KR20210136736A - Plating wastewater purification treatment system using metal oxidation water - Google Patents

Plating wastewater purification treatment system using metal oxidation water Download PDF

Info

Publication number
KR20210136736A
KR20210136736A KR1020200055419A KR20200055419A KR20210136736A KR 20210136736 A KR20210136736 A KR 20210136736A KR 1020200055419 A KR1020200055419 A KR 1020200055419A KR 20200055419 A KR20200055419 A KR 20200055419A KR 20210136736 A KR20210136736 A KR 20210136736A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
plating wastewater
cyanide
treatment
contained
metal
Prior art date
Application number
KR1020200055419A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
유남종
Original Assignee
주식회사 더오포
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 더오포 filed Critical 주식회사 더오포
Priority to KR1020200055419A priority Critical patent/KR20210136736A/en
Publication of KR20210136736A publication Critical patent/KR20210136736A/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F9/00Multistage treatment of water, waste water or sewage
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/52Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/58Treatment of water, waste water, or sewage by removing specified dissolved compounds
    • C02F1/62Heavy metal compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/66Treatment of water, waste water, or sewage by neutralisation; pH adjustment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/70Treatment of water, waste water, or sewage by reduction
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F3/00Biological treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F3/30Aerobic and anaerobic processes
    • C02F3/302Nitrification and denitrification treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00Nature of the contaminant
    • C02F2101/10Inorganic compounds
    • C02F2101/16Nitrogen compounds, e.g. ammonia
    • C02F2101/18Cyanides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00Nature of the contaminant
    • C02F2101/10Inorganic compounds
    • C02F2101/20Heavy metals or heavy metal compounds
    • C02F2101/22Chromium or chromium compounds, e.g. chromates

Landscapes

  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Biodiversity & Conservation Biology (AREA)
  • Microbiology (AREA)
  • Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
  • Removal Of Specific Substances (AREA)

Abstract

The present invention relates to a device and a method for purifying plating wastewater using metal oxide water, and more specifically, to a device and a method for treating cyanide contained in plating wastewater through a one-step reaction.

Description

금속산화수를 이용한 도금 폐수의 정화 처리장치{PLATING WASTEWATER PURIFICATION TREATMENT SYSTEM USING METAL OXIDATION WATER}Equipment for purification and treatment of plating wastewater using metal oxide water

본 발명은 도금 폐수의 정화 처리 장치 및 처리 방법에 관한 것으로서, 구체적으로는 금속산화수를 이용한 도금 폐수에 포함된 시안을 1단계 반응을 통해 처리하는 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus and method for purifying plating wastewater, and more particularly, to an apparatus and method for treating cyanide contained in plating wastewater using metal oxide water through a one-step reaction.

도금 공정에서 발생하는 도금 폐수는 크롬, 시안 등의 유해 중금속이 다량 함유되어 있을 뿐 아니라, 아연 도금과 같은 경우에는 다량의 암모니아가 같이 발생한다.Plating wastewater generated in the plating process contains a large amount of harmful heavy metals such as chromium and cyanide, and in the case of zinc plating, a large amount of ammonia is also generated.

이와 관련하여, 도 1은 종래의 도금 폐수의 정화 처리장치를 이용한 처리 공정을 나타낸 것이다. 도 1을 참조하여 보면, 종래의 도금 폐수의 정화 처리장치는 우선, 도금 폐수를 집수조(1)에 모은 후 pH 조정조(13)에서 폐수의 성상에 따라 H2SO4 또는 NaOH등을 투입하여 pH를 2 내지 3으로 조정한다. 그 후 크롬(Cr) 처리조(17)에서 NaHSO3를 투입하여 독성이 높은 Cr6+를 무독성인 Cr3+로 환원 처리한다. 그 다음, 중금속 처리조(27)에서 NaOH, Ca(OH)2 등을 이용하여 pH를 8 내지 9로 조정하면서 NaSH를 투입하여 Cu, Zn 등의 중금속과 불소(F)를 침전시켜 제거한다. 그 후, pH 조정조(32)에서 pH를 11로 조정하고, 시안(CN) 1차 처리조(34)에서 NaOCl을 투입하여 CN을 CNO로 산화시킨다. 그 다음, pH 조정조(36)에서 H2SO4를 이용하여 pH를 8로 조정하고, 시안(CN) 2차 처리조(38)에서 NaOCl을 투입하여 CNO를 CO2와 N2로 분해하여 처리한다. 그리고, pH 조정조(42)에서 pH를 중성으로 조정한 후, 질산화조(45)에서 생물학 처리 질산화 공정을 통해 암모니아를 NO3로 질산화시키면서 COD를 낮추고, 이어서 탈질조(47)에서 무산소조 운전을 통해 NO3를 N2로 탈질시켜 처리함으로써 도금 폐수를 방류하게 된다. In this regard, FIG. 1 shows a treatment process using a conventional plating wastewater purification apparatus. Referring to FIG. 1, in the conventional purification treatment apparatus for plating wastewater, first, the plating wastewater is collected in a water collecting tank 1, and then H 2 SO 4 or NaOH is added according to the properties of the wastewater in the pH adjusting tank 13 to adjust the pH. is adjusted to 2-3. Thereafter, NaHSO 3 is added in the chromium (Cr) treatment tank 17 to reduce highly toxic Cr 6+ to non-toxic Cr 3+ . Then, in the heavy metal treatment tank 27, NaOH, Ca(OH) 2 , etc. are used to precipitate and remove heavy metals such as Cu and Zn and fluorine (F) by adding NaSH while adjusting the pH to 8 to 9. Thereafter, the pH is adjusted to 11 in the pH adjusting tank 32 , and NaOCl is added in the cyan (CN) primary treatment tank 34 to oxidize CN to CNO. Then, the pH is adjusted to 8 using H 2 SO 4 in the pH adjusting tank 36, and NaOCl is added in the cyan (CN) secondary treatment tank 38 to decompose CNO into CO 2 and N 2 for treatment do. Then, after adjusting the pH to neutral in the pH adjusting tank 42, the COD is lowered while nitrifying ammonia to NO 3 through the biological treatment nitrification process in the nitrification tank 45, and then the denitrification tank 47 through an anaerobic tank operation The plating wastewater is discharged by denitrifying and treating NO 3 with N 2 .

이러한 종래의 도금 폐수는 pH 조정을 위해 다량의 약품이 소모될 뿐만 아니라, pH를 10 이상으로 조정시 크롬이 다시 재용출될 수 있기 때문에 폐수 처리시 pH 조정을 미세하게 해야 하는 불편과 그로 인한 처리효율의 불안정이 야기될 수 있다. 또한, 폐수가 암모니아를 다량 함유하고 있을 경우에는 시안(CN) 처리를 위해 투입하는 NaOCl이 암모니아와 반응하게 되므로 NaOCl의 투입량이 급격히 증가하게 되어 약품비용이 급증하게 되는 문제가 있다. 더불어, 시안(CN) 처리를 2단계에 걸쳐 처리하고, 각각의 처리에 요구되는 pH 범위가 상이하기 때문에 공정이 비효율적인 것이 현실이다.In such conventional plating wastewater, a large amount of chemicals is consumed for pH adjustment, and when the pH is adjusted to 10 or more, chromium may be re-eluted again. Instability of efficiency may be caused. In addition, when the wastewater contains a large amount of ammonia, since NaOCl input for cyanide (CN) treatment reacts with ammonia, there is a problem that the input amount of NaOCl increases rapidly, resulting in a rapid increase in drug cost. In addition, the cyan (CN) treatment is processed over two steps, and the process is inefficient because the pH range required for each treatment is different.

이에, 본 발명자들은 상기와 같은 문제를 해결하기 위해 연구하던 중, 금속산화수를 이용하여 상기 시안(CN)을 처리하게 되면 1단계 반응을 통하여 시안의 처리가 가능하고, 상기 금속산화수가 암모니아 대비 시안(CN)을 선택적으로 처리할 수 있음을 발견하여 본 발명을 완성하게 되었다.Therefore, the present inventors have been studying to solve the above problems, if the cyanide (CN) is treated using metal oxidation water, it is possible to treat cyan through a one-step reaction, and the metal oxidation number is cyan compared to ammonia. It was found that (CN) can be selectively treated, thereby completing the present invention.

이와 관련하여, 대한민국 등록특허 제10-0829798호는 진공증발농축법을 이용한 도금폐수 처리방법에 대하여 개시하고 있다.In this regard, Korean Patent Registration No. 10-0829798 discloses a plating wastewater treatment method using a vacuum evaporation method.

본 발명은 전술한 문제를 해결하고자 안출된 것으로서, 본 발명의 일 실시예는 금속산화수를 이용한 도금 폐수의 정화 처리장치를 제공한다.The present invention has been devised to solve the above-described problem, and an embodiment of the present invention provides an apparatus for purifying and treating plating wastewater using metal oxide water.

또한, 본 발명의 다른 일 실시예는 금속산화수를 이용한 도금 폐수의 정화 처리방법을 제공한다.In addition, another embodiment of the present invention provides a method for purifying plating wastewater using metal oxide water.

그러나, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 한정되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the technical problems to be achieved by the present invention are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned are clearly understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs from the description below. it could be

전술한 기술적 과제를 달성하기 위한 기술적 수단으로서, 본 발명의 일 측면은, As a technical means for achieving the above-described technical problem, an aspect of the present invention is

도금 폐수에 포함된 크롬을 환원시키는 크롬 처리부(200); 상기 크롬이 환원된 도금 폐수에 포함된 시안을 분해 처리하는 시안 처리부(400); 및 상기 시안이 분해 처리된 도금 폐수에 포함된 암모니아를 질산화시키고, 탈질 처리하는 암모니아 처리부(500);를 포함하고, 상기 시안의 분해 처리는 상기 도금 폐수에 금속산화수(metal oxidation water)를 투입하여 수행하는 것인 도금 폐수의 정화 처리장치(101)를 제공한다.a chromium treatment unit 200 for reducing chromium contained in the plating wastewater; a cyanide treatment unit 400 for decomposing cyanide contained in the chromium-reduced plating wastewater; and an ammonia treatment unit 500 for nitrifying and denitrifying ammonia contained in the plating wastewater in which the cyanide has been decomposed, wherein the decomposition treatment of cyanide is performed by introducing metal oxidation water into the plating wastewater. It provides a purification treatment apparatus 101 of the plating wastewater to perform.

상기 금속산화수는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 것일 수 있다.The metal oxidation number may include a compound represented by the following formula (1).

[화학식 1][Formula 1]

M1xM2yO4 M1 x M2 y O 4

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

M1 및 M2는 각각 독립적으로 H, Na, K, Fe, Zn, Sn, Cu, Pb, Sb 또는 Al이고, 상기 x 및 y는 각각 독립적으로 상기 화합물의 결합에 따른 1이상의 정수이다.M1 and M2 are each independently H, Na, K, Fe, Zn, Sn, Cu, Pb, Sb or Al, and x and y are each independently an integer of 1 or more depending on the combination of the compounds.

상기 금속산화수는 상기 도금 폐수에 포함된 암모니아 대비 시안을 선택적으로 분해 처리하는 것일 수 있다.The metal oxidation water may be to selectively decompose cyanide compared to ammonia contained in the plating wastewater.

상기 투입되는 금속산화수의 함량은 상기 도금 폐수 100 중량부 대비 0.1 중량부 내지 5 중량부인 것일 수 있다.The amount of the metal oxide water added may be 0.1 parts by weight to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the plating wastewater.

상기 시안의 분해 처리는 pH 4 내지 pH 6의 범위에서 수행되는 것일 수 있다.The decomposition treatment of cyanide may be performed in the range of pH 4 to pH 6.

상기 금속산화수는 상기 시안의 분해 처리 후 금속 수산화물로 환원되는 것이고, 상기 금속 수산화물은 상기 도금 폐수에 포함된 중금속을 침전시키는 것일 수 있다.The metal oxide water may be reduced to a metal hydroxide after the decomposition treatment of cyanide, and the metal hydroxide may be to precipitate heavy metals contained in the plating wastewater.

상기 크롬 처리부(200), 시안 처리부(400) 및 암모니아 처리부(500)는 각각 상기 도금 폐수의 pH를 조절하는 pH 조정조(230, 420, 520)를 포함하는 것일 수 있다.The chrome processing unit 200 , the cyanide processing unit 400 , and the ammonia processing unit 500 may each include pH adjusting tanks 230 , 420 , and 520 for adjusting the pH of the plating wastewater.

상기 도금 폐수의 정화 처리장치(101)는 상기 크롬 처리부(200) 및 시안 처리부(400) 사이에 상기 크롬이 환원된 도금 폐수에 포함된 중금속을 침전시키는 중금속 처리부(300)를 더 포함하는 것일 수 있다.The plating wastewater purification apparatus 101 may further include a heavy metal treatment unit 300 between the chrome treatment unit 200 and the cyan treatment unit 400 for precipitating heavy metals contained in the plating wastewater in which the chromium has been reduced. have.

또한, 본 발명의 다른 일 측면은, In addition, another aspect of the present invention,

도금 폐수에 포함된 크롬을 환원시키는 단계; 상기 크롬이 환원된 도금 폐수에 포함된 시안을 분해 처리하는 단계; 및 상기 시안이 분해 처리된 도금 폐수에 포함된 암모니아를 질산화시키고, 탈질 처리하는 단계;를 포함하고, 상기 시안의 분해 처리는 상기 도금 폐수에 금속산화수(metal oxidation water)를 투입하여 수행하는 것인 도금 폐수의 정화 처리방법을 제공한다.reducing the chromium contained in the plating wastewater; decomposing cyanide contained in the chromium-reduced plating wastewater; and nitrifying and denitrifying ammonia contained in the plating wastewater in which the cyanide has been decomposed, wherein the decomposition treatment of cyanide is performed by introducing metal oxidation water into the plating wastewater. A method for purifying and treating plating wastewater is provided.

본 발명의 일 실시예에 의하면, 상기 도금 폐수의 정화 처리장치를 이용하여 도금 폐수를 정화시키게 되면, 도금 폐수에 포함된 시안(CN)을 금속산화수를 이용하여 1단계 반응으로 처리할 수 있기 때문에 종래 2 단계로 시안을 처리하던 공정에 비하여 공정을 단축시킬 수 있다. 또한, 종래 2 단계로 시안을 처리 시 각각의 처리 공정에 요구되는 pH가 상이하여 이를 조정하기 위하여 다량의 약품이 첨가되었으나, 본 발명에 따른 장치를 이용하게 되면 1 단계로 시안을 처리할 수 있어 pH 조정을 위한 약품 비용을 절감할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, if the plating wastewater is purified using the plating wastewater purification apparatus, cyan (CN) contained in the plating wastewater can be treated in a one-step reaction using metal oxide water. Compared to the conventional process of treating cyan in two steps, the process can be shortened. In addition, when treating cyan in the conventional two-step process, a large amount of chemicals were added to adjust the pH required for each treatment process. Chemical cost for pH adjustment can be reduced.

또한, 상기 금속산화수는 도금 폐수에 포함된 암모니아 대비 시안을 선택적으로 처리할 수 있기 때문에 공정 효율을 높일 수 있으며, 시안의 분해 처리 후 환원된 금속 수산화물이 중금속을 침전시키는 침전체의 기능을 가지기 때문에 종래 사용되던 중금속 처리부의 공정이 생략 가능한 것일 수 있다.In addition, since the metal oxide water can selectively treat cyan compared to ammonia contained in the plating wastewater, process efficiency can be increased, and the reduced metal hydroxide after decomposition treatment of cyan has the function of a precipitate for precipitating heavy metals. The process of the conventionally used heavy metal processing unit may be omitted.

본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.It should be understood that the effects of the present invention are not limited to the above-described effects, and include all effects that can be inferred from the configuration of the invention described in the detailed description or claims of the present invention.

도 1은 종래 기술에 따른 도금 폐수의 정화 처리공정을 나타낸 개략도이다.
도 2는 본 발명의 일 구현예에 따른 도금 폐수의 정화 처리공정을 나타낸 개략도이다.
도 3은 본 발명의 다른 구현예에 따른 도금 폐수의 정화 처리공정을 나타낸 개략도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 금속산화수의 pH에 따른 시안과 암모니아의 반응속도상수를 나타낸 그래프이다.
1 is a schematic diagram showing a purification treatment process of plating wastewater according to the prior art.
2 is a schematic diagram showing a purification treatment process of plating wastewater according to an embodiment of the present invention.
3 is a schematic diagram showing a purification treatment process of plating wastewater according to another embodiment of the present invention.
4 is a graph showing the reaction rate constant of cyanide and ammonia according to the pH of the metal oxide water according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 의해 본 발명이 한정되지 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 의해 정의될 뿐이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail. However, the present invention may be embodied in various different forms, and the present invention is not limited by the embodiments described herein, and the present invention is only defined by the claims to be described later.

덧붙여, 본 발명에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 발명의 명세서 전체에서 어떤 구성요소를 '포함'한다는 것은 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다.In addition, the terminology used in the present invention is only used to describe specific embodiments, and is not intended to limit the present invention. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise. In the entire specification of the present invention, 'including' any component means that other components may be further included, rather than excluding other components, unless otherwise stated.

본원의 제 1 측면은,The first aspect of the present application is

도금 폐수에 포함된 크롬을 환원시키는 크롬 처리부(200); 상기 크롬이 환원된 도금 폐수에 포함된 시안을 분해 처리하는 시안 처리부(400); 및 상기 시안이 분해 처리된 도금 폐수에 포함된 암모니아를 질산화시키고, 탈질 처리하는 암모니아 처리부(500);를 포함하고, 상기 시안의 분해 처리는 상기 도금 폐수에 금속산화수(metal oxidation water)를 투입하여 수행하는 것인 도금 폐수의 정화 처리장치(101)를 제공한다.a chromium treatment unit 200 for reducing chromium contained in the plating wastewater; a cyanide treatment unit 400 for decomposing cyanide contained in the chromium-reduced plating wastewater; and an ammonia treatment unit 500 for nitrifying and denitrifying ammonia contained in the plating wastewater in which the cyanide has been decomposed, wherein the decomposition treatment of cyanide is performed by introducing metal oxidation water into the plating wastewater. It provides a purification treatment apparatus 101 of the plating wastewater to perform.

이하, 본원의 제 1 측면에 따른 도금 폐수의 정화 처리장치(101)에 대하여 종래 기술인 도 1과 본 발명에 따른 도금 폐수의 정화 처리장치(101)를 나타낸 도 2 및 도 3을 참조하여 상세히 설명한다. 이때, 도 2는 본 발명에 따른 중금속 처리부(300)를 포함하지 않는 도금 폐수의 정화 처리장치(101)를 나타내며, 도 3은 중금속 처리부(300)를 포함하는 도금 폐수의 정화 처리장치(101)를 나타낸다.Hereinafter, the purification and treatment apparatus 101 for plating wastewater according to the first aspect of the present application will be described in detail with reference to FIG. 1, which is a prior art, and FIGS. do. At this time, FIG. 2 shows an apparatus 101 for purifying plating wastewater that does not include the heavy metal treatment unit 300 according to the present invention, and FIG. 3 is an apparatus 101 for purifying plating wastewater including the heavy metal treatment unit 300 according to the present invention. indicates

본원의 일 구현예에 있어서, 상기 도금 폐수의 정화 처리장치(101)는 도금 폐수를 집수하는 집수조(110)를 포함하는 것일 수 있다. 상기 집수조(110)는 도금 폐수를 집수하여 이후 공정으로 이송시키기 위한 챔버 역할을 하는 것으로서, 그 형태나 크기는 제한이 없고, 정화 처리시켜야할 도금 폐수의 함량에 따라 적절한 크기를 선택하여 적용시키면 되는 것일 수 있다.In one embodiment of the present application, the apparatus 101 for purifying the plating wastewater may include a water collecting tank 110 for collecting the plating wastewater. The water collecting tank 110 serves as a chamber for collecting the plating wastewater and transporting it to the subsequent process. The shape or size is not limited, and an appropriate size can be selected and applied according to the content of the plating wastewater to be purified. it could be

본원의 일 구현예에 있어서, 상기 도금 폐수의 정화 처리장치(101)는 도금 폐수에 포함된 크롬을 환원시키는 크롬 처리부(200)를 포함하는 것일 수 있다. 상기 크롬 처리부(200)는 도금 폐수에 포함된 독성이 강한 Cr6+를 무독성인 Cr3+로 환원시키는 공정을 수행하는 역할을 하는 것일 수 있다.In one embodiment of the present application, the apparatus 101 for purifying the plating wastewater may include a chromium treatment unit 200 for reducing chromium contained in the plating wastewater. The chrome treatment unit 200 may serve to perform a process of reducing the highly toxic Cr 6+ contained in the plating wastewater to the non-toxic Cr 3+ .

본원의 일 구현예에 있어서, 상기 크롬 처리부(200)는 크롬 처리 pH 조정조(230) 및 크롬 처리조(270)를 포함하는 것일 수 있으며, 상기 집수조(110)에 집수된 도금 폐수가 상기 크롬 처리 pH 조정조(230)로 이송되어 pH가 조정되고, pH가 조정된 도금 폐수가 상기 크롬 처리조(270)로 이송되어 도금 폐수에 포함된 Cr6+를 Cr3+로 환원시키는 것일 수 있다. 구체적으로, 상기 크롬 처리 pH 조정조(230)는 도금 폐수의 pH를 크롬의 환원 반응을 수행하기에 적절한 pH 범위인 pH 2 내지 3으로 맞추어주기 위한 역할을 하는 곳으로서, 이송된 도금 폐수의 pH에 따라 NaOH 또는 H2SO4 등을 투입하여 pH를 조정하는 것일 수 있다. 상기와 같이 pH 조정조(230)에서 pH가 2 내지 3으로 조정된 도금 폐수는 이후 크롬 처리조(270)로 이송되며, 상기 크롬 처리조(270)에 NaHSO3를 투입하여 독성이 강한 Cr6+가 Cr3+로 환원되는 것일 수 있다. In one embodiment of the present application, the chrome treatment unit 200 may include a chrome treatment pH adjusting tank 230 and a chrome treatment tank 270 , and the plating wastewater collected in the water collecting tank 110 is treated with the chrome. It may be transferred to the pH adjusting tank 230 to adjust the pH, and the pH-adjusted plating wastewater may be transferred to the chrome treatment tank 270 to reduce Cr 6+ contained in the plating wastewater to Cr 3+ . Specifically, the chromium treatment pH adjusting tank 230 serves to adjust the pH of the plating wastewater to pH 2 to 3, which is an appropriate pH range for performing the reduction reaction of chromium, and is adjusted to the pH of the transferred plating wastewater. Depending on the situation, NaOH or H 2 SO 4 may be added to adjust the pH. The plating wastewater whose pH is adjusted to 2 to 3 in the pH adjusting tank 230 as described above is then transferred to the chrome treatment tank 270, and NaHSO 3 is added to the chrome treatment tank 270 to add strong toxicity to Cr 6+ may be reduced to Cr 3+ .

본원의 일 구현예에 있어서, 상기 도금 폐수의 정화 처리장치(101)는 상기 크롬이 환원된 도금 폐수에 포함된 시안을 분해 처리하는 시안 처리부(400)를 포함하는 것일 수 있다. 상기 시안 처리부(400)는 도금 폐수에 포함된 시안을 분해 처리하는 역할을 하는 것일 수 있다. 이때, 상기 시안은 상기 도금 폐수에 이온의 형태로 용해되어 있는 것일 수 있으며, 시안기를 포함하는 화합물의 형태로 용해되어 있는 것일 수도 있다.In one embodiment of the present application, the purification treatment apparatus 101 of the plating wastewater may include a cyanide treatment unit 400 for decomposing the cyanide contained in the chromium-reduced plating wastewater. The cyanide treatment unit 400 may serve to decompose cyanide contained in the plating wastewater. In this case, the cyanide may be dissolved in the form of ions in the plating wastewater, or may be dissolved in the form of a compound including a cyanide group.

본원의 일 구현예에 있어서, 상기 시안 처리부(400)는 시안 처리 pH 조정조(420) 및 시안 처리조(440)를 포함하는 것일 수 있으며, 상기 크롬 처리조(270)에서 크롬이 환원된 도금 폐수가 상기 시안 처리 pH 조정조(420)로 이송되어 pH가 조정되고, pH가 조정된 도금 폐수가 상기 시안 처리조(440)로 이송되어 도금 폐수에 포함된 시안이 분해 처리되는 것일 수 있다. 구체적으로, 상기 시안 처리 pH 조정조(420)는 도금 폐수의 pH를 시안을 분해 처리하기에 적절한 pH 범위인 pH 4 내지 6, 바람직하게는 pH 5로 맞추어 주기 위한 역할을 하는 곳으로서, NaOH 또는 H2SO4 등을 투입하여 pH를 조정하는 것일 수 있다. 상기와 같이 pH 조정조(420)에서 pH가 4 내지 6, 바람직하게는 pH 5로 조정된 도금 폐수는 이후 시안 처리조(440)로 이송되며, 상기 시안 처리조(440)에 금속산화수를 투입하여 시안을 분해 처리하는 것일 수 있다.In one embodiment of the present application, the cyan treatment unit 400 may include a cyanide treatment pH adjustment tank 420 and a cyanide treatment tank 440 , and plating wastewater in which chromium is reduced in the chrome treatment tank 270 . may be transferred to the cyanide treatment tank 420 to adjust the pH, and the pH-adjusted plating wastewater may be transferred to the cyanide treatment tank 440 to decompose the cyanide contained in the plating wastewater. Specifically, the cyanide treatment pH adjusting tank 420 serves to adjust the pH of the plating wastewater to pH 4 to 6, preferably pH 5, which is an appropriate pH range for decomposing cyanide, and is NaOH or H 2 SO 4 and the like may be added to adjust the pH. The plating wastewater whose pH is adjusted to 4 to 6, preferably to pH 5 in the pH adjusting tank 420 as described above is then transferred to the cyanide treatment tank 440, and metal oxidation water is introduced into the cyanide treatment tank 440 to It may be to decompose the cyanide.

본원의 일 구현예에 있어서, 상기 금속산화수는 금속산화물이 수용액에 용해되어 있는 물질로서, 상기 금속산화수는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 것일 수 있다.In one embodiment of the present application, the metal oxidation number is a material in which a metal oxide is dissolved in an aqueous solution, and the metal oxidation number may include a compound represented by the following formula (1).

[화학식 1][Formula 1]

M1xM2yO4 M1 x M2 y O 4

상기 화학식 1에서, M1 및 M2는 각각 독립적으로 H, Na, K, Fe, Zn, Sn, Cu, Pb, Sb 또는 Al이고, 상기 x 및 y는 각각 독립적으로 상기 화합물의 결합에 따른 1이상의 정수일 수 있다. 바람직하게, 상기 화학식 1에서, M1 및 M2는 각각 독립적으로 H, Na, K 또는 Fe일 수 있으며, 더욱 바람직하게 상기 화합물은 H2FeO4, Na2FeO4 또는 K2FeO4인 것일 수 있다. 상기 금속산화수는 기존에 사용되던 과산화수소(H2O2) 또는 오존(O3)과 같은 산화제보다 높은 환원전위(약 2.20 eV)를 가지고 있어 강력한 산화력을 가지는 것일 수 있으며, 상기와 같은 강력한 산화력을 바탕으로 시안(CN)을 하기 반응식 1과 같이 1 단계로 산화시키는 것일 수 있다.In Formula 1, M1 and M2 are each independently H, Na, K, Fe, Zn, Sn, Cu, Pb, Sb or Al, and x and y are each independently an integer of 1 or more depending on the combination of the compound. can Preferably, in Formula 1, M1 and M2 may each independently be H, Na, K or Fe, and more preferably, the compound may be H 2 FeO 4 , Na 2 FeO 4 or K 2 FeO 4 . . The metal oxidation water has a higher reduction potential (about 2.20 eV) than an oxidizing agent such as hydrogen peroxide (H 2 O 2 ) or ozone (O 3 ) used in the past, so it may have a strong oxidizing power, and the strong oxidizing power as described above Based on the cyanide (CN) may be oxidized in one step as shown in Scheme 1 below.

[반응식 1][Scheme 1]

CN → CNO → CO2 + N2 CN → CNO → CO 2 + N 2

더욱 구체적으로, 상기 금속산화수가 예를 들어, K2FeO4나 Na2FeO4일 경우, 물에 용해되어 2HFeO4 - 의 형태를 띄게 되고, 시안(CN)의 산화 반응식은 하기 반응식 2와 같이 1 단계 반응으로 이루어지는 것일 수 있다.More specifically, when the metal oxidation number is, for example, K 2 FeO 4 or Na 2 FeO 4 , it is dissolved in water to take the form of 2HFeO 4 , and the oxidation reaction formula of cyan (CN) is as shown in Scheme 2 below. It may be made of a one-step reaction.

[반응식 2][Scheme 2]

2HFeO4 - + 2HCN + 2.5O2 + H2O + 2OH- → 2Fe(OH)3 + 2HCO3 - + 2NO2 - 2HFeO 4 - + 2HCN + 2.5O 2 + H 2 O + 2OH - → 2Fe(OH) 3 + 2HCO 3 - + 2NO 2 -

이와 관련하여, 도 1에 나타낸 바와 같이, 종래의 도금 폐수의 정화 처리장치(1)에서는 상기 시안을 분해 처리하기 위하여 NaOCl을 사용하였으며, 상기 물질은 낮은 산화력을 가지기 때문에 시안 1차 처리조(34)에서 CN을 CNO로 1 차 산화시키고, 시안 2차 처리조(38)에서 상기 CNO를 CO2 및 N2로 2차 산화시키는 2 단계 공정을 필요로 하였다. 그러나, 본 발명에 따른 상기 도금 폐수의 정화 처리장치(101)는 시안을 분해 처리하기 위하여 강력한 산화력을 가진 금속산화수를 사용하기 때문에 1 단계로 반응을 완료할 수 있다. 따라서, 종래 1 차 및 2 차 처리에 각각 필요한 pH를 조정하기 위하여 투입되던 pH 조절제의 사용량을 절감할 수 있고, 공정을 단순화할 수 있어서, 공정 효율 및 비용적인 측면 등에서 매우 유리한 것일 수 있다.In this regard, as shown in FIG. 1 , NaOCl was used to decompose the cyan in the conventional purification treatment apparatus 1 for plating wastewater, and since the material has a low oxidizing power, the cyan primary treatment tank 34 ) in the primary oxidation of CN to CNO, and a two-step process of secondary oxidation of CNO to CO 2 and N 2 in the cyan secondary treatment tank 38 was required. However, since the plating wastewater purification apparatus 101 according to the present invention uses metal oxidized water having a strong oxidizing power to decompose cyanide, the reaction can be completed in one step. Accordingly, it is possible to reduce the amount of the pH adjuster used to adjust the pH required for the conventional primary and secondary treatment, respectively, and to simplify the process, which may be very advantageous in terms of process efficiency and cost.

본원의 일 구현예에 있어서, 상기 금속산화수는 상기 도금 폐수에 포함된 암모니아 대비 시안을 선택적으로 분해 처리하는 것일 수 있다. 종래 시안의 분해 처리에 사용되던 NaOCl의 경우, 시안 이외에도 암모니아와의 반응성이 높아 시안을 분해 처리하기 위하여 다량의 NaOCl을 투입하여야 하는 문제가 있었다. 그러나, 본 발명에 따른 상기 금속산화수는 암모니아 대비 시안을 선택적으로 분해 처리하기 때문에 적은 양을 투입하여도 시안의 효율적인 분해 처리가 가능한 것일 수 있다. 이와 관련하여, 도 4는 금속산화수의 pH에 따른 시안과 암모니아의 반응속도상수를 나타낸 그래프로서 이를 참조하면, 금속산화수는 pH 4 내지 6의 범위에서 암모니아 대비 시안의 반응속도상수가 약 1,000 배 높은 것을 확인할 수 있다. 즉, 상기와 같은 반응속도상수의 현저한 차이로 인하여 금속산화수 투입 시 암모니아 대비 시안의 효율적인 분해 처리가 가능한 것일 수 있다. 한편, 상기 금속산화수의 투입으로 인한 상기 시안의 분해 처리 제거율은 약 99% 이상인 것일 수 있으며, 바람직하게는 약 99.5% 이상인 것일 수 있다. 또한, 상기 금속산화수의 투입으로 인한 암모니아의 제거율은 약 50% 미만일 수 있으며, 바람직하게는 약 35% 미만인 것일 수 있다.In one embodiment of the present application, the metal oxidation water may be to selectively decompose cyanide compared to ammonia contained in the plating wastewater. In the case of NaOCl, which was conventionally used for decomposition treatment of cyan, there was a problem in that a large amount of NaOCl had to be added in order to decompose cyanide because of its high reactivity with ammonia in addition to cyanide. However, since the metal oxide water according to the present invention selectively decomposes cyan compared to ammonia, it may be possible to efficiently decompose cyan even when a small amount is added. In this regard, FIG. 4 is a graph showing the reaction rate constant of cyan and ammonia according to the pH of the metal oxidation water. Referring to this, the metal oxidation number has a reaction rate constant of about 1,000 times higher than that of ammonia in the range of pH 4 to 6. that can be checked That is, due to the significant difference in the reaction rate constant as described above, it may be possible to efficiently decompose cyanide compared to ammonia when the metal oxide water is added. On the other hand, the decomposition treatment removal rate of the cyanide due to the input of the metal oxide water may be about 99% or more, preferably about 99.5% or more. In addition, the ammonia removal rate due to the input of the metal-oxidized water may be less than about 50%, preferably less than about 35%.

이때, 상기 투입되는 금속산화수의 함량은 상기 도금 폐수 100 중량부 대비 0.1 중량부 내지 5 중량부일 수 있으며, 바람직하게는 0.1 중량부 내지 2 중량부, 더욱 바람직하게는 0.1 중량부 내지 0.2 중량부인 것일 수 있다. 상기 투입되는 금속산화수의 함량이 상기 도금 폐수 100 중량부 대비 0.1 중량부 미만일 경우 금속산화수의 함량이 상대적으로 너무 적어 도금 폐수에 포함된 시안을 모두 분해 처리시키지 못할 수 있으며, 5 중량부 초과일 경우 이미 시안을 모두 분해 처리시킬 수 있는 함량을 초과하였기 때문에 비경제적인 것일 수 있다.At this time, the amount of the metal-oxidized water input may be 0.1 parts by weight to 5 parts by weight, preferably 0.1 parts by weight to 2 parts by weight, more preferably 0.1 parts by weight to 0.2 parts by weight, based on 100 parts by weight of the plating wastewater. can When the amount of the metal oxidation water input is less than 0.1 parts by weight compared to 100 parts by weight of the plating wastewater, the content of the metal oxidation water is relatively too small, so that it may not be possible to decompose all the cyanide contained in the plating wastewater, and when it exceeds 5 parts by weight It may be uneconomical because it has already exceeded the content capable of decomposing all cyanide.

본원의 일 구현예에 있어서, 상기 금속산화수는 상기 시안의 분해 처리 후 금속 수산화물로 환원되는 것이고, 상기 금속 수산화물은 상기 도금 폐수에 포함된 중금속을 침전시키는 것일 수 있다. 즉, 종래 도금 폐수의 정화 처리장치(1)는 도금 폐수에 포함된 중금속을 침전, 제거하기 위하여 NaSH를 투입하는 중금속 처리부(300)를 포함하였으나, 본 발명에 따른 정화 처리장치(101)는 상기 금속 수산화물이 중금속을 침전시키는 역할을 하기 때문에 상기 중금속 처리부(300)를 필요로 하지 않는 것일 수 있다.In one embodiment of the present application, the metal oxide water may be reduced to metal hydroxide after the decomposition treatment of cyanide, and the metal hydroxide may be to precipitate heavy metals contained in the plating wastewater. That is, the conventional purification treatment apparatus 1 for plating wastewater includes a heavy metal treatment unit 300 that injects NaSH to precipitate and remove heavy metals contained in the plating wastewater, but the purification treatment apparatus 101 according to the present invention provides the Since the metal hydroxide serves to precipitate the heavy metal, the heavy metal processing unit 300 may not be required.

본원의 일 구현예에 있어서, 상기 도금 폐수의 정화 처리장치(101)는 상기 시안이 분해 처리된 도금 폐수에 포함된 암모니아를 질산화시키고, 탈질 처리하는 암모니아 처리부(500)를 포함하는 것일 수 있다.In one embodiment of the present application, the purification treatment apparatus 101 of the plating wastewater may include an ammonia treatment unit 500 that nitrifies and denitrifies ammonia contained in the plating wastewater in which the cyanide has been decomposed.

본원의 일 구현예에 있어서, 상기 암모니아 처리부(500)는 암모니아 처리 pH 조정조(520), 질산화조(550) 및 탈질조(570)를 포함하는 것일 수 있다. 구체적으로, 상기 시안 처리부(400)에서 시안이 분해 처리된 도금 폐수가 상기 암모니아 처리 pH 조정조(520)로 이송되어 pH가 조정되고, pH가 조정된 도금 폐수가 상기 질산화조(550)로 이송되어 도금 폐수에 포함된 암모니아를 NO3로 질산화시키며, 상기 NO3를 포함하는 도금 폐수가 탈질조(570)로 이송되어 상기 NO3가 N2로 탈질 처리되는 것일 수 있다. 더욱 구체적으로, 상기 암모니아 처리 pH 조정조(520)는 도금 폐수의 pH를 암모니아의 질산화 및 탈질 처리에 적절한 pH 범위인 pH 6 내지 8, 바람직하게는 pH 7로 맞추어주기 위한 역할을 하는 곳으로서, NaOH 또는 H2SO4 등을 투입하여 pH를 조정하는 것일 수 있다. 상기와 같이 pH 조정조(520)에서 pH가 6 내지 8, 바람직하게는 pH 7로 조정된 도금 폐수는 이후 질산화조(550)로 이송되며, 상기 질산화조(550)에서 생물학처리 질산화 공정을 통해 암모니아를 NO3로 질산화 시키면서 폐수 용액의 COD를 낮추어 주는 것일 수 있다. 이후, 상기 질산화 처리된 도금 폐수는 상기 탈질조(570)로 이송되어 무산소조 운전을 통해 상기 NO3를 N2로 탈질시켜 방류되는 것일 수 있다.In one embodiment of the present application, the ammonia treatment unit 500 may include an ammonia treatment pH adjustment tank 520 , a nitrification tank 550 , and a denitrification tank 570 . Specifically, the plating wastewater in which cyanide has been decomposed in the cyanide processing unit 400 is transferred to the ammonia treatment pH adjusting tank 520 to adjust the pH, and the pH-adjusted plating wastewater is transferred to the nitrification tank 550, sikimyeo nitrifying the ammonia in the waste water contained in the plating NO 3, a plating waste water containing the NO 3 is transferred to the denitrification tank 570 may be one in which the NO 3 denitration treatment with N 2. More specifically, the ammonia treatment pH adjusting tank 520 serves to adjust the pH of the plating wastewater to pH 6 to 8, preferably pH 7, which is a pH range suitable for nitrification and denitrification treatment of ammonia, and NaOH. Alternatively, it may be to adjust the pH by adding H 2 SO 4 or the like. The plating wastewater whose pH is adjusted to 6 to 8, preferably pH 7 in the pH adjusting tank 520 as described above is then transferred to the nitrification tank 550, and through the biological treatment nitrification process in the nitrification tank 550, ammonia It may be to lower the COD of the wastewater solution while nitrifying to NO 3 . Thereafter, the nitrification-treated plating wastewater may be transferred to the denitrification tank 570 and discharged by denitrifying the NO 3 into N 2 through an anoxic tank operation.

본원의 일 구현예에 있어서, 상기 도금 폐수의 정화 처리장치(101)는 상기 크롬 처리부(200) 및 시안 처리부(400) 사이에 상기 크롬이 환원된 도금 폐수에 포함된 중금속을 침전시키는 중금속 처리부(300)를 더 포함하는 것일 수 있다. 이때, 상기 중금속 처리부는 Cu, Zn, Ni 등의 중금속 및 F를 침전시켜 제거하는 곳으로서, 중금속 처리 pH 조정조(330) 및 중금속 처리조(370)를 포함하는 것일 수 있다. 구체적으로, 상기 중금속 처리 pH 조정조(330)는 도금 폐수의 pH를 중금속 침전 처리에 적합한 pH 범위인 pH 8 내지 9로 맞추어 주기 위한 역할을 하는 곳으로서, NaOH 또는 Ca(OH)2 등을 투입하여 pH를 조정하는 것일 수 있다. 상기와 같이 pH 조정조(330)에서 pH가 8 내지 9로 조정된 도금 폐수는 이후 중금속 처리조(370)로 이송되며, 상기 중금속 처리조(370)에 NaSH를 투입하여 상기 중금속을 침전시켜 제거하는 것일 수 있다. In one embodiment of the present application, the purification treatment apparatus 101 of the plating wastewater includes a heavy metal treatment unit ( 300) may be further included. In this case, the heavy metal treatment unit is a place for precipitating and removing heavy metals such as Cu, Zn, Ni and F, and may include a heavy metal treatment pH adjusting tank 330 and a heavy metal treatment tank 370 . Specifically, the heavy metal treatment pH adjustment tank 330 serves to adjust the pH of the plating wastewater to pH 8 to 9, which is a pH range suitable for heavy metal precipitation treatment, by adding NaOH or Ca(OH) 2 , etc. It may be to adjust the pH. The plating wastewater whose pH is adjusted to 8 to 9 in the pH adjusting tank 330 as described above is then transferred to the heavy metal treatment tank 370, and NaSH is added to the heavy metal treatment tank 370 to precipitate and remove the heavy metal. it could be

한편, 상기 중금속 처리부(300)는 상기 설명한 바와 같이 환원된 금속산화수, 즉 금속 수산화물이 중금속을 침전시키는 역할을 수행하기 때문에 본 발명에 따른 도금 폐수의 정화 처리장치(101)에서는 그 구성이 생략 가능한 것일 수 있다. 다만, 높은 함량의 중금속이 포함된 도금 폐수를 정화 시에는 사용을 필요로 하는 것일 수 있으며, 이 경우 상기 크롬 처리부(200) 및 시안 처리부(400) 사이에 바이패스(by-pass) 배관을 설치하여 선택적으로 상기 중금속 처리부(300)를 운영하는 것일 수 있다. On the other hand, since the heavy metal treatment unit 300 performs a role of precipitating heavy metals in the reduced metal oxide water, that is, metal hydroxides, as described above, in the plating wastewater purification treatment apparatus 101 according to the present invention, the configuration can be omitted. it could be However, it may be necessary to use the plating wastewater containing a high content of heavy metals when purifying, in this case, a bypass pipe is installed between the chrome processing unit 200 and the cyanide processing unit 400 . to selectively operate the heavy metal processing unit 300 .

본원의 제 2 측면은, The second aspect of the present application is

도금 폐수에 포함된 크롬을 환원시키는 단계; 상기 크롬이 환원된 도금 폐수에 포함된 시안을 분해 처리하는 단계; 및 상기 시안이 분해 처리된 도금 폐수에 포함된 암모니아를 질산화시키고, 탈질 처리하는 단계;를 포함하고, 상기 시안의 분해 처리는 상기 도금 폐수에 금속산화수(metal oxidation water)를 투입하여 수행하는 것인 도금 폐수의 정화 처리방법을 제공한다.reducing the chromium contained in the plating wastewater; decomposing cyanide contained in the chromium-reduced plating wastewater; and nitrifying and denitrifying ammonia contained in the plating wastewater in which the cyanide has been decomposed, wherein the decomposition treatment of cyanide is performed by introducing metal oxidation water into the plating wastewater. A method for purifying and treating plating wastewater is provided.

본원의 제 1 측면과 중복되는 부분들에 대해서는 상세한 설명을 생략하였으나, 본원의 제 1 측면에 대해 설명한 내용은 제 2 측면에서 그 설명이 생략되었더라도 동일하게 적용될 수 있다.Although detailed descriptions of parts overlapping with the first aspect of the present application have been omitted, the contents described with respect to the first aspect of the present application may be equally applied even if the description thereof is omitted from the second aspect.

이하, 본원의 제 2 측면에 따른 도금 폐수의 정화 처리방법에 대하여 단계별로 상세히 설명한다.Hereinafter, the purification treatment method of the plating wastewater according to the second aspect of the present application will be described in detail step by step.

우선, 본원의 일 구현 예예 있어서, 상기 도금 폐수의 정화 처리방법은 도금 폐수에 포함된 크롬을 환원시키는 단계;를 포함한다. 상기 크롬을 환원시키는 단계는 도금 폐수에 포함된 독성이 강한 Cr6+를 무독성인 Cr3+로 환원시키는 단계로서, pH 2내지 3의 범위에서 NaHSO3를 투입하여 수행하는 것일 수 있다. 이때, 상기 pH는 도금 폐수의 pH에 따라 NaOH 또는 H2SO4 등을 투입하여 조정하는 것일 수 있다.First, in one embodiment of the present application, the purification treatment method of the plating wastewater includes reducing chromium contained in the plating wastewater. The step of reducing the chromium is a step of reducing the highly toxic Cr 6+ contained in the plating wastewater to the non-toxic Cr 3+ , and may be performed by adding NaHSO 3 at a pH of 2 to 3. In this case, the pH may be adjusted by adding NaOH or H 2 SO 4 according to the pH of the plating wastewater.

다음으로, 본원의 일 구현예에 있어서, 상기 도금 폐수의 정화 처리방법은 상기 크롬이 환원된 도금 폐수에 포함된 시안을 분해 처리하는 단계;를 포함한다. 이때, 상기 시안은 상기 도금 폐수에 이온의 형태로 용해되어 있는 것일 수 있으며, 시안기를 포함하는 화합물의 형태로 용해되어 있는 것일 수도 있다. 상기 시안을 분해 처리하는 단계는 pH 4 내지 6, 바람직하게는 pH 5의 범위에서 금속산화수를 투입하여 수행하는 것일 수 있다. 이때, 상기 금속산화수는 금속산화물이 수용액에 용해되어 있는 물질로서, 상기 금속산화수는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 것일 수 있다.Next, in one embodiment of the present application, the purification treatment method of the plating wastewater includes the step of decomposing the cyanide contained in the chromium-reduced plating wastewater. In this case, the cyanide may be dissolved in the form of ions in the plating wastewater, or may be dissolved in the form of a compound containing a cyanide group. The step of decomposing the cyanide may be performed by adding metal-oxidized water in the range of pH 4 to 6, preferably pH 5. In this case, the metal oxidation number is a material in which a metal oxide is dissolved in an aqueous solution, and the metal oxidation number may include a compound represented by the following formula (1).

[화학식 1][Formula 1]

M1xM2yO4 M1 x M2 y O 4

상기 화학식 1에서, M1 및 M2는 각각 독립적으로 H, Na, K, Fe, Zn, Sn, Cu, Pb, Sb 또는 Al이고, 상기 x 및 y는 각각 독립적으로 상기 화합물의 결합에 따른 1이상의 정수일 수 있다. 바람직하게, 상기 화학식 1에서, M1 및 M2는 각각 독립적으로 H, Na, K 또는 Fe일 수 있으며, 더욱 바람직하게 상기 화합물은 H2FeO4, Na2FeO4 또는 K2FeO4인 것일 수 있다. 상기 금속산화수는 기존에 사용되던 과산화수소(H2O2) 또는 오존(O3)과 같은 산화제보다 높은 환원전위(약 2.20 eV)를 가지고 있어 강력한 산화력을 가지는 것일 수 있으며, 상기와 같은 강력한 산화력을 바탕으로 시안(CN)을 하기 반응식 1과 같이 1 단계로 산화시키는 것일 수 있다.In Formula 1, M1 and M2 are each independently H, Na, K, Fe, Zn, Sn, Cu, Pb, Sb or Al, and x and y are each independently an integer of 1 or more depending on the combination of the compound. can Preferably, in Formula 1, M1 and M2 may each independently be H, Na, K or Fe, and more preferably, the compound may be H 2 FeO 4 , Na 2 FeO 4 or K 2 FeO 4 . . The metal oxidation water has a higher reduction potential (about 2.20 eV) than an oxidizing agent such as hydrogen peroxide (H 2 O 2 ) or ozone (O 3 ) used in the past, so it may have a strong oxidizing power, and the strong oxidizing power as described above Based on the cyanide (CN) may be oxidized in one step as shown in Scheme 1 below.

[반응식 1][Scheme 1]

CN → CNO → CO2 + N2 CN → CNO → CO 2 + N 2

더욱 구체적으로, 상기 금속산화수가 예를 들어, K2FeO4나 Na2FeO4일 경우, 물에 용해되어 2HFeO4 - 의 형태를 띄게 되고, 시안(CN)의 산화 반응식은 하기 반응식 2와 같이 1 단계 반응으로 이루어지는 것일 수 있다.More specifically, when the metal oxidation number is, for example, K 2 FeO 4 or Na 2 FeO 4 , it is dissolved in water to take the form of 2HFeO 4 , and the oxidation reaction formula of cyan (CN) is as shown in Scheme 2 below. It may be made of a one-step reaction.

[반응식 2][Scheme 2]

2HFeO4 - + 2HCN + 2.5O2 + H2O + 2OH- → 2Fe(OH)3 + 2HCO3 - + 2NO2 - 2HFeO 4 - + 2HCN + 2.5O 2 + H 2 O + 2OH - → 2Fe(OH) 3 + 2HCO 3 - + 2NO 2 -

즉, 상기 시안을 분해 처리하기 위하여 강력한 산화력을 가진 금속산화수를 사용하기 때문에 1 단계로 반응을 완료할 수 있으며, 이에 따라, 공정 효율 및 비용적인 측면에서 매우 유리한 것일 수 있다.That is, since metal oxidation water having a strong oxidizing power is used to decompose the cyanide, the reaction can be completed in one step, and thus, it may be very advantageous in terms of process efficiency and cost.

본원의 일 구현예에 있어서, 상기 금속산화수는 상기 도금 폐수에 포함된 암모니아 대비 시안을 선택적으로 분해 처리하는 것일 수 있다. 종래 시안의 분해 처리에 사용되던 NaOCl의 경우, 시안 이외에도 암모니아와의 반응성이 높아 시안을 분해 처리하기 위하여 다량의 NaOCl을 투입하여야 하는 문제가 있었다. 그러나, 본 발명에 따른 상기 금속산화수는 암모니아 대비 시안을 선택적으로 분해 처리하기 때문에 적은 양을 투입하여도 시안의 효율적인 분해 처리가 가능한 것일 수 있다. 이와 관련하여, 도 4는 금속산화수의 pH에 따른 시안과 암모니아의 반응속도상수를 나타낸 그래프로서 이를 참조하면, 금속산화수는 pH 4 내지 6의 범위에서 암모니아 대비 시안의 반응속도상수가 약 1,000 배 높은 것을 확인할 수 있다. 즉, 상기와 같은 반응속도상수의 현저한 차이로 인하여 금속산화수 투입 시 암모니아 대비 시안의 효율적인 분해 처리가 가능한 것일 수 있다. 한편, 상기 금속산화수의 투입으로 인한 상기 시안의 분해 처리 제거율은 약 99% 이상인 것일 수 있으며, 바람직하게는 약 99.5% 이상인 것일 수 있다. 또한, 상기 금속산화수의 투입으로 인한 암모니아의 제거율은 약 50% 미만일 수 있으며, 바람직하게는 약 35% 미만인 것일 수 있다.In one embodiment of the present application, the metal oxidation water may be to selectively decompose cyanide compared to ammonia contained in the plating wastewater. In the case of NaOCl, which was conventionally used for decomposition of cyan, there was a problem that a large amount of NaOCl had to be added to decompose cyan because of its high reactivity with ammonia in addition to cyan. However, since the metal oxide water according to the present invention selectively decomposes cyan compared to ammonia, it may be possible to efficiently decompose cyan even when a small amount is added. In this regard, FIG. 4 is a graph showing the reaction rate constant of cyan and ammonia according to the pH of the metal oxidation water. Referring to this, the metal oxidation number has a reaction rate constant of about 1,000 times higher than that of ammonia in the range of pH 4 to 6. that can be checked That is, due to the significant difference in the reaction rate constant as described above, it may be possible to efficiently decompose cyanide compared to ammonia when the metal oxide water is added. On the other hand, the decomposition treatment removal rate of the cyanide due to the input of the metal oxide water may be about 99% or more, preferably about 99.5% or more. In addition, the ammonia removal rate due to the input of the metal-oxidized water may be less than about 50%, preferably less than about 35%.

이때, 상기 투입되는 금속산화수의 함량은 상기 도금 폐수 100 중량부 대비 0.1 중량부 내지 5 중량부일 수 있으며, 바람직하게는 0.1 중량부 내지 2 중량부, 더욱 바람직하게는 0.1 중량부 내지 0.2 중량부인 것일 수 있다. 상기 투입되는 금속산화수의 함량이 상기 도금 폐수 100 중량부 대비 0.1 중량부 미만일 경우 금속산화수의 함량이 상대적으로 너무 적어 도금 폐수에 포함된 시안을 모두 분해 처리시키지 못할 수 있으며, 5 중량부 초과일 경우 이미 시안을 모두 분해 처리시킬 수 있는 함량을 초과하였기 때문에 비경제적인 것일 수 있다.At this time, the amount of the metal-oxidized water input may be 0.1 parts by weight to 5 parts by weight, preferably 0.1 parts by weight to 2 parts by weight, more preferably 0.1 parts by weight to 0.2 parts by weight, based on 100 parts by weight of the plating wastewater. can When the amount of the metal oxidation water input is less than 0.1 parts by weight compared to 100 parts by weight of the plating wastewater, the content of the metal oxidation water is relatively too small, so that it may not be possible to decompose all the cyanide contained in the plating wastewater, and when it exceeds 5 parts by weight It may be uneconomical because it has already exceeded the content capable of decomposing all cyanide.

본원의 일 구현예에 있어서, 상기 금속산화수는 상기 시안의 분해 처리 후 금속 수산화물로 환원되는 것이고, 상기 금속 수산화물은 상기 도금 폐수에 포함된 중금속을 침전시키는 것일 수 있다. 즉, 종래 도금 폐수의 정화 처리방법은 도금 폐수에 포함된 중금속을 침전, 제거하기 위하여 NaSH를 투입하는 중금속 처리 단계를 포함하였으나, 본 발명에 따른 정화 처리방법은 상기 금속 수산화물이 중금속을 침전시키는 역할을 하기 때문에 상기 중금속 처리 단계를 필요로 하지 않는 것일 수 있다.In one embodiment of the present application, the metal oxide water may be reduced to metal hydroxide after the decomposition treatment of cyanide, and the metal hydroxide may be to precipitate heavy metals contained in the plating wastewater. That is, the conventional purification treatment method of the plating wastewater includes a heavy metal treatment step of adding NaSH to precipitate and remove the heavy metal contained in the plating wastewater, but the purification treatment method according to the present invention serves to precipitate the heavy metal by the metal hydroxide. Because it does not require the heavy metal treatment step.

다음으로, 본원의 일 구현예에 있어서, 상기 도금 폐수의 정화 처리방법은 상기 시안이 분해 처리된 도금 폐수에 포함된 암모니아를 질산화시키고, 탈질 처리하는 단계;를 포함한다. 상기 단계는 pH 6 내지 8, 바람직하게는 pH 7의 범위에서 수행되는 것일 수 있다. 구체적으로, 상기 질산화시키는 단계는 생물학처리 질산화 공정을 통해 암모니아를 NO3로 질산화 시키면서 폐수 용액의 COD를 낮추어 주는 것일 수 있다. 이후, 상기 질산화 처리된 도금 폐수는 상기 탈질 처리하는 단계에서 무산소조 운전을 통해 상기 NO3가 N2로 탈질되어 방류되는 것일 수 있다.Next, in one embodiment of the present application, the purification treatment method of the plating wastewater includes nitrifying ammonia contained in the plating wastewater in which the cyanide is decomposed and denitrifying. The step may be carried out in the range of pH 6 to 8, preferably pH 7. Specifically, the nitrification step may be to lower the COD of the wastewater solution while nitrifying ammonia to NO 3 through a biological treatment nitrification process. Thereafter, the nitrification-treated plating wastewater may be discharged by denitrifying the NO 3 into N 2 through an anoxic tank operation in the denitrification treatment step.

본원의 일 구현예에 있어서, 상기 도금 폐수의 정화 처리 방법은 상기 도금 폐수에 포함된 크롬을 환원시키는 단계; 이후에, 상기 크롬이 환원된 도금 폐수에 포함된 중금속을 침전시키는 단계;를 더 포함하는 것일 수 있다. 이때, 상기 중금속을 침전시키는 단계는 Cu, Zn, Ni 등의 중금속 및 F를 침전시켜 제거하는 단계로서, 상기 침전은 pH 8 내지 9의 범위에서 NaSH를 투입하여 수행하는 것일 수 있다.In one embodiment of the present application, the purification treatment method of the plating wastewater includes reducing chromium contained in the plating wastewater; Thereafter, the step of precipitating the heavy metal contained in the chromium-reduced plating wastewater; may further include. In this case, the step of precipitating the heavy metal is a step of precipitating and removing heavy metals such as Cu, Zn, Ni and F, and the precipitation may be performed by adding NaSH in a pH range of 8 to 9.

한편, 상기 중금속을 침전시키는 단계는 상기 설명한 바와 같이 환원된 금속산화수, 즉 금속 수산화물이 중금속을 침전시키는 역할을 수행하기 때문에 본 발명에 따른 도금 폐수의 정화 처리방법에서는 그 단계가 생략 가능한 것일 수 있다. 다만, 높은 함량의 중금속이 포함된 도금 폐수를 정화 시에는 사용을 필요로 하는 것일 수 있으며, 이 경우 필요에 따라 상기 단계를 선택적으로 수행하는 것일 수 있다.On the other hand, the step of precipitating the heavy metal may be omitted in the purification treatment method of the plating wastewater according to the present invention because the reduced metal oxide water, that is, the metal hydroxide, serves to precipitate the heavy metal as described above. . However, it may be necessary to use the plating wastewater containing a high content of heavy metals when purifying, and in this case, the above step may be selectively performed as necessary.

이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail so that those of ordinary skill in the art can easily carry out the present invention. However, the present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.

실시예 1. 금속산화수를 이용한 도금 폐수의 정화 처리 (금속산화수 0.1 wt% 투입)Example 1. Purification treatment of plating wastewater using metal-oxidized water (input 0.1 wt% of metal-oxidized water)

본 발명에 따른 금속산화수의 시안 제거 효율을 확인하기 위하여 도금 폐수에 금속산화수를 투입하여 도금 폐수의 정화 처리를 수행하였다. 이때, 상기 투입되는 금속산화수는 Na2FeO4를 포함하는 용액을 사용하였으며, 도금 폐수 전체 중량 대비 0.1 wt%를 투입하여 정화 처리를 수행하였다.In order to check the cyanide removal efficiency of the metal oxide water according to the present invention, metal oxide water was added to the plating waste water to perform purification treatment of the plating waste water. In this case, as the metal oxide water, a solution containing Na 2 FeO 4 was used, and 0.1 wt% of the total weight of the plating wastewater was added to perform purification treatment.

실시예 2. 금속산화수를 이용한 도금 폐수의 정화 처리 (금속산화수 0.15 wt% 투입)Example 2. Purification treatment of plating wastewater using metal-oxidized water (input 0.15 wt% of metal-oxidized water)

상기 투입되는 금속산화수의 함량을 0.15 wt%로 변경한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 도금 폐수의 정화 처리를 수행하였다.The purification treatment of the plating wastewater was performed in the same manner as in Example 1, except that the content of the metal oxide water was changed to 0.15 wt%.

실시예 3. 금속산화수를 이용한 도금 폐수의 정화 처리 (금속산화수 0.2 wt% 투입)Example 3. Purification treatment of plating wastewater using metal-oxidized water (injection of 0.2 wt% of metal-oxidized water)

상기 투입되는 금속산화수의 함량을 0.2 wt%로 변경한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 도금 폐수의 정화 처리를 수행하였다.The purification treatment of the plating wastewater was performed in the same manner as in Example 1, except that the content of the metal oxide water was changed to 0.2 wt%.

비교예 1. NaOCl을 이용한 도금 폐수의 정화 처리 (NaOCl 0.5 wt% 투입)Comparative Example 1. Purification treatment of plating wastewater using NaOCl (NaOCl 0.5 wt% input)

비교예에 따른 NaOCl의 시안 제거 효율을 확인하기 위하여 도금 폐수에 NaOCl을 투입하여 도금 폐수의 정화 처리를 수행하였다. 이때, 상기 투입되는 NaOCl의 함량은 도금 폐수 전체 중량 대비 0.5 wt% 이었다.In order to confirm the cyanide removal efficiency of NaOCl according to Comparative Example, NaOCl was added to the plating wastewater to perform purification treatment of the plating wastewater. At this time, the content of the NaOCl input was 0.5 wt% based on the total weight of the plating wastewater.

비교예 2. NaOCl을 이용한 도금 폐수의 정화 처리 (NaOCl 1.0 wt% 투입)Comparative Example 2. Purification treatment of plating wastewater using NaOCl (NaOCl 1.0 wt% input)

상기 투입되는 NaOCl의 함량을 1.0 wt%로 변경한 것을 제외하고는 상기 비교예 1과 동일한 방법으로 도금 폐수의 정화 처리를 수행하였다.The purification treatment of the plating wastewater was performed in the same manner as in Comparative Example 1, except that the amount of NaOCl input was changed to 1.0 wt%.

비교예 3. NaOCl을 이용한 도금 폐수의 정화 처리 (NaOCl 1.5 wt% 투입)Comparative Example 3. Purification treatment of plating wastewater using NaOCl (NaOCl 1.5 wt% input)

상기 투입되는 NaOCl의 함량을 1.5 wt%로 변경한 것을 제외하고는 상기 비교예 1과 동일한 방법으로 도금 폐수의 정화 처리를 수행하였다.The purification treatment of the plating wastewater was performed in the same manner as in Comparative Example 1, except that the content of the input NaOCl was changed to 1.5 wt%.

실험예 1. 금속산화수의 투입 함량에 따른 도금 폐수의 정화 처리 결과 분석Experimental Example 1. Analysis of purification treatment results of plating wastewater according to the input content of metal oxide water

상기 실시예 1 내지 3을 통하여 정화 처리된 도금 폐수의 성분을 분석하여 하기 표 1에 나타내었다.The components of the plating wastewater purified through Examples 1 to 3 were analyzed and shown in Table 1 below.

[표 1][Table 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 표 1에 나타낸 바와 같이 본 발명의 금속산화수를 이용하여 도금 폐수의 정화 처리를 수행한 결과, 도금 폐수에 포함된 시안(CN)이 124.0 mg/L에서 각각 0.8 mg/L, 0.6 mg/L 및 0.2 mg/L로 감소하여 약 99% 이상 분해 처리 되었음을 확인할 수 있었다. 한편, 상기 도금 폐수에 포함된 암모니아(NH3-N)는 280.0 mg/L에서 각각 230.0 mg/L, 190.0 mg/L 및 160.0 mg/L로 감소하여 시안 대비 제거율이 상대적으로 낮음을 확인할 수 있었다. 이를 통해 상기 금속산화수가 암모니아 대비 시안을 선택적으로 분해 처리함을 확인할 수 있었다. 다만, 상기 금속산화수의 함량이 증가할수록 시안의 제거율과 더불어 암모니아의 제거율 또한 증가함을 확인할 수 있었으며, 이를 통해 상기 금속산화수가 시안의 분해 처리를 충분히 수행한 후에는 암모니아의 제거에 사용됨을 추측할 수 있었다.As shown in Table 1 above, as a result of performing purification treatment of plating wastewater using the metal oxide water of the present invention, cyanide (CN) contained in the plating wastewater was 124.0 mg/L to 0.8 mg/L and 0.6 mg/L, respectively. and 0.2 mg/L, it was confirmed that about 99% or more of the decomposition treatment was carried out. On the other hand, ammonia (NH 3 -N) contained in the plating wastewater decreased from 280.0 mg/L to 230.0 mg/L, 190.0 mg/L, and 160.0 mg/L, respectively, confirming that the removal rate was relatively low compared to cyanide. . Through this, it was confirmed that the metal-oxidized water selectively decomposed cyan compared to ammonia. However, as the content of the metal oxide water increased, it was confirmed that the removal rate of ammonia as well as the removal rate of cyan increased. could

한편, 상기 도금 폐수에 포함된 Cu 및 Zn의 함량 또한 크게 감소함을 확인할 수 있었으며, 이는 상기 금속산화수가 시안을 분해 처리 한 후, 생성된 금속 수산화물이 중금속의 침전체 역할을 하기 때문에 그 함량이 감소한 것으로 분석되었다. On the other hand, it was confirmed that the content of Cu and Zn contained in the plating wastewater was also greatly reduced, which is because the metal hydroxide produced after the metal oxide water decomposed cyanide acts as a precipitate of heavy metal, so the content is decreased. was analyzed to decrease.

실험예 2. 금속산화수 또는 NaOCl 투입에 따른 도금 폐수의 정화 처리 결과 분석Experimental Example 2. Analysis of purification treatment results of plating wastewater according to metal oxide water or NaOCl input

금속산화수를 투입한 도금 폐수의 정화 처리 결과와 NaOCl을 투입한 도금 폐쑤의 정화 처리 결과를 비교하기 위하여, 상기 실시예 1 및 비교예 1 내지 3을 통하여 정화 처리된 도금 폐수의 성분을 분석하여 하기 표 2에 나타내었다.In order to compare the purification treatment result of the plating wastewater to which the metal oxide water was added and the purification treatment result of the plating wastewater to which NaOCl was added, the components of the plating wastewater purified through Example 1 and Comparative Examples 1 to 3 were analyzed and the following Table 2 shows.

[표 2][Table 2]

Figure pat00002
Figure pat00002

상기 표 2에 나타낸 바와 같이 본 발명의 금속산화수를 이용하여 도금 폐수의 정화 처리를 수행한 결과, 도금 폐수에 포함된 시안(CN)이 124.0 mg/L에서 0.8 mg/L로 감소하여 약 99% 이상 분해 처리 되었음을 확인할 수 있었다. 반면, 비교예에 따라 NaOCl을 이용하여 도금 폐수의 정화 처리를 수행한 결과, 도금 폐수에 포함된 시안이 124.0 mg/L에서 각각 110 mg/L, 90 mg/L 및 60 mg/L로 감소하여 실시예 1 대비 상대적으로 시안의 분해 처리가 잘 이루어지지 않았음을 확인할 수 있었다. 이는 상기 NaOCl이 암모니아를 제거하는데 사용되었기 때문인 것으로 분석되었으며, 실제 상기 표 2에 나타낸 바와 같이 실시예 1의 경우 암모니아 제거율이 낮은 반면, 비교예 1 내지 3의 경우 암모니아의 제거율이 높음을 확인할 수 있었다. 즉, 상기 NaOCl 대비 상기 금속산화수는 시안을 선택적으로 분해 처리하기 때문에 시안 처리에 있어서 더욱 효율적인 것으로 분석되었다.As shown in Table 2, as a result of performing the purification treatment of the plating wastewater using the metal oxide water of the present invention, the cyanide (CN) contained in the plating wastewater decreased from 124.0 mg/L to 0.8 mg/L, which was about 99% It was confirmed that the decomposition process was abnormal. On the other hand, as a result of performing purification treatment of the plating wastewater using NaOCl according to the comparative example, the cyanide contained in the plating wastewater decreased from 124.0 mg/L to 110 mg/L, 90 mg/L and 60 mg/L, respectively. Compared to Example 1, it was confirmed that the decomposition treatment of cyan was not performed well. It was analyzed that this was because the NaOCl was used to remove ammonia, and as shown in Table 2 above, the ammonia removal rate was low in Example 1, but it was confirmed that the ammonia removal rate was high in Comparative Examples 1 to 3 . That is, the metal oxide number compared to the NaOCl was analyzed to be more efficient in the cyanide treatment because it selectively decomposes cyan.

