JP7492196B2 - Cured film-forming composition, alignment material and retardation material - Google Patents

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Description

本発明は液晶分子を配向させる硬化膜を形成する硬化膜形成組成物、硬化膜、光学フィルム、配向材および位相差材に関する。特に本発明は、円偏光メガネ方式の3Dディスプレイに用いられるパターニングされた位相差材、及び有機ELディスプレイの反射防止膜として使用される円偏光板に用いられる位相差材、並びに該位相差材を作製するのに有用な硬化膜形成組成物、硬化膜、光学フィルムおよび配向材に関する。The present invention relates to a cured film-forming composition that forms a cured film that aligns liquid crystal molecules, a cured film, an optical film, an alignment material, and a retardation material. In particular, the present invention relates to a patterned retardation material used in a 3D display using circularly polarized glasses, and a retardation material used in a circular polarizing plate used as an anti-reflection film for an organic EL display, as well as a cured film-forming composition, a cured film, an optical film, and an alignment material that are useful for producing the retardation material.

円偏光メガネ方式の3Dディスプレイの場合、液晶パネル等の画像を形成する表示素子の上に位相差材が配置されるのが通常である。この位相差材は、位相差特性の異なる2種類の位相差領域がそれぞれ複数、規則的に配置されており、パターニングされた位相差材を構成している。尚、以下、本明細書においては、このような位相差特性の異なる複数の位相差領域を配置するようにパターン化された位相差材をパターン化位相差材と称する。In the case of circularly polarized glasses type 3D displays, a retardation material is usually placed on a display element that forms an image, such as a liquid crystal panel. This retardation material has two types of retardation regions with different retardation characteristics that are regularly arranged in multiples, constituting a patterned retardation material. In the rest of this specification, such a retardation material that is patterned so that multiple retardation regions with different retardation characteristics are arranged is referred to as a patterned retardation material.

パターン化位相差材は、例えば、特許文献1に開示されるように、重合性液晶からなる位相差材料を光学パターニングすることで作製することができる。重合性液晶からなる位相差材料の光学パターニングは、液晶パネルの配向材形成で知られた光配向技術を利用する。すなわち、基板上に光配向性の材料からなる塗膜を設け、これに偏光方向が異なる2種類の偏光を照射する。そして、液晶の配向制御方向の異なる2種類の液晶配向領域が形成された配向材として光配向膜を得る。この光配向膜の上に重合性液晶を含む溶液状の位相差材料を塗布し、重合性液晶の配向を実現する。その後、配向された重合性液晶を硬化してパターン化位相差材を形成する。 For example, as disclosed in Patent Document 1, the patterned retardation material can be produced by optically patterning a retardation material made of polymerizable liquid crystal. The optical patterning of the retardation material made of polymerizable liquid crystal utilizes a photo-alignment technique known for forming alignment materials for liquid crystal panels. That is, a coating film made of a photo-alignable material is provided on a substrate, and two types of polarized light with different polarization directions are irradiated onto the coating film. Then, a photo-alignment film is obtained as an alignment material in which two types of liquid crystal alignment regions with different liquid crystal alignment control directions are formed. A solution-like retardation material containing polymerizable liquid crystal is applied onto the photo-alignment film to realize the alignment of the polymerizable liquid crystal. The aligned polymerizable liquid crystal is then cured to form a patterned retardation material.

有機ELディスプレイの反射防止膜は、直線偏光板、1/4波長位相差板により構成され、画像表示パネルのパネル面に向かう外来光を直線偏光板により直線偏光に変換し、続く1/4波長位相差板により円偏光に変換する。ここでこの円偏光による外来光は、画像表示パネルの表面等で反射するものの、この反射の際に偏光面の回転方向が逆転する。その結果、この反射光は、到来時とは逆に、1/4波長位相差板より、直線偏光板により遮光される方向の直線偏光に変換された後、続く直線偏光板により遮光され、その結果、外部への出射が著しく抑制される。 An anti-reflection film for an organic EL display is composed of a linear polarizer and a quarter-wave retardation plate, and external light heading toward the panel surface of the image display panel is converted into linearly polarized light by the linear polarizer, and then converted into circularly polarized light by the subsequent quarter-wave retardation plate. Here, this circularly polarized external light is reflected by the surface of the image display panel, etc., but the direction of rotation of the polarization plane is reversed during this reflection. As a result, this reflected light is converted by the quarter-wave retardation plate into linearly polarized light in a direction that is blocked by the linear polarizer, in the opposite direction to when it arrived, and is then blocked by the subsequent linear polarizer, resulting in significant suppression of emission to the outside.

この1/4波長位相差板に関して、特許文献2には、1/2波長板、1/4波長板を組み合わせて1/4波長位相差板を構成することにより、この光学フィルムを逆分散特性により構成する方法が提案されている。この方法の場合、カラー画像の表示に供する広い波長帯域において、正の分散特性による液晶材料を使用して逆分散特性により光学フィルムを構成することができる。Regarding this quarter-wave retardation plate, Patent Document 2 proposes a method of constructing this optical film with reverse dispersion characteristics by combining a half-wave plate and a quarter-wave plate to construct a quarter-wave retardation plate. With this method, an optical film with reverse dispersion characteristics can be constructed using a liquid crystal material with positive dispersion characteristics in a wide wavelength band used to display color images.

また近年、この位相差層に適用可能な液晶材料として、逆分散特性を備えるものが提案されている(特許文献3、4)。このような逆分散特性の液晶材料によれば、1/2波長板、1/4波長板を組み合わせて2層の位相差層により1/4波長位相差板を構成する代わりに、位相差層を単層により構成して逆分散特性を確保することができ、これにより広い波長帯域において所望の位相差を確保することが可能な光学フィルムを簡易な構成により実現することができる。In recent years, liquid crystal materials with reverse dispersion characteristics have been proposed as liquid crystal materials that can be used for this retardation layer (Patent Documents 3 and 4). With such liquid crystal materials with reverse dispersion characteristics, instead of combining a half-wave plate and a quarter-wave plate to form a quarter-wave retardation plate with two retardation layers, it is possible to ensure reverse dispersion characteristics by forming the retardation layer from a single layer, and thus to realize an optical film capable of ensuring a desired retardation in a wide wavelength band with a simple configuration.

液晶を配向させるためには配向層が用いられる。配向層の形成方法としては、例えばラビング法や光配向法が知られており、光配向法はラビング法の問題点である静電気や塵の発生がなく、定量的な配向処理の制御ができる点で有用である。An alignment layer is used to align liquid crystals. Methods for forming an alignment layer include, for example, the rubbing method and the photoalignment method. The photoalignment method is useful in that it does not generate static electricity or dust, which are problems with the rubbing method, and it allows quantitative control of the alignment process.

光配向法を用いた配向材形成では、利用可能な光配向性の材料として、側鎖にシンナモイル基およびカルコン基等の光二量化部位を有するアクリル樹脂やポリイミド樹脂等が知られている。これらの樹脂は、偏光UV照射することにより、液晶の配向を制御する性能(以下、液晶配向性とも言う。)を示すことが報告されている(特許文献5~特許文献7を参照。)。When forming alignment materials using the photoalignment method, acrylic resins and polyimide resins that have photodimerization sites such as cinnamoyl groups and chalcone groups in the side chains are known as photoalignment materials that can be used. It has been reported that these resins exhibit the ability to control the alignment of liquid crystals (hereinafter referred to as liquid crystal alignment) when irradiated with polarized UV light (see Patent Documents 5 to 7).

また、配向層には、液晶配向能の他、耐溶剤性が要求される。例えば、配向層が、位相差材の製造過程にて熱や溶剤にさらさる場合がある。配向層が溶剤にさらされると、液晶配向能が著しく低下するおそれがある。In addition to being able to align liquid crystals, the alignment layer is also required to be solvent resistant. For example, the alignment layer may be exposed to heat or solvents during the manufacturing process of the retardation material. If the alignment layer is exposed to a solvent, its ability to align liquid crystals may be significantly reduced.

そこで、例えば特許文献8には、安定した液晶配向能を得るために、光により架橋反応の可能な構造と熱によって架橋する構造とを有する重合体成分を含有する液晶配向剤、および、光により架橋反応の可能な構造を有する重合体成分と熱によって架橋する構造を有する化合物とを含有する液晶配向剤が提案されている。Therefore, for example, Patent Document 8 proposes a liquid crystal alignment agent that contains a polymer component having a structure capable of undergoing a crosslinking reaction by light and a structure that crosslinks by heat, in order to obtain stable liquid crystal alignment ability, and a liquid crystal alignment agent that contains a polymer component having a structure capable of undergoing a crosslinking reaction by light and a compound having a structure that crosslinks by heat.

加えて、配向層には、液晶層との密着性が要求される。配向層とこの上に形成された液晶層との密着力が十分でない場合、例えば、位相差フィルム製造時の巻き取り工程等において、上記液晶層が剥離してしまうことがある。In addition, the alignment layer must have good adhesion to the liquid crystal layer. If the adhesion between the alignment layer and the liquid crystal layer formed on it is insufficient, the liquid crystal layer may peel off, for example, during the winding process in the manufacture of the retardation film.

特開2005-49865号公報JP 2005-49865 A 特開平10-68816号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-68816 米国特許第8119026号明細書U.S. Pat. No. 8,119,026 特開2009-179563号公報JP 2009-179563 A 特許第3611342号公報Patent No. 3611342 特開2009-058584号公報JP 2009-058584 A 特表2001-517719号公報JP 2001-517719 A 特許第4207430号公報Japanese Patent No. 4207430

本発明は、以上の知見や検討結果に基づいてなされたものである。すなわち、本発明の目的は、優れた耐溶剤性を有し、高感度で重合性液晶を配向させることができ、液晶層との密着性に優れる配向材の形成に使用される硬化膜を形成するための硬化膜形成組成物を提供することである。
また、本発明の目的は、上記硬化膜を有する光学フィルム、該硬化膜若しくは光学フィルムを使用して形成される配向材及び位相差材を提供する事である。
The present invention has been made based on the above findings and study results. That is, an object of the present invention is to provide a cured film-forming composition for forming a cured film used to form an alignment material having excellent solvent resistance, capable of aligning a polymerizable liquid crystal with high sensitivity, and excellent adhesion to a liquid crystal layer.
Another object of the present invention is to provide an optical film having the above-mentioned cured film, and an alignment material and a retardation material formed by using the cured film or the optical film.

本発明の他の目的および利点は、以下の記載から明らかとなるであろう。 Other objects and advantages of the present invention will become apparent from the following description.

本発明の第1の態様は、
(A)光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するポリマー、
(B)架橋剤、及び
(C)架橋触媒を含有する硬化膜形成組成物に関する。
本発明の第1の態様において、(A)成分の光配向性基は光二量化又は光異性化する構造を有する官能基であることが好ましい。
本発明の第1の態様において、(A)成分の光配向性基はシンナモイル基又はアゾベンゼン構造を有する基であることが好ましい。
本発明の第1の態様において、さらに、(D)ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの基を有するポリマーを含有することが好ましい。
本発明の第1の態様において、(A)成分のポリマーは、ヒドロキシ基を有する構造単位とC=C二重結合を含む重合性基を有する構造単位とを含み、該ヒドロキシ基を有する構造単位の存在割合が、該ポリマーの全構造単位100モル%に対して20モル%以上であり、かつ、該C=C二重結合を含む重合性基を有する構造単位の存在割合が、該ポリマーの全構造単位100モル%に対して5モル%以上であることが好ましい。
本発明の第1の態様において、前記硬化膜形成組成物は、(A)成分の100質量部に基づいて、5質量部乃至500質量部の(B)成分を含有することが好ましい。
本発明の第1の態様において、前記硬化膜形成組成物は、(A)成分の100質量部に基づいて、0.01質量部乃至20質量部の(C)成分を含有することが好ましい。
The first aspect of the present invention is a method for producing a cellular membrane comprising the steps of:
(A) a polymer having a photoalignable group, a hydroxy group, and a polymerizable group containing a C═C double bond;
The present invention relates to a cured film-forming composition comprising: (B) a crosslinking agent; and (C) a crosslinking catalyst.
In the first aspect of the present invention, the photoalignable group of the component (A) is preferably a functional group having a structure that undergoes photodimerization or photoisomerization.
In the first aspect of the present invention, the photoalignable group of the component (A) is preferably a cinnamoyl group or a group having an azobenzene structure.
In the first aspect of the present invention, it is preferable to further contain (D) a polymer having at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group and an alkoxysilyl group.
In the first aspect of the present invention, it is preferred that the polymer of component (A) contains a structural unit having a hydroxy group and a structural unit having a polymerizable group containing a C═C double bond, and that the abundance ratio of the structural unit having the hydroxy group is 20 mol % or more relative to 100 mol % of all structural units of the polymer, and that the abundance ratio of the structural unit having the polymerizable group containing a C═C double bond is 5 mol % or more relative to 100 mol % of all structural units of the polymer.
In the first aspect of the present invention, the cured film-forming composition preferably contains 5 parts by mass to 500 parts by mass of the component (B) based on 100 parts by mass of the component (A).
In the first aspect of the present invention, the cured film-forming composition preferably contains 0.01 to 20 parts by mass of the component (C) based on 100 parts by mass of the component (A).

本発明の第2の態様は、本発明の第1の態様の硬化膜形成組成物から得られる硬化膜に関する。The second aspect of the present invention relates to a cured film obtained from the cured film-forming composition of the first aspect of the present invention.

本発明の第3の態様は、本発明の第1の態様の硬化膜形成組成物から得られる硬化膜を有する光学フィルムに関する。The third aspect of the present invention relates to an optical film having a cured film obtained from the cured film-forming composition of the first aspect of the present invention.

本発明の第4の態様は、本発明の第2の態様の硬化膜を使用して形成されることを特徴とする配向材に関する。The fourth aspect of the present invention relates to an alignment material characterized in that it is formed using the cured film of the second aspect of the present invention.

本発明の第5の態様は、本発明の第2の態様の硬化膜を使用して形成されることを特徴とする位相差材に関する。The fifth aspect of the present invention relates to a phase difference material characterized by being formed using the cured film of the second aspect of the present invention.

本発明によれば、優れた耐溶剤性を有し、高感度で重合性液晶を配向させることができ、液晶層との密着性に優れる硬化膜と、その形成に好適な硬化膜形成組成物を提供することができる。
また、本発明によれば、上記硬化膜を有する光学フィルム、及び硬化膜又は光学フィルムを使用して形成される配向材及び位相差材を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a cured film which has excellent solvent resistance, is capable of aligning a polymerizable liquid crystal with high sensitivity, and has excellent adhesion to a liquid crystal layer, and a cured film-forming composition suitable for forming the same.
Furthermore, according to the present invention, it is possible to provide an optical film having the above-mentioned cured film, and an alignment material and a retardation material formed using the cured film or the optical film.

上述したように、優れた耐溶剤性を有し、高感度で重合性液晶を配向させることができ、液晶層との密着性に優れた硬化膜(配向材)が求められている。そして、そのような性能の硬化膜(配向材)の形成に好適な硬化膜形成組成物が求められている。As described above, there is a demand for a cured film (alignment material) that has excellent solvent resistance, can align polymerizable liquid crystals with high sensitivity, and has excellent adhesion to the liquid crystal layer. There is also a demand for a cured film-forming composition that is suitable for forming a cured film (alignment material) with such performance.

本発明者は、上述の要求に応えるべく、鋭意検討を行った結果、特定の組成を有する硬化膜形成組成物から得られる硬化膜が、優れた耐溶剤性を有し、高感度で重合性液晶を配向させることができ、液晶層との密着性に優れた配向材としての利用が可能であることを見出した。As a result of extensive research conducted by the inventors in order to meet the above-mentioned requirements, it was discovered that a cured film obtained from a cured film-forming composition having a specific composition has excellent solvent resistance, is capable of aligning polymerizable liquid crystals with high sensitivity, and can be used as an alignment material with excellent adhesion to a liquid crystal layer.

以下において、本発明の硬化膜形成組成物について、成分等の具体例を挙げながら詳細に説明する。そして、本発明の硬化膜形成組成物を用いた本発明の硬化膜および配向材、並びに、その配向材を用いて形成される位相差材および液晶表示素子等について説明する。The cured film-forming composition of the present invention will be described in detail below, with specific examples of components, etc. Then, the cured film and alignment material of the present invention using the cured film-forming composition of the present invention, as well as the retardation material and liquid crystal display element formed using the alignment material, etc. will be described.

<硬化膜形成組成物>
本発明の硬化膜形成組成物は、(A)成分である、光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するポリマー、(B)成分である架橋剤、および(C)成分である架橋触媒を含有する。また、(D)成分であるヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの基を有するポリマーを含有することができる。さらに、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の添加剤を含有することができる。さらに、溶剤を含有することができる。
以下、各成分の詳細を説明する。
<Cured Film-Forming Composition>
The cured film-forming composition of the present invention contains a polymer having a photoalignment group, a hydroxyl group, and a polymerizable group containing a C=C double bond, which is a component (A), a crosslinking agent, which is a component (B), and a crosslinking catalyst, which is a component (C). It can also contain a polymer having at least one group selected from the group consisting of a hydroxyl group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, and an alkoxysilyl group, which is a component (D). Furthermore, it can contain other additives as long as they do not impair the effects of the present invention. It can also contain a solvent.
Each component will be described in detail below.

[(A)成分]
本発明の硬化膜形成組成物における(A)成分は、光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するポリマーである。すなわち(A)成分は、本発明の硬化膜形成組成物から得られる硬化膜に光配向性を付与する成分であり、本明細書において、(A)成分を光配向成分とも称する。
[Component (A)]
The component (A) in the cured film-forming composition of the present invention is a polymer having a photoalignable group, a hydroxyl group, and a polymerizable group containing a C=C double bond. That is, the component (A) is a component that imparts photoalignment to the cured film obtained from the cured film-forming composition of the present invention, and in this specification, the component (A) is also referred to as a photoalignment component.

本発明の硬化膜形成組成物に含有される(A)成分は光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するアクリル共重合体であることが好ましい。It is preferable that the component (A) contained in the cured film-forming composition of the present invention is an acrylic copolymer having a photoalignable group, a hydroxy group, and a polymerizable group containing a C=C double bond.

本発明において、アクリル共重合体とは、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン等の不飽和二重結合を有するモノマーを重合して得られる共重合体のことをいう。In the present invention, an acrylic copolymer refers to a copolymer obtained by polymerizing monomers having unsaturated double bonds, such as acrylic acid esters, methacrylic acid esters, and styrene.

(A)成分の光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するアクリル共重合体(以下、特定共重合体とも言う。)は、斯かる構造を有するアクリル共重合体であればよく、アクリル共重合体を構成する高分子の主鎖の骨格及び側鎖の種類等について特に限定されない。The acrylic copolymer (hereinafter also referred to as the specific copolymer) having a photoalignable group, a hydroxyl group, and a polymerizable group containing a C=C double bond, which is the component (A), may be any acrylic copolymer having such a structure, and there are no particular limitations on the type of main chain skeleton and side chain of the polymer constituting the acrylic copolymer.

光配向性基としては、シンナモイル基、カルコン基、クマリン基、アントラセン基等が挙げられる。これらのうち可視光領域での透明性の高さ、及び光二量化反応性の高さからシンナモイル基が好ましい。より好ましいシンナモイル基及びシンナモイル構造を含む置換基としては下記式[1]又は式[2]で表される構造が挙げられる。なお本明細書において、シンナモイル基におけるベンゼン環がナフタレン環である基についても「シンナモイル基」及び「シンナモイル構造を含む置換基」に含めている。Examples of photo-alignable groups include cinnamoyl groups, chalcone groups, coumarin groups, and anthracene groups. Of these, cinnamoyl groups are preferred due to their high transparency in the visible light region and high photodimerization reactivity. More preferred cinnamoyl groups and substituents containing a cinnamoyl structure include structures represented by the following formula [1] or formula [2]. In this specification, groups in which the benzene ring in a cinnamoyl group is a naphthalene ring are also included in the "cinnamoyl group" and "substituents containing a cinnamoyl structure".

Figure 0007492196000001
Figure 0007492196000001

上記式[1]中、Xは水素原子、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基又はビフェニル基を表す。その際、フェニル基及びビフェニル基はハロゲン原子及びシアノ基のいずれかによって置換されていてもよい。 In the above formula [1], X1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group, or a biphenyl group, in which case the phenyl group and the biphenyl group may be substituted with either a halogen atom or a cyano group.

上記式[2]中、Xは水素原子、シアノ基、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基、シクロヘキシル基を表す。その際、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基、シクロヘキシル基は、共有結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、尿素結合、ウレタン結合、アミノ結合、カルボニル又はそれらの組み合わせから選ばれる1種又は2種以上の結合を介して複数種が結合してもよい。 In the above formula [2], X2 represents a hydrogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group, a biphenyl group, or a cyclohexyl group. In this case, the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, the phenyl group, the biphenyl group, and the cyclohexyl group may be bonded to each other via one or more bonds selected from a covalent bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a urea bond, a urethane bond, an amino bond, a carbonyl bond, or a combination thereof.

上記式[1]及び式[2]中、Aは式[A1]、式[A2]、式[A3]、式[A4]、式[A5]及び式[A6]のいずれかを表す。In the above formulas [1] and [2], A represents any one of formulas [A1], [A2], [A3], [A4], [A5] and [A6].

上記式[A1]、式[A2]、式[A3]、式[A4]、式[A5]及び式[A6]中、R31、R32、R33、R34、R35、R36、R37及びR38は、それぞれ独立して水素原子、炭素原子数1乃至4のアルキル基、炭素原子数1乃至4のアルコキシ基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基又はシアノ基を表す。 In the above formulas [A1], [A2], [A3], [A4], [A5] and [A6], R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 35 , R 36 , R 37 and R 38 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, a trifluoromethyl group or a cyano group.

ヒドロキシ基は、加熱により(B)成分である架橋剤と結合する部位である。また、本発明のポリマーは、ヒドロキシ基以外の熱架橋性部位、具体例としてはカルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基等を有していても良い。
(A)成分のポリマー中、ヒドロキシ基を有する構造単位の存在割合が、該ポリマーの全構造単位100モル%に対して20モル%以上であることが好ましい。20モル%以上とすることで、本発明の硬化膜形成組成物から得られる硬化膜は光配向のための光反応の効率を向上させることができ、優れた配向感度を有することができる。
ここで、(A)成分のポリマー中に2個以上のヒドロキシ基を有する構造単位が含まれる場合、ヒドロキシ基を有する構造単位の存在割合とは、ポリマーの全構造単位100モルあたりの(ヒドロキシ基を有する構造単位のモル数)×(該構造単位に含まれるヒドロキシ基の数)を表す。
The hydroxy group is a site that bonds with the crosslinking agent, which is the component (B), upon heating. The polymer of the present invention may also have a thermally crosslinkable site other than the hydroxy group, such as a carboxyl group, an amide group, an amino group, or an alkoxysilyl group.
In the polymer of component (A), the ratio of structural units having a hydroxyl group is preferably 20 mol % or more relative to 100 mol % of all structural units in the polymer. By making it 20 mol % or more, the cured film obtained from the cured film-forming composition of the present invention can improve the efficiency of the photoreaction for photoalignment, and can have excellent alignment sensitivity.
Here, when the polymer of component (A) contains structural units having two or more hydroxy groups, the proportion of structural units having hydroxy groups represents (the number of moles of structural units having hydroxy groups) x (the number of hydroxy groups contained in the structural units) per 100 moles of all structural units of the polymer.

(A)成分のアクリル共重合体は、重量平均分子量が3,000乃至200,000であることが好ましい。重量平均分子量が200,000を超えて過大なものであると、溶剤に対する溶解性が低下しハンドリング性が低下する場合があり、一方、重量平均分子量が3,000未満で過小なものであると、熱硬化時に硬化不足になり溶剤耐性が低下したり耐熱性が低下したりする場合がある。The acrylic copolymer of component (A) preferably has a weight-average molecular weight of 3,000 to 200,000. If the weight-average molecular weight is too large, exceeding 200,000, the solubility in solvents may decrease, leading to poor handling properties. On the other hand, if the weight-average molecular weight is too small, less than 3,000, the product may not be cured sufficiently during heat curing, resulting in poor solvent resistance or poor heat resistance.

(A)成分の光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するアクリル共重合体の製造方法としては、下記の方法が挙げられる。Examples of methods for producing an acrylic copolymer having a photoalignable group (A), a hydroxy group, and a polymerizable group containing a C=C double bond include the following methods.

(A)成分の製造方法1は、光二量化部位を有するモノマーと、エポキシ基を有するモノマーとを共重合したあと、得られた共重合体のエポキシ基に、カルボキシル基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する化合物を反応させる方法である。Manufacturing method 1 of component (A) involves copolymerizing a monomer having a photodimerization site with a monomer having an epoxy group, and then reacting the epoxy group of the resulting copolymer with a compound having a carboxyl group and a polymerizable group including a C=C double bond.

(A)成分の製造方法2は、光二量化部位を有するモノマーと、カルボキシル基を有するモノマーとを共重合したあと、得られた共重合体のカルボキシル基に、エポキシ基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する化合物を反応させる方法である。 Manufacturing method 2 of component (A) is a method in which a monomer having a photodimerization site is copolymerized with a monomer having a carboxyl group, and then the carboxyl group of the resulting copolymer is reacted with a compound having an epoxy group and a polymerizable group including a C=C double bond.

光二量化部位を有するモノマーとしては、例えば、シンナモイル基、カルコン基、クマリン基、アントラセン基等を有するモノマーが挙げられる。これらのうち可視光領域での透明性の高さ及び光二量化反応性の高さからシンナモイル基を有するモノマーが特に好ましい。Examples of monomers having a photodimerization site include monomers having a cinnamoyl group, a chalcone group, a coumarin group, an anthracene group, etc. Among these, monomers having a cinnamoyl group are particularly preferred due to their high transparency in the visible light region and high photodimerization reactivity.

なかでも上記式[1]又は式[2]で表される構造のシンナモイル基及びシンナモイル構造を含む置換基を有するモノマーがより好ましい。そのようなモノマーの具体例を挙げると、下記式[3]又は式[4]で表されるモノマーである。Among them, monomers having a cinnamoyl group of the structure represented by the above formula [1] or formula [2] and a substituent containing a cinnamoyl structure are more preferred. Specific examples of such monomers include monomers represented by the following formula [3] or formula [4].

Figure 0007492196000002
Figure 0007492196000002

上記式[3]中、Xは水素原子、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基又はビフェニル基を表す。その際、フェニル基及びビフェニル基はハロゲン原子及びシアノ基のいずれかによって置換されていてもよい。
及びLは、それぞれ独立に共有結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、尿素結合又はウレタン結合を表す。
In the above formula [3], X1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group, or a biphenyl group, in which case the phenyl group and the biphenyl group may be substituted with either a halogen atom or a cyano group.
L 1 and L 2 each independently represent a covalent bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a urea bond or a urethane bond.

上記式[4]中、Xは水素原子、シアノ基、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基、シクロヘキシル基を表す。その際、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基、シクロヘキシル基は、共有結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、尿素結合を介して結合してもよい。 In the above formula [4], X2 represents a hydrogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group, a biphenyl group, or a cyclohexyl group. In this case, the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, the phenyl group, the biphenyl group, and the cyclohexyl group may be bonded via a covalent bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, or a urea bond.

上記式[3]及び式[4]中、X及びXはそれぞれ独立に単結合、炭素原子数1乃至20のアルキレン基、2価の芳香族環、2価の脂肪族環を示す。ここで炭素原子数1乃至20のアルキレン基は分岐状でも直鎖状でもよい。 In the above formulas [3] and [4], X3 and X5 each independently represent a single bond, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, a divalent aromatic ring, or a divalent aliphatic ring. Here, the alkylene group having 1 to 20 carbon atoms may be branched or linear.

上記式[3]及び式[4]中、Xは重合性基を表す。この重合性基の具体例としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチレン基、マレイミド基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基等が挙げられる。 In the above formulas [3] and [4], X4 represents a polymerizable group. Specific examples of the polymerizable group include an acryloyl group, a methacryloyl group, a styrene group, a maleimide group, an acrylamide group, and a methacrylamide group.

上記式[3]及び式[4]中、Aは前記と同様に式[A1]、式[A2]、式[A3]、式[A4]、式[A5]及び式[A6]のいずれかを表す。In the above formulas [3] and [4], A represents any one of formulas [A1], [A2], [A3], [A4], [A5] and [A6] as described above.

C=C二重結合を含む重合性基とカルボキシル基とを有するモノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、モノ-(2-(アクリロイルオキシ)エチル)フタレート、モノ-(2-(メタクリロイルオキシ)エチル)フタレート、モノ-(2-(アクリロイルオキシ)エチル)ヘキサヒドロフタレート、モノ-(2-(メタクリロイルオキシ)エチル)ヘキサヒドロフタレート、モノ-(2-(アクリロイルオキシ)エチル)サクシネート、モノ-(2-(メタクリロイルオキシ)エチル)サクシネート、N-(カルボキシフェニル)マレイミド、N-(カルボキシフェニル)メタクリルアミド、N-(カルボキシフェニル)アクリルアミド及びω-カルボキシ-ポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレートが挙げられる。これらの単量体としては、例えば、「ライトエステルHO-MS」、「ライトアクリレートHOA-MS(N)」、「ライトアクリレートHOA-HH(N)」及び「ライトアクリレートHOA-MPL(N)」(以上、共栄社化学株式会社製、商品名)、アロニックスM-5300、アロニックスM-5400(以上、東亜合成(株)製、商品名)、A-SA、SA(以上、新中村化学工業(株)製、商品名)として市販されているものを用いることができる。Examples of monomers having a polymerizable group containing a C=C double bond and a carboxyl group include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, mono-(2-(acryloyloxy)ethyl)phthalate, mono-(2-(methacryloyloxy)ethyl)phthalate, mono-(2-(acryloyloxy)ethyl)hexahydrophthalate, mono-(2-(methacryloyloxy)ethyl)hexahydrophthalate, mono-(2-(acryloyloxy)ethyl)succinate, mono-(2-(methacryloyloxy)ethyl)succinate, N-(carboxyphenyl)maleimide, N-(carboxyphenyl)methacrylamide, N-(carboxyphenyl)acrylamide, and ω-carboxy-polycaprolactone mono(meth)acrylate. As these monomers, for example, those commercially available as "Light Ester HO-MS", "Light Acrylate HOA-MS (N)", "Light Acrylate HOA-HH (N)" and "Light Acrylate HOA-MPL (N)" (all of which are product names manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Aronix M-5300 and Aronix M-5400 (all of which are product names manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.), A-SA and SA (all of which are product names manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) can be used.

C=C二重結合を含む重合性基とエポキシ基とを有するモノマーとしては、例えば、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタクリレートグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテル、3-エテニル-7-オキサビシクロ[4.1.0]ヘプタン、1,2-エポキシ-5-ヘキセンおよび1,7-オクタジエンモノエポキサイドなどが挙げられる。Examples of monomers having a polymerizable group containing a C=C double bond and an epoxy group include glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate glycidyl ether, allyl glycidyl ether, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether, p-vinylbenzyl glycidyl ether, 3-ethenyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane, 1,2-epoxy-5-hexene, and 1,7-octadiene monoepoxide.

ここで、(A)成分であるポリマーの製造においては、原料となるエポキシ基を有するモノマー及びカルボキシル基を有するモノマーの少なくとも一方は、重合性基と、エポキシ基及びカルボキシル基から選ばれる基との間にスペーサーを有するものを選択することが好ましい。このような原料を選択することにより、得られる本発明の硬化膜は液晶層との密着性がより良好になる。Here, in the production of the polymer (A), it is preferable to select at least one of the raw materials, a monomer having an epoxy group and a monomer having a carboxyl group, that has a spacer between the polymerizable group and the group selected from the epoxy group and the carboxyl group. By selecting such a raw material, the resulting cured film of the present invention has better adhesion to the liquid crystal layer.

スペーサー及びカルボキシル基を有するモノマーの好ましい構造は下記の(SC-1)及び(SC-2)のいずれかである。

Figure 0007492196000003
式中、Xは重合性基を表し、この重合性基の具体例としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチレン基、マレイミド基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基等が挙げられる。Lは共有結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、尿素結合又はウレタン結合を表す。QおよびQはそれぞれ独立に炭素原子数2乃至10のアルキレン基を表し、Qはジカルボン酸無水物由来の構造を有する二価の基を表す。nは1~10の自然数を表す。 A preferred structure of the monomer having a spacer and a carboxyl group is either of the following (SC-1) or (SC-2).
Figure 0007492196000003
In the formula, X4 represents a polymerizable group, and specific examples of the polymerizable group include an acryloyl group, a methacryloyl group, a styrene group, a maleimide group, an acrylamide group, and a methacrylamide group. L1 represents a covalent bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a urea bond, or a urethane bond. Q1 and Q3 each independently represent an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and Q2 represents a divalent group having a structure derived from a dicarboxylic acid anhydride. n represents a natural number from 1 to 10.

このようなスペーサー及びカルボキシル基を有するモノマーとしては、モノ-(2-(アクリロイルオキシ)エチル)フタレート、モノ-(2-(メタクリロイルオキシ)エチル)フタレート、モノ-(2-(アクリロイルオキシ)エチル)ヘキサヒドロフタレート、モノ-(2-(メタクリロイルオキシ)エチル)ヘキサヒドロフタレート、モノ-(2-(アクリロイルオキシ)エチル)サクシネート、モノ-(2-(メタクリロイルオキシ)エチル)サクシネート及びω-カルボキシ-ポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレートが好ましい。また、カルボキシル機を有する多官能アクリレートも好ましい。市販されているものとしては、例えば、「ライトエステルHO-MS」、「ライトアクリレートHOA-MS(N)」、「ライトアクリレートHOA-HH(N)」及び「ライトアクリレートHOA-MPL(N)」(以上、共栄社化学株式会社製、商品名)、アロニックスM-5300、アロニックスM-5400(以上、東亜合成(株)製、商品名)として市販されているものを用いることができる。 Preferred examples of such a monomer having a spacer and a carboxyl group include mono-(2-(acryloyloxy)ethyl)phthalate, mono-(2-(methacryloyloxy)ethyl)phthalate, mono-(2-(acryloyloxy)ethyl)hexahydrophthalate, mono-(2-(methacryloyloxy)ethyl)hexahydrophthalate, mono-(2-(acryloyloxy)ethyl)succinate, mono-(2-(methacryloyloxy)ethyl)succinate, and ω-carboxy-polycaprolactone mono(meth)acrylate. Polyfunctional acrylates having a carboxyl group are also preferred. As commercially available products, for example, those commercially available as "Light Ester HO-MS", "Light Acrylate HOA-MS (N)", "Light Acrylate HOA-HH (N)" and "Light Acrylate HOA-MPL (N)" (all of which are product names manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Aronix M-5300 and Aronix M-5400 (all of which are product names manufactured by Toagosei Co., Ltd.) can be used.

スペーサー及びエポキシ基を有するモノマーの好ましい構造は下記(SE-1)で表される。

Figure 0007492196000004
式中、Xは重合性基を表し、この重合性基の具体例としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチレン基、マレイミド基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基等が挙げられる。Lは共有結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、尿素結合又はウレタン結合を表す。Qは炭素原子数2乃至10のアルキレン基を表す。 A preferred structure of the monomer having a spacer and an epoxy group is represented by the following (SE-1).
Figure 0007492196000004
In the formula, X4 represents a polymerizable group, and specific examples of the polymerizable group include an acryloyl group, a methacryloyl group, a styrene group, a maleimide group, an acrylamide group, and a methacrylamide group. L1 represents a covalent bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a urea bond, or a urethane bond. Q1 represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms.

このようなスペーサー及びエポキシ基を有するモノマーとしては、例えば、4-ヒドロキシブチルメタクリレートグリシジルエーテル、o-ビニルベンジルグリシジルエーテル、m-ビニルベンジルグリシジルエーテル、p-ビニルベンジルグリシジルエーテルなどが挙げられる。 Examples of monomers having such a spacer and epoxy group include 4-hydroxybutyl methacrylate glycidyl ether, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether, and p-vinylbenzyl glycidyl ether.

ポリマーが有するエポキシ基にグラフトさせるためのC=C二重結合を含む重合性基とカルボキシル基とを有するモノマーとしては、下記の(SC-3)で表される、カルボキシル基を有する多官能アクリレートも好ましい。

Figure 0007492196000005
式中、Xは重合性基を表し、この重合性基の具体例としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチレン基、マレイミド基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基等が挙げられる。Lは共有結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、尿素結合又はウレタン結合を表す。Qは(m+1)価の有機基を表し、mは2~10の自然数を表す。 As a monomer having a carboxyl group and a polymerizable group containing a C═C double bond for grafting to an epoxy group of a polymer, a polyfunctional acrylate having a carboxyl group represented by the following (SC-3) is also preferred.
Figure 0007492196000005
In the formula, X4 represents a polymerizable group, and specific examples of the polymerizable group include an acryloyl group, a methacryloyl group, a styrene group, a maleimide group, an acrylamide group, and a methacrylamide group. L1 represents a covalent bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a urea bond, or a urethane bond. Q4 represents an organic group having a valence of (m+1), and m represents a natural number from 2 to 10.

このような化合物としては、アロニックスM-510、M-520(以上、東亜合成(株)製、商品名)として市販されているものを用いることができる。 Such compounds can be commercially available as Aronix M-510 and M-520 (both trade names manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.).

製造方法1に従って特定共重合体を得るために用いる光二量化部位を有するモノマー及びエポキシ基を有するモノマーの使用量は、特定共重合体を得るために使用する全モノマーの合計量に基いて、光二量化部位を有するモノマーが40質量%~95質量%、エポキシ基を有するモノマーが5質量%~60質量%であることが好ましい。光二量化部位を有するモノマー含有量を40質量%以上とすることで高感度かつ良好な液晶配向性を付与することができる。他方、95質量%以下とすることで充分な熱硬化性を付与することができ、高感度かつ良好な液晶配向性を維持することができる。The amounts of the monomer having a photodimerization site and the monomer having an epoxy group used to obtain the specific copolymer according to Production Method 1 are preferably 40% by mass to 95% by mass of the monomer having a photodimerization site and 5% by mass to 60% by mass of the monomer having an epoxy group, based on the total amount of all monomers used to obtain the specific copolymer. By making the content of the monomer having a photodimerization site 40% by mass or more, high sensitivity and good liquid crystal alignment properties can be imparted. On the other hand, by making it 95% by mass or less, sufficient thermosetting properties can be imparted and high sensitivity and good liquid crystal alignment properties can be maintained.

製造方法2に従って特定共重合体を得るために用いる光二量化部位を有するモノマー及びカルボキシル基を有するモノマーの使用量は、上記の光二量化部位を有するモノマー及びエポキシ基を有するモノマーの使用量におけるエポキシ基を有するモノマーの使用量に準じる。The amounts of the monomer having a photodimerization site and the monomer having a carboxyl group used to obtain a specific copolymer according to manufacturing method 2 correspond to the amounts of the monomer having an epoxy group used in the amounts of the monomer having a photodimerization site and the monomer having an epoxy group used above.

また、本発明の硬化膜形成組成物においては、特定共重合体の前駆体となるポリマーを得る際に、光二量化部位、エポキシ基及びカルボキシル基(以下、これらを特定官能基ともいう)のいずれかを有するモノマーと共重合可能なモノマー(以下非反応性官能基を有するモノマーともいう)を併用することができる。In addition, in the cured film-forming composition of the present invention, when obtaining a polymer that is a precursor of a specific copolymer, a monomer having any one of a photodimerization site, an epoxy group, and a carboxyl group (hereinafter, these are also referred to as specific functional groups) can be used in combination with a monomer that is copolymerizable with the monomer (hereinafter, also referred to as a monomer having a non-reactive functional group).

そのようなモノマーの具体例としては、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物及びビニル化合物等が挙げられる。
以下、上記モノマーの具体例を挙げるが、本発明は、これらに限定されるものではない。
Specific examples of such monomers include acrylic acid ester compounds, methacrylic acid ester compounds, maleimide compounds, acrylamide compounds, acrylonitrile, maleic anhydride, styrene compounds, and vinyl compounds.
Specific examples of the above monomers are given below, but the present invention is not limited to these.

上述したアクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ベンジルアクリレート、ナフチルアクリレート、アントリルアクリレート、アントリルメチルアクリレート、フェニルアクリレート、グリシジルアクリレート、2,2,2-トリフルオロエチルアクリレート、tert-ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、2-メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2-エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、3-メトキシブチルアクリレート、2-メチル-2-アダマンチルアクリレート、2-プロピル-2-アダマンチルアクリレート、8-メチル-8-トリシクロデシルアクリレート、及び、8-エチル-8-トリシクロデシルアクリレート等が挙げられる。Examples of the acrylic acid ester compounds mentioned above include methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, benzyl acrylate, naphthyl acrylate, anthryl acrylate, anthryl methyl acrylate, phenyl acrylate, glycidyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, tert-butyl acrylate, cyclohexyl acrylate, isobornyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, 2-methyl-2-adamantyl acrylate, 2-propyl-2-adamantyl acrylate, 8-methyl-8-tricyclodecyl acrylate, and 8-ethyl-8-tricyclodecyl acrylate.

上述したメタクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、アントリルメタクリレート、アントリルメチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、2,2,2-トリフルオロエチルメタクリレート、tert-ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、2-メトキシエチルメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、2-エトキシエチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、3-メトキシブチルメタクリレート、2-メチル-2-アダマンチルメタクリレート、γ-ブチロラクトンメタクリレート、2-プロピル-2-アダマンチルメタクリレート、8-メチル-8-トリシクロデシルメタクリレート、及び、8-エチル-8-トリシクロデシルメタクリレート等が挙げられる。Examples of the methacrylic acid ester compounds mentioned above include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isopropyl methacrylate, benzyl methacrylate, naphthyl methacrylate, anthryl methacrylate, anthryl methyl methacrylate, phenyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, tert-butyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, isobornyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, methoxytriethylene glycol methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 3-methoxybutyl methacrylate, 2-methyl-2-adamantyl methacrylate, γ-butyrolactone methacrylate, 2-propyl-2-adamantyl methacrylate, 8-methyl-8-tricyclodecyl methacrylate, and 8-ethyl-8-tricyclodecyl methacrylate.

上述したビニル化合物としては、例えば、メチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ビニルナフタレン、ビニルカルバゾール、アリルグリシジルエーテル、3-エテニル-7-オキサビシクロ[4.1.0]ヘプタン、1,2-エポキシ-5-ヘキセン、及び、1,7-オクタジエンモノエポキサイド等が挙げられる。Examples of the vinyl compounds mentioned above include methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, vinyl naphthalene, vinyl carbazole, allyl glycidyl ether, 3-ethenyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane, 1,2-epoxy-5-hexene, and 1,7-octadiene monoepoxide.

上述したスチレン化合物としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、クロロスチレン、及び、ブロモスチレン等が挙げられる。Examples of the styrene compounds mentioned above include styrene, methylstyrene, chlorostyrene, and bromostyrene.

上述したマレイミド化合物としては、例えば、マレイミド、N-メチルマレイミド、N-フェニルマレイミド、及び、N-シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。Examples of the maleimide compounds mentioned above include maleimide, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide.

本発明の硬化膜形成組成物に用いる特定共重合体の前駆体となるポリマーを得る方法は特に限定されないが、例えば、光二量化部位、エポキシ基及びカルボキシル基から選ばれる特定官能基を有するモノマー、所望により非反応性官能基を有するモノマー及び重合開始剤等を共存させた溶剤中において、50℃~110℃の温度下で重合反応させて得られる。その際、用いられる溶剤は、特定官能基を有するモノマー、所望により用いられる非反応性官能基を有するモノマー及び重合開始剤等を溶解するものであれば特に限定されない。具体例としては、後述する溶剤に記載する溶剤が挙げられる。The method for obtaining the polymer that serves as the precursor of the specific copolymer used in the cured film-forming composition of the present invention is not particularly limited, but for example, it can be obtained by carrying out a polymerization reaction at a temperature of 50°C to 110°C in a solvent in which a monomer having a specific functional group selected from a photodimerization site, an epoxy group, and a carboxyl group, a monomer having a non-reactive functional group if desired, and a polymerization initiator are coexisting. The solvent used in this case is not particularly limited as long as it dissolves the monomer having the specific functional group, the monomer having a non-reactive functional group if desired, and the polymerization initiator. Specific examples include the solvents described below in the section on solvents.

側鎖にエポキシ基を有するポリマーと、特定のカルボキシル基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する化合物との反応生成物は、上記の如きエポキシ基を有するポリマーと、特定のカルボキシル基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する化合物とを、好ましくは触媒の存在下、好ましくは適当な有機溶媒中で反応させることにより合成することができる。
反応に際して使用されるカルボキシル基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する化合物の使用割合は、エポキシ基を有する重合体に含まれるエポキシ基1モルに対して、好ましくは0.01~0.9モルであり、より好ましくは0.05~0.8モルであり、さらに好ましくは0.1~0.7モルである。
The reaction product of a polymer having an epoxy group in a side chain and a compound having a specific carboxyl group and a polymerizable group containing a C=C double bond can be synthesized by reacting the above-mentioned polymer having an epoxy group with a compound having a specific carboxyl group and a polymerizable group containing a C=C double bond, preferably in the presence of a catalyst, preferably in a suitable organic solvent.
The proportion of the compound having a carboxyl group and a polymerizable group containing a C═C double bond used in the reaction is preferably 0.01 to 0.9 mol, more preferably 0.05 to 0.8 mol, and even more preferably 0.1 to 0.7 mol, relative to 1 mol of epoxy groups contained in the polymer having epoxy groups.

側鎖にカルボキシル基を有するポリマーと、特定のエポキシ基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する化合物との反応生成物は、上記の如きカルボキシル基を有するポリマーと、特定のエポキシ基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する化合物とを、好ましくは触媒の存在下、好ましくは適当な有機溶媒中で反応させることにより合成することができる。
反応に際して使用されるエポキシ基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する化合物の使用割合は、カルボキシル基を有する重合体に含まれるカルボキシル基1モルに対して、好ましくは0.01~0.9モルであり、より好ましくは0.05~0.8モルであり、さらに好ましくは0.1~0.7モルである。
The reaction product of a polymer having a carboxyl group in a side chain and a compound having a specific epoxy group and a polymerizable group containing a C=C double bond can be synthesized by reacting the above-mentioned polymer having a carboxyl group with a compound having a specific epoxy group and a polymerizable group containing a C=C double bond, preferably in the presence of a catalyst, preferably in a suitable organic solvent.
The proportion of the compound having an epoxy group and a polymerizable group containing a C═C double bond used in the reaction is preferably 0.01 to 0.9 mol, more preferably 0.05 to 0.8 mol, and even more preferably 0.1 to 0.7 mol, relative to 1 mol of carboxyl group contained in the polymer having a carboxyl group.

ここで使用することのできる有機触媒としては、有機塩基またはエポキシ化合物とカルボキシル基との反応を促進するいわゆる硬化促進剤として公知の化合物を用いることができる。The organic catalyst that can be used here may be an organic base or a compound known as a curing accelerator that promotes the reaction between an epoxy compound and a carboxyl group.

上記有機塩基としては、例えばエチルアミン、ジエチルアミン、ピペラジン、ピペリジン、ピロリジン、ピロールの如き1~2級有機アミン;トリエチルアミン、トリ-n-プロピルアミン、トリ-n-ブチルアミン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロウンデセンの如き3級の有機アミン;テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの如き4級の有機アミン等を挙げることができる。これらの有機塩基のうち、トリエチルアミン、トリ-n-プロピルアミン、トリ-n-ブチルアミン、ピリジン、4-ジメチルアミノピリジンの如き3級の有機アミン;テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの如き4級の有機アミンが好ましい。Examples of the organic base include primary and secondary organic amines such as ethylamine, diethylamine, piperazine, piperidine, pyrrolidine, and pyrrole; tertiary organic amines such as triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, and diazabicycloundecene; and quaternary organic amines such as tetramethylammonium hydroxide. Among these organic bases, tertiary organic amines such as triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine, and 4-dimethylaminopyridine; and quaternary organic amines such as tetramethylammonium hydroxide are preferred.

上記硬化促進剤としては、例えばベンジルジメチルアミン、2,4,6-トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、シクロヘキシルジメチルアミン、トリエタノールアミンの如き3級アミン;2-メチルイミダゾール、2-n-ヘプチルイミダゾール、2-n-ウンデシルイミダゾール、2-フェニルイミダゾール、2-フェニル-4-メチルイミダゾール、1-ベンジル-2-メチルイミダゾール、1-ベンジル-2-フェニルイミダゾール、1,2-ジメチルイミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、1-(2-シアノエチル)-2-メチルイミダゾール、1-(2-シアノエチル)-2-n-ウンデシルイミダゾール、1-(2-シアノエチル)-2-フェニルイミダゾール、1-(2-シアノエチル)-2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェニル-4-メチル-5-ヒドロキシメチルイミダゾール、2-フェニル-4,5-ジ(ヒドロキシメチル)イミダゾール、1-(2-シアノエチル)-2-フェニル-4,5-ジ〔(2’-シアノエトキシ)メチル〕イミダゾール、1-(2-シアノエチル)-2-n-ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、1-(2-シアノエチル)-2-フェニルイミダゾリウムトリメリテート、1-(2-シアノエチル)-2-エチル-4-メチルイミダゾリウムトリメリテート、2,4-ジアミノ-6-〔2’-メチルイミダゾリル-(1’)〕エチル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-(2’-n-ウンデシルイミダゾリル)エチル-s-トリアジン、2,4-ジアミノ-6-〔2’-エチル-4’-メチルイミダゾリル-(1’)〕エチル-s-トリアジン、2-メチルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物、2-フェニルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物、2,4-ジアミノ-6-〔2’-メチルイミダゾリル-(1’)〕エチル-s-トリアジンのイソシアヌル酸付加物の如きイミダゾール化合物;ジフェニルフォスフィン、トリフェニルフォスフィン、亜リン酸トリフェニルの如き有機リン化合物; Examples of the curing accelerator include tertiary amines such as benzyldimethylamine, 2,4,6-tris(dimethylaminomethyl)phenol, cyclohexyldimethylamine, and triethanolamine; 2-methylimidazole, 2-n-heptylimidazole, 2-n-undecylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, and 1,2-dimethylimidazole. azole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-(2-cyanoethyl)-2-methylimidazole, 1-(2-cyanoethyl)-2-n-undecylimidazole, 1-(2-cyanoethyl)-2-phenylimidazole, 1-(2-cyanoethyl)-2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-di(hydroxymethyl)imidazole, 1-(2-cyanoethyl)-2-phenyl-4, 5-di[(2'-cyanoethoxy)methyl]imidazole, 1-(2-cyanoethyl)-2-n-undecylimidazolium trimellitate, 1-(2-cyanoethyl)-2-phenylimidazolium trimellitate, 1-(2-cyanoethyl)-2-ethyl-4-methylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6-[2'-methylimidazolyl-(1')]ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-(2'-n-undecylimidazolyl)ethyl-s imidazole compounds such as 2-methylimidazole, 2,4-diamino-6-[2'-ethyl-4'-methylimidazolyl-(1')]ethyl-s-triazine, an isocyanuric acid adduct of 2-methylimidazole, an isocyanuric acid adduct of 2-phenylimidazole, and an isocyanuric acid adduct of 2,4-diamino-6-[2'-methylimidazolyl-(1')]ethyl-s-triazine; organic phosphorus compounds such as diphenylphosphine, triphenylphosphine, and triphenyl phosphite;

ベンジルトリフェニルフォスフォニウムクロライド、テトラ-n-ブチルフォスフォニウムブロマイド、メチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、n-ブチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、テトラフェニルフォスフォニウムブロマイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムヨーダイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムアセテート、テトラ-n-ブチルフォスフォニウムo,o-ジエチルフォスフォロジチオネート、テトラ-n-ブチルフォスフォニウムベンゾトリアゾレート、テトラ-n-ブチルフォスフォニウムテトラフルオロボレート、テトラ-n-ブチルフォスフォニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルフォスフォニウムテトラフェニルボレートの如き4級フォスフォニウム塩;1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7やその有機酸塩の如きジアザビシクロアルケン;オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫、アルミニウムアセチルアセトン錯体の如き有機金属化合物;テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラ-n-ブチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラ-n-ブチルアンモニウムクロライドの如き4級アンモニウム塩;三フッ化ホウ素、ホウ酸トリフェニルの如きホウ素化合物;塩化亜鉛、塩化第二錫の如き金属ハロゲン化合物;ジシアンジアミドやアミンとエポキシ樹脂との付加物等のアミン付加型促進剤等の高融点分散型潜在性硬化促進剤;前記イミダゾール化合物、有機リン化合物や4級フォスフォニウム塩等の硬化促進剤の表面をポリマーで被覆したマイクロカプセル型潜在性硬化促進剤;アミン塩型潜在性硬化剤促進剤;ルイス酸塩、ブレンステッド酸塩等の高温解離型の熱カチオン重合型潜在性硬化促進剤等の潜在性硬化促進剤等を挙げることができる。
これらのうち、好ましくはテトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラ-n-ブチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラ-n-ブチルアンモニウムクロライドの如き4級アンモニウム塩である。
quaternary phosphonium salts such as benzyltriphenylphosphonium chloride, tetra-n-butylphosphonium bromide, methyltriphenylphosphonium bromide, ethyltriphenylphosphonium bromide, n-butyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, ethyltriphenylphosphonium iodide, ethyltriphenylphosphonium acetate, tetra-n-butylphosphonium o,o-diethylphosphorodithionate, tetra-n-butylphosphonium benzotriazolate, tetra-n-butylphosphonium tetrafluoroborate, tetra-n-butylphosphonium tetraphenylborate, and tetraphenylphosphonium tetraphenylborate; diaza such as 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undecene-7 and its organic acid salts; Examples of the latent curing accelerator include bicycloalkenes; zinc octylate, tin octylate, and organic metal compounds such as aluminum acetylacetone complexes; quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium bromide, tetra-n-butylammonium bromide, tetraethylammonium chloride, and tetra-n-butylammonium chloride; boron compounds such as boron trifluoride and triphenyl borate; metal halide compounds such as zinc chloride and stannic chloride; high melting point dispersion type latent curing accelerators such as amine addition type accelerators such as dicyandiamide and adducts of amines and epoxy resins; microcapsule type latent curing accelerators in which the surface of the curing accelerators such as the imidazole compounds, organic phosphorus compounds, and quaternary phosphonium salts is coated with a polymer; amine salt type latent curing accelerators; and high temperature dissociation type thermal cationic polymerization type latent curing accelerators such as Lewis acid salts and Bronsted acid salts.
Of these, preferred are quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium bromide, tetra-n-butylammonium bromide, tetraethylammonium chloride, and tetra-n-butylammonium chloride.

触媒の使用割合としては、エポキシ基を有する重合体またはカルボキシル基を有する重合体の100質量部に対して、好ましくは100質量部以下であり、より好ましくは0.01~100質量部、さらに好ましくは0.1~20質量部である。The proportion of catalyst used is preferably 100 parts by mass or less, more preferably 0.01 to 100 parts by mass, and even more preferably 0.1 to 20 parts by mass, per 100 parts by mass of the polymer having an epoxy group or the polymer having a carboxyl group.

上記有機溶媒としては、例えば炭化水素化合物、エーテル化合物、エステル化合物、ケトン化合物、アミド化合物、アルコール化合物等を挙げることができる。これらのうち、エーテル化合物、エステル化合物、ケトン化合物、アルコール化合物が原料および生成物の溶解性ならびに生成物の精製のし易さの観点から好ましい。溶媒は、固形分濃度(反応溶液中の溶媒以外の成分の質量が溶液の全質量に占める割合)が、好ましくは0.1質量%以上、より好ましくは5~50質量%となる量で使用される。Examples of the organic solvent include hydrocarbon compounds, ether compounds, ester compounds, ketone compounds, amide compounds, and alcohol compounds. Of these, ether compounds, ester compounds, ketone compounds, and alcohol compounds are preferred from the viewpoints of the solubility of the raw materials and the product and the ease of purifying the product. The solvent is used in an amount such that the solids concentration (the ratio of the mass of the components other than the solvent in the reaction solution to the total mass of the solution) is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 5 to 50% by mass.

反応温度は、好ましくは0~200℃であり、より好ましくは50~150℃である。反応時間は、好ましくは0.1~50時間であり、より好ましくは0.5~20時間である。The reaction temperature is preferably 0 to 200°C, more preferably 50 to 150°C. The reaction time is preferably 0.1 to 50 hours, more preferably 0.5 to 20 hours.

<(A)成分の製造方法3>
(A)成分の製造方法3は、側鎖にエポキシ基を有する重合体に、けい皮酸誘導体と、前述のカルボキシル基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する化合物を反応させる方法である。
<Production method 3 of component (A)>
Production method 3 of component (A) is a method in which a polymer having an epoxy group in the side chain is reacted with a cinnamic acid derivative and the above-mentioned compound having a carboxyl group and a polymerizable group including a C═C double bond.

側鎖にエポキシ基を有する重合体は、例えば前述のエポキシ基を有するモノマーの重合体であってもよいし、前述のエポキシ基を有するモノマーと、前述の非反応性官能基を有するモノマーとの共重合体であってもよい。The polymer having an epoxy group in its side chain may be, for example, a polymer of a monomer having the above-mentioned epoxy group, or a copolymer of the above-mentioned monomer having the epoxy group and the above-mentioned monomer having a non-reactive functional group.

エポキシ基を有する重合体におけるエポキシ基を有する重合性不飽和化合物の共重合割合は、好ましくは30質量%以上であり、より好ましくは50質量%以上である。The copolymerization ratio of the polymerizable unsaturated compound having an epoxy group in the polymer having an epoxy group is preferably 30% by mass or more, and more preferably 50% by mass or more.

エポキシ基を有する重合体の合成は、好ましくは溶媒中、適当な重合開始剤の存在下における公知のラジカル重合法により行うことができる。The synthesis of polymers having epoxy groups can be carried out by known radical polymerization methods, preferably in a solvent and in the presence of a suitable polymerization initiator.

側鎖にエポキシ基を有する重合体としては、市販品を使用してもよい。かかる市販品としては、例えばEHPE3150、EHPE3150CE(以上、(株)ダイセル製)、UG-4010、UG-4035、UG-4040、UG-4070(以上、東亜合成(株)製ARUFONシリーズ)、ECN-1299(旭化成(株)製)、DEN431、DEN438(以上、ダウケミカル社製)、jER-152(三菱ケミカル(株)製)、エピクロンN-660、N-665、N-670、N-673、N-695、N-740、N-770、N-775(以上、DIC(株)製)、EOCN-1020、EOCN-102S、EOCN-104S(以上、日本化薬(株)製)などが挙げられる。 Commercially available products may be used as polymers having epoxy groups in their side chains. Examples of such commercially available products include EHPE3150, EHPE3150CE (manufactured by Daicel Corporation), UG-4010, UG-4035, UG-4040, and UG-4070 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., ARUFON series), ECN-1299 (manufactured by Asahi Kasei Corporation), DEN431 and DEN438 (manufactured by The Dow Chemical Company), jER-152 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Epicron N-660, N-665, N-670, N-673, N-695, N-740, N-770, and N-775 (manufactured by DIC Corporation), and EOCN-1020, EOCN-102S, and EOCN-104S (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).

カルボキシル基を有する桂皮酸誘導体としては、例えば下記式(1-1)~(1-5)

Figure 0007492196000006
(式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1乃至6のアルキル基、炭素原子数1乃至6のアルコキシ等を表す。)のいずれかで表される化合物等を挙げることができる。
また、カルボキシル基を有する桂皮酸誘導体として、上述の式[3]で表されるモノマーにおいて、Xが水素原子である化合物も好適に用いられる。 Examples of cinnamic acid derivatives having a carboxyl group include those represented by the following formulas (1-1) to (1-5).
Figure 0007492196000006
(wherein R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the like).
As the cinnamic acid derivative having a carboxyl group, a compound in which X 1 is a hydrogen atom in the monomer represented by the above formula [3] is also preferably used.

上記けい皮酸誘導体は、有機化学の定法を適宜に組み合わせて合成することができる。The above cinnamic acid derivatives can be synthesized by appropriately combining standard methods of organic chemistry.

ここで、カルボキシル基とC=C二重結合を含む重合性基を有する化合物(モノマー)は、前記のとおり、C=C二重結合を有する基とカルボキシル基との間にスペーサーを有するものを選択することが好ましい。Here, as for the compound (monomer) having a carboxyl group and a polymerizable group containing a C=C double bond, it is preferable to select one having a spacer between the group having a C=C double bond and the carboxyl group, as described above.

側鎖にエポキシ基を有する重合体に、けい皮酸誘導体と、前述のカルボキシル基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する化合物を反応させる方法は前記のとおりである。その際、側鎖にエポキシ基を有する重合体に、けい皮酸誘導体と、前述のカルボキシル基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する化合物とを一緒に反応させてもよいし、別々に反応させてもよい。The method of reacting a polymer having an epoxy group in the side chain with a cinnamic acid derivative and a compound having a carboxyl group and a polymerizable group containing a C=C double bond described above is as described above. In this case, the polymer having an epoxy group in the side chain may be reacted with the cinnamic acid derivative and the compound having a carboxyl group and a polymerizable group containing a C=C double bond described above together or separately.

(A)成分のポリマー中、C=C二重結合を含む重合性基を有する構造単位の存在割合が、該ポリマーの全構造単位100モルあたり、5モル%以上であることが好ましく、10モル%以上であることがさらに好ましい。合計が5モル%未満である場合は、液晶層との密着性が不十分となる場合がある。
ここで、(A)成分のポリマー中に2個以上のC=C二重結合を含む重合性基を有する構造単位が含まれる場合、C=C二重結合を含む重合性基を有する構造単位の存在割合とは、ポリマーの全構造単位100モルあたりの(C=C二重結合を含む重合性基を有する構造単位のモル数)×(該構造単位に含まれるC=C二重結合を有ずる重合性基の数)を表す。
In the polymer of component (A), the ratio of structural units having a polymerizable group containing a C=C double bond is preferably 5 mol % or more, more preferably 10 mol % or more, per 100 mol of the total structural units of the polymer. If the total is less than 5 mol %, the adhesion to the liquid crystal layer may be insufficient.
Here, when the polymer of component (A) contains a structural unit having a polymerizable group containing two or more C═C double bonds, the abundance ratio of the structural unit having a polymerizable group containing a C═C double bond represents (the number of moles of structural units having a polymerizable group containing a C═C double bond) × (the number of polymerizable groups having a C═C double bond contained in the structural unit) per 100 moles of all structural units of the polymer.

このようにして、(A)成分である、光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するポリマーを含有する溶液が得られる。この溶液はそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、溶液中に含まれる重合体を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、または単離した重合体を精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。In this way, a solution containing a polymer having a photoalignable group, a hydroxyl group, and a polymerizable group containing a C=C double bond, which is component (A), is obtained. This solution may be used as is to prepare a liquid crystal alignment agent, or the polymer contained in the solution may be isolated and then used to prepare a liquid crystal alignment agent, or the isolated polymer may be purified and then used to prepare a liquid crystal alignment agent.

また、上記のようにして得られた特定共重合体の溶液を、ジエチルエーテルや水等の撹拌下に投入して再沈殿させ、生成した沈殿物を濾過・洗浄した後、常圧又は減圧下で、常温あるいは加熱乾燥することで、特定共重合体の粉体とすることができる。このような操作により、特定共重合体と共存する重合開始剤や未反応モノマーを除去することができ、その結果、精製した特定共重合体の粉体が得られる。一度の操作で充分に精製できない場合は、得られた粉体を溶剤に再溶解して、上記の操作を繰り返し行えばよい。 The solution of the specific copolymer obtained as described above can be reprecipitated by adding it to diethyl ether, water, or the like under stirring, and the resulting precipitate can be filtered and washed, and then dried at room temperature or by heating under normal or reduced pressure to obtain a powder of the specific copolymer. By such an operation, the polymerization initiator and unreacted monomers coexisting with the specific copolymer can be removed, and as a result, a powder of the purified specific copolymer can be obtained. If the specific copolymer cannot be sufficiently purified by a single operation, the obtained powder can be redissolved in a solvent and the above operation can be repeated.

本発明の硬化膜形成組成物においては、(A)成分として上記特定共重合体の粉体をそのまま用いてもよく、あるいはその粉体を、たとえば後述する溶剤に再溶解して溶液の状態として用いてもよい。In the cured film-forming composition of the present invention, the powder of the specific copolymer may be used as component (A) as is, or the powder may be redissolved in, for example, a solvent described below and used in the form of a solution.

また、本実施形態においては、(A)成分のアクリル共重合体は、複数種の特定共重合体の混合物であってもよい。In addition, in this embodiment, the acrylic copolymer of component (A) may be a mixture of multiple specific copolymers.

以上のように本発明においては、(A)成分として高分子量の特定共重合体を用いることができる。また、(A)成分は1種以上の特定共重合体の混合物であってもよい。As described above, in the present invention, a high molecular weight specific copolymer can be used as component (A). Component (A) may also be a mixture of one or more specific copolymers.

[(B)成分]
本発明の硬化膜形成組成物は、(B)成分として架橋剤を含有する。より詳しくは、(B)成分は、上述の(A)成分および(C)成分と反応する架橋剤である。(B)成分は、(A)成分であるポリマーの熱架橋性基(特にヒドロキシ基)、及び(C)成分に含まれるヒドロキシ基と結合する。そして、本実施の形態の硬化膜形成組成物は、硬化膜として、光反応効率の高い配向材を形成することができる。
[Component (B)]
The cured film-forming composition of the present invention contains a crosslinking agent as component (B). More specifically, component (B) is a crosslinking agent that reacts with the above-mentioned components (A) and (C). Component (B) bonds with the thermally crosslinkable group (particularly the hydroxyl group) of the polymer that is component (A) and with the hydroxyl group contained in component (C). The cured film-forming composition of the present embodiment can form an alignment material with high photoreaction efficiency as a cured film.

(B)成分である架橋剤としては、エポキシ化合物、メチロール化合物およびイソシアナート化合物等の化合物が挙げられるが、好ましくはメチロール化合物である。中でも、(B)成分である架橋剤としては、前記(A)成分の熱架橋可能な官能基と架橋を形成する基を2個以上有する化合物が好ましく、例えばメチロール基またはアルコキシメチル基を2個以上有する架橋剤であることが好ましい。これらの基を有する化合物としては、例えば、アルコキシメチル化グリコールウリル、アルコキシメチル化ベンゾグアナミンおよびアルコキシメチル化メラミン等のメチロール化合物が挙げられる。 The crosslinking agent of component (B) may be an epoxy compound, a methylol compound, an isocyanate compound, or the like, but is preferably a methylol compound. Among them, the crosslinking agent of component (B) is preferably a compound having two or more groups that form a crosslink with the thermally crosslinkable functional group of component (A), and is preferably a crosslinking agent having two or more methylol groups or alkoxymethyl groups. Examples of compounds having these groups include methylol compounds such as alkoxymethylated glycoluril, alkoxymethylated benzoguanamine, and alkoxymethylated melamine.

上述したメチロール化合物の具体例としては、例えば、アルコキシメチル化グリコールウリル、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化メラミン、テトラ(アルコキシメチル)ビスフェノール及びテトラ(ヒドロキシメチル)ビスフェノール等の化合物が挙げられる。 Specific examples of the above-mentioned methylol compounds include compounds such as alkoxymethylated glycoluril, alkoxymethylated benzoguanamine, alkoxymethylated melamine, tetra(alkoxymethyl)bisphenol, and tetra(hydroxymethyl)bisphenol.

アルコキシメチル化グリコールウリルの具体例としては、例えば、1,3,4,6-テトラキス(メトキシメチル)グリコールウリル、1,3,4,6-テトラキス(ブトキシメチル)グリコールウリル、1,3,4,6-テトラキス(ヒドロキシメチル)グリコールウリル、1,3-ビス(ヒドロキシメチル)尿素、1,1,3,3-テトラキス(ブトキシメチル)尿素、1,1,3,3-テトラキス(メトキシメチル)尿素、1,3-ビス(ヒドロキシメチル)-4,5-ジヒドロキシ-2-イミダゾリノン、および1,3-ビス(メトキシメチル)-4,5-ジメトキシ-2-イミダゾリノン等が挙げられる。市販品として、三井サイテック(株)製グリコールウリル化合物(商品名:サイメル(登録商標)1170、パウダーリンク(登録商標)1174)等の化合物、メチル化尿素樹脂(商品名:UFR(登録商標)65)、ブチル化尿素樹脂(商品名:UFR(登録商標)300、U-VAN10S60、U-VAN10R、U-VAN11HV)、DIC(株)製尿素/ホルムアルデヒド系樹脂(高縮合型、商品名:ベッカミン(登録商標)J-300S、同P-955、同N)等が挙げられる。Specific examples of alkoxymethylated glycoluril include 1,3,4,6-tetrakis(methoxymethyl)glycoluril, 1,3,4,6-tetrakis(butoxymethyl)glycoluril, 1,3,4,6-tetrakis(hydroxymethyl)glycoluril, 1,3-bis(hydroxymethyl)urea, 1,1,3,3-tetrakis(butoxymethyl)urea, 1,1,3,3-tetrakis(methoxymethyl)urea, 1,3-bis(hydroxymethyl)-4,5-dihydroxy-2-imidazolinone, and 1,3-bis(methoxymethyl)-4,5-dimethoxy-2-imidazolinone. Commercially available products include glycoluril compounds manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd. (product names: Cymel (registered trademark) 1170, Powderlink (registered trademark) 1174), methylated urea resins (product names: UFR (registered trademark) 65), butylated urea resins (product names: UFR (registered trademark) 300, U-VAN10S60, U-VAN10R, U-VAN11HV), and urea/formaldehyde resins (high condensation type, product names: Beckamin (registered trademark) J-300S, P-955, and N) manufactured by DIC Corporation.

アルコキシメチル化ベンゾグアナミンの具体例としては、例えば、テトラメトキシメチルベンゾグアナミン等が挙げられる。市販品として、三井サイテック(株)製(商品名:サイメル(登録商標)1123)、(株)三和ケミカル製(商品名:ニカラック(登録商標)BX-4000、同BX-37、同BL-60、同BX-55H)等が挙げられる。Specific examples of alkoxymethylated benzoguanamine include tetramethoxymethylbenzoguanamine, etc. Commercially available products include those manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd. (product name: Cymel (registered trademark) 1123) and those manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd. (product names: Nikalac (registered trademark) BX-4000, BX-37, BL-60, and BX-55H).

アルコキシメチル化メラミンの具体例としては、例えば、ヘキサメトキシメチルメラミン等が挙げられる。市販品として、三井サイテック(株)製メトキシメチルタイプメラミン化合物(商品名:サイメル(登録商標)300、同301、同303、同350)、ブトキシメチルタイプメラミン化合物(商品名:マイコート(登録商標)506、同508)、(株)三和ケミカル製メトキシメチルタイプメラミン化合物(商品名:ニカラック(登録商標)MW-30、同MW-22、同MW-11、同MW-100LM、同MS-001、同MX-002、同MX-730、同MX-750、同MX-035)、ブトキシメチルタイプメラミン化合物(商品名:ニカラック(登録商標)MX-45、同MX-410、同MX-302)等が挙げられる。Specific examples of alkoxymethylated melamine include hexamethoxymethylmelamine. Commercially available products include methoxymethyl type melamine compounds manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd. (product names: Cymel (registered trademark) 300, 301, 303, and 350), butoxymethyl type melamine compounds (product names: Mycoat (registered trademark) 506 and 508), methoxymethyl type melamine compounds manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd. (product names: Nikalac (registered trademark) MW-30, MW-22, MW-11, MW-100LM, MS-001, MX-002, MX-730, MX-750, and MX-035), and butoxymethyl type melamine compounds (product names: Nikalac (registered trademark) MX-45, MX-410, and MX-302).

テトラ(アルコキシメチル)ビスフェノール及びテトラ(ヒドロキシメチル)ビスフェノールの例としては、テトラ(アルコキシメチル)ビスフェノールA、テトラ(ヒドロキシメチル)ビスフェノールA等が挙げられる。Examples of tetra(alkoxymethyl)bisphenols and tetra(hydroxymethyl)bisphenols include tetra(alkoxymethyl)bisphenol A, tetra(hydroxymethyl)bisphenol A, etc.

また、(B)成分である架橋剤は、このようなアミノ基の水素原子がメチロール基またはアルコキシメチル基で置換されたメラミン化合物、尿素化合物、グリコールウリル化合物およびベンゾグアナミン化合物を縮合させて得られる化合物であってもよい。例えば、米国特許第6323310号明細書に記載されているメラミン化合物およびベンゾグアナミン化合物から製造される高分子量の化合物が挙げられる。前記メラミン化合物の市販品としては、商品名:サイメル(登録商標)303(三井サイテック(株)製)等が挙げられ、前記ベンゾグアナミン化合物の市販品としては、商品名:サイメル(登録商標)1123(三井サイテック(株)製)等が挙げられる。The crosslinking agent (B) may be a compound obtained by condensing a melamine compound, a urea compound, a glycoluril compound, and a benzoguanamine compound in which the hydrogen atom of the amino group is replaced with a methylol group or an alkoxymethyl group. For example, a high molecular weight compound produced from a melamine compound and a benzoguanamine compound described in U.S. Pat. No. 6,323,310 may be mentioned. Commercially available products of the melamine compound include Cymel (registered trademark) 303 (manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd.), and commercially available products of the benzoguanamine compound include Cymel (registered trademark) 1123 (manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd.).

さらに、(B)成分の架橋剤として、N-ヒドロキシメチルアクリルアミド、N-メトキシメチルメタクリルアミド、N-エトキシメチルアクリルアミド、N-ブトキシメチルメタクリルアミド等のヒドロキシメチル基(すなわちメチロール基)またはアルコキシメチル基で置換されたアクリルアミド化合物またはメタクリルアミド化合物を使用して製造されるポリマーも用いることができる。 In addition, polymers produced using acrylamide compounds or methacrylamide compounds substituted with hydroxymethyl groups (i.e., methylol groups) or alkoxymethyl groups, such as N-hydroxymethylacrylamide, N-methoxymethylmethacrylamide, N-ethoxymethylacrylamide, and N-butoxymethylmethacrylamide, can also be used as the crosslinking agent for component (B).

そのようなポリマーとしては、例えば、ポリ(N-ブトキシメチルアクリルアミド)、N-ブトキシメチルアクリルアミドとスチレンとの共重合体、N-ヒドロキシメチルメタクリルアミドとメチルメタクリレートとの共重合体、N-エトキシメチルメタクリルアミドとベンジルメタクリレートとの共重合体、及びN-ブトキシメチルアクリルアミドとベンジルメタクリレートと2-ヒドロキシプロピルメタクリレートとの共重合体等が挙げられる。 Examples of such polymers include poly(N-butoxymethylacrylamide), copolymers of N-butoxymethylacrylamide and styrene, copolymers of N-hydroxymethylmethacrylamide and methyl methacrylate, copolymers of N-ethoxymethylmethacrylamide and benzyl methacrylate, and copolymers of N-butoxymethylacrylamide, benzyl methacrylate, and 2-hydroxypropyl methacrylate.

また、そのようなポリマーとして、N-アルコキシメチル基とC=C二重結合を含む重合性基とを有する重合体を用いることも出来る。 As such a polymer, a polymer having an N-alkoxymethyl group and a polymerizable group containing a C=C double bond can also be used.

C=C二重結合を含む重合性基としては、アクリル基、メタクリル基、ビニル基、アリル基、マレイミド基等が挙げられる。 Examples of polymerizable groups containing a C=C double bond include acrylic groups, methacrylic groups, vinyl groups, allyl groups, and maleimide groups.

C=C二重結合を含む重合性基を有するポリマーを得る方法は、特に限定されない。一例を挙げれば、予めラジカル重合などの重合方法によって、特定官能基を有するアクリル重合体を生成する。次いで、この特定官能基と、末端に不飽和結合を有する化合物(以下、特定化合物と称す。)とを反応させることにより、(B)成分であるポリマーにC=C二重結合を含む重合性基を導入することができる。There is no particular limitation on the method for obtaining a polymer having a polymerizable group containing a C=C double bond. For example, an acrylic polymer having a specific functional group is produced in advance by a polymerization method such as radical polymerization. Then, this specific functional group is reacted with a compound having an unsaturated bond at the end (hereinafter referred to as a specific compound), thereby introducing a polymerizable group containing a C=C double bond into the polymer, which is the component (B).

ここで、特定官能基とは、カルボキシル基、グリシジル基、ヒドロキシ基、活性水素を有するアミノ基、フェノール性ヒドロキシ基若しくはイソシアネート基などの官能基、または、これらから選ばれる複数種の官能基を言う。これらの基を有するモノマーを重合することで、特定官能基を有するアクリル重合体を得ることができる。Here, the specific functional group refers to a functional group such as a carboxyl group, a glycidyl group, a hydroxyl group, an amino group having active hydrogen, a phenolic hydroxyl group, or an isocyanate group, or a plurality of functional groups selected from these. By polymerizing a monomer having such a group, an acrylic polymer having the specific functional group can be obtained.

カルボキシル基を有するモノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、モノ-(2-(アクリロイルオキシ)エチル)フタレート、モノ-(2-(メタクリロイルオキシ)エチル)フタレート、N-(カルボキシフェニル)マレイミド、N-(カルボキシフェニル)メタクリルアミドおよびN-(カルボキシフェニル)アクリルアミドなどが挙げられる。Examples of monomers having a carboxyl group include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, mono-(2-(acryloyloxy)ethyl)phthalate, mono-(2-(methacryloyloxy)ethyl)phthalate, N-(carboxyphenyl)maleimide, N-(carboxyphenyl)methacrylamide, and N-(carboxyphenyl)acrylamide.

グリシジル基を有するモノマーとしては、例えば、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、アリルグリシジルエーテル、3-エテニル-7-オキサビシクロ[4.1.0]ヘプタン、1,2-エポキシ-5-ヘキセンおよび1,7-オクタジエンモノエポキサイドなどが挙げられる。Examples of monomers having a glycidyl group include glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, allyl glycidyl ether, 3-ethenyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane, 1,2-epoxy-5-hexene, and 1,7-octadiene monoepoxide.

ヒドロキシ基を有するモノマーとしては、例えば、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、4-ヒドロキシブチルメタクリレート、2,3-ジヒドロキシプロピルアクリレート、2,3-ジヒドロキシプロピルメタクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、カプロラクトン2-(アクリロイルオキシ)エチルエステル、カプロラクトン2-(メタクリロイルオキシ)エチルエステル、ポリ(エチレングリコール)エチルエーテルアクリレート、ポリ(エチレングリコール)エチルエーテルメタクリレート、5-アクリロイルオキシ-6-ヒドロキシノルボルネン-2-カルボキシリック-6-ラクトンおよび5-メタクリロイルオキシ-6-ヒドロキシノルボルネン-2-カルボキシリック-6-ラクトンなどが挙げられる。Examples of monomers having a hydroxy group include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 2,3-dihydroxypropyl acrylate, 2,3-dihydroxypropyl methacrylate, diethylene glycol monoacrylate, diethylene glycol monomethacrylate, caprolactone 2-(acryloyloxy)ethyl ester, caprolactone 2-(methacryloyloxy)ethyl ester, poly(ethylene glycol) ethyl ether acrylate, poly(ethylene glycol) ethyl ether methacrylate, 5-acryloyloxy-6-hydroxynorbornene-2-carboxylic-6-lactone, and 5-methacryloyloxy-6-hydroxynorbornene-2-carboxylic-6-lactone.

アミノ基を有するモノマーとしては、例えば、2-アミノエチルアクリレートおよび2-アミノメチルメタクリレートなどが挙げられる。 Examples of monomers having an amino group include 2-aminoethyl acrylate and 2-aminomethyl methacrylate.

フェノール性ヒドロキシ基を有するモノマーとしては、例えば、ヒドロキシスチレン、N-(ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N-(ヒドロキシフェニル)メタクリルアミドおよびN-(ヒドロキシフェニル)マレイミドなどが挙げられる。Examples of monomers having a phenolic hydroxy group include hydroxystyrene, N-(hydroxyphenyl)acrylamide, N-(hydroxyphenyl)methacrylamide, and N-(hydroxyphenyl)maleimide.

イソシアネート基を有するモノマーとしては、例えば、アクリロイルエチルイソシアネート、メタクリロイルエチルイソシアネートおよびm-テトラメチルキシレンイソシアネートなどが挙げられる。 Examples of monomers having an isocyanate group include acryloyl ethyl isocyanate, methacryloyl ethyl isocyanate, and m-tetramethylxylene isocyanate.

上述した反応において、特定官能基と、特定化合物が有する官能基であって反応に関与する基との好ましい組み合わせは、カルボキシル基とエポキシ基、ヒドロキシ基とイソシアネート基、フェノール性ヒドロキシ基とエポキシ基、カルボキシル基とイソシアネート基、アミノ基とイソシアネート基、または、ヒドロキシ基と酸クロリドなどである。さらに、より好ましい組み合わせは、カルボキシル基とグリシジルメタクリレート、または、ヒドロキシ基とイソシアネートエチルメタクリレートである。In the above-mentioned reaction, preferred combinations of the specific functional group and the functional group of the specific compound that participates in the reaction are a carboxyl group and an epoxy group, a hydroxyl group and an isocyanate group, a phenolic hydroxyl group and an epoxy group, a carboxyl group and an isocyanate group, an amino group and an isocyanate group, or a hydroxyl group and an acid chloride. More preferred combinations are a carboxyl group and glycidyl methacrylate, or a hydroxyl group and an isocyanate ethyl methacrylate.

このようなポリマーの重量平均分子量(ポリスチレン換算値)は、1,000~500,000であり、好ましくは、2,000~200,000であり、より好ましくは3,000~150,000であり、更に好ましくは3,000~50,000である。The weight average molecular weight (polystyrene equivalent) of such polymers is 1,000 to 500,000, preferably 2,000 to 200,000, more preferably 3,000 to 150,000, and even more preferably 3,000 to 50,000.

これらの架橋剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。These crosslinking agents can be used alone or in combination of two or more.

本発明の硬化膜形成組成物における(B)成分の架橋剤の含有量は、(A)成分のポリマー及び(C)成分の架橋触媒の合計量100質量部に基づいて、5質量部乃至500質量部であることが好ましく、より好ましくは10質量部~400質量部である。架橋剤の含有量が過小である場合には、硬化膜形成組成物から得られる硬化膜の溶剤耐性が低下し、液晶配向性が低下するおそれがある。他方、含有量が過大である場合には液晶配向性および保存安定性が低下するおそれがある。The content of the crosslinking agent of component (B) in the cured film-forming composition of the present invention is preferably 5 to 500 parts by mass, and more preferably 10 to 400 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of the polymer of component (A) and the crosslinking catalyst of component (C). If the content of the crosslinking agent is too small, the solvent resistance of the cured film obtained from the cured film-forming composition may decrease, and the liquid crystal alignment property may decrease. On the other hand, if the content is too large, the liquid crystal alignment property and storage stability may decrease.

[(C)成分]
本発明の光学フィルムにおける表面の硬化膜を形成する硬化膜形成組成物は、上述した(A)成分及び(B)成分に加え、さらに(C)成分である架橋触媒を含有することができる。
(C)成分である架橋触媒としては、例えば、酸又は熱酸発生剤が挙げられる。この(C)成分は、本発明の光学フィルムにおける表面の硬化膜を形成する硬化膜形成組成物を用いた硬化膜の形成において、熱硬化反応の促進に有効となる。
[Component (C)]
The cured film-forming composition that forms a cured film on the surface of the optical film of the present invention may further contain a crosslinking catalyst as component (C) in addition to the above-mentioned components (A) and (B).
Examples of the crosslinking catalyst that is the component (C) include an acid or a thermal acid generator. The component (C) is effective in promoting a thermal curing reaction in the formation of a cured film using the cured film-forming composition that forms a cured film on the surface of the optical film of the present invention.

(C)成分として酸又は熱酸発生剤を用いる場合、(C)成分は、スルホン酸基含有化合物、塩酸又はその塩、プリベーク又はポストベーク時に熱分解して酸を発生する化合物、すなわち温度80℃~250℃で熱分解して酸を発生する化合物であれば特に限定されるものではない。When an acid or a thermal acid generator is used as component (C), component (C) is not particularly limited as long as it is a sulfonic acid group-containing compound, hydrochloric acid or a salt thereof, or a compound that undergoes thermal decomposition during pre-bake or post-bake to generate an acid, i.e., a compound that undergoes thermal decomposition at a temperature of 80°C to 250°C to generate an acid.

そのような化合物としては、例えば、塩酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホン酸、ペンタンスルホン酸、オクタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、カンファスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、p-フェノールスルホン酸、2-ナフタレンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、p-キシレン-2-スルホン酸、m-キシレン-2-スルホン酸、4-エチルベンゼンスルホン酸、1H,1H,2H,2H-パーフルオロオクタンスルホン酸、パーフルオロ(2-エトキシエタン)スルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ノナフルオロブタン-1-スルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等のスルホン酸又はその水和物や塩等が挙げられる。Examples of such compounds include sulfonic acids such as hydrochloric acid, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, propanesulfonic acid, butanesulfonic acid, pentanesulfonic acid, octane sulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, p-phenolsulfonic acid, 2-naphthalenesulfonic acid, mesitylenesulfonic acid, p-xylene-2-sulfonic acid, m-xylene-2-sulfonic acid, 4-ethylbenzenesulfonic acid, 1H,1H,2H,2H-perfluorooctane sulfonic acid, perfluoro(2-ethoxyethane)sulfonic acid, pentafluoroethanesulfonic acid, nonafluorobutane-1-sulfonic acid, and dodecylbenzenesulfonic acid, or their hydrates or salts.

また、熱により酸を発生する化合物としては、例えば、ビス(トシルオキシ)エタン、ビス(トシルオキシ)プロパン、ビス(トシルオキシ)ブタン、p-ニトロベンジルトシレート、o-ニトロベンジルトシレート、1,2,3-フェニレントリス(メチルスルホネート)、p-トルエンスルホン酸ピリジニウム塩、p-トルエンスルホン酸モルフォニウム塩、p-トルエンスルホン酸エチルエステル、p-トルエンスルホン酸プロピルエステル、p-トルエンスルホン酸ブチルエステル、p-トルエンスルホン酸イソブチルエステル、p-トルエンスルホン酸メチルエステル、p-トルエンスルホン酸フェネチルエステル、シアノメチルp-トルエンスルホネート、2,2,2-トリフルオロエチルp-トルエンスルホネート、2-ヒドロキシブチルp-トシレート、N-エチル-4-トルエンスルホンアミド、および下記式[TAG-1]乃至式[TAG-41]で表される化合物等を挙げることができる。 Examples of compounds that generate acid when heated include bis(tosyloxy)ethane, bis(tosyloxy)propane, bis(tosyloxy)butane, p-nitrobenzyl tosylate, o-nitrobenzyl tosylate, 1,2,3-phenylene tris(methylsulfonate), p-toluenesulfonic acid pyridinium salt, p-toluenesulfonic acid morphonium salt, p-toluenesulfonic acid ethyl ester, p-toluenesulfonic acid propyl ester, p-toluenesulfonic acid butyl ester, p-toluenesulfonic acid isobutyl ester, p-toluenesulfonic acid methyl ester, p-toluenesulfonic acid phenethyl ester, cyanomethyl p-toluenesulfonate, 2,2,2-trifluoroethyl p-toluenesulfonate, 2-hydroxybutyl p-tosylate, N-ethyl-4-toluenesulfonamide, and compounds represented by the following formulae [TAG-1] to [TAG-41].

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本発明の実施形態の硬化膜形成組成物における(C)成分の含有量は、(A)成分であるポリマーの100質量部に対して、0.01質量部~20質量部、好ましくは0.01質量部~10質量部、より好ましくは0.05質量部~8質量部、さらに好ましくは0.1質量部~6質量部である。(C)成分の含有量を0.01質量部以上とすることで、充分な熱硬化性と溶剤耐性を付与することができ、露光に対する高い感度をも付与することができる。また、20質量部以下とすることで、硬化膜形成組成物の保存安定性を良好にすることができる。The content of component (C) in the cured film-forming composition of an embodiment of the present invention is 0.01 to 20 parts by weight, preferably 0.01 to 10 parts by weight, more preferably 0.05 to 8 parts by weight, and even more preferably 0.1 to 6 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the polymer component (A). By making the content of component (C) 0.01 parts by weight or more, sufficient thermosetting properties and solvent resistance can be imparted, and high sensitivity to light exposure can also be imparted. In addition, by making the content 20 parts by weight or less, the storage stability of the cured film-forming composition can be improved.

[(D)成分]
本発明の組成物は、(D)成分として、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの基を有するポリマーをさらに含有することができる。
[Component (D)]
The composition of the present invention may further contain, as component (D), a polymer having at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group and an alkoxysilyl group.

(D)成分であるポリマーとしては、例えば、アクリル重合体、ウレタン変性アクリルポリマー、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリエステルポリカルボン酸、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリアルキレンイミン、ポリアリルアミン、セルロース類(セルロースまたはその誘導体)、フェノールノボラック樹脂等の直鎖構造または分岐構造を有するポリマー、シクロデキストリン類等の環状ポリマー等が挙げられる。 Examples of the polymer that is component (D) include acrylic polymers, urethane-modified acrylic polymers, polyamic acids, polyimides, polyvinyl alcohols, polyesters, polyester polycarboxylic acids, polyether polyols, polyester polyols, polycarbonate polyols, polycaprolactone polyols, polyalkyleneimines, polyallylamine, celluloses (cellulose or derivatives thereof), polymers having a linear or branched structure such as phenol novolac resins, and cyclic polymers such as cyclodextrins.

このうち、アクリル重合体としてはアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン等の不飽和二重結合を有するモノマーを重合して得られる重合体が適用されうる。その合成方法としては、上記(A)成分及び(B)成分の章で例示したヒドロキシ基を有するモノマー、カルボキシル基を有するモノマー、アミド基を有するモノマー、アミノ基を有するモノマーおよびアルコキシシリル基を有するモノマーからなる群から選ばれる少なくとも一つの基を有するモノマーと、所望によりそれ以外のモノマーとを、上記(A)成分及び(B)成分の章で記載した方法で(共)重合する方法が簡便である。Among these, the acrylic polymer may be a polymer obtained by polymerizing a monomer having an unsaturated double bond, such as an acrylic acid ester, a methacrylic acid ester, or styrene. A convenient synthesis method is to (co)polymerize a monomer having at least one group selected from the group consisting of a monomer having a hydroxyl group, a monomer having a carboxyl group, a monomer having an amide group, a monomer having an amino group, and a monomer having an alkoxysilyl group, as exemplified in the chapters on components (A) and (B) above, and, if desired, other monomers, by the method described in the chapters on components (A) and (B) above.

(D)成分の例であるアクリル重合体は、重量平均分子量が3000乃至200000であることが好ましく、4000乃至150000であることがより好ましく、5000乃至100000であることがさらに好ましい。The acrylic polymer, an example of component (D), preferably has a weight average molecular weight of 3,000 to 200,000, more preferably 4,000 to 150,000, and even more preferably 5,000 to 100,000.

(D)成分の好ましい一例であるポリエーテルポリオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、プロピレングリコールやビスフェノールA、トリエチレングリコール、ソルビトール等の多価アルコールにプロピレンオキサイドやポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等を付加したものが挙げられる。ポリエーテルポリオールの具体例としては(株)ADEKA製アデカポリエーテルPシリーズ、Gシリーズ、EDPシリーズ、BPXシリーズ、FCシリーズ、CMシリーズ、日油(株)製ユニオックス(登録商標)HC-40、HC-60、ST-30E、ST-40E、G-450、G-750、ユニオール(登録商標)TG-330、TG-1000、TG-3000、TG-4000、HS-1600D、DA-400、DA-700、DB-400、ノニオン(登録商標)LT-221、ST-221、OT-221等が挙げられる。 A preferred example of the polyether polyol (D) is polyethylene glycol, polypropylene glycol, propylene glycol, bisphenol A, triethylene glycol, sorbitol, or other polyhydric alcohol to which propylene oxide, polyethylene glycol, polypropylene glycol, etc. have been added. Specific examples of polyether polyols include the Adeka Polyether P series, G series, EDP series, BPX series, FC series, and CM series manufactured by ADEKA CORPORATION, and Uniox (registered trademark) HC-40, HC-60, ST-30E, ST-40E, G-450, and G-750, Uniol (registered trademark) TG-330, TG-1000, TG-3000, TG-4000, HS-1600D, DA-400, DA-700, and DB-400, and Nonion (registered trademark) LT-221, ST-221, and OT-221, etc., manufactured by NOF Corporation.

(D)成分の好ましい一例であるポリエステルポリオールとしては、アジピン酸、セバシン酸、イソフタル酸等の多価カルボン酸にエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジオールを反応させたものが挙げられる。ポリエステルポリオールの具体例としてはDIC(株)製ポリライト(登録商標)OD-X-286、OD-X-102、OD-X-355、OD-X-2330、OD-X-240、OD-X-668、OD-X-2108、OD-X-2376、OD-X-2044、OD-X-688、OD-X-2068、OD-X-2547、OD-X-2420、OD-X-2523、OD-X-2555、OD-X-2560、(株)クラレ製ポリオールP-510、P-1010、P-2010、P-3010、P-4010、P-5010、P-6010、F-510、F-1010、F-2010、F-3010、P-1011、P-2011、P-2013、P-2030、N-2010、PNNA-2016等が挙げられる。 A preferred example of the polyester polyol (D) is a polycarboxylic acid such as adipic acid, sebacic acid, or isophthalic acid, which is reacted with a diol such as ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, polyethylene glycol, or polypropylene glycol. Specific examples of polyester polyols include Polylite (registered trademark) OD-X-286, OD-X-102, OD-X-355, OD-X-2330, OD-X-240, OD-X-668, OD-X-2108, OD-X-2376, OD-X-2044, OD-X-688, OD-X-2068, OD-X-2547, OD-X-2420, OD-X-2547 ... -2523, OD-X-2555, OD-X-2560, and Kuraray Co., Ltd. polyols P-510, P-1010, P-2010, P-3010, P-4010, P-5010, P-6010, F-510, F-1010, F-2010, F-3010, P-1011, P-2011, P-2013, P-2030, N-2010, and PNNA-2016.

(D)成分の好ましい一例であるポリカプロラクトンポリオールとしては、トリメチロールプロパンやエチレングリコール等の多価アルコールを開始剤としてε-カプロラクトンを開環重合させたものが挙げられる。ポリカプロラクトンポリオールの具体例としてはDIC(株)製ポリライト(登録商標)OD-X-2155、OD-X-640、OD-X-2568、ダイセル化学製プラクセル(登録商標)205、L205AL、205U、208、210、212、L212AL、220、230、240、303、305、308、312、320等が挙げられる。 A preferred example of the polycaprolactone polyol of component (D) is one obtained by ring-opening polymerization of ε-caprolactone using a polyhydric alcohol such as trimethylolpropane or ethylene glycol as an initiator. Specific examples of polycaprolactone polyols include Polylite (registered trademark) OD-X-2155, OD-X-640, and OD-X-2568 manufactured by DIC Corporation, and Plaxel (registered trademark) 205, L205AL, 205U, 208, 210, 212, L212AL, 220, 230, 240, 303, 305, 308, 312, and 320 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.

(D)成分の好ましい一例であるポリカーボネートポリオールとしては、トリメチロールプロパンやエチレングリコール等の多価アルコールと炭酸ジエチル、炭酸ジフェニル、エチレンカーボネート等を反応させたものが挙げられる。ポリカーボネートポリオールの具体例としては(株)ダイセル製プラクセル(登録商標)CD205、CD205PL、CD210、CD220、(株)クラレ製のC-590、C-1050、C-2050、C-2090、C-3090等が挙げられる。 A preferred example of the polycarbonate polyol (D) is a polycarbonate polyol obtained by reacting a polyhydric alcohol such as trimethylolpropane or ethylene glycol with diethyl carbonate, diphenyl carbonate, ethylene carbonate, etc. Specific examples of polycarbonate polyols include Plaxel (registered trademark) CD205, CD205PL, CD210, and CD220 manufactured by Daicel Corporation, and C-590, C-1050, C-2050, C-2090, and C-3090 manufactured by Kuraray Co., Ltd.

(D)成分の好ましい一例であるセルロースとしては、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のヒドロキシアルキルセルロース類、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシエチルエチルセルロース等のヒドロキシアルキルアルキルセルロース類およびセルロース等が挙げられ、例えば、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のヒドロキシアルキルセルロース類が好ましい。Preferred examples of cellulose as component (D) include hydroxyalkyl celluloses such as hydroxyethyl cellulose and hydroxypropyl cellulose, hydroxyalkyl alkyl celluloses such as hydroxyethyl methyl cellulose, hydroxypropyl methyl cellulose and hydroxyethyl ethyl cellulose, and cellulose, and the like. For example, hydroxyalkyl celluloses such as hydroxyethyl cellulose and hydroxypropyl cellulose are preferred.

(D)成分の好ましい一例であるシクロデキストリンとしては、α-シクロデキストリン、β-シクロデキストリンおよびγシクロデキストリン等のシクロデキストリン、メチル-α-シクロデキストリン、メチル-β-シクロデキストリンならびにメチル-γ-シクロデキストリン等のメチル化シクロデキストリン、ヒドロキシメチル-α-シクロデキストリン、ヒドロキシメチル-β-シクロデキストリン、ヒドロキシメチル-γ-シクロデキストリン、2-ヒドロキシエチル-α-シクロデキストリン、2-ヒドロキシエチル-β-シクロデキストリン、2-ヒドロキシエチル-γ-シクロデキストリン、2-ヒドロキシプロピル-α-シクロデキストリン、2-ヒドロキシプロピル-β-シクロデキストリン、2-ヒドロキシプロピル-γ-シクロデキストリン、3-ヒドロキシプロピル-α-シクロデキストリン、3-ヒドロキシプロピル-β-シクロデキストリン、3-ヒドロキシプロピル-γ-シクロデキストリン、2,3-ジヒドロキシプロピル-α-シクロデキストリン、2,3-ジヒドロキシプロピル-β-シクロデキストリン、2,3-ジヒドロキシプロピル-γ-シクロデキストリン等のヒドロキシアルキルシクロデキストリン等が挙げられる。Preferred examples of cyclodextrins as component (D) include cyclodextrins such as α-cyclodextrin, β-cyclodextrin, and γ-cyclodextrin, methylated cyclodextrins such as methyl-α-cyclodextrin, methyl-β-cyclodextrin, and methyl-γ-cyclodextrin, hydroxymethyl-α-cyclodextrin, hydroxymethyl-β-cyclodextrin, hydroxymethyl-γ-cyclodextrin, 2-hydroxyethyl-α-cyclodextrin, 2-hydroxyethyl-β-cyclodextrin, 2-hydroxyethyl- Examples of hydroxyalkyl cyclodextrins include γ-cyclodextrin, 2-hydroxypropyl-α-cyclodextrin, 2-hydroxypropyl-β-cyclodextrin, 2-hydroxypropyl-γ-cyclodextrin, 3-hydroxypropyl-α-cyclodextrin, 3-hydroxypropyl-β-cyclodextrin, 3-hydroxypropyl-γ-cyclodextrin, 2,3-dihydroxypropyl-α-cyclodextrin, 2,3-dihydroxypropyl-β-cyclodextrin, and 2,3-dihydroxypropyl-γ-cyclodextrin.

(D)成分の好ましい一例であるウレタン変性アクリルポリマーとしては、市販品として、大成ファインケミカル(株)製アクリット(登録商標)8UA-017、8UA-239、8UA-239H、8UA-140、8UA―146、8UA-585H、8UA-301、8UA-318、8UA-347A、8UA-347H、8UA-366等が挙げられる。 Preferred examples of urethane-modified acrylic polymers as component (D) include commercially available products such as Acrylate (registered trademark) 8UA-017, 8UA-239, 8UA-239H, 8UA-140, 8UA-146, 8UA-585H, 8UA-301, 8UA-318, 8UA-347A, 8UA-347H, and 8UA-366 manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.

(D)成分の好ましい一例であるフェノールノボラック樹脂としては、例えば、フェノール-ホルムアルデヒド重縮合物などが挙げられる。A preferred example of component (D) is a phenol novolac resin, such as a phenol-formaldehyde polycondensate.

本発明の組成物において、(D)成分のポリマーは、粉体形態で、または精製した粉末を後述する溶剤に再溶解した溶液形態で用いてもよい。In the composition of the present invention, the polymer of component (D) may be used in powder form or in solution form in which the purified powder is redissolved in the solvent described below.

また、本発明の組成物において、(D)成分は、(D)成分として例示されたポリマーの複数種の混合物であってもよい。 In addition, in the composition of the present invention, component (D) may be a mixture of multiple types of polymers exemplified as component (D).

本発明の硬化膜形成組成物における(D)成分の含有量は、(A)成分の100質量部に基づいて、5質量部乃至500質量部である。The content of component (D) in the cured film-forming composition of the present invention is 5 parts by mass to 500 parts by mass based on 100 parts by mass of component (A).

[(E)成分]
本発明の組成物は、(E)成分として、低分子光配向成分をさらに含有することができる。低分子光配向成分を含有することにより、配向膜表層の光配向性基の存在量が増加し、配向感度が向上する効果を奏する。そのような低分子光配向成分としては、本明細書の(A)成分の項で例示した式[3]で表されるモノマー、式[4]で表されるモノマー、式[3]で表されるモノマーの基Xが水素原子に置き換わった化合物、式[4]で表されるモノマーの基Xが水素原子に置き換わった化合物、上記式(1-1)~(1-5)のいずれかで表されるカルボキシル基を有する桂皮酸誘導体が挙げられる。
[Component (E)]
The composition of the present invention may further contain a low molecular weight photo-alignment component as component (E). By containing a low molecular weight photo-alignment component, the amount of photo-alignment groups present in the surface layer of the alignment film increases, and the alignment sensitivity is improved. Examples of such low molecular weight photo-alignment components include the monomer represented by formula [3] exemplified in the section on component (A) of this specification, the monomer represented by formula [4], the compound in which the group X 4 of the monomer represented by formula [3] is replaced with a hydrogen atom, the compound in which the group X 4 of the monomer represented by formula [4] is replaced with a hydrogen atom, and the cinnamic acid derivative having a carboxyl group represented by any of the above formulas (1-1) to (1-5).

また、本発明の組成物において、(E)成分は、(E)成分として例示された化合物の複数種の混合物であってもよい。 In addition, in the composition of the present invention, component (E) may be a mixture of multiple types of the compounds exemplified as component (E).

本発明の硬化膜形成組成物に(E)成分を含有させる場合の含有量は、(A)成分のポリマー100質量部に基づいて、5質量部乃至500質量部である。When component (E) is contained in the cured film-forming composition of the present invention, the content is 5 parts by mass to 500 parts by mass based on 100 parts by mass of the polymer of component (A).

[その他の添加剤]
本発明の実施形態の硬化膜形成組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の添加剤を含有することができる。
その他の添加剤としては、例えば、増感剤を含有することができる。増感剤は、本発明の光学フィルムにおける表面の硬化膜を形成するに際し、その光反応を促進することにおいて有効となる。
[Other additives]
The cured film-forming composition according to an embodiment of the present invention may contain other additives as long as the additives do not impair the effects of the present invention.
As other additives, for example, a sensitizer may be contained. The sensitizer is effective in promoting the photoreaction when forming a cured film on the surface of the optical film of the present invention.

増感剤としては、ベンゾフェノン、アントラセン、アントラキノン及びチオキサントン等の誘導体並びにニトロフェニル化合物等が挙げられる。これらのうちベンゾフェノンの誘導体であるN,N-ジエチルアミノベンゾフェノン、及びニトロフェニル化合物である2-ニトロフルオレン、2-ニトロフルオレノン、5-ニトロアセナフテン、4-ニトロビフェニル、4-ニトロけい皮酸、4-ニトロスチルベン、4-ニトロベンゾフェノン、5-ニトロインドールが特に好ましい。Examples of sensitizers include derivatives of benzophenone, anthracene, anthraquinone, and thioxanthone, as well as nitrophenyl compounds. Of these, N,N-diethylaminobenzophenone, a derivative of benzophenone, and 2-nitrofluorene, 2-nitrofluorenone, 5-nitroacenaphthene, 4-nitrobiphenyl, 4-nitrocinnamic acid, 4-nitrostilbene, 4-nitrobenzophenone, and 5-nitroindole, which are nitrophenyl compounds, are particularly preferred.

これらの増感剤は特に上述のものに限定されるものではない。これらは、単独又は2種以上の化合物を併用することが可能である。These sensitizers are not limited to those mentioned above. These compounds can be used alone or in combination of two or more kinds.

本発明の実施形態において、増感剤の使用割合は、(A)成分の100質量部に対して0.1質量部~20質量部であることが好ましく、より好ましくは0.2質量部~10質量部である。この割合が過小である場合には、増感剤としての効果を充分に得られない場合があり、過大である場合には、形成される硬化膜の透過率が低下したり塗膜が荒れたりすることがある。In an embodiment of the present invention, the proportion of the sensitizer used is preferably 0.1 to 20 parts by mass, and more preferably 0.2 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of component (A). If this proportion is too small, the effect of the sensitizer may not be fully obtained, and if it is too large, the transmittance of the cured film formed may decrease or the coating film may become rough.

また、本発明の実施形態の硬化膜形成組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の添加剤として、シランカップリング剤、界面活性剤、レオロジー調整剤、顔料、染料、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤等を含有することができる。In addition, the cured film-forming composition of an embodiment of the present invention may contain other additives such as silane coupling agents, surfactants, rheology adjusters, pigments, dyes, storage stabilizers, defoamers, antioxidants, etc., as long as the effects of the present invention are not impaired.

[溶剤]
本発明の実施形態の硬化膜形成組成物は、溶剤に溶解した溶液状態で用いられることが多い。その際に用いられる溶剤は、(A)成分、(B)成分及び(C)成分、所望により(D)成分、(E)成分及び/又は、その他の添加剤を溶解するものであり、そのような溶解能を有する溶剤であれば、その種類及び構造などは特に限定されるものでない。
[solvent]
The cured film-forming composition according to the embodiment of the present invention is often used in a state of solution in a solvent. The solvent used in this case dissolves the components (A), (B) and (C), and optionally the components (D) and (E) and/or other additives, and the type and structure of the solvent are not particularly limited as long as the solvent has such dissolving ability.

溶剤の具体例を挙げると、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、シクロペンチルメチルエーテル、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2-ブタノン、3-メチル-2-ペンタノン、2-ペンタノン、2-ヘプタノン、γ-ブチロラクトン、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2-ヒドロキシ-3-メチルブタン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、酢酸n-プロピル、酢酸イソプロピル、イソプロパノール、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、及びN-メチル-2-ピロリドン等が挙げられる。Specific examples of solvents include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether, propylene glycol propyl ether acetate, cyclopentyl methyl ether, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-butanone, and 3-methyl-2-pentanone. , 2-pentanone, 2-heptanone, γ-butyrolactone, ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, butyl lactate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, isopropanol, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, and N-methyl-2-pyrrolidone.

これらの溶剤は、一種単独で、又は二種以上の組合せで使用することができる。これら溶剤のうち、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、酢酸エチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸エチル及び3-エトキシプロピオン酸メチルは成膜性が良好で安全性が高いためより好ましい。These solvents can be used alone or in combination of two or more. Among these solvents, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, propylene glycol propyl ether, propylene glycol propyl ether acetate, ethyl acetate, ethyl lactate, butyl lactate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, and methyl 3-ethoxypropionate are more preferred because of their good film-forming properties and high safety.

<硬化膜形成組成物の調製>
本発明の硬化膜形成組成物は、光配向性を有する熱硬化性の硬化膜形成組成物である。本発明の硬化膜形成組成物は、上述したように、(A)成分である光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するポリマー、(B)成分である架橋剤及び(C)成分である架橋触媒を含有する。必要に応じて、(D)成分であるヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの基を有するポリマーを含有する。そして、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の添加剤を含有することができ、さらに、溶剤を含有することができる。
<Preparation of Cured Film-Forming Composition>
The cured film forming composition of the present invention is a thermosetting cured film forming composition having photoalignment. As described above, the cured film forming composition of the present invention contains a polymer having a photoalignment group, a hydroxyl group, and a polymerizable group containing a C=C double bond, which is the component (A), a crosslinking agent which is the component (B), and a crosslinking catalyst which is the component (C). If necessary, it contains a polymer having at least one group selected from the group consisting of a hydroxyl group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, and an alkoxysilyl group, which is the component (D). And, other additives can be contained as long as they do not impair the effects of the present invention, and further, a solvent can be contained.

本実施の形態の硬化膜形成組成物の好ましい例は、以下のとおりである。
[1]:(A)成分である光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するポリマー、(A)成分であるポリマー100質量部に基づいて1質量部~500質量部、好ましくは5質量部~500質量部の(B)成分である架橋剤、及び、(A)成分であるポリマーの100質量部に対して、0.01質量部~20質量部の(C)成分である架橋触媒を含有する硬化膜形成組成物。
Preferred examples of the cured film-forming composition of the present embodiment are as follows.
[1]: A cured film-forming composition comprising: component (A) a polymer having a photoalignable group, a hydroxy group, and a polymerizable group containing a C═C double bond; component (B) a crosslinking agent in an amount of 1 part by mass to 500 parts by mass, preferably 5 parts by mass to 500 parts by mass, based on 100 parts by mass of the polymer (A); and component (C) a crosslinking catalyst in an amount of 0.01 parts by mass to 20 parts by mass, based on 100 parts by mass of the polymer (A).

[2]:(A)成分である光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するポリマー、(A)成分であるポリマー100質量部に基づいて1質量部~500質量部、好ましくは5質量部~500質量部の(B)成分である架橋剤、及び、(A)成分であるポリマーの100質量部に対して、0.01質量部~20質量部の(C)成分である架橋触媒、溶剤を含有し、さらに、(A)成分であるポリマーの100質量部に基づいて5質量部~500質量部の(D)成分であるヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの基を有するポリマー、溶剤を含有する硬化膜形成組成物。 [2]: A cured film-forming composition comprising: component (A) a polymer having a photoalignable group, a hydroxyl group, and a polymerizable group containing a C=C double bond; component (B) a crosslinking agent in an amount of 1 to 500 parts by mass, preferably 5 to 500 parts by mass, based on 100 parts by mass of the polymer (A); component (C) a crosslinking catalyst in an amount of 0.01 to 20 parts by mass, based on 100 parts by mass of the polymer (A); and component (D) a polymer having at least one group selected from the group consisting of a hydroxyl group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, and an alkoxysilyl group; and a solvent.

本実施の形態の硬化膜形成組成物を溶液として用いる場合の配合割合、調製方法等を以下に詳述する。The compounding ratios, preparation method, etc. when the cured film-forming composition of this embodiment is used as a solution are described in detail below.

本発明の硬化膜形成組成物における固形分の割合は、各成分が均一に溶剤に溶解している限り、特に限定されるものではないが、1質量%~80質量%であり、好ましくは2質量%~60質量%であり、より好ましくは3質量%~40質量%である。ここで、固形分とは、硬化膜形成組成物の全成分から溶剤を除いたものをいう。The proportion of solids in the cured film-forming composition of the present invention is not particularly limited as long as each component is uniformly dissolved in the solvent, but is 1% by mass to 80% by mass, preferably 2% by mass to 60% by mass, and more preferably 3% by mass to 40% by mass. Here, the solids refers to all the components of the cured film-forming composition excluding the solvent.

本発明の硬化膜形成組成物の調製方法は、特に限定されない。調製法としては、例えば、溶剤に溶解した(A)成分の溶液に(B)成分、(C)成分、さらには(D)成分、(E)成分及び/又は、その他の添加剤を所定の割合で混合し、均一な溶液とする方法、または、この調製法の適当な段階において、必要に応じてその他添加剤をさらに添加して混合する方法が挙げられる。The method for preparing the cured film-forming composition of the present invention is not particularly limited. Examples of the preparation method include a method in which a solution of component (A) dissolved in a solvent is mixed with component (B), component (C), and further component (D), component (E), and/or other additives in a predetermined ratio to prepare a homogeneous solution, or a method in which other additives are further added and mixed as necessary at an appropriate stage of this preparation method.

本発明の硬化膜形成組成物の調製においては、溶剤中の重合反応によって得られる特定共重合体の溶液をそのまま使用することができる。この場合、例えば、(A)成分のポリマー(アクリル重合体)を調製した溶液に、(B)成分、(C)成分、さらには(D)成分、(E)成分及び/又は、その他の添加剤を加えて均一な溶液とする。この際に、濃度調整を目的としてさらに溶剤を追加投入してもよい。このとき、(A)成分の調製過程で用いられる溶剤と、硬化膜形成組成物の濃度調整に用いられる溶剤とは同一であってもよく、また異なってもよい。In preparing the cured film-forming composition of the present invention, the solution of the specific copolymer obtained by the polymerization reaction in the solvent can be used as is. In this case, for example, the solution in which the polymer (acrylic polymer) of component (A) is prepared is added with components (B), (C), and further components (D), (E) and/or other additives to prepare a homogeneous solution. In this case, additional solvent may be added for the purpose of adjusting the concentration. In this case, the solvent used in the preparation process of component (A) and the solvent used to adjust the concentration of the cured film-forming composition may be the same or different.

また、調製された硬化膜形成組成物の溶液は、孔径が0.2μm程度のフィルタなどを用いて濾過した後、使用することが好ましい。 It is also preferable to filter the prepared solution of the cured film-forming composition using a filter having a pore size of approximately 0.2 μm before use.

以上のように、本発明の硬化膜形成組成物は、(A)成分である光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するポリマーからなる群から選ばれる少なくとも一種、(B)成分である架橋剤、および(C)成分である架橋触媒を含有して構成される。As described above, the cured film-forming composition of the present invention is composed of component (A) which is at least one selected from the group consisting of polymers having a photoalignable group, a hydroxy group, and a polymerizable group containing a C=C double bond, component (B) which is a crosslinking agent, and component (C) which is a crosslinking catalyst.

したがって、本発明の硬化膜形成組成物から形成される硬化膜は、膜構造が安定化するように、(A)成分の性質に起因して、その内部が親水性となって形成される。そして、硬化膜中の(A)成分の光配向性基およびC=C二重結合を含む重合性基は、硬化膜の表面近傍に偏在するようになる。より具体的には、(A)成分のポリマーは、親水性のヒドロキシ基が硬化膜の内部側を向き、疎水性の光反応部およびC=C二重結合を含む重合性基が表面側を向く構造をとりながら、硬化膜の表面近傍に偏在する。その結果、本発明の硬化膜は、表面近傍に存在する(A)成分の光反応性基およびC=C二重結合を含む重合性基の割合を増加させた構造を実現することになる。そして、本発明の硬化膜は、配向材として用いられた場合、光配向のための光反応の効率を向上させることができ、優れた配向感度を有することができる。さらに、パターン化位相差材の形成に好適な配向材となり、これを用いて製造されるパターン化位相差材は、優れたパターン形成性を有することができる。Therefore, the cured film formed from the cured film-forming composition of the present invention is formed with its inside being hydrophilic due to the properties of the (A) component so that the film structure is stabilized. The photo-alignable group of the (A) component and the polymerizable group containing a C=C double bond in the cured film are unevenly distributed near the surface of the cured film. More specifically, the polymer of the (A) component is unevenly distributed near the surface of the cured film while adopting a structure in which the hydrophilic hydroxyl group faces the inside of the cured film and the hydrophobic photo-reactive part and the polymerizable group containing a C=C double bond face the surface side. As a result, the cured film of the present invention realizes a structure in which the ratio of the photo-reactive group of the (A) component and the polymerizable group containing a C=C double bond present near the surface is increased. And, when the cured film of the present invention is used as an alignment material, it can improve the efficiency of the photoreaction for photo-alignment and have excellent alignment sensitivity. Furthermore, it becomes an alignment material suitable for forming a patterned retardation material, and the patterned retardation material manufactured using this can have excellent pattern formability.

また、本発明の硬化膜形成組成物は、上述したように、(B)成分である架橋剤を含有する。そのため、本発明の硬化膜形成組成物から得られた硬化膜の内部では、(A)成分のポリマーの光配向性基による光反応の前に、(B)成分との熱反応による架橋反応を行うことができる。その結果、配向材として用いられた場合に、その上に塗布される重合性液晶やその溶剤に対する耐性を向上させることができる。As described above, the cured film-forming composition of the present invention contains a crosslinking agent, which is the component (B). Therefore, inside the cured film obtained from the cured film-forming composition of the present invention, a crosslinking reaction due to a thermal reaction with the component (B) can occur before the photoreaction due to the photoalignable group of the polymer of the component (A). As a result, when used as an alignment material, it is possible to improve resistance to the polymerizable liquid crystal and its solvent that are applied thereon.

また、(A)成分であるポリマーのC=C二重結合を含む重合性基は、本発明の硬化膜形成組成物から得られた硬化膜を配向材として用いた場合に、その上に形成される硬化された重合性液晶の層との間の密着性を強化するように機能する。In addition, the polymerizable group containing a C=C double bond of the polymer, which is component (A), functions to strengthen the adhesion between the cured film obtained from the cured film-forming composition of the present invention and the layer of cured polymerizable liquid crystal formed thereon when the cured film is used as an alignment material.

<硬化膜、配向材および位相差材>
本実施の形態の硬化膜形成組成物の溶液を基板(例えば、シリコン/二酸化シリコン被覆基板、シリコンナイトライド基板、金属、例えば、アルミニウム、モリブデン、クロム等が被覆された基板、ガラス基板、石英基板、ITO基板等)やフィルム(例えば、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、アクリルフィルム等の樹脂フィルム)等の上に、バーコート、回転塗布、流し塗布、ロール塗布、スリット塗布、スリットに続いた回転塗布、インクジェット塗布、印刷などによって塗布して塗膜を形成し、その後、ホットプレートまたはオーブン等で加熱乾燥することにより、硬化膜を形成することができる。
<Cured Film, Alignment Material, and Retardation Material>
A solution of the cured film-forming composition of the present embodiment is applied onto a substrate (e.g., a silicon/silicon dioxide coated substrate, a silicon nitride substrate, a substrate coated with a metal, for example, aluminum, molybdenum, chromium, or the like, a glass substrate, a quartz substrate, an ITO substrate, or the like) or a film (e.g., a resin film such as a triacetyl cellulose (TAC) film, a cycloolefin polymer film, a polyethylene terephthalate film, or an acrylic film) by bar coating, spin coating, flow coating, roll coating, slit coating, spin coating followed by slit coating, inkjet coating, printing, or the like to form a coating film, and then the coating is heated and dried on a hot plate or in an oven, or the like to form a cured film.

加熱乾燥の条件としては、硬化膜から形成される配向材の成分が、その上に塗布される重合性液晶溶液に溶出しない程度に硬化反応が進行すればよく、例えば、温度60℃~200℃、時間0.4分間~60分間の範囲の中から適宜選択された加熱温度および加熱時間が採用される。加熱温度および加熱時間は、好ましくは70℃~160℃、0.5分間~10分間である。The conditions for heat drying should be such that the curing reaction proceeds to such an extent that the components of the alignment material formed from the cured film are not dissolved in the polymerizable liquid crystal solution applied on top of it, and for example, a heating temperature and heating time appropriately selected from within the ranges of 60°C to 200°C and 0.4 minutes to 60 minutes are used. The heating temperature and heating time are preferably 70°C to 160°C and 0.5 minutes to 10 minutes.

本実施の形態の硬化性組成物を用いて形成される硬化膜の膜厚は、例えば、0.05μm~5μmであり、使用する基板の段差や光学的、電気的性質を考慮し適宜選択することができる。The thickness of the cured film formed using the curable composition of this embodiment is, for example, 0.05 μm to 5 μm, and can be selected appropriately taking into account the step height and optical and electrical properties of the substrate used.

このようにして形成された硬化膜は、偏光UV照射を行うことで配向材、すなわち、重合性液晶等を含む液晶性を有する化合物を配向させる部材として機能させることができる。The cured film formed in this manner can be made to function as an alignment material, i.e., a material that aligns compounds having liquid crystal properties, including polymerizable liquid crystals, by irradiating them with polarized UV light.

偏光UVの照射方法としては、通常150nm~450nmの波長の紫外光~可視光が用いられ、室温または加熱した状態で、垂直または斜め方向から直線偏光を照射することによって行われる。 Polarized UV irradiation typically uses ultraviolet to visible light with a wavelength of 150 nm to 450 nm, and is performed by irradiating linearly polarized light from a vertical or oblique direction at room temperature or in a heated state.

本発明の硬化膜形成組成物から形成された硬化膜を使用して形成される配向材は耐溶剤性および耐熱性を有しているため、この配向材上に、重合性液晶溶液からなる位相差材料を塗布した後、その液晶の相転移温度まで加熱することで位相差材料を液晶状態とし、配向材上で配向させる。そして、所望とする配向状態となった位相差材料をそのまま硬化させ、光学異方性を有する層を持つ位相差材を形成することができる。The alignment material formed using the cured film formed from the cured film-forming composition of the present invention has solvent resistance and heat resistance, so that after a retardation material made of a polymerizable liquid crystal solution is applied onto this alignment material, the retardation material is put into a liquid crystal state by heating to the phase transition temperature of the liquid crystal, and aligned on the alignment material. The retardation material in the desired alignment state is then cured as is, to form a retardation material having a layer with optical anisotropy.

位相差材料としては、例えば、重合性基を有する液晶モノマーおよびそれを含有する組成物等が用いられる。そして、配向材が形成される基板がフィルムである場合には、本実施の形態の位相差材を有するフィルムは、位相差フィルムとして有用となる。このような位相差材を形成する位相差材料は、液晶状態となって、配向材上で、水平配向、コレステリック配向、垂直配向、ハイブリッド配向等の配向状態をとるものがあり、それぞれ必要とされる位相差特性に応じて使い分けることができる。 As the retardation material, for example, a liquid crystal monomer having a polymerizable group and a composition containing the same are used. When the substrate on which the alignment material is formed is a film, a film having the retardation material of this embodiment is useful as a retardation film. Retardation materials forming such retardation materials include those that are in a liquid crystal state and take on an alignment state such as horizontal alignment, cholesteric alignment, vertical alignment, and hybrid alignment on the alignment material, and can be used according to the retardation characteristics required.

また、3Dディスプレイに用いられるパターン化位相差材を製造する場合には、本発明の硬化膜形成組成物から上記した方法で形成された硬化膜に、ラインアンドスペースパターンのマスクを介して所定の基準から、例えば、+45度の向きで偏光UV露光し、次いで、マスクを外してから-45度の向きで偏光UVを露光し、液晶の配向制御方向の異なる2種類の液晶配向領域が形成された配向材を形成する。その後、重合性液晶溶液からなる位相差材料を塗布した後、液晶の相転移温度まで加熱することで位相差材料を液晶状態とする。液晶状態となった重合性液晶は、2種類の液晶配向領域が形成された配向材上で配向し、各液晶配向領域にそれぞれ対応する配向状態を形成する。そして、そのような配向状態が実現された位相差材料をそのまま硬化させ、上述の配向状態を固定化し、位相差特性の異なる2種類の位相差領域がそれぞれ複数、規則的に配置された、パターン化位相差材を得ることができる。In addition, when manufacturing a patterned retardation material for use in a 3D display, the cured film formed from the cured film-forming composition of the present invention by the above-mentioned method is exposed to polarized UV light through a line-and-space pattern mask at, for example, +45 degrees from a predetermined reference, and then exposed to polarized UV light at -45 degrees after removing the mask to form an alignment material in which two types of liquid crystal alignment regions with different liquid crystal alignment control directions are formed. Thereafter, a retardation material made of a polymerizable liquid crystal solution is applied, and the retardation material is put into a liquid crystal state by heating to the phase transition temperature of the liquid crystal. The polymerizable liquid crystal in the liquid crystal state is oriented on the alignment material in which the two types of liquid crystal alignment regions are formed, forming an alignment state corresponding to each liquid crystal alignment region. Then, the retardation material in which such an alignment state is realized is cured as it is, the above-mentioned alignment state is fixed, and a patterned retardation material in which two types of retardation regions with different retardation characteristics are regularly arranged in multiples can be obtained.

また、本発明の硬化膜形成組成物から形成された硬化膜を使用して形成される配向材は、液晶表示素子の液晶配向膜としての利用も可能である。例えば、上記のようにして形成された、本発明の配向材を有する2枚の基板を用い、スペーサを介して両基板上の配向材が互いに向かい合うように張り合わせた後、それらの基板の間に液晶を注入して、液晶が配向した液晶表示素子を製造することができる。
そのため、本実施の形態の硬化膜形成組成物は、各種位相差材(位相差フィルム)や液晶表示素子等の製造に好適に用いることができる。
In addition, the alignment material formed by using the cured film formed from the cured film-forming composition of the present invention can also be used as a liquid crystal alignment film for a liquid crystal display element. For example, two substrates having the alignment material of the present invention formed as described above are used, and are bonded together via a spacer so that the alignment materials on both substrates face each other, and then liquid crystal is injected between the substrates to produce a liquid crystal display element in which the liquid crystal is aligned.
Therefore, the cured film-forming composition of the present embodiment can be suitably used in the production of various retardation materials (retardation films), liquid crystal display elements, and the like.

以下、本発明の実施例を挙げて、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定して解釈されるものではない。The present invention will be explained in detail below with reference to examples, but the present invention should not be construed as being limited to these.

[実施例で用いる略記号]
以下の実施例で用いる略記号の意味は、次のとおりである。
<原料>
GMA:グリシジルメタクリレート
AIBN:α,α’-アゾビスイソブチロニトリル
BMAA:N-ブトキシメチルアクリルアミド
CIN1:

Figure 0007492196000014
CIN2:
Figure 0007492196000015
[Abbreviations used in the Examples]
The abbreviations used in the following examples have the following meanings.
<Ingredients>
GMA: glycidyl methacrylate AIBN: α,α'-azobisisobutyronitrile BMAA: N-butoxymethylacrylamide CIN1:
Figure 0007492196000014
CIN2:
Figure 0007492196000015

P-2:EHPE3150((株)ダイセル製、エポキシ当量180g/eq)

Figure 0007492196000016
P-2: EHPE3150 (manufactured by Daicel Corporation, epoxy equivalent 180 g/eq)
Figure 0007492196000016

A-1:アロニックスM-5300(東亜合成(株)製)

Figure 0007492196000017
A-1: Aronix M-5300 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
Figure 0007492196000017

A-2:アロニックスM-5400(東亜合成(株)製)

Figure 0007492196000018
A-2: Aronix M-5400 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
Figure 0007492196000018

A-3:2-アクリロイルオキシエチルサクシネート

Figure 0007492196000019
A-3: 2-acryloyloxyethyl succinate
Figure 0007492196000019

<B成分>
HMM:下記の構造式で表されるメラミン架橋剤[サイメル(CYMEL)(登録商標)303(三井サイテック(株)製)]

Figure 0007492196000020
<Component B>
HMM: A melamine crosslinking agent represented by the following structural formula [CYMEL (registered trademark) 303 (manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd.)]
Figure 0007492196000020

<C成分>
PTSA:p-トルエンスルホン酸・一水和物
<Component C>
PTSA: p-toluenesulfonic acid monohydrate

<D成分>
PEPO:ポリエステルポリオール重合体(下記構造単位を有するアジピン酸/ジエチレングリコール共重合体。分子量4,800。)

Figure 0007492196000021
(上記式中、Rは、アルキレン基を表す。) <Component D>
PEPO: Polyester polyol polymer (adipic acid/diethylene glycol copolymer having the following structural unit. Molecular weight: 4,800.)
Figure 0007492196000021
(In the above formula, R represents an alkylene group.)

<溶剤>
PM:プロピレングリコールモノメチルエーテル
EA:酢酸エチル
<Solvent>
PM: Propylene glycol monomethyl ether EA: Ethyl acetate

<重合体の分子量の測定>
重合例におけるアクリル(共)重合体の分子量は、(株)Shodex社製常温ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)装置(GPC-101)、(株)Shodex社製カラム(KD―803、KD-805)を用い以下のようにして測定した。
なお、下記の数平均分子量(以下、Mnと称す。)及び重量平均分子量(以下、Mwと称す。)は、ポリスチレン換算値にて表した。
カラム温度:40℃
溶離液:テトラヒドロフラン
流速:1.0mL/分
検量線作成用標準サンプル:昭和電工(株)製 標準ポリスチレン(分子量 約197,000、55,100、12,800、3,950、1,260、580)。
<Measurement of molecular weight of polymer>
The molecular weight of the acrylic (co)polymer in the polymerization examples was measured as follows using a room temperature gel permeation chromatography (GPC) apparatus (GPC-101) manufactured by Shodex Co., Ltd. and columns (KD-803, KD-805) manufactured by Shodex Co., Ltd.
The number average molecular weight (hereinafter referred to as Mn) and weight average molecular weight (hereinafter referred to as Mw) are expressed in terms of polystyrene.
Column temperature: 40°C
Eluent: tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL/min Standard sample for preparing calibration curve: standard polystyrene (molecular weights: about 197,000, 55,100, 12,800, 3,950, 1,260, 580) manufactured by Showa Denko K.K.

<A成分の合成>
<合成例1>
GMA 15.0g、重合触媒としてAIBN 0.8gをテトラヒドロフラン 63.0gに溶解し、加熱還流下にて20時間反応させることによりアクリル重合体溶液を得た。アクリル重合体溶液をジエチルエーテル 500.0gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することでアクリル重合体(P-1)を得た。得られたアクリル重合体のMnは6,500、Mwは11,000であった。
<Synthesis of Component A>
<Synthesis Example 1>
15.0 g of GMA and 0.8 g of AIBN as a polymerization catalyst were dissolved in 63.0 g of tetrahydrofuran, and the mixture was reacted for 20 hours under heating and reflux to obtain an acrylic polymer solution. The acrylic polymer solution was gradually added dropwise to 500.0 g of diethyl ether to precipitate a solid, which was then filtered and dried under reduced pressure to obtain an acrylic polymer (P-1). The Mn of the obtained acrylic polymer was 6,500 and the Mw was 11,000.

<合成例2>
合成例1で得たエポキシ基を有するアクリル重合体(P-1)10.0g、CIN1 8.4g、アクリル酸 0.8g、反応触媒としてエチルトリフェニルホスホニウムブロミド 0.1g、重合禁止剤としてジブチルヒドロキシトルエン 0.4gをPM 46.1gに溶解させ、80℃で20時間反応させ、アクリル重合体(PA-1)を30質量%含有する溶液を得た。得られた重合体のエポキシ価を測定し、エポキシ基が消失したことを確認した。
<Synthesis Example 2>
10.0 g of the acrylic polymer (P-1) having epoxy groups obtained in Synthesis Example 1, 8.4 g of CIN1, 0.8 g of acrylic acid, 0.1 g of ethyltriphenylphosphonium bromide as a reaction catalyst, and 0.4 g of dibutylhydroxytoluene as a polymerization inhibitor were dissolved in 46.1 g of PM and reacted at 80° C. for 20 hours to obtain a solution containing 30% by mass of acrylic polymer (PA-1). The epoxy value of the obtained polymer was measured, and it was confirmed that the epoxy groups had disappeared.

<合成例3~10>
エポキシ基を有するポリマー(アクリル重合体)、光配向性基を与える化合物及び重合性二重結合を含む基を与える化合物の種類、配合量を下記表1の通りとした以外は、合成例2と同様に操作し、重合体(PA-2)~(PA-9)を30質量%含有する溶液を得た。なお、表1中の空欄は、該当する成分を配合しなかったことを示す。
<Synthesis Examples 3 to 10>
Solutions containing 30% by mass of polymers (PA-2) to (PA-9) were obtained in the same manner as in Synthesis Example 2, except that the types and amounts of the polymer having an epoxy group (acrylic polymer), the compound giving a photoalignment group, and the compound giving a group containing a polymerizable double bond were as shown in Table 1 below. Note that blanks in Table 1 indicate that the corresponding component was not added.

Figure 0007492196000022
Figure 0007492196000022

<B成分の合成>
<合成例11>
BMAA 100.0g、重合触媒としてAIBN 4.2gをPM 193.5gに溶解し、90℃にて20時間反応させることによりアクリル重合体溶液を得た。得られたアクリル重合体のMnは2,700、Mwは3,900であった。アクリル重合体溶液をヘキサン2000.0gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することで、重合体(PB-1)を得た。
<Synthesis of Component B>
<Synthesis Example 11>
100.0 g of BMAA and 4.2 g of AIBN as a polymerization catalyst were dissolved in 193.5 g of PM, and the mixture was reacted at 90° C. for 20 hours to obtain an acrylic polymer solution. The obtained acrylic polymer had an Mn of 2,700 and an Mw of 3,900. The acrylic polymer solution was gradually added dropwise to 2,000.0 g of hexane to precipitate a solid, which was then filtered and dried under reduced pressure to obtain a polymer (PB-1).

<重合性液晶溶液の調製>
重合性液晶LC242(BASF社製)29.0g、重合開始剤としてイルガキュア907(BASF社製)0.9g、レベリング剤としてBYK-361N(BYK社製)0.2g、溶剤としてメチルイソブチルケトンを加えて固形分濃度が30質量%の重合性液晶溶液(RM-1)を得た。
<Preparation of polymerizable liquid crystal solution>
A polymerizable liquid crystal solution (RM-1) having a solid content of 30% by mass was obtained by mixing 29.0 g of polymerizable liquid crystal LC242 (manufactured by BASF Corporation), 0.9 g of Irgacure 907 (manufactured by BASF Corporation) as a polymerization initiator, 0.2 g of BYK-361N (manufactured by BYK Corporation) as a leveling agent, and methyl isobutyl ketone as a solvent.

例1
(A)成分として上記合成例2で得たアクリル重合体(PA-1)を30質量%含有する溶液のアクリル重合体(PA-1)に換算して100質量部に相当する量、(B)成分としてHMMを30質量部、(C)成分としてPTSA 3質量部を混合し、これにPMおよびEAを加え、溶剤組成がPM:EA=100:30(質量比)、固形分濃度が5.0質量%の硬化膜(配向材)形成組成物(A-1)を調製した。
< Example 1 >
As the component (A), an amount equivalent to 100 parts by mass of a solution containing 30% by mass of the acrylic polymer (PA-1) obtained in Synthesis Example 2 above, converted to acrylic polymer (PA-1), as the component (B), 30 parts by mass of HMM, and as the component (C), 3 parts by mass of PTSA were mixed, to which PM and EA were added to prepare a cured film (alignment material) forming composition (A-1) having a solvent composition of PM:EA=100:30 (mass ratio) and a solid content concentration of 5.0% by mass.

例2、実施例3~12および比較例1~2>
各成分の種類と量を、それぞれ表2に記載の通りとしたほかは、例1と同様に実施し、硬化膜(配向材)形成組成物A-2~A-15を、それぞれ調製した。なお、表2中の空
欄は、該当する成分を配合しなかったことを示す。
< Example 2, Examples 3 to 12, and Comparative Examples 1 and 2>
Cured film (alignment material) forming compositions A-2 to A-15 were prepared in the same manner as in Example 1 , except that the type and amount of each component was as shown in Table 2. Note that blanks in Table 2 indicate that the corresponding component was not blended.

Figure 0007492196000023
Figure 0007492196000023

例13~14、実施例15~24および比較例3~4>
[配向性の評価]
例1~2、実施例3~12および比較例1~2の各硬化膜(配向材)形成組成物を、TACフィルム上にバーコーターを用いてWet膜厚4μmにて塗布した。それぞれ温度110℃で60秒間、熱循環式オーブン中で加熱乾燥を行い、フィルム上にそれぞれ硬化膜を形成した。この各硬化膜に313nmの直線偏光を10mJ/cmの露光量で垂直に照射し、配向材を形成した。フィルム上の配向材の上に、重合性液晶溶液(RM-1)を、バーコーターを用いてWet膜厚6μmにて塗布した。この塗膜を温度90℃のホットプレート上で60秒間乾燥後、300mJ/cmで露光し、位相差材を作製した。作製したフィルム上の位相差材を一対の偏光板で挟み込み、位相差材における位相差特性の発現状況を観察し、位相差が欠陥なく発現しているものを○、位相差が発現していないものを×として「配向性」の欄に記載した。評価結果は、後に表3にまとめて示す。
< Examples 13 to 14, Examples 15 to 24, and Comparative Examples 3 to 4>
[Evaluation of Orientation]
Each of the cured film (alignment material) forming compositions of Examples 1-2, Examples 3-12, and Comparative Examples 1-2 was applied to a TAC film with a wet film thickness of 4 μm using a bar coater. Each was heated and dried in a heat circulation oven at a temperature of 110 ° C. for 60 seconds to form a cured film on the film. Each of these cured films was irradiated vertically with linearly polarized light of 313 nm at an exposure dose of 10 mJ/cm 2 to form an alignment material. A polymerizable liquid crystal solution (RM-1) was applied to the alignment material on the film with a wet film thickness of 6 μm using a bar coater. This coating film was dried on a hot plate at a temperature of 90 ° C. for 60 seconds, and then exposed to light at 300 mJ/cm 2 to prepare a retardation material. The retardation material on the film thus prepared was sandwiched between a pair of polarizing plates, and the expression state of the retardation characteristics in the retardation material was observed, and those in which the retardation was expressed without defects were marked with ○, and those in which the retardation was not expressed were marked with ×, and were recorded in the "alignment" column. The evaluation results are summarized in Table 3 below.

[密着性の評価]
例1~2、実施例3~12および比較例1~2の各硬化膜(配向材)形成組成物を、TACフィルム上にバーコーターを用いてWet膜厚4μmにて塗布した。それぞれ温度110℃で60秒間、熱循環式オーブン中で加熱乾燥を行い、フィルム上にそれぞれ硬化膜を形成した。この各硬化膜に313nmの直線偏光を10mJ/cmの露光量で垂直に照射し、配向材を形成した。フィルム上の配向材の上に、重合性液晶溶液(RM-1)を、バーコーターを用いてWet膜厚6μmにて塗布した。この塗膜を温度90℃のホットプレート上で60秒間乾燥後、300mJ/cmで露光し、位相差材を作製した。この位相差材に縦横1mm間隔で5×5マスとなるようカッターナイフで切込みをつけた。この切り込みの上にスコッチテープを用いてセロハンテープ剥離試験を行った。評価結果は「密着性」とし、25マスのなかで剥がれずに残っているもマスの数を記載した。例えば、25/25であれば全てのマスが剥がれずに残っており、密着性が高いことを示す。評価結果は、後に表3にまとめて示す。
[Evaluation of Adhesion]
Each of the cured film (alignment material) forming compositions of Examples 1-2, Examples 3-12, and Comparative Examples 1-2 was applied to a TAC film with a wet film thickness of 4 μm using a bar coater. Each was heated and dried in a heat circulation oven at a temperature of 110° C. for 60 seconds to form a cured film on the film. Each of these cured films was irradiated vertically with linearly polarized light of 313 nm at an exposure dose of 10 mJ/cm 2 to form an alignment material. A polymerizable liquid crystal solution (RM-1) was applied to the alignment material on the film with a wet film thickness of 6 μm using a bar coater. This coating film was dried on a hot plate at a temperature of 90° C. for 60 seconds, and then exposed to light at 300 mJ/cm 2 to prepare a retardation material. This retardation material was cut with a cutter knife to form 5×5 squares at intervals of 1 mm vertically and horizontally. A cellophane tape peeling test was performed on the cuts using Scotch tape. The evaluation result was taken as "adhesion", and the number of squares that remained without peeling out of the 25 squares was recorded. For example, a score of 25/25 indicates that all the squares remain without peeling, and that the adhesion is high. The evaluation results are summarized in Table 3 below.

Figure 0007492196000024
Figure 0007492196000024

表3に示すように、実施例15~24で得られた位相差材は良好な配向性と高い密着性を示した。 As shown in Table 3, the retardation materials obtained in Examples 15 to 24 exhibited good alignment and high adhesion.

それに対して、比較例3で得られた位相差材は良好な配向性を示したが、十分な密着性が得られなかった。また比較例4で得られた位相差材は配向性と密着性ともに不十分であった。In contrast, the retardation material obtained in Comparative Example 3 showed good alignment, but did not provide sufficient adhesion. The retardation material obtained in Comparative Example 4 was insufficient in both alignment and adhesion.

本発明の硬化膜形成組成物から形成される硬化膜は、液晶表示素子の液晶配向膜や、液晶表示素子の内部や外部に設けられる光学異方性フィルムを形成するための配向材として非常に有用である。特に、本発明の硬化膜形成組成物は、3Dディスプレイのパターン化位相差材に用いる硬化膜の形成材料として好適である。さらに、本発明の硬化膜形成組成物は、薄膜トランジスタ(TFT)型液晶表示素子や有機EL素子などの各種ディスプレイにおける保護膜、平坦膜及び絶縁膜などの硬化膜を形成する材料、特にTFT型液晶表示素子の層間絶縁膜、カラーフィルタの保護膜又は有機EL素子の絶縁膜などを形成する材料としても好適である。The cured film formed from the cured film-forming composition of the present invention is very useful as an alignment material for forming a liquid crystal alignment film of a liquid crystal display element or an optically anisotropic film provided inside or outside a liquid crystal display element. In particular, the cured film-forming composition of the present invention is suitable as a material for forming a cured film used in a patterned retardation material of a 3D display. Furthermore, the cured film-forming composition of the present invention is also suitable as a material for forming a cured film such as a protective film, a flat film, or an insulating film in various displays such as a thin film transistor (TFT) type liquid crystal display element or an organic EL element, particularly as a material for forming an interlayer insulating film of a TFT type liquid crystal display element, a protective film of a color filter, or an insulating film of an organic EL element.

Claims (12)

(A)光配向性基と、ヒドロキシ基と、C=C二重結合を含む重合性基とを有するポリマー、
(B)メチロール基またはアルコキシメチル基を2個以上有する架橋剤、及び
(C)架橋触媒を含有する硬化膜形成組成物であって、
前記C=C二重結合を含む重合性基を与える化合物が、下記の(SC-1)及び(SC-2)のいずれかである、硬化膜形成組成物。
Figure 0007492196000025
(式中、XはC=C二重結合を含む重合性基を表し、Lは共有結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、尿素結合又はウレタン結合を表し、QおよびQはそれぞれ独立に炭素原子数2乃至10のアルキレン基を表し、Qはジカルボン酸無水物由来の構造を有する二価の基を表し、nは1~10の自然数を表す。)
(A) a polymer having a photoalignable group, a hydroxy group, and a polymerizable group containing a C═C double bond;
A cured film-forming composition comprising: (B) a crosslinking agent having two or more methylol groups or alkoxymethyl groups ; and (C) a crosslinking catalyst,
The compound which provides a polymerizable group containing a C═C double bond is either of the following (SC-1) and (SC-2):
Figure 0007492196000025
(In the formula, X4 represents a polymerizable group containing a C=C double bond, L1 represents a covalent bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a urea bond or a urethane bond, Q1 and Q3 each independently represent an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, Q2 represents a divalent group having a structure derived from a dicarboxylic acid anhydride, and n represents a natural number from 1 to 10.)
(A)成分の光配向性基が光二量化又は光異性化する構造を有する官能基である、請求項1に記載の硬化膜形成組成物。 The cured film-forming composition according to claim 1, wherein the photoalignable group of component (A) is a functional group having a structure that undergoes photodimerization or photoisomerization. (A)成分の光配向性基がシンナモイル基である、請求項1又は請求項2に記載の硬化膜形成組成物。 The cured film-forming composition according to claim 1 or 2, wherein the photoalignable group of component (A) is a cinnamoyl group. (A)成分の光配向性基がアゾベンゼン構造を有する基である、請求項1又は請求項2
に記載の硬化膜形成組成物。
3. The photoalignable group of the component (A) is a group having an azobenzene structure.
The cured film-forming composition according to claim 1.
(D)ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの基を有するポリマーをさらに含有する請求項1乃至4のいずれか一項に記載の硬化膜形成組成物。 The cured film-forming composition according to any one of claims 1 to 4, further comprising (D) a polymer having at least one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, and an alkoxysilyl group. (A)成分のポリマーは、ヒドロキシ基を有する構造単位とC=C二重結合を含む重合性基を有する構造単位とを含み、該ヒドロキシ基を有する構造単位の存在割合が、該ポリマーの全構造単位100モル%に対して20モル%以上であり、かつ、該C=C二重結合を含む重合性基を有する構造単位の存在割合が、該ポリマーの全構造単位100モル%に対して5モル%以上である、請求項1乃至請求項5のうちいずれか一項に記載の硬化膜形成組成物。 The polymer of component (A) contains a structural unit having a hydroxyl group and a structural unit having a polymerizable group containing a C=C double bond, the proportion of the structural unit having the hydroxyl group is 20 mol% or more relative to 100 mol% of all structural units of the polymer, and the proportion of the structural unit having the polymerizable group containing the C=C double bond is 5 mol% or more relative to 100 mol% of all structural units of the polymer. The cured film-forming composition according to any one of claims 1 to 5. (A)成分のポリマー100質量部に基づいて、5質量部乃至500質量部の(B)成分の架橋剤を含有する、請求項1乃至請求項6のうちいずれか一項に記載の硬化膜形成組成物。 The cured film-forming composition according to any one of claims 1 to 6, which contains 5 to 500 parts by mass of a crosslinking agent (B) based on 100 parts by mass of the polymer (A). (A)成分のポリマー100質量部に基づいて、0.01質量部乃至20質量部の(C)成分の架橋触媒を含有する、請求項1乃至請求項7のうちいずれか一項に記載の硬化膜形成組成物。 The cured film-forming composition according to any one of claims 1 to 7, which contains 0.01 to 20 parts by mass of a crosslinking catalyst (C) based on 100 parts by mass of the polymer (A). 請求項1乃至請求項8のうちいずれか一項に記載の硬化膜形成組成物から得られる硬化膜。 A cured film obtained from the cured film-forming composition according to any one of claims 1 to 8. 請求項9に記載の硬化膜を有する光学フィルム。 An optical film having the cured film according to claim 9. 請求項9に記載の硬化膜を使用して形成される配向材。 An alignment material formed using the cured film according to claim 9. 請求項9に記載の硬化膜を使用して形成される位相差材。 A phase difference material formed using the cured film according to claim 9.
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