KR20200116553A - Cured-film-forming composition, alignment material, and phase-difference material - Google Patents

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Abstract

[과제] 우수한 액정배향성과 밀착내구성의 경화막의 형성에 호적한 경화막 형성 조성물을 제공하고, 배향재를 제공하며, 그 배향재를 사용하여 위상차재를 제공한다.
[해결수단] 경화막 형성 조성물은, (A) 광배향성기와, 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기 및 알콕시실릴기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1개를 갖는 화합물, (B) 하이드록시기 및 카르복실기 중 적어도 하나를 갖는 폴리머, 그리고, (C) (A)성분 이외의, 하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물을 함유한다. 이 경화막 형성 조성물을 이용하여, 경화막을 형성하고, 광배향 기술을 이용하여 배향재를 형성한다. 배향재 위에 중합성 액정을 도포하고, 경화시켜 위상차재를 얻는다.
[Problem] To provide a cured film forming composition suitable for formation of a cured film having excellent liquid crystal orientation and adhesion durability, provide an alignment material, and provide a retardation material using the alignment material.
[Solution] The cured film-forming composition includes (A) a photo-alignment group, a compound having one selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amino group, and an alkoxysilyl group, (B) at least one of a hydroxy group and a carboxyl group It contains a polymer having and (C) a compound having a hydroxyl group and a (meth)acrylic group other than the component (A). Using this cured film forming composition, a cured film is formed, and an alignment material is formed using a photo-alignment technique. A polymerizable liquid crystal is applied on the alignment material and cured to obtain a retardation material.

Description

경화막 형성 조성물, 배향재 및 위상차재{CURED-FILM-FORMING COMPOSITION, ALIGNMENT MATERIAL, AND PHASE-DIFFERENCE MATERIAL}Cured film forming composition, orientation material, and retardation material {CURED-FILM-FORMING COMPOSITION, ALIGNMENT MATERIAL, AND PHASE-DIFFERENCE MATERIAL}

본 발명은, 경화막 형성 조성물, 배향재 및 위상차재에 관한 것이다.The present invention relates to a cured film forming composition, an alignment material, and a retardation material.

최근, 액정패널을 이용한 텔레비전 등의 디스플레이 분야에서는, 고성능화를 위한 시도로, 3D 화상을 즐길 수 있는 3D 디스플레이의 개발이 진행되고 있다. 3D 디스플레이에서는, 예를 들어, 관찰자의 오른쪽 눈에 오른쪽 눈용 화상을 시인시키고, 관찰자의 왼쪽 눈에 왼쪽 눈용 화상을 시인시킴으로써, 입체감이 있는 화상을 표시시킬 수 있다.In recent years, in the field of displays such as a television using a liquid crystal panel, development of a 3D display capable of enjoying a 3D image is in progress as an attempt to increase performance. In the 3D display, for example, an image with a three-dimensional effect can be displayed by visually recognizing an image for the right eye to the viewer's right eye and visually recognizing the image for the left eye to the left eye of the observer.

3D 화상을 표시하는 3D 디스플레이 방식에는 다양한 것이 있는데, 전용 안경을 필요로 하지 않는 방식으로는, 렌티큘러 렌즈 방식 및 패럴렉스 베리어 방식 등이 알려져 있다.There are various types of 3D display methods for displaying 3D images. As methods that do not require dedicated glasses, a lenticular lens method and a parallax barrier method are known.

그리고, 관찰자가 안경을 착용하여 3D 화상을 관찰하는 디스플레이 방식 중 하나로는, 원편광 안경 방식 등이 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 1을 참조.).In addition, as one of the display methods in which an observer wears glasses to observe a 3D image, a circular polarization glasses method or the like is known (see, for example, Patent Document 1).

원편광 안경 방식의 3D 디스플레이인 경우, 액정패널 등의 화상을 형성하는 표시소자 위에 위상차재가 배치되는 것이 통상이다. 이 위상차재는, 위상차 특성이 상이한 2종류의 위상차영역이 각각 복수, 규칙적으로 배치되어 있어, 패터닝된 위상차재를 구성하고 있다. 한편, 이하, 본 명세서에서는, 이러한 위상차 특성이 상이한 복수의 위상차영역을 배치하도록 패턴화된 위상차재를 패턴화 위상차재라 칭한다.In the case of a 3D display of the circular polarization glasses system, a retardation material is usually disposed on a display element that forms an image such as a liquid crystal panel. In this phase difference material, a plurality of two types of phase difference regions having different phase difference characteristics are regularly arranged, respectively, to constitute a patterned phase difference material. On the other hand, hereinafter, in the present specification, a phase difference material patterned so as to arrange a plurality of phase difference regions having different phase difference characteristics is referred to as a patterned phase difference material.

패턴화 위상차재는, 예를 들어, 특허문헌 2에 개시되는 바와 같이, 중합성 액정으로 이루어진 위상차재료를 광학 패터닝함으로써 제작할 수 있다. 중합성 액정으로 이루어진 위상차재료의 광학 패터닝은, 액정패널의 배향재 형성에서 알려진 광배향 기술을 이용한다. 즉, 기판 상에 광배향성 재료로 이루어진 도막을 마련하고, 이것에 편광방향이 상이한 2종류의 편광을 조사한다. 그리고, 액정의 배향 제어방향이 상이한 2종류의 액정배향영역이 형성된 배향재로서 광배향막을 얻는다. 이 광배향막 위에 중합성 액정을 포함하는 용액상의 위상차재료를 도포하고, 중합성 액정의 배향을 실현한다. 그 후, 배향된 중합성 액정을 경화하여 패턴화 위상차재를 형성한다.The patterned retardation material can be produced, for example, by optically patterning a retardation material made of a polymerizable liquid crystal, as disclosed in Patent Document 2. Optical patterning of a retardation material made of a polymerizable liquid crystal uses a known photo-alignment technique for forming an alignment material of a liquid crystal panel. That is, a coating film made of a photo-alignment material is provided on a substrate, and two types of polarized light having different polarization directions are irradiated thereto. Then, a photo-alignment film is obtained as an alignment material in which two kinds of liquid crystal alignment regions having different alignment control directions of the liquid crystal are formed. A solution phase difference material containing a polymerizable liquid crystal is applied on the photo-alignment film to achieve alignment of the polymerizable liquid crystal. After that, the aligned polymerizable liquid crystal is cured to form a patterned retardation material.

액정패널의 광배향 기술을 이용한 배향재 형성에서는, 이용가능한 광배향성 재료로서, 측쇄에 신나모일기 및 칼콘기 등의 광이량화 부위를 갖는 아크릴 수지나 폴리이미드 수지 등이 알려져 있다. 이들 수지는, 편광 UV 조사함으로써, 액정의 배향을 제어하는 성능(이하, 액정배향성이라고도 함)을 나타내는 것이 보고되어 있다(특허문헌 3 내지 특허문헌 5를 참조).In forming an alignment material using a photo-alignment technique of a liquid crystal panel, as an available photo-alignment material, an acrylic resin or polyimide resin having a photo-dimerization site such as a cinnamoyl group and a chalcone group in the side chain is known. It is reported that these resins exhibit the ability to control the alignment of liquid crystals (hereinafter, also referred to as liquid crystal alignment properties) by irradiating with polarized UV light (refer to Patent Documents 3 to 5).

일본특허공개 H10-232365호 공보Japanese Patent Laid-Open No. H10-232365 일본특허공개 2005-49865호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2005-49865 일본특허 제3611342호 명세서Japanese Patent No. 3611342 Specification 일본특허공개 2009-058584호 공보Japanese Patent Publication No. 2009-058584 일본특허공표 2001-517719호 공보Japanese Patent Publication No. 2001-517719

이상과 같이, 패턴화 위상차재는, 배향재인 광배향막 위에, 경화된 중합성 액정의 층을 적층하여 구성된다. 그리고, 이러한 적층구조를 갖는 패턴화 위상차재는, 그 적층상태 그대로 3D 디스플레이의 구성에 이용할 수 있다.As described above, the patterned retardation material is constituted by laminating a layer of cured polymerizable liquid crystal on the photo-alignment film as an alignment material. In addition, the patterned retardation material having such a stacked structure can be used in the configuration of a 3D display as it is stacked.

3D 디스플레이는, 가정용 텔레비전으로 사용되는 경우도 있어, 높은 신뢰성, 특히 장기간에 걸친 내구성이 요구되고 있다. 이에 따라, 3D 디스플레이의 구성부재에 대해서도, 내구성이 요구되고 있다. 따라서, 패턴화 위상차재에 있어서도, 고정도(高精度)로 광학 패터닝이 이루어져 있는 것이나, 높은 광투과 특성을 갖는 것 등과 함께, 장기간의 내구성이 필수 성능이 된다.The 3D display is sometimes used as a home television, and high reliability, particularly, long-term durability is required. Accordingly, durability is also required for the constituent members of the 3D display. Therefore, also in the patterned phase difference material, long-term durability becomes an essential performance in addition to having optical patterning with high accuracy or having high light transmission characteristics.

그러나, 종래의 패턴화 위상차재에서는, 광배향막과 중합성 액정의 층 사이의 밀착성에 과제를 갖고 있었다. 예를 들어, 광배향막과 중합성 액정의 층 사이에서, 형성 초기부터 벗겨짐을 일으키기 쉬운 것이나, 형성 초기에는 밀착성을 갖지만, 시간의 경과와 함께 밀착성이 저하되어 박리를 일으키기 쉬워지는 것이 있었다.However, the conventional patterned retardation material has a problem in adhesion between the photo-alignment film and the layer of the polymerizable liquid crystal. For example, between the photo-alignment film and the layer of the polymerizable liquid crystal, peeling is likely to occur from the initial stage of formation, and there is an adhesive property at the initial stage of formation, but the adhesiveness decreases with the passage of time and peeling is likely to occur.

그 중에서도, 시간의 경과와 함께 발생하는, 광배향막과 중합성 액정의 층 사이의 박리는, 실제로 사용하는 3D 디스플레이의 결함이 되어, 3D 디스플레이의 표시품위를 저하시키는 원인이 된다. 이에, 고정도의 광학 패터닝이 가능하고, 광투과 특성이 우수하며, 나아가, 내구성이 우수한 패턴화 위상차재가 요구되고 있다. 특히, 형성 초기의 광배향막과 중합성 액정의 층 사이의 밀착성이 우수함과 함께, 그 우수한 밀착성을 장기간 유지하는 내구성(이하, 본 명세서에서는, 밀착내구성이라 칭함)을 갖춘 패턴화 위상차재가 요구되고 있다.Among them, peeling between the photo-alignment film and the layer of the polymerizable liquid crystal, which occurs with the passage of time, becomes a defect in a 3D display that is actually used and causes a deterioration in the display quality of the 3D display. Accordingly, high-precision optical patterning is possible, light transmission characteristics are excellent, and further, a patterned retardation material having excellent durability is required. In particular, there is a need for a patterned retardation material having excellent adhesion between the photo-alignment film and the layer of the polymerizable liquid crystal at the initial stage of formation, and durability (hereinafter referred to as adhesion durability in the present specification) to maintain the excellent adhesion for a long time. .

본 발명은, 이상의 지견이나 검토결과에 기초하여 이루어진 것이다. 즉, 본 발명의 목적은, 우수한 액정배향성과 광투과 특성을 가지며, 밀착내구성이 우수한 경화막의 형성에 호적한 경화막 형성 조성물을 제공하는 것이다. 특히, 배향재로 사용되어, 그 위에 중합성 액정의 층이 배치되었을 때에, 우수한 액정배향성과 광투과성을 나타냄과 함께, 중합성 액정의 층 사이의 밀착성을 장기간 유지할 수 있는, 밀착내구성이 우수한 경화막을 형성하는 경화막 형성 조성물을 제공하는 것이다.The present invention has been made based on the above findings and examination results. That is, an object of the present invention is to provide a cured film forming composition suitable for formation of a cured film having excellent liquid crystal orientation and light transmission characteristics and excellent adhesion durability. In particular, it is used as an alignment material, and when a layer of a polymerizable liquid crystal is disposed thereon, it exhibits excellent liquid crystal orientation and light transmittance, and has excellent adhesion durability that can maintain adhesion between the layers of the polymerizable liquid crystal for a long time. It is to provide a cured film-forming composition that forms a film.

본 발명의 목적은, 액정배향성과 광투과 특성이 우수하고, 밀착내구성이 우수한 배향재를 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide an alignment material having excellent liquid crystal orientation and light transmission properties and excellent adhesion durability.

본 발명의 목적은, 고정도의 광학 패터닝이 가능하고, 내구성이 우수한 위상차재를 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a retardation material capable of highly accurate optical patterning and excellent durability.

본 발명의 다른 목적 및 이점은, 이하의 기재로부터 명백해질 것이다.Other objects and advantages of the present invention will become apparent from the following description.

본 발명의 제1의 태양은,The first aspect of the present invention,

(A) 광배향성기와, 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기 및 알콕시실릴기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1개를 갖는 화합물,(A) a compound having a photo-alignment group and one selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amino group and an alkoxysilyl group,

(B) 하이드록시기 및 카르복실기 중 적어도 하나를 갖는 폴리머, 그리고 (B) a polymer having at least one of a hydroxy group and a carboxyl group, and

(C) (A)성분 이외의, 하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물(C) Compounds having a hydroxyl group and a (meth)acrylic group other than the component (A)

을 함유하는 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물에 관한 것이다.It relates to a cured film-forming composition comprising:

본 발명의 제1의 태양에 있어서, (A)성분의 화합물은, 광배향성기와 하이드록시기를 갖는 화합물인 것이 바람직하다.In the first aspect of the present invention, it is preferable that the compound of the component (A) is a compound having a photo-alignment group and a hydroxy group.

본 발명의 제1의 태양에 있어서, (C)성분의 화합물은, 1개 이상의 하이드록시기 및 1개의 (메트)아크릴기를 갖는 것이 바람직하다.In the first aspect of the present invention, it is preferable that the compound of the component (C) has one or more hydroxyl groups and one (meth)acrylic group.

본 발명의 제1의 태양에 있어서, (D)가교제를 함유하는 것이 바람직하다.In the first aspect of the present invention, it is preferable to contain (D) a crosslinking agent.

본 발명의 제1의 태양에 있어서, (E)가교촉매를 함유하는 것이 바람직하다.In the first aspect of the present invention, it is preferable to contain (E) a crosslinking catalyst.

본 발명의 제2의 태양은, 본 발명의 제1의 태양의 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 배향재에 관한 것이다.The second aspect of the present invention relates to an orientation material obtained by using the cured film forming composition of the first aspect of the present invention.

본 발명의 제3의 태양은, 본 발명의 제1의 태양의 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막을 갖는 것을 특징으로 하는 위상차재에 관한 것이다.A third aspect of the present invention relates to a retardation material having a cured film obtained from the cured film forming composition of the first aspect of the present invention.

본 발명의 제1의 태양에 따르면, 우수한 액정배향성과 광투과성을 가지며, 밀착내구성이 우수한 경화막의 형성에 호적한 경화막 형성 조성물을 제공할 수 있다.According to the first aspect of the present invention, it is possible to provide a cured film forming composition suitable for formation of a cured film having excellent liquid crystal orientation and light transmittance and excellent in adhesion durability.

본 발명의 제2의 태양에 따르면, 액정배향성과 광투과성이 우수하고, 밀착내구성이 우수한 배향재를 제공할 수 있다.According to the second aspect of the present invention, an alignment material having excellent liquid crystal orientation and light transmittance and excellent adhesion durability can be provided.

본 발명의 제3의 태양에 따르면, 고정도의 광학 패터닝이 가능하고, 내구성이 우수한 위상차재를 제공할 수 있다.According to the third aspect of the present invention, high-precision optical patterning is possible and a retardation material excellent in durability can be provided.

상기 서술한 바와 같이, 우수한 내구성을 갖는 패턴화 위상차재를 제조하기 위하여, 밀착내구성이 우수한 배향재, 특히, 경화된 중합성 액정의 층 사이의 밀착내구성이 우수한 배향재가 요구되고 있다. 그리고, 이러한 성능의 배향재의 형성에 호적한 경화막 형성 조성물이 요구되고 있다.As described above, in order to manufacture a patterned retardation material having excellent durability, an alignment material having excellent adhesion durability, in particular, an alignment material having excellent adhesion durability between layers of cured polymerizable liquid crystals is required. And there is a demand for a cured film forming composition suitable for formation of an alignment material having such performance.

본 발명자들은, 상기 서술한 요구에 부응하기 위하여, 예의 검토를 행한 결과, 특정 조성을 갖는 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막이, 광투과성이 우수하고, 또한, 편광노광함으로써 액정배향을 규제하는 액정배향성을 나타내어 배향재로서의 이용이 가능한 것을 발견하였다. 덧붙여, 본 발명자들은, 그 특정 조성을 갖는 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막이, 그 위에서 중합경화된 중합성 액정의 층 사이에서, 우수한 밀착내구성을 나타내는 것을 발견하였다. 즉, 본 발명의 특정 조성을 갖는 경화막 형성 조성물로부터 얻어진 경화막은, 중합성 액정의 층 사이의 밀착내구성이 우수한 광배향막을 구성할 수 있다.In order to meet the above-described requirements, the inventors of the present invention conducted a thorough study. As a result, a cured film obtained from a cured film-forming composition having a specific composition has excellent light transmittance, and a liquid crystal orientation that regulates liquid crystal orientation by polarization exposure. And found that it could be used as an orientation material. In addition, the present inventors have found that the cured film obtained from the cured film forming composition having the specific composition exhibits excellent adhesion durability between the layers of the polymerizable liquid crystal polymerized thereon. That is, the cured film obtained from the cured film forming composition having a specific composition of the present invention can constitute a photo-alignment film excellent in adhesion durability between layers of a polymerizable liquid crystal.

이하에서, 본 발명의 경화막 형성 조성물에 대하여, 성분 등의 구체예를 들면서 상세하게 설명한다. 그리고, 본 발명의 경화막 형성 조성물을 이용한 본 발명의 경화막 및 배향재, 그리고, 그 배향재를 이용하여 형성되는 위상차재 및 액정표시소자 등에 대하여 설명한다.Hereinafter, the cured film-forming composition of the present invention will be described in detail with reference to specific examples such as components. Then, the cured film and alignment material of the present invention using the cured film forming composition of the present invention, and the retardation material and liquid crystal display device formed by using the alignment material will be described.

<경화막 형성 조성물><Cured film forming composition>

본 발명의 본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물은, (A) 광배향성기와, 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기 및 알콕시실릴기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1개를 갖는 화합물인 저분자 배향성분, (B) 하이드록시기 및 카르복실기 중 적어도 하나를 갖는 폴리머, 그리고, (C) (A)성분 이외의, 하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물을 함유하는 광배향성을 갖는 열경화성의 경화막 형성 조성물이다. 나아가, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물은, (A)성분, (B)성분 및 (C)성분에 더하여, (D)성분으로서 가교제를 함유할 수 있다. 그리고, (A)성분, (B)성분, (C)성분 및 (D)성분에 더하여, (E)성분으로서 가교촉매를 함유할 수 있다. 또한, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, 기타 첨가제를 함유할 수 있다. 더 나아가, 용제를 함유할 수 있다.The cured film-forming composition of this embodiment of the present invention includes (A) a photo-alignment group, a low molecular weight alignment component, which is a compound having one selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amino group and an alkoxysilyl group, (B) It is a thermosetting cured film-forming composition having photo-alignment containing a polymer having at least one of a hydroxyl group and a carboxyl group, and a compound having a hydroxyl group and a (meth)acrylic group other than the (C) component (A). Furthermore, the cured film formation composition of this embodiment can contain a crosslinking agent as (D) component in addition to (A) component, (B) component, and (C) component. And, in addition to the component (A), the component (B), the component (C) and the component (D), a crosslinking catalyst can be contained as a component (E). Further, other additives may be contained as long as the effect of the present invention is not impaired. Furthermore, it may contain a solvent.

이하, 각 성분의 상세를 설명한다.Hereinafter, the details of each component will be described.

[(A)성분][(A) component]

본 실시형태의 경화막 형성 조성물의 (A)성분은, 저분자 배향성분이다. (A)성분은, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 본 실시형태의 경화막에 광배향성을 부여하는 성분이고, 베이스가 되는 후술하는 (B)성분의 폴리머에 비해 저분자의 광배향성분이 된다.(A) component of the cured film formation composition of this embodiment is a low molecular weight orientation component. (A) component is a component that imparts photo-alignment to the cured film of this embodiment obtained from the cured film-forming composition of the present embodiment, and becomes a low-molecular photo-alignment component compared to the polymer of component (B) to be described later as a base. .

본 실시형태의 경화막 형성 조성물에 있어서, (A)성분인 저분자 배향성분은, 광배향성기, 그리고, 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기 및 알콕시실릴기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1개의 기를 갖는 화합물로 할 수 있다.In the cured film forming composition of the present embodiment, the low-molecular alignment component as the component (A) is a compound having a photo-alignment group and one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amino group, and an alkoxysilyl group. I can.

한편, 본 발명에 있어서, 광배향성기란, 광이량화 또는 광이성화하는 구조부위의 관능기를 말한다.On the other hand, in the present invention, the photo-alignment group refers to a functional group of a structural portion to be photo-dimerized or photo-isomerized.

(A)성분의 화합물이 광배향성기로서 가질 수 있는 광이량화하는 구조부위란, 광조사에 의해 이량체를 형성하는 부위이고, 그 구체예로는, 신나모일기, 칼콘기, 쿠마린기, 안트라센기 등을 들 수 있다. 이들 중 가시광영역에서의 투명성이 높다는 점, 광이량화 반응성이 높다는 점에서 신나모일기가 바람직하다.The photo-dimerization structural part that the compound of component (A) may have as a photo-alignment group is a part that forms a dimer by light irradiation, and specific examples thereof include cinnamoyl group, chalcone group, coumarin group, And anthracene group. Among these, a cinnamoyl group is preferred because of its high transparency in the visible region and high photo-dimerization reactivity.

또한, (A)성분의 화합물이 광배향성기로서 가질 수 있는 광이성화하는 구조부위란, 광조사에 의해 시스체와 트랜스체로 변하는 구조부위를 말하는데, 그 구체예로는 아조벤젠 구조, 스틸벤 구조 등으로 이루어진 부위를 들 수 있다. 이들 중 반응성이 높다는 점에서 아조벤젠 구조가 바람직하다.In addition, the structural moiety for photoisomerization that the compound of component (A) may have as a photo-alignment group refers to a structural moiety that changes into a cis body and a trans form by light irradiation, and specific examples thereof include azobenzene structure, stilbene structure, etc. And a portion consisting of. Among these, an azobenzene structure is preferred from the viewpoint of high reactivity.

(A)성분의 광배향성기와 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기 및 알콕시실릴기로부터 선택되는 치환기 중 어느 1개를 갖는 화합물은, 예를 들어, 하기 식으로 표시되는 화합물이다.The compound which has the photo-alignment group of (A) component and any one of a substituent selected from a hydroxy group, a carboxyl group, an amino group, and an alkoxysilyl group is a compound represented by the following formula, for example.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 식 중, A1과 A2는 각각 독립적으로, 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, X11은 단결합, 에테르 결합, 에스테르 결합, 아미드 결합, 우레탄 결합, 아미노 결합 또는 이들의 조합으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 결합을 통해, 탄소원자수 1 내지 18의 알킬렌기, 페닐렌기, 비페닐렌기 또는 이들의 조합으로부터 선택되는 1 내지 3의 치환기가 결합하여 이루어지는 구조를 나타낸다. X12는 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 탄소원자수 1 내지 18의 알킬기, 페닐기, 비페닐기 또는 시클로헥실기를 나타낸다. 상기 탄소원자수 1 내지 18의 알킬기, 페닐기, 비페닐기 및 시클로헥실기는, 공유결합, 에테르 결합, 에스테르 결합, 아미드 결합 또는 요소 결합을 통해 이웃하는 기와 결합할 수도 있다.In the above formula, A 1 and A 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and X 11 is one selected from a single bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a urethane bond, an amino bond, or a combination thereof. Or it shows a structure formed by bonding of 1 to 3 substituents selected from an alkylene group having 1 to 18 carbon atoms, a phenylene group, a biphenylene group, or a combination thereof through two or more bonds. X 12 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group, a biphenyl group, or a cyclohexyl group. The alkyl group, phenyl group, biphenyl group and cyclohexyl group having 1 to 18 carbon atoms may be bonded to neighboring groups through covalent bonds, ether bonds, ester bonds, amide bonds, or urea bonds.

X13은 하이드록시기, 메르캅토기, 탄소원자수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소원자수 1 내지 10의 알킬티오기, 페녹시기, 비페닐옥시기 또는 페닐기를 나타낸다. X14는 각각 독립적으로 단결합, 탄소원자수 1 내지 20의 알킬렌기, 방향족환기, 또는, 지방족환기를 나타낸다. 여기서 탄소원자수 1 내지 20의 알킬렌기는 분지상일 수도 직쇄상일 수도 있다. X15는 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기 또는 알콕시실릴기를 나타낸다. X는 단결합, 산소원자 또는 황원자를 나타낸다. 한편, 상기 치환기에 있어서 벤젠환이 포함되는 경우, 해당 벤젠환은, 탄소원자수 1 내지 4의 알킬기, 탄소원자수 1 내지 4의 알콕시기, 할로겐원자, 트리플루오로메틸기 및 시아노기로부터 선택되는 동일 또는 상이한 1 또는 복수의 치환기에 의해 치환되어 있을 수도 있다.X 13 represents a hydroxy group, a mercapto group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms, a phenoxy group, a biphenyloxy group, or a phenyl group. Each of X 14 independently represents a single bond, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic cyclic group, or an aliphatic cyclic group. Here, the alkylene group having 1 to 20 carbon atoms may be branched or linear. X 15 represents a hydroxy group, a carboxyl group, an amino group or an alkoxysilyl group. X represents a single bond, an oxygen atom or a sulfur atom. Meanwhile, when a benzene ring is included in the substituent, the benzene ring is the same or different 1 selected from an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, a trifluoromethyl group, and a cyano group. Or it may be substituted by a plurality of substituents.

상기 식 중, R11, R12, R13, R14, R15, R16, R17 및 R18은, 각각 독립적으로 수소원자, 탄소원자수 1 내지 4의 알킬기, 탄소원자수 1 내지 4의 알콕시기, 할로겐원자, 트리플루오로메틸기 또는 시아노기를 나타낸다.In the above formula, R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 and R 18 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy having 1 to 4 carbon atoms Group, a halogen atom, a trifluoromethyl group, or a cyano group.

(A)성분인, 광배향성기와 하이드록시기를 갖는 화합물의 구체예로는, 예를 들어, 4-(8-하이드록시옥틸옥시)계피산메틸에스테르, 4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산메틸에스테르, 3-메톡시-4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산메틸에스테르, 4-(4-하이드록시부틸옥시)계피산메틸에스테르, 4-(3-하이드록시프로필옥시)계피산메틸에스테르, 4-(2-하이드록시에틸옥시)계피산메틸에스테르, 4-하이드록시메틸옥시계피산메틸에스테르, 4-하이드록시계피산메틸에스테르, 4-(8-하이드록시옥틸옥시)계피산에틸에스테르, 4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산에틸에스테르, 4-(4-하이드록시부틸옥시)계피산에틸에스테르, 4-(3-하이드록시프로필옥시)계피산에틸에스테르, 4-(2-하이드록시에틸옥시)계피산에틸에스테르, 4-하이드록시메틸옥시계피산에틸에스테르, 4-하이드록시계피산에틸에스테르, 4-(8-하이드록시옥틸옥시)계피산페닐에스테르, 4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산페닐에스테르, 4-(4-하이드록시부틸옥시)계피산페닐에스테르, 4-(3-하이드록시프로필옥시)계피산페닐에스테르, 4-(2-하이드록시에틸옥시)계피산페닐에스테르, 4-하이드록시메틸옥시계피산페닐에스테르, 4-하이드록시계피산페닐에스테르, 4-(8-하이드록시옥틸옥시)계피산비페닐에스테르, 4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산비페닐에스테르, 4-(4-하이드록시부틸옥시)계피산비페닐에스테르, 4-(3-하이드록시프로필옥시)계피산비페닐에스테르, 4-(2-하이드록시에틸옥시)계피산비페닐에스테르, 4-하이드록시메틸옥시계피산비페닐에스테르, 4-하이드록시계피산비페닐에스테르, 계피산8-하이드록시옥틸에스테르, 계피산6-하이드록시헥실에스테르, 계피산4-하이드록시부틸에스테르, 계피산3-하이드록시프로필에스테르, 계피산2-하이드록시에틸에스테르, 계피산하이드록시메틸에스테르, 4-(8-하이드록시옥틸옥시)칼콘, 4-(6-하이드록시헥실옥시)칼콘, 4-(4-하이드록시부틸옥시)칼콘, 4-(3-하이드록시프로필옥시)칼콘, 4-(2-하이드록시에틸옥시)칼콘, 4-하이드록시메틸옥시칼콘, 4-하이드록시칼콘, 4'-(8-하이드록시옥틸옥시)칼콘, 4'-(6-하이드록시헥실옥시)칼콘, 4'-(4-하이드록시부틸옥시)칼콘, 4'-(3-하이드록시프로필옥시)칼콘, 4'-(2-하이드록시에틸옥시)칼콘, 4'-하이드록시메틸옥시칼콘, 4'-하이드록시칼콘, 7-(8-하이드록시옥틸옥시)쿠마린, 7-(6-하이드록시헥실옥시)쿠마린, 7-(4-하이드록시부틸옥시)쿠마린, 7-(3-하이드록시프로필옥시)쿠마린, 7-(2-하이드록시에틸옥시)쿠마린, 7-하이드록시메틸옥시쿠마린, 7-하이드록시쿠마린, 6-하이드록시옥틸옥시쿠마린, 6-하이드록시헥실옥시쿠마린, 6-(4-하이드록시부틸옥시)쿠마린, 6-(3-하이드록시프로필옥시)쿠마린, 6-(2-하이드록시에틸옥시)쿠마린, 6-하이드록시메틸옥시쿠마린, 6-하이드록시쿠마린, 4-[4-(8-하이드록시옥틸옥시)벤조일]계피산메틸에스테르, 4-[4-(6-하이드록시헥실옥시)벤조일]계피산메틸에스테르, 4-[4-(4-하이드록시부틸옥시)벤조일]계피산메틸에스테르, 4-[4-(3-하이드록시프로필옥시)벤조일]계피산메틸에스테르, 4-[4-(2-하이드록시에틸옥시)벤조일]계피산메틸에스테르, 4-[4-하이드록시메틸옥시벤조일]계피산메틸에스테르, 4-[4-하이드록시벤조일]계피산메틸에스테르, 4-[4-(8-하이드록시옥틸옥시)벤조일]계피산에틸에스테르, 4-[4-(6-하이드록시헥실옥시)벤조일]계피산에틸에스테르, 4-[4-(4-하이드록시부틸옥시)벤조일]계피산에틸에스테르, 4-[4-(3-하이드록시프로필옥시)벤조일]계피산에틸에스테르, 4-[4-(2-하이드록시에틸옥시)벤조일]계피산에틸에스테르, 4-[4-하이드록시메틸옥시벤조일]계피산에틸에스테르, 4-[4-하이드록시벤조일]계피산에틸에스테르, 4-[4-(8-하이드록시옥틸옥시)벤조일]계피산터셔리부틸에스테르, 4-[4-(6-하이드록시헥실옥시)벤조일]계피산터셔리부틸에스테르, 4-[4-(4-하이드록시부틸옥시)벤조일]계피산터셔리부틸에스테르, 4-[4-(3-하이드록시프로필옥시)벤조일]계피산터셔리부틸에스테르, 4-[4-(2-하이드록시에틸옥시)벤조일]계피산터셔리부틸에스테르, 4-[4-하이드록시메틸옥시벤조일]계피산터셔리부틸에스테르, 4-[4-(8-하이드록시옥틸옥시)벤조일]계피산페닐에스테르, 4-[4-(6-하이드록시헥실옥시)벤조일]계피산페닐에스테르, 4-[4-(4-하이드록시부틸옥시)벤조일]계피산페닐에스테르, 4-[4-(3-하이드록시프로필옥시)벤조일]계피산페닐에스테르, 4-[4-(2-하이드록시에틸옥시)벤조일]계피산페닐에스테르, 4-[4-하이드록시메틸옥시벤조일]계피산페닐에스테르, 4-[4-하이드록시벤조일]계피산페닐에스테르, 4-[4-(8-하이드록시옥틸옥시)벤조일]계피산비페닐에스테르, 4-[4-(6-하이드록시헥실옥시)벤조일]계피산비페닐에스테르, 4-[4-(4-하이드록시부틸옥시)벤조일]계피산비페닐에스테르, 4-[4-(3-하이드록시프로필옥시)벤조일]계피산비페닐에스테르, 4-[4-(2-하이드록시에틸옥시)벤조일]계피산비페닐에스테르, 4-[4-하이드록시메틸옥시벤조일]계피산비페닐에스테르, 4-[4-하이드록시벤조일]계피산비페닐에스테르, 4-벤조일계피산8-하이드록시옥틸에스테르, 4-벤조일계피산6-하이드록시헥실에스테르, 4-벤조일계피산4-하이드록시부틸에스테르, 4-벤조일계피산3-하이드록시프로필에스테르, 4-벤조일계피산2-하이드록시에틸에스테르, 4-벤조일계피산하이드록시메틸에스테르, 4-[4-(8-하이드록시옥틸옥시)벤조일]칼콘, 4-[4-(6-하이드록시헥실옥시)벤조일]칼콘, 4-[4-(4-하이드록시부틸옥시)벤조일]칼콘, 4-[4-(3-하이드록시프로필옥시)벤조일]칼콘, 4-[4-(2-하이드록시에틸옥시)벤조일]칼콘, 4-(4-하이드록시메틸옥시벤조일)칼콘, 4-(4-하이드록시벤조일)칼콘, 4'-[4-(8-하이드록시옥틸옥시)벤조일]칼콘, 4'-[4-(6-하이드록시헥실옥시)벤조일]칼콘, 4'-[4-(4-하이드록시부틸옥시)벤조일]칼콘, 4'-[4-(3-하이드록시프로필옥시)벤조일]칼콘, 4'-[4-(2-하이드록시에틸옥시)벤조일]칼콘, 4'-(4-하이드록시메틸옥시벤조일)칼콘, 4'-(4-하이드록시벤조일)칼콘 등을 들 수 있다.(A) As a specific example of the compound which has a photo-alignment group and a hydroxy group which is a component, for example, 4-(8-hydroxyoctyloxy)cinnamic acid methyl ester, 4-(6-hydroxyhexyloxy)cinnamic acid Methyl ester, 3-methoxy-4-(6-hydroxyhexyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4-(4-hydroxybutyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4-(3-hydroxypropyloxy) cinnamic acid methyl ester , 4-(2-hydroxyethyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4-hydroxymethyloxy cinnamic acid methyl ester, 4-hydroxy cinnamic acid methyl ester, 4-(8-hydroxyoctyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4-( 6-hydroxyhexyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4-(4-hydroxybutyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4-(3-hydroxypropyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4-(2-hydroxyethyloxy) Cinnamic acid ethyl ester, 4-hydroxymethyloxy cinnamic acid ethyl ester, 4-hydroxy cinnamic acid ethyl ester, 4-(8-hydroxyoctyloxy) cinnamic acid phenyl ester, 4-(6-hydroxyhexyloxy) cinnamic acid phenyl ester , 4-(4-hydroxybutyloxy) cinnamic acid phenyl ester, 4-(3-hydroxypropyloxy) cinnamic acid phenyl ester, 4-(2-hydroxyethyloxy) cinnamic acid phenyl ester, 4-hydroxymethyloxy cinnamic acid Phenyl ester, 4-hydroxycinnamic acid phenyl ester, 4-(8-hydroxyoctyloxy) cinnamic acid biphenyl ester, 4-(6-hydroxyhexyloxy) cinnamic acid biphenyl ester, 4-(4-hydroxybutyl Oxy) cinnamic acid biphenyl ester, 4-(3-hydroxypropyloxy) cinnamic acid biphenyl ester, 4-(2-hydroxyethyloxy) cinnamic acid biphenyl ester, 4-hydroxymethyloxy cinnamic acid biphenyl ester, 4- Cinnamic acid biphenyl ester, cinnamic acid 8-hydroxyoctyl ester, cinnamic acid 6-hydroxyhexyl ester, cinnamic acid 4-hydroxybutyl ester, cinnamic acid 3-hydroxypropyl ester, cinnamic acid 2-hydroxyethyl ester, cinnamic acid hydroxy Methyl ester, 4-(8-hydroxyoctyloxy)chalcone, 4-(6-hydroxyhexyloxy)chalcone, 4-(4-hydroxybutyloxy)chalcone, 4-(3-hydroxypropyloxy) Chalcone, 4-(2-hydroxyethyloxy)chalcone, 4-hydroxymethyloxychalcone, 4-hydroxychalcone, 4'- (8-hydroxyoctyloxy)chalcone, 4'-(6-hydroxyhexyloxy)chalcone, 4'-(4-hydroxybutyloxy)chalcone, 4'-(3-hydroxypropyloxy)chalcone, 4'-(2-hydroxyethyloxy)chalcone, 4'-hydroxymethyloxychalcone, 4'-hydroxychalcone, 7-(8-hydroxyoctyloxy)coumarin, 7-(6-hydroxyhexyloxy) Si) Coumarin, 7-(4-hydroxybutyloxy)coumarin, 7-(3-hydroxypropyloxy)coumarin, 7-(2-hydroxyethyloxy)coumarin, 7-hydroxymethyloxycoumarin, 7- Hydroxycoumarin, 6-hydroxyoctyloxycoumarin, 6-hydroxyhexyloxycoumarin, 6-(4-hydroxybutyloxy)coumarin, 6-(3-hydroxypropyloxy)coumarin, 6-(2-hydro Roxyethyloxy)coumarin, 6-hydroxymethyloxycoumarin, 6-hydroxycoumarin, 4-[4-(8-hydroxyoctyloxy)benzoyl] cinnamic acid methyl ester, 4-[4-(6-hydroxyhex) Siloxy)benzoyl]cinnamic acid methyl ester, 4-[4-(4-hydroxybutyloxy)benzoyl]cinnamic acid methyl ester, 4-[4-(3-hydroxypropyloxy)benzoyl]cinnamic acid methyl ester, 4-[ 4- (2-hydroxyethyloxy) benzoyl] cinnamic acid methyl ester, 4-[4-hydroxymethyloxybenzoyl] cinnamic acid methyl ester, 4-[4-hydroxybenzoyl] cinnamic acid methyl ester, 4-[4-( 8-hydroxyoctyloxy)benzoyl]ethyl cinnamate, 4-[4-(6-hydroxyhexyloxy)benzoyl] ethyl cinnamon, 4-[4-(4-hydroxybutyloxy)benzoyl] ethyl cinnamate Ester, 4-[4-(3-hydroxypropyloxy)benzoyl] ethyl cinnamic ester, 4-[4-(2-hydroxyethyloxy) benzoyl] ethyl cinnamic ester, 4-[4-hydroxymethyloxybenzoyl ] Cinnamic acid ethyl ester, 4-[4-hydroxybenzoyl] cinnamic acid ethyl ester, 4-[4-(8-hydroxyoctyloxy)benzoyl] cinnamic acid tertiary butyl ester, 4-[4-(6-hydroxyhex) Siloxy)benzoyl]Cinnamic acid tertiary butyl ester, 4-[4-(4-hydroxybutyloxy)benzoyl]Cinnamic acid tertiary butyl ester, 4-[4-(3-hydroxypropyloxy)benzoyl] Cinnamic acid tertiary Butyl ester, 4-[4-(2-hydroxyethyloxy)benzoyl] cinnamic acid tertiary butyl ester, 4-[ 4-hydroxymethyloxybenzoyl] cinnamic acid tertiary butyl ester, 4-[4-(8-hydroxyoctyloxy)benzoyl] cinnamic acid phenyl ester, 4-[4-(6-hydroxyhexyloxy)benzoyl] cinnamic acid Phenyl ester, 4-[4-(4-hydroxybutyloxy)benzoyl] phenyl cinnamic acid, 4-[4-(3-hydroxypropyloxy) benzoyl] phenyl cinnamic acid, 4-[4-(2-hydroxyl) Roxyethyloxy)benzoyl] phenyl cinnamic acid, 4-[4-hydroxymethyloxybenzoyl] phenyl cinnamic acid, 4-[4-hydroxybenzoyl] phenyl cinnamic acid, 4-[4-(8-hydroxyoctyloxy] )Benzoyl]cinnamic acid biphenyl ester, 4-[4-(6-hydroxyhexyloxy)benzoyl] cinnamic acid biphenyl ester, 4-[4-(4-hydroxybutyloxy)benzoyl] cinnamic acid biphenyl ester, 4 -[4-(3-hydroxypropyloxy)benzoyl] cinnamic acid biphenyl ester, 4-[4-(2-hydroxyethyloxy) benzoyl] cinnamic acid biphenyl ester, 4-[4-hydroxymethyloxybenzoyl] Cinnamic acid biphenyl ester, 4-[4-hydroxybenzoyl] cinnamic acid biphenyl ester, 4-benzoyl cinnamic acid 8-hydroxyoctyl ester, 4-benzoyl cinnamic acid 6-hydroxyhexyl ester, 4-benzoyl cinnamic acid 4-hydroxybutyl Ester, 4-benzoyl cinnamic acid 3-hydroxypropyl ester, 4-benzoyl cinnamic acid 2-hydroxyethyl ester, 4-benzoyl cinnamic acid hydroxymethyl ester, 4-[4-(8-hydroxyoctyloxy)benzoyl]chalcone, 4-[4-(6-hydroxyhexyloxy)benzoyl]chalcone, 4-[4-(4-hydroxybutyloxy)benzoyl]chalcone, 4-[4-(3-hydroxypropyloxy)benzoyl] Chalcone, 4-[4-(2-hydroxyethyloxy)benzoyl]chalcone, 4-(4-hydroxymethyloxybenzoyl)chalcone, 4-(4-hydroxybenzoyl)chalcone, 4'-[4-( 8-hydroxyoctyloxy)benzoyl]chalcone, 4'-[4-(6-hydroxyhexyloxy)benzoyl]chalcone, 4'-[4-(4-hydroxybutyloxy)benzoyl]chalcone, 4' -[4-(3-hydroxypropyloxy)benzoyl]chalcone, 4'-[4-(2-hydroxyethyloxy)benzoyl]chalcone, 4'-(4-hydroxymethyloxybenzoyl)chalcone, 4' -(4-hydroxybenzoyl)chalcone, etc. are mentioned.

(A)성분인, 광배향성기 및 카르복실기를 갖는 화합물의 구체예로는, 계피산, 페룰산, 4-니트로계피산, 4-메톡시계피산, 3,4-디메톡시계피산, 쿠마린-3-카르본산, 4-(N,N-디메틸아미노)계피산 등을 들 수 있다.(A) As a specific example of the compound which has a photo-alignment group and a carboxyl group which is a component, cinnamic acid, ferulic acid, 4-nitro cinnamic acid, 4-methoxy cinnamic acid, 3,4-dimethoxy cinnamic acid, coumarin-3-carboxylic acid And 4-(N,N-dimethylamino) cinnamic acid.

(A)성분인, 광배향성기 및 아미노기를 갖는 화합물의 구체예로는, 4-아미노계피산메틸에스테르, 4-아미노계피산에틸에스테르, 3-아미노계피산메틸에스테르, 3-아미노계피산에틸에스테르 등을 들 수 있다.Specific examples of the compound having a photo-alignment group and an amino group as the component (A) include 4-amino cinnamic acid methyl ester, 4-amino cinnamic acid ethyl ester, 3-amino cinnamic acid methyl ester, and 3-amino cinnamic acid ethyl ester. I can.

(A)성분인, 광배향성기와 알콕시실릴기를 갖는 화합물의 구체예로는, 4-(3-트리메톡시실릴프로필옥시)계피산메틸에스테르, 4-(3-트리에톡시실릴프로필옥시)계피산메틸에스테르, 4-(3-트리메톡시실릴프로필옥시)계피산에틸에스테르, 4-(3-트리에톡시실릴프로필옥시)계피산에틸에스테르, 4-(3-트리메톡시실릴헥실옥시)계피산메틸에스테르, 4-(3-트리에톡시실릴헥실옥시)계피산메틸에스테르, 4-(3-트리메톡시실릴헥실옥시)계피산에틸에스테르 및 4-(3-트리에톡시실릴헥실옥시)계피산에틸에스테르 등을 들 수 있다.(A) As a specific example of the compound which has a photo-alignment group and an alkoxysilyl group which is a component, 4-(3-trimethoxysilylpropyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4-(3-triethoxysilylpropyloxy) methyl cinnamate Ester, 4-(3-trimethoxysilylpropyloxy) ethyl cinnamic ester, 4-(3-triethoxysilylpropyloxy) ethyl cinnamic acid ester, 4-(3-trimethoxysilylhexyloxy) cinnamic acid methyl ester , 4- (3-triethoxysilylhexyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4- (3-trimethoxysilylhexyloxy) cinnamic acid ethyl ester and 4- (3-triethoxysilylhexyloxy) cinnamic acid ethyl Ester, etc. are mentioned.

(A)성분인 저분자 배향성분은, 이상의 구체예를 들 수 있으나, 이것들로 한정되는 것은 아니다.The low molecular weight orientation component which is the component (A) may include the above specific examples, but is not limited thereto.

그리고, (A)성분인 저분자 배향성분은, 광배향성기 및 하이드록시기를 갖는 화합물인 것이 특히 바람직하다. 광배향성기 및 하이드록시기를 갖는 화합물은, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막에 광배향성을 부여함과 함께, 배향재로서 이용된 경우의 중합성 액정의 층과의 밀착성의 향상에 있어서, 특히 유효해진다.In addition, it is particularly preferable that the low-molecular alignment component which is the component (A) is a compound having a photo-alignment group and a hydroxy group. The compound having a photo-alignment group and a hydroxy group imparts photo-alignment to the cured film obtained from the cured film-forming composition of the present embodiment, and is used as an alignment material to improve adhesion with the layer of the polymerizable liquid crystal. Therefore, it becomes especially effective.

또한, (A)성분인 저분자 배향성분이, 광배향성기 및 하이드록시기를 갖는 화합물인 경우, (A)성분으로서, 분자 내에, 광배향성기를 2개 이상 및/또는 하이드록시기를 2개 이상 갖는 화합물을 이용하는 것이 가능하다. 구체적으로는, (A)성분으로서, 분자 내에 1개의 하이드록시기와 함께 2개 이상의 광배향성기를 갖는 화합물이나, 분자 내에 1개의 광배향성기와 함께 2개 이상의 하이드록시기를 갖는 화합물이나, 분자 내에 광배향성기와 하이드록시기를 각각 2개 이상 갖는 화합물을 이용하는 것이 가능하다. 예를 들어, 분자 내에 광배향성기와 하이드록시기를 각각 2개 이상 갖는 화합물에 대해서는, 하기 식으로 표시되는 화합물을 예시할 수 있다.In addition, when the low-molecular alignment component (A) component is a compound having a photo-alignment group and a hydroxy group, as the component (A), a compound having two or more photo-alignment groups and/or two or more hydroxy groups is contained in the molecule. It is possible to use. Specifically, as component (A), a compound having two or more photo-alignment groups with one hydroxy group in the molecule, a compound having two or more hydroxy groups with one photo-alignment group in the molecule, or a photo-alignment in the molecule It is possible to use a compound each having two or more groups and hydroxy groups. For example, about a compound having two or more each of a photo-alignment group and a hydroxyl group in a molecule, a compound represented by the following formula can be illustrated.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00002
Figure pat00002

이러한 화합물을 적당히 선택함으로써, (A)성분인 저분자 배향성분의 분자량을 원하는 범위의 값으로 제어하는 것이 가능해진다. 본 실시형태의 경화막 형성 조성물로부터 본 실시형태의 경화막을 형성하기 위해서는, 가열경화가 필요해지는데, 그 가열을 행할 때에, (A)성분인 저분자 배향성분이 승화되는 것을, 저분자 배향성분의 분자량을 조정함으로써 억제할 수 있다.By appropriately selecting such a compound, it becomes possible to control the molecular weight of the low molecular weight orientation component (A) component to a value within a desired range. In order to form the cured film of the present embodiment from the cured film-forming composition of the present embodiment, heat curing is required. When the heating is performed, the low molecular weight alignment component, which is the component (A), sublimes, and the molecular weight of the low molecular alignment component is adjusted. It can be suppressed by doing.

한편, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물에 있어서의 (A)성분의 화합물로는, 광배향성기와 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기 및 알콕시실릴기 중 어느 1개를 갖는, 복수종의 화합물의 혼합물일 수도 있다.On the other hand, as the compound of the component (A) in the cured film forming composition of the present embodiment, it is a mixture of plural types of compounds having a photo-alignment group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, and an alkoxysilyl group. May be.

[(B)성분][(B) component]

본 실시형태의 경화막 형성 조성물에 함유되는 (B)성분은, 친수성의 폴리머이다.The component (B) contained in the cured film-forming composition of the present embodiment is a hydrophilic polymer.

본 실시형태의 경화막 형성 조성물에 있어서, (B)성분인 폴리머로는, 하이드록시기나 카르복실기나 아미노기 등의 친수성기를 갖는 폴리머인 것이 바람직하고, 구체적으로는, 하이드록시기 및 카르복실기 중 적어도 하나를 갖는 폴리머(이하, 특정 중합체라고도 함.)로 할 수 있다.In the cured film forming composition of the present embodiment, the polymer as the component (B) is preferably a polymer having a hydrophilic group such as a hydroxy group, a carboxyl group, or an amino group, and specifically, at least one of a hydroxy group and a carboxyl group. It can be made into a polymer (hereinafter, also referred to as a specific polymer).

(B)성분인 폴리머로는, 예를 들어, 아크릴 중합체, 폴리아믹산, 폴리이미드, 폴리비닐알코올, 폴리에스테르, 폴리에스테르폴리카르본산, 폴리에테르폴리올, 폴리에스테르폴리올, 폴리카보네이트폴리올, 폴리카프로락톤폴리올, 폴리알킬렌이민, 폴리알릴아민, 셀룰로오스류(셀룰로오스 또는 그 유도체), 페놀노볼락 수지, 멜라민포름알데히드 수지 등의 직쇄구조 또는 분지구조를 갖는 폴리머, 시클로덱스트린류 등의 환상 폴리머 등을 들 수 있다.(B) As a polymer which is a component, for example, acrylic polymer, polyamic acid, polyimide, polyvinyl alcohol, polyester, polyester polycarboxylic acid, polyether polyol, polyester polyol, polycarbonate polyol, polycaprolactone Polyols, polyalkyleneimines, polyallylamines, celluloses (cellulose or derivatives thereof), phenol novolak resins, polymers having a branched structure or a linear structure such as melamine formaldehyde resins, and cyclic polymers such as cyclodextrins. I can.

이 중, 아크릴 중합체로는 아크릴산에스테르, 메타크릴산에스테르, 스티렌 등의 불포화 이중결합을 갖는 모노머를 중합하여 얻어지는 중합체가 적용될 수 있다.Among these, as the acrylic polymer, a polymer obtained by polymerizing a monomer having an unsaturated double bond such as acrylic acid ester, methacrylic acid ester, and styrene may be applied.

(B)성분인 특정 중합체로는, 바람직하게는, 하이드록시알킬시클로덱스트린류, 셀룰로오스류, 폴리에틸렌글리콜에스테르기 및 탄소원자수 2 내지 5의 하이드록시알킬에스테르기 중 적어도 하나와 카르복실기 및 페놀성 하이드록시기 중 적어도 하나를 갖는 아크릴 중합체, 아미노알킬기를 측쇄에 갖는 아크릴 중합체, 폴리에테르폴리올, 폴리에스테르폴리올, 폴리카보네이트폴리올 그리고 폴리카프로락톤폴리올을 들 수 있다.(B) As the specific polymer which is a component, Preferably, at least one of hydroxyalkylcyclodextrins, celluloses, polyethylene glycol ester groups and hydroxyalkyl ester groups having 2 to 5 carbon atoms, carboxyl group, and phenolic hydroxyl An acrylic polymer having at least one of the periods, an acrylic polymer having an aminoalkyl group in a side chain, a polyether polyol, a polyester polyol, a polycarbonate polyol, and a polycaprolactone polyol.

(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인, 폴리에틸렌글리콜에스테르기 및 탄소원자수 2 내지 5의 하이드록시알킬에스테르기 중 적어도 하나와, 카르복실기 및 페놀성 하이드록시기 중 적어도 하나를 갖는 아크릴 중합체는, 이러한 구조를 갖는 아크릴 중합체이면 되는데, 아크릴 중합체를 구성하는 고분자의 주쇄의 골격 및 측쇄의 종류 등에 대하여 특별히 한정되지 않는다.An acrylic polymer having at least one of a polyethylene glycol ester group and a hydroxyalkyl ester group having 2 to 5 carbon atoms, and at least one of a carboxyl group and a phenolic hydroxy group, which is a preferred example of the specific polymer of component (B), Although it may be an acrylic polymer having a structure, the skeleton of the main chain of the polymer constituting the acrylic polymer and the kind of side chains are not particularly limited.

상기 서술한 폴리에틸렌글리콜에스테르기 및 탄소원자수 2 내지 5의 하이드록시알킬에스테르기 중 적어도 하나를 갖는 구조단위로서, 바람직한 구조단위는 하기 식[B1]로 표시된다.As a structural unit having at least one of the above-described polyethylene glycol ester group and a hydroxyalkyl ester group having 2 to 5 carbon atoms, a preferable structural unit is represented by the following formula [B1].

상기 서술한 카르복실기 및 페놀성 하이드록시기 중 적어도 하나를 갖는 구조단위로서, 바람직한 구조단위는 하기 식[B2]로 표시된다.As the structural unit having at least one of the above-described carboxyl group and phenolic hydroxy group, a preferable structural unit is represented by the following formula [B2].

[화학식 3][Formula 3]

Figure pat00003
Figure pat00003

상기 식[B1] 및 식[B2] 중, X3 및 X4는 각각 독립적으로 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, Y1은 H-(OCH2CH2)n-기(여기서, n의 값은 2 내지 50이고, 바람직하게는 2 내지 10이다.) 또는 탄소원자수 2 내지 5의 하이드록시알킬기를 나타내고, Y2는 카르복실기 또는 페놀성 하이드록시기를 나타낸다.In the above formulas [B1] and [B2], X 3 and X 4 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and Y 1 is an H-(OCH 2 CH 2 )n- group (where n is 2 To 50, preferably 2 to 10.) or a hydroxyalkyl group having 2 to 5 carbon atoms, and Y 2 represents a carboxyl group or a phenolic hydroxy group.

(B)성분의 예인 아크릴 중합체는, 중량평균분자량이 3000 내지 200000인 것이 바람직하고, 4000 내지 150000인 것이 보다 바람직하고, 5000 내지 100000인 것이 더욱 바람직하다. 중량평균분자량이 200000을 초과하여 너무 크면, 용제에 대한 용해성이 저하되어 핸들링성이 저하되는 경우가 있고, 중량평균분자량이 3000 미만으로 너무 작으면, 열경화시에 경화부족이 되어 용제내성 및 내열성이 저하되는 경우가 있다. 한편, 중량평균분자량은, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)에 의해, 표준자료로서 폴리스티렌을 이용하여 얻어지는 값이다. 이하, 본 명세서에서도 동일하게 한다.The acrylic polymer which is an example of the component (B) preferably has a weight average molecular weight of 3000 to 200000, more preferably 4000 to 150000, and still more preferably 5000 to 100000. If the weight average molecular weight exceeds 200000 and is too large, the solubility in the solvent decreases and the handling property may decrease.If the weight average molecular weight is too small, such as less than 3000, the hardening is insufficient during thermal curing, resulting in solvent resistance and heat resistance. This may decrease. On the other hand, the weight average molecular weight is a value obtained by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as standard data. Hereinafter, it is the same in this specification.

(B)성분의 예인 아크릴 중합체의 합성방법으로는, 폴리에틸렌글리콜에스테르기 및 탄소원자수 2 내지 5의 하이드록시알킬에스테르기 중 적어도 하나를 갖는 모노머(이하, b1 모노머라고도 함)와, 카르복실기 및 페놀성 하이드록시기 중 적어도 하나를 갖는 모노머(이하, b2 모노머라고도 함)를 공중합하는 방법이 간편하다.In the synthesis method of the acrylic polymer which is an example of the component (B), a monomer having at least one of a polyethylene glycol ester group and a hydroxyalkyl ester group having 2 to 5 carbon atoms (hereinafter, also referred to as a b1 monomer), a carboxyl group and a phenolic A method of copolymerizing a monomer having at least one of the hydroxy groups (hereinafter, also referred to as b2 monomer) is simple.

상기 서술한 폴리에틸렌글리콜에스테르기를 갖는 모노머로는, H-(OCH2CH2)n-OH의 모노아크릴레이트 또는 모노메타크릴레이트를 들 수 있다. 그 n의 값은 2 내지 50이고, 바람직하게는 2 내지 10이다.As the monomer having the above-described polyethylene glycol ester group, a monoacrylate or monomethacrylate of H-(OCH 2 CH 2 )n-OH is mentioned. The value of n is 2 to 50, preferably 2 to 10.

상기 서술한 탄소원자수 2 내지 5의 하이드록시알킬에스테르기를 갖는 모노머로는, 예를 들어, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트, 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 2-하이드록시프로필메타크릴레이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트, 4-하이드록시부틸아크릴레이트, 4-하이드록시부틸메타크릴레이트를 들 수 있다.As a monomer having the above-described hydroxyalkyl ester group having 2 to 5 carbon atoms, for example, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2 -Hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, and 4-hydroxybutyl methacrylate are mentioned.

상기 서술한 카르복실기를 갖는 모노머로는, 예를 들어, 아크릴산, 메타크릴산, 비닐안식향산을 들 수 있다.As a monomer which has a carboxyl group mentioned above, acrylic acid, methacrylic acid, and vinylbenzoic acid are mentioned, for example.

상기 서술한 페놀성 하이드록시기를 갖는 모노머로는, 예를 들어, p-하이드록시스티렌, m-하이드록시스티렌, o-하이드록시스티렌을 들 수 있다.Examples of the monomer having a phenolic hydroxy group described above include p-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, and o-hydroxystyrene.

또한, 본 실시형태에 있어서는, (B)성분의 예인 아크릴 중합체를 합성하는데 있어서, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, b1 모노머 및 b2 모노머 이외의 모노머, 구체적으로는, 하이드록시기 및 카르복실기를 모두 갖지 않는 모노머를 병용할 수 있다.In addition, in the present embodiment, in synthesizing an acrylic polymer that is an example of component (B), monomers other than the b1 monomer and b2 monomer, specifically, a hydroxy group and a carboxyl group, are prepared as long as the effect of the present invention is not impaired. A monomer which does not have all can be used together.

상기 모노머로는, 예를 들어, 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 프로필아크릴레이트, 이소프로필아크릴레이트, 부틸메타크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트 및 t-부틸아크릴레이트 등의 아크릴산에스테르 화합물, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 프로필메타크릴레이트, 이소프로필메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트 및 t-부틸메타크릴레이트 등의 메타크릴산에스테르 화합물, 말레이미드, N-메틸말레이미드, N-페닐말레이미드 및 N-시클로헥실말레이미드 등의 말레이미드 화합물, 아크릴아미드 화합물, 아크릴로니트릴, 말레산 무수물, 스티렌 화합물 그리고 비닐 화합물 등을 들 수 있다.As the monomer, for example, acrylic acid ester compounds such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, isopropyl acrylate, butyl methacrylate, butyl acrylate, isobutyl acrylate and t-butyl acrylate , Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, isobutyl methacrylate and methacrylic acid ester compounds such as t-butyl methacrylate, maleimide, N-methyl maleimide , Maleimide compounds such as N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide, acrylamide compounds, acrylonitrile, maleic anhydride, styrene compounds, and vinyl compounds.

(B)성분의 예인 아크릴 중합체를 얻기 위해 이용하는 b1 모노머 및 b2 모노머의 사용량은, (B)성분인 아크릴 중합체를 얻기 위해 이용하는 전체 모노머의 합계량에 기초하여, b1 모노머가 2몰% 내지 95몰%, b2 모노머가 5몰% 내지 98몰%인 것이 바람직하다.The amount of the b1 monomer and b2 monomer used to obtain the acrylic polymer as an example of the component (B) is based on the total amount of all monomers used to obtain the acrylic polymer as the component (B), and the amount of the b1 monomer is 2 to 95 mol%. It is preferable that the b2 monomer is 5 mol% to 98 mol%.

b2 모노머로서 카르복실기만을 갖는 모노머를 이용하는 경우, (B)성분인 아크릴 중합체를 얻기 위해 이용하는 전체 모노머의 합계량에 기초하여, b1 모노머가 60몰% 내지 95몰%, b2 모노머가 5몰% 내지 40몰%인 것이 바람직하다.When a monomer having only a carboxyl group is used as the b2 monomer, based on the total amount of all monomers used to obtain the acrylic polymer as component (B), the b1 monomer is 60 mol% to 95 mol%, and the b2 monomer is 5 mol% to 40 mol. It is preferably %.

한편, b2 모노머로서 페놀성 하이드록시기만을 갖는 모노머를 이용하는 경우, b1 모노머가 2몰% 내지 80몰%, b2 모노머가 20몰% 내지 98몰%인 것이 바람직하다. b2 모노머가 20몰%보다 너무 작은 경우에는, 얻어지는 경화막의 액정배향성이 불충분해지기 쉽고, 98몰%보다 너무 큰 경우에는 (A)성분의 저분자 배향성분과의 상용성이 저하되기 쉽다.On the other hand, when a monomer having only a phenolic hydroxy group is used as the b2 monomer, it is preferable that the b1 monomer is 2 mol% to 80 mol% and the b2 monomer is 20 mol% to 98 mol%. When the b2 monomer is too small than 20 mol%, the liquid crystal orientation of the resulting cured film is liable to be insufficient, and when it is too large than 98 mol%, the compatibility of the component (A) with the low molecular orientation component tends to decrease.

(B)성분의 폴리머의 예인 아크릴 중합체를 얻는 방법은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어, b1 모노머와 b2 모노머와 필요에 따라 b1 모노머 및 b2 모노머 이외의 모노머와 중합개시제 등을 공존시킨 용제 중에 있어서, 50℃ 내지 110℃의 온도하에서 중합반응에 의해 얻어진다. 이때, 이용되는 용제는, b1 모노머와 b2 모노머, 필요에 따라 이용되는 b1 모노머 및 b2 모노머 이외의 모노머 및 중합개시제 등을 용해하는 것이라면 특별히 한정되지 않는다. 구체예로는, 후술하는 [용제]의 항에 기재한다.The method of obtaining the acrylic polymer, which is an example of the polymer of the component (B), is not particularly limited, but, for example, in a solvent in which a b1 monomer and a b2 monomer, a monomer other than the b1 and b2 monomers, and a polymerization initiator are coexisted, if necessary. , Obtained by polymerization reaction at a temperature of 50°C to 110°C. In this case, the solvent used is not particularly limited as long as it dissolves a monomer other than the b1 monomer and the b2 monomer, and the b1 monomer and b2 monomer used as necessary, and a polymerization initiator. As a specific example, it describes in the section of [solvent] mentioned later.

(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 아미노알킬기를 측쇄에 갖는 아크릴 중합체는, 예를 들어, 아미노에틸아크릴레이트, 아미노에틸메타크릴레이트, 아미노프로필아크릴레이트 및 아미노프로필메타크릴레이트 등의 아미노알킬에스테르 모노머를 중합한 것, 또는, 그 아미노알킬에스테르 모노머와 상기 아크릴 모노머로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 모노머를 공중합한 것을 들 수 있다.The acrylic polymer having an aminoalkyl group in the side chain, which is a preferred example of the specific polymer of the component (B), is, for example, aminoalkyl such as aminoethyl acrylate, aminoethyl methacrylate, aminopropyl acrylate and aminopropyl methacrylate. The one obtained by polymerizing the ester monomer, or the one obtained by copolymerizing the aminoalkyl ester monomer and one or two or more monomers selected from the above acrylic monomers can be mentioned.

이상의 방법에 의해 얻어지는 (B)성분의 폴리머의 예인 아크릴 중합체는, 통상, 용제에 용해한 용액의 상태이다.The acrylic polymer which is an example of the polymer of the component (B) obtained by the above method is usually in a state of a solution dissolved in a solvent.

또한, 상기 방법으로 얻어진 (B)성분의 폴리머의 예인 아크릴 중합체의 용액을, 교반하의 디에틸에테르나 물 등에 투입하여 재침전시키고, 생성된 침전물을 여과·세정한 후에, 상압 또는 감압하에서, 상온건조 또는 가열건조하여, (B)성분의 예인 아크릴 중합체의 분체로 할 수 있다. 상기 서술한 조작에 의해, (B)성분의 예인 아크릴 중합체와 공존하는 중합개시제 및 미반응 모노머를 제거할 수 있고, 그 결과, 정제한 (B)성분의 예인 아크릴 중합체의 분체가 얻어진다. 한번의 조작으로 충분히 정제할 수 없는 경우에는, 얻어진 분체를 용제에 재용해시키고, 상기 서술한 조작을 반복하여 행하면 된다.In addition, a solution of an acrylic polymer, which is an example of the polymer of component (B) obtained by the above method, was added to diethyl ether or water under stirring to reprecipitate, and the resulting precipitate was filtered and washed, and then under normal pressure or reduced pressure, at room temperature. It can be dried or heat-dried to obtain an acrylic polymer powder which is an example of the component (B). By the above-described operation, the polymerization initiator and unreacted monomer coexisting with the acrylic polymer as an example of the component (B) can be removed, and as a result, powder of the acrylic polymer as an example of the purified component (B) is obtained. When it is not possible to sufficiently purify in one operation, the obtained powder may be re-dissolved in a solvent, and the above-described operation may be repeated.

다음에, (B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 폴리에테르폴리올로는, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜이나 비스페놀A, 트리에틸렌글리콜 및 솔비톨 등의 다가알코올에 프로필렌옥사이드, 폴리에틸렌글리콜 및 폴리프로필렌글리콜 등을 부가한 것을 들 수 있다. 폴리에테르폴리올의 구체예로는 ADEKA Cororation제 ADEKA POLYETHER P시리즈, G시리즈, EDP시리즈, BPX시리즈, FC시리즈, CM시리즈, NOF Corporation제 UNIOX(등록상표) HC-40, HC-60, ST-30E, ST-40E, G-450, G-750, UNIOL(등록상표) TG-330, TG-1000, TG-3000, TG-4000, HS-1600D, DA-400, DA-700, DB-400, NONION(등록상표) LT-221, ST-221, OT-221 등을 들 수 있다.Next, as the polyether polyol, which is a preferred example of the specific polymer of component (B), polyhydric alcohols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, propylene glycol or bisphenol A, triethylene glycol and sorbitol are added to propylene oxide, polyethylene glycol, and polyol. What added propylene glycol etc. is mentioned. Specific examples of polyether polyols include ADEKA Cororation ADEKA POLYETHER P series, G series, EDP series, BPX series, FC series, CM series, NOF Corporation UNIOX (registered trademark) HC-40, HC-60, ST-30E , ST-40E, G-450, G-750, UNIOL (registered trademark) TG-330, TG-1000, TG-3000, TG-4000, HS-1600D, DA-400, DA-700, DB-400, NONION (registered trademark) LT-221, ST-221, OT-221, etc. are mentioned.

(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 폴리에스테르폴리올로는, 아디프산, 세바스산 및 이소프탈산 등의 다가카르본산에 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜 및 폴리프로필렌글리콜 등의 디올을 반응시킨 것을 들 수 있다. 폴리에스테르폴리올의 구체예로는 DIC corporation제 POLYLITE(등록상표) OD-X-286, OD-X-102, OD-X-355, OD-X-2330, OD-X-240, OD-X-668, OD-X-2108, OD-X-2376, OD-X-2044, OD-X-688, OD-X-2068, OD-X-2547, OD-X-2420, OD-X-2523, OD-X-2555, OD-X-2560, Kuraray Co., Ltd.제 POLYOL P-510, P-1010, P-2010, P-3010, P-4010, P-5010, P-6010, F-510, F-1010, F-2010, F-3010, P-1011, P-2011, P-2013, P-2030, N-2010, PNNA-2016 등을 들 수 있다.(B) As a polyester polyol which is a preferred example of the specific polymer of the component, ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol, and polyvalent carboxylic acids such as adipic acid, sebacic acid and isophthalic acid. What made a diol, such as propylene glycol, react is mentioned. As a specific example of a polyester polyol, DIC corporation POLYLITE (registered trademark) OD-X-286, OD-X-102, OD-X-355, OD-X-2330, OD-X-240, OD-X- 668, OD-X-2108, OD-X-2376, OD-X-2044, OD-X-688, OD-X-2068, OD-X-2547, OD-X-2420, OD-X-2523, OD-X-2555, OD-X-2560, Kuraray Co., Ltd. POLYOL P-510, P-1010, P-2010, P-3010, P-4010, P-5010, P-6010, F- 510, F-1010, F-2010, F-3010, P-1011, P-2011, P-2013, P-2030, N-2010, PNNA-2016, and the like.

(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 폴리카프로락톤폴리올로는, 트리메틸올프로판 및 에틸렌글리콜 등의 다가알코올을 개시제로서 ε-카프로락톤을 개환중합시킨 것을 들 수 있다. 폴리카프로락톤폴리올의 구체예로는 DIC Corporation제 POLYLITE(등록상표) OD-X-2155, OD-X-640, OD-X-2568, Daicel Chemical Industries, Ltd.제 PLACCEL(등록상표) 205, L205AL, 205U, 208, 210, 212, L212AL, 220, 230, 240, 303, 305, 308, 312, 320 등을 들 수 있다.As polycaprolactone polyol which is a preferable example of the specific polymer of (B) component, polyhydric alcohols, such as trimethylolpropane and ethylene glycol, as an initiator, ring-opening polymerization of ε-caprolactone are mentioned. Specific examples of the polycaprolactone polyol include DIC Corporation's POLYLITE (registered trademark) OD-X-2155, OD-X-640, OD-X-2568, Daicel Chemical Industries, Ltd. PLACCEL (registered trademark) 205, L205AL. , 205U, 208, 210, 212, L212AL, 220, 230, 240, 303, 305, 308, 312, 320, and the like.

(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 폴리카보네이트폴리올로는, 트리메틸올프로판 및 에틸렌글리콜 등의 다가알코올과 탄산디에틸, 탄산디페닐 및 에틸렌카보네이트 등을 반응시킨 것을 들 수 있다. 폴리카보네이트폴리올의 구체예로는 Daicel Chemical Industries, Ltd.제 PLACCEL(등록상표) CD205, CD205PL, CD210, CD220, Kuraray Co., Ltd.제의 C-590, C-1050, C-2050, C-2090, C-3090 등을 들 수 있다.As a polycarbonate polyol which is a preferable example of the specific polymer of (B) component, what made polyhydric alcohol, such as trimethylolpropane and ethylene glycol, react with diethyl carbonate, diphenyl carbonate, ethylene carbonate, etc. are mentioned. Specific examples of polycarbonate polyols include PLACCEL (registered trademark) CD205, CD205PL, CD210, CD220, C-590, C-1050, C-2050, C- manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., manufactured by Kuraray Co., Ltd. 2090, C-3090, etc. are mentioned.

(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 셀룰로오스로는, 하이드록시에틸셀룰로오스 및 하이드록시프로필셀룰로오스 등의 하이드록시알킬셀룰로오스류, 하이드록시에틸메틸셀룰로오스, 하이드록시프로필메틸셀룰로오스 및 하이드록시에틸에틸셀룰로오스 등의 하이드록시알킬알킬셀룰로오스류 그리고 셀룰로오스 등을 들 수 있는데, 예를 들어, 하이드록시에틸셀룰로오스 및 하이드록시프로필셀룰로오스 등의 하이드록시알킬셀룰로오스류가 바람직하다.As cellulose which is a preferred example of the specific polymer of the component (B), hydroxyalkyl celluloses such as hydroxyethylcellulose and hydroxypropylcellulose, hydroxyethylmethylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose, and hydroxyethylethylcellulose, etc. Hydroxyalkylalkyl celluloses and celluloses, for example, hydroxyalkyl celluloses such as hydroxyethyl cellulose and hydroxypropyl cellulose are preferable.

(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 시클로덱스트린으로는, α-시클로덱스트린, β-시클로덱스트린 및 γ시클로덱스트린 등의 시클로덱스트린, 메틸-α-시클로덱스트린, 메틸-β-시클로덱스트린 및 메틸-γ-시클로덱스트린 등의 메틸화시클로덱스트린, 그리고 하이드록시메틸-α-시클로덱스트린, 하이드록시메틸-β-시클로덱스트린, 하이드록시메틸-γ-시클로덱스트린, 2-하이드록시에틸-α-시클로덱스트린, 2-하이드록시에틸-β-시클로덱스트린, 2-하이드록시에틸-γ-시클로덱스트린, 2-하이드록시프로필-α-시클로덱스트린, 2-하이드록시프로필-β-시클로덱스트린, 2-하이드록시프로필-γ-시클로덱스트린, 3-하이드록시프로필-α-시클로덱스트린, 3-하이드록시프로필-β-시클로덱스트린, 3-하이드록시프로필-γ-시클로덱스트린, 2,3-디하이드록시프로필-α-시클로덱스트린, 2,3-디하이드록시프로필-β-시클로덱스트린 및 2,3-디하이드록시프로필-γ-시클로덱스트린 등의 하이드록시알킬시클로덱스트린 등을 들 수 있다.Cyclodextrins that are preferred examples of the specific polymer of component (B) include cyclodextrins such as α-cyclodextrin, β-cyclodextrin and γ cyclodextrin, methyl-α-cyclodextrin, methyl-β-cyclodextrin and methyl- methylated cyclodextrins such as γ-cyclodextrin, and hydroxymethyl-α-cyclodextrin, hydroxymethyl-β-cyclodextrin, hydroxymethyl-γ-cyclodextrin, 2-hydroxyethyl-α-cyclodextrin, 2 -Hydroxyethyl-β-cyclodextrin, 2-hydroxyethyl-γ-cyclodextrin, 2-hydroxypropyl-α-cyclodextrin, 2-hydroxypropyl-β-cyclodextrin, 2-hydroxypropyl-γ -Cyclodextrin, 3-hydroxypropyl-α-cyclodextrin, 3-hydroxypropyl-β-cyclodextrin, 3-hydroxypropyl-γ-cyclodextrin, 2,3-dihydroxypropyl-α-cyclodextrin , Hydroxyalkylcyclodextrins such as 2,3-dihydroxypropyl-β-cyclodextrin and 2,3-dihydroxypropyl-γ-cyclodextrin, and the like.

(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 멜라민포름알데히드 수지로는, 멜라민과 포름알데히드를 중축합하여 얻어지는 수지 등, 하기 식으로 표시되는 수지 등을 들 수 있다.As melamine formaldehyde resin which is a preferable example of the specific polymer of (B) component, resin etc. represented by the following formula, such as a resin obtained by polycondensing melamine and formaldehyde, etc. are mentioned.

[화학식 4][Formula 4]

Figure pat00004
Figure pat00004

상기 식 중, R21은 수소원자 또는 탄소원자수 1 내지 4의 알킬기를 나타내고, n은 반복단위의 수를 나타내는 자연수이다.In the above formula, R 21 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n is a natural number representing the number of repeating units.

(B)성분의 멜라민포름알데히드 수지는, 보존안정성의 관점에서 멜라민과 포름알데히드의 중축합시에 생성된 메틸올기가 알킬화되어 있는 것이 바람직하다.It is preferable that the melamine formaldehyde resin of the component (B) is alkylated with a methylol group generated during polycondensation of melamine and formaldehyde from the viewpoint of storage stability.

(B)성분의 멜라민포름알데히드 수지를 얻는 방법은 특별히 한정되지는 않으나, 일반적으로 멜라민과 포름알데히드를 혼합하고, 탄산나트륨이나 암모니아 등을 이용하여 약알칼리성으로 한 후 60℃ 내지 100℃에서 가열함으로써 합성된다. 다시 얻어진 수지를 알코올과 반응시킴으로써 메틸올기를 알콕시화할 수 있다.The method of obtaining the melamine formaldehyde resin of component (B) is not particularly limited, but in general, it is synthesized by mixing melamine and formaldehyde, making it weakly alkaline using sodium carbonate or ammonia, and heating at 60 to 100°C. do. The methylol group can be alkoxylated by reacting the resin obtained again with alcohol.

(B)성분의 멜라민포름알데히드 수지는, 중량평균분자량이 250 내지 5000인 것이 바람직하고, 300 내지 4000인 것이 보다 바람직하고, 350 내지 3500인 것이 더욱 바람직하다. 중량평균분자량이 5000을 초과하여 너무 크면, 용제에 대한 용해성이 저하되어 핸들링성이 저하되는 경우가 있고, 중량평균분자량이 250 미만으로 너무 작으면, 열경화시에 경화부족이 되어 용제내성 및 내열성의 향상효과가 충분히 나타나지 않는 경우가 있다.The melamine formaldehyde resin of the component (B) preferably has a weight average molecular weight of 250 to 5000, more preferably 300 to 4000, and still more preferably 350 to 3500. If the weight average molecular weight exceeds 5000 and is too large, the solubility in the solvent is lowered and the handling property is lowered.If the weight average molecular weight is too small, such as less than 250, the hardening is insufficient during thermal curing, resulting in solvent resistance and heat resistance. There are cases where the improvement effect of

본 발명의 실시형태에 있어서는, (B)성분의 멜라민포름알데히드 수지는 액체형태로, 혹은 정제한 액체를 후술하는 용제에 재용해한 용액형태로 이용할 수도 있다.In the embodiment of the present invention, the melamine formaldehyde resin of component (B) may be used in a liquid form or in a solution form obtained by re-dissolving the purified liquid in a solvent described later.

또한, 본 발명의 실시형태에 있어서는, (B)성분의 멜라민포름알데히드 수지는, 복수종의 (B)성분의 멜라민포름알데히드 수지의 혼합물일 수도 있다.In addition, in the embodiment of the present invention, the melamine formaldehyde resin of the component (B) may be a mixture of a plurality of types of melamine formaldehyde resins of the component (B).

(B)성분의 특정 중합체의 바람직한 일 예인 페놀노볼락 수지로는, 예를 들어, 페놀-포름알데히드 중축합물 등을 들 수 있다.As a phenol novolak resin which is a preferable example of the specific polymer of (B) component, a phenol-formaldehyde polycondensate etc. are mentioned, for example.

본 실시형태의 경화막 형성 조성물에 있어서, (B)성분의 폴리머는, 분체형태로, 또는 정제한 분말을 후술하는 용제에 재용해한 용액형태로 이용할 수도 있다.In the cured film forming composition of the present embodiment, the polymer of the component (B) may be used in the form of a powder or in the form of a solution in which the purified powder is redissolved in a solvent to be described later.

또한, 본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물에 있어서, (B)성분은, (B)성분으로서 예시된 폴리머의 복수종의 혼합물일 수도 있다.In addition, in the cured film formation composition of this embodiment, the (B) component may be a mixture of plural kinds of polymers exemplified as the (B) component.

이상과 같이, 본 발명의 본 실시형태의 경화막 형성 조성물은, (A)광배향성기 및 하이드록시기를 갖는 화합물, (B)하이드록시기 및 카르복실기 중 적어도 하나를 갖는 폴리머를 함유하여 구성된다. (A)성분인 화합물에 있어서, 광배향성기는 소수성의 광반응부를 구성하고, 하이드록시기는 친수성의 열반응부를 구성한다. (B)성분의 폴리머는, 상기 서술한 바와 같이 하이드록시기 및 카르복실기 중 적어도 하나를 갖는다.As described above, the cured film forming composition of the present embodiment of the present invention is constituted by containing a polymer having at least one of (A) a photo-alignment group and a hydroxy group, and (B) a hydroxy group and a carboxyl group. In the compound as a component (A), the photo-alignment group constitutes a hydrophobic photoreactive portion, and the hydroxy group constitutes a hydrophilic thermal reaction portion. The polymer of the component (B) has at least one of a hydroxy group and a carboxyl group as described above.

따라서, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물로 형성되는 경화막은, 막 구조가 안정화되도록, (B)성분의 성질에 기인하여, 그 내부가, 친수성이 되어 형성된다. 그리고, 경화막 중의 (A)성분의 화합물은, 경화막의 표면 근방에 편재하게 된다. 보다 구체적으로는, (A)성분의 화합물은, 친수성의 열반응부가 경화막의 내부측을 향하고, 소수성의 광반응부가 표면측을 향하는 구조를 취하면서, 경화막의 표면 근방에 편재한다. 그 결과, 본 실시형태의 경화막은, 표면 근방에 존재하는 (A)성분의 광반응성기의 비율을 증가시킨 구조를 실현하게 된다. 그리고, 본 실시형태의 경화막은, 배향재로서 이용된 경우, 광배향을 위한 광반응의 효율을 향상시킬 수 있어, 우수한 배향감도를 가질 수 있다. 나아가, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물은 패턴화 위상차재의 형성에 호적한 배향재가 되고, 이 경화막 형성 조성물을 이용하여 제조되는 패턴화 위상차재는, 우수한 패턴형성성을 가질 수 있다.Therefore, the cured film formed from the cured film-forming composition of the present embodiment is formed so that the film structure is stabilized, due to the property of the component (B), and the inside thereof becomes hydrophilic. And the compound of the component (A) in the cured film is unevenly distributed in the vicinity of the surface of the cured film. More specifically, the compound of the component (A) is unevenly distributed in the vicinity of the surface of the cured film while taking a structure in which the hydrophilic thermal reaction portion faces the inner side of the cured film and the hydrophobic photo reaction portion faces the surface side. As a result, the cured film of the present embodiment realizes a structure in which the ratio of the photoreactive groups of the component (A) present in the vicinity of the surface is increased. And, when the cured film of this embodiment is used as an alignment material, it can improve the efficiency of the photoreaction for photo-alignment, and can have excellent orientation sensitivity. Furthermore, the cured film-forming composition of the present embodiment becomes an orientation material suitable for formation of a patterned retardation material, and a patterned retardation material produced by using the cured film-forming composition can have excellent pattern formation.

또한, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물은, 상기 서술한 바와 같이, (D)성분으로서, 가교제를 함유할 수 있다. 이에 따라, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물로부터 얻어진 경화막의 내부에서는, (A)성분의 화합물의 광배향성기에 의한 광반응 전에, (D)가교제를 이용한 열반응에 의한 가교반응을 행할 수 있다. 그 결과, 이 경화막이 배향재로서 이용된 경우에, 그 배향재 상에 도포되는 중합성 액정이나 그 용제에 대한 내성을 향상시킬 수 있다.In addition, the cured film formation composition of this embodiment can contain a crosslinking agent as (D) component as mentioned above. Accordingly, in the interior of the cured film obtained from the cured film-forming composition of the present embodiment, a crosslinking reaction by thermal reaction using a crosslinking agent (D) can be performed before the photoreaction of the compound of component (A) by the photo-alignment group. As a result, when this cured film is used as an alignment material, the polymerizable liquid crystal applied on the alignment material and resistance to the solvent can be improved.

그리고, 본 발명의 본 실시형태의 경화막 형성 조성물은, (A)성분 및 (B)성분과 함께, (C)성분으로서, (A)성분 이외의, 하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물을 함유한다. (C)성분인 화합물은, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막을 배향재로서 이용한 경우에, 그 위에 형성되는 경화된 중합성 액정의 층 사이의 밀착성을 강화하도록 기능한다. 다음에, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물에 함유되는 (C)성분에 대하여 설명한다.And the cured film forming composition of this embodiment of the present invention, together with the component (A) and the component (B), as the component (C), having a hydroxyl group and a (meth)acrylic group other than the component (A) Contains compounds. When the cured film obtained from the cured film forming composition of the present embodiment is used as an alignment material, the compound as the component (C) functions to enhance the adhesion between the layers of the cured polymerizable liquid crystal formed thereon. Next, the component (C) contained in the cured film forming composition of the present embodiment will be described.

[(C)성분][(C) ingredient]

본 실시형태의 경화막 형성 조성물에 함유되는 (C)성분은, (A)성분 이외의, 하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물이다.The component (C) contained in the cured film forming composition of the present embodiment is a compound having a hydroxyl group and a (meth)acrylic group other than the component (A).

(C)성분의 화합물은, 1개 이상의 하이드록시기, 및, 1개의 (메트)아크릴기를 갖는 것이 바람직하다.It is preferable that the compound of (C) component has one or more hydroxyl groups and one (meth)acryl group.

(C)성분을 함유하는 본 실시형태의 경화막 형성 조성물로 형성되는 경화막을 배향재로서 이용하는 경우, 배향재와 중합성 액정의 층의 밀착성이 향상되도록, 중합성 액정의 중합성 관능기와 배향재의 가교반응부위를 공유결합에 의해 링크시킬 수 있다. 그 결과, 본 실시형태의 배향재 상에 경화된 중합성 액정을 적층하여 이루어지는 본 실시형태의 위상차재는, 고온고습의 조건하에서도, 강한 밀착성을 유지할 수 있고, 박리 등에 대한 높은 내구성을 나타낼 수 있다.When the cured film formed from the cured film forming composition of the present embodiment containing the component (C) is used as an alignment material, so that the adhesion between the alignment material and the layer of the polymerizable liquid crystal is improved, the polymerizable functional group of the polymerizable liquid crystal and the alignment material are Crosslinking reaction sites can be linked by covalent bonds. As a result, the retardation material of this embodiment obtained by laminating a cured polymerizable liquid crystal on the alignment material of this embodiment can maintain strong adhesion even under conditions of high temperature and high humidity, and can exhibit high durability against peeling, etc. .

본 발명의 실시형태의 경화막 형성 조성물에 있어서의 (C)성분의 함유량은, (A)성분인 화합물과 (B)성분의 폴리머의 합계량 100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1질량부 내지 40질량부이고, 더욱 바람직하게는 5질량부 내지 35질량부이다. (C)성분의 함유량을 0.1질량부 이상으로 함으로써, 형성되는 경화막에 충분한 밀착성을 부여할 수 있다. 그러나, 40질량부보다 많은 경우, 경화막 형성 조성물의 보존안정성이 저하되는 경우가 있다.The content of the component (C) in the cured film forming composition of the embodiment of the present invention is preferably 0.1 to 40 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the compound as the component (A) and the polymer of the component (B). It is a mass part, More preferably, it is 5 mass parts-35 mass parts. By setting the content of the component (C) to 0.1 parts by mass or more, sufficient adhesion can be provided to the formed cured film. However, when it is more than 40 parts by mass, the storage stability of the cured film-forming composition may decrease.

또한, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물에 있어서, (C)성분은, (C)성분의 화합물의 복수종의 혼합물일 수도 있다.In addition, in the cured film formation composition of this embodiment, (C) component may be a mixture of multiple types of the compound of (C) component.

이하에, (C)성분의 화합물의 바람직한 예를 든다. 한편, (C)성분의 화합물은, 이하의 화합물 예로 한정되는 것은 아니다.Below, a preferable example of the compound of (C) component is given. In addition, the compound of (C) component is not limited to the following compound examples.

[화학식 5][Formula 5]

Figure pat00005
Figure pat00005

(상기 식 중, R11은 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, m은 1 내지 10의 정수를 나타낸다.)(In the above formula, R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group, and m represents an integer of 1 to 10.)

[(D)성분][(D) ingredient]

본 실시형태의 경화막 형성 조성물은, (D)성분으로서, 가교제를 함유할 수 있다.The cured film formation composition of this embodiment can contain a crosslinking agent as (D) component.

보다 상세하게는, (D)성분은, 상기 서술한 (A)성분의 화합물, (B)성분의 폴리머 및 (C)성분의 화합물과 반응하고, 또한 (A)성분의 화합물의 승화온도보다 저온에서 반응하는 가교제이다. (D)성분의 가교제는, (A)성분의 화합물의 승화온도보다 저온에서, (A)성분인 화합물의 하이드록시기, (B)성분인 폴리머에 포함되는 하이드록시기 및/또는 카르복실기, (C)성분인 화합물의 하이드록시기와 결합한다. 그 결과, 후술하는 바와 같이, (A)성분의 화합물, (B)성분의 폴리머 및 (C)성분의 화합물과, (D)성분인 가교제가 열반응할 때에, (A)성분의 화합물이 승화되는 것을 억제할 수 있다. 그리고, 본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물은, 경화막으로서, 상기 서술한 바와 같이, 광반응 효율이 높은 배향재를 형성할 수 있다.More specifically, (D) component reacts with the compound of component (A), the polymer of component (B) and the compound of component (C) described above, and is lower than the sublimation temperature of the compound of component (A). It is a crosslinking agent that reacts in. The crosslinking agent of the (D) component is at a lower temperature than the sublimation temperature of the compound of the component (A), the hydroxyl group of the compound as the component (A), the hydroxyl group and/or carboxyl group contained in the polymer as the component (B), ( C) It binds to the hydroxy group of the compound which is a component. As a result, as described later, when the compound of the component (A), the polymer of the component (B) and the compound of the component (C) and the crosslinking agent that is the component (D) react thermally, the compound of the component (A) sublimates. It can be suppressed from becoming. And the cured film forming composition of this embodiment can form an alignment material with high photoreaction efficiency as mentioned above as a cured film.

그리고, 본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물에 있어서, (D)성분의 가교제는, 친수성인 것이 바람직하다. 본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물을 이용하여 경화막을 형성할 때에, 막 중에 (D)성분의 가교제를 호적하게 분산시키기 위함이다.And in the cured film formation composition of this embodiment, it is preferable that the crosslinking agent of (D) component is hydrophilic. When forming a cured film using the cured film forming composition of the present embodiment, it is to suitably disperse the crosslinking agent of the component (D) in the film.

(D)성분인 가교제로는, 에폭시 화합물, 메틸올 화합물 및 이소시아네이트 화합물 등의 화합물을 들 수 있는데, 바람직하게는 메틸올 화합물이다.Although compounds such as an epoxy compound, a methylol compound, and an isocyanate compound are mentioned as a crosslinking agent which is a component (D), Preferably it is a methylol compound.

상기 서술한 메틸올 화합물의 구체예로는, 예를 들어, 알콕시메틸화글리콜우릴, 알콕시메틸화벤조구아나민 및 알콕시메틸화멜라민 등의 화합물을 들 수 있다.As a specific example of the above-mentioned methylol compound, compounds, such as alkoxy methylation glycoluril, alkoxy methylation benzoguanamine, and alkoxy methylation melamine, are mentioned, for example.

상기 서술한 알콕시메틸화글리콜우릴의 구체예로는, 예를 들어, 1,3,4,6-테트라키스(메톡시메틸)글리콜우릴, 1,3,4,6-테트라키스(부톡시메틸)글리콜우릴, 1,3,4,6-테트라키스(하이드록시메틸)글리콜우릴, 1,3-비스(하이드록시메틸)요소, 1,1,3,3-테트라키스(부톡시메틸)요소, 1,1,3,3-테트라키스(메톡시메틸)요소, 1,3-비스(하이드록시메틸)-4,5-디하이드록시-2-이미다졸리논, 및 1,3-비스(메톡시메틸)-4,5-디메톡시-2-이미다졸리논 등을 들 수 있다. 시판품으로서, Mitsui Cytec Ltd.제 글리콜우릴 화합물(상품명: CYMEL(등록상표) 1170, POWDERLINK(등록상표) 1174) 등의 화합물, 메틸화요소 수지(상품명: UFR(등록상표) 65), 부틸화요소 수지(상품명: UFR(등록상표) 300, U-VAN10S60, U-VAN10R, U-VAN11HV), DIC Corporation제 요소/포름알데히드계 수지(고축합형, 상품명: BECKMINE(등록상표) J-300S, 동(同) P-955, 동 N) 등을 들 수 있다.As specific examples of the alkoxymethylated glycoluril described above, for example, 1,3,4,6-tetrakis (methoxymethyl) glycoluril, 1,3,4,6-tetrakis (butoxymethyl) Glycoluril, 1,3,4,6-tetrakis (hydroxymethyl) glycoluril, 1,3-bis (hydroxymethyl) urea, 1,1,3,3-tetrakis (butoxymethyl) urea, 1,1,3,3-tetrakis(methoxymethyl)urea, 1,3-bis(hydroxymethyl)-4,5-dihydroxy-2-imidazolinone, and 1,3-bis( Methoxymethyl)-4,5-dimethoxy-2-imidazolinone, etc. are mentioned. As commercial products, Mitsui Cytec Ltd. made glycoluril compound (trade name: CYMEL (registered trademark) 1170, POWDERLINK (registered trademark) 1174), and other compounds, methylated urea resin (trade name: UFR (registered trademark) 65), butylated urea resin (Brand name: UFR (registered trademark) 300, U-VAN10S60, U-VAN10R, U-VAN11HV), urea/formaldehyde resin (high condensation type, brand name: BECKMINE (registered trademark) J-300S, copper ( Same) P-955, the same N), etc. are mentioned.

상기 서술한 알콕시메틸화벤조구아나민의 구체예로는, 예를 들어, 테트라메톡시메틸벤조구아나민 등을 들 수 있다. 시판품으로서, Mitsui Cytec Ltd.제(상품명: CYMEL(등록상표) 1123), Sanwa Chemical Co., Ltd.제(상품명: NIKALAC(등록상표) BX-4000, 동 BX-37, 동 BL-60, 동 BX-55H) 등을 들 수 있다.As a specific example of the alkoxymethylated benzoguanamine mentioned above, tetramethoxymethylbenzoguanamine etc. are mentioned, for example. As a commercial item, Mitsui Cytec Ltd. product (brand name: CYMEL (registered trademark) 1123), Sanwa Chemical Co., Ltd. product (brand name: NIKALAC (registered trademark) BX-4000, copper BX-37, copper BL-60, copper BX-55H) etc. are mentioned.

상기 서술한 알콕시메틸화멜라민의 구체예로는, 예를 들어, 헥사메톡시메틸멜라민 등을 들 수 있다. 시판품으로서, Mitsui Cytec Ltd.제 메톡시메틸형 멜라민 화합물(상품명: CYMEL(등록상표) 300, 동 301, 동 303, 동 350), 부톡시메틸형 멜라민 화합물(상품명: MYCOAT(등록상표) 506, 동 508), Sanwa Chemical Co., Ltd.제 메톡시메틸형 멜라민 화합물(상품명: NIKALAC(등록상표) MW-30, 동 MW-22, 동 MW-11, 동 MS-001, 동 MX-002, 동 MX-730, 동 MX-750, 동 MX-035), 부톡시메틸형 멜라민 화합물(상품명: NIKALAC(등록상표) MX-45, 동 MX-410, 동 MX-302) 등을 들 수 있다.As a specific example of the alkoxymethylated melamine mentioned above, hexamethoxymethylmelamine etc. are mentioned, for example. As a commercial item, Mitsui Cytec Ltd. methoxymethyl type melamine compound (trade name: CYMEL (registered trademark) 300, copper 301, copper 303, copper 350), butoxymethyl type melamine compound (trade name: MYCOAT (registered trademark) 506, 508), a methoxymethyl melamine compound (trade name: NIKALAC (registered trademark) MW-30, MW-22, MW-11, MS-001, MX-002, manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.) MX-730, MX-750, MX-035), butoxymethyl-type melamine compound (trade name: NIKALAC (registered trademark) MX-45, MX-410, MX-302), etc. are mentioned.

또한, 이러한 아미노기의 수소원자가 메틸올기 또는 알콕시메틸기로 치환된 멜라민 화합물, 요소 화합물, 글리콜우릴 화합물 및 벤조구아나민 화합물을 축합시켜 얻어지는 화합물일 수도 있다. 예를 들어, 미국특허 제6323310호에 기재되어 있는 멜라민 화합물 및 벤조구아나민 화합물로부터 제조되는 고분자량의 화합물을 들 수 있다. 상기 멜라민 화합물의 시판품으로는, 상품명: CYMEL(등록상표) 303(Mitsui Cytec Ltd.제) 등을 들 수 있고, 상기 벤조구아나민 화합물의 시판품으로는, 상품명: CYMEL(등록상표) 1123(Mitsui Cytec Ltd.제) 등을 들 수 있다.Further, it may be a compound obtained by condensing a melamine compound, a urea compound, a glycoluril compound and a benzoguanamine compound in which the hydrogen atom of such an amino group is substituted with a methylol group or an alkoxymethyl group. For example, a high molecular weight compound prepared from a melamine compound and a benzoguanamine compound described in US Patent No. 6323310 may be mentioned. As a commercial item of the said melamine compound, a brand name: CYMEL (registered trademark) 303 (manufactured by Mitsui Cytec Ltd.) may be mentioned, and as a commercial item of the benzoguanamine compound, a brand name: CYMEL (registered trademark) 1123 (Mitsui Cytec Ltd.), etc. are mentioned.

나아가, (D)성분으로는, N-하이드록시메틸아크릴아미드, N-메톡시메틸메타크릴아미드, N-에톡시메틸아크릴아미드 및 N-부톡시메틸메타크릴아미드 등의 하이드록시메틸기 또는 알콕시메틸기로 치환된 아크릴아미드 화합물 또는 메타크릴아미드 화합물을 사용하여 제조되는 폴리머도 이용할 수 있다.Further, as the component (D), a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group such as N-hydroxymethylacrylamide, N-methoxymethylmethacrylamide, N-ethoxymethylacrylamide and N-butoxymethylmethacrylamide A polymer prepared using an acrylamide compound or a methacrylamide compound substituted with may also be used.

상기 폴리머로는, 예를 들어, 폴리(N-부톡시메틸아크릴아미드), N-부톡시메틸아크릴아미드와 스티렌의 공중합체, N-하이드록시메틸메타크릴아미드와 메틸메타크릴레이트의 공중합체, N-에톡시메틸메타크릴아미드와 벤질메타크릴레이트의 공중합체, 및, N-부톡시메틸아크릴아미드와 벤질메타크릴레이트와 2-하이드록시프로필메타크릴레이트의 공중합체 등을 들 수 있다. 이러한 폴리머의 중량평균분자량은, 1000 내지 500000이고, 바람직하게는, 2000 내지 200000이고, 보다 바람직하게는 3000 내지 150000이고, 더욱 바람직하게는 3000 내지 50000이다.Examples of the polymer include poly(N-butoxymethylacrylamide), a copolymer of N-butoxymethylacrylamide and styrene, a copolymer of N-hydroxymethylmethacrylamide and methylmethacrylate, A copolymer of N-ethoxymethyl methacrylamide and benzyl methacrylate, and a copolymer of N-butoxymethylacrylamide, benzyl methacrylate and 2-hydroxypropyl methacrylate, and the like. The weight average molecular weight of such a polymer is 1000 to 500000, preferably 2000 to 200000, more preferably 3000 to 150000, still more preferably 3000 to 50000.

이들 가교제는, 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.These crosslinking agents can be used alone or in combination of two or more.

본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물에 있어서의 (D)성분의 가교제의 함유량은, (A)성분인 화합물과 (B)성분의 폴리머의 합계량 100질량부에 기초하여 10질량부 내지 100질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 15질량부 내지 80질량부이다. 가교제의 함유량이 10질량부보다 너무 작은 경우에는, 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막의 용제내성 및 내열성이 저하되고, 광배향시의 배향감도가 저하된다. 한편, 함유량이 100질량부보다 너무 큰 경우에는 광배향성 및 보존안정성이 저하되는 경우가 있다.The content of the crosslinking agent of the component (D) in the cured film forming composition of the present embodiment is 10 parts by mass to 100 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the compound as the component (A) and the polymer of the component (B). It is preferable, and more preferably, it is 15 mass parts-80 mass parts. When the content of the crosslinking agent is too small than 10 parts by mass, the solvent resistance and heat resistance of the cured film obtained from the cured film-forming composition decrease, and the orientation sensitivity at the time of photo-alignment decreases. On the other hand, when the content is too large than 100 parts by mass, the photo-alignment property and storage stability may decrease.

[(E)성분][(E) component]

본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물은, 상기 서술한 (A)성분, (B)성분 및 (C)성분에 더하여, 상기 서술한 (D)성분을 함유할 수 있고, 추가로, (E)성분으로서 가교촉매를 함유할 수 있다.In addition to the component (A), the component (B) and the component (C), the cured film forming composition of the present embodiment may contain the component (D) described above, and further, (E) It may contain a crosslinking catalyst as a component.

(E)성분인 가교촉매로는, 예를 들어, 산 또는 열산발생제로 할 수 있다. 이 (E)성분은, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물을 이용한 경화막의 형성에 있어서, 열경화 반응의 촉진에 유효해진다.(E) As a crosslinking catalyst which is a component, it can be set as an acid or a thermal acid generator, for example. This component (E) becomes effective for accelerating a thermosetting reaction in formation of a cured film using the cured film forming composition of the present embodiment.

(E)성분으로서 산 또는 열산발생제를 이용하는 경우, (E)성분은, 설폰산기 함유 화합물, 염산 또는 그 염, 프리베이크 또는 포스트베이크시에 열분해되어 산을 발생하는 화합물, 즉 온도 80℃ 내지 250℃에서 열분해되어 산을 발생하는 화합물이라면 특별히 한정되는 것은 아니다.When an acid or a thermal acid generator is used as the component (E), the component (E) is a compound containing a sulfonic acid group, hydrochloric acid or a salt thereof, a compound that thermally decomposes during pre-baking or post-baking to generate an acid, that is, a temperature of 80°C to It is not particularly limited as long as it is a compound that generates an acid by thermal decomposition at 250°C.

이러한 화합물로는, 예를 들어, 염산, 메탄설폰산, 에탄설폰산, 프로판설폰산, 부탄설폰산, 펜탄설폰산, 옥탄설폰산, 벤젠설폰산, p-톨루엔설폰산, 캠퍼설폰산, 트리플루오로메탄설폰산, p-페놀설폰산, 2-나프탈렌설폰산, 메시틸렌설폰산, p-자일렌-2-설폰산, m-자일렌-2-설폰산, 4-에틸벤젠설폰산, 1H,1H,2H,2H-퍼플루오로옥탄설폰산, 퍼플루오로(2-에톡시에탄)설폰산, 펜타플루오로에탄설폰산, 노나플루오로부탄-1-설폰산, 도데실벤젠설폰산 등의 설폰산 또는 그의 수화물이나 염 등을 들 수 있다.Such compounds include, for example, hydrochloric acid, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, propanesulfonic acid, butanesulfonic acid, pentanesulfonic acid, octanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, tri Fluoromethanesulfonic acid, p-phenolsulfonic acid, 2-naphthalenesulfonic acid, mesitylenesulfonic acid, p-xylene-2-sulfonic acid, m-xylene-2-sulfonic acid, 4-ethylbenzenesulfonic acid, 1H,1H,2H,2H-perfluorooctanesulfonic acid, perfluoro(2-ethoxyethane)sulfonic acid, pentafluoroethanesulfonic acid, nonafluorobutane-1-sulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid Sulfonic acids such as, or hydrates and salts thereof.

또한, 열에 의해 산을 발생하는 화합물로는, 예를 들어, 비스(토실옥시)에탄, 비스(토실옥시)프로판, 비스(토실옥시)부탄, p-니트로벤질토실레이트, o-니트로벤질토실레이트, 1,2,3-페닐렌트리스(메틸설포네이트), p-톨루엔설폰산피리디늄염, p-톨루엔설폰산모폴리늄염, p-톨루엔설폰산에틸에스테르, p-톨루엔설폰산프로필에스테르, p-톨루엔설폰산부틸에스테르, p-톨루엔설폰산이소부틸에스테르, p-톨루엔설폰산메틸에스테르, p-톨루엔설폰산페네틸에스테르, 시아노메틸p-톨루엔설포네이트, 2,2,2-트리플루오로에틸p-톨루엔설포네이트, 2-하이드록시부틸p-토실레이트, N-에틸-4-톨루엔설폰아미드, 및 하기 식[PAG-1] 내지 식[PAG-41]으로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.In addition, as a compound that generates an acid by heat, for example, bis(tosyloxy)ethane, bis(tosyloxy)propane, bis(tosyloxy)butane, p-nitrobenzyltosylate, o-nitrobenzyltosylate , 1,2,3-phenylene tris (methylsulfonate), p-toluenesulfonic acid pyridinium salt, p-toluenesulfonic acid morpholinium salt, p-toluenesulfonic acid ethyl ester, p-toluenesulfonic acid propyl ester, p- Toluenesulfonic acid butyl ester, p-toluenesulfonic acid isobutyl ester, p-toluenesulfonic acid methyl ester, p-toluenesulfonic acid phenethyl ester, cyanomethylp-toluenesulfonate, 2,2,2-trifluoroethyl p-toluenesulfonate, 2-hydroxybutyl p-tosylate, N-ethyl-4-toluenesulfonamide, and compounds represented by the following formulas [PAG-1] to [PAG-41], and the like. .

[화학식 6][Formula 6]

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[화학식 7][Formula 7]

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[화학식 8][Formula 8]

Figure pat00008
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[화학식 9][Formula 9]

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[화학식 10][Formula 10]

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[화학식 11][Formula 11]

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[화학식 12][Formula 12]

Figure pat00012
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본 발명의 실시형태의 경화막 형성 조성물에 있어서의 (E)성분의 가교촉매의 함유량은, (A)성분인 화합물과 (B)성분의 폴리머의 합계량 100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.01질량부 내지 10질량부, 보다 바람직하게는 0.05질량부 내지 8질량부, 더욱 바람직하게는 0.1질량부 내지 6질량부이다. (E)성분의 함유량을 0.01질량부 이상으로 함으로써, 본 발명의 실시형태의 경화막에 충분한 열경화성과 용제내성을 부여할 수 있고, 노광광에 대한 높은 감도도 부여할 수 있다. 또한, (E)성분의 함유량을 10질량부 이하로 함으로써, 경화막 형성 조성물의 보존안정성을 양호하게 할 수 있다.The content of the crosslinking catalyst of the component (E) in the cured film forming composition of the embodiment of the present invention is preferably 0.01 mass per 100 parts by mass of the total amount of the compound as the component (A) and the polymer of the component (B). It is a part by mass to 10 mass parts, More preferably, it is 0.05 mass part to 8 mass parts, More preferably, it is 0.1 mass part to 6 mass parts. By setting the content of the component (E) to 0.01 parts by mass or more, sufficient thermosetting and solvent resistance can be provided to the cured film of the embodiment of the present invention, and high sensitivity to exposure light can also be provided. In addition, the storage stability of the cured film-forming composition can be improved by making the content of the component (E) 10 parts by mass or less.

[기타 첨가제][Other additives]

본 발명의 실시형태의 경화막 형성 조성물은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, 기타 첨가제를 함유할 수 있다.The cured film-forming composition of the embodiment of the present invention may contain other additives as long as the effects of the present invention are not impaired.

기타 첨가제로는, 예를 들어, 증감제를 함유할 수 있다. 증감제는, 본 실시형태의 경화막 형성 조성물로부터 본 발명의 실시형태의 경화막을 형성할 때에, 그 광반응을 촉진시키는데 있어서 유효해진다.Other additives may contain, for example, a sensitizer. The sensitizer becomes effective in accelerating the photoreaction when forming the cured film of the embodiment of the present invention from the cured film forming composition of the present embodiment.

증감제로는, 벤조페논, 안트라센, 안트라퀴논 및 티옥산톤 등의 유도체 그리고 니트로페닐 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중 벤조페논의 유도체인 N,N-디에틸아미노벤조페논 그리고 니트로페닐 화합물인 2-니트로플루오렌, 2-니트로플루오레논, 5-니트로아세나프텐, 4-니트로비페닐, 4-니트로계피산, 4-니트로스틸벤, 4-니트로벤조페논 및 5-니트로인돌이 특히 바람직하다.Examples of the sensitizer include derivatives such as benzophenone, anthracene, anthraquinone and thioxanthone, and a nitrophenyl compound. Among these, N,N-diethylaminobenzophenone, a derivative of benzophenone, and 2-nitrofluorene, 2-nitrofluorenone, 5-nitroacenaphthene, 4-nitrobiphenyl, 4-nitrocinic acid, 4 Particularly preferred are nitrostilbene, 4-nitrobenzophenone and 5-nitroindole.

이들 증감제는 특별히 상기 서술한 것으로 한정되는 것은 아니다. 이들은, 단독 또는 2종 이상의 화합물을 병용하는 것이 가능하다.These sensitizers are not particularly limited to those described above. These can be used alone or in combination of two or more kinds of compounds.

본 발명의 실시형태에 있어서, 증감제의 사용비율은, (A)성분의 100질량부에 대하여 0.1질량부 내지 20질량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.2질량부 내지 10질량부이다. 이 비율이 너무 작은 경우에는, 증감제로서의 효과가 충분히 얻어지지 않는 경우가 있으며, 이 비율이 너무 큰 경우에는, 형성되는 경화막의 투과율이 저하되거나 도막이 거칠어지는 경우가 있다.In the embodiment of the present invention, the ratio of use of the sensitizer is preferably 0.1 parts by mass to 20 parts by mass, and more preferably 0.2 parts by mass to 10 parts by mass based on 100 parts by mass of the component (A). When this ratio is too small, the effect as a sensitizer may not be sufficiently obtained, and when this ratio is too large, the transmittance of the formed cured film may decrease or the coating film may become rough.

또한, 본 발명의 실시형태의 경화막 형성 조성물은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, 기타 첨가제로서, 실란 커플링제, 계면활성제, 레올로지 조정제, 안료, 염료, 보존안정제, 소포제, 산화방지제 등을 함유할 수 있다.In addition, the cured film forming composition of the embodiment of the present invention, as other additives, as long as the effect of the present invention is not impaired, a silane coupling agent, a surfactant, a rheology modifier, a pigment, a dye, a storage stabilizer, an antifoaming agent, an antioxidant. And the like.

[용제][solvent]

본 발명의 실시형태의 경화막 형성 조성물은, 용제에 용해된 용액상태로 이용되는 경우가 많다. 이때 이용되는 용제는, (A)성분, (B)성분 및 (C)성분, 필요에 따라 (D)성분, (E)성분, 및/또는, 기타 첨가제를 용해하는 것이며, 이러한 용해능을 갖는 용제이면, 그 종류 및 구조 등은 특별히 한정되지 않는다.The cured film-forming composition of the embodiment of the present invention is often used in a solution state dissolved in a solvent. The solvent used at this time is one that dissolves (A) component, (B) component and (C) component, if necessary, (D) component, (E) component, and/or other additives, and has such a solubility If it is a solvent, the kind and structure, etc. are not specifically limited.

용제의 구체예를 들면, 예를 들어, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트, 톨루엔, 자일렌, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 2-부타논, 3-메틸-2-펜타논, 2-펜타논, 2-헵타논, γ-부티로락톤, 2-하이드록시프로피온산에틸, 2-하이드록시-2-메틸프로피온산에틸, 에톡시아세트산에틸, 하이드록시아세트산에틸, 2-하이드록시-3-메틸부탄산메틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 유산에틸, 유산부틸, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 및 N-메틸피롤리돈 등을 들 수 있다.Specific examples of the solvent, for example, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene Glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-butanone, 3-methyl-2-penta Non, 2-pentanone, 2-heptanone, γ-butyrolactone, 2-hydroxy ethyl propionate, 2-hydroxy-2-methyl ethyl propionate, ethyl ethoxy acetate, ethyl hydroxy acetate, 2-hydroxy -3-methylbutanoate, 3-methoxy methyl propionate, 3-methoxy ethyl propionate, 3-ethoxy ethyl propionate, 3-ethoxy methyl propionate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate , Butyl lactate, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone.

이들 용제는, 1종 단독으로, 또는 2종 이상의 조합으로 사용할 수 있다. 이들 용제 중, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 2-헵타논, 프로필렌글리콜프로필에테르, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트, 유산에틸, 유산부틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산에틸 및 3-에톡시프로피온산메틸은 성막성이 양호하고 안전성이 높으므로 보다 바람직하다.These solvents can be used alone or in combination of two or more. Among these solvents, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, cyclohexanone, 2-heptanone, propylene glycol propyl ether, propylene glycol propyl ether acetate, ethyl lactate, butyl lactate, 3-methoxy methyl propionate, Ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, and methyl 3-ethoxypropionate are more preferable because film-forming properties are good and safety is high.

<경화막 형성 조성물의 조제><Preparation of cured film forming composition>

본 발명의 실시형태의 경화막 형성 조성물은, 광배향성을 갖는 열경화성의 경화막 형성 조성물이다. 본 실시형태의 경화막 형성 조성물은, 상기 서술한 바와 같이, (A)성분인 저분자 배향성분, (B)성분인 하이드록시기 및 카르복실기 중 적어도 하나를 갖는 폴리머, 그리고, (C)성분인 (A)성분 이외의, 하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물을 함유한다. 나아가, (D)성분으로서 가교제를 함유할 수 있고, (E)성분으로서 가교촉매를 함유할 수 있다. 그리고, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, 기타 첨가제를 함유할 수 있고, 추가로, 용제를 함유할 수 있다.The cured film forming composition of the embodiment of the present invention is a thermosetting cured film forming composition having photo-alignment. As described above, the cured film forming composition of the present embodiment is a polymer having at least one of a hydroxy group and a carboxyl group as a component (A), a low molecular orientation component as a component (B), and a (C) component as a ( It contains the compound which has a hydroxyl group and a (meth)acrylic group other than the A) component. Furthermore, a crosslinking agent can be contained as a component (D), and a crosslinking catalyst can be contained as a component (E). And, as long as the effect of the present invention is not impaired, other additives may be contained, and further, a solvent may be contained.

(A)성분과 (B)성분의 배합비는, 질량비로 5:95 내지 60:40이 바람직하다. (B)성분의 함유량이 너무 큰 경우에는 액정배향성이 저하되기 쉽고, 너무 작은 경우에는 용제내성이 저하됨에 따라 배향성이 저하되기 쉽다.The mixing ratio of the component (A) and the component (B) is preferably 5:95 to 60:40 in terms of mass ratio. When the content of the component (B) is too large, the liquid crystal orientation tends to decrease, and when the content is too small, the orientation property tends to decrease as the solvent resistance decreases.

본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물의 바람직한 예는, 이하와 같다.Preferred examples of the cured film forming composition of the present embodiment are as follows.

[1]: (A)성분과 (B)성분의 배합비가 질량비로 5:95 내지 60:40이고, (A)성분과 (B)성분의 합계량 100질량부에 기초하여, 0.1질량부 내지 40질량부의 (C)성분을 함유하는 경화막 형성 조성물.[1]: The blending ratio of the component (A) and the component (B) is 5:95 to 60:40 by mass, and 0.1 to 40 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B) A cured film forming composition containing the component (C) in parts by mass.

[1]: (A)성분과 (B)성분의 배합비가 질량비로 5:95 내지 60:40이고, (A)성분과 (B)성분의 합계량 100질량부에 기초하여, 0.1질량부 내지 40질량부의 (C)성분, 용제를 함유하는 경화막 형성 조성물.[1]: The blending ratio of the component (A) and the component (B) is 5:95 to 60:40 by mass, and 0.1 to 40 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B) A cured film-forming composition containing the component (C) and a solvent in parts by mass.

[1]: (A)성분과 (B)성분의 배합비가 질량비로 5:95 내지 60:40이고, (A)성분과 (B)성분의 합계량 100질량부에 기초하여, 0.1질량부 내지 40질량부의 (C)성분, 10질량부 내지 100질량부의 (D)성분, 용제를 함유하는 경화막 형성 조성물.[1]: The blending ratio of the component (A) and the component (B) is 5:95 to 60:40 by mass, and 0.1 to 40 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B) A cured film-forming composition containing a component (C), a component (D) of 10 parts by mass to 100 parts by mass, and a solvent.

[1]: (A)성분과 (B)성분의 배합비가 질량비로 5:95 내지 60:40이고, (A)성분과 (B)성분의 합계량 100질량부에 기초하여, 0.1질량부 내지 40질량부의 (C)성분, 10질량부 내지 100질량부의 (D)성분, 0.01질량부 내지 10질량부의 (E)성분, 용제를 함유하는 경화막 형성 조성물.[1]: The blending ratio of the component (A) and the component (B) is 5:95 to 60:40 by mass, and 0.1 to 40 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the component (A) and the component (B) A cured film-forming composition containing (C) component, 10 mass parts-100 mass parts (D) component, 0.01 mass parts-10 mass parts (E) component, and a solvent in mass parts.

본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물을 용액으로 이용하는 경우의 배합비율, 조제방법 등을 이하에 상세히 서술한다.In the case of using the cured film forming composition of the present embodiment as a solution, the mixing ratio, preparation method, etc. will be described in detail below.

본 실시형태의 경화막 형성 조성물에 있어서의 고형분의 비율은, 각 성분이 균일하게 용제에 용해되어 있는 한, 특별히 한정되지 않으나, 1질량% 내지 80질량%이고, 바람직하게는 3질량% 내지 60질량%이고, 보다 바람직하게는 5질량% 내지 40질량%이다. 여기서, 고형분이란, 경화막 형성 조성물의 전체성분에서 용제를 제외한 것을 말한다.The ratio of the solid content in the cured film forming composition of the present embodiment is not particularly limited as long as each component is uniformly dissolved in the solvent, but is 1% by mass to 80% by mass, and preferably 3% by mass to 60% by mass. It is mass %, More preferably, it is 5 mass%-40 mass %. Here, the solid content refers to the thing excluding the solvent from all components of the cured film-forming composition.

본 실시형태의 경화막 형성 조성물의 조제방법은, 특별히 한정되지 않는다. 조제방법으로는, 예를 들어, (B)성분을 용제에 용해하여 얻은 용액에, (A)성분 및 (C)성분, 더 나아가 (D)성분, (E)성분을 소정의 비율로 혼합하여, 균일한 용액으로 하는 방법, 또는, 이 조제방법의 적당한 단계에서, 필요에 따라 기타 첨가제를 추가로 첨가하여 혼합하는 방법을 들 수 있다.The preparation method of the cured film-forming composition of this embodiment is not specifically limited. As a preparation method, for example, in a solution obtained by dissolving the component (B) in a solvent, the component (A) and the component (C), furthermore, the component (D) and the component (E) are mixed in a predetermined ratio. , A method of obtaining a homogeneous solution, or a method of adding and mixing other additives as necessary at an appropriate stage of this preparation method.

본 실시형태의 경화막 형성 조성물의 조제에 있어서는, 용제 중의 중합반응에 의해 얻어지는 특정 공중합체의 용액을 그대로 사용할 수 있다. 이 경우, 예를 들어, 폴리에틸렌글리콜에스테르기를 갖는 모노머 및 탄소원자수 2 내지 5의 하이드록시알킬에스테르기를 갖는 모노머 중 적어도 하나와, 카르복실기를 갖는 모노머 및 페놀성 하이드록시기를 갖는 모노머 중 적어도 하나를 공중합시켜 얻어지는 (B)성분의 용액에, 상기 서술한 것과 동일하게 (A)성분 및 (C)성분, 더 나아가, (D)성분, (E)성분 등을 첨가하여 균일한 용액으로 한다. 이때, 농도조정을 목적으로 추가로 용제를 추가투입할 수도 있다. 이때, (B)성분의 생성과정에서 이용되는 용제와, 경화막 형성 조성물의 농도조정에 이용되는 용제는 동일할 수도 있고, 또한 상이할 수도 있다.In preparation of the cured film forming composition of the present embodiment, a solution of a specific copolymer obtained by polymerization reaction in a solvent can be used as it is. In this case, for example, by copolymerizing at least one of a monomer having a polyethylene glycol ester group and a monomer having a hydroxyalkyl ester group having 2 to 5 carbon atoms, and at least one of a monomer having a carboxyl group and a monomer having a phenolic hydroxy group To the solution of the component (B) to be obtained, in the same manner as described above, the component (A) and the component (C), further, the component (D), and the component (E) are added to obtain a uniform solution. At this time, an additional solvent may be added for the purpose of concentration adjustment. At this time, the solvent used in the process of producing the component (B) and the solvent used for adjusting the concentration of the cured film-forming composition may be the same or may be different.

또한, 조제된 경화막 형성 조성물의 용액은, 구멍직경이 0.2μm 정도인 필터 등을 이용하여 여과한 후, 사용하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable to use the solution of the prepared cured film-forming composition after filtering with a filter or the like having a pore diameter of about 0.2 μm.

<경화막, 배향재 및 위상차재><Cured film, alignment material and retardation material>

본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물의 용액을 기판(예를 들어, 실리콘/이산화실리콘 피복기판, 실리콘나이트라이드 기판, 금속, 예를 들어, 알루미늄, 몰리브덴, 크롬 등이 피복된 기판, 유리기판, 석영기판, ITO기판 등)이나 필름(예를 들어, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름, 시클로올레핀폴리머 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 아크릴 필름 등의 수지 필름) 등의 위에, 바코트, 회전도포, 흘림도포, 롤도포, 슬릿도포, 슬릿에 이은 회전도포, 잉크젯도포, 인쇄 등에 의해 도포하여 도막을 형성하고, 그 후, 핫플레이트 또는 오븐 등에서 가열건조함으로써, 경화막을 형성할 수 있다.The solution of the cured film forming composition of this embodiment is applied to a substrate (e.g., a silicon/silicon dioxide coated substrate, a silicon nitride substrate, a metal such as aluminum, molybdenum, chromium, etc. coated substrate, a glass substrate, Quartz substrate, ITO substrate, etc.) or films (e.g., triacetyl cellulose (TAC) film, cycloolefin polymer film, polyethylene terephthalate film, resin film such as acrylic film), etc., bar coat, rotation coating, spilling A cured film can be formed by coating, roll coating, slit coating, slit followed by rotational coating, inkjet coating, printing, or the like to form a coating film, followed by heating and drying in a hot plate or an oven.

가열건조의 조건으로는, 경화막으로부터 형성되는 배향재의 성분이, 그 위에 도포되는 중합성 액정용액에 용출되지 않을 정도로 경화 반응이 진행되면 되는데, 예를 들어, 온도 60℃ 내지 200℃, 시간 0.4분간 내지 60분간의 범위 내에서 적당히 선택된 가열온도 및 가열시간이 채용된다. 가열온도 및 가열시간은, 바람직하게는 70℃ 내지 160℃, 0.5분간 내지 10분간이다.As the conditions for heat drying, the curing reaction may proceed to such an extent that the component of the alignment material formed from the cured film does not elute in the polymerizable liquid crystal solution applied thereon. For example, a temperature of 60°C to 200°C, a time of 0.4 A heating temperature and heating time suitably selected within the range of minutes to 60 minutes are employed. The heating temperature and heating time are preferably 70°C to 160°C and 0.5 minutes to 10 minutes.

본 실시의 형태의 경화성 조성물을 이용하여 형성되는 경화막의 막두께는, 예를 들어, 0.05μm 내지 5μm이고, 사용하는 기판의 단차 그리고 광학적 및 전기적 성질을 고려하여 적당히 선택할 수 있다.The film thickness of the cured film formed by using the curable composition of the present embodiment is, for example, 0.05 μm to 5 μm, and it can be appropriately selected in consideration of the step difference of the substrate to be used and optical and electrical properties.

이렇게 하여 형성된 경화막은, 편광 UV 조사를 행함으로써 배향재, 즉, 중합성 액정 등을 포함하는 액정성을 갖는 화합물을 배향시키는 부재로서 기능시킬 수 있다.The thus formed cured film can function as a member for aligning an alignment material, that is, a compound having liquid crystal properties including a polymerizable liquid crystal or the like by performing polarized UV irradiation.

편광 UV의 조사방법으로는, 통상 150nm 내지 450nm의 파장의 자외광 내지 가시광이 이용되는데, 실온 또는 가열한 상태에서, 수직 또는 경사방향에서부터 직선편광을 조사함으로써 행해진다.As the irradiation method of polarized UV, ultraviolet light or visible light having a wavelength of 150 nm to 450 nm is usually used, but it is performed by irradiating linearly polarized light from a vertical or oblique direction at room temperature or in a heated state.

본 실시형태의 경화막 조성물로 형성된 배향재는 내용제성 및 내열성을 갖고 있기 때문에, 이 배향재 상에, 중합성 액정용액으로 이루어진 위상차재료를 도포한 후, 그 액정의 상전이온도까지 가열함으로써 위상차재료를 액정상태로 하고, 배향재 상에서 배향시킨다. 그리고, 원하는 배향상태가 된 위상차재료를 그대로 경화시켜, 광학이방성을 갖는 층을 갖는 위상차재를 형성할 수 있다.Since the alignment material formed from the cured film composition of the present embodiment has solvent resistance and heat resistance, a retardation material made of a polymerizable liquid crystal solution is applied on the alignment material and then heated to a phase transition temperature of the liquid crystal to prepare a retardation material. It is made into a liquid crystal state, and it aligns on an alignment material. Further, the retardation material having a desired orientation state is cured as it is, thereby forming a retardation material having a layer having optical anisotropy.

위상차재료로는, 예를 들어, 중합성기를 갖는 액정 모노머 및 이를 함유하는 조성물 등이 이용된다. 그리고, 배향재가 형성되는 기판이 필름인 경우에는, 본 실시의 형태의 위상차재를 갖는 필름은, 위상차필름으로서 유용해진다. 이러한 위상차재를 형성하는 위상차재료로는, 액정상태가 되어, 배향재 상에서, 수평 배향, 콜레스테릭 배향, 수직 배향, 하이브리드 배향 등의 배향상태를 취하는 것이 있으며, 각각의 위상차재료는 필요시되는 위상차 특성에 따라 구분하여 사용할 수 있다.As the retardation material, for example, a liquid crystal monomer having a polymerizable group and a composition containing the same are used. And when the substrate on which the alignment material is formed is a film, the film having the retardation material of the present embodiment becomes useful as a retardation film. As a retardation material forming such a retardation material, there is a liquid crystal state and, on the alignment material, an orientation state such as horizontal orientation, cholesteric orientation, vertical orientation, and hybrid orientation is taken. Each retardation material is required It can be used separately according to the phase difference characteristics.

또한, 3D 디스플레이에 이용되는 패턴화 위상차재를 제조하는 경우에는, 본 실시형태의 경화막 조성물로부터 상기한 방법으로 형성된 경화막에, 라인앤스페이스 패턴의 마스크를 개재하여 소정의 기준으로부터, 예를 들어, +45도의 방향으로 편광 UV노광하고, 이어서, 마스크를 분리하고 나서 -45도의 방향으로 편광 UV를 노광하여, 액정의 배향 제어방향이 상이한 2종류의 액정배향영역이 형성된 배향재를 형성한다. 그 후, 중합성 액정용액으로 이루어진 위상차재료를 도포한 후, 액정의 상전이온도까지 가열함으로써 위상차재료를 액정상태로 한다. 액정상태가 된 중합성 액정은, 2종류의 액정배향영역이 형성된 배향재 상에서 배향하고, 각 액정배향영역에 각각 대응하는 배향상태를 형성한다. 그리고, 이러한 배향상태가 실현된 위상차재료를 그대로 경화시켜, 상기 서술한 배향상태를 고정화하여, 위상차 특성이 상이한 2종류의 위상차영역이 각각 복수, 규칙적으로 배치된, 패턴화 위상차재를 얻을 수 있다.In addition, in the case of manufacturing a patterned retardation material used for a 3D display, from the cured film composition of the present embodiment to the cured film formed by the above method, from a predetermined standard through a mask of a line and space pattern, For example, polarized UV exposure is performed in the direction of +45 degrees, and then polarized UV is exposed in the direction of -45 degrees after separating the mask to form an alignment material in which two kinds of liquid crystal alignment regions having different orientation control directions of the liquid crystal are formed. . Thereafter, a retardation material composed of a polymerizable liquid crystal solution is applied and then heated to a phase transition temperature of the liquid crystal to make the retardation material a liquid crystal state. The polymerizable liquid crystal in a liquid crystal state is aligned on an alignment material in which two types of liquid crystal alignment regions are formed, and forms an alignment state corresponding to each liquid crystal alignment region. Then, the phase difference material in which such an orientation state is realized is hardened as it is, and the above-described orientation state is fixed, and a patterned phase difference material in which a plurality of two types of phase difference regions having different phase difference characteristics are arranged regularly can be obtained. .

또한, 본 실시형태의 경화막 조성물로 형성된 배향재는, 액정표시소자의 액정배향막으로서의 이용도 가능하다. 예를 들어, 상기와 같이 하여 형성된, 본 실시형태의 배향재를 갖는 2매의 기판을 이용하여, 이들 기판을 스페이서를 개재하여 양 기판 상의 배향재가 서로 마주하도록 맞붙인 후, 이들 기판 사이에 액정을 주입하여, 액정이 배향된 액정표시소자를 제조할 수 있다.In addition, the alignment material formed from the cured film composition of the present embodiment can also be used as a liquid crystal alignment film for a liquid crystal display device. For example, using two substrates formed as described above and having an alignment material of this embodiment, these substrates are bonded together so that the alignment materials on both substrates face each other through a spacer, and then liquid crystals between these substrates By injecting, a liquid crystal display device in which the liquid crystal is aligned can be manufactured.

이에 따라, 본 실시의 형태의 경화막 형성 조성물은, 각종 위상차재(위상차필름)나 액정표시소자 등의 제조에 호적하게 이용할 수 있다.Accordingly, the cured film forming composition of the present embodiment can be suitably used for manufacturing various retardation materials (phase difference films) and liquid crystal display devices.

실시예Example

이하, 실시예를 들어, 본 실시의 형태를 더욱 상세하게 설명한다. 그러나, 본 발명은, 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, an example is given and this embodiment is demonstrated in more detail. However, the present invention is not limited to these examples.

[실시예 등에서 이용하는 조성성분과 그 약칭][Composition components used in Examples and their abbreviations]

이하의 실시예 및 비교예에서 이용되는 각 조성성분은, 다음과 같다.Each composition component used in the following Examples and Comparative Examples is as follows.

<광배향성기와 하이드록시기를 갖는 화합물><Compound having photo-alignment group and hydroxyl group>

CIN1: 4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산메틸에스테르CIN1: 4-(6-hydroxyhexyloxy) cinnamic acid methyl ester

[화학식 13][Formula 13]

Figure pat00013
Figure pat00013

CIN2: 3-메톡시-4-(6-하이드록시헥실옥시)계피산메틸에스테르CIN2: 3-methoxy-4- (6-hydroxyhexyloxy) cinnamic acid methyl ester

[화학식 14][Formula 14]

Figure pat00014
Figure pat00014

<하이드록시기 및 카르복실기를 갖는 폴리머><Polymer having a hydroxyl group and a carboxyl group>

PEPO: 폴리에스테르폴리올 중합체(하기 구조단위를 갖는 아디프산/디에틸렌글리콜 공중합체. 분자량 4,800.)PEPO: Polyester polyol polymer (adipic acid/diethylene glycol copolymer having the following structural units. Molecular weight 4,800.)

[화학식 15][Formula 15]

Figure pat00015
Figure pat00015

(상기 식 중, R은, 알킬렌을 나타낸다.)(In the above formula, R represents alkylene.)

<가교제><crosslinking agent>

HMM: 하기 구조식으로 표시되는 멜라민 가교제HMM: melamine crosslinking agent represented by the following structural formula

[화학식 16][Formula 16]

Figure pat00016
Figure pat00016

PBMAA: 폴리(N-부톡시메틸아크릴아미드)PBMAA: poly(N-butoxymethylacrylamide)

<가교촉매><crosslinking catalyst>

PTSA: 파라톨루엔설폰산PTSA: paratoluenesulfonic acid

[화학식 17][Formula 17]

Figure pat00017
Figure pat00017

<하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물><Compound having a hydroxyl group and a (meth)acrylic group>

하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물 C-1:Compound C-1 having a hydroxy group and a (meth)acryl group:

[화학식 18][Formula 18]

Figure pat00018
Figure pat00018

하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물 C-2:Compound C-2 having a hydroxy group and a (meth)acryl group:

[화학식 19][Formula 19]

Figure pat00019
Figure pat00019

하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물 C-3: Compound C-3 having a hydroxy group and a (meth)acryl group:

[화학식 20][Formula 20]

Figure pat00020
Figure pat00020

<용제><solvent>

실시예 및 비교예의 각 경화막 형성 조성물은 용제를 함유하고, 그 용제로서, 프로필렌글리콜모노메틸에테르(PM-P)와 아세트산에틸(AcEt)을 이용하였다.Each cured film-forming composition of Examples and Comparative Examples contained a solvent, and propylene glycol monomethyl ether (PM-P) and ethyl acetate (AcEt) were used as the solvent.

<실시예 및 비교예><Examples and Comparative Examples>

(합성예 1) CIN11의 합성(Synthesis Example 1) Synthesis of CIN11

(합성예 1-1) CIN11의 전구체 CIN11-1의 합성(Synthesis Example 1-1) Synthesis of CIN11-1 precursor of CIN11

[화학식 21][Formula 21]

Figure pat00021
Figure pat00021

1L의 4구 플라스크에, 4-브로모-4'-하이드록시벤조페논을 80.0g, N,N-디메틸아세트아미드를 500mL, 아크릴산tert-부틸을 55.4g, 트리부틸아민을 160.2g, 아세트산팔라듐을 1.29g, 트리(o-톨릴)포스핀을 3.50g 첨가하여, 100℃로 가열하면서 교반하였다. 반응종료 후, 2L의 아세트산에틸에 반응계를 붓고, 1N-염산 수용액, 포화식염수를 이용하여 추출을 행하였다. 추출한 유기층에 무수황산마그네슘을 첨가하여 탈수건조하고, 무수황산마그네슘을 여과하였다. 얻어진 여액을 로터리 증발기를 이용하여 용매유거하고, 109.4g의 목적물 CIN11-1(적갈색 점체)을 얻었다. 얻어진 CIN11-1은 정제하지 않고 다음 반응에 이용하였다.In a 1 L 4-neck flask, 80.0 g of 4-bromo-4'-hydroxybenzophenone, 500 mL of N,N-dimethylacetamide, 55.4 g of tert-butyl acrylate, 160.2 g of tributylamine, palladium acetate 1.29 g and 3.50 g of tri(o-tolyl)phosphine were added, followed by stirring while heating to 100°C. After completion of the reaction, the reaction system was poured into 2 L of ethyl acetate, and extraction was performed using 1N-hydrochloric acid aqueous solution and saturated brine. Anhydrous magnesium sulfate was added to the extracted organic layer, dehydrated and dried, and anhydrous magnesium sulfate was filtered. The obtained filtrate was solvent distilled off using a rotary evaporator, and 109.4 g of the target product CIN11-1 (red brown viscous body) was obtained. The obtained CIN11-1 was used for the next reaction without purification.

(합성예 1-2) CIN11의 합성(Synthesis Example 1-2) Synthesis of CIN11

[화학식 22][Formula 22]

Figure pat00022
Figure pat00022

2L의 4구 플라스크에, CIN11-1을 93.4g, N,N-디메틸포름아미드를 1L, 6-클로로-1-헥산올을 39.3g, 탄산칼륨을 119.4g, 요오드화칼륨을 4.8g 첨가하여, 100℃로 가열하면서 교반하였다. 반응종료 후, 5L의 물에 반응계를 붓고, 1N-염산 수용액으로 중화를 행하고, 아세트산에틸을 이용하여 추출을 행하였다. 추출한 유기층에 무수황산마그네슘을 첨가하여 탈수건조하고, 무수황산마그네슘을 여과하였다. 얻어진 여액을 로터리 증발기를 이용하여 용매유거를 행하였다. 잔사를 이소프로판올/헥산=1/10을 이용하여 재결정을 행하고, CIN11(황토색 고체)을 113.8g 얻었다. 목적물인 1H-NMR로 측정한 결과를 이하에 나타낸다. 이 결과로부터, 얻어진 고체가, 목적의 CIN11인 것을 확인하였다.To a 2 L four-necked flask, 93.4 g of CIN11-1, 1 L of N,N-dimethylformamide, 39.3 g of 6-chloro-1-hexanol, 119.4 g of potassium carbonate, and 4.8 g of potassium iodide were added. The mixture was stirred while heating to 100°C. After completion of the reaction, the reaction system was poured into 5 L of water, neutralized with 1N-hydrochloric acid aqueous solution, and extracted using ethyl acetate. Anhydrous magnesium sulfate was added to the extracted organic layer, dehydrated and dried, and anhydrous magnesium sulfate was filtered. The obtained filtrate was subjected to solvent distillation using a rotary evaporator. The residue was recrystallized using isopropanol/hexane = 1/10 to obtain 113.8 g of CIN11 (ocher solid). The results measured by 1 H-NMR as the target object are shown below. From this result, it was confirmed that the obtained solid was the target CIN11.

[화학식 23][Formula 23]

Figure pat00023
Figure pat00023

폴리머 합성예 1Polymer Synthesis Example 1

MAA 3.5g, MMA 7.0g, HEMA 7.0g, 중합개시제로서 AIBN(아조비스이소부티로니트릴) 0.5g을 PM-P 53.9g에 용해하고 75℃에서 20시간 반응시킴으로써 아크릴 공중합체 용액(고형분농도 25질량%)을 얻었다(P-1). 얻어진 아크릴 공중합체의 Mn은 10,300, Mw는 24,600이었다.3.5 g of MAA, 7.0 g of MMA, 7.0 g of HEMA, and 0.5 g of AIBN (azobisisobutyronitrile) as a polymerization initiator were dissolved in 53.9 g of PM-P and reacted at 75° C. for 20 hours to obtain an acrylic copolymer solution (solid content concentration of 25 Mass%) was obtained (P-1). Mn of the obtained acrylic copolymer was 10,300 and Mw was 24,600.

<실시예 및 비교예><Examples and Comparative Examples>

표 1에 나타낸 조성으로 실시예 1 내지 6 그리고 비교예 1 및 2의 각 경화막 형성 조성물을 조제하였다. 다음에, 각 경화막 형성 조성물을 이용하여, 경화막을 형성하고, 얻어진 경화막 각각에 대하여, 밀착성, 배향감도, 패턴형성성, 및 투과율의 평가를 행하였다.Each cured film forming composition of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2 was prepared with the composition shown in Table 1. Next, each cured film forming composition was used to form a cured film, and for each of the obtained cured films, adhesion, orientation sensitivity, pattern formation property, and transmittance were evaluated.

[표 1][Table 1]

Figure pat00024
Figure pat00024

[밀착성의 평가][Evaluation of adhesion]

실시예 1 내지 실시예 5 그리고 비교예 1 및 비교예 2의 각 경화막 형성 조성물을 TAC 필름 상에 바코터를 이용하여 도포한 후, 온도 110℃에서 120초간, 열순환식 오븐 내에서 가열건조를 행하여, 경화막을 형성하였다. 이 각 경화막에 313nm의 직선편광을 수직으로 20mJ/cm2 내지 40mJ/cm2 조사하였다. 노광 후의 기판 상의 경화막 위에, Merck Ltd.제의 수평배향용 중합성 액정용액 RMS03-013C를, 스핀코터를 이용하여 도포하고, 이어서, 60℃에서 60초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 행하여, 막두께 1.0μm의 도막을 형성하였다. 이 필름을 1000mJ/cm2로 노광하고, 중합성 액정을 중합시켜, 위상차재를 제작하였다. 얻어진 기판 상의 위상차재에 커터나이프를 이용하여 크로스컷(1mm×1mm×100개칸)을 넣고, 그 후, 셀로판테이프를 붙였다. 이어서, 그 셀로판테이프를 벗겨내었을 때에, 기판 상의 위상차재에서, 중합한 중합성 액정의 막이 하층의 경화막 상에서 벗겨지지 않고 남아 있는 칸(square)의 갯수를 카운트하였다. 평가결과는, (막이 벗겨지지 않고 남아 있는 칸의 수)/100의 형식으로, 표 2의 초기 란에 정리하여 나타내었다. 막이 벗겨지지 않고 남아 있는 칸이 90개 이상 남아 있는 것, 즉, 90/100 내지 100/100인 경우를 밀착성이 양호하다고 판단하였다.After coating the cured film-forming composition of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 using a bar coater on a TAC film, heating and drying in a heat circulation oven at a temperature of 110° C. for 120 seconds To form a cured film. This linearly polarized light of 313nm was irradiated perpendicularly to 20mJ / cm 2 to 40mJ / cm 2 in each hardened layer. On the cured film on the substrate after exposure, the polymerizable liquid crystal solution RMS03-013C for horizontal alignment manufactured by Merck Ltd. was applied using a spin coater, and then prebaked on a hot plate at 60°C for 60 seconds, and the film thickness A 1.0 μm coating film was formed. This film was exposed at 1000 mJ/cm 2 , polymerizable liquid crystal was polymerized, and a retardation material was produced. A crosscut (1 mm x 1 mm x 100 cells) was put on the obtained retardation material on the substrate using a cutter knife, and then, a cellophane tape was attached. Next, when the cellophane tape was peeled off, the number of squares remaining without peeling off the polymerizable liquid crystal film on the lower layer cured film by the retardation material on the substrate was counted. The evaluation results were summarized and shown in the initial column of Table 2 in the form of (the number of cells remaining without peeling)/100. In the case where 90 or more cells remained without the film being peeled off, that is, 90/100 to 100/100, the adhesion was judged to be good.

[내구밀착성의 평가][Evaluation of durable adhesion]

상기 서술한 밀착성의 평가와 동일한 방법으로 TAC 필름 상에 위상차재를, 온도 80℃, 습도 90%로 설정된 오븐에 넣고, 24시간 이상 정치하였다. 그 후, 위상차재를 꺼내고, 상기 서술한 밀착성의 평가와 동일한 방법으로, 밀착성을 평가하였다. 평가결과는, 밀착내구성으로서, 표 2에 정리하여 나타내었다.The retardation material was put in an oven set at a temperature of 80°C and a humidity of 90% on the TAC film by the same method as the above-described evaluation of adhesion, and allowed to stand for 24 hours or more. Then, the phase difference material was taken out, and adhesiveness was evaluated by the method similar to the evaluation of adhesiveness mentioned above. The evaluation results were summarized in Table 2 as adhesion durability.

[배향감도의 평가(실시예 1 내지 실시예 5)][Evaluation of orientation sensitivity (Examples 1 to 5)]

실시예 1 내지 실시예 5 그리고 비교예 1 및 비교예 2의 각 경화막 형성 조성물을 알칼리유리 상에 스핀코터를 이용하여 2000rpm으로 30초간 회전도포한 후, 온도 110℃에서 120초간, 열순환식 오븐 내에서 가열건조를 행하여, 경화막을 형성하였다. 이 각 경화막에 313nm의 직선편광을 수직으로 조사하여, 배향재를 형성하였다. 기판 상의 배향재 위에, Merck Ltd.제의 수평배향용 중합성 액정용액 RMS03-013C를, 스핀코터를 이용하여 도포하고, 이어서, 60℃에서 60초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 행하여, 막두께 1.0μm의 도막을 형성하였다. 이 기판 상의 도막을 1000mJ/cm2로 노광하고, 위상차재를 제작하였다. 제작한 기판 상의 위상차재를 한쌍의 편광판으로 끼우고, 위상차재에 있어서의 위상차 특성의 발현상황을 관찰하여, 배향재가 액정배향성을 나타내는데 필요한 편광 UV의 노광량을 배향감도로 하였다. 평가결과는, 뒤에 표 2에 정리하여 나타낸다. 실시예 1 내지 실시예 5 그리고 비교예 1 및 비교예 2의 각 경화막 형성 조성물을 이용하여 형성된 배향재는, 액정배향성을 나타내는데 필요한 편광 UV의 노광량이 모두 20mJ/cm2 내지 40mJ/cm2로 낮은 값이었으며, 양호한 배향감도를 나타내었다.Each cured film forming composition of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 was rotated on an alkali glass using a spin coater at 2000 rpm for 30 seconds, and then at a temperature of 110° C. for 120 seconds, and a thermal cycle type Heat-drying was performed in an oven to form a cured film. Each of these cured films was irradiated with 313 nm linearly polarized light vertically to form an alignment material. On the alignment material on the substrate, the polymerizable liquid crystal solution RMS03-013C for horizontal alignment manufactured by Merck Ltd. was applied using a spin coater, and then prebaked on a hot plate at 60°C for 60 seconds to have a film thickness of 1.0 μm. A coating film of was formed. The coating film on this substrate was exposed at 1000 mJ/cm 2 to prepare a retardation material. The retardation material on the prepared substrate was sandwiched between a pair of polarizing plates, and the state of development of the retardation characteristic in the retardation material was observed, and the exposure amount of polarized UV light required for the alignment material to exhibit liquid crystal orientation was taken as the orientation sensitivity. The evaluation results are put together in Table 2 and shown later. Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and orientation is formed by using the respective curable film-forming composition of the second material, all the necessary amount of exposure of the polarized UV to indicate the liquid crystal aligning low to 20mJ / cm 2 to 40mJ / cm 2 Value, and showed good orientation sensitivity.

[배향감도의 평가(실시예 6 및 7)][Evaluation of orientation sensitivity (Examples 6 and 7)]

실시예 6 및 실시예 7의 각 경화막 형성 조성물을 TAC 필름 상에 바코터를 이용하여 도포한 후, 온도 110℃에서 120초간, 열순환식 오븐 내에서 가열건조를 행하여, 경화막을 형성하였다. 이 각 경화막에 313nm의 직선편광을 수직으로 조사하여, 배향재를 형성하였다. 기판 상의 배향재 위에, 수평배향용 중합성 액정용액을, 바코터를 이용하여 도포하고, 이어서, 70℃에서 60초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 행하여, 막두께 1.0μm의 도막을 형성하였다. 이 기판 상의 도막을 300mJ/cm2로 노광하고, 위상차재를 제작하였다. 제작한 기판 상의 위상차재를 한쌍의 편광판으로 끼우고, 위상차재에 있어서의 위상차 특성의 발현상황을 관찰하여, 배향재가 액정배향성을 나타내는데 필요한 편광 UV의 노광량을 배향감도로 하였다. 평가결과는, 뒤에 표 2에 정리하여 나타낸다.Each cured film-forming composition of Examples 6 and 7 was applied on a TAC film using a bar coater, and then heat-dried at a temperature of 110° C. for 120 seconds in a heat-circulating oven to form a cured film. Each of these cured films was irradiated with 313 nm linearly polarized light vertically to form an alignment material. On the alignment material on the substrate, the polymerizable liquid crystal solution for horizontal alignment was applied using a bar coater, and then prebaked on a hot plate at 70° C. for 60 seconds to form a coating film having a thickness of 1.0 μm. The coating film on this substrate was exposed at 300 mJ/cm 2 to prepare a retardation material. The retardation material on the prepared substrate was sandwiched between a pair of polarizing plates, and the state of development of the retardation characteristic in the retardation material was observed, and the exposure amount of polarized UV light required for the alignment material to exhibit liquid crystal orientation was taken as the orientation sensitivity. The evaluation results are put together in Table 2 and shown later.

[패턴형성성의 평가][Evaluation of pattern formation]

실시예 및 비교예의 각 경화막 형성 조성물을 TAC 필름 상에 바코터를 이용하여 도포한 후, 온도 110℃에서 120초간, 열순환식 오븐 내에서 가열건조를 행하여, 경화막을 형성하였다. 이 경화막에 350μm의 라인앤스페이스 마스크를 개재하여 313nm의 직선편광을 40mJ/cm2 수직으로 조사하였다. 다음에, 마스크를 분리하고, 기판을 90도 회전시킨 후, 313nm의 직선편광을 20mJ/cm2 수직으로 조사하여, 액정의 배향 제어방향이 90도 상이한 2종류의 액정배향영역이 형성된 배향재를 얻었다. 이 기판 상의 배향재 위에, Merck Ltd.제의 수평배향용 중합성 액정용액 RMS03-013C를, 스핀코터를 이용하여 도포하고, 이어서, 60℃에서 60초간 핫플레이트 상에서 프리베이크를 행하여, 막두께 1.0μm의 도막을 형성하였다. 이 기판 상의 도막을 1000mJ/cm2로 노광하고, 상이한 위상차 특성을 갖는 2종류의 영역이 규칙적으로 배열된 패턴화 위상차재를 제작하였다. 제작한 기판 상의 패턴화 위상차재를, 편광현미경을 이용하여 관찰하여, 배향결함 없이 위상차패턴이 형성되어 있는 것을 ○, 배향결함이 보이는 것을 ×로 평가하였다. 평가결과는, 뒤에 표 2에 정리하여 나타낸다.Each cured film-forming composition of Examples and Comparative Examples was applied on a TAC film using a bar coater, and then heated and dried at a temperature of 110° C. for 120 seconds in a heat-circulating oven to form a cured film. Linearly polarized light of 313 nm was irradiated to the cured film at 40 mJ/cm 2 through a 350 μm line and space mask. Next, after separating the mask and rotating the substrate by 90 degrees, 313 nm linearly polarized light was irradiated vertically by 20 mJ/cm 2 to obtain an alignment material in which two kinds of liquid crystal alignment regions having different orientation control directions of liquid crystals were formed by 90 degrees. Got it. On the alignment material on this substrate, a polymerizable liquid crystal solution RMS03-013C for horizontal alignment manufactured by Merck Ltd. was applied using a spin coater, and then prebaked on a hot plate at 60°C for 60 seconds to have a film thickness of 1.0. A coating film of μm was formed. The coating film on this substrate was exposed at 1000 mJ/cm 2 , and a patterned retardation material in which two types of regions having different retardation characteristics were regularly arranged was prepared. The patterned retardation material on the fabricated substrate was observed using a polarizing microscope, and the retardation pattern formed without any orientation defects was evaluated as ○, and the orientation defect was evaluated as x. The evaluation results are put together in Table 2 and shown later.

[광투과율(투명성)의 평가][Evaluation of light transmittance (transparency)]

실시예 및 비교예의 각 경화막 형성 조성물을 석영기판 상에 스핀코터를 이용하여 2000rpm으로 30초간 회전도포한 후, 온도 110℃에서 120초간 핫플레이트 상에서 가열건조베이크를 행하여 막두께 300nm의 경화막을 형성하였다. 막두께는 Filmetrics, Inc.제 F20를 이용하여 측정하였다. 이 경화막을 자외선 가시분광 광도계(Shimadzu Corporation제 SHIMADZU UV-2550형번)를 이용하여 파장 400nm의 광에 대한 투과율을 측정하였다.Each cured film-forming composition of Examples and Comparative Examples was coated on a quartz substrate with rotation at 2000 rpm for 30 seconds using a spin coater, and then heat-dried and baked on a hot plate at a temperature of 110°C for 120 seconds to form a cured film having a thickness of 300 nm. I did. The film thickness was measured using F20 manufactured by Filmetrics, Inc. The transmittance of this cured film with respect to light having a wavelength of 400 nm was measured using an ultraviolet visible spectroscopy photometer (Shimaadzu UV-2550 model number manufactured by Shimadzu Corporation).

[평가 결과][Evaluation results]

이상의 평가를 행한 결과를, 상기 서술한 바와 같이, 표 2에 나타낸다.The results of performing the above evaluation are shown in Table 2 as described above.

[표 2][Table 2]

Figure pat00025
Figure pat00025

실시예 1 내지 실시예 5의 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어진 경화막은, 고온고습처리하여도 높은 밀착성을 유지하였으며, 우수한 밀착내구성을 나타내었다.The cured films obtained by using the cured film forming compositions of Examples 1 to 5 maintained high adhesion even when subjected to high temperature and high humidity treatment, and exhibited excellent adhesion durability.

이에 반해, 비교예 1 및 비교예 2의 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어진 경화막은, 고온고습처리 후, 초기의 밀착성을 유지하기 곤란하였다.On the other hand, the cured film obtained by using the cured film forming composition of Comparative Example 1 and Comparative Example 2 was difficult to maintain initial adhesion after high temperature and high humidity treatment.

실시예 1 내지 실시예 5의 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어진 배향재는, 비교예 1 및 2의 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어진 배향재와 마찬가지로, 액정배향성을 나타내는데 필요한 편광 UV의 노광량이 모두 20mJ/cm2 내지 40mJ/cm2로 낮은 값이었으며, 양호한 배향감도를 나타내었다.The alignment material obtained by using the cured film-forming composition of Examples 1 to 5, as in the alignment material obtained by using the cured film-forming composition of Comparative Examples 1 and 2, was all 20 mJ of polarized UV exposure required to exhibit liquid crystal orientation. It was a low value of /cm 2 to 40 mJ/cm 2 , and showed good orientation sensitivity.

또한, 실시예 6 및 실시예 7의 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어진 배향재는, 비교예 1 및 비교예 2의 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어진 배향재보다, 액정배향성을 나타내는데 필요한 편광 UV의 노광량이 모두 10mJ/cm2로 낮은 값이었으며, 양호한 배향감도를 나타내었다.In addition, the alignment material obtained by using the cured film-forming composition of Examples 6 and 7 was compared to the alignment material obtained by using the cured film-forming composition of Comparative Examples 1 and 2, the exposure amount of polarized UV required to show liquid crystal orientation. All of these values were as low as 10 mJ/cm 2 , and showed good orientation sensitivity.

실시예 1 내지 실시예 7의 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어진 배향재는, 비교예 1 및 2의 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어진 배향재와 마찬가지로, 양호한 패턴형성성을 나타내었다.The alignment material obtained by using the cured film-forming composition of Examples 1 to 7 exhibited good pattern formation property, similar to the alignment material obtained by using the cured film-forming composition of Comparative Examples 1 and 2.

실시예 1 내지 실시예 7의 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어진 경화막은, 비교예 1 및 2의 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어진 경화막과 마찬가지로, 파장 400nm의 광에 대하여, 100% 또는 그에 가까운 투과율을 나타내었으며, 양호한 광투과 특성을 나타내었다.The cured film obtained by using the cured film forming composition of Examples 1 to 7 was 100% or close to light having a wavelength of 400 nm, similar to the cured film obtained by using the cured film forming composition of Comparative Examples 1 and 2 It showed transmittance and showed good light transmission characteristics.

산업상 이용가능성 Industrial availability

본 발명에 따른 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막은, 액정표시소자의 액정배향막이나, 액정표시소자에 내부나 외부에 마련되는 광학이방성 필름을 형성하기 위한 배향재로서 매우 유용하며, 특히, 3D 디스플레이의 패턴화 위상차재의 형성재료로서 호적하다. 나아가, 박막 트랜지스터(TFT)형 액정표시소자나 유기 EL소자 등의 각종 디스플레이에 있어서의 보호막, 평탄화막 및 절연막 등의 경화막을 형성하는 재료, 특히, TFT형 액정소자의 층간절연막, 컬러필터의 보호막 또는 유기 EL소자의 절연막 등을 형성하는 재료로서도 호적하다.The cured film obtained from the cured film forming composition according to the present invention is very useful as a liquid crystal alignment film of a liquid crystal display device or an alignment material for forming an optically anisotropic film provided inside or outside of a liquid crystal display device. It is suitable as a material for forming a patterned retardation material. Furthermore, materials for forming cured films such as protective films, planarization films, and insulating films in various displays such as thin-film transistor (TFT) type liquid crystal display devices and organic EL devices, especially interlayer insulating films of TFT type liquid crystal devices, and protective films of color filters. Alternatively, it is also suitable as a material for forming an insulating film or the like of an organic EL device.

Claims (7)

(A) 광배향성기와, 하이드록시기, 카르복실기, 아미노기 및 알콕시실릴기로 이루어진 군으로부터 선택되는 1개를 갖는 화합물,
(B) 하이드록시기 및 카르복실기 중 적어도 하나를 갖는 폴리머, 그리고
(C) (A)성분 이외의, 하이드록시기 및 (메트)아크릴기를 갖는 화합물
을 함유하는 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물.
(A) a compound having a photo-alignment group and one selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amino group and an alkoxysilyl group,
(B) a polymer having at least one of a hydroxy group and a carboxyl group, and
(C) Compounds having a hydroxyl group and a (meth)acrylic group other than the component (A)
A cured film-forming composition comprising a.
제1항에 있어서,
상기 (A)성분의 화합물은, 광배향성기와 하이드록시기를 갖는 화합물인 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물.
The method of claim 1,
The composition for forming a cured film, wherein the compound of the component (A) is a compound having a photo-alignment group and a hydroxyl group.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 (C)성분의 화합물은, 1개 이상의 하이드록시기 및 1개의 (메트)아크릴기를 갖는 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물.
The method according to claim 1 or 2,
The compound of the component (C) has at least one hydroxy group and one (meth)acrylic group.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
(D)가교제를 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 3,
(D) The cured film-forming composition characterized by further containing a crosslinking agent.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
(E)가교촉매를 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는 경화막 형성 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 4,
(E) The cured film-forming composition characterized by further containing a crosslinking catalyst.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 경화막 형성 조성물을 이용하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 배향재.
An orientation material obtained by using the cured film-forming composition according to any one of claims 1 to 5.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 경화막 형성 조성물로부터 얻어지는 경화막을 갖는 것을 특징으로 하는 위상차재.
A retardation material comprising a cured film obtained from the cured film forming composition according to any one of claims 1 to 5.
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