KR20200054235A - Polarizing film protective laminate and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

라디칼 중합성 화합물로 이루어지는 광 경화 수지층이 기재 필름에 적층된 편광 필름 보호용 적층체로서, 상기 광 경화 수지층의 두께가 9 ㎛ 이하이고, 상기 광 경화 수지층의 붕산 투과도가 붕소 원자 환산으로 2.25 g/㎡·day 이하이고, 기재 필름과 광 경화 수지층의 접착력이 0.005 ∼ 0.06 N/mm 이고, 광 경화 수지층으로부터 기재 필름을 박리한 후의, 기재 필름측에 있어서의 그 광 경화 수지층의 제곱 평균 면 조도 (rms) 가 300 nm 이하인, 편광 필름 보호용 적층체인 것을 특징으로 한다. 이로써, 표면 평활성이 우수하고, 광 경화 수지층의 두께가 9 ㎛ 이하여도 내습열성이 우수한 편광판을 얻을 수 있는, 편광 필름 보호용 적층체, 및 그 제조 방법이 제공된다.A laminate for protecting a polarizing film in which a photocurable resin layer made of a radically polymerizable compound is laminated on a base film, wherein the photocurable resin layer has a thickness of 9 µm or less, and the boric acid transmittance of the photocurable resin layer is 2.25 in terms of boron atoms. g / m 2 · day or less, the adhesion between the base film and the photocurable resin layer is 0.005 to 0.06 N / mm, and the photocurable resin layer on the base film side after peeling the base film from the photocurable resin layer It is characterized by being a laminate for protecting a polarizing film having a mean square surface roughness (rms) of 300 nm or less. Thereby, the laminated body for polarizing film protection which can obtain the polarizing plate excellent in surface smoothness, and excellent in moisture heat resistance even if the thickness of a photocurable resin layer is 9 micrometers or less, and its manufacturing method are provided.

Description

편광 필름 보호용 적층체 및 그 제조 방법Polarizing film protective laminate and method for manufacturing the same

본 발명은, 기재 필름에 광 경화 수지층이 적층된 편광 필름 보호용 적층체, 및 당해 적층체의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a laminate for protecting a polarizing film in which a photocurable resin layer is laminated on a base film, and a method for producing the laminate.

광의 투과 및 차폐 기능을 갖는 편광판은, 광의 편광 상태를 변화시키는 액정과 함께 액정 디스플레이 (LCD) 의 기본적인 구성 요소이다. 편광판의 상당수는, 편광 필름의 표면에 삼아세트산 셀룰로오스 (TAC) 필름 등의 보호 필름이 첩합 (貼合) 된 구조를 가지고 있고, 편광판을 구성하는 편광 필름으로는 폴리비닐알코올 (PVA) 필름을 1 축 연신하여 배향시킨 연신 필름에 요오드계 색소 (I3 - 또는 I5 - 등) 또는 이색성 (二色性) 유기 염료와 같은 이색성 색소가 흡착되어 있는 것이 주류로 되어 있다. 이와 같은 편광 필름은, 통상, 이색성 색소를 미리 함유시킨 PVA 필름을 1 축 연신하거나, PVA 필름의 1 축 연신과 동시에 이색성 색소를 흡착시키거나, PVA 필름을 1 축 연신한 후에 이색성 색소를 흡착시키거나 하는 등 해서 연속적으로 제조된다.A polarizing plate having a function of transmitting and shielding light is a basic component of a liquid crystal display (LCD) along with liquid crystals that change the polarization state of light. Many of the polarizing plates have a structure in which a protective film such as cellulose triacetate (TAC) film is bonded to the surface of the polarizing film, and a polyvinyl alcohol (PVA) film is used as a polarizing film constituting the polarizing plate 1 it has been a mainstream with or dichroic (二色性) dichroic dye such as an organic dye is adsorbed to the axial stretching in an iodine-based dye was stretched film orientation (such as I 3 - - or I 5). Such a polarizing film is usually a uniaxially stretched PVA film containing a dichroic dye in advance, adsorbs a dichroic dye simultaneously with uniaxial stretching of the PVA film, or uniaxially stretches the PVA film and then dichroic dye. It is produced continuously by adsorbing or the like.

LCD 는, 전자식 탁상 계산기 및 손목 시계 등의 소형 기기, 노트 PC, 액정 모니터, 액정 컬러 프로젝터, 액정 텔레비전, 차재용 내비게이션 시스템, 스마트 폰, 옥내외에서 사용되는 계측 기기 등의 광범위에서 사용되도록 되어 있지만, 최근, 특히 소형의 스마트 폰 등의 모바일 용도에 대한 전개 등에 수반하여, 편광판에 대한 박형화의 요구가 강해지고 있다. 또, 모바일 용도에서는, 사용 장소가 광범위에 걸치는 점에서, 동시에 내구성의 향상도 요구되고 있다.LCDs are intended to be used in a wide range of small devices such as electronic desk calculators and wrist watches, notebook PCs, liquid crystal monitors, liquid crystal color projectors, liquid crystal televisions, vehicle navigation systems, smart phones, and indoor and outdoor measurement equipment. In particular, with the development of mobile applications such as small-sized smart phones, the demand for thinning of the polarizing plate is increasing. In addition, in mobile applications, since the place of use extends over a wide range, improvement in durability is also demanded at the same time.

편광판을 박형화하는 수법의 하나로는, 보호 필름을 박형화하는 것을 들 수 있고, 최근, 보호 필름 대신에 광 경화 수지층을 형성한 편광판이 제안되어 있다 (예를 들어, 특허문헌 1 ∼ 4 등을 참조).One of the techniques for thinning the polarizing plate includes thinning the protective film, and recently, a polarizing plate having a photocurable resin layer instead of the protective film has been proposed (for example, see Patent Documents 1 to 4, etc.). ).

일본 공개특허공보 2011-221185호Japanese Patent Application Publication No. 2011-221185 일본 공개특허공보 2004-245924호Japanese Patent Publication No. 2004-245924 일본 공표특허공보 2013-513832호Japanese Publication Patent Publication No. 2013-513832 일본 공개특허공보 2008-20891호Japanese Patent Application Publication No. 2008-20891

그러나, 특허문헌 1 ∼ 4 에 기재되어 있는 광 경화 수지층을 형성한 편광판에서는, 고온 고습도 조건하에서의 사용시에 편광 성능이 저하되는 경우가 있다. 특허문헌 1 또는 2 에 기재되어 있는 방법과 같이, 편광 필름의 표면에 직접 라디칼 중합성 화합물 등으로 이루어지는 조성물을 도공하면, 광 경화 수지층의 표면 평활성이 저하되기 쉽고, 외란에 의해 편광판의 편광 성능이 저하될 가능성이 있다. 또한, 라디칼 중합성 화합물 등으로 이루어지는 조성물에 함유되는 용제가 편광 필름을 침식함으로써 편광 성능이 저하되거나, 편광 필름과 광 경화 수지층의 접착력이 낮아져, 장척 (長尺) 롤로부터 패널 사이즈로 편광판을 절단할 때 등의 취급시에 광 경화 수지층이 박리되거나 하는 문제가 있다. 또, 편광 필름의 표면에 직접 라디칼 중합성 화합물 등으로 이루어지는 조성물을 도공한 경우, 편광 필름이 열화될 우려가 있기 때문에, 충분히 자외선이나 전자선을 조사할 수 없어, 가교 밀도를 높이는 것이 곤란하다. 한편, 특허문헌 3 또는 4 에서는, 이형 PET 필름 등의 기재 필름 상에 광 경화 수지층을 형성한 후, 접착제를 사용하여 광 경화 수지층과 편광 필름을 첩합하는 방법이 제안되어 있다. 그러나, 기재 필름과 광 경화 수지층의 박리성이 양호하지 않으면, 광 경화 수지층의 표면 평활성이 저하되어 버리고, 외란에 의해 편광판의 편광 성능이 저하되는 경우가 있었다. 또, 고온 고습도 조건하에서의 사용시에 편광 성능이 저하되는 경우도 있어, 개선이 요구되고 있었다.However, in the polarizing plates provided with the photocurable resin layers described in Patent Documents 1 to 4, polarization performance may be deteriorated when used under high temperature and high humidity conditions. When a composition composed of a radically polymerizable compound or the like is coated directly on the surface of the polarizing film, as in the method described in Patent Literature 1 or 2, the surface smoothness of the photocurable resin layer tends to decrease, and polarization performance of the polarizing plate due to disturbance This may decrease. In addition, the solvent contained in the composition composed of a radically polymerizable compound or the like erodes the polarizing film, or the polarization performance is lowered, or the adhesive force between the polarizing film and the photocurable resin layer is lowered, and the polarizing plate is reduced to a panel size from a long roll. There is a problem that the photocurable resin layer is peeled off during handling such as cutting. In addition, when a composition composed of a radically polymerizable compound or the like is directly coated on the surface of the polarizing film, since the polarizing film may be deteriorated, it is difficult to sufficiently irradiate ultraviolet rays or electron beams, and it is difficult to increase the crosslinking density. On the other hand, in Patent Documents 3 or 4, a method of bonding a photocurable resin layer and a polarizing film using an adhesive after forming a photocurable resin layer on a base film such as a release PET film has been proposed. However, when the peelability of the base film and the photocurable resin layer is not good, the surface smoothness of the photocurable resin layer is lowered, and the polarization performance of the polarizing plate may be lowered due to disturbance. Moreover, polarization performance may fall when used under high temperature and high humidity conditions, and improvement has been required.

본 발명은 상기 과제를 해결하기 위해 이루어진 것으로, 표면 평활성이 우수하고, 광 경화 수지층의 두께가 9 ㎛ 이하여도 내습열성이 우수한 편광판을 얻을 수 있는, 편광 필름 보호용 적층체, 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made to solve the above problems, the surface smoothness is excellent, even if the thickness of the photo-curable resin layer is less than 9 ㎛, can obtain a polarizing plate excellent in heat and moisture resistance, a polarizing film protective laminate, and a method of manufacturing the same It is aimed at providing.

본 발명자들은 상기의 목적을 달성하기 위해 예의 검토를 거듭한 결과, 광 경화 수지층의 두께가 9 ㎛ 이하여도, 붕산 투과도가 붕소 원자 환산으로 2.25 g/㎡·day 이하인 광 경화 수지층을 편광 필름에 첩합함으로써, 내습열성이 우수한 편광판이 얻어지는 것, 기재 필름과 광 경화 수지층의 접착력이 0.005 ∼ 0.06 N/mm 임으로써, 표면 평활성이 우수한 광 경화 수지층이 얻어지는 것을 알아내어, 이들 지견에 기초하여 더욱 검토를 거듭하여 본 발명을 완성시켰다.As a result of repeated examinations of the inventors in order to achieve the above object, even if the thickness of the photocurable resin layer is 9 μm or less, the photocurable resin layer having a boric acid transmittance of 2.25 g / m 2 · day or less in terms of boron atom is a polarizing film. Based on these findings, it was found that a polarizing plate excellent in moisture and heat resistance was obtained by bonding to the substrate, and a photocurable resin layer excellent in surface smoothness was obtained by having an adhesive strength between the base film and the photocurable resin layer of 0.005 to 0.06 N / mm. Then, further examination was repeated to complete the present invention.

즉, 본 발명은, That is, the present invention,

[1] 라디칼 중합성 화합물로 이루어지는 광 경화 수지층이 기재 필름에 적층된 편광 필름 보호용 적층체로서, [1] A laminate for protecting a polarizing film in which a photocurable resin layer made of a radically polymerizable compound is laminated on a base film,

상기 광 경화 수지층의 두께가 9 ㎛ 이하이고, 상기 광 경화 수지층의 붕산 투과도가 붕소 원자 환산으로 2.25 g/㎡·day 이하이고, The thickness of the photocurable resin layer is 9 μm or less, and the boric acid transmittance of the photocurable resin layer is 2.25 g / m 2 · day or less in terms of boron atom,

기재 필름과 광 경화 수지층의 접착력이 0.005 ∼ 0.06 N/mm 이고, The adhesive force between the base film and the photocurable resin layer is 0.005 to 0.06 N / mm,

광 경화 수지층으로부터 기재 필름을 박리한 후의, 기재 필름측에 있어서의 그 광 경화 수지층의 제곱 평균 면 조도 (rms) 가 300 nm 이하인, 편광 필름 보호용 적층체 ; A laminate for protecting a polarizing film having a square average surface roughness (rms) of the photocurable resin layer on the base film side after peeling the base film from the photocurable resin layer is 300 nm or less;

[2] [1] 에 기재된 편광 필름 보호용 적층체에 있어서의 광 경화 수지층이, 편광 필름의 적어도 일방의 면에 접착제층을 개재하여 첩합된 편광판 ; [2] The polarizing plate in which the photocurable resin layer in the laminate for protecting a polarizing film according to [1] is pasted through an adhesive layer on at least one surface of the polarizing film;

[3] 라디칼 중합성 화합물로 이루어지는 광 경화 수지층을 기재 필름에 적층하여 얻어지는 편광 필름 보호용 적층체의 제조 방법으로서, [3] A method for producing a laminate for protecting a polarizing film obtained by laminating a photocurable resin layer made of a radically polymerizable compound on a base film,

라디칼 중합성 화합물과 용제를 함유하는 용액을 기재 필름에 도공하는 공정과, A step of coating a solution containing a radically polymerizable compound and a solvent on a base film,

도공 후에 상기 기재 필름을 가열하여 용제를 휘발시키는 공정과, A step of heating the base film after coating to volatilize the solvent,

자외선 및 전자선의 적어도 일방을 조사하는 공정을 갖고, It has a process of irradiating at least one of ultraviolet rays and electron beams,

상기 기재 필름의 도공면의 물 접촉각이 40 ∼ 100 도인 것을 특징으로 하는 [1] 에 기재된 편광 필름 보호용 적층체의 제조 방법 ; The manufacturing method of the laminated body for polarizing film protection as described in [1] characterized by the water contact angle of the coating surface of the said base film being 40-100 degree;

[4] 기재 필름의 도공면에 있어서의 규소의 검출 강도가 10 cps/mA 이하인 [3] 에 기재된 편광 필름 보호용 적층체의 제조 방법 ; [4] The method for producing a laminate for protecting a polarizing film according to [3], wherein the detection strength of silicon on the coating surface of the base film is 10 cps / mA or less;

에 관한 것이다.It is about.

