KR20210082486A - laser processing equipment - Google Patents
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Abstract
레이저 가공 장치는, 제1 방향을 따라서 이동 가능하게 되고, 상기 제1 방향 및 상기 제1 방향에 교차하는 제2 방향을 따라서 대상물을 지지하기 위한 지지부와, 상기 제2 방향을 따라서 서로 대향하도록 배치되고, 상기 지지부에 지지된 상기 대상물에 레이저광을 조사하기 위한 제1 레이저 가공 헤드 및 제2 레이저 가공 헤드와, 상기 제1 레이저 가공 헤드가 장착되고, 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 교차하는 제3 방향과 상기 제2 방향 각각을 따라 이동 가능하게 된 제1 장착부와, 상기 제2 레이저 가공 헤드가 장착되고, 상기 제2 방향 및 상기 제3 방향 각각을 따라 이동 가능하게 된 제2 장착부와, 상기 제1 장착부에 장착되어 있고, 상기 대상물을 투과하는 광에 의해 상기 대상물을 촬상하는 촬상 유닛을 구비한다. The laser processing apparatus becomes movable along a 1st direction, and is arrange|positioned so that the support part for supporting an object along the said 1st direction and a 2nd direction intersecting the 1st direction, and mutually opposing along the said 2nd direction and a first laser processing head and a second laser processing head for irradiating a laser beam to the object supported by the support, and the first laser processing head is mounted, crossing the first direction and the second direction A first mounting part movable along each of the third direction and the second direction, and a second mounting part on which the second laser processing head is mounted and movable along each of the second direction and the third direction and an imaging unit mounted on the first mounting portion and configured to image the object by light passing through the object.
Description
본 개시는, 레이저 가공 장치에 관한 것이다. The present disclosure relates to a laser processing apparatus.
특허 문헌 1에는, 워크(work)를 유지하는 유지 기구와, 유지 기구에 유지된 워크에 레이저광을 조사하는 레이저 조사 기구를 구비하는 레이저 가공 장치가 기재되어 있다. 특허 문헌 1에 기재된 레이저 가공 장치에서는, 집광 렌즈를 가지는 레이저 조사 기구가 베이스에 대해서 고정되어 있고, 집광 렌즈의 광축에 수직인 방향을 따른 워크의 이동이 유지 기구에 의해서 실시된다.
그런데, 상술한 바와 같은 레이저 가공 장치에 있어서는, 스루풋(throughput)의 향상을 위해서는, 예를 들면, 유지 기구에 의한 워크의 이동 속도를 증대시키는 것이 고려된다. 그렇지만, 워크의 이동 속도를 증대시키려고 해도, 워크의 이동이, 목표의 속도에서의 등속 이동에 이르기까지 필요로 하는 가속 시간도 증대된다. 이 때문에, 워크의 이동 속도의 증대로는, 일정 이상의 스루풋의 향상이 원해지고 있다. 이와 같이, 상기 기술 분야에서는, 스루풋의 향상이 원해지고 있다. 그 한편으로, 레이저 가공의 성부(成否)를 비파괴에 의해 확인하는 요망도 있다. By the way, in the laser processing apparatus as mentioned above, in order to improve a throughput, it is considered to increase the moving speed of the workpiece|work by a holding mechanism, for example. However, even if it is intended to increase the movement speed of the workpiece, the acceleration time required for the movement of the workpiece to reach a constant velocity movement at the target speed also increases. For this reason, as an increase in the moving speed of a workpiece, an improvement in throughput beyond a certain level is desired. As described above, improvement in throughput is desired in the technical field. On the other hand, there is also a request to non-destructively confirm the success or failure of laser processing.
본 개시는, 스루풋을 향상시키면서 비파괴에 의해 레이저 가공의 성부를 확인할 수 있는 레이저 가공 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of this indication is to provide the laser processing apparatus which can confirm the success or failure of laser processing non-destructively, improving a throughput.
본 개시에 관한 레이저 가공 장치는, 제1 방향을 따라서 이동 가능하게 되고, 제1 방향 및 제1 방향에 교차하는 제2 방향을 따라서 대상물을 지지하기 위한 지지부와, 제2 방향을 따라서 서로 대향하도록 배치되고, 지지부에 지지된 대상물에 레이저광을 조사하기 위한 제1 레이저 가공 헤드 및 제2 레이저 가공 헤드와, 제1 레이저 가공 헤드가 장착되고, 제1 방향 및 제2 방향에 교차하는 제3 방향과 제2 방향 각각을 따라 이동 가능하게 된 제1 장착부와, 제2 레이저 가공 헤드가 장착되고, 제2 방향 및 제3 방향 각각을 따라 이동 가능하게 된 제2 장착부와, 제1 장착부에 장착되어 있고, 대상물을 투과하는 광에 의해 대상물을 촬상하는 촬상 유닛을 구비한다. The laser processing apparatus which concerns on this indication becomes movable along a 1st direction, The support part for supporting an object along a 1st direction and a 2nd direction intersecting a 1st direction, and a 2nd direction so as to oppose each other A first laser processing head and a second laser processing head for irradiating a laser beam to an object supported by the support, and a first laser processing head mounted thereon, a third direction intersecting the first and second directions and a first mounting part movable along each of the second directions, a second laser processing head mounted thereon, a second mounting part movable along each of the second and third directions, and the first mounting part, and an imaging unit for imaging an object with light passing through the object.
이 장치에서는, 대상물을 지지하는 지지부 상에, 서로 대향하도록 제1 레이저 가공 헤드 및 제2 레이저 가공 헤드가 배치되어 있다. 그리고, 제1 레이저 가공 헤드 및 제2 레이저 가공 헤드는, 각각, 제1 장착부 및 제2 장착부를 매개로 하여, 서로 교차하는 2방향으로 독립하여 이동 가능하게 되어 있다. 이 때문에, 대상물의 2개의 개소에서, 서로 독립하여, 레이저광의 스캔에 의해 레이저 가공을 행하는 것이 가능해진다. 따라서, 스루풋의 향상이 도모된다. In this apparatus, on the support part which supports an object, a 1st laser processing head and a 2nd laser processing head are arrange|positioned so that it may mutually oppose. And the 1st laser processing head and the 2nd laser processing head are each independently movable in two mutually intersecting directions via a 1st attachment part and a 2nd attachment part. For this reason, in two places of an object, it becomes possible to perform laser processing by scanning a laser beam independently of each other. Therefore, the improvement of the throughput is achieved.
또, 제1 레이저 가공 헤드의 이동을 담당하는 제1 장착부에는, 대상물을 투과하는 광에 의해 대상물을 촬상하는 촬상 유닛이 더 장착되어 있다. 따라서, 예를 들면, 제2 레이저 가공 헤드에 의한 레이저 가공을 실시하고 있는 동안에, 촬상 유닛에 의해 대상물의 다른 개소를 촬상할 수 있다. 따라서, 스루풋의 저하를 억제하면서, 비파괴에 의해 레이저 가공의 상태를 확인할 수 있다. 즉, 이 장치에 의하면, 스루풋을 향상시키면서 비파괴에 의해 레이저 가공의 성부를 확인할 수 있다. Moreover, in the 1st mounting part which bears the movement of a 1st laser processing head, the imaging unit which images an object with the light which penetrates the object is further attached. Therefore, for example, while performing laser processing by a 2nd laser processing head, another location of an object can be imaged with an imaging unit. Therefore, the state of laser processing can be confirmed non-destructively, suppressing the fall of a throughput. That is, according to this apparatus, the success or failure of laser processing can be confirmed non-destructively, improving a throughput.
본 개시에 관한 레이저 가공 장치는, 지지부, 제1 장착부, 및, 제2 장착부의 이동과, 제1 레이저 가공 헤드 및 제2 레이저 가공 헤드로부터의 레이저광의 조사와, 촬상 유닛에 의한 대상물의 촬상을 제어하는 제어부를 더 구비하며, 대상물에는, 제1 방향을 따라서 연장됨과 아울러 제2 방향을 따라서 배열된 복수의 라인이 설정되어 있고, 제어부는, 복수의 라인 중 하나의 라인에 대해서 제1 레이저 가공 헤드로부터의 레이저광을 제1 방향으로 스캔하는 제1 스캔 처리와, 복수의 라인 중 다른 라인에 대해서 제2 레이저 가공 헤드로부터의 레이저광을 제1 방향으로 스캔하는 제2 스캔 처리를 적어도 일부의 시간에서 중복하여 실행함과 아울러, 제2 스캔 처리만을 실행하고 있을 때에, 가공이 완료된 라인을 포함하는 대상물의 영역을 촬상 유닛에 의해 촬상하는 촬상 처리를 실행해도 괜찮다. 이와 같이, 제1 스캔 처리와 제2 스캔 처리를 중복하여 실행하는 것에 의해, 스루풋의 향상이 도모된다. 또, 제2 스캔 처리만이 행해지고 있는 타이밍에서, 제1 레이저 가공 헤드와 함께 이동 가능한 촬상 유닛을 제어하여 촬상 처리를 행할 수 있다. 따라서, 보다 확실히, 스루풋을 향상시키면서 비파괴에 의해 레이저 가공의 성부를 확인할 수 있다. The laser processing apparatus according to the present disclosure includes movement of a support part, a first mounting part, and a second mounting part, irradiation of laser beams from the first laser processing head and the second laser processing head, and imaging of an object by an imaging unit. Further comprising a control unit to control, the plurality of lines extending along the first direction and arranged along the second direction are set to the object, the control unit is a first laser processing for one line among the plurality of lines At least a part of the first scan process of scanning the laser beam from the head in the first direction, and the second scan process of scanning the laser beam from the second laser processing head in the first direction with respect to another line among the plurality of lines. While performing overlapping with time, when only the 2nd scan process is being performed, you may perform the imaging process of imaging the area|region of the object containing the line on which processing was completed with an imaging unit. As described above, by performing the first scan process and the second scan process in duplicate, the throughput is improved. Moreover, the imaging process can be performed by controlling the imaging unit movable together with the 1st laser processing head at the timing in which only the 2nd scan process is being performed. Therefore, the success or failure of laser processing can be confirmed non-destructively, improving a throughput more reliably.
본 개시에 관한 레이저 가공 장치에서는, 제어부는, 촬상 처리에 의해 얻어진 화상에 근거하여, 해당 영역에서 대상물에 개질 영역 및/또는 균열이 규정을 따라서 형성되어 있는지 여부의 판정을 행함과 아울러, 해당 판정의 결과, 규정을 따라서 개질 영역 및/또는 균열이 형성되어 있지 않다고 판정한 경우에는, 적어도 해당 라인을 따른 레이저광의 스캔을 재차 행하는 보조 가공 처리를 실행해도 괜찮다. 이 경우, 보조 가공 처리에 의해서, 가공 미스가 보완된다. In the laser processing apparatus according to the present disclosure, based on the image obtained by the imaging process, the control unit determines whether or not modified regions and/or cracks are formed in the target object in the region according to the regulations, and the determination is made. As a result of , when it is determined that the modified region and/or cracks are not formed according to the regulations, at least the auxiliary processing processing of scanning the laser beam along the line may be performed again. In this case, processing errors are compensated for by auxiliary processing.
본 개시에 관한 레이저 가공 장치에서는, 제어부는, 복수의 라인 중 대상물의 제2 방향의 일방의 단부에 위치하는 라인으로부터 제2 방향의 내측의 라인을 향해서 순서대로 제1 스캔 처리를 실행하면서, 복수의 라인 중 대상물의 제2 방향의 타방의 단부에 위치하는 라인으로부터 제2 방향의 내측의 라인을 향해서 순서대로 제2 스캔 처리를 실행하는 주가공 처리를 실행해도 괜찮다. 이와 같이, 주가공 처리에서, 제2 방향에서의 대상물의 대조적인 위치의 라인으로부터 순서대로 제1 스캔 처리 및 제2 스캔 처리를 실행하는 것에 의해, 레이저광의 집광점의 대상물에 대한 제1 방향을 따른 상대 이동의 낭비가 줄어들어, 스루풋이 보다 향상된다. In the laser processing apparatus which concerns on this indication, a control part performs a 1st scan process sequentially toward the line inside the 2nd direction from the line located in one edge part of the 2nd direction of an object among a plurality of lines, You may perform the main processing process which performs a 2nd scan process sequentially toward the line inside the 2nd direction from the line located at the other end of the 2nd direction of an object among the lines of. In this way, in the main processing processing, the first direction of the converging point of the laser light with respect to the object is determined by executing the first scanning processing and the second scanning processing sequentially from the line at the position of the object contrasting in the second direction. The waste of the subsequent relative movement is reduced, and the throughput is further improved.
본 개시에 관한 레이저 가공 장치에서는, 제어부는, 주가공 처리에서, 제1 레이저 가공 헤드와 제2 레이저 가공 헤드가 제2 방향에 대해 가장 접근했을 때에, 제1 레이저 가공 헤드를 퇴피시키면서 제2 스캔 처리를 속행(續行)함과 아울러, 촬상 처리를 실행해도 괜찮다. 이 경우, 제1 레이저 가공 헤드와 제2 레이저 가공 헤드를 최대한으로 활용하여 스루풋을 향상시키면서, 비파괴에 의해 레이저 가공의 성부를 확인할 수 있다. In the laser processing apparatus which concerns on this indication, in a main processing process, when a 1st laser processing head and a 2nd laser processing head approach most with respect to a 2nd direction, a control part retracts a 1st laser processing head, and a 2nd scan You may perform an imaging process while continuing a process. In this case, the success or failure of laser processing can be confirmed non-destructively while improving the throughput by maximally utilizing the first laser processing head and the second laser processing head.
본 개시에 의하면, 스루풋을 향상시키면서 비파괴에 의해 레이저 가공의 성부를 확인할 수 있는 레이저 가공 장치를 제공할 수 있다. ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this indication, the laser processing apparatus which can confirm the success or failure of laser processing non-destructively, improving a throughput can be provided.
도 1은, 일 실시 형태의 레이저 가공 장치의 사시도이다.
도 2는, 도 1에 나타내어지는 레이저 가공 장치의 일부분의 정면도이다.
도 3은, 도 1에 나타내어지는 레이저 가공 장치의 레이저 가공 헤드의 정면도이다.
도 4는, 도 3에 나타내어지는 레이저 가공 헤드의 측면도이다.
도 5는, 도 3에 나타내어지는 레이저 가공 헤드의 광학계의 구성도이다.
도 6은, 변형예의 레이저 가공 헤드의 광학계의 구성도이다.
도 7은, 변형예의 레이저 가공 장치의 일부분의 정면도이다.
도 8은 레이저 가공 장치의 동작을 나타내는 모식적인 상면도이다.
도 9는 레이저 가공 장치의 동작을 나타내는 모식적인 상면도이다.
도 10은 레이저 가공 장치의 동작을 나타내는 모식적인 상면도이다.
도 11은 레이저 가공 장치의 동작을 나타내는 모식적인 상면도이다.
도 12는 레이저 가공 장치의 동작을 나타내는 모식적인 상면도이다.
도 13은 레이저 가공 장치의 동작을 나타내는 모식적인 상면도이다.
도 14는 레이저 가공 장치의 동작을 나타내는 모식적인 단면도이다.
도 15는 장착부 및 레이저 가공 헤드의 변형예를 나타내는 도면이다.
도 16은 장착부 및 레이저 가공 헤드의 변형예를 나타내는 도면이다.
도 17은 장착부 및 레이저 가공 헤드의 변형예를 나타내는 도면이다.
도 18은 장착부 및 레이저 가공 헤드의 변형예를 나타내는 도면이다. 1 : is a perspective view of the laser processing apparatus of one Embodiment.
FIG. 2 is a front view of a part of the laser processing apparatus shown in FIG. 1 .
3 : is a front view of the laser processing head of the laser processing apparatus shown in FIG.
FIG. 4 is a side view of the laser processing head shown in FIG. 3 .
FIG. 5 is a configuration diagram of an optical system of the laser processing head shown in FIG. 3 .
6 is a configuration diagram of an optical system of a laser processing head of a modified example.
7 : is a front view of a part of the laser processing apparatus of a modification.
It is a schematic top view which shows operation|movement of a laser processing apparatus.
It is a schematic top view which shows operation|movement of a laser processing apparatus.
It is a schematic top view which shows operation|movement of a laser processing apparatus.
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It is a schematic top view which shows operation|movement of a laser processing apparatus.
It is a schematic top view which shows the operation|movement of a laser processing apparatus.
14 is a schematic cross-sectional view showing the operation of the laser processing apparatus.
It is a figure which shows the modified example of a mounting part and a laser processing head.
It is a figure which shows the modified example of a mounting part and a laser processing head.
It is a figure which shows the modified example of a mounting part and a laser processing head.
It is a figure which shows the modified example of a mounting part and a laser processing head.
이하, 일 실시 형태에 대해서, 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 또, 각 도면에서 동일 또는 상당 부분에는 동일 부호를 부여하고, 중복하는 설명을 생략한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, one Embodiment is described in detail with reference to drawings. In addition, in each figure, the same code|symbol is attached|subjected to the same or equivalent part, and the overlapping description is abbreviate|omitted.
[레이저 가공 장치의 구성][Configuration of laser processing equipment]
도 1에 나타내어지는 바와 같이, 레이저 가공 장치(1)는, 복수의 이동 기구(5, 6)와, 지지부(7)와, 1쌍의 레이저 가공 헤드(제1 레이저 가공 헤드, 제2 레이저 가공 헤드)(10A, 10B)와, 광원 유닛(8)과, 제어부(9)를 구비하고 있다. 이하, 제1 방향을 X방향, 제1 방향에 수직인 제2 방향을 Y방향, 제1 방향 및 제2 방향에 수직인 제3 방향을 Z방향이라고 한다. 본 실시 형태에서는, X방향 및 Y방향은 수평 방향이며, Z방향은 연직 방향이다. As shown in FIG. 1, the
이동 기구(5)는, 고정부(51)와, 이동부(53)와, 장착부(55)를 가지고 있다. 고정부(51)는, 장치 프레임(1a)에 장착되어 있다. 이동부(53)는, 고정부(51)에 마련된 레일에 장착되어 있고, Y방향을 따라서 이동할 수 있다. 장착부(55)는, 이동부(53)에 마련된 레일에 장착되어 있고, X방향을 따라서 이동할 수 있다. The
이동 기구(6)는, 고정부(61)와, 1쌍의 이동부(제1 이동부, 제2 이동부)(63, 64)와, 1쌍의 장착부(제1 장착부, 제2 장착부)(65, 66)를 가지고 있다. 고정부(61)는, 장치 프레임(1a)에 장착되어 있다. 1쌍의 이동부(63, 64) 각각은, 고정부(61)에 마련된 레일에 장착되어 있고, 각각이 독립하여, Y방향을 따라서 이동할 수 있다. 장착부(65)는, 이동부(63)에 마련된 레일에 장착되어 있고, Z방향을 따라서 이동할 수 있다. 장착부(66)는, 이동부(64)에 마련된 레일에 장착되어 있고, Z방향을 따라서 이동할 수 있다. 즉, 장치 프레임(1a)에 대해서는, 1쌍의 장착부(65, 66) 각각이, Y방향 및 Z방향 각각을 따라 이동할 수 있다. The
지지부(7)는, 이동 기구(5)의 장착부(55)에 마련된 회전축에 장착되어 있고, Z방향에 평행한 축선을 중심선으로 하여 회전할 수 있다. 즉, 지지부(7)는, X방향 및 Y방향 각각을 따라 이동할 수 있고, Z방향에 평행한 축선을 중심선으로 하여 회전할 수 있다. 지지부(7)는, X방향 및 Y방향을 따라서 대상물(100)을 지지한다. 대상물(100)은, 예를 들면, 웨이퍼이다. The
도 1 및 도 2에 나타내어지는 바와 같이, 레이저 가공 헤드(10A)(예를 들면 제1 레이저 가공 헤드)는, 이동 기구(6)의 장착부(65)에 장착되어 있다. 레이저 가공 헤드(10A)는, Z방향에서 지지부(7)와 대향한 상태에서, 지지부(7)에 지지된 대상물(100)에 레이저광(제1 레이저광)(L1)을 조사하기 위한 것이다. 레이저 가공 헤드(10B)(예를 들면 제2 레이저 가공 헤드)는, 이동 기구(6)의 장착부(66)에 장착되어 있다. 레이저 가공 헤드(10B)는, Z방향에서 지지부(7)와 대향한 상태에서, 지지부(7)에 지지된 대상물(100)에 레이저광(제2 레이저광)(L2)을 조사하기 위한 것이다. 1 and 2 , the
광원 유닛(8)은, 1쌍의 광원(81, 82)을 가지고 있다. 광원(81)은, 레이저광(L1)을 출력한다. 레이저광(L1)은, 광원(81)의 출사부(81a)로부터 출사되고, 광 파이버(2)에 의해서 레이저 가공 헤드(10A)에 도광된다. 광원(82)은, 레이저광(L2)을 출력한다. 레이저광(L2)은, 광원(82)의 출사부(82a)로부터 출사되고, 다른 광 파이버(2)에 의해서 레이저 가공 헤드(10B)에 도광된다. The
제어부(9)는, 레이저 가공 장치(1)의 각 부(部)(복수의 이동 기구(5, 6), 1쌍의 레이저 가공 헤드(10A, 10B), 및 광원 유닛(8) 등)를 제어한다. 제어부(9)는, 프로세서, 메모리, 스토리지 및 통신 디바이스 등을 포함하는 컴퓨터 장치로서 구성되어 있다. 제어부(9)에서는, 메모리 등에 읽어넣어진 소프트웨어(프로그램)가, 프로세서에 의해서 실행되고, 메모리 및 스토리지에서의 데이터의 읽어냄 및 쓰기, 그리고 통신 디바이스에 의한 통신이, 프로세서에 의해서 제어된다. 이것에 의해, 제어부(9)는, 각종 기능을 실현한다. The
이상과 같이 구성된 레이저 가공 장치(1)에 의한 가공의 일 예에 대해 설명한다. 해당 가공의 일 예는, 웨이퍼인 대상물(100)을 복수의 칩으로 절단하기 위해서, 격자 모양으로 설정된 복수의 라인 각각을 따라 대상물(100)의 내부에 개질 영역을 형성하는 예이다. An example of the processing by the
먼저, 대상물(100)을 지지하고 있는 지지부(7)가 Z방향에서 1쌍의 레이저 가공 헤드(10A, 10B)와 대향하도록, 이동 기구(5)가, X방향 및 Y방향 각각을 따라 지지부(7)를 이동시킨다. 이어서, 대상물(100)에서 일방향으로 연장되는 복수의 라인이 X방향을 따르도록, 이동 기구(5)가, Z방향에 평행한 축선을 중심선으로 하여 지지부(7)를 회전시킨다. First, the moving
이어서, 일방향으로 연장되는 하나의 라인 상에 레이저광(L1)의 집광점이 위치하도록, 이동 기구(6)가, Y방향을 따라서 레이저 가공 헤드(10A)를 이동시킨다. 그 한편으로, 일방향으로 연장되는 다른 라인 상에 레이저광(L2)의 집광점이 위치하도록, 이동 기구(6)가, Y방향을 따라서 레이저 가공 헤드(10B)를 이동시킨다. 이어서, 대상물(100)의 내부에 레이저광(L1)의 집광점이 위치하도록, 이동 기구(6)가, Z방향을 따라서 레이저 가공 헤드(10A)를 이동시킨다. 그 한편으로, 대상물(100)의 내부에 레이저광(L2)의 집광점이 위치하도록, 이동 기구(6)가, Z방향을 따라서 레이저 가공 헤드(10B)를 이동시킨다. Next, the moving
이어서, 광원(81)이 레이저광(L1)을 출력하여 레이저 가공 헤드(10A)가 대상물(100)에 레이저광(L1)을 조사함과 아울러, 광원(82)이 레이저광(L2)을 출력하여 레이저 가공 헤드(10B)가 대상물(100)에 레이저광(L2)을 조사한다. 그것과 동시에, 일방향으로 연장되는 하나의 라인을 따라서 레이저광(L1)의 집광점이 상대적으로 이동하고(레이저광(L1)이 스캔되고) 또한 일방향으로 연장되는 다른 라인을 따라서 레이저광(L2)의 집광점이 상대적으로 이동하도록(레이저광(L2)이 스캔되도록), 이동 기구(5)가, X방향을 따라서 지지부(7)를 이동시킨다. 이와 같이 하여, 레이저 가공 장치(1)는, 대상물(100)에서 일방향으로 연장되는 복수의 라인 각각을 따라서, 대상물(100)의 내부에 개질 영역을 형성한다. Next, while the
이어서, 대상물(100)에서 일방향과 직교하는 타방향으로 연장되는 복수의 라인이 X방향을 따르도록, 이동 기구(5)가, Z방향에 평행한 축선을 중심선으로 하여 지지부(7)를 회전시킨다. Next, the moving
이어서, 타방향으로 연장되는 하나의 라인 상에 레이저광(L1)의 집광점이 위치하도록, 이동 기구(6)가, Y방향을 따라서 레이저 가공 헤드(10A)를 이동시킨다. 그 한편으로, 타방향으로 연장되는 다른 라인 상에 레이저광(L2)의 집광점이 위치하도록, 이동 기구(6)가, Y방향을 따라서 레이저 가공 헤드(10B)를 이동시킨다. 이어서, 대상물(100)의 내부에 레이저광(L1)의 집광점이 위치하도록, 이동 기구(6)가, Z방향을 따라서 레이저 가공 헤드(10A)를 이동시킨다. 그 한편으로, 대상물(100)의 내부에 레이저광(L2)의 집광점이 위치하도록, 이동 기구(6)가, Z방향을 따라서 레이저 가공 헤드(10B)를 이동시킨다. Next, the moving
이어서, 광원(81)이 레이저광(L1)을 출력하여 레이저 가공 헤드(10A)가 대상물(100)에 레이저광(L1)을 조사함과 아울러, 광원(82)이 레이저광(L2)을 출력하여 레이저 가공 헤드(10B)가 대상물(100)에 레이저광(L2)을 조사한다. 그것과 동시에, 타방향으로 연장되는 하나의 라인을 따라서 레이저광(L1)의 집광점이 상대적으로 이동하고(레이저광(L1)이 스캔되고) 또한 타방향으로 연장되는 다른 라인을 따라서 레이저광(L2)의 집광점이 상대적으로 이동하도록(레이저광(L1)이 스캔되도록), 이동 기구(5)가, X방향을 따라서 지지부(7)를 이동시킨다. 이와 같이 하여, 레이저 가공 장치(1)는, 대상물(100)에서 일방향과 직교하는 타방향으로 연장되는 복수의 라인 각각을 따라서, 대상물(100)의 내부에 개질 영역을 형성한다. Next, while the
또, 상술한 가공의 일 예에서는, 광원(81)은, 예를 들면 펄스 발진 방식에 의해서, 대상물(100)에 대해서 투과성을 가지는 레이저광(L1)을 출력하고, 광원(82)은, 예를 들면 펄스 발진 방식에 의해서, 대상물(100)에 대해서 투과성을 가지는 레이저광(L2)을 출력한다. 그러한 레이저광이 대상물(100)의 내부에 집광되면, 레이저광의 집광점에 대응하는 부분에서 레이저광이 특히 흡수되어, 대상물(100)의 내부에 개질 영역이 형성된다. 개질 영역은, 밀도, 굴절률, 기계적 강도, 그 외의 물리적 특성이 주위의 비개질 영역과는 다른 영역이다. 개질 영역으로서는, 예를 들면, 용융 처리 영역, 크랙 영역, 절연 파괴 영역, 굴절률 변화 영역등이 있다. In addition, in an example of the above-described processing, the
펄스 발진 방식에 의해서 출력된 레이저광이 대상물(100)에 조사되고, 대상물(100)에 설정된 라인을 따라서 레이저광의 집광점이 상대적으로 이동시켜지면, 복수의 개질 스폿이 라인을 따라서 1열로 늘어서도록 형성된다. 1개의 개질 스폿은, 1펄스의 레이저광의 조사에 의해서 형성된다. 1열의 개질 영역은, 1열로 늘어선 복수의 개질 스폿의 집합이다. 서로 이웃하는 개질 스폿은, 대상물(100)에 대한 레이저광의 집광점의 상대적인 이동 속도 및 레이저광의 반복 주파수에 의해서, 서로 연결되는 경우도, 서로 떨어지는 경우도 있다. When the laser light output by the pulse oscillation method is irradiated to the
[레이저 가공 헤드의 구성][Configuration of laser processing head]
도 3 및 도 4에 나타내어지는 바와 같이, 레이저 가공 헤드(10A)는, 케이스(11)(예를 들면 제1 케이스)와, 입사부(12)와, 조정부(13)와, 집광부(14)(예를 들면 제1 집광부)를 구비하고 있다. 3 and 4 , the
케이스(11)는, 제1 벽부(21) 및 제2 벽부(22), 제3 벽부(23) 및 제4 벽부(24), 그리고 제5 벽부(25) 및 제6 벽부(26)를 가지고 있다. 제1 벽부(21) 및 제2 벽부(22)는, X방향에서 서로 대향하고 있다. 제3 벽부(23) 및 제4 벽부(24)는, Y방향에서 서로 대향하고 있다. 제5 벽부(25) 및 제6 벽부(26)는, Z방향에서 서로 대향하고 있다. The
제3 벽부(23)와 제4 벽부(24)와의 거리는, 제1 벽부(21)와 제2 벽부(22)와의 거리보다도 작다. 제1 벽부(21)와 제2 벽부(22)와의 거리는, 제5 벽부(25)와 제6 벽부(26)와의 거리보다도 작다. 또, 제1 벽부(21)와 제2 벽부(22)와의 거리는, 제5 벽부(25)와 제6 벽부(26)와의 거리와 동일해도 좋고, 혹은, 제5 벽부(25)와 제6 벽부(26)와의 거리보다도 커도 괜찮다. The distance between the
레이저 가공 헤드(10A)에서는, 제1 벽부(21)는, 이동 기구(6)의 고정부(61)측에 위치하고 있고, 제2 벽부(22)는, 고정부(61)와는 반대측에 위치하고 있다. 제3 벽부(23)는, 이동 기구(6)의 장착부(65)측에 위치하고 있고, 제4 벽부(24)는, 장착부(65)와는 반대측으로서 레이저 가공 헤드(10B)측에 위치하고 있다(도 2 참조).즉, 제4 벽부(24)는, 레이저 가공 헤드(10B)의 케이스(제2 케이스)에 Y방향을 따라서 대향하는 대향 벽부이다. 제5 벽부(25)는, 지지부(7)와는 반대측에 위치하고 있고, 제6 벽부(26)는, 지지부(7)측에 위치하고 있다. In 10 A of laser processing heads, the
케이스(11)는, 제3 벽부(23)가 이동 기구(6)의 장착부(65)측에 배치된 상태로 케이스(11)가 장착부(65)에 장착되도록, 구성되어 있다. 구체적으로는, 다음과 같다. 장착부(65)는, 베이스 플레이트(65a)와, 장착 플레이트(65b)를 가지고 있다. 베이스 플레이트(65a)는, 이동부(63)에 마련된 레일에 장착되어 있다(도 2 참조).장착 플레이트(65b)는, 베이스 플레이트(65a)에서의 레이저 가공 헤드(10B)측의 단부에 세워 마련되어 있다(도 2 참조). 케이스(11)는, 제3 벽부(23)가 장착 플레이트(65b)에 접촉한 상태에서, 베이스(27)를 매개로 하여 볼트(28)가 장착 플레이트(65b)에 나사 결합됨으로써, 장착부(65)에 장착되어 있다. 베이스(27)는, 제1 벽부(21) 및 제2 벽부(22) 각각에 마련되어 있다. 케이스(11)는, 장착부(65)에 대해서 착탈 가능하다. The
입사부(12)는, 제5 벽부(25)에 장착되어 있다. 입사부(12)는, 케이스(11) 내에 레이저광(L1)을 입사시킨다. 입사부(12)는, X방향에서는 제2 벽부(22)측(일방의 벽부측)으로 치우쳐 있고, Y방향에서는 제4 벽부(24)측으로 치우쳐 있다. 즉, X방향에서의 입사부(12)와 제2 벽부(22)와의 거리는, X방향에서의 입사부(12)와 제1 벽부(21)와의 거리보다도 작고, Y방향에서의 입사부(12)와 제4 벽부(24)와의 거리는, X방향에서의 입사부(12)와 제3 벽부(23)와의 거리보다도 작다. The
입사부(12)는, 광 파이버(2)의 접속 단부(2a)가 접속 가능하게 되도록 구성되어 있다. 광 파이버(2)의 접속 단부(2a)에는, 파이버의 출사단(出射端)으로부터 출사된 레이저광(L1)을 콜리메이트하는 콜리메이터 렌즈가 마련되어 있고, 리턴광을 억제하는 아이솔레이터(isolator)가 마련되어 있지 않다. 해당 아이솔레이터는, 접속 단부(2a)보다도 광원(81)측인 파이버의 도중에 마련되어 있다. 이것에 의해, 접속 단부(2a)의 소형화, 나아가서는, 입사부(12)의 소형화가 도모되어 있다. 또, 광 파이버(2)의 접속 단부(2a)에 아이솔레이터가 마련되어 있어도 괜찮다. The
조정부(13)는, 케이스(11) 내에 배치되어 있다. 조정부(13)는, 입사부(12)로부터 입사한 레이저광(L1)을 조정한다. 조정부(13)의 상세에 대해서는 후술한다. The
집광부(14)는, 제6 벽부(26)에 배치되어 있다. 구체적으로는, 집광부(14)는, 제6 벽부(26)에 형성된 구멍(26a)에 삽입 통과된 상태로, 제6 벽부(26)에 배치되어 있다. 집광부(14)는, 조정부(13)에 의해서 조정된 레이저광(L1)을 집광하면서 케이스(11) 밖으로 출사시킨다. 집광부(14)는, X방향에서는 제2 벽부(22)측(일방의 벽부측)으로 치우쳐 있고, Y방향에서는 제4 벽부(24)측으로 치우쳐 있다. 즉, 집광부(14)는, Z방향으로부터 보아, 케이스(11)에서의 제4 벽부(대향 벽부)(24)측으로 치우쳐 배치되어 있다. 즉, X방향에서의 집광부(14)와 제2 벽부(22)와의 거리는, X방향에서의 집광부(14)와 제1 벽부(21)와의 거리보다도 작고, Y방향에서의 집광부(14)와 제4 벽부(24)와의 거리는, X방향에서의 집광부(14)와 제3 벽부(23)와의 거리보다도 작다. The
도 5에 나타내어지는 바와 같이, 조정부(13)는, 어테뉴에이터(31)와, 빔 익스팬더(32)와, 미러(33)를 가지고 있다. 입사부(12), 그리고 조정부(13)의 어테뉴에이터(31), 빔 익스팬더(32) 및 미러(33)는, Z방향을 따라서 연장되는 직선(제1 직선)(A1) 상에 배치되어 있다. 어테뉴에이터(31) 및 빔 익스팬더(32)는, 직선(A1) 상에서, 입사부(12)와 미러(33)와의 사이에 배치되어 있다. 어테뉴에이터(31)는, 입사부(12)로부터 입사한 레이저광(L1)의 출력을 조정한다. 빔 익스팬더(32)는, 어테뉴에이터(31)에서 출력이 조정된 레이저광(L1)의 지름을 확대한다. 미러(33)는, 빔 익스팬더(32)에서 지름이 확대된 레이저광(L1)을 반사한다. As shown in FIG. 5 , the
조정부(13)는, 반사형 공간 광 변조기(34)와, 결상 광학계(35)를 더 가지고 있다. 조정부(13)의 반사형 공간 광 변조기(34) 및 결상 광학계(35), 그리고 집광부(14)는, Z방향을 따라서 연장되는 직선(제2 직선)(A2) 상에 배치되어 있다. 반사형 공간 광 변조기(34)는, 미러(33)에서 반사된 레이저광(L1)을 변조한다. 반사형 공간 광 변조기(34)는, 예를 들면, 반사형 액정(LCOS:Liquid Crystal on Silicon)의 공간 광 변조기(SLM:Spatial Light Modulator)이다. 결상 광학계(35)는, 반사형 공간 광 변조기(34)의 반사면(34a)과 집광부(14)의 입사 동면(14a)이 결상 관계에 있는 양측 텔레센트릭 광학계를 구성하고 있다. 결상 광학계(35)는, 3개 이상의 렌즈에 의해서 구성되어 있다. The
직선(A1) 및 직선(A2)은, Y방향에 수직인 평면 상에 위치하고 있다. 직선(A1)은, 직선(A2)에 대해서 제2 벽부(22)측(일방의 벽부측)에 위치하고 있다. 레이저 가공 헤드(10A)에서는, 레이저광(L1)은, 입사부(12)로부터 케이스(11) 내에 입사하여 직선(A1) 상을 진행하고, 미러(33) 및 반사형 공간 광 변조기(34)에서 순차적으로 반사된 후, 직선(A2) 상을 진행하여 집광부(14)로부터 케이스(11) 밖으로 출사된다. 또, 어테뉴에이터(31) 및 빔 익스팬더(32)의 배열의 순서는, 반대라도 좋다. 또, 어테뉴에이터(31)는, 미러(33)와 반사형 공간 광 변조기(34)와의 사이에 배치되어 있어도 괜찮다. 또, 조정부(13)는, 다른 광학부품(예를 들면, 빔 익스팬더(32) 전에 배치되는 스티어링 미러 등)을 가지고 있어도 괜찮다. The straight line A1 and the straight line A2 are located on a plane perpendicular to the Y direction. The straight line A1 is located on the
레이저 가공 헤드(10A)는, 다이크로익 미러(15)와, 측정부(16)와, 관찰부(17)와, 구동부(18)와, 회로부(19)를 더 구비하고 있다. The
다이크로익 미러(15)는, 직선(A2) 상에서, 결상 광학계(35)와 집광부(14)와의 사이에 배치되어 있다. 즉, 다이크로익 미러(15)는, 케이스(11) 내에서, 조정부(13)와 집광부(14)와의 사이에 배치되어 있다. 다이크로익 미러(15)는, 제4 벽부(24)측에서 광학 베이스(29)에 장착되어 있다. 다이크로익 미러(15)는, 레이저광(L1)을 투과시킨다. 다이크로익 미러(15)는, 비점수차(非点收差)를 억제하는 관점에서는, 예를 들면, 큐브형, 또는, 비틀림의 관계를 가지도록 배치된 2매의 플레이트형으로 할 수 있다. The
측정부(16)는, 케이스(11) 내에서, 조정부(13)에 대해서 제1 벽부(21)측(일방의 벽부측과는 반대측)에 배치되어 있다. 측정부(16)는, 제4 벽부(24)측에서 광학 베이스(29)에 장착되어 있다. 측정부(16)는, 대상물(100)의 표면(예를 들면, 레이저광(L1)이 입사하는 측의 표면)과 집광부(14)와의 거리를 측정하기 위한 측정광(L10)을 출력하고, 집광부(14)를 거쳐, 대상물(100)의 표면에서 반사된 측정광(L10)을 검출한다. 즉, 측정부(16)로부터 출력된 측정광(L10)은, 집광부(14)를 거쳐 대상물(100)의 표면에 조사되고, 대상물(100)의 표면에서 반사된 측정광(L10)은, 집광부(14)를 거쳐 측정부(16)에서 검출된다. The measuring
보다 구체적으로는, 측정부(16)로부터 출력된 측정광(L10)은, 제4 벽부(24)측에서 광학 베이스(29)에 장착된 빔 스플리터(20), 및 다이크로익 미러(15)에서 순차적으로 반사되어, 집광부(14)로부터 케이스(11) 밖으로 출사된다. 대상물(100)의 표면에서 반사된 측정광(L10)은, 집광부(14)로부터 케이스(11) 내에 입사하여 다이크로익 미러(15) 및 빔 스플리터(20)에서 순차적으로 반사되고, 측정부(16)에 입사되어, 측정부(16)에서 검출된다. More specifically, the measurement light L10 output from the
관찰부(17)는, 케이스(11) 내에서, 조정부(13)에 대해서 제1 벽부(21)측(일방의 벽부측과는 반대측)에 배치되어 있다. 관찰부(17)는, 제4 벽부(24)측에서 광학 베이스(29)에 장착되어 있다. 관찰부(17)는, 대상물(100)의 표면(예를 들면, 레이저광(L1)이 입사하는 측의 표면)을 관찰하기 위한 관찰광(L20)을 출력하고, 집광부(14)를 거쳐, 대상물(100)의 표면에서 반사된 관찰광(L20)을 검출한다. 즉, 관찰부(17)로부터 출력된 관찰광(L20)은, 집광부(14)를 거쳐 대상물(100)의 표면에 조사되고, 대상물(100)의 표면에서 반사된 관찰광(L20)은, 집광부(14)를 거쳐 관찰부(17)에서 검출된다. The
보다 구체적으로는, 관찰부(17)로부터 출력된 관찰광(L20)은, 빔 스플리터(20)를 투과하여 다이크로익 미러(15)에서 반사되고, 집광부(14)로부터 케이스(11) 밖으로 출사된다. 대상물(100)의 표면에서 반사된 관찰광(L20)은, 집광부(14)로부터 케이스(11) 내에 입사하여 다이크로익 미러(15)에서 반사되고, 빔 스플리터(20)를 투과하여 관찰부(17)에 입사되며, 관찰부(17)에서 검출된다. 또, 레이저광(L1), 측정광(L10) 및 관찰광(L20) 각각의 파장은, 서로 다르다(적어도 각각의 중심 파장이 서로 어긋나 있다).More specifically, the observation light L20 output from the
구동부(18)는, 제4 벽부(24)측에서 광학 베이스(29)에 장착되어 있다. 구동부(18)는, 예를 들면 압전 소자의 구동력에 의해서, 제6 벽부(26)에 배치된 집광부(14)를 Z방향을 따라서 이동시킨다. The
회로부(19)는, 케이스(11) 내에서, 광학 베이스(29)에 대해서 제3 벽부(23)측에 배치되어 있다. 즉, 회로부(19)는, 케이스(11) 내에서, 조정부(13), 측정부(16) 및 관찰부(17)에 대해서 제3 벽부(23)측에 배치되어 있다. 회로부(19)는, 예를 들면, 복수의 회로 기판이다. 회로부(19)는, 측정부(16)로부터 출력된 신호, 및 반사형 공간 광 변조기(34)에 입력하는 신호를 처리한다. 회로부(19)는, 측정부(16)로부터 출력된 신호에 근거하여 구동부(18)를 제어한다. 일 예로서, 회로부(19)는, 측정부(16)로부터 출력된 신호에 근거하여, 대상물(100)의 표면과 집광부(14)와의 거리가 일정하게 유지되도록(즉, 대상물(100)의 표면과 레이저광(L1)의 집광점과의 거리가 일정하게 유지되도록), 구동부(18)를 제어한다. 또, 케이스(11)에는, 회로부(19)를 제어부(9)(도 1 참조) 등에 전기적으로 접속하기 위한 배선이 접속되는 커넥터(도시 생략)가 마련되어 있다. The
레이저 가공 헤드(10B)는, 레이저 가공 헤드(10A)와 마찬가지로, 케이스(11)(예를 들면 제2 케이스)와, 입사부(12)와, 조정부(13)와, 집광부(예를 들면 제2 집광부)(14)와, 다이크로익 미러(15)와, 측정부(16)와, 관찰부(17)와, 구동부(18)와, 회로부(19)를 구비하고 있다. 다만, 레이저 가공 헤드(10B)의 각 구성은, 도 2에 나타내어지는 바와 같이, 1쌍의 장착부(65, 66) 사이의 중점을 통과하고 또한 Y방향에 수직인 가상 평면에 관해서, 레이저 가공 헤드(10A)의 각 구성과 면대칭의 관계를 가지도록, 배치되어 있다(또, 후술하는 바와 같이 일예이다). The
예를 들면, 레이저 가공 헤드(10A)의 케이스(11)는, 제4 벽부(24)가 제3 벽부(23)에 대해서 레이저 가공 헤드(10B)측에 위치하고 또한 제6 벽부(26)가 제5 벽부(25)에 대해서 지지부(7)측에 위치하도록, 장착부(65)에 장착되어 있다. 이것에 대해, 레이저 가공 헤드(10B)의 케이스(11)는, 제4 벽부(24)가 제3 벽부(23)에 대해서 레이저 가공 헤드(10A)측에 위치하고 또한 제6 벽부(26)가 제5 벽부(25)에 대해서 지지부(7)측에 위치하도록, 장착부(66)에 장착되어 있다. 즉, 레이저 가공 헤드(10B)에서도, 제4 벽부(24)는, 레이저 가공 헤드(10A)의 케이스에 Y방향을 따라서 대향하는 대향 벽부이다. 또 레이저 가공 헤드(10B)에서도, 집광부(14)는, Z방향으로부터 보아, 그 케이스(11)에서의 제4 벽부(대향 벽부)(24)측으로 치우쳐 배치되어 있다. For example, as for the
레이저 가공 헤드(10B)의 케이스(11)는, 제3 벽부(23)가 장착부(66)측에 배치된 상태로 케이스(11)가 장착부(66)에 장착되도록, 구성되어 있다. 구체적으로는, 다음과 같다. 장착부(66)는, 베이스 플레이트(66a)와, 장착 플레이트(66b)를 가지고 있다. 베이스 플레이트(66a)는, 이동부(63)에 마련된 레일에 장착되어 있다. 장착 플레이트(66b)는, 베이스 플레이트(66a)에서의 레이저 가공 헤드(10A)측의 단부에 세워 마련되어 있다. 레이저 가공 헤드(10B)의 케이스(11)는, 제3 벽부(23)가 장착 플레이트(66b)에 접촉한 상태로, 장착부(66)에 장착되어 있다. 레이저 가공 헤드(10B)의 케이스(11)는, 장착부(66)에 대해서 착탈 가능하다. The
[레이저 가공 헤드의 작용 및 효과][Operation and effect of laser processing head]
레이저 가공 헤드(10A)에서는, 레이저광(L1)을 출력하는 광원이 케이스(11) 내에 마련되어 있지 않기 때문에, 케이스(11)의 소형화를 도모할 수 있다. 게다가, 케이스(11)에서, 제3 벽부(23)와 제4 벽부(24)와의 거리가 제1 벽부(21)와 제2 벽부(22)와의 거리보다도 작고, 제6 벽부(26)에 장착된 집광부(14)가 Y방향에서 제4 벽부(24)측으로 치우쳐 있다. 이것에 의해, 집광부(14)의 광축에 수직인 방향을 따라서 케이스(11)를 이동시키는 경우에, 예를 들면, 제4 벽부(24)측에 다른 구성(예를 들면, 레이저 가공 헤드(10B))이 존재했다고 해도, 해당 다른 구성에 집광부(14)를 가까이 할 수 있다. 따라서, 레이저 가공 헤드(10A)는, 집광부(14)를 그 광축에 수직인 방향을 따라서 이동시키는데 적합할 수 있다. In the
또, 레이저 가공 헤드(10A)에서는, 입사부(12)가, 제5 벽부(25)에 마련되어 있고, Y방향에서 제4 벽부(24)측으로 치우쳐 있다. 이것에 의해, 케이스(11) 내의 영역 중 조정부(13)에 대해서 제3 벽부(23)측의 영역에 다른 구성(예를 들면, 회로부(19))을 배치하는 등, 해당 영역을 유효하게 이용할 수 있다. Moreover, in the
또, 레이저 가공 헤드(10A)에서는, 집광부(14)가, X방향에서 제2 벽부(22)측으로 치우쳐 있다. 이것에 의해, 집광부(14)의 광축에 수직인 방향을 따라서 케이스(11)를 이동시키는 경우에, 예를 들면, 제2 벽부(22)측에 다른 구성이 존재했다고 해도, 해당 다른 구성에 집광부(14)를 가까이 할 수 있다. Moreover, in the
또, 레이저 가공 헤드(10A)에서는, 입사부(12)가, 제5 벽부(25)에 마련되어 있고, Y방향에서 제4 벽부(24)측으로 치우쳐 있음과 아울러, X방향에서 제2 벽부(22)측으로 치우쳐 있다. 이것에 의해, 케이스(11) 내의 영역 중 조정부(13)에 대해서 제3 벽부(23)측의 영역에 다른 구성(예를 들면, 회로부(19))을 배치하는 등, 해당 영역을 유효하게 이용할 수 있다. 게다가, 케이스(11) 내의 영역 중 조정부(13)에 대해서 제1 벽부(21)측의 영역에 다른 구성(예를 들면, 측정부(16) 및 관찰부(17))을 배치하는 등, 해당 영역을 유효하게 이용할 수 있다. Moreover, in 10 A of laser processing heads, while the
또, 레이저 가공 헤드(10A)에서는, 측정부(16) 및 관찰부(17)가, 케이스(11) 내의 영역 중 조정부(13)에 대해서 제1 벽부(21)측의 영역에 배치되어 있고, 회로부(19)가, 케이스(11) 내의 영역 중 조정부(13)에 대해서 제3 벽부(23)측에 배치되어 있고, 다이크로익 미러(15)가, 케이스(11) 내에서 조정부(13)와 집광부(14)와의 사이에 배치되어 있다. 이것에 의해, 케이스(11) 내의 영역을 유효하게 이용할 수 있다. 게다가, 레이저 가공 장치(1)에서, 대상물(100)의 표면과 집광부(14)와의 거리의 측정 결과에 근거한 가공이 가능해진다. 또, 레이저 가공 장치(1)에서, 대상물(100)의 표면의 관찰 결과에 근거한 가공이 가능해진다. Moreover, in the
또, 레이저 가공 헤드(10A)에서는, 회로부(19)가, 측정부(16)로부터 출력된 신호에 근거하여 구동부(18)를 제어한다. 이것에 의해, 대상물(100)의 표면과 집광부(14)와의 거리의 측정 결과에 근거하여 레이저광(L1)의 집광점의 위치를 조정할 수 있다. Moreover, in the
또, 레이저 가공 헤드(10A)에서는, 입사부(12), 그리고 조정부(13)의 어테뉴에이터(31), 빔 익스팬더(32) 및 미러(33)가, Z방향을 따라서 연장되는 직선(A1) 상에 배치되어 있고, 조정부(13)의 반사형 공간 광 변조기(34), 결상 광학계(35) 및 집광부(14), 및 집광부(14)가, Z방향을 따라서 연장되는 직선(A2) 상에 배치되어 있다. 이것에 의해, 어테뉴에이터(31), 빔 익스팬더(32), 반사형 공간 광 변조기(34) 및 결상 광학계(35)를 가지는 조정부(13)를 컴팩트하게 구성할 수 있다. Moreover, in the
또, 레이저 가공 헤드(10A)에서는, 직선(A1)이, 직선(A2)에 대해서 제2 벽부(22)측에 위치하고 있다. 이것에 의해, 케이스(11) 내의 영역 중 조정부(13)에 대해서 제1 벽부(21)측의 영역에서, 집광부(14)를 이용한 다른 광학계(예를 들면, 측정부(16) 및 관찰부(17))를 구성하는 경우에, 해당 다른 광학계의 구성의 자유도를 향상시킬 수 있다. Moreover, in 10 A of laser processing heads, the straight line A1 is located in the
이상의 작용 및 효과는, 레이저 가공 헤드(10B)에 의해서도 동일하게 나타내어진다. The above actions and effects are similarly expressed by the
[레이저 가공 헤드의 변형예][Modified example of laser processing head]
도 6에 나타내어지는 바와 같이, 입사부(12), 조정부(13) 및 집광부(14)는, Z방향을 따라서 연장되는 직선(A) 상에 배치되어 있어도 괜찮다. 이것에 의하면, 조정부(13)를 컴팩트하게 구성할 수 있다. 그 경우, 조정부(13)는, 반사형 공간 광 변조기(34) 및 결상 광학계(35)를 가지지 않아도 좋다. 또, 조정부(13)는, 어테뉴에이터(31) 및 빔 익스팬더(32)를 가지고 있어도 괜찮다. 이것에 의하면, 어테뉴에이터(31) 및 빔 익스팬더(32)를 가지는 조정부(13)를 컴팩트하게 구성할 수 있다. 또, 어테뉴에이터(31) 및 빔 익스팬더(32)의 배열의 순서는, 반대라도 좋다. As shown in FIG. 6 , the
또, 광원 유닛(8)의 출사부(81a)로부터 레이저 가공 헤드(10A)의 입사부(12)로의 레이저광(L1)의 도광(導光), 및 광원 유닛(8)의 출사부(82a)로부터 레이저 가공 헤드(10B)의 입사부(12)로의 레이저광(L2)의 도광 중 적어도 하나는, 미러에 의해서 실시되어도 괜찮다. 도 7은, 레이저광(L1)이 미러에 의해서 도광되는 레이저 가공 장치(1)의 일부분의 정면도이다. 도 7에 나타내어지는 구성에서는, 레이저광(L1)을 반사하는 미러(3)가, Y방향에서 광원 유닛(8)의 출사부(81a)와 대향하고 또한 Z방향에서 레이저 가공 헤드(10A)의 입사부(12)와 대향하도록, 이동 기구(6)의 이동부(63)에 장착되어 있다. Moreover, light guide of the laser beam L1 from the
도 7에 나타내어지는 구성에서는, 이동 기구(6)의 이동부(63)를 Y방향을 따라서 이동시켜도, Y방향에서 미러(3)가 광원 유닛(8)의 출사부(81a)와 대향하는 상태가 유지된다. 또, 이동 기구(6)의 장착부(65)를 Z방향을 따라서 이동시켜도, Z방향에서 미러(3)가 레이저 가공 헤드(10A)의 입사부(12)와 대향하는 상태가 유지된다. 따라서, 레이저 가공 헤드(10A)의 위치에 의하지 않고, 광원 유닛(8)의 출사부(81a)로부터 출사된 레이저광(L1)을, 레이저 가공 헤드(10A)의 입사부(12)에 확실히 입사시킬 수 있다. 게다가, 광 파이버(2)에 의한 도광이 곤란한 고출력 장단 펄스 레이저 등의 광원을 이용할 수도 있다. In the configuration shown in FIG. 7 , even when the moving
또, 도 7에 나타내어지는 구성에서는, 미러(3)는, 각도 조정 및 위치 조정 중 적어도 1개가 가능해지도록, 이동 기구(6)의 이동부(63)에 장착되어 있어도 괜찮다. 이것에 의하면, 광원 유닛(8)의 출사부(81a)로부터 출사된 레이저광(L1)을, 레이저 가공 헤드(10A)의 입사부(12)에, 보다 확실히 입사시킬 수 있다. In addition, in the structure shown in FIG. 7, the
또, 광원 유닛(8)은, 1개의 광원을 가지는 것이라도 좋다. 그 경우, 광원 유닛(8)은, 1개의 광원으로부터 출력된 레이저광의 일부를 출사부(81a)로부터 출사시키고 또한 해당 레이저광의 잔부를 출사부(82a)로부터 출사시키도록, 구성되어 있으면 좋다. Moreover, the
[레이저 가공 장치의 동작 등에 대해서][About operation of laser processing equipment, etc.]
계속해서, 레이저 가공 장치(1)의 동작에 대해 설명한다. 도 8은, 레이저 가공 장치의 동작을 나타내는 모식적인 상면도이다. 이후의 도면에서는, 레이저 가공 헤드(10A, 10B)의 모식화된 내부를 나타낸다. 도 8에 나타내어지는 바와 같이, 지지부(7)에는, 대상물(100)이 지지되어 있다. 또, 도면 중의 부호 S는, 상술한 측정부(16)나 관찰부(17)와 같이, 개질 영역을 형성하기 위한 레이저광(L1, L2)의 조사에 관한 광학계 이외의 광학계를 대표하여 나타내고 있다. Then, the operation|movement of the
또, 레이저 가공 장치(1)는, 얼라이먼트 카메라(AC)와 촬상 유닛(IR)을 구비하고 있다. 얼라이먼트 카메라(AC) 및 촬상 유닛(IR)은, 레이저 가공 헤드(10A)와 함께 장착부(65)에 장착되어 있다. 얼라이먼트 카메라(AC)는, 예를 들면, 대상물(100)을 투과하는 광을 이용한 디바이스 패턴 등을 촬상한다. 이것에 의해 얻어지는 화상은, 대상물(100)에 대한 레이저광(L1, L2)의 조사 위치의 얼라이먼트에 제공된다. Moreover, the
촬상 유닛(IR)은, 대상물(100)을 투과하는 광에 의해 대상물(100)을 촬상한다. 예를 들면, 대상물(100)이 실리콘을 포함하는 웨이퍼인 경우, 촬상 유닛(IR)에서는 근적외 영역의 광이 이용된다. 촬상 유닛(IR)은, 광원(미도시)과, 대물 렌즈(미도시)와, 광 검출부(미도시)를 가지고 있다. 광원은, 대상물(100)에 대해서 투과성을 가지는 광을 출력한다. 광원은, 예를 들면, 할로겐 램프 및 필터에 의해서 구성되어 있고, 예를 들면 근적외 영역의 광을 출력한다. 광원으로부터 출력된 광은, 미러 등의 광학계에 의해서 도광되어 대물 렌즈를 통과하여, 대상물(100)에 조사된다. The imaging unit IR images the
대물 렌즈는, 대상물(100)의 광 입사면과 반대측의 면에서 반사된 광을 통과시킨다. 즉, 대물 렌즈는, 대상물(100)을 전반(傳搬)(투과)한 광을 통과시킨다. 대물 렌즈의 개구수(NA)는, 예를 들면 0.45 이상이다. 대물 렌즈는, 보정환(補正環)을 가지고 있다. 보정환은, 예를 들면 대물 렌즈를 구성하는 복수의 렌즈에서의 상호간의 거리를 조정하는 것에 의해, 대상물(100) 내에서 광에 생기는 수차(收差)를 보정한다. 광 검출부는, 대물 렌즈를 통과한 광을 검출한다. 광 검출부는, 예를 들면, InGaAs 카메라에 의해서 구성되어 있고, 근적외 영역의 광을 검출한다. 촬상 유닛(IR)은, 대상물(100)의 내부에 형성된 개질 영역, 및, 개질 영역으로부터 신장되는 균열의 선단을 촬상할 수 있다. 즉, 레이저 가공 장치(1)에서는, 촬상 유닛(IR)을 이용하여, 비파괴에 의해 레이저 가공의 성부를 확인할 수 있다. The objective lens passes the light reflected from the surface opposite to the light incident surface of the
대상물(100)에는, X방향을 따라서 연장됨과 아울러 Y방향을 따라서 배열된 복수의 라인(C)이 설정되어 있다. 라인(C)은, 가상적인 선이지만, 실제로 그려진 선이라도 괜찮다. 또, 대상물(100)에는, Y방향을 따라서 연장됨과 아울러 X방향을 따라서 배열된 복수의 라인도 설정되어 있지만, 그 도시가 생략되어 있다. A plurality of lines C extending along the X direction and arranged along the Y direction are set in the
레이저 가공 장치(1)는, 제어부(9)의 제어하에서 각 라인(C)을 따른 레이저 가공을 실시한다. 제어부(9)는, 여기에서는, 지지부(7), 장착부(65), 및, 장착부(66)의 이동과, 레이저 가공 헤드(10A) 및 레이저 가공 헤드(10B)로부터의 레이저광(L1, L2)의 조사를 제어한다. 레이저 가공 장치(1)에 있어서는, 제어부(9)는, 제1 스캔 처리와 제2 스캔 처리를 실행한다. 제1 스캔 처리는, 복수의 라인(C)의 1의 라인(C)에 대해서 레이저 가공 헤드(10A)로부터의 레이저광(L1)을 X방향으로 스캔하는 처리이다. 제2 스캔 처리는, 복수의 라인(C) 중 다른 라인(C)에 대해서 레이저 가공 헤드(10B)로부터의 레이저광(L2)을 X방향으로 스캔하는 처리이다. The
제어부(9)가 레이저광(L1, L2)을 X방향으로 스캔한다는 것은, 먼저, 장착부(65, 66)를 매개로 하여 레이저 가공 헤드(10A, 10B)를 Y방향 및 Z방향으로 이동시켜, 레이저광(L1, L2)의 집광점을, 각각의 라인(C) 상으로서 대상물(100)의 내부가 되는 위치에 위치시킨 상태로 한다. 그리고, 그 상태에서, 지지부(7)를 X방향으로 이동시키는 것에 의해, 대상물(100) 내를 라인(C)을 따라서 X방향으로 레이저광(L1, L2)의 집광점을 이동시키는 것이다. The
특히, 여기에서는, 제어부(9)는, 제1 스캔 처리와 제2 스캔 처리를, 적어도 일부의 시간에서 중복하도록 실행한다. 즉, 제어부(9)는, 하나의 라인(C)을 따라서 레이저광(L1)이 스캔되어 있는 상태와, 다른 라인(C)을 따라서 레이저광(L2)이 스캔되어 있는 상태가, 동시에 실현되도록 한다. 즉, 제어부(9)는, 레이저 가공 헤드(10A)와 레이저 가공 헤드(10B)를 동시에 가동한다. 이것에 의해, 1개의 레이저 가공 헤드를 이용한 가공에 비해 명확하게 스루풋의 향상이 도모된다. In particular, here, the
제어부(9)는, 1개의 라인(C)을 따른 레이저광(L1, L2)의 스캔이 완료되면, 레이저 가공 헤드(10A, 10B) 각각을 독립하여 라인(C)의 간격분(分)만큼 Y방향(필요에 따라서 Z방향)으로 이동시켜, 다음의 라인(C)을 따른 레이저광(L1, L2)의 스캔(즉 제1 스캔 처리 및 제2 스캔 처리)을 계속한다. 제어부(9)는, 거의 라인(C)의 갯수분만큼 이 동작을 계속해서 행하는 것에 의해, 모든 라인(C)을 따라서 개질 영역을 형성한다.When the scanning of the laser beams L1 and L2 along one line C is completed, the
도 9 및 도 10에 나타내어지는 바와 같이, 여기에서는, 제어부(9)는, 복수의 라인(C) 중 대상물(100)의 Y방향의 일방의 단부에 위치하는 라인(C)으로부터 Y방향의 내측의 라인(C)을 향해서 순서대로 제1 스캔 처리를 실행한다. 이것과 함께, 제어부(9)는, 복수의 라인(C) 중 대상물(100)의 Y방향의 타방의 단부에 위치하는 라인(C)으로부터 Y방향의 내측의 라인을 향해서 순서대로 제2 스캔 처리를 실행한다(이것을 '주(主)가공 처리'라고 칭함). Y방향의 일방의 단부에 위치하는 라인(C)과, Y방향의 타방의 단부에 위치하는 라인(C)은, X방향에서 서로 동일한 길이를 가지고 있다. As shown in FIG.9 and FIG.10, here, the
이 점에 대해 보다 상세하게 설명한다. 주가공 처리에서는, 먼저, 제어부(9)는, 장착부(65)를 매개로 한 레이저 가공 헤드(10A)의 이동에 의해, 레이저광(L1)의 집광점을, 대상물(100)의 Y방향의 일방의 단부에 위치하는 라인(C) 상으로서 대상물(100)의 내부가 되는 위치에 위치시킨 상태로 한다. 동시에, 제어부(9)는, 장착부(66)를 매개로 한 레이저 가공 헤드(10B)의 이동에 의해, 레이저광(L2)의 집광점을, 대상물(100)의 Y방향의 타방의 단부에 위치하는 라인(C) 상으로서 대상물(100)의 내부가 되는 위치에 위치시킨 상태로 한다. 이 때, 레이저광(L1)의 집광점의 X방향의 위치와 레이저광(L2)의 집광점의 X방향의 위치는 일치하고 있다. This point will be described in more detail. In the main processing process, first, the
그 상태에서, 제어부(9)는, 지지부(7)를 X방향으로 이동시키는 것에 의해, 대상물(100) 내를 각각의 라인(C)을 따라서 X방향으로 레이저광(L1, L2)의 집광점을 이동시킨다. 이것에 의해, 각각의 라인(C)에 대한 제1 스캔 처리와 제2 스캔 처리가, 동시에 개시됨과 아울러 동시에 완료된다. 즉, 여기에서는, 제1 스캔 처리와 제2 스캔 처리가 그 전체에서 중복하고 있다. 이것에 의해, 한 쌍의 라인(C)을 따라서 대상물(100)의 내부에 개질 영역(M)이 형성된다. In that state, the
이어서, 제어부(9)는, 장착부(65)를 매개로 한 레이저 가공 헤드(10A)의 이동에 의해, 레이저광(L1)의 집광점을, 대상물(100)의 Y방향의 일방의 단부로부터 1개만큼 내측에 위치하는 라인(C) 상으로서 대상물(100)의 내부가 되는 위치에 위치시킨 상태로 한다. 동시에, 제어부(9)는, 장착부(66)를 매개로 한 레이저 가공 헤드(10B)의 이동에 의해, 레이저광(L2)의 집광점을, 대상물(100)의 Y방향의 타방의 단부로부터 1개만큼 내측에 위치하는 라인(C) 상으로서 대상물(100)의 내부가 되는 위치에 위치시킨 상태로 한다. 이 때, 레이저광(L1)의 집광점의 X방향의 위치와 레이저광(L2)의 집광점의 X방향의 위치는 일치하고 있다. Next, the
그 상태에서, 제어부(9)는, 지지부(7)를 X방향(왕복 동작인 경우에는 X방향의 반대 방향)으로 이동시키는 것에 의해, 대상물(100) 내를 각각의 라인(C)을 따라서 X방향(왕복 동작인 경우에는 X방향의 반대 방향)으로 레이저광(L1, L2)의 집광점을 이동시킨다. 이것에 의해, 여기에서도, 각각의 라인(C)에 대한 제1 스캔 처리와 제2 스캔 처리가, 동시에 개시됨과 아울러 동시에 완료된다. 즉, 여기에서도, 제1 스캔 처리와 제2 스캔 처리가 그 전체에서 중복하고 있다. 이것에 의해, 한 쌍의 라인(C)을 따라서 대상물(100)의 내부에 개질 영역(M)이 더 형성된다. 이 제어부(9)의 동작을 반복하여 행하는 것에 의해, 대상물(100)의 보다 내측의 라인(C)에 이르기까지, 레이저 가공 헤드(10A)와 레이저 가공 헤드(10B)를 동시에 가동시켜 빠짐없이 레이저 가공을 할 수 있다. In that state, the
또, 도 9 이후의 상면도에서는, 설명의 필요상, 개질 영역(M)을 실선으로서 나타내고 있지만, 대상물(100)의 표면으로부터 실제로 개질 영역(M)이 보이고 있는 것을 필요로 하지 않는다. Moreover, in the top view after FIG. 9, although the modified area|region M is shown as a solid line for the necessity of explanation, it is not required that the modified area|region M is actually seen from the surface of the
여기서, 도 11에 나타내어지는 바와 같이, 상기의 동작을 반복하는 중에, 보다 대상물(100)의 내측의 영역에서, 레이저 가공 헤드(10A)와 레이저 가공 헤드(10B)와의 위치 관계가, 서로의 거리가 Y방향으로 이것 이상 줄어들지 않는 위치 관계(예를 들면 서로 접촉하고 있는 상태)가 되고, 또한, 각각의 집광부(14)의 사이의 거리(D)에 상당하는 대상물(100)의 영역에, 미가공의 라인(C)이 잔존하고 있는 경우가 있다. 이 경우에는, 상기와 같이 제1 스캔 처리와 제2 스캔 처리를 동시에 실행하는 것이 곤란해진다. 따라서, 제어부(9)는, 이 경우에는, 다음과 같은 처리를 실행한다. Here, as shown in FIG. 11, while repeating the above operation, in the region inside the
즉, 도 12에 나타내어지는 바와 같이, 제어부(9)는, 주가공 처리의 결과, 레이저 가공 헤드(10A)와 레이저 가공 헤드(10B)가 Y방향에 대해 가장 접근했을 때에, 레이저 가공 헤드(10A)를 퇴피시키면서 제2 스캔 처리를 속행한다. 즉, 이후에서는, 레이저 가공 헤드(10B)를 이용한 제2 스캔 처리만이 실행되게 된다. 또, 여기에서는, 일 예로서, 미가공으로 잔존하는 라인(C) 중, Y방향에 대해 가장 레이저 가공 헤드(10A)측의 라인(C)으로부터 Y방향의 외측을 향해서(화살표(R1) 방향으로) 순서대로 제2 스캔 처리를 실행해도 괜찮다. 제어부(9)는, 이 제2 스캔 처리만을 실행하고 있을 때에, 도 13에 나타내어지는 바와 같이, 장착부(65)를 매개로 하여 촬상 유닛(IR)을 가공이 완료된 라인(C) 상으로 이동시킴과 아울러, 해당 라인(C)을 포함하는 대상물(100)의 영역을 촬상 유닛(IR)에 의해 촬상하는 촬상 처리를 실행한다. That is, as shown in FIG. 12, the
그리고, 제어부(9)는, 촬상 처리에 의해 얻어진 화상에 근거하여, 해당 영역에서 대상물(100)에 개질 영역(M) 및/또는 개질 영역(M)으로부터 신장되는 균열이 규정을 따라서 형성되어 있는지 여부의 판정을 행한다. 여기에서는, 제어부(9)는, 개질 영역(M) 그 자체를 확인하여 해당 판정을 해도 괜찮고, 개질 영역(M)으로부터 신장되는 균열의 선단의 유무 또는 위치를 확인하여 해당 판정을 행해도 괜찮다. 일 예로서, 제어부(9)는, 도 14에 나타내어지는 바와 같이, 해당 화상 내에서, 개질 영역(M)이 형성되어 있어야할 해당 라인(C)을 따라서 미가공 영역(RS)이 생기는 것을 검지하고, 개질 영역(M)이 규정을 따라서 형성되어 있지 않다고 판정할 수 있다. 이 경우에는, 제어부(9)는, 해당 라인(C)을 따른 레이저광(L1)의 스캔을 재차 행하는 보조 가공 처리를 실행한다. 이것에 의해, 미가공 영역(RS)이 생겨 있던 라인(C)을 따라서 개질 영역(M)이 형성된다. Then, the
이와 같이, 제어부(9)는, 해당 판정의 결과, 해당 규정을 따라서 개질 영역(M) 및/또는 균열이 형성되어 있지 않다고 판정한 경우에는, 적어도 해당 라인(C)을 따른 레이저광(L1)의 스캔을 재차 행하는 보조 가공 처리를 실행한다. 또, 제어부(9)는, 대상물(100)에서의 라인(C) 상 중 적어도 1개소에서, 촬상 처리를 행할 수 있다. In this way, when it is determined that the modified region M and/or cracks are not formed according to the regulation as a result of the determination, the
[레이저 가공 장치의 작용 및 효과][Operation and effect of laser processing equipment]
레이저 가공 장치(1)는, X방향을 따라서 이동 가능하게 되고, X방향 및 Y방향을 따라서 대상물(100)을 지지하기 위한 지지부(7)와, Y방향을 따라서 서로 대향하도록 배치되고, 지지부(7)에 지지된 대상물(100)에 레이저광(L1, L2)을 조사하기 위한 레이저 가공 헤드(10A, 10B)를 구비한다. 또, 레이저 가공 장치(1)는, 레이저 가공 헤드(10A)가 장착되고, Y방향과 Z방향 각각을 따라 이동 가능하게 된 장착부(65)와, 레이저 가공 헤드(10B)가 장착되고, Y방향과 Z방향 각각을 따라서 이동 가능하게 된 장착부(66)를 구비한다. 그리고, 레이저 가공 장치(1)는, 장착부(65)에 장착되어 있고, 대상물(100)을 투과하는 광에 의해 대상물(100)을 촬상하는 촬상 유닛(IR)을 구비한다. The
이 레이저 가공 장치(1)에서는, 대상물(100)을 지지하는 지지부(7) 상에, 서로 대향하도록 레이저 가공 헤드(10A) 및 레이저 가공 헤드(10B)가 배치되어 있다. 그리고, 레이저 가공 헤드(10A) 및 레이저 가공 헤드(10B)는, 각각, 장착부(65) 및 장착부(66)를 매개로 하여, 서로 교차하는 2방향으로 독립하여 이동 가능하게 되어 있다. 이 때문에, 대상물(100)의 2개의 개소에서, 서로 독립하여, 레이저광(L1, L2)의 스캔에 의해 레이저 가공을 행하는 것이 가능해진다. 따라서, 스루풋의 향상이 도모된다. In this
또, 레이저 가공 헤드(10A)의 이동을 담당하는 장착부(65)에는, 대상물(100)을 투과하는 광에 의해 대상물(100)을 촬상하는 촬상 유닛(IR)이 더 장착되어 있다. 따라서, 예를 들면, 레이저 가공 헤드(10B)에 의한 레이저 가공을 실시하고 있는 동안에, 촬상 유닛(IR)에 의해 대상물(100)의 다른 개소를 촬상할 수 있다. 따라서, 스루풋의 저하를 억제하면서, 비파괴에 의해 레이저 가공의 상태를 확인할 수 있다. 즉, 레이저 가공 장치(1)에 의하면, 스루풋을 향상시키면서 비파괴에 의해 레이저 가공의 성부를 확인할 수 있다. Moreover, the imaging unit IR which images the
또, 레이저 가공 장치(1)는, 지지부(7), 장착부(65), 및, 장착부(66)의 이동과, 레이저 가공 헤드(10A) 및 레이저 가공 헤드(10B)로부터의 레이저광(L1, L2)의 조사와, 촬상 유닛(IR)에 의한 대상물(100)의 촬상을 제어하는 제어부(9)를 더 구비하고 있다. 대상물(100)에는, X방향을 따라서 연장됨과 아울러 Y방향을 따라서 배열된 복수의 라인(C)이 설정되어 있다. 그리고, 제어부(9)는, 복수의 라인(C) 중 하나의 라인(C)에 대해서 레이저 가공 헤드(10A)로부터의 레이저광(L1)을 X방향으로 스캔하는 제1 스캔 처리와, 복수의 라인(C) 중 다른 라인(C)에 대해서 레이저 가공 헤드(10B)로부터의 레이저광(L2)을 X방향으로 스캔하는 제2 스캔 처리를 적어도 일부의 시간에서 중복하여 실행한다. 게다가, 제어부(9)는, 제2 스캔 처리만을 실행하고 있을 때에, 가공이 완료된 라인(C)을 포함하는 대상물(100)의 영역을 촬상 유닛(IR)에 의해 촬상하는 촬상 처리를 실행한다. Moreover, the
이와 같이, 제1 스캔 처리와 제2 스캔 처리를 중복하여 실행하는 것에 의해, 스루풋의 향상이 도모된다. 또, 제2 스캔 처리만이 행하여지고 있는 타이밍에서, 레이저 가공 헤드(10A)와 함께 이동 가능한 촬상 유닛(IR)을 제어하여 촬상 처리를 헹할 수 있다. 따라서, 보다 확실히, 스루풋을 향상시키면서 비파괴에 의해 레이저 가공의 성부를 확인할 수 있다. As described above, by performing the first scan process and the second scan process in duplicate, the throughput is improved. Moreover, at the timing in which only the 2nd scan process is performed, imaging process can be rinsed by controlling imaging unit IR which can move together with 10 A of laser processing heads. Therefore, the success or failure of laser processing can be confirmed non-destructively, improving a throughput more reliably.
또, 레이저 가공 장치(1)에서는, 제어부(9)는, 촬상 처리에 의해 얻어진 화상에 근거하여, 해당 영역에서 대상물(100)에 개질 영역(M) 및/또는 균열이 규정을 따라서 형성되어 있는지 여부의 판정을 행함과 아울러, 해당 판정의 결과, 규정을 따라서 개질 영역(M) 및/또는 균열이 형성되어 있지 않다고 판정한 경우에는, 적어도 해당 라인(C)을 따른 레이저광(L1)의 스캔을 재차 행하는 보조 가공 처리를 실행한다. 이 때문에, 보조 가공 처리에 의해서, 가공 미스가 보완된다. Moreover, in the
또, 레이저 가공 장치(1)에서는, 제어부(9)는, 복수의 라인(C) 중 대상물(100)의 Y방향의 일방의 단부에 위치하는 라인(C)으로부터 제2 방향의 내측의 라인(C)을 향해서 순서대로 제1 스캔 처리를 실행하면서, 복수의 라인(C) 중 대상물(100)의 Y방향의 타방의 단부에 위치하는 라인(C)으로부터 Y방향의 내측의 라인(C)을 향해서 순서대로 제2 스캔 처리를 실행하는 주가공 처리를 실행한다. 이와 같이, 주가공 처리에서, Y방향에서의 대상물(100)의 대조적인 위치의 라인(C)으로부터 순서대로 제1 스캔 처리 및 제2 스캔 처리를 실행하는 것에 의해, 레이저광(L1, L2)의 집광점의 대상물(100)에 대한 X방향을 따른 상대 이동의 낭비가 줄어들어, 스루풋이 보다 향상된다. Moreover, in the
게다가, 레이저 가공 장치(1)에서는, 제어부(9)는, 주가공 처리에서, 레이저 가공 헤드(10A)와 레이저 가공 헤드(10B)가 Y방향에 대해 가장 접근했을 때에, 레이저 가공 헤드(10A)를 해당 영역으로부터 퇴피시키면서 제2 스캔 처리를 속행함과 아울러, 촬상 처리를 실행한다. 이 경우, 레이저 가공 헤드(10A)와 레이저 가공 헤드(10B)를 최대한으로 활용하여 스루풋을 향상시키면서, 비파괴에 의해 레이저 가공의 성부를 확인할 수 있다. Moreover, in the
[변형예][Modified example]
이상의 실시 형태는, 레이저 가공 장치의 일 실시 형태를 예시한 것이다. 따라서, 본 개시에 관한 레이저 가공 장치는, 상기의 레이저 가공 장치(1)에 한정되지 않고, 임의로 변형될 수 있다. The above embodiment exemplifies one embodiment of the laser processing apparatus. Therefore, the laser processing apparatus which concerns on this indication is not limited to the said
도 15~도 18은, 장착부 및 레이저 가공 헤드의 변형예를 나타내는 도면이다. 도 15의 (a)에 나타내어지는 바와 같이, 장착부(65)를 레이저 가공 헤드(10A)의 케이스(11)의 제1 벽부(21)에 마련하면서, 장착부(66)를 레이저 가공 헤드(10B)의 케이스(11)의 제1 벽부(21)에 마련해도 괜찮다. 또, 도 15의 (b)에 나타내어지는 바와 같이, 장착부(65)를 레이저 가공 헤드(10A)의 케이스(11)의 제3 벽부(23)에 마련하면서, 장착부(66)를, 레이저 가공 헤드(10B)의 케이스(11)의 제3 벽부(23)에 마련하는 형태에서, 장착부(65, 66)에서의 이동부(63, 64)의 위치를 X방향으로 다르게 해도 괜찮다. 게다가, 도 15의 (c)에 나타내어지는 바와 같이, 장착부(65)를 레이저 가공 헤드(10A)의 케이스(11)의 제2 벽부(22)에 마련하면서, 장착부(66)를 레이저 가공 헤드(10B)의 케이스(11)의 제2 벽부(22)에 마련해도 좋다. 15 to 18 are views showing modified examples of the mounting part and the laser processing head. As shown in Fig. 15(a), the mounting
또, 도 16의 (a)에 나타내어지는 바와 같이, 장착부(65)를 레이저 가공 헤드(10A)의 케이스(11)의 제5 벽부(25)에 마련하면서, 장착부(66)를 레이저 가공 헤드(10B)의 케이스(11)의 제5 벽부(25)에 마련해도 괜찮다. 또, 도 16의 (b)에 나타내어지는 바와 같이, 장착부(65)를 레이저 가공 헤드(10A)의 케이스(11)의 제6 벽부(26)에 마련하면서, 장착부(66)를 레이저 가공 헤드(10B)의 케이스(11)의 제6 벽부(26)에 마련해도 괜찮다. 이상과 같이, 장착부(65, 66)는, 각각, Y방향을 따라서 서로 대향하는 제4 벽부(24)와 다른 벽부에 장착되어 있으면 좋다. 게다가, 도 16의 (c)에 나타내어지는 바와 같이, 제1 벽부(21)와 제2 벽부(22)와의 간격을 확대하면서, X방향에 대해 케이스(11)의 중앙부에 집광부(14)를 마련해도 좋다. Moreover, as shown in Fig. 16(a), while providing the mounting
또, 이상의 예와 같이, 레이저 가공 장치(1)에서는, 한 쌍의 레이저 가공 헤드로서, 레이저 가공 헤드(10A)와 레이저 가공 헤드(10B)를 이용하지 않아도 된다. 즉, 레이저 가공 장치(1)에서는, 도 17의 (a)에 나타내어지는 바와 같이, 한 쌍의(1종류의) 레이저 가공 헤드(10A)를 이용하거나, 도 17의 (b)에 나타내어지는 바와 같이, 한 쌍의(다른 1종류의) 레이저 가공 헤드(10B)를 이용하거나 할 수 있다. 이들의 경우에는, 일방의 레이저 가공 헤드(10A, 10B)에 대해서 타방의 레이저 가공 헤드(10A, 10B)를 Z축 방향을 중심으로 180° 회전시킨 상태에서, 각각의 집광부(14)의 X방향의 중심 위치가 일치하도록 배치된다. 이들의 경우에는, 2종류의 레이저 가공 헤드를 준비할 필요가 없다. Moreover, like the above example, in the
이들과 같이, 레이저 가공 헤드(10A)만(혹은 레이저 가공 헤드(10B)만)을 이용하는 경우라도, 장착부(65, 66)를 마련하는 벽부는 여러가지로 변경할 수 있다. 예를 들면, 도 18의 (a)에 나타내어지는 바와 같이, 1개의 레이저 가공 헤드(10A)의 케이스(11)의 제1 벽부(21)에 장착부(65)를 마련하면서, 1개의 레이저 가공 헤드(10A)의 케이스(11)의 제2 벽부(22)에 장착부(66)를 마련할 수 있다. 또, 도 18의 (b)에 나타내어지는 바와 같이, 1개의 레이저 가공 헤드(10B)의 케이스(11)의 제2 벽부(22)에 장착부(65)를 마련하면서, 1개의 레이저 가공 헤드(10B)의 케이스(11)의 제1 벽부(21)에 장착부(66)를 마련해도 괜찮다. 즉, 이들의 경우라도, 장착부(65, 66)는, 각각, Y방향을 따라서 서로 대향하는 제4 벽부(24)와 다른 벽부에 장착되어 있으면 좋다. Likewise, even when only the
또, 상기 실시 형태에서는, 레이저 가공 헤드(10A)가 장착되는 장착부(65)에 대해서, 촬상 유닛(IR)을 장착되는 형태에 대해서 설명했다. 그렇지만, 레이저 가공 헤드(10B)가 장착되는 장착부(66)에 대해서 촬상 유닛(IR)을 장착하고, 제1 스캔 처리만이 실행되고 있을 때에 촬상 처리를 행하도록 해도 괜찮다. 또, 촬상 유닛(IR)은, 장착부(65, 66)에 장착되는 경우에 한정되지 않고, 레이저 가공 헤드(10A)(또는 레이저 가공 헤드(10B))와 함께 Y방향 및 Z방향으로 이동 가능한 위치이고, 또한, 레이저 가공 헤드(10A)의 제4 벽부(24)와 레이저 가공 헤드(10B)의 제4 벽부(24)와의 사이에 개재하지 않는 임의의 위치에 마련될 수 있다. In addition, in the said embodiment, the form to which imaging unit IR is attached was demonstrated about the
또, 제어부(9)는, 레이저 가공 헤드(10A)로부터의 레이저광(L1)과, 레이저 가공 헤드(10B)로부터의 레이저광(L2)에 의해, 서로 다른 파장, 및 Z방향의 집광 위치에서, 대상물(100)을 가공하는 처리(다파낟(多波長) 가공)를 실행하도록 해도 괜찮다. 다파장 가공은, 예를 들면, 실리콘(Si)과 글라스를 접합시킨 웨이퍼를 가공하는 경우(제1의 경우)나, 이면측으로부터 입사한 레이저광(L1, L2)의 일부가 디바이스에 흡수되는 것에 의해 회로의 파손이 생길 수 있는 웨이퍼를 가공하는 경우(제2의 경우) 등에 사용할 수 있다. Moreover, the
제1의 경우, 실리콘을 가공하는 파장(예를 들면 1064nm)의 광과 글라스를 가공하는 파장(예를 들면 532nm)의 광이 모두 대상 재료에 닿을 필요가 있기 때문에, 글라스측으로부터 가공을 실시한다. 레이저 가공 헤드(10A)로부터의 레이저광(L1)의 집광 위치를 글라스 넘어 실리콘 내에 맞추고, 레이저 가공 헤드(10B)로부터의 레이저광(L2)의 집광 위치를 글라스 내에 맞추어, 대응하는 파장으로 가공을 실시한다. 이와 같이 다른 2종류의 기재가 접합된 웨이퍼를 다파장 가공으로 가공하기 위해서는, 그 파장 중, 하측의 기재를 가공하는 파장은, 상측의 기재를 투과하는 파장일 필요가 있다. 여기에서는, 한 쌍의 레이저 가공 헤드(10A, 10B)를 이용하여 다파장 가공을 행하기 때문에 스루풋의 향상이 도모된다. In the first case, both the light of the wavelength for processing silicon (for example, 1064 nm) and the light with the wavelength for processing the glass (for example, 532 nm) need to reach the target material, so the processing is performed from the glass side. . The condensing position of the laser light L1 from the
한편, 제2의 경우, 레이저 가공 헤드(10A)로부터의 레이저광(L1)의 집광 위치를 디바이스 근방에 설정하고, 또한, 레이저 가공 헤드(10B)로부터의 레이저광(L2)의 집광 위치를 디바이스로부터 떨어진 위치로 설정한다. 레이저광(L1)의 파장은, 디바이스측으로의 누설광이 적게 되도록, 보다 기재에 흡수가 있는 파장(예를 들면 1064nm)으로 하고, 레이저광(L2)의 파장은, 다소의 누설광이 생긴다고 해도, 보다 기재의 가공에 적절한 레이저광(L1)의 파장보다도 긴 파장(예를 들면 1342nm)으로 할 수 있다. On the other hand, in the second case, the converging position of the laser beam L1 from the
[산업상의 이용 가능성][Industrial Applicability]
스루풋을 향상시키면서 비파괴에 의해 레이저 가공의 성부를 확인할 수 있는 레이저 가공 장치가 제공된다. A laser processing apparatus capable of confirming the success or failure of laser processing by non-destructiveness while improving throughput is provided.
1 - 레이저 가공 장치
7 - 지지부
9 - 제어부
10A - 레이저 가공 헤드(제1 레이저 가공 헤드)
10B - 레이저 가공 헤드(제2 레이저 가공 헤드)
65 - 장착부( 제1 장착부)
66 - 장착부( 제2 장착부)
100 - 대상물
C - 라인
IR - 촬상 유닛
L1, L2 - 레이저광1 - laser processing device
7 - support
9 - control
10A - laser processing head (first laser processing head)
10B - laser processing head (second laser processing head)
65 - mounting part ( first mounting part)
66 - mounting part ( second mounting part)
100 - object
C - line
IR - imaging unit
L1, L2 - laser light
Claims (5)
상기 제2 방향을 따라서 서로 대향하도록 배치되고, 상기 지지부에 지지된 상기 대상물에 레이저광을 조사하기 위한 제1 레이저 가공 헤드 및 제2 레이저 가공 헤드와,
상기 제1 레이저 가공 헤드가 장착되고, 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 교차하는 제3 방향과 상기 제2 방향 각각을 따라 이동 가능하게 된 제1 장착부와,
상기 제2 레이저 가공 헤드가 장착되고, 상기 제2 방향 및 상기 제3 방향 각각을 따라 이동 가능하게 된 제2 장착부와,
상기 제1 장착부에 장착되어 있고, 상기 대상물을 투과하는 광에 의해 상기 대상물을 촬상하는 촬상 유닛을 구비하는 레이저 가공 장치.a support part movable along a first direction and configured to support an object in the first direction and in a second direction intersecting the first direction;
A first laser processing head and a second laser processing head disposed to face each other along the second direction, and for irradiating a laser beam to the object supported by the support;
a first mounting part on which the first laser processing head is mounted and movable along each of the third direction and the second direction intersecting the first direction and the second direction;
a second mounting part on which the second laser processing head is mounted and movable along each of the second direction and the third direction;
and an imaging unit mounted on the first mounting unit and configured to image the target object with light transmitted through the target object.
상기 지지부, 상기 제1 장착부, 및, 상기 제2 장착부의 이동과, 상기 제1 레이저 가공 헤드 및 상기 제2 레이저 가공 헤드로부터의 상기 레이저광의 조사와, 상기 촬상 유닛에 의한 상기 대상물의 촬상을 제어하는 제어부를 더 구비하며,
상기 대상물에는, 상기 제1 방향을 따라서 연장됨과 아울러 상기 제2 방향을 따라서 배열된 복수의 라인이 설정되어 있고,
상기 제어부는, 상기 복수의 라인 중 하나의 라인에 대해서 상기 제1 레이저 가공 헤드로부터의 상기 레이저광을 상기 제1 방향으로 스캔하는 제1 스캔 처리와, 상기 복수의 라인 중 다른 라인에 대해서 상기 제2 레이저 가공 헤드로부터의 상기 레이저광을 상기 제1 방향으로 스캔하는 제2 스캔 처리를 적어도 일부의 시간에서 중복하여 실행함과 아울러, 상기 제2 스캔 처리만을 실행하고 있을 때에, 가공이 완료된 라인을 포함하는 상기 대상물의 영역을 상기 촬상 유닛에 의해 촬상하는 촬상 처리를 실행하는 레이저 가공 장치.The method according to claim 1,
Controls movement of the support part, the first mounting part, and the second mounting part, irradiation of the laser beam from the first laser processing head and the second laser processing head, and imaging of the target by the imaging unit It further comprises a control unit that
A plurality of lines extending along the first direction and arranged along the second direction are set in the object,
The control unit includes a first scan process for scanning the laser beam from the first laser processing head in the first direction with respect to one of the plurality of lines, and the second line for the other of the plurality of lines. 2 While executing the second scan process for scanning the laser beam from the laser processing head in the first direction in duplicate at least for a part of time, while executing only the second scan process, the line on which processing has been completed A laser processing apparatus for performing imaging processing for imaging an area of the target object including the imaging unit.
상기 제어부는, 상기 촬상 처리에 의해 얻어진 화상에 근거하여, 상기 영역에서 상기 대상물에 개질 영역 및/또는 균열이 규정을 따라서 형성되어 있는지 여부의 판정을 행함과 아울러, 상기 판정의 결과, 상기 규정을 따라서 상기 개질 영역 및/또는 균열이 형성되어 있지 않다고 판정한 경우에는, 적어도 상기 라인을 따른 상기 레이저광의 스캔을 재차 행하는 보조 가공 처리를 실행하는 레이저 가공 장치.3. The method according to claim 2,
The control unit determines, based on the image obtained by the imaging process, whether or not a modified region and/or cracks are formed in the object in the region according to a regulation, and as a result of the judgment, Therefore, when it is determined that the said modified area|region and/or a crack is not formed, the laser processing apparatus which performs the auxiliary processing process which scans the said laser beam along the said line again at least.
상기 제어부는, 상기 복수의 라인 중 상기 대상물의 상기 제2 방향의 일방의 단부에 위치하는 라인으로부터 상기 제2 방향의 내측의 라인을 향해서 순서대로 상기 제1 스캔 처리를 실행하면서, 상기 복수의 라인 중 상기 대상물의 상기 제2 방향의 타방의 단부에 위치하는 라인으로부터 상기 제2 방향의 내측의 라인을 향해서 순서대로 상기 제2 스캔 처리를 실행하는 주(主)가공 처리를 실행하는 레이저 가공 장치.4. The method according to claim 3,
The control unit executes the first scan process sequentially from a line positioned at one end of the object in the second direction among the plurality of lines toward an inner line in the second direction while executing the first scan process on the plurality of lines. A laser processing apparatus for executing a main processing process of sequentially executing the second scan process from a line positioned at the other end of the object in the second direction toward an inner line in the second direction.
상기 제어부는, 상기 주가공 처리에서, 상기 제1 레이저 가공 헤드와 상기 제2 레이저 가공 헤드가 상기 제2 방향에 대해 가장 접근했을 때에, 상기 제1 레이저 가공 헤드를 퇴피(退避)시키면서 상기 제2 스캔 처리를 속행(續行)함과 아울러, 상기 촬상 처리를 실행하는 레이저 가공 장치.5. The method according to claim 4,
The control unit, in the main processing, when the first laser processing head and the second laser processing head are closest to the second direction, while retracting the first laser processing head, the second The laser processing apparatus which carries out the said imaging process while continuing a scan process.
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---|---|---|---|---|
JPS56129340A (en) * | 1980-03-13 | 1981-10-09 | Toshiba Corp | Method of dividing platelike material |
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JP2004276101A (en) * | 2003-03-18 | 2004-10-07 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Laser beam machining method and laser beam machining apparatus |
KR100641716B1 (en) * | 2005-02-16 | 2006-11-10 | 토파즈엘시디 주식회사 | Manufacturing Method for Light Guide Panel Using CO2 Laser |
GB0622232D0 (en) * | 2006-11-08 | 2006-12-20 | Rumsby Philip T | Method and apparatus for laser beam alignment for solar panel scribing |
JP2010010209A (en) * | 2008-06-24 | 2010-01-14 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | Laser dicing method |
CN101826575B (en) * | 2010-02-20 | 2012-01-04 | 英利能源(中国)有限公司 | Method for laying photovoltaic module |
JP5284299B2 (en) * | 2010-03-04 | 2013-09-11 | シャープ株式会社 | Thin film solar cell manufacturing method and thin film solar cell manufacturing laser processing apparatus |
JP5789802B2 (en) * | 2011-03-22 | 2015-10-07 | 株式会社ソシオネクスト | Manufacturing method of semiconductor chip |
DE102011079739A1 (en) * | 2011-07-25 | 2013-01-31 | Lpkf Laser & Electronics Ag | Device and method for carrying out and monitoring a plastic laser transmission welding process |
CN102637012B (en) * | 2012-04-01 | 2013-12-18 | 深圳市联赢激光股份有限公司 | Double-path power negative feedback system for laser processing equipment |
JP6559477B2 (en) * | 2015-06-23 | 2019-08-14 | 株式会社ディスコ | Wafer processing method |
CN205166178U (en) * | 2015-10-26 | 2016-04-20 | 惠州市杰普特电子技术有限公司 | Laser welding apparatus |
CN205290076U (en) * | 2015-12-16 | 2016-06-08 | 深圳市联懋塑胶有限公司 | Laser welding device is used in processing of cell -phone shell |
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