KR20210083918A - Electroluminescent display device - Google Patents

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KR20210083918A
KR20210083918A KR1020190176695A KR20190176695A KR20210083918A KR 20210083918 A KR20210083918 A KR 20210083918A KR 1020190176695 A KR1020190176695 A KR 1020190176695A KR 20190176695 A KR20190176695 A KR 20190176695A KR 20210083918 A KR20210083918 A KR 20210083918A
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electroluminescent display
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신성수
최소희
유재용
박용석
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

The present invention is to provide a method capable of reducing the size of a gate-in-panel (GIP) driving circuit and accordingly, reducing the width of a bezel. The present invention provides an electroluminescent display device which includes: a pixel including a second switching transistor including an N-type oxide semiconductor on a substrate, a driving transistor having a gate connected to the second switching transistor, and a light emitting diode; and a scan driver including a first gate driving circuit for outputting a first gate signal to a first gate line connected to the first switching transistor.

Description

전계발광 표시장치{Electroluminescent display device}Electroluminescent display device

본 발명은 전계발광 표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to an electroluminescent display device.

정보화 사회가 발전함에 따라 화상을 표시하기 위한 표시장치에 대한 요구가 다양한 형태로 증가하고 있으며, 근래에는 유기발광소자(OLED : Organic Light Emitting Diode)표시장치, 퀀텀닷발광소자(QLED: Quantum Dot Light Emitting-Diode)표시장치, 및 마이크로엘이디(Micro-LED: Micro-Light Emitting Diode)표시장치를 포함하는 전계발광 표시장치(Electroluminescence display device)와 같은 여러가지 평판표시장치(flat display device)가 활용되고 있다.As the information society develops, the demand for a display device for displaying an image is increasing in various forms, and in recent years, an organic light emitting diode (OLED) display device and a quantum dot light emitting device (QLED: Quantum Dot Light) are increasing. Various flat display devices such as an electroluminescence display device including an emitting-diode display device and a micro-LED (Micro-Light Emitting Diode) display device are being utilized. .

이들 평판표시장치 중에서, 전계발광 표시장치는 소형화, 경량화, 박형화, 저전력 구동의 장점을 가지고 있어 널리 사용되고 있다.Among these flat panel display devices, the electroluminescent display device has advantages of miniaturization, weight reduction, thinness, and low power driving, and thus is widely used.

최근들어, 저소비전력과 고속구동이 가능한 전계발광 표시장치가 요구되고 있다. 이를 위해, 화소에 폴리 실리콘을 이용한 트랜지스터와 산화물 반도체를 이용한 트랜지스터를 함께 형성하여, 내부 보상 구조로 화소를 구성하게 된다.In recent years, an electroluminescent display device capable of low power consumption and high-speed operation has been demanded. To this end, a transistor using polysilicon and a transistor using an oxide semiconductor are formed together in the pixel to configure the pixel with an internal compensation structure.

그런데, 이와 같이 이종의 트랜지스터를 사용함에 따라, 이를 구동하기 위해 GIP(gate in panel) 방식으로 구성된 구동회로의 크기가 증가하게 되며, 이에 따라 표시장치의 베젤(bezel)의 폭이 증가하게 된다.However, as such heterogeneous transistors are used, the size of a driving circuit configured in a gate in panel (GIP) method increases to drive them, and accordingly, the width of a bezel of the display device increases.

본 발명은 GIP 구동회로의 크기를 감소시키고 이에 따라 베젤의 폭을 감소시킬 수 있는 방안을 제공하는 것에 과제가 있다.An object of the present invention is to provide a method capable of reducing the size of the GIP driving circuit and thus reducing the width of the bezel.

전술한 바와 같은 과제를 달성하기 위해, 본 발명은 기판 상에 N타입 산화물 반도체를 포함한 제2스위칭트랜지스터, 게이트가 제2스위칭 트랜지스터와 연결된 구동트랜지스터, 및 발광다이오드를 포함하는 화소, 그리고 제1스위칭트랜지스터에 연결된 제1게이트배선에 제1게이트신호를 출력하는 제1게이트구동회로를 포함하는 스캔구동부를 포함하는 전계발광 표시장치를 제공할 수 있다. 그리고, 제1게이트구동회로는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 Q 트랜지스터, N타입 산화물 반도체를 포함한 Qb 트랜지스터, 및 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터의 게이트가 공통적으로 연결되는 Q 노드를 구비한 제어회로를 포함하여 구성된 스테이지를 포함할 수 있다.In order to achieve the above object, the present invention provides a pixel including a second switching transistor including an N-type oxide semiconductor on a substrate, a driving transistor having a gate connected to the second switching transistor, and a light emitting diode, and a first switching transistor An electroluminescent display device including a scan driver including a first gate driving circuit for outputting a first gate signal to a first gate wiring connected to a transistor can be provided. In addition, the first gate driving circuit is a control circuit including a Q transistor including P-type or N-type polysilicon, a Qb transistor including an N-type oxide semiconductor, and a Q node to which the gates of the Q transistor and the Qb transistor are connected in common. It may include a stage configured to include.

화소는, 기판 상에 상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 제1스위칭트랜지스터를 더 포함할 수 있다.The pixel may further include a first switching transistor including the P-type or N-type polysilicon on the substrate.

스테이지의 제어회로는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 전단 스테이지에서 출력된 제1게이트신호를 입력받는 제1트랜지스터와, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 제1트랜지스터 및 Q 노드 사이에 연결되며 게이트가 로우전압을 인가받는 제2트랜지스터를 포함할 수 있다.The control circuit of the stage includes a first transistor including P-type or N-type polysilicon and receiving the first gate signal output from the previous stage, and P-type or N-type polysilicon between the first transistor and the Q node. It may include a second transistor connected to the gate to which a low voltage is applied.

스테이지의 제어회로는, N타입 산화물 반도체를 포함하고 게이트가 Q 노드에 연결되는 제4트랜지스터와, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 제4트랜지스터 및 제1트랜지스터 사이에 연결된 제3트랜지스터를 더 포함할 수 있다.The control circuit of the stage further includes a fourth transistor including an N-type oxide semiconductor and having a gate connected to the Q node, and a third transistor including a P-type or N-type polysilicon and connected between the fourth transistor and the first transistor. may include

스테이지의 제어회로는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 Q 노드와 Qb 트랜지스터의 게이트 사이에 연결되는 제5트랜지스터와, N타입 산화물 반도체를 포함하고, 소스는 제2하이전압을 인가받고 드레인은 Qb 트랜지스터의 게이트에 연결되는 제6트랜지스터를 더 포함할 수 있다. 그리고, 제2하이전압은, Qb 트랜지스터에 입력되는 제1하이전압 보다 높을 수 있다.The control circuit of the stage includes a fifth transistor including P-type or N-type polysilicon and connected between the Q node and the gate of the Qb transistor, and an N-type oxide semiconductor, the source receiving the second high voltage and the drain may further include a sixth transistor connected to the gate of the Qb transistor. In addition, the second high voltage may be higher than the first high voltage input to the Qb transistor.

스테이지의 제어회로는, N타입 산화물 반도체를 포함하고, 게이트는 제1트랜지스터의 드레인에 연결되고 소스는 제2하이전압을 인가받고 드레인은 제2트랜지스터의 소스에 연결되는 제7트랜지스터와, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고, 게이트 및 소스는 제1트랜지스터의 드레인에 연결되고 드레인은 제2트랜지스터의 소스에 연결되는 제8트랜지스터를 더 포함하고, 제2하이전압은, Qb 트랜지스터에 입력되는 제1하이전압 보다 높을 수 있다.The control circuit of the stage includes a seventh transistor including an N-type oxide semiconductor, a gate connected to the drain of the first transistor, a source applied with a second high voltage, and a drain connected to the source of the second transistor, and a P-type or an eighth transistor comprising N-type polysilicon, the gate and the source connected to the drain of the first transistor and the drain connected to the source of the second transistor, the second high voltage being input to the Qb transistor It may be higher than the first high voltage.

스테이지의 제어회로는, Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터 사이의 출력 노드와, Q 노드 사이에 연결되는 캐패시터를 더 포함할 수 있다.The control circuit of the stage may further include an output node between the Q transistor and the Qb transistor, and a capacitor connected between the Q node.

스캔구동부는, 제2스위칭트랜지스터에 연결된 제2게이트배선에 제2게이트신호를 출력하는 제2게이트구동회로를 더 포함하고, 제2게이트구동회로는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 Q 트랜지스터와, N타입 산화물 반도체를 포함한 Qb 트랜지스터와, Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터의 게이트가 공통적으로 연결되는 Q 노드를 구비한 제어회로와, Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터 사이의 출력 노드에 연결된 인버터를 포함하여 구성된 스테이지를 포함할 수 있다.The scan driver further includes a second gate driver circuit for outputting a second gate signal to a second gate line connected to the second switching transistor, wherein the second gate driver circuit includes a Q transistor including P-type or N-type polysilicon. and a Qb transistor including an N-type oxide semiconductor, a control circuit including a Q node to which the Q transistor and the gates of the Qb transistor are commonly connected, and an inverter connected to an output node between the Q transistor and the Qb transistor. may include.

화소는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 발광다이오드의 발광 타이밍을 제어하는 발광트랜지스터를 더 포함하고, 스캔구동부는, 발광트랜지스터에 연결된 발광배선에 발광신호를 출력하는 발광구동회로를 더 포함하고, 발광구동회로는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 Q 트랜지스터와, N타입 산화물 반도체를 포함한 Qb 트랜지스터와, Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터의 게이트가 공통적으로 연결되는 Q 노드를 구비한 제어회로를 포함하여 구성된 스테이지를 포함할 수 있다.The pixel includes a P-type or N-type polysilicon and further includes a light emitting transistor for controlling the emission timing of the light emitting diode, and the scan driver further includes a light emitting driving circuit for outputting a light emitting signal to a light emitting line connected to the light emitting transistor and a control circuit including a Q transistor including P-type or N-type polysilicon, a Qb transistor including an N-type oxide semiconductor, and a Q node to which the gates of the Q transistor and the Qb transistor are commonly connected. It may include a stage configured to include.

화소는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 게이트는 이전 행라인의 화소에 연결된 제1게이트배선과 연결되고 드레인은 제2스위칭트랜지스터와 연결되는 초기화트랜지스터를 더 포함하고, 스캔구동부는, 초기화트랜지스터의 소스에 연결된 초기화배선에 초기화신호를 출력하는 초기화구동회로를 더 포함할 수 있다.The pixel further includes an initialization transistor including P-type or N-type polysilicon, a gate connected to a first gate wiring connected to a pixel in a previous row line, and an initialization transistor connected to a drain connected to a second switching transistor, and the scan driver includes: An initialization driving circuit for outputting an initialization signal to an initialization line connected to the source of the transistor may be further included.

스캔구동부는, 기판에 GIP 방식으로 형성될 수 있다.The scan driver may be formed on the substrate in a GIP manner.

전계발광 표시장치는, 가변 주파수 구동 방식으로 구동될 수 있다.The electroluminescent display device may be driven by a variable frequency driving method.

다른 측면에서, 본 발명은 기판 상에 N타입 산화물 반도체를 포함한 제2스위칭트랜지스터와, 게이트가 제2스위칭 트랜지스터와 연결된 구동트랜지스터와, 발광다이오드를 포함하는 화소와; 제2스위칭트랜지스터에 연결된 제2게이트배선에 제2게이트신호를 출력하는 제2게이트구동회로를 포함하는 스캔구동부를 포함하고, 제2게이트구동회로는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 Q 트랜지스터와, N타입 산화물 반도체를 포함한 Qb 트랜지스터와, Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터의 게이트가 공통적으로 연결되는 Q 노드를 구비한 제어회로와, Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터 사이의 출력 노드에 연결된 인버터를 포함하여 구성된 스테이지를 포함하고, 스테이지의 제어회로는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 전단 스테이지의 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터 사이의 출력 노드에서 출력된 신호를 입력받는 제1트랜지스터와, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 제1트랜지스터 및 Q 노드 사이에 연결되며 게이트가 로우전압을 인가받는 제2트랜지스터를 포함하는 전계발광 표시장치를 제공한다.In another aspect, the present invention provides a pixel including a second switching transistor including an N-type oxide semiconductor on a substrate, a driving transistor having a gate connected to the second switching transistor, and a light emitting diode; a scan driver including a second gate driving circuit for outputting a second gate signal to a second gate wiring connected to the second switching transistor, wherein the second gate driving circuit is a Q transistor including P-type or N-type polysilicon and a Qb transistor including an N-type oxide semiconductor, a control circuit including a Q node to which the Q transistor and the gates of the Qb transistor are commonly connected, and an inverter connected to an output node between the Q transistor and the Qb transistor. Including, the control circuit of the stage includes a first transistor including a P-type or N-type polysilicon and receiving a signal output from an output node between the Q transistor and the Qb transistor of the previous stage, and a P-type or N-type polysilicon Provided is an electroluminescence display including silicon and connected between a first transistor and a Q node and including a second transistor to which a gate is applied with a low voltage.

기판 상의 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 제1스위칭트랜지스터를 더 포함할 수 있다.A first switching transistor including P-type or N-type polysilicon on the substrate may be further included.

스테이지의 제어회로는, N타입 산화물 반도체를 포함하고 게이트가 Q 노드에 연결되는 제4트랜지스터와; P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 제4트랜지스터 및 제1트랜지스터 사이에 연결된 제3트랜지스터를 더 포함할 수 있다. The control circuit of the stage includes: a fourth transistor including an N-type oxide semiconductor and having a gate connected to a Q node; A third transistor including P-type or N-type polysilicon and connected between the fourth transistor and the first transistor may be further included.

스테이지의 제어회로는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 Q 노드와 Qb 트랜지스터의 게이트 사이에 연결되는 제5트랜지스터와; N타입 산화물 반도체를 포함하고, 소스는 제2하이전압을 인가받고 드레인은 Qb 트랜지스터의 게이트에 연결되는 제6트랜지스터를 더 포함하며, 제2하이전압은, Qb 트랜지스터에 입력되는 제1하이전압 보다 높을 수 있다. The control circuit of the stage includes: a fifth transistor including P-type or N-type polysilicon and connected between the Q node and the gate of the Qb transistor; and a sixth transistor including an N-type oxide semiconductor, the source receiving a second high voltage and the drain further comprising a sixth transistor connected to the gate of the Qb transistor, wherein the second high voltage is higher than the first high voltage input to the Qb transistor can be high

스테이지의 제어회로는, N타입 산화물 반도체를 포함하고, 게이트는 제1트랜지스터의 드레인에 연결되고 소스는 제2하이전압을 인가받고 드레인은 제2트랜지스터의 소스에 연결되는 제7트랜지스터와; P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고, 게이트 및 소스는 제1트랜지스터의 드레인에 연결되고 드레인은 제2트랜지스터의 소스에 연결되는 제8트랜지스터를 더 포함하고, 제2하이전압은, Qb 트랜지스터에 입력되는 제1하이전압 보다 높을 수 있다. The control circuit of the stage includes: a seventh transistor including an N-type oxide semiconductor, a gate connected to a drain of the first transistor, a source applied with a second high voltage, and a drain connected to the source of the second transistor; An eighth transistor comprising P-type or N-type polysilicon, the gate and the source are connected to the drain of the first transistor, and the drain is connected to the source of the second transistor, and the second high voltage is applied to the Qb transistor. It may be higher than the input first high voltage.

스테이지의 제어회로는, Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터 사이의 출력 노드와, Q 노드 사이에 연결되는 캐패시터를 더 포함할 수 있다. The control circuit of the stage may further include an output node between the Q transistor and the Qb transistor, and a capacitor connected between the Q node.

스캔구동부는, 제1스위칭트랜지스터에 연결된 제1게이트배선에 제1게이트신호를 출력하는 제1게이트구동회로를 더 포함하고, 제1게이트구동회로는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 Q 트랜지스터와, N타입 산화물 반도체를 포함한 Qb 트랜지스터와, Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터의 게이트가 공통적으로 연결되는 Q 노드를 구비한 제어회로를 포함하여 구성된 스테이지를 포함할 수 있다. The scan driver further includes a first gate driving circuit for outputting a first gate signal to a first gate wiring connected to the first switching transistor, wherein the first gate driving circuit includes a Q transistor including P-type or N-type polysilicon and a stage including a control circuit including a Qb transistor including an N-type oxide semiconductor and a Q node to which the Q transistor and the gate of the Qb transistor are commonly connected.

화소는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 발광다이오드의 발광 타이밍을 제어하는 발광트랜지스터를 더 포함하고, 스캔구동부는, 발광트랜지스터에 연결된 발광배선에 발광신호를 출력하는 발광구동회로를 더 포함하고, 발광구동회로는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 Q 트랜지스터와, N타입 산화물 반도체를 포함한 Qb 트랜지스터와, Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터의 게이트가 공통적으로 연결되는 Q 노드를 구비한 제어회로를 포함하여 구성된 스테이지를 포함할 수 있다. The pixel includes a P-type or N-type polysilicon and further includes a light emitting transistor for controlling the emission timing of the light emitting diode, and the scan driver further includes a light emitting driving circuit for outputting a light emitting signal to a light emitting line connected to the light emitting transistor and a control circuit including a Q transistor including P-type or N-type polysilicon, a Qb transistor including an N-type oxide semiconductor, and a Q node to which the gates of the Q transistor and the Qb transistor are commonly connected. It may include a stage configured to include.

화소는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 게이트는 이전 행라인의 화소에 연결된 제1게이트배선과 연결되고 소스는 초기화배선에 연결되고 드레인은 제2스위칭트랜지스터와 연결되는 초기화트랜지스터를 더 포함하고, 스캔구동부는, 초기화배선에 초기화신호를 출력하는 초기화구동회로를 더 포함할 수 있다. The pixel further includes an initialization transistor including P-type or N-type polysilicon, the gate connected to the first gate wiring connected to the pixel of the previous row line, the source connected to the initialization wiring, and the drain connected to the second switching transistor and the scan driving unit may further include an initialization driving circuit for outputting an initialization signal to the initialization line.

스캔구동부는, 기판에 GIP 방식으로 형성될 수 있다. The scan driver may be formed on the substrate in a GIP manner.

전계발광 표시장치는, 가변 주파수 구동 방식으로 구동될 수 있다. The electroluminescent display device may be driven by a variable frequency driving method.

또 다른 측면에서, 본 발명은 기판 상에 N타입 산화물 반도체를 포함한 제2스위칭트랜지스터와, 게이트가 제2스위칭 트랜지스터와 연결된 구동트랜지스터와, 발광다이오드와, 발광다이오드의 발광 타이밍을 제어하는 발광트랜지스터를 포함하는 화소와; 발광트랜지스터에 연결된 발광배선에 발광신호를 출력하는 발광구동회로를 포함하는 스캔구동부를 포함하고, 발광구동회로는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 Q 트랜지스터와, N타입 산화물 반도체를 포함한 Qb 트랜지스터와, Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터의 게이트가 공통적으로 연결되는 Q 노드를 구비한 제어회로를 포함하여 구성된 스테이지를 포함하는 전계발광 표시장치를 제공한다. In another aspect, the present invention provides a second switching transistor including an N-type oxide semiconductor on a substrate, a driving transistor having a gate connected to the second switching transistor, a light emitting diode, and a light emitting transistor for controlling the light emission timing of the light emitting diode a pixel comprising; a scan driver including a light emitting driving circuit for outputting a light emitting signal to a light emitting wiring connected to the light emitting transistor, wherein the light emitting driving circuit includes a Q transistor including P-type or N-type polysilicon and a Qb transistor including an N-type oxide semiconductor and a stage including a control circuit having a Q node to which gates of a Q transistor and a Qb transistor are commonly connected.

스테이지의 제어회로는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 전단 스테이지에서 출력된 발광신호를 입력받는 제1트랜지스터를 포함할 수 있다. The control circuit of the stage may include a first transistor including P-type or N-type polysilicon and receiving the light emitting signal output from the previous stage.

스테이지의 제어회로는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고, 게이트 및 드레인이 Q 노드에 연결되고 소스가 로우전압을 입력받는 제2트랜지스터를 더 포함할 수 있다. The control circuit of the stage may further include a second transistor including P-type or N-type polysilicon, a gate and a drain connected to a Q node, and a source receiving a low voltage.

스테이지의 제어회로는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고, 제1트랜지스터와 Q 노드 사이에 연결되고 게이트가 로우전압을 인가받는 제3트랜지스터를 더 포함할 수 있다.The control circuit of the stage may further include a third transistor including P-type or N-type polysilicon, connected between the first transistor and the Q node, and a gate to which a low voltage is applied.

스테이지의 제어회로는, Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터 사이의 출력 노드와, Q 노드 사이에 연결되는 캐패시터를 더 포함할 수 있다. The control circuit of the stage may further include an output node between the Q transistor and the Qb transistor, and a capacitor connected between the Q node.

스캔구동부는, 제1스위칭트랜지스터에 연결된 제1게이트배선에 제1게이트신호를 출력하는 제1게이트구동회로를 더 포함하고, 제1게이트구동회로는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 Q 트랜지스터와, N타입 산화물 반도체를 포함한 Qb 트랜지스터와, Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터 게이트가 공통적으로 연결되는 Q 노드를 구비한 제어회로를 포함하여 구성된 스테이지를 포함할 수 있다. The scan driver further includes a first gate driving circuit for outputting a first gate signal to a first gate wiring connected to the first switching transistor, wherein the first gate driving circuit includes a Q transistor including P-type or N-type polysilicon and a stage including a control circuit including a Qb transistor including an N-type oxide semiconductor, and a Q node to which the Q transistor and the Qb transistor gate are connected in common.

스캔구동부는, 제2스위칭트랜지스터에 연결된 제2게이트배선에 제2게이트신호를 출력하는 제2게이트구동회로를 더 포함하고, 제2게이트구동회로는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 Q 트랜지스터와, N타입 산화물 반도체를 포함한 Qb 트랜지스터와, Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터의 게이트가 공통적으로 연결되는 Q 노드를 구비한 제어회로와, Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터 사이의 출력 노드에 연결된 인버터를 포함하여 구성된 스테이지를 포함할 수 있다. The scan driver further includes a second gate driver circuit for outputting a second gate signal to a second gate line connected to the second switching transistor, wherein the second gate driver circuit includes a Q transistor including P-type or N-type polysilicon. and a Qb transistor including an N-type oxide semiconductor, a control circuit including a Q node to which the Q transistor and the gates of the Qb transistor are commonly connected, and an inverter connected to an output node between the Q transistor and the Qb transistor. may include.

화소는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 게이트는 이전 행라인의 화소에 연결된 제1게이트배선과 연결되고 드레인은 제2스위칭트랜지스터와 연결되는 초기화트랜지스터를 더 포함하고, 스캔구동부는, 초기화트랜지스터의 소스에 연결된 초기화배선에 초기화신호를 출력하는 초기화구동회로를 더 포함할 수 있다. The pixel further includes an initialization transistor including P-type or N-type polysilicon, a gate connected to a first gate wiring connected to a pixel in a previous row line, and an initialization transistor connected to a drain connected to a second switching transistor, and the scan driver includes: An initialization driving circuit for outputting an initialization signal to an initialization line connected to the source of the transistor may be further included.

스캔구동부는, 기판에 GIP 방식으로 형성될 수 있다. The scan driver may be formed on the substrate in a GIP manner.

전계발광 표시장치는, 가변 주파수 구동 방식으로 구동될 수 있다. The electroluminescent display device may be driven by a variable frequency driving method.

기판 상에 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 제1스위칭트랜지스터를 더 포함할 수 있다.A first switching transistor including P-type or N-type polysilicon may be further included on the substrate.

발광 트랜지스터는 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 포함할 수 있다.The light emitting transistor may include and include P-type or N-type polysilicon.

본 발명에서는, GIP 방식의 스캔구동부에 있어, 해당 스캔신호들로서 게이트신호, 발광신호 등을 출력하는 구동회로들 중 적어도 하나의 구동회로에 대해, 해당 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터가 서로 반대되는 타입의 이종의 반도체물질로서 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘 및 N타입 산화물 반도체를 이용하여 구성될 수 있다.In the present invention, in the scan driver of the GIP method, the corresponding Q transistor and the Qb transistor are of the opposite type with respect to at least one of the driving circuits outputting the gate signal and the light emission signal as the corresponding scan signals. As the semiconductor material of the P-type or N-type polysilicon and N-type oxide semiconductor may be used.

이에 따라, Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터는 Q 노드를 공유하여 구동될 수 있게 되므로, Qb 노드를 구현하기 위한 구동소자인 트랜지스터 및 캐패시터를 제거할 수 있다.Accordingly, since the Q transistor and the Qb transistor can be driven by sharing the Q node, the transistor and the capacitor, which are driving elements for realizing the Qb node, can be eliminated.

이로 인해, 해당 구동회로를 구성하는 구동소자를 감소시킬 수 있게 되어, GIP 방식의 스캔구동부의 크기를 감소시킬 수 있고 표시장치의 베젤의 폭을 감소시킬 수 있게 된다.Accordingly, it is possible to reduce the number of driving elements constituting the corresponding driving circuit, thereby reducing the size of the GIP-type scan driving unit and reducing the width of the bezel of the display device.

도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 전계발광 표시장치를 개략적으로 도시한 블럭도.
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 전계발광 표시장치의 화소 구조의 일예를 도시한 회로도.
도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 전계발광 표시장치의 GIP 방식 스캔구동부의 구성을 개략적으로 도시한 블럭도.
도 4는 본 발명의 제1실시예의 제1예에 따른 제1게이트구동회로의 제1구조를 개략적으로 도시한 회로도.
도 5는 본 발명의 제1실시예의 제2예에 따른 제1게이트구동회로의 제2구조를 개략적으로 도시한 회로도.
도 6은 본 발명의 제1실시예의 제3예에 따른 제1게이트구동회로의 제3구조를 개략적으로 도시한 회로도.
도 7은 본 발명의 제1실시예의 제4예에 따른 제1게이트구동회로의 제4구조를 개략적으로 도시한 회로도.
도 8은 본 발명의 제1실시예의 제1예 및 제2예의 구조로 구성된 제1게이트구동회로의 게이트신호 출력에 대한 시뮬레이션 결과를 도시한 파형도.
도 9는 본 발명의 제1실시예의 제3예 및 제4예의 구조로 구성된 제1게이트구동회로의 게이트신호 출력에 대한 시뮬레이션 결과를 도시한 파형도.
도 10은 본 발명의 제2실시예의 제1예에 따른 제2게이트구동회로의 제1구조를 개략적으로 도시한 회로도.
도 11은 본 발명의 제2실시예의 제2예에 따른 제2게이트구동회로의 제2구조를 개략적으로 도시한 회로도.
도 12는 본 발명의 제2실시예의 제3예에 따른 제2게이트구동회로의 제3구조를 개략적으로 도시한 회로도.
도 13은 본 발명의 제2실시예의 제4예에 따른 제2게이트구동회로의 제4구조를 개략적으로 도시한 회로도.
도 14는 본 발명의 제3실시예의 제1예에 따른 발광구동회로의 제1구조를 개략적으로 도시한 회로도.
도 15는 본 발명의 제3실시예의 제2예에 따른 발광구동회로의 제2구조를 개략적으로 도시한 회로도.
도 16은 본 발명의 제3실시예의 제3예에 따른 발광구동회로의 제3구조를 개략적으로 도시한 회로도.
도 17은 본 발명의 제3실시예의 제1예 내지 제3예의 구조로 구성된 발광구동회로의 발광신호 출력에 대한 시뮬레이션 결과를 도시한 파형도.
1 is a block diagram schematically showing an electroluminescent display device according to a first embodiment of the present invention;
2 is a circuit diagram illustrating an example of a pixel structure of an electroluminescent display device according to a first embodiment of the present invention;
3 is a block diagram schematically showing the configuration of a GIP-type scan driver of the electroluminescent display device according to the first embodiment of the present invention.
4 is a circuit diagram schematically showing a first structure of a first gate driving circuit according to a first example of the first embodiment of the present invention;
5 is a circuit diagram schematically showing a second structure of a first gate driving circuit according to a second example of the first embodiment of the present invention;
6 is a circuit diagram schematically showing a third structure of a first gate driving circuit according to a third example of the first embodiment of the present invention;
7 is a circuit diagram schematically showing a fourth structure of a first gate driving circuit according to a fourth example of the first embodiment of the present invention;
Fig. 8 is a waveform diagram showing simulation results for the gate signal output of the first gate driving circuit having the structures of the first and second examples of the first embodiment of the present invention;
Fig. 9 is a waveform diagram showing simulation results for the gate signal output of the first gate driving circuit having the structures of the third and fourth examples of the first embodiment of the present invention;
Fig. 10 is a circuit diagram schematically showing a first structure of a second gate driving circuit according to a first example of a second embodiment of the present invention;
11 is a circuit diagram schematically showing a second structure of a second gate driving circuit according to a second example of the second embodiment of the present invention;
12 is a circuit diagram schematically showing a third structure of a second gate driving circuit according to a third example of the second embodiment of the present invention;
13 is a circuit diagram schematically showing a fourth structure of a second gate driving circuit according to a fourth example of the second embodiment of the present invention;
Fig. 14 is a circuit diagram schematically showing a first structure of a light emission driving circuit according to a first example of a third embodiment of the present invention;
Fig. 15 is a circuit diagram schematically showing a second structure of a light emission driving circuit according to a second example of the third embodiment of the present invention;
Fig. 16 is a circuit diagram schematically showing a third structure of a light emission driving circuit according to a third example of the third embodiment of the present invention;
Fig. 17 is a waveform diagram showing simulation results for light emission signal output of the light emission driving circuit having the structures of the first to third examples of the third embodiment of the present invention;

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

<제1실시예><First embodiment>

도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 전계발광 표시장치를 개략적으로 도시한 블럭도이고, 도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 전계발광 표시장치의 화소 구조의 일예를 도시한 회로도이고, 도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 전계발광 표시장치의 GIP 방식 스캔구동부의 구성을 개략적으로 도시한 블럭도이다.1 is a block diagram schematically showing an electroluminescent display device according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of a pixel structure of the electroluminescent display device according to the first embodiment of the present invention. 3 is a block diagram schematically showing the configuration of a GIP type scan driver of the electroluminescent display device according to the first embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 실시예에 따른 전계발광 표시장치(10)는 다수의 화소들(P)이 매트릭스 형태로 배치된 표시패널(100)과, 표시패널(100)을 구동하는 패널 구동회로를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 1 , an electroluminescent display device 10 according to the present embodiment includes a display panel 100 in which a plurality of pixels P are arranged in a matrix form, and a panel driving circuit for driving the display panel 100 . may include.

여기서, 표시패널(110)을 구동하는 패널 구동회로는, 데이터구동부(200)와, 스캔구동부(300)와, 타이밍제어부(400)를 포함할 수 있다.Here, the panel driving circuit for driving the display panel 110 may include a data driver 200 , a scan driver 300 , and a timing controller 400 .

한편, 본 실시예의 전계발광 표시장치(10)는 표시 영상에 따라 구동주파수가 가변되는 VRR(Variable Refresh Rate) 구동 방식(즉, 가변 주파수 구동 방식)으로 동작하는 전계발광 표시장치일 수 있다. Meanwhile, the electroluminescent display device 10 of the present embodiment may be an electroluminescent display device that operates in a variable refresh rate (VRR) driving method (ie, a variable frequency driving method) in which a driving frequency is varied according to a display image.

이와 관련하여 예를 들면, 영상의 변화가 일반적인 일반 영상을 표시하는 경우에는, 일반 구동주파수로서 예를 들어 60Hz의 구동주파수의 일반 모드로 전계발광 표시장치(10)가 구동될 수 있다.In this regard, for example, when displaying a general image in which a change of an image is general, the electroluminescent display device 10 may be driven in a general mode of a driving frequency of, for example, 60 Hz as a general driving frequency.

그리고, 일반 영상 보다 영상의 변화가 큰 고속 영상을 표시하는 경우에는, 일반 구동주파수 보다 큰 고주파의 고속 모드로 전계발광 표시장치(10)가 구동될 수 있다. 이와 관련하여 예를 들면, 일반 구동주파수 보다 큰 고주파의 구동주파주는, 일반 구동주파인 60Hz의 배수로서 120Hz 등 일 수 있다. In addition, when displaying a high-speed image having a larger image change than a general image, the electroluminescent display device 10 may be driven in a high-speed mode with a higher frequency than a general driving frequency. In this regard, for example, the high frequency driving frequency greater than the general driving frequency may be 120 Hz or the like as a multiple of 60 Hz, which is the general driving frequency.

이와 같이 고주파수로 구동하게 되면, 빠르게 변화하는 영상에 대해 실질적인 왜곡을 최소화하여 사실감 있게 표시할 수 있다.When driven at a high frequency in this way, it is possible to realistically display a rapidly changing image by minimizing actual distortion.

또한, 일반 영상 보다 영상의 변화가 작은 저속 영상이나 정지 영상 등을 표시하는 경우에는, 일반 구동주파수 작은 저주파의 저속 모드로 전계발광 표시장치(10)가 구동될 수 있다. 이와 관련하여, 일반 구동주파수 보다 작은 저주파의 구동주파수는, 일반 구동주파인 60Hz의 약수로서 30Hz,20Hz,15Hz,12Hz,10Hz,6HZ,1Hz 등 일 수 있다.In addition, in the case of displaying a low-speed image or a still image having a smaller image change than a general image, the electroluminescent display device 10 may be driven in a low-speed mode with a small general driving frequency and low frequency. In this regard, the driving frequency of the low frequency, which is smaller than the general driving frequency, may be 30 Hz, 20 Hz, 15 Hz, 12 Hz, 10 Hz, 6 Hz, 1 Hz, etc. as a divisor of 60 Hz, which is a general driving frequency.

이와 같이 저주파수로 구동하게 되면, 실질적인 영상 품위의 저하 없이 소비전력을 절감할 수 있게 된다. When driving at a low frequency as described above, power consumption can be reduced without substantially degrading image quality.

이와 같은 본 실시예의 VRR 구동방식에서는, 구동주파수가 변경됨에 따라 영상을 표시하는 프레임, 즉 데이터신호가 표시패널(100)의 화소(P)에 기입되어 영상 표시를 리프레쉬(refresh)하는 리프레쉬 프레임의 개수가 변경된 구동주파수에 대응하도록 변경된다. In the VRR driving method of this embodiment, as the driving frequency is changed, a frame displaying an image, that is, a refresh frame in which a data signal is written to the pixel P of the display panel 100 to refresh the image display. The number is changed to correspond to the changed driving frequency.

이와 관련하여 예를 들면, 본 실시예의 전계발광 표시장치(10)를 VRR 방식으로 구동함에 있어, 가변 가능한 다수의 구동주파수들 중 최고 구동주파수가 120Hz라고 가정한다.In this regard, for example, in driving the electroluminescence display 10 of the present embodiment in the VRR method, it is assumed that the highest driving frequency among a plurality of variable driving frequencies is 120 Hz.

이때, 최고 구동주파수인 120Hz로 구동하게 되면, 단위 시간인 1초 동안 이 구동주파수와 동일한 120개의 리프레쉬 프레임들이 발생된다. 한편, 120개의 리프레쉬 프레임들은 서로 연속하게 존재할 수 있다.At this time, when driving at 120 Hz, which is the highest driving frequency, 120 refresh frames equal to the driving frequency are generated for 1 second, which is a unit time. Meanwhile, 120 refresh frames may exist continuously.

그리고, 최고 구동주파수 보다 낮은 구동주파수로 구동하게 되면, 1초 동안 해당 구동주파수와 동일한 개수의 리프레쉬 프레임들이 발생되는데, 일예로 60Hz의 일반 구동주파수인 경우에 60개의 리프레쉬 프레임들이 발생된다. And, when the driving frequency is lower than the maximum driving frequency, the same number of refresh frames as the corresponding driving frequency is generated for 1 second. For example, in the case of a normal driving frequency of 60 Hz, 60 refresh frames are generated.

이와 같이 최고 구동주파수 보다 낮은 구동주파수로 구동할 때, 리프레쉬 프레임들은 서로 연속하지 않고 이웃한 프레임들 사이에는 리프레쉬 동작이 수행되지 않고 정지된(또는 중지된) 구간인 블랭크(blank) 구간(또는 홀딩(holding) 구간)이 설정될 수 있다. 즉, 리프레쉬 동작이 블랭크 구간 동안 스킵(skip)되도록 구동될 수 있다.As such, when driving at a lower driving frequency than the highest driving frequency, the refresh frames are not continuous with each other, and no refresh operation is performed between neighboring frames, and a blank section (or holding) that is a stopped (or stopped) section. (holding) period) can be set. That is, the refresh operation may be driven to be skipped during the blank period.

이와 같이, VRR 구동방식에서 구동주파수가 가변됨에 따라 리프레쉬 프레임의 개수가 구동주파수에 대응하도록 가변된다.As described above, as the driving frequency is varied in the VRR driving method, the number of refresh frames is varied to correspond to the driving frequency.

표시패널(100)에 관해 살펴보면, 표시패널(100)에는 화소들(P)을 구동하기 위한 구동신호를 전달하는 각종 신호배선들이 형성된다.Referring to the display panel 100 , various signal wirings for transmitting driving signals for driving the pixels P are formed on the display panel 100 .

이와 관련하여 예를 들면, 영상신호인 데이터신호를 전송하는 다수의 데이터배선(DL)이 각 열라인 방향(또는 제2방향)을 따라 연장되어 해당 열라인의 화소(P)에 연결될 수 있다. In this regard, for example, a plurality of data lines DL for transmitting a data signal, which is an image signal, may extend along each column line direction (or a second direction) to be connected to the pixels P of the corresponding column line.

게이트신호를 전송하는 게이트배선(GL1,GL2)이 각 행라인 방향(또는 제1방향)을 따라 연장되어 해당 행라인의 화소(P)에 연결될 수 있다.The gate wirings GL1 and GL2 that transmit the gate signal may extend along each row line direction (or the first direction) to be connected to the pixel P of the corresponding row line.

한편, 본 실시예에서는, 각 행라인에 2개의 서로 다른 게이트배선(GL1,GL2)인 제1,2게이트배선(GL1,GL2)이 배치될 수 있다.Meanwhile, in the present exemplary embodiment, first and second gate wirings GL1 and GL2 that are two different gate wirings GL1 and GL2 may be disposed on each row line.

이에 대해, 후술하는 바와 같이, 각 화소(P)에는 반도체층 형성 물질이 서로 다른 이종의 트랜지스터들이 구비될 수 있는바, 이종의 트랜지스터들을 개별적으로 스위칭하기 위해 제1,2게이트신호를 각각 전송하는 제1,2게이트배선(GL1,GL2)이 각 행라인에 배치될 수 있다.In contrast, as will be described later, heterogeneous transistors having different semiconductor layer forming materials may be provided in each pixel P, so that the first and second gate signals are transmitted to individually switch the different types of transistors. The first and second gate lines GL1 and GL2 may be disposed on each row line.

그리고, 게이트배선(GL)과 평행하게 각 행라인 방향을 따라 연장되어 발광신호를 전송하는 발광배선(EL)이 해당 행라인(P)의 화소에 연결될 수 있다.In addition, a light emitting line EL extending along each row line direction parallel to the gate line GL and transmitting a light emitting signal may be connected to the pixel of the corresponding row line P.

또한, 게이트배선(GL)과 평행하게 각 행라인 방향을 따라 연장되어 초기화신호를 전송하는 초기화배선(IL)이 해당 행라인(P)의 화소에 연결될 수 있다.Also, an initialization line IL extending in parallel to the gate line GL along each row line direction to transmit an initialization signal may be connected to the pixel of the corresponding row line P.

타이밍제어부(400)는 데이터구동부(200) 및 스캔 구동부(300)의 구동 타이밍을 제어하게 된다.The timing controller 400 controls driving timings of the data driver 200 and the scan driver 300 .

이와 관련하여, 타이밍제어부(400)는 외부시스템으로부터 입력되는 디지털 데이터신호(Da)를 표시패널(100)의 광학 특성에 부합하게 처리하여 데이터구동부(200)에 공급할 수 있다.In this regard, the timing controller 400 may process the digital data signal Da input from the external system to match the optical characteristics of the display panel 100 and supply it to the data driver 200 .

그리고, 타이밍제어부(400)는 수직 동기신호(Vsync), 수평 동기신호(Hsync), 클럭신호(CLK) 및 데이터 인에이블신호(DE) 등의 타이밍 신호들에 기초하여 데이터구동부(200)의 구동 타이밍을 제어하기 위한 데이터 제어신호(DCS)와, 스캔구동부(300)의 구동 타이밍을 제어하기 위한 스캔 제어신호(SCS)를 발생시킬 수 있다.In addition, the timing controller 400 drives the data driver 200 based on timing signals such as a vertical synchronization signal Vsync, a horizontal synchronization signal Hsync, a clock signal CLK, and a data enable signal DE. A data control signal DCS for controlling timing and a scan control signal SCS for controlling driving timing of the scan driver 300 may be generated.

데이터구동부(200)는 데이터배선(DL)을 구동할 수 있다. 이와 관련하여, 데이터구동부(200)는 데이터 제어신호(DCS)를 기반으로, 리프레쉬 프레임 동안 디지털 데이터신호(Da)를 아날로그 데이터신호로 변환하여 해당 데이터배선(DL)에 공급할 수 있다. The data driver 200 may drive the data line DL. In this regard, the data driver 200 may convert the digital data signal Da into an analog data signal during the refresh frame based on the data control signal DCS and supply it to the corresponding data line DL.

한편, 이웃한 리프레쉬 프레임들 사이에 블랭크 구간이 존재하는 구동주파수로서 예를 들어 일반 구동주파수 또는 저주파의 구동주파수 구동시에서는, 블랭크 구간 동안 데이터구동부(200)의 출력은 오프 상태가 되어 데이터신호가 표시패널(100)로 출력되지 않을 수 있다. 이에 따라, 블랭크 구간 동안에는 표시패널(100)에서의 리프레쉬 동작은 수행되지 않고 스킵될 수 있다.On the other hand, as a driving frequency at which a blank section exists between adjacent refresh frames, for example, when driving a normal driving frequency or a low frequency driving frequency, the output of the data driver 200 is turned off during the blank section, so that the data signal is It may not be output to the display panel 100 . Accordingly, during the blank period, the refresh operation on the display panel 100 may not be performed and may be skipped.

스캔구동부(300)는, 이에 연결된 게이트배선(GL1,GL2)과 발광배선(EL)과 초기화배선(IL)에 대해 해당 스캔신호들을 출력하여 구동할 수 있다. The scan driver 300 may output and drive corresponding scan signals to the gate wirings GL1 and GL2, the light emitting wiring EL, and the initialization wiring IL connected thereto.

이와 관련하여, 스캔구동부(300)는, 리프레쉬 프레임 동안 스캔 제어신호(SCS)를 기반으로 스캔신호들로서 예를 들어 게이트신호와 발광신호와 초기화신호를 발생시킬 수 있다. 이와 같은 스캔구동부(300)는 제1,2게이트신호 각각을 라인 순차 방식으로 해당 제1,2게이트배선(GL1,GL2)에 출력할 수 있다. 그리고, 발광신호를 라인 순차 방식으로 발광배선(EL)에 출력할 수 있다. 또한, 초기화신호를 라인 순차 방식으로 초기화배선(IL)에 출력할 수 있다.In this regard, the scan driver 300 may generate, for example, a gate signal, an emission signal, and an initialization signal as scan signals based on the scan control signal SCS during the refresh frame. The scan driver 300 may output each of the first and second gate signals to the corresponding first and second gate wirings GL1 and GL2 in a line sequential manner. In addition, the light emitting signal may be output to the light emitting line EL in a line sequential manner. Also, the initialization signal may be output to the initialization line IL in a line sequential manner.

한편, 블랭크 구간이 존재하는 구동주파수 구동시에서는, 블랭크 구간 동안 스캔구동부(300)의 게이트신호 출력은 오프 상태가 되어 게이트신호가 표시패널(100)로 출력되지 않을 수 있다. 이와 유사하게, 블랭크 구간 동안 스캔구동부(300)의 초기화신호 출력은 오프 상태가 되어 게이트신호가 표시패널(100)로 출력되지 않을 수 있다.On the other hand, when driving the driving frequency in which the blank section exists, the gate signal output of the scan driver 300 is turned off during the blank section, so that the gate signal may not be output to the display panel 100 . Similarly, during the blank period, the initialization signal output of the scan driver 300 may be turned off, so that the gate signal may not be output to the display panel 100 .

그리고, 블랭크 구간 동안, 스캔구동부(300)의 발광신호의 출력은 온 상태가 될 수 있다. 이와 관련하여 예를 들면, 블랭크 구간 직전의 리프레쉬 프레임에서의 발광신호의 턴온 레벨 상태가 계속해서 유지될 수 있다. 다른 예로서, 리프레쉬 프레임에서의 발광신호의 출력과 실질적으로 동일한 타이밍으로 발광신호 출력이 발생될 수 있다. And, during the blank period, the output of the light emission signal of the scan driver 300 may be in an on state. In this regard, for example, the turn-on level state of the light emitting signal in the refresh frame immediately before the blank period may be continuously maintained. As another example, the output of the emission signal may be generated at substantially the same timing as that of the output of the emission signal in the refresh frame.

이와 같은 블랭크 구간에서의 스캔구동부(300)의 동작에 따라, 블랭크 구간 동안에는 표시패널(100)에서의 리프레쉬 동작은 수행되지 않고 스킵될 수 있게 된다.According to the operation of the scan driver 300 in the blank section, the refresh operation in the display panel 100 is not performed and can be skipped during the blank section.

스캔구동부(300)는 표시패널(100)의 어레이기판에 GIP(gate in panel) 방식으로 직접 형성될 수 있다.The scan driver 300 may be directly formed on the array substrate of the display panel 100 by a gate in panel (GIP) method.

이와 같은 스캔구동부(300)의 구체적인 구성 및 동작은 아래에서 보다 상세하게 설명한다.A detailed configuration and operation of the scan driver 300 will be described in more detail below.

도 2를 함께 참조하여 표시패널(100)의 화소(P) 내에 구성된 구동소자들의 구성의 일예를 설명한다.An example of the configuration of driving elements configured in the pixel P of the display panel 100 will be described with reference to FIG. 2 together.

도 2에서는, 설명의 편의를 위해, 7T1C 구조로 구성된 화소를 일예로 도시하였으며, 이 화소가 배치된 행라인을 n번째 행라인이라 한다.In FIG. 2 , for convenience of explanation, a pixel having a 7T1C structure is illustrated as an example, and a row line in which the pixel is disposed is referred to as an n-th row line.

도 2를 참조하면, 본 실시예의 화소(P)는 구동트랜지스터(T2)의 문턱전압을 보상하기 위해 내부 보상 구조가 적용될 수 있다.Referring to FIG. 2 , an internal compensation structure may be applied to the pixel P of this embodiment to compensate for the threshold voltage of the driving transistor T2 .

이에 대해, 각 화소(P)에는, 구동소자들로서 제1스위칭트랜지스터(T1)와 구동트랜지스터(T2)와 제2스위칭트랜지스터(T3)와 제1,2발광트랜지스터(T4,T5)와 제1,2초기화트랜지스터(T6,T7)와 스토리지 커패시터(Cst)가 구비될 수 있고, 발광소자인 발광다이오드(OD)가 구비될 수 있다.In contrast, in each pixel P, as driving elements, the first switching transistor T1, the driving transistor T2, the second switching transistor T3, the first and second light emitting transistors T4, T5, and the first, Two initialization transistors T6 and T7 and a storage capacitor Cst may be provided, and a light emitting diode OD as a light emitting device may be provided.

제1스위칭트랜지스터(T1)는 해당 행라인인 n번째 행라인의 제1게이트배선(GL1(n))을 통해 인가된 제1게이트신호에 응답하여 턴온되고, 이에 따라 데이터배선(DL)을 통해 제공된 데이터신호가 구동트랜지스터(T2)에 인가될 수 있게 된다. The first switching transistor T1 is turned on in response to the first gate signal applied through the first gate wiring GL1(n) of the n-th row line, which is the corresponding row line, and thus is turned on through the data line DL. The provided data signal can be applied to the driving transistor T2.

이와 같은 제1스위칭트랜지스터(T1)의 소스는 데이터배선(DL)에 연결되고, 게이트는 제1게이트배선(GL1(n))에 연결되고, 드레인은 구동트랜지스터(T2)의 소스 즉 제3노드(N3)에 연결될 수 있다.The source of the first switching transistor T1 is connected to the data line DL, the gate is connected to the first gate line GL1(n), and the drain is the source of the driving transistor T2, that is, the third node. (N3) can be connected.

구동트랜지스터(T2)는 게이트-소스 간 전압에 의해 발광다이오드(OD)에 인가되는 발광전류를 제어한다. 이와 같은 구동트랜지스터(T2)의 게이트는 제1노드(N1)에 연결되고, 드레인은 제2노드(N2)에 연결될 수 있다.The driving transistor T2 controls the emission current applied to the light emitting diode OD by the gate-source voltage. The gate of the driving transistor T2 may be connected to the first node N1 , and the drain may be connected to the second node N2 .

제1초기화트랜지스터(T6)는 이전 행라인인 n-1번째 행라인의 제1게이트배선(GL1(n-1))을 통해 인가된 제1게이트신호에 응답하여 턴온되고, 이에 따라 초기화배선(IL(n))을 통해 전달된 초기화신호가 제2노드(N2)에 인가될 수 있게 된다. The first initialization transistor T6 is turned on in response to the first gate signal applied through the first gate wiring GL1(n-1) of the n−1th row line, which is the previous row line, and thus the initialization wiring ( The initialization signal transmitted through IL(n) may be applied to the second node N2.

여기서, 제1초기화트랜지스터(T6)를 통해 인가되는 초기화신호는 구동트랜지스터(T2)의 게이트를 초기화하기 위한 초기화전압을 갖게 되며, 이 초기화전압은 로우레벨의 전압일 수 있다. 이와 같은 제1초기화트랜지스터(T6)의 게이트는 이전 행라인의 제1게이트배선(GL1(n-1))에 연결되고, 소스는 초기화배선(IL(n))에 연결되고, 드레인은 제2노드(N2)에 연결될 수 있다.Here, the initialization signal applied through the first initialization transistor T6 has an initialization voltage for initializing the gate of the driving transistor T2, and the initialization voltage may be a low-level voltage. The gate of the first initialization transistor T6 as described above is connected to the first gate wiring GL1(n-1) of the previous row line, the source is connected to the initialization wiring IL(n), and the drain is connected to the second It may be connected to the node N2.

제2초기화트랜지스터(T7)는 현재 행라인인 n번째 행라인의 제1게이트배선(GL1(n))을 통해 인가된 제1게이트신호에 응답하여 턴온되고, 이에 따라 초기화전압(Vi)이 발광다이오드(OD)의 제1전극(또는 애노드) 즉 제4노드(N4)에 인가될 수 있게 된다. 이와 같은 제2초기화트랜지스터(T7)의 게이트는 현재 행라인의 제1게이트배선(GL1(n))에 연결되고, 소스는 초기화전압(Vi)을 전달하는 전원배선에 연결되고, 드레인은 제4노드(N4)에 연결될 수 있다. 여기서, 초기화전압(Vi)는 로우레벨의 전압일 수 있으며, 초기화신호의 초기화전압과 동일하거나 상이할 수 있다.The second initialization transistor T7 is turned on in response to the first gate signal applied through the first gate wiring GL1(n) of the n-th row line, which is the current row line, and thus the initialization voltage Vi emits light. It can be applied to the first electrode (or anode) of the diode OD, that is, the fourth node N4. The gate of the second initialization transistor T7 is connected to the first gate wiring GL1(n) of the current row line, the source is connected to the power supply line transmitting the initialization voltage Vi, and the drain is the fourth It may be connected to the node N4. Here, the initialization voltage Vi may be a low-level voltage, and may be the same as or different from the initialization voltage of the initialization signal.

제1발광트랜지스터(T4)는 해당 행라인의 발광배선(EL(n))을 통해 인가된 발광신호에 응답하여, 제1전원전압(VDD)(또는 고전위 구동전압)을 전달하는 전원배선과 구동트랜지스터(T2) 간의 전류 경로를 제어할 수 있다. 이와 같은 제1발광트랜지스터(T4)의 게이트는 해당 행라인의 발광배선(EL(n))에 연결되고, 소스는 제1구동전압(VDD)을 전달하는 전원배선에 연결되고, 드레인은 구동트랜지스터(T2)의 소스 즉 제3노드(N3)에 연결될 수 있다.The first light emitting transistor T4 includes a power supply line that transmits a first power voltage VDD (or a high potential driving voltage) in response to a light emitting signal applied through the light emitting line EL(n) of the corresponding row line; A current path between the driving transistors T2 may be controlled. The gate of the first light emitting transistor T4 is connected to the light emitting line EL(n) of the corresponding row line, the source is connected to the power line transmitting the first driving voltage VDD, and the drain is the driving transistor It may be connected to the source of (T2), that is, the third node (N3).

제2발광트랜지스터(T5)는 해당 행라인의 발광배선(EL(n))을 통해 인가된 발광신호에 응답하여, 발광다이오드(OD)와 구동트랜지스터(T2) 간의 전류 경로를 제어할 수 있다. 이와 같은 제2발광트랜지스터(T5)의 게이트는 해당 행라인의 발광배선(EL(n))에 연결되고, 드레인은 발광다이오드(OD)의 제1전극 즉 제4노드(N4)에 연결되고, 소스는 구동트랜지스터(T2)의 드레인 즉 제2노드(N2)에 연결될 수 있다.The second light emitting transistor T5 may control the current path between the light emitting diode OD and the driving transistor T2 in response to the light emitting signal applied through the light emitting line EL(n) of the corresponding row line. The gate of the second light emitting transistor T5 is connected to the light emitting line EL(n) of the corresponding row line, and the drain is connected to the first electrode of the light emitting diode OD, that is, the fourth node N4, The source may be connected to the drain of the driving transistor T2 , that is, the second node N2 .

발광다이오드(OD)는 예를 들어 유기물질로 형성된 발광다이오드일 수 있으며, 구동트랜지스터(T2)로부터 공급되는 발광전류에 의해 발광한다. 이와 같은 발광다이오드(OD)의 제1전극은 제4노드(N4)에 연결되고, 제2전극(또는 캐소드)은 제2전원전압(VSS)(또는 저전위 구동전압)을 인가받을 수 있다.The light emitting diode OD may be, for example, a light emitting diode formed of an organic material, and emits light by a light emitting current supplied from the driving transistor T2 . The first electrode of the light emitting diode OD may be connected to the fourth node N4 , and the second electrode (or cathode) may receive a second power supply voltage VSS (or a low potential driving voltage).

제2스위칭트랜지스터(T3)는 구동트랜지스터(T2)의 게이트 및 드레인 사이(즉, 제1노드(N1)와 제2노드(N2) 사이)에 다이오드 연결 방식으로 연결되고, 이에 따라 구동트랜지스터(T2)의 문턱전압은 구동트랜지스터(T2)의 게이트에 샘플링될 수 있다. 또한, 제2스위칭트랜지스터(T3)를 통해, 제2노드(N2)에 인가된 초기화신호가 구동트랜지스터(T2)의 게이트에 인가되어 초기화될 수 있다. 이처럼, 제2스위칭트랜지스터(T3)를 통해, 구동트랜지스터(T2)의 초기화 및 문턱전압 샘플링이 수행될 수 있다. The second switching transistor T3 is connected between the gate and the drain of the driving transistor T2 (ie, between the first node N1 and the second node N2) in a diode connection method, and thus the driving transistor T2 ) may be sampled at the gate of the driving transistor T2. Also, the initialization signal applied to the second node N2 may be applied to the gate of the driving transistor T2 through the second switching transistor T3 to be initialized. As such, initialization of the driving transistor T2 and threshold voltage sampling may be performed through the second switching transistor T3 .

이와 같은 제2스위칭트랜지스터(T3)의 게이트는 해당 행라인의 제2게이트배선(GL2(n))에 연결될 수 있다. The gate of the second switching transistor T3 may be connected to the second gate wiring GL2(n) of the corresponding row line.

스토리지 커패시터(Cst)는 제1노드(N2)와 제1전원전압(VDD)의 전원배선 사이에 접속될 수 있다. 이와 같은 스토리지 커패시터(Cst)는 구동트랜지스터(T2)의 게이트에 인가된 전압을 다음번 리프레쉬 프레임까지 저장하여 유지할 수 있다.The storage capacitor Cst may be connected between the first node N2 and a power supply line of the first power voltage VDD. The storage capacitor Cst may store and maintain the voltage applied to the gate of the driving transistor T2 until the next refresh frame.

위와 같이 각 화소(P)에 구비된 다수의 트랜지스터(T1 내지 T7)에 있어, 이 트랜지스터들 중 일부는 오프(off) 전류 특성이 우수한 산화물 반도체를 반도체층으로 이용할 수 있으며, 나머지 트랜지스터들은 이동도 특성이 우수한 폴리 실리콘을 반도체층으로 이용할 수 있다.As described above, in the plurality of transistors T1 to T7 provided in each pixel P, an oxide semiconductor having excellent off-current characteristics may be used as a semiconductor layer for some of these transistors, and the remaining transistors may have mobility. Polysilicon having excellent characteristics may be used as the semiconductor layer.

이에 대해 예를 들면, 구동트랜지스터(T2)의 게이트에 연결된(또는 제1노드(N1)에 연결된) 제2스위칭트랜지스터(T3)는 산화물 반도체를 이용하여 구성될 수 있다.In this regard, for example, the second switching transistor T3 connected to the gate of the driving transistor T2 (or connected to the first node N1 ) may be formed using an oxide semiconductor.

이 경우에, 구동트랜지스터(T2)의 게이트 전압의 누설을 효과적으로 방지할 수 있게 된다. 이에 따라, 저주파 모드에서 상대적으로 장시간의 블랭크 구간 동안 구동트랜지스터(T2)의 게이트 전압이 안정적으로 유지될 수 있게 되어, 저주파 모드에서의 화질 특성을 효과적으로 확보할 수 있게 된다.In this case, it is possible to effectively prevent leakage of the gate voltage of the driving transistor T2. Accordingly, the gate voltage of the driving transistor T2 may be stably maintained during a relatively long blank period in the low frequency mode, thereby effectively securing image quality characteristics in the low frequency mode.

이와 같이 산화물 반도체를 이용한 제2스위칭트랜지스터(T3)는 N타입 트랜지스터로 구성될 수 있다.As described above, the second switching transistor T3 using the oxide semiconductor may be configured as an N-type transistor.

한편, 제2스위칭트랜지스터(T3)와는 다른 트랜지스터들 중, 구동트랜지스터(T2)를 포함한 적어도 일부의 트랜지스터들은 폴리 실리콘 반도체층을 이용할 수 있다.Meanwhile, among transistors different from the second switching transistor T3 , at least some transistors including the driving transistor T2 may use a polysilicon semiconductor layer.

이에 대해, 본 실시예에서는, 제2스위칭트랜지스터(T3)와는 다른 6개의 트랜지스터들로서, 제1스위칭트랜지스터(T1)와 구동트랜지스터(T2)와 제1,2발광트랜지스터(T4,T5)와 제1,2초기화트랜지스터(T6,T7)가 모두 폴리 실리콘을 이용한 경우를 예로 든다.In contrast, in the present embodiment, as six transistors different from the second switching transistor T3, the first switching transistor T1, the driving transistor T2, the first and second light-emitting transistors T4, T5, and the first The case where all of the ,2 initialization transistors T6 and T7 are made of polysilicon is taken as an example.

이와 같이 폴리 실리콘을 이용한 트랜지스터들(T1,T2,T4~T7)은 P타입 트랜지스터로 구성될 수 있다.그러나, 이에 한정되지는 않으며, 폴리 실리콘을 이용한 트랜지스터들(T1,T2,T4~T7)은 N타입 트랜지스터로 구성될 수 있다. As described above, the transistors T1 , T2 , T4 to T7 using polysilicon may be configured as P-type transistors. However, the present invention is not limited thereto, and the polysilicon transistors T1 , T2 , T4 to T7 are not limited thereto. may be composed of an N-type transistor.

위와 같이, 화소(P)에 반도체물질이 서로 다른 이종의 트랜지스터가 형성되면, VRR 구동이 효과적으로 구현될 수 있다.As described above, when heterogeneous transistors having different semiconductor materials are formed in the pixel P, VRR driving can be effectively implemented.

이처럼, 이종의 트랜지스터를 구비함에 따라, 스캔구동부(300)는 이종의 트랜지스터를 구동하기 위한 스캔신호들을 제공하는 다수의 구동회로를 포함할 수 있다.As such, as the heterogeneous transistors are provided, the scan driver 300 may include a plurality of driving circuits that provide scan signals for driving the heterogeneous transistors.

이와 관련하여 도 3을 함께 참조하면, 스캔구동부(300)는 제1,2게이트구동회로(GC1,GC2)와, 발광구동회로(EC)와, 초기화구동회로(VIC)를 포함할 수 있다.In this regard, referring to FIG. 3 together, the scan driver 300 may include first and second gate driving circuits GC1 and GC2 , a light emission driving circuit EC, and an initialization driving circuit VIC.

제1게이트구동회로(GC1)는, 각 행라인의 제1게이트배선(GL1)을 구동하기 위해 제1게이트신호(Vg1)를 생성하는 스캔회로에 해당된다. The first gate driving circuit GC1 corresponds to a scan circuit that generates the first gate signal Vg1 to drive the first gate wiring GL1 of each row line.

이와 같은 제1게이트구동회로(GC1)는 다수의 행라인 각각에 대응하는 다수의 스테이지를 포함할 수 있으며, 각 스테이지는 이의 출력단에 연결된 대응되는 행라인의 제1게이트배선(GL1)에 해당 제1게이트신호(Vg1)를 출력할 수 있다.Such a first gate driving circuit GC1 may include a plurality of stages corresponding to each of a plurality of row lines, and each stage corresponds to a first gate wiring GL1 of a corresponding row line connected to an output terminal thereof. One gate signal Vg1 may be output.

이와 같이 제1게이트배선(GL1)을 통해 전달된 제1게이트신호(Vg1)는 해당 행라인의 화소(P) 내에 폴리 실리콘으로 구성된 트랜지스터로서 예를 들어 P타입의 제1스위칭트랜지스터(T1) 및 제2초기화트랜지스터(T7)에 인가될 수 있다. 다른 예로, 제1게이트배선(GL1)을 통해 전달된 제1게이트신호(Vg1)는 해당 행라인의 화소(P) 내에 폴리 실리콘으로 구성된 N타입의 제1스위칭트랜지스터(T1) 및 제2초기화트랜지스터(T7)에 인가될 수 있다. As described above, the first gate signal Vg1 transmitted through the first gate line GL1 is a transistor made of polysilicon in the pixel P of the corresponding row line, for example, a P-type first switching transistor T1 and It may be applied to the second initialization transistor T7. As another example, the first gate signal Vg1 transmitted through the first gate line GL1 may include an N-type first switching transistor T1 and a second initialization transistor made of polysilicon in the pixel P of the corresponding row line. (T7) can be applied.

한편, 현재 행라인의 화소(P) 내에 폴리 실리콘으로 구성된 P타입의 다른 트랜지스터로서 예를 들어 제1초기화트랜지스터(T6)는, 이전 행라인의 제1게이트배선(GL1)과 연결되어 이전 행라인의 제1게이트신호(Vg1)를 인가받을 수 있다. 다른 예로, N타입 폴리 실리콘으로 구성된 제1초기화트랜지스터(T6)는, 이전 행라인의 제1게이트배선(GL1)과 연결되어 이전 행라인의 제1게이트신호(Vg1)를 인가받을 수 있다.Meanwhile, as another P-type transistor made of polysilicon in the pixel P of the current row line, for example, the first initialization transistor T6 is connected to the first gate wiring GL1 of the previous row line and is connected to the previous row line. of the first gate signal Vg1 may be applied. As another example, the first initialization transistor T6 made of N-type polysilicon may be connected to the first gate line GL1 of the previous row line to receive the first gate signal Vg1 of the previous row line.

이처럼, 제1게이트구동회로(GC1)는 P타입 또는 N타입의 폴리 실리콘으로 구성된 트랜지스터들(T1,T6,T7)의 동작을 제어할 수 있다.As such, the first gate driving circuit GC1 may control the operation of the transistors T1 , T6 , and T7 formed of P-type or N-type polysilicon.

제2게이트구동회로(GC2)는, 각 행라인의 제2게이트배선(GL2)을 구동하기 위해 제2게이트신호(Vg2)를 생성하는 스캔회로에 해당된다. The second gate driving circuit GC2 corresponds to a scan circuit that generates the second gate signal Vg2 to drive the second gate wiring GL2 of each row line.

이와 같은 제2게이트구동회로(GC2)는 다수의 행라인 각각에 대응하는 다수의 스테이지를 포함할 수 있으며, 각 스테이지는 이의 출력단에 연결된 대응되는 행라인의 제2게이트배선(GL2)에 해당 제2게이트신호(Vg2)를 출력할 수 있다.Such a second gate driving circuit GC2 may include a plurality of stages corresponding to each of a plurality of row lines, and each stage corresponds to a second gate wiring GL2 of a corresponding row line connected to an output terminal thereof. A two-gate signal Vg2 may be output.

이와 같이 제2게이트배선(GL2)을 통해 전달된 제2게이트신호(Vg2)는 해당 행라인의 화소(P) 내에 산화물 반도체로 구성된 트랜지스터로서 예를 들어 N타입의 제2스위칭트랜지스터(T3)에 인가될 수 있다.As described above, the second gate signal Vg2 transmitted through the second gate line GL2 is a transistor composed of an oxide semiconductor in the pixel P of the corresponding row line, for example, to the N-type second switching transistor T3. can be authorized

이처럼, 제2게이트구동회로(GC2)는 N타입의 산화물 반도체로 구성된 트랜지스터(T3)의 동작을 제어할 수 있다.As such, the second gate driving circuit GC2 may control the operation of the transistor T3 formed of the N-type oxide semiconductor.

발광구동회로(EC)는, 각 행라인의 발광배선(EL)을 구동하기 위해 발광신호(Vem)를 생성하는 스캔회로에 해당된다. The light emission driving circuit EC corresponds to a scan circuit that generates a light emission signal Vem to drive the light emission wiring EL of each row line.

이와 같은 발광구동회로(EC)는 다수의 행라인 각각에 대응하는 다수의 스테이지를 포함할 수 있으며, 각 스테이지는 이의 출력단에 연결된 대응되는 행라인의 발광배선(EL)에 해당 발광신호(Vem)를 출력할 수 있다.Such a light emission driving circuit EC may include a plurality of stages corresponding to each of a plurality of row lines, and each stage receives a light emission signal Vem from a light emission line EL of a corresponding row line connected to an output terminal thereof. can be printed out.

이와 같이 발광배선(EL)을 통해 전달된 발광신호(Vem)는 해당 행라인의 화소(P) 내에 P 타입 또는 N타입의 폴리 실리콘으로 구성된 트랜지스터로서 예를 들어 제1,2발광트랜지스터(T4,T5)에 인가될 수 있다.As described above, the light emitting signal Vem transmitted through the light emitting line EL is a transistor made of P-type or N-type polysilicon in the pixel P of the corresponding row line, for example, the first and second light emitting transistors T4, T5) can be applied.

이처럼, 발광구동회로(EC)는 P타입 또는 N타입의 폴리 실리콘을 이용한 트랜지스터(T4,T5)의 동작을 제어할 수 있다.As such, the light emission driving circuit EC may control the operation of the transistors T4 and T5 using P-type or N-type polysilicon.

초기화구동회로(VIC)는, 각 행라인의 초기화배선(IL)을 구동하기 위해 초기화신호(DVi)를 생성하는 스캔회로에 해당된다. The initialization driving circuit VIC corresponds to a scan circuit that generates an initialization signal DVi to drive the initialization line IL of each row line.

이와 같은 초기화구동회로(EC)는 다수의 행라인 각각에 대응하는 다수의 스테이지를 포함할 수 있으며, 각 스테이지는 이의 출력단에 연결된 대응되는 행라인의 초기화배선(IL)에 해당 초기화신호(DVi)를 출력할 수 있다.The initialization driving circuit EC may include a plurality of stages corresponding to each of a plurality of row lines, and each stage receives an initialization signal DVi to an initialization line IL of a corresponding row line connected to an output terminal thereof. can be printed out.

이와 같이 초기화배선(IL)을 통해 전달된 초기화신호(DVi)는 해당 행라인의 화소(P) 내에 폴리 실리콘으로 구성된 트랜지스터로서 예를 들어 P타입 또는 N타입의 제1초기화트랜지스터(T6)에 인가될 수 있다. 이와 같이 인가된 초기화신호는, 제2스위칭트랜지스터(T3)에 전달되고 이의 턴온시에 구동트랜지스터(T2)의 게이트에 인가될 수 있다.As described above, the initialization signal DVi transmitted through the initialization line IL is a transistor made of polysilicon in the pixel P of the corresponding row line and is applied to, for example, the P-type or N-type first initialization transistor T6. can be The initialization signal applied as described above may be transmitted to the second switching transistor T3 and may be applied to the gate of the driving transistor T2 when it is turned on.

이처럼, 초기화구동회로(VIC)는 N타입의 산화물 반도체로 구성된 트랜지스터(T3)에 연결된 구동트랜지스터(T2)의 게이트에 대한 초기화를 구현할 수 있다.As such, the initialization driving circuit VIC may implement initialization for the gate of the driving transistor T2 connected to the transistor T3 formed of an N-type oxide semiconductor.

위와 같이, 화소(P)가 이종의 트랜지스터로 구성된 본 실시예의 경우에, 동종의 트랜지스터 예를 들어 폴리 실리콘의 트랜지스터로 구성된 경우와 비교하여, 스캔구동부(300)에는 구동회로가 추가될 필요가 있다.As described above, in the present embodiment in which the pixel P is composed of heterogeneous transistors, a driving circuit needs to be added to the scan driver 300 compared to the case in which the pixel P is composed of the same type of transistor, for example, a polysilicon transistor. .

이에 대해, 화소(P) 내의 전체 트랜지스터들이 동종의 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘으로 구성된 경우에, 하나의 게이트구동회로와 하나의 발광구동회로가 필요하게 된다.In contrast, when all the transistors in the pixel P are made of the same P-type or N-type polysilicon, one gate driving circuit and one light emission driving circuit are required.

이와 달리, 본 실시예와 같이 화소(P) 내의 제2스위칭트랜지스터(T3)를 N타입의 산화물 반도체로 구성한 경우에는, 제2스위칭트랜지스터(T3)의 스위칭 동작을 제어하기 위한 게이트구동회로(GC2)가 추가적으로 필요하며, 또한 제2스위칭트랜지스터(T3)에 연결되는 구동트랜지스터(T2)의 초기화를 위한 초기화신호(DVi)를 제공하는 초기화구동회로(VIC)가 추가적으로 필요하다.On the contrary, when the second switching transistor T3 in the pixel P is formed of an N-type oxide semiconductor as in the present embodiment, the gate driving circuit GC2 for controlling the switching operation of the second switching transistor T3 ) is additionally required, and an initialization driving circuit VIC that provides an initialization signal DVi for initialization of the driving transistor T2 connected to the second switching transistor T3 is additionally required.

이처럼, 화소(P)에 이종의 트랜지스터가 사용되는 경우에, 스캔구동부(300)는 추가적인 구동회로가 필요하며, 이에 따라 스캔구동부(300)의 면적이 증가하고 베젤의 폭이 증가할 수 있다.As such, when heterogeneous transistors are used in the pixel P, an additional driving circuit is required for the scan driver 300 . Accordingly, the area of the scan driver 300 may increase and the width of the bezel may increase.

이를 개선하기 위해, 본 실시예에서는, 제1게이트구동회로(GC1)에 사용되는 구동소자의 수를 감소시키게 된다. 이에 따라, 스캔구동부(300)의 크기가 감소될 수 있게 되고 전계발광 표시장치(10)의 베젤의 폭이 감소될 수 있게 된다.To improve this, in the present embodiment, the number of driving elements used in the first gate driving circuit GC1 is reduced. Accordingly, the size of the scan driver 300 can be reduced and the width of the bezel of the electroluminescent display device 10 can be reduced.

이와 같은 제1게이트구동회로(GC1)에 대해 아래에서 보다 상세하게 설명한다.The first gate driving circuit GC1 will be described in more detail below.

본 실시예에서는, 제1게이트구동회로(GC1)로서 4가지 구조의 구동회로를 제안하며, 4가지 구조 각각에 대해 관련 도면을 참조하여 설명한다.In this embodiment, a driving circuit having four structures is proposed as the first gate driving circuit GC1 , and each of the four structures will be described with reference to related drawings.

도 4는 본 발명의 제1실시예의 제1예에 따른 제1게이트구동회로의 제1구조를 개략적으로 도시한 회로도이다.4 is a circuit diagram schematically showing a first structure of a first gate driving circuit according to a first example of the first embodiment of the present invention.

도 4에서는, 설명의 편의를 위해, 제1게이트구동회로(GC1)를 구성하는 다수의 스테이지들 중 하나의 스테이지로서 n번째 행라인의 제1게이트배선(GL1(n))에 대응되는 스테이지(GC1_STG(n))를 도시하였다.In FIG. 4 , for convenience of explanation, a stage corresponding to the first gate wiring GL1(n) of the n-th row line as one of a plurality of stages constituting the first gate driving circuit GC1 ( GC1_STG(n)) is shown.

도 4를 참조하면, 제1구조로 구성된 본 실시예의 제1예의 제1게이트구동회로(GC1)에 있어, 이의 스테이지(GC1_STG(n))는, Q 트랜지스터(Tgc1_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)와, Q 트랜지스터(Tgc1_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)의 스위칭 동작을 제어하는 제어회로(GC1_CC)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 4 , in the first gate driving circuit GC1 of the first example of this embodiment configured with the first structure, a stage GC1_STG(n) thereof includes a Q transistor Tgc1_q and a Qb transistor Tgc1_qb and , a control circuit GC1_CC for controlling switching operations of the Q transistor Tgc1_q and the Qb transistor Tgc1_qb may be included.

Q 트랜지스터(Tgc1_q)는 해당 제1게이트배선(GL(n))에 온(on)전압으로서 예를 들어 로우(low)전압의 제1게이트신호(Vg1(n))를 출력하도록 동작할 수 있다. The Q transistor Tgc1_q may be operable to output the first gate signal Vg1(n) of a low voltage as an on voltage to the corresponding first gate line GL(n). .

이와 같은 Q 트랜지스터(Tgc1_q)는 P타입 또는 N타입의 폴리 실리콘을 이용하여 구성될 수 있다. The Q transistor Tgc1_q may be configured using P-type or N-type polysilicon.

Q 트랜지스터(Tgc1_q)의 소스는, 스테이지(GC1_STG(n))에 입력되는 게이트클럭들(GCLKgc1_1,GCLKgc1_2) 중 제1게이트클럭(CGLKgc1_1)을 인가받을 수 있다. Q 트랜지스터(Tgc1_q)의 드레인은 스테이지(GC1_STG(n))의 출력 노드(Ngc1_o)에 연결될 수 있는데, 즉 Q 트랜지스터(Tgc1_q)와 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb) 사이의 출력 노드(Ngc1_o)에 연결될 수 있다.The source of the Q transistor Tgc1_q may receive the first gate clock CGLKgc1_1 among the gate clocks GCLKgc1_1 and GCLKgc1_2 input to the stage GC1_STG(n). The drain of the Q transistor Tgc1_q may be connected to the output node Ngc1_o of the stage GC1_STG(n), that is, it may be connected to the output node Ngc1_o between the Q transistor Tgc1_q and the Qb transistor Tgc1_qb.

Q 트랜지스터(Tgc1_q)와 직렬로 연결된 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)는 해당 제1게이트배선(GL(n))에 오프(off)전압로서 예를 들어 하이(high)전압(VGH)의 게이트신호(Vg1(n))를 출력하도록 동작할 수 있다. The Qb transistor Tgc1_qb connected in series with the Q transistor Tgc1_q is an off voltage to the corresponding first gate line GL(n), for example, a high voltage VGH gate signal Vg1( n)).

이와 같은 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)는 N타입의 산화물 반도체를 이용하여 구성될 수 있다.The Qb transistor Tgc1_qb may be formed using an N-type oxide semiconductor.

Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)의 드레인은, 스테이지(GC1_STG(n))의 출력 노드(Ngc1_o)에 연결될 수 있다. Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)의 소스는 하이전압(VGH)(또는 게이트하이전압)을 인가받도록 구성될 수 있다.A drain of the Qb transistor Tgc1_qb may be connected to the output node Ngc1_o of the stage GC1_STG(n). A source of the Qb transistor Tgc1_qb may be configured to receive a high voltage VGH (or a gate high voltage).

위와 같이, Q 트랜지스터(Tgc1_q)는, 화소(P) 내의 P타입 또는 N타입의 트랜지스터와 동일하게 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘으로 구성될 수 있다. 즉, Q 트랜지스터(Tgc1_q)는, 화소(P) 내의 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘의 트랜지스터를 형성하는 공정에서 동일하게 형성될 수 있다. As described above, the Q transistor Tgc1_q may be formed of P-type or N-type polysilicon in the same manner as the P-type or N-type transistor in the pixel P. That is, the Q transistor Tgc1_q may be formed in the same manner in the process of forming the P-type or N-type polysilicon transistor in the pixel P.

그리고, Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)는, 화소(P) 내의 N타입의 트랜지스터와 동일하게 N타입 산화물 반도체로 구성될 수 있다. 즉, Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)는, 화소(P) 내의 N타입 산화물 반도체의 트랜지스터를 형성하는 공정에서 동일하게 형성될 수 있다.Also, the Qb transistor Tgc1_qb may be formed of an N-type oxide semiconductor in the same manner as the N-type transistor in the pixel P. That is, the Qb transistor Tgc1_qb may be formed in the same manner in the process of forming the transistor of the N-type oxide semiconductor in the pixel P.

이처럼, Q 트랜지스터(Tgc1_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)는 서로 반대되는 타입의 이종의 트랜지스터를 사용하여 구성될 수 있으므로, Q 트랜지스터(Tgc1_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)는 동일한 제어신호를 통해 서로 반대 위상으로 스위칭될 수 있게 된다. 이에 관해, 제어신호가 로우전압인 경우 Q 트랜지스터(Tgc1_q)는 온 상태가 되고 이와 반대로 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)는 오프 상태가 되며, 제어신호가 하이전압인 경우 Q 트랜지스터(Tgc1_q)는 오프 상태가 되고 이와 반대로 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)는 온 상태가 된다. As described above, since the Q transistor Tgc1_q and the Qb transistor Tgc1_qb may be configured using heterogeneous transistors of opposite types, the Q transistor Tgc1_q and the Qb transistor Tgc1_qb are out of phase with each other through the same control signal. can be switched to In this regard, when the control signal is a low voltage, the Q transistor Tgc1_q is turned on, on the contrary, the Qb transistor Tgc1_qb is turned off, and when the control signal is a high voltage, the Q transistor Tgc1_q is turned off. Conversely, the Qb transistor Tgc1_qb is turned on.

이에 따라, Q 트랜지스터(Tgc1_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)는 이들 각각의 스위칭을 제어하기 위해 위상이 서로 180도 반대인 제어신호들을 개별적으로 인가받을 필요가 없고, 하나의(또는 단일의) 제어신호를 공유하도록 구성될 수 있게 된다.Accordingly, the Q transistor Tgc1_q and the Qb transistor Tgc1_qb do not need to separately receive control signals whose phases are 180 degrees opposite to each other in order to control their respective switching, and one (or a single) control signal can be configured to share.

이로 인해, 제어회로(GC1_CC)는, Q 트랜지스터(Tgc1_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)를 동시에 공통적으로 제어할 수 있는 하나의 제어신호를 출력하도록 구성될 수 있다. 즉, 제어회로(GC1_CC)는 제어 노드(또는 출력 노드)로서, Q 노드 및 Qb 노드를 개별적으로 구비할 필요 없이, 하나의 제어 노드로서 예를 들어 Q 노드(Ngc1_q)를 구비하도록 구성될 수 있다.Accordingly, the control circuit GC1_CC may be configured to output one control signal capable of simultaneously controlling the Q transistor Tgc1_q and the Qb transistor Tgc1_qb in common. That is, the control circuit GC1_CC may be configured to include, for example, the Q node Ngc1_q as one control node, without having to separately include the Q node and the Qb node as the control node (or output node). .

이처럼, 제어회로(GC1_CC)는 하나의 제어 노드인 Q 노드(Ngc1_q)를 구비하면 충분하므로, 제어회로(GC1_CC) 내의 회로 구성이 간소화될 수 있게 되어, 제1게이트구동회로(GC1)의 크기가 감소될 수 있게 된다.As described above, since it is sufficient for the control circuit GC1_CC to include one Q node Ngc1_q as a control node, the circuit configuration in the control circuit GC1_CC can be simplified, so that the size of the first gate driving circuit GC1 is increased. can be reduced.

이에 관해, Q 트랜지스터(Tgc1_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)가 동종의 트랜지스터인 경우에, Q 노드 및 Qb 노드 각각에 출력되는 개별적인 Q 신호 및 Qb 신호를 생성하여야 하므로, 상대적으로 많은 수의 구동소자가 요구된다.In this regard, when the Q transistor Tgc1_q and the Qb transistor Tgc1_qb are the same type of transistor, individual Q signals and Qb signals output to the Q node and the Qb node must be generated, so that a relatively large number of driving devices are required. is required

반면에, 본 실시예와 같이 제어회로(CC)는 하나의 Q 노드(Ngc1_q)에 출력되는 하나의 제어신호인 Q 신호를 생성하면 되므로, 상대적으로 적은 수의 구동소자가 요구된다. 따라서, 제1게이트구동회로(GC1)의 크기가 감소될 수 있게 되고, 이에 따라 이를 포함한 GIP 방식의 스캔구동부(300)의 크기가 감소될 수 있고 이로 인해 표시장치의 베젤의 폭이 감소될 수 있게 된다.On the other hand, as in the present embodiment, the control circuit CC only needs to generate a Q signal that is one control signal output to one Q node Ngc1_q, so a relatively small number of driving elements is required. Accordingly, the size of the first gate driving circuit GC1 may be reduced, and accordingly, the size of the GIP-type scan driver 300 including the same may be reduced, thereby reducing the width of the bezel of the display device. there will be

이와 같은 제어회로(GC1_CC)는, 2개의 제1,2트랜지스터(Tgc1_1,Tgc1_2)와 1개의 캐패시터(Cgc1_q)를 포함할 수 있다.Such a control circuit GC1_CC may include two first and second transistors Tgc1_1 and Tgc1_2 and one capacitor Cgc1_q.

여기서, 제1,2트랜지스터(Tgc1_1,Tgc1_2)는 예를 들면 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘으로 구성될 수 있다. Here, the first and second transistors Tgc1_1 and Tgc1_2 may be formed of, for example, P-type or N-type polysilicon.

제1트랜지스터(Tgc1_1)는, 이의 게이트가 스테이지(GC1_STG(n))에 입력되는 게이트클럭들(GCLKgc1_1,GCLKgc1_2) 중 제2게이트클럭(GCLKgc1_2)을 인가받도록 구성될 수 있다. 제1트랜지스터(Tgc1_1)의 소스는, 전단 스테이지에서 출력되는 제1게이트신호(Vg1(n-1))를 인가받도록 구성될 수 있다. 제1트랜지스터(Tgc1_1)의 드레인은, 제2트랜지스터(Tgc1_2)의 소스에 연결되도록 구성될 수 있다.The first transistor Tgc1_1 may be configured such that its gate receives the second gate clock GCLKgc1_2 from among the gate clocks GCLKgc1_1 and GCLKgc1_2 input to the stage GC1_STG(n). The source of the first transistor Tgc1_1 may be configured to receive the first gate signal Vg1(n-1) output from the previous stage. A drain of the first transistor Tgc1_1 may be configured to be connected to a source of the second transistor Tgc1_2 .

제2트랜지스터(Tgc1_2)는 브릿지 전압 트랜지스터로서, 제1트랜지스터(Tgc1_1)와 Q 노드(Ngc1_q) 사이에 연결된다. 제2트랜지스터(Tgc1_2)의 소스는 제1트랜지스터(Tgc1_1)의 드레인에 연결되고, 제2트랜지스터(Tgc1_2)의 드레인은 Q 노드(Ngc1_q)에 연결되며, 제2트랜지스터(Tgc1_2)의 게이트는 로우전압(VGL)을 인가받도록 구성될 수 있다. The second transistor Tgc1_2 is a bridge voltage transistor and is connected between the first transistor Tgc1_1 and the Q node Ngc1_q. The source of the second transistor Tgc1_2 is connected to the drain of the first transistor Tgc1_1, the drain of the second transistor Tgc1_2 is connected to the Q node Ngc1_q, and the gate of the second transistor Tgc1_2 has a low voltage. (VGL) may be configured to be authorized.

제2트랜지스터(Tgc1_2)는 로우전압(VGL)에 의해 온 상태를 계속해서 유지하게 된다. 이에 따라, 제1트랜지스터(Tgc1_1)와 Q 노드(Ngc1_q)의 전기적 연결이 유지될 수 있게 되므로, 제1트랜지스터(Tgc1_1)의 출력 전압과 Q 노드(Nq)의 전압은 실질적으로 동일하게 유지될 수 있다.The second transistor Tgc1_2 continuously maintains an on state by the low voltage VGL. Accordingly, since the electrical connection between the first transistor Tgc1_1 and the Q node Ngc1_q can be maintained, the output voltage of the first transistor Tgc1_1 and the voltage of the Q node Nq can be maintained substantially the same. have.

캐패시터(Cgc1_q)는 Q 노드(Ngc1_q)와 출력 노드(No) 사이에 연결되어, Q 노드(Ngc1_q)의 전압을 저장할 수 있다.The capacitor Cgc1_q may be connected between the Q node Ngc1_q and the output node No to store the voltage of the Q node Ngc1_q.

위와 같이 제1구조의 제1게이트구동회로(GC1)의 제어회로(GC1_CC)는, Q 노드(Ngc1_q)를 구동하는 구동소자로서, 2개의 제1,2트랜지스터(Tgc1_1,Tgc1_2)와 1개의 캐패시터(Cgc1_q)로 구성될 수 있다. As described above, the control circuit GC1_CC of the first gate driving circuit GC1 of the first structure is a driving device for driving the Q node Ngc1_q, and includes two first and second transistors Tgc1_1 and Tgc1_2 and one capacitor. It may be composed of (Cgc1_q).

이처럼, 매우 적은 수의 구동소자를 사용하여 제어회로(GC1_CC)를 구성할 수 있게 되어, 제1게이트구동회로(GC1)의 크기가 상당하게 감소될 수 있게 된다.As such, it is possible to configure the control circuit GC1_CC using a very small number of driving elements, so that the size of the first gate driving circuit GC1 can be significantly reduced.

이와 관련하여, Q 노드 및 Qb 노드 모두를 구비하는 구조의 스테이지는, 대략 8개~10개의 트랜지스터와 2개의 캐패시터로 구성된다.In this regard, a stage having a structure having both a Q node and a Qb node is composed of approximately 8 to 10 transistors and 2 capacitors.

이에 반해, 본 실시예의 제1예에 따른 제1구조의 스테이지(GC1_STG(n))는 Qb 노드를 구비하지 않아 이를 구성하기 위한 트랜지스터를 제거할 수 있게 된다. On the other hand, the stage GC1_STG(n) of the first structure according to the first example of the present embodiment does not include the Qb node, and thus a transistor constituting the Qb node can be removed.

따라서, 본 실시예의 제1구조로 구성된 제1게이트구동회로(GC1)는, 이의 구동소자의 수를 상당하게 감소시킬 수 있는 것으로서, 실질적으로 최소화시킬 수 있다.Accordingly, in the first gate driving circuit GC1 having the first structure of the present embodiment, the number of driving elements thereof can be significantly reduced and can be substantially minimized.

도 5는 본 발명의 제1실시예의 제2예에 따른 제1게이트구동회로의 제2구조를 개략적으로 도시한 회로도이다.5 is a circuit diagram schematically showing a second structure of a first gate driving circuit according to a second example of the first embodiment of the present invention.

도 5에 도시된 본 실시예의 제2예에 따른 제2구조의 스테이지(GC1_STG(n))는, 도 4의 본 실시예의 제1예에 따른 제1구조의 스테이지(GC1_STG(n))에 비해, 트랜지스터가 추가된 구성을 갖게 되어 Q 노드(Ngc1_q)의 전압이 더 안정화될 수 있다.The stage GC1_STG(n) of the second structure according to the second example of the present embodiment shown in FIG. 5 is compared to the stage GC1_STG(n) of the first structure according to the first example of the present embodiment in FIG. 4 . , a transistor is added, so that the voltage of the Q node Ngc1_q may be further stabilized.

설명의 편의를 위해, 전술한 제1예의 제1구조와 동일 유사한 구성에 대해서는 구체적인 설명을 생략할 수 있다.For convenience of description, a detailed description of the same and similar configuration as the first structure of the above-described first example may be omitted.

도 5를 참조하면, 스테이지(GC1_STG(n))는, Q 트랜지스터(Tgc1_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)와, Q 트랜지스터(Tgc1_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)의 스위칭 동작을 제어하는 제어회로(GC1_CC)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 5 , the stage GC1_STG(n) includes a Q transistor Tgc1_q and a Qb transistor Tgc1_qb, and a control circuit GC1_CC for controlling switching operations of the Q transistor Tgc1_q and the Qb transistor Tgc1_qb. may include.

Q 트랜지스터(Tgc1_q)는 P타입 또는 N타입의 폴리 실리콘을 이용하여 구성될 수 있다. 그리고, Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)는 N타입의 산화물 반도체를 이용하여 구성될 수 있다.The Q transistor Tgc1_q may be configured using P-type or N-type polysilicon. In addition, the Qb transistor Tgc1_qb may be configured using an N-type oxide semiconductor.

이처럼, Q 트랜지스터(Tgc1_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)는 서로 반대되는 타입의 이종의 트랜지스터를 사용하여 구성될 수 있으므로, Q 트랜지스터(Tgc1_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)는 동일한 제어신호를 통해 서로 반대 위상으로 스위칭될 수 있게 된다.As described above, since the Q transistor Tgc1_q and the Qb transistor Tgc1_qb may be configured using heterogeneous transistors of opposite types, the Q transistor Tgc1_q and the Qb transistor Tgc1_qb are out of phase with each other through the same control signal. can be switched to

이에 따라, 제어회로(GC1_CC)는, Q 트랜지스터(Tgc1_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)를 동시에 공통적으로 제어할 수 있는 하나의 제어 노드인 Q 노드(Ngc1_q)를 구비하도록 구성될 수 있다.Accordingly, the control circuit GC1_CC may be configured to include the Q node Ngc1_q, which is one control node capable of simultaneously controlling the Q transistor Tgc1_q and the Qb transistor Tgc1_qb in common.

이처럼, 제어회로(GC1_CC)는 하나의 Q 노드(Ngc1_q)를 구비하면 충분하므로, 제어회로(GC1_CC) 내의 회로 구성이 간소화될 수 있게 되어, 제1게이트구동회로(GC1)의 크기가 감소될 수 있게 된다.In this way, since it is sufficient for the control circuit GC1_CC to include one Q node Ngc1_q, the circuit configuration in the control circuit GC1_CC can be simplified, so that the size of the first gate driving circuit GC1 can be reduced. there will be

이와 같은 제어회로(GC1_CC)는, 4개의 제1 내지 제4트랜지스터(Tgc1_1,Tgc1_2,Tgc1_3,Tgc1_4)와 1개의 캐패시터(Cgc1_q)를 포함할 수 있다.The control circuit GC1_CC may include four first to fourth transistors Tgc1_1, Tgc1_2, Tgc1_3, and Tgc1_4 and one capacitor Cgc1_q.

제1,2트랜지스터(Tgc1_1,Tgc1_2)와 캐패시터(Cgc1_q)의 구성은, 전술한 도 4의 제1예에서의 구성과 동일할 수 있다. The configuration of the first and second transistors Tgc1_1 and Tgc1_2 and the capacitor Cgc1_q may be the same as the configuration of the first example of FIG. 4 .

제3트랜지스터(Tgc1_3)는, 제1,2트랜지스터(Tgc1_1,Tgc1_2)와 동일하게, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘으로 구성될 수 있다.The third transistor Tgc1_3, like the first and second transistors Tgc1_1 and Tgc1_2, may be formed of P-type or N-type polysilicon.

이와 같은 제3트랜지스터(Tgc1_3)는, 제2트랜지스터(Tgc1_2)와 병렬 연결되고 제1,4트랜지스터(Tgc1_1,Tgc1_4) 사이에 연결될 수 있다. 이에 대해, 제3트랜지스터(Tgc1_3)의 게이트는, 제1게이트클럭(GCLKgc1_1)을 인가받도록 구성될 수 있다. 제3트랜지스터(Tgc1_3)의 소스는, 제1,2트랜지스터(Tgc1_1,Tgc1_2) 사이의 노드에 연결될 수 있다. 제3트랜지스터(Tgc1_3)의 드레인은, 제4트랜지스터(Tgc1_4)의 드레인에 연결될 수 있다.The third transistor Tgc1_3 may be connected in parallel with the second transistor Tgc1_2 and may be connected between the first and fourth transistors Tgc1_1 and Tgc1_4. In contrast, the gate of the third transistor Tgc1_3 may be configured to receive the first gate clock GCLKgc1_1. A source of the third transistor Tgc1_3 may be connected to a node between the first and second transistors Tgc1_1 and Tgc1_2 . A drain of the third transistor Tgc1_3 may be connected to a drain of the fourth transistor Tgc1_4.

제4트랜지스터(Tgc1_4)는, Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)와 동일하게, N타입 산화물 반도체로 구성될 수 있다.The fourth transistor Tgc1_4, like the Qb transistor Tgc1_qb, may be formed of an N-type oxide semiconductor.

이와 같은 제4트랜지스터(Tgc1_4)는, Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)와 병렬 연결될 수 있다. 이에 대해, 제4트랜지스터(Tgc1_4)는 게이트가 Q 노드(Ngc1_q)에 연결될 수 있다. 제4트랜지스터(Tgc1_4)의 드레인은, 제3트랜지스터(Tgc1_3)에 연결될 수 있다. 제4트랜지스터(Tgc1_4)의 소스는, 하이전압(VGH)(또는 게이트하이전압)을 인가받도록 구성될 수 있다.The fourth transistor Tgc1_4 may be connected in parallel with the Qb transistor Tgc1_qb. In contrast, the gate of the fourth transistor Tgc1_4 may be connected to the Q node Ngc1_q. A drain of the fourth transistor Tgc1_4 may be connected to the third transistor Tgc1_3. The source of the fourth transistor Tgc1_4 may be configured to receive the high voltage VGH (or the gate high voltage).

위와 같이 본 실시예의 제2예에 따른 제2구조의 스테이지(GC1_STG(n))는 Qb 노드를 구비하지 않아 이를 구성하기 위한 트랜지스터를 제거할 수 있게 된다. As described above, the stage GC1_STG(n) of the second structure according to the second example of the present embodiment does not include the Qb node, so that the transistor constituting the Qb node can be removed.

따라서, 본 실시예의 제2구조로 구성된 제1게이트구동회로(GC1)는, 이의 구동소자의 수를 감소시킬 수 있게 된다.Accordingly, in the first gate driving circuit GC1 having the second structure of the present embodiment, the number of driving elements thereof can be reduced.

도 6은 본 발명의 제1실시예의 제3예에 따른 제1게이트구동회로의 제3구조를 개략적으로 도시한 회로도이다.6 is a circuit diagram schematically showing a third structure of a first gate driving circuit according to a third example of the first embodiment of the present invention.

도 6에 도시된 본 실시예의 제3예에 따른 제3구조의 스테이지(GC1_STG(n))는, 도 4의 본 실시예의 제1예에 따른 제1구조의 스테이지(GC1_STG(n))에 비해, 트랜지스터가 추가된 구성을 갖게 되어 Q 노드(Ngc1_q)의 전압이 더 안정화될 수 있다.The stage GC1_STG(n) of the third structure according to the third example of the present embodiment shown in FIG. 6 is compared to the stage GC1_STG(n) of the first structure according to the first example of the present embodiment in FIG. 4 . , a transistor is added, so that the voltage of the Q node Ngc1_q may be further stabilized.

설명의 편의를 위해, 전술한 제1예의 제1구조와 동일 유사한 구성에 대해서는 구체적인 설명을 생략할 수 있다.For convenience of description, a detailed description of the same and similar configuration as the first structure of the above-described first example may be omitted.

도 6을 참조하면, 스테이지(GC1_STG(n))는, Q 트랜지스터(Tgc1_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)와, Q 트랜지스터(Tgc1_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)의 스위칭 동작을 제어하는 제어회로(GC1_CC)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 6 , the stage GC1_STG(n) includes a Q transistor Tgc1_q and a Qb transistor Tgc1_qb, and a control circuit GC1_CC for controlling switching operations of the Q transistor Tgc1_q and the Qb transistor Tgc1_qb. may include.

Q 트랜지스터(Tgc1_q)는 P타입 또는 N타입의 폴리 실리콘을 이용하여 구성될 수 있다. 그리고, Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)는 N타입의 산화물 반도체를 이용하여 구성될 수 있다.The Q transistor Tgc1_q may be configured using P-type or N-type polysilicon. In addition, the Qb transistor Tgc1_qb may be configured using an N-type oxide semiconductor.

이처럼, Q 트랜지스터(Tgc1_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)는 서로 반대되는 타입의 이종의 트랜지스터를 사용하여 구성될 수 있으므로, Q 트랜지스터(Tgc1_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)는 동일한 제어신호를 통해 서로 반대 위상으로 스위칭될 수 있게 된다.As described above, since the Q transistor Tgc1_q and the Qb transistor Tgc1_qb may be configured using heterogeneous transistors of opposite types, the Q transistor Tgc1_q and the Qb transistor Tgc1_qb are out of phase with each other through the same control signal. can be switched to

이에 따라, 제어회로(GC1_CC)는, Q 트랜지스터(Tgc1_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)를 동시에 공통적으로 제어할 수 있는 하나의 제어 노드인 Q 노드(Ngc1_q)를 구비하도록 구성될 수 있다.Accordingly, the control circuit GC1_CC may be configured to include the Q node Ngc1_q, which is one control node capable of simultaneously controlling the Q transistor Tgc1_q and the Qb transistor Tgc1_qb in common.

이처럼, 제어회로(GC1_CC)는 하나의 Q 노드(Ngc1_q)를 구비하면 충분하므로, 제어회로(GC1_CC) 내의 회로 구성이 간소화될 수 있게 되어, 제1게이트구동회로(GC1)의 크기가 감소될 수 있게 된다.In this way, since it is sufficient for the control circuit GC1_CC to include one Q node Ngc1_q, the circuit configuration in the control circuit GC1_CC can be simplified, so that the size of the first gate driving circuit GC1 can be reduced. there will be

이와 같은 제어회로(GC1_CC)는, 4개의 제1,2,5,6트랜지스터(Tgc1_1,Tgc1_2,Tgc1_5,Tgc1_6)와 1개의 캐패시터(Cgc1_q)를 포함할 수 있다.The control circuit GC1_CC may include four first, second, fifth, and sixth transistors Tgc1_1, Tgc1_2, Tgc1_5, and Tgc1_6 and one capacitor Cgc1_q.

제1,2트랜지스터(Tgc1_1,Tgc1_2)와 캐패시터(Cgc1_q)의 구성은, 전술한 도 4의 제1예에서의 구성과 동일할 수 있다. The configuration of the first and second transistors Tgc1_1 and Tgc1_2 and the capacitor Cgc1_q may be the same as the configuration of the first example of FIG. 4 .

제5트랜지스터(Tgc1_5)는, 제1,2트랜지스터(Tgc1_1,Tgc1_2)와 동일하게, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘으로 구성될 수 있다.The fifth transistor Tgc1_5, like the first and second transistors Tgc1_1 and Tgc1_2, may be formed of P-type or N-type polysilicon.

이와 같은 제5트랜지스터(Tgc1_5)는, Q 노드(Ngc1_q)와 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)의 게이트 사이에 연결되어 이들 사이의 연결을 온/오프 스위칭할 수 있다. 이에 대해, 제5트랜지스터(Tgc1_5)의 게이트는, 제1,2트랜지스터(Tgc1_1,Tgc1_2) 사이의 노드에 연결될 수 있다. 제5트랜지스터(Tgc1_5)의 소스는, Q 노드(Ngc1_q)에 연결될 수 있다. 제5트랜지스터(Tgc1_5)의 드레인은, Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)의 게이트에 연결될 수 있다.The fifth transistor Tgc1_5 is connected between the Q node Ngc1_q and the gate of the Qb transistor Tgc1_qb to turn on/off the connection therebetween. In contrast, the gate of the fifth transistor Tgc1_5 may be connected to a node between the first and second transistors Tgc1_1 and Tgc1_2. A source of the fifth transistor Tgc1_5 may be connected to the Q node Ngc1_q. A drain of the fifth transistor Tgc1_5 may be connected to a gate of the Qb transistor Tgc1_qb.

제6트랜지스터(Tgc1_6)는, Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)와 동일하게, N타입 산화물 반도체로 구성될 수 있다.The sixth transistor Tgc1_6, like the Qb transistor Tgc1_qb, may be formed of an N-type oxide semiconductor.

이와 같은 제6트랜지스터(Tgc1_6)는, 제5트랜지스터(Tgc1_5)와 병렬 연결되어 서로 반대 위상으로 스위칭될 수 있게 된다. 이에 대해, 제6트랜지스터(Tgc1_6)는 게이트가 제1,2트랜지스터(Tgc1_1,Tgc1_2) 사이의 노드에 연결될 수 있다. 제6트랜지스터(Tgc1_6)의 드레인은, Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)의 게이트에 연결될 수 있다. 제6트랜지스터(Tgc1_4)의 소스는, 하이전압(VGH) 보다 높은 레벨의 다른 하이전압(VQH)을 인가받도록 구성될 수 있다. 여기서, 설명의 편의를 위해, Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)에 입력되는 하이전압(VGH)을 제1하이전압(VGH)이라 하고, 이 보다 높은 하이전압(VQH)을 제2하이전압(VGH)이라 할 수 있다.The sixth transistor Tgc1_6 is connected in parallel with the fifth transistor Tgc1_5 to be switched in opposite phases. In contrast, the gate of the sixth transistor Tgc1_6 may be connected to a node between the first and second transistors Tgc1_1 and Tgc1_2 . A drain of the sixth transistor Tgc1_6 may be connected to a gate of the Qb transistor Tgc1_qb. The source of the sixth transistor Tgc1_4 may be configured to receive another high voltage VQH having a higher level than the high voltage VGH. Here, for convenience of description, the high voltage VGH input to the Qb transistor Tgc1_qb will be referred to as a first high voltage VGH, and a higher high voltage VQH will be referred to as a second high voltage VGH. can

위와 같이 제5,6트랜지스터(Tgc1_5,Tgc1_6)를 사용하게 되면, Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)가 열화되어 문턱 전압이 시프트(shift)되어 변동되더라도 이에 강건한 신뢰성을 확보할 수 있다.If the fifth and sixth transistors Tgc1_5 and Tgc1_6 are used as described above, even if the Qb transistor Tgc1_qb is deteriorated and the threshold voltage is shifted and fluctuated, robust reliability can be secured.

이에 관해, 오프전압인 제1하이전압(VGH)를 출력하는 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)는 상대적으로 장시간 온 상태가 되며, 특히 저주파수 구동시에는 온 상태가 오랫동안 유지되므로, Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)가 열화되어 문턱 전압이 변동될 수 된다.In this regard, the Qb transistor Tgc1_qb that outputs the first high voltage VGH, which is the off voltage, is in the on state for a relatively long time, and in particular, the on state is maintained for a long time during low frequency driving, so that the Qb transistor Tgc1_qb is deteriorated The threshold voltage can be varied.

이처럼, Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)의 문턱전압이 변동되면, Q 노드(Ngc1_q)의 전압에 의해 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)가 정상적으로 턴온될 수 없고, 이에 따라 제1게이트신호(Vg1(n))의 제1하이전압(VGH)이 정상적으로 출력될 수 없게 된다. 이로 인해, 화소는 비정상적으로 구동될 수 있다.As such, when the threshold voltage of the Qb transistor Tgc1_qb is changed, the Qb transistor Tgc1_qb cannot be turned on normally due to the voltage of the Q node Ngc1_q. The high voltage VGH cannot be normally output. Due to this, the pixel may be driven abnormally.

이에 대해, 본 실시예의 제3예에 따른 제3구조에서는, 제1게이트신호(Vg1(n))가 제1하이전압(VGH)을 출력하는 구간 동안에는, 제5트랜지스터(Tgc1_5)는 오프 상태가 되고 제6트랜지스터(Tgc1_6)는 온 상태가 되도록 구성할 수 있다.In contrast, in the third structure according to the third example of this embodiment, the fifth transistor Tgc1_5 is turned off during the period in which the first gate signal Vg1(n) outputs the first high voltage VGH. and the sixth transistor Tgc1_6 may be configured to be in an on state.

이 경우에, Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)는 Q 노드(Ngc1_q)와 전기적으로 단선되며, 제6트랜지스터(Tgc1_6)를 통해 제2하이전압(VQH)을 인가받을 수 있다.In this case, the Qb transistor Tgc1_qb may be electrically disconnected from the Q node Ngc1_q, and may receive the second high voltage VQH through the sixth transistor Tgc1_6.

여기서, 제2하이전압(VQH)은, Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)의 문턱전압 변동 마진(margin)을 반영하여, 제1하이전압(VGH) 보다 충분히 높은 레벨의 전압을 갖도록 구성될 수 있다.Here, the second high voltage VQH may be configured to have a sufficiently higher level than the first high voltage VGH by reflecting the threshold voltage variation margin of the Qb transistor Tgc1_qb.

이에 따라, 문턱전압이 쉬프트되어 변동되더라도, 제2하이전압(VQH)에 의해 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)가 정상적으로 온 상태를 가질 수 있게 된다. 이로 인해, 제1게이트신호(Vg1(n))의 하이전압(VGH)이 정상적으로 출력되어 화소는 정상적으로 구동될 수 있게 된다.Accordingly, even if the threshold voltage is shifted and fluctuated, the Qb transistor Tgc1_qb may be normally in an on state by the second high voltage VQH. Accordingly, the high voltage VGH of the first gate signal Vg1(n) is normally output, so that the pixel can be normally driven.

위와 같이 본 실시예의 제3예에 따른 제3구조의 스테이지(GC1_STG(n))는 Qb 노드를 구비하지 않아 이를 구성하기 위한 트랜지스터를 제거할 수 있게 된다. As described above, the stage GC1_STG(n) of the third structure according to the third example of this embodiment does not include the Qb node, so that the transistor for configuring it can be removed.

따라서, 본 실시예의 제3구조로 구성된 제1게이트구동회로(GC1)는, 이의 구동소자의 수를 감소시킬 수 있게 된다.Accordingly, in the first gate driving circuit GC1 having the third structure of the present embodiment, the number of driving elements thereof can be reduced.

도 7은 본 발명의 제1실시예의 제4예에 따른 제1게이트구동회로의 제4구조를 개략적으로 도시한 회로도이다.7 is a circuit diagram schematically showing a fourth structure of a first gate driving circuit according to a fourth example of the first embodiment of the present invention.

도 7에 도시된 본 실시예의 제4예에 따른 제4구조의 스테이지(GC1_STG(n))는, 도 4의 본 실시예의 제1예에 따른 제1구조의 스테이지(GC1_STG(n))에 비해, 트랜지스터가 추가된 구성을 갖게 되어 Q 노드(Ngc1_q)의 전압이 더 안정화될 수 있다.The stage GC1_STG(n) of the fourth structure according to the fourth example of the present embodiment shown in FIG. 7 is compared to the stage GC1_STG(n) of the first structure according to the first example of the present embodiment of FIG. 4 . , a transistor is added, so that the voltage of the Q node Ngc1_q may be further stabilized.

설명의 편의를 위해, 전술한 제1예의 제1구조와 동일 유사한 구성에 대해서는 구체적인 설명을 생략할 수 있다.For convenience of description, a detailed description of the same and similar configuration as the first structure of the above-described first example may be omitted.

도 7을 참조하면, 스테이지(GC1_STG(n))는, Q 트랜지스터(Tgc1_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)와, Q 트랜지스터(Tgc1_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)의 스위칭 동작을 제어하는 제어회로(GC1_CC)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 7 , the stage GC1_STG(n) includes a Q transistor Tgc1_q and a Qb transistor Tgc1_qb, and a control circuit GC1_CC for controlling switching operations of the Q transistor Tgc1_q and the Qb transistor Tgc1_qb. may include.

Q 트랜지스터(Tgc1_q)는 P타입 또는 N타입의 폴리 실리콘을 이용하여 구성될 수 있다. 그리고, Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)는 N타입의 산화물 반도체를 이용하여 구성될 수 있다.The Q transistor Tgc1_q may be configured using P-type or N-type polysilicon. In addition, the Qb transistor Tgc1_qb may be configured using an N-type oxide semiconductor.

이처럼, Q 트랜지스터(Tgc1_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)는 서로 반대되는 타입의 이종의 트랜지스터를 사용하여 구성될 수 있으므로, Q 트랜지스터(Tgc1_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)는 동일한 제어신호를 통해 서로 반대 위상으로 스위칭될 수 있게 된다.As described above, since the Q transistor Tgc1_q and the Qb transistor Tgc1_qb may be configured using heterogeneous transistors of opposite types, the Q transistor Tgc1_q and the Qb transistor Tgc1_qb are out of phase with each other through the same control signal. can be switched to

이에 따라, 제어회로(GC1_CC)는, Q 트랜지스터(Tgc1_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)를 동시에 공통적으로 제어할 수 있는 하나의 제어 노드인 Q 노드(Nq)를 구비하도록 구성될 수 있다.Accordingly, the control circuit GC1_CC may be configured to include the Q node Nq, which is one control node capable of simultaneously controlling the Q transistor Tgc1_q and the Qb transistor Tgc1_qb in common.

이처럼, 제어회로(GC1_CC)는 하나의 Q 노드(Nq)를 구비하면 충분하므로, 제어회로(GC1_CC) 내의 회로 구성이 간소화될 수 있게 되어, 제1게이트구동회로(GC1)의 크기가 감소될 수 있게 된다.As such, since it is sufficient for the control circuit GC1_CC to include one Q node Nq, the circuit configuration in the control circuit GC1_CC can be simplified, so that the size of the first gate driving circuit GC1 can be reduced. there will be

이와 같은 제어회로(GC1_CC)는, 4개의 제1,2,7,8트랜지스터(Tgc1_1,Tgc1_2,Tgc1_7,Tgc1_8)와 1개의 캐패시터(Cgc1_q)를 포함할 수 있다.The control circuit GC1_CC may include four first, second, seventh, and eighth transistors Tgc1_1, Tgc1_2, Tgc1_7, and Tgc1_8 and one capacitor Cgc1_q.

제1,2트랜지스터(Tgc1_1,Tgc1_2)와 캐패시터(Cgc1_q)의 구성은, 전술한 도 4의 제1예에서의 구성과 동일할 수 있다. The configuration of the first and second transistors Tgc1_1 and Tgc1_2 and the capacitor Cgc1_q may be the same as the configuration of the first example of FIG. 4 .

한편, 본 실시예의 제4예서는 제7,8트랜지스터(Tgc1_7,Tgc1_8)를 구비함으써, 전술한 제3예에서와 유사하게, Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)가 열화되어 문턱 전압이 변동되더라도 이에 강건한 신뢰성을 확보할 수 있게 된다.Meanwhile, in the fourth example of this embodiment, since the seventh and eighth transistors Tgc1_7 and Tgc1_8 are provided, similarly to the above-described third example, the Qb transistor Tgc1_qb is deteriorated and the threshold voltage fluctuates. can be obtained.

이와 관련하여, 제7트랜지스터(Tgc1_7)는, Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)와 동일하게, N타입 산화물 반도체로 구성될 수 있다.In this regard, the seventh transistor Tgc1_7 may be formed of an N-type oxide semiconductor in the same manner as the Qb transistor Tgc1_qb.

이와 같은 제7트랜지스터(Tgc1_7)는, 제8트랜지스터(Tgc1_8)와 병렬 연결되어 서로 반대 위상으로 스위칭될 수 있게 된다. 이에 대해, 제7트랜지스터(Tgc1_7)는 게이트가 제1,8트랜지스터(Tgc1_1,Tgc1_8) 사이의 노드에 연결될 수 있다. 제7트랜지스터(Tgc1_7)의 드레인은, 제2트랜지스터(Tgc1_2)의 소스에 연결될 수 있다. 제7트랜지스터(Tgc1_7)의 소스는, 제1하이전압(VGH) 보다 높은 레벨의 제2하이전압(VQH)을 인가받도록 구성될 수 있다.The seventh transistor Tgc1_7 is connected in parallel with the eighth transistor Tgc1_8 to be switched in opposite phases. In contrast, the gate of the seventh transistor Tgc1_7 may be connected to a node between the first and eighth transistors Tgc1_1 and Tgc1_8 . A drain of the seventh transistor Tgc1_7 may be connected to a source of the second transistor Tgc1_2 . The source of the seventh transistor Tgc1_7 may be configured to receive the second high voltage VQH having a higher level than the first high voltage VGH.

제8트랜지스터(Tgc1_8)는, 제1,2트랜지스터(Tgc1_1,Tgc1_2)와 동일하게, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘으로 구성될 수 있다. The eighth transistor Tgc1_8, like the first and second transistors Tgc1_1 and Tgc1_2, may be formed of P-type or N-type polysilicon.

이와 같은 제8트랜지스터(Tgc1_8)는 제7트랜지스터(Tgc1_7)와 함께, 제1트랜지스터(Tgc1_1) 및 제2트랜지스터(Tgc1_2) 사이에 연결되도록 구성되어, 서로 반대 위상으로 스위칭될 수 있게 된다. 이에 대해, 제8트랜지스터(Tgc1_8)의 게이트 및 소스는 서로 직접 접속되고 제1트랜지스터(Tgc1_1)의 드레인 및 제7트랜지스터(Tgc1_7)의 게이트에 연결될 수 있다. 제8트랜지스터(Tgc1_8)의 드레인은, 제7트랜지스터(Tgc1_7)의 드레인에 연결될 수 있다..The eighth transistor Tgc1_8 is configured to be connected between the first transistor Tgc1_1 and the second transistor Tgc1_2 together with the seventh transistor Tgc1_7 to be switched in opposite phases. In contrast, the gate and the source of the eighth transistor Tgc1_8 may be directly connected to each other, and the drain of the first transistor Tgc1_1 and the gate of the seventh transistor Tgc1_7 may be connected to each other. A drain of the eighth transistor Tgc1_8 may be connected to a drain of the seventh transistor Tgc1_7.

위와 같이 제7,8트랜지스터(Tgc1_7,Tgc1_8)를 사용하게 되면, Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)가 열화되어 문턱 전압이 시프트되어 변동되더라도 이에 강건한 신뢰성을 확보할 수 있다.When the seventh and eighth transistors Tgc1_7 and Tgc1_8 are used as described above, even if the Qb transistor Tgc1_qb is deteriorated and the threshold voltage is shifted and fluctuated, robust reliability can be secured.

이에 관해, 본 실시예의 제4예에 따른 제4구조에서는, 제1게이트신호(Vg1(n))가 제1하이전압(VGH)을 출력하는 구간 동안에는, 제8트랜지스터(Tgc1_8)는 오프 상태가 되고 제7트랜지스터(Tgc1_7)는 온 상태가 되도록 구성할 수 있다.In this regard, in the fourth structure according to the fourth example of this embodiment, the eighth transistor Tgc1_8 is turned off during the period in which the first gate signal Vg1(n) outputs the first high voltage VGH. and the seventh transistor Tgc1_7 may be configured to be in an on state.

이 경우에, Q 노드(Ngc1_q)에는 제2하이전압(VQH)이 인가되어, Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)에 제2하이전압(VQH)이 인가될 수 있다.In this case, the second high voltage VQH may be applied to the Q node Ngc1_q and the second high voltage VQH may be applied to the Qb transistor Tgc1_qb.

이에 따라, 문턱전압이 쉬프트되어 변동되더라도, 제2하이전압(VQH)에 의해 Qb 트랜지스터(Tgc1_qb)가 정상적으로 온 상태를 가질 수 있게 된다. 이로 인해, 제1게이트신호(Vg1(n))의 하이전압(VGH)이 정상적으로 출력되어 화소는 정상적으로 구동될 수 있게 된다.Accordingly, even if the threshold voltage is shifted and fluctuated, the Qb transistor Tgc1_qb may be normally in an on state by the second high voltage VQH. Accordingly, the high voltage VGH of the first gate signal Vg1(n) is normally output, so that the pixel can be normally driven.

위와 같이 본 실시예의 제4예에 따른 제4구조의 스테이지(GC1_STG(n))는 Qb 노드를 구비하지 않아 이를 구성하기 위한 트랜지스터를 제거할 수 있게 된다. As described above, the stage GC1_STG(n) of the fourth structure according to the fourth example of this embodiment does not include the Qb node, so that the transistor constituting the Qb node can be removed.

따라서, 본 실시예의 제4구조로 구성된 제1게이트구동회로(GC1)는, 이의 구동소자의 수를 감소시킬 수 있게 된다.Accordingly, in the first gate driving circuit GC1 having the fourth structure of the present embodiment, the number of driving elements thereof can be reduced.

도 8은 전술한 제1예 및 제2예의 구조로 구성된 제1게이트구동회로의 게이트신호 출력에 대한 시뮬레이션 결과를 도시한 파형도이고, 도 9는 전술한 제3예 및 제4예의 구조로 구성된 제1게이트구동회로의 게이트신호 출력에 대한 시뮬레이션 결과를 도시한 파형도이다.8 is a waveform diagram showing a simulation result for the gate signal output of the first gate driving circuit configured with the structures of the first and second examples described above, and FIG. 9 is a waveform diagram with the structures of the third and fourth examples described above. It is a waveform diagram showing the simulation result for the gate signal output of the first gate driving circuit.

도 8에서, 상부에 도시된 신호 파형은 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터 모두 P타입 또는 N타입의 폴리 실리콘으로 구성된 비교예의 출력 파형이며, 하부에 도시된 신호 파형은 본 실시예의 제1예 및 제2예의 구조에서의 출력 파형이다.In Fig. 8, the signal waveforms shown in the upper part are the output waveforms of the comparative example where both the Q transistor and the Qb transistor are made of P-type or N-type polysilicon, and the signal waveforms shown in the lower part are those of the first and second examples of this embodiment. It is the output waveform in the structure.

도 8을 참조하면, 본 실시예에서 제안된 제1예 및 제2예의 구조로 구성된 제1게이트구동회로는, 비교예와 동일하게, 정상적인 게이트신호 출력 특성을 확보할 수 있음을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 8 , it can be seen that the first gate driving circuit configured with the structures of the first and second examples proposed in this embodiment can secure a normal gate signal output characteristic, as in the comparative example.

그리고, 도 9를 참조하면, 본 실시예에서 제안된 제3예 및 제4예의 구조로 구성된 제1게이트구동회로 또한, 정상적인 게이트신호 출력 특성을 확보할 수 있음을 확인할 수 있다.And, referring to FIG. 9 , it can be confirmed that the first gate driving circuit configured with the structures of the third and fourth examples proposed in this embodiment can also secure normal gate signal output characteristics.

전술한 바와 같이, 본 발명의 제1실시예에서는, 제1게이트구동회로에 대해, 이의 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터가 서로 반대되는 타입의 이종의 반도체물질로서 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘 및 N타입 산화물 반도체를 이용하여 구성될 수 있다.As described above, in the first embodiment of the present invention, with respect to the first gate driving circuit, the Q transistor and Qb transistor of the P-type or N-type polysilicon and N-type oxide as a heterogeneous semiconductor material of opposite types to each other It may be constructed using a semiconductor.

이에 따라, Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터는 Q 노드를 공유하여 구동될 수 있게 되므로, Qb 노드를 구현하기 위한 구동소자를 제거할 수 있다.Accordingly, since the Q transistor and the Qb transistor can be driven by sharing the Q node, a driving element for implementing the Qb node can be eliminated.

이로 인해, 제1게이트구동회로를 구성하는 구동소자를 감소시킬 수 있게 되어, GIP 방식의 스캔구동부의 크기를 감소시킬 수 있고 표시장치의 베젤의 폭을 감소시킬 수 있게 된다.Accordingly, it is possible to reduce the number of driving elements constituting the first gate driving circuit, thereby reducing the size of the GIP type scan driving unit and reducing the width of the bezel of the display device.

<제2실시예><Second embodiment>

본 발명의 제2실시예에 따른 전계발광 표시장치는 전술한 제1실시예에 따른 전계발광 표시장치와 유사하게 구성될 수 있는 것으로서, 동일유사한 구성에 대한 구체적인 설명을 생략할 수 있다.The electroluminescent display device according to the second embodiment of the present invention may be configured similarly to the electroluminescent display device according to the first embodiment described above, and a detailed description of the same and similar configuration may be omitted.

본 발명의 제2실시예에 따른 전계발광 표시장치(도 1의 10)에서는, GIP 방식의 스캔구동부(도 3의 300)에 포함된 제2게이트구동회로(도 3의 GC2)의 구동소자의 수를 감소시킬 수 있다. 이에 따라, 스캔구동부의 크기가 감소될 수 있게 되고 표시장치의 베젤의 폭이 감소될 수 있게 된다.In the electroluminescent display device (10 in FIG. 1) according to the second embodiment of the present invention, the driving element of the second gate driving circuit (GC2 in FIG. 3) included in the GIP-type scan driver (300 in FIG. 3) is used. number can be reduced. Accordingly, the size of the scan driver can be reduced and the width of the bezel of the display device can be reduced.

이와 같은 제2실시예의 제2게이트구동회로에 대해 아래에서 보다 상세하게 설명한다.The second gate driving circuit according to the second embodiment will be described in more detail below.

본 실시예의 제2게이트구동회로는, 제1실시예에서 제안된 제1게이트구동회로(도 3의 GC1)의 회로 구조들와 유사한 회로 구조들로 구성될 수 있다.The second gate driving circuit of this embodiment may have circuit structures similar to those of the first gate driving circuit (GC1 in FIG. 3 ) proposed in the first embodiment.

이에 관해, 제2게이트구동회로로서 4가지 구조의 구동회로를 제안하며, 4가지 구조 각각에 대해 도 10 내지 13을 참조하여 설명한다.In this regard, a driving circuit having four structures is proposed as the second gate driving circuit, and each of the four structures will be described with reference to FIGS. 10 to 13 .

도 10은 본 발명의 제2실시예의 제1예에 따른 제2게이트구동회로의 제1구조를 개략적으로 도시한 회로도이다.10 is a circuit diagram schematically showing a first structure of a second gate driving circuit according to a first example of a second embodiment of the present invention.

도 10을 참조하면, 제2게이트구동회로(도 3의 GC2)의 스테이지(GC2_STG(n))는, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)와, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)의 스위칭 동작을 제어하는 제어회로(GC2_CC)를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 10 , the stage GC2_STG(n) of the second gate driving circuit (GC2 in FIG. 3 ) includes a Q transistor Tgc2_q and a Qb transistor Tgc2_qb, a Q transistor Tgc2_q and a Qb transistor Tgc2_qb ) may include a control circuit GC2_CC for controlling the switching operation.

더욱이, 스테이지(GC2_STG(n))는, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb) 사이의 출력 노드(Ngc2_o)와 해당 제2게이트배선(GL2(n)) 사이에 연결된 인버터(INV)를 포함할 수 있다.Furthermore, the stage GC2_STG(n) includes an inverter INV connected between the output node Ngc2_o between the Q transistor Tgc2_q and the Qb transistor Tgc2_qb and the corresponding second gate line GL2(n). can do.

인버터(INV)는 Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb) 사이의 출력 노드(Ngc2_o)에서 발생된 출력신호(Vout(n))를 반전하는 것으로서, 반전된 출력신호(Vout)가 제2게이트신호(Vg2(n))로서 해당 제2게이트배선(GL2(n))에 공급될 수 있게 된다. 이와 같은 인버터(INV)의 출력 단자가 스테이지(GC2_STG(n))의 출력 단자에 해당된다.The inverter INV inverts the output signal Vout(n) generated at the output node Ngc2_o between the Q transistor Tgc2_q and the Qb transistor Tgc2_qb. The signal Vg2(n) may be supplied to the corresponding second gate line GL2(n). The output terminal of the inverter INV corresponds to the output terminal of the stage GC2_STG(n).

이에 관해, 제2게이트배선(GL2(n))은 화소 내의 N타입 산화물 반도체로 구성된 제2스위칭트랜지스터(도 2의 T3)에 연결되는바, 제2게이트신호(Vg2(n))의 온전압 및 오프전압은 하이전압 및 로우전압으로서 제1게이트신호(도 3의 Vg1(n))와는 위상이 반대이다. In this regard, the second gate wiring GL2(n) is connected to the second switching transistor (T3 in FIG. 2 ) composed of an N-type oxide semiconductor in the pixel, and the on voltage of the second gate signal Vg2(n) is and the off voltage is a high voltage and a low voltage, which are opposite in phase to the first gate signal (Vgl(n) in FIG. 3).

이러한바, 제1게이트구동회로의 스테이지(도 4의 GC1_STG(n))와 비교하여, 인버터(INV)가 추가적으로 구비되어 해당 제2게이트신호(Vg2(n))를 출력할 수 있다.As such, compared to the stage of the first gate driving circuit (GC1_STG(n) in FIG. 4 ), an inverter INV may be additionally provided to output the corresponding second gate signal Vg2(n).

Q 트랜지스터(Tgc2_q)는 P타입 또는 N타입의 폴리 실리콘을 이용하여 구성될 수 있으며, 이의 소스는 스테이지(GC2_STG(n))에 입력되는 게이트클럭들(GCLKgc2_1,GCLKgc2_2) 중 제1게이트클럭(CGLKgc2_1)을 인가받을 수 있다. The Q transistor Tgc2_q may be configured using P-type or N-type polysilicon, and its source is the first gate clock CGLKgc2_1 among the gate clocks GCLKgc2_1 and GCLKgc2_2 input to the stage GC2_STG(n) ) can be approved.

그리고, Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)는 N타입의 산화물 반도체를 이용하여 구성될 수 있다.In addition, the Qb transistor Tgc2_qb may be configured using an N-type oxide semiconductor.

이처럼, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)는 서로 반대되는 타입의 이종의 트랜지스터를 사용하여 구성될 수 있으므로, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)는 동일한 제어신호를 통해 서로 반대 위상으로 스위칭될 수 있게 된다.As described above, since the Q transistor Tgc2_q and the Qb transistor Tgc2_qb may be configured using heterogeneous transistors of opposite types, the Q transistor Tgc2_q and the Qb transistor Tgc2_qb are out of phase with each other through the same control signal. can be switched to

이에 따라, 제어회로(GC2_CC)는, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)를 동시에 공통적으로 제어할 수 있는 하나의 제어 노드인 Q 노드(Ngc2_q)를 구비하도록 구성될 수 있다.Accordingly, the control circuit GC2_CC may be configured to include the Q node Ngc2_q, which is one control node capable of simultaneously controlling the Q transistor Tgc2_q and the Qb transistor Tgc2_qb in common.

이처럼, 제어회로(GC2_CC)는 Q 노드(Ngc2_q)를 구비하면 충분하므로, 제어회로(GC2_CC) 내의 회로 구성이 간소화될 수 있게 되어, 제2게이트구동회로의 크기가 감소될 수 있게 된다.As described above, since it is sufficient for the control circuit GC2_CC to include the Q node Ngc2_q, the circuit configuration in the control circuit GC2_CC can be simplified, so that the size of the second gate driving circuit can be reduced.

이와 같은 제어회로(GC2_CC)는, 2개의 제1,2트랜지스터(Tgc2_1,Tgc2_2)와 1개의 캐패시터(Cgc2_q)를 포함할 수 있다.Such a control circuit GC2_CC may include two first and second transistors Tgc2_1 and Tgc2_2 and one capacitor Cgc2_q.

여기서, 제1,2트랜지스터(Tgc2_1,Tgc2_2)는 예를 들면 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘으로 구성될 수 있다.Here, the first and second transistors Tgc2_1 and Tgc2_2 may be formed of, for example, P-type or N-type polysilicon.

제1트랜지스터(Tgc2_1)는, 이의 게이트가 스테이지(GC2_STG(n))에 입력되는 게이트클럭들(GCLKgc2_1,GCLKgc2_2) 중 제2게이트클럭(GCLKgc2_2)을 인가받도록 구성될 수 있다. 제1트랜지스터(Tgc2_1)의 소스는, 전단 스테이지의 출력 노드(Ngc2_o)의 출력신호(Vout(n-1))를 인가받도록 구성될 수 있다. 제1트랜지스터(Tgc2_1)의 드레인은, 제2트랜지스터(Tgc2_2)의 소스에 연결되도록 구성될 수 있다.The first transistor Tgc2_1 may be configured such that its gate receives the second gate clock GCLKgc2_2 from among the gate clocks GCLKgc2_1 and GCLKgc2_2 input to the stage GC2_STG(n). The source of the first transistor Tgc2_1 may be configured to receive the output signal Vout(n-1) of the output node Ngc2_o of the previous stage. A drain of the first transistor Tgc2_1 may be configured to be connected to a source of the second transistor Tgc2_2 .

제2트랜지스터(Tgc2_2)는, 제1트랜지스터(Tgc2_1)와 Q 노드(Ngc2_q) 사이에 연결되며, 이의 게이트는 로우전압(VGL)을 인가받도록 구성될 수 있다.The second transistor Tgc2_2 may be connected between the first transistor Tgc2_1 and the Q node Ngc2_q, and a gate thereof may be configured to receive the low voltage VGL.

이처럼, 본 실시예의 제1예에 따른 제1구조의 스테이지(GC2_STG(n))는 Qb 노드를 구비하지 않아 이를 구성하기 위한 트랜지스터를 제거할 수 있게 된다.As described above, the stage GC2_STG(n) of the first structure according to the first example of the present embodiment does not include the Qb node, and thus a transistor constituting the Qb node can be removed.

따라서, 본 실시예의 제1구조로 구성된 제2게이트구동회로는, 이의 구동소자의 수를 상당하게 감소시킬 수 있는 것으로서, 실질적으로 최소화시킬 수 있다.Accordingly, in the second gate driving circuit configured with the first structure of the present embodiment, the number of driving elements thereof can be significantly reduced, and can be substantially minimized.

도 11은 본 발명의 제2실시예의 제2예에 따른 제2게이트구동회로의 제2구조를 개략적으로 도시한 회로도이다.11 is a circuit diagram schematically showing a second structure of a second gate driving circuit according to a second example of the second embodiment of the present invention.

도 11에 도시된 본 실시예의 제2예에 따른 제2구조의 스테이지(GC2_STG(n))는, 도 10의 본 실시예의 제1예에 따른 제1구조의 스테이지(GC2_STG(n))에 비해, 트랜지스터가 추가된 구성을 갖게 되어 Q 노드(Ngc2_q)의 전압이 더 안정화될 수 있다.The stage GC2_STG(n) of the second structure according to the second example of the present embodiment shown in FIG. 11 is compared with the stage GC2_STG(n) of the first structure according to the first example of the present embodiment in FIG. 10 . , a transistor is added, so that the voltage of the Q node Ngc2_q may be further stabilized.

설명의 편의를 위해, 전술한 제1예의 제1구조와 동일 유사한 구성에 대해서는 구체적인 설명을 생략할 수 있다.For convenience of description, a detailed description of the same and similar configuration as the first structure of the above-described first example may be omitted.

도 11을 참조하면, 스테이지(GC2_STG(n))는, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)와, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)의 스위칭 동작을 제어하는 제어회로(GC2_CC)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 11 , the stage GC2_STG(n) includes a Q transistor Tgc2_q and a Qb transistor Tgc2_qb, and a control circuit GC2_CC for controlling switching operations of the Q transistor Tgc2_q and the Qb transistor Tgc2_qb. may include.

더욱이, 스테이지(GC2_STG(n))는, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb) 사이의 출력 노드(Ngc2_o)와 해당 제2게이트배선(GL2(n)) 사이에 연결된 인버터(INV)를 포함할 수 있다. Furthermore, the stage GC2_STG(n) includes an inverter INV connected between the output node Ngc2_o between the Q transistor Tgc2_q and the Qb transistor Tgc2_qb and the corresponding second gate line GL2(n). can do.

Q 트랜지스터(Tgc2_q)는 P타입 또는 N타입의 폴리 실리콘을 이용하여 구성될 수 있다. 그리고, Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)는 N타입의 산화물 반도체를 이용하여 구성될 수 있다.The Q transistor Tgc2_q may be configured using P-type or N-type polysilicon. In addition, the Qb transistor Tgc2_qb may be configured using an N-type oxide semiconductor.

이처럼, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)는 서로 반대되는 타입의 이종의 트랜지스터를 사용하여 구성될 수 있으므로, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)는 동일한 제어신호를 통해 서로 반대 위상으로 스위칭될 수 있게 된다.As described above, since the Q transistor Tgc2_q and the Qb transistor Tgc2_qb may be configured using heterogeneous transistors of opposite types, the Q transistor Tgc2_q and the Qb transistor Tgc2_qb are out of phase with each other through the same control signal. can be switched to

이에 따라, 제어회로(GC2_CC)는, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)를 동시에 공통적으로 제어할 수 있는 하나의 제어 노드인 Q 노드(Ngc2_q)를 구비하도록 구성될 수 있다.Accordingly, the control circuit GC2_CC may be configured to include the Q node Ngc2_q, which is one control node capable of simultaneously controlling the Q transistor Tgc2_q and the Qb transistor Tgc2_qb in common.

이처럼, 제어회로(GC2_CC)는 하나의 제어 노드인 Q 노드(Ngc2_q)를 구비하면 충분하므로, 제어회로(GC2_CC) 내의 회로 구성이 간소화될 수 있게 되어, 제2게이트구동회로의 크기가 감소될 수 있게 된다.As such, since it is sufficient for the control circuit GC2_CC to include one control node, the Q node Ngc2_q, the circuit configuration in the control circuit GC2_CC can be simplified, and the size of the second gate driving circuit can be reduced. there will be

이와 같은 제어회로(GC2_CC)는, 2개의 제1 내지 제4트랜지스터(Tgc2_1,Tgc2_2,Tgc2_3,Tgc2_4)와 1개의 캐패시터(Cgc2_q)를 포함할 수 있다.The control circuit GC2_CC may include two first to fourth transistors Tgc2_1, Tgc2_2, Tgc2_3, and Tgc2_4 and one capacitor Cgc2_q.

제1,2트랜지스터(Tgc2_1,Tgc2_2)와 캐패시터(Cgc2_q)의 구성은, 전술한 도 10의 제1예에서의 구성과 동일할 수 있다. The configuration of the first and second transistors Tgc2_1 and Tgc2_2 and the capacitor Cgc2_q may be the same as the configuration of the first example of FIG. 10 .

제3트랜지스터(Tgc2_3)는, 제1,2트랜지스터(Tgc2_1,Tgc2_2)와 동일하게, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘으로 구성될 수 있다.The third transistor Tgc2_3, like the first and second transistors Tgc2_1 and Tgc2_2, may be formed of P-type or N-type polysilicon.

이와 같은 제3트랜지스터(Tgc2_3)는, 제2트랜지스터(Tgc2_2)와 병렬 연결되고 제1,4트랜지스터(Tgc2_1,Tgc2_4) 사이에 연결될 수 있다. 이에 대해, 제3트랜지스터(Tgc2_3)의 게이트는, 제1게이트클럭(GCLKgc2_1)을 인가받도록 구성될 수 있다. 제3트랜지스터(Tgc2_3)의 소스는, 제1,2트랜지스터(Tgc2_1,Tgc2_2) 사이의 노드에 연결될 수 있다. 제3트랜지스터(Tgc2_3)의 드레인은, 제4트랜지스터(Tgc2_4)의 드레인에 연결될 수 있다.The third transistor Tgc2_3 may be connected in parallel with the second transistor Tgc2_2 and may be connected between the first and fourth transistors Tgc2_1 and Tgc2_4. In contrast, the gate of the third transistor Tgc2_3 may be configured to receive the first gate clock GCLKgc2_1. A source of the third transistor Tgc2_3 may be connected to a node between the first and second transistors Tgc2_1 and Tgc2_2 . A drain of the third transistor Tgc2_3 may be connected to a drain of the fourth transistor Tgc2_4 .

제4트랜지스터(Tgc2_4)는, Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)와 동일하게, N타입 산화물 반도체로 구성될 수 있다.The fourth transistor Tgc2_4, like the Qb transistor Tgc2_qb, may be formed of an N-type oxide semiconductor.

이와 같은 제4트랜지스터(Tgc2_4)는, Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)와 병렬 연결될 수 있다. 이에 대해, 제4트랜지스터(Tgc2_4)는 게이트가 Q 노드(Ngc2_q)에 연결될 수 있다. 제4트랜지스터(Tgc2_4)의 드레인은, 제3트랜지스터(Tgc2_3)에 연결될 수 있다. 제4트랜지스터(Tgc2_4)의 소스는, 하이전압(VGH)을 인가받도록 구성될 수 있다.The fourth transistor Tgc2_4 may be connected in parallel with the Qb transistor Tgc2_qb. In contrast, the gate of the fourth transistor Tgc2_4 may be connected to the Q node Ngc2_q. A drain of the fourth transistor Tgc2_4 may be connected to the third transistor Tgc2_3 . The source of the fourth transistor Tgc2_4 may be configured to receive the high voltage VGH.

위와 같이 본 실시예의 제2예에 따른 제2구조의 스테이지(GC2_STG(n))는 Qb 노드를 구비하지 않아 이를 구성하기 위한 트랜지스터를 제거할 수 있게 된다. As described above, the stage GC2_STG(n) of the second structure according to the second example of the present embodiment does not include the Qb node, so that the transistor for configuring the stage GC2_STG(n) can be removed.

따라서, 본 실시예의 제2구조로 구성된 제2게이트구동회로는, 이의 구동소자의 수를 감소시킬 수 있게 된다.Accordingly, in the second gate driving circuit configured with the second structure of the present embodiment, the number of driving elements thereof can be reduced.

도 12는 본 발명의 제2실시예의 제3예에 따른 제2게이트구동회로의 제3구조를 개략적으로 도시한 회로도이다.12 is a circuit diagram schematically showing a third structure of a second gate driving circuit according to a third example of the second embodiment of the present invention.

도 12에 도시된 본 실시예의 제3예에 따른 제3구조의 스테이지(GC2_STG(n))는, 도 10의 본 실시예의 제1예에 따른 제1구조의 스테이지(GC2_STG(n))에 비해, 트랜지스터가 추가된 구성을 갖게 되어 Q 노드(Ngc2_q)의 전압이 더 안정화될 수 있다.The stage GC2_STG(n) of the third structure according to the third example of the present embodiment shown in FIG. 12 is compared to the stage GC2_STG(n) of the first structure according to the first example of the present embodiment in FIG. 10 . , a transistor is added, so that the voltage of the Q node Ngc2_q may be further stabilized.

설명의 편의를 위해, 전술한 제1예의 제1구조와 동일 유사한 구성에 대해서는 구체적인 설명을 생략할 수 있다.For convenience of description, a detailed description of the same and similar configuration as the first structure of the above-described first example may be omitted.

도 12를 참조하면, 스테이지(GC2_STG(n))는, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)와, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)의 스위칭 동작을 제어하는 제어회로(GC2_CC)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 12 , the stage GC2_STG(n) includes a Q transistor Tgc2_q and a Qb transistor Tgc2_qb, and a control circuit GC2_CC for controlling switching operations of the Q transistor Tgc2_q and the Qb transistor Tgc2_qb. may include.

더욱이, 스테이지(GC2_STG(n))는, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb) 사이의 출력 노드(Ngc2_o)와 해당 제2게이트배선(GL2(n)) 사이에 연결된 인버터(INV)를 포함할 수 있다.Furthermore, the stage GC2_STG(n) includes an inverter INV connected between the output node Ngc2_o between the Q transistor Tgc2_q and the Qb transistor Tgc2_qb and the corresponding second gate line GL2(n). can do.

Q 트랜지스터(Tgc2_q)는 P타입 또는 N타입의 폴리 실리콘을 이용하여 구성될 수 있다. 그리고, Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)는 N타입의 산화물 반도체를 이용하여 구성될 수 있다.The Q transistor Tgc2_q may be configured using P-type or N-type polysilicon. In addition, the Qb transistor Tgc2_qb may be configured using an N-type oxide semiconductor.

이처럼, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)는 서로 반대되는 타입의 이종의 트랜지스터를 사용하여 구성될 수 있으므로, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)는 동일한 제어신호를 통해 서로 반대 위상으로 스위칭될 수 있게 된다.As described above, since the Q transistor Tgc2_q and the Qb transistor Tgc2_qb may be configured using heterogeneous transistors of opposite types, the Q transistor Tgc2_q and the Qb transistor Tgc2_qb are out of phase with each other through the same control signal. can be switched to

이에 따라, 제어회로(GC2_CC)는, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)를 동시에 공통적으로 제어할 수 있는 하나의 제어 노드인 Q 노드(Ngc2_q)를 구비하도록 구성될 수 있다.Accordingly, the control circuit GC2_CC may be configured to include the Q node Ngc2_q, which is one control node capable of simultaneously controlling the Q transistor Tgc2_q and the Qb transistor Tgc2_qb in common.

이처럼, 제어회로(GC2_CC)는 하나의 제어 노드인 Q 노드(Ngc2_q)를 구비하면 충분하므로, 제어회로(GC2_CC) 내의 회로 구성이 간소화될 수 있게 되어, 제2게이트구동회로의 크기가 감소될 수 있게 된다.As such, since it is sufficient for the control circuit GC2_CC to include one control node, the Q node Ngc2_q, the circuit configuration in the control circuit GC2_CC can be simplified, and the size of the second gate driving circuit can be reduced. there will be

이와 같은 제어회로(GC2_CC)는, 4개의 제1,2,5,6트랜지스터(Tgc2_1,Tgc2_2,Tgc2_5,Tgc2_6)와 1개의 캐패시터(Cgc2_q)를 포함할 수 있다.The control circuit GC2_CC may include four first, second, fifth, and sixth transistors Tgc2_1, Tgc2_2, Tgc2_5, and Tgc2_6 and one capacitor Cgc2_q.

제1,2트랜지스터(Tgc2_1,Tgc2_2)와 캐패시터(Cgc2_q)의 구성은, 전술한 도 10의 제1예에서의 구성과 동일할 수 있다. The configuration of the first and second transistors Tgc2_1 and Tgc2_2 and the capacitor Cgc2_q may be the same as the configuration of the first example of FIG. 10 .

제5트랜지스터(Tgc2_5)는, 제1,2트랜지스터(Tgc2_1,Tgc2_2)와 동일하게, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘으로 구성될 수 있다.The fifth transistor Tgc2_5, like the first and second transistors Tgc2_1 and Tgc2_2, may be formed of P-type or N-type polysilicon.

이와 같은 제5트랜지스터(Tgc2_5)는, Q 노드(Ngc2_q)와 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb) 사이에 연결되어 이들 사이의 연결을 온/오프 스위칭할 수 있다. 이에 대해, 제5트랜지스터(Tgc2_5)의 게이트는, 제1,2트랜지스터(Tgc2_1,Tgc2_2) 사이의 노드에 연결될 수 있다. 제5트랜지스터(Tgc2_5)의 소스는, Q 노드(Ngc2_q)에 연결될 수 있다. 제5트랜지스터(Tgc2_5)의 드레인은, Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)의 게이트에 연결될 수 있다.The fifth transistor Tgc2_5 is connected between the Q node Ngc2_q and the Qb transistor Tgc2_qb to turn on/off the connection therebetween. In contrast, the gate of the fifth transistor Tgc2_5 may be connected to a node between the first and second transistors Tgc2_1 and Tgc2_2. A source of the fifth transistor Tgc2_5 may be connected to the Q node Ngc2_q. A drain of the fifth transistor Tgc2_5 may be connected to a gate of the Qb transistor Tgc2_qb.

제6트랜지스터(Tgc2_6)는, Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)와 동일하게, N타입 산화물 반도체로 구성될 수 있다.The sixth transistor Tgc2_6, like the Qb transistor Tgc2_qb, may be formed of an N-type oxide semiconductor.

이와 같은 제6트랜지스터(Tgc2_6)는, 제5트랜지스터(Tgc2_5)와 병렬 연결되어 서로 반대 위상으로 스위칭될 수 있게 된다. 이에 대해, 제6트랜지스터(Tgc2_6)는 게이트가 제1,2트랜지스터(Tgc2_1,Tgc2_2) 사이의 노드에 연결될 수 있다. 제6트랜지스터(Tgc2_6)의 드레인은, Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)의 게이트에 연결될 수 있다. 제6트랜지스터(Tgc2_6)의 소스는, 하이전압(VGH)인 제1하이전압(VGH) 보다 높은 레벨의 다른 하이전압(VQH)인 제2하이전압(VQH)을 인가받도록 구성될 수 있다. The sixth transistor Tgc2_6 is connected in parallel with the fifth transistor Tgc2_5 to be switched in opposite phases. In contrast, the gate of the sixth transistor Tgc2_6 may be connected to a node between the first and second transistors Tgc2_1 and Tgc2_2. A drain of the sixth transistor Tgc2_6 may be connected to a gate of the Qb transistor Tgc2_qb. The source of the sixth transistor Tgc2_6 may be configured to receive the second high voltage VQH, which is another high voltage VQH having a higher level than the first high voltage VGH, which is the high voltage VGH.

위와 같이 제5,6트랜지스터(Tgc2_5,Tgc2_6)를 사용하게 되면, Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)가 열화되어 문턱 전압이 시프트(shift)되어 변동되더라도 이에 강건한 신뢰성을 확보할 수 있다.When the fifth and sixth transistors Tgc2_5 and Tgc2_6 are used as described above, even if the threshold voltage is shifted and fluctuated due to deterioration of the Qb transistor Tgc2_qb, robust reliability can be secured.

위와 같이 본 실시예의 제3예에 따른 제3구조의 스테이지(GC2_STG(n))는 Qb 노드를 구비하지 않아 이를 구성하기 위한 트랜지스터를 제거할 수 있게 된다. As described above, the stage GC2_STG(n) of the third structure according to the third example of the present embodiment does not include the Qb node, so that the transistor for configuring the stage GC2_STG(n) can be removed.

따라서, 본 실시예의 제3구조로 구성된 제2게이트구동회로는, 이의 구동소자의 수를 감소시킬 수 있게 된다.Accordingly, in the second gate driving circuit configured with the third structure of the present embodiment, the number of driving elements thereof can be reduced.

도 13은 본 발명의 제1실시예의 제4예에 따른 제2게이트구동회로의 제4구조를 개략적으로 도시한 회로도이다.13 is a circuit diagram schematically showing a fourth structure of a second gate driving circuit according to a fourth example of the first embodiment of the present invention.

도 13에 도시된 본 실시예의 제4예에 따른 제4구조의 스테이지(GC2_STG(n))는, 도 10의 본 실시예의 제1예에 따른 제1구조의 스테이지(GC2_STG(n))에 비해, 트랜지스터가 추가된 구성을 갖게 되어 Q 노드(Ngc2_q)의 전압이 더 안정화될 수 있다.The stage GC2_STG(n) of the fourth structure according to the fourth example of the present embodiment shown in FIG. 13 is compared to the stage GC2_STG(n) of the first structure according to the first example of the present embodiment in FIG. 10 . , a transistor is added, so that the voltage of the Q node Ngc2_q may be further stabilized.

설명의 편의를 위해, 전술한 제1예의 제1구조와 동일 유사한 구성에 대해서는 구체적인 설명을 생략할 수 있다.For convenience of description, a detailed description of the same and similar configuration as the first structure of the above-described first example may be omitted.

도 13을 참조하면, 스테이지(GC2_STG(n))는, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)와, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)의 스위칭 동작을 제어하는 제어회로(GC2_CC)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 13 , the stage GC2_STG(n) includes a Q transistor Tgc2_q and a Qb transistor Tgc2_qb, and a control circuit GC2_CC for controlling switching operations of the Q transistor Tgc2_q and the Qb transistor Tgc2_qb. may include.

더욱이, 스테이지(GC2_STG(n))는, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb) 사이의 출력 노드(Ngc2_o)와 해당 제2게이트배선(GL2(n)) 사이에 연결된 인버터(INV)를 포함할 수 있다.Furthermore, the stage GC2_STG(n) includes an inverter INV connected between the output node Ngc2_o between the Q transistor Tgc2_q and the Qb transistor Tgc2_qb and the corresponding second gate line GL2(n). can do.

Q 트랜지스터(Tgc2_q)는 P타입 또는 N타입의 폴리 실리콘을 이용하여 구성될 수 있다. 그리고, Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)는 N타입의 산화물 반도체를 이용하여 구성될 수 있다.The Q transistor Tgc2_q may be configured using P-type or N-type polysilicon. In addition, the Qb transistor Tgc2_qb may be configured using an N-type oxide semiconductor.

이처럼, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)는 서로 반대되는 타입의 이종의 트랜지스터를 사용하여 구성될 수 있으므로, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)는 동일한 제어신호를 통해 서로 반대 위상으로 스위칭될 수 있게 된다.As described above, since the Q transistor Tgc2_q and the Qb transistor Tgc2_qb may be configured using heterogeneous transistors of opposite types, the Q transistor Tgc2_q and the Qb transistor Tgc2_qb are out of phase with each other through the same control signal. can be switched to

이에 따라, 제어회로(GC2_CC)는, Q 트랜지스터(Tgc2_q) 및 Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)를 동시에 공통적으로 제어할 수 있는 하나의 제어 노드인 Q 노드(Ngc2_q)를 구비하도록 구성될 수 있다.Accordingly, the control circuit GC2_CC may be configured to include the Q node Ngc2_q, which is one control node capable of simultaneously controlling the Q transistor Tgc2_q and the Qb transistor Tgc2_qb in common.

이처럼, 제어회로(GC2_CC)는 하나의 제어 노드인 Q 노드(Ngc2_q)를 구비하면 충분하므로, 제어회로(GC2_CC) 내의 회로 구성이 간소화될 수 있게 되어, 제2게이트구동회로의 크기가 감소될 수 있게 된다.As such, since it is sufficient for the control circuit GC2_CC to include one control node, the Q node Ngc2_q, the circuit configuration in the control circuit GC2_CC can be simplified, and the size of the second gate driving circuit can be reduced. there will be

이와 같은 제어회로(GC2_CC)는, 4개의 제1,2,7,8트랜지스터(Tgc2_1,Tgc2_2,Tgc2_7,Tgc2_8)와 1개의 캐패시터(Cgc2_q)를 포함할 수 있다.The control circuit GC2_CC may include four first, second, seventh, and eighth transistors Tgc2_1, Tgc2_2, Tgc2_7, and Tgc2_8 and one capacitor Cgc2_q.

제1,2트랜지스터(Tgc2_1,Tgc2_2)와 캐패시터(Cgc2_q)의 구성은, 전술한 도 10의 제1예에서의 구성과 동일할 수 있다. The configuration of the first and second transistors Tgc2_1 and Tgc2_2 and the capacitor Cgc2_q may be the same as the configuration of the first example of FIG. 10 .

한편, 본 실시예의 제4예서는 제7,8트랜지스터(Tgc2_7,Tgc2_8)를 구비함으써, 전술한 제3예에서와 유사하게, Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)가 열화되어 문턱 전압이 변동되더라도 이에 강건한 신뢰성을 확보할 수 있게 된다.Meanwhile, in the fourth example of this embodiment, since the seventh and eighth transistors Tgc2_7 and Tgc2_8 are provided, similarly to the above-described third example, the Qb transistor Tgc2_qb is deteriorated and the threshold voltage fluctuates. can be obtained.

이와 관련하여, 제7트랜지스터(Tgc2_7)는, Qb 트랜지스터(Tgc2_qb)와 동일하게, N타입 산화물 반도체로 구성될 수 있다.In this regard, the seventh transistor Tgc2_7 may be formed of an N-type oxide semiconductor in the same manner as the Qb transistor Tgc2_qb.

이와 같은 제7트랜지스터(Tgc2_7)는, 제8트랜지스터(Tgc2_8)와 병렬 연결되어 서로 반대 위상으로 스위칭될 수 있게 된다. 이에 대해, 제7트랜지스터(Tgc2_7)는 게이트가 제1,8트랜지스터(Tgc2_1,Tgc2_8) 사이의 노드에 연결될 수 있다. 제7트랜지스터(Tgc2_7)의 드레인은, 제2트랜지스터(Tgc2_2)의 소스에 연결될 수 있다. 제7트랜지스터(Tgc2_7)의 소스는, 제1하이전압(VGH) 보다 높은 레벨의 제2하이전압(VQH)을 인가받도록 구성될 수 있다.The seventh transistor Tgc2_7 is connected in parallel with the eighth transistor Tgc2_8 to be switched in opposite phases. In contrast, the gate of the seventh transistor Tgc2_7 may be connected to a node between the first and eighth transistors Tgc2_1 and Tgc2_8 . A drain of the seventh transistor Tgc2_7 may be connected to a source of the second transistor Tgc2_2 . The source of the seventh transistor Tgc2_7 may be configured to receive the second high voltage VQH having a higher level than the first high voltage VGH.

제8트랜지스터(Tgc2_8)는, 제1,2트랜지스터(Tgc2_1,Tgc2_2)와 동일하게, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘으로 구성될 수 있다. The eighth transistor Tgc2_8, like the first and second transistors Tgc2_1 and Tgc2_2, may be formed of P-type or N-type polysilicon.

이와 같은 제8트랜지스터(Tgc2_8)는 제7트랜지스터(Tgc2_7)와 함께, 제1트랜지스터(Tgc2_1) 및 제2트랜지스터(Tgc2_2) 사이에 연결되도록 구성되어, 서로 반대 위상으로 스위칭될 수 있게 된다. 이에 대해, 제8트랜지스터(Tgc2_8)의 게이트 및 소스는 서로 직접 접속되고, 또한 제1트랜지스터(Tgc2_1)의 드레인 및 제7트랜지스터(Tgc2_7)의 게이트에 연결될 수 있다. 제8트랜지스터(Tgc2_8)의 드레인은, 제7트랜지스터(Tgc2_7)의 드레인에 연결될 수 있다.The eighth transistor Tgc2_8 is configured to be connected between the first transistor Tgc2_1 and the second transistor Tgc2_2 together with the seventh transistor Tgc2_7 to be switched in opposite phases. In contrast, the gate and the source of the eighth transistor Tgc2_8 may be directly connected to each other, and may also be connected to the drain of the first transistor Tgc2_1 and the gate of the seventh transistor Tgc2_7 . A drain of the eighth transistor Tgc2_8 may be connected to a drain of the seventh transistor Tgc2_7.

위와 같이 본 실시예의 제4예에 따른 제4구조의 스테이지(GC2_STG(n))는 Qb 노드를 구비하지 않아 이를 구성하기 위한 트랜지스터를 제거할 수 있게 된다. As described above, the stage GC2_STG(n) of the fourth structure according to the fourth example of the present embodiment does not include the Qb node, so that a transistor for configuring the stage GC2_STG(n) can be removed.

따라서, 본 실시예의 제4구조로 구성된 제2게이트구동회로는, 이의 구동소자의 수를 감소시킬 수 있게 된다.Accordingly, in the second gate driving circuit configured with the fourth structure of the present embodiment, the number of driving elements thereof can be reduced.

전술한 바와 같이, 본 발명의 제2실시예에서는, 제2게이트구동회로에 대해, 이의 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터가 서로 반대되는 타입의 이종의 반도체물질로서 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘 및 N타입 산화물 반도체를 이용하여 구성될 수 있다.As described above, in the second embodiment of the present invention, with respect to the second gate driving circuit, the Q transistor and Qb transistor of the P-type or N-type polysilicon and N-type oxide are different types of semiconductor materials opposite to each other. It may be constructed using a semiconductor.

이에 따라, Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터는 Q 노드를 공유하여 구동될 수 있게 되므로, Qb 노드를 구현하기 위한 구동소자를 제거할 수 있다.Accordingly, since the Q transistor and the Qb transistor can be driven by sharing the Q node, a driving element for implementing the Qb node can be eliminated.

이로 인해, 제2게이트구동회로를 구성하는 구동소자를 감소시킬 수 있게 되어, GIP 방식의 스캔구동부의 크기를 감소시킬 수 있고 표시장치의 베젤의 폭을 감소시킬 수 있게 된다.Accordingly, it is possible to reduce the number of driving elements constituting the second gate driving circuit, thereby reducing the size of the GIP type scan driving unit and reducing the width of the bezel of the display device.

한편, 본 실시예의 전계발광 표시장치는, 제1실시예의 제1게이트구동회로의 구조를 포함하도록 구성될 수 있다. 이 경우에, GIP 방식의 스캔구동부의 크기를 더 감소시킬 수 있고 표시장치의 베젤의 폭을 더 감소시킬 수 있게 된다.Meanwhile, the electroluminescent display device of the present embodiment may be configured to include the structure of the first gate driving circuit of the first embodiment. In this case, the size of the GIP type scan driver can be further reduced and the width of the bezel of the display device can be further reduced.

<제3실시예><Third embodiment>

본 발명의 제3실시예에 따른 전계발광 표시장치는 전술한 제1실시예에 따른 전계발광 표시장치와 유사하게 구성될 수 있는 것으로서, 동일유사한 구성에 대한 구체적인 설명을 생략할 수 있다.The electroluminescent display device according to the third embodiment of the present invention may be configured similarly to the electroluminescent display device according to the first embodiment described above, and a detailed description of the same and similar configuration may be omitted.

본 발명의 제3실시예에 따른 전계발광 표시장치에서는, GIP 방식의 스캔구동부(도 3의 300)에 포함된 발광구동회로(도 3의 EC)의 구동소자의 수를 감소시킬 수 있다. 이에 따라, 스캔구동부의 크기가 감소될 수 있게 되고 표시장치의 베젤의 폭이 감소될 수 있게 된다.In the electroluminescent display device according to the third embodiment of the present invention, the number of driving elements of the light emitting driving circuit (EC of FIG. 3 ) included in the GIP type scan driving unit (300 of FIG. 3 ) can be reduced. Accordingly, the size of the scan driver can be reduced and the width of the bezel of the display device can be reduced.

이와 같은 제3실시예의 발광구동회로에 대해 아래에서 보다 상세하게 설명한다.The light emission driving circuit of the third embodiment will be described in more detail below.

본 실시예에서는, 발광구동회로로서 3가지 구조의 구동회로를 제안하며, 3가지 구조 각각에 대해 도 14 내지 16을 참조하여 설명한다.In this embodiment, a driving circuit having three structures is proposed as a light emission driving circuit, and each of the three structures will be described with reference to FIGS. 14 to 16 .

도 14는 본 발명의 제3실시예의 제1예에 따른 발광구동회로의 제1구조를 개략적으로 도시한 회로도이다.14 is a circuit diagram schematically showing a first structure of a light emitting driving circuit according to a first example of a third embodiment of the present invention.

도 14를 참조하면, 발광구동회로(도 3의 EC)의 스테이지(EC_STG(n))는, Q 트랜지스터(Tec_q) 및 Qb 트랜지스터(Tec_qb)와, Q 트랜지스터(Tec_q) 및 Qb 트랜지스터(Tec_qb)의 스위칭 동작을 제어하는 제어회로(EC_CC)를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 14 , the stage EC_STG(n) of the light emission driving circuit (EC in FIG. 3 ) includes Q transistors Tec_q and Qb transistors Tec_qb, and Q transistors Tec_q and Qb transistors Tec_qb. A control circuit EC_CC for controlling the switching operation may be included.

Q 트랜지스터(Tec_q)는 해당 발광배선(EL(n))에 온전압으로서 예를 들어 로우전압(VLG)의 발광신호(Vem(n))를 출력하도록 동작할 수 있다. The Q transistor Tec_q may operate to output the light emission signal Vem(n) of the low voltage VLG as an on voltage to the corresponding light emitting line EL(n).

이와 같은 Q 트랜지스터(Tec_q)는 P타입 또는 N타입의 폴리 실리콘을 이용하여 구성될 수 있다. The Q transistor Tec_q may be configured using P-type or N-type polysilicon.

Q 트랜지스터(Tec_q)의 소스는, 로우전압(VGL)을 인가받도록 구성될 수 있다. Q 트랜지스터(Tec_q)의 드레인은 스테이지(EC_STG(n))의 출력 노드(Nec_o)에 연결될 수 있는데, 즉 Q 트랜지스터(Tec_q)와 Qb 트랜지스터(Tec_qb) 사이의 출력 노드(Nec_o)에 연결될 수 있다.The source of the Q transistor Tec_q may be configured to receive the low voltage VGL. The drain of the Q transistor Tec_q may be connected to the output node Nec_o of the stage EC_STG(n), that is, it may be connected to the output node Nec_o between the Q transistor Tec_q and the Qb transistor Tec_qb.

Q 트랜지스터(Tec_q)와 직렬로 연결된 Qb 트랜지스터(Tec_qb)는 해당 발광배선(EL(n))에 오프전압으로서 예를 들어 하이전압(VGH)의 발광신호(Vem(n))를 출력하도록 동작할 수 있다. The Qb transistor Tec_qb connected in series with the Q transistor Tec_q is operated to output the light emitting signal Vem(n) of the high voltage VGH as an off voltage to the corresponding light emitting line EL(n). can

이와 같은 Qb 트랜지스터(Tec_qb)는 N타입의 산화물 반도체를 이용하여 구성될 수 있다.Such a Qb transistor Tec_qb may be configured using an N-type oxide semiconductor.

Qb 트랜지스터(Tec_qb)의 드레인은, 스테이지(EC_STG(n))의 출력 노드(Nec_o)에 연결될 수 있다. Qb 트랜지스터(Tec_qb)의 소스는 하이전압(VGH)을 인가받도록 구성될 수 있다.A drain of the Qb transistor Tec_qb may be connected to the output node Nec_o of the stage EC_STG(n). The source of the Qb transistor Tec_qb may be configured to receive the high voltage VGH.

위와 같이, Q 트랜지스터(Tec_q) 및 Qb 트랜지스터(Tec_qb)는 서로 반대되는 타입의 이종의 트랜지스터를 사용하여 구성될 수 있으므로, Q 트랜지스터(Tec_q) 및 Qb 트랜지스터(Tec_qb)는 동일한 제어신호를 통해 서로 반대 위상으로 스위칭될 수 있게 된다.As described above, since the Q transistor Tec_q and the Qb transistor Tec_qb may be configured using heterogeneous transistors of opposite types, the Q transistor Tec_q and the Qb transistor Tec_qb are opposite to each other through the same control signal. phase can be switched.

이에 따라, 제어회로(EC_CC)는, Q 트랜지스터(Tec_q) 및 Qb 트랜지스터(Tec_qb)를 동시에 공통적으로 제어할 수 있는 하나의 제어 노드인 Q 노드(Nec_q)를 구비하도록 구성될 수 있다.Accordingly, the control circuit EC_CC may be configured to include the Q node Nec_q, which is one control node capable of simultaneously controlling the Q transistor Tec_q and the Qb transistor Tec_qb in common.

이처럼, 제어회로(EC_CC)는 하나의 제어 노드인 Q 노드(Nec_q)를 구비하면 충분하므로, 제어회로(EC_CC) 내의 회로 구성이 간소화될 수 있게 되어, 발광구동회로의 크기가 감소될 수 있게 된다.As such, since it is sufficient for the control circuit EC_CC to include one control node, the Q node Nec_q, the circuit configuration in the control circuit EC_CC can be simplified, and the size of the light emission driving circuit can be reduced. .

이와 같은 제어회로(EC_CC)는, 1개의 제1트랜지스터(Tec_1)와 1개의 캐패시터(Cec_q)를 포함할 수 있다.Such a control circuit EC_CC may include one first transistor Tec_1 and one capacitor Cec_q.

여기서, 제1트랜지스터(Tec_1)는 예를 들면 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘으로 구성될 수 있다.Here, the first transistor Tec_1 may be made of, for example, P-type or N-type polysilicon.

제1트랜지스터(Tec_1)는, 이의 게이트가 스테이지(EC_STG(n))에 대응되어 입력되는 발광클럭(ECLK)을 인가받도록 구성될 수 있다. 제1트랜지스터(Tec_1)의 소스는, 전단 스테이지에서 출력되는 발광신호(Vem(n-1))를 인가받도록 구성될 수 있다. 제1트랜지스터(Tec_1)의 드레인은 Q 노드(Nec_q)에 연결되도록 구성될 수 있다.The first transistor Tec_1 may be configured such that its gate receives the emission clock ECLK input corresponding to the stage EC_STG(n). The source of the first transistor Tec_1 may be configured to receive the light emission signal Vem(n-1) output from the previous stage. The drain of the first transistor Tec_1 may be configured to be connected to the Q node Nec_q.

캐패시터(Cec_q)는 Q 노드(Nec_q)와 출력 노드(Nec_o) 사이에 연결되어, Q 노드(Nec_q)의 전압을 저장할 수 있다.The capacitor Cec_q may be connected between the Q node Nec_q and the output node Nec_o to store the voltage of the Q node Nec_q.

위와 같이 제1구조의 발광구동회로의 제어회로(EC_CC)는, Q 노드(Nec_q)를 구동하는 구동소자로서, 1개의 제1트랜지스터(Tec_1)와 1개의 캐패시터(Cec_q)로 구성될 수 있다. As described above, the control circuit EC_CC of the light emitting driving circuit having the first structure is a driving device for driving the Q node Nec_q, and may include one first transistor Tec_1 and one capacitor Cec_q.

이처럼, 매우 적은 수의 구동소자를 사용하여 제어회로(CC)를 구성할 수 있게 되어, 발광구동회로의 크기가 상당하게 감소될 수 있게 된다.As such, it is possible to configure the control circuit CC using a very small number of driving elements, so that the size of the light emission driving circuit can be significantly reduced.

즉, 본 실시예의 제1구조로 구성된 발광구동회로는, 이의 구동소자의 수를 상당하게 감소시킬 수 있는 것으로서, 실질적으로 최소화시킬 수 있다.That is, in the light emission driving circuit configured with the first structure of the present embodiment, the number of driving elements thereof can be significantly reduced and can be substantially minimized.

도 15는 본 발명의 제3실시예의 제2예에 따른 발광구동회로의 제2구조를 개략적으로 도시한 회로도이다.15 is a circuit diagram schematically showing a second structure of a light emission driving circuit according to a second example of the third embodiment of the present invention.

도 15에 도시된 본 실시예의 제2예에 따른 제2구조의 스테이지(EC_STG(n))는, 도 14의 본 실시예의 제1예에 따른 제1구조의 스테이지(EC_STG(n))에 비해, 트랜지스터가 추가된 구성을 갖게 되어 Q 노드(Nec_q)의 전압이 더 안정화될 수 있다.The stage EC_STG(n) of the second structure according to the second example of the present embodiment shown in FIG. 15 is compared with the stage EC_STG(n) of the first structure according to the first example of the present embodiment in FIG. 14 . , a transistor is added, so that the voltage of the Q node (Nec_q) may be further stabilized.

설명의 편의를 위해, 전술한 제1예의 제1구조와 동일 유사한 구성에 대해서는 구체적인 설명을 생략할 수 있다.For convenience of description, a detailed description of the same and similar configuration as the first structure of the above-described first example may be omitted.

도 15를 참조하면, 스테이지(EC_STG(n))는, Q 트랜지스터(Tec_q) 및 Qb 트랜지스터(Tec_qb)와, Q 트랜지스터(Tec_q) 및 Qb 트랜지스터(Tec_qb)의 스위칭 동작을 제어하는 제어회로(EC_CC)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 15 , the stage EC_STG(n) includes a Q transistor Tec_q and a Qb transistor Tec_qb, and a control circuit EC_CC for controlling switching operations of the Q transistor Tec_q and the Qb transistor Tec_qb. may include.

Q 트랜지스터(Tec_q)는 P타입 또는 N타입의 폴리 실리콘을 이용하여 구성될 수 있다. 그리고, Qb 트랜지스터(Tec_qb)는 N타입의 산화물 반도체를 이용하여 구성될 수 있다.The Q transistor Tec_q may be configured using P-type or N-type polysilicon. In addition, the Qb transistor Tec_qb may be configured using an N-type oxide semiconductor.

이처럼, Q 트랜지스터(Tec_q) 및 Qb 트랜지스터(Tec_qb)는 서로 반대되는 타입의 이종의 트랜지스터를 사용하여 구성될 수 있으므로, Q 트랜지스터(Tec_q) 및 Qb 트랜지스터(Tec_qb)는 동일한 제어신호를 통해 서로 반대 위상으로 스위칭될 수 있게 된다.As described above, since the Q transistor Tec_q and the Qb transistor Tec_qb may be configured using heterogeneous transistors of opposite types, the Q transistor Tec_q and the Qb transistor Tec_qb are out of phase with each other through the same control signal. can be switched to

이에 따라, 제어회로(EC_CC)는, Q 트랜지스터(Tec_q) 및 Qb 트랜지스터(Tec_qb)를 동시에 공통적으로 제어할 수 있는 하나의 제어 노드인 Q 노드(Nec_q)를 구비하도록 구성될 수 있다.Accordingly, the control circuit EC_CC may be configured to include the Q node Nec_q, which is one control node capable of simultaneously controlling the Q transistor Tec_q and the Qb transistor Tec_qb in common.

이처럼, 제어회로(EC_CC)는 하나의 제어 노드인 Q 노드(Nec_q)를 구비하면 충분하므로, 제어회로(EC_CC) 내의 회로 구성이 간소화될 수 있게 되어, 발광구동회로의 크기가 감소될 수 있게 된다.As such, since it is sufficient for the control circuit EC_CC to include one control node, the Q node Nec_q, the circuit configuration in the control circuit EC_CC can be simplified, and the size of the light emission driving circuit can be reduced. .

이와 같은 제어회로(EC_CC)는, 2개의 제1 및 제2트랜지스터(Tec_1,Tec_2)와 1개의 캐패시터(Cec_q)를 포함할 수 있다.The control circuit EC_CC may include two first and second transistors Tec_1 and Tec_2 and one capacitor Cec_q.

제1트랜지스터(Tec_1)와 캐패시터(Cec_q)의 구성은, 전술한 도 14의 제1예에서의 구성과 동일할 수 있다.The configuration of the first transistor Tec_1 and the capacitor Cec_q may be the same as the configuration in the first example of FIG. 14 .

제2트랜지스터(Tec_2)는, 제1트랜지스터(Tec_1)와 동일하게, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘으로 구성될 수 있다.Like the first transistor Tec_1 , the second transistor Tec_2 may be formed of P-type or N-type polysilicon.

이와 같은 제2트랜지스터(Tec_2)는, 제1트랜지스터(Tec_1)와 병렬 연결되고 Q 노드(Nec_q)에 연결될 수 있다. 이에 대해, 제2트랜지스터(Tec_2)의 게이트 및 소스는 서로 직접 접속되고 또한 Q 노드(Nec_q)에 연결될 수 있다. 제1트랜지스터(Tec_1)의 소스는, 로우전압(VGL)을 인가받도록 구성될 수 있다.The second transistor Tec_2 may be connected in parallel with the first transistor Tec_1 and connected to the Q node Nec_q. In contrast, the gate and the source of the second transistor Tec_2 may be directly connected to each other and also connected to the Q node Nec_q. The source of the first transistor Tec_1 may be configured to receive the low voltage VGL.

위와 같이 본 실시예의 제2예에 따른 제2구조의 스테이지(EC_STG(n))는 Qb 노드를 구비하지 않아 이를 구성하기 위한 트랜지스터를 제거할 수 있게 된다. As described above, the stage EC_STG(n) of the second structure according to the second example of the present embodiment does not include the Qb node, so that the transistor constituting it can be removed.

따라서, 본 실시예의 제2구조로 구성된 발광구동회로는, 이의 구동소자의 수를 감소시킬 수 있게 된다.Accordingly, the light emission driving circuit configured with the second structure of the present embodiment can reduce the number of driving elements thereof.

도 16은 본 발명의 제3실시예의 제3예에 따른 발광구동회로의 제3구조를 개략적으로 도시한 회로도이다.16 is a circuit diagram schematically showing a third structure of a light emission driving circuit according to a third example of the third embodiment of the present invention.

도 16에 도시된 본 실시예의 제3예에 따른 제3구조의 스테이지(EC_STG(n))는, 도 14의 본 실시예의 제1예에 따른 제1구조의 스테이지(EC_STG(n))에 비해, 트랜지스터가 추가된 구성을 갖게 되어 Q 노드(Nec_q)의 전압이 더 안정화될 수 있다.The stage EC_STG(n) of the third structure according to the third example of the present embodiment shown in FIG. 16 is compared to the stage EC_STG(n) of the first structure according to the first example of the present embodiment in FIG. 14 . , a transistor is added, so that the voltage of the Q node (Nec_q) may be further stabilized.

설명의 편의를 위해, 전술한 제1예의 제1구조와 동일 유사한 구성에 대해서는 구체적인 설명을 생략할 수 있다.For convenience of description, a detailed description of the same and similar configuration as the first structure of the above-described first example may be omitted.

도 16을 참조하면, 스테이지(EC_STG(n))는, Q 트랜지스터(Tec_q) 및 Qb 트랜지스터(Tec_qb)와, Q 트랜지스터(Tec_q) 및 Qb 트랜지스터(Tec_qb)의 스위칭 동작을 제어하는 제어회로(EC_CC)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 16 , the stage EC_STG(n) includes a Q transistor Tec_q and a Qb transistor Tec_qb, and a control circuit EC_CC for controlling switching operations of the Q transistor Tec_q and the Qb transistor Tec_qb. may include.

Q 트랜지스터(Tec_q)는 P타입 또는 N타입의 폴리 실리콘을 이용하여 구성될 수 있다. 그리고, Qb 트랜지스터(Tec_qb)는 N타입의 산화물 반도체를 이용하여 구성될 수 있다.The Q transistor Tec_q may be configured using P-type or N-type polysilicon. In addition, the Qb transistor Tec_qb may be configured using an N-type oxide semiconductor.

이처럼, Q 트랜지스터(Tec_q) 및 Qb 트랜지스터(Tec_qb)는 서로 반대되는 타입의 이종의 트랜지스터를 사용하여 구성될 수 있으므로, Q 트랜지스터(Tec_q) 및 Qb 트랜지스터(Tec_qb)는 동일한 제어신호를 통해 서로 반대 위상으로 스위칭될 수 있게 된다.As described above, since the Q transistor Tec_q and the Qb transistor Tec_qb may be configured using heterogeneous transistors of opposite types, the Q transistor Tec_q and the Qb transistor Tec_qb are out of phase with each other through the same control signal. can be switched to

이에 따라, 제어회로(EC_CC)는, Q 트랜지스터(Tec_q) 및 Qb 트랜지스터(Tec_qb)를 동시에 공통적으로 제어할 수 있는 하나의 제어 노드인 Q 노드(Nec_q)를 구비하도록 구성될 수 있다.Accordingly, the control circuit EC_CC may be configured to include the Q node Nec_q, which is one control node capable of simultaneously controlling the Q transistor Tec_q and the Qb transistor Tec_qb in common.

이처럼, 제어회로(EC_CC)는 하나의 제어 노드인 Q 노드(Nec_q)를 구비하면 충분하므로, 제어회로(EC_CC) 내의 회로 구성이 간소화될 수 있게 되어, 발광구동회로의 크기가 감소될 수 있게 된다.As such, since it is sufficient for the control circuit EC_CC to include one control node, the Q node Nec_q, the circuit configuration in the control circuit EC_CC can be simplified, and the size of the light emission driving circuit can be reduced. .

이와 같은 제어회로(EC_CC)는, 2개의 제1 및 제3트랜지스터(Tec_1,Tec_3)와 1개의 캐패시터(Cec_q)를 포함할 수 있다.The control circuit EC_CC may include two first and third transistors Tec_1 and Tec_3 and one capacitor Cec_q.

제1트랜지스터(Tec_1)와 캐패시터(Cec_q)의 구성은, 전술한 도 14의 제1예에서의 구성과 동일할 수 있다.The configuration of the first transistor Tec_1 and the capacitor Cec_q may be the same as the configuration in the first example of FIG. 14 .

제3트랜지스터(Tec_3)는, 제1트랜지스터(Tec_1)와 동일하게, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘으로 구성될 수 있다.The third transistor Tec_3, like the first transistor Tec_1, may be formed of P-type or N-type polysilicon.

이와 같은 제3트랜지스터(Tec_3)는 브릿지 전압 트랜지스터로서, 제1트랜지스터(Tec_1)와 Q 노드(Nec_q) 사이에 연결되며, 이의 게이트는 로우전압(VGL)을 인가받도록 구성될 수 있다.The third transistor Tec_3 is a bridge voltage transistor and is connected between the first transistor Tec_1 and the Q node Nec_q, and a gate thereof may be configured to receive a low voltage VGL.

위와 같이 본 실시예의 제3예에 따른 제3구조의 스테이지(EC_STG(n))는 Qb 노드를 구비하지 않아 이를 구성하기 위한 트랜지스터를 제거할 수 있게 된다. As described above, the stage EC_STG(n) of the third structure according to the third example of the present embodiment does not include the Qb node, so that the transistor constituting it can be removed.

따라서, 본 실시예의 제3구조로 구성된 발광구동회로는, 이의 구동소자의 수를 감소시킬 수 있게 된다.Accordingly, the light emission driving circuit configured with the third structure of the present embodiment can reduce the number of its driving elements.

도 17은 전술한 제1예 내지 제3예의 구조로 구성된 발광구동회로의 발광신호 출력에 대한 시뮬레이션 결과를 도시한 파형도이다.FIG. 17 is a waveform diagram illustrating simulation results for outputting a light emission signal of the light emission driving circuit having the structures of the first to third examples described above.

도 17에서, 상부에 도시된 신호 파형은 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터 모두 P타입 또는 N타입의 폴리 실리콘으로 구성된 비교예의 출력 파형이며, 하부에 도시된 신호 파형은 본 실시예에서 제안된 구조에서의 출력 파형이다.In Fig. 17, the signal waveform shown in the upper part is the output waveform of the comparative example in which both the Q transistor and the Qb transistor are made of P-type or N-type polysilicon, and the signal waveform shown in the lower part is the output in the structure proposed in this embodiment is a waveform.

도 17을 참조하면, 본 실시예에서 제안된 구조로 구성된 발광구동회로는, 정상적인 발광신호 출력 특성을 확보할 수 있음을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 17 , it can be confirmed that the light emission driving circuit configured with the structure proposed in this embodiment can secure normal light emission signal output characteristics.

전술한 바와 같이, 본 발명의 제3실시예에서는, 발광구동회로에 대해, 이의 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터가 서로 반대되는 타입의 이종의 반도체물질로서 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘 및 N타입 산화물 반도체를 이용하여 구성될 수 있다.As described above, in the third embodiment of the present invention, for the light emitting driving circuit, the Q transistor and the Qb transistor of the P-type or N-type polysilicon and N-type oxide semiconductor are used as heterogeneous semiconductor materials of opposite types. It can be configured using

이에 따라, Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터는 Q 노드를 공유하여 구동될 수 있게 되므로, Qb 노드를 구현하기 위한 구동소자를 제거할 수 있다.Accordingly, since the Q transistor and the Qb transistor can be driven by sharing the Q node, a driving element for implementing the Qb node can be eliminated.

이로 인해, 발광구동회로를 구성하는 구동소자를 감소시킬 수 있게 되어, GIP 방식의 스캔구동부의 크기를 감소시킬 수 있고 표시장치의 베젤의 폭을 감소시킬 수 있게 된다.Accordingly, it is possible to reduce the number of driving elements constituting the light emitting driving circuit, thereby reducing the size of the GIP type scan driving unit and reducing the width of the bezel of the display device.

한편, 본 실시예의 전계발광 표시장치는, 제1실시예의 제1게이트구동회로 구조 및/또는 제2실시예의 제2게이트구동회로 구조를 포함하도록 구성될 수 있다. 이 경우에, GIP 방식의 스캔구동부의 크기를 더 감소시킬 수 있고 표시장치의 베젤의 폭을 더 감소시킬 수 있게 된다.Meanwhile, the electroluminescent display device of this embodiment may be configured to include the first gate driving circuit structure of the first embodiment and/or the second gate driving circuit structure of the second embodiment. In this case, the size of the GIP type scan driver can be further reduced and the width of the bezel of the display device can be further reduced.

전술한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따르면, GIP 방식의 스캔구동부에 있어, 해당 스캔신호들로서 게이트신호, 발광신호 등을 출력하는 구동회로들 중 적어도 하나의 구동회로에 대해, 해당 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터가 서로 반대되는 타입의 이종의 반도체물질로서 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘 및 N타입 산화물 반도체를 이용하여 구성될 수 있다.As described above, according to an embodiment of the present invention, in the GIP type scan driver, for at least one of the driving circuits outputting a gate signal, a light emitting signal, etc. as the corresponding scan signals, a corresponding Q transistor and The Qb transistor may be formed using a P-type or N-type polysilicon and an N-type oxide semiconductor as heterogeneous semiconductor materials of opposite types.

이에 따라, Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터는 Q 노드를 공유하여 구동될 수 있게 되므로, Qb 노드를 구현하기 위한 구동소자인 트랜지스터 및 캐패시터를 제거할 수 있다.Accordingly, since the Q transistor and the Qb transistor can be driven by sharing the Q node, the transistor and the capacitor, which are driving elements for realizing the Qb node, can be eliminated.

이로 인해, 해당 구동회로를 구성하는 구동소자를 감소시킬 수 있게 되어, GIP 방식의 스캔구동부의 크기를 감소시킬 수 있고 표시장치의 베젤의 폭을 감소시킬 수 있게 된다.Accordingly, it is possible to reduce the number of driving elements constituting the corresponding driving circuit, thereby reducing the size of the GIP-type scan driving unit and reducing the width of the bezel of the display device.

전술한 본 발명의 실시예는 본 발명의 일예로서, 본 발명의 정신에 포함되는 범위 내에서 자유로운 변형이 가능하다. 따라서, 본 발명은, 첨부된 특허청구범위 및 이와 등가되는 범위 내에서의 본 발명의 변형을 포함한다.The above-described embodiment of the present invention is an example of the present invention, and free modifications are possible within the scope included in the spirit of the present invention. Accordingly, the present invention includes modifications of the present invention provided they come within the scope of the appended claims and their equivalents.

10: 전계발광 표시장치 100: 표시패널
200: 데이터구동부 300: 스캔구동부
400: 타이밍제어부
P: 화소
T1: 제1스위칭트랜지스터
T2: 구동트랜지스터
T3: 제2스위칭트랜지스터
T4: 제1발광제어트랜지스터
T5: 제2발광제어트랜지스터
T6: 제1초기화트랜지스터
T7: 제2초기화트랜지스터
Cst: 스토리지 커패시터
OD: 발광다이오드
GC1: 제1게이트구동회로
GC2: 제2게이트구동회로
EC: 발광구동회로
VIC: 초기화구동회로
GC1_STG: 제1게이트구동회로의 스테이지
GC1_CC: 제1게이트구동회로의 제어회로
Tgc1_q: 제1게이트구동회로의 Q 트랜지스터
Tgc1_qb: 제1게이트구동회로의 Qb 트랜지스터
Tgc1_1: 제1게이트구동회로의 제1트랜지스터
Tgc1_2: 제1게이트구동회로의 제2트랜지스터
Cgc1_q: 제1게이트구동회로의 캐패시터
Ngc1_q: 제1게이트구동회로의 Q 노드
Ngc1_o: 제1게이트구동회로의 출력 노드
10: electroluminescent display device 100: display panel
200: data driving unit 300: scan driving unit
400: timing control unit
P: pixel
T1: first switching transistor
T2: drive transistor
T3: 2nd switching transistor
T4: first emission control transistor
T5: second light emission control transistor
T6: first initialization transistor
T7: second initialization transistor
Cst: storage capacitor
OD: light emitting diode
GC1: first gate driving circuit
GC2: second gate driving circuit
EC: light emission driving circuit
VIC: Initialization drive circuit
GC1_STG: stage of the first gate driving circuit
GC1_CC: control circuit of the first gate driving circuit
Tgc1_q: Q transistor of the first gate driving circuit
Tgc1_qb: Qb transistor of the first gate driving circuit
Tgc1_1: the first transistor of the first gate driving circuit
Tgc1_2: the second transistor of the first gate driving circuit
Cgc1_q: capacitor of the first gate driving circuit
Ngc1_q: Q node of the first gate driving circuit
Ngc1_o: output node of the first gate driving circuit

Claims (35)

기판 상에 N타입 산화물 반도체를 포함한 제2스위칭트랜지스터, 게이트가 상기 제2스위칭 트랜지스터와 연결된 구동트랜지스터, 및 발광다이오드를 포함하는 화소와;
상기 제1스위칭트랜지스터에 연결된 제1게이트배선에 제1게이트신호를 출력하는 제1게이트구동회로를 포함하는 스캔구동부
를 포함하고,
제1게이트구동회로는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 Q 트랜지스터, 상기 N타입 산화물 반도체를 포함한 Qb 트랜지스터, 및 상기 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터의 게이트가 공통적으로 연결되는 Q 노드를 구비한 제어회로를 포함하여 구성된 스테이지를 포함하는,
전계발광 표시장치.
A pixel comprising: a pixel including a second switching transistor including an N-type oxide semiconductor on a substrate, a driving transistor having a gate connected to the second switching transistor, and a light emitting diode;
A scan driver including a first gate driving circuit for outputting a first gate signal to a first gate wiring connected to the first switching transistor
including,
The first gate driving circuit is a control circuit including a Q transistor including P-type or N-type polysilicon, a Qb transistor including the N-type oxide semiconductor, and a Q node to which gates of the Q transistor and the Qb transistor are connected in common. Containing a stage configured including,
electroluminescent display.
제 1 항에 있어서,
상기 화소는,
상기 기판 상에 상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 제1스위칭트랜지스터를 더 포함하는
전계발광 표시장치.
The method of claim 1,
The pixel is
Further comprising a first switching transistor including the P-type or N-type polysilicon on the substrate
electroluminescent display.
제 1 항에 있어서,
상기 스테이지의 제어회로는, 상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 전단 스테이지에서 출력된 제1게이트신호를 입력받는 제1트랜지스터와, 상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 상기 제1트랜지스터 및 Q 노드 사이에 연결되며 게이트가 로우전압을 인가받는 제2트랜지스터를 포함하는,
전계발광 표시장치.
The method of claim 1,
The control circuit of the stage includes a first transistor including the P-type or N-type polysilicon and receiving the first gate signal output from the previous stage, and the P-type or N-type polysilicon, and includes the first transistor and a second transistor connected between the Q node and to which a gate is applied with a low voltage,
electroluminescent display.
제 3 항에 있어서,
상기 스테이지의 제어회로는,
상기 N타입 산화물 반도체를 포함하고 게이트가 상기 Q 노드에 연결되는 제4트랜지스터와;
상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 상기 제4트랜지스터 및 상기 제1트랜지스터 사이에 연결된 제3트랜지스터를 더 포함하는
전계발광 표시장치.
4. The method of claim 3,
The control circuit of the stage,
a fourth transistor including the N-type oxide semiconductor and having a gate connected to the Q node;
Including the P-type or N-type polysilicon and further comprising a third transistor connected between the fourth transistor and the first transistor
electroluminescent display.
제 4 항에 있어서,
상기 스테이지의 제어회로는,
상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 상기 Q 노드와 상기 Qb 트랜지스터의 게이트 사이에 연결되는 제5트랜지스터와;
상기 N타입 산화물 반도체를 포함하고, 소스는 제2하이전압을 인가받고 드레인은 상기 Qb 트랜지스터의 게이트에 연결되는 제6트랜지스터를 더 포함하며,
상기 제2하이전압은, 상기 Qb 트랜지스터에 입력되는 제1하이전압 보다 높은
전계발광 표시장치.
5. The method of claim 4,
The control circuit of the stage,
a fifth transistor including the P-type or N-type polysilicon and connected between the Q node and a gate of the Qb transistor;
A sixth transistor comprising the N-type oxide semiconductor, a source receiving a second high voltage and a drain connected to the gate of the Qb transistor,
The second high voltage is higher than the first high voltage input to the Qb transistor.
electroluminescent display.
제 5 항에 있어서,
상기 스테이지의 제어회로는,
상기 N타입 산화물 반도체를 포함하고, 게이트는 상기 제1트랜지스터의 드레인에 연결되고 소스는 제2하이전압을 인가받고 드레인은 상기 제2트랜지스터의 소스에 연결되는 제7트랜지스터와;
상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고, 게이트 및 소스는 상기 제1트랜지스터의 드레인에 연결되고 드레인은 상기 제2트랜지스터의 소스에 연결되는 제8트랜지스터를 더 포함하고,
상기 제2하이전압은, 상기 Qb 트랜지스터에 입력되는 제1하이전압 보다 높은
전계발광 표시장치.
6. The method of claim 5,
The control circuit of the stage,
a seventh transistor including the N-type oxide semiconductor, a gate connected to a drain of the first transistor, a source applied with a second high voltage, and a drain connected to a source of the second transistor;
An eighth transistor comprising the P-type or N-type polysilicon, a gate and a source connected to a drain of the first transistor, and a drain connected to a source of the second transistor,
The second high voltage is higher than the first high voltage input to the Qb transistor.
electroluminescent display.
제 3 항에 있어서,
상기 스테이지의 제어회로는,
상기 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터 사이의 출력 노드와, 상기 Q 노드 사이에 연결되는 캐패시터를 더 포함하는
전계발광 표시장치.
4. The method of claim 3,
The control circuit of the stage,
an output node between the Q transistor and the Qb transistor, and a capacitor connected between the Q node.
electroluminescent display.
제 1 항에 있어서,
상기 스캔구동부는, 상기 제2스위칭트랜지스터에 연결된 제2게이트배선에 제2게이트신호를 출력하는 제2게이트구동회로를 더 포함하고,
제2게이트구동회로는, 상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 Q 트랜지스터와, 상기 N타입 산화물 반도체를 포함한 Qb 트랜지스터와, 상기 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터의 게이트가 공통적으로 연결되는 Q 노드를 구비한 제어회로와, 상기 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터 사이의 출력 노드에 연결된 인버터를 포함하여 구성된 스테이지를 포함하는
전계발광 표시장치.
The method of claim 1,
The scan driver further includes a second gate driving circuit for outputting a second gate signal to a second gate wiring connected to the second switching transistor,
The second gate driving circuit includes a Q transistor including the P-type or N-type polysilicon, a Qb transistor including the N-type oxide semiconductor, and a Q node to which the gates of the Q transistor and the Qb transistor are connected in common. A stage comprising a control circuit and a stage comprising an inverter coupled to an output node between the Q transistor and the Qb transistor.
electroluminescent display.
제 1 항에 있어서,
상기 화소는, 상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 상기 발광다이오드의 발광 타이밍을 제어하는 발광트랜지스터를 더 포함하고,
상기 스캔구동부는, 상기 발광트랜지스터에 연결된 발광배선에 발광신호를 출력하는 발광구동회로를 더 포함하고,
발광구동회로는, 상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 Q 트랜지스터와, 상기 N타입 산화물 반도체를 포함한 Qb 트랜지스터와, 상기 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터의 게이트가 공통적으로 연결되는 Q 노드를 구비한 제어회로를 포함하여 구성된 스테이지를 포함하는
전계발광 표시장치.
The method of claim 1,
The pixel further includes a light emitting transistor including the P-type or N-type polysilicon and controlling the emission timing of the light emitting diode,
The scan driving unit further comprises a light emitting driving circuit for outputting a light emitting signal to the light emitting wiring connected to the light emitting transistor,
The light emission driving circuit is a control circuit including a Q transistor including the P-type or N-type polysilicon, a Qb transistor including the N-type oxide semiconductor, and a Q node to which the gates of the Q transistor and the Qb transistor are connected in common. comprising a stage composed of
electroluminescent display.
제 1 항에 있어서,
상기 화소는, 상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 게이트는 이전 행라인의 화소에 연결된 제1게이트배선과 연결되고 드레인은 상기 제2스위칭트랜지스터와 연결되는 초기화트랜지스터를 더 포함하고,
상기 스캔구동부는, 상기 초기화트랜지스터의 소스에 연결된 초기화배선에 초기화신호를 출력하는 초기화구동회로를 더 포함하는
전계발광 표시장치.
The method of claim 1,
The pixel further includes an initialization transistor comprising the P-type or N-type polysilicon, a gate connected to a first gate wiring connected to a pixel of a previous row line, and an initialization transistor having a drain connected to the second switching transistor,
The scan driving unit further includes an initialization driving circuit configured to output an initialization signal to an initialization line connected to a source of the initialization transistor.
electroluminescent display.
제 1 항에 있어서,
상기 스캔구동부는, 상기 기판에 GIP 방식으로 형성된
전계발광 표시장치.
The method of claim 1,
The scan driver is formed on the substrate in a GIP method
electroluminescent display.
제 1 항에 있어서,
상기 전계발광 표시장치는, 가변 주파수 구동 방식으로 구동되는
전계발광 표시장치.
The method of claim 1,
The electroluminescent display device is driven by a variable frequency driving method.
electroluminescent display.
기판 상에 N타입 산화물 반도체를 포함한 제2스위칭트랜지스터와, 게이트가 상기 제2스위칭 트랜지스터와 연결된 구동트랜지스터와, 발광다이오드를 포함하는 화소와;
상기 제2스위칭트랜지스터에 연결된 제2게이트배선에 제2게이트신호를 출력하는 제2게이트구동회로를 포함하는 스캔구동부
를 포함하고,
제2게이트구동회로는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 Q 트랜지스터와, 상기 N타입 산화물 반도체를 포함한 Qb 트랜지스터와, 상기 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터의 게이트가 공통적으로 연결되는 Q 노드를 구비한 제어회로와, 상기 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터 사이의 출력 노드에 연결된 인버터를 포함하여 구성된 스테이지를 포함하고,
상기 스테이지의 제어회로는, 상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 전단 스테이지의 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터 사이의 출력 노드에서 출력된 신호를 입력받는 제1트랜지스터와, 상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 상기 제1트랜지스터 및 Q 노드 사이에 연결되며 게이트가 로우전압을 인가받는 제2트랜지스터를 포함하는
전계발광 표시장치.
a pixel including a second switching transistor including an N-type oxide semiconductor on a substrate, a driving transistor having a gate connected to the second switching transistor, and a light emitting diode;
A scan driver including a second gate driving circuit for outputting a second gate signal to a second gate line connected to the second switching transistor
including,
The second gate driving circuit is a control having a Q transistor including a P-type or N-type polysilicon, a Qb transistor including the N-type oxide semiconductor, and a Q node to which the gates of the Q transistor and the Qb transistor are connected in common. a stage comprising a circuit and an inverter coupled to an output node between the Q transistor and the Qb transistor;
The control circuit of the stage includes a first transistor including the P-type or N-type polysilicon and receiving a signal output from an output node between the Q transistor and the Qb transistor of the previous stage, and the P-type or N-type polysilicon and a second transistor connected between the first transistor and the Q node and to which a gate is applied with a low voltage.
electroluminescent display.
제 13 항에 있어서,
상기 기판 상의 상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 제1스위칭트랜지스터를 더 포함하는,
전계발광 표시장치.
14. The method of claim 13,
Further comprising a first switching transistor including the P-type or N-type polysilicon on the substrate,
electroluminescent display.
제 13 항에 있어서,
상기 스테이지의 제어회로는,
상기 N타입 산화물 반도체를 포함하고 게이트가 상기 Q 노드에 연결되는 제4트랜지스터와;
상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 상기 제4트랜지스터 및 상기 제1트랜지스터 사이에 연결된 제3트랜지스터를 더 포함하는
전계발광 표시장치.
14. The method of claim 13,
The control circuit of the stage,
a fourth transistor including the N-type oxide semiconductor and having a gate connected to the Q node;
Including the P-type or N-type polysilicon and further comprising a third transistor connected between the fourth transistor and the first transistor
electroluminescent display.
제 15항에 있어서,
상기 스테이지의 제어회로는,
상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 상기 Q 노드와 상기 Qb 트랜지스터의 게이트 사이에 연결되는 제5트랜지스터와;
상기 N타입 산화물 반도체를 포함하고, 소스는 제2하이전압을 인가받고 드레인은 상기 Qb 트랜지스터의 게이트에 연결되는 제6트랜지스터를 더 포함하며,
상기 제2하이전압은, 상기 Qb 트랜지스터에 입력되는 제1하이전압 보다 높은
전계발광 표시장치.
16. The method of claim 15,
The control circuit of the stage,
a fifth transistor including the P-type or N-type polysilicon and connected between the Q node and a gate of the Qb transistor;
A sixth transistor comprising the N-type oxide semiconductor, a source receiving a second high voltage and a drain connected to the gate of the Qb transistor,
The second high voltage is higher than the first high voltage input to the Qb transistor.
electroluminescent display.
제 16 항에 있어서,
상기 스테이지의 제어회로는,
상기 N타입 산화물 반도체를 포함하고, 게이트는 상기 제1트랜지스터의 드레인에 연결되고 소스는 제2하이전압을 인가받고 드레인은 상기 제2트랜지스터의 소스에 연결되는 제7트랜지스터와;
상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고, 게이트 및 소스는 상기 제1트랜지스터의 드레인에 연결되고 드레인은 상기 제2트랜지스터의 소스에 연결되는 제8트랜지스터를 더 포함하고,
상기 제2하이전압은, 상기 Qb 트랜지스터에 입력되는 제1하이전압 보다 높은
전계발광 표시장치.
17. The method of claim 16,
The control circuit of the stage,
a seventh transistor including the N-type oxide semiconductor, a gate connected to a drain of the first transistor, a source applied with a second high voltage, and a drain connected to a source of the second transistor;
An eighth transistor comprising the P-type or N-type polysilicon, a gate and a source connected to a drain of the first transistor, and a drain connected to a source of the second transistor,
The second high voltage is higher than the first high voltage input to the Qb transistor.
electroluminescent display.
제 13 항에 있어서,
상기 스테이지의 제어회로는,
상기 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터 사이의 출력 노드와, 상기 Q 노드 사이에 연결되는 캐패시터를 더 포함하는
전계발광 표시장치.
14. The method of claim 13,
The control circuit of the stage,
an output node between the Q transistor and the Qb transistor, and a capacitor connected between the Q node.
electroluminescent display.
제 13 항에 있어서,
상기 스캔구동부는, 상기 제1스위칭트랜지스터에 연결된 제1게이트배선에 제1게이트신호를 출력하는 제1게이트구동회로를 더 포함하고,
제1게이트구동회로는, 상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 Q 트랜지스터와, 상기 N타입 산화물 반도체를 포함한 Qb 트랜지스터와, 상기 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터의 게이트가 공통적으로 연결되는 Q 노드를 구비한 제어회로를 포함하여 구성된 스테이지를 포함하는
전계발광 표시장치.
14. The method of claim 13,
The scan driving unit further includes a first gate driving circuit for outputting a first gate signal to a first gate wiring connected to the first switching transistor,
The first gate driving circuit includes a Q transistor including the P-type or N-type polysilicon, a Qb transistor including the N-type oxide semiconductor, and a Q node to which the gates of the Q transistor and the Qb transistor are connected in common. comprising a stage configured including a control circuit
electroluminescent display.
제 13 항에 있어서,
상기 화소는, 상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 상기 발광다이오드의 발광 타이밍을 제어하는 발광트랜지스터를 더 포함하고,
상기 스캔구동부는, 상기 발광트랜지스터에 연결된 발광배선에 발광신호를 출력하는 발광구동회로를 더 포함하고,
발광구동회로는, 상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 Q 트랜지스터와, 상기 N타입 산화물 반도체를 포함한 Qb 트랜지스터와, 상기 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터의 게이트가 공통적으로 연결되는 Q 노드를 구비한 제어회로를 포함하여 구성된 스테이지를 포함하는
전계발광 표시장치.
14. The method of claim 13,
The pixel further includes a light emitting transistor including the P-type or N-type polysilicon and controlling the emission timing of the light emitting diode,
The scan driving unit further comprises a light emitting driving circuit for outputting a light emitting signal to the light emitting wiring connected to the light emitting transistor,
The light emission driving circuit is a control circuit including a Q transistor including the P-type or N-type polysilicon, a Qb transistor including the N-type oxide semiconductor, and a Q node to which the gates of the Q transistor and the Qb transistor are connected in common. comprising a stage composed of
electroluminescent display.
제 13 항에 있어서,
상기 화소는, 상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 게이트는 이전 행라인의 화소에 연결된 제1게이트배선과 연결되고 소스는 초기화배선에 연결되고 드레인은 상기 제2스위칭트랜지스터와 연결되는 초기화트랜지스터를 더 포함하고,
상기 스캔구동부는, 상기 초기화배선에 초기화신호를 출력하는 초기화구동회로를 더 포함하는
전계발광 표시장치.
14. The method of claim 13,
The pixel includes the P-type or N-type polysilicon, a gate is connected to a first gate wiring connected to a pixel of a previous row line, a source is connected to an initialization line, and a drain is connected to the second switching transistor. further comprising,
The scan driving unit further includes an initialization driving circuit for outputting an initialization signal to the initialization wiring.
electroluminescent display.
제 13 항에 있어서,
상기 스캔구동부는, 상기 기판에 GIP 방식으로 형성된
전계발광 표시장치.
14. The method of claim 13,
The scan driver is formed on the substrate in a GIP method
electroluminescent display.
제 13 항에 있어서,
상기 전계발광 표시장치는, 가변 주파수 구동 방식으로 구동되는
전계발광 표시장치.
14. The method of claim 13,
The electroluminescent display device is driven by a variable frequency driving method.
electroluminescent display.
기판 상에 N타입 산화물 반도체를 포함한 제2스위칭트랜지스터, 게이트가 상기 제2스위칭 트랜지스터와 연결된 구동트랜지스터, 발광다이오드, 및 상기 발광다이오드의 발광 타이밍을 제어하는 발광트랜지스터를 포함하는 화소와;
상기 발광트랜지스터에 연결된 발광배선에 발광신호를 출력하는 발광구동회로를 포함하는 스캔구동부
를 포함하고,
상기 발광구동회로는, P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 Q 트랜지스터와, 상기 N타입 산화물 반도체를 포함한 Qb 트랜지스터와, 상기 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터의 게이트가 공통적으로 연결되는 Q 노드를 구비한 제어회로를 포함하여 구성된 스테이지를 포함하는,
전계발광 표시장치.
A pixel comprising: a pixel including a second switching transistor including an N-type oxide semiconductor on a substrate, a driving transistor having a gate connected to the second switching transistor, a light emitting diode, and a light emitting transistor controlling emission timing of the light emitting diode;
A scan driver including a light emitting driving circuit for outputting a light emitting signal to a light emitting wiring connected to the light emitting transistor
including,
The light emission driving circuit is a control circuit including a Q transistor including P-type or N-type polysilicon, a Qb transistor including the N-type oxide semiconductor, and a Q node to which gates of the Q transistor and the Qb transistor are connected in common. Containing a stage configured including,
electroluminescent display.
제 24 항에 있어서,
상기 스테이지의 제어회로는, 상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 전단 스테이지에서 출력된 발광신호를 입력받는 제1트랜지스터를 포함하는,
전계발광 표시장치.
25. The method of claim 24,
The control circuit of the stage includes a first transistor including the P-type or N-type polysilicon and receiving the light emitting signal output from the previous stage,
electroluminescent display.
제 25 항에 있어서,
상기 스테이지의 제어회로는,
상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고, 게이트 및 드레인이 상기 Q 노드에 연결되고 소스가 로우전압을 입력받는 제2트랜지스터를 더 포함하는
전계발광 표시장치.
26. The method of claim 25,
The control circuit of the stage,
A second transistor comprising the P-type or N-type polysilicon, a gate and a drain connected to the Q node, and a source receiving a low voltage.
electroluminescent display.
제 26 항에 있어서,
상기 스테이지의 제어회로는,
상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고, 상기 제1트랜지스터와 상기 Q 노드 사이에 연결되고 게이트가 로우전압을 인가받는 제3트랜지스터를 더 포함하는
전계발광 표시장치.
27. The method of claim 26,
The control circuit of the stage,
A third transistor comprising the P-type or N-type polysilicon and connected between the first transistor and the Q node and to which a gate is applied with a low voltage.
electroluminescent display.
제 25 항에 있어서,
상기 스테이지의 제어회로는,
상기 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터 사이의 출력 노드와, 상기 Q 노드 사이에 연결되는 캐패시터를 더 포함하는
전계발광 표시장치.
26. The method of claim 25,
The control circuit of the stage,
an output node between the Q transistor and the Qb transistor, and a capacitor connected between the Q node.
electroluminescent display.
제 24 항에 있어서,
상기 스캔구동부는, 상기 제1스위칭트랜지스터에 연결된 제1게이트배선에 제1게이트신호를 출력하는 제1게이트구동회로를 더 포함하고,
제1게이트구동회로는, 상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 Q 트랜지스터와, 상기 N타입 산화물 반도체를 포함한 Qb 트랜지스터와, 상기 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터 게이트가 공통적으로 연결되는 Q 노드를 구비한 제어회로를 포함하여 구성된 스테이지를 포함하는
전계발광 표시장치.
25. The method of claim 24,
The scan driving unit further includes a first gate driving circuit for outputting a first gate signal to a first gate wiring connected to the first switching transistor,
The first gate driving circuit includes a Q transistor including the P-type or N-type polysilicon, a Qb transistor including the N-type oxide semiconductor, and a Q node to which the Q transistor and the Qb transistor gate are connected in common. comprising a stage comprising a circuit
electroluminescent display.
제 29 항에 있어서,
상기 스캔구동부는, 상기 제2스위칭트랜지스터에 연결된 제2게이트배선에 제2게이트신호를 출력하는 제2게이트구동회로를 더 포함하고,
제2게이트구동회로는, 상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 Q 트랜지스터와, 상기 N타입 산화물 반도체를 포함한 Qb 트랜지스터와, 상기 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터의 게이트가 공통적으로 연결되는 Q 노드를 구비한 제어회로와, 상기 Q 트랜지스터 및 Qb 트랜지스터 사이의 출력 노드에 연결된 인버터를 포함하여 구성된 스테이지를 포함하는
전계발광 표시장치.
30. The method of claim 29,
The scan driver further includes a second gate driving circuit for outputting a second gate signal to a second gate wiring connected to the second switching transistor,
The second gate driving circuit includes a Q transistor including the P-type or N-type polysilicon, a Qb transistor including the N-type oxide semiconductor, and a Q node to which the gates of the Q transistor and the Qb transistor are connected in common. A stage comprising a control circuit and a stage comprising an inverter coupled to an output node between the Q transistor and the Qb transistor.
electroluminescent display.
제 24 항에 있어서,
상기 화소는, 상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하고 게이트는 이전 행라인의 화소에 연결된 제1게이트배선과 연결되고 드레인은 상기 제2스위칭트랜지스터와 연결되는 초기화트랜지스터를 더 포함하고,
상기 스캔구동부는, 상기 초기화트랜지스터의 소스에 연결된 초기화배선에 초기화신호를 출력하는 초기화구동회로를 더 포함하는
전계발광 표시장치.
25. The method of claim 24,
The pixel further includes an initialization transistor comprising the P-type or N-type polysilicon, a gate connected to a first gate wiring connected to a pixel of a previous row line, and an initialization transistor having a drain connected to the second switching transistor,
The scan driving unit further includes an initialization driving circuit configured to output an initialization signal to an initialization line connected to a source of the initialization transistor.
electroluminescent display.
제 24 항에 있어서,
상기 스캔구동부는, 상기 기판에 GIP 방식으로 형성된
전계발광 표시장치.
25. The method of claim 24,
The scan driver is formed on the substrate in a GIP method
electroluminescent display.
제 24 항에 있어서,
상기 전계발광 표시장치는, 가변 주파수 구동 방식으로 구동되는
전계발광 표시장치.
25. The method of claim 24,
The electroluminescent display device is driven by a variable frequency driving method.
electroluminescent display.
제 24 항에 있어서,
상기 기판 상에 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함한 제1스위칭트랜지스터를 더 포함하는,
전계발광 표시장치.
25. The method of claim 24,
Further comprising a first switching transistor including a P-type or N-type polysilicon on the substrate,
electroluminescent display.
제 34 항에 있어서,
상기 발광 트랜지스터는 상기 P타입 또는 N타입 폴리 실리콘을 포함하는,
전계발광 표시장치.
35. The method of claim 34,
The light emitting transistor comprises the P-type or N-type polysilicon,
electroluminescent display.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230049293A (en) * 2021-10-06 2023-04-13 호서대학교 산학협력단 Scan driver

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