KR20210083697A - Manufacturing method for shadow mask - Google Patents

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KR20210083697A
KR20210083697A KR1020190176259A KR20190176259A KR20210083697A KR 20210083697 A KR20210083697 A KR 20210083697A KR 1020190176259 A KR1020190176259 A KR 1020190176259A KR 20190176259 A KR20190176259 A KR 20190176259A KR 20210083697 A KR20210083697 A KR 20210083697A
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황인호
최정욱
양동주
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주식회사 선익시스템
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Abstract

A manufacturing method for a shadow mask is disclosed. According to one aspect of the present invention, the manufacturing method for a shadow mask comprises: a step of forming a plating resister on a conductive base material according to a mask pattern; a step of performing electroplating to perform plating on the conductive base material in an area except the plating resister to form a mask sheet; a step of closely attaching a light-transmitting mask frame to the mask sheet by facing the mask sheet and allowing light to penetrate the light-transmitting mask frame to irradiate the light to the mask sheet to attach the mask frame to the mask sheet; and a step of separating the conductive base material from the mask sheet.

Description

새도우 마스크 제조 방법{Manufacturing method for shadow mask}Shadow mask manufacturing method {Manufacturing method for shadow mask}

본 발명은 새도우 마스크 제조 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 전주 도금으로 형성되는 마스크 시트를 인장 과정없이 바로 마스크 프레임에 고정할 수 있는 새도우 마스크 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a shadow mask. More particularly, it relates to a shadow mask manufacturing method capable of directly fixing a mask sheet formed by electroplating to a mask frame without a tensile process.

유기 전계 발광소자(Organic Luminescence Emitting Device: OLED)는 형광성 유기화합물에 전류가 흐르면 빛을 내는 전계 발광현상을 이용하는 스스로 빛을 내는 자발광소자로서, 비발광소자에 빛을 가하기 위한 백라이트가 필요하지 않기 때문에 경량이고 박형의 평판표시장치를 제조할 수 있다. 이러한 유기 전계 발광소자를 이용한 평판표시장치는 응답속도가 빠르며, 시야각이 넓어 차세대 표시장치로서 대두되고 있다.Organic Luminescence Emitting Device (OLED) is a self-luminous device that emits light by itself using the electroluminescence phenomenon that emits light when a current flows through a fluorescent organic compound, and does not require a backlight to apply light to a non-luminescent device. Therefore, a lightweight and thin flat panel display device can be manufactured. A flat panel display using such an organic electroluminescent device has a fast response speed and a wide viewing angle, and thus is emerging as a next-generation display device.

유기 전계 발광 소자는, 애노드 및 캐소드 전극을 제외한 나머지 구성층인 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층 및 전자주입층 등이 유기 박막으로 되어 있고, 이러한 유기 박막은 진공열증착방법으로 기판 상에 증착하게 된다.In the organic electroluminescent device, the remaining constituent layers excluding the anode and cathode electrodes, such as a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer, are made of an organic thin film, and such an organic thin film is formed on a substrate by a vacuum thermal deposition method. will be deposited on

진공열증착법은 진공의 챔버 내에 기판을 배치하고, 일정 패턴이 형성된 새도우 마스크(shadow mask)를 기판에 정렬시킨 후, 증발원의 도가니를 가열하여 도가니에서 증발되는 증착입자를 기판 상에 증착하는 방식으로 이루어진다.The vacuum thermal deposition method places a substrate in a vacuum chamber, aligns a shadow mask having a predetermined pattern on the substrate, and then heats the crucible of the evaporation source to deposit the deposited particles evaporated from the crucible on the substrate. is done

최근 OLED 디스플레이가 고 해상도로 발전하면서 이를 구현하기 위한 새도우 마스크의 마스크 패턴도 초소형으로 가공해야 한다. 최근에는 전주 도금(Electroforming)으로 금속 박판에 패턴을 형성하여 새도우 마스크를 제조하는 기술이 개발되고 있다.With the recent development of OLED displays with high resolution, the mask pattern of the shadow mask to implement it must also be processed into an ultra-small size. Recently, a technique for manufacturing a shadow mask by forming a pattern on a thin metal plate by electroforming has been developed.

전주 도금으로 형성된 금속 박판의 마스크 시트는 팽팽하게 인장하면서 마스크 프레임에 고정하여야 하는데, 마스크 시트가 매우 얇아 핸들링하기가 어렵고 인장과정에서 찢어지거나 뒤틀리는 문제가 있다.The mask sheet made of a thin metal plate formed by electroplating has to be fixed to the mask frame while being tensioned, but the mask sheet is very thin and difficult to handle, and there is a problem in that it is torn or twisted during the tensioning process.

대한민국 공개특허공보 제 10-2018-0001666호(2018.01.05 공개)Republic of Korea Patent Publication No. 10-2018-0001666 (published on Jan. 5, 2018)

본 발명은 전주 도금으로 형성되는 마스크 시트를 인장 과정없이 바로 마스크 프레임에 고정할 수 있는 새도우 마스크 제조 방법을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a shadow mask capable of directly fixing a mask sheet formed by electroplating to a mask frame without a tensile process.

본 발명의 일 측면에 따르면, 전도성 모재에 마스크 패턴에 상응하여 도금 레지스트를 형성하는 단계와; 전주 도금을 실행하여 상기 도금 레지스트 이외 영역의 상기 전도성 모재에 도금을 수행하여 마스크 시트를 형성하는 단계와; 상기 마스크 시트에 대향하여 광 투과성의 마스크 프레임을 밀착시키고, 광(光)을 상기 광 투과성의 마스크 프레임을 투과하여 상기 마스크 시트에 조사하여 상기 마스크 프레임과 상기 마스크 시트를 접착하는 단계와; 상기 마스크 시트로부터 상기 전도성 모재를 분리하는 단계를 포함하는, 새도우 마스크 제조 방법이 제공된다.According to an aspect of the present invention, the method comprising: forming a plating resist on a conductive base material according to a mask pattern; performing electroplating to perform plating on the conductive base material in an area other than the plating resist to form a mask sheet; adhering the mask frame to the mask sheet by adhering a light-transmitting mask frame to the mask sheet and irradiating light through the light-transmitting mask frame to the mask sheet; A method for manufacturing a shadow mask is provided, including separating the conductive base material from the mask sheet.

상기 마스크 프레임을 밀착시키는 단계 이전에, 상기 마스크 시트에 대향하는 상기 마스크 프레임의 표면에 접착 레이어를 형성하는 단계를 더 포함할 수 있고, 이 경우, 상기 마스크 시트를 접착하는 단계는, 상기 광이 상기 접착 레이어에 조사됨으로써 수행될 수 있다.Before the step of adhering the mask frame, the method may further include forming an adhesive layer on a surface of the mask frame facing the mask sheet. In this case, the step of adhering the mask sheet may include: It may be carried out by irradiating the adhesive layer.

상기 광은, 레이저 광을 포함할 수 있으며, 이 경우, 상기 접착 레이어는 상기 레이저 광에 의해 용융되어 접착되는 금속성 접착층일 수 있다.The light may include laser light, and in this case, the adhesive layer may be a metallic adhesive layer that is melted and adhered by the laser light.

상기 광은, UV(ultraviolet) 광을 포함할 수 있으며, 이 경우, 상기 접착 레이어는, 상기 UV 광에 의해 경화되는 UV 경화성 접착층일 수 있다.The light may include UV (ultraviolet) light, and in this case, the adhesive layer may be a UV curable adhesive layer cured by the UV light.

상기 마스크 시트를 형성하는 단계는, 니켈(Ni) 이온과 철(Fe) 이온을 포함하는 도금액을 사용함으로써 철니켈 합금으로 상기 마스크 시트가 형성되거나, 니켈(Ni) 이온, 철(Fe) 이온과 코발트(Co) 이온을 포함하는 도금액을 사용함으로써 철니켈코발트 합금으로 상기 마스크 시트가 형성될 수 있다.In the forming of the mask sheet, the mask sheet is formed of an iron-nickel alloy by using a plating solution containing nickel (Ni) ions and iron (Fe) ions, or nickel (Ni) ions, iron (Fe) ions and The mask sheet may be formed of an iron-nickel-cobalt alloy by using a plating solution containing cobalt (Co) ions.

상기 광 투과성의 마스크 프레임은, 유리(glass)나 석영(quartz)을 포함하는 재질로 이루어질 수 있다.The light-transmitting mask frame may be made of a material including glass or quartz.

상기 전도성 모재는 광 투과성 재질로 이루어지고, 상기 전도성 모재와 상기 도금 레지스트 사이에 광 반응성 접착제가 개재될 수 있으며, 이 경우, 상기 전도성 모재를 분리하는 단계는, 상기 광 투과성의 상기 전도성 모재를 투과하여 광(光)을 상기 광 반응성 접착제에 조사하고 상기 광 반응성 접착제를 용융한 후 상기 전도성 모재를 분리할 수 있다.The conductive base material is made of a light-transmitting material, and a photoreactive adhesive may be interposed between the conductive base material and the plating resist. In this case, the step of separating the conductive base material comprises: transmitting the light-transmitting conductive base material Thus, after irradiating light to the photoreactive adhesive and melting the photoreactive adhesive, the conductive base material may be separated.

본 발명의 실시예에 따르면, 전주 도금으로 형성되는 마스크 시트를 인장 과정없이 바로 마스크 프레임에 고정할 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the mask sheet formed by electroplating can be directly fixed to the mask frame without a tensile process.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 새도우 마스크 제조 방법의 순서도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 새도우 마스크 제조 방법의 흐름도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 새도우 마스크 제조 방법의 변형예를 설명하기 위한 도면.
도 4 및 도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 새도우 마스크 제조 방법의 흐름도.1 is a flowchart of a shadow mask manufacturing method according to an embodiment of the present invention.
2 is a flowchart of a shadow mask manufacturing method according to an embodiment of the present invention.
3 is a view for explaining a modified example of the shadow mask manufacturing method according to an embodiment of the present invention.
4 and 5 are flowcharts of a shadow mask manufacturing method according to another embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.Since the present invention can apply various transformations and can have various embodiments, specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, and it should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known technology may obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.Terms such as first, second, etc. may be used to describe various elements, but the elements should not be limited by the terms. The above terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.

이하, 본 발명에 따른 새도우 마스크 제조 방법의 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, an embodiment of a method for manufacturing a shadow mask according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, and in the description with reference to the accompanying drawings, the same or corresponding components are given the same reference numbers and overlapped therewith. A description will be omitted.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 새도우 마스크 제조 방법의 순서도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 새도우 마스크 제조 방법의 흐름도이다. 그리고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 새도우 마스크 제조 방법의 변형예를 설명하기 위한 도면이다.1 is a flowchart of a shadow mask manufacturing method according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a flowchart of a shadow mask manufacturing method according to an embodiment of the present invention. And, FIG. 3 is a view for explaining a modified example of the shadow mask manufacturing method according to an embodiment of the present invention.

도 2 및 도 3에는, 전도성 모재(12), 도금 레지스트(14), 음각 패턴(16), 도금조(18), 양극체(20), 마스크 시트(22), 도금액(23), 마스크 프레임(24), 마스크 패턴(25), 레이저(26), 접착 레이어(28)가 도시되어 있다.2 and 3, the conductive base material 12, the plating resist 14, the engraved pattern 16, the plating bath 18, the anode body 20, the mask sheet 22, the plating solution 23, the mask frame 24, a mask pattern 25, a laser 26, and an adhesive layer 28 are shown.

본 실시예에 따른 새도우 마스크 제조 방법은, 전도성 모재(12)에 마스크 패턴(25)에 상응하여 도금 레지스트(14)를 형성하는 단계와; 전주 도금을 실행하여 도금 레지스트(14) 이외 영역의 전도성 모재(12)에 도금을 수행하여 마스크 시트(22)를 형성하는 단계와; 마스크 시트(22)에 대향하여 광 투과성의 마스크 프레임(24)을 밀착시키고, 광(光)을 광 투과성의 마스크 프레임(24)을 투과하여 마스크 시트(22)에 조사하여 마스크 프레임(24)과 마스크 시트(22)를 접착하는 단계와; 마스크 시트(22)로부터 전도성 모재(12)를 분리하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a shadow mask according to the present embodiment includes: forming a plating resist 14 on a conductive base material 12 to correspond to the mask pattern 25; performing electroplating to perform plating on the conductive base material 12 in an area other than the plating resist 14 to form a mask sheet 22; The light-transmitting mask frame 24 is brought into close contact with the mask sheet 22, and light is transmitted through the light-transmitting mask frame 24 and irradiated to the mask sheet 22 to form the mask frame 24 and adhering the mask sheet 22; and separating the conductive base material 12 from the mask sheet 22 .

전주 도금은 전기 도금을 이용하여 제품을 제작하는 방법으로서, 마스터의 표면에 일정 두께가 얻어 지기까지 전기 분해에 의해 금속을 도금한 후 마스터에 분리하여 마스터의 표면과 반대 형상의 제품을 얻는 방법을 말한다.Electroplating is a method of manufacturing a product using electroplating. After plating metal by electrolysis until a certain thickness is obtained on the surface of the master, it is separated from the master to obtain a product with a shape opposite to that of the master. say

본 실시예에서는 전도성 모재(12)에 도금 레지스트(14)를 형성하고 이를 마스터로 하여 여기에 전기 도금을 실시하여 마스크 시트(22)를 얻게 되고, 전주 도금에 의해 형성된 마스크 시트(22)를 마스크 프레임(24)에 고정함으로써 새우도 마스크를 제작하게 된다.In this embodiment, a plating resist 14 is formed on the conductive base material 12, and electroplating is performed thereon using this as a master to obtain a mask sheet 22, and the mask sheet 22 formed by electroplating is used as a mask. By fixing to the frame 24, the shrimp also makes a mask.

이하에서는 도 2를 참조하여 본 실시예에 따른 새도우 마스크 제조 방법을 자세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a shadow mask manufacturing method according to the present embodiment will be described in detail with reference to FIG. 2 .

먼저, 도 2의 (a) 및 (b)에 도시된 바와 같이, 전도성 모재(12)에 마스크 패턴(25)에 상응하여 도금 레지스트(14)를 형성한다(S100). 도금 레지스트(14)는 전기 분해에 의한 금속 도금이 이루어지지 않는 곳으로서, 도금 레지스트(14)의 이외의 전도성 모재(12)에 금속 도금이 이루어진다.First, as shown in (a) and (b) of FIG. 2 , a plating resist 14 is formed on the conductive base material 12 to correspond to the mask pattern 25 ( S100 ). The plating resist 14 is a place where metal plating by electrolysis is not performed, and metal plating is performed on the conductive base material 12 other than the plating resist 14 .

전도성 모재(12)는 도금조(18)에서 음극체(cathod body) 역할을 하는 것으로서 음극(-) 단자가 연결된다. 전도성 모재(12)로는 스테인리스 스틸(SUS), 유리, 석영 등의 기판이 이용될 수 있는데, 전도성 모재(12)는 전도성 재료로 이루어지거나 기판에 전도성 재료가 표면에 도포될 수 있다. 한편, 도금이 이루어지는 전도성 모재(12)의 면은 매우 평평한 평면을 가져야 한다. The conductive base material 12 serves as a cathode body in the plating bath 18 and is connected to a negative (-) terminal. A substrate such as stainless steel (SUS), glass, or quartz may be used as the conductive base material 12 , and the conductive base material 12 may be made of a conductive material or a conductive material may be applied to the surface of the substrate. On the other hand, the surface of the conductive base material 12 on which plating is performed should have a very flat plane.

도 2의 (a) 및 (b)를 참조하면, 전도성 모재(12)에 포토 레지스트를 도포한 한 일정 패턴이 형성되는 포토 마스크를 배치하고 노광을 수행하여 전도성 모재(12)에 도금 레지스트(14)를 형성한다. 노광에 의해 도금 레지스트(14) 사이에 형성된 음각 패턴(16)에는 도금이 진행되며, 도금 레지스트(14)에 의해 도금이 저지된 부분은 새도우 마스크의 패턴(25)이 된다.Referring to FIGS. 2A and 2B , as long as a photoresist is applied to the conductive base material 12 , a photomask on which a predetermined pattern is formed is disposed and exposure is performed to form the plating resist 14 on the conductive base material 12 . ) to form Plating proceeds on the intaglio pattern 16 formed between the plating resists 14 by exposure, and the portion where plating is blocked by the plating resist 14 becomes the pattern 25 of the shadow mask.

다음에, 도 2의 (c) 및 (d)에 도시된 바와 같이, 전주 도금을 실행하여 도금 레지스트(14) 이외 영역의 전도성 모재(12)에 도금을 수행하여 마스크 시트(22)를 형성한다(S200). 전주 도금은 도금액(23)이 채워진 도금조(18)에서 이루어지는데 상술한 전도성 모재(12)에 음극(-) 단자를 연결하고, 전도성 모재(12)에 대향하여 배치되는 양극체(20)(anode body)에 양극(+) 단자를 연결하여 전원을 공급하면, 도금조(18) 내의 도금액(23)에 있던 금속 이온이 전도성 모재(12)의 도금 레지스트(14)의 이외 영역에 도금이 이루어진다. Next, as shown in FIGS. 2(c) and 2(d), electro-pole plating is performed to perform plating on the conductive base material 12 in an area other than the plating resist 14 to form a mask sheet 22. (S200). Electroplating is performed in the plating bath 18 filled with the plating solution 23. The negative electrode (-) terminal is connected to the conductive base material 12 described above, and the anode body 20 is disposed opposite to the conductive base material 12 ( When power is supplied by connecting the anode (+) terminal to the anode body, metal ions in the plating solution 23 in the plating bath 18 are plated on the area other than the plating resist 14 of the conductive base material 12 . .

도금액(23)은 형성하고자 하는 도금막 즉, 마스크 시트(22)의 재질에 따라 달라질 수 있다. 예를 들면, 철니켈 합금인 인바(invar) 박판의 도금막을 형성하고자 하는 경우 니켈(Ni) 이온과 철(Fe) 이온을 포함하는 도금액(23)을 사용하고, 철니켈코발트 합금인 슈퍼 인바(super invar) 박판의 도금막을 형성하고자 하는 경우에는 니켈(Ni) 이온, 철(Fe) 이온과 코발트(Co) 이온을 포함하는 도금액(23)을 사용한다. 본 실시예에서는 철니켈 합금인 인바(invar) 박판의 도금막을 형성하는 경우를 중심으로 설명한다.The plating solution 23 may vary depending on the material of the plating film to be formed, that is, the mask sheet 22 . For example, if you want to form a plating film of a thin plate of invar, which is an iron-nickel alloy, a plating solution 23 containing nickel (Ni) ions and iron (Fe) ions is used, and super invar, an iron-nickel cobalt alloy, is used. In the case of forming a super invar) thin plating film, a plating solution 23 containing nickel (Ni) ions, iron (Fe) ions, and cobalt (Co) ions is used. In this embodiment, a case in which a plating film of an invar thin plate, which is an iron-nickel alloy, is formed will be mainly described.

종래에는 인바(invar) 합금을 얇게 압연한 후 패턴을 형성하여 마스크 시트(22)로 이용하였으나, 본 실시예에서는 인바 합금을 도금으로 얇게 형성함으로써 보다 얇고 정밀한 마스크 패턴(25)을 갖는 마스크 시트(22)를 제조할 수 있다. 인바 합금은 열팽창계수가 약 1.0 x 10-6 m/cm/℃ 정도로서 매우 낮기 때문에 진공열을 가하는 고온에서도 신축이 적어 고해상도 OLED 제조에 적합한다.Conventionally, an invar alloy is thinly rolled and then a pattern is formed to be used as the mask sheet 22, but in this embodiment, a mask sheet having a thinner and more precise mask pattern 25 by forming an invar alloy thin by plating ( 22) can be prepared. Invar alloy has a very low coefficient of thermal expansion of about 1.0 x 10 -6 m/cm/℃, so it is suitable for high-resolution OLED manufacturing because it does not stretch even at high temperatures when vacuum heat is applied.

도금막의 두께는 도 2의 (d)에 도시된 바와 같이, 도금 레지스트(14)의 두께 보다 작게 도금을 실시한다. The thickness of the plating film is smaller than the thickness of the plating resist 14, as shown in (d) of FIG. 2 .

도금조(18)에서 도금이 완료되면 도금이 이루어진 전도성 모재(12)를 도금조(18)에서 꺼내어 도 2의 (e)에 도시된 바와 같이, 도금 레지스트(14)를 제거한다.When the plating in the plating bath 18 is completed, the conductive base material 12 on which the plating is made is taken out from the plating bath 18 and the plating resist 14 is removed as shown in FIG. 2(e).

다음에, 도 2의 (f)에 도시된 바와 같이, 마스크 시트(22)에 대향하여 광 투과성의 마스크 프레임(24)을 밀착시키고, 레이저(26)로 레이저 광을 광 투과성의 마스크 프레임(24)을 투과하여 마스크 시트(22)에 조사하여 마스크 프레임(24)과 마스크 시트(22)를 접착한다(S300). 본 실시예는 광(光)을 조사하는 광원으로 레이저 광을 출사할 수 있는 레이저(26)을 사용한 형태이다.Next, as shown in Fig. 2(f), the light-transmitting mask frame 24 is brought into close contact with the mask sheet 22, and the laser light is irradiated with the laser 26 to the light-transmitting mask frame 24. ) and irradiate the mask sheet 22 to adhere the mask frame 24 and the mask sheet 22 (S300). In this embodiment, a laser 26 capable of emitting laser light is used as a light source for irradiating light.

통상의 경우는 전도성 모재(12)에서 마스크 시트(22)를 분리한 후 이를 마스크 프레임(24)에 고정하게 된다. 매우 얇은 마스크 시트(22)를 마스크 프레임(24)에 고정하는 과정에서 마스크 시트(22)의 핸들링이 어려워 마스크 시트(22)가 찢어지거나 뒤틀릴 수 있다. 이에 본 발명에서는 전도성 모재(12)에서 마스크 시트(22)를 분리하기 이전에 마스크 프레임(24)에 마스크 시트(22)를 부착함으로써 마스크 시트(22)가 찢기거나 뒤틀리는 것을 방지하였다.In a normal case, after separating the mask sheet 22 from the conductive base material 12 , it is fixed to the mask frame 24 . In the process of fixing the very thin mask sheet 22 to the mask frame 24 , it is difficult to handle the mask sheet 22 , so that the mask sheet 22 may be torn or distorted. Accordingly, in the present invention, the mask sheet 22 is prevented from being torn or twisted by attaching the mask sheet 22 to the mask frame 24 before separating the mask sheet 22 from the conductive base material 12 .

이를 위해 본 실시예에서는 광 투광성의 마스크 프레임(24)을 사용하게 되는데, 광 투과성의 마스크 프레임(24)은 광(光)이 통과할 수 있는 재질로서 유리(glass), 석영(quartz) 등 광이 투과될 수 있는 재질로 이루어질 수 있다.To this end, in this embodiment, a light-transmitting mask frame 24 is used. The light-transmitting mask frame 24 is a material through which light can pass, such as glass and quartz. It may be made of a material that is permeable.

본 실시예에서는 석영(quartz)으로 이루어진 마스크 프레임(24)을 사용하는데, 도 2의 (f)에 도시된 바와 같이, 전도성 모재(12)에 부착되어 있는 마스크 시트(22)에 대향하여 광 투과성의 마스크 프레임(24)을 밀착시키고, 하단의 레이저(26)에서 레이저 광을 조사하면 레이저 광이 광 투과성의 마스크 프레임(24)을 통과하여 금속성의 마스크 시트(22)에 도달하여 가열하거나 광을 조사함으로써 마스크 시트(22)가 마스크 프레임(24)에 고정될 수 있다.In this embodiment, a mask frame 24 made of quartz is used, and as shown in FIG. 2( f ), the light transmittance is opposed to the mask sheet 22 attached to the conductive base material 12 . of the mask frame 24 is closely adhered, and when laser light is irradiated from the laser 26 at the bottom, the laser light passes through the light-transmitting mask frame 24 and reaches the metallic mask sheet 22 to heat or emit light. By irradiation, the mask sheet 22 can be fixed to the mask frame 24 .

도 3에는 새도우 마스크 제조 방법의 변형예가 도시되어 있는데, 마스크 시트(22)와 마스크 프레임(24)의 접착을 확고히 하기 위해 마스크 프레임(24)을 마스크 시트(22)에 부착하기 전에, 미리, 마스크 시트(22)에 대향하는 마스크 프레임(24)의 표면에 접착 레이어(28)를 형성한 경우이다. 본 변형예의 경우 접착 레이어(28)로 레이저 광에 의해 용융되어 마스크 시트(22)와 용접되는 금속성 접착층으로 형성한 경우인데, 레이저 광을 광 투과성 마스크 프레임(24)을 투과시켜 금속성 접착층에 조사함으로써 금속성 접착층이 용융되면서 마스크 시트(22)와 마스크 프레임(24)가 접착된다.3 shows a modified example of the shadow mask manufacturing method, in which the mask frame 24 is attached to the mask sheet 22 in order to secure the adhesion between the mask sheet 22 and the mask frame 24, in advance, in advance. This is a case in which the adhesive layer 28 is formed on the surface of the mask frame 24 facing the sheet 22 . In the case of this modification, the adhesive layer 28 is formed as a metallic adhesive layer that is melted by laser light and welded to the mask sheet 22. By irradiating the laser light through the light-transmitting mask frame 24 to the metallic adhesive layer. As the metallic adhesive layer is melted, the mask sheet 22 and the mask frame 24 are adhered.

한편, 광원으로서 UV(ultraviolet) 광원을 사용할 수 있는데, 이 경우, 접착 레이어(28)는 UV 광에 의해 경화되는 UV 경화성 접착층으로 이루어질 수 있다.Meanwhile, a UV (ultraviolet) light source may be used as the light source. In this case, the adhesive layer 28 may be formed of a UV curable adhesive layer cured by UV light.

다음에, 도 2의 (g) 및 (h)에 도시된 바와 같이, 마스크 시트(22)로부터 전도성 모재(12)를 분리한다(S400). 마스크 시트(22)로부터 전도성 모재(12)를 분리함으로써 새도우 마스크가 제조된다. Next, as shown in (g) and (h) of Figure 2, the conductive base material 12 is separated from the mask sheet 22 (S400). A shadow mask is manufactured by separating the conductive base material 12 from the mask sheet 22 .

마스크 시트(22)는 전도성 모재(12)에 도금에 의해 접착되어 있으나 마스크 시트(22)가 마스크 프레임(24)에 고정되어 있어 보다 쉽게 마스크 시트(22)에서 전도성 모재(12)를 분리할 수 있다.The mask sheet 22 is adhered to the conductive base material 12 by plating, but since the mask sheet 22 is fixed to the mask frame 24, the conductive base material 12 can be more easily separated from the mask sheet 22. have.

도 4 및 도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 새도우 마스크 제조 방법의 흐름도이다. 도 4 및 도 5에는, 전도성 모재(12), 광 반응성 접착제(13), 도금 레지스트(14), 마스크 시트(22), 마스크 프레임(24), 레이저(26)가 도시되어 있다.4 and 5 are flowcharts of a shadow mask manufacturing method according to another embodiment of the present invention. 4 and 5, the conductive base material 12, the photoreactive adhesive 13, the plating resist 14, the mask sheet 22, the mask frame 24, and the laser 26 are shown.

본 실시예는 전주 도금 후 전도성 모재(12)에서 마스크 시트(22)를 쉽게 분리하기 위한 것으로서, 전도성 모재(12)를 광 투과성 재질로 형성한다. 광 투과성 재질의 전도성 모재(12)는 광이 통과할 수 있는 재질로서 유리(glass), 석영(quartz) 등 광이 투과될 수 있는 재질로 이루어질 수 있다.This embodiment is for easily separating the mask sheet 22 from the conductive base material 12 after electroplating, and the conductive base material 12 is formed of a light-transmitting material. The conductive base material 12 made of a light-transmitting material is a material through which light can pass, and may be made of a material through which light can pass, such as glass or quartz.

이하에서는 상기 일 실시예에 다른 점을 중심으로 설명한다.Hereinafter, different points from the above one embodiment will be mainly described.

먼저, 도 4의 (a)에 도시된 바와 같이, 전도성 모재(12)에 광 반응성 접착제(13)를 도포하여 그 위에 포토 레지스트(14)를 형성한다. 다음에, 도 4의 (b)에 도시된 바와 같이, 포토 레지스트 공정을 수행하여 음각 패턴이 형성된 도금 레지스트(14)를 형성한다.First, as shown in (a) of FIG. 4 , a photoresist 14 is formed thereon by applying a photoreactive adhesive 13 to the conductive base material 12 . Next, as shown in FIG. 4B , a photoresist process is performed to form a plating resist 14 having an intaglio pattern formed thereon.

이후, 전도성 모재(12)에 부착된 마스크 시트(22)에 마스크 프레임(24)을 부착하는 공정까지는 위의 일 실시예와 동일하다. 본 실시예는 상기 실시예와 마찬가지로 광(光)을 조사하는 광원으로 레이저 광을 출사할 수 있는 레이저(26)을 사용하였다.Thereafter, the process of attaching the mask frame 24 to the mask sheet 22 attached to the conductive base material 12 is the same as in the above embodiment. In this embodiment, as in the above embodiment, a laser 26 capable of emitting laser light is used as a light source for irradiating light.

마스크 프레임(24)이 부착되면, 마스크 시트(22)로부터 전도성 모재(12)를 분리해야 하는데, 광 투과성 전도성 모재(12)와 마스크 시트(22) 사이에 개재된 광 반응성 접착제(13)에 레이저(26)로 레이저 광을 광 투과성 전도성 모재(12)를 투과시켜 조사하여 광 반응성 접착제(13)가 연화시키고, 마스크 시트(22)와 전도성 모재(12)를 분리할 수 있다. When the mask frame 24 is attached, the conductive base material 12 must be separated from the mask sheet 22 , and the laser is applied to the light-reactive adhesive 13 interposed between the light-transmitting conductive base material 12 and the mask sheet 22 . At (26), laser light is transmitted through and irradiated to the light-transmitting conductive base material 12 to soften the photoreactive adhesive 13, and the mask sheet 22 and the conductive base material 12 can be separated.

상기에서는 본 발명의 특정의 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although the above has been described with reference to specific embodiments of the present invention, those of ordinary skill in the art may vary the present invention within the scope without departing from the spirit and scope of the present invention described in the claims below. It will be understood that modifications and changes may be made to

전술한 실시예 외의 많은 실시예들이 본 발명의 특허청구범위 내에 존재한다.Many embodiments other than those described above are within the scope of the claims of the present invention.

10: 전도성 모재 13: 광 반응성 접착제
14: 도금 레지스트 16: 음각 패턴
18: 도금조 20: 양극체
22: 마스크 시트 23: 도금액
24: 마스크 프레임 25: 마스크 패턴
26: 레이저 28: 접착 레이어10: conductive base material 13: light reactive adhesive
14: plating resist 16: engraved pattern
18: plating bath 20: anode body
22: mask sheet 23: plating solution
24: mask frame 25: mask pattern
26: laser 28: adhesive layer

Claims (8)

전도성 모재에 마스크 패턴에 상응하여 도금 레지스트를 형성하는 단계와;
전주 도금을 실행하여 상기 도금 레지스트 이외 영역의 상기 전도성 모재에 도금을 수행하여 마스크 시트를 형성하는 단계와;
상기 마스크 시트에 대향하여 광 투과성의 마스크 프레임을 밀착시키고, 광(光)을 상기 광 투과성의 마스크 프레임을 투과하여 상기 마스크 시트에 조사하여 상기 마스크 프레임과 상기 마스크 시트를 접착하는 단계와;
상기 마스크 시트로부터 상기 전도성 모재를 분리하는 단계를 포함하는, 새도우 마스크 제조 방법.
forming a plating resist on the conductive base material according to the mask pattern;
performing electroplating to perform plating on the conductive base material in an area other than the plating resist to form a mask sheet;
adhering the mask frame to the mask sheet by adhering a light-transmitting mask frame to the mask sheet and irradiating light through the light-transmitting mask frame to the mask sheet;
Including the step of separating the conductive base material from the mask sheet, shadow mask manufacturing method.
 제1항에 있어서,
상기 마스크 프레임을 밀착시키는 단계 이전에,
상기 마스크 시트에 대향하는 상기 마스크 프레임의 표면에 접착 레이어를 형성하는 단계를 더 포함하고,
상기 마스크 시트를 접착하는 단계는,
상기 광이 상기 접착 레이어에 조사됨으로써 수행되는 것을 특징으로 하는, 새도우 마스크 제조 방법.
According to claim 1,
Before the step of adhering the mask frame,
Further comprising the step of forming an adhesive layer on the surface of the mask frame facing the mask sheet,
Adhering the mask sheet comprises:
The method for manufacturing a shadow mask, characterized in that performed by irradiating the light to the adhesive layer.
 제2항에 있어서,
상기 광은, 레이저 광을 포함하며,
상기 접착 레이어는 상기 레이저 광에 의해 용융되어 접착되는 금속성 접착층인 것을 특징으로 하는, 새도우 마스크 제조 방법.
3. The method of claim 2,
The light includes laser light,
The adhesive layer is a method of manufacturing a shadow mask, characterized in that the metallic adhesive layer is melted and adhered by the laser light.
 제2항에 있어서,
상기 광은, UV(ultraviolet) 광을 포함하며,
상기 접착 레이어는, 상기 UV 광에 의해 경화되는 UV 경화성 접착층인 것을 특징으로 하는, 새도우 마스크 제조 방법.
3. The method of claim 2,
The light includes UV (ultraviolet) light,
The adhesive layer, characterized in that the UV curable adhesive layer cured by the UV light, a shadow mask manufacturing method.
 제1항에 있어서,
상기 마스크 시트를 형성하는 단계는,
니켈(Ni) 이온과 철(Fe) 이온을 포함하는 도금액을 사용함으로써 철니켈 합금으로 상기 마스크 시트가 형성되거나, 니켈(Ni) 이온, 철(Fe) 이온과 코발트(Co) 이온을 포함하는 도금액을 사용함으로써 철니켈코발트 합금으로 상기 마스크 시트가 형성되는 것을 특징으로 하는, 새도우 마스크 제조 방법.
According to claim 1,
The step of forming the mask sheet,
The mask sheet is formed of an iron-nickel alloy by using a plating solution containing nickel (Ni) ions and iron (Fe) ions, or a plating solution containing nickel (Ni) ions, iron (Fe) ions, and cobalt (Co) ions. A method for manufacturing a shadow mask, characterized in that the mask sheet is formed of an iron nickel cobalt alloy by using a.
 제1항에 있어서,
상기 광 투과성의 마스크 프레임은,
광 투과성의 유리(glass)나 석영(quartz)을 포함하는 재질로 이루어진 것을 특징으로 하는, 새도우 마스크 제조 방법.
According to claim 1,
The light-transmitting mask frame,
A method of manufacturing a shadow mask, characterized in that it is made of a material containing light-transmissive glass or quartz.
 제1항에 있어서,
상기 전도성 모재는 광 투과성 재질로 이루어지고,
상기 전도성 모재와 상기 도금 레지스트 사이에 광 반응성 접착제가 개재되며,
상기 전도성 모재를 분리하는 단계는,
상기 광 투과성의 상기 전도성 모재를 투과하여 광(光)을 상기 광 반응성 접착제에 조사하고 상기 광 반응성 접착제를 연화시킨 후 상기 상기 전도성 모재를 분리하는 것을 특징으로 하는, 새도우 마스크 제조 방법.
According to claim 1,
The conductive base material is made of a light-transmitting material,
A photoreactive adhesive is interposed between the conductive base material and the plating resist,
Separating the conductive base material comprises:
A method of manufacturing a shadow mask, characterized in that the light is transmitted through the light-transmitting conductive base material to irradiate the light-reactive adhesive, and after softening the photo-reactive adhesive, the conductive base material is separated.
 제7항에 있어서,
상기 전도성 모재는,
광 투과성의 유리 또는 석영을 포함하는 재질로 이루어진 것을 특징으로 하는, 새도우 마스크 제조 방법.8. The method of claim 7,
The conductive base material is
A method for manufacturing a shadow mask, characterized in that it is made of a material containing light-transmissive glass or quartz.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102462723B1 (en) * 2022-03-24 2022-11-03 주식회사 그래핀랩 A method for manufacturing fine metal mask
KR20230029408A (en) * 2021-08-24 2023-03-03 주식회사 선익시스템 Processed Surface Protective Layer and Method for manufacturing silicon mask using same

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180001666A (en) 2016-06-24 2018-01-05 에이피시스템 주식회사 A Method for Manufacturing a Fine Metal Mask Using Electroplating

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180001666A (en) 2016-06-24 2018-01-05 에이피시스템 주식회사 A Method for Manufacturing a Fine Metal Mask Using Electroplating

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230029408A (en) * 2021-08-24 2023-03-03 주식회사 선익시스템 Processed Surface Protective Layer and Method for manufacturing silicon mask using same
KR102462723B1 (en) * 2022-03-24 2022-11-03 주식회사 그래핀랩 A method for manufacturing fine metal mask
WO2023182819A1 (en) * 2022-03-24 2023-09-28 주식회사 그래핀랩 Method for manufacturing fine metal mask

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