KR20200123712A - Jig for processing via holes and via holes boring device thereof - Google Patents
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Abstract
Description
실시 예는 지그에 관한 것으로, 특히 비아 홀의 가공 중에 발생하는 피가공물의 주름(wrinkle) 발생을 최소화할 수 있는 비아 홀 가공을 위한 지그 및 이를 포함하는 비아 홀 가공 장치에 관한 것이다.The embodiment relates to a jig, and in particular, to a jig for machining a via hole capable of minimizing the occurrence of wrinkles of a workpiece occurring during machining of a via hole, and a via hole machining apparatus including the same.
최근 전자 제품들의 경박단소(輕薄短小)화 경향에 따라 전자제품들의 부품 역시 고집적, 초박형 및 고기능화가 요구되고 있다. 이에, 고집적, 초박막 및 고기능화된 부품이 실장되는 인쇄회로기판(printed circuit board)에는 상기 요구사항들을 반영하기 위해, 기판의 회로설계 다양화를 위한 마이크로비어홀(micro via hole) 기술이 도입되고 있다. Recently, according to the trend toward light, thin, and small electronic products, parts of electronic products are also required to be highly integrated, ultra-thin, and highly functional. Accordingly, in order to reflect the above requirements on a printed circuit board on which highly integrated, ultra-thin, and highly functional parts are mounted, micro via hole technology for diversifying circuit design of the board is being introduced.
이러한 인쇄회로기판에 비아 홀을 가공하는 경우, 기계적인 미세 드릴을 사용하는 기계 가공이나 노광 방식이 대부분이었지만, 최근 들어 레이저광을 이용한 비아 홀 가공장치가 사용되고 있다.In the case of processing a via hole in such a printed circuit board, a mechanical processing or exposure method using a mechanical fine drill has been mostly used, but a via hole processing apparatus using a laser light has recently been used.
레이저광을 이용한 비아 홀 가공 장치는 미세 드릴을 사용하는 기계 가공에 비하여 가공속도나, 구멍 직경의 미세화에 대응할 수 있는 점에서 뛰어나다.The via-hole processing apparatus using laser light is superior to the mechanical processing using a fine drill in that it can cope with the reduction in processing speed and hole diameter.
이와 같은 레이저광을 이용한 비아 홀 가공장치는 레이저발진기의 가격이나 유지비용이 낮다는 점에서 CO2 레이저나 고주파 고체레이저를 이용한 레이저광이 일반적으로 이용되고 있다.In the via hole processing apparatus using such a laser light, a laser light using a CO 2 laser or a high frequency solid state laser is generally used in that the price and maintenance cost of the laser oscillator are low.
이러한 레이저광을 위한 비아 홀 가공은 가공 플레이트 상에 배치되는 피가공물의 고정을 위해 복수의 제1 흡입 홀이 형성된 지그(jig) 상에서 수행된다. The via hole processing for the laser light is performed on a jig in which a plurality of first suction holes are formed to fix the workpiece disposed on the processing plate.
상기 지그는 가공 플레이트에 형성된 복수의 제2 흡입 홀에 대응하는 위치에 형성되어 있으며, 이에 따라 상기 제1 흡입 홀을 통해 공기를 흡입하여 상기 지그 상에 배치된 피가공물의 위치를 고정시킨다.The jig is formed at a position corresponding to a plurality of second suction holes formed in the processing plate, and accordingly sucks air through the first suction hole to fix the position of the workpiece disposed on the jig.
한편, 최근 비아 홀의 수가 증가함에 따라 CO2 레이저를 이용한 비아 홀 가공 시에, 가공 플레이트의 표면에 발생하는 최대 온도가 700℃까지 상승할 수 있다. 그리고, 상기 가공 플레이트의 표면 온도가 증가함에 따라 상기 가공 플레이트 상에 고정된 피가공물에는 팽창 및 수축이 반복되며, 이에 따른 표면 주름이 발생하여 평탄도가 낮아지는 문제가 발생한다.Meanwhile, as the number of via holes has recently increased, the maximum temperature generated on the surface of the processed plate may rise to 700° C. during via hole processing using a CO 2 laser. In addition, as the surface temperature of the processing plate increases, expansion and contraction are repeated in the workpiece fixed on the processing plate, resulting in surface wrinkles, resulting in a problem of lowering flatness.
이때, 상기 피가공물의 평탄도는 비아 홀의 위치 정확도와 관련이 있다. 즉, 상기 피가공물의 평탄도가 나빠지면, 비아 홀의 위치 틀어짐이나 모양 변형 등이 발생하게 되며, 이에 따른 인쇄회로기판의 신뢰성이 낮아지는 문제점이 있다. At this time, the flatness of the workpiece is related to the positional accuracy of the via hole. That is, when the flatness of the workpiece is deteriorated, the position of the via hole or the shape of the via hole is distorted, and thus the reliability of the printed circuit board is lowered.
실시 예에서는 신뢰성을 향상시킬 수 있는 비아 홀 가공을 위한 지그 및 이를 포함하는 비아 홀 가공 장치를 제공하도록 한다.In the embodiment, a jig for machining a via hole that can improve reliability and a via hole machining apparatus including the same are provided.
또한, 실시 예에서는 가공 플레이트 상에 안착되는 피가공물의 고정력을 증가시킬 수 있는 비아 홀 가공을 위한 지그 및 이를 포함하는 비아 홀 가공 장치를 제공하도록 한다.In addition, in the embodiment, a jig for machining a via hole capable of increasing the fixing force of a workpiece mounted on a machining plate and a via hole machining apparatus including the same are provided.
또한, 실시 예에서는 피가공물에 형성되는 비아 홀의 위치 정확성 및 형상 균일성을 향상시킬 수 있는 비아 홀 가공을 위한 지그 및 이를 포함하는 비아 홀 가공 장치를 제공하도록 한다.In addition, in the embodiment, a jig for machining a via hole capable of improving positional accuracy and shape uniformity of a via hole formed in a workpiece, and a via hole machining apparatus including the same.
또한, 실시 예에서는 피가공물의 흡입 영역을 최대화하여 피가공물의 평탄도를 유지시킬 수 있는 비아 홀 가공을 위한 지그 및 이를 포함하는 비아 홀 가공 장치를 제공하도록 한다.In addition, in the embodiment, a jig for machining a via hole capable of maintaining a flatness of the workpiece by maximizing a suction area of the workpiece and a via hole machining apparatus including the same are provided.
또한, 실시 예에서는 가공 플레이트의 손상을 최소화하면서 피가공물의 고정력을 향상시킬 수 있는 비아 홀 가공을 위한 지그 및 이를 포함하는 비아 홀 가공 장치를 제공하도록 한다.In addition, in the embodiment, a jig for machining a via hole capable of improving a fixing force of a workpiece while minimizing damage to a machining plate and a via hole machining apparatus including the same are provided.
제안되는 실시 예에서 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 제안되는 실시 예가 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The technical tasks to be achieved in the proposed embodiment are not limited to the technical tasks mentioned above, and other technical tasks that are not mentioned are clear to those of ordinary skill in the technical field to which the proposed embodiment belongs from the following description. Can be understood.
실시 예에 따른 비아 홀 가공을 위한 지그는 하부에 흡착부가 배치되고, 제2 흡입 홀을 포함하는 가공 플레이트와 피가공물 사이에 배치되는 판상의 보조 부재이고, 상기 보조 부재에는, 상기 제2 흡입 홀을 통해 제공되는 흡입 공기에 의해 상기 피가공물을 흡착 지지하는 제1 흡입 홀이 형성되고, 상기 보조 부재는, 제1 영역; 및 상기 제1 영역을 둘러싸는 제2 영역을 포함하고, 상기 제1 흡입 홀은, 상기 제1 영역에 형성된 제1-1 흡입 홀; 및 상기 제2 영역에 형성되고, 상기 제1-1 흡입 홀과 다른 형상을 갖는 제1-2 흡입 홀을 포함한다.A jig for machining a via hole according to an embodiment is a plate-shaped auxiliary member disposed between a processing plate including a processing plate including a second suction hole and a workpiece having an absorption unit disposed at a lower portion thereof, and the auxiliary member includes the second suction hole A first suction hole for adsorbing and supporting the workpiece is formed by suction air provided through the auxiliary member, and the auxiliary member includes: a first region; And a second area surrounding the first area, wherein the first suction hole comprises: a 1-1 suction hole formed in the first area; And a 1-2 suction hole formed in the second region and having a shape different from that of the 1-1 suction hole.
또한, 상기 제1-1 흡입 홀은, 제1 방향으로 연장되는 제1 부분과, 상기 제1 부분과 다른 제 2 방향으로 연장되는 제2 부분을 포함하고, 상기 제1 방향은, 상기 제 2 방향에 대해 직각이다.Further, the 1-1 suction hole includes a first portion extending in a first direction and a second portion extending in a second direction different from the first portion, and the first direction is the second It is perpendicular to the direction.
또한, 상기 제1-1 흡입 홀은, 십자 형상 또는 X자 형상을 가진다.In addition, the 1-1 suction hole has a cross shape or an X shape.
또한, 상기 제1 흡입 홀의 중심은, 상기 제2 흡입 홀의 중심과 동일 수직 선상에서 정렬된다.Further, the center of the first suction hole is aligned on the same vertical line as the center of the second suction hole.
또한, 상기 제 1 영역의 길이는, 상기 제 2 영역의 길이와 동일하다.In addition, the length of the first region is the same as the length of the second region.
또한, 상기 제1 부분 및 상기 제2 부분은, 4.5mm 내지 7.5mm 범위의 길이를 가진다.In addition, the first portion and the second portion have a length in the range of 4.5mm to 7.5mm.
또한, 상기 제 1 부분 및 상기 제 2 부분은, 수직 방향 내에서 서로 오버랩되는 오버랩 영역을 포함하고, 상기 오버랩 영역의 평면 면적은, 상기 제2 흡입 홀의 평면 면적보다 작다.In addition, the first portion and the second portion include overlap regions that overlap each other in a vertical direction, and a plan area of the overlap region is smaller than a plane area of the second suction hole.
또한, 상기 제1 영역은, 상기 피가공물의 복수의 스트립 영역과 오버랩되는 영역이고, 상기 제2 영역은, 상기 제1 영역을 제외한 상기 보조 부재의 외곽 영역이다.In addition, the first area is an area overlapping a plurality of strip areas of the workpiece, and the second area is an outer area of the auxiliary member excluding the first area.
또한, 상기 제1-2 흡입 홀은, 상기 제1 영역의 주위에 배치되는 제1 홀부; 및 상기 제1 홀부의 주위에 배치되는 제2 홀부를 포함하고, 상기 제1 및 제2 홀부는, 상호 대칭 형상을 가진다.In addition, the 1-2 suction hole may include a first hole disposed around the first region; And a second hole portion disposed around the first hole portion, and the first and second hole portions have a mutually symmetric shape.
또한, 상기 제1 홀부는, 상기 제1 영역의 주위를 따라 연장되는 제1-1 부분; 및 상기 제1-1 부분으로부터 상기 보조 부재의 에지를 향해 돌출되는 제1-2부분을 포함하고, 상기 제2 홀부는, 상기 제1 홀부의 주위를 따라 연장되는 제2-1 부분; 및 상기 제2-1 부분으로부터 상기 제1 홀부를 향해 돌출되는 제2-2부분을 포함한다.In addition, the first hole part may include a 1-1 part extending along a periphery of the first area; And a portion 1-2 protruding from the portion 1-1 toward an edge of the auxiliary member, wherein the second hole portion comprises: a portion 2-1 extending along a periphery of the first hole portion; And a 2-2 part protruding from the 2-1 part toward the first hole part.
또한, 상기 제1 및 제2 홀부는, T자 형상을 가진다.In addition, the first and second hole portions have a T-shape.
또한, 상기 제1-2 흡입 홀은, 상기 제2 영역의 코너 영역에 배치되는 제3 홀부를 포함하며, 상기 제3 홀부는, 상기 제1 및 제2 홀부와 다른 형상을 가진다.In addition, the 1-2 suction hole includes a third hole portion disposed in a corner region of the second region, and the third hole portion has a shape different from that of the first and second hole portions.
또한, 상기 제3 홀부는, L자 형상을 가진다.Further, the third hole portion has an L shape.
한편, 실시 예에 따른 비아 홀 가공 장치는 가공 플레이트; 상기 가공 플레이트 하부에 배치된 흡착부; 상기 가공 플레이트 상에 배치되어 피가공물을 흡착 지지하는 복수의 제 1 흡입 홀이 형성된 지그; 상기 지그 상에 배치되고, 상기 피가공물의 비아 홀 형성 위치에 레이저 광을 조사하는 헤드부를 포함하고, 상기 가공 플레이트는, 상기 제1 흡입 홀과 수직 선상에서 정렬되는 복수의 제2 흡입 홀을 포함하고, 상기 제 2 흡입 홀의 중심은, 상기 제 1 흡입 홀의 중심과 동일 수직 선상에서 정렬되며, 상기 지그는, 제1 영역; 및 상기 제1 영역을 둘러싸는 제2 영역을 포함하고, 상기 제1 흡입 홀은, 상기 제1 영역에 형성된 제1-1 흡입 홀; 및 상기 제2 영역에 형성되고, 상기 제1-1 흡입 홀과 다른 형상을 갖는 제1-2 흡입 홀을 포함하며, 상기 제1 영역은, 상기 피가공물의 복수의 스트립 영역과 오버랩되는 영역이고, 상기 제2 영역은, 상기 제1 영역을 제외한 외곽 영역이다.On the other hand, the via hole processing apparatus according to the embodiment includes a processing plate; An adsorption unit disposed under the processing plate; A jig disposed on the processing plate and having a plurality of first suction holes for adsorbing and supporting the workpiece; And a head portion disposed on the jig and irradiating laser light to a position where a via hole is formed of the workpiece, and the processing plate includes a plurality of second suction holes aligned on a vertical line with the first suction hole And, the center of the second suction hole is aligned on the same vertical line as the center of the first suction hole, the jig, the first region; And a second area surrounding the first area, wherein the first suction hole comprises: a 1-1 suction hole formed in the first area; And a 1-2 suction hole formed in the second region and having a shape different from that of the 1-1 suction hole, wherein the first region is a region overlapping a plurality of strip regions of the workpiece. , The second area is an outer area excluding the first area.
또한, 상기 제1-2 흡입 홀은, 상기 제2 영역의 코너 영역에 배치되는 제3 및 제4 홀부; 및 상기 제2 영역의 상기 코너 영역 이외의 영역에 배치되는 제1 및 제2 홀부를 포함하고, 상기 제1 및 제2 홀부는, 상기 제3 및 제4 홀부와 다른 형상을 가진다.In addition, the 1-2 suction hole may include third and fourth hole portions disposed in a corner region of the second region; And first and second hole portions disposed in an area other than the corner area of the second area, and the first and second hole portions have different shapes from those of the third and fourth hole portions.
본 실시 예에 의하면, 지그에 형성되는 흡입 홀의 형상을 변경하여 흡입력의 손실 없이 피가공물의 흡입 영역을 최대화할 수 있으며, 이에 따른 피가공물의 평탄도를 유지할 수 있다.According to the present embodiment, by changing the shape of the suction hole formed in the jig, the suction area of the workpiece can be maximized without loss of suction power, and thus the flatness of the workpiece can be maintained.
또한 본 실시 예에 의하면 가공 플레이트 상에 배치되는 피가공물의 평탄도를 향상시킬 수 있으며, 이에 따른 피가공물에 형성되는 비아 홀의 위치 정확도 및 형상 균일도를 향상시킬 수 있다.In addition, according to the present embodiment, it is possible to improve the flatness of the workpiece disposed on the processing plate, and accordingly, the positional accuracy and shape uniformity of the via hole formed in the workpiece.
또한 본 실시 예에 의하면 종래 대비 비아 홀의 사이즈의 산포도를 낮출 수 있으며, 이에 따른 비아 홀의 가공 공정 능력을 향상시켜 신뢰성을 향상시킬 수 있다.In addition, according to the present exemplary embodiment, it is possible to reduce the distribution of the size of the via hole compared to the related art, and thereby improve the reliability by improving the processing capability of the via hole.
또한 실시 예에 의하면 비아 홀의 상부 폭과 하부 폭의 사이즈 비(Size ratio)를 낮게할 수 있으며, 이에 따른 비아 홀 가공 시에 피가공물의 잔해물이 비아 홀 하단에 잔존함에 따라 발생하는 비아 단락 문제를 해결할 수 있다.In addition, according to the embodiment, the size ratio of the upper width and the lower width of the via hole may be reduced, and accordingly, the problem of a via short circuit caused by debris remaining at the bottom of the via hole during the via hole processing. Can be solved.
또한, 실시 예에 의하면 지그의 가장 자리 영역에는 흡입력을 극대화시킬 수 있는 형상을 가진 흡입 홀을 형성하며, 이에 따라 피가공물의 외곽 영역에서 발생하는 흡입력의 손실을 최소화하여 비아 홀의 위치 정확도 및 형상 균일도를 향상시킬 수 있다.In addition, according to the embodiment, a suction hole having a shape capable of maximizing the suction power is formed in the edge region of the jig, and accordingly, the loss of suction power occurring in the outer region of the workpiece is minimized, so that the positioning accuracy and shape uniformity of the via hole Can improve.
도 1은 실시 예에 따른 비아 홀 가공 장치를 블록으로 나타낸 블록도이다.
도 2는 도 1의 비아 홀 가공 장치의 일부 구성을 구체적으로 나타낸 단면도이다.
도 3은 실시 예에 따른 피가공물의 일 예를 나타낸 도면이다.
도 4는 실시 예에 따른 인쇄회로기판의 구조를 나타낸 도면이다.
도 5는 비교 예에 따른 가공 플레이트 및 지그를 나타낸 평면도이다.
도 6 및 도 7은 비교 예에 따른 비아 홀의 불량 예를 나타낸 도면이다.
도 8은 비교 예에 따른 지그의 불량 예를 나타낸 도면이다
도 9는 실시 예에 따른 지그의 평면도이다.
도 10은 실시 예에 따른 가공 플레이트를 나타낸 도면이다.
도 11은 실시 예에 따른 지그의 제1 영역에 배치되는 제1-1 흡입 홀을 나타낸 도면이다.
도 12는 도 11에 도시된 지그의 제1 영역의 일부를 확대한 도면이다.
도 13은 도 11에 도시된 제1-1 흡입 홀을 확대한 도면이다.
도 14 및 도 15는 실시 예에 따른 지그의 제2 영역에 형성된 제1-2 흡입 홀을 나타낸 도면이다.
도 16은 비교 예에 따른 판넬의 외곽 영역의 스케일 차이를 나타낸 도면이다.
도 17은 실시 예에 따른 판넬의 외곽 영역의 스케일 차이를 나타낸 도면이다.
도 18은 실시 예에 따른 지그의 제1-1 흡입 홀의 변형 예를 나타낸 도면이다.
도 19은 지그의 제1-1 흡입 홀의 또 다른 변형 예를 나타낸 도면이다.
도 20은 실시 예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면이다.1 is a block diagram illustrating a via hole processing apparatus according to an exemplary embodiment.
2 is a cross-sectional view showing in detail a partial configuration of the via hole processing apparatus of FIG. 1.
3 is a view showing an example of a workpiece according to the embodiment.
4 is a diagram showing the structure of a printed circuit board according to an embodiment.
5 is a plan view showing a processing plate and a jig according to a comparative example.
6 and 7 are diagrams showing examples of defective via holes according to a comparative example.
8 is a diagram showing an example of a failure of a jig according to a comparative example
9 is a plan view of a jig according to an embodiment.
10 is a view showing a processing plate according to the embodiment.
11 is a diagram illustrating a 1-1 suction hole disposed in a first area of a jig according to an exemplary embodiment.
12 is an enlarged view of a part of the first area of the jig shown in FIG. 11.
13 is an enlarged view of the 1-1 suction hole shown in FIG. 11.
14 and 15 are views illustrating a 1-2 suction hole formed in a second region of a jig according to an exemplary embodiment.
16 is a diagram illustrating a difference in scale of an outer area of a panel according to a comparative example.
17 is a diagram illustrating a difference in scale of an outer area of a panel according to an exemplary embodiment.
18 is a view showing a modified example of the 1-1 suction hole of the jig according to the embodiment.
19 is a view showing another modified example of the 1-1 suction hole of the jig.
20 is a diagram illustrating a printed circuit board according to an embodiment.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서에 개시된 실시 예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 유사한 구성요소는 동일한 참조 번호를 부여하고, 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 "모듈" 및 "부"는 명세서 작성의 용이함만이 고려되어 부여되거나 혼용되는 것으로서, 그 자체로 서로 구별되는 의미 또는 역할을 갖는 것은 아니다. 또한, 본 명세서에 개시된 실시 예를 설명함에 있어 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 명세서에 개시된 실시 예의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 첨부된 도면은 본 명세서에 개시된 실시 예를 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것일 뿐, 첨부된 도면에 의해 본 명세서에 개시된 기술적 사상이 제한되지 않으며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Hereinafter, exemplary embodiments disclosed in the present specification will be described in detail with reference to the accompanying drawings, but identical or similar elements are denoted by the same reference numerals regardless of reference numerals, and redundant descriptions thereof will be omitted. The suffixes "module" and "unit" for components used in the following description are given or used interchangeably in consideration of only the ease of preparation of the specification, and do not have meanings or roles that are distinguished from each other by themselves. In addition, in describing the embodiments disclosed in the present specification, when it is determined that a detailed description of related known technologies may obscure the subject matter of the embodiments disclosed in the present specification, the detailed description thereof will be omitted. In addition, the accompanying drawings are for easy understanding of the embodiments disclosed in the present specification, and the technical idea disclosed in the present specification is not limited by the accompanying drawings, and all modifications included in the spirit and scope of the present invention It should be understood to include equivalents or substitutes.
제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.Terms including ordinal numbers, such as first and second, may be used to describe various elements, but the elements are not limited by the terms. These terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another component.
어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다.When a component is referred to as being "connected" or "connected" to another component, it is understood that it may be directly connected or connected to the other component, but other components may exist in the middle. Should be. On the other hand, when a component is referred to as being "directly connected" or "directly connected" to another component, it should be understood that there is no other component in the middle.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise.
본 출원에서, "포함한다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In the present application, terms such as "comprises" or "have" are intended to designate the presence of features, numbers, steps, actions, components, parts, or combinations thereof described in the specification, but one or more other features. It is to be understood that the presence or addition of elements or numbers, steps, actions, components, parts, or combinations thereof, does not preclude in advance.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 실시 예에 따른 비아 홀 가공 장치를 블록으로 나타낸 블록도이고, 도 2는 도 1의 비아 홀 가공 장치의 일부 구성을 구체적으로 나타낸 단면도이다.1 is a block diagram illustrating a via hole processing apparatus according to an exemplary embodiment in a block diagram, and FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a via hole processing apparatus of FIG. 1 in detail.
도 1 및 도 2를 참조하여 실시 예에 따른 비아 홀 가공 장치에 대해 설명하기로 한다.A via hole processing apparatus according to an embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2.
도 1 및 2를 참조하면, 비아 홀 가공 장치는, 헤드부(110), 가공 플레이트(120), 지그(130) 및 제어부(140)를 포함할 수 있다.1 and 2, the via hole processing apparatus may include a
헤드부(110)는 가공 플레이트(120)의 상부에 배치되는 피가공물(200, 예를 들어 판넬(pannel)에 레이저광을 발생시켜 상기 피가공물(200) 내에 비아 홀(VH)을 형성할 수 있다.The
이를 위해, 헤드부(110)는 레이저 광원(112), 광원 이동부(114) 및 렌즈부(116)를 포함할 수 있다.To this end, the
레이저 광원(112)은 레이저광이 발진한다. 레이저 광원(112)은 레이저 발진기라고도 할 수 있다. 레이저 광원(112)은 CO2 연속파형 레이저(continuous wave laser)에 따른 가열 광을 출사시킬 수 있다. 또한, 레이저 광원(112)은 엑시머 또는 야그 레이저(Nd:YAG) 등의 레이저 드릴을 포함할 수 있다. 이때, 레이저 광원(112)에서 발생하는 광의 파장은 예를 들면, 대략 0.8㎛ ~ 11㎛ 정도가 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. The
또한, 레이저 광원(112)은 비아 홀 형성 영역에 비아 홀 가공 작업을 하기 위한 가공 광을 출사시킬 수 있다. 예를 들어, 레이저 광원(112)은 펄스형 레이저(pulse laser)에 따른 가공빔을 출사시킬 수 있다. 여기서, 상기 가공 광은 밀리초(millisecond)에서 펨토초(femtosecond) 범위의 펄스폭을 가질 수 있다. 여기에서, 비아 홀(VH)은 기판을 관통하는 홀을 의미하는 것으로서, 별도의 부품을 삽입하지 않고도 서로 다른 층간의 전기적 연결 접속을 위한 홀을 의미할 수 있다. In addition, the
레이저 광원(112)는 비아 홀(VH) 가공을 위한 가공 광을 발생하는 1개의 광원을 포함할 수 있다. 이와 다르게, 레이저 광원(112)은 비아 홀(VH) 가공을 위한 가공 광과, 피가공물(200)을 가열하는 가열 광을 각각 발생시키는 복수의 광원을 포함할 수 있다. 또한, 레이저 광원(112)은 복수의 영역에서 동시에 비아 홀(VH)을 가공하기 위한 복수의 가공 광을 발생시키는 복수 개의 광원을 포함할 수 있다.The
바람직하게, 레이저 광원(112)은 9.5㎛ 파장대의 CO2 레이저 광원일 수 있다.Preferably, the
광원 이동부(114)는 레이저 광원(112)에서 발생한 레이저광의 위치를 이동시킬 수 있다. 바람직하게, 광원 이동부(114)는 레이저 광원(112)에서 발생한 레이저 광의 방향을 전환시킬 수 있다. 광원 이동부(114)는 하나 또는 둘 이상의 반사경을 포함할 수 있다. 또한, 광원 이동부(114)는 X축과 Y축의 2축이나, X축, Y축 및 Z축의 3축 갈바노 미러를 구비한 갈바노 미터를 포함하는 스캐너로 구성될 수 있다. 여기에서, 도면에 도시하지는 않았지만, 레이저 광원(112)과 광원 이동부(114) 사이에는 별도의 분기부(도시하지 않음)가 배치될 수 있고, 이를 토대로 2개의 광학계를 갖는 2축 비아 홀 가공 장치를 구성할 수도 있다.The light
렌즈부(116)는 광원 이동부(114)에 의해 위치 및 방향이 전환된 레이저 광을 집속시킬 수 있다. 이를 위해, 렌즈부(116)는 광원 이동부(114)를 구성하는 갈바노 미터의 동작에 의해 조사 방향이 변경된 레이저 광이 입사되는 렌즈를 포함할 수 있다. 예를 들어, 렌즈부(116)는 fθ렌즈로 구성될 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.The
즉, 레이저 광원(112), 광원 이동부(114) 및 렌즈부(116)는 헤드부(110)를 구성하며, 그에 따라 상기 피가공물(200)에 비아 홀(VH) 가공을 위한 레이저 광이 조사될 수 있다. 이때, 헤드부(110)는 1개로 구성될 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다. 예를 들어, 헤드부(110)는 2개 이상으로 구성될 수 있으며, 이에 따른 생산성을 높일 수 있도록 할 수 있다.That is, the
가공 플레이트(120)의 상부에는 피가공물(200)이 배치된다. 예를 들어, 가공 플레이트(120)의 상부에는 비아 홀(VH)이 형성될 판넬이 배치될 수 있다. 피가공물(200)을 구성하는 판넬은 동박층이 적층된 절연층을 포함한 동박 적층판(CCL:Copper Clad Laminate)일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 피가공물(200)을 구성하는 판넬은 연성 동박 적층판(FCCL:Flexible Copper Clad Laminate)로 구성될 수 있다.The
가공 플레이트(120)에는 복수의 제2 흡입 홀(124)이 형성된다. 가공 플레이트(120)에는 가로축 방향 및 세로축 방향을 각각 일정 간격 이격된 복수의 제2 흡입 홀을 포함할 수 있다. A plurality of second suction holes 124 are formed in the
그리고, 가공 플레이트(120)의 상부에는 지그(130)가 결합될 수 있다. 지그(130)는 가공 플레이트(120)로부터 탈부착 가능할 수 있다. 예를 들어, 가공 플레이트(120)의 상면은 지그(130)의 결합을 위한 결합 영역(도시하지 않음)을 포함할 수 있고, 상기 결합 영역에 지그(130)가 탈부착식으로 결합될 수 있다. 이때, 지그(130)에는 복수의 제1 흡입 홀(132)이 형성된다. In addition, a
상기 지그(130)는 하부에 흡착부가 배치된 가공 플레이트와 피가공물 사이에 배치되는 판상의 보조 부재이다.The
이에 따라, 이하에서 설명하는 지그(130)는 보조 부재라고할 수 있으며, '제1지그층, 제2 지그층, 제3 지그층' 등은 제1 보조 부재, 제2 보조 부재, 제3 보조 부재라고도 할 수 있다. Accordingly, the
한편, 가공 플레이트(120) 위에 지그(130)가 안착된 경우, 상기 복수의 제1 흡입 홀(132)은 상기 복수의 제2 흡입 홀(124)과 수직 방향에서 오버랩될 수 있다. 예를 들어, 복수의 제1 흡입 홀(132)의 중심은 상기 복수의 제2 흡입 홀(124)의 중심과 수직 방향 내에서 정렬될 수 있다.Meanwhile, when the
또한, 지그(130)에 형성된 제1 흡입 홀(132)의 개수는 가공 플레이트(120)에 형성된 제2 흡입 홀(124)의 개수에 대응될 수 있다. 그리고, 제1 흡입 홀(132)은 제2 흡입 홀(124)가 1:1로 정렬될 수 있다. 예를 들어, 지그(130)는 제1 흡입 홀(132)이 제2 흡입 홀(124)과 수직 방향 내에서 1:1로 정렬되도록 가공 플레이트(120) 위에 배치될 수 있다. In addition, the number of first suction holes 132 formed in the
상기 제2 흡입 홀(124)은 원형 형상을 가질 수 있다. 그리고, 제1 흡입 홀(132)은 실시 예에 따라 다양한 형상을 가질 수 있다. 제1 흡입 홀(132)의 형상 및 규격에 대해서는 하기에서 더욱 상세히 설명하기로 한다.The
한편, 가공 플레이트(120)는 흡착부(122)를 포함할 수 있다. 흡착부(122)는 가공 플레이트(120) 내에 배치될 수 있다. 바람직하게, 흡착부(122)는 가공 플레이트(120)의 하부에 배치될 수 있다. 더욱 바람직하게, 흡착부(122)는 가공 플레이트(120)에 형성된 복수의 제2 흡입 홀(124)의 하부에 배치될 수 있다. Meanwhile, the
흡착부(122)는 상기 제2 흡입 홀(124)을 통해 공기를 흡입할 수 있다. 바람직하게, 흡착부(122)는 상기 제2 흡입 홀(124) 및 상기 제1 흡입 홀(132)을 통해 공기를 흡입하여 상기 지그(130) 위에 배치되는 피가공물(200)을 흡착 고정시킬 수 있다. 이를 위해, 흡착부(122)는 흡입 팬(도시하지 않음)을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The
제어부(140)는 비아 홀 가공 장치의 전반적인 동작을 제어할 수 있다. 즉, 제어부(140)는 비아 홀 가공 장치를 구성하는 각 구성요소를 제어하여 구동을 제어할 수 있다. The
이를 위해, 제어부(140)는 각 구성요소들을 제어하기 위한 별도의 프로 그램이나, 각 구성요소의 구동 중에 발생한 데이터를 저장하기 위한 저장매체(도시하지 않음)를 포함할 수 있다. 제어부(140)를 구성하는 저장매체에는 피가공물(200)에 형성될 비아 홀(VH)의 위치나 형상 등을 포함하는 가공 조건 정보가 저장될 수 있다.To this end, the
제어부(140)는 상기 저장된 가공 조건 정보를 이용하여 광원 이동부(114), 렌즈부(116) 및 가공 플레이트(120) 중 적어도 하나 이상을 제어할 수 있다. 예를 들어, 제어부(140)는 가공 조건 정보를 이용하여 광원 이동부(114), 렌즈부(116) 및 가공 플레이트(120) 중 적어도 하나 이상이 상측 방향, 하측 방향, 좌측 방향 및 우측 방향 등으로 이동 동작하도록 제어할 수 있다. 또한, 제어부(140)는 비아 홀(VH)의 사이즈(깊이나 폭 등)나 피가공물(200)의 재질 등에 따라 레이저 광원(112)의 출력을 조절할 수도 있다.The
도 2를 참조하면, 흡착부(122) 위에는 가공 플레이트(120)가 배치된다. 그리고, 가공 플레이트(120) 위에는 지그(130)가 배치된다. 그리고, 지그(130) 위에는 피가공물(200)이 배치된다. 이때, 지그(130)는 에폭시로 형성될 수 있다. 이와 다르게, 지그(130)는 구리(Cu), 알루미늄(Al) 및 SUS 등의 금속 물질로 형성될 수도 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다. Referring to FIG. 2, a
상기와 같은 비아 홀 가공 장치의 동작을 살펴보면, 하부에 흡착부(122)가 배치된 가공 플레이트(120) 위에 지그(130)를 결합시킬 수 있다. 이때, 지그(130)에는 복수의 제1 흡입 홀(132)이 형성되어 있다. 또한, 가공 플레이트(120)에는 복수의 제2 흡입 홀(124)이 형성되어 있다. Looking at the operation of the via hole processing apparatus as described above, the
그리고, 상기 지그(130)는 복수의 제1 흡입 홀(132)과 수직 방향 내에서 각각의 제2 흡입 홀(124)이 정렬되도록 가공 플레이트(120) 위에 배치될 수 있다. 즉, 복수의 제2 흡입 홀(124) 각각은, 복수의 제1 흡입 홀(132) 각각과 수직 방향 내에서 오버랩 될 수 있다. 더욱 바람직하게, 복수의 제2 흡입 홀(124) 각각의 중심은 복수의 제1 흡입 홀(132)의 중심과 수직 방향 내에서 정렬될 수 있다.In addition, the
그리고, 상기 지그(130) 상에는 피가공물(200)이 배치될 수 있다. 이때, 흡착부(122)는 제1 흡입 홀(132) 및 제2 흡입 홀(124)을 통해 공기를 흡입하며, 이에 따라 피가공물(200)은 상기 공기 흡입에 따른 흡착력에 의해 상기 지그(130) 위에 흡착 고정될 수 있다.In addition, the
도 3은 실시 예에 따른 피가공물의 일 예를 나타낸 도면이다.3 is a view showing an example of a workpiece according to the embodiment.
도 3을 참조하면, 피가공물(200)은 동박 적층판(CCL) 형태의 판넬(PNL)일 수 있다. 이때, 판넬(PNL)의 가로 방향의 폭은 415~430mm일 수 있다. 또한, 판넬(PNL)의 세로 방향의 폭은 510~550mm일 수 있다. 여기에서, 판넬(PNL)의 가로 방향의 폭은 단축 방향의 폭일 수 있고, 세로 방향의 폭은 장축 방향의 폭일 수 있다.Referring to FIG. 3, the
이때, 판넬(PNL)은 복수의 스트립(210)으로 구분될 수 있다. 복수의 스트립(210)은 판넬(PNL) 내에서 가로 방향 및 세로 방향으로 각각 일정 간격 이격될 수 있다. 예를 들어, 하나의 판넬(PNL)은 16개의 스트립(210)으로 구분될 수 있다. 즉, 하나의 판넬(PNL)은 가로 방향으로 2개의 영역으로 구분되고, 세로 방향으로 8개의 영역으로 구분될 수 있고, 상기 구분된 각각의 영역이 스트립(210)을 구성할 수 있다. In this case, the panel PNL may be divided into a plurality of
이에 따라, 피가공물(200)은 복수의 스트립(210)이 배치되는 제1 영역(201) 및 상기 제1 영역(201)을 제외한 제2 영역(202)을 포함할 수 있다. 제2 영역(202)은 상기 제1 영역(201)의 주변 영역일 수 있다. 바람직하게, 제2 영역(202)은 피가공물(200)의 외곽 영역일 수 있다. 바람직하게, 제2 영역(202)은 피가공물(200)의 가장자리 영역일 수 있다.Accordingly, the
또한, 각각의 스트립(210)은 복수의 유닛(220)으로 구분될 수 있다. 예를 들어, 하나의 스트립(210)은 1,275개의 유닛(220)으로 구분될 수 있다. 이때, 각각의 유닛(220)은 가로축 방향의 폭이 3mm일 수 있고, 세로 방향의 폭이 2mm일 수 있다. 한편, 상기 각각의 유닛(220)은 하나의 인쇄회로기판을 구성할 수 있다. 다시 말해서, 하나의 판넬(PNL)은 16개의 스트립(210) 및 20,400개의 유닛(220)으로 구분될 수 있다. In addition, each
한편, 하나의 유닛(220)에는 일정 사이즈를 가지는 복수의 비아 홀(VH)이 형성될 수 있다. 예를 들어, 하나의 유닛(220)에는 80㎛의 상부 폭 및 60㎛의 하부 폭을 가지는 비아 홀(VH)이 복수 개 형성될 수 있다. Meanwhile, a plurality of via holes VH having a predetermined size may be formed in one
이때, 하나의 유닛(220)에는 150개 정도의 비아 홀(VH)이 형성된다. 이에 따라, 하나의 판넬(PNL)에는 150개 정도의 비아 홀(VH)이 형성되는 20,400개의 유닛(220)을 포함할 수 있다. 결론적으로, 하나의 판넬(PNL)에는 3백만개 이상의 비아 홀(VH)이 형성된다. At this time, about 150 via holes VH are formed in one
또한, 최근에는 회로 배선이 복잡해지면서 고집적화됨에 따라 비아 홀(VH)의 수는 점점 증가하고 있다. 이에 따라, 하나의 판넬(PNL)에는 최소 3백만개 이상의 비아 홀(VH)이 형성됨에 따라, 상기 3백만개 이상의 비아 홀(VH)의 형성이 완료될때까지 상기 판넬(PNL)의 평탄도를 유지하는 것이 중요하다. 즉, 비아 홀 형성을 위한 레이저 가공 시에, 상기 판넬(PNL)에 열을 가하게 되며, 이에 따라 상기 판넬(PNL)의 표면 온도는 최대 700℃까지 상승하게 된다. 이때, 상기 판넬(PNL)은 팽창 현상 및 수축 현상이 반복적으로 발생하게 되며, 이에 따라 상기 판넬(PNL)의 표면에 주름이 발생하게 되고, 상기 발생한 주름이 발생한 상황에서 레이저 가공 시에 비아 홀(VH)의 위치나 형상이 달라지게 된다. 따라서, 상기 판넬(PNL)에 발생하는 주름과 같은 문제를 최소화하여 상기 판넬(PNL)의 평탄도를 유지시킬 수 있어야 한다.In addition, in recent years, as circuit wiring becomes more complex and highly integrated, the number of via holes VH is gradually increasing. Accordingly, as at least 3 million via holes VH are formed in one panel PNL, the flatness of the panel PNL is maintained until the formation of the 3 million or more via holes VH is completed. It is important. That is, during laser processing for forming via holes, heat is applied to the panel PNL, and accordingly, the surface temperature of the panel PNL rises to a maximum of 700°C. At this time, the panel PNL repeatedly expands and contracts, and accordingly, wrinkles are generated on the surface of the panel PNL, and via holes ( The location or shape of VH) will be different. Therefore, it is necessary to minimize problems such as wrinkles occurring in the panel PNL to maintain the flatness of the panel PNL.
도 4는 실시 예에 따른 인쇄회로기판의 구조를 나타낸 도면이다.4 is a diagram showing the structure of a printed circuit board according to an embodiment.
도 4를 참조하면, 인쇄회로기판은 판넬(PNL)에서 구분된 하나의 유닛(220)일 수 있다. Referring to FIG. 4, the printed circuit board may be one
인쇄회로기판은 절연층(310) 및 절연층(310)을 관통하는 비아 홀(VH) 내에 배치되는 비아(320)와, 상기 비아(320)의 상부에 배치되는 상부 랜드(330)와, 상기 비아(320)의 하부에 배치되는 하부 랜드(340)를 포함할 수 있다.The printed circuit board includes a via 320 disposed in a via hole VH penetrating the insulating
이때, 인쇄회로기판은 다층 적층 기판일 수 있다. 그리고, 인쇄회로기판이 다층 적층 기판인 경우, 도 4는 상기 다층 적층 기판 중에서 어느 하나의 층을 나타낸 것일 수 있다. 바람직하게, 도 4는 다층 적층 기판 내에서 중앙에 배치된 중앙 레이어를 나타낸 것일 수 있다. 또한, 도 4에서는 비아(320)의 표면 중 넓은 폭을 가지는 표면 위에 배치된 랜드가 상부 랜드(330)인 것으로, 좁은 폭을 가지는 표면 위에 배치된 랜드가 하부 랜드(340)인 것으로 설명하였으나, 이는 서로 바뀔 수 있을 것이다. In this case, the printed circuit board may be a multilayer laminated board. In addition, when the printed circuit board is a multilayer laminated substrate, FIG. 4 may show any one of the multilayered laminated substrates. Preferably, FIG. 4 may show a central layer disposed at the center in the multilayered substrate. In addition, in FIG. 4, it has been described that the land disposed on the surface of the via 320 having a wide width is the
절연층(310), 상부 랜드(330) 및 하부 랜드(340)는 판넬(PNL)을 구성하는 동박 적층판의 일부일 수 있다. 바람직하게, 절연층(310)은 동박 적층판을 구성하는 절연부재일 수 있다. 그리고, 상부 랜드(330) 및 하부 랜드(340)의 일부는 상기 절연부재의 상하에 각각 적층된 동박층일 수 있다. The insulating
절연층(310)은 배선을 변경할 수 있는 전기 회로가 편성되어 있는 기판으로, 표면에 상부 랜드(330), 하부 랜드(340) 및 이와 같이 형성된 회로 패턴(도시하지 않음)을 형성할 수 있는 절연 재료로 만들어진 프린트, 배선판 및 절연기판을 모두 포함할 수 있다. The insulating
절연층(310)은 리지드(rigid)하거나 또는 플렉서블(flexible)할 수 있다. 예를 들어, 절연층(310)은 유리 또는 플라스틱을 포함할 수 있다. 자세하게, 절연층(310)은 소다라임유리(soda lime glass) 또는 알루미노실리케이트유리 등의 화학 강화/반강화유리를 포함하거나, 폴리이미드(Polyimide, PI), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET), 프로필렌 글리콜(propylene glycol, PPG) 폴리 카보네이트(PC) 등의 강화 혹은 연성 플라스틱을 포함하거나 사파이어를 포함할 수 있다.The insulating
또한, 절연층(310)은 광등방성 필름을 포함할 수 있다. 일례로, 절연층(310)은 COC(Cyclic Olefin Copolymer), COP(Cyclic Olefin Polymer), 광등방 폴리카보네이트(polycarbonate, PC) 또는 광등방 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 등을 포함할 수 있다.In addition, the insulating
또한, 절연층(310)은 부분적으로 곡면을 가지면서 휘어질 수 있다. 즉, 절연층(310)은 부분적으로는 평면을 가지고, 부분적으로는 곡면을 가지면서 휘어질 수 있다. 자세하게, 절연층(310)은 끝단이 곡면을 가지면서 휘어지거나 랜덤한 곡률을 포함한 표면을 가지며 휘어지거나 구부러질 수 있다.Also, the insulating
또한, 절연층(310)은 유연한 특성을 가지는 플렉서블(flexible) 기판일 수 있다. 또한, 절연층(310)은 커브드(curved) 또는 벤디드(bended) 기판일 수 있다. 이때, 절연층(310)은 회로 설계를 근거로 회로부품을 접속하는 전기배선을 배선 도형으로 표현하며, 절연물 상에 전기도체를 재현할 수 있다. 또한 절연층(310)은 전기 부품을 탑재하고 이들을 회로적으로 연결하는 배선을 형성할 수 있으며, 부품의 전기적 연결기능 외의 부품들을 기계적으로 고정시켜줄 수 있다.In addition, the insulating
절연층(310)의 표면에는 상부 랜드(330) 및 하부 랜드(340)가 배치될 수 있다. 이때, 상부 랜드(330) 및 하부 랜드(340)는 절연층(310)의 표면에 배치되어 진기적 신호를 전달하는 회로 패턴(또는 배선, 도시하지 않음)과 함께 형성될 수 있다. 상부 랜드(330) 및 하부 랜드(340)는 전기 전도성이 높은 금속물질로 형성될 수 있다. 이를 위해, 상기 상부 랜드(330) 및 하부 랜드(340)는 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 티타늄(Ti), 주석(Sn), 구리(Cu) 및 아연(Zn) 중에서 선택되는 적어도 하나의 금속 물질로 형성될 수 있다. 또한, 상부 랜드(330) 및 하부 랜드(340)는 본딩력이 우수한 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 티타늄(Ti), 주석(Sn), 구리(Cu), 아연(Zn) 중에서 선택되는 적어도 하나의 금속 물질을 포함하는 페이스트 또는 솔더 페이스트로 형성될 수 있다. 바람직하게, 상기 상부 랜드(330) 및 하부 랜드(340)는 전기전도성이 높으면서 가격이 비교적 저렴한 구리(Cu)로 형성될 수 있다. An
상기 상부 랜드(330) 및 하부 랜드(340)는 통상적인 인쇄회로기판의 제조 공정인 어디티브 공법(Additive process), 서브트렉티브 공법(Subtractive Process), MSAP(Modified Semi Additive Process) 및 SAP(Semi Additive Process) 공법 등으로 가능하며 여기에서는 상세한 설명은 생략한다. The
한편, 상기 절연층(310) 내에는 절연층(310)의 상면 및 하면을 관통하는 비아(320)가 배치된다. 비아(320)는 상기 절연층(310)의 상면 및 하면을 관통하는 비아 홀(VH)의 내부를 금속 물질로 충진하여 형성할 수 있다.Meanwhile, a via 320 penetrating the upper and lower surfaces of the insulating
상기 비아 홀(VH)은 상기에서 설명한 바와 같이 레이저 가공 방식에 의해 형성될 수 있다. 즉, 비아 홀(VH)은 CO2 레이저 방식을 사용하는 비아 홀 가공 장치에 의해 형성될 수 있다. As described above, the via hole VH may be formed by a laser processing method. That is, the via hole VH may be formed by a via hole processing apparatus using a CO 2 laser method.
그리고, 비아(320)는 비아(320) 내부를 구리(Cu), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni) 및 팔라듐(Pd) 중에서 선택되는 어느 하나의 금속 물질을 충진하여 형성할 수 있다. 이때, 상기 금속 물질의 충진은 무전해 도금, 전해 도금, 스크린 인쇄(Screen Printing), 스퍼터링(Sputtering), 증발법(Evaporation), 잉크젯팅 및 디스펜싱 중 어느 하나 또는 이들의 조합된 방식을 이용할 수 있다.In addition, the via 320 is any one metal material selected from copper (Cu), silver (Ag), tin (Sn), gold (Au), nickel (Ni), and palladium (Pd) inside the via 320 It can be formed by filling. At this time, the filling of the metallic material may use any one of electroless plating, electroplating, screen printing, sputtering, evaporation, ink jetting, and dispensing, or a combination thereof. have.
본 실시 예의 설명에 앞서, 본 실시 예와 비교되는 비교 예(종래 기술)에 대해 설명하기로 한다.Prior to the description of the present embodiment, a comparative example (conventional technique) compared to the present embodiment will be described.
도 5는 비교 예에 따른 가공 플레이트 및 지그를 나타낸 평면도이고, 도 6 및 도 7은 비교 예에 따른 비아 홀의 불량 예를 나타낸 도면이며, 도 8은 비교 예에 따른 지그의 불량 예를 나타낸 도면이다. 이하에서는 도 5 내지 도 8을 참조하여 비교 예의 문제점에 대해 설명하기로 한다.5 is a plan view showing a processed plate and a jig according to a comparative example, FIGS. 6 and 7 are views showing a defective example of a via hole according to the comparative example, and FIG. 8 is a view showing a defective example of a jig according to the comparative example . Hereinafter, problems of the comparative example will be described with reference to FIGS. 5 to 8.
도 5의 (A)를 참조하면, 비교 예에 따른 가공 플레이트(400)에는 복수의 제2 흡입 홀(410)이 형성되어 있다. 이때, 복수의 제2 흡입 홀(410)은 원형 형상을 가진다. 즉, 제2 흡입 홀(410)은 제1 직경(d1)을 가지는 원형 형상을 가진다.5A, a plurality of second suction holes 410 are formed in the
또한, 복수의 제2 흡입 홀(410)은 가로축 방향으로 제1거리(d2)만큼 이격되어 배치된다. 또한, 복수의 제2 흡입 홀(410)은 세로축 방향으로 제2거리(d3)만큼 이격되어 배치된다.In addition, the plurality of second suction holes 410 are disposed to be spaced apart by a first distance d2 in the horizontal axis direction. In addition, the plurality of second suction holes 410 are disposed to be spaced apart by a second distance d3 in the vertical axis direction.
이때, 제2 흡입 홀(410)의 제1 직경(d1)은 3mm이다. 또한, 제2 흡입 홀(410)의 가로축 방향의 제1 거리(d2)는 15mm이다. 또한, 제2 흡입 홀(410)의 세로축 방향의 제2 거리(d3)는 15mm이다. 즉, 비교 예에서의 가공 플레이트(400)에는 3mm의 직경을 가지는 제2 흡입 홀(410)이 가로축 방향 및 세로 축 방향으로 각각 15mm 이격되어 배치된다. 한편, 제2 흡입 홀(410)은 가공 플레이트(400)에 고정되어 형성되어 있는 것으로, 작업자가 임의로 사이즈, 위치, 그리고 개수를 변경할 수 없다.At this time, the first diameter d1 of the
도 5의 (B)를 참조하면, 비교 예에 따른 지그(500)에는 복수의 제1 흡입 홀(510)이 형성되어 있다. 이때, 복수의 제1 흡입 홀(510)은 원형 형상을 가진다. 즉, 제1 흡입 홀(510)은 제2 직경(d4)을 가지는 원형 형상을 가진다.5B, a plurality of first suction holes 510 are formed in the
또한, 복수의 제1 흡입 홀(510)은 가로축 방향으로 제3거리(d5)만큼 이격되어 배치된다. 또한, 복수의 제1 흡입 홀(510)은 세로축 방향으로 제4거리(d6)만큼 이격되어 배치된다.In addition, the plurality of first suction holes 510 are disposed to be spaced apart by a third distance d5 in the horizontal axis direction. In addition, the plurality of first suction holes 510 are disposed to be spaced apart by a fourth distance d6 in the vertical axis direction.
이때, 제1 흡입 홀(510)의 제2 직경(d4)은 1.5mm이다. 또한, 제1 흡입 홀(510)의 가로축 방향의 제3 거리(d5)는 15mm이다. 또한, 제1 흡입 홀(510)의 세로축 방향의 제4 거리(d6)는 15mm이다. 즉, 비교 예에서의 지그(500)에는 1.5mm의 직경을 가지는 제1 흡입 홀(510)이 가로축 방향 및 세로 축 방향으로 각각 15mm 이격되어 배치된다. At this time, the second diameter d4 of the
여기에서, 제1 내지 제4 거리(d2, d3, d5, d6)는 이웃하는 홀의 중심과 중심 사이의 거리(pitch라고도 할 수 있음)를 의미한다. Here, the first to fourth distances d2, d3, d5, and d6 mean a distance (also referred to as a pitch) between the center and the center of the adjacent hole.
상기와 같이, 비교 예에서의 제1 흡입 홀(510)은 1.5mm의 직경을 가지는 원형 형상을 가진다. 이에 따라, 이웃하는 제1 흡입 홀(510) 사이의 이격 간격은 13.5mm이다. 즉, 비교 예에서는 하나의 제1 흡입 홀(510)이 홀의 중심을 기준으로 13.5mm 범위(예를 들어, 수평 방향에서는 홀의 좌측 방향 및 우측 방향 포함) 내의 판넬(PNL)을 흡착 고정한다. 그리나, 하나의 제1 흡입 홀(510)의 직경은 1.5mm에 불과하며, 이에 따라 1.5mm의 홀을 가지고 상기 범위를 안정적으로 흡착 고정하기에는 무리가 있다. 또한, 상기 제1 흡입 홀(510)의 직경을 단순히 키우게 되면, 과도한 통기성으로 인해 전체적인 흡입력이 떨어지는 문제가 있다. As described above, the
도 6 및 도 7을 참조하면, 비교 예에 따른 인쇄회로기판에서는, 비아 홀 변형 불량, 비아 홀 정렬 불량 및 랜드 정렬 불량이 발생하고 있다.6 and 7, in the printed circuit board according to the comparative example, a via hole deformation defect, a via hole alignment defect, and a land alignment defect occur.
즉, 도 7의 (A)를 참조하면, 비교 예에 따른 인쇄회로기판에서는, 지그(500)의 흡입력이나 흡입 영역의 부족으로 인해, 비아 홀의 변형 불량이 발생한다. 즉, 비아 홀(VH)을 중심으로 비아 홀(VH)의 상부의 중심과 하부의 중심은 서로 일치해야 한다. 비아 홀(VH)의 상부의 중심과 하부의 중심이 일치한다는 것은, 비아 홀(VH)의 형상이 이상적인 사다리꼴 형상을 갖는다는 것을 의미한다. 그러나, 비교 예에 따르면, 비아 홀(VH)의 상부의 중심(L1)과 하부의 중심(L2)은 서로 동일 선상이 아닌 'a' 간격만큼 쉬프트가 발생하게 된다. 즉, 비교 예에 따른 비아 홀(VH)의 형상은 레이저 편심에 의해 사다리꼴 형상이 아닌 평행 사변형 형상을 가지게 된다.That is, referring to FIG. 7A, in the printed circuit board according to the comparative example, a deformation defect of the via hole occurs due to insufficient suction power or a suction area of the
또한, 도 7의 (B)를 참조하면, 비교 예에 따른 인쇄회로기판에서는, 지그(500)의 흡입력이나 흡입 영역의 부족으로 인해, 비아 홀 정렬 불량이 발생한다. 즉, 비아 홀(VH)의 중심은 상부 랜드 및 하부 랜드의 중심과 동일 선상에서 정렬되어야 한다. 비아 홀(VH)의 중심과 상부 및 하부 랜드의 중심이 정렬된다는 것은, 비아 홀이 상부 랜드 및 하부 랜드의 중앙에 정확히 위치해있다는 것을 의미한다. 그러나, 비교 예에 따르면, 비아 홀(VH)의 중심(L4)은 하부 랜드 및 상부 랜드의 중심(L3)으로부터 'b'간격만큼 쉬프트가 발생하게 된다. 즉, 비교 예에 따른 비아 홀(VH)은 상부 랜드 및 하부 랜드의 중심이 아닌 외곽부분에 치우쳐 형성된다.In addition, referring to FIG. 7B, in the printed circuit board according to the comparative example, a via hole alignment failure occurs due to a lack of suction power or a suction area of the
또한, 도 7의 (C)를 참조하면, 비교 예에 따른 인쇄회로기판에서는, 지그(500)의 흡입력이나 흡입 영역의 부족으로 인해, 랜드 정렬 불량이 발생한다. 즉, 상부 랜드의 중심과 하부 랜드의 중심은 동일 선상에서 정렬되어야 한다. 그러나, 비교 예에 따르면, 상부 랜드의 중심(L5)과 하부 랜드(L6)의 중심 사이에는 'c' 간격만큼 이격 거리가 존재하게 된다.In addition, referring to FIG. 7C, in the printed circuit board according to the comparative example, land alignment failure occurs due to insufficient suction force or suction area of the
그리고, 상기와 같은 불량은 다음과 같은 문제를 발생시킨다. 비아 홀 변형 불량이나, 비아 홀 불량과 같은 비아 홀(VH)과 랜드 사이에서의 쉬프트 발생은, 인접 패턴에 의한 전기적 신호에 노이즈가 발생함에 따른 신뢰성이 저하되고, 전기적 신호의 경로가 길어짐에 따른 효율이 저하되고, 전기 회로가 아닌 방열 목적의 비아 홀의 경우 방열 효율 저하로 인한 부품 성능이 저하된다. 또한, 랜드와 랜드 사이에서의 쉬프트 발생은 수직 방향 내에서 오버랩되는 위치가 다를 경우, 오버랩 면적이 작아짐에 따른 인덕턴스가 낮아지며, 이에 따른 커패시턴스의 효율이 낮아 전송 효율이 저하되는 문제가 발생한다.And, the above-described defects cause the following problems. The occurrence of a shift between the via hole (VH) and the land, such as a via hole deformation defect or a via hole defect, decreases reliability due to the occurrence of noise in the electrical signal due to the adjacent pattern, and increases the path of the electrical signal. Efficiency decreases, and in the case of via holes for heat dissipation, not electric circuits, component performance deteriorates due to lower heat dissipation efficiency. In addition, the occurrence of a shift between lands and lands occurs when the overlapping positions in the vertical direction are different, the inductance decreases as the overlap area decreases, and thus the efficiency of the capacitance is low, resulting in a problem that the transmission efficiency decreases.
또한, 도 8을 참조하면, 비교 예에서는 지그(500)를 일정 횟수 이상 사용하는 경우, A 영역에서와 같은 40㎛ 내지 80㎛의 캐비티가 생기는 문제가 있으며, B 영역에서와 같은 탄화(유기물) 및 금속물질(Cu 등)과 같은 잔해물이 쌓이는 문제가 있다.In addition, referring to FIG. 8, in the comparative example, when the
또한, 비교 예에서의 지그(500)는 피가공물(200)의 제1 영역(201)의 하부에 형성되는 흡입 홀과, 피가공물(200)의 제2 영역(202)의 하부에 형성되는 흡입 홀이 동일한 형상을 가졌다. 이때, 상기 흡입 홀은, 피가공물(200)의 스트립(210)이 위치한 영역에 대해서만 흡입력을 높이기 위한 디자인을 가졌으며, 이에 따라 제1 영역(201)에 대한 흡입력 대비 제2 영역(202)에서의 흡입력이 상대적으로 낮게 나타나는 문제를 가졌다.In addition, the
이에 따라, 실시 예에서는 지그에 형성되는 흡입 홀의 형상을 변경하여, 흡입 홀에 면적 증가에 따른 흡입력 손실을 최소화하면서 흡입 영역을 최대로 증가시킬 수 있도록 한다.Accordingly, in the embodiment, the shape of the suction hole formed in the jig is changed, so that the suction area can be maximized while minimizing the loss of suction power due to an increase in the area of the suction hole.
또한, 실시 예에서는, 피가공물(200)의 제1 영역(201)뿐 아니라, 외곽 영역에 대응하는 제2 영역(202)에 대해서도 흡입력을 높일 수 있도록 하여 제품 신뢰성을 향상시킬 수 있도록 한다. In addition, in the embodiment, not only the
도 9는 실시 예에 따른 지그의 평면도이다.9 is a plan view of a jig according to an embodiment.
도 9를 참조하면, 지그(700)에는 복수의 제1 흡입 홀(730)이 형성된다.Referring to FIG. 9, a plurality of first suction holes 730 are formed in the
이때, 지그(700)는 제1 영역(R1) 및 상기 제1 영역(R1) 이외의 제2 영역(R2)으로 구분될 수 있다. 지그(700)의 제1 영역(R1)은 피가공물(200)의 제1 영역(201)에 대응할 수 있다. 다시 말해서, 지그(700)의 제1 영역(R1)은 피가공물(200)의 제1 영역(201)과 수직 방향 내에서 정렬될 수 있다. 즉, 지그(700)의 제1 영역(R1)은 피가공물(200)의 제1 영역(201)에 흡입력을 제공할 수 있다. In this case, the
지그(700)의 제2 영역(R2)은 피가공물(200)의 제2 영역(202)에 대응할 수 있다. 다시 말해서, 지그(700)의 제2 영역(R2)은 피가공물(200)의 제2 영역(202)과 수직 방향 내에서 정렬될 수 있다. 즉, 지그(700)의 제2 영역(R2)은 피가공물(200)의 제2 영역(202)에 흡입력을 제공할 수 있다. The second region R2 of the
바람직하게, 지그(700)의 제1 영역(R1)은 중앙 영역일 수 있고, 제2 영역(R2)은 상기 중앙 영역을 둘러싸며 배치되는 지그(700)의 외곽 영역 또는 테두리 영역일 수 있다. Preferably, the first region R1 of the
상기 제2 영역(R2)은 복수의 영역으로 구획될 수 있다. The second region R2 may be divided into a plurality of regions.
바람직하게, 제2 영역(R2)은 제1 외곽 영역(X1), 제2 외곽 영역(X2), 제3 외곽 영역(Y1) 및 제4 외곽 영역(Y2)을 포함할 수 있다. 또한, 제2 영역(R2)은 제1 코너 영역(C1), 제2 코너 영역(C2), 제3 코너 영역(C3) 및 제4 코너 영역(C4)을 포함할 수 있다. Preferably, the second area R2 may include a first outer area X1, a second outer area X2, a third outer area Y1, and a fourth outer area Y2. In addition, the second region R2 may include a first corner region C1, a second corner region C2, a third corner region C3, and a fourth corner region C4.
제1 외곽 영역(X1)은 제1 영역(R1)의 하측에 위치한 외곽 영역일 수 있다. 제2 외곽 영역(X2)은 제1 영역(R1)의 상측에 위치한 영역일 수 있다. 즉, 제1 및 제2 외곽 영역(X1, X2)은 제1 방향으로 길게 연장되는 영역일 수 있다. 바람직하게, 제1 및 제2 외곽 영역(X1, X2)은 X 축 방향으로 연장되는 영역일 수 있다.The first outer region X1 may be an outer region located below the first region R1. The second outer area X2 may be an area located above the first area R1. That is, the first and second outer regions X1 and X2 may be regions extending long in the first direction. Preferably, the first and second outer regions X1 and X2 may be regions extending in the X-axis direction.
제3 외곽 영역(Y1)은 제1 영역(R1)의 좌측에 위치한 외곽 영역일 수 있다. 제4 외곽 영역(Y2)은 제1 영역(R1)의 우측에 위치한 영역일 수 있다. 즉, 제3 및 제4 외곽 영역(Y1, Y2)은 상기 제1 방향과 수직한 제2 방향으로 길게 연장되는 영역일 수 있다. 바람직하게, 제3 및 제4 외곽 영역(Y1, Y2)은 Y 축 방향으로 연장되는 영역일 수 있다.The third outer area Y1 may be an outer area located to the left of the first area R1. The fourth outer area Y2 may be an area located to the right of the first area R1. That is, the third and fourth outer regions Y1 and Y2 may be regions extending in a second direction perpendicular to the first direction. Preferably, the third and fourth outer regions Y1 and Y2 may be regions extending in the Y-axis direction.
제1 코너 영역(C1)은 제1 외곽 영역(X1) 및 제3 외곽 영역(Y1) 사이의 모서리 영역일 수 있다. 제2 코너 영역(C2)은 제1 외곽 영역(X1) 및 제4 외곽 영역(Y2) 사이의 모서리 영역일 수 있다. 제3 코너 영역(C3)은 제2 외곽 영역(X2) 및 제3 외곽 영역(Y1) 사이의 모서리 영역일 수 있다. 제4 코너 영역(C4)은 제2 외곽 영역(X2) 및 제4 외곽 영역(Y2) 사이의 모서리 영역일 수 있다.The first corner region C1 may be a corner region between the first outer region X1 and the third outer region Y1. The second corner region C2 may be a corner region between the first outer region X1 and the fourth outer region Y2. The third corner region C3 may be a corner region between the second outer region X2 and the third outer region Y1. The fourth corner region C4 may be a corner region between the second outer region X2 and the fourth outer region Y2.
이때, 상기 지그(700)에는 제1 흡입 홀(730)이 형성될 수 있다. 그리고, 제1 흡입 홀(730)은 상기 제1 영역(R1)에 형성되는 제1-1 흡입 홀(710) 및 상기 제2 영역(R2)에 형성되는 제1-2 흡입 홀(720)을 포함할 수 있다. In this case, a first suction hole 730 may be formed in the
여기에서, 상기 제1-1 흡입 홀(710) 및 제1-2 흡입 홀(720)은 서로 다른 형상을 가질 수 있다. 즉, 제1-1 흡입 홀(710)은 중앙 영역에 배치됨에 따라, 상기 중앙 영역에서 흡입력을 극대화시킬 수 있는 형상을 가질 수 있다. Here, the 1-
또한, 제1-2 흡입 홀(720)은 외곽 영역에 배치됨에 따라, 상기 외곽 영역에서 흡입력을 극대화시킬 수 있는 형상을 가질 수 있다. In addition, as the 1-2th suction hole 720 is disposed in the outer region, it may have a shape capable of maximizing the suction power in the outer region.
더 나아가, 제1-2 흡입 홀(720)은 제1 내지 제4 외곽 영역(X1, X2, Y1, Y2)에 형성된 흡입 홀과, 제1 내지 제4 코너 영역(C1, C2, C3, C4)에 형성된 흡입 홀이 서로 다른 형상을 가질 수 있다. Further, the 1-2 suction hole 720 includes suction holes formed in the first to fourth outer regions X1, X2, Y1, and Y2, and the first to fourth corner regions C1, C2, C3, and C4. The suction holes formed in) may have different shapes.
이하에서는, 제1-1 흡입 홀(710) 및 제1-2 흡입 홀(720)의 형상에 대해 보다 구체적으로 설명하기로 한다.Hereinafter, the shapes of the 1-
도 10은 실시 예에 따른 가공 플레이트를 나타낸 도면이다. 10 is a view showing a processing plate according to the embodiment.
도 10의 (A)를 참조하면, 가공 플레이트(600)에는 복수의 제2 흡입 홀(610)이 형성되어 있다. 이때, 복수의 제2 흡입 홀(610)은 원형 형상을 가질 수 있다. 즉, 제2 흡입 홀(610)은 제1 직경(D1)을 가지는 원형 형상을 가질 수 있다.Referring to FIG. 10A, a plurality of second suction holes 610 are formed in the
또한, 복수의 제2 흡입 홀(610)은 가로축 방향으로 제1거리(D2)만큼 이격되어 배치된다. 또한, 복수의 제2 흡입 홀(610)은 세로축 방향으로 제2거리(D3)만큼 이격되어 배치된다.In addition, the plurality of second suction holes 610 are disposed to be spaced apart by a first distance D2 in the horizontal axis direction. In addition, the plurality of second suction holes 610 are disposed to be spaced apart by a second distance D3 in the vertical axis direction.
이때, 제2 흡입 홀(610)의 제1 직경(D1)은 3mm일 수 있다. 또한, 제2 흡입 홀(610)의 가로축 방향의 제1 거리(D2)는 15mm일 수 있다. 또한, 제2 흡입 홀(610)의 세로축 방향의 제2 거리(D3)는 15mm일 수 있다. 즉, 실시 예에 따른 가공 플레이트(600)에는 3mm의 직경을 가지는 복수의 제2 흡입 홀(610)이 가로축 방향 및 세로 축 방향으로 각각 15mm 이격되어 배치될 수 있다. 한편, 제2 흡입 홀(610)은 가공 플레이트(600)에 고정되어 형성되어 있는 것으로, 임의로 사이즈나 위치, 그리고 개수를 변경할 수 없다.In this case, the first diameter D1 of the
도 11은 실시 예에 따른 지그의 제1 영역에 배치되는 제1-1 흡입 홀을 나타낸 도면이다. 11 is a diagram illustrating a 1-1 suction hole disposed in a first area of a jig according to an exemplary embodiment.
도 11을 참조하면, 실시 예에 따른 지그(700)의 제1 영역(R1)에는 복수의 제1-1 흡입 홀(710)이 형성되어 있다. 이때, 복수의 제1-1 흡입 홀(710)은 복수의 제2 흡입 홀(610)과는 다른 형상을 가질 수 있다. 바람직하게, 복수의 제1-1 흡입 홀(710)은 '+' 형상을 가질 수 있다. 복수의 제1-1 흡입 홀(710)은 홀의 중심을 기준으로 상기 홀의 중심을 지나는 제1 부분(712, 도 13 참조)과 상기 홀의 중심을 지나며 상기 제1 부분(712)과 수직한 제2 부분(714, 도 13 참조)을 포함할 수 있다. 제1 부분(712)은 제1-1 흡입 홀(711)의 중심을 가로 방향으로 지날 수 있다. 제1 부분(712)은 가로 방향으로 연장될 수 있다. 제1 부분(712)은 제1길이(D4)를 가질 수 있다. 제2 부분(714)은 홀의 중심을 세로 방향으로 지날 수 있다. 즉, 제2 부분(714)은 제1 부분(712)과는 수직한 세로 방향으로 연장될 수 있다. 제 2 부분(714)은 제2 길이(D5)를 가질 수 있다. 이때, 제1 부분(712)과 제2 부분(714)의 길이는 서로 동일할 수 있다. 바람직하게, 제1 부분(712)의 길이는 제2 부분(714)의 길이의 0.9배 내지 1.1배일 수 있다. Referring to FIG. 11, a plurality of 1-1 suction holes 710 are formed in the first region R1 of the
제1 부분(712) 및 제2 부분(714)의 길이(D4, D5)는 각각 3.5mm 내지 11mm일 수 있다. 바람직하게, 제1 부분(712) 및 제2 부분(714)의 길이(D4, D5)는 각각 4.0mm 내지 9mm일 수 있다. 더욱 바람직하게, 제1 부분(712) 및 제2 부분(714)의 길이(D4, D5)는 각각 4.5mm 내지 7.5mm일 수 있다. The lengths D4 and D5 of the
이때, 제1 부분(712) 및 제2 부분(714)의 길이(D4, D5)가 3.5mm보다 작은 경우, 흡착부(122)로부터의 공기가 충분히 전달되지 않을 수 있으며(즉, 통기성이 저하될 수 있으며), 이에 따라 상기 판넬(PNL)을 안정적으로 흡착 지지하기 위한 흡입력을 제공하지 못한다. 또한, 제1 부분(712) 및 제2 부분(714)의 길이(D4, D5)가 11mm보다 크면, 제1-1 흡입 홀(710)의 전체적인 사이즈 증가로 인한 과도한 통기성에 의해 흡입 손실이 발생할 수 있다. At this time, when the lengths (D4, D5) of the
또한, 제1 부분(712) 및 제2 부분(714)의 길이(D4, D5)는 각각 제2 흡입 홀(610)의 직경의 1.1배 내지 3.5배일 수 있다. 바람직하게, 제1 부분(712) 및 제2 부분(714)의 길이(D4, D5)는 각각 제2 흡입 홀(610)의 직경의 1.3배 내지 3배일 수 있다. 더욱 바람직하게, 제1 부분(712) 및 제2 부분(714)의 길이(D4, D5)는 각각 제2 흡입 홀(610)의 직경의 1.5배 내지 2.5배일 수 있다. In addition, the lengths D4 and D5 of the
이때, 제1 부분(712) 및 제2 부분(714)의 길이(D4, D5)가 제2 흡입 홀(610)의 직경의 1.1배보다 작은경우, 흡착부(122)로부터의 공기가 충분히 전달되지 않을 수 있으며(즉, 통기성이 저하될 수 있으며), 이에 따라 상기 판넬(PNL)을 안정적으로 흡착 지지하기 위한 흡입력을 제공하지 못한다. 또한, 제1 부분(712) 및 제2 부분(714)의 길이(D4, D5)가 제2 흡입 홀(610)의 직경의 3.5배보다 크면, 제1-1 흡입 홀(710)의 전체적인 사이즈 증가로 인한 과도한 통기성에 의해 흡입 손실이 발생할 수 있다. At this time, when the lengths (D4, D5) of the
또한, 제1 부분(712) 및 제2 부분(714)의 길이(D4, D5)는 각각 복수의 제2 흡입 홀(610) 사이의 피치의 0.2배 내지 0.7배일 수 있다. 바람직하게, 제1 부분(712) 및 제2 부분(714)의 길이(D4, D5)는 각각 복수의 제2 흡입 홀(610) 사이의 피치의 0.25배 내지 0.6배일 수 있다. 더욱 바람직하게, 제1 부분(712) 및 제2 부분(714)의 길이(D4, D5)는 각각 복수의 제2 흡입 홀(610) 사이의 피치의 0.3배 내지 0.5배일 수 있다. In addition, the lengths D4 and D5 of the
이때, 제1 부분(712) 및 제2 부분(714)의 길이(D4, D5)가 복수의 제2 흡입 홀(610) 사이의 피치의 0.2배보다 작은 경우, 흡착부(122)로부터의 공기가 충분히 전달되지 않을 수 있으며(즉, 통기성이 저하될 수 있으며), 이에 따라 상기 판넬(PNL)을 안정적으로 흡착 지지하기 위한 흡입력을 제공하지 못한다. 또한, 제1 부분(712) 및 제2 부분(714)의 길이(D4, D5)가 복수의 제2 흡입 홀(610) 사이의 피치의 0.7배보다 크면, 제1-1 흡입 홀(710)의 전체적인 사이즈 증가로 인한 과도한 통기성에 의해 흡입 손실이 발생할 수 있다. At this time, when the lengths D4 and D5 of the
또한, 제1 부분(712) 및 제2 부분(714)의 길이(D4, D5)는 각각 복수의 제1-1 흡입 홀(710) 사이의 피치의 0.2배 내지 0.7배일 수 있다. 바람직하게, 제1 부분(712) 및 제2 부분(714)의 길이(D4, D5)는 각각 복수의 제1-1 흡입 홀(710) 사이의 피치의 0.25배 내지 0.6배일 수 있다. 더욱 바람직하게, 제1 부분(712) 및 제2 부분(714)의 길이(D4, D5)는 각각 복수의 제1-1 흡입 홀(710) 사이의 피치의 0.3배 내지 0.5배일 수 있다. In addition, the lengths D4 and D5 of the
또한, 복수의 제1-1 흡입 홀(710)은 가로축(X축) 방향으로 제3거리(D6)만큼 이격되어 배치된다. 또한, 복수의 제1-1 흡입 홀(710)은 세로축(Y축) 방향으로 제4거리(d7)만큼 이격되어 배치된다. 즉, 복수의 제1-1 흡입 홀(710)의 가로 방향의 피치에 대응하는 제3거리(D6)는 15mm일 수 있다. 또한, 복수의 제1-1 흡입 홀(710)의 세로 방향의 피치에 대응하는 제4 거리(D7)도 15mm일 수 있다. 즉, 제1-1 흡입 홀(710)의 피치와 제2 흡입 홀(610)의 피치는 서로 동일할 수 있다. 다시 말해서, 가공 플레이트(400) 상에 지그(700)가 결합된 상태에서, 제1-1 흡입 홀(710)의 중심과 제2 흡입 홀(610)의 중심은 서로 동일 수직 선상에서 정렬될 수 있다. In addition, the plurality of 1-1 suction holes 710 are disposed to be spaced apart by a third distance D6 in the horizontal axis (X axis) direction. In addition, the plurality of 1-1 suction holes 710 are disposed to be spaced apart by a fourth distance d7 in the vertical axis (Y axis) direction. That is, the third distance D6 corresponding to the horizontal pitch of the plurality of 1-1 suction holes 710 may be 15 mm. In addition, the fourth distance D7 corresponding to the vertical pitch of the plurality of 1-1 suction holes 710 may be 15 mm. That is, the pitch of the 1-1
실시 예에서는 상기와 같이 제1-1 흡입 홀(710)의 형상을 기존의 원형 형상에서 '+ '형상으로 변경하였다. 이때, 제1-1 흡입 홀(710)이 '+' 형상을 가지는 경우, 최소의 홀 면적을 가지고도 최대의 흡입력을 제공할 수 있으며, 이에 따른 판넬(PNL)의 평탄도를 일정하게 유지시킬 수 있다.In the embodiment, as described above, the shape of the 1-
도 12는 도 11에 도시된 지그의 제1 영역의 일부를 확대한 도면이며, 도 13은 도 11에 도시된 제1-1 흡입 홀을 확대한 도면이다.FIG. 12 is an enlarged view of a part of the first region of the jig shown in FIG. 11, and FIG. 13 is an enlarged view of the 1-1 suction hole shown in FIG. 11.
도 12 및 도 13을 참조하면, 복수의 제1-1 흡입 홀(710)은 복수의 제2 흡입 홀(610)과는 다른 형상을 가질 수 있다. 바람직하게, 복수의 제1-1 흡입 홀(710)은 '+' 형상 또는 'X'자 형상을 가질 수 있다. 복수의 제1-1 흡입 홀(710)는 홀의 중심을 기준으로 상기 홀의 중심을 지나는 제1 부분(712)과 상기 홀의 중심을 지나며 상기 제1 부분(712)과 수직한 제2 부분(714)를 포함할 수 있다. 제1 부분(712)은 홀의 중심을 가로 방향으로 지날 수 있다. 제1 부분(712)은 가로 방향으로 연장될 수 있다. 제1 부분(712)은 제1길이(D4)를 가질 수 있다. 제2 부분(714)은 홀의 중심을 세로 방향으로 지날 수 있다. 즉, 제2 부분(714)은 제1 부분(712)과는 수직한 세로 방향으로 연장될 수 있다. 제 2 부분(714)은 제2 길이(D5)를 가질 수 있다. 이때, 제1 부분(712)과 제2 부분(714)의 길이는 서로 동일할 수 있다.12 and 13, the plurality of 1-1 suction holes 710 may have a shape different from that of the plurality of second suction holes 610. Preferably, the plurality of 1-1 suction holes 710 may have a'+' shape or a'X' shape. The plurality of 1-1 suction holes 710 are a
이때, 제1 부분(712)과 제2 부분(714)은 서로 직각으로 교차하는 것이 바람직하다. 즉, 제1 부분(712)과 제2 부분(714)이 서로 직각이 아닌 1도 내지 89도 사이의 각을 가지고 교차하는 경우, 특정 영역에서 흡착이 집중되는 것을 확인할 수 있었다. 즉, 제1 부분(712)과 제2 부분(714)이 직각이 아닌 경우, 일부 영역에서는 제1 부분(712)과 제2 부분(714) 사이의 각이 90도 이하를 가질 것이며, 다른 일부 영역에서는 90도보다 크게 나타나게 된다. 이때, 90도 이하의 영역에 흡입력이 집중되게 되며, 이에 따라 90도보다 큰 영역에서는 흡입력이 감소하게 된다. 따라서, 실시 예에서는 상기 제1 부분(712)과 제2 부분(714) 사이의 각이 직각을 가지도록 한다. 바람직하게, 제1 부분(712)과 제2 부분(714) 사이의 각이 5도의 오차 범위 내에서 직각을 가지도록 한다.In this case, it is preferable that the
이때, 제1 부분(712)은 제1 폭(W1)을 가질 수 있다. 또한, 제2 부분(714)은 제2 폭(W2)을 가질 수 있다. 이때, 제1 폭(W1) 및 제2 폭(W2)은 동일할 수 있다. 예를 들어, 제1 폭(W1) 및 제2 폭(W2)은 각각 0.5mm 내지 1.5mm일 수 있다. 바람직하게, 제1 폭(W1) 및 제2 폭(W2)은 0.8mm 내지 1.0mm일 수 있다. In this case, the
또한, 제1 폭(W1) 및 제2 폭(W2)은 제2 흡입 홀(610)의 직경의 0.15배 내지 0.5배일 수 있다. 바람직하게, 제1 폭(W1) 및 제2 폭(W2)은 제2 흡입 홀(610)의 직경의 0.25배 내지 0.35배 일 수 있다.In addition, the first width W1 and the second width W2 may be 0.15 to 0.5 times the diameter of the
한편, 이웃하는 제1-1 흡입 홀(710)의 제1 부분(712) 사이의 이격 간격(D9)은 7.5mm 내지 10.5mm일 수 있다. 또한, 이웃하는 제1-1 흡입 홀(710)의 제2 부분(714) 사이의 이격 간격(D8)은 7.5mm 내지 10.5mm일 수 있다.Meanwhile, the separation distance D9 between the
한편, 실시 예에서의 제1-1 흡입 홀(710)은 제1 부분(712)과 제2 부분(714)을 포함하고 있다. Meanwhile, the 1-
제1 부분(712)과 제2 부분(714)은 제2 흡입 홀(610)과 수직 방향 내에서 오버랩되면서, 중심(718)이 서로 만나는 오버랩 영역(716)을 포함하고 있다. The
그리고, 상기 오버랩 영역(716)의 면적은 하부에 배치되는 제2 흡입 홀(610)의 면적보다 작은 것이 바람직하다. 즉, 상기 오버랩 영역(716)의 면적이 상기 제2 흡입 홀(610)의 면적보다 크면, 이에 따른 흡입력 손실이 발생하게 된다. 또한, 상기 오버랩 영역(716)의 면적이 너무 작으면 흡입력이 정상적으로 전달되지 않을 수 있다. 이에 따라, 실시 예에서는 상기와 같은 제1 부분(712) 및 제 2 부분(714)의 제1 폭(W1) 및 제2 폭(W2)을 결정하여, 최적의 오버랩 영역(716)이 결정되도록 한다. 이에 따라, 오버랩 영역(716)의 전체는 하부에 위치한 제2 흡입 홀(610)과 수직 방향 내에서 오버랩될 수 있다. In addition, the area of the
본 실시 예에 의하면, 지그에 형성되는 흡입 홀의 형상을 변경하여 흡입력의 손실 없이 피가공물의 흡입 영역을 최대화할 수 있으며, 이에 따른 피가공물의 평탄도를 유지할 수 있다.According to the present embodiment, by changing the shape of the suction hole formed in the jig, the suction area of the workpiece can be maximized without loss of suction power, and thus the flatness of the workpiece can be maintained.
또한 본 실시 예에 의하면 가공 플레이트 상에 배치되는 피가공물의 평탄도를 향상시킬 수 있으며, 이에 따른 피가공물에 형성되는 비아 홀의 위치 정확도 및 형상 균일도를 향상시킬 수 있다.In addition, according to the present embodiment, it is possible to improve the flatness of the workpiece disposed on the processing plate, and accordingly, the positional accuracy and shape uniformity of the via hole formed in the workpiece.
또한 본 실시 예에 의하면 종래 대비 비아 홀의 사이즈의 산포도를 낮출 수 있으며, 이에 따른 비아 홀의 가공 공정 능력을 향상시켜 신뢰성을 향상시킬 수 있다.In addition, according to the present exemplary embodiment, it is possible to reduce the distribution of the size of the via hole compared to the related art, and thereby improve the reliability by improving the processing capability of the via hole.
또한 실시 예에 의하면 비아 홀의 상부 폭과 하부 폭의 사이즈 비(Size ratio)를 낮게 할 수 있으며, 이에 따른 비아 홀 가공 시에 피가공물의 잔해물이 비아 홀 하단에 잔존함에 따라 발생하는 비아 단락 문제를 해결할 수 있다.In addition, according to the embodiment, the size ratio of the upper width and the lower width of the via hole can be reduced, and accordingly, the problem of the via short circuit caused by debris remaining at the bottom of the via hole during the via hole processing. Can be solved.
한편, 상기 지그(700)의 제2 영역(R2)에도 제1-1 흡입 홀(710)과 동일한 십자 형상의 흡입 홀을 형성하는 경우, 상기 제1 영역(R1) 대비 제2 영역(R2)의 흡입력이 낮게 나타나며, 이에 따라 피가공물(200)의 제2 영역(202)에서의 흡입 리크(leak)가 발생할 수 있다. 그리고, 피가공물(200)의 제2 영역(202)에서의 흡입 리크에 의해 상기 피가공물(200)의 제2 영역(202) 뿐 아니라, 제1 영역(201)에도 주름이 발생하여 비아 홀 형성에 대한 불량이 발생할 수 있다. 따라서, 실시 예에서는 상기 제2 영역(R2)에서는 상기 제1 영역(R1)과는 다른 형상을 가지는 제1-2 흡입 홀(720)을 형성하여, 상기 제2 영역에서의 흡입 리크를 최소화할 수 있도록 한다.On the other hand, when the same cross-shaped suction hole as the 1-1
도 14 및 도 15는 실시 예에 따른 지그의 제2 영역에 형성된 제1-2 흡입 홀을 나타낸 도면이다. 14 and 15 are views illustrating a 1-2 suction hole formed in a second region of a jig according to an exemplary embodiment.
바람직하게, 도 14는 지그(700)의 제2 영역(R2)에서, 제1 내지 제4 외곽 영역(X1, X2, Y1, Y2)에 형성되는 제1-2 흡입 홀(720)을 나타낸 것이다. 또한, 도 15는 지그(700)의 제2 영역(R2)에서 제1 내지 제4 코너 영역(C1, C2, C3, C4)에 형성되는 제1-2 흡입 홀(720)을 나타낸 것이다.Preferably, FIG. 14 shows a 1-2 suction hole 720 formed in the first to fourth outer regions X1, X2, Y1, and Y2 in the second region R2 of the
제1-2 흡입 홀(720)은, 제1 내지 제4 외곽 영역(X1, X2, Y1, Y2)에 형성되는 제1 홀부(721) 및 제2 홀부(722)를 포함할 수 있다. 또한, 제1-2 흡입 홀(720)은 제1 내지 제4 코너 영역(C1, C2, C3, C4)에 형성되는 제3 홀부(723) 및 제4 홀부(724)를 포함할 수 있다. The 1-2 suction hole 720 may include a
제1 홀부(721)는 제1 영역(R1)의 주위를 둘러싸며 배치될 수 있다. 즉, 제1 홀부(721)는 제1 내지 제4 외곽 영역(X1, X2, Y1, Y2) 각각에서, 제1 영역(R1)과 인접하게 배치될 수 있다. The
또한, 제2 홀부(722)는 상기 제1 홀부(721)의 주위를 둘러싸며 배치될 수 있다. 즉, 제2 홀부(722)는 제1 내지 제4 외곽 영역(X1, X2, Y1, Y2) 각각에서, 지그(700)의 에지 부분에 인접하게 배치될 수 있다. In addition, the
제1 홀부(721)는 제1 내지 제4 외곽 영역(X1, X2, Y1, Y2)에서, 상호 일정 간격 이격되며 복수 개 배치될 수 있다. A plurality of
제1 홀부(721)는 상기 제1 영역(R1)의 주위 영역을 따라 연장되는 제1-1 부분(721a) 및 상기 제1-1 부분(721a)으로부터 상기 지그(700)의 에지를 향해 돌출되는 제1-2 부분(721b)을 포함할 수 있다. The
즉, 제1 홀부(721)는 제1-1 부분(721a) 및 제1-2 부분(721b)을 포함하는 T자 형상을 가질 수 있다. 다만, 제1 홀부(721)는 돌출부에 대응하는 제1-2 부분(721b)이 지그(700)의 에지를 향하도록 배치될 수 있다. 다시 말해서, 제1 홀부(721)는 돌출부에 대응하는 제1-2 부분(721b)이 제2 홀부(722)를 향하도록 배치될 수 있다That is, the
예를 들어, 제1 외곽 영역(X1)에 배치되는 제1 홀부(721)의 제1-2 부분(721b)은 하측 방향을 향하도록 배치될 수 있다. 제2 외곽 영역(X2)에 배치되는 제1 홀부(721)의 제1-2 부분(721b)은 상측 방향을 향하도록 배치될 수 있다. 제3 외곽 영역(Y1)에 배치되는 제1 홀부(721)의 제1-2 부분(721b)은 좌측 방향을 향하도록 배치될 수 있다. 제4 외곽 영역(Y2)에 배치되는 제1 홀부(721)의 제1-2 부분(721b)은 우측 방향을 향하도록 배치될 수 있다. For example, the 1-2
제2 홀부(722)는 제1 홀부(721)와 대칭 형상을 가질 수 있다.The
바람직하게, 상기 제2 홀부(722)는 상기 지그(700)의 에지 부분을 따라 길게 연장되는 제2-1 부분(722a) 및 상기 제2-1 부분(722a)으로부터 상기 지그(700)의 제1 영역(R1)을 향해 돌출되는 제2-2 부분(722b)을 포함할 수 있다. Preferably, the
즉, 제2 홀부(722)는 제2-1 부분(722a) 및 제2-2 부분(722b)을 포함하는 T자 형상을 가질 수 있다. 다만, 제2 홀부(722)는 돌출부에 대응하는 제2-2 부분(722b)이 지그(700)의 에지가 아닌 제1 영역(R1)을 향하도록 배치될 수 있다. 다시 말해서, 제2 홀부(722)는 돌출부에 대응하는 제2-2 부분(721b)이 제1 홀부(721)를 향하도록 배치될 수 있다That is, the
예를 들어, 제1 외곽 영역(X1)에 배치되는 제2 홀부(722)의 제2-2 부분(721b)은 상측 방향을 향하도록 배치될 수 있다. 제2 외곽 영역(X2)에 배치되는 제2 홀부(7221)의 제2-2 부분(722b)은 하측 방향을 향하도록 배치될 수 있다. 제3 외곽 영역(Y1)에 배치되는 제2 홀부(722)의 제2-2 부분(721b)은 우측 방향을 향하도록 배치될 수 있다. 제4 외곽 영역(Y2)에 배치되는 제2 홀부(722)의 제2-2 부분(722b)은 좌측 방향을 향하도록 배치될 수 있다. For example, the 2-2
이에 따라, 실시 예에서는 상기 제1 홀부(721) 및 제2 홀부(722)의 제1-1 부분(721a) 및 제2-1 부분(722a)이 상기 제1 영역(R1)의 주위 및 상기 지그(700)의 에지를 따라 길게 연장되며 배치되도록 함으로써, 상기 제1 영역(R1)과 인접한 영역 및 상기 지그(700)의 에지 부분에서 발생하는 흡입 리크를 최소화할 수 있도록 한다.Accordingly, in an embodiment, the 1-1
한편, 상기 제1-1 부분(721a)의 길이(D9) 및 제2-1 부분(722a)의 길이(D11)는 서로 동일할 수 있다. 상기 제1-1 부분(721a)의 폭 및 제2-1 부분(722a)의 폭은 서로 동일할 수 있다.Meanwhile, the length D9 of the first-
바람직하게, 상기 제1-1 부분(721a)의 길이(D9) 및 제2-1 부분(722a)의 길이(D11)는 각각 3.5mm 내지 11mm일 수 있다. 바람직하게, 상기 제1-1 부분(721a)의 길이(D9) 및 제2-1 부분(722a)의 길이(D11)는 각각 4.0mm 내지 9mm일 수 있다. 더욱 바람직하게, 상기 제1-1 부분(721a)의 길이(D9) 및 제2-1 부분(722a)의 길이(D11)는 각각 4.5mm 내지 7.5mm일 수 있다. Preferably, the length D9 of the 1-
한편, 상기 제1-2 부분(721b)의 길이(D10) 및 제2-2 부분(722b)의 길이(D12)는 서로 동일할 수 있다. 상기 제1-2 부분(721b)의 폭 및 제2-2 부분(722b)의 폭은 서로 동일할 수 있다.Meanwhile, the length D10 of the 1-
바람직하게, 상기 제1-2 부분(721b)의 길이(D10) 및 제2-2 부분(722b)의 길이(D12)는 각각 1.5mm 내지 9mm일 수 있다. 바람직하게, 상기 제1-2 부분(721b)의 길이(D10) 및 제2-2 부분(722b)의 길이(D12)는 각각 2.0mm 내지 7mm일 수 있다. 더욱 바람직하게, 상기 제1-2 부분(721b)의 길이(D10) 및 제2-2 부분(722b)의 길이(D12)는 각각 2.5mm 내지 5.5mm일 수 있다. Preferably, the length D10 of the 1-
또한, 도 15를 참조하면, 제1-2 흡입 홀(720)은 제1 내지 제4 코너 영역(C1, C2, C3, C4)에 형성되는 제3 홀부(723) 및 제4 홀부(724)를 포함할 수 있다. Further, referring to FIG. 15, the 1-2 suction hole 720 includes a
제3 홀부(723)는 각각의 제1 내지 제4 외곽 영역(X1, X2, Y1, Y2)의 사이 영역에 배치될 수 있다. The
구체적으로, 제3 홀부(723)는 제1 외곽 영역(X1)에 배치된 제1 홀부 중 최좌측에 배치된 제1 홀부(721)와 제3 외곽 영역(Y1)에 배치된 제1 홀부 중 최하측에 배치된 제1 홀부(721) 사이에 배치될 수 있다. Specifically, the
또한, 제3 홀부(723)는 제1 외곽 영역(X1)에 배치된 제1 홀부 중 최우측에 배치된 제1 홀부(721)와 제4 외곽 영역(Y2)에 배치된 제1 홀부 중 최하측에 배치된 제1 홀부(721) 사이에 배치될 수 있다. In addition, the
또한, 제3 홀부(723)는 제2 외곽 영역(X2)에 배치된 제1 홀부 중 최좌측에 배치된 제1 홀부(721)와 제3 외곽 영역(Y1)에 배치된 제1 홀부 중 최상측에 배치된 제1 홀부(721) 사이에 배치될 수 있다. In addition, the
또한, 제3 홀부(723)는 제2 외곽 영역(X2)에 배치된 제1 홀부 중 최우측에 배치된 제1 홀부(721)와 제4 외곽 영역(Y2)에 배치된 제1 홀부 중 최상측에 배치된 제1 홀부(721) 사이에 배치될 수 있다. In addition, the
제4 홀부(724)는 각각의 제1 내지 제4 외곽 영역(X1, X2, Y1, Y2)의 사이 영역에 배치될 수 있다. The
구체적으로, 제4 홀부(723)는 제1 외곽 영역(X1)에 배치된 제2 홀부 중 최좌측에 배치된 제2 홀부(722)와 제3 외곽 영역(Y1)에 배치된 제2 홀부 중 최하측에 배치된 제2 홀부(722) 사이에 배치될 수 있다. Specifically, the
또한, 제4 홀부(724)는 제1 외곽 영역(X1)에 배치된 제2 홀부 중 최우측에 배치된 제2 홀부(722)와 제4 외곽 영역(Y2)에 배치된 제2 홀부 중 최하측에 배치된 제2 홀부(722) 사이에 배치될 수 있다. In addition, the
또한, 제4 홀부(724)는 제2 외곽 영역(X2)에 배치된 제2 홀부 중 최좌측에 배치된 제2 홀부(722)와 제3 외곽 영역(Y1)에 배치된 제2 홀부 중 최상측에 배치된 제2 홀부(722) 사이에 배치될 수 있다. In addition, the
또한, 제4 홀부(724)는 제2 외곽 영역(X2)에 배치된 제2 홀부 중 최우측에 배치된 제2 홀부(722)와 제4 외곽 영역(Y2)에 배치된 제2 홀부 중 최상측에 배치된 제2 홀부(722) 사이에 배치될 수 있다. In addition, the
제3 홀부(723) 및 제4 홀부(724)는 절곡 형상을 가질 수 있다. 바람직하게, 각각의 코너 영역에 배치된 제3 홀부(723) 및 제4 홀부(724)는 서로 동일한 형상을 가질 수 있다. 즉, 제1 코너 영역(C1)에 배치된 제3 홀부(723) 및 제4 홀부(724)는 서로 동일한 형상을 가질 수 있다. 또한, 제2 코너 영역(C2)에 배치된 제3 홀부(723) 및 제4 홀부(724)는 서로 동일한 형상을 가질 수 있다. 제3 코너 영역(C3)에 배치된 제3 홀부(723) 및 제4 홀부(724)는 서로 동일한 형상을 가질 수 있다. 제4 코너 영역(C4)에 배치된 제3 홀부(723) 및 제4 홀부(724)는 서로 동일한 형상을 가질 수 있다. The
제3 홀부(723) 및 제4 홀부(724)는 각각의 코너 영역에 대응하는 형상을 가질 수 있다. 바람직하게, 제3 홀부(723) 및 제4 홀부(724)는 중심을 기준으로 이웃하는 홀부를 향하여 연장되는 L자 형상을 가질 수 있다. 제3 홀부(723) 및 제4 홀부(724)는 코너 영역에서 발생하는 흡입 리크를 최소화하도록 상기 코너 영역이 가지는 형상에 대응하는 L자 형상을 가질 수 있다.The
즉, 제1 코너 영역(C1)에 배치된 제3 홀부(723) 및 제4 홀부(724)는 L자 형상을 가질 수 있다. 또한, 제2 코너 영역(C2)에 배치된 제3 홀부(723) 및 제4 홀부(724)는 반시계방향으로 90도 회전한 L자 형상을 가질 수 있다. 제3 코너 영역(C3)에 배치된 제3 홀부(723) 및 제4 홀부(724)는 시계 방향으로 90도 회전한 L자 형상을 가질 수 있다. 제4 코너 영역(C4)에 배치된 제3 홀부(723) 및 제4 홀부(724)는 시계 또는 반시계 방향으로 90도 회전한 L자 형상을 가질 수 있다.That is, the
한편, 지그(700)에는 얼라인 마크(740)가 형성될 수 있다. 상기 얼라인 마크(740)는 지그(700)의 코너 영역에 형성될 수 있다. 즉, 얼라인 마크(740)는 제1 내지 제4 코너 영역 중 어느 하나의 코너 영역에 형성될 수 있다. 상기 얼라인 마크(740)는 상기 어느 하나의 코너 영역의 에지 부분에 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 지그(700) 상에 피가공물을 안착하는 상황에서, 상기 얼라인 마크(740)를 이용하여 상기 피가공물의 위치 정확도를 향상시킬 수 있으며, 상기 피가공물에 형성되는 비아가 정확한 위치에 형성될 수 있도록 한다.Meanwhile, an alignment mark 740 may be formed on the
도 16은 비교 예에 따른 판넬의 외곽 영역의 스케일 차이를 나타낸 도면이고, 도 17은 실시 예에 따른 판넬의 외곽 영역의 스케일 차이를 나타낸 도면이다.16 is a diagram illustrating a difference in scale of an outer region of a panel according to a comparative example, and FIG. 17 is a diagram illustrating a difference in scale of an outer region of a panel according to an exemplary embodiment.
도 17을 참조하면, 비교 예에서는 지그의 사용 횟수에 따라 장축의 스케일 차이가 커지고, 단축의 스케일 차이도 커지는 것을 확인할 수 있었다. Referring to FIG. 17, in the comparative example, it was confirmed that the scale difference of the long axis increases and the scale difference of the short axis increases according to the number of times the jig is used.
여기에서, 스케일 차이라는 것은 비아 홀(VH)이 가공되기 이전에 지그 상에 올려진 판넬(PNL)의 각 외곽 영역의 길이를 각각 측정하고, 이후 비아 홀(VH)의 가공이 완료된 판넬(PNL)의 각 외곽 영역의 길이를 각각 측정하며, 이에 따른 판넬(PNL)의 사이즈 변화를 측정한 것이다.Here, the scale difference means that the length of each outer region of the panel PNL placed on the jig is measured before the via hole VH is processed, and the panel PNL where the via hole VH is processed. The length of each outer area of) is measured, and the change in the size of the panel PNL is measured accordingly.
이에 따른 비교 예에서는 사용 횟수에 따라 장축에 대한 스케일 차이가 0.020%P 내지 0.030%P 정도 발생하였고, 단축에 대한 스케일 차이가 0.015%P 내지 0.020%P 정도 발생하는 것을 확인할 수 있었다. 그리고, 이에 따른 비교 예에서의 불량율은 0.5%가 나타나는 것을 확인할 수 있었다.Accordingly, in the comparative example, it was confirmed that the difference in the scale for the long axis was about 0.020%P to 0.030%P, and the difference in the scale for the short axis occurred about 0.015%P to 0.020%P depending on the number of uses. In addition, it was confirmed that the defective rate in the comparative example was 0.5%.
이에 반하여, 도 17을 참조하면, 실시 예에 따른 지그(700)를 사용한 경과, 지그의 사용 횟수가 증가하여도, 스케일 차이가 심하지 않은 것을 확인할 수 있었다. 즉, 하나의 지그를 20회 이상 사용하여도, 판넬(PNL)의 외곽 영역에서의 스케일 차이가 거의 발생하지 않는 것을 확인할 수 있었으며, 이에 따른 불량률이 0.01% 이하로 떨어지는 것을 확인할 수 있었다. On the contrary, referring to FIG. 17, it was confirmed that the difference in scale was not severe even when the
도 18은 실시 예에 따른 지그의 제1-1 흡입 홀의 변형 예를 나타낸 도면이다.18 is a view showing a modified example of the 1-1 suction hole of the jig according to the embodiment.
도 18를 참조하면, 지그(700)의 제1 영역(R1)에는 복수의 제1-1 흡입 홀(710A)이 형성될 수 있다.Referring to FIG. 18, a plurality of 1-1
이때, 복수의 제1-1 흡입 홀(710A)은 이전의 실시 예에서와 같은 '+' 형상이 아닌 'X'자 형상을 가지고 있다. At this time, the plurality of 1-1
여기에서의 복수의 제1-1 흡입 홀(710A) 각각은 지그의 제1 영역(R1) 상에서 제 1대각 방향으로 형성되는 제 1 부분과 제1 대각 방향과 직각의 제 2 대각 방향으로 형성되는 제2 부분을 포함한다. 이때, 제1-1 흡입 홀(710A)이 X 자 형상을 가지고 있어도, 제 1 및 2 부분이 각각 서로 직각의 제 1 및 2 대각 방향으로 형성됨에 따라 판넬의 모든 영역에서 균일한 흡입력을 제공할 수 있으며, 이에 따른 판넬의 평탄도를 유지시킬 수 있다.Here, each of the plurality of 1-1
도 19은 지그의 제1-1 흡입 홀의 또 다른 변형 예를 나타낸 도면이다.19 is a view showing another modified example of the 1-1 suction hole of the jig.
도 19를 참조하면, 도 19의 (A)에서와 같이 이전의 실시 예에서는 지그(700)에 형성되는 제 1-1 흡입 홀(710)이 '+'자 형상이나, 'X'자 형상으로 형성되었다. 이에 따라, 각각의 제1-1 흡입 홀(710)에 대한 제 1 흡입 영역(SO1)은 마름모 형상을 가진다. 즉, 제1-1 흡입 홀(710)에 대한 제 1 흡입 영역(SO1)은 각 단부를 직선으로 연결하는 마름모 형상을 가지고 있다. Referring to FIG. 19, in the previous embodiment, as in FIG. 19A, the 1-1
이에 따라, 실시 예에서는 제1 흡입 홀에 따른 흡입 영역을 최대로 증가시키기 위해, 상기 제 1-1 흡입 홀의 형상을 변경한다.Accordingly, in the embodiment, in order to maximize the suction area according to the first suction hole, the shape of the first suction hole 1-1 is changed.
즉, 도 19의 (B)에서와 같이, 변형 예에서의 지그의 제1 영역(R1)는 복수의 제 1-1 흡입 홀(910)을 포함하고 있다.That is, as shown in FIG. 19B, the first region R1 of the jig in the modified example includes a plurality of first-1 suction holes 910.
그리고, 복수의 제1-1 흡입 홀(910)은 제1 부분(912)과 제2 부분(924)을 포함하고 있다. 제1 부분(912)과 제2 부분(914)은 제2 흡입 홀과 수직 방향 내에서 오버랩되면서, 중심이 서로 만나는 오버랩 영역을 포함하고 있다. In addition, the plurality of 1-1 suction holes 910 includes a
이때, 제1 부분(912)은 일단에 상기 제 1-1 흡입 홀의 중심으로 절곡되는 제1 서브 부분(912a)을 포함할 수 있다. 제1 서브 부분(912a)은 제1-1 흡입 홀(910)의 중심으로 오목한 U자 형상을 가질 수 있다. 그리고, 제1 부분(912)은 상기 일단과 반대되는 타단에 상기 제 1-1 흡입 홀의 중심으로 절곡되는 제2 서브 부분(912b)을 포함할 수 있다. 제2 서브 부분(912b)은 제1-1 흡입 홀(910)의 중심으로 오목한 U자 형상을 가질 수 있다.In this case, the
또한, 제2 부분(914)은 일단에 상기 제 1-1 흡입 홀의 중심으로 절곡되는 제3 서브 부분(914a)을 포함할 수 있다. 제3 서브 부분(914a)은 제1-1 흡입 홀(910)의 중심으로 오목한 U자 형상을 가질 수 있다. 그리고, 제2 부분(914)은 상기 일단과 반대되는 타단에 상기 제 1-1 흡입 홀의 중심으로 절곡되는 제4 서브 부분(914b)을 포함할 수 있다. 제4 서브 부분(914b)는 제1-1 흡입 홀(910)의 중심으로 오목한 U자 형상을 가질 수 있다.In addition, the
상기와 같은 실시 예에 따르면, 제1-1 흡입 홀의 단부에 제 1 내지 제4 서브 부분(912a, 912b, 914a, 914b)를 추가로 형성하도록 한다. 이에 따르면, 실시 예에 따른 제1-1 흡입 홀(912)에 의해 형성되는 제 2 흡입 영역(SO2)은 이전의 제 1 흡입 영역(SO1)과는 다르게 원형 형상을 가질 수 있으며, 이에 따라 보다 넓은 흡입 영역을 가질 수 있다. According to the above embodiment, the first to fourth sub-parts 912a, 912b, 914a, and 914b are additionally formed at the ends of the 1-1th suction hole. Accordingly, the second suction area SO2 formed by the 1-1
도 20은 실시 예에 따른 인쇄회로기판을 나타낸 도면이다.20 is a view showing a printed circuit board according to an embodiment.
도 20을 참조하면, 인쇄회로기판은 판넬(PNL)에서 구분된 하나의 유닛(220)일 수 있다. Referring to FIG. 20, the printed circuit board may be one
인쇄회로기판은 절연층(1010) 및 절연층(1010)을 관통하는 비아 홀(VH) 내에 배치되는 비아(1020)를 포함할 수 있다. The printed circuit board may include an insulating
상기 절연층(1010) 내에는 절연층(1010)의 상면 및 하면을 관통하는 비아(1020)가 배치된다. 비아(1020)는 상기 절연층(1010)의 상면 및 하면을 관통하는 비아 홀(VH)의 내부를 금속 물질로 충진하여 형성할 수 있다.
상기 비아 홀(VH)은 상기에서 설명한 바와 같이 레이저 가공 방식에 의해 형성될 수 있다. 즉, 비아 홀(VH)은 CO2 레이저 방식을 사용하는 비아 홀 가공 장치에 의해 형성될 수 있다. As described above, the via hole VH may be formed by a laser processing method. That is, the via hole VH may be formed by a via hole processing apparatus using a CO 2 laser method.
그리고, 비아(1020)는 비아홀(VH) 내부를 구리(Cu), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni) 및 팔라듐(Pd) 중에서 선택되는 어느 하나의 금속 물질을 충진하여 형성할 수 있다. 이때, 상기 금속 물질의 충진은 무전해 도금, 전해 도금, 스크린 인쇄(Screen Printing), 스퍼터링(Sputtering), 증발법(Evaporation), 잉크젯팅 및 디스펜싱 중 어느 하나 또는 이들의 조합된 방식을 이용할 수 있다.And, the via 1020 is any one metal material selected from copper (Cu), silver (Ag), tin (Sn), gold (Au), nickel (Ni), and palladium (Pd) inside the via hole (VH). It can be formed by filling. At this time, the filling of the metallic material may use any one of electroless plating, electroplating, screen printing, sputtering, evaporation, ink jetting, and dispensing, or a combination thereof. have.
이때, 비아(1020) 또는 비아 홀(VH)의 상면은 제3 폭(W3)을 가질 수 있다. 또한, 비아(1020) 또는 비아 홀(VH)의 하면은 제4 폭(W4)을 가질 수 있다. 이때, 상기 제3 폭(W3) 및 제4 폭(W4)은 다르다. 바람직하게, 제3 폭(W3)은 제4 폭(W4)보다 크다.In this case, the top surface of the via 1020 or the via hole VH may have a third width W3. Also, the lower surface of the via 1020 or the via hole VH may have a fourth width W4. In this case, the third width W3 and the fourth width W4 are different. Preferably, the third width W3 is greater than the fourth width W4.
여기에서, 실시 예에서는 지그에 형성되는 제1 흡입 홀의 형상을 변경함으로써, 상기 제3 폭(W3)과 제4 폭(W4)의 차이를 최소화할 수 있다. Here, in the embodiment, a difference between the third width W3 and the fourth width W4 may be minimized by changing the shape of the first suction hole formed in the jig.
본 실시 예에 의하면, 지그에 형성되는 흡입 홀의 형상을 변경하여 흡입력의 손실 없이 피가공물의 흡입 영역을 최대화할 수 있으며, 이에 따른 피가공물의 평탄도를 유지하지할 수 있다.According to the present embodiment, by changing the shape of the suction hole formed in the jig, it is possible to maximize the suction area of the workpiece without loss of suction power, and thus the flatness of the workpiece may not be maintained.
또한 본 실시 예에 의하면 가공 플레이트 상에 배치되는 피가공물의 평탄도를 향상시킬 수 있으며, 이에 따른 피가공물에 형성되는 비아 홀의 위치 정확도 및 형상 균일도를 향상시킬 수 있다.In addition, according to the present embodiment, it is possible to improve the flatness of the workpiece disposed on the processing plate, and accordingly, the positional accuracy and shape uniformity of the via hole formed in the workpiece.
또한 본 실시 예에 의하면 종래 대비 비아 홀의 사이즈의 산포도를 낮출 수 있으며, 이에 따른 비아 홀의 가공 공정 능력을 향상시켜 신뢰성을 향상시킬 수 있다.In addition, according to the present exemplary embodiment, it is possible to reduce the distribution of the size of the via hole compared to the related art, and thereby improve the reliability by improving the processing capability of the via hole.
또한 실시 예에 의하면 비아 홀의 상부 폭과 하부 폭의 사이즈 비(Size ratio)를 낮게할 수 있으며, 이에 따른 비아 홀 가공 시에 피가공물의 잔해물이 비아 홀 하단에 잔존함에 따라 발생하는 비아 단락 문제를 해결할 수 있다.In addition, according to the embodiment, the size ratio of the upper width and the lower width of the via hole may be reduced, and accordingly, the problem of a via short circuit caused by debris remaining at the bottom of the via hole during the via hole processing. Can be solved.
이상에서 실시예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 실시예의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Features, structures, effects, and the like described in the embodiments above are included in at least one embodiment, and are not necessarily limited to only one embodiment. Furthermore, the features, structures, effects, and the like illustrated in each embodiment can be implemented by combining or modifying other embodiments by a person having ordinary knowledge in the field to which the embodiments belong. Therefore, contents related to such combinations and modifications should be interpreted as being included in the scope of the embodiments.
이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 실시예를 한정하는 것이 아니며, 실시예가 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 설정하는 실시예의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although the embodiments have been described above, these are only examples and are not intended to limit the embodiments, and those of ordinary skill in the field to which the embodiments belong are not departing from the essential characteristics of the embodiments. It will be seen that branch transformation and application are possible. For example, each component specifically shown in the embodiment can be modified and implemented. And differences related to these modifications and applications should be construed as being included in the scope of the embodiments set in the appended claims.
Claims (16)
상기 보조 부재에는,
상기 제2 흡입 홀을 통해 제공되는 흡입 공기에 의해 상기 피가공물을 흡착 지지하는 제1 흡입 홀이 형성되고,
상기 보조 부재는,
제1 영역; 및
상기 제1 영역을 둘러싸는 제2 영역을 포함하고,
상기 제1 흡입 홀은,
상기 제1 영역에 형성된 제1-1 흡입 홀; 및
상기 제2 영역에 형성되고, 상기 제1-1 흡입 홀과 다른 형상을 갖는 제1-2 흡입 홀을 포함하는
비아 홀 가공을 위한 지그.It is a plate-shaped auxiliary member disposed between the processing plate and the workpiece having an adsorption unit disposed at the lower portion and a second suction hole,
In the auxiliary member,
A first suction hole for adsorbing and supporting the workpiece is formed by suction air provided through the second suction hole,
The auxiliary member,
A first area; And
Including a second region surrounding the first region,
The first suction hole,
A 1-1 suction hole formed in the first area; And
It is formed in the second region and includes a 1-2 suction hole having a different shape from the 1-1 suction hole
Jig for machining via holes.
상기 제1-1 흡입 홀은,
제1 방향으로 연장되는 제1 부분과,
상기 제1 부분과 다른 제 2 방향으로 연장되는 제2 부분을 포함하고,
상기 제1 방향은,
상기 제 2 방향에 대해 직각인
비아 홀 가공을 위한 지그The method of claim 1,
The 1-1 suction hole,
A first portion extending in the first direction,
And a second portion extending in a second direction different from the first portion,
The first direction is,
Perpendicular to the second direction
Jig for machining via holes
상기 제1-1 흡입 홀은,
십자 형상 또는 X자 형상을 가지는
비아 홀 가공을 위한 지그.The method of claim 2,
The 1-1 suction hole,
Cross-shaped or X-shaped
Jig for machining via holes.
상기 제1 흡입 홀의 중심은,
상기 제2 흡입 홀의 중심과 동일 수직 선상에서 정렬되는
비아 홀 가공을 위한 지그.The method of claim 1,
The center of the first suction hole,
Aligned on the same vertical line as the center of the second suction hole
Jig for machining via holes.
상기 제 1 영역의 길이는,
상기 제 2 영역의 길이와 동일한
비아 홀 가공을 위한 지그.The method of claim 2,
The length of the first region is,
Equal to the length of the second area
Jig for machining via holes.
상기 제1 부분 및 상기 제2 부분은,
4.5mm 내지 7.5mm 범위의 길이를 가지는
비아 홀 가공을 위한 지그.The method of claim 5,
The first part and the second part,
With a length ranging from 4.5mm to 7.5mm
Jig for machining via holes.
상기 제 1 부분 및 상기 제 2 부분은,
수직 방향 내에서 서로 오버랩되는 오버랩 영역을 포함하고,
상기 오버랩 영역의 평면 면적은,
상기 제2 흡입 홀의 평면 면적보다 작은
비아 홀 가공을 위한 지그.The method of claim 2,
The first part and the second part,
Including overlapping areas overlapping each other in a vertical direction,
The plane area of the overlap area is,
Smaller than the plane area of the second suction hole
Jig for machining via holes.
상기 제1 영역은,
상기 피가공물의 복수의 스트립 영역과 오버랩되는 영역이고,
상기 제2 영역은,
상기 제1 영역을 제외한 상기 보조 부재의 외곽 영역인
비아 홀 가공을 위한 지그.The method of claim 1,
The first area,
A region overlapping with a plurality of strip regions of the workpiece,
The second area,
The outer area of the auxiliary member excluding the first area
Jig for machining via holes.
상기 제1-2 흡입 홀은,
상기 제1 영역의 주위에 배치되는 제1 홀부; 및
상기 제1 홀부의 주위에 배치되는 제2 홀부를 포함하고,
상기 제1 및 제2 홀부는,
상호 대칭 형상을 가지는
비아 홀 가공을 위한 지그.The method of claim 1,
The 1-2 suction hole,
A first hole disposed around the first region; And
And a second hole portion disposed around the first hole portion,
The first and second hole portions,
Mutually symmetrical
Jig for machining via holes.
상기 제1 홀부는,
상기 제1 영역의 주위를 따라 연장되는 제1-1 부분; 및
상기 제1-1 부분으로부터 상기 보조 부재의 에지를 향해 돌출되는 제1-2부분을 포함하고,
상기 제2 홀부는,
상기 제1 홀부의 주위를 따라 연장되는 제2-1 부분; 및
상기 제2-1 부분으로부터 상기 제1 홀부를 향해 돌출되는 제2-2부분을 포함하는
비아 홀 가공을 위한 지그.The method of claim 9,
The first hole portion,
A portion 1-1 extending along the periphery of the first area; And
A portion 1-2 protruding from the portion 1-1 toward an edge of the auxiliary member,
The second hole portion,
A portion 2-1 extending along the periphery of the first hole portion; And
Including a 2-2 part protruding from the 2-1 part toward the first hole part
Jig for machining via holes.
상기 제1 및 제2 홀부는,
T자 형상을 가지는
비아 홀 가공을 위한 지그.The method of claim 9,
The first and second hole portions,
T-shaped
Jig for machining via holes.
상기 제1-2 흡입 홀은,
상기 제2 영역의 코너 영역에 배치되는 제3 홀부를 포함하며,
상기 제3 홀부는,
상기 제1 및 제2 홀부와 다른 형상을 가지는
비아 홀 가공을 위한 지그.The method of claim 9,
The 1-2 suction hole,
And a third hole disposed in a corner area of the second area,
The third hole part,
Having a different shape from the first and second holes
Jig for machining via holes.
상기 제3 홀부는,
L자 형상을 가지는
비아 홀 가공을 위한 지그.The method of claim 12,
The third hole part,
L-shaped
Jig for machining via holes.
상기 보조부재는,
상기 제2 영역의 에지부분에 형성되는 얼라인 마크를 포함하는
비아 홀 가공을 위한 지그.The method of claim 1,
The auxiliary member,
Including an alignment mark formed at an edge portion of the second region
Jig for machining via holes.
상기 가공 플레이트 하부에 배치된 흡착부;
상기 가공 플레이트 상에 배치되어 피가공물을 흡착 지지하는 복수의 제 1 흡입 홀이 형성된 지그;
상기 지그 상에 배치되고, 상기 피가공물의 비아 홀 형성 위치에 레이저 광을 조사하는 헤드부를 포함하고,
상기 가공 플레이트는,
상기 제1 흡입 홀과 수직 선상에서 정렬되는 복수의 제2 흡입 홀을 포함하고,
상기 제 2 흡입 홀의 중심은,
상기 제 1 흡입 홀의 중심과 동일 수직 선상에서 정렬되며,
상기 지그는,
제1 영역; 및
상기 제1 영역을 둘러싸는 제2 영역을 포함하고,
상기 제1 흡입 홀은,
상기 제1 영역에 형성된 제1-1 흡입 홀; 및
상기 제2 영역에 형성되고, 상기 제1-1 흡입 홀과 다른 형상을 갖는 제1-2 흡입 홀을 포함하며,
상기 제1 영역은,
상기 피가공물의 복수의 스트립 영역과 오버랩되는 영역이고,
상기 제2 영역은,
상기 제1 영역을 제외한 외곽 영역인
레이저 가공 장치.Processing plate;
An adsorption unit disposed under the processing plate;
A jig disposed on the processing plate and having a plurality of first suction holes for adsorbing and supporting the workpiece;
It is disposed on the jig and includes a head portion for irradiating a laser light to the via hole formation position of the workpiece,
The processing plate,
And a plurality of second suction holes aligned on a vertical line with the first suction hole,
The center of the second suction hole,
It is aligned on the same vertical line as the center of the first suction hole,
The jig,
A first area; And
Including a second region surrounding the first region,
The first suction hole,
A 1-1 suction hole formed in the first area; And
It is formed in the second region, and includes a 1-2 suction hole having a different shape from the 1-1 suction hole,
The first area,
A region overlapping with a plurality of strip regions of the workpiece,
The second area,
The outer area excluding the first area
Laser processing device.
상기 제1-2 흡입 홀은,
상기 제2 영역의 코너 영역에 배치되는 제3 및 제4 홀부; 및
상기 제2 영역의 상기 코너 영역 이외의 영역에 배치되는 제1 및 제2 홀부를 포함하고,
상기 제1 및 제2 홀부는,
상기 제3 및 제4 홀부와 다른 형상을 가지는
레이저 가공 장치.The method of claim 15,
The 1-2 suction hole,
Third and fourth hole portions disposed in a corner area of the second area; And
First and second hole portions disposed in an area other than the corner area of the second area,
The first and second hole portions,
Having a different shape from the third and fourth holes
Laser processing device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190046975A KR20200123712A (en) | 2019-04-22 | 2019-04-22 | Jig for processing via holes and via holes boring device thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190046975A KR20200123712A (en) | 2019-04-22 | 2019-04-22 | Jig for processing via holes and via holes boring device thereof |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20200123712A true KR20200123712A (en) | 2020-10-30 |
Family
ID=73048027
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020190046975A KR20200123712A (en) | 2019-04-22 | 2019-04-22 | Jig for processing via holes and via holes boring device thereof |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20200123712A (en) |
-
2019
- 2019-04-22 KR KR1020190046975A patent/KR20200123712A/en not_active Application Discontinuation
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