KR20200117271A - 능동 적외선 스텔스 방법 및 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 능동 적외선 스텔스 방법 및 장치를 개시한다. 본 발명에 따르면, 은폐 대상의 표면에 배치된 복수의 열전 소자를 제어하는 능동 적외선 스텔스 장치로서, 프로세서; 및 상기 프로세서에 연결된 메모리를 포함하되, 상기 메모리는, 전력량 종류의 개수를 설정하고, 상기 복수의 열전 소자로 공급되는 총 전력량이 전력 시스템의 허용 전력량을 초과하지 않도록 상기 복수의 열전 소자 각각에 대해 상기 전력량 종류 중 하나에 상응하는 가중치를 부여하고, 상기 부여된 가중치에 따라 상기 복수의 열전 소자 각각에 상기 전력량 종류 중 하나에 상응하는 전력량의 공급이 이루어지도록, 상기 프로세서에 의해 실행 가능한 프로그램 명령어들을 저장하는 능동 적외선 스텔스 장치가 제공된다.

Description

능동 적외선 스텔스 방법 및 장치{Active infrared stealth method and apparatus}
본 발명은 능동 적외선 스텔스 방법 및 장치에 관한 것이다.
지구상에 존재하는 모든 물체는 절대 온도 0K 이상일 때 복사 에너지를 방출하게 되는데, 이때 방출되는 복사 에너지는 적외선 영역(중적외선 영역 3~5μm, 원적외선 영역 8~12μm)에서 효과적으로 탐지할 수 있다.
이와 같은 현상을 이용한 적외선 탐지기는 야간이나 시야가 좋지 못한 상황에서 물체의 존재나 움직임을 파악할 수 있도록 하며, 특히 군사용으로 많이 사용되고 있다.
한편, 적외선 탐지기로부터 물체를 은폐하고자 하는 스텔스(stealth) 기능에 대한 연구가 꾸준히 진행되고 있다.
최근 물체에 적외선 스텔스 기능이 나타나도록 하기 위한 방법이 다양하게 소개되고 있다.
특히 군사적으로 많이 적용되고 있는 적외선 스텔스 방법에는 수동적인 방법과 능동적인 방법이 있다.
수동적인 방법은 물체로부터 방출되는 적외선 신호와 배경으로부터 방출되는 신호를 동조화 시키기 위하여 물체 표면의 광학적 특성을 변경하거나, 차폐막 등을 이용하는 것을 말한다.
능동 적외선 스텔스 방법은 배경의 적외선 신호를 감지 및 분석하고 물체 표면에 요구되는 스텔스 조건을 계산하여 물체로부터의 적외선 신호량을 배경과 능동적으로 동조화 시키는 방식이다.
일반적으로 능동 적외선 스텔스 구현을 위하여 조절의 용이성, 시스템의 단순화 등을 고려하여 펠티어 소자를 이용하지만, 하나의 펠티어 소자가 커버할 수 있는 온도 조절 면적이 작기 때문에 큰 사이즈의 물체를 배경과 동조화 시키기 위해서는 다수의 펠티어 소자를 설치해야 한다.
능동 적외선 스텔스를 위해 다수의 펠티어 소자를 사용하는 경우 이를 구동하는 데에는 매우 큰 전력량이 필요로 하는 문제점이 있다.
하지만 대부분의 군사용 장비들은 제한된 전력량으로 전체 시스템을 구동해야 되기 때문에 적외선 스텔스를 위해 공급할 수 있는 전력량에는 제한이 따를 수 밖에 없다.
한국등록특허 제10-1723750호
상기한 종래기술의 문제점을 해결하기 위해, 본 발명은 다수의 펠티어 소자를 이용하여 넓은 면적에서 온도 제어가 필요한 경우 제한된 전력으로도 효율적으로 적외선 스텔스를 구현할 수 있는 능동 적외선 스텔스 방법 및 장치를 제안하고자 한다.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 은폐 대상의 표면에 배치된 복수의 열전 소자를 제어하는 능동 적외선 스텔스 장치로서, 프로세서; 및 상기 프로세서에 연결된 메모리를 포함하되, 상기 메모리는, 전력량 종류의 개수를 설정하고, 상기 복수의 열전 소자로 공급되는 총 전력량이 전력 시스템의 허용 전력량을 초과하지 않도록 상기 복수의 열전 소자 각각에 대해 상기 전력량 종류 중 하나에 상응하는 가중치를 부여하고, 상기 부여된 가중치에 따라 상기 복수의 열전 소자 각각에 상기 전력량 종류 중 하나에 상응하는 전력량의 공급이 이루어지도록, 상기 프로세서에 의해 실행 가능한 프로그램 명령어들을 저장하는 능동 적외선 스텔스 장치가 제공된다.
상기 프로그램 명령어들은, 상기 총 전력량이 상기 허용 전력량을 초과하는 경우, 상기 전력량 종류의 개수를 순차적으로 증가시킬 수 있다.
상기 전력량 종류의 개수가 M인 경우, 복수의 가중치는 서로 다른 M개의 값을 가지며, 상기 프로그램 명령어들은, 상기 복수의 열전 소자로 공급되는 총 전력량이 상기 허용 전력량을 초과하지 않는 범위 내에서 상기 복수의 가중치 중 가장 큰 가중치가 부여된 열전 소자의 개수가 최대가 되도록 상기 복수의 열전 소자 각각에 대해 가중치를 부여할 수 있다.
상기 복수의 가중치는 순차적으로 1/M만큼의 상대적인 차이를 가질 수 있다.
상기 프로그램 명령어들은, 상기 전력량 종류의 개수를 1에서 시작하여 상기 총 전력량이 상기 허용 전력량을 초과하는 경우 1씩 순차적으로 증가시켜 상기 가중치를 부여할 수 있다.
상기 프로그램 명령어들은, 상기 복수의 열전 소자의 배치 위치 및 각 열전 소자의 표면 온도 중 적어도 하나를 고려하여 상기 가중치를 부여할 수 있다.
상기 프로그램 명령어들은, 상기 전력량 종류의 개수가 복수인 경우 서로 인접하지 않은 열전 소자들에 동일한 전력량이 공급되도록 제어할 수 있다.
상기 프로그램 명령어들은, 상기 표면 온도가 미리 설정된 임계치 이상인 위치에 배치된 열전 소자에 가장 큰 가중치를 부여할 수 있다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 은폐 대상의 표면에 배치된 복수의 열전 소자를 제어하는 능동 적외선 스텔스 방법로서, 전력량 종류의 개수를 설정하는 단계; 상기 복수의 열전 소자로 공급되는 총 전력량이 전력 시스템의 허용 전력량을 초과하지 않도록 상기 복수의 열전 소자 각각에 대해 상기 전력량 종류 중 하나에 상응하는 가중치를 부여하는 단계; 및 상기 부여된 가중치에 따라 상기 복수의 열전 소자 각각에 상기 전력량 종류 중 하나에 상응하는 전력량의 공급이 이루어지도록 제어하는 단계를 포함하는 능동 적외선 스텔스 방법이 제공된다.
본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 상기한 방법을 수행하는 기록매체에 저장된 컴퓨터 프로그램이 제공된다.
본 발명에 따르면, 열전 소자로의 전력량을 차등적으로 제어하여 제한된 전력을 갖는 시스템에서 적외선 스텔스를 효율적으로 구현할 수 있는 장점이 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 적외선 스텔스 기능을 제공하는 장치의 개략적인 설명을 위한 도면이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 능동 적외선 스텔스 장치의 구성을 도시한 도면이다.
도 3은 본 실시예에 따른 은폐 대상의 표면에 배치된 복수의 열전 소자에 서로 다른 전력을 공급하는 상태를 도시한 도면이다.
도 4는 적외선 스텔스를 위한 전력 요구량을 도시한 것이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 전력 공급 제어 과정의 순서도이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세하게 설명하고자 한다.
그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 적외선 스텔스 기능을 제공하는 장치의 개략적인 설명을 위한 도면이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 능동 적외선 스텔스 장치(100)는 외부의 적외선 탐지기(예를 들어, 미사일에 탑재된 적외선 탐지기, 휴대가 가능한 적외선 탐지기 등)로부터 은폐가 필요한 대상(예를 들어 탱크나 차량과 같은 이동 수단, 사람, 장비, 이하 ‘은폐 대상’이라 칭함)에 적용될 수 있다.
능동 적외선 스텔스 장치(100)는 외부의 적외선 탐지기에서, 은폐 대상(10)과 은폐 대상(10)이 위치하는 배경(20)의 적외선 신호량의 차이가 최소가 되도록 은폐 대상(10)의 표면 온도를 배경(20)의 적외선 신호량에 상응하게 조절함으로써, 은폐 대상(10)에 대한 적외선 스텔스를 구현한다.
즉, 은폐 대상(10)의 표면 온도가 배경(20)의 적외선 신호량에 상응하게 조절됨으로써, 외부의 적외선 탐지기에서 은폐 대상(10)을 촬영 시 은폐 대상(10)과 배경(20)이 용이하게 구분되지 않도록 할 수 있다.
또한, 능동 적외선 스텔스 장치(100)는 주기적으로 은폐 대상(10)의 이동이나 외부의 적외선 탐지기의 위치 변화에 따른 배경(20)의 변화를 감지하여, 은폐 대상(10)의 표면 온도를 변화된 배경(20)의 적외선 신호량에 상응하게 조절할 수 있다.
본 발명의 바람직한 일 실시예에 따르면, 능동 적외선 스텔스 장치(100)는 은폐 대상(10)의 표면에 많은 수의 열전 소자가 배치된 경우 복수의 열전 소자에 공급되는 총 전력량이 전력 시스템의 허용 전력량을 넘지 않도록 개별 열전 소자에 공급되는 전력량을 제어한다.
본 실시예에 따른 열전 소자는 펠티어(Peltier) 소자가 이용될 수 있다.
열전 효과란 열 에너지와 전기 에너지의 상호 변환 현상으로 열 에너지가 전기 에너지로 전환되거나 반대로, 전기 에너지가 열 에너지로 전환되는 효과이다. 펠티어 소자에 전류가 흐르면, 한쪽 면에서 열을 흡수하여 다른 쪽 면으로 열을 방출시키는 일종의 열 펌프와 같은 작용을 하여 표면 온도를 조절할 수 있다.
도 2는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 능동 적외선 스텔스 장치의 구성을 도시한 도면이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 온도 제어 장치(적외선 스텔스 장치)는 적외선 탐지부(200), 프로세서(202), 메모리(204) 및 복수의 열전 소자(206-n)를 포함할 수 있다.
적외선 스텔스가 필요한 경우, 적외선 탐지부(200)는 배경(20)의 적외선 신호량을 계산한다.
또한, 적외선 탐지부(200)는 은폐 대상(10) 자체에서 방사되는 적외선 신호와 은폐 대상(10) 표면에서 반사되는 적외선 신호 및 대기에서 방출되는 적외선 신호를 검출하고, 이에 근거하여 특정 파장 범위에서 은폐 대상(10)의 적외선 신호량를 계산할 수 있다.
특정 파장 범위에서 은폐 대상(10)의 적외선 신호량은 아래의 [수학식 1]을 이용하여 계산할 수 있다.
Figure pat00001
Figure pat00002
여기서, 은폐 대상(10) 자체에서 방사되는 적외선 신호량은 은폐 대상(10)의 표면 온도와 표면 방사율에 의해 결정될 수 있으며 아래의 [수학식 2]를 이용하여 계산할 수 있다.
Figure pat00003
이때, τ는 대기 투과도, ε은 표면의 방사율, R path 는 물체와 센서와의 거리를 의미하며,
Figure pat00004
이다.
또한, 은폐 대상(10) 표면에서 반사되는 적외선 신호량은 아래의 [수학식 3]을 이용하여 계산할 수 있다.
Figure pat00005
ρ λ 는 해당 파장(λ)에서의 표면 반사율
한편, 프로세서(202)는 적외선 탐지부(200)에서 각각 계산된 은폐 대상(10)의 적외선 신호량과 배경(20)의 적외선 신호량의 차이 값이 최소가 되도록 하는 은폐 대상(10)의 표면 온도를 계산할 수 있으며, 이는 아래의 [수학식 4]를 이용할 수 있다.
Figure pat00006
Figure pat00007
여기서 [수학식 4]에도 나타나 있지만, 프로세서(202)는 다중 파장 범위 중 특정 파장 범위에 해당하는 가중치를 반영하여 적외선 신호량의 차이 값이 최소가 되도록 하는 은폐 대상(10)의 표면 온도를 계산할 수 있다.
즉, 프로세서(202)는 다중 파장 영역에 대해 각 픽셀 위치에 해당하는 은폐 대상(10)과 배경(20)과의 적외선 신호량의 차이 값이 최소가 되도록 하는 은폐 대상의 표면 온도를 계산할 수 있다.
이후, [수학식 1] 내지 [수학식 3]을 [수학식 4]에 적용하면, 아래의 [수학식 5]와 같이 나타낼 수 있다.
Figure pat00008
또한, 프로세서(202)는 상기 계산된 은폐 대상(10)의 표면 온도에 기반하여 은폐 대상(10)의 표면 온도를 배경(20)의 적외선 신호량에 상응하게 조절할 수 있다.
즉, 은폐 대상(10)의 표면에 배치된 복수의 열전 소자(206)의 온도를 조절할 수 있다.
본 실시예에 따른 프로세서(200)는 컴퓨터 프로그램을 실행할 수 있는 CPU(central processing unit)나 그밖에 가상 머신 등을 포함할 수 있다.
메모리(202)는 고정식 하드 드라이브나 착탈식 저장 장치와 같은 불휘발성 저장 장치를 포함할 수 있다. 착탈식 저장 장치는 컴팩트 플래시 유닛, USB 메모리 스틱 등을 포함할 수 있다. 메모리(202)는 각종 랜덤 액세스 메모리와 같은 휘발성 메모리도 포함할 수 있다.
이와 같은 메모리(202)에는 프로세서(200)에 의해 실행 가능한 프로그램 명령어들이 저장된다.
본 실시예에 따른 프로세서(202)는 메모리(202)에 저장된 프로그램 명령어들을 이용하여 시스템의 허용 전력량 범위 내에서 각 열전 소자에 공급되는 전력량을 차등적으로 제어한다.
보다 상세하게, 프로그램 명령어들은 전력량 종류의 개수를 설정하고, 복수의 열전 소자(206-n)로 공급되는 총 전력량이 전력 시스템의 허용 전력량을 초과하지 않도록 상기 복수의 열전 소자 각각에 대해 상기 전력량 종류 중 하나에 상응하는 가중치를 부여하고, 부여된 가중치에 따라 복수의 열전 소자 각각에 상기 전력량 종류 중 하나에 상응하는 전력량의 공급이 이루어지도록 제어한다.
전력량의 차등 제어에 대해서는 이하에서 상술될 것이다.
도 3은 본 실시예에 따른 은폐 대상(10)의 표면에 배치된 복수의 열전 소자에 서로 다른 전력을 공급하는 상태를 도시한 도면이다.
도 3을 참조하면, 프로세서(202)는 복수의 열전 소자 중 적어도 일부의 제1 열전 소자(300-1)들에는 제1 전력량을 공급하고, 나머지에 열전 소자(300-2,300-3)들에 대해서는 제1 전력량보다 낮은 전력량을 공급하도록 제어한다. 이때, 프로세서(202)는 제2 열전 소자(300-2) 및 제3 열전 소자(300-3)에도 서로 다른 전력량을 공급하도록 제어한다.
본 실시예에 따르면, 제1 전력량, 제2 전력량 및 제3 전력량은 순차적으로 크기가 작으며, 각 전력량의 크기는 소정 가중치에 따라 결정된다.
본 실시예에 따르면, 프로세서(200)는 복수의 열전 소자가 N개이고, 전력 시스템에서의 허용 전력량(
Figure pat00009
)이 결정된 경우, 복수의 열전 소자 전체에 공급하는 총 전력량(
Figure pat00010
)이
Figure pat00011
를 만족하는 전력량의 종류의 개수(M)을 탐색한다.
이때, 전력 시스템에서 허용 전력량은 피크 전력량(
Figure pat00012
)보다 작은 조건을 유지해야 한다.
은폐 대상(10)의 표면 온도를 적외선 스텔스가 가능한 온도로 조절하는데 필요한 1개 열전 소자의 전력량(kWh)은 다음과 같다.
Figure pat00013
여기서,
Figure pat00014
는 밀도[kg/m3],
Figure pat00015
는 비열[kJ/kg·℃],
Figure pat00016
는 1개 소자가 감당하는 체적 [m3],
Figure pat00017
는 물체(은폐 대상)의 현재 표면 온도,
Figure pat00018
는 스텔스 효과에 요구되는 표면 온도이다.
본 발명은 상기한 1개 열전 소자와 차등적인 전력량의 종류의 개수, 복수의 열전 소자에 공급되는 전체 전력량 및 허용 전력량을 이용하여 다음과 같은 기법을 제안한다.
Figure pat00019
여기서, N은 열전 소자의 총 개수이다.
Figure pat00020
는 전력량 종류의 개수에 따른 가중치로서 다음과 같이 표현된다.
Figure pat00021
단, M=1인 경우
Figure pat00022
이고,
Figure pat00023
일 경우 i=1에서
Figure pat00024
이다.
수학식 8과 같이, 개별 열전 소자에 부여되는 복수의 가중치는 순차적으로 1/M만큼의 상대적인 차이를 갖는다.
본 실시예에 따른 프로세서(202)는 M=1부터 시작하여 복수의 열전 소자 전체에 대해
Figure pat00025
의 가중치를 부여한 열전 소자에 공급된 총 전력량이 허용 전력량보다 작은지 여부를 판단한다.
총 전력량이 허용 전력량보다 큰 경우, M을 2로 설정하고, N개의 열전 소자 중 1개의 열전 소자부터 순차적으로 1보다 작은 가중치(예를 들어, 1/2)를 부여하여 총 전력량과 허용 전력량을 비교한다.
프로세서(202)는 모든 열전 소자에 1/2의 가중치를 부여하더라도 총 전력량이 허용 전력량을 초과하는 경우, M을 3으로 설정하여 상기한 과정을 반복 수행한다.
M이 3인 경우, 전력량의 상대적인 비율은 1, 2/3 및 1/3일 수 있다.
본 실시예에 따르면, 복수의 열전 소자의 총 전력량이 허용 전력량보다 작은 조건을 만족하면서도 가중치가 가장 높은 열전 소자(상대적으로 가장 큰 전력량을 공급 받는 열전 소자)의 수가 최대가 되도록 개별 열전 소자에 대한 가중치를 결정한다.
즉, 본 실시예에 따른 능동 적외선 스텔스 장치는 허용 전력량 범위 내에서 되도록 많은 수의 열전 소자에 높은 전력량이 공급되도록 제어하여 적외선 스텔스 성능이 열화되지 않도록 한다.
본 발명의 바람직한 일 실시예에 따르면, 복수의 전력량 종류의 개수가 존재하는 경우 복수의 열전 소자의 배치 위치 및 각 열전 소자가 배치된 은폐 대상의 표면 온도 중 적어도 하나를 고려하여 가중치가 부여될 수 있다.
예를 들어, 능동 적외선 스텔스 장치는 가로 또는 세로 방향으로 복수의 행 또는 열로 열전 소자가 배치된 경우, n열에 제1 전력량, n+1열 및 n-1열에 제2 전력량, n+2열 및 n-2열에 제3 전력량이 공급되도록 제어한다.
또한, 각 열전 소자의 표면 온도에 따라 서로 다른 전력량이 공급될 수 있다.
예를 들어, 능동 적외선 스텔스 장치는 엔진 등이 인접하여 표면 온도가 높은 영역(미리 설정된 온도 이상의 영역)에 배치된 열전 소자에는 가장 큰 전력량이 공급되도록 하고, 여기서 멀어질수록 작은 전력량이 공급되도록 제어할 수 있다.
도 4는 적외선 스텔스를 위한 전력 요구량을 도시한 것이다.
도 4를 참조하면, 모든 열전 소자에 적외선 스텔스를 위해 요구되는 전력량을 일괄적으로 적용하는 경우에는 모든 열전 소자에 공급되는 총 전력량이 전력 시스템의 허용 전력량을 초과할 수 있다.
그러나 본 실시예에 따라 개별 열전 소자에 다른 전력량을 할당하는 경우에는 허용 전력량을 초과하지 않으면서도 적외선 스텔스 조건을 유지할 수 있다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 전력 공급 제어 과정의 순서도이다.
도 5의 과정은 본 실시예에 따른 메모리(202)에 저장된 프로그램 명령어들에 의해 수행된다.
도 5를 참조하면, 적외선 스텔스 장치는 은폐 대상(10)의 표면에 배치된 열전 소자의 개수(N), 전체 열전 소자에 요구되는 최대 전력량(
Figure pat00026
), 전력 시스템에서 허용되는 허용 전력량(
Figure pat00027
)를 설정한다(단계 500).
이후, 현재 설정된 전력량 종류의 개수(M)에서 전체 열전 소자 N개의 총 전력량(
Figure pat00028
)을 계산한다(단계 502).
적외선 스텔스 장치는 총 전력량이 허용 전력량보다 작은지 여부를 판단하고(단계 504), 총 전력량이 허용 전력량보다 큰 경우에는 M을 증가시킨다(단계 506).
이후 갱신된 전력량 종류의 개수에서 단계 502 내지 504 단계가 반복 수행된다.
단계 504에서 총 전력량이 허용 전력량보다 작은 경우, 적외선 스텔스 장치는 개별 열전 소자에 차등적인 전력량이 공급되도록 제어한다(단계 508).
상기한 본 발명의 실시예는 예시의 목적을 위해 개시된 것이고, 본 발명에 대한 통상의 지식을 가지는 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 하기의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.

Claims (10)

  1. 은폐 대상의 표면에 배치된 복수의 열전 소자를 제어하는 능동 적외선 스텔스 장치로서,
    프로세서; 및
    상기 프로세서에 연결된 메모리를 포함하되,
    상기 메모리는,
    전력량 종류의 개수를 설정하고,
    상기 복수의 열전 소자로 공급되는 총 전력량이 전력 시스템의 허용 전력량을 초과하지 않도록 상기 복수의 열전 소자 각각에 대해 상기 전력량 종류 중 하나에 상응하는 가중치를 부여하고,
    상기 부여된 가중치에 따라 상기 복수의 열전 소자 각각에 상기 전력량 종류 중 하나에 상응하는 전력량의 공급이 이루어지도록,
    상기 프로세서에 의해 실행 가능한 프로그램 명령어들을 저장하는 능동 적외선 스텔스 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 프로그램 명령어들은,
    상기 총 전력량이 상기 허용 전력량을 초과하는 경우, 상기 전력량 종류의 개수를 순차적으로 증가시키는 능동 적외선 스텔스 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 전력량 종류의 개수가 M인 경우, 복수의 가중치는 서로 다른 M개의 값을 가지며,
    상기 프로그램 명령어들은,
    상기 복수의 열전 소자로 공급되는 총 전력량이 상기 허용 전력량을 초과하지 않는 범위 내에서 상기 복수의 가중치 중 가장 큰 가중치가 부여된 열전 소자의 개수가 최대가 되도록 상기 복수의 열전 소자 각각에 대해 가중치를 부여하는 능동 적외선 스텔스 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 복수의 가중치는 순차적으로 1/M만큼의 상대적인 차이를 갖는 능동 적외선 스텔스 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 프로그램 명령어들은,
    상기 전력량 종류의 개수를 1에서 시작하여 상기 총 전력량이 상기 허용 전력량을 초과하는 경우 1씩 순차적으로 증가시켜 상기 가중치를 부여하는 능동 적외선 스텔스 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 프로그램 명령어들은,
    상기 복수의 열전 소자의 배치 위치 및 각 열전 소자의 표면 온도 중 적어도 하나를 고려하여 상기 가중치를 부여하는 능동 적외선 스텔스 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 프로그램 명령어들은,
    상기 전력량 종류의 개수가 복수인 경우 서로 인접하지 않은 열전 소자들에 동일한 전력량이 공급되도록 제어하는 능동 적외선 스텔스 장치.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 프로그램 명령어들은,
    상기 표면 온도가 미리 설정된 임계치 이상인 위치에 배치된 열전 소자에 가장 큰 가중치를 부여하는 능동 적외선 스텔스 장치.
  9. 은폐 대상의 표면에 배치된 복수의 열전 소자를 제어하는 능동 적외선 스텔스 방법로서,
    전력량 종류의 개수를 설정하는 단계;
    상기 복수의 열전 소자로 공급되는 총 전력량이 전력 시스템의 허용 전력량을 초과하지 않도록 상기 복수의 열전 소자 각각에 대해 상기 전력량 종류 중 하나에 상응하는 가중치를 부여하는 단계; 및
    상기 부여된 가중치에 따라 상기 복수의 열전 소자 각각에 상기 전력량 종류 중 하나에 상응하는 전력량의 공급이 이루어지도록 제어하는 단계를 포함하는 능동 적외선 스텔스 방법.
  10. 제9항에 따른 방법을 수행하는 기록매체에 저장된 컴퓨터 프로그램.
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