KR20210142817A - Apparatus for coating chemical and method for coating chemical - Google Patents

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KR20210142817A
KR20210142817A KR1020200059437A KR20200059437A KR20210142817A KR 20210142817 A KR20210142817 A KR 20210142817A KR 1020200059437 A KR1020200059437 A KR 1020200059437A KR 20200059437 A KR20200059437 A KR 20200059437A KR 20210142817 A KR20210142817 A KR 20210142817A
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김보승
이윤열
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세메스 주식회사
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Abstract

A chemical liquid discharge device includes a levitation stage, a transfer unit, a discharge unit, a vacuum blocking unit, and a control unit. The levitation stage can be provided with a levitation unit comprising an air ejection unit for ejecting air toward a substrate to levitate the substrate and a vacuum suction unit for performing vacuum suction. The transfer unit can be provided to transfer the substrate along the levitation stage. The discharge unit can be provided to discharge a chemical liquid to the substrate transferred along the levitation stage. The vacuum blocking unit can be provided to block a vacuum sucked toward the substrate from the vacuum suction unit located in the vicinity of an area exposed as the substrate is transported when the chemical liquid is discharged. The control unit can be provided to control the vacuum blocking unit to operate at the time when the discharge of the chemical liquid is terminated. The present invention can maintain a constant levitation force for levitating the substrate.

Description

약액 토출 장치 및 약액 토출 방법{APPARATUS FOR COATING CHEMICAL AND METHOD FOR COATING CHEMICAL}Chemical liquid discharging device and chemical liquid discharging method

본 발명은 약액 토출 장치 및 약액 토출 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게 본 발명은 포토레지스트 등과 같은 약액을 기판에 토출하기 위한 약액 토출 장치 및 약액 토출 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical liquid discharging apparatus and a chemical liquid discharging method. More particularly, the present invention relates to a chemical liquid discharging apparatus and a chemical liquid discharging method for discharging a chemical liquid such as a photoresist to a substrate.

최근의 유기 EL 소자 등과 같은 디스플레이 소자의 제조에서는 기판에 포토레지스트 등과 같은 약액을 토출시키는 토출 공정을 수행하고 있다.In the recent manufacturing of display devices such as organic EL devices, a discharge process of discharging a chemical solution such as a photoresist to a substrate is performed.

언급한 토출 공정은 부상 스테이지에 의해 부상되는 기판을 부상 스테이지를 따라 이송시키면서 이루어질 수 있다. 특히, 약액의 토출이 이루어지는 토출 영역에서의 부상 스테이지에서는 기판의 부상 높이를 상대적으로 정밀하게 제어해야 하기 때문에 기판을 향하여 에어를 분사함과 아울러 진공으로 흡인해야 할 것이다.The discharging process mentioned above may be performed while transferring the substrate floated by the levitation stage along the levitation stage. In particular, in the floating stage in the discharge region where the chemical liquid is discharged, since the floating height of the substrate must be controlled relatively precisely, air must be sprayed toward the substrate and suctioned with a vacuum.

이에, 부상 스테이지에는 기판 쪽으로 에어를 분사하는 에어 분사부 및 진공으로 흡인하는 진공 흡인부로 이루어지는 부상부가 구비될 수 있다.Accordingly, the levitation stage may be provided with a levitation unit comprising an air ejection unit for ejecting air toward the substrate and a vacuum suction unit for suctioning in vacuum.

그러나 기판으로 토출되는 약액이 진공 흡인으로 인한 하강 기류에 의해 진공 흡인부의 진공홀에 흡착되는 상황이 발생할 수 있다.However, there may be a situation in which the chemical liquid discharged to the substrate is adsorbed to the vacuum hole of the vacuum suction unit by the downdraft due to the vacuum suction.

따라서 종래의 약액 토출 공정에서는 진공 흡인부의 진공홀에 약액이 흡착되는 상황이 발생할 수 있고, 이로 인해 기판을 부상시키는 부상력에 지장을 끼침으로써 약액 토출에 따른 얼룩 발생 등과 같은 불량을 유발할 수 있을 뿐만 아니라 이송이 진행되는 기판을 손상시키는 상황까지 발생할 수 있는 문제점이 있다.Therefore, in the conventional chemical discharging process, a situation in which the chemical is adsorbed to the vacuum hole of the vacuum suction unit may occur, which may interfere with the levitation force to levitate the substrate, thereby causing defects such as stains due to discharging the chemical. However, there is a problem that may even cause damage to the substrate being transferred.

본 발명의 일 과제는 진공 흡인을 수행함에도 불구하고 진공 흡인부의 진공홀에 약액이 흡착되는 상황을 최소화할 수 있는 약액 토출 장치를 제공하는데 있다.It is an object of the present invention to provide a chemical solution discharging device capable of minimizing a situation in which a chemical solution is adsorbed to a vacuum hole of a vacuum suction unit despite performing vacuum suction.

본 발명의 다른 과제는 진공 흡인을 수행함에도 불구하고 진공 흡인부의 진공홀에 약액이 흡착되는 상황을 최소화할 수 있는 약액 토출 방법을 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a chemical solution discharging method capable of minimizing a situation in which a chemical solution is adsorbed to a vacuum hole of a vacuum suction unit despite performing vacuum suction.

상기 본 발명의 일 과제를 달성하기 위한 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치는 부상 스테이지, 이송부, 토출부, 진공 차단부, 제어부를 포함할 수 있다. 상기 부상 스테이지는 기판을 부상시킬 수 있게 상기 기판 쪽으로 에어를 분사하는 에어 분사부 및 진공으로 흡인하는 진공 흡인부로 이루어지는 부상부가 구비될 수 있다. 상기 이송부는 상기 부상 스테이지를 따라 상기 기판을 이송시키도록 구비될 수 있다. 상기 토출부는 상기 부상 스테이지를 따라 이송되는 상기 기판에 약액을 토출하도록 구비될 수 있다. 상기 진공 차단부는 상기 약액의 토출시 상기 기판을 이송시킴에 따라 노출되는 영역 근방에 있는 상기 진공 흡인부로부터 상기 기판을 향하여 흡인되는 진공을 차단하도록 구비될 수 있다. 상기 제어부는 상기 약액의 토출이 종료되는 시점에 상기 진공 차단부가 작동할 수 있게 제어하도록 구비될 수 있다.The chemical discharge device according to exemplary embodiments for achieving the object of the present invention may include a floating stage, a transfer unit, a discharge unit, a vacuum cut-off unit, and a control unit. The levitation stage may be provided with a levitation unit comprising an air ejection unit for ejecting air toward the substrate and a vacuum suction unit for suctioning in a vacuum so as to float the substrate. The transfer unit may be provided to transfer the substrate along the levitation stage. The discharge unit may be provided to discharge the chemical to the substrate transferred along the levitation stage. The vacuum blocking unit may be provided to block a vacuum sucked toward the substrate from the vacuum suction unit located in the vicinity of an area exposed as the substrate is transported when the chemical solution is discharged. The control unit may be provided to control the vacuum blocking unit to operate at the time when the discharge of the chemical is terminated.

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 기판이 이송되는 방향을 행 방향, 상기 행 방향과 수직 방향을 열 방향이라 하고, 상기 토출부는 상기 열 방향을 따라 고정되도록 구비될 때, 상기 진공 차단부는 상기 진공 흡인부 중에서 상기 토출부 바로 아래의 열 방향에 배치되는 제1 진공 흡인부, 상기 제1 진공 흡인부의 좌측 열에 배치되는 제2 진공 흡인부, 및 상기 제1 진공 흡인부의 우측 열에 배치되는 제3 진공 흡인부로부터의 진공을 차단하도록 구비될 수 있다.In exemplary embodiments, a direction in which the substrate is transferred is referred to as a row direction, and a direction perpendicular to the row direction is referred to as a column direction. Among the suction units, a first vacuum suction unit disposed in a row direction immediately below the discharge unit, a second vacuum suction unit disposed in a left row of the first vacuum suction unit, and a third vacuum disposed in a right row of the first vacuum suction unit It may be provided to block the vacuum from the suction unit.

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제2 진공 흡인부는 상기 제1 진공 흡인부에 근접하는 좌측 열에 배치되는 것이고, 상기 제3 진공 흡입부는 상기 제1 진공 흡인부에 근접하는 우측 열에 배치될 수 있다.In example embodiments, the second vacuum suction unit may be disposed in a left column adjacent to the first vacuum suction unit, and the third vacuum suction unit may be disposed in a right column adjacent to the first vacuum suction unit .

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 토출부는 상기 기판의 열 방향 길이 전체를 커버하도록 구비되는 슬릿 노즐로 이루어질 수 있다.In example embodiments, the discharge part may be a slit nozzle provided to cover the entire length of the substrate in the column direction.

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 진공 차단부는 상기 진공 흡인부의 진공 라인을 차단하도록 구비되는 제1 밸브를 이루어질 수 있다.In example embodiments, the vacuum cut-off unit may constitute a first valve provided to block the vacuum line of the vacuum suction unit.

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 기판 쪽으로 상승 기류를 형성할 수 있게 상기 진공 흡인부의 진공 라인을 통하여 상기 기판 쪽으로 에어를 분사하도록 구비되는 기류 형성부를 더 포함할 수 있고, 상기 기류 형성부는 상기 진공 차단부와 함께 작동할 수 있게 상기 제어부에 의해 제어되도록 구비될 수 있다.In exemplary embodiments, an airflow forming unit provided to spray air toward the substrate through a vacuum line of the vacuum suction unit to form an upward airflow toward the substrate may be further included, and the airflow forming unit may further include the vacuum line. It may be provided to be controlled by the control unit to operate together with the blocking unit.

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 기류 형성부는 상기 진공 흡인부의 진공 라인으로부터 분기되도록 구비되는 분기 라인, 및 상기 분기 라인을 개방시키도록 구비되는 제2 밸브로 이루어질 수 있다.In example embodiments, the airflow forming unit may include a branch line provided to branch from the vacuum line of the vacuum suction unit, and a second valve provided to open the branch line.

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 기판의 이송 방향을 기준으로 상기 토출부의 후단부 쪽에는 상기 상승 기류를 상기 기판 상부 쪽으로 유도하도록 구비되는 기류 유도부를 더 포함할 수 있다.In example embodiments, an airflow guide unit provided to guide the upward airflow toward the upper side of the substrate may be further included at a rear end of the discharge unit based on the transfer direction of the substrate.

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 기류 유도부는 상기 토출부의 후단부에 배치되도록 구비되는 바(bar) 및 상기 바를 개방시키도록 구비되는 개방부로 이루어질 수 있다.In exemplary embodiments, the airflow inducing part may include a bar provided to be disposed at the rear end of the discharge part and an opening part provided to open the bar.

상기 본 발명의 일 과제를 달성하기 위한 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 방법은 기판 쪽으로 에어를 분사하는 에어 분사부 및 진공으로 흡인하는 진공 흡인부로 이루어지는 부상부가 구비되는 부상 스테이지를 따라 이송되는 상기 기판에 약액을 토출하는 단계와, 상기 약액의 토출이 종료되는 시점에 상기 기판의 이송에 따라 노출되는 영역 근방에 있는 상기 진공 흡인부로부터 상기 기판을 향하여 흡입되는 진공을 차단하는 단계를 포함할 수 있다.The chemical liquid discharging method according to exemplary embodiments for achieving the object of the present invention is transported along the levitation stage provided with a levitating unit comprising an air jetting unit for jetting air toward the substrate and a vacuum suction unit for suctioning in vacuum. Discharging the chemical to the substrate, and blocking the vacuum sucked toward the substrate from the vacuum suction unit located in the vicinity of the area exposed according to the transfer of the substrate at the time when the discharging of the chemical is finished. have.

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 기판이 이송되는 방향을 행 방향, 상기 행 방향과 수직 방향을 열 방향이라 하고, 상기 약액을 토출하는 토출부는 상기 열 방향을 따라 고정되도록 구비될 때, 상기 진공 흡인부 중에서 상기 토출부 바로 아래의 열 방향에 배치되는 제1 진공 흡인부, 제1 진공 흡인부에 근접하는 좌측 열에 배치되는 제2 진공 흡인부, 및 상기 제1 진공 흡인부에 근접하는 우측 열에 배치되는 제3 진공 흡인부로부터의 진공을 차단할 수 있다.In exemplary embodiments, a direction in which the substrate is transported is referred to as a row direction, and a direction perpendicular to the row direction is referred to as a column direction, and when the discharge unit for discharging the chemical is fixed along the column direction, the vacuum Among the suction units, a first vacuum suction unit disposed in a row direction immediately below the discharge unit, a second vacuum suction unit disposed in a left row adjacent to the first vacuum suction unit, and a right row adjacent to the first vacuum suction unit It is possible to block the vacuum from the disposed third vacuum suction unit.

예시적인 실시예들에 있어서, 상기 진공의 차단시 상기 기판 쪽으로 에어를 분사하여 상승 기류를 형성하는 단계를 더 포함할 수 있고, 상기 상승 기류는 상기 기판 상부 쪽으로 유도할 수 있다.In example embodiments, the method may further include spraying air toward the substrate when the vacuum is interrupted to form an upward airflow, and the upward airflow may be guided toward the upper portion of the substrate.

본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치 및 약액 토출 방법은 진공 차단부를 구비함으로써 진공 흡입부로부터 기판을 향하여 흡인되는 진공, 특히 기판을 이송시킴에 따라 노출되는 영역 근방에 있는 진공 흡인부로부터의 진공을 차단할 수 있을 것이다.The chemical liquid discharging apparatus and the chemical liquid discharging method according to exemplary embodiments of the present invention include a vacuum sucked from the vacuum suction unit toward the substrate by providing a vacuum interrupter, in particular, a vacuum suction unit located in the vicinity of an area exposed by transferring the substrate. It will be able to block the vacuum from

이에, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치 및 약액 토출 방법은 진공 흡인부의 진공홀에 약액이 흡착되는 상황을 최소화할 수 있음으로써 기판을 부상시키는 부상력을 일정하게 유지할 수 있을 것이다.Accordingly, the chemical liquid discharging apparatus and the chemical liquid discharging method according to exemplary embodiments of the present invention can minimize the situation in which the chemical is adsorbed to the vacuum hole of the vacuum suction unit, thereby constantly maintaining the levitation force for levitating the substrate. .

따라서 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치 및 약액 토출 방법은 약액의 토출시 기판을 일정하게 부상시킬 수 있기 때문에 약액 토출에 따른 얼룩 발생 등과 같은 불량을 최소화할 수 있을 뿐만 아니라 보다 안정적으로 기판을 이송시킬 수 있을 것이다.Therefore, since the chemical liquid discharging apparatus and the chemical liquid discharging method according to exemplary embodiments of the present invention can constantly float the substrate during discharge of the chemical, it is possible to minimize defects such as stains caused by discharging the chemical as well as to be more stable. substrate can be transferred.

그러므로 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치 및 약액 토출 방법은 유기 EL 소자 등과 같은 디스플레이 소자의 제조에 따른 공정 신뢰도의 향상까지도 기대할 수 있을 것이다.Therefore, the chemical liquid discharging apparatus and the chemical liquid discharging method according to the exemplary embodiments of the present invention may even be expected to improve process reliability according to the manufacture of display devices such as organic EL devices.

다만, 본 발명의 효과는 상기 언급한 효과에 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.However, the effects of the present invention are not limited to the above-mentioned effects, and may be variously expanded without departing from the spirit and scope of the present invention.

도 1 내지 도 3은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치를 설명하기 위한 개략적인 도면들이다.
도 4는 도 3의 약액 토출 장치에 구비되는 기류 유도부를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 5는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치를 사용한 약액 토출 공정의 수행시 진공 흡인부의 진공홀에 약액이 흡착되는 상황을 나타내는 도면이다.
도 6은 종래의 약액 토출 장치를 사용한 약액 토출 공정의 수행시 진공 흡인부의 진공홀에 약액이 흡착되는 상황을 나타내는 도면이다.1 to 3 are schematic views for explaining a chemical liquid discharging apparatus according to exemplary embodiments of the present invention.
FIG. 4 is a schematic view for explaining an airflow inducing unit provided in the chemical liquid discharging device of FIG. 3 .
5 is a diagram illustrating a situation in which a chemical is adsorbed to a vacuum hole of a vacuum suction unit when a chemical liquid discharging process is performed using the chemical liquid discharging apparatus according to exemplary embodiments of the present invention.
6 is a diagram illustrating a situation in which a chemical solution is adsorbed to a vacuum hole of a vacuum suction unit when a chemical solution discharging process using a conventional chemical solution discharging device is performed.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예를 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조 부호를 유사한 구성 요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "이루어진다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야한다.Since the present invention may have various changes and may have various forms, embodiments will be described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to the specific disclosed form, it should be understood to include all modifications, equivalents and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In describing each figure, like reference numerals have been used for like elements. Terms such as first, second, etc. may be used to describe various elements, but the elements should not be limited by the terms. The above terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. The terms used in the present application are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise. In this application, terms such as "comprises" or "consisting of" are intended to designate that a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification is present, but one or more other features It is to be understood that this does not preclude the possibility of addition or existence of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related art, and should not be interpreted in an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in the present application. does not

이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다. 도면상의 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 사용하고 동일한 구성 요소에 대해서 중복된 설명은 생략한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. The same reference numerals are used for the same components in the drawings, and duplicate descriptions of the same components are omitted.

도 1 내지 도 3은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치를 설명하기 위한 개략적인 도면들이고, 도 4는 도 3의 약액 토출 장치에 구비되는 기류 유도부를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.1 to 3 are schematic views for explaining a chemical liquid discharging apparatus according to exemplary embodiments of the present invention, and FIG. 4 is a schematic diagram for explaining an airflow inducing unit provided in the chemical liquid discharging apparatus of FIG. 3 .

먼저 도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 기판(11)에 약액을 토출하는 공정에 사용할 수 있는 것으로써, 특히 회로 패턴을 형성하기 위한 기판(11) 일면에 포토레지스트 등과 같은 약액을 토출하는 포토리소그라피(photolithography) 공정에 사용할 수 있다.First, referring to FIGS. 1 to 3 , the chemical liquid discharging apparatus 100 according to exemplary embodiments of the present invention can be used in the process of discharging the chemical to the substrate 11 , and in particular, to form a circuit pattern. It can be used in a photolithography process for discharging a chemical solution, such as a photoresist, on one surface of the substrate 11 for

본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)를 사용하는 약액 토출 공정은 기판(11)을 부상시킨 상태에서 이루어질 수 있는 것으로써, 이에 약액 토출 공정의 수행시 기판(11)이 위치하는 부상 스테이지(13)에는 기판(11)을 부상시키기 위한 부상부가 구비될 수 있다.The chemical liquid discharging process using the chemical liquid discharging apparatus 100 according to the exemplary embodiments of the present invention may be performed in a state in which the substrate 11 is floated. Accordingly, when the chemical liquid discharging process is performed, the substrate 11 is The levitation stage 13 located may be provided with a levitation unit for levitating the substrate 11 .

언급한 부상 스테이지(13)는 약액 토출 공정이 이루어지는 토출 스테이지와 함께 토출 스테이지로 기판(11)을 반입하도록 토출 스테이지의 일측에 구비되는 반입 스테이지 및 토출 스테이지로부터 기판(11)을 반출하도록 토출 스테이지의 타측에 구비되는 반출 스테이지로 이루어질 수 있는데, 본 발명에서의 부상 스테이지(13)는 토출 스테이지일 수 있다.The aforementioned levitation stage 13 includes a carry-in stage provided at one side of the discharge stage to carry the substrate 11 into the discharge stage together with the discharge stage where the chemical liquid discharge process is performed, and a discharge stage to unload the substrate 11 from the discharge stage. It may consist of a discharging stage provided on the other side, and the floating stage 13 in the present invention may be a discharging stage.

여기서, 반입 스테이지 및 반출 스테이지는 기판(11)을 단순히 부상시키기만 하면 되기 때문에 기판(11) 이면으로 에어만을 분사하는 구성을 가지는 반면에, 본 발명에서의 부상 스테이지(13)인 토출 스테이지는 기판(11)이 부상되는 높이를 보다 정밀하게 제어해야 하기 때문에 기판(11) 이면으로 에어를 분사함과 아울러 진공으로 흡인하는 구성을 가질 수 있다.Here, the carrying-in stage and the carrying-out stage only need to float the substrate 11 , and thus have a configuration that sprays only air to the back surface of the substrate 11 , whereas the ejection stage, which is the floating stage 13 in the present invention, is the substrate Since it is necessary to more precisely control the height at which the (11) floats, it may have a configuration in which air is sprayed onto the back surface of the substrate 11 and suctioned in a vacuum.

이에, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 부상 스테이지(13)에 구비되는 부상부는 기판(11), 특히 기판(11) 이면 쪽으로 에어를 분사하는 에어 분사부(15) 및 진공으로 흡인하는 진공 흡인부(17)로 이루어질 수 있다.Accordingly, the levitation unit provided in the levitation stage 13 according to exemplary embodiments of the present invention is the substrate 11 , in particular, the air injection unit 15 that injects air toward the back surface of the substrate 11 and the vacuum suctioning the vacuum. It may be formed of a suction unit 17 .

그리고 에어 분사부(15) 및 진공 흡인부(17)는 후술하는 행 방향 및 열 방향을 따라 서로 교변적으로 배치되도록 구비될 수 있다.In addition, the air jetting unit 15 and the vacuum suction unit 17 may be alternately disposed along a row direction and a column direction to be described later.

도시하지 않았지만, 언급한 에어 분사부(15)는 부상 스테이지(13)를 관통하는 에어홀, 에어홀과 연결되는 에어 라인, 및 에어 라인을 통하여 에어홀로 에어를 공급하는 에어 공급 부재 등으로 이루어질 수 있고, 언급한 진공 흡인부(17)는 부상 스테이지(13)를 관통하는 진공홀, 진공홀과 연결되는 진공 라인(33), 및 진공 라인(33)을 통하여 진공홀로 진공으로 흡인하는 진공력을 공급하는 진공 공급 부재 등으로 이루어질 수 있다.Although not shown, the aforementioned air injection unit 15 may be made of an air hole passing through the levitation stage 13, an air line connected to the air hole, and an air supply member for supplying air to the air hole through the air line. There is, and the vacuum suction unit 17 mentioned above is a vacuum hole that passes through the levitation stage 13, a vacuum line 33 connected to the vacuum hole, and a vacuum force that sucks a vacuum into the vacuum hole through the vacuum line 33 It may be made of a vacuum supply member or the like for supplying it.

언급한 에어 공급 부재는 주로 에어 콤퓨레샤(compressor) 등일 수 있고, 언급한 진공 공급 부재는 주로 진공 펌프 등일 수 있다.The aforementioned air supply member may mainly be an air compressor or the like, and the aforementioned vacuum supply member may mainly be a vacuum pump or the like.

본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)를 사용하는 약액 토출 공정은 부상 스테이지(13)로부터 기판(11)을 부상시킨 상태에서 부상 스테이지(13)를 따라 기판(11)을 이송시키면서 이루어질 수 있다.In the chemical liquid discharge process using the chemical liquid discharge apparatus 100 according to exemplary embodiments of the present invention, the substrate 11 is moved along the floating stage 13 in a state in which the substrate 11 is floated from the floating stage 13 . This can be done while transporting.

이에, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 부상 스테이지(13)로부터 부상되는 기판(11)을 부상 스테이지(13)의 행 방향을 따라 이송시킬 수 있는 이송부(25)를 구비할 수 있다.Accordingly, the chemical liquid discharging apparatus 100 according to exemplary embodiments of the present invention is a transfer unit 25 capable of transferring the substrate 11 floating from the floating stage 13 along the row direction of the floating stage 13 . can be provided.

여기서, 기판(11)이 이송되는 방향을 행 방향이라 할 수 있고, 행 방향과 수직 방향을 열 방향이라 할 수 있다. 즉, 기판(11)이 이송되는 기판(11)의 길이 방향을 행 방향이라 할 수 있고, 기판(11)의 길이 방향과 수직되는 기판(11)의 폭 방향을 열 방향이라 할 수 있는 것이다.Here, a direction in which the substrate 11 is transported may be referred to as a row direction, and a direction perpendicular to the row direction may be referred to as a column direction. That is, the longitudinal direction of the substrate 11 to which the substrate 11 is transferred may be referred to as a row direction, and the width direction of the substrate 11 perpendicular to the longitudinal direction of the substrate 11 may be referred to as a column direction.

언급한 이송부(25)는 주로 기판(11)의 일측면 또는 기판(11)의 양측면을 파지하는 파지부, 부상 스테이지(13)의 행 방향 일측 또는 양측을 따라 배치되어 파지부의 이송을 가이드하는 가이드부, 및 가이드부를 따라 파지부가 이송될 수 있도록 구동력을 제공하는 구동부 등으로 이루어질 수 있다.The mentioned transfer unit 25 is mainly disposed along one side or both sides of the row direction of the holding unit for holding one side of the substrate 11 or both sides of the substrate 11, and guiding the transfer of the holding unit. It may include a guide part and a driving part that provides a driving force so that the grip part can be transferred along the guide part.

여기서, 파지부는 기판(11)을 그립핑하는 그리퍼 또는 기판(11) 이면을 진공으로 흡착하는 진공 흡착부 등으로 이루어질 수 있고, 가이드부는 부상 스테이지(13)의 행 방향 일측 또는 양측에 배치되는 레일 부재 등으로 이루어질 수 있고, 구동부는 주로 모터 등으로 이루어질 수 있다.Here, the gripper may include a gripper for gripping the substrate 11 or a vacuum suction unit for adsorbing the back surface of the substrate 11 with a vacuum, and the guide unit is a rail disposed on one or both sides of the levitation stage 13 in the row direction. It may be made of a member or the like, and the driving unit may be mainly made of a motor or the like.

본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 기판(11), 특히 회로 패턴을 형성하기 위한 기판(11) 일면에 약액을 토출하는 토출부(19)를 구비할 수 있다.The chemical discharging apparatus 100 according to exemplary embodiments of the present invention may include a discharging unit 19 discharging a chemical to one surface of the substrate 11 , in particular, the substrate 11 for forming a circuit pattern.

이에, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)를 사용하는 약액 토출 공정에서는 부상 스테이지(13)로부터 부상된 상태에서 부상 스테이지(13)를 따라 이송하는 기판(11)에 약액을 토출할 수 있는 것이다.Accordingly, in the chemical solution discharging process using the chemical discharging apparatus 100 according to exemplary embodiments of the present invention, the chemical solution is transferred to the substrate 11 transported along the floating stage 13 in the floating state from the floating stage 13 . can be ejected.

본 발명에서의 약액 토출 공정에서는 주로 포토레지스트 등과 같은 약액을 토출하기 때문에 토출부(19)는 부상 스테이지(13)의 열 방향으로 구비되는 노즐일 수 있고, 더욱이 스캔 방식으로 기판(11)에 약액을 토출해야 할 수도 있기 때문에 기판(11)의 폭 방향 전체를 커버하는 길이를 갖는 슬릿 노즐일 수 있다.In the chemical liquid discharging process in the present invention, since a chemical solution such as a photoresist is mainly discharged, the discharge unit 19 may be a nozzle provided in the column direction of the floating stage 13, and furthermore, the chemical solution is applied to the substrate 11 in a scan manner. may have to be discharged, so it may be a slit nozzle having a length that covers the entire width direction of the substrate 11 .

또한, 본 발명에서의 약액 토출 공정은 기판(11)을 이송시키면서 이루어지기 때문에 토출부(19)는 고정되는 구조를 가질 수 있는 것으로써, 주로 부상 스테이지(토출 스테이지)(13)의 중심부 쪽에 고정되는 구조를 갖도록 구비될 수 있다.In addition, since the chemical solution discharging process in the present invention is performed while transferring the substrate 11 , the discharging unit 19 may have a fixed structure, and is mainly fixed to the central portion of the floating stage (discharging stage) 13 . It may be provided to have a structure that becomes

본 발명의 약액 토출 공정에서는 기판(11)을 향하여 진공으로 흡인이 이루어지기 때문에 기판(11) 일면으로 토출되는 약액 일부가 진공 흡인부(17)의 진공홀에 흡착되는 상황이 빈번하게 발생할 수 있고, 나아가 기판(11) 일면으로 토출되는 약액으로부터 발생되는 흄(fume)이 진공 흡인부(17)의 진공홀에 흡착되는 상황이 발생함과 아울러 계속적인 흡착 및 이를 통하여 고착화됨에 따라 진공 흡인부(17)의 진공홀의 일부분 또는 전부를 막아버리는 상황이 발생할 수 있다.In the chemical liquid discharging process of the present invention, since suction is made in a vacuum toward the substrate 11, a situation in which a part of the chemical discharged to one surface of the substrate 11 is adsorbed to the vacuum hole of the vacuum suction unit 17 may occur frequently. , furthermore, a situation in which fume generated from the chemical liquid discharged to one surface of the substrate 11 is adsorbed to the vacuum hole of the vacuum suction unit 17 occurs, and as the vacuum suction unit ( 17), some or all of the vacuum holes may be blocked.

이와 같이, 진공 흡인부(17)의 일부분 또는 전부를 막아버릴 경우에는 진공 흡인부(17)로부터의 진공 흡인이 원활하게 진행되지 않음에 따라 부상 스테이지(13)로부터 기판(11)이 부상되는 높이를 제어하지 못하는 결과를 초래할 수 있고, 이에 약액 토출에 따른 불량이 발생함과 아울러 심할 경우 이송이 진행되는 기판(11)이 손상되는 상황까지 발생할 수 있을 것이다.In this way, when a part or all of the vacuum suction unit 17 is blocked, vacuum suction from the vacuum suction unit 17 does not proceed smoothly, so the height at which the substrate 11 is floated from the floating stage 13 . This may result in not being able to control the liquid crystal, and this may cause a defect due to the discharge of the chemical and, in severe cases, may even lead to a situation in which the substrate 11 on which the transfer proceeds is damaged.

특히, 약액의 토출시 기판(11)을 이송시킴에 따라 노출되는 영역 근방에 배치되는 진공 흡인부(17)의 경우에는 토출되는 약액이 진공 흡인부(17)에 그대로 노출될 수 있기 때문에 진공 흡인부(17)의 진공홀로 약액 일부가 흡착되거나 또는 흄이 흡착되는 상황이 보다 심각하게 발생할 수 있다.In particular, in the case of the vacuum suction unit 17 disposed near the area exposed by transferring the substrate 11 when discharging the chemical, the discharged chemical can be directly exposed to the vacuum suction unit 17, so the vacuum suction is performed. A situation in which a part of the chemical is adsorbed or fumes are adsorbed through the vacuum hole of the unit 17 may occur more seriously.

이에, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 진공 흡인부(17)로부터 흡인이 이루어지는 진공을 차단할 수 있는 진공 차단부(21)를 구비할 수 있다.Accordingly, the chemical discharging apparatus 100 according to exemplary embodiments of the present invention may include a vacuum blocking unit 21 capable of blocking the vacuum suctioned from the vacuum suction unit 17 .

언급한 진공 차단부(21)는 부상 스테지이에 배치되는 진공 흡인부(17) 전체에서 약액의 토출시 기판(11)을 이송시킴에 따라 노출되는 영역 근방에 배치되는 진공 흡인부(17)로부터의 진공을 차단할 수 있도록 구비될 수 있다.The vacuum cut-off part 21 mentioned above is a vacuum suction part 17 disposed in the vicinity of the area exposed as the substrate 11 is transported when the chemical solution is discharged from the entire vacuum suction part 17 disposed on the floating stage. It may be provided to block the vacuum.

그리고 진공 차단부(21)에 의한 진공이 차단이 수시로 이루어질 경우에는 부상 스테이지(13)로부터의 기판(11)의 부상 높이에 지장을 끼칠 수 있을 것이다.And when the vacuum by the vacuum blocking unit 21 is frequently cut off, it may interfere with the floating height of the substrate 11 from the floating stage 13 .

따라서 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 약액의 토출이 종료되는 시점에 진공 차단부(21)가 작동할 수 있도록 하는 제어부(23)를 구비할 수 있다.Accordingly, the chemical discharging apparatus 100 according to exemplary embodiments of the present invention may include a control unit 23 that enables the vacuum interrupter 21 to operate at the time when discharging of the chemical is terminated.

이에, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 약액의 토출이 종료되는 시점에 기판(11)의 이송이 이루어짐에 따라 노출되는 영역 근방에 배치되는 진공 흡인부(17)의 진공을 차단할 수 있다.Accordingly, in the chemical discharging apparatus 100 according to exemplary embodiments of the present invention, the vacuum suction unit 17 disposed near the area exposed as the substrate 11 is transferred at the time when discharging of the chemical is finished. can block the vacuum.

특히, 언급한 바와 같이 토출부(19)가 고정되도록 구비될 수 있기 때문에 진공 차단부(21)는 진공 흡인부(17) 중에서 토출부(19) 바로 아래의 열 방향에 배치되는 제1 진공 흡인부(27), 제1 진공 흡인부(27)의 좌측 열에 배치되는 제2 진공 흡인부(29), 및 제1 진공 흡인부(27)의 우측 열에 배치되는 제3 진공 흡인부(31)로부터의 진공을 차단하도록 구비될 수 있다.In particular, as mentioned above, since the discharge unit 19 may be fixedly provided, the vacuum interrupter 21 is the first vacuum suction disposed in the column direction immediately below the discharge unit 19 among the vacuum suction units 17 . from the portion 27 , the second vacuum suction unit 29 arranged in the left row of the first vacuum suction unit 27 , and the third vacuum suction unit 31 arranged in the right row of the first vacuum suction unit 27 . It may be provided to block the vacuum of.

여기서, 제2 진공 흡인부(29)가 제1 진공 흡인부(27)의 좌측의 다수 열을 포함함과 아울러 제3 진공 흡인부(31)가 제1 진공 흡인부(27)의 우측의 다수 열을 포함할 경우에도 기판(11)의 부상 높이에 지장을 끼칠 수도 있다.Here, the second vacuum suction unit 29 includes a plurality of rows on the left side of the first vacuum suction unit 27 , and the third vacuum suction unit 31 includes a plurality of rows on the right side of the first vacuum suction unit 27 . Even when heat is included, the height of the substrate 11 may be affected.

따라서 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)에서의 제2 진공 흡인부(29)는 제1 진공 흡인부(27)에 근접하는 좌측 열에 배치되는 것일 수 있고, 제3 진공 흡입부(31)는 제1 진공 흡인부(27)에 근접하는 우측 열에 배치되는 것일 수 있다.Accordingly, the second vacuum suction unit 29 in the chemical liquid discharging apparatus 100 according to exemplary embodiments of the present invention may be disposed in the left column adjacent to the first vacuum suction unit 27, and the third vacuum The suction unit 31 may be disposed in a right row adjacent to the first vacuum suction unit 27 .

이에, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 진공 차단부(21)에 의해 제1 내지 제3 진공 흡인부(27, 29, 31), 즉 기판(11)이 이송됨에 따라 노출되는 영역 근방에서의 3열에 배치되는 제1 내지 제3 진공 흡인부(27, 29, 31)로부터의 진공을 차단할 수 있을 것이다.Accordingly, in the chemical discharging apparatus 100 according to exemplary embodiments of the present invention, the first to third vacuum suction units 27 , 29 , 31 , that is, the substrate 11 are transferred by the vacuum blocking unit 21 . Accordingly, the vacuum from the first to third vacuum suction units 27 , 29 , and 31 disposed in the third row near the exposed area may be blocked.

본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)에 구비되는 진공 차단부(21)는 제1 밸브로 이루어질 수 있다.The vacuum shutoff unit 21 provided in the chemical liquid discharging apparatus 100 according to exemplary embodiments of the present invention may be formed of a first valve.

그리고 언급한 제1 밸브(21)는 제1 내지 제3 진공 흡인부(27, 29, 31)로 진공을 공급하는 진공 라인(33)에 배치되도록 구비될 수 있다.In addition, the aforementioned first valve 21 may be provided to be disposed in the vacuum line 33 for supplying vacuum to the first to third vacuum suction units 27 , 29 , and 31 .

따라서 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 진공 차단부(21)로 구비되는 제1 밸브의 개폐 동작을 통하여 제1 내지 제3 진공 흡인부(27, 29, 31)로부터의 진공을 차단할 수 있을 것이다.Therefore, in the chemical discharge device 100 according to exemplary embodiments of the present invention, the first to third vacuum suction units 27 , 29 , 31 through the opening and closing operation of the first valve provided as the vacuum shutoff unit 21 . It will be able to block the vacuum from

이와 같이, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 필요에 따라 진공 흡인부(17)로부터의 진공을 차단, 특히 약액의 토출시 기판(11)을 이송시킴에 따른 노출되는 영역 근방에 배치되는 진공 흡인부(17)로부터의 진공을 차단시킬 수 있기 때문에 진공 흡인부(17)의 진공홀에 약액 또는 약액으로 인한 흄이 흡착되는 것을 최소화할 수 있을 것이고, 그 결과 약액의 토출시 기판(11)을 일정하게 부상시킬 수 있기 때문에 약액 토출에 따른 얼룩 발생 등과 같은 불량을 최소화할 수 있을 뿐만 아니라 보다 안정적으로 기판(11)을 이송시킬 수 있을 것이다.As described above, the chemical solution discharging apparatus 100 according to exemplary embodiments of the present invention blocks the vacuum from the vacuum suction unit 17 as necessary, particularly when discharging the chemical solution, exposure due to transporting the substrate 11 Since it is possible to block the vacuum from the vacuum suction unit 17 disposed in the vicinity of the region to be used, it will be possible to minimize the adsorption of the chemical or fumes due to the chemical to the vacuum hole of the vacuum suction unit 17, as a result, the chemical solution Since the substrate 11 can be constantly floated during the discharge of the chemical solution, defects such as stains caused by the discharge of the chemical can be minimized, and the substrate 11 can be transported more stably.

본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 진공 흡인부(17)로부터의 진공의 차단시 부상 스테이지(13)로부터 기판(11) 쪽으로 상승 기류를 형성할 수 있게 구비될 수 있다.The chemical discharge device 100 according to exemplary embodiments of the present invention may be provided to form an upward airflow from the levitation stage 13 toward the substrate 11 when the vacuum from the vacuum suction unit 17 is blocked. have.

이에, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 기판(11) 쪽으로 상승 기류를 형성할 수 있게 기판(11) 쪽으로 에어를 분사하는 기류 형성부(35)를 구비할 수 있다.Accordingly, the chemical liquid discharging apparatus 100 according to exemplary embodiments of the present invention may include an airflow forming unit 35 for spraying air toward the substrate 11 to form an upward airflow toward the substrate 11 . have.

특히, 언급한 기류 형성부(35)는 진공 흡인부(17)의 진공 라인(33)을 통하여 기판(11) 쪽으로 에어를 분사하도록 구비될 수 있는 것으로써, 진공 차단부(21)에 의해 진공의 공급이 차단되는 진공 흡인부(17)인 제1 내지 제3 진공 흡인부(27, 29, 31)의 진공 라인(33)을 통하여 기판(11) 쪽으로 에어를 분사하도록 구비될 수 있다.In particular, the aforementioned airflow forming unit 35 may be provided to spray air toward the substrate 11 through the vacuum line 33 of the vacuum suction unit 17 , and may be vacuumed by the vacuum blocking unit 21 . It may be provided to spray air toward the substrate 11 through the vacuum line 33 of the first to third vacuum suction units 27 , 29 , 31 which are the vacuum suction units 17 where the supply of is blocked.

이때, 기류 형성부(35)는 진공 차단부(21)와 함께 작동할 수 있게 제어부(23)에 의해 제어되도록 구비될 수 있는 것으로써, 진공 차단부(21)에 의해 진공 흡인부(17)의 진공을 차단시킴과 동시에 진공이 차단된 진공 흡인부(17)의 진공 라인(33)을 통하여 기판(11) 쪽으로 에어를 분사하도록 구비될 수 있는 것이다.At this time, the airflow forming unit 35 may be provided to be controlled by the control unit 23 so as to operate together with the vacuum blocking unit 21 , and the vacuum suction unit 17 by the vacuum blocking unit 21 . At the same time as blocking the vacuum of the vacuum, it may be provided to inject air toward the substrate 11 through the vacuum line 33 of the vacuum suction unit 17 where the vacuum is blocked.

여기서, 기류 형성부(35)는 진공 흡인부(17)의 진공 라인(33)으로부터 분기되도록 구비되는 분기 라인(37) 및 분기 라인(37)을 개방시키도록 구비되는 제2 밸브(39)로 이루어질 수 있다.Here, the airflow forming unit 35 is a branch line 37 provided to branch from the vacuum line 33 of the vacuum suction unit 17 and a second valve 39 provided to open the branch line 37 . can be done

이와 같이, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 진공 차단부(21)인 제1 밸브를 폐쇄시킴과 아울러 기류 형성부(35)인 제2 밸브(39)를 개방시킴으로써 진공 흡인부(17)로부터의 진공을 차단시킴과 동시에 기류 형성부(35)로부터 상승 기류를 형성할 수 있기에 진공 흡인부(17)의 진공홀에 약액 또는 약액으로 인한 흄이 흡착되는 것을 최소화할 수 있을 것이고, 그 결과 약액의 토출시 기판(11)을 일정하게 부상시킬 수 있기 때문에 약액 토출에 따른 얼룩 발생 등과 같은 불량을 최소화할 수 있을 뿐만 아니라 보다 안정적으로 기판(11)을 이송시킬 수 있을 것이다.In this way, the chemical liquid discharging apparatus 100 according to exemplary embodiments of the present invention closes the first valve which is the vacuum shutoff unit 21 and opens the second valve 39 which is the airflow forming unit 35 . By doing so, it is possible to block the vacuum from the vacuum suction unit 17 and at the same time form an upward airflow from the airflow forming unit 35, so that the vacuum hole of the vacuum suction unit 17 minimizes the adsorption of fumes due to the chemical or chemical solution. As a result, since the substrate 11 can be constantly floated when the chemical solution is discharged, defects such as stains caused by discharging the chemical can be minimized, and the substrate 11 can be transported more stably There will be.

여기서, 기류 형성부(35)에 의해 형성되는 상승 기류가 기판(11) 쪽에 오래 머물러 있을 경우 기판(11)의 부상 높이에 지장을 끼칠 수 있다.Here, when the upward airflow formed by the airflow forming unit 35 stays on the substrate 11 side for a long time, it may interfere with the floating height of the substrate 11 .

본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 기류 형성부(35)에 의해 형성되는 상승 기류를 토출부(19) 상부 쪽으로 보다 안정적으로 유도, 토출부(19) 상부 쪽으로 보다 안정적으로 플로우시킬 수 있는 기류 유도부(41)를 구비할 수 있는데, 기판(11)의 이송 방향을 기준으로 토출부(19)의 후단부에 구비될 수 있다.The chemical liquid discharging apparatus 100 according to exemplary embodiments of the present invention more stably guides the upward airflow formed by the airflow forming unit 35 toward the upper side of the discharging unit 19 , and more stably toward the upper side of the discharging unit 19 . An airflow guide unit 41 capable of stably flowing may be provided, and may be provided at the rear end of the discharge unit 19 based on the transfer direction of the substrate 11 .

도 4를 참조하면, 언급한 기류 유도부(41)는 토출부(19)의 후단부에 배치되도록 구비되는 바(bar)(43) 및 상기 바(43)를 개방시키는 구조를 갖도록 구비되는 개방부(45)로 이루어질 수 있다.Referring to FIG. 4 , the aforementioned airflow inducing unit 41 includes a bar 43 provided to be disposed at the rear end of the discharge unit 19 and an opening provided to have a structure for opening the bar 43 . (45).

이와 같이, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 약액의 토출시 기판(11)을 이송시킴에 따른 노출되는 영역 근반에 있는 진공 흡인부(17)로부터의 진공을 차단시킴과 동시에 진공이 차단된 진공 흡인부(17)를 통하여 에어를 분사하여 기판(11) 쪽으로 상승 기류를 형성함과 아울러 언급한 상승 기류를 토출부(19) 상부 쪽으로 안정적으로 유도함으로써 기판(11)의 이송에는 전혀 지장을 끼치지 않으면서도 진공 흡인부(17)의 진공홀에 약액 또는 약액으로 인한 흄이 흡착되는 것을 최소화할 수 있을 것이다.As described above, the chemical liquid discharging apparatus 100 according to exemplary embodiments of the present invention blocks the vacuum from the vacuum suction unit 17 in the vicinity of the exposed area due to the transport of the substrate 11 when the chemical liquid is discharged. At the same time, air is sprayed through the vacuum suction unit 17 in which the vacuum is blocked to form an upward airflow toward the substrate 11, and by stably inducing the above-mentioned upward airflow toward the upper portion of the discharge unit 19, the substrate 11 ), it will be possible to minimize the adsorption of chemical liquid or fumes due to the chemical liquid in the vacuum hole of the vacuum suction unit 17 without affecting the transfer.

도 5는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치를 사용한 약액 토출 공정의 수행시 진공 흡인부의 진공홀에 약액이 흡착되는 상황을 나타내는 도면이고, 도 6은 종래의 약액 토출 장치를 사용한 약액 토출 공정의 수행시 진공 흡인부의 진공홀에 약액이 흡착되는 상황을 나타내는 도면이다.5 is a diagram illustrating a situation in which a chemical solution is adsorbed to a vacuum hole of a vacuum suction unit when a chemical solution discharging process using a chemical solution discharging device according to exemplary embodiments of the present invention is performed, and FIG. 6 is a conventional chemical solution discharging device using It is a view showing a situation in which the chemical is adsorbed to the vacuum hole of the vacuum suction unit when the chemical liquid discharging process is performed.

먼저 도 5는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)를 사용한 결과 진공 흡인부(17)의 진공홀에 약액이 흡착되는 정도를 나타내고 있고, 그리고 도 6은 진공 차단부가 구비되지 않은 종래의 약액 토출 장치를 사용한 결과 진공 흡인부(17)의 진공홀에 약액이 흡착되는 정도를 나타내고 있다.First, FIG. 5 shows the degree to which the chemical is adsorbed to the vacuum hole of the vacuum suction unit 17 as a result of using the chemical liquid discharging device 100 according to exemplary embodiments of the present invention, and FIG. 6 is provided with a vacuum interrupter As a result of using a conventional chemical liquid discharging device that has not been used, the degree of adsorption of the chemical liquid to the vacuum hole of the vacuum suction unit 17 is shown.

도 6의 경우에는 도 5에 비해 보다 많은 개수의 진공 흡인부(17)의 진공홀에 약액이 흡착되는 것을 확인할 수 있고, 특히 약액의 토출시 기판(11)이 이송됨에 따라 노출되는 영역 근방에서의 진공 흡인부(17)의 진공홀에 집중적으로 약액이 흡착되는 것을 확인할 수 있다.In the case of FIG. 6 , it can be seen that the chemical solution is adsorbed to the vacuum holes of the vacuum suction unit 17 in a larger number than in FIG. It can be seen that the chemical solution is intensively adsorbed to the vacuum hole of the vacuum suction unit 17 of the

이와 같이, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 진공 차단부(21)를 구비함으로써 약액의 토출시 기판(11)이 이송됨에 따라 노출되는 근방에서의 상대적으로 적은 개수의 진공 흡인부(17)의 진공홀에 약액이 흡착되는 것을 확인할 수 있다.As described above, the chemical liquid discharging apparatus 100 according to the exemplary embodiments of the present invention includes the vacuum blocking unit 21 , so that when the chemical liquid is discharged, a relatively small number in the vicinity of which the substrate 11 is exposed as it is transported. It can be seen that the chemical is adsorbed to the vacuum hole of the vacuum suction unit 17 of the

따라서 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 진공 흡인부(17)의 진공홀에 약액 또는 약액으로 인한 흄이 흡착되는 것을 최소화할 수 있을 것이다.Therefore, the chemical liquid discharging apparatus 100 according to exemplary embodiments of the present invention may minimize adsorption of the chemical liquid or fumes due to the chemical liquid into the vacuum hole of the vacuum suction unit 17 .

이하, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치를 사용하는 약액 토출 방법에 대하여 설명하기로 한다.Hereinafter, a chemical liquid discharging method using the chemical liquid discharging apparatus according to exemplary embodiments of the present invention will be described.

먼저 기판(11) 일면에 약액을 토출하는 약액 토출 공정을 수행할 수 있다. 약액 토출 공정은 부상 스테이지(13)로부터 기판(11)을 부상시킨 상태에서 부상 스테이지(13)의 행 방향을 따라 기판(11)을 이송시키면서 기판(11) 일면에 약액을 토출할 수 있다.First, a chemical solution discharging process of discharging a chemical solution to one surface of the substrate 11 may be performed. In the chemical liquid discharging process, the chemical liquid may be discharged to one surface of the substrate 11 while transferring the substrate 11 along the row direction of the floating stage 13 in a state in which the substrate 11 is floated from the floating stage 13 .

이때, 토출부(19)는 부상 스테이지(13)의 중심 영역 상부에 고정된 상태를 유지할 수 있고, 토출부(19)의 아래에서 이송되는 기판(11)에 약액의 토출이 이루어질 수 있다.At this time, the discharge unit 19 may maintain a fixed state on the upper central region of the floating stage 13 , and discharge of the chemical to the substrate 11 transferred under the discharge unit 19 may be performed.

이에, 약액의 토출이 종료되는 시점, 즉 기판(11)의 후단부가 토출부(19)를 지나가는 시점에 부상 스테이지(13)가 노출될 수 있을 것이다. 다시 말해, 기판(11)이 이송됨에 따라 부상 스테이지(13)가 노출될 수 있는 것이다.Accordingly, the floating stage 13 may be exposed at the time when the discharge of the chemical is terminated, that is, the rear end of the substrate 11 passes the discharge unit 19 . In other words, as the substrate 11 is transferred, the floating stage 13 may be exposed.

그리고 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 방법에서는 약액의 토출시 기판(11)이 이송됨에 따라 노출되는 영역 근방에 있는 진공 흡인부(17)로부터의 진공을 차단할 수 있다. 즉, 진공 차단부(21)를 사용하여 진공 흡인부(17)로부터의 진공을 차단할 수 있다.In addition, in the method for discharging the chemical according to exemplary embodiments of the present invention, the vacuum from the vacuum suction unit 17 located near the area exposed as the substrate 11 is transported during discharging of the chemical may be blocked. That is, it is possible to block the vacuum from the vacuum suction unit 17 using the vacuum interrupter 21 .

이와 함께, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 방법에서는 언급한 진공의 차단시 기류 형성부(35)를 작동시켜 기판(11) 쪽으로 에어를 분사하여 상승 기류를 형성함과 아울러 기류 유도부(41)의 의해 상승 기류는 기판(11) 상부, 특히 토출부(19) 상부 쪽으로 유도될 수 있다.At the same time, in the chemical liquid discharging method according to the exemplary embodiments of the present invention, the air flow forming unit 35 is operated when the aforementioned vacuum is interrupted to spray air toward the substrate 11 to form an upward air flow and an air flow inducing unit The upward airflow may be guided toward the upper portion of the substrate 11 , in particular, the upper portion of the discharge unit 19 by the reference numeral 41 .

계속해서, 약액의 토출이 이루어진 기판(11)이 부상 스테이지(13)로부터 반출됨과 아울러 약액이 토출되어야 할 기판(11)이 부상 스테이지(13)로 반입될 경우 진공 차단부(21)의 작동을 멈추게 함으로써 진공 흡인부(17)는 원래의 기능이 이루어지도록 작동할 수 있을 것이다.Subsequently, when the substrate 11 on which the chemical liquid is discharged is discharged from the floating stage 13 and the substrate 11 from which the chemical liquid is to be discharged is brought into the floating stage 13, the operation of the vacuum interrupter 21 is controlled. By stopping, the vacuum suction unit 17 will be able to operate to achieve its original function.

본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치 및 약액 토출 방법은 기판 상에 포토레지스트 등과 같은 약액의 토출에 적용할 수 있기에 유기 EL 소자 등과 같은 디스플레이 소자의 제조에 보다 적극적으로 적용할 수 있을 것이다.Since the chemical liquid discharging apparatus and the chemical liquid discharging method according to exemplary embodiments of the present invention can be applied to the discharge of a chemical liquid such as a photoresist on a substrate, it can be more actively applied to the manufacture of a display device such as an organic EL device. will be.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although the above has been described with reference to the preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art can variously modify and change the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention as set forth in the following claims. You will understand that you can.

11 : 기판 13 : 부상 스테이지
15 : 에어 분사부 17, 27, 29, 31 : 진공 흡인부
19 : 토출부 21 : 진공 차단부(제1 밸브)
23 : 제어부 25 : 이송부
33 : 진공 라인 35 : 기류 형성부
37 : 분기 라인 39 : 제2 밸브
41 : 기류 유도부 43 : 바
45 : 개방부 100 : 약액 토출 장치11: substrate 13: floating stage
15: air injection unit 17, 27, 29, 31: vacuum suction unit
19: discharge part 21: vacuum cut-off part (first valve)
23: control unit 25: transfer unit
33: vacuum line 35: airflow forming part
37: branch line 39: second valve
41: air flow induction part 43: bar
45: open part 100: chemical liquid discharging device

Claims (12)

기판을 부상시킬 수 있게 상기 기판 쪽으로 에어를 분사하는 에어 분사부 및 진공으로 흡인하는 진공 흡인부로 이루어지는 부상부가 구비되는 부상 스테이지;
상기 부상 스테이지를 따라 상기 기판을 이송시키도록 구비되는 이송부;
상기 부상 스테이지를 따라 이송되는 상기 기판에 약액을 토출하도록 구비되는 토출부;
상기 약액의 토출시 상기 기판을 이송시킴에 따라 노출되는 영역 근방에 있는 상기 진공 흡인부로부터 상기 기판을 향하여 흡인되는 진공을 차단하도록 구비되는 진공 차단부; 및
상기 약액의 토출이 종료되는 시점에 상기 진공 차단부가 작동할 수 있게 제어하도록 구비되는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 토출 장치.a levitation stage provided with a levitation unit comprising an air ejection unit for ejecting air toward the substrate and a vacuum suction unit for suctioning in a vacuum so as to float the substrate;
a transfer unit provided to transfer the substrate along the levitation stage;
a discharge unit provided to discharge the chemical to the substrate transferred along the levitation stage;
a vacuum interrupter provided to block the vacuum sucked toward the substrate from the vacuum suction part located in the vicinity of an area exposed as the substrate is transported during discharging of the chemical; and
and a control unit configured to control the vacuum interrupter to operate when the discharge of the chemical is terminated. 제1 항에 있어서,
상기 기판이 이송되는 방향을 행 방향, 상기 행 방향과 수직 방향을 열 방향이라 하고, 상기 토출부는 상기 열 방향을 따라 고정되도록 구비될 때,
상기 진공 차단부는 상기 진공 흡인부 중에서 상기 토출부 바로 아래의 열 방향에 배치되는 제1 진공 흡인부, 상기 제1 진공 흡인부의 좌측 열에 배치되는 제2 진공 흡인부, 및 상기 제1 진공 흡인부의 우측 열에 배치되는 제3 진공 흡인부로부터의 진공을 차단하도록 구비되는 것을 특징으로 하는 약액 토출 장치.According to claim 1,
A direction in which the substrate is transported is referred to as a row direction, and a direction perpendicular to the row direction is referred to as a column direction, and when the discharge unit is provided to be fixed along the column direction,
The vacuum interrupter includes a first vacuum suction unit disposed in a row direction immediately below the discharge unit among the vacuum suction units, a second vacuum suction unit disposed in a left column of the first vacuum suction unit, and a right side of the first vacuum suction unit A chemical liquid dispensing device, characterized in that it is provided to block the vacuum from the third vacuum suction unit disposed in the row. 제2 항에 있어서,
상기 제2 진공 흡인부는 상기 제1 진공 흡인부에 근접하는 좌측 열에 배치되는 것이고, 상기 제3 진공 흡입부는 상기 제1 진공 흡인부에 근접하는 우측 열에 배치되는 것을 특징으로 하는 약액 토출 장치.3. The method of claim 2,
and the second vacuum suction part is disposed in a left row adjacent to the first vacuum suction part, and the third vacuum suction part is disposed in a right row adjacent to the first vacuum suction part. 제2 항에 있어서,
상기 토출부는 상기 기판의 열 방향 길이 전체를 커버하도록 구비되는 슬릿 노즐로 이루어지는 것을 특징으로 하는 약액 토출 장치.3. The method of claim 2,
and the discharge unit includes a slit nozzle that covers the entire length of the substrate in the column direction. 제1 항에 있어서,
상기 진공 차단부는 상기 진공 흡인부의 진공 라인을 차단하도록 구비되는 제1 밸브를 이루어지는 것을 특징으로 하는 약액 토출 장치.According to claim 1,
The vacuum cut-off unit comprises a first valve provided to block the vacuum line of the vacuum suction unit. 제1 항에 있어서,
상기 기판 쪽으로 상승 기류를 형성할 수 있게 상기 진공 흡인부의 진공 라인을 통하여 상기 기판 쪽으로 에어를 분사하도록 구비되는 기류 형성부를 더 포함하고,
상기 기류 형성부는 상기 진공 차단부와 함께 작동할 수 있게 상기 제어부에 의해 제어되도록 구비되는 것을 특징으로 하는 약액 토출 장치.According to claim 1,
Further comprising an airflow forming unit provided to inject air toward the substrate through the vacuum line of the vacuum suction unit to form an upward airflow toward the substrate,
The chemical liquid dispensing device, characterized in that the airflow forming unit is provided to be controlled by the control unit to operate together with the vacuum interrupter. 제6 항에 있어서,
상기 기류 형성부는 상기 진공 흡인부의 진공 라인으로부터 분기되도록 구비되는 분기 라인, 및 상기 분기 라인을 개방시키도록 구비되는 제2 밸브로 이루어지는 것을 특징으로 하는 약액 토출 장치.7. The method of claim 6,
and a branch line provided to branch from the vacuum line of the vacuum suction unit, and a second valve provided to open the branch line. 제6 항에 있어서,
상기 기판의 이송 방향을 기준으로 상기 토출부의 후단부 쪽에는 상기 상승 기류를 상기 기판 상부 쪽으로 유도하도록 구비되는 기류 유도부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 토출 장치.7. The method of claim 6,
The chemical liquid discharging apparatus according to claim 1, further comprising an airflow inducing part provided to guide the upward airflow toward the upper part of the substrate at a rear end of the discharge part based on the transfer direction of the substrate. 제8 항에 있어서,
상기 기류 유도부는 상기 토출부의 후단부에 배치되도록 구비되는 바(bar) 및 상기 바를 개방시키도록 구비되는 개방부로 이루어지는 것을 특징으로 하는 약액 토출 장치.9. The method of claim 8,
The chemical liquid dispensing device, characterized in that the air flow inducing unit is formed of a bar (bar) provided to be disposed at the rear end of the discharging unit (b) and an opening portion provided to open the bar. 기판 쪽으로 에어를 분사하는 에어 분사부 및 진공으로 흡인하는 진공 흡인부로 이루어지는 부상부가 구비되는 부상 스테이지를 따라 이송되는 상기 기판에 약액을 토출하는 단계; 및
상기 약액의 토출이 종료되는 시점에 상기 기판의 이송에 따라 노출되는 영역 근방에 있는 상기 진공 흡인부로부터 상기 기판을 향하여 흡입되는 진공을 차단하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 토출 방법.Discharging the chemical to the substrate being transported along the floating stage is provided with a floating portion consisting of an air spraying unit for spraying air toward the substrate and a vacuum suction portion for sucking in a vacuum; and
and blocking a vacuum sucked toward the substrate from the vacuum suction unit located in the vicinity of an area exposed according to the transfer of the substrate when the discharge of the chemical is finished. 제10 항에 있어서,
상기 기판이 이송되는 방향을 행 방향, 상기 행 방향과 수직 방향을 열 방향이라 하고, 상기 약액을 토출하는 토출부는 상기 열 방향을 따라 고정되도록 구비될 때,
상기 진공 흡인부 중에서 상기 토출부 바로 아래의 열 방향에 배치되는 제1 진공 흡인부, 제1 진공 흡인부에 근접하는 좌측 열에 배치되는 제2 진공 흡인부, 및 상기 제1 진공 흡인부에 근접하는 우측 열에 배치되는 제3 진공 흡인부로부터의 진공을 차단하는 것을 특징으로 하는 약액 토출 방법.11. The method of claim 10,
A direction in which the substrate is transported is referred to as a row direction, and a direction perpendicular to the row direction is referred to as a column direction, and when the discharge unit for discharging the chemical is fixed along the column direction,
Among the vacuum suction units, a first vacuum suction unit disposed in a row direction immediately below the discharge unit, a second vacuum suction unit disposed in a left row adjacent to the first vacuum suction unit, and adjacent to the first vacuum suction unit A method for discharging a chemical liquid, characterized in that the vacuum from the third vacuum suction unit disposed in the right row is cut off. 제10 항에 있어서,
상기 진공의 차단시 상기 기판 쪽으로 에어를 분사하여 상승 기류를 형성하는 단계를 더 포함하고,
상기 상승 기류는 상기 기판 상부 쪽으로 유도하는 하는 것을 특징으로 하는 약액 토출 방법.11. The method of claim 10,
Further comprising the step of forming an upward airflow by spraying air toward the substrate when the vacuum is interrupted,
The chemical liquid discharging method, characterized in that the upward airflow is guided toward the upper side of the substrate.
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