KR20200120127A - 패턴 형성용 단축 진동 장치 - Google Patents

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옥종걸
이승조
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이나영
오동교
연규범
최현식
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서울과학기술대학교 산학협력단
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Abstract

패턴 형성용 단축 진동 장치가 제공된다. 상기 패턴 형성용 단축 진동 장치는 몰드를 기판에 접촉시켜 상기 기판에 패턴을 형성하는 장치로서, 상기 몰드와 결합하여 상기 몰드를 지지하는 몰드 지지부, 상기 몰드 지지부에 연결되어 상기 몰드 지지부를 단축 진동시키는 단축 진동부, 및 상기 기판을 지지하고 이송하는 기판 공급부를 포함한다.

Description

패턴 형성용 단축 진동 장치{UNIAXIAL VIBRATION APPARATUS FOR FORMING PATTERNS}
본 발명은 패턴 형성용 단축 진동 장치에 관한 것이다.
기존 나노패턴 구조들은 통상 포토리소그래피, e-beam 리소그래피 등과 같이 빛을 이용하여 폭넓게 제작 및 응용되는데, 상기한 공정들은 빛을 제어하기 때문에 복잡한 공정과 값비싼 장비를 필요로 하거나 면적상 제약을 받는다. 특히, 다차원 패턴 형상과 같은 구조적으로 특수한 형태의 나노 패턴은 단일 공정으로 제작하기 어렵기 때문에 기존 공정의 반복 단계와 함께 보완 재료 또는 정밀 장비가 요구된다. 이는 곧 생산성 저하 및 비용 증가를 유도하며, 현재 이를 해결할 마땅한 대체 기술이 없어 양산화에서 많은 시간과 비용이 소모되고 있다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 패턴 형성용 단축 진동 장치를 제공한다.
본 발명의 다른 목적들은 다음의 상세한 설명과 첨부한 도면으로부터 명확해 질 것이다.
본 발명의 실시예들에 따른 패턴 형성용 단축 진동 장치는, 몰드를 기판에 접촉시켜 상기 기판에 패턴을 형성하는 장치로서, 상기 몰드와 결합하여 상기 몰드를 지지하는 몰드 지지부, 상기 몰드 지지부에 연결되어 상기 몰드 지지부를 단축 진동시키는 단축 진동부, 및 상기 기판을 지지하고 이송하는 기판 공급부를 포함한다.
상기 단축 진동부는 피에조 액추에이터를 포함할 수 있다.
상기 몰드 지지부는 상기 몰드와 결합하는 몰드 결합부를 포함할 수 있고, 상기 몰드 결합부는 상부 부재와 하부 부재를 포함할 수 있으며, 상기 몰드는 상기 상부 부재와 상기 하부 부재 사이에 삽입되어 지지될 수 있다.
상기 몰드 지지부는, 상기 몰드 결합부에 배치되어 상기 몰드를 가열하는 히터 및 상기 몰드 결합부에 배치되어 상기 몰드의 온도를 측정하는 온도 센서를 더 포함할 수 있다.
상기 패턴 형성용 단축 진동 장치는 상기 몰드 지지부에 인접하게 배치되어 상기 몰드에 가해지는 힘을 측정하는 포스 센서부를 더 포함할 수 있다.
상기 몰드 지지부는, 상기 몰드 결합부에 배치되고, 상기 포스 센서부와 컨택하는 포스 센서 컨택 로드를 더 포함할 수 있다.
상기 기판은 필름일 수 있다. 상기 기판은 폴리머로 형성될 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따른 패턴 형성용 단축 진동 장치는 기판(필름)에 1차원 패턴 또는 2차원 이상의 다차원 패턴을 용이하게 형성할 수 있다. 또, 상기 패턴 형성용 단축 진동 장치는 광학 센서나 디스플레이 장치 등 다양한 분야에서 활용되는 패턴 필름을 용이하게 제조할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴 형성용 단축 진동 장치의 캐드 이미지(a), 실제 이미지(b), 및 패턴 형성 공정(c)을 나타낸다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 몰드 암 헤드의 캐드 이미지(좌)와 실제 이미지(우)를 나타낸다.
도 3 내지 도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴 형성용 단축 진동 장치에 의해 형성된 패턴 필름을 나타낸다.
도 13 내지 도 15는 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴 형성용 단축 진동 장치에 의해 다양한 주기로 형성된 패턴을 나타낸다.
도 16 및 도 17은 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴 형성용 단축 진동 장치를 이용하여 몰드와 필름 사이의 각도를 다르게 하여 형성된 패턴을 나타낸다.
도 18은 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴 형성용 단축 진동 장치에 의해 형성된 2차원 패턴을 나타낸다.
도 19는 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴 형성용 단축 진동 장치에 의해 형성된 가변주기 패턴을 나타낸다.
도 20은 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴 형성용 단축 진동 장치를 이용한 2차원 패턴 형성 공정을 나타낸다.
이하, 실시예들을 통하여 본 발명을 상세하게 설명한다. 본 발명의 목적, 특징, 장점은 이하의 실시예들을 통해 쉽게 이해될 것이다. 본 발명은 여기서 설명되는 실시예들에 한정되지 않고, 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다. 따라서, 이하의 실시예들에 의하여 본 발명이 제한되어서는 안 된다.
본 명세서에서 제1, 제2 등의 용어가 다양한 요소들(elements)을 기술하기 위해서 사용되었지만, 상기 요소들이 이 같은 용어들에 의해서 한정되어서는 안 된다. 이러한 용어들은 단지 상기 요소들을 서로 구별시키기 위해서 사용되었을 뿐이다. 또, 어떤 요소가 다른 요소 위에 있다고 언급되는 경우에 그것은 다른 요소 위에 직접 형성될 수 있거나 또는 그들 사이에 제3의 요소가 개재될 수도 있다는 것을 의미한다.
도면들에서 요소의 크기, 또는 요소들 사이의 상대적인 크기는 본 발명에 대한 더욱 명확한 이해를 위해서 다소 과장되게 도시될 수 있다. 또, 도면들에 도시된 요소의 형상이 제조 공정상의 변이 등에 의해서 다소 변경될 수 있을 것이다. 따라서, 본 명세서에서 개시된 실시예들은 특별한 언급이 없는 한 도면에 도시된 형상으로 한정되어서는 안 되며, 어느 정도의 변형을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
본 명세서에서 사용된 용어인 기판은 필름을 포함하며, 패턴 필름(패턴 기판)은 패턴이 형성된 필름(기판)을 의미한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴 형성용 단축 진동 장치의 캐드 이미지(a), 실제 이미지(b), 및 패턴 형성 공정(c)을 나타내고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 몰드 암 헤드의 캐드 이미지(좌)와 실제 이미지(우)를 나타낸다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 패턴 형성용 단축 진동 장치는 몰드 지지부, 단축 진동부, 기판 공급부, 및 포스 센서부를 포함할 수 있다.
상기 몰드 지지부는 마이크로 패턴 또는 나노 패턴이 새겨진 경질의 몰드를 잡고 원하는 온도로 가열하는 상태에서 원하는 각도로 기판과 접촉시킬 수 있다.
상기 단축 진동부는 상기 몰드 지지부에 연결되어 상기 몰드 지지부를 단축으로 진동시킬 수 있다. 상기 단축 진동부는, 예를 들어, 피에조 액추에이터(Piezo actuator)를 포함할 수 있다.
상기 기판 공급부는 기판을 고정시켜 지지할 수 있으며 상기 기판의 기울기와 높낮이를 정밀하게 조절할 수 있다. 또, 상기 기판 공급부는 기판을 일정 방향으로 이송할 수 있다. 상기 단축 진동부에 의한 상기 몰드의 단축 진동에 의해 상기 몰드는 상기 기판과 접촉하여 상기 기판에 패턴을 형성할 수 있다. 상기 몰드의 단축 진동에 대하여 상기 기판의 이송 속도를 일정하게 하면 상기 기판에 패턴이 주기적으로 형성될 수 있고, 상기 기판의 이송 속도를 변경(증가 또는 감소)하면 상기 기판에 패턴이 비주기적으로 형성될 수 있다.
예를 들어, 몰드를 적절한 각도로 가공하고자 하는 플렉시블 폴리머 기판 표면에 위치시킨 후 피에조 액추에이터의 축 방향 진동과 기판의 수평방향 이송속도 제어를 통해 기판 상에 원하는 주기의 마이크로 또는 나노 패턴을 형성할 수 있다. 몰드의 1축 고속진동을 통해 수평 이송되는 기판 상에 주기적인 압입을 수행함으로써 다양한 소재에 연속적인 고속가변주기 나노패터닝을 수행할 수 있다. 구체적으로, 피에조 액추에이터의 PWM(Pulse Width Modulation) 전자제어를 통해 펄스를 입력하게 되면 피에조 액추에이터 속 피에조 스택(piezo stack) 또는 압전 스택(piezoelectric stack)이 고속 1축 직선 반복의 진동을 발생하고 진동이 몰드에 전달된다. 이에 의해, 몰드의 모서리가 기판에 매우 빠르고 연속적으로 압입된다. 동시에, 기판을 수평방향으로 적절한 속도로 이송시킴으로써 몰드 모서리를 원하는 주기로 기판에 압입시킬 수 있다. 또, 몰드 지지부 중 몰드와 결합하는 부분에 히터 및 온도 센서를 장착함으로써 폴리머의 유리전이온도까지 기판을 가열하여 기판의 폴리머 성형을 용이하게 할 수 있다. 이와 같은 공정을 통해서 나노 또는 마이크로 스케일의 패터닝을 용이하게 수행할 수 있다.
상기 포스 센서부는 몰드와 기판이 닿았을 때의 상기 몰드에 가해지는 힘(상기 몰드와 상기 기판의 접촉에 가해지는 힘)을 측정할 수 있다.
상기 몰드 지지부는 몰드 암 헤드(몰드 결합부) 및 몰드 암을 포함할 수 있다. 상기 몰드 암 헤드는 몰드와 결합하여 몰드를 지지할 수 있고, 상기 몰드 암은 상기 몰드 암 헤드와 결합하여 상기 몰드 암 헤드를 지지할 수 있다. 상기 몰드 암은 상기 단축 진동부에 연결될 수 있고, 상기 단축 진동부에 의한 단축 진동을 상기 몰드 암 헤드에 전달할 수 있다. 본 실시예와 달리, 상기 몰드 지지부는 몰드 암을 포함하지 않고, 몰드와 결합하여 상기 몰드를 지지하는 몰드 결합부만을 포함할 수 있으며, 상기 몰드 결합부는 직접 단축 진동부에 연결될 수 있다. 즉, 상기 몰드 지지부는 상기 단축 진동부에 의한 단축 진동을 상기 몰드에 전달할 수 있으면 되고, 상기 몰드 지지부는 구성, 구조, 및 형상 등에 제한을 받지 않는다.
상기 몰드 암 헤드(몰드 결합부)는 상부 부재와 하부 부재를 포함할 수 있고, 상기 몰드는 상기 상부 부재와 상기 하부 부재 사이에 삽입되어 지지될 수 있다. 상기 몰드 암 헤드는 히터, 온도 센서, 및 포스 센서 컨택 로드를 포함할 수 있다. 상기 히터에 의해 상기 몰드가 가열될 수 있고, 상기 온도 센서에 의해 상기 몰드의 온도가 측정될 수 있고, 상기 몰드에 대한 가열이 제어될 수 있다. 예를 들어, 상기 히터는 줄-히팅 방식일 수 있다. 상기 히터와 상기 온도 센서는 피드백 컨트롤러에 연결되어 있어 전압 인가 컨트롤을 실시간으로 조절할 수 있고, 원하는 온도로 가열할 수 있으며 그 값을 유지할 수 있다. 상기 히터와 상기 온도센서는 빠른 열전달을 위해 상기 몰드를 잡는 곳과 최대한 가깝게 배치되는 것이 바람직하다. 또, 상기 몰드는 가열된 후 외부와의 열평형이 쉽게 흔들리지 않도록 충분한 열중량(thermal mass)을 갖도록 형성되는 것이 바람직하다. 상기 포스 센서 컨택 로드는 상기 포스 센서부의 포스 센서와 컨택하여 상기 몰드에 가해지는 힘이 측정될 수 있다.
상기 몰드 암 헤드의 하부 부재 위에는 내열성 실리콘 러버(silicone rubber)가 필름 형태로 부착되어 있어 몰드 결합 시 몰드가 미끄러지거나 흔들려 빠지지 않는다.
상기 기판 공급부는 스테이지, 기판 로딩 플레이트, 및 플레이트 구동부를 포함할 수 있다. 상기 기판 공급부는 기판을 로딩하고, 몰드와 기판 간 접촉을 정밀하게 조절하고, 접촉이 된 상태에서 기판의 이송 속도 및 이송 거리를 조절할 수 있다.
상기 스테이지는 X-Y 2축, 도브테일, 및 랩잭을 결합하여 형성될 수 있다. 상기 X-Y 2축 스테이지와 상기 랩잭을 이용해 3축 변위로 이동이 가능하며 도브테일 2개를 교차시켜 조립함으로써 X축 회전 기울임(rolling), Y축 회전 기울임(pitching)이 가능하여 5자유도를 갖는 스테이지를 형성할 수 있다. 상기 스테이지 위에 기판 로딩 플레이트가 배치된다.
상기 기판 로딩 플레이트는 기판을 로딩하여 지지할 수 있다. 상기 기판 로딩 플레이트의 상부면에 실리콘 러버 필름이 배치될 수 있다. 상기 실리콘 러버 필름은 상기 기판 로딩 플레이트와 상기 기판과의 결합력을 향상시킬 수 있고, 도브테일을 통한 몰드와 기판과의 수평 맞춤의 한계를 실리콘 러버의 탄성으로 보완할 수 있다.
상기 플레이트 구동부는 서보 모터와 리니어 액추에이터(linear actuaotor)를 포함할 수 있고, 상기 기판 로딩 플레이트를 일정 속도로 이송할 수 있다. 예를 들어, 상기 서보 모터는 정밀한 각도 제어와 높은 토크를 위해 262,144pulse/rev의 분해능, 정격 토크 0.16N·m, 최대토크 0.48N·m를 가질 수 있다.
상기 포스 센서부는 포스 센서(Force sensor)와 센싱 바(Sensing bar)를 포함할 수 있다. 상기 포스 센서는 상기 센싱 바의 하부에 배치되고, 상기 센싱 바는 상기 포스를 지지하여 고정시킬 수 있다. 상기 포스 센서는 상기 센싱 바에 의해 몰드 암 헤드의 포스 센서 컨택 로드와 컨택할 수 있고, 상기 몰드에 가해지는 힘을 측정할 수 있다.
도 3 내지 도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴 형성용 단축 진동 장치에 의해 형성된 패턴 필름을 나타낸다. 도 3 및 도 4는 PC(Polycarbonate) 필름을 나타내고, 도 5 및 도 6은 PET(Polyethylene terephthalate) 필름을 나타내고, 도 7 및 도 8은 ETFE(Ethylene tetra fluoro ethylene) 필름을 나타내고, 도 9 및 도 10은 PFA(Paraformaldehyde) 필름을 나타내며, 도 11 및 도 12는 PI(Polyimide) 필름을 나타낸다.
도 3 내지 도 12를 참조하면, 패턴 형성 공정에서 사용된 몰드 폭에 맞춰 각 필름에 균일한 패턴이 형성되었다. 필름과 몰드의 초기 압력은 1N, 진동수는 100Hz, 기판의 이송속도는 0.1mm/s로 고정하여 패턴 형성 공정을 진행하였고, λ=v/f 식에 의해 1μm의 주기의 일정한 간격의 그레이팅 패턴이 형성되었다. 또, 전체적으로 무지개 빛을 띄고 있어 마이크로/나노 단위의 패턴이 필름 위에 형성되어 있음을 알 수 있다. 이는 피에조 액추에이터를 이용한 진동 압입이 정확하다는 것을 나타낸다. 또, 이러한 기계적 소성변형을 통한 패터닝 방식은 다양한 필름에 대하여 적용될 수 있다. 소재가 다른 필름은 탄성계수와 같은 고유성질이 다르기 때문에 필름에 형성되는 패턴 모양은 상이할 수 있다. 또, 몰드의 형상이 사각형인 반면 형성된 나노 패턴의 형상은 굴곡진 형태를 갖는다. 이는 가공 직후의 소성변형과 일정한 탄성 회복이 조화되어 나노 패턴이 완만하게 형성됨을 나타낸다. 따라서, 압전 스택(piezoelectric stack)이 가하는 힘과 압력, 그리고 필름의 탄성계수 등을 이용하여 다양한 모양을 갖는 마이크로 또는 나노 패턴을 대면적 필름에 용이하고 빠르게 형성할 수 있다.
도 13 내지 도 15는 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴 형성용 단축 진동 장치에 의해 다양한 주기로 형성된 패턴을 나타낸다. 도 13은 0.1mm/s의 일정한 속도로 이송되고 있는 PC 필름에 200Hz, 100Hz, 300Hz 순서대로 압전 스택(piezoelectric stack)의 진동수를 조절하여 마이크로/나노 패턴을 형성한 필름의 이미지이다. 도 14 및 도 15는 이송 속도를 0.1, 0.2, 0.3mm/s, 진동수를 100, 200, 300Hz로 하여 마이크로/나노 패턴을 형성한 필름의 이미지로서, 도 14는 상온(25℃)에서 패턴 형성 공정이 수행된 PC 필름의 이미지이고, 도 15는 PC의 유리전이온도(150℃)에서 패턴 형성 공정이 수행된 PC 필름의 이미지이다.
도 13 내지 도 15를 참조하면, 몰드의 진동수(f)와 필름의 이송 속도(v)의 조정만으로 λ=v/f로 얻어지는 나노그레이팅 패턴의 주기(λ)를 다양하게 조절할 수 있다. 또한, 전체적으로 일정한 주기가 정확하게 형성되어 높은 신뢰도를 보여준다. 단순히 필름의 이송 속도와 압전 스택(piezoelectric stack)의 진동수 조절만으로 다양한 주기의 패턴을 용이하게 형성할 수 있다. 필름의 최소 선형 이송속도 0.0333mm/s와 압전 스택(piezoelectric stack)의 최대 진동수 500Hz로 66.6nm 주기의 패턴을 형성할 수 있다.
또, 150℃에서 패턴 형성 공정을 수행하는 경우 상온보다 그레이팅 패턴의 주변이 더 넓어진다. PC 필름의 유리전이온도에 가까운 성형 공정 조건일수록 필름 고분자의 활동에너지가 증가하여 같은 힘을 가했을 때에도 더욱 큰 변형을 일으킬 수 있다. 또, 단 한 번의 공정만으로 원하는 여러 개의 주기를 갖는 패턴을 같은 필름 위에 형성할 수 있다.
도 16 및 도 17은 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴 형성용 단축 진동 장치를 이용하여 몰드와 필름 사이의 각도를 다르게 하여 형성된 패턴을 나타낸다. 도 16은 몰드와 PC 필름 사이의 각도를 30°로 유지하고 1㎛의 주기로 형성된 패턴을 나타내고, 도 17은 몰드와 PC 필름 사이의 각도를 30°로 유지하고 1㎛의 주기로 형성된 패턴을 나타낸다.
도 16 및 도 17을 참조하면, 상기 패턴 형성용 단축 진동 장치를 이용한 패턴 형성 공정(POP 공정)은 몰드와 필름 사이의 각도 조정을 통해서도 다양한 형상의 패턴을 형성할 수 있다. 클리빙된 웨이퍼의 특성상 단면이 90°를 이루고 있어서 45°이하의 패턴 모양으로 역상의 구조를 재현할 수 있다. 예를 들어, 30°를 유지한 채 패터닝한 결과와 45°를 유재한 채 패터닝한 결과는 서로 Y축 대칭을 이루며 모양은 같다. 이와 같은 특성을 통해 프레넬 렌즈 모양의 패턴 또한 쉽게 형성할 수 있다. 또, 45°의 각도를 유지한 채 POP 공정을 통해 패턴 간 간격을 줄이면 마이크로 프리즘 어레이(micro prism array)를 형성할 수 있다. 즉, 상기 POP 공정을 수행하여 다양한 기술 분야에서 활용할 수 있는 패턴 또는 패턴 필름을 형성할 수 있다.
도 18은 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴 형성용 단축 진동 장치에 의해 형성된 2차원 패턴을 나타낸다.
도 18을 참조하면, PC 필름 위에 1μm 주기의 POP 공정을 수행한 후 상기 PC 필름을 90°만큼 회전시켜 한 번 더 POP 공정을 수행하면 2D 마이크로/나노 패턴을 형성할 수 있다. 도면에 나타난 바와 같이 필름의 이송 속도와 압전 스택(piezoelectric stack) 진동수를 조절하여 가로, 세로가 1μm 크기인 패턴을 형성하였다. 이와 같이, POP 공정을 이용하여 다차원 패턴을 용이하게 형성할 수 있다.
도 19는 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴 형성용 단축 진동 장치에 의해 형성된 가변주기 패턴을 나타낸다.
도 19를 참조하면, 가변주기 패턴은 일정한 진동수를 유지하면서 필름의 이송 속도를 변경하는 것에 의해 형성될 수 있다.
도 20은 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴 형성용 단축 진동 장치를 이용한 2차원 패턴 형성 공정을 나타낸다.
도 20을 참조하면, POP 공정에서는 사용하는 몰드에 따라 다양한 형태의 패턴을 쉽게 형성할 수 있다. 예를 들어, 1차원 그레이팅 패턴이 새겨진 경질 몰드를 수직된 방향으로 클리빙하여 POP 공정을 수행하면 기판의 이송 방향 쪽으로 단 한 번의 공정만으로도 2차원 패턴을 형성할 수 있다.
이제까지 본 발명에 대한 구체적인 실시예들을 살펴보았다. 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 변형된 형태로 구현될 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 개시된 실시예들은 한정적인 관점이 아니라 설명적인 관점에서 고려되어야 한다. 본 발명의 범위는 전술한 설명이 아니라 특허청구범위에 나타나 있으며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 차이점은 본 발명에 포함된 것으로 해석되어야 할 것이다.

Claims (8)

  1. 몰드를 기판에 접촉시켜 상기 기판에 패턴을 형성하는 장치로서,
    상기 몰드와 결합하여 상기 몰드를 지지하는 몰드 지지부;
    상기 몰드 지지부에 연결되어 상기 몰드 지지부를 단축 진동시키는 단축 진동부; 및
    상기 기판을 지지하고 이송하는 기판 공급부를 포함하는 패턴 형성용 단축 진동 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 단축 진동부는 피에조 액추에이터를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성용 단축 진동 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 몰드 지지부는 상기 몰드와 결합하는 몰드 결합부를 포함하고,
    상기 몰드 결합부는 상부 부재와 하부 부재를 포함하며,
    상기 몰드는 상기 상부 부재와 상기 하부 부재 사이에 삽입되어 지지되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성용 단축 진동 장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 몰드 지지부는,
    상기 몰드 결합부에 배치되어 상기 몰드를 가열하는 히터 및
    상기 몰드 결합부에 배치되어 상기 몰드의 온도를 측정하는 온도 센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성용 단축 진동 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 몰드 지지부에 인접하게 배치되어 상기 몰드에 가해지는 힘을 측정하는 포스 센서부를 더 포함하는 패턴 형성용 단축 진동 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 몰드 지지부는,
    상기 몰드 결합부에 배치되고, 상기 포스 센서부와 컨택하는 포스 센서 컨택 로드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성용 단축 진동 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판은 필름인 것을 특징으로 하는 패턴 형성용 단축 진동 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판은 폴리머로 형성된 것을 특징으로 하는 패턴 형성용 단축 진동 장치.
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