KR20210004394A - 리테이너 링 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 리테이너 링 장치의 외표면에 찌꺼기가 들어붙지 않도록 구조적인 변경을 가하면서도 본래의 사이즈와 무게 조건을 유지시키는 기술로서, 서스 재질인 베이스 리테이너 링에 대해 얇은 막 형태의 하부 커버 링과 상부 커버 링을 본딩 결합시킴으로써 커버 링의 균열에 대한 종래 문제점을 해소하면서 아울러 리테이너 링 장치의 본래 규격과 무게 조건을 최소로 변경시켜 그 리테이너 링 장치를 구동시키는 시스템의 본래 레시피를 통해서도 최적의 폴리싱 효과를 나타내도록 하는 기술에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 이너 단턱부재, 이너 원형리브, 아우터 단턱부재, 아우터 원형리브를 구비함에 따라 하부 커버 링과 상부 커버 링의 연결 부분에서도 베이스 리테이너 링의 내외부 기밀유지가 가능하도록 본딩 결합시킬 수 있는 장점이 있다.

Description

리테이너 링 장치 {retainer ring device}
본 발명은 리테이너 링 장치의 외표면에 찌꺼기가 들어붙지 않도록 구조적인 변경을 가하면서도 본래의 사이즈와 무게 조건을 유지시키는 기술에 관한 것이다.
더욱 상세하게는, 본 발명은 서스 재질인 베이스 리테이너 링에 대해 얇은 막 형태의 하부 커버 링과 상부 커버 링을 본딩 결합시킴으로써 커버 링의 균열에 대한 종래 문제점을 해소하면서 아울러 리테이너 링 장치의 본래 규격과 무게 조건을 최소로 변경시켜 그 리테이너 링 장치를 구동시키는 시스템의 본래 레시피를 통해서도 최적의 폴리싱 효과를 나타내도록 하는 기술에 관한 것이다.
[도 1]은 일반적인 리테이너 링 장치의 설치 상태를 나타낸 예시도이다. [도 1]을 참조하면, 일반적인 리테이너 링 장치(30)는 웨이퍼캐리어(20)의 하부에 장착된다.
웨이퍼캐리어(20)는 자신에 구비되는 석션유닛(22)의 하면에 웨이퍼(W)를 흡착한 상태로 그 웨이퍼(W)를 폴리싱 테이블(10)의 폴리싱 패드(11)에 밀착한 상태로 회전축(21)의 이동이나 회전에 의해 웨이퍼(W)를 연마한다.
이때, 사용자의 조작에 따라 폴리싱 패드(11)의 상면에 연마액이 뿌려지면 웨이퍼(W)의 하면은 그 만큼 잘 연마될 수 있다.
한편, 웨이퍼(W)가 석션유닛(22)의 하면에 밀착된 상태로 웨이퍼캐리어(20)가 수평운동이나 수평으로 회전운동을 하면 웨이퍼(W)의 상면이 석션유닛(22)에 붙어있는 상태라도 수평면상의 측방향으로 이탈되려는 힘을 받는다.
여기서, 석션유닛(22)으로부터 측방향으로 웨이퍼(W)가 이탈되지 않도록 웨이퍼(W)의 측방향 이동을 차단할 필요가 있다.
즉, 웨이퍼캐리어(20)에 구비되는 석션유닛(22)의 하면에 장착되는 리테이너 링 장치(30)는 중공형으로 이루어짐에 따라 석션유닛(22)의 하면에 붙게되는 웨이퍼(W)가 리테이너 링 장치(30)에 포위되는 배치구조를 나타낸다.
그런데, 웨이퍼캐리어(20)가 자신의 하면에 웨이퍼(W)를 흡착한 상태로 폴리싱 패드(11)의 상면에 밀착되면 리테이너 링 장치(30)의 하면도 폴리싱 패드(11)의 상면에 밀착된다.
그 결과, 웨이퍼캐리어(20)가 수평운동이나 수평면에서 회전운동을 하게 되면 웨이퍼(W)와 더불어 리테이너 링 장치(30)도 자신의 하면이 점차적으로 마모된다.
여기서, 리테이너 링 장치(30)가 폴리싱 패드(11)의 상면에 밀착된 상태로 움직이는 과정에서 폴리싱 패드(11)의 상면에는 슬러리 등의 다양한 오염물질이 찌꺼기로서 발생한다.
그 찌꺼기는 폴리싱 패드(11)의 상면에서 움직이는 리테이너 링 장치(30)의 측벽에 지속적으로 들러붙게 되며 어느정도 덩어리가 되면 자연적으로 뚝뚝 떨어진다.
이렇게 리테이너 링 장치(30)의 측벽으로부터 떨어지는 덩어리 형태의 찌꺼기는 웨이퍼(W)의 표면에 스크래치를 유발하는 등의 문제를 발생시킨다.
리테이너 링 장치(30)는 보통 서스 재질로 이루어지는데 이러한 서스는 성질상 리테이너 링 장치(30)가 폴리싱 패드(11)의 상면에서 움직일 때 발생하는 찌꺼기와 반응하여 들러붙기 때문에 이를 방지하기 위해 새로운 기술이 개시되기도 하였다.
예컨대, 리테이너 링 장치(30)의 외표면에 합성수지재를 씌우면 그 합성수지재는 리테이너 링 장치(30)가 폴리싱 패드(11)의 상면에서 움직일 때 발생하는 찌꺼기와 반응하지 않게 된다.
한편, 리테이너 링 장치(30)는 주변 구성과 충돌하지 않으면서 좁은 공간을 움직이도록 최적화된 셋팅값을 갖고 있기 때문에 기구적인 규격 조건이 매우 엄격하다.
그 결과, 그 리테이너 링 장치(30)의 규격 조건을 변경하는 일은 거의 불가능하다고 볼 수 있다. 왜냐하면, 리테이너 링 장치(30)의 제조업체가 리테이너 링 장치(30)를 동작시키기 위한 타업체의 시스템에 대한 레시피를 변경할 수 없다는 것이다.
이러한 이유로 리테이너 링 장치(30)의 규격 변화를 최소화하기 위해 서스 재질인 리테이너 링 장치(30) 외표면에 얇은 막 형태의 합성수지재를 외피로 씌우는 시도가 있었는데, 액상의 합성수지재가 리테이너 링 장치(30)의 외표면에서 경화되는 과정 중 서스 재질과의 상이한 열팽창계수로 인해 그 외피에 균열이 생기는 문제가 발생하였다.
이처럼, 리테이너 링 장치(30)의 외표면에서 발생하는 외피의 균열 현상을 극복하기 위해 리테이너 링 장치(30)의 외표면에 씌워지는 외피의 두께를 두껍게 할 필요가 생겼다.
그런데, 위에서 살펴 본 바와 같이 회전축(21)에 연결되는 리테이너 링 장치(30)의 기구적인 규격 조건이 엄격하기 때문에 본래 사이즈를 만족시키기 위해 외피의 두께를 두껍게 하고 그에 반하여 리테이너 링 장치(30)의 서스 재질 부분을 작게 변형할 필요가 있다.
그 결과, 리테이너 링 장치(30)의 엄격한 전체 규격 조건을 본래대로 만족시킬 수 있게 되었다.
하지만, 리테이너 링 장치(30)에서 서스 재질 부분이 줄고 합성수지재인 외피 부분이 늘어남에 따라 전체적인 무게는 가벼워졌는데, 이와 같이 리테이너 링 장치(30)의 무게가 경량화됨에 따라 새로운 문제점이 발생하였다.
즉, 회전축(21)은 리테이너 링 장치(30)와 연결된 상태로 회전하지만 그 회전축(21)에 연결된 상태로 폴리싱 패드(11)의 상면에서 직선운동도 하게 되는데, 이러한 회전운동과 직선운동에 따라 폴리싱 패드(11)의 상면에서 웨이퍼(W)가 폴리싱되기 위한 최적 조건은 리테이너 링 장치(30)의 본래 무게와도 밀접한 관련성이 있다.
예컨데, 특정의 무게를 갖는 리테이너 링 장치(30)가 폴리싱 패드(11)의 상면에서 본래 시스템의 레시피에 따라 회전운동이나 직선운동을 하게 되면 그 웨이퍼(W)에 대한 최적의 폴리싱이 이루어지도록 미리 튜닝되어 있는 것이다.
그 결과, 두꺼운 외피를 씌워 경량화된 리테이너 링 장치(30)는 자신의 외표면에 찌꺼기가 들어붙지 않게 하는 종래의 문제점을 해소하였지만, 리테이너 링 장치(30)의 폴리싱 시스템에 최적 설계되어 있는 본래의 레시피를 통해서는 웨이퍼(W)에 대한 최적의 폴리싱이 이루어지지 않는다는 새로운 문제점이 생겼다.
그에 따라, 서스 재질인 리테이너 링 장치의 외표면에 갈라지지 않은 얇은 막 형태의 외피를 구비함으로써 상기와 같은 문제점을 해결할 수 있는 기술 구현이 요구된다.
본 발명은 상기한 점을 감안하여 제안된 것으로, 본 발명의 목적은 리테이너 링 장치의 외표면에 찌꺼기가 들어붙지 않도록 합성수지재의 외피를 얇은 막 형태로 본딩 결합시킴에 따라 리테이너 링 장치의 본래 규격과 무게 조건을 최소로 변경시켜 그 리테이너 링 장치를 구동시키는 시스템의 본래 레시피를 통해서도 최적의 폴리싱 효과를 나타내도록 하는 리테이너 링 장치를 제공함에 있다.
상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 폴리싱 테이블 상을 움직이는 웨이퍼캐리어의 하부에 장착되어 웨이퍼캐리어의 하부에 흡착된 상태의 웨이퍼가 웨이퍼캐리어로부터 이탈됨을 방지하는 중공형의 리테이너 링 장치로서, 웨이퍼캐리어의 하면 테두리에 장착된 상태로 서스 재질의 중공형으로 형성된 베이스 리테이너 링(110); 베이스 리테이너 링의 하부와 측부의 단면 형상에 대응되게 중공형으로 이루어지고 베이스 리테이너 링의 하부로부터 베이스 리테이너 링에 끼워짐에 따라 베이스 리테이너 링의 하면과 측벽을 감싸는 형태로 베이스 리테이너 링과 본딩 결합되며 1 mm 내지 2 mm의 두께를 갖는 합성수지 재질의 하부 커버 링(210); 베이스 리테이너 링의 상부 단면 형상에 대응되게 중공형으로 이루어지고 베이스 리테이너 링의 상면에 안착된 상태로 자신의 외곽테두리가 하부 커버 링의 상부테두리에 맞닿은 상태로 베이스 리테이너 링 및 하부 커버 링과 본딩 결합되며 1 mm 내지 2 mm의 두께를 갖는 합성수지 재질의 상부 커버 링(220);을 포함하여 구성된다.
이때, 하부 커버 링(210)은, 베이스 리테이너 링의 하면과 맞닿는 하부 레이어(211)와, 베이스 리테이너 링의 내측벽과 맞닿는 이너 레이어(212)와, 베이스 리테이너 링의 외측벽과 맞닿는 아우터 레이어(213)가 상호 일체로 연결되어 구성되며, 이너 레이어(212)는, 베이스 리테이너 링에 체결된 상태에서 베이스 리테이너 링의 중공부 테두리 상단부로부터 베이스 리테이너 링의 중공부 방향으로 베이스 리테이너 링의 높이와 동일한 높이로 형성되는 이너 단턱부재(212a); 이너 단턱부재에서 이너 단턱부재의 내측테두리를 따라 상방향으로 돌출 형성되어 상부 커버 링의 내측벽과 맞닿는 이너 원형리브(212b);를 구비하고, 아우터 레이어(213)는, 베이스 리테이너 링에 체결된 상태에서 베이스 리테이너 링의 외곽테두리 상면으로부터 외향하는 방향으로 베이스 리테이너 링의 높이와 동일한 높이로 형성되는 아우터 단턱부재(213a); 아우터 단턱부재에서 아우터 단턱부재의 외곽테두리를 따라 상방향으로 돌출 형성되어 상부 커버 링의 외측벽과 맞닿는 아우터 원형리브(213b);를 구비할 수 있다.
그리고, 하부 레이어(211)는, 베이스 리테이너 링의 하면에 베이스 리테이너 링의 테두리를 따라 교번하여 상방향으로 함몰된 복수의 음각부재와 하방향으로 돌출된 복수의 양각부재 중 복수의 음각부재에 각각 맞물리도록 자신의 바닥면에 상방향으로 돌출 형성된 복수의 돌출그립 부재(211a); 복수의 양각부재에 각각 맞물리도록 자신의 바닥면에 하방향으로 함몰 형성된 복수의 함몰그립 부재(211b); 자신의 내측벽과 외측벽이 상호 연통되도록 자신의 하면을 가로질러 소정 깊이 절개되며 자신의 둘레를 따라 복수 개 형성됨에 따라 자신의 하면이 폴리싱 테이블에 밀착된 상태에서 폴리싱 테이블의 상면에 위치한 연마액이 자신의 중공부 쪽으로 인입되도록 가이드하는 그루브(211c);를 더 구비할 수 있다.
본 발명은 서스 재질인 베이스 리테이너 링의 외표면에 얇은 막 형태의 하부 커버링과 상부 커버 링을 본딩 결합시킴에 따라 리테이너 링 장치의 본래 규격과 무게 조건을 최소로 변경시켜 그 리테이너 링 장치를 구동시키는 시스템의 본래 레시피를 통해서도 최적의 폴리싱 효과를 나타내도록 하는 장점을 나타낸다.
또한, 본 발명은 하부 커버 링과 상부 커버 링이 베이스 리테이너 링의 단면 형태에 대응하도록 구성됨에 따라 하부 커버 링과 상부 커버 링은 그 베이스 리테이너 링의 외표면에 맞닿은 상태에서 상호 간에 이격 공간 없이 밀착될 수 있는 장점도 나타낸다.
또한, 본 발명은 이너 단턱부재, 이너 원형리브, 아우터 단턱부재, 아우터 원형리브를 구비함에 따라 하부 커버 링과 상부 커버 링의 연결 부분에서도 베이스 리테이너 링의 내외부 기밀유지가 가능하도록 본딩 결합시킬 수 있는 장점을 나타낸다.
[도 1]은 일반적인 리테이너 링 장치의 설치 상태를 나타낸 예시도,
[도 2]는 본 발명에 따른 리테이너 링 장치의 구성을 분리 도시한 저면사시도,
[도 3]은 본 발명에 따른 리테이너 링 장치의 구성을 분리 도시한 상면사시도,
[도 4]는 [도 2]의 각 구성의 일부분을 절취한 도면,
[도 5]는 [도 3]의 각 구성의 일부분을 절취한 도면,
[도 6]은 [도 4]의 일부분을 절취하여 확대 도시한 도면,
[도 7]은 [도 6]의 일부분을 절취하여 확대 도시한 도면,
[도 8]은 [도 6]의 각 구성의 절취된 부분을 확대 도시한 단면도,
[도 9]는 [도 8]의 각 구성을 결합시킨 도면이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.
[도 1]은 일반적인 리테이너 링 장치의 설치 상태를 나타낸 예시도이고, [도 2]는 본 발명에 따른 리테이너 링 장치의 구성을 분리 도시한 저면사시도이고, [도 3]은 본 발명에 따른 리테이너 링 장치의 구성을 분리 도시한 상면사시도이고, [도 4]는 [도 2]의 각 구성의 일부분을 절취한 도면이고, [도 5]는 [도 3]의 각 구성의 일부분을 절취한 도면이다.
본 발명은 [도 1]에서의 폴리싱 테이블(10) 상을 움직이는 웨이퍼캐리어(20)의 하부에 장착되어 [도 1]에서의 웨이퍼캐리어(20) 하부에 흡착된 상태의 웨이퍼(W)가 웨이퍼캐리어(20)로부터 이탈됨을 방지하는 중공형의 리테이너 링 장치를 나타낸다.
여기서, 본 발명에 따른 리테이너 링 장치는 [도 1] 상의 일반적인 리테이너 링 장치(30)가 장착되는 위치에 장착될 수 있다.
[도 2] 내지 [도 5]를 참조하면, 본 발명에 따른 리테이너 링 장치는 베이스 리테이너 링(110), 하부 커버 링(210), 상부 커버 링(220)을 포함하여 구성될 수 있다.
베이스 리테이너 링(110)은 [도 2] 내지 [도 5]에서와 같이 서스 재질의 중공형으로 형성되며 [도 1] 상의 웨이퍼캐리어(20) 하면 테두리에 장착되도록 구성된다.
베이스 리테이너 링(110)은 중공형으로 이루어짐에 따라 자신의 하면이 [도 1] 상의 폴리싱 패드(11) 상면에 밀착되는 경우 [도 1] 상의 석션유닛(22) 하면에 붙어있는 웨이퍼(W)가 자신의 중공부 내측에 포위될 수 있다.
하부 커버 링(210)은 예컨대 PPS나 PEEK와 같은 합성수지 재질로 이루어질 수 있으며 바람직하게는 1 mm 내지 2 mm의 두께를 갖도록 구성된다. 여기서, 하부 커버 링(210)은 가장 바람직하게는 1.75mm로 구성될 수 있다.
하부 커버 링(210)은 [도 2] 내지 [도 5]에서와 같이 베이스 리테이너 링(110)의 하부와 측부의 단면 형상에 대응되게 중공형으로 이루어진다.
그 결과, 하부 커버 링(210)은 베이스 리테이너 링(110)의 하부로부터 베이스 리테이너 링(110)에 끼워짐에 따라 베이스 리테이너 링(110)의 하면과 측벽을 감싸는 형태로 베이스 리테이너 링(110)의 외표면과 밀착된 상태로 본딩 결합될 수 있다.
상부 커버 링(220)은 예컨대 PPS나 PEEK와 같은 합성수지 재질로 이루어질 수 있으며 바람직하게는 1 mm 내지 2 mm의 두께를 갖도록 구성된다. 여기서, 상부 커버 링(220)은 가장 바람직하게는 1.75mm로 구성될 수 있다.
상부 커버 링(220)은 [도 2] 내지 [도 5]에서와 같이 베이스 리테이너 링(110)의 상부 단면 형상에 대응되게 중공형으로 이루어진다.
상부 커버 링(220)은 베이스 리테이너 링(110)의 상면에 안착된 상태로 자신의 외곽테두리가 하부 커버 링(210)의 상부테두리에 맞닿은 상태로 베이스 리테이너 링(110) 및 하부 커버 링(210)과 본딩 결합될 수 있다.
이처럼, 하부 커버 링(210)과 상부 커버 링(220)이 베이스 리테이너 링(110)의 단면 형태에 대응하도록 구성됨에 따라 하부 커버 링(210)과 상부 커버 링(220)은 그 베이스 리테이너 링(110)의 외표면에 맞닿은 상태에서 상호 간에 이격 공간 없이 본딩 결합에 의해 밀착될 수 있다.
한편, 하부 커버 링(210)과 상부 커버 링(220)의 단면 두께가 1 mm 미만이 된다면 합성수지 재질의 특성상 찢어짐에 대한 제품 관리의 신뢰성이 떨어질 수 있고 2mm를 초과하게 되면 배경기술에서 살펴 본 바와 같이 리테이너 링 장치의 엄격한 규격 조건을 벗어나는 문제가 발생한다.
[도 6]은 [도 4]의 일부분을 절취하여 확대 도시한 도면이고, [도 7]은 [도 6]의 일부분을 절취하여 확대 도시한 도면이고, [도 8]은 [도 6]의 각 구성의 절취된 부분을 확대 도시한 단면도이고, [도 9]는 [도 8]의 각 구성을 결합시킨 도면이다.
하부 커버 링(210)은 [도 6] 내지 [도 9]에서와 같이, 베어스 리테이너 링(110)의 단면 구조에 대응하도록 하부 레이어(211), 이너 레이어(212), 아우터 레이어(213)가 상호 일체로 연결되어 구성될 수 있다.
하부 레이어(211)는 [도 6] 내지 [도 9]에서와 같이 베이스 리테이너 링(110)의 하면과 맞닿는 하부 커버 링(210)의 일부분을 나타낸다.
이너 레이어(212)는 [도 6] 내지 [도 9]에서와 같이 베이스 리테이너 링(110)의 중공부인 베이스 리테이너 링(110)의 내측벽과 맞닿는 하부 커버 링(210)의 일부분을 나타낸다.
아우터 레이어(213)는 [도 6] 내지 [도 9]에서와 같이 베이스 리테이너 링(110)의 외측벽과 맞닿는 하부 커버 링(210)의 일부분을 나타낸다.
한편, [도 8]과 [도 9]에서와 같이 하부 커버 링(210)과 상부 커버 링(220)이 상호 연결되는 부분에서도 베이스 리테이너 링(110)이 외부에 노출되지 않도록 이너 레이어(212)는 이너 단턱부재(212a)와 이너 원형리브(212b)를 구비하고, 아우터 레이어(213)는 아우터 단턱부재(213a)와 아우터 원형리브(213b)를 구비할 수 있다.
상세하게, 이너 단턱부재(212a)는 [도 6] 내지 [도 9]에서와 같이 베이스 리테이너 링(110)에 체결된 상태에서 베이스 리테이너 링(110)의 중공부 테두리 상단부로부터 베이스 리테이너 링(110)의 중공부 방향으로 베이스 리테이너 링(110)의 높이와 동일한 높이로 형성될 수 있다.
이너 원형리브(212b)는 [도 6] 내지 [도 9]에서와 같이 이너 단턱부재(212a)에서 이너 단턱부재(212a)의 내측테두리를 따라 상방향으로 돌출 형성되어 상부 커버 링(220)의 내측벽과 맞닿도록 구성될 수 있다.
아우터 단턱부재(213a)는 [도 6] 내지 [도 9]에서와 같이 베이스 리테이너 링(110)에 체결된 상태에서 베이스 리테이너 링(110)의 외곽테두리 상면으로부터 외향하는 방향으로 베이스 리테이너 링(110)의 높이와 동일한 높이로 형성될 수 있다.
아우터 원형리브(213b)는 [도 6] 내지 [도 9]에서와 같이 아우터 단턱부재(213a)에서 아우터 단턱부재(213a)의 외곽테두리를 따라 상방향으로 돌출 형성되어 상부 커버 링(220)의 외측벽과 맞닿도록 구성될 수 있다.
다른 한편, 베이스 리테이너 링(110), 하부 커버 링(210), 상부 커버 링(220)이 상호 연결된 상태로 [도 1] 상의 웨이피캐리어(20)의 동작 제어를 통해 폴리싱 테이블(10)의 상면에 움직일 때 베이스 리테이너 링(110)의 하면과 하부 커버 링(210)의 상면이 보다 견고하게 그 결합력을 유지할 수 있도록 하부 커버 링(210)의 하부 레이어(211) 구조도 보강하였다.
이를 위해, 하부 레이어(211)는 [도 6] 내지 [도 9]에서와 같이 돌출그립 부재(211a), 함몰그립 부재(211b), 그루브(211c)를 구비할 수 있다.
돌출그립 부재(211a)는 [도 6] 내지 [도 9]에서와 같이 복수 개 구비될 수 있으며, 베이스 리테이너 링(110)의 하면에 베이스 리테이너 링(110)의 테두리를 따라 교번하여 상방향으로 함몰된 복수의 음각부재(111)와 하방향으로 돌출된 복수의 양각부재(112) 중 복수의 음각부재(111)에 각각 맞물리도록 자신의 바닥면에 상방향으로 돌출 형성될 수 있다.
함몰그립 부재(211b)는 [도 6] 내지 [도 9]에서와 같이 복수 개 구비될 수 있으며, 복수의 양각부재(112)에 각각 맞물리도록 자신의 바닥면에 하방향으로 함몰 형성될 수 있다.
즉, 돌출그립 부재(211a)와 함몰그립 부재(211b)가 베이스 리테이너 링(110)의 음각부재(111)와 양각부재(112)에 각각 끼워진 상태로 베이스 리테이너 링(110)과 하부 커버 링(210)이 본딩 결합되기 때문에 본 발명에 따른 리테이너 링 장치가 [도 1] 상의 웨이퍼캐리어(20)에 연결된 상태로 폴리싱 테이블(10)의 상면에서 회전운동이나 직선운동을 하는 과정에서 받는 측방향 외력으로부터 좀더 강한 내구성을 갖게 된다.
여기서, 그루브(211c)는 [도 6] 내지 [도 9]에서와 같이 자신의 내측벽과 외측벽이 상호 연통되도록 자신의 하면을 가로질러 소정 깊이 절개된다.
이처럼, 그루브(211c)가 하부 커버 링(2110)의 둘레를 따라 복수 개 형성됨에 따라 하부 커버 링(210)의 하면이 폴리싱 테이블(10)에 밀착된 상태에서 폴리싱 테이블(10)의 상면에 위치한 연마액이 하부 커버 링(210)의 중공부 쪽으로 인입되도록 가이드할 수 있다.
10 : 폴리싱 테이블
11 : 폴리싱 패드
20 : 웨이퍼캐리어
21 : 회전축
22 : 석션유닛
30 : 리테이너 링 장치
W : 웨이퍼
110 : 베이스 리테이너 링
111 : 음각부재
112 : 양각부재
210 : 하부 커버 링
211 : 하부 레이어
211a : 돌출그립 부재
211b : 함몰그립 부재
211c : 그루브
211d : 마찰부재
212 : 이너 레이어
212a : 이너 단턱부재
212b : 이너 원형리브
213 : 아우터 레이어
213a : 아우터 단턱부재
213b : 아우터 원형리브
220 : 상부 커버 링

Claims (3)

  1. 폴리싱 테이블 상을 움직이는 웨이퍼캐리어의 하부에 장착되어 상기 웨이퍼캐리어의 하부에 흡착된 상태의 웨이퍼가 상기 웨이퍼캐리어로부터 이탈됨을 방지하는 중공형의 리테이너 링 장치로서,
    상기 웨이퍼캐리어의 하면 테두리에 장착된 상태로 서스 재질의 중공형으로 형성된 베이스 리테이너 링(110);
    상기 베이스 리테이너 링의 하부와 측부의 단면 형상에 대응되게 중공형으로 이루어지고 상기 베이스 리테이너 링의 하부로부터 상기 베이스 리테이너 링에 끼워짐에 따라 상기 베이스 리테이너 링의 하면과 측벽을 감싸는 형태로 상기 베이스 리테이너 링과 본딩 결합되며 1 mm 내지 2 mm의 두께를 갖는 합성수지 재질의 하부 커버 링(210);
    상기 베이스 리테이너 링의 상부 단면 형상에 대응되게 중공형으로 이루어지고 상기 베이스 리테이너 링의 상면에 안착된 상태로 자신의 외곽테두리가 상기 하부 커버 링의 상부테두리에 맞닿은 상태로 상기 베이스 리테이너 링 및 상기 하부 커버 링과 본딩 결합되며 1 mm 내지 2 mm의 두께를 갖는 합성수지 재질의 상부 커버 링(220);
    을 포함하여 구성되는 리테이너 링 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 하부 커버 링(210)은,
    상기 베이스 리테이너 링의 하면과 맞닿는 하부 레이어(211)와, 상기 베이스 리테이너 링의 내측벽과 맞닿는 이너 레이어(212)와, 상기 베이스 리테이너 링의 외측벽과 맞닿는 아우터 레이어(213)가 상호 일체로 연결되어 구성되며,
    상기 이너 레이어(212)는,
    상기 베이스 리테이너 링에 체결된 상태에서 상기 베이스 리테이너 링의 중공부 테두리 상단부로부터 상기 베이스 리테이너 링의 중공부 방향으로 상기 베이스 리테이너 링의 높이와 동일한 높이로 형성되는 이너 단턱부재(212a);
    상기 이너 단턱부재에서 상기 이너 단턱부재의 내측테두리를 따라 상방향으로 돌출 형성되어 상기 상부 커버 링의 내측벽과 맞닿는 이너 원형리브(212b);
    를 구비하고,
    상기 아우터 레이어(213)는,
    상기 베이스 리테이너 링에 체결된 상태에서 상기 베이스 리테이너 링의 외곽테두리 상면으로부터 외향하는 방향으로 상기 베이스 리테이너 링의 높이와 동일한 높이로 형성되는 아우터 단턱부재(213a);
    상기 아우터 단턱부재에서 상기 아우터 단턱부재의 외곽테두리를 따라 상방향으로 돌출 형성되어 상기 상부 커버 링의 외측벽과 맞닿는 아우터 원형리브(213b);
    를 구비하는 것을 특징으로 하는 리테이너 링 장치.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 하부 레이어(211)는,
    상기 베이스 리테이너 링의 하면에 상기 베이스 리테이너 링의 테두리를 따라 교번하여 상방향으로 함몰된 복수의 음각부재와 하방향으로 돌출된 복수의 양각부재 중 상기 복수의 음각부재에 각각 맞물리도록 자신의 바닥면에 상방향으로 돌출 형성된 복수의 돌출그립 부재(211a);
    상기 복수의 양각부재에 각각 맞물리도록 자신의 바닥면에 하방향으로 함몰 형성된 복수의 함몰그립 부재(211b);
    자신의 내측벽과 외측벽이 상호 연통되도록 자신의 하면을 가로질러 소정 깊이 절개되며 자신의 둘레를 따라 복수 개 형성됨에 따라 자신의 하면이 상기 폴리싱 테이블에 밀착된 상태에서 상기 폴리싱 테이블의 상면에 위치한 연마액이 자신의 중공부 쪽으로 인입되도록 가이드하는 그루브(211c);
    를 구비하는 것을 특징으로 하는 리테이너 링 장치.
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