1, 101: 도금 폐수의 정화 처리장치
2, 110: 집수조
10, 200: 크롬 처리부
13, 230: 크롬 처리 pH 조정조
17, 270: 크롬 처리조
20, 300: 중금속 처리부
23, 330: 중금속 처리 pH 조정조
27, 370: 중금속 처리조
30, 400: 시안 처리부
32, 36, 420: 시안 처리 pH 조정조
34: 시안 1차 처리조
38: 시안 2차 처리조
440: 시안 처리조
40, 500: 암모니아 처리부
42, 520: 암모니아 처리 pH 조정조
45, 550: 질산화조
47, 570: 탈질조
1, 101: purification and treatment equipment for plating wastewater
2, 110: water tank
10, 200: chrome processing unit
13, 230: chromium treatment pH adjustment tank
17, 270: chrome treatment tank
20, 300: heavy metal processing unit
23, 330: heavy metal treatment pH adjustment tank
27, 370: heavy metal treatment tank
30, 400: cyan processing unit
32, 36, 420: cyanide treatment pH adjustment tank
34: cyan primary treatment tank
38: cyan secondary treatment tank
440: cyanide treatment tank
40, 500: ammonia processing unit
42, 520: ammonia treatment pH adjustment tank
45, 550: nitrification tank
47, 570: denitrification tank

Claims (9)

도금 폐수에 포함된 크롬을 환원시키는 크롬 처리부;
상기 크롬이 환원된 도금 폐수에 포함된 시안을 분해 처리하는 시안 처리부; 및
상기 시안이 분해 처리된 도금 폐수에 포함된 암모니아를 질산화시키고, 탈질 처리하는 암모니아 처리부;
를 포함하고,
상기 시안의 분해 처리는 상기 도금 폐수에 금속산화수(metal oxidation water)를 투입하여 수행하는 것인 도금 폐수의 정화 처리장치.
a chromium treatment unit for reducing chromium contained in the plating wastewater;
a cyanide treatment unit for decomposing cyanide contained in the chromium-reduced plating wastewater; and
an ammonia treatment unit for nitrifying and denitrifying ammonia contained in the plating wastewater in which the cyanide has been decomposed;
including,
The decomposition treatment of the cyanide is an apparatus for purifying plating wastewater that is performed by injecting metal oxidation water into the plating wastewater.
제1항에 있어서,
상기 금속산화수는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 것인 도금 폐수의 정화 처리장치:
[화학식 1]
M1xM2yO4
(상기 화학식 1에서,
M1 및 M2는 각각 독립적으로 H, Na, K, Fe, Zn, Sn, Cu, Pb, Sb 또는 Al이고,
상기 x 및 y는 각각 독립적으로 상기 화합물의 결합에 따른 1이상의 정수이다.)
According to claim 1,
The metal oxidation water is a purification treatment apparatus for plating wastewater that includes a compound represented by the following formula (1):
[Formula 1]
M1 x M2 y O 4
(In Formula 1,
M1 and M2 are each independently H, Na, K, Fe, Zn, Sn, Cu, Pb, Sb or Al;
Wherein x and y are each independently an integer of 1 or more depending on the combination of the compound.)
제1항에 있어서,
상기 금속산화수는 상기 도금 폐수에 포함된 암모니아 대비 시안을 선택적으로 분해 처리하는 것인 도금 폐수의 정화 처리장치.
According to claim 1,
The metal oxidation water is a plating wastewater purification treatment apparatus for selectively decomposing cyan compared to ammonia contained in the plating wastewater.
제1항에 있어서,
상기 투입되는 금속산화수의 함량은 상기 도금 폐수 100 중량부 대비 0.1 중량부 내지 5 중량부인 것인 도금 폐수의 정화 처리장치.
According to claim 1,
The amount of the metal oxidation water added is 0.1 parts by weight to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the plating wastewater purification treatment apparatus.
제1항에 있어서,
상기 시안의 분해 처리는 pH 4 내지 pH 6의 범위에서 수행되는 것인 도금 폐수의 정화 처리장치.
According to claim 1,
The decomposition treatment of the cyanide is a purification treatment apparatus for plating wastewater that is performed in the range of pH 4 to pH 6.
제1항에 있어서,
상기 금속산화수는 상기 시안의 분해 처리 후 금속 수산화물로 환원되는 것이고,
상기 금속 수산화물은 상기 도금 폐수에 포함된 중금속을 침전시키는 것인 도금 폐수의 정화 처리장치.
According to claim 1,
The metal oxidation number is reduced to metal hydroxide after the decomposition treatment of cyan,
The metal hydroxide is a plating wastewater purification apparatus for precipitating heavy metals contained in the plating wastewater.
제1항에 있어서,
상기 크롬 처리부, 시안 처리부 및 암모니아 처리부는 각각 상기 도금 폐수의 pH를 조절하는 pH 조정조를 포함하는 것인 도금 폐수의 정화 처리장치.
According to claim 1,
The chromium treatment unit, the cyanide treatment unit and the ammonia treatment unit each include a pH adjusting tank for adjusting the pH of the plating wastewater.
제1항에 있어서,
상기 도금 폐수의 정화 처리장치는 상기 크롬 처리부 및 시안 처리부 사이에 상기 크롬이 환원된 도금 폐수에 포함된 중금속을 침전시키는 중금속 처리부를 더 포함하는 것인 도금 폐수의 정화 처리장치.
According to claim 1,
The plating wastewater purification apparatus further includes a heavy metal processing unit for precipitating heavy metals contained in the chromium-reduced plating wastewater between the chromium processing unit and the cyanide processing unit.
도금 폐수에 포함된 크롬을 환원시키는 단계;
상기 크롬이 환원된 도금 폐수에 포함된 시안을 분해 처리하는 단계; 및
상기 시안이 분해 처리된 도금 폐수에 포함된 암모니아를 질산화시키고, 탈질 처리하는 단계;
를 포함하고,
상기 시안의 분해 처리는 상기 도금 폐수에 금속산화수(metal oxidation water)를 투입하여 수행하는 것인 도금 폐수의 정화 처리방법.
reducing the chromium contained in the plating wastewater;
decomposing cyanide contained in the chromium-reduced plating wastewater; and
nitrifying and denitrifying ammonia contained in the plating wastewater in which the cyanide has been decomposed;
including,
The decomposition treatment of cyanide is a purification treatment method of plating wastewater that is performed by putting metal oxidation water into the plating wastewater.
KR1020200055419A 2020-05-08 2020-05-08 Plating wastewater purification treatment system using metal oxidation water KR20210136736A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200055419A KR20210136736A (en) 2020-05-08 2020-05-08 Plating wastewater purification treatment system using metal oxidation water

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200055419A KR20210136736A (en) 2020-05-08 2020-05-08 Plating wastewater purification treatment system using metal oxidation water

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20210136736A true KR20210136736A (en) 2021-11-17

Family

ID=78703294

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200055419A KR20210136736A (en) 2020-05-08 2020-05-08 Plating wastewater purification treatment system using metal oxidation water

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20210136736A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102119234B1 (en) How to treat cyanide-containing wastewater
KR100778754B1 (en) Method for chemical treatment of wastewater comprising cyanide compounds
KR20210136736A (en) Plating wastewater purification treatment system using metal oxidation water
KR0136166B1 (en) Treatment of waste water containing cyanide compound and oil
JP2004249258A (en) Wastewater treatment method
JPH10118664A (en) Treatment of waste water containing cyan compound and organic matter
JP3191372B2 (en) Treatment of wastewater containing cyanide
JPH05345189A (en) Method for treating organic halogen compound-containing waste water
JP3350820B2 (en) Treatment method for waste liquid containing heavy metal ions
JPS6339693A (en) Method for treating waste water containing cyanogen
KR20200059276A (en) Methods for the treatment of wastewater
JP4106415B2 (en) Treatment method of wastewater containing cyanide
KR101420656B1 (en) Method for treatment of wastewater containing cyanide
JP2721740B2 (en) Chemical cleaning waste liquid treatment method
KR100495765B1 (en) Method of preparing iron oxide catalysts for fenton oxidation and use of iron oxide catalysts prepared thereby
CZ275097A3 (en) Process of cleaning solutions containing metals
JPH01194997A (en) Treatment of cyanide-containing solution and aerobe obtained by conditioning of facultative anaerobe
JP2005313112A (en) Method for treating waste water containing cyanogen
JP6560149B2 (en) Method of treating wastewater containing metal cyano complex
JP3257108B2 (en) Treatment method for sludge containing copper and cyanide insoluble salt
JPS61234998A (en) Treatment of waste water containing chromium
JPS6216153B2 (en)
KR960014035B1 (en) Method for elimination of cyanide in waste-water from cokes oven gas condensation
JPH0128629B2 (en)
KR20230065575A (en) Treating method for exhaust gas and waste water containing hydrogen cyanide

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
X601 Decision of rejection after re-examination