhydride was half-esterified, and the reaction was terminated. PGMEA was added, the nonvolatile matter (solid content concentration) was adjusted to 20 mass %, and the resin solution of resin D-1 of the following structure of acid value 43 mgKOH/g and weight average molecular weight (Mw) 9000 was obtained.

[화학식 30][Formula 30]

Figure pct00031
Figure pct00031

D-2: 이하의 방법으로 합성한 수지 D-2의 수지 용액(고형분 농도 20질량%).D-2: The resin solution of resin D-2 synthesize|combined by the following method (solid content concentration 20 mass %).

메틸메타크릴레이트 50질량부, n-뷰틸메타크릴레이트 30질량부, t-뷰틸메타크릴레이트 20질량부, PGMEA 45.4질량부를 반응 용기에 투입하고, 분위기 가스를 질소 가스로 치환했다. 반응 용기 내를 70℃로 가열하고, 3-머캅토-1,2-프로페인다이올 6질량부를 첨가하며, 추가로 AIBN(아조비스아이소뷰티로나이트릴) 0.12질량부를 더하여, 12시간 반응시켰다. 고형분 측정에 의하여 95%가 반응한 것을 확인했다. 다음으로, 파이로멜리트산 무수물 9.7질량부, PGMEA 70.3질량부, 촉매로서 DBU(1,8-다이아자바이사이클로-[5.4.0]-7-운데센) 0.20질량부를 추가하여, 120℃에서 7시간 반응시켰다. 산가의 측정으로 98% 이상의 산무수물이 하프 에스터화되어 있는 것을 확인하고 반응을 종료시켰다. PGMEA를 더하여 불휘발분(고형분 농도)을 20질량%로 조정하여, 산가 43mgKOH/g, 중량 평균 분자량(Mw) 9000의 하기 구조의 수지 D-2의 수지 용액을 얻었다.50 parts by mass of methyl methacrylate, 30 parts by mass of n-butyl methacrylate, 20 parts by mass of t-butyl methacrylate, and 45.4 parts by mass of PGMEA were put into the reaction vessel, and the atmosphere gas was replaced with nitrogen gas. The inside of reaction container was heated at 70 degreeC, 6 mass parts of 3-mercapto-1,2- propanediol was added, 0.12 mass parts of AIBN (azobisisobutyronitrile) was further added, and it was made to react for 12 hours. . It was confirmed that 95% reacted by solid content measurement. Next, 9.7 parts by mass of pyromellitic anhydride, 70.3 parts by mass of PGMEA, and 0.20 parts by mass of DBU (1,8-diazabicyclo-[5.4.0]-7-undecene) as a catalyst were added, and 7 at 120°C time was reacted. By measuring the acid value, it was confirmed that 98% or more of the acid anhydride was half-esterified, and the reaction was terminated. PGMEA was added, the nonvolatile matter (solid content concentration) was adjusted to 20 mass %, and the resin solution of resin D-2 of the following structure of acid value 43 mgKOH/g and weight average molecular weight (Mw) 9000 was obtained.

[화학식 31][Formula 31]

Figure pct00032
Figure pct00032

D-3: 이하의 방법으로 합성한 수지 D-3의 수지 용액(고형분 농도 20질량%).D-3: The resin solution of resin D-3 synthesize|combined by the following method (solid content concentration 20 mass %).

수지 D-2의 합성에 있어서, t-뷰틸메타크릴레이트 20질량부를, (3-에틸옥세탄-3-일)메틸메타크릴레이트 20질량부로 변경한 것 이외에는 동일하게 하여, 산가 43mgKOH/g, 중량 평균 분자량(Mw) 9000의 하기 구조의 수지 D-3의 수지 용액을 얻었다.In the synthesis of resin D-2, 20 parts by mass of t-butyl methacrylate was similarly carried out except that 20 parts by mass of (3-ethyloxetan-3-yl)methyl methacrylate was changed, and an acid value of 43 mgKOH/g, The resin solution of resin D-3 of the following structure with a weight average molecular weight (Mw) of 9000 was obtained.

[화학식 32][Formula 32]

Figure pct00033
Figure pct00033

D-4: 이하의 방법으로 합성한 수지 D-4의 수지 용액(고형분 농도 20질량%).D-4: The resin solution of resin D-4 synthesize|combined by the following method (solid content concentration 20 mass %).

수지 D-2의 합성에 있어서, t-뷰틸메타크릴레이트 20질량부를, 쇼와 덴코제 "카렌즈 MOI-BM" 20질량부로 변경한 것 이외에는 동일하게 하여, 산가 43mgKOH/g, 중량 평균 분자량(Mw) 9000의 하기 구조의 수지 D-4의 수지 용액을 얻었다.In the synthesis of Resin D-2, in the same manner, acid value 43 mgKOH/g, weight average molecular weight ( A resin solution of resin D-4 having the following structure of Mw) 9000 was obtained.

[화학식 33][Formula 33]

Figure pct00034
Figure pct00034

D-5: 이하의 방법으로 합성한 수지 D-5의 수지 용액(고형분 농도 20질량%).D-5: The resin solution of resin D-5 synthesize|combined by the following method (solid content concentration 20 mass %).

3-머캅토-1,2-프로페인다이올 6.0질량부, 파이로멜리트산 무수물 9.5질량부, PGMEA 62질량부, 1,8-다이아자바이사이클로-[5.4.0]-7-운데센 0.2질량부를 반응 용기에 투입하고, 분위기 가스를 질소 가스로 치환했다. 반응 용기 내를 100℃로 가열하고, 7시간 반응시켰다. 산가의 측정으로 98% 이상의 산무수물이 하프 에스터화되어 있는 것을 확인한 후, 계 내의 온도를 70℃로 냉각하고, 메틸메타크릴레이트 65질량부, 에틸아크릴레이트 5.0질량부, t-뷰틸아크릴레이트 15질량부, 메타크릴산 5.0질량부, 하이드록시에틸메타크릴레이트 10질량부, 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴 0.1질량부를 용해한 PGMEA 용액 53.5질량부를 첨가하여, 10시간 반응시켰다. 고형분 측정에 의하여 중합이 95% 진행된 것을 확인하고 반응을 종료시켰다. PGMEA를 더하여 불휘발분(고형분 농도)을 20질량%로 조정하여, 산가 70.5mgKOH/g, 중량 평균 분자량(Mw) 10000의 하기 구조의 수지 D-5의 수지 용액을 얻었다.3-mercapto-1,2-propanediol 6.0 parts by mass, pyromellitic anhydride 9.5 parts by mass, PGMEA 62 parts by mass, 1,8-diazabicyclo-[5.4.0]-7-undecene 0.2 A mass part was injected|thrown-in to the reaction container, and the atmospheric gas was substituted with nitrogen gas. The inside of the reaction container was heated to 100 degreeC, and it was made to react for 7 hours. After confirming that 98% or more of the acid anhydride was half-esterified by measurement of the acid value, the temperature in the system was cooled to 70° C., 65 parts by mass of methyl methacrylate, 5.0 parts by mass of ethyl acrylate, 15 parts by mass of t-butyl acrylate 53.5 mass parts of PGMEA solutions which melt|dissolved mass parts, 5.0 mass parts of methacrylic acid, 10 mass parts of hydroxyethyl methacrylate, and 0.1 mass parts of 2,2'- azobisisobutyronitrile were added, and it was made to react for 10 hours. The polymerization was confirmed to have progressed to 95% by solid content measurement, and the reaction was terminated. PGMEA was added, the nonvolatile matter (solid content concentration) was adjusted to 20 mass %, and the resin solution of resin D-5 of the following structure with an acid value of 70.5 mgKOH/g and a weight average molecular weight (Mw) 10000 was obtained.

[화학식 34][Formula 34]

Figure pct00035
Figure pct00035

D-6: 이하의 방법으로 합성한 수지 D-6의 수지 용액(고형분 농도 20질량%).D-6: The resin solution of resin D-6 synthesize|combined by the following method (solid content concentration 20 mass %).

1-싸이오글리세롤 108질량부, 파이로멜리트산 무수물 174질량부, 메톡시프로필아세테이트 650질량부, 촉매로서 모노뷰틸 주석 옥사이드 0.2질량부를 반응 용기에 투입하고, 분위기 가스를 질소 가스로 치환한 후, 120℃에서 5시간 반응시켰다(제1 공정). 산가의 측정으로 95% 이상의 산무수물이 하프 에스터화되어 있는 것을 확인했다. 다음으로, 제1 공정에서 얻어진 화합물을 고형분 환산으로 160질량부, 2-하이드록시프로필메타크릴레이트 200질량부, 에틸아크릴레이트 200질량부, t-뷰틸아크릴레이트 150질량부, 2-메톡시에틸아크릴레이트 200질량부, 메틸아크릴레이트 200질량부, 메타크릴산 50질량부, PGMEA 663질량부를 반응 용기에 투입하여, 반응 용기 내를 80℃로 가열하고, 2,2'-아조비스(2,4-다이메틸발레로나이트릴) 1.2질량부를 첨가하여, 12시간 반응시켰다(제2 공정). 고형분 측정에 의하여 95%가 반응한 것을 확인했다. 마지막으로, 제2 공정에서 얻어진 화합물의 50질량% PGMEA 용액 500질량부, 2-메타크릴로일옥시에틸아이소사이아네이트(MOI) 27.0질량부, 하이드로퀴논 0.1질량부를 반응 용기에 투입하고, 아이소사이아네이트기에 근거한 2270cm-1의 피크의 소실을 확인할 때까지 반응을 행했다(제3 공정). 피크 소실의 확인 후, 반응 용액을 냉각하고, PGMEA를 더하여 불휘발분(고형분 농도)을 20질량%로 조정하여, 산가 68mgKOH/g, 불포화 이중 결합가 0.62mmol/g, 중량 평균 분자량(Mw) 13000의 하기 구조의 수지 D-6의 수지 용액을 얻었다.108 parts by mass of 1-thioglycerol, 174 parts by mass of pyromellitic anhydride, 650 parts by mass of methoxypropyl acetate, and 0.2 parts by mass of monobutyl tin oxide as a catalyst were put into the reaction vessel, and the atmosphere gas was replaced with nitrogen gas. , and reacted at 120° C. for 5 hours (first step). By measuring the acid value, it was confirmed that 95% or more of the acid anhydride was half-esterified. Next, 160 mass parts of compounds obtained in the 1st process in conversion of solid content, 200 mass parts of 2-hydroxypropyl methacrylates, 200 mass parts of ethyl acrylates, 150 mass parts of t-butyl acrylates, 2-methoxyethyl 200 parts by mass of acrylate, 200 parts by mass of methyl acrylate, 50 parts by mass of methacrylic acid, and 663 parts by mass of PGMEA are put into a reaction vessel, the inside of the reaction vessel is heated to 80° C., and 2,2'-azobis (2, 1.2 mass parts of 4-dimethylvaleronitrile) was added, and it was made to react for 12 hours (2nd process). It was confirmed that 95% reacted by solid content measurement. Finally, 500 parts by mass of a 50 mass % PGMEA solution of the compound obtained in the second step, 27.0 parts by mass of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI), and 0.1 parts by mass of hydroquinone are put into the reaction vessel, and iso The reaction was performed until disappearance of the peak at 2270 cm -1 based on the cyanate group was confirmed (third step). After confirming the disappearance of the peak, the reaction solution is cooled, the nonvolatile matter (solid content concentration) is adjusted to 20 mass % by adding PGMEA, an acid value of 68 mgKOH/g, an unsaturated double bond value of 0.62 mmol/g, a weight average molecular weight (Mw) of 13000 A resin solution of Resin D-6 having the following structure was obtained.

[화학식 35][Formula 35]

Figure pct00036
Figure pct00036

D-7: 이하의 방법으로 합성한 수지 D-7의 수지 용액(고형분 농도 20질량%).D-7: The resin solution of resin D-7 synthesize|combined by the following method (solid content concentration 20 mass %).

메틸메타크릴레이트 40질량부, n-뷰틸메타크릴레이트 60질량부, PGMEA(프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트) 45.4질량부를 반응 용기에 투입하고, 분위기 가스를 질소 가스로 치환했다. 반응 용기 내를 70℃로 가열하고, 3-머캅토-1,2-프로페인다이올 8질량부를 첨가하며, 추가로 AIBN(아조비스아이소뷰티로나이트릴) 0.12질량부를 더하여, 12시간 반응시켰다. 고형분 측정에 의하여 95%가 반응한 것을 확인했다. 다음으로, 파이로멜리트산 무수물 13질량부, PGMEA 70.3질량부, 촉매로서 DBU(1,8-다이아자바이사이클로-[5.4.0]-7-운데센) 0.20질량부를 추가하여, 120℃에서 7시간 반응시켰다. 산가의 측정으로 98% 이상의 산무수물이 하프 에스터화되어 있는 것을 확인하고 반응을 종료시켰다. PGMEA를 더하여 불휘발분(고형분 농도)을 20질량%로 조정하여, 산가 55mgKOH/g, 중량 평균 분자량(Mw) 10000의 하기 구조의 수지 D-7의 수지 용액을 얻었다.40 parts by mass of methyl methacrylate, 60 parts by mass of n-butyl methacrylate, and 45.4 parts by mass of PGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate) were put into the reaction vessel, and the atmosphere gas was replaced with nitrogen gas. The inside of reaction container was heated at 70 degreeC, 8 mass parts of 3-mercapto-1,2- propanediol was added, 0.12 mass parts of AIBN (azobisisobutyronitrile) was further added, and it was made to react for 12 hours. . It was confirmed that 95% reacted by solid content measurement. Next, 13 parts by mass of pyromellitic anhydride, 70.3 parts by mass of PGMEA, and 0.20 parts by mass of DBU (1,8-diazabicyclo-[5.4.0]-7-undecene) as a catalyst were added, and 7 at 120°C time was reacted. By measuring the acid value, it was confirmed that 98% or more of the acid anhydride was half-esterified, and the reaction was terminated. PGMEA was added, the nonvolatile matter (solid content concentration) was adjusted to 20 mass %, and the resin solution of resin D-7 of the following structure of acid value 55 mgKOH/g and weight average molecular weight (Mw) 10000 was obtained.

[화학식 36][Formula 36]

Figure pct00037
Figure pct00037

D-8: 하기 구조의 수지(주쇄에 부기한 수치는 몰비이며, 측쇄에 부기한 수치는 반복 단위의 수이다. Mw=16000, 산가 67mgKOH/g)의 30질량% PGMEA 용액D-8: 30% by mass PGMEA solution of a resin having the following structure (the numerical value appended to the main chain is the molar ratio, and the numerical value appended to the side chain is the number of repeating units. Mw=16000, acid value 67 mgKOH/g)

[화학식 37][Formula 37]

Figure pct00038
Figure pct00038

D-10: DISPERBYK-111(BYKChemie사제)의 고형분 20질량%의 PGMEA 용액.D-10: PGMEA solution of 20 mass % of solid content of DISPERBYK-111 (made by BYK Chemie).

