KR20200113839A - 가공 대상물 지지대 및 이를 포함하는 스퍼터링 장치 - Google Patents

가공 대상물 지지대 및 이를 포함하는 스퍼터링 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 가공 대상물 지지대 및 이를 포함하는 스퍼터링 장치에 관한 것이다. 구체적으로 본 발명의 일 실시예에 따르면, 스퍼터링 장치에 포함된 가공 대상물 지지대는 피가공물을 지지할 수 있는 트레이; 상기 피가공물이 상기 트레이로부터 이탈하는 것을 방지하기 위한 유지 부재; 및 상기 유지 부재의 열변형과 무관하게 상기 유지 부재에 장력이 가해지도록 상기 유지 부재를 지지하는 지지부를 포함할 수 있다.

Description

가공 대상물 지지대 및 이를 포함하는 스퍼터링 장치{WORKPIEACE SUPPORTING DEVICE AND APPRATUR INCLUDING THE SAME}
본 발명은 가공 대상물 지지대 및 이를 포함하는 스퍼터링 장치에 대한 발명이다.
글래스 패널, 반도체 기판 등의 피가공물을 가공하기 위한 방법으로 진공 하에서 원하는 온도까지 승온시키는 가열 공정, CVD 등 다양한 성막 공정 등이 필요하다. 최근, 이러한 성막을 위해, 피가공물을 고온 및 초저압의 챔버에 넣고 플라즈마를 발생시켜 이온화한 아르곤 등의 가스를 가속하여 타깃에 충돌시켜 목적의 원자를 분출, 그 근방에 있는 기판상에 막을 형성하는 스퍼터링 공정이 이용되고 있다.
이러한 스퍼터링 공정에서는 피가공물 및 이러한 피가공물을 지지하는 지지대가 고온의 챔버에 투입되므로, 고온에 따라 지지대가 열변형되더라도 안정적으로 피가공물을 지지할 것이 요구된다.
본 발명의 실시예들은 상기와 같은 배경에서 발명된 것으로서, 온도 변화에 따른 열변형에도 피가공물을 안정적으로 지지할 수 있는 가공 대상물 지지대 및 이를 포함하는 스퍼터링 장치를 제공하고자 한다.
또한, 스퍼터링 공정이 진행되는 동안 불필요한 파티클의 발생이 억제될 수 있는 가공 대상물 지지대 및 이를 포함하는 스퍼터링 장치를 제공하고자 한다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 피가공물을 지지할 수 있는 트레이; 상기 피가공물이 상기 트레이로부터 이탈하는 것을 방지하기 위한 유지 부재; 및 상기 유지 부재를 지지하고, 상기 유지 부재에 장력을 가하기 위한 자기력을 발생시킬 수 있는 지지부를 포함하는, 가공 대상물 지지대가 제공될 수 있다.
또한, 상기 유지 부재는 일 방향으로 연장되는 케이블로 형성되는, 가공 대상물 지지대가 제공될 수 있다.
또한, 상기 지지부는, 서로 이격 배치되어 상호 간에 자기력이 작용하는 고정 유닛 및 가동 유닛을 포함하는, 가공 대상물 지지대가 제공될 수 있다.
또한, 상기 고정 유닛은 상기 트레이에 고정되고, 상기 가동 유닛은 상기 유지 부재에 고정되되 상기 자기력에 의해 상기 고정 유닛에 대하여 이동 가능한, 가공 대상물 지지대가 제공될 수 있다.
또한, 상기 고정 유닛과 상기 가동 유닛 사이에 작용하는 자기력은 인력이고, 상기 고정 유닛은 상기 가동 유닛보다 상기 유지 부재의 중심으로부터 이격 배치된, 가공 대상물 지지대가 제공될 수 있다.
또한, 상기 고정 유닛과 상기 가동 유닛은 자성체를 포함하고, 상기 고정 유닛의 자성체와 상기 가동 유닛의 자성체는 서로 다른 자극이 대향하도록 배치된, 가공 대상물 지지대가 제공될 수 있다.
또한, 상기 고정 유닛과 상기 가동 유닛 사이에 작용하는 자기력은 척력이고, 상기 고정 유닛은 상기 가동 유닛보다 상기 유지 부재의 중심에 더 가까이 배치된, 가공 대상물 지지대가 제공될 수 있다.
또한, 상기 고정 유닛과 상기 가동 유닛은 자성체를 포함하고, 상기 고정 유닛의 자성체와 상기 가동 유닛의 자성체는 서로 같은 자극이 대향하도록 배치된, 가공 대상물 지지대가 제공될 수 있다.
또한, 상기 고정 유닛과 상기 가동 유닛 사이에 작용하는 자기력은 인력 및 척력이고, 상기 고정 유닛은 복수 개로 제공되며, 상기 가동 유닛은 복수 개의 상기 고정 유닛의 사이에서 이동 가능하게 배치되는, 가공 대상물 지지대가 제공될 수 있다.
또한, 상기 복수 개의 고정 유닛 중 어느 하나는 상기 복수 개의 가동 유닛의 일측에 배치되어 상기 가동 유닛을 밀어내고, 상기 복수 개의 고정 유닛 중 다른 하나는 상기 복수 개의 가동 유닛의 일측의 반대측인 타측에 배치되어 상기 가동 유닛을 당기는, 가공 대상물 지지대가 제공될 수 있다.
또한, 상기 가동 유닛은 복수 개의 자성체를 포함하고, 상기 복수 개의 가동 유닛 중 어느 하나와 상기 복수 개의 고정 유닛 중 상기 어느 하나는 인력의 자기력이 작용하도록 서로 대향하여 배치되고, 상기 복수 개의 가동 유닛 중 다른 하나와 상기 복수 개의 고정 유닛 중 상기 다른 하나는 척력의 자기력이 작용하도록 서로 대향하여 배치되는, 가공 대상물 지지대가 제공될 수 있다.
또한, 상기 유지 부재는 상하 방향으로 연장되도록 배치되며, 상기 지지부는 상기 유지 부재의 하측 단부에서 상기 유지 부재에 장력을 가할 수 있는, 가공 대상물 지지대가 제공될 수 있다.
또한, 상기 지지부는, 상호 간에 자기력이 작용하는 고정 유닛 및 가동 유닛을 포함하고, 상기 가동 유닛은 상기 자기력과 상기 장력에 의해 상기 고정 유닛에 대하여 부유(floating)되는, 가공 대상물 지지대가 제공될 수 있다.
또한, 상기에 열거한 가공 대상물 지지대; 및 상기 피가공물이 상하 방향으로 세워진 채 상기 가공 대상물 지지대를 이송시키는 이송기를 포함하는, 스퍼터링 장치가 제공될 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 가공 대상물 지지대 및 이를 포함하는 스퍼터링 장치는 온도가 변하더라도 피가공물을 안정적으로 지지할 수 있다는 효과가 있다.
또한, 가공 대상물 지지대 및 이를 포함하는 스퍼터링 장치는 스퍼터링 공정이 진행되는 동안 불필요한 파티클이 발생하는 것을 최소화할 수 있다는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 가공 대상물 지지대를 포함하는 스퍼터링 장치를 개념적으로 나타낸 사시도이다.
도 2는 도 1의 가공 대상물 지지대를 나타내는 사시도이다.
도 3(a)는 도 2의 가공 대상물 지지대의 유지 부재와 지지부를 개념적으로 나타낸 측단면도이고, 도 3(b)는 도 3(a)의 가공 대상물 지지대의 유지 부재와 지지부를 개념적으로 나타낸 정단면도이다.
도 4(a)는 제 1 실시예의 제 1 변형예에 따른 가공 대상물 지지대의 유지 부재와 지지부를 개념적으로 나타낸 측단면도이고, 도 4(b)는 도 4(a)의 가공 대상물 지지대의 유지 부재와 지지부를 개념적으로 나타낸 정단면도이다.
도 5(a)는 제 1 실시예의 제 2 변형예에 따른 가공 대상물 지지대의 유지 부재와 지지부를 개념적으로 나타낸 측단면도이고, 도 5(b)는 도 5(a)의 가공 대상물 지지대의 유지 부재와 지지부를 개념적으로 나타낸 정단면도이다.
도 6(a)는 제 1 실시예의 제 3 변형예에 따른 가공 대상물 지지대의 유지 부재와 지지부를 개념적으로 나타낸 측단면도이고, 도 6(b)는 도 6(a)의 가공 대상물 지지대의 유지 부재와 지지부를 개념적으로 나타낸 정단면도이다.
도 7(a)는 제 2 실시예에 따른 가공 대상물 지지대의 유지 부재와 지지부를 개념적으로 나타낸 측단면도이고, 도 7(b)는 도 7(a)의 가공 대상물 지지대의 유지 부재와 지지부를 개념적으로 나타낸 정단면도이다.
도 8(a)는 제 3 실시예에 따른 가공 대상물 지지대의 유지 부재와 지지부를 개념적으로 나타낸 측단면도이고, 도 8(b)는 도 8(a)의 가공 대상물 지지대의 유지 부재와 지지부를 개념적으로 나타낸 정단면도이다.
도 9(a)는 제 3 실시예의 일 변형예에 따른 가공 대상물 지지대의 유지 부재와 지지부를 개념적으로 나타낸 측단면도이고, 도 9(b)는 도 9(a)의 가공 대상물 지지대의 유지 부재와 지지부를 개념적으로 나타낸 정단면도이다.
이하에서는 본 발명의 사상을 구현하기 위한 구체적인 실시예에 대하여 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다.
아울러 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다.
또한, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 '연결', '지지', '접속', '공급', '전달', '접촉'된다고 언급된 때에는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결, 지지, 접속, 공급, 전달, 접촉될 수도 있지만 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.
본 명세서에서 사용된 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로 본 발명을 한정하려는 의도로 사용된 것은 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함한다.
또한, 본 명세서에서 상측, 하측, 측면 등의 표현은 도면에 도시를 기준으로 설명한 것이며 해당 대상의 방향이 변경되면 다르게 표현될 수 있음을 미리 밝혀둔다. 마찬가지의 이유로 첨부 도면에 있어서 일부 구성요소는 과장되거나 생략되거나 또는 개략적으로 도시되었으며, 각 구성요소의 크기는 실제 크기를 전적으로 반영하는 것이 아니다.
또한, 제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 해당 구성요소들은 이와 같은 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 이 용어들은 하나의 구성요소들을 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
명세서에서 사용되는 "포함하는"의 의미는 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 성분을 구체화하며, 다른 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소, 성분 및/또는 군의 존재나 부가를 제외시키는 것은 아니다.
이하, 도 1 내지 도 3을 참조하여 본 발명의 제 1 실시예에 따른 스퍼터링 장치(1)를 설명한다.
스퍼터링 장치(1)는 피가공물(2)을 스퍼터링 처리할 수 있다. 이러한 스퍼터링 장치(1)는 피가공물(2)을 지지할 수 있는 가공 대상물 지지대(10), 스퍼터링 공간을 형성하는 챔버(20) 및 이송기구(30)를 포함할 수 있다.
가공 대상물 지지대(10)는 피가공물(2)을 지지한다. 또한, 가공 대상물 지지대(10)는 피가공물(2)의 스퍼터링 처리를 위해 피가공물(2)을 지지한 채로 챔버(20)의 스퍼터링 공간으로 투입될 수 있다.
이러한 가공 대상물 지지대(10)는 피가공물(2)이 지지될 수 있는 트레이(100), 피가공물(2)을 트레이(100)에 유지시키기 위한 유지 부재(200), 및 유지 부재(200)를 지지하는 지지부(300)를 포함할 수 있다.
트레이(100)는 플레이트 형상의 피가공물(2)을 지지할 수 있다. 또한, 피가공물(2)은 상하 방향으로 세워진 채 트레이(100)에 지지될 수 있다. 이러한 트레이(100)에는 피가공물(2)이 지지될 수 있는 공간이 형성될 수 있다. 또한, 트레이(100)는 피가공물(2)의 가장자리를 지지할 수 있다. 예를 들어, 가공 대상물 지지대(10)가 이송되는 방향을 전후 방향으로 정의할 때, 트레이(100)는 피가공물(2)의 상부, 하부, 전방부 및 후방부를 지지할 수 있다.
유지 부재(200)는 피가공물(2)이 트레이로부터 이탈하는 것을 방지할 수 있다. 유지 부재(200)는 일 방향으로 연장되는 장형 부재일 수 있다. 유지 부재(200)의 일 단부는 트레이(100)에 고정될 수 있다. 예를 들어, 유지 부재(200)가 상하 방향으로 연장되는 장형 부재일 경우, 유지 부재(200)의 상단부는 트레이(100)에 고정될 수 있다.
이러한 유지 부재(200)는 가요성을 가지는 케이블일 수 있다. 또한, 유지 부재(200)는 피가공물(2)의 양측을 지지하도록 복수 개로 제공될 수 있다. 예를 들어, 복수 개의 유지 부재(200) 중 어느 일부는 피가공물(2)의 좌면을 지지하고 복수 개의 유지 부재(200)중 다른 일부는 피가공물(2)의 우면을 지지할 수 있다. 피가공물(2)은 좌면을 지지하는 유지 부재(200)와 우면을 지지하는 유지 부재(200) 사이에 개재되어 안정적인 자세로 유지될 수 있다.
지지부(300)는 유지 부재(200)에 장력이 가해지도록 유지 부재(200)를 지지한다. 이러한 지지부(300)는 온도 변화에 따라 유지 부재(200)가 열변형되더라도 유지 부재(200)에 장력을 가할 수 있다. 따라서, 유지 부재(200)는 열변형되어 팽창하더라도 뒤틀리거나 굽혀지지 않을 수 있다. 또한, 지지부(300)는 하나의 지지부(300)가 복수 개의 유지 부재(200)를 지지하도록 구성될 수도 있다.
또한, 지지부(300)는 유지 부재(200)에 가해질 장력을 제공하기 위해 서로 이격 배치된 고정 유닛(310)과 가동 유닛(320)을 포함할 수 있다. 고정 유닛(310)은 트레이(100)에 고정 설치되고, 가동 유닛(320)은 트레이(100)에 대하여 이동 가능하게 구성될 수 있다. 가동 유닛(320)은 트레이(100)와 소정거리 이격되도록 배치될 수 있다. 또한, 가동 유닛(320)은 자기력과 장력에 의해 부유(floating)될 수 있다.
이러한 고정 유닛(310)과 가동 유닛(320)은 상호 간에 자기력을 가하도록 구성될 수 있다. 또한, 고정 유닛(310)은 트레이(100)에 고정되고, 가동 유닛(320)은 유지 부재(200)의 단부에 고정될 수 있다. 가공 대상물 지지대(10)가 고온이 되어 유지 부재(200)가 열팽창하면 자기력에 의해 가동 유닛(320)이 고정 유닛(310)을 향해 이동하지만, 가동 유닛(320)이 이동하더라도 가동 유닛(320)과 고정 유닛(310)은 서로 이격된다.
다시 말해, 고정 유닛(310)과 가동 유닛(320)의 서로에 대한 이격 거리는, 고정 유닛(310)과 가동 유닛(320)간의 자기력이 작용할 수 있도록 가깝지만, 유지 부재(200)가 열팽창하더라도 고정 유닛(310)과 가동 유닛(320)이 서로 접촉하지 않도록 떨어져 유지될 수 있다.
고정 유닛(310)과 가동 유닛(320)은 자성체를 포함할 수 있다. 이하, 고정 유닛(310)에 포함된 자성체는 고정 자석(311)으로 명명되고, 가동 유닛(320)에 포함된 자석은 가동 자석(321)으로 명명될 수 있다. 이러한 고정 자석(311)과 가동 자석(321)은 영구자석 또는 전자석일 수 있다. 예를 들어, 고정 자석(311)과 가동 자석(321) 중 어느 하나는 자기력의 온-오프가 제어될 수 있는 전자석이고, 고정 자석(311)과 가동 자석(321) 중 다른 하나는 영구자석일 수 있다.
고정 자석(311)과 가동 자석(321)은 서로에 대하여 자극(N극 또는 S극)이 노출되도록 배치될 수 있다. 또한, 고정 자석(311)의 자극과 가동 자석(321)의 자극은 고정 유닛(310)과 가동 유닛(320) 사이에 인력의 자기력이 작용하도록 대향하여 배치될 수 있다. 다시 말해, 가동 자석(321)을 향하도록 배치되는 고정 자석(311)의 자극과, 고정 자석(311)을 향하도록 배치되는 가동 자석(321)의 자극은 상이할 수 있다. 일 예로, 고정 자석(311)의 N극이 가동 자석(321)을 향해 배치되고, 가동 자석(321)의 S극이 고정 자석(311)을 향해 배치될 수 있다. 다른 예로, 고정 자석(311)의 S극이 가동 자석(321)을 향해 배치되고, 가동 자석(321)의 N극이 고정 자석(311)을 향해 배치될 수 있다.
또한, 고정 유닛(310)은 트레이(100)에 고정되어 고정 자석(311)을 지지하기 위한 고정 브라켓(312)을 더 포함할 수 있고, 가동 유닛(320)은 유지 부재(200)를 지지하면서 고정 유닛(310)에 대해 이동 가능한 가동 브라켓(322)을 더 포함할 수 있다. 이러한 고정 브라켓(312)은 트레이(100)에 고정될 수 있고, 가동 브라켓(322)은 트레이(100)와 소정거리 이격되도록 배치될 수 있다.
고정 유닛(310)과 가동 유닛(320)은 서로 이격되어 있으면서도 인력이 작용할 수 있고, 고정 유닛(310)과 가동 유닛(320) 사이의 인력으로 인해 유지 부재(200)에 장력이 가해질 수 있다. 고정 유닛(310)은 유지 부재(200)를 지지하는 가동 유닛(320)보다 유지 부재(200)의 중심으로부터 이격되어 배치될 수 있다. 다시 말해, 유지 부재(200)가 가동 유닛(320)에 고정되는 부분은, 고정 유닛(310)와 유지 부재(200)의 중심부의 사이에 배치될 수 있다. 예를 들어, 유지 부재(200)가 상하 방향으로 연장되는 형상을 가지며, 가동 유닛(320)의 유지 부재(200)의 하단부에 고정될 때, 고정 유닛(310)은 가동 유닛(320)보다 하측에 배치될 수 있다.
한편, 고정 유닛(310)과 가동 유닛(320)은 서로 이격된 채 자기력으로 유지 부재(200)에 장력을 가하게 된다. 따라서, 가공 대상물 지지대(10)의 이동에 의해 발생할 수 있는 피가공물(2)의 요동이 신속하게 사라질 수 있다. 다시 말해, 지지부(300)가 가하는 유지 부재(200)의 장력으로 인해, 가공 대상물 지지대(10)가 이동할 때에도 피가공물(2)의 자세가 신속하게 안정화될 수 있다.
또한, 가공 대상물 지지대(10)의 온도가 상승하여 유지 부재(200)가 열팽창할 때에도 고정 유닛(310)과 가동 유닛(320)은 서로 이격되므로, 유지 부재(200)가 열팽창하더라도 유지 부재(200)를 지지하는 트레이(100)가 변형되거나 뒤틀리지 않을 수 있다.
챔버(20)는 가공 대상물 지지대(10)가 투입될 수 있는 스퍼터링 공간을 형성할 수 있다. 또한, 챔버(20)는 가공 대상물 지지대(10)에 지지된 피가공물(2)을 스퍼터링하기 위해 스퍼터링 공간을 고온, 고압의 분위기로 유지할 수 있도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 챔버(20)의 스퍼터링 공간은 대략 150도 이상 250도 이하의 온도와 10-6 Torr이상 10-5 Torr이하의 압력의 분위기로 유지될 수 있다. 이러한 챔버(20)는 복수 개로 제공될 수 있다. 복수 개의 챔버(20)는 스퍼터링 공간이 서로 연통하도록 일렬로 배치될 수 있다.
이러한 챔버(20)의 스퍼터링 공간의 온도 및 압력은 가열기, 가스 공급기 및 진공 펌프를 통해 조절될 수 있다. 또한, 챔버(20)에는 플라즈마 생성장치가 제공될 수 있다. 플라즈마 생성장치는 스퍼터링 공간에 배치될 피가공물(2)에 대향하여 배치되는 타겟 재료를 구비하며, 이러한 타겟 재료에 이온화한 아르곤 등의 가스를 충돌시켜 타겟 재료로부터 증착될 물질을 분출시킨다. 분출된 물질은 피가공물(2)에 증착되어 박막을 형성할 수 있다.
이송기구(30)는 챔버(20) 내의 스퍼터링 공간 내에서 가공 대상물 지지대(10)를 이동시킬 수 있다. 이러한 이송기구(30)는 가공 대상물 지지대(10)를 이송하기 위한 레일을 포함할 수 있다. 또한, 이송기구(30)는 가공 대상물 지지대(10)를 자기 부상시켜 이동시킬 수 있다. 가공 대상물 지지대(10)는 이송기구(30)에 의해 복수 개의 챔버(20)간을 이동할 수 있다.
한편, 상술한 구성들은 본 발명의 사상에 벗어나지 않는 범위 내에서 변형 실시될 수 있다. 이하에서는 도 4를 참조하여 제 1 실시예에 대한 제 1 변형예 내지 제 3 변형예를 설명한다. 상술한 실시예에 대한 차이점 위주로 변형예들을 설명하고, 동일한 설명 및 도면부호는 원용한다.
도 4를 참조하면 제 1 변형예에 따른 스퍼터링 장치(1)의 가공 대상물 지지대(10)는 고정 유닛(310) 및 가동 유닛(320) 중 어느 하나에만 자성체가 제공되도록 구성될 수 있다. 또한, 고정 유닛(310) 및 가동 유닛(320) 중 다른 하나에는 자성체의 자기력에 의해 인력을 받을 수 있는 철이 제공될 수 있다. 고정 유닛(310)과 가동 유닛(320) 사이에는 자성체와 철에 의해 인력의 자기력이 작용할 수 있다.
가공 대상물 지지대(10)는 고정 유닛(310)과 가동 유닛(320) 간의 자기력에 의해 유지 부재(200) 사이에 개재된 피가공물(2)을 안정적인 자세로 유지할 수 있고, 유지 부재(200)의 열팽창으로 인한 트레이(100)의 뒤틀림, 휘어짐을 방지할 수 있다.
한편, 도 5를 참조할 때 제 2 변형예에 따르면 고정 유닛(310) 및 가동 유닛(320)는 복수 개의 자성체를 포함할 수 있다.
다시 말해, 지지부(300)의 고정 자석(311)은 제1 고정 자석(311-1) 및 제2 고정 자석(311-2)을 포함할 수 있고, 지지부(300)의 가동 자석(321)은 제1 가동 자석(321-1) 및 제2 가동 자석(321-2)을 포함할 수 있다. 제1 고정 자석(311-1)과 제2 고정 자석(311-2)은 가동 자석(321)을 향해 서로 다른 자극이 노출되도록 배치될 수 있다.
또한, 제1 가동 자석(321-1)과 제2 가동 자석(321-2)은 고정 자석(311)을 향해 서로 다른 자극이 노출되도록 배치될 수 있다. 예를 들어, 제1 고정 자석(311-1)과 제1 가동 자석(321-1)이 대향하여 배치되고, 제2 고정 자석(311-2)과 제2 가동 자석(321-2)이 서로 대향하여 배치될 경우, 제1 고정 자석(311-1)은 N극이 제1 가동 자석(321-1)을 향해 노출되도록 배치되고, 제2 고정 자석(311-2)은 S극이 제2 가동 자석(321-2)을 향해 노출되도록 배치될 수 있다. 이 경우, 제1 가동 자석(321-1)과 제2 가동 자석(321-2)은 각각 S극과 N극이 고정 유닛(310)을 향해 노출되도록 배치될 수 있다.
한편, 도 6을 참조할 때 제 3 변형예에 따르면 제1 고정 자석(311-1)과 제2 고정 자석(311-2)은 하나의 고정 자석 유닛(311a)을 구성할 수 있고, 이러한 고정 자석 유닛은 복수 개로 제공될 수 있다. 또한, 복수 개의 고정 자석 유닛은 일 방향(일 예로 도면의 전후 방향)에 따라 배치되고, 고정 자석 유닛과 가동 자석 유닛에 포함된 자석은 타 방향(일 예로 도면의 좌우 방향)으로 배열될 수 있다. 이러한 복수 개의 고정 자석 유닛은 인접하는 고정 자석 유닛에 대하여 서로 다른 자극이 인접하도록 배치될 수 있다. 다시 말해, 복수 개의 고정 자석(311)은 일 방향과 타 방향의 2차원으로 서로 다른 자극이 노출되도록 배치될 수 있다.
이와 마찬가지로, 제1 가동 자석(321-1)과 제2 가동 자석(321-2)은 하나의 가동 자석 유닛을 구성할 수 있고, 이러한 가동 자석 유닛은 복수 개로 제공될 수 있다. 복수 개의 가동 자석 유닛은 일 방향(일 예로 도면의 전후 방향)에 따라 배치되고, 가동 자석 유닛과 가동 자석 유닛에 포함된 자석은 타 방향(일 에로 도면의 좌우 방향)으로 배열될 수 있다. 이러한 복수 개의 가동 자석 유닛은 인접하는 가동 자석 유닛에 대하여 서로 다른 자극이 인접하도록 배치될 수 있다. 다시 말해, 복수 개의 가동 자석(321)은 일 방향과 타 방향의 2차원으로 서로 다른 자극이 노출되도록 배치될 수 있다.
한편, 이러한 구성 이외에도, 본 발명의 제 2 실시예에 따르면, 고정 유닛(310)과 가동 유닛(320)은 서로에 대하여 척력의 자기력이 작용하도록 구성될 수 있다. 이하, 도 7을 더 참조하여, 본 발명의 제 2 실시예를 설명한다. 제 2 실시예를 설명함에 있어서, 상술한 실시예와 비교하였을 때의 차이점을 위주로 설명하며 동일한 설명 및 도면부호는 상술한 실시예를 원용한다.
도 7을 참조하면, 가동 자석(321)을 향하도록 배치되는 고정 자석(311)의 자극과, 고정 자석(311)을 향하도록 배치되는 가동 자석(321)의 자극은 서로 동일할 수 있다. 일 예로, 고정 자석(311)의 N극이 가동 자석(321)을 향해 배치되고, 가동 자석(321)의 N극이 고정 자석(311)을 향해 배치될 수 있다. 다른 예로, 고정 자석(311)의 S극이 가동 자석(321)을 향해 배치되고, 가동 자석(321)의 S극이 고정 자석(311)을 향해 배치될 수 있다.
고정 유닛(310)과 가동 유닛(320)은 서로 이격되어 있으면서도 척력이 작용할 수 있고, 고정 유닛(310)과 가동 유닛(320) 사이의 척력으로 인해 유지 부재(200)에 장력이 가해질 수 있다. 고정 유닛(310)은 유지 부재(200)를 지지하는 가동 유닛(320)보다 유지 부재(200)의 중심에 더 가까이 배치될 수 있다. 다시 말해, 고정 유닛(310)은 유지 부재(200)가 가동 유닛(320)에 고정되는 부분과 유지 부재(200)의 중심부의 사이에 배치될 수 있다. 예를 들어, 유지 부재(200)가 상하 방향으로 연장되는 형상을 가지며, 가동 유닛(320)의 유지 부재(200)의 하단부에 고정될 때, 고정 유닛(310)은 가동 유닛(320)보다 상측에 배치될 수 있다.
또한, 유지 부재(200)는 고정 유닛(310)을 관통할 수 있다. 이러한 유지 부재(200)의 관통을 위해 고정 브라켓(312)에는 유지 부재(200) 관통용 홀이 형성될 수 있다. 이러한 관통용 홀은 복수 개의 고정 유닛(310)과 가동 유닛(320)의 사이에 형성될 수 있다.
한편, 이러한 구성 이외에도, 본 발명의 제 3 실시예에 따르면, 고정 유닛(310)과 가동 유닛(320)은 서로에 대하여 인력과 척력의 자기력이 함께 작용하도록 구성될 수 있다. 이하, 도 8을 더 참조하여, 본 발명의 제 3 실시예를 설명한다. 제 3 실시예를 설명함에 있어서, 상술한 실시예와 비교하였을 때의 차이점을 위주로 설명하며 동일한 설명 및 도면부호는 상술한 실시예를 원용한다.
도 8을 참조하면, 고정 유닛(310)의 고정 자석(311)은 복수 개로 제공될 수 있다. 이러한 복수 개의 고정 자석(311)은 인력용 고정 자석(311a)과 척력용 고정 자석(311b)을 포함할 수 있다.
가동 유닛(320)은 인력용 고정 자석(311a)과 척력용 고정 자석(311b)의 사이에 배치될 수 있고, 인력용 고정 자석(311a)과 척력용 고정 자석(311b) 사이에서 이동 가능하게 구성될 수 있다. 가동 유닛(320)은 트레이(100)에 대하여 소정 거리 이격 배치될 수 있다. 또한 가동 유닛(320)의 가동 자석(321)은 인력용 고정 자석(311a)과 서로 다른 자극이 대향하고, 척력용 고정 자석(311b)과 서로 동일한 자극이 대향하도록 배치될 수 있다.
인력용 고정 자석(311a), 가동 자석(321) 및 척력용 고정 자석(311b)은 유지 부재(200)가 연장되는 방향(예를 들어 아래에서 위를 향하는 방향)을 따라 순차적으로 배열될 수 있다. 이러한 가동 자석(321)은 복수 개로 제공될 수 있다.
복수 개의 고정 자석(311)을 지지하기 위해 고정 브라켓(312)은 복수 개로 제공될 수 있다. 복수 개의 고정 브라켓(312) 중 어느 일부는 인력용 고정 자석(311a)을 지지하고, 복수 개의 고정 브라켓(312) 중 다른 일부는 척력용 고정 자석(311b)을 지지할 수 있다. 또한, 인력용 고정 자석(311a)을 고정하는 고정 브라켓(312) 또는 척력용 고정 자석(311b)을 고정하는 고정 브라켓(312)에는 유지 부재(200)가 관통하기 위한 관통용 홀이 형성될 수 있다.
본 실시예에 따르면, 척력의 자기력에 의해 가동 유닛(320)이 척력용 고정 자석(311b)으로부터 멀어질수록 가동 유닛(320)이 인력용 고정 자석(311a)에 가까이 이동하게 된다. 따라서, 가동 자석(321)이 척력의 자기력에 의해 척력용 고정 자석(311b)으로부터 멀어짐으로써 척력의 자기력이 약해지더라도 가동 자석(321)과 인력용 고정 자석(311a)가 서로 가까워짐으로써 인력의 자기력이 강해지므로, 가동 유닛(320)이 이동하더라도 가동 유닛(320)은 소정 수준 이상의 자기력을 받을 수 있다.
한편, 본 실시예에 따른 도면에서는 인력용 고정 자석(311a)이 가동 자석(321)의 어느 일부에 대하여 자기력을 작용받고, 척력용 고정 자석(311b)이 가동 자석(321)의 다른 일부에 대하여 자기력을 작용받는 것으로 나타내었으나, 변형 실시될 수도 있다. 이하, 도 9를 참조하여 제 3 실시예의 일 변형예를 설명한다.
도 9를 참조하면, 제 3 실시예의 일 변형예에서는 가동 자석(321)이 복수 개로 제공될 수 있다. 또한, 인력용 고정 자석(311a)에 대하여 자기 작용을 하는 고정 자석(311)과 척력용 고정 자석(311b)에 대하여 자기 작용을 하는 고정 자석(311)이 별도의 자성체로 마련될 수 있다. 다시 말해, 가동 자석(321)이 복수 개로 제공되고, 이러한 복수 개의 가동 자석(321)은 인력용 가동 자석(321a)과 척력용 가동 자석(321b)을 포함할 수 있다.
인력용 고정 자석(311a), 인력용 가동 자석(321a), 척력용 가동 자석(321b) 및 척력용 고정 자석(311b)은 유지 부재(200)가 연장되는 방향을 따라 순차적으로 배열될 수 있다. 또한, 인력용 고정 자석(311a)과 인력용 가동 자석(321a)은 서로에 대하여 다른 자극이 마주하도록 배열되고, 척력용 고정 자석(311b)과 척력용 가동 자석(321b)은 서로에 대하여 동일한 자극이 마주하도록 배열될 수 있다. 예를 들어, 인력용 고정 자석(311a)과 인력용 가동 자석(321a)은, 인력용 고정 자석(311a)의 N극과 인력용 가동 자석(321a)의 S극이 서로 마주하도록 배열될 수 있고, 척력용 고정 자석(311b)과 척력용 가동 자석(321b)은 척력용 고정 자석(311b)의 N극과 척력용 가동 자석(321b)의 N극이 서로 마주하도록 배열될 수 있다.
인력용 고정 자석(311a)과 인력용 가동 자석(321a)은 서로에 대하여 인력의 자기력이 작용하고, 이러한 인력의 자기력은 가동 유닛(320)이 인력용 고정 자석(311a)에 가까워지도록 가동 유닛(320)을 당긴다. 척력용 고정 자석(311b)과 척력용 가동 자석(321b)은 서로에 대하여 척력의 자기력이 작용하고, 이러한 척력의 자기력은 고정 유닛(310)이 인력용 가동 자석(321a)으로부터 멀어지도록 가동 유닛(320)을 밀어낸다.
이상 본 발명의 실시예들을 구체적인 실시 형태로서 설명하였으나, 이는 예시에 불과한 것으로서, 본 발명은 이에 한정되지 않는 것이며, 본 명세서에 개시된 기초 사상에 따르는 최광의 범위를 갖는 것으로 해석되어야 한다. 당업자는 개시된 실시형태들을 조합/치환하여 적시되지 않은 형상의 패턴을 실시할 수 있으나, 이 역시 본 발명의 범위를 벗어나지 않는 것이다. 이외에도 당업자는 본 명세서에 기초하여 개시된 실시형태를 용이하게 변경 또는 변형할 수 있으며, 이러한 변경 또는 변형도 본 발명의 권리범위에 속함은 명백하다.
1: 스퍼터링 장치
10: 가공 대상물 지지대 20: 챔버
30: 이송기구
100: 트레이
200: 유지 부재
300: 지지부 310: 고정 유닛
311: 고정 자석 311-1: 제1 고정 자석
311-2: 제2 고정 자석 312: 고정 브라켓
312a: 홀 320: 가동 유닛
321: 가동 자석 321-1: 제1 가동 자석
321-2: 제2 가동 자석 322: 가동 브라켓
311a: 인력용 고정 자석 311b: 척력용 고정 자석
321a: 인력용 가동 자석 321b: 척력용 가동 자석

Claims (14)

  1. 피가공물을 지지할 수 있는 트레이;
    상기 피가공물이 상기 트레이로부터 이탈하는 것을 방지하기 위한 유지 부재; 및
    상기 유지 부재를 지지하고, 상기 유지 부재에 장력을 가하기 위한 자기력을 발생시킬 수 있는 지지부를 포함하는,
    가공 대상물 지지대.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 유지 부재는 일 방향으로 연장되는 케이블로 형성되는,
    가공 대상물 지지대.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 지지부는, 서로 이격 배치되어 상호 간에 자기력이 작용하는 고정 유닛 및 가동 유닛을 포함하는,
    가공 대상물 지지대.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 고정 유닛은 상기 트레이에 고정되고, 상기 가동 유닛은 상기 유지 부재에 고정되되 상기 자기력에 의해 상기 고정 유닛에 대하여 이동 가능한,
    가공 대상물 지지대.
  5. 제 3 항에 있어서,
    상기 고정 유닛과 상기 가동 유닛 사이에 작용하는 자기력은 인력이고,
    상기 고정 유닛은 상기 가동 유닛보다 상기 유지 부재의 중심으로부터 이격 배치된,
    가공 대상물 지지대.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 고정 유닛과 상기 가동 유닛은 자성체를 포함하고, 상기 고정 유닛의 자성체와 상기 가동 유닛의 자성체는 서로 다른 자극이 대향하도록 배치된,
    가공 대상물 지지대.
  7. 제 3 항에 있어서,
    상기 고정 유닛과 상기 가동 유닛 사이에 작용하는 자기력은 척력이고,
    상기 고정 유닛은 상기 가동 유닛보다 상기 유지 부재의 중심에 더 가까이 배치된,
    가공 대상물 지지대.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 고정 유닛과 상기 가동 유닛은 자성체를 포함하고, 상기 고정 유닛의 자성체와 상기 가동 유닛의 자성체는 서로 같은 자극이 대향하도록 배치된,
    가공 대상물 지지대.
  9. 제 3 항에 있어서,
    상기 고정 유닛과 상기 가동 유닛 사이에 작용하는 자기력은 인력 및 척력이고,
    상기 고정 유닛은 복수 개로 제공되며,
    상기 가동 유닛은 복수 개의 상기 고정 유닛의 사이에서 이동 가능하게 배치되는,
    가공 대상물 지지대.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 복수 개의 고정 유닛 중 어느 하나는 상기 복수 개의 가동 유닛의 일측에 배치되어 상기 가동 유닛을 밀어내고,
    상기 복수 개의 고정 유닛 중 다른 하나는 상기 복수 개의 가동 유닛의 일측의 반대측인 타측에 배치되어 상기 가동 유닛을 당기는,
    가공 대상물 지지대.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 가동 유닛은 복수 개의 자성체를 포함하고,
    상기 복수 개의 가동 유닛 중 어느 하나와 상기 복수 개의 고정 유닛 중 상기 어느 하나는 인력의 자기력이 작용하도록 서로 대향하여 배치되고,
    상기 복수 개의 가동 유닛 중 다른 하나와 상기 복수 개의 고정 유닛 중 상기 다른 하나는 척력의 자기력이 작용하도록 서로 대향하여 배치되는,
    가공 대상물 지지대.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 유지 부재는 상하 방향으로 연장되도록 배치되며,
    상기 지지부는 상기 유지 부재의 하측 단부에서 상기 유지 부재에 장력을 가할 수 있는,
    가공 대상물 지지대.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 지지부는, 상호 간에 자기력이 작용하는 고정 유닛 및 가동 유닛을 포함하고,
    상기 가동 유닛은 상기 자기력과 상기 장력에 의해 상기 고정 유닛에 대하여 부유(floating)되는,
    가공 대상물 지지대.
  14. 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 기재된 가공 대상물 지지대; 및
    상기 피가공물이 상하 방향으로 세워진 채 상기 가공 대상물 지지대를 이송시키는 이송기를 포함하는,
    스퍼터링 장치.
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