KR20200061746A - Low power large treatment area atmospheric pressure plasma generator - Google Patents

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Abstract

An embodiment of the present invention provides a low-power large-area atmospheric-pressure plasma generation device, in which a parallel plate electrode structure is improved so that a uniform electric field is generated with a low power in a large area at an end of an open part, and a gas is uniformly supplied so that large-area plasma having a line shape is generated. According to an embodiment of the present invention, the low-power large-area atmospheric-pressure plasma generation device includes: a first electrode having a flat plate shape and elongated in a first direction; a second electrode provided at a position where surfaces of the first and second electrodes face each other with an interval therebetween, having a flat plate shape, and elongated in the first direction; and a third electrode spaced apart from each of the first electrode and the second electrode so that a first introduction passage through which a gas supplied from an outside flows is maintained between the first electrode and the third electrode, and a second introduction passage through which the gas supplied from the outside flows is maintained between the second electrode and the third electrode, having a flat plate shape, and elongated in the first direction, wherein sides of the first to third electrodes are integrally formed so as to form a closed part for electric connection, and opposite sides of the first electrode and the second electrode are spaced apart from each other by an interval with respect to the third electrode to form an open part.

Description

저전력 대면적 대기압 플라즈마 발생장치{LOW POWER LARGE TREATMENT AREA ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA GENERATOR}LOW POWER LARGE TREATMENT AREA ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA GENERATOR

본 발명은 저전력 대면적 대기압 플라즈마 발생장치에 관한 것이다.The present invention relates to a low power large area atmospheric pressure plasma generator.

최근 대기압 플라즈마를 이용한 살균, 지혈, 치아 미백 등 생의학 응용 분야에 대한 연구가 국내외 연구 기관에 의해 활발히 연구되고 있으며 탁월한 효과가 증명되고 있다. 다양한 대기압 플라즈마 방전 방법 중, 1,000MHz~3,000MHz의 고주파를 사용하는 마이크로웨이브 플라즈마의 경우, 그 특성에 있어서 처리 대상에 열적 손상이 없고, 낮은 방전 전압으로 인해 전기적 위험성이 낮으며 전력 효율이 높고, 높은 플라즈마 성분으로 인한 그 효과의 우수성 등 저주파 플라즈마 장비에 비해서 생의학 응용을 위한 플라즈마 장비로서 높은 가능성을 가진다.Recently, research on biomedical applications such as sterilization, hemostasis, and tooth whitening using atmospheric plasma has been actively conducted by domestic and foreign research institutes, and excellent effects have been proved. Among various atmospheric pressure plasma discharge methods, in the case of microwave plasma using a high frequency of 1,000 MHz to 3,000 MHz, there is no thermal damage to the object to be treated in its characteristics, low electrical risk due to low discharge voltage, high power efficiency, Compared to low frequency plasma equipment, such as the excellence of its effect due to high plasma components, it has a high potential as a plasma equipment for biomedical applications.

하지만, 현재 개발된 마이크로웨이브 플라즈마 장비의 경우 효과적인 전력 전달을 위해서 사용되는 매칭 박스로 인해 장비의 크기가 크고 플라즈마 방전을 위해 높은 전력을 사용해야 한다. 또한, 지혈, 상처 치유, 피부 미용과 같은 분야에서 넓은 처리 면적이 요구되고 있으나, 고주파 전력을 사용할 경우 사용 전력의 파장이 매우 짧아 넓은 면적에 균일한 전기장을 만드는 것과 균일한 가스 공급이 어려워 넓은 면적의 플라즈마를 발생시키는 장치의 개발이 요구되고 있다.However, in the case of the currently developed microwave plasma equipment, the size of the equipment is large due to the matching box used for effective power transfer and high power must be used for plasma discharge. In addition, a large treatment area is required in areas such as hemostasis, wound healing, and skin beauty, but when using high-frequency power, the wavelength of the power used is very short, creating a uniform electric field over a large area, and difficult to supply uniform gas. There is a need to develop a device that generates plasma.

본 발명의 실시예는 평행 평판형 전극구조를 개선하여 개방부의 끝부분에서 저전력으로 넓은 면적의 균일한 전기장의 생성을 할 수 있고, 균일한 가스 공급을 하여 선 형태의 대면적 플라즈마를 발생시킬 수 있는 저전력 대면적 대기압 플라즈마 발생장치를 제공하기 위한 것이다.The embodiment of the present invention can improve the parallel plate-type electrode structure to generate a uniform electric field in a large area with low power at the end of the open portion, and generate a large area plasma in a linear form by supplying a uniform gas. It is to provide a low-power large-area atmospheric plasma generator.

본 발명의 실시예에 따른 저전력 대면적 대기압 플라즈마 발생장치는 평판형상으로 제1 방향을 따라 길게 형성되는 제1 전극, 제1 전극과 간격을 두고 서로 면대향되는 위치에 구비되며, 평판형상으로 제1 방향을 따라 길게 형성되는 제2 전극, 제1 전극과의 사이에서 외부로부터 공급된 가스가 흐르는 제1 유입통로를 유지하고, 제2 전극과의 사이에서 외부로부터 공급된 가스가 흐르는 제2 유입통로를 유지하도록 제1 전극, 그리고 제2 전극과 서로 간격을 두고 구비되며, 평판형상으로 제1 방향을 따라 길게 형성되는 제2 전극, 제1 전극 내지 제2 전극은 일측이 일체로 형성되어 전기적으로 연결되는 폐쇄부를 형성하며, 타측은 제3 전극을 기준으로 제1 전극과 제2 전극이 상호 간격을 두고 이격되어 개방부를 형성한다.The low-power large-area atmospheric plasma generator according to an embodiment of the present invention is provided in a first shape formed in the first direction in a flat plate shape, and is provided at a position facing each other at a distance from the first electrode. A second inlet formed long in one direction, a first inflow passage through which gas supplied from the outside flows between the first electrode, and a second inflow through which gas supplied from the outside flows between the second electrode The first electrode and the second electrode are spaced apart from each other to maintain the passage, and the second electrode, the first electrode, and the second electrode formed long along the first direction in a flat plate shape are formed integrally with one side. A closed portion connected to each other is formed, and the first electrode and the second electrode are spaced apart from each other based on the third electrode to form an open portion.

제1 전극과 제2 전극은 접지용 그라운드 전극을 포함할 수 있다. 그리고 제3 전극은 전력 공급용 파워 전극을 포함할 수 있다.The first electrode and the second electrode may include a ground electrode for grounding. In addition, the third electrode may include a power electrode for power supply.

폐쇄부의 일면에 구비되어 외부로부터 공급되는 가스 공급을 제1 유입통로와 제2 유입통로로 안내하는 가스 유입부를 더 포함할 수 있다. 가스 유입부는 폐쇄부의 일면에 구비되어 가스 유입관이 결합되는 가스 유입 결합구, 가스 유입 결합구와 제1 유입통로 사이에 구비되어 가스 유입 결합구와 제1 유입통로를 연결하는 제1 유입라인, 그리고 가스 유입 결합구와 제2 유입통로 사이에 구비되어 가스 유입 결합구와 제2 유입통로를 연결하는 제2 유입라인을 포함할 수 있다.A gas inlet that is provided on one surface of the closing portion and guides gas supply supplied from the outside to the first inlet passage and the second inlet passage may be further included. The gas inlet is provided on one surface of the closed portion, and a gas inlet coupler to which a gas inlet pipe is coupled, a first inlet line provided between the gas inlet coupler and the first inlet passage to connect the gas inlet coupler and the first inlet passage, and gas A second inlet line may be provided between the inlet coupler and the second inlet passage to connect the gas inlet coupler and the second inlet passage.

가스 유입 결합구는 폐쇄부의 일면에서 제2 방향을 따라 간격을 두고 복수개로 구비될 수 있다. 가스 유입 결합구는 제1 유입구와 제2 유입구를 포함하며, 제1 유입구와 제2 유입구는 동일하게 구비될 수 있다. 폐쇄부에 근접한 제1 전극의 전력공급위치에 결합되는 연결부를 더 포함할 수 있다.The gas inlet coupler may be provided in plural at intervals along the second direction on one surface of the closing portion. The gas inlet coupler includes a first inlet and a second inlet, and the first inlet and the second inlet may be identically provided. It may further include a connection portion coupled to the power supply position of the first electrode close to the closing portion.

개방부는 타단으로 갈수록 제1 전극과 제3 전극, 그리고 제2 전극과 제3 전극 사이의 개방된 전극 간격이 제1 방향을 따라 설정된 개방구간에서 서로 다르게 형성될 수 있다. 개방구간은 폐쇄부와 접하는 개방부의 평행 시작지점에서부터 서로 평행한 간격을 유지하는 평행 종료지점까지 형성되는 제1 개방구간, 그리고 제1 개방구간의 평행 종료지점에 연결되어 타단으로 갈수록 서로 인접한 전극들 사이의 간격이 점차 좁아지는 제2 개방구간을 포함할 수 있다. 개방부는 제1 전극의 타측에서 미리 설정된 기울기를 갖고 경사지게 구비되는 제1 개방단부, 제2 전극의 타측에서 미리 설정된 기울기를 갖고 경사지게 구비되는 제2 개방단부, 그리고 제3 전극의 타측에서 미리 설정된 기울기를 갖고 경사지게 구비되는 제3 개방단부를 포함할 수 있다. 제1 개방단부는 제3 개방단부를 향해 상향으로 경사진 제1 경사면을 구비하고, 제2 개방단부는 제3 개방단부를 향해 하향으로 경사진 제2 경사면을 구비하며, 제3 개방단부는 제1 경사면과 제2 경사면에 각각 대응하는 제3 경사면을 구비하고, 제3 경사면은 제1 경사면과 대면하는 하부 경사면, 그리고 제3 경사면과 대면하는 상부 경사면을 포함할 수 있다.The opening part may be formed to be different from each other in an open section in which the first electrode and the third electrode, and the opened electrode spacing between the second electrode and the third electrode are set along the first direction toward the other end. The open section is connected to the first open section formed from the parallel start point of the open part contacting the closed part to the parallel end point maintaining a parallel distance from each other, and the electrodes adjacent to each other as it goes to the other end by being connected to the parallel end point of the first open section. A second open section may be included in which the interval between the sections is gradually narrowed. The opening part has a first open end that is inclined and has a predetermined slope at the other side of the first electrode, a second open end that is inclined and has a predetermined slope at the other side of the second electrode, and a predetermined slope at the other side of the third electrode It may include a third open end provided with an inclined. The first open end has a first inclined surface inclined upward toward the third open end, the second open end has a second inclined surface inclined downward toward the third open end, and the third open end comprises A third inclined surface corresponding to each of the first inclined surface and the second inclined surface may be provided, and the third inclined surface may include a lower inclined surface facing the first inclined surface and an upper inclined surface facing the third inclined surface.

제1 전극과 제3 전극, 그리고 제2 전극의 결합구조에서 제1 방향을 따라 길게 형성된 개방 측면부를 구비하며, 개방 측면부는 제1 개방 측면부와 제2 개방 측면부를 포함할 수 있다. 개방 측면부에 결합되어 개방된 측면을 폐쇄하는 커버부를 더 포함하며, 커버부는 제1 개방 측면부에 결합되는 제1 커버부, 그리고 제2 개방 측면부에 결합되는 제2 커버부를 포함할 수 있다.In the coupling structure of the first electrode, the third electrode, and the second electrode, an open side portion formed along the first direction is provided, and the open side portion may include a first open side portion and a second open side portion. The cover portion may further include a cover portion coupled to the open side portion to close the open side portion, and the cover portion may include a first cover portion coupled to the first open side portion, and a second cover portion coupled to the second open side portion.

평행 평판 전송선 구조를 이용하여 추가적인 정합 장치의 필요 없이 효과적인 전력 공급이 가능하고, 손에 쥐어지는 작은 크기를 가지며 낮은 전력으로 플라즈마가 생성되고, 선 형태의 대면적 플라즈마를 형성하여 넓은 영역에 대하여 한 번에 플라즈마 효과가 있으며, 피부 처리 등 넓은 영역의 플라즈마 처리에 탁월한 효과 할 수 있는 효과가 있다.By using the parallel plate transmission line structure, it is possible to provide effective power without the need for an additional matching device, it has a small size that is held in the hand, and plasma is generated with low power. It has a plasma effect at once, and has an effect that can be excellent for plasma treatment of a wide area such as skin treatment.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 저전력 대면적 대기압 플라즈마 발생장치를 도시한 도면이다.
도 2는 도 1의 후면을 도시한 도면이다.
도 3은 도 1의 내부 구조를 도시한 단면도이다.
도 4는 도 1에서 개방 측면부에 커버부가 결합된 상태를 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 저전력 대면적 대기압 플라즈마 발생장치의 전기장 세기를 도시한 도면이다.1 is a view showing a low-power large-area atmospheric pressure plasma generator according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a view showing the rear surface of FIG. 1.
3 is a cross-sectional view showing the internal structure of FIG. 1.
4 is a view showing a state in which the cover portion is coupled to the open side in FIG.
5 is a view showing an electric field strength of a low-power large-area atmospheric pressure plasma generator according to an embodiment of the present invention.

여기서 사용되는 전문용어는 단지 특정 실시예를 언급하기 위한 것이며, 본 발명을 한정하는 것을 의도하지 않는다. 여기서 사용되는 단수 형태들은 문구들이 이와 명백히 반대의 의미를 나타내지 않는 한 복수 형태들도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함하는"의 의미는 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 성분을 구체화하며, 다른 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소, 성분 및/또는 군의 존재나 부가를 제외시키는 것은 아니다.The terminology used herein is for the purpose of referring only to specific embodiments and is not intended to limit the invention. The singular forms used herein include plural forms unless the phrases clearly indicate the opposite. As used herein, the meaning of “comprising” embodies certain properties, regions, integers, steps, actions, elements and/or components, and other specific properties, regions, integers, steps, actions, elements, components and/or groups It does not exclude the existence or addition of.

다르게 정의하지는 않았지만, 여기에 사용되는 기술용어 및 과학용어를 포함하는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 일반적으로 이해하는 의미와 동일한 의미를 가진다. 보통 사용되는 사전에 정의된 용어들은 관련기술문헌과 현재 개시된 내용에 부합하는 의미를 가지는 것으로 추가 해석되고, 정의되지 않는 한 이상적이거나 매우 공식적인 의미로 해석되지 않는다.Although not defined differently, all terms including technical terms and scientific terms used herein have the same meaning as those generally understood by those skilled in the art to which the present invention pertains. Commonly used dictionary-defined terms are further interpreted as having meanings consistent with related technical documents and currently disclosed contents, and are not interpreted as ideal or very formal meanings unless defined.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art to which the present invention pertains can easily practice. However, the present invention can be implemented in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 저전력 대면적 대기압 플라즈마 발생장치를 도시한 도면이며, 도 2는 도 1의 후면을 도시한 도면이다. 그리고 도 3은 도 1의 내부 구조를 도시한 단면도이며, 도 4는 도 1에서 개방 측면부에 커버부가 결합된 상태를 도시한 도면이다. 또한, 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 저전력 대면적 대기압 플라즈마 발생장치의 전기장 세기를 도시한 도면이다.1 is a view showing a low-power large-area atmospheric pressure plasma generator according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a view showing the rear surface of FIG. 1. And Figure 3 is a cross-sectional view showing the internal structure of Figure 1, Figure 4 is a view showing a state in which the cover portion is coupled to the open side in FIG. In addition, Figure 5 is a view showing the electric field strength of the low-power large-area atmospheric plasma generator according to an embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 5를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 저전력 대면적 대기압 플라즈마 발생장치는 제1 전극(10), 제2 전극(20), 제3 전극(30), 가스 유입부, 연결부(104), 커버부를 포함하며, 제1 전극(10) 내지 제3 전극(30)은 일측이 일체로 형성되어 전기적으로 연결되는 폐쇄부(40)를 형성하며, 타측은 제3 전극(30)을 기준으로 제1 전극(10)과 제2 전극(20)이 상호 간격을 두고 이격되어 개방부를 형성한다. 제1 전극(10) 내지 제3 전극(30)은 도전성 도체로 가공한 일측이 전기적으로 연결되어 평행 평판 전송선 기능을 할 수 있다. 제1 전극(10) 내지 제3 전극(30)은 10mm~40mm 너비의 평판으로 형성할 수 있으며, 마이크로 신호의 공진기(Resonator)로 동작할 수 있다. 그리고 제1 방향을 기준으로 폐쇄부(40)의 길이는 가스 공급을 고려하여 10mm~30mm로 형성할 수 있다. 폐쇄부(40)의 끝 부분에서 개방부까지는 동작하는 고주파 파장의 1/4에 해당하는 길이를 가질 수 있다. 공진기의 전기적 특성상 높은 전기장이 개방부의 끝 부분에 집중된다. 개방부의 끝부분에서 전극들 간격은 높은 전기장을 만들기 위하여 0.1mm~ 1mm를 유지할 수 있다.1 to 5, the low-power large-area atmospheric plasma generator according to an embodiment of the present invention includes a first electrode 10, a second electrode 20, a third electrode 30, a gas inlet, and a connecting portion (104), including a cover portion, the first electrode 10 to the third electrode 30 is one side is integrally formed to form a closed portion 40 is electrically connected, the other side of the third electrode 30 Based on the first electrode 10 and the second electrode 20 are spaced apart from each other to form an opening. The first electrode 10 to the third electrode 30 may be electrically connected to one side processed with a conductive conductor to function as a parallel plate transmission line. The first electrode 10 to the third electrode 30 may be formed of a plate having a width of 10 mm to 40 mm, and may operate as a resonator of a micro signal. In addition, the length of the closing portion 40 based on the first direction may be formed to 10 mm to 30 mm in consideration of gas supply. The end portion of the closing portion 40 to the opening portion may have a length corresponding to 1/4 of a high-frequency wavelength operating. Due to the electrical characteristics of the resonator, a high electric field is concentrated at the end of the opening. The gap between the electrodes at the end of the opening can be maintained between 0.1 mm and 1 mm to create a high electric field.

제1 전극(10)은 평판형상으로 제1 방향을 따라 길게 형성될 수 있다. 제1 은 접지용 그라운드 전극을 포함할 수 있다. 그리고 제1 전극(10)은 제3 전극(30)의 하측에 구비될 수 있다. The first electrode 10 may be formed to be elongated along the first direction in a flat plate shape. The first may include a ground electrode for grounding. In addition, the first electrode 10 may be provided below the third electrode 30.

제2 전극(20)은 제1 전극(10)과 간격을 두고 서로 면대향되는 위치에 구비되며, 평판형상으로 제1 방향을 따라 길게 형성될 수 있다. 제2 전극(20)은 접지용 그라운드 전극을 포함할 수 있다. 그리고 제2 전극(20)은 제3 전극(30)의 상측에 구비될 수 있다.The second electrode 20 is provided at a position facing each other at a distance from the first electrode 10, and may be formed to be elongated along the first direction in a flat plate shape. The second electrode 20 may include a ground electrode for grounding. In addition, the second electrode 20 may be provided above the third electrode 30.

제3 전극(30)은 제1 전극(10)과의 사이에서 외부로부터 공급된 가스가 흐르는 제1 유입통로(14)를 유지하고, 제2 전극(20)과의 사이에서 외부로부터 공급된 가스가 흐르는 제2 유입통로(24)를 유지하도록 제1 전극(10), 그리고 제2 전극(20)과 서로 간격을 두고 구비되며, 평판형상으로 제1 방향을 따라 길게 형성될 수 있다. 제3 전극(30)은 전력 공급용 파워 전극을 포함할 수 있다.The third electrode 30 maintains a first inflow passage 14 through which gas supplied from the outside flows between the first electrode 10, and a gas supplied from the outside between the second electrode 20 The first electrode 10 and the second electrode 20 are spaced apart from each other so as to maintain the second inflow passage 24 through which they flow, and may be formed to be long along the first direction in a flat plate shape. The third electrode 30 may include a power electrode for power supply.

제1 전극(10)과 제2 전극(20)은 제3 전극(30)을 감싸며, 제3 전극(30)의 외부 노출을 제한할 수 있다. 즉, 제1 전극(10)과 제2 전극(20), 그리고 제3 전극(30)의 결합구조는 그라운드(Ground) 면으로써 파워(Power) 면을 감싸는 형태로 구비될 수 있다. 가운데 위치하는 제3 전극(30)의 파워 면을 제1 전극(10)과 제2 전극(20)의 그라운드 면으로 감싸므로 외부로부터의 오염 및 산화를 방지할 수 있다. 그리고 전력이 직접적으로 흐르는 제3 전극(30)을 보호함으로써, 전기적인 안전성을 확보할 수 있고, 전력이 통하는 동안에도 손으로 접촉이 가능하다. The first electrode 10 and the second electrode 20 surround the third electrode 30 and limit external exposure of the third electrode 30. That is, the coupling structure of the first electrode 10, the second electrode 20, and the third electrode 30 may be provided in a form surrounding the power surface as a ground surface. Since the power surfaces of the third electrode 30 located in the center are wrapped with the ground surfaces of the first electrode 10 and the second electrode 20, contamination and oxidation from the outside can be prevented. In addition, by protecting the third electrode 30 through which power directly flows, electrical safety can be secured, and hand contact is possible even while power is on.

가스 유입부는 폐쇄부(40)의 일면에 구비되어 외부로부터 공급되는 가스의 공급을 제1 유입통로(14)와 제2 유입통로(24)로 안내할 수 있다. 여기서, 가스는 헬륨 가스, 아르곤 가스, 질소 가스, 산소, 그리고 복합 가스 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 가스 유입부는 가스 유입 결합구, 제1 유입라인(103a), 그리고 제2 유입라인(103b)을 포함할 수 있다. 가스 유입부는 필요에 따라 여러 개의 유입라인을 구비할 수 있다. 여기서, 가스가 공급되는 유입라인의 지름은 0.1mm~1mm로 형성할 수 있다.The gas inlet may be provided on one surface of the closed portion 40 to guide the supply of gas supplied from the outside to the first inlet passage 14 and the second inlet passage 24. Here, the gas may include one or more of helium gas, argon gas, nitrogen gas, oxygen, and composite gas. The gas inlet may include a gas inlet coupler, a first inlet line 103a, and a second inlet line 103b. The gas inlet may have a plurality of inlet lines as needed. Here, the diameter of the inlet line through which the gas is supplied can be formed to be 0.1 mm to 1 mm.

가스 유입 결합구는 폐쇄부(40)의 일면에 구비되어 가스 유입관이 결합되는 부분이다. 가스 유입 결합구는 폐쇄부(40)의 일면에서 제2 방향을 따라 간격을 두고 복수개로 구비될 수 있다. 가스 유입 결합구는 제1 유입구(101a)와 제2 유입구(101b)를 포함하며, 제1 유입구(101a)와 제2 유입구(101b)는 동일하게 구비될 수 있다.The gas inlet coupling port is provided on one surface of the closing portion 40 and is a portion where the gas inlet pipe is coupled. The gas inlet coupler may be provided in a plurality at intervals along the second direction on one surface of the closing portion 40. The gas inlet coupler includes a first inlet 101a and a second inlet 101b, and the first inlet 101a and the second inlet 101b may be identically provided.

제1 유입라인(103a)은 가스 유입 결합구와 제1 유입통로(14) 사이에 구비되어 가스 유입 결합구와 제1 유입통로(14)를 연결한다.The first inlet line 103a is provided between the gas inlet coupler and the first inlet passage 14 to connect the gas inlet coupler and the first inlet passage 14.

제2 유입라인(103b)은 가스 유입 결합구와 제2 유입통로(24) 사이에 구비되어 가스 유입 결합구와 제2 유입통로(24)를 연결한다. The second inlet line 103b is provided between the gas inlet coupler and the second inlet passage 24 to connect the gas inlet coupler and the second inlet passage 24.

도 3을 참조하면, 연결부(104)는 폐쇄부(40)에 근접한 제1 전극(10)의 전력공급위치에 결합될 수 있다. 연결부(104)와의 연결을 위한 연결구멍(105)을 구비할 수 있다. 연결부(104)와 연결구멍(105)은 폐쇄부(40)로부터 사용하는 주파수에 따라 입력 임피던스 50Ω을 만족시키는 곳에 위치될 수 있다. 여기서, 전력공급위치는 폐쇄부(40)로부터 사용하는 주파수에 따라 입력 임피던스 50Ω을 만족시키는 위치를 포함할 수 있다. 그리고 1,000MHz~3,000MHz 대역의 고주파 전력은 연결부(104)를 통하고 제3 전극(30)의 연결구멍(105)을 통해 공급된다.Referring to FIG. 3, the connection part 104 may be coupled to the power supply position of the first electrode 10 close to the closing part 40. A connection hole 105 for connection with the connection portion 104 may be provided. The connecting portion 104 and the connecting hole 105 may be located where the input impedance 50 Ω is satisfied according to the frequency used from the closing portion 40. Here, the power supply location may include a location that satisfies the input impedance 50 Ω according to the frequency used from the closing unit 40. In addition, high-frequency power in the band of 1,000 MHz to 3,000 MHz is supplied through the connection portion 104 and through the connection hole 105 of the third electrode 30.

개방부는 타단으로 갈수록 제1 전극(10)과 제3 전극(30), 그리고 제2 전극(20)과 제3 전극(30) 사이의 개방된 전극 간격이 제1 방향을 따라 설정된 개방구간에서 서로 다르게 형성될 수 있다. 여기서, 개방구간은 제1 개방구간(A), 그리고 제2 개방구간(B)을 포함할 수 있다.As the opening portion goes to the other end, the opened electrode intervals between the first electrode 10 and the third electrode 30 and the second electrode 20 and the third electrode 30 are set to each other in an open section set along the first direction. It can be formed differently. Here, the open section may include a first open section (A) and a second open section (B).

제1 개방구간(A)은 폐쇄부(40)와 접하는 개방부의 평행 시작지점에서부터 서로 평행한 간격을 유지하는 평행 종료지점까지 형성될 수 있다.The first opening section A may be formed from a parallel starting point of the opening portion in contact with the closing portion 40 to a parallel ending point maintaining a parallel distance from each other.

제2 개방구간(B)은 제1 개방구간(A)의 평행 종료지점에 연결되어 타단으로 갈수록 서로 인접한 전극들 사이의 간격이 점차 좁아지는 지점을 포함할 수 있다. 도 3을 참조하면, 제1 개방구간(A)보다 제2 개방구간(B)에서 전극들 사이의 간격이 좁다. 그리고 제2 개방구간(B)에서도 타단으로 갈수록 앞쪽이 뾰족하게 형성하여 전자의 집중도가 높게 구현할 수 있다. 제2 개방구간(B)에서 전극들의 인접된 구조를 뾰족하고 상호 간격을 좁힐 수 있는 구조로 개선하여 전기장이 강해질 수 있도록 할 수 있다. 전기적 집중도의 증가에 따라 플라즈마의 발생이 용이하고 안정성을 증가시킬 수 있다. 기존 전극의 파워부 면은 쉽게 노출되어 있어 외부의 충격 및 접촉으로 인해 변형 및 플라즈마가 불안정적으로 생성되는 단점이 있었다. 그리고 전기장 세기는 기존 최대 550 V/m이었다. The second open section B may include a point connected to a parallel end point of the first open section A, and the distance between electrodes adjacent to each other gradually narrows toward the other end. Referring to FIG. 3, the distance between the electrodes in the second open section B is narrower than the first open section A. Also, in the second open section B, the front side becomes sharper toward the other end, so that the concentration of electrons can be realized high. In the second open section (B), the adjacent structures of the electrodes can be improved to a structure capable of sharpening and narrowing the mutual spacing so that the electric field can be strengthened. Plasma can be easily generated and stability can be increased according to an increase in electrical concentration. The surface of the power part of the existing electrode is easily exposed, so there is a disadvantage that deformation and plasma are generated unstable due to external impact and contact. And the electric field strength was up to 550 V/m.

한편, 제1 전극(10), 제2 전극(20), 그리고 제3 전극(30)의 결합구조에서 개방부는 제1 개방단부, 제2 개방단부, 그리고 제3 개방단부를 포함할 수 있다. 제1 개방단부는 제1 전극(10)의 타측에서 미리 설정된 기울기를 갖고 경사지게 구비될 수 있다. 제1 개방단부는 제3 개방단부를 향해 상향으로 경사진 제1 경사면(12)을 구비할 수 있다.On the other hand, in the coupling structure of the first electrode 10, the second electrode 20, and the third electrode 30, the open portion may include a first open end, a second open end, and a third open end. The first open end may be provided to be inclined with a predetermined slope at the other side of the first electrode 10. The first open end may have a first inclined surface 12 inclined upward toward the third open end.

제3 개방단부는 제3 전극(30)의 타측에서 미리 설정된 기울기를 갖고 경사지게 구비될 수 있다. 제3 개방단부는 제1 경사면(12)과 제2 경사면(22)에 각각 대응하는 제3 경사면(32)을 구비할 수 있다. 제3 경사면(32)은 제1 경사면(12)과 대면하는 하부 경사면(32a), 그리고 제2 경사면(22)과 대면하는 상부 경사면(32b)을 포함할 수 있다. 하부 경사면(32a)과 상부 경사면(32b)을 구비함에 따라 개방부의 끝부분에서 전극들 사이의 간격을 더 정밀하게 관리할 수 있으며, 전기장이 개방부의 끝부분에 더 집중되도록 구현할 수 있다.The third open end may be provided to be inclined with a preset slope at the other side of the third electrode 30. The third open end may have a third inclined surface 32 corresponding to the first inclined surface 12 and the second inclined surface 22, respectively. The third inclined surface 32 may include a lower inclined surface 32a facing the first inclined surface 12 and an upper inclined surface 32b facing the second inclined surface 22. As the lower inclined surface 32a and the upper inclined surface 32b are provided, the distance between the electrodes at the end of the opening can be more precisely managed, and the electric field can be implemented to be more concentrated at the end of the opening.

제2 개방단부는 제2 전극(20)의 타측에서 미리 설정된 기울기를 갖고 경사지게 구비될 수 있다. 제2 개방단부는 제3 개방단부를 향해 하향으로 경사진 제2 경사면(22)을 구비할 수 있다. 제1 경사면(12)의 끝부분(12a)과 제3 경사면(32)의 끝부분, 그리고 제2 경사면(22)의 끝부분(22a)과 제3 경사면(32)의 끝부분 사이에 걸리는 강한 전기장으로 공급된 가스가 방전하여 선 형태의 대면적 플라즈마를 생성하게 된다.The second open end may be provided to be inclined with a predetermined slope at the other side of the second electrode 20. The second open end may have a second inclined surface 22 inclined downward toward the third open end. Strong between the end portion 12a of the first inclined surface 12 and the end portion of the third inclined surface 32, and between the end portion 22a of the second inclined surface 22 and the end portion of the third inclined surface 32 The gas supplied to the electric field is discharged to generate a linear large area plasma.

본 발명의 실시예에서는 판형 전극구조에서 그라운드 면을 갖는 제1 전극(10)과 제2 전극(20)으로 파워부 면을 갖는 제3 전극(30)을 감싸 제3 전극(30)의 외부 접촉 방지 및 보호하는 형태를 기본구조로 한다. 그리고 제3 전극(30)을 상부와 하부에서 감싸는 형태를 구현함으로써 외부의 충격 및 접촉으로부터 보호하여 안정적인 플라즈마 생성이 가능하다. 그리고 플라즈마 생성시 필수적으로 필요한 가스의 흐름을 컨트롤 하기 위해서 판형 전극의 결합구조에 가스 흐름 가이드 기능을 구현하여 추가적인 장비가 불필요하다. 1,000MHz~3,000MHz 대역의 고주파를 사용하고, 평행 평판 전송선을 이용한 공진기를 구성하여 자가 매칭이 가능하다. 그리고 외부로부터 공급되는 가스를 평행 평판 전극구조와 측면을 둘러싸고 있는 커버부를 통해 안정적으로 공급하고, 평행 평판 전극구조의 개방된 끝 부분에서 10mm~40mm의 선 형태의 대면적 플라즈마가 발생시킬 수 있다. 그리고 전기장 세기는 최대 2000 V/m로 구현할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the first electrode 10 having a ground surface and the third electrode 30 having a power portion surface are wrapped with a first electrode 10 having a ground surface in a plate-shaped electrode structure, and external contact of the third electrode 30 is achieved. The basic structure is to prevent and protect. In addition, the third electrode 30 is formed by wrapping the upper and lower electrodes so that it is possible to generate stable plasma by protecting it from external impact and contact. Also, in order to control the gas flow necessary for plasma generation, additional equipment is unnecessary by implementing a gas flow guide function on the coupling structure of the plate-shaped electrode. Self-matching is possible by using a high frequency band of 1,000MHz to 3,000MHz and constructing a resonator using a parallel plate transmission line. In addition, the gas supplied from the outside can be stably supplied through the parallel plate electrode structure and the cover portion surrounding the side surface, and a large area plasma in the form of a line of 10 mm to 40 mm can be generated at the open end of the parallel plate electrode structure. And the electric field strength can be realized up to 2000 V/m.

도 1 내지 도 4를 참조하면, 제1 전극(10)과 제2 전극(20), 그리고 제3 전극(30)의 결합구조에서 제1 방향을 따라 길게 형성된 개방 측면부를 구비할 수 있다. 개방 측면부는 제1 개방 측면부와 제2 개방 측면부를 포함할 수 있다. 커버부는 개방 측면부에 결합되어 개방된 측면을 폐쇄할 수 있다. 커버부는 절연체로 형성할 수 있다. 커버부는 제1 개방 측면부에 결합되는 제1 커버부(60a), 그리고 제2 개방 측면부에 결합되는 제2 커버부(60b)를 포함할 수 있다. 커버부를 개방 측면부에 결합함에 따라 제3 전극(30)의 외부 노출을 최소화 할 수 있다.1 to 4, in the coupling structure of the first electrode 10, the second electrode 20, and the third electrode 30, an open side portion formed long in the first direction may be provided. The open side portion can include a first open side portion and a second open side portion. The cover portion may be coupled to the open side portion to close the open side. The cover portion may be formed of an insulator. The cover portion may include a first cover portion 60a coupled to the first open side portion, and a second cover portion 60b coupled to the second open side portion. As the cover portion is coupled to the open side portion, external exposure of the third electrode 30 can be minimized.

상기한 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 저전력 대면적 대기압 플라즈마 발생장치는 평행 평판 형상의 전극구조와 커버부를 통해 측면을 커버하고, 제1 전극(10)과 제3 전극(30) 사이, 그리고 제2 전극(20)과 제3 전극(30)의 사이 공간을 가스의 통로로 사용할 수 있다. 그리고 외부로부터 공급되는 가스가 가스 유입부를 통해 내부로 공급되어 전극 사이의 유입통로를 통해 개방부의 끝부분에 형성된 틈으로 방출되고, 개방부의 끝부분에 걸리는 강한 전기장으로 공급된 가스가 방전하여 선 형태의 대면적 플라즈마를 생성하게 된다.As described above, the low-power large-area atmospheric plasma generator according to an embodiment of the present invention covers a side surface through a parallel plate-shaped electrode structure and a cover portion, between the first electrode 10 and the third electrode 30, and The space between the second electrode 20 and the third electrode 30 may be used as a gas passage. And the gas supplied from the outside is supplied to the inside through the gas inlet and discharged into the gap formed at the end of the opening through the inflow passage between the electrodes, and the gas supplied to the strong electric field across the end of the opening discharges to form a line To generate a large area plasma.

이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 여기에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 다양하게 변형하여 실시하는 것이 가능하고, 이것도 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although the preferred embodiment of the present invention has been described through the above, the present invention is not limited to this, and it is possible to carry out various modifications within the scope of the claims and detailed description of the invention and the accompanying drawings. Naturally, it is within the scope of the present invention.

10 ; 제1 전극 12 ; 제1 경사면
14 ; 제1 유입통로 20 ; 제2 전극
22 ; 제2 경사면 24 ; 제2 유입통로
30 ; 제3 전극 32 ; 제3 경사면
40 ; 폐쇄부10; First electrode 12; 1st slope
14; First inlet passage 20; Second electrode
22; Second slope 24; 2nd inflow passage
30; Third electrode 32; 3rd slope
40; Closure

Claims (13)

평판형상으로 제1 방향을 따라 길게 형성되는 제1 전극,
상기 제1 전극과 간격을 두고 서로 면대향되는 위치에 구비되며, 평판형상으로 제1 방향을 따라 길게 형성되는 제2 전극,
상기 제1 전극과의 사이에서 외부로부터 공급된 가스가 흐르는 제1 유입통로를 유지하고, 상기 제2 전극과의 사이에서 외부로부터 공급된 가스가 흐르는 제2 유입통로를 유지하도록 상기 제1 전극, 그리고 상기 제2 전극과 서로 간격을 두고 구비되며, 평판형상으로 제1 방향을 따라 길게 형성되는 제3 전극,
상기 제1 전극 내지 상기 제3 전극은 일측이 일체로 형성되어 전기적으로 연결되는 폐쇄부를 형성하며, 타측은 상기 제3 전극을 기준으로 상기 제1 전극과 상기 제2 전극이 상호 간격을 두고 이격되어 개방부를 형성하는 저전력 대면적 대기압 플라즈마 발생장치.A first electrode formed in a flat shape along the first direction,
The second electrode is provided at a position facing each other at a distance from the first electrode, and a second electrode formed in a flat shape and elongated in the first direction.
The first electrode to maintain a first inflow passage through which gas supplied from the outside flows between the first electrode, and to maintain a second inflow passage through which gas supplied from the outside flows between the second electrode, And the third electrode is provided at a distance from each other, the third electrode is formed to be elongated in the first direction in a flat plate shape,
In the first electrode to the third electrode, one side is integrally formed to form an electrically connected closed portion, and the other side is spaced apart from the first electrode and the second electrode based on the third electrode. Low-power large-area atmospheric pressure plasma generator forming an opening. 제1항에서,
상기 제1 전극과 상기 제2 전극은 접지용 그라운드 전극인 저전력 대면적 대기압 플라즈마 발생장치.In claim 1,
The first electrode and the second electrode are low-power large-area atmospheric plasma generators that are ground electrodes for grounding. 제2항에서,
상기 제3 전극은 전력 공급용 파워 전극인 저전력 대면적 대기압 플라즈마 발생장치.In claim 2,
The third electrode is a low-power large-area atmospheric pressure plasma generator that is a power electrode for power supply. 제1항에서,
상기 폐쇄부의 일면에 구비되어 외부로부터 공급되는 가스 공급을 상기 제1 유입통로와 상기 제2 유입통로로 안내하는 가스 유입부를 더 포함하는 저전력 대면적 대기압 플라즈마 발생장치.In claim 1,
A low-power large-area atmospheric pressure plasma generator further comprising a gas inlet portion provided on one surface of the closing portion to guide the gas supply supplied from the outside to the first inlet passage and the second inlet passage. 제4항에서,
상기 가스 유입부는
상기 폐쇄부의 일면에 구비되어 가스 유입관이 결합되는 가스 유입 결합구,
상기 가스 유입 결합구와 상기 제1 유입통로 사이에 구비되어 상기 가스 유입 결합구와 상기 제1 유입통로를 연결하는 제1 유입라인, 그리고
상기 가스 유입 결합구와 상기 제2 유입통로 사이에 구비되어 상기 가스 유입 결합구와 상기 제2 유입통로를 연결하는 제2 유입라인
을 포함하는 저전력 대면적 대기압 플라즈마 발생장치.In claim 4,
The gas inlet
Gas inlet coupling port is provided on one surface of the closing portion is coupled to the gas inlet pipe,
A first inlet line provided between the gas inlet coupler and the first inlet passage to connect the gas inlet coupler and the first inlet passage, and
A second inlet line provided between the gas inlet coupler and the second inlet passage to connect the gas inlet coupler and the second inlet passage
Low power large area atmospheric pressure plasma generator comprising a. 제5항에서,
상기 가스 유입 결합구는 상기 폐쇄부의 일면에서 제2 방향을 따라 간격을 두고 복수개로 구비되는 저전력 대면적 대기압 플라즈마 발생장치.In claim 5,
The gas inlet coupler is a low-power large-area atmospheric pressure plasma generating device provided at a plurality of intervals along a second direction from one surface of the closing portion. 제6항에서,
상기 가스 유입 결합구는 제1 유입구와 제2 유입구를 포함하며, 상기 제1 유입구와 상기 제2 유입구는 동일하게 구비되는 저전력 대면적 대기압 플라즈마 발생장치.In claim 6,
The gas inlet coupler includes a first inlet and a second inlet, and the first inlet and the second inlet are provided with the same low-power large-area atmospheric pressure plasma generating device. 제1항에서,
상기 폐쇄부에 근접한 상기 제1 전극의 전력공급위치에 결합되는 연결부를 더 포함하는 저전력 대면적 대기압 플라즈마 발생장치.In claim 1,
A low-power large-area atmospheric pressure plasma generating device further comprising a connection portion coupled to the power supply position of the first electrode close to the closing portion. 제1항에서,
상기 개방부는 타단으로 갈수록 상기 제1 전극과 상기 제3 전극, 그리고 상기 제2 전극과 상기 제3 전극 사이의 개방된 전극 간격이 상기 제1 방향을 따라 설정된 개방구간에서 서로 다르게 형성되는 저전력 대면적 대기압 플라즈마 발생장치.In claim 1,
The open portion is a low-power large area in which an open electrode gap between the first electrode and the third electrode, and the second electrode and the third electrode is formed differently in an open section set along the first direction toward the other end. Atmospheric pressure plasma generator. 제9항에서,
상기 개방구간은
상기 폐쇄부와 접하는 상기 개방부의 평행 시작지점에서부터 서로 평행한 간격을 유지하는 평행 종료지점까지 형성되는 제1 개방구간, 그리고
상기 제1 개방구간의 평행 종료지점에 연결되어 타단으로 갈수록 서로 인접한 전극들 사이의 간격이 점차 좁아지는 제2 개방구간을 포함하는 저전력 대면적 대기압 플라즈마 발생장치.In claim 9,
The open section
A first opening section formed from a parallel starting point of the opening contacting the closing part to a parallel ending point maintaining a parallel distance from each other, and
A low-power large-area atmospheric pressure plasma generator including a second opening section connected to a parallel end point of the first opening section and gradually narrowing a gap between adjacent electrodes as it goes to the other end. 제9항에서,
상기 개방부는
상기 제1 전극의 타측에서 미리 설정된 기울기를 갖고 상향으로 경사진 제1 경사면을 구비하는 제1 개방단부,
상기 제2 전극의 타측에서 미리 설정된 기울기를 갖고 하향으로 경사진 제2 경사면을 구비하는 제2 개방단부, 그리고
상기 제3 전극의 타측에서 미리 설정된 기울기를 갖고 상기 제1 경사면과 상기 제2 경사면에 각각 대응하는 제3 경사면을 구비하는 제3 개방단부를 포함하는 저전력 대면적 대기압 플라즈마 발생장치.In claim 9,
The opening part
A first open end having a first inclined surface inclined upward with a predetermined inclination on the other side of the first electrode,
A second open end having a second inclined surface inclined downward with a predetermined inclination at the other side of the second electrode, and
A low-power large-area atmospheric pressure plasma generating apparatus including a third open end having a predetermined slope at the other side of the third electrode and having a third slope corresponding to the first slope and the second slope respectively. 제1항에서,
상기 제1 전극과 상기 제3 전극, 그리고 상기 제2 전극의 결합구조에서 제1 방향을 따라 길게 형성된 개방 측면부를 구비하며,
상기 개방 측면부는 제1 개방 측면부와 제2 개방 측면부를 포함하는 저전력 대면적 대기압 플라즈마 발생장치.In claim 1,
In the coupling structure of the first electrode, the third electrode, and the second electrode, and having an open side portion formed long in the first direction,
The open side portion includes a first open side portion and a second open side portion. 제12항에서,
상기 개방 측면부에 결합되어 개방된 측면을 폐쇄하는 커버부를 더 포함하며,
상기 커버부는
상기 제1 개방 측면부에 결합되는 제1 커버부, 그리고
제2 개방 측면부에 결합되는 제2 커버부를 포함하는 저전력 대면적 대기압 플라즈마 발생장치.In claim 12,
Further comprising a cover portion coupled to the open side portion to close the open side,
The cover portion
A first cover portion coupled to the first open side portion, and
Low power large area atmospheric pressure plasma generating apparatus comprising a second cover portion coupled to the second open side portion.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN113573456B (en) * 2021-08-03 2022-07-29 四川大学 Microwave atmospheric pressure plasma source based on parallel flat plate transmission line

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2926240B2 (en) * 1989-05-02 1999-07-28 株式会社日立製作所 Sliding material and surface treatment method
KR20050077154A (en) * 2004-01-27 2005-08-01 백홍구 Plasma generator for medical instruments of dentistry
KR101161113B1 (en) * 2011-09-16 2012-06-28 주식회사 메디플 Microwave plasma generator having large treatment area and medical instrument using the same
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101012345B1 (en) * 2008-08-26 2011-02-09 포항공과대학교 산학협력단 Portable low power consumption microwave plasma generator

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2926240B2 (en) * 1989-05-02 1999-07-28 株式会社日立製作所 Sliding material and surface treatment method
KR20050077154A (en) * 2004-01-27 2005-08-01 백홍구 Plasma generator for medical instruments of dentistry
KR101170786B1 (en) * 2011-03-17 2012-08-02 주식회사 메디플 Low power large treatment area atmospheric pressure plasma generator using high frequency resonator
KR101161113B1 (en) * 2011-09-16 2012-06-28 주식회사 메디플 Microwave plasma generator having large treatment area and medical instrument using the same

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