KR20210132679A - Coating liquid for forming an anti-glare film, an anti-glare film, and a laminate having the same - Google Patents

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KR20210132679A
KR20210132679A KR1020217030229A KR20217030229A KR20210132679A KR 20210132679 A KR20210132679 A KR 20210132679A KR 1020217030229 A KR1020217030229 A KR 1020217030229A KR 20217030229 A KR20217030229 A KR 20217030229A KR 20210132679 A KR20210132679 A KR 20210132679A
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Abstract

하기의 성분을 함유하는 방현성 피막 형성용 도포액. 성분 (A) : 하기 식 (I) 로 나타내는 제 1 금속 알콕시드, 그 가수분해물, 혹은 그 부분 축합물. R1 mM1(OR2)n-m (I) 성분 (B) : 하기 식 (II) 로 나타내는 금속염 및 하기 식 (II) 중의 M2 의 옥살산염에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 금속염. M2(X)k (II) 용매군 (A) : 비점 160 ℃ 미만의 글리콜에테르 및 그 유도체, 혹은 케톤류에서 선택되는 적어도 1 종. 용매군 (B) : 비점 120 ℃ 이하의 알코올류에서 선택되는 적어도 1 종. 식 1 및 식 2 중의 기호의 정의는, 명세서에 기재된 바와 같다. A coating liquid for forming an anti-glare film comprising the following components. Component (A): The 1st metal alkoxide represented by following formula (I), its hydrolyzate, or its partial condensate. R 1 m M 1 (OR 2 ) nm (I) Component (B): A metal salt containing at least one selected from a metal salt represented by the following formula (II) and an oxalate of M 2 in the following formula (II). M 2 (X) k (II) Solvent group (A): at least one selected from glycol ethers having a boiling point of less than 160°C, derivatives thereof, and ketones. Solvent group (B): At least 1 sort(s) selected from alcohol with a boiling point of 120 degrees C or less. Definitions of symbols in Formulas 1 and 2 are as described in the specification.

Description

방현성 피막 형성용 도포액, 방현성 피막 및 그것을 갖는 적층체Coating liquid for forming an anti-glare film, an anti-glare film, and a laminate having the same

본 발명은, 방현성 (안티글레어 기능) 이 우수함과 함께, 유리 기판 상에 형성 가능하고, 고굴절률을 갖는 방현성 피막을 형성할 수 있는 방현성 피막 형성용 도포액, 그 도포액으로부터 얻어지는 방현성 피막 및 그것을 구비하는 적층체에 관한 것이다. The present invention provides a coating liquid for forming an anti-glare film that is excellent in anti-glare properties (anti-glare function) and can form an anti-glare film having a high refractive index on a glass substrate, and an anti-glare film obtained from the coating liquid It relates to an overt coating and a laminate provided with the same.

텔레비전, 퍼스널 컴퓨터, 스마트 폰 등의 각종 디바이스가 구비하는 화상 표시 장치 (액정 디스플레이, 유기 EL 디스플레이, 플라스마 디스플레이 등) 는, 실내 조명 (형광등 등), 태양광 등의 외광이 표시면에 비치면, 반사 이미지에 의해 화상의 시인성이 저하하는 경우가 있다.The image display apparatus (liquid crystal display, organic EL display, plasma display, etc.) equipped with various devices, such as a television, a personal computer, and a smart phone, is reflected when external light, such as indoor lighting (fluorescent lamp, etc.) and sunlight, is reflected on a display surface. The visibility of an image may fall by an image.

외광의 비침을 억제하는 방법으로서, 화상 표시 장치의 표시면에 방현 처리 (안티글레어 처리) 를 실시하는 방법이 있다. 방현 처리는, 표면에 요철을 형성하는 처리이며, 형성된 요철에 의해 외광을 확산 반사하는 효과 (방현 효과) 가 얻어진다.As a method of suppressing the penetration of external light, there is a method in which an anti-glare treatment (anti-glare treatment) is performed on a display surface of an image display device. The anti-glare treatment is a treatment for forming irregularities on the surface, and the effect of diffusely reflecting external light (anti-glare effect) is obtained by the formed irregularities.

방현 처리의 방법으로서는, 유리 등의 투명 기재의 표면을 불산 등의 약제에 의해 에칭하는 처리 (특허문헌 1 참조), 표면에 요철이 있는 유기계의 방현막을 형성하는 처리 (특허문헌 2 참조) 등이 제안되어 있다. As a method of the anti-glare treatment, a treatment for etching the surface of a transparent substrate such as glass with a chemical such as hydrofluoric acid (see Patent Document 1), a treatment for forming an organic anti-glare film having irregularities on the surface (see Patent Document 2), etc. has been proposed.

일본 특허 제5839134호Japanese Patent No. 5839134 국제 공개 2018/070426International Publication 2018/070426

그러나, 유리 기판 표면을 약제로 에칭하는 처리에 있어서는, 약제의 위험성이 문제가 되고, 표면에 유기계의 방현막을 형성하는 처리에 있어서는, 유리 기판에 대한 도포성이나, 막 상에 추가적인 기능성 막을 형성시킬 때의 도포성, 밀착성에 문제가 생긴다. However, in the treatment of etching the surface of the glass substrate with a chemical, the risk of the chemical becomes a problem, and in the treatment of forming an organic anti-glare film on the surface, the coating property to the glass substrate or the formation of an additional functional film on the film A problem arises in the coating property and adhesiveness at the time of it.

이상의 점으로부터, 본 발명은, 방현성 (안티글레어 기능) 이 우수함과 함께, 유리 기판 상에 형성 가능하고, 고굴절률을 갖는 방현성 피막을 형성할 수 있는 방현성 피막 형성용 도포액, 그 도포액으로부터 얻어지는 방현성 피막 및 그것을 구비하는 적층체의 제공을 목적으로 한다.From the above points, the present invention provides a coating liquid for forming an anti-glare film, which is excellent in anti-glare properties (anti-glare function), can be formed on a glass substrate and can form an anti-glare film having a high refractive index, and its application It aims at provision of the anti-glare film obtained from a liquid, and the laminated body provided with the same.

본 발명자는, 상기의 목적을 달성하기 위해 예의 연구를 진행시킨 결과, 이하의 요지를 갖는 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 즉, 본 발명은, 이하의 구성 요건을 갖는다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM This inventor came to complete this invention which has the following summary, as a result of advancing earnest research in order to achieve the said objective. That is, this invention has the following structural requirements.

1. 하기의 성분을 함유하는 방현성 피막 형성용 도포액. 1. A coating liquid for forming an anti-glare film containing the following components.

성분 (A) : 하기 식 (I) 로 나타내는 제 1 금속 알콕시드, 그 가수분해물, 혹은 그 부분 축합물.Component (A): The 1st metal alkoxide represented by following formula (I), its hydrolyzate, or its partial condensate.

R1 mM1(OR2)n-m (I)R 1 m M 1 (OR 2 ) nm (I)

(식 중, M1 은, 규소 (Si), 티탄 (Ti), 탄탈 (Ta), 지르코늄 (Zr), 붕소 (B), 알루미늄 (Al), 마그네슘 (Mg), 주석 (Sn) 및 아연 (Zn) 으로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1 종 이상의 금속을 나타낸다. R1 은, 수소 원자 또는 불소 원자로 치환되어도 되고, 또한, 할로겐 원자, 비닐기, 글리시독시기, 메르캅토기, 메타크릴옥시기, 아크릴옥시기, 이소시아네이트기, 아미노기 또는 우레이드기로 치환되어 있어도 되고, 또한, 헤테로 원자를 가지고 있어도 되는 탄소수 1 ~ 20 의 탄화수소기를 나타낸다. R2 는, 탄소수 1 ~ 5 의 알킬기를 나타내고, n 은, M1 의 가수 2 ~ 5 를 나타낸다. m 은, M1 의 가수가 2 인 경우 0 또는 1, M1 의 가수가 3 인 경우 0 ~ 2 중 어느 것이며, M1 의 가수가 4 인 경우 0 ~ 3 중 어느 것이며, M1 의 가수가 5 인 경우 0 ~ 4 중 어느 것이다.) (wherein, M 1 is silicon (Si), titanium (Ti), tantalum (Ta), zirconium (Zr), boron (B), aluminum (Al), magnesium (Mg), tin (Sn) and zinc ( Zn) represents at least one metal selected from the group consisting of. R 1 may be substituted with a hydrogen atom or a fluorine atom, and a halogen atom, a vinyl group, a glycidoxy group, a mercapto group, a methacryloxy group, acryl represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with an oxy group, an isocyanate group, an amino group or a ureide group, and which may have a hetero atom, R 2 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, n is M It represents valence 2 to 5 of 1. m is 0 or 1 when the valence of M 1 is 2, 0 to 2 when the valence of M 1 is 3, and 0 to 3 when the valence of M 1 is 4. Any of 0 to 4 when the mantissa of M 1 is 5.)

성분 (B) : 하기 식 (II) 로 나타내는 금속염 및 하기 식 (II) 중의 M2 의 옥살산염에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 금속염.Component (B): A metal salt containing at least one selected from the metal salt represented by the following formula (II) and the oxalate of M 2 in the following formula (II).

M2(X)k (II)M 2 (X) k (II)

(식 중, M2 는, 알루미늄 (Al), 인듐 (In), 아연 (Zn), 지르코늄 (Zr), 비스무트 (Bi), 란탄 (La), 탄탈 (Ta), 이트륨 (Y) 및 세륨 (Ce) 으로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1 종의 금속을 나타내고, X 는, 염소, 질산, 황산, 아세트산, 술팜산, 술폰산, 아세토아세트산, 아세틸아세토네이트 또는 이들의 염기성 염을 나타내고, k 는, M2 의 가수를 나타낸다.) (wherein, M 2 is aluminum (Al), indium (In), zinc (Zn), zirconium (Zr), bismuth (Bi), lanthanum (La), tantalum (Ta), yttrium (Y) and cerium ( Ce) represents at least one metal selected from the group consisting of, X represents chlorine, nitric acid, sulfuric acid, acetic acid, sulfamic acid, sulfonic acid, acetoacetic acid, acetylacetonate or a basic salt thereof, and k represents M 2 represents the singer of

용매군 (A) : 비점 160 ℃ 미만의 글리콜에테르 및 그 유도체, 혹은 케톤류에서 선택되는 적어도 1 종.Solvent group (A): At least 1 sort(s) selected from glycol ether with a boiling point of less than 160 degreeC, its derivative(s), or ketones.

용매군 (B) : 비점 120 ℃ 이하의 알코올류에서 선택되는 적어도 1 종. Solvent group (B): At least 1 sort(s) selected from the alcohols with a boiling point of 120 degrees C or less.

본 발명의 방현성 피막 형성용 도포액을 사용함으로써, 방현성 (안티글레어 기능) 이 우수함과 함께, 유리 기판 상에 형성 가능하고, 고굴절률을 갖는 방현성 피막을 형성할 수 있다. By using the coating liquid for anti-glare film formation of this invention, while being excellent in anti-glare property (anti-glare function), it can form on a glass substrate, and can form the anti-glare film which has a high refractive index.

도 1 은 실시예 2 에서 얻어진 방현성 피막 부착 기판을, 3 차원 백색 간섭 현미경 Contour GT 로 관찰한 화상이다.
도 2 는 비교예 2 에서 얻어진 방현성 피막 부착 기판을, 3 차원 백색 간섭 현미경 Contour GT 로 관찰한 화상이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is the image which observed the board|substrate with an anti-glare film obtained in Example 2 with the three-dimensional white interference microscope Contour GT.
It is the image which observed the board|substrate with an anti-glare film obtained in the comparative example 2 with the three-dimensional white interference microscope Contour GT.

본 발명의 방현성 피막 형성용 도포액이 함유하는 각 성분에 대해, 하기에 상세히 서술한다.Each component contained in the coating liquid for forming an anti-glare film of the present invention will be described in detail below.

<성분 (A)> <Component (A)>

본 발명의 방현성 피막 형성용 도포액이 함유하는 성분 (A) 는, 하기 식 (I) 로 나타내는 제 1 금속 알콕시드, 그 가수분해물, 혹은 그 부분 축합물이다.The component (A) which the coating liquid for anti-glare film formation of this invention contains is the 1st metal alkoxide represented by following formula (I), its hydrolyzate, or its partial condensate.

R1 mM1(OR2)n-m (I) R 1 m M 1 (OR 2 ) nm (I)

식 중, M1 은, 규소 (Si), 티탄 (Ti), 탄탈 (Ta), 지르코늄 (Zr), 붕소 (B), 알루미늄 (Al), 마그네슘 (Mg), 주석 (Sn) 및 아연 (Zn) 으로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1 종 이상의 금속을 나타낸다. 그 중에서도, 입수성의 용이성 및 조성물의 저장 안정성의 관점에서, 규소, 티탄, 지르코늄, 알루미늄, 주석이 바람직하다.where M 1 is silicon (Si), titanium (Ti), tantalum (Ta), zirconium (Zr), boron (B), aluminum (Al), magnesium (Mg), tin (Sn) and zinc (Zn) ) represents at least one or more metals selected from the group consisting of. Among them, silicon, titanium, zirconium, aluminum, and tin are preferable from the viewpoints of availability and storage stability of the composition.

R1 은, 수소 원자 또는 불소 원자로 치환되어도 되고, 또한, 할로겐 원자, 비닐기, 글리시독시기, 메르캅토기, 메타크릴옥시기, 아크릴옥시기, 이소시아네이트기, 아미노기 또는 우레이드기로 치환되어 있어도 되고, 또한, 헤테로 원자를 가지고 있어도 되는 탄소수 1 ~ 20 의 탄화수소기를 나타낸다. 그 중에서도, 입수성 및 안정성의 관점에서, 치환기로서, 비닐기, 메르캅토기, 메타크릴옥시기, 아크릴옥시기, 우레이드기가 바람직하고, 탄소수는 1 ~ 10 의 탄화수소기가 바람직하다.R 1 may be substituted with a hydrogen atom or a fluorine atom, and may be substituted with a halogen atom, a vinyl group, a glycidoxy group, a mercapto group, a methacryloxy group, an acryloxy group, an isocyanate group, an amino group or a ureide group. , and a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a hetero atom. Especially, from a viewpoint of availability and stability, as a substituent, a vinyl group, a mercapto group, a methacryloxy group, an acryloxy group, and a ureide group are preferable, and a C1-C10 hydrocarbon group is preferable.

R2 는, 탄소수 1 ~ 5 의 알킬기를 나타내고, 그 중에서도, 입수성의 용이성 및 조성물의 저장 안정성의 관점에서, 탄소수 1 ~ 4 가 바람직하다.R<2> represents a C1-C5 alkyl group, and especially, C1-C4 is preferable from a viewpoint of availability and storage stability of a composition.

n 은, M1 의 가수 2 ~ 5 를 나타낸다. m 은, M1 의 가수가 2 인 경우 0 또는 1, M1 의 가수가 3 인 경우 0 ~ 2 중 어느 것이며, M1 의 가수가 4 인 경우 0 ~ 3 중 어느 것이며, M1 의 가수가 5 인 경우 0 ~ 4 중 어느 것이다.n represents valences 2 to 5 of M 1 . m is 0 or 1 when the valence of M 1 is 2, 0 or 2 when the valence of M 1 is 3, any of 0-3 when the valence of M 1 is 4, and the valence of M 1 is If it is 5, it is any of 0 to 4.

본 발명의 방현성 피막 형성용 도포액이 함유하는 성분 (A) 는, 그 중에서도, 실리콘알콕시드, 티탄알콕시드 또는 지르코늄알콕시드의 부분 축합물이 바람직하다. 구체예를 들면, M1 이, 규소 (Si), 티탄 (Ti), 탄탈 (Ta), 지르코늄 (Zr) 의 어느 것에서 선택되는 상기 식 (I) 로 나타내는 금속 알콕시드의 부분 축합물을 들 수 있다.As for the component (A) which the coating liquid for anti-glare film formation of this invention contains, especially, the partial condensate of a silicon alkoxide, a titanium alkoxide, or a zirconium alkoxide is preferable. Specific examples include partial condensates of metal alkoxides represented by the formula (I) in which M 1 is selected from any of silicon (Si), titanium (Ti), tantalum (Ta), and zirconium (Zr). have.

<성분 (B)> <Component (B)>

본 발명의 방현성 피막 형성용 도포액이 함유하는 성분 (B) 는, 하기 식 (II) 로 나타내는 금속염 및 하기 식 (II) 중의 M2 의 옥살산염에서 선택되는 적어도 1 종의 금속염을 함유한다. The component (B) contained in the coating liquid for forming an anti-glare film of the present invention contains at least one metal salt selected from a metal salt represented by the following formula (II) and an oxalate of M 2 in the following formula (II). .

M2(X)k (II)M 2 (X) k (II)

식 중, M2 는, 알루미늄 (Al), 인듐 (In), 아연 (Zn), 지르코늄 (Zr), 비스무트 (Bi), 란탄 (La), 탄탈 (Ta), 이트륨 (Y) 및 세륨 (Ce) 으로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1 종의 금속을 나타낸다. X 는, 염소, 질산, 황산, 아세트산, 술팜산, 술폰산, 아세토아세트산, 아세틸아세토네이트 또는 이들의 염기성 염을 나타낸다. 그 중에서도, 입수성의 용이성 및 조성물의 저장 안정성의 관점에서, 알루미늄, 인듐, 세륨의 질산염이 바람직하다.In the formula, M 2 is aluminum (Al), indium (In), zinc (Zn), zirconium (Zr), bismuth (Bi), lanthanum (La), tantalum (Ta), yttrium (Y) and cerium (Ce) ) represents at least one metal selected from the group consisting of X represents chlorine, nitric acid, sulfuric acid, acetic acid, sulfamic acid, sulfonic acid, acetoacetic acid, acetylacetonate, or a basic salt thereof. Among them, nitrates of aluminum, indium, and cerium are preferable from the viewpoints of availability and storage stability of the composition.

k 는, M2 의 가수를 나타낸다.k represents a valence of M 2.

<그 밖의 성분> <Other ingredients>

본 발명의 방현성 피막 형성용 도포액에 있어서는, 상기한 성분 이외의 그 밖의 성분, 예를 들어, 무기 미립자, 메탈록산 올리고머, 메탈록산 폴리머, 레벨링제, 계면 활성제 등의 성분이 포함되어 있어도 된다.In the coating liquid for forming an anti-glare film of the present invention, components other than the above components, for example, inorganic fine particles, metaloxane oligomers, metaloxane polymers, leveling agents, surfactants, etc. may be contained. .

무기 미립자로서는, 실리카 미립자, 알루미나 미립자, 티타니아 미립자, 불화마그네슘 미립자 등의 미립자가 바람직하고, 이들 무기 미립자의 콜로이드 용액이 특히 바람직하다. 이 콜로이드 용액은, 무기 미립자분을 분산매에 분산시킨 것이어도 되고, 시판품의 콜로이드 용액이어도 된다.As the inorganic fine particles, fine particles such as silica fine particles, alumina fine particles, titania fine particles and magnesium fluoride fine particles are preferable, and a colloidal solution of these inorganic fine particles is particularly preferable. What disperse|distributed the inorganic fine particle in the dispersion medium may be sufficient as this colloidal solution, and the colloidal solution of a commercial item may be sufficient as it.

본 발명에 있어서는, 무기 미립자를 함유시킴으로써, 형성되는 방현성 피막의 표면 형상이나 그 밖의 기능을 부여하는 것이 가능해진다. 무기 미립자로서는, 그 평균 입자경이 0.001 ~ 0.2 ㎛ 인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.001 ~ 0.1 ㎛ 이다.In this invention, it becomes possible by containing an inorganic fine particle to provide the surface shape and other functions of the anti-glare film formed. As an inorganic fine particle, it is preferable that the average particle diameter is 0.001-0.2 micrometer, More preferably, it is 0.001-0.1 micrometer.

무기 미립자의 분산매로서는, 물 및 유기 용제를 들 수 있다. 콜로이드 용액으로서는, 방현성 피막 형성용 도포액의 안정성이 향상되는 관점에서, pH 또는 pKa 가 1 ~ 10 으로 조정되어 있는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2 ~ 7 이다.Water and an organic solvent are mentioned as a dispersion medium of an inorganic fine particle. As a colloidal solution, from a viewpoint that stability of the coating liquid for anti-glare film formation improves, it is preferable that pH or pKa is adjusted to 1-10, More preferably, it is 2-7.

콜로이드 용액의 분산매에 사용하는 유기 용제로서는, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올, 펜탄디올, 2-메틸-2,4-펜탄디올, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 에틸렌글리콜모노프로필에테르 등의 알코올류 ; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류 ; 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류 ; 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈 등의 아미드류 ; 아세트산에틸, 아세트산부틸, γ-부티로락톤 등의 에스테르류 ; 테트라하이드로푸란, 1,4-디옥산 등의 에테르류를 들 수 있다. 이들 중에서, 알코올류 및 케톤류가 바람직하다. 이들 유기 용제는, 단독으로 또는 2 종 이상을 혼합하여 분산매로서 사용할 수 있다.Examples of the organic solvent used for the dispersion medium of the colloidal solution include methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, pentanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, ethylene. alcohols such as glycol monopropyl ether; ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, and N-methyl-2-pyrrolidone; esters such as ethyl acetate, butyl acetate, and γ-butyrolactone; Ethers, such as tetrahydrofuran and 1, 4- dioxane, are mentioned. Among these, alcohols and ketones are preferable. These organic solvents can be used individually or in mixture of 2 or more types as a dispersion medium.

<용매군 (A)> <Solvent group (A)>

본 발명의 방현성 피막 형성용 도포액이 함유하는 용매군 (A) 는, 비점 160 ℃ 미만의 글리콜에테르 및 그 유도체, 혹은 케톤류에서 선택되는 적어도 1 종이다. 구체적으로는, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 에틸렌글리콜디프로필에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜디에틸에테르 등의 글리콜에테르류 및 그 유도체, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류를 들 수 있지만, 그 중에서도, 도포 안정성의 관점에서, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 에틸렌글리콜디프로필에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 메틸이소부틸케톤이 바람직하다.The solvent group (A) contained in the coating liquid for forming an anti-glare film of the present invention is at least one selected from glycol ethers having a boiling point of less than 160°C, derivatives thereof, and ketones. Specifically, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol di Glycol ethers and derivatives thereof, such as propyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl Although ketones, such as a ketone, are mentioned, Especially from a viewpoint of application stability, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dipropyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol Monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, and methyl isobutyl ketone are preferable.

<용매군 (B)> <Solvent group (B)>

본 발명의 방현성 피막 형성용 도포액이 함유하는 용매군 (B) 는, 비점 120 ℃ 이하의 알코올류에서 선택되는 적어도 1 종이다. 구체적으로는, 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 1-부탄올, 2-부탄올, 2-메틸-1-프로판올, 2-메틸-2-프로판올을 들 수 있지만, 그 중에서도, 조성물의 저장 안정성의 관점에서, 메탄올, 에탄올, 2-프로판올, 2-부탄올, 2-메틸-1-프로판올이 바람직하다. The solvent group (B) contained in the coating liquid for forming an anti-glare film of the present invention is at least one selected from alcohols having a boiling point of 120°C or lower. Specific examples thereof include methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1-propanol, and 2-methyl-2-propanol. Among them, storage of the composition From the viewpoint of stability, methanol, ethanol, 2-propanol, 2-butanol, and 2-methyl-1-propanol are preferable.

<그 밖의 용매> <Other solvents>

본 발명의 방현성 피막 형성용 도포액에는, 도포액의 안정성 등의 관점에서, 용매군 (A) 및 (B) 이외의 용매 (이하, 그 밖의 용매라고도 칭한다) 가 필요에 따라 포함되어도 된다.The coating liquid for forming an anti-glare film of the present invention may optionally contain solvents other than the solvent groups (A) and (B) (hereinafter, also referred to as other solvents) from the viewpoint of stability of the coating liquid or the like.

그 밖의 용매의 예로서는, 헥산올, 헵탄올, 옥탄올, 노난올, 데칸올, 운데칸올, 도데칸올, 디아세톤알코올 등의 알코올류, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 2-메틸-2,4-펜탄디올, 프로판디올, 부탄디올, 펜탄디올, 헥산디올, 헵탄디올 등의 글리콜류, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 에틸렌글리콜디부틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜디에틸에테르, 프로필렌글리콜디프로필에테르, 프로필렌글리콜디부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 글리콜에테르류, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 락트산에틸 등의 에스테르류, N-메틸-2-피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, γ-부티로락톤, 디메틸술폭시드, 테트라메틸우레아, 헥사메틸포스포트리아미드, m-크레졸, 테트라하이드로푸란 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 입수성 및 조성물의 저장 안정성의 관점에서, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 2-메틸-2,4-펜탄디올, 프로판디올, 부탄디올, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, N-메틸-2-피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드, 테트라하이드로푸란은 바람직하게 사용된다.Examples of the other solvent include alcohols such as hexanol, heptanol, octanol, nonanol, decanol, undecanol, dodecanol and diacetone alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, 2-methyl- Glycols such as 2,4-pentanediol, propanediol, butanediol, pentanediol, hexanediol, heptanediol, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, propylene glycol dipropyl ether, propylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, Glycol ethers, such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, and diethylene glycol dibutyl ether, Esters, such as methyl acetate, ethyl acetate, ethyl lactate, N-methyl-2 -pyrrolidone, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, γ-butyrolactone, dimethylsulfoxide, tetramethylurea, hexamethylphosphotriamide, m-cresol, tetrahydrofuran, etc. can be heard Among them, from the viewpoint of availability and storage stability of the composition, ethylene glycol, diethylene glycol, 2-methyl-2,4-pentanediol, propanediol, butanediol, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, Diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, N-methyl-2-pyrrolidone, N,N-dimethylformamide and tetrahydrofuran are preferably used.

<방현성 피막 형성용 도포액 및 방현성 피막> <Coating solution for forming an anti-glare film and an anti-glare film>

본 발명의 방현성 피막 형성용 도포액은, 상기 식 (I) 로 나타내는 제 1 금속 알콕시드를, 상기 식 (II) 로 나타내는 금속염 및 상기 식 (II) 중의 M2 의 옥살산염에서 선택되는 적어도 1 종의 금속염의 존재하, 유기 용매 중에서 가수분해·축합하고, 그 후 적절히 용매를 첨가함으로써 얻어진다. 용매군 (A) 및 (B) 의 용매는, 상기 가수분해·축합 시 및 또는 그 후의 용매 첨가 공정에 있어서 첨가된다. 또 이때, 그 밖의 용매도, 필요에 따라 적절히 첨가되어도 된다.The coating liquid for forming an anti-glare film of the present invention is at least selected from a metal salt represented by the formula (II) and an oxalate of M 2 in the formula (II) for the first metal alkoxide represented by the formula (I). It is obtained by hydrolyzing and condensing in an organic solvent in presence of 1 type of metal salt, and adding a solvent suitably after that. The solvents of solvent groups (A) and (B) are added in the solvent addition process at the time of the said hydrolysis/condensation and or thereafter. In addition, at this time, other solvents may also be added suitably as needed.

금속 알콕시드의 금속 원자 (M1) 와 금속염의 금속 원자 (M2) 의 함유 비율은, 몰비 환산으로, 0.01 ≤ M2/(M1 + M2) ≤ 0.7 의 관계를 만족하는 것이 바람직하다. 이 값이 0.01 보다 작으면, 얻어지는 피막의 기계적 강도가 충분하지 않기 때문에 바람직하지 않다. 한편, 0.7 을 초과하면, 유리 기판 등의 기재에 대한 금속 산화물층의 밀착성이 저하한다. 또한, 450 ℃ 이하의 저온에서 소성한 경우, 얻어지는 금속 산화물층의 내약품성이 저하하는 경향도 있다. 또한, 코팅 조성물에 포함되는 금속 알콕시드의 금속 원자가 복수종인 경우, 상기 금속 원자 (M1) 은, 복수종의 금속 원자의 합계를 의미하고, 또 코팅 조성물에 포함되는 금속염의 금속 원자가 복수종인 경우, 상기 금속 원자 (M2) 는, 복수종의 금속 원자의 합계를 의미한다.The content ratio of the metal atom (M 1 ) of the metal alkoxide and the metal atom (M 2 ) of the metal salt preferably satisfies the relationship of 0.01 ≤ M 2 /(M 1 + M 2 ) ≤ 0.7 in terms of molar ratio. . When this value is less than 0.01, it is not preferable because the mechanical strength of the film obtained is not enough. On the other hand, when 0.7 is exceeded, the adhesiveness of the metal oxide layer with respect to base materials, such as a glass substrate, will fall. Moreover, when baking at the low temperature of 450 degreeC or less, there exists a tendency for the chemical-resistance of the metal oxide layer obtained to fall. In addition, when there are multiple types of metal atoms of the metal alkoxide contained in the coating composition, the metal atom (M 1 ) means the sum of multiple types of metal atoms, and when the metal atoms of the metal salt contained in the coating composition are multiple types , The metal atom (M 2 ) means the sum of a plurality of types of metal atoms.

방현성 피막 형성용 도포액 중의 고형분 농도에 대해서는, 금속 알콕시드와 금속염을 금속 산화물로서 환산한 경우, 고형분으로서는 0.5 ~ 20 질량% 의 범위인 것이 바람직하다. 고형분이 20 질량% 를 초과하면, 코팅 조성물의 저장 안정성이 악화됨과 아울러, 방현성 피막의 막두께 제어가 곤란해진다. 한편, 고형분이 0.5 질량% 이하에서는, 얻어지는 방현성 피막의 두께가 얇아져, 소정의 막두께를 얻기 위해서 다수회의 도포가 필요해진다.As for the solid content concentration in the coating liquid for forming an anti-glare film, when the metal alkoxide and the metal salt are converted into metal oxides, the solid content is preferably in the range of 0.5 to 20 mass%. When the solid content exceeds 20% by mass, the storage stability of the coating composition deteriorates, and the film thickness control of the anti-glare film becomes difficult. On the other hand, when solid content is 0.5 mass % or less, the thickness of the anti-glare film obtained becomes thin, and in order to obtain a predetermined|prescribed film thickness, multiple application|coating is needed.

방현성 피막 형성용 도포액은, 상기 식 (I) 로 나타내는 제 1 금속 알콕시드 (예를 들어, 실리콘알콕시드, 또는 티탄알콕시드) 를 상기 식 (II) 로 나타내는 금속염 및 상기 식 (II) 중의 M2 의 옥살산염에서 선택되는 적어도 1 종의 금속염 (예를 들어, 알루미늄염) 의 존재하에 유기 용매 중에서 가수분해·축합하여 얻어지는 것이다. 실리콘알콕시드, 티탄알콕시드, 또는, 실리콘알콕시드 및 티탄알콕시드의 가수분해에 사용되는 물의 양은, 실리콘알콕시드, 티탄알콕시드, 또는, 실리콘알콕시드 및 티탄알콕시드의 총몰수에 대해, 몰비 환산으로 0.5 ~ 24 로 하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.5 ~ 20 이다. 몰비 (물의 양 (몰)/(금속 알콕시드의 총몰수)) 가 0.5 이하인 경우에는, 금속 알콕시드의 가수분해가 불충분해져, 성막성을 저하시키거나, 얻어지는 방현성 피막의 강도를 저하시키거나 하므로 바람직하지 않다. 또, 몰비가 24 보다 많은 경우에는, 중축합이 계속 진행되기 때문에, 저장 안정성을 저하시키므로 바람직하지 않다. 그 밖의 금속 알콕시드를 사용하는 경우여도 동일하다.The coating liquid for anti-glare film formation represents the 1st metal alkoxide (for example, a silicon alkoxide or a titanium alkoxide) represented by the said Formula (I) by the said Formula (II), The metal salt and the said Formula (II) It is obtained by hydrolyzing and condensing in an organic solvent in the presence of at least 1 sort(s) of metal salt (for example, aluminum salt) selected from the oxalate of M<2> in in. The amount of water used for hydrolysis of silicon alkoxide, titanium alkoxide, or silicon alkoxide and titanium alkoxide is a molar ratio with respect to the total number of moles of silicon alkoxide, titanium alkoxide, or silicon alkoxide and titanium alkoxide. It is preferable to set it as 0.5-24 in conversion. More preferably, it is 0.5-20. When the molar ratio (amount of water (mol)/(total number of moles of metal alkoxide)) is 0.5 or less, hydrolysis of the metal alkoxide becomes insufficient, and the film formability is reduced, the strength of the obtained anti-glare film is reduced, Therefore, it is not advisable Moreover, when the molar ratio is more than 24, since polycondensation continues to advance, since storage stability is reduced, it is unpreferable. It is the same also when using another metal alkoxide.

또한, 다른 금속 알콕시드를 사용한 경우에도, 물의 첨가량에 대해, 동일한 조건을 선택하는 것이 바람직하다.Moreover, even when other metal alkoxides are used, it is preferable to select the same conditions with respect to the addition amount of water.

방현성 피막 형성용 도포액을 조제할 때의 가수분해 과정에 있어서, 공존하는 금속염 (예를 들어, 알루미늄염) 이 함수염인 경우에는, 그 함수분이 반응에 관여하기 때문에, 가수분해에 사용하는 물의 양에 대해 금속염 (예를 들어, 알루미늄염) 의 함수분을 고려할 필요가 있다.In the hydrolysis process when preparing the coating liquid for forming an anti-glare film, when the coexisting metal salt (eg, aluminum salt) is a water-containing salt, the water content is involved in the reaction, so it is used for hydrolysis. It is necessary to consider the water content of the metal salt (eg, aluminum salt) with respect to the amount of water.

방현성 피막 형성용 도포액은, 금속 알콕시드를 가수분해·축합시켜 제조되는 것이며, 금속 알콕시드의 조성을 선택함으로써, 얻어지는 방현성 피막의 굴절률을 소정의 범위 내에서 조정하는 것이 가능하다. 예를 들어, 금속 알콕시드로서, 실리콘알콕시드와 티탄알콕시드를 선택한 경우, 그 혼합 비율을 조정함으로써, 후술하는 소정의 범위 내에서, 구체적으로는 1.45 ~ 2.1 의 범위 내에서, 얻어지는 방현성 피막의 굴절률을 조정하는 것이 가능하다. 본 발명의 방현성 피막을 구비하는 적층체의 반사 방지의 관점에서, 본 발명의 방현성 피막의 굴절률은 1.48 ~ 1.8 이 바람직하다.The coating liquid for forming an anti-glare film is produced by hydrolyzing and condensing a metal alkoxide, and by selecting the composition of the metal alkoxide, it is possible to adjust the refractive index of the anti-glare film obtained within a predetermined range. For example, when a silicon alkoxide and a titanium alkoxide are selected as a metal alkoxide, the anti-glare film obtained within the predetermined range mentioned later, specifically within the range of 1.45-2.1 by adjusting the mixing ratio. It is possible to adjust the refractive index of From the viewpoint of preventing reflection of the laminate provided with the anti-glare film of the present invention, the refractive index of the anti-glare film of the present invention is preferably 1.48 to 1.8.

환언하면, 방현성 피막 형성용 도포액을 도포하여 소성한 후의 방현성 피막에 요구되는 굴절률이 결정되면, 그 굴절률에 따라, 실리콘알콕시드와 티탄알콕시드의 조성 몰비를 결정하는 것이 가능하다. 이 조성 몰비는 임의이지만, 예를 들어, 실리콘알콕시드만을 가수분해함으로써 얻어지는 방현성 피막 형성용 도포액으로부터의 방현성 피막의 굴절률은, 1.45 정도의 값이다. 그리고, 티탄알콕시드만을 가수분해하여 얻어지는 코팅 조성물로부터의 금속 산화물층의 굴절률은, 2.1 정도의 값이다. 따라서, 방현성 피막의 굴절률을 1.45 ~ 2.1 까지의 사이에서 설정하고 싶은 경우, 그 범위 내의 굴절률값에 맞춰 실리콘알콕시드와 티탄알콕시드를 소정의 비율로 사용하여 코팅 조성물을 제조하는 것이 가능하다.In other words, if the refractive index required for the anti-glare film after application of the anti-glare film-forming coating liquid and firing is determined, it is possible to determine the composition molar ratio of the silicon alkoxide and the titanium alkoxide according to the refractive index. Although this composition molar ratio is arbitrary, the refractive index of the anti-glare film from the coating liquid for anti-glare film formation obtained by hydrolyzing only silicon alkoxide, for example is a value of about 1.45. And the refractive index of the metal oxide layer from the coating composition obtained by hydrolyzing only a titanium alkoxide is a value of about 2.1. Therefore, when it is desired to set the refractive index of the anti-glare film between 1.45 to 2.1, it is possible to prepare a coating composition using silicon alkoxide and titanium alkoxide in a predetermined ratio according to a refractive index value within that range.

또, 다른 금속 알콕시드를 사용하는 것에 의해서도, 얻어지는 방현성 피막의 굴절률의 조정은 가능하다.Moreover, adjustment of the refractive index of the anti-glare film obtained also by using another metal alkoxide is possible.

또한, 방현성 피막의 굴절률에 대해서는, 조성 조건 이외에, 성막 조건을 선택함으로써 조정할 수도 있다. 이렇게 함으로써, 방현성 피막의 원하는 굴절률값을 실현하는 것이 가능하다.In addition, about the refractive index of an anti-glare film, it can also adjust by selecting film-forming conditions other than composition conditions. By doing in this way, it is possible to realize the desired refractive index value of the anti-glare film.

즉, 방현성 피막 형성용 도포액의 도막을 소성하여 방현성 피막을 제조하는 경우, 그 소성 온도에 따라, 방현성 피막의 굴절률은 변동한다. 이 경우, 소성 온도가 높아질수록, 방현성 피막의 굴절률을 높게 할 수 있다. 따라서, 소성 온도를 적당한 값으로 선택함으로써, 얻어지는 방현성 피막의 굴절률의 조정이 가능하다. 그리고, 기재 등의 내열성을 고려한 경우, 소성 온도는 100 ℃ ~ 300 ℃ 의 범위가 바람직하고, 150 ℃ ~ 250 ℃ 의 범위 내로 하는 것이 보다 바람직하다.That is, when baking the coating film of the coating liquid for anti-glare film formation and manufacturing an anti-glare film, the refractive index of an anti-glare film fluctuates according to the baking temperature. In this case, the higher the firing temperature, the higher the refractive index of the anti-glare coating. Therefore, it is possible to adjust the refractive index of the anti-glare film obtained by selecting the calcination temperature to an appropriate value. And when heat resistance of a base material etc. is considered, the range of 100 degreeC - 300 degreeC is preferable, and, as for the calcination temperature, it is more preferable to set it as the range of 150 degreeC - 250 degreeC.

또, 방현성 피막 형성용 도포액이 티탄알콕시드를 포함하는 경우, 소성 전에 도막에 자외선 (UV) 을 조사하면, 얻어지는 방현성 피막의 굴절률이 변동한다. 구체적으로는, 자외선 조사량을 많게 할수록, 방현성 피막의 굴절률을 높게 할 수 있다. 따라서, 원하는 굴절률을 실현하기 위해 자외선 조사의 유무를 선택하는 것이 가능하다. 방현성 피막에 있어서, 조성 등의 조건 선택에 의해 원하는 굴절률이 실현될 수 있는 경우에는, 자외선 조사는 실시하지 않아도 된다. 그리고, 자외선 조사를 실시하는 경우에는, 그 조사량을 선택함으로써, 방현성 피막의 굴절률을 조정하는 것이 가능하다. 방현성 피막에 있어서, 원하는 굴절률을 얻기 위해서 자외선 조사가 필요한 경우에는, 예를 들어, 고압 수은 램프를 사용할 수 있다. 그리고, 고압 수은 램프를 사용한 경우, 365 nm 환산으로 전광 조사 1000 mJ/㎠ 이상의 조사량이 바람직하고, 3000 mJ/㎠ ~ 10000 mJ/㎠ 의 조사량이 보다 바람직하다. 또, UV 광원으로서는 특별히 지정은 없고, 다른 UV 광원을 사용할 수도 있다. 다른 광원을 사용하는 경우에는, 상기 고압 수은 램프를 사용한 경우와 동량의 적산 광량이 조사되면 된다.Moreover, when the coating liquid for anti-glare film formation contains a titanium alkoxide, when an ultraviolet-ray (UV) is irradiated to a coating film before baking, the refractive index of the anti-glare film obtained will fluctuate. Specifically, the refractive index of the anti-glare coating can be increased as the amount of ultraviolet irradiation is increased. Therefore, it is possible to select the presence or absence of ultraviolet irradiation to realize a desired refractive index. In the anti-glare film, when a desired refractive index can be realized by selection of conditions such as composition, ultraviolet irradiation is not required. And when performing ultraviolet irradiation, it is possible to adjust the refractive index of an anti-glare film by selecting the irradiation amount. Anti-glare coating WHEREIN: When ultraviolet irradiation is required in order to obtain a desired refractive index, a high pressure mercury lamp can be used, for example. And when a high-pressure mercury lamp is used, the irradiation amount of 1000 mJ/cm<2> or more of total light irradiation in conversion of 365 nm is preferable, and the irradiation amount of 3000 mJ/cm<2> - 10000 mJ/cm<2> is more preferable. In addition, there is no designation in particular as a UV light source, Another UV light source can also be used. In the case of using another light source, the same amount of integrated light as in the case of using the high-pressure mercury lamp is sufficient.

그러나, 특히 방현성 피막 형성용 도포액에 티탄알콕시드 성분을 포함하는 경우에는, 실온 보존하에서 서서히 점도가 상승한다는 성질을 갖는다. 실용상 큰 문제가 될 염려는 없지만, 방현성 피막의 두께를 정밀하게 제어하는 경우에는, 온도 등에 대한 신중한 관리가 필요해진다. 또한, 이러한 점도의 상승은, 코팅 조성물 중의 티탄알콕시드의 조성 비율이 많아짐에 따라 현저해진다. 이것은, 티탄알콕시드가 실리콘알콕시드 등에 대해 가수분해 속도가 커, 축합 반응이 빠르기 때문이라고 생각된다.However, especially when a coating liquid for anti-glare film formation contains a titanium alkoxide component, it has the property that a viscosity rises gradually under room temperature storage. Although there is no fear of becoming a big problem in practical use, when the thickness of the anti-glare film is precisely controlled, careful management of temperature and the like is required. Moreover, such a raise of a viscosity becomes remarkable as the composition ratio of the titanium alkoxide in a coating composition increases. This is considered because a titanium alkoxide has a large hydrolysis rate with respect to a silicon alkoxide etc., and a condensation reaction is quick.

방현성 피막 형성용 도포액이 티탄알콕시드 성분을 포함하는 경우에 있어서, 점도 변화를 적게 하기 위해서는, 예를 들어 금속염과 알코올 등의 용매하에서 혼합한 후, 실리콘알콕시드, 티탄알콕시드를 가수분해시키는 방법을 들 수 있다. 이 방법에서는 그 후, 글리콜 혹은 그 유도체를 혼합시킴으로써, 축합물의 안정성이 향상되어, 점도 변화가 적은 방현성 피막 형성용 도포액이 얻어진다.When the coating liquid for forming an anti-glare film contains a titanium alkoxide component, in order to reduce the change in viscosity, for example, after mixing in a solvent such as a metal salt and alcohol, the silicon alkoxide and the titanium alkoxide are hydrolyzed. ways to do it can be found. In this method, thereafter, by mixing glycol or a derivative thereof, the stability of the condensate is improved, and a coating liquid for forming an anti-glare film with little change in viscosity is obtained.

이상 설명한 방현성 피막 형성용 도포액은, 도포 시, 미세한 액적으로 하여, 기재에 착액시킴으로써, 방현성을 갖는 금속 산화물 피막을 얻을 수 있다. 도포 수법으로서는, 스프레이 도포, 미스트 도포, 잉크젯 도포 등을 들 수 있고, 그 중에서도 스프레이 도포, 잉크젯 도포가 바람직하다.The above-described coating liquid for forming an anti-glare film can be made into fine droplets at the time of application and deposited on a substrate to obtain a metal oxide film having anti-glare properties. As an application|coating method, spray application|coating, mist application|coating, inkjet application|coating, etc. are mentioned, Especially, spray application|coating and inkjet application|coating are preferable.

<적층체> <Laminate>

본 발명의 적층체는, 방현성 피막 형성용 도포액을 유리 기판을 비롯한 여러 가지 기판 상에 도포·소성하여, 방현성 피막을 형성시킴으로써 얻어진다. 이 방현성 피막 상에는, 적층체에 요구되는 기능에 대응하여, 반사 방지막 등의 여러 가지 기능성 막을 성막하는 것이 가능하다.The laminate of this invention is obtained by apply|coating and baking the coating liquid for anti-glare film formation on various board|substrates including a glass substrate, and forming an anti-glare film. It is possible to form various functional films, such as an antireflection film, into a film on this anti-glare film corresponding to the function requested|required of a laminated body.

여기서, 반사 방지막이란 반사율 저감의 효과를 가져와, 광의 비침에 의한 눈부심을 저감하는 것 외에, 화상 표시 장치에 사용한 경우에는, 화상 표시 장치로부터의 광의 투과율을 향상시킬 수 있어, 화상 표시 장치의 시인성을 향상시킬 수 있는 막이다.Here, the antireflection film has the effect of reducing the reflectance, and in addition to reducing glare due to the reflection of light, when used in an image display device, the transmittance of light from the image display device can be improved, and the visibility of the image display device can be improved. It is a membrane that can be improved.

반사 방지막의 구성으로서는 광의 반사를 억제할 수 있는 구성이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 상기 방현성 피막보다 굴절률이 낮은 막 (이하, 저굴절률막이라고도 한다) 을 들 수 있다.The structure of the antireflection film is not particularly limited as long as it is a structure capable of suppressing light reflection, and examples thereof include a film having a lower refractive index than the anti-glare film (hereinafter also referred to as a low refractive index film).

저굴절률막을 구성하는 재료로서는, 함불소 유기기가 결합한 규소 원자를 갖는 폴리실록산을 들 수 있다.As a material constituting the low-refractive-index film, polysiloxane having a silicon atom to which a fluorinated organic group is bonded is exemplified.

반사 방지막을 형성하는 방법으로서는, 상기 방현성 피막 상 또는 그 외 기능막 상에 형성된 밀착층의 표면에, 스핀 코트법, 딥 코트법, 캐스트법, 슬릿 코트법, 스프레이 코트법, 정전 분무 퇴적법 (ESD 법) 등에 의해 도포한 후 필요에 따라 가열 처리하는 방법, 또는 밀착층의 표면에 화학적 기상 증착법 (CVD 법), 스퍼터링법이나 PLD 법과 같은 물리적 기상 증착법 (PLD 법) 등을 들 수 있다. As a method of forming an antireflection film, a spin coating method, a dip coating method, a casting method, a slit coating method, a spray coating method, and an electrostatic spray deposition method on the surface of an adhesion layer formed on the anti-glare film or other functional film (ESD method) or the like, followed by heat treatment if necessary, or physical vapor deposition (PLD method) such as chemical vapor deposition (CVD), sputtering, or PLD on the surface of the adhesion layer.

또한 본 발명의 적층체는, 상기 방현성 피막 상 또는 반사 방지막 상에 추가로 방오막을 적층해도 된다. 방오막이란 표면에 대한 유기물, 무기물의 부착을 억제하는 막, 또는, 표면에 유기물, 무기물이 부착된 경우에 있어서도, 닦아내기 등의 클리닝에 의해 부착물을 용이하게 제거할 수 있는 효과를 가져오는 막이다.In addition, the laminate of the present invention may further laminate an antifouling film on the anti-glare film or on the anti-reflection film. An antifouling film is a film that suppresses adhesion of organic or inorganic substances to a surface, or a film that has the effect of easily removing the adherent by cleaning such as wiping even when organic or inorganic substances are adhered to the surface. am.

방오막의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 방오막이 함불소 유기 규소 화합물 피막으로 이루어지는 경우, 막두께로 2 ~ 20 nm 인 것이 바람직하고, 2 ~ 15 nm 인 것이 보다 바람직하고, 2 ~ 10 nm 인 것이 더욱 바람직하다. 막두께가 2 nm 이상이면, 방오층에 의해 균일하게 덮인 상태가 되어, 내스침성의 관점에서 실용에 견디는 것이 된다. 또, 막두께가 20 nm 이하이면, 방오막이 형성된 상태에서의 방현성 피막 기판의 헤이즈값 등의 광학 특성이 양호하다.The thickness of the antifouling film is not particularly limited, but when the antifouling film is made of a fluorinated organosilicon compound film, the film thickness is preferably 2 to 20 nm, more preferably 2 to 15 nm, more preferably 2 to 10 nm more preferably. If the film thickness is 2 nm or more, it will be in a state uniformly covered with an antifouling|stain-resistant layer, and will endure practical use from a viewpoint of abrasion resistance. Moreover, optical characteristics, such as a haze value of the anti-glare-film board|substrate in the state in which the antifouling|stain-resistant film was formed as a film thickness is 20 nm or less, are favorable.

방현성 피막 기판은, 헤이즈의 면내의 표준 편차가 1 ~ 40 % 이며, 1 ~ 30 % 인 것이 보다 바람직하다. 이 범위이면, 사용자 측으로부터 방현성 피막 부착 기판을 시인했을 때에, 균질한 방현막 처리가 되어 있는 듯이 시인할 수 있어, 미관성이 우수하다. 또, 방현막의 요철에 의한 터치감도 저해하지 않는다.The anti-glare coating substrate has an in-plane standard deviation of the haze of 1 to 40%, more preferably 1 to 30%. If it is this range, when the board|substrate with an anti-glare film is visually recognized from the user side, it can visually recognize as if a homogeneous anti-glare film process had been performed, and it is excellent in aesthetics. Moreover, the touch sensitivity by the unevenness|corrugation of an anti-glare film is not impaired.

<용도> <Use>

본 발명의 방현성 피막 기판의 용도로서는, 특별히 한정되지 않는다. 구체예로서는, 차량용 투명 부품 (헤드라이트 커버, 사이드 미러, 프론트 투명 기판, 사이드 투명 기판, 리어 투명 기판, 인스트루먼트 패널 표면 등.), 미터, 건축창, 쇼 윈도우, 디스플레이 (노트북 컴퓨터, 모니터, LCD, PDP, ELD, CRT, PDA 등), LCD 컬러 필터, 터치 패널용 기판, 픽업 렌즈, 광학 렌즈, 안경 렌즈, 카메라 부품, 비디오 부품, CCD 용 커버 기판, 광파이버 단면 (端面), 프로젝터 부품, 복사기 부품, 태양전지용 투명 기판 (커버 유리 등.), 휴대전화창, 백라이트 유닛 부품 (도광판, 냉음극관 등.), 백라이트 유닛 부품 액정 휘도 향상 필름 (프리즘, 반투과 필름 등.), 액정 휘도 향상 필름, 유기 EL 발광 소자 부품, 무기 EL 발광 소자 부품, 형광체 발광 소자 부품, 광학 필터, 광학 부품의 단면, 조명 램프, 조명 기구의 커버, 증폭 레이저 광원, 반사 방지 필름, 편광 필름, 농업용 필름 등을 들 수 있다. The use of the anti-glare coating substrate of the present invention is not particularly limited. Specific examples include transparent parts for vehicles (headlight covers, side mirrors, front transparent substrates, side transparent substrates, rear transparent substrates, instrument panel surfaces, etc.), meters, architectural windows, show windows, displays (laptop computers, monitors, LCDs, PDP, ELD, CRT, PDA, etc.), LCD color filters, touch panel substrates, pickup lenses, optical lenses, spectacle lenses, camera parts, video parts, CCD cover substrates, optical fiber end face, projector parts, copier parts , transparent substrates for solar cells (cover glass, etc.), mobile phone windows, backlight unit parts (light guide plate, cold cathode tube, etc.), backlight unit parts liquid crystal brightness enhancement film (prism, transflective film, etc.), liquid crystal brightness enhancement film, Organic EL light emitting element parts, inorganic EL light emitting element parts, phosphor light emitting element parts, optical filters, cross-sections of optical parts, lighting lamps, lighting equipment covers, amplified laser light sources, anti-reflection films, polarizing films, agricultural films, etc. have.

실시예Example

이하에 실시예를 들어, 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of Examples, but the present invention is not limited thereto.

이하에서 사용하는 약어는 하기와 같다.Abbreviations used below are as follows.

TEOS : 테트라에톡시실란 TEOS: tetraethoxysilane

F13 : 트리데카플루오로옥틸트리메톡시실란 F13: tridecafluorooctyltrimethoxysilane

UPS : γ-우레이도프로필트리에톡시실란 UPS: γ-ureidopropyltriethoxysilane

MPMS : 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 MPMS: 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane

TTE : 테트라에톡시티탄 TTE: Tetraethoxytitanium

TIPT : 테트라이소프로폭시티탄 TIPT: Tetraisopropoxytitanium

AN : 질산알루미늄 9 수화물 AN: aluminum nitrate hexahydrate

MeOH : 메탄올 MeOH: methanol

EtOH : 에탄올 EtOH: ethanol

IPA : 이소프로판올 IPA: Isopropanol

BCS : 부틸셀로솔브 BCS : Butyl Cellosolve

PGME : 프로필렌글리콜모노메틸에테르 PGME: propylene glycol monomethyl ether

PGMEA : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 PGMEA: Propylene glycol monomethyl ether acetate

PG : 프로필렌글리콜 PG: propylene glycol

HG : 2-메틸-2,4-펜탄디올 HG: 2-methyl-2,4-pentanediol

<합성예 1> <Synthesis Example 1>

200 mL 용량의 플라스크 중에, AN (2.9 g), 물 (2.7 g), EtOH (50.3 g) 를 첨가하여 교반해, AN 용액을 얻었다. 그 AN 용액에, TEOS (23.1 g) 를 첨가하고, 실온에서 30 분 교반했다. 그 후, TTE (8.4 g), EtOH (12.6 g) 를 첨가하고, 추가로 실온에서 30 분 교반하여, 용액 K1 을 얻었다.In a flask with a capacity of 200 mL, AN (2.9 g), water (2.7 g), and EtOH (50.3 g) were added and stirred to obtain an AN solution. TEOS (23.1 g) was added to this AN solution, and it stirred at room temperature for 30 minutes. Then, TTE (8.4 g) and EtOH (12.6 g) were added, and also it stirred at room temperature for 30 minutes, and obtained solution K1.

<합성예 2> <Synthesis Example 2>

200 mL 용량의 플라스크 중에, AN (2.9 g), 물 (2.6 g), EtOH (50.6 g) 를 첨가하여 교반해, AN 용액을 얻었다. 그 AN 용액에, TEOS (21.2 g) 를 첨가하고, 실온에서 30 분 교반했다. 그 후, TTE (10.0 g), EtOH (12.7 g) 를 첨가하고, 추가로 실온에서 30 분 교반해, 용액 K2 를 얻었다. In a 200 mL flask, AN (2.9 g), water (2.6 g), and EtOH (50.6 g) were added and stirred to obtain an AN solution. TEOS (21.2 g) was added to this AN solution, and it stirred at room temperature for 30 minutes. Then, TTE (10.0 g) and EtOH (12.7 g) were added, and it stirred at room temperature for 30 minutes, and obtained solution K2.

<합성예 3> <Synthesis Example 3>

200 mL 용량의 플라스크 중에, AN (2.8 g), 물 (2.6 g), EtOH (51.2 g) 를 첨가하여 교반해, AN 용액을 얻었다. 그 AN 용액에, TEOS (17.7 g) 를 첨가하고, 실온에서 30 분 교반했다. 그 후, TTE (12.9 g), EtOH (12.8 g) 를 첨가하고, 추가로 실온에서 30 분 교반하여, 용액 K3 을 얻었다.In a 200 mL flask, AN (2.8 g), water (2.6 g), and EtOH (51.2 g) were added and stirred to obtain an AN solution. TEOS (17.7 g) was added to this AN solution, and it stirred at room temperature for 30 minutes. Then, TTE (12.9 g) and EtOH (12.8 g) were added, and it stirred at room temperature for 30 minutes, and obtained solution K3.

<합성예 4> <Synthesis Example 4>

200 mL 용량의 플라스크 중에, AN (2.9 g), 물 (2.7 g), EtOH (24.3 g), IPA (24.3 g) 를 첨가하여 교반해, AN 용액을 얻었다. 그 AN 용액에, TEOS 23.1 g 을 첨가하고, 실온에서 30 분 교반했다. 그 후, TIPT (10.5 g), EtOH (6.1 g), IPA (6.1 g) 를 첨가하고, 추가로 실온에서 30 분 교반하여, 용액 K4 를 얻었다.In a flask with a capacity of 200 mL, AN (2.9 g), water (2.7 g), EtOH (24.3 g), and IPA (24.3 g) were added and stirred to obtain an AN solution. 23.1 g of TEOS was added to this AN solution, and it stirred at room temperature for 30 minutes. Then, TIPT (10.5 g), EtOH (6.1 g), and IPA (6.1 g) were added, and it stirred at room temperature for 30 minutes, and obtained solution K4.

<합성예 5> <Synthesis Example 5>

환류관을 구비한 200 mL 4 구 플라스크에, TEOS (34.7 g), MeOH (33.0 g) 를 첨가하여, 교반하고, 거기에 MeOH (16.4 g), 물 (15.0 g), 60 % 질산 수용액 (0.9 g) 을 첨가하고, 10 ℃ 의 빙욕 중에서 30 분 교반했다. 그 후, 3 시간 환류하고, 실온까지 방랭하여, 용액 K5 를 얻었다.To a 200 mL four-necked flask equipped with a reflux tube, TEOS (34.7 g) and MeOH (33.0 g) were added and stirred, and thereto, MeOH (16.4 g), water (15.0 g), 60% aqueous nitric acid solution (0.9 g) was added, and it stirred for 30 minutes in a 10 degreeC ice bath. Then, it refluxed for 3 hours, it stood to cool to room temperature, and the solution K5 was obtained.

<합성예 6> <Synthesis Example 6>

환류관을 구비한 200 mL 4 구 플라스크에, TEOS (29.0 g), F13 (10.5 g), MeOH (27.9 g) 를 첨가하여, 교반하고, 거기에 MeOH (14.0 g), 물 (15.0 g), 옥살산 (0.8 g) 을 첨가하고, 10 ℃ 의 빙욕 중에서 30 분 교반했다. 그 후, 65 ℃ 에서 2 시간 교반하고, 그 후, UPS (1.4 g), MeOH (1.4 g) 를 첨가하고, 추가로 65 ℃ 에서 2 시간 반응시켰다. 그 후, 실온까지 방랭하여, 용액 K6 을 얻었다. To a 200 mL four-necked flask equipped with a reflux tube, TEOS (29.0 g), F13 (10.5 g), and MeOH (27.9 g) were added and stirred, thereto, MeOH (14.0 g), water (15.0 g), Oxalic acid (0.8 g) was added, and it stirred in a 10 degreeC ice bath for 30 minutes. Then, it stirred at 65 degreeC for 2 hours, UPS (1.4g) and MeOH (1.4g) were added after that, and also it was made to react at 65 degreeC for 2 hours. Then, it stood to cool to room temperature, and the solution K6 was obtained.

<합성예 7> <Synthesis Example 7>

200 mL 용량의 플라스크 중에, AN (2.8 g), 물 (2.5 g), EtOH (51.0 g) 를 첨가하여 교반해, AN 용액을 얻었다. 그 AN 용액에, TEOS (15.9 g), MPMS (2.1 g) 를 첨가하고, 실온에서 30 분 교반했다. 그 후, TTE (12.9 g), EtOH (12.8 g) 를 첨가하고, 추가로 실온에서 30 분 교반하여, 용액 K7 을 얻었다. In a 200 mL flask, AN (2.8 g), water (2.5 g), and EtOH (51.0 g) were added and stirred to obtain an AN solution. To the AN solution, TEOS (15.9 g) and MPMS (2.1 g) were added, followed by stirring at room temperature for 30 minutes. Then, TTE (12.9 g) and EtOH (12.8 g) were added, and also it stirred at room temperature for 30 minutes, and obtained solution K7.

<합성예 8> <Synthesis Example 8>

200 mL 용량의 플라스크 중에, AN (2.8 g), 물 (2.5 g), EtOH (38.3 g) 를 첨가하여 교반해, AN 용액을 얻었다. 그 AN 용액에, TEOS (16.8 g) 를 첨가하고, 실온에서 30 분 교반했다. 그 후, TTE (12.9 g), EtOH (12.8 g) 를 첨가하고, 추가로 실온에서 30 분 교반했다. 그 후, UPS (1.1 g), EtOH (12.8 g) 를 첨가하고, 실온에서 30 분 교반했다. 용액 K8 을 얻었다.In a 200 mL flask, AN (2.8 g), water (2.5 g), and EtOH (38.3 g) were added and stirred to obtain an AN solution. TEOS (16.8 g) was added to this AN solution, and it stirred at room temperature for 30 minutes. Thereafter, TTE (12.9 g) and EtOH (12.8 g) were added, followed by stirring at room temperature for 30 minutes. Then, UPS (1.1 g) and EtOH (12.8 g) were added, and it stirred at room temperature for 30 minutes. A solution K8 was obtained.

<조제예 1> <Preparation Example 1>

K1 용액 60 g 에, PGME (10 g), EtOH (30 g) 를 첨가하여, 용액 KL1 을 얻었다.To 60 g of K1 solution, PGME (10 g) and EtOH (30 g) were added to obtain a solution KL1.

<조제예 2 ~ 7> <Preparation Examples 2 to 7>

K2 ~ K5, 및 K7 ~ K8 용액 (60 g) 에, PGME (30 g), EtOH (10 g) 를 첨가하여, 각각 용액 KL2 ~ KL5, KL7 ~ KL8 을 얻었다.PGME (30 g) and EtOH (10 g) were added to K2 to K5 and K7 to K8 solutions (60 g) to obtain solutions KL2 to KL5 and KL7 to KL8, respectively.

<조제예 8> <Preparation Example 8>

K1 용액 (60 g) 에, EtOH (40 g) 를 첨가하여, 용액 KM1 을 얻었다.To the K1 solution (60 g), EtOH (40 g) was added to obtain a solution KM1.

<조제예 9> <Preparation Example 9>

K1 용액 (60 g) 에, HG (10 g), BCS (10 g), IPA (20 g) 를 첨가하여, 용액 KM2 를 얻었다.To the K1 solution (60 g), HG (10 g), BCS (10 g), and IPA (20 g) were added to obtain a solution KM2.

<조제예 10> <Preparation Example 10>

K5 용액 (60 g) 에, PGMEA (30 g), MeOH (10 g) 를 첨가하여, 용액 KM3 을 얻었다.To the K5 solution (60 g), PGMEA (30 g) and MeOH (10 g) were added to obtain a solution KM3.

<조제예 11> <Preparation Example 11>

K6 용액 (20 g) 에, PG (5 g), MeOH (75 g) 를 첨가하여, 용액 KL6 을 얻었다.To a K6 solution (20 g), PG (5 g) and MeOH (75 g) were added to obtain a solution KL6.

[스프레이 도포] [Spray application]

스프레이 도포를 하기에 나타내는 장치, 조건으로 실시했다.Spray application was performed on the apparatus and conditions shown below.

장치명 : 아피로스사 제조 스프레이 코터 API-240-3DDevice name: Apyros Co., Ltd. spray coater API-240-3D

<도포 조건 I><Application condition I>

노즐 높이 : 100 mm, Y 축 피치 : 5 mm, Air 압력 : 560 kPa, 약액 유량 2 cc/min, 노즐 속도 : 170 mm/secNozzle height: 100 mm, Y-axis pitch: 5 mm, Air pressure: 560 kPa, chemical liquid flow rate: 2 cc/min, nozzle speed: 170 mm/sec

<도포 조건 II><Application condition II>

노즐 높이 : 100 mm, Y 축 피치 : 5 mm, Air 압력 : 560 kPa, 약액 유량 2 cc/min, 노즐 속도 : 250 mm/secNozzle height: 100 mm, Y-axis pitch: 5 mm, Air pressure: 560 kPa, chemical flow rate 2 cc/min, nozzle speed: 250 mm/sec

<도포 조건 III><Application condition III>

노즐 높이 : 100 mm, Y 축 피치 : 7 mm, Air 압력 : 560 kPa, 약액 유량 4.9 cc/min, 노즐 속도 : 400 mm/sec Nozzle height: 100 mm, Y-axis pitch: 7 mm, Air pressure: 560 kPa, chemical flow rate: 4.9 cc/min, nozzle speed: 400 mm/sec

[소성 조건] [Firing conditions]

핫 플레이트 상에서 온도 70 ℃ 에서 3 분 건조하고, 열풍 순환식 오븐으로 200 ℃ 에서 30 분 소성했다.It dried at the temperature of 70 degreeC on the hotplate for 3 minutes, and baked at 200 degreeC for 30 minutes with hot-air circulation type oven.

[토출 안정성][Discharge Stability]

막힘없이 토출할 수 있었던 경우 ○, 도포 중간에 막힘이 일어난 경우 × 로 했다.When it was possible to discharge without clogging, it was set as (circle), when clogging occurred in the middle of application|coating and it was set as x.

[HAZE, 전광선 투과율] [HAZE, total light transmittance]

기판에 소다라임 유리를 사용하고, 스프레이 도포로 도포 조건 I 혹은 II 로 제막했다. 얻어진 피막 부착 기판을 스가 시험기 (주) 사 제조 헤이즈 미터 HZ-V3 으로 HAZE 및 전광선 투과율을 측정했다.Soda-lime glass was used for the board|substrate, and it formed into a film under application|coating conditions I or II by spray application. HAZE and total light transmittance were measured for the obtained board|substrate with a film by Suga Testing Instruments Co., Ltd. product haze meter HZ-V3.

[표면 관찰] [Surface observation]

기판에 소다라임 유리를 사용하고, 스프레이 도포로 도포 조건 I 혹은 II 로 제막했다. 얻어진 피막 부착 기판을 브루커 재팬 (주) 사 제조 3 차원 백색 간섭 현미경 Contour GT 로 관찰했다. Soda-lime glass was used for the board|substrate, and it formed into a film under application|coating conditions I or II by spray application. The obtained board|substrate with a film was observed with the Bruker Japan Co., Ltd. product three-dimensional white interference microscope Contour GT.

[굴절률] [Refractive Index]

기판에 실리콘 기판 (100) 을 사용하고, 스핀 코트로 소성 후의 막두께가 100 nm 가 되도록 용액 KL2 ~ KL5, KL7 ~ KL8 및 KM2 를 제막하고, 핫 플레이트 상에서 온도 70 ℃ 에서 3 분 건조하고, 열풍 순환식 오븐으로 200 ℃ 에서 30 분 소성했다. 얻어진 피막 부착 기판을 사용하여, 엘립소미터 (미조지리 광학 공업소사 제조, DVA-FLVW) 로 파장 633 nm 에 있어서의 굴절률을 측정했다. A silicon substrate 100 is used for the substrate, and solutions KL2 to KL5, KL7 to KL8 and KM2 are formed by spin coating so that the film thickness after firing becomes 100 nm, and dried on a hot plate at a temperature of 70° C. for 3 minutes, followed by hot air. It baked at 200 degreeC by circulation type oven for 30 minutes. Using the obtained board|substrate with a film, the refractive index in wavelength 633nm was measured with the ellipsometer (The Mizojiri Optical Industrial Co., Ltd. make, DVA-FLVW).

Figure pct00001
Figure pct00001

표 1 에 나타내는 바와 같이, 실시예 1 ~ 7, 및 11 ~ 12 에서는, 토출 안정성이 유지되고 있다. 또, HAZE 값이 상승하여 있고, 간섭 현미경 화상으로부터도 표면에 요철 형상이 관찰되었다. 이상의 점에서 방현성 피막이 형성된 것이 시사된다.As shown in Table 1, in Examples 1-7, and 11-12, discharge stability is maintained. Moreover, the HAZE value is rising, and the uneven|corrugated shape was observed on the surface also from an interference microscope image. It is suggested that the anti-glare film was formed from the above point.

비교예 1 에서는 용매 (A) 성분이 포함되어 있지 않기 때문에, 토출 안정성이 부족하고, 노즐에 막힘이 발생하여, 성막이 곤란했다. 또, 비교예 2 에 대해서는, 150 ℃ 이상의 용매를 포함하고 있기 때문에, HAZE 가 상승하지 않고, 또한 간섭 현미경 화상에서도 표면은 평탄한 것이 관찰되고, 방현성은 발현하지 않았다.In Comparative Example 1, since the solvent (A) component was not contained, discharge stability was insufficient, clogging occurred in the nozzle, and film formation was difficult. Moreover, about the comparative example 2, since 150 degreeC or more solvent was included, HAZE did not rise, and it was observed that the surface is flat also in an interference microscope image, and anti-glare property did not express.

[LR 제막] [LR unveiling]

KL2 ~ KL4 및 KM3 을 유리 기판 상에, 스프레이 도포로 도포 조건 II 로 제막하여, 방현성 피막 부착 기판을 제작했다.KL2-KL4 and KM3 were formed into a film on the glass substrate under application|coating conditions II by spray application|coating, and the board|substrate with an anti-glare film was produced.

또, KM3 을 사용하여 굴절률 측정을 실시한 바, 굴절률은 1.43 이었다. 또한, KM3 을 사용하여 제막한 기판의 HAZE 는 10 이었다.Moreover, when the refractive index was measured using KM3, the refractive index was 1.43. In addition, the HAZE of the board|substrate formed into a film using KM3 was 10.

상기 방현성 피막 부착 기판 상에 반사 방지층으로서 KL6 을 스프레이 도포로 도포 조건 III 으로 제막했다.On the said board|substrate with an anti-glare film, KL6 was formed into a film by spray application|coating as an antireflection layer under application|coating conditions III.

[반사율] [reflectivity]

제작한 기판을 사용하여, (주) 시마즈 제작소사 제조 자외 가시 근적외 분광 광도계 UV-3600 으로, 광의 입사각 5°에서의 파장 380 nm 내지 800 nm 의 범위에서의 반사율을 측정하고, 얻어진 분광 반사율 곡선으로부터, JISR 3106 에 따라, 평균 시감 반사율을 구했다. A spectral reflectance curve obtained by measuring the reflectance in a wavelength range of 380 nm to 800 nm at an incident angle of 5° of light with an ultraviolet visible near-infrared spectrophotometer UV-3600 manufactured by Shimadzu Corporation using the prepared substrate. From , according to JISR 3106, the average luminous reflectance was obtained.

Figure pct00002
Figure pct00002

실시예 8 ~ 10 에 대해서는, 반사 방지층을 형성함으로써, 표면 반사가 억제되고 있었다. 비교예 3 에 대해서는, 방현성은 발현할 수 있지만, 굴절률이 낮으므로, 반사 방지층을 형성해도 반사 억제의 효과가 거의 발현하지 않았다.About Examples 8-10, surface reflection was suppressed by providing an antireflection layer. About Comparative Example 3, although anti-glare property could be expressed, since the refractive index was low, even if it formed an antireflection layer, the effect of reflection suppression was hardly expressed.

산업상 이용가능성Industrial Applicability

본 발명의 방현성 피막 형성용 도포액을 사용함으로써, 방현성 (안티글레어 기능) 이 우수함과 함께, 유리 기판 상에 형성 가능하고, 고굴절률을 갖는 방현성 피막 및 그것을 구비하는 적층체의 제공이 가능해진다. 이로써, 텔레비전, 퍼스널 컴퓨터, 스마트 폰 등의 각종 디바이스가 구비하는 화상 표시 장치 (액정 디스플레이, 유기 EL 디스플레이, 플라스마 디스플레이 등) 의 표시 품위의 향상에 공헌할 수 있다. By using the coating liquid for forming an anti-glare film of the present invention, it is possible to form an anti-glare film that is excellent in anti-glare properties (anti-glare function) and can be formed on a glass substrate and has a high refractive index, and a laminate comprising the same. it becomes possible Thereby, it can contribute to the improvement of the display quality of the image display apparatus (liquid crystal display, organic electroluminescent display, plasma display, etc.) equipped with various devices, such as a television, a personal computer, and a smart phone.

Claims (13)

하기의 성분을 함유하는 방현성 피막 형성용 도포액.
성분 (A) : 하기 식 (I) 로 나타내는 제 1 금속 알콕시드, 그 가수분해물, 혹은 그 부분 축합물.
R1 mM1(OR2)n-m (I)
(식 중, M1 은, 규소 (Si), 티탄 (Ti), 탄탈 (Ta), 지르코늄 (Zr), 붕소 (B), 알루미늄 (Al), 마그네슘 (Mg), 주석 (Sn) 및 아연 (Zn) 으로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1 종 이상의 금속을 나타낸다. R1 은, 수소 원자 또는 불소 원자로 치환되어도 되고, 또한, 할로겐 원자, 비닐기, 글리시독시기, 메르캅토기, 메타크릴옥시기, 아크릴옥시기, 이소시아네이트기, 아미노기 또는 우레이드기로 치환되어 있어도 되고, 또한, 헤테로 원자를 가지고 있어도 되는 탄소수 1 ~ 20 의 탄화수소기를 나타낸다. R2 는, 탄소수 1 ~ 5 의 알킬기를 나타내고, n 은, M1 의 가수 2 ~ 5 를 나타낸다. m 은, M1 의 가수가 2 인 경우 0 또는 1, M1 의 가수가 3 인 경우 0 ~ 2 중 어느 것이며, M1 의 가수가 4 인 경우 0 ~ 3 중 어느 것이며, M1 의 가수가 5 인 경우 0 ~ 4 중 어느 것이다.)
성분 (B) : 하기 식 (II) 로 나타내는 금속염 및 하기 식 (II) 중의 M2 의 옥살산염에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 금속염.
M2(X)k (II)
(식 중, M2 는, 알루미늄 (Al), 인듐 (In), 아연 (Zn), 지르코늄 (Zr), 비스무트 (Bi), 란탄 (La), 탄탈 (Ta), 이트륨 (Y) 및 세륨 (Ce) 으로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1 종의 금속을 나타내고, X 는, 염소, 질산, 황산, 아세트산, 술팜산, 술폰산, 아세토아세트산, 아세틸아세토네이트 또는 이들의 염기성 염을 나타내고, k 는, M2 의 가수를 나타낸다.)
용매군 (A) : 비점 160 ℃ 미만의 글리콜에테르 및 그 유도체, 혹은 케톤류에서 선택되는 적어도 1 종.
용매군 (B) : 비점 120 ℃ 이하의 알코올류에서 선택되는 적어도 1 종.
A coating liquid for forming an anti-glare film comprising the following components.
Component (A): The 1st metal alkoxide represented by following formula (I), its hydrolyzate, or its partial condensate.
R 1 m M 1 (OR 2 ) nm (I)
(wherein, M 1 is silicon (Si), titanium (Ti), tantalum (Ta), zirconium (Zr), boron (B), aluminum (Al), magnesium (Mg), tin (Sn) and zinc ( Zn) represents at least one metal selected from the group consisting of. R 1 may be substituted with a hydrogen atom or a fluorine atom, and a halogen atom, a vinyl group, a glycidoxy group, a mercapto group, a methacryloxy group, acryl represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with an oxy group, an isocyanate group, an amino group or a ureide group, and which may have a hetero atom, R 2 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, n is M It represents valence 2 to 5 of 1. m is 0 or 1 when the valence of M 1 is 2, 0 to 2 when the valence of M 1 is 3, and 0 to 3 when the valence of M 1 is 4. Any of 0 to 4 when the mantissa of M 1 is 5.)
Component (B): A metal salt containing at least one selected from the metal salt represented by the following formula (II) and the oxalate of M 2 in the following formula (II).
M 2 (X) k (II)
(wherein, M 2 is aluminum (Al), indium (In), zinc (Zn), zirconium (Zr), bismuth (Bi), lanthanum (La), tantalum (Ta), yttrium (Y) and cerium ( Ce) represents at least one metal selected from the group consisting of, X represents chlorine, nitric acid, sulfuric acid, acetic acid, sulfamic acid, sulfonic acid, acetoacetic acid, acetylacetonate or a basic salt thereof, and k represents M 2 represents the singer of
Solvent group (A): At least 1 sort(s) chosen from glycol ether with a boiling point of less than 160 degreeC, its derivative(s), or ketones.
Solvent group (B): At least 1 sort(s) selected from alcohol with a boiling point of 120 degrees C or less.
제 1 항에 있어서,
용매군 (A) 가, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 에틸렌글리콜디프로필에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜디에틸에테르 등의 글리콜에테르류 및 그 유도체, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류에서 선택되는 적어도 1 종인, 방현성 피막 형성용 도포액.
The method of claim 1,
Solvent group (A) A, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, Glycol ethers and derivatives thereof such as ethylene glycol dipropyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, acetone, methyl ethyl ketone, A coating liquid for forming an anti-glare film, which is at least one selected from ketones such as methyl isobutyl ketone.
제 1 항에 있어서,
용매군 (B) 가, 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 1-부탄올, 2-부탄올, 2-메틸-1-프로판올, 2-메틸-2-프로판올에서 선택되는 적어도 1 종인, 방현성 피막 형성용 도포액.
The method of claim 1,
The solvent group (B) is at least one selected from methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1-propanol, and 2-methyl-2-propanol; A coating solution for forming an overt film.
제 1 항에 있어서,
용매군 (A) 의 함유량이, 용매 전체의 5 ~ 70 질량% 인, 방현성 피막 형성용 도포액.
The method of claim 1,
A coating liquid for forming an anti-glare film, wherein the content of the solvent group (A) is 5 to 70 mass% of the total solvent.
제 1 항에 있어서,
상기 식 [1] 의 M1 이, 규소, 티탄, 지르코늄, 알루미늄, 주석인, 방현성 피막 형성용 도포액.
The method of claim 1,
The formula (1) of the M 1 is silicon, titanium, zirconium, aluminum, tin, room overt coating liquid for forming a coating film.
제 1 항에 있어서,
제 1 항의 성분 (A) 가, 실리콘알콕시드, 티탄알콕시드, 지르코늄알콕시드의 부분 축합물인, 방현성 피막 형성용 도포액.
The method of claim 1,
The coating liquid for anti-glare film formation whose component (A) of Claim 1 is a partial condensate of a silicon alkoxide, a titanium alkoxide, and a zirconium alkoxide.
제 1 항에 있어서,
상기 식 [2] 의 M2 가, 알루미늄, 인듐, 세륨인, 방현성 피막 형성용 도포액.
The method of claim 1,
The formula [2] of M 2 is aluminum, indium, cerium the room overt coating liquid for forming a coating film.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기재된 방현성 피막 형성용 도포액을, 스프레이 도포에 의해 기판에 도포하는, 방현성 피막의 제조 방법. A method for producing an anti-glare film, wherein the coating liquid for forming an anti-glare film according to any one of claims 1 to 6 is applied to a substrate by spray application. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 방현성 피막 형성용 도포액으로부터 얻어지는, 방현성 피막. An anti-glare film obtained from the coating liquid for forming an anti-glare film according to any one of claims 1 to 7. 제 9 항에 있어서,
굴절률이 1.48 ~ 1.8 인, 방현성 피막.
10. The method of claim 9,
An anti-glare film with a refractive index of 1.48 to 1.8.
제 9 항 또는 제 10 항에 기재된 방현성 피막을 구비하는 적층체.A laminate provided with the anti-glare film of Claim 9 or 10. 제 11 항에 있어서,
상기 적층체의 헤이즈의 면내의 표준 편차가 1 ~ 40 % 인, 적층체.
12. The method of claim 11,
The laminate has an in-plane standard deviation of haze of 1 to 40%.
제 9 항 또는 제 10 항에 기재된 방현성 피막 상에, 반사 방지막을 적층시킨 적층체.A laminate in which an antireflection film is laminated on the anti-glare film according to claim 9 or 10.
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