KR20210062231A - Etching resist ink composition - Google Patents

Etching resist ink composition Download PDF

Info

Publication number
KR20210062231A
KR20210062231A KR1020190150177A KR20190150177A KR20210062231A KR 20210062231 A KR20210062231 A KR 20210062231A KR 1020190150177 A KR1020190150177 A KR 1020190150177A KR 20190150177 A KR20190150177 A KR 20190150177A KR 20210062231 A KR20210062231 A KR 20210062231A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
ink composition
etching resist
resist ink
barium sulfate
pvp
Prior art date
Application number
KR1020190150177A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102362334B1 (en
Inventor
아라타 엔도
전성제
이진희
송형완
Original Assignee
한국다이요잉크 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한국다이요잉크 주식회사 filed Critical 한국다이요잉크 주식회사
Priority to KR1020190150177A priority Critical patent/KR102362334B1/en
Publication of KR20210062231A publication Critical patent/KR20210062231A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102362334B1 publication Critical patent/KR102362334B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/30Sulfur-, selenium- or tellurium-containing compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L29/00Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical; Compositions of hydrolysed polymers of esters of unsaturated alcohols with saturated carboxylic acids; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L29/14Homopolymers or copolymers of acetals or ketals obtained by polymerisation of unsaturated acetals or ketals or by after-treatment of polymers of unsaturated alcohols
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/42Stripping or agents therefor
    • G03F7/422Stripping or agents therefor using liquids only

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)

Abstract

The present invention relates to an eco-friendly etching resist ink composition that can be peeled off by water, and specifically, to an ink composition that is selectively peeled off by water. The etching resist ink composition includes: polyvinylpyrillidone (PVP) having a weight average molecular weight of 39,000 - 1,590,000 g/mol and an inorganic filler that is barium sulfate.

Description

에칭 레지스트 잉크 조성물{ETCHING RESIST INK COMPOSITION}Etching resist ink composition TECHNICAL FIELD

본 발명은 물에 의해 박리가 가능한 친환경 에칭 레지스트 잉크 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to an eco-friendly etching resist ink composition capable of being peeled off by water.

인쇄된 에칭 레지스트 잉크는 일반적으로 강알칼리성의 박리액을 사용하여 박리되고 있다. 그러나, 강알칼리성의 박리액은 박리 후 폐액을 폐기시킬 때 환경오염의 우려가 있으며, 추가적인 폐액 처리 단계가 필요하다는 점에서 한계가 있다. 특허공개공보 제 2017-0095661 호에는 강알칼리성의 알칸올 아민 화합물을 20~30% 함유하는 박리액을 사용하고 있는데, 이 경우, 박리 폐액의 폐기시 여전히 인체에 대한 유해성 및 환경오염의 문제가 존재한다.The printed etching resist ink is generally peeled off using a strongly alkaline stripper. However, the strongly alkaline stripping solution has a limitation in that there is a concern of environmental pollution when the waste solution is discarded after stripping, and an additional waste solution treatment step is required. Patent Laid-Open Publication No. 2017-0095661 uses a stripping solution containing 20 to 30% of a strongly alkaline alkanol amine compound. In this case, when the stripping waste solution is discarded, there are still problems of harmfulness to the human body and environmental pollution. do.

또한, 특허공개공보 제 2017-0123050 호에는 상기 인체에 대한 유해성 및 환경오염의 문제를 해결하기 위해, 시클로덱스트린 또는 그 유도체를 포함하는 친환경적인 수계 박리액 조성물을 제공하는 것이 기재되어 있으나, 상기 박리액은 물에 추가적인 물질을 첨가하여 박리액으로 사용하고 있다.In addition, Patent Publication No. 2017-0123050 describes providing an eco-friendly aqueous stripper composition containing cyclodextrin or a derivative thereof in order to solve the problem of harmfulness to the human body and environmental pollution. The liquid is used as a stripper by adding additional substances to water.

특허공개공보 제 2017-0095661 호Patent Publication No. 2017-0095661 특허공개공보 제 2017-0123050 호Patent Publication No. 2017-0123050

본 발명은 에칭 레지스트 잉크 조성물에 관한 것으로, 물에 의해 선택적으로 박리되는, 친환경 에칭 레지스트 잉크 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention relates to an etching resist ink composition, and an object thereof is to provide an eco-friendly etching resist ink composition that is selectively peeled off by water.

본 발명은, 중량 평균 분자량 39,000 ~ 1,590,000 g/mol 인 폴리비닐피릴리돈(PVP) 및 황산바륨인 무기 필러를 포함하는, 에칭 레지스트 잉크 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to an etching resist ink composition comprising polyvinylpyrlidone (PVP) having a weight average molecular weight of 39,000 to 1,590,000 g/mol and an inorganic filler of barium sulfate.

상기 폴리비닐피릴리돈(PVP) 의 중량 평균 분자량은 40,000 ~ 80,000 g/mol 일 수 있다.The weight average molecular weight of the polyvinylpyrlidone (PVP) may be 40,000 to 80,000 g/mol.

상기 황산바륨은 0.1 내지 60 중량% 로 포함될 수 있다.The barium sulfate may be included in an amount of 0.1 to 60% by weight.

상기 황산바륨은 30 내지 60 중량% 로 포함될 수 있다.The barium sulfate may be included in an amount of 30 to 60% by weight.

상기 황산바륨은 표면 처리되지 않은 것일 수 있다.The barium sulfate may not be surface-treated.

상기 에칭 레지스트 잉크 조성물은 희석제를 포함할 수 있다.The etching resist ink composition may include a diluent.

상기 에칭 레지스트 잉크 조성물은 첨가제로서 소포제, 레벨링제 및 분산제 중 적어도 하나 이상을 추가로 포함할 수 있으며, 상기 소포제, 레벨링제 및 분산제 중 적어도 하나 이상은 0.1 내지 5 중량% 로 포함될 수 있다.The etching resist ink composition may further include at least one or more of an antifoaming agent, a leveling agent, and a dispersing agent as an additive, and at least one or more of the antifoaming agent, leveling agent, and dispersing agent may be included in an amount of 0.1 to 5% by weight.

본 발명의 에칭 레지스트 잉크 조성물은 물에 의해 박리되는 조성물이다.The etching resist ink composition of the present invention is a composition that is peeled off by water.

본 발명의 에칭 레지스트 잉크 조성물은 물에 의한 박리성이 우수하다. 나아가, 본 발명의 에칭 레지스트 잉크 조성물은 강알칼리성인 일반 박리액을 필요로 하지 않고, 물에 의한 박리가 가능하여 강알칼리성인 일반 박리액에 의해 유해성 물질이 발생하는 것을 막을 수 있어, 친환경적이다.The etching resist ink composition of the present invention is excellent in peelability by water. Further, the etching resist ink composition of the present invention does not require a strong alkaline general stripper, and can be stripped by water, thereby preventing the generation of harmful substances by a strong alkaline general stripper, and is eco-friendly.

또한, 본 발명의 에칭 레지스트 잉크 조성물은 유동성이 적고, 번짐 현상이 적으며, 인쇄표면에 기포가 적어 파포성 및 레벨링성이 우수하여 인쇄성이 우수하다.In addition, the etching resist ink composition of the present invention has low fluidity, less bleeding, and less air bubbles on the printing surface, so it has excellent foamability and leveling properties, and thus has excellent printability.

도 1 은 실시예 4 내지 6 의 에칭 레지스트 잉크 조성물을 사용하여 유리 기판에 인쇄한 결과를 나타낸 것이다.
도 2 는 실시예 4 내지 6 의 에칭 레지스트 잉크 조성물을 유리 기판에 인쇄하고, 이를 50℃ 에서 H2O 로 박리한 결과를 나타낸 것이다.
1 shows the results of printing on a glass substrate using the etching resist ink compositions of Examples 4 to 6.
2 shows the results of printing the etching resist ink compositions of Examples 4 to 6 on a glass substrate, and peeling them with H 2 O at 50°C.

본 발명에 따른 에칭 레지스트 잉크 조성물은, 폴리비닐피릴리돈(PVP) 및 황산바륨인 무기 필러를 포함할 수 있다.The etching resist ink composition according to the present invention may include an inorganic filler such as polyvinylpyrlidone (PVP) and barium sulfate.

이어서 본 발명의 에칭 레지스트 잉크 조성물의 각 성분에 대해서 설명한다. Next, each component of the etching resist ink composition of the present invention will be described.

[(A) 폴리비닐피릴리돈(PVP)][(A) Polyvinylpyrlidone (PVP)]

본 발명의 하나의 실시양태에서, 에칭 레지스트 잉크 조성물에 포함되는 폴리비닐피릴리돈(PVP) 의 중량 평균 분자량은 39,000 ~ 1,590,000 g/mol 일 수 있으며, 바람직하게는 40,000 ~ 80,000 g/mol 일 수 있다. 폴리비닐피릴리돈(PVP) 의 중량 평균 분자량이 상기 범위 내인 경우, 에칭 레지스트 잉크 조성물이 스크린 인쇄에 적합하며, 물에 의한 박리성이 우수하다. 반면, 폴리비닐피릴리돈(PVP) 의 중량 평균 분자량이 상기 범위를 벗어나는 경우, 스크린 인쇄에 부적합할 수 있고, 물에서의 박리성이 저하될 수 있다. 폴리비닐피릴리돈(PVP) 의 중량 평균 분자량이 39,000 g/mol 미만일 경우 스크린 인쇄에 부적합할 수 있고, 폴리비닐피릴리돈(PVP) 의 중량 평균 분자량이 1,590,000 g/mol 를 초과할 경우 물에서의 박리성이 저하될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the weight average molecular weight of polyvinylpyrlidone (PVP) included in the etching resist ink composition may be 39,000 to 1,590,000 g/mol, preferably 40,000 to 80,000 g/mol. have. When the weight average molecular weight of polyvinylpyrlidone (PVP) is within the above range, the etching resist ink composition is suitable for screen printing and has excellent peelability by water. On the other hand, when the weight average molecular weight of polyvinylpyrlidone (PVP) is out of the above range, it may be unsuitable for screen printing, and peelability in water may be deteriorated. If the weight average molecular weight of polyvinylpyrlidone (PVP) is less than 39,000 g/mol, it may be unsuitable for screen printing, and if the weight average molecular weight of polyvinylpyrlidone (PVP) exceeds 1,590,000 g/mol, in water The peeling property of may be deteriorated.

상기 중량 평균 분자량은 NMR 스펙트로스코피, 크로마토그래피, 광산란측정법, 삼투압측정법 등의 검사방법에 의해 정의할 수 있다. 폴리비닐피릴리돈(PVP)을 포함하는 폴리비닐피릴리돈(PVP) 수지의 K-Value는 27 내지 100 일 수 있고, 보다 바람직하게는 27 내지 33 일 수 있다. 일반적으로는 하기 일반식 1을 사용하여 계산할 수 있다.The weight average molecular weight can be defined by test methods such as NMR spectroscopy, chromatography, light scattering measurement, and osmotic pressure measurement. The K-Value of the polyvinylpyrlidone (PVP) resin including polyvinylpyrlidone (PVP) may be 27 to 100, more preferably 27 to 33. In general, it can be calculated using the following general formula 1.

[일반식 1][General Formula 1]

Figure pat00001
,
Figure pat00002
Figure pat00001
,
Figure pat00002

(c = 100 ml에 녹아있는 수지의 g농도 용액의 농도, n = 용액점도/용매점도)(c = concentration of the g-concentration solution of the resin dissolved in 100 ml, n = solution viscosity/solvent viscosity)

pH는 3 내지 10 이며, 바람직하게는 3 내지 7 일 수 있다. The pH may be 3 to 10, preferably 3 to 7.

유리 전이 온도 (Glass Transition temperature, Tg)는 100 내지 190℃ 가 바람직하며, 보다 바람직하게는 150 내지 180℃ 범위일 수 있다. The glass transition temperature (Tg) is preferably 100 to 190°C, and more preferably 150 to 180°C.

본 발명의 하나의 실시양태에서, 폴리비닐피릴리돈(PVP)는 ASHLAND社의 PVP K-30, K-60, K-90; NIPPON SHOKUBAI社의 Polyvynylpyrrolidone K-30, K-85, K-90, K-30W, K-85W, K-90W; Tokyo Chemical Industry 社의 Polyvinylpyrrolidone K 30, K 60, K 90; JH Nanhang Life Sciences社 PVP-P Grade USP28,NF23, PVP K30, K85, K90; BASF社의 LUVITEC K 30, K 85, K 90, K 90HM, K 90S, K 90 CQ; Boai NKY Pharmaceuticals社의 KoVidone K 25, K 30, K 90, VA64, XL, XL-10 등일 수 있으며 각 제품의 고상 또는 고형분을 액상 용제에 용해 시킨 모든 타입을 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, polyvinylpyrlidone (PVP) is selected from ASHLAND's PVP K-30, K-60, K-90; Polyvynylpyrrolidone K-30, K-85, K-90, K-30W, K-85W, K-90W from NIPPON SHOKUBAI; Polyvinylpyrrolidone K 30, K 60, K 90 from Tokyo Chemical Industry; JH Nanhang Life Sciences' PVP-P Grade USP28, NF23, PVP K30, K85, K90; BASF's LUVITEC K 30, K 85, K 90, K 90HM, K 90S, K 90 CQ; It can be Boai NKY Pharmaceuticals' KoVidone K 25, K 30, K 90, VA64, XL, XL-10, etc., and can include all types of solid or solid content of each product dissolved in a liquid solvent.

[(B) 황산바륨][(B) Barium sulfate]

본 발명의 하나의 실시양태에서, 에칭 레지스트 잉크 조성물에 포함되는 무기 필러는 황산 바륨이다. 에칭 레지스트 잉크 조성물에 황산 바륨을 포함함으로써, 에칭 레지스트 잉크 조성물의 유동성을 조절할 수 있고, 번짐 현상이 없어지는 등 인쇄성이 우수하고, 물에 대한 박리성이 우수하다. In one embodiment of the present invention, the inorganic filler included in the etching resist ink composition is barium sulfate. By including barium sulfate in the etching resist ink composition, the fluidity of the etching resist ink composition can be adjusted, bleeding is eliminated, and so on, the printability is excellent, and the peelability to water is excellent.

폴리비닐피롤리돈(PVP)와 함께 무기 필러로서 황산 바륨을 사용하는 경우, 황산 바륨은 다른 무기 필러에 비해 큰 비중을 가지기 때문에, 수계 박리 조건에서 기재 표면으로부터 빠르게 탈착되어 에칭 레지스트 잉크 조성물의 박리 속도를 향상 시킬 수 있다.When barium sulfate is used as an inorganic filler with polyvinylpyrrolidone (PVP), since barium sulfate has a greater specific gravity than other inorganic fillers, it is rapidly desorbed from the surface of the substrate under water-based peeling conditions and the etching resist ink composition is peeled off. You can improve the speed.

본 발명의 하나의 실시양태에서, 무기 필러인 황산바륨은 에칭 레지스트 잉크 조성물의 총 중량에 대하여 0.1 내지 60 중량% 로 포함될 수 있다. 바람직하게, 상기 황산 바륨은 30 내지 60 중량% 로 포함될 수 있다. In one embodiment of the present invention, barium sulfate, which is an inorganic filler, may be included in an amount of 0.1 to 60% by weight based on the total weight of the etching resist ink composition. Preferably, the barium sulfate may be included in an amount of 30 to 60% by weight.

에칭 레지스트 잉크 조성물에 포함되는 황산바륨의 함량이 상기 범위 내인 경우, 에칭 레지스트 잉크 조성물의 유동성을 조절할 수 있고, 번짐 현상이 없어져 우수한 인쇄성 및 물에 대한 박리성을 구현할 수 있다. 반면, 에칭 레지스트 잉크 조성물에 포함되는 황산바륨의 함량이 30 중량% 미만인 경우, 인쇄 후 도막이 번지는 단점이 있으며, 60 중량% 초과인 경우 수지 함량이 부족하여 박리성이 저하되는 단점이 있다.When the content of barium sulfate contained in the etching resist ink composition is within the above range, the fluidity of the etching resist ink composition can be adjusted, bleeding is eliminated, and excellent printability and releasability to water can be realized. On the other hand, when the content of barium sulfate contained in the etching resist ink composition is less than 30% by weight, there is a disadvantage of spreading the coating film after printing, and when it exceeds 60% by weight, there is a disadvantage that the peelability is deteriorated due to insufficient resin content.

본 발명의 하나의 실시양태에서, 황산바륨은 통상적으로 시판되는 제품을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 표면처리가 되지 않은 황산바륨, 바람직하게는 직경이 0.7 내지 10㎛ 인 것을 사용할 수 있다. In one embodiment of the present invention, as barium sulfate, a commercially available product may be used, preferably barium sulfate without surface treatment, preferably having a diameter of 0.7 to 10 μm.

황산바륨은 직경이 0.7㎛ 이상인 것부터 상용되며 에칭 레지스트 잉크 조성물에 포함되는 황산바륨의 직경이 10㎛ 를 초과할 경우 인쇄성과 인쇄 경계면이 나빠지는 단점이 있다.Barium sulfate is commonly used from those having a diameter of 0.7 µm or more, and when the diameter of barium sulphate contained in the etching resist ink composition exceeds 10 µm, printability and printing interface are deteriorated.

황산 바륨의 평균 입자 직경 및 입도 분포는 레이저 회절 및 산란법(측정기기 : Mastersizer 3000, Malvern Panalytical社)에 의해 정의할 수 있다.The average particle diameter and particle size distribution of barium sulfate can be defined by laser diffraction and scattering (measuring instrument: Mastersizer 3000, Malvern Panalytical).

본 발명의 하나의 실시양태에서, 황산바륨은 Koch社의 KCB-01, KCB-02, KCB-03, KCB-07, KCB-8000, BSB-8000; Nippon-chem社의 Barium sulfate; SAKAI CHEMICAL INDUSTRY社의 BARIUM SULFATE 100, 110, 200, 270, 300, B-54, B-55; Gemme社의 Gemme Fine GM-80, BSP-L, GM-F, BSP-X 등일 수 있다.In one embodiment of the present invention, barium sulfate is selected from Koch's KCB-01, KCB-02, KCB-03, KCB-07, KCB-8000, BSB-8000; Barium sulfate from Nippon-chem; SAKAI CHEMICAL INDUSTRY's BARIUM SULFATE 100, 110, 200, 270, 300, B-54, B-55; It may be Gemme Fine GM-80, BSP-L, GM-F, BSP-X of Gemme.

본 발명의 하나의 실시양태에서, 에칭 레지스트 잉크 조성물에 포함되는 황산바륨은 표면 처리되지 않은 것일 수 있다. 상기 표면처리 성분으로는, 예를 들면, SiO2-Al2O3, 산화 실리콘, 산화 알루미늄 등을 들 수 있다. 표면 처리되지 않은 황산 바륨을 사용하면, 수계 박리 조건에서 기재 표면으로부터 빠르게 탈착되어 에칭 레지스트 잉크의 박리 속도를 향상 시킬 수 있다.In one embodiment of the present invention, the barium sulfate contained in the etching resist ink composition may not be surface-treated. Examples of the surface treatment component include SiO 2 -Al 2 O 3 , silicon oxide, and aluminum oxide. If barium sulfate without surface treatment is used, it is rapidly desorbed from the surface of the substrate under water-based peeling conditions, thereby improving the peeling speed of the etching resist ink.

본 발명의 하나의 실시양태에서, 에칭 레지스트 잉크 조성물은 희석제를 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the etch resist ink composition may include a diluent.

희석제로서는 특별히 제한은 없지만, 예를 들면, 케톤, 방향족 탄화수소 류, 글리콜 에테르 류, 글리콜 에테르 아세테이트 류, 에스테르 류, 알코올 류, 지방족 탄화수소 석유계 용제 등을 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 메틸 에틸 케톤, 시클로 헥사논, 메틸 부틸 케톤, 메틸 이소 부틸 케톤 등의 케톤류; 톨루엔, 크실렌, 테트라 메틸 벤젠 등의 방향족 탄화수소 류; 세로소루부, 메틸 셀로 솔브, 부틸 셀로 솔브, 카르비톨, 메틸 카르비톨, 부틸 카르비톨, 에틸렌 글리콜 모노 메틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노 에틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노 부틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노 메틸 에테르, 디프로필렌 글리콜 모노 메틸 에테르, 디프로필렌 글리콜 디 에틸 에테르, 트리 에틸렌 글리콜 모노 에틸 에테르 등의 글리콜 에테르 류, 에탄올, 프로판올, 2-메톡시 프로판올, n-부탄올, 이소 부틸 알코올, 이소 펜틸 알코올, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜 등의 알코올 류; 옥탄, 데칸 등의 지방족 탄화수소; 석유 에테르, 석유 나프타, 수소첨가 석유 나프타, 솔벤트 나프타 등의 석유계 용제; N,N-디메틸 포름 아미드 (DMF), 테트라 클로로 에틸렌, 식물성 기름 등을 들 수 있다. Although there is no restriction|limiting in particular as a diluent, For example, ketone, aromatic hydrocarbons, glycol ethers, glycol ether acetates, esters, alcohols, aliphatic hydrocarbon petroleum solvents, etc. are mentioned. More specifically, ketones, such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl butyl ketone, and methyl isobutyl ketone; Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and tetramethylbenzene; Cerosorubu, Methyl Cellosolve, Butyl Cellosolve, Carbitol, Methyl Carbitol, Butyl Carbitol, Ethylene Glycol Mono Methyl Ether, Ethylene Glycol Mono Ethyl Ether, Ethylene Glycol Mono Butyl Ether, Propylene Glycol Mono Methyl Ether, Dipropylene Glycol Glycol ethers such as monomethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, ethanol, propanol, 2-methoxy propanol, n-butanol, isobutyl alcohol, isopentyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol Alcohols such as; Aliphatic hydrocarbons such as octane and decane; Petroleum solvents such as petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha, and solvent naphtha; N,N-dimethyl formamide (DMF), tetrachloroethylene, vegetable oil, and the like.

또한, 마루젠석유화학 회사의 스와졸 1000, 스와졸 1500, 스탠다드 석유 오사카 발매소 회사의 소루벳소 100, 소루벳소 150, 산쿄 화학 회사의 솔벤트 #100, 솔벤트 # 150, 쉘 케미칼 재팬 회사의 쉘 졸 A100, 쉘 졸 A150, 이데미츠 흥산 회사의 이프졸 100번, 이프졸 150번 등의 유기 용제를 사용할 수 있다. 유기 용제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상의 혼합물로 사용할 수 있다. In addition, Maruzen Petrochemical Company's Suwasol 1000, Suwasol 1500, Standard Petroleum Osaka Sales Office Company's Sorubsso 100, Sorubeso 150, Sankyo Chemical Company's Solvent #100, Solvent #150, Shell Chemical Japan Company's Shell Sol A100 , Shell Sol A150, Idemitsu Heungsan's Ipsol No. 100, Ipsol No. 150, etc. organic solvents can be used. Organic solvents may be used alone or in a mixture of two or more.

본 발명의 하나의 실시양태에서, 에칭 레지스트 잉크 조성물은 첨가제로서 소포제, 레벨링제 및 분산제 중 적어도 하나 이상을 추가로 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the etching resist ink composition may further include at least one or more of an antifoaming agent, a leveling agent and a dispersing agent as an additive.

상기 에칭 레지스트 잉크 조성물은 필요에 따라, 첨가제로서 실리콘계, 불소계, 고분자계 등의 소포제 및/또는 레벨링제를 포함할 수 있다. 상기 소포제, 레벨링제 및 분산제는 모두 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 시판되는 제품 중 적절히 선택하여 사용할 수 있다. If necessary, the etching resist ink composition may include a silicone-based, fluorine-based, polymer-based antifoaming agent and/or a leveling agent as an additive. All of the antifoaming agent, leveling agent, and dispersing agent may be appropriately selected and used among commercially available products by a person skilled in the art.

본 발명의 하나의 실시양태에서, 상기 소포제, 레벨링제 및 분산제 중 적어도 하나 이상은 0.1 내지 5 중량% 로 포함될 수 있다. 에칭 레지스트 잉크 조성물에 포함되는 소포제, 레벨링제 및 분산제 중 적어도 하나 이상의 함량이 상기 범위 내인 경우, 에칭 레지스트 잉크 조성물의 유동성을 조절할 수 있고, 번짐 현상이 없어지는 등 인쇄성이 우수하다. 또한, 에칭 레지스트 잉크 조성물에 포함되는 소포제, 레벨링제 및 분산제 중 적어도 하나 이상의 함량이 0.1 중량% 미만인 경우, 인쇄 후 잉크 도막과 기재 간의 부착성이 저하되는 단점이 있으며, 파포성 및/또는 레벨링성이 저하되는 단점이 있다. 소포제, 레벨링제 및 분산제 중 적어도 하나 이상의 함량이 5 중량% 초과인 경우, 상 분리가 일어날 수 있다는 단점이 있다.In one embodiment of the present invention, at least one or more of the antifoaming agent, leveling agent and dispersing agent may be contained in an amount of 0.1 to 5% by weight. When the content of at least one or more of the antifoaming agent, leveling agent, and dispersing agent contained in the etching resist ink composition is within the above range, the flowability of the etching resist ink composition can be adjusted, and the bleeding phenomenon is eliminated, and the printability is excellent. In addition, when the content of at least one of the antifoaming agent, leveling agent, and dispersing agent included in the etching resist ink composition is less than 0.1% by weight, there is a disadvantage in that the adhesion between the ink coating film and the substrate is lowered after printing, and the foamability and/or leveling property There is a downside to this deterioration. When the content of at least one of the antifoaming agent, the leveling agent and the dispersing agent is more than 5% by weight, there is a disadvantage that phase separation may occur.

본 발명은 하기 실시예에 의해 제한되지 않는다.The present invention is not limited by the following examples.

실험예 1Experimental Example 1

하기 표 1에 기재된 원료를 용기에 넣고 교반하여 필러가 고르게 분산된 것을 육안으로 확인한 후에 3본 롤에 연육하여 잉크를 제조하였다. 하기 표 1 에 기재된 원료의 함량은 중량% 단위로 기재하였다.The raw materials shown in Table 1 were put in a container, stirred, and visually confirmed that the filler was evenly dispersed, and then softened to three rolls to prepare an ink. The content of the raw materials listed in Table 1 below is described in units of weight %.

실시예 1 내지 6 및 비교예 1 내지 5 의 잉크 조성물을 유리 기판에 스크린 인쇄하여 150℃에서, 20분간 열경화하였고, 비교예 6 의 잉크 조성물은 UV 1000mJ/cm2 광경화하였다.The ink compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 5 were screen-printed on a glass substrate and thermally cured at 150° C. for 20 minutes, and the ink composition of Comparative Example 6 was UV 1000 mJ/cm 2 photocured.

[표 1] [Table 1]

Figure pat00003
Figure pat00003

PVP Resin : 폴리비닐피릴리돈 수지(PVP K-30, JH Nanhang Life Sciences 社) PVP Resin: Polyvinylpyrlidone resin (PVP K-30, JH Nanhang Life Sciences)

* PVP 함량 = PVP Resin 내 폴리비닐피릴리돈(PVP)의 함량* PVP content = content of polyvinylpyrlidone (PVP) in PVP resin

F-896 Resin : 페놀 수지(강남 화성 社)F-896 Resin: Phenolic resin (Hwaseong, Gangnam)

UP-039 : 폴리에스터 아크릴레이트 올리고머(ENTIS 社)UP-039: Polyester acrylate oligomer (ENTIS)

KR-450 : Rubber Modified 에폭시 수지(KUKDO 社)KR-450: Rubber Modified Epoxy Resin (KUKDO)

KSR-177 : High Performance 에폭시 수지(KUKDO 社)KSR-177: High Performance Epoxy Resin (KUKDO)

BARIACE B-30 : SiO2-Al2O3로 표면이 코팅된 BaSO4 BARIACE B-30 : BaSO 4 coated with SiO 2 -Al 2 O 3

KCB-8000 : BaSO4, Purity : 100% KCB-8000: BaSO 4 , Purity: 100%

KR-450 : Rubber Modified 에폭시 수지(KUKDO 社)KR-450: Rubber Modified Epoxy Resin (KUKDO)

KSR-177 : High Performance 에폭시 수지(KUKDO 社)KSR-177: High Performance Epoxy Resin (KUKDO)

KC-3000 : Talc (KOCH 社)KC-3000: Talc (KOCH company)

SOFTON 1800 : CaCO3 (BIHOKU FUNKA KOGYO 社)SOFTON 1800: CaCO 3 (BIHOKU FUNKA KOGYO 社)

E+508 : Sperical Silicone Resin powder(ABC Nanotech 社)E+508: Sperical Silicone Resin powder (ABC Nanotech Co.)

실시예 1 내지 6 및 비교예 1 내지 6 의 잉크 조성물을 유리 기판에 스크린 인쇄 후 150℃에서 20분간 열경화 또는 UV 1000mJ/cm2 광경화했다. 인쇄성은 인쇄하였을 때 번지는 정도를 육안 및 현미경으로 관찰하여 측정하였다.The ink compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 6 were screen-printed on a glass substrate and then thermally cured at 150° C. for 20 minutes or UV 1000 mJ/cm 2 photocured. Printability was measured by observing the degree of bleeding when printed with the naked eye and a microscope.

이후, 잉크가 인쇄된 유리 기판을 용제에 5분간 침적하여 기판 표면에 남은 잔사를 육안으로 평가했다. 박리성은 각각 50℃ H2O / 70℃ 3wt% NaOH 에 5분 Dipping 후 유리 기판 표면에 남은 잔사를 육안으로 평가하였다.Thereafter, the glass substrate on which the ink was printed was immersed in a solvent for 5 minutes, and the residue remaining on the surface of the substrate was visually evaluated. The peelability was visually evaluated for the residue remaining on the surface of the glass substrate after 5 minutes dipping in 50°C H 2 O / 70°C 3wt% NaOH, respectively.

평가항목 1 : 인쇄성Evaluation Item 1: Printability

인쇄성은 실시예 1 내지 6 및 비교예 1 내지 6 의 잉크 조성물을 유리 기판에 스크린 인쇄 후 150℃에서 20분간 열경화 한 후 번짐 영역의 크기 및/또는 파포성과 레벨링성으로 평가했다.Printability was evaluated by screen printing the ink compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 6 on a glass substrate and then thermosetting at 150° C. for 20 minutes, and then the size of the bleeding area and/or the blistering property and leveling property.

XX : 번짐 영역이 10 μm 초과 또는 인쇄 표면에 기포가 많아 파포성이나 레벨링성이 떨어짐XX: The bleeding area exceeds 10 μm or there are many air bubbles on the printing surface, so the rupture or leveling properties are poor.

X : 번짐 영역이 5 ~ 10 μmX: The bleeding area is 5 ~ 10 μm

△ : 번짐 영역이 2 ~ 5 μm△: Spreading area is 2 ~ 5 μm

○ : 번짐 영역이 2 μm 이하○: Spreading area is 2 μm or less

평가항목 2 : 박리성Evaluation Item 2: Peelability

박리성은 잉크가 인쇄된 유리 기판을 용제에 5분간 침적하여 기판 표면에 남은 잔사를 육안으로 확인하여 평가했다.The peelability was evaluated by immersing the ink-printed glass substrate in a solvent for 5 minutes and visually checking the residue remaining on the substrate surface.

X : 박리 안됨X: No peeling

△ : 잔사 육안으로 확인 가능△: Residue can be checked visually

○ : 잔사 없음○: No residue

[표 2][Table 2]

Figure pat00004
Figure pat00004

비교예 1 에 비해 실시예 1 내지 6 은 인쇄표면에 기포가 적어 파포성 및 레벨링성이 우수하다.Compared to Comparative Example 1, Examples 1 to 6 have fewer air bubbles on the printed surface, and thus have excellent foamability and leveling properties.

비교예 2 내지 6 에 비해 실시예 1 내지 6 은, 순수한 물에서 박리성이 우수하다.Compared to Comparative Examples 2 to 6, Examples 1 to 6 are superior in peelability in pure water.

실시예 4 내지 6 의 결과로부터 알 수 있는 바와 같이, 황산 바륨의 함량이 증가하면 번짐 현상이 줄어들어 인쇄성도 우수하다. As can be seen from the results of Examples 4 to 6, when the content of barium sulfate is increased, the bleeding phenomenon is reduced and the printability is also excellent.

실시예 1 내지 3 과 실시예 4 내지 6 의 결과로부터 알 수 있는 바와 같이, 무기 필러로서 표면 처리를 하지 않은 황산바륨을 사용한 경우, 표면 처리를 한 황산바륨을 사용한 것에 비해 번짐 현상이 줄어들어 인쇄성이 우수하고, 순수한 물에서의 박리성이 우수하다.As can be seen from the results of Examples 1 to 3 and Examples 4 to 6, when barium sulfate without surface treatment was used as the inorganic filler, the bleeding phenomenon was reduced compared to using barium sulfate treated with the surface, and thus printability. This is excellent, and the peelability in pure water is excellent.

실험예 2Experimental Example 2

하기 표 3 에 기재된 원료를 사용한 것을 제외하고는 상기 실험예 1 에서와 동일하게 잉크를 제조했다. 하기 표 3 에 기재된 원료의 함량은 중량% 단위로 기재했다.An ink was prepared in the same manner as in Experimental Example 1, except that the raw materials shown in Table 3 were used. The content of the raw materials listed in Table 3 below was described in units of weight %.

[표 3][Table 3]

Figure pat00005
Figure pat00005

PVP K-15 : 중량 평균 분자량 6,000 - 15,000 g/molPVP K-15: Weight average molecular weight 6,000-15,000 g/mol

PVP K-30 : 중량 평균 분자량 40,000 - 80,000 g/molPVP K-30: Weight average molecular weight 40,000-80,000 g/mol

PVP K-60 : 중량 평균 분자량 240,000 - 450,000 g/molPVP K-60: Weight average molecular weight 240,000-450,000 g/mol

PVP K-90 : 중량 평균 분자량 900,000 - 1,500,000 g/molPVP K-90: Weight average molecular weight 900,000-1,500,000 g/mol

* PVP 함량 = PVP Resin 내 폴리비닐피릴리돈(PVP)의 함량* PVP content = content of polyvinylpyrlidone (PVP) in PVP resin

실시예 7 내지 9 및 비교예 7 의 잉크 조성물을 유리 기판에 스크린 인쇄 후 150℃에서 20분간 열경화하였다. 이후, 잉크가 인쇄된 유리 기판을 용제에 5분간 침적하여 기판 표면에 남은 잔사를 육안으로 평가하였다.After screen printing of the ink compositions of Examples 7 to 9 and Comparative Example 7 on a glass substrate, heat curing was performed at 150° C. for 20 minutes. Thereafter, the ink-printed glass substrate was immersed in a solvent for 5 minutes, and the residue remaining on the substrate surface was visually evaluated.

평가항목 1 : 인쇄성Evaluation Item 1: Printability

인쇄성은 실시예 7 내지 9 및 비교예 7 의 잉크 조성물을 유리 기판에 스크린 인쇄 후 150℃에서 20분간 열경화 한 후 번짐 영역의 크기로 평가하였다.Printability was evaluated by screen printing the ink compositions of Examples 7 to 9 and Comparative Example 7 on a glass substrate, followed by thermal curing at 150° C. for 20 minutes, and then the size of the smeared area.

XX : 번짐 영역이 10 μm 초과 또는 인쇄 표면에 기포가 많아 파포성이나 레벨링성이 떨어짐XX: The bleeding area exceeds 10 μm or there are many air bubbles on the printing surface, so the rupture or leveling properties are poor.

X : 번짐 영역이 5 ~ 10 μmX: The bleeding area is 5 ~ 10 μm

△ : 번짐 영역이 2 ~ 5 μm△: Spreading area is 2 ~ 5 μm

○ : 번짐 영역이 2 μm 이하○: Spreading area is 2 μm or less

평가항목 2 : 박리성Evaluation Item 2: Peelability

박리성은 잉크가 인쇄된 유리 기판을 용제에 5분간 침적하여 기판 표면에 남은 잔사를 육안으로 확인하여 평가했다.The peelability was evaluated by immersing the ink-printed glass substrate in a solvent for 5 minutes, and visually checking the residue remaining on the substrate surface.

X : 박리 안됨X: No peeling

△ : 잔사 육안으로 확인 가능△: Residue can be checked visually

○ : 잔사 없음○: No residue

[표 4][Table 4]

Figure pat00006
Figure pat00006

실시예 7 내지 9 는 번짐 현상이 적고, 인쇄표면에 기포가 적어 파포성 및 레벨링성이 우수하여 인쇄성이 우수하고, 순수한 물에서의 박리성이 우수하다.Examples 7 to 9 exhibit less bleeding and fewer air bubbles on the printed surface, so that the foaming and leveling properties are excellent, so that the printability is excellent, and the peelability in pure water is excellent.

실시예들 중 실시예 7 의 파포성, 레벨링성, 인쇄성 및 순수한 물에서의 박리성이 매우 우수하다.Among the examples, the foamability, leveling property, printability, and peelability in pure water of Example 7 are very excellent.

반면, 비교예 7 은 인쇄 표면에 기포가 많아 파포성이나 레벨링성이 떨어진다.On the other hand, Comparative Example 7 has many air bubbles on the printed surface, so that the foamability and leveling properties are poor.

Claims (8)

중량 평균 분자량 39,000 ~ 1,590,000 g/mol 인 폴리비닐피릴리돈(PVP) 및 황산바륨인 무기 필러를 포함하는, 에칭 레지스트 잉크 조성물.A weight average molecular weight of 39,000-1,590,000 g/mol of polyvinylpyrlidone (PVP) and an inorganic filler of barium sulfate. 제 1 항에 있어서, 폴리비닐피릴리돈(PVP) 의 중량 평균 분자량이 40,000 ~ 80,000 g/mol 인, 에칭 레지스트 잉크 조성물.The etching resist ink composition according to claim 1, wherein the weight average molecular weight of polyvinylpyrlidone (PVP) is 40,000 to 80,000 g/mol. 제 1 항에 있어서, 황산바륨을 0.1 내지 60 중량% 로 포함하는, 에칭 레지스트 잉크 조성물.The etching resist ink composition according to claim 1, comprising 0.1 to 60% by weight of barium sulfate. 제 1 항에 있어서, 황산바륨을 30 내지 60 중량% 로 포함하는, 에칭 레지스트 잉크 조성물.The etching resist ink composition according to claim 1, comprising 30 to 60% by weight of barium sulfate. 제 1 항에 있어서, 황산바륨은 표면 처리되지 않은 것인, 에칭 레지스트 잉크 조성물.The etching resist ink composition according to claim 1, wherein the barium sulfate is not surface-treated. 제 1 항에 있어서, 소포제, 레벨링제 및 분산제 중 적어도 하나 이상을 추가로 포함하는, 에칭 레지스트 잉크 조성물.The etching resist ink composition according to claim 1, further comprising at least one or more of an antifoaming agent, a leveling agent, and a dispersing agent. 제 6 항에 있어서, 소포제, 레벨링제 및 분산제 중 적어도 하나 이상을 0.1 내지 5 중량% 로 포함하는, 에칭 레지스트 잉크 조성물. The etching resist ink composition according to claim 6, comprising 0.1 to 5% by weight of at least one of an antifoaming agent, a leveling agent, and a dispersing agent. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 물에 의해 박리되는 것인, 에칭 레지스트 잉크 조성물.The etching resist ink composition according to any one of claims 1 to 7, which is peeled off by water.
KR1020190150177A 2019-11-21 2019-11-21 Etching resist ink composition KR102362334B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190150177A KR102362334B1 (en) 2019-11-21 2019-11-21 Etching resist ink composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190150177A KR102362334B1 (en) 2019-11-21 2019-11-21 Etching resist ink composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20210062231A true KR20210062231A (en) 2021-05-31
KR102362334B1 KR102362334B1 (en) 2022-02-14

Family

ID=76150099

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190150177A KR102362334B1 (en) 2019-11-21 2019-11-21 Etching resist ink composition

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102362334B1 (en)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100530727B1 (en) * 1996-10-02 2005-11-23 산요가세이고교 가부시키가이샤 Photosensitive composition and use thereof
KR20170095661A (en) 2016-02-15 2017-08-23 정병현 A method of stripping photoresist
KR20170123050A (en) 2016-04-28 2017-11-07 (주)덕산테코피아 Stripping compositions for photoresist

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100530727B1 (en) * 1996-10-02 2005-11-23 산요가세이고교 가부시키가이샤 Photosensitive composition and use thereof
KR20170095661A (en) 2016-02-15 2017-08-23 정병현 A method of stripping photoresist
KR20170123050A (en) 2016-04-28 2017-11-07 (주)덕산테코피아 Stripping compositions for photoresist

Also Published As

Publication number Publication date
KR102362334B1 (en) 2022-02-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106104380B (en) Radiation-sensitive resin composition and electronic component
JP4626837B2 (en) Insulating film forming ink composition, insulating film formed from the ink composition
TW539730B (en) Discharged hard coating composition, discharged hard coating layer, process for preparation thereof and laminated discharged hard coating film
JP5389052B2 (en) Method of manufacturing an electronic device with a glassy silicone hard coating as a release coating for printable electronics
KR102387084B1 (en) Polytetrafluoroethylene dispersion in oily solvent
JP6039460B2 (en) Coating composition and coating film
JP2017066327A (en) Non-aqueous dispersion of polytetrafluoroethylene micropowder
JPWO2019069594A1 (en) Curable composition and cured product
EP1975209A1 (en) Solvent inkjet ink.
KR20210062231A (en) Etching resist ink composition
TW202108688A (en) Non-aqueous dispersion of polytetrafluoroethylene
KR20170093823A (en) Hard coat film
JPH10309455A (en) Fluorine based surface-active agent and composition using the same
JPH10230154A (en) Fluorine-based surfactant and composition using thereof
KR20180048679A (en) Resin composition
JP2006037058A (en) Printing ink composition, method for letterpress reversed offset, method for forming resist pattern, method for producing electronic component and electronic component
KR102362335B1 (en) Etching resist ink composition
WO2017199902A1 (en) Active energy ray-curable reverse offset printing ink
JP2006037059A (en) Printing ink composition, method for letterpress reversed offset, method for forming resist pattern, method for producing electronic component and electronic component
KR20100097591A (en) Ink for ink jetting
JP5617189B2 (en) Insulating film forming ink composition, insulating film formed from the ink composition, and electronic device having the insulating film
JP5195337B2 (en) Etching resist ink and resist pattern forming method using the same
TW202210436A (en) Glass plate with anti-collision membrane layer
JP6290359B2 (en) Coating composition and coating film
TW201542659A (en) Curable resin composition, cured film thereof, and decorative glass plate having the same

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant