JP2023029548A - Cosmetic treatment device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce a change in effect of cosmetic treatment when a situation is changed.
SOLUTION: A first electrode 21 is an electrode of a circular ring-shape with an opened center, and a second electrode 22 is an electrode of a circular ring-shape with an opened center, and is concentric to the first electrode 21 and arranged outside the outer periphery of the first electrode 21. A first power supply part 81 applies a high-frequency voltage between the first electrode 21 and the second electrode 22. A third electrode 55 is disposed in a part which a user of a facial appliance 1 grips. A second power supply part 82 applies a DC voltage between an electrode part 20 and the third electrode 55. A resistance measurement part 84 measures a value of resistance between the first electrode 21 and the second electrode 22. A voltage control part 83 controls a high-frequency voltage and a DC voltage in accordance with the measured value of resistance.
SELECTED DRAWING: Figure 4
COPYRIGHT: (C)2023,JPO&INPIT

Description

本発明は、美容処理装置に関する。 The present invention relates to a cosmetic treatment device.

特許文献1には、ユーザの顔や手足などに電極を接触させて電極間の肌(皮膚)に高周波電流を流すことで肌を奥から温める美容処理を施す技術が記載されている。 Japanese Patent Laid-Open No. 2004-100000 describes a technique of performing cosmetic treatment in which electrodes are brought into contact with a user's face, limbs, or the like, and a high-frequency current is applied to the skin (skin) between the electrodes to warm the skin from the inside.

特開2016-187732号JP 2016-187732

肌に電流を流すことで得られる美容処理の効果は、個人差や体調により変化するし、化粧水を用いる場合は化粧水の種類によっても変化する。特許文献1の技術では、それらの状況の変化に対応することは考慮されていない。
そこで、本発明は、状況が変化したときの美容処理の効果の変動を小さくすることを目的とする。
The effects of cosmetic treatment obtained by applying an electric current to the skin vary depending on individual differences and physical conditions, and when lotions are used, they also vary depending on the type of lotion. The technique of Patent Literature 1 does not consider coping with these situation changes.
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to reduce variations in the effect of cosmetic treatment when conditions change.

本発明は、第1電極と第2電極とを備える電極部と、前記第1及び第2電極の間に交流電圧である第1電圧を印加する第1電源部と、前記第1及び第2電極の間の抵抗値を測定する測定部と、 測定された前記抵抗値に応じて前記第1電圧を制御する制御部とを備える美容処理装置を提供する。 The present invention comprises an electrode section including a first electrode and a second electrode, a first power supply section for applying a first voltage, which is an AC voltage, between the first and second electrodes, and the first and second electrodes. Provided is a beauty treatment device comprising: a measuring section that measures a resistance value between electrodes; and a control section that controls the first voltage according to the measured resistance value.

また、前記制御部は、測定された前記抵抗値が大きいほど前記第1電圧を高くしてもよい。 The controller may increase the first voltage as the measured resistance value increases.

また、前記制御部は、測定された前記抵抗値が大きいほど前記第1電圧の周波数を高くしてもよい。 The controller may increase the frequency of the first voltage as the measured resistance value increases.

また、ユーザが握るグリップ部と、前記グリップ部に設けられた第3電極と、前記電極部及び前記第3電極の間に直流電圧、パルス電圧又は極性を反転させた交流電圧を第2電圧として印加する第2電源部とを備え、前記制御部は、測定された前記抵抗値に応じて前記第1電圧及び前記第2電圧を制御してもよい。 In addition, a second voltage is a DC voltage, a pulse voltage, or an AC voltage whose polarity is reversed between a grip portion held by a user, a third electrode provided on the grip portion, and the electrode portion and the third electrode. and a second power supply section for applying voltage, wherein the control section may control the first voltage and the second voltage according to the measured resistance value.

また、前記制御部は、測定された前記抵抗値が大きいほど前記第2電圧を高くしてもよい。 The controller may increase the second voltage as the measured resistance value increases.

また、前記制御部は、前記第1電圧を印加する第1期間及び前記第2電圧を印加する第2期間が交互に来るように制御し、測定された前記抵抗値が大きいほど前記第1期間及び前記第2期間の少なくとも一方を長くしてもよい。 Further, the control unit controls such that a first period for applying the first voltage and a second period for applying the second voltage alternately occur, and the greater the measured resistance value, the more the first period. and at least one of the second period may be lengthened.

また、前記電極部が取り付けられた取付け面を有し且つ断面が円形の柱の形をした柱状部と、前記柱状部の外周より内径が大きい円環形状の磁性体が前記柱状部に嵌め込まれた場合に当該磁性体を停止させるストッパであって、当該磁性体を吸引する磁石が設けられたストッパとを備え、前記取付け面を覆う多孔質被覆体を前記磁石に吸引された前記磁性体と前記柱状部が挟み込んで固定してもよい。 Further, a columnar portion having a columnar shape with a circular cross section and having a mounting surface on which the electrode portion is attached, and an annular magnetic body having an inner diameter larger than the outer circumference of the columnar portion are fitted into the columnar portion. a stopper provided with a magnet for attracting the magnetic body, the stopper for stopping the magnetic body when the magnetic body is attracted by the magnet; It may be fixed by sandwiching the columnar portion.

また、前記ストッパは、前記柱状部に嵌め込まれた状態の前記磁性体の円形の外周よりも当該円形の径方向の寸法が小さい部分を有していてもよい。 Further, the stopper may have a portion whose radial dimension is smaller than the outer periphery of the circular shape of the magnetic body fitted in the columnar portion.

本発明によれば、状況が変化したときの美容処理の効果の変動を小さくすることができる。 According to the present invention, it is possible to reduce the variation in the effect of cosmetic treatment when the situation changes.

実施例の美顔器の外観を表す図A diagram showing the appearance of the facial device of the embodiment 美顔器の正面、側面、背面を表す図A diagram showing the front, side, and back of the facial massager ストッパ等を拡大して表す図Enlarged view of the stopper, etc. 美顔器の機能構成を表す図A diagram showing the functional configuration of a facial device 第1制御テーブルの一例を表す図A diagram showing an example of the first control table 第2制御テーブルの一例を表す図A diagram showing an example of the second control table 第3制御テーブルの一例を表す図A diagram showing an example of the third control table 第4制御テーブルの一例を表す図A diagram showing an example of the fourth control table 電圧制御処理における美顔器1の動作手順の一例を表す図A diagram showing an example of an operation procedure of the facial device 1 in the voltage control process.

[1]実施例
図1は実施例の美顔器1の外観を表す。図1(a)では、美顔器1の外観だけが表され、図1(b)では、美顔器1にコットン70を被せた状態が表されている。図2は美顔器1の正面、側面、背面を表す。図2(a)では正面、図2(b)では側面、図2(c)では背面が表されている。
[1] Embodiment FIG. 1 shows the appearance of a facial device 1 of an embodiment. FIG. 1(a) shows only the appearance of the facial equipment 1, and FIG. 1(b) shows the facial equipment 1 covered with cotton 70. FIG. FIG. 2 shows the front, side and back of the facial device 1. FIG. 2(a) shows the front surface, FIG. 2(b) shows the side surface, and FIG. 2(c) shows the rear surface.

美顔器1は、主としてユーザの顔に美容処理を施す器具であり、本発明の「美容処理装置」の一例である。美顔器1は、ヘッド部10と、本体50とを備える。ヘッド部10は、ユーザの肌に押し付けられる部分である。本体50は、いずれも細長い面である第1面51、2つの第2面52及び第3面53を有する棒状の部分であり、ユーザによって握られる部分である。本体50は本発明の「グリップ部」の一例である。ヘッド部10は、第1面51のうち、本体50の長手方向A1の一方の端に設けられている。 The facial beauty device 1 is an instrument that mainly performs beauty treatment on a user's face, and is an example of the "beauty treatment apparatus" of the present invention. The facial equipment 1 includes a head portion 10 and a main body 50. - 特許庁The head part 10 is a part that is pressed against the user's skin. The main body 50 is a rod-shaped portion having a first surface 51, two second surfaces 52 and a third surface 53, all of which are elongated surfaces, and is a portion to be gripped by the user. The main body 50 is an example of the "grip portion" of the present invention. The head portion 10 is provided at one end of the main body 50 in the longitudinal direction A1 of the first surface 51 .

美顔器1においては、第1面51が向いている方、すなわちヘッド部10が設けられている方を正面とし、第2面52が向いている方を側面、第3面53が向いている方を背面とする。第1面51には、ユーザによって操作される操作ボタン54が設けられている。
操作ボタン54は、液晶パネルに表示されたタッチ式のスイッチであってもよいし機械的なスイッチでもよい。操作ボタン54は、美顔器1の動作モードを選択する操作と、選択された動作モードでの動作を開始させる操作とを受け付ける。
In the facial equipment 1, the side to which the first surface 51 faces, that is, the side to which the head part 10 is provided is the front side, the side surface is the side to which the second surface 52 is facing, and the third surface 53 is facing. facing the back. An operation button 54 operated by the user is provided on the first surface 51 .
The operation button 54 may be a touch switch displayed on a liquid crystal panel or a mechanical switch. The operation button 54 accepts an operation to select an operation mode of the facial equipment 1 and an operation to start the operation in the selected operation mode.

本実施例では、肌の深層を温める深層温熱を行いながら肌の汚れを除去するクレンジングモードでの動作に関する構成について説明する。ヘッド部10は、電極部20と、柱状部30と、ストッパ40とを備える。前述した深層温熱及び汚れ除去は、いずれも肌に電流を流すことで行われる。電極部20は、深層温熱及び汚れ除去において肌に電流を流すための電圧が印加される電極を備える部分である。以下では、深層温熱のための電圧を「第1電圧」といい、汚れ除去のための電圧を「第2電圧」という。電極部20は、第1電極21と、第2電極22とを備える。 In this embodiment, a configuration relating to an operation in a cleansing mode that removes dirt from the skin while applying deep heat to warm the deep layers of the skin will be described. The head section 10 includes an electrode section 20 , a columnar section 30 and a stopper 40 . Both deep heat and stain removal described above are performed by applying an electric current to the skin. The electrode part 20 is a part provided with electrodes to which a voltage is applied to apply a current to the skin in deep-layer heating and dirt removal. Hereinafter, the voltage for deep-layer heating is referred to as "first voltage", and the voltage for stain removal is referred to as "second voltage". The electrode section 20 includes a first electrode 21 and a second electrode 22 .

第1電極21は、外周が円形の電極であり、本実施例では、中央が開口する円環形状の電極である。第2電極22は、中央が開口する円環形状の電極であり、第1電極21と同心で且つ第1電極21の外周の外側に配置される。これらの形及び配置により、第1電極21及び第2電極22の間の距離は円周上のどこであっても一定になっている。第1電極21及び第2電極22の間には、高周波電圧(高周波を示す電圧。RF(Radio Frequency)電圧ともいう)が前述した第1電圧として印加される。 The first electrode 21 is an electrode with a circular outer circumference, and in this embodiment, is an annular electrode with an opening at the center. The second electrode 22 is an annular electrode with an opening at the center, and is concentric with the first electrode 21 and arranged outside the outer circumference of the first electrode 21 . Due to their shape and arrangement, the distance between the first electrode 21 and the second electrode 22 is constant anywhere on the circumference. Between the first electrode 21 and the second electrode 22, a high-frequency voltage (a voltage indicating a high frequency; also referred to as an RF (Radio Frequency) voltage) is applied as the above-described first voltage.

柱状部30は、断面が円形の柱状の部分であり、本実施例では円柱の形をしている。柱状部30は、底面31と、側面32とを有し、底面31に電極部20が取り付けられている。底面31は本発明の「取付け面」の一例である。柱状部30は、配線等を配置する内部空間を形成する筐体を有し、その筐体は、プラスチック、非金属又はセラミック等の電気絶縁材料を用いて形成されている。これにより、電極部20に電圧が印加されても、柱状部30の筐体には電流が流れずユーザの肌に電流が流れるようになっている。 The columnar portion 30 is a columnar portion having a circular cross section, and is in the shape of a cylinder in this embodiment. The columnar portion 30 has a bottom surface 31 and side surfaces 32 , and the electrode portion 20 is attached to the bottom surface 31 . The bottom surface 31 is an example of the "mounting surface" of the present invention. The columnar portion 30 has a housing that forms an internal space for arranging wiring and the like, and the housing is formed using an electrically insulating material such as plastic, non-metal, or ceramic. As a result, even if a voltage is applied to the electrode section 20, the current does not flow through the housing of the columnar section 30, but the user's skin.

柱状部30には、リング60が嵌め込まれる。リング60は、柱状部の外周より内径が大きい円環形状の磁性体である。リング60は、例えば鉄、コバルト、ニッケル、それらの合金又はフェライト等の強磁性を示す素材で形成されている。ストッパ40は、柱状部30のうちの底面31の反対側に接続されており、リング60が柱状部30に嵌め込まれた場合にそのリング60を停止させる部分である。 A ring 60 is fitted in the columnar portion 30 . The ring 60 is an annular magnetic body with an inner diameter larger than the outer circumference of the columnar portion. The ring 60 is made of a ferromagnetic material such as iron, cobalt, nickel, their alloys, or ferrite. The stopper 40 is connected to the opposite side of the bottom surface 31 of the columnar portion 30 and is a portion that stops the ring 60 when the ring 60 is fitted into the columnar portion 30 .

ストッパ40は、磁石部41と、切欠き部42とを有する。磁石部41は、本実施例ではそれぞれがストッパ40の中に埋め込まれた4つの磁石を有する。柱状部30の底面31には、図1(b)に表すように綿繊維をシート状に成形したコットン70が被せられる。コットン70は本発明の「多孔質被覆体」の一例である。このように底面31を覆うコットン70を磁石部41に吸引されたリング60と柱状部30(詳細にはその側面32)が挟み込んで固定している。 The stopper 40 has a magnet portion 41 and a notch portion 42 . The magnet part 41 has four magnets each embedded in the stopper 40 in this embodiment. The bottom surface 31 of the columnar portion 30 is covered with cotton 70 formed into a sheet of cotton fibers as shown in FIG. 1(b). Cotton 70 is an example of the "porous covering" of the present invention. In this way, the cotton 70 covering the bottom surface 31 is sandwiched and fixed between the ring 60 attracted to the magnet portion 41 and the columnar portion 30 (specifically, the side surface 32 thereof).

ストッパ40は、円環形状をしているが、その外周側の一部を切り取って切欠き部42が形成されている。
図3はストッパ40等を拡大して表す。図3では、見分けやすいように第1電極21、第2電極22及びリング60をハッチングして示している。第1電極21、第2電極22、柱状部30及びストッパ40(の円形の外周部分)は、いずれも中心点P1を中心として同心になるように配置されている。
The stopper 40 has an annular shape, and a notch portion 42 is formed by cutting out a portion of the outer periphery.
FIG. 3 is an enlarged view of the stopper 40 and the like. In FIG. 3, the first electrode 21, the second electrode 22 and the ring 60 are hatched for easy identification. The first electrode 21, the second electrode 22, the columnar portion 30, and the stopper 40 (the circular peripheral portion thereof) are all arranged concentrically around the center point P1.

また、柱状部30に嵌め込まれたリング60も、これらとほぼ同心の状態になる。この中心点P1から外周に向かう方向を径方向A2とすると、切欠き部42は、ストッパ40のうち、柱状部30に嵌め込まれた状態のリング60の円形の外周よりも径方向の寸法が小さい部分となっている。つまり、リング60の外周の径方向A2の寸法B1>ストッパ40の切欠き部42における径方向A2の寸法B2、となっている。 Also, the ring 60 fitted in the columnar portion 30 is substantially concentric therewith. Assuming that the direction from the center point P1 toward the outer periphery is defined as a radial direction A2, the cutout portion 42 has a smaller radial dimension than the circular outer periphery of the ring 60 of the stopper 40 that is fitted into the columnar portion 30. part. That is, the dimension B1 in the radial direction A2 of the outer periphery of the ring 60>the dimension B2 in the radial direction A2 of the cutout portion 42 of the stopper 40 is satisfied.

切欠き部42を設けたことで、コットン70を固定した状態のリング60を裏側から押すことができるので、切欠き部42を設けない場合に比べて、リング60が外しやすくなっている。なお、柱状部30、ストッパ40及びリング60は、こうしてコットン70を固定することができる形状になっていればよい。例えば柱状部は底面31に近いほど断面が小さくなる円錐台の形をしていてもよい。また、ストッパは多角形の板状の形をしていてもよいし、リング60の外周よりも半径が小さく切欠きのない円板の形をしていてもよい(それでもリング60を停止させることができてリング60を裏側から押すことができるから)。 By providing the notch 42, the ring 60 to which the cotton 70 is fixed can be pushed from the back side. The columnar portion 30, the stopper 40, and the ring 60 only need to have a shape capable of fixing the cotton 70 in this way. For example, the columnar portion may have a truncated cone shape in which the cross section becomes smaller as it approaches the bottom surface 31 . Also, the stopper may be in the shape of a polygonal plate, or may be in the shape of a circular plate with a radius smaller than the outer circumference of the ring 60 and without a notch. is formed and the ring 60 can be pushed from the back side).

固定されたコットン70のうち柱状部30の底面31を覆っている部分はユーザの肌に接触する接触部71となっている。接触部71は、クレンジングモードで動作する美顔器1のヘッド部10をユーザの肌に押し当てたときに、その肌の汚れが付着する部分である。クレンジングモードでは、接触部71にクレンジング用の化粧水を染み込ませて汚れを落ちやすくする。 A portion of the fixed cotton 70 covering the bottom surface 31 of the columnar portion 30 serves as a contact portion 71 that contacts the user's skin. The contact portion 71 is a portion to which dirt adheres to the user's skin when the head portion 10 of the facial device 1 operating in the cleansing mode is pressed against the user's skin. In the cleansing mode, the contact portion 71 is impregnated with lotion for cleansing to make it easier to remove dirt.

本体50の第3面53には、第3電極55が設けられている。第3電極55は、第3面53の長手方向A1の端から端まで延伸する長円字型の電極である。第3電極55は、このように広い範囲に設けられていることで、本体50を握ったユーザの手が必ず接触するようになっている。第3面53と電極部20との間には前述した第2電圧(汚れ除去のための電圧)が印加される。 A third electrode 55 is provided on the third surface 53 of the main body 50 . The third electrode 55 is an elliptical electrode extending from end to end in the longitudinal direction A1 of the third surface 53 . Since the third electrode 55 is provided in such a wide range, the user's hand holding the main body 50 always comes into contact with the third electrode 55 . The aforementioned second voltage (voltage for dirt removal) is applied between the third surface 53 and the electrode portion 20 .

第2電圧としては、直流電圧又はパルス電圧が用いられる。直流電圧とは、大きさ及び方向が一定であり、印加されると直流電流が流れる電圧のことである。なお、大きさが一定ではなく多少変動しても方向が一定であれば直流電圧とみなしてもよい。また、パルス電圧とは、直流電圧を印加する期間と印加しない期間とを交互に繰り返した場合の電圧をいう。以下では、パルス電圧が第2電圧として用いられる場合を説明するが、パルス電圧の代わりに直流電圧が用いられてもよい。 A DC voltage or a pulse voltage is used as the second voltage. A DC voltage is a voltage that is constant in magnitude and direction and that, when applied, causes a DC current to flow. If the direction is constant even if the magnitude is not constant but slightly fluctuates, it may be regarded as a DC voltage. Further, the pulse voltage refers to a voltage obtained by alternately repeating a period in which a DC voltage is applied and a period in which the DC voltage is not applied. A case where a pulse voltage is used as the second voltage will be described below, but a DC voltage may be used instead of the pulse voltage.

図4は美顔器1の電子回路の構成を表す。美顔器1は、第1電極21及び第2電極22を有する電極部20と第3電極55とに加え、第1電源部81と、第2電源部82と、電圧制御部83と、抵抗測定部84とを有する制御回路基板80を備える。制御回路基板80は、電圧を制御する回路が設けられた基板であり、電子素子(例えば、コンデンサ、コイル、ICチップ、メモリなど)によって構成されている。 FIG. 4 shows the configuration of the electronic circuit of the facial device 1. As shown in FIG. In addition to the electrode section 20 having the first electrode 21 and the second electrode 22 and the third electrode 55, the facial equipment 1 includes a first power supply section 81, a second power supply section 82, a voltage control section 83, and a resistance measurement unit. a control circuit board 80 having a portion 84; The control circuit board 80 is a board on which a circuit for controlling voltage is provided, and is composed of electronic elements (for example, capacitors, coils, IC chips, memories, etc.).

第1電源部81は、第1電極21及び第2電極22の間に高周波電圧を第1電圧として印加する。第1電源部81は、高周波電圧を生成する発振回路及び発振された電圧を昇圧する昇圧回路等を有し、例えば1[MHz]~4[MHz]程度の高周波電圧を印加する。第1電源部81により高周波電圧が印加された状態のヘッド部10をユーザの肌に押し当てると、コットン70に染み込んだ化粧水を介して肌に高周波電流が流れる。 The first power supply section 81 applies a high frequency voltage as a first voltage between the first electrode 21 and the second electrode 22 . The first power supply unit 81 has an oscillation circuit that generates a high-frequency voltage, a booster circuit that boosts the oscillated voltage, and the like, and applies a high-frequency voltage of about 1 [MHz] to 4 [MHz], for example. When the head unit 10 to which the high-frequency voltage is applied by the first power supply unit 81 is pressed against the user's skin, a high-frequency current flows through the skin through the lotion soaked in the cotton 70 .

第1電極21及び第2電極22の間の距離は、上述したように円周上のどこであっても一定になっているため、第1電極21及び第2電極22の間には一様に高周波電流が流れる。そのため、第1電極21及び第2電極22の間に位置するユーザの肌に対して、広範囲に且つ均等に高周波電流を流すことが可能となり、ユーザの肌の発熱面積が広く且つ通電による刺激が均等になる。その結果、例えば球状電極間に高周波電流を流す場合に比べて、肌の単位面積当たりの発熱量が小さくなり、従来問題とされていた高周波電流により肌が局所的に熱を持ちやすくなったり、ユーザが不快感を覚えたりすることが防止されるようになっている。 Since the distance between the first electrode 21 and the second electrode 22 is constant anywhere on the circumference as described above, the distance between the first electrode 21 and the second electrode 22 is uniform. A high frequency current flows. Therefore, it is possible to apply a high-frequency current to the user's skin located between the first electrode 21 and the second electrode 22 in a wide range and evenly. equalize. As a result, the amount of heat generated per unit area of the skin is smaller than when a high-frequency current is passed between spherical electrodes, and the skin tends to locally heat due to the high-frequency current, which has been a problem in the past. The user is prevented from feeling discomfort.

第2電源部82は、パルス電圧を生成する発振回路及び発振された電圧を昇圧する昇圧回路等を有し、電極部20(第1電極21及び第2電極22の一方又は両方)及び第3電極55の間にパルス電圧を印加する。ユーザが美顔器1の本体50を握ってヘッド部10を肌に押し当てると、第3電極55に触れた手とコットン70に染み込んだ化粧水とを介してユーザの身体の中に微弱な直流電流が流れる。 The second power supply unit 82 has an oscillation circuit that generates a pulse voltage, a boost circuit that boosts the oscillated voltage, and the like, and includes the electrode unit 20 (one or both of the first electrode 21 and the second electrode 22) and the third electrode unit 82. A pulse voltage is applied between the electrodes 55 . When the user grips the main body 50 of the facial equipment 1 and presses the head part 10 against the skin, a weak direct current flows into the user's body through the hand touching the third electrode 55 and the lotion soaked in the cotton 70. current flows.

クレンジングモードの場合、第2電源部82は、電極部20に対して第3電極55側がマイナスの電位を有するようにパルス電圧を印加する。これにより、ヘッド部10に対して肌側がマイナスの電位を有するようになり、マイナスに帯電して肌に付着していた老廃物及び汚れ等がコットン70に吸着されるいわゆるイオン導出が行われる。美顔器1では、高周波電圧による深層温熱とパルス電圧による汚れ除去とが交互に行われる。 In the cleansing mode, the second power supply section 82 applies a pulse voltage to the electrode section 20 so that the third electrode 55 side has a negative potential. As a result, the skin side has a negative potential with respect to the head portion 10, and so-called ion derivation is performed in which wastes, dirt, etc. that have been negatively charged and attached to the skin are adsorbed to the cotton 70. - 特許庁In the facial equipment 1, deep heating by high-frequency voltage and stain removal by pulse voltage are alternately performed.

電圧制御部83は、第1電源部81を制御することで第1電源部81が印加する高周波電圧を制御し、第2電源部82を制御することで第2電源部82が印加するパルス電圧を制御する。電圧制御部83は本発明の「制御部」の一例である。電圧制御部83は、高周波電圧を印加する第1期間及びパルス電圧を印加する第2期間が交互に来るように制御する。電圧制御部83は、例えば、第1期間及び第2期間をどちらも同じ長さ(例えば5~15秒程度)にする制御を行う。 The voltage control unit 83 controls the high-frequency voltage applied by the first power supply unit 81 by controlling the first power supply unit 81, and the pulse voltage applied by the second power supply unit 82 by controlling the second power supply unit 82. to control. The voltage control section 83 is an example of the "control section" of the present invention. The voltage control unit 83 performs control such that the first period for applying the high-frequency voltage and the second period for applying the pulse voltage alternate. For example, the voltage control unit 83 performs control so that both the first period and the second period have the same length (for example, about 5 to 15 seconds).

また、電圧制御部83は、両電圧の制御に、抵抗測定部84による測定結果を用いる。
抵抗測定部84は、第1電極21及び第2電極22の間の抵抗値を測定する。抵抗測定部84は、本実施例では、電気抵抗(レジスタンス)を抵抗値として測定する。抵抗測定部84は、図1(b)に表すようにコットン70を固定して化粧水を染み込ませた状態(ヘッド部10をユーザの肌に押し当てる前の状態)では、第1電極21及び第2電極22の間に印加される高周波電圧により化粧水に電流が流れるので、化粧水の抵抗値を測定する。そして、ヘッド部10をユーザの肌に押し当てた状態では、化粧水を介してユーザの肌に電流が流れるので、抵抗測定部84は、化粧水及びユーザの肌の合成抵抗を示す抵抗値を測定する。
Also, the voltage control section 83 uses the measurement result of the resistance measurement section 84 to control both voltages.
The resistance measuring section 84 measures the resistance value between the first electrode 21 and the second electrode 22 . The resistance measurement unit 84 measures electrical resistance as a resistance value in this embodiment. As shown in FIG. 1B, the resistance measurement unit 84 is in a state in which the cotton 70 is fixed and the lotion is soaked (before the head unit 10 is pressed against the user's skin). A high-frequency voltage applied between the second electrodes 22 causes current to flow through the lotion, so the resistance value of the lotion is measured. When the head unit 10 is pressed against the user's skin, current flows through the user's skin through the lotion. Measure.

この抵抗値(電気抵抗)は、ユーザの肌の状態及び化粧水の種類等によって変化する。
例えば、人体の肌に高周波電流を流した場合、肌が発熱し、肌の温度上昇に伴って肌内部のインピーダンスが徐々に減少することが知られている。従って、肌の温度上昇に伴って、第1電極21及び第2電極22の間に流れる電流量が増加し、測定される抵抗値が小さくなる。抵抗測定部84は、抵抗値の測定を決められた時間間隔(例えば0.5秒毎など)で行い、その度に測定した抵抗値を電圧制御部83に供給する。
This resistance value (electrical resistance) varies depending on the condition of the user's skin, the type of lotion, and the like.
For example, it is known that when a high-frequency current is applied to the skin of a human body, the skin generates heat, and the impedance inside the skin gradually decreases as the temperature of the skin rises. Therefore, as the skin temperature rises, the amount of current flowing between the first electrode 21 and the second electrode 22 increases, and the measured resistance value decreases. The resistance measurement unit 84 measures the resistance value at predetermined time intervals (for example, every 0.5 seconds) and supplies the measured resistance value to the voltage control unit 83 each time.

電圧制御部83は、こうして抵抗測定部84により測定された抵抗値に応じて高周波電圧及びパルス電圧を制御する。電圧制御部83は、例えば、測定された抵抗値が大きいほど高周波電圧を高くする(高周波電圧の振幅を大きくする)。電圧制御部83は、この制御を行うため、例えば、抵抗値の範囲と高周波電圧とを対応付けた第1制御テーブルを記憶しておく。 The voltage control section 83 controls the high frequency voltage and the pulse voltage according to the resistance value thus measured by the resistance measurement section 84 . For example, the voltage control unit 83 increases the high-frequency voltage (increases the amplitude of the high-frequency voltage) as the measured resistance value increases. In order to perform this control, the voltage control unit 83 stores, for example, a first control table that associates resistance value ranges with high-frequency voltages.

図5は第1制御テーブルの一例を表す。図5の例では、「R11未満」、「R11以上R12未満」及び「R12以上」という抵抗値の範囲に、「Vrf1」、「Vrf2」及び「Vrf3」という高周波電圧(Vrf1<Vrf2<Vrf3)が対応付けられている。電圧制御部83は、抵抗測定部84から測定結果が供給されると、その測定結果を含む抵抗値の範囲に第1制御テーブルで対応付けられている高周波電圧を印加する。これにより、電圧制御部83は、前述のとおり測定された抵抗値が大きいほど高周波電圧を高くする。 FIG. 5 shows an example of the first control table. In the example of FIG. 5, high-frequency voltages (Vrf1<Vrf2<Vrf3) of "Vrf1", "Vrf2" and "Vrf3" are applied to the resistance value ranges of "less than R11", "R11 or more and less than R12" and "R12 or more". are associated. When the measurement result is supplied from the resistance measurement unit 84, the voltage control unit 83 applies the high-frequency voltage associated with the resistance value range including the measurement result in the first control table. As a result, the voltage control unit 83 increases the high-frequency voltage as the resistance value measured as described above increases.

第1電極21及び第2電極22の間の抵抗値が大きいほど、高周波電圧を印加したときに肌に流れる電流が小さくなり、肌の内部が温まりにくくなる。例えば化粧水αを用いると抵抗値がR11未満になり、化粧水βを用いる抵抗値がR12以上になる場合、高周波電圧が同じだと後者の方が前者に比べて肌の内部が温まりにくい。このような肌の内部の温まりやすさの違いは、ユーザ毎の肌の個人差でも生じるし、同じユーザでも肌の状態の違いによっても生じる。 As the resistance value between the first electrode 21 and the second electrode 22 increases, the current flowing through the skin when a high-frequency voltage is applied decreases, making it difficult for the inside of the skin to warm. For example, if the resistance value is less than R11 when lotion α is used and the resistance value is R12 or more when lotion β is used, the latter is less likely to warm the inside of the skin than the former if the high-frequency voltage is the same. Such a difference in how easily the inside of the skin warms up occurs due to individual differences in the skin of each user, and also due to differences in the skin conditions of the same user.

そこで、上記制御(電圧制御部83による電圧の制御)を行うことで、この制御を行わない場合に比べて、肌の個人差、肌の状態及び化粧水の種類等の状況の違いに起因する肌に流れる電流の大きさの差を小さくして、肌の内部の温度差(すなわち深層温熱効果の差)を小さくすることができる。また、肌の温度が上昇すると前述したように抵抗値が小さくなるので、高周波電圧も小さくなる。これにより、肌の内部を過度に加熱することを防ぐこともできる。また、上述したようにヘッド部10をユーザの肌に押し当てる前の状態でも抵抗測定部84が化粧水の抵抗値を測定するので、上記制御が行われない場合に比べて、ヘッド部10をユーザの肌に押し当てる前から、肌に流れる電流の大きさの差(特に化粧水の種類の違いにより生じる差)を小さくすることができる。 Therefore, by performing the above control (control of the voltage by the voltage control unit 83), compared to the case where this control is not performed, By reducing the difference in the magnitude of the current flowing through the skin, the temperature difference inside the skin (that is, the difference in the deep thermal effect) can be reduced. Also, as the skin temperature rises, the resistance value decreases as described above, so the high frequency voltage also decreases. This also prevents excessive heating of the inside of the skin. In addition, as described above, the resistance measurement unit 84 measures the resistance value of the lotion even before the head unit 10 is pressed against the user's skin. It is possible to reduce the difference in the magnitude of the electric current flowing through the user's skin (especially the difference caused by the difference in the type of lotion) before it is pressed against the user's skin.

また、電圧制御部83は、測定された抵抗値が大きいほどパルス電圧を高くする(パルス電圧に含まれる直流電圧を高くする)。電圧制御部83は、この制御を行うため、例えば、抵抗値の範囲とパルス電圧とを対応付けた第2制御テーブルを記憶しておく。
図6は第2制御テーブルの一例を表す。図6の例では、「R21未満」、「R21以上R22未満」及び「R22以上」という抵抗値の範囲に、「Vp1」、「Vp2」及び「Vp3」というパルス電圧(Vp1<Vp2<Vp3)が対応付けられている。
Also, the voltage control unit 83 increases the pulse voltage (increases the DC voltage included in the pulse voltage) as the measured resistance value increases. In order to perform this control, the voltage control unit 83 stores, for example, a second control table that associates the range of resistance values with the pulse voltage.
FIG. 6 shows an example of the second control table. In the example of FIG. 6, pulse voltages of "Vp1", "Vp2" and "Vp3"(Vp1<Vp2<Vp3) are applied to the resistance value ranges of "less than R21", "R21 or more and less than R22" and "R22 or more". are associated.

電圧制御部83は、抵抗測定部84から測定結果が供給されると、その測定結果を含む抵抗値の範囲に第2制御テーブルで対応付けられているパルス電圧を印加する。これにより、電圧制御部83は、前述のとおり測定された抵抗値が大きいほどパルス電圧を高くする。 When the measurement result is supplied from the resistance measurement unit 84, the voltage control unit 83 applies the pulse voltage associated with the resistance value range including the measurement result in the second control table. As a result, the voltage control unit 83 increases the pulse voltage as the resistance value measured as described above increases.

第1電極21及び第2電極22の間の抵抗値が大きいほど、パルス電圧を印加したときに肌に流れる電流が小さくなり、コットン70に吸着する汚れ等が少なくなる(イオン導出の効果が小さくなる)。そこで、上記制御を行うことで、肌の個人差、状態及び化粧水の種類等の状況の違いに起因する肌に流れる電流の大きさの差を小さくして、コットン70に吸着する汚れ等の差(すなわちイオン導出の効果の差)を小さくすることができる。 The larger the resistance value between the first electrode 21 and the second electrode 22, the smaller the current flowing through the skin when the pulse voltage is applied, and the less dirt etc. adsorbed to the cotton 70 (the ion derivation effect becomes smaller). Become). Therefore, by performing the above-described control, the difference in the magnitude of the electric current flowing through the skin caused by the individual difference of the skin, the difference in the condition of the skin, and the difference in conditions such as the type of lotion is reduced, and the dirt and the like adsorbed to the cotton 70 is reduced. The difference (that is, the difference in ion extraction effect) can be reduced.

また、電圧制御部83は、測定された抵抗値が大きいほど高周波電圧を印加する第1期間を長くする。電圧制御部83は、この制御を行うため、例えば、抵抗値の範囲と第1期間とを対応付けた第3制御テーブルを記憶しておく。
図7は第3制御テーブルの一例を表す。図7の例では、「R31未満」、「R31以上R32未満」及び「R32以上」という抵抗値の範囲に、「Trf1」、「Trf2」及び「Trf3」という第1期間(Trf1<Trf2<Trf3)が対応付けられている。
Also, the voltage control unit 83 lengthens the first period for applying the high-frequency voltage as the measured resistance value increases. In order to perform this control, the voltage control unit 83 stores, for example, a third control table that associates the range of resistance values with the first period.
FIG. 7 shows an example of the third control table. In the example of FIG. 7, first periods of "Trf1", "Trf2" and "Trf3"(Trf1<Trf2<Trf3 ) are associated.

電圧制御部83は、抵抗測定部84から測定結果が供給されると、その測定結果を含む抵抗値の範囲に第3制御テーブルで対応付けられている第1期間の間、高周波電圧を印加する。これにより、電圧制御部83は、前述のとおり測定された抵抗値が大きいほど第1期間(高周波電圧を印加する期間)を長くする。この場合は、肌の内部が温まりにくい状況では第1期間を長くすることで深層温熱効果を高めるようにしている。 When the measurement result is supplied from the resistance measurement unit 84, the voltage control unit 83 applies the high-frequency voltage during the first period associated with the range of resistance values including the measurement result in the third control table. . As a result, the voltage control unit 83 lengthens the first period (period for applying the high-frequency voltage) as the resistance value measured as described above increases. In this case, when the inside of the skin is difficult to warm, the first period is lengthened to enhance the deep-layer thermal effect.

例えば高周波電圧を最大で印加しても肌の内部が温まりにくい場合、第1期間を長くすることで深層温熱効果を高めることができる。反対に、高周波電圧を最小で印加しても肌の内部が温まりすぎる場合、第1期間を短くすることで深層温熱効果を抑えることができる。また、第1期間を変化させる場合でも、高周波電圧を変化させる場合と同様に、肌の個人差、肌の状態及び化粧水の種類等の状況の違いに起因する肌に流れる電流の大きさの差を小さくして、肌の内部の温度差(すなわち深層温熱効果の差)を小さくすることができる。 For example, when it is difficult to warm the inside of the skin even if the maximum high frequency voltage is applied, the deep thermal effect can be enhanced by lengthening the first period. On the contrary, if the inside of the skin is too warm even if the minimum high frequency voltage is applied, the deep thermal effect can be suppressed by shortening the first period. Also, when the first period is changed, similarly to when the high-frequency voltage is changed, the magnitude of the current flowing through the skin is affected by individual differences in the skin, the condition of the skin, the type of lotion, and other conditions. By reducing the difference, the temperature difference inside the skin (ie, the difference in the deep thermal effect) can be reduced.

また、電圧制御部83は、測定された抵抗値が大きいほどパルス電圧を印加する第2期間を長くする。電圧制御部83は、この制御を行うため、例えば、抵抗値の範囲と第2期間とを対応付けた第4制御テーブルを記憶しておく。
図8は第4制御テーブルの一例を表す。図8の例では、「R41未満」、「R41以上R42未満」及び「R42以上」という抵抗値の範囲に、「Tp1」、「Tp2」及び「Tp3」という第1期間(Tp1<Tp2<Tp3)が対応付けられている。
Also, the voltage control unit 83 lengthens the second period for applying the pulse voltage as the measured resistance value increases. In order to perform this control, the voltage control unit 83 stores, for example, a fourth control table that associates the range of resistance values with the second period.
FIG. 8 shows an example of the fourth control table. In the example of FIG. 8, the first periods (Tp1<Tp2<Tp3 ) are associated.

電圧制御部83は、抵抗測定部84から測定結果が供給されると、その測定結果を含む抵抗値の範囲に第4制御テーブルで対応付けられている第2期間の間、パルス電圧を印加する。これにより、電圧制御部83は、前述のとおり測定された抵抗値が大きいほど第2期間(パルス電圧を印加する期間)を長くする。この場合は、汚れ等がコットン70に吸着しにくい状況では第2期間を長くすることでイオン導出の効果を高めるようにしている。 When the measurement result is supplied from the resistance measurement unit 84, the voltage control unit 83 applies the pulse voltage during the second period associated with the range of resistance values including the measurement result in the fourth control table. . As a result, the voltage control unit 83 lengthens the second period (the period during which the pulse voltage is applied) as the resistance value measured as described above increases. In this case, the effect of deriving ions is enhanced by lengthening the second period in a situation where it is difficult for dirt or the like to be adsorbed on the cotton 70 .

例えばパルス電圧を最大で印加しても汚れ等がコットン70に十分吸着しない場合、第2期間を長くすることでイオン導出の効果を高めることができる。また、第2期間を変化させる場合でも、パルス電圧を変化させる場合と同様に、肌の個人差、肌の状態及び化粧水の種類等の状況の違いに起因する肌に流れる電流の大きさの差を小さくして、コットン70に吸着する汚れ等の差(すなわちイオン導出の効果の差)を小さくすることができる。 For example, if dirt or the like is not sufficiently adsorbed to the cotton 70 even when the maximum pulse voltage is applied, the effect of deriving ions can be enhanced by lengthening the second period. In the case of changing the second period, similarly to the case of changing the pulse voltage, the magnitude of the current flowing through the skin may vary depending on the individual differences in the skin, the condition of the skin, the type of lotion, and the like. By reducing the difference, it is possible to reduce the difference in dirt and the like adsorbed to the cotton 70 (that is, the difference in ion derivation effect).

なお、第1~第4制御テーブルは、図5~図8に表すものに限らない。例えば抵抗値の範囲を2つにしてもよいし、4以上にしてもよい。また、抵抗値と高周波電圧、パルス電圧、第1期間又は第2期間との関係式を用いて上記の各制御を行ってもよい。要するに、抵抗値が大きいほど、高周波電圧を高くし、パルス電圧を高くし、第1期間を長くし又は第2期間を長くすることができれば、どのような方法が用いられてもよい。 Note that the first to fourth control tables are not limited to those shown in FIGS. 5 to 8. FIG. For example, the range of resistance values may be two, or four or more. Moreover, each of the above controls may be performed using a relational expression between the resistance value, the high frequency voltage, the pulse voltage, the first period, or the second period. In short, any method may be used as long as the higher the resistance value, the higher the high-frequency voltage, the higher the pulse voltage, and the longer the first period or the second period.

美顔器1は、上記の構成に基づいて、高周波電圧及びパルス電圧を制御する電圧制御処理を行う。
図9は電圧制御処理における美顔器1の動作手順の一例を表す。この動作手順は、美顔器1の動作モードをクレンジングモードにして動作を開始させる操作が行われることを契機に開始される。まず、美顔器1(第1電源部81又は第2電源部82)は、高周波電圧又はパルス電圧のいずれかの印加を開始する(ステップS10)。どちらの電圧から開始されるかは、予めどちらかに決められていてもよいし、前回終了時に印加されていた方としてもよい。
The facial beauty device 1 performs voltage control processing for controlling the high-frequency voltage and the pulse voltage based on the above configuration.
FIG. 9 shows an example of the operating procedure of the facial device 1 in the voltage control process. This operation procedure is started when an operation is performed to set the operation mode of the facial equipment 1 to the cleansing mode and start the operation. First, the facial equipment 1 (the first power supply section 81 or the second power supply section 82) starts applying either the high-frequency voltage or the pulse voltage (step S10). Which voltage to start with may be determined in advance, or may be the one that was applied at the previous end.

次に、美顔器1(抵抗測定部84)は、第1電極21及び第2電極22の間の抵抗値を測定する(ステップS11)。続いて、美顔器1(電圧制御部83)は、測定された抵抗値に基づいて印加する高周波電圧を決定する(ステップS12)。次に、美顔器1(電圧制御部83)は、測定された抵抗値に基づいて印加するパルス電圧を決定する(ステップS13)。続いて、美顔器1(電圧制御部83)は、測定された抵抗値に基づいて第1期間及び第2期間を決定する(ステップS14)。なお、ステップS12~S14の動作は順番を変えてもよいし並行して行われてもよい。 Next, the facial equipment 1 (resistance measuring unit 84) measures the resistance value between the first electrode 21 and the second electrode 22 (step S11). Subsequently, the facial equipment 1 (voltage control unit 83) determines the high-frequency voltage to be applied based on the measured resistance value (step S12). Next, the facial beauty device 1 (voltage control unit 83) determines the pulse voltage to be applied based on the measured resistance value (step S13). Subsequently, the facial beauty device 1 (voltage control unit 83) determines the first period and the second period based on the measured resistance value (step S14). Note that the operations of steps S12 to S14 may be performed in a different order or in parallel.

次に、美顔器1(電圧制御部83)は、測定間隔が経過したか否かを判断し(ステップS21)、経過した(YES)と判断した場合はステップS11(抵抗値の測定)に戻って動作を行う。美顔器1(電圧制御部83)は、経過していない(NO)と判断した場合は、印加期間(現在高周波電圧を印加している場合は第1期間、パルス電圧を印加している場合は第2期間)が経過したか否かを判断する(ステップS22)。 Next, the facial beauty device 1 (voltage control unit 83) determines whether or not the measurement interval has passed (step S21), and if it determines that it has passed (YES), returns to step S11 (resistance value measurement). to perform the operation. If the facial beauty device 1 (voltage control unit 83) determines that it has not elapsed (NO), the application period (the first period if the high-frequency voltage is currently being applied, or the first period if the pulse voltage is being applied) It is determined whether or not the second period) has elapsed (step S22).

美顔器1(電圧制御部83)は、ステップS22で経過していない(NO)と判断した場合はステップS21(測定間隔経過の判断)に戻って動作を行い、経過した(YES)と判断した場合は、印加する電圧の種類を変更する(現在高周波電圧を印加している場合はパルス電圧に変更し、パルス電圧を印加している場合は高周波電圧に変更する)(ステップS23)。美顔器1(電圧制御部83)は、ステップS23の後はステップS21(測定間隔経過の判断)に戻って動作を行う。 When the facial beauty device 1 (voltage control unit 83) determines that it has not passed (NO) in step S22, it returns to step S21 (determining whether the measurement interval has elapsed) and performs the operation, and determines that it has passed (YES). If so, the type of voltage to be applied is changed (if high-frequency voltage is currently being applied, it is changed to pulse voltage; if pulse voltage is being applied, it is changed to high-frequency voltage) (step S23). After step S23, the facial beauty device 1 (voltage control unit 83) returns to step S21 (judgment of elapse of the measurement interval) and performs the operation.

本実施例では、上記のとおり高周波電圧及びパルス電圧を制御することで、肌の個人差、肌の状態及び化粧水の種類等の状況の違いに起因する肌に流れる電流の大きさの差を小さくして、深層温熱効果の差及びイオン導出の効果を小さくしている。このように、本実施例によれば、状況が変化したときの美容処理の効果(深層温熱効果及びイオン導出の効果)の変動を小さくすることができる。 In this embodiment, by controlling the high-frequency voltage and the pulse voltage as described above, the difference in the magnitude of the current flowing through the skin caused by the individual differences in the skin, the condition of the skin, the type of lotion, etc., can be eliminated. By making it smaller, the difference in the deep thermal effect and the effect of deriving ions are reduced. As described above, according to the present embodiment, it is possible to reduce fluctuations in the effect of cosmetic treatment (deep thermal effect and ion derivation effect) when the situation changes.

また、本実施例では、高周波電圧及びパルス電圧を交互に印加することで、肌の内部を温めながら、イオン導出によるクレンジングを行っている。上述したように肌の内部を温めるほど電流が流れやすくなるので、本実施例では深層温熱を同時に行うことで、パルス電圧だけを印加する場合に比べてイオン導出の効果を高めることができる。 Further, in this embodiment, by alternately applying a high-frequency voltage and a pulse voltage, cleansing is performed by deriving ions while warming the inside of the skin. As described above, the more the inside of the skin is warmed, the more the current flows. Therefore, in the present embodiment, by simultaneously performing deep-layer heating, the effect of deriving ions can be enhanced compared to the case of applying only the pulse voltage.

また、本実施例では、磁性体であるリング60がストッパ40に設けられた磁石部41によって吸引されることでコットン70を固定している。ヘッド部10をユーザの肌に押し当てている状態では、この磁石部41が発生させる磁力がリング60を通り抜けて肌まで到達する。その結果、血液成分中のイオンに力が加わってイオンの動きを活発にし、血行を促進される。美顔器1においては、コットン70を固定する仕組み(磁石部41及びリング60)を血行促進にも活用することで、それらを別の仕組みにする場合に比べて、
装置を小型化することもできる。
Further, in this embodiment, the cotton 70 is fixed by attracting the ring 60 which is a magnetic material by the magnet portion 41 provided on the stopper 40 . When the head portion 10 is pressed against the user's skin, the magnetic force generated by the magnet portion 41 passes through the ring 60 and reaches the user's skin. As a result, force is applied to the ions in the blood components, activating the movement of the ions and promoting blood circulation. In the facial device 1, by utilizing the mechanism (the magnet part 41 and the ring 60) for fixing the cotton 70 also to promote blood circulation, compared to the case where they are separate mechanisms,
The device can also be made smaller.

[2]変形例
上述した実施例は本発明の実施の一例に過ぎず以下のように変形させてもよい。また、上述した実施例及び各変形例は必要に応じてそれぞれ組み合わせて実施してもよい。
[2] Modifications The embodiment described above is merely an example of implementation of the present invention, and may be modified as follows. In addition, the above-described embodiment and each modified example may be implemented in combination as necessary.

[2-1]周波数の制御
上記実施例では、電圧制御部83が高周波電圧を制御したが、高周波電圧の周波数を制御してもよい。この場合、電圧制御部83は、測定された抵抗値が大きいほど高周波電圧の周波数を高くする。電圧制御部83は、図5で説明したような制御テーブルを用いてこの制御を行ってもよいし、抵抗値と高周波電圧の周波数との関係式を用いてこの制御を行ってもよい。
[2-1] Frequency Control In the above embodiment, the voltage control section 83 controls the high frequency voltage, but the frequency of the high frequency voltage may be controlled. In this case, the voltage control unit 83 increases the frequency of the high-frequency voltage as the measured resistance value increases. The voltage control unit 83 may perform this control using a control table such as that described with reference to FIG. 5, or may perform this control using a relational expression between the resistance value and the frequency of the high-frequency voltage.

高周波電圧の周波数を高くするほど肌の内部の温度も早く上昇することが知られている。よって、高周波電圧の周波数を本変形例のように制御することでも、図5の例で高周波電圧を制御した場合と同様に、肌の個人差、肌の状態及び化粧水の種類等の状況の違いに起因する肌に流れる電流の大きさの差を小さくして、肌の内部の温度差(すなわち深層温熱効果の差)を小さくすることができるし、肌の内部を過度に加熱することを防ぐこともできる。 It is known that the higher the frequency of the high-frequency voltage, the faster the temperature inside the skin rises. Therefore, even if the frequency of the high-frequency voltage is controlled as in this modified example, similar to the case where the high-frequency voltage is controlled in the example of FIG. It is possible to reduce the difference in the magnitude of the current flowing through the skin caused by the difference, reduce the temperature difference inside the skin (that is, the difference in the deep thermal effect), and prevent excessive heating of the inside of the skin. can also be prevented.

[2-2]電圧制御の対象
上記実施例では、電圧制御部83が、高周波電圧の制御、パルス電圧の制御、第1期間の制御及び第2期間の制御を全て行ったが、これらのうち少なくとも1つ以上の制御を行えばよい。また、第2電源部82が、パルス電圧に代えて上述した直流電圧を印加し、又は、極性を反転させた交流電圧を印加して、電圧制御部83が、それらの電圧の制御を行ってもよい。また、上記変形例で述べた高周波電圧の周波数の制御を組み合わせてもよい。少なくとも高周波電圧、高周波電圧の周波数又は第1期間のいずれかを制御すれば、深層温熱効果の変動を小さくすることができるし、同じく少なくともパルス電圧、直流電圧、極性を反転させた交流電圧又は第2期間のいずれかを制御すれば、イオン導出の効果の変動を小さくすることができる。
[2-2] Target of voltage control In the above-described embodiment, the voltage control unit 83 performs all of the high-frequency voltage control, the pulse voltage control, the first period control, and the second period control. At least one or more controls may be performed. Further, the second power supply unit 82 applies the DC voltage described above instead of the pulse voltage, or applies an AC voltage with the polarity reversed, and the voltage control unit 83 controls these voltages. good too. Also, the control of the frequency of the high-frequency voltage described in the modification may be combined. By controlling at least one of the high-frequency voltage, the frequency of the high-frequency voltage, or the first period, fluctuations in the deep thermal effect can be reduced. By controlling one of the two periods, it is possible to reduce variations in the effect of ion extraction.

[2-3]美容処理の対象
上記実施例では、主としてユーザの顔に美容処理を施す器具である美顔器を説明したが、本発明は、それに限らず、例えばユーザの腕、胴体又は脚等の他の部分に美容処理を施す美容処理装置に適用してもよい。
[2-3] Target of beauty treatment In the above-described embodiments, a facial device that is a tool for performing beauty treatment on a user's face has been mainly described, but the present invention is not limited to this, and includes, for example, the user's arms, torso, or legs. It may be applied to a beauty treatment device that performs beauty treatment on other parts of the body.

[2-4]多孔質被覆体
上記実施例では、綿繊維をシート状に成形したコットン70が多孔質被覆体として用いられて柱状部30の底面31に被せられたが、これに限らず、例えば麻及び絹等の他の種類の繊維をシート状に成形したものが多孔質被覆体として用いられてもよい。要するに、
柱状部30の底面31に被せることができる柔らかさを有し、化粧水を浸透させ、肌に押し当てられると汚れ等を吸着する性質を有するものであれば、どのような素材の多孔質被覆体が用いられてもよい。
[2-4] Porous covering In the above example, the cotton 70 formed into a sheet of cotton fibers was used as the porous covering and covered on the bottom surface 31 of the columnar part 30, but not limited to this, For example, sheets of other types of fibers such as hemp and silk may be used as the porous covering. in short,
The porous coating can be made of any material as long as it has the softness to cover the bottom surface 31 of the columnar part 30, permeates lotion, and adsorbs dirt and the like when pressed against the skin. A body may be used.

[2-5]イオン導入
上記実施例では、第2電源部82がイオン導出をするようにパルス電圧を印加したが、電圧の正負を反対にして、イオン導入をするようにパルス電圧を印加してもよい。この場合、マイナスイオンに帯電した化粧水が肌に吸着して浸透しやすくなる。また、深層温熱により肌が内部まで温まっていて細胞が活性化されているので、さらに化粧水が浸透しやすくなる。
[2-5] Ion introduction In the above embodiment, the pulse voltage was applied so that the second power supply unit 82 led out ions. may In this case, the lotion charged with negative ions adsorbs to the skin and easily permeates. In addition, since the skin is warmed to the inside by deep heat and the cells are activated, the lotion can penetrate more easily.

[2-6]動作モード
上記実施例では、美顔器1はクレンジングモードで動作したが、これに限らず、例えば、深層温熱を行いながら前述したイオン導入を行うモードで動作してもよいし、深層温熱のみを行うモード、汚れ除去のみを行うモード、イオン導入のみを行うモードで動作してもよい。
[2-6] Operation mode In the above embodiment, the facial device 1 operates in the cleansing mode, but is not limited to this. It may be operated in a mode in which only deep heat is performed, a mode in which only dirt removal is performed, or a mode in which only iontophoresis is performed.

[2-7]肌への直接接触
上記実施例では、柱状部30の底面31にコットン70が被せられた状態で美顔器1が使用されたが、コットン70が被せられていない状態で使用されてもよい。その場合、美顔器1を例えば前述した深層温熱のみを行うモードで動作させることで、第1電極及び第2電極が直接ユーザの肌に接触した状態で抵抗値が測定され、測定された抵抗値に応じた高周波電圧が印加されるので、実施例と同様に、肌の状態等の状況が変化したときの深層温熱効果の変動を小さくすることができる。
[2-7] Direct contact with the skin In the above embodiment, the facial device 1 was used with the bottom surface 31 of the columnar part 30 covered with the cotton 70, but it was used without the cotton 70. may In that case, the facial beauty device 1 is operated, for example, in the above-described deep-layer heat only mode, so that the resistance value is measured while the first electrode and the second electrode are in direct contact with the user's skin, and the measured resistance value is Since a high-frequency voltage is applied in accordance with the condition of the skin, it is possible to reduce fluctuations in the deep thermal effect when conditions such as skin conditions change, as in the embodiment.

[2-8]第1電極
上記実施例では、第1電極は中央が開口する円環形状であったが、中央が開口していない円板形状であってもよい。その場合でも、第1電極及び第2電極の間の距離は円周上のどこであっても一定になるから、ユーザの肌の発熱面積を広く且つ通電による刺激を均等にすることができる。
[2-8] First Electrode In the above embodiment, the first electrode has an annular shape with an opening at the center, but it may have a disk shape with an opening at the center. Even in that case, since the distance between the first electrode and the second electrode is constant anywhere on the circumference, it is possible to widen the heat-generating area of the user's skin and equalize the stimulation due to the energization.

[2-9]電極部
上記実施例では、電極部が共に円環形状の第1電極及び第2電極を備えていたが、これに限らない。電極部は、例えば多角形で且つ環状の第1電極及び第2電極を備えていてもよいし、平行に配置された棒状の第1電極及び第2電極を備えていてもよい。いずれの形状にする場合も、第1電極及び第2電極の間の距離が最短距離となる部分が多いほど広範囲に且つ均等に高周波電流を流すことが可能となるので望ましい。
[2-9] Electrode Section In the above embodiments, the electrode section includes the first electrode and the second electrode that are both ring-shaped, but the present invention is not limited to this. The electrode section may include, for example, polygonal and ring-shaped first and second electrodes, or bar-shaped first and second electrodes arranged in parallel. Regardless of the shape, it is preferable that the distance between the first electrode and the second electrode is the shortest, since it is possible to flow the high-frequency current over a wide range and evenly.

[2-10]抵抗値
上記実施例では、抵抗測定部84が第1電極21及び第2電極22の間の抵抗値として電気抵抗(レジスタンス)を測定したが、これに限らず、例えば第1電極21及び第2電極22の間のリアクタンスを抵抗値として測定してもよい。要するに、第1電極21及び第2電極22の間の電流の流れにくさを表す値が抵抗値として測定されればよい。なお、
コンダクタンスのような電流の流れやすさを表す値も、逆数にすれば電流の流れにくさを表すことになるので、抵抗値として扱ってもよい。
[2-10] Resistance value In the above embodiment, the resistance measurement unit 84 measures the electrical resistance (resistance) as the resistance value between the first electrode 21 and the second electrode 22, but not limited to this, for example, the first A reactance between the electrode 21 and the second electrode 22 may be measured as a resistance value. In short, a value representing the difficulty of current flow between the first electrode 21 and the second electrode 22 should be measured as a resistance value. note that,
A value such as conductance that indicates the ease with which current flows can also be treated as a resistance value because the reciprocal of the value indicates the difficulty with which current flows.

[2-11]抵抗値の測定方法
上記実施例では、抵抗測定部84が第1電極21及び第2電極22の間に高周波電圧が印加されたときに流れる電流により第1電極21及び第2電極22の間の抵抗値を測定したが、抵抗値の測定方法はこれに限らない。抵抗測定部84は、例えば、第1電極21及び第2電極22の間に抵抗値を測定するための測定用電圧(例えば直流電圧)が印加されたときに流れる電流により第1電極21及び第2電極22の間の抵抗値を測定してもよい。
[2-11] Method for measuring resistance value In the above-described embodiment, the resistance measurement unit 84 is measured by the current flowing between the first electrode 21 and the second electrode 22 when a high-frequency voltage is applied. Although the resistance value between the electrodes 22 was measured, the method of measuring the resistance value is not limited to this. For example, the resistance measurement unit 84 measures the resistance value between the first electrode 21 and the second electrode 22 by a current that flows when a measurement voltage (for example, a DC voltage) for measuring the resistance value is applied between the first electrode 21 and the second electrode 22 . A resistance value between the two electrodes 22 may be measured.

この場合、例えば第1電源部81が深層加熱のための高周波電圧を印加する前にまず測定用電圧を印加して抵抗測定部84が抵抗値を測定し、測定された抵抗値に応じた高さの高周波電圧及びパルス電圧が印加されるように電圧制御部83が制御を行うことで、この制御が行われない場合に比べて、肌に流れる電流の大きさの差を美容処理の開始時から小さくすることができる。また、抵抗測定部84は、柱状部30の底面31に別の対になる電極を設けてそれらの間の抵抗値を測定してもよいし、底面31に電気抵抗を示す値を出力するセンサを設けてその出力値を用いて抵抗値を測定してもよい。 In this case, for example, before the first power supply unit 81 applies a high-frequency voltage for deep-layer heating, the resistance measurement unit 84 first applies a voltage for measurement, measures the resistance value, and measures the resistance value according to the measured resistance value. The voltage control unit 83 performs control so that the high-frequency voltage and the pulse voltage are applied at a high frequency, so that the difference in the magnitude of the current flowing through the skin is reduced at the start of the cosmetic treatment compared to when this control is not performed. can be reduced from Alternatively, the resistance measuring section 84 may provide another pair of electrodes on the bottom surface 31 of the columnar section 30 to measure the resistance value between them, or a sensor that outputs a value indicating the electrical resistance to the bottom surface 31 . is provided and its output value is used to measure the resistance value.

要するに、ユーザの肌のうちヘッド部10が押し当てられる部分における電流の流れやすさの指標になるのであれば、どのような方法で抵抗値が測定されてもよい。なお、実施例のように抵抗測定部84が第1電極21及び第2電極22の間の抵抗値を測定する場合は、他の電極又はセンサを設ける必要がないので、それらを設ける場合に比べて装置を小型化することができる。 In short, the resistance value may be measured by any method as long as it serves as an indicator of how easily current flows in the portion of the user's skin against which the head unit 10 is pressed. When the resistance measuring unit 84 measures the resistance value between the first electrode 21 and the second electrode 22 as in the embodiment, there is no need to provide other electrodes or sensors. Therefore, the device can be miniaturized.

1…美顔器、10…ヘッド部、20…電極部、21…第1電極、22…第2電極、30…柱状部、31…底面、40…ストッパ、41…磁石部、42…切欠き部、50…本体、55…第3電極、60…リング、70…コットン。 REFERENCE SIGNS LIST 1 facial massager 10 head portion 20 electrode portion 21 first electrode 22 second electrode 30 columnar portion 31 bottom surface 40 stopper 41 magnet portion 42 notch portion , 50...main body, 55...third electrode, 60...ring, 70...cotton.

Claims (6)

第1電極と第2電極とを備える電極部と、
前記第1及び第2電極の間に交流電圧である第1電圧を印加する第1電源部と、
前記第1及び第2電極の間の抵抗値を測定する測定部と、
測定された前記抵抗値に応じて前記第1電圧を制御する制御部と
を備える美容処理装置。
an electrode unit comprising a first electrode and a second electrode;
a first power source that applies a first voltage, which is an alternating voltage, between the first and second electrodes;
a measuring unit that measures a resistance value between the first and second electrodes;
and a control unit that controls the first voltage according to the measured resistance value.
前記制御部は、測定された前記抵抗値が大きいほど前記第1電圧を高くする
請求項1に記載の美容処理装置。
The beauty treatment apparatus according to claim 1, wherein the controller increases the first voltage as the measured resistance value increases.
前記制御部は、測定された前記抵抗値が大きいほど前記第1電圧の周波数を高くする
請求項1又は2に記載の美容処理装置。
The beauty treatment apparatus according to claim 1 or 2, wherein the controller increases the frequency of the first voltage as the measured resistance value increases.
ユーザが握るグリップ部と、
前記グリップ部に設けられた第3電極と、
前記電極部及び前記第3電極の間に、直流電圧、パルス電圧、又は前記第1電圧に対して極性を反転させた交流電圧を、第2電圧として印加する第2電源部とを備え、
前記制御部は、測定された前記抵抗値に応じて前記第1電圧及び前記第2電圧を制御する
請求項1から3のいずれか1項に記載の美容処理装置。
a grip portion held by the user;
a third electrode provided on the grip;
a second power supply unit that applies a DC voltage, a pulse voltage, or an AC voltage having a polarity reversed with respect to the first voltage as a second voltage between the electrode unit and the third electrode,
The cosmetic treatment apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the controller controls the first voltage and the second voltage according to the measured resistance value.
前記制御部は、測定された前記抵抗値が大きいほど前記第2電圧を高くする
請求項4に記載の美容処理装置。
The beauty treatment apparatus according to claim 4, wherein the controller increases the second voltage as the measured resistance value increases.
前記制御部は、前記第1電圧を印加する第1期間及び前記第2電圧を印加する第2期間が交互に来るように制御し、測定された前記抵抗値が大きいほど前記第1期間及び前記第2期間の少なくとも一方を長くする
請求項4又は5に記載の美容処理装置。
The controller alternately controls a first period for applying the first voltage and a second period for applying the second voltage, and the greater the measured resistance value, the greater the first period and the second period. The cosmetic treatment apparatus according to claim 4 or 5, wherein at least one of the second periods is lengthened.
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