KR20210059130A - 표시 장치 - Google Patents

표시 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20210059130A
KR20210059130A KR1020190145889A KR20190145889A KR20210059130A KR 20210059130 A KR20210059130 A KR 20210059130A KR 1020190145889 A KR1020190145889 A KR 1020190145889A KR 20190145889 A KR20190145889 A KR 20190145889A KR 20210059130 A KR20210059130 A KR 20210059130A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
color filter
measurement pattern
pixel
transistor
electrode
Prior art date
Application number
KR1020190145889A
Other languages
English (en)
Inventor
신동희
라유미
이근호
이용희
Original Assignee
삼성디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성디스플레이 주식회사 filed Critical 삼성디스플레이 주식회사
Priority to KR1020190145889A priority Critical patent/KR20210059130A/ko
Priority to US16/932,807 priority patent/US11101223B2/en
Priority to CN202011266767.0A priority patent/CN112799254A/zh
Publication of KR20210059130A publication Critical patent/KR20210059130A/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/544—Marks applied to semiconductor devices or parts, e.g. registration marks, alignment structures, wafer maps
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133354—Arrangements for aligning or assembling substrates
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136222—Colour filters incorporated in the active matrix substrate
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/13625—Patterning using multi-mask exposure
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286—Wiring, e.g. gate line, drain line
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
    • G03F9/7046—Strategy, e.g. mark, sensor or wavelength selection
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133707—Structures for producing distorted electric fields, e.g. bumps, protrusions, recesses, slits in pixel electrodes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13396—Spacers having different sizes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/1368—Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00—Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/544—Marks applied to semiconductor devices or parts
    • H01L2223/54426—Marks applied to semiconductor devices or parts for alignment

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 제1 기판, 상기 제1 기판에 위치하는 복수개의 화소를 포함하고, 상기 복수개의 화소는 제1 화소를 포함하고, 상기 제1 화소는 트랜지스터, 상기 트랜지스터와 연결된 제1 전극, 상기 제1 전극과 중첩하는 제1 컬러 필터, 상기 제1 컬러 필터와 중첩하는 제3 계측 패턴을 포함하고, 상기 제1 컬러 필터는 상기 제3 계측 패턴과 서로 다른 색이다.

Description

표시 장치{DISPLAY DEVICE}
본 개시는 표시 장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로 표시 영역 내에 마스크의 정렬 오차를 계측하기 위한 계측 패턴을 포함하는 표시 장치에 관한 것이다.
현재 알려져 있는 평판 표시 장치에는 액정 표시 장치 및 발광 표시 장치등이 있다.
이와 같은 평판 표시 장치의 제조 공정 중 다양한 패턴들이 형성되는데, 이러한 패턴들을 형성하기 위해 노광 장치가 이용된다. 노광 장치는 패턴 마스크에 형성된 패턴에 맞추어 대상물을 감광시킨다.
그런데 표시 장치가 대형화되면서 패턴 마스크의 크기에 제한이 있어, 패턴 마스크에 의해 표시 기판을 한번에 노광하기 어려운 문제점이 있다. 이에 패턴 마스크를 표시 기판 상에 순차적으로 정렬하여 노광하는 방식을 이용한다.
실시예들은 표시 영역 내에 마스크의 정렬 오차를 계측하기 위한 계측 패턴을 포함하는 표시 장치에 관한 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 제1 기판, 상기 제1 기판에 위치하는 복수개의 화소를 포함하고, 상기 복수개의 화소는 제1 화소를 포함하고, 상기 제1 화소는 트랜지스터, 상기 트랜지스터와 연결된 제1 전극, 상기 제1 전극과 중첩하는 제1 컬러 필터, 상기 제1 컬러 필터와 중첩하는 제3 계측 패턴을 포함하고, 상기 제1 컬러 필터는 상기 제3 계측 패턴과 서로 다른 색을 갖는다.
상기 복수개의 화소는 제2 화소 및 제3 화소를 더 포함하고, 상기 제2 화소는 트랜지스터, 상기 트랜지스터와 연결된 제1 전극, 상기 제1 전극과 중첩하는 제2 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터와 중첩하는 제1 계측 패턴을 포함하고, 상기 제3 화소는 트랜지스터, 상기 트랜지스터와 연결된 제1 전극, 상기 제1 전극과 중첩하는 제3 컬러 필터, 상기 제3 컬러 필터와 중첩하는 제2 계측 패턴을 포함할 수 있다.
상기 제1 컬러 필터 및 상기 제1 계측 패턴은 동일 공정으로 형성되고, 상기 제2 컬러 필터 및 상기 제2 계측 패턴은 동일 공정으로 형성되고, 상기 제3 컬러 필터 및 상기 제3 계측 패턴은 동일 공정으로 형성될 수 있다.
상기 제1 컬러 필터 및 상기 제1 계측 패턴은 적색이고, 상기 제2 컬러 필터 및 상기 제2 계측 패턴은 녹색이고, 상기 제3 컬러 필터 및 상기 제3 계측 패턴은 청색일 수 있다.
상기 기판은 n-1개의 가상의 경계선으로 구획되는 n개의 영역을 포함하고, 상기 가상의 경계선의 양 가장자리에 상기 제1 화소, 상기 제2 화소 및 상기 제3 화소가 위치할 수 있다.
상기 복수개의 화소 중 상기 가상의 경계선과 인접하지 않은 화소는 트랜지스터, 상기 트랜지스터와 연결된 제1 전극, 상기 제1 전극과 중첩하는 컬러 필터, 상기 트랜지스터와 중첩하는 서브 컬럼 스페이서를 포함할 수 있다.
상기 표시 장치는 상기 제1 기판과 중첩하는 제2 기판, 상기 제2 기판에 위치하는 제2 전극, 상기 제2 기판과 상기 제1 기판 사이에 위치하는 액정층을 더 포함하고, 상기 제1 화소의 액정층의 두께와 상기 가상의 경계선과 인접하지 않은 화소의 액정층의 두께의 차이는 10% 미만일 수 있다.
상기 제3 계측 패턴은 상기 제1 컬러 필터상에 위치하고, 상기 제1 계측 패턴은 상기 제2 컬러 필터 아래에 위치하고, 상기 제2 계측 패턴은 상기 제3 컬러 필터 아래에 위치할 수 있다.
상기 계측 패턴의 형상은 사각형일 수 있다.
상기 제1 화소는 게이트선을 포함하고, 상기 게이트선은 서로 이격된 제1 게이트선 및 제2 게이트선, 상기 제1 게이트선 및 제2 게이트선을 연결하는 게이트 전극을 포함하고, 상기 제3 계측 패턴은 상기 게이트 전극과 중첩할 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예에 따른 표시 장치는 n-1개의 가상의 경계선으로 구획되는 n개의 영역을 포함하는 제1 기판, 상기 제1 기판에 위치하는 복수개의 화소를 포함하고, 상기 복수개의 화소 중 상기 가상의 경계선에 인접하여 위치하는 화소는 트랜지스터, 상기 트랜지스터와 연결된 제1 전극, 상기 제1 전극과 중첩하는 컬러 필터, 상기 컬러 필터와 중첩하는 계측 패턴을 포함하고, 상기 컬러 필터와 상기 계측 패턴은 적색, 녹색, 청색 중 하나의 색을 가지며, 상기 컬러 필터와 상기 계측 패턴은 서로 다른 색이다.
상기 n은 2 내지 10일 수 있다.
상기 계측 패턴은 상기 컬러 필터의 상부 또는 하부에 위치할 수 있다.
상기 화소는 게이트선을 포함하고, 상기 게이트선은 서로 이격된 제1 게이트선 및 제2 게이트선, 상기 제1 게이트선 및 제2 게이트선을 연결하는 게이트 전극을 포함하고, 상기 계측 패턴은 상기 게이트 전극과 중첩할 수 있다.
상기 계측 패턴의 형상은 사각형일 수 있다.
상기 복수개의 화소 중 상기 가상의 경계선과 인접하지 않은 화소는 트랜지스터, 상기 트랜지스터와 연결된 제1 전극, 상기 제1 전극과 중첩하는 컬러 필터, 상기 트랜지스터와 중첩하는 서브 컬럼 스페이서를 포함할 수 있다.
상기 서브 컬럼 스페이서의 두께와 상기 계측 패턴의 두께 차이가 10% 미만일 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예에 따른 표시 장치는 제1 기판, 상기 제1 기판에 위치하는 복수개의 화소를 포함하고, 상기 복수개의 화소는 제1 화소, 제2 화소 및 제3 화소를 포함하고, 상기 제1 화소는 트랜지스터, 상기 트랜지스터와 연결된 제1 전극, 상기 제1 전극과 중첩하는 제1 컬러 필터, 상기 제1 컬러 필터와 중첩하는 제2 계측 패턴을 포함하고, 상기 제2 화소는 트랜지스터, 상기 트랜지스터와 연결된 제1 전극, 상기 제1 전극과 중첩하는 제2 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터와 중첩하는 제3 계측 패턴을 포함하고, 상기 제3 화소는 트랜지스터, 상기 트랜지스터와 연결된 제1 전극, 상기 제1 전극과 중첩하는 제3 컬러 필터, 상기 제3 컬러 필터와 중첩하는 제1 계측 패턴을 포함한다.
상기 제1 컬러 필터 및 상기 제1 계측 패턴은 적색이고, 상기 제2 컬러 필터 및 상기 제2 계측 패턴은 녹색이고, 상기 제3 컬러 필터 및 상기 제3 계측 패턴은 청색일 수 있다.
상기 제1 계측 패턴은 상기 제3 컬러 필터 하부에 위치하고, 상기 제2 계측 패턴은 상기 제1 컬러 필터 상부에 위치하고, 상기 제3 계측 패턴은 상기 제2 컬러 필터 상부에 위치할 수 있다.
실시예들에 따르면, 표시 영역 내에 마스크의 정렬 오차를 계측하기 위한 계측 패턴을 포함하는 표시 장치를 제공한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 배치도이다.
도 2는 도 1의 II-II'선을 따라 잘라 도시한 단면도이다.
도 3은 일 실시예에 따른 표시 장치에서, 표시 패널의 형성에 사용되는 마스크를 개략적으로 도시한 것이다.
도 4는 도 3의 경계선(L1) 양측의 화소를 도시한 것이다.
도 5는 경계선(L1) 일측의 화소를 도시한 것이다.
도 6은 도 5의 VI-VI'선을 따라 잘라 도시한 단면도이다.
도 7은 다른 일 실시예에 따른 표시 장치에서 도 1과 동일한 영역을 도시한 것이다.
도 8 내지 10은 도 1의 실시예에 따른 표시 장치의 제조 과정을 컬러 필터와 계측 패턴의 구성을 중심으로 도시한 것이다.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 여러 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.
본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.
또한, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다. 도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 그리고 도면에서, 설명의 편의를 위해, 일부 층 및 영역의 두께를 과장되게 나타내었다.
또한, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 또는 "상에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다. 또한, 기준이 되는 부분 "위에" 또는 "상에" 있다고 하는 것은 기준이 되는 부분의 위 또는 아래에 위치하는 것이고, 반드시 중력 반대 방향 쪽으로 "위에" 또는 "상에" 위치하는 것을 의미하는 것은 아니다.
또한, 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
또한, 명세서 전체에서, "평면상"이라 할 때, 이는 대상 부분을 위에서 보았을 때를 의미하며, "단면상"이라 할 때, 이는 대상 부분을 수직으로 자른 단면을 옆에서 보았을 때를 의미한다.
그러면 이하에서 도면을 참고로 하여 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치에 대하여 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 배치도이다. 도 2는 도 1의 II-II'선을 따라 잘라 도시한 단면도이다.
도 1은 서로 다른 색을 방출하는 3개의 화소의 배치도이다. 본 명세서에서 화소는 트랜지스터 및 이와 연결된 제1 전극(191)을 포함하며 하나의 색을 나타내는 영역을 지칭한다. 도 1에서는 적색, 녹색, 청색을 나타내는 3개의 화소가 도시되었다.
도 1 및 도 2를 참고로 하면 제1 기판(110) 위에 제1 방향(DR1)을 따라 게이트선(121)이 위치한다. 게이트선(121)은 서로 이격된 제1 게이트선(121a) 및 제2 게이트선(121b), 제1 게이트선(121a) 및 제2 게이트선(121b)을 연결하는 게이트 전극(124)을 포함할 수 있다.
게이트선(121)과 동일 층에 유지 전극선(151)이 위치한다. 유지 전극선(151)은 제1 방향(DR1) 및 제2 방향(DR2)을 따라 위치하며, 하나의 화소의 가장자리를 감싸는 형태로 위치할 수 있다. 유지 전극선(151)은 다른 부분보다 면적이 넓은 확장부(155)를 포함할 수 있으며, 확장부는 드레인 전극(175)과 중첩할 수 있다. 게이트선(121) 및 유지 전극선(151)은 동일 공정으로 형성되며 동일 물질을 포함할 수 있다.
게이트선(121) 및 유기 전극선(151) 위에 게이트 절연막(140)이 위치한다. 게이트 절연막(140)은 산화 규소 또는 질화 규소를 포함할 수 있다. 게이트 절연막(140)은 물리적 성질이 다른 적어도 두 개의 절연층을 포함하는 다층막 구조를 가질 수 있다.
다음, 게이트 절연막(140) 위에 반도체층(130)이 위치한다. 반도체층(130)은 게이트 전극(124)과 중첩하여 위치할 수 있다.
다음, 반도체층(130) 및 게이트 절연막(140) 위에는 데이터선(171), 데이터선(171)에 연결된 소스 전극(173) 및 드레인 전극(175)이 위치한다.
데이터선(171)은 데이터 신호를 전달하며 제2 방향(DR2)으로 뻗어 게이트선(121)과 교차한다. 소스 전극(173)은 데이터선(171)으로부터 뻗어 나와 게이트 전극(124)과 중첩하고 대체적으로 U자 형상을 가질 수 있다.
도 1을 참고로 하면 하나의 화소 양쪽에 2개의 데이터선(171)이 위치할 수 있다. 제2 방향(DR2)으로 서로 나란하게 위치하는 화소는 서로 다른 데이터선(171)과 연결되어 있을 수 있다.
드레인 전극(175)은 데이터선(171)과 분리되어 있고 소스 전극(173)의 U자 형상의 가운데에서 상부를 향하여 연장되어 있다. 드레인 전극(175)의 일부는 유지 전극선(151)의 확장부(155)와 중첩할 수 있다.
하나의 게이트 전극(124), 하나의 소스 전극(173) 및 하나의 드레인 전극(175)은 반도체층(130)과 함께 하나의 트랜지스터를 이루며, 트랜지스터의 채널 영역은 소스 전극(173)과 드레인 전극(175) 사이의 반도체층(130)에 형성된다.
다음, 데이터선(171) 위에 절연막(180)이 위치한다. 절연막(180)은 실시예에 따라 생략될 수 있다.
절연막(180) 위에 복수의 컬러 필터(230)가 위치한다. 컬러 필터(230)는 적색 컬러 필터(230R), 녹색 컬러 필터(230G) 및 청색 컬러 필터(230B)를 포함할 수 있다. 도 1을 참고로 하면, 적색 컬러 필터(230R), 녹색 컬러 필터(230G) 및 청색 컬러 필터(230B)는 각각 제2 방향(DR2)을 따라 나란하게 위치한다.
도 1 및 도 2를 참고로 하면, 녹색 컬러 필터(230G) 하부에 적색 계측 패턴(231R)이 위치한다. 적색 계측 패턴(231R)은 적색 컬러 필터(230R)와 이격되어 위치하며, 도 1에 도시한 바와 같이 사각형 형상을 가질 수 있다. 이러한 적색 계측 패턴(231R)은 녹색 컬러 필터(230G)와 중첩하여 위치할 수 있다.
마찬가지로, 청색 컬러 필터(230B) 하부에 녹색 계측 패턴(231G)이 위치한다. 녹색 계측 패턴(231G)은 녹색 컬러 필터(230G)와 이격되어 위치하며, 도 1에 도시한 바와 같이 사각형 형상을 가질 수 있다. 이러한 녹색 계측 패턴(231G)은 청색 컬러 필터(230B)와 중첩하여 위치할 수 있다.
청색 계측 패턴(231B)은 적색 컬러 필터(230R)위에 위치할 수 있다. 이러한 계측 패턴(231)은 컬러 필터(230)의 형성과 동일 공정으로 형성되어 컬러 필터(230)의 형성시 배치되는 마스크의 정렬을 위한 계측 패턴으로 사용될 수 있다. 구체적인 효과에 대하여는 별도로 후술한다.
즉, 적색 컬러 필터(230R)와 동일 공정으로 적색 계측 패턴(231R)이 형성되고, 이후 녹색 컬러 필터(230G)와 동일 공정으로 녹색 계측 패턴(231G)이 형성된다. 다음, 청색 컬러 필터(230B)와 동일 공정으로 청색 계측 패턴(231B)이 형성된다.
컬러 필터(230) 위에 보호막(181)이 위치한다. 보호막(181)은 컬러 필터(230)의 물질이 액정층(3)으로 유입되는 것을 막을 수 있다.
보호막(181) 위에 제1 전극(191)이 위치한다. 제1 전극(191)은 절연막(180), 컬러 필터(230), 보호막(181)에 형성된 접촉 구멍(185)을 통해 드레인 전극(175)과 연결되어 있다. 제1 전극(191)은 ITO 또는 IZO 따위의 투명 도전체를 포함할 수 있다. 제1 전극(191)은 화소 전극일 수 있다.
제1 전극(191)은 제1 방향(DR1)과 나란한 가로 줄기부(193) 및 제2 방향(DR2)과 나란한 세로 줄기부(192)를 포함하고, 가로 줄기부(193) 및 세로 줄기부(192)에서 대각선 방향으로 뻗어 나온 미세 가지부(194)를 포함한다. 제1 전극(191)은 돌출부(195)를 통해 드레인 전극(175)과 연결되어 있다.
제1 전극(191)과 동일한 층에 차폐 전극(197)이 위치한다. 차폐 전극(197)은 게이트선(121) 및 트랜지스터와 중첩하여 제1 방향(DR1)으로 위치한다.
제1 전극(191)과 차폐 전극(197)은 동일 공정으로 형성되며 동일 물질을 포함할 수 있다.
도 1 및 도 2를 참고로 하면, 제1 기판(110)과 마주하는 제2 기판(210)위에 차광 부재(220)가 위치한다. 차광 부재(220)는 게이트선(121) 및 트랜지스터와 중첩하여 제1 방향(DR1)으로 위치할 수 있다. 도 1 및 도 2를 참고로 하면 본 실시예에 따른 차광 부재(220)는 제1 방향(DR1)으로만 위치하지만, 실시예에 따라 제2 방향(DR2)과 나란하게 위치할 수 도 있다.
다시 도 2를 참고로 하면 차광 부재(220)에 제2 전극(270)이 위치한다. 제2 전극(270)은 공통 전압을 인가받는 공통 전극일 수 있다.
제1 전극(191)과 제2 전극(270) 사이에 액정층(3)이 위치한다.
이와 같이 본 실시예에 따른 표시 장치는 각 컬러 필터(230)와 동일 공정으로 형성되는 계측 패턴(231)을 포함한다. 이러한 계측 패턴(231)은 표시 장치에 위치하는 복수개의 화소 중 일부 영역에만 위치할 수 있다. 계측 패턴(231)은 하나의 마스크(700)와 대응하는 영역의 가장자리에 위치하며, 컬러 필터(230) 형성을 위한 공정에서 마스크(700)의 정렬을 계측하는 용도로 사용될 수 있다.
도 3은 일 실시예에 따른 표시 장치에서, 표시 패널(1000)의 형성에 사용되는 마스크(700)를 개략적으로 도시한 것이다. 도 3을 참고로 하면 최근 표시 장치의 대형화에 따라, 하나의 표시 패널(1000)을 제조하기 위하여 복수개의 마스크(700)가 사용된다. 도 3의 경우 3개의 마스크(700A, 700B, 700C)가 사용되는 구성이 도시되었다. 도 3에 도시된 마스크(700)는 컬러 필터(230) 형성을 위한 마스크일 수 있다. 도 3에서는 예시적으로 3개의 마스크가 도시되었으나, 실시예에 따라 사용되는 마스크의 수는 다양할 수 있다.
이 때 각 마스크(700)의 경계에서 화상의 왜곡이 나타날 수 있다. 이는 프록시 노광기의 사용에 의해 발생하는 왜곡이다. 도 3에서는 마스크(700)의 왜곡이 도시되었다. 이를 보정하기 위하여는 마스크(700)의 경계에서 나타나는 왜곡의 정도를 정확하게 측정하고 역보상하여야 한다. 이때 왜곡의 정도는 표시 패널(1000)의 가장자리에서 중앙으로 갈수록 달라질 수 있는바, 정확한 왜곡 계측을 위하여는 계측 패턴이 표시 패널(1000)의 표시 영역 내부에 있어야 한다. 표시 영역 외부에 위치하는 정렬 패턴으로는 마스크(700)의 왜곡을 정확히 계측할 수 없다.
본 실시예에 따른 표시 장치는 표시 영역 중 마스크(700)의 경계 영역에 계측 패턴(231)이 위치한다. 계측 패턴(231)은 컬러 필터(230)와 동일 공정으로 형성되어, 계측 패턴(231)의 위치 측정을 통해 마스크(700)의 왜곡 정도를 계측할 수 있다.
계측 패턴(231)은 하나의 마스크(700)의 가장자리에 위치하는 화소에 위치할 수 있다. 즉 모든 화소에 계측 패턴(231)이 위치하는 것은 아니며, 컬러 필터(230) 제조 공정에 사용되는 마스크(700)의 가장자리에 인접한 화소에만 계측 패턴(231)이 위치한다.
도 3에서 마스크(700)의 경계선(L1, L2)을 도시하였다. 경계선(L1, L2) 양쪽의 화소는 서로 다른 마스크(700)를 이용하여 제조된다. 도 3을 참고로 하면 경계선(L1, L2) 근처에 계측 패턴(231)이 위치한다.
도 4는 도 3의 경계선(L1) 양측의 화소를 도시한 것이다. 도 4에서와 같이 경계선(L1) 양쪽에 위치하는 화소에 계측 패턴(231)이 위치한다.
도 5는 경계선(L1) 일측의 화소를 도시한 것이다. 도 5를 참고로 하면 경계선(L1)과 인접한 적색 화소, 녹색 화소 및 청색 화소에는 계측 패턴(231)이 위치하지만, 경계선(L1)과 인접하지 않은 화소에는 계측 패턴(231)이 위치하지 않는다.
계측 패턴(231)이 위치하지 않는 화소에는 서브 컬럼 스페이서(361)가 위치한다. 계측 패턴(231)이 위치하는 화소에는 서브 컬럼 스페이서(361)가 위치하지 않는바, 계측 패턴(231)이 위치하는 화소와 위치하지 않는 화소에서 셀갭을 유사하게 유지시킬 수 있다.
도 6은 도 5의 VI-VI'선을 따라 잘라 도시한 단면도이다. 도 6을 참고로 하면, 녹색 컬러 필터(230G)와 중첩하여 제1 전극(191) 위에 서브 컬럼 스페이서(361)가 위치한다. 이때 액정층(3)의 셀갭을 G2로 나타내었다.
다시 도 2를 참고로 하면, 계측 패턴(231)이 위치하는 화소에는 서브 컬럼 스페이서(361)가 위치하지 않는다. 그러나 계측 패턴(231)의 높이와 서브 컬럼 스페이서(361)의 높이가 유사하기 때문에, 도 2에서의 셀갭(G1)과 도 6에서의 셀갭(G2)이 유사하다. 일례로, 도 2에서의 셀갭(G1)과 도 6에서의 셀갭(G2) 차이는 10% 미만일 수 있다. 즉 계측 패턴(231)의 두께와 서브 컬럼 스페이서(361)의 두께 차이가 10% 미만일 수 있다.
즉 계측 패턴(231)이 위치하는 화소에서, 계측 패턴(231)은 서브 컬럼 스페이서(361)의 기능을 수행할 수 있다.
도 7은 다른 일 실시예에 따른 표시 장치에서 도 1과 동일한 영역을 도시한 것이다. 도 7을 참고로 하면 본 실시예에 따른 표시 장치는 적색 계측 패턴(231R), 녹색 계측 패턴(231G) 및 청색 계측 패턴(231B)의 위치관계를 제외하고는 도 1의 실시예와 동일하다. 동일한 구성요소에 대한 구체적인 설명은 생략한다.
도 7을 참고로 하면, 본 실시예에 따른 표시 장치는 적색 계측 패턴(231R)이 녹색 컬러 필터(230G)가 아니라 청색 컬러 필터(230B)와 중첩하여 위치하고, 녹색 계측 패턴(231G)이 청색 컬러 필터(230B)가 아니라 적색 컬러 필터(230R)와 중첩하여 위치하고, 청색 계측 패턴(231B)이 적색 컬러 필터(230R)가 아니라 녹색 컬러 필터(230G)와 중첩하여 위치한다는 점에서 도 1과 상이하다.
즉 도 7의 실시예에 따른 표시 장치는 적색 컬러 필터(230R)의 형성시 청색 화소 영역에 적색 계측 패턴(231R)이 형성되고, 녹색 컬러 필터(230G) 형성시 적색 화소 영역에 녹색 계측 패턴(231G)이 형성되고, 청색 컬러 필터(230B) 형성시 녹색 화소 영역에서 청색 계측 패턴(231B)이 형성된다. 이때 청색 컬러 필터(230B) 하부에 적색 계측 패턴(231R)이 형성되고, 적색 컬러 필터(230R) 상부에 녹색 계측 패턴(231G)이 형성되고, 녹색 컬러 필터(230G) 상부에 청색 계측 패턴(231B)이 형성된다.
도 8 내지 10은 도 1의 실시예에 따른 표시 장치의 제조 과정을, 컬러 필터(230)와 계측 패턴(231)의 구성을 중심으로 도시한 것이다.
도 8을 참고로 하면, 적색 컬러 필터(230R)와 적색 계측 패턴(231R)을 형성한다.
다음 도 9를 참고로 하면, 녹색 컬러 필터(230G)와 녹색 계측 패턴(231G)을 형성한다. 이때 녹색 컬러 필터(230G)는 적색 계측 패턴(231R)과 중첩하여 위치한다.
다음 도 10을 참고로 하면, 청색 컬러 필터(230B)와 청색 계측 패턴(231B)을 형성한다. 이때 청색 컬러 필터(230B)는 녹색 계측 패턴(231G)과 중첩하여 위치한다. 청색 계측 패턴(231B)은 적색 컬러 필터(230R)와 중첩하여 위치한다.
도 7의 실시예에 따른 표시 장치 또한 도 8 내지 도 10과 유사한 공정으로 형성될 수 있다. 계측 패턴(231)이 형성되는 위치를 제외하고는 동일한 바 동일한 구성요소에 대한 구체적인 설명은 생략한다.
이상과 같이 본 실시예에 따른 표시 장치는 각 컬러 필터(230)와 동일 공정으로 형성되는 계측 패턴(231)을 포함한다. 계측 패턴(231)은 표시 장치에 위치하는 복수개의 화소 중 마스크(700)의 경계선(L1, L2)에 인접한 화소에 위치하며, 컬러 필터(230) 형성을 위한 공정에서 마스크(700)의 정렬을 정확히 계측할 수 있다.
이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.

Claims (20)

  1. 제1 기판;
    상기 제1 기판에 위치하는 복수개의 화소를 포함하고,
    상기 복수개의 화소는 제1 화소를 포함하고,
    상기 제1 화소는
    트랜지스터;
    상기 트랜지스터와 연결된 제1 전극;
    상기 제1 전극과 중첩하는 제1 컬러 필터;
    상기 제1 컬러 필터와 중첩하는 제3 계측 패턴을 포함하고,
    상기 제1 컬러 필터는 상기 제3 계측 패턴과 서로 다른 색을 갖는 표시 장치.
  2. 제1항에서,
    상기 복수개의 화소는 제2 화소 및 제3 화소를 더 포함하고,
    상기 제2 화소는
    트랜지스터;
    상기 트랜지스터와 연결된 제1 전극;
    상기 제1 전극과 중첩하는 제2 컬러 필터;
    상기 제2 컬러 필터와 중첩하는 제1 계측 패턴을 포함하고,
    상기 제3 화소는
    트랜지스터;
    상기 트랜지스터와 연결된 제1 전극;
    상기 제1 전극과 중첩하는 제3 컬러 필터;
    상기 제3 컬러 필터와 중첩하는 제2 계측 패턴을 포함하는 표시 장치.
  3. 제2항에서,
    상기 제1 컬러 필터 및 상기 제1 계측 패턴은 동일 공정으로 형성되고,
    상기 제2 컬러 필터 및 상기 제2 계측 패턴은 동일 공정으로 형성되고,
    상기 제3 컬러 필터 및 상기 제3 계측 패턴은 동일 공정으로 형성되는 표시 장치.
  4. 제3항에서,
    상기 제1 컬러 필터 및 상기 제1 계측 패턴은 적색이고,
    상기 제2 컬러 필터 및 상기 제2 계측 패턴은 녹색이고,
    상기 제3 컬러 필터 및 상기 제3 계측 패턴은 청색인 표시 장치.
  5. 제4항에서,
    상기 기판은 n-1개의 가상의 경계선으로 구획되는 n개의 영역을 포함하고,
    상기 가상의 경계선의 양 가장자리에 상기 제1 화소, 상기 제2 화소 및 상기 제3 화소가 위치하는 표시 장치.
  6. 제5항에서,
    상기 복수개의 화소 중 상기 가상의 경계선과 인접하지 않은 화소는
    트랜지스터;
    상기 트랜지스터와 연결된 제1 전극;
    상기 제1 전극과 중첩하는 컬러 필터;
    상기 트랜지스터와 중첩하는 서브 컬럼 스페이서를 포함하는 표시 장치.
  7. 제6항에서,
    상기 제1 기판과 중첩하는 제2 기판;
    상기 제2 기판에 위치하는 제2 전극;
    상기 제2 기판과 상기 제1 기판 사이에 위치하는 액정층을 더 포함하고,
    상기 제1 화소의 액정층의 두께와,
    상기 가상의 경계선과 인접하지 않은 화소의 액정층의 두께의 차이는 10% 미만인 표시 장치.
  8. 제2항에서,
    상기 제3 계측 패턴은 상기 제1 컬러 필터상에 위치하고,
    상기 제1 계측 패턴은 상기 제2 컬러 필터 아래에 위치하고,
    상기 제2 계측 패턴은 상기 제3 컬러 필터 아래에 위치하는 표시 장치.
  9. 제1항에서,
    상기 계측 패턴의 형상은 사각형인 표시 장치.
  10. 제1항에서,
    상기 제1 화소는 게이트선을 포함하고,
    상기 게이트선은 서로 이격된 제1 게이트선 및 제2 게이트선,
    상기 제1 게이트선 및 제2 게이트선을 연결하는 게이트 전극을 포함하고,
    상기 제3 계측 패턴은 상기 게이트 전극과 중첩하는 표시 장치.
  11. n-1개의 가상의 경계선으로 구획되는 n개의 영역을 포함하는 제1 기판;
    상기 제1 기판에 위치하는 복수개의 화소를 포함하고,
    상기 복수개의 화소 중 상기 가상의 경계선에 인접하여 위치하는 화소는
    트랜지스터;
    상기 트랜지스터와 연결된 제1 전극;
    상기 제1 전극과 중첩하는 컬러 필터;
    상기 컬러 ??터와 중첩하는 계측 패턴을 포함하고,
    상기 컬러 필터와 상기 계측 패턴은 적색, 녹색, 청색 중 하나의 색을 가지며,
    상기 컬러 필터와 상기 계측 패턴은 서로 다른 색인 표시 장치.
  12. 제11항에서,
    상기 n은 2 내지 10인 표시 장치.
  13. 제11항에서,
    상기 계측 패턴은 상기 컬러 필터의 상부 또는 하부에 위치하는 표시 장치.
  14. 제11항에서,
    상기 화소는 게이트선을 포함하고,
    상기 게이트선은 서로 이격된 제1 게이트선 및 제2 게이트선,
    상기 제1 게이트선 및 제2 게이트선을 연결하는 게이트 전극을 포함하고,
    상기 계측 패턴은 상기 게이트 전극과 중첩하는 표시 장치.
  15. 제11항에서,
    상기 계측 패턴의 형상은 사각형인 표시 장치.
  16. 제11항에서,
    상기 복수개의 화소 중 상기 가상의 경계선과 인접하지 않은 화소는
    트랜지스터;
    상기 트랜지스터와 연결된 제1 전극;
    상기 제1 전극과 중첩하는 컬러 필터;
    상기 트랜지스터와 중첩하는 서브 컬럼 스페이서를 포함하는 표시 장치.
  17. 제16항에서,
    상기 서브 컬럼 스페이서의 두께와 상기 계측 패턴의 두께 차이가 10% 미만인 표시 장치.
  18. 제1 기판;
    상기 제1 기판에 위치하는 복수개의 화소를 포함하고,
    상기 복수개의 화소는 제1 화소, 제2 화소 및 제3 화소를 포함하고,
    상기 제1 화소는
    트랜지스터;
    상기 트랜지스터와 연결된 제1 전극;
    상기 제1 전극과 중첩하는 제1 컬러 필터;
    상기 제1 컬러 필터와 중첩하는 제2 계측 패턴을 포함하고,
    상기 제2 화소는
    트랜지스터;
    상기 트랜지스터와 연결된 제1 전극;
    상기 제1 전극과 중첩하는 제2 컬러 필터;
    상기 제2 컬러 필터와 중첩하는 제3 계측 패턴을 포함하고,
    상기 제3 화소는
    트랜지스터;
    상기 트랜지스터와 연결된 제1 전극;
    상기 제1 전극과 중첩하는 제3 컬러 필터;
    상기 제3 컬러 필터와 중첩하는 제1 계측 패턴을 포함하는 표시 장치.
  19. 제18항에서,
    상기 제1 컬러 필터 및 상기 제1 계측 패턴은 적색이고,
    상기 제2 컬러 필터 및 상기 제2 계측 패턴은 녹색이고,
    상기 제3 컬러 필터 및 상기 제3 계측 패턴은 청색인 표시 장치.
  20. 제18항에서,
    상기 제1 계측 패턴은 상기 제3 컬러 필터 하부에 위치하고,
    상기 제2 계측 패턴은 상기 제1 컬러 필터 상부에 위치하고,
    상기 제3 계측 패턴은 상기 제2 컬러 필터 상부에 위치하는 표시 장치.
KR1020190145889A 2019-11-14 2019-11-14 표시 장치 KR20210059130A (ko)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190145889A KR20210059130A (ko) 2019-11-14 2019-11-14 표시 장치
US16/932,807 US11101223B2 (en) 2019-11-14 2020-07-19 Display device
CN202011266767.0A CN112799254A (zh) 2019-11-14 2020-11-13 显示设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190145889A KR20210059130A (ko) 2019-11-14 2019-11-14 표시 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20210059130A true KR20210059130A (ko) 2021-05-25

Family

ID=75806301

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190145889A KR20210059130A (ko) 2019-11-14 2019-11-14 표시 장치

Country Status (3)

Country Link
US (1) US11101223B2 (ko)
KR (1) KR20210059130A (ko)
CN (1) CN112799254A (ko)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050060669A (ko) 2003-12-17 2005-06-22 삼성전자주식회사 박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법
WO2005078775A1 (ja) 2004-02-13 2005-08-25 Nikon Corporation 計測方法、転写特性計測方法、露光装置の調整方法及びデバイス製造方法
JP5903891B2 (ja) 2010-01-18 2016-04-13 株式会社ニコン 露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法
KR102357577B1 (ko) 2014-08-28 2022-01-28 가부시키가이샤 오크세이사쿠쇼 투영 노광 장치, 투영 노광 방법, 투영 노광 장치용 포토마스크, 및 기판의 제조 방법
CN108089368B (zh) * 2018-01-15 2022-04-19 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及制备方法、显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
US11101223B2 (en) 2021-08-24
US20210151384A1 (en) 2021-05-20
CN112799254A (zh) 2021-05-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105607368B (zh) 阵列基板及其制备方法、显示装置
US10914979B2 (en) Display panel
US8908116B2 (en) Liquid crystal display device
KR101264722B1 (ko) 액정표시장치의 제조방법
US20120147314A1 (en) Display device and color filter substrate
CN107490914A (zh) 阵列基板及其制作方法
KR101273632B1 (ko) 액정표시장치용 어레이 기판 및 그 제조방법
KR20070000547A (ko) 얼라인 마크를 포함한 액정표시소자
US9360727B1 (en) Pixel structure of display panel
KR20070101923A (ko) 수평전계방식 액정표시장치 및 그 제조방법
US9733532B2 (en) Display device and method of manufacturing thin film transistor
US20160109751A1 (en) Color Filter, Liquid Crystal Display Apparatus, and Method of Manufacturing Color Filter
WO2016082236A1 (zh) 薄膜晶体管阵列基板及液晶显示装置
KR20100003916A (ko) 액정 표시 장치 및 그의 제조 방법
KR100271706B1 (ko) 액티브 매트릭스형 액정표시소자 및 그 제조방법
KR20110044108A (ko) 횡전계형 액정표시장치
KR20190087700A (ko) 마스크 및 이를 이용한 표시장치의 노광방법
TWI643009B (zh) 畫素結構以及包含此畫素結構的顯示面板
KR20210059130A (ko) 표시 장치
KR100324913B1 (ko) 표시장치용 어레이 기판 및 그 제조방법
KR101068285B1 (ko) 액정표시장치 노광 마스크 패턴 및 노광 방법
KR20120007323A (ko) 고 개구율을 갖는 액정표시장치 및 그 제조 방법
KR20200022556A (ko) 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
KR20060077880A (ko) 더미 패턴이 포함된 마스크를 이용하여 제조되는액정표시소자 및 이를 이용한 액정표시소자 제조방법
KR101919455B1 (ko) 액정표시장치 및 이의 제조 방법