KR20210034236A - A apparatus for monitoring the state of cleaning apparatus - Google Patents
A apparatus for monitoring the state of cleaning apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- KR20210034236A KR20210034236A KR1020190115908A KR20190115908A KR20210034236A KR 20210034236 A KR20210034236 A KR 20210034236A KR 1020190115908 A KR1020190115908 A KR 1020190115908A KR 20190115908 A KR20190115908 A KR 20190115908A KR 20210034236 A KR20210034236 A KR 20210034236A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- gas
- unit
- cleaning equipment
- exhaust
- concentration
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/30—Structural arrangements specially adapted for testing or measuring during manufacture or treatment, or specially adapted for reliability measurements
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 세정장비 모니터링 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 세정장비의 배기부를 통해 배출되는 배기가스의 활성화된 기체 농도를 실시간으로 측정하여 세정 장비의 정상적인 작동 여부를 모니터링할 수 있는 세정장비 모니터링 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a cleaning equipment monitoring device, and more particularly, a cleaning equipment monitoring device capable of monitoring the normal operation of the cleaning equipment by measuring the activated gas concentration of the exhaust gas discharged through the exhaust of the cleaning equipment in real time. It is about.
반도체, LCD등을 제조할 때 다양한 제조공정 중에 발생하는 잔류 물질(residual organic materials), 작은 파티클(small particles), 오염물(contaminants) 등을 제거하기 위하여 PCB 표면 또는 Glass 표면을 세정하는 공정이 필요하다. 현재까지 상기와 같은 공정에 수천대 이상의 대기압 플라즈마나 EUV, UV장비가 제조공정에 설치되어 사용되고 있다. When manufacturing semiconductors, LCDs, etc., a process of cleaning the PCB or glass surface is required to remove residual organic materials, small particles, and contaminants generated during various manufacturing processes. . Until now, more than thousands of atmospheric plasma, EUV, and UV equipment are installed and used in the manufacturing process in the above process.
하지만 이러한 세정 장비의 성능저하에 대해 판단할 정량적인 수치나 분석기가 없는 상태여서 제조공정상에 문제가 발생해도 그 원인을 찾을 방법이 힘들며, 세정 장비 제조사도 이를 해결한 마땅한 대안을 제시하지 못하고 있는 실정이다. However, since there is no quantitative numerical value or analyzer to determine the performance degradation of such cleaning equipment, even if a problem occurs in the manufacturing process, it is difficult to find the cause, and the cleaning equipment manufacturer has not been able to present a suitable alternative to solve this problem. to be.
상기 문제를 해결하기 위해 포토센서, 이미지 센싱등의 방법을 시도해 보았지만 활설화된 기체에서 방출하는 성분에 견디지 못하고 파손되어 적용하지 못하고 있다. In order to solve the above problem, methods such as photosensor and image sensing have been tried, but they cannot withstand the components emitted from the activated gas and are damaged and thus cannot be applied.
본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 세정장비의 배기부를 통해 배출되는 배기가스의 활성화된 기체 농도를 실시간으로 측정하여 세정 장비의 정상적인 작동 여부를 모니터링할 수 있는 세정장비 모니터링 장치를 제공하는 것이다. The technical problem to be solved by the present invention is to provide a cleaning equipment monitoring device capable of monitoring the normal operation of the cleaning equipment by measuring the activated gas concentration of the exhaust gas discharged through the exhaust part of the cleaning equipment in real time.
전술한 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 세정장비 모니터링 장치는, 세정장비의 배기부에 연결되어 설치되며, 상기 배기부를 통과하는 기체를 흡입하는 기체 흡입부; 상기 기체 흡입부에 연결되어 설치되며, 상기 기체 흡입부에 의하여 흡입된 기체 내에 존재하는 활성화된 기체의 농도를 모니터링하는 기체농도 모니터링부; 상기 기체농도 모니터링부와 연결되어 설치되며, 상기 기체농도 모니터링부에서 감지된 상기 활성화된 기체 농도와 레퍼런스값을 비교하여 상기 세정장비의 정상여부를 판단하는 제어부;를 포함한다. The cleaning equipment monitoring apparatus according to the present invention for solving the above-described technical problem includes: a gas intake unit connected to and installed in an exhaust unit of the cleaning equipment and for inhaling gas passing through the exhaust unit; A gas concentration monitoring unit connected to the gas suction unit and configured to monitor a concentration of activated gas present in the gas sucked by the gas suction unit; And a control unit connected to and installed with the gas concentration monitoring unit, and determining whether the cleaning equipment is normal by comparing the activated gas concentration detected by the gas concentration monitoring unit and a reference value.
그리고 본 발명에서 상기 기체농도 모니터링부는, 상기 기체 흡입부에 의하여 유입되는 기체를 단속하는 밸브; 상기 밸브를 통하여 공급되는 기체를 분석하여 상기 기체 내의 활성화된 기체 농도를 측정하는 기체 센싱 유닛; 상기 기체 센싱 유닛과 연결되어 설치되며, 상기 기체 센싱 유닛 내부의 기체를 흡입하여 외부로 배출하는 펌프;를 포함하는 것이 바람직하다. In addition, in the present invention, the gas concentration monitoring unit includes: a valve that regulates gas introduced by the gas intake unit; A gas sensing unit that analyzes the gas supplied through the valve and measures the concentration of the activated gas in the gas; It is preferable to include a; a pump that is installed in connection with the gas sensing unit and sucks the gas inside the gas sensing unit and discharges it to the outside.
또한 본 발명에서 상기 기체 센싱 유닛은, 자외선 흡광 방식 센서, 반도체 박막식 센서, 전기화학흡착식 센서 중에서 선택되는 어느 하나인 것이 바람직하다. In addition, in the present invention, the gas sensing unit is preferably any one selected from an ultraviolet absorption type sensor, a semiconductor thin film type sensor, and an electrochemical absorption type sensor.
또한 본 발명에서 상기 기체 센싱 유닛은, 포토 센서, 이미지 센서 또는 비디오카메라 중에서 선택되는 어느 한 비쥬얼 모니터링 유닛을 더 구비하는 것이 바람직하다. In addition, in the present invention, it is preferable that the gas sensing unit further includes any one visual monitoring unit selected from a photo sensor, an image sensor, or a video camera.
또한 본 발명에서 상기 기체농도 모니터링부에는, 상기 밸브에 의하여 공급되는 기체 일부를 레퍼런스 기체로 제공하는 레퍼런스 기체 제공부가 더 구비되는 것이 바람직하다. In addition, in the present invention, it is preferable that the gas concentration monitoring unit further includes a reference gas providing unit that provides a part of the gas supplied by the valve as a reference gas.
또한 본 발명에서 상기 기체 흡입부는, 상기 배기부 내부에 삽입되어 기체를 흡입하는 기체 흡입 모듈; 상기 기체 흡입 모듈을 상기 배기부에 고정하는 모듈 고정부; 상기 기체 흡입 모듈에 연결되어 설치되며, 상기 기체 흡입 모듈에 의하여 흡입된 기체를 상기 기체농도 모니터링부에 전달하는 기체 흡입관;을 포함하는 것이 바람직하다. In addition, in the present invention, the gas intake unit may include a gas intake module inserted into the exhaust unit to inhale gas; A module fixing part fixing the gas intake module to the exhaust part; It is preferable to include a; gas intake pipe is installed connected to the gas intake module, for transferring the gas sucked by the gas intake module to the gas concentration monitoring unit.
또한 본 발명에서 상기 기체 흡입 모듈은, 전체적으로 통형태를 가지며, 다수개의 기체 흡입홀이 외주면에 균일하게 형성되는 기체 흡입통; 상기 기체 흡입통에 연결되는 상기 기체 흡입관의 외부를 감싸서 보호하는 흡입관 보호부재; 상기 흡입관 보호부재의 외주면에 형성되며, 상기 기체 흡입통의 설치 위치를 상기 배기부의 중앙으로 한정하는 센터 블럭;을 포함하는 것이 바람직하다. In addition, in the present invention, the gas intake module has a cylindrical shape as a whole, and a gas intake tube in which a plurality of gas intake holes are uniformly formed on the outer circumferential surface; A suction pipe protection member that surrounds and protects the outside of the gas suction pipe connected to the gas suction vessel; It is preferable to include; a center block formed on the outer circumferential surface of the suction pipe protection member and defining an installation position of the gas intake cylinder to the center of the exhaust part.
또한 본 발명에서 상기 제어부는, 상기 기체 센싱 유닛에 의하여 제공되는 활성화된 기체 농도값을 레퍼런스값과 비교하여 상기 세정장비의 정상 여부를 판단하고, 상기 기체 농도값을 아날로그 값을 환산하는 제어보드; 상기 제어보드에 의하여 환산된 기체 농도값을 디스플레이하는 디스플레이 보드를 포함하는 것이 바람직하다. In addition, in the present invention, the control unit may include a control board for determining whether the cleaning equipment is normal by comparing the activated gas concentration value provided by the gas sensing unit with a reference value, and converting the gas concentration value to an analog value; It is preferable to include a display board for displaying the gas concentration value converted by the control board.
본 발명의 세정장비 모니터링 장치에 따르면 세정장비의 배기부에서 채취되는 활성화된 기체의 성분을 모니터링하여 제조공정상의 불량율 발생을 방지하고, 세정장비의 고장 여부를 판단할 있는 장점이 있다. According to the cleaning equipment monitoring apparatus of the present invention, there is an advantage of monitoring the components of the activated gas collected from the exhaust of the cleaning equipment to prevent the occurrence of a defect rate in the manufacturing process, and to determine whether the cleaning equipment is malfunctioning.
또한 본 발명에서는 자외선 흡광 방식을 이용하여 제조공정상에 발생하는 활성된 기체의 성분을 분석하여 수치화하여 제조공정상에 발생할 수 있는 사고를 미연에 방지할 수 있는 장점도 있다. In addition, the present invention has the advantage of preventing accidents that may occur in the manufacturing process in advance by analyzing and quantifying the components of the active gas generated in the manufacturing process using the ultraviolet absorption method.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 세정장비 모니터링 장치의 구성을 도시하는 도면이다.
도 2는 일반적인 세정장비의 구성을 도시하는 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기체 흡입부와 기체농도 모니터링부의 설치 상태를 도시하는 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기체농도 모니터링부의 구성을 도시하는 블럭도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기체 흡입부의 구조 및 설치 상태를 도시하는 도면이다. 1 is a diagram showing the configuration of a cleaning equipment monitoring apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a diagram showing the configuration of a general cleaning equipment.
3 is a view showing an installation state of a gas intake unit and a gas concentration monitoring unit according to an embodiment of the present invention.
4 is a block diagram showing the configuration of a gas concentration monitoring unit according to an embodiment of the present invention.
5 is a view showing the structure and installation state of a gas intake unit according to an embodiment of the present invention.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시예를 상세하게 설명한다. Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 실시예에 따른 세정장비 모니터링 장치(100)는 도 1에 도시된 바와 같이, 기체 흡입부(110), 기체농도 모니터링부(120) 및 제어부(130)를 포함하여 구성될 수 있다. 먼저 상기 기체 흡입부(110)는 도 1에 도시된 바와 같이, 세정장비(1)의 배기부(10)에 연결되어 설치되며, 상기 배기부(10)를 통과하는 기체를 흡입하는 구성요소이다. 이렇게 상기 기체 흡입부(110)에 의하여 흡입된 기체는 상기 기체 농도 모니터링부(120)로 이동되어 기체 측정에 사용된다. 본 실시예에서 상기 세정장비(1)는 플라즈마, EUV, UV 세정장비 등에서 선택되는 어느 하나일 수 있으며, 도 2에 도시된 바와 같이, 일반적으로 처리 모듈(30), 피처리 기판을 이동시키는 기판 이동부(20) 및 배기부(10)를 포함하여 구성될 수 있다. The cleaning
이를 위하여 본 실시예에서는 상기 기체 흡입부(110)를 구체적으로 도 3, 5에 도시된 바와 같이, 기체 흡입 모듈(111), 모듈 고정부(112) 및 기체 흡입관(113)을 포함하여 구성할 수 있다. 먼저 상기 기체 흡입 모듈(111)은 상기 배기부(10) 내부에 삽입되어 기체를 흡입하는 구성요소이다. 따라서 상기 기체 흡입 모듈(111)은 도 5에 도시된 바와 같이, 기체 흡입통(114), 흡입관 보호부재(116) 및 센터 블럭(117)을 포함하여 구성된다. 여기에서 성가 기체 흡입통(114)은 전체적으로 원통 형태를 가지며, 도 5에 도시된 바와 같이, 다수개의 기체 흡입홀(115)이 외주면에 균일하게 형성되는 구성요소이다. To this end, in this embodiment, the
그리고 상기 흡입관 보호부재(116)는 상기 기체 흡입통(114)에 연결되는 상기 기체 흡입관(113)의 외부를 감싸서 보호하는 구성요소이다. 상기 배기부(10)를 통과하여 배출되는 배기가스는 상당한 부식성을 가질 수 있으므로, 상기 배기부(10)에 상기 기체 흡입관(113)이 장시간 노출되는 경우 손상될 수 있는데 이를 상기 흡입관 보호부재(116)가 보호하는 것이다. In addition, the suction
다음으로 상기 센터 블럭(117)은, 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 흡입관 보호부재(116)의 외주면에 형성되며, 상기 기체 흡입통(114)의 설치 위치를 상기 배기부(10)의 중앙으로 한정하는 구성요소이다. 즉, 상기 센터 블럭(117)은 상기 기체 흡입 모듈(111)을 배기부(10)에 삽입하는 과정에서 일정한 깊이로 삽입되면 더 이상 삽입되지 않도록 막는 걸림턱 구조를 가지며, 이 상태에서 상기 기체 흡입 모듈(111)을 고정하면 상기 기체 흡입홀(5)들이 상기 배기부(10)의 중앙에 위치하게 되는 것이다.Next, the
다음으로 상기 모듈 고정부(112)는 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 기체 흡입 모듈(111)을 상기 배기부(10)에 고정하는 구성요소이다. 전술한 바와 같이, 상기 기체 흡입 모듈(111)이 배기부(10)의 정확한 위치로 삽입된 상태에서 상기 모듈 고정부(112)가 상기 기체 흡입 모듈(111)이 움직이지 않도록 고정하는 것이다. Next, the
다음으로 상기 기체 흡입관(113)은 도 3, 5에 도시된 바와 같이, 상기 기체 흡입 모듈(111)에 연결되어 설치되며, 상기 기체 흡입 모듈(111)에 의하여 흡입된 기체를 상기 기체농도 모니터링부(120)에 전달하는 구성요소이다. 따라서 상기 기체 흡입관(113)의 일단은 상기 기체 흡입통(114)에 연결되고, 타단은 상기 기체농도 모니터링부(120)에 연결된다. Next, the
다음으로 상기 기체농도 모니터링부(120)는 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 기체 흡입부(110)에 연결되어 설치되며, 상기 기체 흡입부(110)에 의하여 흡입된 기체 내에 존재하는 활성화된 기체의 농도를 모니터링(monitoring)하는 구성요소이다. 이렇게 상기 기체농도 모니터링부(120)에 의하여 실시간으로 모니터링되는 활성 기체의 농도값에 의하여 상기 제어부(130)가 공정의 이상 유무를 판단하는 것이다. Next, the gas
이를 위하여 본 실시예에서는 상기 기체농도 모니터링부(120)를 구체적으로 도 4에 도시된 바와 같이, 밸브(121), 기체 센싱 유닛(122) 및 펌프(123)로 구성할 수 있다. 먼저 상기 밸브(121)는 상기 기체 흡입부(110)에 의하여 유입되는 기체를 단속하는 구성요소이며, 상기 기체 흡입관(113)의 타단이 상기 밸브(121)에 연결되며, 상기 기체농도 모니터링부(120)로 배기가스가 최초로 유입되는 것이다. To this end, in this embodiment, the gas
그리고 상기 밸브(121)는 이렇게 유입되는 기체를 상기 제어부(130)의 제어 동작에 의하여 상기 기체 센싱 유닛(122) 방향으로 보내거나 차단한다. In addition, the
다음으로 상기 기체 센싱 유닛(122)은 상기 밸브(121)를 통하여 공급되는 기체를 분석하여 상기 기체 내의 활성화된 기체 농도를 측정하는 구성요소이다. 본 실시예에서 상기 기체 센싱 유닛(122)은, 구체적으로 자외선 흡광 방식 센서, 반도체 박막식 센서, 전기화학흡착식 센서 중에서 선택되는 어느 하나인 것이 바람직하다. Next, the
그리고 본 실시예에서 상기 기체 센싱 유닛(122)은, 포토 센서, 이미지 센서 또는 비디오카메라 중에서 선택되는 어느 한 비쥬얼 모니터링 유닛(도면에 미도시)을 더 구비하는 것이 바람직하다. Further, in the present embodiment, the
다음으로 상기 펌프(123)는 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 기체 센싱 유닛(122)과 연결되어 설치되며, 상기 기체 센싱 유닛(122) 내부의 기체를 흡입하여 외부로 배출하는 구성요소이다. 상기 펌프(123)의 동력에 의하여 상기 배기부(10)로부터 기체를 흡입하여 상기 기체 흡입관(113), 밸브(121) 및 기체 센싱 유닛(122)를 거친 배기가스가 다시 배기부(10)로 배출되는 것이다. Next, as shown in FIG. 4, the
한편 본 실시예에 따른 상기 기체농도 모니터링부(120)에는, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 밸브(121)에 의하여 공급되는 기체 일부를 레퍼런스 기체로 제공하는 레퍼런스 기체 제공부(124)가 더 구비되는 것이 바람직하다. 따라서 상기 제어부(130)는 활성 기체의 성분을 정확하게 분석하기 위하여 매번 레퍼런스 기체와 비교하는 절차를 거친다. Meanwhile, the gas
다음으로 상기 제어부(130)는 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 기체농도 모니터링부(120)와 연결되어 설치되며, 상기 기체농도 모니터링부(120)에서 감지된 상기 활성화된 기체 농도와 레퍼런스(reference)값을 비교하여 상기 세정장비(1)의 정상 여부를 판단하는 구성요소이다. 이를 위하여 본 실시예에서 상기 제어부(130)는 구체적으로 제어보드(132)와 디스플레이 보드(134)를 포함하여 구성되는 것이 바람직하다 .Next, as shown in FIG. 4, the
상기 제어보드(132)는 상기 기체 센싱 유닛(122)에 의하여 제공되는 활성화된 기체 농도값을 레퍼런스값과 비교하여 상기 세정장비(1)의 정상 작동 여부를 판단하고, 상기 기체 농도값을 아날로그 값을 환산하는 구성요소이다. 더 나아가서 상기 제어보드(132)는 상기 기체농도 모니터링부(120)의 각 구성요소들의 동작도 제어한다. The
그리고 상기 디스플레이 보드(134)는 상기 제어보드(132)에 의하여 환산된 기체 농도값을 디스플레이하는 구성요소이다. In addition, the
100 : 본 발명의 일 실시예에 따른 세정장비 모니터링 장치
110 : 기체 흡입부 120 : 기체농도 모니터링부
130 : 제어부 1 : 세정장비
10 : 배기부 20 : 기판 이동부
30 : 처리 모듈100: cleaning equipment monitoring device according to an embodiment of the present invention
110: gas intake unit 120: gas concentration monitoring unit
130: control unit 1: cleaning equipment
10: exhaust part 20: substrate moving part
30: processing module
Claims (6)
상기 기체 흡입부에 연결되어 설치되며, 상기 기체 흡입부에 의하여 흡입된 기체 내에 존재하는 활성화된 기체의 농도를 모니터링하는 기체농도 모니터링부;
상기 기체농도 모니터링부와 연결되어 설치되며, 상기 기체농도 모니터링부에서 감지된 상기 활성화된 기체 농도와 레퍼런스값을 비교하여 상기 세정장비의 정상여부를 판단하는 제어부;를 포함하는 세정장비 모니터링 장치. A gas suction unit connected to the exhaust unit of the cleaning equipment and configured to suck gas passing through the exhaust unit;
A gas concentration monitoring unit connected to the gas suction unit and configured to monitor a concentration of activated gas present in the gas sucked by the gas suction unit;
And a control unit that is installed in connection with the gas concentration monitoring unit and determines whether the cleaning equipment is normal by comparing the activated gas concentration detected by the gas concentration monitoring unit and a reference value.
상기 기체 흡입부에 의하여 유입되는 기체를 단속하는 밸브;
상기 밸브를 통하여 공급되는 기체를 분석하여 상기 기체 내의 활성화된 기체 농도를 측정하는 기체 센싱 유닛;
상기 기체 센싱 유닛과 연결되어 설치되며, 상기 기체 센싱 유닛 내부의 기체를 흡입하여 외부로 배출하는 펌프;를 포함하는 것을 특징으로 하는 세정장비 모니터링 장치. The method of claim 1, wherein the gas concentration monitoring unit,
A valve that regulates gas introduced by the gas intake unit;
A gas sensing unit that analyzes the gas supplied through the valve and measures the concentration of the activated gas in the gas;
And a pump that is installed in connection with the gas sensing unit and sucks gas inside the gas sensing unit and discharges it to the outside.
자외선 흡광 방식 센서, 반도체 박막식 센서, 전기화학흡착식 센서 중에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 세정장비 모니터링 장치.The method of claim 2, wherein the gas sensing unit,
A cleaning equipment monitoring device, characterized in that it is any one selected from an ultraviolet absorption type sensor, a semiconductor thin film type sensor, and an electrochemical adsorption type sensor.
포토 센서, 이미지 센서 또는 비디오카메라 중에서 선택되는 어느 한 비쥬얼 모니터링 유닛을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 세정장비 모니터링 장치. The method of claim 2, wherein the gas sensing unit,
A cleaning equipment monitoring device, characterized in that it further comprises any one visual monitoring unit selected from a photo sensor, an image sensor, or a video camera.
상기 밸브에 의하여 공급되는 기체 일부를 레퍼런스 기체로 제공하는 레퍼런스 기체 제공부가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 세정장비 모니터링 장치. The method of claim 2, wherein the gas concentration monitoring unit,
A cleaning equipment monitoring device, characterized in that further comprising a reference gas providing unit that provides a part of the gas supplied by the valve as a reference gas.
상기 배기부 내부에 삽입되어 기체를 흡입하는 기체 흡입 모듈;
상기 기체 흡입 모듈을 상기 배기부에 고정하는 모듈 고정부;
상기 기체 흡입 모듈에 연결되어 설치되며, 상기 기체 흡입 모듈에 의하여 흡입된 기체를 상기 기체농도 모니터링부에 전달하는 기체 흡입관;을 포함하는 것을 특징으로 하는 세정장비 모니터링 장치. The method of claim 1, wherein the gas intake unit,
A gas intake module inserted into the exhaust part to inhale gas;
A module fixing part fixing the gas intake module to the exhaust part;
And a gas suction pipe connected to and installed to the gas suction module and transferring the gas sucked by the gas suction module to the gas concentration monitoring unit.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190115908A KR102330480B1 (en) | 2019-09-20 | 2019-09-20 | A apparatus for monitoring the state of cleaning apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190115908A KR102330480B1 (en) | 2019-09-20 | 2019-09-20 | A apparatus for monitoring the state of cleaning apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20210034236A true KR20210034236A (en) | 2021-03-30 |
KR102330480B1 KR102330480B1 (en) | 2021-11-24 |
Family
ID=75265132
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020190115908A KR102330480B1 (en) | 2019-09-20 | 2019-09-20 | A apparatus for monitoring the state of cleaning apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102330480B1 (en) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR200280458Y1 (en) * | 2002-04-04 | 2002-07-02 | 아남반도체 주식회사 | Monitoring device for the inner gas in the stepper |
JP2005050856A (en) * | 2003-07-29 | 2005-02-24 | Hitachi Kasado Eng Co Ltd | Process treatment equipment and washing method thereof |
JP2006098138A (en) * | 2004-09-28 | 2006-04-13 | Ngk Spark Plug Co Ltd | Gas sensor |
KR20060061371A (en) * | 2003-09-12 | 2006-06-07 | 아이알 마이크로시스템 에스.에이. | Gas detection method and gas detector device |
JP2008196882A (en) * | 2007-02-09 | 2008-08-28 | Taiyo Nippon Sanso Corp | Gas analyzer |
JP6344533B2 (en) * | 2015-12-15 | 2018-06-20 | コニカミノルタ株式会社 | Gas concentration thickness product measuring apparatus, gas concentration thickness product measuring method, gas concentration thickness product measuring program, and computer readable recording medium recording gas concentration thickness product measuring program |
-
2019
- 2019-09-20 KR KR1020190115908A patent/KR102330480B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR200280458Y1 (en) * | 2002-04-04 | 2002-07-02 | 아남반도체 주식회사 | Monitoring device for the inner gas in the stepper |
JP2005050856A (en) * | 2003-07-29 | 2005-02-24 | Hitachi Kasado Eng Co Ltd | Process treatment equipment and washing method thereof |
KR20060061371A (en) * | 2003-09-12 | 2006-06-07 | 아이알 마이크로시스템 에스.에이. | Gas detection method and gas detector device |
JP2006098138A (en) * | 2004-09-28 | 2006-04-13 | Ngk Spark Plug Co Ltd | Gas sensor |
JP2008196882A (en) * | 2007-02-09 | 2008-08-28 | Taiyo Nippon Sanso Corp | Gas analyzer |
JP6344533B2 (en) * | 2015-12-15 | 2018-06-20 | コニカミノルタ株式会社 | Gas concentration thickness product measuring apparatus, gas concentration thickness product measuring method, gas concentration thickness product measuring program, and computer readable recording medium recording gas concentration thickness product measuring program |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102330480B1 (en) | 2021-11-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20180299406A1 (en) | Photo Ionization Detector with Self-Calibration | |
KR102085641B1 (en) | Dissolved oxygen sensor | |
KR20070035346A (en) | plasma processing apparatus having plasma detection system | |
KR102330480B1 (en) | A apparatus for monitoring the state of cleaning apparatus | |
KR20200013717A (en) | Substrate processing apparatus and component inspection method of substrate processing apparatus | |
KR102597198B1 (en) | Inline particle sensor | |
JPH085542A (en) | Method and apparatus for fabricating semiconductor device | |
KR102467469B1 (en) | Gas leak sensor with inhalation fan | |
CN112629769B (en) | Leakage measurement system, semiconductor manufacturing system, and leakage measurement method | |
KR100568447B1 (en) | Air particle mesurement apparatus | |
KR101872761B1 (en) | Internal Contamination Measurement Device for Front Open Unified Pod and Measurement Method of the Same | |
KR20190016887A (en) | Internal Contamination Measurement Device for Front Open Unified Pod and Measurement Method of the Same | |
KR20080016246A (en) | Apparatus for monitoring powder of a pipe | |
KR102435392B1 (en) | Gas line inspection device for semiconductor manufacturing equipment | |
JP4566032B2 (en) | measuring device | |
JPH01291142A (en) | Monitor device for contamination in clean room | |
KR101915012B1 (en) | Internal Contamination Measurement Device for Front Open Unified Pod and Measurement Method of the Same | |
US20070268467A1 (en) | Exposure apparatus and semiconductor device manufacturing method | |
KR102501506B1 (en) | Substrate processing method and substrate processing apparatus | |
KR20170019256A (en) | Purge module and burk chamber with purge module | |
JP3469803B2 (en) | Coating and developing apparatus operating method and coating and developing apparatus | |
WO2022209263A1 (en) | Inspection method, conductive member, and inspection device | |
KR20170127221A (en) | Leak detection method and apparatus of chamber | |
KR101692738B1 (en) | Contamination monitoring apparatus for a gas line blocking gas leakage | |
KR20220126947A (en) | Supercritical processing system and method thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E90F | Notification of reason for final refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |