KR20200089987A - A substrate for surface enhanced raman scattering and fabricating method of the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 표면증강라만산란(surface-enhanced Raman spectroscopy, SERS)용 기판 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 전극 및 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조 필름으로 형성된 표면증강라만산란용 기판 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate for surface-enhanced Raman spectroscopy (SERS) and a method for manufacturing the same, and more specifically, a substrate for surface-enhanced Raman scattering formed from an electrode and a mesoporous plasmon metal nanostructure film, and its preparation It's about how.
라만 분광법은 생물학적 및 화학적 시료에 대한 분자 특이적 정보를 제공하는 기술이다. 그러나, 라만 신호는 내재적으로 매우 약하므로, 이를 증강시키기 위한 다양한 연구가 수행되고 있다. Raman spectroscopy is a technique that provides molecular-specific information for biological and chemical samples. However, since the Raman signal is inherently very weak, various studies have been conducted to enhance it.
표면증강라만산란(SERS) 활성은 표면에서 흡수 에너지에 의해 라만 스펙트럼의 세기를 현저히 향상시킬 수 있다. SERS 규모의 척도로 사용되는 증강인자(enhancement factor; EF)는 보통 104 내지 108이며, 이는 기판 표면의 소재 및 나노구조 패턴을 통해 결정되므로, 고감도 활성 기판을 제조하는 것이 표면증강라만산란 분석 기술의 핵심이다. Surface-enhanced Raman scattering (SERS) activity can significantly improve the intensity of the Raman spectrum by absorption energy at the surface. The enhancement factor (EF) used as a scale of the SERS scale is usually 10 4 to 10 8 , which is determined by the material and nanostructure pattern of the substrate surface, so preparing a highly sensitive active substrate is a surface enhanced Raman scattering analysis. Technology is the key.
표면증강라만산란용 기판을 제조하기 위해 현재 가장 많이 사용되는 기술로는 기계적 강도가 우수한 실리콘이나 유리 기판에 반도체 공정을 이용한 에칭 방법을 통하여 플라즈몬 나노구조박막을 형성하는 것이다. The most commonly used technique for manufacturing a surface-enhanced Raman scattering substrate is to form a plasmon nanostructure thin film through an etching method using a semiconductor process on a silicon or glass substrate having excellent mechanical strength.
그러나, 반도체 공정을 통한 에칭 방법은 공정 단계가 복잡하고 제조 단가가 높기 때문에 경제성이 떨어지는 문제점과 함께 높은 온도와 함께 독성이 있는 에칭 용액을 사용해야 하기 때문에 기계적 강도가 높지만, 무거우며 딱딱한 실리콘이나 유리 기판을 반드시 사용해야 하는 문제점이 있다. However, the etching method through the semiconductor process has a high mechanical strength because it requires the use of a toxic etching solution with a high temperature along with a problem of low economic efficiency due to the complicated process steps and high manufacturing cost, but it is heavy and hard silicon or glass substrate. There is a problem that must be used.
이러한 문제점을 해결하고자 유연하며 다공성 구조를 갖는 종이기판을 사용하여 이에 플라즈몬 나노구조체를 흡착시키는 표면증강라만산란 분광용 기판 제조 기술이 소개되었다. In order to solve this problem, a substrate manufacturing technology for surface-enhanced Raman scattering spectroscopy, in which a plasmon nanostructure is adsorbed using a flexible and porous paper substrate, has been introduced.
하지만, 일반적인 종이기판은 표면 거칠기와 함께 다공성 크기가 마이크로 스케일을 가지고 있기 때문에 나노 스케일을 가지고 있는 플라즈몬 나노구조체의 흡착에 있어서 나노 구조체의 응집 문제와 분포의 불균일성으로 분석결과의 반복 재현성이 현저히 떨어지는 문제점이 있다.However, since the general paper substrate has a micro-scale with a surface roughness and a porous size, in the adsorption of plasmon nanostructures having nano-scale, the problem of reproducibility of the analysis results is significantly reduced due to the aggregation problem of nanostructures and non-uniformity of distribution. There is this.
본 발명은 유연한 나노 종이 지지체 표면에 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조 필름으로 형성된 표면증강라만산란용 기판 및 이의 제조방법을 제공한다.The present invention provides a substrate for a surface-enhanced Raman scattering formed of a mesoporous plasmon metal nanostructure film on a flexible nano paper support surface and a method for manufacturing the same.
본 발명의 일 실시예에 따른 표면증강라만산란 기판의 제조방법은, 셀룰로오스 나노섬유 분산액을 준비하는 단계; 상기 셀룰로오스 나노섬유 분산액을 여과하여 나노페이퍼 지지체를 형성하는 단계; 및 상기 나노페이퍼 지지체에 전도성 나노 구조체를 흡착시켜 나노페이퍼 전극을 제조하는 단계를 포함한다.Method for manufacturing a surface-enhanced Raman scattering substrate according to an embodiment of the present invention, preparing a cellulose nanofiber dispersion; Filtering the cellulose nanofiber dispersion to form a nanopaper support; And adsorbing a conductive nanostructure on the nanopaper support to produce a nanopaper electrode.
본 발명의 일 실시예에 따른 표면증강라만산란 기판의 제조방법에서, 상기 나노페이퍼 지지체에 전도성 나노 구조체를 흡착시켜 나노페이퍼 전극을 제조하는 단계 이후에, 상기 나노페이퍼 전극 상에 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조 필름을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In the method of manufacturing a surface-enhanced Raman scattering substrate according to an embodiment of the present invention, after the step of preparing a nano-paper electrode by adsorbing a conductive nano-structure on the nano-paper support, mesoporous plasmon metal nano on the nano-paper electrode It characterized in that it further comprises the step of forming a structural film.
본 발명의 일 실시예에 따른 표면증강라만산란 기판의 제조방법에서, 상기 나노페이퍼 전극의 일 표면에 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조 필름을 형성하는 단계는, 전기화학 중합반응을 통해 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조 필름을 형성하는 것을 특징으로 한다.In the method of manufacturing a surface-enhanced Raman scattering substrate according to an embodiment of the present invention, the step of forming a mesoporous plasmon metal nanostructure film on one surface of the nanopaper electrode is performed through an electrochemical polymerization reaction. It is characterized by forming a structural film.
본 발명의 일 실시예에 따른 표면증강라만산란 기판의 제조방법에서, 상기 전기화학 중합반응은 40 ℃ 내지 45 ℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 한다.In the method of manufacturing a surface-enhanced Raman scattering substrate according to an embodiment of the present invention, the electrochemical polymerization is characterized in that it is carried out at a temperature of 40 ℃ to 45 ℃.
본 발명의 일 실시예에 따른 표면증강라만산란 기판의 제조방법에서, 상기 나노페이퍼 지지체에 전도성 나노 구조체를 흡착시켜 나노페이퍼 전극을 제조하는 단계는, 상기 전도성 나노 구조체를 감압 여과 공정을 통해 상기 나노페이퍼 지지체에 흡착하는 것을 특징으로 한다.In the method of manufacturing a surface-enhanced Raman scattering substrate according to an embodiment of the present invention, the step of preparing a nanopaper electrode by adsorbing a conductive nanostructure on the nanopaper support comprises: It is characterized by adsorbing on a paper support.
본 발명의 일 실시예에 따른 표면증강라만산란 기판의 제조방법에서, 상기 셀룰로오스 나노섬유 분산액은 템포-산화(TEMPO oxidized) 처리된 셀룰로오스 나노섬유를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the method of manufacturing a surface-enhanced Raman scattering substrate according to an embodiment of the present invention, the cellulose nanofiber dispersion is characterized in that it comprises tempo-oxidized (TEMPO oxidized) treated cellulose nanofibers.
본 발명의 다른 실시예에 따른 표면증강라만산란 기판은, 나노페이퍼 지지체; 상기 나노페이퍼 지지체의 표면에 형성된 전도성 나노 구조체를 포함하는 나노페이퍼 전극; 및 상기 나노페이퍼 전극 상에 형성된 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조 필름을 포함한다.Surface-enhanced Raman scattering substrate according to another embodiment of the present invention, the nano-paper support; A nanopaper electrode comprising a conductive nanostructure formed on the surface of the nanopaper support; And a mesoporous plasmon metal nanostructure film formed on the nanopaper electrode.
본 발명의 다른 실시예에 따른 표면증강라만산란 기판에서, 상기 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조 필름은 10 nm 내지 400 nm의 두께를 갖는 것을 특징으로 한다.In the surface-enhanced Raman scattering substrate according to another embodiment of the present invention, the mesoporous plasmon metal nanostructure film has a thickness of 10 nm to 400 nm.
본 발명의 일 실시예에 따르면 1×1010 의 증강인자(enhancement factor; EF)를 갖고, 커피링 현상 없이 종래의 표면증강라만산란용 기판 대비 초고감도의 분해능을 갖는 표면증강라만산란용 기판을 제공할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, a surface-enhanced Raman scattering substrate having an ultra-high sensitivity resolution compared to a conventional surface-enhanced Raman scattering substrate having an enhancement factor (EF) of 1×10 10 and no coffee ring phenomenon Can provide.
본 발명의 일 실시예에 따르면 낮은 공정 비용 및 빠른 공정 시간을 가질 수 있는 표면증강라만산란용 기판 제조 방법을 제공할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, it is possible to provide a method for manufacturing a substrate for surface enhanced Raman scattering, which can have a low process cost and a fast process time.
본 발명의 일 실시예에 따르면 높은 반복 재현성과 우수한 물질의 검출 감도를 갖는 표면증강라만산란용 기판을 제공할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, it is possible to provide a surface-enhanced Raman scattering substrate having high repeatability and excellent material detection sensitivity.
본 발명의 일 실시예에 따르면 가볍고 유연한 특성으로 분석의 편의성과 효율성을 높일 수 있는 표면증강라만산란용 기판을 제공할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, it is possible to provide a substrate for surface-enhanced Raman scattering, which can increase convenience and efficiency of analysis with light and flexible characteristics.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표면증강라만산란용 기판의 제조방법을 나타낸 흐름도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표면증강라만산란용 기판의 단면을 도시한 것이다.
도 3은 본 발명의 실시예 1에 따른 표면증강라만산란용 기판 중 전도성 나노 구조체를 형성한 표면증강라만산란용 기판 표면의 주사전자현미경(SEM) 이미지를 도시한 것이다.
도 4는 본 발명의 실시예 1에 따른 표면증강라만산란용 기판 중 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조 필름까지 형성한 표면증강라만산란용 기판 표면의 주사전자현미경(SEM) 이미지를 도시한 것이다.
도 5는 본 발명의 실시예 3 및 비교예 2에 따른 표면증강라만산란용 기판의 로다민 6G(Rhodamine 6G) 농도 10 uM에 대한 분석 결과 그래프를 비교 도시한 것이다.
도 6은 본 발명의 실시예 3 및 비교예 1에 따라 제조된 표면증강라만산란용 기판을 이용하여 농약 성분 1 nM을 분석한 결과 그래프를 비교 도시한 것이다.1 is a flow chart showing a method of manufacturing a surface-enhanced Raman scattering substrate according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a substrate for surface-enhanced Raman scattering according to another embodiment of the present invention.
3 shows a scanning electron microscope (SEM) image of the surface of the substrate for surface-enhanced Raman scattering in which a conductive nanostructure is formed in the substrate for surface-enhanced Raman scattering according to Example 1 of the present invention.
FIG. 4 shows a scanning electron microscope (SEM) image of the surface-enhanced Raman scattering substrate surface formed up to the mesoporous plasmon metal nanostructure film among the substrates for surface-enhanced Raman scattering according to Example 1 of the present invention.
5 is a comparative graph showing the analysis results for rhodamine 6G (Rhodamine 6G) concentration 10 uM of the substrate for surface enhanced Raman scattering according to Example 3 and Comparative Example 2 of the present invention.
6 is a comparative graph showing the results of analyzing 1 nM of agrochemical components using the substrate for surface enhanced Raman scattering prepared according to Example 3 and Comparative Example 1 of the present invention.
이하 첨부 도면들 및 첨부 도면들에 기재된 내용들을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명하지만, 본 발명이 실시예에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings and the contents described in the accompanying drawings, but the present invention is not limited or limited by the embodiments.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terminology used herein is for describing the embodiments and is not intended to limit the present invention. In the present specification, the singular form also includes the plural form unless otherwise specified in the phrase. As used herein, "comprises" and/or "comprising" refers to the components, steps, operations and/or elements mentioned above, the presence of one or more other components, steps, operations and/or elements. Or do not exclude additions.
본 명세서에서 사용되는 "실시예", "예", "측면", "예시" 등은 기술된 임의의 양상(aspect) 또는 설계가 다른 양상 또는 설계들보다 양호하다거나, 이점이 있는 것으로 해석되어야 하는 것은 아니다.As used herein, "example", "example", "side", "example", etc. should be construed as any aspect or design described being better or more advantageous than another aspect or designs. It is not done.
아래 설명에서 사용되는 용어는, 연관되는 기술 분야에서 일반적이고 보편적인 것으로 선택되었으나, 기술의 발달 및/또는 변화, 관례, 기술자의 선호 등에 따라 다른 용어가 있을 수 있다. 따라서, 아래 설명에서 사용되는 용어는 기술적 사상을 한정하는 것으로 이해되어서는 안 되며, 실시예들을 설명하기 위한 예시적 용어로 이해되어야 한다.The terminology used in the description below has been selected to be general and universal in the related technical field, but may have other terms depending on technology development and/or changes, conventions, and preferences of the technician. Therefore, the terms used in the following description should not be understood as limiting the technical idea, but should be understood as exemplary terms for describing the embodiments.
또한, 특정한 경우는 출원인이 임의로 선정한 용어도 있으며, 이 경우 해당되는 설명 부분에서 상세한 그 의미를 기재할 것이다. 따라서 아래 설명에서 사용되는 용어는 단순한 용어의 명칭이 아닌 그 용어가 가지는 의미와 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 이해되어야 한다.Also, in certain cases, some terms are arbitrarily selected by the applicant, and in this case, detailed meanings will be described in the corresponding description. Therefore, the terms used in the description below should be understood based on the meaning of the term and the entire contents of the specification, not just the name of the term.
한편, 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 구성 요소들은 용어들에 의하여 한정되지 않는다. 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.Meanwhile, terms such as first and second may be used to describe various components, but the components are not limited by the terms. The terms are used only to distinguish one component from another component.
또한, 막, 층, 영역, 구성 요청 등의 부분이 다른 부분 "위에" 또는 "상에" 있다고 할 때, 다른 부분의 바로 위에 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 막, 층, 영역, 구성 요소 등이 개재되어 있는 경우도 포함한다.Also, when a part such as a film, layer, area, configuration request, etc. is said to be "above" or "on" another part, as well as immediately above the other part, another film, layer, area, component in the middle This includes cases where a back is interposed.
다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms (including technical and scientific terms) used in the present specification may be used as meanings commonly understood by those skilled in the art to which the present invention pertains. In addition, terms defined in the commonly used dictionary are not ideally or excessively interpreted unless specifically defined.
한편, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는, 그 상세한 설명을 생략할 것이다. 그리고, 본 명세서에서 사용되는 용어(terminology)들은 본 발명의 실시예를 적절히 표현하기 위해 사용된 용어들로서, 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 본 발명이 속하는 분야의 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 따라서, 본 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.On the other hand, in the description of the present invention, when it is determined that a detailed description of related known functions or configurations may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description will be omitted. In addition, terms used in the present specification (terminology) are terms used to properly represent an embodiment of the present invention, which may vary depending on a user, an operator's intention, or a custom in a field to which the present invention pertains. Therefore, definitions of these terms should be made based on the contents throughout the present specification.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표면증강라만산란용 기판의 제조방법을 나타낸 흐름도이다.1 is a flow chart showing a method of manufacturing a substrate for surface-enhanced Raman scattering according to an embodiment of the present invention.
본 발명의 일 실시예에 따른 표면증강라만산란용 기판의 제조방법은 셀룰로오스 나노섬유 분산액을 준비하는 단계(S110), 셀룰로오스 나노섬유 분산액을 여과하여 나노페이퍼 지지체를 형성하는 단계(S120), 및 나노페이퍼 지지체에 전도성 나노 구조체를 흡착시켜 나노페이퍼 전극을 제조하는 단계(S130)를 포함하는 3단계 공정으로 표면증강라만산란 기판을 형성할 수 있다.The method of manufacturing a substrate for surface-enhanced Raman scattering according to an embodiment of the present invention includes preparing a cellulose nanofiber dispersion (S110), filtering a cellulose nanofiber dispersion to form a nanopaper support (S120), and nano A surface-enhanced Raman scattering substrate may be formed in a three-step process including a step (S130) of preparing a nanopaper electrode by adsorbing a conductive nanostructure on a paper support.
셀룰로오스 나노섬유 분산액을 준비하는 단계(S110)는, 용매 내에 셀룰로오스 나노섬유를 분산시켜 셀룰로오스 나노섬유 분산액을 제조한다. 여기서, 셀룰로오스 나노섬유는 10 nm 내지 40 nm의 평균 직경과, 50 nm 내지 250 nm의 평균 길이를 가질 수 있다.In the preparing of the cellulose nanofiber dispersion (S110), the cellulose nanofiber dispersion is prepared by dispersing the cellulose nanofiber in a solvent. Here, the cellulose nanofibers may have an average diameter of 10 nm to 40 nm and an average length of 50 nm to 250 nm.
용매는 극성 용매를 포함할 수 있으며 예를 들어, 증류수 및 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올과 같은 알코올류 등을 포함할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The solvent may include a polar solvent and may include, for example, distilled water and alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, and butanol, but is not limited thereto.
본 발명의 일 실시예에 따른 셀룰로오스 나노섬유 분산액은 템포-산화(TEMPO oxidized) 처리된 셀룰로오스 나노섬유일 수 있다.The cellulose nanofiber dispersion according to an embodiment of the present invention may be a cellulose nanofiber treated with TEMPO oxidized.
템포-산화 처리란, 촉매인 2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-oxyl radical (TEMPO)을 이용한 산화 반응 처리이다.The tempo-oxidation treatment is an oxidation reaction treatment using a catalyst 2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-oxyl radical (TEMPO).
템포는 촉매의 한 종류로서, 상업적으로 쉽게 구할 수 있고 수용성이며 안전한 특성을 가진다. Tempo is a type of catalyst, and is commercially available, and has water-soluble and safe properties.
또한 템포는 일정 조건에서 나이트로소늄 이온(nitrosonium ion)으로 산화되어 6번 탄소의 수산기(-OH)와 반응하며, 이 수산기를 카르복실기(-COOH)로 치환하는 특성이 있다.In addition, the tempo is oxidized to a nitrosonium ion under certain conditions and reacts with a hydroxyl group (-OH) of carbon 6, and has a property of substituting this hydroxyl group with a carboxyl group (-COOH).
템포-산화 처리된 셀룰로오스 나노섬유는 일반적인 셀룰로오스 나노섬유에 비하여 섬유의 사이즈가 더욱 미세한 사이즈로 작아지는 특성을 가지고 있으며 이러한 미세한 섬유를 사용해서 나노페이퍼를 제작하면 일반적인 셀룰로오스 나노섬유를 사용한 나노페이퍼 대비 강도가 우수한 나노페이퍼를 만들 수 있다는 장점이 있다.Tempo-oxidized cellulose nanofibers have a characteristic that the size of the fiber is reduced to a finer size compared to general cellulose nanofibers. When nanopapers are produced using these fine fibers, strength compared to nanopapers using general cellulose nanofibers It has the advantage that it can make excellent nanopaper.
셀룰로오스 나노섬유 분산액을 여과하여 나노페이퍼 지지체를 형성하는 단계(S120)는 나노 스케일의 표면 특성을 가지고 있는 나노페이퍼 지지체를 제작하는 단계이다.The step of forming a nano paper support by filtering the cellulose nanofiber dispersion (S120) is a step of manufacturing a nano paper support having nano-scale surface properties.
종래에는 실리콘 또는 유리 기판에 에칭 공정을 이용하여 실리콘 또는 유리 기판 표면에 나노 스케일의 표면 특성을 부여하였으나, 이러한 공정은 공정 단계가 복잡하고 제조 단가가 높기 때문에 경제성이 떨어지는 문제점이 있었으며, 또한 높은 공정 온도 조건과 함께 독성이 있는 에칭 용액을 사용해야 하는 문제점이 있었다.Conventionally, the surface properties of the nano-scale is given to the surface of the silicon or glass substrate by using an etching process on the silicon or glass substrate, but these processes have a problem of poor economic efficiency because the process steps are complicated and the manufacturing cost is high. There is a problem in that a toxic etching solution must be used together with temperature conditions.
그러나, 본 발명의 일 실시예에서는 셀룰로오스 나노섬유 분산액을 제조한 후 이를 여과하는 용액 공정을 이용하는 것 만으로 나노 스케일의 표면 특성을 가지고 있는 나노페이퍼 지지체를 제작할 수 있어 공정 비용의 절감 및 공정 시간 단축의 효과가 있다.However, in one embodiment of the present invention, a nanopaper support having a nano-scale surface property can be produced only by using a solution process for producing a cellulose nanofiber dispersion and filtering it, thereby reducing process cost and reducing process time. It works.
더하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 나노페이퍼 지지체는 종래의 실리콘 또는 유리 기판 대비 가볍고 유연한 페이퍼의 특성을 가질 수 있다.In addition, the nanopaper support according to an embodiment of the present invention may have light and flexible paper characteristics compared to a conventional silicon or glass substrate.
본 발명의 일 실시예에 따른 셀룰로오스 나노섬유 분산액의 여과는 감압 여과 방식을 이용한 여과 공정일 수 있다.Filtration of the cellulose nanofiber dispersion according to an embodiment of the present invention may be a filtration process using a reduced pressure filtration method.
본 발명의 일 실시예에 따른 셀룰로오스 나노섬유 분산액의 감압 여과 공정은 0.2 μm 크기의 공극을 갖는 셀룰로오스 에스터(cellulose ester) 재료의 멤브레인(membrane)을 여과 기재로 하고, 여과 기재를 증류수에 적신 상태로 감압 여과기에 올린다. 이후, 6 ml의 나노섬유 분산액을 멤브레인에 상부에 붓고 펌프를 이용하여 진공 분위기를 형성 후 여과를 시작한다. 여과 공정 후 멤브레인 상부에 형성된 막을 분리하여 나노페이퍼 지지체를 형성한다.In the pressure-reducing filtration process of the cellulose nanofiber dispersion according to an embodiment of the present invention, a membrane of a cellulose ester material having a pore size of 0.2 μm is used as a filtering substrate, and the filtering substrate is wetted with distilled water. Put on a vacuum filter. Thereafter, 6 ml of the nanofiber dispersion is poured onto the membrane, and a vacuum atmosphere is formed using a pump, followed by filtration. After the filtration process, the membrane formed on the top of the membrane is separated to form a nanopaper support.
나노페이퍼 지지체에 전도성 나노 구조체를 흡착시켜 나노페이퍼 전극을 제조하는 단계(S130)는 나노페이퍼 지지체 상에 전도성 나노 구조체를 흡착시켜 전도성 나노 구조체가 패턴화 된 나노페이퍼 전극을 제조한다.The step of preparing a nanopaper electrode by adsorbing a conductive nanostructure on a nanopaper support (S130) prepares a nanopaper electrode on which a conductive nanostructure is patterned by adsorbing a conductive nanostructure on a nanopaper support.
전도성 나노 구조체의 흡착은, 용매에 전도성 나노 구조체를 분산시킨 전도성 나노 구조체 분산액을 나노페이퍼 지지체 상에 스프레이 코팅, 딥 코팅 및 감압여과 코팅 중 어느 하나의 공정을 이용하여 흡착시킬 수 있다.The adsorption of the conductive nanostructures can adsorb the conductive nanostructure dispersion in which the conductive nanostructures are dispersed in a solvent by using any one of spray coating, dip coating and vacuum filtration coating on the nanopaper support.
스프레이 코팅, 딥 코팅 및 감압여과 코팅 중 어떠한 공정을 이용하더라도 용매에 전도성 나노 구조체가 균일하게 분산된 전도성 나노 구조체 분산액을 이용하기 때문에 나노페이퍼 지지체 상에 전도성 나노 구조체를 균일하게 흡착이 가능하고, 또한 분산액 내부의 전도성 나노 구조체 양 조절이 용이하므로 나노페이퍼 지지체 표면에 흡착되는 전도성 나노 구조체의 밀도 조절 또한 용이하다.The conductive nanostructures can be uniformly adsorbed on the nanopaper support because the conductive nanostructures dispersion is uniformly dispersed in the solvent, regardless of the process of spray coating, dip coating, and vacuum filtration. Since the amount of the conductive nano-structure inside the dispersion is easy to adjust, the density of the conductive nano-structure adsorbed on the surface of the nanopaper support is also easy.
본 발명의 일 실시예에 따른 전도성 나노 구조체는 금속 나노와이어, 금속 나노파티클, 그래핀 등의 전도성 나노 구조체일 수 있다.The conductive nanostructure according to an embodiment of the present invention may be a conductive nanostructure such as a metal nanowire, a metal nanoparticle, or graphene.
본 발명의 일 실시예에 따른 나노페이퍼 지지체에 전도성 나노 구조체를 흡착시켜 나노페이퍼 전극을 제조하는 단계(S130)에서, 전도성 나노 구조체는 전도성 나노 구조체 분산액에 균일하게 분산되어 있으므로, 균일한 간격을 갖는 어레이 구조로 흡착될 수 있다.In the step (S130) of preparing a nanopaper electrode by adsorbing a conductive nanostructure on a nanopaper support according to an embodiment of the present invention, the conductive nanostructure is uniformly dispersed in the dispersion of the conductive nanostructure, and thus has a uniform spacing. It can be adsorbed in an array structure.
이때, 전도성 나노 구조체 패턴의 간격을 조절하여 표면증강라만산란용 기판의 나노갭을 조절할 수 있고, 이에 따라 표면증강라만산란 효과를 극대화 할 수 있다.At this time, the spacing of the conductive nanostructure pattern can be adjusted to control the nanogap of the substrate for surface-enhanced Raman scattering, thereby maximizing the effect of surface-enhanced Raman scattering.
본 발명의 일 실시예에 따른 나노페이퍼 지지체에 전도성 나노 구조체를 흡착시켜 나노페이퍼 전극을 제조하는 단계(S130) 이후에, 나노페이퍼 전극 상에 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조 필름을 형성하는 단계(S140)을 더 포함한다.After the step of preparing a nanopaper electrode by adsorbing a conductive nanostructure on a nanopaper support according to an embodiment of the present invention (S130), forming a mesoporous plasmon metal nanostructure film on the nanopaper electrode (S140) It further includes.
상기 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조 필름은 전기화학 중합반응을 통해 25 ℃ 내지 45 ℃의 온도 조건에서 형성될 수 있고, 보다 바람직하게는 35 ℃ 내지 45 ℃의 온도 조건에서 형성될 수 있다.The mesoporous plasmon metal nanostructure film may be formed at a temperature of 25°C to 45°C through an electrochemical polymerization reaction, and more preferably, at a temperature of 35°C to 45°C.
상기 전기화학 중합반응 시 온도가 25 ℃ 미만인 경우, 전기화학 중합 과정의 반응성이 떨어져 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조의 중합 정도가 낮아져 올바른 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조가 만들어 지지 않을 수 있는 문제가 있고, 상기 전기화학 중합반응 시 온도가 45 ℃를 초과하는 경우 수용액 상에서 나노페이퍼의 물성에 영향을 끼칠 수 있다는 문제점이 있다.When the temperature is less than 25 °C during the electrochemical polymerization reaction, there is a problem that the reactivity of the electrochemical polymerization process is lowered and the degree of polymerization of the mesoporous plasmon metal nanostructure is lowered, so that the correct mesoporous plasmon metal nanostructure may not be made. When the temperature exceeds 45 °C during the electrochemical polymerization reaction, there is a problem that the physical properties of the nano-paper in the aqueous solution may be affected.
전기화학 중합반응이란, 마이셀과 금속 이온이 같이 녹아있는 수계 전해질에서 3전극 시스템을 사용하여 일정한 환원 전압을 제공하여 금속 이온을 마이셀이 묻혀있는 필름 표면에서 환원 반응을 통해 박막을 형성 한 후, 세척 과정을 통해 마이셀을 제거하여 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조를 형성 할 수 있다. The electrochemical polymerization reaction uses a three-electrode system in a water-based electrolyte in which micelles and metal ions are melted together to provide a constant reduction voltage to form a thin film through a reduction reaction of metal ions on the film surface covered with micelles, followed by washing. By removing the micelles through the process, mesoporous plasmon metal nanostructures can be formed.
또한, 전기화학 중합반응을 통해 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조를 형성하는 경우, 반응시간을 조절하여 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조의 두께를 용이하게 조절하면서 나노페이퍼 지지체 상에 형성이 가능하고, 마이셀의 크기를 조절하여 다공성 구조의 크기를 조절할 수 있기 때문에 플라즈몬 나노구조체의 구조를 필요한 조건에 따라 자유롭게 조절을 할 수 있다는 장점이 있다.In addition, when forming a mesoporous plasmon metal nanostructure through an electrochemical polymerization reaction, it is possible to form on the nanopaper support while easily controlling the thickness of the mesoporous plasmon metal nanostructure by adjusting the reaction time, and the size of micelles Since the size of the porous structure can be controlled by controlling, there is an advantage that the structure of the plasmon nanostructure can be freely adjusted according to the necessary conditions.
이때, 상기 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조는 10 nm 내지 400 nm의 두께를 가질 수 있다.At this time, the mesoporous plasmon metal nanostructure may have a thickness of 10 nm to 400 nm.
메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조의 두께가 10 nm 미만인 경우 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조가 제대로 형성되지 못하여 플라즈몬 나노구조체로서 역할을 하지못하는 문제가 있다.When the thickness of the mesoporous plasmon metal nanostructure is less than 10 nm, there is a problem that the mesoporous plasmon metal nanostructure is not properly formed and thus cannot function as a plasmon nanostructure.
상기 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조 필름은 20 nm 내지 60 nm의 기공(pore) 크기를 가질 수 있다.The mesoporous plasmon metal nanostructure film may have a pore size of 20 nm to 60 nm.
보다 바람직하게는, 상기 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조 필름이 25 nm 내지 40 nm의 기공 크기를 가질 때, 가장 높은 감도를 갖는 표면증강라만산란용 기판을 구현할 수 있다.More preferably, when the mesoporous plasmon metal nanostructure film has a pore size of 25 nm to 40 nm, a substrate for surface enhanced Raman scattering having the highest sensitivity may be implemented.
본 발명의 일 실시예에 따른 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조의 금속은 금(Au), 구리(Cu) 또는 금-구리 합금(Au-Cu alloy)일 수 있다.The metal of the mesoporous plasmon metal nanostructure according to an embodiment of the present invention may be gold (Au), copper (Cu), or gold-copper alloy (Au-Cu alloy).
본 발명의 일 실시예에 따른 나노페이퍼 지지체의 제작과 나노페이퍼 전극의 제작 및 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조 필름의 형성은 모두 용액공정, 전기화학 중합반응을 이용하므로, 공정 비용의 절감 및 공정 시간 단축의 효과가 있다.The fabrication of the nanopaper support and the fabrication of the nanopaper electrode and the formation of the mesoporous plasmon metal nanostructure film according to an embodiment of the present invention all use a solution process and an electrochemical polymerization reaction, thereby reducing process cost and reducing process time Has the effect of
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 나노페이퍼 지지체는 나노 스케일의 표면 특성을 가지므로, 높은 분석 재현성과 우수한 감도를 갖는다.In addition, the nano-paper support according to an embodiment of the present invention has a nano-scale surface property, and thus has high analytical reproducibility and excellent sensitivity.
더하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 나노페이퍼 지지체는 가볍고 유연한 페이퍼의 특성을 가지고 있으므로 고감도 표면증강라만산란용 기판으로 이용 시 분석의 편의성과 효율성을 높일 수 있다.In addition, the nanopaper support according to an embodiment of the present invention has characteristics of a light and flexible paper, so that it is possible to increase convenience and efficiency of analysis when used as a substrate for high-sensitivity surface-enhanced Raman scattering.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표면증강라만산란용 기판의 단면을 도시한 것이다.2 is a cross-sectional view of a substrate for surface-enhanced Raman scattering according to another embodiment of the present invention.
본 발명의 다른 실시예에 따른 표면증강라만산란용 기판은 나노페이퍼 지지체(210), 나노페이퍼 전극(220) 및 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조 필름(230)으로 구성된다.The substrate for surface-enhanced Raman scattering according to another embodiment of the present invention is composed of a nano-
본 발명의 다른 실시예에 따른 나노페이퍼 지지체(210)는 템포-산화(TEMPO oxidized) 처리된 셀룰로오스 나노섬유로 구성된다.The
템포-산화 처리된 셀룰로오스 나노섬유는 일반적인 셀룰로오스 나노섬유에 비하여 섬유의 사이즈가 더욱 미세한 사이즈로 작아지는 특성을 가지고 있으며, 이러한 미세한 섬유를 사용해서 나노페이퍼를 제작하면 일반적인 셀룰로오스 나노섬유를 사용한 나노페이퍼보다 강도가 우수한 나노페이퍼를 만들 수 있다는 장점이 있다.The tempo-oxidized cellulose nanofiber has a characteristic that the size of the fiber is reduced to a finer size than that of the general cellulose nanofiber, and when the nanopaper is produced using the fine fiber, it is more than the nanopaper using the general cellulose nanofiber. It has the advantage of being able to make nanopapers with excellent strength.
본 발명의 다른 실시예에 따른 나노페이퍼 지지체(210)는 종래의 실리콘 또는 유리 기판 대비 가볍고 유연한 페이퍼의 특성을 가질 수 있다.The
본 발명의 다른 실시예에 따른 나노페이퍼 전극(220)은 전도성 나노 구조체로 구성되며, 상기 전도성 나노 구조체는 균일한 간격을 갖는 어레이 구조로 구성된다.The
이때, 전도성 나노 구조체 패턴의 간격을 조절하여 표면증강라만산란용 기판의 나노갭을 조절할 수 있고, 이에 따라 표면증강라만산란 효과를 극대화 할 수 있다.At this time, the spacing of the conductive nanostructure pattern can be adjusted to control the nanogap of the substrate for surface-enhanced Raman scattering, thereby maximizing the effect of surface-enhanced Raman scattering.
본 발명의 다른 실시예에 따른 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조(230)는 10 nm 내지 400 nm의 두께를 가질 수 있다.The mesoporous
메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조의 두께가 10 nm 미만인 경우 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조가 제대로 형성되지 못하여 플라즈몬 나노구조체로서 역할을 하지 못하는 문제가 있다.When the thickness of the mesoporous plasmon metal nanostructure is less than 10 nm, there is a problem that the mesoporous plasmon metal nanostructure is not properly formed and thus cannot function as a plasmon nanostructure.
또한, 상기 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조는 20 nm 내지 60 nm의 기공(pore) 크기를 가질 수 있다.In addition, the mesoporous plasmon metal nanostructure may have a pore size of 20 nm to 60 nm.
보다 바람직하게는, 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조가 25 nm 내지 40 nm의 기공 크기를 가질 때, 가장 높은 감도를 갖는 표면증강라만산란용 기판을 구현할 수 있다.More preferably, when the mesoporous plasmon metal nanostructure has a pore size of 25 nm to 40 nm, a substrate for surface enhanced Raman scattering having the highest sensitivity can be implemented.
본 발명의 다른 실시예에 따른 표면증강라만산란용 기판은 나노 다공성 구조를 가지는 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조를 만드는 구성에 기인하여, 종래 기술 대비 1,000배 내지 10,000배의 초고감도 표면증강라만산란 신호를 가질 수 있어, 기존에 분석이 어려웠던 nM, pM 농도단위의 유해성분 등의 분석을 가능하게 할 수 있다.Surface-enhanced Raman scattering substrate according to another embodiment of the present invention is due to the configuration of making a mesoporous plasmon metal nanostructures having a nano-porous structure, the super-sensitive surface-enhanced Raman scattering signal of 1,000 to 10,000 times compared to the prior art As it can have, it is possible to analyze nM, pM concentration units and other harmful components that were difficult to analyze previously.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명하고자 한다. 이들 실시예는 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through examples. These examples are intended to illustrate the present invention more specifically, but the scope of the present invention is not limited by these examples.
[시약 및 물질][Reagents and substances]
셀룰로오스 나노섬유는 시그마-알드치리사(St. Louis, MO, USA)로부터 셀룰로오스 파우더(제품번호: C6288)를 구매하여 균질 과정을 거쳐 나노섬유를 제조하여 사용하였고, 은 나노와이어는 NANOFIXIS 사로부터 AgNW 분산액(DIW)을 구매하여 플라즈몬 합성하여 사용하였다.Cellulose nanofibers were purchased from Sigma-Ald Chiri (St. Louis, MO, USA) with cellulose powder (product number: C6288) and then used to manufacture nanofibers through a homogeneous process. Silver nanowires were AgNW from NANOFIXIS. A dispersion (DIW) was purchased and used for plasmon synthesis.
[실시예 1][Example 1]
증류수 1000 ml에 셀룰로오스 나노섬유 5 g를 혼합하여 용액 내에 셀룰로오스 나노섬유가 균일하게 분산된 셀룰로오스 나노섬유 분산액을 만든다. 셀룰로오스 나노섬유 분산액을 여과 공정을 통해 나노페이퍼 지지체를 만든다. 5 g of cellulose nanofibers are mixed with 1000 ml of distilled water to make a cellulose nanofiber dispersion in which cellulose nanofibers are uniformly dispersed in a solution. The cellulose nanofiber dispersion is made of a nanopaper support through a filtration process.
여과 공정은 상술한 바와 같이 0.2 μm 크기의 공극을 갖는 셀룰로오스 에스터 재료의 멤브레인을 여과 기재로 하고, 여과 기재를 증류수에 적신 상태로 감압 여과기에 올린다. 이후, 6 ml의 나노섬유 분산액을 멤브레인에 상부에 붓고 펌프를 이용하여 진공 분위기를 형성 후 여과를 시작한다. 여과 공정 후 멤브레인 상부에 형성된 막을 분리하여 나노페이퍼 지지체를 형성한다.In the filtration process, a membrane of cellulose ester material having a pore size of 0.2 μm is used as a filtration substrate, and the filtration substrate is soaked in distilled water and placed on a vacuum filter. Thereafter, 6 ml of the nanofiber dispersion is poured onto the membrane, and a vacuum atmosphere is formed using a pump, followed by filtration. After the filtration process, the membrane formed on the top of the membrane is separated to form a nanopaper support.
증류수 50 ml에 은 나노와이어를 혼합하여 용액 내에 평균 길이 25 ㎛, 평균 직경 35 nm의 은 나노와이어가 0.5 중량% 농도로 균일하게 분산된 은 나노와이어 분산액을 만든다. 나노페이퍼 지지체 상에 감압 여과 공정을 이용하여 은 나노와이어 분산액 내의 은 나노와이어를 흡착시켜 200 mΩ/square 의 표면저항을 가지는 전도성 기판을 제작하였다.Silver nanowires are mixed in 50 ml of distilled water to make a silver nanowire dispersion in which silver nanowires having an average length of 25 μm and an average diameter of 35 nm are uniformly dispersed at a concentration of 0.5% by weight. A conductive substrate having a surface resistance of 200 mΩ/square was prepared by adsorbing silver nanowires in a silver nanowire dispersion using a vacuum filtration process on the nanopaper support.
스프레이 코팅 공정 시의 제공되는 분산액의 양은 6 ml 이다.The amount of dispersion provided during the spray coating process is 6 ml.
이후, 은 나노와이어가 흡착된 나노페이퍼를 건조한 뒤 마이셀과 골드 이온이 같이 녹아있는 수계 전해질에서 3전극 시스템을 사용하여 전기화학 중합 공정을 통해 일정한 환원 전압을 500 초 동안 제공하여 골드 이온을 마이셀이 묻혀있는 필름으로 환원시킨 후 세척 과정을 통해 마이셀을 제거하여 200 nm 의 두께를 갖는 메조포러스 골드 필름을 형성하여 플라즈몬 나노페이퍼 표면증강라만산란용 기판을 제조하였다.Then, after drying the nano-paper on which the silver nanowires have been adsorbed, the micelles receive gold ions by providing a constant reduction voltage for 500 seconds through an electrochemical polymerization process using a three-electrode system in an aqueous electrolyte in which micelles and gold ions are dissolved together. After reduction to the buried film, the micelle was removed through a washing process to form a mesoporous gold film having a thickness of 200 nm to prepare a substrate for plasmon nanopaper surface enhanced Raman scattering.
[실시예 2][Example 2]
[실시예 2]는 전기화학 중합 공정의 환원 전압 인가 시간이 1000초인 것을 제외하면 [실시예 1]과 동일한 방법으로 제조되었다.[Example 2] was prepared in the same manner as in [Example 1], except that the reduction voltage application time of the electrochemical polymerization process was 1000 seconds.
[실시예 3][Example 3]
[실시예 3]은 전기화학 중합 공정의 환원 전압 인가 시간이 2000초인 것을 제외하면 [실시예 1]과 동일한 방법으로 제조되었다.[Example 3] was prepared in the same manner as in [Example 1], except that the reduction voltage application time of the electrochemical polymerization process was 2000 seconds.
[비교예 1][Comparative Example 1]
[비교예 1]은 지지체로 템포-산화 처리되지 않은 셀룰로오스 나노페이퍼를 사용한 것과, 메조포러스 골드 필름 대신 감압 여과 공정을 통한 골드 나노 입자를 형성한 것을 제외하면 [실시예 1]과 동일한 방법으로 제조되었다.[Comparative Example 1] was prepared in the same manner as in [Example 1], except that cellulose nanopaper that was not tempo-oxidized was used as a support, and gold nanoparticles were formed through a vacuum filtration process instead of a mesoporous gold film. Became.
[비교예 2][Comparative Example 2]
[비교예 2]는 지지체로 실리콘 웨이퍼를 사용한 것과, 메조포러스 골드 필름 대신 증기 증착을 통한 골드 박막을 형성한 것을 제외하면 [실시예 1]과 동일한 방법으로 제조되었다.[Comparative Example 2] was prepared in the same manner as in [Example 1], except that a silicon wafer was used as a support, and a gold thin film was formed through vapor deposition instead of a mesoporous gold film.
본 발명의 실시예 1 내지 실시예 3, 비교예 1 및 비교예 2를 비교하면 하기의 표와 같다.When comparing Examples 1 to 3, Comparative Example 1 and Comparative Example 2 of the present invention are as follows.
[표 1][Table 1]
이하에서는, 도 3 내지 도 6를 참조하여, 본 발명의 실시예 1에 따른 표면증강라만산란용 기판의 제조 방법으로 제조된 표면증강라만산란용 기판의 특성에 대해 설명하기로 한다.Hereinafter, the characteristics of the surface-enhanced Raman scattering substrate prepared by the method of manufacturing the substrate for surface-enhanced Raman scattering according to Example 1 of the present invention will be described with reference to FIGS. 3 to 6.
도 3은 본 발명의 실시예 1에 따른 표면증강라만산란용 기판 중 전도성 나노 구조체를 형성한 표면증강라만산란용 기판 표면의 주사전자현미경(SEM) 이미지를 도시한 것이다.3 shows a scanning electron microscope (SEM) image of the surface of the substrate for surface-enhanced Raman scattering in which a conductive nanostructure is formed in the substrate for surface-enhanced Raman scattering according to Example 1 of the present invention.
도 3을 참조하면, 전도성 나노 구조체가 일정한 간격을 갖고 형성된 것을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 3, it can be seen that the conductive nanostructures were formed at regular intervals.
도 4는 본 발명의 실시예 1에 따른 표면증강라만산란용 기판 중 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조 필름까지 형성한 표면증강라만산란용 기판 표면의 주사전자현미경(SEM) 이미지를 도시한 것이다.FIG. 4 shows a scanning electron microscope (SEM) image of the surface-enhanced Raman scattering substrate surface formed up to the mesoporous plasmon metal nanostructure film among the substrates for surface-enhanced Raman scattering according to Example 1 of the present invention.
도 4를 참조하면, 30 nm의 균일한 기공을 확인할 수 있으며, 이를 통하여 초고감도의 표면증강라만산란 신호를 구현할 수 있다.Referring to FIG. 4, uniform pores of 30 nm can be confirmed, and through this, an ultra-high sensitivity surface-enhanced Raman scattering signal can be implemented.
도 5는 본 발명의 실시예 3 및 비교예 2에 따른 표면증강라만산란용 기판의 로다민 6G(Rhodamine 6G) 농도 10 uM에 대한 분석 결과 그래프를 비교 도시한 것이다.5 is a comparative graph showing the analysis results for rhodamine 6G (Rhodamine 6G) concentration 10 uM of the substrate for surface enhanced Raman scattering according to Example 3 and Comparative Example 2 of the present invention.
도 5를 참조하면, 본 발명의 실시예 3 및 비교예 2에 따라 제조된 표면증강라만산란용 기판을 단일분자인 로다민 6G를 이용하여 표면증강라만산란 분석을 실시하였다. 그래프에 따르면, 본 발명의 실시예 3과 비교예 2의 표면증강라만산란 신호 값이 크게 차이 나는 것을 확인할 수 있다.5, the surface-enhanced Raman scattering substrate prepared according to Example 3 and Comparative Example 2 of the present invention was subjected to surface-enhanced Raman scattering analysis using single molecule rhodamine 6G. According to the graph, it can be seen that the surface enhancement Raman scattering signal values of Example 3 and Comparative Example 2 of the present invention differ significantly.
도 6은 본 발명의 실시예 3 및 비교예 1에 따라 제조된 표면증강라만산란용 기판을 이용하여 농약 성분 1 nM을 분석한 결과 그래프를 비교 도시한 것이다.6 is a comparative graph showing the results of analyzing 1 nM of agrochemical components using the substrate for surface enhanced Raman scattering prepared according to Example 3 and Comparative Example 1 of the present invention.
도 6을 참조하면, 본 발명의 실시예 3 및 비교예 1에 따라 제조된 표면증강라만산란용 기판의 신호 값이 크게 차이 나는 것을 확인할 수 있다.Referring to FIG. 6, it can be seen that the signal values of the surface-enhanced Raman scattering substrate prepared according to Example 3 and Comparative Example 1 of the present invention are significantly different.
한편, 본 명세서와 도면에 개시된 본 발명의 실시 예들은 이해를 돕기 위해 특정 예를 제시한 것에 지나지 않으며, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다. 여기에 개시된 실시 예들 이외에도 본 발명의 기술적 사상에 바탕을 둔 다른 변형 예들이 실시 가능하다는 것은, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것이다.On the other hand, the embodiments of the present invention disclosed in the specification and drawings are merely presented as specific examples for ease of understanding, and are not intended to limit the scope of the present invention. It is apparent to those skilled in the art to which the present invention pertains that other modifications based on the technical idea of the present invention can be implemented in addition to the embodiments disclosed herein.
Claims (9)
상기 셀룰로오스 나노섬유 분산액을 여과하여 나노페이퍼 지지체를 형성하는 단계; 및
상기 나노페이퍼 지지체에 전도성 나노 구조체를 흡착시켜 나노페이퍼 전극을 제조하는 단계
를 포함하는 표면증강라만산란(surface-enhanced Raman spectroscopy, SERS)용 기판 제조방법.
Preparing a cellulose nanofiber dispersion;
Filtering the cellulose nanofiber dispersion to form a nanopaper support; And
Preparing a nanopaper electrode by adsorbing a conductive nanostructure on the nanopaper support
Method for manufacturing a substrate for surface-enhanced Raman spectroscopy (SERS), comprising:
상기 나노페이퍼 지지체에 전도성 나노 구조체를 흡착시켜 나노페이퍼 전극을 제조하는 단계 이후에,
상기 나노페이퍼 전극 상에 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조 필름을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표면증강라만산란용 기판 제조방법.
According to claim 1,
After the step of preparing a nano-paper electrode by adsorbing a conductive nano-structure to the nano-paper support,
Method for manufacturing a surface-enhanced Raman scattering substrate further comprising the step of forming a mesoporous plasmon metal nanostructure film on the nanopaper electrode.
상기 나노페이퍼 전극의 일 표면에 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조 필름을 형성하는 단계는,
전기화학 중합반응을 통해 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조 필름을 형성하는 것을 특징으로 하는 표면증강라만산란용 기판 제조방법.
According to claim 2,
The step of forming a mesoporous plasmon metal nanostructure film on one surface of the nanopaper electrode,
Method for manufacturing a surface-enhanced Raman scattering substrate, comprising forming a mesoporous plasmon metal nanostructure film through an electrochemical polymerization reaction.
상기 전기화학 중합반응은 25 ℃ 내지 45 ℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 표면증강라만산란용 기판 제조방법.
According to claim 3,
The electrochemical polymerization reaction is a surface-enhanced Raman scattering substrate manufacturing method, characterized in that carried out at a temperature of 25 ℃ to 45 ℃.
상기 나노페이퍼 지지체에 전도성 나노 구조체를 흡착시켜 나노페이퍼 전극을 제조하는 단계는,
상기 전도성 나노 구조체를 감압 여과 공정을 통해 상기 나노페이퍼 지지체에 흡착하는 것을 특징으로 하는 표면증강라만산란용 기판 제조방법.
According to claim 1,
The step of preparing a nano-paper electrode by adsorbing a conductive nano-structure on the nano-paper support,
Method for manufacturing a surface-enhanced Raman scattering substrate, characterized in that the conductive nano-structure is adsorbed to the nano-paper support through a vacuum filtration process.
상기 셀룰로오스 나노섬유 분산액은 템포-산화(TEMPO oxidized) 처리된 셀룰로오스 나노섬유를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면증강라만산란용 기판 제조방법.
According to claim 1,
The cellulose nanofiber dispersion is tempo-oxidized (TEMPO oxidized) method of manufacturing a substrate for surface enhanced Raman scattering, characterized in that it comprises a cellulose nanofiber.
상기 나노페이퍼 지지체의 표면에 형성된 전도성 나노 구조체를 포함하는 나노페이퍼 전극; 및
상기 나노페이퍼 전극 상에 형성된 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조 필름
을 포함하는 나노페이퍼 전극인 표면증강라만산란용 기판.
Nanopaper support;
A nanopaper electrode comprising a conductive nanostructure formed on the surface of the nanopaper support; And
Mesoporous plasmon metal nanostructure film formed on the nanopaper electrode
A substrate for surface-enhanced Raman scattering, which is a nano-paper electrode comprising a.
상기 메조포러스 플라즈몬 금속 나노구조 필름은 10 nm 내지 400 nm의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 표면증강라만산란용 기판.
The method of claim 7,
The mesoporous plasmon metal nanostructure film has a thickness of 10 nm to 400 nm, characterized in that the substrate for enhanced surface Raman scattering.
상기 나노페이퍼 지지체는 템포-산화(TEMPO oxidized) 처리된 셀룰로오스 나노섬유를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면증강라만산란용 기판.
The method of claim 7,
The nano-paper support is a tempo-oxidation (TEMPO oxidized) surface-enhanced Raman scattering substrate, characterized in that it comprises a cellulose nanofiber.
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