KR20210119764A - 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터의 입력 장치 및 방법 - Google Patents

플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터의 입력 장치 및 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20210119764A
KR20210119764A KR1020200036329A KR20200036329A KR20210119764A KR 20210119764 A KR20210119764 A KR 20210119764A KR 1020200036329 A KR1020200036329 A KR 1020200036329A KR 20200036329 A KR20200036329 A KR 20200036329A KR 20210119764 A KR20210119764 A KR 20210119764A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
input
data
simulation
reaction
checking
Prior art date
Application number
KR1020200036329A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102416787B1 (ko
Inventor
권득철
조기환
장현우
Original Assignee
한국핵융합에너지연구원
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한국핵융합에너지연구원 filed Critical 한국핵융합에너지연구원
Priority to KR1020200036329A priority Critical patent/KR102416787B1/ko
Priority to JP2020094561A priority patent/JP6959401B2/ja
Publication of KR20210119764A publication Critical patent/KR20210119764A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102416787B1 publication Critical patent/KR102416787B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32917—Plasma diagnostics
    • H01J37/32926—Software, data control or modelling
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F30/00—Computer-aided design [CAD]
    • G06F30/30—Circuit design
    • G06F30/32—Circuit design at the digital level
    • G06F30/33—Design verification, e.g. functional simulation or model checking
    • G06F30/3308—Design verification, e.g. functional simulation or model checking using simulation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Evolutionary Computation (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)

Abstract

본 발명은 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터 입력 장치 및 방법에 관한 것으로, 물성 데이터 입력을 위한 입력신호가 입력되는 입력부, 입력신호에 따라 복수의 반응 계수를 포함하는 입력데이터를 입력하기 위한 입력화면을 표시하는 표시부 및 입력화면에 입력된 입력데이터 중 적어도 하나의 입력데이터에 대한 입력에러를 확인하고, 입력에러가 수정되면 수정된 입력데이터를 이용하여 시뮬레이션의 수행을 제어하는 제어부를 포함하며 다른 실시 예로도 적용이 가능하다.