(용제)(solvent)

S-1: 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트(PGMEA)S-1: propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA)

S-2: 프로필렌글라이콜모노메틸에터S-2: propylene glycol monomethyl ether

S-3: 사이클로펜탄온S-3: cyclopentanone

<착색 조성물의 제조><Preparation of coloring composition>

하기의 표에 기재된 소재를 혼합하여, 착색 조성물을 조제했다.The raw materials described in the table below were mixed to prepare a coloring composition.

[표 2][Table 2]

Figure pct00039
Figure pct00039

[표 3][Table 3]

Figure pct00040
Figure pct00040

[표 4][Table 4]

Figure pct00041
Figure pct00041

[표 5][Table 5]

Figure pct00042
Figure pct00042

상기 착색 조성물의 처방을 나타내는 표 중의 약어로 나타내는 소재의 상세는 하기와 같다.The detail of the raw material shown by the abbreviation in the table|surface which shows the prescription of the said coloring composition is as follows.

(분산액·색재)(dispersion liquid, color material)

분산액 1~32: 상술한 분산액 1~32. 또한, 분산액 1, 13~24, 28~31은, C. I. 피그먼트 레드 272를 포함하는 분산액이다. 분산액 5~12, 25는 황색 안료를 포함하는 분산액이다. 분산액 1~12, 14, 15, 17~30은, 방향족 카복실기를 갖는 수지를 포함하는 분산액이다.Dispersions 1-32: Dispersions 1-32 described above. In addition, the dispersion liquids 1, 13-24, 28-31 are dispersion liquids containing C.I. Pigment Red 272. Dispersions 5 to 12 and 25 are dispersions containing a yellow pigment. Dispersions 1 to 12, 14, 15, and 17 to 30 are dispersions containing a resin having an aromatic carboxyl group.

Dye-1: C. I. 솔벤트 옐로 83:1(황색 염료)Dye-1: C. I. Solvent Yellow 83:1 (yellow dye)

Dye-2: C. I. 솔벤트 옐로 79(황색 염료)Dye-2: C. I. Solvent Yellow 79 (yellow dye)

(중합성 모노머)(polymerizable monomer)

M-1: 하기 구조의 화합물M-1: a compound of the following structure

[화학식 38][Formula 38]

Figure pct00043
Figure pct00043

M-2: 하기 구조의 화합물M-2: a compound of the following structure

[화학식 39][Formula 39]

Figure pct00044
Figure pct00044

M-3: 하기 구조의 화합물M-3: a compound of the following structure

[화학식 40][Formula 40]

Figure pct00045
Figure pct00045

M-4: 아로닉스 TO-2349(도아 고세이(주)제)M-4: Aronix TO-2349 (manufactured by Toa Kosei Co., Ltd.)

(광중합 개시제)(Photoinitiator)

I-1: Irgacure OXE01(BASF사제, 옥심 화합물)I-1: Irgacure OXE01 (manufactured by BASF, oxime compound)

I-2: Irgacure OXE02(BASF사제, 옥심 화합물)I-2: Irgacure OXE02 (manufactured by BASF, oxime compound)

I-4~I-7, I-9: 하기 구조의 화합물I-4 to I-7, I-9: a compound of the following structure

[화학식 41][Formula 41]

Figure pct00046
Figure pct00046

I-8: Omnirad 379(IGM Resins B. V.사제, α-아미노케톤 화합물)I-8: Omnirad 379 (manufactured by IGM Resins B. V., α-aminoketone compound)

I-10: Omnirad 907(IGM Resins B. V.사제, α-아미노케톤 화합물)I-10: Omnirad 907 (manufactured by IGM Resins B. V., α-aminoketone compound)

(수지)(Suzy)

B-1: 하기 구조의 수지(중량 평균 분자량 11000, 주쇄에 부기된 수치는, 반복 단위의 몰비를 나타낸다.)B-1: Resin of the following structure (weight average molecular weight of 11000, the numerical value appended to the main chain indicates the molar ratio of the repeating unit.)

[화학식 42][Formula 42]

Figure pct00047
Figure pct00047

B-2: 하기 구조의 수지(중량 평균 분자량 11000)B-2: Resin of the following structure (weight average molecular weight 11000)

[화학식 43][Formula 43]

Figure pct00048
Figure pct00048

(첨가제)(additive)

A-1: EHPE3150((주)다이셀제, 2,2'-비스(하이드록시메틸)-1-뷰탄올의 1,2-에폭시-4-(2-옥시란일)사이클로헥세인 부가물)A-1: EHPE3150 (manufactured by Daicel Co., Ltd., 1,2-epoxy-4-(2-oxiranyl)cyclohexane adduct of 2,2'-bis(hydroxymethyl)-1-butanol)

(계면활성제)(Surfactants)

Su-1: 하기 구조의 화합물(중량 평균 분자량 14000). 하기의 식 중, 반복 단위의 비율을 나타내는 %는 몰%이다.Su-1: A compound of the following structure (weight average molecular weight 14000). In the following formula, % indicating the proportion of the repeating unit is mol%.

[화학식 44][Formula 44]

Figure pct00049
Figure pct00049

(중합 금지제)(Polymerization inhibitor)

In-1: p-메톡시페놀In-1: p-methoxyphenol

(용제)(solvent)

S-1: 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트(PGMEA)S-1: propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA)

<평가><Evaluation>

직경 8인치(=203.2mm)의 언더코팅층 부착 실리콘 기판 상에, 상기에서 제조한 착색 조성물을 프리베이크 후의 막두께가 0.5μm가 되도록 스핀 코터를 이용하여 도포하고, 100℃의 핫플레이트를 이용하여 120초간 프리베이크를 행하여 착색 조성물층을 형성했다. 이 착색 조성물층에 대하여, i선 스테퍼 노광 장치 FPA-3000i5+(Canon(주)제)를 사용하여, 한 변이 1.0μm인 사각형의 아일랜드 패턴 마스크를 통하여 365nm의 파장의 광을 조사하고, 400mJ/cm2의 노광량으로 노광했다. 이어서, 노광 후의 착색 조성물층이 형성되어 있는 실리콘 기판을, 스핀·샤워 현상기(DW-30형, (주)케미트로닉스제)의 수평 회전 테이블 상에 재치하고, 현상액(CD-2000, 후지필름 일렉트로닉스 머티리얼즈(주)제)을 이용하여 23℃에서 60초간 퍼들 현상을 행한 후, 물을 이용하여 린스를 행하며, 이어서 200℃의 핫플레이트를 이용하여 5분간 포스트베이크를 행하여, 한 변이 1.0μm인 사각형의 화소(패턴)를 형성했다. 이 화소가 형성된 기판을 핫플레이트를 이용하여, 220℃에서 300초간, 230℃에서 300초간, 240℃에서 300초간, 또는 250℃에서 300초간의 가열 처리를 행했다. 가열 처리 후의 화소가 형성된 기판에 대하여 측장 주사 전자 현미경(S-9260A, 히타치 하이테크놀로지즈제)을 이용하여 화소 중의 이물의 유무를 관찰하여, 이하의 기준으로 평가했다.On a silicon substrate with an undercoat layer of 8 inches in diameter (= 203.2 mm), the coloring composition prepared above was applied using a spin coater so that the film thickness after prebaking was 0.5 μm, and using a hot plate at 100° C. It prebaked for 120 second and formed the coloring composition layer. With respect to this coloring composition layer, using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5+ (manufactured by Canon Co., Ltd.), light of a wavelength of 365 nm is irradiated through a square island pattern mask having a side of 1.0 µm, and 400 mJ/cm Exposure was performed at an exposure dose of 2 . Next, the silicon substrate on which the colored composition layer after exposure is formed is placed on a horizontal rotary table of a spin shower developing machine (DW-30 type, manufactured by Chemtronics Co., Ltd.), and a developer (CD-2000, FUJIFILM ELECTRONICS) After performing puddle development at 23°C for 60 seconds using Materials (manufactured by Materials Co., Ltd.), rinse using water, and then post-baking for 5 minutes using a hot plate at 200°C, with a side of 1.0 μm A rectangular pixel (pattern) was formed. The substrate on which this pixel was formed was subjected to heat treatment at 220°C for 300 seconds, at 230°C for 300 seconds, at 240°C for 300 seconds, or at 250°C for 300 seconds using a hot plate. About the board|substrate in which the pixel after heat processing was formed, the presence or absence of the foreign material in a pixel was observed using the length-length scanning electron microscope (S-9260A, Hitachi High-Technologies Co., Ltd. product), and the following reference|standard evaluated.

5: 250℃에서 300초의 가열 처리 후에도 이물이 관측되지 않는다.5: No foreign matter was observed even after heat treatment at 250 DEG C for 300 seconds.

4: 240℃에서 300초의 가열 처리에서는 이물은 관측되지 않지만, 250℃에서 300초의 가열 처리에서는 이물이 관측된다.4: A foreign matter was not observed in the heat treatment at 240°C for 300 seconds, but a foreign material was observed in the heat treatment at 250°C for 300 seconds.

3: 230℃에서 300초의 가열 처리에서는 이물은 관측되지 않지만, 240℃에서 300초의 가열 처리에서는 이물이 관측된다.3: A foreign material was not observed in the heat treatment at 230°C for 300 seconds, but a foreign material was observed in the heat treatment at 240°C for 300 seconds.

2: 220℃에서 300초의 가열 처리에서는 이물은 관측되지 않지만, 230℃에서 300초의 가열 처리에서는 이물이 관측된다.2: A foreign material was not observed in the heat treatment at 220°C for 300 seconds, but a foreign material was observed in the heat treatment at 230°C for 300 seconds.

1: 220℃에서 300초의 가열 처리에서도 이물이 관측된다.1: Foreign matter was observed even in a heat treatment at 220°C for 300 seconds.

상기의 평가 결과를 하기 표에 나타낸다. 또, 착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 색재의 함유량을 하기 표의 "색재 농도"란에 나타낸다.The above evaluation results are shown in the table below. In addition, content of the color material in the total solid of a coloring composition is shown in the "color material density|concentration" column of the following table|surface.

[표 6][Table 6]

Figure pct00050
Figure pct00050

상기 표에 나타내는 바와 같이, 실시예의 착색 조성물을 이용하여 얻어진 막에 있어서는, 가열 후에도 이물의 발생이 억제되어 있었다. 또, 실시예 1~45의 착색 조성물로부터 얻어진 막은, 적색의 색가가 높고, 또한, 컬러 필터의 적색 착색 화소로서 바람직한 분광 특성을 갖고 있었다.As shown in the said table|surface, in the film|membrane obtained using the coloring composition of an Example, generation|occurrence|production of the foreign material was suppressed even after heating. Moreover, the film|membrane obtained from the coloring composition of Examples 1-45 had a high red color value, and had the spectral characteristic suitable as a red colored pixel of a color filter.

(실시예 1001)(Example 1001)

실리콘 웨이퍼 상에, 녹색 착색 조성물을 제막 후의 막두께가 1.0μm가 되도록 스핀 코트법으로 도포했다. 이어서, 핫플레이트를 이용하여, 100℃에서 2분간 가열했다. 이어서, i선 스테퍼 노광 장치 FPA-3000i5+(캐논(주)제)를 이용하여, 1000mJ/cm2의 노광량으로 한 변이 2μm인 사각형의 도트 패턴의 마스크를 통하여 노광했다. 이어서, 수산화 테트라메틸암모늄(TMAH) 0.3질량% 수용액을 이용하고, 23℃에서 60초간 퍼들 현상을 행했다. 그 후, 스핀·샤워로 린스를 행하고, 추가로 순수로 수세했다. 이어서, 핫플레이트를 이용하여, 200℃에서 5분간 가열함으로써, 녹색 착색 조성물을 패터닝하여 녹색 화소를 형성했다. 동일하게 적색 착색 조성물, 청색 착색 조성물을 동일한 프로세스로 패터닝하여, 적색 화소, 청색 화소를 순차 형성하고, 녹색 화소, 적색 화소 및 청색 화소를 갖는 컬러 필터를 형성했다. 이 컬러 필터에 있어서는, 녹색 화소가 베이어 패턴으로 형성되어 있고, 그 인접하는 영역에, 적색 화소, 청색 화소가 아일랜드 패턴으로 형성되어 있다. 얻어진 컬러 필터를 공지의 방법에 따라 고체 촬상 소자에 도입했다. 이 고체 촬상 소자는 적합한 화상 인식능을 갖고 있었다. 또한, 적색 착색 조성물로서는, 실시예 6의 착색 조성물을 사용했다. 녹색 착색 조성물, 청색 착색 조성물의 상세는 이하와 같다.On a silicon wafer, the green coloring composition was apply|coated by the spin coating method so that the film thickness after film formation might be set to 1.0 micrometer. Then, it heated at 100 degreeC for 2 minute(s) using the hotplate. Next, using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5+ (manufactured by Canon Co., Ltd.), exposure was carried out through a mask of a rectangular dot pattern having a side of 2 µm at an exposure amount of 1000 mJ/cm 2 . Then, using 0.3 mass % aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide (TMAH), puddle development was performed at 23 degreeC for 60 second. After that, it rinsed with a spin shower and further washed with pure water. Then, the green coloring composition was patterned and the green pixel was formed by heating at 200 degreeC for 5 minute(s) using a hotplate. Similarly, the red coloring composition and the blue coloring composition were patterned by the same process, a red pixel and a blue pixel were formed one by one, and the color filter which has a green pixel, a red pixel, and a blue pixel was formed. In this color filter, the green pixel is formed in the Bayer pattern, and the red pixel and the blue pixel are formed in the area|region adjacent to the island pattern. The obtained color filter was introduce|transduced into the solid-state image sensor according to a well-known method. This solid-state imaging element had suitable image recognition ability. In addition, as a red coloring composition, the coloring composition of Example 6 was used. The detail of a green coloring composition and a blue coloring composition is as follows.

(녹색 착색 조성물의 조제)(Preparation of green coloring composition)

하기 성분을 혼합하여, 교반한 후, 구멍 직경 0.45μm의 나일론제 필터(니혼 폴(주)제)로 여과하여, 녹색 착색 조성물을 조제했다.After mixing and stirring the following components, it filtered with the nylon filter (Nippon Pole Co., Ltd. product) with a pore diameter of 0.45 micrometers, and the green coloring composition was prepared.

녹색 안료 분산액: 73.7질량부Green pigment dispersion: 73.7 parts by mass

수지 101: 0.3질량부Resin 101: 0.3 parts by mass

중합성 화합물 101: 1.2질량부Polymeric compound 101: 1.2 mass parts

광중합 개시제 101: 0.6질량부Photoinitiator 101: 0.6 parts by mass

계면활성제 101: 4.2질량부Surfactant 101: 4.2 parts by mass

PGMEA: 19.5질량부PGMEA: 19.5 parts by mass

(청색 착색 조성물의 조제)(Preparation of blue coloring composition)

하기 성분을 혼합하여, 교반한 후, 구멍 직경 0.45μm의 나일론제 필터(니혼 폴(주)제)로 여과하여, 청색 착색 조성물을 조제했다.After mixing and stirring the following components, it filtered with the nylon filter (made by Nippon Pole Co., Ltd.) with a pore diameter of 0.45 micrometers, and the blue coloring composition was prepared.

청색 안료 분산액: 44.9질량부Blue pigment dispersion: 44.9 parts by mass

수지 101: 2.1질량부Resin 101: 2.1 parts by mass

중합성 화합물 101: 1.5질량부Polymerizable compound 101: 1.5 parts by mass

중합성 화합물 102: 0.7질량부Polymeric compound 102: 0.7 mass parts

광중합 개시제 101: 0.8질량부Photoinitiator 101: 0.8 parts by mass

계면활성제 101: 4.2질량부Surfactant 101: 4.2 parts by mass

PGMEA: 45.8질량부PGMEA: 45.8 parts by mass

녹색 착색 조성물, 청색 착색 조성물의 조제에 사용한 원료는, 이하와 같다.The raw materials used for preparation of a green coloring composition and a blue coloring composition are as follows.

녹색 안료 분산액green pigment dispersion

C. I. 피그먼트 그린 36을 6.4질량부, C. I. 피그먼트 옐로 150을 5.3질량부, 분산제(Disperbyk-161, BYKChemie사제)를 5.2질량부, PGMEA를 83.1질량부로 이루어지는 혼합액을, 비즈 밀(지르코니아 비즈 0.3mm 직경)에 의하여 3시간 혼합 및 분산하여, 안료 분산액을 조제했다. 그 후 추가로, 감압 기구 장착 고압 분산기 NANO-3000-10(닛폰 비이이(주)제)을 이용하여, 2000kg/cm3의 압력하에서 유량 500g/min으로 하여 분산 처리를 행했다. 이 분산 처리를 10회 반복하여, 녹색 안료 분산액을 얻었다.A mixed solution comprising 6.4 parts by mass of CI Pigment Green 36, 5.3 parts by mass of CI Pigment Yellow 150, 5.2 parts by mass of a dispersant (Disperbyk-161, manufactured by BYKChemie), and 83.1 parts by mass of PGMEA was mixed with a bead mill (zirconia beads 0.3 mm diameter), mixed and dispersed for 3 hours to prepare a pigment dispersion. Thereafter, using a high-pressure disperser NANO-3000-10 (manufactured by Nippon BEI Co., Ltd.) with a pressure reducing mechanism, dispersion treatment was performed at a flow rate of 500 g/min under a pressure of 2000 kg/cm 3 . This dispersion treatment was repeated 10 times to obtain a green pigment dispersion.

청색 안료 분산액blue pigment dispersion

C. I. 피그먼트 블루 15:6을 9.7질량부, C. I. 피그먼트 바이올렛 23을 2.4질량부, 분산제(Disperbyk-161, BYKChemie사제)를 5.5질량부, PGMEA를 82.4질량부로 이루어지는 혼합액을, 비즈 밀(지르코니아 비즈 0.3mm 직경)에 의하여 3시간 혼합 및 분산했다. 그 후 추가로, 감압 기구 장착 고압 분산기 NANO-3000-10(닛폰 비이이(주)제)을 이용하여, 2000kg/cm3의 압력하에서 유량 500g/min으로 하여 분산 처리를 행했다. 이 분산 처리를 10회 반복하여, 청색 안료 분산액을 얻었다.A mixed solution comprising 9.7 parts by mass of CI Pigment Blue 15:6, 2.4 parts by mass of CI Pigment Violet 23, 5.5 parts by mass of a dispersant (Disperbyk-161, manufactured by BYKChemie), and 82.4 parts by mass of PGMEA was mixed with a bead mill (zirconia beads). 0.3 mm diameter) by mixing and dispersing for 3 hours. Thereafter, using a high-pressure disperser NANO-3000-10 (manufactured by Nippon BEI Co., Ltd.) with a pressure reducing mechanism, dispersion treatment was performed at a flow rate of 500 g/min under a pressure of 2000 kg/cm 3 . This dispersion treatment was repeated 10 times to obtain a blue pigment dispersion.

중합성 화합물 101: KAYARAD DPHA(닛폰 가야쿠(주)제)Polymeric compound 101: KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

중합성 화합물 102: 하기 구조의 화합물Polymeric compound 102: a compound of the structure

[화학식 45][Formula 45]

Figure pct00051
Figure pct00051

수지 101: 하기 구조의 수지(Mw=11000, 주쇄에 부기한 수치는 몰비이다.)Resin 101: a resin of the following structure (Mw = 11000, the numerical value added to the main chain is the molar ratio.)

[화학식 46][Formula 46]

Figure pct00052
Figure pct00052

광중합 개시제 101: Irgacure OXE01(BASF사제)Photoinitiator 101: Irgacure OXE01 (manufactured by BASF)

계면활성제 101: 하기 구조의 화합물(Mw=14000, 반복 단위의 비율을 나타내는 %의 수치는 몰%이다)의 1질량% PGMEA 용액.Surfactant 101: A 1% by mass PGMEA solution of a compound of the following structure (Mw=14000, the numerical value of % indicating the proportion of repeating units is mol%).

[화학식 47][Formula 47]

Figure pct00053
Figure pct00053

Claims (21)

안료를 포함하는 색재와, 수지와, 용제를 포함하는 착색 조성물로서,
상기 안료는, 컬러 인덱스 피그먼트 레드 272를 포함하고,
상기 수지는, 방향족 카복실기를 갖는 수지를 포함하는, 착색 조성물.
As a coloring composition containing a color material containing a pigment, a resin, and a solvent,
The pigment includes color index pigment red 272,
The said resin is a coloring composition containing resin which has an aromatic carboxyl group.
청구항 1에 있어서,
상기 컬러 인덱스 피그먼트 레드 272의 평균 1차 입자경이 10~40nm인, 착색 조성물.
The method according to claim 1,
The coloring composition of which the average primary particle diameter of the said color index pigment red 272 is 10-40 nm.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 안료는, 컬러 인덱스 피그먼트 레드 272 이외의 적색 안료를 더 포함하는, 착색 조성물.
The method according to claim 1 or 2,
The said pigment further contains red pigments other than Color Index Pigment Red 272, The coloring composition.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 색재는, 황색 색재를 더 포함하는, 착색 조성물.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The color material, the coloring composition further comprising a yellow color material.
청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
색재 전량 중에 있어서의 컬러 인덱스 피그먼트 레드 272의 함유량이 10질량% 이상인, 착색 조성물.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The coloring composition whose content of color index pigment red 272 in color material whole quantity is 10 mass % or more.
청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
착색 조성물의 전고형분 중에 있어서의 상기 색재의 함유량이 50질량% 이상인, 착색 조성물.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
The coloring composition whose content of the said color material in the total solid of a coloring composition is 50 mass % or more.
청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,
안료 유도체를 더 포함하는, 착색 조성물.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
A coloring composition further comprising a pigment derivative.
청구항 7에 있어서,
상기 안료 유도체는 다이케토피롤로피롤 화합물인, 착색 조성물.
8. The method of claim 7,
The pigment derivative is a diketopyrrolopyrrole compound, the coloring composition.
청구항 1 내지 청구항 8 중 어느 한 항에 있어서,
중합성 화합물을 더 포함하는, 착색 조성물.
9. The method according to any one of claims 1 to 8,
The coloring composition which further contains a polymeric compound.
청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 있어서,
광중합 개시제를 더 포함하는, 착색 조성물.
10. The method according to any one of claims 1 to 9,
The coloring composition which further contains a photoinitiator.
청구항 10에 있어서,
상기 광중합 개시제는, 옥심 화합물 및 α-아미노케톤 화합물로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는, 착색 조성물.
11. The method of claim 10,
The said photoinitiator contains at least 1 sort(s) chosen from an oxime compound and (alpha)-amino ketone compound, The coloring composition.
청구항 1 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 있어서,
컬러 필터의 적색 화소 형성용의 착색 조성물인, 착색 조성물.
12. The method according to any one of claims 1 to 11,
The coloring composition which is a coloring composition for red pixel formation of a color filter.
청구항 1 내지 청구항 12 중 어느 한 항에 있어서,
포토리소그래피용의 착색 조성물인, 착색 조성물.
13. The method according to any one of claims 1 to 12,
The coloring composition which is a coloring composition for photolithography.
청구항 1 내지 청구항 13 중 어느 한 항에 있어서,
고체 촬상 소자용의 착색 조성물인, 착색 조성물.
14. The method according to any one of claims 1 to 13,
The coloring composition which is a coloring composition for solid-state image sensors.
청구항 1 내지 청구항 14 중 어느 한 항에 기재된 착색 조성물을 이용하여 얻어지는 막.The film|membrane obtained using the coloring composition in any one of Claims 1-14. 청구항 1 내지 청구항 14 중 어느 한 항에 기재된 착색 조성물을 이용하여 얻어지는 적색 화소.The red pixel obtained using the coloring composition in any one of Claims 1-14. 청구항 15에 기재된 막을 갖는 컬러 필터.The color filter which has the film|membrane of Claim 15. 청구항 16에 기재된 적색 화소와, 청색 화소와, 녹색 화소를 갖는 컬러 필터.The color filter which has a red pixel of Claim 16, a blue pixel, and a green pixel. 청구항 15에 기재된 막을 갖는 고체 촬상 소자.The solid-state image sensor which has the film|membrane of Claim 15. 청구항 15에 기재된 막을 갖는 화상 표시 장치.The image display apparatus which has the film|membrane of Claim 15. 청구항 1 내지 청구항 14 중 어느 한 항에 기재된 착색 조성물과, 청색 화소 형성용의 착색 조성물과, 녹색 화소 형성용의 착색 조성물을 갖는 키트.The kit which has the coloring composition in any one of Claims 1-14, the coloring composition for blue pixel formation, and the coloring composition for green pixel formation.
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