KR102171280B1 - Manufacturing method of optical member comprising multi layered low-reflection coating layer and optical member menufactured by the same - Google Patents

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Abstract

본 명세서는 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 광학 부재를 제공한다. The present specification provides a method of manufacturing an optical member including a multilayer type low-reflection coating layer and an optical member manufactured using the same.

Description

다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 광학 부재{MANUFACTURING METHOD OF OPTICAL MEMBER COMPRISING MULTI LAYERED LOW-REFLECTION COATING LAYER AND OPTICAL MEMBER MENUFACTURED BY THE SAME}TECHNICAL FIELD The manufacturing method of an optical member including a multi-layered low-reflection coating layer, and an optical member manufactured using the same BACKGROUND OF THE INVENTION 1.

본 명세서는 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 광학 부재에 관한 것이다. The present specification relates to a method of manufacturing an optical member including a multi-layered low-reflection coating layer and an optical member manufactured using the same.

최근 디스플레이 시장은 전통적인 수요처인 TV, 모니터, 노트북 패널뿐만 아니라, 스마트폰으로 대표되는 모바일 기기, 자동차의 계기판에 이르기까지 급격히 성장하고 있다. 계속 발전하는 디스플레이 기술 중 고객의 만족도에 큰 영향을 주는 스펙으로서, 표면의 반사율을 들 수 있다. 디스플레이의 최외곽에 도입되는 필름의 경우, 일반적으로 프레넬 반사에 의해 4% 내외의 반사율을 가지게 되고, 이와 같은 높은 반사율은 주광 및 조명빛에 노출된 환경에서 디스플레이의 시인성에 악영향을 미치게 된다. 이를 해결하기 위하여 AG(anti-glare) 또는 AR(anti-reflection) 등의 코팅이 도입되고 있으나, AG 코팅의 경우 반사광뿐만 아니라 디스플레이에서 나오는 빛도 분산시키므로, 시인성이 떨어지는 문제가 있으며, AR 코팅은 증착 공정으로 제조되기 때문에 대형화가 어렵고 단가가 높은 단점을 가지고 있다. In recent years, the display market is growing rapidly, not only for TVs, monitors, and laptop panels, which are traditional consumers, but also for mobile devices represented by smartphones and dashboards for automobiles. Among the ever-evolving display technologies, the reflectivity of the surface is a specification that has a great influence on customer satisfaction. In the case of a film introduced at the outermost part of a display, it has a reflectance of about 4% due to Fresnel reflection in general, and such a high reflectance adversely affects the visibility of the display in an environment exposed to daylight and illumination light. In order to solve this problem, coatings such as AG (anti-glare) or AR (anti-reflection) have been introduced, but since the AG coating disperses not only the reflected light but also the light emitted from the display, there is a problem of poor visibility. Since it is manufactured by a vapor deposition process, it is difficult to increase in size and has a high cost.

이에, 낮은 반사율을 가지며, 낮은 가격으로 생산할 수 있는 코팅층에 대한 개발이 필요하다. Accordingly, it is necessary to develop a coating layer that has a low reflectivity and can be produced at a low price.

한국 공개 공보: KR 10-2011-0112222 AKorean publication: KR 10-2011-0112222 A

본 명세서는 다층형 저반사 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 광학 부재를 제공한다.The present specification provides a method of manufacturing an optical member including a multilayer type low reflection multilayer type low reflection coating layer, and an optical member manufactured using the same.

다만, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 상기 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 하기의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the problem to be solved by the present invention is not limited to the above-mentioned problems, and other problems that are not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명의 일 실시상태는, 제1 용매 및 알콕시 실란을 포함하는 분산액에 산성 촉매를 첨가하여, 저굴절층용 졸-겔 용액을 형성하는 단계; 제2 용매 및 금속 알콕사이드를 포함하는 분산액에 산성 촉매를 첨가하여, 고굴절층용 졸-겔 용액을 형성하는 단계; 상기 저굴절층용 졸-겔 용액 및 상기 고굴절층용 졸-겔 용액을 기재 상에 교대로 도포 및 건조하여 다층의 졸-겔 층을 형성하는 단계; 및 상기 다층의 졸-겔 층을 염기 촉매에 접촉시켜, 저굴절층 및 고굴절층이 교대로 구비된 다층형 저반사 코팅층으로 형성되는 단계;를 포함하고, An exemplary embodiment of the present invention, by adding an acidic catalyst to a dispersion containing a first solvent and an alkoxy silane, forming a sol-gel solution for a low refractive index layer; Forming a sol-gel solution for a high refractive layer by adding an acidic catalyst to a dispersion containing a second solvent and a metal alkoxide; Forming a multi-layered sol-gel layer by alternately applying and drying the sol-gel solution for the low refractive layer and the sol-gel solution for the high refractive layer on a substrate; And contacting the multi-layered sol-gel layer with a base catalyst to form a multi-layered low-reflective coating layer in which low and high refractive layers are alternately provided.

상기 모든 공정은 120 ℃ 이하의 분위기에서 수행되는 것인 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법을 제공한다. All of the above processes are performed in an atmosphere of 120° C. or less to provide a method of manufacturing an optical member including a multilayered low-reflective coating layer.

본 발명의 일 실시상태는, 상기 제조방법으로 제조된 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재를 제공한다.An exemplary embodiment of the present invention provides an optical member including a multilayered low-reflective coating layer manufactured by the above manufacturing method.

본 발명의 일 실시상태에 따른 제조방법은 간편하고, 저렴한 방법으로 우수한 성능의 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재를 제조할 수 있다. The manufacturing method according to an exemplary embodiment of the present invention is a simple and inexpensive method to manufacture an optical member including a multilayered low-reflection coating layer having excellent performance.

본 발명의 일 실시상태에 따른 제조방법은 간단한 화학적 처리만을 이용하여, 고온의 열처리 공정이 필요하지 않은 장점이 있다. The manufacturing method according to an exemplary embodiment of the present invention has an advantage that a high temperature heat treatment process is not required by using only a simple chemical treatment.

본 발명의 일 실시상태에 따른 제조방법은 낮은 온도에서 수행되므로, 고분자 기재 상에 직접 다층형 저반사 코팅층이 형성된 광학 부재를 제조할 수 있는 장점이 있다. Since the manufacturing method according to an exemplary embodiment of the present invention is performed at a low temperature, there is an advantage in that an optical member having a multilayered low-reflection coating layer formed directly on a polymer substrate can be manufactured.

본 발명의 일 실시상태에 따른 제조방법은 코팅 공정을 통하여 수행되므로, 롤투롤 연속 공정을 이용하여 대량 생산이 가능한 이점이 있다. 또한, 본 발명의 일 실시상태에 따른 제조방법은 고온 소성 공정을 이용하지 않고, 모든 공정이 120 ℃ 이하의 분위기에서 수행되므로, 유연한 고분자 기재를 적용하여 롤투롤 연속 공정으로 수행될 수 있다.Since the manufacturing method according to an exemplary embodiment of the present invention is performed through a coating process, there is an advantage that mass production is possible using a continuous roll-to-roll process. In addition, since the manufacturing method according to an exemplary embodiment of the present invention does not use a high-temperature firing process and all processes are performed in an atmosphere of 120° C. or less, it can be performed in a continuous roll-to-roll process by applying a flexible polymer substrate.

본원 명세서 전체에서, 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.Throughout the present specification, when a member is said to be positioned “on” another member, this includes not only the case where a member is in contact with the other member, but also the case where another member exists between the two members.

본원 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification of the present application, when a certain part "includes" a certain component, it means that other components may be further included rather than excluding other components unless specifically stated to the contrary.

본원 명세서 전체에서, "A 및/또는 B"의 기재는, "A 또는 B, 또는 A 및 B"를 의미한다.Throughout this specification, the description of “A and/or B” means “A or B, or A and B”.

본원 명세서 전체에서 사용되는 정도의 용어 "~(하는) 단계" 또는 "~의 단계"는 "~ 를 위한 단계"를 의미하지 않는다.As used throughout the specification of the present application, the term "step (to)" or "step of" does not mean "step for".

본 명세서에서 단위 "중량부"는 각 성분간의 중량의 비율을 의미할 수 있다.In the present specification, the unit "parts by weight" may mean a ratio of weight between each component.

종래의 저굴절층 및 고굴절층이 번갈아가면서 구비되는 저반사층의 경우, 증착 공정을 이용하여 MgF2, Na3AlF6 등의 저굴절 물질을 증착하여 저굴절층을 형성하고, ZrO2, TiO2 등의 고굴절 물질을 증착하여 고굴절층을 형성하여 다층의 저굴절 코팅층을 형성하였다. 다만, 이와 같이 증착 공정을 이용하는 경우 대량 생산 및 대면적화가 곤란하고, 매우 높은 공정 비용이 수반되는 문제점이 있었다. 또한, 저반사층을 형성하기 위하여 액상 조성물을 이용하는 경우, 300 ℃ 이상의 고온으로 소성하여, 유리전이온도가 낮은 고분자 필름 상에 직접 저반사층을 형성하지 못하는 문제점 및 높은 제조 비용이 수반되는 문제점이 있었다. In the case of a low-reflective layer in which a conventional low-refractive-index layer and a high-refractive layer are alternately provided, a low-refractive material such as MgF 2 , Na 3 AlF 6 is deposited using a deposition process to form a low-refractive-index layer, and ZrO 2 , TiO 2 A high refractive layer was formed by depositing a high refractive material, such as, to form a multilayer low refractive coating layer. However, when the deposition process is used as described above, it is difficult to mass-produce and increase the area, and there is a problem that very high process costs are involved. In addition, when the liquid composition is used to form the low reflection layer, there is a problem in that the low reflection layer cannot be directly formed on a polymer film having a low glass transition temperature by firing at a high temperature of 300°C or higher, and a high manufacturing cost is involved.

이와 같은 문제점을 인식하고, 본 발명자들은 고온의 소성 과정을 거치지 않으며, 낮은 공정 비용으로 대면적 및 대량 생산이 가능한 하기의 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법을 개발하였다. Recognizing such a problem, the present inventors have developed a method of manufacturing an optical member including the following multi-layered low-reflection coating layer, which does not undergo a high-temperature firing process and can be produced in large area and mass at low process cost.

이하, 본 명세서에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present specification will be described in more detail.

본 발명의 일 실시상태는, 제1 용매 및 알콕시 실란을 포함하는 분산액에 산성 촉매를 첨가하여, 저굴절층용 졸-겔 용액을 형성하는 단계; 제2 용매 및 금속 알콕사이드를 포함하는 분산액에 산성 촉매를 첨가하여, 고굴절층용 졸-겔 용액을 형성하는 단계; 상기 저굴절층용 졸-겔 용액 및 상기 고굴절층용 졸-겔 용액을 기재 상에 교대로 도포 및 건조하여 다층의 졸-겔 층을 형성하는 단계; 및 상기 다층의 졸-겔 층을 염기 촉매에 접촉시켜, 저굴절층 및 고굴절층이 교대로 구비된 다층형 저반사 코팅층으로 형성되는 단계;를 포함하고,An exemplary embodiment of the present invention, by adding an acidic catalyst to a dispersion containing a first solvent and an alkoxy silane, forming a sol-gel solution for a low refractive index layer; Forming a sol-gel solution for a high refractive layer by adding an acidic catalyst to a dispersion containing a second solvent and a metal alkoxide; Forming a multi-layered sol-gel layer by alternately applying and drying the sol-gel solution for the low refractive layer and the sol-gel solution for the high refractive layer on a substrate; And contacting the multi-layered sol-gel layer with a base catalyst to form a multi-layered low-reflective coating layer in which low and high refractive layers are alternately provided.

상기 모든 공정은 120 ℃ 이하의 분위기에서 수행되는 것인 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법을 제공한다. All of the above processes are performed in an atmosphere of 120° C. or less to provide a method of manufacturing an optical member including a multilayered low-reflective coating layer.