Description

플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터의 입력 장치 및 방법{Apparatus and Method for Inputting of Data for Plasma Simulating}
본 발명은 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터의 입력 장치 및 방법에 관한 것이다.
플라즈마 장비 특성을 분석하기 위해 플라즈마 시뮬레이터를 이용하여 플라즈마 장비의 내부 상태를 계산하고 물리적 현상을 설명하는 것은 시간과 비용을 절감하는데 있어서 매우 중요한 작업이다. 이러한 플라즈마 시뮬레이터를 이용하여 플라즈마 장비 특성을 분석하기 위해서는 플라즈마 장비 내에서 발생하는 물리화학 반응 데이터가 반드시 필요하다. 이와 같은 반응 데이터는 플라즈마 방전 시에 생성되는 하나 혹은 복수의 종(species)에 대한 반응 계수를 포함하고, 플라즈마 장비에 주입되는 가스별로 관리되거나 가스가 통합된 상태에서 관리된다.
반응 데이터를 확인하기 위해서 사용자는 플라즈마 장비를 제어하는 전자장치를 통해 플라즈마 장비로 반응식과 반응 계수를 포함하는 복수의 입력데이터를 입력하거나, 플라즈마 시뮬레이터에 입력데이터를 직접 입력한다. 이때, 사용자의 입력 오류로 인해 입력데이터가 오입력되는 경우가 발생한다. 이와 같이, 입력 오류가 발생되면 시뮬레이션이 제대로 수행되지 않고, 시뮬레이션이 제대로 수행되지 않은 원인을 확인하기 어려운 문제점이 발생한다.
이러한 종래의 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 실시 예들은 플라즈마 특성을 분석하기 위해 입력하는 반응 계수를 포함하는 입력데이터에 대한 입력 오류를 확인하여 사용자에게 입력 오류 내역을 제공할 수 있는 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터의 입력 장치 및 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터의 입력 장치는, 물성 데이터 입력을 위한 입력신호가 입력되는 입력부, 상기 입력신호에 따라 복수의 반응 계수를 포함하는 입력데이터를 입력하기 위한 입력화면을 표시하는 표시부 및 상기 입력화면에 입력된 상기 입력데이터 중 적어도 하나의 입력데이터에 대한 입력에러를 확인하고, 상기 입력에러가 수정되면 상기 수정된 입력데이터를 이용하여 상기 시뮬레이션의 수행을 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 입력데이터는, 반응물과 생성물로 형성된 반응식, 상기 반응 계수를 산출하기 위한 복수의 변수, 충돌 단면적 값 및 이온종과 관련된 이온반응식 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 제어부는, 상기 생성물에 생성항 또는 손실항만 존재하면, 상기 생성항 또는 손실항을 상기 입력에러로 확인하여 강조 표시하는 것을 특징으로 한다.
또한, 제어부는, 상기 복수의 변수 중 적어도 하나의 변수에 대한 단위 및 부호 중 적어도 하나에 대한 오입력여부를 기반으로 상기 반응 계수의 유효성을 실시간으로 확인하는 것을 특징으로 한다.
또한, 제어부는, 상기 충돌 단면적 값에 대한 오입력여부를 기반으로 충돌 단면적의 유효성을 실시간으로 확인하는 것을 특징으로 한다.
또한, 제어부는, 상기 반응물, 상기 생성물, 상기 반응 계수 또는 상기 충돌 단면적 값을 기반으로 상기 입력데이터의 중복여부를 확인하는 것을 특징으로 한다.
또한, 제어부는, 상기 반응식을 기반으로 상기 시뮬레이션을 위해 주입할 가스 중 elastic 또는 momentum transfer 반응이 확인되지 않는 가스가 존재하면, 해당 가스를 표시하는 것을 특징으로 한다.
또한, 제어부는, 상기 이온반응식을 기반으로 상기 시뮬레이션을 위해 주입할 가스 중 벽 반응(wall reaction)이 존재하지 않는 이온종이 확인되면, 해당 이온종을 표시하는 것을 특징으로 한다.
또한, 제어부는, 상기 반응물 및 상기 생성물 중에서 종(species) 정보가 확인되지 않는 반응물 또는 생성물이 존재하면 해당 메시지를 표시하는 것을 특징으로 한다.
아울러, 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터의 입력 방법은, 전자장치가 수신된 물성 데이터 입력신호에 따라 복수의 반응 계수를 포함하는 입력데이터를 입력하기 위한 입력화면을 표시하는 단계, 상기 전자장치가 상기 입력화면에 입력된 상기 입력데이터 중 적어도 하나의 입력데이터에 대한 입력에러를 확인하여 표시하는 단계 및 상기 표시된 입력에러의 수정이 완료되면, 상기 수정된 입력데이터를 이용하여 상기 시뮬레이션 수행을 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 입력데이터는, 반응물과 생성물로 형성된 반응식, 상기 반응 계수를 산출하기 위한 복수의 변수, 충돌 단면적 값 및 이온종과 관련된 이온반응식 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 입력에러를 확인하여 표시하는 단계는, 상기 생성물에 생성항 또는 손실항만 존재하면, 상기 생성항 또는 손실항을 강조하여 표시하는 단계인 것을 특징으로 한다.
또한, 입력에러를 확인하여 표시하는 단계는, 상기 복수의 변수 중 적어도 하나의 변수에 대한 단위 및 부호 중 적어도 하나에 대한 오입력여부를 기반으로 상기 반응 계수의 유효성을 실시간으로 확인하는 단계인 것을 특징으로 한다.
또한, 입력에러를 확인하여 표시하는 단계는, 상기 충돌 단면적 값에 대한 오입력여부를 기반으로 충돌 단면적의 유효성을 실시간으로 확인하는 단계인 것을 특징으로 한다.
또한, 입력에러를 확인하여 표시하는 단계는, 상기 반응물, 상기 생성물, 상기 반응 계수 또는 상기 충돌 단면적 값을 기반으로 상기 입력데이터의 중복여부를 확인하는 단계인 것을 특징으로 한다.
또한, 입력에러를 확인하여 표시하는 단계는, 상기 반응식을 기반으로 상기 시뮬레이션을 위해 주입할 가스 중 elastic 또는 momentum transfer 반응이 확인되지 않는 가스가 존재하면, 해당 가스를 표시하는 단계인 것을 특징으로 한다.
또한, 입력에러를 확인하여 표시하는 단계는, 상기 이온반응식을 기반으로 상기 시뮬레이션을 위해 주입할 가스 중 벽 반응(wall reaction)이 존재하지 않는 이온종이 확인되면, 해당 이온종을 표시하는 단계인 것을 특징으로 한다.
또한, 입력에러를 확인하여 표시하는 단계는, 상기 반응물 및 상기 생성물 중에서 종(species) 정보가 확인되지 않는 반응물 또는 생성물이 존재하면 해당 메시지를 표시하는 단계인 것을 특징으로 한다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따른 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터의 입력 장치 및 방법은 플라즈마 특성을 분석하기 위해 입력하는 반응 계수를 포함하는 입력데이터에 대한 입력 오류를 확인하여 사용자에게 입력 오류 내역을 제공함으로써 플라즈마 시뮬레이션이 제대로 수행되지 않는 경우를 해소하고, 시뮬레이션이 수행되지 않은 원인을 시뮬레이션 수행 이전에 확인할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 시뮬레이션을 위해 데이터 입력을 수행하는 전자장치의 주요 구성을 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 시뮬레이션을 위해 데이터를 입력하는 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 3 내지 도 9는 본 발명의 실시 예에 따른 입력데이터의 에러를 표시하는 화면을 나타낸 화면예시도이다.
이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시 형태를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 첨부된 도면과 함께 이하에 개시될 상세한 설명은 본 발명의 예시적인 실시형태를 설명하고자 하는 것이며, 본 발명이 실시될 수 있는 유일한 실시형태를 나타내고자 하는 것이 아니다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략할 수 있고, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성 요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 사용할 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에서, “또는”, “적어도 하나” 등의 표현은 함께 나열된 단어들 중 하나를 나타내거나, 또는 둘 이상의 조합을 나타낼 수 있다. 예를 들어, “A 또는 B”, “A 및 B 중 적어도 하나”는 A 또는 B 중 하나만을 포함할 수 있고, A와 B를 모두 포함할 수도 있다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 시뮬레이션을 위해 데이터 입력을 수행하는 전자장치의 주요 구성을 나타낸 도면이다. 이때, 전자장치(100)는 플라즈마 장비(미도시)와 연결되어 반응 계수를 포함하는 복수의 입력데이터를 플라즈마 장비로 전송하거나, 플라즈마 장비를 모사한 플라즈마 시뮬레이터일 수 있다. 아울러, 전자장치(100)가 플라즈마 시뮬레이터일 경우, 전자장치(100)는 플라즈마 장비 내부에서의 다양한 물리/화학적 변화에 대한 기초적 이론을 규명하는 이론적 모델인 다수의 이론모듈을 구비하며, 이론모듈의 이론적 모델을 수치해석하여 플라즈마 장비를 전산모사한다. 이때, 이론적 모델은 전자 및 이온들과 같이 전하를 띄는 성분들의 물리/화학적 현상을 규명하는 모델 플라즈마에서 형성되는 전자장에 관하여 규명하는 모델, 전하를 띄지 않는 화학종들의 반응 및 유동에 관하여 규명하는 모델, 플라즈마 내에서 미립자의 생성 및 성장에 관하여 규명하는 모델, 미립자의 유동에 관하여 규명하는 모델 및 웨이퍼 표면에서의 화학종과 이온에 의한 박막형성 및 식각현상에 관하여 규명하는 모델을 포함할 수 있다.
본 발명에서는 전자장치(100)가 플라즈마 장비로 입력데이터를 전송하는 것을 예로 설명하기로 한다. 도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 전자장치(100)는 통신부(110), 입력부(120), 표시부(130), 메모리(140) 및 제어부(150)를 포함한다.
통신부(110)는 외부장치(미도시)와의 통신을 수행한다. 특히, 통신부(110)는 플라즈마 장비와 통신을 수행하여 플라즈마 장비에서 플라즈마 시뮬레이션을 수행하도록 플라즈마 장비로 입력데이터를 전송한다. 이를 위해, 통신부(110)는 5G(5th generation communication), LTE-A(long term evolution-advanced), LTE(long term evolution), Wi-Fi(wireless fidelity), 블루투스, BLE(bluetooth low energy), NFC(near field communication) 등의 무선 통신을 수행할 수 있고, 케이블 통신 등의 유선 통신을 수행할 수 있다.
입력부(120)는 전자장치(100)의 사용자 입력에 대응하여 입력데이터를 발생시킨다. 이를 위해, 입력부(120)는 적어도 하나의 입력수단을 포함한다. 입력부(120)는 키보드(key board), 키패드(key pad), 돔 스위치(dome switch), 터치패널(touch panel), 터치 키(touch key), 마우스(mouse), 메뉴 버튼(menu button) 등을 포함할 수 있다.
표시부(130)는 전자장치(100)의 동작에 따른 표시 데이터를 표시한다. 표시부(130)는 액정 디스플레이(LCD; liquid crystal display), 발광 다이오드(LED; light emitting diode) 디스플레이, 유기 발광 다이오드(OLED; organic LED) 디스플레이, 마이크로 전자기계 시스템(MEMS; micro electro mechanical systems) 디스플레이 및 전자 종이(electronic paper) 디스플레이를 포함한다. 표시부(130)는 입력부(120)와 결합되어 터치 스크린(touch screen)으로 구현될 수 있다.
메모리(140)는 전자장치(100)의 동작 프로그램들을 저장한다. 특히, 메모리(140)는 플라즈마 장비에서의 플라즈마 시뮬레이션을 위해 사용자에 의해 입력된 입력데이터에 대한 입력에러를 확인할 수 있는 프로그램을 저장할 수 있다.
제어부(150)는 입력부(120)의 입력에 따라 물성 데이터 입력을 위한 입력신호가 수신되면, 시뮬레이션에 필요한 반응 계수를 포함하는 입력데이터를 입력하기 위한 입력화면을 표시부(130)에 표시한다. 이때, 입력데이터는 반응물과 생성물로 형성된 반응식, 반응 계수를 산출하기 위한 복수의 변수, 충돌 단면적 값 및 이온종과 관련된 이온반응식 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
제어부(150)는 입력화면에 반응 계수를 포함하는 입력데이터가 입력되면, 적어도 하나의 입력데이터에 대한 입력에러를 확인한다. 보다 구체적으로, 제어부(150)는 반응물과 생성물로 형성된 복수의 반응식에서 생성물에 생성항 또는 손실항만 존재하는 반응식을 입력에러로 확인할 수 있다.
제어부(150)는 반응 계수의 유효성과 충돌 단면적의 유효성을 실시간으로 확인하여 입력에러를 확인할 수 있다. 예컨대, 제어부(150)는 반응 계수를 산출하기 위해 입력된 변수에 의해 산출된 반응 계수가 not a number 이거나 infinite이면 제어부(150)는 반응 계수의 유효성이 확보되지 못한 것으로 확인하여 입력된 변수에 에러가 발생한 것으로 확인할 수 있다. 또한, 제어부(150)는 충돌 단면적 값이 입력데이터로 입력되는 경우, 충돌 단면적 값이 임계치 예컨대,
Figure pat00001
을 초과하면 입력데이터에 대한 입력에러가 발생한 것으로 확인할 수 있다.
제어부(150)는 입력된 복수의 반응식 중에서 중복되는 반응식이 존재하거나, 반응 계수 또는 충돌 단면적 값이 중복되면 입력데이터가 중복된 것으로 확인하여 이를 입력에러로 확인할 수 있다. 제어부(150)는 입력된 반응식을 기준으로 플라즈마 장비에 주입할 가스 중 elastic 또는 momentum transfer 반응이 확인되지 않는 가스가 존재하면 이를 입력에러로 확인할 수 있다.
제어부(150)는 적어도 하나의 이온반응식을 입력데이터로 입력받고, 입력된 이온반응식을 기반으로 플라즈마 장비에 주입할 가스 중 벽 반응(wall reaction)이 존재하지 않는 이온종이 존재하면 이를 입력에러로 확인한다. 마지막으로, 제어부(150)는 입력된 복수의 반응식에서 species 정보가 없는 반응물 또는 생성물을 입력에러로 확인한다. 이와 같이, 제어부(150)는 입력데이터에서 확인된 입력에러를 표시부(130)에 강조하여 표시하고, 입력에러가 확인된 입력데이터의 수정이 완료되면 수정된 입력데이터를 플라즈마 장비로 전송하여 전송하여 시뮬레이션을 수행한다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 시뮬레이션을 위해 데이터를 입력하는 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 2를 참조하면, 201단계에서 제어부(150)는 입력부(120)를 통한 시뮬레이션 시작신호의 수신여부를 확인한다. 201단계의 확인결과, 시작신호가 수신되면 제어부(150)는 203단계를 수행하고, 시작신호가 수신되지 않으면 제어부(150)는 시작신호의 수신을 대기한다. 203단계에서 제어부(150)는 시뮬레이션을 위한 입력데이터를 입력할 수 있는 입력화면을 표시부(130)에 표시한다. 이어서, 205단계에서 제어부(150)는 입력부(120)를 통한 입력데이터의 입력여부를 확인하여 입력데이터가 입력되면 207단계를 수행하고, 입력데이터가 입력되지 않으면 입력데이터의 입력을 대기한다.
207단계에서 제어부(150)는 입력된 입력데이터를 기반으로 입력에러를 확인하고, 209단계를 수행한다. 209단계에서 제어부(150)는 입력데이터에 입력에러가 존재하면 211단계를 수행하고, 입력에러가 존재하지 않으면 215단계를 수행한다. 211단계에서 제어부(150)는 209단계에서 확인된 입력에러를 표시부(130)에 표시한다. 이와 같이 입력데이터를 입력받아 입력에러를 확인하여 표시하는 동작은 하기의 도 3 내지 도 9를 이용하여 구체적으로 설명하기로 한다. 도 3 내지 도 9는 본 발명의 실시 예에 따른 입력데이터의 에러를 표시하는 화면을 나타낸 화면예시도이다.
보다 구체적으로, 제어부(150)는 도 3의 (a)에서와 같이 입력화면(310)의 Bulk Reaction 탭(311)을 활성화하여 Equation 영역(312)에 복수의 반응식을 입력데이터로 입력받는다. 이후에, 에러확인을 위한 버튼(313)이 선택되면, 제어부(150)는 복수의 반응식에 대한 입력에러를 확인한다. 입력에러가 확인되면 제어부(150)는 도 3의 (b)와 같이 확인된 입력에러가 표시된 결과화면(320)을 표시부(130)에 표시한다. 예컨대, 제어부(150)는
Figure pat00002
, Ar+E->Ar++2E, Ar+E->Ar+E와 같이 반응물과 생성물로 형성된 반응식을 입력데이터로 입력받는다. 제어부(150)는 복수의 반응식의 입력이 완료되면 입력된 복수의 반응식에 대한 입력에러를 확인한다. 이때, 생성물에는 생성항과 손실항이 모두 존재하여야만 안정적인 수렴이 가능하므로 제어부(150)는 생성물에 생성항 또는 손실항만 존재하면 이를 입력에러로 확인할 수 있다. 제어부(150)는
Figure pat00003
에 대한 반응식의 생성물에 생성항만이 존재하는 것으로 확인되면 도 3의 (b)의 결과화면(320)에서와 같이 생성항인
Figure pat00004
이 포함된 반응식을 표시하되,
Figure pat00005
의 색상을 다르게 강조하여 표시(321)할 수 있다.
제어부(150)는 도 4의 (a)에서와 같이 반응 계수의 유효성을 실시간으로 확인하기 위한 입력화면(410)에서 입력데이터를 입력받는다. 이때, 제어부(150)는 반응 계수를 산출하기 위한 A, B, C에 대한 변수를 입력받고, 입력된 A, B, C를 하기의 수학식 1에 대입하여 반응 계수를 산출한다.
Figure pat00006
(단,
Figure pat00007
는 전자 온도,
Figure pat00008
는 Boltzmann 상수, A, B, C는 변수일 수 있다)
반응 계수 산출결과, 반응 계수가 not a number 이거나 infinite일 경우 제어부(150)는 입력데이터에서의 에러를 확인하고, 도 4의 (b)에서와 같이 A, B, C와 관련된 반응식의 색상을 빨간색으로 변경하여 표시할 수 있다. 또한, 제어부(150)는 에러가 확인된 A, B, C와 관련된 반응식 이후에 입력하고자 하는 반응식이 표시될 영역(420)을 비활성화하여 새로운 반응식의 입력을 방지할 수 있다. 아울러, 제어부(150)는 bulk 반응 계수가 1보다 큰 경우 해당 반응식의 색상을 빨간색과 상이한 색으로 변경하여 입력데이터에 대한 입력에러를 확인하여 표시할 수 있다.
제어부(150)는 도 5에서와 같이 충돌 단면적의 유효성을 실시간으로 확인하여 입력데이터의 에러를 확인할 수 있다. 전자의 분포함수가 시뮬레이션 결과에 중요한 영향을 미치는 경우, 반응 계수가 아닌 충돌 단면적 값이 입력데이터로 입력되는 경우가 발생한다. 이 경우에 제어부(150)는 입력되는 충돌 단면적 값이
Figure pat00009
을 초과하면 입력데이터에 대한 입력에러가 발생한 것으로 확인하고, 도 5와 같이 해당 영역(510)의 색상을 빨간색으로 변경하여 입력데이터에 대한 입력에러를 표시할 수 있다. 이때, 충돌 단면적은 10-16 cm2으로 정규화된 값이 입력된 경우에 한계치(106)를 설정할 수 있으며, 한계치는 조절 가능하다.
제어부(150)는 도 6의 (a)에서와 같이 입력화면(610)의 Bulk Reaction 탭(611)을 활성화하여 Equation 영역(612)에 복수의 반응식을 입력데이터로 입력받는다. 이때, 입력화면(610)은 도 3의 입력화면(310)과 동일한 화면일 수 있다. 이후에, 에러확인을 위한 버튼(613)이 선택되면, 제어부(150)는 복수의 반응식 중 중복되는 반응식을 입력에러로 확인한다. 입력에러가 확인되면 제어부(150)는 도 6의 (b)에서와 같이 확인된 입력에러가 표시된 결과화면(620)을 표시부(130)에 표시한다. 예컨대, 제어부(150)는
Figure pat00010
, Ar+E->Ar++2E, Ar+E->Ar+E,
Figure pat00011
, Ar+E->Ar++2E와 같이 5개의 반응식이 입력된 이후에 에러확인을 위한 버튼(613)이 선택되면 Ar+E->Ar++2E가 중복된 반응식으로 확인될 수 있다. 제어부(150)는 도 6의 (b)의 결과화면(620)에서와 같이 Ar+E->Ar++2E가 중복된 반응식이며, 해당 반응식이 Equation 영역(612)의 2번째와 5번째에 기재되어 있음을 강조하여 표시(621)할 수 있다. 도 6에서는 중복되는 반응식을 입력에러로 확인하는 것을 예로 설명하고 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 반응식, 반응 계수 또는 충돌 단면적 값이 중복되면 입력데이터가 중복된 것으로 확인하여 이를 입력에러인 것으로 확인할 수 있다.
제어부(150)는 도 7의 (a)에서와 같이 입력화면(710)의 Bulk Reaction 탭(711)을 활성화하여 Equation 영역(712)에 복수의 반응식을 입력데이터로 입력받는다. 이때, 입력화면(710)은 도 3의 입력화면(310)과 동일한 화면일 수 있다. 이후에, 에러확인을 위한 버튼(713)이 선택되면, 제어부(150)는 반응식을 기준으로 플라즈마 장비에 주입할 가스 중 elastic 또는 momentum transfer 반응이 확인되지 않는 가스의 존재여부를 입력에러로 확인한다. 입력에러가 확인되면 즉, elastic 또는 momentum transfer 반응이 확인되지 않는 가스가 존재하면 제어부(150)는 도 7의 (b)의 결과화면(720)에서와 같이 해당 가스 예컨대, Ar을 강조하여 표시부(130)에 표시(721)한다.
제어부(150)는 도 8의 (a)와 같이 입력화면(810)의 Wall Reaction 탭(811)을 활성화하여 Equation 영역(812)에 적어도 하나의 이온반응식을 입력데이터로 입력받는다. 이때, 입력화면(810)은 도 3의 입력화면(310)과 동일한 화면일 수 있다. 이후에, 에러확인을 위한 버튼(813)이 선택되면, 제어부(150)는 이온반응식을 기반으로 플라즈마 장비에 주입할 가스 중 벽 반응(wall reaction)이 존재하지 않는 이온종을 입력에러로써 확인한다. 입력에러가 확인되면 즉, 이온반응식에서 벽 반응이 존재하지 않는 이온종이 존재하면 제어부(150)는 도 8의 (b)와 같은 결과화면(820)을 표시부(130)에 표시하되, 해당 이온종 예컨대, Ar+를 강조하여 표시(821)한다. 즉, 제어부(150)는 Ar++wall와 관련된 이온반응식으로 입력하도록 Ar+를 강조하여 표시할 수 있다.
제어부(150)는 도 9의 (a)와 같이 입력화면(910)의 Bulk Reaction 탭(911)을 활성화하여 Equation 영역(912)에 복수의 반응식을 입력데이터로 입력받는다. 이때, 입력화면(910)은 도 3의 입력화면(310)과 동일한 화면일 수 있다. 이후에, 에러확인을 위한 버튼(913)이 선택되면, 반응식을 기준으로 species 정보가 없는 반응물 또는 생성물을 입력에러로 확인한다. 입력에러가 확인되면 예컨대, Equation 영역에 입력된 다섯 개의 반응 식 중에서 Ar+M->Ar++E의 반응식에서 반응물인 M에 대한 종 정보가 확인되지 않으면 제어부(150)는 도 9의 (b)와 같은 결과화면(920)을 표시부(130)에 표시하되, M을 포함하는 반응식을 표시하고, M의 색상을 빨간색으로 변경하여 표시(921)할 수 있다.
이와 같이 입력에러가 표시부(130)에 표시된 이후에 제어부(150)는 213단계를 수행한다. 213단계에서 표시부(130)에 표시된 입력에러의 수정이 완료됨이 확인되면 제어부(150)는 215단계를 수행하고, 수정완료가 확인되지 않으면 입력에러와 관련된 입력데이터의 수정완료를 대기한다. 이를 통해, 사용자는 시뮬레이션 이전에 입력데이터에 존재하는 에러를 수정함으로써 시뮬레이션이 제대로 수행되지 않는 경우를 해소할 수 있다.
215단계에서 제어부(150)는 시뮬레이션을 위해 필요한 입력데이터의 입력이 완료됨이 확인되면 217단계를 수행하고, 입력데이터의 입력완료가 확인되지 않으면 205단계로 회귀한다. 제어부(150)는 205단계 내지 213단계를 재수행할 수 있다. 217단계에서 제어부(150)는 입력이 완료된 입력데이터를 플라즈마 장비로 전송하여 시뮬레이션을 수행한다.
본 명세서와 도면에 개시된 본 발명의 실시 예들은 본 발명의 기술 내용을 쉽게 설명하고 본 발명의 이해를 돕기 위해 특정 예를 제시한 것일 뿐이며, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다. 따라서 본 발명의 범위는 여기에 개시된 실시 예들 이외에도 본 발명의 기술적 사상을 바탕으로 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.

Claims (18)

  1. 물성 데이터 입력을 위한 입력신호가 입력되는 입력부;
    상기 입력신호에 따라 복수의 반응 계수를 포함하는 입력데이터를 입력하기 위한 입력화면을 표시하는 표시부; 및
    상기 입력화면에 입력된 상기 입력데이터 중 적어도 하나의 입력데이터에 대한 입력에러를 확인하고, 상기 입력에러가 수정되면 상기 수정된 입력데이터를 이용하여 상기 시뮬레이션의 수행을 제어하는 제어부;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터 입력 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 입력데이터는,
    반응물과 생성물로 형성된 반응식, 상기 반응 계수를 산출하기 위한 복수의 변수, 충돌 단면적 값 및 이온종과 관련된 이온반응식 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터 입력 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 생성물에 생성항 또는 손실항만 존재하면, 상기 생성항 또는 손실항을 상기 입력에러로 확인하여 강조 표시하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터 입력 장치.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 복수의 변수 중 적어도 하나의 변수에 대한 단위 및 부호 중 적어도 하나에 대한 오입력여부를 기반으로 상기 반응 계수의 유효성을 실시간으로 확인하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터 입력 장치.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 충돌 단면적 값에 대한 오입력여부를 기반으로 충돌 단면적의 유효성을 실시간으로 확인하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터 입력 장치.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 반응물, 상기 생성물, 상기 반응 계수 또는 상기 충돌 단면적 값을 기반으로 상기 입력데이터의 중복여부를 확인하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터 입력 장치.
  7. 제2항에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 반응식을 기반으로 상기 시뮬레이션을 위해 주입할 가스 중 elastic 또는 momentum transfer 반응이 확인되지 않는 가스가 존재하면, 해당 가스를 표시하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터 입력 장치.
  8. 제2항에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 이온반응식을 기반으로 상기 시뮬레이션을 위해 주입할 가스 중 벽 반응(wall reaction)이 존재하지 않는 이온종이 확인되면, 해당 이온종을 표시하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터 입력 장치.
  9. 제2항에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 반응물 및 상기 생성물 중에서 종(species) 정보가 확인되지 않는 반응물 또는 생성물이 존재하면 해당 메시지를 표시하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터 입력 장치.
  10. 전자장치가 수신된 물성 데이터 입력신호에 따라 복수의 반응 계수를 포함하는 입력데이터를 입력하기 위한 입력화면을 표시하는 단계;
    상기 전자장치가 상기 입력화면에 입력된 상기 입력데이터 중 적어도 하나의 입력데이터에 대한 입력에러를 확인하여 표시하는 단계; 및
    상기 표시된 입력에러의 수정이 완료되면, 상기 수정된 입력데이터를 이용하여 상기 시뮬레이션 수행을 제어하는 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터 입력 방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 입력데이터는,
    반응물과 생성물로 형성된 반응식, 상기 반응 계수를 산출하기 위한 복수의 변수, 충돌 단면적 값 및 이온종과 관련된 이온반응식 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터 입력 방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 입력에러를 확인하여 표시하는 단계는,
    상기 생성물에 생성항 또는 손실항만 존재하면, 상기 생성항 또는 손실항을 강조하여 표시하는 단계인 것을 특징으로 하는 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터 입력 방법.
  13. 제11항에 있어서,
    상기 입력에러를 확인하여 표시하는 단계는,
    상기 복수의 변수 중 적어도 하나의 변수에 대한 단위 및 부호 중 적어도 하나에 대한 오입력여부를 기반으로 상기 반응 계수의 유효성을 실시간으로 확인하는 단계인 것을 특징으로 하는 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터 입력 방법.
  14. 제11항에 있어서,
    상기 입력에러를 확인하여 표시하는 단계는,
    상기 충돌 단면적 값에 대한 오입력여부를 기반으로 충돌 단면적의 유효성을 실시간으로 확인하는 단계인 것을 특징으로 하는 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터 입력 방법.
  15. 제11항에 있어서,
    상기 입력에러를 확인하여 표시하는 단계는,
    상기 반응물, 상기 생성물, 상기 반응 계수 또는 상기 충돌 단면적 값을 기반으로 상기 입력데이터의 중복여부를 확인하는 단계인 것을 특징으로 하는 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터 입력 방법.
  16. 제11항에 있어서,
    상기 입력에러를 확인하여 표시하는 단계는,
    상기 반응식을 기반으로 상기 시뮬레이션을 위해 주입할 가스 중 elastic 또는 momentum transfer 반응이 확인되지 않는 가스가 존재하면, 해당 가스를 표시하는 단계인 것을 특징으로 하는 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터 입력 방법.
  17. 제11항에 있어서,
    상기 입력에러를 확인하여 표시하는 단계는,
    상기 이온반응식을 기반으로 상기 시뮬레이션을 위해 주입할 가스 중 벽 반응(wall reaction)이 존재하지 않는 이온종이 확인되면, 해당 이온종을 표시하는 단계인 것을 특징으로 하는 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터 입력 방법.
  18. 제11항에 있어서,
    상기 입력에러를 확인하여 표시하는 단계는,
    상기 반응물 및 상기 생성물 중에서 종(species) 정보가 확인되지 않는 반응물 또는 생성물이 존재하면 해당 메시지를 표시하는 단계인 것을 특징으로 하는 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터 입력 방법.
KR1020200036329A 2020-03-25 2020-03-25 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터의 입력 장치 및 방법 KR102416787B1 (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200036329A KR102416787B1 (ko) 2020-03-25 2020-03-25 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터의 입력 장치 및 방법
JP2020094561A JP6959401B2 (ja) 2020-03-25 2020-05-29 プラズマシミュレーションのためのデータ入力装置および方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200036329A KR102416787B1 (ko) 2020-03-25 2020-03-25 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터의 입력 장치 및 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20210119764A true KR20210119764A (ko) 2021-10-06
KR102416787B1 KR102416787B1 (ko) 2022-07-05

Family

ID=77919795

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200036329A KR102416787B1 (ko) 2020-03-25 2020-03-25 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터의 입력 장치 및 방법

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP6959401B2 (ko)
KR (1) KR102416787B1 (ko)

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004266098A (ja) * 2003-02-28 2004-09-24 Toshiba Corp シミュレーション方法、シミュレーションプログラム、シミュレーション装置および表面反応装置
KR20050019231A (ko) * 2003-08-18 2005-03-03 김헌창 플라즈마 공정 챔버의 최적화 진단시스템 및 진단방법
KR100735949B1 (ko) * 2002-11-14 2007-07-06 알스톰 페로비아리아 에스.피.에이. 설비, 특히 역사설비에 명령을 하는 철도의 논리소프트웨어 엔진들을 점검하는 장치와 방법
JP2008052530A (ja) * 2006-08-25 2008-03-06 Hamamatsu Metrix Kk プラズマ粒子シミュレーション計算方法
JP2015026384A (ja) * 2014-09-16 2015-02-05 キヤノンマーケティングジャパン株式会社 入力制御システム、クライアント端末、入力制御方法及びプログラム
KR101715671B1 (ko) * 2016-10-24 2017-03-13 포스컨트롤 주식회사 생산자동화실습장치 제어 시뮬레이션 시스템
KR20170143445A (ko) * 2016-06-21 2017-12-29 램 리써치 코포레이션 물리-기반 에칭 프로파일 모델링 프레임워크를 통해 고속 에지 배치 에러 예측을 통한 포토레지스트 설계 레이아웃 패턴 근접 보정
KR20180123075A (ko) * 2016-03-04 2018-11-14 베리톤 알파, 인코포레이티드 전력 출력을 제어하기 위한 배터리 ｄｃ 특성들의 사용

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0831747A (ja) * 1994-07-13 1996-02-02 Hitachi Ltd プラズマプロセス運転支援方法及びその装置並びにプラズマプロセス装置
JP2006163665A (ja) * 2004-12-06 2006-06-22 Toshiba Corp 数値制御加工機の数値制御情報確認装置および方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100735949B1 (ko) * 2002-11-14 2007-07-06 알스톰 페로비아리아 에스.피.에이. 설비, 특히 역사설비에 명령을 하는 철도의 논리소프트웨어 엔진들을 점검하는 장치와 방법
JP2004266098A (ja) * 2003-02-28 2004-09-24 Toshiba Corp シミュレーション方法、シミュレーションプログラム、シミュレーション装置および表面反応装置
KR20050019231A (ko) * 2003-08-18 2005-03-03 김헌창 플라즈마 공정 챔버의 최적화 진단시스템 및 진단방법
JP2008052530A (ja) * 2006-08-25 2008-03-06 Hamamatsu Metrix Kk プラズマ粒子シミュレーション計算方法
JP2015026384A (ja) * 2014-09-16 2015-02-05 キヤノンマーケティングジャパン株式会社 入力制御システム、クライアント端末、入力制御方法及びプログラム
KR20180123075A (ko) * 2016-03-04 2018-11-14 베리톤 알파, 인코포레이티드 전력 출력을 제어하기 위한 배터리 ｄｃ 특성들의 사용
KR20170143445A (ko) * 2016-06-21 2017-12-29 램 리써치 코포레이션 물리-기반 에칭 프로파일 모델링 프레임워크를 통해 고속 에지 배치 에러 예측을 통한 포토레지스트 설계 레이아웃 패턴 근접 보정
KR101715671B1 (ko) * 2016-10-24 2017-03-13 포스컨트롤 주식회사 생산자동화실습장치 제어 시뮬레이션 시스템

Also Published As

Publication number Publication date
KR102416787B1 (ko) 2022-07-05
JP2021158099A (ja) 2021-10-07
JP6959401B2 (ja) 2021-11-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103345885B (zh) 箱体走线配置方法及装置和拼接式显示屏的配置方法
CN202394086U (zh) 过程控制系统
CN106650460B (zh) 一种版本校验方法、装置及终端设备
CN108293199B (zh) 提供事件管理服务的电子装置和方法
US20130005384A1 (en) Mobile communication terminal test device and mobile communication terminal test method
US11108867B2 (en) Remote operation system and measurement system
JPS61250718A (ja) タツチスクリ−ンの自動較正方法
CN106534558B (zh) 控制投影仪的方法及装置
WO2020255272A1 (ja) 電子装置及び方法
JP2019176367A (ja) 移動端末試験装置、移動端末試験システムと移動端末試験方法
CN112526941A (zh) 用于实现与过程控制系统相关联的安全应用的方法和装置
KR102416787B1 (ko) 플라즈마 시뮬레이션을 위한 데이터의 입력 장치 및 방법
US9542084B1 (en) System and method for generating vias in an electronic design by automatically using a hovering cursor indication
WO2020044477A1 (ja) 異常診断システム、方法及びプログラム
EP3945697A1 (en) Method and system for retrieving building automation system controller information using near field communication
KR20210131026A (ko) 플라즈마 시뮬레이션 서비스 제공 시스템 및 방법
JP2011250104A (ja) シーケンス試験装置及びシーケンス試験方法
JP5584017B2 (ja) シーケンス試験装置及びシーケンス試験方法
EP3751533B1 (en) Measurement cloud system for coupling measurement device settings across multiple instruments and/or measurement sites and corresponding handling method
KR102242572B1 (ko) 플라즈마 장비의 시뮬레이션 방법 및 장치
CN107015815B (zh) 一种用于模拟核电站安全控制显示设备的装置
JP2020008533A (ja) 検証サーバ、検証方法、検証プログラム、及び配置物
KR20210131025A (ko) 플라즈마 시뮬레이션의 속도 향상 방법 및 장치
JP2006101141A (ja) 移動端末試験装置
US10586002B1 (en) System and method for generating non-design manipulation elements in an electronic design

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant