KR20200041953A - Beauty treatment device - Google Patents
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Abstract
제1 전극(21)은, 중앙이 개구되는 원환 형상의 전극이다. 제2 전극(22)은, 중앙이 개구되는 원환 형상의 전극이며, 제1 전극(21)과 동심으로 또한 제1 전극(21)의 외주의 외측에 배치된다. 제1 전원부(81)는, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이에 고주파 전압을 인가한다. 미안기(1)의 사용자가 쥐는 부분에는 제3 전극(55)이 설치되어 있다. 제2 전원부(82)는, 전극부(20) 및 제3 전극(55) 사이에 직류 전압을 인가한다. 저항 측정부(84)는, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 저항값을 측정한다. 전압 제어부(83)는, 측정된 저항값에 따라 고주파 전압 및 직류 전압을 제어한다.The first electrode 21 is an annular electrode in which the center is opened. The second electrode 22 is an annular electrode in which the center is opened, and is disposed concentrically with the first electrode 21 and outside the outer periphery of the first electrode 21. The first power supply unit 81 applies a high-frequency voltage between the first electrode 21 and the second electrode 22. The third electrode 55 is installed in a portion held by the user of the facial device 1. The second power supply unit 82 applies a DC voltage between the electrode unit 20 and the third electrode 55. The resistance measurement unit 84 measures the resistance value between the first electrode 21 and the second electrode 22. The voltage control unit 83 controls the high-frequency voltage and the DC voltage according to the measured resistance value.
Description
본 발명은, 미용 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a beauty treatment device.
특허문헌 1에는, 사용자의 얼굴이나 수족 등에 전극을 접촉시켜 전극 사이의 살갗(피부)에 고주파 전류를 흐르게 함으로써, 피부를 안으로부터 따뜻하게 하는 미용 처리를 실시하는 기술이 기재되어 있다.
피부에 전류를 흐르게 함으로써 얻어지는 미용 처리의 효과는, 피부의 상태에 따라서 상이하다. 여기에서, 피부의 특성에는 개인차가 있고, 피부의 상태는 몸 상태에 의해서도 변화된다. 또한, 피부에 화장수를 사용하고 있는 경우, 미용 처리의 효과는 화장수의 성분의 영향을 받는다. 특허문헌 1의 기술에서는, 이와 같은 요인이 고려되어 있지 않다.The effect of the cosmetic treatment obtained by flowing an electric current through the skin varies depending on the condition of the skin. Here, there are individual differences in the characteristics of the skin, and the condition of the skin is also changed by the body condition. In addition, when a lotion is used for the skin, the effect of the cosmetic treatment is influenced by the components of the lotion. In the technique of
이에, 본 발명은, 피부의 상태에 따른 전류를 인가(印加)하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, the present invention aims to apply a current according to the condition of the skin (印 加).
본 발명은, 원형의 제1 전극과, 상기 제1 전극의 외측에 동심원상으로 배치되는 원환(圓環) 형상의 제2 전극을 구비하는 전극부와, 상기 제1 및 제2 전극의 사이에 고주파 전압인 제1 전압을 인가하는 제1 전원부와, 상기 제1 및 제2 전극의 사이의 저항값을 측정하는 측정부와, 측정된 상기 저항값에 따라 상기 제1 전압을 제어하는 제어부를 포함하는 미용 처리 장치를 제공한다.The present invention provides a first electrode having a circular shape, an electrode portion provided with a second electrode having an annular shape disposed concentrically on the outside of the first electrode, and between the first and second electrodes. It includes a first power supply unit that applies a first voltage that is a high-frequency voltage, a measurement unit that measures a resistance value between the first and second electrodes, and a control unit that controls the first voltage according to the measured resistance value. It provides a cosmetic treatment device.
또한, 상기 제어부는, 측정된 상기 저항값이 클수록 상기 제1 전압을 높게 해도 된다.In addition, the control unit may increase the first voltage as the measured resistance value increases.
또한, 상기 제어부는, 측정된 상기 저항값이 클수록 상기 제1 전압의 주파수를 높게 해도 된다.In addition, the control unit may increase the frequency of the first voltage as the measured resistance value increases.
또한, 사용자가 쥐는 그립부와, 상기 그립부에 설치된 제3 전극과, 상기 전극부 및 상기 제3 전극의 사이에 직류 전압, 펄스 전압, 또는 제1 전압과 극성을 반전시킨 교류 전압을 제2 전압으로서 인가하는 제2 전원부를 구비하고, 상기 제어부는, 측정된 상기 저항값에 따라 상기 제1 전압 및 상기 제2 전압을 제어해도 된다.Further, a DC voltage, a pulse voltage, or an AC voltage inverted with a polarity between the first voltage and the polarity between the gripping portion held by the user, the third electrode provided on the gripping portion, and the electrode portion and the third electrode is used as the second voltage. A second power supply unit to be applied may be provided, and the control unit may control the first voltage and the second voltage according to the measured resistance value.
또한, 상기 제어부는, 측정된 상기 저항값이 클수록 상기 제2 전압을 높게 해도 된다.In addition, the control unit may increase the second voltage as the measured resistance value increases.
또한, 상기 제어부는, 상기 제1 전압을 인가하는 제1 기간 및 상기 제2 전압을 인가하는 제2 기간이 교호적으로 오도록 제어하고, 측정된 상기 저항값이 클수록 상기 제1 기간 및 상기 제2 기간 중 적어도 한쪽을 길게 해도 된다.In addition, the control unit controls the first period for applying the first voltage and the second period for applying the second voltage alternately, and the larger the measured resistance value, the first period and the second You may lengthen at least one of the periods.
또한, 상기 전극부가 장착된 장착면을 가지고 또한 단면이 원형인 기둥의 형상을 한 기둥형부와, 상기 기둥형부의 외주보다 내경(內徑)이 큰 원환 형상의 자성체(磁性體)가 상기 기둥형부에 끼워넣어진 경우에 해당 자성체를 정지시키는 스토퍼로서, 해당 자성체를 끌어당기는 자석이 설치된 스토퍼를 구비하고, 상기 장착면을 덮는 다공질 피복체를 상기 자석에 가까이 끌어당겨진 상기 자성체와 상기 기둥형부가 끼워넣어 고정해도 된다.In addition, the pillar-shaped portion having a mounting surface equipped with the electrode portion and having a circular cross-section, and a magnetic body having an annular shape having a larger inner diameter than the outer periphery of the pillar-shaped portion are the pillar-shaped portion. As a stopper for stopping the magnetic body when inserted in, provided with a stopper having a magnet for attracting the magnetic body, and the magnetic body and the pillar-shaped portion pulled close to the magnet to cover the porous surface covering the mounting surface You may put it and fix it.
또한, 상기 스토퍼는 절결부(切缺部)를 가지고 있어도 된다.Moreover, the said stopper may have a cut-out part.
본 발명에 의하면, 피부의 상태에 따른 전류가 인가된다.According to the present invention, a current according to the condition of the skin is applied.
[도 1a] 미안기(1)의 외관을 나타내는 도면이다.
[도 1b] 코튼을 장착한 상태의 미안기의 외관을 나타내는 도면이다.
[도 2a] 미안기(1)의 정면을 나타내는 도면이다.
[도 2b] 미안기(1)의 측면을 나타내는 도면이다.
[도 2c] 미안기(1)의 배면을 나타내는 도면이다.
[도 3] 스토퍼 등을 확대하여 나타내는 도면이다.
[도 4] 미안기의 기능 구성을 나타내는 도면이다.
[도 5] 제1 제어 테이블의 일례를 나타내는 도면이다.
[도 6] 제2 제어 테이블의 일례를 나타내는 도면이다.
[도 7] 제3 제어 테이블의 일례를 나타내는 도면이다.
[도 8] 제4 제어 테이블의 일례를 나타내는 도면이다.
[도 9] 전압 제어 처리에서의 미안기(1)의 동작 순서의 일례를 나타내는 도면이다.[Fig. 1A] Fig. 1A is a view showing the external appearance of the
It is a figure which shows the external appearance of the beautiful face device in the state which attached the cotton.
It is a figure which shows the front face of the
It is a figure which shows the side surface of the
It is a figure which shows the back surface of the
Fig. 3 is an enlarged view of a stopper or the like.
[Fig. 4] Fig. 4 is a diagram showing the functional configuration of a beauty device.
It is a figure which shows an example of a 1st control table.
It is a figure which shows an example of a 2nd control table.
It is a figure which shows an example of a 3rd control table.
It is a figure which shows an example of a 4th control table.
[Fig. 9] Fig. 9 is a diagram showing an example of an operation procedure of the
[1] 실시예[1] Examples
도 1은 실시예의 미안기(1)의 외관을 나타낸다. 도 1a에서는, 미안기(1)의 외관이 나타내어지고, 도 1b에서는, 미안기(1)에 코튼(70)을 씌운 상태가 나타내어져 있다. 도 2는 미안기(1)의 정면, 측면, 배면을 나타낸다. 도 2a에서는 정면, 도 2b에서는 측면, 도 2c에서는 배면이 나타내어져 있다.Fig. 1 shows the appearance of the
미안기(1)는, 주로 사용자의 얼굴에 미용 처리를 실시하는 기구이며, 본 발명의 「미용 처리 장치」의 일례이다. 미안기(1)는, 헤드부(10)와, 본체(50)를 구비한다. 헤드부(10)는, 사용자의 피부에 가압되는 부분이다. 본체(50)는, 모두 가늘고 긴 면인 제1 면(51), 2개의 제2 면(52) 및 제3 면(53)을 가지는 봉형(棒形)의 부분이며, 사용자에 의해 쥐어지는 부분이다. 본체(50)는 본 발명의 「그립부」의 일례이다. 헤드부(10)는, 제1 면(51) 중, 본체(50)의 길이 방향 A1의 한쪽의 단(端)에 설치되어 있다.The
미안기(1)에 있어서는, 제1 면(51)이 향하고 있는 쪽, 즉 헤드부(10)가 설치되어 있는 쪽을 정면으로 하고, 제2 면(52)이 향하고 있는 쪽을 측면, 제3 면(53)이 향하고 있는 쪽을 배면으로 한다. 제1 면(51)에는, 사용자에 의해 조작되는 조작 버튼(54)이 설치되어 있다. 조작 버튼(54)은, 액정 패널에 표시된 터치식의 스위치라도 되고 기계적인 스위치라도 된다. 조작 버튼(54)은, 미안기(1)의 동작 모드를 선택하는 조작과, 선택된 동작 모드에서의 동작을 개시시키는 조작을 접수한다.In the
본 실시예에서는, 피부의 심층을 따뜻하게 하는 심층 온열을 행하면서 피부의 오염물을 제거하는 클렌징 모드에서의 동작에 관한 구성에 대하여 설명한다. 헤드부(10)는 전극부(20)와, 기둥형부(30)와, 스토퍼(40)를 구비한다. 전술한 심층 온열 및 오염물 제거는, 모두 피부에 전류를 흐르게 함으로써 행해진다. 전극부(20)는, 심층 온열 및 오염물 제거에 있어서 피부에 전류를 흐르게 하기 위한 전압이 인가되는 전극을 구비하는 부분이다. 이하에서는, 심층 온열을 위한 전압을 「제1 전압」이라고 하고, 오염물 제거를 위한 전압을 「제2 전압」이라고 한다. 전극부(20)는 제1 전극(21)과, 제2 전극(22)을 구비한다.In this embodiment, a configuration related to an operation in a cleansing mode in which contaminants of the skin are removed while performing deep heating to warm the deep layers of the skin will be described. The
제1 전극(21)은, 외주가 원형의 전극이며, 본 실시예에서는, 중앙이 개구되는 원환 형상의 전극이다. 제2 전극(22)은, 중앙이 개구되는 원환 형상의 전극이며, 제1 전극(21)과 동심으로 또한 제1 전극(21)의 외주의 외측에 배치된다. 이들의 형상 및 배치에 의해, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 거리는 원주상의 어디라도 일정하게 되어 있다. 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이에는, 고주파 전압(고주파 전압, RF(Radio Frequency) 전압이라고도 함)이 전술한 제1 전압으로서 인가된다.The
기둥형부(30)는, 단면이 원형인 기둥형의 부분이며, 본 실시예에서는 원기둥의 형상을 하고 있다. 기둥형부(30)는 바닥면(31)과, 측면(32)을 가지고, 바닥면(31)에 전극부(20)가 장착되어 있다. 바닥면(31)은 본 발명의 「장착면」의 일례이다. 기둥형부(30)는, 배선 등을 배치하는 내부 공간을 형성하는 하우징을 가지고, 그 하우징은 플라스틱, 비금속 또는 세라믹 등의 전기 절연 재료를 사용하여 형성되어 있다. 이로써, 전극부(20)에 전압이 인가되어도, 기둥형부(30)의 하우징에는 전류가 흐르지 않고, 사용자의 피부에 전류가 흐르게 되어 있다.The
기둥형부(30)에는 링(60)이 끼워넣어진다. 링(60)은, 기둥형부의 외주보다 내경이 큰 원환 형상의 자성체이다. 링(60)은, 예를 들면 철, 코발트, 니켈, 이들의 합금 또는 페라이트 등의 강자성을 나타내는 소재로 형성되어 있다. 스토퍼(40)는, 기둥형부(30) 중 바닥면(31)의 반대측에 형성되어 있고, 링(60)이 기둥형부(30)에 끼워넣어진 경우에 그 링(60)을 유지하는 부분이다.The
스토퍼(40)는 자석부(41)와, 절결부(42)를 가진다. 자석부(41)는, 본 실시예에서는 각각이 스토퍼(40) 내에 매립된 4개의 자석을 가진다. 기둥형부(30)의 바닥면(31)에는, 도 1b에 나타낸 바와 같이 면섬유를 시트형으로 형성한 코튼(70)이 씌워진다. 코튼(70)은 본 발명의 「다공질 피복체」의 일례이다. 이와 같이 바닥면(31)을 덮는 코튼(70)을 자석부(41)에 끌어당겨진 링(60)과 기둥형부(30)(상세하게는 그 측면(32))가 협지하여 고정하고 있다.The
스토퍼(40)는 원환 형상을 하고 있으며, 그 외주측의 일부를 잘라내어 절결부(42)가 형성되어 있다.The
도 3은 스토퍼(40) 등을 확대하여 나타낸다. 도 3에서는, 분별하기 쉽도록 제1 전극(21), 제2 전극(22) 및 링(60)을 해칭하여 나타내고 있다. 제1 전극(21), 제2 전극(22), 기둥형부(30) 및 스토퍼(40)(의 원형의 외주 부분)는, 모두 중심점 P1을 중심으로 하여 동심으로 되도록 배치되어 있다.3 is an enlarged view of the
또한, 기둥형부(30)에 끼워넣어진 링(60)도, 이들과 대략 동심의 상태가 된다. 이 중심점 P1로부터 외주를 향하는 방향을 직경 방향 A2로 하면, 절결부(42)는, 스토퍼(40) 중, 기둥형부(30)에 끼워넣어진 상태의 링(60)의 원형의 외주보다 직경 방향의 치수가 작은 부분으로 되어 있다. 즉, 링(60)의 외주 직경 방향 A2의 치수 B1>스토퍼(40)의 절결부(42)에서의 직경 방향 A2의 치수 B2, 로 되어 있다.In addition, the
절결부(42)를 설치한 것에 의해, 코튼(70)을 고정한 상태의 링(60)을 이면측으로부터 누를 수 있으므로, 절결부(42)를 설치하지 않는 경우에 비하여, 링(60)이 떼어내기 쉽게 되어 있다. 그리고, 기둥형부(30), 스토퍼(40) 및 링(60)은, 이와 같이 하여 코튼(70)을 고정할 수 있는 형상으로 되어 있으면 된다. 예를 들면, 기둥형부는 바닥면(31)에 가까울수록 단면이 작아지는 원뿔대의 형태를 하고 있어도 된다. 또한, 스토퍼는 다각형의 판형의 형상을 하고 있어도 되고, 링(60)의 외주보다 반경이 작고 절결이 없는 원판의 형상을 하고 있어도 된다(그렇더라도 링(60)을 유지할 수 있어서 링(60)을 이면측으로부터 누를 수 있으므로).By providing the
고정된 코튼(70) 중 기둥형부(30)의 바닥면(31)을 덮고 있는 부분은 사용자의 피부에 접촉하는 접촉부(71)로 되어 있다. 접촉부(71)는, 클렌징 모드로 동작하는 미안기(1)의 헤드부(10)를 사용자의 피부에 대고 눌렀을 때, 그 피부의 오염물이 부착되는 부분이다. 클렌징 모드에서는, 접촉부(71)에 클렌징용의 화장수를 스며들게 하여 오염물을 떨어지기 쉽게 한다.A portion of the fixed
본체(50)의 제3 면(53)에는, 제3 전극(55)이 설치되어 있다. 제3 전극(55)은, 제3 면(53)의 길이 방향 A1의 단으로부터 단까지 연장되는 가늘고 긴 타원형의 전극이다. 제3 전극(55)은, 이와 같이 넓은 범위에 설치되어 있음으로써, 본체(50)를 쥔 사용자의 손이 반드시 접촉하게 되어 있다. 제3 면(53)과 전극부(20) 사이에는 전술한 제2 전압(오염물 제거를 위한 전압)이 인가된다.The
제2 전압으로서는, 직류 전압 또는 펄스 전압이 이용된다. 직류 전압이란, 크기 및 방향이 일정하고, 인가되면 직류 전류가 흐르는 전압이다. 그리고, 크기가 일정하지 않고 다소 변동되어도 방향이 일정하면 직류 전압으로 간주해도 된다. 또한, 펄스 전압이란, 직류 전압을 인가하는 기간과 인가하지 않는 기간을 교호적으로 반복한 경우의 전압을 말한다. 이하에서는, 펄스 전압이 제2 전압으로서 이용되는 경우를 설명하지만, 펄스 전압 대신 직류 전압이 이용되어도 된다.As the second voltage, a DC voltage or pulse voltage is used. The DC voltage is a voltage in which the magnitude and direction are constant and a DC current flows when applied. Further, even if the size is not constant and fluctuates somewhat, if the direction is constant, it may be regarded as a DC voltage. Note that the pulse voltage refers to a voltage when the period for applying the DC voltage and the period for not applying the voltage are alternately repeated. Hereinafter, a case where the pulse voltage is used as the second voltage will be described, but a DC voltage may be used instead of the pulse voltage.
도 4는 미안기(1)의 전자회로의 구성을 나타낸다. 미안기(1)는, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22)을 가지는 전극부(20)와 제3 전극(55)에 더하여, 제1 전원부(81)와, 제2 전원부(82)와, 전압 제어부(83)와, 저항 측정부(84)를 가지는 제어 회로 기판(80)을 구비한다. 제어 회로 기판(80)은, 전압을 제어하는 회로가 설치된 기판이며, 전자소자(예를 들면, 콘덴서, 코일, IC칩, 메모리 등)에 의해 구성되어 있다.4 shows the configuration of the electronic circuit of the
제1 전원부(81)는, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이에 고주파 전압을 제1 전압으로서 인가한다. 제1 전원부(81)는, 고주파 전압을 생성하는 발진 회로 및 발진된 전압을 승압하는 승압 회로 등을 가지고, 예를 들면, 1[MHz]∼4[MHz] 정도의 고주파 전압을 인가한다. 제1 전원부(81)에 의해 고주파 전압이 인가된 상태의 헤드부(10)를 사용자의 피부에 대고 누르면, 코튼(70)에 스며든 화장수를 통하여 피부에 고주파 전류가 흐른다.The first
제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 거리는, 전술한 바와 같이 원주상의 어디라도 일정하게 되어 있으므로, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이에는 한결같이 고주파 전류가 흐른다. 그러므로, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이에 위치하는 사용자의 피부에 대하여, 광범위하게 또한 균등하게 고주파 전류를 흐르게 하는 것이 가능하게 되고, 사용자의 피부의 발열 면적이 넓고 또한 통전에 의한 자극이 균등해진다. 그 결과, 예를 들면, 구상(球狀) 전극 사이에 고주파 전류를 흐르게 하는 경우에 비하여, 피부의 단위면적당의 발열량이 작아지고, 종래 문제로 여겨지고 있었던 고주파 전류에 의해 피부가 국소적으로 열을 가지기 쉬워지거나, 사용자가 불쾌감을 느끼거나 하는 것이 방지되도록 되어 있다.Since the distance between the
제2 전원부(82)는, 펄스 전압을 생성하는 발진 회로 및 발진된 전압을 승압하는 승압 회로 등을 가지고, 전극부(20)(제1 전극(21) 및 제2 전극(22)의 한쪽 또는 양쪽) 및 제3 전극(55) 사이에 펄스 전압을 인가한다. 사용자가 미안기(1)의 본체(50)를 쥐고 헤드부(10)를 피부에 대고 누르면, 제3 전극(55)에 접촉된 손과 코튼(70)에 스며든 화장수를 통하여 사용자의 신체 내에 미약한 직류 전류가 흐른다.The second
클렌징 모드의 경우, 제2 전원부(82)는, 전극부(20)에 대하여 제3 전극(55) 측이 마이너스의 전위를 가지도록 펄스 전압을 인가한다. 이로써, 헤드부(10)에 대하여 피부측이 마이너스의 전위를 가지게 되고, 마이너스로 대전하여 피부에 부착되어 있었던 노폐물 및 오염물 등이 코튼(70)에 흡착되는 이른바 이온 도출이 행해진다. 미안기(1)에서는, 고주파 전압에 의한 심층 온열과 펄스 전압에 의한 오염물 제거가 교호적으로 행해진다.In the cleansing mode, the second
전압 제어부(83)는, 제1 전원부(81)를 제어함으로써 제1 전원부(81)가 인가하는 고주파 전압을 제어하고, 제2 전원부(82)를 제어함으로써 제2 전원부(82)가 인가하는 펄스 전압을 제어한다. 전압 제어부(83)는 본 발명의 「제어부」의 일례이다. 전압 제어부(83)는, 고주파 전압을 인가하는 제1 기간 및 펄스 전압을 인가하는 제2 기간이 교호적으로 오도록 제어한다. 전압 제어부(83)는, 예를 들면 제1 기간 및 제2 기간을 어느 쪽도 같은 길이(예를 들면, 5∼15초 정도)로 하는 제어를 행한다.The
또한, 전압 제어부(83)는, 양쪽 전압의 제어에, 저항 측정부(84)에 의한 측정 결과를 이용한다.Moreover, the
저항 측정부(84)는, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22)의 사이의 저항값을 측정한다. 저항 측정부(84)는, 본 실시예에서는, 전기저항(레지스턴스)을 저항값으로서 측정한다. 저항 측정부(84)는, 도 1b에 나타낸 바와 같이 코튼(70)을 고정하여 화장수를 스며들게 한 상태(헤드부(10)를 사용자의 피부에 대고 누르기 전의 상태)에서는, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이에 인가되는 고주파 전압에 의해 화장수에 전류가 흐르므로, 화장수의 저항값을 측정한다. 그리고, 헤드부(10)를 사용자의 피부에 대고 누른 상태에서는, 화장수를 통하여 사용자의 피부에 전류가 흐르므로, 저항 측정부(84)는, 화장수 및 사용자 피부의 합성 저항을 나타내는 저항값을 측정한다.The
이 저항값(전기저항)은, 사용자의 피부의 상태 및 화장수의 성분 등에 의해 변화한다.This resistance value (electrical resistance) varies depending on the condition of the user's skin and the components of the lotion.
예를 들면, 인체의 피부에 고주파 전류를 흐르게 한 경우, 피부가 발열하고, 피부의 온도 상승에 수반하여 피부 내부의 임피던스가 서서히 감소하는 것이 알려져 있다. 따라서, 피부의 온도 상승에 수반하여, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이에 흐르는 전류량이 증가하고, 측정되는 저항값이 작아진다. 저항 측정부(84)는, 저항값의 측정을 결정된 시간 간격(예를 들면, 0.5초마다 등)으로 행하고, 그 때마다 측정한 저항값을 전압 제어부(83)에 출력한다.For example, it is known that when a high-frequency current is applied to the skin of a human body, the skin heats up and the impedance inside the skin gradually decreases with increasing temperature of the skin. Therefore, as the temperature of the skin increases, the amount of current flowing between the
전압 제어부(83)는, 이와 같이 하여 저항 측정부(84)에 의해 측정된 저항값에 따라 고주파 전압 및 펄스 전압을 제어한다. 전압 제어부(83)는, 예를 들면 측정된 저항값이 클수록 고주파 전압을 높게 한다(고주파 전압의 진폭을 크게 함). 전압 제어부(83)는, 이 제어를 행하기 위해, 예를 들면, 저항값의 범위와 고주파 전압을 대응시킨 제1 제어 테이블을 기억해 둔다.The
도 5는 제1 제어 테이블의 일례를 나타낸다. 도 5의 예에서는, 「R11 미만」, 「R11 이상 R12 미만」 및 「R12 이상」이라는 저항값의 범위에, 「Vrf1」, 「Vrf2」 및 「Vrf3」이라는 고주파 전압(Vrf1 <Vrf2 <Vrf3)이 대응되어 있다. 전압 제어부(83)는, 저항 측정부(84)로부터 측정 결과가 공급되면, 그 측정 결과를 포함하는 저항값의 범위에 제1 제어 테이블에서 대응되어 있는 고주파 전압을 인가한다. 이로써, 전압 제어부(83)는, 전술한 바와 같이 측정된 저항값이 클수록 고주파 전압을 높게 한다.5 shows an example of the first control table. In the example of Fig. 5, high-frequency voltages (Vrf1 <Vrf2 <Vrf3) of "Vrf1", "Vrf2" and "Vrf3" in the range of resistance values of "less than R11", "more than R11 and less than R12" and "more than R12" Is corresponding. When the measurement result is supplied from the
제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 저항값이 클수록, 고주파 전압을 인가했을 때 피부에 흐르는 전류가 작아지고, 피부의 내부가 따뜻해지기 어려워진다. 예를 들면, 화장수 α를 사용하면, 저항값이 R11 미만으로 되고, 화장수 β를 사용하는 저항값이 R12 이상으로 될 경우, 고주파 전압이 같으면 후자 쪽이 전자에 비하여 피부의 내부가 따뜻해지기 어렵다. 이와 같은 피부 내부의 따뜻해지기 용이함의 차이는, 사용자마다 피부의 개인차에서도 생기며, 같은 사용자라도 피부 상태의 상이에 의해서도 생긴다.The larger the resistance value between the
그래서, 상기 제어(전압 제어부(83)에 의한 전압의 제어)를 행함으로써, 이 제어를 하지 않는 경우에 비하여, 피부의 개인차, 피부의 상태 및 화장수의 성분 등의 상황의 차이에 기인하는 피부에 흐르는 전류의 크기의 차를 작게 하여, 피부의 내부 온도차(즉 심층 온열 효과의 차)를 작게 할 수 있다. 또한, 피부의 온도가 상승하면 전술한 바와 같이 저항값이 작아지므로, 고주파 전압도 작아진다. 이로써, 피부의 내부를 과도하게 가열하는 것을 방지할 수도 있다. 또한, 전술한 바와 같이 헤드부(10)를 사용자의 피부에 대고 누르기 전의 상태에서도 저항 측정부(84)가 화장수의 저항값을 측정하므로, 상기 제어가 행해지지 않는 경우에 비하여, 헤드부(10)를 사용자의 피부에 대고 누르기 전부터, 피부에 흐르는 전류의 크기의 차(특히 화장수의 성분 차이에 의해 생기게 하는 차)를 작게 할 수 있다.Thus, by performing the above control (control of the voltage by the voltage control unit 83), compared to the case where this control is not performed, the skin caused by the difference in the individual differences of the skin, the condition of the skin, and the components of the lotion, etc. By making the difference in the magnitude of the current flowing through, the difference in the internal temperature of the skin (that is, the difference in the deep heating effect) can be reduced. In addition, when the temperature of the skin rises, the resistance value decreases as described above, so the high-frequency voltage also decreases. Thus, it is possible to prevent excessive heating of the inside of the skin. In addition, as described above, since the
또한, 전압 제어부(83)는, 측정된 저항값이 클수록 펄스 전압을 높게 한다(펄스 전압에 포함되는 직류 전압을 높게 함). 전압 제어부(83)는, 이 제어를 행하기 위해, 예를 들면 저항값의 범위와 펄스 전압을 대응시킨 제2 제어 테이블을 기억해 둔다.In addition, the
도 6은 제2 제어 테이블의 일례를 나타낸다. 도 6의 예에서는, 「R21 미만」, 「R21 이상 R22 미만」 및 「R22 이상」이라는 저항값의 범위에, 「Vp1」, 「Vp2」 및 「Vp3」이라는 펄스 전압(Vp1<Vp2<Vp3)이 대응되어 있다.6 shows an example of the second control table. In the example of Fig. 6, pulse voltages (Vp1 <Vp2 <Vp3) of "Vp1", "Vp2", and "Vp3" in the range of resistance values of "less than R21", "more than R21 and less than R22" and "more than R22" Is corresponding.
전압 제어부(83)는, 저항 측정부(84)로부터 측정 결과가 공급되면, 그 측정 결과를 포함하는 저항값의 범위에 제2 제어 테이블에서 대응되어 있는 펄스 전압을 인가한다. 이로써, 전압 제어부(83)는, 전술한 바와 같이 측정된 저항값이 클수록 펄스 전압을 높게 한다.When the measurement result is supplied from the
제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 저항값이 클수록, 펄스 전압을 인가했을 때 피부에 흐르는 전류가 작아지고, 코튼(70)에 흡착하는 오염물 등이 적어진다(이온 도출의 효과가 작아짐). 그래서, 상기 제어를 행함으로써, 피부의 개인차, 상태 및 화장수의 성분 등의 상황의 차이에 기인하는 피부에 흐르는 전류의 크기의 차를 작게 하여, 코튼(70)에 흡착되는 오염물 등의 차(즉 이온 도출의 효과의 차)를 작게 할 수 있다.The larger the resistance value between the
또한, 전압 제어부(83)는, 측정된 저항값이 클수록 고주파 전압을 인가하는 제1 기간을 길게 한다. 전압 제어부(83)는, 이 제어를 행하기 위해, 예를 들면 저항값의 범위와 제1 기간을 대응시킨 제3 제어 테이블을 기억해 둔다.In addition, the
도 7은 제3 제어 테이블의 일례를 나타낸다. 도 7의 예에서는, 「R31 미만」, 「R31 이상 R32 미만」 및 「R32 이상」이라는 저항값의 범위에, 「Trf1」, 「Trf2」 및 「Trf3」라는 제1 기간(Trf1<Trf2<Trf3)이 대응되어 있다.7 shows an example of a third control table. In the example of Fig. 7, the first periods (Trf1 <Trf2 <Trf3) of "Trf1", "Trf2" and "Trf3" in the range of resistance values of "less than R31", "more than R31 and less than R32" and "more than R32" ).
전압 제어부(83)는, 저항 측정부(84)로부터 측정 결과가 공급되면, 그 측정 결과를 포함하는 저항값의 범위에 제3 제어 테이블에서 대응되어 있는 제1 기간 동안, 고주파 전압을 인가한다. 이로써, 전압 제어부(83)는, 전술한 바와 같이 측정된 저항값이 클수록 제1 기간(고주파 전압을 인가하는 기간)을 길게 한다. 이 경우에는, 피부의 내부가 따뜻해지기 어려운 상황에서는 제1 기간을 길게 함으로써 심층 온열 효과를 높이도록 하고 있다.When the measurement result is supplied from the
예를 들면, 고주파 전압을 최대로 인가해도 피부의 내부가 따뜻해지기 어려울 경우, 제1 기간을 길게 함으로써 심층 온열 효과를 높일 수 있다. 반대로, 고주파 전압을 최소로 인가해도 피부의 내부가 지나치게 따뜻해질 경우, 제1 기간을 짧게 함으로써 심층 온열 효과를 억제할 수 있다. 또한, 제1 기간을 변화시키는 경우라도, 고주파 전압을 변화시키는 경우와 마찬가지로, 피부의 개인차, 피부의 상태 및 화장수의 성분 등의 상황의 차이에 기인하는 피부에 흐르는 전류의 크기의 차를 작게 하여, 피부의 내부 온도차(즉 심층 온열 효과의 차)를 작게 할 수 있다.For example, when it is difficult to warm the inside of the skin even when a high-frequency voltage is applied to the maximum, the deep heating effect can be enhanced by lengthening the first period. Conversely, when the inside of the skin becomes too warm even when a high frequency voltage is applied to a minimum, the deep heating effect can be suppressed by shortening the first period. Also, even in the case of changing the first period, as in the case of changing the high-frequency voltage, the difference in the magnitude of the current flowing through the skin due to the difference in the individual differences of the skin, the condition of the skin, and the components of the lotion is reduced. , It is possible to reduce the internal temperature difference of the skin (that is, the difference in deep heating effect).
또한, 전압 제어부(83)는, 측정된 저항값이 클수록 펄스 전압을 인가하는 제2 기간을 길게 한다. 전압 제어부(83)는, 이 제어를 행하기 위해, 예를 들면, 저항값의 범위와 제2 기간을 대응시킨 제4 제어 테이블을 기억해 둔다.In addition, the
도 8은 제4 제어 테이블의 일례를 나타낸다. 도 8의 예에서는, 「R41 미만」, 「R41 이상 R42 미만」 및 「R42 이상」이라는 저항값의 범위에, 「Tp1」, 「Tp2」 및 「Tp3」라는 제1 기간(Tp1<Tp2<Tp3)이 대응되어 있다.8 shows an example of a fourth control table. In the example of FIG. 8, the first period (Tp1 <Tp2 <Tp3) of "Tp1", "Tp2", and "Tp3" in the range of resistance values of "less than R41", "more than R41 and less than R42" and "more than R42" ).
전압 제어부(83)는, 저항 측정부(84)로부터 측정 결과가 공급되면, 그 측정 결과를 포함하는 저항값의 범위에 제4 제어 테이블에서 대응되어 있는 제2 기간 동안, 펄스 전압을 인가한다. 이로써, 전압 제어부(83)는, 전술한 바와 같이 측정된 저항값이 클수록 제2 기간(펄스 전압을 인가하는 기간)을 길게 한다. 이 경우에는, 오염물 등이 코튼(70)에 흡착되기 어려운 상황에서는 제2 기간을 길게 함으로써 이온 도출의 효과를 높이도록 하고 있다.When the measurement result is supplied from the
예를 들면, 펄스 전압을 최대로 인가해도 오염물 등이 코튼(70)에 충분히 흡착하지 않을 경우, 제2 기간을 길게 함으로써 이온 도출의 효과를 높일 수 있다. 또한, 제2 기간을 변화시키는 경우라도, 펄스 전압을 변화시키는 경우와 마찬가지로, 피부의 개인차, 피부의 상태 및 화장수의 성분 등의 상황의 차이에 기인하는 피부에 흐르는 전류의 크기의 차를 작게 하여, 코튼(70)에 흡착되는 오염물 등의 차(즉 이온 도출의 효과의 차)를 작게 할 수 있다.For example, if the contaminant or the like is not sufficiently adsorbed to the
그리고, 제1∼제4 제어 테이블은, 도 5∼도 8에 나타내는 것에 제한되지 않는다. 예를 들면, 저항값의 범위를 2개로 해도 되고, 4 이상으로 해도 된다. 또한, 저항값과 고주파 전압, 펄스 전압, 제1 기간 또는 제2 기간의 관계식을 이용하여 상기의 각 제어를 행해도 된다. 요컨대, 저항값이 클수록, 고주파 전압을 높게 하고, 펄스 전압을 높게 하고, 제1 기간을 길게 하고 또는 제2 기간을 길게 할 수 있으면, 어떠한 방법이 이용되어도 된다.The first to fourth control tables are not limited to those shown in FIGS. 5 to 8. For example, two or more resistance ranges may be used. In addition, each of the above controls may be performed using the relationship between the resistance value and the high-frequency voltage, pulse voltage, and the first period or the second period. That is, any method may be used as long as the resistance value is increased, as long as the high frequency voltage is increased, the pulse voltage is increased, and the first period or the second period can be increased.
미안기(1)는, 상기의 구성에 기초하여, 고주파 전압 및 펄스 전압을 제어하는 전압 제어 처리를 행한다.The
도 9는 전압 제어 처리에서의 미안기(1)의 동작 순서의 일례를 나타낸다. 이 동작 순서는, 미안기(1)의 동작 모드를 클렌징 모드로 하여 동작을 개시시키는 조작이 행해지는 것을 계기로 개시된다. 먼저, 미안기(1)(제1 전원부(81) 또는 제2 전원부(82))는, 고주파 전압 또는 펄스 전압 중 어느 쪽인가의 인가를 개시한다(스텝 S10). 어느 쪽의 전압으로부터 개시되는지는, 미리 어느 쪽인지로 정해져 있어도 되고, 전회 종료 시에 인가되었던 쪽으로 해도 된다.9 shows an example of an operation procedure of the
다음으로, 미안기(1)(저항 측정부(84))는, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 저항값을 측정한다(스텝 S11). 계속해서, 미안기(1)(전압 제어부(83))는, 측정된 저항값에 기초하여 인가하는 고주파 전압을 결정한다(스텝 S12). 다음으로, 미안기(1)(전압 제어부(83))는, 측정된 저항값에 기초하여 인가하는 펄스 전압을 결정한다(스텝 S13). 계속해서, 미안기(1)(전압 제어부(83))는, 측정된 저항값에 기초하여 제1 기간 및 제2 기간을 결정한다(스텝 S14). 그리고, 스텝 S12∼S14의 동작은 순서를 바꾸어도 되고 병행하여 행해져도 된다.Next, the facial device 1 (resistance measurement unit 84) measures the resistance value between the
다음으로, 미안기(1)(전압 제어부(83))는, 측정 간격이 경과했는지의 여부를 판단하고(스텝 S21), 경과했다(YES)고 판단한 경우에는 스텝 S11(저항값의 측정)로 되돌아가 동작을 행한다. 미안기(1)(전압 제어부(83))는, 경과하고 있지 않다(NO)고 판단한 경우에는, 인가 기간(현재 고주파 전압을 인가하고 있는 경우에는 제1 기간, 펄스 전압을 인가하고 있는 경우에는 제2 기간)이 경과했는지의 여부를 판단한다(스텝 S22).Next, the facial device 1 (voltage control unit 83) judges whether or not the measurement interval has elapsed (step S21), and when it is judged that it has elapsed (YES), the process goes to step S11 (measurement of resistance value). Go back and perform the action. When the facial device 1 (voltage control unit 83) determines that it has not elapsed (NO), the application period (the first period when a high-frequency voltage is currently applied, or the case where a pulse voltage is applied) It is judged whether or not the second period) has elapsed (step S22).
미안기(1)(전압 제어부(83))는, 스텝 S22에서 경과하고 있지 않다(NO)고 판단한 경우에는 스텝 S21(측정 간격 경과의 판단)로 되돌아가 동작을 행하고, 경과했다(YES)고 판단한 경우에는, 인가하는 전압을 변경한다(현재 고주파 전압을 인가하고 있는 경우에는 펄스 전압으로 변경하고, 펄스 전압을 인가하고 있는 경우에는 고주파 전압으로 변경함)(스텝 S23). 미안기(1)(전압 제어부(83))는, 스텝 S23 이후에는 스텝 S21(측정 간격 경과의 판단)로 되돌아가 동작을 행한다.When it is judged that the beauty device 1 (voltage control unit 83) has not passed (NO) in step S22, the operation returns to step S21 (determination of the measurement interval elapsed), and the operation has elapsed (YES). When judged, the voltage to be applied is changed (if it is currently applying a high-frequency voltage, it is changed to a pulse voltage, and if a pulse voltage is applied, it is changed to a high-frequency voltage) (step S23). The beauty face device 1 (voltage control part 83) returns to step S21 (determination of measurement interval elapse) after step S23, and performs operation.
본 실시예에서는, 상기한 바와 같이 고주파 전압 및 펄스 전압을 제어함으로써, 피부의 개인차, 피부의 상태 및 화장수의 성분 등의 상황의 차이에 기인하는 피부에 흐르는 전류의 크기의 차를 작게 하여, 심층 온열 효과의 차이 및 이온 도출의 효과를 작게 하고 있다. 이와 같이, 본 실시예에 의하면, 다양한 피부의 상태에 대하여 일정한 미용 처리의 효과(심층 온열 효과 및 이온 도출의 효과)를 얻을 수 있다.In this embodiment, by controlling the high-frequency voltage and the pulse voltage as described above, the difference in the magnitude of the current flowing through the skin due to the difference in the individual differences of the skin, the condition of the skin and the components of the lotion, etc. is made small, The difference in the thermal effect and the effect of ion derivation are reduced. As described above, according to the present embodiment, it is possible to obtain a certain cosmetic treatment effect (deep heating effect and ion derivation effect) for various skin conditions.
또한, 본 실시예에서는, 고주파 전압 및 펄스 전압을 교호적으로 인가함으로써, 피부의 내부를 따뜻하게 하면서, 이온 도출에 의한 클렌징을 행하고 있다. 전술한 바와 같이 피부의 내부를 따뜻하게 할수록 전류가 흐르기 쉬워지므로, 본 실시예에서는 심층 온열을 동시에 행함으로써, 펄스 전압만을 인가하는 경우에 비하여 이온 도출의 효과를 높일 수 있다.Further, in this embodiment, cleansing by ion derivation is performed while warming the inside of the skin by alternately applying a high-frequency voltage and a pulse voltage. As described above, the warmer the inside of the skin, the easier the current flows. In this embodiment, by performing deep heating at the same time, the effect of ion derivation can be increased compared to the case where only pulse voltage is applied.
또한, 본 실시예에서는, 자성체인 링(60)이 스토퍼(40)에 설치된 자석부(41)에 의해 끌어 당겨짐으로써, 코튼(70)을 고정하고 있다. 헤드부(10)를 사용자의 피부에 대고 누르고 있는 상태에서는, 이 자석부(41)가 발생시키는 자력이 링(60)을 빠져나가 피부까지 도달한다. 그 결과, 혈액 성분 중의 이온에 힘이 가해져 이온의 동작을 활발하게 하고, 혈행을 촉진한다. 미안기(1)에 있어서는, 코튼(70)을 고정시키는 구조(자석부(41) 및 링(60))를 혈행 촉진에도 활용함으로써, 이들을 다른 구조로 하는 경우에 비하여, 장치를 소형화할 수도 있다.Further, in the present embodiment, the
[2] 변형예[2] Modification
전술한 실시예는 본 발명의 실시의 일례에 지나지 않고 다음과 같이 변형시켜도 된다. 또한, 전술한 실시예 및 각 변형예는 필요에 따라 각각 조합하여 실시해도 된다.The above-described embodiment is merely an example of the implementation of the present invention and may be modified as follows. In addition, the above-described embodiment and each modification may be carried out in combination, if necessary.
[2-1] 주파수의 제어[2-1] Frequency control
상기 실시예에서는, 전압 제어부(83)가 고주파 전압의 진폭을 제어하였으나, 고주파 전압의 주파수를 제어해도 된다. 구체적으로는, 전압 제어부(83)는, 측정된 저항값이 클수록 고주파 전압의 주파수를 높게 한다. 전압 제어부(83)는, 도 5에서 설명한 바와 같은 제어 테이블을 이용하여 이 제어를 행해도 되고, 저항값과 고주파 전압의 주파수의 관계식을 이용하여 이 제어를 행해도 된다.In the above embodiment, the amplitude of the high frequency voltage is controlled by the
고주파 전압의 주파수를 높게 할수록 피부의 내부 온도도 빨리 상승하는 것이 알려져 있다. 따라서, 고주파 전압의 주파수를 본 변형예와 같이 제어함으로써도, 도 5의 예에서 고주파 전압을 제어한 경우와 마찬가지로, 피부의 개인차, 피부의 상태 및 화장수의 성분 등의 상황의 차이에 기인하는 피부에 흐르는 전류의 크기의 차를 작게 하여, 피부의 내부의 온도차(즉 심층 온열 효과의 차)를 작게 할 수 있고, 피부의 내부를 과도하게 가열하는 것을 방지할 수도 있다.It is known that the higher the frequency of the high-frequency voltage, the faster the internal temperature of the skin rises. Therefore, even by controlling the frequency of the high-frequency voltage as in the present modified example, as in the case of controlling the high-frequency voltage in the example of FIG. 5, the skin resulting from differences in individual differences in skin, condition of the skin, and components of the lotion, etc. By reducing the difference in the magnitude of the current flowing through, the temperature difference inside the skin (that is, the difference in the deep warming effect) can be reduced, and it is also possible to prevent excessive heating of the inside of the skin.
[2-2] 전압 제어의 대상[2-2] Object of voltage control
상기 실시예에서는, 전압 제어부(83)가, 고주파 전압의 제어, 펄스 전압의 제어, 제1 기간의 제어 및 제2 기간의 제어를 모두 행하였으나, 본 발명에 있어서 이들 중 적어도 1개 이상의 제어가 행해지면 된다. 또한, 제2 전원부(82)가, 펄스 전압을 대신하여, 전술한 직류 전압 또는, 제1 전압과 극성을 반전시킨 교류 전압을 인가하고, 전압 제어부(83)가 이들의 전압의 제어를 행해도 된다. 또한, 상기 변형예에서 설명한 고주파 전압의 주파수 제어를 조합해도 된다. 적어도 고주파 전압, 고주파 전압의 주파수 또는 제1 기간 중 어느 하나를 제어하면, 심층 온열 효과의 변동을 작게 할 수 있고, 마찬가지로 적어도 펄스 전압, 직류 전압, 제1 전압과 극성을 반전시킨 교류 전압 또는 제2 기간 중 어느 하나를 제어하면, 이온 도출의 효과 변동을 작게 할 수 있다.In the above embodiment, the
[2-3] 미용 처리의 대상[2-3] Target of beauty treatment
상기 실시예에서는, 주로 사용자의 얼굴에 미용 처리를 실시하는 기구인 미안기를 설명하였으나, 본 발명은 이것에 한정되지 않고, 예를 들면 사용자의 팔, 몸통 또는 다리 등의 다른 부분에 미용 처리를 실시하는 미용 처리 장치에 적용해도 된다. In the above-described embodiment, a facial beauty device, which is a mechanism for performing cosmetic treatment on a user's face, is mainly described, but the present invention is not limited to this, and for example, cosmetic treatment is performed on other parts of the user's arm, torso, or legs. You may apply to the said beauty treatment apparatus.
[2-4] 다공질 피복체[2-4] Porous Cover
상기 실시예에서는, 면섬유를 시트형으로 성형한 코튼(70)이 다공질 피복체로서 사용되어 기둥형부(30)의 바닥면(31)에 씌워졌으나, 이것에 한정되지 않고, 예를 들면 마 및 견 등의 다른 종류의 섬유를 시트형으로 형성한 것이 다공질 피복체로서 사용되어도 된다. 요컨대, 기둥형부(30)의 바닥면(31)에 씌울 수 있는 부드러움을 가지고, 화장수를 침투시키고, 피부에 대고 눌리면, 오염물 등을 흡착하는 성질을 가지는 것이면, 어떠한 소재의 다공질 피복체가 사용되어도 된다.In the above embodiment, the
[2-5] 이온 도입[2-5] Ion introduction
상기 실시예에서는, 제2 전원부(82)가 이온 도출을 하도록 펄스 전압을 인가하였으나, 전압의 플러스 마이너스를 반대로 하여, 이온 도입을 하도록 펄스 전압을 인가해도 된다. 이 경우, 음이온에 대전한 화장수가 피부에 흡착하여 침투하기 쉬워진다. 또한, 심층 온열에 의해 피부가 내부까지 따뜻해지고 있어서 세포가 활성화되어 있으므로, 화장수가 더욱 침투하기 쉬워진다.In the above embodiment, the pulse voltage was applied so that the second
[2-6] 동작 모드[2-6] Operation mode
상기 실시예에서는, 미안기(1)는 클렌징 모드로 동작하였으나, 이것에 한정되지 않고, 예를 들면, 심층 온열을 행하면서 전술한 이온 도입을 하는 모드로 동작해도 되고, 심층 온열만을 행하는 모드, 오염물 제거만을 행하는 모드, 이온 도입만을 행하는 모드로 동작해도 된다.In the above embodiment, the
[2-7] 피부로의 직접 접촉[2-7] Direct contact with skin
상기 실시예에서는, 기둥형부(30)의 바닥면(31)에 코튼(70)이 씌워진 상태에서 미안기(1)가 사용되었으나, 코튼(70)이 씌워져 있지 않은 상태에서 사용되어도 된다. 그 경우, 미안기(1)를 예를 들면 전술한 심층 온열만을 행하는 모드로 동작시킴으로써, 제1 전극 및 제2 전극이 직접 사용자의 피부에 접촉한 상태에서 저항값이 측정되고, 측정된 저항값에 따른 고주파 전압이 인가되므로, 실시예와 마찬가지로, 피부의 상태 등의 요인이 변화되었을 때의 심층 온열 효과의 변동을 작게 할 수 있다.In the above embodiment, the
[2-8] 제1 전극[2-8] First electrode
상기 실시예에서는, 제1 전극은 중앙이 개구되는 원환 형상이었으나, 중앙이 개구되어 있지 않은 원판 형상이어도 된다. 그 경우라도, 제1 전극 및 제2 전극 사이의 거리는 원주상의 어디라도 일정하게 되므로, 사용자 피부의 발열 면적을 넓게 또한 통전에 의한 자극을 균등하게 할 수 있다.In the above-described embodiment, the first electrode has an annular shape with a center opening, but may be a disc shape with no center opening. Even in this case, since the distance between the first electrode and the second electrode is constant anywhere in the circumference, it is possible to widen the heating area of the user's skin and equalize the stimulation by energization.
[2-9] 전극부[2-9] Electrode
상기 실시예에서는, 전극부가 모두 원환 형상의 제1 전극 및 제2 전극을 구비하고 있었지만, 이것에 한정되지 않는다. 전극부는, 예를 들면, 다각형이면서 또한 환형(環形)의 제1 전극 및 제2 전극을 구비하고 있어도 되고, 평행하게 배치된 봉형의 제1 전극 및 제2 전극을 구비하고 있어도 된다. 어느 쪽의 형상으로 하는 경우도, 제1 전극 및 제2 전극의 사이의 거리가 최단 거리가 되는 부분이 많을수록 광범위하고 또한 균등하게 고주파 전류를 흐르게 하는 것이 가능해지므로 바람직하다.In the above-described embodiment, the electrode portion was provided with a first electrode and a second electrode in an annular shape, but the present invention is not limited to this. The electrode portion may include, for example, a polygonal and circular first electrode and a second electrode, or may include a rod-shaped first electrode and a second electrode arranged in parallel. In either case, it is preferable because the larger the portion where the distance between the first electrode and the second electrode becomes the shortest, the wider and more uniformly the high-frequency current can flow.
[2-10] 저항값[2-10] Resistance value
상기 실시예에서는, 저항 측정부(84)가 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 저항값으로서 전기저항(레지스턴스)을 측정하였으나, 이것에 한정되지 않고, 예를 들면, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 리액턴스를 저항값으로서 측정해도 된다. 요컨대, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 전류의 흐르기 어려움을 나타내는 값이 저항값으로서 측정되면 된다. 그리고, 컨덕턴스와 같은 전류의 흐르기 쉬움을 나타내는 값도, 역수로 하면 전류의 흐르기 어려움을 나타내는 것으로 되므로, 저항값으로서 다루어도 된다.In the above embodiment, the
[2-11] 저항값의 측정 방법[2-11] How to measure resistance
상기 실시예에서는, 저항 측정부(84)가 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이에 고주파 전압이 인가되었을 때 흐르는 전류에 의해 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 저항값을 측정하였으나, 저항값의 측정 방법은 이것에 한정되지 않는다. 저항 측정부(84)는, 예를 들면 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이에 저항값을 측정하기 위한 측정용 전압(예를 들면, 직류 전압)이 인가되었을 때 흐르는 전류에 의해 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 저항값을 측정해도 된다.In the above embodiment, the
이 경우, 예를 들면, 제1 전원부(81)가 심층 가열을 위한 고주파 전압을 인가하기 전에 먼저 측정용 전압을 인가하여 저항 측정부(84)가 저항값을 측정하고, 측정된 저항값에 따른 높이의 고주파 전압 및 펄스 전압이 인가되도록 전압 제어부(83)가 제어를 행함으로써, 이 제어가 행해지지 않은 경우에 비하여, 피부에 흐르는 전류의 크기의 차를 미용 처리의 개시 시부터 작게 할 수 있다. 또한, 저항 측정부(84)는, 기둥형부(30)의 바닥면(31)에 별도의 쌍으로 되는 전극을 설치하여 이들 사이의 저항값을 측정해도 되고, 바닥면(31)에 전기저항을 나타내는 값을 출력하는 센서를 설치하여 그 출력값을 이용하여 저항값을 측정해도 된다.In this case, for example, before the first
요컨대, 사용자의 피부 중 헤드부(10)가 대고 눌러지는 부분에서의 전류의 흐르기 쉬움의 지표가 되는 것이라면, 어떠한 방법으로 저항값이 측정되어도 된다. 그리고, 실시예와 같이 저항 측정부(84)이 가 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 저항값을 측정하는 경우에는, 다른 전극 또는 센서를 설치할 필요가 없으므로, 이들을 설치하는 경우에 비하여 장치를 소형화할 수 있다.In short, as long as it is an indicator of the current flowing easily at the portion where the
1 : 미안기
10 : 헤드부
20 : 전극부
21 : 제1 전극
22 : 제2 전극
30 : 기둥형부
31 : 바닥면
40 : 스토퍼
41 : 자석부
42 : 절결부
50 : 본체
55 : 제3 전극
60 : 링
70 : 코튼1: Sorry
10: head portion
20: electrode part
21: first electrode
22: second electrode
30: columnar part
31: bottom surface
40: stopper
41: magnet
42: cutout
50: main body
55: third electrode
60: ring
70: cotton
Claims (8)
상기 제1 전극 및 제2 전극 사이에 고주파 전압인 제1 전압을 인가(印加)하는 제1 전원부;
상기 제1 전극 및 제2 전극 사이의 저항값을 측정하는 측정부; 및
측정된 상기 저항값에 따라 상기 제1 전압을 제어하는 제어부;
를 포함하는 미용 처리 장치.An electrode portion including a circular first electrode and a second electrode having a toric shape arranged concentrically on the outer side of the first electrode;
A first power supply unit for applying a first voltage that is a high frequency voltage between the first electrode and the second electrode (印 加);
A measuring unit measuring a resistance value between the first electrode and the second electrode; And
A control unit controlling the first voltage according to the measured resistance value;
Beauty treatment device comprising a.
상기 제어부는, 측정된 상기 저항값이 클수록 상기 제1 전압을 높게 하는, 미용 처리 장치.According to claim 1,
The control unit, the larger the measured resistance value, the higher the first voltage, the beauty treatment device.
상기 제어부는, 측정된 상기 저항값이 클수록 상기 제1 전압의 주파수를 높게 하는, 미용 처리 장치.The method according to claim 1 or 2,
The control unit, the larger the measured resistance value, the higher the frequency of the first voltage, beauty treatment device.
사용자가 쥐는 그립부;
상기 그립부에 설치된 제3 전극; 및
상기 전극부 및 상기 제3 전극 사이에, 직류 전압, 펄스 전압, 또는 상기 제1 전압의 극성을 반전시킨 교류 전압을, 제2 전압으로서 인가하는 제2 전원부;를 포함하고,
상기 제어부는, 측정된 상기 저항값에 따라 상기 제1 전압 및 상기 제2 전압을 제어하는, 미용 처리 장치.The method according to any one of claims 1 to 3,
A grip portion held by the user;
A third electrode installed on the grip portion; And
Includes; between the electrode portion and the third electrode, a second power supply unit for applying a DC voltage, a pulse voltage, or an AC voltage inverted with the polarity of the first voltage as a second voltage;
The control unit controls the first voltage and the second voltage according to the measured resistance value.
상기 제어부는, 측정된 상기 저항값이 클수록 상기 제2 전압을 높게 하는, 미용 처리 장치.According to claim 4,
The control unit, the larger the measured resistance value, the higher the second voltage, beauty treatment device.
상기 제어부는, 상기 제1 전압을 인가하는 제1 기간 및 상기 제2 전압을 인가하는 제2 기간이 교호적으로 오도록 제어하고, 측정된 상기 저항값이 클수록 상기 제1 기간 및 상기 제2 기간 중 적어도 한쪽을 길게 하는, 미용 처리 장치.The method of claim 4 or 5,
The control unit controls such that the first period for applying the first voltage and the second period for applying the second voltage alternately, and the larger the measured resistance value, the greater the resistance value during the first period and the second period. The beauty treatment apparatus which lengthens at least one side.
상기 전극부가 장착된 장착면을 가지는 원기둥의 기둥형부; 및
상기 기둥형부의 외주보다 내경(內徑)이 큰 원환 형상의 자성체(磁性體)가 상기 기둥형부에 끼워넣어진 경우에 상기 자성체를 정지시키는 스토퍼로서, 상기 자성체를 끌어당기는 자석이 설치된 스토퍼;를 포함하고,
상기 장착면을 덮는 다공질 피복체를 상기 자석에 끌어당겨진 상기 자성체와 상기 기둥형부가 협지하여 고정하는, 미용 처리 장치.The method according to any one of claims 1 to 6,
A columnar columnar portion having a mounting surface on which the electrode portion is mounted; And
As a stopper for stopping the magnetic body when a magnetic body of an annular shape having an inner diameter larger than the outer periphery of the columnar portion is inserted into the columnar portion, a stopper provided with a magnet for pulling the magnetic body; Including,
A cosmetic treatment device for fixing the porous body covering the mounting surface with the magnetic body and the columnar portion pulled on the magnet.
상기 스토퍼는, 절결부(切缺部)를 가지는, 미용 처리 장치.The method of claim 7,
The said stopper has a cutout, The beauty treatment apparatus.
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