KR102365021B1 - beauty treatment device - Google Patents

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이와오 야마자키
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야-만 엘티디.
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Abstract

제1 전극(21)은, 중앙이 개구되는 원환 형상의 전극이다. 제2 전극(22)은, 중앙이 개구되는 원환 형상의 전극이며, 제1 전극(21)과 동심으로 또한 제1 전극(21)의 외주의 외측에 배치된다. 제1 전원부(81)는, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이에 고주파 전압을 인가한다. 미안기(1)의 사용자가 쥐는 부분에는 제3 전극(55)이 설치되어 있다. 제2 전원부(82)는, 전극부(20) 및 제3 전극(55) 사이에 직류 전압을 인가한다. 저항 측정부(84)는, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 저항값을 측정한다. 전압 제어부(83)는, 측정된 저항값에 따라 고주파 전압 및 직류 전압을 제어한다.The first electrode 21 is an annular electrode having an open center. The second electrode 22 is an annular electrode having an open center, and is disposed concentrically with the first electrode 21 and outside the outer periphery of the first electrode 21 . The first power supply unit 81 applies a high frequency voltage between the first electrode 21 and the second electrode 22 . A third electrode 55 is installed in the portion held by the user of the facial device 1 . The second power supply unit 82 applies a DC voltage between the electrode unit 20 and the third electrode 55 . The resistance measuring unit 84 measures a resistance value between the first electrode 21 and the second electrode 22 . The voltage control unit 83 controls the high frequency voltage and the DC voltage according to the measured resistance value.

Description

미용 처리 장치beauty treatment device

본 발명은, 미용 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a cosmetic treatment device.

특허문헌 1에는, 사용자의 얼굴이나 수족 등에 전극을 접촉시켜 전극 사이의 살갗(피부)에 고주파 전류를 흐르게 함으로써, 피부를 안으로부터 따뜻하게 하는 미용 처리를 실시하는 기술이 기재되어 있다.Patent Document 1 describes a technique for performing a cosmetic treatment to warm the skin from the inside by making the electrodes come into contact with the user's face, limbs, etc., and flowing a high-frequency current to the skin (skin) between the electrodes.

일본공개특허 제2016-187732호Japanese Laid-Open Patent No. 2016-187732

피부에 전류를 흐르게 함으로써 얻어지는 미용 처리의 효과는, 피부의 상태에 따라서 상이하다. 여기에서, 피부의 특성에는 개인차가 있고, 피부의 상태는 몸 상태에 의해서도 변화된다. 또한, 피부에 화장수를 사용하고 있는 경우, 미용 처리의 효과는 화장수의 성분의 영향을 받는다. 특허문헌 1의 기술에서는, 이와 같은 요인이 고려되어 있지 않다.The effect of the cosmetic treatment obtained by passing an electric current through the skin varies depending on the condition of the skin. Here, there are individual differences in the characteristics of the skin, and the condition of the skin also changes depending on the condition of the body. In addition, when a lotion is used for skin, the effect of a cosmetic treatment is influenced by the component of a lotion. In the technique of patent document 1, such a factor is not considered.

이에, 본 발명은, 피부의 상태에 따른 전류를 인가(印加)하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, an object of the present invention is to apply an electric current according to the condition of the skin.

본 발명은, 원형의 제1 전극과, 상기 제1 전극의 외측에 동심원상으로 배치되는 원환(圓環) 형상의 제2 전극을 구비하는 전극부와, 상기 제1 및 제2 전극의 사이에 고주파 전압인 제1 전압을 인가하는 제1 전원부와, 상기 제1 및 제2 전극의 사이의 저항값을 측정하는 측정부와, 측정된 상기 저항값에 따라 상기 제1 전압을 제어하는 제어부를 포함하는 미용 처리 장치를 제공한다.The present invention provides an electrode part including a circular first electrode and an annular second electrode arranged concentrically on the outside of the first electrode, and between the first and second electrodes. A first power supply unit for applying a first voltage, which is a high frequency voltage, a measuring unit for measuring a resistance value between the first and second electrodes, and a control unit for controlling the first voltage according to the measured resistance value. It provides a cosmetic treatment device.

또한, 상기 제어부는, 측정된 상기 저항값이 클수록 상기 제1 전압을 높게 해도 된다.The control unit may increase the first voltage as the measured resistance value increases.

또한, 상기 제어부는, 측정된 상기 저항값이 클수록 상기 제1 전압의 주파수를 높게 해도 된다.Further, the control unit may increase the frequency of the first voltage as the measured resistance value increases.

또한, 사용자가 쥐는 그립부와, 상기 그립부에 설치된 제3 전극과, 상기 전극부 및 상기 제3 전극의 사이에 직류 전압, 펄스 전압, 또는 제1 전압과 극성을 반전시킨 교류 전압을 제2 전압으로서 인가하는 제2 전원부를 구비하고, 상기 제어부는, 측정된 상기 저항값에 따라 상기 제1 전압 및 상기 제2 전압을 제어해도 된다.In addition, as the second voltage, a DC voltage, a pulse voltage, or an AC voltage in which the polarity of the first voltage and the polarity is inverted between the grip part held by the user, the third electrode installed in the grip part, and the electrode part and the third electrode is used as the second voltage. A second power supply unit to apply may be provided, and the control unit may control the first voltage and the second voltage according to the measured resistance value.

또한, 상기 제어부는, 측정된 상기 저항값이 클수록 상기 제2 전압을 높게 해도 된다.In addition, the said control part may increase the said 2nd voltage, so that the measured resistance value is large.

또한, 상기 제어부는, 상기 제1 전압을 인가하는 제1 기간 및 상기 제2 전압을 인가하는 제2 기간이 교호적으로 오도록 제어하고, 측정된 상기 저항값이 클수록 상기 제1 기간 및 상기 제2 기간 중 적어도 한쪽을 길게 해도 된다.In addition, the control unit controls the first period for applying the first voltage and the second period for applying the second voltage to alternately come, and as the measured resistance value increases, the first period and the second period At least one of the periods may be lengthened.

또한, 상기 전극부가 장착된 장착면을 가지고 또한 단면이 원형인 기둥의 형상을 한 기둥형부와, 상기 기둥형부의 외주보다 내경(內徑)이 큰 원환 형상의 자성체(磁性體)가 상기 기둥형부에 끼워넣어진 경우에 해당 자성체를 정지시키는 스토퍼로서, 해당 자성체를 끌어당기는 자석이 설치된 스토퍼를 구비하고, 상기 장착면을 덮는 다공질 피복체를 상기 자석에 가까이 끌어당겨진 상기 자성체와 상기 기둥형부가 끼워넣어 고정해도 된다.In addition, the columnar portion includes a columnar portion having a mounting surface to which the electrode portion is mounted and having the shape of a column having a circular cross section, and an annular magnetic body having an inner diameter larger than the outer periphery of the columnar portion. A stopper for stopping the magnetic body when inserted into the magnetic body, comprising a stopper provided with a magnet for attracting the magnetic body; You can put it in and fix it.

또한, 상기 스토퍼는 절결부(切缺部)를 가지고 있어도 된다.Moreover, the said stopper may have a notch part.

본 발명에 의하면, 피부의 상태에 따른 전류가 인가된다.According to the present invention, an electric current according to the condition of the skin is applied.

[도 1a] 미안기(1)의 외관을 나타내는 도면이다.
[도 1b] 코튼을 장착한 상태의 미안기의 외관을 나타내는 도면이다.
[도 2a] 미안기(1)의 정면을 나타내는 도면이다.
[도 2b] 미안기(1)의 측면을 나타내는 도면이다.
[도 2c] 미안기(1)의 배면을 나타내는 도면이다.
[도 3] 스토퍼 등을 확대하여 나타내는 도면이다.
[도 4] 미안기의 기능 구성을 나타내는 도면이다.
[도 5] 제1 제어 테이블의 일례를 나타내는 도면이다.
[도 6] 제2 제어 테이블의 일례를 나타내는 도면이다.
[도 7] 제3 제어 테이블의 일례를 나타내는 도면이다.
[도 8] 제4 제어 테이블의 일례를 나타내는 도면이다.
[도 9] 전압 제어 처리에서의 미안기(1)의 동작 순서의 일례를 나타내는 도면이다.
1A is a view showing the appearance of the facial device 1 .
1B] It is a figure which shows the external appearance of the face device in the state which attached the cotton.
2A is a view showing the front of the facial device 1 .
[FIG. 2B] It is a figure which shows the side surface of the facial device 1.
[FIG. 2C] It is a figure which shows the back surface of the facial device 1.
It is a figure which enlarges and shows a stopper etc. [FIG. 3].
4 is a diagram showing the functional configuration of the facial device.
5 is a diagram showing an example of the first control table.
Fig. 6 is a diagram showing an example of the second control table.
Fig. 7 is a diagram showing an example of the third control table.
Fig. 8 is a diagram showing an example of the fourth control table.
It is a figure which shows an example of the operation procedure of the facial device 1 in a voltage control process.

[1] 실시예[1] Example

도 1은 실시예의 미안기(1)의 외관을 나타낸다. 도 1a에서는, 미안기(1)의 외관이 나타내어지고, 도 1b에서는, 미안기(1)에 코튼(70)을 씌운 상태가 나타내어져 있다. 도 2는 미안기(1)의 정면, 측면, 배면을 나타낸다. 도 2a에서는 정면, 도 2b에서는 측면, 도 2c에서는 배면이 나타내어져 있다.1 shows the appearance of the facial device 1 of the embodiment. In FIG. 1A, the external appearance of the facial device 1 is shown, and in FIG. 1B, the state which covered the face device 1 with the cotton 70 is shown. Figure 2 shows the front, side, and back of the facial device (1). The front side is shown in FIG. 2A, the side surface in FIG. 2B, and the back surface is shown in FIG. 2C.

미안기(1)는, 주로 사용자의 얼굴에 미용 처리를 실시하는 기구이며, 본 발명의 「미용 처리 장치」의 일례이다. 미안기(1)는, 헤드부(10)와, 본체(50)를 구비한다. 헤드부(10)는, 사용자의 피부에 가압되는 부분이다. 본체(50)는, 모두 가늘고 긴 면인 제1 면(51), 2개의 제2 면(52) 및 제3 면(53)을 가지는 봉형(棒形)의 부분이며, 사용자에 의해 쥐어지는 부분이다. 본체(50)는 본 발명의 「그립부」의 일례이다. 헤드부(10)는, 제1 면(51) 중, 본체(50)의 길이 방향 A1의 한쪽의 단(端)에 설치되어 있다.The facial device 1 is a mechanism which mainly applies a beauty process to a user's face, and is an example of "beauty processing apparatus" of this invention. The facial device 1 includes a head 10 and a main body 50 . The head part 10 is a part that is pressed against the user's skin. The main body 50 is a rod-shaped part having a first face 51, two second faces 52 and a third face 53, which are all elongated faces, and is a part held by the user. . The main body 50 is an example of the "grip part" of this invention. The head 10 is provided at one end of the first surface 51 in the longitudinal direction A1 of the main body 50 .

미안기(1)에 있어서는, 제1 면(51)이 향하고 있는 쪽, 즉 헤드부(10)가 설치되어 있는 쪽을 정면으로 하고, 제2 면(52)이 향하고 있는 쪽을 측면, 제3 면(53)이 향하고 있는 쪽을 배면으로 한다. 제1 면(51)에는, 사용자에 의해 조작되는 조작 버튼(54)이 설치되어 있다. 조작 버튼(54)은, 액정 패널에 표시된 터치식의 스위치라도 되고 기계적인 스위치라도 된다. 조작 버튼(54)은, 미안기(1)의 동작 모드를 선택하는 조작과, 선택된 동작 모드에서의 동작을 개시시키는 조작을 접수한다.In the face device 1, the side to which the 1st surface 51 is facing, ie, the side where the head part 10 is provided, is set as a front, and the side to which the 2nd surface 52 is facing is a side surface, the 3rd Let the side to which the surface 53 faces be a back surface. An operation button 54 operated by a user is provided on the first surface 51 . The operation button 54 may be a touch type switch displayed on the liquid crystal panel or a mechanical switch. The operation button 54 accepts an operation to select an operation mode of the facial device 1 and an operation to start an operation in the selected operation mode.

본 실시예에서는, 피부의 심층을 따뜻하게 하는 심층 온열을 행하면서 피부의 오염물을 제거하는 클렌징 모드에서의 동작에 관한 구성에 대하여 설명한다. 헤드부(10)는 전극부(20)와, 기둥형부(30)와, 스토퍼(40)를 구비한다. 전술한 심층 온열 및 오염물 제거는, 모두 피부에 전류를 흐르게 함으로써 행해진다. 전극부(20)는, 심층 온열 및 오염물 제거에 있어서 피부에 전류를 흐르게 하기 위한 전압이 인가되는 전극을 구비하는 부분이다. 이하에서는, 심층 온열을 위한 전압을 「제1 전압」이라고 하고, 오염물 제거를 위한 전압을 「제2 전압」이라고 한다. 전극부(20)는 제1 전극(21)과, 제2 전극(22)을 구비한다.In this embodiment, the configuration related to the operation in the cleansing mode for removing contaminants from the skin while performing deep heating to warm the deep layers of the skin will be described. The head portion 10 includes an electrode portion 20 , a columnar portion 30 , and a stopper 40 . Both of the deep heating and decontamination described above are performed by applying an electric current to the skin. The electrode part 20 is a part provided with an electrode to which a voltage for flowing a current to the skin is applied in deep heating and removal of contaminants. Hereinafter, a voltage for deep heating is referred to as a “first voltage”, and a voltage for removing contaminants is referred to as a “second voltage”. The electrode unit 20 includes a first electrode 21 and a second electrode 22 .

제1 전극(21)은, 외주가 원형의 전극이며, 본 실시예에서는, 중앙이 개구되는 원환 형상의 전극이다. 제2 전극(22)은, 중앙이 개구되는 원환 형상의 전극이며, 제1 전극(21)과 동심으로 또한 제1 전극(21)의 외주의 외측에 배치된다. 이들의 형상 및 배치에 의해, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 거리는 원주상의 어디라도 일정하게 되어 있다. 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이에는, 고주파 전압(고주파 전압, RF(Radio Frequency) 전압이라고도 함)이 전술한 제1 전압으로서 인가된다.The first electrode 21 has a circular outer periphery, and in the present embodiment is an annular electrode with an open center. The second electrode 22 is an annular electrode having an open center, and is disposed concentrically with the first electrode 21 and outside the outer periphery of the first electrode 21 . Due to their shape and arrangement, the distance between the first electrode 21 and the second electrode 22 is constant anywhere on the circumference. Between the first electrode 21 and the second electrode 22, a high-frequency voltage (also referred to as a high-frequency voltage or RF (Radio Frequency) voltage) is applied as the above-described first voltage.

기둥형부(30)는, 단면이 원형인 기둥형의 부분이며, 본 실시예에서는 원기둥의 형상을 하고 있다. 기둥형부(30)는 바닥면(31)과, 측면(32)을 가지고, 바닥면(31)에 전극부(20)가 장착되어 있다. 바닥면(31)은 본 발명의 「장착면」의 일례이다. 기둥형부(30)는, 배선 등을 배치하는 내부 공간을 형성하는 하우징을 가지고, 그 하우징은 플라스틱, 비금속 또는 세라믹 등의 전기 절연 재료를 사용하여 형성되어 있다. 이로써, 전극부(20)에 전압이 인가되어도, 기둥형부(30)의 하우징에는 전류가 흐르지 않고, 사용자의 피부에 전류가 흐르게 되어 있다.The columnar portion 30 is a columnar portion having a circular cross section, and has a cylindrical shape in the present embodiment. The columnar part 30 has a bottom surface 31 and a side surface 32 , and the electrode part 20 is attached to the bottom surface 31 . The bottom surface 31 is an example of the "mounting surface" of this invention. The columnar part 30 has a housing which forms the internal space in which wiring etc. are arrange|positioned, The housing is formed using electrical insulation materials, such as plastics, a nonmetal, or ceramic. Accordingly, even when a voltage is applied to the electrode unit 20 , current does not flow through the housing of the columnar unit 30 , but current flows through the user's skin.

기둥형부(30)에는 링(60)이 끼워넣어진다. 링(60)은, 기둥형부의 외주보다 내경이 큰 원환 형상의 자성체이다. 링(60)은, 예를 들면 철, 코발트, 니켈, 이들의 합금 또는 페라이트 등의 강자성을 나타내는 소재로 형성되어 있다. 스토퍼(40)는, 기둥형부(30) 중 바닥면(31)의 반대측에 형성되어 있고, 링(60)이 기둥형부(30)에 끼워넣어진 경우에 그 링(60)을 유지하는 부분이다.A ring 60 is fitted into the columnar portion 30 . The ring 60 is an annular magnetic body whose inner diameter is larger than the outer periphery of a columnar part. The ring 60 is formed of a material exhibiting ferromagnetism, such as iron, cobalt, nickel, an alloy thereof, or ferrite, for example. The stopper 40 is formed on the opposite side of the bottom surface 31 of the columnar portion 30 , and is a portion for holding the ring 60 when the ring 60 is fitted into the columnar portion 30 . .

스토퍼(40)는 자석부(41)와, 절결부(42)를 가진다. 자석부(41)는, 본 실시예에서는 각각이 스토퍼(40) 내에 매립된 4개의 자석을 가진다. 기둥형부(30)의 바닥면(31)에는, 도 1b에 나타낸 바와 같이 면섬유를 시트형으로 형성한 코튼(70)이 씌워진다. 코튼(70)은 본 발명의 「다공질 피복체」의 일례이다. 이와 같이 바닥면(31)을 덮는 코튼(70)을 자석부(41)에 끌어당겨진 링(60)과 기둥형부(30)(상세하게는 그 측면(32))가 협지하여 고정하고 있다.The stopper 40 has a magnet part 41 and a cutout part 42 . The magnet portion 41 has four magnets each embedded in the stopper 40 in this embodiment. The bottom surface 31 of the columnar portion 30 is covered with cotton 70 formed of cotton fibers in a sheet shape as shown in FIG. 1B . Cotton 70 is an example of the "porous covering body" of this invention. In this way, the ring 60 attracted to the magnet part 41 and the columnar part 30 (specifically, its side surface 32) are pinching and fixing the cotton 70 covering the bottom surface 31 .

스토퍼(40)는 원환 형상을 하고 있으며, 그 외주측의 일부를 잘라내어 절결부(42)가 형성되어 있다.The stopper 40 has an annular shape, and a notch 42 is formed by cutting out a part of the outer peripheral side.

도 3은 스토퍼(40) 등을 확대하여 나타낸다. 도 3에서는, 분별하기 쉽도록 제1 전극(21), 제2 전극(22) 및 링(60)을 해칭하여 나타내고 있다. 제1 전극(21), 제2 전극(22), 기둥형부(30) 및 스토퍼(40)(의 원형의 외주 부분)는, 모두 중심점 P1을 중심으로 하여 동심으로 되도록 배치되어 있다.3 is an enlarged view of the stopper 40 and the like. In FIG. 3, the 1st electrode 21, the 2nd electrode 22, and the ring 60 are hatched and shown for easy identification. The first electrode 21 , the second electrode 22 , the columnar portion 30 , and the stopper 40 (circular outer peripheral portion) are all arranged so as to be concentric with the central point P1 as the center.

또한, 기둥형부(30)에 끼워넣어진 링(60)도, 이들과 대략 동심의 상태가 된다. 이 중심점 P1로부터 외주를 향하는 방향을 직경 방향 A2로 하면, 절결부(42)는, 스토퍼(40) 중, 기둥형부(30)에 끼워넣어진 상태의 링(60)의 원형의 외주보다 직경 방향의 치수가 작은 부분으로 되어 있다. 즉, 링(60)의 외주 직경 방향 A2의 치수 B1>스토퍼(40)의 절결부(42)에서의 직경 방향 A2의 치수 B2, 로 되어 있다.Moreover, the ring 60 fitted into the columnar part 30 also becomes a state substantially concentric with these. Assuming that the direction from the central point P1 to the outer periphery is the radial direction A2, the cut-out portion 42 in the stopper 40 is in a radial direction from the circular outer periphery of the ring 60 fitted into the columnar portion 30. is made up of small parts. That is, it is the dimension B1 of the outer peripheral radial direction A2 of the ring 60 > dimension B2 of the radial direction A2 of the cutout part 42 of the stopper 40, and it is set.

절결부(42)를 설치한 것에 의해, 코튼(70)을 고정한 상태의 링(60)을 이면측으로부터 누를 수 있으므로, 절결부(42)를 설치하지 않는 경우에 비하여, 링(60)이 떼어내기 쉽게 되어 있다. 그리고, 기둥형부(30), 스토퍼(40) 및 링(60)은, 이와 같이 하여 코튼(70)을 고정할 수 있는 형상으로 되어 있으면 된다. 예를 들면, 기둥형부는 바닥면(31)에 가까울수록 단면이 작아지는 원뿔대의 형태를 하고 있어도 된다. 또한, 스토퍼는 다각형의 판형의 형상을 하고 있어도 되고, 링(60)의 외주보다 반경이 작고 절결이 없는 원판의 형상을 하고 있어도 된다(그렇더라도 링(60)을 유지할 수 있어서 링(60)을 이면측으로부터 누를 수 있으므로).By providing the cutout 42, the ring 60 in a state in which the cotton 70 is fixed can be pressed from the back side. It is easy to bet. In addition, the columnar part 30, the stopper 40, and the ring 60 should just be in the shape which can fix the cotton 70 in this way. For example, the columnar portion may be in the form of a truncated cone whose cross section becomes smaller as it approaches the bottom surface 31 . In addition, the stopper may have a polygonal plate-like shape, or may have a circular plate shape having a smaller radius than the outer periphery of the ring 60 and no cutouts (even though the ring 60 can be held, the ring 60 can be Because it can be pressed from the back side).

고정된 코튼(70) 중 기둥형부(30)의 바닥면(31)을 덮고 있는 부분은 사용자의 피부에 접촉하는 접촉부(71)로 되어 있다. 접촉부(71)는, 클렌징 모드로 동작하는 미안기(1)의 헤드부(10)를 사용자의 피부에 대고 눌렀을 때, 그 피부의 오염물이 부착되는 부분이다. 클렌징 모드에서는, 접촉부(71)에 클렌징용의 화장수를 스며들게 하여 오염물을 떨어지기 쉽게 한다.The portion covering the bottom surface 31 of the columnar portion 30 among the fixed cotton 70 is a contact portion 71 that comes into contact with the user's skin. The contact portion 71 is a portion to which contaminants of the skin are attached when the head portion 10 of the facial device 1 operating in the cleansing mode is pressed against the user's skin. In the cleansing mode, the lotion for cleansing is made to permeate the contact part 71 to make it easy to remove the dirt.

본체(50)의 제3 면(53)에는, 제3 전극(55)이 설치되어 있다. 제3 전극(55)은, 제3 면(53)의 길이 방향 A1의 단으로부터 단까지 연장되는 가늘고 긴 타원형의 전극이다. 제3 전극(55)은, 이와 같이 넓은 범위에 설치되어 있음으로써, 본체(50)를 쥔 사용자의 손이 반드시 접촉하게 되어 있다. 제3 면(53)과 전극부(20) 사이에는 전술한 제2 전압(오염물 제거를 위한 전압)이 인가된다.A third electrode 55 is provided on the third surface 53 of the main body 50 . The third electrode 55 is an elongated elliptical electrode extending from the end of the third surface 53 in the longitudinal direction A1 to the end. Since the third electrode 55 is provided in such a wide range, the user's hand holding the main body 50 is always in contact. The above-described second voltage (voltage for removing contaminants) is applied between the third surface 53 and the electrode part 20 .

제2 전압으로서는, 직류 전압 또는 펄스 전압이 이용된다. 직류 전압이란, 크기 및 방향이 일정하고, 인가되면 직류 전류가 흐르는 전압이다. 그리고, 크기가 일정하지 않고 다소 변동되어도 방향이 일정하면 직류 전압으로 간주해도 된다. 또한, 펄스 전압이란, 직류 전압을 인가하는 기간과 인가하지 않는 기간을 교호적으로 반복한 경우의 전압을 말한다. 이하에서는, 펄스 전압이 제2 전압으로서 이용되는 경우를 설명하지만, 펄스 전압 대신 직류 전압이 이용되어도 된다.As the second voltage, a DC voltage or a pulse voltage is used. The DC voltage is a voltage that has a constant magnitude and direction, and a DC current flows when applied. In addition, if the direction is constant even if the magnitude is not constant and slightly fluctuates, it may be regarded as a DC voltage. In addition, the pulse voltage refers to a voltage when a period in which a DC voltage is applied and a period in which a DC voltage is not applied are alternately repeated. Hereinafter, a case in which a pulse voltage is used as the second voltage will be described, but a DC voltage may be used instead of the pulse voltage.

도 4는 미안기(1)의 전자회로의 구성을 나타낸다. 미안기(1)는, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22)을 가지는 전극부(20)와 제3 전극(55)에 더하여, 제1 전원부(81)와, 제2 전원부(82)와, 전압 제어부(83)와, 저항 측정부(84)를 가지는 제어 회로 기판(80)을 구비한다. 제어 회로 기판(80)은, 전압을 제어하는 회로가 설치된 기판이며, 전자소자(예를 들면, 콘덴서, 코일, IC칩, 메모리 등)에 의해 구성되어 있다.4 shows the configuration of the electronic circuit of the facial device (1). The facial device 1 includes, in addition to the electrode portion 20 and the third electrode 55 having a first electrode 21 and a second electrode 22 , a first power source unit 81 and a second power source unit 82 . ), a voltage control unit 83 , and a control circuit board 80 having a resistance measuring unit 84 . The control circuit board 80 is a board on which a circuit for controlling a voltage is provided, and is constituted by electronic elements (eg, capacitors, coils, IC chips, memory, etc.).

제1 전원부(81)는, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이에 고주파 전압을 제1 전압으로서 인가한다. 제1 전원부(81)는, 고주파 전압을 생성하는 발진 회로 및 발진된 전압을 승압하는 승압 회로 등을 가지고, 예를 들면, 1[MHz]∼4[MHz] 정도의 고주파 전압을 인가한다. 제1 전원부(81)에 의해 고주파 전압이 인가된 상태의 헤드부(10)를 사용자의 피부에 대고 누르면, 코튼(70)에 스며든 화장수를 통하여 피부에 고주파 전류가 흐른다.The first power supply unit 81 applies a high-frequency voltage as a first voltage between the first electrode 21 and the second electrode 22 . The first power supply unit 81 has an oscillation circuit for generating a high-frequency voltage, a boosting circuit for boosting the oscillated voltage, and the like, and applies a high-frequency voltage of, for example, about 1 [MHz] to 4 [MHz]. When the user's skin is pressed against the head 10 in a state in which the high-frequency voltage is applied by the first power source 81 , a high-frequency current flows through the skin lotion soaked in the cotton 70 .

제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 거리는, 전술한 바와 같이 원주상의 어디라도 일정하게 되어 있으므로, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이에는 한결같이 고주파 전류가 흐른다. 그러므로, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이에 위치하는 사용자의 피부에 대하여, 광범위하게 또한 균등하게 고주파 전류를 흐르게 하는 것이 가능하게 되고, 사용자의 피부의 발열 면적이 넓고 또한 통전에 의한 자극이 균등해진다. 그 결과, 예를 들면, 구상(球狀) 전극 사이에 고주파 전류를 흐르게 하는 경우에 비하여, 피부의 단위면적당의 발열량이 작아지고, 종래 문제로 여겨지고 있었던 고주파 전류에 의해 피부가 국소적으로 열을 가지기 쉬워지거나, 사용자가 불쾌감을 느끼거나 하는 것이 방지되도록 되어 있다.Since the distance between the first electrode 21 and the second electrode 22 is constant anywhere on the circumference as described above, a high-frequency current is uniformly generated between the first electrode 21 and the second electrode 22. flows Therefore, with respect to the user's skin positioned between the first electrode 21 and the second electrode 22, it becomes possible to make a high-frequency current flow widely and evenly, and the heat-generating area of the user's skin is wide and energized. stimulation is equalized. As a result, for example, compared to the case where a high-frequency current flows between spherical electrodes, the calorific value per unit area of the skin is reduced, and the skin is locally heated by the high-frequency current, which has been considered a problem in the past. It is designed to be easy to have or to prevent the user from feeling uncomfortable.

제2 전원부(82)는, 펄스 전압을 생성하는 발진 회로 및 발진된 전압을 승압하는 승압 회로 등을 가지고, 전극부(20)(제1 전극(21) 및 제2 전극(22)의 한쪽 또는 양쪽) 및 제3 전극(55) 사이에 펄스 전압을 인가한다. 사용자가 미안기(1)의 본체(50)를 쥐고 헤드부(10)를 피부에 대고 누르면, 제3 전극(55)에 접촉된 손과 코튼(70)에 스며든 화장수를 통하여 사용자의 신체 내에 미약한 직류 전류가 흐른다.The second power supply unit 82 includes an oscillation circuit for generating a pulse voltage, a boosting circuit for boosting the oscillated voltage, and the like, and includes an electrode unit 20 (one of the first electrode 21 and the second electrode 22 or Both) and a pulse voltage is applied between the third electrode 55 . When the user holds the main body 50 of the facial device 1 and presses the head 10 against the skin, the hand in contact with the third electrode 55 and the lotion soaked in the cotton 70 enter the user's body. A weak direct current flows.

클렌징 모드의 경우, 제2 전원부(82)는, 전극부(20)에 대하여 제3 전극(55) 측이 마이너스의 전위를 가지도록 펄스 전압을 인가한다. 이로써, 헤드부(10)에 대하여 피부측이 마이너스의 전위를 가지게 되고, 마이너스로 대전하여 피부에 부착되어 있었던 노폐물 및 오염물 등이 코튼(70)에 흡착되는 이른바 이온 도출이 행해진다. 미안기(1)에서는, 고주파 전압에 의한 심층 온열과 펄스 전압에 의한 오염물 제거가 교호적으로 행해진다.In the case of the cleansing mode, the second power supply unit 82 applies a pulse voltage such that the third electrode 55 side has a negative potential with respect to the electrode unit 20 . Thereby, the skin side has a negative potential with respect to the head portion 10 , and so-called ion derivation is performed in which wastes and contaminants, etc. that have been negatively charged and adhered to the skin are adsorbed to the cotton 70 . In the facial device 1, deep heating by a high-frequency voltage and removal of contaminants by a pulse voltage are alternately performed.

전압 제어부(83)는, 제1 전원부(81)를 제어함으로써 제1 전원부(81)가 인가하는 고주파 전압을 제어하고, 제2 전원부(82)를 제어함으로써 제2 전원부(82)가 인가하는 펄스 전압을 제어한다. 전압 제어부(83)는 본 발명의 「제어부」의 일례이다. 전압 제어부(83)는, 고주파 전압을 인가하는 제1 기간 및 펄스 전압을 인가하는 제2 기간이 교호적으로 오도록 제어한다. 전압 제어부(83)는, 예를 들면 제1 기간 및 제2 기간을 어느 쪽도 같은 길이(예를 들면, 5∼15초 정도)로 하는 제어를 행한다.The voltage control unit 83 controls the high frequency voltage applied by the first power supply unit 81 by controlling the first power supply unit 81 , and controls the second power supply unit 82 to control the pulses applied by the second power supply unit 82 . control the voltage. The voltage control unit 83 is an example of the "control unit" of the present invention. The voltage control unit 83 controls so that the first period for applying the high frequency voltage and the second period for applying the pulse voltage alternately come. The voltage control unit 83 controls, for example, to make the first period and the second period the same length (for example, about 5 to 15 seconds).

또한, 전압 제어부(83)는, 양쪽 전압의 제어에, 저항 측정부(84)에 의한 측정 결과를 이용한다.Moreover, the voltage control part 83 uses the measurement result by the resistance measuring part 84 for control of both voltages.

저항 측정부(84)는, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22)의 사이의 저항값을 측정한다. 저항 측정부(84)는, 본 실시예에서는, 전기저항(레지스턴스)을 저항값으로서 측정한다. 저항 측정부(84)는, 도 1b에 나타낸 바와 같이 코튼(70)을 고정하여 화장수를 스며들게 한 상태(헤드부(10)를 사용자의 피부에 대고 누르기 전의 상태)에서는, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이에 인가되는 고주파 전압에 의해 화장수에 전류가 흐르므로, 화장수의 저항값을 측정한다. 그리고, 헤드부(10)를 사용자의 피부에 대고 누른 상태에서는, 화장수를 통하여 사용자의 피부에 전류가 흐르므로, 저항 측정부(84)는, 화장수 및 사용자 피부의 합성 저항을 나타내는 저항값을 측정한다.The resistance measuring unit 84 measures a resistance value between the first electrode 21 and the second electrode 22 . The resistance measuring unit 84 measures the electrical resistance (resistance) as a resistance value in the present embodiment. As shown in FIG. 1B, the resistance measuring unit 84 is the first electrode 21 in a state in which the cotton 70 is fixed and the lotion is soaked (the state before the head 10 is pressed against the user's skin). And since a current flows in the lotion by the high-frequency voltage applied between the second electrode 22, the resistance value of the lotion is measured. And, in a state in which the head unit 10 is pressed against the user's skin, current flows through the user's skin through the lotion, so the resistance measuring unit 84 measures a resistance value indicating the combined resistance of the lotion and the user's skin. do.

이 저항값(전기저항)은, 사용자의 피부의 상태 및 화장수의 성분 등에 의해 변화한다.This resistance value (electrical resistance) changes depending on the condition of the user's skin, the ingredients of the lotion, and the like.

예를 들면, 인체의 피부에 고주파 전류를 흐르게 한 경우, 피부가 발열하고, 피부의 온도 상승에 수반하여 피부 내부의 임피던스가 서서히 감소하는 것이 알려져 있다. 따라서, 피부의 온도 상승에 수반하여, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이에 흐르는 전류량이 증가하고, 측정되는 저항값이 작아진다. 저항 측정부(84)는, 저항값의 측정을 결정된 시간 간격(예를 들면, 0.5초마다 등)으로 행하고, 그 때마다 측정한 저항값을 전압 제어부(83)에 출력한다.For example, it is known that when a high-frequency current flows through the skin of a human body, the skin heats up and the impedance inside the skin gradually decreases with the increase in the skin temperature. Accordingly, as the skin temperature rises, the amount of current flowing between the first electrode 21 and the second electrode 22 increases, and the measured resistance value decreases. The resistance measuring unit 84 measures the resistance value at a determined time interval (for example, every 0.5 second or the like), and outputs the measured resistance value to the voltage control unit 83 each time.

전압 제어부(83)는, 이와 같이 하여 저항 측정부(84)에 의해 측정된 저항값에 따라 고주파 전압 및 펄스 전압을 제어한다. 전압 제어부(83)는, 예를 들면 측정된 저항값이 클수록 고주파 전압을 높게 한다(고주파 전압의 진폭을 크게 함). 전압 제어부(83)는, 이 제어를 행하기 위해, 예를 들면, 저항값의 범위와 고주파 전압을 대응시킨 제1 제어 테이블을 기억해 둔다.The voltage control part 83 controls the high frequency voltage and the pulse voltage according to the resistance value measured by the resistance measuring part 84 in this way. The voltage control unit 83, for example, increases the high-frequency voltage as the measured resistance value increases (increases the amplitude of the high-frequency voltage). In order to perform this control, the voltage control part 83 memorize|stores the 1st control table which made the range of resistance values and the high frequency voltage correspond, for example.

도 5는 제1 제어 테이블의 일례를 나타낸다. 도 5의 예에서는, 「R11 미만」, 「R11 이상 R12 미만」 및 「R12 이상」이라는 저항값의 범위에, 「Vrf1」, 「Vrf2」 및 「Vrf3」이라는 고주파 전압(Vrf1 <Vrf2 <Vrf3)이 대응되어 있다. 전압 제어부(83)는, 저항 측정부(84)로부터 측정 결과가 공급되면, 그 측정 결과를 포함하는 저항값의 범위에 제1 제어 테이블에서 대응되어 있는 고주파 전압을 인가한다. 이로써, 전압 제어부(83)는, 전술한 바와 같이 측정된 저항값이 클수록 고주파 전압을 높게 한다.5 shows an example of the first control table. In the example of FIG. 5 , the high-frequency voltages “Vrf1”, “Vrf2”, and “Vrf3” in the resistance values range of “less than R11”, “R11 or more and less than R12” and “R12 or more” (Vrf1 < Vrf2 < Vrf3) This is matched. When the measurement result is supplied from the resistance measuring unit 84 , the voltage control unit 83 applies a high frequency voltage corresponding to the resistance value range including the measurement result in the first control table. Accordingly, the voltage control unit 83 increases the high-frequency voltage as the resistance value measured as described above increases.

제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 저항값이 클수록, 고주파 전압을 인가했을 때 피부에 흐르는 전류가 작아지고, 피부의 내부가 따뜻해지기 어려워진다. 예를 들면, 화장수 α를 사용하면, 저항값이 R11 미만으로 되고, 화장수 β를 사용하는 저항값이 R12 이상으로 될 경우, 고주파 전압이 같으면 후자 쪽이 전자에 비하여 피부의 내부가 따뜻해지기 어렵다. 이와 같은 피부 내부의 따뜻해지기 용이함의 차이는, 사용자마다 피부의 개인차에서도 생기며, 같은 사용자라도 피부 상태의 상이에 의해서도 생긴다.The larger the resistance value between the first electrode 21 and the second electrode 22, the smaller the current flowing through the skin when a high-frequency voltage is applied, and the harder it is to warm the inside of the skin. For example, when the lotion α is used, the resistance value becomes less than R11, and when the resistance value using the lotion β becomes R12 or higher, when the high-frequency voltage is the same, the latter is less likely to warm the inside of the skin than the former. Such a difference in the ease of warming the inside of the skin is caused by individual differences in skin for each user, and also by differences in skin conditions even for the same user.

그래서, 상기 제어(전압 제어부(83)에 의한 전압의 제어)를 행함으로써, 이 제어를 하지 않는 경우에 비하여, 피부의 개인차, 피부의 상태 및 화장수의 성분 등의 상황의 차이에 기인하는 피부에 흐르는 전류의 크기의 차를 작게 하여, 피부의 내부 온도차(즉 심층 온열 효과의 차)를 작게 할 수 있다. 또한, 피부의 온도가 상승하면 전술한 바와 같이 저항값이 작아지므로, 고주파 전압도 작아진다. 이로써, 피부의 내부를 과도하게 가열하는 것을 방지할 수도 있다. 또한, 전술한 바와 같이 헤드부(10)를 사용자의 피부에 대고 누르기 전의 상태에서도 저항 측정부(84)가 화장수의 저항값을 측정하므로, 상기 제어가 행해지지 않는 경우에 비하여, 헤드부(10)를 사용자의 피부에 대고 누르기 전부터, 피부에 흐르는 전류의 크기의 차(특히 화장수의 성분 차이에 의해 생기게 하는 차)를 작게 할 수 있다.Therefore, by performing the above control (control of the voltage by the voltage control unit 83), compared to the case where this control is not performed, skin damage caused by differences in conditions such as individual differences in skin, skin condition and ingredients of lotion, etc. By reducing the difference in the magnitude of the flowing current, it is possible to reduce the internal temperature difference of the skin (that is, the difference in the deep thermal effect). In addition, as the skin temperature rises, the resistance value decreases as described above, so the high-frequency voltage also decreases. Thereby, it is also possible to prevent excessive heating of the inside of the skin. In addition, since the resistance measuring unit 84 measures the resistance value of the lotion even before the head unit 10 is pressed against the user's skin as described above, compared to the case where the above control is not performed, the head unit 10 ) before pressing against the user's skin, the difference in the magnitude of the current flowing through the skin (especially the difference caused by the difference in the ingredients of the lotion) can be reduced.

또한, 전압 제어부(83)는, 측정된 저항값이 클수록 펄스 전압을 높게 한다(펄스 전압에 포함되는 직류 전압을 높게 함). 전압 제어부(83)는, 이 제어를 행하기 위해, 예를 들면 저항값의 범위와 펄스 전압을 대응시킨 제2 제어 테이블을 기억해 둔다.In addition, the voltage control unit 83 increases the pulse voltage as the measured resistance value increases (increases the DC voltage included in the pulse voltage). In order to perform this control, the voltage control part 83 memorize|stores the 2nd control table which made the range of a resistance value and the pulse voltage correspond, for example.

도 6은 제2 제어 테이블의 일례를 나타낸다. 도 6의 예에서는, 「R21 미만」, 「R21 이상 R22 미만」 및 「R22 이상」이라는 저항값의 범위에, 「Vp1」, 「Vp2」 및 「Vp3」이라는 펄스 전압(Vp1<Vp2<Vp3)이 대응되어 있다.6 shows an example of the second control table. In the example of Fig. 6, pulse voltages of "Vp1", "Vp2", and "Vp3" (Vp1<Vp2<Vp3) in the resistance value ranges of "less than R21", "R21 or more and less than R22", and "R22 or more" This is matched.

전압 제어부(83)는, 저항 측정부(84)로부터 측정 결과가 공급되면, 그 측정 결과를 포함하는 저항값의 범위에 제2 제어 테이블에서 대응되어 있는 펄스 전압을 인가한다. 이로써, 전압 제어부(83)는, 전술한 바와 같이 측정된 저항값이 클수록 펄스 전압을 높게 한다.When the measurement result is supplied from the resistance measuring unit 84 , the voltage control unit 83 applies a pulse voltage corresponding to the resistance value range including the measurement result in the second control table. Accordingly, the voltage control unit 83 increases the pulse voltage as the measured resistance value increases as described above.

제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 저항값이 클수록, 펄스 전압을 인가했을 때 피부에 흐르는 전류가 작아지고, 코튼(70)에 흡착하는 오염물 등이 적어진다(이온 도출의 효과가 작아짐). 그래서, 상기 제어를 행함으로써, 피부의 개인차, 상태 및 화장수의 성분 등의 상황의 차이에 기인하는 피부에 흐르는 전류의 크기의 차를 작게 하여, 코튼(70)에 흡착되는 오염물 등의 차(즉 이온 도출의 효과의 차)를 작게 할 수 있다.The larger the resistance value between the first electrode 21 and the second electrode 22, the smaller the current flowing through the skin when a pulse voltage is applied, and the fewer contaminants and the like adsorbed to the cotton 70 (Ion derivation). less effective). Therefore, by performing the above control, the difference in the magnitude of the current flowing through the skin due to individual differences in the skin, the condition, and the difference in the conditions such as the components of the lotion is reduced, and the difference in the contaminants etc. adsorbed to the cotton 70 (i.e. difference in the effect of ion derivation) can be made small.

또한, 전압 제어부(83)는, 측정된 저항값이 클수록 고주파 전압을 인가하는 제1 기간을 길게 한다. 전압 제어부(83)는, 이 제어를 행하기 위해, 예를 들면 저항값의 범위와 제1 기간을 대응시킨 제3 제어 테이블을 기억해 둔다.In addition, the voltage control unit 83 lengthens the first period for applying the high-frequency voltage as the measured resistance value increases. In order to perform this control, the voltage control part 83 memorize|stores, for example, the 3rd control table which made the range of the resistance value and the 1st period correspond.

도 7은 제3 제어 테이블의 일례를 나타낸다. 도 7의 예에서는, 「R31 미만」, 「R31 이상 R32 미만」 및 「R32 이상」이라는 저항값의 범위에, 「Trf1」, 「Trf2」 및 「Trf3」라는 제1 기간(Trf1<Trf2<Trf3)이 대응되어 있다.7 shows an example of the third control table. In the example of Fig. 7, in the resistance value ranges of "less than R31", "R31 or more and less than R32", and "R32 or more", the first period (Trf1<Trf2<Trf3) of "Trf1", "Trf2", and "Trf3" ) is matched.

전압 제어부(83)는, 저항 측정부(84)로부터 측정 결과가 공급되면, 그 측정 결과를 포함하는 저항값의 범위에 제3 제어 테이블에서 대응되어 있는 제1 기간 동안, 고주파 전압을 인가한다. 이로써, 전압 제어부(83)는, 전술한 바와 같이 측정된 저항값이 클수록 제1 기간(고주파 전압을 인가하는 기간)을 길게 한다. 이 경우에는, 피부의 내부가 따뜻해지기 어려운 상황에서는 제1 기간을 길게 함으로써 심층 온열 효과를 높이도록 하고 있다.When the measurement result is supplied from the resistance measuring unit 84 , the voltage control unit 83 applies the high frequency voltage during the first period corresponding to the range of resistance values including the measurement result in the third control table. Accordingly, the voltage control unit 83 lengthens the first period (period for applying the high-frequency voltage) as the resistance value measured as described above increases. In this case, in a situation where the inside of the skin is difficult to warm, the deep warming effect is enhanced by lengthening the first period.

예를 들면, 고주파 전압을 최대로 인가해도 피부의 내부가 따뜻해지기 어려울 경우, 제1 기간을 길게 함으로써 심층 온열 효과를 높일 수 있다. 반대로, 고주파 전압을 최소로 인가해도 피부의 내부가 지나치게 따뜻해질 경우, 제1 기간을 짧게 함으로써 심층 온열 효과를 억제할 수 있다. 또한, 제1 기간을 변화시키는 경우라도, 고주파 전압을 변화시키는 경우와 마찬가지로, 피부의 개인차, 피부의 상태 및 화장수의 성분 등의 상황의 차이에 기인하는 피부에 흐르는 전류의 크기의 차를 작게 하여, 피부의 내부 온도차(즉 심층 온열 효과의 차)를 작게 할 수 있다.For example, when it is difficult to warm the inside of the skin even when a high-frequency voltage is applied to the maximum, the deep warming effect can be enhanced by lengthening the first period. Conversely, when the inside of the skin becomes excessively warm even when a high-frequency voltage is applied to a minimum, the deep warming effect can be suppressed by shortening the first period. Also, even in the case of changing the first period, as in the case of changing the high-frequency voltage, the difference in the magnitude of the current flowing through the skin caused by differences in circumstances such as individual differences in skin, skin condition, and ingredients of lotion is reduced. , it is possible to reduce the internal temperature difference of the skin (that is, the difference in the deep heating effect).

또한, 전압 제어부(83)는, 측정된 저항값이 클수록 펄스 전압을 인가하는 제2 기간을 길게 한다. 전압 제어부(83)는, 이 제어를 행하기 위해, 예를 들면, 저항값의 범위와 제2 기간을 대응시킨 제4 제어 테이블을 기억해 둔다.In addition, the voltage control unit 83 lengthens the second period for applying the pulse voltage as the measured resistance value increases. In order to perform this control, the voltage control unit 83 stores, for example, a fourth control table in which a range of resistance values and a second period are associated with each other.

도 8은 제4 제어 테이블의 일례를 나타낸다. 도 8의 예에서는, 「R41 미만」, 「R41 이상 R42 미만」 및 「R42 이상」이라는 저항값의 범위에, 「Tp1」, 「Tp2」 및 「Tp3」라는 제1 기간(Tp1<Tp2<Tp3)이 대응되어 있다.8 shows an example of the fourth control table. In the example of FIG. 8, in the resistance value ranges of "less than R41", "R41 or more and less than R42", and "R42 or more", the first period of "Tp1", "Tp2" and "Tp3" (Tp1<Tp2<Tp3 ) is matched.

전압 제어부(83)는, 저항 측정부(84)로부터 측정 결과가 공급되면, 그 측정 결과를 포함하는 저항값의 범위에 제4 제어 테이블에서 대응되어 있는 제2 기간 동안, 펄스 전압을 인가한다. 이로써, 전압 제어부(83)는, 전술한 바와 같이 측정된 저항값이 클수록 제2 기간(펄스 전압을 인가하는 기간)을 길게 한다. 이 경우에는, 오염물 등이 코튼(70)에 흡착되기 어려운 상황에서는 제2 기간을 길게 함으로써 이온 도출의 효과를 높이도록 하고 있다.When the measurement result is supplied from the resistance measurement unit 84 , the voltage control unit 83 applies a pulse voltage during the second period corresponding to the range of resistance values including the measurement result in the fourth control table. Accordingly, the voltage control unit 83 lengthens the second period (period for applying the pulse voltage) as the resistance value measured as described above increases. In this case, in a situation in which contaminants or the like are hardly adsorbed to the cotton 70, the effect of ion derivation is enhanced by lengthening the second period.

예를 들면, 펄스 전압을 최대로 인가해도 오염물 등이 코튼(70)에 충분히 흡착하지 않을 경우, 제2 기간을 길게 함으로써 이온 도출의 효과를 높일 수 있다. 또한, 제2 기간을 변화시키는 경우라도, 펄스 전압을 변화시키는 경우와 마찬가지로, 피부의 개인차, 피부의 상태 및 화장수의 성분 등의 상황의 차이에 기인하는 피부에 흐르는 전류의 크기의 차를 작게 하여, 코튼(70)에 흡착되는 오염물 등의 차(즉 이온 도출의 효과의 차)를 작게 할 수 있다.For example, when the contaminants or the like do not sufficiently adsorb to the cotton 70 even when the pulse voltage is applied to the maximum, the effect of ion derivation can be enhanced by lengthening the second period. Also, even in the case of changing the second period, similarly to the case of changing the pulse voltage, the difference in the magnitude of the current flowing through the skin caused by differences in circumstances such as individual differences in skin, skin condition, and ingredients of lotion is reduced. , it is possible to reduce the difference between contaminants and the like adsorbed to the cotton 70 (that is, the difference in the effect of ion derivation).

그리고, 제1∼제4 제어 테이블은, 도 5∼도 8에 나타내는 것에 제한되지 않는다. 예를 들면, 저항값의 범위를 2개로 해도 되고, 4 이상으로 해도 된다. 또한, 저항값과 고주파 전압, 펄스 전압, 제1 기간 또는 제2 기간의 관계식을 이용하여 상기의 각 제어를 행해도 된다. 요컨대, 저항값이 클수록, 고주파 전압을 높게 하고, 펄스 전압을 높게 하고, 제1 기간을 길게 하고 또는 제2 기간을 길게 할 수 있으면, 어떠한 방법이 이용되어도 된다.Incidentally, the first to fourth control tables are not limited to those shown in Figs. 5 to 8 . For example, the range of the resistance value may be two or more than four. Moreover, you may perform each said control using the relational expression of a resistance value, a high frequency voltage, a pulse voltage, and a 1st period or a 2nd period. In other words, any method may be used as long as the high-frequency voltage is increased, the pulse voltage is increased, and the first period or the second period can be lengthened as the resistance value is large.

미안기(1)는, 상기의 구성에 기초하여, 고주파 전압 및 펄스 전압을 제어하는 전압 제어 처리를 행한다.The facial device 1 performs the voltage control process which controls a high frequency voltage and a pulse voltage based on said structure.

도 9는 전압 제어 처리에서의 미안기(1)의 동작 순서의 일례를 나타낸다. 이 동작 순서는, 미안기(1)의 동작 모드를 클렌징 모드로 하여 동작을 개시시키는 조작이 행해지는 것을 계기로 개시된다. 먼저, 미안기(1)(제1 전원부(81) 또는 제2 전원부(82))는, 고주파 전압 또는 펄스 전압 중 어느 쪽인가의 인가를 개시한다(스텝 S10). 어느 쪽의 전압으로부터 개시되는지는, 미리 어느 쪽인지로 정해져 있어도 되고, 전회 종료 시에 인가되었던 쪽으로 해도 된다.9 : shows an example of the operation procedure of the facial device 1 in a voltage control process. This operation procedure is started on the occasion of operation of making the operation mode of the facial device 1 into a cleansing mode, and starting an operation|movement is performed. First, the facial device 1 (the first power supply unit 81 or the second power supply unit 82) starts application of either a high frequency voltage or a pulse voltage (step S10). Which voltage is started may be determined in advance, or it may be the one applied at the time of the last completion|finish.

다음으로, 미안기(1)(저항 측정부(84))는, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 저항값을 측정한다(스텝 S11). 계속해서, 미안기(1)(전압 제어부(83))는, 측정된 저항값에 기초하여 인가하는 고주파 전압을 결정한다(스텝 S12). 다음으로, 미안기(1)(전압 제어부(83))는, 측정된 저항값에 기초하여 인가하는 펄스 전압을 결정한다(스텝 S13). 계속해서, 미안기(1)(전압 제어부(83))는, 측정된 저항값에 기초하여 제1 기간 및 제2 기간을 결정한다(스텝 S14). 그리고, 스텝 S12∼S14의 동작은 순서를 바꾸어도 되고 병행하여 행해져도 된다.Next, the facial device 1 (resistance measuring part 84) measures the resistance value between the 1st electrode 21 and the 2nd electrode 22 (step S11). Then, the facial device 1 (voltage control part 83) determines the high frequency voltage to apply based on the measured resistance value (step S12). Next, the facial device 1 (voltage control part 83) determines the pulse voltage to apply based on the measured resistance value (step S13). Then, the facial device 1 (voltage control part 83) determines a 1st period and a 2nd period based on the measured resistance value (step S14). In addition, the operation|movement of steps S12 - S14 may change the order and may be performed in parallel.

다음으로, 미안기(1)(전압 제어부(83))는, 측정 간격이 경과했는지의 여부를 판단하고(스텝 S21), 경과했다(YES)고 판단한 경우에는 스텝 S11(저항값의 측정)로 되돌아가 동작을 행한다. 미안기(1)(전압 제어부(83))는, 경과하고 있지 않다(NO)고 판단한 경우에는, 인가 기간(현재 고주파 전압을 인가하고 있는 경우에는 제1 기간, 펄스 전압을 인가하고 있는 경우에는 제2 기간)이 경과했는지의 여부를 판단한다(스텝 S22).Next, the facial device 1 (voltage control unit 83) determines whether or not the measurement interval has elapsed (step S21), and when it is determined that it has elapsed (YES), proceed to step S11 (measurement of resistance value) Go back and do the action. When it is determined that the facial device 1 (voltage control unit 83) has not elapsed (NO), the application period (the first period when a high-frequency voltage is currently being applied, or a pulse voltage is applied when It is determined whether or not the second period) has elapsed (step S22).

미안기(1)(전압 제어부(83))는, 스텝 S22에서 경과하고 있지 않다(NO)고 판단한 경우에는 스텝 S21(측정 간격 경과의 판단)로 되돌아가 동작을 행하고, 경과했다(YES)고 판단한 경우에는, 인가하는 전압을 변경한다(현재 고주파 전압을 인가하고 있는 경우에는 펄스 전압으로 변경하고, 펄스 전압을 인가하고 있는 경우에는 고주파 전압으로 변경함)(스텝 S23). 미안기(1)(전압 제어부(83))는, 스텝 S23 이후에는 스텝 S21(측정 간격 경과의 판단)로 되돌아가 동작을 행한다.When it is judged that the facial device 1 (voltage control unit 83) has not elapsed (NO) in step S22, it returns to step S21 (judgment of the elapse of the measurement interval) and operates, and the elapsed time (YES) When it is determined, the voltage to be applied is changed (if a high frequency voltage is currently being applied, it is changed to a pulse voltage, and if a pulse voltage is being applied, it is changed to a high frequency voltage) (step S23). The facial device 1 (voltage control part 83) returns to step S21 (judgment of progress of a measurement interval) after step S23, and performs an operation|movement.

본 실시예에서는, 상기한 바와 같이 고주파 전압 및 펄스 전압을 제어함으로써, 피부의 개인차, 피부의 상태 및 화장수의 성분 등의 상황의 차이에 기인하는 피부에 흐르는 전류의 크기의 차를 작게 하여, 심층 온열 효과의 차이 및 이온 도출의 효과를 작게 하고 있다. 이와 같이, 본 실시예에 의하면, 다양한 피부의 상태에 대하여 일정한 미용 처리의 효과(심층 온열 효과 및 이온 도출의 효과)를 얻을 수 있다.In this embodiment, by controlling the high-frequency voltage and the pulse voltage as described above, the difference in the magnitude of the current flowing through the skin caused by differences in circumstances such as individual differences in skin, skin condition, and ingredients of lotion is reduced, The difference in thermal effect and the effect of ion derivation are reduced. In this way, according to the present embodiment, it is possible to obtain the effect of a certain cosmetic treatment (the effect of deep warming effect and ion derivation) for various skin conditions.

또한, 본 실시예에서는, 고주파 전압 및 펄스 전압을 교호적으로 인가함으로써, 피부의 내부를 따뜻하게 하면서, 이온 도출에 의한 클렌징을 행하고 있다. 전술한 바와 같이 피부의 내부를 따뜻하게 할수록 전류가 흐르기 쉬워지므로, 본 실시예에서는 심층 온열을 동시에 행함으로써, 펄스 전압만을 인가하는 경우에 비하여 이온 도출의 효과를 높일 수 있다.In addition, in this embodiment, by applying a high-frequency voltage and a pulse voltage alternately, while warming the inside of the skin, cleansing is performed by ion derivation. As described above, the more the inside of the skin is warmed, the easier the current flows. Therefore, in this embodiment, by performing deep heating at the same time, the effect of ion derivation can be increased compared to the case where only the pulse voltage is applied.

또한, 본 실시예에서는, 자성체인 링(60)이 스토퍼(40)에 설치된 자석부(41)에 의해 끌어 당겨짐으로써, 코튼(70)을 고정하고 있다. 헤드부(10)를 사용자의 피부에 대고 누르고 있는 상태에서는, 이 자석부(41)가 발생시키는 자력이 링(60)을 빠져나가 피부까지 도달한다. 그 결과, 혈액 성분 중의 이온에 힘이 가해져 이온의 동작을 활발하게 하고, 혈행을 촉진한다. 미안기(1)에 있어서는, 코튼(70)을 고정시키는 구조(자석부(41) 및 링(60))를 혈행 촉진에도 활용함으로써, 이들을 다른 구조로 하는 경우에 비하여, 장치를 소형화할 수도 있다.In addition, in this embodiment, the cotton 70 is fixed by the magnetic ring 60 being attracted by the magnet part 41 provided in the stopper 40. As shown in FIG. In a state where the head part 10 is pressed against the user's skin, the magnetic force generated by the magnet part 41 exits the ring 60 and reaches the skin. As a result, a force is applied to the ions in the blood component to activate the ions' movement and promote blood circulation. In the face device 1, by utilizing the structure for fixing the cotton 70 (the magnet 41 and the ring 60) also to promote blood circulation, the device can be downsized compared to the case of using these other structures. .

[2] 변형예[2] Modifications

전술한 실시예는 본 발명의 실시의 일례에 지나지 않고 다음과 같이 변형시켜도 된다. 또한, 전술한 실시예 및 각 변형예는 필요에 따라 각각 조합하여 실시해도 된다.The above-described embodiment is merely an example of implementation of the present invention, and may be modified as follows. In addition, you may implement each of the above-mentioned embodiment and each modification in combination as needed.

[2-1] 주파수의 제어[2-1] Frequency control

상기 실시예에서는, 전압 제어부(83)가 고주파 전압의 진폭을 제어하였으나, 고주파 전압의 주파수를 제어해도 된다. 구체적으로는, 전압 제어부(83)는, 측정된 저항값이 클수록 고주파 전압의 주파수를 높게 한다. 전압 제어부(83)는, 도 5에서 설명한 바와 같은 제어 테이블을 이용하여 이 제어를 행해도 되고, 저항값과 고주파 전압의 주파수의 관계식을 이용하여 이 제어를 행해도 된다.In the above embodiment, the voltage control unit 83 controls the amplitude of the high-frequency voltage, however, the frequency of the high-frequency voltage may be controlled. Specifically, the voltage control unit 83 increases the frequency of the high-frequency voltage as the measured resistance value increases. The voltage control part 83 may perform this control using the control table as demonstrated with FIG. 5, and may perform this control using the relational expression of a resistance value and the frequency of a high frequency voltage.

고주파 전압의 주파수를 높게 할수록 피부의 내부 온도도 빨리 상승하는 것이 알려져 있다. 따라서, 고주파 전압의 주파수를 본 변형예와 같이 제어함으로써도, 도 5의 예에서 고주파 전압을 제어한 경우와 마찬가지로, 피부의 개인차, 피부의 상태 및 화장수의 성분 등의 상황의 차이에 기인하는 피부에 흐르는 전류의 크기의 차를 작게 하여, 피부의 내부의 온도차(즉 심층 온열 효과의 차)를 작게 할 수 있고, 피부의 내부를 과도하게 가열하는 것을 방지할 수도 있다.It is known that the higher the frequency of the high-frequency voltage, the faster the internal temperature of the skin rises. Therefore, even by controlling the frequency of the high-frequency voltage as in this modified example, as in the case of controlling the high-frequency voltage in the example of FIG. 5 , the skin caused by differences in conditions such as individual differences in skin, skin condition, and ingredients of lotion By reducing the difference in the magnitude of the current flowing through the skin, the temperature difference inside the skin (that is, the difference in the deep heating effect) can be reduced, and excessive heating of the inside of the skin can be prevented.

[2-2] 전압 제어의 대상[2-2] Target of voltage control

상기 실시예에서는, 전압 제어부(83)가, 고주파 전압의 제어, 펄스 전압의 제어, 제1 기간의 제어 및 제2 기간의 제어를 모두 행하였으나, 본 발명에 있어서 이들 중 적어도 1개 이상의 제어가 행해지면 된다. 또한, 제2 전원부(82)가, 펄스 전압을 대신하여, 전술한 직류 전압 또는, 제1 전압과 극성을 반전시킨 교류 전압을 인가하고, 전압 제어부(83)가 이들의 전압의 제어를 행해도 된다. 또한, 상기 변형예에서 설명한 고주파 전압의 주파수 제어를 조합해도 된다. 적어도 고주파 전압, 고주파 전압의 주파수 또는 제1 기간 중 어느 하나를 제어하면, 심층 온열 효과의 변동을 작게 할 수 있고, 마찬가지로 적어도 펄스 전압, 직류 전압, 제1 전압과 극성을 반전시킨 교류 전압 또는 제2 기간 중 어느 하나를 제어하면, 이온 도출의 효과 변동을 작게 할 수 있다.In the above embodiment, the voltage control unit 83 performs all of the control of the high frequency voltage, the control of the pulse voltage, the control of the first period, and the control of the second period. it should be done In addition, even if the second power supply unit 82 applies the above-described DC voltage or an AC voltage inverted in polarity to the first voltage instead of the pulse voltage, the voltage control unit 83 controls these voltages. do. Moreover, you may combine the frequency control of the high frequency voltage demonstrated in the said modification. By controlling at least one of the high-frequency voltage, the frequency of the high-frequency voltage, or the first period, fluctuations in the deep heating effect can be reduced, and similarly, at least a pulse voltage, a DC voltage, an AC voltage with inverted polarity of the first voltage, or a second voltage By controlling either of the two periods, it is possible to reduce the effect fluctuation of ion derivation.

[2-3] 미용 처리의 대상[2-3] Subjects of cosmetic treatment

상기 실시예에서는, 주로 사용자의 얼굴에 미용 처리를 실시하는 기구인 미안기를 설명하였으나, 본 발명은 이것에 한정되지 않고, 예를 들면 사용자의 팔, 몸통 또는 다리 등의 다른 부분에 미용 처리를 실시하는 미용 처리 장치에 적용해도 된다. In the above embodiment, the facial device, which is a mechanism for performing cosmetic treatment on the user's face, has been mainly described, but the present invention is not limited thereto. You may apply to the cosmetic treatment apparatus to do.

[2-4] 다공질 피복체[2-4] Porous cover

상기 실시예에서는, 면섬유를 시트형으로 성형한 코튼(70)이 다공질 피복체로서 사용되어 기둥형부(30)의 바닥면(31)에 씌워졌으나, 이것에 한정되지 않고, 예를 들면 마 및 견 등의 다른 종류의 섬유를 시트형으로 형성한 것이 다공질 피복체로서 사용되어도 된다. 요컨대, 기둥형부(30)의 바닥면(31)에 씌울 수 있는 부드러움을 가지고, 화장수를 침투시키고, 피부에 대고 눌리면, 오염물 등을 흡착하는 성질을 가지는 것이면, 어떠한 소재의 다공질 피복체가 사용되어도 된다.In the above embodiment, cotton 70 obtained by molding cotton fibers into a sheet is used as a porous covering and covered on the bottom surface 31 of the columnar portion 30, but the present invention is not limited thereto. For example, hemp and silk, etc. What is formed in a sheet form of other types of fibers of the porous coating material may be used. In other words, as long as it has softness that can be covered on the bottom surface 31 of the columnar part 30, penetrates the lotion, and has a property of adsorbing contaminants when pressed against the skin, a porous covering of any material may be used. .

[2-5] 이온 도입[2-5] Iontophoresis

상기 실시예에서는, 제2 전원부(82)가 이온 도출을 하도록 펄스 전압을 인가하였으나, 전압의 플러스 마이너스를 반대로 하여, 이온 도입을 하도록 펄스 전압을 인가해도 된다. 이 경우, 음이온에 대전한 화장수가 피부에 흡착하여 침투하기 쉬워진다. 또한, 심층 온열에 의해 피부가 내부까지 따뜻해지고 있어서 세포가 활성화되어 있으므로, 화장수가 더욱 침투하기 쉬워진다.In the above embodiment, the pulse voltage is applied so that the second power supply unit 82 conducts ion derivation. However, the pulse voltage may be applied to conduct ion introduction by reversing the plus and minus of the voltage. In this case, the lotion charged with anions is easily absorbed by the skin. In addition, since the skin is warmed to the inside by deep heat and the cells are activated, the lotion is more easily permeated.

[2-6] 동작 모드[2-6] Operation mode

상기 실시예에서는, 미안기(1)는 클렌징 모드로 동작하였으나, 이것에 한정되지 않고, 예를 들면, 심층 온열을 행하면서 전술한 이온 도입을 하는 모드로 동작해도 되고, 심층 온열만을 행하는 모드, 오염물 제거만을 행하는 모드, 이온 도입만을 행하는 모드로 동작해도 된다.In the above embodiment, the facial device 1 was operated in the cleansing mode, but it is not limited to this, for example, it may operate in the mode for performing the above-described iontophoresis while performing deep heating, or a mode in which only deep heating is performed; The operation may be performed in a mode in which only removal of contaminants is performed or in a mode in which only iontophoresis is performed.

[2-7] 피부로의 직접 접촉[2-7] Direct skin contact

상기 실시예에서는, 기둥형부(30)의 바닥면(31)에 코튼(70)이 씌워진 상태에서 미안기(1)가 사용되었으나, 코튼(70)이 씌워져 있지 않은 상태에서 사용되어도 된다. 그 경우, 미안기(1)를 예를 들면 전술한 심층 온열만을 행하는 모드로 동작시킴으로써, 제1 전극 및 제2 전극이 직접 사용자의 피부에 접촉한 상태에서 저항값이 측정되고, 측정된 저항값에 따른 고주파 전압이 인가되므로, 실시예와 마찬가지로, 피부의 상태 등의 요인이 변화되었을 때의 심층 온열 효과의 변동을 작게 할 수 있다.In the above embodiment, although the facial device 1 is used in a state in which the cotton 70 is covered on the bottom surface 31 of the columnar part 30, it may be used in a state in which the cotton 70 is not covered. In that case, by operating the facial device 1 in, for example, a mode for performing only the deep heating described above, the resistance value is measured while the first electrode and the second electrode are in direct contact with the user's skin, and the measured resistance value Since a high-frequency voltage according to

[2-8] 제1 전극[2-8] first electrode

상기 실시예에서는, 제1 전극은 중앙이 개구되는 원환 형상이었으나, 중앙이 개구되어 있지 않은 원판 형상이어도 된다. 그 경우라도, 제1 전극 및 제2 전극 사이의 거리는 원주상의 어디라도 일정하게 되므로, 사용자 피부의 발열 면적을 넓게 또한 통전에 의한 자극을 균등하게 할 수 있다.In the above embodiment, the first electrode has an annular shape with an open center, but may have a disk shape without an open center. Even in that case, since the distance between the first electrode and the second electrode becomes constant anywhere on the circumference, the heat-generating area of the user's skin can be widened and the stimulation by electricity can be equalized.

[2-9] 전극부[2-9] electrode part

상기 실시예에서는, 전극부가 모두 원환 형상의 제1 전극 및 제2 전극을 구비하고 있었지만, 이것에 한정되지 않는다. 전극부는, 예를 들면, 다각형이면서 또한 환형(環形)의 제1 전극 및 제2 전극을 구비하고 있어도 되고, 평행하게 배치된 봉형의 제1 전극 및 제2 전극을 구비하고 있어도 된다. 어느 쪽의 형상으로 하는 경우도, 제1 전극 및 제2 전극의 사이의 거리가 최단 거리가 되는 부분이 많을수록 광범위하고 또한 균등하게 고주파 전류를 흐르게 하는 것이 가능해지므로 바람직하다.In the above embodiment, both the electrode portions were provided with the first electrode and the second electrode having an annular shape, but the present invention is not limited thereto. The electrode portion may include, for example, polygonal and annular first and second electrodes, or rod-shaped first and second electrodes arranged in parallel. In either case, since it becomes possible to make a high frequency current flow more widely and uniformly, so that there are many parts used as the shortest distance between a 1st electrode and a 2nd electrode, it is also preferable.

[2-10] 저항값[2-10] resistance value

상기 실시예에서는, 저항 측정부(84)가 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 저항값으로서 전기저항(레지스턴스)을 측정하였으나, 이것에 한정되지 않고, 예를 들면, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 리액턴스를 저항값으로서 측정해도 된다. 요컨대, 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 전류의 흐르기 어려움을 나타내는 값이 저항값으로서 측정되면 된다. 그리고, 컨덕턴스와 같은 전류의 흐르기 쉬움을 나타내는 값도, 역수로 하면 전류의 흐르기 어려움을 나타내는 것으로 되므로, 저항값으로서 다루어도 된다.In the above embodiment, the resistance measuring unit 84 measures the electrical resistance (resistance) as the resistance value between the first electrode 21 and the second electrode 22, but it is not limited thereto, and for example, You may measure the reactance between the 1st electrode 21 and the 2nd electrode 22 as a resistance value. In other words, a value indicating the difficulty in flowing current between the first electrode 21 and the second electrode 22 may be measured as the resistance value. Incidentally, a value indicating the easiness of the flow of current, such as conductance, may also be treated as a resistance value, since the reciprocal number indicates the difficulty of flowing the current.

[2-11] 저항값의 측정 방법[2-11] How to measure resistance value

상기 실시예에서는, 저항 측정부(84)가 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이에 고주파 전압이 인가되었을 때 흐르는 전류에 의해 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 저항값을 측정하였으나, 저항값의 측정 방법은 이것에 한정되지 않는다. 저항 측정부(84)는, 예를 들면 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이에 저항값을 측정하기 위한 측정용 전압(예를 들면, 직류 전압)이 인가되었을 때 흐르는 전류에 의해 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 저항값을 측정해도 된다.In the above embodiment, the resistance measuring unit 84 causes the first electrode 21 and the second electrode 22 to flow by the current flowing when a high-frequency voltage is applied between the first electrode 21 and the second electrode 22 . Although the resistance value was measured, the measuring method of the resistance value is not limited to this. The resistance measuring unit 84 measures the current flowing when, for example, a measurement voltage (eg, DC voltage) for measuring a resistance value is applied between the first electrode 21 and the second electrode 22 . You may measure the resistance value between the 1st electrode 21 and the 2nd electrode 22 by this.

이 경우, 예를 들면, 제1 전원부(81)가 심층 가열을 위한 고주파 전압을 인가하기 전에 먼저 측정용 전압을 인가하여 저항 측정부(84)가 저항값을 측정하고, 측정된 저항값에 따른 높이의 고주파 전압 및 펄스 전압이 인가되도록 전압 제어부(83)가 제어를 행함으로써, 이 제어가 행해지지 않은 경우에 비하여, 피부에 흐르는 전류의 크기의 차를 미용 처리의 개시 시부터 작게 할 수 있다. 또한, 저항 측정부(84)는, 기둥형부(30)의 바닥면(31)에 별도의 쌍으로 되는 전극을 설치하여 이들 사이의 저항값을 측정해도 되고, 바닥면(31)에 전기저항을 나타내는 값을 출력하는 센서를 설치하여 그 출력값을 이용하여 저항값을 측정해도 된다.In this case, for example, before the first power supply unit 81 applies a high-frequency voltage for deep heating, the resistance measuring unit 84 measures the resistance value by first applying a measuring voltage, and according to the measured resistance value By controlling the voltage control unit 83 so that the high frequency voltage and pulse voltage are applied, the difference in the magnitude of the current flowing through the skin can be reduced from the start of the cosmetic treatment compared to the case where this control is not performed. . In addition, the resistance measuring unit 84 may measure the resistance value between them by installing a separate pair of electrodes on the bottom surface 31 of the columnar part 30 , and measure the electrical resistance on the bottom surface 31 . A sensor that outputs the indicated value may be installed and the resistance value may be measured using the output value.

요컨대, 사용자의 피부 중 헤드부(10)가 대고 눌러지는 부분에서의 전류의 흐르기 쉬움의 지표가 되는 것이라면, 어떠한 방법으로 저항값이 측정되어도 된다. 그리고, 실시예와 같이 저항 측정부(84)이 가 제1 전극(21) 및 제2 전극(22) 사이의 저항값을 측정하는 경우에는, 다른 전극 또는 센서를 설치할 필요가 없으므로, 이들을 설치하는 경우에 비하여 장치를 소형화할 수 있다.In other words, the resistance value may be measured by any method as long as it is an index of the easiness of the flow of current in the portion where the head 10 is pressed against the user's skin. And, as in the embodiment, when the resistance measuring unit 84 measures the resistance value between the false first electrode 21 and the second electrode 22, there is no need to install another electrode or a sensor. Compared to the case of the present invention, the device can be miniaturized.

1 : 미안기
10 : 헤드부
20 : 전극부
21 : 제1 전극
22 : 제2 전극
30 : 기둥형부
31 : 바닥면
40 : 스토퍼
41 : 자석부
42 : 절결부
50 : 본체
55 : 제3 전극
60 : 링
70 : 코튼
1: face device
10: head
20: electrode part
21: first electrode
22: second electrode
30: columnar part
31: bottom surface
40: stopper
41: magnet part
42: cutout
50: body
55: third electrode
60: ring
70: Cotton

Claims (8)

원형의 제1 전극과, 상기 제1 전극의 외측에 동심원상으로 배치되는 원환(圓環) 형상의 제2 전극을 구비하는 전극부;
상기 제1 전극 및 제2 전극 사이에 고주파 전압인 제1 전압을 인가(印加)하는 제1 전원부;
상기 제1 전극 및 제2 전극 사이의 저항값을 측정하는 측정부; 및
측정된 상기 저항값이 클수록 상기 제1 전압의 주파수가 높아지도록, 상기 제1 전압을 제어하는 제어부;
를 포함하는 미용 처리 장치.
an electrode unit including a circular first electrode and an annular second electrode disposed concentrically outside the first electrode;
a first power supply unit for applying a first voltage that is a high frequency voltage between the first electrode and the second electrode;
a measuring unit for measuring a resistance value between the first electrode and the second electrode; and
a control unit controlling the first voltage so that the frequency of the first voltage increases as the measured resistance value increases;
A cosmetic treatment device comprising a.
제1항에 있어서,
상기 제어부는, 측정된 상기 저항값이 클수록 상기 제1 전압을 높게 하는, 미용 처리 장치.
The method of claim 1,
The control unit, the higher the measured resistance value, the higher the first voltage, the beauty treatment device.
원형의 제1 전극과, 상기 제1 전극의 외측에 동심원상으로 배치되는 원환 형상의 제2 전극을 구비하는 전극부;
상기 제1 전극 및 제2 전극 사이에 고주파 전압인 제1 전압을 인가하는 제1 전원부;
상기 제1 전극 및 제2 전극 사이의 저항값을 측정하는 측정부; 및
측정된 상기 저항값에 따라 상기 제1 전압을 제어하는 제어부;를 포함하고,
사용자가 쥐는 그립부;
상기 그립부에 설치된 제3 전극; 및
상기 전극부 및 상기 제3 전극 사이에, 직류 전압, 펄스 전압, 또는 상기 제1 전압의 극성을 반전시킨 교류 전압을, 제2 전압으로서 인가하는 제2 전원부;를 더 포함하고,
상기 제어부는, 측정된 상기 저항값에 따라 상기 제1 전압 및 상기 제2 전압을 제어하고, 또한 측정된 상기 저항값이 클수록 상기 제1 전압의 주파수를 높게 하는,
미용 처리 장치.
an electrode unit including a circular first electrode and an annular second electrode disposed concentrically outside the first electrode;
a first power supply unit for applying a first voltage that is a high frequency voltage between the first electrode and the second electrode;
a measuring unit for measuring a resistance value between the first electrode and the second electrode; and
Including; a control unit for controlling the first voltage according to the measured resistance value,
a grip part held by the user;
a third electrode installed on the grip part; and
A second power supply unit for applying a DC voltage, a pulse voltage, or an AC voltage obtained by inverting the polarity of the first voltage as a second voltage between the electrode unit and the third electrode;
The control unit controls the first voltage and the second voltage according to the measured resistance value, and increases the frequency of the first voltage as the measured resistance value increases,
beauty treatment device.
제3항에 있어서,
상기 제어부는, 측정된 상기 저항값이 클수록 상기 제2 전압을 높게 하는, 미용 처리 장치.
4. The method of claim 3,
The control unit, the higher the measured resistance value, the higher the second voltage, beauty treatment device.
제3항 또는 제4항에 있어서,
상기 제어부는, 상기 제1 전압을 인가하는 제1 기간 및 상기 제2 전압을 인가하는 제2 기간이 교호적으로 오도록 제어하고, 측정된 상기 저항값이 클수록 상기 제1 기간 및 상기 제2 기간 중 적어도 한쪽을 길게 하는, 미용 처리 장치.
5. The method of claim 3 or 4,
The control unit controls so that a first period for applying the first voltage and a second period for applying the second voltage alternately come, and as the measured resistance value increases, during the first period and the second period The beauty treatment device which lengthens at least one side.
원형의 제1 전극과, 상기 제1 전극의 외측에 동심원상으로 배치되는 원환 형상의 제2 전극을 구비하는 전극부;
상기 제1 전극 및 제2 전극 사이에 고주파 전압인 제1 전압을 인가하는 제1 전원부;
상기 제1 전극 및 제2 전극 사이의 저항값을 측정하는 측정부; 및
측정된 상기 저항값에 따라 상기 제1 전압을 제어하는 제어부;
를 포함하고,
상기 전극부가 장착된 장착면을 가지는 원기둥의 기둥형부와, 상기 기둥형부의 외주보다 내경(內徑)이 큰 원환 형상의 자성체(磁性體)가 상기 기둥형부에 끼워넣어진 때에, 상기 자성체를 정지시키는 스토퍼로서, 상기 자성체를 끌어당기는 자석이 설치된 스토퍼;를 더 포함하고,
상기 장착면을 덮는 다공질 피복체를 상기 자석에 끌어당겨진 상기 자성체와 상기 기둥형부가 협지하여 고정하고,
상기 제어부는, 측정된 상기 저항값이 클수록 상기 제1 전압의 주파수를 높게 하는,
미용 처리 장치.
an electrode unit including a circular first electrode and an annular second electrode disposed concentrically outside the first electrode;
a first power supply unit for applying a first voltage that is a high frequency voltage between the first electrode and the second electrode;
a measuring unit for measuring a resistance value between the first electrode and the second electrode; and
a control unit controlling the first voltage according to the measured resistance value;
including,
When a cylindrical columnar portion having a mounting surface to which the electrode portion is mounted, and an annular magnetic body having an inner diameter larger than the outer periphery of the columnar portion are inserted into the columnar portion, the magnetic body is stopped It further comprises;
The magnetic body attracted to the magnet and the columnar part are clamped to fix the porous covering body covering the mounting surface,
The control unit increases the frequency of the first voltage as the measured resistance value increases,
beauty treatment device.
제6항에 있어서,
상기 스토퍼는, 절결부(切缺部)를 가지는, 미용 처리 장치.
7. The method of claim 6,
The said stopper has a notch part, The cosmetic treatment apparatus which has it.
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