KR20200029414A - Release film having excellent peelability - Google Patents

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Abstract

The present invention provides a release film with excellent peelability, which has small peel strength, of which the peel strength is difficult to increase even when time elapses in a state of being attached to an adhesive layer, and which does not lower adhesion of the attached adhesive layer since transition of a silicon component to the adhesive layer is low. In addition, the provided release film has a low quantity of charge when being handled, and peeled from an adherend. The release film (5) having, on at least one side surface of a base film (1), a two-layered release agent layer in which a first release agent layer (2) including an antistatic agent but not including particles, and a second release agent layer (4) including particles (3) are stacked in order. The total thickness of the first release agent layer (2) and the second release layer (4) is 0.4-2.0 μm; the protrusion height from the surface of the second release agent layer (4) to the peak of the particle (3) is greater than the above total thickness; and the release agent layers (2, 4) on both side surfaces include a silicon-based release agent.

Description

박리성이 우수한 이형 필름{RELEASE FILM HAVING EXCELLENT PEELABILITY}Release film with excellent peelability {RELEASE FILM HAVING EXCELLENT PEELABILITY}

본 발명은 각종 점착 제품이나 점착제층을 갖는 광학 부재에 있어서, 점착제층의 보호에 사용되는 이형 필름에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 박리력이 작고, 점착제층에 첩합된 상태로 시간이 경과해도 박리력이 증대되기 어렵고, 점착제층에 대한 실리콘 성분의 이행이 적기 때문에, 첩합된 점착제층의 점착력을 저하시키지 않는 박리성이 우수한 이형 필름이며, 또한, 이형 필름을 취급할 때 및 이형 필름을 피착체로부터 박리할 때의 대전량이 적은 이형 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a release film used for the protection of an adhesive layer in an optical member having various adhesive products or an adhesive layer. More specifically, since the peeling force is small and the peeling force is difficult to increase even when the adhesive layer is pasted with time, and the migration of the silicone component to the adhesive layer is small, the adhesive force of the bonded adhesive layer is not reduced. It is a release film excellent in peelability, and also relates to a release film with a small amount of charge when handling the release film and when the release film is peeled from the adherend.

종래부터, 각종 용도에 대해서 이형 필름(박리 필름으로 불리는 경우도 있다)이 사용되고 있다. 그 중에서도 세라믹 적층 콘덴서, 세라믹 기판 등의 각종 세라믹제 전자 부품의 제조시에 사용되는 그린 시트의 성형용 이형 필름, 편광판, 광학 필터, 플랫 패널 디스플레이 등의 제조시에 사용되는 점착제층을 갖는 광학 부재용의 이형 필름, 터치 패널 부재나 광학 부재끼리를 첩합하기 위한 광학 부재 첩합용 점착제층용 이형 필름 등에 널리 사용되고 있다.Conventionally, a release film (sometimes called a peeling film) is used for various uses. Among them, an optical member having a release film for molding a green sheet used in the manufacture of various ceramic electronic components such as a ceramic multilayer capacitor, a ceramic substrate, a pressure-sensitive adhesive layer used in manufacturing a polarizing plate, an optical filter, a flat panel display, etc. It is widely used for a release film for dragons, a release film for a pressure-sensitive adhesive layer for bonding optical members for bonding a touch panel member or an optical member.

세라믹 적층 콘덴서, 세라믹 기판 등의 각종 세라믹제 전자 부품의 제조시에 사용되는 그린 시트는 세라믹 적층 콘덴서의 소형화 및 대용량화에 수반하여 박막화가 진행되고 있다. 그린 시트를 이형 필름으로부터 박리할 때, 이형 필름의 박리력이 큰 경우에는 그린 시트가 파손된다는 점에서, 종래에 비해 박리력이 작은 이형 필름이 요구되고 있다.Green sheets used in the manufacture of various ceramic electronic components, such as ceramic multilayer capacitors and ceramic substrates, are becoming thinner with the miniaturization and larger capacity of ceramic multilayer capacitors. When the green sheet is peeled from the release film, a release film having a smaller peel force than the prior art is required in that the green sheet is damaged when the release force of the release film is large.

한편, 액정 디스플레이를 구성하는 부재인 편광판, 위상차판 등의 광학 부재에 있어서는, 당해 광학 부재에 형성된 광학 부재끼리 또는 다른 부재와 첩합시키는 용도의 점착제층을 보호하기 위해 이형 필름이 사용되고 있다.On the other hand, in optical members, such as polarizing plates and retardation plates, which are members constituting a liquid crystal display, a release film is used to protect the pressure-sensitive adhesive layer for the purpose of bonding optical members formed on the optical member to each other or to other members.

당해 용도에 사용되는 이형 필름은 디스플레이의 대형화에 수반하여, 편광판 등의 광학 부재 및 이형 필름의 치수가 커져, 박리 면적이 커도 가볍게 박리할 수 있는 것이 필요로 되고 있다. 이 때문에, 종래에 비해 박리력이 작은 이형 필름이 요구되고 있다. 또한, 터치 패널의 구성 부재나 광학 부재끼리를 첩합하기 위한 광학 부재용의 점착제층에 대해서는, 태블릿 PC, 태블릿 단말, 터치 패널 등의 박형화에 수반하여, 박막의 점착제층이어도 광학 부재의 단차(예를 들면, 휴대 단말의 커버 유리 등에 사용되는 프레임 인쇄의 단차 등)에 추종할 수 있도록 응집력이 약한 점착제층이 사용되고 있다. 그러나, 응집력이 약한 점착제층을 사용했을 경우, 이형 필름의 박리력이 지나치게 크면 광학 부재용의 점착제층이 변형된다는 점에서 종래에 비해 박리력이 작은 이형 필름이 요구되고 있다.The release film used for this application is required to be able to peel lightly even when the peeling area is large, as the dimensions of the optical member such as a polarizing plate and the release film become large as the display is enlarged. For this reason, there is a demand for a release film having a smaller peel force than conventional ones. In addition, with respect to the pressure-sensitive adhesive layer for optical members for bonding the structural members and the optical members of the touch panel, with the thinning of tablet PCs, tablet terminals, touch panels, etc., even if the pressure-sensitive adhesive layer is a thin film, the step of the optical member (e.g. For example, a pressure-sensitive adhesive layer having a weak cohesive force is used so as to follow the frame printing step used in the cover glass of a portable terminal or the like. However, when a pressure-sensitive adhesive layer having a weak cohesive force is used, a release film having a low peel strength is required compared to the conventional one in that the pressure-sensitive adhesive layer for optical members is deformed when the release force of the release film is too large.

이와 같이, 세라믹 그린 시트의 성형용 이형 필름 및 각종 점착제층을 갖는 광학 부재용의 이형 필름으로는 종래에 비해 박리력이 작은 이형 필름이 요구되고 있다. 이러한 점을 배경으로 하여 특허문헌 1에는 분자 중에 비닐기를 1개만 갖는 실리콘을 함유하는 경화 실리콘을 사용한 이형 필름이 제안되어 있다.As described above, as a release film for forming a ceramic green sheet and a release film for an optical member having various pressure-sensitive adhesive layers, a release film having a small peel force is required compared to the prior art. Against this background, Patent Document 1 proposes a release film using a cured silicone containing silicone having only one vinyl group in its molecule.

또한, 특허문헌 2에는 폴리에스테르 필름의 한쪽 면에 올리고머의 석출 방지층을 형성하고, 그 위에 무용제계의 부가 반응 경화형 실리콘을 함유하는 이형층을 가지며, 테이프 박리력이 15mN/㎝ 이하이고, 또한, 실리콘계 성분의 이행성 평가 접착률이 90% 이상인 이형 필름이 제안되어 있다.In addition, in Patent Document 2, an anti-precipitation layer of an oligomer is formed on one side of a polyester film, and there is a release layer containing a solvent-free addition-reaction-curable silicone, and the tape peel force is 15 mN / cm or less. Release performance evaluation of silicone-based component A release film having an adhesion rate of 90% or more has been proposed.

또한, 특허문헌 3에는 관능기를 갖지 않는 폴리디메틸실록산 등의 경박리 성분을 첨가하지 않는 부가 반응형 실리콘을 사용하고, 50∼65℃의 환경하에서 20시간 이상 열처리를 실시한 이형 필름으로, 아크릴계 점착제의 박리력이 0.15N/50㎜ 이하이며 잔류 접착률이 90% 이상인 이형 필름이 제안되어 있다.In addition, Patent Literature 3 is a release film in which an addition-reactive silicone that does not contain a light-release component such as polydimethylsiloxane having no functional group is added and heat-treated in an environment of 50 to 65 ° C for 20 hours or longer, and an acrylic adhesive. A release film having a peel force of 0.15 N / 50 mm or less and a residual adhesion rate of 90% or more has been proposed.

특허문헌 1∼3에 있어서는, 모두 박리력이 작고, 또한, 첩합된 점착제층의 점착력을 저하시키지 않는 이형 필름이 제안되어 있다. 그러나, 특허문헌 1에 기재된 이형 필름에는 분자 중에 비닐기를 1개만 갖는 실리콘을 함유하는 경화 실리콘을 사용하기 때문에, 비닐기를 완전하게 반응시키지 않으면 비닐기를 1개만 갖는 실리콘이 점착제층에 이행되어, 점착제층의 점착력이 저하된다는 것이 우려된다.In Patent Documents 1 to 3, a release film is proposed in which the peeling force is small and the adhesive force of the bonded adhesive layer is not reduced. However, since the release film described in Patent Document 1 uses a cured silicone containing silicone having only one vinyl group in its molecule, if the vinyl group is not completely reacted, silicone having only one vinyl group is transferred to the adhesive layer, and the adhesive layer It is concerned that the adhesive force of.

또한, 특허문헌 2에 기재된 이형 필름에 대해서는, 올리고머의 석출 방지층을 형성하고 있다는 것이 종래의 이형 필름과 상이하다. 그러나, 무용제계의 부가 반응 경화형 실리콘을 사용하고 있기 때문에, 박리 성능에 관해서는 종래의 이형 필름의 박리 성능을 뛰어 넘는 것은 아니다. 또한, 특허문헌 3에 기재된 이형 필름은 경박리 성분을 첨가하지 않는 부가 반응형 실리콘을 에이징함으로써 경박리화한 것이다. 이 경우, 경박리에 비해서는 첩합된 점착제층의 점착력을 저하시키지 않는 이형 필름이 얻어지나, 박리력을 더욱 저감시키는 것이 곤란하다.The release film described in Patent Document 2 is different from the conventional release film in that an oligomer precipitation prevention layer is formed. However, since the solvent-free addition-reaction-curable silicone is used, the peeling performance does not exceed the peeling performance of a conventional release film. In addition, the release film described in patent document 3 was light-released by aging the addition-reactive silicone to which no light-release component was added. In this case, a release film is obtained that does not lower the adhesive strength of the bonded adhesive layer compared to light peeling, but it is difficult to further reduce the peeling force.

또한, 특허문헌 4에 기재된 이형 필름은 폴리에스테르 필름에 소정의 입자 직경의 불활성 입자를 포함하는 실리콘 박리층을 소정의 두께로 적층한 것이다. 실리콘 박리층을 두껍게 했을 때 발생하는 블로킹(이형 필름을 롤 형상으로 감았을 때, 이형 필름의 배면과 박리층이 유사 접착을 하여 잘 권취되지 않는 현상)을 소정 입자 직경의 불활성 입자를 실리콘 박리층에 첨가함으로써 해결한 것이다. 그러나, 불활성 입자에 의해 실리콘 박리층이 불연속해지기 때문에, 용제가 접촉하면 불활성 입자와 실리콘의 계면에 용제가 침투하여 실리콘이 탈락될 우려가 있다. 또한, 실리콘 박리층의 두께에 비해 입자 직경이 큰 불활성 입자를 첨가하기 때문에, 이형 필름을 점착제층의 표면 보호에 사용했을 경우에, 불활성 입자가 점착제층측에 부착되어 점착제층의 점착력을 저하시키는 경우가 있다.In addition, the release film described in Patent Document 4 is obtained by laminating a silicone release layer containing inert particles having a predetermined particle diameter on a polyester film to a predetermined thickness. Blocking that occurs when the silicone release layer is thickened (when the release film is wound in a roll shape, the back surface of the release film and the release layer are similarly adhered, so that it is not well wound) is used to remove the inactive particles having a predetermined particle diameter from the silicone release layer. It was solved by adding to. However, since the silicone release layer is discontinuous due to the inert particles, when the solvent comes in contact, there is a fear that the solvent penetrates into the interface between the inert particles and the silicon, and the silicon may fall off. In addition, since inert particles having a larger particle diameter than the thickness of the silicone release layer are added, when a release film is used to protect the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, when the inert particles adhere to the pressure-sensitive adhesive layer side, the adhesion strength of the pressure-sensitive adhesive layer is lowered. There is.

