KR20200105831A

KR20200105831A - 화장재

Info

Publication number: KR20200105831A
Application number: KR1020207018695A
Authority: KR
Inventors: 에이이치 히가시카와
Original assignee: 도판 인사츠 가부시키가이샤
Priority date: 2018-01-05
Filing date: 2018-12-20
Publication date: 2020-09-09
Also published as: CN111556805B; CN111556805A; WO2019135360A1; EP3736124A1; JP7003667B2; US11084309B2; US20200316977A1; JP2019119138A; EP3736124A4

Abstract

본 발명은, 의장성을 부여하면서, 우수한 내스크래치성, 우수한 이형성 및 우수한 내오염성을 갖는 화장재를 제공한다. 본 실시 형태에 관한 화장재(1)는, 표층측에 마련된 제1 광택 조정층(5)과, 제1 광택 조정층(5) 상에 부분적으로 마련된 제2 광택 조정층(6)을 구비한다. 제1 광택 조정층(5)이, 소수성 무기 재료로 이루어지는 광택 조정제와, 반응성 말단을 갖는 실리콘계 이형제를 포함한다. 반응성 말단을 갖는 실리콘계 이형제의 반응성 말단이, 수산기 및 아미노기 중 적어도 한쪽을 갖는 것이 바람직하다. 제2 광택 조정층(6)은, 반응성 말단을 갖는 실리콘계 이형제를 포함하고, 그 반응성 말단이 아크릴기 및 메타크릴기 중 적어도 한쪽을 갖는 것이 바람직하다.

Description

화장재

본 발명은, 건축물의 내외장, 창호, 가구 등의 표면 화장 등에 사용하기 위한 화장재에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 표면의 광택의 차에 의해 요철을 입체적으로 표현한 화장재에 관한 것이다.

종래, 예를 들어 건축물의 내외장, 창호, 가구 등의 표면 화장 등에 사용되는 화장재에는, 나뭇결 무늬나 돌결 무늬 등의 원하는 무늬 모양이 실시되는 것이 통례이다. 또한, 단순히 나뭇결 무늬나 돌결 무늬 등의 무늬 모양을 평면적으로 표현할 뿐만 아니라, 천연의 목재나 석재가 갖는 표면의 요철감을 아울러 입체적으로 표현한 화장재도, 고급감이 요망되는 용도를 중심으로 널리 사용되고 있다.

화장재의 표면에 평면적인 무늬 모양과 아울러 입체적인 요철감을 표현하는 방법으로서는, 종래, 다양한 방법이 고안되어, 목적에 따라서 구분 사용되고 있다. 그 중에서도, 화장재의 표면에 실제로 요철을 형성하는 것이 아니라, 오목부 또는 볼록부로서 표현하고자 하는 부분의 표면의 광택 상태(구체적으로는 광택도)를 다르게 함으로써, 사람의 눈의 착각을 이용하여 시각적으로 요철의 입체감을 표현하는 방법이 있다. 이 방법에 의하면, 실제로는 요철 형상이 존재하지 않아도, 사람의 눈에는, 상대적으로 광택이 높은 부분은 볼록부, 광택이 낮은 부분은 오목부로서 인식된다.

구체적으로는, 예를 들어 오목부 모양을 포함하는 적의 모양이 인쇄된 기재의 인쇄면의 전체면에, 광택이 낮은 투명 또는 반투명의 합성 도료층을 형성한 후, 형성된 합성 도료층의 표면의 오목한 모양에 대응하는 부분을 제외한 부분에 광택이 높은 투명 또는 반투명의 합성 도료층을 형성한다. 물론, 광택의 고저의 관계를 역전시키면, 요철의 관계를 역전시킨 화장재를 얻을 수 있다.

이러한 방법에 의하면, 특수한 약제 등을 필요로 하는 일 없이, 광택이 다른 2종류의 도료를 준비하는 것만으로, 어떠한 기재에 대해서도, 용이하게 입체적인 요철감을 부여할 수 있다. 게다가, 광택이 다른 합성 도료층의 형성은, 무늬 모양(무늬 잉크층)의 형성에 이어서 그라비아 인쇄법 등의 관용의 인쇄법으로 행할 수 있으므로, 특수 설비는 일절 불필요하며 생산 능률도 높고, 무늬 모양과의 동조도 용이하다. 또한, 합성 도료층의 두께는 표현하고자 하는 요철의 고저차와 비교하면 훨씬 얇아지게 되므로, 수지의 사용량을 삭감할 수 있는 것 외에, 가요성의 면에서도 유리하여, 굽힘 가공 적성이 우수한 화장재를 용이하게 실현할 수 있다. 또한, 화장재의 표면에 큰 요철이 없으므로, 오목부에 오염물이 저류되는 일도 없다고 하는 이점도 있다.

이러한 많은 이점에 비추어, 이 방법을 채용한 화장재는, 이미 대량으로 사용되고 있지만, 고급감의 점에서는 아직 실제로 요철을 형성하는 방법을 능가하는 데는 이르지 못한 것이 실정이다. 그 이유를 고찰하건대, 예를 들어 기계식 엠보스법에 의하면, 천연목의 도관 등의 요철 형상을, 도관 등의 단면 형상까지 포함하여 충실하게 재현하는 것이 가능하다. 이에 비해, 광택이 다른 2종류의 도료를 사용한 이 방법에서는, 표면의 광택의 단계는 2종류이므로, 표현할 수 있는 요철의 단계도 2종류가 된다. 따라서, 천연목의 도관 등과 같이, 깊이(높이)가 연속적으로 변화되는 경사면부를 갖는 요철 형상을 표현하는 것이 어렵다고 하는 문제점이 있다.

그래서 최근, 깊이가 연속적으로 변화된 경사면부를 형성하여 요철 형상을 표현하는 합성 도료층(이하, 「광택 조정층」이라고도 칭함)을 마련함으로써, 천연목의 도관 등과 같이 요철 형상을 표현 가능한 화장재가 제안되어 있다(예를 들어, 특허문헌 1 참조).

여기서, 광택 조정층의 광택의 조정 방법으로서는, 바인더로서의 투명 수지 중에 광택 조정제(소광제)를 첨가하는 방법이 일반적이다. 광택 조정제로서는, 무기 재료 또는 유기 재료의 미립자가 주로 사용되고 있고, 특히 실리카 미립자 등의 무기 재료의 미립자는 소광능이 높아, 널리 사용되고 있다. 광택 조정제를 첨가함으로써, 광택 조정제가 광택 조정층의 표면에 요철을 부여하고, 이 요철이 광을 산란시킴으로써 소광 효과가 얻어진다. 이들 광택 조정제의 종류나 첨가량을 조정함으로써, 요구되는 광택을 자유롭게 만들어 낼 수 있다.

바인더로서의 투명 수지는 작업성, 가격, 수지 자체의 응집력 등의 관점에서, 각종 폴리올과 이소시아네이트를 사용한 우레탄계 수지가 자주 사용되고 있다. 우레탄계 수지는 폴리올과 이소시아네이트의 조합에 의해 다양하게 특성을 컨트롤할 수 있는 것이 특징이지만, 폴리올과 이소시아네이트의 분자량은 각각 비교적 크고, 1분자당 관능기 수도 작다는 점에서, 대체로 가교 밀도를 높이기 어렵다고 하는 문제가 있다. 가교 밀도는 특히 내스크래치성에 대해 영향이 큰 파라미터이며, 따라서, 우레탄계 수지는 고도의 내스크래치성의 요구, 예를 들어 가구의 천장판이나 선반판 등의 수평면에 요구되는 내스크래치성을 충족하는 것이 원리적으로 곤란하다.

또한, 전술한 광택 조정제를 사용한 광택 조정층의 경우, 내스크래치성 시험에 있어서 표면의 볼록부가 선택적으로 깎여 버리거나, 광택 조정제가 탈락해 버리거나 함으로써, 내스크래치성이 보다 나쁜 결과로 되어 버린다. 이 내스크래치성의 악화 경향은, 광택 조정제 첨가량에 대략 비례하기 때문에, 광택이 낮은 고 의장의 화장재일수록, 전술한 수평면에 요구되는 내스크래치성을 충족하는 것이 매우 곤란하다고 할 수 있다.

한편, 투명 수지로서의 아크릴기나 메타크릴기를 갖는 전리 방사선 경화 수지는, 비교적 분자량이 낮다는 점과 1분자당 관능기 수가 크다는 점에서 가교 밀도가 높고, 내스크래치성을 향상시키기 쉬운 수지라고 할 수 있다. 이러한 전리 방사선 경화 수지를 투명 수지로서 사용함으로써, 고도의 내스크래치성을 갖는 화장재를 제공하는 것이 가능하다. 또한, 내스크래치성은 주로 화장재 최표면의 강도에 의존하므로, 최표면층의 구성 재료만, 전리 방사선 경화 수지를 적극적으로 사용하면 된다.

그러나 광택 조정층이 2층으로 나뉘어져 있고, 또한 최표면의 광택 조정층이 화장재 전체면을 덮는 것이 아닌, 일부밖에 피복되어 있지 않은 경우는, 바로 아래의 화장재 전체면을 덮고 있는 광택 조정층도 일부가 표면 노출된 상태로 되어 있다. 이 때문에, 고도의 내스크래치성을 갖는 화장재로 하기 위해서는, 양쪽의 광택 조정층의 투명 수지를 전리 방사선 경화 수지로 하는 것이 바람직하다. 또한 이 경우, 화장재 전체면을 덮는 하층의 광택 조정층의 일부를 덮도록 상층의 광택 조정층이 적층되게 된다. 그러나 전리 방사선 경화 수지는 전리 방사선이 조사되지 않으면 경화되지 않으므로, 일반적으로 화장재의 제조에 사용되는 각종 인쇄기에 있어서의 가공에서는, 미경화 화장재 전체면을 덮는 하층의 광택 조정층 상에, 일부를 덮는 상층의 광택 조정층을 적층하게 된다. 이 때문에, 전체면을 덮는 광택 조정층이 용해되거나 깎이거나 하는 등의 결함이 발생해 버릴 우려가 있다.

한편, 화장재로서의 요구 특성은, 전술한 바와 같은 내스크래치성을 포함하고, 일상 사용을 상정한 종합적인 내구성이 요구된다. 특히, 화장재는 주로 가구 등의 의장성이 요구되는 화장 부품에 사용되므로, 내오염성은 중요한 요구 특성이다. 또한, 조립 가구의 경우, 곤포될 때에 조립 순서 등을 나타내는 시일이 붙여지는 경우가 있고, 그것들은 조립 중 혹은 조립 후에 박리되게 되지만, 그 때, 화장재에 박리가 발생하지 않도록, 이형성을 부여하는 것도 중요하다. 이러한 내오염성 및 이형성을 부여하기 위해서는, 화장재 표면을 형성하는 광택 조정층에 이형제를 첨가하는 방법이 유효하다.

여기서 내오염성이란, 각종 오염 물질을 화장재 표면에 부착시키고, 일정 시간 후에 물이나 알코올 등으로 닦아낸 경우의 오염 물질의 잔존, 또는 오염 물질을 기인으로 하는 화장재의 색 변화에 대해, 유무 및 정도에 따라 판정되는 것이다. 따라서 우수한 내오염성을 발현시키는 데에는, 「화장재 표면에 오염 물질을 정착시키지 않는 것」, 「오염 물질을 화장재에 침투시키지 않도록 하는 것」, 「오염 물질에 의해 화장재 표면을 화학 변화시키지 않는 것」 모두 필요하며, 어느 것만이 열화되는 경우라도, 종합적인 내오염성으로서는 나쁜 평가가 얻어지게 된다.

광택 조정층은 전술한 바와 같이, 투명 수지 및 소광제를 주성분으로 하여 구성되어 있지만, 전술한 바와 같이, 소광제는 실리카 미립자를 사용하는 것이 일반적이며, 실리카 미립자와 투명 수지의 상호 작용은 매우 약하고, 그 계면에는 미소한 공극이 존재한다고 여겨지고 있다. 또한, 일상 사용을 상정한 평가 대상의 오염 물질에는 친수성 물질, 예를 들어 수성 잉크도 포함되어 있고, 이러한 친수성 오염 물질은 동일하게 친수성인 실리카 미립자 표면에 흡착되기 쉬운 특징이 있다. 따라서, 전술한 바와 같이, 내오염성을 부여하기 위해 이형제를 첨가해도, 「화장재 표면에 오염 물질을 정착시키지 않는 것」에 대해서는 유효하지만, 「오염 물질을 화장재에 침투시키지 않도록 하는 것」에 대해서는 효과가 낮은 결과가 되어 버린다. 결과적으로, 실리카 미립자를 소광제로서 사용한 경우, 친수성 오염 물질에 대한 내오염성이 저하되어 버리게 된다. 또한, 이러한 실리카 미립자를 기인으로 하는 내오염성의 저하에 대해서는, 실리카 미립자의 배합 비율에 의존하므로, 하층의 광택 조정층인 제1 광택 조정층에, 부분적으로 상층의 광택 조정층인 제2 광택 조정층을 적층한 화장재의 경우, 상대적으로 광택이 낮은 제1 광택 조정층 쪽이 내오염성이 저하되기 쉬워, 화장재 전체의 내오염성을 확보하기 위해서는, 중점적으로 제1 광택 조정층에 대해 대책이 필요해진다.

일본 특허 제3629964호 공보

본 발명은, 상기 과제를 해결하기 위해, 하층의 광택 조정층에 부분적으로 상층의 광택 조정층을 적층하여 의장성을 부여하면서, 우수한 내스크래치성, 우수한 이형성 및 우수한 내오염성이 발현 가능한 화장재를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명자들은, 소광제의 표면 처리 및 처리량을 최적화하여, 최적의 반응성 말단을 갖는 실리콘계 이형제와 조합하고, 또한 광택 조정층의 수지 조성물을, 전리 방사선 경화 수지와 우레탄계 수지를 조합한 듀얼 경화 방식으로 하는 것, 즉 적합한 조합에 대해 다양한 검토 및 실험을 거듭함으로써, 우수한 내스크래치성과 내오염성이 발현되는 화장재를 제공할 수 있음을 발견했다.

과제를 달성하기 위해, 본 발명의 일 양태에 관한 화장재는, 표층측에 마련된 제1 광택 조정층과, 그 제1 광택 조정층 상에 부분적으로 마련된 제2 광택 조정층을 구비하고, 상기 제1 광택 조정층이, 소수성 무기 재료로 이루어지는 광택 조정제와, 반응성 말단을 갖는 실리콘계 이형제를 포함하고, 상기 소수성 무기 재료는, 동일 질량의 무기 재료를 사용한, 하기 평가 방법 A에 의한 질량 감소량을 MA, 하기 평가 방법 B에 의한 질량 감소량을 MB라고 한 경우에, 하기 (1)식을 충족하는 것을 특징으로 하는 화장재.

(평가 방법 A)

대상으로 하는 무기 재료를 110℃의 환경하에 2시간 방치하여, 질량 감소를 측정한다.

(평가 방법 B)

분위기 온도 이외를 평가 방법 A와 동일한 조건으로 하여, 대상으로 하는 무기 재료를 950℃의 환경하에 2시간 방치하여, 질량 감소를 측정한다.

여기서, 소수성 무기 재료란, 소수성 표면을 갖는 무기 재료를 가리킨다. 소수성 무기 재료의 대표적인 것으로서, 표면 처리나 표면 수식이 되어 있는, 즉 표면에 대해 무언가의 유기 화합물에 의한 소수화 처리를 하고 있는 실리카 등을 예시할 수 있다.

본 발명의 일 양태에 따르면, 하지가 되는 하층의 광택 조정층인 제1 광택 조정층에 첨가되는 광택 조정제의 종류의 선택 및 실리콘계 이형제를 반응성 말단을 갖는 것으로 함으로써, 의장성을 부여하면서, 우수한 내스크래치성, 우수한 이형성 및 우수한 내오염성을 갖는 화장재를 제공할 수 있다.

도 1은 본 발명에 관한 실시 형태의 화장재를 도시하는 단면도이다.
도 2는 변형예의 화장재를 도시하는 단면도이다.

이하에, 본 발명의 실시 형태에 대해, 도면을 참조하여 설명한다.

여기서, 도면은 모식적인 것이며, 두께와 평면 치수의 관계, 각 층의 두께의 비율 등은 현실의 것과는 다르다. 또한, 이하에 나타내는 실시 형태는, 본 발명의 기술적 사상을 구체화하기 위한 구성을 예시하는 것이며, 본 발명의 기술적 사상은, 구성 부품의 재질, 형상 및 구조 등을 하기의 것에 특정하는 것은 아니다. 본 발명의 기술적 사상은, 청구범위에 기재된 청구항이 규정하는 기술적 범위 내에 있어서, 다양한 변경을 행할 수 있다.

(구성)

본 실시 형태의 화장재(1)는, 표층측에 광택 조정층을 구비하고, 도 1에 도시하는 바와 같이, 그 광택 조정층으로서, 하지가 되는 하층측의 제1 광택 조정층(5)과, 제1 광택 조정층(5) 상에 부분적으로 마련되어 의장성을 향상시키기 위한 제2 광택 조정층(6)을 구비하고 있다.

기재(2)와 제1 광택 조정층(5) 사이에는, 하지 솔리드 잉크층(3), 무늬 잉크층(4) 및 투명 수지층(도시하지 않음) 등, 공지의 다른 층을 배치하는 구성으로 해도 된다.

<광택 조정층>

제1 광택 조정층(5)은, 하지 솔리드 잉크층(3) 및 무늬 잉크층(4) 상에 마련되고, 화장재(1) 표면의 광택 상태를 조정하기 위한 층이다. 제1 광택 조정층(5)의 형성 개소는, 하지 솔리드 잉크층(3) 및 무늬 잉크층(4)의 표면측의 면(도 1에 있어서의 상면)의 전체면으로 되어 있고, 기재(2)의 표면측의 면의 전체면을 피복하고 있다. 또한, 제2 광택 조정층(6)은, 제1 광택 조정층(5) 상에 마련되어, 제1 광택 조정층(5)의 광택과 다른 광택을 갖고, 화장재(1) 표면의 광택 상태를 조정하기 위한 층이다. 제2 광택 조정층(6)의 형성 개소는, 제1 광택 조정층(5)의 면의 일부로 되어 있다. 그리고 이들 제1, 제2 광택 조정층(5, 6)의 광택의 차에 의해 요철 형상이 표현되어 의장성이 향상된다.

제1, 제2 광택 조정층(5, 6)의 층 두께는, 1㎛ 이상 15㎛ 이하로 하는 것이 바람직하다. 또한, 제1, 제2 광택 조정층(5, 6)은, 화장재(1)의 최표면이 되는 층이므로, 화장재(1)로서 필요한 내마모성, 내스크래치성, 내용제성, 내오염성 등의 표면 물성이 요구된다. 그 중에서도, 내마모성이나 내스크래치성은 층 두께에 의한 영향이 있어, 층 두께가 두꺼운 쪽이 유리해진다. 따라서, 제1, 제2 광택 조정층(5, 6)의 더욱 바람직한 층 두께는 2㎛ 이상 12㎛ 이하가 된다. 1㎛ 미만의 경우, 내마모성 및 내스크래치성이 대폭 나빠지므로, 화장재(1)로서의 용도가 제한된다. 또한, 15㎛보다 큰 경우, 제1, 제2 광택 조정층(5, 6) 자체의 가요성이 나빠지므로, 화장재(1)로서의 가공성이 악화된다.

제1 및 제2 광택 조정층(5, 6)은, 적어도 수지 재료와, 그 수지 재료에 첨가된 광택 조정제 및 이형제를 갖는다. 또한, 광택 조정제는, 상대적으로 광택이 낮은 제1 광택 조정층(5)에만 첨가해도 된다.

[수지 성분]

제1 및 제2 광택 조정층(5, 6)을 구성하는 수지 재료는, 하층이 시인 가능한 만큼의 투명성을 갖는 것이 바람직하다.

제1 광택 조정층(5)에 사용하는 투명 수지의 주 재료는, 각종 폴리올과 이소시아네이트로 이루어지는 2액의 우레탄계 열 경화 수지와, 아크릴기 또는 메타크릴기를 갖는 전리 방사선 경화 수지의 혼합물이 바람직하다. 이 경우, 전리 방사선 경화 수지 100질량부에 대해, 열 경화 수지를 3질량부 이상 100질량부 이하 포함하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10질량부 이상 50질량부 이하이다. 이러한 구성의 경우, 화장재(1)의 제작 후에 전리 방사선을 조사함으로써, 수지 성분을 구성하는 전리 방사선 경화 수지를 경화시킬 수 있어, 제1 광택 조정층(5)의 내스크래치성을 향상시킬 수 있다. 또한, 전리 방사선 경화 수지 100질량부에 대해, 우레탄계 열 경화 수지를 10질량부 이상 50질량부 이하로 함으로써, 제2 광택 조정층(6)의 적층 시에 있어서의 문제의 해소와, 제1 광택 조정층(5)의 내스크래치성을 고도로 양립할 수 있다.

여기서, 열 경화 수지의 비율이 3질량부 미만인 경우, 제2 광택 조정층(6)이 적층될 때에 제1 광택 조정층(5)이 용해, 혹은 깎여 버리는 결함이 발생한다. 한편, 열 경화 수지의 비율이 100질량부를 초과하는 경우는 수지 조성물의 가교도가 저하되어 버리므로, 제1 광택 조정층(5)의 내스크래치성이 현저하게 저하되어 버린다.

이와 같이, 본 실시 형태의 화장재(1)에 의하면, 적층 시의 결함을 억제하면서, 고도의 내스크래치성을 발현시킬 수 있다.

여기서, 본 명세서에서 주 재료란, 대상으로 하는 층을 구성하는 전체 수지 성분 100질량부에 대해 90질량부 이상, 바람직하게는 97질량부 이상 포함되는 수지 재료를 가리킨다.

또한, 제2 광택 조정층(6)을 구성하는 수지 성분의 주 재료는, 폴리올과 이소시아네이트를 갖는 우레탄계 열 경화 수지와, 아크릴기 또는 메타크릴기를 갖는 전리 방사선 경화 수지의 혼합물이 바람직하다. 이 경우, 전리 방사선 경화 수지 100질량부에 대해, 우레탄계 열 경화 수지를 25질량부 이하 포함하는 것이 바람직하다.

우레탄계 열 경화 수지의 첨가비가 25질량부를 초과하는 경우에는, 우레탄계 열 경화 수지의 비율이 지나치게 많기 때문에, 수지 조성물의 가교도가 저하되어, 제2 광택 조정층(6)의 내스크래치성이 현저하게 저하된다. 우레탄계 열 경화 수지의 첨가비가 3질량부 미만인 경우, 내스크래치성의 점에서는 실용상 문제는 없지만, 가공성(균열 방지)이 요구되는 화장재(1)에 대해, 그 요구 특성을 충족할 수 없을 우려가 있다. 또한, 제2 광택 조정층(6)의 우레탄계 열 경화 수지를 25질량부 이하로 함으로써, 화장재(1)의 제작 후에 전리 방사선을 조사함으로써, 수지 성분을 구성하는 전리 방사선 경화 수지를 충분히 경화시킬 수 있어, 제2 광택 조정층(6)의 내스크래치성을 향상시킬 수 있다.

또한, 제2 광택 조정층(6)을 구성하는 수지 성분의 주 재료를, 아크릴기 또는 메타크릴기를 갖는 전리 방사선 경화 수지로 해도 된다. 이 경우, 제2 광택 조정층(6)을 구성하는 수지 성분을, 아크릴기 또는 메타크릴기를 갖는 전리 방사선 경화 수지만으로 하는 것이 바람직하다.

여기서, 상기한 아크릴기 혹은 메타크릴기를 갖는 전리 방사선 경화 수지로서는, 예를 들어 각종 모노머나 시판되고 있는 올리고머 등, 공지의 것을 사용할 수 있지만, 예를 들어 펜타에리트리톨트리아크릴레이트(PET3A), 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트(PET4A), 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(TMPTA), 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(DPHA) 등의 다관능 모노머나, 닛본 고세이 가가쿠 제조, 시코 UV-1700B와 같은 다관능 올리고머, 혹은 이들의 혼합물을 사용하는 것이 바람직하다.

또한, 상기한 폴리올과 이소시아네이트로 이루어지는 우레탄계 열 경화 수지에 있어서의 이소시아네이트로서는, 예를 들어 톨릴렌디이소시아네이트(TDI), 크실릴렌디이소시아네이트(XDI), 헥사메틸렌디이소시아네이트(HMDI), 디페닐메탄디이소시아네이트(MDI), 리신디이소시아네이트(LDI), 이소포론디이소시아네이트(IPDI), 메틸헥산디이소시아네이트(HTDI), 비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산(HXDI), 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트(TMDI) 등의 유도체인 어덕트체, 뷰렛체 및 이소시아누레이트체 등의 경화제를 사용할 수 있다. 또한, 폴리올로서는, 예를 들어 아크릴폴리올, 폴리카르보네이트폴리올, 폴리에스테르폴리올 등을 사용할 수 있다.

또한, 제1 및 제2 광택 조정층(5, 6)을 구성하는, 아크릴기 또는 메타크릴기를 갖는 전리 방사선 경화 수지로서는, 수 평균 분자량 300 이상 5000 이하, 관능기 수 혹은 평균 관능기 수 4 이상 15 이하의 다관능 (메트)아크릴레이트 모노머 또는 올리고머를 사용하는 것이 바람직하다. 이 범위로 함으로써, 광택 조정층 중의 수지 성분의 가교도를 충분히 높일 수 있으므로, 높은 내스크래치성을 발휘할 수 있다. 또한, 수 평균 분자량 300 이상 1500 이하, 관능기 수 혹은 평균 관능기 수 4 이상 8 이하의 다관능 (메트)아크릴레이트 모노머를 사용하는 것이 더욱 바람직하다. 이 범위로 함으로써, 전리 방사선 경화 수지 자체의 점도를 낮출 수 있으므로, 광택 조정층 형성용 잉크를 제조할 때도, 동 점도에서의 고형분 농도를 높일 수 있어, 잉크 자체의 안정성 향상이나, 도포 상태를 향상시킬 수 있다. 또한, 다관능 (메트)아크릴레이트 모노머로서는, 예를 들어 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트(PET4A), 및 그 변성체, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트 및 그 변성체, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트(DPPA) 및 그 변성체, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트(DPHA) 및 그 변성체를 들 수 있다.

상기한 전리 방사선 경화 수지의 수 평균 분자량을 측정하는 방법은 특별히 한정되지 않지만, 겔 침투 크로마토그래피(GPC)를 사용하는 것이 바람직하다. 이 측정 장치에 대해서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, GPC 칼럼의 충전재는 폴리스티렌 겔이 바람직하고, 용리액으로서는 테트라히드로푸란(THF)을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, GPC의 표준 물질에는 시판되고 있는 표준 폴리스티렌 폴리머를 사용하면 된다. 또한, 상기한 다관능 (메트)아크릴레이트 모노머에 대해서는, 단체로 구성되어 있으므로, 그 구조를 알고 있으면, 수 평균 분자량은 구조식으로부터 산출되는 값을 사용해도 된다.

[광택 조정제]

본 실시 형태에서는, 적어도 제1 광택 조정층(5)에 첨가하는 광택 조정제로서, 소수성 표면을 갖는 무기 재료의 미립자(소수성 무기 재료)를 사용한다.

소수성 무기 재료로서는, 예를 들어 표면 처리나 표면 수식이 되어 있는, 즉 표면에 대해 무언가의 유기 화합물에 의한 소수화 처리가 되어 있는 공지의 무기 재료를 사용할 수 있다. 그러한 소수성 무기 재료를 구성 가능한 광택 조정제로서는, 예를 들어 실리카, 유리, 알루미나, 탄산칼슘, 황산바륨 등의 무기 재료로 이루어지는 미립자를 예시할 수 있다. 표면 처리 혹은 표면 수식이 이루어져 있는 무기 재료의 표면은, 무기 재료 제조 시에 표면에 존재하고 있던 수산기가 거의 소실, 혹은 피복되어 있기 때문에 소수성으로 되어 있다. 그 때문에, 친수성 오염 물질의 흡착 및 투명 수지와 소광제의 계면에 존재하는 공극에 대한 침투를 억제할 수 있으므로, 우수한 내오염성을 발휘할 수 있다.

소수성 무기 재료는, 무언가의 유기 화합물에 의한 표면 처리 혹은 표면 수식이 이루어져 있는 것이 바람직하다. 광택 조정제로서 사용하는 무기 재료가, 충분한 표면 처리 혹은 표면 수식이 이루어져 있는지의 지표로서는, 예를 들어 하기 두 평가 방법 A 및 B에 있어서, 「1.2＜(평가 방법 B에 의한 질량 감소량의 값 MB/평가 방법 A에 의한 질량 감소량의 값 MA)＜10.0」을 충족하는 무기 재료를 사용하는 것이 바람직하다. 여기서, 상기 비를 구할 때는, 두 평가 방법 A 및 B로 평가하는 무기 재료(광택 조정제)의 질량을 동일 질량으로 설정하여 행한다.

·평가 방법 A(가열 감량 평가)

광택 조정제를 110℃로 가열하고, 질량 감소를 측정한다. 주로, 광택 조정제 표면에 흡착된 수분이 탈리되므로, 그만큼의 질량 감소가 발생한다. 한편, 표면 처리가 되어 있는 경우는, 그 성분은 110℃에서는 탈리, 휘발되지 않으므로, 표면 처리의 유무에 의한 수치 차는, 광택 조정제 원료가 동일하면, 동등한 수치가 된다. 단, 수분 흡착량은 광택 조정제의 제법에 의존하기 때문에, 광택 조정제에 따라 이 값은 다른 것이 된다.

구체적인 측정 방법은, 예를 들어 JIS K5101, 23에 준거하여, 110℃의 환경하에 충분한 시간(예를 들어 2시간) 방치하고, 질량 감소를 측정한다.

·평가 방법 B(강열 감량 평가)

950℃로 가열하고, 질량 감소를 측정한다. 광택 조정제 표면에 처리(부착)된 유기물은, 950℃까지 가열함으로써 광택 조정제로부터 탈리된다. 따라서, 950℃로 유지하면, 표면 처리되어 있지 않은 광택 조정제의 질량 감소보다, 표면 처리되어 있는 쪽의 질량 감소가 커진다. 그 차가 표면 처리량을 나타내게 된다.

구체적인 측정 방법은, 분위기 온도 이외를 평가 방법 A와 동일한 조건으로 하여, 950℃의 환경하에 충분한 시간(예를 들어 2시간) 방치하고, 질량 감소를 측정한다.

그리고 「1.2＜(MB/MA)＜10.0」을 충족하는 무기 재료이면, 본 실시 형태의 효과를 발휘하는 데 적합한 표면 처리 혹은 표면 수식이 이루어져 있다고 생각된다. (MB/MA)가 1.2보다 큰 경우에는, 광택 조정제로서 사용하는 무기 재료의 표면은, 수산기가 소실 혹은 피복되어 있는 소수성으로 되어 있는 것으로 추정된다. 또한, (MB/MA)가 10.0 이상인 경우에는, 표면 처리 혹은 표면 수식에 사용하는 유기 화합물이 과잉으로 되어 있을 우려가 있고, 과잉의 경우에는, 투명 수지와의 혼합에 의한 잉크 제작 시 및 성막 시에 잉여의 유기 화합물이 블리드 아웃됨으로써, 내스크래치성의 악화나, 장기의 이형성에 악영향을 미치게 되어 버리는 경우가 있다.

여기서, 제2 광택 조정층(6)에도 광택 조정제를 첨가하는 경우, 그 광택 조정제도 소수성 무기 재료인 것이 바람직하지만, 시판되고 있는 공지의 광택 조정제 등을 사용해도 된다. 예를 들어, 제1 광택 조정층(5)에 첨가되는 광택 조정제와 마찬가지인, 실리카, 유리, 알루미나, 탄산칼슘, 황산바륨 등의 무기 재료로 이루어지는 미립자를 사용해도 된다. 또는, 아크릴 등의 유기 재료로 이루어지는 미립자를 사용할 수도 있다. 단, 높은 투명성이 요구되는 경우에는, 투명성이 높은 실리카, 유리, 아크릴 등의 미립자를 사용하는 것이 바람직하다. 특히, 실리카나 유리 등의 미립자 중에서도, 중실의 진구상 입자가 아닌, 미세한 1차 입자가 2차 응집되어 이루어지는 벌크 밀도가 낮은 광택 조정제는 첨가량에 대한 소광 효과가 높다. 그러므로, 이러한 광택 조정제를 사용함으로써, 광택 조정제의 첨가량을 적게 할 수 있다.

광택 조정제의 입경은 임의의 수치를 선택할 수 있지만, 2㎛ 이상 15㎛ 이하로 하는 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게는, 4㎛ 이상 12㎛ 이하이다. 입경이 2㎛ 미만인 광택 조정제는, 소광 효과가 낮으므로 광택의 차에 의한 요철감이 충분히 얻어지지 않는다. 또한, 입경이 15㎛보다 큰 광택 조정제는, 광의 산란이 커져 버리므로, 제1, 제2 광택 조정층(5, 6) 중, 광택 조정제를 첨가한 층에서 백탁을 초래하거나, 눈으로 봄에 의한 입자감이 커지거나 하여, 광택의 차에 의한 요철감이 반대로 손상되어 버리는 경우가 있다.

[이형제]

본 실시 형태의 화장재(1)는 우수한 내오염성과 장기적으로 안정된 이형성이 요구된다는 점에서, 제1 광택 조정층(5)에는, 반응성 말단을 갖는 실리콘계 이형제를 첨가하는 것이 중요하다. 또한, 실리콘계 이형제는 활제로서도 사용된다.

특히, 반응성 말단으로서 수산기 또는 아미노기, 혹은 그 양쪽을 갖는 실리콘계 이형제가 바람직하다. 그때, 실리콘 골격의 구조는, 필요한 내오염성이나, 수지 및 용제와 혼합하여 코팅제로 할 때의 상용성 등을 감안하여 반응성 말단을 적절하게 선택하면 되며, 특별히 종류가 한정되는 것은 아니다. 제1 광택 조정층(5)을 구성하는 수지에는 우레탄계 열 경화 수지가 사용되고 있으므로, 수산기 또는 아미노기가, 우레탄 경화 반응 시에 수지 골격 중에 도입됨으로써, 장기적으로 안정된 내오염성과 이형성을 발현시킬 수 있다.

전술한 수산기 또는 아미노기를 갖는 실리콘계 이형제의 첨가량은, 제1 광택 조정층(5)을 구성하는 전고형분 100질량부에 대해, 실리콘계 이형제의 유효 성분으로서 1질량부 이상 6질량부 이하가 되는 양이 바람직하다. 1질량부 미만의 경우, 요구되는 내오염성 및 이형성을 발현시키는 것이 곤란하고, 6질량부를 초과하는 경우는, 실리콘계 이형제의 일부가 수지 골격 중으로 도입되지 않게 되어 버려, 내오염성 및 이형성을 장기적으로 안정되게 발현시킬 수 없을 우려가 있다.

제2 광택 조정층(6)에 첨가되는 이형제도 반응성 말단을 갖는 실리콘계 이형제로 하는 것이 바람직하다. 그 실리콘계 이형제는, 반응성 말단으로서 아크릴기 또는 메타크릴기, 혹은 그 양쪽을 갖고 있는 것이 중요하다. 실리콘 골격은 전술한 제1 광택 조정층(5)과 마찬가지로 특별히 종류가 한정되는 것은 아니다. 또한, 아크릴기 또는 메타크릴기, 혹은 그 양쪽을 갖는 실리콘계 이형제의 첨가량은, 제2 광택 조정층(6)을 구성하는 전고형분 100질량부에 대해, 실리콘계 이형제의 유효 성분으로서, 0.5질량부 이상 5질량부 이하가 되는 값인 것이 바람직하다. 0.5질량부 미만인 경우, 요구되는 내오염성 및 이형성을 발현시키는 것이 곤란하고, 5질량부를 초과하는 경우는, 실리콘계 이형제의 일부가 수지 골격 중으로 도입되지 않게 되어 버려, 내오염성 및 이형성을 장기적으로 안정되게 발현시킬 수 없는 경우가 있다.

광택 조정제의 첨가량은, 수지 조성물 100질량부에 대해 5질량부 이상 40질량부 이하가 바람직하다. 더욱 바람직하게는, 10질량부 이상 30질량부 이하이다. 5질량부 미만인 경우에는, 소광 효과가 부족하기 때문에, 상대적으로 광택이 높은 광택 조정층과의 광택의 차가 작아져, 요철감이 부족해져 버리는 일이 있다. 또한, 40질량부보다 큰 경우에는, 광택 조정제에 대해 수지 조성물이 상대적으로 부족하므로, 광택 조정제의 탈락이나, 탈락에 의한 내스크래치성의 저하를 초래해 버려, 화장재(1)에 요구되는 내구성이 크게 손상되어 버리는 일이 있다.

또한, 상대적으로 광택이 높은 광택 조정층에 있어서도, 임의의 광택 조정제를 첨가하는 것이 가능하다. 이들은 최종적인 요철감이나 의장성에 따라서 적절하게 조정되어야 하는 것이다. 또한, 제1, 제2 광택 조정층(5, 6)에 사용되는 광택 조정제 및 수지 조성물은, 동일해도 되고 달라도 된다. 이들은 요철감 및 각종 요구 특성으로부터 자유롭게 선택할 수 있다.

[그 밖의 첨가제]

또한, 제1, 제2 광택 조정층(5, 6)에는, 각종 기능을 부여하기 위해, 예를 들어 항균제, 방곰팡이제 등의 기능성 첨가제를 첨가해도 된다. 또한, 필요에 따라서 자외선 흡수제, 광 안정화제를 첨가해도 된다. 자외선 흡수제로서는, 예를 들어 벤조트리아졸계, 벤조에이트계, 벤조페논계, 트리아진계, 시아노아크릴레이트계를 사용할 수 있다. 또한, 광 안정화제로서는, 예를 들어 힌더드 아민계를 사용할 수 있다.

<기재>

기재(2)는, 화장재(1)의 원지로서 사용되는 것이면, 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 박엽지, 수지 혼초지, 티타늄지, 수지 함침지, 난연지, 무기질지 등의 종이류, 천연 섬유 또는 합성 섬유로 이루어지는 직포 혹은 부직포, 호모 또는 랜덤 폴리프로필렌 수지, 폴리에틸렌 수지 등의 폴리올레핀 수지, 공중합 폴리에스테르 수지, 아몰퍼스 상태의 결정성 폴리에스테르 수지, 폴리에틸렌나프탈레이트 수지, 폴리부틸렌 수지, 아크릴계 수지, 폴리아미드 수지, 폴리카르보네이트 수지, 폴리염화비닐 수지, 폴리염화비닐리덴 수지, 불소계 수지 등의 합성 수지계 기재, 목재 단판, 베니어, 합판, 집성재, 파티클 보드, 중밀도 섬유판 등의 목질계 기재, 석고판, 시멘트판, 규산칼슘판, 도자기판 등의 무기계 기재, 철, 구리, 알루미늄, 스테인리스 등의 금속계 기재, 또는 이들의 복합재, 적층체 등, 종래 공지의 재료를 사용할 수 있다. 또한, 기재(2)의 형상으로서는, 예를 들어 필름상, 시트상, 판상, 이형 성형체 등을 사용할 수 있다.

<무늬 잉크층>

또한, 기재(2)와 제1 광택 조정층(5) 사이에는, 화장재(1)에 무늬 모양을 부가하기 위한 무늬 잉크층(4)을 마련할 수 있다. 무늬 모양으로서는, 예를 들어 나뭇결 모양, 돌결 모양, 모래결 모양, 타일 부착 모양, 벽돌 적층 모양, 옷감결 모양, 가죽결 모양, 기하학 도형 등을 사용할 수 있다. 도 1의 예에서는, 무늬 잉크층(4)은, 제2 광택 조정층(6)의 바로 아래의 부분에 형성되어 있다. 바꾸어 말하면, 제2 광택 조정층(6)이 무늬 잉크층(4)과 겹치는 부분에만 형성된 구성으로 되어 있다. 또한, 무늬 잉크층(4)의 무늬 모양은, 제2 광택 조정층(6)의 광택과 동조되어 있다. 이에 의해, 무늬 잉크층(4)에 의한 의장성에, 제2 광택 조정층(6)에 의한 의장성을 부가할 수 있다. 그러므로, 천연목이나 천연석에 가까운 고급감이 있는 의장 표현을 가진 화장재(1)를 형성할 수 있다.

또한, 본 실시 형태에서는, 제2 광택 조정층(6)이 무늬 잉크층(4)과 겹치는 부분에만 형성되어 있는, 즉, 무늬 잉크층(4)의 바로 위의 부분에만 형성되어 있는 예를 나타냈지만, 다른 구성을 채용할 수도 있다. 예를 들어, 평면으로 보아(표면측에서 보아), 무늬 잉크층(4)과 겹치는 부분이면 되고, 무늬 잉크층(4)의 바로 위의 부분 외에도, 바로 위 이외의 부분의 일부에도 형성하는 구성으로 해도 된다.

<하지 솔리드 잉크층>

또한, 기재(2)와 무늬 잉크층(4) 사이에는, 목적으로 하는 의장의 정도에 따라서 하지 솔리드 잉크층(3)을 마련하도록 해도 된다. 하지 솔리드 잉크층(3)은, 기재(2)의 제1 광택 조정층(5)측의 면의 전체면을 피복하도록 하여 마련된다. 또한, 하지 솔리드 잉크층(3)은, 은폐성 등, 필요에 따라서 2층 이상의 다층으로 해도 된다. 또한, 무늬 잉크층(4)은, 요구되는 의장을 표현하기 위해 필요한 수만큼 적층하여 형성해도 된다. 이와 같이, 무늬 잉크층(4)과 하지 솔리드 잉크층(3)은, 요구되는 의장, 즉, 표현하고자 하는 의장에 따라서 다양한 조합이 되지만, 특별히 한정되는 것은 아니다.

하지 솔리드 잉크층(3) 및 무늬 잉크층(4)의 구성 재료는, 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 매트릭스와, 염료, 안료 등의 착색제를 용제 중에 용해, 분산하여 이루어지는 인쇄 잉크나 코팅제를 사용할 수 있다. 매트릭스로서는, 예를 들어 유성의 질화면 수지, 2액 우레탄 수지, 아크릴계 수지, 스티렌계 수지, 폴리에스테르계 수지, 우레탄계 수지, 폴리비닐계 수지, 알키드 수지, 에폭시계 수지, 멜라민계 수지, 불소계 수지, 실리콘계 수지, 고무계 수지 등의 각종 합성 수지류, 또는 이들의 혼합물, 공중합체 등을 사용할 수 있다. 또한, 착색제로서는, 예를 들어 카본 블랙, 티타늄백, 아연화, 벵갈라, 황연, 감청, 카드뮴 레드 등의 무기 안료나, 아조 안료, 레이크 안료, 안트라퀴논 안료, 프탈로시아닌 안료, 이소인돌리논 안료, 디옥사진 안료 등의 유기 안료, 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. 또한, 용제로서는, 예를 들어 톨루엔, 크실렌, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 메틸알코올, 에틸알코올, 이소프로필알코올, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 물 등, 혹은 이들의 혼합물 등을 사용할 수 있다.

또한, 하지 솔리드 잉크층(3) 및 무늬 잉크층(4)에는, 각종 기능을 부여하기 위해, 예를 들어 체질 안료, 가소제, 분산제, 계면 활성제, 점착 부여제, 접착 보조제, 건조제, 경화제, 경화 촉진제 및 경화 지연제 등의 기능성 첨가제를 첨가해도 된다.

여기서, 하지 솔리드 잉크층(3), 무늬 잉크층(4) 및 제1, 제2 광택 조정층(5, 6)의 각 층은, 예를 들어 그라비아 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 스크린 인쇄법, 정전 인쇄법, 잉크젯 인쇄법 등의 각종 인쇄 방법에 의해 형성할 수 있다. 또한, 하지 솔리드 잉크층(3) 및 제1 광택 조정층(5)은, 기재(2)의 표면측의 면의 전체면을 피복하고 있으므로, 예를 들어 롤 코팅법, 나이프 코팅법, 마이크로 그라비아 코팅법, 다이 코팅법 등의 각종 코팅 방법에 의해서도 형성할 수 있다. 이들 인쇄 방법, 코팅 방법은, 형성되는 층에 의해 제각기 선택해도 되고, 동일한 방법을 선택하여 일괄 가공해도 된다.

제1, 제2 광택 조정층(5, 6)의 층 두께를 조정하려면, 전술한 인쇄 방법 및 코팅 방법에 있어서 도포량을 조정하면 된다. 도포량은, 각종 인쇄 방법 및 코팅 방법에 있어서, 기재(2)에 광택 조정층을 형성한 것과, 하지 않은 것을 제작하여, 질량 차로부터 산출할 수 있다.

<투명 수지층>

특히 내마모성이 요구되는 경우에는, 무늬 잉크층(4)과 제1 광택 조정층(5) 사이에 투명 수지층(도시하지 않음)을 마련할 수 있다. 투명 수지층으로서는, 예를 들어 올레핀계 수지를 주 재료로 한 수지 조성물을 사용하는 것이 바람직하다. 올레핀계 수지로서는, 예를 들어 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리부텐 등 외에, α올레핀(예를 들어, 프로필렌, 1-부텐, 1-펜텐, 1-헥센, 1-헵텐, 1-옥텐, 1-노넨, 1-데센, 1-운데센, 1-도데센, 트리데센, 1-테트라데센, 1-펜타데센, 1-헥사데센, 1-헵타데센, 1-옥타데센, 1-노나데센, 1-에이코센, 3-메틸-1-부텐, 3-메틸-1-펜텐, 3-에틸-1-펜텐, 4-메틸-1-펜텐, 4-메틸-1-헥센, 4,4-디메틸-1-펜텐, 4-에틸-1-헥센, 3-에틸-1-헥센, 9-메틸-1-데센, 11-메틸-1-도데센, 12-에틸-1-테트라데센 등)을 단독 중합 혹은 2종류 이상 공중합시킨 것이나, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체, 에틸렌·비닐알코올 공중합체, 에틸렌·메틸메타크릴레이트 공중합체, 에틸렌·에틸메타크릴레이트 공중합체, 에틸렌·부틸메타크릴레이트 공중합체, 에틸렌·메틸아크릴레이트 공중합체, 에틸렌·에틸아크릴레이트 공중합체, 에틸렌·부틸아크릴레이트 공중합체 등과 같이, 에틸렌 또는 α 올레핀과 그 이외의 모노머를 공중합시킨 것을 사용할 수 있다. 특히, 표면 강도의 더한층의 향상을 도모하는 경우에는, 고결정성의 폴리프로필렌을 사용하는 것이 바람직하다.

또한, 투명 수지층에는, 예를 들어 열 안정제, 자외선 흡수제, 광 안정화제, 블로킹 방지제, 촉매 포착제 및 착색제 등의 첨가제를 첨가해도 된다. 이들 첨가제는, 공지의 것으로부터 적절하게 선택하여 사용할 수 있다. 투명 수지층은, 예를 들어 열압을 응용한 방법, 압출 라미네이트 방법, 드라이 라미네이트 방법 등의 각종 적층 방법에 의해 형성할 수 있다.

(작용 및 기타)

(1) 본 실시 형태의 화장재(1)에서는, 제1 광택 조정층(5)과, 그 제1 광택 조정층(5) 상에 부분적으로 마련된 제2 광택 조정층(6)을 구비한다. 이 결과, 우수한 의장성을 갖는다.

그리고 본 실시 형태의 화장재(1)에서는, 무늬 잉크층(4)의 무늬 모양과 제2 광택 조정층(6)의 광택이 동조되어 있으므로, 무늬 잉크층(4)에 의한 의장성에, 제2 광택 조정층(6)에 의한 의장성을 부가할 수 있어, 천연목이나 천연석에 가까운 고급감이 있는 의장 표현을 가진 화장재(1)를 형성할 수 있다.

(2) 본 실시 형태의 화장재(1)에서는, 하지측의 제1 광택 조정층(5)이 소수성 무기 재료로 이루어지는 광택 조정제와, 반응성 말단을 갖는 실리콘계 이형제를 포함한다.

이때, 반응성 말단을 갖는 실리콘계 이형제의 반응성 말단이, 수산기 및 아미노기 중 적어도 한쪽을 갖는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 소수성의 광택 조정제와 실리콘계 이형제를 채용함으로써, 친수성 오염 물질의 흡착 및 투명 수지와 소광제의 계면에 존재하는 공극에 대한 침투를 억제할 수 있으므로, 우수한 내오염성을 발휘할 수 있다. 또한 광택 조정제로서 실리카 등의 무기 재료를 채용함으로써 우수한 투명성을 발휘하여, 하층의 시인성을 높일 수 있다.

이에 의해, 하층에 대한 우수한 시인성을 갖고, 또한 우수한 내오염성과 장기적으로 안정된 이형성을 갖는 화장재(1)를 제공할 수 있다.

(3) 또한, 본 실시 형태의 화장재(1)에서는, 소광 효과가 높은 무기 재료로 이루어지는 광택 조정제를 사용한다. 그 때문에, 첨가되는 광택 조정층의 광택을 크게 저하시킬 수 있다. 그 때문에, 제1 광택 조정층(5)의 광택과 제2 광택 조정층(6)의 광택의 차를 크게 할 수 있어, 얻어지는 요철감을 크게 할 수 있다. 이에 의해, 더 깊이가 있는 우수한 의장 표현이 가능해진다.

(4) 본 실시 형태의 화장재(1)에서는, 제1 광택 조정층(5)을 구성하는 수지 성분이 각종 폴리올과 이소시아네이트로 이루어지는 2액의 우레탄계 열 경화 수지와 아크릴기 혹은 메타크릴기를 갖는 전리 방사선 경화 수지의 혼합물이며, 상기 열 경화 수지의 혼합 비율이 전리 방사선 경화 수지 100질량부에 대해 3질량부 이상 100질량부 이하인 것으로 하였다.

이 구성에 의하면, 제1 광택 조정층(5)이 열 경화와 전리 방사선 경화의 듀얼 경화 방식으로 이루어짐으로써, 제2 광택 조정층(6)을 적층할 때의 결함을 발생시키지 않고, 우수한 내스크래치성을 갖는 화장재(1)를 제공할 수 있다.

(변형예)

(1) 본 실시 형태에서는, 도 1과 같이, 제2 광택 조정층(6)이 무늬 잉크층(4)과 겹치는 부분에 형성되어, 무늬 잉크층(4)의 무늬 모양과 제2 광택 조정층(6)의 광택이 동조되어 있는 예를 나타냈지만, 다른 구성을 채용할 수도 있다.

예를 들어, 도 2에 도시하는 바와 같이, 제2 광택 조정층(6)이 무늬 잉크층(4)의 바로 위 이외의 부분에 형성되고, 무늬 잉크층(4)의 무늬 모양과 제1 광택 조정층(5)의 광택이 동조되어 있어도 된다. 이에 의해, 무늬 잉크층(4)의 무늬 모양에, 노출되어 있는 제1 광택 조정층(5)의 광택이 부여되어, 무늬 잉크층(4)에 의한 의장성에 제1 광택 조정층(5)에 의한 의장성을 부가할 수 있다. 그러므로, 천연목이나 천연석에 가까운 고급감이 있는 의장 표현을 가진 화장재(1)를 형성할 수 있다.

(2) 제2 광택 조정층(6)을 구성하는 수지 성분을, 폴리올과 이소시아네이트를 갖는 우레탄계 열 경화 수지와, 아크릴기 또는 메타크릴기를 갖는 전리 방사선 경화 수지의 혼합물로 하는 예를 나타냈지만, 다른 구성을 채용해도 된다.

예를 들어, 제2 광택 조정층(6)을 구성하는 수지 성분은, 아크릴기 또는 메타크릴기를 갖는 전리 방사선 경화 수지만으로 해도 된다. 이에 의해, 제2 광택 조정층(6)의 내스크래치성을 향상시킬 수 있다.

실시예

이하에, 본 실시 형태의 화장재(1)의 구체적인 실시예에 대해 설명한다.

(실시예 1)

실시예 1에서는, 평량 50g/㎡의 함침지(GFR-506: 고우진(주) 제조)를 기재(2)로서 사용하였다. 그리고 기재(2)의 한쪽 면에, 유성 질화면 수지계 그라비아 인쇄 잉크(PCNT(PCRNT) 각 색: 도요 잉크(주) 제조)를 사용하여, 하지 솔리드 잉크층(3)과 무늬 잉크층(4)을 이 순서로 형성하였다. 무늬 잉크층(4)의 무늬 모양은, 나뭇결 무늬로 하였다.

계속해서, 무늬 잉크층(4)을 형성한 기재(2) 상에, 제1 광택 조정층(5)용 잉크를, 기재(2)의 한쪽 면의 전체면을 피복하도록 도포(도공)하여, 제1 광택 조정층(5)을 형성하였다. 잉크는, 전리 방사선 경화 수지(디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(고형분 100％) 100질량부(고형분 100질량부)에 대해, 아크릴폴리올(6KW-700(고형분 36.5％): 다이세이 파인케미컬(주) 제조) 54.8질량부(고형분 20질량부)와, 폴리이소시아네이트(UR190B 경화제(고형분 72.5％): 도요 잉크(주) 제조) 6.9질량부(고형분 5질량부)를 갖는 2액의 우레탄계 열 경화 수지(합계 고형분 25질량부), 표면 처리되어 있는 실리카계 광택 조정제(미즈카실 P-802Y: 미즈사와 가가쿠 고교(주) 제조) 10질량부(이상, 전고형분 135부), 자외선 라디칼 개시제(IRGACURE 184: BASF 제조) 5질량부, 수산기를 갖는 실리콘계 이형제(BYK-SILCLEAN3700(유효 성분 25％): BYK 제조) 5.4질량부(전고형분에 대한 유효 성분 1.0부)로 구성하였다. 잉크의 도포량은 5g/㎡로 하였다.

계속해서, 제1 광택 조정층(5)을 구성하는 수지 성분(전리 방사선 경화 수지)에 전리 방사선을 조사하는 일 없이, 제1 광택 조정층(5) 상의 무늬 잉크층(4)의 바로 위의 부분에, 제2 광택 조정층(6)용 잉크를 도포(도공)함으로써, 제2 광택 조정층(6)을 형성하였다. 잉크는, 전리 방사선 경화 수지(디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(고형분 100％)) 100질량부(고형분 100질량부)에 대해, 표면 처리되어 있는 실리카계 광택 조정제(미즈카실 P-802Y: 미즈사와 가가쿠 고교(주) 제조) 5질량부(이상, 전고형분 105부), 자외선 라디칼 개시제(IRGACURE 184: BASF 제조) 5질량부, 아크릴기를 갖는 실리콘계 이형제(BYK-UV3505(유효 성분 40％): BYK 제조) 1.3질량부(전고형분에 대한 유효 성분 0.5부)로 구성하였다.

그리고 이러한 수순으로 얻어진 화장재(1)에 대해, 전리 방사선을 조사하여, 제1, 제2 광택 조정층(5, 6)의 전리 방사선 경화 수지의 가교 경화를 행하고, 또한 가열 양생을 행하여, 실시예 1의 화장재로 하였다.

(실시예 2)

실시예 2에서는, 제1 광택 조정층(5)용 잉크에 있어서, 수산기를 갖는 실리콘계 이형제(BYK-SILCLEAN3700(유효 성분 25％): BYK 제조) 10.8질량부(전고형분에 대한 유효 성분 2.0부)로 하고, 제2 광택 조정층(6)용 잉크에 있어서, 아크릴기를 갖는 실리콘계 이형제(BYK-UV3505(유효 성분 40％): BYK 제조) 5.3질량부(전고형분에 대한 유효 성분 2.0부)로 하였다. 그 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 구성으로 하여, 실시예 2의 화장재로 하였다.

(실시예 3)

실시예 3에서는, 제2 광택 조정층(6)용 잉크에 있어서, 전리 방사선 경화 수지(디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(고형분 100％)) 100질량부(고형분 100질량부)에 대해, 아크릴폴리올(6KW-700(고형분 36.5％): 다이세이 파인케미컬 (주) 제조) 54.8질량부와 폴리이소시아네이트(UR190B 경화제(고형분 72.5％): 도요 잉크(주) 제조) 6.9질량부를 갖는 2액의 우레탄계 열 경화 수지(합계 고형분 25질량부), 표면 처리되어 있는 실리카계 광택 조정제 미즈카실 P-802Y: 미즈사와 가가쿠 고교(주) 제조) 5질량부(이상, 전고형분 130부), 자외선 라디칼 개시제(IRGACURE 184: BASF 제조) 5질량부, 아크릴기를 갖는 실리콘계 이형제(BYK-UV3505(유효 성분 40％): BYK 제조) 6.5질량부(전고형분에 대한 유효 성분 2.0부)로 하였다. 그 이외에는 실시예 2와 마찬가지의 구성으로 하여, 실시예 3의 화장재로 하였다.

(실시예 4)

실시예 4에서는, 제1 광택 조정층(5)용 잉크에 있어서, 수산기를 갖는 실리콘계 이형제(BYK-SILCLEAN3700(유효 성분 25％): BYK 제조) 27.0질량부(전고형분에 대한 유효 성분 5.0부)로 하고, 제2 광택 조정층(6)용 잉크에 있어서, 아크릴기를 갖는 실리콘계 이형제(BYK-UV3505(유효 성분 40％): BYK 제조) 11.8질량부(전고형분에 대한 유효 성분 4.5부)로 하였다. 그 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 구성으로 하여, 실시예 4의 화장재로 하였다.

(실시예 5)

실시예 5에서는, 제1 광택 조정층(5)용 잉크에 있어서, 수산기를 갖는 실리콘계 이형제(BYK-SILCLEAN3700(유효 성분 25％): BYK 제조) 4.3질량부(전고형분에 대한 유효 성분 0.8부)로 하고, 제2 광택 조정층(6)용 잉크에 있어서, 아크릴기를 갖는 실리콘계 이형제(BYK-UV3505(유효 성분 40％): BYK 제조) 0.8질량부(전고형분에 대한 유효 성분 0.3부)로 하였다. 그 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 구성으로 하여, 실시예 5의 화장재로 하였다.

(실시예 6)

실시예 6에서는, 제1 광택 조정층(5)용 잉크에 있어서, 수산기를 갖는 실리콘계 이형제(BYK-SILCLEAN3700(유효 성분 25％): BYK 제조) 35.1질량부(전고형분에 대한 유효 성분 6.5부)로 하고, 제2 광택 조정층(6)용 잉크에 있어서, 아크릴기를 갖는 실리콘계 이형제(BYK-UV3505(유효 성분 40％): BYK 제조) 14.5질량부(전고형분에 대한 유효 성분 5.5부)로 하였다. 그 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 구성으로 하여, 실시예 6의 화장재로 하였다.

(비교예 1)

비교예 1에서는, 제1 광택 조정층(5)용 잉크에 있어서, 표면 처리가 되어 있지 않은 실리카계 광택 조정제(미즈카실 P-803: 미즈사와 가가쿠 고교(주) 제조) 10질량부로 하였다. 그 이외에는 실시예 2와 마찬가지의 구성으로 하여, 비교예 1의 화장재로 하였다.

(비교예 2)

비교예 2에서는, 제1 광택 조정층(5)용 잉크에 있어서, 이하의 방법으로 제작한 표면 처리되어 있는 실리카계 광택 조정제 10질량부로 하였다. 그 이외에는 실시예 2와 마찬가지의 구성으로 하여, 비교예 2의 화장재로 하였다.

표면 처리가 되어 있지 않은 실리카계 광택 조정제(미즈카실 P-803: 미즈사와 가가쿠 고교(주) 제조) 100질량부를 헨쉘 믹서에 투입하고, 에탄올 72질량부, 물 8질량부, 메틸트리메톡시실란(KBM-13: 신에쓰 가가쿠 고교(주) 제조) 20질량부를 혼합한 것을, 교반하면서 헨쉘 믹서에 20질량부를 서서히 적하하였다. 적하 후 30분 교반을 계속하여 비교예 2에서 사용하는 표면 처리되어 있는 실리카계 광택 조정제로 하였다.

(비교예 3)

비교예 3에서는, 제1 광택 조정층(5)용 잉크에 있어서, 반응성이 없는 실리콘계 이형제(BYK-330(유효 성분 51％): BYK 제조) 2.6질량부(전고형분에 대한 유효 성분 1.0부)로 하고, 제2 광택 조정층(6)용 잉크에 있어서, 반응성이 없는 실리콘계 이형제(BYK-330(유효 성분 51％): BYK 제조) 1.0질량부(전고형분에 대한 유효 성분 0.5부)로 하였다. 그 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 구성으로 하여, 비교예 3의 화장재로 하였다.

(비교예 4)

비교예 4에서는, 제1 광택 조정층(5)용 잉크에 있어서, 반응성이 없는 실리콘계 이형제(BYK-330(유효 성분 51％): BYK 제조) 5.3질량부(전고형분에 대한 유효 성분 2.0부)로 하고, 제2 광택 조정층(6)용 잉크에 있어서, 반응성이 없는 실리콘계 이형제(BYK-330(유효 성분 51％): BYK 제조) 4.1질량부(전고형분에 대한 유효 성분 2.0부)로 하였다. 그 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 구성으로 하여, 비교예 4의 화장재로 하였다.

(비교예 5)

비교예 5에서는, 제1 광택 조정층(5)용 잉크에 있어서, 반응성이 없는 실리콘계 이형제(BYK-330(유효 성분 51％): BYK 제조) 13.2질량부(전고형분에 대한 유효 성분 5.0부)로 하고, 제2 광택 조정층(6)용 잉크에 있어서, 반응성이 없는 실리콘계 이형제(BYK-330(유효 성분 51％): BYK 제조) 9.3질량부(전고형분에 대한 유효 성분 4.5부)로 하였다. 그 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 구성으로 하여, 비교예 5의 화장재로 하였다.

이상의 실시예 1 내지 6, 비교예 1 내지 5에서 제1 광택 조정층(5)으로 사용하는 광택 조정제에 대해, 상술한 평가 방법에 기초하여 하기의 평가를 행하여, 각 평가의 가열에 의한 질량 감소량의 비(MB/MA)에 대해 구하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.

(평가 방법 A)

JIS K5101, 23에 준거하여, 대상으로 하는 무기 재료를, 110℃의 환경 하에 2시간 방치하고, 질량 감소를 측정한다.

(평가 방법 B)

분위기 온도 이외를 평가 방법 A와 동일한 조건으로 하여, 대상으로 하는 무기 재료를 950℃의 환경하에 2시간 방치하고, 질량 감소를 측정한다.

(평가)

이상의 실시예 1 내지 6, 비교예 1 내지 5에 대해, 내오염성, 이형성, 내스크래치성의 평가를 행하였다.

<내오염성>

JIS 오염 A 시험에 준하여 평가를 실시하였다. 구체적으로는, 얻어진 화장재의 표면에 친수성 오염 물질로서 청색 잉크로, 소수성 오염 물질로서 적색 크레용으로 각각 10㎜의 선을 그어, 4시간 방치한 후, 용제 또는 세제를 포함한 천 등으로 닦아냈다.

그 후, 시험편 표면의 색 잔여물을 확인하였다.

평가 기준은 다음과 같다. 또한, 실용상은 「△」 이상의 평가라면 문제없다(합격 기준을 충족함).

◎: 색 잔여물이 보이지 않았다.

○: 경미한 색 잔여물이 있었다.

△: 눈에 띄는 색 잔여물이 있었다.

×: 심한 색 잔여물이 있었다.

<이형성(장기)>

시험편에 셀로판테이프(등록 상표)(니치반 제조 24㎜)를 붙이고, 충분히 균등하게 압착시킨 후, 60℃의 환경에 4일간 보존하고, 취출 후, 상온까지 냉각한 후, 90°로 급격하게 벗겨냈다. 또한, 실용상은 「△」의 평가라면 문제없다(합격 기준을 충족함).

평가 기준은 다음과 같다.

○: 종이 사이 박리나 층 사이 박리 등의 벗겨짐이 발생하지 않았다.

△: 일부에 벗겨짐이 발생하였다.

×: 전체면에 벗겨짐이 발생하였다.

<내스크래치성>

얻어진 화장재를 스틸울(#0000)로 하중 500g/㎠, 10회 왕복의 내스크래치성 시험을 실시하고, 눈으로 봄으로써 흠집이나 광택도 변화의 유무를 관찰하였다.

◎: 광택도 변화가 보이지 않았다.

○: 광택도 변화가 약간 보였다.

△: 흠집은 보이지 않지만, 광택도 변화가 확실하게 보였다.

×: 흠집이나 큰 광택도 변화가 보였다.

이들 평가 결과를 표 1에 나타낸다.

표 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 실시예 1 내지 6의 화장재(1)에서는, 친수성 오염 물질에 대한 내오염성, 이형성 및 내스크래치성이 모두 양립되어 있음을 알 수 있다. 한편, 비교예 1에서는 친수성 오염 물질에 대한 내오염성이 악화되어 있다. 이것은 광택 조정제 표면이 친수성이기 때문에, 친수성 오염 물질의 흡착 및 투명 수지와 광택 조정제의 계면에 존재하는 공극에 대한 침투가 원인이라고 생각된다.

또한, 비교예 2에서는, 광택 조정제에 대한 표면 처리제량이 과잉이었기 때문에, 광택 조정층 표면에 블리드 아웃이 발생하여, 장기의 이형성이 악화된 것이라고 생각된다. 또한, 비교예 3 내지 5에서는 반응성이 없는 이형제를 사용한 바, 장기의 이형성만 나쁜 평가 결과가 되었다. 이것은, 이형제에 수지와의 반응성이 전혀 없기 때문에, 광택 조정층 내에 정착할 수 없어, 60℃ 보관 중에 이형제가 블리드 아웃되어, 이형성의 악화를 초래해 버린 것이라고 생각된다.

이상의 결과로부터, 실시예 1 내지 6의 화장재는 내오염성, 이형성, 내스크래치성을 양립시킨 화장재(1)인 것이 명확해졌다.

또한, 본 발명의 화장재(1)는, 상기한 실시 형태 및 실시예에 한정되는 것은 아니며, 발명의 특징을 손상시키지 않는 범위에서 다양한 변경이 가능하다.

1: 화장재
2: 기재
3: 하지 솔리드 잉크층
4: 무늬 잉크층
5: 제1 광택 조정층
6: 제2 광택 조정층

Claims

표층측에 마련된 제1 광택 조정층과, 그 제1 광택 조정층 상에 부분적으로 마련된 제2 광택 조정층을 구비하고,
상기 제1 광택 조정층이, 소수성 무기 재료로 이루어지는 광택 조정제와, 반응성 말단을 갖는 실리콘계 이형제를 포함하고,
상기 소수성 무기 재료는, 동일 질량의 무기 재료를 사용한, 하기 평가 방법 A에 의한 질량 감소량을 MA, 하기 평가 방법 B에 의한 질량 감소량을 MB라고 한 경우에, 하기 (1)식을 충족하는 것을 특징으로 하는 화장재.

(평가 방법 A)
대상으로 하는 무기 재료를 110℃의 환경하에 2시간 방치하고, 질량 감소를 측정함.
(평가 방법 B)
분위기 온도 이외를 평가 방법 A와 동일한 조건으로 하여, 대상으로 하는 무기 재료를 950℃의 환경하에 2시간 방치하고, 질량 감소를 측정함.
제1항에 있어서,
상기 반응성 말단을 갖는 실리콘계 이형제의 반응성 말단이, 수산기 및 아미노기 중 적어도 한쪽을 갖는 것을 특징으로 하는 화장재.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 제1 광택 조정층에 대한 상기 실리콘계 이형제의 첨가량은, 제1 광택 조정층을 구성하는 고형분 100질량부에 대해 실리콘계 이형제의 유효 성분이 1질량부 이상 6질량부 이하가 되는 양인 것을 특징으로 하는 화장재.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 광택 조정층을 구성하는 수지 성분의 주 재료는, 폴리올과 이소시아네이트를 갖는 우레탄계 열 경화 수지와, 아크릴기 또는 메타크릴기를 갖는 전리 방사선 경화 수지의 혼합물이며, 상기 전리 방사선 경화 수지 100질량부에 대해, 상기 우레탄계 열 경화 수지를 3질량부 이상 100질량부 이하 포함하는 것을 특징으로 하는 화장재.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제2 광택 조정층은, 반응성 말단을 갖는 실리콘계 이형제를 포함하고, 그 반응성 말단이 아크릴기 및 메타크릴기 중 적어도 한쪽을 갖는 것을 특징으로 하는 화장재.
제5항에 있어서,
상기 제2 광택 조정층에 대한 상기 실리콘계 이형제의 첨가량은, 제2 광택 조정층을 구성하는 고형분 100질량부에 대해, 실리콘계 이형제의 유효 성분이 0.5질량부 이상 5질량부 이하가 되는 양인 것을 특징으로 하는 화장재.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제2 광택 조정층을 구성하는 수지 성분의 주 재료는, 폴리올과 이소시아네이트를 갖는 우레탄계 열 경화 수지와, 아크릴기 또는 메타크릴기를 갖는 전리 방사선 경화 수지의 혼합물이며, 상기 전리 방사선 경화 수지 100질량부에 대해, 상기 우레탄계 열 경화 수지를 25질량부 이하 포함하는 것을 특징으로 하는 화장재.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제2 광택 조정층을 구성하는 수지 성분의 주 재료가, 아크릴기 또는 메타크릴기를 갖는 전리 방사선 경화 수지인 것을 특징으로 하는 화장재.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 광택 조정층의 하층측에 무늬 잉크층을 갖고,
상기 제2 광택 조정층은, 표면측에서 보아 상기 무늬 잉크층의 무늬 모양과 겹치는 부분에 형성되어, 상기 무늬 잉크층의 무늬 모양과 상기 제2 광택 조정층의 광택이 동조되어 있는 것을 특징으로 하는 화장재.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 광택 조정층의 하층측에 무늬 잉크층을 갖고,
상기 제2 광택 조정층은, 상기 무늬 잉크층의 무늬 모양의 바로 위 이외의 부분에 형성되어, 상기 무늬 잉크층의 무늬 모양과 상기 제1 광택 조정층의 광택이 동조되어 있는 것을 특징으로 하는 화장재.