KR20210144593A - Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern - Google Patents
Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern Download PDFInfo
- Publication number
- KR20210144593A KR20210144593A KR1020210064337A KR20210064337A KR20210144593A KR 20210144593 A KR20210144593 A KR 20210144593A KR 1020210064337 A KR1020210064337 A KR 1020210064337A KR 20210064337 A KR20210064337 A KR 20210064337A KR 20210144593 A KR20210144593 A KR 20210144593A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- group
- salt
- carbon atoms
- formula
- hydrocarbon group
- Prior art date
Links
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 title claims abstract description 614
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 158
- 239000002253 acid Substances 0.000 title claims abstract description 95
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 190
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 99
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 78
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 56
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims abstract description 28
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims abstract description 17
- 150000002891 organic anions Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 12
- -1 sulfonic acid anion Chemical class 0.000 claims description 471
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 421
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 188
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 158
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 112
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 102
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 102
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 92
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 81
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 78
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 74
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 59
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 45
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 45
- 125000005196 alkyl carbonyloxy group Chemical group 0.000 claims description 35
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 34
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 17
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000005083 alkoxyalkoxy group Chemical group 0.000 claims description 14
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 14
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 248
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 90
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 88
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 72
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 60
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 54
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 48
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 45
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 42
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 38
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 32
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 32
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 32
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 32
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 30
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 30
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 26
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 26
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 25
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 25
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 23
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 21
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 19
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 19
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 19
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 19
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 18
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 18
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 18
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 18
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 18
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 17
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 16
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 16
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 16
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 15
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 15
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 15
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 15
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 13
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 13
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 12
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 12
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 12
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 12
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 12
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 12
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 150000008053 sultones Chemical group 0.000 description 12
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 12
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 11
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 11
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 11
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 10
- 125000005003 perfluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 10
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 10
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 10
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 10
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 9
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 9
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 9
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 9
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 9
- 125000005004 perfluoroethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 9
- 125000005005 perfluorohexyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 9
- 125000005008 perfluoropentyl group Chemical group FC(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 9
- 125000005009 perfluoropropyl group Chemical group FC(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 9
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 9
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 9
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 9
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 9
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 8
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 8
- 125000002592 cumenyl group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)C(C)C 0.000 description 8
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 8
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 description 8
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 7
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 7
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 7
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 7
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 7
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical group O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 6
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 6
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001316 cycloalkyl alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- 125000004351 phenylcyclohexyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)C1(CCCCC1)* 0.000 description 6
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 6
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 6
- SQQWBSBBCSFQGC-JLHYYAGUSA-N ubiquinone-2 Chemical compound COC1=C(OC)C(=O)C(C\C=C(/C)CCC=C(C)C)=C(C)C1=O SQQWBSBBCSFQGC-JLHYYAGUSA-N 0.000 description 6
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000005119 alkyl cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004350 aryl cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 5
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 4
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 4
- 125000006612 decyloxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- 150000002596 lactones Chemical group 0.000 description 4
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 4
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 4
- 125000005447 octyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBALTUBRZPIPZ-UHFFFAOYSA-N 2,6-di(propan-2-yl)aniline Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(C(C)C)=C1N WKBALTUBRZPIPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000005074 adamantylmethyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 125000005194 alkoxycarbonyloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 150000007942 carboxylates Chemical group 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 125000000000 cycloalkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005112 cycloalkylalkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 3
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical group O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004210 cyclohexylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical class OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005446 heptyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 125000004998 naphthylethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)CC* 0.000 description 3
- 125000004923 naphthylmethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C* 0.000 description 3
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 3
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000002958 pentadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004344 phenylpropyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 3
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 3
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000004642 (C1-C12) alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004209 (C1-C8) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-(2,4,6-trimethylphenyl)pent-4-en-2-one Chemical group CC(=C)CC(=O)Cc1c(C)cc(C)cc1C UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 4-methylimidazole Chemical compound CC1=CNC=N1 XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 4-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC=C1 FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004648 C2-C8 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N N-methylaniline Chemical compound CNC1=CC=CC=C1 AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000004702 alkoxy alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 2
- 125000004744 butyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000001793 charged compounds Chemical class 0.000 description 2
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 125000004186 cyclopropylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 2
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006125 ethylsulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 125000002960 margaryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 125000005187 nonenyl group Chemical group C(=CCCCCCCC)* 0.000 description 2
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- RNVCVTLRINQCPJ-UHFFFAOYSA-N ortho-methyl aniline Natural products CC1=CC=CC=C1N RNVCVTLRINQCPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N p-toluidine Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1 RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005460 perfluorocycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005459 perfluorocyclohexyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 2
- 125000005767 propoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[#8]C([H])([H])* 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 125000005920 sec-butoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010414 supernatant solution Substances 0.000 description 2
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000005931 tert-butyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(OC(*)=O)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-O thiolan-1-ium Chemical compound C1CC[SH+]C1 RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- ZWVMLYRJXORSEP-LURJTMIESA-N (2s)-hexane-1,2,6-triol Chemical compound OCCCC[C@H](O)CO ZWVMLYRJXORSEP-LURJTMIESA-N 0.000 description 1
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004191 (C1-C6) alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- PLVPPLCLBIEYEA-AATRIKPKSA-N (E)-3-(indol-3-yl)acrylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(/C=C/C(=O)O)=CNC2=C1 PLVPPLCLBIEYEA-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- OQZAQBGJENJMHT-UHFFFAOYSA-N 1,3-dibromo-5-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC(Br)=CC(Br)=C1 OQZAQBGJENJMHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBYHSSAVUBIJMK-UHFFFAOYSA-N 1,4-oxathiane Chemical group C1CSCCO1 JBYHSSAVUBIJMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBFHILNBYXCJKD-UHFFFAOYSA-N 1-(6-methylpyridin-3-yl)-2-(4-methylsulfonylphenyl)ethanone Chemical compound C1=NC(C)=CC=C1C(=O)CC1=CC=C(S(C)(=O)=O)C=C1 YBFHILNBYXCJKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 1-Heptene Chemical group CCCCCC=C ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUZMJVBOGDBMGI-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpropylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(CC)C1=CC=CC=C1 BUZMJVBOGDBMGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXZQYLBVMZGIKC-UHFFFAOYSA-N 1-pyridin-2-yl-n-(pyridin-2-ylmethyl)methanamine Chemical compound C=1C=CC=NC=1CNCC1=CC=CC=N1 KXZQYLBVMZGIKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLPZCIDHOZATMA-UHFFFAOYSA-N 2,2-dioxooxathiiran-3-one Chemical compound O=C1OS1(=O)=O OLPZCIDHOZATMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGLVDUUYFKXKPL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)-n,n-bis[2-(2-methoxyethoxy)ethyl]ethanamine Chemical compound COCCOCCN(CCOCCOC)CCOCCOC XGLVDUUYFKXKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBIBUCGCVLAPQG-UHFFFAOYSA-N 2-(2-pyridin-2-ylethyl)pyridine Chemical compound C=1C=CC=NC=1CCC1=CC=CC=N1 WBIBUCGCVLAPQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHKOAJUTRVTYSW-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-aminophenyl)methyl]aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1CC1=CC=CC=C1N OHKOAJUTRVTYSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKEOCEQLCZEBMK-BQYQJAHWSA-N 2-[(e)-2-pyridin-2-ylethenyl]pyridine Chemical compound C=1C=CC=NC=1/C=C/C1=CC=CC=N1 HKEOCEQLCZEBMK-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- ZWRWGKGPUFESNE-UHFFFAOYSA-M 2-carboxyphenolate;tetrabutylazanium Chemical compound OC1=CC=CC=C1C([O-])=O.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC ZWRWGKGPUFESNE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- KIZQNNOULOCVDM-UHFFFAOYSA-M 2-hydroxyethyl(trimethyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)CCO KIZQNNOULOCVDM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JBIJLHTVPXGSAM-UHFFFAOYSA-N 2-naphthylamine Chemical compound C1=CC=CC2=CC(N)=CC=C21 JBIJLHTVPXGSAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMFHUEMLVAIBFI-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=CC1=CC=CC=C1 FMFHUEMLVAIBFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRKPCXYPIHAOFI-UHFFFAOYSA-N 3-methylaniline Chemical compound [CH2]C1=CC=CC(N)=C1 FRKPCXYPIHAOFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WECDUOXQLAIPQW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Methylene bis(2-methylaniline) Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(CC=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 WECDUOXQLAIPQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHBAPGWWRFVTFS-UHFFFAOYSA-N 4,4'-dipyridyl disulfide Chemical compound C=1C=NC=CC=1SSC1=CC=NC=C1 UHBAPGWWRFVTFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGFJDEHFNMWYBD-UHFFFAOYSA-N 4-(2-pyridin-4-ylethenyl)pyridine Chemical compound C=1C=NC=CC=1C=CC1=CC=NC=C1 MGFJDEHFNMWYBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQRKTVIJNCVZAX-UHFFFAOYSA-N 4-(2-pyridin-4-ylethyl)pyridine Chemical compound C=1C=NC=CC=1CCC1=CC=NC=C1 DQRKTVIJNCVZAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRCWJXNJBQORGX-UHFFFAOYSA-N 4-(2-pyridin-4-yloxyethoxy)pyridine Chemical compound C=1C=NC=CC=1OCCOC1=CC=NC=C1 RRCWJXNJBQORGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGNCVVRIKNGJHQ-UHFFFAOYSA-N 4-(3-pyridin-4-ylpropyl)pyridine Chemical compound C=1C=NC=CC=1CCCC1=CC=NC=C1 OGNCVVRIKNGJHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHNUHZHQLCGZDA-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)ethyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CCC1=CC=C(N)C=C1 UHNUHZHQLCGZDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- TYMLOMAKGOJONV-UHFFFAOYSA-N 4-nitroaniline Chemical compound NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 TYMLOMAKGOJONV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGJOFCCBFCHEHK-UHFFFAOYSA-N 4-pyridin-4-ylsulfanylpyridine Chemical compound C=1C=NC=CC=1SC1=CC=NC=C1 XGJOFCCBFCHEHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 5-valerolactone Chemical group O=C1CCCCO1 OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N Adamantane Natural products C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical compound N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N Decylamine Chemical compound CCCCCCCCCCN MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical group C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJYIASZWHGOTOU-UHFFFAOYSA-N Heptylamine Chemical compound CCCCCCCN WJYIASZWHGOTOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSCCALZHGUWNJW-UHFFFAOYSA-N N-Cyclohexyl-N-methylcyclohexanamine Chemical compound C1CCCCC1N(C)C1CCCCC1 GSCCALZHGUWNJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJLYANLCNIKXMG-UHFFFAOYSA-N N-Methyldioctylamine Chemical compound CCCCCCCCN(C)CCCCCCCC YJLYANLCNIKXMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- YPWFISCTZQNZAU-UHFFFAOYSA-N Thiane Chemical group C1CCSCC1 YPWFISCTZQNZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N Triisopropanolamine Chemical compound CC(O)CN(CC(C)O)CC(C)O SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001231 benzoyloxy group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O* 0.000 description 1
- VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N beta-propiolactone Chemical group O=C1CCO1 VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N binaphthyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C1=CC=CC2=CC=CC=C12 ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- FGNLEIGUMSBZQP-UHFFFAOYSA-N cadaverine dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.NCCCCCN FGNLEIGUMSBZQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFKFTWBEEFSNDU-UHFFFAOYSA-N carbonyldiimidazole Chemical compound C1=CN=CN1C(=O)N1C=CN=C1 PFKFTWBEEFSNDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005708 carbonyloxy group Chemical group [*:2]OC([*:1])=O 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 125000004850 cyclobutylmethyl group Chemical group C1(CCC1)C* 0.000 description 1
- 125000000062 cyclohexylmethoxy group Chemical group [H]C([H])(O*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002933 cyclohexyloxy group Chemical group C1(CCCCC1)O* 0.000 description 1
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 1
- CSYSRRCOBYEGPI-UHFFFAOYSA-N diazo(sulfonyl)methane Chemical compound [N-]=[N+]=C=S(=O)=O CSYSRRCOBYEGPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URQUNWYOBNUYJQ-UHFFFAOYSA-N diazonaphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=[N]=[N])C=CC2=C1 URQUNWYOBNUYJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- QVQGTNFYPJQJNM-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethanamine Chemical compound C1CCCCC1C(N)C1CCCCC1 QVQGTNFYPJQJNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAWOZCWGWDVVSG-UHFFFAOYSA-N dioctylamine Chemical compound CCCCCCCCNCCCCCCCC LAWOZCWGWDVVSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- QPOWUYJWCJRLEE-UHFFFAOYSA-N dipyridin-2-ylmethanone Chemical compound C=1C=CC=NC=1C(=O)C1=CC=CC=N1 QPOWUYJWCJRLEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000005745 ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 1
- 125000006343 heptafluoro propyl group Chemical group 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- JJYPMNFTHPTTDI-UHFFFAOYSA-N meta-toluidine Natural products CC1=CC=CC(N)=C1 JJYPMNFTHPTTDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- ZQJAONQEOXOVNR-UHFFFAOYSA-N n,n-di(nonyl)nonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN(CCCCCCCCC)CCCCCCCCC ZQJAONQEOXOVNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLZGJKHEVKJLLS-UHFFFAOYSA-N n,n-diheptylheptan-1-amine Chemical compound CCCCCCCN(CCCCCCC)CCCCCCC CLZGJKHEVKJLLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N n,n-dihexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(CCCCCC)CCCCCC DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N n,n-dioctyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CCCCCCCC)CCCCCCCC XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N n,n-dipentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CCCCC)CCCCC OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBDGYADAMYMJNO-UHFFFAOYSA-N n-butyl-n-ethylbutan-1-amine Chemical compound CCCCN(CC)CCCC BBDGYADAMYMJNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTHFROHDIWGWFD-UHFFFAOYSA-N n-butyl-n-methylbutan-1-amine Chemical compound CCCCN(C)CCCC MTHFROHDIWGWFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGNSGUIRANPPSW-UHFFFAOYSA-N n-decyl-n-ethyldecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCN(CC)CCCCCCCCCC YGNSGUIRANPPSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATBNMWWDBWBAHM-UHFFFAOYSA-N n-decyl-n-methyldecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCN(C)CCCCCCCCCC ATBNMWWDBWBAHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMTCPFCMAHMEMT-UHFFFAOYSA-N n-decyldecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCNCCCCCCCCCC GMTCPFCMAHMEMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZAHTXZMBSBSFM-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-heptylheptan-1-amine Chemical compound CCCCCCCN(CC)CCCCCCC PZAHTXZMBSBSFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBZSKMOKRUBBGC-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-hexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(CC)CCCCCC ZBZSKMOKRUBBGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GESMBXUFPAHBOJ-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-nonylnonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN(CC)CCCCCCCCC GESMBXUFPAHBOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYSDFVPIAZIJAW-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-octyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CC)CCCCCCCC KYSDFVPIAZIJAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXAVTVNEDPAYJP-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-pentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CC)CCCCC PXAVTVNEDPAYJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXYHQXUPLKMYDE-UHFFFAOYSA-N n-heptyl-n-methylheptan-1-amine Chemical compound CCCCCCCN(C)CCCCCCC BXYHQXUPLKMYDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJWMENBYMFZACG-UHFFFAOYSA-N n-heptylheptan-1-amine Chemical compound CCCCCCCNCCCCCCC NJWMENBYMFZACG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- POMGZMHIXYRARC-UHFFFAOYSA-N n-hexyl-n-methylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(C)CCCCCC POMGZMHIXYRARC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXSXRABJBXYMFT-UHFFFAOYSA-N n-hexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCNCCCCCC PXSXRABJBXYMFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IITLRKXIQJEWFI-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-nonylnonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN(C)CCCCCCCCC IITLRKXIQJEWFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJRDPNRWFSHHKJ-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-pentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(C)CCCCC JJRDPNRWFSHHKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFHKEJIIHDNPQE-UHFFFAOYSA-N n-nonylnonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCNCCCCCCCCC MFHKEJIIHDNPQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JACMPVXHEARCBO-UHFFFAOYSA-N n-pentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCNCCCCC JACMPVXHEARCBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMMPCBAWTWYFLR-UHFFFAOYSA-N n-pyridin-2-ylpyridin-2-amine Chemical compound C=1C=CC=NC=1NC1=CC=CC=N1 HMMPCBAWTWYFLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 125000005246 nonafluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- FJDUDHYHRVPMJZ-UHFFFAOYSA-N nonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN FJDUDHYHRVPMJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005069 octynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C#C* 0.000 description 1
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- 125000005804 perfluoroheptyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005007 perfluorooctyl group Chemical group FC(C(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- CPOUUWYFNYIYLQ-UHFFFAOYSA-M tetra(propan-2-yl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC(C)[N+](C(C)C)(C(C)C)C(C)C CPOUUWYFNYIYLQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DCFYRBLFVWYBIJ-UHFFFAOYSA-M tetraoctylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCCCCCCC[N+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC DCFYRBLFVWYBIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABVVEAHYODGCLZ-UHFFFAOYSA-N tridecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCN ABVVEAHYODGCLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFPOZPZYPNVMHU-UHFFFAOYSA-M trimethyl-[3-(trifluoromethyl)phenyl]azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 BFPOZPZYPNVMHU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HADKRTWCOYPCPH-UHFFFAOYSA-M trimethylphenylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C1=CC=CC=C1 HADKRTWCOYPCPH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F13/00—Compounds containing elements of Groups 7 or 17 of the Periodic Table
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
- C07C309/01—Sulfonic acids
- C07C309/02—Sulfonic acids having sulfo groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C309/03—Sulfonic acids having sulfo groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton
- C07C309/17—Sulfonic acids having sulfo groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton containing carboxyl groups bound to the carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
- C07C323/10—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
- C07C323/18—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
- C07C323/20—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton with singly-bound oxygen atoms bound to carbon atoms of the same non-condensed six-membered aromatic ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
- C07C43/02—Ethers
- C07C43/257—Ethers having an ether-oxygen atom bound to carbon atoms both belonging to six-membered aromatic rings
- C07C43/295—Ethers having an ether-oxygen atom bound to carbon atoms both belonging to six-membered aromatic rings containing hydroxy or O-metal groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
- C07C43/30—Compounds having groups
- C07C43/315—Compounds having groups containing oxygen atoms singly bound to carbon atoms not being acetal carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/66—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
- C07C69/73—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of unsaturated acids
- C07C69/734—Ethers
- C07C69/736—Ethers the hydroxy group of the ester being etherified with a hydroxy compound having the hydroxy group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D309/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings
- C07D309/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D309/08—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D309/10—Oxygen atoms
- C07D309/12—Oxygen atoms only hydrogen atoms and one oxygen atom directly attached to ring carbon atoms, e.g. tetrahydropyranyl ethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D321/00—Heterocyclic compounds containing rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D317/00 - C07D319/00
- C07D321/02—Seven-membered rings
- C07D321/10—Seven-membered rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0384—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the main chain of the photopolymer
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
- G03F7/0392—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition
- G03F7/0397—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition the macromolecular compound having an alicyclic moiety in a side chain
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/06—Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring
- C07C2601/08—Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring the ring being saturated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
- C07C2601/14—The ring being saturated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
- C07C2601/16—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring the ring being unsaturated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2603/00—Systems containing at least three condensed rings
- C07C2603/56—Ring systems containing bridged rings
- C07C2603/58—Ring systems containing bridged rings containing three rings
- C07C2603/70—Ring systems containing bridged rings containing three rings containing only six-membered rings
- C07C2603/74—Adamantanes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
Description
[0001] 본 발명은, 염, 산 발생제, 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴의 제조 방법에 관한 것이다.[0001] The present invention relates to a salt, an acid generator, a resist composition, and a method for producing a resist pattern.
[0002] 특허문헌 1에는, 하기 식으로 나타내어지는 염을 산 발생제로서 함유하는 레지스트 조성물이 기재되어 있다.[0002] Patent Document 1 describes a resist composition containing a salt represented by the following formula as an acid generator.
비특허문헌 1에는, 하기 식으로 나타내어지는 염이 기재되어 있다.Non-patent document 1 describes a salt represented by the following formula.
[0003] 특허문헌 2에는, 하기 식으로 나타내어지는 염이 기재되어 있다.[0003] Patent Document 2 describes a salt represented by the following formula.
특허문헌 3에는, 하기 식으로 나타내어지는 염이 기재되어 있다.Patent Document 3 describes a salt represented by the following formula.
특허문헌 4에는, 하기 식으로 나타내어지는 염이 기재되어 있다.Patent Document 4 describes a salt represented by the following formula.
[0006] 본 발명은, 상기의 염을 함유하는 레지스트 조성물로부터 형성된 레지스트 패턴보다, CD 균일성(CDU; 임계 치수[Critical Dimension] 균일성)이 양호한 레지스트 패턴을 형성하는 염을 제공하는 것을 과제로 한다.[0006] An object of the present invention is to provide a salt that forms a resist pattern having better CD uniformity (Critical Dimension uniformity) than a resist pattern formed from a resist composition containing the salt. do.
[0007] 본 발명은, 이하의 발명을 포함한다.[0007] The present invention includes the following inventions.
[1] 식 (I)으로 나타내어지는 염.[1] A salt represented by formula (I).
[식 (I) 중,[In formula (I),
R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 히드록시기, -O-R10, -O-CO-O-R10, -O-L1-CO-O-R10을 나타낸다.R 1 and R 2 each independently represent a hydroxyl group, -OR 10 , -O-CO-OR 10 , or -OL 1 -CO-OR 10 .
L1은, 탄소수 1~6인 알칸디일기를 나타낸다.L 1 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
R4, R5, R7 및 R8은, 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1~12인 불화알킬기 또는 탄소수 1~18인 탄화수소기를 나타내고, 해당 탄화수소기는, 치환기를 가져도 되고, 해당 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-, -CO-, -S- 또는 -SO2-로 치환되어 있어도 된다.R 4 , R 5 , R 7 and R 8 each independently represent a halogen atom, a fluorinated alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, the hydrocarbon group may have a substituent, and the hydrocarbon group -CH 2 - contained may be substituted with -O-, -CO-, -S-, or -SO 2 -.
R10은, 산 불안정기를 나타낸다.R 10 represents an acid labile group.
X1 및 X2는, 각각 독립적으로, 산소 원자 또는 황 원자를 나타낸다.X 1 and X 2 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom.
m1은, 1~5 중 어느 하나의 정수(整數)를 나타내고, m1이 2 이상일 때, 복수의 괄호 내의 기(基)는 서로 동일해도 상이해도 된다.m1 represents the integer in any one of 1-5, and when m1 is 2 or more, the group in some parenthesis may mutually be same or different.
m2는, 0~5 중 어느 하나의 정수를 나타내고, m2가 2 이상일 때, 복수의 괄호 내의 기는 서로 동일해도 상이해도 된다.m2 represents the integer in any one of 0-5, and when m2 is 2 or more, the group in some parenthesis may mutually be same or different.
m4는, 0~4 중 어느 하나의 정수를 나타내고, m4가 2 이상일 때, 복수의 R4는 서로 동일해도 상이해도 된다.m4 represents the integer in any one of 0-4, and when m4 is 2 or more, some R<4> may mutually be same or different.
m5는, 0~4 중 어느 하나의 정수를 나타내고, m5가 2 이상일 때, 복수의 R5는 서로 동일해도 상이해도 된다.m5 represents the integer in any one of 0-4, and when m5 is 2 or more, some R<5> may mutually be same or different.
m7은, 0~4 중 어느 하나의 정수를 나타내고, m7이 2 이상일 때, 복수의 R7은 서로 동일해도 상이해도 된다.m7 represents the integer in any one of 0-4, and when m7 is 2 or more, some R<7> may mutually be same or different.
m8은, 0~5 중 어느 하나의 정수를 나타내고, m8이 2 이상일 때, 복수의 R8은 서로 동일해도 상이해도 된다.m8 represents the integer in any one of 0-5, and when m8 is 2 or more, some R<8> may mutually be same or different.
단, 1≤m1+m7≤5, 0≤m2+m8≤5이다.However, 1≤m1+m7≤5 and 0≤m2+m8≤5.
AI-는, 유기 음이온을 나타낸다.]AI - represents an organic anion.]
[2] X1 및 X2가 산소 원자인 [1]에 기재된 염.[2] The salt according to [1], wherein X 1 and X 2 are oxygen atoms.
[3] R10의 산 불안정기가, 식 (1a)로 나타내어지는 기 또는 식 (2a)로 나타내어지는 기인 [1] 또는 [2]에 기재된 염.[3] The salt according to [1] or [2], wherein the acid labile group of R 10 is a group represented by the formula (1a) or a group represented by the formula (2a).
[식 (1a) 중, Raa1, Raa2 및 Raa3은, 각각 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~8인 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 2~8인 알케닐기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 3~20인 지환식 탄화수소기, 혹은 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~18인 방향족 탄화수소기를 나타내거나, 또는 Raa1 및 Raa2는 서로 결합하여 이들이 결합하는 탄소 원자와 함께 탄소수 3~20인 지환식 탄화수소기를 형성한다.Equation (1a) of, R aa1, R aa2 and R aa3 is, may each independently have an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, an alkenyl group having a carbon number of 2-8 that may have a substituent the substituents represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms which may have a substituent, or R aa1 and R aa2 are bonded to each other and together with the carbon atom to which they are bonded, have 3 to 20 carbon atoms Forms an alicyclic hydrocarbon group.
*는 결합손을 나타낸다.]* indicates a bonding hand.]
[식 (2a) 중, Raa1' 및 Raa2'는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1~12인 탄화수소기를 나타내고, Raa3'는, 탄소수 1~20인 탄화수소기를 나타내거나, 또는 Raa2' 및 Raa3'는 서로 결합하여 이들이 결합하는 -C-Xa-와 함께 탄소수 3~20인 헤테로 고리기를 형성하고, 해당 탄화수소기 및 해당 헤테로 고리기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -S-로 치환되어도 된다.[In formula (2a), R aa1' and R aa2' each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and R aa3' represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or R aa2 ' and R aa3' combine with each other to form a heterocyclic group having 3 to 20 carbon atoms together with -CX a - to which they are bonded , and -CH 2 - included in the hydrocarbon group and the heterocyclic group is -O- or - It may be substituted with S-.
Xa는, 산소 원자 또는 황 원자를 나타낸다.X a represents an oxygen atom or a sulfur atom.
*는 결합손을 나타낸다.]* indicates a bonding hand.]
[4] R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 히드록시기, O-R10, -O-L1-CO-O-R10을 나타내는 [1]~[3] 중 어느 하나에 기재된 염.[4] The salt according to any one of [1] to [3], wherein R 1 and R 2 each independently represent a hydroxyl group, OR 10 , or -OL 1 -CO-OR 10 .
[5] m2가 0이고, m8이 1이고, R8이 분지 형상의 탄소수 3 또는 4인 알킬기인, [1]~[4] 중 어느 하나에 기재된 염.[5] The salt according to any one of [1] to [4], wherein m2 is 0, m8 is 1, and R 8 is a branched alkyl group having 3 or 4 carbon atoms.
[6] R1의 결합 위치가, X1의 결합 위치에 대해, p 위치에 결합해 있는 [1]~[5] 중 어느 하나에 기재된 염.[6] The salt according to any one of [1] to [5], wherein the bonding position of R 1 is bonded at the p position with respect to the bonding position of X 1 .
[7] AI-가, 설폰산 음이온, 설포닐이미드 음이온, 설포닐메티드 음이온 또는 카르복실산 음이온인 [1]~[6] 중 어느 하나에 기재된 염.[7] AI - salt according to the, sulfonic acid anion, any of the sulfonyl imide anion, a sulfonate anion or carboxylic acid anion suited nilme [1] to [6].
[8] AI-는 설폰산 음이온이고, 설폰산 음이온은 식 (I-A)로 나타내어지는 음이온인 [1]~[7] 중 어느 하나에 기재된 염.[8] The salt according to any one of [1] to [7], wherein AI − is a sulfonic acid anion, and the sulfonic acid anion is an anion represented by formula (IA).
[식 (I-A) 중,[In formula (I-A),
Q1 및 Q2는, 각각 독립적으로, 불소 원자 또는 탄소수 1~6인 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
L1은, 탄소수 1~24인 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 되고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L 1 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with -O- or -CO-, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is fluorine It may be substituted with an atom or a hydroxyl group.
Y1은, 치환기를 가지고 있어도 되는 메틸기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 3~24인 지환식 탄화수소기를 나타내고, 해당 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-, -SO2- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.]Y 1 represents a methyl group which may have a substituent or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 24 carbon atoms which may have a substituent, and -CH 2 - contained in the alicyclic hydrocarbon group is -O-, -SO 2 - or - It may be substituted with CO-.]
[9] [1]~[8] 중 어느 하나에 기재된 염을 함유하는 산 발생제.[9] An acid generator containing the salt according to any one of [1] to [8].
[10] [9]에 기재된 산 발생제와 산 불안정기를 가지는 수지를 함유하는 레지스트 조성물.[10] A resist composition comprising the acid generator according to [9] and a resin having an acid labile group.
[11] 산 불안정기를 가지는 수지가, 식 (a1-1)로 나타내어지는 구조 단위 및 식 (a1-2)로 나타내어지는 구조 단위로 이루어진 군(群)으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 [10]에 기재된 레지스트 조성물.[11] [10] wherein the resin having an acid-labile group contains at least one selected from the group consisting of a structural unit represented by formula (a1-1) and a structural unit represented by formula (a1-2). The resist composition according to ].
[식 (a1-1) 및 식 (a1-2) 중, [In formulas (a1-1) and (a1-2),
La1 및 La2는, 각각 독립적으로, -O- 또는 *-O-(CH2)k1-CO-O-를 나타내고, k1은 1~7 중 어느 하나의 정수를 나타내고, *는 -CO-와의 결합손을 나타낸다.L a1 and L a2 each independently represent -O- or *-O-(CH 2 ) k1 -CO-O-, k1 represents an integer of any one of 1 to 7, and * is -CO- represents a bond with
Ra4 및 Ra5는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 할로겐 원자를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~6인 알킬기를 나타낸다.R a4 and R a5 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
Ra6 및 Ra7은, 각각 독립적으로, 탄소수 1~8인 알킬기, 탄소수 2~8인 알케닐기, 탄소수 3~18인 지환식 탄화수소기, 탄소수 6~18인 방향족 탄화수소기 또는 이들을 조합한 기를 나타낸다.R a6 and R a7 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group combining them. .
m1은, 0~14 중 어느 하나의 정수를 나타낸다.m1 represents the integer in any one of 0-14.
n1은, 0~10 중 어느 하나의 정수를 나타낸다.n1 represents the integer in any one of 0-10.
n1'는, 0~3 중 어느 하나의 정수를 나타낸다.]n1' represents the integer in any one of 0-3.]
[12] 산 불안정기를 가지는 수지가, 식 (a2-A)로 나타내어지는 구조 단위를 포함하는 [10] 또는 [11]에 기재된 레지스트 조성물.[12] The resist composition according to [10] or [11], wherein the resin having an acid labile group includes a structural unit represented by formula (a2-A).
[식 (a2-A) 중,[In formula (a2-A),
Ra50은, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 할로겐 원자를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~6인 알킬기를 나타낸다.R a50 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
Ra51은, 할로겐 원자, 히드록시기, 탄소수 1~6인 알킬기, 탄소수 1~6인 알콕시기, 탄소수 2~12인 알콕시알킬기, 탄소수 2~12인 알콕시알콕시기, 탄소수 2~4인 알킬카르보닐기, 탄소수 2~4인 알킬카르보닐옥시기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기를 나타낸다.R a51 is a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxyalkyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxyalkoxy group having 2 to 12 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, and an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms. An alkylcarbonyloxy group, acryloyloxy group or methacryloyloxy group which is 2-4 is represented.
Aa50은, 단결합 또는 *-Xa51-(Aa52-Xa52)nb-를 나타내고, *는 -Ra50이 결합하는 탄소 원자와의 결합손을 나타낸다.A a50 represents a single bond or * -X a51 -(A a52 -X a52 ) nb -, and * represents a bond with the carbon atom to which -R a50 is bonded.
Aa52는, 탄소수 1~6인 알칸디일기를 나타낸다.A a52 represents a C1-C6 alkanediyl group.
Xa51 및 Xa52는, 각각 독립적으로, -O-, -CO-O- 또는 -O-CO-를 나타낸다.X a51 and X a52 each independently represent -O-, -CO-O- or -O-CO-.
nb는, 0 또는 1을 나타낸다.nb represents 0 or 1.
mb는 0~4 중 어느 하나의 정수를 나타낸다. mb가 2 이상의 어느 하나의 정수인 경우, 복수의 Ra51은 서로 동일해도 상이해도 된다.]mb represents any integer from 0 to 4. When mb is any integer of 2 or more, a plurality of R a51 may be the same or different from each other.]
[13] 산 발생제로부터 발생하는 산보다도 산성도가 약한 산을 발생시키는 염을 더 함유하는 [10]~[12] 중 어느 하나에 기재된 레지스트 조성물.[13] The resist composition according to any one of [10] to [12], further comprising a salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator.
[14] (1) [10]~[13] 중 어느 하나에 기재된 레지스트 조성물을 기판 상에 도포하는 공정,[14] (1) a step of applying the resist composition according to any one of [10] to [13] on a substrate;
(2) 도포 후의 조성물을 건조시켜 조성물층을 형성하는 공정,(2) drying the composition after application to form a composition layer;
(3) 조성물층에 노광하는 공정,(3) a step of exposing the composition layer;
(4) 노광 후의 조성물층을 가열하는 공정, 및 (4) heating the composition layer after exposure, and
(5) 가열 후의 조성물층을 현상하는 공정을 포함하는 레지스트 패턴의 제조 방법.(5) The manufacturing method of a resist pattern including the process of developing the composition layer after heating.
[0008] 본 발명의 염을 함유하는 레지스트 조성물을 사용함으로써, 양호한 CD 균일성(CDU)으로 레지스트 패턴을 제조할 수 있다.[0008] By using the resist composition containing the salt of the present invention, it is possible to produce a resist pattern with good CD uniformity (CDU).
[0009] 본 명세서에 있어서, 「(메타)아크릴계 모노머」란, 「아크릴계 모노머 및 메타크릴계 모노머 중 적어도 1종」을 의미한다. 「(메타)아크릴레이트」 및 「(메타)아크릴산」 등의 표기도, 마찬가지의 의미를 나타낸다. 본 명세서 중에 기재하는 기에 있어서, 직쇄 구조와 분기 구조 양쪽 모두를 취할 수 있는 것에 대해서는, 그 어느 것이어도 된다. 탄화수소기 등에 포함되는 -CH2-가 -O-, -S-, -CO- 또는 -SO2-로 치환되는 경우, 각 기에 있어서 동일한 예를 적용하는 것으로 한다. 「조합한 기」란, 예시한 기를 2종 이상 결합시킨 기를 의미하고, 이들 기의 가수(價數)는 결합 형태에 따라 적절히 변경해도 된다. 「유래한다」 또는 「유도된다」란, 그 분자 중에 포함되는 중합성 C=C 결합이 중합에 의해 -C-C-기가 되는 것을 가리킨다. 입체 이성체가 존재하는 경우는, 모든 입체 이성체를 포함한다.[0009] In the present specification, "(meth)acrylic monomer" means "at least one type of an acrylic monomer and a methacrylic monomer". Notations, such as "(meth)acrylate" and "(meth)acrylic acid", also show the same meaning. The group described in this specification WHEREIN: About the thing which can take both a linear structure and a branched structure, any may be sufficient. When -CH 2 - contained in a hydrocarbon group or the like is substituted with -O-, -S-, -CO- or -SO 2 -, the same example applies to each group. "Combined group" means the group which couple|bonded 2 or more types of the illustrated groups, You may change suitably the valence of these groups according to the bonding form. "Derived" or "derived" indicates that the polymerizable C=C bond contained in the molecule becomes a -CC- group by polymerization. When stereoisomers exist, all stereoisomers are included.
[0010] 〔식 (I)으로 나타내어지는 염〕[Salt Represented by Formula (I)]
본 발명은, 식 (I)으로 나타내어지는 염(이하 「염(I)」이라고 하는 경우가 있음)에 관한 것이다.The present invention relates to a salt represented by formula (I) (hereinafter sometimes referred to as “salt (I)”).
염(I) 중, 음전하를 가지는 측을 「음이온(I)」, 양전하를 가지는 측을 「양이온(I)」이라고 칭하는 경우가 있다.Among salts (I), the side having a negative charge is sometimes called "anion (I)", and the side having a positive charge is called "cation (I)" in some cases.
[식 중, 모든 부호는, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.][In the formula, all the symbols each have the same meaning as above.]
[0011] 식 (I)에 있어서, R1 및 R2에 포함되는 L1에 있어서의 알칸디일기로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기 등의 직쇄 형상 알칸디일기; 및[0011] In Formula (I), as the alkanediyl group in L 1 included in R 1 and R 2 , a methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group linear alkanediyl groups such as diyl, pentane-1,5-diyl group and hexane-1,6-diyl group; and
에탄-1,1-디일기, 프로판-1,1-디일기, 프로판-1,2-디일기, 프로판-2,2-디일기, 펜탄-2,4-디일기, 2-메틸프로판-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,2-디일기, 펜탄-1,4-디일기, 2-메틸부탄-1,4-디일기 등의 분기 형상 알칸디일기를 들 수 있다.Ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2,4-diyl group, 2-methylpropane- and branched alkanediyl groups such as 1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, and 2-methylbutane-1,4-diyl group. .
L1은, 탄소수 1~3인 알칸디일기인 것이 바람직하고, 메틸렌기인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is a C1-C3 alkanediyl group, and, as for L<1>, it is more preferable that it is a methylene group.
[0012] R1 및 R2에 포함되는 R10의 산 불안정기란, 산(예컨대 트리플루오로메탄설폰산)과 접촉하면 R10으로 나타내어지는 기가 이탈되어, 카르복시기 또는 히드록시기를 형성하는 기를 의미한다.[0012] The acid labile group of R 10 included in R 1 and R 2 means a group that forms a carboxy group or a hydroxy group by leaving the group represented by R 10 when it comes into contact with an acid (eg, trifluoromethanesulfonic acid).
산 불안정기로서는, 식 (1a)로 나타내어지는 기(이하, 경우에 따라 「산 불안정기(1a)」라고 함.), 식 (2a)로 나타내어지는 기(이하, 경우에 따라 「산 불안정기(2a)」라고 함.)가 바람직하다.Examples of the acid-labile group include a group represented by the formula (1a) (hereinafter sometimes referred to as “acid-labile group (1a)”), a group represented by the formula (2a) (hereinafter sometimes referred to as “acid-labile group”). (2a)") is preferable.
[식 (1a) 중, Raa1, Raa2 및 Raa3은, 각각 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~8인 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 2~8인 알케닐기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 3~20인 지환식 탄화수소기, 혹은 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~18인 방향족 탄화수소기를 나타내거나, 또는 Raa1 및 Raa2는 서로 결합하여 이들이 결합하는 탄소 원자와 함께 탄소수 3~20인 지환식 탄화수소기를 형성한다.Equation (1a) of, R aa1, R aa2 and R aa3 is, may each independently have an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, an alkenyl group having a carbon number of 2-8 that may have a substituent the substituents represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms which may have a substituent, or R aa1 and R aa2 are bonded to each other and together with the carbon atom to which they are bonded, have 3 to 20 carbon atoms Forms an alicyclic hydrocarbon group.
*는 결합손을 나타낸다.]* indicates a bonding hand.]
[식 (2a) 중, Raa1' 및 Raa2'는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1~12인 탄화수소기를 나타내고, Raa3'는, 탄소수 1~20인 탄화수소기를 나타내거나, 또는 Raa2' 및 Raa3'는 서로 결합하여 이들이 결합하는 -C-Xa-와 함께 탄소수 3~20인 헤테로 고리기를 형성하고, 해당 탄화수소기 및 해당 헤테로 고리기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -S-로 치환되어도 된다.[In formula (2a), R aa1' and R aa2' each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and R aa3' represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or R aa2 ' and R aa3' combine with each other to form a heterocyclic group having 3 to 20 carbon atoms together with -CX a - to which they are bonded , and -CH 2 - included in the hydrocarbon group and the heterocyclic group is -O- or - It may be substituted with S-.
Xa는, 산소 원자 또는 황 원자를 나타낸다.X a represents an oxygen atom or a sulfur atom.
*는 결합손을 나타낸다.]* indicates a bonding hand.]
[0013] Raa1, Raa2 및 Raa3의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, n-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기 등을 들 수 있다. Raa1, Raa2 및 Raa3의 알킬기의 탄소수는, 바람직하게는 1~6이고, 보다 바람직하게는 1~3이다.[0013] R aa1, aa2 R and R alkyl group of aa3, methyl, ethyl, propyl, n- butyl, n- pentyl, n- hexyl, n- heptyl, n- octyl group, etc. include have. R aa1, aa2 carbon number of the alkyl group of R and R aa3 is preferably 1-6, more preferably 1-3.
Raa1, Raa2 및 Raa3의 알케닐기로서는, 에텐일기, 프로펜일기, 이소프로펜일기, 부텐일기, 이소부텐일기, tert-부텐일기, 펜텐일기, 헥센일기, 헵텐일기, 옥틴일기, 이소옥틴일기, 노넨일기를 들 수 있다.As the alkenyl group of R aa1, aa2 R and R aa3, ethene group, propene group, iso-propene group, butene group, isobutene group, tert- butene group, a pentene group, a hexene group, a heptene group, oktin group, iso Octynyl group and nonenyl group are mentioned.
Raa1, Raa2 및 Raa3의 지환식 탄화수소기는, 단환식 및 다환식 중 어느 것이어도 된다. 단환식의 지환식 탄화수소기로서는, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기 등의 시클로알킬기를 들 수 있다. 다환식의 지환식 탄화수소기로서는, 예컨대, 데카히드로나프틸기, 아다만틸기, 노보닐기 및 하기의 기(*는 결합손을 나타냄.) 등을 들 수 있다. Raa1, Raa2 및 Raa3의 지환식 탄화수소기의 탄소수는, 바람직하게는 3~16이고, 보다 바람직하게는 3~12이다.R aa1, aa2 group is an alicyclic hydrocarbon group of R and R aa3, is even and is any one of a monocyclic cyclic. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include cycloalkyl groups such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group and a cyclooctyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group, and the following groups (* represents a bond). R aa1, the carbon number of the alicyclic hydrocarbon group of R aa2 and aa3 R is preferably 3-16, more preferably 3-12.
Raa1, Raa2 및 Raa3의 방향족 탄화수소기로서는, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 비페닐기, 페난트릴기 등의 아릴기를 들 수 있다. Raa1, Raa2 및 Raa3의 방향족 탄화수소기의 탄소수는, 바람직하게는 6~14이고, 보다 바람직하게는 6~10이다.R aa1, aa2, and R as the aromatic hydrocarbon group of R aa3, there may be mentioned a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a biphenyl group, an aryl group such as a phenanthryl group. R aa1, the number of carbon atoms of the aromatic hydrocarbon group of R aa2 and aa3 R is preferably 6-14, more preferably 6-10.
[0014] 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~8인 알킬기의 치환기로서는, 탄소수 2~8인 알케닐기, 탄소수 3~20인 지환식 탄화수소기, 탄소수 6~18인 방향족 탄화수소기를 들 수 있다. 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 2~8인 알케닐기의 치환기로서는, 탄소수 1~8인 알킬기, 탄소수 3~20인 지환식 탄화수소기, 탄소수 6~18인 방향족 탄화수소기를 들 수 있다. 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 3~20인 지환식 탄화수소기의 치환기로서는, 탄소수 1~8인 알킬기, 탄소수 2~8인 알케닐기, 탄소수 6~18인 방향족 탄화수소기를 들 수 있다. 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~18인 방향족 탄화수소기의 치환기로서는, 탄소수 1~8인 알킬기, 탄소수 2~8인 알케닐기, 탄소수 3~20인 지환식 탄화수소기를 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 상술한 알킬기와 지환식 탄화수소기를 조합한 기(예컨대, 메틸시클로헥실기, 디메틸시클로헥실기, 메틸노보닐기, 시클로헥실메틸기, 아다만틸메틸기, 아다만틸디메틸기, 노보닐에틸기 등의 알킬시클로알킬기 또는 시클로알킬알킬기), 벤질기 등의 아랄킬기, 알킬기를 가지는 방향족 탄화수소기(p-메틸페닐기, p-tert-부틸페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 쿠메닐기, 메시틸기, 2,6-디에틸페닐기, 2-메틸-6-에틸페닐기 등), 지환식 탄화수소기를 가지는 방향족 탄화수소기(p-시클로헥실페닐기, p-아다만틸페닐기 등), 페닐시클로헥실기 등의 아릴-시클로알킬기 등등을 들 수 있다.Examples of the substituent of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent include an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms. As a substituent of the C2-C8 alkenyl group which may have a substituent, a C1-C8 alkyl group, a C3-C20 alicyclic hydrocarbon group, and a C6-C18 aromatic hydrocarbon group are mentioned. As a substituent of the C3-C20 alicyclic hydrocarbon group which may have a substituent, a C1-C8 alkyl group, a C2-C8 alkenyl group, and a C6-C18 aromatic hydrocarbon group are mentioned. Examples of the substituent of the aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms which may have a substituent include an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, and an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms. More specifically, a group combining the above-mentioned alkyl group and alicyclic hydrocarbon group (eg, methylcyclohexyl group, dimethylcyclohexyl group, methylnorbornyl group, cyclohexylmethyl group, adamantylmethyl group, adamantyldimethyl group, norbornyl group) Alkylcycloalkyl group or cycloalkylalkyl group such as ethyl group), aralkyl group such as benzyl group, aromatic hydrocarbon group having an alkyl group (p-methylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group) , 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.), aromatic hydrocarbon group having an alicyclic hydrocarbon group (p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.), phenylcyclohexyl group, etc. an aryl-cycloalkyl group; and the like.
[0015] Raa1 및 Raa2가 서로 결합하여 탄소 원자와 함께 지환식 탄화수소기를 형성하는 경우의 -C(Raa1)(Raa2)(Raa3)으로서는, 하기의 기를 들 수 있다. 지환식 탄화수소기는, 바람직하게는 3~16이고, 보다 바람직하게는 탄소수 3~12이다. *는 -O-와의 결합손을 나타낸다.[0015] may be bonded to each other is R R aa1 and aa2 as -C (R aa1) (R aa2 ) (R aa3) in the case of forming an alicyclic hydrocarbon group together with the carbon atom, a group of the. An alicyclic hydrocarbon group becomes like this. Preferably it is 3-16, More preferably, it is C3-C12. * represents a bond with -O-.
[0016] 식 (1a)로 나타내어지는 기로서는, 1,1,1-트리알킬기(식 (1a) 중에 있어서 Raa1, Raa2 및 Raa3이 알킬기인 기, 바람직하게는 tert-부톡시카르보닐기), 2-알킬아다만탄-2-일기(식 (1a) 중, Raa1, Raa2 및 이들이 결합하는 탄소 원자가 아다만틸기를 형성하고, Raa3이 알킬기인 기) 및 1-(아다만탄-1-일)-1,1-디알킬기(식 (1a) 중, Raa1 및 Raa2가 알킬기이고, Raa3이 아다만틸기인 기) 등을 들 수 있다.[0016] formula (1a) as the groups represented by, 1,1,1-tree group (formula (1a) in the R aa1, aa2 R and R is an alkyl group of aa3 group, preferably a tert- butoxycarbonyl group) , 2-alkyladamantan -2-yl group (in formula (1a), R aa1 , R aa2 and the carbon atom to which they are bonded form an adamantyl group, and R aa3 is an alkyl group) and 1-(adamantane) of 1-yl) -1,1-di-alkyl (formula (1a), R and R aa1 and aa2 is an alkyl group, R aa3 is ah, and the like due adamantyl group).
[0017] Raa1', Raa2' 및 Raa3'의 탄화수소기로서는, 알킬기, 지환식 탄화수소기, 방향족 탄화수소기 및 이들을 조합함으로써 형성되는 기 등을 들 수 있다.[0017] Examples of the hydrocarbon group of R aa1' , R aa2' and R aa3' include an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a group formed by combining these groups.
알킬기 및 지환식 탄화수소기는, Raa1, Raa2 및 Raa3으로 예시한 기와 동일한 것을 들 수 있다.Alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group, a group illustrated as R aa1, aa2 R and R aa3 are the same.
방향족 탄화수소기로서는, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 비페닐기, 페난트릴기 등의 아릴기 등을 들 수 있다.As an aromatic hydrocarbon group, aryl groups, such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a biphenyl group, and a phenanthryl group, etc. are mentioned.
조합한 기로서는, 상술한 알킬기와 지환식 탄화수소기를 조합한 기(예컨대, 메틸시클로헥실기, 디메틸시클로헥실기, 메틸노보닐기, 시클로헥실메틸기, 아다만틸메틸기, 아다만틸디메틸기, 노보닐에틸기 등의 시클로알킬알킬기 또는 알킬시클로알킬기), 벤질기 등의 아랄킬기, 알킬기를 가지는 방향족 탄화수소기(p-메틸페닐기, p-tert-부틸페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 쿠메닐기, 메시틸기, 2,6-디에틸페닐기, 2-메틸-6-에틸페닐기 등), 지환식 탄화수소기를 가지는 방향족 탄화수소기(p-시클로헥실페닐기, p-아다만틸페닐기 등), 페닐시클로헥실기 등의 아릴-시클로알킬기 등을 들 수 있다.As a combined group, the group which combined the above-mentioned alkyl group and alicyclic hydrocarbon group (for example, methylcyclohexyl group, dimethylcyclohexyl group, methylnorbornyl group, cyclohexylmethyl group, adamantylmethyl group, adamantyldimethyl group, norbornyl group) A cycloalkylalkyl group or alkylcycloalkyl group such as an ethyl group), an aralkyl group such as a benzyl group, or an aromatic hydrocarbon group having an alkyl group (p-methylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group) , 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.), aromatic hydrocarbon group having an alicyclic hydrocarbon group (p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.), phenylcyclohexyl group, etc. An aryl-cycloalkyl group etc. are mentioned.
Raa2' 및 Raa3'가 서로 결합하여 이들이 결합하는 탄소 원자 및 Xa와 함께 헤테로 고리기를 형성하는 경우, -C(Raa1')(Raa2')-Xa-(Raa3')로서는, 하기의 기를 들 수 있다. *는, 결합손을 나타낸다. Aa2 R 'and R aa3' a case of forming a heterocyclic group together with the carbon atom and X a which they are attached are bonded to each other, -C (R aa1 ') ( R aa2') -X a - (R aa3 ') as the , the following groups are mentioned. * represents a bond.
Raa1' 및 Raa2' 중, 적어도 하나는 수소 원자인 것이 바람직하다.It is preferable that at least one of R aa1' and R aa2' is a hydrogen atom.
[0018] 산 불안정기(1a)의 구체적인 예로서는, 이하의 기를 들 수 있다. *는 결합손을 나타낸다.Specific examples of the acid labile group (1a) include the following groups. * indicates a bond.
[0019] 산 불안정기(2a)의 구체적인 예로서는, 이하의 기를 들 수 있다. *는 결합손을 나타낸다.Specific examples of the acid labile group (2a) include the following groups. * indicates a bond.
R1 및 R2의 결합 위치는, 각각 X1 및 X2의 결합 위치에 대해 о 위치, m 위치, p 위치 중 어디여도 된다. 그 중에서도, X1 및 X2의 결합 위치에 대해 p 위치에 결합해 있는 것이 바람직하다.The bonding position of R 1 and R 2 may be any of the o position, the m position, and the p position with respect to the bonding position of X 1 and X 2 , respectively. Among these, it is preferable to couple|bond with the p-position with respect to the bonding position of X<1> and X<2>.
R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 히드록시기, -O-R10 또는 -O-L1-CO-O-R10인 것이 바람직하고, 각각 독립적으로, -O-R10 또는 -O-L1-CO-O-R10인 것이 보다 바람직하다.R 1 and R 2 are each independently preferably a hydroxyl group, -OR 10 or -OL 1 -CO-OR 10 , each independently more preferably -OR 10 or -OL 1 -CO-OR 10 do.
[0020] R4, R5, R7 및 R8의 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자 등을 들 수 있다.[0020] Examples of the halogen atom of R 4 , R 5 , R 7 and R 8 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
R4, R5, R7 및 R8의 탄소수 1~6인 불화알킬기란, 불소 원자를 가지는 탄소수 1~6인 알킬기를 나타내고, 탄소수 1~6인 퍼플루오로알킬기(트리플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기, 헵타플루오로프로필기, 노나플루오로부틸기), 그리고 2,2,2-트리플루오로에틸기, 3,3,3-트리플루오로프로필기, 4,4,4-트리플루오로부틸기, 및 3,3,4,4,4-펜타플루오로부틸기 등을 들 수 있다. 불화알킬기의 탄소수는, 바람직하게는 1~4이고, 보다 바람직하게는 1~3이다.The fluorinated alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in R 4 , R 5 , R 7 and R 8 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms having a fluorine atom, and a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms (trifluoromethyl group, penta fluoroethyl group, heptafluoropropyl group, nonafluorobutyl group), and 2,2,2-trifluoroethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 4,4,4-trifluoro butyl group and 3,3,4,4,4-pentafluorobutyl group. Carbon number of a fluorinated alkyl group becomes like this. Preferably it is 1-4, More preferably, it is 1-3.
R4, R5, R7 및 R8의 탄소수 1~18인 탄화수소기로서는, 알킬기 등의 사슬식 탄화수소기, 지환식 탄화수소기, 방향족 탄화수소기 및 이들을 조합함으로써 형성되는 기를 들 수 있다.Examples of the hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms for R 4 , R 5 , R 7 and R 8 include a chain hydrocarbon group such as an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a group formed by combining these groups.
알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 2-에틸헥실기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기 및 도데실기 등을 들 수 있다. 알킬기의 탄소수는, 바람직하게는 1~12이고, 보다 바람직하게는 1~9이고, 더욱 바람직하게는 1~6이고, 보다 한층 바람직하게는 1~4이다.Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, 2-ethylhexyl group, octyl group, no A nyl group, a decyl group, an undecyl group, a dodecyl group, etc. are mentioned. Carbon number of an alkyl group becomes like this. Preferably it is 1-12, More preferably, it is 1-9, More preferably, it is 1-6, More preferably, it is 1-4.
지환식 탄화수소기로서는, 단환식 또는 다환식 중 어느 것이어도 되고, 이하에 나타내어지는 기 등을 들 수 있다. 결합 부위는 임의의 위치로 할 수 있다.As an alicyclic hydrocarbon group, either monocyclic or polycyclic may be sufficient, and the group etc. which are shown below are mentioned. The binding site may be in any position.
구체적으로는, 단환식의 지환식 탄화수소기로서는, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로데실기 등의 시클로알킬기를 들 수 있다. 다환식의 지환식 탄화수소기로서는, 데카히드로나프틸기, 아다만틸기, 노보닐기 등을 들 수 있다. 지환식 탄화수소기의 탄소수는, 바람직하게는 3~18이고, 보다 바람직하게는 3~16이고, 더욱 바람직하게는 3~12이다.Specific examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include cycloalkyl groups such as cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group and cyclodecyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, and a norbornyl group. Carbon number of an alicyclic hydrocarbon group becomes like this. Preferably it is 3-18, More preferably, it is 3-16, More preferably, it is 3-12.
방향족 탄화수소기로서는, 페닐기, 나프틸기, 비페닐기, 안트릴기, 페난트릴기, 비나프틸기 등을 들 수 있다. 방향족 탄화수소기의 탄소수는, 바람직하게는 6~18이고, 보다 바람직하게는 6~14이고, 더욱 바람직하게는 6~10이다.A phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, a binaphthyl group etc. are mentioned as an aromatic hydrocarbon group. Carbon number of an aromatic hydrocarbon group becomes like this. Preferably it is 6-18, More preferably, it is 6-14, More preferably, it is 6-10.
[0021] 조합함으로써 형성되는 기로서는, 방향족 탄화수소기와 사슬식 탄화수소기를 조합한 기(예컨대, 방향족 탄화수소기-알칸디일기-*, 알킬기-방향족 탄화수소기-*, 해당 알칸디일기 및 알킬기에 포함되는 -CH2-는, -O-, -CO-, -S- 또는 -SO2-로 치환되어도 됨.), 지환식 탄화수소기와 사슬식 탄화수소기를 조합한 기(예컨대, 지환식 탄화수소기-알칸디일기-*, 알킬기-지환식 탄화수소기-*, 해당 알칸디일기 및 알킬기에 포함되는 -CH2-는, -O-, -CO-, -S- 또는 -SO2-로 치환되어도 됨.), 방향족 탄화수소기와 지환식 탄화수소기를 조합한 기(예컨대, 방향족 탄화수소기-지환식 탄화수소기-*, 지환식 탄화수소기-방향족 탄화수소기-*)를 들 수 있다. *는 결합 부위를 나타낸다.[0021] As a group formed by combining an aromatic hydrocarbon group and a chain hydrocarbon group (e.g., aromatic hydrocarbon group-alkanediyl group-*, alkyl group-aromatic hydrocarbon group-*, the alkanediyl group and the alkyl group included in the group) -CH 2 - may be substituted with -O-, -CO-, -S- or -SO 2 -), a group combining an alicyclic hydrocarbon group and a chain hydrocarbon group (eg, an alicyclic hydrocarbon group-alkanedi group) Diyl-*, alkyl group-alicyclic hydrocarbon group-*, -CH 2 - contained in the alkanediyl group and the alkyl group may be substituted with -O-, -CO-, -S- or -SO 2 -.) , a group in which an aromatic hydrocarbon group and an alicyclic hydrocarbon group are combined (eg, aromatic hydrocarbon group-alicyclic hydrocarbon group-*, alicyclic hydrocarbon group-aromatic hydrocarbon group-*). * indicates a binding site.
방향족 탄화수소기-알칸디일기-*로서는, 벤질기, 페네틸기 등의 아랄킬기를 들 수 있다.As aromatic hydrocarbon group - alkanediyl group -*, aralkyl groups, such as a benzyl group and a phenethyl group, are mentioned.
알킬기-방향족 탄화수소기-*로서는, 톨릴기, 크실릴기, 쿠메닐기 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group-aromatic hydrocarbon group-* include a tolyl group, a xylyl group, and a cumenyl group.
지환식 탄화수소기-알칸디일기-*로서는, 시클로헥실메틸기, 시클로헥실에틸기, 1-(아다만탄-1-일)메틸기, 1-(아다만탄-1-일)-1-메틸에틸기 등의 시클로알킬알킬기 등을 들 수 있다.Examples of the alicyclic hydrocarbon group-alkanediyl group-* include cyclohexylmethyl group, cyclohexylethyl group, 1-(adamantan-1-yl)methyl group, 1-(adamantan-1-yl)-1-methylethyl group, etc. and a cycloalkylalkyl group of
알킬기-지환식 탄화수소기-*로서는, 메틸시클로헥실기, 디메틸시클로헥실기, 2-알킬아다만탄-2-일기 등의 알킬기를 가지는 시클로알킬기 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group-alicyclic hydrocarbon group-* include a cycloalkyl group having an alkyl group such as a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, and a 2-alkyladamantan-2-yl group.
방향족 탄화수소기-지환식 탄화수소기-*로서는, 페닐시클로헥실기 등을 들 수 있다.Examples of the aromatic hydrocarbon group-alicyclic hydrocarbon group-* include a phenylcyclohexyl group and the like.
지환식 탄화수소기-방향족 탄화수소기-*로서는, 시클로헥실페닐기 등을 들 수 있다.Examples of the alicyclic hydrocarbon group-aromatic hydrocarbon group-* include a cyclohexylphenyl group.
또한, 조합에 있어서, 지환식 탄화수소기, 방향족 탄화수소기, 사슬식 탄화수소기는, 각각 2종 이상을 조합해도 된다. 또한, 어느 기가 벤젠 고리에 결합해 있어도 된다.In addition, in a combination, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a chain hydrocarbon group may combine 2 or more types, respectively. Moreover, any group may couple|bond with the benzene ring.
[0022] 탄화수소기에 포함되는 -CH2-가, -O-, -CO-, -S- 또는 -SO2-로 치환된 기로서는, 히드록시기(메틸기 중에 포함되는 -CH2-가, -O-로 치환된 기), 카르복시기(에틸기 중에 포함되는 -CH2-CH2-가, -O-CO-로 치환된 기), 알콕시기(알킬기 중에 포함되는 임의의 위치의 -CH2-가, -O-로 치환된 기), 티올(메틸기 중에 포함되는 -CH2-가, -S-로 치환된 기), 알콕시카르보닐기(알킬기 중에 포함되는 임의의 위치의 -CH2-CH2-가, -O-CO-로 치환된 기), 알킬카르보닐기(알킬기 중에 포함되는 임의의 위치의 -CH2-가, -CO-로 치환된 기), 알킬티오기(알킬 중에 포함되는 임의의 위치의 -CH2-가, -S-로 치환된 기), 알킬설포닐기(알킬 중에 포함되는 임의의 위치의 -CH2-가, -SO2-로 치환된 기), 알킬카르보닐옥시기(알킬기 중에 포함되는 임의의 위치의 -CH2-CH2-가, -CO-O-로 치환된 기), 시클로알콕시기, 시클로알킬알콕시기, 알콕시카르보닐옥시기, 방향족 탄화수소기-카르보닐옥시기, 이들 기 중 2종 이상을 조합한 기 등을 들 수 있다.[0022] As a group in which -CH 2 - contained in the hydrocarbon group is substituted with -O-, -CO-, -S- or -SO 2 -, a hydroxy group (-CH 2 - contained in a methyl group, -O- a group substituted with), a carboxy group (a group substituted with -CH 2 -CH 2 -valent in an ethyl group, -O-CO-), an alkoxy group (a -CH 2 -valent at any position included in an alkyl group, - group substituted with O-), thiol (group substituted with -CH 2 -valent in the methyl group, -S-), alkoxycarbonyl group (-CH 2 -CH 2 -valent at any position included in the alkyl group, - A group substituted with O-CO-), an alkylcarbonyl group (a group in which -CH 2 - at any position included in the alkyl group is substituted with -CO-), an alkylthio group (-CH at any position included in the alkyl group) 2 -valent, a group substituted with -S-), an alkylsulfonyl group (a group substituted with -CH 2 - at any position included in the alkyl, -SO 2 -), an alkylcarbonyloxy group (contained in the alkyl group) -CH 2 -CH 2 - at any position being a group substituted with -CO-O-), a cycloalkoxy group, a cycloalkylalkoxy group, an alkoxycarbonyloxy group, an aromatic hydrocarbon group-carbonyloxy group, these The group etc. which combined 2 or more types among groups are mentioned.
알콕시기로서는, 탄소수 1~17인 알콕시기를 들 수 있고, 예컨대, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 옥틸옥시기, 2-에틸헥실옥시기, 노닐옥시기, 데실옥시기, 운데실옥시기 등을 들 수 있다. 알콕시기의 탄소수는, 바람직하게는 1~11이고, 보다 바람직하게는 1~6이고, 더욱 바람직하게는 1~4이다.Examples of the alkoxy group include an alkoxy group having 1 to 17 carbon atoms, for example, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, an octyloxy group, a 2-ethylhexyloxy group, a no A nyloxy group, a decyloxy group, an undecyloxy group, etc. are mentioned. Carbon number of an alkoxy group becomes like this. Preferably it is 1-11, More preferably, it is 1-6, More preferably, it is 1-4.
알킬티오기로서는, 탄소수 1~12인 알킬티오기를 들 수 있고, 예컨대, 메틸티오기, 에틸티오기, 프로필티오기, 부틸티오기 등을 들 수 있다. 알킬티오기의 탄소수는, 바람직하게는 1~6이고, 더욱 바람직하게는 1~4이다.As an alkylthio group, a C1-C12 alkylthio group is mentioned, For example, a methylthio group, an ethylthio group, a propylthio group, a butylthio group, etc. are mentioned. Carbon number of an alkylthio group becomes like this. Preferably it is 1-6, More preferably, it is 1-4.
알킬설포닐기로서는, 탄소수 1~12인 알킬설포닐기를 들 수 있고, 예컨대, 메틸설포닐기, 에틸설포닐기, 프로필설포닐기 등을 들 수 있다. 알킬설포닐기의 탄소수는, 바람직하게는 1~11이고, 보다 바람직하게는 1~6이고, 더욱 바람직하게는 1~4이다.Examples of the alkylsulfonyl group include an alkylsulfonyl group having 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, and a propylsulfonyl group. Carbon number of an alkylsulfonyl group becomes like this. Preferably it is 1-11, More preferably, it is 1-6, More preferably, it is 1-4.
알콕시카르보닐기, 알킬카르보닐기 및 알킬카르보닐옥시기는, 상술한 알킬기 또는 알콕시기에 카르보닐기 또는 카르보닐옥시기가 결합한 기를 나타낸다.The alkoxycarbonyl group, the alkylcarbonyl group, and the alkylcarbonyloxy group represent groups in which a carbonyl group or a carbonyloxy group is bonded to the above-described alkyl group or alkoxy group.
알콕시카르보닐기로서는, 탄소수 2~17인 알콕시카르보닐기를 들 수 있고, 예컨대, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 부톡시카르보닐기 등을 들 수 있다. 알킬카르보닐기로서는, 탄소수 2~18인 알킬카르보닐기를 들 수 있고, 예컨대, 아세틸기, 프로피오닐기 및 부티릴기 등을 들 수 있다. 알킬카르보닐옥시기로서는, 탄소수 2~17인 알킬카르보닐옥시기를 들 수 있고, 예컨대, 아세틸옥시기, 프로피오닐옥시기, 부티릴옥시기 등을 들 수 있다. 알콕시카르보닐기의 탄소수는, 바람직하게는 2~11이고, 보다 바람직하게는 2~6이고, 더욱 바람직하게는 2~4이다. 알킬카르보닐기의 탄소수는, 바람직하게는 2~12이고, 보다 바람직하게는 2~6이고, 더욱 바람직하게는 2~4이다. 알킬카르보닐옥시기의 탄소수는, 바람직하게는 2~11이고, 보다 바람직하게는 2~6이고, 더욱 바람직하게는 2~4이다.As an alkoxycarbonyl group, a C2-C17 alkoxycarbonyl group is mentioned, For example, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, etc. are mentioned. As an alkylcarbonyl group, a C2-C18 alkylcarbonyl group is mentioned, For example, an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, etc. are mentioned. As an alkylcarbonyloxy group, a C2-C17 alkylcarbonyloxy group is mentioned, For example, an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, etc. are mentioned. Carbon number of an alkoxycarbonyl group becomes like this. Preferably it is 2-11, More preferably, it is 2-6, More preferably, it is 2-4. Carbon number of an alkylcarbonyl group becomes like this. Preferably it is 2-12, More preferably, it is 2-6, More preferably, it is 2-4. Carbon number of an alkylcarbonyloxy group becomes like this. Preferably it is 2-11, More preferably, it is 2-6, More preferably, it is 2-4.
시클로알콕시기로서는, 탄소수 3~17인 시클로알콕시기를 들 수 있고, 예컨대, 시클로헥실옥시기 등을 들 수 있다. 시클로알킬알콕시기로서는, 탄소수 4~17인 시클로알킬알콕시기를 들 수 있고, 예컨대, 시클로헥실메톡시기 등을 들 수 있다. 알콕시카르보닐옥시기로서는, 탄소수 2~16인 알콕시카르보닐옥시기를 들 수 있고, 예컨대, 부톡시카르보닐옥시기 등을 들 수 있다. 방향족 탄화수소기-카르보닐옥시기로서는, 탄소수 7~17인 방향족 탄화수소기-카르보닐옥시기를 들 수 있고, 예컨대, 벤조일옥시기 등을 들 수 있다.As a cycloalkoxy group, a C3-C17 cycloalkoxy group is mentioned, For example, a cyclohexyloxy group etc. are mentioned. As a cycloalkyl alkoxy group, a C4-C17 cycloalkyl alkoxy group is mentioned, For example, a cyclohexyl methoxy group etc. are mentioned. As an alkoxycarbonyloxy group, a C2-C16 alkoxycarbonyloxy group is mentioned, For example, a butoxycarbonyloxy group etc. are mentioned. Examples of the aromatic hydrocarbon group-carbonyloxy group include an aromatic hydrocarbon group-carbonyloxy group having 7 to 17 carbon atoms, and examples thereof include a benzoyloxy group.
[0023] 또한, 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH2-가, -O-, -CO-, -S- 또는 -SO2-로 치환된 기로서는, 이하에 나타내어지는 기 등을 들 수 있다. 결합 부위는 임의의 위치로 할 수 있다. 이하에 나타내어지는 기 중, -O-의 위치가 -S-, -CO-의 위치가 -SO2-로 각각 치환되어 있어도 된다. [0023] Examples of the group in which -CH 2 - contained in the alicyclic hydrocarbon group is substituted with -O-, -CO-, -S- or -SO 2 - include groups shown below. The binding site may be in any position. In the groups shown below, the position of -O- may be substituted with -S-, and the position of -CO- may be substituted with -SO 2 -, respectively.
탄화수소기에 포함되는 -CH2-가, -O- 또는 -CO- 등으로 치환되어 있는 경우, 치환되기 전의 탄소수를 해당 탄화수소기의 총 탄소수로 한다. 또한, 그 수는, 1개여도 되고, 2 이상이어도 된다. When -CH 2 - contained in the hydrocarbon group is substituted with -O- or -CO-, the number of carbon atoms before substitution is the total number of carbon atoms in the hydrocarbon group. In addition, the number may be one, and two or more may be sufficient as it.
[0024] R4, R5, R7 및 R8의 탄화수소기가 가지고 있어도 되는 치환기로서는, 할로겐 원자, 시아노기, 탄소수 1~12인 알킬기(해당 알킬기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 됨)를 들 수 있다.[0024] Examples of the substituent which the hydrocarbon group of R 4 , R 5 , R 7 and R 8 may have include a halogen atom, a cyano group, and an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (-CH 2 - contained in the alkyl group is -O- or -CO- may be substituted).
할로겐 원자로서는, 상술한 기와 동일한 기를 들 수 있다.As a halogen atom, the group similar to the group mentioned above is mentioned.
탄소수 1~12인 알킬기로서는, 상술한 기와 동일한 기를 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms include the same groups as those described above.
치환기로서, 알킬기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있는 경우, 치환되기 전의 탄소수를 해당 알킬기의 총 탄소수로 한다. 치환된 기로서는, 히드록시기(메틸기 중에 포함되는 -CH2-가, -O-로 치환된 기), 카르복시기(에틸기 중에 포함되는 -CH2-CH2-가, -O-CO-로 치환된 기), 알콕시기(알킬기 중에 포함되는 임의의 위치의 -CH2-가, -O-로 치환된 기), 알콕시카르보닐기(알킬기 중에 포함되는 임의의 위치의 -CH2-CH2-가, -O-CO-로 치환된 기), 알킬카르보닐기(알킬기 중에 포함되는 임의의 위치의 -CH2-가, -CO-로 치환된 기), 알킬카르보닐옥시기(알킬기 중에 포함되는 임의의 위치의 -CH2-CH2-가, -CO-O-로 치환된 기) 등을 들 수 있다.As a substituent, when -CH 2 - contained in the alkyl group is substituted with -O- or -CO-, the number of carbon atoms before substitution is the total number of carbon atoms in the alkyl group. Examples of the substituted group include a hydroxyl group (a group in which -CH 2 - contained in a methyl group is substituted with -O-), a carboxy group (a group in which -CH 2 -CH 2 - contained in an ethyl group is substituted with -O-CO-) ), an alkoxy group (a group in which -CH 2 - at any position included in the alkyl group is substituted with -O-), an alkoxycarbonyl group (-CH 2 -CH 2 - at any position included in the alkyl group, -O A group substituted with -CO-), an alkylcarbonyl group (a group in which -CH 2 - at any position included in the alkyl group is substituted with -CO-), an alkylcarbonyloxy group (at any position included in the alkyl group - group in which CH 2 -CH 2 - is substituted with -CO-O-) and the like.
알콕시기, 알콕시카르보닐기, 알킬카르보닐기 및 알킬카르보닐옥시기는, 예컨대, 탄소수 1~11인 알콕시기, 탄소수 2~11인 알콕시카르보닐기, 탄소수 2~12인 알킬카르보닐기 및 탄소수 2~11인 알킬카르보닐옥시기를 들 수 있고, 상술한 기와 동일한 기를 들 수 있다.The alkoxy group, alkoxycarbonyl group, alkylcarbonyl group and alkylcarbonyloxy group include, for example, an alkoxy group having 1 to 11 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 11 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, and an alkylcarbonyloxy group having 2 to 11 carbon atoms. group, and the same group as the above-mentioned group can be mentioned.
탄화수소기는, 1개의 치환기 또는 복수의 치환기를 가지고 있어도 된다.The hydrocarbon group may have one substituent or a plurality of substituents.
[0025] X1은, 산소 원자인 것이 바람직하다.[0025] X 1 is preferably an oxygen atom.
X2는, 산소 원자인 것이 바람직하다.X 2 is preferably oxygen atom.
X1 및 X2의 결합 위치는, I+의 결합 위치에 대해 о 위치, m 위치, p 위치 중 어디여도 된다. 그 중에서도, I+의 결합 위치에 대해 m 위치 또는 p 위치에 결합해 있는 것이 바람직하고, p 위치에 결합해 있는 것이 보다 바람직하다. The bonding position of X 1 and X 2 may be any of the o position, the m position, and the p position with respect to the bonding position of I + . Among these, it is preferable to couple|bond with the m-position or p-position with respect to the bonding position of I +, and it is more preferable to couple|bond with the p-position.
m1은, 1 또는 2인 것이 바람직하고, 1인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is 1 or 2, and, as for m1, it is more preferable that it is 1.
m2는, 0, 1 또는 2인 것이 바람직하다.It is preferable that m2 is 0, 1 or 2.
m4는, 0, 1, 2 또는 4인 것이 바람직하고, 0인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is 0, 1, 2, or 4, and, as for m4, it is more preferable that it is 0.
m5는, 0 또는 1인 것이 바람직하다.It is preferable that m5 is 0 or 1.
m7은, 0, 1 또는 2인 것이 바람직하고, 0 또는 1인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is 0, 1 or 2, and, as for m7, it is more preferable that it is 0 or 1.
m8은, 0 또는 1인 것이 바람직하다.It is preferable that m8 is 0 or 1.
R4 및 R5는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1~4인 불화알킬기 또는 탄소수 1~6인 알킬기(해당 알킬기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 됨.)인 것이 바람직하고, 할로겐 원자, 탄소수 1~4인 불화알킬기 또는 탄소수 1~4인 알킬기(해당 알킬기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 됨.)인 것이 보다 바람직하고, 불소 원자, 요오드 원자, 트리플루오로메틸기, 탄소수 1~4인 알킬기인 것이 더욱 바람직하다.R 4 and R 5 are each independently a halogen atom, a fluorinated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (-CH 2 - contained in the alkyl group is substituted with -O- or -CO-, may be present.), preferably a halogen atom, a fluorinated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (-CH 2 - contained in the alkyl group may be substituted with -O- or -CO- .) is more preferable, and it is still more preferable that they are a fluorine atom, an iodine atom, a trifluoromethyl group, or a C1-C4 alkyl group.
R7 및 R8은, 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1~4인 불화알킬기 또는 탄소수 1~6인 알킬기(해당 알킬기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 됨.)인 것이 바람직하고, 할로겐 원자, 탄소수 1~4인 불화알킬기 또는 탄소수 1~4인 알킬기(해당 알킬기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 됨.)인 것이 보다 바람직하고, 불소 원자, 요오드 원자, 탄소수 1~4인 퍼플루오로알킬기 또는 탄소수 1~4인 알킬기(해당 알킬기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 됨.)인 것이 더욱 바람직하고, 불소 원자, 요오드 원자, 트리플루오로메틸기, 메틸기, t-부틸기, 히드록시기 또는 메톡시기인 것이 보다 한층 바람직하다.R 7 and R 8 are each independently a halogen atom, a fluorinated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (-CH 2 - included in the alkyl group is substituted with -O- or -CO-, may be present.), preferably a halogen atom, a fluorinated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (-CH 2 - contained in the alkyl group may be substituted with -O- or -CO- .) is more preferable, and a fluorine atom, an iodine atom, a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (-CH 2 - contained in the alkyl group is -O- or -CO- It may be substituted.), more preferably a fluorine atom, an iodine atom, a trifluoromethyl group, a methyl group, a t-butyl group, a hydroxy group, or a methoxy group.
m2가 0인 경우, m8이 1이고, R8이 분지 형상의 탄소수 3 또는 4인 알킬기인 것이 바람직하다.When m2 is 0, it is preferable that m8 is 1 and R 8 is a branched alkyl group having 3 or 4 carbon atoms.
m4가 2인 경우, R1이 X1의 결합 위치에 대해 p 위치인 것이 바람직하며, 2개의 R4 중 한쪽이 X1의 결합 위치(1 위치)에 대해 m 위치이고, 다른 쪽이 o 위치인 것이 바람직하며, 한쪽이 3 위치, 다른 쪽이 6 위치인 결합 위치인 것이 보다 바람직하다.If m4 is 2, preferably in the p position relative to the bonding position of R 1 is X 1, and is the one of the two R 4 on the bonding position (1 position) of the X 1 m position and the other being a o where It is preferable that one side is 3-position, and it is more preferable that it is a bonding position whose other side is 6-position.
[0026] 염(I)의 양이온으로서는, 이하의 식 (I-c-1)~식 (I-c-54)로 나타내어지는 양이온 등을 들 수 있다.Examples of the cation of the salt (I) include cations represented by the following formulas (I-c-1) to (I-c-54).
[0027][0027]
[0028][0028]
[0029][0029]
[0030][0030]
[0031] AI-로 나타내어지는 유기 음이온으로서는, 설폰산 음이온, 설포닐이미드 음이온, 설포닐메티드 음이온 및 카르복실산 음이온 등을 들 수 있다. AI-로 나타내어지는 유기 음이온은, 설폰산 음이온이 바람직하고, 식 (I-A)로 나타내어지는 음이온인 것이 보다 바람직하다.[0031] Examples of the organic anion represented by AI − include a sulfonic acid anion, a sulfonylimide anion, a sulfonylmethide anion, and a carboxylate anion. AI - organic anions represented by is that the sulfonic acid anion is preferred, more preferably an anion represented by the formula (IA).
[식 (I-A) 중,[In formula (I-A),
Q1 및 Q2는, 각각 독립적으로, 불소 원자 또는 탄소수 1~6인 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
L1은, 탄소수 1~24인 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 되고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L 1 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with -O- or -CO-, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is fluorine It may be substituted with an atom or a hydroxyl group.
Y1은, 치환기를 가지고 있어도 되는 메틸기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 3~24인 지환식 탄화수소기를 나타내고, 해당 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-, -SO2- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.]Y 1 represents a methyl group which may have a substituent or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 24 carbon atoms which may have a substituent, and -CH 2 - contained in the alicyclic hydrocarbon group is -O-, -SO 2 - or - It may be substituted with CO-.]
[0032] 식 (I-A)에 있어서, 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-가 -O- 또는 -C(=O)-로 치환되어 있는 경우, 치환되기 전의 탄소수를 해당 포화 탄화수소기의 탄소수로 한다. 또한, 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH2-가 -O-, -SO2- 또는 -C(=O)-로 치환되어 있는 경우, 치환되기 전의 탄소수를 해당 지환식 탄화수소기의 탄소수로 한다.In the formula (IA), when -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with -O- or -C(=O)-, the number of carbon atoms before substitution is the number of carbon atoms of the saturated hydrocarbon group . In addition, when -CH 2 - contained in the alicyclic hydrocarbon group is substituted with -O-, -SO 2 - or -C(=O)-, the number of carbon atoms before substitution is the number of carbon atoms in the alicyclic hydrocarbon group.
[0033] Q1 및 Q2의 탄소수 1~6인 퍼플루오로알킬기로서는, 트리플루오로메틸기, 퍼플루오로에틸기, 퍼플루오로프로필기, 퍼플루오로이소프로필기, 퍼플루오로부틸기, 퍼플루오로sec-부틸기, 퍼플루오로tert-부틸기, 퍼플루오로펜틸기 및 퍼플루오로헥실기 등을 들 수 있다.[0033] As the perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms of Q 1 and Q 2 , trifluoromethyl group, perfluoroethyl group, perfluoropropyl group, perfluoroisopropyl group, perfluorobutyl group, purple A luorosec-butyl group, a perfluorotert-butyl group, a perfluoropentyl group, a perfluorohexyl group, etc. are mentioned.
Q1 및 Q2는, 각각 독립적으로, 불소 원자 또는 트리플루오로메틸기인 것이 바람직하고, 모두 불소 원자인 것이 보다 바람직하다.Q 1 and Q 2 are, each independently, preferably a methyl group a fluorine atom or trifluoromethyl, and it is both more preferably a fluorine atom.
[0034] L1에 있어서의 2가의 포화 탄화수소기로서는, 직쇄 형상 알칸디일기, 분기 형상 알칸디일기, 단환식 또는 다환식의 2가의 지환식 포화 탄화수소기를 들 수 있고, 이들 기 중 2종 이상을 조합함으로써 형성되는 기여도 된다.Examples of the divalent saturated hydrocarbon group for L 1 include a linear alkanediyl group, branched alkanediyl group, monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, and at least two of these groups It may also be a contribution formed by combining .
구체적으로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 노난-1,9-디일기, 데칸-1,10-디일기, 운데칸-1,11-디일기, 도데칸-1,12-디일기, 트리데칸-1,13-디일기, 테트라데칸-1,14-디일기, 펜타데칸-1,15-디일기, 헥사데칸-1,16-디일기 및 헵타데칸-1,17-디일기 등의 직쇄 형상 알칸디일기;Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1, 7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group, dodecane-1,12-diyl group Diyl, tridecane-1,13-diyl group, tetradecane-1,14-diyl group, pentadecane-1,15-diyl group, hexadecane-1,16-diyl group and heptadecane-1,17-diyl group linear alkanediyl groups such as diaries;
에탄-1,1-디일기, 프로판-1,1-디일기, 프로판-1,2-디일기, 프로판-2,2-디일기, 펜탄-2,4-디일기, 2-메틸프로판-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,2-디일기, 펜탄-1,4-디일기, 2-메틸부탄-1,4-디일기 등의 분기 형상 알칸디일기;Ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2,4-diyl group, 2-methylpropane- branched alkanediyl groups such as 1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, and 2-methylbutane-1,4-diyl group;
시클로부탄-1,3-디일기, 시클로펜탄-1,3-디일기, 시클로헥산-1,4-디일기, 시클로옥탄-1,5-디일기 등의 시클로알칸디일기인 단환식의 2가의 지환식 포화 탄화수소기;Monocyclic 2, which is a cycloalkanediyl group, such as a cyclobutane-1,3-diyl group, a cyclopentane-1,3-diyl group, a cyclohexane-1,4-diyl group, and a cyclooctane-1,5-diyl group a valent alicyclic saturated hydrocarbon group;
노보난-1,4-디일기, 노보난-2,5-디일기, 아다만탄-1,5-디일기, 아다만탄-2,6-디일기 등의 다환식의 2가의 지환식 포화 탄화수소기 등을 들 수 있다.Polycyclic divalent alicyclics, such as norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group, and adamantane-2,6-diyl group A saturated hydrocarbon group etc. are mentioned.
L1로 나타내어지는 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-가 -O- 또는 -CO-로 치환된 기로서는, 예컨대, 식 (b1-1)~식 (b1-3) 중 어느 하나로 나타내어지는 기를 들 수 있다. 또한, 식 (b1-1)~식 (b1-3)으로 나타내어지는 기 및 이들의 구체적인 예인 식 (b1-4)~식 (b1-11)로 나타내어지는 기에 있어서, * 및 **는 결합 부위를 나타내고, *는 -Y1과의 결합 부위를 나타낸다.As a group in which -CH 2 - contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L 1 is substituted with -O- or -CO-, for example, a group represented by any one of formulas (b1-1) to (b1-3) can be lifted In addition, in the group represented by the formula (b1-1) - the formula (b1-3) and the group represented by the formula (b1-4) - the formula (b1-11) which are specific examples thereof, * and ** are a binding site and * represents a binding site with -Y 1 .
[0035][0035]
[식 (b1-1) 중,[In formula (b1-1),
Lb2는, 단결합 또는 탄소수 1~22인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 된다.L b2 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
Lb3은, 단결합 또는 탄소수 1~22인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 되고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.L b3 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group, and -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group is , -O- or -CO- may be substituted.
단, Lb2와 Lb3의 탄소수 합계는, 22 이하이다.However, the total carbon number of L b2 and L b3 is 22 or less.
식 (b1-2) 중,In formula (b1-2),
Lb4는, 단결합 또는 탄소수 1~22인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 된다.L b4 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
Lb5는, 단결합 또는 탄소수 1~22인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 되고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.L b5 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group, and -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group is , -O- or -CO- may be substituted.
단, Lb4와 Lb5의 탄소수 합계는, 22 이하이다.However, the total carbon number of L b4 and L b5 is 22 or less.
식 (b1-3) 중,In formula (b1-3),
Lb6은, 단결합 또는 탄소수 1~23인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L b6 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group.
Lb7은, 단결합 또는 탄소수 1~23인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 되고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.L b7 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group, and -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group is , -O- or -CO- may be substituted.
단, Lb6과 Lb7의 탄소수 합계는, 23 이하이다.]However, the total number of carbon atoms of L b6 and L b7 is 23 or less.]
[0036] 식 (b1-1)~식 (b1-3)으로 나타내어지는 기에 있어서는, 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-가 -O- 또는 -CO-로 치환되어 있는 경우, 치환되기 전의 탄소수를 해당 포화 탄화수소기의 탄소수로 한다.[0036] In the group represented by formulas (b1-1) to (b1-3), when -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with -O- or -CO-, the number of carbon atoms before substitution is Let it be the carbon number of the said saturated hydrocarbon group.
2가의 포화 탄화수소기로서는, Lb1의 2가의 포화 탄화수소기와 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the divalent saturated hydrocarbon group include the same divalent saturated hydrocarbon group as L b1 .
Lb2는, 바람직하게는 단결합이다.L b2 is preferably a single bond.
Lb3은, 바람직하게는 탄소수 1~4인 2가의 포화 탄화수소기이다.L b3 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
Lb4는, 바람직하게는 탄소수 1~8인 2가의 포화 탄화수소기이고, 해당 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는 불소 원자로 치환되어 있어도 된다.L b4 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
Lb5는, 바람직하게는 단결합 또는 탄소수 1~8인 2가의 포화 탄화수소기이다.L b5 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
Lb6은, 바람직하게는 단결합 또는 탄소수 1~4인 2가의 포화 탄화수소기이고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는 불소 원자로 치환되어 있어도 된다.L b6 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
Lb7은, 바람직하게는 단결합 또는 탄소수 1~18인 2가의 포화 탄화수소기이고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 되고, 해당 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는 -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.L b7 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group, and contained in the divalent saturated hydrocarbon group - CH 2 - may be substituted with -O- or -CO-.
L1로 나타내어지는 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-가 -O- 또는 -CO-로 치환된 기로서는, 식 (b1-1) 또는 식 (b1-3)으로 나타내어지는 기가 바람직하다.As a group in which -CH 2 - contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L 1 is substituted with -O- or -CO-, a group represented by formula (b1-1) or (b1-3) is preferable.
[0037] 식 (b1-1)로 나타내어지는 기로서는, 식 (b1-4)~식 (b1-8)로 각각 나타내어지는 기를 들 수 있다.Examples of the group represented by the formula (b1-1) include groups represented by the formulas (b1-4) to (b1-8).
[식 (b1-4) 중,[In formula (b1-4),
Lb8은, 단결합 또는 탄소수 1~22인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L b8 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group.
식 (b1-5) 중,In formula (b1-5),
Lb9는, 탄소수 1~20인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는 -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.L b9 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and -CH 2 - contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with -O- or -CO-.
Lb10은, 단결합 또는 탄소수 1~19인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L b10 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group.
단, Lb9 및 Lb10의 합계 탄소수는 20 이하이다.However, the total carbon number of L b9 and L b10 is 20 or less.
식 (b1-6) 중,In formula (b1-6),
Lb11은, 탄소수 1~21인 2가의 포화 탄화수소기를 나타낸다.L b11 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
Lb12는, 단결합 또는 탄소수 1~20인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L b12 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group.
단, Lb11 및 Lb12의 합계 탄소수는 21 이하이다.However, the total carbon number of L b11 and L b12 is 21 or less.
식 (b1-7) 중,In formula (b1-7),
Lb13은, 탄소수 1~19인 2가의 포화 탄화수소기를 나타낸다.L b13 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms.
Lb14는, 단결합 또는 탄소수 1~18인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는 -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.L b14 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and -CH 2 - contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with -O- or -CO-.
Lb15는, 단결합 또는 탄소수 1~18인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L b15 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group.
단, Lb13~Lb15의 합계 탄소수는 19 이하이다.However, the total number of carbon atoms of L b13 to L b15 is 19 or less.
식 (b1-8) 중,In formula (b1-8),
Lb16은, 탄소수 1~18인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는 -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.L b16 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and -CH 2 - contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with -O- or -CO-.
Lb17은, 탄소수 1~18인 2가의 포화 탄화수소기를 나타낸다.L b17 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.
Lb18은, 단결합 또는 탄소수 1~17인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L b18 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group.
단, Lb16~Lb18의 합계 탄소수는 19 이하이다.]However, the total number of carbon atoms of L b16 to L b18 is 19 or less.]
Lb8은, 바람직하게는 탄소수 1~4인 2가의 포화 탄화수소기이다.L b8 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
Lb9는, 바람직하게는 탄소수 1~8인 2가의 포화 탄화수소기이다.L b9 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
Lb10은, 바람직하게는 단결합 또는 탄소수 1~19인 2가의 포화 탄화수소기이고, 보다 바람직하게는 단결합 또는 탄소수 1~8인 2가의 포화 탄화수소기이다.L b10 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
Lb11은, 바람직하게는 탄소수 1~8인 2가의 포화 탄화수소기이다.L b11 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
Lb12는, 바람직하게는 단결합 또는 탄소수 1~8인 2가의 포화 탄화수소기이다.L b12 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
Lb13은, 바람직하게는 탄소수 1~12인 2가의 포화 탄화수소기이다.L b13 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
Lb14는, 바람직하게는 단결합 또는 탄소수 1~6인 2가의 포화 탄화수소기이다.L b14 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
Lb15는, 바람직하게는 단결합 또는 탄소수 1~18인 2가의 포화 탄화수소기이고, 보다 바람직하게는 단결합 또는 탄소수 1~8인 2가의 포화 탄화수소기이다.L b15 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
Lb16은, 바람직하게는 탄소수 1~12인 2가의 포화 탄화수소기이다.L b16 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
Lb17은, 바람직하게는 탄소수 1~6인 2가의 포화 탄화수소기이다.L b17 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
Lb18은, 바람직하게는 단결합 또는 탄소수 1~17인 2가의 포화 탄화수소기이고, 보다 바람직하게는 단결합 또는 탄소수 1~4인 2가의 포화 탄화수소기이다.L b18 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, more preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
[0038] 식 (b1-3)으로 나타내어지는 기로서는, 식 (b1-9)~식 (b1-11)로 각각 나타내어지는 기를 들 수 있다.[0038] Examples of the group represented by the formula (b1-3) include groups represented by the formulas (b1-9) to (b1-11), respectively.
[식 (b1-9) 중,[In formula (b1-9),
Lb19는, 단결합 또는 탄소수 1~23인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 된다.L b19 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
Lb20은, 단결합 또는 탄소수 1~23인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자, 히드록시기 또는 알킬카르보닐옥시기로 치환되어 있어도 된다. 해당 알킬카르보닐옥시기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 되고, 해당 알킬카르보닐옥시기에 포함되는 수소 원자는, 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L b20 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom, a hydroxyl group, or an alkylcarbonyloxy group. -CH 2 - contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with -O- or -CO-, and the hydrogen atom contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with a hydroxyl group.
단, Lb19 및 Lb20의 합계 탄소수는 23 이하이다.However, the total carbon number of L b19 and L b20 is 23 or less.
식 (b1-10) 중,In formula (b1-10),
Lb21은, 단결합 또는 탄소수 1~21인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 된다.L b21 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
Lb22는, 단결합 또는 탄소수 1~21인 2가의 포화 탄화수소기를 나타낸다.L b22 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
Lb23은, 단결합 또는 탄소수 1~21인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자, 히드록시기 또는 알킬카르보닐옥시기로 치환되어 있어도 된다. 해당 알킬카르보닐옥시기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 되고, 해당 알킬카르보닐옥시기에 포함되는 수소 원자는, 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L b23 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom, a hydroxyl group, or an alkylcarbonyloxy group. -CH 2 - contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with -O- or -CO-, and the hydrogen atom contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with a hydroxyl group.
단, Lb21, Lb22 및 Lb23의 합계 탄소수는 21 이하이다.However, the total carbon number of L b21 , L b22 and L b23 is 21 or less.
식 (b1-11) 중,In formula (b1-11),
Lb24는, 단결합 또는 탄소수 1~20인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 된다.L b24 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
Lb25는, 탄소수 1~21인 2가의 포화 탄화수소기를 나타낸다.L b25 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
Lb26은, 단결합 또는 탄소수 1~20인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자, 히드록시기 또는 알킬카르보닐옥시기로 치환되어 있어도 된다. 해당 알킬카르보닐옥시기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 되고, 해당 알킬카르보닐옥시기에 포함되는 수소 원자는, 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L b26 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom, a hydroxy group, or an alkylcarbonyloxy group. -CH 2 - contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with -O- or -CO-, and the hydrogen atom contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with a hydroxyl group.
단, Lb24, Lb25 및 Lb26의 합계 탄소수는 21 이하이다.]However, the total number of carbon atoms of L b24 , L b25 and L b26 is 21 or less.]
또한, 식 (b1-9)로 나타내어지는 기 내지 식 (b1-11)로 나타내어지는 기에 있어서는, 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자가 알킬카르보닐옥시기로 치환되어 있는 경우, 치환되기 전의 탄소수를 해당 포화 탄화수소기의 탄소수로 한다.In addition, in the group represented by the formula (b1-9) to the group represented by the formula (b1-11), when a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with an alkylcarbonyloxy group, the number of carbon atoms before substitution is the saturated hydrocarbon group. Let it be the number of carbon atoms in the group.
알킬카르보닐옥시기로서는, 아세틸옥시기, 프로피오닐옥시기, 부티릴옥시기, 시클로헥실카르보닐옥시기, 아다만틸카르보닐옥시기 등을 들 수 있다.Examples of the alkylcarbonyloxy group include an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, a cyclohexylcarbonyloxy group, and an adamantylcarbonyloxy group.
[0039] 식 (b1-4)로 나타내어지는 기로서는, 이하의 것을 들 수 있다.Examples of the group represented by the formula (b1-4) include the following.
[0040] 식 (b1-5)로 나타내어지는 기로서는, 이하의 것을 들 수 있다.[0040] Examples of the group represented by the formula (b1-5) include the following.
[0041] 식 (b1-6)으로 나타내어지는 기로서는, 이하의 것을 들 수 있다.Examples of the group represented by the formula (b1-6) include the following.
[0042] 식 (b1-7)로 나타내어지는 기로서는, 이하의 것을 들 수 있다.Examples of the group represented by the formula (b1-7) include the following.
[0043] 식 (b1-8)로 나타내어지는 기로서는, 이하의 것을 들 수 있다.Examples of the group represented by the formula (b1-8) include the following.
[0044] 식 (b1-2)로 나타내어지는 기로서는, 이하의 것을 들 수 있다.[0044] Examples of the group represented by the formula (b1-2) include the following.
[0045] 식 (b1-9)로 나타내어지는 기로서는, 이하의 것을 들 수 있다.[0045] Examples of the group represented by the formula (b1-9) include the following.
[0046] 식 (b1-10)으로 나타내어지는 기로서는, 이하의 것을 들 수 있다.Examples of the group represented by the formula (b1-10) include the following.
[0047] 식 (b1-11)로 나타내어지는 기로서는, 이하의 것을 들 수 있다.[0047] Examples of the group represented by the formula (b1-11) include the following.
[0048] Y1로 나타내어지는 지환식 탄화수소기로서는, 식 (Y1)~식 (Y11), 식 (Y36)~식 (Y38)로 나타내어지는 기를 들 수 있다.Examples of the alicyclic hydrocarbon group represented by Y 1 include groups represented by formulas (Y1) to (Y11) and (Y36) to (Y38).
Y1로 나타내어지는 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH2-가 -O-, -SO2- 또는 -CO-로 치환되는 경우, 그 수는 1개여도 되고, 2 이상이어도 된다. 그와 같은 기로서는, 식 (Y12)~식 (Y35), 식 (Y39)~식 (Y43)으로 나타내어지는 기를 들 수 있다. *는 L1과의 결합 부위를 나타낸다.When -CH 2 - contained in the alicyclic hydrocarbon group represented by Y 1 is substituted with -O-, -SO 2 - or -CO-, the number may be one or two or more. As such a group, the group represented by a formula (Y12) - a formula (Y35), a formula (Y39) - a formula (Y43) is mentioned. * indicates a binding site with L 1 .
[0049] Y1로 나타내어지는 지환식 탄화수소기로서는, 바람직하게는 식 (Y1)~식 (Y20), 식 (Y26), 식 (Y27), 식 (Y30), 식 (Y31), 식 (Y39)~식 (Y43) 중 어느 하나로 나타내어지는 기이고, 보다 바람직하게는 식 (Y11), 식 (Y15), 식 (Y16), 식 (Y20), 식 (Y26), 식 (Y27), 식 (Y30), 식 (Y31), 식 (Y39), 식 (Y40), 식 (Y42) 또는 식 (Y43)으로 나타내어지는 기이고, 더욱 바람직하게는 식 (Y11), 식 (Y15), 식 (Y20), 식 (Y26), 식 (Y27), 식 (Y30), 식 (Y31), 식 (Y39), 식 (Y40), 식 (Y42) 또는 식 (Y43)으로 나타내어지는 기이다.The alicyclic hydrocarbon group represented by Y 1 is preferably a formula (Y1) to a formula (Y20), a formula (Y26), a formula (Y27), a formula (Y30), a formula (Y31), a formula (Y39) ) to a group represented by any one of formula (Y43), more preferably formula (Y11), formula (Y15), formula (Y16), formula (Y20), formula (Y26), formula (Y27), formula ( Y30), a group represented by a formula (Y31), a formula (Y39), a formula (Y40), a formula (Y42), or a formula (Y43), More preferably, a formula (Y11), a formula (Y15), a formula (Y20) ), a formula (Y26), a formula (Y27), a formula (Y30), a formula (Y31), a formula (Y39), a formula (Y40), a formula (Y42), or a formula (Y43).
Y1로 나타내어지는 지환식 탄화수소기가 식 (Y28)~식 (Y35), 식 (Y39), 식 (Y40), 식 (Y42) 또는 식 (Y43) 등의 산소 원자를 가지는 스피로환(spiro-ring)인 경우에는, 2개의 산소 원자 간의 알칸디일기는, 1 이상의 불소 원자를 가지는 것이 바람직하다. 또한, 케탈 구조에 포함되는 알칸디일기 중, 산소 원자에 인접한 메틸렌기에는, 불소 원자가 치환되어 있지 않은 것이 바람직하다.A spiro-ring in which the alicyclic hydrocarbon group represented by Y 1 has an oxygen atom of formula (Y28) to formula (Y35), formula (Y39), formula (Y40), formula (Y42) or formula (Y43) ), it is preferable that the alkanediyl group between two oxygen atoms has one or more fluorine atoms. Moreover, it is preferable that the fluorine atom is not substituted by the methylene group adjacent to an oxygen atom among the alkanediyl groups contained in a ketal structure.
[0050] Y1로 나타내어지는 메틸기의 치환기로서는, 할로겐 원자, 히드록시기, 탄소수 3~16인 지환식 탄화수소기, 탄소수 6~18인 방향족 탄화수소기, 글리시딜옥시기, -(CH2)ja-CO-O-Rb1기 또는 -(CH2)ja-O-CO-Rb1기(식 중, Rb1은, 탄소수 1~16인 알킬기, 탄소수 3~16인 지환식 탄화수소기, 탄소수 6~18인 방향족 탄화수소기 또는 이들을 조합한 기를 나타냄. ja는, 0~4 중 어느 하나의 정수를 나타냄. 해당 알킬기 및 해당 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-, -SO2- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 되고, 해당 알킬기, 해당 지환식 탄화수소기 및 해당 방향족 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 히드록시기 또는 불소 원자로 치환되어 있어도 됨.) 등을 들 수 있다.Examples of the substituent of the methyl group represented by Y 1 include a halogen atom, a hydroxyl group, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, a glycidyloxy group, -(CH 2 ) ja -CO -OR b1 group or -(CH 2 ) ja -O-CO-R b1 group ( wherein, R b1 is an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, or an aromatic group having 6 to 18 carbon atoms. represents a hydrocarbon group or a group combining them. ja represents an integer of any one of 0 to 4. -CH 2 - included in the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group is -O-, -SO 2 -, or -CO - may be substituted, and the hydrogen atom contained in this alkyl group, this alicyclic hydrocarbon group, and this aromatic hydrocarbon group may be substituted with a hydroxyl group or a fluorine atom.) etc. are mentioned.
Y1로 나타내어지는 지환식 탄화수소기의 치환기로서는, 할로겐 원자, 히드록시기, 히드록시기로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~16인 알킬기(해당 알킬기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 됨.), 탄소수 3~16인 지환식 탄화수소기, 탄소수 6~18인 방향족 탄화수소기, 탄소수 7~21인 아랄킬기, 글리시딜옥시기, -(CH2)ja-CO-O-Rb1기 또는 -(CH2)ja-O-CO-Rb1기(식 중, Rb1은, 탄소수 1~16인 알킬기, 탄소수 3~16인 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6~18인 방향족 탄화수소기 또는 이들을 조합한 기를 나타냄. ja는, 0~4 중 어느 하나의 정수를 나타냄. 해당 알킬기 및 해당 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-, -SO2- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 되고, 해당 알킬기, 해당 지환식 탄화수소기 및 해당 방향족 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 히드록시기 또는 불소 원자로 치환되어 있어도 됨.) 등을 들 수 있다.Examples of the substituent of the alicyclic hydrocarbon group represented by Y 1 include a halogen atom, a hydroxy group, or an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may be substituted with a hydroxy group (-CH 2 - contained in the alkyl group is -O- or -CO- may be substituted), an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 21 carbon atoms, a glycidyloxy group, -(CH 2 ) ja -CO-OR b1 group or -(CH 2 ) ja -O-CO-R b1 group ( wherein R b1 is an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or represents a group combining these, ja represents an integer of any one of 0 to 4. -CH 2 - contained in the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group is substituted with -O-, -SO 2 - or -CO- and the hydrogen atom contained in the said alkyl group, this alicyclic hydrocarbon group, and this aromatic hydrocarbon group may be substituted by the hydroxyl group or the fluorine atom.) etc. are mentioned.
[0051] 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자 등을 들 수 있다.Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
지환식 탄화수소기로서는, 예컨대, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸시클로헥실기, 디메틸시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 노보닐기, 아다만틸기 등을 들 수 있다. 지환식 탄화수소기는, 사슬식 탄화수소기를 가지고 있어도 되고, 메틸시클로헥실기, 디메틸시클로헥실기 등을 들 수 있다. 지환식 탄화수소기의 탄소수는, 바람직하게는 3~12이고, 보다 바람직하게는 3~10이다.Examples of the alicyclic hydrocarbon group include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a norbornyl group, and an adamantyl group. The alicyclic hydrocarbon group may have a chain hydrocarbon group, and a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, etc. are mentioned. Carbon number of an alicyclic hydrocarbon group becomes like this. Preferably it is 3-12, More preferably, it is 3-10.
방향족 탄화수소기로서는, 예컨대, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 비페닐기, 페난트릴기 등의 아릴기 등을 들 수 있다. 방향족 탄화수소기는, 사슬식 탄화수소기 또는 지환식 탄화수소기를 가지고 있어도 되고, 탄소수 1~18인 사슬식 탄화수소기를 가지는 방향족 탄화수소기(톨릴기, 크실릴기, 쿠메닐기, 메시틸기, p-메틸페닐기, p-에틸페닐기, p-tert-부틸페닐기, 2,6-디에틸페닐기, 2-메틸-6-에틸페닐기 등), 및 탄소수 3~18인 지환식 탄화수소기를 가지는 방향족 탄화수소기(p-시클로헥실페닐기, p-아다만틸페닐기 등) 등을 들 수 있다. 방향족 탄화수소기의 탄소수는, 바람직하게는 6~14이고, 보다 바람직하게는 6~10이다.As an aromatic hydrocarbon group, aryl groups, such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a biphenyl group, and a phenanthryl group, etc. are mentioned, for example. The aromatic hydrocarbon group may have a chain hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group, and an aromatic hydrocarbon group having a chain hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms (tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, p-methylphenyl group, p -ethylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.), and an aromatic hydrocarbon group having an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms (p-cyclohexylphenyl group) , p-adamantylphenyl group, etc.) and the like. Carbon number of an aromatic hydrocarbon group becomes like this. Preferably it is 6-14, More preferably, it is 6-10.
알킬기로서는, 예컨대, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 2-에틸헥실기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기 등을 들 수 있다. 알킬기의 탄소수는, 바람직하게는 1~12이고, 보다 바람직하게는 1~6이고, 더욱 바람직하게는 1~4이다.Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, a 2-ethylhexyl group, an octyl group, a nonyl group, A decyl group, an undecyl group, a dodecyl group, etc. are mentioned. Carbon number of an alkyl group becomes like this. Preferably it is 1-12, More preferably, it is 1-6, More preferably, it is 1-4.
히드록시기로 치환되어 있는 알킬기로서는, 히드록시메틸기, 히드록시에틸기 등의 히드록시알킬기를 들 수 있다.As an alkyl group substituted with the hydroxyl group, hydroxyalkyl groups, such as a hydroxymethyl group and a hydroxyethyl group, are mentioned.
아랄킬기로서는, 벤질기, 페네틸기, 페닐프로필기, 나프틸메틸기 및 나프틸에틸기 등을 들 수 있다.Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a naphthylmethyl group, and a naphthylethyl group.
알킬기에 포함되는 -CH2-가 -O-, -SO2- 또는 -CO- 등으로 치환된 기로서는, 알콕시기, 알킬설포닐기, 알콕시카르보닐기, 알킬카르보닐기, 알킬카르보닐옥시기 또는 이들을 조합한 기 등을 들 수 있다.As a group in which -CH 2 - contained in the alkyl group is substituted with -O-, -SO 2 - or -CO-, an alkoxy group, an alkylsulfonyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkylcarbonyl group, an alkylcarbonyloxy group, or a combination thereof and the like.
알콕시기로서는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 헵틸옥시기, 옥틸옥시기, 데실옥시기 및 도데실옥시기 등을 들 수 있다. 알콕시기의 탄소수는, 바람직하게는 1~12이고, 보다 바람직하게는 1~6이고, 더욱 바람직하게는 1~4이다.Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a decyloxy group, and a dodecyloxy group. Carbon number of an alkoxy group becomes like this. Preferably it is 1-12, More preferably, it is 1-6, More preferably, it is 1-4.
알킬설포닐기로서는, 메틸설포닐기, 에틸설포닐기, 프로필설포닐기 등을 들 수 있다. 알킬설포닐기의 탄소수는, 바람직하게는 1~12이고, 보다 바람직하게는 1~6이고, 더욱 바람직하게는 1~4이다.Examples of the alkylsulfonyl group include a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, and a propylsulfonyl group. Carbon number of an alkylsulfonyl group becomes like this. Preferably it is 1-12, More preferably, it is 1-6, More preferably, it is 1-4.
알콕시카르보닐기로서는, 예컨대, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 부톡시카르보닐기 등을 들 수 있다. 알콕시카르보닐기의 탄소수는, 바람직하게는 2~12이고, 보다 바람직하게는 2~6이고, 더욱 바람직하게는 2~4이다.Examples of the alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, and a butoxycarbonyl group. Carbon number of an alkoxycarbonyl group becomes like this. Preferably it is 2-12, More preferably, it is 2-6, More preferably, it is 2-4.
알킬카르보닐기로서는, 예컨대, 아세틸기, 프로피오닐기 및 부티릴기 등을 들 수 있다. 알킬카르보닐기의 탄소수는, 바람직하게는 2~12이고, 보다 바람직하게는 2~6이고, 더욱 바람직하게는 2~4이다.Examples of the alkylcarbonyl group include an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group. Carbon number of an alkylcarbonyl group becomes like this. Preferably it is 2-12, More preferably, it is 2-6, More preferably, it is 2-4.
알킬카르보닐옥시기로서는, 예컨대, 아세틸옥시기, 프로피오닐옥시기, 부티릴옥시기 등을 들 수 있다. 알킬카르보닐옥시기의 탄소수는, 바람직하게는 2~12이고, 보다 바람직하게는 2~6이고, 더욱 바람직하게는 2~4이다.Examples of the alkylcarbonyloxy group include an acetyloxy group, a propionyloxy group, and a butyryloxy group. The number of carbon atoms of the alkylcarbonyloxy group is preferably 2 to 12, more preferably 2 to 6, still more preferably 2 to 4.
조합한 기로서는, 예컨대, 알콕시기와 알킬기를 조합한 기, 알콕시기와 알콕시기를 조합한 기, 알콕시기와 알킬카르보닐기를 조합한 기, 알콕시기와 알킬카르보닐옥시기를 조합한 기 등을 들 수 있다.Examples of the combined group include a group combining an alkoxy group and an alkyl group, a group combining an alkoxy group and an alkoxy group, a group combining an alkoxy group and an alkylcarbonyl group, and a group combining an alkoxy group and an alkylcarbonyloxy group.
알콕시기와 알킬기를 조합한 기로서는, 예컨대, 메톡시메틸기, 메톡시에틸기, 에톡시에틸기, 에톡시메틸기 등의 알콕시알킬기 등을 들 수 있다. 알콕시알킬기의 탄소수는, 바람직하게는 2~12이고, 보다 바람직하게는 2~6이고, 더욱 바람직하게는 2~4이다.As a group combining an alkoxy group and an alkyl group, alkoxyalkyl groups, such as a methoxymethyl group, a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, and an ethoxymethyl group, etc. are mentioned, for example. Carbon number of an alkoxyalkyl group becomes like this. Preferably it is 2-12, More preferably, it is 2-6, More preferably, it is 2-4.
알콕시기와 알콕시기를 조합한 기로서는, 메톡시메톡시기, 메톡시에톡시기, 에톡시메톡시기, 에톡시에톡시기 등의 알콕시알콕시기 등을 들 수 있다. 알콕시알콕시기의 탄소수는, 바람직하게는 2~12이고, 보다 바람직하게는 2~6이고, 더욱 바람직하게는 2~4이다.Alkoxyalkoxy groups, such as a methoxymethoxy group, a methoxyethoxy group, an ethoxymethoxy group, and an ethoxyethoxy group, etc. are mentioned as group which combined an alkoxy group and an alkoxy group. Carbon number of an alkoxyalkoxy group becomes like this. Preferably it is 2-12, More preferably, it is 2-6, More preferably, it is 2-4.
알콕시기와 알킬카르보닐기를 조합한 기로서는, 메톡시아세틸기, 메톡시프로피오닐기, 에톡시아세틸기, 에톡시프로피오닐기 등의 알콕시알킬카르보닐기 등을 들 수 있다. 알콕시알킬카르보닐기의 탄소수는, 바람직하게는 3~13이고, 보다 바람직하게는 3~7이고, 더욱 바람직하게는 3~5이다.Examples of the group combining an alkoxy group and an alkylcarbonyl group include alkoxyalkylcarbonyl groups such as a methoxyacetyl group, a methoxypropionyl group, an ethoxyacetyl group and an ethoxypropionyl group. Carbon number of an alkoxyalkyl carbonyl group becomes like this. Preferably it is 3-13, More preferably, it is 3-7, More preferably, it is 3-5.
알콕시기와 알킬카르보닐옥시기를 조합한 기로서는, 메톡시아세틸옥시기, 메톡시프로피오닐옥시기, 에톡시아세틸옥시기, 에톡시프로피오닐옥시기 등의 알콕시알킬카르보닐옥시기 등을 들 수 있다. 알콕시알킬카르보닐옥시기의 탄소수는, 바람직하게는 3~13이고, 보다 바람직하게는 3~7이고, 더욱 바람직하게는 3~5이다.Examples of the group combining an alkoxy group and an alkylcarbonyloxy group include alkoxyalkylcarbonyloxy groups such as methoxyacetyloxy group, methoxypropionyloxy group, ethoxyacetyloxy group and ethoxypropionyloxy group. . The number of carbon atoms of the alkoxyalkylcarbonyloxy group is preferably 3 to 13, more preferably 3 to 7, still more preferably 3 to 5.
지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH2-가 -O-, -SO2- 또는 -CO- 등으로 치환된 기로서는, 식 (Y12)~식 (Y35), 식 (Y39)~식 (Y43)으로 나타내어지는 기 등을 들 수 있다.As a group in which -CH 2 - contained in the alicyclic hydrocarbon group is substituted with -O-, -SO 2 -, or -CO-, etc., formulas (Y12) to (Y35), (Y39) to (Y43) and the group represented.
[0052] Y1로서는, 이하의 것을 들 수 있다.[0052] Examples of Y 1 include the following.
[0053] Y1은, 바람직하게는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 3~24인 지환식 탄화수소기이고, 보다 바람직하게는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 3~20인 지환식 탄화수소기이고, 더욱 바람직하게는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 3~18인 지환식 탄화수소기이고, 더더욱 바람직하게는, 히드록시기로 치환된 지환식 탄화수소기, 더욱 바람직하게는 치환기를 가지고 있어도 되는 아다만틸기이며, 해당 지환식 탄화수소기 또는 아다만틸기를 구성하는 -CH2-는 -CO-, -SO2- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다. Y1은, 구체적으로 바람직하게는 아다만틸기, 히드록시아다만틸기, 옥소아다만틸기 또는 식 (Y42), 식 (Y100)~식 (Y114)로 나타내어지는 기이고, 특히 바람직하게는, 히드록시아다만틸기, 옥소아다만틸기, 이들을 포함하는 기 또는 식 (Y42), 식 (Y100)~식 (Y114)로 나타내어지는 기이다.Y 1 is preferably an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 24 carbon atoms which may have a substituent, more preferably an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and still more preferably an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms which may have a substituent, still more preferably an alicyclic hydrocarbon group substituted with a hydroxyl group, more preferably an adamantyl group which may have a substituent, and the alicyclic hydrocarbon group or -CH 2 - constituting the adamantyl group may be substituted with -CO-, -SO 2 - or -CO-. Y 1 is specifically preferably an adamantyl group, a hydroxyadamantyl group, an oxoadamantyl group, or a group represented by the formulas (Y42), (Y100) to (Y114), and particularly preferably, hydroxy It is a group represented by an oxyadamantyl group, an oxoadamantyl group, the group containing these, or a formula (Y42), a formula (Y100) - a formula (Y114).
[0054] 식 (I-A)로 나타내어지는 음이온으로서는, 식 (I-A-1)~식 (I-A-59)로 나타내어지는 음이온〔이하, 식 번호에 따라 「음이온(I-A-1)」 등이라고 하는 경우가 있음.〕이 바람직하고, 식 (I-A-1)~식 (I-A-4), 식 (I-A-9), 식 (I-A-10), 식 (I-A-24)~식 (I-A-33), 식 (I-A-36)~식 (I-A-40), 식 (I-A-47)~식 (I-A-59) 중 어느 하나로 나타내어지는 음이온이 보다 바람직하다.As the anion represented by the formula (IA), the anion represented by the formulas (IA-1) to (IA-59) [hereinafter referred to as “anion (IA-1)” according to the formula number, etc. Yes.] preferred, formulas (IA-1) to (IA-4), (IA-9), (IA-10), (IA-24) to (IA-33), formulas The anion represented by any one of (IA-36) - Formula (IA-40), Formula (IA-47) - Formula (IA-59) is more preferable.
[0055][0055]
[0056][0056]
[0057][0057]
[0058][0058]
[0059][0059]
[0060][0060]
[0061][0061]
[0062] 여기서 Ri2~Ri7은, 각각 독립적으로, 예컨대, 탄소수 1~4인 알킬기, 바람직하게는 메틸기 또는 에틸기이다. Ri8은, 예컨대, 탄소수 1~12인 사슬식 탄화수소기, 바람직하게는 탄소수 1~4인 알킬기, 탄소수 5~12인 지환식 탄화수소기 또는 이들을 조합함으로써 형성되는 기, 보다 바람직하게는 메틸기, 에틸기, 시클로헥실기 또는 아다만틸기이다. LA41은, 단결합 또는 탄소수 1~4인 알칸디일기이다. Q1 및 Q2는, 상기와 동일한 의미를 나타낸다.[0062] Here, R i2 to R i7 are each independently, for example, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably a methyl group or an ethyl group. R i8 is, for example, a chain hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, or a group formed by combining them, more preferably a methyl group or an ethyl group , a cyclohexyl group or an adamantyl group. L A41 is a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms. Q 1 and Q 2 have the same meanings as above.
식 (I-A)로 나타내어지는 음이온으로서는, 구체적으로는, 일본 특허공개공보 제2010-204646호에 기재된 음이온을 들 수 있다.Specifically as an anion represented by Formula (I-A), the anion of Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-204646 is mentioned.
[0063] 식 (I-A)로 나타내어지는 음이온으로서 바람직하게는, 식 (I-a-1)~식 (I-a-38)로 각각 나타내어지는 음이온을 들 수 있다.Preferred examples of the anion represented by the formula (I-A) include an anion represented by each of the formulas (I-a-1) to (I-a-38).
[0064][0064]
[0065][0065]
[0066] 그 중에서도, 식 (I-a-1)~식 (I-a-3), 식 (I-a-7)~식 (I-a-19), 식 (I-a-22)~식 (I-a-38) 중 어느 하나로 나타내어지는 음이온이 바람직하다.Among them, any one of formulas (Ia-1) to (Ia-3), (Ia-7) to (Ia-19), and (Ia-22) to (Ia-38) The anions represented are preferred.
[0067] AI-로 나타내어지는 설포닐이미드 음이온으로서는, 이하의 것을 들 수 있다.[0067] AI - As the sulfonyl imide anions represented by the following.
[0068] 설포닐메티드 음이온으로서는, 이하의 것을 들 수 있다.[0068] Examples of the sulfonyl methide anion include the following.
[0069] 카르복실산 음이온으로서는, 이하의 것을 들 수 있다.[0069] Examples of the carboxylate anion include the following.
[0070] 염(I)의 구체적인 예로서, 상기한 양이온과 음이온을 임의로 조합한 염을 들 수 있다. 염(I)의 구체적인 예를 하기 표에 나타낸다.Specific examples of the salt (I) include a salt in which the above-described cation and anion are arbitrarily combined. Specific examples of salt (I) are shown in the table below.
하기 표에 있어서, 각 부호는, 상술한 음이온이나 양이온을 나타내는 구조에 붙인 부호를 나타내고, 「~」는, 염(I)과 음이온(I)의 각각이 대응함을 나타낸다. 예컨대, 염(I-1)은, 식 (I-a-1)로 나타내어지는 음이온과 식 (I-c-1)로 나타내어지는 양이온으로 이루어진 염, 염(I-2)는, 식 (I-a-2)로 나타내어지는 음이온과 식 (I-c-1)로 나타내어지는 양이온으로 이루어진 염, 염(I-39)는, 식 (I-a-1)로 나타내어지는 음이온과 식 (I-c-2)로 나타내어지는 양이온으로 이루어진 염을 나타낸다.In the table below, each code represents a code attached to the structure representing the above-described anion or cation, and "-" represents that each of the salt (I) and the anion (I) corresponds. For example, salt (I-1) is a salt consisting of an anion represented by formula (Ia-1) and a cation represented by formula (Ic-1), and salt (I-2) is represented by formula (Ia-2) The salt or salt (I-39) consisting of the anion represented by the anion and the cation represented by the formula (Ic-1) is a salt consisting of the anion represented by the formula (Ia-1) and the cation represented by the formula (Ic-2) indicates
[0071][0071]
[표 1] [Table 1]
[0072] 그 중에서도, 염(I)은, 식 (I-a-1)~식 (I-a-4), 식 (I-a-7)~식 (I-a-11), 식 (I-a-14)~식 (I-a-30) 및 식 (I-a-35)~식 (I-a-38) 중 어느 하나로 나타내어지는 음이온과 식 (I-c-1)~식 (I-c-54) 중 어느 하나로 나타내어지는 양이온을 조합한 염이 바람직하고, 구체적으로는, 염(I-1)~염(I-4), 염(I-7)~염(I-11), 염(I-14)~염(I-30), 염(I-35)~염(I-38), 염(I-39)~염(I-42), 염(I-45)~염(I-49), 염(I-52)~염(I-68), 염(I-73)~염(I-76), 염(I-77)~염(I-80), 염(I-83)~염(I-87), 염(I-90)~염(I-106), 염(I-111)~염(I-114), 염(I-115)~염(I-118), 염(I-121)~염(I-125), 염(I-128)~염(I-144), 염(I-149)~염(I-152), 염(I-153)~염(I-156), 염(I-159)~염(I-163), 염(I-166)~염(I-182), 염(I-187)~염(I-190), 염(I-191)~염(I-194), 염(I-197)~염(I-201), 염(I-204)~염(I-220), 염(I-225)~염(I-228), 염(I-229)~염(I-232), 염(I-235)~염(I-239), 염(I-242)~염(I-258), 염(I-263)~염(I-266), 염(I-267)~염(I-270), 염(I-273)~염(I-277), 염(I-280)~염(I-296), 염(I-301)~염(I-304), 염(I-305)~염(I-308), 염(I-311)~염(I-315), 염(I-318)~염(I-334), 염(I-339)~염(I-342), 염(I-343)~염(I-346), 염(I-349)~염(I-353), 염(I-356)~염(I-372), 염(I-377)~염(I-380), 염(I-381)~염(I-384), 염(I-387)~염(I-391), 염(I-394)~염(I-410), 염(I-415)~염(I-418), 염(I-419)~염(I-422), 염(I-425)~염(I-429), 염(I-432)~염(I-448), 염(I-453)~염(I-456), 염(I-457)~염(I-460), 염(I-463)~염(I-467), 염(I-470)~염(I-486), 염(I-491)~염(I-494), 염(I-495)~염(I-498), 염(I-501)~염(I-505), 염(I-508)~염(I-524), 염(I-529)~염(I-532), 염(I-533)~염(I-536), 염(I-539)~염(I-543), 염(I-546)~염(I-562), 염(I-567)~염(I-570), 염(I-571)~염(I-574), 염(I-577)~염(I-581), 염(I-584)~염(I-600), 염(I-605)~염(I-608), 염(I-609)~염(I-612), 염(I-615)~염(I-619), 염(I-622)~염(I-638), 염(I-643)~염(I-646), 염(I-647)~염(I-650), 염(I-653)~염(I-657), 염(I-660)~염(I-676), 염(I-681)~염(I-684), 염(I-685)~염(I-688), 염(I-691)~염(I-695), 염(I-698)~염(I-714), 염(I-719)~염(I-722), 염(I-723)~염(I-726), 염(I-729)~염(I-733), 염(I-736)~염(I-752), 염(I-757)~염(I-760), 염(I-761)~염(I-764), 염(I-767)~염(I-771), 염(I-774)~염(I-790), 염(I-795)~염(I-798), 염(I-799)~염(I-802), 염(I-805)~염(I-809), 염(I-812)~염(I-828), 염(I-833)~염(I-836), 염(I-837)~염(I-840), 염(I-843)~염(I-847), 염(I-850)~염(I-866), 염(I-871)~염(I-874), 염(I-875)~염(I-878), 염(I-881)~염(I-885), 염(I-888)~염(I-904), 염(I-909)~염(I-912), 염(I-913)~염(I-916), 염(I-919)~염(I-923), 염(I-926)~염(I-942), 염(I-947)~염(I-950), 염(I-951)~염(I-954), 염(I-957)~염(I-961), 염(I-964)~염(I-980), 염(I-985)~염(I-988), 염(I-989)~염(I-992), 염(I-995)~염(I-999), 염(I-1002)~염(I-1018), 염(I-1023)~염(I-1026), 염(I-1027)~염(I-1030), 염(I-1033)~염(I-1037), 염(I-1040)~염(I-1056), 염(I-1061)~염(I-1064), 염(I-1065)~염(I-1068), 염(I-1071)~염(I-1075), 염(I-1078)~염(I-1094), 염(I-1099)~염(I-1102), 염(I-1103)~염(I-1106), 염(I-1109)~염(I-1113), 염(I-1116)~염(I-1132), 염(I-1137)~염(I-1140), 염(I-1141)~염(I-1144), 염(I-1147)~염(I-1151), 염(I-1154)~염(I-1170), 염(I-1175)~염(I-1178), 염(I-1179)~염(I-1182), 염(I-1185)~염(I-1189), 염(I-1192)~염(I-1208), 염(I-1213)~염(I-1216), 염(I-1217)~염(I-1220), 염(I-1223)~염(I-1227), 염(I-1230)~염(I-1246), 염(I-1251)~염(I-1254), 염(I-1255)~염(I-1258), 염(I-1261)~염(I-1265), 염(I-1268)~염(I-1284), 염(I-1289)~염(I-1292), 염(I-1293)~염(I-1296), 염(I-1299)~염(I-1303), 염(I-1306)~염(I-1322), 염(I-1327)~염(I-1330), 염(I-1331)~염(I-1334), 염(I-1337)~염(I-1341), 염(I-1344)~염(I-1360), 염(I-1365)~염(I-1368), 염(I-1369)~염(I-1372), 염(I-1375)~염(I-1379), 염(I-1382)~염(I-1398), 염(I-1403)~염(I-1406), 염(I-1407)~염(I-1410), 염(I-1413)~염(I-1417), 염(I-1420)~염(I-1436), 염(I-1441)~염(I-1444), 염(I-1445)~염(I-1448), 염(I-1451)~염(I-1455), 염(I-1458)~염(I-1474), 염(I-1479)~염(I-1482), 염(I-1483)~염(I-1486), 염(I-1489)~염(I-1493), 염(I-1496)~염(I-1512), 염(I-1517)~염(I-1520), 염(I-1521)~염(I-1524), 염(I-1527)~염(I-1531), 염(I-1534)~염(I-1550), 염(I-1555)~염(I-1558), 염(I-1559)~염(I-1562), 염(I-1565)~염(I-1569), 염(I-1572)~염(I-1588), 염(I-1593)~염(I-1596), 염(I-1597)~염(I-1600), 염(I-1603)~염(I-1607), 염(I-1610)~염(I-1626), 염(I-1631)~염(I-1634), 염(I-1635)~염(I-1638), 염(I-1641)~염(I-1645), 염(I-1648)~염(I-1664), 염(I-1669)~염(I-1672), 염(I-1673)~염(I-1676), 염(I-1679)~염(I-1683), 염(I-1686)~염(I-1702), 염(I-1707)~염(I-1710), 염(I-1711)~염(I-1714), 염(I-1717)~염(I-1721), 염(I-1724)~염(I-1740), 염(I-1745)~염(I-1748), 염(I-1749)~염(I-1752), 염(I-1755)~염(I-1759), 염(I-1762)~염(I-1778), 염(I-1783)~염(I-1786), 염(I-1787)~염(I-1790), 염(I-1793)~염(I-1797), 염(I-1800)~염(I-1816), 염(I-1821)~염(I-1824), 염(I-1825)~염(I-1828), 염(I-1831)~염(I-1835), 염(I-1838)~염(I-1854), 염(I-1859)~염(I-1862), 염(I-1863)~염(I-1866), 염(I-1869)~염(I-1873), 염(I-1876)~염(I-1892), 염(I-1897)~염(I-1900), 염(I-1901)~염(I-1904), 염(I-1907)~염(I-1911), 염(I-1914)~염(I-1930), 염(I-1935)~염(I-1938), 염(I-1939)~염(I-1942), 염(I-1945)~염(I-1949), 염(I-1952)~염(I-1968), 염(I-1973)~염(I-1976), 염(I-1977)~염(I-1980), 염(I-1983)~염(I-1987), 염(I-1990)~염(I-2006), 염(I-2011)~염(I-2014), 염(I-2015)~염(I-2018), 염(I-2021)~염(I-2025), 염(I-2028)~염(I-2044), 염(I-2049)~염(I-2052)인 것이 바람직하다.Among them, salt (I) is a formula (Ia-1) to formula (Ia-4), formula (Ia-7) to formula (Ia-11), formula (Ia-14) to formula (Ia) -30) and a salt obtained by combining an anion represented by any one of formulas (Ia-35) to (Ia-38) with a cation represented by any one of formulas (Ic-1) to (Ic-54) is preferred, , specifically, salt (I-1) to salt (I-4), salt (I-7) to salt (I-11), salt (I-14) to salt (I-30), salt (I) -35) - Salt (I-38), Salt (I-39) - Salt (I-42), Salt (I-45) - Salt (I-49), Salt (I-52) - Salt (I- 68), salt (I-73) to salt (I-76), salt (I-77) to salt (I-80), salt (I-83) to salt (I-87), salt (I-90) ) to salt (I-106), salt (I-111) to salt (I-114), salt (I-115) to salt (I-118), salt (I-121) to salt (I-125) , salt (I-128) to salt (I-144), salt (I-149) to salt (I-152), salt (I-153) to salt (I-156), salt (I-159) to Salt (I-163), salt (I-166) - salt (I-182), salt (I-187) - salt (I-190), salt (I-191) - salt (I-194), salt (I-197) to salt (I-201), salt (I-204) to salt (I-220), salt (I-225) to salt (I-228), salt (I-229) to salt ( I-232), salt (I-235) to salt (I-239), salt (I-242) to salt (I-258), salt (I-263) to salt (I-266), salt (I) -267)-salt (I-270), salt (I-273)-salt (I-277), salt (I-280)-salt (I-296), salt (I-301)-salt (I- 304), salt (I-305) to salt (I-308), salt (I-311) to salt (I-315), salt (I-318) to salt (I-334), salt (I-339) ) to salt (I-342), salt (I-343) to salt (I-346), salt (I-349) to salt (I-353), salt (I-356) to salt (I-372) , salt (I-377) - salt (I-380), salt (I-381) - salt (I-384), salt (I-387) - salt (I-391), salt (I-394) - Salt (I-410), salt (I-415) to salt ( I-418), salt (I-419) - salt (I-422), salt (I-425) - salt (I-429), salt (I-432) - salt (I-448), salt (I) -453)-salt (I-456), salt (I-457)-salt (I-460), salt (I-463)-salt (I-467), salt (I-470)-salt (I- 486), salt (I-491) - salt (I-494), salt (I-495) - salt (I-498), salt (I-501) - salt (I-505), salt (I-508) ) to salt (I-524), salt (I-529) to salt (I-532), salt (I-533) to salt (I-536), salt (I-539) to salt (I-543) , salt (I-546) - salt (I-562), salt (I-567) - salt (I-570), salt (I-571) - salt (I-574), salt (I-577) - Salt (I-581), salt (I-584) - salt (I-600), salt (I-605) - salt (I-608), salt (I-609) - salt (I-612), salt (I-615) to salt (I-619), salt (I-622) to salt (I-638), salt (I-643) to salt (I-646), salt (I-647) to salt ( I-650), salt (I-653) - salt (I-657), salt (I-660) - salt (I-676), salt (I-681) - salt (I-684), salt (I) -685)-salt (I-688), salt (I-691)-salt (I-695), salt (I-698)-salt (I-714), salt (I-719)-salt (I- 722), salt (I-723) - salt (I-726), salt (I-729) - salt (I-733), salt (I-736) - salt (I-752), salt (I-757) ) to salt (I-760), salt (I-761) to salt (I-764), salt (I-767) to salt (I-771), salt (I-774) to salt (I-790) , salt (I-795) - salt (I-798), salt (I-799) - salt (I-802), salt (I-805) - salt (I-809), salt (I-812) - Salt (I-828), salt (I-833) - salt (I-836), salt (I-837) - salt (I-840), salt (I-843) - salt (I-847), salt (I-850) to salt (I-866), salt (I-871) to salt (I-874), salt (I-875) to salt (I-878), salt (I-881) to salt ( I-885), salt (I-888) - salt (I-904), salt (I-909) - salt (I-912), salt (I- 913)-salt (I-916), salt (I-919)-salt (I-923), salt (I-926)-salt (I-942), salt (I-947)-salt (I-950) ), salt (I-951) - salt (I-954), salt (I-957) - salt (I-961), salt (I-964) - salt (I-980), salt (I-985) -salt (I-988), salt (I-989) -salt (I-992), salt (I-995) -salt (I-999), salt (I-1002) -salt (I-1018), Salt (I-1023) - Salt (I-1026), Salt (I-1027) - Salt (I-1030), Salt (I-1033) - Salt (I-1037), Salt (I-1040) - Salt (I-1056), salt (I-1061) - salt (I-1064), salt (I-1065) - salt (I-1068), salt (I-1071) - salt (I-1075), salt ( I-1078) to salt (I-1094), salt (I-1099) to salt (I-1102), salt (I-1103) to salt (I-1106), salt (I-1109) to salt (I) -1113), salt (I-1116) - salt (I-1132), salt (I-1137) - salt (I-1140), salt (I-1141) - salt (I-1144), salt (I- 1147) to salt (I-1151), salt (I-1154) to salt (I-1170), salt (I-1175) to salt (I-1178), salt (I-1179) to salt (I-1182) ), salt (I-1185) - salt (I-1189), salt (I-1192) - salt (I-1208), salt (I-1213) - salt (I-1216), salt (I-1217) -salt (I-1220), salt (I-1223) -salt (I-1227), salt (I-1230) -salt (I-1246), salt (I-1251) -salt (I-1254), Salt (I-1255) - Salt (I-1258), Salt (I-1261) - Salt (I-1265), Salt (I-1268) - Salt (I-1284), Salt (I-1289) - Salt (I-1292), salt (I-1293) - salt (I-1296), salt (I-1299) - salt (I-1303), salt (I-1306) - salt (I-1322), salt ( I-1327)-salt (I-1330), salt (I-1331)-salt (I-1334), salt (I-1337)-salt (I-1341), salt (I-1344)-salt (I) -1360), salt (I-1365) - salt (I-1368), salt (I-1369) - salt (I-13) 72), salt (I-1375) to salt (I-1379), salt (I-1382) to salt (I-1398), salt (I-1403) to salt (I-1406), salt (I-1407) ) to salt (I-1410), salt (I-1413) to salt (I-1417), salt (I-1420) to salt (I-1436), salt (I-1441) to salt (I-1444) , salt (I-1445) - salt (I-1448), salt (I-1451) - salt (I-1455), salt (I-1458) - salt (I-1474), salt (I-1479) - Salt (I-1482), salt (I-1483) - salt (I-1486), salt (I-1489) - salt (I-1493), salt (I-1496) - salt (I-1512), salt (I-1517)-salt (I-1520), salt (I-1521)-salt (I-1524), salt (I-1527)-salt (I-1531), salt (I-1534)-salt ( I-1550), salt (I-1555) - salt (I-1558), salt (I-1559) - salt (I-1562), salt (I-1565) - salt (I-1569), salt (I) -1572)-salt (I-1588), salt (I-1593)-salt (I-1596), salt (I-1597)-salt (I-1600), salt (I-1603)-salt (I- 1607), salt (I-1610) - salt (I-1626), salt (I-1631) - salt (I-1634), salt (I-1635) - salt (I-1638), salt (I-1641) ) to salt (I-1645), salt (I-1648) to salt (I-1664), salt (I-1669) to salt (I-1672), salt (I-1673) to salt (I-1676) , salt (I-1679) - salt (I-1683), salt (I-1686) - salt (I-1702), salt (I-1707) - salt (I-1710), salt (I-1711) - Salt (I-1714), salt (I-1717) - salt (I-1721), salt (I-1724) - salt (I-1740), salt (I-1745) - salt (I-1748), salt (I-1749)-salt (I-1752), salt (I-1755)-salt (I-1759), salt (I-1762)-salt (I-1778), salt (I-1783)-salt ( I-1786), salt (I-1787) - salt (I-1790), salt (I-1793) - salt (I-1797), salt (I-1800) - salt (I-1816), salt (I) -1821) to salt (I-1824), salt (I-1825) ) - salt (I-1828), salt (I-1831) - salt (I-1835), salt (I-1838) - salt (I-1854), salt (I-1859) - salt (I-1862) , salt (I-1863) - salt (I-1866), salt (I-1869) - salt (I-1873), salt (I-1876) - salt (I-1892), salt (I-1897) - Salt (I-1900), salt (I-1901) - salt (I-1904), salt (I-1907) - salt (I-1911), salt (I-1914) - salt (I-1930), salt (I-1935) - Salt (I-1938), Salt (I-1939) - Salt (I-1942), Salt (I-1945) - Salt (I-1949), Salt (I-1952) - Salt ( I-1968), salt (I-1973) - salt (I-1976), salt (I-1977) - salt (I-1980), salt (I-1983) - salt (I-1987), salt (I - 1990) - Salt (I-2006), Salt (I-2011) - Salt (I-2014), Salt (I-2015) - Salt (I-2018), Salt (I-2021) - Salt (I- 2025), salts (I-2028) to salts (I-2044), and salts (I-2049) to salts (I-2052) are preferable.
[0073] <염(I)의 제조 방법>[0073] <Method for producing salt (I)>
염(I)은, 식 (I-a)로 나타내어지는 염과, 식 (I-b)로 나타내어지는 염을, 용제 중에서 반응시킴으로써 제조할 수 있다.Salt (I) can be manufactured by making the salt represented by Formula (I-a) and the salt represented by Formula (I-b) react in a solvent.
[식 중, 모든 부호는, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다. RA, RB 및 RC는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~12인 탄화수소기를 나타내거나, 또는, RA, RB 및 RC가 하나가 되어 방향환을 형성해도 된다. RD는, 수소 원자 또는 탄소수 1~12인 탄화수소기를 나타낸다.][In the formula, all the symbols have the same meaning as described above, respectively. R A , R B and R C each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or R A , R B and R C may be combined to form an aromatic ring. R D represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.]
용제로서는, 클로로포름, 모노클로로벤젠, 아세토니트릴, 물 등을 들 수 있다.Chloroform, monochlorobenzene, acetonitrile, water etc. are mentioned as a solvent.
반응 온도는, 통상 15℃~80℃이고, 반응 시간은, 통상 0.5~24시간이다.Reaction temperature is 15 degreeC - 80 degreeC normally, and reaction time is 0.5 to 24 hours normally.
[0074] 식 (I-b)로 나타내어지는 염으로서는, 하기 식으로 나타내어지는 염 등을 들 수 있다. 이들 염은, 일본 특허공개공보 제2011-116747호, 일본 특허공개공보 제2016-047815호에 기재된 방법과 동일한 방법, 또는, 공지된 제법(製法)에 의해 용이하게 제조할 수 있다.Examples of the salt represented by the formula (I-b) include a salt represented by the following formula. These salts can be easily manufactured by the method similar to the method described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-116747 and Unexamined-Japanese-Patent No. 2016-047815, or a well-known manufacturing method.
[0075] 식 (I-a)로 나타내어지는 염에 있어서, R1 및 R2가, -O-L1-CO-O-R10인 염(식 (I-a1)로 나타내어지는 염)은, 식 (I-c)로 나타내어지는 염과 식 (I-d)로 나타내어지는 화합물을, 염기 촉매 존재하, 용제 중에서 반응시킴으로써 제조할 수 있다.[0075] In the salt represented by the formula (Ia), R 1 and R 2 are -OL 1 -CO-OR 10 The salt (the salt represented by the formula (I-a1)) is represented by the formula (Ic) It can manufacture by making the salt represented and the compound represented by Formula (Id) react in the presence of a base catalyst in a solvent.
[식 중, 모든 부호는, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.][In the formula, all the symbols each have the same meaning as above.]
염기로서는, 탄산칼륨, 요오드화칼륨, 피리딘, 트리에틸아민 등을 들 수 있다.Examples of the base include potassium carbonate, potassium iodide, pyridine, and triethylamine.
용제로서는, 클로로포름, 모노클로로벤젠, 디메틸포름아미드, 아세토니트릴, 아세트산에틸, 물 등을 들 수 있다.Examples of the solvent include chloroform, monochlorobenzene, dimethylformamide, acetonitrile, ethyl acetate, and water.
반응 온도는, 통상 15℃~80℃이고, 반응 시간은, 통상 0.5~24시간이다.Reaction temperature is 15 degreeC - 80 degreeC normally, and reaction time is 0.5 to 24 hours normally.
[0076] 식 (I-d)로 나타내어지는 화합물은, 예컨대, 이하에서 나타내어지는 화합물 등을 들 수 있고, 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있고, 또한, 공지된 제법에 의해 용이하게 제조할 수도 있다.[0076] The compound represented by the formula (I-d) includes, for example, the compounds shown below, and can be easily obtained from the market, and can also be easily produced by a known manufacturing method.
[0077] 식 (I-c)로 나타내어지는 염은, 식 (I-e)로 나타내어지는 염과, 식 (I-f1)로 나타내어지는 화합물과, 식 (I-f2)로 나타내어지는 화합물을, 촉매 존재하, 용제 중에서 반응시킴으로써 제조할 수 있다.[0077] The salt represented by the formula (Ic) includes a salt represented by the formula (Ie), the compound represented by the formula (I-f1), and the compound represented by the formula (I-f2) in the presence of a catalyst , can be prepared by reacting in a solvent.
[식 중, 모든 부호는, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.][In the formula, all the symbols each have the same meaning as above.]
촉매로서는, 탄산칼륨, 수소화나트륨 등을 들 수 있다.As a catalyst, potassium carbonate, sodium hydride, etc. are mentioned.
용제로서는, 클로로포름, 모노클로로벤젠, 아세토니트릴, 물 등을 들 수 있다.Chloroform, monochlorobenzene, acetonitrile, water etc. are mentioned as a solvent.
반응 온도는, 통상 15℃~100℃이고, 반응 시간은, 통상 0.5~24시간이다.The reaction temperature is usually 15°C to 100°C, and the reaction time is usually 0.5 to 24 hours.
[0078] 식 (I-e)로 나타내어지는 염으로서는, 하기 식으로 나타내어지는 염 등을 들 수 있고, 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있고, 또한, 공지된 제법에 의해, 용이하게 제조할 수 있다.[0078] Examples of the salt represented by the formula (I-e) include a salt represented by the following formula, and can be easily obtained from the market and can be easily produced by a known production method.
[0079] 식 (I-f1)로 나타내어지는 화합물 및 식 (I-f2)로 나타내어지는 화합물로서는, 이하에서 나타내어지는 화합물 등을 들 수 있고, 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있다.[0079] Examples of the compound represented by the formula (I-f1) and the compound represented by the formula (I-f2) include the compounds shown below and can be easily obtained from the market.
[0080] 식 (I-c)로 나타내어지는 염은, 식 (I-e)로 나타내어지는 염과, 식 (I-f4)로 나타내어지는 화합물과, 식 (I-f5)로 나타내어지는 화합물을, 탄산칼륨의 존재하, 용제 중에서 반응시킨 후, 산(酸) 처리함으로써 제조할 수도 있다.[0080] The salt represented by the formula (Ic) includes the salt represented by the formula (Ie), the compound represented by the formula (I-f4), and the compound represented by the formula (I-f5) of potassium carbonate It can also manufacture by making it react in presence and a solvent, and then carrying out acid treatment.
[식 중, 모든 부호는, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.[In the formula, all the symbols have the same meaning as described above, respectively.
Rac는, 산 불안정기를 나타낸다.]R ac represents an acid labile group.]
용제로서는, 클로로포름, 모노클로로벤젠, 아세토니트릴, 물 등을 들 수 있다.Chloroform, monochlorobenzene, acetonitrile, water etc. are mentioned as a solvent.
반응 온도는, 통상 15℃~100℃이고, 반응 시간은, 통상 0.5~24시간이다.The reaction temperature is usually 15°C to 100°C, and the reaction time is usually 0.5 to 24 hours.
산으로서는, p-톨루엔설폰산, 염산 등을 들 수 있다.Examples of the acid include p-toluenesulfonic acid and hydrochloric acid.
[0081] 식 (I-f4)로 나타내어지는 화합물 및 식 (I-f5)로 나타내어지는 화합물로서는, 이하에서 나타내어지는 화합물 등을 들 수 있고, 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있다.[0081] Examples of the compound represented by the formula (I-f4) and the compound represented by the formula (I-f5) include the compounds shown below and can be easily obtained from the market.
[0082] 식 (I-a)로 나타내어지는 염에 있어서, R1 및 R2가, -O-R10인 염(식 (I-a2)로 나타내어지는 염)은, 식 (I-c)로 나타내어지는 염과 식 (I-d2)로 나타내어지는 화합물을, 염기 촉매 존재하, 용제 중에서 반응시킴으로써 제조할 수 있다.[0082] In the salt represented by the formula (Ia), R 1 and R 2 are -OR 10 The salt (the salt represented by the formula (I-a2)) is the salt represented by the formula (Ic) and the formula It can be produced by reacting the compound represented by (I-d2) in a solvent in the presence of a base catalyst.
[식 중, 모든 부호는, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.][In the formula, all the symbols each have the same meaning as above.]
염기로서는, 수산화나트륨, 수산화칼륨 등을 들 수 있다.Examples of the base include sodium hydroxide and potassium hydroxide.
용제로서는, 클로로포름, 모노클로로벤젠, 디메틸포름아미드, 아세토니트릴, 아세트산에틸, 물 등을 들 수 있다.Examples of the solvent include chloroform, monochlorobenzene, dimethylformamide, acetonitrile, ethyl acetate, and water.
반응 온도는, 통상 15℃~80℃이고, 반응 시간은, 통상 0.5~24시간이다.Reaction temperature is 15 degreeC - 80 degreeC normally, and reaction time is 0.5 to 24 hours normally.
[0083] 식 (I-d2)로 나타내어지는 화합물은, 예컨대, 이하에서 나타내어지는 화합물 등을 들 수 있고, 시장으로부터 용이하게 입수할 수 있고, 또한, 공지된 제법에 의해 용이하게 제조할 수도 있다.[0083] The compound represented by the formula (I-d2) includes, for example, the compounds shown below, and can be easily obtained from the market, and can also be easily prepared by a known manufacturing method. .
[0084] 식 (I-a)로 나타내어지는 염에 있어서, R1 및 R2가, -O-CO-O-R10인 염(식 (I-a3)으로 나타내어지는 염)은, 식 (I-c)로 나타내어지는 염과 식 (I-d2)로 나타내어지는 화합물을, 카르보닐디이미다졸 존재하, 용제 중에서 반응시킴으로써 제조할 수 있다.[0084] In the salt represented by the formula (Ia), R 1 and R 2 are -O-CO-OR 10 The salt (the salt represented by the formula (I-a3)) is represented by the formula (Ic) It can be produced by reacting a salt with a compound represented by formula (I-d2) in a solvent in the presence of carbonyldiimidazole.
[식 중, 모든 부호는, 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.][In the formula, all the symbols each have the same meaning as above.]
용제로서는, 클로로포름, 모노클로로벤젠, 디메틸포름아미드, 아세토니트릴, 아세트산에틸, 물 등을 들 수 있다.Examples of the solvent include chloroform, monochlorobenzene, dimethylformamide, acetonitrile, ethyl acetate, and water.
반응 온도는, 통상 15℃~80℃이고, 반응 시간은, 통상 0.5~24시간이다.Reaction temperature is 15 degreeC - 80 degreeC normally, and reaction time is 0.5 to 24 hours normally.
[0085] 〔산 발생제〕[0085] [acid generator]
본 발명의 산 발생제는, 염(I)을 함유하는 산 발생제이다. 염(I)을 1종 포함하고 있어도 되고, 염(I)을 2종 이상 포함하고 있어도 된다.The acid generator of the present invention is an acid generator containing salt (I). One type of salt (I) may be included, and two or more types of salt (I) may be included.
본 발명의 산 발생제는, 염(I)에 더하여, 레지스트 분야에서 공지된 산 발생제(이하 「산 발생제(B)」라고 하는 경우가 있음)를 함유하고 있어도 된다. 산 발생제(B)는, 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.The acid generator of the present invention may contain, in addition to the salt (I), an acid generator known in the resist field (hereinafter sometimes referred to as “acid generator (B)”). An acid generator (B) may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.
[0086] 산 발생제(B)는, 비이온계 또는 이온계 중 어느 하나를 사용해도 된다. 비이온계 산 발생제로서는, 설포네이트에스테르류(예컨대 2-니트로벤질에스테르, 방향족 설포네이트, 옥심설포네이트, N-설포닐옥시이미드, 설포닐옥시케톤, 디아조나프토퀴논4-설포네이트), 설폰류(예컨대 디설폰, 케토설폰, 설포닐디아조메탄) 등을 들 수 있다. 이온계 산 발생제로서는, 오늄 양이온을 포함하는 오늄염(예컨대 디아조늄염, 포스포늄염, 설포늄염, 요오도늄염)이 대표적이다. 오늄염의 음이온으로서는, 설폰산 음이온, 설포닐이미드 음이온, 설포닐메티드 음이온 등을 들 수 있다.[0086] The acid generator (B) may be either nonionic or ionic. Examples of the nonionic acid generator include sulfonate esters (eg, 2-nitrobenzyl ester, aromatic sulfonate, oxime sulfonate, N-sulfonyloxyimide, sulfonyloxyketone, diazonaphthoquinone 4-sulfonate); sulfones (eg, disulfone, ketosulfone, sulfonyldiazomethane); and the like. Representative examples of the ionic acid generator include onium salts containing onium cations (eg, diazonium salts, phosphonium salts, sulfonium salts, and iodonium salts). Examples of the anion of the onium salt include a sulfonic acid anion, a sulfonylimide anion, and a sulfonylmethide anion.
[0087] 산 발생제(B)로서는, 일본 특허공개공보 S63-26653호, 일본 특허공개공보 S55-164824호, 일본 특허공개공보 S62-69263호, 일본 특허공개공보 S63-146038호, 일본 특허공개공보 S63-163452호, 일본 특허공개공보 S62-153853호, 일본 특허공개공보 S63-146029호, 미국 특허 제3,779,778호, 미국 특허 제3,849,137호, 독일 특허 제3914407호, 유럽 특허 제126,712호 등에 기재된 방사선에 의해 산을 발생시키는 화합물을 사용할 수 있다. 또한, 공지된 방법으로 제조한 화합물을 사용해도 된다. 산 발생제(B)는, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.[0087] As the acid generator (B), Japanese Patent Application Laid-Open No. S63-26653, Japanese Patent Application Laid-Open No. S55-164824, Japanese Patent Application Laid-Open No. S62-69263, Japanese Patent Application Laid-Open No. S63-146038, Japanese Patent Laid-Open No. Radiation described in Japanese Patent Application Laid-Open No. S63-163452, Japanese Patent Application Laid-Open No. S62-153853, Japanese Patent Application Laid-Open No. S63-146029, US Patent 3,779,778, US Patent 3,849,137, German Patent No. 3914407, European Patent No. 126,712, etc. A compound that generates an acid by Moreover, you may use the compound manufactured by a well-known method. You may use an acid generator (B) in combination of 2 or more type.
[0088] 산 발생제(B)는, 바람직하게는 불소 함유 산 발생제이고, 보다 바람직하게는 식 (B1)로 나타내어지는 염(이하 「산 발생제(B1)」이라고 하는 경우가 있음. 단, 염(I)을 제외함.)이다.The acid generator (B) is preferably a fluorine-containing acid generator, more preferably a salt represented by the formula (B1) (hereinafter referred to as “acid generator (B1)” in some cases. , except for salt (I)).
[식 (B1) 중,[In formula (B1),
Qb1 및 Qb2는, 각각 독립적으로, 불소 원자 또는 탄소수 1~6인 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.Q b1 and Q b2 each independently represent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
Lb1은, 탄소수 1~24인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 되고, 해당 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.L b1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, -CH 2 - contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be substituted with -O- or -CO-, and is included in the divalent saturated hydrocarbon group The hydrogen atom to be used may be substituted with a fluorine atom or a hydroxyl group.
Y는, 치환기를 가지고 있어도 되는 메틸기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 3~24인 지환식 탄화수소기를 나타내고, 해당 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-, -SO2- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.Y represents a methyl group which may have a substituent or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 24 carbon atoms which may have a substituent, and -CH 2 - contained in the alicyclic hydrocarbon group is -O-, -SO 2 - or -CO - may be substituted.
Z1+는, 유기 양이온을 나타낸다.]Z1 + represents an organic cation.]
[0089] 식 (B1)에 있어서의 Qb1, Qb2, Lb1 및 Y는, 각각 상술한 식 (I-A)에 있어서의 Q1, Q2, L1 및 Y1과 동일한 것을 들 수 있다.[0089] Q b1 , Q b2 , L b1 and Y in Formula (B1) include the same ones as Q 1 , Q 2 , L 1 and Y 1 in Formula (IA) described above, respectively.
식 (B1)에 있어서의 설폰산 음이온으로서는, 식 (I-A)로 나타내어지는 음이온과 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the sulfonic acid anion in the formula (B1) include the same as the anion represented by the formula (I-A).
[0090] Z1+의 유기 양이온으로서는, 유기 오늄 양이온, 유기 설포늄 양이온, 유기 요오도늄 양이온, 유기 암모늄 양이온, 벤조티아졸륨 양이온 및 유기 포스포늄 양이온 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 유기 설포늄 양이온 및 유기 요오도늄 양이온이 바람직하고, 아릴설포늄 양이온이 보다 바람직하다.Examples of the organic cation of Z1+ include organic onium cations, organic sulfonium cations, organic iodonium cations, organic ammonium cations, benzothiazolium cations and organic phosphonium cations. Among these, an organic sulfonium cation and an organic iodonium cation are preferable, and an arylsulfonium cation is more preferable.
[0091] Z+의 유기 양이온으로서는, 유기 오늄 양이온, 유기 설포늄 양이온, 유기 요오도늄 양이온, 유기 암모늄 양이온, 벤조티아졸륨 양이온 및 유기 포스포늄 양이온 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 유기 설포늄 양이온 및 유기 요오도늄 양이온이 바람직하고, 아릴설포늄 양이온이 보다 바람직하다. 구체적으로는, 식 (b2-1)~식 (b2-4) 중 어느 하나로 나타내어지는 양이온(이하, 식 번호에 따라 「양이온(b2-1)」 등이라고 하는 경우가 있음.)을 들 수 있다.Examples of the organic cation of Z + include an organic onium cation, an organic sulfonium cation, an organic iodonium cation, an organic ammonium cation, a benzothiazolium cation, and an organic phosphonium cation. Among these, an organic sulfonium cation and an organic iodonium cation are preferable, and an arylsulfonium cation is more preferable. Specifically, a cation represented by any one of formulas (b2-1) to (b2-4) (hereinafter, depending on the formula number, may be referred to as “cation (b2-1)” or the like.) .
[0092] [0092]
식 (b2-1)~식 (b2-4)에 있어서,In formulas (b2-1) to (b2-4),
Rb4~Rb6은, 각각 독립적으로, 탄소수 1~30인 사슬식 탄화수소기, 탄소수 3~36인 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6~36인 방향족 탄화수소기를 나타내고, 해당 사슬식 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 히드록시기, 탄소수 1~12인 알콕시기, 탄소수 3~12인 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6~18인 방향족 탄화수소기로 치환되어 있어도 되고, 해당 지환식 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, 탄소수 1~18인 지방족 탄화수소기, 탄소수 2~4인 알킬카르보닐기 또는 글리시딜옥시기로 치환되어 있어도 되고, 해당 방향족 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, 히드록시기, 탄소수 1~18인 지방족 탄화수소기, 탄소수 1~12인 불화알킬기 또는 탄소수 1~12인 알콕시기로 치환되어 있어도 된다.R b4 to R b6 each independently represent a chain hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 36 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the chain hydrocarbon group may be substituted with a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group is a halogen atom, carbon number may be substituted with an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms or a glycidyloxy group, and the hydrogen atom contained in the aromatic hydrocarbon group is a halogen atom, a hydroxyl group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, It may be substituted with a C1-C12 fluoroalkyl group or a C1-C12 alkoxy group.
Rb4와 Rb5는, 서로 결합하여 이들이 결합하는 황 원자와 하나가 되어 고리를 형성해도 되고, 해당 고리에 포함되는 -CH2-는, -O-, -S- 또는 -CO-로 치환되어도 된다.R b4 and R b5 may combine with each other to form a ring with the sulfur atom to which they are bonded, and -CH 2 - contained in the ring may be substituted with -O-, -S- or -CO- do.
Rb7 및 Rb8은, 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 히드록시기, 탄소수 1~12인 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 1~12인 알콕시기를 나타낸다.R b7 and R b8 each independently represent a halogen atom, a hydroxyl group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
m2 및 n2는, 각각 독립적으로 0~5 중 어느 하나의 정수를 나타낸다.m2 and n2 each independently represent the integer in any one of 0-5.
m2가 2 이상일 때, 복수의 Rb7은 동일해도 상이해도 되고, n2가 2 이상일 때, 복수의 Rb8은 동일해도 상이해도 된다.When m2 is 2 or more, a plurality of R b7 may be the same or different, and when n2 is 2 or more, a plurality of R b8 may be the same or different.
Rb9 및 Rb10은, 각각 독립적으로, 탄소수 1~36인 사슬식 탄화수소기 또는 탄소수 3~36인 지환식 탄화수소기를 나타낸다.R b9 and R b10 each independently represent a C1-C36 chain hydrocarbon group or a C3-C36 alicyclic hydrocarbon group.
Rb9와 Rb10은, 서로 결합하여 이들이 결합하는 황 원자와 하나가 되어 고리를 형성해도 되고, 해당 고리에 포함되는 -CH2-는, -O-, -S- 또는 -CO-로 치환되어도 된다.R b9 and R b10 may combine with each other to form a ring with the sulfur atom to which they are bonded, and -CH 2 - contained in the ring may be substituted with -O-, -S- or -CO- do.
Rb11은, 수소 원자, 탄소수 1~36인 사슬식 탄화수소기, 탄소수 3~36인 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6~18인 방향족 탄화수소기를 나타낸다.R b11 represents a hydrogen atom, a C1-C36 chain hydrocarbon group, a C3-C36 alicyclic hydrocarbon group, or a C6-C18 aromatic hydrocarbon group.
Rb12는, 탄소수 1~12인 사슬식 탄화수소기, 탄소수 3~18인 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6~18인 방향족 탄화수소기를 나타내고, 해당 사슬식 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 탄소수 6~18인 방향족 탄화수소기로 치환되어 있어도 되고, 해당 방향족 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 탄소수 1~12인 알콕시기 또는 탄소수 1~12인 알킬카르보닐옥시기로 치환되어 있어도 된다.R b12 represents a chain hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the chain hydrocarbon group is 6 to 18 carbon atoms It may be substituted with the aromatic hydrocarbon group, and the hydrogen atom contained in this aromatic hydrocarbon group may be substituted by the C1-C12 alkoxy group or the C1-C12 alkylcarbonyloxy group.
Rb11과 Rb12는, 서로 결합하여 이들이 결합하는 -CH-CO-를 포함하여 고리를 형성하고 있어도 되고, 해당 고리에 포함되는 -CH2-는, -O-, -S- 또는 -CO-로 치환되어도 된다.R b11 and R b12 may be bonded to each other to form a ring including -CH-CO- to which they are bonded, and -CH 2 - contained in the ring is -O-, -S- or -CO- may be replaced with
Rb13~Rb18은, 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 히드록시기, 탄소수 1~12인 지방족 탄화수소기, 탄소수 1~12인 불화알킬기 또는 탄소수 1~12인 알콕시기를 나타낸다.R b13 to R b18 each independently represent a halogen atom, a hydroxyl group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, a fluorinated alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
Lb31은, 황 원자 또는 산소 원자를 나타낸다.L b31 represents a sulfur atom or an oxygen atom.
o2, p2, s2, 및 t2는, 각각 독립적으로, 0~5 중 어느 하나의 정수를 나타낸다.o2, p2, s2, and t2 each independently represent the integer in any one of 0-5.
q2 및 r2는, 각각 독립적으로, 0~4 중 어느 하나의 정수를 나타낸다.q2 and r2 each independently represent the integer in any one of 0-4.
u2는 0 또는 1을 나타낸다.u2 represents 0 or 1.
o2가 2 이상일 때, 복수의 Rb13은 동일 또는 상이하고, p2가 2 이상일 때, 복수의 Rb14는 동일 또는 상이하고, q2가 2 이상일 때, 복수의 Rb15는 동일 또는 상이하고, r2가 2 이상일 때, 복수의 Rb16은 동일 또는 상이하고, s2가 2 이상일 때, 복수의 Rb17은 동일 또는 상이하고, t2가 2 이상일 때, 복수의 Rb18은 동일 또는 상이하다.When o2 is 2 or more, a plurality of R b13 are the same or different, when p2 is 2 or more, a plurality of R b14 are the same or different, when q2 is 2 or more, a plurality of R b15 are the same or different, and r2 is When 2 or more, a plurality of R b16 are the same or different, when s2 is 2 or more, a plurality of R b17 are the same or different, When t2 is 2 or more, a plurality of R b18 are the same or different.
지방족 탄화수소기란, 사슬식 탄화수소기 및 지환식 탄화수소기를 나타낸다.The aliphatic hydrocarbon group represents a chain hydrocarbon group and an alicyclic hydrocarbon group.
사슬식 탄화수소기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기, 옥틸기 및 2-에틸헥실기의 알킬기를 들 수 있다.Examples of the chain hydrocarbon group include an alkyl group of a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group and a 2-ethylhexyl group. .
특히, Rb9~Rb12의 사슬식 탄화수소기는, 바람직하게는 탄소수 1~12이다.In particular, the chain hydrocarbon group of R b9 to R b12 preferably has 1 to 12 carbon atoms.
지환식 탄화수소기로서는, 단환식 또는 다환식 중 어느 것이어도 되고, 단환식의 지환식 탄화수소기로서는, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로데실기 등의 시클로알킬기를 들 수 있다. 다환식의 지환식 탄화수소기로서는, 데카히드로나프틸기, 아다만틸기, 노보닐기 및 하기의 기 등을 들 수 있다.The alicyclic hydrocarbon group may be either monocyclic or polycyclic, and examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, Cycloalkyl groups, such as a cyclodecyl group, are mentioned. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group, and the following groups.
특히, Rb9~Rb12의 지환식 탄화수소기는, 바람직하게는 탄소수 3~18, 보다 바람직하게는 탄소수 4~12이다.In particular, the alicyclic hydrocarbon group of R b9 to R b12 preferably has 3 to 18 carbon atoms, more preferably 4 to 12 carbon atoms.
수소 원자가 지방족 탄화수소기로 치환된 지환식 탄화수소기로서는, 메틸시클로헥실기, 디메틸시클로헥실기, 2-메틸아다만탄-2-일기, 2-에틸아다만탄-2-일기, 2-이소프로필아다만탄-2-일기, 메틸노보닐기, 이소보닐기 등을 들 수 있다. 수소 원자가 지방족 탄화수소기로 치환된 지환식 탄화수소기에 있어서는, 지환식 탄화수소기와 지방족 탄화수소기의 합계 탄소수가 바람직하게는 20 이하이다.Examples of the alicyclic hydrocarbon group in which a hydrogen atom is substituted with an aliphatic hydrocarbon group include a methylcyclohexyl group, a dimethylcyclohexyl group, a 2-methyladamantan-2-yl group, a 2-ethyladamantan-2-yl group, and a 2-isopropyla group. A dantan-2-yl group, a methyl norbornyl group, an isobornyl group, etc. are mentioned. In the alicyclic hydrocarbon group in which a hydrogen atom is substituted with an aliphatic hydrocarbon group, the total carbon number of the alicyclic hydrocarbon group and the aliphatic hydrocarbon group is preferably 20 or less.
불화알킬기란, 불소 원자를 가지는 탄소수 1~12인 알킬기를 나타내고, 플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 퍼플루오로부틸 등을 들 수 있다. 불화알킬기의 탄소수는, 바람직하게는 1~9이고, 보다 바람직하게는 1~6이고, 더욱 바람직하게는 1~4이다.A fluorinated alkyl group represents a C1-C12 alkyl group which has a fluorine atom, a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, perfluorobutyl, etc. are mentioned. The number of carbon atoms of the fluorinated alkyl group is preferably 1 to 9, more preferably 1 to 6, still more preferably 1 to 4.
[0093] 방향족 탄화수소기로서는, 페닐기, 비페닐기, 나프틸기, 페난트릴기 등의 아릴기를 들 수 있다. 방향족 탄화수소기는, 사슬식 탄화수소기 또는 지환식 탄화수소기를 가지고 있어도 되고, 탄소수 1~18인 사슬식 탄화수소기를 가지는 방향족 탄화수소기(톨릴기, 크실릴기, 쿠메닐기, 메시틸기, p-에틸페닐기, p-tert-부틸페닐기, 2,6-디에틸페닐기, 2-메틸-6-에틸페닐기 등), 및 탄소수 3~18인 지환식 탄화수소기를 가지는 방향족 탄화수소기(p-시클로헥실페닐기, p-아다만틸페닐기 등) 등을 들 수 있다. 또한, 방향족 탄화수소기가, 사슬식 탄화수소기 또는 지환식 탄화수소기를 가지는 경우는, 탄소수 1~18인 사슬식 탄화수소기 및 탄소수 3~18인 지환식 탄화수소기가 바람직하다.Examples of the aromatic hydrocarbon group include an aryl group such as a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, and a phenanthryl group. The aromatic hydrocarbon group may have a chain hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group, and an aromatic hydrocarbon group having a chain hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms (tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, p-ethylphenyl group, p -tert-butylphenyl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.), and an aromatic hydrocarbon group having an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms (p-cyclohexylphenyl group, p-adaman tylphenyl group etc.) etc. are mentioned. Moreover, when an aromatic hydrocarbon group has a chain hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group, a C1-C18 chain hydrocarbon group and a C3-C18 alicyclic hydrocarbon group are preferable.
수소 원자가 알콕시기로 치환된 방향족 탄화수소기로서는, p-메톡시페닐기 등을 들 수 있다.Examples of the aromatic hydrocarbon group in which a hydrogen atom is substituted with an alkoxy group include a p-methoxyphenyl group.
수소 원자가 방향족 탄화수소기로 치환된 사슬식 탄화수소기로서는, 벤질기, 페네틸기, 페닐프로필기, 트리틸기, 나프틸메틸기, 나프틸에틸기 등의 아랄킬기를 들 수 있다.Examples of the chain hydrocarbon group in which a hydrogen atom is substituted with an aromatic hydrocarbon group include aralkyl groups such as a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a trityl group, a naphthylmethyl group, and a naphthylethyl group.
알콕시기로서는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 헵틸옥시기, 옥틸옥시기, 데실옥시기 및 도데실옥시기 등을 들 수 있다.Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a decyloxy group, and a dodecyloxy group.
알킬카르보닐기로서는, 아세틸기, 프로피오닐기 및 부티릴기 등을 들 수 있다.As an alkylcarbonyl group, an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, etc. are mentioned.
할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자 등을 들 수 있다.Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
알킬카르보닐옥시기로서는, 메틸카르보닐옥시기, 에틸카르보닐옥시기, 프로필카르보닐옥시기, 이소프로필카르보닐옥시기, 부틸카르보닐옥시기, sec-부틸카르보닐옥시기, tert-부틸카르보닐옥시기, 펜틸카르보닐옥시기, 헥실카르보닐옥시기, 옥틸카르보닐옥시기 및 2-에틸헥실카르보닐옥시기 등을 들 수 있다.Examples of the alkylcarbonyloxy group include a methylcarbonyloxy group, an ethylcarbonyloxy group, a propylcarbonyloxy group, an isopropylcarbonyloxy group, a butylcarbonyloxy group, a sec-butylcarbonyloxy group, and a tert-butylcarbonyloxy group. A bornyloxy group, a pentylcarbonyloxy group, a hexylcarbonyloxy group, an octylcarbonyloxy group, 2-ethylhexylcarbonyloxy group, etc. are mentioned.
Rb4와 Rb5가 서로 결합하여 이들이 결합하는 황 원자와 하나가 되어 형성하는 고리는, 단환식, 다환식, 방향족성, 비방향족성, 포화 및 불포화 중 어느 고리여도 된다. 이 고리는, 탄소수 3~18인 고리를 들 수 있고, 바람직하게는 탄소수 4~18인 고리이다. 또한, 황 원자를 포함하는 고리는, 3원(員) 고리~12원 고리를 들 수 있고, 바람직하게는 3원 고리~7원 고리이며, 예컨대 하기의 고리를 들 수 있다. *는 결합손을 나타낸다.The ring formed by combining R b4 and R b5 with each other to form one with the sulfur atom to which they are bonded may be any of monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated and unsaturated rings. Examples of the ring include a ring having 3 to 18 carbon atoms, and preferably a ring having 4 to 18 carbon atoms. Moreover, as for the ring containing a sulfur atom, a 3-membered ring - a 12-membered ring is mentioned, Preferably they are a 3-membered ring - a 7-membered ring, For example, the following ring is mentioned. * indicates a bond.
Rb9와 Rb10이 하나가 되어 형성하는 고리는, 단환식, 다환식, 방향족성, 비방향족성, 포화 및 불포화 중 어느 고리여도 된다. 이 고리는, 3원 고리~12원 고리를 들 수 있고, 바람직하게는 3원 고리~7원 고리이다. 예컨대, 티올란-1-이움(ium) 고리(테트라히드로티오페늄 고리), 티안-1-이움 고리, 1,4-옥사티안-4-이움 고리 등을 들 수 있다.The ring formed by combining R b9 and R b10 may be any of monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated and unsaturated rings. As for this ring, a 3-membered ring - a 12-membered ring is mentioned, Preferably it is a 3-membered ring - a 7-membered ring. For example, a thiolan-1-ium (ium) ring (tetrahydrothiophenium ring), a thian-1-ium ring, a 1,4-oxathian-4-ium ring, etc. are mentioned.
Rb11과 Rb12가 하나가 되어 형성하는 고리는, 단환식, 다환식, 방향족성, 비방향족성, 포화 및 불포화 중 어느 고리여도 된다. 이 고리는, 3원 고리~12원 고리를 들 수 있고, 바람직하게는 3원 고리~7원 고리이다. 옥소시클로헵탄 고리, 옥소시클로헥산 고리, 옥소노보난 고리, 옥소아다만탄 고리 등을 들 수 있다.The ring formed by combining R b11 and R b12 may be any of monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated and unsaturated rings. As for this ring, a 3-membered ring - a 12-membered ring is mentioned, Preferably it is a 3-membered ring - a 7-membered ring. An oxocycloheptane ring, an oxocyclohexane ring, an oxonobonane ring, an oxoadamantane ring, etc. are mentioned.
[0094] 양이온(b2-1)~양이온(b2-4) 중에서도, 바람직하게는, 양이온(b2-1)이다.[0094] Among cations (b2-1) to cations (b2-4), cations (b2-1) are preferable.
양이온(b2-1)로서는, 이하의 양이온을 들 수 있다.Examples of the cation (b2-1) include the following cations.
[0095][0095]
[0096] 양이온(b2-2)로서는, 이하의 양이온을 들 수 있다.Examples of the cation (b2-2) include the following cations.
[0097] 양이온(b2-3)으로서는, 이하의 양이온을 들 수 있다.Examples of the cation (b2-3) include the following cations.
[0098] 양이온(b2-4)로서는, 이하의 양이온을 들 수 있다.[0098] Examples of the cation (b2-4) include the following cations.
[0099] 산 발생제(B)는, 상술한 음이온 및 상술한 유기 양이온의 조합이고, 이들은 임의로 조합할 수 있다. 산 발생제(B)로서는, 바람직하게는 식 (B1a-1)~식 (B1a-3), 식 (B1a-7)~식 (B1a-16), 식 (B1a-18), 식 (B1a-19), 식 (B1a-22)~식 (B1a-38) 중 어느 하나로 나타내어지는 음이온과, 양이온(b2-1), 양이온(b2-3) 또는 양이온(b2-4)와의 조합을 들 수 있다.[0099] The acid generator (B) is a combination of the above-mentioned anion and the above-mentioned organic cation, and these may be arbitrarily combined. As acid generator (B), Preferably, Formula (B1a-1) - Formula (B1a-3), Formula (B1a-7) - Formula (B1a-16), Formula (B1a-18), Formula (B1a-) 19), a combination of an anion represented by any one of formulas (B1a-22) to (B1a-38) and a cation (b2-1), a cation (b2-3) or a cation (b2-4) is mentioned. .
[0100] 산 발생제(B)로서는, 바람직하게는 식 (B1-1)~식 (B1-56)으로 각각 나타내어지는 것을 들 수 있다. 그 중에서도 아릴설포늄 양이온을 포함하는 것이 바람직하고, 식 (B1-1)~식 (B1-3), 식 (B1-5)~식 (B1-7), 식 (B1-11)~식 (B1-14), 식 (B1-20)~식 (B1-26), 식 (B1-29), 식 (B1-31)~식 (B1-56)으로 나타내어지는 것이 특히 바람직하다.[0100] The acid generator (B) preferably includes those represented by formulas (B1-1) to (B1-56), respectively. Among them, it is preferable to include an arylsulfonium cation, and formulas (B1-1) to (B1-3), (B1-5) to (B1-7), and (B1-11) to formulas ( B1-14), Formulas (B1-20) - Formula (B1-26), Formula (B1-29), Formula (B1-31) - Formula (B1-56) are especially preferable.
[0101][0101]
[0102][0102]
[0103][0103]
[0104][0104]
[0105] 산 발생제로서 염(I) 및 산 발생제(B)를 함유하는 경우, 염(I)과 산 발생제(B)의 함유량의 비(질량비; 염(I):산 발생제(B))는, 통상, 1:99~99:1이고, 바람직하게는 2:98~98:2이고, 보다 바람직하게는 5:95~95:5이고, 더욱 바람직하게는 10:90~90:10이고, 특히 바람직하게는 15:85~85:15이다.[0105] When salt (I) and acid generator (B) are contained as acid generators, the ratio (mass ratio) of the content of salt (I) and acid generator (B); salt (I): acid generator ( B)) is usually 1:99 to 99:1, preferably 2:98 to 98:2, more preferably 5:95 to 95:5, still more preferably 10:90 to 90 :10, and particularly preferably 15:85 to 85:15.
[0106] 〔레지스트 조성물〕[0106] [resist composition]
본 발명의 레지스트 조성물은, 염(I)을 포함하는 산 발생제와, 산 불안정기를 가지는 수지(이하 「수지(A)」라고 하는 경우가 있음)를 함유한다. 여기서, 「산 불안정기」란, 이탈기를 가지며, 산과의 접촉에 의해 이탈기가 이탈되어, 구성 단위가 친수성기(예컨대, 히드록시기 또는 카르복시기)를 가지는 구성 단위로 변환되는 기를 의미한다.The resist composition of the present invention contains an acid generator containing a salt (I) and a resin having an acid labile group (hereinafter sometimes referred to as “resin (A)”). Here, the "acid labile group" refers to a group having a leaving group, the leaving group is released by contact with an acid, and the structural unit is converted into a structural unit having a hydrophilic group (eg, a hydroxy group or a carboxy group).
본 발명의 레지스트 조성물은, 산 발생제로부터 발생하는 산보다도 산성도가 약한 산을 발생시키는 염 등의 ??처(이하 「??처(C)」라고 하는 경우가 있음)를 함유하는 것이 바람직하고, 용제(이하 「용제(E)」라고 하는 경우가 있음)를 함유하는 것이 바람직하다.It is preferable that the resist composition of the present invention contains a compound (hereinafter sometimes referred to as "(C)") such as a salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator. , it is preferable to contain a solvent (hereinafter sometimes referred to as "solvent (E)").
[0107] <산 발생제>[0107] <Acid generator>
본 발명의 레지스트 조성물에 있어서는, 산 발생제의 합계의 함유율은, 후술하는 수지(A) 100질량부에 대해, 바람직하게는 1질량부 이상 45질량부 이하, 보다 바람직하게는 1질량부 이상 40질량부 이하, 더욱 바람직하게는 3질량부 이상 40질량부 이하이다.In the resist composition of the present invention, the total content of the acid generator is preferably 1 part by mass or more and 45 parts by mass or less, more preferably 1 part by mass or more and 40 parts by mass to 100 parts by mass of the resin (A) to be described later. It is a mass part or less, More preferably, they are 3 mass parts or more and 40 mass parts or less.
[0108] <수지(A)>[0108] <Resin (A)>
수지(A)는, 산 불안정기를 가지는 구조 단위(이하 「구조 단위(a1)」이라고 하는 경우가 있음)를 가진다. 수지(A)는, 추가로, 구조 단위(a1) 이외의 구조 단위를 포함하는 것이 바람직하다. 구조 단위(a1) 이외의 구조 단위로서는, 산 불안정기를 가지지 않는 구조 단위(이하 「구조 단위(s)」라고 하는 경우가 있음), 구조 단위(a1) 및 구조 단위(s) 이외의 구조 단위(예컨대, 후술하는 할로겐 원자를 가지는 구조 단위(이하 「구조 단위(a4)」라고 하는 경우가 있음), 후술하는 비이탈(非脫離) 탄화수소기를 가지는 구조 단위(이하 「구조 단위(a5)」라고 하는 경우가 있음) 및 기타 당해 분야에서 공지된 모노머에서 유래하는 구조 단위 등을 들 수 있다.Resin (A) has a structural unit having an acid-labile group (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a1)"). It is preferable that resin (A) contains structural units other than structural unit (a1) further. Structural units other than the structural unit (a1) include structural units having no acid-labile group (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (s)"), structural units other than structural units (a1) and structural units (s) ( For example, a structural unit having a halogen atom (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a4)") described later, a structural unit having a non-leaving hydrocarbon group (hereinafter referred to as "structural unit (a5)") in some cases) and other structural units derived from monomers known in the art.
[0109] 〈구조 단위(a1)〉[0109] <Structural unit (a1)>
구조 단위(a1)은, 산 불안정기를 가지는 모노머(이하 「모노머(a1)」이라고 하는 경우가 있음)로부터 유도된다.The structural unit (a1) is derived from a monomer having an acid-labile group (hereinafter sometimes referred to as “monomer (a1)”).
수지(A)에 포함되는 산 불안정기는, 식 (1)로 나타내어지는 기(이하, 기(1)이라고도 기재함) 및/또는 식 (2)로 나타내어지는 기(이하, 기(2)라고도 기재함)가 바람직하다.The acid labile group contained in the resin (A) is a group represented by the formula (1) (hereinafter also referred to as group (1)) and/or a group represented by the formula (2) (hereinafter also referred to as group (2)). ) is preferred.
[식 (1) 중, Ra1, Ra2 및 Ra3은, 각각 독립적으로, 탄소수 1~8인 알킬기, 탄소수 2~8인 알케닐기, 탄소수 3~20인 지환식 탄화수소기, 탄소수 6~18인 방향족 탄화수소기 또는 이들을 조합한 기를 나타내거나, Ra1 및 Ra2는 서로 결합하여 이들이 결합하는 탄소 원자와 함께 탄소수 3~20인 지환식 탄화수소기를 형성한다.[In formula (1), R a1 , R a2 and R a3 are each independently an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, and 6 to 18 carbon atoms represents an aromatic hydrocarbon group or a combination thereof, or R a1 and R a2 are bonded to each other to form an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atom to which they are bonded.
ma 및 na는, 각각 독립적으로, 0 또는 1을 나타내고, ma 및 na 중 적어도 한쪽은 1을 나타낸다.ma and na each independently represent 0 or 1, and at least one of ma and na represents 1.
*는 결합손을 나타낸다.]* indicates a bonding hand.]
[식 (2) 중, Ra1' 및 Ra2'는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1~12인 탄화수소기를 나타내고, Ra3'는, 탄소수 1~20인 탄화수소기를 나타내거나, Ra2' 및 Ra3'는 서로 결합하여 이들이 결합하는 탄소 원자 및 X와 함께 탄소수 3~20인 헤테로 고리기를 형성하고, 해당 탄화수소기 및 해당 헤테로 고리기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -S-로 치환되어도 된다.[In formula (2), R a1' and R a2' each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and R a3' represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or R a2' and R a3' are bonded to each other to form a heterocyclic group having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atom and X to which they are bonded, and -CH 2 - contained in the hydrocarbon group and the heterocyclic group is -O- or -S It may be replaced with -.
X는, 산소 원자 또는 황 원자를 나타낸다.X represents an oxygen atom or a sulfur atom.
na'는, 0 또는 1을 나타낸다.na' represents 0 or 1.
*는 결합손을 나타낸다.]* indicates a bonding hand.]
[0110] Ra1, Ra2 및 Ra3에 있어서의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기 등을 들 수 있다.[0110] Examples of the alkyl group for R a1 , R a2 and R a3 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, and an octyl group.
Ra1, Ra2 및 Ra3에 있어서의 알케닐기로서는, 에텐일기, 프로펜일기, 이소프로펜일기, 부텐일기, 이소부텐일기, tert-부텐일기, 펜텐일기, 헥센일기, 헵텐일기, 옥틴일기, 이소옥틴일기, 노넨일기를 들 수 있다. Examples of the alkenyl group for R a1 , R a2 and R a3 include an ethenyl group, a propenyl group, an isopropenyl group, a butenyl group, an isobutenyl group, a tert-butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group, a heptenyl group, and an octynyl group. , an isooctynyl group and a nonenyl group are mentioned.
Ra1, Ra2 및 Ra3에 있어서의 지환식 탄화수소기는, 단환식 및 다환식 중 어느 것이어도 된다. 단환식의 지환식 탄화수소기로서는, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기 등의 시클로알킬기를 들 수 있다. 다환식의 지환식 탄화수소기로서는, 데카히드로나프틸기, 아다만틸기, 노보닐기 및 하기의 기(*는 결합손을 나타냄.) 등을 들 수 있다. Ra1, Ra2 및 Ra3의 지환식 탄화수소기의 탄소수는, 바람직하게는 3~16이다.The alicyclic hydrocarbon group for R a1 , R a2 and R a3 may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include cycloalkyl groups such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group and a cyclooctyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group, and the following groups (* indicates a bond). The carbon number of the alicyclic hydrocarbon group of R a1 , R a2 and R a3 is preferably 3 to 16 .
Ra1, Ra2 및 Ra3에 있어서의 방향족 탄화수소기로서는, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 비페닐기, 페난트릴기 등의 아릴기를 들 수 있다. Examples of the aromatic hydrocarbon group for R a1 , R a2 and R a3 include aryl groups such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a biphenyl group and a phenanthryl group.
조합한 기로서는, 상술한 알킬기와 지환식 탄화수소기를 조합한 기(예컨대 알킬시클로알킬기 또는 시클로알킬알킬기), 벤질기 등의 아랄킬기, 알킬기를 가지는 방향족 탄화수소기(p-메틸페닐기, p-tert-부틸페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 쿠메닐기, 메시틸기, 2,6-디에틸페닐기, 2-메틸-6-에틸페닐기 등), 지환식 탄화수소기를 가지는 방향족 탄화수소기(p-시클로헥실페닐기, p-아다만틸페닐기 등), 페닐시클로헥실기 등의 아릴-시클로알킬기 등을 들 수 있다. 바람직하게는, ma는 0이고, na는 1이다.Examples of the combined group include a group in which the above-mentioned alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group are combined (for example, an alkylcycloalkyl group or a cycloalkylalkyl group), an aralkyl group such as a benzyl group, and an aromatic hydrocarbon group having an alkyl group (p-methylphenyl group, p-tert- butylphenyl group, tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.), an aromatic hydrocarbon group having an alicyclic hydrocarbon group (p-cyclohexylphenyl group, aryl-cycloalkyl groups such as p-adamantylphenyl group) and phenylcyclohexyl group. Preferably, ma is 0 and na is 1.
Ra1 및 Ra2가 서로 결합하여 지환식 탄화수소기를 형성하는 경우의 -C(Ra1)(Ra2)(Ra3)으로서는, 하기의 기를 들 수 있다. 지환식 탄화수소기는, 바람직하게는 탄소수 3~12이다. *는 -O-와의 결합손을 나타낸다. Examples of -C(R a1 )(R a2 )(R a3 ) when R a1 and R a2 combine with each other to form an alicyclic hydrocarbon group include the following groups. The alicyclic hydrocarbon group preferably has 3 to 12 carbon atoms. * represents a bond with -O-.
[0111] Ra1', Ra2' 및 Ra3'에 있어서의 탄화수소기로서는, 알킬기, 지환식 탄화수소기, 방향족 탄화수소기 및 이들을 조합함으로써 형성되는 기 등을 들 수 있다.[0111] Examples of the hydrocarbon group for R a1' , R a2' and R a3' include an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a group formed by combining these groups.
알킬기 및 지환식 탄화수소기는, Ra1, Ra2 및 Ra3으로 예시한 기와 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group include the same groups as those exemplified by R a1 , R a2 and R a3 .
방향족 탄화수소기로서는, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 비페닐기, 페난트릴기 등의 아릴기 등을 들 수 있다.As an aromatic hydrocarbon group, aryl groups, such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a biphenyl group, and a phenanthryl group, etc. are mentioned.
조합한 기로서는, 상술한 알킬기와 지환식 탄화수소기를 조합한 기(예컨대 알킬시클로알킬기 또는 시클로알킬알킬기), 벤질기 등의 아랄킬기, 알킬기를 가지는 방향족 탄화수소기(p-메틸페닐기, p-tert-부틸페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 쿠메닐기, 메시틸기, 2,6-디에틸페닐기, 2-메틸-6-에틸페닐기 등), 지환식 탄화수소기를 가지는 방향족 탄화수소기(p-시클로헥실페닐기, p-아다만틸페닐기 등), 페닐시클로헥실기 등의 아릴-시클로알킬기 등을 들 수 있다.Examples of the combined group include a group in which the above-mentioned alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group are combined (for example, an alkylcycloalkyl group or a cycloalkylalkyl group), an aralkyl group such as a benzyl group, and an aromatic hydrocarbon group having an alkyl group (p-methylphenyl group, p-tert- butylphenyl group, tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.), an aromatic hydrocarbon group having an alicyclic hydrocarbon group (p-cyclohexylphenyl group, aryl-cycloalkyl groups such as p-adamantylphenyl group) and phenylcyclohexyl group.
Ra2' 및 Ra3'가 서로 결합하여 이들이 결합하는 탄소 원자 및 X와 함께 헤테로 고리를 형성하는 경우, -C(Ra1')(Ra2')-X-Ra3'로서는, 하기의 기를 들 수 있다. *는, 결합손을 나타낸다.When R a2' and R a3' combine with each other to form a hetero ring together with the carbon atom to which they are attached and X, -C(R a1' )(R a2' )-XR a3' includes the following groups have. * represents a bond.
Ra1' 및 Ra2' 중, 적어도 하나는 수소 원자인 것이 바람직하다.It is preferable that at least one of R a1' and R a2' is a hydrogen atom.
na'는, 바람직하게는 0이다.na' is preferably 0.
[0112] 기(1)로서는, 이하의 기를 들 수 있다.[0112] Examples of the group (1) include the following groups.
식 (1)에 있어서 Ra1, Ra2 및 Ra3이 알킬기이며, ma=0이고, na=1인 기. 해당 기로서는, tert-부톡시카르보닐기가 바람직하다.In formula (1), R a1 , R a2 and R a3 are an alkyl group, ma=0, and na=1; As this group, a tert-butoxycarbonyl group is preferable.
식 (1)에 있어서, Ra1, Ra2가, 이들이 결합하는 탄소 원자와 하나가 되어 아다만틸기를 형성하고, Ra3이 알킬기이며, ma=0이고, na=1인 기.In formula (1), R a1 and R a2 form one with the carbon atom to which they are bonded to form an adamantyl group, R a3 is an alkyl group, ma=0, and na=1.
식 (1)에 있어서, Ra1 및 Ra2가 각각 독립적으로 알킬기이고, Ra3이 아다만틸기이며, ma=0이고, na=1인 기.In formula (1), R a1 and R a2 are each independently an alkyl group, R a3 is an adamantyl group, ma=0, and na=1.
기(1)로서는, 구체적으로는 이하의 기를 들 수 있다. *는 결합손을 나타낸다.Specific examples of the group (1) include the following groups. * indicates a bond.
[0113] 기(2)의 구체적인 예로서는, 이하의 기를 들 수 있다. *는 결합손을 나타낸다.Specific examples of the group (2) include the following groups. * indicates a bond.
[0114] 모노머(a1)은, 바람직하게는, 산 불안정기와 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 모노머, 보다 바람직하게는 산 불안정기를 가지는 (메타)아크릴계 모노머이다.[0114] The monomer (a1) is preferably a monomer having an acid labile group and an ethylenically unsaturated bond, more preferably a (meth)acrylic monomer having an acid labile group.
[0115] 산 불안정기를 가지는 (메타)아크릴계 모노머 중, 바람직하게는, 탄소수 5~20인 지환식 탄화수소기를 가지는 것을 들 수 있다. 지환식 탄화수소기와 같은 부피가 큰 구조를 가지는 모노머(a1)에서 유래하는 구조 단위를 가지는 수지(A)를 레지스트 조성물에 사용하면, 레지스트 패턴의 해상도를 향상시킬 수 있다.[0115] Among the (meth)acrylic monomers having an acid labile group, those having an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms are preferable. When the resin (A) having a structural unit derived from a monomer (a1) having a bulky structure such as an alicyclic hydrocarbon group is used in the resist composition, the resolution of the resist pattern can be improved.
[0116] 기(1)을 가지는 (메타)아크릴계 모노머에서 유래하는 구조 단위로서, 바람직하게는, 식 (a1-0)으로 나타내어지는 구조 단위(이하, 구조 단위(a1-0)이라고 하는 경우가 있음.), 식 (a1-1)로 나타내어지는 구조 단위(이하, 구조 단위(a1-1)이라고 하는 경우가 있음.) 또는 식 (a1-2)로 나타내어지는 구조 단위(이하, 구조 단위(a1-2)라고 하는 경우가 있음.)를 들 수 있다. 보다 바람직하게는, 구조 단위(a1-1) 및 구조 단위(a1-2)로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종 또는 2종의 구조 단위이다. 이들은 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.[0116] A structural unit derived from a (meth)acrylic monomer having a group (1), preferably a structural unit represented by formula (a1-0) (hereinafter referred to as structural unit (a1-0)) ), a structural unit represented by formula (a1-1) (hereinafter sometimes referred to as structural unit (a1-1)) or a structural unit represented by formula (a1-2) (hereinafter, structural unit ( a1-2) in some cases). More preferably, it is at least 1 type or 2 types of structural units selected from the group which consists of a structural unit (a1-1) and a structural unit (a1-2). These may be used independently and may use 2 or more types together.
[식 (a1-0), 식 (a1-1) 및 식 (a1-2) 중,[In formula (a1-0), formula (a1-1) and formula (a1-2),
La01, La1 및 La2는, 각각 독립적으로, -O- 또는 *-O-(CH2)k1-CO-O-를 나타내고, k1은 1~7 중 어느 하나의 정수를 나타내고, *는 -CO-와의 결합손을 나타낸다.L a01 , L a1 and L a2 each independently represent -O- or *-O-(CH 2 ) k1 -CO-O-, k1 represents an integer of any one of 1 to 7, and * is Represents a bond with -CO-.
Ra01, Ra4 및 Ra5는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 할로겐 원자를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~6인 알킬기를 나타낸다.R a01 , R a4 and R a5 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
Ra02, Ra03 및 Ra04는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~8인 알킬기, 탄소수 3~18인 지환식 탄화수소기, 탄소수 6~18인 방향족 탄화수소기 또는 이들을 조합한 기를 나타낸다.R a02 , R a03 and R a04 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group combining them.
Ra6 및 Ra7은, 각각 독립적으로, 탄소수 1~8인 알킬기, 탄소수 2~8인 알케닐기, 탄소수 3~18인 지환식 탄화수소기, 탄소수 6~18인 방향족 탄화수소기 또는 이들을 조합함으로써 형성되는 기를 나타낸다.R a6 and R a7 are each independently an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a combination thereof. represents the group.
m1은 0~14 중 어느 하나의 정수를 나타낸다.m1 represents any integer from 0 to 14.
n1은 0~10 중 어느 하나의 정수를 나타낸다.n1 represents any integer from 0 to 10.
n1'는 0~3 중 어느 하나의 정수를 나타낸다.]n1' represents any integer from 0 to 3.]
[0117] Ra01, Ra4 및 Ra5는, 바람직하게는 수소 원자 또는 메틸기이고, 보다 바람직하게는 메틸기이다.[0117] R a01 , R a4 and R a5 are preferably a hydrogen atom or a methyl group, more preferably a methyl group.
La01, La1 및 La2는, 바람직하게는 산소 원자 또는 *-O-(CH2)k01-CO-O-이고(단, k01은, 바람직하게는 1~4 중 어느 하나의 정수, 보다 바람직하게는 1임.), 보다 바람직하게는 산소 원자이다.L a01 , L a1 and L a2 are preferably an oxygen atom or *-O-(CH 2 ) k01 -CO-O- (provided that k01 is preferably an integer of any one of 1 to 4, more Preferably it is 1.), More preferably, it is an oxygen atom.
Ra02, Ra03, Ra04, Ra6 및 Ra7에 있어서의 알킬기, 알케닐기, 지환식 탄화수소기, 방향족 탄화수소기 및 이들을 조합한 기로서는, 식 (1)의 Ra1, Ra2 및 Ra3으로 예시한 기와 동일한 기를 들 수 있다. Examples of the alkyl group, alkenyl group, alicyclic hydrocarbon group, aromatic hydrocarbon group and combinations thereof in R a02 , R a03 , R a04 , R a6 and R a7 include R a1 , R a2 and R a3 in Formula (1). The same groups as those exemplified by .
Ra02, Ra03, 및 Ra04에 있어서의 알킬기는, 바람직하게는 탄소수 1~6인 알킬기이고, 보다 바람직하게는 메틸기 또는 에틸기이고, 더욱 바람직하게는 메틸기이다.The alkyl group for R a02 , R a03 , and R a04 is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group, and still more preferably a methyl group.
Ra6 및 Ra7에 있어서의 알킬기는, 바람직하게는 탄소수 1~6인 알킬기이고, 보다 바람직하게는 메틸기, 에틸기, 이소프로필기 또는 t-부틸기이고, 더욱 바람직하게는 에틸기, 이소프로필기 또는 t-부틸기이다.The alkyl group for R a6 and R a7 is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a methyl group, ethyl group, isopropyl group or t-butyl group, still more preferably an ethyl group, isopropyl group or t-butyl group.
Ra6 및 Ra7에 있어서의 알케닐기는, 바람직하게는 탄소수 2~6인 알케닐기이고, 보다 바람직하게는 에텐일기, 프로펜일기, 이소프로펜일기 또는 부텐일기이다.The alkenyl group for R a6 and R a7 is preferably an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, more preferably an ethenyl group, a propenyl group, an isopropenyl group or a butenyl group.
Ra02, Ra03, Ra04, Ra6 및 Ra7의 지환식 탄화수소기의 탄소수는, 바람직하게는 5~12이고, 보다 바람직하게는 5~10이다.The carbon number of the alicyclic hydrocarbon group of R a02 , R a03 , R a04 , R a6 and R a7 is preferably 5 to 12 , more preferably 5 to 10 .
Ra02, Ra03, Ra04, Ra6 및 Ra7의 방향족 탄화수소기의 탄소수는, 바람직하게는 6~12이고, 보다 바람직하게는 6~10이다.The aromatic hydrocarbon group of R a02 , R a03 , R a04 , R a6 and R a7 has preferably 6 to 12 carbon atoms, more preferably 6 to 10 carbon atoms.
알킬기와 지환식 탄화수소기를 조합한 기는, 이들 알킬기와 지환식 탄화수소기를 조합한 합계 탄소수가, 18 이하인 것이 바람직하다.As for the group which combined an alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group, it is preferable that the total carbon number which combined these alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group is 18 or less.
알킬기와 방향족 탄화수소기를 조합한 기는, 이들 알킬기와 방향족 탄화수소기를 조합한 합계 탄소수가, 18 이하인 것이 바람직하다.As for the group which combined an alkyl group and an aromatic hydrocarbon group, it is preferable that the total carbon number which combined these alkyl group and an aromatic hydrocarbon group is 18 or less.
Ra02 및 Ra03은, 바람직하게는 탄소수 1~6인 알킬기 또는 탄소수 6~12인 방향족 탄화수소기이고, 보다 바람직하게는 메틸기, 에틸기, 페닐기 또는 나프틸기이다.R a02 and R a03 are preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms, more preferably a methyl group, an ethyl group, a phenyl group or a naphthyl group.
Ra04는, 바람직하게는 탄소수 1~6인 알킬기 또는 탄소수 5~12인 지환식 탄화수소기이고, 보다 바람직하게는 메틸기, 에틸기, 시클로헥실기 또는 아다만틸기이다.R a04 is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, more preferably a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group or an adamantyl group.
Ra6 및 Ra7은, 바람직하게는 탄소수 1~6인 알킬기, 탄소수 2~6인 알케닐기 또는 탄소수 6~12인 방향족 탄화수소기이고, 보다 바람직하게는 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, t-부틸기, 에텐일기, 페닐기 또는 나프틸기이고, 더욱 바람직하게는 에틸기, 이소프로필기, t-부틸기, 에텐일기 또는 페닐기이다.R a6 and R a7 are preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms, more preferably a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, or t-butyl group, an ethenyl group, a phenyl group, or a naphthyl group, more preferably an ethyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, an ethenyl group or a phenyl group.
m1은, 바람직하게는 0~3 중 어느 하나의 정수이고, 보다 바람직하게는 0 또는 1이다.m1 becomes like this. Preferably it is an integer in any one of 0-3, More preferably, it is 0 or 1.
n1은, 바람직하게는 0~3 중 어느 하나의 정수이고, 보다 바람직하게는 0 또는 1이다.n1 becomes like this. Preferably it is an integer in any one of 0-3, More preferably, it is 0 or 1.
n1'는 바람직하게는 0 또는 1이다.n1' is preferably 0 or 1.
[0118] 구조 단위(a1-0)으로서는, 예컨대, 식 (a1-0-1)~식 (a1-0-18) 중 어느 하나로 나타내어지는 구조 단위 및 구조 단위(a1-0)에 있어서의 Ra01에 상당하는 메틸기가 수소 원자, 할로겐 원자, 할로알킬기(할로겐 원자를 가지는 알킬기) 또는 다른 알킬기로 치환된 구조 단위를 들 수 있고, 식 (a1-0-1)~식 (a1-0-10), 식 (a1-0-13), 식 (a1-0-14) 중 어느 하나로 나타내어지는 구조 단위가 바람직하다.[0118] As the structural unit (a1-0), for example, R in the structural unit and structural unit (a1-0) represented by any one of formulas (a1-0-1) to (a1-0-18) and structural units in which the methyl group corresponding to a01 is substituted with a hydrogen atom, a halogen atom, a haloalkyl group (an alkyl group having a halogen atom) or another alkyl group, and formulas (a1-0-1) to (a1-0-10) ), a structural unit represented by any one of formulas (a1-0-13) and (a1-0-14) is preferable.
[0119] 구조 단위(a1-1)로서는, 예컨대, 일본 특허공개공보 제2010-204646호에 기재된 모노머에서 유래하는 구조 단위를 들 수 있다. 그 중에서도, 식 (a1-1-1)~식 (a1-1-7) 중 어느 하나로 나타내어지는 구조 단위 및 구조 단위(a1-1)에 있어서의 Ra4에 상당하는 메틸기가 수소 원자로 치환된 구조 단위가 바람직하고, 식 (a1-1-1)~식 (a1-1-4) 중 어느 하나로 나타내어지는 구조 단위가 보다 바람직하다.[0119] As the structural unit (a1-1), for example, a structural unit derived from a monomer described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-204646 can be mentioned. Among these, the structural unit represented by any one of formulas (a1-1-1) to (a1-1-7) and a structure in which a methyl group corresponding to R a4 in the structural unit (a1-1) is substituted with a hydrogen atom A unit is preferable, and the structural unit represented by any one of Formula (a1-1-1) - Formula (a1-1-4) is more preferable.
[0120] 구조 단위(a1-2)로서는, 식 (a1-2-1)~식 (a1-2-14) 중 어느 하나로 나타내어지는 구조 단위 및 구조 단위(a1-2)에 있어서의 Ra5에 상당하는 메틸기가 수소 원자, 할로겐 원자, 할로알킬기 또는 다른 알킬기로 치환된 구조 단위를 들 수 있고, 식 (a1-2-2), 식 (a1-2-5), 식 (a1-2-6) 및 식 (a1-2-10)~식 (a1-2-14) 중 어느 하나로 나타내어지는 구조 단위가 바람직하다. [0120] As the structural unit (a1-2), R a5 in the structural unit and structural unit (a1-2) represented by any one of formulas (a1-2-1) to (a1-2-14) structural units in which the corresponding methyl group is substituted with a hydrogen atom, a halogen atom, a haloalkyl group or another alkyl group, formulas (a1-2-2), (a1-2-5), (a1-2-6) ) and a structural unit represented by any one of formulas (a1-2-10) to (a1-2-14) are preferable.
[0121] 수지(A)가 구조 단위(a1-0)을 포함하는 경우, 그 함유율은, 수지(A)의 전체 구조 단위에 대해, 통상 5~60몰%이고, 바람직하게는 5~50몰%이고, 보다 바람직하게는 10~40몰%이다.[0121] When the resin (A) contains the structural unit (a1-0), its content is usually 5 to 60 mol%, preferably 5 to 50 mol, based on the total structural units of the resin (A). %, and more preferably 10 to 40 mol%.
수지(A)가 구조 단위(a1-1) 및/또는 구조 단위(a1-2)를 포함하는 경우, 이들의 합계 함유율은, 수지(A)의 전체 구조 단위에 대해, 통상 10~95몰%이고, 바람직하게는 15~90몰%이고, 보다 바람직하게는 20~85몰%이고, 더욱 바람직하게는 25~75몰%이고, 더더욱 바람직하게는 30~75몰%이다.When the resin (A) contains the structural unit (a1-1) and/or the structural unit (a1-2), their total content is usually 10-95 mol% with respect to all the structural units of the resin (A). and preferably 15 to 90 mol%, more preferably 20 to 85 mol%, still more preferably 25 to 75 mol%, still more preferably 30 to 75 mol%.
[0122] 구조 단위(a1)에 있어서 기(2)를 가지는 구조 단위로서는, 식 (a1-4)로 나타내어지는 구조 단위(이하, 「구조 단위(a1-4)」라고 하는 경우가 있음.)를 들 수 있다.[0122] As the structural unit having the group (2) in the structural unit (a1), a structural unit represented by formula (a1-4) (hereinafter referred to as “structural unit (a1-4)” in some cases.) can be heard
[식 (a1-4) 중,[In formula (a1-4),
Ra32는, 수소 원자, 할로겐 원자, 또는, 할로겐 원자를 가져도 되는 탄소수 1~6인 알킬기를 나타낸다.R a32 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
Ra33은, 할로겐 원자, 히드록시기, 탄소수 1~6인 알킬기, 탄소수 1~6인 알콕시기, 탄소수 2~12인 알콕시알킬기, 탄소수 2~12인 알콕시알콕시기, 탄소수 2~4인 알킬카르보닐기, 탄소수 2~4인 알킬카르보닐옥시기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기를 나타낸다.R a33 is a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxyalkyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxyalkoxy group having 2 to 12 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms An alkylcarbonyloxy group, acryloyloxy group or methacryloyloxy group which is 2-4 is represented.
AA a30a30 은, 단결합 또는 silver, single bond or ** -X-X a31a31 -(A-(A a32a32 -X-X a32a32 )) ncnc -를 나타내고, *는 -Rrepresents -, and * is -R a32a32 가 결합하는 탄소 원자와의 결합 부위를 나타낸다.represents a bonding site with the carbon atom to which it is bonded.
AA a32a32 는, 탄소수 1~6인 알칸디일기를 나타낸다.represents a C1-C6 alkanediyl group.
XX a31a31 및 X and X a32a32 는, 각각 독립적으로, -O-, -CO-O- 또는 -O-CO-를 나타낸다.each independently represents -O-, -CO-O- or -O-CO-.
nc는, 0 또는 1을 나타낸다.nc represents 0 or 1.
la는 0~4 중 어느 하나의 정수를 나타낸다. la가 2 이상의 어느 하나의 정수인 경우, 복수의 Ra33은 서로 동일해도 상이해도 된다.la represents any integer from 0 to 4. When la is any integer of 2 or more, a plurality of R a33 may be the same or different from each other.
Ra34 및 Ra35는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1~12인 탄화수소기를 나타내고, Ra36은, 탄소수 1~20인 탄화수소기를 나타내거나, Ra35 및 Ra36은 서로 결합하여 이들이 결합하는 -C-O-와 함께 탄소수 2~20인 2가의 탄화수소기를 형성하고, 해당 탄화수소기 및 해당 2가의 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -S-로 치환되어도 된다.]R a34 and R a35 are each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, R a36 is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or R a35 and R a36 are -CO to which they are bonded Forms a divalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms together with -, and -CH 2 - contained in the hydrocarbon group and the divalent hydrocarbon group may be substituted with -O- or -S-.]
[0123] Ra32 및 Ra33에 있어서의 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자 및 브롬 원자 등을 들 수 있다.[0123] Examples of the halogen atom in R a32 and R a33 include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom.
Ra32에 있어서의 할로겐 원자를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~6인 알킬기로서는, 트리플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 메틸기, 퍼플루오로에틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기, 1,1,2,2-테트라플루오로에틸기, 에틸기, 퍼플루오로프로필기, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필기, 프로필기, 퍼플루오로부틸기, 1,1,2,2,3,3,4,4-옥타플루오로부틸기, 부틸기, 퍼플루오로펜틸기, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-노나플루오로펜틸기, 펜틸기, 헥실기 및 퍼플루오로헥실기를 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom for R a32 include a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a methyl group, a perfluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, and 1,1 ,2,2-tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2 ,3,3,4,4-octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl group, pentyl group , a hexyl group and a perfluorohexyl group.
Ra32는, 수소 원자 또는 탄소수 1~4인 알킬기가 바람직하고, 수소 원자, 메틸기 또는 에틸기가 보다 바람직하고, 수소 원자 또는 메틸기가 더욱 바람직하다.R a32 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, and still more preferably a hydrogen atom or a methyl group.
Ra33에 있어서의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기를 들 수 있다. Examples of the alkyl group for R a33 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, and a hexyl group.
Ra33에 있어서의 알콕시기로서는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기를 들 수 있다. 알콕시기는, 탄소수 1~4인 알콕시기가 바람직하고, 메톡시기 또는 에톡시기가 보다 바람직하고, 메톡시기가 더욱 바람직하다. Examples of the alkoxy group for R a33 include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group, a pentyloxy group, and a hexyloxy group. The alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methoxy group or an ethoxy group, and still more preferably a methoxy group.
Ra33에 있어서의 알콕시알킬기로서는, 메톡시메틸기, 에톡시에틸기, 프로폭시메틸기, 이소프로폭시메틸기, 부톡시메틸기, sec-부톡시메틸기, tert-부톡시메틸기를 들 수 있다. 알콕시알킬기는, 탄소수 2~8인 알콕시알킬기가 바람직하고, 메톡시메틸기 또는 에톡시에틸기가 보다 바람직하고, 메톡시메틸기가 더욱 바람직하다. Examples of the alkoxyalkyl group for R a33 include a methoxymethyl group, an ethoxyethyl group, a propoxymethyl group, an isopropoxymethyl group, a butoxymethyl group, a sec-butoxymethyl group, and a tert-butoxymethyl group. The alkoxyalkyl group is preferably an alkoxyalkyl group having 2 to 8 carbon atoms, more preferably a methoxymethyl group or an ethoxyethyl group, and still more preferably a methoxymethyl group.
Ra33에 있어서의 알콕시알콕시기로서는, 메톡시메톡시기, 메톡시에톡시기, 에톡시메톡시기, 에톡시에톡시기, 프로폭시메톡시기, 이소프로폭시메톡시기, 부톡시메톡시기, sec-부톡시메톡시기, tert-부톡시메톡시기를 들 수 있다. 알콕시알콕시기는, 탄소수 2~8인 알콕시알콕시기가 바람직하고, 메톡시에틸기 또는 에톡시에틸기가 보다 바람직하다. Examples of the alkoxyalkoxy group for R a33 include a methoxymethoxy group, a methoxyethoxy group, an ethoxymethoxy group, an ethoxyethoxy group, a propoxymethoxy group, an isopropoxymethoxy group, a butoxymethoxy group, sec- A butoxymethoxy group and a tert-butoxymethoxy group are mentioned. The alkoxyalkoxy group is preferably an alkoxyalkoxy group having 2 to 8 carbon atoms, more preferably a methoxyethyl group or an ethoxyethyl group.
Ra33에 있어서의 알킬카르보닐기로서는, 아세틸기, 프로피오닐기 및 부티릴기 등을 들 수 있다. 알킬카르보닐기는, 탄소수 2~3인 알킬카르보닐기가 바람직하고, 아세틸기가 보다 바람직하다. Examples of the alkylcarbonyl group for R a33 include an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group. The alkylcarbonyl group is preferably an alkylcarbonyl group having 2 to 3 carbon atoms, and more preferably an acetyl group.
Ra33에 있어서의 알킬카르보닐옥시기로서는, 아세틸옥시기, 프로피오닐옥시기 및 부티릴옥시기를 들 수 있다. 알킬카르보닐옥시기는, 탄소수 2~3인 알킬카르보닐옥시기가 바람직하고, 아세틸옥시기가 보다 바람직하다. Examples of the alkylcarbonyloxy group for R a33 include an acetyloxy group, a propionyloxy group and a butyryloxy group. The alkylcarbonyloxy group is preferably an alkylcarbonyloxy group having 2 to 3 carbon atoms, and more preferably an acetyloxy group.
Ra33은, 할로겐 원자, 히드록시기, 탄소수 1~4인 알킬기, 탄소수 1~4인 알콕시기 또는 탄소수 2~8인 알콕시알콕시기가 바람직하고, 불소 원자, 요오드 원자, 히드록시기, 메틸기, 메톡시기, 에톡시기, 에톡시에톡시기 또는 에톡시메톡시기가 보다 바람직하고, 불소 원자, 요오드 원자, 히드록시기, 메틸기, 메톡시기 또는 에톡시에톡시기가 더욱 바람직하다.R a33 is preferably a halogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxyalkoxy group having 2 to 8 carbon atoms, and a fluorine atom, an iodine atom, a hydroxyl group, a methyl group, a methoxy group, or an ethoxy group , an ethoxyethoxy group or an ethoxymethoxy group is more preferable, and a fluorine atom, an iodine atom, a hydroxy group, a methyl group, a methoxy group or an ethoxyethoxy group is still more preferable.
[0124] *-Xa31-(Aa32-Xa32)nc-로서는, *-O-, *-CO-O-, *-O-CO-, *-CO-O-Aa32-CO-O-, *-O-CO-Aa32-O-, *-O-Aa32-CO-O-, *-CO-O-Aa32-O-CO-, *-O-CO-Aa32-O-CO-를 들 수 있다. 그 중에서도, *-CO-O-, *-CO-O-Aa32-CO-O- 또는 *-O-Aa32-CO-O-가 바람직하다.[0124] As *-X a31 -(A a32 -X a32 ) nc -, *-O-, *-CO-O-, *-O-CO-, *-CO-OA a32 -CO-O-, *-O-CO-A a32 -O-, *-OA a32 -CO-O-, *-CO-OA a32 -O-CO-, *-O-CO-A a32 -O-CO- have. Especially, *-CO-O-, *-CO-OA a32 -CO-O-, or *-OA a32 -CO-O- is preferable.
[0125] 알칸디일기로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 프로판-1,2-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 부탄-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,2-디일기, 펜탄-1,4-디일기 및 2-메틸부탄-1,4-디일기 등을 들 수 있다.[0125] Examples of the alkanediyl group include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a propane-1,2-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a pentane-1,5-diyl group, Hexane-1,6-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group and 2-methylbutane-1,4-diyl group.
Aa32는, 메틸렌기 또는 에틸렌기인 것이 바람직하다.A a32 is preferably a methylene group or an ethylene group.
[0126] Aa30은, 단결합, *-CO-O- 또는 *-CO-O-Aa32-CO-O-인 것이 바람직하고, 단결합, *-CO-O- 또는 *-CO-O-CH2-CO-O-인 것이 보다 바람직하고, 단결합 또는 *-CO-O-인 것이 더욱 바람직하다.[0126] A a30 is preferably a single bond, *-CO-O- or *-CO-OA a32 -CO-O-, a single bond, *-CO-O- or *-CO-O-CH It is more preferable that it is 2- CO-O-, and it is still more preferable that it is a single bond or *-CO-O-.
[0127] la는 0, 1 또는 2가 바람직하고, 0 또는 1이 보다 바람직하고, 0이 더욱 바람직하다.[0127] la is preferably 0, 1 or 2, more preferably 0 or 1, and still more preferably 0.
Ra34, Ra35 및 Ra36에 있어서의 탄화수소기로서는, 알킬기, 지환식 탄화수소기, 방향족 탄화수소기 및 이들을 조합한 기를 들 수 있다. Examples of the hydrocarbon group for R a34 , R a35 and R a36 include an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a group combining these groups.
알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, and an octyl group.
지환식 탄화수소기는, 단환식 및 다환식 중 어느 것이어도 된다. 단환식의 지환식 탄화수소기로서는, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기 등의 시클로알킬기를 들 수 있다. 다환식의 지환식 탄화수소기로서는, 데카히드로나프틸기, 아다만틸기, 노보닐기 및 하기의 기(*는 결합 부위를 나타냄.) 등을 들 수 있다.The alicyclic hydrocarbon group may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include cycloalkyl groups such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group and a cyclooctyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group, and the following groups (* indicates a bonding site).
방향족 탄화수소기로서는, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 비페닐기, 페난트릴기 등의 아릴기 등을 들 수 있다.As an aromatic hydrocarbon group, aryl groups, such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a biphenyl group, and a phenanthryl group, etc. are mentioned.
조합한 기로서는, 상술한 알킬기와 지환식 탄화수소기를 조합한 기(예컨대 알킬시클로알킬기 또는 시클로알킬알킬기), 벤질기 등의 아랄킬기, 알킬기를 가지는 방향족 탄화수소기(p-메틸페닐기, p-tert-부틸페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 쿠메닐기, 메시틸기, 2,6-디에틸페닐기, 2-메틸-6-에틸페닐기 등), 지환식 탄화수소기를 가지는 방향족 탄화수소기(p-시클로헥실페닐기, p-아다만틸페닐기 등), 페닐시클로헥실기 등의 아릴-시클로알킬기 등을 들 수 있다. 특히, Ra36으로서는, 탄소수 1~18인 알킬기, 탄소수 3~18인 지환식 탄화수소기, 탄소수 6~18인 방향족 탄화수소기 또는 이들을 조합함으로써 형성되는 기를 들 수 있다.Examples of the combined group include a group in which the above-mentioned alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group are combined (for example, an alkylcycloalkyl group or a cycloalkylalkyl group), an aralkyl group such as a benzyl group, and an aromatic hydrocarbon group having an alkyl group (p-methylphenyl group, p-tert- butylphenyl group, tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.), an aromatic hydrocarbon group having an alicyclic hydrocarbon group (p-cyclohexylphenyl group, aryl-cycloalkyl groups such as p-adamantylphenyl group) and phenylcyclohexyl group. In particular, examples of R a36 include an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group formed by combining these groups.
[0128] Ra34는, 바람직하게는, 수소 원자이다.[0128] R a34 is preferably a hydrogen atom.
Ra35는, 바람직하게는, 수소 원자, 탄소수 1~12인 알킬기 또는 탄소수 3~12인 지환식 탄화수소기이고, 보다 바람직하게는 메틸기 또는 에틸기이다.R a35 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group.
Ra36의 탄화수소기는, 바람직하게는, 탄소수 1~18인 알킬기, 탄소수 3~18인 지환식 탄화수소기, 탄소수 6~18인 방향족 탄화수소기 또는 이들을 조합함으로써 형성되는 기이고, 보다 바람직하게는, 탄소수 1~18인 알킬기, 탄소수 3~18인 지환식 지방족 탄화수소기 또는 탄소수 7~18인 아랄킬기이다. Ra36에 있어서의 알킬기 및 상기 지환식 탄화수소기는, 무치환(無置換)인 것이 바람직하다. Ra36에 있어서의 방향족 탄화수소기는, 탄소수 6~10인 아릴옥시기를 가지는 방향환이 바람직하다.The hydrocarbon group of R a36 is preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group formed by combining these, more preferably, a group formed by combining them. an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic aliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms. The alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group for R a36 are preferably unsubstituted. The aromatic hydrocarbon group for R a36 is preferably an aromatic ring having an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms.
[0129] 구조 단위(a1-4)에 있어서의 -OC(Ra34)(Ra35)-O-Ra36은, 산(예컨대 p-톨루엔설폰산)과 접촉하여 이탈되어, 히드록시기를 형성한다.[0129] -OC(R a34 )(R a35 )-OR a36 in the structural unit (a1-4) comes into contact with an acid (eg p-toluenesulfonic acid) to form a hydroxyl group.
-OC(Ra34)(Ra35)-O-Ra36은, 벤젠 고리의 o-위치 또는 p-위치에 결합하는 것이 바람직하고, p-위치에 결합하는 것이 보다 바람직하다.-OC(R a34 )(R a35 )-OR a36 is preferably bonded to the o-position or the p-position of the benzene ring, and more preferably to the p-position.
[0130] 구조 단위(a1-4)로서는, 예컨대, 일본 특허공개공보 제2010-204646호에 기재된 모노머 유래의 구조 단위를 들 수 있다. 바람직하게는, 식 (a1-4-1)~식 (a1-4-18)로 각각 나타내어지는 구조 단위 및 구조 단위(a1-4)에 있어서의 Ra32에 상당하는 수소 원자가, 할로겐 원자, 할로알킬기 또는 알킬기로 치환된 구조 단위를 들 수 있고, 보다 바람직하게는, 식 (a1-4-1)~식 (a1-4-5), 식 (a1-4-10), 식 (a1-4-13), 식 (a1-4-14)로 각각 나타내어지는 구조 단위를 들 수 있다.[0130] The structural unit (a1-4) includes, for example, a structural unit derived from a monomer described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-204646. Preferably, the hydrogen atom corresponding to R a32 in the structural unit and structural unit (a1-4) respectively represented by formulas (a1-4-1) to (a1-4-18) is a halogen atom or halo and structural units substituted with an alkyl group or an alkyl group, and more preferably, formulas (a1-4-1) to (a1-4-5), formulas (a1-4-10), and formulas (a1-4). -13) and the structural unit respectively represented by Formula (a1-4-14) are mentioned.
[0131] 수지(A)가, 구조 단위(a1-4)를 가지는 경우, 그 함유율은, 수지(A)의 전체 구조 단위의 합계에 대해, 10~95몰%인 것이 바람직하고, 15~90몰%인 것이 보다 바람직하고, 20~85몰%인 것이 더욱 바람직하고, 20~70몰%인 것이 더더욱 바람직하고, 20~60몰%인 것이 특히 바람직하다.[0131] When the resin (A) has a structural unit (a1-4), its content is preferably 10 to 95 mol% with respect to the total of all structural units of the resin (A), and 15 to 90 mol% It is more preferable that it is mol%, It is still more preferable that it is 20-85 mol%, It is still more preferable that it is 20-70 mol%, It is especially preferable that it is 20-60 mol%.
[0132] 기(2)를 가지는 (메타)아크릴계 모노머에서 유래하는 구조 단위로서는, 식 (a1-5)로 나타내어지는 구조 단위(이하 「구조 단위(a1-5)」라고 하는 경우가 있음)도 들 수 있다.[0132] As the structural unit derived from the (meth)acrylic monomer having the group (2), the structural unit represented by the formula (a1-5) (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a1-5)”) is also can be heard
식 (a1-5) 중,In formula (a1-5),
Ra8은, 할로겐 원자를 가져도 되는 탄소수 1~6인 알킬기, 수소 원자 또는 할로겐 원자를 나타낸다.R a8 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom, a hydrogen atom, or a halogen atom.
Za1은, 단결합 또는 *-(CH2)h3-CO-L54-를 나타내고, h3은 1~4 중 어느 하나의 정수를 나타내고, *는, L51과의 결합손을 나타낸다.Z a1 represents a single bond or *-(CH 2 ) h3 -CO-L 54 -, h3 represents an integer of any one of 1-4, and * represents a bond with L 51 .
L51, L52, L53 및 L54는, 각각 독립적으로, -O- 또는 -S-를 나타낸다.L 51 , L 52 , L 53 and L 54 each independently represent -O- or -S-.
s1은, 1~3 중 어느 하나의 정수를 나타낸다.s1 represents the integer in any one of 1-3.
s1'는, 0~3 중 어느 하나의 정수를 나타낸다.s1' represents the integer in any one of 0-3.
[0133] 할로겐 원자로서는, 불소 원자 및 염소 원자를 들 수 있고, 불소 원자가 바람직하다. 할로겐 원자를 가져도 되는 탄소수 1~6인 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 플루오로메틸기 및 트리플루오로메틸기를 들 수 있다.[0133] Examples of the halogen atom include a fluorine atom and a chlorine atom, and a fluorine atom is preferable. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a fluoromethyl group and a trifluoromethyl group.
식 (a1-5)에 있어서는, Ra8은, 수소 원자, 메틸기 또는 트리플루오로메틸기가 바람직하다.In formula (a1-5), R a8 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group.
L51은, 산소 원자가 바람직하다.L 51 is preferably an oxygen atom.
L52 및 L53 중, 한쪽이 -O-이고, 다른 쪽이 -S-인 것이 바람직하다.It is preferable that one of L 52 and L 53 is -O- and the other is -S-.
s1은, 1이 바람직하다.As for s1, 1 is preferable.
s1'는, 0~2 중 어느 하나의 정수가 바람직하다.As for s1', the integer in any one of 0-2 is preferable.
Za1은, 단결합 또는 *-CH2-CO-O-가 바람직하다.Z a1 is preferably a single bond or *-CH 2 -CO-O-.
[0134] 구조 단위(a1-5)로서는, 예컨대, 일본 특허공개공보 제2010-61117호에 기재된 모노머 유래의 구조 단위를 들 수 있다. 그 중에서도, 식 (a1-5-1)~식 (a1-5-4)로 각각 나타내어지는 구조 단위가 바람직하고, 식 (a1-5-1) 또는 식 (a1-5-2)로 나타내어지는 구조 단위가 보다 바람직하다.[0134] The structural unit (a1-5) includes, for example, a structural unit derived from a monomer described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-61117. Among them, structural units represented by formulas (a1-5-1) to (a1-5-4) are preferable, and structural units represented by formulas (a1-5-1) or (a1-5-2) are preferable. A structural unit is more preferable.
[0135] 수지(A)가, 구조 단위(a1-5)를 가지는 경우, 그 함유율은, 수지(A)의 전체 구조 단위에 대해, 1~50몰%가 바람직하고, 3~45몰%가 보다 바람직하고, 5~40몰%가 더욱 바람직하고, 5~30몰%가 더더욱 바람직하다.[0135] When the resin (A) has a structural unit (a1-5), the content is preferably 1 to 50 mol%, and 3 to 45 mol%, based on the total structural units of the resin (A). More preferably, 5-40 mol% is still more preferable, and 5-30 mol% is still more preferable.
[0136] 또한, 구조 단위(a1)로서는, 이하의 구조 단위도 들 수 있다.[0136] Further, as the structural unit (a1), the following structural units are also exemplified.
[0137] 수지(A)가 상기, (a1-3-1)~(a1-3-7)과 같은 구조 단위를 포함하는 경우, 그 함유율은, 수지(A)의 전체 구조 단위에 대해, 10~95몰%가 바람직하고, 15~90몰%가 보다 바람직하고, 20~85몰%가 더욱 바람직하고, 20~70몰%가 더더욱 바람직하고, 20~60몰%가 특히 바람직하다.[0137] When the resin (A) contains the structural units such as (a1-3-1) to (a1-3-7) above, the content is 10 with respect to the total structural units of the resin (A). -95 mol% is preferable, 15-90 mol% is more preferable, 20-85 mol% is still more preferable, 20-70 mol% is still more preferable, 20-60 mol% is especially preferable.
[0138] 〈구조 단위(s)〉[0138] <Structural unit (s)>
구조 단위(s)는, 산 불안정기를 가지지 않는 모노머(이하 「모노머(s)」라고 하는 경우가 있음)로부터 유도된다. 구조 단위(s)를 유도하는 모노머는, 레지스트 분야에서 공지된 산 불안정기를 가지지 않는 모노머를 사용할 수 있다.The structural unit (s) is derived from a monomer having no acid-labile group (hereinafter sometimes referred to as “monomer (s)”). As the monomer for deriving the structural unit (s), a monomer having no acid labile group known in the field of resists can be used.
구조 단위(s)로서는, 히드록시기 또는 락톤 고리를 가지는 것이 바람직하다. 히드록시기를 가지며, 또한 산 불안정기를 가지지 않는 구조 단위(이하 「구조 단위(a2)」라고 하는 경우가 있음) 및/또는 락톤 고리를 가지며, 또한 산 불안정기를 가지지 않는 구조 단위(이하 「구조 단위(a3)」이라고 하는 경우가 있음)를 가지는 수지를 본 발명의 레지스트 조성물에 사용하면, 레지스트 패턴의 해상도 및 기판과의 밀착성을 향상시킬 수 있다.The structural unit (s) preferably has a hydroxyl group or a lactone ring. A structural unit having a hydroxyl group and not having an acid-labile group (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a2)”) and/or a structural unit having a lactone ring and not having an acid-labile group (hereinafter referred to as “structural unit (a3)”) )") is used in the resist composition of the present invention, the resolution of the resist pattern and adhesion to the substrate can be improved.
[0139] 〈구조 단위(a2)〉[0139] <Structural unit (a2)>
구조 단위(a2)가 가지는 히드록시기는, 알코올성 히드록시기여도, 페놀성 히드록시기여도 된다.The hydroxy group which the structural unit (a2) has may be an alcoholic hydroxy group or a phenolic hydroxy group.
본 발명의 레지스트 조성물로부터 레지스트 패턴을 제조할 때, 노광 광원으로서 KrF 엑시머 레이저(248nm), 전자선 또는 EUV(초자외광) 등의 고(高)에너지선을 이용하는 경우에는, 구조 단위(a2)로서, 페놀성 히드록시기를 가지는 구조 단위(a2)가 바람직하고, 후술하는 구조 단위(a2-A)를 사용하는 것이 보다 바람직하다. 또한, ArF 엑시머 레이저(193nm) 등을 이용하는 경우에는, 구조 단위(a2)로서, 알코올성 히드록시기를 가지는 구조 단위(a2)가 바람직하고, 후술하는 구조 단위(a2-1)을 사용하는 것이 보다 바람직하다. 구조 단위(a2)로서는, 1종을 단독으로 포함하고 있어도 되고, 2종 이상을 포함하고 있어도 된다.When producing a resist pattern from the resist composition of the present invention, when high energy rays such as KrF excimer laser (248 nm), electron beam, or EUV (ultra-ultraviolet light) are used as the exposure light source, as the structural unit (a2), The structural unit (a2) which has a phenolic hydroxyl group is preferable, and it is more preferable to use the structural unit (a2-A) mentioned later. In the case of using an ArF excimer laser (193 nm) or the like, as the structural unit (a2), the structural unit (a2) having an alcoholic hydroxyl group is preferable, and it is more preferable to use the structural unit (a2-1) described later. . As a structural unit (a2), 1 type may be included individually, and 2 or more types may be included.
[0140] 구조 단위(a2)에 있어서 페놀성 히드록시기를 가지는 구조 단위로서는 식 (a2-A)로 나타내어지는 구조 단위(이하 「구조 단위(a2-A)」라고 하는 경우가 있음)를 들 수 있다.[0140] Examples of the structural unit having a phenolic hydroxyl group in the structural unit (a2) include a structural unit represented by formula (a2-A) (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a2-A)”). .
[식 (a2-A) 중,[In formula (a2-A),
Ra50은, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 할로겐 원자를 가져도 되는 탄소수 1~6인 알킬기를 나타낸다.R a50 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
Ra51은, 할로겐 원자, 히드록시기, 탄소수 1~6인 알킬기, 탄소수 1~6인 알콕시기, 탄소수 2~12인 알콕시알킬기, 탄소수 2~12인 알콕시알콕시기, 탄소수 2~4인 알킬카르보닐기, 탄소수 2~4인 알킬카르보닐옥시기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기를 나타낸다.R a51 is a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxyalkyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxyalkoxy group having 2 to 12 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, and an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms. An alkylcarbonyloxy group, acryloyloxy group or methacryloyloxy group which is 2-4 is represented.
Aa50은, 단결합 또는 *-Xa51-(Aa52-Xa52)nb-를 나타내고, *는 -Ra50이 결합하는 탄소 원자와의 결합손을 나타낸다.A a50 represents a single bond or *-X a51 -(A a52 -X a52 ) nb -, and * represents a bond with the carbon atom to which -R a50 is bonded.
Aa52는, 탄소수 1~6인 알칸디일기를 나타낸다.A a52 represents a C1-C6 alkanediyl group.
Xa51 및 Xa52는, 각각 독립적으로, -O-, -CO-O- 또는 -O-CO-를 나타낸다.X a51 and X a52 each independently represent -O-, -CO-O- or -O-CO-.
nb는, 0 또는 1을 나타낸다.nb represents 0 or 1.
mb는 0~4 중 어느 하나의 정수를 나타낸다. mb가 2 이상의 어느 하나의 정수인 경우, 복수의 Ra51은 서로 동일해도 상이해도 된다.]mb represents any integer from 0 to 4. When mb is any integer of 2 or more, a plurality of R a51 may be the same or different from each other.]
[0141] Ra50 및 Ra51에 있어서의 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자 및 브롬 원자 등을 들 수 있다.[0141] Examples of the halogen atom in R a50 and R a51 include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom.
Ra50에 있어서의 할로겐 원자를 가져도 되는 탄소수 1~6인 알킬기로서는, 트리플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 메틸기, 퍼플루오로에틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기, 1,1,2,2-테트라플루오로에틸기, 에틸기, 퍼플루오로프로필기, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필기, 프로필기, 퍼플루오로부틸기, 1,1,2,2,3,3,4,4-옥타플루오로부틸기, 부틸기, 퍼플루오로펜틸기, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-노나플루오로펜틸기, 펜틸기, 헥실기 및 퍼플루오로헥실기를 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom in R a50 include trifluoromethyl group, difluoromethyl group, methyl group, perfluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1 ,2,2-tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2 ,3,3,4,4-octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl group, pentyl group , a hexyl group and a perfluorohexyl group.
Ra50은, 수소 원자 또는 탄소수 1~4인 알킬기가 바람직하고, 수소 원자, 메틸기 또는 에틸기가 보다 바람직하고, 수소 원자 또는 메틸기가 더욱 바람직하다.R a50 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and still more preferably a hydrogen atom or a methyl group.
Ra51에 있어서의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기를 들 수 있다. 알킬기는, 탄소수 1~4인 알킬기가 바람직하고, 메틸기 또는 에틸기가 보다 바람직하고, 메틸기가 더욱 바람직하다. Examples of the alkyl group for R a51 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, and a hexyl group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group, and still more preferably a methyl group.
Ra51에 있어서의 알콕시기로서는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기를 들 수 있다. 알콕시기는, 탄소수 1~4인 알콕시기가 바람직하고, 메톡시기 또는 에톡시기가 보다 바람직하고, 메톡시기가 더욱 바람직하다. Examples of the alkoxy group for R a51 include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, a sec-butoxy group, and a tert-butoxy group. The alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methoxy group or an ethoxy group, and still more preferably a methoxy group.
Ra51에 있어서의 알콕시알킬기로서는, 메톡시메틸기, 에톡시에틸기, 프로폭시메틸기, 이소프로폭시메틸기, 부톡시메틸기, sec-부톡시메틸기, tert-부톡시메틸기를 들 수 있다. 알콕시알킬기는, 탄소수 2~8인 알콕시알킬기가 바람직하고, 메톡시메틸기 또는 에톡시에틸기가 보다 바람직하고, 메톡시메틸기가 더욱 바람직하다. Examples of the alkoxyalkyl group for R a51 include a methoxymethyl group, an ethoxyethyl group, a propoxymethyl group, an isopropoxymethyl group, a butoxymethyl group, a sec-butoxymethyl group, and a tert-butoxymethyl group. The alkoxyalkyl group is preferably an alkoxyalkyl group having 2 to 8 carbon atoms, more preferably a methoxymethyl group or an ethoxyethyl group, and still more preferably a methoxymethyl group.
Ra51에 있어서의 알콕시알콕시기로서는, 메톡시메톡시기, 메톡시에톡시기, 에톡시메톡시기, 에톡시에톡시기, 프로폭시메톡시기, 이소프로폭시메톡시기, 부톡시메톡시기, sec-부톡시메톡시기, tert-부톡시메톡시기를 들 수 있다. 알콕시알콕시기는, 탄소수 2~8인 알콕시알콕시기가 바람직하고, 메톡시에톡시기 또는 에톡시에톡시기가 보다 바람직하다. Examples of the alkoxyalkoxy group for R a51 include a methoxymethoxy group, a methoxyethoxy group, an ethoxymethoxy group, an ethoxyethoxy group, a propoxymethoxy group, an isopropoxymethoxy group, a butoxymethoxy group, sec- A butoxymethoxy group and a tert-butoxymethoxy group are mentioned. The alkoxyalkoxy group is preferably an alkoxyalkoxy group having 2 to 8 carbon atoms, and more preferably a methoxyethoxy group or an ethoxyethoxy group.
Ra51에 있어서의 알킬카르보닐기로서는, 아세틸기, 프로피오닐기 및 부티릴기 등을 들 수 있다. 알킬카르보닐기는, 탄소수 2~3인 알킬카르보닐기가 바람직하고, 아세틸기가 보다 바람직하다. Examples of the alkylcarbonyl group for R a51 include an acetyl group, a propionyl group and a butyryl group. The alkylcarbonyl group is preferably an alkylcarbonyl group having 2 to 3 carbon atoms, and more preferably an acetyl group.
Ra51에 있어서의 알킬카르보닐옥시기로서는, 아세틸옥시기, 프로피오닐옥시기 및 부티릴옥시기를 들 수 있다. 알킬카르보닐옥시기는, 탄소수 2~3인 알킬카르보닐옥시기가 바람직하고, 아세틸옥시기가 보다 바람직하다. Examples of the alkylcarbonyloxy group for R a51 include an acetyloxy group, a propionyloxy group and a butyryloxy group. The alkylcarbonyloxy group is preferably an alkylcarbonyloxy group having 2 to 3 carbon atoms, and more preferably an acetyloxy group.
Ra51은, 할로겐 원자, 히드록시기, 탄소수 1~4인 알킬기, 탄소수 1~4인 알콕시기 또는 탄소수 2~8인 알콕시알콕시기가 바람직하고, 불소 원자, 요오드 원자, 히드록시기, 메틸기, 메톡시기, 에톡시기, 에톡시에톡시기 또는 에톡시메톡시기가 보다 바람직하고, 불소 원자, 요오드 원자, 히드록시기, 메틸기, 메톡시기 또는 에톡시에톡시기가 더욱 바람직하다.R a51 is preferably a halogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or an alkoxyalkoxy group having 2 to 8 carbon atoms, and a fluorine atom, an iodine atom, a hydroxyl group, a methyl group, a methoxy group, or an ethoxy group , an ethoxyethoxy group or an ethoxymethoxy group is more preferable, and a fluorine atom, an iodine atom, a hydroxy group, a methyl group, a methoxy group or an ethoxyethoxy group is still more preferable.
[0142] *-Xa51-(Aa52-Xa52)nb-로서는, *-O-, *-CO-O-, *-O-CO-, *-CO-O-Aa52-CO-O-, *-O-CO-Aa52-O-, *-O-Aa52-CO-O-, *-CO-O-Aa52-O-CO-, *-O-CO-Aa52-O-CO-를 들 수 있다. 그 중에서도, *-CO-O-, *-CO-O-Aa52-CO-O- 또는 *-O-Aa52-CO-O-가 바람직하다.[0142] As *-X a51 -(A a52 -X a52 ) nb -, *-O-, *-CO-O-, *-O-CO-, *-CO-OA a52 -CO-O-, *-O-CO-A a52 -O-, *-OA a52 -CO-O-, *-CO-OA a52 -O-CO-, *-O-CO-A a52 -O-CO- have. Especially, *-CO-O-, *-CO-OA a52 -CO-O-, or *-OA a52 -CO-O- is preferable.
[0143] 알칸디일기로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 프로판-1,2-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 부탄-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,2-디일기, 펜탄-1,4-디일기 및 2-메틸부탄-1,4-디일기 등을 들 수 있다.[0143] Examples of the alkanediyl group include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a propane-1,2-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a pentane-1,5-diyl group, Hexane-1,6-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group and 2-methylbutane-1,4-diyl group.
Aa52는, 메틸렌기 또는 에틸렌기인 것이 바람직하다.A a52 is preferably a methylene group or an ethylene group.
[0144] Aa50은, 단결합, *-CO-O- 또는 *-CO-O-Aa52-CO-O-인 것이 바람직하고, 단결합, *-CO-O- 또는 *-CO-O-CH2-CO-O-인 것이 보다 바람직하고, 단결합 또는 *-CO-O-인 것이 더욱 바람직하다.[0144] A a50 is preferably a single bond, *-CO-O- or *-CO-OA a52 -CO-O-, and a single bond, *-CO-O- or *-CO-O-CH It is more preferable that it is 2- CO-O-, and it is still more preferable that it is a single bond or *-CO-O-.
[0145] mb는 0, 1 또는 2가 바람직하고, 0 또는 1이 보다 바람직하고, 0이 특히 바람직하다.[0145] mb is preferably 0, 1 or 2, more preferably 0 or 1, particularly preferably 0.
히드록시기는, 벤젠 고리의 오르토 위치 또는 파라 위치에 결합하는 것이 바람직하고, 파라 위치에 결합하는 것이 보다 바람직하다.It is preferable to couple|bond with the ortho position or para position of a benzene ring, and, as for a hydroxyl group, it is more preferable to couple|bond with para position.
[0146] 구조 단위(a2-A)로서는, 일본 특허공개공보 제2010-204634호, 일본 특허공개공보 제2012-12577호에 기재되어 있는 모노머 유래의 구조 단위를 들 수 있다.[0146] Examples of the structural unit (a2-A) include structural units derived from monomers described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2010-204634 and 2012-12577.
구조 단위(a2-A)로서는, 식 (a2-2-1)~식 (a2-2-16)으로 나타내어지는 구조 단위 및 식 (a2-2-1)~식 (a2-2-16)으로 나타내어지는 구조 단위에 있어서 구조 단위(a2-A)에 있어서의 Ra50에 상당하는 메틸기가 수소 원자, 할로겐 원자, 할로알킬기 또는 다른 알킬기로 치환된 구조 단위를 들 수 있다. 구조 단위(a2-A)는, 식 (a2-2-1)로 나타내어지는 구조 단위, 식 (a2-2-3)으로 나타내어지는 구조 단위, 식 (a2-2-6)으로 나타내어지는 구조 단위, 식 (a2-2-8)로 나타내어지는 구조 단위, 식 (a2-2-12)~식 (a2-2-14)로 나타내어지는 구조 단위 및 식 (a2-2-1)로 나타내어지는 구조 단위, 식 (a2-2-3)으로 나타내어지는 구조 단위, 식 (a2-2-6)으로 나타내어지는 구조 단위, 식 (a2-2-8)로 나타내어지는 구조 단위, 식 (a2-2-12)~식 (a2-2-14)로 나타내어지는 구조 단위에 있어서, 구조 단위(a2-A)에 있어서의 Ra50에 상당하는 메틸기가 수소 원자로 치환된 구조 단위인 것이 바람직하고, 식 (a2-2-3)으로 나타내어지는 구조 단위, 식 (a2-2-8)로 나타내어지는 구조 단위, 식 (a2-2-12)~식 (a2-2-14)로 나타내어지는 구조 단위 및 식 (a2-2-3)으로 나타내어지는 구조 단위 또는 식 (a2-2-8)로 나타내어지는 구조 단위, 식 (a2-2-12)~식 (a2-2-14)로 나타내어지는 구조 단위에 있어서, 구조 단위(a2-A)에 있어서의 Ra50에 상당하는 메틸기가 수소 원자로 치환된 구조 단위인 것이 보다 바람직하고, 식 (a2-2-8)로 나타내어지는 구조 단위 및 식 (a2-2-8)로 나타내어지는 구조 단위에 있어서, 구조 단위(a2-A)에 있어서의 Ra50에 상당하는 메틸기가 수소 원자로 치환된 구조 단위인 것이 더욱 바람직하다.Examples of the structural unit (a2-A) include structural units represented by formulas (a2-2-1) to (a2-2-16) and formulas (a2-2-1) to (a2-2-16). Structural units in which the methyl group corresponding to R a50 in the structural unit (a2-A) in the structural unit represented is substituted with a hydrogen atom, a halogen atom, a haloalkyl group or another alkyl group is exemplified. The structural unit (a2-A) is a structural unit represented by a formula (a2-2-1), a structural unit represented by a formula (a2-2-3), or a structural unit represented by a formula (a2-2-6) , a structural unit represented by a formula (a2-2-8), a structural unit represented by a formula (a2-2-12) to a formula (a2-2-14), and a structure represented by a formula (a2-2-1) unit, the structural unit represented by the formula (a2-2-3), the structural unit represented by the formula (a2-2-6), the structural unit represented by the formula (a2-2-8), the structural unit represented by the formula (a2-2- 12) in the structural unit represented by the formula (a2-2-14), preferably a structural unit in which a methyl group corresponding to R a50 in the structural unit (a2-A) is substituted with a hydrogen atom; Structural unit represented by -2-3), structural unit represented by formula (a2-2-8), structural unit represented by formula (a2-2-12) to formula (a2-2-14), and formula ( In the structural unit represented by a2-2-3) or the structural unit represented by the formula (a2-2-8), and the structural unit represented by the formulas (a2-2-12) to (a2-2-14), , more preferably a structural unit in which the methyl group corresponding to R a50 in the structural unit (a2-A) is substituted with a hydrogen atom, the structural unit represented by the formula (a2-2-8) and the formula (a2-2- In the structural unit represented by 8), it is more preferable that the methyl group corresponding to R a50 in the structural unit (a2-A) is substituted with a hydrogen atom.
[0147] 수지(A) 중에 구조 단위(a2-A)가 포함되는 경우의 구조 단위(a2-A)의 함유율은, 전체 구조 단위에 대해, 바람직하게는 5~80몰%이고, 보다 바람직하게는 10~70몰%이고, 더욱 바람직하게는 15~65몰%이고, 더더욱 바람직하게는 20~65몰%이다.[0147] When the structural unit (a2-A) is included in the resin (A), the content of the structural unit (a2-A) is preferably 5 to 80 mol%, more preferably, with respect to the total structural units. is 10 to 70 mol%, more preferably 15 to 65 mol%, still more preferably 20 to 65 mol%.
구조 단위(a2-A)는, 예컨대 구조 단위(a1-4)를 사용하여 중합한 후, p-톨루엔설폰산 등의 산으로 처리함으로써, 수지(A)에 포함시킬 수 있다. 또한, 아세톡시스티렌 등을 사용하여 중합한 후, 테트라메틸암모늄히드록시드 등의 알칼리로 처리함으로써, 구조 단위(a2-A)를 수지(A)에 포함시킬 수 있다.The structural unit (a2-A) can be included in the resin (A) by, for example, polymerizing using the structural unit (a1-4) and then treating with an acid such as p-toluenesulfonic acid. In addition, the structural unit (a2-A) can be included in the resin (A) by performing polymerization using acetoxystyrene or the like, followed by treatment with an alkali such as tetramethylammonium hydroxide.
[0148] 구조 단위(a2)에 있어서 알코올성 히드록시기를 가지는 구조 단위로서는, 식 (a2-1)로 나타내어지는 구조 단위(이하 「구조 단위(a2-1)」이라고 하는 경우가 있음.)를 들 수 있다.[0148] Examples of the structural unit having an alcoholic hydroxyl group in the structural unit (a2) include a structural unit represented by the formula (a2-1) (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a2-1)”). have.
식 (a2-1) 중,In formula (a2-1),
La3은, -O- 또는 *-O-(CH2)k2-CO-O-를 나타내고,L a3 represents -O- or *-O-(CH 2 ) k2 -CO-O-,
k2는 1~7 중 어느 하나의 정수를 나타낸다. *는 -CO-와의 결합손을 나타낸다.k2 represents the integer in any one of 1-7. * represents a bond with -CO-.
Ra14는, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.R a14 represents a hydrogen atom or a methyl group.
Ra15 및 Ra16은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 메틸기 또는 히드록시기를 나타낸다.R a15 and R a16 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, or a hydroxy group.
o1은, 0~10 중 어느 하나의 정수를 나타낸다.o1 represents the integer in any one of 0-10.
[0149] 식 (a2-1)에서는, La3은, 바람직하게는, -O-, -O-(CH2)f1-CO-O-이고(상기 f1은, 1~4 중 어느 하나의 정수를 나타냄), 보다 바람직하게는 -O-이다.[0149] In formula (a2-1), L a3 is preferably -O-, -O-(CH 2 ) f1 -CO-O- (wherein f1 is an integer of any one of 1 to 4) ), more preferably -O-.
Ra14는, 바람직하게는 메틸기이다.R a14 is preferably a methyl group.
Ra15는, 바람직하게는 수소 원자이다.R a15 is preferably a hydrogen atom.
Ra16은, 바람직하게는 수소 원자 또는 히드록시기이다.R a16 is preferably a hydrogen atom or a hydroxy group.
o1은, 바람직하게는 0~3 중 어느 하나의 정수, 보다 바람직하게는 0 또는 1이다.o1 is preferably the integer in any one of 0-3, More preferably, it is 0 or 1.
[0150] 구조 단위(a2-1)로서는, 예컨대, 일본 특허공개공보 제2010-204646호에 기재된 모노머에서 유래하는 구조 단위를 들 수 있다. 식 (a2-1-1)~식 (a2-1-6) 중 어느 하나로 나타내어지는 구조 단위가 바람직하고, 식 (a2-1-1)~식 (a2-1-4) 중 어느 하나로 나타내어지는 구조 단위가 보다 바람직하고, 식 (a2-1-1) 또는 식 (a2-1-3)으로 나타내어지는 구조 단위가 더욱 바람직하다.[0150] The structural unit (a2-1) includes, for example, a structural unit derived from a monomer described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-204646. A structural unit represented by any one of formulas (a2-1-1) to (a2-1-6) is preferable, and a structural unit represented by any one of formulas (a2-1-1) to (a2-1-4) A structural unit is more preferable, and the structural unit represented by a formula (a2-1-1) or a formula (a2-1-3) is still more preferable.
[0151] 수지(A)가 구조 단위(a2-1)을 포함하는 경우, 그 함유율은, 수지(A)의 전체 구조 단위에 대해, 통상 1~45몰%이고, 바람직하게는 1~40몰%이고, 보다 바람직하게는 1~35몰%이고, 더욱 바람직하게는 1~20몰%이고, 더더욱 바람직하게는 1~10몰%이다.[0151] When the resin (A) contains the structural unit (a2-1), its content is usually 1 to 45 mol%, preferably 1 to 40 mol, based on the total structural units of the resin (A). %, more preferably 1-35 mol%, still more preferably 1-20 mol%, still more preferably 1-10 mol%.
[0152] 〈구조 단위(a3)〉[0152] <Structural unit (a3)>
구조 단위(a3)이 가지는 락톤 고리는, β-프로피오락톤 고리, γ-부티로락톤 고리, δ-발레로락톤 고리와 같은 단환이어도 되고, 단환식의 락톤 고리와 다른 고리와의 축합환이어도 된다. 바람직하게는, γ-부티로락톤 고리, 아다만탄락톤 고리, 또는, γ-부티로락톤 고리 구조를 포함하는 가교된 고리(예컨대 아래의 식 (a3-2)로 나타내어지는 구조 단위)를 들 수 있다.The lactone ring of the structural unit (a3) may be a monocyclic such as a β-propiolactone ring, a γ-butyrolactone ring, or a δ-valerolactone ring, or a condensed ring of a monocyclic lactone ring and another ring. do. Preferably, a γ-butyrolactone ring, an adamantanlactone ring, or a bridged ring containing a γ-butyrolactone ring structure (eg, a structural unit represented by the following formula (a3-2)) is mentioned. can
[0153] 구조 단위(a3)은, 바람직하게는, 식 (a3-1), 식 (a3-2), 식 (a3-3) 또는 식 (a3-4)로 나타내어지는 구조 단위이다. 이들 중 1종을 단독으로 함유해도 되고, 2종 이상을 함유해도 된다.[0153] The structural unit (a3) is preferably a structural unit represented by the formula (a3-1), the formula (a3-2), the formula (a3-3), or the formula (a3-4). Among these, 1 type may be contained individually, and 2 or more types may be contained.
[식 (a3-1), 식 (a3-2), 식 (a3-3) 및 식 (a3-4) 중, [In formula (a3-1), formula (a3-2), formula (a3-3) and formula (a3-4),
La4, La5 및 La6은, 각각 독립적으로, -O- 또는 *-O-(CH2)k3-CO-O-(k3은 1~7 중 어느 하나의 정수를 나타냄.)로 나타내어지는 기를 나타낸다.L a4 , L a5 and L a6 are each independently represented by -O- or *-O-(CH 2 ) k3 -CO-O- (k3 represents an integer of any one of 1 to 7) represents the group.
La7은, -O-, *-O-La8-O-, *-O-La8-CO-O-, *-O-La8-CO-O-La9-CO-O- 또는 *-O-La8-O-CO-La9-O-를 나타낸다.L a7 is -O-, *-OL a8 -O-, *-OL a8 -CO-O-, *-OL a8 -CO-OL a9 -CO-O- or *-OL a8 -O-CO- Represents L a9 -O-.
La8 및 La9는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~6인 알칸디일기를 나타낸다.L a8 and L a9 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
*는 카르보닐기와의 결합 부위를 나타낸다.* indicates a binding site with a carbonyl group.
Ra18, Ra19 및 Ra20은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.R a18 , R a19 and R a20 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
Ra24는, 할로겐 원자를 가져도 되는 탄소수 1~6인 알킬기, 수소 원자 또는 할로겐 원자를 나타낸다.R a24 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom, a hydrogen atom, or a halogen atom.
Xa3은, -CH2- 또는 산소 원자를 나타낸다.X a3 represents -CH 2 - or an oxygen atom.
Ra21은 탄소수 1~4인 지방족 탄화수소기를 나타낸다.R a21 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
Ra22, Ra23 및 Ra25는, 각각 독립적으로, 카르복시기, 시아노기 또는 탄소수 1~4인 지방족 탄화수소기를 나타낸다.R a22 , R a23 and R a25 each independently represent a carboxy group, a cyano group, or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
p1은 0~5 중 어느 하나의 정수를 나타낸다.p1 represents the integer in any one of 0-5.
q1은, 0~3 중 어느 하나의 정수를 나타낸다.q1 represents the integer in any one of 0-3.
r1은, 0~3 중 어느 하나의 정수를 나타낸다.r1 represents the integer in any one of 0-3.
w1은, 0~8 중 어느 하나의 정수를 나타낸다.w1 represents the integer in any one of 0-8.
p1, q1, r1 및/또는 w1이 2 이상일 때, 복수의 Ra21, Ra22, Ra23 및/또는 Ra25는 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.]When p1, q1, r1 and/or w1 is 2 or more, a plurality of R a21 , R a22 , R a23 and/or R a25 may be the same as or different from each other.]
[0154] Ra21, Ra22, Ra23 및 Ra25에 있어서의 지방족 탄화수소기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, sec-부틸기 및 tert-부틸기 등의 알킬기를 들 수 있다.[0154] Examples of the aliphatic hydrocarbon group for R a21 , R a22 , R a23 and R a25 include an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group and a tert-butyl group. can
Ra24에 있어서의 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 들 수 있다. Examples of the halogen atom for R a24 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Ra24에 있어서의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기 및 헥실기 등을 들 수 있고, 바람직하게는 탄소수 1~4인 알킬기를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 메틸기 또는 에틸기를 들 수 있다. Examples of the alkyl group for R a24 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group and a hexyl group, preferably having 1 to 4 carbon atoms. A phosphorus alkyl group is mentioned, More preferably, a methyl group or an ethyl group is mentioned.
Ra24에 있어서의 할로겐 원자를 가지는 알킬기로서는, 트리플루오로메틸기, 퍼플루오로에틸기, 퍼플루오로프로필기, 퍼플루오로이소프로필기, 퍼플루오로부틸기, 퍼플루오로sec-부틸기, 퍼플루오로tert-부틸기, 퍼플루오로펜틸기, 퍼플루오로헥실기, 트리클로로메틸기, 트리브로모메틸기, 트리요오드메틸기 등을 들 수 있다. Examples of the alkyl group having a halogen atom for R a24 include a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluoroisopropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorosec-butyl group, and a purple group. Luorotert-butyl group, perfluoropentyl group, perfluorohexyl group, trichloromethyl group, tribromomethyl group, triiodomethyl group, etc. are mentioned.
La8 및 La9에 있어서의 알칸디일기로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 프로판-1,2-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 부탄-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,2-디일기, 펜탄-1,4-디일기 및 2-메틸부탄-1,4-디일기 등을 들 수 있다. Examples of the alkanediyl group for L a8 and L a9 include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a propane-1,2-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a pentane-1, 5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1 and a ,4-diyl group and a 2-methylbutane-1,4-diyl group.
[0155] 식 (a3-1)~식 (a3-3)에 있어서, La4~La6은, 각각 독립적으로, 바람직하게는 -O- 또는, *-O-(CH2)k3-CO-O-에 있어서, k3이 1~4 중 어느 하나의 정수인 기, 보다 바람직하게는 -O- 및, *-O-CH2-CO-O-, 더욱 바람직하게는 산소 원자이다.[0155] In formulas (a3-1) to (a3-3), L a4 to L a6 are each independently, preferably -O- or *-O-(CH 2 ) k3 -CO- In O-, k3 is an integer of any one of 1 to 4, more preferably -O- and *-O-CH 2 -CO-O-, still more preferably an oxygen atom.
Ra18~Ra21은, 바람직하게는 메틸기이다.R a18 to R a21 are preferably a methyl group.
Ra22 및 Ra23은, 각각 독립적으로, 바람직하게는 카르복시기, 시아노기 또는 메틸기이다.R a22 and R a23 are each independently, preferably a carboxy group, a cyano group, or a methyl group.
p1, q1 및 r1은, 각각 독립적으로, 바람직하게는 0~2 중 어느 하나의 정수이고, 보다 바람직하게는 0 또는 1이다.p1, q1, and r1 are each independently, Preferably it is an integer in any one of 0-2, More preferably, it is 0 or 1.
[0156] 식 (a3-4)에 있어서, Ra24는, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~4인 알킬기이고, 보다 바람직하게는 수소 원자, 메틸기 또는 에틸기이고, 더욱 바람직하게는 수소 원자 또는 메틸기이다.[0156] In formula (a3-4), R a24 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and still more preferably a hydrogen atom or a methyl group. am.
Ra25는, 바람직하게는 카르복시기, 시아노기 또는 메틸기이다.R a25 is preferably a carboxy group, a cyano group or a methyl group.
La7은, 바람직하게는 -O- 또는 *-O-La8-CO-O-이고, 보다 바람직하게는 -O-, -O-CH2-CO-O- 또는 -O-C2H4-CO-O-이다.L a7 is preferably -O- or *-OL a8 -CO-O-, more preferably -O-, -O-CH 2 -CO-O- or -OC 2 H 4 -CO-O -am.
w1은, 바람직하게는 0~2 중 어느 하나의 정수이고, 보다 바람직하게는 0 또는 1이다.w1 becomes like this. Preferably it is an integer in any one of 0-2, More preferably, it is 0 or 1.
특히, 식 (a3-4)는, 식 (a3-4)'가 바람직하다.In particular, the formula (a3-4) is preferably a formula (a3-4)'.
(식 중, Ra24, La7은, 상기와 동일한 의미를 나타낸다.)(In the formula, R a24 and L a7 have the same meanings as above.)
[0157] 구조 단위(a3)으로서는, 일본 특허공개공보 제2010-204646호에 기재된 모노머, 일본 특허공개공보 제2000-122294호에 기재된 모노머, 일본 특허공개공보 제2012-41274호에 기재된 모노머에서 유래하는 구조 단위를 들 수 있다. 구조 단위(a3)으로서는, 식 (a3-1-1), 식 (a3-1-2), 식 (a3-2-1), 식 (a3-2-2), 식 (a3-3-1), 식 (a3-3-2) 및 식 (a3-4-1)~식 (a3-4-12) 중 어느 하나로 나타내어지는 구조 단위 및, 상기 구조 단위에 있어서, 식 (a3-1)~식 (a3-4)에 있어서의 Ra18, Ra19, Ra20 및 Ra24에 상당하는 메틸기가 수소 원자로 치환된 구조 단위가 바람직하다.[0157] The structural unit (a3) is derived from the monomer described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-204646, the monomer described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-122294, and the monomer described in Japanese Patent Laid-Open No. 2012-41274. structural units are mentioned. As the structural unit (a3), formula (a3-1-1), formula (a3-1-2), formula (a3-2-1), formula (a3-2-2), formula (a3-3-1) ), a structural unit represented by any one of formulas (a3-3-2) and (a3-4-1) to (a3-4-12), and in the structural unit, formulas (a3-1) to is a methyl group corresponding to R a18, R a19, R a20 and R a24 in the formula (a3-4) is preferably a structural unit substituted with hydrogen atoms.
[0158][0158]
[0159] 수지(A)가 구조 단위(a3)을 포함하는 경우, 그 합계 함유율은, 수지(A)의 전체 구조 단위에 대해, 통상 5~70몰%이고, 바람직하게는 10~65몰%이고, 보다 바람직하게는 10~60몰%이다.[0159] When the resin (A) contains the structural unit (a3), the total content thereof is usually 5 to 70 mol%, preferably 10 to 65 mol%, based on all the structural units of the resin (A). and more preferably 10 to 60 mol%.
또한, 구조 단위(a3-1), 구조 단위(a3-2), 구조 단위(a3-3) 또는 구조 단위(a3-4)의 함유율은, 각각, 수지(A)의 전체 구조 단위에 대해, 5~60몰%가 바람직하고, 5~50몰%가 보다 바람직하고, 10~50몰%가 더욱 바람직하다.In addition, the content rate of a structural unit (a3-1), a structural unit (a3-2), a structural unit (a3-3), or a structural unit (a3-4) with respect to all the structural units of resin (A), respectively, 5-60 mol% is preferable, 5-50 mol% is more preferable, 10-50 mol% is still more preferable.
[0160] 〈구조 단위(a4)〉[0160] <Structural unit (a4)>
구조 단위(a4)로서는, 이하의 구조 단위를 들 수 있다.Examples of the structural unit (a4) include the following structural units.
[식 (a4) 중,[in formula (a4),
R41은, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.R 41 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R42는, 탄소수 1~24인 불소 원자를 가지는 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.]R 42 represents a saturated hydrocarbon group having a fluorine atom having 1 to 24 carbon atoms, and -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with -O- or -CO-.]
R42로 나타내어지는 포화 탄화수소기는, 사슬식 탄화수소기 및 단환 또는 다환의 지환식 탄화수소기, 및, 이들을 조합함으로써 형성되는 기 등을 들 수 있다.Examples of the saturated hydrocarbon group represented by R 42 include a chain hydrocarbon group, a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon group, and a group formed by combining these groups.
[0161] 사슬식 탄화수소기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 데실기, 도데실기, 펜타데실기, 헥사데실기, 헵타데실기 및 옥타데실기를 들 수 있다. 단환 또는 다환의 지환식 탄화수소기로서는, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기 등의 시클로알킬기; 데카히드로나프틸기, 아다만틸기, 노보닐기 및 하기의 기(*는 결합손을 나타냄.) 등의 다환식의 지환식 탄화수소기를 들 수 있다.[0161] Examples of the chain hydrocarbon group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a decyl group, a dodecyl group, a pentadecyl group, a hexadecyl group, a heptadecyl group, and an octadecyl group. decyl group. Examples of the monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon group include cycloalkyl groups such as cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl and cyclooctyl; and polycyclic alicyclic hydrocarbon groups such as a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group, and the following groups (* represents a bond).
조합에 의해 형성되는 기로서는, 1 이상의 알킬기 또는 1 이상의 알칸디일기와, 1 이상의 지환식 탄화수소기를 조합함으로써 형성되는 기를 들 수 있고, -알칸디일기-지환식 탄화수소기, -지환식 탄화수소기-알킬기, -알칸디일기-지환식 탄화수소기-알킬기 등을 들 수 있다.Examples of the group formed by the combination include a group formed by combining one or more alkyl groups or one or more alkanediyl groups and one or more alicyclic hydrocarbon groups, -alkanediyl group-alicyclic hydrocarbon group, -alicyclic hydrocarbon group- An alkyl group, -alkanediyl group-alicyclic hydrocarbon group-alkyl group, etc. are mentioned.
[0162] 구조 단위(a4)로서는, 식 (a4-0), 식 (a4-1), 식 (a4-2), 식 (a4-3) 및 식 (a4-4)로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나로 나타내어지는 구조 단위를 들 수 있다.[0162] The structural unit (a4) is selected from the group consisting of formula (a4-0), formula (a4-1), formula (a4-2), formula (a4-3) and formula (a4-4) The structural unit represented by at least 1 is mentioned.
[식 (a4-0) 중,[In formula (a4-0),
R5는, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.R 5 represents a hydrogen atom or a methyl group.
L4a는, 단결합 또는 탄소수 1~4인 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 나타낸다.L 4a represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
L3a는, 탄소수 1~8인 퍼플루오로알칸디일기 또는 탄소수 3~12인 퍼플루오로시클로알칸디일기를 나타낸다.L 3a represents a perfluoroalkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms or a perfluorocycloalkanediyl group having 3 to 12 carbon atoms.
R6은, 수소 원자 또는 불소 원자를 나타낸다.]R 6 represents a hydrogen atom or a fluorine atom.]
[0163] L4a에 있어서의 2가의 지방족 포화 탄화수소기로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기 등의 직쇄 형상 알칸디일기, 에탄-1,1-디일기, 프로판-1,2-디일기, 부탄-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,3-디일기 및 2-메틸프로판-1,2-디일기 등의 분기 형상 알칸디일기를 들 수 있다.[0163] Examples of the divalent aliphatic saturated hydrocarbon group for L 4a include a straight-chain alkanediyl group such as a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, and a butane-1,4-diyl group, and ethane-1 Branching of 1-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group and 2-methylpropane-1,2-diyl group A shape alkanediyl group is mentioned.
L3a에 있어서의 퍼플루오로알칸디일기로서는, 디플루오로메틸렌기, 퍼플루오로에틸렌기, 퍼플루오로프로판-1,1-디일기, 퍼플루오로프로판-1,3-디일기, 퍼플루오로프로판-1,2-디일기, 퍼플루오로프로판-2,2-디일기, 퍼플루오로부탄-1,4-디일기, 퍼플루오로부탄-2,2-디일기, 퍼플루오로부탄-1,2-디일기, 퍼플루오로펜탄-1,5-디일기, 퍼플루오로펜탄-2,2-디일기, 퍼플루오로펜탄-3,3-디일기, 퍼플루오로헥산-1,6-디일기, 퍼플루오로헥산-2,2-디일기, 퍼플루오로헥산-3,3-디일기, 퍼플루오로헵탄-1,7-디일기, 퍼플루오로헵탄-2,2-디일기, 퍼플루오로헵탄-3,4-디일기, 퍼플루오로헵탄-4,4-디일기, 퍼플루오로옥탄-1,8-디일기, 퍼플루오로옥탄-2,2-디일기, 퍼플루오로옥탄-3,3-디일기, 퍼플루오로옥탄-4,4-디일기 등을 들 수 있다.Examples of the perfluoroalkanediyl group for L 3a include a difluoromethylene group, a perfluoroethylene group, a perfluoropropane-1,1-diyl group, a perfluoropropane-1,3-diyl group, and a perfluoro lopropane-1,2-diyl group, perfluoropropane-2,2-diyl group, perfluorobutane-1,4-diyl group, perfluorobutane-2,2-diyl group, perfluorobutane -1,2-diyl group, perfluoropentane-1,5-diyl group, perfluoropentane-2,2-diyl group, perfluoropentane-3,3-diyl group, perfluorohexane-1 ,6-diyl group, perfluorohexane-2,2-diyl group, perfluorohexane-3,3-diyl group, perfluoroheptane-1,7-diyl group, perfluoroheptane-2,2 -diyl group, perfluoroheptane-3,4-diyl group, perfluoroheptane-4,4-diyl group, perfluorooctane-1,8-diyl group, perfluorooctane-2,2-di diyl, perfluorooctane-3,3-diyl group, perfluorooctane-4,4-diyl group, etc. are mentioned.
L3a에 있어서의 퍼플루오로시클로알칸디일기로서는, 퍼플루오로시클로헥산디일기, 퍼플루오로시클로펜탄디일기, 퍼플루오로시클로헵탄디일기, 퍼플루오로아다만탄디일기 등을 들 수 있다. Examples of the perfluorocycloalkanediyl group for L 3a include a perfluorocyclohexanediyl group, a perfluorocyclopentanediyl group, a perfluorocycloheptanediyl group, and a perfluoroadamantanediyl group.
[0164] L4a는, 바람직하게는 단결합, 메틸렌기 또는 에틸렌기이고, 보다 바람직하게는, 단결합, 메틸렌기이다.[0164] L 4a is preferably a single bond, a methylene group, or an ethylene group, and more preferably a single bond or a methylene group.
L3a는, 바람직하게는 탄소수 1~6인 퍼플루오로알칸디일기이고, 보다 바람직하게는 탄소수 1~3인 퍼플루오로알칸디일기이다.L 3a is preferably a perfluoroalkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a perfluoroalkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms.
[0165] 구조 단위(a4-0)으로서는, 이하에 나타내는 구조 단위 및 하기 구조 단위 중의 구조 단위(a4-0)에 있어서의 R5에 상당하는 메틸기가 수소 원자로 치환된 구조 단위를 들 수 있다.[0165] Examples of the structural unit (a4-0) include the structural units shown below and structural units in which the methyl group corresponding to R 5 in the structural unit (a4-0) in the following structural units is substituted with a hydrogen atom.
[0166][0166]
[식 (a4-1) 중,[In formula (a4-1),
Ra41은, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.R a41 represents a hydrogen atom or a methyl group.
Ra42는, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~20인 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.R a42 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with -O- or -CO-.
Aa41은, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~6인 알칸디일기 또는 식 (a-g1)로 나타내어지는 기를 나타낸다. 단, Aa41 및 Ra42 중 적어도 하나는, 치환기로서 할로겐 원자(바람직하게는 불소 원자)를 가진다.A a41 represents a C1-C6 alkanediyl group which may have a substituent, or group represented by a formula (a-g1). However, at least one of A a41 and R a42 has a halogen atom (preferably a fluorine atom) as a substituent.
〔식 (a-g1) 중,[in formula (a-g1),
s는 0 또는 1을 나타낸다.s represents 0 or 1.
Aa42 및 Aa44는, 각각 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~5인 2가의 포화 탄화수소기를 나타낸다. A42 a44 A and A each independently represents a 1 to 5 carbon atoms in the divalent saturated hydrocarbon group which may have a substituent.
Aa43은, 단결합 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~5인 2가의 지방족 탄화수소기를 나타낸다.A a43 represents a single bond or a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms which may have a substituent.
Xa41 및 Xa42는, 각각 독립적으로, -O-, -CO-, -CO-O- 또는 -O-CO-를 나타낸다.X a41 and X a42 each independently represent -O-, -CO-, -CO-O- or -O-CO-.
단, Aa42, Aa43, Aa44, Xa41 및 Xa42의 탄소수의 합계는 7 이하이다.〕However, A a42, A a43, a44 A, the sum of carbon atoms in X and X a41 a42 is 7 or less.]
*는 결합손이며, 우측의 *가 -O-CO-Ra42와의 결합손이다.]* is a bond, and * on the right is a bond with -O-CO-R a42 .]
[0167] Ra42에 있어서의 포화 탄화수소기로서는, 사슬식 포화 탄화수소기 및 단환 또는 다환의 지환식 포화 탄화수소기, 및, 이들을 조합함으로써 형성되는 기 등을 들 수 있다.[0167] Examples of the saturated hydrocarbon group for R a42 include a linear saturated hydrocarbon group, a monocyclic or polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon group, and a group formed by combining these groups.
사슬식 포화 탄화수소기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 데실기, 도데실기, 펜타데실기, 헥사데실기, 헵타데실기 및 옥타데실기를 들 수 있다.Examples of the saturated chain hydrocarbon group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a decyl group, a dodecyl group, a pentadecyl group, a hexadecyl group, a heptadecyl group and an octadecyl group. can be heard
단환 또는 다환의 지환식 탄화수소기로서는, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기 등의 시클로알킬기; 데카히드로나프틸기, 아다만틸기, 노보닐기 및 하기의 기(*는 결합손을 나타냄.) 등의 다환식의 지환식 포화 탄화수소기를 들 수 있다.Examples of the monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon group include cycloalkyl groups such as cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl and cyclooctyl; and polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon groups such as a decahydronaphthyl group, an adamantyl group, a norbornyl group, and the following groups (* represents a bond).
조합에 의해 형성되는 기로서는, 1 이상의 알킬기 또는 1 이상의 알칸디일기와, 1 이상의 지환식 포화 탄화수소기를 조합함으로써 형성되는 기를 들 수 있고, -알칸디일기-지환식 포화 탄화수소기, -지환식 포화 탄화수소기-알킬기, -알칸디일기-지환식 포화 탄화수소기-알킬기 등을 들 수 있다.Examples of the group formed by the combination include a group formed by combining one or more alkyl groups or one or more alkanediyl groups and one or more alicyclic saturated hydrocarbon groups, -alkanediyl group-alicyclic saturated hydrocarbon group, -alicyclic saturated hydrocarbon group-alkyl group, -alkanediyl group-alicyclic saturated hydrocarbon group-alkyl group, etc. are mentioned.
[0168] Ra42가 가지고 있어도 되는 치환기로서는, 할로겐 원자 및 식 (a-g3)으로 나타내어지는 기로부터 선택되는 적어도 1종을 들 수 있다. 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 들 수 있고, 바람직하게는 불소 원자이다.[0168] Examples of the substituent R a42 may have include at least one selected from a halogen atom and a group represented by the formula (a-g3). Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and a fluorine atom is preferable.
[식 (a-g3) 중,[In formula (a-g3),
Xa43은, 산소 원자, 카르보닐기, *-O-CO- 또는 *-CO-O-를 나타낸다.X a43 represents an oxygen atom, a carbonyl group, *-O-CO- or *-CO-O-.
Aa45는, 할로겐 원자를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~17인 지방족 탄화수소기를 나타낸다. *는 Ra42와의 결합손을 나타낸다.]A a45 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom. * indicates a bond with R a42.]
단, Ra42-Xa43-Aa45에 있어서, Ra42가 할로겐 원자를 가지지 않는 경우는, Aa45는, 적어도 1개의 할로겐 원자를 가지는 탄소수 1~17인 지방족 탄화수소기를 나타낸다.However, in the -X a42 R a43 -A a45, R a42, if does not have a halogen atom, A is a45, at least one represents a group having a carbon number of an aliphatic hydrocarbon having 1 to 17 halogen atoms.
[0169] Aa45에 있어서의 지방족 탄화수소기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 데실기, 도데실기, 펜타데실기, 헥사데실기, 헵타데실기 및 옥타데실기 등의 알킬기; 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기 등의 단환식의 지환식 탄화수소기; 및 데카히드로나프틸기, 아다만틸기, 노보닐기 및 하기의 기(*는 결합손을 나타냄.) 등의 다환식의 지환식 탄화수소기를 들 수 있다.[0169] Examples of the aliphatic hydrocarbon group for A a45 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a decyl group, a dodecyl group, a pentadecyl group, a hexadecyl group, and a heptyl group. Alkyl groups, such as a tadecyl group and an octadecyl group; monocyclic alicyclic hydrocarbon groups such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group; and polycyclic alicyclic hydrocarbon groups such as decahydronaphthyl group, adamantyl group, norbornyl group, and the following groups (* represents a bond).
조합에 의해 형성되는 기로서는, 1 이상의 알킬기 또는 1 이상의 알칸디일기와, 1 이상의 지환식 탄화수소기를 조합함으로써 형성되는 기를 들 수 있고, -알칸디일기-지환식 탄화수소기, -지환식 탄화수소기-알킬기, -알칸디일기-지환식 탄화수소기-알킬기 등을 들 수 있다.Examples of the group formed by the combination include a group formed by combining one or more alkyl groups or one or more alkanediyl groups and one or more alicyclic hydrocarbon groups, -alkanediyl group-alicyclic hydrocarbon group, -alicyclic hydrocarbon group- An alkyl group, -alkanediyl group-alicyclic hydrocarbon group-alkyl group, etc. are mentioned.
[0170] Ra42는, 할로겐 원자를 가져도 되는 지방족 탄화수소기가 바람직하고, 할로겐 원자를 가지는 알킬기 및/또는 식 (a-g3)으로 나타내어지는 기를 가지는 지방족 탄화수소기가 보다 바람직하다.[0170] R a42 is preferably an aliphatic hydrocarbon group which may have a halogen atom, more preferably an alkyl group having a halogen atom and/or an aliphatic hydrocarbon group having a group represented by formula (a-g3).
Ra42가 할로겐 원자를 가지는 지방족 탄화수소기인 경우, 바람직하게는 불소 원자를 가지는 지방족 탄화수소기이고, 보다 바람직하게는 퍼플루오로알킬기 또는 퍼플루오로시클로알킬기이고, 더욱 바람직하게는 탄소수가 1~6인 퍼플루오로알킬기이고, 특히 바람직하게는 탄소수 1~3인 퍼플루오로알킬기이다. 퍼플루오로알킬기로서는, 퍼플루오로메틸기, 퍼플루오로에틸기, 퍼플루오로프로필기, 퍼플루오로부틸기, 퍼플루오로펜틸기, 퍼플루오로헥실기, 퍼플루오로헵틸기 및 퍼플루오로옥틸기 등을 들 수 있다. 퍼플루오로시클로알킬기로서는, 퍼플루오로시클로헥실기 등을 들 수 있다.When R a42 is an aliphatic hydrocarbon group having a halogen atom, it is preferably an aliphatic hydrocarbon group having a fluorine atom, more preferably a perfluoroalkyl group or a perfluorocycloalkyl group, still more preferably having 1 to 6 carbon atoms. It is a perfluoroalkyl group, Especially preferably, it is a C1-C3 perfluoroalkyl group. Examples of the perfluoroalkyl group include a perfluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluoropentyl group, a perfluorohexyl group, a perfluoroheptyl group, and a perfluorooxy group. til group etc. are mentioned. As a perfluorocycloalkyl group, a perfluorocyclohexyl group etc. are mentioned.
Ra42가, 식 (a-g3)으로 나타내어지는 기를 가지는 지방족 탄화수소기인 경우, 식 (a-g3)으로 나타내어지는 기에 포함되는 탄소수를 포함하여, Ra42의 총 탄소수는, 15 이하가 바람직하고, 12 이하가 보다 바람직하다. 식 (a-g3)으로 나타내어지는 기를 치환기로서 가지는 경우, 그 수는 1개가 바람직하다.When R a42 is an aliphatic hydrocarbon group having a group represented by the formula (a-g3), the total number of carbon atoms in R a42 including the number of carbon atoms contained in the group represented by the formula (a-g3) is preferably 15 or less, 12 or less are more preferable. When it has the group represented by a formula (a-g3) as a substituent, one is preferable for the number.
[0171] Ra42가 식 (a-g3)으로 나타내어지는 기를 가지는 지방족 탄화수소인 경우, Ra42는, 더욱 바람직하게는 식 (a-g2)로 나타내어지는 기이다.[0171] When R a42 is an aliphatic hydrocarbon having a group represented by formula (a-g3), R a42 is more preferably a group represented by formula (a-g2).
[식 (a-g2) 중,[In formula (a-g2),
Aa46은, 할로겐 원자를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~17인 2가의 지방족 탄화수소기를 나타낸다.A a46 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.
Xa44는, **-O-CO- 또는 **-CO-O-를 나타낸다(**는 Aa46과의 결합손을 나타냄).X a44 represents **-O-CO- or **-CO-O- (** represents a bond with A a46 ).
Aa47은, 할로겐 원자를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~17인 지방족 탄화수소기를 나타낸다.A a47 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.
단, Aa46, Aa47 및 Xa44의 탄소수의 합계는 18 이하이고, Aa46 및 Aa47 중, 적어도 한쪽은, 적어도 1개의 할로겐 원자를 가진다.However, the total number of carbon atoms of A a46 , A a47 and X a44 is 18 or less, and at least one of A a46 and A a47 has at least one halogen atom.
*는 카르보닐기와의 결합손을 나타낸다.]* indicates a bond with a carbonyl group.]
[0172] Aa46의 지방족 탄화수소기의 탄소수는 1~6이 바람직하고, 1~3이 보다 바람직하다.[0172] The number of carbon atoms of the aliphatic hydrocarbon group of A a46 is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3.
Aa47의 지방족 탄화수소기의 탄소수는 4~15가 바람직하고, 5~12가 보다 바람직하고, Aa47은, 시클로헥실기 또는 아다만틸기가 더욱 바람직하다. 4-15 are preferable, as for carbon number of the aliphatic hydrocarbon group of A a47 , 5-12 are more preferable, and, as for A a47, a cyclohexyl group or an adamantyl group is still more preferable.
[0173] 식 (a-g2)로 나타내어지는 기의 바람직한 구조는, 이하의 구조이다(*는 카르보닐기와의 결합손임).[0173] A preferable structure of the group represented by the formula (a-g2) is the following structure (* is a bond with a carbonyl group).
[0174] Aa41에 있어서의 알칸디일기로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기 등의 직쇄 형상 알칸디일기; 프로판-1,2-디일기, 부탄-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,2-디일기, 1-메틸부탄-1,4-디일기, 2-메틸부탄-1,4-디일기 등의 분기 형상 알칸디일기를 들 수 있다.[0174] Examples of the alkanediyl group for A a41 include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a pentane-1,5-diyl group, hexane-1, straight-chain alkanediyl groups such as 6-diyl groups; Propane-1,2-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, 1-methylbutane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4 - branched alkanediyl groups, such as a diyl group, are mentioned.
Aa41의 알칸디일기에 있어서의 치환기로서는, 히드록시기 및 탄소수 1~6인 알콕시기 등을 들 수 있다.As a substituent in the alkanediyl group of A a41 , a hydroxyl group, a C1-C6 alkoxy group, etc. are mentioned.
Aa41은, 바람직하게는 탄소수 1~4인 알칸디일기이고, 보다 바람직하게는 탄소수 2~4인 알칸디일기이고, 더욱 바람직하게는 에틸렌기이다.A a41 is preferably an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably an alkanediyl group having 2 to 4 carbon atoms, still more preferably an ethylene group.
[0175] 식 (a-g1)로 나타내어지는 기에 있어서의 Aa42, Aa43 및 Aa44가 나타내는 2가의 포화 탄화수소기로서는, 직쇄 또는 분기의 알칸디일기 및 단환의 2가의 지환식 탄화수소기, 및, 알칸디일기 및 2가의 지환식 탄화수소기를 조합함으로써 형성되는 기 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 프로판-1,2-디일기, 부탄-1,4-디일기, 1-메틸프로판-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,2-디일기 등을 들 수 있다.[0175] formula (a-g1) indicated that groups A a42, A a43 and A a44 represents a divalent saturated hydrocarbon group includes straight chain or branched alkanediyl group and a divalent alicyclic hydrocarbon group of a monocyclic according to, and and a group formed by combining an alkanediyl group and a divalent alicyclic hydrocarbon group. Specifically, a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a propane-1,2-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a 1-methylpropane-1,3-diyl group, 2 -methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, etc. are mentioned.
Aa42, Aa43 및 Aa44가 나타내는 2가의 포화 탄화수소기의 치환기로서는, 히드록시기 및 탄소수 1~6인 알콕시기 등을 들 수 있다.Examples A a42, A a43 and a44 A represents a substituent of the divalent saturated hydrocarbon group, and the like can be mentioned a hydroxyl group and having 1 to 6 carbon atoms in the alkoxy group.
s는, 0인 것이 바람직하다.It is preferable that s is 0.
[0176] 식 (a-g1)로 나타내어지는 기에 있어서, Xa42가 -O-, -CO-, -CO-O- 또는 -O-CO-인 기로서는, 이하의 기 등을 들 수 있다. 이하의 예시에 있어서, * 및 **는 각각 결합손을 나타내고, **가 -O-CO-Ra42와의 결합손이다.[0176] In the group represented by the formula (a-g1), examples of the group in which X a42 is -O-, -CO-, -CO-O- or -O-CO- include the following groups. In the following examples, * and ** each represent a bond, and ** is a bond with -O-CO-R a42 .
[0177] 식 (a4-1)로 나타내어지는 구조 단위로서는, 이하에 나타내는 구조 단위 및 하기 구조 단위 중의 식 (a4-1)로 나타내어지는 구조 단위에 있어서의 Ra41에 상당하는 메틸기가 수소 원자로 치환된 구조 단위를 들 수 있다.[0177] As the structural unit represented by formula (a4-1), a methyl group corresponding to R a41 in the structural unit represented by formula (a4-1) in the structural units and structural units shown below is substituted with a hydrogen atom structural units can be mentioned.
[0178][0178]
[0179] 식 (a4-1)로 나타내어지는 구조 단위로서는, 식 (a4-2)로 나타내어지는 구조 단위가 바람직하다.[0179] As the structural unit represented by the formula (a4-1), the structural unit represented by the formula (a4-2) is preferable.
[식 (a4-2) 중,[In formula (a4-2),
Rf5는, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.R f5 represents a hydrogen atom or a methyl group.
L44는, 탄소수 1~6인 알칸디일기를 나타내고, 해당 알칸디일기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.L 44 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, and -CH 2 - contained in the alkanediyl group may be substituted with -O- or -CO-.
Rf6은, 탄소수 1~20인 불소 원자를 가지는 포화 탄화수소기를 나타낸다.R f6 represents a saturated hydrocarbon group having a fluorine atom having 1 to 20 carbon atoms.
단, L44 및 Rf6의 합계 탄소수의 상한은 21이다.]However, the upper limit of the total number of carbon atoms of L 44 and R f6 is 21.]
[0180] L44의 탄소수 1~6인 알칸디일기는, Aa41에 있어서의 알칸디일기로 예시한 것과 동일한 기를 들 수 있다.[0180] Examples of the alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms in L 44 include the same groups as those exemplified as the alkanediyl group in A a41 .
Rf6의 포화 탄화수소기는, Ra42로 예시한 것과 동일한 기를 들 수 있다.Examples of the saturated hydrocarbon group for R f6 include the same groups as those exemplified by R a42 .
L44에 있어서의 탄소수 1~6인 알칸디일기로서는, 탄소수 2~4인 알칸디일기가 바람직하고, 에틸렌기가 보다 바람직하다.Al as the alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms in the L 44, a carbon number of 2 to 4 alkanediyl group is preferred, and more preferably an ethylene group.
[0181] 식 (a4-2)로 나타내어지는 구조 단위로서는, 예컨대, 식 (a4-1-1)~식 (a4-1-11)로 각각 나타내어지는 구조 단위를 들 수 있다. 구조 단위(a4-2)에 있어서의 Rf5에 상당하는 메틸기가 수소 원자로 치환된 구조 단위도 식 (a4-2)로 나타내어지는 구조 단위로서 들 수 있다.[0181] Examples of the structural unit represented by formula (a4-2) include structural units represented by formulas (a4-1-1) to (a4-1-11), respectively. A structural unit in which the methyl group corresponding to R f5 in the structural unit (a4-2) is substituted with a hydrogen atom is also exemplified as the structural unit represented by the formula (a4-2).
[0182] 구조 단위(a4)로서는, 식 (a4-3)으로 나타내어지는 구조 단위를 들 수 있다.[0182] Examples of the structural unit (a4) include a structural unit represented by formula (a4-3).
[식 (a4-3) 중,[In formula (a4-3),
Rf7은, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.R f7 represents a hydrogen atom or a methyl group.
L5는, 탄소수 1~6인 알칸디일기를 나타낸다.L 5 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
Af13은, 불소 원자를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~18인 2가의 포화 탄화수소기를 나타낸다.A f13 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may have a fluorine atom.
Xf12는, *-O-CO- 또는 *-CO-O-를 나타낸다(*는 Af13과의 결합손을 나타냄.).X f12 represents *-O-CO- or *-CO-O- (* represents a bond with A f13 ).
Af14는, 불소 원자를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~17인 포화 탄화수소기를 나타낸다.A f14 represents a C1-C17 saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom.
단, Af13 및 Af14 중 적어도 하나는, 불소 원자를 가지며, L5, Af13 및 Af14의 합계 탄소수의 상한은 20이다.]However, at least one of A f13 and A f14 has a fluorine atom, and the upper limit of the total carbon number of L 5 , A f13 and A f14 is 20.]
[0183] L5에 있어서의 알칸디일기로서는, Aa41의 2가의 포화 탄화수소기에 있어서의 알칸디일기로 예시한 것과 동일한 기를 들 수 있다.[0183] Examples of the alkanediyl group for L 5 include the same groups as those exemplified as the alkanediyl group in the divalent saturated hydrocarbon group of A a41 .
Af13에 있어서의 불소 원자를 가지고 있어도 되는 2가의 포화 탄화수소기로서는, 바람직하게는 불소 원자를 가지고 있어도 되는 2가의 지방족 포화 탄화수소기 및 불소 원자를 가지고 있어도 되는 2가의 지환식 포화 탄화수소기이고, 보다 바람직하게는 퍼플루오로알칸디일기이다.The divalent saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom in A f13 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom and a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom, more Preferably, it is a perfluoro alkanediyl group.
불소 원자를 가지고 있어도 되는 2가의 지방족 탄화수소기로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판디일기, 부탄디일기 및 펜탄디일기 등의 알칸디일기; 디플루오로메틸렌기, 퍼플루오로에틸렌기, 퍼플루오로프로판디일기, 퍼플루오로부탄디일기 및 퍼플루오로펜탄디일기 등의 퍼플루오로알칸디일기 등을 들 수 있다.As a divalent aliphatic hydrocarbon group which may have a fluorine atom, Alkanediyl groups, such as a methylene group, an ethylene group, a propanediyl group, a butanediyl group, and a pentanediyl group; and perfluoroalkanediyl groups such as difluoromethylene group, perfluoroethylene group, perfluoropropanediyl group, perfluorobutanediyl group and perfluoropentanediyl group.
불소 원자를 가지고 있어도 되는 2가의 지환식 탄화수소기는, 단환식 및 다환식 중 어느 것이어도 된다. 단환식의 기로서는, 시클로헥산디일기 및 퍼플루오로시클로헥산디일기 등을 들 수 있다. 다환식의 기로서는, 아다만탄디일기, 노보난디일기, 퍼플루오로아다만탄디일기 등을 들 수 있다.The divalent alicyclic hydrocarbon group which may have a fluorine atom may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic group include a cyclohexanediyl group and a perfluorocyclohexanediyl group. Examples of the polycyclic group include an adamantanediyl group, a norbornanediyl group, and a perfluoroadamantanediyl group.
Af14의 포화 탄화수소기 및 불소 원자를 가지고 있어도 되는 포화 탄화수소기는, Ra42로 예시한 것과 동일한 기를 들 수 있다. 그 중에서도, 트리플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 메틸기, 퍼플루오로에틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기, 1,1,2,2-테트라플루오로에틸기, 에틸기, 퍼플루오로프로필기, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필기, 프로필기, 퍼플루오로부틸기, 1,1,2,2,3,3,4,4-옥타플루오로부틸기, 부틸기, 퍼플루오로펜틸기, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-노나플루오로펜틸기, 펜틸기, 헥실기, 퍼플루오로헥실기, 헵틸기, 퍼플루오로헵틸기, 옥틸기 및 퍼플루오로옥틸기 등의 불화알킬기, 시클로프로필메틸기, 시클로프로필기, 시클로부틸메틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 퍼플루오로시클로헥실기, 아다만틸기, 아다만틸메틸기, 아다만틸디메틸기, 노보닐기, 노보닐메틸기, 퍼플루오로아다만틸기, 퍼플루오로아다만틸메틸기 등이 바람직하다.Examples of the saturated hydrocarbon group of A f14 and the saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom include the same groups as those exemplified by R a42 . Among them, trifluoromethyl group, difluoromethyl group, methyl group, perfluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl group, pentyl group, hexyl group, perfluorohexyl group, heptyl group, perfluoro Fluorinated alkyl groups such as heptyl group, octyl group and perfluorooctyl group, cyclopropylmethyl group, cyclopropyl group, cyclobutylmethyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, perfluorocyclohexyl group, adamantyl group, adamantyl group A methyl group, an adamantyldimethyl group, a norbornyl group, a norbornylmethyl group, a perfluoro adamantyl group, a perfluoro adamantyl methyl group, etc. are preferable.
[0184] 식 (a4-3)에 있어서, L5는, 에틸렌기가 바람직하다.[0184] In formula (a4-3), L 5 is preferably an ethylene group.
Af13의 2가의 포화 탄화수소기는, 탄소수 1~6인 2가의 사슬식 탄화수소기 및 탄소수 3~12인 2가의 지환식 탄화수소기를 포함하는 기가 바람직하고, 탄소수 2~3인 2가의 사슬식 탄화수소기가 더욱 바람직하다.The divalent saturated hydrocarbon group of A f13 is preferably a group containing a divalent chain hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms and a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, more preferably a divalent chain hydrocarbon group having 2 to 3 carbon atoms. desirable.
Af14의 포화 탄화수소기는, 탄소수 3~12인 사슬식 탄화수소기 및 탄소수 3~12인 지환식 탄화수소기를 포함하는 기가 바람직하고, 탄소수 3~10인 사슬식 탄화수소기 및 탄소수 3~10인 지환식 탄화수소기를 포함하는 기가 더욱 바람직하다. 그 중에서도, Af14는, 바람직하게는 탄소수 3~12인 지환식 탄화수소기를 포함하는 기이고, 보다 바람직하게는, 시클로프로필메틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 노보닐기 및 아다만틸기이다.The saturated hydrocarbon group of A f14 is preferably a group containing a chain hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms and an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and a chain hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms and an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms. A group comprising a group is more preferred. Among them, A f14 is preferably a group containing an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, more preferably a cyclopropylmethyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a norbornyl group, and an adamantyl group.
[0185] 식 (a4-3)으로 나타내어지는 구조 단위로서는, 예컨대, 식 (a4-1'-1)~식 (a4-1'-11)로 각각 나타내어지는 구조 단위를 들 수 있다. 구조 단위(a4-3)에 있어서의 Rf7에 상당하는 메틸기가 수소 원자로 치환된 구조 단위도 식 (a4-3)으로 나타내어지는 구조 단위로서 들 수 있다.[0185] Examples of the structural unit represented by formula (a4-3) include structural units represented by formulas (a4-1'-1) to (a4-1'-11), respectively. A structural unit in which the methyl group corresponding to R f7 in the structural unit (a4-3) is substituted with a hydrogen atom is also exemplified as the structural unit represented by the formula (a4-3).
[0186] 구조 단위(a4)로서는, 식 (a4-4)로 나타내어지는 구조 단위도 들 수 있다.[0186] Examples of the structural unit (a4) include a structural unit represented by formula (a4-4).
[식 (a4-4) 중,[In formula (a4-4),
Rf21은, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.R f21 represents a hydrogen atom or a methyl group.
Af21은, -(CH2)j1-, -(CH2)j2-O-(CH2)j3- 또는 -(CH2)j4-CO-O-(CH2)j5-를 나타낸다.A f21 represents -(CH 2 ) j1 -, -(CH 2 ) j2 -O-(CH 2 ) j3 - or -(CH 2 ) j4 -CO-O-(CH 2 ) j5 -.
j1~j5는, 각각 독립적으로, 1~6 중 어느 하나의 정수를 나타낸다.j1 to j5 each independently represent the integer in any one of 1-6.
Rf22는, 불소 원자를 가지는 탄소수 1~10인 포화 탄화수소기를 나타낸다.]R f22 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and having a fluorine atom.]
[0187] Rf22의 포화 탄화수소기는, Ra42로 나타내어지는 포화 탄화수소기와 동일한 것을 들 수 있다. Rf22는, 불소 원자를 가지는 탄소수 1~10인 알킬기 또는 불소 원자를 가지는 탄소수 1~10인 지환식 탄화수소기가 바람직하고, 불소 원자를 가지는 탄소수 1~10인 알킬기가 보다 바람직하고, 불소 원자를 가지는 탄소수 1~6인 알킬기가 더욱 바람직하다.[0187] Examples of the saturated hydrocarbon group of R f22 are the same as the saturated hydrocarbon group represented by R a42. R f22 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom or an alicyclic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom, more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom, and having a fluorine atom An alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable.
[0188] 식 (a4-4)에 있어서는, Af21로서는, -(CH2)j1-가 바람직하고, 에틸렌기 또는 메틸렌기가 보다 바람직하고, 메틸렌기가 더욱 바람직하다.[0188] In the formula (a4-4), as A f21 , -(CH 2 ) j1 - is preferable, an ethylene group or a methylene group is more preferable, and a methylene group is still more preferable.
[0189] 식 (a4-4)로 나타내어지는 구조 단위로서는, 예컨대, 이하의 구조 단위 및 이하의 식으로 나타내어지는 구조 단위에 있어서, 구조 단위(a4-4)에 있어서의 Rf21에 상당하는 메틸기가 수소 원자로 치환된 구조 단위를 들 수 있다.[0189] The structural unit represented by the formula (a4-4) is, for example, a methyl group corresponding to R f21 in the structural unit (a4-4) in the following structural units and structural units represented by the following formulas: and a structural unit in which is substituted with a hydrogen atom.
[0190] 수지(A)가, 구조 단위(a4)를 가지는 경우, 그 함유율은, 수지(A)의 전체 구조 단위에 대해, 1~20몰%가 바람직하고, 2~15몰%가 보다 바람직하고, 3~10몰%가 더욱 바람직하다.[0190] When the resin (A) has the structural unit (a4), the content is preferably 1 to 20 mol%, more preferably 2 to 15 mol%, based on the total structural units of the resin (A). and 3-10 mol% is more preferable.
[0191] 〈구조 단위(a5)〉[0191] <Structural unit (a5)>
구조 단위(a5)가 가지는 비이탈 탄화수소기로서는, 직쇄, 분기 또는 고리 형상의 탄화수소기를 가지는 기를 들 수 있다. 그 중에서도, 구조 단위(a5)는, 지환식 탄화수소기를 가지는 기가 바람직하다.Examples of the non-leaving hydrocarbon group included in the structural unit (a5) include groups having a linear, branched or cyclic hydrocarbon group. Among them, the structural unit (a5) is preferably a group having an alicyclic hydrocarbon group.
구조 단위(a5)로서는, 예컨대, 식 (a5-1)로 나타내어지는 구조 단위를 들 수 있다.Examples of the structural unit (a5) include a structural unit represented by the formula (a5-1).
[식 (a5-1) 중,[In formula (a5-1),
R51은, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.R 51 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R52는, 탄소수 3~18인 지환식 탄화수소기를 나타내고, 해당 지환식 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는 탄소수 1~8인 지방족 탄화수소기로 치환되어 있어도 된다.R 52 represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with an alicyclic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L55는, 단결합 또는 탄소수 1~18인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.]L 55 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with -O- or -CO-.]
[0192] R52에 있어서의 지환식 탄화수소기로서는, 단환식 및 다환식 중 어느 것이어도 된다. 단환식의 지환식 탄화수소기로서는, 예컨대, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기 및 시클로헥실기를 들 수 있다. 다환식의 지환식 탄화수소기로서는, 예컨대, 아다만틸기 및 노보닐기 등을 들 수 있다.[0192] The alicyclic hydrocarbon group for R 52 may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic hydrocarbon group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the polycyclic alicyclic hydrocarbon group include an adamantyl group and a norbornyl group.
탄소수 1~8인 지방족 탄화수소기는, 예컨대, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기, 옥틸기 및 2-에틸헥실기 등의 알킬기를 들 수 있다.The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms includes, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group and a 2-ethylhexyl group. of an alkyl group.
치환기를 가지는 지환식 탄화수소기로서는, 3-메틸아다만틸기 등을 들 수 있다.As an alicyclic hydrocarbon group which has a substituent, 3-methyladamantyl group etc. are mentioned.
R52는, 바람직하게는, 무치환된 탄소수 3~18인 지환식 탄화수소기이고, 보다 바람직하게는, 아다만틸기, 노보닐기 또는 시클로헥실기이다.R 52 is preferably an unsubstituted alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, more preferably an adamantyl group, a norbornyl group or a cyclohexyl group.
L55에 있어서의 2가의 포화 탄화수소기로서는, 2가의 사슬식 포화 탄화수소기 및 2가의 지환식 포화 탄화수소기를 들 수 있고, 바람직하게는 2가의 사슬식 포화 탄화수소기이다. Examples of the divalent saturated hydrocarbon group for L 55 include a divalent chain saturated hydrocarbon group and a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, and preferably a divalent chain saturated hydrocarbon group.
2가의 사슬식 포화 탄화수소기로서는, 예컨대, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판디일기, 부탄디일기 및 펜탄디일기 등의 알칸디일기를 들 수 있다.Examples of the divalent chain saturated hydrocarbon group include alkanediyl groups such as methylene group, ethylene group, propanediyl group, butanediyl group and pentanediyl group.
2가의 지환식 포화 탄화수소기는, 단환식 및 다환식 중 어느 것이어도 된다. 단환식의 지환식 포화 탄화수소기로서는, 시클로펜탄디일기 및 시클로헥산디일기 등의 시클로알칸디일기를 들 수 있다. 다환식의 2가의 지환식 포화 탄화수소기로서는, 아다만탄디일기 및 노보난디일기 등을 들 수 있다.The divalent alicyclic saturated hydrocarbon group may be either monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic saturated hydrocarbon group include cycloalkanediyl groups such as a cyclopentanediyl group and a cyclohexanediyl group. Examples of the polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group include an adamantanediyl group and a norbornanediyl group.
[0193] L55가 나타내는 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-가, -O- 또는 -CO-로 치환된 기로서는, 예컨대, 식 (L1-1)~식 (L1-4)로 나타내어지는 기를 들 수 있다. 하기 식 중, * 및 **는 각각 결합손을 나타내고, *는 산소 원자와의 결합손을 나타낸다.[0193] As a group in which -CH 2 - contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L 55 is substituted with -O- or -CO-, for example, it is represented by formulas (L1-1) to (L1-4) losing can be lifted. In the following formula, * and ** each represent a bond, and * represents a bond with an oxygen atom.
식 (L1-1) 중,In formula (L1-1),
Xx1은, *-O-CO- 또는 *-CO-O-를 나타낸다(*는 Lx1과의 결합손을 나타냄.).X x1 represents *-O-CO- or *-CO-O- (* represents a bond with L x1).
Lx1은, 탄소수 1~16인 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 나타낸다.L x1 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
Lx2는, 단결합 또는 탄소수 1~15인 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 나타낸다.L x2 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
단, Lx1 및 Lx2의 합계 탄소수는, 16 이하이다.However, the total carbon number of L x1 and L x2 is 16 or less.
식 (L1-2) 중,In formula (L1-2),
Lx3은, 탄소수 1~17인 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 나타낸다.L x3 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms.
Lx4는, 단결합 또는 탄소수 1~16인 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 나타낸다.L x4 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
단, Lx3 및 Lx4의 합계 탄소수는, 17 이하이다.However, the total carbon number of L x3 and L x4 is 17 or less.
식 (L1-3) 중,In formula (L1-3),
Lx5는, 탄소수 1~15인 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 나타낸다.L x5 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
Lx6 및 Lx7은, 각각 독립적으로, 단결합 또는 탄소수 1~14인 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 나타낸다.L x6 and L x7 each independently represent a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.
단, Lx5, Lx6 및 Lx7의 합계 탄소수는, 15 이하이다.However, the total number of carbon atoms of L x5 , L x6 and L x7 is 15 or less.
식 (L1-4) 중,In formula (L1-4),
Lx8 및 Lx9는, 단결합 또는 탄소수 1~12인 2가의 지방족 포화 탄화수소기를 나타낸다.L x8 and L x9 represent a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
Wx1은, 탄소수 3~15인 2가의 지환식 포화 탄화수소기를 나타낸다.W x1 represents a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 15 carbon atoms.
단, Lx8, Lx9 및 Wx1의 합계 탄소수는, 15 이하이다.However, the total number of carbon atoms of L x8 , L x9 and W x1 is 15 or less.
[0194] Lx1은, 바람직하게는, 탄소수 1~8인 2가의 지방족 포화 탄화수소기, 보다 바람직하게는, 메틸렌기 또는 에틸렌기이다.[0194] L x1 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a methylene group or an ethylene group.
Lx2는, 바람직하게는, 단결합 또는 탄소수 1~8인 2가의 지방족 포화 탄화수소기, 보다 바람직하게는, 단결합이다.L x2 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a single bond.
Lx3은, 바람직하게는, 탄소수 1~8인 2가의 지방족 포화 탄화수소기이다.L x3 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
Lx4는, 바람직하게는, 단결합 또는 탄소수 1~8인 2가의 지방족 포화 탄화수소기이다.L x4 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
Lx5는, 바람직하게는, 탄소수 1~8인 2가의 지방족 포화 탄화수소기, 보다 바람직하게는, 메틸렌기 또는 에틸렌기이다.L x5 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a methylene group or an ethylene group.
Lx6은, 바람직하게는, 단결합 또는 탄소수 1~8인 2가의 지방족 포화 탄화수소기, 보다 바람직하게는, 메틸렌기 또는 에틸렌기이다.L x6 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a methylene group or an ethylene group.
Lx7은, 바람직하게는, 단결합 또는 탄소수 1~8인 2가의 지방족 포화 탄화수소기이다.L x7 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
Lx8은, 바람직하게는, 단결합 또는 탄소수 1~8인 2가의 지방족 포화 탄화수소기, 보다 바람직하게는, 단결합 또는 메틸렌기이다.L x8 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a single bond or a methylene group.
Lx9는, 바람직하게는, 단결합 또는 탄소수 1~8인 2가의 지방족 포화 탄화수소기, 보다 바람직하게는, 단결합 또는 메틸렌기이다.L x9 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a single bond or a methylene group.
Wx1은, 바람직하게는, 탄소수 3~10인 2가의 지환식 포화 탄화수소기, 보다 바람직하게는, 시클로헥산디일기 또는 아다만탄디일기이다.W x1 is preferably a divalent alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms, more preferably a cyclohexanediyl group or an adamantanediyl group.
[0195] 식 (L1-1)로 나타내어지는 기로서는, 예컨대, 이하에 나타내는 2가의 기를 들 수 있다.[0195] Examples of the group represented by the formula (L1-1) include the following divalent groups.
[0196][0196]
[0197] 식 (L1-2)로 나타내어지는 기로서는, 예컨대, 이하에 나타내는 2가의 기를 들 수 있다.[0197] Examples of the group represented by the formula (L1-2) include the following divalent groups.
[0198] 식 (L1-3)으로 나타내어지는 기로서는, 예컨대, 이하에 나타내는 2가의 기를 들 수 있다.[0198] Examples of the group represented by the formula (L1-3) include the following divalent groups.
[0199] 식 (L1-4)로 나타내어지는 기로서는, 예컨대, 이하에 나타내는 2가의 기를 들 수 있다.[0199] Examples of the group represented by the formula (L1-4) include the following divalent groups.
[0200] L55는, 바람직하게는, 단결합 또는 식 (L1-1)로 나타내어지는 기이다.[0200] L 55 is preferably a single bond or a group represented by formula (L1-1).
[0201] 구조 단위(a5-1)로서는, 이하에 나타내는 구조 단위 및 하기 구조 단위 중의 구조 단위(a5-1)에 있어서의 R51에 상당하는 메틸기가 수소 원자로 치환된 구조 단위를 들 수 있다.[0201] Examples of the structural unit (a5-1) include the structural units shown below and structural units in which the methyl group corresponding to R 51 in the structural unit (a5-1) in the following structural units is substituted with a hydrogen atom.
[0202] [0202]
수지(A)가, 구조 단위(a5)를 가지는 경우, 그 함유율은, 수지(A)의 전체 구조 단위에 대해, 1~30몰%가 바람직하고, 2~20몰%가 보다 바람직하고, 3~15몰%가 더욱 바람직하다.When resin (A) has a structural unit (a5), 1-30 mol% is preferable with respect to all the structural units of resin (A), and, as for the content rate, 2-20 mol% is more preferable, 3 ~15 mol% is more preferred.
[0203] 〈구조 단위(a6)〉[0203] <Structural unit (a6)>
구조 단위(a6)은, -SO2-기를 가지는 구조 단위이고, -SO2-기를 측쇄에 가지는 것이 바람직하다.Structural unit (a6) is a structural unit which has -SO 2 - group, and it is preferable to have -SO 2 - group in a side chain.
-SO2-기를 가지는 구조 단위는, -SO2-기를 가지는 직쇄 형상 구조를 가지고 있어도 되고, -SO2-기를 가지는 분기 형상 구조를 가지고 있어도 되고, -SO2-기를 가지는 고리 형상 구조(단환 및 다환 구조)를 가지고 있어도 된다. 바람직하게는, -SO2-기를 가지는 고리 형상 구조를 가지는 구조 단위이고, 보다 바람직하게는, -SO2-O-를 포함하는 고리 형상 구조(설톤 고리)를 가지는 구조 단위이다.-SO 2 - is a structural unit having a group, -SO 2 - may have a linear structure and having a group, -SO 2 -, and optionally has a branch-like structure having a group, -SO 2 - having an annular structure (monocyclic and polycyclic structure). Preferably, it is a structural unit which has a cyclic structure which has -SO 2 - group, More preferably, it is a structural unit which has a cyclic structure (sultone ring) containing -SO 2 -O-.
[0204] 설톤 고리로서는, 하기 식 (T1-1), 식 (T1-2), 식 (T1-3) 및 식 (T1-4)로 나타내어지는 고리를 들 수 있다. 결합 부위는 임의의 위치로 할 수 있다. 설톤 고리는, 단환식이어도 되지만, 다환식인 것이 바람직하다. 다환식의 설톤 고리란, 고리를 구성하는 원자단(原子團)으로서 -SO2-O-를 포함하는 가교된 고리를 의미하고, 식 (T1-1) 및 식 (T1-2)로 나타내어지는 고리를 들 수 있다. 설톤 고리는, 식 (T1-2)로 나타내어지는 고리와 같이, 고리를 구성하는 원자단으로서, -SO2-O- 이외에, 추가로 헤테로 원자를 포함하고 있어도 된다. 헤테로 원자로서는, 산소 원자, 황 원자 또는 질소 원자를 들 수 있고, 바람직하게는 산소 원자이다.Examples of the sultone ring include rings represented by the following formulas (T 1-1 ), (T 1-2 ), (T 1-3 ) and (T 1-4 ). The binding site may be in any position. Although monocyclic may be sufficient as a sultone ring, it is preferable that it is polycyclic. The sultone ring of the cyclic is, as the atomic group (原子團) constituting the ring, and means a cross-linked ring containing -SO 2 -O-, formula (T 1 -1) and the expression (T 1 -2) shown by ring can be taken. The sultone ring may further contain a hetero atom other than -SO 2 -O- as an atomic group constituting the ring, like the ring represented by formula (T 1-2). As a hetero atom, an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom is mentioned, Preferably it is an oxygen atom.
[0205] 설톤 고리는 치환기를 가져도 되고, 치환기로서는, 할로겐 원자 또는 히드록시기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~12인 알킬기, 할로겐 원자, 히드록시기, 시아노기, 탄소수 1~12인 알콕시기, 탄소수 6~12인 아릴기, 탄소수 7~12인 아랄킬기, 글리시딜옥시기, 탄소수 2~12인 알콕시카르보닐기 및 탄소수 2~4인 알킬카르보닐기 등을 들 수 있다.[0205] The sultone ring may have a substituent, and as the substituent, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a halogen atom, a hydroxy group, a cyano group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and 6 to 12 carbon atoms, which may have a halogen atom or a hydroxy group Phosphorus aryl group, C7-12 aralkyl group, glycidyloxy group, C2-C12 alkoxycarbonyl group, C2-C4 alkylcarbonyl group, etc. are mentioned.
[0206] 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 들 수 있다.[0206] Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 옥틸기 및 데실기를 들 수 있고, 바람직하게는 탄소수 1~6인 알킬기이고, 보다 바람직하게는 메틸기이다.Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group and a decyl group, preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a methyl group.
할로겐 원자를 가지는 알킬기로서는, 트리플루오로메틸기, 퍼플루오로에틸기, 퍼플루오로프로필기, 퍼플루오로이소프로필기, 퍼플루오로부틸기, 퍼플루오로sec-부틸기, 퍼플루오로tert-부틸기, 퍼플루오로펜틸기, 퍼플루오로헥실기, 트리클로로메틸기, 트리브로모메틸기 및 트리요오드메틸기를 들 수 있고, 바람직하게는 트리플루오로메틸기를 들 수 있다.Examples of the alkyl group having a halogen atom include a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluoroisopropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorosec-butyl group, and a perfluorotert-butyl group. group, a perfluoropentyl group, a perfluorohexyl group, a trichloromethyl group, a tribromomethyl group and a triiodomethyl group, and preferably a trifluoromethyl group.
히드록시기를 가지는 알킬기로서는, 히드록시메틸기 및 2-히드록시에틸기의 히드록시알킬기를 들 수 있다.As an alkyl group which has a hydroxyl group, the hydroxyalkyl group of a hydroxymethyl group and 2-hydroxyethyl group is mentioned.
알콕시기로서는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 헵틸옥시기, 옥틸옥시기, 데실옥시기 및 도데실옥시기를 들 수 있다.Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a heptyloxy group, an octyloxy group, a decyloxy group, and a dodecyloxy group.
아릴기로서는, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, p-메틸페닐기, p-tert-부틸페닐기, p-아다만틸페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 쿠밀기, 메시틸기, 비페닐기, 페난트릴기, 2,6-디에틸페닐기 및 2-메틸-6-에틸페닐기를 들 수 있다.Examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a p-methylphenyl group, a p-tert-butylphenyl group, a p-adamantylphenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a cumyl group, a mesityl group, a biphenyl group, and a phenanthryl group. group, a 2,6-diethylphenyl group, and a 2-methyl-6-ethylphenyl group.
아랄킬기로서는, 벤질기, 페네틸기, 페닐프로필기, 나프틸메틸기 및 나프틸에틸기를 들 수 있다.Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, a naphthylmethyl group, and a naphthylethyl group.
알콕시카르보닐기로서는, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기 등의 알콕시기와 카르보닐기가 결합한 기를 들 수 있고, 바람직하게는 탄소수 6 이하인 알콕시카르보닐기를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 메톡시카르보닐기를 들 수 있다.Examples of the alkoxycarbonyl group include a group in which an alkoxy group such as a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group and a carbonyl group are bonded, preferably an alkoxycarbonyl group having 6 or less carbon atoms, and more preferably a methoxycarbonyl group.
알킬카르보닐기로서는, 아세틸기, 프로피오닐기 및 부티릴기를 들 수 있다.Examples of the alkylcarbonyl group include an acetyl group, a propionyl group and a butyryl group.
[0207] 구조 단위(a6)을 유도하는 모노머의 제조가 용이하다는 관점에서 보면, 치환기를 가지지 않는 설톤 고리가 바람직하다.[0207] From the viewpoint of facilitating the preparation of the monomer deriving the structural unit (a6), a sultone ring having no substituent is preferable.
설톤 고리로서는, 이하의 식 (T1')로 나타내어지는 고리가 바람직하다.As the sultone ring, a ring represented by the following formula (T1') is preferable.
[식 (T1') 중,[In formula (T1'),
X11은, 산소 원자, 황 원자 또는 메틸렌기를 나타낸다.X 11 represents an oxygen atom, a sulfur atom, or a methylene group.
R41은, 할로겐 원자 또는 히드록시기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~12인 알킬기, 할로겐 원자, 히드록시기, 시아노기, 탄소수 1~12인 알콕시기, 탄소수 6~12인 아릴기, 탄소수 7~12인 아랄킬기, 글리시딜옥시기, 탄소수 2~12인 알콕시카르보닐기 또는 탄소수 2~4인 알킬카르보닐기를 나타낸다.R 41 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a halogen atom, a hydroxy group, a cyano group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms which may have a halogen atom or a hydroxyl group , a glycidyloxy group, an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, or an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms.
ma는, 0~9 중 어느 하나의 정수를 나타낸다. ma가 2 이상일 때, 복수의 R41은 동일해도 상이해도 된다.ma represents the integer in any one of 0-9. When ma is 2 or more, a plurality of R 41 may be the same or different.
결합 부위는 임의의 위치이다.]The binding site is any position.]
X11은, 바람직하게는 산소 원자 또는 메틸렌기이고, 보다 바람직하게는 메틸렌기이다.X 11 is preferably an oxygen atom or a methylene group, more preferably a methylene group.
R41로서는, 설톤 고리의 치환기와 동일한 것을 들 수 있고, 할로겐 원자 또는 히드록시기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~12인 알킬기가 바람직하다.Examples of R 41 include the same substituents as the substituents of the sultone ring, and an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a halogen atom or a hydroxy group is preferable.
[0208] 설톤 고리로서는, 식 (T1)로 나타내어지는 고리가 보다 바람직하다.[0208] As the sultone ring, the ring represented by the formula (T1) is more preferable.
[식 (T1) 중,[In formula (T1),
R8은, 할로겐 원자 또는 히드록시기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~12인 알킬기, 할로겐 원자, 히드록시기, 시아노기, 탄소수 1~12인 알콕시기, 탄소수 6~12인 아릴기, 탄소수 7~12인 아랄킬기, 글리시딜옥시기, 탄소수 2~12인 알콕시카르보닐기 혹은 탄소수 2~4인 알킬카르보닐기를 나타낸다.R 8 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a halogen atom, a hydroxy group, a cyano group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms which may have a halogen atom or a hydroxy group , a glycidyloxy group, an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, or an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms.
m은, 0~9 중 어느 하나의 정수를 나타낸다. m이 2 이상일 때, 복수의 R8은 동일해도 상이해도 된다.m represents the integer in any one of 0-9. When m is 2 or more, a plurality of R 8 may be the same or different.
결합 부위는 임의의 위치이다.]The binding site is any position.]
[0209] R8은, R41과 동일한 것을 들 수 있다.[0209] Examples of R 8 include the same as those of R 41 .
식 (T1')에 있어서의 ma 및 식 (T1)에 있어서의 m은, 바람직하게는 0 또는 1이고, 보다 바람직하게는 0이다.ma in the formula (T1') and m in the formula (T1) are preferably 0 or 1, more preferably 0.
[0210] 식 (T1')로 나타내어지는 고리 및 식 (T1)로 나타내어지는 고리로서는, 이하의 고리를 들 수 있다. 결합 부위는 임의의 위치이다.[0210] Examples of the ring represented by the formula (T1') and the ring represented by the formula (T1) include the following rings. The binding site is any position.
[0211] 설톤 고리를 가지는 구조 단위는, 하기의 기를 가지는 것이 바람직하다. 하기 기에 있어서의 *는 결합 부위를 나타낸다.[0211] The structural unit having a sultone ring preferably has the following group. * in the following groups represents a binding site.
[0212] -SO2-기를 가지는 구조 단위는, 추가로, 중합성기에서 유래하는 기를 가지는 것이 바람직하다. 중합성기로서는, 비닐기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 아크릴로일아미노기, 메타크릴로일아미노기, 아크릴로일티오기, 메타크릴로일티오기 등을 들 수 있다.[0212] The structural unit having a -SO 2 - group preferably further has a group derived from a polymerizable group. Examples of the polymerizable group include a vinyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, an acryloylamino group, a methacryloylamino group, an acryloylthio group, a methacryloylthio group, and the like. can be heard
그 중에서도, 구조 단위(a6)을 유도하는 모노머는, 바람직하게는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 모노머이고, 보다 바람직하게는 (메타)아크릴계 모노머이다.Especially, the monomer which induces a structural unit (a6) becomes like this. Preferably it is a monomer which has an ethylenically unsaturated bond, More preferably, it is a (meth)acrylic-type monomer.
[0213] 구조 단위(a6)은, 바람직하게는, 식 (Ix)로 나타내어지는 구조 단위이다.[0213] The structural unit (a6) is preferably a structural unit represented by formula (Ix).
[식 (Ix) 중, Rx는, 할로겐 원자를 가져도 되는 탄소수 1~6인 알킬기, 수소 원자 또는 할로겐 원자를 나타낸다.[In formula (Ix), R x represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom, a hydrogen atom, or a halogen atom.
Axx는, 산소 원자, -N(Rc)- 또는 황 원자를 나타낸다.A xx represents an oxygen atom, -N(R c )-, or a sulfur atom.
Ax는, 탄소수 1~18인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-, -CO- 또는 -N(Rd)-로 치환되어 있어도 된다.A x represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with -O-, -CO- or -N(R d )-.
X11은, 산소 원자, 황 원자 또는 메틸렌기를 나타낸다.X 11 represents an oxygen atom, a sulfur atom, or a methylene group.
R41은, 할로겐 원자 또는 히드록시기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~12인 알킬기, 할로겐 원자, 히드록시기, 시아노기, 탄소수 1~12인 알콕시기, 탄소수 6~12인 아릴기, 탄소수 7~12인 아랄킬기, 글리시딜옥시기, 탄소수 2~12인 알콕시카르보닐기 또는 탄소수 2~4인 알킬카르보닐기를 나타낸다.R 41 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a halogen atom, a hydroxy group, a cyano group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms which may have a halogen atom or a hydroxyl group , a glycidyloxy group, an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, or an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms.
ma는, 0~9 중 어느 하나의 정수를 나타낸다. ma가 2 이상일 때, 복수의 R41은 동일해도 상이해도 된다.ma represents the integer in any one of 0-9. When ma is 2 or more, a plurality of R 41 may be the same or different.
Rc 및 Rd는, 서로 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1~6인 알킬기를 나타낸다.]R c and R d each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.]
[0214] Rx의 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 들 수 있다.[0214] Examples of the halogen atom for R x include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
Rx의 알킬기로서는, 예컨대, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기 및 n-헥실기 등을 들 수 있고, 바람직하게는 탄소수 1~4인 알킬기이고, 보다 바람직하게는 메틸기 또는 에틸기이다.Examples of the alkyl group for R x include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group and n-hexyl group. , Preferably it is a C1-C4 alkyl group, More preferably, it is a methyl group or an ethyl group.
Rx의 할로겐 원자를 가지는 알킬기로서는, 예컨대, 트리플루오로메틸기, 퍼플루오로에틸기, 퍼플루오로프로필기, 퍼플루오로이소프로필기, 퍼플루오로부틸기, 퍼플루오로sec-부틸기, 퍼플루오로tert-부틸기, 퍼플루오로펜틸기, 퍼플루오로헥실기, 트리클로로메틸기, 트리브로모메틸기 및 트리요오드메틸기 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having a halogen atom for R x include trifluoromethyl group, perfluoroethyl group, perfluoropropyl group, perfluoroisopropyl group, perfluorobutyl group, perfluorosec-butyl group, purple Luorotert-butyl group, perfluoropentyl group, perfluorohexyl group, trichloromethyl group, tribromomethyl group, triiodomethyl group, etc. are mentioned.
Rx는, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~4인 알킬기이고, 보다 바람직하게는 수소 원자, 메틸기 또는 에틸기이고, 더욱 바람직하게는 수소 원자 또는 메틸기이다.R x is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, still more preferably a hydrogen atom or a methyl group.
[0215] Ax의 2가의 포화 탄화수소기로서는, 직쇄 형상 알칸디일기, 분기 형상 알칸디일기, 단환식 또는 다환식의 2가의 지환식 포화 탄화수소기를 들 수 있고, 이들 기 중 2종 이상을 조합한 것이어도 된다.[0215] Examples of the divalent saturated hydrocarbon group of A x include a linear alkanediyl group, a branched alkanediyl group, a monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, and combinations of two or more of these groups it may be one
구체적으로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 프로판-1,2-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 노난-1,9-디일기, 데칸-1,10-디일기, 운데칸-1,11-디일기, 도데칸-1,12-디일기, 트리데칸-1,13-디일기, 테트라데칸-1,14-디일기, 펜타데칸-1,15-디일기, 헥사데칸-1,16-디일기, 헵타데칸-1,17-디일기, 에탄-1,1-디일기, 프로판-1,1-디일기 및 프로판-2,2-디일기 등의 직쇄 형상 알칸디일기;Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1, 6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group , dodecane-1,12-diyl group, tridecane-1,13-diyl group, tetradecane-1,14-diyl group, pentadecane-1,15-diyl group, hexadecane-1,16-diyl group straight-chain alkanediyl groups such as heptadecane-1,17-diyl group, ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group and propane-2,2-diyl group;
부탄-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,2-디일기, 펜탄-1,4-디일기, 2-메틸부탄-1,4-디일기 등의 분기 형상 알칸디일기;Butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4 - branched alkanediyl groups, such as a diyl group;
시클로부탄-1,3-디일기, 시클로펜탄-1,3-디일기, 시클로헥산-1,4-디일기, 시클로옥탄-1,5-디일기 등의 시클로알칸디일기인 단환식의 2가의 지환식 포화 탄화수소기;Monocyclic 2, which is a cycloalkanediyl group, such as a cyclobutane-1,3-diyl group, a cyclopentane-1,3-diyl group, a cyclohexane-1,4-diyl group, and a cyclooctane-1,5-diyl group a valent alicyclic saturated hydrocarbon group;
노보난-1,4-디일기, 노보난-2,5-디일기, 아다만탄-1,5-디일기, 아다만탄-2,6-디일기 등의 다환식의 2가의 지환식 포화 탄화수소기 등을 들 수 있다.Polycyclic divalent alicyclics, such as norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group, and adamantane-2,6-diyl group A saturated hydrocarbon group etc. are mentioned.
[0216] R41, X11 및 ma는, 식 (T1')와 동일한 것을 들 수 있다.[0216] Examples of R 41 , X 11 and ma include the same ones as in Formula (T1').
설톤 고리로서는, 상술한 것을 들 수 있고, 그 중에서도, 결합 위치가 특정된 상술한 것이 바람직하다.Examples of the sultone ring include those described above, and among them, the ones in which the bonding position is specified are preferable.
[0217] 구조 단위(a6)으로서는, 이하의 구조 단위를 들 수 있다.[0217] Examples of the structural unit (a6) include the following structural units.
[0218] 그 중에서도, 식 (a6-1), 식 (a6-2), 식 (a6-6), 식 (a6-7), 식 (a6-8) 및 식 (a6-12)로 나타내어지는 구조 단위가 바람직하고, 식 (a6-1), 식 (a6-2), 식 (a6-7) 및 (a6-8)로 나타내어지는 구조 단위가 보다 바람직하다.[0218] Among them, formula (a6-1), formula (a6-2), formula (a6-6), formula (a6-7), formula (a6-8) and formula (a6-12) A structural unit is preferable, and the structural unit represented by a formula (a6-1), a formula (a6-2), a formula (a6-7), and (a6-8) is more preferable.
수지(A)가, 구조 단위(a6)을 가지는 경우, 그 함유율은, 수지(A)의 전체 구조 단위에 대해, 1~50몰%가 바람직하고, 2~40몰%가 보다 바람직하고, 3~30몰%가 더욱 바람직하다.When resin (A) has a structural unit (a6), 1-50 mol% is preferable with respect to all the structural units of resin (A), and, as for the content rate, 2-40 mol% is more preferable, 3 ~30 mol% is more preferred.
[0219] <구조 단위(II)>[0219] <Structural unit (II)>
수지(A)는, 추가로, 노광에 의해 분해되어 산을 발생시키는 구조 단위(이하, 「구조 단위(II)」라고 하는 경우가 있음)를 함유해도 된다. 구조 단위(II)로서는, 구체적으로는 일본 특허공개공보 제2016-79235호에 기재된 구조 단위를 들 수 있고, 측쇄에 설포네이트기 혹은 카르복실레이트기와 유기 양이온을 가지는 구조 단위 또는 측쇄에 설포니오기와 유기 음이온을 가지는 구조 단위인 것이 바람직하다.The resin (A) may further contain a structural unit (hereinafter, sometimes referred to as "structural unit (II)") which decomposes upon exposure to generate an acid. Specific examples of the structural unit (II) include the structural units described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2016-79235, and a structural unit having a sulfonate group or a carboxylate group in a side chain or an organic cation, or a sulfonio group in the side chain and a structural unit having an organic anion.
[0220] 측쇄에 설포네이트기 혹은 카르복실레이트기와 유기 양이온을 가지는 구조 단위는, 식 (II-2-A')로 나타내어지는 구조 단위인 것이 바람직하다.[0220] The structural unit having a sulfonate group or a carboxylate group and an organic cation in the side chain is preferably a structural unit represented by formula (II-2-A').
[식 (II-2-A') 중,[Formula (II-2-A'),
XIII3은, 탄소수 1~18인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-, -S- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 되고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, 할로겐 원자를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~6인 알킬기 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.X III3 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with -O-, -S- or -CO-, and is included in the saturated hydrocarbon group The hydrogen atom to be used may be substituted with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom, or a hydroxy group.
Ax1은, 탄소수 1~8인 알칸디일기를 나타내고, 해당 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 탄소수 1~6인 퍼플루오로알킬기로 치환되어 있어도 된다.A x1 represents a C1-C8 alkanediyl group, and the hydrogen atom contained in this alkanediyl group may be substituted by the fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group.
RA-는, 설포네이트기 또는 카르복실레이트기를 나타낸다.RA - represents a sulfonate group or a carboxylate group.
RIII3은, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 할로겐 원자를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~6인 알킬기를 나타낸다.R III3 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
ZA+는, 유기 양이온을 나타낸다.]ZA + represents an organic cation.]
[0221] RIII3으로 나타내어지는 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자 등을 들 수 있다.[0221] Examples of the halogen atom represented by R III3 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
RIII3으로 나타내어지는 할로겐 원자를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~6인 알킬기로서는, Ra8로 나타내어지는 할로겐 원자를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~6인 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R III3 include the same groups as the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R a8 .
Ax1로 나타내어지는 탄소수 1~8인 알칸디일기로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 에탄-1,1-디일기, 프로판-1,1-디일기, 프로판-1,2-디일기, 프로판-2,2-디일기, 펜탄-2,4-디일기, 2-메틸프로판-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,2-디일기, 펜탄-1,4-디일기, 2-메틸부탄-1,4-디일기 등을 들 수 있다.Examples of the alkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by A x1 include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a pentane-1,5-diyl group, and a hexane- 1,6-diyl group, ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2,4-di diyl, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group, and the like. have.
Ax1에 있어서 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~6인 퍼플루오로알킬기로서는, 트리플루오로메틸기, 퍼플루오로에틸기, 퍼플루오로프로필기, 퍼플루오로이소프로필기, 퍼플루오로부틸기, 퍼플루오로sec-부틸기, 퍼플루오로tert-부틸기, 퍼플루오로펜틸기, 퍼플루오로헥실기 등을 들 수 있다.Examples of the optionally substituted perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms for A x1 include a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluoroisopropyl group, a perfluorobutyl group, and a perfluoro and a losec-butyl group, a perfluorotert-butyl group, a perfluoropentyl group, and a perfluorohexyl group.
XIII3으로 나타내어지는 탄소수 1~18인 2가의 포화 탄화수소기로서는, 직쇄 또는 분기 형상 알칸디일기, 단환식 또는 다환식의 2가의 지환 포화 탄화수소기를 들 수 있고, 이들의 조합이어도 된다. Examples of the divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms represented by X III3 include a linear or branched alkanediyl group and a monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group, and combinations thereof may be used.
구체적으로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 프로판-1,2-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 노난-1,9-디일기, 데칸-1,10-디일기, 운데칸-1,11-디일기, 도데칸-1,12-디일기 등의 직쇄 형상 알칸디일기; 부탄-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,3-디일기, 2-메틸프로판-1,2-디일기, 펜탄-1,4-디일기, 2-메틸부탄-1,4-디일기 등의 분기 형상 알칸디일기; 시클로부탄-1,3-디일기, 시클로펜탄-1,3-디일기, 시클로헥산-1,4-디일기, 시클로옥탄-1,5-디일기 등의 시클로알칸디일기; 노보난-1,4-디일기, 노보난-2,5-디일기, 아다만탄-1,5-디일기, 아다만탄-2,6-디일기 등의 2가의 다환식 지환식 포화 탄화수소기 등을 들 수 있다.Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1, 6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group , straight-chain alkanediyl groups such as dodecane-1,12-diyl groups; Butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4 - branched alkanediyl groups, such as a diyl group; cycloalkanediyl groups such as cyclobutane-1,3-diyl group, cyclopentane-1,3-diyl group, cyclohexane-1,4-diyl group and cyclooctane-1,5-diyl group; Divalent polycyclic alicyclic saturated groups such as norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group, and adamantane-2,6-diyl group A hydrocarbon group etc. are mentioned.
포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-가, -O-, -S- 또는 -CO-로 치환된 것으로서는, 예컨대 식 (X1)~식 (X53)으로 나타내어지는 2가의 기를 들 수 있다. 단, 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-가, -O-, -S- 또는 -CO-로 치환되기 전의 탄소수는 각각 17 이하이다. 하기 식에 있어서, * 및 **는 결합 부위를 나타내고, *는 Ax1과의 결합손을 나타낸다. Examples of the -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group substituted with -O-, -S- or -CO- include divalent groups represented by formulas (X1) to (X53). However, the number of carbon atoms before -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with -O-, -S- or -CO- is 17 or less, respectively. In the following formula, * and ** represent a binding site, and * represents a bond with A x1.
[0222] X3은, 2가의 탄소수 1~16인 포화 탄화수소기를 나타낸다.[0222] X 3 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
X4는, 2가의 탄소수 1~15인 포화 탄화수소기를 나타낸다.X 4 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
X5는, 2가의 탄소수 1~13인 포화 탄화수소기를 나타낸다.X 5 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms.
X6은, 2가의 탄소수 1~14인 포화 탄화수소기를 나타낸다.X 6 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.
X7은, 3가의 탄소수 1~14인 포화 탄화수소기를 나타낸다.X 7 represents a trivalent saturated hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.
X8은, 2가의 탄소수 1~13인 포화 탄화수소기를 나타낸다.X 8 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms.
[0223] 식 (II-2-A') 중의 ZA+는, 식 (B1)로 나타내어지는 염에 있어서의 양이온 Z1+와 동일한 것을 들 수 있다. [0223] ZA + in the formula (II-2-A') includes the same ones as the cation Z1 + in the salt represented by the formula (B1).
[0224] 식 (II-2-A')로 나타내어지는 구조 단위는, 식 (II-2-A)로 나타내어지는 구조 단위인 것이 바람직하다.[0224] The structural unit represented by the formula (II-2-A') is preferably a structural unit represented by the formula (II-2-A).
[식 (II-2-A) 중,[In formula (II-2-A),
RIII3, XIII3 및 ZA+는, 상기와 동일한 의미를 나타낸다.R III3 , X III3 and ZA + have the same meanings as above.
z2A는, 0~6 중 어느 하나의 정수를 나타낸다.z2A represents the integer in any one of 0-6.
RIII2 및 RIII4는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1~6인 퍼플루오로알킬기를 나타내고, z2A가 2 이상일 때, 복수의 RIII2 및 RIII4는 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.R III2 and R III4 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and when z2A is 2 or more, a plurality of R III2 and R III4 may be the same as or different from each other do.
Qa 및 Qb는, 각각 독립적으로, 불소 원자 또는 탄소수 1~6인 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.]Q a and Q b each independently represent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.]
RIII2, RIII4, Qa 및 Qb로 나타내어지는 탄소수 1~6인 퍼플루오로알킬기로서는, 전술한 Qb1로 나타내어지는 탄소수 1~6인 퍼플루오로알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R III2 , R III4 , Q a and Q b include the same ones as the above-mentioned perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by Q b1 .
[0225] 식 (II-2-A)로 나타내어지는 구조 단위는, 식 (II-2-A-1)로 나타내어지는 구조 단위인 것이 바람직하다.[0225] The structural unit represented by the formula (II-2-A) is preferably a structural unit represented by the formula (II-2-A-1).
[식 (II-2-A-1) 중,[In formula (II-2-A-1),
RIII2, RIII3, RIII4, Qa, Qb 및 ZA+는, 상기와 동일한 의미를 나타낸다.R III2 , R III3 , R III4 , Q a , Q b and ZA + have the same meanings as above.
RIII5는, 탄소수 1~12인 포화 탄화수소기를 나타낸다.R III5 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
z2A1은, 0~6 중 어느 하나의 정수를 나타낸다.z2A1 represents the integer in any one of 0-6.
XI2는, 탄소수 1~11인 2가의 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-, -S- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 되고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.]X I2 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 11 carbon atoms, -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with -O-, -S- or -CO-, and is included in the saturated hydrocarbon group The hydrogen atom to be formed may be substituted with a halogen atom or a hydroxyl group.]
RIII5로 나타내어지는 탄소수 1~12인 포화 탄화수소기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기 및 도데실기 등의 직쇄 또는 분기의 알킬기를 들 수 있다.Examples of the saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms represented by R III5 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, and an octyl group. , a straight-chain or branched alkyl group such as a nonyl group, a decyl group, an undecyl group and a dodecyl group.
XI2로 나타내어지는 2가의 포화 탄화수소기로서는, XIII3으로 나타내어지는 2가의 포화 탄화수소기와 동일한 것을 들 수 있다. Examples of the divalent saturated hydrocarbon group represented by X I2 include the same divalent saturated hydrocarbon group represented by X III3.
[0226] 식 (II-2-A-1)로 나타내어지는 구조 단위로서는, 식 (II-2-A-2)로 나타내어지는 구조 단위가 더욱 바람직하다.[0226] As the structural unit represented by the formula (II-2-A-1), the structural unit represented by the formula (II-2-A-2) is more preferable.
[식 (II-2-A-2) 중,[In formula (II-2-A-2),
RIII3, RIII5 및 ZA+는, 상기와 동일한 의미를 나타낸다.R III3 , R III5 and ZA + have the same meanings as above.
m 및 nA는, 서로 독립적으로, 1 또는 2를 나타낸다.]m and nA, independently of each other, represent 1 or 2.]
[0227] 식 (II-2-A')로 나타내어지는 구조 단위로서는, 예컨대, 이하의 구조 단위, RIII3의 메틸기에 상당하는 기가 수소 원자, 할로겐 원자(예컨대, 불소 원자) 또는 할로겐 원자를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~6인 알킬기(예컨대, 트리플루오로메틸기 등)로 치환된 구조 단위 및 국제 공개 제2012/050015호에 기재된 구조 단위를 들 수 있다. ZA+는, 유기 양이온을 나타낸다.[0227] As the structural unit represented by the formula (II-2-A'), for example, the following structural unit, a group corresponding to the methyl group of R III3 has a hydrogen atom, a halogen atom (eg, a fluorine atom) or a halogen atom The structural unit substituted with the optionally C1-C6 alkyl group (for example, trifluoromethyl group, etc.) and the structural unit of International Publication No. 2012/050015 are mentioned. ZA + represents an organic cation.
[0228] 측쇄에 설포니오기와 유기 음이온을 가지는 구조 단위는, 식 (II-1-1)로 나타내어지는 구조 단위인 것이 바람직하다.[0228] The structural unit having a sulfonio group and an organic anion in the side chain is preferably a structural unit represented by formula (II-1-1).
[식 (II-1-1) 중,[In formula (II-1-1),
AII1은, 단결합 또는 2가의 연결기를 나타낸다.A II1 represents a single bond or a divalent linking group.
RII1은, 탄소수 6~18인 2가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다.R II1 represents a divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms.
RII2 및 RII3은, 각각 독립적으로, 탄소수 1~18인 탄화수소기를 나타내고, RII2 및 RII3은 서로 결합하여 이들이 결합하는 황 원자와 함께 고리를 형성하고 있어도 된다.R II2 and R II3 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and R II2 and R II3 may be bonded to each other to form a ring together with the sulfur atom to which they are bonded.
RII4는, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 할로겐 원자를 가져도 되는 탄소수 1~6인 알킬기를 나타낸다.R II4 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
A-는, 유기 음이온을 나타낸다.]A - represents an organic anion.]
RII1로 나타내어지는 탄소수 6~18인 2가의 방향족 탄화수소기로서는, 페닐렌기 및 나프틸렌기 등을 들 수 있다.Examples of the divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms represented by R II1 include a phenylene group and a naphthylene group.
RII2 및 RII3으로 나타내어지는 탄화수소기로서는, 알킬기, 지환식 탄화수소기, 방향족 탄화수소기 및 이들을 조합함으로써 형성되는 기 등을 들 수 있다. Examples of the hydrocarbon group represented by R II2 and R II3 include an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a group formed by combining these groups.
RII4로 나타내어지는 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자 등을 들 수 있다. Examples of the halogen atom represented by R II4 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
RII4로 나타내어지는 할로겐 원자를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~6인 알킬기로서는, Ra8로 나타내어지는 할로겐 원자를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~6인 알킬기와 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R II4 include the same groups as the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R a8 .
AII1로 나타내어지는 2가의 연결기로서는, 예컨대, 탄소수 1~18인 2가의 포화 탄화수소기를 들 수 있고, 해당 2가의 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-, -S- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다. 구체적으로는, XIII3으로 나타내어지는 탄소수 1~18인 2가의 포화 탄화수소기와 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the divalent linking group represented by A II1 include a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and -CH 2 - contained in the divalent saturated hydrocarbon group is -O-, -S- or -CO - may be substituted. Specific examples include the same divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms represented by X III3.
[0229] 식 (II-1-1) 중의 양이온을 포함하는 구조 단위로서는, 이하에서 나타내어지는 구조 단위 및 RII4의 메틸기에 상당하는 기가, 수소 원자, 불소 원자, 트리플루오로메틸기 등으로 치환된 구조 단위 등을 들 수 있다.[0229] As the structural unit containing a cation in the formula (II-1-1), the structural unit shown below and a group corresponding to the methyl group of R II4 are substituted with a hydrogen atom, a fluorine atom, a trifluoromethyl group, etc. structural units; and the like.
[0230] A-로 나타내어지는 유기 음이온으로서는, 설폰산 음이온, 설포닐이미드 음이온, 설포닐메티드 음이온 및 카르복실산 음이온 등을 들 수 있다. A-로 나타내어지는 유기 음이온은, 설폰산 음이온이 바람직하고, 설폰산 음이온으로서는, 전술한 식 (B1)로 나타내어지는 염에 포함되는 음이온인 것이 보다 바람직하다. 설포닐이미드 음이온, 설포닐메티드 음이온 및 카르복실산 음이온은, 전술한 식 (I)으로 나타내어지는 염에 포함되는 음이온 AI-인 것이 보다 바람직하다.[0230] Examples of the organic anion represented by A − include a sulfonic acid anion, a sulfonylimide anion, a sulfonylmethide anion, and a carboxylate anion. A sulfonic acid anion is preferable and, as for the organic anion represented by A - , as a sulfonic acid anion, it is more preferable that it is an anion contained in the salt represented by Formula (B1) mentioned above. Sulfonyl imide anion, a sulfonate anion and nilme suited carboxylic acid anion is the anion AI contained in the salt represented by the aforementioned formula (I) - are more preferable in that.
[0231] 식 (II-1-1)로 나타내어지는 구조 단위로서는, 이하에서 나타내어지는 구조 단위 등을 들 수 있다.[0231] Examples of the structural unit represented by the formula (II-1-1) include the structural units shown below.
[0232] 수지(A) 중에, 구조 단위(II)를 함유하는 경우의 구조 단위(II)의 함유율은, 수지(A)의 전체 구조 단위에 대해, 바람직하게는 1~20몰%이고, 보다 바람직하게는 2~15몰%이고, 더욱 바람직하게는 3~10몰%이다.[0232] In the case of containing the structural unit (II) in the resin (A), the content of the structural unit (II) is preferably 1 to 20 mol% with respect to the total structural units of the resin (A), more Preferably it is 2-15 mol%, More preferably, it is 3-10 mol%.
[0233] 수지(A)는, 상술한 구조 단위 이외의 구조 단위를 가지고 있어도 되고, 이와 같은 구조 단위로서는, 당 기술 분야에서 주지된 구조 단위를 들 수 있다.[0233] The resin (A) may have structural units other than the structural units described above, and examples of such structural units include structural units well-known in the art.
[0234] 수지(A)는, 바람직하게는, 구조 단위(a1)과 구조 단위(s)로 이루어진 수지, 즉, 모노머(a1)과 모노머(s)의 공중합체이다.[0234] The resin (A) is preferably a resin composed of the structural unit (a1) and the structural unit (s), that is, a copolymer of the monomer (a1) and the monomer (s).
구조 단위(a1)은, 바람직하게는 구조 단위(a1-0), 구조 단위(a1-1) 및 구조 단위(a1-2)(바람직하게는 시클로헥실기, 및 시클로펜틸기를 가지는 해당 구조 단위)로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종이고, 보다 바람직하게는 적어도 2종이고, 더욱 바람직하게는, 구조 단위(a1-1) 및 구조 단위(a1-2)로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 2종이다.The structural unit (a1) is preferably a structural unit (a1-0), a structural unit (a1-1) and a structural unit (a1-2) (preferably the structural unit having a cyclohexyl group and a cyclopentyl group) at least one selected from the group consisting of, more preferably at least two, still more preferably at least two selected from the group consisting of a structural unit (a1-1) and a structural unit (a1-2). .
구조 단위(s)는, 바람직하게는 구조 단위(a2) 및 구조 단위(a3)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종이다. 구조 단위(a2)는, 바람직하게는 구조 단위(a2-1) 또는 구조 단위(a2-A)이다. 구조 단위(a3)은, 바람직하게는 식 (a3-1)로 나타내어지는 구조 단위, 식 (a3-2)로 나타내어지는 구조 단위 및 식 (a3-4)로 나타내어지는 구조 단위로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 1종이다.The structural unit (s) is preferably at least one selected from the group consisting of the structural unit (a2) and the structural unit (a3). The structural unit (a2) is preferably a structural unit (a2-1) or a structural unit (a2-A). The structural unit (a3) is preferably selected from the group consisting of a structural unit represented by formula (a3-1), a structural unit represented by formula (a3-2), and a structural unit represented by formula (a3-4) There is at least one
수지(A)를 구성하는 각 구조 단위는, 1종만 또는 2종 이상을 조합하여 사용해도 되고, 이들 구조 단위를 유도하는 모노머를 사용하여, 공지된 중합법(예컨대 래디칼 중합법)에 의해 제조할 수 있다. 수지(A)가 가지는 각 구조 단위의 함유율은, 중합에 사용하는 모노머의 사용량으로 조정할 수 있다.Each structural unit constituting the resin (A) may be used alone or in combination of two or more, and may be prepared by a known polymerization method (eg, radical polymerization method) using a monomer that induces these structural units. can The content rate of each structural unit which resin (A) has can be adjusted by the usage-amount of the monomer used for superposition|polymerization.
수지(A)의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는, 2,000 이상(보다 바람직하게는 2,500 이상, 더욱 바람직하게는 3,000 이상), 50,000 이하(보다 바람직하게는 30,000 이하, 더욱 바람직하게는 15,000 이하)이다. 본 명세서에서는, 중량 평균 분자량은, 겔 투과 크로마토그래피(gel permeation chromatography)로 실시예에 기재된 조건에 의해 구한 값이다.The weight average molecular weight of the resin (A) is preferably 2,000 or more (more preferably 2,500 or more, still more preferably 3,000 or more), and 50,000 or less (more preferably 30,000 or less, still more preferably 15,000 or less). . In the present specification, the weight average molecular weight is a value obtained under the conditions described in Examples by gel permeation chromatography.
[0235] <수지(A) 이외의 수지>[0235] <Resin other than Resin (A)>
본 발명의 레지스트 조성물은, 수지(A) 이외의 수지를 병용해도 된다.In the resist composition of the present invention, a resin other than the resin (A) may be used in combination.
수지(A) 이외의 수지로서는, 예컨대, 구조 단위(a4) 또는 구조 단위(a5)를 함유하는 수지(이하, 수지(X)라고 하는 경우가 있음) 등을 들 수 있다.Examples of the resin other than the resin (A) include resins containing the structural unit (a4) or the structural unit (a5) (hereinafter sometimes referred to as resin (X)).
수지(X)로서는, 그 중에서도, 구조 단위(a4)를 포함하는 수지가 바람직하다.Especially as resin (X), resin containing a structural unit (a4) is preferable.
수지(X)에 있어서, 구조 단위(a4)의 함유율은, 수지(X)의 전체 구조 단위의 합계에 대해, 30몰% 이상인 것이 바람직하고, 40몰% 이상인 것이 보다 바람직하고, 45몰% 이상인 것이 더욱 바람직하다.In the resin (X), the content of the structural unit (a4) is preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, and 45 mol% or more, with respect to the total of all structural units of the resin (X). more preferably.
수지(X)가 추가로 가지고 있어도 되는 구조 단위로서는, 구조 단위(a1), 구조 단위(a2), 구조 단위(a3) 및 기타 공지된 모노머에서 유래하는 구조 단위를 들 수 있다. 그 중에서도, 수지(X)는, 구조 단위(a4) 및/또는 구조 단위(a5)만으로 이루어진 수지인 것이 바람직하다.Examples of the structural unit that the resin (X) may further include a structural unit (a1), a structural unit (a2), a structural unit (a3), and a structural unit derived from other known monomers. Especially, it is preferable that resin (X) is resin which consists only of a structural unit (a4) and/or a structural unit (a5).
수지(X)를 구성하는 각 구조 단위는, 1종만 또는 2종 이상을 조합하여 사용해도 되고, 이들 구조 단위를 유도하는 모노머를 사용하여, 공지된 중합법(예컨대 래디칼 중합법)에 의해 제조할 수 있다. 수지(X)가 가지는 각 구조 단위의 함유율은, 중합에 사용하는 모노머의 사용량으로 조정할 수 있다.Each structural unit constituting the resin (X) may be used alone or in combination of two or more, and may be prepared by a known polymerization method (eg, radical polymerization method) using a monomer that induces these structural units. can The content rate of each structural unit which resin (X) has can be adjusted by the usage-amount of the monomer used for superposition|polymerization.
수지(X)의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 6,000 이상(보다 바람직하게는 7,000 이상), 80,000 이하(보다 바람직하게는 60,000 이하)이다. 수지(X)의 중량 평균 분자량의 측정 수단은, 수지(A)의 경우와 동일하다.The weight average molecular weight of the resin (X) is preferably 6,000 or more (more preferably 7,000 or more) and 80,000 or less (more preferably 60,000 or less). The measuring means of the weight average molecular weight of resin (X) is the same as that in the case of resin (A).
[0236] 본 발명의 레지스트 조성물이, 수지(X)를 포함하는 경우, 그 함유량은, 수지(A) 100질량부에 대해, 바람직하게는 1~60질량부이고, 보다 바람직하게는 1~50질량부이고, 더욱 바람직하게는 1~40질량부이고, 더더욱 바람직하게는 1~30질량부이고, 특히 바람직하게는 1~8질량부이다.[0236] When the resist composition of the present invention contains the resin (X), its content is preferably 1 to 60 parts by mass, more preferably 1 to 50 parts by mass, based on 100 parts by mass of the resin (A). It is a mass part, More preferably, it is 1-40 mass parts, More preferably, it is 1-30 mass parts, Especially preferably, it is 1-8 mass parts.
[0237] 레지스트 조성물에 있어서의 수지(A)의 함유율은, 레지스트 조성물의 고형분(固形分)에 대해, 80질량% 이상 99질량% 이하인 것이 바람직하고, 90질량% 이상 99질량% 이하가 보다 바람직하다. 또한, 수지(A) 이외의 수지를 포함하는 경우는, 수지(A)와 수지(A) 이외의 수지의 합계 함유율은, 레지스트 조성물의 고형분에 대해, 80질량% 이상 99질량% 이하인 것이 바람직하고, 90질량% 이상 99질량% 이하가 보다 바람직하다. 본 명세서에 있어서, 「레지스트 조성물의 고형분」이란, 레지스트 조성물의 총량에서, 후술하는 용제(E)를 뺀 성분의 합계를 의미한다. 레지스트 조성물의 고형분 및 이에 대한 수지의 함유율은, 액체 크로마토그래피 또는 가스 크로마토그래피 등의 공지된 분석 수단으로 측정할 수 있다.[0237] The content of the resin (A) in the resist composition is preferably 80% by mass or more and 99% by mass or less, and more preferably 90% by mass or more and 99% by mass or less, based on the solid content of the resist composition. do. Further, when a resin other than the resin (A) is included, the total content of the resin (A) and the resin other than the resin (A) is preferably 80% by mass or more and 99% by mass or less with respect to the solid content of the resist composition. , 90 mass % or more and 99 mass % or less are more preferable. In the present specification, "solid content of the resist composition" means the total amount of components obtained by subtracting the solvent (E) described later from the total amount of the resist composition. The solid content of the resist composition and the resin content thereof can be measured by known analytical means such as liquid chromatography or gas chromatography.
[0238] <용제(E)>[0238] <Solvent (E)>
용제(E)의 함유율은, 레지스트 조성물 중, 통상 90질량% 이상 99.9질량% 이하이고, 바람직하게는 92질량% 이상 99질량% 이하이고, 보다 바람직하게는 94질량% 이상 99질량% 이하이다. 용제(E)의 함유율은, 예컨대 액체 크로마토그래피 또는 가스 크로마토그래피 등의 공지된 분석 수단으로 측정할 수 있다.The content of the solvent (E) in the resist composition is usually 90% by mass or more and 99.9% by mass or less, preferably 92% by mass or more and 99% by mass or less, and more preferably 94% by mass or more and 99% by mass or less. The content of the solvent (E) can be measured, for example, by known analytical means such as liquid chromatography or gas chromatography.
[0239] 용제(E)로서는, 에틸셀로솔브아세테이트, 메틸셀로솔브아세테이트 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 글리콜에테르에스테르류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 글리콜에테르류; 락트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산아밀 및 피루브산에틸 등의 에스테르류; 아세톤, 메틸이소부틸케톤, 2-헵탄온 및 시클로헥산온 등의 케톤류; γ-부티로락톤 등의 고리 형상 에스테르류; 등을 들 수 있다. 용제(E) 중 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 사용해도 된다.[0239] Examples of the solvent (E) include glycol ether esters such as ethyl cellosolve acetate, methyl cellosolve acetate, and propylene glycol monomethyl ether acetate; glycol ethers such as propylene glycol monomethyl ether; esters such as ethyl lactate, butyl acetate, amyl acetate, and ethyl pyruvate; ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone and cyclohexanone; cyclic esters such as γ-butyrolactone; and the like. One type of solvent (E) may be used independently and 2 or more types may be used for it.
[0240] <??처(C)>[0240] <??wife (C)>
??처(C)로서는, 염기성의 질소 함유(含窒素) 유기 화합물 및 산 발생제(B)로부터 발생하는 산보다도 산성도가 약한 산을 발생시키는 염을 들 수 있다. 레지스트 조성물이 ??처(C)를 함유하는 경우, ??처(C)의 함유량은, 레지스트 조성물의 고형분의 양을 기준으로, 0.01~15질량% 정도인 것이 바람직하고, 0.01~10질량% 정도인 것이 보다 바람직하고, 0.1~5질량% 정도인 것이 더욱 바람직하고, 0.1~3질량% 정도인 것이 더더욱 바람직하다.Salts which generate an acid with weaker acidity than the acid which generate|occur|produce from a basic nitrogen-containing organic compound and an acid generator (B) are mentioned as a target (C). When the resist composition contains the material (C), the content of the material (C) is preferably about 0.01 to 15 mass%, and 0.01 to 10 mass%, based on the amount of solid content in the resist composition. It is more preferable that it is about 0.1-5 mass %, It is still more preferable that it is about 0.1-3 mass %.
염기성의 질소 함유 유기 화합물로서는, 아민 및 암모늄염을 들 수 있다. 아민으로서는, 지방족 아민 및 방향족 아민을 들 수 있다. 지방족 아민으로서는, 제1급 아민, 제2급 아민 및 제3급 아민을 들 수 있다.Examples of the basic nitrogen-containing organic compound include amines and ammonium salts. Examples of the amine include aliphatic amines and aromatic amines. Examples of the aliphatic amine include a primary amine, a secondary amine, and a tertiary amine.
[0241] 아민으로서는, 1-나프틸아민, 2-나프틸아민, 아닐린, 디이소프로필아닐린, 2-, 3- 또는 4-메틸아닐린, 4-니트로아닐린, N-메틸아닐린, N,N-디메틸아닐린, 디페닐아민, 헥실아민, 헵틸아민, 옥틸아민, 노닐아민, 데실아민, 디부틸아민, 디펜틸아민, 디헥실아민, 디헵틸아민, 디옥틸아민, 디노닐아민, 디데실아민, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 트리프로필아민, 트리부틸아민, 트리펜틸아민, 트리헥실아민, 트리헵틸아민, 트리옥틸아민, 트리노닐아민, 트리데실아민, 메틸디부틸아민, 메틸디펜틸아민, 메틸디헥실아민, 메틸디시클로헥실아민, 메틸디헵틸아민, 메틸디옥틸아민, 메틸디노닐아민, 메틸디데실아민, 에틸디부틸아민, 에틸디펜틸아민, 에틸디헥실아민, 에틸디헵틸아민, 에틸디옥틸아민, 에틸디노닐아민, 에틸디데실아민, 디시클로헥실메틸아민, 트리스〔2-(2-메톡시에톡시)에틸〕아민, 트리이소프로판올아민, 에틸렌디아민, 테트라메틸렌디아민, 헥사메틸렌디아민, 4,4'-디아미노-1,2-디페닐에탄, 4,4'-디아미노-3,3'-디메틸디페닐메탄, 4,4'-디아미노-3,3'-디에틸디페닐메탄, 2,2'-메틸렌비스아닐린, 이미다졸, 4-메틸이미다졸, 피리딘, 4-메틸피리딘, 1,2-디(2-피리딜)에탄, 1,2-디(4-피리딜)에탄, 1,2-디(2-피리딜)에텐, 1,2-디(4-피리딜)에텐, 1,3-디(4-피리딜)프로판, 1,2-디(4-피리딜옥시)에탄, 디(2-피리딜)케톤, 4,4'-디피리딜설피드, 4,4'-디피리딜디설피드, 2,2'-디피리딜아민, 2,2'-디피콜릴아민, 비피리딘 등을 들 수 있고, 바람직하게는 디이소프로필아닐린을 들 수 있고, 보다 바람직하게는 2,6-디이소프로필아닐린을 들 수 있다.[0241] As the amine, 1-naphthylamine, 2-naphthylamine, aniline, diisopropylaniline, 2-, 3- or 4-methylaniline, 4-nitroaniline, N-methylaniline, N,N- Dimethylaniline, diphenylamine, hexylamine, heptylamine, octylamine, nonylamine, decylamine, dibutylamine, dipentylamine, dihexylamine, diheptylamine, dioctylamine, dinonylamine, didecylamine, Triethylamine, trimethylamine, tripropylamine, tributylamine, tripentylamine, trihexylamine, triheptylamine, trioctylamine, trinonylamine, tridecylamine, methyldibutylamine, methyldipentylamine, methyl Dihexylamine, methyldicyclohexylamine, methyldiheptylamine, methyldioctylamine, methyldinonylamine, methyldidecylamine, ethyldibutylamine, ethyldipentylamine, ethyldihexylamine, ethyldiheptylamine, Ethyldioctylamine, ethyldinonylamine, ethyl didecylamine, dicyclohexylmethylamine, tris[2-(2-methoxyethoxy)ethyl]amine, triisopropanolamine, ethylenediamine, tetramethylenediamine, hexamethylene Diamine, 4,4'-diamino-1,2-diphenylethane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3,3'-di Ethyldiphenylmethane, 2,2'-methylenebisaniline, imidazole, 4-methylimidazole, pyridine, 4-methylpyridine, 1,2-di(2-pyridyl)ethane, 1,2-di( 4-pyridyl)ethane, 1,2-di(2-pyridyl)ethene, 1,2-di(4-pyridyl)ethene, 1,3-di(4-pyridyl)propane, 1,2- Di(4-pyridyloxy)ethane, di(2-pyridyl)ketone, 4,4'-dipyridylsulfide, 4,4'-dipyridyldisulfide, 2,2'-dipyridylamine, 2,2'-dipicolylamine, bipyridine, etc. are mentioned, Preferably diisopropylaniline is mentioned, More preferably, 2,6-diisopropylaniline is mentioned.
[0242] 암모늄염으로서는, 테트라메틸암모늄히드록시드, 테트라이소프로필암모늄히드록시드, 테트라부틸암모늄히드록시드, 테트라헥실암모늄히드록시드, 테트라옥틸암모늄히드록시드, 페닐트리메틸암모늄히드록시드, 3-(트리플루오로메틸)페닐트리메틸암모늄히드록시드, 테트라-n-부틸암모늄살리실레이트 및 콜린 등을 들 수 있다.[0242] As the ammonium salt, tetramethylammonium hydroxide, tetraisopropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, tetrahexylammonium hydroxide, tetraoctylammonium hydroxide, phenyltrimethylammonium hydroxide, 3 -(trifluoromethyl)phenyltrimethylammonium hydroxide, tetra-n-butylammonium salicylate, choline, etc. are mentioned.
[0243] 산 발생제(B)로부터 발생하는 산보다도 산성도가 약한 산을 발생시키는 염에 있어서의 산성도는, 산 해리 상수(pKa)로 나타내어진다. 산 발생제(B)로부터 발생하는 산보다도 산성도가 약한 산을 발생시키는 염은, 해당 염으로부터 발생하는 산의 산 해리 상수가, 통상 -3<pKa인 염이고, 바람직하게는 -1<pKa<7인 염이고, 보다 바람직하게는 0<pKa<5인 염이다.[0243] The acidity of the salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator (B) is expressed by the acid dissociation constant (pKa). The salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator (B) is a salt in which the acid dissociation constant of the acid generated from the salt is usually -3 < pKa, preferably -1 < pKa < It is a salt of 7, More preferably, it is a salt of 0<pKa<5.
산 발생제(B)로부터 발생하는 산보다도 산성도가 약한 산을 발생시키는 염으로서는, 하기 식으로 나타내어지는 염, 일본 특허공개공보 제2015-147926호에 기재된 식 (D)로 나타내어지는 염(이하, 「약산 분자 내 염(D)」라고 하는 경우가 있음.), 및 일본 특허공개공보 제2012-229206호, 일본 특허공개공보 제2012-6908호, 일본 특허공개공보 제2012-72109호, 일본 특허공개공보 제2011-39502호 및 일본 특허공개공보 제2011-191745호에 기재된 염을 들 수 있다. 산 발생제(B)로부터 발생하는 산보다도 산성도가 약한 산을 발생시키는 염은, 바람직하게는, 산 발생제(B)로부터 발생하는 산보다도 산성도가 약한 카르복실산을 발생시키는 염(카르복실산 음이온을 가지는 염)이고, 보다 바람직하게는, 약산 분자 내 염(D)이다.Examples of the salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator (B) include a salt represented by the following formula, and a salt represented by the formula (D) described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-147926 (hereinafter, "Weak acid intramolecular salt (D)."), and Japanese Patent Laid-Open No. 2012-229206, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-6908, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-72109, Japanese Patent The salts of Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-39502 and Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-191745 are mentioned. The salt for generating an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator (B) is preferably a salt for generating a carboxylic acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator (B) (carboxylic acid) salt having an anion), and more preferably, a weak acid intramolecular salt (D).
[0244] 약산 분자 내 염(D)로서는, 이하의 염을 들 수 있다.[0244] Examples of the weak acid intramolecular salt (D) include the following salts.
[0245] 〈기타 성분〉[0245] <Other ingredients>
본 발명의 레지스트 조성물은, 필요에 따라, 상술한 성분 이외의 성분(이하 「기타 성분(F)」라고 하는 경우가 있음.)을 함유하고 있어도 된다. 기타 성분(F)에 특별히 한정은 없고, 레지스트 분야에서 공지된 첨가제, 예컨대, 증감제, 용해억제제, 계면활성제, 안정제, 염료 등을 이용할 수 있다.The resist composition of the present invention may contain components other than the above-mentioned components (hereinafter sometimes referred to as "other components (F)") as needed. The other component (F) is not particularly limited, and additives known in the resist field, for example, a sensitizer, a dissolution inhibitor, a surfactant, a stabilizer, a dye, and the like can be used.
[0246] 〈레지스트 조성물의 조제(調製)〉[0246] <Preparation of resist composition>
본 발명의 레지스트 조성물은, 염(I), 수지(A) 및 산 발생제(B), 및, 필요에 따라, 사용되는 수지(A) 이외의 수지, 용제(E), ??처(C) 및 기타 성분(F)를 혼합함으로써 조제할 수 있다. 혼합 순서는 임의이고, 특별히 한정되는 것은 아니다. 혼합할 때의 온도는, 10~40℃에서, 수지 등의 종류나 수지 등의 용제(E)에 대한 용해도 등에 따라 적절한 온도를 선택할 수 있다. 혼합 시간은, 혼합 온도에 따라, 0.5~24시간 중에서 적절한 시간을 선택할 수 있다. 또한, 혼합 수단도 특별히 제한은 없고, 교반 혼합 등을 이용할 수 있다.The resist composition of the present invention comprises a salt (I), a resin (A) and an acid generator (B), and, if necessary, a resin other than the resin (A) used, a solvent (E), and a solvent (C). ) and other components (F) can be mixed. The mixing order is arbitrary and is not particularly limited. The temperature at the time of mixing is 10-40 degreeC, and suitable temperature can be selected according to the kind of resin, etc., the solubility with respect to the solvent (E), etc. of resin. As for the mixing time, an appropriate time can be selected from 0.5 to 24 hours according to the mixing temperature. In addition, there is no restriction|limiting in particular also in a mixing means, A stirring mixing etc. can be used.
각 성분을 혼합한 후에는, 구멍 직경 0.003~0.2μm 정도의 필터를 사용하여 여과하는 것이 바람직하다.After mixing each component, it is preferable to filter using the filter with a pore diameter of about 0.003-0.2 micrometer.
[0247] 〈레지스트 패턴의 제조 방법〉[0247] <Method for producing resist pattern>
본 발명의 레지스트 패턴의 제조 방법은,The method for producing a resist pattern of the present invention comprises:
(1) 본 발명의 레지스트 조성물을 기판 상에 도포하는 공정,(1) a step of applying the resist composition of the present invention on a substrate;
(2) 도포 후의 조성물을 건조시켜 조성물층을 형성하는 공정,(2) drying the composition after application to form a composition layer;
(3) 조성물층에 노광하는 공정,(3) a step of exposing the composition layer;
(4) 노광 후의 조성물층을 가열하는 공정, 및 (4) heating the composition layer after exposure, and
(5) 가열 후의 조성물층을 현상하는 공정을 포함한다.(5) The process of developing the composition layer after heating is included.
레지스트 조성물을 기판 상에 도포하려면, 스핀 코터 등과 같은, 통상 이용되는 장치에 의해 행하는 것이 가능하다. 기판으로서는, 실리콘 웨이퍼 등의 무기 기판을 들 수 있다. 레지스트 조성물을 도포하기 전에, 기판을 세정해도 되고, 기판 상에 반사 방지막 등이 형성되어 있어도 된다.In order to apply a resist composition on a substrate, it is possible to carry out with a commonly used apparatus, such as a spin coater. Examples of the substrate include inorganic substrates such as silicon wafers. Before apply|coating a resist composition, a board|substrate may be wash|cleaned, and the antireflection film etc. may be formed on the board|substrate.
도포 후의 조성물을 건조함으로써, 용제를 제거하고, 조성물층을 형성한다. 건조는, 예컨대, 핫플레이트 등의 가열 장치를 이용하여 용제를 증발시키는 것(이른바 프리베이크(pre-bake))에 의해 행하거나, 혹은 감압 장치를 이용하여 행한다. 가열 온도는, 50~200℃인 것이 바람직하고, 가열 시간은, 10~180초간인 것이 바람직하다. 또한, 감압 건조할 때의 압력은, 1~1.0×105Pa 정도인 것이 바람직하다.By drying the composition after application|coating, a solvent is removed and a composition layer is formed. Drying is performed, for example by evaporating a solvent using heating apparatuses, such as a hotplate (so-called pre-bake), or using a pressure reducing apparatus. It is preferable that heating temperature is 50-200 degreeC, and, as for heating time, it is preferable that it is 10-180 second. Moreover, it is preferable that the pressure at the time of drying under reduced pressure is about 1-1.0x10 5 Pa.
얻어진 조성물층에, 통상, 노광기를 이용하여 노광한다. 노광기는, 액침 노광기여도 된다. 노광 광원으로서는, KrF 엑시머 레이저(파장 248nm), ArF 엑시머 레이저(파장 193nm), F2 엑시머 레이저(파장 157nm)와 같은 자외역의 레이저광을 방사하는 것, 고체 레이저 광원(YAG 또는 반도체 레이저 등)으로부터의 레이저광을 파장 변환하여 원(遠)자외역 또는 진공자외역의 고조파 레이저광을 방사하는 것, 전자선이나, 초자외광(EUV)을 조사하는 것 등, 다양한 것을 이용할 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서, 이들 방사선을 조사하는 것을 총칭하여 「노광」이라고 하는 경우가 있다. 노광 시, 통상, 요구되는 패턴에 상당하는 마스크를 통해 노광이 행해진다. 노광 광원이 전자선인 경우는, 마스크를 사용하지 않고 직접 묘화에 의해 노광해도 된다.The obtained composition layer is exposed using an exposure machine normally. The exposure machine may be an immersion exposure machine. Examples of the exposure light source include those emitting laser light in the ultraviolet region such as KrF excimer laser (wavelength 248 nm), ArF excimer laser (wavelength 193 nm), and F 2 excimer laser (wavelength 157 nm), and solid-state laser light source (YAG or semiconductor laser, etc.) It is possible to use a variety of methods, such as converting a laser beam from a wavelength to irradiating a harmonic laser beam in the far-ultraviolet region or vacuum ultraviolet region, or irradiating an electron beam or ultra-ultraviolet light (EUV). In addition, in this specification, irradiating these radiations may be generically called "exposure". At the time of exposure, exposure is normally performed through the mask corresponding to the requested|required pattern. When an exposure light source is an electron beam, you may expose by drawing directly, without using a mask.
노광 후의 조성물층에 대해, 산 불안정기에 있어서의 탈보호 반응을 촉진하기 위해 가열 처리(이른바 PEB(post exposure bake))를 행한다. 가열 온도는, 통상 50~200℃ 정도, 바람직하게는 70~150℃ 정도이다.The composition layer after exposure is subjected to heat treatment (so-called post exposure bake (PEB)) in order to accelerate the deprotection reaction in the acid labile group. Heating temperature is about 50-200 degreeC normally, Preferably it is about 70-150 degreeC.
가열 후의 조성물층을, 통상, 현상 장치를 사용하여, 현상액을 이용해 현상한다. 현상 방법으로서는, 디핑법, 퍼들법, 스프레이법, 다이나믹 디스펜스법 등을 들 수 있다. 현상 온도는, 예컨대, 5~60℃인 것이 바람직하고, 현상 시간은, 예컨대, 5~300초간인 것이 바람직하다. 현상액의 종류를 이하와 같이 선택함으로써, 포지티브형 레지스트 패턴 또는 네가티브형 레지스트 패턴을 제조할 수 있다.The composition layer after heating is usually developed using a developing solution using a developing device. As a developing method, the dipping method, the puddle method, the spray method, the dynamic dispensing method, etc. are mentioned. It is preferable that image development temperature is 5-60 degreeC, for example, and it is preferable that image development time is 5-300 second, for example. A positive type resist pattern or a negative type resist pattern can be manufactured by selecting the kind of developing solution as follows.
본 발명의 레지스트 조성물로부터 포지티브형 레지스트 패턴을 제조하는 경우는, 현상액으로서 알칼리 현상액을 이용한다. 알칼리 현상액은, 이 분야에서 이용되는 각종 알칼리성 수용액이면 된다. 예컨대, 테트라메틸암모늄히드록시드나 (2-히드록시에틸)트리메틸암모늄히드록시드(통칭 콜린)의 수용액 등을 들 수 있다. 알칼리 현상액에는, 계면활성제가 포함되어 있어도 된다.When producing a positive resist pattern from the resist composition of the present invention, an alkaline developer is used as the developer. The alkaline developer may be various alkaline aqueous solutions used in this field. For example, the aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide and (2-hydroxyethyl) trimethylammonium hydroxide (common name choline), etc. are mentioned. The alkali developer may contain surfactant.
현상 후 레지스트 패턴을 초순수로 세정하고, 이어서, 기판 및 패턴 상에 남은 물을 제거하는 것이 바람직하다.It is preferable to wash the resist pattern after development with ultrapure water, and then to remove the water remaining on the substrate and the pattern.
본 발명의 레지스트 조성물로부터 네가티브형 레지스트 패턴을 제조하는 경우는, 현상액으로서 유기 용제를 포함하는 현상액(이하 「유기계 현상액」이라고 하는 경우가 있음)을 이용한다.When producing a negative resist pattern from the resist composition of the present invention, a developer containing an organic solvent (hereinafter, sometimes referred to as an "organic developer") is used as the developer.
유기계 현상액에 포함되는 유기 용제로서는, 2-헥산온, 2-헵탄온 등의 케톤 용제; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 글리콜에테르에스테르 용제; 아세트산부틸 등의 에스테르 용제; 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 글리콜에테르 용제; N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드 용제; 아니솔 등의 방향족 탄화수소 용제 등을 들 수 있다.Examples of the organic solvent contained in the organic developer include ketone solvents such as 2-hexanone and 2-heptanone; glycol ether ester solvents such as propylene glycol monomethyl ether acetate; ester solvents such as butyl acetate; glycol ether solvents such as propylene glycol monomethyl ether; amide solvents such as N,N-dimethylacetamide; Aromatic hydrocarbon solvents, such as anisole, etc. are mentioned.
유기계 현상액 중, 유기 용제의 함유율은, 90질량% 이상 100질량% 이하가 바람직하고, 95질량% 이상 100질량% 이하가 보다 바람직하고, 실질적으로 유기 용제만인 것이 더욱 바람직하다.In the organic developer, the content of the organic solvent is preferably 90% by mass or more and 100% by mass or less, more preferably 95% by mass or more and 100% by mass or less, and still more preferably only an organic solvent.
그 중에서도, 유기계 현상액으로서는, 아세트산부틸 및/또는 2-헵탄온을 포함하는 현상액이 바람직하다. 유기계 현상액 중, 아세트산부틸 및 2-헵탄온의 합계 함유율은, 50질량% 이상 100질량% 이하가 바람직하고, 90질량% 이상 100질량% 이하가 보다 바람직하고, 실질적으로 아세트산부틸 및/또는 2-헵탄온만인 것이 더욱 바람직하다.Especially, as an organic type developing solution, the developing solution containing butyl acetate and/or 2-heptanone is preferable. In the organic developer, the total content of butyl acetate and 2-heptanone is preferably 50% by mass or more and 100% by mass or less, more preferably 90% by mass or more and 100% by mass or less, and substantially butyl acetate and/or 2-heptanone More preferably, it is only heptanone.
유기계 현상액에는, 계면활성제가 포함되어 있어도 된다. 또한, 유기계 현상액에는, 미량의 수분이 포함되어 있어도 된다.The organic developer may contain a surfactant. In addition, a trace amount of water may be contained in the organic developer.
현상 시, 유기계 현상액과는 다른 종류의 용제로 치환함으로써, 현상을 정지시켜도 된다.During development, the development may be stopped by substituting with a solvent different from that of the organic developer.
현상 후의 레지스트 패턴을 린스액으로 세정하는 것이 바람직하다. 린스액으로서는, 레지스트 패턴을 용해하지 않는 것이면 특별히 제한은 없고, 일반적인 유기 용제를 포함하는 용액을 사용할 수 있고, 바람직하게는 알코올 용제 또는 에스테르 용제이다.It is preferable to wash the resist pattern after development with a rinse solution. The rinse liquid is not particularly limited as long as it does not dissolve the resist pattern, and a solution containing a general organic solvent can be used, and an alcohol solvent or an ester solvent is preferable.
세정 후에는, 기판 및 패턴 상에 남은 린스액을 제거하는 것이 바람직하다.After cleaning, it is preferable to remove the rinse liquid remaining on the substrate and the pattern.
[0248] 〈용도〉[0248] <Use>
본 발명의 레지스트 조성물은, KrF 엑시머 레이저 노광용의 레지스트 조성물, ArF 엑시머 레이저 노광용의 레지스트 조성물, 전자선(EB) 노광용의 레지스트 조성물 또는 EUV 노광용의 레지스트 조성물, 특히 전자선(EB) 노광용의 레지스트 조성물 또는 EUV 노광용의 레지스트 조성물로서 적합하며, 반도체의 미세 가공에 유용하다.The resist composition of the present invention is a resist composition for KrF excimer laser exposure, a resist composition for ArF excimer laser exposure, a resist composition for electron beam (EB) exposure, or a resist composition for EUV exposure, particularly a resist composition for electron beam (EB) exposure, or a resist composition for EUV exposure It is suitable as a resist composition of
[실시예][Example]
[0249] 실시예를 들어, 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 예 중에서, 함유량 내지 사용량을 나타내는 「%」 및 「부」는, 특별히 기재하지 않는 한 질량 기준이다.[0249] By way of Examples, the present invention will be described in more detail. In the examples, "%" and "part" indicating the content or the amount used are based on mass unless otherwise specified.
중량 평균 분자량은, 겔 투과 크로마토그래피에 의해 구한 값이다. 또한, 겔 투과 크로마토그래피의 분석 조건은 하기와 같다.A weight average molecular weight is the value calculated|required by gel permeation chromatography. In addition, the analysis conditions of the gel permeation chromatography are as follows.
칼럼: TSKgel Multipore HXL-M x 3+guardcolumn(TOSOH CORPORATION 제조) Column: TSKgel Multipore HXL-M x 3+guardcolumn (manufactured by TOSOH CORPORATION)
용리액: 테트라히드로푸란 Eluent: tetrahydrofuran
유량: 1.0mL/min Flow rate: 1.0 mL/min
검출기: RI 검출기 Detector: RI Detector
칼럼 온도: 40℃ Column temperature: 40°C
주입량: 100μl Injection volume: 100μl
분자량 표준: 표준 폴리스티렌(TOSOH CORPORATION 제조) Molecular weight standard: standard polystyrene (manufactured by TOSOH CORPORATION)
화합물의 구조는, 질량 분석(LC는 Agilent 제조 1100형, MASS는 Agilent 제조 LC/MSD형)을 이용하여, 분자 이온 피크를 측정함으로써 확인하였다. 이하의 실시예에서는 이 분자 이온 피크의 값을 「MASS」로 나타낸다.The structure of the compound was confirmed by measuring molecular ion peaks using mass spectrometry (LC: 1100 manufactured by Agilent, MASS is LC/MSD manufactured by Agilent). In the following examples, the value of this molecular ion peak is expressed as "MASS".
[0250] 실시예 1: 식 (I-915)로 나타내어지는 염의 합성[0250] Example 1: Synthesis of salt represented by formula (I-915)
식 (I-915-a)로 나타내어지는 화합물 20부, 식 (I-915-c)로 나타내어지는 화합물 2.28부, 아세트산에틸 100부 및 테트라히드로푸란 15부를 혼합하고, 23℃에서 30분간 교반하였다. 얻어진 혼합 용액에, 식 (I-915-b)로 나타내어지는 화합물 6.55부를 첨가하고, 23℃에서 18시간 동안 교반하였다. 얻어진 반응 매스에, n-헵탄 20부 및 이온 교환수 70부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 회수된 유기층에 이온 교환수 60부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세(水洗) 조작을 4회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축하고, 농축 매스를 칼럼(실리카 겔 60N(구상(球狀), 중성) 100-210μm; Kanto Chemical Co., Inc. 제조, 전개 용매: n-헵탄/아세트산에틸=1/1) 분취(分取)함으로써, 식 (I-915-d)로 나타내어지는 화합물 7.48부를 얻었다.20 parts of the compound represented by the formula (I-915-a), 2.28 parts of the compound represented by the formula (I-915-c), 100 parts of ethyl acetate and 15 parts of tetrahydrofuran were mixed, followed by stirring at 23° C. for 30 minutes. . To the resulting mixed solution, 6.55 parts of a compound represented by the formula (I-915-b) was added, and the mixture was stirred at 23°C for 18 hours. To the obtained reaction mass, 20 parts of n-heptane and 70 parts of ion-exchanged water were added and stirred at 23°C for 30 minutes, followed by liquid separation to extract the organic layer. After adding 60 parts of ion-exchanged water to the recovered organic layer and stirring at 23° C. for 30 minutes, the organic layer was separated by separation. This water washing operation was repeated 4 times. The obtained organic layer was concentrated, and the concentrated mass was column (silica gel 60N (spherical, neutral) 100-210 µm; manufactured by Kanto Chemical Co., Inc., developing solvent: n-heptane/ethyl acetate = 1/1) By fractionation, 7.48 parts of a compound represented by the formula (I-915-d) was obtained.
식 (I-915-d)로 나타내어지는 화합물 0.95부 및 테트라히드로푸란 10부를 혼합하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 5℃까지 냉각하고, 수소화나트륨 0.14부를 첨가하였다. 얻어진 혼합물에, 식 (I-915-e)로 나타내어지는 염 1.01부를 첨가하고, 5℃에서 3시간 동안 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 1N 염산 6.30부를 첨가한 후, 23℃까지 온도를 상승시키고, 23℃에서 6시간 동안 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 클로로포름 30부 및 이온 교환수 15부를 첨가하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 얻어진 유기층을 농축한 후, 농축 잔사(殘渣)에, 아세토니트릴 1부 및 tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여, 23℃에서 30분간 교반한 후, 상징액을 제거하고, 농축함으로써, 식 (I-915-f)로 나타내어지는 염 1.24부를 얻었다.0.95 parts of the compound represented by the formula (I-915-d) and 10 parts of tetrahydrofuran were mixed, stirred at 23°C for 30 minutes, cooled to 5°C, and 0.14 parts of sodium hydride was added. To the resulting mixture, 1.01 parts of a salt represented by the formula (I-915-e) was added, and stirred at 5° C. for 3 hours. To the obtained mixture, after adding 6.30 parts of 1N hydrochloric acid, the temperature was raised to 23° C. and stirred at 23° C. for 6 hours. To the obtained mixture, 30 parts of chloroform and 15 parts of ion-exchanged water were added, and after stirring at 23°C for 30 minutes, the mixture was separated and the organic layer was extracted. After concentrating the obtained organic layer, 1 part of acetonitrile and 30 parts of tert-butylmethyl ether were added to the concentration residue, stirred at 23° C. for 30 minutes, and then the supernatant was removed and concentrated by formula (I- 1.24 parts of the salt represented by 915-f) were obtained.
식 (I-915-f)로 나타내어지는 염 0.99부, 식 (I-915-g)로 나타내어지는 염 0.80부 및 클로로포름 20부를 첨가하고, 23℃에서 3시간 동안 교반하였다. 얻어진 반응물에, 이온 교환수 15부를 첨가하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 얻어진 유기층에, 이온 교환수 15부를 첨가하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 5회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축한 후, 농축 잔사에, 아세토니트릴 1.5부 및 tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여, 23℃에서 30분간 교반한 후, 상징액을 제거하고, 농축함으로써, 식 (I-915)로 나타내어지는 염 1.31부를 얻었다.0.99 parts of the salt represented by the formula (I-915-f), 0.80 parts of the salt represented by the formula (I-915-g) and 20 parts of chloroform were added, and the mixture was stirred at 23° C. for 3 hours. 15 parts of ion-exchanged water was added to the obtained reaction material, and after stirring at 23 degreeC for 30 minute(s), it liquid-separated and the organic layer was extracted. After adding 15 parts of ion-exchanged water to the obtained organic layer, and stirring at 23 degreeC for 30 minute(s), it liquid-separated and the organic layer was extracted. This washing operation was repeated 5 times. After concentrating the obtained organic layer, 1.5 parts of acetonitrile and 30 parts of tert-butylmethyl ether were added to the concentration residue, stirred at 23° C. for 30 minutes, the supernatant was removed and concentrated, to formula (I-915) 1.31 parts of the indicated salt were obtained.
MASS(ESI(+) Spectrum):M+ 497.0MASS(ESI(+) Spectrum):M + 497.0
MASS(ESI(-) Spectrum):M- 323.0MASS(ESI(-) Spectrum):M - 323.0
[0251] 실시예 2: 식 (I-920)으로 나타내어지는 염의 합성[0251] Example 2: Synthesis of salt represented by formula (I-920)
식 (I-915-f)로 나타내어지는 염 0.99부, 식 (I-920-g)로 나타내어지는 염 1.20부 및 클로로포름 20부를 첨가하고, 23℃에서 3시간 동안 교반하였다. 얻어진 반응물에, 이온 교환수 15부를 첨가하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 얻어진 유기층에, 이온 교환수 15부를 첨가하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 5회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축한 후, 농축 잔사에, 아세토니트릴 1.5부 및 tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여, 23℃에서 30분간 교반한 후, 상징액을 제거하고, 농축함으로써, 식 (I-920)으로 나타내어지는 염 1.44부를 얻었다.0.99 parts of the salt represented by the formula (I-915-f), 1.20 parts of the salt represented by the formula (I-920-g) and 20 parts of chloroform were added, and the mixture was stirred at 23° C. for 3 hours. 15 parts of ion-exchanged water was added to the obtained reaction material, and after stirring at 23 degreeC for 30 minute(s), it liquid-separated and the organic layer was extracted. After adding 15 parts of ion-exchanged water to the obtained organic layer, and stirring at 23 degreeC for 30 minute(s), it liquid-separated and the organic layer was extracted. This washing operation was repeated 5 times. After concentrating the obtained organic layer, 1.5 parts of acetonitrile and 30 parts of tert-butylmethyl ether were added to the concentration residue, stirred at 23° C. for 30 minutes, the supernatant was removed and concentrated, to formula (I-920) 1.44 parts of the indicated salt were obtained.
MASS(ESI(+) Spectrum):M+ 497.0MASS(ESI(+) Spectrum):M + 497.0
MASS(ESI(-) Spectrum):M- 517.1MASS(ESI(-) Spectrum):M - 517.1
[0252] 실시예 3: 식 (I-953)으로 나타내어지는 염의 합성[0252] Example 3: Synthesis of salt represented by formula (I-953)
식 (I-915-f)로 나타내어지는 염 0.62부 및 디메틸포름아미드 30부를 혼합하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 탄산칼륨 0.16부 및 요오드화칼륨 0.05부를 첨가하고, 75℃까지 온도를 상승시켰다. 얻어진 혼합물에, 식 (I-953-a)로 나타내어지는 화합물 1.13부를 첨가하고, 75℃에서 5시간 동안 교반한 후, 23℃까지 냉각하였다. 얻어진 혼합물에, 클로로포름 50부 및 5% 옥살산 수용액 20부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 얻어진 유기층에, 이온 교환수 20부를 첨가하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 5회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축함으로써, 식 (I-953-b)로 나타내어지는 화합물 0.88부를 얻었다.0.62 parts of a salt represented by the formula (I-915-f) and 30 parts of dimethylformamide are mixed, stirred at 23°C for 30 minutes, 0.16 parts of potassium carbonate and 0.05 parts of potassium iodide are added, and the temperature is raised to 75°C did it To the resulting mixture, 1.13 parts of a compound represented by the formula (I-953-a) was added, stirred at 75°C for 5 hours, and then cooled to 23°C. To the obtained mixture, 50 parts of chloroform and 20 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution were added, stirred at 23° C. for 30 minutes, and the mixture was separated and the organic layer was extracted. 20 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and after stirring at 23 degreeC for 30 minute(s), it liquid-separated and the organic layer was extracted. This washing operation was repeated 5 times. By concentrating the obtained organic layer, 0.88 parts of a compound represented by Formula (I-953-b) was obtained.
식 (I-953-b)로 나타내어지는 염 0.76부, 식 (I-915-g)로 나타내어지는 염 0.34부, 클로로포름 30부 및 아세트산에틸 15부를 혼합하고, 23℃에서 2시간 동안 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 이온 교환수 20부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 5회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축하고, 농축 잔사에, tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 여과함으로써, 식 (I-953)으로 나타내어지는 염 0.89부를 얻었다.0.76 parts of the salt represented by the formula (I-953-b), 0.34 parts of the salt represented by the formula (I-915-g), 30 parts of chloroform and 15 parts of ethyl acetate were mixed, and stirred at 23° C. for 2 hours. To the obtained mixture, 20 parts of ion-exchanged water was added and stirred at 23°C for 30 minutes, followed by liquid separation to extract the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. The obtained organic layer was concentrated, and to the concentration residue, 30 parts of tert-butylmethyl ether was added, stirred at 23°C for 30 minutes, and filtered to obtain 0.89 parts of a salt represented by the formula (I-953).
MASS(ESI(+) Spectrum):M+ 909.3MASS(ESI(+) Spectrum):M + 909.3
MASS(ESI(-) Spectrum):M- 323.0MASS(ESI(-) Spectrum):M - 323.0
[0253] 실시예 4: 식 (I-958)로 나타내어지는 염의 합성[0253] Example 4: Synthesis of salt represented by formula (I-958)
식 (I-953-b)로 나타내어지는 염 0.76부, 식 (I-920-g)로 나타내어지는 염 0.51부, 클로로포름 30부 및 아세트산에틸 15부를 혼합하고, 23℃에서 2시간 동안 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 이온 교환수 20부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 5회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축하고, 농축 잔사에, tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 여과함으로써, 식 (I-958)로 나타내어지는 염 0.97부를 얻었다.0.76 parts of the salt represented by the formula (I-953-b), 0.51 parts of the salt represented by the formula (I-920-g), 30 parts of chloroform and 15 parts of ethyl acetate were mixed, and stirred at 23° C. for 2 hours. To the obtained mixture, 20 parts of ion-exchanged water was added and stirred at 23°C for 30 minutes, followed by liquid separation to extract the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. The obtained organic layer was concentrated, and to the concentration residue, 30 parts of tert-butylmethyl ether was added, stirred at 23°C for 30 minutes, and then filtered to obtain 0.97 parts of a salt represented by the formula (I-958).
MASS(ESI(+) Spectrum):M+ 909.3MASS(ESI(+) Spectrum):M + 909.3
MASS(ESI(-) Spectrum):M- 517.1MASS(ESI(-) Spectrum):M - 517.1
[0254] 실시예 5: 식 (I-966)으로 나타내어지는 염의 합성[0254] Example 5: Synthesis of salt represented by formula (I-966)
식 (I-953-b)로 나타내어지는 염 0.76부, 식 (I-966-g)로 나타내어지는 염 0.45부, 클로로포름 30부 및 아세트산에틸 15부를 혼합하고, 23℃에서 2시간 동안 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 이온 교환수 20부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 5회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축하고, 농축 잔사에, tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 여과함으로써, 식 (I-966)으로 나타내어지는 염 0.92부를 얻었다.0.76 parts of the salt represented by the formula (I-963-b), 0.45 parts of the salt represented by the formula (I-966-g), 30 parts of chloroform and 15 parts of ethyl acetate were mixed, and stirred at 23° C. for 2 hours. To the obtained mixture, 20 parts of ion-exchanged water was added and stirred at 23°C for 30 minutes, followed by liquid separation to extract the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. The obtained organic layer was concentrated, and to the concentration residue, 30 parts of tert-butylmethyl ether was added, stirred at 23°C for 30 minutes, and then filtered to obtain 0.92 parts of a salt represented by the formula (I-966).
MASS(ESI(+) Spectrum):M+ 909.3MASS(ESI(+) Spectrum):M + 909.3
MASS(ESI(-) Spectrum):M- 467.1MASS(ESI(-) Spectrum):M - 467.1
[0255] 실시예 6: 식 (I-236)으로 나타내어지는 염의 합성[0255] Example 6: Synthesis of salt represented by formula (I-236)
식 (I-236-a)로 나타내어지는 화합물 3.80부 및 옥손(등록상표) 6.40부를 혼합하고, 23℃에서 30분간 교반 후, 5℃까지 냉각하였다. 얻어진 혼합물에, 황산 23.56부를 첨가한 후, 5℃에서 30분간 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 식 (I-236-b)로 나타내어지는 화합물 3.68부 및 클로로포름 18.40부의 혼합 용액을 첨가하고, 5℃에서 30분간 교반 후, 추가로, 23℃에서 2시간 동안 교반하였다. 얻어진 혼합 용액을, 메탄올 120부에 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 여과하였다. 얻어진 여과액을 농축한 후, 농축 잔사에, 클로로포름 125부 및 아세토니트릴 25부를 첨가하고, 23℃에서 30분간 교반 후, 5% 염산 60부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 얻어진 유기층에 이온 교환수 40부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 3회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축하고, 농축 혼합물에 tert-부틸메틸에테르 45부를 첨가하고, 23℃에서 30분간 교반 후, 여과함으로써, 식 (I-236-c)로 나타내어지는 염 2.37부를 얻었다.3.80 parts of the compound represented by the formula (I-236-a) and 6.40 parts of Oxone (registered trademark) were mixed, stirred at 23°C for 30 minutes, and then cooled to 5°C. After adding 23.56 parts of sulfuric acid to the obtained mixture, it stirred at 5 degreeC for 30 minute(s). To the resulting mixture, a mixed solution of 3.68 parts of the compound represented by the formula (I-236-b) and 18.40 parts of chloroform was added, stirred at 5°C for 30 minutes, and further stirred at 23°C for 2 hours. After adding the obtained mixed solution to 120 parts of methanol and stirring at 23 degreeC for 30 minute(s), it filtered. After concentrating the obtained filtrate, to the concentrated residue, 125 parts of chloroform and 25 parts of acetonitrile were added, stirred at 23° C. for 30 minutes, 60 parts of 5% hydrochloric acid was added and stirred at 23° C. for 30 minutes, followed by separation and an organic layer was extracted. After adding 40 parts of ion-exchanged water to the obtained organic layer and stirring at 23 degreeC for 30 minutes, it liquid-separated and the organic layer was extracted. This washing operation was repeated 3 times. The resulting organic layer was concentrated, and 45 parts of tert-butylmethyl ether was added to the concentrated mixture, stirred at 23°C for 30 minutes, and filtered to obtain 2.37 parts of a salt represented by the formula (I-236-c).
식 (I-915-d)로 나타내어지는 화합물 0.95부 및 테트라히드로푸란 10부를 혼합하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 5℃까지 냉각하고, 수소화나트륨 0.14부를 첨가하였다. 얻어진 혼합물에, 식 (I-236-c)로 나타내어지는 염 2.32부를 첨가하고, 5℃에서 3시간 동안 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 1N 염산 6.30부를 첨가한 후, 23℃까지 온도를 상승시키고, 23℃에서 6시간 동안 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 클로로포름 30부 및 이온 교환수 15부를 첨가하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 얻어진 유기층을 농축한 후, 농축 잔사에, 아세토니트릴 1부 및 tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여, 23℃에서 30분간 교반한 후, 상징액을 제거하고, 농축함으로써, 식 (I-236-f)로 나타내어지는 염 2.19부를 얻었다.0.95 parts of the compound represented by the formula (I-915-d) and 10 parts of tetrahydrofuran were mixed, stirred at 23°C for 30 minutes, cooled to 5°C, and 0.14 parts of sodium hydride was added. To the resulting mixture, 2.32 parts of a salt represented by the formula (I-236-c) was added, and stirred at 5° C. for 3 hours. To the obtained mixture, after adding 6.30 parts of 1N hydrochloric acid, the temperature was raised to 23° C. and stirred at 23° C. for 6 hours. To the obtained mixture, 30 parts of chloroform and 15 parts of ion-exchanged water were added, and after stirring at 23°C for 30 minutes, the mixture was separated and the organic layer was extracted. After concentrating the obtained organic layer, 1 part of acetonitrile and 30 parts of tert-butylmethyl ether were added to the concentration residue, stirred at 23° C. for 30 minutes, the supernatant was removed and concentrated, and the formula (I-236-f ) of the salt represented by 2.19 parts.
식 (I-236-f)로 나타내어지는 염 0.93부, 식 (I-920-g)로 나타내어지는 염 1.20부 및 클로로포름 20부를 첨가하고, 23℃에서 3시간 동안 교반하였다. 얻어진 반응물에, 이온 교환수 15부를 첨가하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 얻어진 유기층에, 이온 교환수 15부를 첨가하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 5회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축한 후, 농축 잔사에, 아세토니트릴 1.5부 및 tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여, 23℃에서 30분간 교반한 후, 상징액을 제거하고, 농축함으로써, 식 (I-236)으로 나타내어지는 염 1.52부를 얻었다.0.93 parts of the salt represented by the formula (I-236-f), 1.20 parts of the salt represented by the formula (I-920-g) and 20 parts of chloroform were added, and the mixture was stirred at 23° C. for 3 hours. 15 parts of ion-exchanged water was added to the obtained reaction material, and after stirring at 23 degreeC for 30 minute(s), it liquid-separated and the organic layer was extracted. After adding 15 parts of ion-exchanged water to the obtained organic layer, and stirring at 23 degreeC for 30 minute(s), it liquid-separated and the organic layer was extracted. This washing operation was repeated 5 times. After concentrating the obtained organic layer, 1.5 parts of acetonitrile and 30 parts of tert-butylmethyl ether were added to the concentration residue, stirred at 23° C. for 30 minutes, the supernatant solution was removed and concentrated, to formula (I-236) 1.52 parts of the indicated salt were obtained.
MASS(ESI(+) Spectrum):M+ 459.1MASS(ESI(+) Spectrum):M + 459.1
MASS(ESI(-) Spectrum):M- 517.1MASS(ESI(-) Spectrum):M - 517.1
[0256] 실시예 7: 식 (I-274)로 나타내어지는 염의 합성[0256] Example 7: Synthesis of salt represented by formula (I-274)
식 (I-236-f)로 나타내어지는 염 1.37부 및 디메틸포름아미드 30부를 혼합하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 탄산칼륨 0.16부 및 요오드화칼륨 0.05부를 첨가하고, 75℃까지 온도를 상승시켰다. 얻어진 혼합물에, 식 (I-953-a)로 나타내어지는 화합물 1.13부를 첨가하고, 75℃에서 5시간 동안 교반한 후, 23℃까지 냉각하였다. 얻어진 혼합물에, 클로로포름 50부 및 5% 옥살산 수용액 20부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 얻어진 유기층에, 이온 교환수 20부를 첨가하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 5회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축함으로써, 식 (I-274-b)로 나타내어지는 화합물 1.55부를 얻었다.1.37 parts of the salt represented by the formula (I-236-f) and 30 parts of dimethylformamide are mixed, stirred at 23°C for 30 minutes, 0.16 parts of potassium carbonate and 0.05 parts of potassium iodide are added, and the temperature is raised to 75°C did it To the resulting mixture, 1.13 parts of a compound represented by the formula (I-953-a) was added, stirred at 75°C for 5 hours, and then cooled to 23°C. To the obtained mixture, 50 parts of chloroform and 20 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution were added, stirred at 23° C. for 30 minutes, and the mixture was separated and the organic layer was extracted. 20 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and after stirring at 23 degreeC for 30 minute(s), it liquid-separated and the organic layer was extracted. This washing operation was repeated 5 times. By concentrating the obtained organic layer, 1.55 parts of a compound represented by Formula (I-274-b) was obtained.
식 (I-274-b)로 나타내어지는 염 0.56부, 식 (I-920-g)로 나타내어지는 염 0.51부, 클로로포름 30부 및 아세트산에틸 15부를 혼합하고, 23℃에서 2시간 동안 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 이온 교환수 20부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 5회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축하고, 농축 잔사에, tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 여과함으로써, 식 (I-274)로 나타내어지는 염 0.71부를 얻었다.0.56 parts of the salt represented by the formula (I-274-b), 0.51 parts of the salt represented by the formula (I-920-g), 30 parts of chloroform and 15 parts of ethyl acetate were mixed, and stirred at 23° C. for 2 hours. To the obtained mixture, 20 parts of ion-exchanged water was added and stirred at 23°C for 30 minutes, followed by liquid separation to extract the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. The obtained organic layer was concentrated, 30 parts of tert-butylmethyl ether was added to the concentration residue, stirred at 23°C for 30 minutes, and then filtered to obtain 0.71 parts of a salt represented by the formula (I-274).
MASS(ESI(+) Spectrum):M+ 665.2MASS(ESI(+) Spectrum):M + 665.2
MASS(ESI(-) Spectrum):M- 517.1MASS(ESI(-) Spectrum):M - 517.1
[0257] 실시예 8: 식 (I-282)로 나타내어지는 염의 합성[0257] Example 8: Synthesis of the salt represented by the formula (I-282)
식 (I-274-b)로 나타내어지는 염 0.56부, 식 (I-966-g)로 나타내어지는 염 0.45부, 클로로포름 30부 및 아세트산에틸 15부를 혼합하고, 23℃에서 2시간 동안 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 이온 교환수 20부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 5회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축하고, 농축 잔사에, tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 여과함으로써, 식 (I-282)로 나타내어지는 염 0.68부를 얻었다.0.56 parts of the salt represented by the formula (I-274-b), 0.45 parts of the salt represented by the formula (I-966-g), 30 parts of chloroform and 15 parts of ethyl acetate were mixed, and stirred at 23° C. for 2 hours. To the obtained mixture, 20 parts of ion-exchanged water was added and stirred at 23°C for 30 minutes, followed by liquid separation to extract the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. The resulting organic layer was concentrated, and 30 parts of tert-butylmethyl ether was added to the concentrated residue, stirred at 23°C for 30 minutes, and filtered to obtain 0.68 parts of a salt represented by the formula (I-282).
MASS(ESI(+) Spectrum):M+ 665.2MASS(ESI(+) Spectrum):M + 665.2
MASS(ESI(-) Spectrum):M- 467.1MASS(ESI(-) Spectrum):M - 467.1
[0258] 실시예 9: 식 (I-1764)로 나타내어지는 염의 합성[0258] Example 9: Synthesis of salt represented by formula (I-1764)
식 (I-915-d)로 나타내어지는 화합물 0.95부 및 테트라히드로푸란 10부를 혼합하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 5℃까지 냉각하고, 수소화나트륨 0.14부를 첨가하였다. 얻어진 혼합물에, 식 (I-915-e)로 나타내어지는 염 1.01부를 첨가하고, 5℃에서 3시간 동안 교반한 후, 23℃까지 온도를 상승시키고, 23℃에서 1시간 동안 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 클로로포름 30부 및 이온 교환수 15부를 첨가하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 얻어진 유기층을 농축한 후, 농축 잔사에, tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여, 23℃에서 30분간 교반한 후, 상징액을 제거하고, 농축함으로써, 식 (I-1764-f)로 나타내어지는 염 1.52부를 얻었다.0.95 parts of the compound represented by the formula (I-915-d) and 10 parts of tetrahydrofuran were mixed, stirred at 23°C for 30 minutes, cooled to 5°C, and 0.14 parts of sodium hydride was added. To the resulting mixture, 1.01 parts of a salt represented by the formula (I-915-e) was added, and after stirring at 5°C for 3 hours, the temperature was raised to 23°C and stirred at 23°C for 1 hour. To the obtained mixture, 30 parts of chloroform and 15 parts of ion-exchanged water were added, and after stirring at 23°C for 30 minutes, the mixture was separated and the organic layer was extracted. After concentrating the obtained organic layer, 30 parts of tert-butylmethyl ether was added to the concentration residue, stirred at 23° C. for 30 minutes, the supernatant was removed and concentrated, and the salt represented by the formula (I-1764-f) 1.52 copies were obtained.
식 (I-1764-b)로 나타내어지는 염 0.54부, 식 (I-966-g)로 나타내어지는 염 0.45부, 클로로포름 30부 및 아세트산에틸 15부를 혼합하고, 23℃에서 2시간 동안 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 이온 교환수 20부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 5회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축하고, 농축 잔사에, tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 여과함으로써, 식 (I-1764)로 나타내어지는 염 0.71부를 얻었다.0.54 parts of the salt represented by the formula (I-1764-b), 0.45 parts of the salt represented by the formula (I-966-g), 30 parts of chloroform and 15 parts of ethyl acetate were mixed, and stirred at 23° C. for 2 hours. To the obtained mixture, 20 parts of ion-exchanged water was added and stirred at 23°C for 30 minutes, followed by liquid separation to extract the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. The obtained organic layer was concentrated, and 30 parts of tert-butylmethyl ether was added to the concentration residue, stirred at 23°C for 30 minutes, and then filtered to obtain 0.71 parts of the salt represented by the formula (I-1764).
MASS(ESI(+) Spectrum):M+ 641.1MASS(ESI(+) Spectrum):M + 641.1
MASS(ESI(-) Spectrum):M- 467.1MASS(ESI(-) Spectrum):M - 467.1
[0259] 실시예 10: 식 (I-1802)로 나타내어지는 염의 합성[0259] Example 10: Synthesis of the salt represented by the formula (I-1802)
식 (I-1802-d)로 나타내어지는 화합물 10.12부, 식 (I-915-e)로 나타내어지는 염 7.77부 및 디메틸포름아미드 90부를 혼합하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 90℃까지 온도를 상승시켰다. 얻어진 혼합물에, 탄산칼륨 14.41부를 첨가하고, 90℃에서 3시간 동안 교반한 후, 23℃까지 냉각하였다. 얻어진 혼합물에, 클로로포름 200부 및 이온 교환수 150부를 첨가하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 얻어진 유기층에, 이온 교환수 150부를 첨가하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 3회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축한 후, 농축 잔사에, 아세토니트릴 5부 및 tert-부틸메틸에테르 150부를 첨가하여, 23℃에서 30분간 교반한 후, 상징액을 제거하고, 농축함으로써, 식 (I-1802-f)로 나타내어지는 염 13.12부를 얻었다.10.12 parts of the compound represented by the formula (I-1802-d), 7.77 parts of the salt represented by the formula (I-915-e) and 90 parts of dimethylformamide are mixed, stirred at 23° C. for 30 minutes, and then heated to 90° C. The temperature was raised. To the resulting mixture, 14.41 parts of potassium carbonate was added, stirred at 90°C for 3 hours, and then cooled to 23°C. To the obtained mixture, 200 parts of chloroform and 150 parts of ion-exchanged water were added, and after stirring at 23°C for 30 minutes, the mixture was separated and the organic layer was extracted. To the obtained organic layer, 150 parts of ion-exchanged water was added, and after stirring at 23 degreeC for 30 minute(s), it liquid-separated and the organic layer was extracted. This washing operation was repeated 3 times. After concentrating the obtained organic layer, 5 parts of acetonitrile and 150 parts of tert-butylmethyl ether were added to the concentration residue, stirred at 23° C. for 30 minutes, the supernatant was removed and concentrated, and the formula (I-1802-f 13.12 parts of the salt represented by ) was obtained.
식 (I-1802-f)로 나타내어지는 염 0.56부, 식 (I-966-g)로 나타내어지는 염 0.45부, 클로로포름 30부 및 아세트산에틸 15부를 혼합하고, 23℃에서 2시간 동안 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 이온 교환수 20부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 5회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축하고, 농축 잔사에, tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 여과함으로써, 식 (I-1802)로 나타내어지는 염 0.81부를 얻었다.0.56 parts of the salt represented by the formula (I-1802-f), 0.45 parts of the salt represented by the formula (I-966-g), 30 parts of chloroform and 15 parts of ethyl acetate were mixed, and stirred at 23° C. for 2 hours. To the obtained mixture, 20 parts of ion-exchanged water was added and stirred at 23°C for 30 minutes, followed by liquid separation to extract the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. The obtained organic layer was concentrated, and 30 parts of tert-butylmethyl ether was added to the concentration residue, stirred at 23 degreeC for 30 minutes, and filtered, 0.81 part of salt represented by Formula (I-1802) was obtained.
MASS(ESI(+) Spectrum):M+ 665.1MASS(ESI(+) Spectrum):M + 665.1
MASS(ESI(-) Spectrum):M- 467.1MASS(ESI(-) Spectrum):M - 467.1
[0260] 실시예 11: 식 (I-1460)으로 나타내어지는 염의 합성[0260] Example 11: Synthesis of salt represented by formula (I-1460)
식 (I-915-d)로 나타내어지는 화합물 0.95부 및 테트라히드로푸란 10부를 혼합하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 5℃까지 냉각하고, 수소화나트륨 0.14부를 첨가하였다. 얻어진 혼합물에, 식 (I-236-c)로 나타내어지는 염 2.32부를 첨가하고, 5℃에서 3시간 동안 교반한 후, 23℃까지 온도를 상승시키고, 23℃에서 1시간 동안 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 클로로포름 30부 및 이온 교환수 15부를 첨가하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 얻어진 유기층을 농축한 후, 농축 잔사에, 아세토니트릴 1부 및 tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여, 23℃에서 30분간 교반한 후, 상징액을 제거하고, 농축함으로써, 식 (I-1460-f)로 나타내어지는 염 2.74부를 얻었다.0.95 parts of the compound represented by the formula (I-915-d) and 10 parts of tetrahydrofuran were mixed, stirred at 23°C for 30 minutes, cooled to 5°C, and 0.14 parts of sodium hydride was added. To the obtained mixture, 2.32 parts of a salt represented by the formula (I-236-c) was added, and after stirring at 5°C for 3 hours, the temperature was raised to 23°C and stirred at 23°C for 1 hour. To the obtained mixture, 30 parts of chloroform and 15 parts of ion-exchanged water were added, and after stirring at 23°C for 30 minutes, the mixture was separated and the organic layer was extracted. After concentrating the obtained organic layer, 1 part of acetonitrile and 30 parts of tert-butylmethyl ether were added to the concentration residue, stirred at 23° C. for 30 minutes, the supernatant was removed and concentrated, and the formula (I-1460-f ) of the salt represented by 2.74 parts.
식 (I-1460-f)로 나타내어지는 염 0.45부, 식 (I-966-g)로 나타내어지는 염 0.45부, 클로로포름 30부 및 아세트산에틸 15부를 혼합하고, 23℃에서 2시간 동안 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 이온 교환수 20부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 5회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축하고, 농축 잔사에, tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 여과함으로써, 식 (I-1460)으로 나타내어지는 염 0.62부를 얻었다.0.45 parts of the salt represented by the formula (I-1460-f), 0.45 parts of the salt represented by the formula (I-966-g), 30 parts of chloroform and 15 parts of ethyl acetate were mixed and stirred at 23° C. for 2 hours. To the obtained mixture, 20 parts of ion-exchanged water was added and stirred at 23°C for 30 minutes, followed by liquid separation to extract the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. The obtained organic layer was concentrated, 30 parts of tert-butylmethyl ether was added to the concentration residue, stirred at 23°C for 30 minutes, and then filtered to obtain 0.62 parts of a salt represented by the formula (I-1460).
MASS(ESI(+) Spectrum):M+ 531.1MASS(ESI(+) Spectrum):M + 531.1
MASS(ESI(-) Spectrum):M- 467.1MASS(ESI(-) Spectrum):M - 467.1
[0261] 실시예 12: 식 (I-1574)로 나타내어지는 염의 합성[0261] Example 12: Synthesis of the salt represented by the formula (I-1574)
식 (I-1802-d)로 나타내어지는 화합물 1.01부, 식 (I-236-e)로 나타내어지는 염 1.78부 및 디메틸포름아미드 20부를 혼합하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 90℃까지 온도를 상승시켰다. 얻어진 혼합물에, 탄산칼륨 1.44부를 첨가하고, 90℃에서 3시간 동안 교반한 후, 23℃까지 냉각하였다. 얻어진 혼합물에, 클로로포름 30부 및 이온 교환수 15부를 첨가하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 얻어진 유기층에, 이온 교환수 15부를 첨가하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 3회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축한 후, 농축 잔사에, 아세토니트릴 1부 및 tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여, 23℃에서 30분간 교반한 후, 상징액을 제거하고, 농축함으로써, 식 (I-1574-f)로 나타내어지는 염 1.99부를 얻었다.1.01 parts of the compound represented by the formula (I-1802-d), 1.78 parts of the salt represented by the formula (I-236-e) and 20 parts of dimethylformamide are mixed, stirred at 23° C. for 30 minutes, and then heated to 90° C. The temperature was raised. To the resulting mixture, 1.44 parts of potassium carbonate was added, stirred at 90°C for 3 hours, and then cooled to 23°C. To the obtained mixture, 30 parts of chloroform and 15 parts of ion-exchanged water were added, and after stirring at 23°C for 30 minutes, the mixture was separated and the organic layer was extracted. After adding 15 parts of ion-exchanged water to the obtained organic layer, and stirring at 23 degreeC for 30 minute(s), it liquid-separated and the organic layer was extracted. This washing operation was repeated 3 times. After concentrating the obtained organic layer, to the concentration residue, 1 part of acetonitrile and 30 parts of tert-butylmethyl ether were added, stirred at 23° C. for 30 minutes, the supernatant was removed and concentrated, and the formula (I-1574-f ) of the salt represented by 1.99 parts.
식 (I-1574-f)로 나타내어지는 염 0.46부, 식 (I-966-g)로 나타내어지는 염 0.45부, 클로로포름 30부 및 아세트산에틸 15부를 혼합하고, 23℃에서 2시간 동안 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 이온 교환수 20부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 5회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축하고, 농축 잔사에, tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 여과함으로써, 식 (I-1574)로 나타내어지는 염 0.69부를 얻었다.0.46 parts of the salt represented by the formula (I-1574-f), 0.45 parts of the salt represented by the formula (I-966-g), 30 parts of chloroform and 15 parts of ethyl acetate were mixed, and stirred at 23° C. for 2 hours. To the obtained mixture, 20 parts of ion-exchanged water was added and stirred at 23°C for 30 minutes, followed by liquid separation to extract the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. The obtained organic layer was concentrated, and 30 parts of tert-butylmethyl ether was added to the concentration residue, stirred at 23 degreeC for 30 minutes, and filtered, 0.69 parts of salt represented by Formula (I-1574) was obtained.
MASS(ESI(+) Spectrum):M+ 543.1MASS(ESI(+) Spectrum):M + 543.1
MASS(ESI(-) Spectrum):M- 467.1MASS(ESI(-) Spectrum):M - 467.1
[0262] 실시예 13: 식 (I-1536)으로 나타내어지는 염의 합성[0262] Example 13: Synthesis of the salt represented by the formula (I-1536)
식 (I-1536-a)로 나타내어지는 화합물 6.57부, 식 (I-915-c)로 나타내어지는 화합물 0.23부, 아세트산에틸 30부 및 테트라히드로푸란 15부를 혼합하고, 23℃에서 30분간 교반하였다. 얻어진 혼합 용액에, 식 (I-915-b)로 나타내어지는 화합물 0.66부를 첨가하고, 23℃에서 18시간 동안 교반하였다. 얻어진 반응 매스에, n-헵탄 100부 및 이온 교환수 20부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 회수된 유기층에 이온 교환수 20부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 4회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축하고, 농축 매스를 칼럼(실리카 겔 60N(구상, 중성) 100-210μm; Kanto Chemical Co., Inc. 제조, 전개 용매: n-헵탄/아세트산에틸=1/1) 분취함으로써, 식 (I-1536-d)로 나타내어지는 화합물 6.28부를 얻었다.6.57 parts of the compound represented by the formula (I-1536-a), 0.23 parts of the compound represented by the formula (I-915-c), 30 parts of ethyl acetate and 15 parts of tetrahydrofuran were mixed, and stirred at 23° C. for 30 minutes. . To the resulting mixed solution, 0.66 parts of a compound represented by formula (I-915-b) was added, and the mixture was stirred at 23° C. for 18 hours. To the obtained reaction mass, 100 parts of n-heptane and 20 parts of ion-exchanged water were added, and after stirring at 23 degreeC for 30 minutes, it liquid-separated and the organic layer was extracted. 20 parts of ion-exchanged water was added to the recovered organic layer, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes, followed by separation to extract the organic layer. This washing operation was repeated 4 times. The obtained organic layer was concentrated, and the concentrated mass was separated by column (silica gel 60N (spherical, neutral) 100-210 µm; manufactured by Kanto Chemical Co., Inc., developing solvent: n-heptane/ethyl acetate = 1/1), 6.28 parts of the compound represented by (I-1536-d) was obtained.
식 (I-1536-d)로 나타내어지는 화합물 2.26부 및 테트라히드로푸란 10부를 혼합하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 5℃까지 냉각하고, 수소화나트륨 0.14부를 첨가하였다. 얻어진 혼합물에, 식 (I-236-c)로 나타내어지는 염 2.32부를 첨가하고, 5℃에서 3시간 동안 교반한 후, 23℃까지 온도를 상승시키고, 23℃에서 1시간 동안 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 클로로포름 30부 및 이온 교환수 15부를 첨가하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 얻어진 유기층을 농축한 후, 농축 잔사에, 아세토니트릴 1부 및 tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여, 23℃에서 30분간 교반한 후, 상징액을 제거하고, 농축함으로써, 식 (I-1536-f)로 나타내어지는 염 1.36부를 얻었다.2.26 parts of the compound represented by the formula (I-1536-d) and 10 parts of tetrahydrofuran were mixed, stirred at 23°C for 30 minutes, cooled to 5°C, and 0.14 parts of sodium hydride was added. To the obtained mixture, 2.32 parts of a salt represented by the formula (I-236-c) was added, and after stirring at 5°C for 3 hours, the temperature was raised to 23°C and stirred at 23°C for 1 hour. To the obtained mixture, 30 parts of chloroform and 15 parts of ion-exchanged water were added, and after stirring at 23°C for 30 minutes, the mixture was separated and the organic layer was extracted. After concentrating the obtained organic layer, 1 part of acetonitrile and 30 parts of tert-butylmethyl ether were added to the concentration residue, stirred at 23° C. for 30 minutes, the supernatant was removed and concentrated, and the formula (I-1536-f ) of the salt represented by 1.36 parts.
식 (I-1536-f)로 나타내어지는 염 0.65부, 식 (I-966-g)로 나타내어지는 염 0.45부, 클로로포름 30부 및 아세트산에틸 15부를 혼합하고, 23℃에서 2시간 동안 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 이온 교환수 20부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 5회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축하고, 농축 잔사에, tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 여과함으로써, 식 (I-1536)으로 나타내어지는 염 0.76부를 얻었다.0.65 parts of the salt represented by the formula (I-1536-f), 0.45 parts of the salt represented by the formula (I-966-g), 30 parts of chloroform and 15 parts of ethyl acetate were mixed, and stirred at 23° C. for 2 hours. To the obtained mixture, 20 parts of ion-exchanged water was added and stirred at 23°C for 30 minutes, followed by liquid separation to extract the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. The resulting organic layer was concentrated, and 30 parts of tert-butylmethyl ether was added to the concentration residue, stirred at 23°C for 30 minutes, and then filtered to obtain 0.76 parts of a salt represented by the formula (I-1536).
MASS(ESI(+) Spectrum):M+ 782.9MASS(ESI(+) Spectrum):M + 782.9
MASS(ESI(-) Spectrum):M- 467.1MASS(ESI(-) Spectrum):M - 467.1
[0263] 실시예 14: 식 (I-1612)로 나타내어지는 염의 합성[0263] Example 14: Synthesis of the salt represented by the formula (I-1612)
식 (I-1536-d)로 나타내어지는 화합물 2.26부 및 테트라히드로푸란 10부를 혼합하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 5℃까지 냉각하고, 수소화나트륨 0.14부를 첨가하였다. 얻어진 혼합물에, 식 (I-236-c)로 나타내어지는 염 2.32부를 첨가하고, 5℃에서 3시간 동안 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 1N 염산 6.30부를 첨가한 후, 23℃까지 온도를 상승시키고, 23℃에서 6시간 동안 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 클로로포름 30부 및 이온 교환수 15부를 첨가하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 얻어진 유기층을 농축한 후, 농축 잔사에, 아세토니트릴 1부 및 tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여, 23℃에서 30분간 교반한 후, 상징액을 제거하고, 농축함으로써, 식 (I-1612-f)로 나타내어지는 염 1.01부를 얻었다.2.26 parts of the compound represented by the formula (I-1536-d) and 10 parts of tetrahydrofuran were mixed, stirred at 23°C for 30 minutes, cooled to 5°C, and 0.14 parts of sodium hydride was added. To the resulting mixture, 2.32 parts of a salt represented by the formula (I-236-c) was added, and stirred at 5° C. for 3 hours. To the obtained mixture, after adding 6.30 parts of 1N hydrochloric acid, the temperature was raised to 23° C. and stirred at 23° C. for 6 hours. To the obtained mixture, 30 parts of chloroform and 15 parts of ion-exchanged water were added, and after stirring at 23°C for 30 minutes, the mixture was separated and the organic layer was extracted. After concentrating the obtained organic layer, 1 part of acetonitrile and 30 parts of tert-butylmethyl ether were added to the concentration residue, stirred at 23° C. for 30 minutes, the supernatant solution was removed and concentrated, and the formula (I-1612-f ) of the salt represented by 1.01 parts.
식 (I-1612-f)로 나타내어지는 염 0.59부, 식 (I-966-g)로 나타내어지는 염 0.45부, 클로로포름 30부 및 아세트산에틸 15부를 혼합하고, 23℃에서 2시간 동안 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 이온 교환수 20부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 5회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축하고, 농축 잔사에, tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 여과함으로써, 식 (I-1612)로 나타내어지는 염 0.58부를 얻었다.0.59 parts of the salt represented by the formula (I-1612-f), 0.45 parts of the salt represented by the formula (I-966-g), 30 parts of chloroform and 15 parts of ethyl acetate were mixed, and stirred at 23°C for 2 hours. To the obtained mixture, 20 parts of ion-exchanged water was added and stirred at 23°C for 30 minutes, followed by liquid separation to extract the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. The obtained organic layer was concentrated, and 30 parts of tert-butylmethyl ether was added to the concentration residue, stirred at 23 degreeC for 30 minutes, and filtered, 0.58 part of salt represented by Formula (I-1612) was obtained.
MASS(ESI(+) Spectrum):M+ 710.9MASS(ESI(+) Spectrum):M + 710.9
MASS(ESI(-) Spectrum):M- 467.1MASS(ESI(-) Spectrum):M - 467.1
[0264] 실시예 15: 식 (I-1688)로 나타내어지는 염의 합성[0264] Example 15: Synthesis of salt represented by formula (I-1688)
식 (I-1612-f)로 나타내어지는 염 1.00부 및 디메틸포름아미드 30부를 혼합하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 탄산칼륨 0.08부 및 요오드화칼륨 0.03부를 첨가하고, 75℃까지 온도를 상승시켰다. 얻어진 혼합물에, 식 (I-953-a)로 나타내어지는 화합물 0.55부를 첨가하고, 75℃에서 5시간 동안 교반한 후, 23℃까지 냉각하였다. 얻어진 혼합물에, 클로로포름 50부 및 5% 옥살산 수용액 20부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 얻어진 유기층에, 이온 교환수 20부를 첨가하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 5회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축함으로써, 식 (I-1688-b)로 나타내어지는 화합물 1.11부를 얻었다.1.00 parts of the salt represented by the formula (I-1612-f) and 30 parts of dimethylformamide are mixed, stirred at 23°C for 30 minutes, 0.08 parts of potassium carbonate and 0.03 parts of potassium iodide are added, and the temperature is raised to 75°C did it To the obtained mixture, 0.55 parts of a compound represented by the formula (I-953-a) was added, stirred at 75°C for 5 hours, and then cooled to 23°C. To the obtained mixture, 50 parts of chloroform and 20 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution were added, stirred at 23° C. for 30 minutes, and the mixture was separated and the organic layer was extracted. 20 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and after stirring at 23 degreeC for 30 minute(s), it liquid-separated and the organic layer was extracted. This washing operation was repeated 5 times. By concentrating the obtained organic layer, 1.11 parts of a compound represented by the formula (I-1688-b) was obtained.
식 (I-1688-b)로 나타내어지는 염 0.76부, 식 (I-966-g)로 나타내어지는 염 0.45부, 클로로포름 30부 및 아세트산에틸 15부를 혼합하고, 23℃에서 2시간 동안 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 이온 교환수 20부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 5회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축하고, 농축 잔사에, tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 여과함으로써, 식 (I-1688)로 나타내어지는 염 0.94부를 얻었다.0.76 parts of the salt represented by the formula (I-1688-b), 0.45 parts of the salt represented by the formula (I-966-g), 30 parts of chloroform and 15 parts of ethyl acetate were mixed, and stirred at 23° C. for 2 hours. To the obtained mixture, 20 parts of ion-exchanged water was added and stirred at 23°C for 30 minutes, followed by liquid separation to extract the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. The obtained organic layer was concentrated, 30 parts of tert-butylmethyl ether was added to the concentration residue, stirred at 23°C for 30 minutes, and then filtered to obtain 0.94 parts of a salt represented by the formula (I-1688).
MASS(ESI(+) Spectrum):M+ 917.0MASS(ESI(+) Spectrum):M + 917.0
MASS(ESI(-) Spectrum):M- 467.1MASS(ESI(-) Spectrum):M - 467.1
[0265] 실시예 16: 식 (I-1878)로 나타내어지는 염의 합성[0265] Example 16: Synthesis of the salt represented by the formula (I-1878)
식 (I-1536-d)로 나타내어지는 화합물 2.26부, 식 (I-915-e)로 나타내어지는 염 0.78부 및 디메틸포름아미드 30부를 혼합하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 90℃까지 온도를 상승시켰다. 얻어진 혼합물에, 탄산칼륨 1.44부를 첨가하고, 90℃에서 3시간 동안 교반한 후, 23℃까지 냉각하였다. 얻어진 혼합물에, 클로로포름 50부 및 이온 교환수 30부를 첨가하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 얻어진 유기층에, 이온 교환수 30부를 첨가하고, 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 3회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축한 후, 농축 잔사에, 아세토니트릴 3부 및 tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여, 23℃에서 30분간 교반한 후, 상징액을 제거하고, 농축함으로써, 식 (I-1878-f)로 나타내어지는 염 1.91부를 얻었다.2.26 parts of the compound represented by the formula (I-1536-d), 0.78 parts of the salt represented by the formula (I-915-e) and 30 parts of dimethylformamide are mixed, stirred at 23° C. for 30 minutes, and then heated to 90° C. The temperature was raised. To the resulting mixture, 1.44 parts of potassium carbonate was added, stirred at 90°C for 3 hours, and then cooled to 23°C. To the obtained mixture, 50 parts of chloroform and 30 parts of ion-exchanged water were added, and after stirring at 23°C for 30 minutes, the mixture was separated and the organic layer was extracted. 30 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and after stirring at 23 degreeC for 30 minute(s), it liquid-separated and the organic layer was extracted. This washing operation was repeated 3 times. After concentrating the obtained organic layer, 3 parts of acetonitrile and 30 parts of tert-butylmethyl ether were added to the concentration residue, stirred at 23° C. for 30 minutes, the supernatant was removed and concentrated, and the formula (I-1878-f ) of the salt represented by 1.91 parts.
식 (I-1878-f)로 나타내어지는 염 0.94부, 식 (I-966-g)로 나타내어지는 염 0.45부, 클로로포름 30부 및 아세트산에틸 15부를 혼합하고, 23℃에서 2시간 동안 교반하였다. 얻어진 혼합물에, 이온 교환수 20부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 분액하여 유기층을 추출하였다. 이 수세 조작을 5회 반복하였다. 얻어진 유기층을 농축하고, 농축 잔사에, tert-부틸메틸에테르 30부를 첨가하여 23℃에서 30분간 교반한 후, 여과함으로써, 식 (I-1878)로 나타내어지는 염 1.13부를 얻었다.0.94 parts of the salt represented by the formula (I-1878-f), 0.45 parts of the salt represented by the formula (I-966-g), 30 parts of chloroform and 15 parts of ethyl acetate were mixed, and stirred at 23° C. for 2 hours. To the obtained mixture, 20 parts of ion-exchanged water was added and stirred at 23°C for 30 minutes, followed by liquid separation to extract the organic layer. This washing operation was repeated 5 times. The obtained organic layer was concentrated, 30 parts of tert-butylmethyl ether was added to the concentration residue, stirred at 23°C for 30 minutes, and then filtered to obtain 1.13 parts of a salt represented by the formula (I-1878).
MASS(ESI(+) Spectrum):M+ 1144.7MASS(ESI(+) Spectrum):M + 1144.7
MASS(ESI(-) Spectrum):M- 467.1MASS(ESI(-) Spectrum):M - 467.1
[0266] 수지의 합성[0266] Synthesis of resin
수지(A)의 합성에 사용한 화합물(모노머)을 하기에 나타낸다. 이하, 이들 화합물을 그 식 번호에 따라, 「모노머(a1-1-3)」 등이라고 한다.The compound (monomer) used for the synthesis|combination of resin (A) is shown below. Hereinafter, these compounds are called "monomer (a1-1-3)" etc. according to the formula number.
[0267] 합성예 1〔수지 A1의 합성〕[0267] Synthesis Example 1 [Synthesis of Resin A1]
모노머로서, 모노머(a1-4-2), 모노머(a1-1-3) 및 모노머(a1-2-6)을 사용하여, 그 몰비〔모노머(a1-4-2):모노머(a1-1-3):모노머(a1-2-6)〕가, 38:24:38의 비율이 되도록 혼합하고, 추가로, 이 모노머 혼합물에, 전체 모노머의 합계 질량에 대해, 1.5질량 배(倍)의 메틸이소부틸케톤을 혼합하였다. 얻어진 혼합물에, 개시제로서 아조비스이소부티로니트릴을 전체 모노머의 합계 몰수에 대해, 7mol%가 되도록 첨가하고, 이를 85℃에서 약 5시간 동안 가열함으로써 중합을 행하였다. 그 후, 중합 반응액에, 전체 모노머의 합계 질량에 대해, 2.0질량 배의 p-톨루엔설폰산 수용액(2.5중량%)을 첨가하고, 6시간 동안 교반한 후, 분액하였다. 얻어진 유기층을, 대량의 n-헵탄에 부어 수지를 석출시키고, 여과·회수함으로써, 중량 평균 분자량이 약 5.3×103인 수지 A1(공중합체)을 수율 78%로 얻었다. 이 수지 A1은, 이하의 구조 단위를 가지는 것이다.As a monomer, using a monomer (a1-4-2), a monomer (a1-1-3) and a monomer (a1-2-6), the molar ratio [monomer (a1-4-2):monomer (a1-1) -3):monomer (a1-2-6)] is mixed in a ratio of 38:24:38, and further, in this monomer mixture, 1.5 mass times the total mass of all monomers. Methyl isobutyl ketone was mixed. To the obtained mixture, azobisisobutyronitrile as an initiator was added so as to be 7 mol% based on the total number of moles of all monomers, and polymerization was performed by heating it at 85°C for about 5 hours. Thereafter, an aqueous solution of p-toluenesulfonic acid (2.5 wt%) in an amount of 2.0 mass times based on the total mass of all monomers was added to the polymerization reaction solution, stirred for 6 hours, and then liquid-separated. The obtained organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, followed by filtration and collection to obtain Resin A1 (copolymer) having a weight average molecular weight of about 5.3×10 3 in a yield of 78%. This resin A1 has the following structural units.
[0268] 합성예 2〔수지 A2의 합성〕[0268] Synthesis Example 2 [Synthesis of Resin A2]
모노머로서, 모노머(a1-4-2) 및 모노머(a1-2-6)을 사용하여, 그 몰비〔모노머(a1-4-2):모노머(a1-2-6)〕가, 38:62의 비율이 되도록 혼합하고, 추가로, 이 모노머 혼합물에, 전체 모노머의 합계 질량에 대해, 1.5질량 배의 메틸이소부틸케톤을 혼합하였다. 얻어진 혼합물에, 개시제로서 아조비스이소부티로니트릴을 전체 모노머의 합계 몰수에 대해, 7mol%가 되도록 첨가하고, 이를 85℃에서 약 5시간 동안 가열함으로써 중합을 행하였다. 그 후, 중합 반응액에, 전체 모노머의 합계 질량에 대해, 2.0질량 배의 p-톨루엔설폰산 수용액(2.5중량%)을 첨가하고, 6시간 동안 교반한 후, 분액하였다. 얻어진 유기층을, 대량의 n-헵탄에 부어 수지를 석출시키고, 여과·회수함으로써, 중량 평균 분자량이 약 5.4×103인 수지 A2(공중합체)를 수율 89%로 얻었다. 이 수지 A2는, 이하의 구조 단위를 가지는 것이다.Using the monomer (a1-4-2) and the monomer (a1-2-6) as the monomer, the molar ratio [monomer (a1-4-2):monomer (a1-2-6)] is 38:62 It mixed so that it might become the ratio of , and 1.5 mass times of methyl isobutyl ketone was mixed with this monomer mixture with respect to the total mass of all the monomers further. To the obtained mixture, azobisisobutyronitrile as an initiator was added so as to be 7 mol% based on the total number of moles of all monomers, and polymerization was performed by heating it at 85°C for about 5 hours. Thereafter, an aqueous solution of p-toluenesulfonic acid (2.5 wt%) in an amount of 2.0 mass times based on the total mass of all monomers was added to the polymerization reaction solution, stirred for 6 hours, and then liquid-separated. The obtained organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, followed by filtration and collection to obtain Resin A2 (copolymer) having a weight average molecular weight of about 5.4×10 3 in a yield of 89%. This resin A2 has the following structural units.
[0269] 합성예 3〔수지 A3의 합성〕[0269] Synthesis Example 3 [Synthesis of Resin A3]
모노머로서, 모노머(a1-1-3), 모노머(a1-2-6), 모노머(a2-1-3), 모노머(a3-4-2) 및 모노머(aa1-4-2)를 사용하여, 그 몰비〔모노머(a1-1-3):모노머(a1-2-6):모노머(a2-1-3):모노머(a3-4-2):모노머(a1-4-2)〕가, 20:35:3:15:27의 비율이 되도록 혼합하고, 추가로, 이 모노머 혼합물에, 전체 모노머의 합계 질량에 대해, 1.5질량 배의 메틸이소부틸케톤을 혼합하였다. 얻어진 혼합물에, 개시제로서 아조비스이소부티로니트릴 및 아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴)을 전체 모노머량에 대해 각각, 1.2mol% 및 3.6mol% 첨가하고, 이들을 73℃에서 약 5시간 동안 가열하였다. 그 후, 중합 반응액에, 전체 모노머의 합계 질량에 대해, 2.0질량 배의 p-톨루엔설폰산 수용액(2.5중량%)을 첨가하고, 12시간 동안 교반한 후, 분액하였다. 회수된 유기층을, 대량의 n-헵탄에 부어 수지를 석출시키고, 여과·회수함으로써, 중량 평균 분자량이 약 5.3×103인 수지 A3을 수율 63%로 얻었다. 이 수지 A3은, 이하의 구조 단위를 가지는 것이다.As a monomer, using a monomer (a1-1-3), a monomer (a1-2-6), a monomer (a2-1-3), a monomer (a3-4-2) and a monomer (aa1-4-2) , the molar ratio [monomer (a1-1-3):monomer (a1-2-6):monomer (a2-1-3):monomer (a3-4-2):monomer (a1-4-2)] is , 20:35:3:15:27, and further, 1.5 mass times of methyl isobutyl ketone was mixed with this monomer mixture with respect to the total mass of all monomers. To the obtained mixture, 1.2 mol% and 3.6 mol% of azobisisobutyronitrile and azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) as initiators were added, respectively, based on the total amount of monomers, and these were added at 73°C for about 5 hours. heated while Thereafter, an aqueous solution of p-toluenesulfonic acid (2.5 wt%) in an amount of 2.0 mass times based on the total mass of all monomers was added to the polymerization reaction solution, followed by stirring for 12 hours, followed by liquid separation. The recovered organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, followed by filtration and recovery to obtain Resin A3 having a weight average molecular weight of about 5.3×10 3 in a yield of 63%. This resin A3 has the following structural units.
[0270] 합성예 4〔수지 A4의 합성〕[0270] Synthesis Example 4 [Synthesis of Resin A4]
모노머로서, 모노머(a1-1-3), 모노머(a1-2-6), 모노머(a2-1-3), 모노머(a3-4-2) 및 모노머(a1-4-13)을 사용하여, 그 몰비〔모노머(a1-1-3):모노머(a1-2-6):모노머(a2-1-3):모노머(a3-4-2):모노머(a1-4-13)〕가, 20:35:3:15:27의 비율이 되도록 혼합하고, 추가로, 이 모노머 혼합물에, 전체 모노머의 합계 질량에 대해, 1.5질량 배의 메틸이소부틸케톤을 혼합하였다. 얻어진 혼합물에, 개시제로서 아조비스이소부티로니트릴 및 아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴)을 전체 모노머량에 대해 각각, 1.2mol% 및 3.6mol% 첨가하고, 이들을 73℃에서 약 5시간 동안 가열하였다. 그 후, 중합 반응액에, 전체 모노머의 합계 질량에 대해, 2.0질량 배의 p-톨루엔설폰산 수용액(2.5중량%)을 첨가하고, 12시간 동안 교반한 후, 분액하였다. 회수된 유기층을, 대량의 n-헵탄에 부어 수지를 석출시키고, 여과·회수함으로써, 중량 평균 분자량이 약 5.1×103인 수지 A4를 수율 61%로 얻었다. 이 수지 A4는, 이하의 구조 단위를 가지는 것이다.As a monomer, using a monomer (a1-1-3), a monomer (a1-2-6), a monomer (a2-1-3), a monomer (a3-4-2) and a monomer (a1-4-13) , the molar ratio [monomer (a1-1-3):monomer (a1-2-6):monomer (a2-1-3):monomer (a3-4-2):monomer (a1-4-13)] is , 20:35:3:15:27, and further, 1.5 mass times of methyl isobutyl ketone was mixed with this monomer mixture with respect to the total mass of all monomers. To the obtained mixture, 1.2 mol% and 3.6 mol% of azobisisobutyronitrile and azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) as initiators were added, respectively, based on the total amount of monomers, and these were added at 73°C for about 5 hours. heated while Thereafter, an aqueous solution of p-toluenesulfonic acid (2.5 wt%) in an amount of 2.0 mass times based on the total mass of all monomers was added to the polymerization reaction solution, followed by stirring for 12 hours, followed by liquid separation. The recovered organic layer was poured into a large amount of n-heptane to precipitate a resin, followed by filtration and recovery to obtain Resin A4 having a weight average molecular weight of about 5.1×10 3 in a yield of 61%. This resin A4 has the following structural units.
[0271] <레지스트 조성물의 조제>[0271] <Preparation of resist composition>
표 2에 나타내는 바와 같이, 이하의 각 성분을 혼합하고, 얻어진 혼합물을 구멍 직경 0.2μm의 불소 수지제 필터로 여과함으로써, 레지스트 조성물을 조제하였다.As shown in Table 2, each of the following components was mixed, and the resulting mixture was filtered through a fluororesin filter having a pore diameter of 0.2 µm to prepare a resist composition.
[표 2] [Table 2]
[0272] <수지>[0272] <Resin>
A1~A4: 수지 A1~수지 A4A1 to A4: Resin A1 to Resin A4
<염(I)><Salt (I)>
I-236: 식 (I-236)으로 나타내어지는 염I-236: salt represented by formula (I-236)
I-274: 식 (I-274)로 나타내어지는 염I-274: salt represented by formula (I-274)
I-282: 식 (I-282)로 나타내어지는 염I-282: salt represented by formula (I-282)
I-915: 식 (I-915)로 나타내어지는 염I-915: salt represented by formula (I-915)
I-920: 식 (I-920)으로 나타내어지는 염I-920: salt represented by formula (I-920)
I-953: 식 (I-953)으로 나타내어지는 염I-953: salt represented by formula (I-953)
I-958: 식 (I-958)로 나타내어지는 염I-958: salt represented by formula (I-958)
I-966: 식 (I-966)으로 나타내어지는 염I-966: salt represented by formula (I-966)
I-1460: 식 (I-1460)으로 나타내어지는 염I-1460: salt represented by formula (I-1460)
I-1536: 식 (I-1536)으로 나타내어지는 염I-1536: salt represented by formula (I-1536)
I-1574: 식 (I-1574)로 나타내어지는 염I-1574: salt represented by formula (I-1574)
I-1612: 식 (I-1612)로 나타내어지는 염I-1612: salt represented by formula (I-1612)
I-1688: 식 (I-1688)로 나타내어지는 염I-1688: salt represented by formula (I-1688)
I-1764: 식 (I-1764)로 나타내어지는 염I-1764: salt represented by formula (I-1764)
I-1802: 식 (I-1802)로 나타내어지는 염I-1802: salt represented by formula (I-1802)
I-1878: 식 (I-1878)로 나타내어지는 염I-1878: salt represented by formula (I-1878)
<산 발생제><Acid generator>
IX-1IX-1
IX-2IX-2
IX-3IX-3
IX-4IX-4
IX-5IX-5
<??처(C)><??wife (C)>
C1: 일본 특허공개공보 제2011-39502호에 기재된 방법으로 합성C1: synthesized by the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-39502
<용제><solvent>
프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 400부Propylene glycol monomethyl ether acetate 400 copies
프로필렌글리콜모노메틸에테르 100부Propylene glycol monomethyl ether 100 copies
γ-부티로락톤 5부γ-butyrolactone Part 5
[0273] (레지스트 조성물의 전자선 노광 평가: 알칼리 현상(現像))[0273] (Evaluation of resist composition by electron beam exposure: alkali development)
6인치의 실리콘 웨이퍼를, 다이렉트 핫플레이트 상에서, 헥사메틸디실라잔을 사용하여 90℃에서 60초 처리하였다. 이 실리콘 웨이퍼에, 레지스트 조성물을, 조성물층의 막 두께가 0.04μm가 되도록 스핀 코팅하였다. 그 후, 다이렉트 핫플레이트 상에서, 표 2의 「PB」란에 나타내는 온도에서 60초간 프리베이크하여 조성물층을 형성하였다. 웨이퍼 상에 형성된 조성물층에, 전자선 묘화기〔ELIONIX INC.에서 제조한 「ELS-F125 125keV」〕를 이용하여, 노광량을 단계적으로 변화시키며 컨택트 홀 패턴(홀 피치 40nm/홀 직경 17nm)을 직접 묘화하였다.A 6-inch silicon wafer was treated on a direct hotplate at 90° C. for 60 seconds using hexamethyldisilazane. On this silicon wafer, the resist composition was spin-coated so that the film thickness of a composition layer might be set to 0.04 micrometer. Then, on a direct hotplate, it prebaked for 60 second at the temperature shown in the "PB" column of Table 2, and formed the composition layer. On the composition layer formed on the wafer, a contact hole pattern (hole pitch 40 nm/hole diameter 17 nm) was directly drawn by using an electron beam writer ["ELS-F125 125 keV" manufactured by ELIONIX INC.] while changing the exposure amount stepwise. did.
노광 후, 핫플레이트 상에서 표 2의 「PEB」란에 나타내는 온도에서 60초간 PEB(post exposure bake)를 행하고, 추가로 2.38질량% 테트라메틸암모늄히드록시드 수용액으로 60초간의 퍼들 현상을 행함으로써, 레지스트 패턴을 얻었다.After exposure, PEB (post exposure bake) is performed for 60 seconds at the temperature shown in the "PEB" column of Table 2 on a hot plate, and further subjected to puddle development for 60 seconds with 2.38 mass % tetramethylammonium hydroxide aqueous solution, A resist pattern was obtained.
[0274] 현상 후에 얻어진 레지스트 패턴에 있어서, 형성한 홀 직경이 17nm가 되는 노광량을 실효 감도로 하였다.[0274] In the resist pattern obtained after development, the exposure amount at which the formed hole diameter became 17 nm was defined as the effective sensitivity.
[0275] <CD 균일성(CDU) 평가>[0275] <CD uniformity (CDU) evaluation>
실효 감도에 있어서, 홀 직경 17nm로 형성한 패턴의 홀 직경을, 하나의 홀당 24회 측정하고, 그 평균치를 하나의 홀의 평균 홀 직경으로 하였다. 동일 웨이퍼 내의, 홀 직경 17nm로 형성한 패턴의 평균 홀 직경을 400군데 측정한 것을 모집단으로 하여 표준 편차를 구하였다.In the effective sensitivity, the hole diameter of the pattern formed with the hole diameter of 17 nm was measured 24 times per hole, and the average value was set as the average hole diameter of one hole. The standard deviation was calculated|required using the thing which measured 400 average hole diameters of the pattern formed with the hole diameter of 17 nm in the same wafer as a population.
그 결과를 표 3에 나타낸다. 표 내의 수치는 표준 편차(nm)를 나타낸다.The results are shown in Table 3. Numerical values in the table represent standard deviations (nm).
[표 3] [Table 3]
비교 조성물 1~5와 비교하여, 조성물 1~20에서의 표준 편차가 작아, CD 균일성(CDU) 평가가 양호하였다.Compared with Comparative Compositions 1 to 5, the standard deviation in Compositions 1 to 20 was small, and CDU uniformity (CDU) evaluation was good.
[0276] (레지스트 조성물의 전자선 노광 평가: 유기 용제 현상)[0276] (electron beam exposure evaluation of resist composition: organic solvent development)
6인치의 실리콘 웨이퍼를, 다이렉트 핫플레이트 상에서, 헥사메틸디실라잔을 사용하여 90℃에서 60초 처리하였다. 이 실리콘 웨이퍼에, 레지스트 조성물을, 조성물층의 막 두께가 0.04μm가 되도록 스핀 코팅하였다. 그 후, 다이렉트 핫플레이트 상에서, 표 2의 「PB」란에 나타내는 온도에서 60초간 프리베이크하여 조성물층을 형성하였다. 웨이퍼 상에 형성된 조성물층에, 전자선 묘화기〔ELIONIX INC.에서 제조한 「ELS-F125 125keV」〕를 이용하여, 노광량을 단계적으로 변화시키며 컨택트 홀 패턴(홀 피치 40nm/홀 직경 17nm)을 직접 묘화하였다.A 6-inch silicon wafer was treated on a direct hotplate at 90° C. for 60 seconds using hexamethyldisilazane. On this silicon wafer, the resist composition was spin-coated so that the film thickness of a composition layer might be set to 0.04 micrometer. Then, on a direct hotplate, it prebaked for 60 second at the temperature shown in the "PB" column of Table 2, and formed the composition layer. On the composition layer formed on the wafer, a contact hole pattern (hole pitch 40 nm/hole diameter 17 nm) was directly drawn by using an electron beam writer ["ELS-F125 125 keV" manufactured by ELIONIX INC.] while changing the exposure amount stepwise. did.
노광 후, 핫플레이트 상에서 표 2의 「PEB」란에 나타내는 온도에서 60초간 PEB(post exposure bake)를 행하였다. 이어서, 이 실리콘 웨이퍼 상의 조성물층을, 현상액으로서 아세트산부틸(Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. 제조)을 이용하여, 23℃에서 20초간 다이나믹 디스펜스법에 의해 현상을 행함으로써, 레지스트 패턴을 얻었다.After exposure, PEB (post exposure bake) was performed for 60 second at the temperature shown in the "PEB" column of Table 2 on a hotplate. Next, a resist pattern was obtained by developing the composition layer on this silicon wafer by the dynamic dispensing method at 23 degreeC for 20 second using butyl acetate (made by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) as a developing solution.
[0277] 현상 후에 얻어진 레지스트 패턴에 있어서, 형성한 홀 직경이 17nm가 되는 노광량을 실효 감도로 하였다.[0277] In the resist pattern obtained after development, the exposure amount at which the formed hole diameter became 17 nm was defined as the effective sensitivity.
[0278] <CD 균일성(CDU) 평가>[0278] <CD uniformity (CDU) evaluation>
실효 감도에 있어서, 홀 직경 17nm로 형성한 패턴의 홀 직경을, 하나의 홀당 24회 측정하고, 그 평균치를 하나의 홀의 평균 홀 직경으로 하였다. 동일 웨이퍼 내의, 홀 직경 17nm로 형성한 패턴의 평균 홀 직경을 400군데 측정한 것을 모집단으로 하여 표준 편차를 구하였다.In the effective sensitivity, the hole diameter of the pattern formed with the hole diameter of 17 nm was measured 24 times per hole, and the average value was set as the average hole diameter of one hole. The standard deviation was calculated|required using what measured 400 average hole diameters of the pattern formed with the hole diameter of 17 nm in the same wafer as a population.
그 결과를 표 4에 나타낸다. 표 내의 수치는 표준 편차(nm)를 나타낸다.The results are shown in Table 4. Numerical values in the table represent standard deviations (nm).
[표 4] [Table 4]
비교 조성물 6~10과 비교하여, 조성물 21~37에서의 표준 편차가 작아, CD 균일성(CDU) 평가가 양호하였다.Compared with Comparative Compositions 6 to 10, the standard deviation in Compositions 21 to 37 was small, and CDU uniformity (CDU) evaluation was good.
[산업상 이용가능성][Industrial Applicability]
[0279] 본 발명의 염을 함유하는 레지스트 조성물은, 양호한 CD 균일성(CDU)을 가지는 레지스트 패턴을 얻을 수 있기 때문에, 반도체의 미세 가공에 적합하여, 산업상 매우 유용하다.[0279] The resist composition containing the salt of the present invention can obtain a resist pattern having good CD uniformity (CDU), so it is suitable for microfabrication of semiconductors and is very useful in industry.
Claims (14)
[식 (I) 중,
R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 히드록시기, -O-R10, -O-CO-O-R10, -O-L1-CO-O-R10을 나타낸다.
L1은, 탄소수 1~6인 알칸디일기를 나타낸다.
R4, R5, R7 및 R8은, 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1~12인 불화알킬기 또는 탄소수 1~18인 탄화수소기를 나타내고, 해당 탄화수소기는, 치환기를 가져도 되고, 해당 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-, -CO-, -S- 또는 -SO2-로 치환되어 있어도 된다.
R10은, 산 불안정기를 나타낸다.
X1 및 X2는, 각각 독립적으로, 산소 원자 또는 황 원자를 나타낸다.
m1은, 1~5 중 어느 하나의 정수(整數)를 나타내고, m1이 2 이상일 때, 복수의 괄호 내의 기는 서로 동일해도 상이해도 된다.
m2는, 0~5 중 어느 하나의 정수를 나타내고, m2가 2 이상일 때, 복수의 괄호 내의 기는 서로 동일해도 상이해도 된다.
m4는, 0~4 중 어느 하나의 정수를 나타내고, m4가 2 이상일 때, 복수의 R4는 서로 동일해도 상이해도 된다.
m5는, 0~4 중 어느 하나의 정수를 나타내고, m5가 2 이상일 때, 복수의 R5는 서로 동일해도 상이해도 된다.
m7은, 0~4 중 어느 하나의 정수를 나타내고, m7이 2 이상일 때, 복수의 R7은 서로 동일해도 상이해도 된다.
m8은, 0~5 중 어느 하나의 정수를 나타내고, m8이 2 이상일 때, 복수의 R8은 서로 동일해도 상이해도 된다.
단, 1≤m1+m7≤5, 0≤m2+m8≤5이다.
AI-는, 유기 음이온을 나타낸다.]A salt represented by formula (I).
[In formula (I),
R 1 and R 2 each independently represent a hydroxyl group, -OR 10 , -O-CO-OR 10 , or -OL 1 -CO-OR 10 .
L 1 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
R 4 , R 5 , R 7 and R 8 each independently represent a halogen atom, a fluorinated alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, the hydrocarbon group may have a substituent, and the hydrocarbon group -CH 2 - contained may be substituted with -O-, -CO-, -S-, or -SO 2 -.
R 10 represents an acid labile group.
X 1 and X 2 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom.
m1 represents the integer in any one of 1-5, and when m1 is 2 or more, the group in some parenthesis may mutually be same or different.
m2 represents the integer in any one of 0-5, and when m2 is 2 or more, the group in several parenthesis may mutually be same or different.
m4 represents the integer in any one of 0-4, and when m4 is 2 or more, some R<4> may mutually be same or different.
m5 represents the integer in any one of 0-4, and when m5 is 2 or more, some R<5> may mutually be same or different.
m7 represents the integer in any one of 0-4, and when m7 is 2 or more, some R<7> may mutually be same or different.
m8 represents the integer in any one of 0-5, and when m8 is 2 or more, some R<8> may mutually be same or different.
However, 1≤m1+m7≤5 and 0≤m2+m8≤5.
AI - represents an organic anion.]
X1 및 X2가 산소 원자인 염.According to claim 1,
A salt wherein X 1 and X 2 are oxygen atoms.
R10의 산 불안정기가, 식 (1a)로 나타내어지는 기 또는 식 (2a)로 나타내어지는 기인 염.
[식 (1a) 중, Raa1, Raa2 및 Raa3은, 각각 독립적으로, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~8인 알킬기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 2~8인 알케닐기, 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 3~20인 지환식 탄화수소기, 혹은 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 6~18인 방향족 탄화수소기를 나타내거나, 또는 Raa1 및 Raa2는 서로 결합하여 이들이 결합하는 탄소 원자와 함께 탄소수 3~20인 지환식 탄화수소기를 형성한다.
*는 결합손을 나타낸다.]
[식 (2a) 중, Raa1' 및 Raa2'는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1~12인 탄화수소기를 나타내고, Raa3'는, 탄소수 1~20인 탄화수소기를 나타내거나, 또는 Raa2' 및 Raa3'는 서로 결합하여 이들이 결합하는 -C-Xa-와 함께 탄소수 3~20인 헤테로 고리기를 형성하고, 해당 탄화수소기 및 해당 헤테로 고리기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -S-로 치환되어도 된다.
Xa는, 산소 원자 또는 황 원자를 나타낸다.
*는 결합손을 나타낸다.]3. The method of claim 1 or 2,
A salt in which the acid labile group of R 10 is a group represented by the formula (1a) or a group represented by the formula (2a).
Equation (1a) of, R aa1, R aa2 and R aa3 is, may each independently have an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, an alkenyl group having a carbon number of 2-8 that may have a substituent the substituents represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms which may have a substituent, or R aa1 and R aa2 are bonded to each other and together with the carbon atom to which they are bonded, have 3 to 20 carbon atoms Forms an alicyclic hydrocarbon group.
* indicates a bonding hand.]
[In formula (2a), R aa1' and R aa2' each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and R aa3' represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or R aa2 ' and R aa3' combine with each other to form a heterocyclic group having 3 to 20 carbon atoms together with -CX a - to which they are bonded , and -CH 2 - included in the hydrocarbon group and the heterocyclic group is -O- or - It may be substituted with S-.
X a represents an oxygen atom or a sulfur atom.
* indicates a bonding hand.]
R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 히드록시기, O-R10, -O-L1-CO-O-R10을 나타내는 염.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
R 1 and R 2 each independently represent a hydroxy group, OR 10 , or -OL 1 -CO-OR 10 salt.
m2가 0이고,
m8이 1이고, R8이 분지 형상의 탄소수 3 또는 4인 알킬기인, 염.5. The method according to any one of claims 1 to 4,
m2 is 0,
m8 is 1, and R 8 is an alkyl group of carbon number 3 or 4 of the basin-like, salts.
R1의 결합 위치가, X1의 결합 위치에 대해, p 위치에 결합해 있는 염.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
A salt in which the bonding position of R 1 is bonded at the p position with respect to the bonding position of X 1 .
AI-가, 설폰산 음이온, 설포닐이미드 음이온, 설포닐메티드 음이온 또는 카르복실산 음이온인 염.7. The method according to any one of claims 1 to 6,
AI - a salt in which valence is a sulfonic acid anion, a sulfonylimide anion, a sulfonylmethide anion or a carboxylic acid anion.
AI-는 설폰산 음이온이고, 설폰산 음이온은 식 (I-A)로 나타내어지는 음이온인 염.
[식 (I-A) 중,
Q1 및 Q2는, 각각 독립적으로, 불소 원자 또는 탄소수 1~6인 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.
L1은, 탄소수 1~24인 포화 탄화수소기를 나타내고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 되고, 해당 포화 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자 또는 히드록시기로 치환되어 있어도 된다.
Y1은, 치환기를 가지고 있어도 되는 메틸기 또는 치환기를 가지고 있어도 되는 탄소수 3~24인 지환식 탄화수소기를 나타내고, 해당 지환식 탄화수소기에 포함되는 -CH2-는, -O-, -SO2- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 된다.]8. The method according to any one of claims 1 to 7,
AI − is a sulfonic acid anion, and the sulfonic acid anion is a salt represented by the formula (IA).
[In formula (IA),
Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
L 1 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with -O- or -CO-, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is fluorine It may be substituted with an atom or a hydroxyl group.
Y 1 represents a methyl group which may have a substituent or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 24 carbon atoms which may have a substituent, and -CH 2 - contained in the alicyclic hydrocarbon group is -O-, -SO 2 - or - It may be substituted with CO-.]
산 불안정기를 가지는 수지가, 식 (a1-1)로 나타내어지는 구조 단위 및 식 (a1-2)로 나타내어지는 구조 단위로 이루어진 군(群)으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 레지스트 조성물.
[식 (a1-1) 및 식 (a1-2) 중,
La1 및 La2는, 각각 독립적으로, -O- 또는 *-O-(CH2)k1-CO-O-를 나타내고, k1은 1~7 중 어느 하나의 정수를 나타내고, *는 -CO-와의 결합손을 나타낸다.
Ra4 및 Ra5는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 할로겐 원자를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~6인 알킬기를 나타낸다.
Ra6 및 Ra7은, 각각 독립적으로, 탄소수 1~8인 알킬기, 탄소수 2~8인 알케닐기, 탄소수 3~18인 지환식 탄화수소기, 탄소수 6~18인 방향족 탄화수소기 또는 이들을 조합한 기를 나타낸다.
m1은, 0~14 중 어느 하나의 정수를 나타낸다.
n1은, 0~10 중 어느 하나의 정수를 나타낸다.
n1'는, 0~3 중 어느 하나의 정수를 나타낸다.]11. The method of claim 10,
A resist composition, wherein the resin having an acid-labile group comprises at least one selected from the group consisting of a structural unit represented by formula (a1-1) and a structural unit represented by formula (a1-2).
[In formulas (a1-1) and (a1-2),
L a1 and L a2 each independently represent -O- or *-O-(CH 2 ) k1 -CO-O-, k1 represents an integer of any one of 1 to 7, and * is -CO- represents a bond with
R a4 and R a5 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
R a6 and R a7 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group combining them. .
m1 represents the integer in any one of 0-14.
n1 represents the integer in any one of 0-10.
n1' represents the integer in any one of 0-3.]
산 불안정기를 가지는 수지가, 식 (a2-A)로 나타내어지는 구조 단위를 포함하는 레지스트 조성물.
[식 (a2-A) 중,
Ra50은, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 할로겐 원자를 가지고 있어도 되는 탄소수 1~6인 알킬기를 나타낸다.
Ra51은, 할로겐 원자, 히드록시기, 탄소수 1~6인 알킬기, 탄소수 1~6인 알콕시기, 탄소수 2~12인 알콕시알킬기, 탄소수 2~12인 알콕시알콕시기, 탄소수 2~4인 알킬카르보닐기, 탄소수 2~4인 알킬카르보닐옥시기, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기를 나타낸다.
Aa50은, 단결합 또는 *-Xa51-(Aa52-Xa52)nb-를 나타내고, *는 -Ra50이 결합하는 탄소 원자와의 결합손을 나타낸다.
Aa52는, 탄소수 1~6인 알칸디일기를 나타낸다.
Xa51 및 Xa52는, 각각 독립적으로, -O-, -CO-O- 또는 -O-CO-를 나타낸다.
nb는, 0 또는 1을 나타낸다.
mb는 0~4 중 어느 하나의 정수를 나타낸다. mb가 2 이상의 어느 하나의 정수인 경우, 복수의 Ra51은 서로 동일해도 상이해도 된다.]12. The method of claim 10 or 11,
A resist composition wherein the resin having an acid labile group includes a structural unit represented by formula (a2-A).
[In formula (a2-A),
R a50 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
R a51 is a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxyalkyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxyalkoxy group having 2 to 12 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, and an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms. An alkylcarbonyloxy group, acryloyloxy group or methacryloyloxy group which is 2-4 is represented.
A a50 represents a single bond or * -X a51 -(A a52 -X a52 ) nb -, and * represents a bond with the carbon atom to which -R a50 is bonded.
A a52 represents a C1-C6 alkanediyl group.
X a51 and X a52 each independently represent -O-, -CO-O- or -O-CO-.
nb represents 0 or 1.
mb represents any integer from 0 to 4. When mb is any integer of 2 or more, a plurality of R a51 may be the same or different from each other.]
산 발생제로부터 발생하는 산보다도 산성도가 약한 산을 발생시키는 염을 더 함유하는 레지스트 조성물.13. The method according to any one of claims 10 to 12,
A resist composition further comprising a salt that generates an acid having a weaker acidity than the acid generated from the acid generator.
(2) 도포 후의 조성물을 건조시켜 조성물층을 형성하는 공정,
(3) 조성물층에 노광하는 공정,
(4) 노광 후의 조성물층을 가열하는 공정, 및
(5) 가열 후의 조성물층을 현상하는 공정
을 포함하는 레지스트 패턴의 제조 방법.
(1) a step of applying the resist composition according to any one of items 10 to 13 on a substrate;
(2) drying the composition after application to form a composition layer;
(3) a step of exposing the composition layer;
(4) heating the composition layer after exposure, and
(5) Process of developing the composition layer after heating
A method of manufacturing a resist pattern comprising a.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2020-089019 | 2020-05-21 | ||
JP2020089019 | 2020-05-21 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20210144593A true KR20210144593A (en) | 2021-11-30 |
Family
ID=76217597
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020210064337A KR20210144593A (en) | 2020-05-21 | 2021-05-18 | Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11505524B2 (en) |
JP (1) | JP2021183593A (en) |
KR (1) | KR20210144593A (en) |
BE (1) | BE1028249B1 (en) |
TW (1) | TW202202476A (en) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06118651A (en) | 1992-10-08 | 1994-04-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Positive type resist material |
JPH08160620A (en) | 1994-12-09 | 1996-06-21 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Positivee type resist material |
KR20110006400A (en) | 2009-07-14 | 2011-01-20 | 경기도 | Insecticidal composition comprising extracts of asarum sieboldii |
JP2017155036A (en) | 2016-02-29 | 2017-09-07 | 住友化学株式会社 | Salt, resist composition, and method for producing resist pattern |
Family Cites Families (42)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2150691C2 (en) | 1971-10-12 | 1982-09-09 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Photosensitive mixture and use of a photosensitive mixture for the production of a planographic printing plate |
US3779778A (en) | 1972-02-09 | 1973-12-18 | Minnesota Mining & Mfg | Photosolubilizable compositions and elements |
DE2922746A1 (en) | 1979-06-05 | 1980-12-11 | Basf Ag | POSITIVELY WORKING LAYER TRANSFER MATERIAL |
US5073476A (en) | 1983-05-18 | 1991-12-17 | Ciba-Geigy Corporation | Curable composition and the use thereof |
JPS62153853A (en) | 1985-12-27 | 1987-07-08 | Toshiba Corp | Photosensitive composition |
JPS6269263A (en) | 1985-09-24 | 1987-03-30 | Toshiba Corp | Photosensitive composition |
JPS6326653A (en) | 1986-07-21 | 1988-02-04 | Tosoh Corp | Photoresist material |
JPS63146038A (en) | 1986-12-10 | 1988-06-18 | Toshiba Corp | Photosensitive composition |
JPS63146029A (en) | 1986-12-10 | 1988-06-18 | Toshiba Corp | Photosensitive composition |
GB8630129D0 (en) | 1986-12-17 | 1987-01-28 | Ciba Geigy Ag | Formation of image |
DE3914407A1 (en) | 1989-04-29 | 1990-10-31 | Basf Ag | RADIATION-SENSITIVE POLYMERS AND POSITIVE WORKING RECORDING MATERIAL |
JP3763693B2 (en) | 1998-08-10 | 2006-04-05 | 株式会社東芝 | Photosensitive composition and pattern forming method |
US6908722B2 (en) * | 2001-06-29 | 2005-06-21 | Jsr Corporation | Acid generator, sulfonic acid, sulfonic acid derivatives and radiation-sensitive resin composition |
KR100940915B1 (en) * | 2008-03-13 | 2010-02-08 | 금호석유화학 주식회사 | Acid generator for chemically amplified resist compositions |
JP5487784B2 (en) | 2008-08-07 | 2014-05-07 | 住友化学株式会社 | Chemically amplified positive resist composition |
TW201033735A (en) | 2008-12-11 | 2010-09-16 | Sumitomo Chemical Co | Resist composition |
JP5523854B2 (en) | 2009-02-06 | 2014-06-18 | 住友化学株式会社 | Chemically amplified photoresist composition and pattern forming method |
CN101898987A (en) | 2009-05-28 | 2010-12-01 | 住友化学株式会社 | Salt and the photo-corrosion-resisting agent composition that contains this salt |
JP5750242B2 (en) | 2009-07-14 | 2015-07-15 | 住友化学株式会社 | Resist composition |
JP5781749B2 (en) | 2009-10-27 | 2015-09-24 | 住友化学株式会社 | Method for producing solid ammonium salt compound |
US8460851B2 (en) | 2010-01-14 | 2013-06-11 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Salt and photoresist composition containing the same |
JP5807334B2 (en) | 2010-02-16 | 2015-11-10 | 住友化学株式会社 | Method for producing salt and acid generator |
JP5691585B2 (en) | 2010-02-16 | 2015-04-01 | 住友化学株式会社 | Resist composition |
JP5505371B2 (en) | 2010-06-01 | 2014-05-28 | 信越化学工業株式会社 | Polymer compound, chemically amplified positive resist material, and pattern forming method |
JP5608009B2 (en) | 2010-08-12 | 2014-10-15 | 大阪有機化学工業株式会社 | Homoadamantane derivative, method for producing the same, and photoresist composition |
KR101535197B1 (en) | 2010-10-13 | 2015-07-08 | 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드 | Polymerizable fluorine-containing sulfonate, fluorine-containing sulfonate resin, resist composition and pattern-forming method using same |
TWI525066B (en) | 2011-04-13 | 2016-03-11 | 住友化學股份有限公司 | Salt, photoresist composition, and method for producing photoresist pattern |
JP5501318B2 (en) * | 2011-09-22 | 2014-05-21 | 富士フイルム株式会社 | Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and resist film, pattern forming method, electronic device manufacturing method, and electronic device using the same |
JP5900255B2 (en) * | 2011-09-26 | 2016-04-06 | Jsr株式会社 | Radiation-sensitive resin composition and resist pattern forming method |
JP6095964B2 (en) * | 2012-12-10 | 2017-03-15 | 三洋化成工業株式会社 | Photosensitive composition and cured product |
JP6592896B2 (en) | 2014-01-10 | 2019-10-23 | 住友化学株式会社 | Resin and resist composition |
JP6428495B2 (en) * | 2014-08-12 | 2018-11-28 | 信越化学工業株式会社 | Positive resist material and pattern forming method using the same |
JP6450660B2 (en) | 2014-08-25 | 2019-01-09 | 住友化学株式会社 | Salt, acid generator, resist composition, and method for producing resist pattern |
JP6423681B2 (en) | 2014-10-14 | 2018-11-14 | 住友化学株式会社 | Resin, resist composition and method for producing resist pattern |
KR101981508B1 (en) * | 2014-11-07 | 2019-05-23 | 후지필름 가부시키가이샤 | Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, active light sensitive or radiation sensitive film, mask blank provided with active light sensitive or radiation sensitive film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device |
JP6743781B2 (en) | 2016-08-08 | 2020-08-19 | 信越化学工業株式会社 | Resist material and pattern forming method |
JP6948828B2 (en) * | 2017-05-12 | 2021-10-13 | 東洋合成工業株式会社 | Iodonium salt compounds, photoacid generators and compositions containing them, and methods for manufacturing devices. |
US20190135013A1 (en) * | 2017-11-06 | 2019-05-09 | Maria T. Sypek | Lithographic imaging and printing with negative-working photoresponsive printing members including iodonium borate polymerization initiators |
JP7365110B2 (en) * | 2018-09-11 | 2023-10-19 | 信越化学工業株式会社 | Iodonium salt, resist composition, and pattern forming method |
JP7035981B2 (en) | 2018-11-21 | 2022-03-15 | 株式会社デンソー | Wiper motor |
JP2020200304A (en) * | 2019-04-18 | 2020-12-17 | 住友化学株式会社 | Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern |
JP2021181429A (en) * | 2020-05-15 | 2021-11-25 | 住友化学株式会社 | Salt, acid generator, resist composition, and method for producing resist pattern |
-
2021
- 2021-05-03 TW TW110115910A patent/TW202202476A/en unknown
- 2021-05-07 JP JP2021079145A patent/JP2021183593A/en active Pending
- 2021-05-18 US US17/323,330 patent/US11505524B2/en active Active
- 2021-05-18 KR KR1020210064337A patent/KR20210144593A/en active Search and Examination
- 2021-05-19 BE BE20215406A patent/BE1028249B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06118651A (en) | 1992-10-08 | 1994-04-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Positive type resist material |
JPH08160620A (en) | 1994-12-09 | 1996-06-21 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Positivee type resist material |
KR20110006400A (en) | 2009-07-14 | 2011-01-20 | 경기도 | Insecticidal composition comprising extracts of asarum sieboldii |
JP2017155036A (en) | 2016-02-29 | 2017-09-07 | 住友化学株式会社 | Salt, resist composition, and method for producing resist pattern |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
[0005] 1. Org. Lett. 2018, 20, 4458-4461 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202202476A (en) | 2022-01-16 |
US11505524B2 (en) | 2022-11-22 |
JP2021183593A (en) | 2021-12-02 |
BE1028249A1 (en) | 2021-11-29 |
US20210371376A1 (en) | 2021-12-02 |
BE1028249B1 (en) | 2022-05-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20210100550A (en) | Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern | |
KR20220061882A (en) | Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern | |
KR20220142943A (en) | Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern | |
JP2022189790A (en) | Salt, acid generator, resist composition, and method for producing resist pattern | |
KR20210141400A (en) | Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern | |
KR20220064917A (en) | Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern | |
KR20210144593A (en) | Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern | |
KR20220003972A (en) | Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern | |
KR20220000372A (en) | Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern | |
KR20220142944A (en) | Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern | |
KR20220161202A (en) | Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern | |
KR20230033610A (en) | Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern | |
KR20220115882A (en) | Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern | |
KR20230032956A (en) | Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern | |
KR20210131239A (en) | Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern | |
KR20220151551A (en) | Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern | |
KR20220161203A (en) | Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern | |
KR20230031795A (en) | Salt, acid generator, resist composition and method for producing resist pattern | |
KR20220064322A (en) | Carboxylate, resist composition and method for producing resist pattern | |
JP2023016035A (en) | Salt, acid generator, resist composition, and method for producing resist pattern | |
JP2022191197A (en) | Salt, acid generator, resist composition, and method for producing resist pattern | |
JP2023010678A (en) | Salt, acid generator, resist composition, and method for producing resist pattern | |
JP2023001917A (en) | Salt, acid generator, resist composition, and method for producing resist pattern | |
JP2023010674A (en) | Salt, acid generator, resist composition, and method for producing resist pattern | |
JP2023008956A (en) | Salt, acid generator, resist composition, and method for producing resist pattern |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination |