JP6604483B2 - Cured film forming composition, alignment material and retardation material - Google Patents

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Description

本発明は、硬化膜形成組成物、配向材および位相差材に関する。   The present invention relates to a cured film forming composition, an alignment material, and a retardation material.

近年、液晶パネルを用いたテレビ等のディスプレイの分野においては、高性能化に向けた取り組みとして、3D画像を楽しむことができる3Dディスプレイの開発が進められている。3Dディスプレイでは、例えば、観察者の右目に右目用画像を視認させ、観察者の左目に左目用画像を視認させることにより、立体感のある画像を表示させることができる。   In recent years, in the field of displays such as a television using a liquid crystal panel, development of a 3D display capable of enjoying 3D images has been promoted as an effort toward high performance. In the 3D display, for example, a right-eye image is visually recognized by an observer's right eye, and a left-eye image is visually recognized by an observer's left eye, whereby a stereoscopic image can be displayed.

3D画像を表示する3Dディスプレイの方式には多様なものがあり、専用のメガネを必要としない方式としては、レンチキュラレンズ方式およびパララックスバリア方式等が知られている。
そして、観察者がメガネを着用して3D画像を観察するディスプレイの方式の1つとしては、円偏光メガネ方式等が知られている(例えば、特許文献1を参照。)。
There are various 3D display methods for displaying 3D images, and lenticular lens methods, parallax barrier methods, and the like are known as methods that do not require dedicated glasses.
And as one of the display systems in which an observer wears glasses and observes a 3D image, a circularly polarized glasses system or the like is known (see, for example, Patent Document 1).

円偏光メガネ方式の3Dディスプレイの場合、液晶パネル等の画像を形成する表示素子の上に位相差材が配置されるのが通常である。この位相差材は、位相差特性の異なる2種類の位相差領域がそれぞれ複数、規則的に配置されており、パターニングされた位相差材を構成している。尚、以下、本明細書においては、このような位相差特性の異なる複数の位相差領域を配置するようにパターン化された位相差材をパターン化位相差材と称する。   In the case of a circularly polarized glasses type 3D display, a retardation material is usually disposed on a display element that forms an image, such as a liquid crystal panel. In this retardation material, a plurality of two kinds of retardation regions having different retardation characteristics are regularly arranged, and a patterned retardation material is formed. Hereinafter, in the present specification, a retardation material patterned so as to arrange a plurality of retardation regions having different retardation characteristics is referred to as a patterned retardation material.

パターン化位相差材は、例えば、特許文献2に開示されるように、重合性液晶からなる位相差材料を光学パターニングすることで作製することができる。重合性液晶からなる位相差材料の光学パターニングは、液晶パネルの配向材形成で知られた光配向技術を利用する。すなわち、基板上に光配向性の材料からなる塗膜を設け、これに偏光方向が異なる2種類の偏光を照射する。そして、液晶の配向制御方向の異なる2種類の液晶配向領域が形成された配向材として光配向膜を得る。この光配向膜の上に重合性液晶を含む溶液状の位相差材料を塗布し、重合性液晶の配向を実現する。その後、配向された重合性液晶を硬化してパターン化位相差材を形成する。   For example, as disclosed in Patent Document 2, the patterned retardation material can be produced by optically patterning a retardation material made of a polymerizable liquid crystal. Optical patterning of a retardation material made of a polymerizable liquid crystal utilizes a photo-alignment technique known for forming an alignment material for a liquid crystal panel. That is, a coating film made of a photo-alignment material is provided on a substrate, and two types of polarized light having different polarization directions are irradiated on the coating film. Then, a photo-alignment film is obtained as an alignment material in which two types of liquid crystal alignment regions having different liquid crystal alignment control directions are formed. A solution-like retardation material containing a polymerizable liquid crystal is applied on the photo-alignment film to realize the alignment of the polymerizable liquid crystal. Thereafter, the aligned polymerizable liquid crystal is cured to form a patterned retardation material.

液晶パネルの光配向技術を用いた配向材形成では、利用可能な光配向性の材料として、側鎖にシンナモイル基およびカルコン基等の光二量化部位を有するアクリル樹脂やポリイミド樹脂等が知られている。これらの樹脂は、偏光UV照射することにより、液晶の配向を制御する性能(以下、液晶配向性とも言う。)を示すことが報告されている(特許文献3〜特許文献5を参照。)。   In the formation of alignment materials using the photo-alignment technology of liquid crystal panels, acrylic resins and polyimide resins having photodimerization sites such as cinnamoyl groups and chalcone groups in the side chain are known as usable photo-alignment materials. . It has been reported that these resins exhibit the ability to control the alignment of liquid crystal (hereinafter also referred to as liquid crystal alignment) by irradiation with polarized UV (see Patent Documents 3 to 5).

特開平10−232365号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-232365 特開2005−49865号公報JP 2005-49865 A 特許第3611342号明細書Japanese Patent No. 3611342 特開2009−058584号公報JP 2009-058584 A 特表2001−517719号公報JP-T-2001-517719

以上のように、パターン化位相差材は、配向材である光配向膜の上に、硬化された重合性液晶の層を積層して構成される。そして、そのような積層構造を有するパターン化位相差材は、その積層状態のままで3Dディスプレイの構成に用いることができる。   As described above, the patterned retardation material is configured by laminating a cured polymerizable liquid crystal layer on a photo-alignment film that is an alignment material. And the patterned phase difference material which has such a laminated structure can be used for the structure of 3D display with the laminated state.

3Dディスプレイは、家庭用のテレビとして使用されることもあり、高い信頼性、特に長期間におよぶ耐久性が求められている。そのため、3Dディスプレイの構成部材に対しても、耐久性が求められている。したがって、パターン化位相差剤においても、高い精度で光学パターニングがなされていることや、高い光透過特性を有すること等とともに、長期間の耐久性が必須の性能となる。   The 3D display is sometimes used as a home television, and is required to have high reliability, particularly durability over a long period of time. For this reason, durability is also required for components of 3D displays. Accordingly, the patterned phase difference agent also has long-term durability as well as being subjected to optical patterning with high accuracy and having high light transmission characteristics.

しかしながら、従来のパターン化位相差材では、光配向膜と重合性液晶の層との間の密着性に課題を有していた。例えば、光配向膜と重合性液晶の層との間で、形成初期から剥がれを生じやすいものや、形成初期には密着性に優れるものの、時間の経過とともに密着性が低下して剥離を生じやすくなるものがあった。   However, the conventional patterned retardation material has a problem in the adhesion between the photo-alignment film and the polymerizable liquid crystal layer. For example, between the photo-alignment film and the polymerizable liquid crystal layer, it is easy to peel off from the initial stage of formation, or it is excellent in adhesiveness at the initial stage of formation, but the adhesiveness is likely to deteriorate with the passage of time and easily peel off. There was something to be.

なかでも、時間の経過とともに発生する、光配向膜と重合性液晶の層と間の剥離は、実際に使用する3Dディスプレイの欠陥となって、3Dディスプレイの表示品位を低下させる原因となる。そこで、高精度の光学パターンニングが可能で、光透過特性に優れ、さらに、耐久性に優れたパターン化位相差材が求められている。特に、形成初期の光配向膜と重合性液晶の層との間の密着性が優れるとともに、その優れた密着性を長い期間維持する耐久性(以下、本明細書においては、以下、密着耐久性と称する。)を備えたパターン化位相差材が求められている。   In particular, peeling between the photo-alignment film and the polymerizable liquid crystal layer, which occurs with the passage of time, becomes a defect in a 3D display that is actually used and causes a reduction in display quality of the 3D display. Accordingly, there is a need for a patterned phase difference material that is capable of high-precision optical patterning, has excellent light transmission characteristics, and has excellent durability. In particular, the adhesion between the photo-alignment film at the initial stage of formation and the polymerizable liquid crystal layer is excellent, and the durability for maintaining the excellent adhesion for a long period of time (hereinafter referred to as adhesion durability in the present specification). There is a need for a patterned retardation material comprising:

本発明は、以上の知見や検討結果に基づいてなされたものである。すなわち、本発明の目的は、優れた液晶配向性と光透過特性とを有し、密着耐久性に優れた硬化膜の形成に好適な硬化膜形成組成物を提供することである。特に、配向材として使用されて、その上に重合性液晶の層が配置されたときに、優れた液晶配向性と光透過性を示すとともに、重合性液晶の層との間の密着性を長期間維持できる、密着耐久性に優れた硬化膜を形成する硬化膜形成組成物を提供することである。   The present invention has been made based on the above knowledge and examination results. That is, an object of the present invention is to provide a cured film forming composition suitable for forming a cured film having excellent liquid crystal orientation and light transmission characteristics and excellent adhesion durability. In particular, when it is used as an alignment material and a polymerizable liquid crystal layer is disposed thereon, it exhibits excellent liquid crystal alignment and light transmission properties, and has a long adhesion with the polymerizable liquid crystal layer. It is to provide a cured film forming composition that can be maintained for a period and forms a cured film having excellent adhesion durability.

本発明の目的は、液晶配向性と光透過特性に優れ、密着耐久性に優れた配向材を提供することである。   An object of the present invention is to provide an alignment material that is excellent in liquid crystal alignment and light transmission characteristics and excellent in adhesion durability.

本発明の目的は、高精度な光学パターニングが可能で、耐久性に優れた位相差材を提供することである。   An object of the present invention is to provide a retardation material that is capable of high-precision optical patterning and has excellent durability.

本発明の他の目的および利点は、以下の記載から明らかとなるであろう。   Other objects and advantages of the present invention will become apparent from the following description.

本発明の第1の態様は、
(A)光配向性基及び熱架橋性基を有する化合物の少なくとも一種、並びに
(B)N−アルコキシメチル基を有する繰り返し単位及び重合性のC=C二重結合を含む側鎖を有する繰り返し単位を含むポリマー
を含有する硬化膜形成組成物に関する。
本発明の第1の態様において、(A)成分の光配向性基は光二量化又は光異性化する構造の官能基であることが好ましい。
本発明の第1の態様において、(A)成分の光配向性基はシンナモイル基又はアゾベンゼン構造の基であることが好ましい。
本発明の第1の態様において、さらに、(C)(C−1):ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基を有するポリマー、(C−2):(A)成分と熱反応可能な置換基を有し、自己架橋可能なポリマー、及び(C−3):メラミンホルムアルデヒド樹脂、からなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマーを含有することが好ましい。
本発明の第1の態様において、さらに、(D)架橋触媒を含有することが好ましい。
本発明の第1の態様において、さらに、(E)架橋剤を含有することが好ましい。
本発明の第1の態様において、(B)成分のポリマー中の、N−アルコキシメチル基を有する繰り返し単位の存在割合が、該ポリマーの全繰り返し単位100モルあたり40モル%乃至90モル%であり、重合性のC=C二重結合を含む側鎖を有する繰り返し単位の存在割合が、該ポリマーの全繰り返し単位100モルあたり10モル%乃至60モル%であることが好ましい。
本発明の第1の態様において、(A)成分と(B)成分の含有量比が質量比で5:95乃至60:40であることが好ましい。
本発明の第1の態様において、前記硬化膜形成組成物は、(A)成分及び(B)成分の合計量100質量部に基づいて、5質量部乃至500質量部の(C)成分を含有することが好ましい。
The first aspect of the present invention is:
(A) At least one compound having a photo-alignable group and a thermally crosslinkable group, and (B) a repeating unit having an N-alkoxymethyl group and a repeating unit having a side chain containing a polymerizable C═C double bond The present invention relates to a cured film forming composition containing a polymer comprising
In the first aspect of the present invention, the photoalignable group of the component (A) is preferably a functional group having a structure that undergoes photodimerization or photoisomerization.
In the first embodiment of the present invention, the photoalignable group of the component (A) is preferably a cinnamoyl group or an azobenzene structure group.
In the first embodiment of the present invention, (C) (C-1): a polymer having at least one substituent selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, and an alkoxysilyl group; (C-2): containing at least one polymer selected from the group consisting of (A) a component having a substituent capable of thermally reacting with component (A) and capable of self-crosslinking, and (C-3): melamine formaldehyde resin It is preferable to do.
In the first aspect of the present invention, it is preferable that (D) a crosslinking catalyst is further contained.
In the first aspect of the present invention, it is preferable that (E) a crosslinking agent is further contained.
In the first embodiment of the present invention, the proportion of the repeating unit having an N-alkoxymethyl group in the polymer of the component (B) is 40 mol% to 90 mol% per 100 mol of all repeating units of the polymer. The proportion of the repeating unit having a side chain containing a polymerizable C═C double bond is preferably 10 mol% to 60 mol% per 100 mol of all repeating units of the polymer.
1st aspect of this invention WHEREIN: It is preferable that content ratio of (A) component and (B) component is 5:95 thru | or 60:40 by mass ratio.
1st aspect of this invention WHEREIN: The said cured film forming composition contains 5 mass parts thru | or 500 mass parts (C) component based on 100 mass parts of total amounts of (A) component and (B) component. It is preferable to do.

本発明の第2の態様は、本発明の第1の態様の熱硬化膜形成組成物を用いて得られることを特徴とする配向材に関する。   The second aspect of the present invention relates to an alignment material characterized by being obtained using the thermosetting film forming composition of the first aspect of the present invention.

本発明の第3の態様は、本発明の第1の態様の硬化膜形成組成物から得られる硬化膜を使用して形成されることを特徴とする位相差材に関する。   A third aspect of the present invention relates to a retardation material characterized by being formed using a cured film obtained from the cured film forming composition of the first aspect of the present invention.

本発明の第1の態様によれば、優れた光反応効率と耐溶剤性を備え、樹脂フィルム上でも高感度で重合性液晶を配向させることができる配向材を提供するための硬化膜形成組成物を提供することができる。   According to the first aspect of the present invention, a cured film forming composition for providing an alignment material having excellent photoreaction efficiency and solvent resistance and capable of aligning a polymerizable liquid crystal with high sensitivity even on a resin film. Things can be provided.

本発明の第2の態様によれば、優れた光反応効率と耐溶剤性を備え、樹脂フィルム上でも高感度で重合性液晶を配向させることができる配向材を提供することができる。   According to the second aspect of the present invention, it is possible to provide an alignment material that has excellent photoreaction efficiency and solvent resistance and can align a polymerizable liquid crystal with high sensitivity even on a resin film.

本発明の第3の態様によれば、樹脂フィルム上でも高い効率で形成できて光学パターニングの可能な位相差材を提供することができる。   According to the third aspect of the present invention, it is possible to provide a retardation material that can be formed on a resin film with high efficiency and can be subjected to optical patterning.

上述したように、優れた耐久性のパターン化位相差材を製造するため、密着耐久性に優れた配向材、特に、硬化された重合性液晶の層との間の密着耐久性に優れた配向材が求められている。そして、そのような性能の配向材の形成に好適な硬化膜形成組成物が求められている。   As described above, an alignment material excellent in adhesion durability, in particular, an alignment excellent in adhesion durability with a cured polymerizable liquid crystal layer, in order to produce a patterned retardation material having excellent durability. There is a need for materials. And the cured film formation composition suitable for formation of the orientation material of such a performance is calculated | required.

本発明者は、上述の要求に応えるべく、鋭意検討を行った結果、特定の組成を有する硬化膜形成組成物から得られる硬化膜が、光透過性に優れ、また、偏光露光によって液晶配向を規制する液晶配向性を示して配向材としての利用が可能であることを見出した。加えて、本発明者は、その特定の組成を有する硬化膜形成組成物から得られる硬化膜が、その上で重合硬化された重合性液晶の層との間で、優れた密着耐久性を示すことを見出した。すなわち、本発明の特定の組成を有する硬化膜形成組成物から得られた硬化膜は、重合性液晶の層との間の密着耐久性に優れた光配向膜を構成することができる。   As a result of intensive studies in order to meet the above requirements, the present inventor has found that a cured film obtained from a cured film-forming composition having a specific composition is excellent in light transmittance, and has a liquid crystal orientation by polarization exposure. It has been found that it can be used as an alignment material by showing liquid crystal alignment to be regulated. In addition, the present inventor shows excellent adhesion durability between the cured film obtained from the cured film-forming composition having the specific composition and the polymerizable liquid crystal layer polymerized and cured thereon. I found out. That is, the cured film obtained from the cured film-forming composition having a specific composition of the present invention can constitute a photo-alignment film having excellent adhesion durability with the polymerizable liquid crystal layer.

以下において、本発明の硬化膜形成組成物について、成分等の具体例を挙げながら詳細に説明する。そして、本発明の硬化膜形成組成物を用いた本発明の硬化膜および配向材、並びに、その配向材を用いて形成される位相差材および液晶表示素子等について説明する。   Below, the cured film forming composition of this invention is demonstrated in detail, giving specific examples, such as a component. The cured film and alignment material of the present invention using the cured film forming composition of the present invention, the retardation material formed using the alignment material, the liquid crystal display element, and the like will be described.

<硬化膜形成組成物>
本発明の硬化膜形成組成物は、(A)光配向性基及び熱架橋性基を有する化合物の少なくとも一種、(B)N−アルコキシメチル基を有する繰り返し単位及び重合性のC=C二重結合を含む側鎖を有する繰り返し単位を含むポリマー、(C)成分である(C−1):ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基を有するポリマー、(C−2):(A)成分と熱反応可能な置換基を有し、自己架橋可能なポリマー、及び(C−3):メラミンホルムアルデヒド樹脂、からなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマー、並びに(D)成分として架橋触媒を含有し得る。また、(E)成分として架橋剤を含有することができる。さらに、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の添加剤を含有することができる。さらに、溶剤を含有することができる。
以下、各成分の詳細を説明する。
<Curing film forming composition>
The cured film forming composition of the present invention comprises (A) at least one compound having a photo-alignable group and a thermally crosslinkable group, (B) a repeating unit having an N-alkoxymethyl group, and a polymerizable C = C double. Polymer containing a repeating unit having a side chain containing a bond, (C) component (C-1): at least one substitution selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group and an alkoxysilyl group A polymer having a group, (C-2): a polymer having a substituent capable of thermally reacting with the component (A) and capable of self-crosslinking, and (C-3): a melamine formaldehyde resin. A kind of polymer and a crosslinking catalyst may be contained as the component (D). Moreover, a crosslinking agent can be contained as (E) component. Furthermore, other additives can be contained as long as the effects of the present invention are not impaired. Furthermore, a solvent can be contained.
Hereinafter, details of each component will be described.

[(A)成分]
本発明の硬化膜形成組成物における(A)成分は、光配向性基及び熱架橋性基を有する化合物の少なくとも一種である。(A)成分として、ポリマーを使用することができるが、ポリマー以外の化合物を使用することもできる。ここで、ポリマー以外の化合物とは、具体的には、分子中に繰り返し単位を有さない化合物を意味し、通常、低分子の化合物となる。そのため、(A)成分は、光配向性基及び熱架橋性基を有するポリマーの少なくとも一種、光配向性基及び熱架橋性基を有するポリマー以外の化合物の少なくとも一種、又は、光配向性基及び熱架橋性基を有するポリマーと光配向性基及び熱架橋性基を有するポリマー以外の化合物との混合物であり得る。
(A)成分は、本発明の硬化膜形成組成物から得られる硬化膜に光配向性を付与する成分であり、本明細書において、(A)成分を光配向成分とも称する。
[(A) component]
(A) component in the cured film formation composition of this invention is at least 1 type of the compound which has a photo-alignment group and a heat crosslinkable group. (A) Although a polymer can be used as a component, compounds other than a polymer can also be used. Here, the compound other than the polymer specifically means a compound having no repeating unit in the molecule, and is usually a low-molecular compound. Therefore, the component (A) includes at least one kind of a polymer having a photoalignable group and a thermally crosslinkable group, at least one kind of a compound other than the polymer having a photoalignable group and a heat crosslinkable group, or a photoalignable group and It may be a mixture of a polymer having a thermally crosslinkable group and a compound other than the polymer having a photoalignable group and a thermally crosslinkable group.
(A) component is a component which provides photo-alignment property to the cured film obtained from the cured film formation composition of this invention, and (A) component is also called a photo-alignment component in this specification.

(A)成分がポリマー以外の化合物である場合の詳細を以下に説明する。
(A)成分がポリマー以外の化合物である場合、通常、ベースとなる後述の(B)成分のポリマーに比べて低分子量の光配向成分となる。
Details when the component (A) is a compound other than a polymer will be described below.
When the component (A) is a compound other than a polymer, it is usually a photo-alignment component having a low molecular weight as compared with the later-described polymer (B) as a base.

本発明の硬化膜形成組成物において、(A)成分がポリマー以外の化合物である場合、(A)成分は光配向性基を有する化合物であって、さらにヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基及びアルコキシシリル基からなる群から選ばれる一つの基を有する化合物とすることができる。
尚、本発明において、光配向性基とは、一般に光照射によって配向する性質を発揮する官能基を指し、代表的には光二量化又は光異性化する構造部位の官能基を言う。その他の光配向性基としては、たとえば光フリース転位反応を起こす官能基(例示化合物:安息香酸エステル化合物など)、光分解反応を起こす基(例示化合物;シクロブタン環など)などが挙げられる。
In the cured film forming composition of the present invention, when the component (A) is a compound other than a polymer, the component (A) is a compound having a photo-alignment group, and further a hydroxy group, carboxyl group, amide group, amino And a compound having one group selected from the group consisting of a group and an alkoxysilyl group.
In the present invention, the photo-alignment group generally refers to a functional group that exhibits the property of being aligned by light irradiation, and typically refers to a functional group at a structural site that undergoes photodimerization or photoisomerization. Examples of other photo-alignment groups include a functional group that causes a photofleece rearrangement reaction (example compound: benzoate ester compound), a group that causes a photodecomposition reaction (example compound: cyclobutane ring, etc.), and the like.

(A)成分のポリマー以外の化合物が光配向性基として有することのできる光二量化する構造部位とは、光照射により二量体を形成する部位であり、その具体例としては、シンナモイル基、カルコン基、クマリン基、アントラセン基等が挙げられる。これらのうち可視光領域での透明性の高さ、光二量化反応性の高さからシンナモイル基が好ましい。   The photo-dimerizing structural moiety that the compound other than the polymer of component (A) can have as a photo-alignment group is a moiety that forms a dimer by light irradiation. Specific examples thereof include a cinnamoyl group, a chalcone Group, coumarin group, anthracene group and the like. Of these, a cinnamoyl group is preferred because of its high transparency in the visible light region and high photodimerization reactivity.

また、(A)成分のポリマー以外の化合物が光配向性基として有することのできる光異性化する構造部位とは、光照射によりシス体とトランス体とに変わる構造部位を指し、その具体例としてはアゾベンゼン構造、スチルベン構造等からなる部位が挙げられる。これらのうち反応性の高さからアゾベンゼン構造が好ましい。   In addition, the photoisomerizable structural moiety that a compound other than the polymer of component (A) can have as a photoalignable group refers to a structural moiety that changes into a cis isomer and a trans isomer by light irradiation. May be a site comprising an azobenzene structure, a stilbene structure, or the like. Of these, an azobenzene structure is preferred because of its high reactivity.

光配向性基とヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基及びアルコキシシリル基からなる群から選ばれる一つの基を有するポリマー以外の化合物は、例えば、下記式で表される化合物である。   A compound other than a polymer having a photo-alignment group and one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group and an alkoxysilyl group is, for example, a compound represented by the following formula.

Figure 0006604483
Figure 0006604483

前記式中、A1とA2はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。In the formula, A 1 and A 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.

11は単結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、ウレア結合、ウレタン結合、アミノ結合、カルボニル又はそれらの組み合わせから選ばれる1種又は2種以上の結合、或いは該1種又は2種以上の結合を介して、炭素原子数1乃至18のアルキレン、フェニレン、ビフェニレン又はそれらの組み合わせから選ばれる1乃至3の置換基が結合してなる構造であって、前記置換基は前記結合を介してそれぞれ複数個が連結してなる構造であってもよい。X 11 represents a single bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a urea bond, a urethane bond, an amino bond, a carbonyl, or a combination thereof, or one or two or more of them. 1 to 3 substituents selected from alkylene having 1 to 18 carbon atoms, phenylene, biphenylene, or a combination thereof are bonded via a bond, and each of the substituents is bonded via the bond. A structure in which a plurality are connected may be used.

12は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基又はシクロヘキシル基を表す。その際、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基及びシクロヘキシル基は、共有結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合又は尿素結合を介して2種以上の基が結合してもよい。X 12 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group, a biphenyl group, or a cyclohexyl group. At that time, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group, a biphenyl group, and a cyclohexyl group may be bonded to two or more groups via a covalent bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, or a urea bond. Good.

13はヒドロキシ基、メルカプト基、炭素原子数1乃至10のアルコキシ基、炭素原子数1乃至10のアルキルチオ基、フェノキシ基、ビフェニルオキシ基又はフェニル基を表す。X 13 represents a hydroxy group, a mercapto group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms, a phenoxy group, a biphenyloxy group, or a phenyl group.

14は単結合、炭素原子数1乃至20のアルキレン基、2価の芳香族環基、又は、2価の脂肪族環基を表す。ここで炭素原子数1乃至20のアルキレン基は分岐状でも直鎖状でもよい。X 14 represents a single bond, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, a divalent aromatic ring group, or a divalent aliphatic ring group. Here, the alkylene group having 1 to 20 carbon atoms may be branched or linear.

15はヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基又はアルコキシシリル基を表す。但し、X14が単結合であるときは、X15はヒドロキシ基またはアミノ基である。X 15 represents a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group or an alkoxysilyl group. However, when X 14 is a single bond, X 15 is a hydroxy group or an amino group.

Xは単結合、酸素原子又は硫黄原子を表す。但し、X14が単結合であるときは、Xも単結合である。X represents a single bond, an oxygen atom or a sulfur atom. However, when X 14 is a single bond, X is also a single bond.

なお、これらの置換基においてベンゼン環が含まれる場合、当該ベンゼン環は、炭素原子数1乃至4のアルキル基、炭素原子数1乃至4のアルコキシ基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基及びシアノ基から選ばれる同一又は相異なる1又は複数の置換基によって置換されていてもよい。   In addition, when these substituents include a benzene ring, the benzene ring includes an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, a trifluoromethyl group, and a cyano group. It may be substituted with one or a plurality of substituents which are the same or different.

上記式中、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17及びR18は、それぞれ独立して水素原子、炭素原子数1乃至4のアルキル基、炭素原子数1乃至4のアルコキシ基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基又はシアノ基を表す。
また、上記で定義された、炭素原子数1乃至18のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、1−メチル−n−ブチル基、2−メチル−n−ブチル基、3−メチル−n−ブチル基、1,1−ジメチル−n−プロピル基、1,2−ジメチル−n−プロピル基、2,2−ジメチル−n−プロピル基、1−エチル−n−プロピル基、n−ヘキシル基、1−メチル−n−ペンチル基、2−メチル−n−ペンチル基、3−メチル−n−ペンチル基、4−メチル−n−ペンチル基、1,1−ジメチル−n−ブチル基、1,2−ジメチル−n−ブチル基、1,3−ジメチル−n−ブチル基、2,2−ジメチル−n−ブチル基、2,3−ジメチル−n−ブチル基、3,3−ジメチル−n−ブチル基、1−エチル−n−ブチル基、2−エチル−n−ブチル基、1,1,2−トリメチル−n−プロピル基、1,2,2−トリメチル−n−プロピル基、1−エチル−1−メチル−n−プロピル基、1−エチル−2−メチル−n−プロピル基、n−ヘプチル基、1−メチル−n−ヘキシル基、2−メチル−n−ヘキシル基、3−メチル−n−ヘキシル基、1,1−ジメチル−n−ペンチル基、1,2−ジメチル−n−ペンチル基、1,3−ジメチル−n−ペンチル基、2,2−ジメチル−n−ペンチル基、2,3−ジメチル−n−ペンチル基、3,3−ジメチル−n−ペンチル基、1−エチル−n−ペンチル基、2−エチル−n−ペンチル基、3−エチル−n−ペンチル基、1−メチル−1−エチル−n−ブチル基、1−メチル−2−エチル−n−ブチル基、1−エチル−2−メチル−n−ブチル基、2−メチル−2−エチル−n−ブチル基、2−エチル−3−メチル−n−ブチル基、n−オクチル基、1−メチル−n−ヘプチル基、2−メチル−n−ヘプチル基、3−メチル−n−ヘプチル基、1,1−ジメチル−n−ヘキシル基、1,2−ジメチル−n−ヘキシル基、1,3−ジメチル−n−ヘキシル基、2,2−ジメチル−n−ヘキシル基、2,3−ジメチル−n−ヘキシル基、3,3−ジメチル−n−ヘキシル基、1−エチル−n−ヘキシル基、2−エチル−n−ヘキシル基、3−エチル−n−ヘキシル基、1−メチル−1−エチル−n−ペンチル基、1−メチル−2−エチル−n−ペンチル基、1−メチル−3−エチル−n−ペンチル基、2−メチル−2−エチル−n−ペンチル基、2−メチル−3−エチル−n−ペンチル基、3−メチル−3−エチル−n−ペンチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基及びn−オクタデシル基等が挙げられる。同様に炭素原子数1乃至4のアルキル基としては、上記に挙げられた基のうち該当する炭素原子数の基が挙げられる。また、炭素原子数1乃至10のアルコキシ基、炭素原子数1乃至4のアルコキシ基、炭素原子数1乃至10のアルキルチオ基としては、上記に挙げられたアルキル基をオキシ化またはチオ化した基のうち該当する炭素原子数の基が挙げられる。更に炭素原子数1乃至20のアルキレン基としては、上記アルキル基並びにn−ノナデシル基、n−エイコシル基等の炭素原子数1乃至20のアルキル基から1個の水素原子を取り去った二価の基が挙げられる。
In the above formula, R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 and R 18 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or 1 carbon atom. To 4 alkoxy groups, a halogen atom, a trifluoromethyl group or a cyano group;
Examples of the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms defined above include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert group. -Butyl group, n-pentyl group, 1-methyl-n-butyl group, 2-methyl-n-butyl group, 3-methyl-n-butyl group, 1,1-dimethyl-n-propyl group, 1,2 -Dimethyl-n-propyl group, 2,2-dimethyl-n-propyl group, 1-ethyl-n-propyl group, n-hexyl group, 1-methyl-n-pentyl group, 2-methyl-n-pentyl group 3-methyl-n-pentyl group, 4-methyl-n-pentyl group, 1,1-dimethyl-n-butyl group, 1,2-dimethyl-n-butyl group, 1,3-dimethyl-n-butyl The group 2,2-dimethyl-n-butyl Group, 2,3-dimethyl-n-butyl group, 3,3-dimethyl-n-butyl group, 1-ethyl-n-butyl group, 2-ethyl-n-butyl group, 1,1,2-trimethyl- n-propyl group, 1,2,2-trimethyl-n-propyl group, 1-ethyl-1-methyl-n-propyl group, 1-ethyl-2-methyl-n-propyl group, n-heptyl group, 1 -Methyl-n-hexyl group, 2-methyl-n-hexyl group, 3-methyl-n-hexyl group, 1,1-dimethyl-n-pentyl group, 1,2-dimethyl-n-pentyl group, 1, 3-dimethyl-n-pentyl group, 2,2-dimethyl-n-pentyl group, 2,3-dimethyl-n-pentyl group, 3,3-dimethyl-n-pentyl group, 1-ethyl-n-pentyl group 2-ethyl-n-pentyl group, 3-ethyl-n-pentyl 1-methyl-1-ethyl-n-butyl group, 1-methyl-2-ethyl-n-butyl group, 1-ethyl-2-methyl-n-butyl group, 2-methyl-2-ethyl-n- Butyl group, 2-ethyl-3-methyl-n-butyl group, n-octyl group, 1-methyl-n-heptyl group, 2-methyl-n-heptyl group, 3-methyl-n-heptyl group, 1, 1-dimethyl-n-hexyl group, 1,2-dimethyl-n-hexyl group, 1,3-dimethyl-n-hexyl group, 2,2-dimethyl-n-hexyl group, 2,3-dimethyl-n- Hexyl group, 3,3-dimethyl-n-hexyl group, 1-ethyl-n-hexyl group, 2-ethyl-n-hexyl group, 3-ethyl-n-hexyl group, 1-methyl-1-ethyl-n -Pentyl group, 1-methyl-2-ethyl-n-pentyl group, 1-methyl Til-3-ethyl-n-pentyl group, 2-methyl-2-ethyl-n-pentyl group, 2-methyl-3-ethyl-n-pentyl group, 3-methyl-3-ethyl-n-pentyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group, etc. Is mentioned. Similarly, examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include groups having the corresponding number of carbon atoms among the groups listed above. In addition, examples of the alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and the alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms include groups obtained by oxidizing or thiolating the above-described alkyl groups. Among them, groups having the corresponding number of carbon atoms are mentioned. Further, as the alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, a divalent group in which one hydrogen atom is removed from the above alkyl group and alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms such as n-nonadecyl group and n-eicosyl group. Is mentioned.

(A)成分である光配向性基及びヒドロキシ基を有するポリマー以外の化合物の具体例として、例えば上記式[A11]〜[A15]で表される化合物並びに該式以外の化合物としては、例えば、4−(8−ヒドロキシオクチルオキシ)けい皮酸メチルエステル、4−(6−ヒドロキシヘキシルオキシ)けい皮酸メチルエステル、4−(4−ヒドロキシブチルオキシ)けい皮酸メチルエステル、4−(3−ヒドロキシプロピルオキシ)けい皮酸メチルエステル、4−(2−ヒドロキシエチルオキシ)けい皮酸メチルエステル、4−ヒドロキシメチルオキシけい皮酸メチルエステル、4−ヒドロキシけい皮酸メチルエステル、4−(8−ヒドロキシオクチルオキシ)けい皮酸エチルエステル、4−(6−ヒドロキシヘキシルオキシ)けい皮酸エチルエステル、4−(4−ヒドロキシブチルオキシ)けい皮酸エチルエステル、4−(3−ヒドロキシプロピルオキシ)けい皮酸エチルエステル、4−(2−ヒドロキシエチルオキシ)けい皮酸エチルエステル、4−ヒドロキシメチルオキシけい皮酸エチルエステル、4−ヒドロキシけい皮酸エチルエステル、4−(8−ヒドロキシオクチルオキシ)けい皮酸フェニルエステル、4−(6−ヒドロキシヘキシルオキシ)けい皮酸フェニルエステル、4−(4−ヒドロキシブチルオキシ)けい皮酸フェニルエステル、4−(3−ヒドロキシプロピルオキシ)けい皮酸フェニルエステル、4−(2−ヒドロキシエチルオキシ)けい皮酸フェニルエステル、4−ヒドロキシメチルオキシけい皮酸フェニルエステル、4−ヒドロキシけい皮酸フェニルエステル、4−(8−ヒドロキシオクチルオキシ)けい皮酸ビフェニルエステル、4−(6−ヒドロキシヘキシルオキシ)けい皮酸ビフェニルエステル、4−(4−ヒドロキシブチルオキシ)けい皮酸ビフェニルエステル、4−(3−ヒドロキシプロピルオキシ)けい皮酸ビフェニルエステル、4−(2−ヒドロキシエチルオキシ)けい皮酸ビフェニルエステル、4−ヒドロキシメチルオキシけい皮酸ビフェニルエステル、4−ヒドロキシけい皮酸ビフェニルエステル、けい皮酸8−ヒドロキオクチルエステル、けい皮酸6−ヒドロキシヘキシルエステル、けい皮酸4−ヒドロキシブチルエステル、けい皮酸3−ヒドロキシプロピルエステル、けい皮酸2−ヒドロキシエチルエステル、けい皮酸ヒドロキシメチルエステル、4−(8−ヒドロキシオクチルオキシ)アゾベンゼン、4−(6−ヒドロキシヘキシルオキシ)アゾベンゼン、4−(4−ヒドロキシブチルオキシ)アゾベンゼン、4−(3−ヒドロキシプロピルオキシ)アゾベンゼン、4−(2−ヒドロキシエチルオキシ)アゾベンゼン、4−ヒドロキシメチルオキシアゾベンゼン、4−ヒドロキシアゾベンゼン、4−(8−ヒドロキシオクチルオキシ)カルコン、4−(6−ヒドロキシヘキシルオキシ)カルコン、4−(4−ヒドロキシブチルオキシ)カルコン、4−(3−ヒドロキシプロピルオキシ)カルコン、4−(2−ヒドロキシエチルオキシ)カルコン、4−ヒドロキシメチルオキシカルコン、4−ヒドロキシカルコン、4’−(8−ヒドロキシオクチルオキシ)カルコン、4’−(6−ヒドロキシヘキシルオキシ)カルコン、4’−(4−ヒドロキシブチルオキシ)カルコン、4’−(3−ヒドロキシプロピルオキシ)カルコン、4’−(2−ヒドロキシエチルオキシ)カルコン、4’−ヒドロキシメチルオキシカルコン、4’−ヒドロキシカルコン、7−(8−ヒドロキシオクチルオキシ)クマリン、7−(6−ヒドロキシヘキシルオキシ)クマリン、7−(4−ヒドロキシブチルオキシ)クマリン、7−(3−ヒドロキシプロピルオキシ)クマリン、7−(2−ヒドロキシエチルオキシ)クマリン、7−ヒドロキシメチルオキシクマリン、7−ヒドロキシクマリン、6−ヒドロキシオクチルオキシクマリン、6−ヒドロキシヘキシルオキシクマリン、6−(4−ヒドロキシブチルオキシ)クマリン、6−(3−ヒドロキシプロピルオキシ)クマリン、6−(2−ヒドロキシエチルオキシ)クマリン、6−ヒドロキシメチルオキシクマリン、6−ヒドロキシクマリン、4−[4−(8−ヒドロキシオクチルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸メチルエステル、4−[4−(6−ヒドロキシヘキシルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸メチルエステル、4−[4−(4−ヒドロキシブチルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸メチルエステル、4−[4−(3−ヒドロキシプロピルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸メチルエステル、4−[4−(2−ヒドロキシエチルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸メチルエステル、4−[4−ヒドロキシメチルオキシベンゾイル]けい皮酸メチルエステル、4−[4−ヒドロキシベンゾイル]けい皮酸メチルエステル、4−[4−(8−ヒドロキシオクチルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸エチルエステル、4−[4−(6−ヒドロキシヘキシルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸エチルエステル、4−[4−(4−ヒドロキシブチルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸エチルエステル、4−[4−(3−ヒドロキシプロピルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸エチルエステル、4−[4−(2−ヒドロキシエチルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸エチルエステル、4−[4−ヒドロキシメチルオキシベンゾイル]けい皮酸エチルエステル、4−[4−ヒドロキシベンゾイル]けい皮酸エチルエステル、4−[4−(8−ヒドロキシオクチルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸ターシャリーブチルエステル、4−[4−(6−ヒドロキシヘキシルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸ターシャリーブチルエステル、4−[4−(4−ヒドロキシブチルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸ターシャリーブチルエステル、4−[4−(3−ヒドロキシプロピルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸ターシャリーブチルエステル、4−[4−(2−ヒドロキシエチルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸ターシャリーブチルエステル、4−[4−ヒドロキシメチルオキシベンゾイル]けい皮酸ターシャリーブチルエステル、4−[4−(8−ヒドロキシオクチルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸フェニルエステル、4−[4−(6−ヒドロキシヘキシルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸フェニルエステル、4−[4−(4−ヒドロキシブチルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸フェニルエステル、4−[4−(3−ヒドロキシプロピルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸フェニルエステル、4−[4−(2−ヒドロキシエチルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸フェニルエステル、4−[4−ヒドロキシメチルオキシベンゾイル]けい皮酸フェニルエステル、4−[4−ヒドロキシベンゾイル]けい皮酸フェニルエステル、4−[4−(8−ヒドロキシオクチルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸ビフェニルエステル、4−[4−(6−ヒドロキシヘキシルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸ビフェニルエステル、4−[4−(4−ヒドロキシブチルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸ビフェニルエステル、4−[4−(3−ヒドロキシプロピルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸ビフェニルエステル、4−[4−(2−ヒドロキシエチルオキシ)ベンゾイル]けい皮酸ビフェニルエステル、4−[4−ヒドロキシメチルオキシベンゾイル]けい皮酸ビフェニルエステル、4−[4−ヒドロキシベンゾイル]けい皮酸ビフェニルエステル、4−ベンゾイルけい皮酸8−ヒドロキオクチルエステル、4−ベンゾイルけい皮酸6−ヒドロキシヘキシルエステル、4−ベンゾイルけい皮酸4−ヒドロキシブチルエステル、4−ベンゾイルけい皮酸3−ヒドロキシプロピルエステル、4−ベンゾイルけい皮酸2−ヒドロキシエチルエステル、4−ベンゾイルけい皮酸ヒドロキシメチルエステル、4−[4−(8−ヒドロキシオクチルオキシ)ベンゾイル]カルコン、4−[4−(6−ヒドロキシヘキシルオキシ)ベンゾイル]カルコン、4−[4−(4−ヒドロキシブチルオキシ)ベンゾイル]カルコン、4−[4−(3−ヒドロキシプロピルオキシ)ベンゾイル]カルコン、4−[4−(2−ヒドロキシエチルオキシ)ベンゾイル]カルコン、4−(4−ヒドロキシメチルオキシベンゾイル)カルコン、4−(4−ヒドロキシベンゾイル)カルコン、4’−[4−(8−ヒドロキシオクチルオキシ)ベンゾイル]カルコン、4’−[4−(6−ヒドロキシヘキシルオキシ)ベンゾイル]カルコン、4’−[4−(4−ヒドロキシブチルオキシ)ベンゾイル]カルコン、4’−[4−(3−ヒドロキシプロピルオキシ)ベンゾイル]カルコン、4’−[4−(2−ヒドロキシエチルオキシ)ベンゾイル]カルコン、4’−(4−ヒドロキシメチルオキシベンゾイル)カルコン、4’−(4−ヒドロキシベンゾイル)カルコン等が挙げられる。   As specific examples of the compound other than the polymer having a photo-alignable group and a hydroxy group as the component (A), for example, the compounds represented by the above formulas [A11] to [A15] and the compounds other than the formula include, for example, 4- (8-hydroxyoctyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4- (6-hydroxyhexyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4- (4-hydroxybutyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4- (3- Hydroxypropyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4- (2-hydroxyethyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4-hydroxymethyloxy cinnamic acid methyl ester, 4-hydroxycinnamic acid methyl ester, 4- (8- Hydroxyoctyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4- (6-hydroxyhexyloxy) cinnamic acid Ester, 4- (4-hydroxybutyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4- (3-hydroxypropyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4- (2-hydroxyethyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4-hydroxy Methyloxycinnamic acid ethyl ester, 4-hydroxycinnamic acid ethyl ester, 4- (8-hydroxyoctyloxy) cinnamic acid phenyl ester, 4- (6-hydroxyhexyloxy) cinnamic acid phenyl ester, 4- ( 4-hydroxybutyloxy) cinnamic acid phenyl ester, 4- (3-hydroxypropyloxy) cinnamic acid phenyl ester, 4- (2-hydroxyethyloxy) cinnamic acid phenyl ester, 4-hydroxymethyloxy cinnamic acid Phenyl ester, phenyl 4-hydroxycinnamate Stell, 4- (8-hydroxyoctyloxy) cinnamic acid biphenyl ester, 4- (6-hydroxyhexyloxy) cinnamic acid biphenyl ester, 4- (4-hydroxybutyloxy) cinnamic acid biphenyl ester, 4- ( 3-hydroxypropyloxy) cinnamic acid biphenyl ester, 4- (2-hydroxyethyloxy) cinnamic acid biphenyl ester, 4-hydroxymethyloxycinnamic acid biphenyl ester, 4-hydroxycinnamic acid biphenyl ester, cinnamic acid 8-Hydroxyoctyl ester, cinnamic acid 6-hydroxyhexyl ester, cinnamic acid 4-hydroxybutyl ester, cinnamic acid 3-hydroxypropyl ester, cinnamic acid 2-hydroxyethyl ester, cinnamic acid hydroxymethyl ester, 4 -(8-hydroxy Thiooctyloxy) azobenzene, 4- (6-hydroxyhexyloxy) azobenzene, 4- (4-hydroxybutyloxy) azobenzene, 4- (3-hydroxypropyloxy) azobenzene, 4- (2-hydroxyethyloxy) azobenzene, 4-hydroxymethyloxyazobenzene, 4-hydroxyazobenzene, 4- (8-hydroxyoctyloxy) chalcone, 4- (6-hydroxyhexyloxy) chalcone, 4- (4-hydroxybutyloxy) chalcone, 4- (3- Hydroxypropyloxy) chalcone, 4- (2-hydroxyethyloxy) chalcone, 4-hydroxymethyloxychalcone, 4-hydroxychalcone, 4 ′-(8-hydroxyoctyloxy) chalcone, 4 ′-(6-hydroxyhexyloxy) Chalcone, 4 ′-(4-hydroxybutyloxy) chalcone, 4 ′-(3-hydroxypropyloxy) chalcone, 4 ′-(2-hydroxyethyloxy) chalcone, 4′-hydroxymethyloxychalcone, 4′-hydroxy Chalcone, 7- (8-hydroxyoctyloxy) coumarin, 7- (6-hydroxyhexyloxy) coumarin, 7- (4-hydroxybutyloxy) coumarin, 7- (3-hydroxypropyloxy) coumarin, 7- (2 -Hydroxyethyloxy) coumarin, 7-hydroxymethyloxycoumarin, 7-hydroxycoumarin, 6-hydroxyoctyloxycoumarin, 6-hydroxyhexyloxycoumarin, 6- (4-hydroxybutyloxy) coumarin, 6- (3-hydroxy Propyloxy) coumarin 6- (2-hydroxyethyloxy) coumarin, 6-hydroxymethyloxycoumarin, 6-hydroxycoumarin, 4- [4- (8-hydroxyoctyloxy) benzoyl] cinnamic acid methyl ester, 4- [4- (6 -Hydroxyhexyloxy) benzoyl] cinnamic acid methyl ester, 4- [4- (4-hydroxybutyloxy) benzoyl] cinnamic acid methyl ester, 4- [4- (3-hydroxypropyloxy) benzoyl] cinnamic acid Methyl ester, 4- [4- (2-hydroxyethyloxy) benzoyl] cinnamic acid methyl ester, 4- [4-hydroxymethyloxybenzoyl] cinnamic acid methyl ester, 4- [4-hydroxybenzoyl] cinnamic acid Methyl ester, 4- [4- (8-hydroxyoctyloxy) benzoyl ] Cinnamic acid ethyl ester, 4- [4- (6-hydroxyhexyloxy) benzoyl] cinnamic acid ethyl ester, 4- [4- (4-hydroxybutyloxy) benzoyl] cinnamic acid ethyl ester, 4- [ 4- (3-hydroxypropyloxy) benzoyl] cinnamic acid ethyl ester, 4- [4- (2-hydroxyethyloxy) benzoyl] cinnamic acid ethyl ester, 4- [4-hydroxymethyloxybenzoyl] cinnamic acid Ethyl ester, 4- [4-hydroxybenzoyl] cinnamic acid ethyl ester, 4- [4- (8-hydroxyoctyloxy) benzoyl] cinnamic acid tertiary butyl ester, 4- [4- (6-hydroxyhexyloxy) ) Benzoyl] cinnamic acid tertiary butyl ester, 4- [4- (4-hydroxybutyrate) Ruoxy) benzoyl] cinnamic acid tertiary butyl ester, 4- [4- (3-hydroxypropyloxy) benzoyl] cinnamic acid tertiary butyl ester, 4- [4- (2-hydroxyethyloxy) benzoyl] cinnamic Acid tertiary butyl ester, 4- [4-hydroxymethyloxybenzoyl] cinnamic acid tertiary butyl ester, 4- [4- (8-hydroxyoctyloxy) benzoyl] cinnamic acid phenyl ester, 4- [4- ( 6-hydroxyhexyloxy) benzoyl] cinnamic acid phenyl ester, 4- [4- (4-hydroxybutyloxy) benzoyl] cinnamic acid phenyl ester, 4- [4- (3-hydroxypropyloxy) benzoyl] cinnamic Acid phenyl ester, 4- [4- (2-hydroxyethyl) Oxy) benzoyl] cinnamic acid phenyl ester, 4- [4-hydroxymethyloxybenzoyl] cinnamic acid phenyl ester, 4- [4-hydroxybenzoyl] cinnamic acid phenyl ester, 4- [4- (8-hydroxyoctyl) Oxy) benzoyl] cinnamic acid biphenyl ester, 4- [4- (6-hydroxyhexyloxy) benzoyl] cinnamic acid biphenyl ester, 4- [4- (4-hydroxybutyloxy) benzoyl] cinnamic acid biphenyl ester, 4- [4- (3-hydroxypropyloxy) benzoyl] cinnamic acid biphenyl ester, 4- [4- (2-hydroxyethyloxy) benzoyl] cinnamic acid biphenyl ester, 4- [4-hydroxymethyloxybenzoyl] Cinnamic acid biphenyl ester, 4- [4-hydride] Roxybenzoyl] cinnamic acid biphenyl ester, 4-benzoyl cinnamic acid 8-hydroxyoctyl ester, 4-benzoyl cinnamic acid 6-hydroxyhexyl ester, 4-benzoyl cinnamic acid 4-hydroxybutyl ester, 4-benzoyl cinnamic Acid 3-hydroxypropyl ester, 4-benzoylcinnamic acid 2-hydroxyethyl ester, 4-benzoylcinnamic acid hydroxymethyl ester, 4- [4- (8-hydroxyoctyloxy) benzoyl] chalcone, 4- [4- (6-hydroxyhexyloxy) benzoyl] chalcone, 4- [4- (4-hydroxybutyloxy) benzoyl] chalcone, 4- [4- (3-hydroxypropyloxy) benzoyl] chalcone, 4- [4- (2 -Hydroxyethyloxy) benzoyl] Con, 4- (4-hydroxymethyloxybenzoyl) chalcone, 4- (4-hydroxybenzoyl) chalcone, 4 ′-[4- (8-hydroxyoctyloxy) benzoyl] chalcone, 4 ′-[4- (6- Hydroxyhexyloxy) benzoyl] chalcone, 4 ′-[4- (4-hydroxybutyloxy) benzoyl] chalcone, 4 ′-[4- (3-hydroxypropyloxy) benzoyl] chalcone, 4 ′-[4- (2 -Hydroxyethyloxy) benzoyl] chalcone, 4 ′-(4-hydroxymethyloxybenzoyl) chalcone, 4 ′-(4-hydroxybenzoyl) chalcone and the like.

(A)成分である、光配向性基及びカルボキシル基を有するポリマー以外の化合物の具体例としては、けい皮酸、フェルラ酸、4−メトキシけい皮酸、4−エトキシけい皮酸、4−n−プロピルオキシけい皮酸、3,4−ジメトキシけい皮酸、クマリン−3−カルボン酸、4−(N,N−ジメチルアミノ)けい皮酸等が挙げられる。   Specific examples of the compound (A) other than the polymer having a photo-alignable group and a carboxyl group include cinnamic acid, ferulic acid, 4-methoxycinnamic acid, 4-ethoxycinnamic acid, 4-n -Propyloxycinnamic acid, 3,4-dimethoxycinnamic acid, coumarin-3-carboxylic acid, 4- (N, N-dimethylamino) cinnamic acid and the like.

(A)成分である、光配向性基及びアミド基を有するポリマー以外の化合物の具体例としては、けい皮酸アミド、4−メチルけい皮酸アミド、4−エチルけい皮酸アミド、4−メトキシけい皮酸アミド、4−エトキシけい皮酸アミド等が挙げられる。   Specific examples of the compound (A) other than the polymer having a photo-alignment group and an amide group include cinnamic acid amide, 4-methylcinnamic acid amide, 4-ethyl cinnamic acid amide, 4-methoxy. Cinnamic acid amide, 4-ethoxycinnamic acid amide and the like can be mentioned.

(A)成分である、光配向性基及びアミノ基を有するポリマー以外の化合物の具体例としては、4−アミノけい皮酸メチルエステル、4−アミノけい皮酸エチルエステル、3−アミノけい皮酸メチルエステル、3−アミノけい皮酸エチルエステル等が挙げられる。   Specific examples of the compound (A) other than the polymer having a photoalignable group and an amino group include 4-aminocinnamic acid methyl ester, 4-aminocinnamic acid ethyl ester, and 3-amino cinnamic acid. Examples include methyl ester and 3-aminocinnamic acid ethyl ester.

(A)成分である、光配向性基とアルコキシシリル基とを有するポリマー以外の化合物の具体例としては、4−(3−トリメトキシシリルプロピルオキシ)けい皮酸メチルエステル、4−(3−トリエトキシシリルプロピルオキシ)けい皮酸メチルエステル、4−(3−トリメトキシシリルプロピルオキシ)けい皮酸エチルエステル、4−(3−トリエトキシシリルプロピルオキシ)けい皮酸エチルエステル、4−(3−トリメトキシシリルヘキシルオキシ)けい皮酸メチルエステル、4−(3−トリエトキシシリルヘキシルオキシ)けい皮酸メチルエステル、4−(3−トリメトキシシリルヘキシルオキシ)けい皮酸エチルエステル及び4−(3−トリエトキシシリルヘキシルオキシ)けい皮酸エチルエステル等が挙げられる。   Specific examples of the compound (A) other than the polymer having a photo-alignment group and an alkoxysilyl group are 4- (3-trimethoxysilylpropyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4- (3- Triethoxysilylpropyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4- (3-trimethoxysilylpropyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4- (3-triethoxysilylpropyloxy) cinnamic acid ethyl ester, 4- (3 -Trimethoxysilylhexyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4- (3-triethoxysilylhexyloxy) cinnamic acid methyl ester, 4- (3-trimethoxysilylhexyloxy) cinnamic acid ethyl ester and 4- ( 3-triethoxysilylhexyloxy) cinnamic acid ethyl ester and the like.

(A)成分としては、さらに下記式(1)で表される光配向性部位と熱反応性部位とが結合した基に、スペーサーを介して重合性基が結合したポリマー以外の化合物が好ましい。   The component (A) is preferably a compound other than a polymer in which a polymerizable group is bonded via a spacer to a group in which a photo-alignment site and a thermoreactive site represented by the following formula (1) are bonded.

Figure 0006604483
Figure 0006604483

(式中、R101はヒドロキシ基、アミノ基、ヒドロキシフェノキシ基、カルボキシルフェノキシ基、アミノフェノキシ基、アミノカルボニルフェノキシ基、フェニルアミノ基、ヒドロキシフェニルアミノ基、カルボキシルフェニルアミノ基、アミノフェニルアミノ基、ヒドロキシアルキルアミノ基またはビス(ヒドロキシアルキル)アミノ基を表し、X101はフェニレン基を表し、これらの置換基の定義におけるベンゼン環は置換基で置換されていてもよい。)(In the formula, R 101 represents a hydroxy group, an amino group, a hydroxyphenoxy group, a carboxylphenoxy group, an aminophenoxy group, an aminocarbonylphenoxy group, a phenylamino group, a hydroxyphenylamino group, a carboxylphenylamino group, an aminophenylamino group, a hydroxy group, Represents an alkylamino group or a bis (hydroxyalkyl) amino group, X 101 represents a phenylene group, and the benzene ring in the definition of these substituents may be substituted with a substituent.

ベンゼン環が置換基で置換されていてもよい場合の置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基等のアルキル基;トリフルオロメチル基等のハロアルキル基;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;ヨウ素、臭素、塩素、フッ素等のハロゲン原子;シアノ基;ニトロ基等が挙げられる。   When the benzene ring may be substituted with a substituent, examples of the substituent include an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and an isobutyl group; a haloalkyl group such as a trifluoromethyl group; a methoxy group, Examples thereof include alkoxy groups such as ethoxy group; halogen atoms such as iodine, bromine, chlorine and fluorine; cyano group; nitro group and the like.

上記R101の中では、ヒドロキシ基及びアミノ基が好ましく、ヒドロキシ基が特に好ましい。Among R 101 described above, a hydroxy group and an amino group are preferable, and a hydroxy group is particularly preferable.

スペーサーとしては、直鎖状アルキレン、分岐アルキレン、環状アルキレン及びフェニレンから選ばれる二価の基であるか、当該二価の基が複数結合してなる基を表す。この場合、スペーサーを構成する二価の基同士の結合、スペーサーと上記式(1)で表される基との結合、スペーサーと重合性基との結合としては、単結合、エステル結合、アミド結合、ウレア結合またはエーテル結合が挙げられる。上記二価の基が複数となる場合は、二価の基同士は同一でも異なっていてもよく、上記結合が複数となる場合は、結合同士は同一でも異なっていてもよい。   The spacer is a divalent group selected from linear alkylene, branched alkylene, cyclic alkylene and phenylene, or a group formed by bonding a plurality of such divalent groups. In this case, the bond between the divalent groups constituting the spacer, the bond between the spacer and the group represented by the above formula (1), and the bond between the spacer and the polymerizable group include a single bond, an ester bond, and an amide bond. , Urea bonds or ether bonds. When there are a plurality of the divalent groups, the divalent groups may be the same or different, and when there are a plurality of the bonds, the bonds may be the same or different.

そのような(A)成分である光配向性部位と熱反応性部位とが結合した基に重合性基が結合したモノマーの具体例としては、4−(6−メタクリルオキシヘキシル−1−オキシ)けい皮酸、4−(6−アクリルオキシヘキシル−1−オキシ)けい皮酸、4−(3−メタクリルオキシプロピル−1−オキシ)けい皮酸、4−(4−(3−メタクリルオキシプロピル−1−オキシ)アクリルオキシ)安息香酸、4−(4−(6−メタクリルオキシヘキシル−1−オキシ)ベンゾイルオキシ)けい皮酸、4−(6−メタクリルオキシヘキシル−1−オキシ)シンナムアミド、4−(6−メタクリルオキシヘキシル−1−オキシ)−N−(4−シアノフェニル)シンナムアミド、4−(6−メタクリルオキシヘキシル−1−オキシ)−N−ビスヒドロキシエチルシンナムアミドなどが挙げられる。   As a specific example of a monomer in which a polymerizable group is bonded to a group in which a photo-alignment site and a heat-reactive site which are the component (A) are bonded, 4- (6-methacryloxyhexyl-1-oxy) Cinnamic acid, 4- (6-acryloxyhexyl-1-oxy) cinnamic acid, 4- (3-methacryloxypropyl-1-oxy) cinnamic acid, 4- (4- (3-methacryloxypropyl- 1-oxy) acryloxy) benzoic acid, 4- (4- (6-methacryloxyhexyl-1-oxy) benzoyloxy) cinnamic acid, 4- (6-methacryloxyhexyl-1-oxy) cinnamamide, 4- (6-methacryloxyhexyl-1-oxy) -N- (4-cyanophenyl) cinnamamide, 4- (6-methacryloxyhexyl-1-oxy) -N-bishydro Such as phenoxyethyl cinnamaldehyde amides.

(A)成分であるポリマー以外の化合物の光配向成分は、以上の具体例を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the photo-alignment component of the compound other than the polymer (A) can include the above specific examples, but are not limited thereto.

次に(A)成分がポリマー、すなわち、高分子量の重合体である場合の詳細を以下に説明する。   Next, details when the component (A) is a polymer, that is, a high molecular weight polymer will be described below.

本発明の硬化膜形成組成物に含有される(A)成分が高分子量の重合体である場合、(A)成分は光配向性基を有する重合体であって、すなわち光配向性基として光二量化又は光異性化する構造部位の官能基を有する重合体、特に少なくとも光二量化部位を有するアクリル共重合体であることが好ましい。さらに、光二量化部位に加え、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基及びアルコキシシリル基からなる群から選ばれる一つの基(以下、これらの基を含めて熱架橋部位とも称する)を有するアクリル共重合体であることが望ましい。   When the component (A) contained in the cured film forming composition of the present invention is a polymer having a high molecular weight, the component (A) is a polymer having a photoalignment group, that is, as a photoalignment group. A polymer having a functional group at a structural site to be quantified or photoisomerized, particularly an acrylic copolymer having at least a photodimerization site is preferable. Further, in addition to the photodimerization site, an acrylic having one group selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, and an alkoxysilyl group (hereinafter also referred to as a thermal crosslinking site). A copolymer is desirable.

本発明において、アクリル共重合体とは、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン等の不飽和二重結合を有するモノマーを重合して得られる共重合体のことをいう。   In the present invention, the acrylic copolymer refers to a copolymer obtained by polymerizing a monomer having an unsaturated double bond such as acrylic acid ester, methacrylic acid ester and styrene.

(A)成分の光二量化部位及び熱架橋部位を有するアクリル共重合体(以下、特定共重合体とも言う。)は、斯かる構造を有するアクリル共重合体であればよく、アクリル共重合体を構成する高分子の主鎖の骨格及び側鎖の種類等について特に限定されない。   The acrylic copolymer having a photodimerization site and a thermal crosslinking site (A) as the component (hereinafter also referred to as a specific copolymer) may be an acrylic copolymer having such a structure. There are no particular restrictions on the main chain skeleton and side chain type of the polymer.

光二量化部位としては、シンナモイル基、カルコン基、クマリン基、アントラセン基等が挙げられる。これらのうち可視光領域での透明性の高さ、及び光二量化反応性の高さからシンナモイル基が好ましい。より好ましいシンナモイル基及びシンナモイル構造を含む置換基としては下記式[1]又は式[2]で表される構造が挙げられる。なお本明細書において、シンナモイル基におけるベンゼン環がナフタレン環である基についても「シンナモイル基」及び「シンナモイル構造を含む置換基」に含めている。   Examples of the photodimerization site include a cinnamoyl group, a chalcone group, a coumarin group, and an anthracene group. Of these, a cinnamoyl group is preferred because of its high transparency in the visible light region and high photodimerization reactivity. More preferred examples of the cinnamoyl group and the substituent containing a cinnamoyl structure include structures represented by the following formula [1] or [2]. In the present specification, a group in which the benzene ring in the cinnamoyl group is a naphthalene ring is also included in the “cinnamoyl group” and the “substituent containing a cinnamoyl structure”.

Figure 0006604483
Figure 0006604483

上記式[1]中、X1は水素原子、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基又はビフェニル基を表す。その際、フェニル基及びビフェニル基はハロゲン原子及びシアノ基のいずれかによって置換されていてもよい。炭素原子数1乃至18のアルキル基としては、炭素原子数1乃至18のアルキル基として上記で例示された基と同様の基が挙げられる。In the above formula [1], X 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group or a biphenyl group. In that case, the phenyl group and the biphenyl group may be substituted by either a halogen atom or a cyano group. Examples of the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms include the same groups as those exemplified above as the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms.

上記式[2]中、X2は水素原子、シアノ基、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基、シクロヘキシル基を表す。炭素原子数1乃至18のアルキル基としては、炭素原子数1乃至18のアルキル基として上記で例示された基と同様の基が挙げられる。その際、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基、シクロヘキシル基は、共有結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、尿素結合、ウレタン結合、アミノ結合、カルボニル又はそれらの組み合わせから選ばれる1種又は2種以上の結合を介して複数種が結合してもよい。In the above formula [2], X 2 represents a hydrogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group, a biphenyl group, or a cyclohexyl group. Examples of the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms include the same groups as those exemplified above as the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms. In this case, the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, the phenyl group, the biphenyl group, and the cyclohexyl group may be formed from a covalent bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a urea bond, a urethane bond, an amino bond, a carbonyl, or a combination thereof. Plural types may be bonded through one or two or more selected bonds.

上記式[1]及び式[2]中、Aは式[A1]、式[A2]、式[A3]、式[A4]、式[A5]及び式[A6]のいずれかを表す。   In the above formula [1] and formula [2], A represents any one of formula [A1], formula [A2], formula [A3], formula [A4], formula [A5], and formula [A6].

上記式[A1]、式[A2]、式[A3]、式[A4]、式[A5]及び式[A6]中、R31、R32、R33、R34、R35、R36、R37及びR38は、それぞれ独立して水素原子、炭素原子数1乃至4のアルキル基、炭素原子数1乃至4のアルコキシ基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基又はシアノ基を表す。In the above formula [A1], formula [A2], formula [A3], formula [A4], formula [A5] and formula [A6], R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , R 35 , R 36 , R 37 and R 38 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom, a trifluoromethyl group, or a cyano group.

熱架橋部位は、加熱により(B)成分と結合する部位であり、その具体例としてはヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基、アルコキシシリル基等が挙げられる。   The thermal crosslinking site is a site that is bonded to the component (B) by heating, and specific examples thereof include a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, an alkoxysilyl group, and the like.

(A)成分のアクリル共重合体は、重量平均分子量が3,000乃至200,000であることが好ましい。重量平均分子量が200,000を超えて過大なものであると、溶剤に対する溶解性が低下しハンドリング性が低下する場合があり、一方、重量平均分子量が3,000未満で過小なものであると、熱硬化時に硬化不足になり溶剤耐性が低下したり耐熱性が低下したりする場合がある。   The acrylic copolymer as component (A) preferably has a weight average molecular weight of 3,000 to 200,000. If the weight average molecular weight is over 200,000, the solubility in the solvent may be lowered and the handling property may be lowered. On the other hand, the weight average molecular weight is less than 3,000 and is too small. In some cases, the heat resistance may cause insufficient curing, resulting in a decrease in solvent resistance or a decrease in heat resistance.

(A)成分の光二量化部位及び熱架橋部位を有するアクリル共重合体の合成方法は、光二量化部位を有するモノマーと、熱架橋部位を有するモノマーとを共重合する方法が簡便である。   As a method for synthesizing an acrylic copolymer having a photodimerization site and a thermal crosslinking site as the component (A), a method of copolymerizing a monomer having a photodimerization site and a monomer having a thermal crosslinking site is simple.

光二量化部位を有するモノマーとしては、例えば、シンナモイル基、カルコン基、クマリン基、アントラセン基等を有するモノマーが挙げられる。これらのうち可視光領域での透明性の高さ及び光二量化反応性の高さからシンナモイル基を有するモノマーが特に好ましい。   Examples of the monomer having a photodimerization site include monomers having a cinnamoyl group, a chalcone group, a coumarin group, an anthracene group, and the like. Among these, a monomer having a cinnamoyl group is particularly preferable because of its high transparency in the visible light region and high photodimerization reactivity.

なかでも上記式[1]又は式[2]で表される構造のシンナモイル基及びシンナモイル構造を含む置換基を有するモノマーがより好ましい。そのようなモノマーの具体例を挙げると、下記式[3]又は式[4]で表されるモノマーである。   Among these, a cinnamoyl group having a structure represented by the above formula [1] or [2] and a monomer having a substituent containing a cinnamoyl structure are more preferable. When the specific example of such a monomer is given, it is a monomer represented by the following formula [3] or formula [4].

Figure 0006604483
Figure 0006604483

上記式[3]中、X1は水素原子、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基又はビフェニル基を表す。その際、フェニル基及びビフェニル基はハロゲン原子及びシアノ基のいずれかによって置換されていてもよい。炭素原子数1乃至18のアルキル基としては、炭素原子数1乃至18のアルキル基として上記で例示された基と同様の基が挙げられる。
1及びL2は、それぞれ独立に共有結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、尿素結合又はウレタン結合を表す。
In the above formula [3], X 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group or a biphenyl group. In that case, the phenyl group and the biphenyl group may be substituted by either a halogen atom or a cyano group. Examples of the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms include the same groups as those exemplified above as the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms.
L 1 and L 2 each independently represent a covalent bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, a urea bond or a urethane bond.

上記式[4]中、X2は水素原子、シアノ基、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基、シクロヘキシル基を表す。炭素原子数1乃至18のアルキル基としては、炭素原子数1乃至18のアルキル基として上記で例示された基と同様の基が挙げられる。その際、炭素原子数1乃至18のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基、シクロヘキシル基は、共有結合、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、尿素結合を介して結合してもよい。In the above formula [4], X 2 represents a hydrogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a phenyl group, a biphenyl group, or a cyclohexyl group. Examples of the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms include the same groups as those exemplified above as the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms. At that time, the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, the phenyl group, the biphenyl group, and the cyclohexyl group may be bonded via a covalent bond, an ether bond, an ester bond, an amide bond, or a urea bond.

上記式[3]及び式[4]中、X3及びX5はそれぞれ独立に単結合、炭素原子数1乃至20のアルキレン基、2価の芳香族環、2価の脂肪族環を示す。ここで炭素原子数1乃至20のアルキレン基は分岐状でも直鎖状でもよい。炭素原子数1乃至20のアルキレン基としては、炭素原子数1乃至20のアルキレン基として上記で規定された基と同様の基が挙げられる。In the above formulas [3] and [4], X 3 and X 5 each independently represent a single bond, an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, a divalent aromatic ring, or a divalent aliphatic ring. Here, the alkylene group having 1 to 20 carbon atoms may be branched or linear. Examples of the alkylene group having 1 to 20 carbon atoms include the same groups as those defined above as the alkylene group having 1 to 20 carbon atoms.

上記式[3]及び式[4]中、X4及びX6は重合性基を表す。この重合性基の具体例としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチレン基、マレイミド基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基等が挙げられる。In the above formula [3] and formula [4], X 4 and X 6 represent a polymerizable group. Specific examples of the polymerizable group include an acryloyl group, a methacryloyl group, a styrene group, a maleimide group, an acrylamide group, and a methacrylamide group.

上記式[3]及び式[4]中、Aは前記と同様に式[A1]、式[A2]、式[A3]、式[A4]、式[A5]及び式[A6]のいずれかを表す。   In Formula [3] and Formula [4], A is any of Formula [A1], Formula [A2], Formula [A3], Formula [A4], Formula [A5], and Formula [A6] as described above. Represents.

熱架橋部位を有するモノマーとしては、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、2,3−ジヒドロキシプロピルアクリレート、2,3−ジヒドロキシプロピルメタクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、カプロラクトン2−(アクリロイルオキシ)エチルエステル、カプロラクトン2−(メタクリロイルオキシ)エチルエステル、ポリ(エチレングリコール)エチルエーテルアクリレート、ポリ(エチレングリコール)エチルエーテルメタクリレート、5−アクリロイルオキシ−6−ヒドロキシノルボルネン−2−カルボキシリック−6−ラクトン、5−メタクリロイルオキシ−6−ヒドロキシノルボルネン−2−カルボキシリック−6−ラクトン等のヒドロキシ基を有するモノマー;アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、モノ−(2−(アクリロイルオキシ)エチル)フタレート、モノ−(2−(メタクリロイルオキシ)エチル)フタレート、N−(カルボキシフェニル)マレイミド、N−(カルボキシフェニル)メタクリルアミド、N−(カルボキシフェニル)アクリルアミド等のカルボキシル基を有するモノマー;ヒドロキシスチレン、N−(ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、N−(ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(ヒドロキシフェニル)マレイミド、N−(ヒドロキシフェニル)マレイミド等のフェノール性ヒドロキシ基を有するモノマー;アクリルアミド、メタクリルアミド等のアミド基を有するモノマー;メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン等のアルコキシシリル基を有するモノマー等が挙げられる。   Examples of the monomer having a thermal crosslinking site include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 2,3 -Dihydroxypropyl acrylate, 2,3-dihydroxypropyl methacrylate, diethylene glycol monoacrylate, diethylene glycol monomethacrylate, caprolactone 2- (acryloyloxy) ethyl ester, caprolactone 2- (methacryloyloxy) ethyl ester, poly (ethylene glycol) ethyl ether acrylate, Poly (ethylene glycol) ethyl ether methacrylate, 5-acryloyloxy Monomers having a hydroxy group such as -6-hydroxynorbornene-2-carboxyl-6-lactone and 5-methacryloyloxy-6-hydroxynorbornene-2-carboxyl-6-lactone; acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, Mono- (2- (acryloyloxy) ethyl) phthalate, mono- (2- (methacryloyloxy) ethyl) phthalate, N- (carboxyphenyl) maleimide, N- (carboxyphenyl) methacrylamide, N- (carboxyphenyl) acrylamide Monomers having a carboxyl group such as: hydroxystyrene, N- (hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (hydroxyphenyl) acrylamide, N- (hydroxyphenyl) maleimide, N- (hydroxyphenyl) Monomers having phenolic hydroxy groups such as reimide; monomers having amide groups such as acrylamide and methacrylamide; methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, methacryloyloxypropyltriethoxysilane, acryloyloxypropyltrimethoxysilane, acryloyloxypropyltriethoxysilane And other monomers having an alkoxysilyl group.

特定共重合体を得るために用いる光二量化部位を有するモノマー及び熱架橋部位を有するモノマーの使用量は、特定共重合体を得るために使用する全モノマーの合計量に基いて、光二量化部位を有するモノマーが40質量%〜95質量%、熱架橋部位を有するモノマーが5質量%〜60質量%であることが好ましい。光二量化部位を有するモノマー含有量を40質量%以上とすることで高感度かつ良好な液晶配向性を付与することができる。他方、95質量%以下とすることで充分な熱硬化性を付与することができ、高感度かつ良好な液晶配向性を維持することができる。   The amount of the monomer having a photodimerization site and the monomer having a thermal crosslinking site used for obtaining the specific copolymer is determined based on the total amount of all monomers used for obtaining the specific copolymer. It is preferable that the monomer having 40% by mass to 95% by mass and the monomer having a thermal crosslinking site is 5% by mass to 60% by mass. By setting the content of the monomer having a photodimerization site to 40% by mass or more, high sensitivity and good liquid crystal orientation can be imparted. On the other hand, by setting it to 95% by mass or less, sufficient thermosetting property can be imparted, and high liquid crystal orientation can be maintained with high sensitivity.

また、本発明の硬化膜形成組成物においては、特定共重合体を得る際に、光二量化部位及び熱架橋部位(以下、これらを特定官能基ともいう)を有するモノマーと共重合可能なモノマー(以下非反応性官能基を有するモノマーともいう)を併用することができる。   In the cured film-forming composition of the present invention, a monomer copolymerizable with a monomer having a photodimerization site and a thermal crosslinking site (hereinafter also referred to as a specific functional group) when obtaining a specific copolymer ( (Hereinafter also referred to as a monomer having a non-reactive functional group) can be used in combination.

そのようなモノマーの具体例としては、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物及びビニル化合物等が挙げられる。
以下、上記モノマーの具体例を挙げるが、本発明は、これらに限定されるものではない。
Specific examples of such monomers include acrylic acid ester compounds, methacrylic acid ester compounds, maleimide compounds, acrylamide compounds, acrylonitrile, maleic anhydride, styrene compounds and vinyl compounds.
Hereinafter, although the specific example of the said monomer is given, this invention is not limited to these.

上述したアクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ベンジルアクリレート、ナフチルアクリレート、アントリルアクリレート、アントリルメチルアクリレート、フェニルアクリレート、グリシジルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、tert−ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、3−メトキシブチルアクリレート、2−メチル−2−アダマンチルアクリレート、2−プロピル−2−アダマンチルアクリレート、8−メチル−8−トリシクロデシルアクリレート、及び、8−エチル−8−トリシクロデシルアクリレート等が挙げられる。   Examples of the acrylic ester compound described above include methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, benzyl acrylate, naphthyl acrylate, anthryl acrylate, anthryl methyl acrylate, phenyl acrylate, glycidyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl. Acrylate, tert-butyl acrylate, cyclohexyl acrylate, isobornyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, 2-methyl-2- Adamantyl acrylate, 2-propyl-2-adamantyl acrylate, 8-methyl-8- Li cycloalkyl decyl acrylate, and the like 8-ethyl-8-tricyclodecyl acrylate.

上述したメタクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、アントリルメタクリレート、アントリルメチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、tert−ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、2−エトキシエチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、3−メトキシブチルメタクリレート、2−メチル−2−アダマンチルメタクリレート、γ−ブチロラクトンメタクリレート、2−プロピル−2−アダマンチルメタクリレート、8−メチル−8−トリシクロデシルメタクリレート、及び、8−エチル−8−トリシクロデシルメタクリレート等が挙げられる。   Examples of the methacrylic ester compounds described above include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isopropyl methacrylate, benzyl methacrylate, naphthyl methacrylate, anthryl methacrylate, anthryl methyl methacrylate, phenyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl. Methacrylate, tert-butyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, isobornyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, methoxytriethylene glycol methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 3-methoxybutyl methacrylate, 2-methyl-2- Adamantyl methacrylate, γ-butyrolactone Acrylate, 2-propyl-2-adamantyl methacrylate, 8-methyl-8-tricyclodecyl methacrylate, and, 8-ethyl-8-tricyclodecyl methacrylate.

上述したビニル化合物としては、例えば、メチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ビニルナフタレン、ビニルカルバゾール、アリルグリシジルエーテル、3−エテニル−7−オキサビシクロ[4.1.0]ヘプタン、1,2−エポキシ−5−ヘキセン、及び、1,7−オクタジエンモノエポキサイド等が挙げられる。   Examples of the vinyl compound described above include methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, vinyl naphthalene, vinyl carbazole, allyl glycidyl ether, 3-ethenyl-7-oxabicyclo [4.1.0] heptane, and 1,2-epoxy-5. Examples include hexene and 1,7-octadiene monoepoxide.

上述したスチレン化合物としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、クロロスチレン、及び、ブロモスチレン等が挙げられる。   Examples of the styrene compound described above include styrene, methylstyrene, chlorostyrene, and bromostyrene.

上述したマレイミド化合物としては、例えば、マレイミド、N−メチルマレイミド、N−フェニルマレイミド、及び、N−シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。   Examples of the maleimide compound described above include maleimide, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide.

本発明の硬化膜形成組成物に用いる特定共重合体を得る方法は特に限定されないが、例えば、特定官能基を有するモノマー(光二量化部位を有するモノマー及び熱架橋部位を有するモノマー)、所望により非反応性官能基を有するモノマー及び重合開始剤等を共存させた溶剤中において、50℃〜110℃の温度下で重合反応させて得られる。その際、用いられる溶剤は、特定官能基を有するモノマー、所望により用いられる非反応性官能基を有するモノマー及び重合開始剤等を溶解するものであれば特に限定されない。具体例としては、後述する溶剤に記載する溶剤が挙げられる。   The method for obtaining the specific copolymer used in the cured film-forming composition of the present invention is not particularly limited. For example, a monomer having a specific functional group (a monomer having a photodimerization site and a monomer having a thermal cross-linking site), or non-specific if desired. It is obtained by carrying out a polymerization reaction at a temperature of 50 ° C. to 110 ° C. in a solvent in which a monomer having a reactive functional group, a polymerization initiator, and the like coexist. In that case, the solvent used will not be specifically limited if it dissolves the monomer which has a specific functional group, the monomer which has a non-reactive functional group used depending on necessity, a polymerization initiator, etc. Specific examples include solvents described in Solvents described below.

このようにして得られる特定共重合体は、通常、溶剤に溶解した溶液の状態であり、本発明において(A)成分の溶液としてそのまま使用することができる。   The specific copolymer thus obtained is usually in the form of a solution dissolved in a solvent, and can be used as it is as the solution of the component (A) in the present invention.

また、上記のようにして得られた特定共重合体の溶液を、ジエチルエーテルや水等の撹拌下に投入して再沈殿させ、生成した沈殿物を濾過・洗浄した後、常圧又は減圧下で、常温あるいは加熱乾燥することで、特定共重合体の粉体とすることができる。このような操作により、特定共重合体と共存する重合開始剤や未反応モノマーを除去することができ、その結果、精製した特定共重合体の粉体が得られる。一度の操作で充分に精製できない場合は、得られた粉体を溶剤に再溶解して、上記の操作を繰り返し行えばよい。   In addition, the solution of the specific copolymer obtained as described above is re-precipitated by stirring with stirring such as diethyl ether or water, and the generated precipitate is filtered and washed, and then under normal pressure or reduced pressure. Thus, the powder of the specific copolymer can be obtained by drying at room temperature or by heating. By such an operation, the polymerization initiator and unreacted monomer coexisting with the specific copolymer can be removed, and as a result, a purified powder of the specific copolymer can be obtained. If sufficient purification cannot be achieved by one operation, the obtained powder may be redissolved in a solvent and the above operation may be repeated.

本発明の硬化膜形成組成物においては、(A)成分として上記特定共重合体の粉体をそのまま用いてもよく、あるいはその粉体を、たとえば後述する溶剤に再溶解して溶液の状態として用いてもよい。   In the cured film-forming composition of the present invention, the powder of the specific copolymer may be used as it is as the component (A), or the powder is re-dissolved in, for example, a solvent described later to form a solution. It may be used.

また、本実施形態においては、(A)成分のアクリル共重合体は、複数種の特定共重合体の混合物であってもよい。   In the present embodiment, the acrylic copolymer of component (A) may be a mixture of a plurality of types of specific copolymers.

以上のように本発明においては、(A)成分としては低分子量の化合物、又は高分子量の特定共重合体を用いることができる。また、(A)成分はそれぞれ1種以上の低分子量の化合物と高分子量の特定共重合体との混合物であってもよい。   As described above, in the present invention, a low molecular weight compound or a high molecular weight specific copolymer can be used as the component (A). The component (A) may be a mixture of one or more low molecular weight compounds and a high molecular weight specific copolymer.

[(B)成分]
本発明の硬化膜形成組成物に含有される(B)成分は、N−アルコキシメチル基を有する繰り返し単位及び重合性のC=C二重結合を含む側鎖を有する繰り返し単位を含むポリマー(以下特定共重合体2ともいう)である。
[Component (B)]
The component (B) contained in the cured film forming composition of the present invention is a polymer containing a repeating unit having an N-alkoxymethyl group and a repeating unit having a side chain containing a polymerizable C═C double bond (hereinafter, Also referred to as specific copolymer 2.

N−アルコキシメチル基のN、すなわち窒素原子としては、アミドの窒素原子、チオアミドの窒素原子、ウレアの窒素原子、チオウレアの窒素原子、ウレタンの窒素原子、含窒素へテロ環の窒素原子の隣接位に結合した窒素原子等が挙げられる。従って、N−アルコキシメチル基としては、アミドの窒素原子、チオアミドの窒素原子、ウレアの窒素原子、チオウレアの窒素原子、ウレタンの窒素原子、含窒素へテロ環の窒素原子の隣接位に結合した窒素原子等から選ばれる窒素原子にアルコキシメチル基が結合した構造が挙げられる。   N of the N-alkoxymethyl group, that is, the nitrogen atom includes the amide nitrogen atom, the thioamide nitrogen atom, the urea nitrogen atom, the thiourea nitrogen atom, the urethane nitrogen atom, and the adjacent nitrogen atom of the nitrogen-containing heterocycle And a nitrogen atom bonded to. Therefore, the N-alkoxymethyl group includes an amide nitrogen atom, a thioamide nitrogen atom, a urea nitrogen atom, a thiourea nitrogen atom, a urethane nitrogen atom, and a nitrogen atom bonded to the adjacent position of the nitrogen atom of the nitrogen-containing heterocyclic ring. Examples include a structure in which an alkoxymethyl group is bonded to a nitrogen atom selected from atoms and the like.

N−アルコキシメチル基を有する繰り返し単位を与えるモノマー(以下、特定モノマーX1ともいう)としては、上記の基を有するモノマーであれば特に限定されないが、好ましくは、例えば下記の式(b1)で表される化合物が挙げられる。

Figure 0006604483
The monomer that gives the repeating unit having an N-alkoxymethyl group (hereinafter also referred to as the specific monomer X1) is not particularly limited as long as it is a monomer having the above-mentioned group, but is preferably represented by the following formula (b1), for example. The compound which is made is mentioned.
Figure 0006604483

(式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は水素原子又は直鎖又は分岐の炭素原子数1乃至10のアルキル基を表す。)(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.)

上記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、1−メチル−n−ブチル基、2−メチル−n−ブチル基、3−メチル−n−ブチル基、1,1−ジメチル−n−プロピル基、1,2−ジメチル−n−プロピル基、2,2−ジメチル−n−プロピル基、1−エチル−n−プロピル基、n−ヘキシル基、1−メチル−n−ペンチル基、2−メチル−n−ペンチル基、3−メチル−n−ペンチル基、4−メチル−n−ペンチル基、1,1−ジメチル−n−ブチル基、1,2−ジメチル−n−ブチル基、1,3−ジメチル−n−ブチル基、2,2−ジメチル−n−ブチル基、2,3−ジメチル−n−ブチル基、3,3−ジメチル−n−ブチル基、1−エチル−n−ブチル基、2−エチル−n−ブチル基、1,1,2−トリメチル−n−プロピル基、1,2,2−トリメチル−n−プロピル基、1−エチル−1−メチル−n−プロピル基、1−エチル−2−メチル−n−プロピル基、n−ヘプチル基、1−メチル−n−ヘキシル基、2−メチル−n−ヘキシル基、3−メチル−n−ヘキシル基、1,1−ジメチル−n−ペンチル基、1,2−ジメチル−n−ペンチル基、1,3−ジメチル−n−ペンチル基、2,2−ジメチル−n−ペンチル基、2,3−ジメチル−n−ペンチル基、3,3−ジメチル−n−ペンチル基、1−エチル−n−ペンチル基、2−エチル−n−ペンチル基、3−エチル−n−ペンチル基、1−メチル−1−エチル−n−ブチル基、1−メチル−2−エチル−n−ブチル基、1−エチル−2−メチル−n−ブチル基、2−メチル−2−エチル−n−ブチル基、2−エチル−3−メチル−n−ブチル基、n−オクチル基、1−メチル−n−ヘプチル基、2−メチル−n−ヘプチル基、3−メチル−n−ヘプチル基、1,1−ジメチル−n−ヘキシル基、1,2−ジメチル−n−ヘキシル基、1,3−ジメチル−n−ヘキシル基、2,2−ジメチル−n−ヘキシル基、2,3−ジメチル−n−ヘキシル基、3,3−ジメチル−n−ヘキシル基、1−エチル−n−ヘキシル基、2−エチル−n−ヘキシル基、3−エチル−n−ヘキシル基、1−メチル−1−エチル−n−ペンチル基、1−メチル−2−エチル−n−ペンチル基、1−メチル−3−エチル−n−ペンチル基、2−メチル−2−エチル−n−ペンチル基、2−メチル−3−エチル−n−ペンチル基、3−メチル−3−エチル−n−ペンチル基、n−ノニル基、n−デシル基等が挙げられる。   Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, and 1-methyl-n. -Butyl group, 2-methyl-n-butyl group, 3-methyl-n-butyl group, 1,1-dimethyl-n-propyl group, 1,2-dimethyl-n-propyl group, 2,2-dimethyl- n-propyl group, 1-ethyl-n-propyl group, n-hexyl group, 1-methyl-n-pentyl group, 2-methyl-n-pentyl group, 3-methyl-n-pentyl group, 4-methyl- n-pentyl group, 1,1-dimethyl-n-butyl group, 1,2-dimethyl-n-butyl group, 1,3-dimethyl-n-butyl group, 2,2-dimethyl-n-butyl group, 2 , 3-dimethyl-n-butyl group, 3, -Dimethyl-n-butyl group, 1-ethyl-n-butyl group, 2-ethyl-n-butyl group, 1,1,2-trimethyl-n-propyl group, 1,2,2-trimethyl-n-propyl Group, 1-ethyl-1-methyl-n-propyl group, 1-ethyl-2-methyl-n-propyl group, n-heptyl group, 1-methyl-n-hexyl group, 2-methyl-n-hexyl group 3-methyl-n-hexyl group, 1,1-dimethyl-n-pentyl group, 1,2-dimethyl-n-pentyl group, 1,3-dimethyl-n-pentyl group, 2,2-dimethyl-n -Pentyl group, 2,3-dimethyl-n-pentyl group, 3,3-dimethyl-n-pentyl group, 1-ethyl-n-pentyl group, 2-ethyl-n-pentyl group, 3-ethyl-n- A pentyl group, a 1-methyl-1-ethyl-n-butyl group, -Methyl-2-ethyl-n-butyl group, 1-ethyl-2-methyl-n-butyl group, 2-methyl-2-ethyl-n-butyl group, 2-ethyl-3-methyl-n-butyl group N-octyl group, 1-methyl-n-heptyl group, 2-methyl-n-heptyl group, 3-methyl-n-heptyl group, 1,1-dimethyl-n-hexyl group, 1,2-dimethyl- n-hexyl group, 1,3-dimethyl-n-hexyl group, 2,2-dimethyl-n-hexyl group, 2,3-dimethyl-n-hexyl group, 3,3-dimethyl-n-hexyl group, 1 -Ethyl-n-hexyl group, 2-ethyl-n-hexyl group, 3-ethyl-n-hexyl group, 1-methyl-1-ethyl-n-pentyl group, 1-methyl-2-ethyl-n-pentyl Group, 1-methyl-3-ethyl-n-pentyl group, 2-methyl Examples include ru-2-ethyl-n-pentyl group, 2-methyl-3-ethyl-n-pentyl group, 3-methyl-3-ethyl-n-pentyl group, n-nonyl group, n-decyl group and the like. .

このようなモノマーの具体例としては、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−エトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド等のヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基で置換されたアクリルアミド化合物又はメタクリルアミド化合物が挙げられる。なお(メタ)アクリルアミドとはメタクリルアミドとアクリルアミドの双方を意味する。   Specific examples of such monomers include hydroxymethyl groups such as N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, N-methoxymethyl (meth) acrylamide, N-ethoxymethyl (meth) acrylamide, and N-butoxymethyl (meth) acrylamide. Or the acrylamide compound or the methacrylamide compound substituted by the alkoxymethyl group is mentioned. (Meth) acrylamide means both methacrylamide and acrylamide.

重合性のC=C二重結合を含む基としては、アクリル基、メタクリル基、ビニル基、アリル基、マレイミド基等が挙げられる。   Examples of the group containing a polymerizable C═C double bond include an acryl group, a methacryl group, a vinyl group, an allyl group, and a maleimide group.

(B)成分の重合性のC=C二重結合を含む側鎖を有する繰り返し単位における特定側鎖は、炭素原子数が3〜16であって、末端に不飽和結合を有するものであることが好ましく、式(b2)のように表される特定側鎖が特に好ましい。式(b2)で表される特定側鎖は、式(b2−1)に示すように、アクリル重合体のエステル結合部分に結合するものである。   The specific side chain in the repeating unit having a side chain containing a polymerizable C═C double bond as the component (B) has 3 to 16 carbon atoms and has an unsaturated bond at the terminal. The specific side chain represented by the formula (b2) is particularly preferable. The specific side chain represented by Formula (b2) binds to the ester bond portion of the acrylic polymer as shown in Formula (b2-1).

Figure 0006604483
Figure 0006604483

式(b2)中、R51は、炭素原子数が1〜14であり、脂肪族基、環式構造を含む脂肪族基および芳香族基よりなる群から選ばれる有機基、または、この群から選ばれる複数の有機基の組み合わせからなる有機基である。R51は、エステル結合、エーテル結合、アミド結合またはウレタン結合などを含んでいてもよい。In formula (b2), R 51 has 1 to 14 carbon atoms and is an organic group selected from the group consisting of an aliphatic group, an aliphatic group containing a cyclic structure, and an aromatic group, or from this group An organic group comprising a combination of a plurality of organic groups selected. R 51 may contain an ester bond, an ether bond, an amide bond, a urethane bond, or the like.

式(b2)において、R52は水素原子またはメチル基であり、R52が水素原子である特定側鎖が好ましく、より好ましくは、末端がアクリロイル基、メタクリロイル基またはスチリル基である特定側鎖である。In the formula (b2), R 52 is a hydrogen atom or a methyl group, and a specific side chain in which R 52 is a hydrogen atom is preferable, and more preferably a specific side chain in which the terminal is an acryloyl group, a methacryloyl group, or a styryl group. is there.

式(b2−1)において、R53は水素原子またはメチル基である。In formula (b2-1), R 53 represents a hydrogen atom or a methyl group.

上記のような特定側鎖を有するポリマーを得る方法は、特に限定されない。一例を挙げれば、予めラジカル重合などの重合方法によって、特定官能基を有するアクリル重合体を生成する。次いで、この特定官能基と、末端に不飽和結合を有する化合物(以下、特定化合物と称す。)とを反応させて特定側鎖を生成することにより、(B)成分であるポリマーに重合性のC=C二重結合を含む側鎖を導入することができる。   The method for obtaining the polymer having the specific side chain as described above is not particularly limited. For example, an acrylic polymer having a specific functional group is generated in advance by a polymerization method such as radical polymerization. Next, by reacting this specific functional group with a compound having an unsaturated bond at the terminal (hereinafter referred to as a specific compound) to generate a specific side chain, the polymer as the component (B) is polymerizable. Side chains containing C═C double bonds can be introduced.

ここで、特定官能基とは、カルボキシル基、グリシジル基、ヒドロキシ基、活性水素を有するアミノ基、フェノール性ヒドロキシ基若しくはイソシアネート基などの官能基、または、これらから選ばれる複数種の官能基を言う。   Here, the specific functional group means a functional group such as a carboxyl group, a glycidyl group, a hydroxy group, an amino group having active hydrogen, a phenolic hydroxy group or an isocyanate group, or a plurality of types of functional groups selected from these functional groups. .

上述した特定側鎖を生成する反応において、特定官能基と、特定化合物が有する官能基であって反応に関与する基との好ましい組み合わせは、カルボキシル基とエポキシ基、ヒドロキシ基とイソシアネート基、フェノール性ヒドロキシ基とエポキシ基、カルボキシル基とイソシアネート基、アミノ基とイソシアネート基、または、ヒドロキシ基と酸クロリドなどである。さらに、より好ましい組み合わせは、カルボキシル基とグリシジルメタクリレート、または、ヒドロキシ基とイソシアネートエチルメタクリレートである。   In the reaction for generating the specific side chain described above, the preferred combination of the specific functional group and the functional group of the specific compound that is involved in the reaction is a carboxyl group and an epoxy group, a hydroxy group and an isocyanate group, or a phenolic group. A hydroxy group and an epoxy group, a carboxyl group and an isocyanate group, an amino group and an isocyanate group, or a hydroxy group and an acid chloride. Furthermore, a more preferable combination is a carboxyl group and glycidyl methacrylate, or a hydroxy group and isocyanate ethyl methacrylate.

また、上述した特定側鎖を生成する反応において、特定官能基を有するポリマーは、特定モノマーX1に加えて、特定化合物と反応するための官能基(特定官能基)を有するモノマー、すなわち、カルボキシル基、グリシジル基、ヒドロキシ基、活性水素を有するアミノ基、フェノール性ヒドロキシ基またはイソシアネート基などを有するモノマー(以下、特定モノマーX2ともいう)を必須成分として得られる共重合体であって、その数平均分子量が2,000〜25,000のものである。ここで、重合に用いる特定官能基を有するモノマーは、単独でもよいし、重合中に反応しない組み合わせであれば複数種を併用してもよい。   In the reaction for generating the specific side chain described above, the polymer having the specific functional group is a monomer having a functional group (specific functional group) for reacting with the specific compound in addition to the specific monomer X1, that is, a carboxyl group. , A copolymer obtained by using, as an essential component, a monomer having a glycidyl group, a hydroxy group, an amino group having active hydrogen, a phenolic hydroxy group or an isocyanate group (hereinafter also referred to as a specific monomer X2), and its number average The molecular weight is 2,000 to 25,000. Here, the monomer having the specific functional group used for the polymerization may be used alone, or a plurality of types may be used in combination as long as the combination does not react during the polymerization.

以下に、特定官能基を有するポリマーを得るのに必要なモノマー、すなわち、特定モノマーX2の具体例を挙げる。但し、これらに限定されるものではない。   The specific example of the monomer required in order to obtain the polymer which has a specific functional group, ie, specific monomer X2, is given to the following. However, it is not limited to these.

カルボキシル基を有するモノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、モノ−(2−(アクリロイルオキシ)エチル)フタレート、モノ−(2−(メタクリロイルオキシ)エチル)フタレート、N−(カルボキシフェニル)マレイミド、N−(カルボキシフェニル)メタクリルアミドおよびN−(カルボキシフェニル)アクリルアミドなどが挙げられる。   Examples of the monomer having a carboxyl group include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, mono- (2- (acryloyloxy) ethyl) phthalate, mono- (2- (methacryloyloxy) ethyl) phthalate, and N- (carboxyphenyl). ) Maleimide, N- (carboxyphenyl) methacrylamide and N- (carboxyphenyl) acrylamide.

グリシジル基を有するモノマーとしては、例えば、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、アリルグリシジルエーテル、3−エテニル−7−オキサビシクロ[4.1.0]ヘプタン、1,2−エポキシ−5−ヘキセンおよび1,7−オクタジエンモノエポキサイドなどが挙げられる。   Examples of the monomer having a glycidyl group include glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, allyl glycidyl ether, 3-ethenyl-7-oxabicyclo [4.1.0] heptane, 1,2-epoxy-5-hexene and 1,7. -Octadiene monoepoxide and the like.

ヒドロキシ基を有するモノマーとしては、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、2,3−ジヒドロキシプロピルアクリレート、2,3−ジヒドロキシプロピルメタクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、カプロラクトン2−(アクリロイルオキシ)エチルエステル、カプロラクトン2−(メタクリロイルオキシ)エチルエステル、ポリ(エチレングリコール)エチルエーテルアクリレート、ポリ(エチレングリコール)エチルエーテルメタクリレート、5−アクリロイルオキシ−6−ヒドロキシノルボルネン−2−カルボキシリック−6−ラクトンおよび5−メタクリロイルオキシ−6−ヒドロキシノルボルネン−2−カルボキシリック−6−ラクトンなどが挙げられる。   Examples of the monomer having a hydroxy group include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 2,3- Dihydroxypropyl acrylate, 2,3-dihydroxypropyl methacrylate, diethylene glycol monoacrylate, diethylene glycol monomethacrylate, caprolactone 2- (acryloyloxy) ethyl ester, caprolactone 2- (methacryloyloxy) ethyl ester, poly (ethylene glycol) ethyl ether acrylate, poly (Ethylene glycol) ethyl ether methacrylate, 5-acryloyl Shi-6-hydroxy-norbornene-2-carboxylic-6-lactone and 5-methacryloyloxy such acryloyloxy-6-hydroxy-norbornene-2-carboxylic-6-lactone.

アミノ基を有するモノマーとしては、例えば、2−アミノエチルアクリレートおよび2−アミノメチルメタクリレートなどが挙げられる。   Examples of the monomer having an amino group include 2-aminoethyl acrylate and 2-aminomethyl methacrylate.

フェノール性ヒドロキシ基を有するモノマーとしては、例えば、ヒドロキシスチレン、N−(ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(ヒドロキシフェニル)メタクリルアミドおよびN−(ヒドロキシフェニル)マレイミドなどが挙げられる。   Examples of the monomer having a phenolic hydroxy group include hydroxystyrene, N- (hydroxyphenyl) acrylamide, N- (hydroxyphenyl) methacrylamide and N- (hydroxyphenyl) maleimide.

イソシアネート基を有するモノマーとしては、例えば、アクリロイルエチルイソシアネート、メタクリロイルエチルイソシアネートおよびm−テトラメチルキシレンイソシアネートなどが挙げられる。   As a monomer which has an isocyanate group, acryloyl ethyl isocyanate, methacryloyl ethyl isocyanate, m-tetramethyl xylene isocyanate, etc. are mentioned, for example.

このようにして得られる式(b2)で表される側鎖において、R51の具体例としては、下記式(B−1)〜式(B−11)などが挙げられる。In the side chain represented by the formula (b2) thus obtained, specific examples of R 51 include the following formulas (B-1) to (B-11).

Figure 0006604483
Figure 0006604483

また、本発明においては、(B)成分のポリマーを得る際に、特定モノマーX1と、特定モノマーX2の他に、該モノマーと共重合可能であって前記熱架橋可能な置換基を有さないモノマーを併用することができる。   In addition, in the present invention, when obtaining the polymer of component (B), in addition to the specific monomer X1 and the specific monomer X2, there is no substituent which can be copolymerized with the monomer and can be thermally cross-linked. Monomers can be used in combination.

そのようなモノマーの具体例としては、特定モノマーX1、並びに、特定モノマーX2とは異なる構造を有するアクリル酸エステル化合物又はメタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物及びビニル化合物等が挙げられる。   Specific examples of such monomers include the specific monomer X1 and the acrylic acid ester compound or methacrylic acid ester compound, maleimide compound, acrylamide compound, acrylonitrile, maleic anhydride, styrene compound having a structure different from that of the specific monomer X2. And vinyl compounds.

以下、前記モノマーの具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。
前記特定モノマーX1等とは異なる構造を有するアクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、ナフチルアクリレート、アントリルアクリレート、アントリルメチルアクリレート、フェニルアクリレート、グリシジルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、3−メトキシブチルアクリレート、2−メチル−2−アダマンチルアクリレート、2−プロピル−2−アダマンチルアクリレート、8−メチル−8−トリシクロデシルアクリレート、及び、8−エチル−8−トリシクロデシルアクリレート等が挙げられる。
Hereinafter, although the specific example of the said monomer is given, it is not limited to these.
Examples of the acrylate compound having a structure different from that of the specific monomer X1 and the like include, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, benzyl acrylate, Naphthyl acrylate, anthryl acrylate, anthryl methyl acrylate, phenyl acrylate, glycidyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, cyclohexyl acrylate, isobornyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, 2 -Ethoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate 2-methyl-2-adamantyl acrylate, 2-propyl-2-adamantyl acrylate, 8-methyl-8-tricyclodecyl acrylate, and the like 8-ethyl-8-tricyclodecyl acrylate.

前記特定モノマーX1等とは異なる構造を有するメタクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、t−ブチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、アントリルメタクリレート、アントリルメチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、2−エトキシエチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、3−メトキシブチルメタクリレート、2−メチル−2−アダマンチルメタクリレート、γ−ブチロラクトンメタクリレート、2−プロピル−2−アダマンチルメタクリレート、8−メチル−8−トリシクロデシルメタクリレート、及び、8−エチル−8−トリシクロデシルメタクリレート等が挙げられる。   Examples of the methacrylic acid ester compound having a structure different from that of the specific monomer X1 include, for example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl methacrylate, benzyl methacrylate, Naphthyl methacrylate, anthryl methacrylate, anthryl methyl methacrylate, phenyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, isobornyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, methoxytriethylene glycol methacrylate, 2 -Ethoxyethyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl meta Relate, 3-methoxybutyl methacrylate, 2-methyl-2-adamantyl methacrylate, γ-butyrolactone methacrylate, 2-propyl-2-adamantyl methacrylate, 8-methyl-8-tricyclodecyl methacrylate, and 8-ethyl-8- And tricyclodecyl methacrylate.

前記ビニル化合物としては、例えば、メチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ビニルナフタレン、ビニルカルバゾール、アリルグリシジルエーテル、3−エテニル−7−オキサビシクロ[4.1.0]ヘプタン、1,2−エポキシ−5−ヘキセン、及び、1,7−オクタジエンモノエポキサイド等が挙げられる。   Examples of the vinyl compound include methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, vinyl naphthalene, vinyl carbazole, allyl glycidyl ether, 3-ethenyl-7-oxabicyclo [4.1.0] heptane, 1,2-epoxy-5-hexene. And 1,7-octadiene monoepoxide.

前記スチレン化合物としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン等が挙げられる。   Examples of the styrene compound include styrene, methylstyrene, chlorostyrene, bromostyrene, and the like.

前記マレイミド化合物としては、例えば、マレイミド、N−メチルマレイミド、N−フェニルマレイミド、及びN−シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。   Examples of the maleimide compound include maleimide, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide.

(B)成分のポリマー中、N−アルコキシメチル基を有する繰り返し単位の存在割合が、該ポリマーの全繰り返し単位100モルあたり、40モル%〜90モル%であることが好ましく、50モル%〜85モル%がさらに好ましい。   In the polymer of component (B), the proportion of the repeating unit having an N-alkoxymethyl group is preferably 40 mol% to 90 mol% per 100 mol of all repeating units of the polymer, and preferably 50 mol% to 85 mol%. More preferred is mol%.

すなわち、(B)成分である特定共重合体2を得るために用いられる特定モノマーX1の使用量は、(B)成分である特定共重合体2を得るために用いる全モノマーの合計量に基づいて、40モル%〜90モル%であることが好ましく、50モル%〜85モル%がさらに好ましい。
合計が40モル%未満である場合は(A)成分との熱架橋による硬化が不十分となる場合があり、90モル%より過大である場合は、基材との密着性に悪影響を与える場合がある。
That is, the use amount of the specific monomer X1 used for obtaining the specific copolymer 2 as the component (B) is based on the total amount of all monomers used for obtaining the specific copolymer 2 as the component (B). Thus, it is preferably 40 mol% to 90 mol%, more preferably 50 mol% to 85 mol%.
When the total is less than 40 mol%, curing by thermal crosslinking with the component (A) may be insufficient, and when it is more than 90 mol%, the adhesion to the substrate is adversely affected. There is.

(B)成分のポリマー中、重合性のC=C二重結合を含む側鎖を有する繰り返し単位の存在割合が、該ポリマーの全繰り返し単位100モルあたり、10モル%〜60モル%であることが好ましく、15モル%〜50モル%であることがさらに好ましい。   In the polymer of component (B), the ratio of the repeating units having a side chain containing a polymerizable C═C double bond is 10 mol% to 60 mol% per 100 mol of all the repeating units of the polymer. It is more preferable that it is 15 mol%-50 mol%.

すなわち、(B)成分である特定共重合体2を得るために用いられる特定モノマーX2の使用量は、(B)成分である特定共重合体2を得るために用いる全モノマーの合計量に基づいて、10モル%〜60モル%であることが好ましく、15モル%〜50モル%であることがさらに好ましい。
合計が10モル%未満である場合は、液晶層との密着性が不十分となる場合があり、60モル%より過大である場合は、(A)成分との熱架橋による硬化が不十分となる場合がある。
That is, the usage amount of the specific monomer X2 used for obtaining the specific copolymer 2 as the component (B) is based on the total amount of all monomers used for obtaining the specific copolymer 2 as the component (B). 10 mol% to 60 mol% is preferable, and 15 mol% to 50 mol% is more preferable.
When the total is less than 10 mol%, the adhesion with the liquid crystal layer may be insufficient, and when it is more than 60 mol%, the curing by thermal crosslinking with the component (A) is insufficient. There is a case.

(B)成分の例である特定共重合体2を得る方法は特に限定されないが、例えば、特定モノマーX1と、特定モノマーX2と、所望によりそれ以外のモノマーと重合開始剤等とを共存させた溶剤中において、50℃〜110℃の温度下で重合反応により得られる。その際、用いられる溶剤は、上記式Xで示されるモノマー、所望により用いられる当該それ以外のモノマー及び重合開始剤等を溶解するものであれば特に限定されない。具体例としては、後述する[溶剤]の項に記載する。   The method for obtaining the specific copolymer 2 which is an example of the component (B) is not particularly limited. For example, the specific monomer X1, the specific monomer X2, and, if desired, other monomers and a polymerization initiator are allowed to coexist. In a solvent, it is obtained by a polymerization reaction at a temperature of 50 to 110 ° C. In that case, the solvent used will not be specifically limited if it can melt | dissolve the monomer shown by said Formula X, the said other monomer used depending on necessity, a polymerization initiator, etc. Specific examples are described in the section of [Solvent] described later.

以上の方法により得られる(B)成分の例であるアクリル重合体は、通常、溶剤に溶解した溶液の状態であり、本発明において(B)成分の溶液としてそのまま使用することができる。   The acrylic polymer which is an example of the component (B) obtained by the above method is usually in the form of a solution dissolved in a solvent, and can be used as it is as the solution of the component (B) in the present invention.

また、上記方法で得られた(B)成分の例であるアクリル重合体の溶液を、撹拌下のジエチルエーテルや水等に投入して再沈殿させ、生成した沈殿物を濾過・洗浄した後に、常圧又は減圧下で、常温乾燥又は加熱乾燥し、(B)成分の特定共重合体2の粉体とすることができる。上述の操作により、(B)成分の特定共重合体2と共存する重合開始剤及び未反応のモノマーを除去することができ、その結果、精製した(B)成分の例である特定共重合体2の粉体が得られる。一度の操作で充分に精製できない場合は、得られた粉体を溶剤に再溶解させ、上述の操作を繰り返し行えばよい。   In addition, the acrylic polymer solution, which is an example of the component (B) obtained by the above method, is re-precipitated by adding it to diethyl ether or water under stirring, and the generated precipitate is filtered and washed. Under normal pressure or reduced pressure, the powder can be dried at room temperature or heated to obtain a powder of the specific copolymer 2 as the component (B). By the above operation, the polymerization initiator and unreacted monomer coexisting with the specific copolymer 2 of the component (B) can be removed, and as a result, the specific copolymer which is an example of the purified component (B) 2 powder is obtained. When it cannot be purified sufficiently by a single operation, the obtained powder may be redissolved in a solvent and the above operation may be repeated.

本発明の光学フィルムにおける表面の硬化膜を形成する組成物において、(B)成分の特定共重合体2は、粉体形態で、又は精製した粉末を後述する溶剤に再溶解した溶液形態で用いてもよい。   In the composition for forming a cured film on the surface of the optical film of the present invention, the specific copolymer 2 of the component (B) is used in a powder form or in a solution form in which purified powder is redissolved in a solvent described later. May be.

また、本発明の光学フィルムにおける表面の硬化膜を形成する組成物において(B)成分は、(B)成分の例として示される特定共重合体2の複数種の混合物であってもよい。   In the composition for forming a cured film on the surface of the optical film of the present invention, the component (B) may be a mixture of plural kinds of the specific copolymer 2 shown as an example of the component (B).

このようなポリマーの重量平均分子量は、1,000〜500,000であり、好ましくは、2,000〜200,000であり、より好ましくは3,000〜150,000であり、さらに好ましくは3,000〜50,000である。   The weight average molecular weight of such a polymer is 1,000 to 500,000, preferably 2,000 to 200,000, more preferably 3,000 to 150,000, and even more preferably 3 , 50,000 to 50,000.

これらのポリマーは、単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   These polymers can be used alone or in combination of two or more.

本発明の硬化膜形成組成物における(B)成分の含有量は、(A)成分と(B)成分の含有量比が質量比で5:95乃至60:40であることが好ましい。(B)成分のポリマーの含有量が過小である場合には、硬化膜形成組成物から得られる硬化膜の溶剤耐性及び耐熱性が低下し、光配向時の配向感度が低下する。他方、含有量が過大である場合には光配向性及び保存安定性が低下することがある。   The content of the component (B) in the cured film forming composition of the present invention is preferably such that the content ratio of the component (A) and the component (B) is 5:95 to 60:40 by mass ratio. When the content of the component (B) polymer is too small, the solvent resistance and heat resistance of the cured film obtained from the cured film forming composition are lowered, and the orientation sensitivity during photo-alignment is lowered. On the other hand, when the content is excessive, the photo-alignment property and the storage stability may be lowered.

[(C)成分]
本発明の組成物に含有される(C)成分は、(C−1):ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基を有するポリマー、(C−2):(A)成分と熱反応可能な置換基を有し、自己架橋可能なポリマー、または(C−3):メラミンホルムアルデヒド樹脂、からなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマーである。以下、各成分について詳細に述べる。
[Component (C)]
The component (C) contained in the composition of the present invention includes (C-1): a polymer having at least one substituent selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, and an alkoxysilyl group. (C-2): a polymer having a substituent capable of thermally reacting with the component (A) and capable of self-crosslinking, or (C-3): at least one polymer selected from the group consisting of melamine formaldehyde resin is there. Hereinafter, each component will be described in detail.

[(C−1)成分]
(C−1)成分は、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基を有するポリマー(以下、特定(共)重合体1とも言う。)である。
[(C-1) component]
The component (C-1) is a polymer having at least one substituent selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, and an alkoxysilyl group (hereinafter also referred to as a specific (co) polymer 1). ).

(C−1)成分であるポリマーとしては、例えば、アクリル重合体、ウレタン変性アクリルポリマー、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリエステルポリカルボン酸、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリアルキレンイミン、ポリアリルアミン、セルロース類(セルロースまたはその誘導体)、フェノールノボラック樹脂等の直鎖構造または分岐構造を有するポリマー、シクロデキストリン類等の環状ポリマー等が挙げられる。   Examples of the polymer as component (C-1) include acrylic polymer, urethane-modified acrylic polymer, polyamic acid, polyimide, polyvinyl alcohol, polyester, polyester polycarboxylic acid, polyether polyol, polyester polyol, polycarbonate polyol, and polycaprolactone. Examples include polyols, polyalkylenimines, polyallylamines, celluloses (cellulose or derivatives thereof), polymers having a linear or branched structure such as phenol novolac resins, and cyclic polymers such as cyclodextrins.

このうち、アクリル重合体としてはアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン等の不飽和二重結合を有するモノマーを重合して得られる重合体が適用されうる。   Among these, as the acrylic polymer, a polymer obtained by polymerizing a monomer having an unsaturated double bond such as acrylic ester, methacrylic ester or styrene can be applied.

(C−1)成分の例であるアクリル重合体の合成方法としては、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基を有するモノマーと、所望によりそれ以外のモノマーとを(共)重合する方法が簡便である。   As a synthesis method of an acrylic polymer which is an example of the component (C-1), a monomer having at least one substituent selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group and an alkoxysilyl group; If desired, a method of (co) polymerizing with other monomers is convenient.

ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基を有するモノマーとしては、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、2,3−ジヒドロキシプロピルアクリレート、2,3−ジヒドロキシプロピルメタクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、カプロラクトン2−(アクリロイルオキシ)エチルエステル、カプロラクトン2−(メタクリロイルオキシ)エチルエステル、ポリ(エチレングリコール)エチルエーテルアクリレート、ポリ(エチレングリコール)エチルエーテルメタクリレート、5−アクリロイルオキシ−6−ヒドロキシノルボルネン−2−カルボキシリック−6−ラクトン、5−メタクリロイルオキシ−6−ヒドロキシノルボルネン−2−カルボキシリック−6−ラクトン等のヒドロキシ基を有するモノマー、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、モノ−(2−(アクリロイルオキシ)エチル)フタレート、モノ−(2−(メタクリロイルオキシ)エチル)フタレート、ビニル安息香酸、N−(カルボキシフェニル)マレイミド、N−(カルボキシフェニル)メタクリルアミド、N−(カルボキシフェニル)アクリルアミド等のカルボキシル基を有するもモノマー、及び、p−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、o−ヒドロキシスチレン、N−(ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、N−(ヒドロキシフェニル)アクリルアミド及びN−(ヒドロキシフェニル)マレイミド等のフェノール性水酸基を有するモノマー、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド等のアミド基を有するモノマー、アミノエチルアクリレート、アミノエチルメタクリレート、アミノプロピルアクリレート及びアミノプロピルメタクリレート等のアミノ基を有するモノマー、トリメトキシシリルプロピルアクリレート、トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、トリエトキシシリルプロピルアクリレート及びトリエトキシシリルプロピルメタクリレート等のアルコキシシリル基を有するモノマー等が挙げられる。   Examples of the monomer having at least one substituent selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, and an alkoxysilyl group include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, and 2-hydroxypropyl. Acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, 2,3-dihydroxypropyl acrylate, 2,3-dihydroxypropyl methacrylate, diethylene glycol monoacrylate, diethylene glycol monomethacrylate, caprolactone 2- (acryloyloxy) ) Ethyl ester, caprolactone 2- (methacryloyloxy) ethyl ester, poly (ethylene glycol) Ethyl ether acrylate, poly (ethylene glycol) ethyl ether methacrylate, 5-acryloyloxy-6-hydroxynorbornene-2-carboxyl-6-lactone, 5-methacryloyloxy-6-hydroxynorbornene-2-carboxyl-6-lactone Monomers having a hydroxy group such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, mono- (2- (acryloyloxy) ethyl) phthalate, mono- (2- (methacryloyloxy) ethyl) phthalate, vinylbenzoic acid, N- ( Monomers having a carboxyl group such as carboxyphenyl) maleimide, N- (carboxyphenyl) methacrylamide, N- (carboxyphenyl) acrylamide, and p-hydroxystyrene, m-hydroxys Monomers having phenolic hydroxyl groups such as len, o-hydroxystyrene, N- (hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (hydroxyphenyl) acrylamide and N- (hydroxyphenyl) maleimide, acrylamide, methacrylamide, N-methylacrylamide, Monomers having an amide group such as N, N-dimethylacrylamide, N, N-diethylacrylamide, monomers having an amino group such as aminoethyl acrylate, aminoethyl methacrylate, aminopropyl acrylate and aminopropyl methacrylate, trimethoxysilylpropyl acrylate, Alkoxy such as trimethoxysilylpropyl methacrylate, triethoxysilylpropyl acrylate and triethoxysilylpropyl methacrylate Examples thereof include a monomer having a silyl group.

また、本発明においては、(C−1)成分の例であるアクリル重合体を得る際に、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基を有するモノマーの他に、該モノマーと共重合可能な、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる置換基を有さないモノマーを併用することができる。   Moreover, in this invention, when obtaining the acrylic polymer which is an example of (C-1) component, at least 1 substitution chosen from the group which consists of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, and an alkoxysilyl group. In addition to the monomer having a group, a monomer having no substituent selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group and an alkoxysilyl group, which can be copolymerized with the monomer, can be used in combination. .

そのようなモノマーの具体例としては、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物及びビニル化合物等が挙げられる。   Specific examples of such monomers include acrylic ester compounds, methacrylic ester compounds, maleimide compounds, acrylonitrile, maleic anhydride, styrene compounds and vinyl compounds.

以下、前記モノマーの具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。
前記アクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、ナフチルアクリレート、アントリルアクリレート、アントリルメチルアクリレート、フェニルアクリレート、グリシジルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、2−アミノエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、3−メトキシブチルアクリレート、2−メチル−2−アダマンチルアクリレート、2−プロピル−2−アダマンチルアクリレート、8−メチル−8−トリシクロデシルアクリレート、及び、8−エチル−8−トリシクロデシルアクリレート等が挙げられる。
Hereinafter, although the specific example of the said monomer is given, it is not limited to these.
Examples of the acrylic ester compound include methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, isopropyl acrylate, butyl acrylate, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, benzyl acrylate, naphthyl acrylate, anthryl acrylate, anthryl methyl acrylate, and phenyl acrylate. Glycidyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, cyclohexyl acrylate, isobornyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, 2-aminoethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl Acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, 2-methyl-2- Daman chill acrylate, 2-propyl-2-adamantyl acrylate, 8-methyl-8-tricyclodecyl acrylate, and the like 8-ethyl-8-tricyclodecyl acrylate.

前記メタクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、t−ブチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、アントリルメタクリレート、アントリルメチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、2−エトキシエチルメタクリレート、2−アミノメチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、3−メトキシブチルメタクリレート、2−メチル−2−アダマンチルメタクリレート、γ−ブチロラクトンメタクリレート、2−プロピル−2−アダマンチルメタクリレート、8−メチル−8−トリシクロデシルメタクリレート、及び、8−エチル−8−トリシクロデシルメタクリレート等が挙げられる。   Examples of the methacrylic acid ester compound include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl methacrylate, benzyl methacrylate, naphthyl methacrylate, anthryl methacrylate, anthryl methyl methacrylate, and phenyl methacrylate. Glycidyl methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, isobornyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, methoxytriethylene glycol methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, 2-aminomethyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl Methacrylate, 3- Toxibutyl methacrylate, 2-methyl-2-adamantyl methacrylate, γ-butyrolactone methacrylate, 2-propyl-2-adamantyl methacrylate, 8-methyl-8-tricyclodecyl methacrylate, and 8-ethyl-8-tricyclodecyl methacrylate Etc.

前記マレイミド化合物としては、例えば、マレイミド、N−メチルマレイミド、N−フェニルマレイミド、及びN−シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。   Examples of the maleimide compound include maleimide, N-methylmaleimide, N-phenylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide.

前記スチレン化合物としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン等が挙げられる。   Examples of the styrene compound include styrene, methylstyrene, chlorostyrene, bromostyrene, and the like.

前記ビニル化合物としては、例えば、メチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ビニルナフタレン、ビニルカルバゾール、アリルグリシジルエーテル、3−エテニル−7−オキサビシクロ[4.1.0]ヘプタン、1,2−エポキシ−5−ヘキセン、及び、1,7−オクタジエンモノエポキサイド等が挙げられる。   Examples of the vinyl compound include methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, vinyl naphthalene, vinyl carbazole, allyl glycidyl ether, 3-ethenyl-7-oxabicyclo [4.1.0] heptane, 1,2-epoxy-5-hexene. And 1,7-octadiene monoepoxide.

(C−1)成分の例であるアクリル重合体を得るために用いるヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基を有するモノマーの使用量は、(C−1)成分の例であるアクリル重合体を得るために用いる全モノマーの合計量に基づいて、5モル%乃至100モル%であることが好ましい。   (C-1) Amount of monomer having at least one substituent selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group and an alkoxysilyl group used to obtain an acrylic polymer which is an example of the component Is preferably 5 mol% to 100 mol% based on the total amount of all monomers used to obtain an acrylic polymer which is an example of the component (C-1).

(C−1)成分の例であるアクリル重合体を得る方法は特に限定されないが、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基を有するモノマーと、所望によりヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる置換基を有さないモノマーと重合開始剤等とを共存させた溶剤中において、50℃乃至110℃の温度下で重合反応により得られる。その際、用いられる溶剤は、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基を有するモノマーと、所望によりヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる置換基を有さないモノマーおよび重合開始剤等を溶解するものであれば特に限定されない。具体例としては、後述する[溶剤]の項に記載する。   (C-1) Although the method to obtain the acrylic polymer which is an example of a component is not specifically limited, For example, at least 1 substituent chosen from the group which consists of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, and an alkoxy silyl group. In a solvent in which a monomer having no substituent selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group, and an alkoxysilyl group, and a polymerization initiator, if desired, are allowed to coexist. It can be obtained by a polymerization reaction at a temperature of from 1 to 110 ° C. In that case, the solvent used is a monomer having at least one substituent selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group and an alkoxysilyl group, and optionally a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, It is not particularly limited as long as it dissolves a monomer having no substituent selected from the group consisting of an amino group and an alkoxysilyl group, a polymerization initiator, and the like. Specific examples are described in the section of [Solvent] described later.

以上の方法により得られる(C−1)成分の例であるアクリル重合体は、通常、溶剤に溶解した溶液の状態である。   The acrylic polymer which is an example of the component (C-1) obtained by the above method is usually in a solution state dissolved in a solvent.

また、上記方法で得られた(C−1)成分の例であるアクリル重合体の溶液を、攪拌下のジエチルエーテルや水等に投入して再沈殿させ、生成した沈殿物を濾過・洗浄した後に、常圧または減圧下で、常温乾燥または加熱乾燥し、(C−1)成分の例であるアクリル重合体の粉体とすることができる。上述の操作により、(C−1)成分の例であるアクリル重合体と共存する重合開始剤および未反応のモノマーを除去することができ、その結果、精製した(B)成分の例であるアクリル重合体の粉体が得られる。一度の操作で充分に精製できない場合は、得られた粉体を溶剤に再溶解させ、上述の操作を繰り返し行えば良い。   Moreover, the solution of the acrylic polymer which is an example of the component (C-1) obtained by the above method was added to diethyl ether or water under stirring to cause reprecipitation, and the generated precipitate was filtered and washed. Thereafter, it can be dried at normal temperature or under reduced pressure at room temperature or by heating to obtain an acrylic polymer powder as an example of the component (C-1). By the above-mentioned operation, the polymerization initiator coexisting with the acrylic polymer which is an example of the component (C-1) and unreacted monomers can be removed, and as a result, the acrylic which is an example of the purified component (B). A polymer powder is obtained. If sufficient purification cannot be achieved by a single operation, the obtained powder may be redissolved in a solvent and the above operation may be repeated.

(C−1)成分の例であるアクリル重合体は、重量平均分子量が3000乃至200000であることが好ましく、4000乃至150000であることがより好ましく、5000乃至100000であることがさらに好ましい。重量平均分子量が200000を超えて過大なものであると、溶剤に対する溶解性が低下しハンドリング性が低下する場合があり、重量平均分子量が3000未満で過小なものであると、熱硬化時に硬化不足になり溶剤耐性および耐熱性が低下する場合がある。尚、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、標準資料としてポリスチレンを用いて得られる値である。以下、本明細書においても同様とする。   The acrylic polymer as an example of the component (C-1) preferably has a weight average molecular weight of 3000 to 200000, more preferably 4000 to 150,000, and still more preferably 5000 to 100,000. If the weight average molecular weight exceeds 200,000, the solvent solubility may decrease and handling may decrease. If the weight average molecular weight is less than 3,000, the curing may be insufficient during thermal curing. The solvent resistance and heat resistance may be reduced. The weight average molecular weight is a value obtained by using gel as a standard material by gel permeation chromatography (GPC). Hereinafter, the same applies to this specification.

次に、(C−1)成分の特定(共)重合体1の好ましい一例であるポリエーテルポリオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、プロピレングリコールやビスフェノールA、トリエチレングリコール、ソルビトール等の多価アルコールにプロピレンオキサイドやポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等を付加したものが挙げられる。ポリエーテルポリオールの具体例としてはADEKA製アデカポリエーテルPシリーズ、Gシリーズ、EDPシリーズ、BPXシリーズ、FCシリーズ、CMシリーズ、日油製ユニオックス(登録商標)HC−40、HC−60、ST−30E、ST−40E、G−450、G−750、ユニオール(登録商標)TG−330、TG−1000、TG−3000、TG−4000、HS−1600D、DA−400、DA−700、DB−400、ノニオン(登録商標)LT−221、ST−221、OT−221等が挙げられる。   Next, as a polyether polyol which is a preferred example of the specific (co) polymer 1 of the component (C-1), polyhydric alcohols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, propylene glycol, bisphenol A, triethylene glycol and sorbitol And propylene oxide, polyethylene glycol, polypropylene glycol and the like. Specific examples of the polyether polyol include ADEKA Adeka Polyether P Series, G Series, EDP Series, BPX Series, FC Series, CM Series, NOF UNIOX (registered trademark) HC-40, HC-60, ST- 30E, ST-40E, G-450, G-750, Uniol (registered trademark) TG-330, TG-1000, TG-3000, TG-4000, HS-1600D, DA-400, DA-700, DB-400 Nonion (registered trademark) LT-221, ST-221, OT-221 and the like.

(C−1)成分の特定(共)重合体の好ましい一例であるポリエステルポリオールとしては、アジピン酸、セバシン酸、イソフタル酸等の多価カルボン酸にエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジオールを反応させたものが挙げられる。ポリエステルポリオールの具体例としてはDIC製ポリライト(登録商標)OD−X−286、OD−X−102、OD−X−355、OD−X−2330、OD−X−240、OD−X−668、OD−X−2108、OD−X−2376、OD−X−2044、OD−X−688、OD−X−2068、OD−X−2547、OD−X−2420、OD−X−2523、OD−X−2555、OD−X−2560、クラレ製ポリオールP−510、P−1010、P−2010、P−3010、P−4010、P−5010、P−6010、F−510、F−1010、F−2010、F−3010、P−1011、P−2011、P−2013、P−2030、N−2010、PNNA−2016等が挙げられる。   As a polyester polyol which is a preferred example of the specific (co) polymer of the component (C-1), a polyvalent carboxylic acid such as adipic acid, sebacic acid, isophthalic acid, ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, polyethylene glycol, What reacted with diols, such as polypropylene glycol, is mentioned. Specific examples of the polyester polyol include DIC polylite (registered trademark) OD-X-286, OD-X-102, OD-X-355, OD-X-2330, OD-X-240, OD-X-668, OD-X-2108, OD-X-2376, OD-X-2044, OD-X-688, OD-X-2068, OD-X-2547, OD-X-2420, OD-X-2523, OD- X-2555, OD-X-2560, Kuraray polyols P-510, P-1010, P-2010, P-3010, P-4010, P-5010, P-6010, F-510, F-1010, F -2010, F-3010, P-1011, P-2011, P-2013, P-2030, N-2010, PNNA-2016 and the like.

(C−1)成分の特定(共)重合体の好ましい一例であるポリカプロラクトンポリオールとしては、トリメチロールプロパンやエチレングリコール等の多価アルコールを開始剤としてε−カプロラクトンを開環重合させたものが挙げられる。ポリカプロラクトンポリオールの具体例としてはDIC製ポリライト(登録商標)OD−X−2155、OD−X−640、OD−X−2568、ダイセル化学製プラクセル(登録商標)205、L205AL、205U、208、210、212、L212AL、220、230、240、303、305、308、312、320等が挙げられる。   As the polycaprolactone polyol which is a preferred example of the specific (co) polymer of the component (C-1), one obtained by ring-opening polymerization of ε-caprolactone using a polyhydric alcohol such as trimethylolpropane or ethylene glycol as an initiator is used. Can be mentioned. Specific examples of the polycaprolactone polyol include DIC polylite (registered trademark) OD-X-2155, OD-X-640, OD-X-2568, Daicel Chemical's Plaxel (registered trademark) 205, L205AL, 205U, 208, 210. 212, L212AL, 220, 230, 240, 303, 305, 308, 312, 320, and the like.

(C−1)成分の特定(共)重合体の好ましい一例であるポリカーボネートポリオールとしては、トリメチロールプロパンやエチレングリコール等の多価アルコールと炭酸ジエチル、炭酸ジフェニル、エチレンカーボネート等を反応させたものが挙げられる。ポリカーボネートポリオールの具体例としてはダイセル化学製プラクセル(登録商標)CD205、CD205PL、CD210、CD220、クラレ製のC−590、C−1050、C−2050、C−2090、C−3090等が挙げられる。   As a polycarbonate polyol which is a preferred example of the specific (co) polymer of the component (C-1), a product obtained by reacting a polyhydric alcohol such as trimethylolpropane or ethylene glycol with diethyl carbonate, diphenyl carbonate, ethylene carbonate or the like. Can be mentioned. Specific examples of the polycarbonate polyol include Placel (registered trademark) CD205, CD205PL, CD210, CD220 manufactured by Daicel Chemical Industries, C-590, C-1050, C-2050, C-2090, C-3090 manufactured by Kuraray, and the like.

(C−1)成分の特定(共)重合体1の好ましい一例であるセルロースとしては、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のヒドロキシアルキルセルロース類、ヒドロキシエチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシエチルエチルセルロース等のヒドロキシアルキルアルキルセルロース類およびセルロース等が挙げられ、例えば、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のヒドロキシアルキルセルロース類が好ましい。   (C-1) Specific examples of the specific (co) polymer 1 of the cellulose include cellulose, hydroxyalkylcelluloses such as hydroxyethylcellulose and hydroxypropylcellulose, hydroxyethylmethylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose, hydroxyethylethylcellulose and the like. Examples include alkylalkyl celluloses and celluloses, and hydroxyalkyl celluloses such as hydroxyethyl cellulose and hydroxypropyl cellulose are preferable.

(C−1)成分の特定(共)重合体1の好ましい一例であるシクロデキストリンとしては、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリンおよびγシクロデキストリン等のシクロデキストリン、メチル−α−シクロデキストリン、メチル−β−シクロデキストリンならびにメチル−γ−シクロデキストリン等のメチル化シクロデキストリン、ヒドロキシメチル−α−シクロデキストリン、ヒドロキシメチル−β−シクロデキストリン、ヒドロキシメチル−γ−シクロデキストリン、2−ヒドロキシエチル−α−シクロデキストリン、2−ヒドロキシエチル−β−シクロデキストリン、2−ヒドロキシエチル−γ−シクロデキストリン、2−ヒドロキシプロピル−α−シクロデキストリン、2−ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリン、2−ヒドロキシプロピル−γ−シクロデキストリン、3−ヒドロキシプロピル−α−シクロデキストリン、3−ヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリン、3−ヒドロキシプロピル−γ−シクロデキストリン、2,3−ジヒドロキシプロピル−α−シクロデキストリン、2,3−ジヒドロキシプロピル−β−シクロデキストリン、2,3−ジヒドロキシプロピル−γ−シクロデキストリン等のヒドロキシアルキルシクロデキストリン等が挙げられる。   (C-1) Component Specific Cyclodextrin which is a preferred example of the (co) polymer 1 includes cyclodextrins such as α-cyclodextrin, β-cyclodextrin and γcyclodextrin, methyl-α-cyclodextrin, methyl -Methylated cyclodextrins such as β-cyclodextrin and methyl-γ-cyclodextrin, hydroxymethyl-α-cyclodextrin, hydroxymethyl-β-cyclodextrin, hydroxymethyl-γ-cyclodextrin, 2-hydroxyethyl-α- Cyclodextrin, 2-hydroxyethyl-β-cyclodextrin, 2-hydroxyethyl-γ-cyclodextrin, 2-hydroxypropyl-α-cyclodextrin, 2-hydroxypropyl-β-cyclodextrin, 2-hydroxy Droxypropyl-γ-cyclodextrin, 3-hydroxypropyl-α-cyclodextrin, 3-hydroxypropyl-β-cyclodextrin, 3-hydroxypropyl-γ-cyclodextrin, 2,3-dihydroxypropyl-α-cyclodextrin And hydroxyalkyl cyclodextrins such as 2,3-dihydroxypropyl-β-cyclodextrin and 2,3-dihydroxypropyl-γ-cyclodextrin.

(C−1)成分の特定(共)重合体1の好ましい一例であるウレタン変性アクリルポリマーとしては、市販品として、大成ファインケミカル製アクリット(登録商標)8UA−017、8UA−239、8UA−239H、8UA−140、8UA―146、8UA−585H、8UA−301、8UA−318、8UA−347A、8UA−347H、8UA−366等が挙げられる。   As a urethane-modified acrylic polymer which is a preferable example of the specific (co) polymer 1 of the component (C-1), as a commercially available product, Arit (registered trademark) 8UA-017, 8UA-239, 8UA-239H manufactured by Taisei Fine Chemical, 8UA-140, 8UA-146, 8UA-585H, 8UA-301, 8UA-318, 8UA-347A, 8UA-347H, 8UA-366 and the like.

(C−1)成分の特定(共)重合体1の好ましい一例であるフェノールノボラック樹脂としては、例えば、フェノール−ホルムアルデヒド重縮合物などが挙げられる。   Examples of the phenol novolak resin which is a preferred example of the specific (co) polymer 1 of the component (C-1) include a phenol-formaldehyde polycondensate.

本発明の組成物において、(C−1)成分のポリマーは、粉体形態で、または精製した粉末を後述する溶剤に再溶解した溶液形態で用いてもよい。   In the composition of the present invention, the polymer of the component (C-1) may be used in a powder form or in a solution form in which a purified powder is redissolved in a solvent described later.

また、本発明の組成物において、(C−1)成分は、(C−1)成分として例示されたポリマーの複数種の混合物であってもよい。   In the composition of the present invention, the component (C-1) may be a mixture of a plurality of polymers exemplified as the component (C-1).

[(C−2)成分]
本実施の形態の硬化膜形成組成物において、(C−2)成分は(A)成分と熱反応可能な置換基を有し、自己架橋可能なポリマー(以下特定(共)重合体2ともいう)とすることもできる。
[(C-2) component]
In the cured film forming composition of the present embodiment, the component (C-2) has a substituent capable of thermally reacting with the component (A) and is a self-crosslinkable polymer (hereinafter also referred to as a specific (co) polymer 2). ).

特定(共)重合体2は、より詳しくは、(A)成分との熱反応及び自己架橋反応を起こし、かつ(A)成分の昇華温度より低温で反応する架橋性置換基(以下、架橋性置換基とヒドロキシ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基およびアルコキシシリル基とをまとめて特定官能基ともいう)を有するポリマーである。(A)成分と(C−2)成分との熱反応により、(A)成分が昇華するのを抑制することができる。そして、本実施の形態の硬化膜形成組成物は、硬化膜として、上述したように、光反応効率の高い配向材を形成することができる。   More specifically, the specific (co) polymer 2 undergoes a thermal reaction and a self-crosslinking reaction with the component (A) and reacts at a temperature lower than the sublimation temperature of the component (A) (hereinafter, crosslinkable). A polymer having a substituent and a hydroxy group, a carboxyl group, an amino group, an amide group, and an alkoxysilyl group are also referred to as a specific functional group. The sublimation of the component (A) can be suppressed by the thermal reaction between the component (A) and the component (C-2). And the cured film formation composition of this Embodiment can form the orientation material with high photoreaction efficiency as above-mentioned as a cured film.

(C−2)成分のポリマーが含有する好ましい架橋性置換基としては、アルコキシメチルアミド基、アルコキシシリル基等があげられる。かかる架橋性置換基の含有量は、(C−2)成分の繰り返し単位1単位あたり、0.5乃至1個であることが好ましく、配向材の耐溶剤性という観点から、0.8乃至1個であることがさらに好ましい。   Preferred crosslinkable substituents contained in the polymer of component (C-2) include alkoxymethylamide groups and alkoxysilyl groups. The content of the crosslinkable substituent is preferably 0.5 to 1 per repeating unit of the component (C-2). From the viewpoint of solvent resistance of the alignment material, 0.8 to 1 More preferably.

(C−2)成分のポリマーとしては、例えば、N−ヒドロキシメチルアクリルアミド、N−メトキシメチルメタクリルアミド、N−エトキシメチルアクリルアミド、N−ブトキシメチルメタクリルアミド等のヒドロキシメチル基またはアルコキシメチル基で置換されたアクリルアミド化合物またはメタクリルアミド化合物を使用して製造されるポリマーを用いることができる。   As the polymer of component (C-2), for example, substituted with a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group such as N-hydroxymethylacrylamide, N-methoxymethylmethacrylamide, N-ethoxymethylacrylamide, N-butoxymethylmethacrylamide, etc. Polymers produced using acrylamide compounds or methacrylamide compounds can be used.

そのようなポリマーとしては、例えば、ポリ(N−ブトキシメチルアクリルアミド)、N−ブトキシメチルアクリルアミドとスチレンとの共重合体、N−ヒドロキシメチルメタクリルアミドとメチルメタクリレートとの共重合体、N−エトキシメチルメタクリルアミドとベンジルメタクリレートとの共重合体、および、N−ブトキシメチルアクリルアミドとベンジルメタクリレートと2−ヒドロキシプロピルメタクリレートとの共重合体等が挙げられる。   Examples of such a polymer include poly (N-butoxymethylacrylamide), a copolymer of N-butoxymethylacrylamide and styrene, a copolymer of N-hydroxymethylmethacrylamide and methylmethacrylate, and N-ethoxymethyl. Examples thereof include a copolymer of methacrylamide and benzyl methacrylate, a copolymer of N-butoxymethyl acrylamide, benzyl methacrylate, and 2-hydroxypropyl methacrylate.

また、(C−2)成分としてはアルコキシシリル基を有する化合物を使用して製造されるポリマーも用いることができる。
そのようなポリマーとしては、例えば、ポリ(3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン)、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランとスチレンとの共重合体、ポリ(3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン)、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランとメチルメタクリレートとの共重合体等が挙げられる。
Moreover, the polymer manufactured using the compound which has an alkoxy silyl group as (C-2) component can also be used.
Examples of such a polymer include poly (3-methacryloxypropyltrimethoxysilane), a copolymer of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane and styrene, poly (3-acryloxypropyltrimethoxysilane), 3 -A copolymer of acryloxypropyltrimethoxysilane and methyl methacrylate, and the like.

また、本実施の形態の硬化膜形成組成物に用いる特定(共)重合体2においては、特定官能基を有するモノマーと共重合可能なモノマー(以下非反応性官能基を有するモノマーともいう)を併用することができる。   Moreover, in the specific (co) polymer 2 used for the cured film forming composition of this Embodiment, the monomer (henceforth the monomer which has a non-reactive functional group) copolymerizable with the monomer which has a specific functional group is used. Can be used together.

そのようなモノマーの具体例としては、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物及びビニル化合物等が挙げられる。
上記モノマーの具体例は、(C−1)成分のところで記載した通りである。
Specific examples of such monomers include acrylic ester compounds, methacrylic ester compounds, maleimide compounds, acrylonitrile, maleic anhydride, styrene compounds and vinyl compounds.
Specific examples of the monomer are as described for the component (C-1).

本実施の形態の硬化膜形成組成物に用いる特定(共)重合体2を得る方法は特に限定されないが、例えば、特定官能基を有するモノマー、所望により非反応性官能基を有するモノマーおよび重合開始剤等を共存させた溶剤中において、50℃乃至110℃の温度下で重合反応させて得られる。その際、用いられる溶剤は、特定官能基を有するモノマー、所望により用いられる非反応性官能基を有するモノマーおよび重合開始剤等を溶解するものであれば特に限定されない。具体例としては、後述する溶剤に記載する溶剤が挙げられる。
このようにして得られる特定(共)重合体2は、通常、溶剤に溶解した溶液の状態である。
The method for obtaining the specific (co) polymer 2 used in the cured film-forming composition of the present embodiment is not particularly limited. For example, a monomer having a specific functional group, a monomer having a non-reactive functional group if desired, and polymerization initiation It is obtained by carrying out a polymerization reaction at a temperature of 50 ° C. to 110 ° C. in a solvent in which an agent or the like is present. In that case, the solvent used will not be specifically limited if the monomer which has a specific functional group, the monomer which has a non-reactive functional group used depending on necessity, a polymerization initiator, etc. are dissolved. Specific examples include solvents described in Solvents described below.
The specific (co) polymer 2 thus obtained is usually in the state of a solution dissolved in a solvent.

また、上記のようにして得られた特定(共)重合体2の溶液を、ジエチルエーテルや水等の撹拌下に投入して再沈殿させ、生成した沈殿物を濾過・洗浄した後、常圧又は減圧下で、常温あるいは加熱乾燥することで、特定(共)重合体2の粉体とすることができる。このような操作により、特定(共)重合体2と共存する重合開始剤や未反応モノマーを除去することができ、その結果、精製した特定(共)重合体2の粉体が得られる。一度の操作で充分に精製できない場合は、得られた粉体を溶剤に再溶解して、上記の操作を繰り返し行えば良い。   In addition, the solution of the specific (co) polymer 2 obtained as described above is re-precipitated by stirring with stirring such as diethyl ether or water, and the generated precipitate is filtered and washed. Or it can be set as the powder of the specific (co) polymer 2 by carrying out normal temperature or heat drying under reduced pressure. By such an operation, the polymerization initiator and unreacted monomer coexisting with the specific (co) polymer 2 can be removed, and as a result, a purified powder of the specific (co) polymer 2 is obtained. If sufficient purification cannot be achieved by a single operation, the obtained powder may be redissolved in a solvent and the above operation may be repeated.

本実施の形態の硬化膜形成組成物においては、上記特定(共)重合体2の粉体をそのまま用いても良く、あるいはその粉体を、たとえば後述する溶剤に再溶解して溶液の状態として用いても良い。   In the cured film forming composition of the present embodiment, the powder of the specific (co) polymer 2 may be used as it is, or the powder is redissolved in, for example, a solvent described later to form a solution state. It may be used.

また、本実施形態においては、(C−2)成分のポリマーは、複数種の特定(共)重合体2の混合物であってもよい。     In the present embodiment, the polymer of component (C-2) may be a mixture of a plurality of types of specific (co) polymers 2.

このようなポリマーの重量平均分子量は、1000乃至500000であり、好ましくは、1000乃至200000であり、より好ましくは1000乃至100000であり、さらに好ましくは2000乃至50000である。
これらのポリマーは、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
[(C−3)成分]
The weight average molecular weight of such a polymer is 1000 to 500000, preferably 1000 to 200000, more preferably 1000 to 100,000, and still more preferably 2000 to 50000.
These polymers can be used alone or in combination of two or more.
[(C-3) component]

(C−3)成分のメラミンホルムアルデヒド樹脂としては、メラミンとホルムアルデヒドを重縮合して得られる樹脂であり下記式で表される。   The (C-3) component melamine formaldehyde resin is a resin obtained by polycondensation of melamine and formaldehyde, and is represented by the following formula.

Figure 0006604483
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上記式中、R21は水素原子または炭素原子数1乃至4のアルキル基を表し、nは繰り返し単位の数を表す自然数である。炭素原子数1乃至4のアルキル基としては、上記に挙げられたアルキル基のうち該当する炭素原子数の基が挙げられる。In the above formula, R 21 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n is a natural number representing the number of repeating units. Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include groups having the corresponding number of carbon atoms among the alkyl groups listed above.

(C−3)成分のメラミンホルムアルデヒド樹脂は、保存安定性の観点からメラミンとホルムアルデヒドの重縮合の際に生成したメチロール基がアルキル化されていることが好ましい。   In the melamine formaldehyde resin as the component (C-3), it is preferable that the methylol group generated during the polycondensation of melamine and formaldehyde is alkylated from the viewpoint of storage stability.

(C−3)成分のメラミンホルムアルデヒド樹脂を得る方法は特には限定されないが、一般的にメラミンとホルムアルデヒドを混合し、炭酸ナトリウムやアンモニア等を用いて弱アルカリ性にした後60℃乃至100℃にて加熱することにより合成される。さらにアルコールと反応させることでメチロール基をアルコキシ化することができる。   The method for obtaining the melamine formaldehyde resin as the component (C-3) is not particularly limited, but in general, melamine and formaldehyde are mixed and made weakly alkaline using sodium carbonate, ammonia or the like, and then at 60 ° C to 100 ° C. Synthesized by heating. Further, the methylol group can be alkoxylated by reacting with alcohol.

(C−3)成分のメラミンホルムアルデヒド樹脂は、重量平均分子量が250乃至5000であることが好ましく、300乃至4000であることがより好ましく、350乃至3500であることがさらに好ましい。重量平均分子量が5000を超えて過大なものであると、溶剤に対する溶解性が低下しハンドリング性が低下する場合があり、重量平均分子量が250未満で過小なものであると、熱硬化時に硬化不足になり溶剤耐性および耐熱性の向上効果が十分に現れない場合がある。   The (C-3) component melamine formaldehyde resin preferably has a weight average molecular weight of 250 to 5000, more preferably 300 to 4000, and even more preferably 350 to 3500. If the weight average molecular weight exceeds 5,000, the solubility in the solvent may decrease and handling may decrease. If the weight average molecular weight is less than 250, the curing may be insufficient during thermal curing. Therefore, the effect of improving solvent resistance and heat resistance may not be sufficiently exhibited.

本発明の実施形態においては、(C−3)成分のメラミンホルムアルデヒド樹脂は液体形態で、あるいは精製した液体を後述する溶剤に再溶解した溶液形態で用いてもよい。   In the embodiment of the present invention, the melamine formaldehyde resin as the component (C-3) may be used in a liquid form or a solution form in which a purified liquid is redissolved in a solvent described later.

また、本発明の実施形態においては、(C)成分は、(C−1)、(C−2)及び(C−3)からなる群から選ばれる複数種のポリマーの混合物であってもよい。   In the embodiment of the present invention, the component (C) may be a mixture of plural types of polymers selected from the group consisting of (C-1), (C-2) and (C-3). .

本発明の硬化膜形成組成物における(C)成分の含有量は、(A)成分及び(B)成分の合計量100質量部に基づいて、5質量部乃至500質量部である。(C)成分のポリマーの含有量が過小である場合には、硬化膜形成組成物から得られる硬化膜の溶剤耐性及び耐熱性が低下し、光配向時の配向感度が低下する。他方、含有量が過大である場合には光配向性及び保存安定性が低下することがある。   Content of (C) component in the cured film forming composition of this invention is 5 mass parts thru | or 500 mass parts based on 100 mass parts of total amounts of (A) component and (B) component. When the content of the component (C) polymer is too small, the solvent resistance and heat resistance of the cured film obtained from the cured film-forming composition are reduced, and the alignment sensitivity during photo-alignment is decreased. On the other hand, when the content is excessive, the photo-alignment property and the storage stability may be lowered.

[(D)成分]
本発明の光学フィルムにおける表面の硬化膜を形成する組成物は、上述した(A)成分及び(B)成分及び(C)成分に加え、さらに(D)成分として架橋触媒を含有することができる。
(D)成分である架橋触媒としては、例えば、酸又は熱酸発生剤が挙げられる。この(D)成分は、本発明の光学フィルムにおける表面の硬化膜を形成する組成物を用いた硬化膜の形成において、熱硬化反応の促進に有効となる。
[(D) component]
The composition for forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention can further contain a crosslinking catalyst as the component (D) in addition to the components (A), (B) and (C) described above. .
As a crosslinking catalyst which is (D) component, an acid or a thermal acid generator is mentioned, for example. This component (D) is effective in promoting a thermosetting reaction in the formation of a cured film using a composition for forming a cured film on the surface of the optical film of the present invention.

(D)成分として酸又は熱酸発生剤を用いる場合、(D)成分は、スルホン酸基含有化合物、塩酸又はその塩、プリベーク又はポストベーク時に熱分解して酸を発生する化合物、すなわち温度80℃〜250℃で熱分解して酸を発生する化合物であれば特に限定されるものではない。   When an acid or a thermal acid generator is used as the component (D), the component (D) is a sulfonic acid group-containing compound, hydrochloric acid or a salt thereof, a compound that generates an acid by thermal decomposition during pre-baking or post-baking, that is, a temperature of 80 The compound is not particularly limited as long as it is a compound that generates an acid by thermal decomposition at a temperature of from 250C to 250C.

そのような化合物としては、例えば、塩酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホン酸、ペンタンスルホン酸、オクタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、カンファスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、p−フェノールスルホン酸、2−ナフタレンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、p−キシレン−2−スルホン酸、m−キシレン−2−スルホン酸、4−エチルベンゼンスルホン酸、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクタンスルホン酸、パーフルオロ(2−エトキシエタン)スルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ノナフルオロブタン−1−スルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等のスルホン酸又はその水和物や塩等が挙げられる。   Examples of such compounds include hydrochloric acid, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, propanesulfonic acid, butanesulfonic acid, pentanesulfonic acid, octanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, trifluoro. L-methanesulfonic acid, p-phenolsulfonic acid, 2-naphthalenesulfonic acid, mesitylenesulfonic acid, p-xylene-2-sulfonic acid, m-xylene-2-sulfonic acid, 4-ethylbenzenesulfonic acid, 1H, 1H, 2H, Sulfonic acids such as 2H-perfluorooctanesulfonic acid, perfluoro (2-ethoxyethane) sulfonic acid, pentafluoroethanesulfonic acid, nonafluorobutane-1-sulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid or the hydrates and salts thereof Is mentioned.

また、熱により酸を発生する化合物としては、例えば、ビス(トシルオキシ)エタン、ビス(トシルオキシ)プロパン、ビス(トシルオキシ)ブタン、p−ニトロベンジルトシレート、o−ニトロベンジルトシレート、1,2,3−フェニレントリス(メチルスルホネート)、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩、p−トルエンスルホン酸モルフォニウム塩、p−トルエンスルホン酸エチルエステル、p−トルエンスルホン酸プロピルエステル、p−トルエンスルホン酸ブチルエステル、p−トルエンスルホン酸イソブチルエステル、p−トルエンスルホン酸メチルエステル、p−トルエンスルホン酸フェネチルエステル、シアノメチルp−トルエンスルホネート、2,2,2−トリフルオロエチルp−トルエンスルホネート、2−ヒドロキシブチルp−トシレート、N−エチル−4−トルエンスルホンアミド、および下記式[TAG−1]乃至式[TAG−41]で表される化合物等を挙げることができる。   Examples of the compound that generates an acid by heat include bis (tosyloxy) ethane, bis (tosyloxy) propane, bis (tosyloxy) butane, p-nitrobenzyl tosylate, o-nitrobenzyl tosylate, 1,2, 3-phenylene tris (methylsulfonate), p-toluenesulfonic acid pyridinium salt, p-toluenesulfonic acid morphonium salt, p-toluenesulfonic acid ethyl ester, p-toluenesulfonic acid propyl ester, p-toluenesulfonic acid butyl ester, p-toluenesulfonic acid isobutyl ester, p-toluenesulfonic acid methyl ester, p-toluenesulfonic acid phenethyl ester, cyanomethyl p-toluenesulfonate, 2,2,2-trifluoroethyl p-toluenesulfonate, 2-hydride Kishibuchiru p- tosylate, N- ethyl-4-toluenesulfonamide, and the following formula [TAG-1] to may be mentioned a compound represented by such formula [TAG-41].

Figure 0006604483
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本発明の実施形態の硬化膜形成組成物における(D)成分の含有量は、(A)成分である光配向性基及び熱架橋性基を有する化合物の少なくとも一種、(B)成分であるポリマー、(C)成分であるポリマーとの合計量の100質量部に対して、0.01質量部〜20質量部、好ましくは0.01質量部〜10質量部、より好ましくは0.05質量部〜8質量部、さらに好ましくは0.1質量部〜6質量部である。(D)成分の含有量を0.01質量部以上とすることで、充分な熱硬化性と溶剤耐性を付与することができ、露光に対する高い感度をも付与することができる。また、20質量部以下とすることで、硬化膜形成組成物の保存安定性を良好にすることができる。   Content of (D) component in the cured film formation composition of embodiment of this invention is at least 1 type of the compound which has the photo-alignment group which is (A) component, and a thermal crosslinkable group, The polymer which is (B) component , With respect to 100 parts by mass of the total amount of the polymer as component (C), 0.01 parts by mass to 20 parts by mass, preferably 0.01 parts by mass to 10 parts by mass, more preferably 0.05 parts by mass. -8 parts by mass, more preferably 0.1-6 parts by mass. By setting the content of component (D) to 0.01 parts by mass or more, sufficient thermosetting and solvent resistance can be imparted, and high sensitivity to exposure can also be imparted. Moreover, the storage stability of a cured film forming composition can be made favorable by setting it as 20 mass parts or less.

[(E)成分]
本実施形態の硬化膜形成組成物は、必要に応じて、(E)成分として架橋剤を含有する。 より詳しくは、(E)成分は、上述の(A)成分および(C)成分と反応する架橋剤である。(E)成分は、(A)成分である化合物のヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基及びトリアルコキシシリル基から選ばれる置換基、(C)成分に含まれるヒドロキシ基、カルボキシル基、アミノ基及びトリアルコキシシリル基から選ばれる置換基と結合する。そして、本実施の形態の硬化膜形成組成物は、硬化膜として、光反応効率の高い配向材を形成することができる。
[(E) component]
The cured film forming composition of this embodiment contains a crosslinking agent as (E) component as needed. More specifically, the component (E) is a crosslinking agent that reacts with the components (A) and (C) described above. Component (E) is a substituent selected from the hydroxy group, carboxyl group, amide group, amino group, and trialkoxysilyl group of the compound that is component (A), hydroxy group, carboxyl group, amino group included in component (C) And a substituent selected from a trialkoxysilyl group. And the cured film formation composition of this Embodiment can form alignment material with high photoreaction efficiency as a cured film.

(E)成分である架橋剤としては、エポキシ化合物、メチロール化合物およびイソシアナート化合物等の化合物が挙げられるが、好ましくはメチロール化合物である。   (E) As a crosslinking agent which is a component, compounds, such as an epoxy compound, a methylol compound, and an isocyanate compound, are mentioned, Preferably it is a methylol compound.

上述したメチロール化合物の具体例としては、例えば、アルコキシメチル化グリコールウリル、アルコキシメチル化ベンゾグアナミンおよびアルコキシメチル化メラミン等の化合物が挙げられる。   Specific examples of the methylol compound described above include compounds such as alkoxymethylated glycoluril, alkoxymethylated benzoguanamine, and alkoxymethylated melamine.

アルコキシメチル化グリコールウリルの具体例としては、例えば、1,3,4,6−テトラキス(メトキシメチル)グリコールウリル、1,3,4,6−テトラキス(ブトキシメチル)グリコールウリル、1,3,4,6−テトラキス(ヒドロキシメチル)グリコールウリル、1,3−ビス(ヒドロキシメチル)尿素、1,1,3,3−テトラキス(ブトキシメチル)尿素、1,1,3,3−テトラキス(メトキシメチル)尿素、1,3−ビス(ヒドロキシメチル)−4,5−ジヒドロキシ−2−イミダゾリノン、および1,3−ビス(メトキシメチル)−4,5−ジメトキシ−2−イミダゾリノン等が挙げられる。市販品として、三井サイテック(株)製グリコールウリル化合物(商品名:サイメル(登録商標)1170、パウダーリンク(登録商標)1174)等の化合物、メチル化尿素樹脂(商品名:UFR(登録商標)65)、ブチル化尿素樹脂(商品名:UFR(登録商標)300、U−VAN10S60、U−VAN10R、U−VAN11HV)、大日本インキ化学工業(株)製尿素/ホルムアルデヒド系樹脂(高縮合型、商品名:ベッカミン(登録商標)J−300S、同P−955、同N)等が挙げられる。   Specific examples of the alkoxymethylated glycoluril include, for example, 1,3,4,6-tetrakis (methoxymethyl) glycoluril, 1,3,4,6-tetrakis (butoxymethyl) glycoluril, 1,3,4 , 6-Tetrakis (hydroxymethyl) glycoluril, 1,3-bis (hydroxymethyl) urea, 1,1,3,3-tetrakis (butoxymethyl) urea, 1,1,3,3-tetrakis (methoxymethyl) Examples include urea, 1,3-bis (hydroxymethyl) -4,5-dihydroxy-2-imidazolinone, and 1,3-bis (methoxymethyl) -4,5-dimethoxy-2-imidazolinone. As commercially available products, compounds such as glycoluril compounds (trade names: Cymel (registered trademark) 1170, Powderlink (registered trademark) 1174) manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd., methylated urea resins (trade name: UFR (registered trademark) 65) ), Butylated urea resin (trade names: UFR (registered trademark) 300, U-VAN10S60, U-VAN10R, U-VAN11HV), urea / formaldehyde resin (high condensation type, commercial product) manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. Name: Becamine (registered trademark) J-300S, P-955, N) and the like.

アルコキシメチル化ベンゾグアナミンの具体例としては、例えば、テトラメトキシメチルベンゾグアナミン等が挙げられる。市販品として、三井サイテック(株)製(商品名:サイメル(登録商標)1123)、(株)三和ケミカル製(商品名:ニカラック(登録商標)BX−4000、同BX−37、同BL−60、同BX−55H)等が挙げられる。   Specific examples of the alkoxymethylated benzoguanamine include, for example, tetramethoxymethylbenzoguanamine. As commercial products, Mitsui Cytec Co., Ltd. (trade name: Cymel (registered trademark) 1123), Sanwa Chemical Co., Ltd. (trade names: Nikarac (registered trademark) BX-4000, BX-37, BL- 60, BX-55H) and the like.

アルコキシメチル化メラミンの具体例としては、例えば、ヘキサメトキシメチルメラミン等が挙げられる。市販品として、三井サイテック(株)製メトキシメチルタイプメラミン化合物(商品名:サイメル(登録商標)300、同301、同303、同350)、ブトキシメチルタイプメラミン化合物(商品名:マイコート(登録商標)506、同508)、三和ケミカル製メトキシメチルタイプメラミン化合物(商品名:ニカラック(登録商標)MW−30、同MW−22、同MW−11、同MS−001、同MX−002、同MX−730、同MX−750、同MX−035)、ブトキシメチルタイプメラミン化合物(商品名:ニカラック(登録商標)MX−45、同MX−410、同MX−302)等が挙げられる。   Specific examples of alkoxymethylated melamine include, for example, hexamethoxymethylmelamine. As commercially available products, methoxymethyl type melamine compounds (trade names: Cymel (registered trademark) 300, 301, 303, 350) manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd., butoxymethyl type melamine compounds (trade name: My Coat (registered trademark)) 506, 508), methoxymethyl type melamine compound manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd. (trade names: Nicalac (registered trademark) MW-30, MW-22, MW-11, MS-001, MX-002, MX-730, MX-750, MX-035), butoxymethyl type melamine compounds (trade names: Nicalac (registered trademark) MX-45, MX-410, MX-302) and the like.

また、このようなアミノ基の水素原子がメチロール基またはアルコキシメチル基で置換されたメラミン化合物、尿素化合物、グリコールウリル化合物およびベンゾグアナミン化合物を縮合させて得られる化合物であってもよい。例えば、米国特許第6323310号に記載されているメラミン化合物およびベンゾグアナミン化合物から製造される高分子量の化合物が挙げられる。前記メラミン化合物の市販品としては、商品名:サイメル(登録商標)303(三井サイテック(株)製)等が挙げられ、前記ベンゾグアナミン化合物の市販品としては、商品名:サイメル(登録商標)1123(三井サイテック(株)製)等が挙げられる。   Moreover, the compound obtained by condensing the melamine compound by which the hydrogen atom of such an amino group was substituted by the methylol group or the alkoxymethyl group, the urea compound, the glycoluril compound, and the benzoguanamine compound may be sufficient. For example, the high molecular weight compound manufactured from the melamine compound and the benzoguanamine compound which are described in US Patent 6,323,310 is mentioned. Examples of commercially available products of the melamine compound include trade name: Cymel (registered trademark) 303 (manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd.). Examples of commercially available products of the benzoguanamine compound include product name: Cymel (registered trademark) 1123 ( Mitsui Cytec Co., Ltd.).

これらの架橋剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。   These crosslinking agents can be used alone or in combination of two or more.

本実施の形態の硬化膜形成組成物における(E)成分の架橋剤の含有量は、(A)成分である化合物、(B)成分であるポリマー及び(C)成分のポリマーとの合計量の100質量部に基づいて50質量部以下であることが好ましく、より好ましくは30質量部以下である。架橋剤の含有量が過大である場合には光配向性および保存安定性が低下することがある。   The content of the crosslinking agent of component (E) in the cured film forming composition of the present embodiment is the total amount of the compound that is component (A), the polymer that is component (B), and the polymer that is component (C). It is preferable that it is 50 mass parts or less based on 100 mass parts, More preferably, it is 30 mass parts or less. When the content of the crosslinking agent is excessive, the photo-alignment property and the storage stability may be lowered.

[その他の添加剤]
本発明の実施形態の硬化膜形成組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の添加剤を含有することができる。
その他の添加剤としては、例えば、増感剤を含有することができる。増感剤は、本発明の光学フィルムにおける表面の硬化膜を形成するに際し、その光反応を促進することにおいて有効となる。
[Other additives]
The cured film forming composition of the embodiment of the present invention can contain other additives as long as the effects of the present invention are not impaired.
As other additives, for example, a sensitizer can be contained. The sensitizer is effective in promoting the photoreaction when forming the cured film on the surface of the optical film of the present invention.

増感剤としては、ベンゾフェノン、アントラセン、アントラキノン及びチオキサントン等の誘導体並びにニトロフェニル化合物等が挙げられる。これらのうちベンゾフェノンの誘導体であるN,N−ジエチルアミノベンゾフェノン、及びニトロフェニル化合物である2−ニトロフルオレン、2−ニトロフルオレノン、5−ニトロアセナフテン、4−ニトロビフェニル、4−ニトロけい皮酸、4−ニトロスチルベン、4−ニトロベンゾフェノン、5−ニトロインドールが特に好ましい。   Examples of the sensitizer include benzophenone, anthracene, anthraquinone and thioxanthone derivatives and nitrophenyl compounds. Of these, N, N-diethylaminobenzophenone, which is a derivative of benzophenone, and 2-nitrofluorene, 2-nitrofluorenone, 5-nitroacenaphthene, 4-nitrobiphenyl, 4-nitrocinnamic acid, which are nitrophenyl compounds, 4 -Nitrostilbene, 4-nitrobenzophenone, 5-nitroindole are particularly preferred.

これらの増感剤は特に上述のものに限定されるものではない。これらは、単独又は2種以上の化合物を併用することが可能である。   These sensitizers are not particularly limited to those described above. These can be used alone or in combination of two or more compounds.

本発明の実施形態において、増感剤の使用割合は、(A)成分の100質量部に対して0.1質量部〜20質量部であることが好ましく、より好ましくは0.2質量部〜10質量部である。この割合が過小である場合には、増感剤としての効果を充分に得られない場合があり、過大である場合には、形成される硬化膜の透過率が低下したり塗膜が荒れたりすることがある。   In the embodiment of the present invention, the use ratio of the sensitizer is preferably 0.1 parts by mass to 20 parts by mass, more preferably 0.2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). 10 parts by mass. If this ratio is too small, the effect as a sensitizer may not be sufficiently obtained. If it is too large, the transmittance of the formed cured film may be reduced or the coating film may be roughened. There are things to do.

また、本発明の実施形態の硬化膜形成組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の添加剤として、シランカップリング剤、界面活性剤、レオロジー調整剤、顔料、染料、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤等を含有することができる。   In addition, the cured film forming composition according to the embodiment of the present invention includes, as other additives, silane coupling agents, surfactants, rheology modifiers, pigments, dyes, storage stability, as long as the effects of the present invention are not impaired. Agents, antifoaming agents, antioxidants, and the like.

[溶剤]
本発明の実施形態の硬化膜形成組成物は、溶剤に溶解した溶液状態で用いられることが多い。その際に用いられる溶剤は、(A)成分及び(B)成分、所望により(C)成分、(D)成分、(E)成分、及び/又は、その他の添加剤を溶解するものであり、そのような溶解能を有する溶剤であれば、その種類及び構造などは特に限定されるものでない。
[solvent]
The cured film forming composition of the embodiment of the present invention is often used in a solution state dissolved in a solvent. The solvent used in that case is one that dissolves the component (A) and the component (B), and optionally the component (C), the component (D), the component (E), and / or other additives, The type and structure of the solvent are not particularly limited as long as the solvent has such solubility.

溶剤の具体例を挙げると、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、シクロペンチルメチルエーテル、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ブタノン、3−メチル−2−ペンタノン、2−ペンタノン、2−ヘプタノン、γ−ブチロラクトン、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、酢酸n−プロピル、酢酸イソプロピル、イソプロパノール、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、及びN−メチル−2−ピロリドン等が挙げられる。   Specific examples of the solvent include, for example, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether Acetate, propylene glycol propyl ether, propylene glycol propyl ether acetate, cyclopentyl methyl ether, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-butanone, 3-methyl-2-pentanone, 2-pentanone, 2-heptanone, γ -Butyrolactone, 2-hydroxypropion Ethyl, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, 3-ethoxypropionic acid Methyl, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, butyl lactate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, isopropanol, N, N-dimethylformamide, N, N- Examples thereof include dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone.

これらの溶剤は、一種単独で、又は二種以上の組合せで使用することができる。これら溶剤のうち、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、酢酸エチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸エチル及び3−エトキシプロピオン酸メチルは成膜性が良好で安全性が高いためより好ましい。   These solvents can be used singly or in combination of two or more. Among these solvents, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, propylene glycol propyl ether, propylene glycol propyl ether acetate, ethyl acetate, ethyl lactate, butyl lactate, methyl 3-methoxypropionate , Ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-ethoxypropionate are more preferable because of good film-forming properties and high safety.

<硬化膜形成組成物の調製>
本発明の実施形態の硬化膜形成組成物は、光配向性を有する熱硬化性の硬化膜形成組成物である。本実施形態の硬化膜形成組成物は、上述したように、(A)成分である光配向性基及び熱架橋性基を有する化合物の少なくとも一種、(B)成分であるN−アルコキシメチル基を有する繰り返し単位及び重合性のC=C二重結合を含む側鎖を有する繰り返し単位を含むポリマー、必要に応じて、(C)成分である(C−1):ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基を有するポリマー、(C−2):(A)成分と熱反応可能な置換基を有し、自己架橋可能なポリマー、及び(C−3):メラミンホルムアルデヒド樹脂、からなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマーを含有し、必要に応じて、(D)成分として架橋触媒を含有する。また、必要に応じて、(E)成分として架橋剤を含有することができる。そして、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の添加剤を含有することができ、さらに、溶剤を含有することができる。
<Preparation of cured film forming composition>
The cured film forming composition of the embodiment of the present invention is a thermosetting cured film forming composition having photo-alignment properties. As described above, the cured film forming composition of the present embodiment includes at least one compound having a photo-alignable group and a thermally crosslinkable group as component (A), and an N-alkoxymethyl group as component (B). A polymer containing a repeating unit having a repeating unit having a side chain containing a polymerizable C═C double bond, and optionally (C-1) component (C-1): a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group , A polymer having at least one substituent selected from the group consisting of an amino group and an alkoxysilyl group, (C-2): a polymer having a substituent capable of thermally reacting with the component (A) and capable of self-crosslinking, and (C-3): contains at least one polymer selected from the group consisting of melamine formaldehyde resin, and contains a crosslinking catalyst as component (D) as necessary. Moreover, a crosslinking agent can be contained as (E) component as needed. And as long as the effect of this invention is not impaired, another additive can be contained and a solvent can be contained further.

本実施の形態の硬化膜形成組成物の好ましい例は、以下のとおりである。   Preferred examples of the cured film forming composition of the present embodiment are as follows.

[1]:(A)成分である光配向性基及び熱架橋性基を有する化合物の少なくとも一種と(B)成分であるN−アルコキシメチル基を有する繰り返し単位及び重合性のC=C二重結合を含む側鎖を有する繰り返し単位を含むポリマーとの配合比が質量比で5:95〜60:40であり、(A)成分である化合物の少なくとも一種と(B)成分のポリマーとの合計量の100質量部に基づいて5質量部〜500質量部の(C)成分である(C−1):ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基を有するポリマー、(C−2):(A)成分と熱反応可能な置換基を有し、自己架橋可能なポリマー、及び(C−3):メラミンホルムアルデヒド樹脂、からなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマー、溶剤を含有する硬化膜形成組成物。   [1]: At least one compound having a photo-alignable group and a thermally crosslinkable group as component (A) and a repeating unit having an N-alkoxymethyl group as component (B) and polymerizable C = C double The blending ratio with the polymer containing a repeating unit having a side chain containing a bond is 5:95 to 60:40 in terms of mass ratio, and the sum of at least one of the compounds as component (A) and the polymer as component (B) Component (C-1) which is 5 to 500 parts by weight of component (C-1) based on 100 parts by weight of the amount: at least selected from the group consisting of hydroxy group, carboxyl group, amide group, amino group and alkoxysilyl group A polymer having one substituent, (C-2): a polymer having a substituent capable of thermally reacting with the component (A) and capable of self-crosslinking, and (C-3): a melamine formaldehyde resin. Et least one polymer selected, the cured film-forming composition containing a solvent.

[2]:(A)成分と(B)成分の配合比が質量比で5:95〜60:40であり、(A)成分である化合物と(B)成分のポリマーとの合計量の100質量部に基づいて5質量部〜500質量部の(C)成分、ならびに、(A)成分である化合物、(B)成分のポリマー及び(C)成分のポリマーの合計量の100質量部に対して、0.1質量部〜40質量部の(D)成分である架橋触媒、溶剤を含有する硬化膜形成組成物。   [2]: The blending ratio of the component (A) and the component (B) is 5:95 to 60:40 by mass ratio, and the total amount of the compound (A) and the polymer of the component (B) is 100. Based on 100 parts by mass of the total amount of component (C) of 5 parts by mass to 500 parts by mass based on parts by mass, compound (A), polymer of component (B), and polymer of component (C) A cured film-forming composition containing a crosslinking catalyst and a solvent as the component (D) in an amount of 0.1 to 40 parts by mass.

[3]:(A)成分と(B)成分の配合比が質量比で5:95〜60:40であり、(A)成分である化合物と(B)成分のポリマーとの合計量の100質量部に基づいて5質量部〜500質量部の(C)成分、(A)成分である化合物、(B)成分のポリマー及び(C)成分のポリマーの合計量の100質量部に対して、0.1質量部〜40質量部の(D)成分、ならびに、(A)成分である化合物、(B)成分のポリマーおよび(C)成分のポリマーの合計量の100質量部に対して、0.01質量部〜10質量部の(E)成分、溶剤を含有する硬化膜形成組成物。   [3]: The mixing ratio of the component (A) and the component (B) is 5:95 to 60:40 in terms of mass ratio, and the total amount of the compound (A) and the polymer of the component (B) is 100. Based on 100 parts by mass of the total amount of (C) component, (A) component, (B) component polymer, and (C) component polymer based on 5 parts by mass, 0.1 parts by weight to 40 parts by weight of component (D) and 100 parts by weight of the total amount of the compound (A), the polymer (B) and the polymer (C) A cured film forming composition containing 0.01 parts by mass to 10 parts by mass of component (E) and a solvent.

本実施の形態の硬化膜形成組成物を溶液として用いる場合の配合割合、調製方法等を以下に詳述する。   The blending ratio, preparation method, and the like when the cured film forming composition of the present embodiment is used as a solution will be described in detail below.

本実施形態の硬化膜形成組成物における固形分の割合は、各成分が均一に溶剤に溶解している限り、特に限定されるものではないが、1質量%〜80質量%であり、好ましくは2質量%〜60質量%であり、より好ましくは3質量%〜40質量%である。ここで、固形分とは、硬化膜形成組成物の全成分から溶剤を除いたものをいう。   The ratio of the solid content in the cured film forming composition of the present embodiment is not particularly limited as long as each component is uniformly dissolved in the solvent, but is 1% by mass to 80% by mass, preferably It is 2 mass%-60 mass%, More preferably, it is 3 mass%-40 mass%. Here, solid content means what remove | excluded the solvent from all the components of the cured film formation composition.

本実施形態の硬化膜形成組成物の調製方法は、特に限定されない。調製法としては、例えば、溶剤に溶解した(B)成分の溶液に(A)成分および(C)成分、(D)成分、さらには(E)成分を所定の割合で混合し、均一な溶液とする方法、または、この調製法の適当な段階において、必要に応じてその他添加剤をさらに添加して混合する方法が挙げられる。   The preparation method of the cured film forming composition of this embodiment is not specifically limited. As a preparation method, for example, the (A) component, the (C) component, the (D) component, and the (E) component are mixed in a predetermined ratio to the solution of the (B) component dissolved in the solvent to obtain a uniform solution. Or a method in which other additives are further added and mixed as necessary at an appropriate stage of the preparation method.

本実施形態の硬化膜形成組成物の調製においては、溶剤中の重合反応によって得られる特定共重合体の溶液をそのまま使用することができる。この場合、例えば、(B)成分アクリル重合体を調製した溶液に、(A)成分、(C)成分、(D)成分、さらには(E)成分等を加えて均一な溶液とする。この際に、濃度調整を目的としてさらに溶剤を追加投入してもよい。このとき、(B)成分の調製過程で用いられる溶剤と、硬化膜形成組成物の濃度調整に用いられる溶剤とは同一であってもよく、また異なってもよい。   In the preparation of the cured film forming composition of the present embodiment, a solution of a specific copolymer obtained by a polymerization reaction in a solvent can be used as it is. In this case, for example, the (A) component, the (C) component, the (D) component, and the (E) component are added to the solution prepared from the (B) component acrylic polymer to obtain a uniform solution. At this time, a solvent may be further added for the purpose of adjusting the concentration. At this time, the solvent used in the preparation process of the component (B) and the solvent used for adjusting the concentration of the cured film forming composition may be the same or different.

また、調製された硬化膜形成組成物の溶液は、孔径が0.2μm程度のフィルタなどを用いて濾過した後、使用することが好ましい。   The prepared cured film-forming composition solution is preferably used after being filtered using a filter having a pore size of about 0.2 μm.

以上のように、本発明の本実施形態の硬化膜形成組成物は、(A)成分である光配向性基及び熱架橋性基を有する化合物の少なくとも一種、(B)成分であるN−アルコキシメチル基を有する繰り返し単位及び重合性のC=C二重結合を含む側鎖を有する繰り返し単位を含むポリマー、(C)成分である(C−1):ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基を有するポリマー、(C−2):(A)成分と熱反応可能な置換基を有し、自己架橋可能なポリマー、及び(C−3):メラミンホルムアルデヒド樹脂、からなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマー、および(D)成分として架橋触媒を含有して構成される。(A)成分である化合物において、光配向性基は疎水性の光反応部を構成し、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミノ基及びトリアルコキシシリル基から選ばれる少なくとも一つの置換基は親水性の熱反応部を構成する。(C)成分のポリマーのヒドロキシ基、カルボキシル基、アミノ基及びトリアルコキシシリル基から選ばれる少なくとも一つの置換基も親水性である。   As mentioned above, the cured film forming composition of this embodiment of this invention is N-alkoxy which is at least 1 type of the compound which has a photo-alignment group which is (A) component, and a thermal crosslinkable group, and (B) component. Polymer containing a repeating unit having a methyl group and a repeating unit having a side chain containing a polymerizable C═C double bond, (C) component (C-1): hydroxy group, carboxyl group, amide group, amino A polymer having at least one substituent selected from the group consisting of a group and an alkoxysilyl group, (C-2): a polymer having a substituent capable of thermally reacting with the component (A) and capable of self-crosslinking, and (C -3): Containing at least one polymer selected from the group consisting of melamine formaldehyde resins, and a crosslinking catalyst as component (D). In the compound which is component (A), the photo-alignment group constitutes a hydrophobic photoreactive portion, and at least one substituent selected from a hydroxy group, a carboxyl group, an amino group and a trialkoxysilyl group is a hydrophilic heat. The reaction part is configured. At least one substituent selected from a hydroxy group, a carboxyl group, an amino group, and a trialkoxysilyl group of the component (C) polymer is also hydrophilic.

したがって、本実施形態の硬化膜形成組成物から形成される硬化膜は、膜構造が安定化するように、(C)成分の性質に起因して、その内部が親水性となって形成される。そして、硬化膜中の(A)成分の化合物は、硬化膜の表面近傍に偏在するようになる。より具体的には、(A)成分の化合物は、親水性の熱反応部が硬化膜の内部側を向き、疎水性の光反応部が表面側を向く構造をとりながら、硬化膜の表面近傍に偏在する。その結果、本実施形態の硬化膜は、表面近傍に存在する(A)成分の光反応性基の割合を増加させた構造を実現することになる。そして、本実施形態の硬化膜は、配向材として用いられた場合、光配向のための光反応の効率を向上させることができ、優れた配向感度を有することができる。さらに、パターン化位相差材の形成に好適な配向材となり、これを用いて製造されるパターン化位相差材は、優れたパターン形成性を有することができる。   Therefore, the cured film formed from the cured film forming composition of the present embodiment is formed with hydrophilic inside due to the nature of the component (C) so that the film structure is stabilized. . And the compound of the (A) component in a cured film comes to be unevenly distributed in the surface vicinity of a cured film. More specifically, the compound of component (A) has a structure in which the hydrophilic thermal reaction part faces the inner side of the cured film and the hydrophobic photoreactive part faces the surface side, and the vicinity of the surface of the cured film. Is unevenly distributed. As a result, the cured film of the present embodiment realizes a structure in which the ratio of the photoreactive group of the component (A) existing near the surface is increased. And when the cured film of this embodiment is used as an alignment material, the efficiency of the photoreaction for photo-alignment can be improved and it can have the outstanding orientation sensitivity. Furthermore, it becomes an orientation material suitable for formation of a patterned phase difference material, and the patterned phase difference material manufactured using this can have the outstanding pattern formation property.

また、本実施形態の硬化膜形成組成物は、上述したように、(B)成分として、N−アルコキシメチル基を有する繰り返し単位及び重合性のC=C二重結合を含む側鎖を有する繰り返し単位を含むポリマーを含有する。そのため、本実施形態の硬化膜形成組成物から得られた硬化膜の内部では、(A)成分の化合物の光配向性基による光反応の前に、(B)成分との熱反応による架橋反応を行うことができる。その結果、配向材として用いられた場合に、その上に塗布される重合性液晶やその溶剤に対する耐性を向上させることができる。   Moreover, as above-mentioned, the cured film formation composition of this embodiment is a repeating unit which has a side chain containing the repeating unit which has N-alkoxymethyl group, and a polymerizable C = C double bond as (B) component. Contains a polymer containing units. Therefore, in the cured film obtained from the cured film forming composition of the present embodiment, before the photoreaction by the photo-alignment group of the compound of (A) component, the crosslinking reaction by thermal reaction with (B) component It can be performed. As a result, when used as an alignment material, it is possible to improve the resistance to the polymerizable liquid crystal applied thereon and its solvent.

また、(B)成分であるポリマーは、本実施形態の硬化膜形成組成物から得られた硬化膜を配向材として用いた場合に、その上に形成される硬化された重合性液晶の層との間の密着性を強化するように機能する。   In addition, the polymer as the component (B) includes a cured polymerizable liquid crystal layer formed thereon when a cured film obtained from the cured film forming composition of the present embodiment is used as an alignment material. Functions to reinforce the adhesion between the two.

<硬化膜、配向材および位相差材>
本実施の形態の硬化膜形成組成物の溶液を基板(例えば、シリコン/二酸化シリコン被覆基板、シリコンナイトライド基板、金属、例えば、アルミニウム、モリブデン、クロム等が被覆された基板、ガラス基板、石英基板、ITO基板等)やフィルム(例えば、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、アクリルフィルム等の樹脂フィルム)等の上に、バーコート、回転塗布、流し塗布、ロール塗布、スリット塗布、スリットに続いた回転塗布、インクジェット塗布、印刷などによって塗布して塗膜を形成し、その後、ホットプレートまたはオーブン等で加熱乾燥することにより、硬化膜を形成することができる。
<Hardened film, alignment material and retardation material>
A solution of the cured film forming composition according to the present embodiment is applied to a substrate (for example, a silicon / silicon dioxide-coated substrate, a silicon nitride substrate, a substrate coated with a metal such as aluminum, molybdenum, or chromium, a glass substrate, or a quartz substrate. , ITO substrate, etc.) and films (for example, triacetyl cellulose (TAC) film, cycloolefin polymer film, polyethylene terephthalate film, resin film such as acrylic film), etc., bar coating, spin coating, flow coating, roll coating A cured film can be formed by coating by slit coating, spin coating following the slit, inkjet coating, printing, or the like to form a coating film, followed by heat drying with a hot plate or oven.

加熱乾燥の条件としては、硬化膜から形成される配向材の成分が、その上に塗布される重合性液晶溶液に溶出しない程度に硬化反応が進行すればよく、例えば、温度60℃〜200℃、時間0.4分間〜60分間の範囲の中から適宜選択された加熱温度および加熱時間が採用される。加熱温度および加熱時間は、好ましくは70℃〜160℃、0.5分間〜10分間である。   As the conditions for the heat drying, it is sufficient that the curing reaction proceeds to such an extent that the components of the alignment material formed from the cured film do not elute into the polymerizable liquid crystal solution applied thereon, for example, a temperature of 60 ° C. to 200 ° C. The heating temperature and the heating time appropriately selected from the range of 0.4 minutes to 60 minutes are employed. The heating temperature and the heating time are preferably 70 to 160 ° C. and 0.5 to 10 minutes.

本実施の形態の硬化性組成物を用いて形成される硬化膜の膜厚は、例えば、0.05μm〜5μmであり、使用する基板の段差や光学的、電気的性質を考慮し適宜選択することができる。   The film thickness of the cured film formed using the curable composition of the present embodiment is, for example, 0.05 μm to 5 μm, and is appropriately selected in consideration of the level difference of the substrate to be used and optical and electrical properties. be able to.

このようにして形成された硬化膜は、偏光UV照射を行うことで配向材、すなわち、重合性液晶等を含む液晶性を有する化合物を配向させる部材として機能させることができる。   The cured film thus formed can function as an alignment material, that is, a member for aligning a liquid crystalline compound including a polymerizable liquid crystal by performing polarized UV irradiation.

偏光UVの照射方法としては、通常150nm〜450nmの波長の紫外光〜可視光が用いられ、室温または加熱した状態で、垂直または斜め方向から直線偏光を照射することによって行われる。   As the irradiation method of polarized UV, ultraviolet light to visible light having a wavelength of 150 nm to 450 nm is usually used, and it is performed by irradiating linearly polarized light from a vertical or oblique direction at room temperature or in a heated state.

本実施形態の硬化膜組成物から形成された配向材は耐溶剤性および耐熱性を有しているため、この配向材上に、重合性液晶溶液からなる位相差材料を塗布した後、その液晶の相転移温度まで加熱することで位相差材料を液晶状態とし、配向材上で配向させる。そして、所望とする配向状態となった位相差材料をそのまま硬化させ、光学異方性を有する層を持つ位相差材を形成することができる。   Since the alignment material formed from the cured film composition of the present embodiment has solvent resistance and heat resistance, after applying a retardation material comprising a polymerizable liquid crystal solution on the alignment material, the liquid crystal The phase difference material is brought into a liquid crystal state by heating up to the phase transition temperature, and aligned on the alignment material. Then, the retardation material in a desired orientation state is cured as it is, and a retardation material having a layer having optical anisotropy can be formed.

位相差材料としては、例えば、重合性基を有する液晶モノマーおよびそれを含有する組成物等が用いられる。そして、配向材が形成される基板がフィルムである場合には、本実施の形態の位相差材を有するフィルムは、位相差フィルムとして有用となる。このような位相差材を形成する位相差材料は、液晶状態となって、配向材上で、水平配向、コレステリック配向、垂直配向、ハイブリッド配向等の配向状態をとるものがあり、それぞれ必要とされる位相差特性に応じて使い分けることができる。   As the retardation material, for example, a liquid crystal monomer having a polymerizable group and a composition containing the same are used. And when the board | substrate with which an orientation material is formed is a film, the film which has the phase difference material of this Embodiment becomes useful as a phase difference film. The phase difference material that forms such a phase difference material is in a liquid crystal state and has an alignment state such as horizontal alignment, cholesteric alignment, vertical alignment, hybrid alignment, etc. on the alignment material. It can be used properly according to the phase difference characteristic.

また、3Dディスプレイに用いられるパターン化位相差材を製造する場合には、本実施形態の硬化膜組成物から上記した方法で形成された硬化膜に、ラインアンドスペースパターンのマスクを介して所定の基準から、例えば、+45度の向きで偏光UV露光し、次いで、マスクを外してから−45度の向きで偏光UVを露光し、液晶の配向制御方向の異なる2種類の液晶配向領域が形成された配向材を形成する。その後、重合性液晶溶液からなる位相差材料を塗布した後、液晶の相転移温度まで加熱することで位相差材料を液晶状態とする。液晶状態となった重合性液晶は、2種類の液晶配向領域が形成された配向材上で配向し、各液晶配向領域にそれぞれ対応する配向状態を形成する。そして、そのような配向状態が実現された位相差材料をそのまま硬化させ、上述の配向状態を固定化し、位相差特性の異なる2種類の位相差領域がそれぞれ複数、規則的に配置された、パターン化位相差材を得ることができる。   Moreover, when manufacturing the patterned phase difference material used for 3D display, it is predetermined | prescribed via the mask of a line and space pattern to the cured film formed by the above-mentioned method from the cured film composition of this embodiment. For example, polarized UV exposure is performed in a +45 degree direction from the reference, and then the polarized UV light is exposed in a -45 degree direction after removing the mask, and two types of liquid crystal alignment regions having different liquid crystal alignment control directions are formed. Forming an alignment material. Thereafter, after applying a retardation material composed of a polymerizable liquid crystal solution, the retardation material is brought into a liquid crystal state by heating to a phase transition temperature of the liquid crystal. The polymerizable liquid crystal in a liquid crystal state is aligned on an alignment material on which two types of liquid crystal alignment regions are formed, and forms an alignment state corresponding to each liquid crystal alignment region. Then, the retardation material in which such an orientation state is realized is cured as it is, the above-described orientation state is fixed, and a plurality of two kinds of retardation regions having different retardation characteristics are regularly arranged. A phase difference material can be obtained.

また、本実施形態の硬化膜組成物から形成された配向材は、液晶表示素子の液晶配向膜としての利用も可能である。例えば、上記のようにして形成された、本実施形態の配向材を有する2枚の基板を用い、スペーサを介して両基板上の配向材が互いに向かい合うように張り合わせた後、それらの基板の間に液晶を注入して、液晶が配向した液晶表示素子を製造することができる。
そのため、本実施の形態の硬化膜形成組成物は、各種位相差材(位相差フィルム)や液晶表示素子等の製造に好適に用いることができる。
Moreover, the alignment material formed from the cured film composition of this embodiment can also be used as a liquid crystal alignment film of a liquid crystal display element. For example, after using the two substrates having the alignment material of the present embodiment formed as described above, the alignment materials on both the substrates are bonded to each other via a spacer, and then between the substrates. A liquid crystal display element in which liquid crystal is aligned can be manufactured by injecting liquid crystal into the liquid crystal.
Therefore, the cured film forming composition of this Embodiment can be used suitably for manufacture of various retardation materials (retardation film), a liquid crystal display element, etc.

以下、実施例を挙げて、本実施の形態をさらに詳しく説明する。しかし、本発明は、これら実施例に限定されるものでない。   Hereinafter, the present embodiment will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

[実施例等で用いる組成成分とその略称]
以下の実施例および比較例で用いられる各組成成分は、次のとおりである。
[Compositional components used in Examples and their abbreviations]
Each composition component used in the following examples and comparative examples is as follows.

<成分(A)>
CIN1:4−(6−メタクリルオキシヘキシル−1−オキシ)けい皮酸
<Component (A)>
CIN1: 4- (6-Methacryloxyhexyl-1-oxy) cinnamic acid

Figure 0006604483
Figure 0006604483

CIN2:4−(3−メタクリルオキシプロピル−1−オキシ)けい皮酸 CIN 2: 4- (3-methacryloxypropyl-1-oxy) cinnamic acid

Figure 0006604483
Figure 0006604483

CIN3:4−プロピルオキシけい皮酸 CIN3: 4-propyloxycinnamic acid

Figure 0006604483
Figure 0006604483

CIN4:4−(6−ヒドロキシヘキシルオキシ)けい皮酸メチルエステル CIN 4: 4- (6-hydroxyhexyloxy) cinnamic acid methyl ester

Figure 0006604483
Figure 0006604483

CIN5: 3−メトキシ−4−(6−ヒドロキシヘキシルオキシ)けい皮酸メチルエステル CIN5: 3-methoxy-4- (6-hydroxyhexyloxy) cinnamic acid methyl ester

Figure 0006604483
Figure 0006604483

<成分(C)>
PEPO:ポリエステルポリオール重合体(下記構造単位を有するアジピン酸/ジエチレングリコール共重合体。分子量4,800。)
<Component (C)>
PEPO: Polyester polyol polymer (Adipic acid / diethylene glycol copolymer having the following structural units. Molecular weight 4,800)

Figure 0006604483
Figure 0006604483

(上記式中、Rは、アルキレンを表す。)
<成分(D)>
PTSA:パラトルエンスルホン酸
(In the above formula, R represents alkylene.)
<Component (D)>
PTSA: p-toluenesulfonic acid

Figure 0006604483
Figure 0006604483

<成分(E)>
HMM:下記の構造式で表されるメラミン架橋剤[サイメル(CYMEL)(登録商標)303(三井サイテック(株)製)]
<Ingredient (E)>
HMM: Melamine crosslinking agent represented by the following structural formula [CYMEL (registered trademark) 303 (Mitsui Cytec Co., Ltd.)]

Figure 0006604483
Figure 0006604483

<成分(A)(B)(C)の重合体原料>
CIN1:4−(6−メタクリルオキシヘキシル−1−オキシ)けい皮酸
HEMA:2−ヒドロキシエチルメタクリレート
MMA:メタクリル酸メチル
BMAA:N−ブトキシメチルアクリルアミド
AIBN:α、α’−アゾビスイソブチロニトリル
<Polymer raw material of component (A) (B) (C)>
CIN1: 4- (6-methacryloxyhexyl-1-oxy) cinnamic acid HEMA: 2-hydroxyethyl methacrylate MMA: methyl methacrylate BMAA: N-butoxymethylacrylamide AIBN: α, α′-azobisisobutyronitrile

<溶剤>
実施例及び比較例の各位相差材形成組成物は溶剤を含有し、その溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PM)、酢酸ブチル(BA)、メチルエチルケトン(MEK)、シクロヘキサノン(CHN)を用いた。
<Solvent>
Each phase difference material formation composition of an Example and a comparative example contained a solvent, and propylene glycol monomethyl ether (PM), butyl acetate (BA), methyl ethyl ketone (MEK), and cyclohexanone (CHN) were used as the solvent.

<重合体の分子量の測定>
合成例におけるポリイミド、ポリアミック酸又はアクリルポリマーの分子量は、(株)Shodex社製常温ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)装置(GPC−101)、Shodex社製カラム(KD―803、KD−805)を用い以下のようにして測定した。
カラム温度:50℃
溶離液:N,N−ジメチルホルムアミド(添加剤として、臭化リチウム−水和物(LiBr・H2O)が30mmol/L、リン酸・無水結晶(o―リン酸)が30mmol/L、テトラヒドロフラン(THF)が10mL/L)
流速:1.0mL/分
検量線作成用標準サンプル:東ソー社製 TSK 標準ポリエチレンオキサイド(分子量 約900,000、150,000、100,000、30,000)、及び、ポリマーラボラトリー社製 ポリエチレングリコール(分子量 約12,000、4,000、1,000)。
<Measurement of molecular weight of polymer>
The molecular weight of the polyimide, polyamic acid, or acrylic polymer in the synthesis example uses a normal temperature gel permeation chromatography (GPC) apparatus (GPC-101) manufactured by Shodex Co., Ltd., and columns (KD-803, KD-805) manufactured by Shodex. Measurement was performed as follows.
Column temperature: 50 ° C
Eluent: N, N-dimethylformamide (as additives, lithium bromide-hydrate (LiBr · H 2 O) 30 mmol / L, phosphoric acid / anhydrous crystal (o-phosphoric acid) 30 mmol / L, tetrahydrofuran (THF) ) Is 10 mL / L)
Flow rate: 1.0 mL / minute standard sample for preparing calibration curve: TSK standard polyethylene oxide (molecular weight: about 900,000, 150,000, 100,000, 30,000) manufactured by Tosoh Corporation, and polyethylene glycol manufactured by Polymer Laboratories ( Molecular weight about 12,000, 4,000, 1,000).

1H−NMR分析>
1H−NMR分析に用いた分析装置及び分析条件は、下記の通りである。
核磁気共鳴装置:Varian NMR System 400 NB(400 MHz)
測定溶媒:DMSO−d6
基準物質:テトラメチルシラン(TMS)(δ0.0 ppm for 1H)
<1 H-NMR analysis>
The analysis apparatus and analysis conditions used for 1 H-NMR analysis are as follows.
Nuclear magnetic resonance apparatus: Varian NMR System 400 NB (400 MHz)
Measuring solvent: DMSO-d 6
Reference substance: Tetramethylsilane (TMS) (δ0.0 ppm for 1 H)

<重合例1>
M6CA 4.0g、スチレン 4.0g、HEMA 2.0g、重合触媒としてAIBN 0.1gをPM 90.9gに溶解し、80℃にて20時間反応させる事によりアクリル共重合体溶液(固形分濃度10質量%)(CIN6)を得た。得られたアクリル共重合体のMnは20,000、Mwは55,000であった。
<Polymerization Example 1>
4.0 g of M6CA, 4.0 g of styrene, 2.0 g of HEMA, and 0.1 g of AIBN as a polymerization catalyst were dissolved in 90.9 g of PM and reacted at 80 ° C. for 20 hours to obtain an acrylic copolymer solution (solid content concentration). 10% by mass) (CIN 6) was obtained. Mn of the obtained acrylic copolymer was 20,000 and Mw was 55,000.

<重合例2>
BMAA32.0g、HEMA8.0g、重合触媒としてAIBN 0.8gをテトラヒドロフラン204.0gに溶解し、60℃にて20時間反応させることによりアクリル共重合体溶液を得た。アクリル共重合体溶液をヘキサン1000.0gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することでアクリル共重合体(PB−1)を得た。得られたアクリル共重合体のMnは7,000、Mwは20,000であった。
<Polymerization example 2>
32.0 g of BMAA, 8.0 g of HEMA, and 0.8 g of AIBN as a polymerization catalyst were dissolved in 204.0 g of tetrahydrofuran and reacted at 60 ° C. for 20 hours to obtain an acrylic copolymer solution. The acrylic copolymer solution was gradually added dropwise to 1000.0 g of hexane to precipitate a solid, which was filtered and dried under reduced pressure to obtain an acrylic copolymer (PB-1). The obtained acrylic copolymer had Mn of 7,000 and Mw of 20,000.

<重合例3>
BMAA28.0g、HEMA12.0g、重合触媒としてAIBN 0.8gをテトラヒドロフラン204.0gに溶解し、60℃にて20時間反応させることによりアクリル共重合体溶液を得た。アクリル共重合体溶液をヘキサン1000.0gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することでアクリル共重合体(PB−2)を得た。得られたアクリル共重合体のMnは8,300、Mwは25,000であった。
<Polymerization Example 3>
BMAA 28.0g, HEMA 12.0g, and AIBN 0.8g as a polymerization catalyst were dissolved in tetrahydrofuran 204.0g and reacted at 60 ° C for 20 hours to obtain an acrylic copolymer solution. The acrylic copolymer solution was gradually added dropwise to 1000.0 g of hexane to precipitate a solid, which was filtered and dried under reduced pressure to obtain an acrylic copolymer (PB-2). Mn of the obtained acrylic copolymer was 8,300 and Mw was 25,000.

<重合例4>
BMAA24.0g、HEMA16.0g、重合触媒としてAIBN 0.8gをテトラヒドロフラン204.0gに溶解し、60℃にて20時間反応させることによりアクリル共重合体溶液を得た。アクリル共重合体溶液をヘキサン1000.0gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することでアクリル共重合体(PB−3)を得た。得られたアクリル共重合体のMnは9,800、Mwは35,000であった。
<Polymerization example 4>
BMAA 24.0 g, HEMA 16.0 g, and AIBN 0.8 g as a polymerization catalyst were dissolved in tetrahydrofuran 204.0 g and reacted at 60 ° C. for 20 hours to obtain an acrylic copolymer solution. The acrylic copolymer solution was gradually added dropwise to 1000.0 g of hexane to precipitate a solid, which was filtered and dried under reduced pressure to obtain an acrylic copolymer (PB-3). Mn of the obtained acrylic copolymer was 9,800 and Mw was 35,000.

<重合例5>
BMAA32.0g、GMA8.0g、重合触媒としてAIBN 0.8gをテトラヒドロフラン204.0gに溶解し、60℃にて20時間反応させることによりアクリル共重合体溶液を得た。アクリル共重合体溶液をヘキサン1000.0gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することでアクリル共重合体(PB−4)を得た。得られたアクリル共重合体のMnは7,000、Mwは18,000であった。
<Polymerization Example 5>
32.0 g of BMAA, 8.0 g of GMA, and 0.8 g of AIBN as a polymerization catalyst were dissolved in 204.0 g of tetrahydrofuran and reacted at 60 ° C. for 20 hours to obtain an acrylic copolymer solution. The acrylic copolymer solution was gradually added dropwise to 1000.0 g of hexane to precipitate a solid, which was filtered and dried under reduced pressure to obtain an acrylic copolymer (PB-4). Mn of the obtained acrylic copolymer was 7,000 and Mw was 18,000.

<重合例6>
GMA40.0g、重合触媒としてAIBN 0.8gをテトラヒドロフラン204.0gに溶解し、60℃にて20時間反応させることによりアクリル重合体溶液を得た。アクリル重合体溶液をヘキサン1000gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することでアクリル重合体(PB−5)を得た。得られたアクリル重合体のMnは8,000、Mwは20,000であった。
<Polymerization Example 6>
40.0 g of GMA and 0.8 g of AIBN as a polymerization catalyst were dissolved in 204.0 g of tetrahydrofuran and reacted at 60 ° C. for 20 hours to obtain an acrylic polymer solution. The acrylic polymer solution was gradually added dropwise to 1000 g of hexane to precipitate a solid, which was filtered and dried under reduced pressure to obtain an acrylic polymer (PB-5). The obtained acrylic polymer had Mn of 8,000 and Mw of 20,000.

<重合例7>
MMA 100.0g、HEMA11.1g、重合触媒としてAIBN 5.6gをPM 450.0gに溶解し、80℃にて20時間反応させることによりアクリル共重合体溶液(固形分濃度20質量%)(PC−1)を得た。得られたアクリル共重合体のMnは4,200、Mwは7,600であった。
<Polymerization Example 7>
MMA 100.0 g, HEMA 11.1 g, and AIBN 5.6 g as a polymerization catalyst were dissolved in 450.0 g of PM and reacted at 80 ° C. for 20 hours to obtain an acrylic copolymer solution (solid content concentration 20% by mass) (PC -1) was obtained. Mn of the obtained acrylic copolymer was 4,200 and Mw was 7,600.

<重合例8>
BMAA100.0g、重合触媒としてAIBN 4.2gをPM 193.5gに溶解し、90℃にて20時間反応させることによりアクリル重合体溶液(固形分濃度35質量%)(PC−2)を得た。得られたアクリル共重合体のMnは2,700、Mwは3,900であった。
<Polymerization Example 8>
BMAA 100.0 g and AIBN 4.2 g as a polymerization catalyst were dissolved in PM 193.5 g and reacted at 90 ° C. for 20 hours to obtain an acrylic polymer solution (solid content concentration 35% by mass) (PC-2). . Mn of the obtained acrylic copolymer was 2,700 and Mw was 3,900.

<合成例1>
重合例2で得たアクリル共重合体(PB−1)10.0g、2−アクリロイルオキシエチルイソシアナート4.3g、ジブチルヒドロキシトルエン0.4g、反応触媒としてジブチルスズジラウレート10mgをテトラヒドロフラン60gに溶解させ、60℃で5時間反応させた。この溶液をヘキサン500gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することで、アクロイル基を有するアクリル共重合体(PB−6)を得た。1H−NMR分析を行い、アクリル共重合体(PB−6)がアクロイル基を有することを確認した。
<Synthesis Example 1>
10.0 g of the acrylic copolymer (PB-1) obtained in Polymerization Example 2, 4.3 g of 2-acryloyloxyethyl isocyanate, 0.4 g of dibutylhydroxytoluene, 10 mg of dibutyltin dilaurate as a reaction catalyst were dissolved in 60 g of tetrahydrofuran, The reaction was carried out at 60 ° C. for 5 hours. This solution was gradually added dropwise to 500 g of hexane to precipitate a solid, which was filtered and dried under reduced pressure to obtain an acrylic copolymer (PB-6) having an acroyl group. 1 H-NMR analysis was performed and it was confirmed that the acrylic copolymer (PB-6) had an acroyl group.

<合成例2>
重合例2で得たアクリル共重合体(PB−1)10.0g、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアナート4.3g、ジブチルヒドロキシトルエン0.4g、反応触媒としてジブチルスズジラウレート10mgをテトラヒドロフラン60gに溶解させ、60℃で5時間反応させた。この溶液をヘキサン500gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することで、メタクロイル基を有するアクリル共重合体(PB−7)を得た。1H−NMR分析を行い、アクリル共重合体(PB−7)がメタクロイル基を有することを確認した。
<Synthesis Example 2>
10.0 g of the acrylic copolymer (PB-1) obtained in Polymerization Example 2, 4.3 g of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, 0.4 g of dibutylhydroxytoluene, 10 mg of dibutyltin dilaurate as a reaction catalyst were dissolved in 60 g of tetrahydrofuran, The reaction was carried out at 60 ° C. for 5 hours. This solution was gradually added dropwise to 500 g of hexane to precipitate a solid, which was filtered and dried under reduced pressure to obtain an acrylic copolymer (PB-7) having a methacryloyl group. 1 H-NMR analysis was performed, and it was confirmed that the acrylic copolymer (PB-7) had a methacryloyl group.

<合成例3>
重合例3で得たアクリル共重合体(PB−2)10.0g、2−アクリロイルオキシエチルイソシアナート6.5g、ジブチルヒドロキシトルエン0.6g、反応触媒としてジブチルスズジラウレート10mgをテトラヒドロフラン60gに溶解させ、60℃で5時間反応させた。この溶液をヘキサン500gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することで、アクロイル基を有するアクリル共重合体(PB−8)を得た。1H−NMR分析を行い、アクリル共重合体(PB−8)がアクロイル基を有することを確認した。
<Synthesis Example 3>
10.0 g of the acrylic copolymer (PB-2) obtained in Polymerization Example 3, 6.5 g of 2-acryloyloxyethyl isocyanate, 0.6 g of dibutylhydroxytoluene, 10 mg of dibutyltin dilaurate as a reaction catalyst were dissolved in 60 g of tetrahydrofuran, The reaction was carried out at 60 ° C. for 5 hours. This solution was gradually added dropwise to 500 g of hexane to precipitate a solid, which was filtered and dried under reduced pressure to obtain an acrylic copolymer (PB-8) having an acryloyl group. 1 H-NMR analysis was performed and it was confirmed that the acrylic copolymer (PB-8) had an acroyl group.

<合成例4>
重合例4で得たアクリル共重合体(PB−3)10.0g、2−アクリロイルオキシエチルイソシアナート8.7g、ジブチルヒドロキシトルエン0.9g、反応触媒としてジブチルスズジラウレート10mgをテトラヒドロフラン60gに溶解させ、60℃で5時間反応させた。この溶液をヘキサン500gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することで、アクロイル基を有するアクリル共重合体(PB−9)を得た。1H−NMR分析を行い、アクリル共重合体(PB−9)がアクロイル基を有することを確認した。
<Synthesis Example 4>
10.0 g of the acrylic copolymer (PB-3) obtained in Polymerization Example 4, 8.7 g of 2-acryloyloxyethyl isocyanate, 0.9 g of dibutylhydroxytoluene, 10 mg of dibutyltin dilaurate as a reaction catalyst were dissolved in 60 g of tetrahydrofuran, The reaction was carried out at 60 ° C. for 5 hours. This solution was gradually added dropwise to 500 g of hexane to precipitate a solid, which was filtered and dried under reduced pressure to obtain an acrylic copolymer (PB-9) having an acroyl group. 1 H-NMR analysis was performed and it was confirmed that the acrylic copolymer (PB-9) had an acroyl group.

<合成例5>
重合例5で得たアクリル共重合体(PB−4)10.0g、アクリル酸2.2g、ジブチルヒドロキシトルエン0.2g、反応触媒としてベンジルトリエチルアンモニウムクロリド10mgをPM60gに溶解させ、90℃で20時間反応させた。この溶液をヘキサン500gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することで、アクロイル基を有するアクリル共重合体(PB−10)を得た。1H−NMR分析を行い、アクリル共重合体(PB−10)がアクロイル基を有することを確認した。
<Synthesis Example 5>
10.0 g of the acrylic copolymer (PB-4) obtained in Polymerization Example 5, 2.2 g of acrylic acid, 0.2 g of dibutylhydroxytoluene, 10 mg of benzyltriethylammonium chloride as a reaction catalyst were dissolved in 60 g of PM, and 20 ° C. at 90 ° C. Reacted for hours. This solution was gradually added dropwise to 500 g of hexane to precipitate a solid, which was filtered and dried under reduced pressure to obtain an acrylic copolymer (PB-10) having an acroyl group. 1 H-NMR analysis was performed to confirm that the acrylic copolymer (PB-10) had an acroyl group.

<合成例6>
重合例5で得たアクリル共重合体(PB−4)10.0g、メタクリル酸2.2g、ジブチルヒドロキシトルエン0.2g、反応触媒としてベンジルトリエチルアンモニウムクロリド10mgをPM60gに溶解させ、90℃で20時間反応させた。この溶液をヘキサン500gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することで、メタクロイル基を有するアクリル共重合体(PB−11)を得た。1H−NMR分析を行い、アクリル共重合体(PB−11)がメタクロイル基を有することを確認した。
<Synthesis Example 6>
10.0 g of the acrylic copolymer (PB-4) obtained in Polymerization Example 5, 2.2 g of methacrylic acid, 0.2 g of dibutylhydroxytoluene, 10 mg of benzyltriethylammonium chloride as a reaction catalyst were dissolved in 60 g of PM, and 20 at 90 ° C. Reacted for hours. The solution was gradually added dropwise to 500 g of hexane to precipitate a solid, which was filtered and dried under reduced pressure to obtain an acrylic copolymer (PB-11) having a methacryloyl group. 1 H-NMR analysis was performed and it was confirmed that the acrylic copolymer (PB-11) had a methacryloyl group.

<合成例7>
重合例6で得たアクリル共重合体(PB−5)10.0g、アクリル酸2.0g、ジブチルヒドロキシトルエン0.2g、反応触媒としてベンジルトリエチルアンモニウムクロリド10mgをPM60gに溶解させ、90℃で20時間反応させた。この溶液をヘキサン500gに徐々に滴下して固体を析出させ、ろ過および減圧乾燥することで、アクロイル基を有するアクリル共重合体(PB−12)を得た。1H−NMR分析を行い、アクリル共重合体(PB−12)がアクロイル基を有することを確認した。
<Synthesis Example 7>
10.0 g of the acrylic copolymer (PB-5) obtained in Polymerization Example 6; 2.0 g of acrylic acid; 0.2 g of dibutylhydroxytoluene; 10 mg of benzyltriethylammonium chloride as a reaction catalyst are dissolved in 60 g of PM, and 20 at 90 ° C. Reacted for hours. This solution was gradually added dropwise to 500 g of hexane to precipitate a solid, which was filtered and dried under reduced pressure to obtain an acrylic copolymer (PB-12) having an acroyl group. 1 H-NMR analysis was performed and it was confirmed that the acrylic copolymer (PB-12) had an acroyl group.

<基材フィルムの作成>
基材として用いるアクリルフィルムは、例えば以下の方法で作成することができる。即ち、メチルメタクリレートを主成分とした共重合体等からなる原料ペレットを250℃にて押出機で溶融、T−ダイに通過させ、キャスティングロールおよび乾燥ロールなどを経て、厚さ40μmのアクリルフィルムを作成することができる。
<Creation of base film>
The acrylic film used as the substrate can be prepared, for example, by the following method. That is, raw material pellets made of a copolymer containing methyl methacrylate as a main component are melted by an extruder at 250 ° C., passed through a T-die, and after passing through a casting roll and a drying roll, an acrylic film having a thickness of 40 μm is obtained. Can be created.

<実施例、比較例>
表1に示す組成にて実施例及び比較例の各硬化膜形成組成物を調製した。次に、各位相差材形成組成物を用いて硬化膜を形成し、得られた硬化膜それぞれについて、配向性および密着性の評価を行った。
<Examples and comparative examples>
Each cured film forming composition of an Example and a comparative example was prepared with the composition shown in Table 1. Next, a cured film was formed using each phase difference material formation composition, and orientation and adhesion nature were evaluated about each obtained cured film.

Figure 0006604483
Figure 0006604483

[配向性の評価]
実施例および比較例の各硬化膜形成組成物をフィルム上にバーコータを用いて塗布した後、温度100℃で2分間、熱循環式オーブン中で加熱乾燥を行い、硬化膜を形成した。この各硬化膜に313nmの直線偏光を20mJ/cm2露光量で垂直に照射し、配向材を形成した。基板上の配向材の上に、水平配向用重合性液晶溶液を、バーコータを用いて塗布し、次いで、70℃で60秒間ホットプレート上においてプリベークを行い、膜厚1.0μmの塗膜を形成した。この基板上の塗膜を300mJ/cm2で露光し、位相差材を作製した。作製した基板上の位相差材を一対の偏光板で挟み込み、位相差材における位相差特性の発現状況を観察し、位相差が欠陥なく発現しているものを○、位相差が発現していないものを×として「配向性」の欄に記載した。
[Evaluation of orientation]
Each of the cured film forming compositions of Examples and Comparative Examples was applied onto a film using a bar coater, and then heated and dried in a heat circulation oven at a temperature of 100 ° C. for 2 minutes to form a cured film. Each cured film was irradiated vertically with 313 nm linearly polarized light at an exposure amount of 20 mJ / cm 2 to form an alignment material. On the alignment material on the substrate, a polymerizable liquid crystal solution for horizontal alignment is applied using a bar coater, and then pre-baked on a hot plate at 70 ° C. for 60 seconds to form a coating film having a thickness of 1.0 μm. did. The coating film on this substrate was exposed at 300 mJ / cm 2 to produce a retardation material. The phase difference material on the prepared substrate is sandwiched between a pair of polarizing plates, the state of the phase difference characteristic in the phase difference material is observed, ○ if the phase difference is expressed without defects, and no phase difference is expressed The thing was described in the column of "orientation" as x.

[密着性の評価]
実施例および比較例の各硬化膜形成組成物をフィルム上にバーコータを用いて塗布した後、温度100℃で2分間、熱循環式オーブン中で加熱乾燥を行い、硬化膜を形成した。この各硬化膜に313nmの直線偏光を20mJ/cm2露光量で垂直に照射し、配向材を形成した。基板上の配向材の上に、水平配向用重合性液晶溶液を、バーコータを用いて塗布し、次いで、70℃で60秒間ホットプレート上においてプリベークを行い、膜厚1.0μmの塗膜を形成した。この基板上の塗膜を300mJ/cm2で露光し、位相差材を作製した。この位相差材に縦横1mm間隔で10×10マスとなるようカッターナイフで切込みをつけた。この切り込みの上にスコッチテープを用いてセロハンテープ剥離試験を行った。評価結果は「初期」とし、100マス全て剥がれずに残っているものを○、1マスでも剥がれているものを×とした。評価結果は、後に表2にまとめて示す。
[Evaluation of adhesion]
Each of the cured film forming compositions of Examples and Comparative Examples was applied onto a film using a bar coater, and then heated and dried in a heat circulation oven at a temperature of 100 ° C. for 2 minutes to form a cured film. Each cured film was irradiated vertically with 313 nm linearly polarized light at an exposure amount of 20 mJ / cm 2 to form an alignment material. On the alignment material on the substrate, a polymerizable liquid crystal solution for horizontal alignment is applied using a bar coater, and then pre-baked on a hot plate at 70 ° C. for 60 seconds to form a coating film having a thickness of 1.0 μm. did. The coating film on this substrate was exposed at 300 mJ / cm 2 to produce a retardation material. This phase difference material was cut with a cutter knife so as to be 10 × 10 squares at intervals of 1 mm in length and width. A cellophane tape peeling test was performed on the cut using a scotch tape. The evaluation result was “initial”, and the case where all 100 squares were not peeled off was marked with ○, and the case where even one square was peeled was marked with ×. The evaluation results are summarized in Table 2 later.

[耐久密着性の評価]
上述の密着性の評価と同様に方法で作製したフィルム上の位相差材を、温度80℃湿度90%に設定されたオーブンに入れ、72時間以上静置した。その後、位相差材を取り出し、上述の密着性の評価と同様の方法で、密着性を評価した。評価結果は、「耐久」として表2にまとめて示す。
[Evaluation of durability adhesion]
The retardation material on the film produced by the method in the same manner as in the above-described evaluation of adhesiveness was placed in an oven set at a temperature of 80 ° C. and a humidity of 90%, and left still for 72 hours or more. Thereafter, the phase difference material was taken out, and the adhesion was evaluated by the same method as the above-described evaluation of adhesion. The evaluation results are collectively shown in Table 2 as “endurance”.

[評価の結果]
以上の評価を行った結果を、上述したように、表2に示す。
[Evaluation results]
The results of the above evaluation are shown in Table 2 as described above.

Figure 0006604483
Figure 0006604483

実施例1〜17、比較例1〜2の各位相差材形成組成物を用いて得られた硬化膜は、20mJ/cm2と低い露光量で位相差材を形成することが可能であった。それに対し、比較例3の各位相差材形成組成物を用いて得られた硬化膜は、配向性が得られなかった。The cured films obtained using the retardation material forming compositions of Examples 1 to 17 and Comparative Examples 1 and 2 were capable of forming a retardation material with an exposure amount as low as 20 mJ / cm 2 . On the other hand, the cured film obtained using each retardation material forming composition of Comparative Example 3 did not have orientation.

実施例1〜17の各位相差材形成組成物を用いて得られた硬化膜は、初期および高温高湿処理しても高い密着性を維持し、優れた密着性を示した。   The cured films obtained using the respective retardation material forming compositions of Examples 1 to 17 maintained high adhesion even after the initial and high temperature and high humidity treatments, and exhibited excellent adhesion.

それに対し、比較例1〜3の硬化膜形成組成物を用いて得られた硬化膜は、初期および高温高湿処理後ともに密着性を維持することが困難であった。   On the other hand, it was difficult for the cured films obtained using the cured film forming compositions of Comparative Examples 1 to 3 to maintain the adhesion both at the initial stage and after the high temperature and high humidity treatment.

本発明の位相差材形成用組成物は、液晶表示素子の液晶配向膜や、液晶表示素子の内部や外部に設けられる光学異方性フィルムを形成するための配向材として非常に有用であり、特に3Dディスプレイのパターン化位相差材の形成材料として好適である。さらに、薄膜トランジスタ(TFT)型液晶表示素子や有機EL素子などの各種ディスプレイにおける保護膜、平坦膜及び絶縁膜などの硬化膜を形成する材料、特にTFT型液晶表示素子の層間絶縁膜、カラーフィルタの保護膜又は有機EL素子の絶縁膜などを形成する材料としても好適である。   The composition for forming a retardation material of the present invention is very useful as an alignment material for forming a liquid crystal alignment film of a liquid crystal display element and an optically anisotropic film provided inside or outside the liquid crystal display element, It is particularly suitable as a material for forming a patterned retardation material for a 3D display. Furthermore, a material for forming a cured film such as a protective film, a flat film and an insulating film in various displays such as a thin film transistor (TFT) type liquid crystal display element and an organic EL element, particularly an interlayer insulating film of a TFT type liquid crystal display element, a color filter It is also suitable as a material for forming a protective film or an insulating film of an organic EL element.

Claims (13)

(A)光配向性基及び熱架橋性基を有する化合物の少なくとも一種、並びに
(B)N−アルコキシメチル基を有する繰り返し単位及び重合性のC=C二重結合を含む側鎖を有する繰り返し単位を含むポリマー
を含有する硬化膜形成組成物。
(A) At least one compound having a photo-alignable group and a thermally crosslinkable group, and (B) a repeating unit having an N-alkoxymethyl group and a repeating unit having a side chain containing a polymerizable C═C double bond The cured film formation composition containing the polymer containing this.
(A)成分の光配向性基が光二量化又は光異性化する構造の官能基である、請求項1に記載の硬化膜形成組成物。 The cured film forming composition according to claim 1, wherein the photoalignable group of the component (A) is a functional group having a structure that undergoes photodimerization or photoisomerization. (A)成分の光配向性基がシンナモイル基である、請求項1又は請求項2に記載の硬化膜形成組成物。 The cured film forming composition of Claim 1 or Claim 2 whose photo-alignment group of (A) component is a cinnamoyl group. (A)成分の光配向性基がアゾベンゼン構造の基である、請求項1又は請求項2に記載の硬化膜形成組成物。 The cured film forming composition of Claim 1 or Claim 2 whose photo-alignment group of (A) component is group of azobenzene structure. さらに、(C)(C−1):ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基およびアルコキシシリル基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基を有するポリマー、(C−2):(A)成分と熱反応可能な置換基を有し、自己架橋可能なポリマー、及び(C−3):メラミンホルムアルデヒド樹脂、からなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマーを含有する請求項1乃至4のいずれか1項に記載の硬化膜形成組成物。   And (C) (C-1): a polymer having at least one substituent selected from the group consisting of a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group, an amino group and an alkoxysilyl group, (C-2): (A) 5. The polymer according to claim 1, comprising at least one polymer selected from the group consisting of a polymer having a substituent capable of thermally reacting with a component and capable of self-crosslinking, and (C-3): melamine formaldehyde resin. 2. A cured film forming composition according to item 1. さらに、(D)架橋触媒を含有する請求項1乃至5のいずれか1項に記載の硬化膜形成組成物。   Furthermore, the cured film formation composition of any one of Claims 1 thru | or 5 containing the crosslinking catalyst (D). さらに、(E)架橋剤を含有する請求項1乃至6のいずれか1項に記載の硬化膜形成組成物。   Furthermore, the cured film forming composition of any one of Claims 1 thru | or 6 containing (E) crosslinking agent. (B)成分のポリマー中の、N−アルコキシメチル基を有する繰り返し単位の存在割合が
、該ポリマーの全繰り返し単位100モルあたり40モル%乃至90モル%であり、重合性のC=C二重結合を含む側鎖を有する繰り返し単位の存在割合が、該ポリマーの全繰り返し単位100モルあたり10モル%乃至60モル%である、請求項1乃至請求項7のうちいずれか一項に記載の硬化膜形成組成物。
The proportion of the repeating unit having an N-alkoxymethyl group in the polymer of component (B) is 40 to 90 mol% per 100 mol of all repeating units of the polymer, and the polymerizable C = C double The curing according to any one of claims 1 to 7, wherein the proportion of the repeating unit having a side chain containing a bond is 10 mol% to 60 mol% per 100 mol of all repeating units of the polymer. Film-forming composition.
(A)成分と(B)成分の含有量比が質量比で5:95乃至60:40である、請求項1乃至請求項8のいずれか一項に記載の硬化膜形成組成物。 The cured film forming composition according to any one of claims 1 to 8, wherein a content ratio of the component (A) to the component (B) is 5:95 to 60:40 in terms of mass ratio. (A)成分及び(B)成分の合計量100質量部に基づいて、5質量部乃至500質量部の(C)成分を含有する、請求項5に記載の硬化膜形成組成物。 The cured film forming composition of Claim 5 which contains 5 mass parts thru | or 500 mass parts (C) component based on 100 mass parts of total amounts of (A) component and (B) component. 請求項1乃至請求項10のうちいずれか一項に記載の硬化膜形成組成物から得られる光学フィルム。 The optical film obtained from the cured film formation composition as described in any one of Claims 1 thru | or 10. 請求項11に記載の光学フィルムを使用して形成される液晶配向材。 The liquid crystal aligning material formed using the optical film of Claim 11. 請求項11に記載の光学フィルムを使用して形成される位相差材。 A retardation material formed using the optical film according to claim 11.
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