JP2009226269A - Filter treatment apparatus - Google Patents
Filter treatment apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009226269A JP2009226269A JP2008072475A JP2008072475A JP2009226269A JP 2009226269 A JP2009226269 A JP 2009226269A JP 2008072475 A JP2008072475 A JP 2008072475A JP 2008072475 A JP2008072475 A JP 2008072475A JP 2009226269 A JP2009226269 A JP 2009226269A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- filter
- plasma
- processing apparatus
- filter processing
- sterilization
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
Description
本発明は通流する流体を濾過するフィルタを洗浄又は滅菌するフィルタ処理装置に関し、特にフィルタをプラズマにより洗浄又は滅菌するフィルタ処理装置に関するものである。 The present invention relates to a filter processing apparatus for cleaning or sterilizing a filter for filtering a flowing fluid, and more particularly to a filter processing apparatus for cleaning or sterilizing a filter with plasma.
現在、空気調和機、プラズマ滅菌装置には、空気を濾過するフィルタ、また各種液体を供給する装置にはフィルタが設けられ、このフィルタについて洗浄、滅菌等の処理を実行するフィルタ処理装置がある。 Currently, air conditioners and plasma sterilization apparatuses are provided with filters for filtering air, and apparatuses for supplying various liquids are provided with filters, and there are filter processing apparatuses for performing processing such as cleaning and sterilization on the filters.
背景技術として特許文献1に記載のフィルタ処理装置は、空気調和機内に装着される中高性能フィルタを分離させ、この中高性能フィルタに高圧スプレーで薬液を吹付けて洗浄を行う。
As a background art, the filter processing apparatus described in
また、他の背景技術として特許文献2に記載のフィルタ処理装置は、空気調和機の室内機に配設されるフィルタを帯状に形成し、この帯状の一端に芯を設けてこの芯にフィルタの汚れた面を巻付け、他端を別のフィルタ芯に巻取り可能に接続する構成である。
前記各背景技術に係るフィルタ処理装置は、いずれも空気調和機に装着されたフィルタを取り外し、又は移動させてフィルタの清浄処理を実行していることから、取り外し等の手間がかかり衛生上好ましくなく、特に病院等の滅菌装置に配設されるフィルタにおいては病原菌等の飛散により極めて危険になるという課題を有する。 Since the filter processing apparatus according to each of the above background arts removes or moves the filter attached to the air conditioner and executes the filter cleaning process, it is troublesome to remove and is not preferable in terms of hygiene. Particularly, a filter disposed in a sterilization apparatus such as a hospital has a problem that it becomes extremely dangerous due to scattering of pathogenic bacteria.
このように、前記空気調和機、滅菌装置の他にプラズマ滅菌装置もしくは空気清浄機に装着されるフィルタはダストやウィルス等を吸着した結果、吸入効率が低下するため、定期的なフィルタの清掃又は交換が必要である。しかしながら、頻繁なフィルタ交換が困難な場合、例えば(1)大量のダストやウィルスを吸引する場合、(2)僻地で使用する場合、(3)危険性の高いウィルスや菌を吸入する場合においては、滅菌器もしくは空気清浄器の内部でフィルタを洗浄・滅菌することが必要となるという課題を有する。 As described above, since the filter attached to the plasma sterilizer or the air purifier in addition to the air conditioner and the sterilizer adsorbs dust, viruses, etc., the suction efficiency is lowered. Replacement is necessary. However, when frequent filter replacement is difficult, for example (1) when a large amount of dust or virus is aspirated, (2) when used in remote areas, (3) when inhaling highly dangerous viruses or bacteria There is a problem that it is necessary to clean and sterilize the filter inside the sterilizer or the air purifier.
現在、フィルタを滅菌する方法としては、高圧蒸気滅菌法とエチレンオキサイドガス滅菌法がある。前者は高圧、高温、高湿度環境下での処理のため、耐熱性、耐漏性のない器具に使用できず、金属であっても素材表面を摩耗するおそれがある。後者はガスの強い毒性と発ガン性が懸念されてほとんど使用されていないという課題を有する。 Currently, there are a high-pressure steam sterilization method and an ethylene oxide gas sterilization method as methods for sterilizing a filter. Since the former is a treatment under a high pressure, high temperature, and high humidity environment, it cannot be used for an instrument having no heat resistance and leakage resistance, and even the metal may be worn on the surface of the material. The latter has a problem that it is hardly used because of concern about strong toxicity and carcinogenicity of gas.
本発明に係るフィルタ処理装置は、通流する流体を濾過するフィルタに対して洗浄及び/又は滅菌するフィルタ処理装置において、前記フィルタに隣接して配設され、プラズマを発生するプラズマ発生処理手段を備え、前記プラズマによりフィルタを洗浄及び/又は滅菌するものである。 The filter processing apparatus according to the present invention is a filter processing apparatus that cleans and / or sterilizes a filter that filters a flowing fluid, and includes a plasma generation processing unit that is disposed adjacent to the filter and generates plasma. And the filter is cleaned and / or sterilized by the plasma.
このように本発明においては、通流する流体を濾過するフィルタに隣接してプラズマ発生手段を配設し、このプラズマ発生手段で発生したプラズマでフィルタを洗浄及び/又は滅菌するようにしているので、空気調和機、滅菌装置等の本体装置からフィルタを取外すことなく機器内部設置した状態でフィルタ自体を確実に洗浄及び/又は滅菌できる。 As described above, in the present invention, the plasma generating means is disposed adjacent to the filter for filtering the flowing fluid, and the filter is cleaned and / or sterilized by the plasma generated by the plasma generating means. In addition, the filter itself can be reliably washed and / or sterilized in a state where it is installed inside the apparatus without removing the filter from the main unit such as an air conditioner or a sterilizer.
本発明に係るフィルタ処理装置は必要に応じて、プラズマ発生手段が、フィルタに対して通流する流体の上流側に配設されるものである。
このように本発明においては、フィルタに対して通流する流体の上流側にプラズマ発生手段を配設するようにしたので、汚染された流体又は汚濁した流体による再汚染及び再汚濁を未然に防止できることとなり、フィルタの上流側から下流側まで全体を洗浄及び滅菌できる。
In the filter processing apparatus according to the present invention, the plasma generating means is disposed on the upstream side of the fluid flowing through the filter as necessary.
As described above, in the present invention, since the plasma generating means is arranged on the upstream side of the fluid flowing through the filter, recontamination and recontamination due to the contaminated fluid or the contaminated fluid are prevented in advance. As a result, the entire filter can be cleaned and sterilized from the upstream side to the downstream side.
本発明に係るフィルタ処理装置は必要に応じて、プラズマ発生手段が、誘導結合プラズマを発生させるものである。 In the filter processing apparatus according to the present invention, the plasma generating means generates inductively coupled plasma as necessary.
このように本発明においては、誘導結合プラズマをプラズマ発生手段により発せさせてフィルタ洗浄及び滅菌を行うことから、簡易な装置構成でプラズマを発生させることができ、このプラズマでフィルタを洗浄及び滅菌できると共に、プラズマにより発生したOH+ラジカル又はO*ラジカルによりフィルタ内部を洗浄及び滅菌できることとなる。 As described above, in the present invention, the inductively coupled plasma is generated by the plasma generating means to perform the filter cleaning and sterilization. Therefore, the plasma can be generated with a simple apparatus configuration, and the filter can be cleaned and sterilized with this plasma. At the same time, the inside of the filter can be cleaned and sterilized by OH + radicals or O * radicals generated by the plasma.
本発明に係るフィルタ処理装置は必要に応じて、プラズマ発生手段が、フィルタに対して通流する流体の上流側に一の電極を配設すると共に、下流側に他の電極を配設して形成され、当該各電極間で容量結合プラズマを発生させるものである。 In the filter processing apparatus according to the present invention, if necessary, the plasma generating means has one electrode arranged upstream of the fluid flowing through the filter and another electrode arranged downstream. It is formed, and capacitively coupled plasma is generated between the electrodes.
このように本発明においては、フィルタに対して通流する流体の上流側に一の電極を配設すると共に、下流側に他の電極を配設してプラズマ発生手段が形成され、この各電極間で容量結合プラズマを発生させることから、上流側に配設された一の電極で発生したプラズマを下流側に配設された他の電極に誘引してフィルタ内を貫通させることできることとなり、プラズマの強力なエッチング作用及び物性変質作用によりフィルタの内部まで確実に洗浄及び滅菌できることとなる。 As described above, in the present invention, one electrode is disposed on the upstream side of the fluid flowing to the filter, and another electrode is disposed on the downstream side to form a plasma generating means. Since the capacitively coupled plasma is generated between the two, the plasma generated by one electrode disposed on the upstream side can be attracted to the other electrode disposed on the downstream side to penetrate the filter. By virtue of the strong etching action and physical property alteration action, the inside of the filter can be reliably cleaned and sterilized.
本発明に係るフィルタ処理装置は必要に応じて、フィルタに対して通流する流体の下流側を上流側よりも低気圧状態とするものである。
このように本発明においては、フィルタに対して通流する流体の下流側を上流側よりも低気圧状態とすることにより、プラズマ及びラジカルをフィルタ内に誘引できることとなり、より一層確実にフィルタの洗浄及び滅菌が可能となる。
The filter processing apparatus which concerns on this invention makes the downstream of the fluid which flows with respect to a filter into a low-pressure state rather than an upstream as needed.
Thus, in the present invention, by setting the downstream side of the fluid flowing through the filter to a lower atmospheric pressure state than the upstream side, plasma and radicals can be attracted into the filter, and the filter can be more reliably cleaned. And sterilization becomes possible.
本発明に係るフィルタ処理装置は必要に応じて、フィルタ及びプラズマ発生手段を収納容器に収納し、当該収納容器内を負圧状態とするものである。
このように本発明においては、前記フィルタ及びプラズマ発生手段を収納容器に収納し、当該収納容器内を負圧状態とすることによりプラズマ発生手段が生成したプラズマを負圧環境下で長時間維持してフィルタ内に誘引できることから、さらに強力にフィルタを洗浄及び滅菌できることとなる。
The filter processing apparatus according to the present invention stores the filter and the plasma generating means in a storage container as necessary, and places the inside of the storage container in a negative pressure state.
Thus, in the present invention, the filter and the plasma generation means are stored in a storage container, and the plasma generated by the plasma generation means is maintained for a long time in a negative pressure environment by placing the inside of the storage container in a negative pressure state. Therefore, the filter can be more strongly cleaned and sterilized.
(本発明の第1の実施形態)
以下、本発明に係る第1の実施形態に係るプラズマ滅菌装置に装着されたフィルタ処理装置を図1に基づいて説明する。この図1は、本実施形態に係るフィルタ処理装置の全体構成図を示す。
(First embodiment of the present invention)
Hereinafter, a filter processing apparatus mounted on a plasma sterilization apparatus according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is an overall configuration diagram of a filter processing apparatus according to the present embodiment.
同図において本実施形態に係るフィルタ処理装置1は、プラズマ滅菌装置100の排気管105に接続される密閉容器で形成されるチャンバー10と、このチャンバー10内に収納され、前記プラズマ滅菌装置100から排出される排気を濾過して浄化する菌補集用フィルタ14と、この菌補集用フィルタ14のプラズマ滅菌装置100側上面に対向配設される電極12と、この電極12に高周波電圧を印加する高周波電源13と、前記チャンバー10の排気管16に接続され、チャンバー10内の気体を吸引するロータリーポンプ18とを備える構成である。
In the figure, the
前記チャンバー10は、ガラス等の絶縁材で形成され、前記プラズマ滅菌装置100から供給される酸素O2の流入側(上流側)に配設される絶縁収納部10aと、この絶縁収納部10aと密閉状態に一体に導電材で形成されて、この導電材を接地して構成され、前記供給される酸素O2の流出側(下流側)に配設される導電収納部10bとで構成される。この導電収納部10bは、前記電極12の対向電極として作用し、電極12との間で誘導結合(ICP;Inductively Coupled Plasma)プラズマを発生させて、この誘導結合プラズマ及びこのプラズマより発生するO+ラジカルを菌補集用フィルタ14内に貫通通流させる構成である。
The
前記高周波電源13は、例えば13.56MHzの高周波電流を電極12に供給する。この電極12は、前記菌補集用フィルタ14が絶縁材で形成されている場合に、この菌補集用フィルタ14の上面に密着させた状態で配設され、前記菌補集用フィルタ14で濾過する気体の通流を妨げないようにメッシュ状、渦巻状等の形状とすることが望ましい。このように電極12を菌補集用フィルタ14に密着配設することにより、電極12で発生したプラズマを菌補集用フィルタ14内に極力直接に注入できることとなる。
The high
前記ロータリーポンプ18は、排気管105に設けられる注入調整バルブ15と、排気管16に設けられる排出調整バルブ17との閉塞状態を制御し、前記ロータリーポンプ18の排気量により負圧状態が調整される。前記注入調整バルブ15及び排出調整バルブ17を全閉にしてロータリーポンプ18により排気するとロータリーポンプ18内は極めて高い真空状態に近く制御できることができる。また、排出調整バルブ17を全閉にし、注入調整バルブ15の開度を、排気バルブ19aの開度より小さくしてロータリーポンプ18を駆動させるとロータリーポンプ18内は弱い低圧状態に制御できることとなる。このようにロータリーポンプ18内の気圧を調整することにより高周波電源13から印加される高周波電圧により電極12で発生するプラズマの存続時間を制御できることとなる。
The
また、前記プラズマ滅菌装置100は、滅菌対象物200を収納し、密閉容器で形成される滅菌チャンバー101と、この滅菌チャンバー101内に配設される電極102と、この電極102に高周波電圧を印加する高周波電源103と、前記滅菌チャンバー101内に酸素O2を供給する酸素ボンベ104とを備える構成である。この滅菌チャンバー101内の気圧は、前記排気管105、チャンバー10、排気管16及び排気管19を介してロータリーポンプ18の排出により調整される。
The
次に、前記構成に基づく本実施形態に係るフィルタ処理装置の動作について説明する。まず、プラズマ滅菌装置100により滅菌対象物200の滅菌処理を実行する際に、この処理当初に酸素ボンベ104から酸素O2が供給され、滅菌対象物200に付着等した細菌等がこの酸素O2の流入と共に排気管105を介して排出され、この排出された細菌等が菌補集用フィルタ14に濾過されて捕捉される。
Next, the operation of the filter processing apparatus according to this embodiment based on the above configuration will be described. First, when the sterilization process of the
この菌補集用フィルタ14に細菌等が捕捉された状態で、高周波電源13から供給される高周波電流により電極12で誘導結合プラズマが発生し、この誘導結合プラズマにより前記細菌等を滅菌し、菌補集用フィルタ14を洗浄できる。
In a state where bacteria and the like are captured by the
前記滅菌対象物200及び菌補集用フィルタ14を滅菌、洗浄する際に、プラズマ滅菌装置100の滅菌チャンバー101及びフィルタ処理装置1のチャンバー10は、共にロータリーポンプ18により負圧状態に維持されるように注入調整バルブ15、排出調整バルブ17及び排気バルブ19aの開度が調整される。
When sterilizing and cleaning the
(本発明の第2の実施形態)
以下、本発明に係る第2の実施形態に係るフィルタ処理装置を図2に基づいて説明する。この図2は、本実施形態に係るフィルタ処理装置の要部概略構成図を示す。
同図において本実施形態に係るフィルタ処理装置1は、前記第1の実施形態と同様にチャンバー11(図1の10に相当)、電極12a、12b(図1の12に相当)、交流高電圧電源13a(図1の13に相当)、菌補集用フィルタ14及びロータリーポンプ18を共通して備え、この電極12a、12bとチャンバー11との構成を異にする。
(Second embodiment of the present invention)
Hereinafter, a filter processing apparatus according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a main part of the filter processing apparatus according to the present embodiment.
In the figure, the
この電極12a、12bは、菌補集用フィルタ14の上・下面に各々所定間隔だけ離隔して対向配設され、高周波電源13から高周波電圧が印加されると容量供給プラズマ(CCP; capacitively coupled plasma)を発生させる構成である。
The
前記交流高電圧電源13aは、電極12a、12bとの間に、例えば10kHzの交流高電圧を印加していることから、チャンバー11内に大気圧を維持した状態で容量結合プラズマを発生させることができる。この容量結合プラズマは、電極12a、12b間で発生させることができるため、菌補集用フィルタ14内部で生成されることとなり、菌補集用フィルタ14内部全領域全て滅菌を行うこととなる。
Since the AC high
このように本実施形態の場合には、大気圧で電極12a、12b間でプラズマを発生できることから、ロータリーポンプ18はチャンバー11内を低気圧に吸引する必要がなくなり、単に酸素O2を電極12a、12b間に供給するのに必要な気流の流れを形成する程度のポンプ駆動で足りることとなる。
また、チャンバー11は、全て絶縁材で形成できると共に、電極12a、12bとの絶縁状態が保持されている限り金属との導体で形成することができる。
As described above, in the present embodiment, since the plasma can be generated between the
The
なお、本実施形態においては、電極12a、12bと菌補集用フィルタ14との間を所定間隔だけ離隔して構成したが、菌補集用フィルタ14を紙、ガラス繊維、セラミック等の絶縁材で形成した場合には、菌補集用フィルタ14の外側面に電極12a、12bを接触させた状態で配設することもできる。この接触配設される電極12a、12bは、メッシュ状、渦巻状等の通気性を有する形状とし、菌補集用フィルタ14への気流の送通を阻害しないように構成されることが望ましい。
In this embodiment, the
(本発明の第3の実施形態)
以下、本発明の第3の実施形態に係るフィルタ処理装置を図3に基づいて説明する。この図3は、本実施形態に係るフィルタ処理装置の要部概略構成図を示す。
同図において本実施形態に係るフィルタ処理装置1は、絶縁材からなる排気管11a(図1の16に相当)の内部に菌補集用フィルタ14を収納し、この排気管11aの外周にアンテナを形成する電極12cを巻回して配設し、この巻回した電極12cの端部に高周波電源13を接続すると共に、電極12cの他端部を接地する構成である。
(Third embodiment of the present invention)
Hereinafter, a filter processing apparatus according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. This FIG. 3 shows the principal part schematic block diagram of the filter processing apparatus which concerns on this embodiment.
In the drawing, the
このように電極12cを酸素O2等の濾過流体が通流し、菌補集用フィルタ14が収納される排気管11aの外部に配設できることから、濾過流体に電極12cを接触させることなく、プラズマを発生させて、排気管11a内の菌補集用フィルタ14を滅菌及び洗浄できることとなる。
(本発明の他の実施形態)
以下、本発明の他の実施形態に係るフィルタ処理装置を図4(A)(B)に基づいて説明する。この図4(A)(B)は、本実施形態に係るフィルタ処理装置の要部概略構成図である。
Thus, the filtered fluid such as oxygen O 2 flows through the
(Other embodiments of the present invention)
Hereinafter, a filter processing apparatus according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIGS. 4A and 4B are schematic configuration diagrams of the main part of the filter processing apparatus according to the present embodiment.
同図(A)において本実施形態に係るフィルタ処理装置1は、絶縁材からなる排気管11aの内部に菌補集用フィルタ14を収納すると共に、この菌補集用フィルタ14は酸素O2供給の上流側に螺旋状に巻回された導電性線状体からなる内部アンテナ12dを収納し、排気管11aの外部に設けられたマイクロ波発振器13aからアンテナ12dに向かってマイクロ波を照射する構成である。
In FIG. 1A, the
このマイクロ波発振器13aは、例えば、周波数2.45GHzのマイクロ波を発信し、アンテナ12dからマイクロ波プラズマを発生させる。このマイクロ波プラズマ発生には、排気管11a内を低気圧状態にし、この低気圧状態でアンテナ12dにマイクロ波を照射して菌補集用フィルタ14の滅菌又は洗浄を実行する。
For example, the
同図(B)において、他の実施形態に係るフィルタ処理装置は、絶縁材からなる排気管11aの内部に菌補集用フィルタ14を収納すると共に、この菌補集用フィルタ14酸素O2供給の上流側に螺旋状の導電性線状体からなる内部アンテナ12eを排気管11aの外部に巻回し、排気管11aの外部に設けられたマイクロ波発振器13aからアンテナ12dに向けてマイクロ波を照射する構成である。
In FIG. 5B, a filter processing apparatus according to another embodiment houses a
このように本実施形態に係るフィルタ処理装置は、前記第3の実施形態と同様に排気管11a内を通流する濾過流体に内部アンテナ12eを接触させることなく排気管11a内の菌補集用フィルタ14を滅菌及び洗浄できる。
Thus, the filter processing apparatus according to the present embodiment is for collecting bacteria in the
図1に記載の実施形態に係るプラズマ滅菌処理装置を用いて菌補集用フィルタ14として用いられる多孔質素材の滅菌について実験を行い以下に説明する。
Experiments on sterilization of a porous material used as the
(実験方法)
本実施例の実験方法は、菌補集用フィルタ14として多孔質素材を使用した滅菌実験を行うため、真空ポンプのロータリーポンプ18で低圧に保持したチャンバー10(4インチ×600mm)に高周波電源13から高周波電力(13.56MHz)を投入し、プラズマを発生させる。投入電力は、30〜50W、チャンバー10内の圧力20Paに設定し、プラズマ発生後、1時間単位で滅菌処理を行った。酸素ラジカルの生成は、分光分析やケミカルインジケータを使用して確認した。
(experimental method)
In the experiment method of this example, in order to conduct a sterilization experiment using a porous material as the
滅菌対象には大腸菌(E.coli)を使用した。大腸菌を拡散させた純水に多孔質素材を投入し、深部まで菌を浸透させるため超音波処理を施した。菌を付着させた多孔質素材は十分に乾燥させた後、滅菌パウチに入れプラズマを照射した。実験後は、純水に多孔質素材を入れ、深部の菌を取出すため再び超音波処理をおこなった。 E. coli was used as the sterilization target. A porous material was put into pure water in which Escherichia coli was diffused, and sonication was performed to infiltrate the bacteria to the deep part. The porous material to which the bacteria were attached was sufficiently dried and then placed in a sterilized pouch and irradiated with plasma. After the experiment, a porous material was put into pure water, and sonication was performed again to take out the bacteria in the deep part.
本実施例の滅菌評価方法は、滅菌評価として菌培地シートを使用した。上記操作後の液体を1.0mlシートに滴下し35℃で24〜48時間にわたり培養した。滅菌の可否は、培地シート表面に現れるコロニーの数を比較し評価した。 In the sterilization evaluation method of this example, a microbial medium sheet was used for sterilization evaluation. The liquid after the above operation was dropped on a 1.0 ml sheet and cultured at 35 ° C. for 24 to 48 hours. Whether or not sterilization was possible was evaluated by comparing the number of colonies appearing on the surface of the medium sheet.
本実施例の実験及び考察として、大腸菌を浸透させた多孔質素材の滅菌試験の結果を図5に示す。この図5は多孔質素材上におけるコロニー数の処理時間に対する推移特性図を示す。同図において、滅菌時間を長くすることで多孔質素材に付着した菌数の減少を確認した。 As an experiment and discussion of this example, the results of a sterilization test of a porous material infiltrated with Escherichia coli are shown in FIG. FIG. 5 shows a transition characteristic diagram of the number of colonies on the porous material with respect to the processing time. In the figure, a decrease in the number of bacteria attached to the porous material was confirmed by increasing the sterilization time.
しかし、3〜5時間滅菌を行っても培地シート上の菌が消滅することはなかった。1〜5時間の滅菌操作では多孔質体の比較的表面の細菌は処理できたが、深部まで滅菌されていなかったことが原因として考えられる。 However, even if sterilization was performed for 3 to 5 hours, the bacteria on the medium sheet did not disappear. The sterilization operation for 1 to 5 hours was able to treat bacteria on the relatively surface of the porous body, but it is considered that it was not sterilized to the deep part.
以上のことから、本実施例では、酸素プラズマによる低温滅菌を行い、酸素ガスを低圧化で放電することにより、高い酸化力を持つ酸素ラジカルを生成し、これを利用して滅菌を行った。処理中の温度は、最高で60℃以下であるため、耐熱性のない器具にも使用できる。また、酸素ラジカルは常圧下での寿命が約100ms程度であり、それを低圧状態で滅菌処理に利用するため、残留性がなく使用者・環境に無負荷である。
従って、低圧酸素プラズマを用いた滅菌実験において、多孔質素材に付着させた大腸菌の減少を確認した。
From the above, in this example, low temperature sterilization by oxygen plasma was performed, and oxygen gas was discharged at a low pressure to generate oxygen radicals having high oxidizing power, and sterilization was performed using this. Since the temperature during the treatment is 60 ° C. or less at the maximum, it can be used for an instrument having no heat resistance. In addition, oxygen radicals have a lifetime of about 100 ms under normal pressure, and are used for sterilization under low pressure, so there is no persistence and no load on the user / environment.
Therefore, in a sterilization experiment using low-pressure oxygen plasma, a decrease in E. coli adhering to the porous material was confirmed.
なお、前記各実施形態において用いた放電式以外にバリア放電プラズマ(大気圧)とすることもできる。また、原料ガスとして酸素O2以外に空気、水蒸気等を用いることができる。 In addition to the discharge type used in each of the above embodiments, barrier discharge plasma (atmospheric pressure) may be used. In addition to oxygen O 2 , air, water vapor, or the like can be used as the source gas.
1 フィルタ処理装置
10 チャンバー
10a 絶縁収納部
10b 導電収納部
11 チャンバー
11a 排気管
12、12a、12c 電極
12d、12e アンテナ
13 高周波電源
13a 交流高電圧電源
13a マイクロ波発振器
14 菌補集用フィルタ
15 注入調整バルブ
16、19 排気管
17 排出調整バルブ
18 ロータリーポンプ
19a 排気バルブ
100 プラズマ滅菌装置
101 滅菌チャンバー
102 電極
103 高周波電源
104 酸素ボンベ
105 排気管
200 滅菌対象物
DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記フィルタに隣接して配設され、プラズマを発生するプラズマ発生処理手段を備え、
前記プラズマによりフィルタを洗浄及び/又は滅菌することを
特徴とするフィルタ処理装置。 In a filter processing apparatus for cleaning and / or sterilizing a filter for filtering a flowing fluid,
Provided with a plasma generation processing means disposed adjacent to the filter and generating plasma;
A filter processing apparatus, wherein the filter is cleaned and / or sterilized by the plasma.
前記プラズマ発生手段が、フィルタに対して通流する流体の上流側に配設されることを
特徴とするフィルタ処理装置。 The filter processing apparatus according to claim 1,
The said plasma generation means is arrange | positioned in the upstream of the fluid which flows with respect to a filter, The filter processing apparatus characterized by the above-mentioned.
前記プラズマ発生手段が、誘導結合プラズマを発生させることを
特徴とするフィルタ処理装置。 In the filter processing apparatus according to claim 1 or 2,
The plasma processing means generates inductively coupled plasma, The filter processing apparatus characterized by the above-mentioned.
前記プラズマ発生手段が、フィルタに対して通流する流体の上流側に一の電極を配設すると共に、下流側に他の電極を配設して形成され、当該各電極間で容量結合プラズマを発生させることを
特徴とするフィルタ処理装置。 In the filter processing apparatus according to any one of claims 1 to 3,
The plasma generating means is formed by disposing one electrode on the upstream side of the fluid flowing through the filter and disposing another electrode on the downstream side, and generating capacitively coupled plasma between the electrodes. A filter processing device characterized by being generated.
前記フィルタに対して通流する流体の下流側を上流側よりも低気圧状態とすることを
特徴とするフィルタ処理装置。 In the filter processing apparatus according to any one of claims 1 to 4,
A filter processing apparatus, wherein a downstream side of a fluid flowing to the filter is in a lower pressure state than an upstream side.
前記フィルタ及びプラズマ発生手段を収納容器に収納し、当該収納容器内を負圧状態とすることを
特徴とするフィルタ処理装置。 In the filter processing apparatus according to any one of claims 1 to 4,
A filter processing apparatus, wherein the filter and the plasma generating means are stored in a storage container, and the storage container is in a negative pressure state.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008072475A JP5327422B2 (en) | 2008-03-19 | 2008-03-19 | Filter processing device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008072475A JP5327422B2 (en) | 2008-03-19 | 2008-03-19 | Filter processing device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009226269A true JP2009226269A (en) | 2009-10-08 |
JP5327422B2 JP5327422B2 (en) | 2013-10-30 |
Family
ID=41242330
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008072475A Expired - Fee Related JP5327422B2 (en) | 2008-03-19 | 2008-03-19 | Filter processing device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5327422B2 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011052880A3 (en) * | 2009-10-28 | 2011-07-14 | 전북대학교산학협력단 | Water treatment apparatus for reducing biofouling |
KR20200095846A (en) * | 2019-02-01 | 2020-08-11 | 성균관대학교산학협력단 | Backwashing device for water treatment |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0380910A (en) * | 1989-08-24 | 1991-04-05 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | Filter device |
JPH11501530A (en) * | 1994-12-29 | 1999-02-09 | グレーヴズ,クリントン・ジイ | Apparatus and method for plasma sterilization |
JPH11128657A (en) * | 1997-08-25 | 1999-05-18 | Oriental Kiden Kk | Purifying device |
JP2001280121A (en) * | 2000-03-31 | 2001-10-10 | Isuzu Motors Ltd | Continuous regeneration-type particulate filter device |
JP2001349595A (en) * | 2000-06-07 | 2001-12-21 | Matsushita Electric Works Ltd | Air cleaning apparatus |
JP2001349213A (en) * | 2000-06-07 | 2001-12-21 | Hideo Kawamura | Dpf device for reacting and extinguishing particulate substance by using plasma |
JP2002339731A (en) * | 2001-05-18 | 2002-11-27 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Method and device for treatment of engine exhaust emission |
JP2005090831A (en) * | 2003-09-16 | 2005-04-07 | Fujitsu General Ltd | Air cleaner |
JP2006014848A (en) * | 2004-06-30 | 2006-01-19 | Daikin Ind Ltd | Air purifying system, filter unit, and method for replacing filter |
-
2008
- 2008-03-19 JP JP2008072475A patent/JP5327422B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0380910A (en) * | 1989-08-24 | 1991-04-05 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | Filter device |
JPH11501530A (en) * | 1994-12-29 | 1999-02-09 | グレーヴズ,クリントン・ジイ | Apparatus and method for plasma sterilization |
JPH11128657A (en) * | 1997-08-25 | 1999-05-18 | Oriental Kiden Kk | Purifying device |
JP2001280121A (en) * | 2000-03-31 | 2001-10-10 | Isuzu Motors Ltd | Continuous regeneration-type particulate filter device |
JP2001349595A (en) * | 2000-06-07 | 2001-12-21 | Matsushita Electric Works Ltd | Air cleaning apparatus |
JP2001349213A (en) * | 2000-06-07 | 2001-12-21 | Hideo Kawamura | Dpf device for reacting and extinguishing particulate substance by using plasma |
JP2002339731A (en) * | 2001-05-18 | 2002-11-27 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Method and device for treatment of engine exhaust emission |
JP2005090831A (en) * | 2003-09-16 | 2005-04-07 | Fujitsu General Ltd | Air cleaner |
JP2006014848A (en) * | 2004-06-30 | 2006-01-19 | Daikin Ind Ltd | Air purifying system, filter unit, and method for replacing filter |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011052880A3 (en) * | 2009-10-28 | 2011-07-14 | 전북대학교산학협력단 | Water treatment apparatus for reducing biofouling |
KR101105666B1 (en) * | 2009-10-28 | 2012-01-18 | 전북대학교산학협력단 | Water treatment apparatus for mitigation of biofouling |
KR20200095846A (en) * | 2019-02-01 | 2020-08-11 | 성균관대학교산학협력단 | Backwashing device for water treatment |
KR102144037B1 (en) * | 2019-02-01 | 2020-08-12 | 성균관대학교산학협력단 | Backwashing device for water treatment |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5327422B2 (en) | 2013-10-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8404182B2 (en) | Sterilizing method, sterilizing apparatus, and air cleaning method and apparatus using the same | |
KR102005618B1 (en) | Air purifier using air running plasma source | |
JP5546630B2 (en) | Microbe / virus capture / inactivation equipment | |
US20120100524A1 (en) | Tubular floating electrode dielectric barrier discharge for applications in sterilization and tissue bonding | |
Feng et al. | The interaction of a direct-current cold atmospheric-pressure air plasma with bacteria | |
JP2004508143A (en) | Plasma sterilization system | |
JP5403753B2 (en) | Plasma sterilization method | |
JP2008289801A (en) | Gas purification device | |
KR20160129084A (en) | Air disinfection and pollution removal method and apparatus | |
WO2015132367A1 (en) | Air treatment apparatus | |
WO2011123512A1 (en) | Plasma system for air sterilization | |
JP5327422B2 (en) | Filter processing device | |
JP4070546B2 (en) | ION GENERATOR AND ION GENERATOR HAVING THE SAME | |
KR20210111749A (en) | Method and system for generating non-thermal plasma | |
KR20220099702A (en) | Air cleaning device using atmospheric-pressure plasma | |
JP2007029896A (en) | Plasma reactor and gas treatment apparatus | |
JP3680120B2 (en) | Ion generator, air purifier and air conditioner equipped with the same | |
KR20200063867A (en) | Ozone removing apparatus | |
KR20200082771A (en) | Plasma sterilizer with ozone abatement function | |
JP2011242091A (en) | Hot air supply device | |
CN110510706B (en) | Medical wastewater treatment method | |
KR20230149066A (en) | Air purifier with plasma electrostatic precipitator | |
CN213099629U (en) | High-efficient peculiar smell, sterilization, virus killing plasma equipment that removes | |
CN114704882A (en) | Degerming control method of air conditioner | |
CN212039429U (en) | Plasma sterilization and disinfection device for gas circuit pipeline |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110309 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110404 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120127 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121127 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130128 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130625 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130709 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |