KR102362335B1 - Etching resist ink composition - Google Patents
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Abstract
본 발명은 저분자 알코올에 의해 박리가 가능한 친환경 에칭 레지스트 잉크 조성물에 관한 것으로, 산성과 염기성 용액 및 물에 의해 박리되지 않고, 저분자 알코올에 의해 선택적으로 박리되는 잉크 조성물로서, 폴리비닐부티랄 (PVB) 및 무기 필러를 포함하는, 에칭 레지스트 잉크 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to an eco-friendly etching resist ink composition that can be peeled off by low molecular alcohol, which is not peeled off by acid and basic solutions and water, but is selectively peeled off by low molecular alcohol, polyvinyl butyral (PVB) And it relates to an etching resist ink composition containing an inorganic filler.
Description
본 발명은 저분자 알코올에 의해 박리가 가능한 친환경 에칭 레지스트 잉크 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to an environmentally friendly etching resist ink composition that can be peeled off by low molecular alcohol.
인쇄된 에칭 레지스트 잉크는 일반적으로 강알칼리성의 박리액을 사용하여 박리되고 있다. 그러나, 강알칼리성의 박리액은 박리 후 폐액을 폐기시킬 때 환경오염의 우려가 있으며, 추가적인 폐액 처리 단계가 필요하다는 점에서 한계가 있다. 특허공개공보 제 2017-0095661 호에는 강알칼리성의 알칸올 아민 화합물을 20~30% 함유하는 박리액을 사용하고 있는데, 이 경우, 박리 폐액의 폐기시 여전히 인체에 대한 유해성 및 환경오염의 문제가 존재한다.The printed etching resist ink is generally stripped off using a strongly alkaline stripper. However, there is a risk of environmental pollution when disposing of the waste solution after peeling, and there is a limitation in that an additional waste solution treatment step is required. Patent Laid-Open Publication No. 2017-0095661 uses a stripper containing 20 to 30% of an alkanolamine compound with strong alkalinity. do.
또한, 특허공개공보 제 2017-0123050 호에는 상기 인체에 대한 유해성 및 환경오염의 문제를 해결하기 위해, 시클로덱스트린 또는 그 유도체를 포함하는 친환경적인 수계 박리액 조성물을 제공하는 것이 기재되어 있으나, 상기 박리액은 물에 추가적인 물질을 첨가하여 박리액으로 사용하고 있다.In addition, Patent Laid-Open No. 2017-0123050 discloses providing an eco-friendly aqueous peeling solution composition containing cyclodextrin or a derivative thereof in order to solve the problems of harmfulness to the human body and environmental pollution, but the peeling The liquid is used as a stripper by adding an additional substance to water.
한편, 일반적인 에칭 레지스트 잉크는 수세공정에서 박리되지 않아 회로를 보호할 수 있으나, 잉크가 인쇄되지 않은 부분에 노출된 금속 회로가 다량의 수분에 의해 쉽게 부식되는 단점이 있다. 이에, 산업적으로 회로 제조시 수세공정에서 회로를 보호하기 위해서는 용제에 의해서만 선택적으로 박리되고 물에 의해서는 박리되지 않는 특성을 갖는 에칭 레지스트 잉크가 필요하다.On the other hand, the general etching resist ink is not peeled off in the water washing process, so it can protect the circuit, but there is a disadvantage in that the metal circuit exposed to the portion on which the ink is not printed is easily corroded by a large amount of moisture. Accordingly, in order to protect the circuit in the water washing process in industrially manufacturing the circuit, an etching resist ink having a characteristic that is selectively peeled off only by a solvent and not peeled by water is required.
본 발명은 에칭 레지스트 잉크 조성물에 관한 것으로, 산성과 염기성 용액 및 물에 의해 박리되지 않고, 저분자 알코올에 의해 선택적으로 박리되는, 친환경 에칭 레지스트 잉크 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention relates to an etching resist ink composition, and an object of the present invention is to provide an environmentally friendly etching resist ink composition that is not peeled off by acid and basic solutions and water, but is selectively peeled off by low molecular alcohol.
본 발명자는 용제, 예를 들어, 저분자 알코올류의 용제에 의해서만 박리되는 특성을 갖는 에칭 레지스트 잉크는 수분 노출에 의한 단점을 보완할 수 있다는 점에 착안하여 본 발명을 완성했다.The inventors of the present invention have completed the present invention by focusing on the point that an etching resist ink having a property of being peeled off only by a solvent such as a low molecular weight alcohol can compensate for a disadvantage caused by exposure to moisture.
본 발명은, 폴리비닐부티랄 (PVB) 및 무기 필러를 포함하는, 에칭 레지스트 잉크 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to an etching resist ink composition comprising polyvinyl butyral (PVB) and an inorganic filler.
상기 폴리비닐부티랄 (PVB) 은 히드록시기를 50 mol% 이하로 포함할 수 있다.The polyvinyl butyral (PVB) may contain a hydroxyl group in an amount of 50 mol% or less.
상기 폴리비닐부티랄 (PVB) 은 히드록시기를 30 내지 40 mol% 로 포함할 수 있다.The polyvinyl butyral (PVB) may include a hydroxyl group in an amount of 30 to 40 mol%.
상기 폴리비닐부티랄 (PVB) 은 히드록시기를 35 내지 40 mol% 로 포함할 수 있다.The polyvinyl butyral (PVB) may include a hydroxyl group in an amount of 35 to 40 mol%.
상기 무기 필러는 황산 바륨일 수 있다.The inorganic filler may be barium sulfate.
상기 에칭 레지스트 잉크 조성물은 소포제, 레벨링제 및 분산제 중 적어도 하나 이상을 추가로 포함할 수 있다.The etching resist ink composition may further include at least one of an antifoaming agent, a leveling agent, and a dispersing agent.
본 발명의 에칭 레지스트 잉크 조성물은 C1 내지 C6 의 저분자 알코올에 의해 박리되는 조성물이다.The etching resist ink composition of the present invention is a composition that is peeled off with a C1 to C6 low molecular weight alcohol.
본 발명의 에칭 레지스트 잉크 조성물은 물에 의해 박리되지 않는 조성물이다.The etching resist ink composition of this invention is a composition which does not peel by water.
본 발명의 에칭 레지스트 잉크 조성물은 저분자 알코올에 의한 박리성이 우수하다. 나아가, 본 발명의 에칭 레지스트 잉크 조성물은 저분자 알코올에 의한 박리가 가능하여 산성과 염기성인 일반 박리액에 의해 유해성 물질이 발생하는 것을 막을 수 있어, 친환경적이다.The etching resist ink composition of this invention is excellent in the peelability by low molecular alcohol. Furthermore, the etching resist ink composition of the present invention is environmentally friendly because it can be removed by low molecular alcohol, thereby preventing harmful substances from being generated by the general stripper, which is acidic and basic.
아울러, 본 발명의 에칭 레지스트 잉크 조성물은 물에 의해 박리되지 않고, 저분자 알코올에 의해서만 선택적으로 박리되어 수세공정에서 회로보호용으로 적합하다.In addition, the etching resist ink composition of the present invention is not peeled off by water, but is selectively peeled off only by low molecular alcohol, so it is suitable for circuit protection in a water washing process.
또한, 본 발명의 에칭 레지스트 잉크 조성물은 유동성이 적고, 번짐 현상이 적어 인쇄표면에 기포가 적어 파포성 및 레벨링성이 우수하여 인쇄성이 우수하다.In addition, the etching resist ink composition of the present invention has excellent printability because of its low fluidity, small smearing, and fewer bubbles on the printing surface, so that it has excellent foamability and leveling properties.
본 발명에 따른 에칭 레지스트 잉크 조성물은, 폴리비닐부티랄 (PVB) 및 무기 필러를 포함할 수 있다.The etching resist ink composition according to the present invention may include polyvinyl butyral (PVB) and an inorganic filler.
이어서 본 발명의 에칭 레지스트 잉크 조성물의 각 성분에 대해서 설명한다. Next, each component of the etching resist ink composition of this invention is demonstrated.
[(A) 폴리비닐부티랄 (PVB)][(A) polyvinyl butyral (PVB)]
본 발명의 에칭 레지스트 잉크 조성물은 폴리비닐부티랄 (PVB)를 함유할 수 있다.The etching resist ink composition of the present invention may contain polyvinylbutyral (PVB).
본 발명의 하나의 실시양태에서, 상기 폴리비닐부티랄 (PVB) 은 히드록시기를 50 mol% 이하로, 바람직하게는 10 내지 50 mol% 로, 보다 바람직하게는 30 내지 40 mol% 로 또는 35 내지 40 mol% 로 포함할 수 있다. 폴리비닐부티랄 (PVB) 의 히드록시기 함량이 50 mol% 를 초과하는 경우, 수세공정에서 박리될 수 있어 수세공정에서 회로 보호용 잉크로서 적용하기에 부적합하다. 폴리비닐부티랄 (PVB) 의 히드록시기 함량이 상기 범위 내인 경우, 에칭 레지스트 잉크 조성물이 스크린 인쇄에 적합하며, 저분자 알코올에 의한 박리성이 우수하다. In one embodiment of the present invention, said polyvinylbutyral (PVB) contains up to 50 mol% of hydroxyl groups, preferably from 10 to 50 mol%, more preferably from 30 to 40 mol% or from 35 to 40 It may be included in mol%. When the hydroxyl group content of polyvinyl butyral (PVB) exceeds 50 mol %, it may peel off in the water washing process, making it unsuitable for application as an ink for circuit protection in the water washing process. When the hydroxyl group content of polyvinyl butyral (PVB) is within the above range, the etching resist ink composition is suitable for screen printing and has excellent releasability by low molecular alcohol.
본 발명의 하나의 실시양태에서, 상기 폴리비닐부티랄 (PVB) 의 분자량은 1.5 X 104 내지 1.1 X 105 g/mol, 바람직하게는 1.8 X 104 내지 3.0 X 104 g/mol 일 수 있고, 점도는 5 내지 250 mpa·s, 바람직하게는 10 내지 70 mpa·s 일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the molecular weight of the polyvinyl butyral (PVB) may be 1.5 X 10 4 to 1.1 X 10 5 g/mol, preferably 1.8 X 10 4 to 3.0 X 10 4 g/mol. and the viscosity may be 5 to 250 mpa·s, preferably 10 to 70 mpa·s.
상기 기재된 히드록실기 함량 이외의 분자량 또는 점도 등의 물성도 폴리비닐부티랄 (PVB)의 중합도에 의해 정의되며 중합도가 낮을수록 박리성이 향상된다.Physical properties such as molecular weight or viscosity other than the hydroxyl group content described above are also defined by the polymerization degree of polyvinyl butyral (PVB), and the lower the polymerization degree, the better the peelability.
상기 폴리비닐부티랄 (PVB) 을 포함하는 PVB 수지는, 본 발명에서, 예를 들어, SEKISUI 사의 S-LEC BL-1, S-LEC BL-1H, S-LEC BL-2, S-LEC BL-2H, S-LEC BL-5, S-LEC BL-10, S-LEC BL-S, S-LEC BX-L, S-LEC BM-1, S-LEC BM-2, S-LEC BM-5, S-LEC BM-S; CHANG CHUN GROUP 사의 Polyvinyl Butyral B-06HX, Polyvinyl Butyral B-08HX, Polyvinyl Butyral B-08SY, Polyvinyl Butyral B-18FG; Fradox 사 의 PVB powder B1282HX, B1291HX, B1293HX, B1294HX, B1291SY, B1293SY, B1294SY, B1295HX, B1296HX, B1296TX; Famouschem Technology 사 PVB TB-2, TB-3, TB-5, TB-6, TB-8, TB-12, TB-14, TB-16; HERRMAN 사 PVB AH-16H, AH-20H, AH-30H, AH-60H; Teng Chao 사 PVB SD-0, SD-1, SD-2, SD-3, SD-4, SD-5, SD-6 등을 사용할 수 있다.The PVB resin comprising polyvinyl butyral (PVB) in the present invention, for example, SEKISUI's S-LEC BL-1, S-LEC BL-1H, S-LEC BL-2, S-LEC BL -2H, S-LEC BL-5, S-LEC BL-10, S-LEC BL-S, S-LEC BX-L, S-LEC BM-1, S-LEC BM-2, S-LEC BM- 5, S-LEC BM-S; Polyvinyl Butyral B-06HX, Polyvinyl Butyral B-08HX, Polyvinyl Butyral B-08SY, Polyvinyl Butyral B-18FG from CHANG CHUN GROUP; Fradox's PVB powder B1282HX, B1291HX, B1293HX, B1294HX, B1291SY, B1293SY, B1294SY, B1295HX, B1296HX, B1296TX; Famouschem Technology PVB TB-2, TB-3, TB-5, TB-6, TB-8, TB-12, TB-14, TB-16; HERRMAN PVB AH-16H, AH-20H, AH-30H, AH-60H; Teng Chao's PVB SD-0, SD-1, SD-2, SD-3, SD-4, SD-5, SD-6, etc. can be used.
본 발명의 하나의 실시양태에서, 에칭 레지스트 잉크 조성물에 포함되는 무기 필러는 탈크, 탄산칼슘, 실리카, 황산 바륨 등을 사용할 수 있으며, 특히 황산 바륨이 바람직하다. 에칭 레지스트 잉크 조성물에 무기 필러를 포함함으로써, 에칭 레지스트 잉크 조성물의 유동성을 조절할 수 있고, 번짐 현상이 없어지는 등 인쇄성이 우수하고, 저분자 알코올에 의한 박리성이 우수하다. 특히, 폴리비닐부티랄 (PVB) 과 함께 무기 필러로서 황산 바륨을 사용하는 경우, 황산 바륨은 다른 무기 필러에 비해 큰 비중을 가지기 때문에, 저분자 알코올 박리 조건에서 기재 표면으로부터 빠르게 탈착되어 에칭 레지스트 잉크 조성물의 박리 속도를 향상시킬 수 있다.In one embodiment of the present invention, as the inorganic filler included in the etching resist ink composition, talc, calcium carbonate, silica, barium sulfate, etc. may be used, and barium sulfate is particularly preferable. By including an inorganic filler in an etching resist ink composition, the fluidity|liquidity of an etching resist ink composition can be adjusted, it is excellent in printability, such as a bleeding phenomenon disappears, and it is excellent in the peelability by low molecular alcohol. In particular, when barium sulfate is used as an inorganic filler together with polyvinyl butyral (PVB), barium sulfate has a large specific gravity compared to other inorganic fillers. can improve the peeling rate of
[(B) 황산 바륨][(B) barium sulfate]
본 발명의 하나의 실시양태에서, 무기 필러인 황산 바륨은 에칭 레지스트 잉크 조성물의 총 중량에 대하여 0.1 내지 60 중량% 로 포함될 수 있다. 바람직하게, 상기 황산 바륨은 30 내지 60 중량% 로 포함될 수 있다. 에칭 레지스트 잉크 조성물에 포함되는 황산 바륨의 함량이 상기 범위 내인 경우, 에칭 레지스트 잉크 조성물의 유동성을 조절할 수 있고, 번짐 현상이 없어져 우수한 인쇄성 및 저분자 알코올에 대한 박리성을 구현할 수 있다. 반면, 에칭 레지스트 잉크 조성물에 포함되는 황산 바륨의 함량이 30 중량% 미만인 경우, 인쇄 후 도막이 번지는 단점이 있으며, 60 중량% 초과인 경우 수지 함량이 부족하여 박리성이 저하되는 단점이 있다.In one embodiment of the present invention, barium sulfate, which is an inorganic filler, may be included in an amount of 0.1 to 60% by weight based on the total weight of the etching resist ink composition. Preferably, the barium sulfate may be included in an amount of 30 to 60% by weight. When the content of barium sulfate included in the etching resist ink composition is within the above range, the fluidity of the etching resist ink composition can be controlled, and the smearing phenomenon is eliminated so that excellent printability and peelability with respect to low molecular weight alcohol can be realized. On the other hand, when the content of barium sulfate included in the etching resist ink composition is less than 30% by weight, there is a disadvantage in that the coating film spreads after printing, and when it exceeds 60% by weight, there is a disadvantage in that the releasability is lowered due to insufficient resin content.
본 발명의 하나의 실시양태에서, 에칭 레지스트 잉크 조성물에 포함되는 황산 바륨은 표면 처리되지 않은 것일 수 있다. 상기 표면 처리 성분으로는, 예를 들면, SiO2-Al2O3, 산화 실리콘, 산화 알루미늄 등을 들 수 있다. 표면 처리되지 않은 황산 바륨을 사용하면, 저분자 알코올 박리 조건에서 기재 표면으로부터 빠르게 탈착되어 에칭 레지스트 잉크의 박리 속도를 향상 시킬 수 있다.In one embodiment of the present invention, the barium sulfate included in the etching resist ink composition may not be surface-treated. As said surface treatment component, SiO2 - Al2O3 , a silicon oxide, aluminum oxide etc. are mentioned, for example. When barium sulfate that is not surface-treated is used, it is rapidly desorbed from the substrate surface under low molecular alcohol peeling conditions, thereby improving the peeling speed of the etching resist ink.
본 발명의 하나의 실시양태에서, 황산 바륨은 통상적으로 시판되는 제품을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 표면처리가 되지 않은 황산 바륨, 바람직하게는 직경이 0.7 내지 10㎛ 인 것을 사용할 수 있다. In one embodiment of the present invention, as the barium sulfate, a commercially available product may be used, preferably barium sulfate without surface treatment, preferably one having a diameter of 0.7 to 10 μm may be used.
황산 바륨은 직경이 0.7㎛ 이상인 것부터 상용되며 에칭 레지스트 잉크 조성물에 포함되는 황산 바륨의 직경이 10㎛ 를 초과할 경우 인쇄성과 인쇄 경계면이 나빠지는 단점이 있다.Barium sulfate is commercially available from those having a diameter of 0.7 μm or more, and when the diameter of barium sulfate contained in the etching resist ink composition exceeds 10 μm, printability and printing interface are deteriorated.
황산 바륨의 평균 입자 직경 및 입도 분포는 레이저 회절 및 산란법 (측정기기 : Mastersizer 3000, Malvern Panalytical 사)에 의해 정의할 수 있다.The average particle diameter and particle size distribution of barium sulfate can be defined by laser diffraction and scattering (measurement device: Mastersizer 3000, Malvern Panalytical).
본 발명의 하나의 실시양태에서, 황산 바륨은 Koch 사의 KCB-01, KCB-02, KCB-03, KCB-07, KCB-8000, BSB-8000; Nippon-chem 사의 Barium sulfate; SAKAI CHEMICAL INDUSTRY 사의 BARIUM SULFATE 100, 110, 200, 270, 300, B-54, B-55; Gemme 사의 Gemme Fine GM-80, BSP-L, GM-F, BSP-X 등일 수 있다.In one embodiment of the present invention, barium sulfate is selected from Koch's KCB-01, KCB-02, KCB-03, KCB-07, KCB-8000, BSB-8000; Barium sulfate from Nippon-chem; SAKAI CHEMICAL INDUSTRY's BARIUM SULFATE 100, 110, 200, 270, 300, B-54, B-55; It may be Gemme's Gemme Fine GM-80, BSP-L, GM-F, BSP-X, or the like.
본 발명의 하나의 실시양태에서, 에칭 레지스트 잉크 조성물은 희석제를 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the etching resist ink composition may include a diluent.
희석제로서는 특별히 제한은 없지만, 예를 들면, 케톤, 방향족 탄화수소 류, 글리콜 에테르 류, 글리콜 에테르 아세테이트 류, 에스테르 류, 알코올 류, 지방족 탄화수소 석유계 용제 등을 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 메틸 에틸 케톤, 시클로 헥사논, 메틸 부틸 케톤, 메틸 이소 부틸 케톤 등의 케톤류; 톨루엔, 크실렌, 테트라 메틸 벤젠 등의 방향족 탄화수소 류; 셀로솔브, 메틸 셀로 솔브, 부틸 셀로 솔브, 카르비톨, 메틸 카르비톨, 부틸 카르비톨, 에틸렌 글리콜 모노 메틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노 에틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노 부틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노 메틸 에테르, 디프로필렌 글리콜 모노 메틸 에테르, 디프로필렌 글리콜 디 에틸 에테르, 트리 에틸렌 글리콜 모노 에틸 에테르 등의 글리콜 에테르 류, 에탄올, 프로판올, 2-메톡시 프로판올, n-부탄올, 이소 부틸 알코올, 이소 펜틸 알코올, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜 등의 알코올 류; 옥탄, 데칸 등의 지방족 탄화수소; 석유 에테르, 석유 나프타, 수소첨가 석유 나프타, 솔벤트 나프타 등의 석유계 용제; N,N-디메틸 포름 아미드 (DMF), 테트라 클로로 에틸렌, 식물성 기름 등을 들 수 있다. The diluent is not particularly limited, and examples thereof include ketones, aromatic hydrocarbons, glycol ethers, glycol ether acetates, esters, alcohols, and aliphatic hydrocarbon petroleum solvents. More specifically, ketones, such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl butyl ketone, and methyl isobutyl ketone; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and tetramethylbenzene; Cellosolve, methyl cellosolve, butyl cellosolve, carbitol, methyl carbitol, butyl carbitol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol mono Glycol ethers such as methyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, ethanol, propanol, 2-methoxy propanol, n-butanol, isobutyl alcohol, isopentyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol, etc. of alcohol; aliphatic hydrocarbons such as octane and decane; petroleum solvents such as petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha, and solvent naphtha; N,N-dimethyl formamide (DMF), tetrachloroethylene, vegetable oil, and the like.
또한, 마루젠석유화학 회사의 스와졸 1000, 스와졸 1500, 스탠다드 석유 오사카 발매소 회사의 소루벳소 100, 소루벳소 150, 산쿄 화학 회사의 솔벤트 #100, 솔벤트 # 150, 쉘 케미칼 재팬 회사의 쉘 졸 A100, 쉘 졸 A150, 이데미츠 고산 회사의 이프졸 100번, 이프졸 150번 등의 유기 용제를 사용할 수 있다. 유기 용제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상의 혼합물로 사용할 수 있다. In addition, Maruzen Petrochemical Co., Ltd.'s Swasol 1000, Swasol 1500, Standard Petroleum Osaka Release Co., Ltd.'s Sorvesso 100, Sorvesso 150, Sankyo Chemical Company's Solvent #100, Solvent #150, Shell Chemical Japan's Shell Sol A100 Organic solvents, such as Shellsol A150, Idemitsu Kosan Co., Ltd. Ipsol No. 100, and Ipsol No. 150, can be used. An organic solvent may be used individually by 1 type, and can be used in 2 or more types of mixture.
본 발명의 하나의 실시양태에서, 에칭 레지스트 잉크 조성물은 첨가제로서 소포제, 레벨링제 및 분산제 중 적어도 하나 이상을 추가로 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the etching resist ink composition may further include at least one of an antifoaming agent, a leveling agent and a dispersing agent as an additive.
상기 에칭 레지스트 잉크 조성물은 필요에 따라, 첨가제로서 실리콘계, 불소계, 고분자계 등의 소포제 및/또는 레벨링제를 포함할 수 있다. 상기 소포제, 레벨링제 및 분산제는 모두 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 시판되는 제품 중 적절히 선택하여 사용할 수 있다. The etching resist ink composition may include, as an additive, an antifoaming agent and/or a leveling agent such as a silicone-based, fluorine-based, or polymer-based additive, if necessary. All of the defoaming agent, leveling agent and dispersing agent may be appropriately selected from commercially available products by those of ordinary skill in the art.
본 발명의 하나의 실시양태에서, 에칭 레지스트 잉크 조성물은 소포제, 레벨링제 및 분산제 중 적어도 하나 이상을 추가로 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the etching resist ink composition may further include at least one of an antifoaming agent, a leveling agent and a dispersing agent.
상기 소포제, 레벨링제 및 분산제는 모두 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 시판되는 제품 중 적절히 선택하여 사용할 수 있으므로 구체적인 예와 이에 대한 설명은 생략하기로 한다. Since the defoaming agent, the leveling agent and the dispersing agent can all be appropriately selected from commercially available products by those of ordinary skill in the art, specific examples and descriptions thereof will be omitted.
본 발명의 하나의 실시양태에서, 상기 소포제, 레벨링제 및 분산제 중 적어도 하나 이상은 0.1 내지 5 중량% 로 포함될 수 있다. 에칭 레지스트 잉크 조성물에 포함되는 소포제, 레벨링제 및 분산제 중 적어도 하나 이상의 함량이 상기 범위 내인 경우, 에칭 레지스트 잉크 조성물의 유동성을 조절할 수 있고, 번짐 현상이 없어지는 등 인쇄성이 우수하다. 또한, 에칭 레지스트 잉크 조성물에 포함되는 소포제, 레벨링제 및 분산제 중 적어도 하나 이상의 함량이 0.1 중량% 미만인 경우, 인쇄 후 잉크 도막과 기재 간의 부착성이 저하되는 단점이 있으며, 파포성 및/또는 레벨링성이 저하되는 단점이 있다. 소포제, 레벨링제 및 분산제 중 적어도 하나 이상의 함량이 5 중량% 초과인 경우, 상 분리가 일어날 수 있다는 단점이 있다.In one embodiment of the present invention, at least one of the antifoaming agent, leveling agent and dispersing agent may be included in an amount of 0.1 to 5% by weight. When the content of at least one of the antifoaming agent, the leveling agent, and the dispersing agent included in the etching resist ink composition is within the above range, it is possible to control the fluidity of the etching resist ink composition, and the printability is excellent such as no bleeding phenomenon. In addition, when the content of at least one of the antifoaming agent, the leveling agent and the dispersing agent included in the etching resist ink composition is less than 0.1% by weight, there is a disadvantage in that the adhesion between the ink coating film and the substrate after printing is reduced, and the foamability and/or leveling property There is a downside to this degradation. When the content of at least one of the antifoaming agent, the leveling agent and the dispersing agent is more than 5% by weight, there is a disadvantage that phase separation may occur.
본 발명의 하나의 실시양태에서, 에칭 레지스트 잉크 조성물은 C1 내지 C6 의 저분자 알코올에 의해 박리되는 조성물일 수 있다. 상기 C1 내지 C6 의 저분자 알코올은, 예를 들면, 에탄올, 프로판올, 이소 프로판올 등일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the etching resist ink composition may be a composition that is peeled off with a C1 to C6 low molecular alcohol. The C1 to C6 low molecular weight alcohol may be, for example, ethanol, propanol, isopropanol, or the like.
본 발명의 하나의 실시양태에서, 본 발명의 에칭 레지스트 잉크 조성물은 물에 의해 박리되지 않는 조성물일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the etching resist ink composition of the present invention may be a composition that is not peeled off by water.
본 발명은 하기 실시예에 의해 제한되지 않는다.The present invention is not limited by the following examples.
실험예Experimental example
하기 표 1에 기재된 원료를 용기에 넣고 교반하여 필러가 고르게 분산된 것을 육안으로 확인한 후에 3본 롤에 연육하여 잉크를 제조하였다. 하기 표 1 에 기재된 원료의 함량은 중량% 단위로 기재하였다.The raw materials shown in Table 1 were put into a container and stirred to visually confirm that the filler was evenly dispersed, and then the ink was prepared by spreading it on three rolls. The content of the raw materials shown in Table 1 below was described in weight %.
실시예 1 내지 6 및 비교예 1 내지 3 의 잉크 조성물을 유리 기판에 스크린 인쇄하여 150℃에서, 20분간 열경화하였다.The ink compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 were screen-printed on a glass substrate and thermosetted at 150° C. for 20 minutes.
[표 1] [Table 1]
PVB : 폴리비닐부티랄 (BL-1, SEKISUI 사; PVB Resin 내 폴리비닐부티랄 (PVB)의 고형분 함량은 PVB Resin 전체에 대하여 50 wt% 임)PVB: polyvinyl butyral (BL-1, SEKISUI company; solid content of polyvinyl butyral (PVB) in PVB Resin is 50 wt% based on the total PVB Resin)
PVP : 폴리비닐피릴리돈 (PVP K-30, JH Nanhang Life Sciences 사)PVP: Polyvinylpyrillidone (PVP K-30, JH Nanhang Life Sciences)
PVA : 폴리비닐아세탈 (BX-L, sekisui 사)PVA: polyvinyl acetal (BX-L, sekisui company)
* 히드록시기 함유량 = PVB 또는 PVA 의 히드록시기 함량 (mol%)* Hydroxyl group content = Hydroxyl group content of PVB or PVA (mol%)
BARIACE B-30 : SiO2-Al2O3로 표면이 코팅된 BaSO4 BARIACE B-30 : BaSO 4 coated with SiO 2 -Al 2 O 3
KCB-8000 : BaSO4, Purity : 100% KCB-8000 : BaSO 4 , Purity : 100%
KC-3000 : Talc (KOCH 사)KC-3000 : Talc (KOCH)
SOFTON 1800 : CaCO3 (BIHOKU FUNKA KOGYO 사)SOFTON 1800 : CaCO 3 (by BIHOKU FUNKA KOGYO)
E+508 : Sperical Silicone Resin powder(ABC Nanotech 사)E+508 : Sperical Silicone Resin powder (ABC Nanotech)
실시예 1 내지 6 및 비교예 1 내지 3 의 잉크 조성물을 유리 기판에 스크린 인쇄 후 150℃에서 20분간 열경화 또는 UV 1000mJ/cm2 광경화하였다. 인쇄성은 인쇄하였을 때 번지는 정도를 육안 및 현미경으로 관찰하여 측정하였다.The ink compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 were screen-printed on a glass substrate and then thermally cured or UV 1000mJ/cm 2 photocured at 150° C. for 20 minutes. Printability was measured by observing the degree of spreading when printed with the naked eye and a microscope.
이후, 잉크가 인쇄된 유리 기판을 용제에 5분간 침적하여 기판 표면에 남은 잔사를 육안으로 평가하였다. 박리성은 각각 에탄올, 프로판올, 이소 프로판올 및 물에 5분간 침지 후 유리 기판 표면에 남은 잔사를 육안으로 평가하였다.Thereafter, the ink-printed glass substrate was immersed in a solvent for 5 minutes to visually evaluate the residue remaining on the substrate surface. The peelability was visually evaluated for the residue remaining on the surface of the glass substrate after immersion in ethanol, propanol, isopropanol and water for 5 minutes, respectively.
평가항목 1 : 인쇄성Evaluation Item 1: Printability
인쇄성은 실시예 1 내지 6 및 비교예 1 내지 3 의 잉크 조성물을 유리 기판에 스크린 인쇄 후 150℃에서 20분간 열경화 한 후 번짐 영역의 크기로 평가하였다.Printability was evaluated by the size of the bleeding area after screen printing the ink compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 on a glass substrate and thermosetting at 150° C. for 20 minutes.
XX : 번짐 영역이 10μm 초과 또는 인쇄 표면에 기포가 많아 파포성이나 레벨링성이 떨어짐XX: The smearing area is more than 10 μm or there are many bubbles on the printing surface, so the foamability or leveling properties are poor.
X : 번짐 영역이 5 ~ 10μmX: 5 to 10 μm of smeared area
△ : 번짐 영역이 2 ~ 5μm△: 2 ~ 5μm of the bleeding area
○ : 번짐 영역이 2 μm이하○: Bleed area less than 2 μm
평가항목 2 : 박리성Evaluation Item 2: Peelability
박리성은 잉크가 인쇄된 유리 기판을 에탄올, 프로판올, 이소 프로판올 및 물에 5분간 침적하여 기판 표면에 남은 잔사를 육안으로 확인하여 평가하였다.The peelability was evaluated by visually checking the residue remaining on the surface of the substrate by immersing the ink-printed glass substrate in ethanol, propanol, isopropanol and water for 5 minutes.
X : 박리 안됨X: No peeling
△ : 잔사 육안으로 확인 가능△: Residue can be visually checked
○ : 잔사 없음○: no residue
[표 2][Table 2]
비교예 1 에 비해 실시예 1 내지 6 은 인쇄성이 우수하다. 필러를 사용하지 않을 경우 인쇄성이 열등하여 에칭 레지스트 잉크 조성물로 사용이 어렵다.Compared with Comparative Example 1, Examples 1 to 6 are excellent in printability. If a filler is not used, it is difficult to use as an etching resist ink composition due to poor printability.
비교예 2 및 3 에 비해 실시예 1 내지 6 은, 에탄올, 프로판올, 이소 프로판올과 같은 저분자 알코올에 의한 박리성이 우수하다.Compared to Comparative Examples 2 and 3, Examples 1 to 6 are excellent in peelability with a low molecular weight alcohol such as ethanol, propanol, and isopropanol.
비교예 3 은 에탄올, 프로판올, 이소 프로판올과 같은 저분자 알코올에 의한 박리성이 우수하게 나타나지만, 물에 의해서도 박리성이 우수하게 나타나므로 수세공정에서 회로보호용으로 사용 불가능하다.Comparative Example 3 exhibits excellent peelability with low molecular weight alcohols such as ethanol, propanol, and isopropanol, but exhibits excellent peelability even with water, so it cannot be used for circuit protection in the water washing process.
무기 필러로서 표면 처리를 하지 않은 황산 바륨을 사용한 실시예 3 이, 표면 처리를 한 황산 바륨을 사용한 실시예 2 에 비해 저분자 알코올에 의한 박리성이 우수하다.Example 3 in which barium sulfate without surface treatment was used as the inorganic filler was excellent in releasability by low molecular alcohol compared to Example 2 in which barium sulfate subjected to surface treatment was used.
Claims (9)
상기 폴리비닐부티랄 (PVB) 은 히드록시기를 10 내지 50 mol% 로 포함하는, 에칭 레지스트 잉크 조성물.polyvinyl butyral (PVB) and an inorganic filler;
The polyvinyl butyral (PVB) comprises a hydroxyl group in an amount of 10 to 50 mol%, the etching resist ink composition.
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