KR20200095846A - Backwashing device for water treatment - Google Patents

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KR20200095846A
KR20200095846A KR1020190013713A KR20190013713A KR20200095846A KR 20200095846 A KR20200095846 A KR 20200095846A KR 1020190013713 A KR1020190013713 A KR 1020190013713A KR 20190013713 A KR20190013713 A KR 20190013713A KR 20200095846 A KR20200095846 A KR 20200095846A
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장암
임승주
이현호
김재원
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성균관대학교산학협력단
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Abstract

The present invention relates to a backwashing device for water treatment, which comprises: a storage unit for storing influent water; a pump unit for forcibly transferring the influent water stored in the storage unit; a processing unit for filtering the influent water supplied from the pump unit; and a cleaning unit removing foreign substances by generating plasma in the processing unit. It is possible to remove foreign substances from a separation membrane using plasma.

Description

수처리용 역세정 장치{BACKWASHING DEVICE FOR WATER TREATMENT}Backwashing device for water treatment {BACKWASHING DEVICE FOR WATER TREATMENT}

본 발명은 수처리용 역세정 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 플라즈마를 이용하여 분리막 이물질을 제거할 수 있는 수처리용 역세정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a backwashing device for water treatment, and more particularly, to a backwashing device for water treatment capable of removing foreign substances from a separation membrane using plasma.

일반적으로 막여과 공정이란 분리막을 여과재로 사용하여 물을 통과시켜서 원수 속의 불순한 물질을 분리 제거하고 깨끗한 여과수를 얻는 물리적 여과 방법을 의미한다. In general, the membrane filtration process refers to a physical filtration method in which impure substances in raw water are separated and removed by passing water using a separator as a filter medium to obtain clean filtered water.

최근 역삼투(RO, reverse osmosis) 여과와 반대 개념으로서 정삼투(FO, forward osmosis) 여과, 직삼투(DO, Direct Osmosis) 여과에 대한 상용화 연구가 활발히 진행되고 있다. Recently, researches on commercialization of forward osmosis (FO) filtration and direct osmosis (DO) filtration as opposite concepts to RO (reverse osmosis) filtration have been actively conducted.

정삼투 공정은 서로 다른 농도의 용액인 원수와 유도용액이 정삼투 처리부에 투입되면, 선택적 투과성을 갖는 분리막(membrane)을 사이에 두고, 저농도 쪽의 물이 농도의 평형을 유지하기 위해 분리막을 통과하여 고농도 쪽으로 이동하는 물리 현상인 삼투(osmosis) 원리를 이용한다. 여기에서 고농도 쪽으로 상대적으로 많은 양의 물이 이동하여 발생되는 압력을 삼투압(osmotic pressure)이라 하는데, 정삼투 분리를 위한 구동력은 수압(hydraulic pressure)을 이용하는 역삼투 공정과 달리 삼투압 구배(osmotic pressure gradient)이다.In the forward osmosis process, when the raw water and the draw solution, which are solutions of different concentrations, are introduced into the forward osmosis treatment unit, a selectively permeable membrane is interposed, and the water at the low concentration passes through the membrane to maintain the concentration equilibrium Therefore, it uses the principle of osmosis, a physical phenomenon that moves toward high concentration. Here, the pressure generated by the movement of a relatively large amount of water toward a high concentration is called osmotic pressure. )to be.

한편, 이와 같은 정삼투 처리부의 여과 처리 과정에서 필연적으로 막오염이 발생한다. 여기에서, "막오염(membrane fouling)"이란 분리막에 유입되는 유입수 중에 존재하는 여러 가지 이물질들이 여과막의 표면에 침착되거나 흡착되어 분리막의 투과수량을 감소시키는 현상이다. On the other hand, membrane contamination inevitably occurs in the filtration process of the forward osmosis treatment unit. Here, "membrane fouling" is a phenomenon in which various foreign substances present in the influent water flowing into the separation membrane are deposited or adsorbed on the surface of the filtration membrane, thereby reducing the amount of permeated water through the separation membrane.

종래에는 막오염으로 인해 장시간 원수를 처리하는 과정에서 수처리 작업이 저하되는 문제점이 있다. 따라서, 이를 개선할 필요성이 요청된다.Conventionally, there is a problem in that water treatment work is degraded in the process of treating raw water for a long time due to membrane contamination. Therefore, there is a need to improve this.

본 발명의 배경기술은 대한민국 공개특허공보 제2018-0026442호(2018.09.06. 공개, 발명의 명칭 : 정삼투-역삼투 처리 공정에서 삼투압 역세정을 이용한 물리 세정 방법)에 게시되어 있다.The background technology of the present invention is published in Korean Patent Application Publication No. 2018-0026442 (published on September 6, 2018, title of the invention: physical cleaning method using reverse osmosis in a forward osmosis-reverse osmosis treatment process).

본 발명은 상기와 같은 문제점들을 개선하기 위해 안출된 것으로서, 플라즈마를 이용하여 분리막 이물질을 제거할 수 있는 수처리용 역세정 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been conceived to improve the above problems, and an object of the present invention is to provide a backwashing apparatus for water treatment capable of removing foreign matter from a separation membrane using plasma.

본 발명에 따른 수처리용 역세정 장치는: 유입수가 저장되는 저장부; 상기 저장부에 저장된 유입수를 강제 이송시키는 펌프부; 상기 펌프부에서 공급되는 유입수를 필터링하는 처리부; 및 상기 처리부에 플라즈마를 발생시켜 이물질을 제거하는 세정부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.The backwashing apparatus for water treatment according to the present invention includes: a storage unit for storing influent water; A pump unit for forcibly transferring the influent stored in the storage unit; A processing unit filtering the influent water supplied from the pump unit; And a cleaning unit configured to remove foreign substances by generating plasma in the processing unit.

상기 처리부는 처리케이스부; 상기 처리케이스부의 일측에 형성되고, 상기 펌프부와 연결되는 처리유입관부; 상기 처리케이스부에 내장되어 상기 처리케이스부의 내부를 구획하고, 유입수를 처리하는 처리분리막부; 상기 처리케이스부의 타측에 형성되고, 상기 처리분리막부의 하방에 배치되어 상기 처리분리막부를 통과하지 못한 농축수를 회수하는 처리회수관부; 및 상기 처리케이스부의 타측에 형성되고, 상기 처리분리막부의 상방에 배치되어 상기 처리분리막부를 통과한 처리수를 배출하는 처리배출관부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.The processing unit includes a processing case unit; A treatment inlet pipe part formed on one side of the treatment case part and connected to the pump part; A processing separation membrane unit built in the processing case unit to partition the interior of the processing case unit and to treat influent water; A treatment recovery pipe part formed on the other side of the treatment case part and disposed below the treatment separation film part to recover concentrated water that has not passed through the treatment separation film part; And a treatment discharge pipe part formed on the other side of the treatment case part, disposed above the treatment separation film part, and discharges the treated water passing through the treatment separation film part.

상기 처리분리막부는 세라믹재질을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.The treatment separation membrane part is characterized in that it comprises a ceramic material.

상기 세정부는 상기 처리케이스부의 내측 하부에 배치되는 제1전극부; 상기 처리케이스부의 내측 상부에 배치되고, 상기 처리분리막부와 결합되는 제2전극부; 및 상기 제1전극부와 상기 제2전극부에 연결되어 전원을 인가하는 전원공급부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.The cleaning unit includes: a first electrode unit disposed below the processing case unit; A second electrode portion disposed on the inner upper portion of the processing case portion and coupled to the processing separation membrane portion; And a power supply unit connected to the first electrode unit and the second electrode unit to apply power.

상기 제2전극부는 상기 처리분리막부를 통과한 처리수가 이동 가능하도록 메쉬 형상인 것을 특징으로 한다.The second electrode portion may have a mesh shape such that the treated water passing through the treatment separation membrane portion is movable.

본 발명에 따른 수처리용 역세정 장치는: 상기 처리부에 기포를 제공하는 기포발생부;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The backwashing apparatus for water treatment according to the present invention is characterized in that it further comprises: a bubble generating unit for providing bubbles to the treatment unit.

본 발명에 따른 수처리용 역세정 장치는: 상기 처리부에서 처리되는 처리수의 유량을 측정하는 감지부; 및 상기 감지부의 감지신호를 수신하여 상기 세정부를 작동시키는 제어부;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The backwashing apparatus for water treatment according to the present invention includes: a sensing unit measuring the flow rate of the treated water processed by the treatment unit; And a control unit for receiving a detection signal from the sensing unit and operating the cleaning unit.

본 발명에 따른 수처리용 역세정 장치는 삼투 현상을 이용하여 수처리가 이루어지고, 처리분리막부에 부착된 이물질은 플라즈마 방식으로 제거할 수 있다.In the backwashing apparatus for water treatment according to the present invention, water treatment is performed by using an osmosis phenomenon, and foreign substances attached to the treatment separation membrane may be removed by a plasma method.

본 발명에 따른 수처리용 역세정 장치는 기포발생부에 의해 생성된 기포가 전하 이동을 촉진시켜 플라즈마가 신속하게 발생할 수 있다.In the backwashing apparatus for water treatment according to the present invention, the bubbles generated by the bubble generating unit promote charge transfer, so that plasma can be rapidly generated.

본 발명에 따른 수처리용 역세정 장치는 처리부에서 처리되는 처리수의 유량에 따라 자동으로 세정부가 작동될 수 있다.In the backwashing apparatus for water treatment according to the present invention, the washing unit may be automatically operated according to the flow rate of the treated water treated by the treatment unit.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 수처리용 역세정 장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 처리부를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 세정부를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기포발생부를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 감지부를 개략적으로 나타내는 도면이다.1 is a view schematically showing a backwashing apparatus for water treatment according to an embodiment of the present invention.
2 is a diagram schematically illustrating a processing unit according to an embodiment of the present invention.
3 is a diagram schematically showing a cleaning unit according to an embodiment of the present invention.
4 is a view schematically showing a bubble generator according to an embodiment of the present invention.
5 is a diagram schematically illustrating a sensing unit according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명에 따른 수처리용 역세정 장치의 실시예를 설명한다. 이러한 과정에서 도면에 도시된 선들의 두께나 구성요소의 크기 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시되어 있을 수 있다. 또한, 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서, 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다. 그러므로, 이러한 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.Hereinafter, an embodiment of a backwashing apparatus for water treatment according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In this process, the thickness of the lines or the size of components shown in the drawings may be exaggerated for clarity and convenience of description. In addition, terms to be described later are terms defined in consideration of functions in the present invention, which may vary according to the intention or custom of users or operators. Therefore, definitions of these terms should be made based on the contents throughout this specification.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 수처리용 역세정 장치를 개략적으로 나타내는 도면이다. 도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 수처리용 역세정 장치(1)는 저장부(10)와, 펌프부(20)와, 처리부(30)와, 세정부(40)를 포함한다.1 is a view schematically showing a backwashing apparatus for water treatment according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, a water treatment backwashing apparatus 1 according to an embodiment of the present invention includes a storage unit 10, a pump unit 20, a treatment unit 30, and a washing unit 40. do.

저장부(10)에는 유입수가 저장된다. 일 예로, 저장부(10)에는 수처리가 필요한 오염수가 저장될 수 있다.Influent water is stored in the storage unit 10. For example, contaminated water requiring water treatment may be stored in the storage unit 10.

펌프부(20)는 저장부(10)에 저장된 유입수를 강제 이송시킨다. 일 예로, 펌프부(20)는 저장부(10)와 처리부(30)를 연결하여 유입수를 안내하는 펌프배관부(21)와, 펌프배관부(21)에 형성되고 유입수를 강제로 이송시키는 펌프작동부(22)를 포함할 수 있다.The pump unit 20 forcibly transfers the influent water stored in the storage unit 10. As an example, the pump unit 20 includes a pump piping unit 21 that connects the storage unit 10 and the treatment unit 30 to guide inflow water, and a pump formed in the pump piping unit 21 and forcibly transferring the influent water. It may include an operation unit 22.

처리부(30)는 펌프부(20)에서 공급되는 유입수를 필터링한다. 일 예로, 처리부(30)는 저농도 쪽의 물이 농도의 평형을 유지하기 위해 분리막을 통과하여 고농도 쪽으로 이동하는 물리 현상인 삼투원리를 이용할 수 있다.The processing unit 30 filters the influent water supplied from the pump unit 20. For example, the treatment unit 30 may use the osmotic principle, which is a physical phenomenon in which water at a low concentration passes through a separation membrane and moves toward a high concentration in order to maintain an equilibrium concentration.

세정부(40)는 처리부(30)에 플라즈마를 발생시켜 처리부(30)에 형성되는 이물질을 제거한다. 일 예로, 세정부(40)는 처리부(30)에 내장되는 분리막에 부착된 이물질을 제거할 수 있다.The cleaning unit 40 removes foreign substances formed in the processing unit 30 by generating plasma in the processing unit 30. For example, the cleaning unit 40 may remove foreign substances adhering to the separation membrane included in the processing unit 30.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 처리부를 개략적으로 나타내는 도면이다. 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 처리부(30)는 처리케이스부(31)와, 처리유입관부(32)와, 처리분리막부(33)와, 처리회수관부(34)와, 처리배출관부(35)를 포함한다.2 is a diagram schematically illustrating a processing unit according to an embodiment of the present invention. 2, the treatment unit 30 according to an embodiment of the present invention includes a treatment case part 31, a treatment inflow pipe part 32, a treatment separation membrane part 33, a treatment recovery pipe part 34, and , And a treatment discharge pipe portion 35.

처리유입관부(32)는 처리케이스부(31)의 일측에 형성되어 펌프부(20)와 연결된다. 일 예로, 처리유입관부(32)는 박스 형상을 갖는 처리케이스부(31)의 좌측에 형성되어 펌프배관부(21)와 연결될 수 있다.The treatment inlet pipe part 32 is formed on one side of the treatment case part 31 and is connected to the pump part 20. For example, the treatment inlet pipe part 32 may be formed on the left side of the treatment case part 31 having a box shape to be connected to the pump pipe part 21.

처리분리막부(33)는 처리케이스부(31)에 내장되어 처리케이스부(31)의 내부를 구획하고 유입수를 처리한다. 일 예로, 처리분리막부(33)는 삼투압에 의해 유입수가 통과하면서 이물질이 제거되어 처리수가 될 수 있다. 처리분리막부(33)는 처리유입관부(32) 보다 상방에 배치될 수 있다. The treatment separation membrane part 33 is embedded in the treatment case part 31 to partition the interior of the treatment case part 31 and treats the influent water. For example, the treatment separation membrane unit 33 may be treated water by removing foreign substances as influent water passes through osmotic pressure. The treatment separation membrane part 33 may be disposed above the treatment inlet pipe part 32.

한편, 처리분리막부(33)는 세라믹재질을 포함하여 이루어진다. 이러한 처리분리막부(33)는 내화학성과 내구성이 강하므로 수질이 열악한 폐수를 처리하기에 적합하다. 그리고, 세정부(40)를 통한 플라즈마 발생시 처리분리막부(33) 자체가 유전체가 될 수 있다.Meanwhile, the treatment separation membrane part 33 includes a ceramic material. Since the treatment separation membrane part 33 has strong chemical resistance and durability, it is suitable for treating wastewater having poor water quality. In addition, when plasma is generated through the cleaning unit 40, the process separation film unit 33 itself may be a dielectric.

처리회수관부(34)와 처리배출관부(35)는 처리케이스부(31)의 타측에 형성된다. 처리회수관부(34)는 처리분리막부(33)의 하방에 배치되어 처리분리막부(33)를 통과하지 못한 농축수를 회수한다. 그리고, 처리배출관부(35)는 처리분리막부(33)의 상방에 배치되어 처리분리막부(33)를 통과한 처리수를 배출한다.The treatment recovery pipe part 34 and the treatment discharge pipe part 35 are formed on the other side of the treatment case part 31. The treatment recovery pipe part 34 is disposed below the treatment separation membrane part 33 to recover concentrated water that has not passed through the treatment separation membrane part 33. In addition, the treatment discharge pipe part 35 is disposed above the treatment separation membrane part 33 and discharges the treated water that has passed through the treatment separation membrane part 33.

본 발명의 일 실시예에 따른 세정부(40)는 제1전극부(41)와, 제2전극부(42)와, 전원공급부(43)를 포함한다.The cleaning unit 40 according to an embodiment of the present invention includes a first electrode part 41, a second electrode part 42, and a power supply part 43.

제1전극부(41)는 처리케이스부(31)의 내측 하부에 배치된다. 일 예로, 제1전극부(41)는 처리케이스부(31)의 하부면에 장착될 수 있다. The first electrode part 41 is disposed below the inner side of the processing case part 31. For example, the first electrode part 41 may be mounted on the lower surface of the processing case part 31.

제2전극부(42)는 처리케이스부(31)의 내측 상부에 배치된다. 이러한 제2전극부(42)는 처리분리막부(33)와 결합된다. 일 예로, 제2전극부(42)는 처리케이스부(31)의 상부면에 장착되고, 저면에는 처리분리막부(33)가 결합될 수 있다. The second electrode part 42 is disposed on the inner side of the processing case part 31. This second electrode part 42 is coupled to the process separation film part 33. For example, the second electrode part 42 may be mounted on the upper surface of the processing case part 31, and the treatment separation membrane part 33 may be coupled to the bottom surface.

제2전극부(42)는 처리분리막부(33)를 통과한 처리수가 이동 가능하도록 메쉬 형상을 한다. 일 예로, 제2전극부(42)는 처리수가 이동 가능하도록 상당한 두께가 형성될 수 있으며, 단수로 배치되거나 복수개가 적층될 수 있다.The second electrode part 42 has a mesh shape so that the treated water that has passed through the treatment separation membrane part 33 is movable. For example, the second electrode unit 42 may be formed to have a considerable thickness so that the treated water is movable, and may be disposed in a single number or may be stacked in plural.

전원공급부(43)는 제1전극부(41)와 제2전극부(42)에 연결되어 전원을 인가한다. 일 예로, 전원공급부(43)는 처리케이스부(31)의 외측에 장착되거나 처리케이스부(31)와 이격되어 배치될 수 있다. 전원공급부(43)는 처리케이스부(31)를 관통하여 제1전극부(41) 및 제2전극부(42)와 연결되어 제1전극부(41)와 제2전극부(42)에 전원을 인가할 수 있다. The power supply unit 43 is connected to the first electrode unit 41 and the second electrode unit 42 to apply power. As an example, the power supply unit 43 may be mounted outside the processing case unit 31 or disposed to be spaced apart from the processing case unit 31. The power supply unit 43 passes through the processing case unit 31 and is connected to the first electrode unit 41 and the second electrode unit 42 to provide power to the first electrode unit 41 and the second electrode unit 42. Can be authorized.

전원공급부(43)가 전원을 인가하면, 처리케이스부(31) 내부에 저장된 유체에서 전하가 이동되어 유전체 기능을 하는 처리분리막부(33)의 표면에 집중될 수 있다. 그리고, 이러한 전하를 통해 플라즈마가 발생하여 처리분리막부(33)에 부착된 이물질을 제거할 수 있다.When the power supply unit 43 applies power, electric charges are transferred from the fluid stored in the processing case unit 31 to be concentrated on the surface of the process separation film unit 33 functioning as a dielectric. In addition, plasma is generated through such electric charges, so that foreign matter adhering to the processing separation layer 33 may be removed.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기포발생부를 개략적으로 나타내는 도면이다. 도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 수처리용 역세정 장치(1)는 기포발생부(50)를 더 포함할 수 있다.4 is a view schematically showing a bubble generator according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 4, the backwashing apparatus 1 for water treatment according to an embodiment of the present invention may further include a bubble generating unit 50.

기포발생부(50)는 처리부(30)에 기포를 제공한다. 일 예로, 기포발생부(50)는 기체가 저장되는 기포저장부(51)와, 기포저장부(51)와 처리부(30)를 연결하는 기포공급부(52)와, 기포공급부(52)에 형성되어 기체 공급량을 조절하는 기포조절부(53)를 포함할 수 있다. 기포공급부(52)는 처리케이스부(31)와 직접 연결되거나, 펌프배관부(21)와 연결될 수 있다. 이러한 기포발생부(50)를 통해 처리부(30)에 공급된 기포는 전하 이동을 촉진시킬 수 있다. The bubble generating unit 50 provides bubbles to the processing unit 30. For example, the bubble generator 50 is formed in the bubble storage part 51 in which gas is stored, the bubble supply part 52 connecting the bubble storage part 51 and the processing part 30, and the bubble supply part 52 It may include a bubble control unit 53 for controlling the amount of gas supplied. The bubble supply unit 52 may be directly connected to the treatment case unit 31 or may be connected to the pump piping unit 21. Bubbles supplied to the processing unit 30 through the bubble generation unit 50 may promote charge transfer.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 감지부를 개략적으로 나타내는 도면이다. 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 수처리용 역세정 장치(1)는 감지부(60)와 제어부(70)를 더 포함할 수 있다.5 is a diagram schematically illustrating a sensing unit according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 5, the water treatment backwashing apparatus 1 according to an embodiment of the present invention may further include a sensing unit 60 and a control unit 70.

감지부(60)는 처리부(30)에서 처리되는 처리수의 유량을 측정한다. 일 예로, 감지부(60)는 처리배출관부(35)에 형성되어 처리분리막부(33)를 통과한 처리수의 유량 또는 유압을 측정할 수 있다.The sensing unit 60 measures the flow rate of the treated water processed by the processing unit 30. For example, the sensing unit 60 may measure the flow rate or hydraulic pressure of the treated water formed in the treatment discharge pipe part 35 and passed through the treatment separation membrane part 33.

제어부(70)는 감지부(60)의 감지신호를 수신하여 세정부(40)를 작동시킨다. 일 예로, 감지부(60)가 측정한 처리수의 유량 또는 유압이 설정값 보다 크면, 제어부(70)는 처리분리막부(33)에 이물질이 부착된 것으로 판단하여 세정부(40)를 작동시킨다. 이때, 제어부(70)는 설정시간 동안 세정부(40)를 작동시키며, 세정부(40) 작동시 기포발생부(50)도 작동시킬 수 있다.The control unit 70 operates the cleaning unit 40 by receiving a detection signal from the detection unit 60. For example, if the flow rate or hydraulic pressure of the treated water measured by the sensing unit 60 is greater than the set value, the control unit 70 determines that a foreign substance is attached to the treatment separation membrane unit 33 and operates the cleaning unit 40 . At this time, the control unit 70 operates the cleaning unit 40 for a set time, and when the cleaning unit 40 is operated, the bubble generating unit 50 may also be operated.

상기와 같은 구조를 갖는 본 발명의 일 실시예에 따른 수처리용 역세정 장치의 작동을 설명하면 다음과 같다.The operation of the backwashing device for water treatment according to an embodiment of the present invention having the above structure will be described as follows.

펌프부(20)가 구동되면, 저장부(10)에 저장된 유입수가 처리부(30)로 이동되고, 처리부(30)에 내장된 처리분리막부(33)를 통과한 처리수는 처리배출관부(35)를 통해 배출되며, 처리분리막부(33)를 통과하지 못한 농축수는 처리회수관부(34)를 통해 배출된다.When the pump unit 20 is driven, the influent water stored in the storage unit 10 is moved to the treatment unit 30, and the treated water that has passed through the treatment separation membrane unit 33 built in the treatment unit 30 is treated discharge pipe unit 35 ), and the concentrated water that has not passed through the treatment separation membrane part 33 is discharged through the treatment recovery pipe part 34.

한편, 감지부(60)는 처리배출관부(35)에 형성되어 처리분리막부(33)를 통과한 처리수의 유량 또는 유압을 측정하는데, 감지부(60)가 측정한 처리수의 유량 또는 유압이 설정값 보다 크면, 제어부(70)는 세정부(40)를 설정시간 동안 작동시킨다. On the other hand, the sensing unit 60 measures the flow rate or hydraulic pressure of the treated water formed in the treatment discharge pipe unit 35 and passed through the treatment separation membrane unit 33, and the flow rate or hydraulic pressure of the treated water measured by the sensing unit 60 If it is greater than this set value, the control unit 70 operates the cleaning unit 40 for a set time.

세정부(40)의 작동으로 전원공급부(43)가 제1전극부(41)와 제2전극부(42)에 전원을 인가하면, 전하가 이동되어 유전체 기능을 하는 처리분리막부(33)의 표면에 집중되고 플라즈마가 발생하여 처리분리막부(33)에 부착된 이물질을 제거한다.When the power supply unit 43 applies power to the first electrode unit 41 and the second electrode unit 42 due to the operation of the cleaning unit 40, charges are transferred and the process separation membrane unit 33 functioning as a dielectric It is concentrated on the surface and plasma is generated to remove foreign substances adhering to the treatment separation membrane part 33.

이때, 제어부(70)는 세정부(40) 외에 기포발생부(50)도 작동시킨다. 이러한 기포발생부(50)가 작동되면, 처리부(30)에서 발생된 기포가 처리분리막부(33) 표면으로 전하가 이동되도록 촉진시킬 수 있다.At this time, the control unit 70 operates the bubble generating unit 50 in addition to the cleaning unit 40. When the bubble generating unit 50 is operated, the bubbles generated in the processing unit 30 may promote charge transfer to the surface of the processing separation membrane unit 33.

본 발명의 일 실시예에 따른 수처리용 역세정 장치(1)는 삼투 현상을 이용하여 수처리가 이루어지고, 처리분리막부(33)에 부착된 이물질은 플라즈마 방식으로 제거할 수 있다. In the backwashing apparatus 1 for water treatment according to an embodiment of the present invention, water treatment is performed by using an osmosis phenomenon, and foreign matter adhering to the treatment separation membrane part 33 may be removed by a plasma method.

본 발명의 일 실시예에 따른 수처리용 역세정 장치(1)는 기포발생부(50)에 의해 생성된 기포가 전하 이동을 촉진시켜 플라즈마가 신속하게 발생할 수 있다.In the backwashing apparatus 1 for water treatment according to an embodiment of the present invention, the bubbles generated by the bubble generator 50 promote charge transfer, so that plasma may be rapidly generated.

본 발명의 일 실시예에 따른 수처리용 역세정 장치(1)는 처리부(30)에서 처리되는 처리수의 유량에 따라 처리분리막부(33)에 부착된 이물질 제거를 위해 세정부(40)가 자동으로 작동될 수 있다.In the backwashing device 1 for water treatment according to an embodiment of the present invention, the washing unit 40 automatically removes foreign substances attached to the treatment separation membrane unit 33 according to the flow rate of the treated water treated by the treatment unit 30. Can be operated with.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 하여 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 아래의 특허청구범위에 의해서 정하여져야 할 것이다.The present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, but these are only exemplary, and those of ordinary skill in the field to which the present technology belongs, various modifications and equivalent other embodiments are possible. I will understand. Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the following claims.

10 : 저장부 20 : 펌프부
30 : 처리부 31 : 처리케이스부
32 : 처리유입관부 33 : 처리분리막부
34 : 처리회수관부 35 : 처리배출관부
40 : 세정부 41 : 제1전극부
42 : 제2전극부 43 : 전원공급부
50 : 기포발생부 60 : 감지부
70 : 제어부10: storage unit 20: pump unit
30: processing unit 31: processing case unit
32: treatment inlet pipe part 33: treatment separation membrane part
34: treatment recovery pipe part 35: treatment discharge pipe part
40: cleaning unit 41: first electrode unit
42: second electrode unit 43: power supply unit
50: bubble generation unit 60: detection unit
70: control unit

Claims (7)

유입수가 저장되는 저장부;
상기 저장부에 저장된 유입수를 강제 이송시키는 펌프부;
상기 펌프부에서 공급되는 유입수를 필터링하는 처리부; 및
상기 처리부에 플라즈마를 발생시켜 이물질을 제거하는 세정부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 수처리용 역세정 장치.
A storage unit for storing influent water;
A pump unit for forcibly transferring the influent stored in the storage unit;
A processing unit filtering the influent water supplied from the pump unit; And
And a cleaning unit for removing foreign substances by generating plasma in the treatment unit.
제 1항에 있어서, 상기 처리부는
처리케이스부;
상기 처리케이스부의 일측에 형성되고, 상기 펌프부와 연결되는 처리유입관부;
상기 처리케이스부에 내장되어 상기 처리케이스부의 내부를 구획하고, 유입수를 처리하는 처리분리막부;
상기 처리케이스부의 타측에 형성되고, 상기 처리분리막부의 하방에 배치되어 상기 처리분리막부를 통과하지 못한 농축수를 회수하는 처리회수관부; 및
상기 처리케이스부의 타측에 형성되고, 상기 처리분리막부의 상방에 배치되어 상기 처리분리막부를 통과한 처리수를 배출하는 처리배출관부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 수처리용 역세정 장치.
The method of claim 1, wherein the processing unit
Processing case portion;
A treatment inlet pipe part formed on one side of the treatment case part and connected to the pump part;
A processing separation membrane unit built in the processing case unit to partition the interior of the processing case unit and to treat influent water;
A treatment recovery pipe part formed on the other side of the treatment case part and disposed below the treatment separation film part to recover concentrated water that has not passed through the treatment separation film part; And
And a treatment discharge pipe part formed on the other side of the treatment case part and disposed above the treatment separation film part to discharge the treated water that has passed through the treatment separation film part.
제 2항에 있어서,
상기 처리분리막부는 세라믹재질을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 수처리용 역세정 장치.
According to claim 2,
The water treatment backwashing device, characterized in that the treatment separation membrane comprises a ceramic material.
제 3항에 있어서, 상기 세정부는
상기 처리케이스부의 내측 하부에 배치되는 제1전극부;
상기 처리케이스부의 내측 상부에 배치되고, 상기 처리분리막부와 결합되는 제2전극부; 및
상기 제1전극부와 상기 제2전극부에 연결되어 전원을 인가하는 전원공급부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 수처리용 역세정 장치.
The method of claim 3, wherein the cleaning unit
A first electrode portion disposed below the processing case portion;
A second electrode portion disposed on the inner upper portion of the processing case portion and coupled to the processing separation membrane portion; And
And a power supply unit connected to the first electrode unit and the second electrode unit to apply power.
제 4항에 있어서,
상기 제2전극부는 상기 처리분리막부를 통과한 처리수가 이동 가능하도록 메쉬 형상인 것을 특징으로 하는 수처리용 역세정 장치.
The method of claim 4,
The second electrode part is a backwashing device for water treatment, characterized in that the mesh shape so that the treated water passing through the treatment separation membrane part is movable.
제 1항에 있어서,
상기 처리부에 기포를 제공하는 기포발생부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수처리용 역세정 장치.
According to claim 1,
A bubble generator for providing bubbles to the treatment unit;
제 1항에 있어서,
상기 처리부에서 처리되는 처리수의 유량을 측정하는 감지부; 및
상기 감지부의 감지신호를 수신하여 상기 세정부를 작동시키는 제어부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수처리용 역세정 장치.According to claim 1,
A sensing unit for measuring the flow rate of the treated water processed by the processing unit; And
And a control unit for receiving a detection signal from the sensing unit and operating the cleaning unit.
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