KR20200038413A - 특히 마이크로리소그라피용 광학 시스템에서 요소의 노광 동안 노광 에너지를 결정하기 위한 디바이스 - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 광학 시스템에서 요소의 노광 동안 노광 에너지를 결정하기 위한 디바이스로서, 광학 요소(110, 510, 610), 국부적으로 변화하는 격자 주기를 갖는 회절 구조(120, 420, 450, 460, 520, 620), 및 세기 센서 배치를 포함하며, 상기 광학 시스템의 동작 동안 상기 회절 구조(120, 420, 450, 460, 520, 620)에서 회절되는 전자기 방사선이, 적어도 1차의 회절로, 상기 광학 요소(110, 510, 610)에서 실행된 전반사에 의해 상기 세기 센서 배치로 보내지는, 노광 에너지 결정 디바이스에 관한 것이다.

Description

특히 마이크로리소그라피용 광학 시스템에서 요소의 노광 동안 노광 에너지를 결정하기 위한 디바이스{DEVICE FOR DETERMINING THE EXPOSURE ENERGY DURING THE EXPOSURE OF AN ELEMENT IN AN OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR FOR MICROLITHOGRAPHY}
본 출원은 2018년 10월 2일에 출원된 독일 특허출원 제 DE 10 2018 124 314.6호를 우선권으로 청구한다. 이 출원의 내용은 여기서 참조로서 인용된다.
본 발명은 특히 마이크로리소그라피용 광학 시스템에서 요소의 노광 동안 노광 에너지를 결정하기 위한 디바이스에 관한 것이다. 본 발명은 예컨대 마스크 검사 장치에서 사용될 수 있지만, 또한 추가 현미경 관찰 응용에서 및 마이크로리소그라피 투영 노광 장치에서 사용될 수 도 있다.
마이크로리소그라피는, 예컨대 집적회로나 LCD와 같은 미세구조 구성요소를 생산하는데 사용된다. 마이크로리소그라피 공정은 소위 투영 노광 장치로 실행되며, 투영 노광 장치는 조명 디바이스와 투영 렌즈를 포함한다. 조명 디바이스에 의해 조명되는 마스크(레티클)의 이미지가 감광성 층(포토레지스트)으로 코팅되며 투영 렌즈의 이미지 평면에 배치되는 기판(예컨대 실리콘 웨이퍼) 상에 이 경우 투영 렌즈에 의해 투영되어 마스크 구조를 기판의 감광성 코팅에 전사한다.
리소그라피 공정에서, 마스크 상의 원치 않는 결함이 특히 불리한 효과를 가지며, 이는 이들 결함은 모든 노광 단계에서 재현될 수 있기 때문이다. 가능한 결함 위치의 이미징 효과의 직접 분석이 그에 따라 마스크 결함을 최소화하며 성공적인 마스크 수리를 실현하기 위해 바람직하다. 그러므로 투영 노광 장치에서 실제 존재하는 것과 동일한 조건 하에서 가능한 정밀하게, 마스크를 신속하고 간단히 측정하거나 검증할(qualify) 필요가 있다. 이를 위해, 마스크 검사 장치에서, 마스크의 세그먼트의 에어리얼 이미지를 기록하며 평가하는 것이 알려져 있다. 에어리얼 이미지를 기록하기 위해, 이 경우 마스크 상에서 측정될 구조는 조명 광학 유닛에 의해 조명되며, 마스크로부터 유래한 광이 이미징 광학 유닛을 통해 검출기 유닛 상에 투영되어 검출된다.
마스크 상에 존재하는 구조의 측정 동안 최고 가능 절대 정확도를 달성하기 위해, 마스크 노광 장치에서 마스크의 노광 동안 사용된 노광 에너지의 인식이 필요하다. 이 노광 에너지를 결정하기 위해, 특히 도 7의 개략적 기본도에 따라, 마스크 검사 장치에서, 루미너스(luminous) 필드 조리개(701)로부터 측정 오브젝트(705) 또는 마스크로 진행하는 빔 경로로부터, 빔 분할기(703)의 도움으로 전자기 방사선의 일부를 출력하여 이를 에너지 또는 세기 센서(707) 상세 보내는 것이 알려져 있다. 이 경우, 도 7에 따라, 렌즈 요소(702, 704 및 706)는 또한 광학 빔 경로 상에 자리하며, 렌즈 요소(704)는, 광학 시스템 축(OA)을 따라 움직일 수 있는 집광기를 형성한다.
노광 에너지의 앞서 기재한 결정 동안 실제로 일어나는 한 가지 문제점은, 획득한 측정 결과가, 광을 출력하는데 사용되는 빔 분할기(703)와 측정 오브젝트(705) 사이에서, 전자기 방사선이 각각의 광학 시스템에 존재하는 분위기 및/또는 (예컨대, 회절 효과에 의해) 아마도 존재할 광학 요소에 의해 추가로 영향을 받는다는 점에 의해 실제 노광 에너지로부터 벗어나 있을 수 있거나, 그에 관련하여 손상될 수 있다는 점이다. 측정 오브젝트 또는 마스크로부터의 최소 가능 거리에서의 에너지 측정의 실현은 - 이 실현은 원칙적으로 이 배경기술에 대해 바람직함 - 그러나 이 영역에서 각각의 광학 구성요소에 이용 가능한 구조적 공간이 마지막 집광기 렌즈 요소와 마스크 사이의 (예컨대 단지 수 밀리미터일 수 도 있는) 최소 거리로 인해 상대적으로 큰 범위로 제한된다는 점에 의해, 더욱더 어렵게 된다.
종래 기술에 관하여, 예를 들어서만 DE 10 2013 212 613 B4를 참조해야 한다.
본 발명의 목적은, 앞서 기재한 문제점을 회피하면서도 노광 에너지가 가능한 정확하게 결정되게 할 수 있는, 광학 시스템에서의 요소의 노광 동안 노광 에너지를 결정하기 위한 디바이스를 제공하는 것이다.
이 목적은 독립항 1의 특성에 따른 디바이스에 의해 달성된다.
광학 시스템에서 요소의 노광 동안 노광 에너지를 결정하기 위한 본 발명에 따른 디바이스는:
- 광학 요소,
- 국부적으로 변화하는 격자 주기를 갖는 회절 구조, 및
- 세기 센서 배치를 포함하며,
- 광학 시스템의 동작 동안 회절 구조에서 회절되는 전자기 방사선은, 적어도 1차의 회절로, 광학 요소에서 실행된 전반사에 의해 세기 센서 배치로 보내진다.
본 발명은, 특히 관련 요소로부터 매우 작은 거리에서 또는 바로 그 상류에서 - 예컨대 마스크 검사 장치에서의 마스크와 같은 - 요소의 노광 동안 노광 에너지의 결정을, 전자기 방사선이, 요소나 마스크에 바로 근접하게 자리한 관련 위치에서, 회절 구조에서 회절에 의해 출력되어 광 도파관으로서 기능하는 광학 요소 내에서 전반사에 의해 세기 센서 배치로 보내진다는 점에 의해, 실현하는 개념을 기초로 한다.
다시 말해, 본 발명에 따라, 방사선을 출력할 목적으로 측정 오브젝트나 마스크의 바로 상류의 광학 빔 경로에 도입된 회절 구조가, 이 회절 구조에서 회절된 전자기 방사선의 적어도 1차의 회절(통상 ±1차의 회절)에 대해 전반사의 임계각이 본 발명에 따라 제공되며 광 도파관으로서 역할을 하는 광학 요소에서의 후속한 경계 상에 충돌하면 초과되도록, 적어도 하나의 회절 격자의 형태로 설계된다. 이 경우, 본 발명은, 관련 ±1차의 회절에 대해, 이 에너지 측정 동안 획득된 결과가, 우수한 가정으로, 측정 오브젝트나 마스크의 노광에 실제 관련되는 0차의 회절에 응용될 수 있다는 고려를 기초로 한다.
일 실시예에 따라, 광학 시스템은 광학 시스템 축을 가지며, 격자 주기는 이 광학 시스템 축으로부터 거리가 증가함에 따라 감소한다.
일 실시예에 따라, 회절 구조는 광학 요소의 광 입사면 상에 구현된다.
일 실시예에 따라, 회절 구조는 이 광 입사면의 부분 영역 상에서만 구현된다.
일 실시예에 따라, 회절 구조는, 하나의 동일한 차수의 회절이 관련 회절 격자에 의해 보내지는 방향에 있어서 서로 상이한 복수의 회절 격자를 갖는다.
일 실시예에 따라, 세기 센서 배치는 복수의 세기 센서를 갖는다.
일 실시예에 따라, 세기 센서 배치는 적어도 하나의 공간 분해 세기 센서를 갖는다.
일 실시예에 따라, 회절 구조는 적어도 하나의 위상 격자를 갖는다.
본 발명은 앞서 기재한 특성을 갖는 디바이스를 갖는 광학 시스템에 관한 것이다. 이 경우, 광학 시스템은, 특히 마스크 검사 장치나 마이크로리소그라픽 투영 노광 장치일 수 있다.
본 발명의 추가 구성은 상세한 설명 및 종속항으로부터 이해할 수 있다.
본 발명은, 수반하는 도면에 예시한 예시적인 실시예를 기초로 하여 이하에서 상세하게 설명될 것이다.
도 1은, 본 발명의 일 실시예에서 노광 에너지를 결정하기 위한 디바이스의 기능 원리와 가능한 구조를 설명하기 위한 개략적인 예시를 도시한다.
도 2는, 본 발명에 따른 디바이스에 존재하는 격자 구조에서 격자 주기의 가능한 변경의 도면을 도시한다.
도 3 내지 도 6은 본 발명의 추가 가능 실시예를 설명하기 위한 개략적 예시를 도시한다.
도 7은 노광 에너지를 결정하기 위한 종래의 접근을 설명하기 위한 개략적 예시를 도시한다.
도 8은 마스크 검사 장치의 일 예시적 구조를 설명하기 위한 개략적 예시를 도시한다.
도 8은, 본 발명이 실현될 수 있는 마스크 검사 장치(800)의 가능 구조를 도시한다.
도 8에 따라, 마스크 검사 장치(800)에서, 마스크(821)가 마스크 홀더(820) 상에 장착된다. 마스크(821) 상에서 측정되는 구조는 조명 광학 유닛(810)을 통해 광원(801)에 의해 생성되는 조명 광으로 조명된다. 마스크(821)로부터 유래한 광은 이미징 광학 유닛(830)에 의해 검출기 유닛(840) 상에 이미징되어 검출된다. 검출기 유닛(840)에 의해 기록되는 이미지 데이터는 구조의 위치를 결정하기 위해 평가 유닛(850)에서 평가된다.
이하에서 기재한 노광 에너지를 결정하기 위한 디바이스의 실시예는, 마스크(821) 상에 입사하는 전자기 방사선의 노광 에너지를 확인하기 위해, 특히 도 8에 도시한 구조를 갖는 마스크 검사 장치에서 사용할 수 있다. 추가 응용에서, 그러나 본 발명에 따른 디바이스는 또한 유리하게도 다른 현미경 관찰 응용에서 및 또한 (예컨대 웨이퍼 상에 입사한 전자기 방사선의 노광 에너지를 결정하기 위한) 마이크로리소그라픽 투영 노광 장치에서 사용될 수 있다.
도 1은, 본 발명의 일 실시예에서 노광 에너지를 결정하기 위한 디바이스의 기능 원리와 가능한 구조를 설명하기 위한 개략적인 예시를 도시한다.
도 1에 따라, 예컨대, 광학 빔 경로에서의 마지막 집광기 렌즈 요소 - 이 집광기 렌즈 요소는 "105"로 표기됨 - 와 노광 에너지가 결정되고자 하는 마스크(100) 사이에서, 도 8을 참조하여 기재한 구조를 갖는 마스크 검사 장치에서 본 발명에 따른 디바이스는 회절 구조(120)를 가지며, 이 회절 구조(120)는, 예시적인 실시예에서, 광 도파관으로서 기능하는 광학 요소(110)의 광 입사면 상에서 구현된다. 예시적인 실시예에서, 광학 요소(110)는 석영 유리(SiO2) 판으로서 실현된다. 더 나아가, 본 발명에 따른 디바이스는 세기 센서 배치를 가지며, 이 세기 센서 배치는, 예시적인 실시예에서 2개의 세기 센서(131, 132)를 포함하며, 이 세기 센서 배치 상에는, 후술될 바와 같이 출력되는 전자기 방사선이 렌즈 요소(121 및 122)를 통해 각각 보내진다. 예를 들어, 상업적으로 이용 가능한 광다이오드 어레이가 세기 센서(131, 132)로서 적절하며, 여기서는 공간 분해 세기 측정이 또한 가능하다. 더 나아가, 추가 실시예에서, 이하에서 더 상세하게 기재될 바와 같이, 단지 하나의 세기 센서를 사용할 수 도 있거나, 2개보다 많은 세기 센서를 사용할 수 도 있다.
기능 원리를 예시하기 위해, 도 1은, 광학 요소(110) 또는 회절 구조(120) 상에 입사하는 3개의 예시적인 빔("A", "B" 및 "C") 마다, 0차의 회절에 대한 및 ±1차의 회절에 대한 회절 구조(120)에서의 회절 후의 빔 경로를 개략적으로 예시한다. 이 경우, 회절 구조(120)는, - 도 1에 나타낸 바와 같이 - 적어도 1차의 회절에 대한 회절 구조(120)에서의 회절 후, 전반사의 임계각이 광학 요소(110) 내에서 초과되어, 그 결과, 대응하여 회절된 전자기 방사선이, 광 도파관으로서 동작하는 광학 요소(110) 내에서, 전반사에 의해 각각 측면에 배치되는 세기 센서(131 및 132)에 전달되도록 구성된다.
도 1의 예시적인 실시예에서, 전반사의 상기 조건은 각 경우에 빔("A" 및 "B")의 경우 ±1차의 회절에 대해 및 빔("C")의 경우 -1차의 회절에 대해 어떤 식으로든 여전히 만족된다.
(예컨대, 1nm 미만의 대역폭을 갖는) 바람직하게는 협대역 광원이 전자기 방사선을 생성하는데 사용될 수 있다. 그러나 본 발명은 그로 제한되지 않으며, 상대적으로 광대역 광원의 사용을 회절 구조의 적절한 적응에 의해 또한 고려할 수 있다.
비록, 예시한 예시적인 실시예에서, 회절 구조(120)가 광 도파관으로 기능하는 광학 요소(110)의 광 입사원 상에 바로 배치될지라도, 본 발명은 그로 제한되지 않는다. 오히려, 추가 실시예에서, 광 도파관으로서 기능하는 광학 요소(110)와 회절 구조(120)는 서로 이격된 상호 분리된 구성요소로 실현될 수 도 있다. 도 5는 대응하는 실시예를 도시하며, 도 1과 비교하여 유사하거나 실질적으로 기능적으로 동일한 구성요소는 "400"만큼 증가한 참조번호로 표시한다. 이 경우, 회절 구조(520)가 구현되는 별도의 구성요소는 "520a"로 표시한다.
더 나아가, 광 도파관으로서 기능하는 광학 요소(110)는 또한 예시한 평면-평행 형상에서 벗어난 기하학적 모양을 가질 수 있다. 이 경우, 특히, 광 입사면 및/또는 광 출사면의 적절한 기울기 및/또는 곡률에 의해, 전반사 동안 발생하는 반사각의 적절한 적응 및 또한 (예컨대 발생한 반사의 횟수의 증가에 의해) 아마도 원하는 광 혼합 또는 광 균질화를 또한 달성할 수 있다.
더 나아가, 특정 실시예에 따라, 어떤 식으로든 광학 시스템에 존재하는 광학 요소(예컨대, 광학 빔 경로에서 마지막 집광기 렌즈 요소)가 광 도파관으로서 기능하는 본 발명에 따른 광학 요소를 실현하는데 또한 사용될 수 있다. 이를 위해, 하나의 단지 예시적인 실시예에서, 광학 빔 경로에서 마지막 집광기 렌즈 요소는, 볼록하게 만곡된 광 입사면 상에 자리한 회절 구조를 갖는 평철(planoconvex) 렌즈 요소로서 구현될 수 있으며, 전반사는 각 경우에 이 평철 렌즈 요소의 평면 광 출사면에서 발생한다. 도 6은 대응하는 실시예를 도시하며, 도 1과 비교하여 유사하거나 실질적으로 기능적으로 동일한 구성요소는 "500"만큼 증가한 참조번호로 표기한다.
도 1의 예시적인 실시예에서, 광학 요소(110)의 광 입사면 상의 회절 구조(120)는, (광학 시스템 축(OA)으로부터의 또는 x-y 평면에서의 회절 구조(120) 상의 관련 위치의 거리에 대응하는) 반경의 미리 규정된 값을 초과하여 광학 요소(110) 상에 존재하는 회절 구조가 더는 없는 한 국부적으로 경계가 정해진다. 그러한 구성은, 광학 요소(110)의 광 입사면을 통해 전반사되는 빔의 임의의 원치 않는 회절-지시(dictated) 빔 출사를 방지하는 것이 가능한 장점을 갖는다. 그러나 본 발명은 그로 제한되지 않으며, 또한 추가 실시예에서 광학 요소(110)의 광 입사면이 전체 구역 위에서 회절 구조(120)에 의해 덮이는 것도 가능하며, 이 경우 회절 구조(120)의 격자 주기를 적절히 적응시킴으로써 광학 요소(110)의 광 입사면을 통한 원치 않는 회절-지시 빔 출사를 방지하는 것이 가능하다.
회절 구조(120)는, 바람직하게는 격자 주기("피치")에 대해 및 각각의 라인폭("CD")에 대해 타겟된 방식으로 세기 센서 배치를 포함하는 본 발명에 따른 디바이스의 특정 조건에 적응된다. 이 경우, 회절 구조(120)에서의 이 구조 폭에 의해, 세기 센서(131, 132)의 방향에서 각각 출력되는 ±1차의 회절 및 그에 따른 전기 에너지의 세기를 제어하는 것이 가능하다. 가능한 세기 센서(131, 132)의 최적의 변조는 그에 따라 결국, 한편으로, 세기 센서(131, 132)에 보내진 방사선 세기가 저잡음 측정에 대해 충분히 높다는 점, 그러나 다른 한편으로 세기 센서(131, 132)의 과구동(overdriving)이 또한 회피된다는 점에 의해 달성될 수 있다(세기 센서(131, 132)의 과구동을 회피하기 위해, 필요하다면 세기 감소에 적절한 요소도 사용될 수 있다).
더 나아가, 각각의 회절된 빔이 광 도파관으로서 기능하는 광학 요소(110)의 광 출사면 상에 입사하는 각도는 회절 구조(120)의 격자 주기("피치")의 적절한 선택에 의해 설정될 수 있다. 이 경우, 특히, 격자 주기의 국부적인 변경이 또한 실현될 수 있다. 특히, 각각의 0차의 회절의 빔이 직각 입사로 또는 이미 기울어지게 이 광학 요소(110) 상에 입사하는지에 따라 광 도파관으로 기능하는 광학 요소(110)의 광 출사면 상의 입사각을 적응시키기 위해, 회절 구조의 격자 주기의 국부적 변경은, 이 격자 주기가 광학 시스템 축(OA)으로부터의 거리가 증가함에 따라 감소하도록 실현될 수 있다.
하나의 예시적인 가능 프로파일을 도 2에 예시한다. 추가 실시예에서, 회절 구조(120)의 격자 주기의 일부 다른 국부적 프로파일(예컨대, 선형 프로파일)을 또한 특정 조건에 따라 선택할 수 있다. 입사각에 따른 격자 주기의 적응의 하나의 단지 예시적인 가능한 실현을 도 3a 내지 도 3d의 도면에 예시하며, 128nm(도 3a), 118nm(도 3b) 및 110nm(도 3c 및 도 3d)의 격자 주기에 대응하는 4개의 지지 포인트를 이 변경마다 나타낸다. 이 경우, 광 도파관으로서 기능하며 각 경우에 평면 판으로서 다시 한번 예시되는 광학 요소 내에서, 전반사는 (그 회절에 관해 고려된 빔의 수직 광 입사인) 도 3a에 따라 ±1차의 회절에 대해 달성되며, 또한 (점점 더 기울어지는 광 입사인) 도 3b 및 도 3c에 따라 -1차의 회절에 대해 달성된다.
추가 실시예에서, 노광 에너지의 공간 분해 결정은 또한, 본 발명에 따른 회절 구조(120)가 상호 상이한 방향으로 입사 전자기 방사선을 회절시키는 복수의 회절 격자로 구성됨에 의해 실현될 수 있다. 그 예를 단지 개략적으로 도 4a 내지 도 4c에 도시한다.
이 경우, 도 4a에 따라, 각각 x-방향 및 y-방향으로 연장하며, 각 경우에 각각 2개의 할당된 세기 센서(441, 442 및 443, 444)를 갖는 2개의 라인 격자의 중첩으로서 체크 모양 격자 구조(420)를 사용하는 것이 가능하다. 더 나아가, 도 4b 및 도 4c에 따라, 격자 구조(450 및 460) 각각은 복수의 라인 격자(451 내지 455 및 461 내지 468)를 각각 또한 가질 수 있으며, 이러한 라인 격자는 각 경우에 상이한 동공 영역에 할당되며, 전자기 방사선을 상호 상이한 방향으로 또는 상이한 세기 센서(미도시)를 향해 회절시켜, 노광 에너지의 공간 분해 결정을 실현한다.
본 발명의 실시예에서, 캘리브레이션 단계가, 디바이스에 입사하거나 광원(예컨대, 도 8의 광원(801))에 의해 생성되는 조명 광의 세기의 상이한 값에 대해 세기 센서 배치에 의해 측정된 세기를 결정함으로써 실행될 수 있다. 그러한 캘리브레이션에서, 세기 센서 배치에 의해 측정된 세기는 조명 광의 세기의 상이한 국부적 분포(즉, 상이한 조명 설정)에 대해 또한 결정될 수 있어서, 조명 광의 이 세기는 또한 국부적으로 변할 수 도 있음을 고려한다.
본 발명이 특정 실시예를 기초로 하여 기재되었을지라도, 여러 변경 및 대안적인 실시예는 예컨대 개별 실시예의 특성의 조합 및/또는 교환에 의해 당업자에게 자명하다. 그에 따라, 그러한 변경 및 대안적인 실시예가 본 발명에 의해 부수적으로 포함되며, 본 발명의 범위는 수반하는 특허청구범위 및 그 등가물의 의미 내에서만 제한됨은 당업자에게는 자명하다.

Claims (11)

  1. 광학 시스템에서 요소의 노광 동안 노광 에너지를 결정하기 위한 디바이스로서,
    o 광학 요소(110, 510, 610);
    o 국부적으로 변화하는 격자 주기를 갖는 회절 구조(120, 420, 450, 460, 520, 620); 및
    o 세기 센서 배치를 포함하며,
    o 상기 광학 시스템의 동작 동안 상기 회절 구조(120, 420, 450, 460, 520, 620)에서 회절되는 전자기 방사선이, 적어도 1차의 회절로, 상기 광학 요소(110, 510, 610)에서 실행된 전반사에 의해 상기 세기 센서 배치로 보내지는, 노광 에너지 결정 디바이스.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 광학 시스템이 광학 시스템 축(OA)을 가지며, 상기 격자 주기가 상기 광학 시스템 축(OA)으로부터 거리가 증가함에 따라 감소하는 것을 특징으로 하는, 노광 에너지 결정 디바이스.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 회절 구조(120, 420, 450, 460, 620)가 상기 광학 요소(110, 610)의 광 입사면 상에 구현되는 것을 특징으로 하는, 노광 에너지 결정 디바이스.
  4. 청구항 3에 있어서, 상기 회절 구조(120, 420, 450, 460, 620)가 상기 광 입사면의 부분 영역 상에서만 구현되는 것을 특징으로 하는, 노광 에너지 결정 디바이스.
  5. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 회절 구조(420, 450, 460)가 복수의 회절 격자(451 내지 455, 461 내지 468)를 가지며, 상기 복수의 회절 격자(451 내지 455, 461 내지 468)가, 하나의 동일한 차수의 회절이 관련 회절 격자(451 내지 455, 461 내지 468)에 의해 보내지는 방향에 있어서 서로 상이한 것을 특징으로 하는, 노광 에너지 결정 디바이스.
  6. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 세기 센서 배치가 복수의 세기 센서(131, 132, 441, 442, 443, 444)를 갖는 것을 특징으로 하는, 노광 에너지 결정 디바이스.
  7. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 세기 센서 배치가 적어도 하나의 공간 분해 세기 센서를 갖는 것을 특징으로 하는, 노광 에너지 결정 디바이스.
  8. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 회절 구조(120, 420, 450, 460)가 적어도 하나의 위상 격자를 갖는 것을 특징으로 하는, 노광 에너지 결정 디바이스.
  9. 광학 시스템으로서,
    청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 디바이스를 갖는 것을 특징으로 하는, 광학 시스템.
  10. 청구항 9에 있어서, 마스크 검사 장치인 것을 특징으로 하는, 광학 시스템.
  11. 청구항 9에 있어서, 마이크로리소그라픽 투영 노광 장치인 것을 특징으로 하는, 광학 시스템.
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