KR20210122252A - 샘플 분석 방법, 분석 장치 및 컴퓨터 프로그램 - Google Patents

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아디아리 팔라레로
파시 토이바넨
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Abstract

마이크로플레이트(1)의 웰(2) 내의 샘플(3)을 분석하는 방법은 제1 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 전자기 방사선을 생성하는 단계(101), 웰의 상단을 통해 마이크로플레이트(1) 위에서부터 샘플(3)에 방사선을 투과시킴으로써 샘플(3)을 조명하는 단계(102), 샘플(3)에 의해 방출되고 제2 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 광을 웰(2)의 상단을 통해 검출기(13)로 투과시키는 단계(103), 샘플(3)의 하나 이상의 소정 측정 영역(23)에 의해 방출된 광의 강도를 결정하는 단계(104), 결정된 강도에 기초하여 샘플(3)에 의해 방출된 광의 총량을 나타낸 결과 값을 결정하는 단계, 및 제2 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 광을 방출하는 스폿의 수를 카운팅하는 단계(106)를 포함한다.

Description

샘플 분석 방법, 분석 장치 및 컴퓨터 프로그램
본 발명은 청구범위 제1항에 정의된 바와 같이 마이크로플레이트의 웰에 배열된 하나 이상의 샘플을 분석하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 다른 독립 청구항에 따른 분석 장치 및 분석 장치를 작동시키기 위한 컴퓨터 프로그램에 관한 것이다.
형광을 기반으로 하는 분석은 일반적으로 생명 과학에서 사용된다. 형광은 발광의 일 형태이다. 형광은 광 또는 다른 전자기 방사선을 흡수한 물질에 의한 광(광자)의 방출을 의미한다. 에너지의 흡수는 분자의 궤도 전자를 더 높은 전자 상태로 여기시키고 바닥 상태로의 이완은 광자를 방출한다.
형광 분석은 형광단의 특성을 활용한다. 형광단은 한 파장의 광 에너지를 흡수하고, 이에 대응하여 또 다른 더 긴 파장의 광 에너지를 재방출한다. 각 형광단은 광을 흡수하는 특유의 파장 범위 및 광을 방출하는 또 다른 특유의 파장 범위를 갖는다. 이러한 특성은 분석 기기 및 기술에 의한 생물학적 제품의 특정 검출에 사용할 수 있다.
형광 분석에서, 샘플은 통상적으로 마이크로플레이트의 웰에 배열된다. 마이크로플레이트는 복수의 웰을, 즉 행과 열로 배열된 캐비티를, 포함하는 평판이다. 웰은 샘플을 수용하고 작은 시험관으로 기능하도록 구성된다. 통상적인 마이크로플레이트는 6, 24, 96, 384 또는 1536개의 웰을 포함하지만, 더 큰 마이크로플레이트도 존재한다.
특정 유형의 형광 분석에서, 형광 스폿이 형성되며 샘플의 분석은 형광 스폿 수의 카운팅에 주로 기반을 둔다. 스폿의 카운팅과 관련된 문제는 카운팅 프로세스가 분석 장치의 도움으로 인간 사용자에 의한 스폿의 검사에 크게 의존한다는 점이다. 이로 인해 분석에 시간이 많이 걸리고 극히 주관적이다. 추가적인 문제는 샘플에서 형광 스폿의 수가 많은 경우에 카운팅은 신뢰할 수 없게 된다는 점이다. 예를 들어, 96웰 마이크로플레이트에서 웰의 직경은 약 6 mm이다. 하나의 웰에서 스폿의 수가 예를 들어 500개 이상인 경우, 스폿이 너무 가까워 신뢰 가능한 스폿 카운팅이 어렵게 된다.
본 발명의 목적은 마이크로플레이트의 웰에 배열된 하나 이상의 샘플을 분석하는 개선된 방법을 제공하는 것이다. 본 발명에 따른 방법의 특징적인 특징은 청구범위 제1항에 기재되어 있다. 본 발명의 다른 목적은 개선된 분석 장치를 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 목적은 분석 장치를 작동시키기 위한 개선된 컴퓨터 프로그램을 제공하는 것이다. 분석 장치 및 컴퓨터 프로그램의 특징적인 특징은 다른 독립 청구항에 기재되어 있다.
본 발명에 따른 방법은 제1 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 전자기 방사선을 생성하는 단계, 웰의 상단을 통해 마이크로플레이트 위에서부터 샘플에 전자기 방사선을 투과시킴으로써 전자기 방사선에 의해 샘플을 조명하는 단계, 샘플에 의해 방출되고 제2 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 광을 웰의 상단을 통해 검출기로 투과시키는 단계, 샘플의 하나 이상의 소정 측정 영역에 의해 방출된 광의 강도를 결정하는 단계, 및 하나 이상의 측정 영역에 의해 방출된 광의 결정된 강도에 기초하여 샘플에 의해 방출되고 제2 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 광의 총량을 나타낸 결과 값을 결정하는 단계를 포함한다.
본 발명에 따른 분석 장치는 제1 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 전자기 방사선을 사용하여 마이크로플레이트의 웰의 상단을 통해 마이크로플레이트 위에서부터 샘플을 조명하기 위한 조명 수단, 샘플의 하나 이상의 측정 영역에 의해 웰의 상단을 통해 방출되고 제2 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 광의 강도를 결정하기 위한 검출 수단, 및 하나 이상의 측정 영역에 의해 방출된 광의 결정된 강도에 기초하여 샘플에 의해 방출되고 제2 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 광의 총량을 나타낸 결과 값을 결정하도록 구성된 수단을 포함한다.
본 발명에 따른 컴퓨터 프로그램은, 프로그램이 컴퓨터에 의해 실행될 때, 분석 장치가 위에서 정의된 방법 단계를 수행하게 하는 명령어를 포함한다.
본 발명에 따른 방법, 장치, 및 컴퓨터 프로그램으로, 샘플의 분석은 사용자의 판단에 덜 좌우될 것이다. 결과 값은 샘플에 의해 방출되는 광의 총량의 적분 또는 추정치를 나타낸다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 샘플은 복수의 소정 측정 영역을 포함하고, 결과 값은 복수의 측정 영역에 의해 방출된 광의 결정된 강도에 기초하여 계산된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 측정 영역은 웰의 전체 바닥을 커버한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 샘플의 하나 이상의 소정 측정 영역에 의해 방출된 광의 강도를 결정하기 위해, 샘플은 최대한 웰의 직경의 60%인 직경을 갖는 광 빔을 사용하여 조명된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 샘플의 하나 이상의 소정 측정 영역에 의해 방출된 광의 강도를 결정하기 위해, 한 번에 하나의 측정 영역이 조명된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 샘플의 하나 이상의 소정 측정 영역에 의해 방출된 광의 강도를 결정하기 위해 검출기로서 광전자 증배관이 사용된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 본 방법은 제2 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 광을 방출하는 스폿의 수를 카운팅하는 단계를 포함한다. 이러한 방법은 높은 감도를 제공하고 샘플의 빠른 스크리닝을 가능하게 한다. 또한, 형광 스폿의 단순 카운팅과 비교하여, 본 방법은 형광 스폿의 수가 너무 많이 존재하여 스폿의 카운팅을 신뢰할 수 없는 경우에도 측정이 가능하기 때문에 더 넓은 동적 신호 범위를 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 스폿을 카운팅하기 위해, 웰의 전체 바닥이 조명되고 샘플의 이미지를 형성하기 위해 카메라 센서가 사용된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 조명 수단은 전구, LED, 또는 레이저를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 분석 장치는 샘플을 조명하기 위해 파장을 선택하기 위한 수단을 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 샘플을 조명하기 위해 파장을 선택하기 위한 수단은 필터 또는 모노크로메이터를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 검출 수단은 광전자 증배관 또는 실리콘 포토다이오드를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 검출 수단은 카메라 센서를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 샘플의 복수의 측정 영역에 의해 방출된 광의 강도를 결정하기 위해, 장치는 한 번에 하나의 측정 영역을 연속해서 측정 영역을 조명하도록 구성된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 장치는 제2 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 광을 방출하는 스폿의 수를 카운트하기 위해 샘플의 이미지를 형성하도록 구성된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제2 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 광을 방출하는 스폿의 수를 카운팅하기 위해 샘플의 이미지를 형성하도록, 장치는 웰의 전체 바닥을 조명하도록 구성된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 장치는 제2 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 광을 방출하는 스폿의 수를 카운팅하도록 구성된 수단을 포함한다.
본 발명의 실시예를 첨부 도면을 참조하여 아래에서 보다 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 방법의 단계를 흐름도로서 나타내고 있고,
도 2는 본 발명에 따른 방법을 수행하기에 적합한 분석 장치의 주요 요소를 도시하고 있고,
도 3은 분석 장치의 제어 시스템의 일 예를 도시하고 있고,
도 4는 분석 장치에 사용하기 적합한 마이크로플레이트의 일 예를 도시하고 있고,
도 5는 마이크로플레이트의 웰에서 측정 지점의 일 예를 도시하고,
도 6은 분석 장치의 형광 측정 시스템의 일 예를 개략도로서 나타내고 있고,
도 7은 분석 장치의 이미징 시스템의 일 예를 개략도로서 나타내고 있고,
도 8은 본 발명에 따른 방법에 의해 얻은 형광 분석의 측정 결과의 일 예를 도시하고 있고,
도 9는 도 8과 동일한 분석에 기초한 스폿 카운팅 결과를 도시하고 있고,
도 10은 ELISpot/FluoroSpot 분석의 작업 흐름을 개략적으로 도시하고 있다.
본 발명은 마이크로플레이트의 웰에 배열된 하나 이상의 샘플을 분석하는 방법, 분석 장치, 및 분석 장치를 작동시키기 위한 컴퓨터 프로그램에 관한 것이다.
본 발명에 따른 방법에서, 샘플에 의해 방출된 광의 강도가 측정된다. 따라서, 본 방법은 생명 과학에서 일반적으로 사용되는 형광 기반 분석에 사용될 수 있다.
형광은 발광의 일 형태이다. 형광은 광 또는 다른 전자기 방사선을 흡수한 물질에 의한 광(광자)의 방출을 의미한다. 에너지의 흡수는 분자의 궤도 전자를 더 높은 전자 상태로 여기시키고 바닥 상태로의 이완은 광자를 방출한다.
FluoroSpot과 같은 형광 분석은 형광단의 특성을 활용한다. 형광단은 한 파장의 광 에너지를 흡수하고, 이에 대응하여 또 다른 통상적으로 더 긴 파장의 광 에너지를 재방출한다. 각 형광단은 광을 흡수하는 특유의 파장 범위 및 광을 방출하는 또 다른 특유의 파장 범위를 갖는다. 이러한 특성은 분석 기기 및 기술에 의한 생물학적 제품의 특정 검출에 사용할 수 있다.
FluoroSpot 분석은 일반적으로 사용되는 ELISpot 분석의 변이형이다. 도 10은 FluoroSpot/ELISpot 분석의 개략도를 나타낸다. FluoroSpot 분석은 면역 반응을 연구하는 데 사용될 수 있다. 마이크로플레이트의 웰(2)의 바닥은 멤브레인을 구비하고 적절한 항체(30)(포획 항체)로 코팅된다. 세포(31)는 예를 들어 사이토카인, 케모카인 또는 면역글로불린일 수 있는 분석물(32)을 생성하기 위해 웰(2)에서 배양되고 자극된다. 세포(31)에 의해 분비되는 이러한 분석물(32)은 플레이트에 결합된 항체(30)에 의해 포획된다. 그 후, 세포(31)는 웰(2)로부터 제거된다. 형광성 표지 검출 형광단 항체를 웰(2)에 첨가하여 분비된 분석물(32)을 검출한다. 예를 들어, 비오티닐레이트화 검출 항체(33) 및 스트렙타비딘-효소 공액체(34)를 사용할 수 있다. 따라서, 형광 스폿은 웰의 바닥 상의 멤브레인에 고정되게 형성되며 이러한 스폿은 분석 장치를 사용하여 검출될 수 있다. 우측의 웰은 FluoroSpot 분석을 도시하고 있고 좌측의 웰은 ELISpot 분석을 도시하고 있다. 하나의 스폿은 분석물을 분비한 하나의 세포에 대응하는 것으로 가정한다. 형광 스폿의 수를 카운팅함으로써, 면역학적 적용분야에서 매우 적절한 파라미터인 항원 특이적 T 세포의 빈도를 결정할 수 있다.
형광 분석에서, 샘플은 통상적으로 마이크로플레이트의 웰에 배열된다. 도 4는 마이크로플레이트(1)의 일 예를 도시하고 있다. 마이크로플레이트(1)(예를 들어, 마이크로타이터 플레이트, 마이크로웰 플레이트, 멀티웰 플레이트 또는 멀티웰이라고도 함)는 복수의 웰(2)을, 즉 행과 열로 배열된 캐비티를, 포함하는 평판이다. 마이크로플레이트(1)의 웰(2)은 샘플을 수용하고 작은 시험관으로 기능하도록 구성된다. 통상적인 마이크로플레이트는 6, 24, 96, 384 또는 1536개의 웰을 포함하지만, 더 큰 마이크로플레이트도 존재한다. 웰(2)은 측면 사이의 비율이 통상적으로 2:3인 직사각형 매트릭스로 배열된다. 도 4는 96개의 웰(2)이 있는 마이크로플레이트(1)를 도시하고 있다. 그러나, 본 발명에 따른 방법 및 장치에서 다른 마이크로플레이트 크기를 사용할 수도 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 방법의 단계를 도시하고 있다. 본 방법의 제1 단계(101)에서, 제1 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 전자기 방사선이 생성된다. 본 방법의 제2 단계(102)에서, 샘플(3)은 마이크로플레이트(1) 위에서부터 샘플(3)에 전자기 방사선을 투과시킴으로써 전자기 방사선에 의해 조명된다. 본 방법의 제3 단계(103)에서, 샘플(3)에 의해 방출되고 제2 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 광은 웰(2)의 상단을 통해 검출기 또는 검출 수단으로 투과된다. 제2 파장 또는 파장 범위는 제1 소정 파장 또는 파장 범위와 다르다. 본 방법의 제4 단계(104)에서, 샘플(3)의 하나 이상의 소정 측정 영역(23)에 의해 방출된 광의 강도가 결정된다. 측정 영역(23)의 일 예를 도 5에 도시하고 있다. 도 5의 예에서, 웰(2)에 복수의 측정 영역(23)이 있다. 그러나, 복수의 측정 영역(23) 대신, 단일 측정 영역이 있을 수 있다. 단일 측정 영역은 웰(2)의 전체 바닥을 커버할 수 있다. 본 방법의 제5 단계(105)에서, 샘플(3)에 의해 방출되고 제2 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 광의 총량을 나타낸 결과 값은 측정 영역(23)에 의해 방출된 광의 결정된 강도에 기초하여 결정된다. 따라서, 분석된 샘플에 대해 단일 결과 값이 결정된다. 값은 샘플에 존재하는 형광 스폿의 수와 상관관계가 있다. 제5 단계(105)는 컴퓨터에 의해 구현된다. 본 발명에 따른 방법은 분석 장치에 의해 수행될 수 있다.
본 방법은 제6 단계(106)를 더 포함할 수 있다. 본 방법의 제6 단계(106)에서, 제2 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 광을 방출하는 스폿의 수가 카운팅된다. 제6 단계(106)는 컴퓨터에 의해 구현된다. 결과 값의 결정 및 스폿의 카운팅은 전술한 순서대로 수행될 필요는 없지만, 예를 들어 결과 값이 결정되기 전에 또는 본 방법의 제5 단계(105)와 동시에 스폿을 카운팅할 수도 있다. 동일한 검출 수단 또는 상이한 검출 수단은 스폿 카운팅 및 방출된 광의 강도 결정에 사용될 수 있다. 샘플은 스폿 카운팅 및 방출된 광의 강도 결정을 위해 별도로 조명될 수 있다. 예를 들어, 스폿 카운팅의 경우에 웰의 전체 바닥을 즉시 조명할 수 있지만, 방출된 광의 강도를 결정하기 위해서는 샘플을 복수의 측정 영역으로 구분할 수 있으며 한 번에 하나의 측정 영역을 조명한다.
본 발명에 따른 방법의 이점은 분석이 사용자의 판단에 덜 좌우된다는 점이다. 또한, 형광 스폿의 단순 카운팅과 비교하여, 본 방법은 형광 스폿의 수가 신뢰 가능한 카운팅에 대해 너무 많은 경우에도 측정을 할 수 있으므로 더 넓은 동적 신호 범위를 제공한다.
본 발명에 따른 방법은 분석 장치(10)에 의해 구현될 수 있다. 마이크로플레이트(1)는 통상적으로 샘플을 유지하는 데 사용되기 때문에, 이러한 분석 장치는 본원에서 마이크로플레이트 판독기로 지칭된다.
본 발명에 따른 방법을 구현하기에 적합한 마이크로플레이트 판독기(10)의 주요 부품은 도 2에 개략적으로 도시되어 있다. 마이크로플레이트 판독기(10)는 마이크로플레이트(1)(도 2에 도시되지 않음)에서 샘플(3)의 생물학적, 화학적, 또는 물리적 이벤트를 검출할 수 있다. 마이크로플레이트 판독기의 작동은 흡광도 또는 발광과 같은 다양한 현상에 근거할 수 있다. 본 발명에 따른 방법이 형광 기반 분석에 사용되기 때문에, 본 방법을 구현하는 데 사용되는 마이크로플레이트 판독기(10)는 적어도 형광을 측정하도록 구성된다. 그러나, 마이크로플레이트 판독기(10)는 상이한 분석에 사용될 수 있는 다중 모드 판독기일 수도 있다.
마이크로플레이트 판독기(10)는 마이크로플레이트(1)의 웰(2)에 배열된 샘플(3)에 의해 방출된 전자기 방사선을 측정하도록 구성된다. 마이크로플레이트 판독기(10)는 특정 파장 또는 파장 범위를 갖는 전자기 방사선을 생성할 수 있는 조명 장치 또는 조명 수단(11)을 포함한다. 파장은 마이크로플레이트 판독기(10)의 사용자에 의해 선택되는 것이 바람직할 수 있다. 전자기 방사선은 가시광선(파장 범위 약 380 내지 750 nm), 자외선(10 내지 380 nm) 또는 적외선(750 nm 내지 1 mm)일 수 있다. 조명 수단(11)은 마이크로플레이트(1)의 웰(2) 내의 샘플(3)을 조명하도록 구성된다. 하나의 샘플(3) 또는 샘플의 일부는 한 번에 조명될 수 있거나, 또는 마이크로플레이트 판독기(10)는 한 번에 여러 샘플을 조명하도록 구성될 수 있다.
조명 수단(11)은 크세논 플래시 램프 또는 할로겐 램프와 같은 전구일 수 있는 광원(16)을 포함한다. 대안적으로, 광원(16)은 LED 또는 레이저일 수 있다. 조명 수단(11)은 함께 사용될 수 있는 여러 광원을 포함할 수 있거나, 또는 상이한 측정 목적을 위해 서로 다른 광원을 사용할 수 있다. 조명 수단(11)이 레이저를 포함하는 경우, 특정 파장을 갖는 광이 직접 생성될 수 있다. 광원(16)이 더 넓은 스펙트럼을 갖는 광을 생성하는 경우, 마이크로플레이트 판독기(10)는 샘플(3)을 조명하는 데 사용되는 광의 파장을, 즉 여기 파장을, 선택하기 위한 수단(17)을 포함할 수 있다. 여기 파장을 선택하기 위한 수단(17)(여기 파장 선택기)은 하나 이상의 필터 및/또는 모노크로메이터를 포함할 수 있다.
마이크로플레이트 판독기(10)는 검출기 또는 검출 수단(13)을 더 포함한다. 검출 수단(13)은 샘플(3)에 의해 방출된 전자기 방사선을 측정하도록 구성된다. 검출 수단(13)은 예를 들어 광전자 증배관, 카메라 센서, 또는 실리콘 포토다이오드를 포함할 수 있다. 마이크로플레이트 판독기(10)는 상이한 측정을 위해 둘 이상의 상이한 검출 수단(13)을 포함할 수 있다. 검출 수단(13)은 도 5의 예에 도시된 바와 같이 샘플의 하나 이상의 측정 영역(23)에 의해 방출된 광의 강도를 측정하도록 구성된다. 검출 수단(13)은 형광 스폿의 카운팅이 가능하도록 샘플의 이미지를 형성하는데 사용될 수도 있다.
마이크로플레이트 판독기(10)는 조명 및 측정 광학기(18)를 더 포함한다. 조명 광학기는 광원(16)으로부터 샘플(3)로 전자기 방사선을 집속시키도록 구성된다. 측정 광학기는 샘플(3)에 의해 방출된 광을 검출 수단(13)에 집속시키도록 구성된다. 조명 광학기와 측정 광학기는 적어도 부분적으로 동일할 수 있다.
마이크로플레이트 판독기(10)는 측정될 방출 파장을 선택하기 위한 수단(19)을 더 포함할 수 있다. 수단(19)(측정 파장 선택기)은 예를 들어 검출 수단(13) 이전에 마련되는 필터일 수 있다. 파장 선택 수단(19)은 측정될 파장만을 통과시키기 위해 사용된다. 따라서, 여기광은 검출 수단(13)으로부터 차단될 수 있다.
마이크로플레이트 판독기(10)는 샘플(3)을 측정 위치로 이동시키기 위한 포지셔닝 시스템 또는 포지셔닝 수단(29)을 더 포함할 수 있다. 포지셔닝 수단(29)은 마이크로플레이트를 이동시키도록 구성될 수 있다. 대안적으로, 포지셔닝 수단(29)은 선택된 샘플의 형광을 측정하기 위해 검출 수단(13)을 이동시키고 및/또는 조명 광학기 및 측정 광학기를 제어하도록 구성될 수 있다.
도 3은 마이크로플레이트 판독기(10)의 제어 시스템의 일 예를 도시하고 있다. 마이크로플레이트 판독기(10)는 입력 수단(14)을 통해 제어된다. 입력 수단(14)은 예를 들어 조작 버튼, 키보드, 및/또는 터치 디스플레이를 포함할 수 있다. 입력 수단(14)을 통해, 마이크로플레이트 판독기(10)의 사용자는 마이크로플레이트 판독기(10)의 작동을 제어하고, 파라미터를 조정하고, 및/또는 마이크로플레이트 판독기(10)의 설정을 변경할 수 있다. 분석 결과는 디스플레이(12)에 표시될 수 있다. 디스플레이(12)는 마이크로플레이트 판독기(10)의 일체형 부품이거나 마이크로플레이트 판독기(10)에 연결된 외부 디스플레이일 수 있다. 입력 수단(14), 조명 수단(11), 검출 수단(13), 및 디스플레이(12)는 중앙 처리 유닛(CPU)(15)과 통신한다. 또한, 포지셔닝 수단(29)은 CPU(15)에 의해 제어된다. 입력 수단(14) 및 디스플레이(12)는 CPU(15)에 직접 연결될 필요가 없다. 마이크로플레이트 판독기(10)는 PC와 같은 외부 범용 컴퓨터(21)에 설치된 소프트웨어를 통해 제어될 수도 있다. 따라서, 입력 수단(14)은 예를 들어 외부 컴퓨터(21)에 연결되는 키보드를 포함할 수 있다. 또한, 디스플레이(12)는 외부 컴퓨터(21)에 연결될 수 있다. 모든 연결은 유선 또는 임의의 무선 수단에 의해 구현될 수 있고 외부 컴퓨터(21)는 원격 서버 또는 클라우드 서버일 수 있다.
마이크로플레이트 판독기(10)가 형광 분석에 사용될 때, 사용자는 먼저 샘플을 조명하기 위해 원하는 파장을 설정한다. 사용자는 입력 수단(14)을 통해 원하는 여기 파장을 선택할 수 있다. 마이크로플레이트 판독기(10)는 특정 여기 대역폭의 선택을 가능하게 할 수 있으며, 이 경우 사용자는 샘플을 조명하기 위한 특정 파장 범위를 선택할 수 있다. 실제로, 특정 여기 파장이 선택되더라도, 마이크로플레이트 판독기(10)는 특정 대역폭을 갖는 전자기 방사선을 생성할 수 있다. 일반적으로 협대역폭이 바람직하다. 허용 가능한 대역폭은 적용분야에 따라 좌우된다. 일부 경우에, 20 nm의 대역폭이 충분하다. 일부 적용분야에서, 대역폭은 최대한으로 10 nm이여야 한다. 일부 적용분야에서, 대역폭은 2.5 nm를 초과하지 말아야 한다.
검출 수단(13)으로부터의 측정 데이터는 CPU(15)에 의해 수집된다. 데이터는 광의 총량을 나타낸 결과 값 또는 특정 파장에서 샘플(3)에 의해 방출되는 광의 총량의 추정치를 계산하는 데 사용된다. CPU(15) 또는 외부 컴퓨터(21)는 결과 값을 계산하기 위해 사용될 수 있다. CPU(15) 또는 외부 컴퓨터(21)는 형광 스폿의 수를 카운팅하도록 추가로 구성될 수 있다.
본 발명에 따른 마이크로플레이트 판독기(10)는 샘플에 의해 방출된 전자기 방사선을 측정하고 샘플의 이미지를 형성하도록 구성될 수 있다. 그러므로, 마이크로플레이트 판독기(10)는 형광 측정 수단 및 이미징 수단 둘 모두를 포함할 수 있다. 형광을 측정하고 샘플을 이미징하는 데 사용되는 수단은 적어도 부분적으로 동일할 수 있지만, 다음 설명에서 도 6 및 7을 참조하여 이러한 수단을 별도로 설명한다.
도 6은 조명 수단(11)에 의해 여기될 때 샘플(3)에 의해 방출되는 전자기 방사선을 측정하도록 구성되는 마이크로플레이트 판독기(10)의 형광 측정 시스템의 일 예를 단순화된 예시로서 나타내고 있다. 도 6의 예에서, 조명 수단(11)은 광원(16)을 포함한다. 광원(16)은 크세논 플래시 램프와 같은 광대역폭 램프일 수 있다. 광원(16)은 예를 들어 석영-할로겐 램프일 수도 있다. 광원(16)은 넓은 스펙트럼을 갖는 가시광선(파장 범위 약 380 내지 750 nm), 자외선(10 내지 380 nm) 또는 적외선(750 nm 내지 1 mm)과 같은 전자기 방사선을 생성한다. 특정 파장을 선택하기 위해, 조명 수단(11)은 모노크로메이터(17)를 더 포함한다. 모노크로메이터(17)는 협대역폭을 갖는 광 빔을 생성한다. 일 예에 따르면, 모노크로메이터(17) 이후의 광의 대역폭은 2.5 nm 미만이다. 그러나, 일부 적용분야에서 더 넓은 대역폭으로도 충분하다. 모노크로메이터 대신, 간섭 필터도 파장 선택용 수단으로 사용될 수 있다. 광원은 LED 또는 레이저와 같은 협대역 광원일 수도 있다. 이 경우, 파장 선택을 위한 모노크로메이터, 간섭 필터, 또는 다른 외부 수단은 필요하지 않을 수 있다.
광원(16)으로부터의 광 빔은 마이크로플레이트 판독기(10)의 광학기를 통해 모노크로메이터(17)로 투과된다. 도 6의 예에서, 광원(16)과 모노크로메이터(17) 사이의 광학기는 거울(23) 및 입구 슬릿(24)을 포함한다. 그러나, 마이크로플레이트 판독기(10)의 광학기는 다양한 방식으로 구성될 수 있다.
도 6의 예에서, 광은 출구 슬릿(25) 및 광섬유(22)를 통해 모노크로메이터(17)로부터 마이크로플레이트로 투과된다. 광은 마이크로플레이트의 웰(2)에 배치된 샘플로 조명 광학기(18)에 의해 집속된다. 샘플은 위에서부터 조명된다. 샘플에서 방출되는 광의 강도는 실리콘 포토다이오드 또는 광전자 증배관과 같은 검출기(13)에 의해 측정된다. 도 6의 마이크로플레이트 판독기(10)는 상부 판독을 위해 구성된다.
여기 광자로부터 방출된 광자를 격리하기 위해 마이크로플레이트(1)와 검출기(13) 사이에 파장 필터가 마련될 수 있다. 마이크로플레이트 판독기(10)는 검출기(13) 이전에 저역통과 또는 대역통과 방출 필터와 같은 방출 필터를 더 포함하여 배경 형광을 여과하거나 하나의 샘플에서 다중 형광단으로부터 유래하는 형광 신호를 격리할 수 있다.
형광 측정 시스템은 샘플의 복수의 측정 영역(23)에서 방출된 광의 강도를 측정하도록 구성되는 것이 바람직하다. 그러나, 단일 측정 영역도 사용될 수 있다. 측정 영역(23) 또는 단일 측정 영역은 마이크로플레이트(1)의 웰(2)의 전체 바닥을 커버하는 것이 바람직하다. 마이크로플레이트 판독기(10)는 한 번에 샘플(3)의 하나의 측정 영역(23)을 조명하도록 구성될 수 있다. 측정 영역(23)이 조명되고 영역(23)에 의해 방출된 광의 강도는 검출 수단(13)에 의해 측정된다. 샘플을 조명하는 데 사용되는 광 빔의 직경은 예를 들어 웰 직경의 20 내지 60%일 수 있다. 좁은 빔을 사용하여, 조명 강도를 높이고 측정 감도를 높일 수 있다. 측정된 강도에 기초하여, 샘플에 대한 결과 값이 계산된다. 단일 측정 영역의 경우, 결과 값은 단일 측정 영역의 측정 강도에 기초한다.
도 5의 실시예에서, 두 인접한 측정 영역(23)의 중심점 사이의 거리는 조명 빔의 반경에 대응하도록 구성된다. 예를 들어, 빔의 직경이 3 mm인 경우, 빔은 두 인접한 측정 영역(23) 사이에서 1.5 mm 이동된다.
마이크로플레이트 판독기(10)는 형광 스폿의 수를 카운팅하기 위한 이미징 시스템을 더 포함한다. 도 7은 마이크로플레이트 판독기(10)의 이미징 시스템의 일 예를 도시하고 있다. 도 7의 이미징 시스템은 FluoroSpot 및 ELISpot 분석에 적합하지만, 다른 분석에도 사용될 수 있다. 마이크로플레이트 판독기(10)는 조명 수단(11)을 포함한다. 조명 수단(11)의 기능은 마이크로플레이트(1)의 웰(2) 내의 샘플을 조명하는 데 사용되는 광을 생성하는 것이다. 도 7의 마이크로플레이트 판독기에서, 마이크로플레이트(1)의 하나의 웰(2) 및 하나의 샘플은 한 번에 조명된다. 조명 수단(11)은 광원(16)을 포함한다. 조명 수단(11)으로부터, 광은 빔 스플리터(7)로 향한다. 빔 스플리터(7)는 광의 일부를 반사시키고 나머지 광을 투과시키도록 구성된 광학 장치이다. 실제로, 빔 스플리터(7)에 의해 수광된 광의 일부는 흡수된다. 빔 스플리터(7)는 반사광을 마이크로플레이트 판독기(10)의 판독 평면(26)을 향해 지향시키도록 마련된다. 빔 스플리터(7)는 예를 들어 함께 접착되는 2개의 삼각형 유리 프리즘으로 이루어질 수 있다. 대안적으로, 빔 스플리터(7)는 코팅된 유리판일 수 있다. 빔 스플리터(7)는 서로 다른 특성으로 이용할 수 있다. 광학 판독기에 대한 최적의 빔 분할 비율은 50-50%이고, 즉 빔 스플리터(7)에 의해 반사된 광의 양은 빔 스플리터(7)에 의해 투과된 광의 양과 같다. 따라서, 빔 스플리터(7)에 의해 흡수되지 않은 광의 절반은 반사되고 광의 절반은 투과된다. 그러나, 반사광의 일부는 예를 들어 40-60% 범위에 있을 수 있다.
빔 스플리터(7)와 판독 평면(26) 사이에는 적어도 하나의 렌즈(8a)를 포함하는 렌즈 시스템(8)이 마련된다. 도 1에 단일 렌즈(8a)만이 도시되어 있지만, 실제로 렌즈 시스템(8)은 여러 렌즈를 포함할 수 있다. 렌즈 시스템(8)은 조명 어레인지먼트(11) 및 빔 스플리터(7)로부터 수광된 광을 마이크로플레이트(1)의 웰(2)의 바닥에 마련된 샘플에 집속시키도록 마련된다. 렌즈 시스템(8)은 렌즈(8a)와 판독 평면(26) 사이에 위치된 개구(8b)를 더 포함한다.
마이크로플레이트(1)의 웰(2)의 바닥 및 웰(2) 내의 샘플은 광의 일부를 렌즈 시스템(8)을 향해 다시 반사시킨다. 형광 측정에서, 샘플은 마이크로플레이트(1)로부터 렌즈 시스템(8)을 향해 광을 또한 방출한다. 렌즈 시스템(8)은 샘플의 이미지를 검출 수단으로 기능하는 이미징 장치(13)에 집속시키도록 구성된다. 따라서, 동일한 렌즈 시스템(8)은 샘플을 조명하는 데 사용되는 광을 집속시키고 마이크로플레이트(1)로부터 수광된 광을 집속시키기 위해 사용된다. 따라서, 동일한 구성요소는 조명 광학기와 측정 광학기 둘 모두를 형성한다. 렌즈 시스템(8)으로부터, 광은 빔 스플리터(7)로 향한다. 광의 일부는 빔 스플리터(7)로부터 조명 어레인지먼트(11)를 향해 반사되지만, 광의 일부는 빔 스플리터(7)를 통과하여 이미징 장치(13)에 도달할 수 있다. 빔 스플리터(7)의 빔 분할 비율이 50-50%이고 빔 스플리터(7)에 의한 흡수가 생략되면, 광의 절반은 반사되고 광의 절반은 빔 스플리터(7)를 통해 투과된다. 이미징 장치(13)는 디지털 카메라 센서(13a)를 포함할 수 있다. 이미징 장치(13)는 각 샘플의 하나 이상의 이미지를 촬영하도록 구성된다.
렌즈 시스템(8)의 렌즈(8a)와 판독 평면(26) 사이의 개구(8b)는 최대한으로 마이크로플레이트(3)의 웰(2)의 직경과 동일한 직경을 갖는 치수로 이루어진다. 이는 샘플과 이미징 장치(13) 둘 모두에서 비네트를 제거한다. 개구(8b)는 마이크로플레이트 판독기가 다른 마이크로플레이트(1)에서의 샘플을 분석하는 데 사용되도록 조정될 수 있다. 개구를 이용하여, 웰(2)의 바닥에서 조명 영역의 크기를 조정할 수 있다. 예를 들어, 통상적인 96웰 플레이트에서 조명 영역의 직경은 약 6.6 mm일 수 있고 384웰 플레이트에서는 2.5 mm일 수 있다.
광원(16)은 예를 들어 LED 또는 LED 그룹일 수 있다. 마이크로플레이트(1)의 웰(2)의 바닥 상의 조명 영역은 전체 바닥을 커버해야 한다. 통상적인 LED 칩의 직경은 마이크로플레이트(1)의 웰(2)의 직경보다 훨씬 작다. 조명 영역의 크기는 렌즈 시스템(8)에 의해 영향을 받을 수 있다. 그러나, 울브리히트 구로도 알려진 적분구를 LED 또는 다른 광원 주위에 마련하여 조명 영역의 크기를 증가시키는 것이 유리할 수 있다.
마이크로플레이트 판독기는 마이크로플레이트(1)를 이동시키도록 구성된 포지셔닝 수단(도 7에 미도시)을 더 포함한다. 마이크로플레이트(1)는 한 번에 하나의 웰(2)이 렌즈 시스템(8) 아래에 있도록 판독 평면(26)에서 이동된다. 샘플의 이미지 또는 여러 이미지를 촬영한 후, 다음 웰(2)이 렌즈 시스템(8) 아래에 있도록 마이크로플레이트(1)를 이동시킨다.
도 7의 마이크로플레이트 판독기는 조명 수단(11)에 의해 생성되고 빔 스플리터(7)를 통해 투과된 광의 강도를 측정하기 위해 마련된 기준 검출기(28)를 더 포함한다. LED가 광원(16)으로 사용되는 경우, LED의 강도는 가열로 인해 변할 수 있으며, 이는 이미징 장치(13)에 의해 촬영된 이미지에 영향을 미친다. 광의 강도를 측정함으로써, 마이크로플레이트 판독기의 측정 결과를 해석함에 있어서 이러한 효과를 고려할 수 있다.
마이크로플레이트 판독기에는 조명 수단(11)과 빔 스플리터(7) 사이에 마련되는 제1 필터(17)가 더 제공된다. 제1 필터(17)는 형광 분석에 사용된다. 제1 필터(17)는 샘플을 여기하는 데 필요한 광원(16)의 스펙트럼 일부만을 통과시키도록 구성된다. 따라서, 제1 필터(17)는 여기 파장을 선택하기 위한 수단으로서 사용된다. 제2 필터(19)는 빔 스플리터(7)와 이미징 장치(13) 사이에 마련된다. 제1 필터(12)와 마찬가지로, 제2 필터(19)는 형광 분석에 사용된다. 제2 필터(19)는 샘플에 의해 방출된 파장으로 구성된 광을 통과시키도록 구성된다.
도 7의 실시예에서, 이미징 장치(13)는 렌즈 시스템(8) 직상에 마련된다. 조명 수단(11)은 빔 스플리터(7)와 동일한 수평면에 마련된다. 따라서, 조명 수단으로부터의 광은 마이크로플레이트(1)로 반사되고 마이크로플레이트(1)로부터의 광은 빔 스플리터(7)를 통해 투과된다. 이러한 배치는 샘플의 조명을 방해하지 않고 기준 검출기(28)를 사용할 수 있다. 그러나, 이미징 장치(13)와 조명 수단(11)의 위치를 전환할 수도 있을 것이다. 따라서, 샘플을 조명하는 데 사용된 광은 빔 스플리터(7)를 통과할 수 있고 샘플의 이미지는 빔 스플리터(7)에 의해 이미징 장치(13)로 반사될 수 있다.
이미징 시스템에 의해 형성된 이미지는 샘플의 형광 스폿을 카운팅하는 데 사용될 수 있다. 따라서, 마이크로플레이트 판독기(10)의 중앙 처리 유닛(15) 또는 외부 컴퓨터(21)는 샘플에서 형광 스폿의 수를 결정하도록 구성될 수 있다.
따라서, 본 발명에 따른 마이크로플레이트 판독기(10)는 도 6의 시스템과 같은 형광 측정 시스템 및 도 7의 시스템과 같은 이미징 시스템 둘 모두를 포함할 수 있다. 따라서, 마이크로플레이트 판독기(10)는 샘플에 의해 방출된 광의 강도를 측정하고 샘플의 이미지를 형성하도록 구성될 수 있다. 이를 통해 샘플을 보다 포괄적으로 분석할 수 있다. 형광 측정 시스템과 이미징 시스템의 구성요소 중 일부는 동일할 수 있다. 예를 들어, 동일한 광원(16)을 양자의 시스템에서 사용할 수 있다. 또한, 측정 광학기 및 조명 광학기는 방출된 광의 강도 측정 및 샘플 이미징 둘 모두를 위해 적어도 부분적으로 동일할 수 있다. 형광 측정을 위해 이미징 시스템을 사용할 수도 있다. 방출된 광의 강도는 카메라 센서(13a)에 의해 결정될 수 있고, 이에 따라 방출된 광의 강도를 측정하기 위한 별도의 시스템이 필요하지 않을 것이다.
도 8 및 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 방법에 의해 얻은 결과의 예를 도시하고 있다. 본 방법은 96웰 마이크로플레이트의 웰에 배치된 샘플에 적용되었으며, 웰의 바닥 직경은 6 mm이다. 샘플을 조명하는 데 사용된 광 빔의 직경은 3 mm였다. 측정 영역은 도 5에 도시된 바와 같이 위치되었다. 따라서, 측정 영역은 5개의 행 및 5개의 열을 포함하는 매트릭스를 형성했다. 광 빔은 한 번에 1.5 mm 이동되었다. 도 8은 방출된 광의 강도를 결정하는 단계로부터의 결과를 나타내고 있고, 도 9는 스폿 카운팅 단계에 의해 얻은 결과를 나타내고 있다. 양 도면의 X축에는 항원 제시 세포, 이 경우 인간 말초 혈액 단핵 세포(PBMC)의 양(PBMC/웰의 양)이 표시된다. 도 8은 Y축에 형광 결과 값을 나타낸 것으로, 이는 복수의 측정 지점에서 520 nm의 파장에서 방출되는 광의 측정 강도에 기초하여 계산되었다. 여기광의 파장은 480 nm였다. 도 9는 샘플로부터 카운팅된 스폿의 수를 Y축에 나타내고 있다. 양자의 경우에, IFN-γ 생성 세포의 수를 측정한다. 도 8 및 9에서 상부 도트는 자극된 샘플을 나타내고 하부 도트는 블랭크(자극되지 않은 샘플)를 나타낸다.
다점 형광 측정 판독치는 (낮은 수준 및 매우 높은 수준의 사이토카인 생성에서) 세포 농도의 전체 범위에 걸쳐 선형으로 증가하는 반면, 스폿 수는 웰당 최대 검출 가능한 스폿 수와 일치하는 고원까지 거의 선형으로 증가한다. 이는 스폿이 웰에 너무 붐빌 때 배경으로부터 스폿을 해결하기 위한 이미지 기반 방법의 본질적인 한계 때문이다. 반면에, 스폿 카운팅 방법의 검출 한계는 형광 강도 측정에 기반한 것보다 더 낫다. 그러므로, 양 판독치를 조합함으로써, 분석의 동적 범위를 확장하면서 스폿 카운팅 방법의 낮은 검출 한계를 유지할 수 있다. 예를 들어, 이러한 경우에 신뢰할 수 없는 스폿 카운팅 대신에 측정된 형광 신호를 사용하여 고주파 값에서 항원 양성 세포의 빈도를 예측할 수 있다고 생각할 수 있다.
본 발명에 따른 방법은 예를 들어 마이크로플레이트의 빠른 스크리닝을 위해 사용될 수 있다. 본 방법을 통해 추가 분석에 필요한 샘플을 식별할 수 있다. 본 방법은 형광 스폿의 수가 단일 스폿의 카운팅에 대해 너무 많을 때 특히 유용하다. 스폿 카운팅과 형광 신호 계산의 조합은 FluoroSpot 데이터 분석에 포괄적인 해결책을 제공하고 스폿 카운팅에 실패한 경우 문제 해결을 가능하게 한다.
본 발명이 위에서 설명된 실시예에 제한되지 않고 첨부된 청구항의 범위 내에서 달라질 수 있음을 당업자는 이해할 것이다.

Claims (17)

  1. 마이크로플레이트(1)의 웰(2)에 배열된 하나 이상의 샘플(3)을 분석하는 방법으로서,
    - 제1 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 전자기 방사선을 생성하는 단계(101),
    - 상기 웰(2)의 상단을 통해 상기 마이크로플레이트(1) 위에서부터 샘플(3)에 상기 전자기 방사선을 투과시킴으로써 상기 전자기 방사선에 의해 상기 샘플(3)을 조명하는 단계(102),
    - 상기 샘플(3)에 의해 방출되고 제2 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 광을 상기 웰(2)의 상단을 통해 검출기(13)로 투과시키는 단계(103),
    - 상기 샘플(3)의 하나 이상의 소정 측정 영역(23)에 의해 방출된 광의 강도를 결정하는 단계(104),
    - 상기 하나 이상의 측정 영역(23)에 의해 방출된 상기 광의 결정된 강도에 기초하여, 상기 샘플(3)에 의해 방출되고 상기 제2 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 광의 총량을 나타낸 결과 값을 결정하는 단계(105), 및
    - 상기 제2 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 광을 방출하는 스폿의 수를 카운팅하는 단계(106)를 포함하는, 마이크로플레이트(1)의 웰(2)에 배열된 하나 이상의 샘플(3)을 분석하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 샘플(3)은 복수의 소정 측정 영역(23)을 포함하고, 상기 결과 값은 상기 복수의 측정 영역(23)에 의해 방출된 광의 결정된 강도에 기초하여 계산되는, 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 하나 이상의 측정 영역(23)은 상기 웰(2)의 전체 바닥을 커버하는, 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 샘플(3)의 상기 하나 이상의 소정 측정 영역(23)에 의해 방출된 상기 광의 강도를 결정하기 위해, 상기 샘플(3)은 최대한 상기 웰(2)의 직경의 60%인 직경을 갖는 광 빔을 사용하여 조명되는, 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 샘플(3)의 상기 하나 이상의 소정 측정 영역(23)에 의해 방출된 상기 광의 강도를 결정하기 위해, 한 번에 하나의 측정 영역(23)이 조명되는, 방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 샘플(3)의 상기 하나 이상의 소정 측정 영역(23)에 의해 방출된 상기 광의 강도를 결정하기 위해 상기 검출기(13)로서 광전자 증배관이 사용되는, 방법.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스폿을 카운팅하기 위해, 상기 웰(2)의 전체 바닥이 조명되고 상기 샘플(3)의 이미지를 형성하기 위해 카메라 센서(13a)가 사용되는, 방법.
  8. 복수의 웰(2)을 포함하는 마이크로플레이트(1)를 수용하도록 구성된 분석 장치(10)로서, 상기 웰(2)의 각각은 샘플(3)을 수용하도록 구성되고, 상기 분석 장치(10)는,
    - 제1 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 전자기 방사선을 사용하여 상기 마이크로플레이트(1)의 웰(2)의 상단을 통해 상기 마이크로플레이트(1) 위에서부터 샘플(3)을 조명하기 위한 조명 수단(11),
    - 상기 샘플(3)의 하나 이상의 측정 영역(23)에 의해 상기 웰(2)의 상단을 통해 방출되고 제2 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 광의 강도를 결정하기 위한 검출 수단(13),
    - 상기 제2 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 광을 방출하는 스폿의 수를 카운팅하도록 구성된 수단(15, 21), 및
    - 상기 하나 이상의 측정 영역(23)에 의해 방출된 상기 광의 결정된 강도에 기초하여, 상기 샘플(3)에 의해 방출되고 상기 제2 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 상기 광의 총량을 나타낸 결과 값을 결정하도록 구성된 수단(15, 21)을 포함하는, 복수의 웰(2)을 포함하는 마이크로플레이트(1)를 수용하도록 구성된 분석 장치(10).
  9. 제8항에 있어서, 상기 조명 수단(11)은 전구, LED, 또는 레이저를 포함하는, 분석 장치(10).
  10. 제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 장치(10)는 상기 샘플(3)을 조명하기 위해 상기 파장을 선택하기 위한 수단(17)을 포함하는, 분석 장치(10).
  11. 제10항에 있어서, 상기 샘플(3)을 조명하기 위해 상기 파장을 선택하기 위한 수단(17)은 필터 또는 모노크로메이터를 포함하는, 분석 장치(10).
  12. 제8항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 검출 수단(13)은 광전자 증배관 또는 실리콘 포토다이오드를 포함하는, 분석 장치(10).
  13. 제8항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 검출 수단(13)은 카메라 센서(13a)를 포함하는, 분석 장치(10).
  14. 제8항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 샘플(3)의 복수의 측정 영역(23)에 의해 방출된 상기 광의 강도를 결정하기 위해, 상기 장치(10)는 한 번에 하나의 측정 영역(23)을 연속해서 상기 측정 영역(23)을 조명하도록 구성되는, 분석 장치(10).
  15. 제8항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 장치(10)는 상기 제2 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 광을 방출하는 스폿의 수를 카운트하기 위해 상기 샘플(3)의 이미지를 형성하도록 구성되는, 분석 장치(10).
  16. 제15항에 있어서, 상기 제2 소정 파장 또는 파장 범위를 갖는 광을 방출하는 스폿의 수를 카운팅하기 위해 상기 샘플(3)의 이미지를 형성하도록, 상기 장치(10)는 상기 웰(2)의 전체 바닥을 조명하도록 구성되는, 분석 장치(10).
  17. 분석 장치(10)를 작동시키기 위한 컴퓨터 프로그램으로서, 상기 컴퓨터 프로그램은 상기 프로그램이 컴퓨터에 의해 실행될 때 분석 장치(10)가 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 방법을 수행하게 하는 명령어를 포함하는, 분석 장치(10)를 작동시키기 위한 컴퓨터 프로그램.
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