JPWO2019189189A1 - Hardened film forming composition, alignment material and retardation material - Google Patents

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Abstract

【課題】優れた液晶配向性と密着性とを備えた硬化膜を形成する硬化膜形成組成物、その硬化膜、その硬化膜を使用して形成される光学フィルム、配向材及び位相差材を提供する。【解決手段】(A)光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するポリマー、(B)架橋剤、及び(C)架橋触媒を含有する硬化膜形成組成物、該硬化膜形成組成物から形成される硬化膜、該硬化膜を使用して形成される光学フィルム、配向材および位相差材。【選択図】なしPROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cured film forming composition for forming a cured film having excellent liquid crystal orientation and adhesion, the cured film thereof, an optical film formed by using the cured film, an alignment material and a retardation material. provide. A cured film containing (A) a polymer having a photo-oriented group, a hydroxy group, and a polymerizable group containing a C = C double bond, (B) a cross-linking agent, and (C) a cross-linking catalyst. A forming composition, a cured film formed from the cured film forming composition, an optical film formed by using the cured film, an alignment material and a retardation material. [Selection diagram] None

Description

本発明は液晶分子を配向させる硬化膜を形成する硬化膜形成組成物、硬化膜、光学フィルム、配向材および位相差材に関する。特に本発明は、円偏光メガネ方式の3Dディスプレイに用いられるパターニングされた位相差材、及び有機ELディスプレイの反射防止膜として使用される円偏光板に用いられる位相差材、並びに該位相差材を作製するのに有用な硬化膜形成組成物、硬化膜、光学フィルムおよび配向材に関する。 The present invention relates to a cured film forming composition, a cured film, an optical film, an alignment material and a retardation material for forming a cured film for aligning liquid crystal molecules. In particular, the present invention uses a patterned retardation material used for a circularly polarized glasses type 3D display, a retardation material used for a circular polarizing plate used as an antireflection film for an organic EL display, and the retardation material. The present invention relates to a cured film forming composition, a cured film, an optical film and an alignment material useful for making.

円偏光メガネ方式の3Dディスプレイの場合、液晶パネル等の画像を形成する表示素子の上に位相差材が配置されるのが通常である。この位相差材は、位相差特性の異なる2種類の位相差領域がそれぞれ複数、規則的に配置されており、パターニングされた位相差材を構成している。尚、以下、本明細書においては、このような位相差特性の異なる複数の位相差領域を配置するようにパターン化された位相差材をパターン化位相差材と称する。 In the case of a circularly polarized glasses type 3D display, a retardation material is usually arranged on a display element that forms an image such as a liquid crystal panel. In this retardation material, a plurality of two types of retardation regions having different retardation characteristics are regularly arranged to form a patterned retardation material. Hereinafter, in the present specification, a retardation material patterned so as to arrange a plurality of retardation regions having different retardation characteristics is referred to as a patterned retardation material.

パターン化位相差材は、例えば、特許文献1に開示されるように、重合性液晶からなる位相差材料を光学パターニングすることで作製することができる。重合性液晶からなる位相差材料の光学パターニングは、液晶パネルの配向材形成で知られた光配向技術を利用する。すなわち、基板上に光配向性の材料からなる塗膜を設け、これに偏光方向が異なる2種類の偏光を照射する。そして、液晶の配向制御方向の異なる2種類の液晶配向領域が形成された配向材として光配向膜を得る。この光配向膜の上に重合性液晶を含む溶液状の位相差材料を塗布し、重合性液晶の配向を実現する。その後、配向された重合性液晶を硬化してパターン化位相差材を形成する。 The patterned retardation material can be produced, for example, by optically patterning a retardation material made of a polymerizable liquid crystal, as disclosed in Patent Document 1. The optical patterning of a retardation material composed of a polymerizable liquid crystal utilizes a photoalignment technique known for forming an alignment material for a liquid crystal panel. That is, a coating film made of a photo-oriented material is provided on a substrate, and two types of polarized light having different polarization directions are irradiated on the coating film. Then, a photoalignment film is obtained as an alignment material in which two types of liquid crystal alignment regions having different orientation control directions of the liquid crystal are formed. A solution-like retardation material containing a polymerizable liquid crystal is applied onto the photoalignment film to realize the orientation of the polymerizable liquid crystal. Then, the oriented polymerizable liquid crystal is cured to form a patterned retardation material.

有機ELディスプレイの反射防止膜は、直線偏光板、1/4波長位相差板により構成され、画像表示パネルのパネル面に向かう外来光を直線偏光板により直線偏光に変換し、続く1/4波長位相差板により円偏光に変換する。ここでこの円偏光による外来光は、画像表示パネルの表面等で反射するものの、この反射の際に偏光面の回転方向が逆転する。その結果、この反射光は、到来時とは逆に、1/4波長位相差板より、直線偏光板により遮光される方向の直線偏光に変換された後、続く直線偏光板により遮光され、その結果、外部への出射が著しく抑制される。 The antireflection film of the organic EL display is composed of a linear polarizing plate and a 1/4 wavelength retardation plate, and the external light directed to the panel surface of the image display panel is converted into linearly polarized light by the linear polarizing plate, followed by 1/4 wavelength. Converted to circularly polarized light by the retardation plate. Here, the external light due to this circular polarization is reflected by the surface of the image display panel or the like, but the rotation direction of the polarizing surface is reversed at the time of this reflection. As a result, the reflected light is converted from the 1/4 wavelength retardation plate into linearly polarized light in the direction shaded by the linear polarizing plate, and then shielded by the subsequent linear polarizing plate, which is the opposite of the light reflected at the time of arrival. As a result, the emission to the outside is remarkably suppressed.

この1/4波長位相差板に関して、特許文献2には、1/2波長板、1/4波長板を組み合わせて1/4波長位相差板を構成することにより、この光学フィルムを逆分散特性により構成する方法が提案されている。この方法の場合、カラー画像の表示に供する広い波長帯域において、正の分散特性による液晶材料を使用して逆分散特性により光学フィルムを構成することができる。 Regarding this 1/4 wavelength retardation plate, Patent Document 2 describes that the optical film has reverse dispersion characteristics by forming a 1/4 wavelength retardation plate by combining a 1/2 wavelength plate and a 1/4 wavelength plate. The method of constructing by is proposed. In the case of this method, in a wide wavelength band used for displaying a color image, an optical film can be formed by a reverse dispersion characteristic by using a liquid crystal material having a positive dispersion characteristic.

また近年、この位相差層に適用可能な液晶材料として、逆分散特性を備えるものが提案されている(特許文献3、4)。このような逆分散特性の液晶材料によれば、1/2波長板、1/4波長板を組み合わせて2層の位相差層により1/4波長位相差板を構成する代わりに、位相差層を単層により構成して逆分散特性を確保することができ、これにより広い波長帯域において所望の位相差を確保することが可能な光学フィルムを簡易な構成により実現することができる。 Further, in recent years, as a liquid crystal material applicable to this retardation layer, a material having a reverse dispersion characteristic has been proposed (Patent Documents 3 and 4). According to the liquid crystal material having such a reverse dispersion characteristic, instead of forming a 1/4 wavelength retardation plate by combining a 1/2 wavelength plate and a 1/4 wavelength plate and forming a 1/4 wavelength retardation plate by two retardation layers, a retardation layer Can be configured with a single layer to ensure inverse dispersion characteristics, whereby an optical film capable of securing a desired phase difference in a wide wavelength band can be realized with a simple configuration.

液晶を配向させるためには配向層が用いられる。配向層の形成方法としては、例えばラビング法や光配向法が知られており、光配向法はラビング法の問題点である静電気や塵の発生がなく、定量的な配向処理の制御ができる点で有用である。 An alignment layer is used to orient the liquid crystal. As a method for forming an alignment layer, for example, a rubbing method and a photo-alignment method are known. The photo-alignment method does not generate static electricity or dust, which is a problem of the rubbing method, and can quantitatively control the alignment process. Is useful in.

光配向法を用いた配向材形成では、利用可能な光配向性の材料として、側鎖にシンナモイル基およびカルコン基等の光二量化部位を有するアクリル樹脂やポリイミド樹脂等が知られている。これらの樹脂は、偏光UV照射することにより、液晶の配向を制御する性能(以下、液晶配向性とも言う。)を示すことが報告されている(特許文献5〜特許文献7を参照。)。 In the formation of an alignment material using the photo-alignment method, acrylic resins and polyimide resins having photodimerization sites such as cinnamoyl groups and chalcone groups in the side chains are known as usable photo-alignment materials. It has been reported that these resins exhibit the ability to control the orientation of liquid crystals (hereinafter, also referred to as liquid crystal orientation) by irradiating with polarized UV (see Patent Documents 5 to 7).

また、配向層には、液晶配向能の他、耐溶剤性が要求される。例えば、配向層が、位相差材の製造過程にて熱や溶剤にさらさる場合がある。配向層が溶剤にさらされると、液晶配向能が著しく低下するおそれがある。 Further, the alignment layer is required to have solvent resistance as well as liquid crystal alignment ability. For example, the alignment layer may be exposed to heat or a solvent during the manufacturing process of the retardation material. When the alignment layer is exposed to a solvent, the liquid crystal alignment ability may be significantly reduced.

そこで、例えば特許文献8には、安定した液晶配向能を得るために、光により架橋反応の可能な構造と熱によって架橋する構造とを有する重合体成分を含有する液晶配向剤、および、光により架橋反応の可能な構造を有する重合体成分と熱によって架橋する構造を有する化合物とを含有する液晶配向剤が提案されている。 Therefore, for example, in Patent Document 8, in order to obtain a stable liquid crystal alignment ability, a liquid crystal aligning agent containing a polymer component having a structure capable of a cross-linking reaction by light and a structure cross-linked by heat, and light are used. A liquid crystal alignment agent containing a polymer component having a structure capable of a cross-linking reaction and a compound having a structure cross-linked by heat has been proposed.

加えて、配向層には、液晶層との密着性が要求される。配向層とこの上に形成された液晶層との密着力が十分でない場合、例えば、位相差フィルム製造時の巻き取り工程等において、上記液晶層が剥離してしまうことがある。 In addition, the alignment layer is required to have close contact with the liquid crystal layer. If the adhesion between the alignment layer and the liquid crystal layer formed on the alignment layer is not sufficient, the liquid crystal layer may be peeled off, for example, in the winding step at the time of manufacturing the retardation film.

特開2005−49865号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-49965 特開平10−68816号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-68816 米国特許第8119026号明細書U.S. Pat. No. 8119026 特開2009−179563号公報JP-A-2009-179563 特許第3611342号公報Japanese Patent No. 361342 特開2009−058584号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-058584 特表2001−517719号公報Special Table 2001-517719 特許第4207430号公報Japanese Patent No. 4207430

本発明は、以上の知見や検討結果に基づいてなされたものである。すなわち、本発明の目的は、優れた耐溶剤性を有し、高感度で重合性液晶を配向させることができ、液晶層との密着性に優れる配向材の形成に使用される硬化膜を形成するための硬化膜形成組成物を提供することである。
また、本発明の目的は、上記硬化膜を有する光学フィルム、該硬化膜若しくは光学フィルムを使用して形成される配向材及び位相差材を提供する事である。
The present invention has been made based on the above findings and examination results. That is, an object of the present invention is to form a cured film used for forming an alignment material which has excellent solvent resistance, can orient a polymerizable liquid crystal with high sensitivity, and has excellent adhesion to a liquid crystal layer. It is to provide a cured film forming composition for this.
Another object of the present invention is to provide an optical film having the cured film, an alignment material formed by using the cured film or the optical film, and a retardation material.

本発明の他の目的および利点は、以下の記載から明らかとなるであろう。 Other objects and advantages of the present invention will become apparent from the description below.

本発明の第1の態様は、
(A)光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するポリマー、
(B)架橋剤、及び
(C)架橋触媒を含有する硬化膜形成組成物に関する。
本発明の第1の態様において、(A)成分の光配向性基は光二量化又は光異性化する構造を有する官能基であることが好ましい。
本発明の第1の態様において、(A)成分の光配向性基はシンナモイル基又はアゾベンゼン構造を有する基であることが好ましい。
本発明の第1の態様において、さらに、(D)ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの基を有するポリマーを含有することが好ましい。
本発明の第1の態様において、(A)成分のポリマーは、ヒドロキシ基を有する構造単位とC=C二重結合を含む重合性基を有する構造単位とを含み、該ヒドロキシ基を有する構造単位の存在割合が、該ポリマーの全構造単位100モル%に対して20モル%以上であり、かつ、該C=C二重結合を含む重合性基を有する構造単位の存在割合が、該ポリマーの全構造単位100モル%に対して5モル%以上であることが好ましい。
本発明の第1の態様において、前記硬化膜形成組成物は、(A)成分の100質量部に基づいて、5質量部乃至500質量部の(B)成分を含有することが好ましい。
本発明の第1の態様において、前記硬化膜形成組成物は、(A)成分の100質量部に基づいて、0.01質量部乃至20質量部の(C)成分を含有することが好ましい。
The first aspect of the present invention is
(A) A polymer having a photo-oriented group, a hydroxy group, and a polymerizable group containing a C = C double bond.
The present invention relates to a cured film-forming composition containing (B) a cross-linking agent and (C) a cross-linking catalyst.
In the first aspect of the present invention, the photooriented group of the component (A) is preferably a functional group having a structure of photodimerization or photoisomerization.
In the first aspect of the present invention, the photooriented group of the component (A) is preferably a cinnamoyl group or a group having an azobenzene structure.
In the first aspect of the present invention, it is preferable to further contain a polymer having at least one group selected from the group consisting of (D) hydroxy group, carboxyl group, amide group, amino group and alkoxysilyl group.
In the first aspect of the present invention, the polymer of the component (A) contains a structural unit having a hydroxy group and a structural unit having a polymerizable group containing a C = C double bond, and the structural unit having the hydroxy group. The abundance ratio of the structural unit having a polymerizable group containing a C = C double bond is 20 mol% or more with respect to 100 mol% of the total structural units of the polymer. It is preferably 5 mol% or more with respect to 100 mol% of all structural units.
In the first aspect of the present invention, the cured film-forming composition preferably contains 5 parts by mass to 500 parts by mass of the component (B) based on 100 parts by mass of the component (A).
In the first aspect of the present invention, the cured film-forming composition preferably contains 0.01 parts by mass to 20 parts by mass of the component (C) based on 100 parts by mass of the component (A).

本発明の第2の態様は、本発明の第1の態様の硬化膜形成組成物から得られる硬化膜に関する。 A second aspect of the present invention relates to a cured film obtained from the cured film forming composition of the first aspect of the present invention.

本発明の第3の態様は、本発明の第1の態様の硬化膜形成組成物から得られる硬化膜を有する光学フィルムに関する。 A third aspect of the present invention relates to an optical film having a cured film obtained from the cured film forming composition of the first aspect of the present invention.

本発明の第4の態様は、本発明の第2の態様の硬化膜を使用して形成されることを特徴とする配向材に関する。 A fourth aspect of the present invention relates to an alignment material, which is formed by using the cured film of the second aspect of the present invention.

本発明の第5の態様は、本発明の第2の態様の硬化膜を使用して形成されることを特徴とする位相差材に関する。 A fifth aspect of the present invention relates to a retardation material, which is formed by using the cured film of the second aspect of the present invention.

本発明によれば、優れた耐溶剤性を有し、高感度で重合性液晶を配向させることができ、液晶層との密着性に優れる硬化膜と、その形成に好適な硬化膜形成組成物を提供することができる。
また、本発明によれば、上記硬化膜を有する光学フィルム、及び硬化膜又は光学フィルムを使用して形成される配向材及び位相差材を提供することができる。
According to the present invention, a cured film having excellent solvent resistance, capable of orienting a polymerizable liquid crystal with high sensitivity, and having excellent adhesion to a liquid crystal layer, and a cured film forming composition suitable for forming the cured film. Can be provided.
Further, according to the present invention, it is possible to provide an optical film having the cured film, and an alignment material and a retardation material formed by using the cured film or the optical film.

上述したように、優れた耐溶剤性を有し、高感度で重合性液晶を配向させることができ、液晶層との密着性に優れた硬化膜(配向材)が求められている。そして、そのような性能の硬化膜(配向材)の形成に好適な硬化膜形成組成物が求められている。 As described above, there is a demand for a cured film (aligning material) having excellent solvent resistance, capable of orienting a polymerizable liquid crystal with high sensitivity, and having excellent adhesion to a liquid crystal layer. Then, there is a demand for a cured film forming composition suitable for forming a cured film (aligning material) having such performance.

本発明者は、上述の要求に応えるべく、鋭意検討を行った結果、特定の組成を有する硬化膜形成組成物から得られる硬化膜が、優れた耐溶剤性を有し、高感度で重合性液晶を配向させることができ、液晶層との密着性に優れた配向材としての利用が可能であることを見出した。 As a result of diligent studies in order to meet the above requirements, the present inventor has a cured film obtained from a cured film forming composition having a specific composition, which has excellent solvent resistance, high sensitivity and polymerizable property. It has been found that the liquid crystal can be oriented and can be used as an alignment material having excellent adhesion to the liquid crystal layer.

以下において、本発明の硬化膜形成組成物について、成分等の具体例を挙げながら詳細に説明する。そして、本発明の硬化膜形成組成物を用いた本発明の硬化膜および配向材、並びに、その配向材を用いて形成される位相差材および液晶表示素子等について説明する。 Hereinafter, the cured film-forming composition of the present invention will be described in detail with reference to specific examples of components and the like. Then, the cured film and the alignment material of the present invention using the cured film forming composition of the present invention, the retardation material and the liquid crystal display element formed by using the alignment material, and the like will be described.

<硬化膜形成組成物>
本発明の硬化膜形成組成物は、(A)成分である、光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するポリマー、(B)成分である架橋剤、および(C)成分である架橋触媒を含有する。また、(D)成分であるヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの基を有するポリマーを含有することができる。さらに、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の添加剤を含有することができる。さらに、溶剤を含有することができる。
以下、各成分の詳細を説明する。
<Cured film forming composition>
The cured film-forming composition of the present invention is a polymer having a photo-oriented group, a hydroxy group, and a polymerizable group containing a C = C double bond, which is a component (A), and a cross-linking which is a component (B). It contains an agent and a cross-linking catalyst which is a component (C). Further, it can contain a polymer having at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group and an alkoxysilyl group, which are the components (D). Furthermore, other additives can be contained as long as the effects of the present invention are not impaired. In addition, it can contain a solvent.
The details of each component will be described below.

[(A)成分]
本発明の硬化膜形成組成物における(A)成分は、光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するポリマーである。すなわち(A)成分は、本発明の硬化膜形成組成物から得られる硬化膜に光配向性を付与する成分であり、本明細書において、(A)成分を光配向成分とも称する。
[(A) component]
The component (A) in the cured film-forming composition of the present invention is a polymer having a photo-oriented group, a hydroxy group, and a polymerizable group containing a C = C double bond. That is, the component (A) is a component that imparts photo-orientation to the cured film obtained from the cured film-forming composition of the present invention, and the component (A) is also referred to as a photo-alignment component in the present specification.

本発明の硬化膜形成組成物に含有される(A)成分は光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するアクリル共重合体であることが好ましい。 The component (A) contained in the cured film-forming composition of the present invention is preferably an acrylic copolymer having a photo-oriented group, a hydroxy group, and a polymerizable group containing a C = C double bond. ..

本発明において、アクリル共重合体とは、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン等の不飽和二重結合を有するモノマーを重合して得られる共重合体のことをいう。 In the present invention, the acrylic copolymer refers to a copolymer obtained by polymerizing a monomer having an unsaturated double bond such as an acrylic acid ester, a methacrylate ester, and styrene.

(A)成分の光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するアクリル共重合体(以下、特定共重合体とも言う。)は、斯かる構造を有するアクリル共重合体であればよく、アクリル共重合体を構成する高分子の主鎖の骨格及び側鎖の種類等について特に限定されない。 An acrylic copolymer having a photo-oriented group of the component (A), a hydroxy group, and a polymerizable group containing a C = C double bond (hereinafter, also referred to as a specific copolymer) has such a structure. Any acrylic copolymer may be used, and the type of the main chain skeleton and side chains of the polymer constituting the acrylic copolymer is not particularly limited.

光配向性基としては、シンナモイル基、カルコン基、クマリン基、アントラセン基等が挙げられる。これらのうち可視光領域での透明性の高さ、及び光二量化反応性の高さからシンナモイル基が好ましい。より好ましいシンナモイル基及びシンナモイル構造を含む置換基としては下記式[1]又は式[2]で表される構造が挙げられる。なお本明細書において、シンナモイル基におけるベンゼン環がナフタレン環である基についても「シンナモイル基」及び「シンナモイル構造を含む置換基」に含めている。 Examples of the photo-oriented group include a cinnamoyl group, a chalcone group, a coumarin group, an anthracene group and the like. Of these, a cinnamoyl group is preferable because of its high transparency in the visible light region and high photodimerization reactivity. Examples of the more preferable cinnamoyl group and the substituent containing the cinnamoyl structure include the structure represented by the following formula [1] or the formula [2]. In the present specification, the group in which the benzene ring in the cinnamoyl group is a naphthalene ring is also included in the "cinnamoyl group" and the "substituent containing a cinnamoyl structure".

Figure 2019189189
Figure 2019189189

上記式[1]中、Xは水素原子、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基又はビフェニル基を表す。その際、フェニル基及びビフェニル基はハロゲン原子及びシアノ基のいずれかによって置換されていてもよい。In the above formula [1], X 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group or a biphenyl group. At that time, the phenyl group and the biphenyl group may be substituted with either a halogen atom or a cyano group.

上記式[2]中、Xは水素原子、シアノ基、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基、シクロヘキシル基を表す。その際、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基、シクロヘキシル基は、共有結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、尿素結合、ウレタン結合、アミノ結合、カルボニル又はそれらの組み合わせから選ばれる1種又は2種以上の結合を介して複数種が結合してもよい。In the above formula [2], X 2 represents a hydrogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group, a biphenyl group, and a cyclohexyl group. At that time, the alkyl group, phenyl group, biphenyl group, and cyclohexyl group having 1 to 18 carbon atoms are selected from covalent bonds, ether bonds, ester bonds, amide bonds, urea bonds, urethane bonds, amino bonds, carbonyl groups, or combinations thereof. A plurality of species may be bound via the bond of one or more selected species.

上記式[1]及び式[2]中、Aは式[A1]、式[A2]、式[A3]、式[A4]、式[A5]及び式[A6]のいずれかを表す。 In the above formulas [1] and [2], A represents any one of the formula [A1], the formula [A2], the formula [A3], the formula [A4], the formula [A5] and the formula [A6].

上記式[A1]、式[A2]、式[A3]、式[A4]、式[A5]及び式[A6]中、R31、R32、R33、R34、R35、R36、R37及びR38は、それぞれ独立して水素原子、炭素原子数1乃至4のアルキル基、炭素原子数1乃至4のアルコキシ基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基又はシアノ基を表す。In the above formula [A1], formula [A2], formula [A3], formula [A4], formula [A5] and formula [A6], R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 35 , R 36 , R 37 and R 38 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, a trifluoromethyl group or a cyano group, respectively.

ヒドロキシ基は、加熱により(B)成分である架橋剤と結合する部位である。また、本発明のポリマーは、ヒドロキシ基以外の熱架橋性部位、具体例としてはカルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基等を有していても良い。
(A)成分のポリマー中、ヒドロキシ基を有する構造単位の存在割合が、該ポリマーの全構造単位100モル%に対して20モル%以上であることが好ましい。20モル%以上とすることで、本発明の硬化膜形成組成物から得られる硬化膜は光配向のための光反応の効率を向上させることができ、優れた配向感度を有することができる。
ここで、(A)成分のポリマー中に2個以上のヒドロキシ基を有する構造単位が含まれる場合、ヒドロキシ基を有する構造単位の存在割合とは、ポリマーの全構造単位100モルあたりの(ヒドロキシ基を有する構造単位のモル数)×(該構造単位に含まれるヒドロキシ基の数)を表す。
The hydroxy group is a site that binds to the cross-linking agent which is the component (B) by heating. Further, the polymer of the present invention may have a thermally crosslinkable moiety other than the hydroxy group, specifically, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group and the like.
The abundance ratio of the structural unit having a hydroxy group in the polymer of the component (A) is preferably 20 mol% or more with respect to 100 mol% of the total structural unit of the polymer. When the content is 20 mol% or more, the cured film obtained from the cured film forming composition of the present invention can improve the efficiency of the photoreaction for photo-orientation and can have excellent orientation sensitivity.
Here, when the polymer of the component (A) contains a structural unit having two or more hydroxy groups, the abundance ratio of the structural unit having a hydroxy group is the (hydroxy group) per 100 mol of the total structural unit of the polymer. (Number of moles of structural unit having) × (number of hydroxy groups contained in the structural unit).

(A)成分のアクリル共重合体は、重量平均分子量が3,000乃至200,000であることが好ましい。重量平均分子量が200,000を超えて過大なものであると、溶剤に対する溶解性が低下しハンドリング性が低下する場合があり、一方、重量平均分子量が3,000未満で過小なものであると、熱硬化時に硬化不足になり溶剤耐性が低下したり耐熱性が低下したりする場合がある。 The acrylic copolymer of the component (A) preferably has a weight average molecular weight of 3,000 to 200,000. If the weight average molecular weight is more than 200,000 and is excessive, the solubility in a solvent may be lowered and the handleability may be lowered, while the weight average molecular weight is less than 3,000 and is too small. In some cases, the solvent resistance may decrease or the heat resistance may decrease due to insufficient curing during heat curing.

(A)成分の光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するアクリル共重合体の製造方法としては、下記の方法が挙げられる。 Examples of the method for producing an acrylic copolymer having a photo-oriented group of the component (A), a hydroxy group, and a polymerizable group containing a C = C double bond include the following methods.

(A)成分の製造方法1は、光二量化部位を有するモノマーと、エポキシ基を有するモノマーとを共重合したあと、得られた共重合体のエポキシ基に、カルボキシル基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する化合物を反応させる方法である。 In the method 1 for producing the component (A), after copolymerizing a monomer having a photodimerization site and a monomer having an epoxy group, the epoxy group of the obtained copolymer is double-bonded with a carboxyl group and C = C. It is a method of reacting a compound having a polymerizable group containing.

(A)成分の製造方法2は、光二量化部位を有するモノマーと、カルボキシル基を有するモノマーとを共重合したあと、得られた共重合体のカルボキシル基に、エポキシ基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する化合物を反応させる方法である。 In the method 2 for producing the component (A), after copolymerizing a monomer having a photodimerization site and a monomer having a carboxyl group, an epoxy group and a C = C double bond are attached to the carboxyl group of the obtained copolymer. It is a method of reacting a compound having a polymerizable group containing.

光二量化部位を有するモノマーとしては、例えば、シンナモイル基、カルコン基、クマリン基、アントラセン基等を有するモノマーが挙げられる。これらのうち可視光領域での透明性の高さ及び光二量化反応性の高さからシンナモイル基を有するモノマーが特に好ましい。 Examples of the monomer having a photodimerization site include a monomer having a cinnamoyl group, a chalcone group, a coumarin group, an anthracene group and the like. Of these, a monomer having a cinnamoyl group is particularly preferable because of its high transparency in the visible light region and high photodimerization reactivity.

なかでも上記式[1]又は式[2]で表される構造のシンナモイル基及びシンナモイル構造を含む置換基を有するモノマーがより好ましい。そのようなモノマーの具体例を挙げると、下記式[3]又は式[4]で表されるモノマーである。 Of these, a monomer having a cinnamoyl group having a structure represented by the above formula [1] or the above formula [2] and a monomer having a substituent containing a cinnamoyl structure is more preferable. Specific examples of such monomers are monomers represented by the following formula [3] or formula [4].

Figure 2019189189
Figure 2019189189

上記式[3]中、Xは水素原子、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基又はビフェニル基を表す。その際、フェニル基及びビフェニル基はハロゲン原子及びシアノ基のいずれかによって置換されていてもよい。
及びLは、それぞれ独立に共有結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、尿素結合又はウレタン結合を表す。
In the above formula [3], X 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group or a biphenyl group. At that time, the phenyl group and the biphenyl group may be substituted with either a halogen atom or a cyano group.
L 1 and L 2 independently represent covalent bonds, ether bonds, ester bonds, amide bonds, urea bonds or urethane bonds, respectively.

上記式[4]中、Xは水素原子、シアノ基、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基、シクロヘキシル基を表す。その際、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基、シクロヘキシル基は、共有結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、尿素結合を介して結合してもよい。In the above formula [4], X 2 represents a hydrogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group, a biphenyl group, and a cyclohexyl group. At that time, the alkyl group, phenyl group, biphenyl group, and cyclohexyl group having 1 to 18 carbon atoms may be bonded via a covalent bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, or a urea bond.

上記式[3]及び式[4]中、X及びXはそれぞれ独立に単結合、炭素原子数1乃至20のアルキレン基、2価の芳香族環、2価の脂肪族環を示す。ここで炭素原子数1乃至20のアルキレン基は分岐状でも直鎖状でもよい。The formula [3] and the formula [4], X 3 and X 5 are each independently a single bond, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, a divalent aromatic ring, a divalent aliphatic ring. Here, the alkylene group having 1 to 20 carbon atoms may be branched or linear.

上記式[3]及び式[4]中、Xは重合性基を表す。この重合性基の具体例としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチレン基、マレイミド基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基等が挙げられる。The formula [3] and the formula [4], X 4 represents a polymerizable group. Specific examples of this polymerizable group include an acryloyl group, a methacryloyl group, a styrene group, a maleimide group, an acrylamide group, a methacrylamide group and the like.

上記式[3]及び式[4]中、Aは前記と同様に式[A1]、式[A2]、式[A3]、式[A4]、式[A5]及び式[A6]のいずれかを表す。 In the above formulas [3] and [4], A is any one of the formulas [A1], the formula [A2], the formula [A3], the formula [A4], the formula [A5] and the formula [A6] in the same manner as described above. Represents.

C=C二重結合を含む重合性基とカルボキシル基とを有するモノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、モノ−(2−(アクリロイルオキシ)エチル)フタレート、モノ−(2−(メタクリロイルオキシ)エチル)フタレート、モノ−(2−(アクリロイルオキシ)エチル)ヘキサヒドロフタレート、モノ−(2−(メタクリロイルオキシ)エチル)ヘキサヒドロフタレート、モノ−(2−(アクリロイルオキシ)エチル)サクシネート、モノ−(2−(メタクリロイルオキシ)エチル)サクシネート、N−(カルボキシフェニル)マレイミド、N−(カルボキシフェニル)メタクリルアミド、N−(カルボキシフェニル)アクリルアミド及びω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレートが挙げられる。これらの単量体としては、例えば、「ライトエステルHO−MS」、「ライトアクリレートHOA−MS(N)」、「ライトアクリレートHOA−HH(N)」及び「ライトアクリレートHOA−MPL(N)」(以上、共栄社化学株式会社製、商品名)、アロニックスM−5300、アロニックスM−5400(以上、東亜合成(株)製、商品名)、A−SA、SA(以上、新中村化学工業(株)製、商品名)として市販されているものを用いることができる。 Examples of the monomer having a polymerizable group containing a C = C double bond and a carboxyl group include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, mono- (2- (acryloyloxy) ethyl) phthalate, and mono- (2- (2-). (Methyloxy) ethyl) phthalate, mono- (2- (acryloyloxy) ethyl) hexahydrophthalate, mono- (2- (methacryloyloxy) ethyl) hexahydrophthalate, mono- (2- (acryloyloxy) ethyl) succinate , Mono- (2- (methacryloyloxy) ethyl) succinate, N- (carboxyphenyl) maleimide, N- (carboxyphenyl) methacrylicamide, N- (carboxyphenyl) acrylamide and ω-carboxy-polycaprolactone mono (meth) acrylate Can be mentioned. Examples of these monomers include "light ester HO-MS", "light acrylate HOA-MS (N)", "light acrylate HOA-HH (N)" and "light acrylate HOA-MPL (N)". (Above, product name manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Aronix M-5300, Aronix M-5400 (above, product name manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd.), A-SA, SA (above, Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.) ), Commercial name) can be used.

C=C二重結合を含む重合性基とエポキシ基とを有するモノマーとしては、例えば、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレートグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル、3−エテニル−7−オキサビシクロ[4.1.0]ヘプタン、1,2−エポキシ−5−ヘキセンおよび1,7−オクタジエンモノエポキサイドなどが挙げられる。 Examples of the monomer having a polymerizable group containing a C = C double bond and an epoxy group include glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate glycidyl ether, allyl glycidyl ether, o-vinylbenzyl glycidyl ether, and m-. Vinyl benzyl glycidyl ether, p-vinylbenzyl glycidyl ether, 3-ethenyl-7-oxabicyclo [4.1.0] heptane, 1,2-epoxy-5-hexene and 1,7-octadiene monoepoxiside. Be done.

ここで、(A)成分であるポリマーの製造においては、原料となるエポキシ基を有するモノマー及びカルボキシル基を有するモノマーの少なくとも一方は、重合性基と、エポキシ基及びカルボキシル基から選ばれる基との間にスペーサーを有するものを選択することが好ましい。このような原料を選択することにより、得られる本発明の硬化膜は液晶層との密着性がより良好になる。 Here, in the production of the polymer as the component (A), at least one of the monomer having an epoxy group and the monomer having a carboxyl group as a raw material is a polymerizable group and a group selected from an epoxy group and a carboxyl group. It is preferable to select one having a spacer in between. By selecting such a raw material, the obtained cured film of the present invention has better adhesion to the liquid crystal layer.

スペーサー及びカルボキシル基を有するモノマーの好ましい構造は下記の(SC−1)及び(SC−2)のいずれかである。

Figure 2019189189
式中、Xは重合性基を表し、この重合性基の具体例としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチレン基、マレイミド基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基等が挙げられる。Lは共有結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、尿素結合又はウレタン結合を表す。QおよびQはそれぞれ独立に炭素原子数2乃至10のアルキレン基を表し、Qはジカルボン酸無水物由来の構造を有する二価の基を表す。nは1〜10の自然数を表す。The preferred structure of the spacer and the monomer having a carboxyl group is one of the following (SC-1) and (SC-2).
Figure 2019189189
Wherein, X 4 represents a polymerizable group, the specific examples of the polymerizable group is, for example, an acryloyl group, a methacryloyl group, styrene group, a maleimide group, acrylamide group, and a methacrylamide group. L 1 represents a covalent bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a urea bond or a urethane bond. Q 1 and Q 3 each independently represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, Q 2 represents a divalent group having a structure derived from dicarboxylic acid anhydride. n represents a natural number from 1 to 10.

このようなスペーサー及びカルボキシル基を有するモノマーとしては、モノ−(2−(アクリロイルオキシ)エチル)フタレート、モノ−(2−(メタクリロイルオキシ)エチル)フタレート、モノ−(2−(アクリロイルオキシ)エチル)ヘキサヒドロフタレート、モノ−(2−(メタクリロイルオキシ)エチル)ヘキサヒドロフタレート、モノ−(2−(アクリロイルオキシ)エチル)サクシネート、モノ−(2−(メタクリロイルオキシ)エチル)サクシネート及びω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレートが好ましい。また、カルボキシル機を有する多官能アクリレートも好ましい。市販されているものとしては、例えば、「ライトエステルHO−MS」、「ライトアクリレートHOA−MS(N)」、「ライトアクリレートHOA−HH(N)」及び「ライトアクリレートHOA−MPL(N)」(以上、共栄社化学株式会社製、商品名)、アロニックスM−5300、アロニックスM−5400(以上、東亜合成(株)製、商品名)として市販されているものを用いることができる。 Examples of the monomer having such a spacer and a carboxyl group include mono- (2- (acryloyloxy) ethyl) phthalate, mono- (2- (methacryloyloxy) ethyl) phthalate, and mono- (2- (acryloyloxy) ethyl). Hexahydrophthalate, mono- (2- (methacryloyloxy) ethyl) hexahydrophthalate, mono- (2- (acryloyloxy) ethyl) succinate, mono- (2- (methacryloyloxy) ethyl) succinate and ω-carboxy-poly Caprolactone mono (meth) acrylate is preferred. A polyfunctional acrylate having a carboxyl machine is also preferable. Commercially available products include, for example, "light ester HO-MS", "light acrylate HOA-MS (N)", "light acrylate HOA-HH (N)" and "light acrylate HOA-MPL (N)". Commercially available products can be used as (above, trade name manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Aronix M-5300, and Aronix M-5400 (above, trade name manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd.).

スペーサー及びエポキシ基を有するモノマーの好ましい構造は下記(SE−1)で表される。

Figure 2019189189
式中、Xは重合性基を表し、この重合性基の具体例としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチレン基、マレイミド基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基等が挙げられる。Lは共有結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、尿素結合又はウレタン結合を表す。Qは炭素原子数2乃至10のアルキレン基を表す。The preferred structure of the spacer and the monomer having an epoxy group is represented by the following (SE-1).
Figure 2019189189
Wherein, X 4 represents a polymerizable group, the specific examples of the polymerizable group is, for example, an acryloyl group, a methacryloyl group, styrene group, a maleimide group, acrylamide group, and a methacrylamide group. L 1 represents a covalent bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a urea bond or a urethane bond. Q 1 is an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms.

このようなスペーサー及びエポキシ基を有するモノマーとしては、例えば、4−ヒドロキシブチルメタクリレートグリシジルエーテル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテルなどが挙げられる。 Examples of the monomer having such a spacer and an epoxy group include 4-hydroxybutyl methacrylate glycidyl ether, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether, p-vinylbenzyl glycidyl ether and the like.

ポリマーが有するエポキシ基にグラフトさせるためのC=C二重結合を含む重合性基とカルボキシル基とを有するモノマーとしては、下記の(SC−3)で表される、カルボキシル基を有する多官能アクリレートも好ましい。

Figure 2019189189
式中、Xは重合性基を表し、この重合性基の具体例としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチレン基、マレイミド基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基等が挙げられる。Lは共有結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、尿素結合又はウレタン結合を表す。Qは(m+1)価の有機基を表し、mは2〜10の自然数を表す。The monomer having a polymerizable group containing a C = C double bond and a carboxyl group for grafting to the epoxy group of the polymer is a polyfunctional acrylate having a carboxyl group represented by (SC-3) below. Is also preferable.
Figure 2019189189
Wherein, X 4 represents a polymerizable group, the specific examples of the polymerizable group is, for example, an acryloyl group, a methacryloyl group, styrene group, a maleimide group, acrylamide group, and a methacrylamide group. L 1 represents a covalent bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a urea bond or a urethane bond. Q 4 are represent (m + 1) -valent organic group, m represents a natural number of 2 to 10.

このような化合物としては、アロニックスM−510、M−520(以上、東亜合成(株)製、商品名)として市販されているものを用いることができる。 As such a compound, those commercially available as Aronix M-510 and M-520 (all manufactured by Toagosei Co., Ltd., trade name) can be used.

製造方法1に従って特定共重合体を得るために用いる光二量化部位を有するモノマー及びエポキシ基を有するモノマーの使用量は、特定共重合体を得るために使用する全モノマーの合計量に基いて、光二量化部位を有するモノマーが40質量%〜95質量%、エポキシ基を有するモノマーが5質量%〜60質量%であることが好ましい。光二量化部位を有するモノマー含有量を40質量%以上とすることで高感度かつ良好な液晶配向性を付与することができる。他方、95質量%以下とすることで充分な熱硬化性を付与することができ、高感度かつ良好な液晶配向性を維持することができる。 The amount of the monomer having a photodimerization site and the monomer having an epoxy group used to obtain the specific copolymer according to the production method 1 is based on the total amount of all the monomers used to obtain the specific copolymer. It is preferable that the monomer having a quantification site is 40% by mass to 95% by mass and the monomer having an epoxy group is 5% by mass to 60% by mass. By setting the content of the monomer having a photodimerization site to 40% by mass or more, high sensitivity and good liquid crystal orientation can be imparted. On the other hand, when it is 95% by mass or less, sufficient thermosetting property can be imparted, and high sensitivity and good liquid crystal orientation can be maintained.

製造方法2に従って特定共重合体を得るために用いる光二量化部位を有するモノマー及びカルボキシル基を有するモノマーの使用量は、上記の光二量化部位を有するモノマー及びエポキシ基を有するモノマーの使用量におけるエポキシ基を有するモノマーの使用量に準じる。 The amount of the monomer having a photodimerization site and the monomer having a carboxyl group used to obtain the specific copolymer according to the production method 2 is the epoxy group in the amount of the monomer having the photodimerization site and the monomer having an epoxy group described above. According to the amount of monomer used.

また、本発明の硬化膜形成組成物においては、特定共重合体の前駆体となるポリマーを得る際に、光二量化部位、エポキシ基及びカルボキシル基(以下、これらを特定官能基ともいう)のいずれかを有するモノマーと共重合可能なモノマー(以下非反応性官能基を有するモノマーともいう)を併用することができる。 Further, in the cured film-forming composition of the present invention, when a polymer serving as a precursor of a specific copolymer is obtained, any of a photodimerization site, an epoxy group and a carboxyl group (hereinafter, these are also referred to as specific functional groups). A copolymerizable monomer (hereinafter, also referred to as a monomer having a non-reactive functional group) can be used in combination.

そのようなモノマーの具体例としては、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物及びビニル化合物等が挙げられる。
以下、上記モノマーの具体例を挙げるが、本発明は、これらに限定されるものではない。
Specific examples of such monomers include acrylic acid ester compounds, methacrylic acid ester compounds, maleimide compounds, acrylamide compounds, acrylonitrile, maleic acid anhydrides, styrene compounds and vinyl compounds.
Specific examples of the above-mentioned monomers will be given below, but the present invention is not limited thereto.

上述したアクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ベンジルアクリレート、ナフチルアクリレート、アントリルアクリレート、アントリルメチルアクリレート、フェニルアクリレート、グリシジルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、tert−ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、3−メトキシブチルアクリレート、2−メチル−2−アダマンチルアクリレート、2−プロピル−2−アダマンチルアクリレート、8−メチル−8−トリシクロデシルアクリレート、及び、8−エチル−8−トリシクロデシルアクリレート等が挙げられる。 Examples of the acrylic acid ester compound described above include methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, benzyl acrylate, naphthyl acrylate, anthryl acrylate, anthryl methyl acrylate, phenyl acrylate, glycidyl acrylate, and 2,2,2-trifluoroethyl. Acrylate, tert-butyl acrylate, cyclohexyl acrylate, isobornyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, 2-methyl-2- Examples thereof include adamantyl acrylate, 2-propyl-2-adamantyl acrylate, 8-methyl-8-tricyclodecyl acrylate, and 8-ethyl-8-tricyclodecyl acrylate.

上述したメタクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、アントリルメタクリレート、アントリルメチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、tert−ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、2−エトキシエチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、3−メトキシブチルメタクリレート、2−メチル−2−アダマンチルメタクリレート、γ−ブチロラクトンメタクリレート、2−プロピル−2−アダマンチルメタクリレート、8−メチル−8−トリシクロデシルメタクリレート、及び、8−エチル−8−トリシクロデシルメタクリレート等が挙げられる。 Examples of the methacrylic acid ester compound described above include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isopropyl methacrylate, benzyl methacrylate, naphthyl methacrylate, anthryl methacrylate, anthryl methyl methacrylate, phenyl methacrylate, glycidyl methacrylate, and 2,2,2-trifluoroethyl. Methacrylate, tert-butyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, isobornyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, methoxytriethylene glycol methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 3-methoxybutyl methacrylate, 2-methyl-2- Examples thereof include adamantyl methacrylate, γ-butyrolactone methacrylate, 2-propyl-2-adamantyl methacrylate, 8-methyl-8-tricyclodecyl methacrylate, 8-ethyl-8-tricyclodecyl methacrylate and the like.

上述したビニル化合物としては、例えば、メチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ビニルナフタレン、ビニルカルバゾール、アリルグリシジルエーテル、3−エテニル−7−オキサビシクロ[4.1.0]ヘプタン、1,2−エポキシ−5−ヘキセン、及び、1,7−オクタジエンモノエポキサイド等が挙げられる。 Examples of the vinyl compounds described above include methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, vinylnaphthalene, vinylcarbazole, allylglycidyl ether, 3-ethenyl-7-oxabicyclo [4.1.0] heptane, 1,2-epoxy-5-. Examples thereof include hexene and 1,7-octadiene monoepoxiside.

上述したスチレン化合物としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、クロロスチレン、及び、ブロモスチレン等が挙げられる。 Examples of the styrene compound described above include styrene, methylstyrene, chlorostyrene, bromostyrene and the like.

上述したマレイミド化合物としては、例えば、マレイミド、N−メチルマレイミド、N−フェニルマレイミド、及び、N−シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。 Examples of the maleimide compound described above include maleimide, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide and the like.

本発明の硬化膜形成組成物に用いる特定共重合体の前駆体となるポリマーを得る方法は特に限定されないが、例えば、光二量化部位、エポキシ基及びカルボキシル基から選ばれる特定官能基を有するモノマー、所望により非反応性官能基を有するモノマー及び重合開始剤等を共存させた溶剤中において、50℃〜110℃の温度下で重合反応させて得られる。その際、用いられる溶剤は、特定官能基を有するモノマー、所望により用いられる非反応性官能基を有するモノマー及び重合開始剤等を溶解するものであれば特に限定されない。具体例としては、後述する溶剤に記載する溶剤が挙げられる。 The method for obtaining a polymer that is a precursor of the specific copolymer used in the cured film-forming composition of the present invention is not particularly limited, and for example, a monomer having a specific functional group selected from a photodimerization site, an epoxy group and a carboxyl group. It is obtained by carrying out a polymerization reaction at a temperature of 50 ° C. to 110 ° C. in a solvent in which a monomer having a non-reactive functional group and a polymerization initiator and the like coexist, if desired. At that time, the solvent used is not particularly limited as long as it dissolves a monomer having a specific functional group, a monomer having a non-reactive functional group used if desired, a polymerization initiator and the like. Specific examples include the solvents described in the solvents described below.

側鎖にエポキシ基を有するポリマーと、特定のカルボキシル基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する化合物との反応生成物は、上記の如きエポキシ基を有するポリマーと、特定のカルボキシル基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する化合物とを、好ましくは触媒の存在下、好ましくは適当な有機溶媒中で反応させることにより合成することができる。
反応に際して使用されるカルボキシル基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する化合物の使用割合は、エポキシ基を有する重合体に含まれるエポキシ基1モルに対して、好ましくは0.01〜0.9モルであり、より好ましくは0.05〜0.8モルであり、さらに好ましくは0.1〜0.7モルである。
The reaction product of a polymer having an epoxy group in the side chain and a compound having a specific carboxyl group and a polymerizable group containing a C = C double bond is a polymer having an epoxy group as described above and a specific carboxyl. It can be synthesized by reacting a compound having a group and a polymerizable group containing a C = C double bond, preferably in the presence of a catalyst, preferably in a suitable organic solvent.
The ratio of the compound having a carboxyl group and a polymerizable group containing a C = C double bond used in the reaction is preferably 0.01 with respect to 1 mol of the epoxy group contained in the polymer having an epoxy group. It is ~ 0.9 mol, more preferably 0.05 to 0.8 mol, still more preferably 0.1 to 0.7 mol.

側鎖にカルボキシル基を有するポリマーと、特定のエポキシ基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する化合物との反応生成物は、上記の如きカルボキシル基を有するポリマーと、特定のエポキシ基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する化合物とを、好ましくは触媒の存在下、好ましくは適当な有機溶媒中で反応させることにより合成することができる。
反応に際して使用されるエポキシ基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する化合物の使用割合は、カルボキシル基を有する重合体に含まれるカルボキシル基1モルに対して、好ましくは0.01〜0.9モルであり、より好ましくは0.05〜0.8モルであり、さらに好ましくは0.1〜0.7モルである。
The reaction product of a polymer having a carboxyl group in the side chain and a compound having a specific epoxy group and a polymerizable group containing a C = C double bond is a polymer having a carboxyl group as described above and a specific epoxy. It can be synthesized by reacting a compound having a group and a polymerizable group containing a C = C double bond, preferably in the presence of a catalyst, preferably in a suitable organic solvent.
The ratio of the compound having an epoxy group and a polymerizable group containing a C = C double bond used in the reaction is preferably 0.01 with respect to 1 mol of the carboxyl group contained in the polymer having a carboxyl group. It is ~ 0.9 mol, more preferably 0.05 to 0.8 mol, still more preferably 0.1 to 0.7 mol.

ここで使用することのできる有機触媒としては、有機塩基またはエポキシ化合物とカルボキシル基との反応を促進するいわゆる硬化促進剤として公知の化合物を用いることができる。 As the organic catalyst that can be used here, a compound known as a so-called curing accelerator that promotes the reaction between an organic base or an epoxy compound and a carboxyl group can be used.

上記有機塩基としては、例えばエチルアミン、ジエチルアミン、ピペラジン、ピペリジン、ピロリジン、ピロールの如き1〜2級有機アミン;トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロウンデセンの如き3級の有機アミン;テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの如き4級の有機アミン等を挙げることができる。これらの有機塩基のうち、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジンの如き3級の有機アミン;テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの如き4級の有機アミンが好ましい。 Examples of the organic base include 1-2 secondary organic amines such as ethylamine, diethylamine, piperazine, piperidine, pyrrolidine, and pyrrol; triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, and the like. Tertiary organic amines such as diazabicycloundecene; quaternary organic amines such as tetramethylammonium hydroxide can be mentioned. Among these organic bases, tertiary organic amines such as triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine and 4-dimethylaminopyridine; and quaternary organic amines such as tetramethylammonium hydroxide. preferable.

上記硬化促進剤としては、例えばベンジルジメチルアミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、シクロヘキシルジメチルアミン、トリエタノールアミンの如き3級アミン;2−メチルイミダゾール、2−n−ヘプチルイミダゾール、2−n−ウンデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−メチルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−n−ウンデシルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−フェニルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジ(ヒドロキシメチル)イミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−フェニル−4,5−ジ〔(2’−シアノエトキシ)メチル〕イミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−n−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、1−(2−シアノエチル)−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテート、1−(2−シアノエチル)−2−エチル−4−メチルイミダゾリウムトリメリテート、2,4−ジアミノ−6−〔2’−メチルイミダゾリル−(1’)〕エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−(2’−n−ウンデシルイミダゾリル)エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−〔2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル−(1’)〕エチル−s−トリアジン、2−メチルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−〔2’−メチルイミダゾリル−(1’)〕エチル−s−トリアジンのイソシアヌル酸付加物の如きイミダゾール化合物;ジフェニルフォスフィン、トリフェニルフォスフィン、亜リン酸トリフェニルの如き有機リン化合物; Examples of the curing accelerator include tertiary amines such as benzyldimethylamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, cyclohexyldimethylamine, and triethanolamine; 2-methylimidazole and 2-n-heptylimidazole. , 2-n-Undecylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2- Ethyl-4-methylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-methylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-n-undecylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-phenylimidazole, 1 -(2-Cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-di (hydroxymethyl) imidazole, 1- (2-) Cyanoethyl) -2-phenyl-4,5-di [(2'-cyanoethoxy) methyl] imidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-n-undecylimidazolium trimerite, 1- (2-cyanoethyl) ) -2-phenylimidazolium trimerite, 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazolium trimerite, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1') )] Ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- (2'-n-undecylimidazolyl) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-ethyl-4'-methyl Imidazolyl- (1')] ethyl-s-triazine, 2-methylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1') ')] Imidazole compounds such as the isocyanuric acid adduct of ethyl-s-triazine; organic phosphorus compounds such as diphenylphosphine, triphenylphosphine, triphenyl phosphite;

ベンジルトリフェニルフォスフォニウムクロライド、テトラ−n−ブチルフォスフォニウムブロマイド、メチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、n−ブチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、テトラフェニルフォスフォニウムブロマイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムヨーダイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムアセテート、テトラ−n−ブチルフォスフォニウムo,o−ジエチルフォスフォロジチオネート、テトラ−n−ブチルフォスフォニウムベンゾトリアゾレート、テトラ−n−ブチルフォスフォニウムテトラフルオロボレート、テトラ−n−ブチルフォスフォニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルフォスフォニウムテトラフェニルボレートの如き4級フォスフォニウム塩;1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7やその有機酸塩の如きジアザビシクロアルケン;オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫、アルミニウムアセチルアセトン錯体の如き有機金属化合物;テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラ−n−ブチルアンモニウムクロライドの如き4級アンモニウム塩;三フッ化ホウ素、ホウ酸トリフェニルの如きホウ素化合物;塩化亜鉛、塩化第二錫の如き金属ハロゲン化合物;ジシアンジアミドやアミンとエポキシ樹脂との付加物等のアミン付加型促進剤等の高融点分散型潜在性硬化促進剤;前記イミダゾール化合物、有機リン化合物や4級フォスフォニウム塩等の硬化促進剤の表面をポリマーで被覆したマイクロカプセル型潜在性硬化促進剤;アミン塩型潜在性硬化剤促進剤;ルイス酸塩、ブレンステッド酸塩等の高温解離型の熱カチオン重合型潜在性硬化促進剤等の潜在性硬化促進剤等を挙げることができる。
これらのうち、好ましくはテトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラ−n−ブチルアンモニウムクロライドの如き4級アンモニウム塩である。
Benzyltriphenylphosphonium chloride, tetra-n-butylphosphonium bromide, methyltriphenylphosphonium bromide, ethyltriphenylphosphonium bromide, n-butyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide , Ethyltriphenylphosphonium iodide, ethyltriphenylphosphonium acetate, tetra-n-butylphosphonium o, o-diethylphosphorodithionate, tetra-n-butylphosphonium benzotriazolate, tetra Tertiary phosphonium salts such as -n-butylphosphonium tetrafluoroborate, tetra-n-butylphosphonium tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate; 1,8-diazabicyclo [5.4. 0] Diazabicycloalkenes such as undecene-7 and its organic acid salts; organic metal compounds such as zinc octylate, tin octylate, aluminum acetylacetone complexes; tetraethylammonium bromide, tetra-n-butylammonium bromide, tetraethylammonium chloride, Tertiary ammonium salts such as tetra-n-butylammonium chloride; boron compounds such as boron trifluoride and triphenyl borate; metal halogen compounds such as zinc chloride and ferric chloride; addition of dicyandiamides and amines to epoxy resins High melting point dispersion type latent curing accelerator such as amine-added type accelerator; microcapsule type latent curing agent such as imidazole compound, organic phosphorus compound and quaternary phosphonium salt whose surface is coated with a polymer. Sexual curing accelerator; amine salt type latent curing accelerator; high temperature dissociation type thermal cationic polymerization type latent curing accelerator such as Lewis acid salt, brensted acid salt, etc. it can.
Of these, quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium bromide, tetra-n-butylammonium bromide, tetraethylammonium chloride, and tetra-n-butylammonium chloride are preferable.

触媒の使用割合としては、エポキシ基を有する重合体またはカルボキシル基を有する重合体の100質量部に対して、好ましくは100質量部以下であり、より好ましくは0.01〜100質量部、さらに好ましくは0.1〜20質量部である。 The ratio of the catalyst used is preferably 100 parts by mass or less, more preferably 0.01 to 100 parts by mass, still more preferably 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer having an epoxy group or the polymer having a carboxyl group. Is 0.1 to 20 parts by mass.

上記有機溶媒としては、例えば炭化水素化合物、エーテル化合物、エステル化合物、ケトン化合物、アミド化合物、アルコール化合物等を挙げることができる。これらのうち、エーテル化合物、エステル化合物、ケトン化合物、アルコール化合物が原料および生成物の溶解性ならびに生成物の精製のし易さの観点から好ましい。溶媒は、固形分濃度(反応溶液中の溶媒以外の成分の質量が溶液の全質量に占める割合)が、好ましくは0.1質量%以上、より好ましくは5〜50質量%となる量で使用される。 Examples of the organic solvent include hydrocarbon compounds, ether compounds, ester compounds, ketone compounds, amide compounds, alcohol compounds and the like. Of these, ether compounds, ester compounds, ketone compounds, and alcohol compounds are preferable from the viewpoint of solubility of raw materials and products and ease of purification of products. The solvent is used in an amount such that the solid content concentration (the ratio of the mass of the components other than the solvent in the reaction solution to the total mass of the solution) is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 5 to 50% by mass. Will be done.

反応温度は、好ましくは0〜200℃であり、より好ましくは50〜150℃である。反応時間は、好ましくは0.1〜50時間であり、より好ましくは0.5〜20時間である。 The reaction temperature is preferably 0 to 200 ° C, more preferably 50 to 150 ° C. The reaction time is preferably 0.1 to 50 hours, more preferably 0.5 to 20 hours.

<(A)成分の製造方法3>
(A)成分の製造方法3は、側鎖にエポキシ基を有する重合体に、けい皮酸誘導体と、前述のカルボキシル基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する化合物を反応させる方法である。
<Production method of component (A) 3>
In the method 3 for producing the component (A), a polymer having an epoxy group in the side chain is reacted with a silicate derivative and a compound having the above-mentioned carboxyl group and a polymerizable group containing a C = C double bond. The method.

側鎖にエポキシ基を有する重合体は、例えば前述のエポキシ基を有するモノマーの重合体であってもよいし、前述のエポキシ基を有するモノマーと、前述の非反応性官能基を有するモノマーとの共重合体であってもよい。 The polymer having an epoxy group in the side chain may be, for example, a polymer of the above-mentioned monomer having an epoxy group, or the above-mentioned monomer having an epoxy group and the above-mentioned monomer having a non-reactive functional group. It may be a copolymer.

エポキシ基を有する重合体におけるエポキシ基を有する重合性不飽和化合物の共重合割合は、好ましくは30質量%以上であり、より好ましくは50質量%以上である。 The copolymerization ratio of the polymerizable unsaturated compound having an epoxy group in the polymer having an epoxy group is preferably 30% by mass or more, more preferably 50% by mass or more.

エポキシ基を有する重合体の合成は、好ましくは溶媒中、適当な重合開始剤の存在下における公知のラジカル重合法により行うことができる。 The synthesis of the polymer having an epoxy group can be carried out by a known radical polymerization method, preferably in a solvent in the presence of a suitable polymerization initiator.

側鎖にエポキシ基を有する重合体としては、市販品を使用してもよい。かかる市販品としては、例えばEHPE3150、EHPE3150CE(以上、(株)ダイセル製)、UG−4010、UG−4035、UG−4040、UG−4070(以上、東亜合成(株)製ARUFONシリーズ)、ECN−1299(旭化成(株)製)、DEN431、DEN438(以上、ダウケミカル社製)、jER−152(三菱ケミカル(株)製)、エピクロンN−660、N−665、N−670、N−673、N−695、N−740、N−770、N−775(以上、DIC(株)製)、EOCN−1020、EOCN−102S、EOCN−104S(以上、日本化薬(株)製)などが挙げられる。 As the polymer having an epoxy group in the side chain, a commercially available product may be used. Examples of such commercially available products include EHPE3150, EHPE3150CE (above, manufactured by DIC CORPORATION), UG-4010, UG-4035, UG-4040, UG-4070 (above, ARUFON series manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd.), ECN- 1299 (manufactured by Asahi Kasei Corporation), DEN431, DEN438 (manufactured by Dow Chemical Corporation), jER-152 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Epicron N-660, N-665, N-670, N-673, N-695, N-740, N-770, N-775 (above, manufactured by DIC Corporation), EOCN-1020, EOCN-102S, EOCN-104S (above, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), etc. Be done.

カルボキシル基を有する桂皮酸誘導体としては、例えば下記式(1−1)〜(1−5)

Figure 2019189189
(式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1乃至6のアルキル基、炭素原子数1乃至6のアルコキシ等を表す。)のいずれかで表される化合物等を挙げることができる。
また、カルボキシル基を有する桂皮酸誘導体として、上述の式[3]で表されるモノマーにおいて、Xが水素原子である化合物も好適に用いられる。Examples of the cinnamic acid derivative having a carboxyl group include the following formulas (1-1) to (1-5).
Figure 2019189189
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy having 1 to 6 carbon atoms, etc.). ..
Further, as the cinnamic acid derivative having a carboxyl group, a compound in which X 1 is a hydrogen atom in the above-mentioned monomer represented by the formula [3] is also preferably used.

上記けい皮酸誘導体は、有機化学の定法を適宜に組み合わせて合成することができる。 The cinnamic acid derivative can be synthesized by appropriately combining conventional methods of organic chemistry.

ここで、カルボキシル基とC=C二重結合を含む重合性基を有する化合物(モノマー)は、前記のとおり、C=C二重結合を有する基とカルボキシル基との間にスペーサーを有するものを選択することが好ましい。 Here, the compound (monomer) having a polymerizable group containing a carboxyl group and a C = C double bond is a compound (monomer) having a spacer between the group having a C = C double bond and the carboxyl group as described above. It is preferable to select.

側鎖にエポキシ基を有する重合体に、けい皮酸誘導体と、前述のカルボキシル基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する化合物を反応させる方法は前記のとおりである。その際、側鎖にエポキシ基を有する重合体に、けい皮酸誘導体と、前述のカルボキシル基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する化合物とを一緒に反応させてもよいし、別々に反応させてもよい。 The method for reacting a polymer having an epoxy group in the side chain with a compound having a silicate derivative and the above-mentioned polymerizable group containing a carboxyl group and a C = C double bond is as described above. At that time, the polymer having an epoxy group in the side chain may be reacted together with the carcinate derivative and the compound having the above-mentioned carboxyl group and a polymerizable group containing a C = C double bond. , May be reacted separately.

(A)成分のポリマー中、C=C二重結合を含む重合性基を有する構造単位の存在割合が、該ポリマーの全構造単位100モルあたり、5モル%以上であることが好ましく、10モル%以上であることがさらに好ましい。合計が5モル%未満である場合は、液晶層との密着性が不十分となる場合がある。
ここで、(A)成分のポリマー中に2個以上のC=C二重結合を含む重合性基を有する構造単位が含まれる場合、C=C二重結合を含む重合性基を有する構造単位の存在割合とは、ポリマーの全構造単位100モルあたりの(C=C二重結合を含む重合性基を有する構造単位のモル数)×(該構造単位に含まれるC=C二重結合を有ずる重合性基の数)を表す。
The abundance ratio of the structural unit having a polymerizable group containing a C = C double bond in the polymer of the component (A) is preferably 5 mol% or more per 100 mol of the total structural unit of the polymer, preferably 10 mol. It is more preferably% or more. If the total is less than 5 mol%, the adhesion to the liquid crystal layer may be insufficient.
Here, when the polymer of the component (A) contains a structural unit having a polymerizable group containing two or more C = C double bonds, the structural unit having a polymerizable group containing a C = C double bond The abundance ratio of is defined as (the number of moles of the structural unit having a polymerizable group containing a C = C double bond) x (the C = C double bond contained in the structural unit) per 100 mol of the total structural unit of the polymer. (Number of polymerizable groups).

このようにして、(A)成分である、光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するポリマーを含有する溶液が得られる。この溶液はそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、溶液中に含まれる重合体を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、または単離した重合体を精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。 In this way, a solution containing a polymer having a photo-oriented group, a hydroxy group, and a polymerizable group containing a C = C double bond, which is the component (A), is obtained. This solution may be used as it is for the preparation of the liquid crystal alignment agent, the polymer contained in the solution may be isolated and then used for the preparation of the liquid crystal alignment agent, or the isolated polymer may be purified. It may be used for the preparation of a liquid crystal aligning agent.

また、上記のようにして得られた特定共重合体の溶液を、ジエチルエーテルや水等の撹拌下に投入して再沈殿させ、生成した沈殿物を濾過・洗浄した後、常圧又は減圧下で、常温あるいは加熱乾燥することで、特定共重合体の粉体とすることができる。このような操作により、特定共重合体と共存する重合開始剤や未反応モノマーを除去することができ、その結果、精製した特定共重合体の粉体が得られる。一度の操作で充分に精製できない場合は、得られた粉体を溶剤に再溶解して、上記の操作を繰り返し行えばよい。 Further, the solution of the specific copolymer obtained as described above is added under stirring with diethyl ether, water or the like to reprecipitate, and the generated precipitate is filtered and washed, and then under normal pressure or reduced pressure. Then, it can be made into a powder of a specific copolymer by drying at room temperature or by heating. By such an operation, the polymerization initiator and the unreacted monomer coexisting with the specific copolymer can be removed, and as a result, the purified powder of the specific copolymer can be obtained. If the powder cannot be sufficiently purified by one operation, the obtained powder may be redissolved in a solvent and the above operation may be repeated.

本発明の硬化膜形成組成物においては、(A)成分として上記特定共重合体の粉体をそのまま用いてもよく、あるいはその粉体を、たとえば後述する溶剤に再溶解して溶液の状態として用いてもよい。 In the cured film-forming composition of the present invention, the powder of the specific copolymer may be used as it is as the component (A), or the powder may be redissolved in, for example, a solvent described later to prepare a solution. You may use it.

また、本実施形態においては、(A)成分のアクリル共重合体は、複数種の特定共重合体の混合物であってもよい。 Further, in the present embodiment, the acrylic copolymer of the component (A) may be a mixture of a plurality of specific copolymers.

以上のように本発明においては、(A)成分として高分子量の特定共重合体を用いることができる。また、(A)成分は1種以上の特定共重合体の混合物であってもよい。 As described above, in the present invention, a high molecular weight specific copolymer can be used as the component (A). Further, the component (A) may be a mixture of one or more specific copolymers.

[(B)成分]
本発明の硬化膜形成組成物は、(B)成分として架橋剤を含有する。より詳しくは、(B)成分は、上述の(A)成分および(C)成分と反応する架橋剤である。(B)成分は、(A)成分であるポリマーの熱架橋性基(特にヒドロキシ基)、及び(C)成分に含まれるヒドロキシ基と結合する。そして、本実施の形態の硬化膜形成組成物は、硬化膜として、光反応効率の高い配向材を形成することができる。
[(B) component]
The cured film-forming composition of the present invention contains a cross-linking agent as the component (B). More specifically, the component (B) is a cross-linking agent that reacts with the above-mentioned components (A) and (C). The component (B) is bonded to the thermally crosslinkable group (particularly the hydroxy group) of the polymer which is the component (A) and the hydroxy group contained in the component (C). Then, the cured film forming composition of the present embodiment can form an alignment material having high photoreaction efficiency as a cured film.

(B)成分である架橋剤としては、エポキシ化合物、メチロール化合物およびイソシアナート化合物等の化合物が挙げられるが、好ましくはメチロール化合物である。中でも、(B)成分である架橋剤としては、前記(A)成分の熱架橋可能な官能基と架橋を形成する基を2個以上有する化合物が好ましく、例えばメチロール基またはアルコキシメチル基を2個以上有する架橋剤であることが好ましい。これらの基を有する化合物としては、例えば、アルコキシメチル化グリコールウリル、アルコキシメチル化ベンゾグアナミンおよびアルコキシメチル化メラミン等のメチロール化合物が挙げられる。 Examples of the cross-linking agent as the component (B) include compounds such as an epoxy compound, a methylol compound and an isocyanate compound, and a methylol compound is preferable. Among them, as the cross-linking agent as the component (B), a compound having two or more groups that form a cross-link with the thermally cross-linkable functional group of the component (A) is preferable, and for example, two methylol groups or two alkoxymethyl groups are preferable. It is preferable that the cross-linking agent has the above. Examples of the compound having these groups include methylol compounds such as alkoxymethylated glycol uryl, alkoxymethylated benzoguanamine and alkoxymethylated melamine.

上述したメチロール化合物の具体例としては、例えば、アルコキシメチル化グリコールウリル、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化メラミン、テトラ(アルコキシメチル)ビスフェノール及びテトラ(ヒドロキシメチル)ビスフェノール等の化合物が挙げられる。 Specific examples of the methylol compound described above include compounds such as alkoxymethylated glycol uryl, alkoxymethylated benzoguanamine, alkoxymethylated melamine, tetra (alkoxymethyl) bisphenol and tetra (hydroxymethyl) bisphenol.

アルコキシメチル化グリコールウリルの具体例としては、例えば、1,3,4,6−テトラキス(メトキシメチル)グリコールウリル、1,3,4,6−テトラキス(ブトキシメチル)グリコールウリル、1,3,4,6−テトラキス(ヒドロキシメチル)グリコールウリル、1,3−ビス(ヒドロキシメチル)尿素、1,1,3,3−テトラキス(ブトキシメチル)尿素、1,1,3,3−テトラキス(メトキシメチル)尿素、1,3−ビス(ヒドロキシメチル)−4,5−ジヒドロキシ−2−イミダゾリノン、および1,3−ビス(メトキシメチル)−4,5−ジメトキシ−2−イミダゾリノン等が挙げられる。市販品として、三井サイテック(株)製グリコールウリル化合物(商品名:サイメル(登録商標)1170、パウダーリンク(登録商標)1174)等の化合物、メチル化尿素樹脂(商品名:UFR(登録商標)65)、ブチル化尿素樹脂(商品名:UFR(登録商標)300、U−VAN10S60、U−VAN10R、U−VAN11HV)、DIC(株)製尿素/ホルムアルデヒド系樹脂(高縮合型、商品名:ベッカミン(登録商標)J−300S、同P−955、同N)等が挙げられる。 Specific examples of alkoxymethylated glycol uryl include 1,3,4,6-tetrax (methoxymethyl) glycol uryl, 1,3,4,6-tetrakis (butoxymethyl) glycol uryl, 1,3,4. , 6-Tetrax (hydroxymethyl) glycoluryl, 1,3-bis (hydroxymethyl) urea, 1,1,3,3-tetrakis (butoxymethyl) urea, 1,1,3,3-tetrakis (methoxymethyl) Examples thereof include urea, 1,3-bis (hydroxymethyl) -4,5-dihydroxy-2-imidazolinone, and 1,3-bis (methoxymethyl) -4,5-dimethoxy-2-imidazolinone. As commercially available products, compounds such as glycoluril compounds manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd. (trade name: Cymel (registered trademark) 1170, powder link (registered trademark) 1174), methylated urea resin (trade name: UFR (registered trademark) 65) ), Butylated urea resin (trade name: UFR (registered trademark) 300, U-VAN10S60, U-VAN10R, U-VAN11HV), urea / formaldehyde resin manufactured by DIC Co., Ltd. (high condensation type, trade name: Beccamin () Registered trademarks) J-300S, P-955, N) and the like.

アルコキシメチル化ベンゾグアナミンの具体例としては、例えば、テトラメトキシメチルベンゾグアナミン等が挙げられる。市販品として、三井サイテック(株)製(商品名:サイメル(登録商標)1123)、(株)三和ケミカル製(商品名:ニカラック(登録商標)BX−4000、同BX−37、同BL−60、同BX−55H)等が挙げられる。 Specific examples of the alkoxymethylated benzoguanamine include tetramethoxymethylbenzoguanamine and the like. As commercial products, Mitsui Cytec Co., Ltd. (trade name: Cymel (registered trademark) 1123), Sanwa Chemical Co., Ltd. (trade name: Nicarac (registered trademark) BX-4000, BX-37, BL- 60, BX-55H) and the like.

アルコキシメチル化メラミンの具体例としては、例えば、ヘキサメトキシメチルメラミン等が挙げられる。市販品として、三井サイテック(株)製メトキシメチルタイプメラミン化合物(商品名:サイメル(登録商標)300、同301、同303、同350)、ブトキシメチルタイプメラミン化合物(商品名:マイコート(登録商標)506、同508)、(株)三和ケミカル製メトキシメチルタイプメラミン化合物(商品名:ニカラック(登録商標)MW−30、同MW−22、同MW−11、同MW−100LM、同MS−001、同MX−002、同MX−730、同MX−750、同MX−035)、ブトキシメチルタイプメラミン化合物(商品名:ニカラック(登録商標)MX−45、同MX−410、同MX−302)等が挙げられる。 Specific examples of alkoxymethylated melamine include hexamethoxymethylmelamine and the like. Commercially available products include methoxymethyl type melamine compounds manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd. (trade name: Cymel (registered trademark) 300, 301, 303, 350), butoxymethyl type melamine compound (trade name: Mycoat (registered trademark)). ) 506, 508), Sanwa Chemical Co., Ltd. methoxymethyl type melamine compound (trade name: Nicarac (registered trademark) MW-30, MW-22, MW-11, MW-100LM, MS- 001, MX-002, MX-730, MX-750, MX-035), butoxymethyl type melamine compound (trade name: Nicarac (registered trademark) MX-45, MX-410, MX-302) ) Etc. can be mentioned.

テトラ(アルコキシメチル)ビスフェノール及びテトラ(ヒドロキシメチル)ビスフェノールの例としては、テトラ(アルコキシメチル)ビスフェノールA、テトラ(ヒドロキシメチル)ビスフェノールA等が挙げられる。 Examples of tetra (alkoxymethyl) bisphenol and tetra (hydroxymethyl) bisphenol include tetra (alkoxymethyl) bisphenol A and tetra (hydroxymethyl) bisphenol A.

また、(B)成分である架橋剤は、このようなアミノ基の水素原子がメチロール基またはアルコキシメチル基で置換されたメラミン化合物、尿素化合物、グリコールウリル化合物およびベンゾグアナミン化合物を縮合させて得られる化合物であってもよい。例えば、米国特許第6323310号明細書に記載されているメラミン化合物およびベンゾグアナミン化合物から製造される高分子量の化合物が挙げられる。前記メラミン化合物の市販品としては、商品名:サイメル(登録商標)303(三井サイテック(株)製)等が挙げられ、前記ベンゾグアナミン化合物の市販品としては、商品名:サイメル(登録商標)1123(三井サイテック(株)製)等が挙げられる。 The cross-linking agent as the component (B) is a compound obtained by condensing such a melamine compound, a urea compound, a glycoluryl compound and a benzoguanamine compound in which the hydrogen atom of the amino group is replaced with a methylol group or an alkoxymethyl group. It may be. For example, high molecular weight compounds produced from the melamine and benzoguanamine compounds described in US Pat. No. 6,323,310. Examples of commercially available products of the melamine compound include trade name: Cymel (registered trademark) 303 (manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd.), and commercial products of the benzoguanamine compound include trade name: Cymel (registered trademark) 1123 ( Mitsui Cytec Co., Ltd.) and the like.

さらに、(B)成分の架橋剤として、N−ヒドロキシメチルアクリルアミド、N−メトキシメチルメタクリルアミド、N−エトキシメチルアクリルアミド、N−ブトキシメチルメタクリルアミド等のヒドロキシメチル基(すなわちメチロール基)またはアルコキシメチル基で置換されたアクリルアミド化合物またはメタクリルアミド化合物を使用して製造されるポリマーも用いることができる。 Further, as a cross-linking agent for the component (B), a hydroxymethyl group (that is, a methylol group) or an alkoxymethyl group such as N-hydroxymethylacrylamide, N-methoxymethylmethacrylate, N-ethoxymethylacrylamide, N-butoxymethylmethacrylate and the like. Polymers prepared using acrylamide compounds or methacrylic amide compounds substituted with are also available.

そのようなポリマーとしては、例えば、ポリ(N−ブトキシメチルアクリルアミド)、N−ブトキシメチルアクリルアミドとスチレンとの共重合体、N−ヒドロキシメチルメタクリルアミドとメチルメタクリレートとの共重合体、N−エトキシメチルメタクリルアミドとベンジルメタクリレートとの共重合体、及びN−ブトキシメチルアクリルアミドとベンジルメタクリレートと2−ヒドロキシプロピルメタクリレートとの共重合体等が挙げられる。 Examples of such a polymer include poly (N-butoxymethylacrylamide), a copolymer of N-butoxymethylacrylamide and styrene, a copolymer of N-hydroxymethylmethacrylamide and methylmethacrylate, and N-ethoxymethyl. Examples thereof include a copolymer of methacrylamide and benzyl methacrylate, and a copolymer of N-butoxymethyl acrylamide, benzyl methacrylate and 2-hydroxypropyl methacrylate.

また、そのようなポリマーとして、N−アルコキシメチル基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する重合体を用いることも出来る。 Further, as such a polymer, a polymer having an N-alkoxymethyl group and a polymerizable group containing a C = C double bond can also be used.

C=C二重結合を含む重合性基としては、アクリル基、メタクリル基、ビニル基、アリル基、マレイミド基等が挙げられる。 Examples of the polymerizable group containing a C = C double bond include an acrylic group, a methacryl group, a vinyl group, an allyl group, a maleimide group and the like.

C=C二重結合を含む重合性基を有するポリマーを得る方法は、特に限定されない。一例を挙げれば、予めラジカル重合などの重合方法によって、特定官能基を有するアクリル重合体を生成する。次いで、この特定官能基と、末端に不飽和結合を有する化合物(以下、特定化合物と称す。)とを反応させることにより、(B)成分であるポリマーにC=C二重結合を含む重合性基を導入することができる。 The method for obtaining a polymer having a polymerizable group containing a C = C double bond is not particularly limited. For example, an acrylic polymer having a specific functional group is produced in advance by a polymerization method such as radical polymerization. Next, by reacting this specific functional group with a compound having an unsaturated bond at the terminal (hereinafter referred to as a specific compound), the polymer as the component (B) is polymerizable with a C = C double bond. The group can be introduced.

ここで、特定官能基とは、カルボキシル基、グリシジル基、ヒドロキシ基、活性水素を有するアミノ基、フェノール性ヒドロキシ基若しくはイソシアネート基などの官能基、または、これらから選ばれる複数種の官能基を言う。これらの基を有するモノマーを重合することで、特定官能基を有するアクリル重合体を得ることができる。 Here, the specific functional group refers to a functional group such as a carboxyl group, a glycidyl group, a hydroxy group, an amino group having an active hydrogen, a phenolic hydroxy group or an isocyanate group, or a plurality of types of functional groups selected from these. .. By polymerizing the monomers having these groups, an acrylic polymer having a specific functional group can be obtained.

カルボキシル基を有するモノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、モノ−(2−(アクリロイルオキシ)エチル)フタレート、モノ−(2−(メタクリロイルオキシ)エチル)フタレート、N−(カルボキシフェニル)マレイミド、N−(カルボキシフェニル)メタクリルアミドおよびN−(カルボキシフェニル)アクリルアミドなどが挙げられる。 Examples of the monomer having a carboxyl group include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, mono- (2- (acryloyloxy) ethyl) phthalate, mono- (2- (methacryloyloxy) ethyl) phthalate, and N- (carboxyphenyl). ) Maleimide, N- (carboxyphenyl) methacrylamide, N- (carboxyphenyl) acrylamide and the like.

グリシジル基を有するモノマーとしては、例えば、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、アリルグリシジルエーテル、3−エテニル−7−オキサビシクロ[4.1.0]ヘプタン、1,2−エポキシ−5−ヘキセンおよび1,7−オクタジエンモノエポキサイドなどが挙げられる。 Monomers having a glycidyl group include, for example, glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, allyl glycidyl ether, 3-ethenyl-7-oxabicyclo [4.1.0] heptane, 1,2-epoxy-5-hexene and 1,7. -Octadiene monoepoxide etc. can be mentioned.

ヒドロキシ基を有するモノマーとしては、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、2,3−ジヒドロキシプロピルアクリレート、2,3−ジヒドロキシプロピルメタクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、カプロラクトン2−(アクリロイルオキシ)エチルエステル、カプロラクトン2−(メタクリロイルオキシ)エチルエステル、ポリ(エチレングリコール)エチルエーテルアクリレート、ポリ(エチレングリコール)エチルエーテルメタクリレート、5−アクリロイルオキシ−6−ヒドロキシノルボルネン−2−カルボキシリック−6−ラクトンおよび5−メタクリロイルオキシ−6−ヒドロキシノルボルネン−2−カルボキシリック−6−ラクトンなどが挙げられる。 Examples of the monomer having a hydroxy group include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, and 2,3-. Dihydroxypropyl acrylate, 2,3-dihydroxypropyl methacrylate, diethylene glycol monoacrylate, diethylene glycol monomethacrylate, caprolactone 2- (acryloyloxy) ethyl ester, caprolactone 2- (methacryloyloxy) ethyl ester, poly (ethylene glycol) ethyl ether acrylate, poly Examples thereof include (ethylene glycol) ethyl ether methacrylate, 5-acryloyloxy-6-hydroxynorbornene-2-carboxylic-6-lactone and 5-methacryloyloxy-6-hydroxynorbornene-2-carboxylic-6-lactone.

アミノ基を有するモノマーとしては、例えば、2−アミノエチルアクリレートおよび2−アミノメチルメタクリレートなどが挙げられる。 Examples of the monomer having an amino group include 2-aminoethyl acrylate and 2-aminomethyl methacrylate.

フェノール性ヒドロキシ基を有するモノマーとしては、例えば、ヒドロキシスチレン、N−(ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(ヒドロキシフェニル)メタクリルアミドおよびN−(ヒドロキシフェニル)マレイミドなどが挙げられる。 Examples of the monomer having a phenolic hydroxy group include hydroxystyrene, N- (hydroxyphenyl) acrylamide, N- (hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (hydroxyphenyl) maleimide and the like.

イソシアネート基を有するモノマーとしては、例えば、アクリロイルエチルイソシアネート、メタクリロイルエチルイソシアネートおよびm−テトラメチルキシレンイソシアネートなどが挙げられる。 Examples of the monomer having an isocyanate group include acryloyl ethyl isocyanate, methacryloyl ethyl isocyanate, and m-tetramethylxylene isocyanate.

上述した反応において、特定官能基と、特定化合物が有する官能基であって反応に関与する基との好ましい組み合わせは、カルボキシル基とエポキシ基、ヒドロキシ基とイソシアネート基、フェノール性ヒドロキシ基とエポキシ基、カルボキシル基とイソシアネート基、アミノ基とイソシアネート基、または、ヒドロキシ基と酸クロリドなどである。さらに、より好ましい組み合わせは、カルボキシル基とグリシジルメタクリレート、または、ヒドロキシ基とイソシアネートエチルメタクリレートである。 In the above-mentioned reaction, the preferable combination of the specific functional group and the functional group of the specific compound and participating in the reaction is a carboxyl group and an epoxy group, a hydroxy group and an isocyanate group, and a phenolic hydroxy group and an epoxy group. It is a carboxyl group and an isocyanate group, an amino group and an isocyanate group, or a hydroxy group and an acid chloride. Further, a more preferable combination is a carboxyl group and a glycidyl methacrylate, or a hydroxy group and an isocyanate ethyl methacrylate.

このようなポリマーの重量平均分子量(ポリスチレン換算値)は、1,000〜500,000であり、好ましくは、2,000〜200,000であり、より好ましくは3,000〜150,000であり、更に好ましくは3,000〜50,000である。 The weight average molecular weight (polystyrene equivalent value) of such a polymer is 1,000 to 500,000, preferably 2,000 to 200,000, and more preferably 3,000 to 150,000. , More preferably 3,000 to 50,000.

これらの架橋剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。 These cross-linking agents can be used alone or in combination of two or more.

本発明の硬化膜形成組成物における(B)成分の架橋剤の含有量は、(A)成分のポリマー及び(C)成分の架橋触媒の合計量100質量部に基づいて、5質量部乃至500質量部であることが好ましく、より好ましくは10質量部〜400質量部である。架橋剤の含有量が過小である場合には、硬化膜形成組成物から得られる硬化膜の溶剤耐性が低下し、液晶配向性が低下するおそれがある。他方、含有量が過大である場合には液晶配向性および保存安定性が低下するおそれがある。 The content of the cross-linking agent of the component (B) in the cured film forming composition of the present invention is 5 parts by mass to 500 parts by mass based on the total amount of 100 parts by mass of the polymer of the component (A) and the cross-linking catalyst of the component (C). It is preferably parts by mass, more preferably 10 parts by mass to 400 parts by mass. If the content of the cross-linking agent is too small, the solvent resistance of the cured film obtained from the cured film-forming composition may decrease, and the liquid crystal orientation may decrease. On the other hand, if the content is excessive, the liquid crystal orientation and storage stability may decrease.

[(C)成分]
本発明の光学フィルムにおける表面の硬化膜を形成する硬化膜形成組成物は、上述した(A)成分及び(B)成分に加え、さらに(C)成分である架橋触媒を含有することができる。
(C)成分である架橋触媒としては、例えば、酸又は熱酸発生剤が挙げられる。この(C)成分は、本発明の光学フィルムにおける表面の硬化膜を形成する硬化膜形成組成物を用いた硬化膜の形成において、熱硬化反応の促進に有効となる。
[Component (C)]
The cured film forming composition for forming the surface cured film in the optical film of the present invention may further contain a cross-linking catalyst which is a component (C) in addition to the above-mentioned components (A) and (B).
Examples of the cross-linking catalyst as the component (C) include an acid or a thermoacid generator. This component (C) is effective in promoting a thermosetting reaction in the formation of a cured film using a cured film forming composition for forming a cured film on the surface of the optical film of the present invention.

(C)成分として酸又は熱酸発生剤を用いる場合、(C)成分は、スルホン酸基含有化合物、塩酸又はその塩、プリベーク又はポストベーク時に熱分解して酸を発生する化合物、すなわち温度80℃〜250℃で熱分解して酸を発生する化合物であれば特に限定されるものではない。 When an acid or a thermoacid generator is used as the component (C), the component (C) is a sulfonic acid group-containing compound, hydrochloric acid or a salt thereof, a compound that thermally decomposes during prebaking or postbaking to generate an acid, that is, a temperature of 80. The compound is not particularly limited as long as it is a compound that thermally decomposes at ° C. to 250 ° C. to generate an acid.

そのような化合物としては、例えば、塩酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホン酸、ペンタンスルホン酸、オクタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、カンファスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、p−フェノールスルホン酸、2−ナフタレンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、p−キシレン−2−スルホン酸、m−キシレン−2−スルホン酸、4−エチルベンゼンスルホン酸、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクタンスルホン酸、パーフルオロ(2−エトキシエタン)スルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ノナフルオロブタン−1−スルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等のスルホン酸又はその水和物や塩等が挙げられる。 Such compounds include, for example, hydrochloric acid, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, propanesulfonic acid, butanesulfonic acid, pentansulfonic acid, octanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, camphasulfonic acid, trifluo. Lomethane sulfonic acid, p-phenol sulfonic acid, 2-naphthalene sulfonic acid, mesitylen sulfonic acid, p-xylene-2-sulfonic acid, m-xylene-2-sulfonic acid, 4-ethylbenzene sulfonic acid, 1H, 1H, 2H, 2H-Perfluorooctane sulfonic acid, perfluoro (2-ethoxyethane) sulfonic acid, pentafluoroethane sulfonic acid, nonafluorobutane-1-sulfonic acid, sulfonic acid such as dodecylbenzene sulfonic acid or hydrates and salts thereof, etc. Can be mentioned.

また、熱により酸を発生する化合物としては、例えば、ビス(トシルオキシ)エタン、ビス(トシルオキシ)プロパン、ビス(トシルオキシ)ブタン、p−ニトロベンジルトシレート、o−ニトロベンジルトシレート、1,2,3−フェニレントリス(メチルスルホネート)、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩、p−トルエンスルホン酸モルフォニウム塩、p−トルエンスルホン酸エチルエステル、p−トルエンスルホン酸プロピルエステル、p−トルエンスルホン酸ブチルエステル、p−トルエンスルホン酸イソブチルエステル、p−トルエンスルホン酸メチルエステル、p−トルエンスルホン酸フェネチルエステル、シアノメチルp−トルエンスルホネート、2,2,2−トリフルオロエチルp−トルエンスルホネート、2−ヒドロキシブチルp−トシレート、N−エチル−4−トルエンスルホンアミド、および下記式[TAG−1]乃至式[TAG−41]で表される化合物等を挙げることができる。 Examples of compounds that generate acid by heat include bis (tosyloxy) ethane, bis (tosyloxy) propane, bis (tosyloxy) butane, p-nitrobenzyl tosylate, o-nitrobenzyl tosylate, 1,2, 3-phenylentris (methylsulfonate), p-toluenesulfonic acid pyridinium salt, p-toluenesulfonic acid morphonium salt, p-toluenesulfonic acid ethyl ester, p-toluenesulfonic acid propyl ester, p-toluenesulfonic acid butyl ester, p-Toluenesulfonic acid isobutyl ester, p-toluenesulfonic acid methyl ester, p-toluenesulfonic acid phenethyl ester, cyanomethyl p-toluenesulfonate, 2,2,2-trifluoroethyl p-toluenesulfonate, 2-hydroxybutyl p- Examples thereof include tosylate, N-ethyl-4-toluenesulfoneamide, and compounds represented by the following formulas [TAG-1] to [TAG-41].

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本発明の実施形態の硬化膜形成組成物における(C)成分の含有量は、(A)成分であるポリマーの100質量部に対して、0.01質量部〜20質量部、好ましくは0.01質量部〜10質量部、より好ましくは0.05質量部〜8質量部、さらに好ましくは0.1質量部〜6質量部である。(C)成分の含有量を0.01質量部以上とすることで、充分な熱硬化性と溶剤耐性を付与することができ、露光に対する高い感度をも付与することができる。また、20質量部以下とすることで、硬化膜形成組成物の保存安定性を良好にすることができる。 The content of the component (C) in the cured film-forming composition according to the embodiment of the present invention is 0.01 part by mass to 20 parts by mass, preferably 0.% by mass, based on 100 parts by mass of the polymer which is the component (A). It is 01 parts by mass to 10 parts by mass, more preferably 0.05 parts by mass to 8 parts by mass, and further preferably 0.1 parts by mass to 6 parts by mass. By setting the content of the component (C) to 0.01 parts by mass or more, sufficient thermosetting property and solvent resistance can be imparted, and high sensitivity to exposure can also be imparted. Further, when the content is 20 parts by mass or less, the storage stability of the cured film forming composition can be improved.

[(D)成分]
本発明の組成物は、(D)成分として、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの基を有するポリマーをさらに含有することができる。
[(D) component]
The composition of the present invention can further contain, as the component (D), a polymer having at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group and an alkoxysilyl group.

(D)成分であるポリマーとしては、例えば、アクリル重合体、ウレタン変性アクリルポリマー、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリエステルポリカルボン酸、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリアルキレンイミン、ポリアリルアミン、セルロース類(セルロースまたはその誘導体)、フェノールノボラック樹脂等の直鎖構造または分岐構造を有するポリマー、シクロデキストリン類等の環状ポリマー等が挙げられる。 Examples of the polymer as the component (D) include acrylic polymers, urethane-modified acrylic polymers, polyamic acids, polyimides, polyvinyl alcohols, polyesters, polyester polycarboxylic acids, polyether polyols, polyester polyols, polycarbonate polyols, and polycaprolactone polyols. Examples thereof include polymers having a linear structure or a branched structure such as polyalkyleneimine, polyallylamine, celluloses (cellulose or a derivative thereof), phenol novolac resin, and cyclic polymers such as cyclodextrins.

このうち、アクリル重合体としてはアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン等の不飽和二重結合を有するモノマーを重合して得られる重合体が適用されうる。その合成方法としては、上記(A)成分及び(B)成分の章で例示したヒドロキシ基を有するモノマー、カルボキシル基を有するモノマー、アミド基を有するモノマー、アミノ基を有するモノマーおよびアルコキシシリル基を有するモノマーからなる群から選ばれる少なくとも一つの基を有するモノマーと、所望によりそれ以外のモノマーとを、上記(A)成分及び(B)成分の章で記載した方法で(共)重合する方法が簡便である。 Of these, as the acrylic polymer, a polymer obtained by polymerizing a monomer having an unsaturated double bond such as an acrylic acid ester, a methacrylic acid ester, or styrene can be applied. The synthesis method includes a monomer having a hydroxy group, a monomer having a carboxyl group, a monomer having an amide group, a monomer having an amino group, and an alkoxysilyl group exemplified in the chapters of the components (A) and (B). A simple method is to (co) polymerize a monomer having at least one group selected from the group consisting of monomers and, if desired, other monomers by the method described in the chapters (A) and (B) above. Is.

(D)成分の例であるアクリル重合体は、重量平均分子量が3000乃至200000であることが好ましく、4000乃至150000であることがより好ましく、5000乃至100000であることがさらに好ましい。 The acrylic polymer, which is an example of the component (D), preferably has a weight average molecular weight of 3000 to 200,000, more preferably 4000 to 150,000, and even more preferably 5000 to 100,000.

(D)成分の好ましい一例であるポリエーテルポリオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、プロピレングリコールやビスフェノールA、トリエチレングリコール、ソルビトール等の多価アルコールにプロピレンオキサイドやポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等を付加したものが挙げられる。ポリエーテルポリオールの具体例としては(株)ADEKA製アデカポリエーテルPシリーズ、Gシリーズ、EDPシリーズ、BPXシリーズ、FCシリーズ、CMシリーズ、日油(株)製ユニオックス(登録商標)HC−40、HC−60、ST−30E、ST−40E、G−450、G−750、ユニオール(登録商標)TG−330、TG−1000、TG−3000、TG−4000、HS−1600D、DA−400、DA−700、DB−400、ノニオン(登録商標)LT−221、ST−221、OT−221等が挙げられる。 As a preferred example of the component (D), a polyether polyol obtained by adding propylene oxide, polyethylene glycol, polypropylene glycol or the like to a polyhydric alcohol such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, propylene glycol or bisphenol A, triethylene glycol or sorbitol. Things can be mentioned. Specific examples of the polyether polyol include ADEKA Corporation's Adeka Polyether P series, G series, EDP series, BPX series, FC series, CM series, NOF Corporation's Uniox (registered trademark) HC-40, and NOF Corporation. HC-60, ST-30E, ST-40E, G-450, G-750, Uniol® TG-330, TG-1000, TG-3000, TG-4000, HS-1600D, DA-400, DA -700, DB-400, Nonion (registered trademark) LT-221, ST-221, OT-221 and the like can be mentioned.

(D)成分の好ましい一例であるポリエステルポリオールとしては、アジピン酸、セバシン酸、イソフタル酸等の多価カルボン酸にエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジオールを反応させたものが挙げられる。ポリエステルポリオールの具体例としてはDIC(株)製ポリライト(登録商標)OD−X−286、OD−X−102、OD−X−355、OD−X−2330、OD−X−240、OD−X−668、OD−X−2108、OD−X−2376、OD−X−2044、OD−X−688、OD−X−2068、OD−X−2547、OD−X−2420、OD−X−2523、OD−X−2555、OD−X−2560、(株)クラレ製ポリオールP−510、P−1010、P−2010、P−3010、P−4010、P−5010、P−6010、F−510、F−1010、F−2010、F−3010、P−1011、P−2011、P−2013、P−2030、N−2010、PNNA−2016等が挙げられる。 As a polyester polyol which is a preferable example of the component (D), a polyvalent carboxylic acid such as adipic acid, sebacic acid and isophthalic acid is reacted with a diol such as ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, polyethylene glycol and polypropylene glycol. Things can be mentioned. Specific examples of the polyester polyol include Polylite (registered trademark) OD-X-286, OD-X-102, OD-X-355, OD-X-2330, OD-X-240, OD-X manufactured by DIC Corporation. -668, OD-X-2108, OD-X-2376, OD-X-2044, OD-X-688, OD-X-2068, OD-X-2547, OD-X-2420, OD-X-2523 , OD-X-2555, OD-X-2560, Polyester manufactured by Kuraray Co., Ltd. P-510, P-1010, P-2010, P-3010, P-4010, P-5010, P-6010, F-510 , F-1010, F-2010, F-3010, P-1011, P-2011, P-2013, P-2030, N-2010, PNNA-2016 and the like.

(D)成分の好ましい一例であるポリカプロラクトンポリオールとしては、トリメチロールプロパンやエチレングリコール等の多価アルコールを開始剤としてε−カプロラクトンを開環重合させたものが挙げられる。ポリカプロラクトンポリオールの具体例としてはDIC(株)製ポリライト(登録商標)OD−X−2155、OD−X−640、OD−X−2568、ダイセル化学製プラクセル(登録商標)205、L205AL、205U、208、210、212、L212AL、220、230、240、303、305、308、312、320等が挙げられる。 Examples of the polycaprolactone polyol which is a preferable example of the component (D) include ring-opening polymerization of ε-caprolactone using a polyhydric alcohol such as trimethylolpropane or ethylene glycol as an initiator. Specific examples of the polycaprolactone polyol include Polylite (registered trademark) OD-X-2155, OD-X-640, OD-X-2568 manufactured by DIC Corporation, and Praxel (registered trademark) 205, L205AL, 205U manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd. Examples thereof include 208, 210, 212, L212AL, 220, 230, 240, 303, 305, 308, 312, 320 and the like.

(D)成分の好ましい一例であるポリカーボネートポリオールとしては、トリメチロールプロパンやエチレングリコール等の多価アルコールと炭酸ジエチル、炭酸ジフェニル、エチレンカーボネート等を反応させたものが挙げられる。ポリカーボネートポリオールの具体例としては(株)ダイセル製プラクセル(登録商標)CD205、CD205PL、CD210、CD220、(株)クラレ製のC−590、C−1050、C−2050、C−2090、C−3090等が挙げられる。 Examples of the polycarbonate polyol which is a preferable example of the component (D) include those obtained by reacting a polyhydric alcohol such as trimethylolpropane or ethylene glycol with diethyl carbonate, diphenyl carbonate, ethylene carbonate or the like. Specific examples of the polycarbonate polyol include Daicel Corporation's Praxel® CD205, CD205PL, CD210, CD220, and Kuraray Corporation's C-590, C-1050, C-2050, C-2090, and C-3090. And so on.

(D)成分の好ましい一例であるセルロースとしては、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のヒドロキシアルキルセルロース類、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシエチルエチルセルロース等のヒドロキシアルキルアルキルセルロース類およびセルロース等が挙げられ、例えば、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のヒドロキシアルキルセルロース類が好ましい。 Preferred examples of the component (D) include hydroxyalkyl celluloses such as hydroxyethyl cellulose and hydroxypropyl cellulose, hydroxyalkyl alkyl celluloses such as hydroxyethyl methyl cellulose, hydroxypropyl methyl cellulose and hydroxyethyl ethyl cellulose, and cellulose and the like. For example, hydroxyalkyl celluloses such as hydroxyethyl cellulose and hydroxypropyl cellulose are preferable.

(D)成分の好ましい一例であるシクロデキストリンとしては、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリンおよびγシクロデキストリン等のシクロデキストリン、メチル−α−シクロデキストリン、メチル−β−シクロデキストリンならびにメチル−γ−シクロデキストリン等のメチル化シクロデキストリン、ヒドロキシメチル−α−シクロデキストリン、ヒドロキシメチル−β−シクロデキストリン、ヒドロキシメチル−γ−シクロデキストリン、2−ヒドロキシエチル−α−シクロデキストリン、2−ヒドロキシエチル−β−シクロデキストリン、2−ヒドロキシエチル−γ−シクロデキストリン、2−ヒドロキシプロピル−α−シクロデキストリン、2−ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリン、2−ヒドロキシプロピル−γ−シクロデキストリン、3−ヒドロキシプロピル−α−シクロデキストリン、3−ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリン、3−ヒドロキシプロピル−γ−シクロデキストリン、2,3−ジヒドロキシプロピル−α−シクロデキストリン、2,3−ジヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリン、2,3−ジヒドロキシプロピル−γ−シクロデキストリン等のヒドロキシアルキルシクロデキストリン等が挙げられる。 Cyclodextrins which are preferable examples of the component (D) include cyclodextrins such as α-cyclodextrin, β-cyclodextrin and γcyclodextrin, methyl-α-cyclodextrin, methyl-β-cyclodextrin and methyl-γ-. Methylated cyclodextrin such as cyclodextrin, hydroxymethyl-α-cyclodextrin, hydroxymethyl-β-cyclodextrin, hydroxymethyl-γ-cyclodextrin, 2-hydroxyethyl-α-cyclodextrin, 2-hydroxyethyl-β- Cyclodextrin, 2-hydroxyethyl-γ-cyclodextrin, 2-hydroxypropyl-α-cyclodextrin, 2-hydroxypropyl-β-cyclodextrin, 2-hydroxypropyl-γ-cyclodextrin, 3-hydroxypropyl-α- Cyclodextrin, 3-hydroxypropyl-β-cyclodextrin, 3-hydroxypropyl-γ-cyclodextrin, 2,3-dihydroxypropyl-α-cyclodextrin, 2,3-dihydroxypropyl-β-cyclodextrin, 2,3 Examples thereof include hydroxyalkylcyclodextrins such as −dihydroxypropyl-γ-cyclodextrins.

(D)成分の好ましい一例であるウレタン変性アクリルポリマーとしては、市販品として、大成ファインケミカル(株)製アクリット(登録商標)8UA−017、8UA−239、8UA−239H、8UA−140、8UA―146、8UA−585H、8UA−301、8UA−318、8UA−347A、8UA−347H、8UA−366等が挙げられる。 As a urethane-modified acrylic polymer which is a preferable example of the component (D), as a commercially available product, Acryt (registered trademark) 8UA-017, 8UA-239, 8UA-239H, 8UA-140, 8UA-146 manufactured by Taisei Fine Chemicals Co., Ltd. , 8UA-585H, 8UA-301, 8UA-318, 8UA-347A, 8UA-347H, 8UA-366 and the like.

(D)成分の好ましい一例であるフェノールノボラック樹脂としては、例えば、フェノール−ホルムアルデヒド重縮合物などが挙げられる。 Examples of the phenol novolac resin, which is a preferable example of the component (D), include a phenol-formaldehyde polycondensate.

本発明の組成物において、(D)成分のポリマーは、粉体形態で、または精製した粉末を後述する溶剤に再溶解した溶液形態で用いてもよい。 In the composition of the present invention, the polymer of the component (D) may be used in the form of a powder or in the form of a solution in which the purified powder is redissolved in a solvent described later.

また、本発明の組成物において、(D)成分は、(D)成分として例示されたポリマーの複数種の混合物であってもよい。 Further, in the composition of the present invention, the component (D) may be a mixture of a plurality of types of polymers exemplified as the component (D).

本発明の硬化膜形成組成物における(D)成分の含有量は、(A)成分の100質量部に基づいて、5質量部乃至500質量部である。 The content of the component (D) in the cured film forming composition of the present invention is 5 parts by mass to 500 parts by mass based on 100 parts by mass of the component (A).

[(E)成分]
本発明の組成物は、(E)成分として、低分子光配向成分をさらに含有することができる。低分子光配向成分を含有することにより、配向膜表層の光配向性基の存在量が増加し、配向感度が向上する効果を奏する。そのような低分子光配向成分としては、本明細書の(A)成分の項で例示した式[3]で表されるモノマー、式[4]で表されるモノマー、式[3]で表されるモノマーの基Xが水素原子に置き換わった化合物、式[4]で表されるモノマーの基Xが水素原子に置き換わった化合物、上記式(1−1)〜(1−5)のいずれかで表されるカルボキシル基を有する桂皮酸誘導体が挙げられる。
[(E) component]
The composition of the present invention can further contain a low molecular weight photoalignment component as the component (E). By containing the low-molecular-weight photo-alignment component, the abundance of photo-orientation groups on the surface layer of the alignment film is increased, which has the effect of improving the orientation sensitivity. Examples of such a low molecular weight photoalignment component include a monomer represented by the formula [3], a monomer represented by the formula [4], and a monomer represented by the formula [3] represented by the section (A) of the present specification. A compound in which the monomer group X 4 is replaced with a hydrogen atom, a compound in which the monomer group X 4 represented by the formula [4] is replaced with a hydrogen atom, and the above formulas (1-1) to (1-5). Examples thereof include a katsura acid derivative having a carboxyl group represented by any of them.

また、本発明の組成物において、(E)成分は、(E)成分として例示された化合物の複数種の混合物であってもよい。 Further, in the composition of the present invention, the component (E) may be a mixture of a plurality of kinds of the compounds exemplified as the component (E).

本発明の硬化膜形成組成物に(E)成分を含有させる場合の含有量は、(A)成分のポリマー100質量部に基づいて、5質量部乃至500質量部である。 When the cured film forming composition of the present invention contains the component (E), the content is 5 parts by mass to 500 parts by mass based on 100 parts by mass of the polymer of the component (A).

[その他の添加剤]
本発明の実施形態の硬化膜形成組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の添加剤を含有することができる。
その他の添加剤としては、例えば、増感剤を含有することができる。増感剤は、本発明の光学フィルムにおける表面の硬化膜を形成するに際し、その光反応を促進することにおいて有効となる。
[Other additives]
The cured film-forming composition of the embodiment of the present invention may contain other additives as long as the effects of the present invention are not impaired.
As other additives, for example, a sensitizer can be contained. The sensitizer is effective in promoting the photoreaction of the surface cured film of the optical film of the present invention.

増感剤としては、ベンゾフェノン、アントラセン、アントラキノン及びチオキサントン等の誘導体並びにニトロフェニル化合物等が挙げられる。これらのうちベンゾフェノンの誘導体であるN,N−ジエチルアミノベンゾフェノン、及びニトロフェニル化合物である2−ニトロフルオレン、2−ニトロフルオレノン、5−ニトロアセナフテン、4−ニトロビフェニル、4−ニトロけい皮酸、4−ニトロスチルベン、4−ニトロベンゾフェノン、5−ニトロインドールが特に好ましい。 Examples of the sensitizer include derivatives such as benzophenone, anthracene, anthraquinone and thioxanthone, and nitrophenyl compounds. Of these, N, N-diethylaminobenzophenone, which is a derivative of benzophenone, and 2-nitrofluorene, 2-nitrofluorenone, 5-nitroacetylene, 4-nitrobiphenyl, 4-nitrocipheric acid, which are nitrophenyl compounds, 4 -Nitrostilbene, 4-nitrobenzophenone, 5-nitroindole are particularly preferred.

これらの増感剤は特に上述のものに限定されるものではない。これらは、単独又は2種以上の化合物を併用することが可能である。 These sensitizers are not particularly limited to those described above. These can be used alone or in combination of two or more compounds.

本発明の実施形態において、増感剤の使用割合は、(A)成分の100質量部に対して0.1質量部〜20質量部であることが好ましく、より好ましくは0.2質量部〜10質量部である。この割合が過小である場合には、増感剤としての効果を充分に得られない場合があり、過大である場合には、形成される硬化膜の透過率が低下したり塗膜が荒れたりすることがある。 In the embodiment of the present invention, the ratio of the sensitizer used is preferably 0.1 part by mass to 20 parts by mass, and more preferably 0.2 parts by mass to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). It is 10 parts by mass. If this ratio is too small, the effect as a sensitizer may not be sufficiently obtained, and if it is too large, the transmittance of the formed cured film may decrease or the coating film may become rough. I have something to do.

また、本発明の実施形態の硬化膜形成組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の添加剤として、シランカップリング剤、界面活性剤、レオロジー調整剤、顔料、染料、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤等を含有することができる。 In addition, the cured film-forming composition of the embodiment of the present invention contains silane coupling agents, surfactants, rheology modifiers, pigments, dyes, and storage stability as other additives as long as the effects of the present invention are not impaired. It can contain agents, antifoaming agents, antioxidants and the like.

[溶剤]
本発明の実施形態の硬化膜形成組成物は、溶剤に溶解した溶液状態で用いられることが多い。その際に用いられる溶剤は、(A)成分、(B)成分及び(C)成分、所望により(D)成分、(E)成分及び/又は、その他の添加剤を溶解するものであり、そのような溶解能を有する溶剤であれば、その種類及び構造などは特に限定されるものでない。
[solvent]
The cured film-forming composition of the embodiment of the present invention is often used in a solution state dissolved in a solvent. The solvent used at that time dissolves the component (A), the component (B) and the component (C), and optionally the component (D), the component (E) and / or other additives thereof. The type and structure of the solvent as long as it has such a dissolving ability are not particularly limited.

溶剤の具体例を挙げると、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、シクロペンチルメチルエーテル、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ブタノン、3−メチル−2−ペンタノン、2−ペンタノン、2−ヘプタノン、γ−ブチロラクトン、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、酢酸n−プロピル、酢酸イソプロピル、イソプロパノール、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、及びN−メチル−2−ピロリドン等が挙げられる。 Specific examples of the solvent include, for example, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, and propylene glycol monomethyl ether. Acetate, propylene glycol propyl ether, propylene glycol propyl ether acetate, cyclopentyl methyl ether, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-butanone, 3-methyl-2-pentanone, 2-pentanone, 2-heptanone, γ -Butyrolactone, ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, methyl 3-methoxypropionate, 3-methoxypropion Ethyl acetate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, butyl lactate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, isopropanol, N, N -Dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone and the like can be mentioned.

これらの溶剤は、一種単独で、又は二種以上の組合せで使用することができる。これら溶剤のうち、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、酢酸エチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸エチル及び3−エトキシプロピオン酸メチルは成膜性が良好で安全性が高いためより好ましい。 These solvents can be used alone or in combination of two or more. Among these solvents, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, propylene glycol propyl ether, propylene glycol propyl ether acetate, ethyl acetate, ethyl lactate, butyl lactate, methyl 3-methoxypropionate. , 3-Methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-ethoxypropionate are more preferable because they have good film-forming properties and high safety.

<硬化膜形成組成物の調製>
本発明の硬化膜形成組成物は、光配向性を有する熱硬化性の硬化膜形成組成物である。本発明の硬化膜形成組成物は、上述したように、(A)成分である光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するポリマー、(B)成分である架橋剤及び(C)成分である架橋触媒を含有する。必要に応じて、(D)成分であるヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの基を有するポリマーを含有する。そして、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の添加剤を含有することができ、さらに、溶剤を含有することができる。
<Preparation of cured film forming composition>
The cured film-forming composition of the present invention is a thermosetting cured film-forming composition having photoalignment. As described above, the cured film-forming composition of the present invention is a polymer having a photo-oriented group which is a component (A), a hydroxy group, and a polymerizable group containing a C = C double bond, (B). It contains a cross-linking agent as a component and a cross-linking catalyst as a component (C). If necessary, it contains a polymer having at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group and an alkoxysilyl group, which are components (D). Then, other additives can be contained and a solvent can be further contained as long as the effects of the present invention are not impaired.

本実施の形態の硬化膜形成組成物の好ましい例は、以下のとおりである。
[1]:(A)成分である光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するポリマー、(A)成分であるポリマー100質量部に基づいて1質量部〜500質量部、好ましくは5質量部〜500質量部の(B)成分である架橋剤、及び、(A)成分であるポリマーの100質量部に対して、0.01質量部〜20質量部の(C)成分である架橋触媒を含有する硬化膜形成組成物。
Preferred examples of the cured film forming composition of the present embodiment are as follows.
[1]: A polymer having a photoorientating group as a component (A), a hydroxy group, and a polymerizable group containing a C = C double bond, and 1 based on 100 parts by mass of the polymer as a component (A). 0.01 parts to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the cross-linking agent which is the component (B) and the polymer which is the component (A) of 5 parts by mass to 500 parts by mass, preferably 5 parts by mass to 500 parts by mass. A cured film-forming composition containing a cross-linking catalyst which is a component (C) by mass.

[2]:(A)成分である光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するポリマー、(A)成分であるポリマー100質量部に基づいて1質量部〜500質量部、好ましくは5質量部〜500質量部の(B)成分である架橋剤、及び、(A)成分であるポリマーの100質量部に対して、0.01質量部〜20質量部の(C)成分である架橋触媒、溶剤を含有し、さらに、(A)成分であるポリマーの100質量部に基づいて5質量部〜500質量部の(D)成分であるヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの基を有するポリマー、溶剤を含有する硬化膜形成組成物。 [2]: A polymer having a photo-orientating group as a component (A), a hydroxy group, and a polymerizable group containing a C = C double bond, and 1 based on 100 parts by mass of the polymer as a component (A). 0.01 parts to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the cross-linking agent which is the component (B) and the polymer which is the component (A) of 5 parts by mass to 500 parts by mass, preferably 5 parts by mass to 500 parts by mass. 5 parts by mass to 500 parts by mass of the hydroxy group, which is a component (D) based on 100 parts by mass of the polymer which is a component (A), contains a cross-linking catalyst and a solvent which are components (C) by mass. A cured film-forming composition containing a polymer having at least one group selected from the group consisting of a carboxyl group, an amide group, an amino group and an alkoxysilyl group, and a solvent.

本実施の形態の硬化膜形成組成物を溶液として用いる場合の配合割合、調製方法等を以下に詳述する。 The blending ratio, preparation method, etc. when the cured film-forming composition of the present embodiment is used as a solution will be described in detail below.

本発明の硬化膜形成組成物における固形分の割合は、各成分が均一に溶剤に溶解している限り、特に限定されるものではないが、1質量%〜80質量%であり、好ましくは2質量%〜60質量%であり、より好ましくは3質量%〜40質量%である。ここで、固形分とは、硬化膜形成組成物の全成分から溶剤を除いたものをいう。 The proportion of the solid content in the cured film-forming composition of the present invention is not particularly limited as long as each component is uniformly dissolved in the solvent, but is 1% by mass to 80% by mass, preferably 2. It is from mass% to 60% by mass, more preferably 3% by mass to 40% by mass. Here, the solid content refers to a composition obtained by removing the solvent from all the components of the cured film forming composition.

本発明の硬化膜形成組成物の調製方法は、特に限定されない。調製法としては、例えば、溶剤に溶解した(A)成分の溶液に(B)成分、(C)成分、さらには(D)成分、(E)成分及び/又は、その他の添加剤を所定の割合で混合し、均一な溶液とする方法、または、この調製法の適当な段階において、必要に応じてその他添加剤をさらに添加して混合する方法が挙げられる。 The method for preparing the cured film-forming composition of the present invention is not particularly limited. As a preparation method, for example, a solution of the component (A) dissolved in a solvent is provided with a component (B), a component (C), a component (D), a component (E) and / or other additives. Examples thereof include a method of mixing in a ratio to obtain a uniform solution, or a method of further adding and mixing other additives as necessary at an appropriate stage of this preparation method.

本発明の硬化膜形成組成物の調製においては、溶剤中の重合反応によって得られる特定共重合体の溶液をそのまま使用することができる。この場合、例えば、(A)成分のポリマー(アクリル重合体)を調製した溶液に、(B)成分、(C)成分、さらには(D)成分、(E)成分及び/又は、その他の添加剤を加えて均一な溶液とする。この際に、濃度調整を目的としてさらに溶剤を追加投入してもよい。このとき、(A)成分の調製過程で用いられる溶剤と、硬化膜形成組成物の濃度調整に用いられる溶剤とは同一であってもよく、また異なってもよい。 In the preparation of the cured film-forming composition of the present invention, the solution of the specific copolymer obtained by the polymerization reaction in the solvent can be used as it is. In this case, for example, the component (B), the component (C), the component (D), the component (E) and / or other additions to the solution prepared by preparing the polymer (acrylic polymer) of the component (A). Add the agent to make a uniform solution. At this time, an additional solvent may be added for the purpose of adjusting the concentration. At this time, the solvent used in the process of preparing the component (A) and the solvent used for adjusting the concentration of the cured film-forming composition may be the same or different.

また、調製された硬化膜形成組成物の溶液は、孔径が0.2μm程度のフィルタなどを用いて濾過した後、使用することが好ましい。 Further, it is preferable that the prepared solution of the cured film-forming composition is used after being filtered using a filter having a pore size of about 0.2 μm or the like.

以上のように、本発明の硬化膜形成組成物は、(A)成分である光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するポリマーからなる群から選ばれる少なくとも一種、(B)成分である架橋剤、および(C)成分である架橋触媒を含有して構成される。 As described above, the cured film-forming composition of the present invention comprises a group consisting of a polymer having a photo-oriented group which is a component (A), a hydroxy group, and a polymerizable group containing a C = C double bond. It is composed of at least one selected, a cross-linking agent which is a component (B), and a cross-linking catalyst which is a component (C).

したがって、本発明の硬化膜形成組成物から形成される硬化膜は、膜構造が安定化するように、(A)成分の性質に起因して、その内部が親水性となって形成される。そして、硬化膜中の(A)成分の光配向性基およびC=C二重結合を含む重合性基は、硬化膜の表面近傍に偏在するようになる。より具体的には、(A)成分のポリマーは、親水性のヒドロキシ基が硬化膜の内部側を向き、疎水性の光反応部およびC=C二重結合を含む重合性基が表面側を向く構造をとりながら、硬化膜の表面近傍に偏在する。その結果、本発明の硬化膜は、表面近傍に存在する(A)成分の光反応性基およびC=C二重結合を含む重合性基の割合を増加させた構造を実現することになる。そして、本発明の硬化膜は、配向材として用いられた場合、光配向のための光反応の効率を向上させることができ、優れた配向感度を有することができる。さらに、パターン化位相差材の形成に好適な配向材となり、これを用いて製造されるパターン化位相差材は、優れたパターン形成性を有することができる。 Therefore, the cured film formed from the cured film forming composition of the present invention is formed so that the inside thereof becomes hydrophilic due to the property of the component (A) so that the film structure is stabilized. Then, the photo-oriented group of the component (A) and the polymerizable group containing the C = C double bond in the cured film become unevenly distributed in the vicinity of the surface of the cured film. More specifically, in the polymer of the component (A), the hydrophilic hydroxy group faces the inner side of the cured film, and the hydrophobic photoreactive part and the polymerizable group containing the C = C double bond face the surface side. It is unevenly distributed near the surface of the cured film while taking a facing structure. As a result, the cured film of the present invention realizes a structure in which the proportion of the photoreactive group of the component (A) existing near the surface and the polymerizable group containing the C = C double bond is increased. When the cured film of the present invention is used as an alignment material, the efficiency of the photoreaction for photoalignment can be improved, and the cured film can have excellent orientation sensitivity. Further, it becomes an alignment material suitable for forming a patterned retardation material, and the patterned retardation material produced by using the alignment material can have excellent pattern forming property.

また、本発明の硬化膜形成組成物は、上述したように、(B)成分である架橋剤を含有する。そのため、本発明の硬化膜形成組成物から得られた硬化膜の内部では、(A)成分のポリマーの光配向性基による光反応の前に、(B)成分との熱反応による架橋反応を行うことができる。その結果、配向材として用いられた場合に、その上に塗布される重合性液晶やその溶剤に対する耐性を向上させることができる。 Further, as described above, the cured film forming composition of the present invention contains a cross-linking agent which is a component (B). Therefore, inside the cured film obtained from the cured film-forming composition of the present invention, a cross-linking reaction by a thermal reaction with the component (B) is performed before the photoreaction by the photooriented group of the polymer of the component (A). It can be carried out. As a result, when it is used as an alignment material, it is possible to improve the resistance to the polymerizable liquid crystal coated on it and its solvent.

また、(A)成分であるポリマーのC=C二重結合を含む重合性基は、本発明の硬化膜形成組成物から得られた硬化膜を配向材として用いた場合に、その上に形成される硬化された重合性液晶の層との間の密着性を強化するように機能する。 Further, the polymerizable group containing the C = C double bond of the polymer which is the component (A) is formed on the cured film obtained from the cured film forming composition of the present invention when it is used as an alignment material. It functions to enhance the adhesion between the cured polymerizable liquid crystal layer.

<硬化膜、配向材および位相差材>
本実施の形態の硬化膜形成組成物の溶液を基板(例えば、シリコン/二酸化シリコン被覆基板、シリコンナイトライド基板、金属、例えば、アルミニウム、モリブデン、クロム等が被覆された基板、ガラス基板、石英基板、ITO基板等)やフィルム(例えば、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、アクリルフィルム等の樹脂フィルム)等の上に、バーコート、回転塗布、流し塗布、ロール塗布、スリット塗布、スリットに続いた回転塗布、インクジェット塗布、印刷などによって塗布して塗膜を形成し、その後、ホットプレートまたはオーブン等で加熱乾燥することにより、硬化膜を形成することができる。
<Hardened film, alignment material and retardation material>
The solution of the cured film forming composition of the present embodiment is applied to a substrate (for example, a silicon / silicon dioxide coated substrate, a silicon nitride substrate, a substrate coated with a metal such as aluminum, molybdenum, chromium, etc., a glass substrate, a quartz substrate). , ITO substrate, etc.) and films (for example, resin films such as triacetyl cellulose (TAC) film, cycloolefin polymer film, polyethylene terephthalate film, acrylic film, etc.), bar coat, rotary coating, flow coating, roll coating, etc. , Slit coating, rotary coating following the slit, inkjet coating, printing, etc. to form a coating film, and then heat-drying with a hot plate, an oven, or the like to form a cured film.

加熱乾燥の条件としては、硬化膜から形成される配向材の成分が、その上に塗布される重合性液晶溶液に溶出しない程度に硬化反応が進行すればよく、例えば、温度60℃〜200℃、時間0.4分間〜60分間の範囲の中から適宜選択された加熱温度および加熱時間が採用される。加熱温度および加熱時間は、好ましくは70℃〜160℃、0.5分間〜10分間である。 As a condition for heating and drying, the curing reaction may proceed to such an extent that the components of the alignment material formed from the cured film do not elute into the polymerizable liquid crystal solution applied thereto. For example, the temperature is 60 ° C. to 200 ° C. , The heating temperature and heating time appropriately selected from the range of 0.4 minutes to 60 minutes are adopted. The heating temperature and heating time are preferably 70 ° C. to 160 ° C., 0.5 minutes to 10 minutes.

本実施の形態の硬化性組成物を用いて形成される硬化膜の膜厚は、例えば、0.05μm〜5μmであり、使用する基板の段差や光学的、電気的性質を考慮し適宜選択することができる。 The film thickness of the cured film formed by using the curable composition of the present embodiment is, for example, 0.05 μm to 5 μm, and is appropriately selected in consideration of the step of the substrate to be used and the optical and electrical properties. be able to.

このようにして形成された硬化膜は、偏光UV照射を行うことで配向材、すなわち、重合性液晶等を含む液晶性を有する化合物を配向させる部材として機能させることができる。 The cured film thus formed can function as an alignment material, that is, a member for aligning a liquid crystal compound including a polymerizable liquid crystal or the like by irradiating with polarized UV.

偏光UVの照射方法としては、通常150nm〜450nmの波長の紫外光〜可視光が用いられ、室温または加熱した状態で、垂直または斜め方向から直線偏光を照射することによって行われる。 As a method of irradiating polarized UV, ultraviolet light to visible light having a wavelength of 150 nm to 450 nm is usually used, and it is carried out by irradiating linearly polarized light from a vertical or diagonal direction at room temperature or in a heated state.

本発明の硬化膜形成組成物から形成された硬化膜を使用して形成される配向材は耐溶剤性および耐熱性を有しているため、この配向材上に、重合性液晶溶液からなる位相差材料を塗布した後、その液晶の相転移温度まで加熱することで位相差材料を液晶状態とし、配向材上で配向させる。そして、所望とする配向状態となった位相差材料をそのまま硬化させ、光学異方性を有する層を持つ位相差材を形成することができる。 Since the alignment material formed by using the cured film formed from the cured film forming composition of the present invention has solvent resistance and heat resistance, the alignment material is composed of a polymerizable liquid crystal solution on the alignment material. After applying the phase difference material, the phase difference material is brought into a liquid crystal state by heating to the phase transition temperature of the liquid crystal, and is oriented on the alignment material. Then, the retardation material in the desired orientation state can be cured as it is to form a retardation material having a layer having optical anisotropy.

位相差材料としては、例えば、重合性基を有する液晶モノマーおよびそれを含有する組成物等が用いられる。そして、配向材が形成される基板がフィルムである場合には、本実施の形態の位相差材を有するフィルムは、位相差フィルムとして有用となる。このような位相差材を形成する位相差材料は、液晶状態となって、配向材上で、水平配向、コレステリック配向、垂直配向、ハイブリッド配向等の配向状態をとるものがあり、それぞれ必要とされる位相差特性に応じて使い分けることができる。 As the retardation material, for example, a liquid crystal monomer having a polymerizable group and a composition containing the same are used. When the substrate on which the alignment material is formed is a film, the film having the retardation material of the present embodiment is useful as the retardation film. Some retardation materials that form such retardation materials are in a liquid crystal state and take orientation states such as horizontal orientation, cholesteric orientation, vertical orientation, and hybrid orientation on the alignment material, and are required for each. It can be used properly according to the phase difference characteristics.

また、3Dディスプレイに用いられるパターン化位相差材を製造する場合には、本発明の硬化膜形成組成物から上記した方法で形成された硬化膜に、ラインアンドスペースパターンのマスクを介して所定の基準から、例えば、+45度の向きで偏光UV露光し、次いで、マスクを外してから−45度の向きで偏光UVを露光し、液晶の配向制御方向の異なる2種類の液晶配向領域が形成された配向材を形成する。その後、重合性液晶溶液からなる位相差材料を塗布した後、液晶の相転移温度まで加熱することで位相差材料を液晶状態とする。液晶状態となった重合性液晶は、2種類の液晶配向領域が形成された配向材上で配向し、各液晶配向領域にそれぞれ対応する配向状態を形成する。そして、そのような配向状態が実現された位相差材料をそのまま硬化させ、上述の配向状態を固定化し、位相差特性の異なる2種類の位相差領域がそれぞれ複数、規則的に配置された、パターン化位相差材を得ることができる。 Further, in the case of producing a patterned retardation material used for a 3D display, a predetermined cured film formed from the cured film forming composition of the present invention is formed on a cured film formed by the above method via a line-and-space pattern mask. From the reference, for example, polarized UV exposure is performed in the direction of +45 degrees, then polarized UV is exposed in the direction of -45 degrees after removing the mask, and two types of liquid crystal alignment regions having different liquid crystal orientation control directions are formed. Form an alignment material. Then, after applying a retardation material composed of a polymerizable liquid crystal solution, the retardation material is brought into a liquid crystal state by heating to the phase transition temperature of the liquid crystal. The polymerizable liquid crystal in the liquid crystal state is oriented on the alignment material in which two types of liquid crystal alignment regions are formed, and the orientation state corresponding to each liquid crystal alignment region is formed. Then, the retardation material in which such an orientation state is realized is cured as it is, the above-mentioned orientation state is fixed, and a plurality of two types of retardation regions having different retardation characteristics are regularly arranged. A chemical phase difference material can be obtained.

また、本発明の硬化膜形成組成物から形成された硬化膜を使用して形成される配向材は、液晶表示素子の液晶配向膜としての利用も可能である。例えば、上記のようにして形成された、本発明の配向材を有する2枚の基板を用い、スペーサを介して両基板上の配向材が互いに向かい合うように張り合わせた後、それらの基板の間に液晶を注入して、液晶が配向した液晶表示素子を製造することができる。
そのため、本実施の形態の硬化膜形成組成物は、各種位相差材(位相差フィルム)や液晶表示素子等の製造に好適に用いることができる。
Further, the alignment material formed by using the cured film formed from the cured film forming composition of the present invention can also be used as a liquid crystal alignment film of a liquid crystal display element. For example, using two substrates having the alignment material of the present invention formed as described above, the alignment materials on both substrates are laminated so as to face each other via a spacer, and then between the substrates. A liquid crystal display element in which the liquid crystal is oriented can be manufactured by injecting the liquid crystal.
Therefore, the cured film forming composition of the present embodiment can be suitably used for manufacturing various retardation materials (phase difference films), liquid crystal display elements, and the like.

以下、本発明の実施例を挙げて、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定して解釈されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples of the present invention, but the present invention is not construed as being limited thereto.

[実施例で用いる略記号]
以下の実施例で用いる略記号の意味は、次のとおりである。
<原料>
GMA:グリシジルメタクリレート
AIBN:α,α’−アゾビスイソブチロニトリル
BMAA:N−ブトキシメチルアクリルアミド
CIN1:

Figure 2019189189
CIN2:
Figure 2019189189
[Abbreviations used in Examples]
The meanings of the abbreviations used in the following examples are as follows.
<Raw materials>
GMA: Glycidyl methacrylate AIBN: α, α'-azobisisobutyronitrile BMAA: N-butoxymethylacrylamide CIN1:
Figure 2019189189
CIN2:
Figure 2019189189

P−2:EHPE3150((株)ダイセル製、エポキシ当量180g/eq)

Figure 2019189189
P-2: EHPE3150 (manufactured by Daicel Corporation, epoxy equivalent 180 g / eq)
Figure 2019189189

A−1:アロニックスM−5300(東亜合成(株)製)

Figure 2019189189
A-1: Aronix M-5300 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
Figure 2019189189

A−2:アロニックスM−5400(東亜合成(株)製)

Figure 2019189189
A-2: Aronix M-5400 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
Figure 2019189189

A−3:2−アクリロイルオキシエチルサクシネート

Figure 2019189189
A-3: 2-Acryloyloxyethyl succinate
Figure 2019189189

<B成分>
HMM:下記の構造式で表されるメラミン架橋剤[サイメル(CYMEL)(登録商標)303(三井サイテック(株)製)]

Figure 2019189189
<B component>
HMM: Melamine cross-linking agent represented by the following structural formula [CYMEL (registered trademark) 303 (manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd.)]
Figure 2019189189

<C成分>
PTSA:p−トルエンスルホン酸・一水和物
<C component>
PTSA: p-toluenesulfonic acid monohydrate

<D成分>
PEPO:ポリエステルポリオール重合体(下記構造単位を有するアジピン酸/ジエチレングリコール共重合体。分子量4,800。)

Figure 2019189189
(上記式中、Rは、アルキレン基を表す。)<D component>
PEPO: Polyester polyol polymer (adipic acid / diethylene glycol copolymer having the following structural units. Molecular weight: 4,800.)
Figure 2019189189
(In the above formula, R represents an alkylene group.)

<溶剤>
PM:プロピレングリコールモノメチルエーテル
EA:酢酸エチル
<Solvent>
PM: Propylene glycol monomethyl ether EA: Ethyl acetate

<重合体の分子量の測定>
重合例におけるアクリル(共)重合体の分子量は、(株)Shodex社製常温ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)装置(GPC−101)、(株)Shodex社製カラム(KD―803、KD−805)を用い以下のようにして測定した。
なお、下記の数平均分子量(以下、Mnと称す。)及び重量平均分子量(以下、Mwと称す。)は、ポリスチレン換算値にて表した。
カラム温度:40℃
溶離液:テトラヒドロフラン
流速:1.0mL/分
検量線作成用標準サンプル:昭和電工(株)製 標準ポリスチレン(分子量 約197,000、55,100、12,800、3,950、1,260、580)。
<Measurement of molecular weight of polymer>
The molecular weight of the acrylic (co) polymer in the polymerization example was determined by Shodex Co., Ltd. room temperature gel permeation chromatography (GPC) apparatus (GPC-101), Shodex Co., Ltd. column (KD-803, KD-805). Was measured as follows.
The following number average molecular weight (hereinafter referred to as Mn) and weight average molecular weight (hereinafter referred to as Mw) are represented by polystyrene-equivalent values.
Column temperature: 40 ° C
Eluent: Tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL / Standard sample for preparing a calibration curve: Standard polystyrene manufactured by Showa Denko KK (molecular weight approx. 197,000, 55, 100, 12,800, 3,950, 1,260,580) ).

<A成分の合成>
<合成例1>
GMA 15.0g、重合触媒としてAIBN 0.8gをテトラヒドロフラン 63.0gに溶解し、加熱還流下にて20時間反応させることによりアクリル重合体溶液を得た。アクリル重合体溶液をジエチルエーテル 500.0gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することでアクリル重合体(P−1)を得た。得られたアクリル重合体のMnは6,500、Mwは11,000であった。
<Synthesis of component A>
<Synthesis example 1>
An acrylic polymer solution was obtained by dissolving 15.0 g of GMA and 0.8 g of AIBN as a polymerization catalyst in 63.0 g of tetrahydrofuran and reacting them under heating under reflux for 20 hours. The acrylic polymer solution was gradually added dropwise to 500.0 g of diethyl ether to precipitate a solid, which was then filtered and dried under reduced pressure to obtain an acrylic polymer (P-1). The obtained acrylic polymer had Mn of 6,500 and Mw of 11,000.

<合成例2>
合成例1で得たエポキシ基を有するアクリル重合体(P−1)10.0g、CIN1 8.4g、アクリル酸 0.8g、反応触媒としてエチルトリフェニルホスホニウムブロミド 0.1g、重合禁止剤としてジブチルヒドロキシトルエン 0.4gをPM 46.1gに溶解させ、80℃で20時間反応させ、アクリル重合体(PA−1)を30質量%含有する溶液を得た。得られた重合体のエポキシ価を測定し、エポキシ基が消失したことを確認した。
<Synthesis example 2>
10.0 g of the epoxy group-containing acrylic polymer (P-1) obtained in Synthesis Example 1, 8.4 g of CIN1, 0.8 g of acrylic acid, 0.1 g of ethyltriphenylphosphonium bromide as a reaction catalyst, and dibutyl as a polymerization inhibitor. 0.4 g of hydroxytoluene was dissolved in 46.1 g of PM and reacted at 80 ° C. for 20 hours to obtain a solution containing 30% by mass of the acrylic polymer (PA-1). The epoxy value of the obtained polymer was measured, and it was confirmed that the epoxy group had disappeared.

<合成例3〜10>
エポキシ基を有するポリマー(アクリル重合体)、光配向性基を与える化合物及び重合性二重結合を含む基を与える化合物の種類、配合量を下記表1の通りとした以外は、合成例2と同様に操作し、重合体(PA−2)〜(PA−9)を30質量%含有する溶液を得た。なお、表1中の空欄は、該当する成分を配合しなかったことを示す。
<Synthesis Examples 3 to 10>
Synthesis Example 2 except that the types and amounts of the polymer having an epoxy group (acrylic polymer), the compound giving a photoorientation group, and the compound giving a group containing a polymerizable double bond are as shown in Table 1 below. The same procedure was carried out to obtain a solution containing 30% by mass of the polymers (PA-2) to (PA-9). The blanks in Table 1 indicate that the corresponding component was not blended.

Figure 2019189189
Figure 2019189189

<B成分の合成>
<合成例11>
BMAA 100.0g、重合触媒としてAIBN 4.2gをPM 193.5gに溶解し、90℃にて20時間反応させることによりアクリル重合体溶液を得た。得られたアクリル重合体のMnは2,700、Mwは3,900であった。アクリル重合体溶液をヘキサン2000.0gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することで、重合体(PB−1)を得た。
<Synthesis of component B>
<Synthesis Example 11>
An acrylic polymer solution was obtained by dissolving 100.0 g of BMAA and 4.2 g of AIBN as a polymerization catalyst in 193.5 g of PM and reacting at 90 ° C. for 20 hours. The obtained acrylic polymer had Mn of 2,700 and Mw of 3,900. The acrylic polymer solution was gradually added dropwise to 2000.0 g of hexane to precipitate a solid, which was then filtered and dried under reduced pressure to obtain a polymer (PB-1).

<重合性液晶溶液の調製>
重合性液晶LC242(BASF社製)29.0g、重合開始剤としてイルガキュア907(BASF社製)0.9g、レベリング剤としてBYK−361N(BYK社製)0.2g、溶剤としてメチルイソブチルケトンを加えて固形分濃度が30質量%の重合性液晶溶液(RM−1)を得た。
<Preparation of polymerizable liquid crystal solution>
Polymerizable liquid crystal LC242 (manufactured by BASF) 29.0 g, Irgacure 907 (manufactured by BASF) 0.9 g as a polymerization initiator, BYK-361N (manufactured by BYK) 0.2 g as a leveling agent, and methyl isobutyl ketone as a solvent were added. A polymerizable liquid crystal solution (RM-1) having a solid content concentration of 30% by mass was obtained.

<実施例1>
(A)成分として上記合成例2で得たアクリル重合体(PA−1)を30質量%含有する溶液のアクリル重合体(PA−1)に換算して100質量部に相当する量、(B)成分としてHMMを30質量部、(C)成分としてPTSA 3質量部を混合し、これにPMおよびEAを加え、溶剤組成がPM:EA=100:30(質量比)、固形分濃度が5.0質量%の硬化膜(配向材)形成組成物(A−1)を調製した。
<Example 1>
(A) An amount corresponding to 100 parts by mass in terms of the acrylic polymer (PA-1) of the solution containing 30% by mass of the acrylic polymer (PA-1) obtained in Synthesis Example 2 as a component (B). ) 30 parts by mass of HMM as a component and 3 parts by mass of PTSA as a component (C) are mixed, PM and EA are added thereto, the solvent composition is PM: EA = 100: 30 (mass ratio), and the solid content concentration is 5. A polymer (aligning material) forming composition (A-1) having a mass ratio of 0.0% by mass was prepared.

<実施例2〜12および比較例1〜2>
各成分の種類と量を、それぞれ表2に記載の通りとしたほかは、実施例1と同様に実施し、硬化膜(配向材)形成組成物A−2〜A−15を、それぞれ調製した。なお、表2中の空欄は、該当する成分を配合しなかったことを示す。
<Examples 2 to 12 and Comparative Examples 1 to 2>
The types and amounts of each component were set as shown in Table 2, and the same procedure as in Example 1 was carried out to prepare cured film (aligning material) forming compositions A-2 to A-15, respectively. .. The blanks in Table 2 indicate that the corresponding component was not blended.

Figure 2019189189
Figure 2019189189

<実施例13〜24および比較例3〜4>
[配向性の評価]
実施例1〜12および比較例1〜2の各硬化膜(配向材)形成組成物を、TACフィルム上にバーコーターを用いてWet膜厚4μmにて塗布した。それぞれ温度110℃で60秒間、熱循環式オーブン中で加熱乾燥を行い、フィルム上にそれぞれ硬化膜を形成した。この各硬化膜に313nmの直線偏光を10mJ/cmの露光量で垂直に照射し、配向材を形成した。フィルム上の配向材の上に、重合性液晶溶液(RM−1)を、バーコーターを用いてWet膜厚6μmにて塗布した。この塗膜を温度90℃のホットプレート上で60秒間乾燥後、300mJ/cmで露光し、位相差材を作製した。作製したフィルム上の位相差材を一対の偏光板で挟み込み、位相差材における位相差特性の発現状況を観察し、位相差が欠陥なく発現しているものを○、位相差が発現していないものを×として「配向性」の欄に記載した。評価結果は、後に表3にまとめて示す。
<Examples 13 to 24 and Comparative Examples 3 to 4>
[Evaluation of orientation]
The cured film (aligning material) forming compositions of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2 were applied onto a TAC film using a bar coater at a Wet film thickness of 4 μm. Each was heated and dried in a heat circulation type oven at a temperature of 110 ° C. for 60 seconds to form a cured film on the film. Each of the cured films was vertically irradiated with linearly polarized light of 313 nm at an exposure amount of 10 mJ / cm 2 to form an alignment material. A polymerizable liquid crystal solution (RM-1) was applied onto the alignment material on the film using a bar coater at a Wet film thickness of 6 μm. This coating film was dried on a hot plate at a temperature of 90 ° C. for 60 seconds and then exposed at 300 mJ / cm 2 to prepare a retardation material. The retardation material on the produced film was sandwiched between a pair of polarizing plates, and the expression status of the retardation characteristics in the retardation material was observed. Those are described as x in the "Orientation" column. The evaluation results are summarized in Table 3 later.

[密着性の評価]
実施例1〜12および比較例1〜2の各硬化膜(配向材)形成組成物を、TACフィルム上にバーコーターを用いてWet膜厚4μmにて塗布した。それぞれ温度110℃で60秒間、熱循環式オーブン中で加熱乾燥を行い、フィルム上にそれぞれ硬化膜を形成した。この各硬化膜に313nmの直線偏光を10mJ/cmの露光量で垂直に照射し、配向材を形成した。フィルム上の配向材の上に、重合性液晶溶液(RM−1)を、バーコーターを用いてWet膜厚6μmにて塗布した。この塗膜を温度90℃のホットプレート上で60秒間乾燥後、300mJ/cmで露光し、位相差材を作製した。この位相差材に縦横1mm間隔で5×5マスとなるようカッターナイフで切込みをつけた。この切り込みの上にスコッチテープを用いてセロハンテープ剥離試験を行った。評価結果は「密着性」とし、25マスのなかで剥がれずに残っているもマスの数を記載した。例えば、25/25であれば全てのマスが剥がれずに残っており、密着性が高いことを示す。評価結果は、後に表3にまとめて示す。
[Evaluation of adhesion]
The cured film (aligning material) forming compositions of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2 were applied onto a TAC film using a bar coater at a Wet film thickness of 4 μm. Each was heated and dried in a heat circulation type oven at a temperature of 110 ° C. for 60 seconds to form a cured film on the film. Each of the cured films was vertically irradiated with linearly polarized light of 313 nm at an exposure amount of 10 mJ / cm 2 to form an alignment material. A polymerizable liquid crystal solution (RM-1) was applied onto the alignment material on the film using a bar coater at a Wet film thickness of 6 μm. This coating film was dried on a hot plate at a temperature of 90 ° C. for 60 seconds and then exposed at 300 mJ / cm 2 to prepare a retardation material. The retardation material was cut with a cutter knife so as to form 5 × 5 squares at intervals of 1 mm in length and width. A cellophane tape peeling test was performed on this notch using scotch tape. The evaluation result was "adhesion", and the number of squares remaining in the 25 squares without peeling was described. For example, if it is 25/25, all the cells remain without peeling off, indicating that the adhesion is high. The evaluation results are summarized in Table 3 later.

Figure 2019189189
Figure 2019189189

表3に示すように、実施例13〜24で得られた位相差材は良好な配向性と高い密着性を示した。 As shown in Table 3, the retardation materials obtained in Examples 13 to 24 showed good orientation and high adhesion.

それに対して、比較例3で得られた位相差材は良好な配向性を示したが、十分な密着性が得られなかった。また比較例4で得られた位相差材は配向性と密着性ともに不十分であった。 On the other hand, the retardation material obtained in Comparative Example 3 showed good orientation, but sufficient adhesion could not be obtained. Further, the retardation material obtained in Comparative Example 4 was insufficient in both orientation and adhesion.

本発明の硬化膜形成組成物から形成される硬化膜は、液晶表示素子の液晶配向膜や、液晶表示素子の内部や外部に設けられる光学異方性フィルムを形成するための配向材として非常に有用である。特に、本発明の硬化膜形成組成物は、3Dディスプレイのパターン化位相差材に用いる硬化膜の形成材料として好適である。さらに、本発明の硬化膜形成組成物は、薄膜トランジスタ(TFT)型液晶表示素子や有機EL素子などの各種ディスプレイにおける保護膜、平坦膜及び絶縁膜などの硬化膜を形成する材料、特にTFT型液晶表示素子の層間絶縁膜、カラーフィルタの保護膜又は有機EL素子の絶縁膜などを形成する材料としても好適である。 The cured film formed from the cured film forming composition of the present invention is very useful as an alignment material for forming a liquid crystal alignment film of a liquid crystal display element and an optically anisotropic film provided inside or outside the liquid crystal display element. It is useful. In particular, the cured film forming composition of the present invention is suitable as a material for forming a cured film used as a patterned retardation material for a 3D display. Further, the cured film forming composition of the present invention is a material for forming a cured film such as a protective film, a flat film and an insulating film in various displays such as a thin film transistor (TFT) type liquid crystal display element and an organic EL element, particularly a TFT type liquid crystal. It is also suitable as a material for forming an interlayer insulating film of a display element, a protective film of a color filter, an insulating film of an organic EL element, and the like.

Claims (12)

(A)光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するポリマー、
(B)架橋剤、及び
(C)架橋触媒を含有する硬化膜形成組成物。
(A) A polymer having a photo-oriented group, a hydroxy group, and a polymerizable group containing a C = C double bond.
A cured film-forming composition containing (B) a cross-linking agent and (C) a cross-linking catalyst.
(A)成分の光配向性基が光二量化又は光異性化する構造を有する官能基である、請求項1に記載の硬化膜形成組成物。 The cured film-forming composition according to claim 1, wherein the photo-oriented group of the component (A) is a functional group having a structure of photodimerization or photoisomerization. (A)成分の光配向性基がシンナモイル基である、請求項1又は請求項2に記載の硬化膜形成組成物。 The cured film-forming composition according to claim 1 or 2, wherein the photo-oriented group of the component (A) is a cinnamoyl group. (A)成分の光配向性基がアゾベンゼン構造を有する基である、請求項1又は請求項2に記載の硬化膜形成組成物。 The cured film-forming composition according to claim 1 or 2, wherein the photo-oriented group of the component (A) is a group having an azobenzene structure. (D)ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの基を有するポリマーをさらに含有する請求項1乃至4のいずれか一項に記載の硬化膜形成組成物。 (D) The cured film according to any one of claims 1 to 4, further containing a polymer having at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group and an alkoxysilyl group. Forming composition. (A)成分のポリマーは、ヒドロキシ基を有する構造単位とC=C二重結合を含む重合性基を有する構造単位とを含み、該ヒドロキシ基を有する構造単位の存在割合が、該ポリマーの全構造単位100モル%に対して20モル%以上であり、かつ、該C=C二重結合を含む重合性基を有する構造単位の存在割合が、該ポリマーの全構造単位100モル%に対して5モル%以上である、請求項1乃至請求項5のうちいずれか一項に記載の硬化膜形成組成物。 The polymer of the component (A) contains a structural unit having a hydroxy group and a structural unit having a polymerizable group containing a C = C double bond, and the abundance ratio of the structural unit having the hydroxy group is the total of the polymer. The abundance ratio of the structural unit having a polymerizable group containing a C = C double bond is 20 mol% or more with respect to 100 mol% of the structural unit with respect to 100 mol% of the total structural unit of the polymer. The cured film-forming composition according to any one of claims 1 to 5, which is 5 mol% or more. (A)成分のポリマー100質量部に基づいて、5質量部乃至500質量部の(B)成分の架橋剤を含有する、請求項1乃至請求項6のうちいずれか一項に記載の硬化膜形成組成物。 The cured film according to any one of claims 1 to 6, which contains 5 parts by mass to 500 parts by mass of a cross-linking agent of the component (B) based on 100 parts by mass of the polymer of the component (A). Forming composition. (A)成分のポリマー100質量部に基づいて、0.01質量部乃至20質量部の(C)成分の架橋触媒を含有する、請求項1乃至請求項7のうちいずれか一項に記載の硬化膜形成組成物。 The invention according to any one of claims 1 to 7, wherein the cross-linking catalyst of the component (C) is contained in an amount of 0.01 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the polymer of the component (A). Cured film forming composition. 請求項1乃至請求項8のうちいずれか一項に記載の硬化膜形成組成物から得られる硬化膜。 A cured film obtained from the cured film-forming composition according to any one of claims 1 to 8. 請求項9に記載の硬化膜を有する光学フィルム。 An optical film having the cured film according to claim 9. 請求項9に記載の硬化膜を使用して形成される配向材。 An alignment material formed by using the cured film according to claim 9. 請求項9に記載の硬化膜を使用して形成される位相差材。 A retardation material formed by using the cured film according to claim 9.
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