KR20200113543A - Gate valve assembly and water processing system having the same - Google Patents

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KR20200113543A
KR20200113543A KR1020190033901A KR20190033901A KR20200113543A KR 20200113543 A KR20200113543 A KR 20200113543A KR 1020190033901 A KR1020190033901 A KR 1020190033901A KR 20190033901 A KR20190033901 A KR 20190033901A KR 20200113543 A KR20200113543 A KR 20200113543A
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Abstract

Provided is a gate valve which can prevent inner contamination of a valve chamber. The gate valve comprises: a valve chamber having an inner space and having openings on a first side surface and a second side surface facing each other; a seal plate installed in the inner space of the valve chamber; a valve driving unit moving the seal plate to a closed position of the opening or an open position of the opening; and a passage forming member providing an arbitrary passage connecting the opening of the first side surface and the opening of the second side surface when the seal plate is moved to the open position.

Description

게이트 밸브 및 이를 갖는 기판 처리 시스템{GATE VALVE ASSEMBLY AND WATER PROCESSING SYSTEM HAVING THE SAME}Gate valve and substrate processing system having the same {GATE VALVE ASSEMBLY AND WATER PROCESSING SYSTEM HAVING THE SAME}

본 발명은 게이트 밸브 및 이를 이용한 기판 처리 시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 두 챔버의 사이에 배치되어 두 챔버에 형성된 개구부를 개폐하는 게이트 밸브 및 이를 이용한 기판 처리 시스템에 관한 것이다. The present invention relates to a gate valve and a substrate processing system using the same, and more particularly, to a gate valve disposed between two chambers to open and close an opening formed in two chambers, and a substrate processing system using the same.

일반적으로 반도체 소자를 제조하기 위한 반도체 제조공정은 고정밀도를 요구하므로 높은 청결도와 특수한 제조기술이 요구되고 있다. In general, semiconductor manufacturing processes for manufacturing semiconductor devices require high precision, so high cleanliness and special manufacturing techniques are required.

이러한 이유로, 반도체 소자는 공기 중에 포함된 이물질의 접촉을 완벽하게 차단한 상태, 즉, 진공상태에서 제조됨으로써, 제품의 신뢰성 및 완성도 높은 제품 생산이 가능해진다. For this reason, the semiconductor device is manufactured in a state in which the contact of foreign substances contained in the air is completely blocked, that is, in a vacuum state, thereby enabling the production of products with high product reliability and high degree of completion.

한편, 반도체 소자를 제조하는 공정은 제조공정의 특성에 따라 특정 압력이 유지되거나 외부와 밀폐되는 공간이 구비된 공정 챔버에서 이루어진다. 웨이퍼는 제조공정상 공정 챔버와 반송 챔버 사이를 수없이 이동하여야 하기 때문에 각각의 공간의 특성을 유지하기 위하여 공간 사이의 개폐 및 밀폐여부가 매우 중요하고, 이와 같은 목적을 달성하기 위하여 공정 챔버와 반송 챔버의 이송 경로에는 게이트밸브가 설치된다. On the other hand, the process of manufacturing a semiconductor device is performed in a process chamber provided with a space sealed with the outside or maintaining a specific pressure according to the characteristics of the manufacturing process. Since wafers must move countless times between the process chamber and the transfer chamber during the manufacturing process, it is very important to open and close the space between the spaces in order to maintain the characteristics of each space. To achieve this purpose, the process chamber and the transfer chamber A gate valve is installed in the transfer path of

상기와 같은 게이트 밸브를 이용하여 공정과정에 따라 반도체 소자의 집적공정이 이루어지는 공정챔버 내의 이물질이 포함된 유체를 흡입하는 공정을 진행할 수 있고, 때로는 공정챔버 내 진공상태를 조성하는 공정을 진행할 수 있는 것을 가능하게 한다. By using the gate valve as described above, a process of sucking a fluid containing foreign substances in the process chamber in which the semiconductor device is integrated according to the process process can be performed, and sometimes a process of creating a vacuum state in the process chamber can be performed. Make it possible.

이러한 역할을 하는 게이트밸브는 다양한 일실시예를 통해 실시되고 있으며, 그 일실시의 예로 하기 특허문헌의 “게이트 밸브에 접지 라인이 구성된 기판처리장치(대한민국 공개특허공보 10-2012-0104842)”가 게시되어 있다. The gate valve that serves this role is being implemented through various embodiments, and as an example of the embodiment, the “substrate processing apparatus with a ground line on the gate valve (Korean Patent Publication 10-2012-0104842)” of the following patent document Has been posted.

그러나, 종래의 게이트 밸브는 밸브 플레이트가 개방되었을 때 밸브 하우징의 내측 공간이 오픈되면서 게이트 밸브와 연결된 챔버 내의 환경에 그대로 노출되고, 밸브 하우징 내측 공간에 위치하는 밸브 플레이트, 밸브 구동부 등이 챔버 내의 잔류 유체에 의해 오염되거나 부식되는 문제점이 발생하게 된다.However, the conventional gate valve is exposed to the environment in the chamber connected to the gate valve as the inner space of the valve housing is opened when the valve plate is opened, and the valve plate, valve driving unit, etc. located in the space inside the valve housing remain in the chamber. There is a problem of being contaminated or corroded by the fluid.

본 발명은 밸브 하우징의 내측 공간으로 유체가 유입되는 것을 방지할 수 있는 게이트 밸브 및 이를 갖는 기판 처리 시스템을 제공하는데 있다.The present invention is to provide a gate valve capable of preventing fluid from flowing into an inner space of a valve housing, and a substrate processing system having the same.

본 발명은 유체가 밸브 하우징을 원활하게 통과할 수 있는 게이트 밸브 및 이를 갖는 기판 처리 시스템을 제공하는 것이다.The present invention is to provide a gate valve through which fluid can pass smoothly through a valve housing, and a substrate processing system having the same.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다. The problem to be solved by the present invention is not limited thereto, and other problems that are not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명의 일 측면에 따르면, 내측 공간을 갖고, 서로 대향되는 제1측면과 제2측면에 개구를 갖는 밸브 챔버; 상기 밸브 챔버의 내측 공간에 설치되는 씰(seal) 플레이트; 상기 씰 플레이트를 상기 개구의 폐쇄 위치 또는 상기 개구의 개방 위치로 이동시키는 밸브 구동부; 및 상기 씰 플레이트가 개방 위치로 이동되면 상기 제1측면의 개구와 상기 제2측면의 개구를 연결하는 임의 통로를 제공하는 통로 형성 부재를 포함하는 게이트 밸브를 제공하고자 한다.According to an aspect of the present invention, a valve chamber having an inner space and having openings on a first side and a second side facing each other; A seal plate installed in the inner space of the valve chamber; A valve driving part for moving the seal plate to a closed position of the opening or an open position of the opening; And a passage forming member providing an arbitrary passage connecting the opening of the first side and the opening of the second side when the seal plate is moved to the open position.

또한, 상기 통로 형성 부재는 통로 플레이트; 및 상기 씰 플레이트가 개방 위치에서 폐쇄 위치로 이동시 상기 통로 플레이트와의 간섭이 발생되지 않도록 상기 통로 플레이트를 통로 위치에서 대기 위치로 이동시키는 플레이트 구동부를 포함할 수 있다.In addition, the passage forming member may include a passage plate; And a plate driving unit for moving the passage plate from the passage position to the standby position so that interference with the passage plate does not occur when the seal plate moves from the open position to the closed position.

또한, 상기 통로 플레이트는 상기 개구를 정면에서 바라보았을 때 상부에 위치하는 탑 플레이트, 좌우에 위치하는 제1,2사이드 플레이트 그리고 하부에 위치하는 바텀 플레이트를 포함할 수 있다.Further, the passage plate may include a top plate positioned at an upper portion when the opening is viewed from the front, first and second side plates positioned at left and right, and a bottom plate positioned at a lower portion.

또한, 상기 탑 플레이트와 상기 제1,2사이드 플레이트 그리고 상기 바텀 플레이트플레이트가 상기 통로 위치로 이동되면 상기 제1측면의 개구와 상기 제2측면의 개구를 연결하는 임의 통로가 제공되어질 수 있다.In addition, when the top plate, the first and second side plates, and the bottom plate plate are moved to the passage position, an arbitrary passage connecting the opening of the first side and the opening of the second side may be provided.

또한, 상기 바텀 플레이트는 상기 씰 플레이트에 장착되며, 상기 씰 플레이트가 개방 위치로 이동되면 상기 바텀 플레이트는 통로 위치에 자동 위치될 수 있다.In addition, the bottom plate is mounted on the seal plate, and when the seal plate is moved to an open position, the bottom plate may be automatically positioned at a passage position.

또한, 상기 제1사이드 플레이트와 상기 제2사이드 플레이트는 상기 플레이트 구동부에 의해 이동되며, 상기 탑 플레이트는 상기 제1사이드 플레이트 및 상기 제2사이드 플레이트의 이동에 연동하여 이동될 수 있다.In addition, the first side plate and the second side plate are moved by the plate driving unit, and the top plate may be moved in association with movement of the first side plate and the second side plate.

또한, 상기 제1사이드 플레이트는 상기 탑 플레이트와 인접한 일단에 제공되는 제1롤러를 더 포함하고; 상기 제2사이드 플레이트는 상기 탑 플레이트와 인접한 일단에 제공되는 제2롤러를 더 포함하며; 상기 탑 플레이트는 양단에 상기 제1롤러 및 상기 제2롤러와 연결되도록 각각 하향 경사지게 제공되는 고정 링크를 더 포함하되; 상기 제1사이드 플레이트와 상기 제2사이드 플레이트가 차단 위치로 이동되면 상기 고정 링크가 상기 제1롤러 및 상기 제2롤러에 의해 이동되면서 상기 플레이트가 차단 위치로 자동 이동될 수 있다.In addition, the first side plate further includes a first roller provided at one end adjacent to the top plate; The second side plate further includes a second roller provided at one end adjacent to the top plate; The top plate further includes fixed links provided at both ends to be inclined downwardly to be connected to the first roller and the second roller; When the first side plate and the second side plate are moved to the blocking position, the plate may be automatically moved to the blocking position while the fixed link is moved by the first roller and the second roller.

또한, 상기 통로 플레이트는 유지 보수를 위해 분리 가능할 수 있다.In addition, the passage plate may be detachable for maintenance.

또한, 상기 개구는 직사각형으로 형성될 수 있다.In addition, the opening may be formed in a rectangular shape.

본 발명의 실시예에 의하면, 씰 플레이트가 개방 위치로 이동되었을 때 통호 형성 부재가 제1측면의 개구와 제2측면의 개구를 연결하는 임의 통로를 제공함으로써 밸브 챔버를 통과하는 기류의 흐름이 원활해질 뿐만 아니라 밸브 챔버의 내부 오염을 방지할 수 있는 각별한 효과를 갖는다.According to an embodiment of the present invention, when the seal plate is moved to the open position, the passage forming member provides an arbitrary passage connecting the opening on the first side and the opening on the second side, thereby smoothing the flow of airflow through the valve chamber. It has a special effect of preventing not only damage but also internal contamination of the valve chamber.

본 발명의 효과가 상술한 효과들로 제한되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to the above-described effects, and effects that are not mentioned will be clearly understood by those of ordinary skill in the art from the present specification and the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 기판 처리 시스템의 구성을 개략적으로 도시한 개략도이다.
도 2 및 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 게이트 밸브 어셈블리의 구성을 개략적으로 도시한 개략도이다.
도 4 및 도 5는 통로 형성 부재의 구성 및 동작을 개략적인 설명하기 위한 개략도이다.
도 6 내지 도 8은 본 발명의 게이트 밸브 어셈블리의 제1실시예에 따른 구성과 동작 과정을 도시한 도면들이다.
도 9 내지 도 11은 도 6에 도시된 게이트 밸브 어셈블리의 동작 과정을 측면에서 보여주는 도면들이다.
1 is a schematic diagram schematically showing the configuration of a substrate processing system according to the present invention.
2 and 3 are schematic diagrams schematically showing the configuration of a gate valve assembly according to an embodiment of the present invention.
4 and 5 are schematic diagrams for schematically explaining the configuration and operation of the passage forming member.
6 to 8 are views showing a configuration and operation process according to the first embodiment of the gate valve assembly of the present invention.
9 to 11 are views showing an operation process of the gate valve assembly shown in FIG. 6 from the side.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시 예를 가질 수 있는 바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에서 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다. In the present invention, various transformations may be applied and various embodiments may be provided, and specific embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. However, this is not intended to limit the present invention to a specific embodiment, it is to be understood to include all conversions, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In describing the present invention, when it is determined that a detailed description of a related known technology may obscure the subject matter of the present invention, a detailed description thereof will be omitted.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used in the present application are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In the present application, terms such as "comprise" or "have" are intended to designate the presence of features, numbers, steps, actions, components, parts, or combinations thereof described in the specification, but one or more other features. It is to be understood that the presence or addition of elements or numbers, steps, actions, components, parts, or combinations thereof, does not preclude in advance.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.Terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. These terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another component.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명에 따른 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어 도면 부호에 상관없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, and in the description with reference to the accompanying drawings, identical or corresponding components are assigned the same reference numerals and overlapped with them. Description will be omitted.

도 1은 본 발명에 따른 기판 처리 시스템의 구성을 개략적으로 도시한 개략도이다. 1 is a schematic diagram schematically showing the configuration of a substrate processing system according to the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 시스템(1)은 제1, 제2 및 제3 공정 챔버(80a,80b,80c)와 그 사이에 배치된 트랜스퍼 챔버(90)를 구비한다. Referring to FIG. 1, a substrate processing system 1 according to an embodiment of the present invention includes first, second and third process chambers 80a, 80b, and 80c, and a transfer chamber 90 disposed therebetween. do.

제1공정챔버(80a), 제2공정챔버(80b), 제3공정챔버(80c) 그리고 트랜스퍼 챔버(90)에는 각각 기판 입출입을 위한 오프닝 형태의 제1기판출입구(82)와 제2기판출입구(92)가 마련된다. 트랜스퍼 챔버(90)의 전방으로 로드 락 챔버(70)가 구비될 수 있으며, 로드 락 챔버(70)의 전방으로 다수의 캐리어(C)가 장착되는 인덱스(72)가 설치될 수 있다. In the first process chamber 80a, the second process chamber 80b, the third process chamber 80c, and the transfer chamber 90, a first substrate outlet 82 and a second substrate outlet in the form of openings for entering and leaving a substrate, respectively. (92) is provided. A load lock chamber 70 may be provided in front of the transfer chamber 90, and an index 72 on which a plurality of carriers C is mounted may be installed in front of the load lock chamber 70.

인덱스(72)는 설비 전방 단부 모듈(equipment front end module, 이하 EFEM)이라고도 하며 때로는 로드 락 챔버를 포괄하여 명칭 될 수 된다. 도시하지 않았지만, 기판 처리 시스템은 필요에 따라 기판 냉각을 위한 냉각 처리 챔버 또는 기판 예열을 위한 예열 처리 챔버가 구비될 수 있다. The index 72 is also referred to as an equipment front end module (EFEM) and can sometimes be referred to as a load lock chamber. Although not shown, the substrate processing system may include a cooling processing chamber for cooling a substrate or a preheating processing chamber for preheating a substrate, if necessary.

각각의 공정챔버(80a,80b,80c)와 트랜스퍼 챔버(90) 사이에는 기판의 입출을 위해 기판출입구(82,92)를 개폐하는 게이트 밸브어셈블리(100)가 구비될 수 있다.A gate valve assembly 100 may be provided between each of the process chambers 80a, 80b, and 80c and the transfer chamber 90 to open and close the substrate outlets 82 and 92 for input and output of the substrate.

도 2 및 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 게이트 밸브 어셈블리의 구성을 개략적으로 도시한 개략도이다. 2 and 3 are schematic diagrams schematically showing the configuration of a gate valve assembly according to an embodiment of the present invention.

도 2 및 도 3을 참조하면, 게이트 밸브 어셈블리(100)는 제1기판출입구(82)와 제2기판출입구(92) 사이에 구비되는 밸브 챔버(110), 밸브 챔버(110) 내에 제공되고 제1기판출입구(82) 및 제2기판출입구(92)와 연결된 개구(112a,113a)를 개폐하는 씰 플레이트(120), 씰 플레이트(120)를 개구의 폐쇄 위치 또는 개구의 개방 위치로 이동시키는 밸브 구동부(130) 그리고 통로 형성 부재(140)를 포함할 수 있다.2 and 3, the gate valve assembly 100 is provided in the valve chamber 110 and the valve chamber 110 provided between the first substrate outlet 82 and the second substrate outlet 92. The seal plate 120 opens and closes the openings 112a and 113a connected to the first substrate outlet 82 and the second substrate outlet 92, and a valve that moves the seal plate 120 to the closed position of the opening or the open position of the opening. The driving unit 130 and the passage forming member 140 may be included.

도 2는 씰 플레이트가 폐쇄 위치로 이동된 상태를 보여주는 도면으로, 게이트 밸브 어셈블리(100)는 공정챔버(100)에서 기판의 처리가 진행되는 동안에 씰 플레이트(120)가 밸브 구동부(130)에 의해 상방향으로 상승하여 개구를 폐쇄한다(폐쇄 위치).2 is a view showing a state in which the seal plate has been moved to the closed position. In the gate valve assembly 100, the seal plate 120 is moved by the valve driver 130 while the substrate is processed in the process chamber 100. It rises upward and closes the opening (closed position).

도 3은 씰 플레이트가 개방 위치로 이동된 상태를 보여주는 도면으로, 게이트 밸브 어셈블리(100)는 트랜스퍼 챔버(200)와 공정챔버(100) 사이에 기판의 출입이 있는 경우 씰 플레이트(120)가 밸브 챔버(110) 내에서 하부로 하강된 상태(개방 위치)를 유지한다. 3 is a view showing a state in which the seal plate has been moved to an open position. In the gate valve assembly 100, when a substrate enters or exits between the transfer chamber 200 and the process chamber 100, the seal plate 120 is The lowered state (open position) in the chamber 110 is maintained.

한편, 통로 형성 부재(140)는 밸브 챔버(110)의 내측 공간에 설치된다. 통로 형성 부재(140)는 씰 플레이트(120)가 개방 위치로 이동되면 밸브 챔버(110)의 제1측면(112)의 개구(112a)와 제2측면(113)의 개구(113a)를 연결하는 임의 통로(P)를 제공한다. 따라서, 게이트 밸브 어셈블리(100)의 오픈 동작시 공정챔버(100) 내의 오염 물질이 밸브 챔버의 내측 공간으로 유입되는 것을 사전에 차단할 수 있을 뿐만 아니라, 통로 형성 부재(140)에 의해 제1측면(112)의 개구(112a)와 제2측면(113)의 개구(113a) 간의 기체 이동이 보다 원활하게 이루어질 수 있다. Meanwhile, the passage forming member 140 is installed in the inner space of the valve chamber 110. The passage forming member 140 connects the opening 112a of the first side 112 of the valve chamber 110 and the opening 113a of the second side 113 when the seal plate 120 is moved to the open position. Provide an arbitrary passage (P). Therefore, when the gate valve assembly 100 is opened, it is possible to prevent the pollutants in the process chamber 100 from flowing into the inner space of the valve chamber in advance, and the first side surface ( Gas movement between the opening 112a of 112 and the opening 113a of the second side 113 may be made more smoothly.

도 4 및 도 5는 통로 형성 부재의 구성 및 동작을 개략적인 설명하기 위한 개략도이다.4 and 5 are schematic diagrams for schematically explaining the configuration and operation of the passage forming member.

도 4 및 도 5를 참조하면, 통로 형성 부재(140)는 통로 플레이트(150) 및 플레이트 구동부(160)를 포함할 수 있다. 4 and 5, the passage forming member 140 may include a passage plate 150 and a plate driving part 160.

통로 플레이트(150)은 각각의 플레이트 구동부(160)에 의해 통로 위치(도 5 참조)와 대기 위치(도 4 참조)로 이동될 수 있다. 통로 플레이트(150)은 개구(112a)를 정면에서 바라보았을 때 상부에 위치하는 탑 플레이트(151)와 좌우에 위치하는 제1,2사이드 플레이트(152,153) 그리고 하부에 위치하는 바텀 플레이트(154)를 포함할 수 있다. The passage plate 150 may be moved to a passage position (see FIG. 5) and a standby position (see FIG. 4) by each plate driving unit 160. The passage plate 150 includes a top plate 151 positioned at the top, first and second side plates 152 and 153 positioned at the left and right, and a bottom plate 154 positioned at the bottom when viewing the opening 112a from the front. Can include.

예컨대, 통로 플레이트(150)는 씰 플레이트(120)가 개방 위치에서 폐쇄 위치로 이동시 씰 플레이트(120)와의 간섭이 발생되지 않도록 통로 위치에서 대기 위치로 이동되며, 반대로 씰 플레이트(120)가 개방 위치로 이동되면 대기 위치에서 통로 위치로 이동된다. 통로 플레이트(150)들이 통로 위치로 이동되면, 이웃하는 통로 플레이트(150)의 단부가 서로 맞닿게 되면서 제1측면(112)의 개구(112a)와 제2측면(113)의 개구(113a)를 연결하는 임의 통로(P)가 만들어지게 된다.For example, the passage plate 150 is moved from the passage position to the standby position so that interference with the seal plate 120 does not occur when the seal plate 120 moves from the open position to the closed position, and the seal plate 120 is in the open position. When moved to, it moves from the standby position to the aisle position. When the passage plates 150 are moved to the passage position, the ends of the adjacent passage plates 150 come into contact with each other, so that the opening 112a of the first side surface 112 and the opening 113a of the second side surface 113 are formed. An arbitrary passage (P) to connect is made.

한편, 본 실시예에서는 씰 플레이트가 2개의 개구를 모두 폐쇄하는 방식으로 도시하고 설명하였으나 이에 한정되는 것은 아니며, 2개의 개구중 하나의 개구만 개폐하는 방식에도 통로 형성 부재를 적용할 수 있다.Meanwhile, in the present embodiment, the seal plate is illustrated and described in a manner in which all two openings are closed, but the present invention is not limited thereto, and a passage forming member may be applied to a method in which only one of the two openings is opened and closed.

도 6 내지 도 8은 본 발명의 게이트 밸브 어셈블리의 제1실시예에 따른 구성과 동작 과정을 도시한 도면들이다.6 to 8 are views showing a configuration and operation process according to the first embodiment of the gate valve assembly of the present invention.

도 6 내지 도 8을 참조하면, 게이트 밸브 어셈블리(100)는 밸브 챔버(110), 씰 플레이트(120), 밸브 구동부(130) 그리고 통로 형성 부재(140)를 포함할 수 있다.6 to 8, the gate valve assembly 100 may include a valve chamber 110, a seal plate 120, a valve driving unit 130, and a passage forming member 140.

밸브 챔버(110)는 대략 직사각형의 박스 형태로 제공될 수 있다. 밸브 챔버(110)의 양측면(112,113; 도 9 참조)에는 서로 대향되게 개구(112a.113a)가 형성된다. The valve chamber 110 may be provided in a substantially rectangular box shape. Openings 112a and 113a are formed on both side surfaces 112 and 113 of the valve chamber 110 to face each other.

씰 플레이트(120)는 밸브 챔버(110)의 내측 공간에 위치된다. 씰 플레이트(120)는 밸브 구동부(130)의 작동에 의해 상측 또는 하측으로 이동하면서 밸브 챔버(110)의 개구(112a,113a)를 개폐하게 된다. 참고로, 도 6은 씰 플레이트(120)가 밸브 챔버(110)의 개구(112a,113a)를 폐쇄한 상태를 보여주며, 도 7은 씰 플레이트(120)가 밸브 챔버(110)의 개구를 개방한 상태를 보여준다. 씰 플레이트(120)가 폐쇄 위치로 이동되었을 때, 탑 플레이트(151), 제1,2사이드 플레이트(152,153)는 씰 플레이트와의 간접이 발생되지 않도록 대기 위치에서 대기하게 된다. The seal plate 120 is located in the inner space of the valve chamber 110. The seal plate 120 opens and closes the openings 112a and 113a of the valve chamber 110 while moving upward or downward by the operation of the valve driving unit 130. For reference, FIG. 6 shows a state in which the seal plate 120 closes the openings 112a and 113a of the valve chamber 110, and FIG. 7 shows the seal plate 120 opens the opening of the valve chamber 110 Show a state. When the seal plate 120 is moved to the closed position, the top plate 151 and the first and second side plates 152 and 153 wait at the standby position so that indirection with the seal plate does not occur.

통로 플레이트(150)는 탑 플레이트(151), 제1,2사이드 플레이트(152,153) 그리고 바텀 플레이트(154)를 포함하는데, 바텀 플레이트(154)는 씰 플레이트(120)에 장착될 수 있다. 씰 플레이트(120)가 개방 위치로 이동되면 바텀 플레이트(154)는 통로 위치로 자동 위치된다. The passage plate 150 includes a top plate 151, first and second side plates 152 and 153, and a bottom plate 154, and the bottom plate 154 may be mounted on the seal plate 120. When the seal plate 120 is moved to the open position, the bottom plate 154 is automatically positioned to the passage position.

제1,2사이드 플레이트(152,153)에는 각각 플레이트 구동부(160)가 연결된다. 제1,2사이드 플레이트(152,153)는 플레이트 구동부(160)의 작동에 의해 통로 위치와 대기 위치로 이동될 수 있다. 본 실시예에서 플레이트 구동부(160)는 에어 실린더일 수 있다. 그러나, 플레이트 구동부는 이에 한정되는 것은 아니며, 다양한 직선 구동 장치가 적용될 수 있음은 물론이다.The plate driver 160 is connected to the first and second side plates 152 and 153, respectively. The first and second side plates 152 and 153 may be moved to the passage position and the standby position by the operation of the plate driving unit 160. In this embodiment, the plate driving unit 160 may be an air cylinder. However, the plate driving unit is not limited thereto, and of course, various linear driving devices may be applied.

한편, 탑 플레이트(151)는 제1사이드 플레이트(152) 및 제2사이드 플레이트(153)의 이동에 연동하여 통로 위치 또는 대기 위치로 이동될 수 있다. Meanwhile, the top plate 151 may be moved to a passage position or a standby position in association with movement of the first side plate 152 and the second side plate 153.

본 실시예에 따르면, 제1사이드 플레이트(152)와 제2사이드 플레이트(153)는 탑 플레이트(151)와 인접한 일단에 제공되는 한 쌍의 롤러(172)를 각각 포함한다. 그리고, 탑 플레이트(151)는 양단에 롤러(172)와 각각 연결되는 고정 링크(174)를 포함한다. 고정 링트(1740는 하향 경사지게 형성될 수 있으며, 한 쌍의 롤러(172) 사이에 삽입된 상태로 연결된다. 제1사이드 플레이트(152)와 제2사이드 플레이트(153)가 대기 위치에 있을 때, 롤러(172)들은 고정 링크(174)의 하단에 위치되고, 제1사이드 플레이트(152)와 제2사이드 플레이트(153)가 통로 위치에 있을 때, 롤러(172)들은 고정 링크(174)의 상단에 위치하게 된다. According to the present embodiment, the first side plate 152 and the second side plate 153 each include a pair of rollers 172 provided at one end adjacent to the top plate 151. Further, the top plate 151 includes fixing links 174 connected to rollers 172 at both ends, respectively. The fixed ring 1740 may be formed to be inclined downward, and is connected while being inserted between the pair of rollers 172. When the first side plate 152 and the second side plate 153 are in the standby position, The rollers 172 are located at the bottom of the fixed link 174, and when the first side plate 152 and the second side plate 153 are in the passage position, the rollers 172 are at the top of the fixed link 174 Will be located in

상기와 같은 구성에 의하면, 제1사이드 플레이트(152)와 제2사이드 플레이트(153)가 통로 위치로 전진 이동되면 고정 링크(174)가 롤러(172)들의 전진 이동에 연동하여 하강 이동되면서 탑 플레이트(151)가 통로 위치로 자동 이동될 수 있다. 밸브 챔버(110)에는 탑 플레이트(151)의 이동을 안내하기 위한 가이드 레일(119)이 제공될 수 있다. According to the configuration as described above, when the first side plate 152 and the second side plate 153 are moved forward to the passage position, the fixed link 174 moves downward in association with the forward movement of the rollers 172, and the top plate 151 can be automatically moved to the aisle position. A guide rail 119 for guiding the movement of the top plate 151 may be provided in the valve chamber 110.

이처럼, 본 발명의 통로 형성 부재는 4개의 플레이트(통로 플레이트)를 대기 위치에서 통로 위치로 이동시키기 위해 최소한의 구동부를 적용함으로써 비용 절감 효과 및 설치 면적을 최소화할 수 있다.As described above, the passage forming member of the present invention can reduce cost and minimize an installation area by applying a minimum driving unit to move four plates (passage plates) from the standby position to the passage position.

도 9 내지 도 11은 도 6에 도시된 게이트 밸브 어셈블리의 동작 과정을 측면에서 보여주는 도면들이다.9 to 11 are views showing an operation process of the gate valve assembly shown in FIG. 6 from the side.

도 9는 개구(112a,113a)가 폐쇄된 상태를 보여주며, 도 10 및 도 11은 개구(112a,113a)가 개방된 상태를 보여준다. 9 shows a state in which the openings 112a and 113a are closed, and FIGS. 10 and 11 show a state in which the openings 112a and 113a are open.

씰 플레이트(120)가 하강 이동되면서 개구(112a,113a)가 개방되면, 제1사이드 플레이트(152)와 제2사이드 플레이트(153) 그리고 탑 플레이트(151)가 대기 위치에서 통로 위치로 이동하게 되면서 4개의 플레이트들에 의해 제1측면(112)의 개구(112a)와 제2측면(113)의 개구(113a)를 연결하는 임의 통로(P)가 만들어지게 된다. 참고로, 밸브 챔버(110)의 제1측면(112)은 제1챔버와 연결되고, 제2측면(113)은 제2챔버와 연결된다.When the openings 112a and 113a are opened as the seal plate 120 moves downward, the first side plate 152, the second side plate 153, and the top plate 151 move from the standby position to the passage position. An arbitrary passage P connecting the opening 112a of the first side 112 and the opening 113a of the second side 113 is made by the four plates. For reference, the first side surface 112 of the valve chamber 110 is connected to the first chamber, and the second side surface 113 is connected to the second chamber.

한편, 개구(112a,113a)에는 통로 플레이트와 동일한 소재의 커버용 플레이트(155)가 설치될 수 있으며, 통로 플레이트(150)와 커버용 플레이트(155)는 유지 보수가 필요할 경우 탈부착(교체) 가능하도록 제공될 수 있다. Meanwhile, a cover plate 155 made of the same material as the passage plate may be installed in the openings 112a and 113a, and the passage plate 150 and the cover plate 155 can be detached (replaced) when maintenance is required. Can be provided to

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The above description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains will be able to make various modifications and variations without departing from the essential characteristics of the present invention. Accordingly, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention, but to explain the technical idea, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be interpreted by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

100 : 게이트 밸브 어셈블리 110 : 밸브 챔버
120 : 씰 플레이트 130 : 밸브 구동부
140 : 통로 형성 부재 150 : 통로 플레이트
160 : 플레이트 구동부
100: gate valve assembly 110: valve chamber
120: seal plate 130: valve drive unit
140: passage forming member 150: passage plate
160: plate driving part

Claims (10)

내측 공간을 갖고, 서로 대향되는 제1측면과 제2측면에 개구를 갖는 밸브 챔버;
상기 밸브 챔버의 내측 공간에 설치되는 씰(seal) 플레이트;
상기 씰 플레이트를 상기 개구의 폐쇄 위치 또는 상기 개구의 개방 위치로 이동시키는 밸브 구동부; 및
상기 씰 플레이트가 개방 위치로 이동되면 상기 제1측면의 개구와 상기 제2측면의 개구를 연결하는 임의 통로를 제공하는 통로 형성 부재를 포함하는 게이트 밸브.
A valve chamber having an inner space and having openings on a first side and a second side opposite to each other;
A seal plate installed in the inner space of the valve chamber;
A valve driving part for moving the seal plate to a closed position of the opening or an open position of the opening; And
And a passage forming member providing an arbitrary passage connecting the opening of the first side and the opening of the second side when the seal plate is moved to the open position.
제 1 항에 있어서,
상기 통로 형성 부재는
통로 플레이트; 및
상기 씰 플레이트가 개방 위치에서 폐쇄 위치로 이동시 상기 통로 플레이트와의 간섭이 발생되지 않도록 상기 통로 플레이트를 통로 위치에서 대기 위치로 이동시키는 플레이트 구동부를 포함하는 게이트 밸브.
The method of claim 1,
The passage forming member
Passage plate; And
A gate valve comprising a plate driving unit for moving the passage plate from the passage position to the standby position so that interference with the passage plate does not occur when the seal plate moves from an open position to a closed position.
제 2 항에 있어서,
상기 통로 플레이트는
상기 개구를 정면에서 바라보았을 때 상부에 위치하는 탑 플레이트, 좌우에 위치하는 제1,2사이드 플레이트 그리고 하부에 위치하는 바텀 플레이트를 포함하는 게이트 밸브.
The method of claim 2,
The passage plate
A gate valve including a top plate positioned at an upper portion when the opening is viewed from the front, first and second side plates positioned at left and right, and a bottom plate positioned at a lower portion.
제 3 항에 있어서,
상기 탑 플레이트와 상기 제1,2사이드 플레이트 그리고 상기 바텀 플레이트플레이트가 상기 통로 위치로 이동되면 상기 제1측면의 개구와 상기 제2측면의 개구를 연결하는 임의 통로가 제공되어지는 게이트 밸브.
The method of claim 3,
When the top plate, the first and second side plates, and the bottom plate plate are moved to the passage position, an arbitrary passage connecting the opening of the first side and the opening of the second side is provided.
제 3 항에 있어서,
상기 바텀 플레이트는 상기 씰 플레이트에 장착되며,
상기 씰 플레이트가 개방 위치로 이동되면 상기 바텀 플레이트는 통로 위치에 자동 위치되는 게이트 밸브.
The method of claim 3,
The bottom plate is mounted on the seal plate,
When the seal plate is moved to the open position, the bottom plate is automatically positioned at the passage position.
제 3 항에 있어서,
상기 제1사이드 플레이트와 상기 제2사이드 플레이트는
상기 플레이트 구동부에 의해 이동되며,
상기 탑 플레이트는 상기 제1사이드 플레이트 및 상기 제2사이드 플레이트의 이동에 연동하여 이동되는 게이트 밸브.
The method of claim 3,
The first side plate and the second side plate
Is moved by the plate driving unit,
The top plate is a gate valve that is moved in association with movement of the first side plate and the second side plate.
제 3 항에 있어서,
상기 제1사이드 플레이트는 상기 탑 플레이트와 인접한 일단에 제공되는 제1롤러를 더 포함하고;
상기 제2사이드 플레이트는 상기 탑 플레이트와 인접한 일단에 제공되는 제2롤러를 더 포함하며;
상기 탑 플레이트는
양단에 상기 제1롤러 및 상기 제2롤러와 연결되도록 각각 하향 경사지게 제공되는 고정 링크를 더 포함하되;
상기 제1사이드 플레이트와 상기 제2사이드 플레이트가 차단 위치로 이동되면 상기 고정 링크가 상기 제1롤러 및 상기 제2롤러에 의해 이동되면서 상기 플레이트가 차단 위치로 자동 이동되는 게이트 밸브.
The method of claim 3,
The first side plate further includes a first roller provided at one end adjacent to the top plate;
The second side plate further includes a second roller provided at one end adjacent to the top plate;
The top plate is
Further comprising a fixed link provided at both ends to be inclined downwardly so as to be connected to the first roller and the second roller;
When the first side plate and the second side plate are moved to the blocking position, the fixed link is moved by the first roller and the second roller, and the plate is automatically moved to the blocking position.
제 1 항에 있어서,
상기 통로 플레이트는 유지 보수를 위해 분리 가능한 게이트 밸브.
The method of claim 1,
The passage plate is a gate valve that is detachable for maintenance.
제 1 항에 있어서,
상기 개구는 직사각형으로 형성되는 게이트 밸브.
The method of claim 1,
The opening is a gate valve formed in a rectangular shape.
기판 처리 시스템에 있어서:
제1오프닝을 갖는 제1챔버;
제1오프닝과 연통되는 제2오프닝을 갖는 제2챔버; 및
상기 제1챔버와 상기 제2챔버 사이에 배치되고, 상기 제1오프닝과 상기 제2오프닝 중 어느 하나를 개폐하는 상기 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 게이트 밸브를 포함하는 기판 처리 시스템.








In the substrate processing system:
A first chamber having a first opening;
A second chamber having a second opening in communication with the first opening; And
A substrate processing comprising the gate valve according to any one of claims 1 to 9 disposed between the first chamber and the second chamber and opening and closing any one of the first opening and the second opening. system.








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