JP2014113272A - High-frequency cosmetic treatment device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high-frequency cosmetic treatment device which allows a user to instantly feel bodily sensations of the action and effect of the high-frequency cosmetic treatment device.SOLUTION: A high-frequency cosmetic treatment device 1 comprises a housing 10; a pair of rotary electrodes 40 provided in the housing 10 partially exposed therefrom and electrically stimulate the muscles of a person with a high-frequency current; a heater 20 disposed between the rotary electrodes 40 on the treatment surface of the housing 10; a power source device 30 for feeding power to the heater 20 and the electrodes 40; and a power feeding control device 60 for controlling the power feeding to the heater 20 and the electrodes 40.

Description

本発明は、高周波美容処理装置に関する。   The present invention relates to a high-frequency beauty treatment apparatus.

従来から、顔や手足などの皮膚に対して高周波電流を通電することにより、肌の老化防止やニキビの治癒、シミ・そばかすその他の皮膚のトラブルの改善を図ることが可能な高周波美容処理装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。   Conventionally, a high-frequency beauty treatment device that can prevent skin aging, cure acne, improve spots, freckles, and other skin problems by applying high-frequency current to the skin such as the face and limbs. It is known (see, for example, Patent Document 1).

国際公開第2011/162174号International Publication No. 2011/162174

上記した高周波美容処理装置を用いた場合、被施術者は、高周波電流の刺激を受けた筋肉が収縮することによって発生する熱(収縮熱)を感じて高周波美容処理装置の作用や効果を体感することができる。
しかし、これらの高周波美容処理装置では、高周波電流の通電開始から収縮熱によって筋肉が安定した一定温度に達するまでに時間がかかり、使用者が最適な効果を短時間で体感することができないという問題があった。
本発明は、上記した事情に鑑みてなされたものであり、体の内側及び皮膚の表面から暖めることによって、高周波美容処理装置の作用や効果をより速やかに体感することが可能な高周波美容処理装置を提供することを目的とする。
When the above-described high-frequency beauty treatment apparatus is used, the patient feels the heat (contraction heat) generated by contraction of the muscle that has been stimulated by the high-frequency current and feels the effects and effects of the high-frequency beauty treatment apparatus. be able to.
However, in these high-frequency beauty treatment apparatuses, it takes time from the start of energization of the high-frequency current until the muscle reaches a stable and constant temperature due to heat of contraction, and the user cannot experience the optimal effect in a short time. was there.
The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and a high-frequency beauty treatment apparatus capable of experiencing the actions and effects of the high-frequency beauty treatment apparatus more quickly by heating from the inside of the body and the surface of the skin. The purpose is to provide.

本発明の実施形態の高周波美容処理装置は、筐体と、前記筐体に一部を露出させて備えた、被施術者の筋肉に高周波電流による電気的刺激を与えるための対をなす回転電極と、
前記筐体の処理面の前記回転電極間に配置されたヒータと、前記ヒータ及び前記電極へ給電する電源装置と、前記ヒータ及び前記電極への給電を制御する給電制御装置とを備える。
前記給電制御装置は、筐体の前記ヒータ近傍に配置された温度検出器と、前記温度検出器の出力により前記ヒータへの給電を制御する給電制御手段とを含むことができる。
前記筐体の前記対をなす回転電極間には、開口が形成され、前記ヒータは前記開口の奥に前記開口を向けて配置されている。
A high-frequency beauty treatment apparatus according to an embodiment of the present invention includes a casing, and a pair of rotating electrodes for applying electrical stimulation to a subject's muscles by a high-frequency current, with a part of the casing being exposed. When,
A heater disposed between the rotating electrodes on the processing surface of the casing, a power supply device that supplies power to the heater and the electrode, and a power supply control device that controls power supply to the heater and the electrode.
The power supply control device may include a temperature detector disposed in the vicinity of the heater of a housing, and power supply control means for controlling power supply to the heater based on an output of the temperature detector.
An opening is formed between the pair of rotating electrodes of the casing, and the heater is disposed with the opening facing behind the opening.

本発明の実施形態の高周波美容処理装置は、前記筐体の前記回転電極間には、金属性の伝熱部が配置され、前記ヒータは前記伝熱部に接触し又は近接して配置されることがある。
前記対をなす回転電極間には、個々の回転電極を結ぶ線と直交する方向に所定の間隔をおいて固定電極が配置されている。前記固定電極は、前記金属製の電熱部により形成することができる。前記対をなす回転電極は、平行する一対のローラ電極又は一対の球電極で構成することができる。
In the high-frequency beauty treatment apparatus according to the embodiment of the present invention, a metallic heat transfer unit is disposed between the rotating electrodes of the casing, and the heater is disposed in contact with or close to the heat transfer unit. Sometimes.
Between the pair of rotating electrodes, fixed electrodes are arranged at a predetermined interval in a direction orthogonal to a line connecting the individual rotating electrodes. The fixed electrode can be formed by the metal electrothermal portion. The pair of rotating electrodes can be composed of a pair of parallel roller electrodes or a pair of spherical electrodes.

本発明の実施形態の高周波美容処理装置は、前記固定電極が、外側に凸の湾曲面又は球面をなしていることがある。前記給電制御装置は、前記回転電極と、固定電極の給電制御を独立的に行うことが可能な給電制御手段を含むことが望ましい。前記給電制御装置が周波数変換部を備え、前記回転電極及び前記固定電極には同一又は異なる周波数の高周波電流を供給し、前記ヒータには直流又は所定の周波数の交流を供給するようにしてもよい。前記給電制御装置は、前記筐体の振動を検出する加速度センサと、前記加速度センサの出力により前記ヒータへの給電を独立的にオンオフする給電制御手段を含むこともできる。前記放熱孔には遠赤外線透過部材が配置されることが望ましい。   In the high-frequency beauty treatment apparatus according to the embodiment of the present invention, the fixed electrode may have an outwardly convex curved surface or spherical surface. The power supply control device preferably includes power supply control means capable of independently performing power supply control of the rotating electrode and the fixed electrode. The power supply control device may include a frequency conversion unit, supplying high-frequency current of the same or different frequency to the rotating electrode and the fixed electrode, and supplying direct current or alternating current of a predetermined frequency to the heater. . The power supply control device may include an acceleration sensor that detects vibration of the casing, and a power supply control unit that independently turns on and off power supply to the heater based on an output of the acceleration sensor. It is desirable that a far infrared ray transmitting member is disposed in the heat dissipation hole.

本発明の高周波美容処理装置によれば、筋肉に対する高周波電流の通電のみにより得られる体感温度に比べて、体感温度の実質的な上昇が早くなるので、効果をより速やかに実感することができる。   According to the high-frequency beauty treatment apparatus of the present invention, the substantial increase in the sensible temperature is faster than the sensible temperature obtained only by applying a high-frequency current to the muscle, so that the effect can be realized more quickly.

第1の実施形態の高周波美容処理装置1を示す斜視図。The perspective view which shows the high frequency beauty processing apparatus 1 of 1st Embodiment. 高周波美容処理装置1の一部の断面を拡大して示す拡大断面図。The expanded sectional view which expands and shows the one part cross section of the high frequency beauty processing apparatus. 高周波美容処理装置1が備える印刷回路基板60のブロック図。The block diagram of the printed circuit board 60 with which the high frequency beauty processing apparatus 1 is provided. 高周波美容処理装置1の動作を示すフローチャート。5 is a flowchart showing the operation of the high-frequency beauty processing apparatus 1. 第2の実施形態の高周波美容処理装置2を示す斜視図。The perspective view which shows the high frequency beauty processing apparatus 2 of 2nd Embodiment. 第3の実施形態の高周波美容処理装置3を示す斜視図。The perspective view which shows the high frequency beauty processing apparatus 3 of 3rd Embodiment.

[第1の実施形態]
以下、本発明に係る第1の実施形態を図1〜4に基づいて説明する。図1は、高周波美容処理装置1を示す斜視図である。図2は、高周波美容処理装置1の一部の断面を拡大して示す拡大断面図である。図3は、高周波美容処理装置1が備える印刷回路基板60のブロック図である。図4は、高周波美容処理装置1の動作を示すフローチャートである。
(高周波美容処理装置1について)
図1に示すように第1の実施形態の高周波美容処理装置1は、一端側が処理部A、他端側が把持部Bとされた細長いハウジング10を備えている。
処理部A側には、矩形の開口(放熱孔)12a及び回転軸41をハウジング10の長手方向と直交させたローラ電極40が周面の一部をハウジング10から露出させて回転可能に装着されている。
[First Embodiment]
Hereinafter, a first embodiment according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a perspective view showing a high-frequency beauty treatment apparatus 1. FIG. 2 is an enlarged sectional view showing a part of the high-frequency beauty treatment apparatus 1 in an enlarged manner. FIG. 3 is a block diagram of the printed circuit board 60 provided in the high-frequency beauty treatment apparatus 1. FIG. 4 is a flowchart showing the operation of the high-frequency beauty processing apparatus 1.
(About the high-frequency beauty treatment apparatus 1)
As shown in FIG. 1, the high-frequency beauty treatment apparatus 1 according to the first embodiment includes an elongated housing 10 in which one end side is a processing portion A and the other end side is a gripping portion B.
On the processing section A side, a roller electrode 40 having a rectangular opening (heat radiation hole) 12a and a rotating shaft 41 orthogonal to the longitudinal direction of the housing 10 is rotatably mounted with a part of the peripheral surface exposed from the housing 10. ing.

開口12aの奥には主放熱面20aを開口12a側に向けてヒータ20が配置されている。
一対のローラ電極40を構成する個々の円柱状の電極40a,40b間には、開口12aを挟んで固定電極50が周面の一部を高さがローラ電極40の高さと略等しくなるようにハウジング10から露出させて固定されている。
ハウジング10の把持部B側には、二次電池30と、この二次電池30の電流を所定の周波数に変換するなどしてヒータ20、ローラ電極40、固定電極50への給電をON・OFFする半導体装置などを搭載した印刷回路基板60が収容される。ハウジング10には、二次電池30の充電回路を商用電源に接続するための電源コード70が着脱自在に取り付けられる。
A heater 20 is disposed in the back of the opening 12a with the main heat radiating surface 20a facing the opening 12a.
Between the columnar electrodes 40 a and 40 b constituting the pair of roller electrodes 40, the fixed electrode 50 has a part of the peripheral surface with the opening 12 a interposed therebetween so that the height is substantially equal to the height of the roller electrode 40. It is exposed from the housing 10 and fixed.
On the holding part B side of the housing 10, the secondary battery 30 and the power supply to the heater 20, the roller electrode 40, and the fixed electrode 50 are turned on and off by converting the current of the secondary battery 30 to a predetermined frequency. A printed circuit board 60 on which a semiconductor device or the like is mounted is accommodated. A power cord 70 for connecting the charging circuit of the secondary battery 30 to a commercial power source is detachably attached to the housing 10.

この実施形態の高周波美容処理装置1によれば、施術者が、被施術者の皮膚に対してローラ電極40及び固定電極50を当接させることによって、高周波電流を被施術者の皮膚に通電させることができる。さらにこの実施形態の高周波美容処理装置1によれば、ヒータ20によって被施術者の肌面を暖めることができる。
(高周波美容処理装置1の説明)
以下、高周波美容処理装置1の各部を詳細に説明する。
ハウジング10は、プラスチックを射出成形することにより直方体形状に形成されている。ハウジング10は、塩化ビニル樹脂、ポリエチレン及びポリカーボネートなどを難燃性化したプラスチックにより形成することが望ましい。
According to the high-frequency beauty treatment apparatus 1 of this embodiment, the practitioner causes the high-frequency current to flow through the skin of the subject by bringing the roller electrode 40 and the fixed electrode 50 into contact with the skin of the subject. be able to. Furthermore, according to the high frequency beauty treatment apparatus 1 of this embodiment, the skin surface of the person to be treated can be warmed by the heater 20.
(Description of the high-frequency beauty treatment apparatus 1)
Hereinafter, each part of the high-frequency beauty treatment apparatus 1 will be described in detail.
The housing 10 is formed in a rectangular parallelepiped shape by injection molding of plastic. The housing 10 is preferably formed of a plastic made of flame retardant vinyl chloride resin, polyethylene, polycarbonate, or the like.

ハウジング10の処理部A側には、被施術者の皮膚側に対向する面12とこの面12の反対側の操作ボタンなどが配設される操作面13が設けられる。
面12には、ローラ電極40を露出するための長方形の一対の穴12bがハウジング10の長手方向に沿って互いに平行に形成される。さらに面12には、開口12aを挟んでその両側に固定電極50がその一部を露出して配置されている。
図2に拡大断面図に示すように、開口12a近傍には、検知部17aを開口12aに臨ませてサーミスタのような温度計17が配置される。この温度計17は、図1に示す印刷回路基板60と電気的に接続されている。
On the processing part A side of the housing 10, there is provided an operation surface 13 on which a surface 12 facing the skin side of the patient and operation buttons on the opposite side of the surface 12 are disposed.
On the surface 12, a pair of rectangular holes 12 b for exposing the roller electrode 40 are formed in parallel to each other along the longitudinal direction of the housing 10. Further, the fixed electrode 50 is disposed on the surface 12 so as to expose a part thereof on both sides of the opening 12a.
As shown in the enlarged sectional view of FIG. 2, a thermometer 17 such as a thermistor is disposed in the vicinity of the opening 12a such that the detection unit 17a faces the opening 12a. The thermometer 17 is electrically connected to the printed circuit board 60 shown in FIG.

開口12aは、ヒータ20から放射された遠赤外線を透過させる遠赤外線透過窓18で覆われている。遠赤外線透過窓18を構成する材料としては、例えば反射防止コートが施されたカルコゲナイドガラスなどが適している。遠赤外線透過窓18を構成する材料は、遠赤外線を高い透過率(例えば90%以上の透過率)で透過させるものであれば特に限定されず、例えば石英ガラスを用いてもよい。また例えば、シリコン窓、サファイア窓を遠赤外線透過窓18として用いることもできる。
遠赤外線透過窓18によれば、ヒータ20から放射された遠赤外線を高周波美容処理装置1外部に放出しつつ、高周波美容処理装置1外部からの化粧液などの水分やゴミなどが開口12aから高周波美容処理装置1内に侵入することを防止することができる。遠赤外線透過窓18は、必要に応じて取り外すこともできる。
図1に示す操作面13には、ローラ電極40及び又は固定電極50への電流の供給をON・OFFするための物理的なスイッチを突出させるための孔が設けられている(図示せず)。
The opening 12 a is covered with a far-infrared transmission window 18 that transmits far-infrared radiation emitted from the heater 20. As a material constituting the far-infrared transmission window 18, for example, chalcogenide glass provided with an antireflection coating is suitable. The material constituting the far-infrared transmitting window 18 is not particularly limited as long as it transmits far-infrared light with high transmittance (for example, a transmittance of 90% or more), and for example, quartz glass may be used. Further, for example, a silicon window or a sapphire window can be used as the far-infrared transmission window 18.
According to the far-infrared transmission window 18, while the far-infrared rays emitted from the heater 20 are emitted to the outside of the high-frequency beauty treatment apparatus 1, moisture or dust such as cosmetic liquid from the outside of the high-frequency beauty treatment apparatus 1 is high-frequency from the opening 12 a. Intrusion into the beauty treatment apparatus 1 can be prevented. The far-infrared transmission window 18 can be removed as necessary.
The operation surface 13 shown in FIG. 1 is provided with a hole for projecting a physical switch for turning ON / OFF the current supply to the roller electrode 40 and / or the fixed electrode 50 (not shown). .

「スイッチ」は、液晶パネルに表示されたタッチ式のスイッチであってもよい。この場合には、操作面13には小型の液晶パネルが配設される。
ヒータ20は、板状に形成されたセラミックヒータである。ヒータ20は、交流電圧または直流電圧を印加されることによって発熱する。ヒータ20の発熱温度は、印刷回路基板60によって制御される。ヒータ20の発熱可能範囲は常温〜500℃程度である。ただし、この実施の形態では、ヒータ20は、発熱温度が最高60℃前後となるように印刷回路基板60によって制御される。なお、ヒータ20は、セラミックヒータに限定されず、遠赤外線を効率よく放射する物であればよい。例えば、ヒータ20をハロゲンヒータ、カーボンヒータ、ニクロム線ヒータまたはセラミックのプレートに高温に発熱する発熱体を密着させたものなどで構成することもできる。
The “switch” may be a touch switch displayed on the liquid crystal panel. In this case, a small liquid crystal panel is disposed on the operation surface 13.
The heater 20 is a ceramic heater formed in a plate shape. The heater 20 generates heat when an AC voltage or a DC voltage is applied thereto. The heat generation temperature of the heater 20 is controlled by the printed circuit board 60. The heat generation range of the heater 20 is about room temperature to about 500 ° C. However, in this embodiment, the heater 20 is controlled by the printed circuit board 60 so that the heat generation temperature is about 60 ° C. at maximum. Note that the heater 20 is not limited to a ceramic heater, and may be anything that radiates far infrared rays efficiently. For example, the heater 20 may be composed of a halogen heater, a carbon heater, a nichrome wire heater, or a ceramic plate in which a heating element that generates heat at a high temperature is in close contact.

二次電池30は、一般的には充放電可能な二次電池が用いられるが、燃料電池やキャパシタを使用することもできる。
ローラ電極40は、ローラ状に形成されている。ローラ電極40は、それぞれ一部の表面を穴12bから露出させて回転軸41によって軸支されてハウジング10内部に回転自在に設けられる。
ローラ電極40は、穴12bに設けられた図示はしない摺動電極を介して印刷回路基板60と電気的に接続される。ローラ電極40は、被施術者の肌面上を転動しつつ施術者の皮膚に対して高周波電流を通電させる。被施術者は、ローラ電極40を肌面上で転動させることによって肌を伸ばしたり押したりすることができ、このことによるマッサージ効果を得ることもできる。
The secondary battery 30 is generally a chargeable / dischargeable secondary battery, but a fuel cell or a capacitor can also be used.
The roller electrode 40 is formed in a roller shape. Each roller electrode 40 is rotatably provided inside the housing 10 with a part of its surface exposed from the hole 12 b and supported by a rotating shaft 41.
The roller electrode 40 is electrically connected to the printed circuit board 60 via a sliding electrode (not shown) provided in the hole 12b. The roller electrode 40 causes a high-frequency current to flow through the skin of the operator while rolling on the skin surface of the patient. The subject can stretch or push the skin by rolling the roller electrode 40 on the skin surface, and can also obtain a massage effect.

固定電極50は、ローラ電極40の露出した一部の表面と面一になるように表面を露出して設けられる。固定電極50は、印刷回路基板60と電気的に接続されている。固定電極50は、被施術者の皮膚に対して高周波電流を通電させる。固定電極50は、少なくとも穴12cから露出する表面が、ハウジング10の外側に湾曲するように丸みを帯びた形状を有するように形成されることが望ましい。このような丸みを帯びた形状を有することによって、被施術者の皮膚との接触面積を小さくすることができる。この結果、被施術者の肌面に接触したときの、肌面に対するストレスを低減することができる。
図3に示すように、印刷回路基板60には、それぞれ制御部61、電流制御部62、ヒータ制御部63及びセンサ部64として機能する種々の制御回路が形成される。制御部61は、電流制御部62、ヒータ制御部63及びセンサ部64を制御する制御回路で構成される。
制御部61は、温度計17の出力を換算してヒータ20によって暖められた人の肌面の温度を算出することができる。
The fixed electrode 50 is provided with its surface exposed so as to be flush with a part of the exposed surface of the roller electrode 40. The fixed electrode 50 is electrically connected to the printed circuit board 60. The fixed electrode 50 allows a high-frequency current to flow through the skin of the patient. The fixed electrode 50 is desirably formed so that at least the surface exposed from the hole 12 c has a rounded shape so as to curve outward of the housing 10. By having such a rounded shape, the contact area with the skin of the patient can be reduced. As a result, it is possible to reduce stress on the skin surface when contacting the skin surface of the person to be treated.
As shown in FIG. 3, various control circuits functioning as a control unit 61, a current control unit 62, a heater control unit 63, and a sensor unit 64 are formed on the printed circuit board 60. The control unit 61 includes a control circuit that controls the current control unit 62, the heater control unit 63, and the sensor unit 64.
The control unit 61 can calculate the temperature of the skin surface of the person warmed by the heater 20 by converting the output of the thermometer 17.

制御部61は、ハウジング10の移動やローラ電極40の振動の有無を示す検知信号をセンサ部64が備える加速度センサ64aから受信する。制御部61は、受信した検知信号や温度計17の出力に基づいて電流制御部62及びヒータ制御部63を制御して、ローラ電極40及び又は固定電極50への給電のON・OFF及びヒータ20のON・OFFを制御する。
図3に示す電流制御部62は、印刷回路基板60に設けた制御部61の一部をなしており、二次電池30から得られ、ヒータ20、ローラ電極40及び又は固定電極50に供給される電流の周波数変換をおこなったり、各部に対する給電をON・OFFしたりする。例えば、ローラ電極40及び又は固定電極50に供給される電流として、電流制御部62は、二次電池30から供給される電流を所定の周波数(例えば、300kHz〜10MHz)に変換する。ヒータ20に対しては、二次電池から給電される直流をそのまま供給してもよいし、任意の周波数(例えば、0〜10MHz)に変換し、供給してもよい。
The control unit 61 receives a detection signal indicating whether the housing 10 has moved or the roller electrode 40 has vibrated from an acceleration sensor 64 a provided in the sensor unit 64. The control unit 61 controls the current control unit 62 and the heater control unit 63 based on the received detection signal and the output of the thermometer 17 to turn on / off the power supply to the roller electrode 40 and / or the fixed electrode 50 and the heater 20. Controls ON / OFF.
The current control unit 62 shown in FIG. 3 forms part of the control unit 61 provided on the printed circuit board 60, is obtained from the secondary battery 30, and is supplied to the heater 20, the roller electrode 40 and / or the fixed electrode 50. The frequency conversion of the current to be performed is performed, and the power supply to each part is turned ON / OFF. For example, as the current supplied to the roller electrode 40 and / or the fixed electrode 50, the current control unit 62 converts the current supplied from the secondary battery 30 into a predetermined frequency (for example, 300 kHz to 10 MHz). Direct current fed from the secondary battery may be supplied to the heater 20 as it is, or may be converted to an arbitrary frequency (for example, 0 to 10 MHz) and supplied.

ローラ電極40及び固定電極50へ供給される電流の周波数は、同一周波数であってもよいし、異なる周波数としてもよい。それぞれ異なった周波数の電流をローラ電極40及び又は固定電極50に給電することにより、周波数に応じた固有の電気的刺激を被施術者の皮膚に供給することができる。
ヒータ制御部63は、制御部61に制御されてヒータ20をON・OFFする。この制御は、温度計17により検出された温度が所定の設定温度よりも低くなった場合に、ヒータ20への給電回路を閉じ、温度計17により検出された温度が高くなった場合には、ヒータ20への給電回路を開くことで行う。
The frequency of the current supplied to the roller electrode 40 and the fixed electrode 50 may be the same frequency or different frequencies. By supplying electric currents of different frequencies to the roller electrode 40 and / or the fixed electrode 50, it is possible to supply a specific electrical stimulus corresponding to the frequency to the skin of the subject.
The heater control unit 63 is controlled by the control unit 61 to turn the heater 20 on and off. In this control, when the temperature detected by the thermometer 17 becomes lower than a predetermined set temperature, the power supply circuit to the heater 20 is closed, and when the temperature detected by the thermometer 17 becomes high, This is done by opening a power supply circuit to the heater 20.

(遠赤外線の放射について)
次に図2を用いて、ヒータ20の構造及び作用を詳しく説明する。
ヒータ20は、断熱層15及び反射層16が配設された開口12aに対向する壁面10a〜10cに囲まれた凹部の空間14の奥に配置される。
ヒータ20の主放熱面20aから放射された遠赤外線の一部(図中の「FirA」:Far infrared rays A参照。)は、遠赤外線透過窓18を透過して、開口12aの外部に放出される。ヒータ20の主放熱面20a以外の部位(例えば、裏面20b)から放射された遠赤外線(図中の「FirB」:Far infrared rays B参照。)は、反射層16によって反射される。この反射された遠赤外線が、赤外線透過窓18から外部に放出される。
(About far-infrared radiation)
Next, the structure and operation of the heater 20 will be described in detail with reference to FIG.
The heater 20 is disposed at the back of the concave space 14 surrounded by the wall surfaces 10a to 10c facing the opening 12a in which the heat insulating layer 15 and the reflective layer 16 are disposed.
A part of the far infrared rays radiated from the main heat radiating surface 20a of the heater 20 (refer to “FirA” in the figure: Far infrared rays A) passes through the far infrared ray transmission window 18 and is emitted to the outside of the opening 12a. The Far-infrared rays (see “FirB” in the figure: Far infrared rays B in the figure) radiated from a portion (for example, the back surface 20 b) other than the main heat radiating surface 20 a of the heater 20 are reflected by the reflective layer 16. The reflected far infrared rays are emitted to the outside from the infrared transmission window 18.

(高周波美容処理装置1の動作について)
次に、図4を参照して、高周波美容処理装置1の動作について説明する。
(1)動作開始(ステップS101〜ステップS103)
施術者が操作面13に配置された種々のスイッチの内、高周波美容処理装置1の作動スイッチを押下したことに対応して、制御部61は、ヒータ制御部63を制御してヒータ20への給電を開始させる(ステップS101、102)。この結果、電力を供給されたヒータ20は発熱し、遠赤外線が開口12aから放射される。
ヒータ20の放射熱によって温度計17の電気抵抗が変化する。制御部61は、温度計17からの出力に基づいて、ヒータ20の発熱温度が予め設定された目標温度に達したか否かを検知する。
(About operation | movement of the high frequency beauty treatment apparatus 1)
Next, the operation of the high-frequency beauty treatment apparatus 1 will be described with reference to FIG.
(1) Operation start (step S101 to step S103)
In response to the practitioner pressing the operation switch of the high-frequency beauty treatment apparatus 1 among the various switches arranged on the operation surface 13, the control unit 61 controls the heater control unit 63 to connect to the heater 20. Power supply is started (steps S101 and S102). As a result, the heater 20 supplied with power generates heat, and far infrared rays are emitted from the opening 12a.
The electric resistance of the thermometer 17 is changed by the radiant heat of the heater 20. Based on the output from the thermometer 17, the controller 61 detects whether or not the heat generation temperature of the heater 20 has reached a preset target temperature.

ヒータ20の発熱温度が目標温度に達していなかった場合、制御部61は、ヒータ20の発熱温度が目標温度に達するまでヒータ20への給電が継続されるように制御する(ステップS103)。
(2)ON・OFF制御(ステップS104〜S108のNo)
制御部61は、温度計17の出力をヒータ20によって暖められた人の肌面の温度に換算する。換算された肌面の温度が予め設定された温度より上だった場合、制御部61は、ヒータ20をOFFに制御する(ステップS104のNo、ステップS105)。この結果、ヒータ20の温度が徐々に低下する。
次に、制御部61は、ローラ電極40及び固定電極50への高周波電流の給電をOFFにする(ステップS106)。
When the heat generation temperature of the heater 20 has not reached the target temperature, the control unit 61 performs control so that the power supply to the heater 20 is continued until the heat generation temperature of the heater 20 reaches the target temperature (step S103).
(2) ON / OFF control (No in steps S104 to S108)
The controller 61 converts the output of the thermometer 17 into the temperature of the person's skin surface warmed by the heater 20. When the converted skin surface temperature is higher than the preset temperature, the control unit 61 controls the heater 20 to be OFF (No in step S104, step S105). As a result, the temperature of the heater 20 gradually decreases.
Next, the control unit 61 turns off the high-frequency current feeding to the roller electrode 40 and the fixed electrode 50 (step S106).

制御部61は、人の肌面の温度が設定された温度以下になるまで、ステップS104〜S106の処理を繰り返す。
制御部61は、人の肌面の温度が設定された温度以下だった場合、ヒータ20をONに制御する(ステップS107)。この結果、ヒータ20の温度は上昇する。
制御部61は、ステップS104〜S107の処理を加速度センサ64aによって高周波美容処理装置1が移動状態であることが検知されるまで繰り返す(ステップS108No)。ステップS104〜S107の処理が繰り返されることで、ヒータ20の温度はほぼ一定(例えば42℃)に保たれる。
The control unit 61 repeats the processes of steps S104 to S106 until the temperature of the human skin surface is equal to or lower than the set temperature.
When the temperature of the human skin surface is equal to or lower than the set temperature, the control unit 61 controls the heater 20 to be turned on (step S107). As a result, the temperature of the heater 20 rises.
The control unit 61 repeats the processes in steps S104 to S107 until the acceleration sensor 64a detects that the high-frequency beauty treatment apparatus 1 is in the moving state (No in step S108). By repeating the processes of steps S104 to S107, the temperature of the heater 20 is kept substantially constant (for example, 42 ° C.).

(3)高周波電流供給ON制御(ステップS108のYes及びステップS109)
制御部61は、加速度センサ64aからの検知信号を受信した場合(ステップS108のYes)、ローラ電極40及び固定電極50への給電をONに制御する(ステップS109)。
(4)停止処理(ステップS110、S111)
制御部61は、施術者によって、停止操作がされるまでステップS104〜S109の処理を繰り返す(ステップS110のNo)。
制御部61は、施術者によって停止操作がされたことを検知した場合(ステップS110のYes)、ヒータ20、ローラ電極40及び固定電極50への給電をOFFに制御する(ステップS111)。
(3) High-frequency current supply ON control (Yes in step S108 and step S109)
When receiving the detection signal from the acceleration sensor 64a (Yes in Step S108), the controller 61 controls the power supply to the roller electrode 40 and the fixed electrode 50 to be ON (Step S109).
(4) Stop processing (steps S110 and S111)
The control unit 61 repeats the processes in steps S104 to S109 until the practitioner performs a stop operation (No in step S110).
When the control unit 61 detects that a stop operation has been performed by the practitioner (Yes in Step S110), the control unit 61 controls power supply to the heater 20, the roller electrode 40, and the fixed electrode 50 to be OFF (Step S111).

以上のように動作する高周波美容処理装置1によれば、ローラ電極40及び固定電極50を被施術者の肌面に接触させた状態でハウジング10を移動させることによって、被施術者の肌面に、高周波電流を流すことができる。そして、高周波美容処理装置1によれば、開口12aから放出された遠赤外線を肌に放射することによって肌面を即座に暖めることができる。
この結果、被施術者は、高周波電流の通電のみにより得られる体感温度に比べて、体感温度の実質的な上昇が早くなり、効果をより速やかに実感することができる。
According to the high-frequency beauty treatment apparatus 1 that operates as described above, the housing 10 is moved in a state where the roller electrode 40 and the fixed electrode 50 are in contact with the skin surface of the person to be treated. High-frequency current can be passed. And according to the high frequency beauty processing apparatus 1, the skin surface can be immediately warmed by radiating the far infrared rays emitted from the opening 12a to the skin.
As a result, the practitioner has a substantial increase in the sensible temperature compared to the sensible temperature obtained only by applying a high-frequency current, and can feel the effect more quickly.

ローラ電極40及び固定電極50が開口12aを挟むように配置されているので、被施術者はあたかもローラ電極40及び固定電極50によって流れる高周波電流の作用によって皮膚が温められていると感じることができる。
高周波美容処理装置1によれば、検知信号を受信しなかった場合には、ローラ電極40及び固定電極50への給電が行われないので、高周波美容処理装置1が被施術者の肌面上で静止状態になった場合に、高周波電流が皮膚に供給され続けることを防止できる。この結果として、高周波電流が皮膚の一か所に流れ続けることによって皮膚が火傷してしまうことを防止することができる。
Since the roller electrode 40 and the fixed electrode 50 are arranged so as to sandwich the opening 12a, the patient can feel as if the skin is warmed by the action of the high-frequency current flowing through the roller electrode 40 and the fixed electrode 50. .
According to the high-frequency beauty treatment apparatus 1, when the detection signal is not received, power is not supplied to the roller electrode 40 and the fixed electrode 50. Therefore, the high-frequency beauty treatment apparatus 1 is on the skin surface of the person to be treated. In a stationary state, it is possible to prevent high-frequency current from being continuously supplied to the skin. As a result, it is possible to prevent the skin from being burned by the high-frequency current continuing to flow in one part of the skin.

[第2の実施形態]
次に図5を参照して、第2の実施形態について説明する。図5に示すように、この実施形態は、第1の実施形態が備えるローラ電極40を球状の球状電極140に置き換えたものであり、その他の構成は第1の実施形態と同様である。したがって、第1の実施形態と共通する部分については、対応する箇所に同一の符号を付して重複する説明を省略する。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 5, in this embodiment, the roller electrode 40 provided in the first embodiment is replaced with a spherical electrode 140, and other configurations are the same as those in the first embodiment. Therefore, about the part which is common in 1st Embodiment, the same code | symbol is attached | subjected to a corresponding location and the overlapping description is abbreviate | omitted.

この実施形態の面12には球状電極140の一部の表面が露出する球状電極露出孔112bが設けられる。球状電極露出孔112bは、開口12aを上下から挟みつつ穴12cの配置方向に略直交するように略一直線状に並んで配置される。球状電極露出孔112bは、面12の表面からハウジング110内部に向けて貫通する。   The surface 12 of this embodiment is provided with a spherical electrode exposure hole 112b through which a part of the surface of the spherical electrode 140 is exposed. The spherical electrode exposure holes 112b are arranged in a substantially straight line so as to be substantially orthogonal to the arrangement direction of the holes 12c while sandwiching the opening 12a from above and below. The spherical electrode exposure hole 112 b penetrates from the surface 12 toward the inside of the housing 110.

球状電極140は、被施術者の肌面に対して滑らかに転動する。球状電極140は、被施術者の皮膚に対して高周波電流を通電させる。球状電極140は、球状電極露出孔112bに設けられた図示はしない摺動電極と接触しており、常時印刷回路基板60と電気的に接続される。
高周波美容処理装置2によれば、球状電極140が球状に形成されているので、球状電極140が被施術者の肌面上を転動する際の接触面積を小さくでき、被施術者の肌面に接触したときの、肌面に対するストレスをさらに低減することができる。そして、球状電極140によって、電気的刺激が局所的に集中すると共に押圧及び転動による物理的刺激が強くなり、第1の実施形態とは異なる美容効果を得ることができる。
The spherical electrode 140 rolls smoothly with respect to the skin surface of the patient. The spherical electrode 140 applies a high-frequency current to the skin of the patient. The spherical electrode 140 is in contact with a sliding electrode (not shown) provided in the spherical electrode exposure hole 112b, and is always electrically connected to the printed circuit board 60.
According to the high-frequency beauty treatment apparatus 2, since the spherical electrode 140 is formed in a spherical shape, the contact area when the spherical electrode 140 rolls on the skin surface of the patient can be reduced, and the skin surface of the patient can be reduced. It is possible to further reduce the stress on the skin surface when touching. The spherical electrode 140 concentrates the electrical stimulation locally and increases the physical stimulation by pressing and rolling, so that a cosmetic effect different from that of the first embodiment can be obtained.

[第3の実施形態]
次に図6を参照して、第3の実施形態について説明する。第3の実施形態に係る高周波美容処理装置3を示す斜視図である。図6に示すように、この実施形態は、固定電極50及び開口12aに換えて伝熱端子250を面12に配設し、伝熱端子250自体を加熱してヒータとして用いたものである。
また、この実施形態では、伝熱端子250の裏面側にヒータ20が貼り付けられている。そして、温度計17は、伝熱端子250の温度を測定する。
その他の構成は第1及び第2の実施形態と同様である。したがって、第1及び第2の実施形態と共通する部分については、対応する箇所に同一の符号を付して重複する説明を省略する。
この実施形態の面12には、伝熱端子250の被施術者の肌面に当接される面が露出する穴212cが設けられる。
[Third Embodiment]
Next, a third embodiment will be described with reference to FIG. It is a perspective view which shows the high frequency beauty processing apparatus 3 which concerns on 3rd Embodiment. As shown in FIG. 6, in this embodiment, instead of the fixed electrode 50 and the opening 12a, a heat transfer terminal 250 is disposed on the surface 12, and the heat transfer terminal 250 itself is heated and used as a heater.
In this embodiment, the heater 20 is attached to the back side of the heat transfer terminal 250. The thermometer 17 measures the temperature of the heat transfer terminal 250.
Other configurations are the same as those in the first and second embodiments. Therefore, about the part which is common in 1st and 2nd embodiment, the same code | symbol is attached | subjected to a corresponding location and the overlapping description is abbreviate | omitted.
The surface 12 of this embodiment is provided with a hole 212c through which the surface of the heat transfer terminal 250 that comes into contact with the skin surface of the patient is exposed.

穴212cは、面12においてローラ電極40に挟まれて幅方向に並んで配置されている。
伝熱端子250は、例えば、かまぼこ型に成形された薄い金属板の内側にヒータ20が配置されて構成されている。
したがって、ヒータ20に給電することにより、伝熱端子250は内面から加熱され、加熱面が被施術者の皮膚面に当接されることによって、温熱による美容効果が発現される。なお、伝熱端子250に対する給電の制御は、第1及び第2の実施形態と同様である。
The holes 212c are arranged side by side in the width direction between the roller electrodes 40 on the surface 12.
The heat transfer terminal 250 is configured, for example, by arranging the heater 20 inside a thin metal plate formed in a kamaboko shape.
Therefore, by supplying power to the heater 20, the heat transfer terminal 250 is heated from the inner surface, and the heating surface is brought into contact with the skin surface of the person to be treated, so that a beauty effect due to warm heat is expressed. In addition, control of the electric power feeding with respect to the heat-transfer terminal 250 is the same as that of 1st and 2nd embodiment.

高周波美容処理装置3によれば、被施術者に対して、ヒータ20によって暖められた伝熱端子250から供給される熱とローラ電極40から供給される高周波電流によって、体の内部及び外部から同時に熱を与えることができる。   According to the high-frequency beauty treatment apparatus 3, the heat supplied from the heat transfer terminal 250 heated by the heater 20 and the high-frequency current supplied from the roller electrode 40 to the patient at the same time from inside and outside the body. Can give heat.

[その他の実施の形態]
以上、本発明の第1〜第3の実施形態に係る高周波美容処理装置1〜3について説明したが、本発明は上記の実施の形態にのみ限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
例えば、制御部61は、施術者が何らかの異常を感じて高周波美容処理装置1を持つ手を動かした場合、ヒータ20をOFFに制御してもよい。この場合、個々のスイッチの操作をすることなく、ヒータ20への給電が遮断され、ヒータ20がOFFに制御されるため、施術者は安心して処理を続けることができる。制御部61は、この制御を加速度センサ64aからの検知信号を受信したことに対応して行う。
[Other embodiments]
Although the high-frequency beauty treatment apparatuses 1 to 3 according to the first to third embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and does not depart from the gist thereof. Various changes can be made.
For example, when the practitioner feels some abnormality and moves the hand holding the high-frequency beauty treatment apparatus 1, the control unit 61 may control the heater 20 to be turned off. In this case, since the power supply to the heater 20 is cut off and the heater 20 is controlled to be turned off without operating individual switches, the practitioner can continue the process with peace of mind. The control unit 61 performs this control in response to receiving the detection signal from the acceleration sensor 64a.

また、第1の実施形態の高周波美容処理装置1では、温度計17によって検知されたヒータ20の温度に基づいて、ヒータ20への電圧のON・OFFを制御していた。これに換えて、印刷回路基板60が時間を計時するタイマ部を備え、タイマの計時した時間に基づいてヒータ20への電圧のON・OFFを制御するようにしてもよい。
この場合、図4のステップS101、S102において、高周波美容処理装置1の作動スイッチが押下されたことに対応して、制御部61がヒータ20への電力供給をONに制御すると同時に、制御部61がタイマ部に計時を開始させる。
In the high-frequency beauty treatment apparatus 1 according to the first embodiment, ON / OFF of the voltage to the heater 20 is controlled based on the temperature of the heater 20 detected by the thermometer 17. Alternatively, the printed circuit board 60 may include a timer unit that measures time, and the ON / OFF of the voltage to the heater 20 may be controlled based on the time counted by the timer.
In this case, in response to the operation switch of the high-frequency beauty treatment apparatus 1 being pressed in steps S101 and S102 in FIG. 4, the control unit 61 controls the power supply to the heater 20 to be ON, and at the same time, the control unit 61 Causes the timer part to start timing.

そして所定時間(例えば20秒)が経過したら制御部61が、ヒータ20への給電をOFFに制御する。さらにヒータ20への給電のOFF後に、制御部61がタイマ部に再度計時を開始させ、所定時間経過後に再びヒータ20への給電をONに制御してもよい。この場合、高周波美容処理装置1の作動を停止させるスイッチが押下されるまで、タイマ部による計時に基づいたヒータ20への給電のON・OFFの制御を繰り返えし行うことが望ましい。   When a predetermined time (for example, 20 seconds) elapses, the control unit 61 controls the power supply to the heater 20 to be turned off. Further, after the power supply to the heater 20 is turned off, the control unit 61 may cause the timer unit to start timing again and control the power supply to the heater 20 to be turned on again after a predetermined time has elapsed. In this case, it is desirable to repeat ON / OFF control of the power supply to the heater 20 based on the time count by the timer unit until the switch for stopping the operation of the high-frequency beauty treatment apparatus 1 is pressed.

さらなる変形例として、制御部61がローラ電極40及び固定電極50への給電をOFFに制御している場合には、ヒータ20への給電をONに制御し、制御部61が検知信号を受信したことによって、ローラ電極40及び固定電極50への給電をONに制御している場合には、ヒータ20への給電をOFFに制御するように構成することもできる。
このように、ローラ電極40及び固定電極50への給電のON・OFFの制御及びヒータ20への給電のON・OFFの制御を交互に行うことにより、高周波電流とヒータ20からの遠赤外線による熱の供給によって、皮膚が過剰に発熱してしまうことを防止できる。
As a further modification, when the control unit 61 controls the power supply to the roller electrode 40 and the fixed electrode 50 to OFF, the power supply to the heater 20 is controlled to be ON, and the control unit 61 receives the detection signal. Thus, when the power supply to the roller electrode 40 and the fixed electrode 50 is controlled to be ON, the power supply to the heater 20 can be controlled to be OFF.
As described above, the ON / OFF control of the power supply to the roller electrode 40 and the fixed electrode 50 and the ON / OFF control of the power supply to the heater 20 are alternately performed, so that the high-frequency current and the heat generated by the far infrared rays from the heater 20 are controlled. It is possible to prevent the skin from excessively generating heat by supplying.

1〜3…高周波美容処理装置、10,110,210…ハウジング、10a〜10c…壁面、12…面、12a…開口、12b,112b…穴、12c…穴、13…操作面、14…空間、15…断熱層、16…反射層、17…温度計、検知部17a、18…遠赤外線透過窓、20…ヒータ、20a…主放熱面、20b…裏面、30…二次電池、40,140…ローラ電極、41…回転軸、50…固定電極、60…印刷回路基板、61…制御部、63…ヒータ制御部、64…センサ部、64a…加速度センサ、70…電源コード。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1-3 ... High frequency beauty treatment apparatus 10, 110, 210 ... Housing, 10a-10c ... Wall surface, 12 ... surface, 12a ... Opening, 12b, 112b ... Hole, 12c ... Hole, 13 ... Operation surface, 14 ... Space, DESCRIPTION OF SYMBOLS 15 ... Heat insulation layer, 16 ... Reflection layer, 17 ... Thermometer, detection part 17a, 18 ... Far-infrared transmission window, 20 ... Heater, 20a ... Main heat radiation surface, 20b ... Back surface, 30 ... Secondary battery, 40, 140 ... Roller electrode, 41... Rotating shaft, 50... Fixed electrode, 60... Printed circuit board, 61... Control unit, 63 ... Heater control unit, 64 ... Sensor unit, 64a.

Claims (12)

筐体と、
前記筐体に一部を露出させて備えた、被施術者の筋肉に高周波電流による電気的刺激を与えるための対をなす回転電極と、
前記筐体の処理面の前記回転電極間に配置されたヒータと、
前記ヒータ及び前記電極へ給電する電源装置と、
前記ヒータ及び前記電極への給電を制御する給電制御装置と
を備えたことを特徴とする高周波美容処理装置。
A housing,
A pair of rotating electrodes for providing electrical stimulation by high-frequency current to the muscle of the subject, with a part exposed in the housing,
A heater disposed between the rotating electrodes of the processing surface of the housing;
A power supply for supplying power to the heater and the electrode;
A high-frequency beauty treatment apparatus comprising: a power supply control device that controls power supply to the heater and the electrode.
前記給電制御装置は、筐体の前記ヒータ近傍に配置された温度検出器と、
前記温度検出器の出力により前記ヒータへの給電を制御する給電制御手段とを含むことを特徴とする請求項1記載の高周波美容処理装置。
The power supply control device includes a temperature detector disposed in the vicinity of the heater of the housing,
The high frequency cosmetic treatment apparatus according to claim 1, further comprising: a power supply control unit that controls power supply to the heater based on an output of the temperature detector.
前記筐体の前記対をなす回転電極間には、開口が形成され、前記ヒータは前記開口の奥に前記開口を向けて配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の高周波美容処理装置。   3. The high frequency according to claim 1, wherein an opening is formed between the pair of rotating electrodes of the casing, and the heater is disposed with the opening facing the back of the opening. Beauty processing equipment. 前記筐体の前記回転電極間には、金属性の伝熱部が配置され、前記ヒータは前記伝熱部に接触し又は近接して配置されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の高周波美容処理装置。   The metal heat transfer part is arrange | positioned between the said rotating electrodes of the said housing | casing, The said heater is arrange | positioned in contact with or in the vicinity of the said heat transfer part. The high-frequency beauty treatment apparatus according to any one of the above. 前記対をなす回転電極間には、個々の回転電極を結ぶ線と直交する方向に所定の間隔をおいて固定電極が配置されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の高周波美容処理装置。   5. The fixed electrode is disposed between the pair of rotating electrodes at a predetermined interval in a direction orthogonal to a line connecting the individual rotating electrodes. 6. The high-frequency beauty treatment apparatus described in 1. 前記固定電極は、前記金属製の電熱部により形成されていることを特徴とする請求項5に記載の高周波美容処理装置。   The high-frequency beauty treatment apparatus according to claim 5, wherein the fixed electrode is formed by the metal electric heating portion. 前記対をなす回転電極は、平行する一対のローラ電極又は一対の球電極であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の高周波美容処理装置。   The high-frequency beauty treatment apparatus according to any one of claims 1 to 6, wherein the pair of rotating electrodes is a pair of parallel roller electrodes or a pair of spherical electrodes. 前記固定電極が、外側に凸の湾曲面又は球面をなしていることを特徴とする請求項5乃至7のいずれか1項に記載の高周波美容処理装置。   The high-frequency beauty treatment apparatus according to any one of claims 5 to 7, wherein the fixed electrode has an outwardly convex curved surface or spherical surface. 前記給電制御装置は、前記回転電極と、固定電極の給電制御を独立的に行うことが可能な給電制御手段を含むことを特徴とする請求項5乃至8のいずれか1項に記載の高周波美容処理装置。   The high-frequency beauty according to any one of claims 5 to 8, wherein the power supply control device includes power supply control means capable of independently performing power supply control of the rotating electrode and the fixed electrode. Processing equipment. 前記給電制御装置が周波数変換部を備え、前記回転電極及び前記固定電極には同一又は異なる周波数の高周波電流を供給し、前記ヒータには直流又は所定の周波数の交流を供給することを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の高周波美容処理装置。   The power supply control device includes a frequency conversion unit, supplies high-frequency current of the same or different frequency to the rotating electrode and the fixed electrode, and supplies direct current or alternating current of a predetermined frequency to the heater. The high frequency beauty treatment apparatus according to any one of claims 1 to 9. 前記給電制御装置は、前記筐体の振動を検出する加速度センサと、前記加速度センサの出力により前記ヒータへの給電を独立的にオンオフする給電制御手段を含むことを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項記載の高周波美容処理装置。   11. The power supply control device includes: an acceleration sensor that detects vibration of the housing; and a power supply control unit that independently turns on / off power supply to the heater based on an output of the acceleration sensor. The high frequency cosmetic treatment apparatus according to any one of the above. 前記放熱孔には遠赤外線透過部材が配置されていることを特徴とする請求項3記載の高周波美容処理装置。   The high-frequency beauty treatment apparatus according to claim 3, wherein a far infrared ray transmitting member is disposed in the heat radiating hole.
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