저굴절층용For low refractive layer 졸-겔 용액을 형성하는 단계 Forming a sol-gel solution

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법은 제1 용매 및 알콕시 실란을 포함하는 실리카 전구체 분산액에 산성 촉매를 첨가하여, 저굴절층용 졸-겔 용액을 형성하는 단계를 포함한다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the method of manufacturing an optical member including the multi-layered low-reflection coating layer is a sol-gel solution for a low refractive layer by adding an acidic catalyst to a silica precursor dispersion containing a first solvent and an alkoxy silane. And forming.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 알콕시 실란의 알콕시기는 탄소수 1 내지 10 이하의 알콕시기인 것일 수 있다. 구체적으로, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 알콕시 실란은 테트라에톡시실란(TEOS), 테트라메톡시실란(TMOS), 메톡시트리에톡시실란(MTEOS), 메틸트리메톡시실란(MTMS), 메틸트리에톡시실란(MTES), 트리메톡시페닐실란(TMPS), 트리에톡시페닐실란(TEPS), 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 3-(아크릴로일옥시)프로필트리메톡시실란, 1,2-비스(트리에톡시실란)에탄, 및 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 알콕시 실란은 테트라에톡시실란(TEOS)일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the alkoxy group of the alkoxy silane may be an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or less. Specifically, according to an exemplary embodiment of the present invention, the alkoxy silane is tetraethoxysilane (TEOS), tetramethoxysilane (TMOS), methoxytriethoxysilane (MTEOS), methyltrimethoxysilane (MTMS). , Methyltriethoxysilane (MTES), trimethoxyphenylsilane (TMPS), triethoxyphenylsilane (TEPS), 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxy Propyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, 3-(acryloyloxy)propyltrimethoxysilane, 1,2-bis(triethoxysilane)ethane, and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane It may include at least one of. More specifically, according to an exemplary embodiment of the present invention, the alkoxy silane may be tetraethoxysilane (TEOS).

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 제1 용매는 유기 용매를 포함할 수 있다. 구체적으로, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 유기 용매는 끓는점이 50 ℃ 내지 150 ℃인 유기 용매를 포함할 수 있다. 구체적으로, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 제1 용매는 물 및 유기 용매를 포함할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the first solvent may include an organic solvent. Specifically, according to an exemplary embodiment of the present invention, the organic solvent may include an organic solvent having a boiling point of 50 ℃ to 150 ℃. Specifically, according to an exemplary embodiment of the present invention, the first solvent may include water and an organic solvent.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 제1 용매는 알코올계 용매; 케톤계 용매; 및 아세테이트계 용매 중 적어도 1종을 포함하는 유기 용매를 포함할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the first solvent is an alcohol-based solvent; Ketone solvents; And it may include an organic solvent including at least one of the acetate-based solvent.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 알코올계 용매는 에틸알코올, n-프로필알코올, i-프로필알코올, i-부틸알코올, n-부틸알코올 및 t-부틸알코올 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the alcohol-based solvent may include at least one of ethyl alcohol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, i-butyl alcohol, n-butyl alcohol and t-butyl alcohol.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 케톤계 용매는 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 디메틸 케톤, 메틸이소프로필케톤, 및 아세틸아세톤 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the ketone-based solvent may include at least one of acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dimethyl ketone, methyl isopropyl ketone, and acetylacetone.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 아세테이트계 용매는 메틸아세테이트, 에틸아세테이트, 프로필아세테이트 및 부틸아세테이트 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the acetate-based solvent may include at least one of methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, and butyl acetate.

상기 유기 용매는 상기 실리카 전구체 졸의 안정성을 향상시킬 수 있다. 나아가, 상기 제1 용매의 함량은 상기 알콕시 실란의 몰수 대비 2 내지 8배의 몰수로 상기 실리카 전구체 분산액에 포함될 수 있다. The organic solvent may improve the stability of the silica precursor sol. Further, the content of the first solvent may be included in the silica precursor dispersion in a mole number of 2 to 8 times the mole number of the alkoxysilane.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 제1 용매는 물과 유기 용매의 혼합 용매일 수 있다. 구체적으로, 상기 용매는 물과 알코올계 용매의 혼합 용매일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the first solvent may be a mixed solvent of water and an organic solvent. Specifically, the solvent may be a mixed solvent of water and an alcohol-based solvent.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 제1 용매는 물과 알코올계 용매의 혼합 용매일 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the first solvent may be a mixed solvent of water and an alcohol-based solvent.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 실리카 전구체 분산액은 필요에 따라 실리카, 세리아, 티타니아 및 지르코니아 중 적어도 하나를 포함하는 나노입자를 더 포함할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the silica precursor dispersion may further include nanoparticles including at least one of silica, ceria, titania, and zirconia as necessary.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 실리카 전구체 분산액은 필요에 따라 불소계 슬립제(slip agent) 및/또는 실리콘계 슬립제(slip agent)를 더 포함할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the silica precursor dispersion may further include a fluorine-based slip agent and/or a silicon-based slip agent, if necessary.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 실리카 전구체 분산액은 필요에 따라 건조 지연제를 더 포함할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the silica precursor dispersion may further include a drying retarder if necessary.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 실리카 전구체 분산액에 산성 촉매를 첨가하여, 저굴절층용 졸-겔 용액으로 형성할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, an acidic catalyst may be added to the silica precursor dispersion to form a sol-gel solution for a low refractive index layer.

구체적으로, 상기 산성 촉매는 상기 실리카 전구체 분산액의 pH를 0 내지 5로 조절하여, 상기 실리카 전구체 분산액을 졸-겔화 할 수 있다. Specifically, the acidic catalyst may sol-gelize the silica precursor dispersion by adjusting the pH of the silica precursor dispersion to 0 to 5.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 산성 촉매는 염산, 황산, 플루오르황산, 질산, 인산, 아세트산, 헥사플루오르인산, p-톨루엔설폰산 및 트리플루오로메탄술폰산 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the acidic catalyst may include at least one of hydrochloric acid, sulfuric acid, fluorosulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, acetic acid, hexafluorophosphoric acid, p-toluenesulfonic acid, and trifluoromethanesulfonic acid.

구체적으로, 상기 산성 촉매는 상기 실리카 전구체 분산액의 pH를 조절하여, 상기 실리카 전구체 분산액에 포함된 알콕시 실란을 비롯한 실리카 전구체를 졸-겔화 시킬 수 있다.Specifically, the acidic catalyst may sol-gelize silica precursors including alkoxy silanes contained in the silica precursor dispersion by adjusting the pH of the silica precursor dispersion.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 산성 촉매는 상기 실리카 전구체를 가수분해하여 하기 일반식 1로 표시되는 실리카 전구체 졸을 형성할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the acidic catalyst may hydrolyze the silica precursor to form a silica precursor sol represented by the following general formula 1.

[일반식 1] [General Formula 1]

Figure 112017128453993-pat00001
Figure 112017128453993-pat00001

상기 일반식 1의 n은 복수의 정수이며, n의 값은 실리카 전구체 졸이 만들어진 이후의 시간, 온도, 습도 등에 따라 변할 수 있으므로, n의 값은 변할 수 있다. 예를 들어, 상기 일반식 1의 n 값은 2 내지 1000만 이하의 정수일 수 있다. In the general formula 1, n is a plurality of integers, and the value of n may change depending on the time, temperature, humidity, etc. after the silica precursor sol is made, so the value of n may change. For example, the n value of General Formula 1 may be an integer of 2 to 10 million or less.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 저굴절층용 졸-겔 용액을 형성하는 단계는 80 ℃ 이하의 온도에서 수행되는 것일 수 있다. 구체적으로, 상기 저굴절층용 졸-겔 용액을 형성하는 단계는 상온(25 ℃) 내지 80 ℃ 이하의 온도에서 수행되는 것일 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the step of forming the sol-gel solution for the low refractive index layer may be performed at a temperature of 80 °C or less. Specifically, the step of forming the sol-gel solution for the low refractive layer may be performed at a temperature of room temperature (25°C) to 80°C or less.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 저굴절층용 졸-겔 용액의 졸-겔 함량은 5 wt% 이상 40 wt% 이하일 수 있다. 구체적으로, 상기 저굴절층용 졸-겔 용액의 졸-겔 함량은 8 wt% 이상 20 wt% 이하, 또는 10 wt% 이상 15 wt% 이하일 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the sol-gel content of the sol-gel solution for the low refractive layer may be 5 wt% or more and 40 wt% or less. Specifically, the sol-gel content of the sol-gel solution for the low refractive layer may be 8 wt% or more and 20 wt% or less, or 10 wt% or more and 15 wt% or less.

본 명세서에 있어서, 저굴절층용 졸-겔 용액의 졸-겔의 함량은 저굴절층용 졸-겔 용액을 80 ℃에서 1시간 동안 건조한 후, 200 ℃에서 24시간 동안 탈수 반응을 진행시킨 후의 잔류하는 고형분을 통하여 저굴절층용 졸-겔 용액 내의 졸-겔의 함량을 측정할 수 있으며, 또한, 상기 저굴절층용 졸-겔 용액 내에 포함된 실리카 전구체가 100 % 반응하여 졸-겔화되는 양을 계산하여 용액 내의 졸-겔의 함량을 계산할 수 있다. In the present specification, the content of the sol-gel in the sol-gel solution for the low refractive layer is the residual after drying the sol-gel solution for the low refractive layer at 80° C. for 1 hour and then performing a dehydration reaction at 200° C. for 24 hours. The content of the sol-gel in the sol-gel solution for the low refractive layer can be measured through the solid content, and the silica precursor contained in the sol-gel solution for the low refractive layer is 100% reacted to calculate the sol-gelation amount. The content of the sol-gel in the solution can be calculated.

상기 저굴절층용 졸-겔 용액 내의 졸-겔 함량이 상기 범위 내인 경우, 상기 저굴절층용 졸-겔 용액의 점도가 적절하게 조절되어 코팅 시 핸들링을 용이하게 할 수 있다. 나아가, 상기 저굴절층용 졸-겔 용액 내의 졸-겔 함량이 상기 범위 내인 경우, 상기 저굴절층용 졸-겔 용액의 도포 후 건조 시간을 단축하여 상기 저굴절층에 발생할 수 있는 얼룩을 방지할 수 있으며, 상기 저굴절층의 두께를 균일하게 구현할 수 있다.When the sol-gel content in the sol-gel solution for the low refractive layer is within the above range, the viscosity of the sol-gel solution for the low refractive layer is appropriately adjusted to facilitate handling during coating. Furthermore, when the sol-gel content in the sol-gel solution for the low refractive layer is within the above range, the drying time after application of the sol-gel solution for the low refractive layer is shortened to prevent stains that may occur in the low refractive layer. In addition, the thickness of the low refractive layer may be uniformly implemented.

고굴절층용For high refractive layer 졸-겔 용액을 형성하는 단계 Forming a sol-gel solution

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법은 제2 용매 및 금속 알콕사이드를 포함하는 금속 산화물 전구체 분산액에 산성 촉매를 첨가하여, 고굴절층용 졸-겔 용액을 형성하는 단계를 포함한다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the method of manufacturing an optical member including the multi-layered low-reflection coating layer is a sol-gel solution for a high refractive layer by adding an acidic catalyst to a dispersion of a metal oxide precursor containing a second solvent and a metal alkoxide. And forming.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 금속 알콕사이드는 알루미늄 이소프로폭사이드, 알루미늄 sec-부톡사이드, 세륨 이소프로폭사이드, 하프늄 tert-부톡사이드, 마그네슘 알루미늄 이소프로폭사이드, 이트륨 이소프로폭사이드, 티타늄 이소프로폭사이드, 루비듐 이소프로폭사이드, 지르코늄 n-프로폭사이드, 및 지르코늄 이소프로폭사이드 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 금속 알콕사이드는 지르코늄 이소프로폭사이드 및/또는 티타늄 이소프로폭사이드를 포함할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the metal alkoxide is aluminum isopropoxide, aluminum sec-butoxide, cerium isopropoxide, hafnium tert-butoxide, magnesium aluminum isopropoxide, yttrium isopropoxide, It may include at least one of titanium isopropoxide, rubidium isopropoxide, zirconium n-propoxide, and zirconium isopropoxide. Specifically, the metal alkoxide may include zirconium isopropoxide and/or titanium isopropoxide.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 제2 용매는 전술한 제1 용매의 예시와 동일할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the second solvent may be the same as the example of the first solvent described above.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 제2 용매는 알코올계 용매 및 케톤계 용매를 포함하는 혼합 용매일 수 있다. 구체적으로, 상기 제2 용매는 에탄올 및 아세틸아세톤을 포함하는 혼합 용매일 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the second solvent may be a mixed solvent including an alcohol-based solvent and a ketone-based solvent. Specifically, the second solvent may be a mixed solvent including ethanol and acetylacetone.

상기 제2 용매의 함량은 상기 금속 알콕사이드의 몰 수 대비 2 내지 8배의 몰수로 상기 금속 산화물 전구체 분산액에 포함될 수 있다. The content of the second solvent may be included in the metal oxide precursor dispersion in a mole number of 2 to 8 times the mole number of the metal alkoxide.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 금속 산화물 전구체 분산액은 필요에 따라 실리카, 세리아, 티타니아 및 지르코니아 중 적어도 하나를 포함하는 나노입자를 더 포함할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the metal oxide precursor dispersion may further include nanoparticles including at least one of silica, ceria, titania, and zirconia as necessary.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 금속 산화물 전구체 분산액은 필요에 따라 건조 지연제를 더 포함할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the metal oxide precursor dispersion may further include a drying retarder if necessary.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 금속 산화물 전구체 분산액에 산성 촉매를 첨가하여, 고굴절층용 졸-겔 용액으로 형성할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, an acidic catalyst may be added to the dispersion of the metal oxide precursor to form a sol-gel solution for a high refractive layer.

구체적으로, 상기 산성 촉매는 상기 금속 산화물 전구체 분산액의 pH를 0 내지 5로 조절하여, 상기 금속 산화물 전구체 분산액을 졸-겔화 할 수 있다. Specifically, the acidic catalyst may sol-gelize the metal oxide precursor dispersion by adjusting the pH of the metal oxide precursor dispersion to 0 to 5.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 산성 촉매는 염산, 황산, 플루오르황산, 질산, 인산, 아세트산, 헥사플루오르인산, p-톨루엔설폰산 및 트리플루오로메탄술폰산 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the acidic catalyst may include at least one of hydrochloric acid, sulfuric acid, fluorosulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, acetic acid, hexafluorophosphoric acid, p-toluenesulfonic acid, and trifluoromethanesulfonic acid.

구체적으로, 상기 산성 촉매는 상기 금속 산화물 전구체 분산액의 pH를 조절하여, 상기 금속 산화물 전구체 분산액에 포함된 금속 알콕사이드를 비롯한 금속 산화물 전구체를 졸-겔화 시킬 수 있다.Specifically, the acidic catalyst may sol-gelize metal oxide precursors including metal alkoxides contained in the metal oxide precursor dispersion by adjusting the pH of the metal oxide precursor dispersion.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 고굴절층용 졸-겔 용액을 형성하는 단계는 80 ℃ 이하의 온도에서 수행되는 것일 수 있다. 구체적으로, 상기 고굴절층용 졸-겔 용액을 형성하는 단계는 상온(25 ℃) 내지 80 ℃ 이하의 온도에서 수행되는 것일 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the step of forming the sol-gel solution for the high refractive layer may be performed at a temperature of 80 °C or less. Specifically, the step of forming the sol-gel solution for the high refractive layer may be performed at a temperature of room temperature (25°C) to 80°C or less.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 고굴절층용 졸-겔 용액의 졸-겔 함량은 5 wt% 이상 40 wt% 이하일 수 있다. 구체적으로, 상기 고굴절층용 졸-겔 용액의 졸-겔 함량은 8 wt% 이상 20 wt% 이하, 또는 10 wt% 이상 15 wt% 이하일 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the sol-gel content of the sol-gel solution for the high refractive layer may be 5 wt% or more and 40 wt% or less. Specifically, the sol-gel content of the sol-gel solution for the high refractive layer may be 8 wt% or more and 20 wt% or less, or 10 wt% or more and 15 wt% or less.

본 명세서에 있어서, 고굴절층용 졸-겔 용액의 졸-겔의 함량은 고굴절층용 졸-겔 용액을 80 ℃에서 1시간 동안 건조한 후, 200 ℃에서 24시간 동안 탈수 반응을 진행시킨 후의 잔류하는 고형분을 통하여 고굴절층용 졸-겔 용액 내의 졸-겔의 함량을 측정할 수 있으며, 또한, 상기 고굴절층용 졸-겔 용액 내에 포함된 금속 산화물 전구체가 100 % 반응하여 졸-겔화되는 양을 계산하여 용액 내의 졸-겔의 함량을 계산할 수 있다. In the present specification, the sol-gel content of the sol-gel solution for a high refractive layer is determined by drying the sol-gel solution for a high refractive layer at 80° C. for 1 hour and then performing a dehydration reaction at 200° C. for 24 hours. The content of the sol-gel in the sol-gel solution for the high refractive layer can be measured, and the amount of sol-gelation by 100% reaction of the metal oxide precursor contained in the sol-gel solution for the high refractive layer is calculated. -You can calculate the gel content.

상기 고굴절층용 졸-겔 용액 내의 졸-겔 함량이 상기 범위 내인 경우, 상기 고굴절층용 졸-겔 용액의 점도가 적절하게 조절되어 코팅 시 핸들링을 용이하게 할 수 있다. 나아가, 상기 고굴절층용 졸-겔 용액 내의 졸-겔 함량이 상기 범위 내인 경우, 상기 고굴절층용 졸-겔 용액의 도포 후 건조 시간을 단축하여 상기 고굴절층에 발생할 수 있는 얼룩을 방지할 수 있으며, 상기 고굴절층의 두께를 균일하게 구현할 수 있다.When the sol-gel content in the sol-gel solution for the high refractive layer is within the above range, the viscosity of the sol-gel solution for the high refractive layer is appropriately adjusted to facilitate handling during coating. Further, when the sol-gel content in the sol-gel solution for the high refractive layer is within the above range, the drying time after application of the sol-gel solution for the high refractive layer is shortened to prevent stains that may occur in the high refractive layer, and the The thickness of the high refractive layer can be uniformly implemented.

다층의 졸-겔 층을 형성하는 단계Forming a multi-layered sol-gel layer

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법은 상기 저굴절층용 졸-겔 용액 및 상기 고굴절층용 졸-겔 용액을 기재 상에 교대로 도포 및 건조하여 다층의 졸-겔 층을 형성하는 단계를 포함한다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the method of manufacturing an optical member including the multilayered low-reflection coating layer is by alternately applying and drying the sol-gel solution for the low refractive layer and the sol-gel solution for the high refractive layer on a substrate. And forming a multi-layered sol-gel layer.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 다층의 졸-겔 층을 형성하는 단계는 기재 상에 상기 저굴절층용 졸-겔 용액을 도포한 후 건조하고, 상기 고굴절층용 졸-겔 용액을 도포한 후 건조하는 방법을 반복하여 수행하는 것일 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the step of forming the multilayer sol-gel layer includes applying the sol-gel solution for the low refractive layer on a substrate, drying, and then applying the sol-gel solution for the high refractive layer. It may be to perform the drying method repeatedly.

이를 통하여, 기재/고굴절 졸-겔 층/저굴절 졸-겔 층, 기재/저굴절 졸-겔 층/고굴절 졸-겔 층/저굴절 졸-겔 층, 또는 기재/고굴절 졸-겔 층/저굴절 졸-겔 층/고굴절 졸-겔 층/저굴절 졸-겔 층,과 같은 구조의 다층의 졸-겔 층을 형성할 수 있다. Through this, the substrate/high refractive sol-gel layer/low refractive sol-gel layer, the substrate/low refractive sol-gel layer/high refractive sol-gel layer/low refractive sol-gel layer, or the substrate/high refractive sol-gel layer/low It is possible to form a multi-layered sol-gel layer having the same structure as the refractive sol-gel layer/high refractive sol-gel layer/low refractive sol-gel layer.

상기 다층의 졸-겔 층은 2층 이상 10층 이하로 저굴절 졸-겔 층 및 고굴절 졸-겔 층이 교대로 구비될 수 있다. The multi-layered sol-gel layer may include two or more and ten or less low-refractive sol-gel layers and high-refractive sol-gel layers.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 다층형 저반사 코팅층의 최외곽층은 저굴절층이 구비될 수 있다. 이를 통하여, 상기 다층형 저반사 코팅층은 보다 낮은 반사율을 구현할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the outermost layer of the multi-layered low-reflection coating layer may be provided with a low refractive index layer. Through this, the multi-layered low-reflection coating layer can implement a lower reflectance.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 저굴절층용 졸-겔 용액 및 상기 고굴절층용 졸-겔 용액의 도포는 바코팅, 스핀코팅 등 당업계에서 일반적으로 알려진 도포법을 제한 없이 이용할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the sol-gel solution for the low refractive layer and the sol-gel solution for the high refractive layer may be applied without limitation by coating methods generally known in the art such as bar coating and spin coating.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 기재는 상기 다층형 저반사 코팅층이 구비되는 광학 필름일 수 있다. 구체적으로, 상기 기재는 편광 필름, 휘도 향상 필름 또는 위상차 필름일 수 있다. 또한, 상기 기재는 디스플레이 패널 또는 터치 패널일 수도 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the substrate may be an optical film provided with the multilayered low-reflective coating layer. Specifically, the substrate may be a polarizing film, a brightness enhancing film, or a retardation film. In addition, the substrate may be a display panel or a touch panel.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 기재는 일면 상에 고굴절층, 하드 코팅층 및 반사방지층 중 적어도 1종의 기능성층을 구비한 광학 필름일 수 있다. 구체적으로, 상기 저굴절 실리카 코팅층은 상기 기재의 기능성층 상에 형성될 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the substrate may be an optical film having at least one functional layer of a high refractive index layer, a hard coating layer, and an antireflection layer on one surface. Specifically, the low refractive silica coating layer may be formed on the functional layer of the substrate.

본 발명에 따른 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법은 고온의 소성 과정을 거치지 않으므로, 상기 기재는 코팅층을 형성한 후 코팅층과 떼어내는 라이너가 아닌, 광학 필름일 수 있으며, 구체적으로, 편광판과 같은 디스플레이용 고분자 기재가 될 수 있다. Since the method of manufacturing an optical member including a multi-layered low-reflection coating layer according to the present invention does not undergo a high-temperature firing process, the substrate may be an optical film rather than a liner separated from the coating layer after forming the coating layer. , It may be a display polymer substrate such as a polarizing plate.

또한, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 기재는 고분자 기재일 수 있다. 구체적으로, 상기 고분자 기재는 PET(polyethylene terephthalate), PEN(Polyethylene naphthalate), PEEK(Polyether ether ketone) 및 PI(Polyimide) 등의 필름이 단층 또는 복층의 형태로 포함될 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것이 아니고, 고분자 소재의 필름 이라면 제한 없이 적용될 수 있다.Further, according to an exemplary embodiment of the present invention, the substrate may be a polymer substrate. Specifically, the polymer substrate may include films such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene ether ketone (PEEK), and polyimide (PI) in the form of a single layer or a multilayer. However, it is not limited thereto, and any film made of a polymer material may be applied without limitation.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 저굴절층용 졸-겔 용액 및 상기 고굴절층용 졸-겔 용액의 도포 두께는 각각 상기 다층형 저반사 코팅층의 용도에 따라 조절할 수 있으며, 예를 들어 50 ㎚ 내지 1 ㎛ 두께로 도포될 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the coating thickness of the sol-gel solution for the low refractive layer and the sol-gel solution for the high refractive layer can be adjusted according to the use of the multilayered low reflection coating layer, for example, from 50 nm to It can be applied to a thickness of 1 μm.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 저굴절층용 졸-겔 용액 및 상기 고굴절층용 졸-겔 용액을 건조하는 것은, 각각 120 ℃ 이하의 온도에서 건조하여 제1 용매 및 제2 용매를 제거하는 것일 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, drying the sol-gel solution for the low refractive layer and the sol-gel solution for the high refractive layer is to remove the first solvent and the second solvent by drying at a temperature of 120° C. or less, respectively. I can.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 저굴절층용 졸-겔 용액을 건조하는 것은, 120 ℃ 이하의 온도에서 건조하여 제1 용매를 제거하여 저굴절 졸-겔 층을 형성하는 것일 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, drying the sol-gel solution for the low refractive layer may be drying at a temperature of 120° C. or lower to remove the first solvent to form a low refractive sol-gel layer.

상기 저굴절층용 졸-겔 용액을 건조하는 과정을 통하여, 상기 저굴절 졸-겔 층이 기재 또는 고굴절 졸-겔 층 상에 고르게 분포할 수 있다. Through the process of drying the sol-gel solution for the low refractive layer, the low refractive sol-gel layer may be evenly distributed on the substrate or the high refractive sol-gel layer.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 고굴절층용 졸-겔 용액을 건조하는 것은, 120 ℃ 이하의 온도에서 건조하여 제2 용매를 제거하여 고굴절 졸-겔 층을 형성하는 것일 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, drying the sol-gel solution for a high refractive layer may be drying at a temperature of 120° C. or lower to remove the second solvent to form a high refractive sol-gel layer.

상기 고굴절층용 졸-겔 용액을 건조하는 과정을 통하여, 상기 고굴절 졸-겔 층이 기재 또는 저굴절 졸-겔 층 상에 고르게 분포할 수 있다. Through the process of drying the sol-gel solution for the high refractive layer, the high refractive sol-gel layer may be evenly distributed on the substrate or the low refractive sol-gel layer.

즉, 상기 저굴절층용 졸-겔 용액 및 상기 고굴절층용 졸-겔 용액을 건조하는 과정을 통하여, 저굴절 졸-겔 층 및 고굴절 졸-겔 층이 교대로 구비된 다층의 졸-겔 층이 형성될 수 있다.That is, through the process of drying the sol-gel solution for the low refractive layer and the sol-gel solution for the high refractive layer, a multi-layered sol-gel layer in which low refractive sol-gel layers and high refractive sol-gel layers are alternately formed is formed. Can be.

또한, 상기 제1 용매 및/또는 상기 제2 용매는 낮은 온도에서 증발될 수 있으므로, 120 ℃ 이하, 100 ℃ 이하, 또는 80 ℃ 이하의 온도에서 건조함으로써 상기 제1 용매 및/또는 상기 제2 용매를 제거할 수 있다. In addition, since the first solvent and/or the second solvent may be evaporated at a low temperature, the first solvent and/or the second solvent may be dried at a temperature of 120° C. or less, 100° C. or less, or 80° C. or less. Can be removed.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 건조는 50 ℃ 이상 120 ℃ 이하, 60 ℃ 이상 100 ℃ 이하, 또는 60 ℃ 이상 80 ℃ 이하의 온도에서 수행되는 것일 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the drying may be performed at a temperature of 50°C or more and 120°C or less, 60°C or more and 100°C or less, or 60°C or more and 80°C or less.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 건조는 50 ℃ 이상 120 ℃ 이하, 60 ℃ 이상 100 ℃ 이하, 또는 60 ℃ 이상 80 ℃ 이하의 온도에서 30초 내지 5분 동안 수행되는 것일 수 있다. 구체적으로, 상기 건조는 60 ℃ 내지 80 ℃ 의 온도에서 30초 내지 2분 동안 수행되는 것일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the drying may be performed for 30 seconds to 5 minutes at a temperature of 50° C. or more and 120° C. or less, 60° C. or more and 100° C. or less, or 60° C. or more and 80° C. or less. Specifically, the drying may be performed for 30 seconds to 2 minutes at a temperature of 60 ℃ to 80 ℃.

상기 건조는 상기 저굴절 졸-겔 층 및/또는 고굴절 졸-겔 층 내의 용매를 전부 제거하는 것뿐만 아니라, 일부의 용매를 제거하는 것을 포함할 수 있다. The drying may include removing all of the solvent in the low refractive sol-gel layer and/or the high refractive sol-gel layer, as well as removing some of the solvent.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 저굴절층용 졸-겔 용액을 건조하여 저굴절 졸-겔 층을 형성한 후, 플라즈마 처리를 이용하여 표면 개질하는 단계를 더 포함할 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, after drying the sol-gel solution for the low-refractive-index layer to form a low-refractive sol-gel layer, the step of surface modification using plasma treatment may be further included.

또한, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 고굴절층용 졸-겔 용액을 건조하여 고굴절 졸-겔 층을 형성한 후, 플라즈마 처리를 이용하여 표면 개질하는 단계를 더 포함할 수 있다.In addition, according to an exemplary embodiment of the present invention, after drying the sol-gel solution for the high refractive layer to form a high refractive sol-gel layer, a step of surface modification using plasma treatment may be further included.

상기 플라즈마 처리는 대기압 플라즈마를 사용하여 직접법 또는 간접법으로 처리하는 것일 수 있다. The plasma treatment may be performed by a direct method or an indirect method using atmospheric pressure plasma.

상기 표면 개질하는 단계는 상기 저굴절 졸-겔 층 및/또는 상기 고굴절 졸-겔 층의 측간 부착력을 향상시킬 수 있으며, 또한, 이후의 공정에서 아민계 염기 촉매 및 인산계 염기 촉매 중 적어도 1종을 포함하는 염기 촉매와의 접촉을 높여 보다 높은 강도의 다층형 저반사 코팅층을 형성할 수 있다. The step of surface modification may improve the side-to-side adhesion of the low-refractive sol-gel layer and/or the high-refractive sol-gel layer, and at least one of an amine base catalyst and a phosphoric acid base catalyst in a subsequent process It is possible to form a multi-layered low-reflection coating layer having a higher strength by increasing the contact with the base catalyst containing.

다층형 Multi-layered 저반사Low reflection 코팅층으로 형성되는 단계 Step of forming a coating layer

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 다층의 졸-겔 층을 염기 촉매에 접촉시켜, 저굴절층 및 고굴절층이 교대로 구비된 다층형 저반사 코팅층으로 형성되는 단계를 포함한다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the multi-layered sol-gel layer is brought into contact with a base catalyst to form a multi-layered low-reflection coating layer having alternately low and high refractive layers.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 염기 촉매는 상기 기재 상의 다층의 졸-겔 층의 졸-겔을 경화시키는 역할을 할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the base catalyst may serve to cure the sol-gel of the multilayer sol-gel layer on the substrate.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 저굴절층은 실리카 기반의 매트릭스를 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 아민계 염기 촉매 및 인산계 염기 촉매 중 적어도 1종을 포함하는 염기 촉매는 상기 저굴절 코팅층의 일반식 1로 표시되는 실리카 전구체 졸을 실리카 막으로 경화시킬 수 있다. 이를 통하여, 상기 저굴절 코팅층은 실리카 매트릭스로 이루어진 저굴절층으로 경화될 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the low refractive index layer may include a silica-based matrix. Specifically, the base catalyst including at least one of the amine base catalyst and the phosphoric acid base catalyst may cure the silica precursor sol represented by Formula 1 of the low refractive coating layer with a silica film. Through this, the low refractive index coating layer may be cured into a low refractive index layer made of a silica matrix.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 고굴절층은 금속 산화물 기반의 매트릭스를 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 아민계 염기 촉매 및 인산계 염기 촉매 중 적어도 1종을 포함하는 염기 촉매는 상기 고굴절 코팅층의 금속 알콕사이드 졸을 금속과 산소로 이루어지는 금속 산화물 기반의 매트릭스로 경화시킬 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the high refractive layer may include a metal oxide-based matrix. Specifically, the base catalyst including at least one of the amine base catalyst and the phosphoric acid base catalyst may cure the metal alkoxide sol of the high refractive coating layer into a metal oxide-based matrix consisting of metal and oxygen.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 저굴절층의 광굴절률은 550 ㎚ 파장에서 1.40 내지 1.47, 1.42 내지 1.46, 또는 1.44 내지 1.45일 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the light refractive index of the low refractive layer may be 1.40 to 1.47, 1.42 to 1.46, or 1.44 to 1.45 at a wavelength of 550 nm.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 고굴절층의 광굴절률은 550 ㎚ 파장에서 2.0 내지 2.8, 2.3 내지 2.7, 또는 2.5 내지 2.7 일 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the photorefractive index of the high refractive layer may be 2.0 to 2.8, 2.3 to 2.7, or 2.5 to 2.7 at a wavelength of 550 nm.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 염기 촉매는 끓는점이 80 ℃ 이상 500 ℃ 이하인 것일 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the base catalyst may have a boiling point of 80° C. or more and 500° C. or less.

또한, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 염기 촉매는 상온(25 ℃)에서의 증기압이 10,000 Pa 이하, 또는 5,000 Pa 이하, 또는 1 Pa 이하인 것일 수 있다.In addition, according to an exemplary embodiment of the present invention, the base catalyst may have a vapor pressure of 10,000 Pa or less, 5,000 Pa or less, or 1 Pa or less at room temperature (25° C.).

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 염기 촉매는 끓는점이 80 ℃ 이상의 무수물일 수 있다. 구체적으로, 상기 염기 촉매는 수분을 함유하고 있지 않으므로, 상기 저굴절 코팅층 및 상기 고굴절 코팅층을 효과적으로 탈수하여 치밀한 가교 구조를 형성할 수 있게 할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the base catalyst may be an anhydride having a boiling point of 80° C. or higher. Specifically, since the base catalyst does not contain moisture, it is possible to form a dense crosslinked structure by effectively dehydrating the low refractive coating layer and the high refractive coating layer.

예를 들어, 저굴절 코팅층의 경우, 상기 일반식 1로 표시되는 실리카 전구체 졸이 상기 염기 촉매에 의하여 실리카로 경화되는 반응은 물이 제거되는 반응을 수반하며, 경화시 물이 존재하는 경우, 반응속도가 현저하게 저하되는 문제가 있다. 이를 방지하기 위하여, 상기 기재 상에 실리카 코팅층을 형성하는 단계는 수분을 포함하지 않는 상기 염기 촉매를 이용하여 상기 실리카 전구체 졸의 경화를 빠르게 진행시킬 수 있다. 마찬가지로, 상기 고굴절 코팅층도 상기 염기 촉매에 의하여 치밀한 가교 구조가 형성될 수 있다. 구체적으로, 상기 염기 촉매는 끓는점이 80 ℃ 이상의 액상의 무수물일 수 있다. For example, in the case of a low refractive coating layer, a reaction in which the silica precursor sol represented by the general formula 1 is cured into silica by the base catalyst involves a reaction in which water is removed, and when water is present during curing, the reaction There is a problem that the speed is significantly reduced. In order to prevent this, in the step of forming a silica coating layer on the substrate, curing of the silica precursor sol may be rapidly performed using the base catalyst that does not contain moisture. Likewise, the high refractive coating layer may also have a dense crosslinked structure by the base catalyst. Specifically, the base catalyst may be a liquid anhydride having a boiling point of 80° C. or higher.

나아가, 상기 다층의 졸-겔 층을 상기 염기 촉매에 접촉시키는 과정을 통하여, 저굴절층 및 고굴절층을 동시에 형성할 수 있다. Furthermore, through the process of bringing the multi-layered sol-gel layer into contact with the base catalyst, a low refractive layer and a high refractive layer can be simultaneously formed.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 염기 촉매는 끓는점 및 인화점이 높아, 열적으로 안정하고, 공정시 화재의 위험이 현저하게 낮은 장점이 있다. 나아가, 상기 염기 촉매는 증기압이 낮아 냄새가 적고 폭발의 위험성이 매우 낮은 장점이 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the base catalyst has a high boiling point and a high flash point, is thermally stable, and has a remarkably low risk of fire during processing. Furthermore, the base catalyst has the advantage of low vapor pressure, low odor and very low risk of explosion.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 염기 촉매는 120 ℃ 이하의 온도에서 액상일 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the base catalyst may be liquid at a temperature of 120° C. or less.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 염기 촉매는 유기 용매를 포함할 수 있다. 상기 염기 촉매가 120 ℃ 이하의 온도에서 고상인 경우, 유기 용매에 용해되어 사용될 수 있다. 이를 통하여, 상기 염기 촉매는 120 ℃ 이하의 온도에서 액상일 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the base catalyst may include an organic solvent. When the base catalyst is solid at a temperature of 120° C. or less, it may be dissolved in an organic solvent and used. Through this, the base catalyst may be liquid at a temperature of 120° C. or less.

상기 염기 촉매에 포함될 수 있는 유기 용매는 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc), N-메틸피롤리돈(NMP), N,N-디메틸포름아미드(DMF), 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, N,N-디에틸아세트아미드(DEAc), N,N-디메틸메톡시아세트아미드, 디메틸술폭사이드, 피리딘, 디메틸술폰, 헥사메틸포스포아미드, 테트라메틸우레아, N-메틸카프로락탐, 테트라히드로퓨란, m-디옥산, P-디옥산, 1,2-디메톡시에탄, 비스(2-메톡시에틸)에테르, 1,2-비스(2-메톡시에톡시)에탄,비스[2-(2-메톡시에톡시)]에테르, 폴리(에틸렌글리콜)메타크릴레이트(PEGMA), 감마-부티로락톤(GBL), 및 에크아미드(Equamide M100, Idemitsu Kosan Co., Ltd) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.Organic solvents that may be included in the base catalyst are N,N-dimethylacetamide (DMAc), N-methylpyrrolidone (NMP), N,N-dimethylformamide (DMF), 1,3-dimethyl-2- Imidazolidinone, N,N-diethylacetamide (DEAc), N,N-dimethylmethoxyacetamide, dimethylsulfoxide, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylphosphoamide, tetramethylurea, N-methylcapro Lactam, tetrahydrofuran, m-dioxane, P-dioxane, 1,2-dimethoxyethane, bis(2-methoxyethyl) ether, 1,2-bis(2-methoxyethoxy)ethane, bis Among [2-(2-methoxyethoxy)] ether, poly(ethylene glycol) methacrylate (PEGMA), gamma-butyrolactone (GBL), and ekamide (Equamide M100, Idemitsu Kosan Co., Ltd) It may include at least one.

상기 다층형 저반사 코팅층으로 형성되는 단계는 상기 염기 촉매를 이용하여 상기 다층의 졸-겔 층을 경화하는 것으로서, 고온의 소결 과정을 거치지 않고 화학적 방법을 이용하여 공정을 간편하게 수행할 수 있는 장점이 있다. 또한, 상기 염기 촉매는 상기 다층의 졸-겔 층의 경화 시 물에 접촉하여 물성이 저하되는 것을 방지할 수 있다. 나아가, 상기 염기 촉매는 높은 끓는점과 낮은 증기압을 가지므로, 작업 시 유독 가스에 노출되거나 휘발성에 따른 화재의 위험성을 크게 낮추어 작업 환경 개선에 도움을 줄 수 있다. The step of forming the multi-layered low-reflection coating layer is to cure the multi-layered sol-gel layer using the base catalyst, and has the advantage that the process can be conveniently performed using a chemical method without going through a high-temperature sintering process. have. In addition, the base catalyst may prevent physical properties from deteriorating due to contact with water during curing of the multilayer sol-gel layer. Further, since the base catalyst has a high boiling point and a low vapor pressure, it can help to improve the working environment by greatly reducing the risk of fire due to exposure to toxic gases or volatility during work.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 다층형 저반사 코팅층으로 형성되는 단계는, 침지법, 코팅법 또는 분사법을 이용하는 것일 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the step of forming the multi-layered low-reflective coating layer may be using an immersion method, a coating method, or a spray method.

구체적으로, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 기재 상에 구비된 다층의 졸-겔 층을 상기 염기 촉매에 접촉시키는 것은 스핀 코팅, 딥 코팅, 분무 코팅 등의 액상 물질의 퇴적 방법을 이용할 수 있다. Specifically, according to an exemplary embodiment of the present invention, in contacting the multilayer sol-gel layer provided on the substrate with the base catalyst, a method of depositing a liquid material such as spin coating, dip coating, or spray coating may be used. have.

구체적으로, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 기재 상에 구비된 다층의 졸-겔 층을 상기 염기 촉매에 접촉시키는 것은, 상기 다층의 졸-겔 층이 일면 상에 구비된 상기 기재를 상기 염기 촉매에 침지시키는 것일 수 있다. Specifically, according to an exemplary embodiment of the present invention, contacting the multi-layered sol-gel layer provided on the base material with the base catalyst includes the base material having the multi-layered sol-gel layer provided on one surface thereof. It may be immersed in a base catalyst.

상기 침지 방법을 이용하여 상기 다층의 졸-겔 층과 상기 염기 촉매를 접촉시키는 경우, 매우 간편하게 공정을 수행할 수 있으며, 생산 설비를 최소화할 수 있는 장점이 있다.When the multi-layered sol-gel layer and the base catalyst are contacted using the immersion method, the process can be performed very simply, and production equipment can be minimized.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 염기 촉매는 아민계 염기 촉매, 인산계 염기 촉매 및 이미다졸계 염기 촉매 중 적어도 1종을 포함할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the base catalyst may include at least one of an amine base catalyst, a phosphoric acid base catalyst, and an imidazole base catalyst.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 다층형 저반사 코팅층으로 형성되는 단계는 아민계 염기 촉매를 이용할 수 있다. 구체적으로, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 다층형 저반사 코팅층으로 형성되는 단계는 아민계 염기 촉매로서, 트리옥틸아민(TOA)을 사용할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the step of forming the multi-layered low-reflective coating layer may use an amine-based base catalyst. Specifically, according to an exemplary embodiment of the present invention, the step of forming the multi-layered low-reflective coating layer may use trioctylamine (TOA) as an amine-based base catalyst.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 염기 촉매는 하기 화학식 1 내지 화학식 10으로 표시되는 화합물 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the base catalyst may include at least one of the compounds represented by the following Chemical Formulas 1 to 10.

[화학식 1] [Formula 1]

Figure 112017128453993-pat00002
Figure 112017128453993-pat00002

[화학식 2] [Formula 2]

Figure 112017128453993-pat00003
Figure 112017128453993-pat00003

[화학식 3] [Formula 3]

Figure 112017128453993-pat00004
Figure 112017128453993-pat00004

[화학식 4] [Formula 4]

Figure 112017128453993-pat00005
Figure 112017128453993-pat00005

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112017128453993-pat00006
Figure 112017128453993-pat00006

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112017128453993-pat00007
Figure 112017128453993-pat00007

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112017128453993-pat00008
Figure 112017128453993-pat00008

[화학식 8][Formula 8]

Figure 112017128453993-pat00009
Figure 112017128453993-pat00009

[화학식 9][Formula 9]

Figure 112017128453993-pat00010
Figure 112017128453993-pat00010

[화학식 10][Formula 10]

Figure 112017128453993-pat00011
Figure 112017128453993-pat00011

상기 화학식 1 내지 화학식 10에 있어서, In Formulas 1 to 10,

R1 내지 R32는 각각 독립적으로, 수소; 또는 탄소수 1 내지 40의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기; 또는 탄소수 6 내지 50의 아릴기;이고, R1 to R32 are each independently hydrogen; Or a C1-C40 linear or branched alkyl group; Or an aryl group having 6 to 50 carbon atoms; and,

n 및 x는 1 내지 3 중 어느 하나의 정수이며, o 내지 q는 1 내지 4 중 어느 하나의 정수이고, m 및 r 내지 w는 1 내지 5 중 어느 하나의 정수이며, n and x are any one integer from 1 to 3, o to q are any one of 1 to 4, m and r to w are any one of 1 to 5,

n 이 2 이상인 경우 R6은 동일 또는 상이할 수 있고, m이 2 이상인 경우 R7은 동일 또는 상이할 수 있으며, o가 2 이상인 경우 R16은 동일 또는 상이할 수 있고, p가 2 이상인 경우 R17은 동일 또는 상이할 수 있으며, q가 2 이상인 경우 R18은 동일 또는 상이할 수 있고, r이 2 이상인 경우 R19는 동일 또는 상이할 수 있으며, s가 2 이상인 경우 R20은 동일 또는 상이할 수 있고, t가 2 이상인 경우 R21은 동일 또는 상이할 수 있으며, u가 2 이상인 경우 R22는 동일 또는 상이할 수 있고, v가 2 이상인 경우 R23은 동일 또는 상이할 수 있으며, w가 2 이상인 경우 R25는 동일 또는 상이할 수 있고, x가 2 이상인 경우 R32는 동일 또는 상이할 수 있다.When n is 2 or more, R6 may be the same or different, when m is 2 or more, R7 may be the same or different, and when o is 2 or more, R16 may be the same or different, and when p is 2 or more, R17 is the same. Or they may be different, and when q is 2 or more, R18 may be the same or different, when r is 2 or more, R19 may be the same or different, and when s is 2 or more, R20 may be the same or different, and t is If 2 or more, R21 may be the same or different, if u is 2 or more, R22 may be the same or different, if v is 2 or more, R23 may be the same or different, and if w is 2 or more, R25 may be the same or different. May be, and when x is 2 or more, R32 may be the same or different.

본 명세서에 있어서, 상기 알킬기는 치환 또는 비치환된 것일 수 있으며, 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 1 내지 40인 것이 바람직하다. 구체적인 예로는 메틸, 에틸, 프로필, n-프로필, 이소프로필, 부틸, n-부틸, 이소부틸, tert-부틸, sec-부틸, 1-메틸-부틸, 1-에틸-부틸, 펜틸, n-펜틸, 이소펜틸, 네오펜틸, tert-펜틸, 헥실, n-헥실, 1-메틸펜틸, 2-메틸펜틸, 4-메틸-2-펜틸, 3,3-디메틸부틸, 2-에틸부틸, 헵틸, n-헵틸, 1-메틸헥실, 시클로펜틸메틸, 시클로헥실메틸, 옥틸, n-옥틸, tert-옥틸, 1-메틸헵틸, 2-에틸헥실, 2-프로필펜틸, n-노닐, 2,2-디메틸헵틸, 1-에틸-프로필, 1,1-디메틸-프로필, 이소헥실, 2-메틸펜틸, 4-메틸헥실, 5-메틸헥실 등이 있으나, 이들에 한정되지 않는다.In the present specification, the alkyl group may be substituted or unsubstituted, may be linear or branched, and the number of carbon atoms is not particularly limited, but is preferably 1 to 40. Specific examples include methyl, ethyl, propyl, n-propyl, isopropyl, butyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, sec-butyl, 1-methyl-butyl, 1-ethyl-butyl, pentyl, n-pentyl , Isopentyl, neopentyl, tert-pentyl, hexyl, n-hexyl, 1-methylpentyl, 2-methylpentyl, 4-methyl-2-pentyl, 3,3-dimethylbutyl, 2-ethylbutyl, heptyl, n -Heptyl, 1-methylhexyl, cyclopentylmethyl, cyclohexylmethyl, octyl, n-octyl, tert-octyl, 1-methylheptyl, 2-ethylhexyl, 2-propylpentyl, n-nonyl, 2,2-dimethyl Heptyl, 1-ethyl-propyl, 1,1-dimethyl-propyl, isohexyl, 2-methylpentyl, 4-methylhexyl, 5-methylhexyl, and the like, but are not limited thereto.

본 명세서에 있어서, "치환"은 화합물의 탄소 원자에 결합된 수소 원자가 다른 치환기로 바뀌는 것을 의미하며, 치환되는 위치는 수소 원자가 치환되는 위치 즉, 치환기가 치환 가능한 위치라면 한정하지 않으며, 2 이상 치환되는 경우, 2 이상의 치환기는 서로 동일하거나 상이할 수 있다.In the present specification, "substitution" means that the hydrogen atom bonded to the carbon atom of the compound is replaced with another substituent, and the position to be substituted is not limited as long as the position where the hydrogen atom is substituted, that is, the position where the substituent can be substituted, and two or more substitutions If so, two or more substituents may be the same or different from each other.

본 명세서에 있어서, "치환 또는 비치환된"은 중수소; 할로겐기; 니트릴기; 니트로기; 히드록시기; 카보닐기; 에스테르기; 이미드기; 아미노기; 알킬기; 시클로알킬기; 알콕시기; 아릴옥시기; 알킬티옥시기; 아릴티옥시기; 알킬술폭시기; 알케닐기; 실릴기; 붕소기; 포스핀옥사이드기; 아민기; 아릴아민기; 아릴기; 및 N, O, S, Se 및 Si 원자 중 1개 이상을 포함하는 헤테로아릴기로 이루어진 군에서 선택된 1 또는 2 이상의 치환기로 치환되었거나 상기 예시된 치환기 중 2 이상의 치환기가 연결된 치환기로 치환되거나, 또는 어떠한 치환기도 갖지 않는 것을 의미한다.In the present specification, "substituted or unsubstituted" is deuterium; Halogen group; Nitrile group; Nitro group; Hydroxy group; Carbonyl group; Ester group; Imide group; Amino group; Alkyl group; Cycloalkyl group; Alkoxy group; Aryloxy group; Alkyl thioxy group; Arylthioxy group; Alkyl sulfoxy group; Alkenyl group; Silyl group; Boron group; Phosphine oxide group; Amine group; Arylamine group; Aryl group; And a heteroaryl group containing at least one of N, O, S, Se and Si atoms is substituted with one or two or more substituents selected from the group consisting of, or two or more of the substituents exemplified above are substituted with a connected substituent, or It means not having a substituent.

본 명세서에 있어서, 상기 아릴기는 치환 또는 비치환된 것일 수 있으며, 아릴기가 단환식 아릴기인 경우 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 6 내지 50인 것이 바람직하다. 구체적으로 단환식 아릴기로는 페닐기, 비페닐기, 터페닐기, 쿼터페닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 아릴기가 다환식 아릴기인 경우 탄소수는 특별히 한정되지 않으나. 탄소수 10 내지 40인 것이 바람직하다. 구체적으로 다환식 아릴기로는 나프틸기, 안트라세닐기, 페난트릴기, 파이레닐기, 페릴레닐기, 크라이세닐기, 플루오레닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In the present specification, the aryl group may be substituted or unsubstituted, and when the aryl group is a monocyclic aryl group, the number of carbon atoms is not particularly limited, but it is preferably 6 to 50 carbon atoms. Specifically, the monocyclic aryl group may be a phenyl group, a biphenyl group, a terphenyl group, or a quarterphenyl group, but is not limited thereto. When the aryl group is a polycyclic aryl group, the number of carbon atoms is not particularly limited. It is preferably 10 to 40 carbon atoms. Specifically, the polycyclic aryl group may be a naphthyl group, an anthracenyl group, a phenanthryl group, a pyrenyl group, a perylenyl group, a chrysenyl group, a fluorenyl group, and the like, but is not limited thereto.

구체적으로, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 염기 촉매는 하기 화학식 1-1 내지 화학식 10-3으로 표시되는 화합물 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. Specifically, according to an exemplary embodiment of the present invention, the base catalyst may include at least one of the compounds represented by the following Formulas 1-1 to 10-3.

[화학식 1-1] [Formula 1-1]

Figure 112017128453993-pat00012
Figure 112017128453993-pat00012

[화학식 2-1][Formula 2-1]

Figure 112017128453993-pat00013
Figure 112017128453993-pat00013

[화학식 3-1][Formula 3-1]

Figure 112017128453993-pat00014
Figure 112017128453993-pat00014

[화학식 4-1][Formula 4-1]

Figure 112017128453993-pat00015
Figure 112017128453993-pat00015

[화학식 5-1] [Chemical Formula 5-1]

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Figure 112017128453993-pat00016

[화학식 6-1][Formula 6-1]

Figure 112017128453993-pat00017
Figure 112017128453993-pat00017

[화학식 7-1][Chemical Formula 7-1]

Figure 112017128453993-pat00018
Figure 112017128453993-pat00018

[화학식 8-1][Chemical Formula 8-1]

Figure 112017128453993-pat00019
Figure 112017128453993-pat00019

[화학식 9-1][Chemical Formula 9-1]

Figure 112017128453993-pat00020
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[화학식 10-1][Formula 10-1]

Figure 112017128453993-pat00021
Figure 112017128453993-pat00021

[화학식 10-2][Formula 10-2]

Figure 112017128453993-pat00022
Figure 112017128453993-pat00022

[화학식 10-3][Formula 10-3]

Figure 112017128453993-pat00023
Figure 112017128453993-pat00023

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 다층형 저반사 코팅층으로 형성되는 단계는, 60 ℃ 내지 120 ℃의 온도의 상기 염기 촉매에 상기 기재 상에 구비된 다층의 졸-겔 층을 접촉시키는 것일 수 있다. 구체적으로, 상기 다층형 저반사 코팅층으로 형성되는 단계는, 60 ℃ 내지 100 ℃, 또는 70 ℃ 내지 90 ℃의 온도에서 수행될 수 있다. 구체적으로, 상기 다층형 저반사 코팅층으로 형성되는 단계는 다층의 졸-겔 층이 일면 상에 구비된 상기 기재를 60 ℃ 내지 120 ℃, 60 ℃ 내지 100 ℃, 70 ℃ 내지 90 ℃, 또는 70 ℃ 내지 80 ℃로 조절된 상기 염기 촉매에 침지시키는 것일 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the step of forming the multi-layered low-reflection coating layer may be to contact the multi-layered sol-gel layer provided on the substrate with the base catalyst at a temperature of 60°C to 120°C. have. Specifically, the step of forming the multi-layered low-reflective coating layer may be performed at a temperature of 60°C to 100°C, or 70°C to 90°C. Specifically, in the step of forming the multi-layered low-reflection coating layer, the base material having a multi-layered sol-gel layer on one side is 60°C to 120°C, 60°C to 100°C, 70°C to 90°C, or 70°C. It may be to be immersed in the base catalyst adjusted to 80 ℃.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 다층형 저반사 코팅층으로 형성되는 단계는, 1분 내지 20분, 또는 3분 내지 10분 동안 수행되는 것일 수 있다. 구체적으로, 상기 다층형 저반사 코팅층으로 형성되는 단계는, 70 ℃ 내지 90 ℃의 온도에서 3분 내지 7분 동안 수행되는 것일 수 있다.According to an exemplary embodiment of the present invention, the step of forming the multilayered low-reflection coating layer may be performed for 1 minute to 20 minutes, or 3 minutes to 10 minutes. Specifically, the step of forming the multi-layered low-reflection coating layer may be performed for 3 to 7 minutes at a temperature of 70 to 90°C.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 저굴절층의 두께 및 상기 고굴절층의 두께는 각각 50 ㎚ 이상 200 ㎚ 이하일 수 있다. 구체적으로, 상기 저굴절 실리카 코팅층의 두께는 50 ㎚ 이상 120 ㎚ 이하일 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the thickness of the low refractive layer and the thickness of the high refractive layer may be 50 nm or more and 200 nm or less, respectively. Specifically, the thickness of the low refractive silica coating layer may be 50 nm or more and 120 nm or less.

본 발명의 일 실시상태에 따른 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법은 120 ℃ 이하의 낮은 온도에서 수행되므로, 고분자 기재 상에 직접 다층형 저반사 코팅층을 형성할 수 있는 장점이 있다. 구체적으로, 본 발명의 일 실시상태에 따른 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법은 전 공정이 120 ℃ 이하, 100 ℃ 이하, 또는 80 ℃ 이하의 온도에서 수행되므로, 고분자 기재의 열변형을 방지할 수 있는 장점이 있으며, 이를 이용하여, 고분자 기재 상에 직접 다층형 저반사 코팅층을 형성할 수 있다. Since the method of manufacturing an optical member including a multi-layered low-reflection coating layer according to an exemplary embodiment of the present invention is performed at a low temperature of 120° C. or less, there is an advantage in that a multi-layered low-reflection coating layer can be formed directly on a polymer substrate. . Specifically, in the method of manufacturing an optical member including a multilayered low-reflection coating layer according to an exemplary embodiment of the present invention, since the entire process is performed at a temperature of 120°C or less, 100°C or less, or 80°C or less, heat of the polymer substrate There is an advantage of preventing deformation, and using this, it is possible to form a multilayered low-reflection coating layer directly on the polymer substrate.

나아가, 상기 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법으로 제조된 다층형 저반사 코팅층은 고온의 소성 공정을 수행하지 않더라도 500 ℃ 이상의 고온 소성 공정을 거치는 저반사 코팅층과 동등 또는 그 이상의 높은 강성을 구현할 수 있다.Furthermore, the multi-layered low-reflection coating layer manufactured by the method of manufacturing an optical member including the multi-layered low-reflection coating layer is equal to or higher than the low-reflection coating layer that undergoes a high-temperature sintering process of 500° C. Stiffness can be achieved.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재는 롤투롤 연속 공정으로 제조될 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the optical member including the multi-layered low-reflection coating layer may be manufactured by a continuous roll-to-roll process.

본 발명의 일 실시상태에 따른 제조방법은 증착 공정이 아닌 용액 공정으로 수행되므로, 롤투롤 연속 공정을 통한 대량 생산에 매우 적합한 장점이 있다. 나아가, 본 발명의 일 실시상태에 따른 제조방법은 고온의 소성 공정이 필요 없으므로, 내열성이 낮은 유연한 고분자 기재를 적용할 수 있다. 그러므로, 본 발명의 일 실시상태에 따른 제조방법은 롤투롤 연속 공정을 이용하여, 유연한 고분자 기재에 다층형 저반사 코팅층을 직접 형성할 수 있다. Since the manufacturing method according to an exemplary embodiment of the present invention is performed by a solution process rather than a deposition process, there is an advantage that is very suitable for mass production through a continuous roll-to-roll process. Furthermore, since the manufacturing method according to an exemplary embodiment of the present invention does not require a high-temperature firing process, a flexible polymer substrate having low heat resistance can be applied. Therefore, the manufacturing method according to an exemplary embodiment of the present invention can directly form a multilayered low-reflection coating layer on a flexible polymer substrate by using a roll-to-roll continuous process.

본 발명의 일 실시상태는, 상기 제조방법으로 제조된 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재를 제공한다. 구체적으로, 본 발명의 일 실시상태는, 기재의 일면 상에 상기 제조방법에 의하여 제조된 다층형 저반사 코팅층이 구비된 광학 부재를 제공한다. An exemplary embodiment of the present invention provides an optical member including a multilayered low-reflective coating layer manufactured by the above manufacturing method. Specifically, an exemplary embodiment of the present invention provides an optical member provided with a multilayered low-reflective coating layer manufactured by the above manufacturing method on one surface of a substrate.

구체적으로, 상기 다층형 저반사 코팅층은 우수한 표면 강도 및 낮은 광반사율을 가지므로, 디스플레이 소자의 저반사 코팅층으로 적용될 수 있다.Specifically, since the multi-layered low-reflection coating layer has excellent surface strength and low light reflectance, it can be applied as a low-reflection coating layer of a display device.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 기재는 편광 필름, 휘도 향상 필름 또는 위상차 필름일 수 있다. 구체적으로, 상기 광학 부재는 상기 다층형 저반사 코팅층이 구비된 편광판일 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, the substrate may be a polarizing film, a brightness enhancing film, or a retardation film. Specifically, the optical member may be a polarizing plate provided with the multi-layered low-reflective coating layer.

본 발명의 일 실시상태는 상기 광학부재를 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다. An exemplary embodiment of the present invention provides a display device including the optical member.

이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 기술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되지 않는다. 본 명세서의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.Hereinafter, examples will be described in detail to illustrate the present invention in detail. However, the embodiments according to the present invention may be modified in various other forms, and the scope of the present invention is not construed as being limited to the embodiments described below. The embodiments of the present specification are provided to more completely describe the present invention to those of ordinary skill in the art.

[[ 실시예Example 1] One]

저굴절층용For low refractive layer 졸-겔 용액의 제조 Preparation of sol-gel solution

에탄올에 TEOS를 혼합하여 실리카 전구체 분산액을 제조하였다. 제조된 실리카 전구체 분산액을 교반하며, 염산 수용액을 적가하여 저굴절층용 졸-겔 용액을 제조하였다. 상기 저굴절층용 졸-겔 용액의 제조 시의 TEOS, 에탄올, 물, 염산의 몰비는 1:4:4:0.2 이었다. 상기 저굴절층용 졸-겔 용액의 고형분 함량은 약 11 wt% 로 계산된다. 즉, 상기 저굴절층용 졸-겔 용액 내의 졸-겔의 함량은 약 11 wt%이다.TEOS was mixed with ethanol to prepare a silica precursor dispersion. The prepared silica precursor dispersion was stirred, and an aqueous hydrochloric acid solution was added dropwise to prepare a sol-gel solution for a low refractive layer. The molar ratio of TEOS, ethanol, water and hydrochloric acid at the time of preparing the sol-gel solution for the low refractive layer was 1:4:4:0.2. The solid content of the sol-gel solution for the low refractive layer is calculated to be about 11 wt%. That is, the content of the sol-gel in the sol-gel solution for the low refractive layer is about 11 wt%.

고굴절층용For high refractive layer 졸-겔 용액의 제조 Preparation of sol-gel solution

에탄올 및 아세틸아세톤의 혼합 용매에 지르코늄 n-프로폭사이드를 혼합하여 금속 산화물 전구체 분산액을 제조하였다. 제조된 금속 산화물 전구체 분산액을 교반하며, 아세트산 수용액 및 염산 수용액을 적가하여 고굴절층용 졸-겔 용액을 제조하였다. 상기 고굴절층용 졸-겔 용액의 제조 시의 지르코늄 n-프로폭사이드, 물, 에탄올, 아세트산, 염산의 몰비는 1:4:12:1:0.47 이었다. 상기 고굴절층용 졸-겔 용액의 고형분 함량은 약 9 wt% 로 계산된다. 즉, 상기 고굴절층용 졸-겔 용액 내의 졸-겔의 함량은 약 9 wt%이다.A metal oxide precursor dispersion was prepared by mixing zirconium n-propoxide in a mixed solvent of ethanol and acetylacetone. The prepared metal oxide precursor dispersion was stirred, and an aqueous acetic acid solution and an aqueous hydrochloric acid solution were added dropwise to prepare a sol-gel solution for a high refractive layer. The molar ratio of zirconium n-propoxide, water, ethanol, acetic acid, and hydrochloric acid in the preparation of the sol-gel solution for the high refractive layer was 1:4:12:1:0.47. The solid content of the sol-gel solution for the high refractive layer is calculated to be about 9 wt%. That is, the content of the sol-gel in the sol-gel solution for the high refractive layer is about 9 wt%.

바코팅을 이용하여 상기 고굴절층용 졸-겔 용액을 PET 기재(광굴절률: 1.58 @550 ㎚) 상에 코팅하고, 80 ℃의 대류 오븐(convection oven)에서 1 분간 건조하여 70 ㎚ 두께의 고굴절 졸-겔 층을 형성하였다. 그리고, 바코팅을 이용하여 상기 저굴절층용 졸-겔 용액을 상기 고굴절 졸-겔 층 상에 코팅하고, 80 ℃의 대류 오븐(convection oven)에서 1 분간 건조하여 95 ㎚ 두께의 저굴절 졸-겔 층을 형성하였다. The high refractive sol-gel solution for the high refractive layer was coated on a PET substrate (photorefractive index: 1.58 @550 ㎚) using bar coating, and dried in a convection oven at 80° C. for 1 minute, and a high refractive sol having a thickness of 70 nm- A gel layer was formed. Then, the sol-gel solution for the low refractive layer was coated on the high refractive sol-gel layer using bar coating, and dried in a convection oven at 80° C. for 1 minute to obtain a low refractive sol-gel having a thickness of 95 nm. A layer was formed.

나아가, 기재 상에 고굴절 졸-겔 층, 및 저굴절 졸-겔 층이 순차적으로 구비된 적층체를 80 ℃의 트리옥틸 아민(TOA) 에 5분간 침치시킨 후 꺼내어, 40 ℃의 증류수로 세척하였다. 이후, 물기를 제거하고, 80 ℃의 대류 오븐(convection oven)에서 2 분간 건조하여, 기재 상에 고굴절층(매트릭스 조성: ZrO2) 및 저굴절층(매트릭스 조성: SiO2)이 순차적으로 구비된 광학 부재를 제조하였다.Further, a laminate having a high-refractive sol-gel layer and a low-refractive sol-gel layer sequentially provided on the substrate was immersed in trioctyl amine (TOA) at 80° C. for 5 minutes, then taken out, and washed with distilled water at 40° C. . Thereafter, the water was removed and dried for 2 minutes in a convection oven at 80° C., and a high refractive layer (matrix composition: ZrO 2 ) and a low refractive layer (matrix composition: SiO 2 ) were sequentially provided on the substrate. The optical member was prepared.

[[ 실시예Example 2] 2]

저굴절층의 두께를 70 ㎚로 조절한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 광학 부재를 제조하였다. An optical member was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the low refractive layer was adjusted to 70 nm.

[[ 비교예Comparative example 1] One]

실시예 1의 저굴절층용 졸-겔 용액을 이용하였으며, 바코팅을 이용하여 PET 기재(광굴절률: 1.58 @550 ㎚) 상에 상기 저굴절층용 졸-겔 용액을 코팅하고, 80 ℃의 대류 오븐(convection oven)에서 1 분간 건조하여 70 ㎚ 두께의 저굴절 졸-겔 층을 형성하였다. 나아가, 기재 상에 저굴절 졸-겔 층이 구비된 적층체를 80 ℃의 트리옥틸 아민(TOA) 에 5분간 침치시킨 후 꺼내어, 40 ℃의 증류수로 세척하였다. 이후, 물기를 제거하고, 80 ℃의 대류 오븐(convection oven)에서 2 분간 건조하여, 기재 상에 저굴절층(매트릭스 조성: SiO2)이 구비된 광학 부재를 제조하였다. The sol-gel solution for the low refractive layer of Example 1 was used, and the sol-gel solution for the low refractive layer was coated on a PET substrate (photorefractive index: 1.58 @550 nm) using bar coating, and a convection oven at 80° C. It was dried in a (convection oven) for 1 minute to form a 70 nm-thick low-refractive sol-gel layer. Further, the laminate having a low refractive sol-gel layer on the substrate was immersed in trioctyl amine (TOA) at 80° C. for 5 minutes, then taken out, and washed with distilled water at 40° C. Thereafter, water was removed and dried in a convection oven at 80° C. for 2 minutes to prepare an optical member having a low refractive index layer (matrix composition: SiO 2 ) on the substrate.

[ [ 비교예Comparative example 2] 2]

실시예 1의 고굴절층용 졸-겔 용액을 이용하였으며, 바코팅을 이용하여 PET 기재(광굴절률: 1.58 @550 ㎚) 상에 상기 고굴절층용 졸-겔 용액을 코팅하고, 80 ℃의 대류 오븐(convection oven)에서 1 분간 건조하여 70 ㎚ 두께의 고굴절 졸-겔 층을 형성하였다. 나아가, 기재 상에 고굴절 졸-겔 층이 구비된 적층체를 80 ℃의 트리옥틸 아민(TOA) 에 5분간 침치시킨 후 꺼내어, 40 ℃의 증류수로 세척하였다. 이후, 물기를 제거하고, 80 ℃의 대류 오븐(convection oven)에서 2 분간 건조하여, 기재 상에 고굴절층(매트릭스 조성: ZrO2)이 구비된 광학 부재를 제조하였다.The sol-gel solution for the high refractive layer of Example 1 was used, and the sol-gel solution for the high refractive layer was coated on a PET substrate (photorefractive index: 1.58 @550 nm) using bar coating, and a convection oven at 80° C. oven) for 1 minute to form a 70 nm-thick high-refractive sol-gel layer. Further, the laminate having a high refractive sol-gel layer on the substrate was immersed in trioctyl amine (TOA) at 80° C. for 5 minutes, then taken out, and washed with distilled water at 40° C. Thereafter, water was removed and dried in a convection oven at 80° C. for 2 minutes to prepare an optical member having a high refractive index layer (matrix composition: ZrO 2 ) on the substrate.

[[ 비교예Comparative example 3] 3]

실시예 1의 고굴절층용 졸-겔 용액을 이용하였으며, 바코팅을 이용하여 PET 기재(광굴절률: 1.58 @550 ㎚) 상에 상기 고굴절층용 졸-겔 용액을 코팅하고, 80 ℃의 대류 오븐(convection oven)에서 1 분간 건조하여 140 ㎚ 두께의 고굴절 졸-겔 층을 형성하였다. 나아가, 기재 상에 고굴절 졸-겔 층이 구비된 적층체를 80 ℃의 트리옥틸 아민(TOA) 에 5분간 침치시킨 후 꺼내어, 40 ℃의 증류수로 세척하였다. 이후, 물기를 제거하고, 80 ℃의 대류 오븐(convection oven)에서 2 분간 건조하여, 기재 상에 고굴절층(매트릭스 조성: ZrO2)이 구비된 광학 부재를 제조하였다.The sol-gel solution for the high refractive layer of Example 1 was used, and the sol-gel solution for the high refractive layer was coated on a PET substrate (photorefractive index: 1.58 @550 nm) using bar coating, and a convection oven at 80° C. oven) for 1 minute to form a 140 nm-thick high refractive sol-gel layer. Further, the laminate having a high refractive sol-gel layer on the substrate was immersed in trioctyl amine (TOA) at 80° C. for 5 minutes, then taken out, and washed with distilled water at 40° C. Thereafter, water was removed and dried in a convection oven at 80° C. for 2 minutes to prepare an optical member having a high refractive index layer (matrix composition: ZrO 2 ) on the substrate.

[[ 비교예Comparative example 4] 4]

실시예 1의 저굴절층용 졸-겔 용액 및 고굴절층용 졸-겔 용액을 이용하였으며, 바코팅을 이용하여 상기 저굴절층용 졸-겔 용액을 PET 기재(광굴절률: 1.58 @550 ㎚) 상에 코팅하고, 80 ℃의 대류 오븐(convection oven)에서 1 분간 건조하여 95 ㎚ 두께의 저굴절 졸-겔 층을 형성하였다. 그리고, 바코팅을 이용하여 상기 고굴절층용 졸-겔 용액을 상기 저굴절 졸-겔 층 상에 코팅하고, 80 ℃의 대류 오븐(convection oven)에서 1 분간 건조하여 70 ㎚ 두께의 고굴절 졸-겔 층을 형성하였다. The sol-gel solution for the low refractive layer and the sol-gel solution for the high refractive layer of Example 1 were used, and the sol-gel solution for the low refractive layer was coated on a PET substrate (photorefractive index: 1.58 @550 nm) using bar coating. Then, it was dried in a convection oven at 80° C. for 1 minute to form a low refractive sol-gel layer having a thickness of 95 nm. Then, the sol-gel solution for the high refractive layer was coated on the low refractive sol-gel layer using bar coating, dried for 1 minute in a convection oven at 80° C., and a high refractive sol-gel layer having a thickness of 70 nm Formed.

나아가, 기재 상에 저굴절 졸-겔 층, 및 고굴절 졸-겔 층이 순차적으로 구비된 적층체를 80 ℃의 트리옥틸 아민(TOA) 에 5분간 침치시킨 후 꺼내어, 40 ℃의 증류수로 세척하였다. 이후, 물기를 제거하고, 80 ℃의 대류 오븐(convection oven)에서 2 분간 건조하여, 기재 상에 저굴절층(매트릭스 조성: SiO2) 및 고굴절층(매트릭스 조성: ZrO2)이 순차적으로 구비된 광학 부재를 제조하였다.Furthermore, a laminate having a low-refractive sol-gel layer and a high-refractive sol-gel layer sequentially provided on the substrate was immersed in trioctyl amine (TOA) at 80° C. for 5 minutes, then taken out, and washed with distilled water at 40° C. . Thereafter, water was removed and dried for 2 minutes in a convection oven at 80° C., and a low refractive layer (matrix composition: SiO 2 ) and a high refractive layer (matrix composition: ZrO 2 ) were sequentially provided on the substrate. The optical member was prepared.

상기 실시예 1 내지 실시예 2, 및 비교예 1 내지 비교예 4에 따른 광학 부재의 광반사율 및 스틸 울 경도는 하기 표 1과 같다. The optical reflectance and steel wool hardness of the optical members according to Examples 1 to 2 and Comparative Examples 1 to 4 are shown in Table 1 below.

하부 코팅층Lower coating layer 상부 코팅층Top coating layer 광반사율
(%, @50㎚)
Light reflectance
(%, @50nm)
스틸 울 경도
(g, @10회)
Steel wool hardness
(g, @ 10 times)
매트릭스 조성Matrix composition 두께
(㎚)
thickness
(Nm)
매트릭스 조성Matrix composition 두께
(㎚)
thickness
(Nm)
PETPET -- -- -- -- 5.055.05 < 40<40 실시예 1Example 1 ZrO2 ZrO 2 7070 SiO2 SiO 2 9595 1.031.03 600600 실시예 2Example 2 ZrO2 ZrO 2 7070 SiO2 SiO 2 7070 2.472.47 560560 비교예 1Comparative Example 1 SiO2 SiO 2 7070 -- -- 2.512.51 420420 비교예 2Comparative Example 2 ZrO2 ZrO 2 7070 -- -- 24.124.1 480480 비교예 3Comparative Example 3 ZrO2 ZrO 2 140140 -- -- 5.055.05 700700 비교예 4Comparative Example 4 SiO2 SiO 2 9595 ZrO2 ZrO 2 7070 17.217.2 600600

본 명세서에서, 광굴절율 및 시료의 두께는 엘립소미터(J.A. Woollam 사, M-2000UI)를 이용하여 시료의 임의의 10점에서 측정한 광굴절율 및 두께의 평균 값을 취하였다. In the present specification, the optical refractive index and the thickness of the sample were taken as the average value of the optical refractive index and thickness measured at random 10 points of the sample using an ellipsometer (J.A. Woollam, M-2000UI).

본 명세서에서, 광반사율은 시료를 블랙 PET에 부착한 후, 분광 측색계(Konica Minolta, CM-2600d)를 이용하여 시료의 임의의 10점에서의 정반사광을 포함한 파장별 광반사율을 측정한 값의 평균 값을 취하였다. In the present specification, the light reflectance is a value obtained by measuring light reflectance for each wavelength including regular reflected light at random 10 points of the sample using a spectrophotometer (Konica Minolta, CM-2600d) after attaching the sample to black PET. The average value of was taken.

본 명세서에서, 스틸 울 경도는 마모시험기(기배이앤티, KP-M4360)를 이용하여, 시료 표면에 하중을 가하며 25 cpm(cycle per minute)으로 10회 반복하여 표면의 손상 여부를 육안으로 확인하는 방법으로 측정하였다.In this specification, the hardness of the steel wool is determined by visually checking whether the surface is damaged by applying a load to the surface of the sample using an abrasion tester (KP-M4360) and repeating it 10 times at 25 cpm (cycle per minute). It was measured by the method.

표 1에 따르면, 실시예 1 및 실시예 2에 따른 광학 부재는 단층의 코팅층이 구비된 비교예 1 내지 비교예 3에 비하여 낮은 광반사율을 나타내는 것을 확인할 수 있다. 또한, 고굴절 코팅층이 최외곽에 구비된 비교예 4에 따른 광학 부재는 실시예 1 및 실시예 2에 따른 광학 부재에 비하여 상당히 높은 수준의 광반사율을 나타내는 것을 확인할 수 있다. 나아가, 실시예 1 및 실시예 2에 따른 광학 부재는 다층의 코팅층이 구비되더라도 표면 경도가 크게 저하되지 않는 것을 알 수 있다. According to Table 1, it can be seen that the optical members according to Examples 1 and 2 exhibit lower light reflectance compared to Comparative Examples 1 to 3 provided with a single-layer coating layer. In addition, it can be seen that the optical member according to Comparative Example 4 in which the high refractive coating layer is provided on the outermost side exhibits a considerably higher level of light reflectance than the optical members according to Examples 1 and 2. Furthermore, it can be seen that the surface hardness of the optical members according to Examples 1 and 2 does not significantly decrease even when a multi-layered coating layer is provided.

Claims (17)

제1 용매 및 알콕시 실란을 포함하는 실리카 전구체 분산액에 산성 촉매를 첨가하여, 저굴절층용 졸-겔 용액을 형성하는 단계;
제2 용매 및 금속 알콕사이드를 포함하는 금속 산화물 전구체 분산액에 산성 촉매를 첨가하여, 고굴절층용 졸-겔 용액을 형성하는 단계;
상기 저굴절층용 졸-겔 용액 및 상기 고굴절층용 졸-겔 용액을 기재 상에 교대로 도포 및 건조하여 다층의 졸-겔 층을 형성하는 단계; 및
상기 다층의 졸-겔 층을 염기 촉매에 접촉시켜, 저굴절층 및 고굴절층이 교대로 구비된 다층형 저반사 코팅층으로 형성되는 단계;를 포함하고,
상기 모든 공정은 120 ℃ 이하의 분위기에서 수행되는 것인 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법.
Forming a sol-gel solution for a low refractive layer by adding an acidic catalyst to a silica precursor dispersion containing a first solvent and an alkoxy silane;
Forming a sol-gel solution for a high refractive layer by adding an acidic catalyst to a dispersion of a metal oxide precursor containing a second solvent and a metal alkoxide;
Forming a multi-layered sol-gel layer by alternately applying and drying the sol-gel solution for the low refractive layer and the sol-gel solution for the high refractive layer on a substrate; And
Including; by contacting the multi-layered sol-gel layer with a base catalyst, forming a multi-layered low-reflective coating layer having a low refractive layer and a high refractive layer alternately provided;
All of the above processes are performed in an atmosphere of 120° C. or less. A method of manufacturing an optical member including a multilayered low-reflection coating layer.
청구항 1에 있어서,
상기 저굴절층용 졸-겔 용액 및 상기 고굴절층용 졸-겔 용액의 졸-겔 함량은 각각 5 wt% 이상 40 wt% 이하인 것인 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법.
The method according to claim 1,
The sol-gel solution for the low refractive layer and the sol-gel solution for the high refractive layer have a sol-gel content of 5 wt% or more and 40 wt% or less, respectively.
청구항 1에 있어서,
상기 저굴절층은 실리카 기반의 매트릭스를 포함하는 것인 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법.
The method according to claim 1,
The method of manufacturing an optical member including a multi-layered low-reflective coating layer wherein the low refractive layer includes a silica-based matrix.
청구항 1에 있어서,
상기 고굴절층은 금속 산화물 기반의 매트릭스를 포함하는 것인 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법.
The method according to claim 1,
The method of manufacturing an optical member including a multi-layered low-reflection coating layer, wherein the high refractive layer includes a metal oxide-based matrix.
청구항 1에 있어서,
상기 다층형 저반사 코팅층의 최외곽층은 저굴절층이 구비되는 것인 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법.
The method according to claim 1,
The method of manufacturing an optical member including a multi-layered low-reflection coating layer, wherein the outermost layer of the multi-layered low-reflection coating layer is provided with a low refractive index layer.
청구항 1에 있어서,
상기 알콕시 실란은 테트라에톡시실란, 테트라메톡시실란, 메톡시트리에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 트리메톡시페닐실란, 트리에톡시페닐실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 3-(아크릴로일옥시)프로필트리메톡시실란, 1,2-비스(트리에톡시실란)에탄, 및 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 중 적어도 하나를 포함하는 것인 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법.
The method according to claim 1,
The alkoxy silane is tetraethoxysilane, tetramethoxysilane, methoxytriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, trimethoxyphenylsilane, triethoxyphenylsilane, 2-(3, 4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, 3-(acryloyloxy)propyltrimethoxysilane, 1,2-bis(tri Ethoxysilane) ethane, and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane A method of manufacturing an optical member comprising a multi-layered low-reflection coating layer comprising at least one of.
청구항 1에 있어서,
상기 금속 알콕사이드는 알루미늄 이소프로폭사이드, 알루미늄 sec-부톡사이드, 세륨 이소프로폭사이드, 하프늄 tert-부톡사이드, 마그네슘 알루미늄 이소프로폭사이드, 이트륨 이소프로폭사이드, 티타늄 이소프로폭사이드, 루비듐 이소프로폭사이드, 지르코늄 n-프로폭사이드, 및 지르코늄 이소프로폭사이드 중 적어도 하나를 포함하는 것인 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법.
The method according to claim 1,
The metal alkoxide is aluminum isopropoxide, aluminum sec-butoxide, cerium isopropoxide, hafnium tert-butoxide, magnesium aluminum isopropoxide, yttrium isopropoxide, titanium isopropoxide, rubidium isopro A method of manufacturing an optical member comprising a multilayered low-reflective coating layer comprising at least one of widthside, zirconium n-propoxide, and zirconium isopropoxide.
청구항 1에 있어서,
상기 염기 촉매는 끓는점이 80 ℃ 이상의 무수물인 것인 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법.
The method according to claim 1,
The base catalyst is a method of manufacturing an optical member including a multi-layered low-reflective coating layer that has a boiling point of 80° C. or higher.
청구항 1에 있어서,
상기 염기 촉매는 아민계 염기 촉매, 인산계 염기 촉매 및 이미다졸계 염기 촉매 중 적어도 1종을 포함하는 것인 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법.
The method according to claim 1,
The base catalyst comprises at least one of an amine base catalyst, a phosphoric acid base catalyst, and an imidazole base catalyst. A method for manufacturing an optical member including a multilayer type low reflection coating layer.
청구항 1에 있어서,
상기 염기 촉매는 하기 화학식 1 내지 화학식 10으로 표시되는 화합물 중 적어도 하나를 포함하는 것인 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법:
[화학식 1]
Figure 112020067141230-pat00024

[화학식 2]
Figure 112020067141230-pat00025

[화학식 3]
Figure 112020067141230-pat00026

[화학식 4]
Figure 112020067141230-pat00027

[화학식 5]
Figure 112020067141230-pat00028

[화학식 6]
Figure 112020067141230-pat00029

[화학식 7]
Figure 112020067141230-pat00030

[화학식 8]
Figure 112020067141230-pat00031

[화학식 9]
Figure 112020067141230-pat00032

[화학식 10]
Figure 112020067141230-pat00033

상기 화학식 1 내지 화학식 10에 있어서,
R1 내지 R32는 각각 독립적으로, 수소; 또는 탄소수 1 내지 40의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기; 또는 탄소수 6 내지 50의 아릴기;이고,
n 및 x는 1 내지 3 중 어느 하나의 정수이며, o 내지 q는 1 내지 4 중 어느 하나의 정수이고, m 및 r 내지 w는 1 내지 5 중 어느 하나의 정수이며,
n 이 2 이상인 경우 R6은 동일 또는 상이할 수 있고, m이 2 이상인 경우 R7은 동일 또는 상이할 수 있으며, o가 2 이상인 경우 R16은 동일 또는 상이할 수 있고, p가 2 이상인 경우 R17은 동일 또는 상이할 수 있으며, q가 2 이상인 경우 R18은 동일 또는 상이할 수 있고, r이 2 이상인 경우 R19는 동일 또는 상이할 수 있으며, s가 2 이상인 경우 R20은 동일 또는 상이할 수 있고, t가 2 이상인 경우 R21은 동일 또는 상이할 수 있으며, u가 2 이상인 경우 R22는 동일 또는 상이할 수 있고, v가 2 이상인 경우 R23은 동일 또는 상이할 수 있으며, w가 2 이상인 경우 R25는 동일 또는 상이할 수 있고, x가 2 이상인 경우 R32는 동일 또는 상이할 수 있다.
The method according to claim 1,
The base catalyst is a method of manufacturing an optical member including a multi-layered low-reflection coating layer containing at least one of the compounds represented by the following formulas 1 to 10:
[Formula 1]
Figure 112020067141230-pat00024

[Formula 2]
Figure 112020067141230-pat00025

[Formula 3]
Figure 112020067141230-pat00026

[Formula 4]
Figure 112020067141230-pat00027

[Formula 5]
Figure 112020067141230-pat00028

[Formula 6]
Figure 112020067141230-pat00029

[Formula 7]
Figure 112020067141230-pat00030

[Formula 8]
Figure 112020067141230-pat00031

[Formula 9]
Figure 112020067141230-pat00032

[Formula 10]
Figure 112020067141230-pat00033

In Formulas 1 to 10,
R1 to R32 are each independently hydrogen; Or a C1-C40 linear or branched alkyl group; Or an aryl group having 6 to 50 carbon atoms; and,
n and x are any one integer from 1 to 3, o to q are any one of 1 to 4, m and r to w are any one of 1 to 5,
When n is 2 or more, R6 may be the same or different, when m is 2 or more, R7 may be the same or different, and when o is 2 or more, R16 may be the same or different, and when p is 2 or more, R17 is the same. Or they may be different, and when q is 2 or more, R18 may be the same or different, when r is 2 or more, R19 may be the same or different, and when s is 2 or more, R20 may be the same or different, and t is If 2 or more, R21 may be the same or different, if u is 2 or more, R22 may be the same or different, if v is 2 or more, R23 may be the same or different, and if w is 2 or more, R25 may be the same or different. May be, and when x is 2 or more, R32 may be the same or different.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 용매 및 상기 제2 용매는 각각 알코올계 용매; 케톤계 용매; 및 아세테이트계 용매 중 적어도 1종을 포함하는 유기 용매를 포함하는 것인 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법.
The method according to claim 1,
Each of the first solvent and the second solvent is an alcohol-based solvent; Ketone solvents; And an organic solvent containing at least one of acetate-based solvents. A method of manufacturing an optical member comprising a multilayered low-reflection coating layer.
청구항 1에 있어서,
상기 산성 촉매는 염산, 황산, 플루오르황산, 질산, 인산, 아세트산, 헥사플루오르인산, p-톨루엔설폰산 및 트리플루오로메탄술폰산 중 적어도 하나를 포함하는 것인 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법.
The method according to claim 1,
The acidic catalyst includes at least one of hydrochloric acid, sulfuric acid, fluorosulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, acetic acid, hexafluorophosphoric acid, p-toluenesulfonic acid, and trifluoromethanesulfonic acid.An optical member including a multilayered low-reflection coating layer Method of manufacturing.
청구항 1에 있어서,
상기 저굴절층용 졸-겔 용액 및 상기 고굴절층용 졸-겔 용액을 건조하는 것은, 각각 120 ℃ 이하의 온도에서 건조하여 제1 용매 및 제2 용매를 제거하는 것인 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법.
The method according to claim 1,
Drying the sol-gel solution for the low refractive layer and the sol-gel solution for the high refractive layer includes a multilayered low-reflection coating layer that is dried at a temperature of 120° C. or less to remove the first solvent and the second solvent. Method of manufacturing an optical member.
청구항 1에 있어서,
상기 다층형 저반사 코팅층으로 형성되는 단계는, 60 ℃ 내지 120 ℃의 온도의 상기 염기 촉매에 상기 기재 상에 구비된 다층의 졸-겔 층을 접촉시키는 것인 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법.
The method according to claim 1,
The step of forming the multi-layered low-reflection coating layer includes contacting the base catalyst at a temperature of 60°C to 120°C with a multi-layered sol-gel layer provided on the substrate. Method of manufacturing the member.
청구항 1에 있어서,
상기 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재는 롤투롤 연속 공정으로 제조되는 것인 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재의 제조방법.
The method according to claim 1,
The optical member including the multi-layered low-reflective coating layer is manufactured by a continuous roll-to-roll process.
청구항 1에 따른 제조방법으로 제조된 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재.An optical member comprising a multi-layered low-reflection coating layer manufactured by the manufacturing method according to claim 1. 청구항 16에 있어서,
상기 기재는 편광 필름, 휘도 향상 필름 또는 위상차 필름인 것인 다층형 저반사 코팅층을 포함하는 광학 부재.
The method of claim 16,
The substrate is a polarizing film, a luminance enhancing film, or an optical member comprising a multi-layered low-reflection coating layer that is a retardation film.
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