KR20210097647A - 플라즈마, 매체, 종, 시스템, 방법 - Google Patents

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레르. 나트 마티아스 젠커
알렉산더 노이게바우에르
크리스틴 브루네커
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에에르베에 엘렉트로메디찐 게엠베하
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Abstract

본 발명에 따르면, 특히 플라즈마(19)는 모든 등급의 중증도의 상피내 종양, 예컨대, 제위치 병변의 상피성 암종(carcinoma in situ lesions)의 치료 및/또는 상피 방식으로 도달할 수 있는 침습성 암종의 치료를 위해, 예컨대 인간 유두종바이러스(human papillomavirus)에 대하여 특히 항 바이러스 요법에 의한 상피내 종양의 예방을 위해 생성되며, 상기 플라즈마는 상기 플라즈마(19)와 갈바닉 접촉을 갖는 적어도 하나의 전극(15)을 갖는 의료 기구(14), 상기 기구(14)에 전력을 공급하기 위해 교류 전압을 제공하기 위한 RF-장치(11) 및 상기 기구(14)에 가스, 특히 아르곤을 공급하기 위해 조정되는 가스 공급 장치(13)를 구비하는, 플라즈마(19), 바람직하게는 아르곤 플라즈마를 생성하기 위한 시스템(10)에 의해 생성된다.

Description

플라즈마, 매체, 종, 시스템, 방법{PLASMA, MEDIA, SPECIES, SYSTEMS, METHODS}
본 발명은 질병 치료를 위한 물리적 플라즈마, 매체, 종, 시스템 및 방법에 관한 것이다.
물리적 플라즈마에 의한 질병 치료를 위한 수많은 방법이 플라즈마 의학이라는 용어로 요약된다.
얀(YAN) 등의 연구진에 의한, 종양학 표적(Oncot target), 2017년, 볼륨 8, (9번), pp: 15977-15995의 "저온 대기 플라즈마, 새로운 유망한 항암 치료 방법" 뿐 아니라 두북(Dubuc) 등의 연구진에 의한, 의료 종양학 저술(Ther Adv Med Oncol), 2018년 볼륨 10: 1-12의 "종양학에서 저온 대기 플라즈마 사용" 기사는 암 치료를 위해 대기압(저온 대기 플라즈마, CAP)에서 저온 플라즈마를 적용하기 위한 연구를 설명한다.
바이스(Weiss) 등의 의료 바이러스학의 저널(Journal of Medical Virology) 89: 952-959(2017)의 미래 임상 적용을 위한 저온 대기 플라즈마의 바이러스(Virucide) 특성 기사는 대기압에서 저온 플라즈마를 적용하여 바이러스를 비활성화하는 방법을 설명한다.
바이스(Weiss) 등의 산부인과 및 산부인과 기록물(Archives of gynecology and obstetrics), 2018 년 9 월의 "물리적 플라즈마: 부인과 종양학의 새로운 치료 옵션"의 기사는 부인과 암 유형의 치료 및 예방을 위해 대기압 하에서 저온 물리적 플라즈마를 사용하는 방법을 설명한다. .
항암 적용을 위한 저온 대기 플라즈마(CAP) 기사: "자궁경부암 세포의 DNA 완전성 및 기능성에 대한 후성 유전학적 효과"는 대기압 하에서 자궁경부 암세포에 대한 저온 플라즈마의 사실을 설명한다.
프랭크(Frank) 등의 엔도 호이테(Endo heute) 2006; 19:15-22의 "변형된 아르곤-플라즈마 응고 모드 및 위장 내시경에서 최초의 대학 센터 임상 경험" 기사는 종양 및 병변의 치료 동안 아르곤-플라즈마 응고 방식의 적용을 설명한다.
고이즈미(Koizumi) 등의, 분자 및 임상 종양학(Molecular And Clinical Oncology) 5:310-316, 2016년의 "교번 자기장에 의해 유도된 열을 사용하는 고열 장치를 사용한 자궁경부 상피 내 종양 치료의 안전성 및 효능에 대한 임상 조사"는 치료를 위해 가열되는 바늘을 사용하여 Ⅲ 등급(CIN Ⅲ)의 자궁경부 상피 내 종양 환자의 치료를 설명한다.
WO 02/11634 A1은 조정 가능한 전력 제한을 가진 무선 주파수 수술을 위한 무선 주파수 발생기를 설명한다. 발생기는 변조 신호의 펄스 지속시간 및/또는 변조 신호 간의 휴지 지속시간을 조정하여 무선 주파수 출력 전압의 피크 값 또는 전기 광선 아크의 강도가 일정하게 유지되도록 한다.
바이스(Weiss) 등의, 62. DGGG-Kongress, 베를린, 2018 년 10 월 31 일 내지 11 월 3 일의 포스터 기고 "항암 적용을 위한 저온 대기 플라즈마(CAP): 자궁경부암 세포의 DNA 완전성 및 기능성에 대한 후성 유전적 효과"는 자궁경부 SiHa 세포에 대한 CAP 적용의 세포 성장 제한 효과를 나타낸다.
ACS 자료 인터페이스(Appl. Mater. Interfaces)에서 2019 년 10 월 28 일 공개된 벤젤(Wenzel) 등의 "접촉 및 마커 독립적 라만 현미경으로 분석한 인체 점막에서 물리적 플라즈마의 분자 효과 및 조직 침투 깊이"의 기사에서 인간 점막의 전암성 병변 및 종양성 질환 예컨대 자궁경부 종양에서 유망한 치료 방법으로 CAP를 사용한 비 침습적 치료가 언급된다. 이 기사는 자궁경부 조직 샘플에서 전 생체검사를 실시한 인간 조직에 대한 플라즈마 효과를 특성화하기 위해 라만 현미경을 사용하는 것을 목표로 하는 연구 결과를 설명한다. 설명된 바와 같이, 연구의 일부에서 자궁경부 암세포의 세포주(cell line)를 갖는 세포 배양에 대한 세포 재생을 방해하는 CAP의 효과가 확인되었다. 자궁경부 조직 샘플과 세포주에 대한 CAP-처리는 제트 원리에 따라 작동하는 아르곤 플라즈마 생성을 위한 기구를 사용하여 수행되었다. 연구의 맥락에서 기구는 열 조직 손상을 배제하기 위해 샘플 위로 동적으로 이동되었다.
웹 사이트 https://clinicaltrials.gov/ct2/show/NCT03218436?term=argon+plasma&cond=CIN&rank=1은 낮은 온도의 물리적 플라즈마로 자궁경부 상피내 종양을 치료하기 위한 연구를 설명한다. 조직학적으로 검증된 등급 I/Ⅱ의 CIN은 플라즈마 치료를 위한 포함 기준으로 언급된다.
이러한 배경에 비추어 볼 때, 질병 치료를 위한 개선된 플라즈마뿐만 아니라 그러한 플라즈마 생성 시스템 및 방법에 대한 요구가 존재한다.
이러한 목적을 해결하기 위해, 본 발명은 특히 청구항 1에 따른 플라즈마, 청구항 8에 따른 매체, 청구항 9에 따른 종, 청구항 10 또는 11에 따른 시스템 및 청구항 14에 따른 방법을 생성한다.
본 발명에 따르면 그리고 본 발명의 제 1 측면에 따르면, 플라즈마는 모든 등급의 중증도의 상피내 종양, 예컨대, 제위치 병변의 상피성 암종(carcinoma in situ lesions)의 치료 및/또는 상피 방식으로 도달할 수 있는 침습성 암종의 치료를 위해, 예컨대 인간 유두종바이러스(human papillomavirus)의 플라즈마 기반 불활성에 의한, 특히 항 바이러스 요법으로 상피내 종양의 예방을 위해 생성된다. 상기 플라즈마는 바람직하게는 아르곤 플라즈마, 다른 경우 예컨대 헬륨 플라즈마이다. 플라즈마 생성을 위한 시스템은 적어도 하나의 전극을 갖는 의료 기구, 기구에 전력을 공급하기 위해 교류 전압을 제공하기 위한 RF-장치 및 기구, 특히 기구에 가스, 특히 아르곤을 공급하도록 조정된 가스 공급 장치를 포함한다. 바람직하게는 시스템의 적어도 하나의 전극은 플라즈마에 대한 갈바닉 접촉을 갖는다. 시스템은 바람직하게는 전류 전도성 플라즈마로서 플라즈마를 생성한다.
본 발명의 제 2 측면은 플라즈마에 의해 활성화되는 매체에 관한 것이다. 활성화는 치료적으로 유효한 종, 특히 라디칼이 플라즈마에 의해 매체에서 생성되고 및/또는 치료적으로 유효한 종, 특히 라디칼이 플라즈마에 의해 매체에 도입됨을 의미한다. 예컨대, 매체는 액체, 특히 현탁액, 에멀젼, 특히 조직 액체, 인간 또는 동물 조직, 특히 종양 조직 또는 예컨대, 반죽이나 딱딱한 물질일 수 있다. 매체, 특히 물질은 상피내 종양의 치료에 사용될 수 있다. 내인성 조직(endogenous tissue)을 포함하는 활성화된 매체, 예컨대 체액은 활성화된 표적 매체로도 참조될 수 있다. 활성화된 외인성 매체(exogenous medium), 예컨대 액체, 특히 용액, 현탁액 또는 에멀젼, 치료를 위해 환자의 조직에 도포되거나 다른 방식으로 환자에게 공급되는 겔 또는 페이스트는 지칭된 질병의 예방적 치료를 위한 약물로 이해될 수 있다. 제 1 측면에 따른 플라즈마가 활성화된 내인성 또는 외인성 매체의 생성에 사용되는 경우, 플라즈마는 특히 제 1 측면의 맥락에서 언급된 하나 이상의 질환의 치료를 위해 간접적으로 이러한 의미로 사용될 수 있다. 라디칼은 예컨대 반응성 산소 종(ROS) 및/또는 반응성 질소 종(RNS)일 수 있다. 모든 반응성 산소 종과 모든 반응성 질소 종의 총합을 RONS라고 한다.
본 발명의 제 3 측면은 플라즈마에 의해 생성된 종, 특히 상기 언급된 매체에 도입된 종 및/또는 상기 언급된 매체에 생성된 종, 특히 라디칼에 관한 것이다.
본 발명의 제 4 측면에서, 제 1 측면에 따른 플라즈마, 바람직하게는 전류 전도성 플라즈마, 바람직하게는 아르곤 플라즈마의 생성을 위한 시스템이 제공된다. 시스템은 바람직하게는 플라즈마에 대한 갈바닉 접촉을 갖는 적어도 하나의 전극을 구비한 의료 기구 및 기구에 전력을 공급하기 위해 교류 전압을 제공하기 위한 RF-장치를 포함한다. 또한, 시스템은 가스, 특히 아르곤을 기구에 공급하기 위해 플라즈마 생성을 위해 조정될 수 있는 가스 공급 장치를 포함한다. 실시예에서 시스템은 플라즈마 생성을 위해 구성될 수 있으며, 예컨대 무선 주파수(RF) 전압, 무선 주파수(RF) 전력, 무선 주파수의 변조, 가스 유동 등과 같은 특정 시스템 조정을 선택하여 언급된 질병의 예방 및/또는 치료를 위해 구성될 수 있다.
시스템의 적어도 하나의 전극은 전기 전도성, 특히 전극의 금속 표면이 플라즈마와 접촉한다는 점에서 플라즈마와 갈바닉 접촉할 수 있다. 전류 전도성 플라즈마는 전극으로부터의 전자가 플라즈마를 통과하도록 전극 접촉을 갖는 플라즈마를 의미한다. 플라즈마가 전극 접촉을 갖지 않도록 전극의 유전체 층을 통한 장벽 방전과 달리, 언급된 질병의 치료를 위한, 예컨대, 언급된 질병의 예방에 의한 본 발명의 시스템의 바람직한 실시예에서 전자는 플라즈마의 전극으로부터 탈출한다. 본 발명의 시스템의 바람직한 실시예에 의해, 방전은 처리될 위치에 가깝게 접근할 수 있으며, 이는 조직 위치 및/또는 치료할 조직 위치의 플라즈마에서 고밀도의 중성 및 하전된, 또한 수명이 짧은 종, 예컨대, 반응성 산소 종 및/또는 반응성 질소 종(특히 라디칼 포함)을 유도한다.