본 발명에 의하면, 표면 평활성이 우수하고, 광 경화 수지층의 두께가 9 ㎛ 이하여도, 내습열성이 우수한 편광판을 얻을 수 있는, 편광 필름 보호용 적층체, 및 그 제조 방법이 제공된다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, even if the surface smoothness is excellent and the thickness of a photocurable resin layer is 9 micrometers or less, the polarizing film protective laminated body which can obtain the polarizing plate excellent in moisture-heat resistance, and its manufacturing method are provided.

도 1 은, 붕소 원자 환산의 붕산 투과도를 측정하는 방법에 대한 개략도이다.1 is a schematic view of a method for measuring boric acid permeability in terms of boron atoms.

이하에 본 발명에 대해 상세하게 설명한다.The present invention will be described in detail below.

<편광 필름 보호용 적층체><Lamination body for polarizing film protection>

본 발명의 편광 필름 보호용 적층체는, 기재 필름에 두께 9 ㎛ 이하의 라디칼 중합성 화합물로 이루어지는 광 경화 수지층이 적층된 편광 필름 보호용 적층체로서, 광 경화 수지층의 붕산 투과도가 붕소 원자 환산으로 2.25 g/㎡·day 이하인 것을 특징으로 한다. 광 경화 수지층의 붕산 투과도가 붕소 원자 환산으로 2.25 g/㎡·day 이하임으로써, 편광 필름과 첩합하였을 때에, 초기의 편광 성능을 유지할 수 있는 내습열성이 우수한 편광판을 얻을 수 있다. 붕산 투과도가 붕소 원자 환산으로 2.25 g/㎡·day 를 초과하는 경우, 편광판의 내습열성을 충분히 개선할 수 없다. 이 관점에서, 광 경화 수지층의 붕산 투과도가 붕소 원자 환산으로 1.50 g/㎡·day 이하인 것이 바람직하고, 0.50 g/㎡·day 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.20 g/㎡·day 이하인 것이 더욱 바람직하고, 0.10 g/㎡·day 이하인 것이 특히 바람직하다. 한편, 광 경화 수지층의 붕소 원자 환산의 붕산 투과도의 하한에 특별히 제한은 없지만, 붕소 원자 환산의 붕산 투과도가 지나치게 낮은 경우, 광 경화 수지층의 유연성이 소실되기 쉬운 경향이 있는 점에서, 붕산 투과도가 붕소 원자 환산으로 0.02 g/㎡·day 이상인 것이 바람직하고, 0.03 g/㎡·day 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 붕소 원자 환산의 붕산 투과도는, 후술하는 실시예에 기재된 방법으로 구할 수 있다.The laminate for protecting a polarizing film of the present invention is a laminate for protecting a polarizing film in which a photocurable resin layer made of a radically polymerizable compound having a thickness of 9 µm or less is laminated on a base film, wherein the boric acid transmittance of the photocurable resin layer is in terms of boron atoms. It is characterized by being less than 2.25 g / m 2 · day. When the boric acid transmittance of the photocurable resin layer is 2.25 g / m 2 · day or less in terms of boron atom, a polarizing plate having excellent heat and moisture resistance that can maintain initial polarization performance when bonded to a polarizing film can be obtained. When the boric acid transmittance exceeds 2.25 g / m 2 · day in terms of boron atom, the heat and moisture resistance of the polarizing plate cannot be sufficiently improved. From this viewpoint, the boric acid transmittance of the photocurable resin layer is preferably 1.50 g / m 2 · day or less in terms of boron atom, more preferably 0.50 g / m 2 · day or less, and even more preferably 0.20 g / m 2 · day or less , 0.10 g / m 2 · day or less is particularly preferred. On the other hand, the lower limit of the boric acid transmittance in terms of boron atom in the photocurable resin layer is not particularly limited, but when the boric acid permeability in boron atom conversion is too low, the flexibility of the photocurable resin layer tends to be easily lost. Is preferably 0.02 g / m 2 · day or more in terms of boron atom, and more preferably 0.03 g / m 2 · day or more. In addition, the boric acid permeability of boron atom conversion can be calculated | required by the method described in the Example mentioned later.

본 발명에 있어서, 광 경화 수지층은, 라디칼 중합성 화합물 등으로 이루어진다. 라디칼 중합성 화합물을 사용함으로써, 얻어지는 광 경화 수지층의 붕소 원자 환산의 붕산 투과도를 저하시킬 수 있다. 라디칼 중합성 화합물로는, 분자 내에 아크릴로일기를 갖는 화합물을 바람직하게 사용할 수 있다. 라디칼 중합성 화합물은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다. 또, 자외선 및 전자선의 적어도 일방을 조사하여 경화시키기 위한 광 중합 개시제로서, 라디칼 중합 개시제를 사용하는 것이 바람직하다. 라디칼 중합 개시제로는, 활성 에너지선을 조사함으로써 라디칼 중합성 화합물의 반응을 촉진시킬 수 있는 화합물을 사용할 수 있다. 이와 같은 라디칼 중합 개시제로는, 예를 들어, 아세토페논류, 벤조페논류, 미힐러케톤류, 벤조인류 등의 카르보닐 화합물 ; 테트라메틸티우람모노술파이드, 티오크산톤 등의 황 화합물 등을 들 수 있고, 카르보닐 화합물이 바람직하다. 이들 라디칼 중합 개시제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.In the present invention, the photocurable resin layer is made of a radically polymerizable compound or the like. By using a radically polymerizable compound, the boric acid permeability of boron atom conversion of the obtained photocurable resin layer can be reduced. As the radically polymerizable compound, a compound having an acryloyl group in the molecule can be preferably used. As the radically polymerizable compound, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination. Moreover, it is preferable to use a radical polymerization initiator as a photoinitiator for curing by irradiating at least one of ultraviolet rays and electron beams. As a radical polymerization initiator, the compound which can accelerate the reaction of a radically polymerizable compound by irradiating an active energy ray can be used. Examples of such radical polymerization initiators include carbonyl compounds such as acetophenones, benzophenones, mihila ketones, and benzoin; And sulfur compounds such as tetramethylthiuram monosulfide and thioxanthone, and carbonyl compounds are preferred. These radical polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

본 발명에 있어서, 광 경화 수지층의 두께는 9 ㎛ 이하이다. 두께가 9 ㎛ 를 초과하는 경우, 종래의 보호 필름을 적층한 편광판에 대해 충분한 박막화를 달성할 수 없다. 이 관점에서, 광 경화 수지층의 두께는 8 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 7 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하며, 6 ㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 한편, 광 경화 수지층의 두께의 하한은 특별히 한정되지 않지만, 얇은 광 경화 수지층에서 상기 붕소 원자 환산의 붕산 투과도를 달성하는 경우, 광 경화 수지층의 유연성이 소실되기 쉬운 경향이 있는 점에서, 0.1 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 0.5 ㎛ 이상인 것이 보다 바람직하며, 1 ㎛ 이상인 것이 더욱 바람직하다.In the present invention, the thickness of the photocurable resin layer is 9 µm or less. When the thickness exceeds 9 μm, sufficient thinning cannot be achieved for a polarizing plate laminated with a conventional protective film. From this viewpoint, the thickness of the photocurable resin layer is preferably 8 μm or less, more preferably 7 μm or less, and even more preferably 6 μm or less. On the other hand, although the lower limit of the thickness of the photocurable resin layer is not particularly limited, when the boric acid transmittance of the boron atom is achieved in the thin photocurable resin layer, the flexibility of the photocurable resin layer tends to be easily lost. It is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.5 μm or more, and even more preferably 1 μm or more.

본 발명의 편광 필름 보호용 적층체에 사용되는 기재 필름으로는, 표면 균일성이 우수한 것이 바람직하고, 폴리카보네이트 필름, 트리아세틸셀룰로오스 필름, 노르보르넨 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리에스테르 필름, 폴리스티렌 필름 등을 사용할 수 있다. 기재 필름의 광 경화 수지층측의 표면에는, 이형 처리가 실시되어 있어도 된다. 표면 균일성이 우수한 기재 필름을 사용함으로써, 광 경화 수지층으로부터 기재 필름을 박리한 후의, 기재 필름측에 있어서의 그 광 경화 수지층의 제곱 평균 면 조도 (rms) 가 300 nm 이하가 되기 쉽다.As a base film used for the polarizing film protective laminate of the present invention, it is preferable to have excellent surface uniformity, polycarbonate film, triacetyl cellulose film, norbornene film, polypropylene film, polyester film, polystyrene film, etc. Can be used. The surface of the base film on the side of the photocurable resin layer may be subjected to a release treatment. By using the base film excellent in surface uniformity, the square average surface roughness (rms) of the photocurable resin layer on the base film side after peeling the base film from the photocurable resin layer tends to be 300 nm or less.

본 발명에 있어서, 광 경화 수지층과 기재 필름의 접착력은 0.005 ∼ 0.06 N/mm 이다. 광 경화 수지층을 편광 필름과 첩합하여 편광판을 얻은 후, 광 경화 수지층으로부터 기재 필름을 박리할 필요가 있기 때문에, 광 경화 수지층과 기재 필름의 접착력은 0.05 N/mm 이하인 것이 바람직하고, 0.04 N/mm 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.03 N/mm 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 사용하는 기재 필름의 이형 처리를 강화함으로써, 광 경화 수지층과 기재 필름의 접착력을 0.06 N/mm 이하로 할 수 있다. 광 경화 수지층과 기재 필름의 접착력이 지나치게 낮은 경우에는, 광 경화 수지층을 편광 필름과 첩합할 때 등의 편광 필름 보호용 적층체의 취급시에, 광 경화 수지층으로부터 기재 필름이 박리되어 취급하기 어려워지는 점에서, 광 경화 수지층과 기재 필름의 접착력은, 0.010 N/mm 이상인 것이 바람직하고, 0.013 N/mm 이상인 것이 보다 바람직하며, 0.015 N/mm 이상인 것이 더욱 바람직하다.In the present invention, the adhesive force between the photocurable resin layer and the base film is 0.005 to 0.06 N / mm. Since it is necessary to peel the base film from the photocurable resin layer after bonding the photocurable resin layer with the polarizing film to obtain a polarizing plate, the adhesive force between the photocurable resin layer and the base film is preferably 0.05 N / mm or less, and 0.04 N / mm or less is more preferable, and 0.03 N / mm or less is more preferable. In addition, by strengthening the release treatment of the base film used, the adhesion between the photocurable resin layer and the base film can be 0.06 N / mm or less. When the adhesion between the photocurable resin layer and the base film is too low, the base film is peeled from the photocurable resin layer and handled when handling a laminate for protecting a polarizing film, such as when the photocurable resin layer is bonded to a polarizing film. From the point of difficulty, the adhesion between the photocurable resin layer and the base film is preferably 0.010 N / mm or more, more preferably 0.013 N / mm or more, and even more preferably 0.015 N / mm or more.

본 발명에 있어서, 광 경화 수지층으로부터 기재 필름을 박리한 후의, 기재 필름측에 있어서의 그 광 경화 수지층의 제곱 평균 면 조도 (rms) 는, 300 nm 이하이다. 기재 필름측에 있어서의 광 경화 수지층의 제곱 평균 면 조도 (rms) 는, 250 nm 이하인 것이 바람직하고, 200 nm 이하인 것이 보다 바람직하며, 150 nm 이하인 것이 더욱 바람직하다. 기재 필름측에 있어서의 광 경화 수지층의 제곱 평균 면 조도 (rms) 를 300 nm 이하로 하기 위해서는, 편광 필름 보호용 적층체를 형성할 때에 기재 필름 상에서 라디칼 중합성 화합물과 용제를 함유하는 용액이 겉돌지 않는 것이나, 기재 필름과 광 경화 수지층의 박리성이 좋은 것이 중요하여, 후술하는 바와 같이, 라디칼 중합성 화합물에 사용하는 용제의 용해도 파라미터나 기재 필름의 도공면의 물 접촉각을 조정하는 것이 유효하다. 기재 필름측에 있어서의 광 경화 수지층의 제곱 평균 면 조도 (rms) 의 하한에 특별히 제한은 없지만, 지나치게 평활한 표면을 갖는 것은 곤란한 점에서, 예를 들어, 20 nm 이상이다.In the present invention, the square average surface roughness (rms) of the photocurable resin layer on the base film side after peeling the base film from the photocurable resin layer is 300 nm or less. The square average surface roughness (rms) of the photocurable resin layer on the base film side is preferably 250 nm or less, more preferably 200 nm or less, and even more preferably 150 nm or less. In order to set the square-average surface roughness (rms) of the photocurable resin layer on the base film side to 300 nm or less, a solution containing a radically polymerizable compound and a solvent on the base film when forming the laminate for polarizing film protection appears It is important not to turn or to have good peelability between the base film and the photocurable resin layer, and as described later, it is effective to adjust the solubility parameter of the solvent used for the radical polymerizable compound and the water contact angle of the coated surface of the base film. Do. The lower limit of the squared average surface roughness (rms) of the photocurable resin layer on the base film side is not particularly limited, but it is, for example, 20 nm or more in that it is difficult to have an excessively smooth surface.

<편광 필름 보호용 적층체의 제조 방법> <Method for producing a laminate for polarizing film protection>

본 발명의 편광 필름 보호용 적층체의 제조 방법으로는, 라디칼 중합성 화합물과 용제를 함유하는 용액을 기재 필름에 도공하는 공정과, 도공 후에 기재 필름을 가열하여 용제를 휘발시키는 공정과, 자외선 및 전자선의 적어도 일방을 조사하는 공정을 갖고, 기재 필름의 도공면의 물 접촉각이 40 ∼ 100 도인 것이 바람직하다. 그 용액에 용제를 함유함으로써, 두께 9 ㎛ 이하인 광 경화 수지층의 표면 평활성이 양호해진다.As a manufacturing method of the laminated body for polarizing film protection of this invention, the process of apply | coating the solution containing a radically polymerizable compound and a solvent to a base film, the process of heating a base film and volatilizing a solvent after coating, and ultraviolet ray and electron beam It has a process of irradiating at least one of, and it is preferable that the water contact angle of the coated surface of the base film is 40 to 100 degrees. By containing a solvent in the solution, the surface smoothness of the photocurable resin layer having a thickness of 9 µm or less becomes good.

[도공 공정] [Coating process]

라디칼 중합성 화합물과 용제를 함유하는 용액을 기재 필름에 도공하는 공정으로는, 임의의 적절한 방법이 채용될 수 있다. 라디칼 중합성 화합물과 용제를 함유하는 용액을 기재 필름에 도공하는 방법으로는, 예를 들어, 다이 코트, 롤 코트, 에어 나이프 코트, 그라비아 롤 코트, 닥터 롤 코트, 닥터 나이프 코트, 커튼 플로 코트, 스프레이 코트, 와이어 바 코트, 로드 코트, 침지, 브러시 도포 등의 방법을 들 수 있다. 그 중에서도, 얻어지는 광 경화 수지층의 두께를 9 ㎛ 이하로 하기 위해서는, 그라비아 롤 코트가 바람직하다.As a process of coating the base film with a solution containing a radically polymerizable compound and a solvent, any suitable method may be employed. As a method of coating the base film with a solution containing a radically polymerizable compound and a solvent, for example, die coat, roll coat, air knife coat, gravure roll coat, doctor roll coat, doctor knife coat, curtain flow coat, And methods such as spray coating, wire bar coating, road coating, dipping, and brush application. Especially, in order to make the thickness of the photocurable resin layer obtained 9 micrometers or less, a gravure roll coat is preferable.

[용제 휘발 공정] [Solvent volatilization process]

용액을 도공 후에 기재 필름을 가열하여 용제를 휘발시키는 공정으로는, 임의의 적절한 방법이 채용된다. 용액을 도공한 기재 필름을 히트 롤 상에서 가열해도 되고, 플로팅 건조기 내에서 가열해도 된다. 히트 롤이나 열풍의 바람직한 온도는, 사용하는 용제의 비점에 따라 결정할 수 있지만, 60 ℃ ∼ 120 ℃ 의 범위인 것이 바람직하다. 또, 용제의 잔존량이 10 % 이하가 될 때까지, 용제를 휘발시키는 것이 바람직하다.Any suitable method may be employed as a step of heating the base film after coating the solution to volatilize the solvent. The base film coated with the solution may be heated on a heat roll or may be heated in a floating dryer. The preferred temperature of the heat roll or hot air can be determined depending on the boiling point of the solvent to be used, but is preferably in the range of 60 ° C to 120 ° C. Moreover, it is preferable to volatilize a solvent until the residual amount of a solvent becomes 10% or less.

[조사 공정] [Investigation process]

자외선 및 전자선의 적어도 일방을 조사하는 공정으로는, 기재 필름 상에 도공한 용액을 건조 후에 자외선 및 전자선의 적어도 일방을 직접 조사해도 되고, 기재 필름측으로부터 조사해도 된다. 또, 경화 속도, 조사 장치의 입수성, 가격 등의 관점에서, 자외선을 조사하는 공정을 갖는 것이 보다 바람직하다.As a process of irradiating at least one of ultraviolet rays and electron beams, after drying the solution coated on the base film, at least one of ultraviolet rays and electron beams may be directly irradiated or may be irradiated from the base film side. Moreover, it is more preferable to have a process of irradiating ultraviolet rays from the viewpoint of curing speed, availability of the irradiation device, price, and the like.

상기 자외선 또는 전자선은, 공지된 장치를 사용하여 조사할 수 있다. 자외선을 사용하는 경우, 450 nm 이하의 파장역의 광을 발하는 고압 수은 램프, 초고압 수은등, 카본 아크등, 메탈 할라이드 램프, 크세논 램프, 케미컬 램프, LED 등을 사용할 수 있다. 또, 전자선 (EB) 을 사용하는 경우, 가속 전압으로는 0.1 ∼ 10 MeV 의 범위 내인 것이 바람직하고, 조사선량으로는 1 ∼ 500 kGy 의 범위 내인 것이 바람직하다.The ultraviolet rays or electron beams can be irradiated using a known device. When using ultraviolet light, a high-pressure mercury lamp, ultra-high-pressure mercury lamp, carbon arc lamp, metal halide lamp, xenon lamp, chemical lamp, LED, etc. that emit light in a wavelength range of 450 nm or less can be used. Moreover, when using the electron beam EB, it is preferable that it is in the range of 0.1-10 MeV as acceleration voltage, and it is preferable that it is in the range of 1-500 kGy as irradiation dose.

상기 자외선 또는 전자선의 적산 광량에 특별히 제한은 없지만, 10 ∼ 20,000 mJ/㎠ 의 범위 내인 것이 바람직하고, 30 ∼ 5,000 mJ/㎠ 의 범위 내인 것이 보다 바람직하다. 자외선 또는 전자선의 적산 광량이 지나치게 적으면, 라디칼 중합성 화합물의 경화가 불량해져, 광 경화 수지층의 붕소 원자 환산의 붕산 투과도가 높아지거나, 광 경화 수지층의 기계적 강도가 저하되거나 한다. 한편, 자외선 또는 전자선의 적산 광량이 지나치게 많으면, 편광 필름 보호용 적층체에 과잉의 열이 발생하여, 광 경화 수지층이나 기재 필름이 열화되는 경우가 있다.Although there is no restriction | limiting in particular in the integrated light quantity of the said ultraviolet ray or electron beam, It is preferable to exist in the range of 10-20,000 mJ / cm <2>, More preferably, it is in the range of 30-5,000 mJ / cm <2>. If the accumulated light amount of ultraviolet rays or electron beams is too small, curing of the radically polymerizable compound becomes poor, and the boric acid permeability in terms of boron atoms in the photocurable resin layer increases, or the mechanical strength of the photocurable resin layer decreases. On the other hand, when the accumulated light amount of ultraviolet rays or electron beams is too large, excessive heat is generated in the laminate for polarizing film protection, and the photocurable resin layer or the base film may be deteriorated.

자외선 또는 전자선의 조사 중 또는 조사 후에, 광 경화 수지층의 가교 밀도를 높이기 위해, 필요에 따라 가열하여 광 경화 수지층의 경화를 촉진시켜도 된다. 이 가열 온도로는, 경화 속도나 광 경화 수지층 및 기재 필름에 대한 영향 등의 관점에서, 40 ∼ 130 ℃ 의 범위 내인 것이 바람직하고, 50 ∼ 100 ℃ 의 범위 내인 것이 보다 바람직하다. 온도가 40 ℃ 미만인 경우에는, 광 경화 수지층의 경화가 잘 촉진되지 않고, 온도가 130 ℃ 를 초과하는 경우에는, 기재 필름이 변형되기 쉬워져, 평활한 광 경화 수지층을 얻을 수 없는 경우가 있다. 상기의 방법으로는, 기재 필름 상에서 광 경화 수지층의 가교 밀도를 충분히 높일 수 있기 때문에, 붕소 원자 환산의 붕산 투과도를 바람직하게 저하시키는 것이 가능해진다.In order to increase the crosslinking density of the photocurable resin layer during or after irradiation with ultraviolet rays or electron beams, the photocurable resin layer may be accelerated by heating as necessary. The heating temperature is preferably in the range of 40 to 130 ° C, more preferably in the range of 50 to 100 ° C, from the viewpoint of the curing rate, the effect on the photocurable resin layer, and the base film. When the temperature is less than 40 ° C, curing of the photocurable resin layer is not promoted well, and when the temperature exceeds 130 ° C, the base film tends to deform and a smooth photocurable resin layer may not be obtained. have. With the above method, since the crosslinking density of the photocurable resin layer on the base film can be sufficiently increased, it is possible to desirably lower the boric acid transmittance in terms of boron atom conversion.

본 발명의 편광 필름 보호용 적층체의 제조 방법에 있어서, 기재 필름의 용액 도공면의 물 접촉각은, 40 ∼ 100 도인 것이 바람직하다. 기재 필름의 용액 도공면의 물 접촉각이 큰 경우에는, 기재 필름 상에 용액을 도공하였을 때에 용액이 겉돌기 쉬워, 균일하게 용액을 도공하는 것이 어려운 경우가 있다. 또한, 균일하게 용액을 도공할 수 있었던 경우에도, 광 경화 수지층으로부터 기재 필름을 박리한 후의, 기재 필름측에 있어서의 광 경화 수지층의 표면이 잘 평활해지지 않는 문제가 있다. 한편, 물 접촉각이 작은 경우에는, 기재 필름과 광 경화 수지층의 접착력이 강해져, 광 경화 수지층으로부터 기재 필름을 박리하기 어려워지거나, 광 경화 수지층으로부터 기재 필름을 박리한 후의, 기재 필름측에 있어서의 광 경화 수지층의 표면 평활성이 거칠어지거나 하는 경우가 있다. 이들 관점에서, 기재 필름의 용액 도공면의 물 접촉각은, 45 ∼ 95 도인 것이 바람직하고, 50 ∼ 90 도인 것이 보다 바람직하며, 55 ∼ 85 도인 것이 더욱 바람직하다. 기재 필름의 용액 도공면의 물 접촉각을 상기 범위로 조정하기 위해서는, 코로나 처리 등의 친수화 처리의 강도를 조정하거나 하는 것이 유효하다.In the manufacturing method of the laminated body for polarizing film protection of this invention, it is preferable that the water contact angle of the solution coating surface of a base film is 40-100 degrees. When the water contact angle of the solution coating surface of the base film is large, when the solution is coated on the base film, the solution tends to turn out and it is sometimes difficult to uniformly coat the solution. In addition, even when the solution can be uniformly coated, there is a problem that the surface of the photocurable resin layer on the base film side after peeling the base film from the photocurable resin layer is not smoothed well. On the other hand, when the water contact angle is small, the adhesion between the base film and the photocurable resin layer becomes strong, making it difficult to peel the base film from the photocurable resin layer, or after peeling the base film from the photocurable resin layer, to the base film side. The surface smoothness of the photocurable resin layer in the case may be rough. From these viewpoints, the water contact angle of the solution coating surface of the base film is preferably 45 to 95 degrees, more preferably 50 to 90 degrees, and even more preferably 55 to 85 degrees. In order to adjust the water contact angle of the solution coating surface of the base film within the above range, it is effective to adjust the strength of the hydrophilic treatment such as corona treatment.

라디칼 중합성 화합물과 용제를 함유하는 용액의, 용제의 용해도 파라미터 (SP 값) 는, 8 ∼ 10 (cal/㎤)1/2 인 것이 바람직하다. 용제의 용해도 파라미터가 지나치게 작거나 지나치게 크거나 하면, 기재 필름 상에 용액을 도공하였을 때에 용액이 겉돌기 쉬워, 균일하게 용액을 도공하는 것이 어렵다. 이 관점에서, 용제의 용해도 파라미터는 8.2 ∼ 9.8 (cal/㎤)1/2 의 범위인 것이 보다 바람직하고, 8.4 ∼ 9.6 (cal/㎤)1/2 의 범위인 것이 더욱 바람직하며, 8.6 ∼ 9.4 (cal/㎤)1/2 의 범위인 것이 특히 바람직하다. 용해도 파라미터는, 문헌 (예로서, 고분자 데이터 핸드북 : 고분자 학회 편찬, 용제 핸드북 ; 아사하라 테루조 외 편찬, D.W.VAN KREVELEN, PROPERTIES OF POLYMERS Third edition, p214 ∼ 220 (1990) 등) 에 기재되어 있는 것을 사용하였다.It is preferable that the solubility parameter (SP value) of the solvent of the solution containing a radically polymerizable compound and a solvent is 8-10 (cal / cm <3>) 1/2 . If the solubility parameter of the solvent is too small or too large, when the solution is coated on the base film, the solution tends to turn out and it is difficult to uniformly coat the solution. From this point of view, the solubility parameter of the solvent is more preferably in the range of 8.2 to 9.8 (cal / cm 3) 1/2 , more preferably in the range of 8.4 to 9.6 (cal / cm 3) 1/2 , and 8.6 to 9.4 (cal / cm 3) It is particularly preferable to be in the range of 1/2 . Solubility parameters are those described in the literature (e.g., Polymer Data Handbook: Polymer Society Compilation, Solvent Handbook; Asahara Teruzo et al., DWVAN KREVELEN, PROPERTIES OF POLYMERS Third edition, p214-220 (1990), etc.). Did.

본 발명의 편광 필름 보호용 적층체의 제조 방법에 있어서, 기재 필름의 도공면에 있어서의 규소의 검출 강도는, 10 cps/mA 이하인 것이 바람직하다. 통상, 기재 필름의 표면에 규소를 함유하는 이형제 등을 도공함으로써, 형성된 광 경화 수지층의 박리성을 양호하게 하는 것이 가능하다. 그러나, 규소를 함유하는 이형제 등이 라디칼 중합성 화합물과 용제를 함유하는 용액으로 이행하여, 얻어지는 광 경화 수지층의 물성이 변화되거나, 편광 필름 보호용 적층체를 제조하는 설비를 오염시키거나 하는 문제가 있다. 그 때문에, 규소를 함유하는 이형제를 사용하지 않는 방법으로 이형 처리를 실시한 기재 필름을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 기재 필름의 도공면의 규소의 측정은, 후술하는 실시예에 기재한 바와 같이, X 선 분석 현미경을 사용하여 측정할 수 있다.In the manufacturing method of the laminated body for polarizing film protection of this invention, it is preferable that the detection intensity of silicon in the coating surface of a base film is 10 cps / mA or less. Usually, it is possible to improve the peelability of the formed photocurable resin layer by coating a surface of the base film with a release agent containing silicon or the like. However, there is a problem that the release agent containing silicon or the like migrates to a solution containing a radically polymerizable compound and a solvent, and the properties of the resulting photocurable resin layer are changed, or the equipment for manufacturing a laminate for protecting a polarizing film is contaminated. have. For this reason, it is preferable to use a base film which has been subjected to a release treatment by a method that does not use a release agent containing silicon. In addition, the measurement of silicon on the coating surface of a base film can be measured using an X-ray analysis microscope, as described in the Example mentioned later.

<편광판> <Polarizing plate>

본 발명에 의해 얻어지는 편광판은, 편광 필름의 적어도 일방의 면에, 접착제층을 개재하여 광 경화 수지층을 첩합한 것이다. 이로써, 내습열성과 표면 평활성이 우수한 편광판을 얻을 수 있다. 편광판을 제작하기 위해 사용하는 편광 필름은, 이색성 색소를 미리 함유시킨 PVA 필름을 1 축 연신하거나, PVA 필름의 1 축 연신과 동시에 이색성 색소를 흡착시키거나, PVA 필름을 1 축 연신한 후에 이색성 색소를 흡착시키거나 하는 등 해서 제조할 수 있다.In the polarizing plate obtained by the present invention, a photocurable resin layer is pasted on at least one surface of a polarizing film via an adhesive layer. Thereby, a polarizing plate excellent in heat resistance and surface smoothness can be obtained. The polarizing film used to manufacture the polarizing plate is after uniaxially stretching a PVA film containing a dichroic dye in advance, adsorbing a dichroic dye simultaneously with uniaxial stretching of the PVA film, or uniaxially stretching the PVA film. It can be produced by adsorbing a dichroic dye or the like.

본 발명의 편광 필름 보호용 적층체에 있어서의 광 경화 수지층을 편광 필름에 첩합함으로써, 박형 경량화하면서, 더욱 내습열성이 우수한 편광판을 제작할 수 있다. 편광판의 제작 방법에 특별히 제한은 없고, 예를 들어, 편광 필름의 적어도 일방의 면에, 본 발명의 편광 필름 보호용 적층체에 있어서의 광 경화 수지층을 접착제층을 개재하여 첩합하는 공정 (첩합 공정), 및, 당해 첩합 공정 다음에 자외선 또는 전자선의 적어도 일방을 조사하여 접착제층을 경화시키는 공정 (접착 공정), 추가로, 당해 접착 공정 후에 기재 필름을 박리하는 공정 (박리 공정) 을 구비하는 제조 방법에 의해 제작할 수 있다.By attaching the photocurable resin layer in the polarizing film protective layered product of the present invention to a polarizing film, a polarizing plate excellent in moisture resistance and heat resistance can be produced while being thin and lightweight. There is no restriction | limiting in particular in the manufacturing method of a polarizing plate, For example, the process of laminating | stacking the photocurable resin layer in the laminated body for polarizing film protection of this invention via an adhesive layer on at least one surface of a polarizing film (bonding process) ), And the step of curing the adhesive layer by irradiating at least one of ultraviolet rays or electron beams after the bonding step (adhesive step), and further, a step of peeling the base film after the bonding step (peeling step). It can be produced by a method.

[첩합 공정] [Combination process]

첩합 공정에 있어서, 편광 필름의 적어도 일방의 면에, 본 발명의 편광 필름 보호용 적층체에 있어서의 광 경화 수지층을 접착제층을 개재하여 첩합한다. 이 첩합 방법에 특별히 제한은 없지만, 보다 간편하게 첩합할 수 있는 점에서, 본 발명의 편광 필름 보호용 적층체에 있어서의 광 경화 수지층면에 접착제를 도공한 후, 편광 필름을 중첩하는 방법이 바람직하다. 또한, 다른 하나의 편광 필름 보호용 적층체에 있어서의 광 경화 수지층면에 접착제를 도공하고, 편광 필름의 타방의 면에 중첩해도 된다. 접착제를 도포하는 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 다이 코트, 롤 코트, 에어 나이프 코트, 그라비아 롤 코트, 닥터 롤 코트, 닥터 나이프 코트, 커튼 플로 코트, 스프레이 코트, 와이어 바 코트, 로드 코트, 브러시 도포 등의 방법을 들 수 있다.In the pasting step, the photocurable resin layer in the laminate for polarizing film protection of the present invention is pasted on at least one surface of the polarizing film via an adhesive layer. Although there is no restriction | limiting in particular in this bonding method, From the point which can be more easily bonded, the method of superimposing a polarizing film after apply | coating an adhesive to the surface of the photocurable resin layer in the laminated body for polarizing film protection of this invention is preferable. Further, an adhesive may be applied to the surface of the photocurable resin layer in the other laminate for protecting a polarizing film, and may be superimposed on the other surface of the polarizing film. The method of applying the adhesive is not particularly limited, for example, die coat, roll coat, air knife coat, gravure roll coat, doctor roll coat, doctor knife coat, curtain flow coat, spray coat, wire bar coat, road coat And methods such as brush application.

또한, 첩합 공정에서 얻어진 첩합체를 롤 등으로 가압해도 된다. 이 경우, 롤의 재질로는, 예를 들어 금속이나 고무 등을 들 수 있다.Moreover, you may pressurize the paste obtained in the pasting process with a roll etc. In this case, as the material of the roll, for example, metal, rubber, or the like can be mentioned.

사용하는 접착제로는, 편광 필름과 광 경화 수지층을 접착할 수 있는 것이면 특별히 제한은 없고, 무용제형 광 경화성 접착제 등이 바람직하게 사용된다.The adhesive used is not particularly limited as long as it can bond the polarizing film and the photocurable resin layer, and a solvent-free photocurable adhesive or the like is preferably used.

또, 편광 필름과 광 경화 수지층의 접착력을 보다 한층 향상시키기 위해, 필요에 따라, 상기 광 경화 수지층의 표면을 공지된 코로나 처리, 플라즈마 처리, UV처리, 화염 처리 등으로 개질할 수도 있다.Further, in order to further improve the adhesion between the polarizing film and the photo-curable resin layer, the surface of the photo-curable resin layer may be modified by known corona treatment, plasma treatment, UV treatment, flame treatment, or the like, if necessary.

[접착 공정] [Adhesion process]

접착 공정에서는, 자외선 또는 전자선의 적어도 일방을 조사하여 미경화의 접착제층을 경화시킨다. 자외선 또는 전자선의 조사는 공지된 장치를 사용하여 실시할 수 있다. 자외선 또는 전자선의 적산 광량에 특별히 제한은 없지만, 10 ∼ 20,000 mJ/㎠ 의 범위 내인 것이 바람직하고, 30 ∼ 5,000 mJ/㎠ 의 범위 내인 것이 보다 바람직하다. 적산 광량이 지나치게 적으면, 편광 필름과 광 경화 수지층의 접착력이 부족한 경우가 있다. 한편, 적산 광량이 지나치게 많으면, 과잉의 열이 발생하여, 접착제층이나 편광 필름, 및 광 경화 수지층이 열화되는 경우가 있다. 또한, 경화 속도, 조사 장치의 입수성, 가격 등의 관점에서, 자외선을 사용하는 것이 보다 바람직하다.In the bonding step, at least one of ultraviolet rays or electron beams is irradiated to cure the uncured adhesive layer. Irradiation of ultraviolet rays or electron beams can be carried out using a known device. Although there is no particular limitation on the amount of accumulated light of ultraviolet rays or electron beams, it is preferably in the range of 10 to 20,000 mJ / cm 2, and more preferably in the range of 30 to 5,000 mJ / cm 2. When the accumulated light amount is too small, the adhesion between the polarizing film and the photocurable resin layer may be insufficient. On the other hand, if the accumulated light amount is too large, excessive heat is generated, and the adhesive layer, the polarizing film, and the photocurable resin layer may be deteriorated. Moreover, it is more preferable to use ultraviolet rays from the viewpoints of curing speed, availability of the irradiation device, price, and the like.

자외선 또는 전자선의 조사 중 또는 조사 후에, 필요에 따라 가열에 의해 접착제층의 경화를 촉진시켜도 된다. 이 가열 온도로는, 경화 속도나 편광 필름 등의 열화 정도 등의 관점에서, 40 ∼ 130 ℃ 의 범위 내인 것이 바람직하고, 50 ∼ 100 ℃ 의 범위 내인 것이 보다 바람직하다. 온도가 40 ℃ 미만인 경우, 접착제층의 경화가 잘 촉진되지 않고, 온도가 130 ℃ 를 초과하는 경우, 편광 필름이나 기재 필름이 열화나 변형되기 쉬워져, 편광 성능이나 평활성이 우수한 편광판을 잘 얻을 수 없다.Curing of the adhesive layer may be accelerated by heating, if necessary, during or after irradiation of ultraviolet rays or electron beams. The heating temperature is preferably in the range of 40 to 130 ° C, and more preferably in the range of 50 to 100 ° C, from the viewpoint of the curing rate, the degree of deterioration of a polarizing film, and the like. When the temperature is less than 40 ° C, curing of the adhesive layer is not facilitated, and when the temperature exceeds 130 ° C, the polarizing film or the base film tends to deteriorate or deform, and a polarizing plate excellent in polarization performance and smoothness can be obtained well. none.

[박리 공정] [Peeling process]

접착 공정 다음에 기재 필름을 박리함으로써, 광 경화 수지층이 편광 필름의 적어도 일방의 면에 접착제층을 개재하여 배치된 편광판을 얻을 수 있다.By peeling the base film after the bonding step, a polarizing plate in which the photocurable resin layer is disposed via at least one side of the polarizing film via an adhesive layer can be obtained.

실시예Example

본 발명을 이하의 실시예에 의해 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 전혀 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하의 실시예 및 비교예에 있어서 채용된 각 평가 방법 내지 측정 방법을 이하에 나타낸다.Although the present invention is specifically described by the following examples, the present invention is not limited at all by these examples. In addition, each evaluation method and measurement method employed in the following Examples and Comparative Examples are shown below.

[광 경화 수지층의 붕소 원자 환산의 붕산 투과도] [Borrate transmittance in terms of boron atom in the photocurable resin layer]

이하의 각 실시예 또는 비교예에서 얻어진 광 경화 수지층을, 순수를 넣은 투습도 컵 (체결식, JIS Z-0208 준거) 에 장착하고, 60 ℃ 의 8 질량% 붕산 수용액 중에 침지하였다. 그리고, 시험 개시 전의 투습도 컵 내의 샘플수 (순수) 와, 침지하고 24 시간 후의 투습도 컵 내의 샘플수의 붕소 농도를 ICP 발광 분석법 (시마즈 제작소 제조 시마즈 멀티형 ICP 발광 분석 장치 ICPE-9000) 으로 분석하고, 그 붕소 농도 증가량으로부터 하기 식 (1) 로 붕소 원자 환산의 붕산 투과도 (A) 를 산출하였다 (도 1 참조). The photocurable resin layer obtained in each of the following Examples or Comparative Examples was attached to a moisture permeability cup (fastening type, conforming to JIS Z-0208) with pure water, and immersed in an aqueous solution of boric acid in 8 mass% at 60 ° C. Then, the boron concentration of the number of samples (pure water) in the moisture permeability cup before the start of the test and the number of samples in the moisture permeability cup 24 hours after immersion was analyzed by the ICP emission analysis method (Shimadzu Corporation's Shimadzu multi-type ICP emission analysis device ICPE-9000), The boric acid permeability (A) of the boron atom conversion was calculated from the boron concentration increase amount by the following formula (1) (see Fig. 1).

A = {a24 - a0) × 10-6 × M}/S (1) A = {a 24 -a 0 ) × 10 -6 × M} / S (1)

A : 붕소 원자 환산의 붕산 투과도 [g/㎡·day] A: Boric acid permeability in terms of boron atom conversion [g / ㎡ · day]

a24 : 24 시간 후의 샘플수의 붕소 농도 [ppm] a 24 : Boron concentration in the number of samples after 24 hours [ppm]

a0 : 시험 개시 전의 샘플수 (순수) 의 붕소 농도 [ppm] a 0 : Boron concentration in the number of samples (pure water) before the start of the test [ppm]

M : 샘플수의 중량 [g] M: Weight of sample number [g]

S : 광 경화 수지층과 붕산 수용액이 접촉하고 있는 면적 (투습도 컵의 투과 면적) [㎡]S: Area where the photocurable resin layer and the aqueous boric acid solution are in contact (transmitted area of the moisture permeability cup) [㎡]

[기재 필름과 광 경화 수지층의 접착력] [Adhesive force between base film and photocurable resin layer]

이하의 각 실시예 또는 비교예에서 얻어진 편광 필름 보호용 적층체를 23 ℃, 50 %RH 의 조건하에서 24 시간 정치 (靜置) 후, 당해 편광 필름 보호용 적층체로부터 250 mm × 25 mm 의 단책상 (短冊狀) 의 필름편을 5 장씩 잘라냈다. 다음으로, 각 필름편마다, 기재 필름과 광 경화 수지층 사이를, JIS K6854-3 : 1999 의 T 형 박리 시험에 준거하여 박리하고, 얻어진 박리력의 5 회 측정의 평균치를 접착력으로 하였다. 당해 시험에 있어서, 박리 속도는 30 mm/분으로 하였다. 또한, 기재 필름과 광 경화 수지층의 접착력이 지나치게 높아, 기재 필름 또는 광 경화 수지층이 파괴된 경우에는, 「재료 파괴」로 평가하였다.The polarizing film protective laminate obtained in each of the following Examples or Comparative Examples was left standing for 24 hours under conditions of 23 ° C and 50% RH, and then a 250 mm x 25 mm single-handed desk from the laminate for protecting the polarizing film ( Iii) Five film pieces were cut out. Next, for each film piece, the base film and the photocurable resin layer were peeled off according to the T-type peeling test of JIS K6854-3: 1999, and the average value of the five measurements of the peeling force obtained was used as the adhesive force. In this test, the peeling rate was 30 mm / min. Moreover, when the adhesive force of a base film and a photocurable resin layer is too high and a base film or a photocurable resin layer was destroyed, it evaluated as "material destruction."

[기재 필름측에 있어서의 광 경화 수지층의 제곱 평균 면 조도 (rms)] [Squared average surface roughness (rms) of the photocurable resin layer on the base film side]

이하의 각 실시예 또는 비교예에서 얻어진 편광 필름 보호용 적층체의 기재 필름을 박리하고, 기재 필름측에 있어서의 광 경화 수지층의 표면을 노출시켰다. 그 후, 백색 간섭 현미경 (zygo 사 제조) 을 사용하여, 기재 필름측에 있어서의 광 경화 수지층의 표면 형상을 측정하고, 제곱 평균 면 조도 (rms) 를 계산하였다 (계산 범위는, 2.0 mm × 2.7 mm).The base film of the polarizing film protective laminate obtained in each of the following examples or comparative examples was peeled off, and the surface of the photocurable resin layer on the base film side was exposed. Then, the surface shape of the photocurable resin layer on the base film side was measured using a white interference microscope (manufactured by Zygo), and the square average surface roughness (rms) was calculated (calculation range is 2.0 mm × 2.7 mm).

[물 접촉각] [Water contact angle]

이하의 실시예 또는 비교예에 있어서 사용하는 기재 필름으로부터 200 mm × 15 mm 의 단책상의 필름편을 잘라내고, 이 필름편의 용액 도공면에 있어서의 물 접촉각을, JIS R3257 : 1999 (기판 유리 표면의 젖음성 시험 방법) 의 기재에 준거하여 측정하였다. 즉, 수평으로 놓인 필름편 상에 4 ㎕ 이하의 물방울을 정치하고, 물방울의 형상을 측정하여, 물방울이 필름편에 접하고 있는 면의 반경 r (mm), 및 필름편 표면으로부터 물방울의 정점까지의 높이 h (mm) 로부터, 하기 식 (2) 에 의해 물 접촉각 θ (도) 를 구하였다.A 200 mm × 15 mm single-walled film piece was cut out from the base film used in the following Examples or Comparative Examples, and the water contact angle on the solution coating surface of the film piece was JIS R3257: 1999 (substrate glass surface It was measured in accordance with the description of the wettability test method. That is, 4 μl or less of water droplets are left on a horizontally placed film piece, the shape of the water drop is measured, and the radius r (mm) of the surface where the water drop is in contact with the film piece, and from the surface of the film piece to the peak of the water drop From the height h (mm), the water contact angle θ (degree) was obtained by the following formula (2).

θ = 2tan-1 (h/r) (2) θ = 2tan -1 (h / r) (2)

또한, 측정은 5 회 실시하고, 그 평균치를 그 기재 필름의 물 접촉각으로 하였다. 또, 측정은, 25 ℃, 50 %RH 의 조건하에서 실시하였다.In addition, measurement was performed 5 times, and the average value was made into the water contact angle of the base film. Moreover, the measurement was performed on condition of 25 degreeC and 50% RH.

[기재 필름의 도공면의 규소] [Silicone on the coated surface of the base film]

이하의 실시예 또는 비교예에 있어서 사용하는 기재 필름으로부터 가로 세로 50 mm 의 필름편을 잘라내고, X 선 분석 현미경 (주식회사 호리바 제작소사 제조 XGT-5200, X 선 조사 직경 100 ㎛, 전류 1 mA, X 선관 전압 30 kV, 측정 시간 400 초) 을 사용하여, 이 필름편의 용액 도공면의 규소의 검출 강도를 측정하였다.A film piece having a width and width of 50 mm was cut out from the base film used in the following Examples or Comparative Examples, and an X-ray analysis microscope (XGT-5200 manufactured by Horiba Co., Ltd., X-ray irradiation diameter of 100 µm, current of 1 mA, Using the X-ray tube voltage 30 kV, measurement time 400 seconds), the detection strength of silicon on the solution coated surface of this film piece was measured.

[편광판의 전광선 투과율 및 편광도] [All light transmittance and polarization degree of the polarizing plate]

이하의 실시예 또는 비교예에서 얻어진 편광판의 폭 방향 (TD) 의 중앙부로부터, 편광판의 길이 방향 (MD) 으로 2 cm, 폭 방향 (TD) 으로 3 cm 의 장방형의 샘플을 2 장 채취하였다. 각각의 샘플에 대해, 길이 방향에 대해 45°기울인 경우의 광의 투과율과, -45°기울인 경우의 광의 투과율을 측정하고, 그것들의 모든 평균치를 그 편광판의 전광선 투과율 (%) 로 하였다. 또, 당해 2 장의 샘플을 패럴렐 니콜 상태로 하였을 때의 광의 투과율 T∥ (%), 및 당해 2 장의 샘플을 크로스 니콜 상태로 하였을 때의 광의 투과율 T⊥ (%) 을, 상기 전광선 투과율 (%) 의 경우와 동일하게 하여 측정하고, 하기 식 (3) 에 의해 편광도를 구하였다. 또한, 투과율의 측정은, 적분구 부착 분광 광도계 (니혼 분광 주식회사 제조 「V7100」) 를 사용하여, JIS Z 8722 (물체색의 측정 방법) 에 준거하여, C 광원, 2°시야의 가시광 영역의 시감도 보정을 실시하였다.Two rectangular samples of 2 cm in the longitudinal direction (MD) and 3 cm in the width direction (TD) were taken from the central portion of the width direction (TD) of the polarizing plate obtained in the following Examples or Comparative Examples. For each sample, the transmittance of light in the case of a 45 ° tilt and the transmittance of light in the case of a -45 ° tilt with respect to the longitudinal direction were measured, and all of these average values were taken as the total light transmittance (%) of the polarizing plate. In addition, the transmittance of light T ∥ (%) when the two samples were in parallel nicol state, and the transmittance T⊥ (%) of light when the two samples were in cross nicol state, were the total light transmittance (%). It measured in the same manner as in the case of, and the polarization degree was obtained by the following formula (3). In addition, the measurement of transmittance was performed using a spectrophotometer with an integrating sphere ("V7100" manufactured by Nippon Spectrum Co., Ltd.), in accordance with JIS Z 8722 (Measurement method for object color), correcting the visibility of a C light source and a visible light region of 2 ° field of view. Was carried out.

편광도 = {(T∥ - T⊥)/(T∥ + T⊥)}1/2 × 100 (3) Polarization degree = {(T∥-T⊥) / (T∥ + T⊥)} 1/2 × 100 (3)

또한, 내습열성 시험 전의, 초기의 전광선 투과율을 T0 으로 하였다.In addition, the initial total light transmittance before the heat resistance test was set to T 0 .

[편광판의 내습열성] [Moisture resistance of polarizing plate]

이하의 실시예 또는 비교예에서 얻어진 편광판의 폭 방향 (TD) 의 중앙부로부터, 편광판의 길이 방향 (MD) 으로 4 cm, 폭 방향 (TD) 으로 3 cm 의 장방형의 샘플을 2 장 채취하고, 각각 금속 프레임에 고정시켜, 상기의 방법에 의해, 초기의 전광선 투과율 (T0) 및 편광도를 구하였다. 60 ℃, 90 %RH 의 항온 항습기 (야마토 과학 주식회사 제조 HUMIDIC CHAMBER IG400) 에 넣어, 48 시간의 내습열성 시험을 실시하고, 상기의 방법에 의해 내습열성 시험 후의 전광선 투과율 (T48), 편광도를 측정하였다. 상기의 T0 과 T48 로부터, 하기 식 (4) 를 사용하여 전광선 투과율의 변화량 (ΔT) 을 구하고, 이것을 편광판의 내습열성의 지표로 하였다.From the central portion of the width direction (TD) of the polarizing plate obtained in the following Examples or Comparative Examples, 2 samples of 4 cm in the longitudinal direction (MD) and 3 cm in the width direction (TD) of the polarizing plate were taken, and each of them was collected. It was fixed to a metal frame, and the initial total light transmittance (T 0 ) and polarization degree were determined by the above method. Placed in 60 ℃, 90% RH thermo-hygrostat (Yamato Science Co., Ltd. HUMIDIC CHAMBER IG400) of, subjected to moist heat resistance test of 48 hours, the total light transmittance after the moist heat resistance test by the method (T 48), measuring the degree of polarization Did. From the above-mentioned T 0 and T 48 , the change amount (ΔT) of the total light transmittance was obtained using the following formula (4), and this was used as an index of the moisture resistance and heat resistance of the polarizing plate.

ΔT = T48 - T0 (4)ΔT = T 48 -T 0 (4)

[실시예 1] [Example 1]

<편광 필름 보호용 적층체의 제작> <Production of a laminate for polarizing film protection>

라디칼 중합성 화합물과 용제를 함유하는 용액으로서, 라디칼 중합성 화합물을 함유하는 히탈로이드 7975 (히타치 화성 공업 주식회사 제조, 수지분 32 질량%, 용제 톨루엔, 용제의 SP 값 8.9) 31.25 g 과 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤 (BASF 제조, IRGACURE 184) 0.4 g 을 샘플관에 칭량하고, 24 시간 교반하여 균일하게 혼합함으로써, 용액을 얻었다. 그 후, 기재 필름으로서, 이형 처리 PET 필름인 레이하이퍼 F (나카이 공업 주식회사 제조, 물 접촉각 68.9 도, 규소의 검출 강도 5.25 cps/mA) 를 사이즈 300 mm × 150 mm 로 잘라내고, 바 코터를 사용하여 상기 용액을 이형 처리면에 도공하고, 70 ℃ 에서 1 분간 가열하여 용제를 휘발시킨 후, 자외선 조사 장치 (GS YUASA 주식회사의 메탈 할라이드 램프를 사용, 조사 강도 300 mW/㎠) 를 사용하여, 적산 광량이 300 mJ/㎠ 가 되도록 자외선을 조사함으로써, 기재 필름 상에 두께 5.9 ㎛ 의 광 경화 수지층을 갖는 편광 필름 보호용 적층체를 얻었다. 또한, 이 적산 광량에 대해서는 UV 계측기 (GS YUASA 주식회사) 를 사용하여 측정하였다.As a solution containing a radically polymerizable compound and a solvent, Heataloid 7975 containing a radically polymerizable compound (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., resin powder 32 mass%, solvent toluene, solvent SP value 8.9) 31.25 g and 1-hydride A solution was obtained by weighing 0.4 g of hydroxycyclohexylphenylketone (manufactured by BASF, IRGACURE 184) into a sample tube and stirring and mixing it uniformly for 24 hours. Thereafter, as a base film, a Ray Hyper F (a Nakai Industries Co., Ltd., water contact angle of 68.9 degrees, a detection strength of 5.25 cps / mA of silicon), which is a release-treated PET film, was cut to a size of 300 mm × 150 mm, and a bar coater was used Then, the solution was coated on the release treatment surface, heated at 70 ° C. for 1 minute to volatilize the solvent, and then integrated using an ultraviolet irradiation device (using a metal halide lamp manufactured by GS YUASA, irradiation intensity of 300 mW / cm 2). By irradiating ultraviolet rays so that the light amount was 300 mJ / cm 2, a laminate for protecting a polarizing film having a photocurable resin layer having a thickness of 5.9 µm on a base film was obtained. In addition, about this integrated light quantity, it measured using the UV meter (GS YUASA Co., Ltd.).

<편광 필름 보호용 적층체의 평가> <Evaluation of the laminate for polarizing film protection>

얻어진 편광 필름 보호용 적층체에 대해, 상기한 방법에 의해, 광 경화 수지층의 붕소 원자 환산의 붕산 투과도, 기재 필름과 광 경화 수지층의 접착력, 및 기재 필름측에 있어서의 광 경화 수지층의 제곱 평균 면 조도 (rms) 의 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타냈다.About the obtained laminated body for polarizing film protection, by the above-mentioned method, the boric acid transmittance of the photocurable resin layer in terms of boron atom, the adhesive force of the base film and the photocurable resin layer, and the square of the photocurable resin layer on the base film side The average surface roughness (rms) was evaluated. The results are shown in Table 1 and Table 2.

<편광 필름의 제작> <Production of the polarizing film>

두께가 30 ㎛ 이고 폭이 65 cm 인 장척의 PVA 필름 (PVA 와 글리세린과 계면 활성제를 함유하고, 글리세린의 함유량이 PVA 100 질량부에 대해 12 질량부이고, 계면 활성제의 함유량이 PVA 100 질량부에 대해 0.03 질량부인 PVA 필름. PVA 는 아세트산비닐의 단독 중합체의 비누화물이고, 중합도는 2,400 이며, 비누화도는 99.9 몰%.) 을, 그 필름 롤로부터 연속적으로 풀어내어, 팽윤 처리, 염색 처리, 가교 처리, 연신 처리, 고정 처리 및 건조 처리를 실시하여 편광 필름을 제작하였다.A long PVA film with a thickness of 30 μm and a width of 65 cm (containing PVA and glycerin and surfactant, the content of glycerin is 12 parts by mass relative to 100 parts by weight of PVA, and the content of surfactant is 100 parts by mass of PVA) PVA film with respect to 0.03 parts by mass.PVA is a saponified product of a vinyl acetate homopolymer, the degree of polymerization is 2,400, and the degree of saponification is 99.9 mol%.) Continuously released from the film roll, followed by swelling treatment, dyeing treatment, crosslinking A polarizing film was produced by performing treatment, stretching treatment, fixing treatment, and drying treatment.

즉, 팽윤 처리로서, PVA 필름을 30 ℃ 의 물 중에 1 분간 침지하고, 그 동안에 연신 배율 2 배로 길이 방향으로 1 축 연신하였다. 그리고, 염색 처리로서, 요오드계 색소를 함유하는 수용액 (요오드 농도 : 0.02 질량%, 요오드화칼륨 농도 : 0.4 질량%, 30 ℃) 중에 1 분간 침지하고, 그 동안에 연신 배율 1.2 배로 길이 방향으로 1 축 연신하였다. 또한, 가교 처리로서, 붕산 수용액 (붕산 농도 : 2.6 질량%, 30 ℃) 중에 2 분간 침지하고, 그 동안에 연신 배율 1.1 배로 길이 방향으로 1 축 연신하였다. 계속해서, 연신 처리로서, 붕산 수용액 (붕산 농도 : 2.8 질량%, 요오드화칼륨 농도 : 5 질량%, 57 ℃) 중에서 연신 배율 2.4 배로 길이 방향으로 1 축 연신하였다 (전체 연신 배율은 6.3 배). 또한, 고정 처리로서, 붕산 수용액 (붕산 농도 : 1.5 질량%, 요오드화칼륨 농도 : 5 질량%, 22 ℃) 중에 10 초간 침지하였다. 그리고, 건조 처리로서, 60 ℃ 에서 1 분간 건조시켜, 편광 필름을 얻었다.That is, as a swelling treatment, the PVA film was immersed in water at 30 ° C for 1 minute, and uniaxially stretched in the longitudinal direction at a draw ratio of 2 times. Then, as a dyeing treatment, it was immersed in an aqueous solution containing an iodine dye (iodine concentration: 0.02 mass%, potassium iodide concentration: 0.4 mass%, 30 ° C) for 1 minute, and uniaxially stretched in the longitudinal direction at a draw ratio of 1.2 times during that time. Did. Moreover, as a bridge | crosslinking process, it immersed in the boric-acid aqueous solution (boric-acid concentration: 2.6 mass%, 30 degreeC) for 2 minutes, and uniaxially stretched in the longitudinal direction with the draw ratio 1.1 times in the meantime. Subsequently, as the stretching treatment, uniaxial stretching was performed in the longitudinal direction at a stretching ratio of 2.4 times in a boric acid aqueous solution (borate concentration: 2.8 mass%, potassium iodide concentration: 5 mass%, 57 ° C) (total stretching ratio: 6.3). Moreover, as a fixing treatment, it was immersed for 10 seconds in a boric-acid aqueous solution (boric acid concentration: 1.5 mass%, potassium iodide concentration: 5 mass%, 22 degreeC). And as a drying process, it dried at 60 degreeC for 1 minute, and obtained the polarizing film.

<접착제의 제작> <Production of adhesives>

3-에틸-3-하이드록시메틸옥세탄 (토아 합성 주식회사 제조, OXT-101) 2 g 과, 3',4'-에폭시시클로헥실메틸 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트 (주식회사 다이셀 제조, 셀록사이드 2021P) 8 g 과, 디페닐[4-(페닐티오)페닐]술포늄헥사플루오로포스페이트의 프로필렌카보네이트 50 질량% 용액 (산아프로 주식회사 제조, CPI-100P) 0.8 g 을 샘플관에 칭량하고, 24 시간 교반하여 균일하게 혼합함으로써, 편광 필름과 광 경화 수지층을 접착시키기 위한 접착제를 얻었다.3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane (manufactured by Toa Synthetic Corporation, OXT-101) 2 g, 3 ', 4'-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (manufactured by Daicel Co., Ltd. , Celloxide 2021P) 8 g, and 0.8 g of a 50% by mass solution of propylene carbonate (CPI-100P, manufactured by San Afro Co., Ltd.) of diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium hexafluorophosphate was weighed into a sample tube. Then, the mixture was uniformly mixed by stirring for 24 hours to obtain an adhesive for bonding the polarizing film and the photocurable resin layer.

<편광판의 제작> <Production of the polarizing plate>

편광 필름 보호용 적층체를 140 mm × 120 mm 의 크기로 2 장 잘라내고, 1 장째의 편광 필름 보호용 적층체의 광 경화 수지층면에, 바 코터를 사용하여 상기 접착제를 도공하였다. 다음으로, 그 위에, 길이 방향 (MD) 으로 120 mm, 폭 방향 (TD) 으로 100 mm 로 잘라낸 편광 필름을, 상기 접착제를 개재하여 중첩시켰다. 그 후, 2 장째의 편광 필름 보호용 적층체의 광 경화 수지면에, 상기와 동일한 접착제를 바 코터를 사용하여 도공하고, 편광 필름의 타방의 면에 중첩시켰다. 이와 같이 하여 얻어진 기재 필름/광 경화 수지층/접착제/편광 필름/접착제/광 경화 수지층/기재 필름의 층 구성을 갖는 첩합체를 라미네이터에 통과시킴으로써 압압 (押壓) 하고, 접착제의 부분의 두께가 각각 1 ㎛ 가 되도록 조정하였다. 그 후, 자외선을 조사하여, 접착제를 경화시킨 후, 양면의 기재 필름을 박리 제거하여, 편광판을 얻었다.The polarizing film protective laminate was cut into two pieces having a size of 140 mm × 120 mm, and the adhesive was coated on the photocurable resin layer surface of the first polarizing film protective laminate using a bar coater. Next, thereon, the polarizing film cut out by 120 mm in the longitudinal direction (MD) and 100 mm in the width direction (TD) was superimposed through the adhesive. Thereafter, the same adhesive as above was applied to the photocurable resin surface of the second laminate for protecting a polarizing film using a bar coater, and superposed on the other side of the polarizing film. The base film / photo-curing resin layer / adhesive / polarizing film / adhesive / photo-curing resin layer / base film obtained in this way is pressed by passing through the laminator through a laminate having the layer constitution, and the thickness of the portion of the adhesive. Was adjusted to be 1 µm each. Thereafter, after irradiating with ultraviolet rays and curing the adhesive, the base film on both sides was peeled off to obtain a polarizing plate.

<편광판의 평가> <Evaluation of the polarizing plate>

얻어진 편광판에 대해, 상기 방법에 의해, 편광판의 초기 편광 성능 (초기의 전광선 투과율 (T0), 편광도) 및 편광판의 내습열성 시험 후의 편광 성능 (내습열성 시험 후의 전광선 투과율 (T48), 편광도, 전광선 투과율의 변화량 (ΔT)) 의 평가를 실시하였다. 결과를 표 2 에 나타냈다.With respect to the obtained polarizing plate, by the above method, the initial polarization performance (initial total light transmittance (T 0 ), polarization degree) of the polarizing plate and the polarization performance after the heat and humidity resistance test of the polarizing plate (the total light transmittance after the heat and humidity resistance test (T 48 ), polarization Moreover, evaluation of the change amount ((DELTA) T) of total light transmittance was performed. Table 2 shows the results.

[실시예 2] [Example 2]

얻어진 광 경화 수지층의 두께가 1.4 ㎛ 인 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 편광 필름 보호용 적층체 및 편광판을 얻었다. 얻어진 편광 필름 보호용 적층체 및 편광판에 대해, 광 경화 수지층의 붕소 원자 환산의 붕산 투과도, 기재 필름과 광 경화 수지층의 접착력, 기재 필름측에 있어서의 광 경화 수지층의 제곱 평균 면 조도 (rms), 편광판의 초기 편광 성능 (초기의 전광선 투과율 (T0), 편광도) 및 편광판의 내습열성 시험 후의 편광 성능 (내습열성 시험 후의 전광선 투과율 (T48), 편광도, 전광선 투과율의 변화량 (ΔT)) 의 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타냈다.A laminate and a polarizing plate for protecting a polarizing film were obtained in the same manner as in Example 1 except that the obtained photocurable resin layer had a thickness of 1.4 μm. About the obtained laminated body for polarizing film protection and a polarizing plate, the boric acid transmittance of the photocurable resin layer in terms of boron atom, the adhesive force of the base film and the photocurable resin layer, and the square average surface roughness (rms of the photocurable resin layer on the base film side) ), The initial polarization performance of the polarizing plate (initial total light transmittance (T 0 ), polarization degree) and the polarization performance after the heat and humidity resistance test of the polarizing plate (the total light transmittance after the heat resistance test (T 48 ), the degree of change in the polarization degree and the total light transmittance (ΔT) )). The results are shown in Table 1 and Table 2.

[실시예 3] [Example 3]

기재 필름으로서, 이형 처리 PET 필름인 레이하이퍼 N1 (나카이 공업 주식회사 제조, 물 접촉각 84 도, 규소의 검출 강도 5.89 cps/mA) 을 사용한 것과, 얻어진 광 경화 수지층의 두께가 5.5 ㎛ 인 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 편광 필름 보호용 적층체 및 편광판을 얻었다. 얻어진 편광 필름 보호용 적층체 및 편광판에 대해, 광 경화 수지층의 붕소 원자 환산의 붕산 투과도, 기재 필름과 광 경화 수지층의 접착력, 기재 필름측에 있어서의 광 경화 수지층의 제곱 평균 면 조도 (rms), 편광판의 초기 편광 성능 (초기의 전광선 투과율 (T0), 편광도) 및 편광판의 내습열성 시험 후의 편광 성능 (내습열성 시험 후의 전광선 투과율 (T48), 편광도, 전광선 투과율의 변화량 (ΔT)) 의 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타냈다.As the base film, a release-treated PET film, Rayhyper N1 (manufactured by Nakai Industries, Inc., water contact angle of 84 degrees, detection strength of silicon of 5.89 cps / mA) was used, and the obtained photocurable resin layer had a thickness of 5.5 µm. In the same manner as in Example 1, a laminate for protecting a polarizing film and a polarizing plate were obtained. About the obtained laminated body for polarizing film protection and a polarizing plate, the boric acid transmittance of the photocurable resin layer in terms of boron atom, the adhesive force of the base film and the photocurable resin layer, and the square average surface roughness (rms of the photocurable resin layer on the base film side) ), The initial polarization performance of the polarizing plate (initial total light transmittance (T 0 ), polarization degree) and the polarization performance after the heat and humidity resistance test of the polarizing plate (the total light transmittance after the heat resistance test (T 48 ), the degree of change in the polarization degree and the total light transmittance (ΔT) )). The results are shown in Table 1 and Table 2.

[실시예 4] [Example 4]

기재 필름으로서, 이형 처리 PET 필름인 퓨렉스 AN15 (테이진 듀퐁 필름 주식회사 제조, 물 접촉각 82.7 도, 규소의 검출 강도 6.12 cps/mA) 를 사용한 것과, 얻어진 광 경화 수지층의 두께가 5.6 ㎛ 인 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 편광 필름 보호용 적층체 및 편광판을 얻었다. 얻어진 편광 필름 보호용 적층체 및 편광판에 대해, 광 경화 수지층의 붕소 원자 환산의 붕산 투과도, 기재 필름과 광 경화 수지층의 접착력, 기재 필름측에 있어서의 광 경화 수지층의 제곱 평균 면 조도 (rms), 편광판의 초기 편광 성능 (초기의 전광선 투과율 (T0), 편광도) 및 편광판의 내습열성 시험 후의 편광 성능 (내습열성 시험 후의 전광선 투과율 (T48), 편광도, 전광선 투과율의 변화량 (ΔT)) 의 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타냈다.As the base film, a release-treated PET film using Purex AN15 (Teijin DuPont Film Co., Ltd., water contact angle 82.7 degrees, detection strength of silicon 6.12 cps / mA), and the obtained photocurable resin layer having a thickness of 5.6 μm Except in the same manner as in Example 1, a laminate for protecting a polarizing film and a polarizing plate were obtained. About the obtained laminated body for polarizing film protection and a polarizing plate, the boric acid transmittance of the photocurable resin layer in terms of boron atom, the adhesive force of the base film and the photocurable resin layer, and the square average surface roughness (rms of the photocurable resin layer on the base film side) ), The initial polarization performance of the polarizing plate (initial total light transmittance (T 0 ), polarization degree) and the polarization performance after the heat and humidity resistance test of the polarizing plate (the total light transmittance after the heat resistance test (T 48 ), the degree of change in the polarization degree and the total light transmittance (ΔT) )). The results are shown in Table 1 and Table 2.

[실시예 5] [Example 5]

라디칼 중합성 화합물로서 디메틸올트리시클로데칸디아크릴레이트 (쿄에이샤 화학 주식회사 제조, 라이트아크릴레이트 DCP-A) 5 g 과 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트트리아크릴레이트 (토아 합성 주식회사 제조, M-315) 5 g 과, 광 중합 개시제로서 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤 (BASF 제조, IRGACURE 184) 0.4 g 과, 용제로서 아세트산에틸 (와코 순약 공업 주식회사 제조, SP 값 9.1) 의 임의의 양을 샘플관에 칭량하고, 24 시간 교반하여 균일하게 혼합하여, 용액을 얻었다. 이 이후는, 얻어진 광 경화 수지층의 두께가 5.1 ㎛ 인 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 편광 필름 보호용 적층체 및 편광판을 얻었다. 얻어진 편광 필름 보호용 적층체 및 편광판에 대해, 광 경화 수지층의 붕소 원자 환산의 붕산 투과도, 기재 필름과 광 경화 수지층의 접착력, 기재 필름측에 있어서의 광 경화 수지층의 제곱 평균 면 조도 (rms), 편광판의 초기 편광 성능 (초기의 전광선 투과율 (T0), 편광도) 및 편광판의 내습열성 시험 후의 편광 성능 (내습열성 시험 후의 전광선 투과율 (T48), 편광도, 전광선 투과율의 변화량 (ΔT)) 의 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타냈다.As a radically polymerizable compound, 5 g of dimethylol tricyclodecane diacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd., light acrylate DCP-A) and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate (Toa Synthetic Co., Ltd.) Preparation, M-315) 5 g, 0.4 g of 1-hydroxycyclohexylphenylketone (manufactured by BASF, IRGACURE 184) as a photopolymerization initiator, and ethyl acetate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, SP value 9.1) as a solvent The amount of was weighed into a sample tube, stirred 24 hours, and uniformly mixed to obtain a solution. After this, a laminate and a polarizing plate for protecting a polarizing film were obtained in the same manner as in Example 1 except that the obtained photocurable resin layer had a thickness of 5.1 μm. About the obtained laminated body for polarizing film protection and a polarizing plate, the boric acid transmittance of the photocurable resin layer in terms of boron atom, the adhesive force of the base film and the photocurable resin layer, and the square average surface roughness (rms of the photocurable resin layer on the base film side) ), The initial polarization performance of the polarizing plate (initial total light transmittance (T 0 ), polarization degree) and the polarization performance after the heat and humidity resistance test of the polarizing plate (the total light transmittance after the heat resistance test (T 48 ), the degree of change in the polarization degree and the total light transmittance (ΔT) )). The results are shown in Table 1 and Table 2.

[비교예 1] [Comparative Example 1]

라디칼 중합성 화합물로서, 히탈로이드 7975D (히타치 화성 공업 주식회사 제조, 수지분 60 질량%, 용제 메틸이소부틸케톤, 용제의 SP 값 8.4) 16.67 g 과, 광 중합 개시제로서 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤 (BASF 제조, IRGACURE 184) 0.4 g 을 샘플관에 칭량하고, 24 시간 교반하여 균일하게 혼합함으로써 용액을 얻었다. 이 이후는, 얻어진 광 경화 수지층의 두께가 6.0 ㎛ 인 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 편광 필름 보호용 적층체 및 편광판을 얻었다. 얻어진 편광 필름 보호용 적층체 및 편광판에 대해, 광 경화 수지층의 붕소 원자 환산의 붕산 투과도, 기재 필름과 광 경화 수지층의 접착력, 기재 필름측에 있어서의 광 경화 수지층의 제곱 평균 면 조도 (rms), 편광판의 초기 편광 성능 (초기의 전광선 투과율 (T0), 편광도) 및 편광판의 내습열성 시험 후의 편광 성능 (내습열성 시험 후의 전광선 투과율 (T48), 편광도, 전광선 투과율의 변화량 (ΔT)) 의 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타냈다.As a radically polymerizable compound, Heataloid 7975D (made by Hitachi Chemical Co., Ltd., resin content 60 mass%, solvent methyl isobutyl ketone, SP value of solvent 8.4) 16.67 g, and 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone as photopolymerization initiator (Manufactured by BASF, IRGACURE 184) 0.4 g was weighed into a sample tube, stirred for 24 hours, and uniformly mixed to obtain a solution. After this, a laminate and a polarizing plate for protecting a polarizing film were obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the obtained photocurable resin layer was 6.0 μm. About the obtained laminated body for polarizing film protection and a polarizing plate, the boric acid transmittance of the photocurable resin layer in terms of boron atom, the adhesive force of the base film and the photocurable resin layer, and the square average surface roughness (rms of the photocurable resin layer on the base film side) ), The initial polarization performance of the polarizing plate (initial total light transmittance (T 0 ), polarization degree) and the polarization performance after the heat and humidity resistance test of the polarizing plate (the total light transmittance after the heat resistance test (T 48 ), the degree of change in the polarization degree and the total light transmittance (ΔT) )). The results are shown in Table 1 and Table 2.

[비교예 2] [Comparative Example 2]

라디칼 중합성 화합물로서, 3',4'-에폭시시클로헥실메틸 3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트 (주식회사 다이셀 제조, 셀록사이드 2021P) 10 g 과, 광 중합 개시제로서 디페닐[4-(페닐티오)페닐]술포늄헥사플루오로포스페이트와 용제인 프로필렌카보네이트로 이루어지는 50 질량% 용액 (산아프로 주식회사 제조, CPI-100P) 0.8 g 을 샘플관에 칭량하고, 24 시간 교반하여 균일하게 혼합함으로써, 용액을 얻었다. 이 이후는, 얻어진 광 경화 수지층의 두께가 6.1 ㎛ 인 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 편광 필름 보호용 적층체 및 편광판을 얻었다. 얻어진 편광 필름 보호용 적층체 및 편광판에 대해, 광 경화 수지층의 붕소 원자 환산의 붕산 투과도, 기재 필름과 광 경화 수지층의 접착력, 기재 필름측에 있어서의 광 경화 수지층의 제곱 평균 면 조도 (rms), 편광판의 초기 편광 성능 (초기의 전광선 투과율 (T0), 편광도) 및 편광판의 내습열성 시험 후의 편광 성능 (내습열성 시험 후의 전광선 투과율 (T48), 편광도, 전광선 투과율의 변화량 (ΔT)) 의 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타냈다.As a radically polymerizable compound, 10 g of 3 ', 4'-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (manufactured by Daicel Co., Ltd., Celloxide 2021P), and diphenyl [4- ( By weighing 0.8 g of a 50% by mass solution (CPI-100P, manufactured by San Apro Co., Ltd.) consisting of phenylthio) phenyl] sulfonium hexafluorophosphate and propylene carbonate as a solvent, the sample tube was stirred and stirred for 24 hours to uniformly mix, A solution was obtained. After this, a laminate and a polarizing plate for protecting a polarizing film were obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the obtained photocurable resin layer was 6.1 μm. About the obtained laminated body for polarizing film protection and a polarizing plate, the boric acid transmittance of the photocurable resin layer in terms of boron atom, the adhesive force of the base film and the photocurable resin layer, and the square average surface roughness (rms of the photocurable resin layer on the base film side) ), The initial polarization performance of the polarizing plate (initial total light transmittance (T 0 ), polarization degree) and the polarization performance after the heat and humidity resistance test of the polarizing plate (the total light transmittance after the heat resistance test (T 48 ), the degree of change in the polarization degree and the total light transmittance (ΔT) )). The results are shown in Table 1 and Table 2.

[비교예 3] [Comparative Example 3]

기재 필름으로서, 이형 처리 PET 필름인 퓨렉스 A31 (테이진 듀퐁 필름 주식회사 제조, 물 접촉각 110.6 도, 규소의 검출 강도 19.24 cps/mA) 을 사용한 것과, 얻어진 광 경화 수지층의 두께가 5.7 ㎛ 인 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 편광 필름 보호용 적층체를 얻었다. 단, PET 필름 상에 도공하였을 때에 용액이 겉돌았기 때문에, 막면 균일한 광 경화 수지층을 얻을 수 없었다. 그 때문에, 얻어진 광 경화 수지층의 붕소 원자 환산의 붕산 투과도, 기재 필름과 광 경화 수지층의 접착력, 기재 필름측에 있어서의 광 경화 수지층의 제곱 평균 면 조도 (rms), 편광판의 초기 편광 성능 (초기의 전광선 투과율 (T0), 편광도) 및 편광판의 내습열성 시험 후의 편광 성능 (내습열성 시험 후의 전광선 투과율 (T48), 편광도, 전광선 투과율의 변화량 (ΔT)) 의 평가를 실시할 수 없었다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타냈다.As the base film, a release-treated PET film using Purex A31 (Teijin DuPont Film Co., Ltd., water contact angle of 110.6 degrees, detection strength of silicon of 19.24 cps / mA) was used, and the obtained photocurable resin layer had a thickness of 5.7 μm. Except in the same manner as in Example 1, a laminate for protecting a polarizing film was obtained. However, since the solution turned out when applied on the PET film, it was impossible to obtain a uniform photocurable resin layer when it was filmed. Therefore, the boric acid transmittance in terms of boron atom in the obtained photocurable resin layer, the adhesive force between the base film and the photocurable resin layer, the square average surface roughness (rms) of the photocurable resin layer on the base film side, and the initial polarization performance of the polarizing plate (Initial total light transmittance (T 0 ), degree of polarization) and polarization performance after the moisture resistance test of the polarizing plate (total light transmittance after the heat resistance test (T 48 ), degree of polarization, change in total light transmittance (ΔT)) were evaluated. Could not. The results are shown in Table 1 and Table 2.

[비교예 4] [Comparative Example 4]

기재 필름으로서, 이형 처리 PET 필름인 퓨렉스 A71 (테이진 듀퐁 필름 주식회사 제조, 물 접촉각 108.2 도, 규소의 검출 강도 18.55 cps/mA) 을 사용한 것과, 얻어진 광 경화 수지층의 두께가 5.8 ㎛ 인 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 편광 필름 보호용 적층체 및 편광판을 얻었다. 얻어진 편광 필름 보호용 적층체 및 편광판에 대해, 광 경화 수지층의 붕소 원자 환산의 붕산 투과도, 기재 필름과 광 경화 수지층의 접착력, 기재 필름측에 있어서의 광 경화 수지층의 제곱 평균 면 조도 (rms) 의 평가를 실시하였다. 기재 필름측에 있어서의 광 경화 수지층의 제곱 평균 면 조도가 매우 컸기 때문에, 부적합으로 판단하여, 편광판의 초기 편광 성능 (초기의 전광선 투과율 (T0), 편광도) 및 편광판의 내습열성 시험 후의 편광 성능 (내습열성 시험 후의 전광선 투과율 (T48), 편광도, 전광선 투과율의 변화량 (ΔT)) 의 평가를 중지하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타냈다.As the base film, the release-treated PET film, Purex A71 (Teijin DuPont Film Co., Ltd., water contact angle 108.2 degrees, silicon detection strength 18.55 cps / mA) was used, and the obtained photocurable resin layer had a thickness of 5.8 μm. Except in the same manner as in Example 1, a laminate for protecting a polarizing film and a polarizing plate were obtained. About the obtained laminated body for polarizing film protection and a polarizing plate, the boric acid transmittance of the photocurable resin layer in terms of boron atom, the adhesive force of the base film and the photocurable resin layer, and the square average surface roughness (rms of the photocurable resin layer on the base film side) ). Since the square-average surface roughness of the photocurable resin layer on the base film side was very large, it was judged as unsuitable, and after the initial polarization performance (initial total light transmittance (T 0 ), polarization degree) of the polarizing plate and after the heat and moisture resistance test of the polarizing plate Evaluation of the polarization performance (the total light transmittance (T 48 ) after the heat and humidity resistance test, the degree of change in the polarization degree, and the total light transmittance (ΔT)) was stopped. The results are shown in Table 1 and Table 2.

[비교예 5] [Comparative Example 5]

기재 필름으로서, 이형 처리 PET 필름인 퓨렉스 A71 (테이진 듀퐁 필름 주식회사 제조, 규소의 검출 강도 18.55 cps/mA) 을 코로나 처리하여 물 접촉각을 33.3 도로 한 것을 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 편광 필름 보호용 적층체 및 편광판을 얻었다. 얻어진 편광 필름 보호용 적층체 및 편광판에 대해, 광 경화 수지층의 붕소 원자 환산의 붕산 투과도, 기재 필름과 광 경화 수지층의 접착력, 기재 필름측에 있어서의 광 경화 수지층의 제곱 평균 면 조도 (rms) 의 평가를 실시하였다. 기재 필름측에 있어서의 광 경화 수지층의 제곱 평균 면 조도가 매우 컸기 때문에, 부적합으로 판단하여, 편광판의 초기 편광 성능 (초기의 전광선 투과율 (T0), 편광도) 및 편광판의 내습열성 시험 후의 편광 성능 (내습열성 시험 후의 전광선 투과율 (T48), 편광도, 전광선 투과율의 변화량 (ΔT)) 의 평가를 중지하였다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타냈다.As the base film, the same procedure as in Example 1 was performed except that the release-treated PET film, Furex A71 (Teijin DuPont Film Co., Ltd., 18.55 cps / mA of silicon detection strength) was corona-treated and water contact angle was 33.3 degrees. , A polarizing film protective laminate and a polarizing plate were obtained. About the obtained laminated body for polarizing film protection and a polarizing plate, the boric acid transmittance of the photocurable resin layer in terms of boron atom, the adhesive force of the base film and the photocurable resin layer, and the square average surface roughness (rms of the photocurable resin layer on the base film side) ). Since the square-average surface roughness of the photocurable resin layer on the base film side was very large, it was judged as unsuitable, and after the initial polarization performance (initial total light transmittance (T 0 ), polarization degree) of the polarizing plate and after the heat and moisture resistance test of the polarizing plate Evaluation of the polarization performance (the total light transmittance (T 48 ) after the heat and humidity resistance test, the degree of change in polarization degree, and the total light transmittance (ΔT)) was stopped. The results are shown in Table 1 and Table 2.

[비교예 6] [Comparative Example 6]

기재 필름으로서, 이형 처리 PET 필름인 TN-100 (토요보 주식회사 제조, 규소의 검출 강도 7.11 cps/mA) 을 코로나 처리하여 물 접촉각을 31.1 도로 한 것을 사용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여, 편광 필름 보호용 적층체를 얻었다. 단, 기재 필름과 광 경화 수지층의 접착력이 강하여, 광 경화 수지층이 재료 파괴되었다. 그 때문에, 광 경화 수지층의 붕소 원자 환산의 붕산 투과도, 기재 필름측에 있어서의 광 경화 수지층의 제곱 평균 면 조도 (rms), 편광판의 초기 편광 성능 (초기의 전광선 투과율 (T0), 편광도) 및 편광판의 내습열성 시험 후의 편광 성능 (내습열성 시험 후의 전광선 투과율 (T48), 편광도, 전광선 투과율의 변화량 (ΔT)) 의 평가를 실시할 수 없었다. 결과를 표 1 및 표 2 에 나타냈다.As the base film, the polarization was performed in the same manner as in Example 1, except that the release-treated PET film TN-100 (manufactured by Toyobo Corporation, 7.11 cps / mA of silicon detection strength) was corona-treated and the water contact angle was 31.1 degrees. A laminate for film protection was obtained. However, the adhesion between the base film and the photocurable resin layer was strong, and the photocurable resin layer was destroyed. Therefore, boric acid transmittance in terms of boron atom in the photocurable resin layer, square average surface roughness (rms) of the photocurable resin layer on the base film side, initial polarization performance of the polarizing plate (initial total light transmittance (T 0 ), polarization Fig.) And evaluation of the polarization performance after the heat and humidity resistance test of the polarizing plate (the total light transmittance (T 48 ) after the heat and humidity resistance test, the degree of change in the polarization degree and the total light transmittance (ΔT)) could not be performed. The results are shown in Table 1 and Table 2.

Figure pct00001
Figure pct00001

Figure pct00002
Figure pct00002

1 : 광 경화 수지층
2 : 투습도 컵
3 : 순수
4 : 밀폐 용기
5 : 60 ℃ 의 8 질량% 붕산 수용액
6 : 샘플수
1: photocurable resin layer
2: moisture permeability cup
3: pure
4: sealed container
5: 8 mass% aqueous solution of boric acid at 60 ° C
6: Number of samples

Claims (4)

라디칼 중합성 화합물로 이루어지는 광 경화 수지층이 기재 필름에 적층된 편광 필름 보호용 적층체로서,
상기 광 경화 수지층의 두께가 9 ㎛ 이하이고, 상기 광 경화 수지층의 붕산 투과도가 붕소 원자 환산으로 2.25 g/㎡·day 이하이고,
기재 필름과 광 경화 수지층의 접착력이 0.005 ∼ 0.06 N/mm 이고,
광 경화 수지층으로부터 기재 필름을 박리한 후의, 기재 필름측에 있어서의 그 광 경화 수지층의 제곱 평균 면 조도 (rms) 가 300 nm 이하인, 편광 필름 보호용 적층체.
A laminate for protecting a polarizing film in which a photocurable resin layer made of a radically polymerizable compound is laminated on a base film,
The thickness of the photocurable resin layer is 9 µm or less, and the boric acid transmittance of the photocurable resin layer is 2.25 g / m 2 · day or less in terms of boron atom,
The adhesive force between the base film and the photocurable resin layer is 0.005 to 0.06 N / mm,
The laminated body for polarizing film protections whose square average surface roughness (rms) of the photocurable resin layer on the base film side after peeling the base film from the photocurable resin layer is 300 nm or less.
제 1 항에 기재된 편광 필름 보호용 적층체에 있어서의 광 경화 수지층이, 편광 필름의 적어도 일방의 면에 접착제층을 개재하여 첩합된, 편광판.A polarizing plate in which the photocurable resin layer in the laminate for protecting a polarizing film according to claim 1 is pasted through an adhesive layer on at least one surface of the polarizing film. 라디칼 중합성 화합물로 이루어지는 광 경화 수지층을 기재 필름에 적층하여 얻어지는 제 1 항에 기재된 편광 필름 보호용 적층체의 제조 방법으로서,
라디칼 중합성 화합물과 용제를 함유하는 용액을 기재 필름에 도공하는 공정과,
도공 후에 상기 기재 필름을 가열하여 용제를 휘발시키는 공정과,
자외선 및 전자선의 적어도 일방을 조사하는 공정을 갖고,
상기 기재 필름의 도공면의 물 접촉각이 40 ∼ 100 도인 것을 특징으로 하는 편광 필름 보호용 적층체의 제조 방법.
As a manufacturing method of the laminated body for polarizing film protection of Claim 1 obtained by laminating | stacking the photocurable resin layer which consists of a radically polymerizable compound to a base film,
A step of coating a solution containing a radically polymerizable compound and a solvent on a base film,
A step of heating the base film after coating to volatilize the solvent,
It has a process of irradiating at least one of ultraviolet rays and electron beams,
The manufacturing method of the polarizing film protective layered product characterized by the water contact angle of the coating surface of the said base film being 40-100 degree.
제 3 항에 있어서,
기재 필름의 도공면에 있어서의 규소의 검출 강도가 10 cps/mA 이하인, 편광 필름 보호용 적층체의 제조 방법.
The method of claim 3,
The manufacturing method of the laminated body for polarizing film protection whose detection intensity of silicon in the coating surface of a base film is 10 cps / mA or less.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021225316A1 (en) 2020-05-07 2021-11-11 주식회사 엘지에너지솔루션 High-nickel electrode sheet having reduced reactivity with moisture and manufacturing method therefor

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004245924A (en) 2003-02-12 2004-09-02 Sumitomo Chem Co Ltd Polarizing plate, its manufacturing method, optical member and liquid crystal display device
JP2008020891A (en) 2006-06-15 2008-01-31 Nitto Denko Corp Polarizing plate, image display device, and method of manufacturing polarizing plate
JP2011221185A (en) 2010-04-07 2011-11-04 Nitto Denko Corp Adhesive polarization plate and image display device
JP2013513832A (en) 2009-12-15 2013-04-22 エルジー・ケム・リミテッド Polarizing plate, manufacturing method thereof, and image display apparatus including the same
JP2014502369A (en) * 2010-11-10 2014-01-30 エルジー・ケム・リミテッド Optical element
KR20140104920A (en) * 2013-02-21 2014-08-29 주식회사 엘지화학 Method for preparing Polarizer having Protection films in two sides and Polarizer having Protection films in two sides therefrom
KR20140118879A (en) * 2013-03-28 2014-10-08 주식회사 엘지화학 Method for preparing Polarizer having Protection films in two sides and Polarizer having Protection films in two sides therefrom

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8422133B2 (en) * 2006-06-02 2013-04-16 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical layered body, polarizer, and image display device
JP6434309B2 (en) * 2012-08-06 2018-12-05 株式会社クラレ Laminated body, polarizing film, and manufacturing method of polarizing film
JP6235370B2 (en) * 2014-02-19 2017-11-22 住友化学株式会社 Production method of polarizing laminated film and polarizing plate
JP6249820B2 (en) * 2014-02-27 2017-12-20 住友化学株式会社 Manufacturing method of polarizing plate and polarizing plate
JP6911766B2 (en) * 2015-11-18 2021-07-28 日本ゼオン株式会社 Optical film and polarizing plate
KR102290005B1 (en) * 2016-08-22 2021-08-13 주식회사 쿠라레 Polarizer
WO2018038023A1 (en) * 2016-08-25 2018-03-01 日本電産株式会社 Control device, program, method for controlling refrigerator, and refrigerator

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004245924A (en) 2003-02-12 2004-09-02 Sumitomo Chem Co Ltd Polarizing plate, its manufacturing method, optical member and liquid crystal display device
JP2008020891A (en) 2006-06-15 2008-01-31 Nitto Denko Corp Polarizing plate, image display device, and method of manufacturing polarizing plate
JP2013513832A (en) 2009-12-15 2013-04-22 エルジー・ケム・リミテッド Polarizing plate, manufacturing method thereof, and image display apparatus including the same
JP2011221185A (en) 2010-04-07 2011-11-04 Nitto Denko Corp Adhesive polarization plate and image display device
JP2014502369A (en) * 2010-11-10 2014-01-30 エルジー・ケム・リミテッド Optical element
KR20140104920A (en) * 2013-02-21 2014-08-29 주식회사 엘지화학 Method for preparing Polarizer having Protection films in two sides and Polarizer having Protection films in two sides therefrom
KR20140118879A (en) * 2013-03-28 2014-10-08 주식회사 엘지화학 Method for preparing Polarizer having Protection films in two sides and Polarizer having Protection films in two sides therefrom

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021225316A1 (en) 2020-05-07 2021-11-11 주식회사 엘지에너지솔루션 High-nickel electrode sheet having reduced reactivity with moisture and manufacturing method therefor

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