KR20200082021A - Display device having minimized bezel - Google Patents

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KR20200082021A
KR20200082021A KR1020180172142A KR20180172142A KR20200082021A KR 20200082021 A KR20200082021 A KR 20200082021A KR 1020180172142 A KR1020180172142 A KR 1020180172142A KR 20180172142 A KR20180172142 A KR 20180172142A KR 20200082021 A KR20200082021 A KR 20200082021A
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Abstract

The present invention relates to a display device capable of minimizing a bezel thereof. The display device comprises: a first substrate and a second substrate which include a plurality of pixels; a liquid crystal layer disposed between the first substrate and the second substrate; a thin film transistor formed in each pixel of the first substrate; a protective layer formed on the first substrate to cover the thin film transistor; a black matrix formed on the second substrate to block light transmitted to an image non-display area; an overcoat layer formed on the second substrate; a seal pattern disposed between the first substrate and the second substrate to bond the first substrate and the second substrate together; and an inorganic layer formed on at least one of between the first substrate and the seal pattern and between the second substrate and the seal pattern.

Description

베젤이 최소화된 표시장치{DISPLAY DEVICE HAVING MINIMIZED BEZEL}Display device with minimized bezel {DISPLAY DEVICE HAVING MINIMIZED BEZEL}

본 발명은 표시장치에 관한 것으로, 특히 베젤을 최소화하여도 실링이나 접착력에 문제가 발생하지 않는 표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a display device, and more particularly, to a display device that does not cause a problem in sealing or adhesion even when the bezel is minimized.

근래 사회가 본격적인 정보화시대로 접어듦에 따라 대량의 정보를 처리하고 표시하는 표시장치(display) 분야가 급속도로 발전해 왔고, 최근에는 특히 경량화, 박형화, 저소비전력화의 우수한 성능을 지닌 액정표시장치(Liquid Crystal Display Device; LCD), 유기전계발광 표시장치, PDP(Plasma Display Panel), 전기영동 표시장치(electrophoretic display device) 등과 같은 평판표시장치가 개발되어 기존의 브라운관(Cathode Ray Tube)을 대체하고 있다.2. Description of the Related Art Recently, as the society has entered a full-fledged information age, the display field that processes and displays a large amount of information has rapidly developed, and recently, in particular, a liquid crystal display device having excellent performance of light weight, thinness, and low power consumption (Liquid) Flat panel display devices such as Crystal Display Device (LCD), organic light emitting display devices, plasma display panels (PDPs), and electrophoretic display devices have been developed to replace conventional cathode ray tubes.

근래, 표시영역이 아닌 영역을 최소화하여 표시장치의 전체 무게 및 크기를 감소시키고 표시장치와 외관을 미려하게 하기 위해, 표시장치의 베젤의 폭을 최소화하기 위한 연구가 활발하게 진행되고 있다. 이러한 베젤을 최소화하는 방법으로는 여러가지가 있을 수 있지만, 가장 효율적인 방법은 표시장치의 외곽영역의 면적을 감소시키는 방법이다.In recent years, research has been actively conducted to minimize the width of a bezel of a display device in order to reduce the overall weight and size of the display device by minimizing a non-display area and to make the display device and appearance beautiful. There may be various methods to minimize the bezel, but the most efficient method is to reduce the area of the outer area of the display device.

더미영역은 실제 화상이 구현되는 영역이 아니며, 표시장치의 베젤이 위치하는 영역이다. 따라서, 이 더미영역을 감소시키면 감소된 면적만큼 베젤의 면적이 감소하므로, 더미영역의 면적을 감소시키는 것이 베젤의 면적을 감소시키는 최선의 방법이다.The dummy area is not an area in which an actual image is implemented, but an area in which a bezel of the display device is located. Therefore, if the dummy area is reduced, the area of the bezel is reduced by the reduced area, so reducing the area of the dummy area is the best way to reduce the area of the bezel.

그러나, 상기 더미영역은 표시장치의 기판을 합착하고 실링하는 영역이므르, 이 영역을 감소시키는 경우 합착력이 저하되어 합착된 기판이 박리되는 문제가 발생할 뿐만 아니라 실링력의 저하에 의해 외부로부터 수분과 같은 습기가 표시장치 내부로 침투하여 표시장치가 불량으로 되는 문제가 발생하게 된다.However, since the dummy area is an area for bonding and sealing a substrate of a display device, when reducing this area, not only does the problem of detachment of the adhered substrate due to a decrease in the adhesion force, but also moisture from the outside due to a decrease in the sealing force. A problem occurs that moisture such as this penetrates into the display device and the display device becomes defective.

본 발명은 상기한 문제를 해결하기 위한 것으로, 실패턴 상에 무기층을 추가하여 합착력의 저하를 방지하면서 수분침투를 효율적으로 차단할 수 있는 표시장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a display device capable of effectively blocking moisture penetration while preventing a decrease in adhesion by adding an inorganic layer on a failure turn to solve the above problems.

본 발명의 다른 목적은 실패턴을 블랙매트릭스까지 연장하여 실패턴의 형성영역을 증가시킴으로써 합착력을 향상시키고 수분침투를 차단할 수 있는 표시장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to extend the failure turn to the black matrix to increase the formation area of the failure turn to improve the adhesion and provide a display device capable of blocking moisture penetration.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 표시장치는 복수의 화소를 포함하는 제1기판 및 제2기판; 상기 제1기판 및 상기 제2기판 사이에 배치된 액정층; 상기 제1기판의 각각의 화소에 형성된 박막트랜지스터; 상기 제1기판에 형성되어 박막트랜지스터를 덮는 보호층; 상기 제2기판에 형성되어 화상비표시영역으로 투과되는 광을 차단하는 블랙매트릭스; 상기 제2기판에 형성된 오버코트층; 상기 제1기판 및 상기 제2기판 사이에 배치되어 상기 제1기판 및 상기 제2기판을 합착하는 실패턴; 상기 제1기판과 실패턴 사이 및 제2기판과 실패턴 사이중 적어도 하나에 형성된 무기층으로 구성된다.In order to achieve the above object, the display device according to the present invention includes a first substrate and a second substrate including a plurality of pixels; A liquid crystal layer disposed between the first substrate and the second substrate; A thin film transistor formed in each pixel of the first substrate; A protective layer formed on the first substrate to cover the thin film transistor; A black matrix formed on the second substrate to block light transmitted to the non-image display area; An overcoat layer formed on the second substrate; A failure turn disposed between the first substrate and the second substrate to bond the first substrate and the second substrate; It is composed of an inorganic layer formed between at least one of the first substrate and the failure turn and between the second substrate and the failure turn.

상기 무기층은 상기 제1기판과 상기 실패턴 사이에 배치된 제1무기층이며, 이때, 상기 제1무기층이 상기 합착된 제1기판 및 제2기판의 측단면까지 연장되어 상기 합착된 제1기판 및 제2기판의 측단을 통해 외부로 노출된다.The inorganic layer is a first inorganic layer disposed between the first substrate and the failure turn, wherein the first inorganic layer extends to side cross-sections of the first and second bonded substrates and the bonded first adhesive layer. It is exposed to the outside through the side ends of the first substrate and the second substrate.

또한, 상기 보호층이 실패턴으로 연장되어, 상기 제1무기층이 상기 보호층과 상기 실패턴 사이의 일부 영역 또는 전체 영역에 배치된다.In addition, the protective layer is extended to the failure turn, and the first inorganic layer is disposed in a partial region or the entire region between the protective layer and the failure turn.

상기 무기층은 상기 제2기판과 상기 실패턴 사이에 배치된 제2무기층이며, 이때 상기 제2무기층이 상기 합착된 제1기판 및 제2기판의 측단면까지 연장되어 상기 합착된 제1기판 및 제2기판의 측단을 통해 외부로 노출된다.The inorganic layer is a second inorganic layer disposed between the second substrate and the failure turn, wherein the second inorganic layer extends to the side cross-sections of the first and second bonded substrates and the first bonded substrate. It is exposed to the outside through side ends of the substrate and the second substrate.

오버코트층이 상기 실패턴으로 연장되어, 상기 제2무기층이 상기 오버코트층과 상기 실패턴 사이의 일부 또는 전체 영역에 배치되며, 블랙매트릭스가 상기 실패턴으로 연장되어, 상기 제2무기층이 상기 블랙매트릭스와 상기 실패턴 사이의 일부 영역에 배치된다.The overcoat layer is extended to the failure turn, the second inorganic layer is disposed in a part or the entire region between the overcoat layer and the failure turn, and the black matrix is extended to the failure turn, so that the second inorganic layer is the It is placed in some area between the Black Matrix and the failed turn.

또한, 실링영역의 블랙매트릭스의 단부에는 적어도 하나의 홈이 형성된다.Further, at least one groove is formed at the end of the black matrix of the sealing region.

또한, 본 발명에 따른 표시장치는 복수의 화소를 포함하는 제1기판 및 제2기판; 상기 제1기판 및 상기 제2기판 사이에 배치된 액정층; 상기 제1기판의 각각의 화소에 형성된 박막트랜지스터; 상기 제1기판에 형성되어 박막트랜지스터를 덮는 보호층; 상기 제2기판에 형성되어 화상비표시영역으로 투과되는 광을 차단하는 블랙매트릭스; 상기 제2기판에 형성된 오버코트층; 및 상기 제1기판 및 상기 제2기판 사이에 배치되어 상기 제1기판 및 상기 제2기판을 합착하는 실패턴으로 구성되며, 상기 오버코트층이 액정층까지 형성되며, 상기 실패턴은 상기 블랙매트릭스 위에 직접 형성되어 액정층까지 연장된다.In addition, the display device according to the present invention includes a first substrate and a second substrate including a plurality of pixels; A liquid crystal layer disposed between the first substrate and the second substrate; A thin film transistor formed in each pixel of the first substrate; A protective layer formed on the first substrate to cover the thin film transistor; A black matrix formed on the second substrate to block light transmitted to the non-image display area; An overcoat layer formed on the second substrate; And a failure turn disposed between the first substrate and the second substrate to bond the first substrate and the second substrate, wherein the overcoat layer is formed up to the liquid crystal layer, and the failure turn is on the black matrix. It is formed directly and extends to the liquid crystal layer.

본 발명에서는 제1기판의 실패턴과 보호층의 사이의 계면과, 제2기판의 실패턴과 오버코트층 사이의 계면 또는 제2기판의 실패턴과 블랙매트릭스 사이의 계면에 각각 무기층을 형성함으로써 외부로부터의 수분침투를 효율적으로 차단할 수 있게 된다.In the present invention, by forming an inorganic layer at the interface between the failure turn of the first substrate and the protective layer, the interface between the failure turn of the second substrate and the overcoat layer, or the interface between the failure turn of the second substrate and the black matrix, It is possible to effectively block moisture penetration from the outside.

또한, 본 발명에서는 제2기판의 오버코트층의 일부를 제거하고 이 영역까지 실패턴을 형성하여 상기 실패턴이 블랙매트릭스 위까지 연장하여 실패턴의 합착력을 향상시킴과 동시에 수분침투를 방지할 수 있게 된다.In addition, in the present invention, a portion of the overcoat layer of the second substrate is removed and a failure turn is formed up to this region, so that the failure turn extends over the black matrix to improve the adhesion of the failure turn and prevent moisture penetration. There will be.

도 1은 본 발명에 따른 표시장치의 개략도이다.
도 2는 본 발명에 따른 표시장치의 한화소를 나타내는 평면도이다.
도 3a 및 도 3b는 각각 도 2의 I-I'선 단면도로서, 본 발명의 제1실시예에 따른 표시장치의 최외곽 화소의 구조를 나타내는 단면도이다.
도 4a 및 도 4b는 각각 도 2의 I-I'선 단면도로서, 본 발명의 제2실시예에 따른 표시장치의 최외곽 화소의 구조를 나타내는 단면도이다.
도 5a 및 도 5b는 각각 도 2의 I-I'선 단면도로서, 본 발명의 제3실시예에 따른 표시장치의 최외곽 화소의 구조를 나타내는 단면도이다.
도 6a 및 도 6b는 각각 도 2의 I-I'선 단면도로서, 본 발명의 제4실시예에 따른 표시장치의 최외곽 화소의 구조를 나타내는 단면도이다.
도 7a 및 도 7b는 각각 도 2의 I-I'선 단면도로서, 본 발명의 제5실시예에 따른 표시장치의 최외곽 화소의 구조를 나타내는 단면도이다.
1 is a schematic diagram of a display device according to the present invention.
2 is a plan view showing a pixel of a display device according to the present invention.
3A and 3B are cross-sectional views taken along line I-I' in FIG. 2, respectively, and are cross-sectional views showing the structure of the outermost pixel of the display device according to the first embodiment of the present invention.
4A and 4B are cross-sectional views taken along line I-I' in FIG. 2, respectively, and are cross-sectional views showing the structure of the outermost pixel of the display device according to the second embodiment of the present invention.
5A and 5B are cross-sectional views taken along line I-I' in FIG. 2, respectively, and are cross-sectional views showing the structure of the outermost pixel of the display device according to the third embodiment of the present invention.
6A and 6B are cross-sectional views taken along line I-I' in FIG. 2, respectively, and are cross-sectional views showing the structure of the outermost pixel of the display device according to the fourth embodiment of the present invention.
7A and 7B are cross-sectional views taken along line I-I' in FIG. 2, respectively, and are cross-sectional views showing the structure of the outermost pixel of the display device according to the fifth embodiment of the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Advantages and features of the present invention, and methods for achieving them will be clarified with reference to embodiments described below in detail together with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various different forms, and only the present embodiments allow the disclosure of the present invention to be complete, and the ordinary knowledge in the technical field to which the present invention pertains. It is provided to fully inform the holder of the scope of the invention, and the invention is only defined by the scope of the claims.

본 발명의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 명세서 상에서 언급한 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.The shapes, sizes, ratios, angles, numbers, and the like disclosed in the drawings for describing the embodiments of the present invention are exemplary, and the present invention is not limited to the illustrated matters. The same reference numerals refer to the same components throughout the specification. In addition, in the description of the present invention, when it is determined that detailed descriptions of related known technologies may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, detailed descriptions thereof will be omitted. When'include','have','consist of', etc. mentioned in the specification are used, other parts may be added unless'~man' is used. When a component is expressed as a singular number, the plural number is included unless otherwise specified.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In interpreting the components, it is interpreted as including the error range even if there is no explicit description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.In the case of the description of the positional relationship, for example, when the positional relationship of two parts is described as'~top','~upper','~bottom','~side', etc.,'right' Alternatively, one or more other parts may be located between the two parts unless'direct' is used.

시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.In the case of the description of the time relationship, for example,'after','following','~after','~before', etc., when the temporal sequential relationship is described,'right' or'direct' It may also include cases that are not continuous unless it is used.

제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성 요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.The first, second, etc. are used to describe various components, but these components are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another component. Therefore, the first component mentioned below may be the second component within the technical spirit of the present invention.

본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다.Each of the features of the various embodiments of the present invention may be partially or wholly combined or combined with each other, technically various interlocking and driving may be possible, and each of the embodiments may be independently implemented with respect to each other or may be implemented together in an associative relationship. It might be.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명에서는 베젤을 최소화할 수 있는 표시장치를 제공한다. 특히, 본 발명에서는 표시장치의 실링영역의 외곽면적을 감소시킴으로써 베젤을 최소화할 수 있게 된다. The present invention provides a display device capable of minimizing the bezel. In particular, in the present invention, the bezel can be minimized by reducing the outer area of the sealing area of the display device.

특히, 본 발명에서는 실패턴의 실링구조를 변경하여, 실링영역의 면적을 감소시켜 베젤을 최소화하면서도 실링력을 향상시켜 외부로부터 침투하는 수분을 효율적으로 차단할 수 있는 표시장치를 제공한다.In particular, the present invention provides a display device capable of effectively blocking moisture penetrating from the outside by improving the sealing force while minimizing the bezel by reducing the area of the sealing area by changing the sealing structure of the failure turn.

이하에서는 표시장치로서 액정표시장치를 예를 들어 설명하지만, 본 발명이 이러한 특정 종류의 표시장치에만 한정되는 것이 아니라 다양한 표시장치에 적용될 수 있을 것이다.Hereinafter, a liquid crystal display device is described as an example of a display device, but the present invention is not limited to this particular type of display device, but may be applied to various display devices.

도 1은 본 발명에 따른 액정표시장치의 개략적인 구조를 나타내는 평면도이다.1 is a plan view showing a schematic structure of a liquid crystal display device according to the present invention.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 액정표시장치(100)은 복수의 게이트라인(GL) 및 데이터라인(DL)에 의해 정의되는 복수의 화소(P)가 매트릭스 형태로 배열되는 표시부(AA)와, 상기 표시부(AA) 외곽에 형성된 외곽부(NA)를 포함한다. 이때, 상기 외곽부(NA)는 게이트라인(GL)과 접속되는 게이트패드부(GP) 및 데이터라인(DL)과 접속되는 데이터패드부(DP)를 포함한다. 여기서, 상기 게이트패드부(GP)와 데이터패드부(DP)는 제2기판(140)과 중첩되지 않는 제1기판(130)의 가장자리 영역에 형성된다.As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device 100 according to the present invention includes a display unit in which a plurality of pixels P defined by a plurality of gate lines GL and data lines DL are arranged in a matrix form ( AA) and an outer portion NA formed on the outer portion of the display portion AA. In this case, the outer portion NA includes a gate pad portion GP connected to the gate line GL and a data pad portion DP connected to the data line DL. Here, the gate pad part GP and the data pad part DP are formed in an edge region of the first substrate 130 that does not overlap the second substrate 140.

또한, 상기 게이트패드부(GP)는 게이트구동부로부터 공급되는 게이트신호를 표시부(AA)의 게이트라인(GL)에 공급하고, 상기 데이터패드부(DP)는 데이터구동부로부터 공급되는 화상정보를 표시부(AA)의 데이터라인(DL)에 공급한다.In addition, the gate pad unit GP supplies a gate signal supplied from the gate driving unit to the gate line GL of the display unit AA, and the data pad unit DP displays image information supplied from the data driving unit ( AA) to the data line (DL).

도면에는 도시하지 않았지만, 상기 제1기판(130)의 표시부(AA)의 각각의 화소(P)에는 박막트랜지스터와, 외부로부터 입사되는 광의 투과율을 조절하여 실제 화상을 구현하는 액정층과, 상기 박막트랜지스터에 접속되어 외부로부터 화상신호가 인가됨에 따라 전계를 형성하여 액정층의 액정분자를 스위칭하는 화소전극 및 공통전극이 배치된다.Although not shown in the drawing, each pixel P of the display unit AA of the first substrate 130 includes a thin film transistor, a liquid crystal layer that controls a transmittance of light incident from the outside, and a liquid crystal layer to realize an actual image, and the thin film A pixel electrode and a common electrode are arranged to switch the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer by forming an electric field when an image signal is applied from the outside while being connected to the transistor.

또한, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 제2기판(130)의 표시부(AA)에는 컬러필터층 및 블랙매트릭스가 형성된다.In addition, although not shown in the drawing, a color filter layer and a black matrix are formed on the display portion AA of the second substrate 130.

상기와 같이 구성된 제1기판(130)과 제2기판(140)이 스페이서(spacer)에 의해 일정한 셀갭(cell gap)을 유지한 상태에서 외곽부(NA)에 형성된 실 패턴(seal pattern;160)에 의해 합착되며, 제1기판(130)과 제2기판(140) 사이에 액정층이 형성되어 액정표시장치(100)가 완성된다.A seal pattern (160) formed on the outer portion (NA) in a state where the first substrate 130 and the second substrate 140 configured as described above maintain a constant cell gap by a spacer. The liquid crystal layer is formed between the first substrate 130 and the second substrate 140 to complete the liquid crystal display device 100.

상기 액정층은 다양한 방법에 형성될 수 있다. 도면에 도시된 바와 같이, 실패턴(160)을 제1기판(130) 또는 제2기판(140) 상에 폐곡선으로 형성하고, 상기 실패턴(160)이 형성된 제1기판(130) 또는 제2기판(140)에 액정을 적하한 후, 상기 제1기판(130) 및 제2기판(140)을 합착하여 액정층을 형성할 수 있다.The liquid crystal layer may be formed in various ways. As shown in the figure, the failure turn 160 is formed as a closed curve on the first substrate 130 or the second substrate 140, and the first substrate 130 or the second on which the failure turn 160 is formed. After dropping the liquid crystal on the substrate 140, the first substrate 130 and the second substrate 140 may be bonded to form a liquid crystal layer.

또한, 실패턴(160)을 폐곡선으로 형성하지 않고 일측에 개구가 형성되도록 형성하고, 제1기판(130) 및 제2기판(140)을 합착한 후, 상기 개구를 통해 합착된 제1기판(130) 및 제2기판(140) 사이에 액정을 주입함으로써 액정층을 형성할 수도 있다.In addition, the failure turn 160 is formed so that an opening is formed on one side without forming a closed curve, and after the first substrate 130 and the second substrate 140 are bonded, the first substrate bonded through the opening ( The liquid crystal layer may be formed by injecting liquid crystal between the 130 and the second substrate 140.

도 2는 본 발명에 따른 표시장치(100)의 표시영역(AA)의 한 화소의 구조를 나타내는 평면도이다. 실질적으로 본 발명에 따른 표시장치(100)에는 N×M개의 화소가 매트릭스형상으로 배열되어 있지만, 도면에서는 설명의 편의를 위해 하나의 화소만을 도시하였다.2 is a plan view showing the structure of one pixel in the display area AA of the display device 100 according to the present invention. Although substantially N×M pixels are arranged in a matrix in the display device 100 according to the present invention, only one pixel is illustrated in the drawings for convenience of description.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 표시장치(100)는 복수의 화소를 정의하는 복수의 게이트라인(103) 및 데이터라인(105)과, 각각의 화소에 배치된 박막트랜지스터와, 상기 화소영역에 배치된 공통전극(122) 및 화소전극(124)으로 구성된다.As shown in FIG. 2, the display device 100 according to the present invention includes a plurality of gate lines 103 and data lines 105 defining a plurality of pixels, a thin film transistor disposed in each pixel, and It is composed of a common electrode 122 and a pixel electrode 124 disposed in the pixel area.

상기 박막트랜지스터는 게이트라인(103)과 접속되어 외부로부터 주사신호가 인가되는 게이트전극(111)과, 상기 게이트전극(111) 위에 배치되어 게이트전극(111)에 주사신호가 인가됨에 따라 활성화되어 채널을 형성하는 반도체층(113)과, 상기 반도체층(113) 위에 배치되어 반도체층(113)이 활성화됨에 따라 데이터라인(105)을 통해 인가되는 화상신호를 화소영역의 화소전극(124)으로 공급하는 소스전극(114) 및 드레인전극(115)으로 구성된다.The thin film transistor is connected to the gate line 103 and is a gate electrode 111 to which a scanning signal is applied from the outside, and is disposed on the gate electrode 111 and is activated as a scanning signal is applied to the gate electrode 111 to activate the channel. Supplying the image signal applied through the data line 105 to the pixel electrode 124 in the pixel region as the semiconductor layer 113 forming the and the semiconductor layer 113 disposed on the semiconductor layer 113 is activated It consists of a source electrode 114 and a drain electrode 115.

상기 공통전극(122)은 화소영역의 전체 영역에 걸쳐 화소영역의 형상과 실질적으로 동일한 형상으로 형성되며, 인접하는 화소영역 사이에는 공통전극라인(123)이 배치되어 인접하는 화소영역에 배치된 공통전극(122)이 전기적으로 접속된다. The common electrode 122 is formed in substantially the same shape as the shape of the pixel area over the entire area of the pixel area, and a common electrode line 123 is disposed between adjacent pixel areas to be disposed in the adjacent pixel area. The electrode 122 is electrically connected.

화소전극(124)은 절연층을 사이에 두고 상기 공통전극(122)과 오버랩되도록 배치된다. 이때, 화소전극(124)은 그 일부가 제거되어 게이트라인(103)과 평행하거나 게이트라인(103)과 약간 기울어진 방향으로 띠형상의 복수의 슬릿(124a)이 형성된다. 박막트랜지스터의 소스전극(114) 및 드레인전극(115)을 통해 화소전극(124)에 화상신호가 인가되는 경우, 화소전극(124)의 슬릿(124a)의 2개의 장변과 하부의 공통전극(122) 사이에 액정표시장치(100)의 표면과 실질적으로 수직한 전계가 발생하며, 이 전계에 의해 액정층의 액정분자가 배열되어 액정층을 투과하는 광의 투과율을 조절함으로써 화상을 구현할 수 있게 된다.The pixel electrode 124 is disposed to overlap the common electrode 122 with an insulating layer interposed therebetween. At this time, a portion of the pixel electrode 124 is removed to form a plurality of strip-shaped slits 124a in a direction parallel to the gate line 103 or slightly inclined with the gate line 103. When an image signal is applied to the pixel electrode 124 through the source electrode 114 and the drain electrode 115 of the thin film transistor, the two long sides of the slit 124a of the pixel electrode 124 and the lower common electrode 122 ), an electric field substantially perpendicular to the surface of the liquid crystal display device 100 is generated, and liquid crystal molecules of the liquid crystal layer are arranged by the electric field to control the transmittance of light passing through the liquid crystal layer, thereby realizing an image.

도 3a는 도 1의 I-I'선 및 도 2의 II-II'선 단면도로서, 본 발명의 제1실시예에 따른 표시장치의 표시부(AA)의 화소 및 외곽부(NA)의 실패턴의 구조를 구체적으로 나타내는 도면이다.3A is a cross-sectional view taken along line I-I' of FIG. 1 and line II-II' of FIG. 2, and the failure turns of the pixel and the outer portion NA of the display unit AA of the display device according to the first embodiment of the present invention. It is a figure showing the structure of the concrete.

도 3a에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1실시예에 따른 표시장치(110)는 제1기판(130) 및 제2기판(140)과 그 사이의 액정층(150)으로 구성된다.3A, the display device 110 according to the first exemplary embodiment of the present invention includes a first substrate 130 and a second substrate 140 and a liquid crystal layer 150 therebetween.

상기 제1기판(130)의 표시부(AA에는 박막트랜지스터가 형성된다. 상기 박막트랜지스터는 제1기판(130) 위에 형성된 게이트전극(111)과, 상기 게이트전극(111)이 형성된 제1기판(130) 전체에 걸쳐 형성된 게이트절연층(134)과, 상기 게이트절연층(134) 위에 형성된 반도체층(113)과, 상기 반도체층(113) 위에 형성된 소스전극(114) 및 드레인전극(115)으로 구성된다.A thin film transistor is formed on the display portion AA of the first substrate 130. The thin film transistor includes a gate electrode 111 formed on the first substrate 130 and a first substrate 130 on which the gate electrode 111 is formed. ) Consists of a gate insulating layer 134 formed over the entirety, a semiconductor layer 113 formed on the gate insulating layer 134, and a source electrode 114 and a drain electrode 115 formed on the semiconductor layer 113. do.

상기 제1기판(130)은 유리와 같이 단단한 투명한 물질로 구성될 수도 있고 폴리이미드(polyimide)와 같이 투명하고 플렉서블(flexible)한 플라스틱으로 구성될 수도 있다.The first substrate 130 may be made of a hard transparent material such as glass, or may be made of a transparent and flexible plastic such as polyimide.

상기 게이트전극(111)은 Cr, Mo, Ta, Cu, Ti, Al 또는 이들의 합금 등과 같은 금속으로 이루어진 단일층 또는 복수의 층으로 형성될 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 게이트절연층(134)은 무기물로 구성된 단일층 또는 2층 구조로 형성될 수 있다. 이때, 상기 무기물은 SiOx나 SiNx로 구성되지만, 이에 한정되는 것은 아니다.The gate electrode 111 may be formed of a single layer or a plurality of layers made of a metal such as Cr, Mo, Ta, Cu, Ti, Al, or alloys thereof, but is not limited thereto. The gate insulating layer 134 may be formed of a single layer or a two layer structure composed of inorganic materials. At this time, the inorganic material is composed of SiOx or SiNx, but is not limited thereto.

상기 반도체층(113)은 비정질실리콘, 결정질실리콘, 또는 IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide)와 같은 산화물반도체로 형성할 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다.The semiconductor layer 113 may be formed of an amorphous silicon, crystalline silicon, or an oxide semiconductor such as Indium Gallium Zinc Oxide (IGZO), but is not limited thereto.

상기 소스전극(114) 및 드레인전극(115)은 Cr, Mo, Ta, Cu, Ti, Al 또는 이들의 합금으로 이루어진 단일층 또는 복수의 층으로 구성될 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다.The source electrode 114 and the drain electrode 115 may be composed of a single layer or a plurality of layers made of Cr, Mo, Ta, Cu, Ti, Al, or alloys thereof, but are not limited thereto.

상기 박막트랜지스터 위에는 제1기판(130) 전체에 걸쳐 보호층(136)이 형성된다. 상기 보호층(136)은 포토아크릴과 같은 유기물질로 형성될 수 있지만, 이에 한정되는 것이 아니라 무기층 및 유기층으로 이루어진 2층으로 구성될 수도 있고 무기층, 유기층 및 무기층으로 이루어진 복수의 층으로 구성될 수도 있다.A protective layer 136 is formed over the entire first substrate 130 on the thin film transistor. The protective layer 136 may be formed of an organic material such as photoacrylic, but is not limited thereto, and may be composed of two layers of an inorganic layer and an organic layer, or a plurality of layers of an inorganic layer, an organic layer, and an inorganic layer. It may be configured.

상기 게이트절연층(134) 위의 표시부(AA)에는 공통전극(122)이 형성되고 보호층(136) 위에는 화소전극(124)이 형성된다. 상기 화소전극(124)은 보호층(136)에 형성된 컨택홀을 통해 박막트랜지스터의 드레인전극(116)과 전기적으로 접속된다. 이때, 상기 공통전극(122)은 더미형태로 화소(P) 전체에 걸쳐 일체로 형성되고 화소전극(124)에는 설정된 폭의 복수의 슬릿(124a)이 포함된다.The common electrode 122 is formed on the display portion AA on the gate insulating layer 134, and the pixel electrode 124 is formed on the protective layer 136. The pixel electrode 124 is electrically connected to the drain electrode 116 of the thin film transistor through a contact hole formed in the protective layer 136. At this time, the common electrode 122 is integrally formed over the entire pixel P in the form of a dummy, and the pixel electrode 124 includes a plurality of slits 124a having a set width.

상기 공통전극(122) 및 화소전극(124)은 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide), AZO(Aluminum Zinc Oxide), SnO2, 또는 ZnO와 같은 투명한 금속산화물로 구성될 수도 있고, 금속으로 구성될 수도 있다.The common electrode 122 and the pixel electrode 124 are transparent metals such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium gallium zinc oxide (IGZO), aluminum zinc oxide (AZO), SnO2, or ZnO. It may be composed of oxide or metal.

도면에서는 공통전극(122)이 게이트절연층(134) 위에 형성되고 화소전극(124)이 보호층(136) 위에 형성되지만, 상기 공통전극(122)이 제1기판(130) 위에 형성되고 화소전극(124)이 보호층(136) 위에 형성될 수도 있고, 상기 공통전극(122)이 보호층(136) 위에 형성되고 화소전극(124)이 게이트절연층(134) 위에 형성될 수도 있다.In the drawing, the common electrode 122 is formed on the gate insulating layer 134 and the pixel electrode 124 is formed on the protective layer 136, but the common electrode 122 is formed on the first substrate 130 and the pixel electrode 124 may be formed on the protective layer 136, the common electrode 122 may be formed on the protective layer 136, and the pixel electrode 124 may be formed on the gate insulating layer 134.

제2기판(140)에는 화상비표시영역에 배치되어 이 영역으로 광이 투과되는 것을 차단하는 블랙매트릭스(Black Matrix;142)와, 화소(P)에 형성되어 실제 컬러를 구현하는 컬러필터층(144)과, 제2기판(140)을 평탄화하는 오버코트층(146)이 형성된다.The second substrate 140 is disposed in an image non-display area, a black matrix (142) that blocks light from being transmitted to the area, and a color filter layer (144) formed on the pixel (P) to realize the actual color. ) And an overcoat layer 146 to planarize the second substrate 140 is formed.

상기 블랙매트릭스(142)는 CrO나 CrOx와 같은 불투명한 금속산화물 또는 블랙수지로 구성되지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 컬러필터층(144)은 안료 또는 염료가 포함된 R, G, B 컬러필터층으로 구성된다. 오버코트층(146)은 포토아크릴과 같은 유기물질로 형성될 수 있다.The black matrix 142 is composed of an opaque metal oxide such as CrO or CrOx or a black resin, but is not limited thereto. The color filter layer 144 is composed of R, G, and B color filter layers containing pigments or dyes. The overcoat layer 146 may be formed of an organic material such as photoacrylic.

상기 제1기판(130) 및 제2기판(140)은 외곽부(NA)에 형성된 실패턴(160)에 의해 합착되며, 합착된 제1기판(130)과 제2기판(140) 사이에는 액정층(150)이 형성된다.The first substrate 130 and the second substrate 140 are adhered by a failure turn 160 formed in the outer portion NA, and the liquid crystal between the adhered first substrate 130 and the second substrate 140 Layer 150 is formed.

상기 실패턴(160)은 유리섬유를 포함한 실런트(sealant)로 구성될 수 있다. 이때, 실런트는 폴리머와 열경화성 수지 또는 광경화성 수지를 포함할 수 있다. 상기 실패턴(160)은 실런트를 스크린인쇄법, 롤인쇄법, 적하(dispensing)인쇄법 등과 같은 다양한 인쇄법에 의해 제1기판(130) 및 제2기판(140)중 적어도 하나의 기판의 외곽둘레에 도포한 후, 광이나 열을 인가하여 경화함으로써 형성될 수 있다.The failure turn 160 may be made of a sealant including glass fibers. At this time, the sealant may include a polymer and a thermosetting resin or a photocurable resin. The failure turn 160 is the outer surface of at least one of the first substrate 130 and the second substrate 140 by various printing methods such as a screen printing method, a roll printing method, and a dispensing printing method. After application to the periphery, it can be formed by applying light or heat and curing.

상기 실패턴(160)은 제1기판(130) 및 제2기판(140)을 합착할 뿐만 아니라 표시장치(100)의 외곽을 실링하여 외부로부터 수분이 표시장치(100) 내부로 침투하지 못하도록 한다. 따라서, 상기 실패턴(160)은 합착력이 좋고 투습력이 낮은 물질로 구성되어야만 한다.The failure turn 160 not only bonds the first substrate 130 and the second substrate 140, but also seals the outside of the display device 100 to prevent moisture from entering the display device 100 from outside. . Therefore, the failure turn 160 should be made of a material having good adhesion and low moisture permeability.

더욱이, 근래의 내로우 베젤(narrow bezel)의 표시장치(100)를 제작하기 위해서는 실패턴(160)의 면적을 감소시켜야만 하므로, 작은 면적으로 제1기판(130) 및 제2기판(140)을 충분히 합착하고 외부로부터의 수분을 효율적으로 차단하기 위해서는 합착력이 더욱 좋고 투습력이 더욱 향상된 새로운 물질로 실패턴(160)을 형성해야만 한다.Moreover, in order to manufacture the display device 100 of a recent narrow bezel, the area of the failure turn 160 must be reduced, so that the first and second substrates 130 and 140 are reduced. In order to sufficiently adhere and effectively block moisture from the outside, the failure turn 160 must be formed of a new material having better adhesion and improved moisture permeability.

그러나, 새로운 물질을 사용하는 경우, 실런트의 비용이 증가할 뿐만 아니라 실런트를 도포하고 경화시키는 공정조건이 모두 변경되어야만 하므로, 제조공정을 교체하고 공정을 재설계해야만 하므로, 시간과 비용이 대폭 소모된다.However, when a new material is used, not only does the cost of the sealant increase, but also the process conditions for applying and curing the sealant must all be changed, so the manufacturing process must be replaced and the process redesigned, which is time and cost consuming. .

본 발명에서는 기존의 실런트를 사용하여 제1기판(130) 및 제2기판(140)을 합착하고 표시장치(100)를 합착하고 실링하되, 실패턴(160)이 형성되는 실링영역의 구조를 변경함으로써, 합착력을 향상시키고 투습력을 저하시킬 수 있게 된다.In the present invention, the first substrate 130 and the second substrate 140 are adhered using the existing sealant, the display device 100 is adhered and sealed, but the structure of the sealing area in which the failure turn 160 is formed is changed. By doing so, it is possible to improve the bonding strength and lower the moisture permeability.

기존의 표시장치에서는 실패턴(160)이 제1기판(130) 및 제2기판(140) 사이에 배치되어 상기 실패턴(160)이 제1기판(130) 및 제2기판(140)의 표면과 직접 접촉한다. 또한, 상기 실패턴(160)의 일부가 제1기판(130)의 최상층으로 형성된 보호층(136)과 제2기판(140)의 최상층으로 형성된 오버코트층(146) 사이로 연장되어, 상기 실패턴(160)이 보호층(136)과 오버코트층(146)과 직접 접촉할 수 있다.In the conventional display device, the failure turn 160 is disposed between the first substrate 130 and the second substrate 140 such that the failure turn 160 is the surface of the first substrate 130 and the second substrate 140. In direct contact with. In addition, a portion of the failure turn 160 extends between the protective layer 136 formed as the uppermost layer of the first substrate 130 and the overcoat layer 146 formed as the uppermost layer of the second substrate 140, and the failure turn ( 160) may directly contact the protective layer 136 and the overcoat layer 146.

본 발명에 의하면, 보호층(136)과 오버코트층(146)을 형성하는 유기물, 무기물, 실런트의 투습도와 합착력을 평가하면 다음과 같다.According to the present invention, evaluating the moisture permeability and adhesion of the organic material, the inorganic material, and the sealant forming the protective layer 136 and the overcoat layer 146 are as follows.

수분의 투습도면에서, 보호층(136)과 오버코트층(146)을 형성하는 유기물의 투습도가 약 65-67 barrer로서 가장 높고, 실런트의 투습도가 약 11-30 barrer로서 그 다음으로 높으며, 무기물질의 투습도는 약 0.0001-0.005로서 유기물과 실런트에 비해 훨씬 낮다. In terms of moisture permeability, the moisture permeability of the organic material forming the protective layer 136 and the overcoat layer 146 is the highest as about 65-67 barrer, and the moisture permeability of the sealant is the next highest as about 11-30 barrer. The moisture permeability is about 0.0001-0.005, which is much lower than that of organic materials and sealants.

또한, 합착력면에서, 실런트와 ITO의 합착력은 약 11-12 kgF/cm2으로서 가장 높고, 실런트와 무기물질의 합착력은 약 7-13 kgF/cm2으로서 그 다음으로 높으며, 실런트와 유기물질의 합착력은 약 2-7 kgF/cm2으로서 가장 낮다. 그러나 합착력의 차이는 투습도의 차이만큼 크지 않다.In addition, in terms of bonding strength, the bonding strength of the sealant and ITO is the highest as about 11-12 kgF/cm 2 , and the bonding strength of the sealant and the inorganic material is the next highest as about 7-13 kgF/cm 2 , and the sealant and The adhesion strength of the organic material is about 2-7 kgF/cm 2 , the lowest. However, the difference in adhesion strength is not as great as the difference in moisture permeability.

상기와 같은 각 물질의 투습도와 합차력을 감안하면, 실런트는 합착력은 좋지만 투습도는 무기물질에 비해 훨씬 높으며, 무기물은 투습도는 월등하게 좋고 합착력은 실런트에 비해 조금 낮은 것을 알 수 있다. 따라서, 본 발명에서는 실패턴(160)에 의한 투습도를 훨씬 낮추는 대신(즉, 실링력은 훨씬 향상시키는 대신), 합착력은 미세하게 저감되는 무기물을 사용함으로써 기존의 합착력은 거의 동일하게 유지하면서 수분이 표시장치(100) 내부로 침투하는 것을 더욱 효율적으로 방지할 수 이있게 된다.Considering the moisture permeability and difference force of each material as described above, it can be seen that the sealant has good adhesion, but the moisture permeability is much higher than that of the inorganic material, and the inorganic substance is superior in moisture permeability and the adhesion is slightly lower than that of the sealant. Therefore, in the present invention, instead of lowering the moisture permeability caused by the failure turn 160 much (that is, instead of improving the sealing force much), the adhesive strength is reduced by using the inorganic material, while maintaining the existing bonding strength almost the same. It is possible to more effectively prevent moisture from penetrating into the display device 100.

다시 도 3a를 참조하면, 표시장치(100)의 외곽에는 제1기판(130) 및 제2기판(140)이 외부로 노출된다. 또한, 제2기판(140)에 형성된 블랙매트릭스(142)의 끝단의 측면은 연장된 오버코트층(146)에 의해 덮여진다. Referring back to FIG. 3A, the first substrate 130 and the second substrate 140 are exposed outside the display device 100. In addition, the side surface of the end of the black matrix 142 formed on the second substrate 140 is covered by the extended overcoat layer 146.

실패턴(160)은 제1기판(130)과 제2기판(140) 사이 및 제1기판(130)의 보호층(136)과 제2기판(140)의 오버코트층(146) 사이에 형성된다. 즉, 상기 실패턴(160)은 표시장치(100)의 내부측으로 볼록한 돌기가 형성되며, 이 돌기가 보호층(136)과 오버코트층(146) 사이에 배치된다.The failure turn 160 is formed between the first substrate 130 and the second substrate 140 and between the protective layer 136 of the first substrate 130 and the overcoat layer 146 of the second substrate 140. . That is, the failure turn 160 is formed with a convex protrusion on the inner side of the display device 100, and the protrusion is disposed between the protective layer 136 and the overcoat layer 146.

상기 실패턴(160)과 제1기판(130)의 보호층(136) 사이에는 제1무기층(138)이 형성되며, 상기 실패턴(160)과 제2기판(140)의 오버코트층(146) 사이에는 제2무기층(162)이 형성된다. 따라서, 제1기판(130)에서는 실패턴(160)과 보호층(136)이 직접 접촉하지 않으며, 제2기판(140)에서는 실패턴(160)과 오버코트층(146)이 직접 접촉하지 않는다. A first inorganic layer 138 is formed between the failure turn 160 and the protective layer 136 of the first substrate 130, and the overcoat layer 146 of the failure turn 160 and the second substrate 140 is formed. ), a second inorganic layer 162 is formed. Therefore, the failure turn 160 and the protective layer 136 do not directly contact the first substrate 130, and the failure turn 160 and the overcoat layer 146 do not directly contact the second substrate 140.

상기 제1무기층(138) 및 제2무기층(162)은 무기물로 이루어진 단일층 또는 복수의 층으로 구성될 수 있다. 이때, 무기물은 SiOx나 SiNx를 사용할 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다.The first inorganic layer 138 and the second inorganic layer 162 may be composed of a single layer or a plurality of layers made of an inorganic material. In this case, the inorganic material may be SiOx or SiNx, but is not limited thereto.

일반적으로 표시장치(100) 내부로의 수분의 침투는 특정 막을 직접 투과할 수도 있지만, 막과 막 사이의 계면을 통해서도 침투가 가능하다. 본 발명에서는 상대적으로 투습력이 큰 실패턴(160)과 보호층(136)이 계면을 형성하지 않고, 실패턴(160)과 보호층(136) 사이에 투습력이 훨씬 작은 제1무기층(138)을 배치함으로써 실패턴(160)과 보호층(136)의 계면을 통해 수분이 침투하는 것을 효과적으로 방지할 수 있게 된다.In general, the penetration of moisture into the display device 100 may directly penetrate a specific film, but is also possible through the interface between the film and the film. In the present invention, the first inorganic layer (which is relatively small in moisture permeability) between the failure turn 160 and the protective layer 136 does not form an interface with the failure turn 160 and the protective layer 136 having relatively high moisture permeability ( By arranging 138, it is possible to effectively prevent moisture from penetrating through the interface between the failure turn 160 and the protective layer 136.

또한, 상대적으로 투습력이 큰 실패턴(160)과 오버코트층(146)이 계면을 형성하지 않고, 실패턴(160)과 오버코트층(146) 사이에 투습력이 훨씬 작은 제2무기층(162)을 배치함으로써 실패턴(160)과 오버코트층(146)의 계면을 통해 수분이 침투하는 것을 효과적으로 방지할 수 있게 된다.In addition, the second inorganic layer 162, which has a relatively small moisture permeability, does not form an interface between the failure turn 160 and the overcoat layer 146, which have relatively high moisture permeability, and has a much smaller moisture permeability between the failure turn 160 and the overcoat layer 146. ) To effectively prevent moisture from penetrating through the interface between the failure turn 160 and the overcoat layer 146.

또한, 상기 제1무기층(138) 및 제2무기층(162)이 각각 제1기판(130) 및 제2기판(140)과 직접 접촉하므로, 제1기판(130) 및 제2기판(140)의 표면을 통해 침투하는 수분도 효과적으로 차단할 수 있게 된다.In addition, since the first inorganic layer 138 and the second inorganic layer 162 directly contact the first substrate 130 and the second substrate 140, respectively, the first substrate 130 and the second substrate 140 ) It is also possible to effectively block moisture penetrating through the surface.

그리고, 실패턴(160)의 중앙영역에서는 실링길이(ℓ1)는 충분히 길기 때문에 외부로부터의 수분침투를 충분히 차단할 수 있다. 반면에, 제1기판(130) 및 제2기판(140)의 근처에서의 실링길이(ℓ2)가 중앙영역의 실링길이(ℓ1) 보다는 작지만(ℓ1>ℓ2), 상기 제1기판(130) 및 제2기판(140) 근처에는 각각 제1무기층(138) 및 제2무기층(162)이 배치되므로 이 영역을 통한 수분의 침투도 효과적으로 방지할 수 있게 된다.In addition, in the central region of the failure turn 160, since the sealing length 1 is sufficiently long, moisture penetration from the outside can be sufficiently blocked. On the other hand, although the sealing length ℓ2 in the vicinity of the first substrate 130 and the second substrate 140 is smaller than the sealing length ℓ1 in the central region (ℓ1>ℓ2), the first substrate 130 and Since the first inorganic layer 138 and the second inorganic layer 162 are disposed near the second substrate 140, moisture penetration through this region can be effectively prevented.

이와 같이, 이 실시예에서는 실패턴(160)이 배치되는 실링영역에 제1무기층(138) 및 제2무기층(162)을 추가함으로써 제1기판(130) 및 제2기판(140)의 합착력 저하없이 수분의 침투를 용이하게 차단할 수 있게 된다.As described above, in this embodiment, by adding the first inorganic layer 138 and the second inorganic layer 162 to the sealing area where the failure turn 160 is disposed, the first substrate 130 and the second substrate 140 are It is possible to easily block the penetration of moisture without lowering the adhesion.

도 3b는 본 발명의 제1실시예에 따른 표시장치(100)의 다른 구조를 나타내는 도면이다. 이 구조의 표시장치(100)는 도 3a에 도시된 구조의 표시장치(100)와는 블랙매트릭스(142)만을 제외하고는 그 구성이 동일하므로, 동일한 구성에 대해서는 설명을 생략하고 다른 구성에 대해서만 설명한다.3B is a view showing another structure of the display device 100 according to the first embodiment of the present invention. Since the display device 100 of this structure has the same configuration as the display device 100 of the structure shown in FIG. 3A except for the black matrix 142, description of the same configuration will be omitted and only other configurations will be described. do.

도 3b에 도시된 바와 같이, 이 구조의 표시장치(100)에서는 실패턴(160)과 제1기판(130)의 보호층(136) 사이에 제1무기층(138)이 형성되며, 실패턴(160)과 제2기판(130)의 오버코트층(146) 사이에 제2무기층(162)이 형성되어 외부로부터의 수분침투를 방지한다.As shown in FIG. 3B, in the display device 100 having this structure, a first inorganic layer 138 is formed between the failure turn 160 and the protective layer 136 of the first substrate 130, and the failure turn A second inorganic layer 162 is formed between the 160 and the overcoat layer 146 of the second substrate 130 to prevent moisture penetration from outside.

이때, 블랙매트릭스(142)의 단부에는 복수의 홈(142a)이 형성된다. 도면에는 명확하게 도시되지 않았지만, 상기 홈(142a)은 표시장치(100)의 일측에서 타측으로 연속적으로 형성되어 설정된 폭을 가진 띠형상의 홈(142a)으로 형성되어, 단부에서 복수의 블랙매트릭스(142)를 서로 분리시킨다. 상기 홈(146a) 내부, 즉 블랙매트릭스(142)와 블랙매트릭스(142) 사이에는 오버코트층(146)이 형성될 수도 있고 제2무기층(162)이 형성될 수도 있다.At this time, a plurality of grooves 142a are formed at the ends of the black matrix 142. Although not clearly shown in the drawing, the groove 142a is continuously formed from one side of the display device 100 to the other side, and is formed as a strip-shaped groove 142a having a set width, thereby forming a plurality of black matrixes at the ends ( 142) are separated from each other. An overcoat layer 146 may be formed inside the groove 146a, that is, between the black matrix 142 and the black matrix 142, or a second inorganic layer 162 may be formed.

상기 블랙매트릭스(142)의 홈(142a)은 블랙매트릭스(142)의 계면의 길이를 증가시키므로, 수분의 투습경로를 증가시켜 외부로부터의 수분침투를 더욱 어렵게 한다. 또한, 블랙매트릭스(142)의 홈(142a)에 의해 접착면적이 증가하게 되므로, 제1기판(130) 및 제2기판(140)의 합착력도 향상시킬 수 있게 된다.The groove 142a of the black matrix 142 increases the length of the interface of the black matrix 142, thereby increasing the moisture permeation path to make it more difficult to penetrate water from the outside. In addition, since the adhesive area is increased by the grooves 142a of the black matrix 142, it is possible to improve the bonding strength of the first substrate 130 and the second substrate 140.

도 4a 및 도 4b는 각각 본 발명의 제2실시예에 따른 표시장치(200)의 표시부(AA) 및 외곽부(NA)의 구조를 나타내는 단면도이다. 이때, 이 실시예의 표시장치(200)는 도 3a 및 도 3b에 도시된 제1실시예의 표시장치(100)와는 실링영역을 제외하고는 동일한 구조로 구성되므로, 동일한 구성에 대해서는 설명을 생략하고 다른 구성에 대해서만 설명한다.4A and 4B are cross-sectional views showing structures of the display unit AA and the outer portion NA of the display device 200 according to the second embodiment of the present invention. At this time, since the display device 200 of this embodiment has the same structure as the display device 100 of the first embodiment shown in FIGS. 3A and 3B except for the sealing area, the description of the same structure will be omitted and different Only the configuration will be described.

도 4a에 도시된 바와 같이, 이 실시예에서는 실패턴(260)과 제1기판(230)의 보호층(236) 사이에 제1무기층(238)이 형성되며, 실패턴(250)과 제2기판(240) 사이에는 제2무기층(238)이 형성된다. 상기 제1무기층(238)은 보호층(236)의 끝단의 측면에 형성되어 상기 보호층(236)의 끝단을 덮는다. 제2기판(240)의 오버코트층(246)은 블랙매트릭스(242)의 끝단의 측면으로 연장되어 상기 블랙매트릭스(242)의 끝단의 측면을 덮으며, 제2무기층(262)은 오버코트층(246)의 끝단 측면에 형성되어 상기 오버코트층(246)의 끝단 측면을 덮는다.As shown in FIG. 4A, in this embodiment, a first inorganic layer 238 is formed between the failure turn 260 and the protective layer 236 of the first substrate 230, and the failure turn 250 and the A second inorganic layer 238 is formed between the two substrates 240. The first inorganic layer 238 is formed on a side surface of the end of the protective layer 236 to cover the end of the protective layer 236. The overcoat layer 246 of the second substrate 240 extends to the side surface of the end of the black matrix 242 to cover the side surface of the end of the black matrix 242, and the second inorganic layer 262 has an overcoat layer ( 246) is formed on the end side of the overcoat layer 246 to cover the end side.

이 실시예에서는 표시장치(200)의 측단면에 제1무기층(238) 및 제2무기층(262)이 노출된다. 즉, 실패턴(260)은 제1기판(230)의 보호층(236)과 제2기판(240)의 오버코트층(246) 사이에 배치되어 표시장치(200)의 끝단으로 연장되므로, 상기 실패턴(260)은 제1기판(230)과 제2기판(240)의 사이의 중앙영역에만 형성되고 제1기판(230) 및 제2기판(240)의 근처에는 각각 제1무기층(238) 및 제2무기층((262)이 형성된다.In this embodiment, the first inorganic layer 238 and the second inorganic layer 262 are exposed on a side end surface of the display device 200. That is, the failure turn 260 is disposed between the protective layer 236 of the first substrate 230 and the overcoat layer 246 of the second substrate 240 to extend to the end of the display device 200, so that the seal The pattern 260 is formed only in a central region between the first substrate 230 and the second substrate 240, and the first inorganic layer 238 is located near the first substrate 230 and the second substrate 240, respectively. And a second inorganic layer 262 is formed.

이 실시예의 표시장치(200)에서는 상대적으로 투습력이 큰 실패턴(260)과 보호층(236)이 계면을 형성하지 않고 실패턴(260)과 보호층(236) 사이에 투습력이 훨씬 작은 제1무기층(238)을 배치함으로써, 실패턴(260)과 보호층(236)의 계면을 통해 수분이 침투하는 것을 효과적으로 방지할 수 있게 된다.In the display device 200 of this embodiment, the failure turn 260 and the protective layer 236 having relatively high moisture permeability do not form an interface, and the moisture permeability between the failure turn 260 and the protective layer 236 is much smaller. By arranging the first inorganic layer 238, it is possible to effectively prevent moisture from penetrating through the interface between the failure turn 260 and the protective layer 236.

또한, 상대적으로 투습력이 큰 실패턴(260)과 오버코트층(246)이 계면을 형성하지 않고 실패턴(260)과 오버코트층(246) 사이에 투습력이 훨씬 작은 제2무기층(262)을 배치함으로써, 실패턴(260)과 오버코트층(246)의 계면을 통해 수분이 침투하는 것을 효과적으로 방지할 수 있게 된다.In addition, the second inorganic layer 262 having a relatively low moisture permeability between the failure turn 260 and the overcoat layer 246 without forming an interface between the failure turn 260 and the overcoat layer 246 having relatively high moisture permeability is formed. By arranging, it is possible to effectively prevent moisture from penetrating through the interface between the failure turn 260 and the overcoat layer 246.

표시장치(200)의 측단면의 중앙영역에는 실패턴(260)이 외부로 노출되지만, 제1기판(230) 및 제2기판(240) 근처에서는 제1무기층(238) 및 제2무기층(262)이 직접 외부로 노출되므로, 상기 제1기판(230) 및 제2기판(240)의 표면을 통해 표시장치(200) 내부로 수분이 침투하는 것을 완전히 차단할 수 있게 된다.The failure turn 260 is exposed to the outside in the central region of the side cross-section of the display device 200, but the first inorganic layer 238 and the second inorganic layer are adjacent to the first substrate 230 and the second substrate 240. Since the 262 is directly exposed to the outside, it is possible to completely block the penetration of moisture into the display device 200 through the surfaces of the first substrate 230 and the second substrate 240.

도 4b에 도시된 바와 같이, 이 구조의 표시장치(200)는 도 4a의 표시장치(200)와는 블랙매트릭스(242)를 제외하고는 그 구성이 동일하다. 즉, 이 구조의 표시장치(200)에서는 블랙매트릭스(242)의 단부에 복수의 홈(242a)이 형성되며, 홈(242a)의 내부에는 오버코트층(246)이 형성된다. 또한, 상기 홈(242a)에 의해 분리된 블랙매트릭스(242)의 단부의 블랙매크릭스(244)의 상면 일부와 측면에는 제2무기층(262)이 형성된다.As shown in FIG. 4B, the structure of the display device 200 of this structure is the same as that of the display device 200 of FIG. 4A except for the black matrix 242. That is, in the display device 200 having this structure, a plurality of grooves 242a are formed at the ends of the black matrix 242, and an overcoat layer 246 is formed inside the grooves 242a. In addition, a second inorganic layer 262 is formed on a part of the upper surface and a side surface of the black matrix 244 at the end of the black matrix 242 separated by the groove 242a.

이 구조의 표시장치(200)에서는 상기 블랙매트릭스(242)의 홈(242a)이 블랙매트릭스(242)의 계면에서의 투습경로를 증가시켜 외부로부터의 수분침투를 더욱 어렵게 하며, 블랙매트릭스(242)의 홈(242a)에 의해 접착면적이 증가하게 되므로, 제1기판(230) 및 제2기판(240)의 합착력도 향상시킬 수 있게 된다.In the display device 200 of this structure, the grooves 242a of the black matrix 242 increase the moisture permeation path at the interface of the black matrix 242, making moisture penetration from the outside more difficult, and the black matrix 242. Since the adhesive area is increased by the grooves 242a, the bonding force between the first substrate 230 and the second substrate 240 can also be improved.

도 5a 및 도 5b는 각각 본 발명의 제3실시예에 따른 표시장치(300)의 구조를 나타내는 단면도이다. 이때, 이 실시예의 표시장치(300)는 도 3a 및 도 3b에 도시된 제1실시예의 표시장치(100)와는 실링영역을 제외하고는 동일한 구조로 구성되므로, 동일한 구성에 대해서는 설명을 생략하고 다른 구성에 대해서만 설명한다.5A and 5B are cross-sectional views showing the structure of the display device 300 according to the third embodiment of the present invention. At this time, since the display device 300 of this embodiment has the same structure as the display device 100 of the first embodiment shown in FIGS. 3A and 3B except for the sealing area, the description of the same configuration will be omitted and different Only the configuration will be described.

도 5a에 도시된 바와 같이, 이 실시예에서는 제2기판(340)에 형성되는 오버코트층(346)이 액정층(350)이 형성된 영역까지만 배치되고 실링영역에는 상기 오버코트층(346)이 형성되지 않는다. 이때, 오버코트층(346)이 제거된 영역, 즉 외곽영역의 블랙매트릭스(342) 위에는 직접 제2무기층(362)이 형성되어 상기 블랙매트릭스(342)와 실패턴(360) 사이에 제2무기층(362)이 배치된다.As shown in FIG. 5A, in this embodiment, the overcoat layer 346 formed on the second substrate 340 is disposed only up to the region where the liquid crystal layer 350 is formed, and the overcoat layer 346 is not formed in the sealing region. Does not. At this time, the second inorganic layer 362 is directly formed on the black matrix 342 of the region where the overcoat layer 346 is removed, that is, the outer region, and the second weapon is between the black matrix 342 and the failure turn 360. Layer 362 is disposed.

상기 제2무기층(362)은 블랙매트릭스(342)의 끝단의 측단면에도 형성되어 상기 블랙매트릭스(342)의 측단면을 덮는다. 상기 제2무기층(362)과 오버코트층(346)은 일정 거리 이격되어 배치되며, 이격된 영역 사이로 블랙매트릭스(342)가 외부로 노출된다. 상기 노출된 영역에는 실패턴(360)이 형성되어 노출된 영역을 통해 블랙매트릭스(342)와 실패턴(360)이 접촉한다.The second inorganic layer 362 is also formed on a side end surface of the end of the black matrix 342 to cover the side end surface of the black matrix 342. The second inorganic layer 362 and the overcoat layer 346 are spaced apart at a predetermined distance, and the black matrix 342 is exposed between the spaced areas. A failure turn 360 is formed in the exposed area, and the black matrix 342 and the failure turn 360 contact through the exposed area.

상기 제1무기층(338)과 제2무기층(362)은 각각 제1기판(330) 및 제2기판(340)의 근처에 형성되어 표시장치(300)의 끝단까지 연장되므로, 제1기판(330) 및 제2기판(340)의 근처에서는 각각 제1무기층(338)과 제2무기층(362)이 표시장치(300) 측단면을 통해 외부로 노출된다.Since the first inorganic layer 338 and the second inorganic layer 362 are formed near the first substrate 330 and the second substrate 340, respectively, and extend to the ends of the display device 300, the first substrate In the vicinity of the 330 and the second substrate 340, the first inorganic layer 338 and the second inorganic layer 362 are exposed to the outside through the side surface of the display device 300, respectively.

상기 실패턴(360)은 제1기판(330)의 보호층(336)과 제2기판(340)의 오버코트층(346) 사이에 배치되어, 동일한 두께로 실링영역으로 연장되어 표시장치(300)의 측단면을 통해 외부로 노출된다. The failure turn 360 is disposed between the protective layer 336 of the first substrate 330 and the overcoat layer 346 of the second substrate 340, and extends to the sealing area with the same thickness to display device 300 It is exposed to the outside through the side section of the.

이 실시예의 표시장치(300)에서는 실패턴(360)과 제1기판(330)의 보호층(336)이 계면을 형성하지 않고 그 사이에 제1무기층(338)을 배치함으로써, 실패턴(360)과 보호층(336)의 계면을 통해 수분이 침투하는 것을 효과적으로 방지할 수 있게 된다. 또한, 이실시예에서는 제2기판(340)의 블랙매트릭스(342)와 실패턴(360) 사이에 제2무기층(362)을 배치함으로써 실패턴(360)과 블랙매트릭스(342)의 계면을 통해 수분이 침투하는 것을 효과적으로 방지할 수 있게 된다.In the display device 300 of this embodiment, the failure turn 360 and the protective layer 336 of the first substrate 330 do not form an interface, and by disposing the first inorganic layer 338 therebetween, the failure turn ( 360) and the protective layer 336 can effectively prevent moisture from penetrating through the interface. In addition, in this embodiment, by disposing the second inorganic layer 362 between the black matrix 342 and the failure turn 360 of the second substrate 340, the interface between the failure turn 360 and the black matrix 342 is established. Through this, it is possible to effectively prevent the penetration of moisture.

또한, 제1기판(330) 및 제2기판(340) 근처에서는 제1무기층(338) 및 제2무기층(362)이 직접 표시장치의 측단면을 통해 외부로 노출되므로, 이 영역을 통한 수분의 침투를 완전히 차단할 수 있게 된다.Also, in the vicinity of the first substrate 330 and the second substrate 340, the first inorganic layer 338 and the second inorganic layer 362 are exposed to the outside through the side cross-section of the display device directly. It is possible to completely block the penetration of moisture.

도 5b에 도시된 바와 같이, 이 구조의 표시장치(300)는 도 5a의 표시장치(300)와는 블랙매트릭스(342)을 제외하고는 그 구성이 동일하다. 즉, 이 구조의 표시장치(300)에서는 블랙매트릭스(342)의 단부에 복수의 홈(342a)이 형성되며, 홈(342a)의 내부에는 제2무기층(362)이 형성된다.As shown in FIG. 5B, the structure of the display device 300 of this structure is the same as that of the display device 300 of FIG. 5A except for the black matrix 342. That is, in the display device 300 having this structure, a plurality of grooves 342a are formed at the ends of the black matrix 342, and a second inorganic layer 362 is formed inside the grooves 342a.

이 구조의 표시장치(300)에서는 상기 블랙매트릭스(342)의 홈(342a)이 블랙매트릭스(342)의 계면에서의 투습경로를 증가시켜 외부로부터의 수분침투를 더욱 어렵게 하며, 블랙매트릭스(342)의 홈(342a)에 의해 접착면적이 증가하게 되므로, 제1기판(330) 및 제2기판(340)의 합착력도 향상시킬 수 있게 된다.In the display device 300 of this structure, the grooves 342a of the black matrix 342 increase the moisture permeation path at the interface of the black matrix 342, making moisture penetration from the outside more difficult, and the black matrix 342. Since the adhesive area is increased by the grooves 342a, the bonding force between the first substrate 330 and the second substrate 340 can also be improved.

도 6a 및 도 6b는 각각 본 발명의 제4실시예에 따른 표시장치(400)의 구조를 나타내는 단면도이다. 이때, 이 실시예의 표시장치(400)는 도 3a 및 도 3b에 도시된 제1실시예의 표시장치(100)와는 실링영역을 제외하고는 동일한 구조로 구성되므로, 동일한 구성에 대해서는 설명을 생략하고 다른 구성에 대해서만 설명한다.6A and 6B are cross-sectional views showing the structure of the display device 400 according to the fourth embodiment of the present invention. At this time, since the display device 400 of this embodiment has the same structure as the display device 100 of the first embodiment shown in FIGS. 3A and 3B except for the sealing area, the description of the same configuration will be omitted and different Only the configuration will be described.

도 6a에 도시된 바와 같이, 이 실시예에서는 제2기판(440)에 형성되는 오버코트층(446)이 액정층(450)이 형성된 영역까지만 배치되고 실링영역에는 상기 오버코트층(446)이 형성되지 않는다. 이때, 오버코트층(446)이 제거된 영역, 즉 외곽영역의 블랙매트릭스(442) 위에는 직접 실패턴(460)이 형성되어, 상기 블랙매트릭스(442)와 실패턴(460)이 직접 접촉한다.As shown in FIG. 6A, in this embodiment, the overcoat layer 446 formed on the second substrate 440 is disposed only up to the region where the liquid crystal layer 450 is formed, and the overcoat layer 446 is not formed in the sealing region. Does not. At this time, a failure turn 460 is directly formed on the black matrix 442 of the region where the overcoat layer 446 is removed, that is, the outer region, so that the black matrix 442 and the failure turn 460 are in direct contact.

이 구조의 표시장치(400)에서는 제2기판(440)에는 오버코트층(446)이 형성되지 않고 실패턴(460)이 블랙매트릭스(442)와 직접 접촉되므로, 실패턴(460)의 합착면적을 증가시킬 수 있게 된다. 따라서, 제1기판(430) 및 제2기판(440) 사이의 합착력을 증가시킬 수 있게 된다.In the display device 400 having this structure, since the overcoat layer 446 is not formed on the second substrate 440 and the failure turn 460 directly contacts the black matrix 442, the bonding area of the failure turn 460 is reduced. Can be increased. Therefore, it is possible to increase the bonding force between the first substrate 430 and the second substrate 440.

비록, 블랙매트릭스(442)와 실패턴(460)이 계면을 형성하므로, 이 계면을 통해 수분이 침투할 수 있다. 그러나, 블랙매트릭스(442)와 실패턴(460)의 접촉영역이 액정층(450)의 영역까지 길게 형성되므로, 수분이 침투하는 침투경로가 충분히 길게 형성되어 수분의 침투를 최소화할 수 있게 된다.Although, the black matrix 442 and the failure turn 460 form an interface, moisture may penetrate through the interface. However, since the contact area between the black matrix 442 and the fail turn 460 is formed long to the area of the liquid crystal layer 450, the penetration path through which moisture penetrates is formed long enough to minimize penetration of moisture.

한편, 제1기판(430)의 보호층(436)과 실패턴(460) 사이에는 무기층(438)이 형성되고 상기 무기층(438)이 제1기판(430) 근처에 단부까지 연장되어 상기 무기층(438)이 표시장치(400)의 측단부를 통해 외부로 노출되므로, 이 영역을 통한 수분의 침투를 방지할 수 있게 된다.Meanwhile, an inorganic layer 438 is formed between the protective layer 436 of the first substrate 430 and the failure turn 460, and the inorganic layer 438 extends to an end near the first substrate 430 to Since the inorganic layer 438 is exposed to the outside through the side end of the display device 400, it is possible to prevent the penetration of moisture through this region.

도 6b에 도시된 바와 같이, 이 구조의 표시장치(400)는 도 6a의 표시장치(400)와는 블랙매트릭스(442)을 제외하고는 그 구성이 동일하다. 즉, 이 구조의 표시장치(400)에서는 블랙매트릭스(442)의 단부에 복수의 홈(442a)이 형성되며, 홈(442a)의 내부에는 실패턴(460)이 형성된다.As shown in FIG. 6B, the structure of the display device 400 of this structure is the same as that of the display device 400 of FIG. 6A except for the black matrix 442. That is, in the display device 400 having this structure, a plurality of grooves 442a are formed at an end of the black matrix 442, and a failure turn 460 is formed inside the groove 442a.

이 구조의 표시장치(400)에서는 상기 블랙매트릭스(442)의 홈(442a)이 블랙매트릭스(442)와 실패턴(460) 사이의 계면에서의 투습경로를 증가시켜 외부로부터의 수분침투를 더욱 어렵게 하며, 블랙매트릭스(442)의 홈(442a)에 의해 접착면적이 증가하게 되므로, 제1기판(430) 및 제2기판(440)의 합착력도 향상시킬 수 있게 된다.In the display device 400 of this structure, the groove 442a of the black matrix 442 increases the moisture permeation path at the interface between the black matrix 442 and the failure turn 460, making it more difficult to penetrate moisture from the outside. In addition, since the adhesive area is increased by the grooves 442a of the black matrix 442, the bonding strength of the first substrate 430 and the second substrate 440 can also be improved.

도 7a에 도시된 바와 같이, 이 실시예에서는 실패턴(560)과 제1기판(530)의 보호층(536) 사이의 일부 영역에 제1무기층(538)이 형성되며, 실패턴(560)과 제2기판(540) 사이의 오버코트층(546)의 일부 영역에 제2무기층(562)이 형성된다.As shown in FIG. 7A, in this embodiment, the first inorganic layer 538 is formed in a region between the fail turn 560 and the protective layer 536 of the first substrate 530, and the fail turn 560 ) And a second inorganic layer 562 is formed in a portion of the overcoat layer 546 between the second substrate 540.

도 7a에 도시된 바와 같이, 이 실시예에서는 실패턴(560)과 제1기판(530)의 보호층(536) 사이의 일부 영역에 제1무기층(438)이 형성되며, 실패턴(560)과 제2기판(540) 사이의 오버코트층(546)의 일부 영역에 제2무기층(538)이 형성된다.As shown in FIG. 7A, in this embodiment, the first inorganic layer 438 is formed in a region between the fail turn 560 and the protective layer 536 of the first substrate 530, and the fail turn 560 ) And a second inorganic layer 538 is formed in a portion of the overcoat layer 546 between the second substrate 540.

상기 제1무기층(538)은 보호층(536)의 끝단의 측면에 형성되어 상기 보호층(536)의 끝단의 측면을 덮으며, 표시장치(500)의 측단면을 통해 상기 제1무기층(538)이 외부로 노출된다. 또한, 제2기판(540)의 오버코트층(546)은 블랙매트릭스(542)의 상면과 측면을 덮도록 형성되며, 상기 제2무기층(562)은 오버코트층(546)의 끝단의 측면에 형성되어 표시장치(500)의 측단면을 통해 상기 제2무기층(562)이 외부로 노출된다.The first inorganic layer 538 is formed on a side surface of the end of the protective layer 536 to cover the side surface of the end of the protective layer 536, and the first inorganic layer through a side end surface of the display device 500 538 is exposed to the outside. In addition, the overcoat layer 546 of the second substrate 540 is formed to cover the top and side surfaces of the black matrix 542, and the second inorganic layer 562 is formed on the side surface of the end of the overcoat layer 546. The second inorganic layer 562 is exposed to the outside through the side cross-section of the display device 500.

또한, 실패턴(560)은 제1기판(530)의 보호층(536)과 제2기판(540)의 오버코트층(546)과 각각 접촉한다. 즉, 상기 실패턴(560)의 하면은 제1기판(530)의 보호층(536) 및 제1무기층(538)과 접촉하며, 실패턴(560)의 상면은 제2기판(540)의 오버코트층(546) 및 제2무기층(562)과 접촉한다.In addition, the failure turn 560 contacts the protective layer 536 of the first substrate 530 and the overcoat layer 546 of the second substrate 540, respectively. That is, the lower surface of the failure turn 560 contacts the protective layer 536 and the first inorganic layer 538 of the first substrate 530, and the upper surface of the failure turn 560 is of the second substrate 540. The overcoat layer 546 and the second inorganic layer 562 are contacted.

이때, 상기 제1무기층(538)이 보호층(536)의 상면 일부와 측단면에 형성되므로, 상기 보호층(536)과 제1무기층(538)의 표면에는 단차가 형성된다. 또한, 상기 제2무기층(562)이 오버코트층(546)의 상면 일부와 측단면에 형성되므로, 상기 오버코트층(546)과 제2무기층(562)의 표면에는 단차가 형성된다.At this time, since the first inorganic layer 538 is formed on a portion of the upper surface and the side surface of the protective layer 536, a step is formed on the surfaces of the protective layer 536 and the first inorganic layer 538. In addition, since the second inorganic layer 562 is formed on a portion of the upper surface and the side surface of the overcoat layer 546, a step is formed on the surfaces of the overcoat layer 546 and the second inorganic layer 562.

따라서, 제1기판(530)의 보호층(536)과 제2기판(540)의 오버코트층(546)의 사이에 형성되는 실패턴(560)의 두께가 제1무기층(538) 및 제2무기층(562) 사이에 형성되는 실패턴(560)의 두께보다 커지게 된다. 반대로, 이 실시예에서는 표시장치(500)의 측단면을 통해 외부로 노출되는 실패턴(560)의 면적이 상대적으로 감소되고, 표시장치(500)의 측단면을 통해 외부로 노출되는 제1무기층(538) 및 제2무기층(562)의 면적이 상대적으로 증가하므로, 표시장치(500)의 측단면을 통해 침투하는 수분을 더욱 효율적으로 차단할 수 있게 된다.Accordingly, the thickness of the failure turn 560 formed between the protective layer 536 of the first substrate 530 and the overcoat layer 546 of the second substrate 540 is the first inorganic layer 538 and the second. It is greater than the thickness of the failure turn 560 formed between the inorganic layer 562. Conversely, in this embodiment, the area of the failure turn 560 exposed to the outside through the side surface of the display device 500 is relatively reduced, and the first weapon exposed to the outside through the side surface of the display device 500. Since the areas of the layer 538 and the second inorganic layer 562 are relatively increased, it is possible to more effectively block moisture penetrating through the side cross-section of the display device 500.

또한, 이 실시예의 표시장치(500)에서는 실패턴(560)과 보호층(536) 사이의 일부 영역에 제1무기층(538)을 배치함으로써 실패턴(560)과 보호층(536)의 계면을 통해 수분이 침투하는 것을 최소화할 수 있게 된다. 또한, 실패턴(560)과 오버코트층(546) 사이의 일부 영역에 제2무기층(562)을 배치함으로써 실패턴(560)과 오버코트층(546)의 계면을 통해 수분이 침투하는 것을 최소화할 수 있게 된다.In addition, in the display device 500 of this embodiment, the first inorganic layer 538 is disposed in a partial region between the failure turn 560 and the protection layer 536 to interface the failure turn 560 and the protection layer 536. Through this, it is possible to minimize the penetration of moisture. In addition, by disposing the second inorganic layer 562 in some areas between the failure turn 560 and the overcoat layer 546, the penetration of moisture through the interface between the failure turn 560 and the overcoat layer 546 can be minimized. It becomes possible.

도 7b에 도시된 바와 같이, 이 구조의 표시장치(500)는 도 7a의 표시장치(500)와는 블랙매트릭스(542)을 제외하고는 그 구성이 동일하다. 즉, 이 구조의 표시장치(500)에서는 블랙매트릭스(542)의 단부에 복수의 홈(542a)이 형성되며, 홈(542a)의 내부에는 오버코트층(546)이 형성된다. As shown in FIG. 7B, the structure of the display device 500 of this structure is the same as that of the display device 500 of FIG. 7A except for the black matrix 542. That is, in the display device 500 having this structure, a plurality of grooves 542a are formed at the ends of the black matrix 542, and an overcoat layer 546 is formed inside the grooves 542a.

따라서, 상기 블랙매트릭스(542)의 홈(542a)이 블랙매트릭스(542)의 계면에서의 투습경로를 증가시켜 외부로부터의 수분침투를 더욱 어렵게 하며, 블랙매트릭스(542)의 홈(542a)에 의해 접착면적이 증가하게 되므로, 제1기판(530) 및 제2기판(540)의 합착력도 향상시킬 수 있게 된다.Therefore, the groove 542a of the black matrix 542 increases the moisture permeation path at the interface of the black matrix 542, making water penetration from the outside more difficult, and the groove 542a of the black matrix 542. Since the adhesive area is increased, it is possible to improve the bonding strength of the first substrate 530 and the second substrate 540.

본 발명의 다양한 변형예나 본 발명을 기초로 용이하게 창안할 수 있는 구조 등도 본 발명의 범위에 포함되어야만 할 것이다. 따라서, 본 발명의 권리범위는 상술한 상세한 설명에 의해 결정되는 것이 아니라 첨부한 특허청구범위에 의해 결정되어야만 할 것이다.Various modifications of the present invention and structures that can be easily created based on the present invention should also be included in the scope of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be determined by the detailed description described above, but should be determined by the appended claims.

130,230,330,430,530 : 제1기판
140,240,340,440,540 : 제2기판
136,236,336,436,536 : 보호층
138,238,338,438,538,162,262,362,562 : 무기층
142,242,342,442,542 : 블랙매트릭스
146,246,346,446,546 : 오버코트층
150,250,350,450,550 : 액정층
160,260,360,460,560 : 실패턴
130,230,330,430,530: 1st board
140,240,340,440,540: Second board
136,236,336,436,536: Protective layer
138,238,338,438,538,162,262,362,562: inorganic layer
142,242,342,442,542: Black Matrix
146,246,346,446,546: Overcoat layer
150,250,350,450,550: Liquid crystal layer
160,260,360,460,560: Failure turn

Claims (16)

복수의 화소를 포함하는 제1기판 및 제2기판;
상기 제1기판 및 상기 제2기판 사이에 배치된 액정층;
상기 제1기판의 각각의 화소에 형성된 박막트랜지스터;
상기 제1기판에 형성되어 상기 박막트랜지스터를 덮는 보호층;
상기 제2기판에 형성되어 화상비표시영역으로 투과되는 광을 차단하는 블랙매트릭스;
상기 제2기판에 형성된 오버코트층;
상기 제1기판 및 상기 제2기판 사이에 배치되어 상기 제1기판 및 상기 제2기판을 합착하는 실패턴; 및
상기 제1기판과 실패턴 사이 및 제2기판과 실패턴 사이중 적어도 하나에 형성된 무기층으로 구성된 표시장치.
A first substrate and a second substrate including a plurality of pixels;
A liquid crystal layer disposed between the first substrate and the second substrate;
A thin film transistor formed in each pixel of the first substrate;
A protective layer formed on the first substrate to cover the thin film transistor;
A black matrix formed on the second substrate to block light transmitted to the non-image display area;
An overcoat layer formed on the second substrate;
A failure turn disposed between the first substrate and the second substrate to bond the first substrate and the second substrate; And
A display device comprising an inorganic layer formed on at least one of the first substrate and the failure turn and between the second substrate and the failure turn.
제1항에 있어서, 상기 무기층은 상기 제1기판과 상기 실패턴 사이에 배치된 제1무기층인 표시장치.The display device of claim 1, wherein the inorganic layer is a first inorganic layer disposed between the first substrate and the failure turn. 제2항에 있어서, 상기 제1무기층이 상기 합착된 제1기판 및 제2기판의 측단면까지 연장되어 상기 합착된 제1기판 및 제2기판의 측단면을 통해 외부로 노출되는 표시장치.The display device of claim 2, wherein the first inorganic layer extends to side surfaces of the bonded first substrate and the second substrate and is exposed to the outside through the side surfaces of the bonded first substrate and the second substrate. 제2항에 있어서, 상기 보호층이 실패턴으로 연장되어, 상기 제1무기층이 상기 보호층과 상기 실패턴 사이의 일부 영역에 배치되는 표시장치.The display device of claim 2, wherein the protective layer extends with a failure turn, and the first inorganic layer is disposed in a partial region between the protection layer and the failure turn. 제2항에 있어서, 상기 보호층이 상기 실패턴으로 연장되어, 상기 제1무기층이 상기 보호층과 상기 실패턴 사이의 전체 영역에 배치되는 표시장치.The display device of claim 2, wherein the protection layer extends to the failure turn, and the first inorganic layer is disposed in an entire area between the protection layer and the failure turn. 제1항에 있어서, 상기 무기층은 상기 제2기판과 상기 실패턴 사이에 배치된 제2무기층인 표시장치.The display device of claim 1, wherein the inorganic layer is a second inorganic layer disposed between the second substrate and the failure turn. 제6항에 있어서, 상기 제2무기층이 상기 합착된 제1기판 및 제2기판의 측단면까지 연장되어 상기 합착된 제1기판 및 제2기판의 측단면을 통해 외부로 노출되는 표시장치.The display device of claim 6, wherein the second inorganic layer extends to side surfaces of the bonded first and second substrates and is exposed to the outside through the side surfaces of the bonded first and second substrates. 제6항에 있어서, 상기 오버코트층이 상기 실패턴으로 연장되어, 상기 제2무기층이 상기 오버코트층과 상기 실패턴 사이의 일부 영역에 배치되는 표시장치.The display device of claim 6, wherein the overcoat layer is extended to the fail turn, and the second inorganic layer is disposed in a partial region between the overcoat layer and the fail turn. 제6항에 있어서, 상기 오버코트층이 상기 실패턴으로 연장되어, 상기 제2무기층이 상기 오버코트층과 상기 실패턴 사이의 전체 영역에 배치되는 표시장치.The display device of claim 6, wherein the overcoat layer is extended to the fail turn, and the second inorganic layer is disposed in an entire area between the overcoat layer and the fail turn. 제6항에 있어서, 상기 블랙매트릭스가 상기 실패턴으로 연장되어, 상기 제2무기층이 상기 블랙매트릭스와 상기 실패턴 사이의 일부 영역에 배치되는 표시장치.The display device of claim 6, wherein the black matrix is extended to the failure turn, and the second inorganic layer is disposed in a partial region between the black matrix and the failure turn. 제10항에 있어서, 상기 제2무기층과 상기 오버코트층은 설정 거리 이격되어 배치되고, 이격된 영역에는 실패턴이 형성되는 표시장치.The display device of claim 10, wherein the second inorganic layer and the overcoat layer are arranged at a predetermined distance apart, and a failure turn is formed in the spaced apart area. 제7항 내지 제10항중 어느 한항에 있어서, 상기 실패턴이 형성되는 영역의 상기 블랙매트릭스의 단부에는 적어도 하나의 홈이 형성되는 표시장치.The display device according to any one of claims 7 to 10, wherein at least one groove is formed at an end of the black matrix in an area where the failure turn is formed. 복수의 화소를 포함하는 제1기판 및 제2기판;
상기 제1기판 및 상기 제2기판 사이에 배치된 액정층;
상기 제1기판의 각각의 화소에 형성된 박막트랜지스터;
상기 제1기판에 형성되어 상기 박막트랜지스터를 덮는 보호층;
상기 제2기판에 형성되어 화상비표시영역으로 투과되는 광을 차단하는 블랙매트릭스;
상기 제2기판에 형성된 오버코트층; 및
상기 제1기판 및 상기 제2기판 사이에 배치되어 상기 제1기판 및 상기 제2기판을 합착하는 실패턴으로 구성되며,
상기 오버코트층이 액정층까지 형성되며, 상기 실패턴은 상기 블랙매트릭스 위에 직접 형성되어 액정층까지 연장되는 표시장치.
A first substrate and a second substrate including a plurality of pixels;
A liquid crystal layer disposed between the first substrate and the second substrate;
A thin film transistor formed in each pixel of the first substrate;
A protective layer formed on the first substrate to cover the thin film transistor;
A black matrix formed on the second substrate to block light transmitted to the non-image display area;
An overcoat layer formed on the second substrate; And
It is disposed between the first substrate and the second substrate and consists of a failure turn for bonding the first substrate and the second substrate,
The overcoat layer is formed up to the liquid crystal layer, and the failure turn is formed directly on the black matrix to extend to the liquid crystal layer.
제13항에 있어서, 상기 제1기판과 상기 실패턴 사이에 형성된 무기층을 더 포함하는 표시장치.The display device of claim 13, further comprising an inorganic layer formed between the first substrate and the failure turn. 제14항에 있어서, 상기 무기층이 상기 합착된 제1기판 및 제2기판의 측단면까지 연장되어 상기 합착된 제1기판 및 제2기판의 측단면을 통해 외부로 노출되는 표시장치.15. The display device of claim 14, wherein the inorganic layer extends to side surfaces of the bonded first and second substrates and is exposed to the outside through the side surfaces of the bonded first and second substrates. 제13항에 있어서, 상기 실패턴이 형성되는 영역의 상기 블랙매트릭스의 단부에는 적어도 하나의 홈이 형성되는 표시장치.The display device of claim 13, wherein at least one groove is formed at an end of the black matrix in an area where the failure turn is formed.
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