실시예에서, 치료할 위치 위로 이동하여 플라즈마의 비열적 적용을 허용하는 시스템으로 온간 플라즈마가 생성될 수 있지만, 특히 한 위치에 머무르는 동안 단백질의 변성으로 인해 열 효과, 특히 기능적 조직 구조의 손상을 초래할 수 있다. 예컨대, 온간 플라즈마는 온도, 특히 45℃ 초과, 55℃ 초과 또는 심지어 65℃ 초과의 이온 온도(ion temperature)를 가질 수 있다. 특히 기구의 팁이 조직 위로 움직이지 않고 옆에 있는 위치에서 조직 위치 표면의 온도는 적어도 45℃, 적어도 55℃ 또는 심지어 적어도 65°까지 증가할 수 있다. 예컨대, 플라즈마는 예컨대 10mm/s의 한계 값을 포함하거나 초과하는 적용 속도로만 조직 위로 이동하면, 조직 온도는 치료할 인간 또는 동물 환자의 조직 위치에서 제한 온도(예: 제한 온도) 예컨대 40℃, 특히 바람직하게는 37℃ 이하에서 잔류하도록 하는 온도를 가질 수 있다. 바람직하게는 최대 50 mm/s 이하의 수동으로 달성 가능하고 제어 가능한 적용 속도로 작동할 수 있어서, 플라즈마가 이동하는 조직 위치의 조직 온도가 한계 온도 예컨대 40℃, 특히 바람직하게는 37℃ 이하의 한계 이하로 유지되도록 또는 열 조직 손상, 특히 플라즈마 치료로 인해 응고가 발생하지 않도록, 플라즈마는 바람직하게는 예컨대 150℃ 또는 120℃일 수 있는 한계 온도 이하의 온도를 가진다.
본 발명의 제 5 측면에 따르면, 방법이 제공되며, 상기 방법은 모든 등급의 중증도의 상피내 종양, 예컨대, 제위치 병변의 상피성 암종의 치료 또는 상피 방식으로 도달할 수 있는 침습성 암종의 치료를 위해, 예컨대 인간 유두종바이러스에 대하여 특히 항 바이러스 요법에 의한 상피내 종양의 예방을 위해 플라즈마, 예컨대 제 1 측면에 따른 플라즈마의 사용을 포함한다. 제 1 측면에 따른 플라즈마의 사용과 유사하고 따라서 본 발명에 속하는 것은 하나 이상의 언급된 치료에 대한 측면 2 내지 4에 따른 매체(예컨대, 매체의 생성), 종 또는 시스템의 사용이다.
특히, 방법은 예컨대 온간 플라즈마의 비열적 사용, 예컨대 제 1 측면에 따른 플라즈마의 실시예를 포함한다. 이를 위해, 기구 예컨대 상술한 제 4 측면에 따른 시스템의 기구, 및 따라서 플라즈마는 바람직하게는 이와 접촉하지 않고 매우 빠르게 치료될 조직 위로 안내되어 이러한 방식으로 스위핑된 조직 위치의 온도가 바람직하게는 37℃ 또는 40℃의 한계 온도 미만으로 유지되어, 조직의 열 손상을 확실하게 방지할 수 있다.
플라즈마를 비열적으로 적용하는 동안 조직 분산이 없기 때문에, 레이저 치료(출혈, 감염) 및 원추조직절제(출혈, 감염, CK 단축, 임신 위험 10 배의 위험과 출산 합병증 등)를 피할 수 있다. 비열 치료는 통증이 없거나 경미한 통증만을 수반하므로 일반적인 수술 상황에서 전신 진정 및 국소 마취없이 외래 환자에게 시행할 수 있다. 많은 경우에, 이미 치료 시간이 10 초에서 10 분으로 충분할 수 있다. 치료에는 한 사람(의학적 자격을 갖춘 사람 또는 의사)만 필요하다. 스포츠, 성교, 목욕, 수영, 전문적인 활동은 치료 직후 다시 가능하다.
본 발명의 제 6 측면에 따르면, 플라즈마, 바람직하게는 전류 전도성 플라즈마, 바람직하게는 아르곤 플라즈마를 생성하기 위한 시스템이 제공되며, 상기 시스템은 적어도 하나의 전극을 가진 의료 기구를 가지며 기구에 전력을 공급하기 위한 교류 전압을 제공하기 위한 RF-장치를 가진다. 전극은 바람직하게는 플라즈마에 대한 갈바닉 접촉을 갖는다. 바람직하게는 시스템은 플라즈마 생성을 위해 기구에 가스, 특히 아르곤을 공급하도록 구성된 가스 공급 장치를 포함한다. 시스템은 출력 전력, 예컨대 출력 유효 전력 또는 출력 피상 전력 또는 원하는 값에 따른 RF-장치의 실제 출력 전력의 평균값의 피드백 제어를 위한 장치를 포함한다. 시스템은 바람직하게는 다음 요법 중 하나에 사용하기 위한 것으로 의도되고, 실시예에서 이것은 예컨대, 전압, 전력, RF 주파수 변조, 가스 유동 등과 같은 특정 시스템 조정의 선택에 의해 발생할 수 있다: 모든 등급의 중증도의 상피내 종양, 예컨대, 제위치 병변의 상피성 암종의 치료 및/또는 상피 방식으로 도달할 수 있는 침습성 암종의 치료를 위해, 예컨대 인간 유두종바이러스에 대하여 특히 항 바이러스 요법에 의한 상피내 종양의 예방을 위한 것이다.
본 발명의 제 7 측면에 따르면, 모든 등급의 중증도의 상피내 종양, 예컨대, 제위치 병변의 상피성 암종의 치료 및/또는 상피 방식으로 도달할 수 있는 침습성 암종의 치료를 위해, 예컨대 인간 유두종바이러스에 대하여 특히 항 바이러스 요법에 의한 상피내 종양의 예방을 위해 사용하기 위한 플라즈마가 제공되고, 상기 플라즈마는 제 6 측면에 따른 시스템에 의해 플라즈마가 생성된다. 본 발명의 제 8 측면은 언급된 요법의 치료를 위한 제 7 측면에 따른 플라즈마에 의해 활성화된 매체에 관한 것이다. 본 발명의 제 9 측면은 제 7 측면에 따른 플라즈마에 의해 생성된 종에 관한 것이다. 제 10 측면은 제 6 측면에 따른 시스템, 제 7 측면에 따른 플라즈마, 제 8 측면에 따른 매체 및/또는 제 9 측면에 따른 종에 의한 모든 등급의 중증도의 상피내 종양, 예컨대, 제위치 병변의 상피성 암종의 치료 및/또는 상피 방식으로 도달할 수 있는 침습성 암종의 치료를 위해, 예컨대 인간 유두종바이러스에 대하여 특히 항 바이러스 요법에 의한 상피내 종양의 예방을 위한 방법에 관한 것이다. 제 10 측면에 따른 방법의 실시예는 특히 제 7 측면에 따른 플라즈마의 비열적 사용을 언급한다. 실시예에서, 본 발명의 일부인 제 6 측면에 따른 시스템, 제 8 측면에 따른 매체 및 제 9 측면에 따른 종의 사용이 중요하다.
여기에 표시된 본 발명의 제 1 내지 제 5 측면에 따른 플라즈마, 시스템, 매체, 종 또는 방법의 특징은 장점을 제공하기 위해 제 6 내지 제 10 측면에 따른 플라즈마, 시스템, 매체, 종 또는 방법의 선택적 특징일 수 있고 그 반대일 수 있다. 제 6 측면에 따른 시스템, 제 7 측면에 따른 플라즈마, 제 8 측면에 따른 매체 및 제 9 측면에 따른 종의 실시예들은 본 발명의 제 1 내지 제 4 측면에 따른 플라즈마, 시스템, 매체 또는 종에 대응하므로, 본 발명의 제 1 내지 제 5 측면에 관한 설명이 특히 이들 실시예의 설명을 위해 고려되어야 한다.
제 1 내지 제 10 측면에 따른 본 발명에 따른 플라즈마, 매체, 종, 시스템 및 방법의 추가적인 유리한 실시예 및 특징은 다음의 설명으로부터 명백하다. 또한, 플라즈마, 매체, 시스템, 방법이 연속적으로 단수로 언급되는 경우, 본 발명의 제 1 내지 제 10 측면인 모든 측면의 선택적인 특징 및 이점은 문맥이 달리 나타내지 않는 한 다음을 의미한다 :
본 발명에 따른 플라즈마에 의해서, 특히 다음 포유류 기관계 즉, 자궁경부, OS, 식도, 위, 결장, 직장 및 복막 중 적어도 하나의 상피내 종양을 치료할 수 있다.
플라즈마는 특히 인간의 I 등급 또는 Ⅱ 등급의 상피내 종양, 특히 자궁경부 상피내 종양의 치료에 사용될 수 있다.
예방과 시기 적절한 라디컬 치료에 대한 최고의 노력으로 인해 세계의 이 지역에서 발병률이 감소함에도 불구하고, 매년 50 만 명의 여성이 침습성 자궁경부암(CC)에 걸린다. 매년 약 270,000 명의 환자가 이 질병으로 사망하고 모든 환자의 대다수가 때때로 질병과 치료의 심각한 신체적, 생리적 결과로 평생 동안 싸우고 있다.
자궁경부 상피성 암종(CIS)과 CC는 대부분 수년 동안 지속되는 전구 병변(precursor lesions)에서 발생한다. 그 밖의 다른 것들, 그러한 자궁경부 상피내 종양(CIN)의 발병에 대한 주요 위험 요소는 인간 유두종 바이러스(HPV)의 고위험 변종에 의한 국소 감염이다.
CIN의 1 차 치료법은 레이저 증발(열 경화 요법) 또는 원추조직절제(조직 제거)로 이루어진다. 이 방법은 대부분 전신 마취하에 수행되며 상대적으로 높은 침습성 뿐 아니라 엄청난 임상 및 재정적 노력을 수반한다. 연간 천명 당 약 4.2 개의 새로운 질병의 CIN 발생률이 높기 때문에 엄청난 비용이 드는 수술 서비스가 필요하다. 또한, CIN 치료를 위한 이러한 외과적 개입은 때때로 심한 출혈, 생식력 감소 및 임신 합병증 위험을 여러 배 증가시키는 것과 관련이 있다. 과잉 치료와 침습성 CC의 발현에 대한 우려 사이의 균형 잡힌 행동은 건강 경제 문제이다. CIN은 또한 불충분한 HPV 백신 접종 범위와 독일 및 전 세계의 기타 위험 요소로 인해 심각한 문제를 연속적으로 제기할 것이다. 치료를 위한 마취없는 효과적인 최소 침습적 방법, 특히 CIN뿐만 아니라 다른 점막전 암성 변화(mucosa precancerous change)도 임상 일상에서 긴급히 요구되며 현재 대부분 사용되지 못하고 있다.
본 발명은 특히 CIN의 특히 부드럽지만 효과적인 치료를 위한 이러한 플라즈마, 시스템, 매체, 종 및 방법이 제공된다는 점에서 치료법을 제공한다. 바람직하게는, 플라즈마, 시스템, 매체, 종은 조직으로 연장되는 조직 표면의 비열 치료에 사용된다. 이는 치료할 조직 위치의 온도가 특히 바람직하게는 열 조직 손상에 대해 항상 임계 온도 미만으로 예컨대 40℃ 이하 또는 37℃ 이하로 유지된다는 것을 의미한다.
가스(플라즈마 가스) 예컨대 아르곤의 가스 유동은 플라즈마 점화가 가능하도록 원위 기구 팁과 조직 사이에 가능한 한 한정된 적절한 혼합 대기를 생성하는 역할을 한다. 가스 유동이 너무 낮으면 전극과 조직 사이에 플라즈마 가스가 너무 적다. 최소 가스 유동은 적어도 플라즈마가 점화되기 위해 기구를 통해 흐를 필요가 있는 가스 유동이다. 가스 유동이 너무 높으면 난기류로 인해 너무 많은 공기 또는 기타 가스 또는 환경 매체가 추가된다. 최대 가스 유동은 플라즈마가 점화되기 위해 기구를 통해 흐르도록 허용되는 가스 유동이다. 순수한 플라즈마 가스 대기는 아마도 치료적으로 효과적인 종의 생성을 어렵게 만들 수 있다. 따라서, 가스(플라즈마 가스) 예컨대, 아르곤의 원하는 가스 유동은 바람직하게는 플라즈마 생성을 위한 최소 가스 유동에 가까운 범위 또는 최대 가스 유동에 가까운 범위에 있다. 기구를 통해 흐르는 선택된 가스 유동은 예컨대 최소 가스 유동만큼 높지만 최대 가스 유동보다 작을 수 있다. 플라즈마 가스의 가스 유동은 바람직하게는 최소 가스 유동을 포함하여 예컨대 최소 가스 유동보다 3 배 더 큰 가스 유동을 포함하는 범위에서 선택된다. 최소 가스 유동과 최대 가스 유동은 여러배의 파라미터 및/또는 조정에 따라 달라질 수 있다. 최소 가스 유동은 특히 기구 팁과 조직 표면 사이의 원하는 치료 거리에 따라 달라질 수 있다. 예컨대, 치료를 위한 기구 팁과 조직 표면 사이의 치료 거리가 한정될 수 있으며(예: 7mm) 한정된 치료 거리에 기초하여 기구를 통과하는 가스 유동을 선택할 수 있다. 원위 단부에 2.4 mm의 가스 채널의 내경이 제공되면, 가스 유동은 바람직하게는 1 ℓ/분을 포함하여 1 ℓ/분 내지 3 ℓ/분을 포함하여 3 ℓ/분, 특히 바람직하게는 1.3 ℓ/분을 포함하여 1.3 ℓ/분 내지 2.5 ℓ/분을 포함하여 2.5 ℓ/분, 예컨대 1.6 ℓ/분 ± 20 %의 범위에 있을 수 있다. 이러한 표시는 이 적용에서 가스 유동과 관련된 추가 표시뿐만 아니라 정상 조건을 나타낸다. 정상 조건은 온도가 0℃이고 대기압이 1 기압이다. 더 작은 가스 유동은 더 작은 내경으로 유리할 수 있지만, 그와는 별도로 동일한 파라미터 및 조정과 더 큰 가스 유동은 더 큰 내경을 갖지만, 그와는 별개로 동일한 파라미터 및 조정을 갖는 것이 유리할 수 있다. 기구의 가스 공급(예: 가스 채널)의 내경은 예컨대 원위 단부에서 예컨대 0.5mm를 포함하여 0.5mm 내지 10mm를 포함하여 10mm, 바람직하게는 0.5mm를 포함하여 0.5mm 내지 10mm를 포함하여 10mm, 특히 2.4mm의 양을 가질 수 있다.
일 실시예에서, 바람직하게는 3 ℓ/분 미만, 특히 바람직하게는 2 ℓ/분 이하의 예컨대 아르곤 또는 다른 플라즈마 가스의 가스 유동이 유리할 수 있으며 한편으로는 또한 낮은 전압으로 플라즈마의 신뢰성있는 점화를 야기할 수 있으며, 다른 한편으로는 전극과 조직 사이의 아르곤과 공기의 혼합물을 사용하여, 반응성 종, 특히 반응성 산소 종 및/또는 반응성 질소 종의 고밀도가 조직으로 가스 유동과 함께 운반되고 및/또는 조직으로 침투하는 플라즈마에 의해 생성된다.
전류 유동 방향이 조직을 향한 플라즈마 유동 방향과 일치하는 효과적인 플라즈마 기구의 생성을 위해 바람직하다.
중성 전극을 포함하는 경우, 시스템을 통해 특히 효과적인 플라즈마를 생성할 수 있고, 중성 전극은 플라즈마와 환자의 신체를 통해 전극을 경유하여 RF-장치로부터 전류 회로를 폐쇄하기 위해 환자의 신체에 배치되어 있다. 플라즈마는 기구의 원위 단부에 있는 전극과 환자의 조직 사이에서 점화된다. 플라즈마에 의해 활성화된 매체의 생성 시스템이 환자의 신체 외부 또는 환자의 신체로부터 분리되어 사용되는 경우, 매체는 중성 전극 역할을 하는 컨테이너 또는 캐리어에 배치될 수 있다. 예컨대, 시스템의 중성 전극 유닛은 매체용 전기 전도성 캐리어 또는 컨테이너와 전기 전도성으로 연결될 수 있다.
특히, RF-장치가 최대 3.5W, 특히 바람직하게는 최대 2.5W, 가장 특히 바람직하게는 최대 2W, 더욱 더 바람직하게는 최대 1W 이하의 제한된 전기 출력 유효 전력을 출력하도록 조정되면, 특히 매끄러운 처리가 가능하다. 출력 유효 전력을 최대 값으로 제한하면, 실제 전력이 최대 값, 예컨대 2 W 또는 더 낮은 값, 예컨대 1 W를 가질 수 있다.
바람직한 실시예에서, RF-장치는 적어도 100 kHz, 바람직하게는 200 kHz를 포함하여 200 kHz 내지 16 MHz를 포함하여 16 MHz, 특히 바람직하게는 300 kHz 내지 500kHz, 예컨대 350kHz 무선 주파수(RF)를 갖는 교류 전압을 전극에 공급하도록 조정된다. RF 주파수는 반송파 주파수라고도 한다.
교류 전압은 고정 또는 가변 중 주파수(중 주파수 변조)로 펄스화될 수 있으며, 여기서 중 주파수는 예컨대 5 kHz를 포함하여 5 kHz 내지 100 kHz를 포함하여 100 kHz, 특히 바람직하게는 10 kHz를 포함하여 10 kHz 내지 50 kHz를 포함하여 50 kHz, 예컨대 20kHz의 양을 가진다. 각 중 주파수 펄스의 펄스 지속시간은 바람직하게는 하나 이상의 RF-주기의 양을 갖는다. 중 주파수의 맥동에 의해, 점화를 위한 임계 값 미만으로 피크 전압을 낮추지 않고도 RF-장치의 전력을 연속파에 비해 낮출 수 있다.
교류 전압은 또한 바람직하게는 예컨대 0.5 kHz를 포함하여 0.5 kHz 내지 200 kHz를 포함하여 200 kHz, 바람직하게는 20 kHz를 포함하여 20 kHz 내지 150 kHz를 포함하여 150 kHz, 특히 100 Hz의 양을 갖는 고정 또는 가변 저 주파수(저 주파수 변조)로 펄스된다. 각각의 저 주파수 펄스의 펄스 지속시간은 바람직하게는 적어도 하나의 중 주파수 주기, 바람직하게는 1을 포함하여 1 내지 50을 포함하여 50의 중 주파수 주기, 예컨대 20 중 주파수 주기의 양을 가진다. 저 주파수 펄스의 펄스 지속시간이 하나 초과의 중 주파수 펄스를 포함하는 경우, 저 주파수의 펄스 패킷이라고도 한다. 저 주파수 맥동은 RF-장치의 연속파 작동과 비교하여 출력 유효 전력의 감소에서 중 주파수 맥동에 대한 추가 또는 대안으로 발생한다. RF-장치는 연속파 작동을 허용하거나 허용하지 않을 수 있다. 또한, 저 주파수 맥동은 저 주파수 펄스들 사이에서 펄스 휴지하고 결과적으로 조직 표면으로부터 플라즈마가 방출되는 플라즈마의 소멸을 초래한다. 따라서 플라즈마는 조직 표면에 달라 붙지 않고 조직 표면 위로 이동할 수 있다. 그렇게 함으로써 특히 균일한 치료 결과를 용이하게 얻을 수 있다. 따라서 조직 위치의 동시 및 집중적인 치료가 용이해지는 위치에서 플라즈마의 "고착"으로 인해, 뜨거운 조직 위치 즉, 예컨대 37℃ 또는 40℃의 임계 온도 위의 치료 관련 온도를 갖는 조직 위치가 회피된다.
시스템은 상한에 도달하거나 플라즈마가 점화되는 한 특히 중 주파수의 다중 펄스 패키지일 수 있는 저 주파수 펄스의 시작에서 RF-장치의 피크 출력 전압을 증가시키도록 구성할 수 있다. 상한은 예컨대 2kV를 포함하여 2kV 내지 6kV, 바람직하게는 4kV 내지 5kV, 예컨대 4.7kV의 양을 갖는다. 시스템은 바람직하게는 점화가 결정되면 RF-장치의 전력 공급 전압이 낮아지도록 추가로 구성되는 것이 바람직하다. 그렇게 함으로써, RF-장치의 피크 출력 전압이 감소하여, 다음 저 주파수 펄스가 시작될 때 피크 전압이 이전 저 주파수의 펄스 패킷의 플라즈마 점화 시점보다 낮다. 그렇게 함으로써 너무 강한 열 효과, 특히 열 조직 손상을 초래할 수 있는 너무 강한 플라즈마 생성을 방지할 수 있다.
시스템은 바람직하게는 예컨대 RF-장치의 출력 전력, 출력 유효 전력 또는 출력 피상 전력을 원하는 값으로의 피드백 제어를 위한 장치를 포함하고, 본 발명의 플라즈마는 바람직하게는 활성화되는 출력 전력의 피드백 제어로 생성된다.
출력 전력의 피드백 제어를 위한 장치는 예컨대 RF-장치의 출력 전력의 원하는 값에 도달하도록 전압 진폭을 조정하도록 구성될 수 있다.
중 주파수 및 저 주파수로 변조하는 동안, 저 주파수의 펄스 패킷은 바람직하게는 중 주파수의 하나 이상의 펄스를 포함하고, 펄스 패킷은 펄스 휴지(pause)가 뒤따른다. 중 주파수의 펄스 패킷은 바람직하게는 휴지가 뒤따르는 고 주파수의 하나 이상의 진동 주기를 포함한다. 특히 중소 출력 전력들의 경우, 저 주파수의 펄스 패킷이 너무 짧아서 알려진 제어 전략(전압 피드백 제어)으로는 전력의 피드백 제어가 불가능하다. 카운터 측정이 없으면, 조직에 도입된 전력은 플라즈마가 점화하는 전압에 따라 달라진다. 이 점화 전압은 외부 조건, 예컨대 조직까지의 거리, 전극 상태 또는 사용된 플라즈마 가스(예: 헬륨 또는 아르곤)에 따라 달라진다. 이 관계의 효과는 많은 적용에서 조직 효과에 임상 관련 차이를 초래하지 않는다. 그러나 거리에 따른 조직 효과는 특히 CIN-병변 치료 동안 특히 유리하다. 따라서, 바람직하게는 대안으로서 또는 피크 전압의 적응에 추가하여, 출력 전압의 맥동(변조)이 적응된다. 출력 전압은 예컨대, 출력 전력을 피드백 제어하기 위해 중 주파수 및/또는 저 주파수의 변조의 변화 및/또는 저 주파수의 펄스 패킷의 지속시간의 변화에 의해 영향을 받을 수 있다.
따라서, 장치는 피크 전압의 조정에 의해 또는 변조의 조정에 의해 또는 그렇지 않으면 양쪽 조치에 의해 플라즈마 생성 동안 출력 전력을 피드백 제어하도록 구성될 수 있다.
바람직하게는 출력 전력을 조정하기 위한 피크 전압의 조정 대신 본 발명에 의해 제공되는 변조 변화는 저 주파수 및/또는 중 주파수에 영향을 미칠 수 있다. 출력 전력은 연속적으로 또는 균일하거나 균일하지 않은 간격으로 검출될 수 있다. 그것은 바람직하게는 저 주파수의 펄스 패킷의 종료 후에 검출되고 원하는 값과 비교된다. 원하는 값으로부터의 편차에 따라, 중 주파수 및/또는 저 주파수의 펄스 지속시간 및/또는 주기는 출력 전력이 원하는 값에 접근하도록 수정될 수 있다.
평균 출력 유효 전력의 원하는 값은 예컨대 최대 3.5 W, 특히 바람직하게는 최대 2.5 W, 더욱 특히 바람직하게는 최대 2 W, 더욱 바람직하게는 1 W 이하의 양을 가질 수 있다. 평균 출력 유효 전력의 원하는 값이 예컨대 최대 2W의 양을 갖는 경우, 실제 선택된 원하는 값은 예컨대 2W 이하. 예컨대 1 W의 양을 가질 수 있다. 예컨대, 전력 출력은 저 주파수의 한 주기 동안의 평균과 관련될 수 있다. 대안으로, 전력 출력은 예컨대 저 주파수의 펄스 지속시간에 대한 평균과 관련될 수 있다. 또는 전력 출력은 예컨대 적어도 하나 이상의 중 주파수 펄스 또는 주기에 대한 평균과 관련될 수 있다. 원하는 값은 바람직하게는 RF-장치로부터 출력될 수 있는 최대 RF 출력 유효 전력보다 작다.
본 발명의 플라즈마, 본 발명의 시스템, 매체, 종 및 방법의 추가적인 이점 및 특징은 도면뿐만 아니라 다음의 설명으로부터 명백하다. 또한 플라즈마, 매체, 시스템, 방법이 다음에서 단수로 언급되는 경우, 모든 측면의 선택적인 특징 및 이점, 본 발명의 제 1 측면 내지 제 10 측면의 맥락이 다르게 의미하지 않는 한 역시 그와 같은 것을 의미한다. 도면은 다음을 보여준다.
도 1a는 단극 기구와 중성 전극을 갖는 시스템의 개략도.
도 1b는 제트 원리에 따라 본 발명의 플라즈마를 생성하기 위한 기구를 갖는 대안 시스템을 도시한 도면.
도 2는 단극 기구 및 중성 전극을 갖는 시스템 또는 제트 원리에 따라 작동하는 기구를 갖는 시스템에 의한 처리에 의해 달성된 스핀 밀도를 도시한 도면.
도 3, 도 4는 본 발명의 시스템에 의해 생성된 플라즈마의 사용에 대한 개략도.
도 5는 상이한 적용 속도를 갖는 대기 아르곤 플라즈마 적용 동안 하이드로겔 샘플의 조직 표면 온도를 도시한 도면.
도 6은 0 초에서 120 초까지 상이한 용량으로 체외 자궁경부암 세포주에 대기 아르곤 플라즈마를 비열적으로 적용하는 동안 24, 72 및 120 시간 후 평균 절대 세포 수를 도시한 도면.
도 7은 본 발명의 시스템 예컨대, 도 1a 또는 도 1b에 따른 시스템, 바람직하게는 RF 발생기의 출력 전력의 피드백 제어를 위한 장치를 갖는 시스템의 RF 발생기를 설명하기 위한 개략도.
도 8a, 도 8b는 도 7에 따른 RF 발생기의 RF 출력 전압의 펄스 시퀀스의 개략도.
도 1a는 본 발명의 시스템(10)의 실시예의 예를 도시한다. 시스템(10)은 RF-장치(11), 중성 전극(12), 가스 공급 장치(13) 및 전극(15), 특히 금속 전극을 갖는 의료 기구(14)를 포함한다. 전극(15)은 예컨대 스테인레스 스틸, 텅스텐 또는 다른 전기 전도성 물질로 구성될 수 있다. 전극(15)이 비금속 코어 상의 적어도 금속 표면을 포함하는 실시예가 가능하다. 전극(15)은 와이어, 혈소판 또는 주걱의 형태를 가질 수 있다. 전극(15)의 원위 단부(17a)는 예컨대, 둥글거나, 원통형이거나 또는 팁이 제공될 수 있다. 전극은 특히 원위 단부에 팁을 갖는 스테인리스 강판일 수 있다. 기구(14)의 전극(15)은 바람직하게는 유전체 코팅이 없다. 그러나 어떠한 경우에도 전극(15)의 원위 단부(17a)는 유전체 코팅이 없다. 또한, 전극(15)의 원위 단부(17a) 및 그에 인접한 전극 생크(17b), 전극(15)의 원위 단부(17a)에 인접한 전극 생크(17b)의 적어도 섹션은 바람직하게는 유전체 코팅이 없다. 바람직하게는 전극(15)의 원위 단부(17a)뿐만 아니라 이에 인접한 전극 생크(17b)의 섹션에도 유전체 코팅이 없다. 시스템(10)은 유전체 장벽 방전(DBD)의 원리에 따라 작동하지 않는다. RF-장치(11)는 전극(15)에 전력을 공급하기 위해 기구(14)와 연결된다. 기구(14)는 전극(15)이 길이방향으로 연장되는 가스 채널(16)을 포함한다. 전극(15)의 원위 단부(17a)는 가스 채널(16)(도시된 바와 같이) 내에 배열될 수 있고, 전극(15)은 가스 채널(16)로 끝날 수 있거나, 전극(15)은 가스 채널(16) 밖으로 돌출할 수 있다. 가스 채널(16)의 원위 단부의 내경은 바람직하게는 0.5mm를 포함하여 0.5mm 내지 10mm를 포함하여 10mm, 특히 바람직하게는 0.8mm 내지 3mm, 예컨대 2.4mm이다. 가스 공급 장치(13)는 가스 채널(16)에 가스, 바람직하게는 불활성 가스, 특히 바람직하게는 예컨대 희가스, 예컨대 아르곤을 적용하기 위해 가스 채널(16)과 유체적으로 연결된다. 2 차원 중성 전극(12)은 넓은 영역에 걸쳐 환자의 신체(18)와 전기적으로 전도성으로 연결된 시스템(10)의 일부이며, 여기에서는 매우 개략적으로 도시되어 있다. 기구(14)는 아르곤 플라즈마 응고에도 사용될 수 있는 기구(14)일 수 있다.
RF-장치(11)에 의해 RF 전압을 갖는 기구(14)를 적용함으로써, 물리적 플라즈마(19)가 전극(15)과 환자의 신체(18) 사이에서 점화된다. 전극(15)의 표면은 플라즈마(19)와 갈바닉 접촉을 갖는다. 전기 회로는 전극(15)에 의해, 플라즈마(19)를 통해, 환자의 신체(18)를 통해 중성 전극(12)으로 그리고 다시 RF-장치(11)로 폐쇄된다. 이에 의해 기구(14)의 전극(15)으로부터의 전자는 전류 전도성 플라즈마(19)에 들어가거나 그 반대의 경우도 마찬가지이다. 플라즈마(19)는 환자의 신체(18)와 갈바닉 접촉을 한다. 따라서 환자의 전기 전도성 신체(18)는 치료될 조직 위치(21)에서 플라즈마(19)와 갈바닉 접촉을 갖는 시스템(10)의 제 2 전극으로 간주될 수 있다. 도 1a에 따른 시스템(10)에서, 2 개의 전극(15, 21)은 사용 중에 갈바닉 플라즈마 접촉을 갖는다. 제 1 전극(15)에서 조직(21)까지의 거리는 추가 측정없이 가변적이며 사용자에 의한 기구(14)의 안내에 따라 달라진다. 플라즈마(19)는 전극(15)으로부터 환자의 신체(18)로의 전류를 위한 "도체 단편"으로 작용한다. 환자의 신체(18)는 플라즈마(19)와 중성 전극(12) 사이의 전류를 위한 또 다른 도체 단편을 형성한다. 적어도 부분적으로 플라즈마 상태로 전이된 가스 공급 장치(13)에 의해 공급되는 가스 스트림(20)은 적어도 부분적으로 전극(15)과 조직 위치 사이에 대기를 형성하는 공기 또는 다른 가스(예: 순수 질소) 또는 가스 혼합물을 대체한다. 도 1a에 따른 시스템(10)은 전류 유동 방향이 조직(21)을 향한 플라즈마 유동 방향에 대응하는 시스템(10)의 예이다.
본 발명의 시스템(10)의 다른 실시예의 예가 도 1b에 도시되어 있다. 또한 시스템(10)의 이 실시예는 유전체 방전의 원리에 따라 작동하지 않는다. 시스템(10)은 제트 원리에 따라 작동한다. 시스템(10)은 RF-장치(11), 가스 공급 장치(13), 제 1 전극(15) 및 링형 제 2 전극(22)을 갖는 의료 기구(14)를 포함한다. RF-장치(11)는 제 1 전극(15)에 제 1 전압을 공급하기 위해 기구(14)와 연결된다. 기구(14)는 제 1 전극(15)이 길이방향으로 연장되는 전기 절연 물질의 모세관(23)을 포함한다. 제 2 전극(22)은 모세관(23)의 단부를 둘러싼다. 제 1 전극(15)의 전극 팁(17a)은 모세관(23) 내에 배열된다. 제 1 전극(15)과 제 2 전극(22)은 서로를 향해 일정한 거리를 두고 배열된다. 제 1 전극(15)과 제 2 전극(22)은 서로 직접 반대편에 있지 않지만, 모세관(23)의 절연 물질은 제 1 전극(15)과 제 2 전극(22) 사이에 배치된다. 가스 공급 장치(13)는 모세관(23)에 가스, 바람직하게는 불활성 가스, 특히 바람직하게는 희가스, 예컨대 아르곤을 공급하기 위해 모세관(23)과 유체 연결된다. 중성 전극(12)은 도 1b에 따른 시스템(10)의 실시예에 존재하지 않는다. 플라즈마(19)가 점화되면, 회로는 제 1 전극(15)과 제 2 전극(22) 사이의 플라즈마(19)를 통해 오히려 폐쇄된다. 제 1 전극(15)과 플라즈마(19) 사이의 갈바닉 접촉으로 인해, 전자가 제 1 전극(15)으로부터 플라즈마(19) 내로 들어갈 수 있거나 또는 반대일 수 있다. 제 2 전극(22)은 제 1 전극(15)과 제 2 전극(22) 사이의 전기 절연 모세관(23)으로 인해 플라즈마(19)와 갈바닉 접촉을 갖지 않는다. 플라즈마(19)는 연속적으로 공급된 가스 유동(20)으로 인해 모세관(23)으로부터 치료될 조직 위치(21)를 향해 날아간다. 또한, 가스 유동 또는 플라즈마 유동은 전극과 조직 위치 사이의 위치에서 대기를 형성하는 공기 또는 다른 가스(예: 순수 질소) 또는 가스 혼합물을 적어도 부분적으로 대체한다.
제 1 실시예에 따른 시스템(도 1a)에 따른 시스템(10)에 의해 생성된 플라즈마(19) 및 제 2 실시예에 따른 시스템(도 1b)에 의해 생성된 플라즈마(19)에 의해, 치료적으로 유효한 종(25)(원자, 분자, 이온), 특히 중성 또는 하전된 라디칼은 조직 위치(21)에서 생성되고 및/또는 조직 위치(21)로 도입된다. 특히 제 1 실시예(도 1a)에 따른 시스템(10)에 의해 생성된 플라즈마(19)는 플라즈마(19) 및/또는 치료될 조직 위치(21) 내의 특히 고밀도의 중성 및 하전 종(25), 예컨대 반응성 산소 종 및/또는 반응성 질소 종을 초래한다. 이러한 방식으로 활성화된 조직 위치(21)는 플라즈마에 의해 활성화된 매체를 형성하며, 활성화는 예컨대 종양의 퇴행을 초래한다.
도 1 및 도 2와 관련하여 설명된 기구(14)의 실시예는 유전체 장벽 방전의 원리에 따라 작동하는 기구(14)에 비해 더 얇은 구성(leaner configuration)을 가질 수 있다. 이것은 특히 도 1a와 관련하여 설명된 실시예들에 적용되는데, 그 이유는 단지 하나의 전극(15)만이 기구(14) 상에 제공되어야 하기 때문이다. 또한 도 1 및 도 2와 관련하여 설명된 기구들(14)은 취급을 용이하게 하는 조직(21) 위의 원위 기구의 더 큰 거리에서 이동할 수 있다. 도 1a와 관련하여 설명된 실시예는 제 1 전극(15)과 중성 전극(12)에 연결된 신체의 조직 위치(21) 사이에 적어도 하나의 플라즈마 채널(19)이 있고, 라디컬이 조직 옆에 연속적으로 새로 생성된다는 점에서 도 1b와 관련하여 설명된 바와 같이 실시예와 구별된다. 이것은 또한 특히 단기 라디칼 종이 조직(21)에 도달하는 것을 허용한다. 도 1b와 관련하여 설명된 바와 같이 기구(14)에서, 그러나 플라즈마 생성은 조직 위치(21)로부터 더 멀리 발생하고 플라즈마(19)는 먼저 기구(14)로부터 송풍된다. 도 1b와 관련하여 설명된 실시예에 따른 시스템(10)과 비교하여, 인간 또는 동물 조직, 특히 상피, 또는 다른 내인성 또는 외인성 매체에 플라즈마(19)의 동일한 적용 지속시간 후에 형성된 더 많은 수의 라디칼은 본원에 기재된 질환의 치료 동안 또는 본원에 기재된 질환의 치료를 위한 활성화된 매체의 생성 동안, 도 1a와 관련하여 설명된 바와 같은 실시예에 따른 시스템(10)에 의해 생성된 플라즈마(19)의 이점으로 간주된다. 플라즈마(19)의 동일한 적용 지속시간 및 각각의 원위 기구 단부(28)와 처리될 표면(21) 사이의 동일한 거리 후에 형성된 라디칼의 증가된 수는 예컨대, 전자 스핀 공명(ESR) 측정을 통해 동일한 양의 처리된 샘플의 스핀 밀도를 결정함으로써 입증될 수 있고, 상기 전자 스핀 공명(ESR) 측정으로 샘플의 라디칼 수를 측정할 수 있다. 예컨대, 스핀 트랩으로 알려진 물질이 포함된 인간 또는 동물 조직 샘플 또는 용액이 샘플로 적합하다. 탈기된 DPBS+에서 스핀 트랩의 예인 0.1 몰 DMPO(5,5-디메틸-1-피롤리딘-N-옥사이드)(구성은 아래 참조)로부터 해결책이 형성될 수 있다. 조직 샘플 및/또는 용액은 예컨대 중성 전극(12) 상에 도 1에 따른 시스템(10)의 실시예의 단극 기구(14)로 치료하는 동안 배열될 수 있거나, 중성 전극(12)은 샘플 컨테이너와 전기 전도성으로 연결된다. 도 2는 장치 파라미터 "preciseAPC"(100Hz 저 주파수 및 20kHz의 중 주파수에 대응하는 반복 속도 10ms의 펄스 모드), 효과 스테이지 1, 1.6ℓ/분 아르곤을 사용하여 조직 샘플에서 10 초(실선 블록) 및 30 초(서로의 상단에 배열된 수평선으로 구성된 블록) 처리 지속시간으로 전치 조직 샘플을 처리한 후 결정된 스핀 밀도를 도시한다. 효과 스테이지 1은 기구 전극(15)의 전위 및 중성 전극(12)의 전위와 연결되는 경우 1000 Ohm의 기준 저항이 적용되는 평균 유효 전력이 최대 2W의 양을 갖는다는 것을 의미한다. 치료 지속시간이 길수록(30 초 치료 지속시간과 10 초 치료 지속시간 비교), 달성된 스핀 밀도가 다시 감소한다. 오차 막대는 표준 편차를 보여준다. 사용된 시스템 APC3/VIO3는 도 1a와 관련하여 설명된 바와 같은 시스템(10)의 실시예의 예이다. 사용된 시스템 kINPen MED는 도 1b와 관련하여 설명된 시스템(10)의 실시예의 예이다. 이 장치에서 플라즈마 생성의 기능 체계는 손 기구 내부에 1.6mm의 내경을 가진 석영 모세관으로, 외경이 1mm인 핀 형상의 고 주파수 전극이 중심에 도입되고 무선 주파수 전압(1.1MHz, 2-6kVpp)은 연속적으로 인가되어, 비교 실험에 사용된 4.1 ℓ/분의 가스 유동으로 통과 가스를 이온화한다. 시험 매체까지의 거리는 항상 7mm였다. 도 2에서 명백한 바와 같이, 조직 샘플에서 더 높은 스핀 밀도는 시스템 kINPen MED로 유사한 조직 프로브를 처리한 것과 비교하여 시스템 APC3/VIO3로 처리한 후에 인식될 수 있다. 본원에 기재된 하나 이상의 질병의 치료 동안 플라즈마(19)의 유효성은 플라즈마에 의해 조직에서 생성되거나 조직에 삽입된 라디칼 종으로 거슬러 올라간다.
도 3은 모든 등급의 중증도의 상피내 종양, 예컨대, 제위치 병변의 상피성 암종의 치료 및/또는 제 1 실시예에 따른 시스템(10) 또는 제 2 실시예에 따른 시스템(10)에 의해 생성된 플라즈마(19)에 의한 인간의 자궁경부 침습성 암종 치료를 위해 예컨대 인간 유두종 바이러스에 대한 특히 항 바이러스 요법에 의해 자궁경부 상피내 종양의 예방을 위한 본 발명의 플라즈마(19)의 용도를 도시한다. 중성 전극(12)(도 3에 미도시)은 도 1a에 따른 시스템에 의한 치료 동안 적절한 위치에서 환자의 신체(18)와 대면적으로 접촉해야 한다. 기구(14)는 질(26)을 통해 자궁경부(27)까지 또는 자궁경부(27)에 도입되고 플라즈마(19)가 점화된다. 도 4에 도시된 바와 같이, 플라즈마(19)는 예컨대 기구 팁(28)(기구의 원위 단부)의 수동 이동(화살표 29로 표시됨)으로 인해, 바람직하게는 예컨대 10mm/s의 최소 적용 속도로 치료될 조직 위치(21)에 대해 스와이핑한다. 적용 속도는 조직 위치(21)의 표면에 평행한 기구 팁(28)의 속도 성분이다. 온간 플라즈마의 생성에도 불구하고, 운동으로 인해 바람직하게는 조직 위치(21) 표면의 열 손상이 없으므로, 특히 응고가 발생하지 않는다. 따라서 플라즈마(19)의 바람직한 사용을 비열 적용이라고 한다. 바람직하게는 최대 50mm/s 이하의 수동으로 달성 및 제어 가능한 적용 속도로 작업할 수 있도록 하기 위해, 플라즈마(19)가 이동하는 조직 위치(21)의 조직 온도가 한계 이하 예컨대 온도 40℃, 특히 바람직하게는 37℃ 이하로 유지되어, 플라즈마 치료로 인한 열 조직 손상, 특히 응고가 방지되고, 플라즈마(19)는 바람직하게는 한계 온도 이하의 온도를 포함하고, 여기서 한계 온도는 예컨대 150℃ 또는 120℃일 수 있다.
가스(플라즈마 가스)의 가스 유동, 예컨대 아르곤은 플라즈마(19)의 점화가 가능하도록 원위 기구 팁과 조직 사이에 가능한 한 한정된 혼합 대기를 생성하는 역할을 한다. 가스 유동이 너무 낮으면, 전극(15)과 조직(21) 사이에 플라즈마 가스가 너무 적다. 최소 가스 유동은 플라즈마(19)가 점화하기 위해 적어도 기구(14)를 통해 흘러야 하는 가스 유동이다. 가스 유동이 너무 높으면, 플라즈마(19)가 점화하기 위해 난류로 인해 너무 많은 공기 또는 기타 가스 또는 환경 매체가 추가 된다. 최대 가스 유동은 플라즈마(19)가 점화되도록 기구(14)를 통해 흐르도록 허용되는 가스 유동이다. 아마도 순수한 플라즈마 가스 대기는 치료 효과 종의 생성을 어렵게 만들 수 있다. 따라서, 플라즈마(19)의 생성을 위한 가스(플라즈마 가스)의 선택된 가스 유동, 예컨대, 아르곤은 바람직하게는 최소 가스 유동에 가까운 범위 또는 최대 가스 유동에 가까운 범위에 있다. 기구(14)를 통해 흐르는 선택된 가스 유동은 예컨대 적어도 가스 유동만큼 크지만 최대 가스 유동보다 작을 수 있다. 플라즈마 가스의 가스 유동은 바람직하게는 최소 가스 유동을 포함하여 최소 가스 유동 내지 예컨대 최소 가스 유동보다 3 배 큰 가스 유동을 포함하여 3 배 큰 가스 유동에서 선택된다. 최소 가스 유동과 최대 가스 유동은 다중 파라미터 및/또는 조정에 따라 달라질 수 있다. 최소 가스 유동은 특히 기구 팁과 조직 표면 사이의 원하는 치료 거리에 따라 달라질 수 있다. 치료를 위해 기구 팁과 조직 표면 사이의 치료 거리(예: 7mm)를 한정할 수 있으며, 기구를 통해 흐르는 가스 유동은 한정된 치료 거리에 따라 선택할 수 있다. 2.4 mm의 원위 단부에서 가스 채널의 내경, 예컨대 7mm의 치료 거리에서, 바람직하게는 가스 유동은 1 ℓ/분을 포함하여 1 ℓ/분 내지 3 ℓ/분을 포함하여 3 ℓ/분, 특히 바람직하게는 1.3 ℓ/분을 포함하여 1.3 ℓ/분 내지 2.5 ℓ/분을 포함하여 2.5 ℓ/분, 예컨대 1.6 ℓ/분 ± 20 %의 범위 내에 있을 수 있다. 더 작은 내경과 그와는 별개로 동일한 파라미터 및 조정으로, 더 작은 가스 유동이 유리할 수 있고, 더 큰 내경과 그와 별개로 동일한 파라미터 및 조정에 의해, 더 큰 가스 유동이 유리할 수 있다.
본 발명은 질 경로를 통한 환자의 자궁경부 상피내 종양의 치료에 기초하여도 3에 예시되어 있다. 일반적으로 포유류의 다른 기관계의 자궁경부 상피내 종양의 치료를 위한 적용은 질경, 구강, 비경구, 복강경, 비강, 기관지 및 직장 경로를 통해 또는 본 발명의 플라즈마(19)에 의해 활성화된 매체 또는 물질(약물)에 의해 수행될 수 있다. 플라즈마(19)가 활성화된 외인성 또는 내인성 매체(21)의 생산에 사용되는 경우, 플라즈마(19)는 따라서 특히 본 설명에서 언급된 하나 이상의 질병의 치료를 위해 간접적으로 사용될 수 있다. 특히 활성화된 외인성 매체의 생성 동안, 생성이 도 1a에 기초하여 설명된 바와 같이 실시예에 따른 시스템(10)으로 수행된다면, 중성 전극(12)은 매체의 캐리어 또는 컨테이너(미도시)에 의해 형성될 수 있다. 대기 아르곤 플라즈마(19)의 비열적 적용은 다른 병인의 자궁경부 상피내 종양의 치료 및 침습성 암종의 예방에 적합하다. 상피내 종양은 또한 포유 동물의 다른 기관계, 예컨대 자궁경부, OS, 식도, 위, 결장, 직장 및 복막의 상피내 종양을 포함하고 이에 제한되지 않는다. 본 발명의 플라즈마(19)의 사용 범위는 또한 각각의 질병에 걸리기 쉬운 포유 동물에서 자궁경부 및 기타 상피내 종양, 상피성 암종(CIS-병변) 및 다른 발병 기전의 침습성 암종의 예방적 예방 조치를 포함한다. 치료는 질병의 감소, 진행의 중지 또는 지연, 자궁경부 및 기타 상피내 종양 CIS-병변 및 각각의 질병에 걸리기 쉬운 포유류에서 상이한 병인의 침습성 암종의 관해 유도를 포함한다. 자궁경부 및 기타 상피내 종양, CIS 병변 및 다른 병인의 침습성 암종의 예방 또는 치료에 유용한 다른 방법과의 조합이 가능하다.
상피내 종양의 치료를 위한 대기압 플라즈마(19), 특히 아르곤 플라즈마의 비열적 적용의 효과에 대한 증거는 표준화되고 통제된 생체 외, 체외 및 생체 내 연구, 절차에 근거한다. 그 결과와 달성된 결과는 다음과 같다. 연구의 맥락에서 대기 아르곤 플라즈마(19)의 비열 적용을 위해, 각각 하나의 VIO3/APC3 발전기(ERBE Elektromedizin, T
Figure pat00001
bingen)가 RF-장치(11) 및 가스 공급 장치(13)의 예로서 사용되었다. RF-장치(11)는 350kHz의 주파수로 교류 전압을 생성한다. 기구(14)의 예로서 외경이 3.2mm이고 가스 채널(16) 원위 단부의 내경이 2.4mm인 FiAPC 프로브(ERBE Elektromedizin, T
Figure pat00002
bingen)가 사용되었다. 프로브는 원위 단부에 팁을 갖는 전극으로서 스테인리스 강판을 포함한다. 다음 파라미터가 사용되었다: preciseAPC(반복률 10ms, 100Hz 저 주파수 및 20kHz 중 주파수에 해당하는 펄스 모드), 효과 스테이지 1, 1,6 리터/분 아르곤. 효과 스테이지 1은 평균 유효 전력이 기구 전극(15)의 전위 및 중성 전극(12)의 전위와 연결된 경우 1000 Ohm의 기준 저항에 적용되는 최대 2 W의 양을 의미한다.
대기 아르곤 플라즈마(19)를 적용하는 동안의 온도 발생에 대한 조사는 생체 외에서 수행되었다. 자궁경부암 세포주에 기초하는 종양 세포에 대한 영향에 대한 검사는 체외에서 수행되었다. I 및 Ⅱ 등급의 자궁경부 상피내 종양에 대한 영향에 대한 검사는 생체 내에서 수행되었다.
대기 아르곤 플라즈마(19)의 비열적 적용 가능성은 표준화된 적외선 열화상 검사를 통한 생체 외 조직 검사에 기초한다. 이에 따라 하이드로겔 샘플은 대기 아르곤 플라즈마에 의해 다양한 적용 속도로 처리되었다. 따라서 10 mm/s 초과의 적용 속도는 37℃ 미만의 평균 안정적이고 중요하지 않은 조직 온도에서 나타났다. 도 5는 생체 외에서 상이한 적용 속도를 갖는 대기 아르곤 플라즈마(19)의 적용 동안 하이드로겔의 조직 표면 온도를 나타낸다. 결과는 개별 측정 지점(작은 지점)과 평균 절대 온도(큰 지점)로 표시된다. 기구 팁과 조직 샘플 표면 사이의 거리는 7mm로 일정하게 유지되었다. 기구 팁은 측정하는 동안 하이드로겔 샘플의 표면에 직각으로 배향되었다. 인간 또는 동물 조직의 표면 치료에 대한 의미있는 열화상 시험 측정을 수행할 수 있도록, 하이드로겔 샘플은 젤라틴 B형 및 둘베코의 인산염 완충 식염수(DPBS+)의 12.5 % 스톡 용액에서 생산되었다. DPBS+는 수성 식염수이다. 이온 농도가 인체의 이온 농도와 일치하도록 등장성이다. pH 값은 7.0 내지 7.3이다. 하이드로겔 샘플의 생산을 위해, 스톡 용액을 1-에틸-3-(3-디메틸 아미노프로파일) 카르보디이미드(EDC)로 화학적으로 경화시키고 쉐이커에서 37℃ 및 100rpm으로 2 시간 동안 폴리액타이드 다이(70 x 20 x 5 mm)에 배치되었다. 순수한 DPBS+로 세척 공정을 거친 후, 하이드로겔 샘플은 시험 측정에 사용할 준비가 되었다.
표준화된 적외선 열화상의 결과는 기술된 장치를 사용하여 <37℃의 조직 온도를 갖고 ≥10mm/초의 적용 속도로 개시되는 조정으로 본 발명의 대기 아르곤 플라즈마(19)의 비열적 적용 가능성을 보여준다.
본 발명의 대기 아르곤 플라즈마(19)의 비열적 적용이 자궁경부암 세포주(SiHa)에 미치는 영향을 체외에서 검사하였다. 그 결과는 10mm/s 이상의 적용 속도와 0 초에서 120 초까지의 다른 투여량으로 그리고 24 시간에서 120 시간의 여러 배양 기간 후에 본 발명의 대기 아르곤 플라즈마(19)를 비열 적용한 후 CASY 세포 계수기 및 분석기(Roche)로 표준화된 세포 수 측정에 의해 달성되었다. 플라즈마 치료는 10 % 송아지 태아 혈청, 1 % 페니실린/스트렙토마이신을 함유한 통상적인 Debulko 변형 독수리 매체(Debulko's modified eagle's medium; DMEM)에서 수행되었다. 배양은 가습 대기(37℃, 5 % CO2, pH 7.4)에서 수행되었다.
도 6은 체외 자궁경부암 세포주 체내에 대기 아르곤 플라즈마(19)를 비열적으로 적용한 결과를 보여준다. 독립적으로 수행된 24, 72 및 120 시간 후 N = 6 측정으로부터 얻은 평균 절대 세포 수가 도시된다. 오차 막대는 +/-표준 편차를 나타낸다.
10mm/s 이상의 적용 속도와 0 초에서 120 초까지의 다른 투여량으로 본 발명의 대기 아르곤 플라즈마(19)를 비열 적용한 후 CASY 세포 계수기 및 분석기(Roche)로 표준화된 세포 수 측정의 체외 결과는 24 시간 내지 120 시간의 배양 기간 내에 투여량 및 투여량에 대한 비율에 따라 자궁경부암 세포주(SiHa-cells)의 증식 억제를 보여준다.
CIN I 및 Ⅱ 등급에 대한 대기 아르곤 플라즈마(19)의 비열 적용 효과는 생체 내에서 조사되었다. 본 발명의 대기 아르곤 플라즈마(19)의 비열적 적용에 의해 조직학적으로 보장된 CIN I 등급/Ⅱ 등급에 대한 관해(remission)를 초래하는 능력은 2 주, 3 개월 및 6 개월 후의 표준화된 세포학적 검사(병리뇨검사) 및 3 개월 및 6 개월 후의 조직학적 검사(병리학 연구소의 외부 소견, 튜빙엔)에 의해 분석되었다. 다음에서 절차가 설명된다. 조직학적으로 CIN I 등급 또는 Ⅱ 등급이 확인된 환자는 병변을 나타내기 위해 식초-요오드 샘플을 사용하여 임상 질경 검사를 받았다. 이어서 질경 관찰 하에 대기 아르곤 플라즈마(19)의 단일 비열 적용은 ≥10 mm/s의 적용 속도로 병변의 크기에 따라 각각의 경우에 최소 투여량 ≥ 4 바로 후속 적용 사이클 30 초로 수행했다. 다음 파라미터가 장치 조정으로 선택되었다: 정밀 APC, 효과 스테이지 1, 1.6 리터/분 아르곤. 국소 및 전신 진정 및 진통제는 사용되지 않았다.
CIN I 등급 또는 Ⅱ 등급이 보장된 튜빙엔 대학 여성 병원의 18 세 이상 환자가 발견 및 가능한 치료 전략에 대해 미리 조언을 받은 환자가 포함되었다. 환자는 전향적으로 모집되었으며 무작위 배정되지 않았다. 플라즈마 치료 포함을 위한 적용 기준은 18 세 초과, 조직학적으로 보장된 CIN I 등급 또는 Ⅱ 등급, 확실하게 평가할 수 있는 부분의 변형 영역 및 병변의 경계 제한, 조언 후 연구 참여에 대한 서면 동의이다. 플라즈마 치료 제외를 위한 적용 기준은 조직학적으로 보장된 CIN Ⅲ 등급, 완전히 보이지 않는 변형 영역, 침습성 질환에 대한 힌트, 환자의 순응도 누락 예상됨 또는 환자가 임상 시험의 의미와 목적을 이해할 수 없음, 심각한 심장-혈관 질환, 고전적인 치료법에 대한 욕구, 환자 동의 누락이다. 1 차 종점으로서 CIN I 등급 또는 Ⅱ 등급의 조직학적으로 완전한 관해가 한정되었다. 2 차 종점으로서 CIN I 등급 또는 Ⅱ 등급의 부분적인 조직학적 관해, HPV 부하 감소, 통증 및 삶의 질, 조직 내성 및 플라즈마 치료의 호환성이 한정되었다.
다음 표는 달성된 조직 병리학적 결과를 보여준다.
Figure pat00003
이러한 결과는 3 개월 이내에 82 %의 CIN I 및 Ⅱ 병변의 관해율을 갖는 각각의 경우에 ≥ 4의 투여 량의 직접 30초의 후속 적용 사이클에서 ≥ 10 mm/s의 적용 속도를 갖는 대기 아르곤 플라즈마(19)의 비열 적용을 보여준다. 6 개월후의 치유된 병변의 93 %가 안정적이며 여전히 현저하지 않다. 예컨대, 문헌에서 CIN Ⅱ에 대해 40 내지 50 % 사이의 평균 자연 관해율이 설명되어 있다. 이것에 비해 대기 아르곤 플라즈마(19)의 비열적 적용 후의 관해율은 상당히 더 높다.
다음 표는 위에서 언급한 시스템과 조정으로 얻은 바이러스학적 결과를 보여준다.
Figure pat00004
이러한 결과는 6 개월 이내에 약 60%의 고위험 HPV 양성의 관해율을 갖는 각각의 경우에 ≥ 10 mm/s의 적용 속도 및 ≥ 4의 투여 량의 직접 30초의 후속 적용 사이클을 갖는 대기 아르곤 플라즈마(19)의 비열 적용을 보여준다.
표준화된 체외 및 생체 내 검사의 결과는 대기 아르곤 플라즈마(19)의 비열적 적용이 특히 CIN-병변의 치료에 유용한 방법임을 보여준다.
도 7은 예컨대 도 1a 및 도 1b에 따라 본 발명의 시스템(10)에서 사용될 수 있는 RF-장치(11)를 도시한다. RF-장치(11)는 RF 발생기(30), 제어 장치(31), 변조 장치(32) 및 전력 공급부(33)를 포함한다. 시스템(10)은 전압을 결정하기 위한 제 1 검출 장치(34), 전류를 결정을 위한 제 2 검출 장치(35), 신호 평가 장치(36) 및 비교 장치(37)를 포함할 수 있다. 도 1a에 따른 시스템(10)의 경우에서의, 플라즈마(19)와 중성 전극(12) 사이에 있는 플라즈마(19)와 몸체(18)의 임피던스와, 도 1b에 따른 시스템(10)의 경우에서의 플라즈마(19)의 임피던스가 포함된다.
RF 발생기(30)는 예컨대 적어도 100 kHz, 바람직하게는 200 kHz를 포함하여 200 kHz 내지 16MHz를 포함하여 16MHz, 특히 바람직하게는 300 kHz 내지 500 kHz, 예컨대, 350kHz의 RF-주파수를 가질 수 있는 RF-전압을 생성하도록 구성된다.
도 8a는 예를 들어, 시간 경과에 따른 RF 발생기(30)의 변조된 무선 주파수 출력 교류 전압(U)을 개략적으로 예시적으로 도시한다. 도 8b는 도 8a의 단면을 도시한다.
교류 전압(U)은 변조 장치(32)에 의해, 바람직하게는 중 주파수(MF) 및/또는 저 주파수(NF)에 의해 변조된다. 중 주파수는 예컨대 양을 가질 수 있다. 예컨대 5 kHz를 포함하여 5 kHz 내지 100 kHz를 포함하여 100 kHz, 특히 바람직하게는 10 kHz를 포함하여 10 kHz 내지 50 kHz를 포함하여 50 kHz, 예컨대, 20kHz의 양을 가질 수 있다. 중 주파수 펄스(40)의 펄스 지속시간(TPulsMF)은 바람직하게는 적어도 하나 이상의 RF-주기의 양을 갖는다.
저 주파수는 예컨대 0.5 kHz를 포함하여 0.5 kHz 내지 200 kHz를 포함하여 200 kHz, 바람직하게는 20 kHz를 포함하여 20 kHz 내지 150 kHz를 포함하여 150 kHz, 특히 100Hz의 양을 갖는다. 저 주파수 패키지(41)의 펄스 지속시간(TPulsMF)은 바람직하게는 적어도 하나의 중 주파수 주기(MFP), 바람직하게는 하나의 중 주파수 주기 포함 내지 50 포함의 중 주파수 주기, 예컨대 20 중 주파수 주기의 양을 가진다.
중 주파수 및/또는 저 주파수에 의한 변조는 비 펄스 교류 전압, 예컨대 사전 한정된 최소 피크 전압에 비해 출력 전력을 줄이는데 사용할 수 있다. 저 주파수에 의한 변조 또는 펄스화는 저 주파수의 펄스 휴지(PPNF)에서 플라즈마(19)의 소멸을 초래하여 조직 위치(21)로부터 플라즈마(19)의 방출을 야기한다. 그렇게 함으로써, 플라즈마(19)는 기구(14)의 팁(28)이 조직 위치(21)에 대한 거리와 길이방향으로 평행하게 이동함에도 불구하고 하나의 조직 위치(21)에 고착되지 않는다. 오히려 치료될 조직 위치(21)는 플라즈마(19)로 균일하게 스와이핑될 수 있다.
예컨대, 모드(preciseAPC)에서는, 환자의 치료에 사용된 RF-장치(APC3/VIO3)(도 1a에 따른 시스템의 예)의 효과 스테이지(1), 중 주파수(MF) 및 저 주파수(NF)는 가변적으로 사전 한정되어 있으므로(MF 20kHz 및 NF = 100Hz), 플라즈마 경로가 없는 비 가변 기준 저항으로 작동하는 동안, 사전 한정된 평균 전력이 각 효과 스테이지에 대해 획득된다. 효과 스테이지(1 내지 10)의 선택은 각 저 주파수 펄스의 비 가변 지속시간(TPulsNF)에 영향을 준다. 사용자가 조직 위치(21)에 인접한 기구 팁(28)을 잡고 플라즈마 생성을 활성화하면, RF-장치(11)는 플라즈마(19)가 점화되도록 큰 출력 전압을 효과 스테이지와 독립적으로 선택한다. 언급된 모드(preciseAPC), 예컨대 효과 스테이지(1)에서 시스템(10)의 예로서 시스템(VIO3)은 상한에 도달하거나 플라즈마가 점화되는 한 중 주파수의 다중 펄스 패킷인 저 주파수 펄스의 시작 부분에서 RF-장치(11)의 피크 출력 전압을 증가시키도록 구성된다. 상한은 예컨대 VIO3 4.7kV를 갖는 시스템에서, 예컨대 2kV를 포함하여 2kV 내지 6kV, 바람직하게는 4kV 내지 5kV의 양을 갖는다. 시스템(10)은 또한 시스템(10)이 점화를 인식한 경우 RF-장치(11)의 전력 공급부(33)의 출력 전압이 낮아지도록 구성된다. 특히, 전력 공급부(33)의 출력 전압은 점화에 필요한 값보다 작은 원하는 값으로 피드백 제어된다. 그렇게 함으로써, RF 발생기(30)의 피크 출력 전압의 감소는 후속 저 주파수 펄스의 시작에서 피크 전압이 이전 저 주파수의 펄스 패킷에서 플라즈마 점화 시점보다 낮도록 달성된다. 그렇게 함으로써 너무 강한 열 효과, 특히 열 조직 손상으로 이어질 수 있는 시스템(VIO3)로 너무 집중적인 플라즈마 생성을 피할 수 있다.
그러나, 점화 전압은 조직(21)까지의 거리와 상기 거리와는 별개로 예컨대 전극(15)의 특성(예: 형상 및/또는 물질), 사용된 가스, 조직의 특성 및 환경에 의존한다. 거리 의존성은 RF-장치(11)의 평균 출력 전압이 동일한 효과 스테이지(1)에서 조직(21)으로부터 전극 팁(17a)까지의 거리에 의존한다는 것을 의미한다. 예컨대, RF-장치(11)의 평균 출력 유효 전력은 구별된 효과 스테이지, 예컨대 효과 스테이지(1)에 대한 양, 3mm 거리에서 약 1.5W, 12mm 거리에서 약 5W를 가질 수 있다. 이것은 균일한 조직 효과를 달성하기 위해 항상 동일한 거리와 가능한 한 일정한 속도로 가능한 멀리 조직(21) 위로 사용자에 의한 기구 팁(28)의 안내에 대한 특정 요구 사항을 제시한다. 조직(21) 위로 이동하는 동안, 저 주파수의 변조로 인해 전극 팁(17a)과 조직(21)의 잠재적으로 다른 거리에서 저 주파수의 각 펄스 패킷(41)의 시작에서 반복 점화되기 때문이다.
따라서, 본 발명에 따르면, RF-장치의 출력 전력, 예컨대 출력 유효 전력 또는 출력 피상 전력의 피드백 제어를 위한 장치(42)를 포함하는 시스템(10)이 제안된다(이것은 또한 도 7에 의해 예시됨). 시스템(10)은 시스템(VIO3)의 설명과 관련하여 위에서 예시된 바와 같이 피크 출력 전압의 감소를 위한 제어를 가질 수 있다.
이를 위해 장치(42)는 출력 유효 전력을 결정하기 위한 유닛을 포함한다. 예컨대, 장치는 전력 공급부(33)의 출력 전력을 결정하고 RF 발생기(30)의 알려진 효율에 기초하여 RF 발생기(30)의 출력 유효 전력을 결정하도록 구성될 수 있다. 대안으로서 또는 추가적으로, 장치(42)는 도 7에 도시된 바와 같이 제 1 검출 장치(34)를 통해 RF 발생기(30)의 출력 전압을 결정하고 제 2 검출 장치(35)를 통해 RF 발생기(30)의 출력 전류를 결정하도록 구성될 수 있다. 신호 평가 장치(36)에 의해, 장치(42)는 제 1 검출 장치(34) 및 제 2 검출 장치(35)의 측정 값으로부터 RF 발생기(30)의 출력 전력을 결정하도록 구성될 수 있다.
출력 전력의 결정 및 변조의 조정은 연속적으로 또는 균일하거나 불균일한 시간 주기로 수행될 수 있다. 출력 전력은 하나 이상의 기간, 예컨대 하나 이상의 중 주파수 주기 및/또는 저 주파수 주기에 대해 서로 위상 관계에 있는 전압 및 전류의 곱을 평균하여 결정될 수 있다. 출력 전력의 결정은 바람직하게는 후속 펄스 휴지, 특히 저 주파수의 펄스 휴지(PPNF) 또는 중 주파수의 펄스 휴지(PPMF)에서 수행된다. 결정은 예컨대 저 주파수의 펄스 휴지(PPNF)에서 정기적으로 수행될 수 있다. 특히, 출력 전력은 저 주파수의 펄스 패킷이 끝날 때까지 하나 이상의 중 주파수 주기에 걸쳐 평균을 낼 수 있으며 출력 전력의 평균 값은 저 주파수의 펄스 패킷이 끝난 후 출력 전력의 실제 값으로서 결정될 수 있다.
장치(42)는 비교 장치(37)에 의해서 결정된 출력 전력(실제 값), 예컨대 출력 유효 전력을 예컨대 출력 유효 전력에 대한 출력 전력의 원하는 값과 비교하도록 구성될 수 있고 실제 값을 원하는 값에 접근하기 위해 제어 장치(31)에 의해 원하는 값에서 실제 값의 편차가 있는 경우 하나 이상의 수정을 수행하도록 구성될 수 있다.
추가적으로 또는 대안으로, 제어 목적을 위해 원하는 값에서 실제 값의 결정된 편차에 따라 RF 발전기(30)의 출력 전압의 피크 값을 기본적으로 수정할 수 있다. 그러나 이것은 실현하기 어려운 저 주파수의 매우 짧은 펄스 패키지(41)의 경우에 높은 제어 속도를 필요로 한다. 또한 피크 전압이 감소하면, 점화 거동이 현저하게 저하될 수 있다. 따라서, 제어를 위해 출력 전압의 피크 값을 수정하지 않는 것이 바람직하며, 출력 전력, 특히 출력 유효 전력의 원하는 값에서 실제 값의 편차에 따라 RF 주파수의 변조가 대신 수정된다. 기본적으로 출력 전압의 피크 값이 최소값 위로 되도록 수정하고 추가로 또는 대안으로 변조를 변경하는 대안으로 제어가 가능하다.
실시예들에서, 저 주파수의 펄스 패킷에서 출력 전력의 실제 값의 검출 및 변조의 적응은 변조의 적응에 의한 전력 피드백 제어에 의해 매우 빠르게 가능하며, 출력 전력의 원하는 값은 동일한 펄스 패킷 내에서 또는 저 주파수의 제 1 후속 펄스 패킷 내에서 또는 시작 부분에서 달성된다. 변조의 수정은 특히 저 주파수 변조 및/또는 중 주파수 변조를 포함할 수 있다. 예컨대, 저 주파수 펄스 패키지(41)의 펄스-일시 휴지 비율은 펄스 지속시간(TPulsNF)의 수정, 휴지 지속시간(TPauseNF)의 수정 및/또는 저 주파수 주기의 수정에 의해 수정될 수 있다. 대안으로서 또는 추가적으로, 중 주파수 펄스(40)의 펄스-일시 휴지 비율은 펄스 지속시간(TPulsMF)의 수정, 휴지 지속시간(TPauseMF)의 수정 및/또는 중 주파수 주기의 수정에 의해 수정될 수 있다.
출력 전력, 예컨대, 출력 유효 전력의 피드백 제어를 위한 장치(42)를 갖는 시스템(10)에 의해서, RF 발생기의 일정한 출력 전력을 갖는 플라즈마(19)는 점화 조건, 특히 조직(21)까지의 거리와 독립적으로 생성될 수 있으며, 이는 효과적인 비열 치료를 위한 기구(14)의 안내를 현저하게 단순화하고, 이는 예컨대, 도 3 및 도 4에 예시되어 있다. 출력 전력의 피드백 제어를 위한 장치(42) 또는 그에 의해 생성된 플라즈마(19)를 갖는 시스템(10)은 특히 상기 언급된 질병 중 하나 이상의 치료에 유리하게 사용될 수 있다. 일반적으로, 장치(42)와 관련하여 설명된 바와 같이 전력 피드백 제어를 갖는 시스템(10)은 거리 독립적인 재현 가능한 조직 효과가 요구되는 곳 어디에서나 유리하게 사용될 수 있다. 전력 피드백 제어로 인해, 조직 효과를 특히 민감하게 조절할 수 있다. 사용 분야는 예컨대 상처 조직의 열 손상을 피해야 하는 비열 상처 치료일 수 있다.
본 발명에 따르면, 특히 플라즈마(19)는 모든 등급의 중증도의 상피내 종양, 예컨대, 제위치 병변의 상피성 암종의 치료 및/또는 상피 방식으로 도달할 수 있는 침습성 암종의 치료를 위해, 예컨대 인간 유두종바이러스(human papillomavirus)에 대하여 특히 항 바이러스 요법에 의한 상피내 종양의 예방을 위해 생성되고, 여기서 플라즈마는 플라즈마(19), 바람직하게는 아르곤 플라즈마 생성을 위한 시스템(10)에 의해 생성되며, 상기 시스템은 플라즈마(19)에 대한 갈바닉 접촉을 갖는 적어도 하나의 전극(15)을 구비한 의료 기구(14), 기구(14)에 전력을 공급하기 위한 교류 전압을 제공하기 위한 RF-장치(11) 및 가스, 특히 아르곤을 기구(14)에 공급하도록 조정된 가스 공급 장치(13)를 구비한다.
10 시스템
11 RF-장치
12 중성 전극
13 가스 공급 장치
14 의료 기구
15 전극, 제 1 전극
16 가스 채널
17a 전극의 원위 단부
17b 전극 생크
18 몸체
19 플라즈마
20 가스 유동
21 조직 위치/매체
22 제 2 전극
23 모세관
25 종
26 질
27 경부 자궁
28 기구 팁
29 화살표
30 RF 발생기
31 제어 장치
32 변조 장치
33 전력 공급부
34 제 1 검출 장치
35 제 2 검출 장치
36 신호 평가 장치
37 비교 장치
38 부하 임피던스
40 중 주파수 펄스
41 저 주파수 펄스 패키지
42 장치
TPulsMF 중 주파수 펄스 지속시간
TPulsNF 저 주파수 펄스 지속시간
MFP 중 주파수 주기
PPNF 저 주파수 펄스 휴지
PPMF 중 주파수 펄스 휴지
TPauseNF 저 주파수 휴지 지속시간
TPauseMF 중 주파수 휴지 지속시간

Claims (15)

  1. 모든 등급의 중증도의 상피내 종양, 예컨대, 제위치 병변의 상피성 암종(carcinoma in situ lesions)의 치료 및/또는 상피 방식으로 도달할 수 있는 침습성 암종의 치료를 위해, 예컨대 인간 유두종바이러스(human papillomavirus)에 대하여 특히 항 바이러스 요법에 의한 상피내 종양의 예방을 위한 플라즈마(19)로서,
    상기 플라즈마는 상기 플라즈마(19)와 갈바닉 접촉을 갖는 적어도 하나의 전극(15)을 갖는 의료 기구(14), 상기 기구(14)에 전력을 공급하기 위해 교류 전압을 제공하기 위한 RF-장치(11) 및 상기 기구(14)에 가스, 특히 아르곤을 공급하기 위해 조정되는 가스 공급 장치(13)를 구비하는, 플라즈마(19), 바람직하게는 아르곤 플라즈마를 생성하기 위한 시스템(10)에 의해 생성되는, 플라즈마(19).
  2. 제 1 항에 있어서,
    다음 포유류 기관계들 즉, 자궁 경부, OS, 식도, 위, 결장, 직장 및 복막 중 적어도 하나의 상피내 종양을 치료하기 위한, 플라즈마(19).
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상피내 종양, 특히 I 내지 Ⅲ 등급, 예컨대 I 내지 Ⅱ등급, 특히 Ⅱ 등급의 자궁 경부 상피내 종양의 치료를 위한, 플라즈마(19).
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 시스템(10)은 중성 전극(12)을 포함하고, 상기 중성 전극(12)은 상기 플라즈마(19) 및 환자의 신체(18)를 통해 상기 기구(14)의 전극(15)을 경유하여 상기 RF-장치(11)로부터 상기 회로를 폐쇄하기 위해 상기 환자의 신체(18)에 배열되고,
    상기 기구(14)의 원위 단부에 있는 상기 전극(15)과 환자의 조직(21) 사이에서 상기 플라즈마(19)가 점화되는, 플라즈마(19).
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 RF-장치(11)는 상기 전극(15)에 교류 전압을 공급하도록 조정되고,
    적어도 100 kHz, 바람직하게는 200 kHz를 포함하여 200 kHz 내지 16 MHz를 포함하여 16 MHz, 특히 바람직하게는 300 kHz 내지 500 kHz, 예컨대 350 kHz의 무선 주파수를 가지며,
    중 주파수(MF)로 펄스되고, 상기 중 주파수는 5 kHz를 포함하여 5 kHz 내지 100 kHz를 포함하여 100 kHz, 특히 바람직하게는 10 kHz를 포함하여 10 kHz 내지 50 kHz를 포함하여 50 kHz, 예컨대 20kHz의 양을 가지며,
    상기 중 주파수 펄스(40)의 펄스 지속시간(TPulsMF)은 하나 이상의 RF-주기의 양을 가지며,
    0.5 kHz를 포함하여 0.5 kHz 내지 200 kHz를 포함하여 200 kHz, 바람직하게는 20 kHz를 포함하여 20 kHz 내지 150 kHz를 포함하여 150 kHz, 특히 100Hz의 양을 갖는 저 주파수(NF)로 펄스되고,
    상기 저 주파수 펄스의 펄스 지속시간(TPulsNF)은 적어도 하나의 중 주파수 주기(MFP), 바람직하게는 1을 포함하여 1 내지 50을 포함하여 50의 중 주파수 주기(MFP), 예컨대 20 중 주파수 주기(MFP)의 양을 갖는, 플라즈마(19).
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 시스템(10)은 상기 RF-장치(11)의 출력 전력의 피드백 제어를 위한 장치(42)를 포함하는, 플라즈마(19).
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 가스 공급 장치(13)는 최소 가스 유동을 포함하는 최소 가스 유동 내지 상기 최소 가스 유동보다 3 배 더 큰 가스 유동을 포함하는 더 큰 가스 유동의 범위의 유동을 상기 기구(14)에 공급하도록 구성되는, 플라즈마(19).
  8. 모든 등급의 중증도의 상피내 종양, 예컨대, 제위치 병변의 상피성 암종의 치료 및/또는 상피 방식으로 도달할 수 있는 침습성 암종의 치료를 위해, 특히 항 바이러스 요법에 의한 상피내 종양의 예방을 위해 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 따른 플라즈마(19)에 의해, 종(species;25), 특히 라디칼이 생성되고 및/또는 도입되는 매체(21), 특히 액체, 예컨대 체액, 또는 종양성 조직.
  9. 모든 등급의 중증도의 상피내 종양, 예컨대, 제위치 병변의 상피성 암종의 치료 및/또는 상피 방식으로 도달할 수 있는 침습성 암종의 치료를 위해, 특히 항 바이러스 요법에 의한 상피내 종양의 예방을 위해 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 따른 플라즈마(19)에 의해 생성된 종(25), 특히 라디칼.
  10. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 따른 플라즈마(19) 또는 제 8 항에 따른 매체(21) 또는 제 9 항에 따른 종(25)의 생성을 위한 시스템(10).
  11. 전극(15)을 갖는 의료 기구(14), 상기 기구(14)에 전력을 공급하기 위해 교류 전압을 제공하기 위한 RF-장치(11)를 구비하는, 플라즈마(19), 바람직하게는 전류 전도성 플라즈마(19), 바람직하게는 아르곤 플라즈마를 생성하기 위한 시스템(10)으로서,
    상기 시스템은 바람직하게는 상기 기구(14)에 가스, 특히 아르곤을 공급하기 위해 조정되는 가스 공급 장치(13)를 포함하고,
    상기 시스템(10)은 상기 RF-장치(11)의 출력 전력, 바람직하게는 출력 유효 전력을 원하는 값으로 피드백 제어하기 위한 장치(42)를 포함하는, 시스템(10).
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 RF-장치(11)는 상기 전극(15)에 교류 전압을 인가하도록 조정되고,
    예컨대 적어도 100 kHz, 바람직하게는 200 kHz를 포함하여 200 kHz 내지 16 MHz를 포함하여 16 MHz, 특히 바람직하게는 300 kHz 내지 500 kHz, 예컨대, 350kHz의 RF 주파수를 가지며,
    상기 교류 전류는 중 주파수(MF)로 펄스되며,
    상기 중 주파수는 예컨대 5 kHz를 포함하여 5 kHz 내지 100 kHz를 포함하여 100 kHz, 특히 바람직하게는 10 kHz를 포함하여 10 kHz 내지 50 kHz를 포함하여 50 kHz, 예컨대 20kHz의 양을 가지며, 상기 중 주파수 펄스의 펄스 지속시간은 바람직하게는 하나 이상의 RF-주기의 양을 갖고 및/또는 상기 교류 전류는 예컨대 0.5 kHz를 포함하여 0.5 kHz 내지 200 kHz를 포함하여 200 kHz, 바람직하게는 20 kHz를 포함하여 20 kHz 내지 150 kHz를 포함하여 150 kHz, 특히 100Hz의 양을 갖는 저 주파수(NF)로 변조되고, 상기 저 주파수 펄스의 펄스 지속시간은 바람직하게는 적어도 하나의 중 주파수 주기, 바람직하게는 1을 포함하여 1 내지 50을 포함하여 50의 중 주파수 주기, 예컨대 20 중 주파수 주기의 양을 가지며,
    상기 장치(42)는 중 주파수 및/또는 저 주파수의 변조의 적응에 의해 출력 전력, 바람직하게는 출력 유효 전력을 피드백 제어하도록 구성되는, 시스템(10).
  13. 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서,
    상기 RF-장치의 출력 유효 전력의 원하는 값은 최대 3.5 W, 특히 바람직하게는 최대 2.5 W, 더 특히 바람직하게는 최대 2 W의, 더욱 바람직하게는 최대 1W의 양을 갖는, 시스템(10).
  14. 예컨대, 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 따른 플라즈마(19)에 의해 및/또는 제 11 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 따른 시스템(10)에 의해, 모든 등급의 중증도의 상피내 종양, 예컨대, 제위치 병변의 상피성 암종의 치료 및/또는 상피 방식으로 도달할 수 있는 침습성 암종의 치료를 위해, 예컨대 인간 유두종바이러스에 대하여 특히 항 바이러스 요법에 의한 상피내 종양의 플라즈마 기반 예방을 위한 방법으로서,
    상기 방법은 조직 위치(21)에 걸쳐 상기 플라즈마(19)를 스와이핑(swiping)하는 단계를 포함하고,
    상기 플라즈마는 45℃ 이상의 온도를 가지며, 적용 속도는 한계 값 이상이어서, 상기 조직 위치(21)의 온도는 한계 온도 이하에서 유지되는, 방법.
  15. 제 14 항에 따른 방법을 수행하기 위한 플라즈마, 예컨대, 제 1 항에 따른 플라즈마.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1307154B1 (de) 2000-08-08 2005-02-23 Erbe Elektromedizin GmbH Hochfrequenzgenerator für die hochfrequenzchirurgie mit einstellbarer leistungsbegrenzung
US8043286B2 (en) * 2002-05-03 2011-10-25 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Method and apparatus for plasma-mediated thermo-electrical ablation
US7937493B2 (en) * 2003-08-14 2011-05-03 Oracle International Corporation Connection pool use of runtime load balancing service performance advisories
DE102005021304A1 (de) * 2005-05-09 2006-11-23 Erbe Elektromedizin Gmbh Endoskopische Chirurgieeinrichtung für eine Argon-Plasma-Koagulation (APC)
US20090306642A1 (en) * 2008-06-10 2009-12-10 Vankov Alexander B Method for low temperature electrosugery and rf generator
US20100042088A1 (en) * 2008-08-14 2010-02-18 Arts Gene H Surgical Gas Plasma Ignition Apparatus and Method
JP2013509979A (ja) * 2009-11-09 2013-03-21 イオンメド リミテッド 組織を溶接するプラズマヘッド
US9421059B2 (en) * 2010-04-27 2016-08-23 Minerva Surgical, Inc. Device for endometrial ablation having an expandable seal for a cervical canal
CA2835452A1 (en) * 2011-05-09 2012-11-15 Ionmed Ltd Tissue welding using plasma
CN103800684A (zh) * 2014-03-05 2014-05-21 林仁耳 一种中西药同步外用治疗宫颈人乳头病毒(hpv)、上皮内瘤变(cin)及宫颈糜烂的根治术
MX2017002081A (es) * 2014-08-15 2017-05-23 Genexine Inc Metodo para tratar cancer de cuello uterino.
US20180368905A1 (en) * 2015-11-30 2018-12-27 Scott T. Latterell Saline field electrosurgical system
US20210213297A1 (en) * 2018-06-01 2021-07-15 The George Washington University Method and system of sensitizing cancer cells to chemical treatment by plasma based activation

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