한편, 이형 필름을 점착제층 등의 피착체로부터 박리시킬 때 박리 대전이 발생하는 경우가 있다. 이 때문에, 광학 부재의 가공 현장에 있어서는 박리 대전에 의한 이물질 등의 부착, 혹은 혼입에 의한 문제뿐만 아니라, 정전기 장해에 의해 배설된 전자 소자가 손상을 받아 제품 불량이 발생하는 등의 문제를 일으키는 경우가 있었다. 이 때문에, 대전 방지 기능을 갖는 이형 필름이 요구되고 있다. 이러한 것을 배경으로 하여 특허문헌 5∼7에 기재된 이형 필름에는 기재 필름의 표면에 대전 방지층을 형성하고, 그 표면에 실리콘계 이형제층을 형성한 이형 필름이 제안되어 있다. 이러한 제안은 모두 기재 필름과 이형제층 사이에 대전 방지층을 형성함으로써, 대전 방지 성능과 이형성능을 양립시킨 것이지만, 박리 성능의 점에서는 통상의 이형 필름의 박리 성능과는 큰 차이가 없고, 종래 기술을 뛰어 넘는 것은 아니다.On the other hand, peeling electrification may occur when the release film is peeled from an adherend such as an adhesive layer. For this reason, at the processing site of the optical member, problems such as adhesion or contamination of foreign substances due to peeling charge, as well as problems caused by damage to the electronic elements excreted by static electricity disturbances, and product defects, etc. There was. For this reason, a release film having an antistatic function is required. Against this background, a release film in which an antistatic layer is formed on the surface of a base film and a silicone-based release agent layer is formed on the surface of the base film has been proposed. All of these proposals are both antistatic and releasable by forming an antistatic layer between the base film and the release agent layer, but in terms of peeling performance, there is no significant difference from the peeling performance of a conventional release film, and the prior art It is not a jump.

일본 공개특허공보 2008-265227호Japanese Patent Application Publication No. 2008-265227 일본 공개특허공보 2012-136612호Japanese Patent Application Publication 2012-136612 일본 공개특허공보 2006-007689호Japanese Patent Application Publication No. 2006-007689 일본 공개특허공보 2013-208897호Japanese Patent Application Publication No. 2013-208897 일본 특허공보 제2801436호Japanese Patent Publication No. 2801436 일본 공개특허공보 2005-153250호Japanese Patent Application Publication No. 2005-153250 일본 공개특허공보 2014-024204호Japanese Patent Publication No. 2014-024204

본 발명은 박리력이 작고, 점착제층에 첩합된 상태로 시간이 경과해도, 박리력이 증대되기 어려우며, 점착제층에 대한 실리콘 성분의 이행이 적기 때문에, 첩합된 점착제층의 점착력을 저하시키지 않는 박리성이 우수한 이형 필름이며, 또한, 이형 필름을 취급할 때 및 이형 필름을 피착체로부터 박리할 때의 대전량이 적은 이형 필름을 제공하는 것을 과제로 한다.In the present invention, since the peeling force is small and the peeling force is difficult to increase even when time elapses while being stuck to the pressure-sensitive adhesive layer, and the migration of the silicone component to the pressure-sensitive adhesive layer is small, peeling does not decrease the adhesive strength of the bonded pressure-sensitive adhesive layer. It is an object of the present invention to provide a release film with a low charge amount when it is a release film having excellent properties, and when the release film is handled and the release film is peeled from the adherend.

이러한 과제를 해결하기 위해 예의 검토를 행한 결과, 점착제층의 점착력을 저하시키지 않기 위해서는 이형 필름에 사용하는 실리콘계 이형제(박리제로 불리는 경우도 있다)를 점착제층의 표면에 이행하는 실리콘이 적은 것으로 할 필요가 있는 것이 판명되었다. 또한, 점착제층의 표면에 이행하는 실리콘이 적은 실리콘계 이형제를 사용한 경우에도 이형제층의 두께를 특정 두께 이상으로 함으로써 박리력을 작게 할 수 있다는 것이 판명되었다. 그러나, 이형제층의 두께를 두껍게 했을 경우에는, 이형 필름의 제조 공정에 있어서, 이형 필름을 롤 형상으로 권취하고, 이형제층이 이형 필름의 배면에 합해졌을 때 블로킹을 일으켜 이형 필름을 롤 형상으로 매끄럽게 권취할 수 없다는 문제가 발생하였다. 일반적으로, 이형 필름에 사용되는 기재 필름은 그 제조 공정에 있어서, 기재 필름을 롤 형상으로 권취해도 블로킹을 일으키지 않도록 하기 위해, 기재 필름에는 활제 입자를 함유시켜 성막하고 있다.As a result of careful examination to solve such a problem, it is necessary that the silicone that releases the silicone-based release agent (sometimes referred to as a peeling agent) used in the release film to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer in order not to lower the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer. It turned out that there was In addition, it has been found that even when a silicone-based release agent having little silicone to migrate to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is used, the peeling force can be reduced by setting the thickness of the release agent layer to a specific thickness or more. However, when the thickness of the release agent layer is thickened, in the manufacturing process of the release film, the release film is wound up in a roll shape, and when the release agent layer is combined with the back side of the release film, blocking occurs to smoothly release the release film into a roll shape. There was a problem that it could not be wound up. In general, the base film used for the release film is formed by containing active particles in the base film to prevent blocking even when the base film is wound in a roll shape in the manufacturing process.

이 때문에, 기재 필름의 표면은 활제 입자에 의해 요철 구조를 갖고 있으므로, 기재 필름 단체를 롤 형상으로 권취했을 때는 표면끼리 밀착되지 않고 블로킹을 일으키지 않는 것이 분명하다. 따라서, 이형 필름의 배면에 있어서, 기재 필름의 표면은 요철 구조를 갖고 있지만, 이형제층의 두께를 두껍게 함으로써 기재 필름 표면의 요철 구조를 이형제층이 메우는 것이 블로킹을 일으킨 원인인 것으로 생각된다.For this reason, since the surface of the base film has a concavo-convex structure by the lubricant particles, it is clear that when the base film single body is wound in a roll shape, the surfaces do not adhere to each other and do not cause blocking. Therefore, on the back surface of the release film, the surface of the base film has an uneven structure, but it is thought that the filling of the uneven structure on the surface of the base film with the release agent layer is the cause of the blocking.

또한, 박리성과 내블로킹성을 양립시키는 방법을 추가로 예의 검토하여 본 발명을 완성시킬 수 있었다. 본 발명에 따른 이형 필름은 점착제층의 표면에 이행하는 실리콘 성분이 적은 이형제를 사용한 경우에도 박리력을 작게 하기 위해 2층 구성의 이형제층의 총 두께를 0.4㎛ 이상으로 하고 있다. 또한, 본 발명에 따른 이형 필름은 2층 구성의 이형제층과 이형 필름의 배면의 블로킹을 막기 위해, 2층 구성의 이형제층의 최표면에 적당한 표면 조도의 요철 형상을 형성함으로써, 박리성과 내블로킹성을 양립시키는 것을 기술 사상으로 하고 있다. 이 때문에, 이형제층에 적당한 요철 형상을 형성하는 수단으로서, 이형제층에 미립자로서 무기 미립자 및/또는 폴리머 미립자를 함유시키고 있다. 단, 기재 필름에 단순히 미립자를 함유한 이형제층을 형성하는 것만으로는 용제가 접촉하면 미립자와 이형제의 간극으로부터 이형제층과 기재 필름의 계면에 용제가 침투하여, 이형제층이 기재 필름으로부터 박리될 우려가 있다. 이 때문에, 본 발명에 따른 이형 필름에는 용제가 이형제층과 기재 필름의 계면까지 침투하지 않도록 기재 필름과 미립자를 함유한 제2 이형제층 사이에 미립자를 함유하지 않는 제1 이형제층을 형성함으로써 내용제성을 개선하고, 또한, 박리성과 내블로킹성을 양립시키고 있다.In addition, it was possible to complete the present invention by further examining the method of achieving both the peelability and the blocking resistance. The release film according to the present invention has a total thickness of the two-layered release agent layer of 0.4 µm or more in order to reduce the peeling force even when a release agent having a small amount of silicone is transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. In addition, the release film according to the present invention is formed by forming a concavo-convex shape having a suitable surface roughness on the outermost surface of the release agent layer of the two-layer structure to prevent blocking of the release layer of the two-layer structure and the back side of the release film, so that the release property and the blocking resistance are prevented. Making sex compatible is a technical idea. For this reason, as a means for forming an uneven shape suitable for a release agent layer, the release agent layer contains inorganic fine particles and / or polymer fine particles as fine particles. However, if the solvent is contacted by simply forming a release agent layer containing fine particles in the base film, the solvent may penetrate the interface between the release agent layer and the base film from the gap between the fine particles and the release agent, and the release agent layer may be peeled off the base film. There is. For this reason, the release film according to the present invention is solvent-resistant by forming a first release agent layer containing no fine particles between the substrate film and the second release agent layer containing fine particles so that the solvent does not penetrate to the interface between the release agent layer and the base film. And improves both the peelability and the blocking resistance.

한편, 이형 필름에 대전 방지 기능을 부여하는 방법에 대해서는 상기와 같이 제2 이형제층과 기재 필름 사이(기재 필름의 표면)에 대전 방지제층을 형성하면 된다. 그러나, 이 경우, (1) 기재 필름에 대전 방지제층을 가공하는 공정, (2) 미립자를 함유하지 않는 제1 이형제층을 가공하는 공정, (3) 미립자를 함유한 제2 이형제층을 가공하는 공정의 3단계의 공정이 필요해져, 이형 필름의 제조 비용이 높아진다는 문제가 있다. 이 문제를 해결하기 위해 예의 검토를 진행한 결과, 입자를 함유하지 않는 제1 이형제층에 대전 방지제를 함유시킴으로써, 우수한 박리 성능과 대전 방지 성능을 양립시킨 이형 필름이 얻어지는 것을 알아내어 본 발명을 완성시켰다.On the other hand, for the method of imparting an antistatic function to the release film, it is sufficient to form an antistatic agent layer between the second release agent layer and the base film (surface of the base film) as described above. However, in this case, (1) the step of processing the antistatic agent layer on the base film, (2) the step of processing the first release agent layer containing no fine particles, and (3) the step of processing the second release agent layer containing fine particles. There is a problem that a three-step process is required and the production cost of the release film increases. As a result of intensive examination to solve this problem, the present invention was completed by finding that a release film having both excellent peeling performance and antistatic performance was obtained by containing an antistatic agent in the first release agent layer containing no particles. Ordered.

본 발명은 기재 필름의 적어도 한쪽 면에 대전 방지제를 함유하고 미립자를 함유하지 않는 제1 이형제층과, 무기 미립자 및/또는 폴리머 미립자로 이루어지는 미립자를 함유하는 제2 이형제층이 이 순서로 적층된 2층 구성의 이형제층을 갖는 이형 필름으로서, 상기 제1 이형제층과 상기 제2 이형제층의 총 두께가 0.4∼2.0㎛이고, 상기 제2 이형제층의 표면으로부터 상기 미립자의 정점까지의 돌출 높이가 상기 총 두께 이상이고, 또한, 상기 제1 이형제층 및 상기 제2 이형제층이 실리콘계 이형제를 포함하는 것을 특징으로 하는 이형 필름을 제공한다.In the present invention, the first release agent layer containing an antistatic agent and containing no fine particles on at least one side of the base film and a second release agent layer containing fine particles composed of inorganic fine particles and / or polymer fine particles are stacked in this order. A release film having a release agent layer having a layer structure, wherein the total thickness of the first release agent layer and the second release agent layer is 0.4 to 2.0 µm, and the protrusion height from the surface of the second release agent layer to the apex of the fine particles is the Provided is a release film, wherein the first release agent layer and the second release agent layer contain a silicone-based release agent.

상기 제2 이형제층이 실리카, 탄산칼슘, 인산칼슘, 황산바륨, 카올린, 유리 분말, 탤크로 이루어지는 무기 입자군에서 선택된 1종 이상의 무기 미립자 및/또는 실리콘계 수지, 아크릴계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지, 폴리스티렌계 수지, 에폭시계 수지로 이루어지는 고분자 수지 입자군에서 선택된 1종 이상의 폴리머 미립자를 함유하는 것이 바람직하다.The second release agent layer is one or more inorganic fine particles and / or silicone resin, acrylic resin, polyamide resin, poly, selected from the group of inorganic particles consisting of silica, calcium carbonate, calcium phosphate, barium sulfate, kaolin, glass powder, and talc. It is preferable to contain one or more types of polymer fine particles selected from the group of polymer resin particles consisting of ester-based resin, polyethylene-based resin, polypropylene-based resin, polystyrene-based resin, and epoxy-based resin.

또한, 상기 기재 필름이 폴리에스테르 필름인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the said base film is a polyester film.

또한, 상기 2층 구성의 이형제층의 최표면의 표면 저항률이 1.0×1013Ω/□ 이하인 이형 필름이 바람직하다.Further, a release film having a surface resistivity of 1.0 × 10 13 Ω / □ or less on the outermost surface of the release layer of the two-layer structure is preferable.

또한, 본 발명은 적어도 한쪽 면에 점착제층이 적층된 1개 이상의 점착제층을 갖는 적층체와, 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 것에 기재된 이형 필름을 구비하고, 상기 적층체의 점착제층의 표면에 상기 이형 필름의 상기 제2 이형제층이 첩합되어 이루어지는 적층 필름을 제공한다.In addition, the present invention comprises a laminate having at least one pressure-sensitive adhesive layer with at least one pressure-sensitive adhesive layer laminated on one side, and a release film according to any one of claims 1 to 4, and the surface of the pressure-sensitive adhesive layer of the laminate. It provides a laminated film formed by bonding the second release agent layer of the release film to.

본 발명에 의하면, 세라믹 그린 시트의 성형용 이형 필름, 각종 점착제층을 갖는 광학 부재용의 박리성이 우수한 이형 필름을 제공할 수 있다. 본 발명의 이형 필름은 박리력이 작고, 점착제층에 첩합된 상태로 시간이 경과해도 박리력이 증대되기 어려우며, 또한, 점착제층에 대한 실리콘 성분의 이행이 적기 때문에, 첩합된 점착제층의 점착력을 저하시키지 않는 박리성이 우수한 이형 필름이며, 또한, 이형 필름을 취급할 때 및 이형 필름을 피착체로부터 박리할 때의 대전량이 적은 이형 필름을 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the release film for shaping | molding of a ceramic green sheet and the release film excellent in peelability for the optical member which has various adhesive layers can be provided. The release film of the present invention has a small peeling force, and it is difficult to increase the peeling force over time in a state of being bonded to the pressure-sensitive adhesive layer. Also, since the migration of the silicone component to the pressure-sensitive adhesive layer is small, the adhesive force of the bonded pressure-sensitive adhesive layer is improved. It is a release film excellent in peelability that does not deteriorate, and it is also possible to provide a release film with a small amount of charge when handling the release film and when the release film is peeled from the adherend.

도 1은 본 발명의 이형 필름의 일례를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 적층 필름의 제1 형태예를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 적층 필름의 제2 형태예를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 4는 도 1에 있어서의 A부의 확대도이다.
1 is a cross-sectional view schematically showing an example of the release film of the present invention.
2 is a cross-sectional view schematically showing an example of the first aspect of the laminated film of the present invention.
3 is a cross-sectional view schematically showing a second embodiment of the laminated film of the present invention.
FIG. 4 is an enlarged view of part A in FIG. 1.

이하, 본 발명의 바람직한 실시형태에 대해 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described.

도 1은 본 발명의 이형 필름의 일례를 모식적으로 나타내는 단면도이다. 도 1에 있어서, 기재 필름(1)의 한쪽 면에 대전 방지제를 함유하고 미립자를 함유하지 않는 제1 이형제층(2)과, 무기 미립자 및/또는 폴리머 미립자로 이루어지는 미립자(3)를 함유하는 제2 이형제층(4)이 이 순서로 적층되어 2층의 이형제층을 구성하고 있다.1 is a cross-sectional view schematically showing an example of the release film of the present invention. In Fig. 1, a first release agent layer 2 containing an antistatic agent and containing no fine particles on one side of the base film 1 and a fine particle 3 made of inorganic fine particles and / or polymer fine particles The two release agent layers 4 are stacked in this order to form two release agent layers.

본 발명의 이형 필름(5)에 있어서, 기재 필름(1)으로서 사용하는 수지 필름은 용도에 맞추어 선정하면 되지만, 폴리에스테르 수지 필름, 폴리아미드 수지 필름, 폴리이미드 수지 필름, 폴리올레핀 수지 필름, 폴리염화비닐 수지 필름, 폴리스티렌 수지 필름, 아크릴 수지 필름, 아세테이트 수지 필름, 폴리페닐렌술파이드 수지 필름 등을 들 수 있다.In the release film 5 of the present invention, the resin film used as the base film 1 may be selected according to the application, but a polyester resin film, a polyamide resin film, a polyimide resin film, a polyolefin resin film, and polychloride And vinyl resin films, polystyrene resin films, acrylic resin films, acetate resin films, and polyphenylene sulfide resin films.

그 중에서도, 광학 특성이나 내열 특성 등의 특성면이나 가격면, 외관의 품위 등의 면에서 폴리에스테르 수지 필름이 바람직하다. 폴리에스테르 수지로는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트와 폴리에틸렌테레프탈레이트의 공중합체, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 비용이나 광학 특성의 관점에서 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)가 특히 바람직하다. 또한, 광학 특성의 관점에서는 1축 연신 또는 2축 연신된 광학용 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이 바람직하다.Among them, a polyester resin film is preferable in terms of characteristics such as optical properties, heat resistance properties, price, and appearance quality. Examples of the polyester resin include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, copolymers of polyethylene isophthalate and polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and the like. Among these, polyethylene terephthalate (PET) is particularly preferred from the viewpoint of cost and optical properties. Further, from the viewpoint of optical properties, a polyethylene terephthalate film for optics that is uniaxially stretched or biaxially stretched is preferable.

또한, 필요에 따라 기재 필름(1)의 표면에 플라즈마 방전이나 코로나 방전에 의한 표면 개질, 앵커 코트제의 도포 등의 이(易)접착 처리를 실시해도 된다. In addition, if necessary, you may perform an adhesive treatment such as plasma discharge, surface modification by corona discharge, and application of an anchor coat agent to the surface of the base film 1.

기재 필름(1)의 두께는 특별히 제한은 없지만, 이형 필름(5)으로서의 취급의 용이성이나, 이형 필름(5)을 롤 형상으로 권취하는 것을 상정하면, 기재 필름(1)의 두께는 10∼200㎛의 범위가 바람직하고, 25∼150㎛의 범위가 보다 바람직하다.The thickness of the base film 1 is not particularly limited, but assuming ease of handling as the release film 5 and winding the release film 5 in a roll shape, the thickness of the base film 1 is 10 to 200 The range of µm is preferable, and the range of 25 to 150 µm is more preferable.

본 발명의 이형 필름에는 기재 필름의 적어도 한쪽 면에 대전 방지제를 함유하고 미립자를 함유하지 않는 제1 이형제층(2)과, 무기 미립자 및/또는 폴리머 미립자로 이루어지는 미립자(3)를 함유하는 제2 이형제층(4)이 이 순서로 적층되어 2층의 이형제층을 구성하고 있다.In the release film of the present invention, the first release agent layer 2 containing an antistatic agent and containing no fine particles on at least one side of the base film, and a second containing fine particles 3 composed of inorganic fine particles and / or polymer fine particles The release agent layer 4 is stacked in this order to form two release agent layers.

제1 이형제층(2)은 이형 필름의 이형제 처리면의 내용제성을 향상시키기 위해, 기재 필름(1)과 미립자(3)를 함유하는 제2 이형제층(4)을 접착하는 기능과, 이형제로서의 기능(이형 필름을 피착체인 점착제층 등으로부터 박리할 때, 박리시의 응력에 의해 이형제층의 피막이 엘라스토머로서 미소 변형되어, 점착제층과 이형제층의 계면에 응력이 집중되도록 하는 기능)을 갖고 있다.The first release agent layer 2 has a function of adhering the base film 1 and the second release agent layer 4 containing the fine particles 3 to improve the solvent resistance of the release agent treatment surface of the release film, and as a release agent When the release film is peeled from the pressure-sensitive adhesive layer, which is an adherend, the film of the release agent layer is microscopically deformed as an elastomer due to stress at the time of peeling, so that stress is concentrated at the interface between the pressure-sensitive adhesive layer and the release agent layer.

또한, 제1 이형제층(2)은 대전 방지제를 함유함으로써 이형 필름에 대전 방지 성능을 부여하고 있다. 2층 구성의 이형제층(2, 4)의 표면 저항률은 1.0×1013Ω/□ 이하(미만)인 것이 바람직하다. 여기서 2층 구성의 이형제층(2, 4)의 표면 저항률이란, 이형 필름(5)에 적층된 2층 구성의 이형제층(2, 4)의 최표면에 대해 측정되는 표면 저항률(표면 저항값이라고도 한다)이다.In addition, the first release agent layer 2 imparts antistatic performance to the release film by containing an antistatic agent. It is preferable that the surface resistivity of the two-layered release agent layers 2 and 4 is 1.0 × 10 13 Ω / □ or less (less than). Here, the surface resistivity of the two-layered release agent layers 2 and 4 is the surface resistivity (also referred to as the surface resistance value) measured with respect to the outermost surface of the two-layered release agent layers 2 and 4 laminated on the release film 5. Do).

제1 이형제층(2)에 사용하는 이형제로는 실리콘계 이형제를 들 수 있다. 실리콘계 이형제에는 부가 반응형, 축합 반응형, 양이온 중합형, 라디칼 중합형 등의 공지의 실리콘계 이형제를 들 수 있다. 부가 반응형 실리콘계 이형제로서 시판되고 있는 제품에는 예를 들면, KS-776A, KS-776L, KS-847, KS-847T, KS-779H, KS-837, KS-778, KS-830, KS-774, KS-3565, X-62-2829, KS-3650, KNS-3051, KNS-320A, KNS-316, KNS-3002, X-62-1387(신에츠 화학 공업(주) 제조), SRX-211, SRX-345, SRX-357, SD7333, SD7220, SD7223, LTC-300B, LTC-350G, LTC-310, LTC-750A, SP-7025, SP-7248S, SP-7015, SP-7259, LTC-1006L, LTC-1056L(도레이 다우코닝(주) 제조), TPR-6722, TPR-6721, TPR-6702, TPR-6700, TPR-6600, SL6625(모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈사 제조) 등을 들 수 있다. 축합 반응형으로서 시판되고 있는 제품에는 예를 들면, SRX-290, SYLOFF-23(도레이 다우코닝(주) 제조), YSR-3022(모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈사 제조) 등을 들 수 있다. 양이온 중합형으로서 시판되고 있는 제품에는 예를 들면, TPR-6501, TPR-6502, TPR-6500, UV9300, UV9315, UV9430(모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈사 제조), X62-7622, X-62-7660, X-62-7655(신에츠 화학 공업(주) 제조) 등을 들 수 있다. 라디칼 중합형으로서 시판되고 있는 제품에는 예를 들면, KF-2005, X62-7205(신에츠 화학 공업(주) 제조) 등을 들 수 있다. 점착제층에 대한 실리콘 성분의 이행이 적은 이형제로는 경박리 첨가 성분(부가 반응에 관여하는 유기 관능기를 갖지 않는 실리콘, 예를 들면, 폴리디메틸실록산 등)을 함유하지 않는 실리콘계 이형제를 들 수 있다.As a release agent used for the 1st release agent layer 2, a silicone type release agent is mentioned. As the silicone type release agent, known silicone type release agents such as addition reaction type, condensation reaction type, cationic polymerization type, and radical polymerization type are mentioned. Commercially available products as addition-reactive silicone-based release agents include, for example, KS-776A, KS-776L, KS-847, KS-847T, KS-779H, KS-837, KS-778, KS-830, and KS-774 , KS-3565, X-62-2829, KS-3650, KNS-3051, KNS-320A, KNS-316, KNS-3002, X-62-1387 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.), SRX-211, SRX-345, SRX-357, SD7333, SD7220, SD7223, LTC-300B, LTC-350G, LTC-310, LTC-750A, SP-7025, SP-7248S, SP-7015, SP-7259, LTC-1006L, And LTC-1056L (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), TPR-6722, TPR-6721, TPR-6702, TPR-6700, TPR-6600, and SL6625 (manufactured by Momentive Performance Materials). Examples of commercially available products as a condensation reaction type include SRX-290, SYLOFF-23 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), and YSR-3022 (manufactured by Momentive Performance Materials). Products commercially available as cationic polymerization types include, for example, TPR-6501, TPR-6502, TPR-6500, UV9300, UV9315, and UV9430 (manufactured by Momentive Performance Materials, Inc.), X62-7622, and X-62-7660. And X-62-7655 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.). As a product marketed as a radical polymerization type, KF-2005, X62-7205 (made by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example. As a mold release agent with little migration of the silicone component to the pressure-sensitive adhesive layer, a silicone-based mold release agent that does not contain a light peeling additive component (silicone having no organic functional groups involved in the addition reaction, for example, polydimethylsiloxane).

제1 이형제층(2)을 형성하는 실리콘계 이형제는 1종을 단독으로 사용해도 되고, 복수의 품종을 혼합하여 사용해도 된다. 또한, 후술하는 대전 방지제와 함께 실란 커플링제나 젖음성 개량제 등 실리콘계 이형제 이외의 성분을 첨가해도 되고, 박리성, 도공성, 경화성 등을 고려하여 결정하면 된다.The silicone-based release agent for forming the first release agent layer 2 may be used alone or in combination of a plurality of varieties. In addition, components other than a silicone-based mold release agent such as a silane coupling agent or a wettability improving agent may be added together with the antistatic agent described later, and it may be determined in consideration of peelability, coatability, curability, and the like.

또한, 제1 이형제층(2)에 함유시키는 대전 방지제로는 이형제 용액에 대해 분산성 또는 용해성이 양호한 것이고, 또한, 이형제의 경화를 저해하지 않는 것이 바람직하다. 이러한 대전 방지제로는 이온성 화합물, 실리케이트계 화합물, 도전성 필러, 도전성 위스커, 도전성 고분자, 각종 계면활성제 등의 1종 또는 2종 이상을 들 수 있다. 이형제층의 내용제성이나 실리콘계 이형제의 상성의 관점에서, 실리콘계 이형제에 용해하여 미립자를 발생시키지 않는 대전 방지제가 바람직하고, 그 중에서도 이온성 화합물, 실리케이트계 화합물, 실리콘계 계면활성제, 혹은 이들 대전 방지제를 병용한 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the antistatic agent contained in the first release agent layer 2 has good dispersibility or solubility in the release agent solution, and does not inhibit curing of the release agent. Examples of the antistatic agent include one or two or more of ionic compounds, silicate-based compounds, conductive fillers, conductive whiskers, conductive polymers, and various surfactants. From the viewpoint of the solvent resistance of the release agent layer and the compatibility of the silicone release agent, an antistatic agent that does not dissolve in the silicone release agent to generate fine particles is preferable. Among them, an ionic compound, a silicate compound, a silicone surfactant, or an antistatic agent is used in combination. It is preferred.

이온성 화합물로는 양이온과 음이온을 갖는 이온성 화합물로서, 양이온으로는 알칼리 금속 카티온, 피리디늄 카티온, 이미다졸륨 카티온, 피리미디늄 카티온, 피라졸륨 카티온, 피롤리디늄 카티온, 암모늄 카티온 등의 함질소 오늄 카티온이나, 포스포늄 카티온, 술포늄 카티온 등을 들 수 있다. 함질소 오늄 카티온은 알킬기 등의 유기기나 치환기를 가져도 된다. 바람직하게는 4급 함질소 오늄 카티온이며, 1-알킬피리디늄(2∼6위치의 탄소 원자는 치환기를 가져도 되고, 무치환이어도 된다) 등의 4급 피리디늄 카티온이나, 1,3-디알킬이미다졸륨(2, 4, 5위치의 탄소 원자는 치환기를 가져도 되고, 무치환이어도 된다) 등의 4급 이미다졸륨 카티온, N-알킬피리미디늄(2위치 및 4∼6위치의 탄소 원자는 치환기를 가져도 되고, 무치환이어도 된다) 등의 4급 피리미디늄 카티온, 1,2-디알킬피라졸륨(3∼5위치의 탄소 원자는 치환기를 가져도 되고, 무치환이어도 된다) 등의 4급 피라졸륨 카티온, 1,1-디알킬피롤리디늄(2∼5위치의 탄소 원자는 치환기를 가져도 되고, 무치환이어도 된다) 등의 4급 피롤리디늄 카티온, 테트라알킬암모늄 등의 4급 암모늄 카티온 등을 들 수 있다. 포스포늄 카티온으로는 테트라알킬포스포늄 등의 유기기를 갖는 포스포늄 카티온을 들 수 있다. 술포늄 카티온으로는 트리알킬술포늄 등의 유기기를 갖는 술포늄 카티온을 들 수 있다.As an ionic compound, it is an ionic compound having a cation and an anion, and an alkali metal cation, pyridinium cation, imidazolium cation, pyrimidinium cation, pyrazolium cation, pyrrolidinium cation as cation , Nitrogen-containing onium cation such as ammonium cation, phosphonium cation, sulfonium cation, and the like. The nitrogen-containing onium cation may have an organic group such as an alkyl group or a substituent. Preferably it is a quaternary nitrogen onium cation, quaternary pyridinium cations such as 1-alkylpyridinium (the carbon atoms at positions 2 to 6 may have a substituent or may be unsubstituted) or 1,3 -Quaternary imidazolium cations such as dialkylimidazolium (carbon atoms at positions 2, 4, and 5 may have substituents or unsubstituted), N-alkylpyrimidinium (positions 2 and 4 to The carbon atom at the 6-position may have a substituent, or may be unsubstituted) quaternary pyrimidinium cation, 1,2-dialkylpyrazolium (the carbon atom at the 3 to 5-position may have a substituent, Quaternary pyrrolidiniums such as quaternary pyrazolium cations such as unsubstituted) and 1,1-dialkylpyrrolidinium (carbon atoms at positions 2 to 5 may have substituents or unsubstituted). And quaternary ammonium cations such as cation and tetraalkylammonium. Examples of the phosphonium cation include phosphonium cation having an organic group such as tetraalkylphosphonium. Examples of the sulfonium cation include sulfonium cation having an organic group such as trialkylsulfonium.

또한, 음이온으로는 CnH2n+1COO-, CnF2n+1COO-, NO3 -, CnF2n+1SO3 -, (CnF2n+1 SO2)2N-, (CnF2n+1SO2)3C-, RC6H4SO3 -, PO4 3-, AlCl4 -, Al2Cl7 -, ClO4 -, BF4 -, PF6 -, AsF6 -, SbF6 -, SCN- 등을 들 수 있다. 이러한 이온성 화합물은 단독으로 사용해도 되고, 또한, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 이온성 물질의 안정화를 위해 폴리옥시알킬렌 구조를 함유하는 화합물을 첨가해도 된다.In addition, the C n H 2n + 1 COO as an anion -, C n F 2n + 1 COO -, NO 3 -, C n F 2n + 1 SO 3 -, (C n F 2n + 1 SO 2) 2 N -, (C n F 2n + 1 SO 2 ) 3 C -, RC 6 H 4 SO 3 -, PO 4 3-, AlCl 4 -, Al 2 Cl 7 -, ClO 4 -, BF 4 -, PF 6 -, AsF 6 -, SbF 6 -, SCN - And the like. These ionic compounds may be used alone, or may be used by mixing two or more kinds. For stabilization of the ionic substance, a compound containing a polyoxyalkylene structure may be added.

그 중에서도, 양이온으로서 알칼리 금속 양이온을 갖는 이온성 화합물(알칼리 금속염)이 바람직하다. 알칼리 금속염으로는 리튬, 나트륨, 칼륨으로 이루어지는 금속염을 들 수 있으며, 구체적으로는, 예를 들면, Li, Na, K로 이루어지는 양이온과, Cl-, Br-, I-, BF4 -, PF6 -, SCN-, ClO4 -, CF3SO3 -, (FSO2)2N-, (CF3SO2)2N-, (C2F5SO2)2N-, (CF3SO2)3C-로 이루어지는 음이온으로 구성되는 금속염이 바람직하게 사용된다. 이들 중에서도 특히, LiBr, LiI, LiBF4, LiPF6, LiSCN, LiClO4, LiCF3SO3, Li(FSO2)2N, Li(CF3SO2)2N, Li(C2F5SO2)2N, Li(CF3SO2)3C 등의 리튬염이 바람직하게 사용된다. 이들 알칼리 금속염은 단독으로 사용해도 되고, 또한 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 이온성 물질의 안정화를 위해 폴리옥시알킬렌 구조를 함유하는 화합물을 첨가해도 된다.Especially, an ionic compound (alkali metal salt) which has an alkali metal cation as a cation is preferable. Alkali metal salts may include metal salts formed by lithium, sodium, potassium, specifically, for example, Li +, Na +, a cation consisting of K + and, Cl -, Br -, I -, BF 4 - , PF 6 -, SCN -, ClO 4 -, CF 3 SO 3 -, (FSO 2) 2 N -, (CF 3 SO 2) 2 N -, (C 2 F 5 SO 2) 2 N -, (CF A metal salt composed of anions consisting of 3 SO 2 ) 3 C - is preferably used. Among them, LiBr, LiI, LiBF 4 , LiPF 6 , LiSCN, LiClO 4 , LiCF 3 SO 3 , Li (FSO 2 ) 2 N, Li (CF 3 SO 2 ) 2 N, Li (C 2 F 5 SO 2 ) Lithium salts such as 2 N and Li (CF 3 SO 2 ) 3 C are preferably used. These alkali metal salts may be used alone or in combination of two or more. For stabilization of the ionic substance, a compound containing a polyoxyalkylene structure may be added.

실리케이트계 화합물로는 에틸실리케이트나 각종 알콕시실란, 그 올리고머(알콕시실록산) 등, 또한, 이들의 부분 가수분해물, 중축합 반응물 등을 들 수 있다. 도포시에 사용되는 실리케이트계 화합물이 산 등의 촉매나 알코올 등의 용매를 포함하는 용액(조성물)이어도 된다. 실리케이트계 화합물의 가수분해 반응이나 중축합 반응이 이형제의 도포 후에 진행되어도 된다. 실리케이트계 대전 방지제는 반응이 진행되었을 경우에도 내용제성이 우수한 이형제층이 얻어지기 때문에 바람직하다.Examples of the silicate-based compound include ethyl silicate, various alkoxysilanes, oligomers (alkoxysiloxanes), and partial hydrolyzates and polycondensation reactants. The silicate-based compound used at the time of coating may be a solution (composition) containing a catalyst such as acid or a solvent such as alcohol. The hydrolysis reaction or polycondensation reaction of the silicate-based compound may proceed after application of the release agent. Silicate-based antistatic agents are preferred because even when the reaction proceeds, a release agent layer having excellent solvent resistance is obtained.

도전성 필러로는 카본 블랙, 흑연 등의 카본계 필러, 은·구리·니켈 등의 금속 미분말, 산화아연·산화주석 등의 금속 산화물 입자 등을 들 수 있다.Examples of the conductive filler include carbon-based fillers such as carbon black and graphite, metal fine powders such as silver, copper, and nickel, and metal oxide particles such as zinc oxide and tin oxide.

도전성 위스커로는 그래파이트 위스커, 티탄산칼륨 위스커, 알루미나계 위스커, 탄화규소 위스커, 질화규소 위스커, 브롬산마그네슘 위스커, 산화아연 위스커, 브롬화티탄 위스커 등을 들 수 있다.Examples of the conductive whiskers include graphite whiskers, potassium titanate whiskers, alumina-based whiskers, silicon carbide whiskers, silicon nitride whiskers, magnesium bromide whiskers, zinc oxide whiskers, and titanium bromide whiskers.

도전성 고분자로는 폴리티오펜, 폴리아닐린, 폴리피롤 등을 들 수 있다.Examples of the conductive polymer include polythiophene, polyaniline, and polypyrrole.

계면활성제로는 비이온계, 양이온계, 음이온계, 양성계 등을 들 수 있다. 비이온계 계면활성제로는 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류, 소르비탄 지방산에스테르류, 폴리옥시에틸렌소르비탄 지방산에스테르류, 폴리옥시에틸렌 지방산에스테르류, 글리세린 지방산에스테르류, 프로필렌글리콜 지방산에스테르류, 폴리옥시알킬렌 변성 실리콘류 등을 들 수 있다. 양이온계 계면활성제로는 알킬트리메틸암모늄염류, 디알킬디메틸암모늄염류, 알킬벤질디메틸암모늄염류 등을 들 수 있다. 음이온계 계면활성제로는 모노알킬황산염류, 알킬폴리옥시에틸렌황산염류, 알킬벤젠술폰산염류, 모노알킬인산염류 등을 들 수 있다. 양성계 계면활성제로는 알킬디메틸아민옥사이드, 알킬카르복시베타인 등을 들 수 있다.Examples of the surfactant include nonionic, cationic, anionic and amphoteric systems. Nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkylphenyl ethers, sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene fatty acid esters, glycerin fatty acid esters, propylene Glycol fatty acid esters, polyoxyalkylene-modified silicones, and the like. Examples of the cationic surfactant include alkyltrimethylammonium salts, dialkyldimethylammonium salts, and alkylbenzyldimethylammonium salts. Examples of the anionic surfactant include monoalkyl sulfates, alkyl polyoxyethylene sulfates, alkylbenzene sulfonates, and monoalkyl phosphates. Examples of the amphoteric surfactant include alkyl dimethylamine oxide and alkyl carboxybetaine.

이형제에 대한 대전 방지제의 첨가량은 대전 방지제의 종류나 이형제의 친화성의 정도에 따라 상이하고, 대전 방지 성능과 이형제의 경화성 및 박리성을 고려하여 설정하면 된다. 또한, 종류가 상이한 대전 방지제를 병용해도 된다.The amount of the antistatic agent added to the mold release agent varies depending on the type of the antistatic agent or the degree of affinity of the mold release agent, and may be set in consideration of the antistatic performance and the curability and peelability of the mold release agent. Moreover, you may use together antistatic agents of different types.

이형제와 대전 방지제의 혼합 방법에는 특별히 한정은 없다. 이형제에 대전 방지제를 첨가하여 혼합한 후에 이형제 경화용 촉매를 첨가·혼합하는 방법, 이형제를 미리 유기 용제로 희석한 후에 대전 방지제와 이형제 경화용 촉매를 첨가, 혼합하는 방법, 이형제를 미리 유기 용제로 희석 후, 촉매를 첨가·혼합하고, 그 후 대전 방지제를 첨가, 혼합하는 방법 등, 어느 방법이어도 된다. 또한, 필요에 따라 실란 커플링제 등의 밀착 향상제를 첨가해도 된다.There are no particular limitations on the method of mixing the mold release agent and the antistatic agent. Method of adding and mixing a catalyst for curing the release agent after adding an antistatic agent to the release agent and mixing, method of adding and mixing an antistatic agent and a catalyst for curing the release agent before diluting the release agent with an organic solvent, and mixing the release agent with an organic solvent in advance After dilution, any method such as a method of adding and mixing a catalyst and then adding and mixing an antistatic agent may be used. Moreover, you may add the adhesion improver, such as a silane coupling agent as needed.

본 발명에 따른 이형 필름에 있어서, 대전 방지제를 함유하고 미립자를 함유하지 않는 제1 이형제층(2)의 형성은 대전 방지제를 함유한 이형제를 기재 필름(1)에 코팅하여 형성하면 된다. 도공 방법은 특별히 한정되지 않고, 미립자(3)를 함유하지 않는 제1 이형제층(2)을 형성하는 이형제의 점도, 도포량에 맞추어 공지의 도공 방법에서 선정하면 된다. 일례로는, 메이어바 공법, 그라비아 공법, 리버스 롤 공법, 에어 나이프 공법, 다단 롤 공법 등을 들 수 있다. 제1 이형제층(2)의 경화 방법은 가열 경화, 자외선 경화, 전자선 경화, 가열과 자외선 조사의 병용 등의 방법을 들 수 있지만, 이형제의 종류에 맞추어 바람직한 방법을 선택하여 채용하면 된다. 제1 이형제층(2)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 내용제성을 충분히 확보하기 위해서는 0.1㎛ 이상인 것이 바람직하다.In the release film according to the present invention, the formation of the first release agent layer 2 containing the antistatic agent and not the fine particles may be formed by coating the base film 1 with a release agent containing the antistatic agent. The coating method is not particularly limited, and may be selected from known coating methods in accordance with the viscosity and application amount of the release agent forming the first release agent layer 2 containing no fine particles 3. Examples include the Mayer bar method, the gravure method, the reverse roll method, the air knife method, and the multi-stage roll method. As the curing method of the first release agent layer 2, methods such as heat curing, ultraviolet curing, electron beam curing, and combination of heating and ultraviolet irradiation may be mentioned, but a preferred method may be selected and employed according to the type of the release agent. The thickness of the first release agent layer 2 is not particularly limited, but is preferably 0.1 μm or more in order to sufficiently secure solvent resistance.

도 4에 나타내는 바와 같이, 미립자를 함유하지 않는 제1 이형제층(2)의 두께 h1〔㎛〕와, 미립자(3)를 함유하는 제2 이형제층(4)의 두께 h2〔㎛〕(미립자(3)가 없는 부분의 평균적인 두께)를 합계한 총 두께 H〔㎛〕(이하, 2층의 이형제층(2 및 4)의 총 두께로 함)가 0.4∼2.0㎛의 범위에 들어가는 것이 바람직하고, 0.5∼1.8㎛의 범위가 보다 바람직하다.As shown in Fig. 4, the thickness h1 [µm] of the first release agent layer 2 containing no fine particles and the thickness h2 [µm] of the second release agent layer 4 containing the fine particles 3 (fine particles ( 3) It is preferable that the total thickness H [µm] (hereinafter referred to as the total thickness of the two layers of release agent layers 2 and 4) summed up within the range of 0.4 to 2.0 µm, which is the sum of the average thickness of the portion without) , 0.5 to 1.8 µm is more preferable.

본 발명에서는 기재 필름의 적어도 한쪽 면에 대전 방지제를 함유하고 미립자를 함유하지 않는 제1 이형제층(2)과, 무기 미립자 및/또는 폴리머 미립자로 이루어지는 미립자(3)를 함유하는 제2 이형제층(4)이 이 순서로 적층되어 2층의 이형제층을 구성하고 있다. 무기 미립자 및/또는 폴리머로 이루어지는 미립자(3)는 실리콘계 이형제를 포함하는 제2 이형제층(4)의 두께를 두껍게 해도, 제2 이형제층(4)이 이형 필름(5)의 배면(기재 필름(1)의 표면)에 합해졌을 때 블로킹을 일으키지 않도록, 제2 이형제층(4)의 표면에 요철 형상을 형성시키기 위해 사용하는 것이다.In the present invention, the first release agent layer 2 containing an antistatic agent and containing no fine particles on at least one side of the base film, and a second release agent layer containing fine particles 3 composed of inorganic fine particles and / or polymer fine particles ( 4) are stacked in this order to form a two-layer release agent layer. Even if the thickness of the second mold release agent layer 4 containing the silicone type mold release agent is thick, the fine particle 3 made of inorganic fine particles and / or polymer is the back side of the release film 5 (base film ( It is used to form a concavo-convex shape on the surface of the second release agent layer 4 so as not to cause blocking when combined with the surface of 1).

블로킹 방지용 미립자(3)인 무기 미립자 및/또는 폴리머 미립자로는 무기 화합물의 미립자인 무기 미립자나, 고분자 수지의 미립자인 폴리머 미립자를 들 수 있다. 무기 미립자와 폴리머 미립자는 어느 일방을 사용해도 되고, 또한 양쪽을 병용해도 된다. 무기 미립자가 실리카, 탄산칼슘, 인산칼슘, 황산바륨, 카올린, 유리 분말, 탤크로 이루어지는 무기 입자군에서 선택된 1종 이상인 것이 바람직하다. 또한, 폴리머 미립자가 실리콘계 수지, 아크릴계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지, 폴리스티렌계 수지, 에폭시계 수지로 이루어지는 고분자 수지 입자군에서 선택된 1종 이상인 것이 바람직하다.Examples of the inorganic fine particles and / or polymer fine particles as the anti-blocking fine particles 3 include inorganic fine particles as the inorganic compound fine particles and polymer fine particles as the polymer resin fine particles. The inorganic fine particles and the polymer fine particles may be used either, or both of them may be used in combination. It is preferable that the inorganic fine particles are at least one selected from the group of inorganic particles consisting of silica, calcium carbonate, calcium phosphate, barium sulfate, kaolin, glass powder, and talc. Further, it is preferable that the polymer fine particles are at least one selected from the group of polymer resin particles consisting of silicone resin, acrylic resin, polyamide resin, polyester resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polystyrene resin, and epoxy resin. Do.

미립자(3)의 형상은 특별히 한정되지 않고, 구 형상, 봉 형상, 인편 형상, 반구 형상, 볼록 렌즈 형상, 버섯 형상, 부정형 등 어느 것이어도 되지만, 구 형상이나 구 형상에 가까운 형상인 편이 블로킹 방지 성능이 높아지기 때문에 보다 바람직하다.The shape of the fine particles 3 is not particularly limited, and may be any of a spherical shape, a rod shape, a scale shape, a hemispherical shape, a convex lens shape, a mushroom shape, an irregular shape, etc., but a spherical shape or a shape close to a spherical shape is prevented from blocking. It is more preferable because the performance is increased.

또한, 도 4에 나타내는 바와 같이, 미립자(3)의 체적 기준 평균 입자 직경은 제2 이형제층(4)의 두께 h2〔㎛〕보다 큰 것이 바람직하고, 제2 이형제층(4)의 표면으로부터 미립자(3)의 정점까지의 높이 T〔㎛〕(미립자(3)의 돌출 높이)가 제1 이형제층(2)의 두께 h1〔㎛〕과, 제2 이형제층(4)의 두께 h2〔㎛〕를 합계한 총 두께 H〔㎛〕이상이 되는 체적 기준 평균 입자 직경의 미립자를 선정하면 된다. 미립자(3)의 정점은 제2 이형제층(4)의 표면으로부터 가장 떨어진 점이면 되고, 정점이 돌출되어 있거나 둥근 형상을 띠고 있는지는 상관없다.4, the volume-based average particle diameter of the fine particles 3 is preferably larger than the thickness h2 [µm] of the second release agent layer 4, and fine particles from the surface of the second release agent layer 4 The height T (μm) to the apex of (3) (protrusion height of the fine particles 3) is the thickness h1 [μm] of the first release agent layer 2 and the thickness h2 [μm] of the second release agent layer 4 It is sufficient to select fine particles having a volume-based average particle diameter equal to or greater than the total thickness H [µm]. The apex of the fine particles 3 may be any point that is the most distant from the surface of the second release agent layer 4, and it does not matter whether the apex protrudes or has a round shape.

무기 미립자 및/또는 폴리머 미립자로 이루어지는 미립자(3)의 바인더 수지로서도 기능하는 제2 이형제층(4)을 형성하는 이형제로는 실리콘계 이형제를 들 수 있다. 실리콘계 이형제로는 부가 반응형, 축합 반응형, 양이온 중합형, 라디칼 중합형 등의 공지의 실리콘계 이형제를 들 수 있다.As a release agent for forming the second release agent layer 4 which also functions as a binder resin for the fine particles 3 composed of inorganic fine particles and / or polymer fine particles, a silicone-based release agent is mentioned. As a silicone type release agent, well-known silicone type release agents, such as addition reaction type, condensation reaction type, cationic polymerization type, and radical polymerization type, are mentioned.

실리콘계 이형제는 1종을 단독으로 사용해도 되고, 복수의 품종을 혼합하여 사용해도 된다. 또한, 실란 커플링제나 대전 방지제, 젖음성 개량제 등 실리콘계 이형제 이외의 성분을 첨가해도 되고, 박리성, 도공성, 경화성 등을 고려하여 결정하면 된다. 제2 이형제층(4)을 형성하는 실리콘계 이형제는 제1 이형제층(2)을 형성하는 이형제와 동일한 실리콘계 이형제여도 되고, 상이한 것이어도 된다.The silicone-based mold release agent may be used alone or in combination of multiple varieties. Moreover, components other than a silicone type release agent, such as a silane coupling agent, an antistatic agent, and a wettability improving agent, may be added, and it may be determined in consideration of peelability, coatability, curability, and the like. The silicone-based release agent forming the second release agent layer 4 may be the same silicone-based release agent as the release agent forming the first release agent layer 2, or may be different.

미립자(3)는 제2 이형제층(4)을 형성하는 실리콘계 이형제를 함유하는 이형제에 혼합되어, 제1 이형제층(2) 위에 도포된다. 도 4에 나타내는 바와 같이, 미립자(3)의 일부(상부)는 제2 이형제층(4)의 두께 h2〔㎛〕(미립자(3)가 없는 부분의 평균적인 두께)보다 돌출된다. 미립자(3)의 상부 표면에 제2 이형제층(4)의 이형제를 얇게 부착해도 되고, 혹은 부착하지 않아도 상관없다. 미립자(3)의 하부는 제2 이형제층(4)에 메워져 있지만 기재 필름(1)에는 접해 있지 않다. 이는 미립자를 함유하지 않는 제1 이형제층(2)이 개재되기 때문이다.The fine particles 3 are mixed with a release agent containing a silicone-based release agent forming the second release agent layer 4 and applied over the first release agent layer 2. As shown in Fig. 4, a part (upper part) of the fine particles 3 protrudes from the thickness h2 [µm] of the second release agent layer 4 (the average thickness of the part without the fine particles 3). The release agent of the second release agent layer 4 may be thinly attached to the upper surface of the fine particles 3 or may not be attached. The lower part of the fine particles 3 is filled in the second release agent layer 4 but is not in contact with the base film 1. This is because the first release agent layer 2 containing no fine particles is interposed.

미립자(3)을 이형제에 혼합·분산시키는 방법에 대해서는 이형제 및 미립자의 종류에 맞추어 공지의 방법으로 행하면 된다. 이형제에 미립자가 분산되기 쉬운 계이면, 스패츌러 등의 수동의 기구로 교반 혼합하면 된다. 이형제에 미립자가 분산되기 어려운 조합이나 분산되기 쉬운 계여도 이형제 및 미립자가 다량인 경우에는 호모지나이저나 호모 믹서 등의 분산기를 사용하여 분산 혼합시켜도 된다. 또한, 제2 이형제층(4)에는 미립자 및 이형제 외에, 필요에 따라 착색제, 대전 방지제, 레벨링제, 밀착성 향상제 등을 첨가해도 된다.The method for mixing and dispersing the fine particles 3 in the release agent may be carried out by a known method in accordance with the type of the release agent and fine particles. If it is a system in which fine particles are easily dispersed in the mold release agent, it may be stirred and mixed by a manual mechanism such as a spatula. Even if the particles are difficult to disperse in a combination in which the fine particles are difficult to disperse or if they are easily dispersed, the release agent and fine particles may be dispersed and mixed using a disperser such as a homogenizer or a homo mixer. In addition, a colorant, an antistatic agent, a leveling agent, an adhesion improving agent, etc. may be added to the second release agent layer 4 in addition to the fine particles and the release agent.

본 발명에 따른 이형 필름에 있어서, 제2 이형제층(4)은 대전 방지제를 포함하지 않아도 된다. 이것은 2층의 이형제층(2 및 4)의 총 두께가 예를 들면, 0.4∼2.0㎛의 범위로 얇기 때문에, 제1 이형제층(2)이 대전 방지 성능을 가지면, 이형 필름(5)의 2층 구성의 이형제층(2, 4)의 최표면에 대전 방지 성능을 부여할 수 있기 때문이다. 또한, 제2 이형제층(4)에 대전 방지제를 첨가하는 경우, 그 대전 방지제로는 제1 이형제층(2)에 첨가되는 것과 동일한 대전 방지제를 들 수 있다. 또한, 제1 이형제층(2) 위에 제2 이형제층(4)을 적층할 때, 또는 적층 후에 제1 이형제층(2)에 함유되는 대전 방지제의 일부가 제2 이형제층(4)의 내부로 이행되어도 된다.In the release film according to the present invention, the second release agent layer 4 does not need to contain an antistatic agent. This is because the total thickness of the two-layer release agent layers 2 and 4 is thin in the range of, for example, 0.4 to 2.0 µm, so that the first release agent layer 2 has antistatic performance, the 2 of the release film 5 This is because it is possible to impart antistatic performance to the outermost surfaces of the layer-releasing agent layers 2 and 4. In addition, when an antistatic agent is added to the 2nd release agent layer 4, the antistatic agent similar to that added to the 1st release agent layer 2 is mentioned as the antistatic agent. In addition, when the second release agent layer 4 is laminated on the first release agent layer 2, or after lamination, a part of the antistatic agent contained in the first release agent layer 2 is introduced into the second release agent layer 4. It may be implemented.

미립자(3)를 함유한 제2 이형제층(4)을 형성하는 방법은 미립자(3)를 함유한 이형제를 기재 필름(1)에 형성된 제1 이형제층(2) 위에 코팅하여 형성하면 된다. 도공 방법은 특별히 한정되지 않고, 미립자(3)를 함유한 이형제의 점도, 도포량에 맞추어 공지의 도공 방법에서 선정하면 된다. 일례로는, 메이어바 공법, 그라비아 공법, 리버스 롤 공법, 에어 나이프 공법, 다단 롤 공법 등을 들 수 있다.The method of forming the second release agent layer 4 containing the fine particles 3 may be formed by coating the release agent containing the fine particles 3 on the first release agent layer 2 formed on the base film 1. The coating method is not particularly limited, and may be selected from known coating methods in accordance with the viscosity and coating amount of the release agent containing the fine particles 3. Examples include the Mayer bar method, the gravure method, the reverse roll method, the air knife method, and the multi-stage roll method.

미립자(3)를 함유한 제2 이형제층(4)의 경화 또는 고화는 이형제의 종류에 맞추어 행하면 된다. 예를 들면, 가열 건조에 의한 용제 또는 물 등의 제거나, 자외선 조사나 전자선 조사 등에 의한 이형제층의 경화 등을 행하면 된다.The second release agent layer 4 containing the fine particles 3 may be cured or solidified according to the type of release agent. For example, the solvent or water may be removed by heating and drying, or the release agent layer may be cured by ultraviolet irradiation or electron beam irradiation.

제2 이형제층(4)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 무기 미립자 및/또는 폴리머 미립자로 이루어지는 미립자(3)의 바인더 수지로서의 기능을 충분히 확보하기 위해서는 미립자(3)의 체적 기준 평균 입자 직경의 25% 이상인 것이 바람직하다. 미립자(3)의 체적 기준 평균 입자 직경과 2층의 이형제층(2 및 4)의 총 두께(0.4∼2.0㎛의 범위)를 고려하며 설정하면 된다. 2층의 이형제층(2 및 4)의 총 두께가 0.4㎛ 보다 작으면 박리력이 증대되기 쉽다. 또한, 2층의 이형제층(2 및 4)의 총 두께의 상한은 특별히 문제되지 않지만, 2층의 이형제층(2 및 4)의 총 두께를 크게 했을 경우에는 비용이 높아지는 문제나, 미립자(3)의 체적 기준 평균 입자 직경을 크게 함으로써 이형 필름의 외관이 흰 빛을 띠게 되는 문제가 있다. 이 때문에, 2층의 이형제층(2 및 4)의 총 두께를 2.0㎛ 이하까지 억제하는 것이 바람직하고, 1.8㎛ 이하가 보다 바람직하다.Although the thickness of the second release agent layer 4 is not particularly limited, in order to sufficiently secure the function of the fine particles 3 composed of inorganic fine particles and / or polymer fine particles as a binder resin, the average particle diameter based on the volume of the fine particles 3 is 25 % Or more. The average particle diameter based on the volume of the fine particles 3 and the total thickness of the two release layers 2 and 4 (range of 0.4 to 2.0 µm) may be considered and set. When the total thickness of the two-layer release agent layers 2 and 4 is less than 0.4 µm, the peeling force tends to increase. In addition, although the upper limit of the total thickness of the two layers of the release agent layers 2 and 4 is not particularly a problem, when the total thickness of the two layers of the release agent layers 2 and 4 is increased, the cost increases or the fine particles (3 By increasing the average particle diameter based on), there is a problem that the appearance of the release film becomes white. For this reason, it is preferable to suppress the total thickness of the two layers of release agent layers 2 and 4 to 2.0 µm or less, and more preferably 1.8 µm or less.

본 발명의 이형 필름(5)을 각종 세라믹제 전자 부품 제조시에 사용되는 그린 시트의 성형용 이형 시트에 사용하는 경우, 그린 시트는 세라믹 입자를 유기 용제로 분산한 슬러리의 도포, 건조에 의해 형성된다. 이러한 그린 시트를 보호하는 용도로 사용되는 이형 필름(5)에는 제2 이형제층(4)에 대해 내용제성이 요구된다. 본 발명의 이형 필름(5)은 기재 필름(1)과 미립자(3)를 함유하는 제2 이형제층(4) 사이에 미립자를 함유하지 않는 제1 이형제층(2)을 형성하고 있다. 이 때문에, 용제가 제2 이형제층(4)의 이형제와 미립자(3)의 간극으로부터 제2 이형제층(4)과 제1 이형제층(2)의 계면에 침투해도, 제1 이형제층(2)과 기재 필름(1)의 계면에는 용제는 도달하지 않기 때문에, 제1 이형제층(2)이 기재 필름(1)으로부터 박리되지 않고, 내용제성도 양호하며, 그린 시트를 보호하는 용도로 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 이형 필름(5)은 그린 시트에 한정되지 않고, 도체 페이스트, 절연체 페이스트 등, 각종 분체를 분산한 도막이나 용제를 포함하는 도막의 표면을 보호하는 용도로 바람직하게 사용할 수 있다.When the release film 5 of the present invention is used for a release sheet for molding a green sheet used in manufacturing electronic components made of various ceramics, the green sheet is formed by applying and drying a slurry in which ceramic particles are dispersed with an organic solvent. do. The release film 5 used for the purpose of protecting such a green sheet requires solvent resistance to the second release agent layer 4. The release film 5 of the present invention forms the first release agent layer 2 containing no fine particles between the base film 1 and the second release agent layer 4 containing the fine particles 3. For this reason, even if the solvent penetrates the interface between the second release agent layer 4 and the first release agent layer 2 from the gap between the release agent of the second release agent layer 4 and the fine particles 3, the first release agent layer 2 Since the solvent does not reach the interface between the and the base film 1, the first release agent layer 2 does not peel off from the base film 1, has good solvent resistance, and is preferably used for the purpose of protecting the green sheet. You can. Further, the release film 5 of the present invention is not limited to a green sheet, and can be preferably used for the purpose of protecting the surface of a coating film containing a coating film or a solvent in which various powders are dispersed, such as a conductor paste and an insulator paste.

도 2는 본 발명의 적층 필름의 제1 형태예를 모식적으로 나타내는 단면도이다. 도 2의 점착 부여 광학 필름(8)은 본 발명의 이형 필름(5)을 광학 필름(7)에 적층한 점착제층(6)을 보호하는 용도로 사용한 것이다. 도 1의 본 발명의 이형 필름(5)에 점착제층(6)을 개재하여 광학 필름(7)이 첩합되어 있다. 이러한 점착 부여 광학 필름(8)의 제조 방법은 이형 필름(5)에 용제형 점착제를 도포, 건조시킨 후, 광학 필름(7)을 첩합해도 된다. 이러한 점착제층(6)을 보호하는 용도로 사용되는 이형 필름(5)에서는 이형제층(2, 4)에 대해 내용제성이 요구된다. 본 발명의 이형 필름(5)은 기재 필름(1)과 미립자(3)를 함유하는 제2 이형제층(4) 사이에 미립자를 함유하지 않는 제1 이형제층(2)을 형성하고 있다. 이 때문에, 용제가 제2 이형제층(4)의 이형제와 미립자(3)의 간극으로부터 제2 이형제층(4)과 제1 이형제층(2)의 계면에 침투해도, 제1 이형제층(2)과 기재 필름(1)의 계면에는 용제는 도달하지 않기 때문에, 제1 이형제층(2)이 기재 필름(1)으로부터 박리되지 않고 내용제성도 양호하다. 점착제층(6)을 포함하는 적층체는 1 또는 2 이상의 수지 필름과, 1 또는 2 이상의 점착제층을 포함할 수 있다. 예를 들면, 광학 필름(7)의 양면에 점착제층(6)을 형성하여 각각의 점착제층(6)에 본 발명의 이형 필름(5)을 첩합해도 된다. 다른 제조 방법으로는 광학 필름(7)의 한쪽 면에 점착제층(6)을 형성한 적층체(10)에 본 발명의 이형 필름(5)을 첩합해도 된다. 혹은, 무용제형 점착제를 도포한 후, 이형 필름(5)과 광학 필름(7) 사이에서 광이나 열 등에 의해 점착제층(6)을 경화시킬 수도 있다. 사용시에는 점착 부여 광학 필름(8)으로부터 이형 필름(5)을 박리함으로써, 이형 필름(5)으로부터 적층체(10)를 분리하여 점착제층(6)의 표면(점착면)을 노출할 수 있다. 일반적으로, 광학 필름(7)과 점착제층(6) 사이의 밀착력은 점착제층(6)으로부터 이형 필름(5)을 박리할 때의 박리력보다 크다.2 is a cross-sectional view schematically showing an example of the first aspect of the laminated film of the present invention. The tackifying optical film 8 in FIG. 2 is used to protect the pressure-sensitive adhesive layer 6 laminated on the optical film 7 with the release film 5 of the present invention. The optical film 7 is pasted to the release film 5 of the present invention in FIG. 1 via the pressure-sensitive adhesive layer 6. The manufacturing method of such a tackifying optical film 8 may apply a solvent-type adhesive to the release film 5, dry it, and may attach the optical film 7 together. In the release film 5 used for the purpose of protecting the pressure-sensitive adhesive layer 6, solvent resistance is required for the release agent layers 2 and 4. The release film 5 of the present invention forms the first release agent layer 2 containing no fine particles between the base film 1 and the second release agent layer 4 containing the fine particles 3. For this reason, even if the solvent penetrates the interface between the second release agent layer 4 and the first release agent layer 2 from the gap between the release agent of the second release agent layer 4 and the fine particles 3, the first release agent layer 2 Since the solvent does not reach the interface between the and the base film 1, the first release agent layer 2 does not peel off from the base film 1, and the solvent resistance is also good. The laminate comprising the pressure-sensitive adhesive layer 6 may include 1 or 2 or more resin films and 1 or 2 or more pressure-sensitive adhesive layers. For example, the pressure-sensitive adhesive layer 6 may be formed on both sides of the optical film 7, and the release film 5 of the present invention may be pasted on each pressure-sensitive adhesive layer 6. As another manufacturing method, the release film 5 of the present invention may be pasted on the laminate 10 in which the pressure-sensitive adhesive layer 6 is formed on one side of the optical film 7. Alternatively, after applying the solvent-free pressure-sensitive adhesive, the pressure-sensitive adhesive layer 6 may be cured between the release film 5 and the optical film 7 by light or heat. In use, the release film 5 is peeled from the tackifying optical film 8 to separate the laminate 10 from the release film 5 to expose the surface (adhesive surface) of the pressure-sensitive adhesive layer 6. In general, the adhesion between the optical film 7 and the pressure-sensitive adhesive layer 6 is greater than that of peeling the release film 5 from the pressure-sensitive adhesive layer 6.

또한, 도 3은 본 발명의 적층 필름의 제2 형태예를 모식적으로 나타내는 단면도이다. 도 3의 광학 점착 시트(9)는 터치 패널 부재나 광학 부재의 첩합에 사용되는 점착제층(6)에, 본 발명의 이형 필름(5)을 당해 점착제층(6)을 보호하기 위해 첩합시킨 것이다. 광학 점착 시트(9)는 2장의 이형 필름(5)으로 점착제층(6)을 사이에 끼운 형태로 되어 있다. 이러한 광학 점착 시트(9)의 제조 방법에서는 한쪽의 이형 필름(5)에 용제형 점착제를 도포, 건조시킨 후, 다른 한쪽의 이형 필름(5)을 첩합하는 것이 일반적이다. 이러한 점착제층(6)을 보호하는 용도로 사용되는 이형 필름(5)에서는 이형제층(2, 4)에 대해 내용제성이 요구된다. 본 발명의 이형 필름(5)은 내용제성도 양호하기 때문에, 점착제층(6)을 보호하는 용도로 바람직하게 사용할 수 있다.3 is a cross-sectional view schematically showing a second embodiment of the laminated film of the present invention. The optical pressure-sensitive adhesive sheet 9 of FIG. 3 is obtained by bonding the release film 5 of the present invention to the pressure-sensitive adhesive layer 6 used for bonding the touch panel member or the optical member to protect the pressure-sensitive adhesive layer 6. . The optical pressure-sensitive adhesive sheet 9 is in the form of sandwiching the pressure-sensitive adhesive layer 6 with two release films 5. In the manufacturing method of the optical pressure-sensitive adhesive sheet 9, it is common to apply the solvent-type pressure-sensitive adhesive to one release film 5 and dry it, and then bond the other release film 5 to each other. In the release film 5 used for the purpose of protecting the pressure-sensitive adhesive layer 6, solvent resistance is required for the release agent layers 2 and 4. Since the release film 5 of the present invention also has good solvent resistance, it can be preferably used for the purpose of protecting the pressure-sensitive adhesive layer 6.

본 발명의 적층 필름의 점착제층(6)에 사용되는 점착제는 수계, 비수계(용제계)여도 되고, 무용제 타입이어도 된다. 점착제로는 아크릴계 점착제, 실리콘계 점착제, 고무계 점착제, 우레탄계 점착제 등 어느 것이어도 된다. 아크릴계 점착제는 투명성, 내후성이 우수하기 때문에 바람직하다.The pressure-sensitive adhesive used in the pressure-sensitive adhesive layer 6 of the laminated film of the present invention may be water-based or non-aqueous (solvent-based), or may be of a non-solvent type. As the pressure-sensitive adhesive, any of acrylic pressure-sensitive adhesive, silicone pressure-sensitive adhesive, rubber pressure-sensitive adhesive, and urethane-based pressure-sensitive adhesive may be used. Acrylic pressure-sensitive adhesives are preferred because of their excellent transparency and weather resistance.

적층 필름에 사용되는 수지 필름은 광학 필름(7)에 한정되지 않고, 불투명 수지 필름이어도 된다. 광학 필름으로는 편광 필름, 위상차 필름, 반사 방지 필름, 방현(안티 글레어) 필름, 자외선 흡수 필름, 적외선 흡수 필름, 광학 보상 필름, 휘도 향상 필름, 고투명 필름 등을 들 수 있다.The resin film used for the laminated film is not limited to the optical film 7 and may be an opaque resin film. Examples of the optical film include a polarizing film, a retardation film, an antireflection film, an anti-glare (anti-glare) film, an ultraviolet absorbing film, an infrared absorbing film, an optical compensating film, a brightness enhancing film, and a high transparency film.

본 발명의 적층 필름은 이형 필름의 이형제층이 점착제층의 표면(점착면)에 첩합되어 이루어지는 적층 필름이며, 도 3에 나타내는 바와 같이, 이형 필름(5)과 점착제층(6)만으로 이루어지는 적층 필름이어도 되고, 도 2에 나타내는 바와 같이, 광학 필름(7)과 같은 수지 필름(점착제층(6)의 지지체) 등을 포함하는 적층 필름이어도 된다.The laminated film of the present invention is a laminated film in which the release agent layer of the release film is affixed to the surface (adhesive surface) of the pressure-sensitive adhesive layer, and as shown in FIG. 3, the laminated film consisting only of the release film 5 and the pressure-sensitive adhesive layer 6 As shown in FIG. 2, a laminated film including a resin film (support of the adhesive layer 6) such as the optical film 7 may be used.

실시예Example

이하, 실시예를 통해 본 발명을 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail through examples.

(실시예 1의 이형 필름)(Release film of Example 1)

부가 반응형 실리콘(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명:SRX-345) 5중량부, 리튬비스(플루오로술포닐)이미드 0.75중량부, 톨루엔과 초산에틸의 1:1의 혼합 용매 95중량부, 백금 촉매(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명:SRX-212) 0.05중량부를 혼합해 교반·혼합하여, 실시예 1의 제1 이형제층(이하, 이형제층 A로 함)을 형성하는 도료를 조정하였다.Addition reaction type silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-345) 5 parts by weight, lithium bis (fluorosulfonyl) imide 0.75 parts by weight, 1: 1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate 95 parts by weight Part, platinum catalyst (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-212) 0.05 parts by weight of agitation and mixing to form a first release agent layer (hereinafter referred to as release agent layer A) of Example 1 Was adjusted.

두께가 38㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에 실시예 1의 이형제층 A를 형성하는 도료를 건조 후의 두께가 0.1㎛가 되도록 메이어바로 도포한 후, 120℃의 열풍 순환식 오븐에서 1분간 가열하여 이형제층 A를 형성하였다.The paint forming the release agent layer A of Example 1 was coated on the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm with a Meyer bar so that the thickness after drying became 0.1 μm, followed by heating in a hot air circulation oven at 120 ° C. for 1 minute. A release agent layer A was formed.

그 후, 이형제층 A의 표면에 부가 반응형 실리콘(도레이·다우코닝(주) 제조, LTC-1056L) 30중량부, 톨루엔과 초산에틸의 1:1의 혼합 용매 70중량부, 백금 촉매(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명:SRX-212) 1중량부와, 평균 입자 직경(체적 기준 평균 입자 직경)이 2㎛의 실리콘계 수지 폴리머 미립자(모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈사 제조, 품명:토스 펄(등록상표) 120) 0.0166중량부를 혼합하여 실시예 1의 제2 이형제층(이하, 이형제층 B로 함)을 형성하는 도료를 조정하였다.Subsequently, 30 parts by weight of an addition-reactive silicone (LTC-1056L manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) on the surface of the release agent layer A, 70 parts by weight of a 1: 1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate, and a platinum catalyst (Toray Dow Corning Co., Ltd. product name: SRX-212) 1 part by weight, and an average particle diameter (volume-based average particle diameter) of 2 µm silicone resin polymer fine particles (Momentive Performance Materials, Inc., product name: Toss Pearl (Registered trademark) 120) The coating material for forming the second release agent layer of Example 1 (hereinafter referred to as release agent layer B) was adjusted by mixing 0.0166 parts by weight.

실시예 1의 이형제층 B를 형성하는 도료를 이형제층 B(미립자의 돌출 높이를 제외한 부가 반응형 실리콘계 이형제)의 건조 후의 두께가 0.9㎛가 되도록 메이어바로 이형제층 A의 표면에 도공한 후, 120℃의 열풍 순환식 건조기에서 1분간 가열해 이형제층 B를 형성하여 실시예 1의 이형 필름을 얻었다.The coating material forming the release agent layer B of Example 1 was coated on the surface of the release agent layer A with a Meyer bar so that the thickness after drying of the release agent layer B (additional reaction type silicone-based release agent excluding the protruding height of the fine particles) was 0.9 µm, 120 The release film of Example 1 was obtained by forming the release agent layer B by heating in a hot-air circulating dryer at ℃ for 1 minute.

(실시예 2의 이형 필름)(Release film of Example 2)

이형제층 A에 함유시키는 대전 방지제로서 리튬비스(플루오로술포닐)이미드 0.75중량부 대신에, 에틸실리케이트계 대전 방지제(콜코트(주) 제조 콜코트(등록상표) N-103X)를 20중량부로 하고, 톨루엔과 초산에틸의 1:1의 혼합 용매를 75중량부로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 2의 이형 필름을 얻었다.As an antistatic agent contained in the release agent layer A, instead of 0.75 parts by weight of lithium bis (fluorosulfonyl) imide, 20 parts by weight of an ethyl silicate-based antistatic agent (Colcoat (registered trademark) N-103X manufactured by Colcoat Co., Ltd.) The release film of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 75 parts by weight of a 1: 1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate was used as a part.

(실시예 3의 이형 필름)(Release film of Example 3)

이형제층 A의 건조 후의 두께를 0.3㎛로 하고, 이형제층 B의 건조 후의 두께를 0.7㎛로 하고, 실리콘계 수지 폴리머 미립자(모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈사 제조, 품명:토스 펄(등록상표) 120) 대신에 체적 기준 평균 입자 직경 2.7㎛의 무정형 실리카(후지 실리시아 화학(주) 제조, 품명:실리시아(등록상표) 310P)로 한 것 이외에는 실시예 2와 동일하게 하여 실시예 3의 이형 필름을 얻었다.The thickness after drying of the release agent layer A was 0.3 µm, and the thickness after drying of the release agent layer B was 0.7 µm, and silicone-based resin polymer fine particles (manufactured by Momentive Performance Materials, product name: Toss Pearl (registered trademark) 120) Instead, the release film of Example 3 was prepared in the same manner as in Example 2, except that amorphous silica having a volume-based average particle diameter of 2.7 µm (manufactured by Fuji Silicia Chemical Co., Ltd., product name: Silicia (registered trademark) 310P) was used. Got.

(실시예 4의 이형 필름)(Release film of Example 4)

이형제층 B의 건조 후의 두께를 0.4㎛로 한 것 이외에는, 실시예 2와 동일하게 하여 실시예 4의 이형 필름을 얻었다.The release film of Example 4 was obtained in the same manner as in Example 2, except that the thickness after drying of the release agent layer B was 0.4 µm.

(실시예 5의 이형 필름)(Release film of Example 5)

이형제층 A의 건조 후의 두께를 0.3㎛로 하고, 이형제층 B의 건조 후의 두께를 1.7㎛로 하고, 실리콘계 수지 폴리머 미립자(모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈사 제조, 품명:토스 펄(등록상표) 120) 대신에, 체적 기준 평균 입자 직경 4.5㎛의 실리콘계 수지 폴리머 미립자(모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈사 제조, 품명:토스 펄(등록상표) 145)로 한 것 이외에는 실시예 2와 동일하게 하여 실시예 5의 이형 필름을 얻었다.The thickness after drying of the release agent layer A was 0.3 µm, and the thickness after drying of the release agent layer B was 1.7 µm, and silicone-based resin polymer fine particles (manufactured by Momentive Performance Materials, product name: Toss Pearl (registered trademark) 120) Instead, Example 5 was performed in the same manner as in Example 2, except that the silicon-based resin polymer fine particles having a volume-based average particle diameter of 4.5 µm (manufactured by Momentive Performance Materials, product name: Tos Pearl (registered trademark) 145) were used. A release film was obtained.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

이형제층 A를 형성하지 않은 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 비교예 1의 이형 필름을 제조하였다.A release film of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that the release agent layer A was not formed.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

이형제층 B의 건조 후의 두께를 1.2㎛로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 비교예 2의 이형 필름을 얻었다.The release film of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the thickness after drying of the release agent layer B was 1.2 µm.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

두께 38㎛의 한쪽 면에 코로나 처리를 실시한 폴리에스테르 필름의 코로나 처리면에 실시예 1의 이형제층 B를 형성하는 도료에서 미립자를 제거한 부가 반응형 실리콘계 이형제 및 백금 촉매의 용액만을 건조 후의 두께가 0.2㎛가 되도록 메이어 바로 도공한 후, 120℃의 열풍 순환식 건조기에서 1분간 가열하여 비교예 3의 이형 필름을 얻었다.The thickness after drying only the solution of the addition-reactive silicone-based release agent and platinum catalyst from which the fine particles were removed from the paint forming the release agent layer B of Example 1 on the corona-treated surface of the polyester film subjected to corona treatment on one side having a thickness of 38 µm was 0.2. After coating with a Meyer bar to be µm, a release film of Comparative Example 3 was obtained by heating in a hot air circulation dryer at 120 ° C. for 1 minute.

(비교예 4)(Comparative Example 4)

이형제층 A에 대전 방지제로서 리튬비스(플루오로술포닐)이미드를 함유시키지 않은 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 비교예 4의 이형 필름을 얻었다.A release film of Comparative Example 4 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the release agent layer A did not contain lithium bis (fluorosulfonyl) imide as an antistatic agent.

(이형제층의 표면 저항률의 측정)(Measurement of surface resistivity of release agent layer)

이형 필름의 측정용 샘플의 2층 구성의 이형제층의 최표면의 표면 저항률(Ω/□)을 고성능 고저항률계(미츠비시 화학 애널리테크사 제조 하이레스타(등록상표)-UP)를 사용하여 인가 전압 100V, 측정 시간 30초의 조건에서 측정하였다.The surface resistivity (Ω / □) of the outermost surface of the release layer of the two-layer structure of the sample for measurement of the release film is applied using a high-performance high-resistance meter (High-Rester (registered trademark) -UP manufactured by Mitsubishi Chemical Analytics). It measured under the conditions of voltage 100V and measurement time 30 second.

(블로킹 유무의 확인)(Confirmation of blocking)

이형 필름을 3장 겹친 샘플을 제조하고, 스테인레스판(SUS304) 2장 사이에 끼운다. 이 샘플에 20g/㎠{0.196N/㎠}의 하중을 가한 상태로 23℃, 50% RH의 환경에서 24시간 방치한다. 그 후, 3장 겹친 이형 필름을 취출하고 이형 필름을 1장씩 손으로 박리함으로써 블로킹 상태를 확인하였다.A sample in which three release films are overlapped is prepared, and sandwiched between two sheets of stainless steel plate (SUS304). The sample was allowed to stand for 24 hours in an environment of 23 ° C., 50% RH with a load of 20 g / cm 2 {0.196 N / cm 2} applied. Subsequently, a release state was checked by taking out three overlapping release films and peeling the release films one by one by hand.

블로킹 상태의 판정 기준으로서 블로킹이 없고, 이형 필름이 가볍게 박리된 것을 블로킹성 양호(○), 이형 필름의 박리시에 저항이 있는 것을 블로킹성 불량(×)으로 하였다.As a criterion for determining the blocking state, those with no blocking, and the release film was lightly peeled were considered to have good blocking properties (○) and those having resistance at the time of peeling of the release film were regarded as poor blocking properties (×).

(박리력의 측정)(Measurement of peeling force)

이형 필름의 2층 구성의 이형제층의 최표면에 폴리에스테르 점착 테이프(닛토 전공 주식회사 제조, 상품명:폴리에스테르 테이프 No.31B)를 첩합하고, 20g/㎠의 하중하, 70℃에서 20시간 에이징한 후, 탁상형 정밀 만능 시험기(시마즈 제작소사 제조, 오토 그래프(등록상표))로 박리 속도 300㎜/분, 박리 각도 180°로 박리했을 때의 박리 강도를 박리력(mN/50㎜)으로서 측정하였다.A polyester adhesive tape (manufactured by Nitto Electric Corporation, trade name: Polyester Tape No. 31B) was bonded to the outermost surface of the release layer of the two-layer structure of the release film, and aged at 70 ° C for 20 hours under a load of 20 g / cm 2. Then, the peel strength at the time of peeling at a peeling speed of 300 mm / min and a peeling angle of 180 ° was measured as a peeling force (mN / 50 mm) using a tabletop precision universal testing machine (manufactured by Shimadzu Corporation, Autograph (registered trademark)). Did.

(잔류 접착률의 측정)(Measurement of residual adhesion rate)

상기 (박리력의 측정)에 의한 시험 후의 이형 필름으로부터 박리한 점착 테이프를 피착체(스테인레스판)에 대해 롤러로 압착하고 23℃, 55% RH의 환경하에서 1시간 방치한 후, 탁상형 정밀 만능 시험기(시마즈 제작소사 제조, 오토 그래프(등록상표))로 박리 속도 300㎜/분, 박리 각도 180°로 당해 피착체로부터 박리할 때의 박리력을 측정하여 잔류 접착력으로 하였다.The pressure-sensitive adhesive tape peeled from the release film after the test by the above (measurement of peeling force) was pressed against a adherend (stainless steel plate) with a roller and left under an environment of 23 ° C and 55% RH for 1 hour, and then used as a tabletop precision universal A peeling force when peeling from the adherend at a peeling speed of 300 mm / min and a peeling angle of 180 ° was measured with a tester (manufactured by Shimadzu Corporation, Autograph (registered trademark)) to determine the residual adhesive strength.

이것과는 별도로 미사용의 점착 테이프를 동일 재질의 피착체에 압착하여 박리할 때의 박리력을 잔류 접착력과 동일하게 측정하여 기준 점착력으로 하였다.Separately from this, an unused adhesive tape was pressed against an adherend of the same material, and the peeling force when peeling was measured in the same manner as the residual adhesive force, and used as a reference adhesive force.

잔류 접착률은 잔류 접착률=(잔류 점착력)/(기준 점착력)×100(%)와 같은 식에 의해 산출하였다.Residual adhesion ratio was calculated by the formula such as residual adhesion ratio = (residual adhesion) / (reference adhesion) x 100 (%).

(이형제층의 밀착성의 확인)(Check the adhesion of the release agent layer)

상기 (박리력의 측정)에 의한 시험 후의 이형 필름의 2층 구성의 이형제층의 최표면을 손 끝으로 강하게 3회 마찰시킨 후, 마찰시킨 부분을 육안으로 관찰하였다. 기재 필름으로부터 이형제층이 탈락되어 있는지 여부를 육안으로 확인하여 이형제층의 탈락이 거의 없는 것을 (○), 이형제층의 탈락이 현저한 것을 (×)로서 평가하였다.The outermost surface of the release agent layer having the two-layer structure of the release film after the test by (measurement of peeling force) was rubbed strongly three times with fingertips, and the rubbed portion was visually observed. It was visually confirmed whether or not the release agent layer was removed from the base film, and it was evaluated as (○) that the release agent layer was hardly eliminated and (x) that the release agent layer was remarkable.

(이형제층의 내용제성의 확인)(Checking the solvent resistance of the release agent layer)

이형 필름의 2층 구성의 이형제층의 최표면을 초산에틸을 스며들게 한 부직포(아사히 가세이사 제조 벤코트(등록상표) M-1)를 사용하고, 200g의 분동으로 하중을 가한 상태로 1왕복 마찰시킨다. 그 후, 이형 필름의 2층 구성의 이형제층의 최표면을 육안으로 관찰함으로써, 이형 필름의 2층 구성의 이형제층의 내용제성을 확인하였다. 2층 구성의 이형제층의 최표면을 육안으로 확인하여 외관에 변화가 없는 것을 (○), 2층 구성의 이형제층이 탈락된 것을 (×)로 판정하였다.Using a nonwoven fabric (Bencoat (registered trademark) M-1, manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) impregnated with ethyl acetate on the outermost surface of the release layer of the two-layer structure of the release film, one round friction was applied with a weight of 200 g. Order. Then, the outermost surface of the release agent layer of the two-layer structure of the release film was visually observed to confirm the solvent resistance of the release agent layer of the two-layer structure of the release film. The outermost surface of the release layer of the two-layer structure was visually observed to determine that there was no change in appearance (○), and that the release agent layer of the two-layer structure was eliminated (×).

(평가 결과)(Evaluation results)

실시예 1∼5의 이형 필름 및 비교예 1∼4의 이형 필름의 평가 결과를 표 1에 나타내었다. 표 1에 있어서, 「오버 레인지」의 의미는 표면 저항계(하이레스타 -UP)의 측정 범위를 초과한 것을 의미하며, 즉, 2층 구성의 이형제층의 최표면의 표면 저항률이 1.0×1013Ω/□ 이상인 것을 의미한다. 또한, 표면 저항률은 JIS X 0210에 규정되는 지수 표현에 의해 표기하였다. 예를 들면, 3.2E+11은 3.2×10의 11승을 의미한다.Table 1 shows the evaluation results of the release films of Examples 1 to 5 and the release films of Comparative Examples 1 to 4. In Table 1, the meaning of "overrange" means that the measurement range of the surface resistance meter (high-star -UP) was exceeded, that is, the surface resistivity of the outermost surface of the two-layered release agent layer was 1.0 × 10 13 Ω. / □ means more than that. In addition, the surface resistivity was expressed by the index expression prescribed | regulated to JISX0210. For example, 3.2E + 11 means 3.2 x 10 11th power.

Figure pat00001
Figure pat00001

(정리)(theorem)

본 발명에 따른 실시예 1∼5의 이형 필름은 박리력이 작고, 또한, 잔류 접착률이 높은 수치를 나타내었다. 추가로, 2층 구성의 이형제층의 최표면의 표면 저항률이 낮은 값이 되었다. 또한, 실시예 1∼5의 이형 필름은 블로킹 유무의 확인 시험에 있어서, 제2 이형제층과 이형 필름의 배면이 블로킹을 발생시키지 않고, 미립자를 함유하는 제2 이형제층의 밀착성, 내용제성이 양호하였다.The release films of Examples 1 to 5 according to the present invention exhibited a low peeling force and a high residual adhesiveness. In addition, the surface resistivity of the outermost surface of the release agent layer having a two-layer structure became a low value. In addition, in the release test of Examples 1 to 5, in the test for the presence or absence of blocking, the second release agent layer and the back surface of the release film did not generate blocking, and the adhesion and solvent resistance of the second release agent layer containing fine particles were good. Did.

이에 비해, 비교예 1의 이형 필름은 대전 방지제를 함유하고 미립자를 함유하지 않는 제1 이형제층을 형성하지 않았기 때문에, 미립자를 함유하는 제2 이형제층이 기재 필름에 접한 구조가 되어 있어 내용제성이 나쁘고, 또한, 대전 방지 성능이 떨어지는 결과가 되었다.On the other hand, since the release film of Comparative Example 1 did not form the first release agent layer containing the antistatic agent and not containing the fine particles, the second release agent layer containing the fine particles became a structure in contact with the base film, resulting in solvent resistance. It was bad, and the antistatic performance was inferior.

또한, 비교예 2의 이형 필름은 미립자를 함유하는 제2 이형제층의 요철이 작고, 이형 필름이 블로킹을 일으켜 박리력도 큰 결과가 되었다.In addition, the release film of Comparative Example 2 had a result that the unevenness of the second release agent layer containing fine particles was small, and the release film caused blocking, resulting in a large peeling force.

또한, 비교예 3의 이형 필름은 대전 방지제 및 미립자를 함유하지 않는 실리콘계 이형제층만을 일반적인 도포량으로 도공하여 이형제층이 형성되어 있어, 본 발명에 따른 실시예 1∼5의 이형 필름보다도 박리력이 현저히 크며, 또한, 대전 방지 성능이 떨어지는 결과가 되었다.In addition, the release film of Comparative Example 3 was coated with only a silicone-based release agent layer containing no antistatic agent and fine particles at a general application amount, so that the release agent layer was formed, and thus the peeling force was remarkably higher than that of the release films of Examples 1 to 5 according to the present invention. It was large, and the antistatic performance was inferior.

또한, 비교예 4의 이형 필름은 제1 이형제층 및 제2 이형제층에 대전 방지제를 함유하고 있지 않기 때문에, 2층 구성의 이형제층의 최표면의 표면 저항률이 오버 레인지(1.0×1013Ω/□ 이상)로, 대전 방지 성능이 떨어지는 결과였다.In addition, since the release film of Comparative Example 4 did not contain an antistatic agent in the first release agent layer and the second release agent layer, the surface resistivity of the outermost surface of the release agent layer of the two-layer configuration was overrange (1.0 × 10 13 Ω / □ or higher), which resulted in poor antistatic performance.

1…기재 필름, 2…제1 이형제층, 3…미립자, 4…제2 이형제층, 5…이형 필름, 6…점착제층, 7…광학 필름, 8…점착 부여 광학 필름, 9…광학 점착 시트, 10…적층체One… Base film, 2 ... First release agent layer, 3 ... Particulate, 4… 2nd release agent layer, 5 ... Release film, 6 ... Adhesive layer, 7 ... Optical film, 8 ... Tackifying optical film, 9 ... Optical adhesive sheet, 10… Laminate

Claims (2)

기재의 한쪽 면에 점착제층이 적층된 적층체의 상기 점착제층의 표면에, 이형제층이 형성된 표면 보호용 이형 필름이 상기 이형제층을 개재하여 첩합되어 이루어지는 적층 필름으로서,
상기 적층 필름으로부터 상기 적층체를 박리한 표면 보호용 이형 필름이 피착체의 표면 보호에 사용되는 것이고,
상기 표면 보호용 이형 필름은, 기재 필름의 적어도 한쪽의 면에 대전 방지제를 함유하고 미립자를 함유하지 않는 제1 이형제층과, 무기 미립자 및/또는 폴리머 미립자로 이루어지는 미립자를 함유하는 제2 이형제층이 이 순서로 적층된 2층 구성의 이형제층을 갖고 이루어지며,
상기 제1 이형제층과 상기 제2 이형제층의 총 두께가 0.5∼2.0㎛이고, 상기 제2 이형제층의 표면으로부터 상기 미립자의 정점까지의 돌출 높이가 상기 총 두께 이상이며, 또한, 상기 제1 이형제층 및 상기 제2 이형제층이 폴리디메틸실록산을 함유하지 않는 실리콘계 이형제를 포함하는 것을 특징으로 하는 적층 필름.
A laminated film comprising a release film for surface protection, on which a release agent layer is formed, on a surface of the pressure-sensitive adhesive layer of a laminate in which a pressure-sensitive adhesive layer is laminated on one side of a base material, bonded via the release agent layer,
A release film for surface protection obtained by peeling the laminate from the laminated film is used for surface protection of the adherend,
The release film for surface protection includes a first release agent layer containing an antistatic agent and containing no fine particles on at least one side of the base film, and a second release agent layer containing fine particles composed of inorganic fine particles and / or polymer fine particles. It consists of a two-layered release agent layer laminated in order,
The total thickness of the first release agent layer and the second release agent layer is 0.5 to 2.0 μm, and the projecting height from the surface of the second release agent layer to the apex of the fine particles is greater than or equal to the total thickness, and the first release agent is also used. A layered film comprising a layer and the second release agent layer containing a silicone-based release agent that does not contain polydimethylsiloxane.
제 1 항에 있어서,
상기 제2 이형제층에 함유된 미립자가 실리카, 탄산칼슘, 인산칼슘, 황산바륨, 카올린, 유리 분말, 탤크로 이루어지는 무기 입자군에서 선택된 1종 이상의 무기 미립자 및/또는 실리콘계 수지, 아크릴계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지, 폴리스티렌계 수지, 에폭시계 수지로 이루어지는 고분자 수지 입자군에서 선택된 1종 이상의 폴리머 미립자인 것을 특징으로 하는 적층 필름.
According to claim 1,
One or more inorganic fine particles and / or silicone-based resins, acrylic resins, polyamides selected from the group of inorganic particles in which the fine particles contained in the second release agent layer are composed of silica, calcium carbonate, calcium phosphate, barium sulfate, kaolin, glass powder, and talc. A laminated film, characterized in that it is at least one polymer fine particle selected from the group of polymer resin particles comprising a resin based resin, a polyester based resin, a polyethylene based resin, a polypropylene based resin, a polystyrene based resin, and an epoxy based resin.
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