KR20220002520A - 광학 프로브 시스템들을 위한 교정 척들, 교정 척들을 포함하는 광학 프로브 시스템들, 및 광학 프로브 시스템들을 이용하는 방법들 - Google Patents
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Abstract
광학 프로브 시스템들을 위한 교정 척들, 교정 척들을 포함하는 광학 프로브 시스템들, 및 광학 프로브 시스템들을 이용하는 방법들. 교정 척들은 교정 척 지지 표면을 형성하는 교정 척 본체를 포함한다. 교정 척들은 또한 교정 척 본체에 의해 지지되는 적어도 하나의 광학 교정 기구를 포함한다. 적어도 하나의 광학 교정 기구는 수평 보기 기구를 포함한다. 수평 보기 기구는 교정 척 지지 표면에 적어도 실질적으로 평행한 수평 보기 방향으로부터 수평으로 본 영역의 보기를 가능하게 하도록 구성된다. 수평 보기 기구는 또한 교정 척 지지 표면의 수직으로 위에 위치되는 광학 프로브 시스템의 이미징 장치를 통해 수평으로 본 영역의 보기를 가능하게 하도록 구성된다.
Description
관련 출원들
본원은 2020년 5월 27일에 출원된 미국 특허 출원 시리얼 번호 16/884,921 및 2019년 6월 3일에 출원된 미국 가출원 특허 출원 번호 62/856,413에 대해 우선권 주장하고, 이들의 전체 개시 내용은 이로써 참고로 원용된다.
본 개시는 광학 프로브 시스템들을 위한 교정 척들, 교정 척들을 포함하는 광학 프로브 시스템들, 및 광학 프로브 시스템들을 이용하는 방법들과 대체적으로 관련된다.
광학 프로브 시스템들은 광학 장치의 기능성, 동작, 및/또는 성능을 탐침으로 검사하고, 광학적으로 탐침으로 검사하고, 테스트하고/하거나, 광학적으로 테스트하는데 이용될 수 있다. 이는 하나 또는 둘 이상의 광학 테스트 신호들을 광학 장치 상에 입사하도록 지향하는 것 및/또는 광학 장치로부터 하나 또는 둘 이상의 광학 결과 신호들을 수신하는 것을 포함할 수 있다.
일반적으로, 광학 프로브 시스템으로 광학 장치의 테스트 전에, 테스트 도중에, 및/또는 테스트 후에 광학 프로브 시스템을 교정하는 것이 바람직할 수 있다. 따라서, 향상된 광학 프로브 시스템들을 위한 교정 척들, 교정 척들을 포함하는 광학 프로브 시스템들, 및/또는 광학 프로브 시스템들을 이용하는 방법들에 대한 필요성이 존재한다.
광학 프로브 시스템들을 위한 교정 척들, 교정 척들을 포함하는 광학 프로브 시스템들, 및 광학 프로브 시스템들을 이용하는 방법들. 교정 척들은 교정 척 지지 표면을 형성할 수 있는 교정 척 본체를 포함한다. 교정 척들은 또한 교정 척 본체에 의해 지지되는 적어도 하나의 광학 교정 기구를 포함한다. 적어도 하나의 광학 교정 기구는 수평 보기 기구를 포함할 수 있다. 수평 보기 기구는 교정 척 지지 표면에 적어도 실질적으로 평행한 수평 보기 방향으로부터 수평으로 본 영역의 보기를 가능하게 하도록 구성될 수 있다. 수평 보기 기구는 또한 광학 프로브 시스템의 교정 척 지지 표면의 수직으로 위에 위치되는 이미징 장치를 통해 수평으로 본 영역의 보기를 가능하게 하도록 구성될 수 있다.
광학 프로브 시스템은 장치 기판 척, 광학 프로브 조립체, 신호 생성 및 분석 조립체, 이미징 장치, 및 교정 척을 포함한다. 장치 기판 척은 복수의 광학 장치들을 포함하는 장치 기판을 지지하도록 구성될 수 있는 장치 기판 지지 표면을 형성할 수 있다. 광학 프로브 조립체는 적어도 하나의 광학 프로브를 포함할 수 있다. 신호 생성 및 분석 조립체는 적어도 하나의 광학 프로브에 광학 테스트 신호를 제공하는 것 및/또는 적어도 하나의 광학 프로브로부터 광학 결과 신호를 수신하는 것을 수행하도록 구성될 수 있다. 이미징 장치는 장치 기판 척 및 교정 척의 수직으로 위에 위치될 수 있다.
방법들은 적어도 하나의 광학 프로브를 정렬하는 단계 및 적어도 하나의 프로브를 이용하여 데이터를 수집하는 단계를 포함한다. 정렬하는 단계는 교정 척의 적어도 하나의 광학 교정 기구와 적어도 하나의 광학 프로브를 정렬하는 것을 포함할 수 있다. 데이터를 수집하는 단계는 적어도 하나의 광학 프로브를 이용하고 적어도 하나의 광학 교정 기구를 이용하여 데이터를 수집하는 것을 포함할 수 있다.
도 1은 본 개시에 따른, 교정 척을 포함하고/하거나 이용할 수 있는 광학 프로브 시스템의 예들의 개략도이다.
도 2는 본 개시에 따른 교정 척의 예들의 개략도이다.
도 3은 본 개시에 따른 교정 척의 예들의 덜 개략적인 측면도이다.
도 4는 도 3의 교정 척의 평면도이다.
도 5는 도 3 및 도 4의 교정 척의 부분을 도시하는 평면도이다.
도 6은 도 3 내지 도 5의 교정 척의 부분의 개략적인 측면도이다.
도 7은 본 개시에 따른, 교정 척의 수평 보기 기구를 이용하여 수집될 수 있는 이미지의 예들의 도시이다.
도 8은 본 개시에 따른, 수직 보기 기구를 이용하여 수행될 수 있는 테스트의 예의 도시이다.
도 9는 본 개시에 따른, 수직 보기 기구를 이용하여 수행될 수 있는 다른 테스트의 예의 도시이다.
도 10은 도 9에 도시된 테스트 동안 수집될 수 있는 이미지의 예이다.
도 11은 도 9에 도시된 테스트 동안 수집될 수 있는 다른 이미지의 예이다.
도 12는 본 개시에 따른, 수직 보기 기구를 이용하여 수행될 수 있는 테스트의 예의 다른 도시이다.
도 13은 도 3 및 도 4의 교정 척의 부분을 도시하는 평면도이다.
도 2는 본 개시에 따른 교정 척의 예들의 개략도이다.
도 3은 본 개시에 따른 교정 척의 예들의 덜 개략적인 측면도이다.
도 4는 도 3의 교정 척의 평면도이다.
도 5는 도 3 및 도 4의 교정 척의 부분을 도시하는 평면도이다.
도 6은 도 3 내지 도 5의 교정 척의 부분의 개략적인 측면도이다.
도 7은 본 개시에 따른, 교정 척의 수평 보기 기구를 이용하여 수집될 수 있는 이미지의 예들의 도시이다.
도 8은 본 개시에 따른, 수직 보기 기구를 이용하여 수행될 수 있는 테스트의 예의 도시이다.
도 9는 본 개시에 따른, 수직 보기 기구를 이용하여 수행될 수 있는 다른 테스트의 예의 도시이다.
도 10은 도 9에 도시된 테스트 동안 수집될 수 있는 이미지의 예이다.
도 11은 도 9에 도시된 테스트 동안 수집될 수 있는 다른 이미지의 예이다.
도 12는 본 개시에 따른, 수직 보기 기구를 이용하여 수행될 수 있는 테스트의 예의 다른 도시이다.
도 13은 도 3 및 도 4의 교정 척의 부분을 도시하는 평면도이다.
도 1 내지 도 13은 본 개시에 따른, 교정 척(100)들의, 교정 척들을 포함하는 광학 프로브 시스템(10)들의, 및/또는 광학 프로브 시스템들을 이용하는 방법들의 예들을 제공한다. 유사하거나 적어도 실질적으로 유사한 목적을 제공하는 요소들은 도 1 내지 도 13 각각에서 동일한 부호들로 라벨링되고, 이 요소들은 도 1 내지 도 13 각각을 참조하여 본원에서 상세히 검토되지 않을 수도 있다. 유사하게, 모든 요소들이 도 1 내지 도 13 각각에서 라벨링되지 않을 수도 있지만, 이와 연관된 도면 부호들은 일관성을 위해 본원에서 사용될 수도 있다. 도 1 내지 도 13 중 하나 이상을 참조하여 본원에서 검토된 요소들, 구성요소들, 및/또는 특징들은 본 개시 범위에서 벗어나지 않으면서 도 1 내지 도 13 중 어느 하나에 포함되고/되거나 이용될 수도 있다.
일반적으로, 특정 실시형태에 포함될 가능성이 있는 요소들은 실선들로 나타내고, 선택적인 요소들은 파선들로 나타낸다. 하지만, 실선들로 나타낸 요소들은 필수적이지 않을 수도 있고, 그리고 일부 실시형태들에서, 본 개시의 범위에서 벗어나지 않으면서 생략될 수도 있다.
도 1은 본 개시에 따른, 교정 척(100)을 포함하고/하거나 이용할 수 있는 광학 프로브 시스템(10)의 예들의 개략도이다. 광학 프로브 시스템(10)은 또한 프로브 시스템(10) 및/또는 시스템(10)으로서 본원에서 지칭될 수 있다. 광학 프로브 시스템(10)은 장치 기판 지지 표면(22)을 형성하는 장치 기판 척(20)을 포함한다. 장치 기판 지지 표면(22)은 복수의 광학 장치(32)들을 포함할 수 있는 장치 기판(30)을 지지하도록 구성된다.
광학 프로브 시스템(10)은 또한 광학 프로브 조립체(40)를 포함한다. 광학 프로브 조립체(40)는 적어도 하나의 광학 프로브(42)를 포함한다. 일부 예들에서, 그리고 도 1에서 파선들로 도시된 바와 같이, 광학 프로브 시스템(10)은 복수의 광학 프로브 조립체(40)들을 포함할 수 있고/있거나 특정한 광학 프로브 조립체(40)는 복수의 광학 프로브(42)들을 포함할 수 있다.
도 1에서 파선들로 도시된 바와 같이, 광학 프로브 조립체(40)는, 적어도 하나의 전기적 프로브(38)를 역시 포함하는 프로브 조립체(36)의 부분을 형성할 수 있다. 전기적 프로브(38)들은, 존재할 때, 광학 장치(32)들에 전기 테스트 신호를 제공하고/하거나 광학 장치들로부터 전기 결과 신호를 수신하도록 구성될 수 있다.
광학 프로브 시스템(10)은 신호 생성 및 분석 조립체(50)를 추가적으로 포함한다. 신호 생성 및 분석 조립체(50)는 적어도 하나의 광학 프로브 조립체(40) 및/또는 그의 적어도 하나의 광학 프로브(42)에 광학 테스트 신호(52)를 제공하고/하거나 적어도 하나의 광학 프로브 조립체(40) 및/또는 그의 적어도 하나의 광학 프로브(42)로부터 광학 결과 신호(56)를 수신하도록 구성된다. 부가적으로 또는 대안적으로, 신호 생성 및 분석 조립체(50)는 적어도 하나의 전기적 프로브에 전기 테스트 신호를 제공하고/하거나 적어도 하나의 전기적 프로브로부터 전기 결과 신호를 수신하도록 구성될 수 있다.
따라서, 광학 프로브 시스템(10)은 광학 장치(32)들의 임의의 적합한 광학 및/또는 전기 테스트를 수행하도록 구성될 수 있다. 예들로서, 테스트들은, 광학 장치들에 전기 테스트 신호를 제공하고 광학 장치들로부터 상응하는 광학 결과 신호를 수신하는 테스트들, 광학 장치들에 광학 테스트 신호를 제공하고 광학 장치들로부터 상응하는 전기 결과 신호를 수신하는 테스트들, 광학 장치들에 광학 테스트 신호를 제공하고 광학 장치들로부터 상응하는 광학 결과 신호를 수신하는 테스트들, 및/또는 광학 장치들에 전기 테스트 신호를 제공하고 광학 장치들로부터 상응하는 전기 결과 신호를 수신하는 테스트들을 포함할 수 있다.
광학 프로브 시스템(10)은 또한 교정 척(100) 및 이미징 장치(60)를 포함한다. 이미징 장치(60)는 장치 기판 척(20) 및/또는 교정 척(100)의 수직으로 위에 위치될 수 있다. 이미징 장치(60)는 교정 척의, 장치 기판 척의, 및/또는 이미징 장치와 교정 척과 그리고/또는 장치 기판 척 사이에서 연장하는 영역의 하나 또는 둘 이상의 광학 이미지들을 수집하도록 구성될 수 있다. 이는, 광학 프로브 시스템의 다양한 이미징되는 구성요소들 사이의 고정된 상대적인 배향을 유지하면서, 하향식, 상향식, 및/또는 수평 보기 설정에서 광학 이미지들의 수집을 포함할 수 있다.
장치 기판 척(20)은, 장치 기판 지지 표면(22)을 형성할 수 있고/있거나 장치 기판(30)을 지지할 수 있는 임의의 적합한 기구를 포함할 수 있다. 예로서, 장치 기판 척(20)은 장치 기판 지지 표면을 구성하고/하거나 형성할 수 있는 척 본체(26)를 포함할 수 있다.
일부 예들에서, 장치 기판 척(20)은 열적 제어 유닛(24)을 포함할 수 있다. 열적 제어 유닛(24)은, 장치 기판이 장치 기판 지지 표면에 의해 지지될 때, 장치 기판 지지 표면(22)의 및/또는 장치 기판(30)의 온도를 제어하고/하거나 조절하도록 구성될 수 있다. 열적 제어 유닛(24)의 예들은 가열 조립체, 냉각 조립체, 및/또는 온도-제어식 유체 스트림과 열적 에너지를 교환하도록 구성된 열 전달 조립체를 포함한다. 장치 기판 척(20)이 열적 제어 유닛(24)을 포함할 때, 장치 기판 척은 또한 열적 척(20)으로서 및/또는 온도-제어식 척(20)으로서 본원에서 지칭될 수 있다.
광학 프로브 시스템(10)은 광학 프로브 시스템의 하나 또는 둘 이상의 다른 구성요소들에 대해 장치 기판 척(20)의 작동적 병진이동 및/또는 회전을 허용하고/하거나 가능하게 하도록 구성될 수 있다. 이것은 임의의 적합한 방식으로 성취될 수 있다. 예로서, 광학 프로브 시스템(10)은 장치 기판 척 병진이동 기구(72)의 형태에서와 같이, 병진이동 기구(70)를 포함할 수 있다. 장치 기판 척 병진이동 기구(72)는 광학 프로브 조립체(40)에 대해 및/또는 이미징 장치(60)에 대해 장치 기판 척(20)을 작동적으로 병진이동시키고/시키거나 회전시키도록 구성될 수 있다. 병진이동 기구(70)의 및/또는 장치 기판 척 병진이동 기구(72)의 예들은 액추에이터, 전기 액추에이터, 스테퍼 모터, 압전 액추에이터, 랙과 피니언 조립체, 볼 스크류와 너트 조립체, 선형 액추에이터, 선형 모터, 및/또는 요동형 액추에이터를 포함한다.
일부 예들에서, 교정 척(100)은 장치 기판 척(20)에 작동적으로 부착될 수 있고/있거나 장치 기판 척과 함께 이동하도록 구성될 수 있다. 이는 장치 기판 척 병진이동 기구(72)를 통하는 것과 같이, 장치 기판 척에의 직접적인 부착 및/또는 장치 기판 척에의 간접적인 부착을 포함할 수 있다. 다른 예들에서는, 프로브 시스템(10)은 교정 척 병진이동 기구(78)의 형태로 다른, 또는 별개의 병진이동 기구(70)를 포함할 수 있다. 교정 척 병진이동 기구(78)는, 존재할 때, 장치 기판 척(20)에 대해, 광학 조립체(40)에 대해, 및/또는 이미징 장치(60)에 대해 교정 척(100)을 작동적으로 병진이동시키고/시키거나 회전시키도록 구성될 수 있다.
병진이동 기구(70)들은 임의의 적합한 기구 및/또는 액추에이터를 포함하고/하거나 그것일 수 있다. 예들로서, 병진이동 기구(70)들은 선형 액추에이터, 요동형 액추에이터, 랙과 피니언 조립체, 리드 스크류와 너트 조립체, 기계식 액추에이터, 전기 액추에이터, 스테퍼 모터, 및/또는 압전 액추에이터를 포함할 수 있다.
장치 기판(30)은, 임의의 적합한 수의 광학 장치(32)들을 지지하고/하거나 포함할 수 있는 임의의 적합한 기구를 포함하고/하거나 그것일 수 있다. 장치 기판(30)의 예들은 반도체 웨이퍼, 실리콘 웨이퍼, 3-5족 반도체 웨이퍼, 및/또는 비화갈륨 웨이퍼를 포함한다. 광학 장치(32)들의 예들은 복수의 실리콘 포토닉스 광학 장치들을 포함한다.
광학 프로브 조립체(40)는, 적어도 하나의 광학 프로브(42)를 포함하고, 지지하고/하거나, 형성할 수 있는 임의의 적합한 기구를 포함할 수 있다. 논의된 바와 같이, 광학 프로브 조립체(40)는 복수의 광학 프로브(42)들을 포함하고, 지지하고/하거나, 형성할 수 있다. 광학 프로브(42)들의 예는, 프로브 섬유(48)를 포함할 수 있고/있거나 그에 의해 형성될 수 있는 광섬유 프로브를 포함한다. 이러한 예에서, 광학 프로브(42)들은 또한, 프로브 섬유의 적어도 부분을 둘러쌀 수 있는 피복 및/또는 하우징(47)을 포함할 수 있다.
일부 예들에서, 광학 프로브 조립체(40)들은 거리 센서(44)를 포함할 수 있다. 거리 센서(44)는, 존재할 때, 광학 프로브(42)와 장치 기판(30) 사이의 거리(46)를 검출하도록, 결정하도록, 평가하도록, 및/또는 계산하도록 구성될 수 있다. 거리 센서(44)의 예들은 정전용량형 거리 센서, 정전용량형 변위 센서, 와전류 변위 센서, 광삼각법 센서, 공초점 센서, 및/또는 분광 방해 변위 센서를 포함한다.
광학 프로브 시스템(10)은 광학 프로브 시스템의 하나 또는 둘 이상의 다른 구성요소들에 대해 광학 프로브 조립체(40) 및/또는 그의 광학 프로브(42)의 작동적 병진이동 및/또는 회전을 허용하고/하거나 가능하게 하도록 구성될 수 있다. 이것은 임의의 적합한 방식으로 성취될 수 있다. 예로서, 광학 프로브 시스템(10)은 광학 프로브 조립체 병진이동 기구(74)의 형태에서와 같이, 병진이동 기구(70)를 포함할 수 있다. 광학 프로브 조립체 병진이동 기구(74)는 장치 기판 척(20)에 대해, 이미징 장치(60)에 대해, 및/또는 교정 척(100)에 대해 광학 프로브 조립체(40) 및/또는 광학 프로브(42)를 작동적으로 병진이동시키고/시키거나 회전시키도록 구성될 수 있다. 병진이동 기구(70)의 및/또는 광학 프로브 조립체 병진이동 기구(74)의 예들은 본원에서 개시된다.
신호 생성 및 분석 조립체(50)는, 광학 테스트 신호(52)를 제공할 수 있고/있거나 광학 결과 신호(56)를 수신할 수 있는 임의의 적합한 기구를 포함할 수 있다. 예로서, 신호 생성 및 분석 조립체(50)는, 광학 테스트 신호(52)를 생성하도록 구성될 수 있는 광원(54)을 포함할 수 있다. 광원의 예들은 레이저 광원 및/또는 레이저를 포함한다. 다른 예로서, 신호 생성 및 분석 조립체(50)는, 광학 결과 신호(56)를 수신하고/하거나 검출하도록 구성될 수 있는 광 검출기(58)를 포함할 수 있다. 광 검출기(58)의 예들은 광파워 미터, 포토 검출기, 및/또는 포토 다이오드를 포함한다. 일부 예들에서, 프로브 시스템(10)은, 신호 생성 및 분석 조립체와 광학 프로브 조립체 사이에서 광학 테스트 신호(52) 및/또는 광학 결과 신호(56)를 운반하도록 구성될 수 있는, 광섬유 케이블(80)을 포함할 수 있다. 다른 예들에서, 광원(54) 및/또는 광 검출기(58)와 같이, 신호 생성 및 분석 조립체의 하나 또는 둘 이상의 구성요소들은 광학 프로브 조립체(40)에 통합되고, 일체형이 되고/되거나 작동적으로 부착될 수 있다.
이미징 장치(60)는, 장치 기판 척(20)의 수직으로 위에 위치될 수 있고, 교정 척(100)의 수직으로 위에 위치될 수 있고/있거나 하나 또는 둘 이상의 광학 이미지들을 수집하도록 구성될 수 있는 임의의 적합한 기구를 포함할 수 있다. 예로서, 이미징 장치(60)는, 대물 렌즈(64)를 포함할 수 있는 현미경(60)을 포함할 수 있고/있거나 그것일 수 있다. 다른 예로서, CCD 이미지 센서 및/또는 CMOS 이미지 센서를 예들로서 포함하는 이미징 장치의 카메라와 함께, 그것을 통해, 및/또는 그것을 이용하여 성취될 수 있는 것과 같이, 이미징 장치(60)는 광학 이미지, 또는 광을 수신하도록, 그리고 광학 이미지(86)의 전자 표시를 생성하도록 구성될 수 있다. 일부 예들에서, 광학 프로브 시스템(10)은, 광학 이미지의 전자 표시를 디스플레이하도록 구성될 수 있는 디스플레이(84)를 포함할 수 있다.
광학 프로브 시스템(10)은 광학 프로브 시스템의 하나 또는 둘 이상의 다른 구성요소들에 대해 그의 이미징 장치(60)의 작동적 병진이동 및/또는 회전을 허용하고/하거나 가능하게 하도록 구성될 수 있다. 이것은 임의의 적합한 방식으로 성취될 수 있다. 예로서, 광학 프로브 시스템(10)은 이미징 장치 병진이동 기구(76)의 형태에서와 같이, 병진이동 기구(70)를 포함할 수 있다. 이미징 장치 병진이동 기구(76)는 장치 기판 척(20)에 대해, 교정 척(100)에 대해, 및/또는 광학 프로브 조립체(40)에 대해 이미징 장치(60)를 작동적으로 병진이동시키고/시키거나 회전시키도록 구성될 수 있다. 병진이동 기구(70)의 및/또는 이미징 장치 병진이동 기구(76)의 예들은 본원에서 개시된다.
일부 예들에서, 광학 프로브 시스템(10)은, 밀폐된 용적(92)을 형성할 수 있는 엔클로저(90)를 포함할 수 있다. 엔클로저(90)는, 존재할 때, 광학 프로브 시스템의 하나 또는 둘 이상의 다른 구성요소들을 보호하고, 광학적으로 보호하고, 전자기적으로 보호하고, 자기적으로 보호하고, 열적으로 보호하고/하거나, 전기적으로 보호하기 위해서와 같이, 광학 프로브 시스템(10)의 하나 또는 둘 이상의 다른 구성요소들을 포함하고/하거나 수용하도록 구성될 수 있다. 부가적으로 또는 대안적으로, 맑고 건조한 공기 퍼지와 같은, 퍼지 가스는 밀폐된 용적 내부에서 낮은 이슬점, 또는 건조한 환경을 유지하고/하거나 밀폐된 용적 내부에서 목표 습기, 또는 습도 수준을 유지하기 위해 밀폐된 용적(92)에 제공될 수 있다. 예로서, 장치 기판 척(20)의 적어도 장치 기판 지지 표면(22)은, 장치 기판 지지 표면 상에 위치될 수 있는, 장치 기판(30)을 보호하기 위해서와 같이, 밀폐된 용적 내부에 위치될 수 있다.
교정 척(100)은, 교정 척 지지 표면(112)을 구성하고/하거나 형성할 수 있는 교정 척 본체(110)를 포함한다. 교정 척(100)은 또한, 교정 척 본체에 의해 지지될 수 있는 적어도 하나의 광학 교정 기구(120)를 포함한다. 교정 척 지지 표면(112)이 장치 기판 지지 표면(22)에 평행하거나, 또는 적어도 실질적으로 평행할 수 있도록, 교정 척(100)은 장치 기판 척(20)에 대해 위치될 수 있다. 구체적인 예에서, 교정 척 지지 표면(112)은 장치 기판 지지 표면(22)에 평행할 수 있고 장치 기판 지지 표면의 수직으로 아래에 있을 수 있다.
도 1은 광학 프로브 시스템(10)의 문맥에서, 또는 그 내부에 포함되는 교정 척(100)을 개략적으로 도시하는 반면, 도 2는 본 개시에 따른 교정 척(100)의 예들의 더욱 상세하지만, 여전히 개략적인 도시이다. 도 3 및 도 4는 본 개시에 따른 교정 척(100)의 예들의 덜 개략적인 도면들인 반면, 도 5, 도 6 및 도 13은 도 3 및 도 4의 교정 척의 부분들 및/또는 영역들의 덜 개략적인 도면들이다. 도 7은 교정 척(100)들을 이용하여 수집될 수 있는 이미지의 예를 도시하고, 도 8 내지 도 12는, 교정 척(100)들을 이용하여 수행될 수 있는 테스트들의 예들을 제공한다.
도 1 내지 도 13 중 임의의 하나와 관련하여 본원에서 설명되고/되거나 논의된 광학 프로브 시스템(10)들 및/또는 교정 척(100)들의 임의의 기구, 기능, 및/또는 특징이 본 개시의 범위를 벗어남이 없이 도 1 내지 도 13 중 임의의 다른 하나에 포함될 수 있고/있거나 함께 이용될 수 있다는 것은 본 개시의 범위 내에 있다. 달리 말하자면, 도 2 내지 도 13은 도 1의 교정 척(100)의 더욱 상세한 도시들일 수 있다. 논의되는 바와 같이, 교정 척(100)은 교정 척 본체(110), 교정 척 지지 표면(112), 및 광학 교정 기구(120)를 포함한다.
광학 교정 기구(120)는, 광학 프로브 시스템(10)의 및/또는 그 내부의 임의의 적합한 교정 및/또는 수량화를 수행할 수 있거나, 수행하는데 이용될 수 있는 임의의 적합한 기구를 포함할 수 있다. 예로서, 광학 교정 기구(120)는 수평 보기 기구(130)를 포함할 수 있고/있거나 그것일 수 있다. 수평 보기 기구(130)는, 교정 척 지지 표면(112)에 평행할 수 있거나, 또는 적어도 실질적으로 평행할 수 있는 수평 보기 방향(134)으로부터 수평으로 본 영역(132)의 보기를 가능하게 하도록 구성될 수 있다. 이는, 수평 보기 방향으로부터 그리고 교정 척 지지 표면(112)의 수직으로 위에 위치될 수 있는, 도 1의 이미징 장치(60)와 같은, 이미징 장치와 함께, 그것을 통해, 및/또는 그것을 이용하여 수평으로 본 영역의 보기를 포함할 수 있다.
수평으로 본 영역(132)은 임의의 적합한 영역 및/또는 기구를 포함할 수 있다. 예로서, 수평으로 본 영역(132)은 도 1의 광학 프로브 시스템(10)과 같은, 광학 프로브 시스템의, 도 1의 광학 프로브(42)와 같은, 광학 프로브를 포함할 수 있다. 다른 예로서, 수평으로 본 영역은, 도 6 및 도 7에서 아마도 가장 잘 도시된 바와 같이, 교정 기판(210)의 교정 기판 에지(212)를 포함할 수 있다.
도 6은 수평 보기 기구(130)의 형태로 광학 교정 기구(120)를 구비한 교정 척(100)을 포함하는 광학 프로브 시스템(10)의 부분의 측면도의 예들의 개략적인 도시인 반면, 도 7은 교정 척의 수평 보기 기구를 이용하여 수집될 수 있는 이미지의 예들의 도시이다. 도 6은 부가적으로 또는 대안적으로, 도 5의 라인 6-6을 따라 취해진 광학 프로브 시스템(10)의 개략적인 단면도로서 본원에서 지칭될 수 있고/있거나 그것일 수 있다.
도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 그리고 프로브 시스템(10)의 동작 동안, 광학 프로브(42)는 교정 기판(210)의 교정 기판 에지(212) 근처에 및/또는 근접해 정렬될 수 있다. 교정 기판 에지는 교정 기판(210)의 수평 교정 기판 표면(214)과 교정 기판의 수직 교정 기판 표면(216) 사이에서, 전이 또는 전이 영역을 포함하고/하거나 그것일 수 있다. 도 6에 도시된 바와 같이, 교정 척의 교정 척 지지 표면(112)의 수직으로 위에 위치될 수 있는, 이미징 장치(60)는 그 때, 수평 보기 방향(134)을 따라서 및/또는 그로부터 광학 프로브(42)의 및/또는 교정 기판 에지(212)의, 도 7에 도시된 이미지와 같은, 이미지를 수집하는데 이용될 수 있다. 달리 말하자면, 이미징 장치는 프로브 시스템(10)의 수평으로 본 영역(132)의 이미지를 수집하는데 이용될 수 있다.
도시된 바와 같이, 프로브 시스템(10) 및/또는 교정 척(100)은, 수평 보기 방향(134)과 상이하고, 그에 수직일 수 있고/있거나, 적어도 실질적으로 수직일 수 있는 보기 방향(66)으로 대면하는 이미징 장치(60)가, 수평 보기 방향(134)으로부터 수평으로 본 영역(132)을 볼 수 있도록 허용하기 위해 수평 보기 기구(130)를 이용할 수 있다. 이는, 본원에 그 예들이 개시되어 있는 임의의 적합한 기구를 이용하여 성취될 수 있다.
수평 보기 방향(134)은 수평 교정 기판 표면(214)에 평행하거나, 또는 적어도 실질적으로 평행할 수 있다. 이러한 것과 같이, 도 6의 설정에 의해 수집되고, 그리고 도 7에 도시된 이미지는 교정 기판 에지(212)와 광학 프로브(42) 사이의 선명하고/하거나 분명한 전이를 제공할 수 있고, 그에 의해 광학 프로브와, 예를 들면 도 1에 도시된 예에서 장치 기판(30)의 표면 및/또는 도 6 및 도 7에 도시된 예에서 교정 기판의 수평 교정 기판 표면(214)과 같은, 광학 프로브 아래에 있는 표면 사이의 거리(46)의 정확한 관찰, 계산, 및/또는 교정을 허용하고/하거나 가능하게 한다.
일부 예들에서, 그리고 도 1 및 도 6에서 파선들로 도시된 바와 같이, 광학 프로브(42)를 포함하는 광학 프로브 조립체(40)는 또한 거리 센서(44)를 포함할 수 있다. 이들 예들에서, 거리 센서(44)는 또한 거리 센서와 장치 기판 그리고/또는 교정 기판 사이의 거리(45)를 결정하고, 계산하고/하거나 측정하는데 이용될 수 있다. 이러한 설정에서, 거리 센서(44)에 의해 생성될 수 있는 거리(45)의 측정들을 이용하여 거리(46)의 정확한 후속적인 결정을 허용하고/하거나 가능하게 하기 위해서와 같이, 거리(45)는 이미징 장치(60)에 의해 수집된 이미지를 통해 결정된 거리(46)와 비교되고, 상호관련되고/되거나, 교정될 수 있다.
일부 예들에서, 광학 프로브와 교정 기판 사이의 거리(46)를 일정하게, 또는 적어도 실질적으로 일정하게 유지하면서 교정 기판(210)에 대해 광학 프로브(42)를 회전시키는 것이 바람직할 수 있다. 이러한 회전은, 예를 들면, 하나 또는 둘 이상의 병진이동 기구(70)들을 이용하여 수행될 수 있고, 본원에서 더욱 상세하게 논의된다.
이들 예들에서, 광학 프로브의 회전은 거리 센서와 교정 기판 사이의 거리(45)가 변화하도록 유발할 수 있다. 이미징 장치(60) 및 수평 보기 기구(130)를 이용하여, 교정 기판에 대한 광학 프로브의 각, 거리(46), 거리(45), 그리고/또는 거리 센서(44)에 의해 생성되는 신호 사이에 상관관계가 설정될 수 있다. 장치 기판 상에 존재할 수 있는 광학 장치들의 테스트 도중에, 거리 센서에 의해 생성된 신호 및 교정 기판에 대한 프로브의 각에 기초하여 광학 프로브와 장치 기판 사이의 거리를 정확하게 유지하고/하거나 예측하기 위해, 이러한 상관관계가 그 때 이용될 수 있다.
도 6을 계속 참조하면, 광학 프로브(42)는 교정 기판(210)과 및/또는 광학 장치와 광학 프로브의 밑면(43)의 정렬을 허용하고/하거나 가능하게 하도록 회전될 수 있다. 예로서, 밑면(43)의 평면은 교정 기판(210)의 및/또는 광학 장치의 상부 표면과 정렬될 수 있다. 이를 고려하여, 수평 보기 기구(130)는, 이러한 정렬을 허용하고/하거나 가능하게 하기 위하여서와 같이, 밑면(43) 및 교정 기판의 및/또는 광학 장치의 상부 표면을 보는데 이용될 수 있다.
일부 예들에서, 교정 기판(210)의 수평 교정 기판 표면(214)은 평면이거나, 또는 적어도 실질적으로 평면일 수 있다. 다른 예들에서, 그리고 도 7에 도시된 바와 같이, 교정 기판(210)은 도랑(220)을 포함할 수 있고/있거나 도랑(220)을 포함하는 광학 장치(200)를 포함하고/하거나 그것일 수 있다. 이러한 설정에서, 수평 보기 기구(130)는 도랑 내부에서 광학 프로브(42)를 위치시키고/시키거나 정렬하는데 이용될 수 있다. 이러한 설정은 도랑(220) 내부에서 광학 장치(200)의 광학 테스트를 허용하고/하거나 가능하게 할 수 있다.
일부 예들에서, 광학 프로브(42)는 도랑(220)의 바닥 표면을 통해 광학 장치(200)와 결합할 수 있다. 이러한 예들에서, 수평 보기 기구(130)는 광학 프로브와 광학 장치 사이의, 본원에서 수직 거리(46)로서도 지칭될 수 있는 거리(46)를 검출하고/하거나 수량화하는데 이용될 수 있다.
일부 예들에서, 광학 프로브(42)는 도랑 내부에서 광학 프로브와 광학 장치의 수직 표면 사이의 에지 결합을 통해 광학 장치(200)와 결합할 수 있다. 이러한 예들에서, 수평 보기 기구(130)는 광학 프로브와 광학 장치 사이의, 본원에서 수평 거리(223)로서도 지칭될 수 있는 거리(223)를 검출하고/하거나 수량화하는데 이용될 수 있다. 일부 예들에서, 광학 장치는 수직 표면의 상부 영역에 및/또는 그 근처에 있을 수 있다. 예로서, 도랑(220)은 100 마이크로미터 깊이일 수 있지만 광학 장치는 광학 장치의 상부 표면의 10 마이크로미터 이하 이내일 수 있거나, 광학 프로브는 광학 장치의 상부 표면의 10 마이크로미터 이하 이내에서 광학 장치에 결합할 수 있다.
다시 도 1을 참조하면, 그리고 논의된 바와 같이, 열적 제어 유닛(24)은 장치 기판 지지 표면(22)의 및/또는 장치 기판(30)의 온도를 제어하고/하거나 조절하는데 이용될 수 있다. 이는 섭씨(℃) 수백 도의 온도 범위에 걸친 온도 조절을 포함할 수 있다. 예들로서, 온도는 광학 프로브 시스템(10)이 최소 테스트 온도 및 최대 테스트 온도를 포함하는 복수의 상이한 테스트 온도들에서 복수의 테스트들을 수행하는 것을 허용하도록 조절될 수 있다. 최소 테스트 온도의 예들은 최대 25℃, 최대 20℃, 최대 10℃, 최대 0℃, 최대 -10℃, 최대 -20℃, 최대 -30℃, 최대 -40℃, 최대 -50℃, 최대 -55℃, 최대 -60℃, 최대 -65℃, 최대 -70℃, 또는 최대 -75℃의 최소 테스트 온도들을 포함한다. 최대 테스트 온도의 예들은 최소 50℃, 최소 60℃, 최소 70℃, 최소 80℃, 최소 100℃, 최소 120℃, 최소 140℃, 최소 160℃, 최소 180℃, 최소 200℃, 최소 220℃, 최소 240℃, 최소 260℃, 최소 280℃, 최소 300℃, 최소 320℃, 최소 340℃, 또는 최소 360℃의 최대 테스트 온도들을 포함한다.
계속하여 도 1 그리고 또한 도 6을 참조하면, 이러한 온도 조절 동안에, 광학 프로브 시스템(10)의 및/또는 그의 프로브 조립체(36)의 다양한 구성요소들의 열적 팽창 및/또는 수축은, 거리 센서(44)와 거리 센서가 그 위에 위치되는 표면 사이에 측정될 수 있는 거리(45), 및 광학 프로브(42)와 표면 사이에 측정될 수 있는 거리(46) 사이의 상대적 크기가 변화하도록 유발할 수 있다. 달리 말하자면, 거리(45)와 거리(46) 사이의 차이는 온도에 따라 변화할 수 있다. 이러한 거리 변동은, 거리 센서(44)를 이용하여 검출되고, 결정되고, 평가되고/되거나, 계산될 수 있는 거리(46)의 값에서의 비정확성들을 초래할 수 있다.
상기를 고려하여, 본 개시에 따른, 광학 프로브 시스템(10)은 수평 보기 기구(130)를 이용하여 다양한 온도들에서 광학 프로브(42) 및/또는 거리 센서(44)를 관찰함으로써와 같이, 온도에 따른 이러한 거리 변동을 설명하고, 수량화하고/하거나, 교정하도록 구성될 수 있다. 거리 변동의 이러한 수량화는 온도에 따른 거리 변동의 지식과 조합하여 거리 센서(44)로 거리(45)의 측정을 통해 다양한 온도들에서 거리(46)의 더욱 정확한 결정을 허용하고/하거나 가능하게 할 수 있다.
일부 예들에서, 그리고 도 2 및 도 4 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 교정 기판(210)은 노치형 영역(218)을 포함할 수 있다. 노치형 영역(218)은 또한 포함물(218), 포함된 영역(218), 리세스(218), 및/또는 리세스된 영역(218)으로서 본원에서 지칭될 수 있다. 노치형 영역(218)은 부가적으로 또는 대안적으로, 두 개의 수직한, 또는 적어도 실질적으로 수직한 보기 방향(134)들로부터, 광학 프로브와 같은, 기구의 보기를 허용하고/하거나 가능하게 하도록 성형되는 교정 기판(210)의 영역으로서 본원에서 지칭될 수 있다. 기구는 교정 기판(210)의 수직으로 위에 있지 않을 수 있고/있거나 노치형 영역(218) 내부에 위치될 수 있다. 보기 방향(134)들은 교정 기판(210)의 위로, 수직으로 위로, 또는 바로 위로 연장할 수 있다. 부가적으로 또는 대안적으로, 보기 방향(134)들은 교정 기판(210)에 평행하거나, 또는 적어도 실질적으로 평행할 수 있다.
노치형 영역(218)은, 존재할 때, 교정 기판 에지(212)와 광학 프로브(42)의 정렬을 허용하고/하거나 가능하게 할 수 있는 반면, 도 6에 도시된 바와 같이, 거리 센서(44)는 교정 기판(210)의 수직으로 위에 위치된다. 부가적으로 또는 대안적으로, 이러한 설정은, 본원에서 더욱 상세하게 논의되는 바와 같이, 수평 교정 기판 표면(214)에 평행한 두 개의 상이한, 또는 직교하는 방향들로부터 광학 프로브(42)의 보기를 허용하고/하거나 가능하게 할 수 있는 반면, 거리 센서는 교정 기판의 수직으로 위에 위치된다.
논의되는 바와 같이, 수평 보기 방향(134)은 교정 척 지지 표면(112)에 평행하거나, 또는 적어도 실질적으로 평행할 수 있다. 달리 말하자면, 그리고 도 6을 계속하여 참조하면, 수평 보기 방향(134)은 교정 척 지지 표면에 평행한 임계 수평 보기각(136) 이내에 있을 수 있다. 임계 수평 보기각의 예들은 최소 1도, 최소 2도, 최소 4도, 최소 6도, 최소 8도, 최소 10도, 최대 15도, 최대 10도, 최대 8도, 최대 6도, 최대 4도, 최대 2도, 최대 1도, 최대 0.5도, 및/또는 최대 0.1도의 각도들을 포함한다.
수평 보기 기구(130)는 이미징 장치(60)에 의해 및/또는 그와 함께 수평 보기 방향(134)으로부터 수평으로 본 영역(132)의 보기를 허용하고/하거나 가능하게 하도록 적합화, 형상화, 설계 및/또는 구성될 수 있는 임의의 적합한 기구를 포함할 수 있다. 예로서, 수평 보기 기구는, 평면 거울 표면(140)을 형성하는 거울(138)을 포함할 수 있다.
도 6에 아마도 가장 잘 도시된 바와 같이, 평면 거울 표면(140)은 교정 척 지지 표면(112)에 대해 거울 표면각(142)으로 연장할 수 있다. 거울 표면각은 이미징 장치에 의해 수평으로 본 영역의 보기를 허용하고/하거나 가능하게 하도록 선택될 수 있다. 거울 표면각의 예들은 스큐각 및/또는 최소 10도, 최소 15도, 최소 20도, 최소 25도, 최소 30도, 최소 35도, 최소 40도, 최소 41도, 최소 42도, 최소 43도, 최소 44도, 최소 45도, 최대 80도, 최대 75도, 최대 70도, 최대 65도, 최대 60도, 최대 55도, 최대 50도, 최대 49도, 최대 48도, 최대 47도, 최대 46도, 및/또는 최대 45도의 각도들을 포함한다. 구체적인 예에서, 거울 표면각(142)은 45도일 수 있거나 45도에 적어도 실질적으로 동등할 수 있다.
교정 척(100) 및/또는 그의 수평 보기 기구(130)는 수평 조명 조립체(144)를 포함할 수 있다. 수평 조명 조립체는, 도 2 및 도 4 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 수평 보기 방향(134)을 따라서, 적어도 부분적으로 따라서, 평행하게, 적어도 실질적으로 평행하게, 동일한 공간에 걸쳐서, 및/또는 적어도 부분적으로 동일한 공간에 걸쳐서 지향될 수 있는 수평 광 비임(146)으로 수평으로 본 영역(132)을 조명하도록 구성될 수 있다.
일부 예들에서, 수평 조명 조립체(144)는, 도 2 및 도 6에 도시된 바와 같이, 수평 광 비임을 형성하는 조명 광 비임을 생산하고, 생성하고/하거나, 방출하도록 구성될 수 있는 수평 조명 조립체 광원(148)을 포함할 수 있다. 수평 조명 조립체 광원의 예들은 수평 조명 조립체 광 발광 다이오드, 수평 조명 조립체 광섬유 케이블, 및/또는 광 가이드를 포함한다.
일부 예들에서, 그리고 쇄선들로 도 6에 아마도 가장 잘 도시된 바와 같이, 수평 조명 조립체(144), 또는 그의 수평 조명 조립체 광원(148)은 수평 보기 방향(134)을 따라서, 및/또는 교정 척 지지 표면(112)에 평행하게 수평 광 비임(146)을 방출할 수 있다. 이들 예들에서, 수평 조명 조립체 광원은 광학 프로브(42) 및/또는 교정 기판 에지(212)와 같은, 수평으로 본 영역(132) 내부의 임의의 기구(들)을 후방-조명하기 위해서와 같이, 거울(138)을 향하게/향하거나 그에 입사하도록 수평 광 비임을 지향시키도록 구성될 수 있다. 부가적으로 또는 대안적으로, 수평 조명 조립체 광원(148)은 교정 척(100)에 장착될 수 있고, 작동적으로 부착될 수 있고/있거나, 그의 부분을 구성할 수 있다.
일부 예들에서, 수평 조명 조립체는 수평 조명 조립체 반사 표면(150)을 포함할 수 있다. 이들 예들에서, 그리고 도 6에서 점선들로 도시된 바와 같이, 수평 조명 조립체는 수평으로 본 영역 내부의 기구(들)을 후방-조명하기 위해서와 같이, 수평 보기 방향으로 그리고 거울(138)을 향하게/향하거나 그에 입사하도록 수평 광 비임을 반사할 수 있는 수평 조명 조립체 반사 표면(150)에 입사하도록 수평 광 비임을 지향시키도록 구성될 수 있다. 더욱 구체적인 예로서, 그리고 도 6에 도시된 바와 같이, 수평 조명 조립체(144)는 교정 척(100)의 수직으로 위에 위치될 수 있고/있거나 이미징 장치(60)내로 통합될 수 있다. 이러한 설정에서, 수평 조명 조립체(144)는, 수평 광 비임이 이미징 장치(60)로 되돌아가도록, 수평 광 비임(146)을 거울(138)로부터, 그 후 수평 조명 조립체 반사 표면(150)으로부터, 그리고 그 후 거울(138)로부터 반사하도록 구성될 수 있다.
거울(138)은, 존재할 때, 평면 거울 표면(140)을 형성할 수 있고/있거나 수평 광 비임(146)과 같은, 광을 반사할 수 있는 임의의 적합한 기구를 포함하고/하거나 그것일 수 있다. 거울(138)의 예들은 반사 표면, 반사 물질로 코팅된 표면, 및/또는 각기둥의 표면을 포함할 수 있다.
도시된 바와 같이, 수평 보기 기구(130)는 교정 척 지지 표면(112)의 위로, 또는 수직으로 위로 연장할 수 있다. 달리 말하자면, 수평 보기 기구는 교정 척 지지 표면으로부터 돌출할 수 있다. 이러한 설정은, 그 또한 교정 척 지지 표면의 수직으로 위에 있는 수평으로 본 영역(132)의 보기를 허용하고/하거나 가능하게 할 수 있다.
도 2 및 도 6에 파선들로 도시된 바와 같이, 수평 조명 조립체(144)는 수평 조명 조립체 조정 메커니즘(152)을 포함할 수 있다. 수평 조명 조립체 조정 메커니즘(152)은, 존재할 때, 수평 조명 조립체 반사 표면으로부터 그리고 이미징 장치(60)로 되돌아가도록 및/또는 그에 입사하도록 수평 광 비임(146)의 반사를 허용하고/하거나 가능하게 하기 위해서와 같이, 수평 조명 조립체 반사 표면(150)의 배향을 선택적으로 조정하도록 구성될 수 있다. 예로서, 수평 조명 조립체 조정 메커니즘(152)은, 도 6에 도시된 바와 같이, 교정 척 지지 표면(112)에 평행하게, 또는 적어도 실질적으로 평행하게 연장할 수 있는 회전 축선(154) 주위로 수평 조명 조립체 반사 표면(150)을 회전시키도록 구성될 수 있다. 회전 축선(154) 주위의 이러한 회전은 실선들로 나타난 배향과 파선들로 나타난 배향 사이의 수평 조명 조립체 반사 표면(150)의 움직임에 의해 표시된다. 수평 조명 조립체 조정 메커니즘(152)의 예들은 수동으로 구동되는 조정 메커니즘, 마이크로미터, 랙과 피니언 조립체, 볼 스크류와 너트 조립체, 전기 액추에이터, 압전 액추에이터, 모터, 전기 모터, 스테퍼 모터, 및/또는 요동형 액추에이터를 포함한다.
수평 조명 조립체 조정 메커니즘(152)은, 존재할 때, 임의의 적합한 양 및/또는 임의의 적합한 회전각 만큼 회전 축선(154) 주위로 수평 조명 조립체 반사 표면(150)을 회전시키도록 구성될 수 있다. 회전각의 예들은 최소 0.5도, 최소 1도, 최소 2도, 최소 4도, 최소 6도, 최소 8도, 최대 20도, 최대 15도, 최대 10도, 최대 8도, 및/또는 최대 6도의 각도들을 포함한다.
일부 예들에서, 그리고 도 2 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 교정 척(100)은, 적어도 제1 수평 보기 기구(1301) 및 제2 수평 보기 기구(1302)를 포함하는 복수의 수평 보기 기구(130)들을 포함할 수 있다. 이들 예들에서, 제1 수평 보기 기구(1301)는 제1 수평 보기 방향(1341)으로부터 제1 수평으로 본 영역(1321)의 보기를 가능하게 하도록 구성될 수 있다. 유사하게, 제2 수평 보기 기구(1302)는 제2 수평 보기 방향(1342)으로부터 제2 수평으로 본 영역(1322)의 보기를 가능하게 하도록 구성될 수 있다.
제2 수평 보기 방향(1342)은 교정 척 지지 표면(112)에 평행하거나, 또는 적어도 실질적으로 평행할 수 있다. 부가적으로 또는 대안적으로, 제2 수평 보기 방향(1342)은 제1 수평 보기 방향(1341)에 수직하거나, 또는 적어도 실질적으로 수직할 수 있다. 제1 수평으로 본 영역(1321)과 유사하게, 제2 수평으로 본 영역(1322)은 광학 프로브(42), 다른 광학 프로브(42), 교정 기판 에지(212), 및/또는 다른 교정 기판 에지(212)를 포함할 수 있다.
도 2 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 그리고 필수적이지는 않지만, 제1 수평 보기 기구(1301)와 제2 수평 보기 기구(1302)는 특정한 교정 기판(210)의 상이한 수평으로 본 영역(132)들을 볼 수 있고/있거나 두 개의 상이한, 수직하거나, 또는 적어도 실질적으로 수직한 수평 보기 방향(134)들로부터 특정한 교정 기판을 볼 수 있다. 도 2에서 파선들로 그리고 도 3 내지 도 5에서 실선들로 도시된 바와 같이, 교정 척(100)들은 복수의 이격된 및/또는 구별되는 수평 보기 조립체(130)들을 포함할 수 있고, 이들의 각각은 상응하거나, 또는 상이한 수평 보기 방향으로부터 상응하거나, 또는 상이한 수평으로 본 영역을 보도록 구성될 수 있다. 이는 동일하거나, 또는 상이한 교정 기판(210)들 및/또는 광학 프로브(42)들의 수평 보기를 포함할 수 있다.
광학 교정 기구(120)의 다른 예는, 도 2 내지 도 4 및 도 8 내지 도 11에 도시된 바와 같이, 수직 보기 기구(160)를 포함한다. 도 8 내지 도 11과 관련하여 본원에서 더욱 상세하게 논의되는 바와 같이, 수직 보기 기구(160)는, 교정 척 지지 표면(112)과 수직하거나, 또는 적어도 실질적으로 수직할 수 있고/있거나 교정 척 지지 표면(112)으로부터 멀어지도록 지향될 수 있는 수직 보기 방향(164)으로부터 수직으로 본 영역(162)의 보기를 허용하고/하거나 가능하게 하도록 구성될 수 있다.
이는, 교정 척 지지 표면의 위에, 또는 수직으로 위에 위치될 수 있는 이미징 장치(60)와 함께, 그것을 통해, 및/또는 그것을 이용하여 수직으로 본 영역의 보기를 포함할 수 있다. 수직 보기 기구(160)는, 이미징 장치에 의해 직접적으로 볼 수 있지 않을 수 있고/있거나 이미징 장치가 그와는 달리 볼 수 없을 수 있는 수직으로 본 영역(162)들의 보기를 허용하도록 구성될 수 있다. 수직으로 본 영역의 예들은 광학 프로브(42), 광학 프로브의 하부 표면, 광학 프로브의 광섬유, 광학 프로브의 광섬유의 렌즈, 광학 프로브의 광섬유에 의해 방출된 광, 광학 프로브의 에지, 전기적 프로브(38), RF 프로브, DC 프로브, 및/또는 프로브 시스템의 기계적 프로브를 포함한다. 수직으로 본 영역은 부가적으로 또는 대안적으로 전기적 프로브, RF 프로브, DC 프로브, 및/또는 기계적 프로브와 같은, 임의의 프로브의 하부 표면을 포함할 수 있다.
수직 보기 기구(160)는 임의의 적합한 방식으로 수직으로 본 영역의 보기를 가능하게 할 수 있다. 예로서, 수직 보기 기구는 수직으로 본 영역의 보기를 가능하게 하기 위해 적어도 하나의, 또는 심지어 두 개의 반사들을 이용하도록 구성될 수 있다.
수직 보기 방향(164)이 교정 척 지지 표면(112)에 수직한 임계 수직 보기각 이내에 있을 수 있다는 것이 본 개시의 범위 내에 있다. 달리 말하자면, 수직 보기 방향은 교정 척 지지 표면의 표면 수직 방향에 평행한 임계 수직 보기각 이내에 있을 수 있다. 임계 수직 보기각의 예들은 최소 1도, 최소 2도, 최소 4도, 최소 6도, 최소 8도, 최소 10도, 최대 15도, 최대 10도, 최대 8도, 최대 6도, 최대 4도, 최대 2도, 최대 1도, 최대 0.5도, 및/또는 최대 0.1도의 각도들을 포함한다.
수직 보기 기구(160)는 임의의 적합한 기구를 포함할 수 있다. 예들로서, 수직 보기 기구는 각기둥, 직각기둥, 굴절률 분포형 렌즈, 섬유 조립체를 구비한 굴절률 분포형 렌즈, 및/또는 섬유 조립체와 상호연결된 한 쌍의 굴절률 분포형 렌즈들을 포함할 수 있다. 구체적인 예에서, 그리고 도 8 및 도 9 및 도 12에 도시된 바와 같이, 수직 보기 기구(160)는 교정 척 본체(110) 내부에 적어도 부분적으로 내장될 수 있고/있거나 광학적 반사 표면(168), 또는 심지어 두 개의 광학적 반사 표면(168)들을 포함하는 각기둥을 포함할 수 있다. 수직 보기 기구는 부가적으로 또는 대안적으로 광학적 투과 표면(169)을 포함할 수 있다.
수직 보기 기구(160)는 임의의 적합한 방식으로 이용될 수 있다. 예로서, 그리고 도 8에 도시된 바와 같이, 수직 보기 기구는 광학 프로브의 상태 및/또는 청결도를 수량화하고/하거나 평가하기 위해서와 같이, 광학 프로브(42)의 밑면(43)을 보는데 이용될 수 있다. 이 예에서, 이미징 장치(60)는 교정 척 지지 표면(112)을 향하게 대면할 수 있다; 하지만, 수직으로 본 영역(162)이 광학 프로브(42)의 밑면(43)을 포함하도록, 이미징 장치에 의해 수집된 광은 수직 보기 기구(160) 내부에서 반사될 수 있다. 이러한 설정에서, 프로브 시스템(10)은 도 1의 디스플레이(84)와 함께, 그것을 통해, 및/또는 그것을 이용하여서와 같이, 광학 프로브의 밑면의 광학 이미지를 수집할 수 있고/있거나 프로브 시스템의 사용자를 위해 광학 이미지를 디스플레이할 수 있다.
다른 예로서, 그리고 도 9 내지 도 11에 도시된 바와 같이, 수직 보기 기구는 광학 프로브(42)의 밑면(43)과 기준 기구(49) 둘 다를 보는데 이용될 수 있다. 이 예에서, 이미징 장치(60)는 기준 기구(49)의 하향식 이미지를 수집하는데 이용될 수 있다. 이러한 하향식 이미지의 예는 도 10에 도시되고 있고, 여기서 기준 기구(49)는, 위로부터 및/또는 보기 방향(66)으로부터 가시적인 광학 프로브(42)의 코너 및/또는 다른 특징을 포함한다. 이는, 이미징 장치의 보기 방향(66)으로부터 보았을 때, 이미징 장치가 기준 기구의 하향식 이미지를 수집하도록, 이미징 장치의 초점면 위치의 조정을 포함할 수 있다.
나아가, 이미징 장치의 초점면 위치는, 이미징 장치가 또한 광학 프로브의 밑면(43)의 상향식 이미지를 수집하도록, 조정될 수 있다. 이는, 밑면(43)의 이미지가 수직 보기 방향(164)으로부터 수집되도록, 수직 보기 기구(160) 내부에서 광의 반사를 포함한다. 밑면(43)의 상향식 이미지의 수집 동안, 광원(54)은 광학 프로브의 프로브 섬유(48)에 광을 제공할 수 있다. 상향식 이미지의 예는 도 11에 도시되어 있다. 프로브 섬유(48)가 광원(54)에 의해 조명되기 때문에, 밑면(43) 내부의 프로브 섬유의 위치는 순조롭게 결정될 수 있고, 프로브 섬유(48)와 기준 기구(49) 사이의 상대적인 배향은 설정될 수 있다.
이는 광학 프로브의 하향식 보기를 통해서만 프로브 섬유(48)와 광학 장치 사이의 후속적인 정렬을 허용하고/하거나 가능하게 할 수 있다. 달리 말하자면, 상술한 절차, 또는 방법은 프로브 섬유의 위치와 기준 기구의 위치를 교정하거나, 또는 상호관련시키는데 이용될 수 있고, 그에 의해 수직 보기 기구(160)에 대한 필요성 없이, 또는 그것을 이용하지 않고 프로브 섬유와 광학 장치 사이의 후속적인 정렬을 허용한다. 부가적으로 또는 대안적으로, 다수의 광학 프로브들 및/또는 다수의 광학 채널들을 포함하고/하거나 이용하는 광학 프로브 시스템(10)에서, 도 9 내지 도 11의 설정은, 어떤 광학 채널이 특정한 광학 프로브에 연결되어 있는지를 검증하는데 이용될 수 있다.
상기 방법들에 대한 변형에 있어서, 그리고 도 9 및 도 11을 계속하여 참조하면, 수직 보기 기구(160)는, 광학 프로브 조립체의 프로브 섬유(48)와 거리 센서(44)를 둘 다 포함하는, 수직 보기 방향(164)으로부터의, 광학 이미지를 수집하는데 이용될 수 있다. 이는 후속적인 탐침 검사 동작들 동안 프로브(42)의 밑면(43)을 반복적으로 볼 필요성 없이 프로브 섬유와 거리 센서 사이의 상대적인 위치의 교정 및/또는 상호관련시킴을 허용하고/하거나 가능하게 할 수 있다.
광학 교정 기구(120)의 다른 예는 프로브 정렬 기구(170)를 포함한다. 도 12에 도시된 바와 같이, 프로브 정렬 기구(170)는 광학 프로브 시스템(10)의 적어도 두 개의 광학 프로브(42)들 사이의 상대적인 정렬를 가능하게 하도록 구성될 수 있다. 프로브 정렬 기구(170)는 프로브들 사이의 정렬을 허용하고/하거나 가능하게 할 수 있는 임의의 적합한 기구를 포함하고/하거나 그것일 수 있다. 예로서, 프로브 정렬 기구(170)는 수직 보기 기구(160)를 포함하고/하거나 그것일 수 있다. 달리 말하자면, 동일한 광학 교정 기구(120)가 수직 보기 기구(160)와 프로브 정렬 기구(170) 둘 다로서 기능할 수 있다. 다른 예로서, 그리고 도 12에 도시된 바와 같이, 프로브 정렬 기구(170)는 한 쌍의 굴절률 분포형(GRIN) 렌즈(176)들 및 GRIN 렌즈(176)들을 상호연결하는 광섬유(178)를 포함할 수 있다.
프로브 정렬 기구(170)는 임의의 적합한 방식으로 이용될 수 있다. 예로서, 그리고 도 12에 도시된 바와 같이, 두 개의 광학 프로브(42)들은 프로브 정렬 기구를 향하게 대면하도록 구성될 수 있다. 이러한 설정에서, 방출하는 광학 프로브(42)는 광원(54)으로부터 광학 신호를 수신하도록 그리고/또는 광학 테스트 신호(52)로서 본원에서 지칭될 수도 있는 방출된 광학 신호(174)를 방출하도록 구성될 수 있다. 프로브 정렬 기구(170), 또는 프로브 정렬 기구의 상응하는 GRIN 렌즈들은 광섬유(178) 및 다른 GRIN 렌즈(176)들을 통해서와 같이, 방출된 광학 신호를 수신하고 그리고 방출된 광학 신호를 검출하는 광학 프로브(42)에 입사하도록 지향시킬 수 있다.
방출된 광학 신호는, 검출하는 광학 프로브에 의해 수신될 때, 광학 결과 신호(56)로서 본원에서 지칭될 수도 있다. 검출하는 광학 프로브는 그 후, 방출된 광학 신호의 임의의 적합한 성질을 검출할 수 있는 광 검출기(58)에 방출된 광학 신호를 운반할 수 있다. 상기 설정에서, 광학 프로브(42)들 사이의 상대적인 배향은, 광학 프로브들 사이의 정렬의 목표 정도를 허용하고/하거나 가능하게 하기 위해, 방출된 광학 신호의 검출된 성질에 기초하여, 변경되고/되거나 조정될 수 있다.
도 2로 다시 돌아가면, 광학 교정 기구(120)는 교정 척 광원(180)을 포함할 수 있다. 교정 척 광원(180)은, 존재할 때, 교정 척(100)으로부터 멀어지도록 교정 광의 비임(182)을 지향시키도록 구성될 수 있다. 예로서, 교정 척 광원은 수직 보기 기구(160)의 수직 보기 방향(164)에 평행하거나, 또는 적어도 실질적으로 평행할 수 있고, 교정 척 지지 표면(112)의 표면 수직 방향에 평행하거나, 또는 적어도 실질적으로 평행할 수 있고/있거나, 교정 척 지지 표면(112)에 수직이거나, 또는 적어도 실질적으로 수직일 수 있는 교정 광 방향으로 교정 광의 비임을 지향시키도록 구성될 수 있다.
교정 척 광원(180)은 임의의 적합한 기구를 포함할 수 있다. 예로서, 교정 척 광원은 교정 척 레이저(186)를 포함할 수 있고/있거나 그것일 수 있다. 교정 광의 비임의 예들은 레이저 비임, 단색광 비임, 및/또는 편광 비임을 포함한다.
광학 프로브 시스템(10)들의 동작 중에, 교정 척 광원(180)은 광학 프로브 시스템의, 도 1의 광학 프로브(42)와 같은, 광학 프로브에 입사하도록 교정 광의 비임(182)을 지향시키도록 구성될 수 있다. 광학 프로브는 교정 척 광원과 정렬될 수 있고, 광학 프로브에 의해 수집된 광의 적어도 하나의 성질은 도 1의 광 검출기(58)를 통해서와 같이, 결정되고/되거나 수량화될 수 있다.
이러한 프로세스는 광학 프로브 시스템의 복수의 광학 프로브(42)들에 대해 반복될 수 있고, 그에 의해 복수의 광학 프로브들의 교정을 허용한다. 달리 말하자면, 교정 척 광원(180)은 복수의 프로브들 중 각각의 프로브에게 알려진, 잘 제어된, 일관성 있는, 및/그리고 재생가능한 교정 광의 비임(182)을 제공하는데 이용될 수 있다. 이러한 설정에서, 프로브 시스템(10)은 복수의 광학 프로브들 사이에서 광 수집 특성들 및/또는 성질들에서의 차이들을 교정하고/하거나 수량화하기 위해 각각의 광학 프로브에 의해 수집된 광의 적어도 하나의 성질에서의 차이들 및/또는 변동들을 이용할 수 있다.
도 2 내지 도 4로 돌아가면, 광학 교정 기구(120)는 교정 척 광 검출기(190)를 포함할 수 있다. 교정 척 광 검출기(190)는, 존재할 때, 그 위에 입사할 수 있는, 광과 같은, 광학 신호를 검출하고/하거나 광의 적어도 하나의 성질을 수량화하도록 구성될 수 있다. 이는, 도 3에 도시된 바와 같이, 검출 방향(192)으로부터 광의 검출을 포함할 수 있다. 검출 방향(192)은 수직 보기 기구(160)의 수직 보기 방향(164)에 평행하거나, 또는 적어도 실질적으로 평행하고, 교정 척 지지 표면(112)의 표면 수직 방향에 평행하거나, 또는 적어도 실질적으로 평행하고/하거나 교정 척 지지 표면(112)에 수직이거나, 또는 적어도 실질적으로 수직일 수 있다.
부가적으로 또는 대안적으로, 교정 척 광 검출기(190)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 광 지향 기구(196)를 포함할 수 있다. 광 지향 기구(196)는, 광 지향 기구에 입사하는 광을 교정 척 광 검출기(190)를 향하게/향하거나 그것에 입사하게 지향시키도록 구성될 수 있다. 이러한 설정은, 수직 보기 방향(164)에 대해 초기에 임의의 적합한 각도로 방출되고/되거나 지향되었던 교정 척 광 검출기(190)에 의한 광의 수집을 허용하고/하거나 가능하게 할 수 있다. 광 지향 기구(196)의 예들은 임의의 적합한 각기둥, 거울, 및/또는 렌즈를 포함한다.
교정 척 광 검출기(190)는 임의의 적합한 기구를 포함할 수 있다. 예로서, 교정 척 광 검출기는 교정 척 포토 검출기, 교정 척 포토 다이오드, 및/또는 광파워 미터를 포함하고/하거나 그것일 수 있다.
광학 프로브 시스템(10)들의 동작 중에, 교정 척 광 검출기(190)는 광학 프로브 시스템의, 도 1의 광학 프로브(42)와 같은, 광학 프로브로부터 광을 수신하도록 구성될 수 있다. 광학 프로브는 교정 척 광 검출기와 정렬될 수 있고, 교정 척 광 검출기에 의해 수집된 광의 적어도 하나의 성질은 교정 척 광 검출기에 의해 결정되고/되거나 수량화될 수 있다.
이러한 프로세스는 광학 프로브 시스템의 복수의 광학 프로브(42)들에 대해 반복될 수 있고, 그에 의해 복수의 광학 프로브들의 교정을 허용한다. 달리 말하자면, 교정 척 광 검출기(190)는 복수의 프로브들 중 각각의 프로브로부터 광을 검출하는 알려진, 잘 제어된, 일관성 있는, 및/그리고 단일 검출기로서 이용될 수 있다. 이러한 설정에서, 광학 프로브 시스템(10)은 복수의 광학 프로브들 사이에서 광 방출 성질들 및/또는 특성들에서의 차이들을 교정하고/하거나 수량화하기 위해 교정 척 광 검출기에 의해 수집된 광의 적어도 하나의 성질에서의 차이들 및/또는 변동들을 이용할 수 있다.
일부 예들에서, 교정 척(100)은 폐색성 교정 기구(194)를 포함할 수 있다. 도 2 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 폐색성 교정 기구(194)는 교정 척 광 검출기(190)와 관련될 수 있다. 폐색성 교정 기구는, 광학 신호의 방해받은 부분이 교정 척 광 검출기 상에 입사하지 않도록, 교정 척 광 검출기(190)를 향하게 지향되는 광학 신호의 부분을 선택적으로 방해하도록 구성될 수 있다. 본원에서 더욱 상세하게 논의되는 바와 같이, 이러한 설정은 광학 신호의 특성화를 허용하고/하거나 가능하게 할 수 있다. 폐색성 교정 기구의 예들은 나이프 에지 교정 기구 및/또는 핀홀 교정 기구를 포함한다. 폐색성 교정 기구의 다른 예는 편광 민감성 그레이팅을 포함한다.
교정 척(100)이 나이프 에지 교정 기구의 형태로 폐색성 교정 기구(194)를 포함할 때, 교정 척 광 검출기가 나이프 에지 교정 기구의 외부 둘레 주위로 연장하도록 및/또는 나이프 에지 교정 기구가, 광학 신호로 하여금 나이프 에지 교정 기구의 외부 둘레에 대해 내부에 있는 교정 척 광 검출기의 영역 상에 입사하는 것을 차단하지만, 광학 신호로 하여금 나이프 에지 교정 기구의 외부 둘레 주위로, 또는 그에 대해 외부로 연장하는 교정 척 광 검출기의 영역 상에 입사하는 것을 허용하도록, 나이프 에지 교정 기구와 교정 척 광 검출기가, 서로에 대해, 위치될 수 있다. 이러한 예에서, 나이프 에지 교정 기구는, 194로 표시된 사각형에 의해 커버되거나, 또는 그 내부에 있는 교정 척 광 검출기(190)의 영역 상에 광이 입사하는 것을 차단할 수 있지만, 194로 표시된 사각형의 외부에 있는 교정 척 광 검출기의 영역은 광을 수신할 수 있다.
이 예에서, 나이프 에지 교정 기구에 걸쳐서 광학 신호를 이동시킴으로써, 광학 신호의 상이한 부분들, 또는 일부들은 교정 척 광 검출기 상에 입사될 수 있다. 이러한 설정은 광학 신호의 하나 또는 둘 이상의 공간적 특성들의 특성화를 허용하고/하거나 가능하게 할 수 있다.
교정 척(100)이 핀홀 교정 기구의 형태로 폐색성 교정 기구(194)를 포함할 때, 핀홀 교정 기구를 통해서나, 또는 핀홀 교정 기구의 핀홀을 통해서 광학 신호가 교정 척 광 검출기 상에 입사되도록, 핀홀 교정 기구와 교정 척 광 검출기는, 서로에 대해, 위치될 수 있다. 이러한 예에서, 핀홀 교정 기구는, 광이 194로 표시된 사각형의 외부에 있는 교정 척 광 검출기(190)의 영역 상에 입사되는 것을 차단할 수 있는 반면, 194로 표시된 사각형 내부에 있는 교정 척 광 검출기의 영역은 광을 수신할 수 있다.
이 예에서, 핀홀 교정 기구에 걸쳐서 광학 신호를 이동시킴으로써, 광학 신호의 상이한 부분들, 또는 일부들은 핀홀을 통해 교정 척 광 검출기 상에 입사될 수 있다. 이러한 설정은 다시 한번 광학 신호의 하나 또는 둘 이상의 공간적 특성들의 특성화를 허용하고/하거나 가능하게 할 수 있다.
교정 척(100)이 편광 민감성 그레이팅의 형태로 폐색성 교정 기구(194)를 포함할 때, 광학 교정 기구는 광학 신호의 편광 상태 및/또는 광학 신호의 편광 상태에서의 변화를 검출하고/하거나 모니터링하는데 이용될 수 있다. 이러한 설정은, 예를 들면, 열적 및/또는 환경적 변화들에 의해 유발될 수 있는 것과 같은, 편광 표류의 수량화를 허용할 수 있다. 이러한 편광 표류는 측정 표류를 유발할 수 있고/있거나 측정 성능을 저하시킬 수 있다. 이를 고려하여, 편광 민감성 그레이팅은 광학 프로브 시스템(10)들이 편광 표류를 검출하고, 설명하고/하거나 바로잡도록 허용함으로써 향상된 및/또는 더욱 정확한 측정들을 허용하고/하거나 가능하게 할 수 있다.
도 2 내지 도 4 및 도 13으로 돌아가면, 광학 교정 기구(120)는 광학 장치(200)를 포함할 수 있다. 광학 장치(200)의 예들은 광학 활성 기구, 싱귤레이티드 광학 칩, 실리콘 포토닉스 장치, 및/또는 사용자 제공형 기판을 포함한다. 이러한 설정에서, 광학 장치(200)는, 광학 프로브 시스템(10)에 의해 테스트될 수 있고/있거나 광학 프로브 시스템(10)을 교정하는데 이용될 수 있는 하나 또는 둘 이상의 알려진 광학 기구들을 포함할 수 있다. 광학 장치(200)는, 존재할 때, 단일 기판 상에 및/또는 그것에 의해 구성되고/되거나 형성될 수 있다. 부가적으로 또는 대안적으로, 광학 교정 기구(120)는, 별개의 및/또는 구별되는 기판들에 의해 형성될 수 있는 복수의 구별되는 광학 장치(200)들을 포함할 수 있다.
일부 예들에서, 교정 척(100)은 다이 홀더(230), 및 사용자 제공형 광학 장치를 포함하고/하거나 그것일 수 있고, 교정 척(100)에 작동적으로 부착될 수 있고/있거나 다이 홀더(230) 내부에 위치될 수 있는 광학 장치(200)를 포함할 수 있다. 다이 홀더(230)는 또한 하나 또는 둘 이상의 기준 기판(240)들을 수용하고/하거나 보유할 수 있다. 광학 프로브 조립체(40)가 광학 장치(200)를 테스트하고, 그것에 광학 신호를 제공하고/하거나, 그것으로부터 광학 신호를 수신하는데 이용될 때, 기준 기판(240)들은 거리 센서(44)에 대한 기준 표면을 제공하도록 구성될 수 있다. 예로서, 그리고 아마도 도 13에 가장 잘 도시된 바와 같이, 기준 기판(240)들은 리세스된 영역(242)들을 포함할 수 있다. 리세스된 영역(242)들의 존재는, 광학 프로브와 광학 장치(200) 사이의 에지 결합을 허용하고/하거나 가능하게 하기 위해서와 같이, 광학 프로브가 광학 장치(200)의 에지(202)에 근접하게 위치되는 것을 허용할 수 있다.
일부 예들에서, 다이 홀더(230)는 또한 상응하는 수평 보기 기구(130)를 포함하거나, 또는 그와 관련될 수 있다. 예들로서, 그리고 도 3 및 도 4 및 도 13에 도시된 바와 같이, 다이 홀더(230)는, 한 쌍의 거울(138)들 및 상응하는 쌍의 수평 조명 조립체(144)들을 포함하고/하거나 그것과 관련될 수 있고, 이들은, 본원에서 더욱 상세하게 논의되는 바와 같이, 상응하는 수평으로 본 영역들을 보고/보거나 이미징하는데 이용될 수 있다. 이는, 광학 장치(200)의, 기준 기판(240)들의, 및/또는 광학 장치(200)와 상호작용하고/하거나 그것을 테스트하는데 이용될 수 있는 광학 프로브들의 보기를 허용하고/하거나 가능하게 할 수 있다.
본 개시에 따른, 광학 프로브 시스템(10)들 및/또는 교정 척(100)들은 여러가지 방식들로 이용될 수 있고/있거나 여러가지 상이한 방법들을 수행할 수 있고, 이들의 예들은 본원에 개시되어 있다. 일반적인 의미에서, 프로브 시스템(10)들을 작동시키고, 이용하고/하거나 교정하는 방법들은 적어도 하나의 광학 교정 기구(120)와 적어도 하나의 광학 프로브(42)를 정렬시키는 단계 및 적어도 하나의 광학 프로브 및/또는 적어도 하나의 광학 교정 기구를 이용하여 데이터를 수집하는 단계를 포함할 수 있다. 데이터를 수집하는 단계는 적어도 하나의 프로브를 통해 적어도 하나의 광학 교정 기구에 광학 테스트 신호(52)를 제공하는 것을 포함할 수 있다. 데이터를 수집하는 단계는 부가적으로 또는 대안적으로 적어도 하나의 프로브를 통해 적어도 하나의 광학 교정 기구로부터 광학 결과 신호를 수신하는 것을 포함할 수 있다. 데이터를 수집하는 단계는 부가적으로 또는 대안적으로 적어도 하나의 광학 교정 기구를 이용하여 광학 이미지를 수집하는 것을 포함할 수 있다. 광학 이미지는 적어도 하나의 프로브 및/또는 광학 프로브 시스템의 임의의 다른 적합한 기구 및/또는 구성요소를 포함할 수 있고, 이들의 예들은 본원에 개시된다.
본 개시에서, 예시적이고, 비배타적인 몇몇 예들은, 프로브 시스템들 및/또는 교정 척들을 작동시키고/시키거나 이용하는 방법의 맥락에서 설명되고/되거나 제시되었다. 첨부된 설명에 구체적으로 제시되지 않는 한, 둘 또는 셋 이상의 단계들이 상이한 순서로 및/또는 동시적으로 발생하는 것을 포함하여, 상기 방법들 내에서 설명된 단계들의 순서가 개시된 순서로부터 변경될 수 있다는 것이 본 개시의 범위 내에 있다. 로직들로서, 단계들을 구현하는 것으로 설명될 수도 있는, 단계들이 로직으로 구현될 수 있다는 것이 또한 본 개시의 범위 내에 있다. 일부 응용들(applications)에서, 단계들은 기능적으로 등가적인 회로들 또는 기타 논리 장치들에 의해 수행되는 표현들(expressions) 및/또는 동작들을 나타낼 수 있다. 그의 설명된 방법들 및/또는 단계들은, 컴퓨터, 프로세서, 및/또는 기타 논리 장치가 응답하고, 동작을 수행하고, 상태들을 변경하고, 출력 또는 디스플레이를 발생시키고/시키거나, 결정을 내리도록 하는 실행가능한 명령들을 나타낼 수 있지만, 필수적인 것은 아니다.
여기서 사용되는 바와 같이, 제1 개체와 제2 개체 사이에 위치하는 용어 "및/또는"은, (1) 제1 개체, (2) 제2 개체, 및 (3) 제1 개체 및 제2 개체 중 하나를 의미한다. "및/또는"으로 나열된 여러 개체들은 동일한 방식으로 해석되어야 하고, 즉, 그렇게 결합된 개체들 중 "하나 또는 둘 이상"이다. 구체적으로 식별된 개체들과 관련이 있든 또는 무관하든, "및/또는"절에 의해 구체적으로 식별된 개체들 외에 다른 개체들이 선택적으로 존재할 수 있다. 따라서, 비제한적인 예로서, "포함하는(comprising)"과 같이 개방형(open-ended) 언어와 함께 사용될 때 "A 및/또는 B"에 대한 언급은, 일 실시예에서, A만(선택적으로 B 외의 개체들을 포함), 다른 실시예에서, B만(선택적으로 A 외의 개체들을 포함), 또 다른 실시예에서, A 및 B 둘 다(선택적으로 다른 개체들을 포함)를 지칭할 수 있다. 이러한 개체들은 요소들, 동작들, 구조들, 단계들, 작동들, 값들 등을 가리킬 수 있다.
본원에서 사용된 바와 같이, 하나 또는 둘 이상의 개체들의 목록과 관련하여 "적어도 하나"라는 문구는 개체들의 목록에 있는 임의의 하나 또는 둘 이상의 개체로부터 선택된 적어도 하나의 개체를 의미하는 것으로 이해되어야 하지만, 개체들의 목록 내에 구체적으로 나열된 각각의 그리고 하나 하나의(each and every) 개체의 적어도 하나를 반드시 포함하는 것은 아니고 개체들의 목록의 개체들의 임의의 조합들을 배제하는 것도 아니다. 이 정의는 또한, 구체적으로 식별된 개체들과 관련이 있든 또는 무관하든, "적어도 하나"라는 문구가 지시하는 개체들의 목록 내에 구체적으로 식별된 개체들 외에 다른 개체들이 선택적으로 존재할 수 있다는 것을 허용한다. 따라서, 비제한적인 예로서, "A 및 B 중 적어도 하나"(또는, 등가적으로, "A 또는 B 중 적어도 하나", 또는, 등가적으로, "A 및/또는 B 중 적어도 하나")는, 일 실시예에서, B가 존재하지 않고(선택적으로 B 이외의 개체들을 포함) 적어도 하나의, 선택적으로 하나 초과를 포함하는, A; 다른 실시예에서, A가 존재하지 않고(선택적으로 A 이외의 개체들을 포함) 적어도 하나의, 선택적으로 하나 초과를 포함하는, B; 또 다른 실시 예에서, 적어도 하나의, 선택적으로 하나 초과를 포함하는, A 및 적어도 하나의, 선택적으로 하나 초과를 포함하는, B(선택적으로 다른 개체들을 포함)를 지칭할 수 있다. 즉, "적어도 하나", "하나 또는 둘 이상", 및 "및/또는"이라는 문구들은 사용시 접속적이고(conjunctive) 동시에 이접적인(disjunctive) 개방형 표현들이다. 예를 들어, "A, B, 및 C 중 적어도 하나", "A, B, 또는 C 중 적어도 하나", "A, B, 및 C 중 하나 또는 둘 이상", "A, B, 또는 C 중 하나 또는 둘 이상" 및 "A, B, 및/또는 C"라는 표현들의 각각은, A 단독, B 단독, C 단독, A와 B 함께, A와 C 함께, B와 C 함께, A, B, 및 C 함께, 그리고 선택적으로 적어도 하나의 다른 개체와 조합한 상기 중 임의의 것을 의미할 수 있다.
임의의 특허들, 특허 출원들, 또는 기타 참고문헌들이 본원에 참조로서 통합되고 본 개시의 비통합된 부분 또는 나머지 통합된 참고문헌들의 임의의 것과 (1) 일치하지 않는 방식으로 용어를 정의하고/하거나 (2) 그와는 달리 일치하지 않는 경우, 본 개시의 비통합된 부분이 통제(control)할 것이고, 그 용어 또는 거기서 통합된 개시는, 그 용어가 정의되고/되거나 그 통합된 개시가 원래 존재했던 참고문헌에 대해서만 통제할 것이다.
본원에서 사용되는 바와 같이 "적응된(adapted)" 및 "구성된(configured)"이라는 용어들은, 요소, 구성요소, 또는 기타 소재(subject matter)가 주어진 기능을 수행하도록 설계 및/또는 의도된 것을 의미한다. 따라서, "적응된" 및 "구성된"이라는 용어들의 사용은, 주어진 요소, 구성요소, 또는 기타 소재가 단순히 주어진 기능을 수행"할 수 있는"이 아니라, 요소, 구성요소, 및/또는 기타 소재가 기능을 수행하기 위한 목적을 위해 구체적으로 선택, 생성, 구현, 활용, 프로그래밍, 및/또는 설계된다는 것을 의미하는 것으로 해석되어야 한다. 또한, 특정 기능을 수행하도록 적응된 것으로 언급된 요소들, 구성요소들, 및/또는 기타 언급된 소재가 추가적으로 또는 대안적으로 그 기능을 수행하도록 구성되는 것으로 설명될 수 있고, 그 반대의 경우도 마찬가지라는 것이 본 개시의 범위 내에 있다.
본원에서 사용된 바와 같이, "예를 들어"라는 문구, "예로서"라는 문구, 및/또는 단순히 "예"라는 용어는, 본 개시에 따른 하나 또는 둘 이상의 구성요소들, 특징들, 세부사항들, 구조들, 실시예들, 및/또는 방법들을 참조하여 사용될 때, 설명된 구성요소, 특징, 세부사항, 구조, 실시예, 및/또는 방법이 본 개시에 따른 구성요소들, 특징들, 세부사항들, 구조들, 실시예들, 및/또는 방법들의 예시적이고, 비배타적인 예라는 것을 전달하도록 의도된다. 따라서, 설명된 구성요소, 특징, 세부사항, 구조, 실시예, 및/또는 방법은 제한적, 필수적(required), 또는 배타적(exclusive)/완전한(exhaustive) 것으로 의도되지 않고; 및 구조적으로 및/또는 기능적으로 유사하고/하거나 등가적인 구성요소들, 특징들, 세부사항들, 구조들, 실시예들, 및/또는 방법들을 포함하는 다른 구성요소들, 특징들, 세부사항들, 구조들, 실시예들, 및/또는 방법들 또한 본 개시의 범위 내에 있다.
본원에서 사용된 바와 같이, 정도 또는 관계를 수식할 때 "적어도 실질적으로"는 인용된 "실질적인" 정도 또는 관계 뿐만 아니라 인용된 정도 또는 관계의 전체 범위를 포함할 수 있다. 인용된 정도 또는 관계의 실질적인 양은 인용된 정도 또는 관계의 적어도 75%를 포함할 수 있다. 예를 들어, 재료로 적어도 실질적으로 형성된 물체는, 물체의 적어도 75%가 그 재료로 형성되는 물체를 포함하고 또한 그 재료로 완전히 형성되는 물체를 포함한다. 다른 예로서, 적어도 실질적으로 제2 길이만큼 긴 제1 길이는 제2 길이의 75% 내에 있는 제1 길이를 포함하고 또한 제2 길이만큼 긴 제1 길이를 포함한다. 또 다른 예로서, 적어도 실질적으로 평행한 요소들은 최대 22.5° 만큼 벗어나는 방향들로 연장하는 요소들을 포함하고 그리고 또한 평행한 요소들을 포함한다.
본 개시에 따른 교정 척들, 프로브 시스템들, 및 방법들의 예시적이고 비배타적인 예들은 다음의 열거된 단락들에 제시된다. 다음의 열거된 단락들을 포함하여, 본원에 언급된 방법의 개별적인 단계가 추가적으로 또는 대안적으로 언급된 동작을 수행하기 위한 "단계"로 지칭될 수 있다는 것이 본 개시의 범위 내에 있다.
A1. 광학 프로브 시스템을 위한 교정 척으로서,
교정 척 지지 표면을 형성하는 교정 척 본체; 및
상기 교정 척 본체에 의해 지지되는 적어도 하나의 광학 교정 기구
를 포함하는,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A2. 단락 A1에 있어서,
상기 적어도 하나의 광학 교정 기구는, 상기 교정 척 지지 표면에 평행하거나, 또는 적어도 실질적으로 평행한 수평 보기 방향으로부터 수평으로 본 영역의 보기를 가능하게 하도록 구성되는 수평 보기 기구를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A3. 단락 A2에 있어서,
상기 수평 보기 기구는, 상기 교정 척 지지 표면의 수직으로 위에 위치되는 상기 광학 프로브 시스템의 이미징 장치를 통해 수평으로 본 영역의 보기를 가능하게 하도록 구성되는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A4. 단락 A2 내지 단락 A3 중 어느 하나에 있어서,
상기 수평으로 본 영역은 광학 프로브 시스템의 광학 프로브를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A5. 단락 A2 내지 단락 A4 중 어느 하나에 있어서,
상기 수평으로 본 영역은 상기 교정 척의 교정 기판의 교정 기판 에지를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A6. 단락 A5에 있어서,
상기 교정 기판 에지는, 상기 교정 척 지지 표면에 평행하거나, 또는 적어도 실질적으로 평행한, 상기 교정 기판의 수평 교정 기판 표면과 상기 교정 척 지지 표면에 평행하거나, 또는 적어도 실질적으로 평행한, 상기 교정 기판의 수직 교정 기판 표면 사이에서의 전이를 형성하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A7. 단락 A2 내지 단락 A6 중 어느 하나에 있어서,
상기 수평 보기 기구는 (상기) 광학 프로브와 (상기) 교정 기판 에지 사이의 거리의 결정을 가능하게 하도록 구성되는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A8. 단락 A7에 있어서,
상기 교정 척은 상기 교정 기판을 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A9. 단락 A8에 있어서,
상기 교정 기판은 노치형 영역을 포함하고, 상기 노치형 영역은 선택적으로 상기 교정 기판 에지에 근접하게 광학 프로브의 정렬을 가능하게 하도록 그리고 또한 상기 수평 교정 기판 표면의 수직으로 위로 상기 광학 프로브 시스템의 거리 센서의 정렬을 가능하게 하도록 구성되는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A10. 단락 A2 내지 단락 A9 중 어느 하나에 있어서,
상기 수평 보기 방향은 상기 교정 척 지지 표면에 평행한 임계 수평 보기각 이내에 있고, 선택적으로 상기 임계 수평 보기각은:
(i) 최소 1도, 최소 2도, 최소 4도, 최소 6도, 최소 8도, 또는 최소 10도; 및
(ii) 최대 15도, 최대 10도, 최대 8도, 최대 6도, 최대 4도, 최대 2도, 최대 1도, 최대 0.5도, 또는 최대 0.1도
중 적어도 하나인 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A11. 단락 A2 내지 단락 A10 중 어느 하나에 있어서,
상기 수평 보기 기구는 상기 교정 척 지지 표면에 대해 거울 표면각으로 연장하는 평면 거울 표면을 형성하는 거울을 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A12. 단락 A11에 있어서,
상기 거울 표면각은:
(i) 스큐각;
(ii) 최소 10도, 최소 15도, 최소 20도, 최소 25도, 최소 30도, 최소 35도, 최소 40도, 최소 41도, 최소 42도, 최소 43도, 최소 44도, 또는 최소 45도; 및
(iii) 최대 80도, 최대 75도, 최대 70도, 최대 65도, 최대 60도, 최대 55도, 최대 50도, 최대 49도, 최대 48도, 최대 47도, 최대 46도, 또는 최대 45도
중 적어도 하나인 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A13. 단락 A2 내지 단락 A12 중 어느 하나에 있어서,
상기 수평 보기 기구는, 상기 수평 보기 방향을 적어도 부분적으로 따라서 지향되는 수평 광 비임으로 상기 수평으로 본 영역을 조명하도록 구성되는 수평 조명 조립체를 포함하고, 선택적으로 상기 수평 조명 조립체는 상기 수평으로 본 영역을 후방-조명하도록 구성되는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A14. 단락 A13에 있어서,
상기 수평 조명 조립체는 수평 조명 조립체 광원을 포함하고, 선택적으로 상기 수평 조명 조립체 광원은:
(i) 적어도 하나의 수평 조명 조립체 광 발광 다이오드;
(ii) 적어도 하나의 수평 조명 조립체 광섬유 케이블; 및
(iii) 적어도 하나의 수평 조명 조립체 광 가이드
중 적어도 하나를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A15. 단락 A13 내지 단락 A14 중 어느 하나에 있어서,
상기 수평 조명 조립체는 수평 조명 조립체 반사 표면을 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A15.1 단락 A15에 있어서,
상기 수평 조명 조립체는 상기 수평 조명 조립체 반사 표면의 배향을 선택적으로 조정하도록 구성된 수평 조명 조립체 조정 메커니즘을 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A15.2 단락 A15.1에 있어서,
상기 수평 조명 조립체 조정 메커니즘은 회전 축선 주위로 수평 조명 조립체 반사 표면을 회전시키도록 구성된 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A16. 단락 A13 내지 단락 A14 중 어느 하나에 있어서,
상기 수평 조명 조립체는:
(i) 상기 거울을 향하도록 상기 수평 광 비임을 지향시키는 것;
(ii) 상기 수평 보기 방향을 적어도 부분적으로 따라서 상기 수평 광 비임을 방출하는 것; 및
(iii)상기 수평 보기 방향을 적어도 부분적으로 따라서 상기 수평 광 비임을 반사하는 것
중 적어도 하나를 수행하도록 구성될 수 있는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A17. 단락 A2 내지 단락 A16 중 어느 하나에 있어서,
상기 수평 보기 기구는 상기 교정 척 지지 표면의 수직으로 위로 연장하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A18. 단락 A2 내지 단락 A17 중 어느 하나에 있어서,
상기 수평 보기 기구는 제1 수평 보기 기구이고, 상기 수평으로 본 영역은 제1 수평으로 본 영역이고, 상기 수평 보기 방향은 제1 수평 보기 방향이고, 추가적으로 상기 적어도 하나의 광학 교정 기구는 상기 교정 척 지지 표면에 평행하거나, 또는 적어도 실질적으로 평행한 제2 수평 보기 방향으로부터 제2 수평으로 본 영역의 보기를 가능하게 하도록 구성되는 제2 수평 보기 기구를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A19. 단락 A18에 있어서,
상기 제2 수평 보기 방향은 상기 제1 수평 보기 방향에 수직이거나, 또는 적어도 실질적으로 수직인 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A20. 단락 A18 내지 단락 A19 중 어느 하나에 있어서,
상기 제2 수평으로 본 영역은:
(i) 상기 광학 프로브 시스템의 (상기) 광학 프로브;
(ii) (상기) 교정 기판의 (상기) 교정 기판 에지; 및
(iii) 상기 교정 기판의 다른 교정 기판 에지
중 적어도 하나를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A21. 단락 A1 내지 단락 A20 중 어느 하나에 있어서,
상기 적어도 하나의 광학 교정 기구는, 상기 교정 척 지지 표면에 수직이거나, 또는 적어도 실질적으로 수직인 수직 보기 방향으로부터 수직으로 본 영역의 보기를 가능하게 하도록 구성된 수직 보기 기구를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A22. 단락 A21에 있어서,
상기 수직 보기 기구는, 상기 교정 척 지지 표면의 수직으로 위에 위치된 상기 광학 프로브 시스템의 (상기) 이미징 장치를 통해 수직으로 본 영역의 보기를 가능하게 하도록 구성된 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A23. 단락 A21 내지 단락 A22 중 어느 하나에 있어서,
상기 수직 보기 기구는 상기 수직으로 본 영역의 보기를 가능하게 하기 위해, 적어도 하나의 반사, 그리고 선택적으로 적어도 두 개의 반사들을 이용하도록 구성되는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A24. 단락 A21 내지 단락 A23 중 어느 하나에 있어서,
상기 수직으로 본 영역은 상기 광학 프로브 시스템의 (상기) 광학 프로브를 포함하고, 선택적으로 상기 수직으로 본 영역은:
(i) 상기 광학 프로브의 하부 표면;
(ii) 상기 광학 프로브의 광섬유;
(iii) 상기 광학 프로브의 광섬유의 렌즈;
(iv) 상기 광학 프로브의 광섬유에 의해 방출된 광;
(v) 상기 광학 프로브의 에지;
(vi) 전기적 프로브;
(vii) RF 프로브;
(viii) DC 프로브;
(ix) 기계적 프로브; 및
(x) 프로브의 하부 표면
중 적어도 하나를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A25. 단락 A21 내지 단락 A24 중 어느 하나에 있어서,
상기 수직 보기 방향은 교정 척 지지 표면에 수직한 임계 수직 보기각 이내에 있고, 상기 임계 수직 보기각은:
(i) 최소 1도, 최소 2도, 최소 4도, 최소 6도, 최소 8도, 또는 최소 10도; 및
(ii) 최대 15도, 최대 10도, 최대 8도, 최대 6도, 최대 4도, 최대 2도, 최대 1도, 최대 0.5도, 또는 최대 0.1도
중 적어도 하나인 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A26. 단락 A21 내지 단락 A25 중 어느 하나에 있어서,
상기 수직 보기 기구는:
(i) 각기둥;
(ii) 직각기둥; 및
(iii) 섬유 조립체를 구비한 굴절률 분포형 렌즈
중 적어도 하나를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A27. 단락 A21 내지 단락 A26 중 어느 하나에 있어서,
상기 수직 보기 기구는 상기 교정 척 본체 내부에 적어도 부분적으로 내장되어 있는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A28. 단락 A21 내지 단락 A27 중 어느 하나에 있어서,
상기 수직 보기 기구는 적어도 하나의 광학적 반사 표면, 선택적으로 적어도 두 개의 광학적 반사 표면들, 더욱 선택적으로 적어도 두 개의 광학적 반사 표면들 및 광학적 투과 표면을 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A29. 단락 A1 내지 단락 A28 중 어느 하나에 있어서,
상기 적어도 하나의 광학 교정 기구는 상기 광학 프로브 시스템의 적어도 두 개의 광학 프로브들 사이에서 상대적인 정렬을 가능하게 하도록 구성된 프로브 정렬 기구를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A30. 단락 A1 내지 단락 A28 중 어느 하나에 있어서,
상기 광학 교정 기구는 (상기) 수직 보기 기구를 포함하고, 선택적으로 (상기) 수직 보기 기구인 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A31. 단락 A30에 있어서,
수직으로 반사 기구는 프로브 정렬 기구 및 (상기) 수직 보기 기구 둘 다를 형성하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A32. 단락 A30 내지 단락 A31 중 어느 하나에 있어서,
상기 광학 프로브 조립체의 적어도 두 개의 광학 프로브들은 프로브 정렬 기구를 향하게 대면하고, 또한 상기 프로브 정렬 기구는 상기 적어도 두 개의 광학 프로브들 중 방출하는 광학 프로브로부터 방출된 광학 신호를 수신하고 상기 적어도 두 개의 광학 프로브들 중 검출하는 광학 프로브 상에 입사되도록 방출된 광학 신호를 지향시키도록 구성된 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A33. 단락 A1 내지 단락 A32 중 어느 하나에 있어서,
상기 적어도 하나의 광학 교정 기구는 상기 교정 척으로부터 멀어지도록 교정 광의 비임을 지향시키도록 구성된 교정 척 광원을 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A34. 단락 A33에 있어서,
상기 교정 척 광원은, (상기) 수직 보기 방향에 적어도 실질적으로 평행한 교정 광 방향으로 교정 광의 비임을 지향시키도록 구성되어 있는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A35. 단락 A33 내지 단락 A34 중 어느 하나에 있어서,
상기 교정 척 광원은 교정 척 레이저를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A36. 단락 A33 내지 단락 A35 중 어느 하나에 있어서,
상기 교정 광의 비임은:
(i) 레이저 비임;
(ii) 단색광 비임; 및
(iii) 편광 비임
중 적어도 하나를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A37. 단락 A33 내지 단락 A36 중 어느 하나에 있어서,
상기 교정 척 광원은 상기 광학 프로브 시스템의 (상기) 광학 프로브 상에 입사하도록 상기 교정 광의 비임을 지향시키도록 구성되어 있는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A38. 단락 A1 내지 단락 A37 중 어느 하나에 있어서,
상기 적어도 하나의 광학 교정 기구는 그 위에 입사하는 광을 검출하도록 구성된 교정 척 광 검출기를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A39. 단락 A38에 있어서,
상기 교정 척 광 검출기는 (상기) 수직 보기 방향에 적어도 실질적으로 평행한 검출 방향으로부터 광을 검출하도록 구성된 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A40. 단락 A38 내지 단락 A39 중 어느 하나에 있어서,
상기 교정 척 광 검출기는 교정 척 포토 검출기, 교정 척 포토 다이오드, 및 광파워 미터 중 적어도 하나를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A41. 단락 A38 내지 단락 A40 중 어느 하나에 있어서,
상기 교정 척 광 검출기는 상기 광학 프로브 시스템의 (상기) 광학 프로브로부터 광을 수신하도록 구성된 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A41.1 단락 A38 내지 단락 A41 중 어느 하나에 있어서,
상기 교정 척은 상기 교정 척 광 검출기와 관련되는 폐색성 교정 기구를 추가적으로 포함하고, 선택적으로 상기 광학 신호의 특성화를 가능하게 하기 위해, 선택적으로 상기 폐색성 교정 기구는 상기 교정 척 광 검출기를 향하게 지향되는 광학 신호의 부분을 선택적으로 방해하도록 구성되는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A41.2 단락 A41.1에 있어서,
상기 폐색성 교정 기구는 나이프 에지 교정 기구 및 핀홀 교정 기구 중 적어도 하나를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A42. 단락 A1 내지 단락 A41.2 중 어느 하나에 있어서,
상기 적어도 하나의 광학 교정 기구는:
(i) 광학 활성 기구;
(ii) 광학 장치; 및
(iii) 싱귤레이티드 광학 칩
중 적어도 하나를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A43. 단락 A1 내지 단락 A42 중 어느 하나에 있어서,
상기 교정 척은 광학 장치를 수용하도록 구성된 다이 홀더를 추가적으로 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A44. 단락 A43에 있어서,
상기 다이 홀더는 기준 기판을 추가적으로 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A45. 단락 A43 내지 단락 A44 중 어느 하나에 있어서,
상기 다이 홀더는, 상기 광학 장치 및 (상기) 기준 기판 중 적어도 하나를 포함하는 상응하는 수평으로 본 영역을 보도록 구성된 상응하는 수평 보기 기구를 추가적으로 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
A46. 단락 A45에 있어서,
상기 상응하는 수평 보기 기구는 단락 A2 내지 단락 A20 중 어느 하나에 따른 수평 보기 기구들 중 임의의 것의 임의의 적합한 기구 및/또는 구성요소를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
B1. 광학 프로브 시스템으로서,
복수의 광학 장치들을 포함하는 장치 기판을 지지하도록 구성된 장치 기판 지지 표면을 형성하는 장치 기판 척;
적어도 하나의 광학 프로브를 포함하는 광학 프로브 조립체;
상기 적어도 하나의 광학 프로브에 광학 테스트 신호를 제공하는 것 및 상기 적어도 하나의 광학 프로브로부터 광학 결과 신호를 수신하는 것 중 적어도 하나를 수행하도록 구성된 신호 생성 및 분석 조립체;
단락 A1 내지 단락 A46 중 어느 하나에 따른 교정 척; 및
상기 장치 기판 척 및 상기 교정 척의 수직으로 위에 위치된 상기 이미징 장치
를 포함하는,
광학 프로브 시스템.
B2. 단락 B1에 있어서,
상기 장치 기판 척은 상기 장치 기판의 온도를 조절하도록 구성된 열적 제어 유닛을 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템.
B3. 단락 B1 내지 단락 B2 중 어느 하나에 있어서,
상기 광학 프로브 시스템은 장치 기판 척 병진이동 기구를 추가적으로 포함하고, 상기 장치 기판 척 병진이동 기구는:
(i) 상기 광학 프로브 조립체에 대해 상기 장치 기판 척을 작동적으로 병진이동시키는 것;
(ii) 상기 광학 프로브 조립체에 대해 상기 장치 기판 척을 작동적으로 회전시키는 것;
(iii) 상기 이미징 장치에 대해 상기 장치 기판 척을 작동적으로 병진이동시키는 것; 및
(iv) 상기 이미징 장치에 대해 상기 장치 기판 척을 작동적으로 회전시키는 것
중 적어도 하나를 수행하도록 구성된 것인,
광학 프로브 시스템.
B4. 단락 B1 내지 단락 B3 중 어느 하나에 있어서,
상기 교정 척은 상기 장치 기판 척에 작동적으로 부착되고, 그것과 함께 이동하도록 구성되어 있는 것인,
광학 프로브 시스템.
B5. 단락 B1 내지 단락 B4 중 어느 하나에 있어서,
상기 장치 기판은 반도체 웨이퍼를 포함하고, 선택적으로 상기 광학 프로브 시스템은 상기 반도체 웨이퍼를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템.
B6. 단락 B1 내지 단락 B5 중 어느 하나에 있어서,
상기 복수의 광학 장치들은 복수의 실리콘 포토닉스 광학 장치들을 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템.
B7. 단락 B1 내지 단락 B6 중 어느 하나에 있어서,
상기 적어도 하나의 광학 프로브는 광섬유 프로브를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템.
B8. 단락 B1 내지 단락 B7 중 어느 하나에 있어서,
상기 광학 프로브 조립체는 복수의 광학 프로브들을 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템.
B9. 단락 B1 내지 단락 B8 중 어느 하나에 있어서,
상기 광학 프로브 조립체는, 상기 광학 프로브 시스템이 상기 장치 기판의 적어도 하나의 광학 장치를 광학적으로 테스트하는데 이용될 때, 상기 적어도 하나의 광학 프로브와 상기 장치 기판 사이의 거리를 결정하도록 구성된 거리 센서를 추가적으로 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템.
B10. 단락 B9에 있어서,
상기 거리 센서는 정전용량형 거리 센서, 정전용량형 변위 센서, 와전류 변위 센서, 광삼각법 센서, 공초점 센서, 및/또는 분광 방해 변위 센서 중 적어도 하나를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템.
B11. 단락 B1 내지 단락 B10 중 어느 하나에 있어서,
상기 광학 프로브 시스템은 광학 프로브 조립체 병진이동 기구를 포함하고, 상기 광학 프로브 조립체 병진이동 기구는:
(i) 상기 장치 기판 척에 대해 상기 광학 프로브 조립체를 작동적으로 병진이동시키는 것;
(ii) 상기 장치 기판 척에 대해 상기 광학 프로브 조립체를 작동적으로 회전시키는 것;
(iii) 상기 교정 척에 대해 상기 광학 프로브 조립체를 작동적으로 병진이동시키는 것;
(iv) 상기 교정 척에 대해 상기 광학 프로브 조립체를 작동적으로 회전시키는 것;
(v) 상기 이미징 장치에 대해 상기 광학 프로브 조립체를 작동적으로 병진이동시키는 것; 및
(vi) 상기 이미징 장치에 대해 상기 광학 프로브 조립체를 작동적으로 회전시키는 것
중 적어도 하나를 수행하도록 구성된 것인,
광학 프로브 시스템.
B12. 단락 B1 내지 단락 B11 중 어느 하나에 있어서,
상기 신호 생성 및 분석 조립체는 광학 테스트 신호를 생성하도록 구성된 광원을 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템.
B13. 단락 B12에 있어서,
상기 광원은 레이저 광원을 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템.
B14. 단락 B12 내지 단락 B13 중 어느 하나에 있어서,
상기 신호 생성 및 분석 조립체는 광학 결과 신호를 검출하도록 구성된 광 검출기를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템.
B15. 단락 B14에 있어서,
상기 광 검출기는 포토 검출기 및 포토 다이오드 중 적어도 하나를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템.
B16. 단락 B1 내지 단락 B15 중 어느 하나에 있어서,
상기 광학 프로브 시스템은 상기 신호 생성 및 분석 조립체와 상기 광학 프로브 조립체 사이에서 광학 테스트 신호 및 광학 결과 신호 중 적어도 하나를 운반하도록 구성된 광섬유 케이블을 추가적으로 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템.
B17. 단락 B1 내지 단락 B17 중 어느 하나에 있어서,
상기 이미징 장치는 현미경을 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템.
B18. 단락 B1 내지 단락 B17 중 어느 하나에 있어서,
상기 이미징 장치는 대물 렌즈를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템.
B19. 단락 B1 내지 단락 B18 중 어느 하나에 있어서,
상기 이미징 장치는 광학 이미지를 수신하고 상기 광학 이미지의 전자 표시를 생성하도록 구성된 것인,
광학 프로브 시스템.
B20. 단락 B19에 있어서,
상기 광학 프로브 시스템은 상기 광학 프로브 시스템의 사용자에게 상기 광학 이미지의 상기 전자 표시를 디스플레이하도록 구성된 디스플레이를 추가적으로 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템.
B21. 단락 B1 내지 단락 B20 중 어느 하나에 있어서,
상기 광학 프로브 시스템은 이미징 장치 병진이동 기구를 포함하고, 상기 이미징 장치 병진이동 기구는:
(i) 상기 장치 기판 척에 대해 상기 이미징 장치를 작동적으로 병진이동시키는 것;
(ii) 상기 장치 기판 척에 대해 상기 이미징 장치를 작동적으로 회전시키는 것;
(iii) 상기 교정 척에 대해 상기 이미징 장치를 작동적으로 병진이동시키는 것;
(iv) 상기 교정 척에 대해 상기 이미징 장치를 작동적으로 회전시키는 것;
(v) 상기 광학 프로브 조립체에 대해 상기 이미징 장치를 작동적으로 병진이동시키는 것; 및
(vi) 상기 광학 프로브 조립체에 대해 상기 이미징 장치를 작동적으로 회전시키는 것
중 적어도 하나를 수행하도록 구성된 것인,
광학 프로브 시스템.
B22. 단락 B1 내지 단락 B21 중 어느 하나에 있어서,
상기 광학 프로브 시스템은, 밀폐된 용적을 형성하는 엔클로저를 추가적으로 포함하고, 상기 장치 기판 척의 적어도 장치 기판 지지 표면은 상기 밀폐된 용적 내부에 위치되어 있는 것인,
광학 프로브 시스템.
C1. 단락 B1 내지 단락 B22 중 어느 하나에 따른 광학 프로브 시스템을 이용하는 방법에 있어서,
상기 적어도 하나의 광학 교정 기구와 상기 적어도 하나의 광학 프로브를 정렬하는 단계; 및
상기 적어도 하나의 광학 프로브를 이용하고 상기 적어도 하나의 광학 교정 기구를 이용하여 데이터를 수집하는 단계
를 포함하는,
광학 프로브 시스템을 이용하는 방법.
C2. 단락 C1에 있어서,
상기 데이터를 수집하는 단계는:
(i) 상기 적어도 하나의 프로브를 통해 상기 적어도 하나의 광학 교정 기구에 상기 광학 테스트 신호를 제공하는 것;
(ii) 상기 적어도 하나의 프로브를 통해 상기 적어도 하나의 광학 교정 기구로부터 상기 광학 결과 신호를 수신하는 것; 및
(iii) 상기 적어도 하나의 광학 교정 기구를 이용하여 상기 적어도 하나의 프로브의 광학 이미지를 수집하는 것
중 적어도 하나를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 이용하는 방법.
산업상 이용 가능성
본원에 개시된 교정 척들, 프로브 시스템들, 및 방법들은 광학 장치 및 반도체 제조 및 테스트 산업들에 적용할 수 있다.
상기에서 제시된 개시는 독립적인 유용성을 구비한 다수의 구별되는 발명들을 포함하는 것으로 여겨진다. 이들 발명들의 각각은 그의 바람직한 형태로 개시되었지만, 본원에 개시되고 예시된 그의 특정 실시예들은 다양한 변형들이 가능하기 때문에 제한적인 의미로 고려되어서는 안된다. 본 발명들의 청구 대상은 본원에 개시된 다양한 요소들, 특징들, 기능들, 및/또는 특성들의 모든 신규하고 비자명한 조합들 및 하위 조합들(subcombinations)을 포함한다. 유사하게, 청구항들이 "하나의" 또는 "제1의" 요소 또는 그와 등가적인 것을 언급할 때, 그러한 청구항들은 하나 또는 둘 이상의 그러한 요소들의 통합(incorporation)을 포함하는 것으로 이해되어야 하며, 둘 또는 셋 이상의 그러한 요소들을 요구하지도 배제하지도 않는다.
다음의 청구항들은, 상기 개시된 발명들 중 하나에 관한 것이면서 신규하고 비자명한 특정한 조합들 및 하위 조합들을 특히 가리키는 것으로 생각된다. 특징들, 기능들, 요소들, 및/또는 특성들의 다른 조합들 및 하위 조합들로 구현된 발명들은 본 청구항들의 보정 또는 본원 또는 관련 출원에서 새로운 청구항들의 제시를 통해 청구될 수 있다. 상이한 발명에 관한 것이든 또는 동일한 발명에 관한 것이든, 범위에 있어서 최초 청구항들과 상이하든, 더 넓든, 더 좁든, 또는 동일하든, 이러한 보정된 또는 새로운 청구항들은 또한 본 개시의 발명들의 청구 대상 내에 포함되는 것으로 간주된다.
Claims (27)
- 광학 프로브 시스템을 위한 교정 척으로서,
교정 척 지지 표면을 형성하는 교정 척 본체; 및
상기 교정 척 본체에 의해 지지되는 적어도 하나의 광학 교정 기구로서, 상기 적어도 하나의 광학 교정 기구는, 상기 교정 척 지지 표면의 수직으로 위에 위치되는 상기 광학 프로브 시스템의 이미징 장치를 통해 상기 교정 척 지지 표면에 적어도 실질적으로 평행한 수평 보기 방향으로부터 수평으로 본 영역의 보기를 가능하게 하도록 구성되는 수평 보기 기구를 포함하는, 상기 적어도 하나의 광학 교정 기구
를 포함하는,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제1항에 있어서,
상기 교정 척은 교정 기판을 포함하고, 추가적으로 상기 수평으로 본 영역은 상기 교정 기판의 교정 기판 에지를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제2항에 있어서,
상기 교정 기판 에지는, 상기 교정 척 지지 표면에 적어도 실질적으로 평행한, 상기 교정 기판의 수평 교정 기판 표면과 상기 교정 척 지지 표면에 적어도 실질적으로 평행한, 상기 교정 기판의 수직 교정 기판 표면 사이에서의 전이를 형성하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제3항에 있어서,
상기 교정 기판은 상기 교정 기판 에지에 근접하게 상기 광학 프로브 시스템의 광학 프로브의 정렬을 가능하게 하도록 그리고 또한 상기 수평 교정 기판 표면의 수직으로 위로 상기 광학 프로브 시스템의 거리 센서의 정렬을 가능하게 하도록 구성되는 노치형 영역을 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제1항에 있어서,
상기 수평 보기 기구는, 상기 교정 척 지지 표면에 대해 스큐 거울 표면각으로 연장하는 평면 거울 표면을 형성하는 거울을 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제1항에 있어서,
상기 수평 보기 기구는, 상기 수평 보기 방향을 적어도 부분적으로 따라서 지향되는 수평 광 비임으로 상기 수평으로 본 영역을 조명하도록 구성되는 수평 조명 조립체를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제6항에 있어서,
상기 수평 조명 조립체는 상기 수평으로 본 영역을 후방-조명하도록 구성되는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제6항에 있어서,
상기 수평 조명 조립체는 조명 광 비임을 생성하도록 구성된 수평 조명 조립체 광원을 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제8항에 있어서,
상기 수평 조명 조립체는 상기 수평으로 본 영역을 후방-조명하기 위해 상기 조명 광 비임을 반사하도록 구성된 수평 조명 조립체 반사 표면을 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제9항에 있어서,
상기 수평 조명 조립체는 상기 수평 조명 조립체 반사 표면의 배향을 선택적으로 조정하도록 구성된 수평 조명 조립체 조정 메커니즘을 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제1항에 있어서,
상기 수평 보기 기구는 상기 교정 척 지지 표면의 수직으로 위로 연장하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제1항에 있어서,
상기 수평 보기 기구는 제1 수평 보기 기구이고, 상기 수평으로 본 영역은 제1 수평으로 본 영역이고, 상기 수평 보기 방향은 제1 수평 보기 방향이고, 추가적으로 상기 적어도 하나의 광학 교정 기구는 상기 교정 척 지지 표면에 평행하거나, 또는 적어도 실질적으로 평행한 제2 수평 보기 방향으로부터 제2 수평으로 본 영역의 보기를 가능하게 하도록 구성되는 제2 수평 보기 기구를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제12항에 있어서,
상기 제2 수평 보기 방향은 상기 제1 수평 보기 방향에 적어도 실질적으로 수직인 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제1항에 있어서,
상기 적어도 하나의 광학 교정 기구는, 상기 교정 척 지지 표면의 수직으로 위에 위치된 상기 광학 프로브 시스템의 이미징 장치를 통해 상기 교정 척 지지 표면에 적어도 실질적으로 수직인 수직 보기 방향으로부터 수직으로 본 영역의 보기를 가능하게 하도록 구성된 수직 보기 기구를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제14항에 있어서,
상기 수직 보기 기구는 상기 수직으로 본 영역의 보기를 가능하게 하기 위해 적어도 하나의 반사를 이용하도록 구성되는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제14항에 있어서,
상기 수직 보기 기구는:
(i) 각기둥;
(ii) 직각기둥; 및
(iii) 섬유 조립체를 구비한 굴절률 분포형 렌즈
중 적어도 하나를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제14항에 있어서,
상기 수직 보기 기구는 상기 교정 척 본체 내부에 적어도 부분적으로 내장되어 있는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제14항에 있어서,
상기 수직 보기 기구는 적어도 하나의 광학적 반사 표면을 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제1항에 있어서,
상기 적어도 하나의 광학 교정 기구는 상기 광학 프로브 시스템의 적어도 두 개의 광학 프로브들 사이에서 상대적인 정렬을 가능하게 하도록 구성된 프로브 정렬 기구를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제1항에 있어서,
상기 적어도 하나의 광학 교정 기구는 그 위에 입사하는 광을 검출하도록 구성된 교정 척 광 검출기를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제20항에 있어서,
상기 교정 척 광 검출기는 상기 이미징 장치의 수직 보기 방향에 적어도 실질적으로 평행한 검출 방향으로부터 광을 검출하도록 구성된 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제20항에 있어서,
상기 교정 척 광 검출기는 교정 척 포토 검출기, 교정 척 포토 다이오드, 및 광파워 미터 중 적어도 하나를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제20항에 있어서,
상기 교정 척은 상기 교정 척 광 검출기와 관련되는 폐색성 교정 기구를 추가적으로 포함하고, 상기 폐색성 교정 기구는 상기 교정 척 광 검출기를 향하도록 지향되는 광학 신호의 부분을 선택적으로 방해하도록 구성되는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제23항에 있어서,
상기 폐색성 교정 기구는 나이프 에지 교정 기구 및 핀홀 교정 기구 중 적어도 하나를 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 제1항에 있어서,
상기 교정 척은 광학 장치를 수용하도록 구성된 다이 홀더를 추가적으로 포함하는 것인,
광학 프로브 시스템을 위한 교정 척.
- 광학 프로브 시스템으로서,
복수의 광학 장치들을 포함하는 장치 기판을 지지하도록 구성된 장치 기판 지지 표면을 형성하는 장치 기판 척;
적어도 하나의 광학 프로브를 포함하는 광학 프로브 조립체;
상기 적어도 하나의 광학 프로브에 광학 테스트 신호를 제공하는 것 및 상기 적어도 하나의 광학 프로브로부터 광학 결과 신호를 수신하는 것 중 적어도 하나를 수행하도록 구성된 신호 생성 및 분석 조립체;
제1항에 따른 교정 척; 및
상기 장치 기판 척 및 상기 교정 척의 수직으로 위에 위치된 상기 이미징 장치
를 포함하는,
광학 프로브 시스템.
- 제26항에 따른 광학 프로브 시스템을 이용하는 방법에 있어서,
상기 적어도 하나의 광학 교정 기구와 상기 적어도 하나의 광학 프로브를 정렬하는 단계; 및
상기 적어도 하나의 광학 프로브를 이용하고 상기 적어도 하나의 광학 교정 기구를 이용하여 데이터를 수집하는 단계
를 포함하는,
광학 프로브 시스템을 이용하는 방법.
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