KR20200029058A - Colored photosensitive resin composition, pigment dispersion, partition, organic electroluminescent element, image display device, and illumination - Google Patents

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Abstract

본 발명의 제 1 과제는, 경화물 형성 후의 아웃 가스량이 적고 신뢰성이 우수하고, 또 경화물 제조시의 현상 공정에 있어서의 패턴의 밀착성이 양호한 착색 감광성 수지 조성물을 제공하는 것에 있다. 제 1 양태에 관련된 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, (A) 착색제, (B) 분산제, (C) 바인더 수지, (D) 광 중합성 모노머 및 (E) 광 중합 개시제를 함유하고, 상기 (A) 착색제가, 하기 일반식 (I) 로 나타내는 화합물, 상기 화합물의 기하 이성체, 상기 화합물의 염, 및 상기 화합물의 기하 이성체의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 (A1) 유기 흑색 안료를 포함하고, 상기 (B) 분산제가, 아크릴계 분산제를 포함하고, 상기 (C) 바인더 수지가, (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지를 75 질량% 이상 포함한다.

Figure pat00069
The first object of the present invention is to provide a colored photosensitive resin composition having a small amount of outgas after formation of a cured product, excellent reliability, and good adhesion of a pattern in the development process at the time of manufacturing the cured product. The coloring photosensitive resin composition of this invention which concerns on 1st aspect contains (A) coloring agent, (B) dispersing agent, (C) binder resin, (D) photopolymerizable monomer, and (E) photopolymerization initiator, and said ( (A1) The organic coloring agent containing at least 1 sort (s) selected from the group which consists of a compound represented by the following general formula (I), the geometric isomer of the said compound, the salt of the said compound, and the salt of the geometric isomer of the said compound The black pigment is included, and the dispersant (B) includes an acrylic dispersant, and the binder resin (C) contains 75% by mass or more of the epoxy resin (C1).
Figure pat00069

Description

착색 감광성 수지 조성물, 안료 분산액, 격벽, 유기 전계 발광 소자, 화상 표시 장치 및 조명{COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PIGMENT DISPERSION, PARTITION, ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT, IMAGE DISPLAY DEVICE, AND ILLUMINATION}Color photosensitive resin composition, pigment dispersion, partition wall, organic electroluminescent device, image display device and lighting {COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PIGMENT DISPERSION, PARTITION, ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT, IMAGE DISPLAY DEVICE, AND ILLUMINATION}

본 발명은, 착색 감광성 수지 조성물에 관한 것이며, 또 그 착색 감광성 수지 조성물에 사용되는 안료 분산액, 그 착색 감광성 수지 조성물로 구성되는 격벽, 그 격벽을 구비하는 유기 전계 발광 소자, 화상 표시 장치 및 조명에 관한 것이다.The present invention relates to a colored photosensitive resin composition, and further includes a pigment dispersion used in the colored photosensitive resin composition, a partition wall composed of the colored photosensitive resin composition, an organic electroluminescent device having the partition wall, an image display device, and lighting. It is about.

액정 디스플레이 (LCD) 는 액정에 대한 인가 전압의 온·오프에 의해 액정 분자의 배열법이 바뀌는 성질을 이용하고 있다. 한편, LCD 의 셀을 구성하는 각 부재는, 포토리소그래피로 대표되는, 감광성 조성물을 이용한 방법에 의해 형성되는 것이 많다. 이 감광성 조성물은, 미세한 구조를 형성하기 쉽고, 대화면용의 기판에 대하여 처리하기 쉽다는 이유에서도, 금후 더욱 감광성 조성물의 적용 범위는 넓어지는 경향이 있다.The liquid crystal display (LCD) utilizes the property that the arrangement method of liquid crystal molecules is changed by turning on / off the applied voltage to the liquid crystal. On the other hand, each member constituting the cell of the LCD is often formed by a method using a photosensitive composition, typified by photolithography. The reason why the photosensitive composition is easy to form a fine structure and is easy to process with respect to a substrate for a large screen is that the range of application of the photosensitive composition tends to become wider in the future.

또, 패널 구조 및 제조 공정의 간편화에 수반하여, 액정 패널에 있어서의 2 매의 기판의 간격을 일정하게 유지하기 위해서 사용되는, 소위, 기둥형상 스페이서를 포토리소그래피로 형성하는 방법이 검토되고, 최근에는 포토 스페이서와 블랙 매트릭스를 일체화한 착색 스페이서도 개발되고 있다. 단, 이와 같은 착색 스페이서에는, 통상적인 형상이나 압축 특성 이외에, TFT 소자 상에 직접 탑재시켜도 전기 회로의 단락을 일으키지 않도록, 일정 이상의 체적 저항률이나 일정 이하의 비유전률을 갖는 것이 요구된다.In addition, with the simplification of the panel structure and the manufacturing process, a method of forming a so-called columnar spacer by photolithography, which is used to keep the spacing of two substrates in a liquid crystal panel constant, has been studied and recently In addition, a colored spacer in which a photo spacer and a black matrix are integrated is also being developed. However, such a colored spacer is required to have a volume resistivity above a certain level or a relative dielectric constant below a certain level so as not to cause a short circuit of an electric circuit even when mounted directly on a TFT element, in addition to the usual shape and compression characteristics.

이와 같은 착색 스페이서로는, 안료에 복수 종의 유기 착색 안료를 사용한 것이나, 유기 흑색 안료를 사용한 것이 제안되어 있다. 특허문헌 1 에는 특정한 유기 흑색 안료와 분산제를 조합함으로써 우수한 분산성, 차광성을 갖고, 또 낮은 비유전률을 갖는 감광성 착색 조성물이 기재되어 있다.As such a colored spacer, a plurality of types of organic colored pigments are used for the pigments, or an organic black pigment is proposed. Patent Document 1 discloses a photosensitive coloring composition having excellent dispersibility, light blocking property, and low relative dielectric constant by combining a specific organic black pigment and a dispersing agent.

한편 유기 전계 발광 소자 (유기 일렉트로루미네선스, 유기 EL 이라고도 한다.) 를 포함하는 화상 표시 장치는, 콘트라스트나 시야각 등의 시인성이나 응답성이 우수하고, 저소비 전력화, 박형 경량화, 및, 디스플레이 본체의 플렉시블화가 가능하기 때문에, 차세대의 플랫 패널 디스플레이 (FPD) 로서 주목을 받고 있다.On the other hand, an image display device including an organic electroluminescent element (also referred to as organic electroluminescence, organic EL) is excellent in visibility and responsiveness such as contrast and viewing angle, low power consumption, thinner and lighter weight, and the display body. Because it is flexible, it is receiving attention as a next-generation flat panel display (FPD).

유기 전계 발광 소자는, 적어도 일방이 투광성을 갖는 1 쌍의 전극간에, 발광층 혹은 각종 기능층을 포함하는 유기종이 협지 (挾持) 된 구조를 갖는 것이다. 화상 표시 장치는 화소마다 유기 전계 발광 소자가 배치된 패널을 구동시킴으로써, 화상 표시를 실시하는 것이다.The organic electroluminescent element has a structure in which at least one of a pair of electrodes has light-transmitting properties, and organic species including a light-emitting layer or various functional layers are interposed. The image display device performs image display by driving a panel in which an organic electroluminescent element is disposed for each pixel.

종래부터 이와 같은 유기 전계 발광 소자는, 기판 상에, 격벽 (뱅크) 을 형성한 후에, 격벽에 둘러싸인 영역 내에, 발광층 혹은 각종 기능층을 적층하여 제조되고 있다.Conventionally, such an organic electroluminescent device is manufactured by forming a partition (bank) on a substrate, and then laminating a light emitting layer or various functional layers in an area surrounded by the partition.

격벽에 둘러싸인 영역 내에 발광층 등을 성막하려면, 재료를 진공 상태에서 승화시키고, 기판 상에 부착시켜 성막하는 증착법이 주로 적용되고 있다. 또 최근에는, 캐스트법, 스핀 코트법, 잉크젯 인쇄법과 같은 웨트 프로세스로 성막하는 방법이 주목받고 있다. 특히, 잉크젯 인쇄법은, 대면적으로 했을 경우의 막두께 불균일을 저감할 수 있음과 함께, 도포시의 나누어 도포하는 것에 의한 디스플레이의 고정밀화, 재료의 사용량의 삭감, 수율의 향상을 도모하는 것이 가능해지기 때문에, 대형 패널에 있어서의 유기종의 성막 방법으로서 적합하다.In order to form a light emitting layer or the like in an area surrounded by a partition wall, a vapor deposition method in which a material is sublimed in a vacuum state and attached to a substrate to form a film is mainly applied. In addition, recently, a method of forming a film by a wet process such as a cast method, a spin coat method, and an inkjet printing method has attracted attention. Particularly, in the inkjet printing method, it is possible to reduce unevenness in film thickness when a large area is achieved, and to achieve high-precision display, reduced material usage, and improved yield by dividing and coating during application. Since it becomes possible, it is suitable as a method for forming organic species in a large panel.

또 이들 격벽을 용이하게 형성하는 방법으로는, 감광성 수지 조성물을 사용한 포토리소그래피법에 의해 형성하는 방법이 알려져 있다.Moreover, as a method of easily forming these partition walls, a method of forming by a photolithography method using a photosensitive resin composition is known.

국제 공개 제2015/046178호International Publication No. 2015/046178

최근, 화상 표시 장치 등을 구성하는 경화물을 형성한 후에, 그 경화물로부터 발생하는 아웃 가스를 저감하는 요망이 있다. 특히 유기 전계 발광 소자에 있어서는, 소자 발광시에 격벽으로부터 발생하는 아웃 가스를 저감하는 요망이 강하다. 유기 전계 발광 소자에 있어서는, 격벽 등의 경화물로부터 발생하는 아웃 가스량이 많으면, 소자의 수명의 저하를 일으켜 버릴 가능성이 있기 때문이다.Recently, after forming a cured product constituting an image display device or the like, there is a desire to reduce outgas generated from the cured product. In particular, in the organic electroluminescent device, there is a strong desire to reduce the outgas generated from the partition walls when the device emits light. This is because, in the organic electroluminescent device, if the amount of outgas generated from a cured product such as a partition wall is large, the life of the device may decrease.

한편, 화상 표시 장치 중에서도 고해상도의 모델에 있어서는, 그것을 구성하는 경화물을 미세화할 필요가 있고, 미세한 패턴이더라도 현상 공정에 있어서 기판 등에 충분히 밀착하는 것이 요구되고 있다.On the other hand, among the image display devices, in a high-resolution model, it is necessary to refine the cured product constituting it, and even a fine pattern is required to sufficiently adhere to a substrate or the like in the development process.

본 발명자들이 검토한 바, 특허문헌 1 에 기재된 감광성 착색 조성물에서는, 아웃 가스가 많아, 실용상 문제가 있는 것이 발견되었다.When the present inventors examined, the photosensitive coloring composition described in patent document 1 found that there were many outgases and there existed a problem practically.

또, 특허문헌 1 에는 유기 전계 발광 소자의 격벽에 대한 적용에 대해서는 기재도 시사도 없고, 본 발명자들이 유기 전계 발광 소자의 격벽 형성 용도에 검토한 바 일반적인 해상도의 모델에 요구되는 사이즈의 패턴의 밀착성이 충분한 것이 발견되기는 했지만, 고해상도인 모델에 요구되는 미세 패턴의 밀착성은 충분하지 않은 것이 발견되었다.In addition, Patent Document 1 has no description or suggestion about the application of the organic electroluminescent device to the partition wall, and the inventors have investigated the use of the organic electroluminescent device to form the partition wall. Although this sufficient was found, it was found that the adhesion of the fine pattern required for the high-resolution model was not sufficient.

본 발명의 제 1 과제는, 경화물 형성 후의 아웃 가스량이 적고 신뢰성이 우수하고, 또 경화물 제조시의 현상 공정에 있어서의 미세 패턴의 밀착성이 양호한 착색 감광성 수지 조성물을 제공하는 것에 있다.The first object of the present invention is to provide a colored photosensitive resin composition having a small amount of outgas after formation of a cured product, excellent reliability, and good adhesion of a fine pattern in a developing process at the time of producing the cured product.

또, 그 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 형성된 격벽, 그 격벽을 구비하는 유기 전계 발광 소자, 그 유기 전계 발광 소자를 포함하는 화상 표시 장치 및 조명을 제공하는 것에 있다.Moreover, it is providing the partition wall formed using the coloring photosensitive resin composition, the organic electroluminescent element provided with the partition, the image display apparatus containing the organic electroluminescent element, and illumination.

또 본 발명의 제 2 과제는, 경화물 형성 후의 아웃 가스량이 적고 신뢰성이 우수한, 유기 전계 발광 소자의 격벽을 형성하기 위한 착색 감광성 수지 조성물을 제공하는 것에 있다.Moreover, the 2nd subject of this invention is providing the coloring photosensitive resin composition for forming the partition wall of the organic electroluminescent element which is excellent in reliability with little outgas amount after formation of a hardened | cured material.

또, 그 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 형성된 격벽, 그 격벽을 구비하는 유기 전계 발광 소자, 그 유기 전계 발광 소자를 포함하는 화상 표시 장치 및 조명을 제공하는 것에 있다.Moreover, it is providing the partition wall formed using the coloring photosensitive resin composition, the organic electroluminescent element provided with the partition, the image display apparatus containing the organic electroluminescent element, and illumination.

또한 본 발명의 제 3 과제는, 제 1 과제를 해결하는 감광성 수지 조성물을 구성하기 위한 안료 분산액을 제공하는 것에 있다.Moreover, 3rd subject of this invention is providing the pigment dispersion liquid for constituting the photosensitive resin composition which solves 1st subject.

본 발명자들이 예의 검토한 결과, 특정한 유기 흑색 안료를 함유하고, 추가로 특정한 바인더 수지를 일정량 이상 함유하는 착색 감광성 수지 조성물 등에 의해, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명에 이르렀다.As a result of earnest examination by the present inventors, it has been found that the above-mentioned problems can be solved by a colored photosensitive resin composition containing a specific organic black pigment and further containing a specific amount of a specific binder resin or more, to reach the present invention.

즉 본 발명의 요지는 이하와 같다.That is, the gist of the present invention is as follows.

[1] (A) 착색제, (B) 분산제, (C) 바인더 수지, (D) 광 중합성 모노머 및 (E) 광 중합 개시제를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물로서, [1] A colored photosensitive resin composition containing (A) a colorant, (B) a dispersant, (C) a binder resin, (D) a photopolymerizable monomer, and (E) a photopolymerization initiator,

상기 (A) 착색제가, 하기 일반식 (I) 로 나타내는 화합물, 상기 화합물의 기하 이성체, 상기 화합물의 염, 및 상기 화합물의 기하 이성체의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 (A1) 유기 흑색 안료를 포함하고, The (A) coloring agent contains (A1) at least one selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula (I), a geometrical isomer of the compound, a salt of the compound, and a salt of the geometrical isomer of the compound. ) Contains an organic black pigment,

상기 (B) 분산제가, 아크릴계 분산제를 포함하고, The dispersant (B) includes an acrylic dispersant,

상기 (C) 바인더 수지가, (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지를 75 질량% 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.The said (C) binder resin contains (C1) epoxy (meth) acrylate resin 75 mass% or more, The coloring photosensitive resin composition characterized by the above-mentioned.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

(식 (I) 중, Ra1 및 Ra6 은 각각 독립적으로, 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자 또는 염소 원자를 나타내고;(In formula (I), R a1 and R a6 each independently represent a hydrogen atom, CH 3 , CF 3 , a fluorine atom or a chlorine atom;

Ra2, Ra3, Ra4, Ra5, Ra7, Ra8, Ra9 및 Ra10 은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, Ra11, COOH, COORa11, COO-, CONH2, CONHRa11, CONRa11Ra12, CN, OH, ORa11, COCRa11, OOCNH2, OOCNHRa11, OOCNRa11Ra12, NO2, NH2, NHRa11, NRa11Ra12, NHCORa12, NRa11CORa12, N=CH2, N=CHRa11, N=CRa11Ra12, SH, SRa11, SORa11, SO2Ra11, SO3Ra11, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHRa11 또는 SO2NRa11Ra12 를 나타내고;R a2, R a3, R a4, R a5, R a7, R a8, R a9 and R a10 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, R a11, COOH, COOR a11, COO -, CONH 2, CONHR a11 , CONR a11 R a12 , CN, OH, OR a11 , COCR a11 , OOCNH 2 , OOCNHR a11 , OOCNR a11 R a12 , NO 2 , NH 2 , NHR a11 , NR a11 R a12 , NHCOR a12 , NR a11 COR a12 , N = CH 2, N = CHR a11 , N = CR a11 R a12, SH, SR a11, SOR a11, SO 2 R a11, SO 3 R a11, SO 3 H, SO 3 -, SO 2 NH 2, SO 2 NHR a11 or SO 2 NR a11 R a12 ;

또한, Ra2 와 Ra3, Ra3 과 Ra4, Ra4 와 Ra5, Ra7 과 Ra8, Ra8 과 Ra9, 및 Ra9 와 Ra10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합해도 되고, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NRa11 브릿지에 의해 서로 결합해도 되고;Further, at least one combination selected from the group consisting of R a2 and R a3 , R a3 and R a4 , R a4 and R a5 , R a7 and R a8 , R a8 and R a9 , and R a9 and R a10 , They may be directly bonded to each other, or may be bonded to each other by an oxygen atom, a sulfur atom, NH or an NR a11 bridge;

Ra11 및 Ra12 는 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기를 나타낸다.) R a11 and R a12 are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 3 to 12 carbon atoms, or an alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms. Indicates.)

[2] 상기 (C) 바인더 수지에 있어서의 상기 (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 함유 비율이 85 질량% 이상인, [1] 에 기재된 착색 감광성 수지 조성물.[2] The colored photosensitive resin composition according to [1], wherein the content ratio of the (C1) epoxy (meth) acrylate resin in the (C) binder resin is 85% by mass or more.

[3] 상기 (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지가, 하기 일반식 (II) 로 나타내는 반복 단위 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 및 하기 일반식 (III) 으로 나타내는 부분 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 일방 또는 양방을 포함하는, [1] 또는 [2] 에 기재된 착색 감광성 수지 조성물.[3] The epoxy (meth) acrylate resin (C1) having a repeating unit structure represented by the following general formula (II) and the epoxy having a partial structure represented by the following general formula (III) The colored photosensitive resin composition as described in [1] or [2], containing one or both of (meth) acrylate resins.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00002
Figure pat00002

(식 (II) 중, R11 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고;(In formula (II), R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group;

R12 는 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 탄화수소기를 나타내고;R 12 represents a divalent hydrocarbon group which may have a substituent;

식 (II) 중의 벤젠 고리는, 또한 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 되고;The benzene ring in formula (II) may also be substituted with an arbitrary substituent;

* 는 결합손을 나타낸다.) * Represents a bonding hand.)

[화학식 3][Formula 3]

Figure pat00003
Figure pat00003

(식 (III) 중, R13 은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고;(In formula (III), R 13 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group;

R14 는, 고리형 탄화수소기를 측사슬로서 갖는 2 가의 탄화수소기를 나타내고;R 14 represents a divalent hydrocarbon group having a cyclic hydrocarbon group as a side chain;

R15 및 R16 은 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 지방족기를 나타내고;R 15 and R 16 each independently represent a divalent aliphatic group which may have a substituent;

m 및 n 은 각각 독립적으로 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고;m and n each independently represent an integer of 0 to 2;

* 는 결합손을 나타낸다.) * Represents a bonding hand.)

[4] 상기 아크릴계 분산제가, 질소 원자를 함유하는 아크릴계 분산제인, [1] ∼ [3] 중 어느 한 항에 기재된 착색 감광성 수지 조성물.[4] The colored photosensitive resin composition according to any one of [1] to [3], wherein the acrylic dispersant is an acrylic dispersant containing a nitrogen atom.

[5] 상기 (A) 착색제의 함유 비율이, 상기 착색 감광성 수지 조성물의 전체 고형분당 60 질량% 이하인, [1] ∼ [4] 중 어느 한 항에 기재된 착색 감광성 수지 조성물.[5] The colored photosensitive resin composition according to any one of [1] to [4], wherein the content ratio of the colorant (A) is 60% by mass or less per total solid content of the colored photosensitive resin composition.

[6] 상기 (A) 착색제가, 추가로 (A2) 유기 착색 안료 및 (A3) 카본 블랙의 일방 또는 양방을 포함하는, [1] ∼ [5] 중 어느 한 항에 기재된 착색 감광성 수지 조성물.[6] The colored photosensitive resin composition according to any one of [1] to [5], wherein the colorant (A) further comprises (A2) an organic coloring pigment and (A3) one or both of carbon black.

[7] 상기 (A) 착색제에 있어서의 (A1) 유기 흑색 안료의 함유 비율이 10 질량% 이상인, [1] ∼ [6] 중 어느 한 항에 기재된 착색 감광성 수지 조성물.[7] The colored photosensitive resin composition according to any one of [1] to [6], wherein the content ratio of the organic black pigment (A1) in the colorant (A) is 10% by mass or more.

[8] 유기 전계 발광 소자의 격벽을 형성하기 위해서 사용되는, [1] ∼ [7] 중 어느 한 항에 기재된 착색 감광성 수지 조성물.[8] The colored photosensitive resin composition according to any one of [1] to [7], which is used to form partition walls of an organic electroluminescent element.

[9] (A) 착색제, (B) 분산제, (C) 바인더 수지, (D) 광 중합성 모노머 및 (E) 광 중합 개시제를 함유하는, 유기 전계 발광 소자의 격벽을 형성하기 위한 착색 감광성 수지 조성물로서,[9] A colored photosensitive resin for forming a partition wall of an organic electroluminescent device containing (A) a colorant, (B) a dispersant, (C) a binder resin, (D) a photopolymerizable monomer, and (E) a photopolymerization initiator. As a composition,

상기 (A) 착색제가, 하기 일반식 (I) 로 나타내는 화합물, 상기 화합물의 기하 이성체, 상기 화합물의 염, 및 상기 화합물의 기하 이성체의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 (A1) 유기 흑색 안료를 포함하고, The (A) coloring agent contains (A1) at least one selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula (I), a geometrical isomer of the compound, a salt of the compound, and a salt of the geometrical isomer of the compound. ) Contains an organic black pigment,

상기 (C) 바인더 수지가, (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지를 75 질량% 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.The said (C) binder resin contains (C1) epoxy (meth) acrylate resin 75 mass% or more, The coloring photosensitive resin composition characterized by the above-mentioned.

[화학식 4][Formula 4]

Figure pat00004
Figure pat00004

(식 (I) 중, Ra1 및 Ra6 은 각각 독립적으로, 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자 또는 염소 원자를 나타내고;(In formula (I), R a1 and R a6 each independently represent a hydrogen atom, CH 3 , CF 3 , a fluorine atom or a chlorine atom;

Ra2, Ra3, Ra4, Ra5, Ra7, Ra8, Ra9 및 Ra10 은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, Ra11, COOH, COORa11, COO-, CONH2, CONHRa11, CONRa11Ra12, CN, OH, ORa11, COCRa11, OOCNH2, OOCNHRa11, OOCNRa11Ra12, NO2, NH2, NHRa11, NRa11Ra12, NHCORa12, NRa11CORa12, N=CH2, N=CHRa11, N=CRa11Ra12, SH, SRa11, SORa11, SO2Ra11, SO3Ra11, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHRa11 또는 SO2NRa11Ra12 를 나타내고;R a2, R a3, R a4, R a5, R a7, R a8, R a9 and R a10 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, R a11, COOH, COOR a11, COO -, CONH 2, CONHR a11 , CONR a11 R a12 , CN, OH, OR a11 , COCR a11 , OOCNH 2 , OOCNHR a11 , OOCNR a11 R a12 , NO 2 , NH 2 , NHR a11 , NR a11 R a12 , NHCOR a12 , NR a11 COR a12 , N = CH 2, N = CHR a11 , N = CR a11 R a12, SH, SR a11, SOR a11, SO 2 R a11, SO 3 R a11, SO 3 H, SO 3 -, SO 2 NH 2, SO 2 NHR a11 or SO 2 NR a11 R a12 ;

또한, Ra2 와 Ra3, Ra3 과 Ra4, Ra4 와 Ra5, Ra7 과 Ra8, Ra8 과 Ra9, 및 Ra9 와 Ra10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합해도 되고, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NRa11 브릿지에 의해 서로 결합해도 되고;Further, at least one combination selected from the group consisting of R a2 and R a3 , R a3 and R a4 , R a4 and R a5 , R a7 and R a8 , R a8 and R a9 , and R a9 and R a10 , They may be directly bonded to each other, or may be bonded to each other by an oxygen atom, a sulfur atom, NH or an NR a11 bridge;

Ra11 및 Ra12 는 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기를 나타낸다.) R a11 and R a12 are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 3 to 12 carbon atoms, or an alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms. Indicates.)

[10] 상기 (C) 바인더 수지에 있어서의 상기 (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 함유 비율이 85 질량% 이상인, [9] 에 기재된 착색 감광성 수지 조성물.[10] The colored photosensitive resin composition according to [9], wherein the content ratio of the (C1) epoxy (meth) acrylate resin in the (C) binder resin is 85% by mass or more.

[11] 상기 (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지가, 하기 일반식 (II) 로 나타내는 반복 단위 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 및 하기 일반식 (III) 으로 나타내는 부분 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 일방 또는 양방을 포함하는, [9] 또는 [10] 에 기재된 착색 감광성 수지 조성물.[11] The epoxy (meth) acrylate resin (C1) having a repeating unit structure represented by the following general formula (II) and the epoxy having a partial structure represented by the following general formula (III) The colored photosensitive resin composition according to [9] or [10], comprising one or both of the (meth) acrylate resins.

[화학식 5][Formula 5]

Figure pat00005
Figure pat00005

(식 (II) 중, R11 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고;(In formula (II), R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group;

R12 는 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 탄화수소기를 나타내고;R 12 represents a divalent hydrocarbon group which may have a substituent;

식 (II) 중의 벤젠 고리는, 또한 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 되고;The benzene ring in formula (II) may also be substituted with an arbitrary substituent;

* 는 결합손을 나타낸다.) * Represents a bonding hand.)

[화학식 6][Formula 6]

Figure pat00006
Figure pat00006

(식 (III) 중, R13 은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고;(In formula (III), R 13 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group;

R14 는, 고리형 탄화수소기를 측사슬로서 갖는 2 가의 탄화수소기를 나타내고;R 14 represents a divalent hydrocarbon group having a cyclic hydrocarbon group as a side chain;

R15 및 R16 은 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 지방족기를 나타내고;R 15 and R 16 each independently represent a divalent aliphatic group which may have a substituent;

m 및 n 은 각각 독립적으로 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고;m and n each independently represent an integer of 0 to 2;

* 는 결합손을 나타낸다.) * Represents a bonding hand.)

[12] 상기 (A) 착색제의 함유 비율이, 상기 착색 감광성 수지 조성물의 전체 고형분당 60 질량% 이하인, [9] ∼ [11] 중 어느 한 항에 기재된 착색 감광성 수지 조성물.[12] The colored photosensitive resin composition according to any one of [9] to [11], wherein the content ratio of the colorant (A) is 60% by mass or less per total solid content of the colored photosensitive resin composition.

[13] 상기 (A) 착색제가, 추가로 (A2) 유기 착색 안료 및 (A3) 카본 블랙의 일방 또는 양방을 포함하는, [9] ∼ [12] 중 어느 한 항에 기재된 착색 감광성 수지 조성물.[13] The colored photosensitive resin composition according to any one of [9] to [12], wherein the colorant (A) further comprises (A2) an organic coloring pigment and (A3) one or both of carbon black.

[14] 상기 (A) 착색제에 있어서의 (A1) 유기 흑색 안료의 함유 비율이 10 질량% 이상인, [9] ∼ [13] 중 어느 한 항에 기재된 착색 감광성 수지 조성물.[14] The colored photosensitive resin composition according to any one of [9] to [13], wherein the content ratio of the organic black pigment (A1) in the colorant (A) is 10% by mass or more.

[15] [1] ∼ [14] 중 어느 한 항에 기재된 착색 감광성 수지 조성물로 구성되는 격벽.[15] A partition wall composed of the colored photosensitive resin composition according to any one of [1] to [14].

[16] [15] 에 기재된 격벽을 구비하는 유기 전계 발광 소자.[16] An organic electroluminescent device comprising the partition wall according to [15].

[17] [16] 에 기재된 유기 전계 발광 소자를 포함하는 화상 표시 장치.[17] An image display device comprising the organic electroluminescent element according to [16].

[18] [16] 에 기재된 유기 전계 발광 소자를 포함하는 조명.[18] An illumination comprising the organic electroluminescent element according to [16].

[19] (A) 착색제, (B) 분산제 및 (C) 바인더 수지를 함유하는 안료 분산액으로서, [19] A pigment dispersion containing (A) a colorant, (B) a dispersant, and (C) a binder resin,

상기 (A) 착색제가, 하기 일반식 (I) 로 나타내는 화합물, 상기 화합물의 기하 이성체, 상기 화합물의 염, 및 상기 화합물의 기하 이성체의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 (A1) 유기 흑색 안료를 포함하고, The (A) coloring agent contains (A1) at least one selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula (I), a geometrical isomer of the compound, a salt of the compound, and a salt of the geometrical isomer of the compound. ) Contains an organic black pigment,

상기 (B) 분산제가, 아크릴계 분산제를 포함하고, The dispersant (B) includes an acrylic dispersant,

상기 (C) 바인더 수지가, (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 안료 분산액.The pigment dispersion, characterized in that the (C) binder resin comprises (C1) epoxy (meth) acrylate resin.

[화학식 7][Formula 7]

Figure pat00007
Figure pat00007

(식 (I) 중, Ra1 및 Ra6 은 각각 독립적으로, 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자 또는 염소 원자를 나타내고;(In formula (I), R a1 and R a6 each independently represent a hydrogen atom, CH 3 , CF 3 , a fluorine atom or a chlorine atom;

Ra2, Ra3, Ra4, Ra5, Ra7, Ra8, Ra9 및 Ra10 은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, Ra11, COOH, COORa11, COO-, CONH2, CONHRa11, CONRa11Ra12, CN, OH, ORa11, COCRa11, OOCNH2, OOCNHRa11, OOCNRa11Ra12, NO2, NH2, NHRa11, NRa11Ra12, NHCORa12, NRa11CORa12, N=CH2, N=CHRa11, N=CRa11Ra12, SH, SRa11, SORa11, SO2Ra11, SO3Ra11, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHRa11 또는 SO2NRa11Ra12 를 나타내고;R a2, R a3, R a4, R a5, R a7, R a8, R a9 and R a10 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, R a11, COOH, COOR a11, COO -, CONH 2, CONHR a11 , CONR a11 R a12 , CN, OH, OR a11 , COCR a11 , OOCNH 2 , OOCNHR a11 , OOCNR a11 R a12 , NO 2 , NH 2 , NHR a11 , NR a11 R a12 , NHCOR a12 , NR a11 COR a12 , N = CH 2, N = CHR a11 , N = CR a11 R a12, SH, SR a11, SOR a11, SO 2 R a11, SO 3 R a11, SO 3 H, SO 3 -, SO 2 NH 2, SO 2 NHR a11 or SO 2 NR a11 R a12 ;

또한, Ra2 와 Ra3, Ra3 과 Ra4, Ra4 와 Ra5, Ra7 과 Ra8, Ra8 과 Ra9, 및 Ra9 와 Ra10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합해도 되고, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NRa11 브릿지에 의해 서로 결합해도 되고;Further, at least one combination selected from the group consisting of R a2 and R a3 , R a3 and R a4 , R a4 and R a5 , R a7 and R a8 , R a8 and R a9 , and R a9 and R a10 , They may be directly bonded to each other, or may be bonded to each other by an oxygen atom, a sulfur atom, NH or an NR a11 bridge;

Ra11 및 Ra12 는 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기를 나타낸다.) R a11 and R a12 are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 3 to 12 carbon atoms, or an alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms. Indicates.)

[20] 상기 (B) 분산제의 함유 비율이, (A) 착색제 100 질량부에 대하여 10 질량부 이상인, [19] 에 기재된 안료 분산액.[20] The pigment dispersion according to [19], wherein the content ratio of the dispersant (B) is 10 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the colorant (A).

[21] 상기 (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지가, 하기 일반식 (II) 로 나타내는 반복 단위 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 및 하기 일반식 (III) 으로 나타내는 부분 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 일방 또는 양방을 포함하는, [19] 또는 [20] 에 기재된 안료 분산액.[21] The epoxy (meth) acrylate resin (C1) having a repeating unit structure represented by the following general formula (II) and the epoxy having a partial structure represented by the following general formula (III) The pigment dispersion according to [19] or [20], containing one or both of the (meth) acrylate resins.

[화학식 8][Formula 8]

Figure pat00008
Figure pat00008

(식 (II) 중, R11 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고;(In formula (II), R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group;

R12 는 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 탄화수소기를 나타내고;R 12 represents a divalent hydrocarbon group which may have a substituent;

식 (II) 중의 벤젠 고리는, 또한 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 되고;The benzene ring in formula (II) may also be substituted with an arbitrary substituent;

* 는 결합손을 나타낸다.) * Represents a bonding hand.)

[화학식 9][Formula 9]

Figure pat00009
Figure pat00009

(식 (III) 중, R13 은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고;(In formula (III), R 13 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group;

R14 는, 고리형 탄화수소기를 측사슬로서 갖는 2 가의 탄화수소기를 나타내고;R 14 represents a divalent hydrocarbon group having a cyclic hydrocarbon group as a side chain;

R15 및 R16 은 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 지방족기를 나타내고;R 15 and R 16 each independently represent a divalent aliphatic group which may have a substituent;

m 및 n 은 각각 독립적으로 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고;m and n each independently represent an integer of 0 to 2;

* 는 결합손을 나타낸다.) * Represents a bonding hand.)

[22] 상기 아크릴계 분산제가, 질소 원자를 함유하는 아크릴계 분산제인, [19] ∼ [21] 중 어느 한 항에 기재된 안료 분산액.[22] The pigment dispersion according to any one of [19] to [21], wherein the acrylic dispersant is an acrylic dispersant containing a nitrogen atom.

[23] 착색 감광성 수지 조성물을 제조하기 위해서 사용되는, [19] ∼ [22] 중 어느 한 항에 기재된 안료 분산액.[23] The pigment dispersion according to any one of [19] to [22], used for producing a colored photosensitive resin composition.

본 발명의 어느 양태에 의해, 경화물 형성 후의 아웃 가스량이 적고 신뢰성이 우수하고, 또 경화물 제조시의 현상 공정에 있어서의 패턴의 밀착성이 양호한 착색 감광성 수지 조성물을 제공할 수 있다. 또 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물로부터 형성되는 경화물은 가동시의 아웃 가스량이 적고, 발광 소자로는 수명의 저하가 적고, 신뢰성이 우수하다.According to one aspect of the present invention, it is possible to provide a colored photosensitive resin composition having a small amount of outgas after formation of a cured product, excellent reliability, and good adhesion of a pattern in a developing process at the time of producing the cured product. In addition, the cured product formed from the colored photosensitive resin composition of the present invention has a small amount of outgas during operation, a small decrease in life, and excellent reliability in a light emitting element.

또 본 발명의 다른 양태에 의해, 경화물 형성 후의 아웃 가스량이 적고 신뢰성이 우수한, 유기 전계 발광 소자의 격벽을 형성하기 위한 착색 감광성 수지 조성물을 제공할 수 있다. 또 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물로부터 형성되는 경화물은 가동시의 아웃 가스량이 적고, 발광 소자로는 수명의 저하가 적고, 신뢰성이 우수하다.Moreover, according to another aspect of the present invention, it is possible to provide a colored photosensitive resin composition for forming a partition wall of an organic electroluminescent device having a small amount of outgas after formation of a cured product and excellent reliability. In addition, the cured product formed from the colored photosensitive resin composition of the present invention has a small amount of outgas during operation, a small decrease in life, and excellent reliability in a light emitting element.

또 본 발명의 안료 분산액에 의해 상기 착색 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이 가능해진다.Moreover, it becomes possible to provide the said coloring photosensitive resin composition with the pigment dispersion liquid of this invention.

이하, 본 발명을 상세하게 설명한다. 또한, 이하의 기재는 본 발명의 실시형태의 일례이며, 본 발명은 그 요지를 넘지 않는 한 이들에 특정되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be described in detail. In addition, the following description is an example of embodiment of this invention, and this invention is not specified to these unless the gist is exceeded.

또한, 본 발명에 있어서, 「(메트)아크릴」 이란, 「아크릴 및/또는 메타크릴」 을 의미하는 것으로 하고, 또, 「전체 고형분」 이란, 착색 감광성 수지 조성물 또는 안료 분산액에 있어서의, 용제 이외의 전체 성분을 의미하는 것으로 한다. 또한, 본 발명에 있어서 「∼」 를 사용하여 나타내는 수치 범위는, 「∼」 의 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다.In addition, in this invention, "(meth) acrylic" means "acrylic and / or methacrylic", and "all solid content" means other than a solvent in a coloring photosensitive resin composition or a pigment dispersion liquid. It shall mean the whole component of. In addition, in this invention, the numerical range shown using "-" means the range containing the numerical value described before and after "-" as a lower limit and an upper limit.

또, 본 발명에 있어서, 「(공)중합체」 란, 단일 중합체 (호모폴리머) 와 공중합체 (코폴리머) 의 쌍방을 포함하는 것을 의미하며, 또, 「(산) 무수물」, 「(무수) … 산」 이란, 산과 그 무수물의 쌍방을 포함하는 것을 의미한다.In addition, in the present invention, "(co) polymer" means that both a homopolymer (homopolymer) and a copolymer (copolymer) are included, and "(acid) anhydride" and "(anhydrous) … Acid "means containing both an acid and its anhydride.

본 발명에 있어서, 격벽재란, 뱅크재, 벽재, 월재를 가리키고, 마찬가지로, 격벽이란, 뱅크, 벽, 월을 가리킨다. 격벽이란, 예를 들어, 액티브 구동형 유기 전계 발광 소자에 있어서의 기능층 (유기종) 을 구획하기 위한 것이며, 구획된 영역 (화소 영역) 에 기능층을 구성하기 위한 재료를 증착 혹은 잉크젯 등에 의한 도포, 건조를 실시함으로써, 기능층 및 격벽으로 이루어지는 화소 등을 형성시켜 가기 위해서 사용되는 것이다.In the present invention, the partition wall material refers to the bank material, the wall material, and the wall material, and similarly, the partition wall refers to the bank, wall, and wall material. The partition wall, for example, is for partitioning the functional layer (organic type) in the active-driven organic electroluminescent device, and a material for constructing the functional layer in the partitioned region (pixel region) is deposited or applied by inkjet or the like. , It is used to form a pixel or the like composed of a functional layer and a partition by performing drying.

본 발명에 있어서, 중량 평균 분자량이란, GPC (겔 퍼미에이션 크로마토그래피) 에 의한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 을 가리킨다.In the present invention, the weight average molecular weight refers to the weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene by GPC (gel permeation chromatography).

본 발명에 있어서, 신뢰성이란, 유기 전계 발광 소자의 구동시의 신뢰성을 의미하며, 특히, 화상 표시 장치에 관해서는 표시 신뢰성을, 조명에 관해서는 발광 신뢰성을 의미한다.In the present invention, the reliability means the reliability at the time of driving the organic electroluminescent element, in particular, the display reliability for the image display device and the light emission reliability for illumination.

본 발명의 제 1 양태에 관련된 착색 감광성 수지 조성물은, 상기 제 1 과제를 해결하는 것이며, 상기 (A) 착색제가, 후술하는 일반식 (I) 로 나타내는 화합물, 상기 화합물의 기하 이성체, 상기 화합물의 염, 및 상기 화합물의 기하 이성체의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 (A1) 유기 흑색 안료를 포함하고, 상기 (B) 분산제가, 아크릴계 분산제를 포함하고, 상기 (C) 바인더 수지가, (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지를 75 질량% 이상 포함하는 것이다.The colored photosensitive resin composition according to the first aspect of the present invention solves the first problem, and the (A) coloring agent is a compound represented by the general formula (I) described later, a geometric isomer of the compound, and the compound A (A1) organic black pigment containing at least one selected from the group consisting of a salt and a salt of the geometric isomer of the compound, the (B) dispersant contains an acrylic dispersant, and the (C) binder The resin contains 75 mass% or more of the (C1) epoxy (meth) acrylate resin.

본 발명의 제 2 양태에 관련된 착색 감광성 수지 조성물은, 상기 제 2 과제를 해결하는 것이며, 유기 전계 발광 소자의 격벽을 형성하기 위한 착색 감광성 수지 조성물로서, 상기 (A) 착색제가, 후술하는 일반식 (I) 로 나타내는 화합물, 상기 화합물의 기하 이성체, 상기 화합물의 염, 및 상기 화합물의 기하 이성체의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 (A1) 유기 흑색 안료를 포함하고, 상기 (C) 바인더 수지가, (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지를 75 질량% 이상 포함하는 것이다.The colored photosensitive resin composition according to the second aspect of the present invention solves the second problem and is a colored photosensitive resin composition for forming a partition wall of an organic electroluminescent device, wherein the colorant (A) is a general formula described later. And (A1) an organic black pigment containing at least one member selected from the group consisting of the compound represented by (I), the geometrical isomer of the compound, the salt of the compound, and the salt of the geometrical isomer of the compound, wherein ( C) Binder resin contains 75 mass% or more of (C1) epoxy (meth) acrylate resin.

본 발명의 제 3 양태에 관련된 안료 분산액은, 상기 제 3 과제를 해결하는 것이며, 상기 (A) 착색제가, 후술하는 일반식 (I) 로 나타내는 화합물, 상기 화합물의 기하 이성체, 상기 화합물의 염, 및 상기 화합물의 기하 이성체의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 (A1) 유기 흑색 안료를 포함하고, 상기 (B) 분산제가, 아크릴계 분산제를 포함하고, 상기 (C) 바인더 수지가, (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지를 포함하는 것이다.The pigment dispersion liquid according to the third aspect of the present invention solves the third problem, and the colorant (A) is a compound represented by the general formula (I) described later, a geometrical isomer of the compound, a salt of the compound, And an organic black pigment (A1) containing at least one member selected from the group consisting of salts of geometric isomers of the compound, the dispersant (B) includes an acrylic dispersant, and the (C) binder resin is , (C1) to include an epoxy (meth) acrylate resin.

이하, 특별히 언급이 없는 한, 「본 발명의 착색 감광성 수지 조성물」 은, 상기 제 1 양태에 관련된 착색 감광성 수지 조성물, 및 제 2 양태에 관련된 착색 감광성 수지 조성물의 양자를 가리킨다.Hereinafter, unless otherwise specified, "the colored photosensitive resin composition of the present invention" refers to both the colored photosensitive resin composition according to the first aspect and the colored photosensitive resin composition according to the second aspect.

[1] 착색 감광성 수지 조성물의 성분 및 조성[1] Components and composition of colored photosensitive resin composition

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 구성하는 성분 및 그 조성에 대해서 설명한다.The components constituting the colored photosensitive resin composition of the present invention and its composition will be described.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 (이하, 간단히 「감광성 수지 조성물」 이라고 하는 경우가 있다) 은, (A) 착색제, (B) 분산제, (C) 바인더 수지, (D) 광 중합성 모노머 및 (E) 광 중합 개시제를 함유하고, 또한 통상적으로는, 용제도 함유한다.The colored photosensitive resin composition of the present invention (hereinafter sometimes simply referred to as a "photosensitive resin composition") includes (A) a colorant, (B) a dispersant, (C) a binder resin, (D) a photopolymerizable monomer, and (E ) It contains a photoinitiator, and also usually contains a solvent.

[1-1] (A) 착색제[1-1] (A) Coloring agent

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 및 안료 분산액에 있어서의 (A) 착색제는, 하기 일반식 (I) 로 나타내는 화합물 (이하, 「화합물 (I)」 이라고 칭하는 경우가 있다.), 상기 화합물의 기하 이성체, 상기 화합물의 염, 및 상기 화합물의 기하 이성체의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 (A1) 유기 흑색 안료 (이하, 「(A1) 유기 흑색 안료」 라고 칭하는 경우가 있다.) 를 포함한다.The coloring agent (A) coloring agent in the coloring photosensitive resin composition of this invention and a pigment dispersion liquid is a compound represented by the following general formula (I) (Hereinafter, it may be called "compound (I)."), The geometric isomer of the said compound , (A1) organic black pigment containing at least one member selected from the group consisting of a salt of the compound and a salt of the geometrical isomer of the compound (hereinafter sometimes referred to as "(A1) organic black pigment".) It includes.

이와 같이, (A1) 유기 흑색 안료를 포함함으로써, 고저항, 저유전율 또한 고차광율을 실현할 수 있는 것으로 생각된다. 또한, 보다 흑색에 가까운 색조의 경화물이 얻어지기 때문에, 화상 표시 장치의 화상 표시 영역에서 차지하는 면적 비율이 큰, 유기 전계 발광 소자의 격벽을 형성하기 위한 착색제로서 적합하게 사용할 수 있다. 또 (A1) 유기 흑색 안료를 사용함으로써 분산성, 보존성도 양호하고, 이것을 함유하는 착색 감광성 수지 조성물에 있어서는 현상시의 패터닝 적성도 양호하다.In this way, it is considered that by including the organic black pigment (A1), high resistance, low dielectric constant, and high light-shielding rate can be realized. Further, since a cured product having a color tone closer to black is obtained, it can be suitably used as a colorant for forming a partition wall of an organic electroluminescent element having a large area ratio in the image display area of the image display device. Moreover, dispersibility and storage property are also favorable by using (A1) organic black pigment, and the patterning aptitude at the time of development is also favorable in the coloring photosensitive resin composition containing this.

[화학식 10][Formula 10]

Figure pat00010
Figure pat00010

식 (I) 중, Ra1 및 Ra6 은 각각 독립적으로, 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자 또는 염소 원자를 나타내고;In formula (I), R a1 and R a6 each independently represent a hydrogen atom, CH 3 , CF 3 , a fluorine atom or a chlorine atom;

Ra2, Ra3, Ra4, Ra5, Ra7, Ra8, Ra9 및 Ra10 은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, Ra11, COOH, COORa11, COO-, CONH2, CONHRa11, CONRa11Ra12, CN, OH, ORa11, COCRa11, OOCNH2, OOCNHRa11, OOCNRa11Ra12, NO2, NH2, NHRa11, NRa11Ra12, NHCORa12, NRa11CORa12, N=CH2, N=CHRa11, N=CRa11Ra12, SH, SRa11, SORa11, SO2Ra11, SO3Ra11, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHRa11 또는 SO2NRa11Ra12 를 나타내고;R a2, R a3, R a4, R a5, R a7, R a8, R a9 and R a10 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, R a11, COOH, COOR a11, COO -, CONH 2, CONHR a11 , CONR a11 R a12 , CN, OH, OR a11 , COCR a11 , OOCNH 2 , OOCNHR a11 , OOCNR a11 R a12 , NO 2 , NH 2 , NHR a11 , NR a11 R a12 , NHCOR a12 , NR a11 COR a12 , N = CH 2, N = CHR a11 , N = CR a11 R a12, SH, SR a11, SOR a11, SO 2 R a11, SO 3 R a11, SO 3 H, SO 3 -, SO 2 NH 2, SO 2 NHR a11 or SO 2 NR a11 R a12 ;

또한, Ra2 와 Ra3, Ra3 과 Ra4, Ra4 와 Ra5, Ra7 과 Ra8, Ra8 과 Ra9, 및 Ra9 와 Ra10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합해도 되고, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NRa11 브릿지에 의해 서로 결합해도 되고;Further, at least one combination selected from the group consisting of R a2 and R a3 , R a3 and R a4 , R a4 and R a5 , R a7 and R a8 , R a8 and R a9 , and R a9 and R a10 , They may be directly bonded to each other, or may be bonded to each other by an oxygen atom, a sulfur atom, NH or an NR a11 bridge;

Ra11 및 Ra12 는 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기를 나타낸다.R a11 and R a12 are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 3 to 12 carbon atoms, or an alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms. Shows.

일반식 (I) 로 나타내는 화합물의 기하 이성체는, 이하의 코어 구조를 갖고 (단, 구조식 중의 치환기는 생략하고 있다), 트랜스-트랜스 이성체가 어쩌면 가장 안정적이다.The geometrical isomer of the compound represented by the general formula (I) has the following core structure (however, the substituents in the structural formula are omitted), and the trans-trans isomer is perhaps the most stable.

[화학식 11][Formula 11]

Figure pat00011
Figure pat00011

일반식 (I) 로 나타내는 화합물이 아니온성인 경우, 그 전하를 임의의 공지의 적합한 카티온, 예를 들어 금속, 유기, 무기 또는 금속 유기 카티온, 구체적으로는 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 천이 금속, 1 급 암모늄, 2 급 암모늄, 트리알킬암모늄 등의 3 급 암모늄, 테트라알킬암모늄 등의 4 급 암모늄 또는 유기 금속 착물에 의해 보상한 염인 것이 바람직하다. 또, 일반식 (I) 로 나타내는 화합물의 기하 이성체가 아니온성인 경우, 동일한 염인 것이 바람직하다.When the compound represented by the general formula (I) is anionic, its charge is any known suitable cation such as a metal, organic, inorganic or metal organic cation, specifically alkali metal, alkaline earth metal, transition metal It is preferably a salt compensated by a quaternary ammonium such as primary ammonium, secondary ammonium, trialkylammonium, quaternary ammonium such as tetraalkylammonium or an organic metal complex. Moreover, when the geometrical isomer of the compound represented by general formula (I) is anionic, it is preferable that it is the same salt.

일반식 (I) 의 치환기에 관해서는, 차폐 비율이 높아지는 경향이 있기 때문에, 이하의 것이 바람직하다. 이것은, 이하의 치환기는 흡수가 없고, 안료의 색상에 영향을 미치지 않는 것으로 생각되기 때문이다.As for the substituents of the general formula (I), the following are preferable because the shielding ratio tends to be high. This is because the following substituents are considered to have no absorption and do not affect the color of the pigment.

Ra2, Ra4, Ra5, Ra7, Ra9 및 Ra10 은 각각 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자, 불소 원자, 또는 염소 원자이며, 더욱 바람직하게는 수소 원자이다.R a2 , R a4 , R a5 , R a7 , R a9 and R a10 are each independently, preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, or a chlorine atom, and more preferably a hydrogen atom.

Ra3 및 Ra8 은 각각 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자, NO2, OCH3, OC2H5, 브롬 원자, 염소 원자, CH3, C2H5, N(CH3)2, N(CH3)(C2H5), N(C2H5)2, α-나프틸, β-나프틸, SO3H 또는 SO3 - 이고, 더욱 바람직하게는 수소 원자 또는 SO3H 이다.R a3 and R a8 are each independently, preferably a hydrogen atom, NO 2 , OCH 3 , OC 2 H 5 , a bromine atom, a chlorine atom, CH 3 , C 2 H 5 , N (CH 3 ) 2 , N ( is, more preferably a hydrogen atom or SO 3 H - CH 3) ( C 2 H 5), N (C 2 H 5) 2, α- naphthyl, β- naphthyl, SO 3 H or SO 3.

R1 및 R6 은 각각 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자, CH3 또는 CF3 이며, 더욱 바람직하게는 수소 원자이다.R 1 and R 6 are each independently, preferably a hydrogen atom, CH 3 or CF 3 , and more preferably a hydrogen atom.

바람직하게는, R1 과 R6, R2 와 R7, R3 과 R8, R4 와 R9, 및 R5 과 R10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합이 동일하고, 보다 바람직하게는, R1 은 R6 과 동일하고, R2 는 R7 과 동일하고, R3 은 R8 과 동일하고, R4 는 R9 와 동일하고, 또한, R5 는 R10 과 동일하다.Preferably, at least one combination selected from the group consisting of R 1 and R 6 , R 2 and R 7 , R 3 and R 8 , R 4 and R 9 , and R 5 and R 10 is the same, more preferably Preferably, R 1 is the same as R 6 , R 2 is the same as R 7 , R 3 is the same as R 8 , R 4 is the same as R 9, and R 5 is the same as R 10 .

탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기는, 예를 들어 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, 2-메틸부틸기, n-펜틸기, 2-펜틸기, 3-펜틸기, 2,2-디메틸프로필기, n-헥실기, 헵틸기, n-옥틸기, 1,1,3,3-테트라메틸부틸기, 2-에틸헥실기, 노닐기, 데실기, 운데실기 또는 도데실기이다.The alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, 2-methylbutyl group, n -Pentyl group, 2-pentyl group, 3-pentyl group, 2,2-dimethylpropyl group, n-hexyl group, heptyl group, n-octyl group, 1,1,3,3-tetramethylbutyl group, 2- Ethyl hexyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group or dodecyl group.

탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기는, 예를 들어, 시클로프로필기, 시클로프로필메틸기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기, 트리메틸시클로헥실기, 투질기, 노르보르닐기, 보르닐기, 노르카르일기, 카르일기, 멘틸기, 노르피닐기, 피닐기, 1-아다만틸기 또는 2-아다만틸기이다.The cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms is, for example, cyclopropyl group, cyclopropylmethyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclohexylmethyl group, trimethylcyclohexyl group, dialysis group, norbornyl group, boron It is a nil group, a norcaryl group, a carbonyl group, a menthyl group, a norfinyl group, a finyl group, a 1-adamantyl group or a 2-adamantyl group.

탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기는, 예를 들어, 비닐기, 알릴기, 2-프로펜-2-일기, 2-부텐-1-일기, 3-부텐-1-일기, 1,3-부타디엔-2-일기, 2-펜텐-1-일기, 3-펜텐-2-일기, 2-멘틸-1-부텐-3-일기, 2-메틸-3-부텐-2-일기, 3-메틸-2-부텐-1-일기, 1,4-펜타디엔-3-일기, 헥세닐기, 옥테닐기, 노네닐기, 데세닐기 또는 도데세닐기이다.The alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms is, for example, a vinyl group, an allyl group, 2-propen-2-yl group, 2-butene-1-yl group, 3-butene-1-yl group, 1,3-butadiene- 2-yl group, 2-penten-1-yl group, 3-penten-2-yl group, 2-menthyl-1-butene-3-yl group, 2-methyl-3-buten-2-yl group, 3-methyl-2- Butene-1-yl group, 1,4-pentadiene-3-yl group, hexenyl group, octenyl group, nonenyl group, desenyl group or dodecenyl group.

탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기는, 예를 들어, 2-시클로부텐-1-일기, 2-시클로펜텐-1-일기, 2-시클로헥센-1-일기, 3-시클로헥센-1-일기, 2,4-시클로헥사디엔-1-일기, 1-p-멘텐-8-일기, 4(10)-투젠-10-일기, 2-노르보르넨-1-일기, 2,5-노르보르나디엔-1-일기, 7,7-디메틸-2,4-노르카라디엔-3-일기 또는 캠페닐기이다.The cycloalkenyl group having 3 to 12 carbon atoms is, for example, 2-cyclobuten-1-yl group, 2-cyclopenten-1-yl group, 2-cyclohexen-1-yl group, 3-cyclohexen-1-yl group, 2,4-cyclohexadiene-1-yl group, 1-p-menten-8-yl group, 4 (10) -tuzen-10-yl group, 2-norbornene-1-yl group, 2,5-norbornadi It is an en-1-yl group, a 7,7-dimethyl-2,4-norcaradien-3-yl group or a camphenyl group.

탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기는, 예를 들어, 1-프로핀-3-일기, 1-부틴-4-일기, 1-펜틴-5-일기, 2-메틸-3-부틴-2-일기, 1,4-펜타디인-3-일기, 1,3-펜타디인-5-일기, 1-헥신-6-일기, 시스-3-메틸-2-펜텐-4-인-1-일기, 트랜스-3-메틸-2-펜텐-4-인-1-일기, 1,3-헥사디인-5-일기, 1-옥틴-8-일기, 1-노닌-9-일기, 1-데신-10-일기 또는 1-도데신-12-일기이다.An alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms is, for example, 1-propyn-3-yl group, 1-butyn-4-yl group, 1-pentin-5-yl group, 2-methyl-3-butyn-2-yl group, 1,4-pentadiin-3-yl group, 1,3-pentadiin-5-yl group, 1-hexin-6-yl group, cis-3-methyl-2-penten-4-in-1-yl group, Trans-3-methyl-2-penten-4-in-1-yl group, 1,3-hexadiin-5-yl group, 1-octin-8-yl group, 1-nonin-9-yl group, 1-decine- 10-day or 1-dodecine-12-day.

할로겐 원자는, 예를 들어, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 요오드 원자이다.The halogen atom is, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.

상기 (A1) 유기 흑색 안료는, 바람직하게는 하기 일반식 (I-1) 로 나타내는 화합물 (이하, 「화합물 (I-1)」 이라고 칭하는 경우가 있다.), 및 그 화합물의 기하 이성체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종이다.The organic black pigment (A1) is preferably composed of a compound represented by the following general formula (I-1) (hereinafter, sometimes referred to as “compound (I-1)”), and a geometrical isomer of the compound It is at least one species selected from the group.

[화학식 12][Formula 12]

Figure pat00012
Figure pat00012

이와 같은 유기 흑색 안료의 구체예로는, 상품명으로, Irgaphor (등록상표) Black S 0100 CF (BASF 사 제조) 를 들 수 있다.As a specific example of such an organic black pigment, Irgaphor (trademark) Black S 0100 CF (made by BASF Corporation) is mentioned as a brand name.

이 유기 흑색 안료는, 바람직하게는 후술되는 분산제, 용제, 방법에 의해 분산하여 사용된다. 또, 분산시에 상기 화합물 (I) 의 술폰산 유도체 (술폰산 치환체), 또는 화합물 (I) 의 기하 이성체의 술폰산 유도체, 특히 상기 화합물 (I-1) 의 술폰산 유도체, 또는 상기 화합물 (I-1) 의 기하 이성체의 술폰산 유도체가 존재하면, 분산성이나 보존성이 향상되는 경우가 있다.The organic black pigment is preferably used by being dispersed by a dispersing agent, a solvent, and a method described later. Further, upon dispersion, the sulfonic acid derivative of the compound (I) (sulfonic acid substituent) or the sulfonic acid derivative of the geometric isomer of the compound (I), in particular the sulfonic acid derivative of the compound (I-1), or the compound (I-1) When the sulfonic acid derivative of the geometric isomer of is present, the dispersibility and preservability may be improved.

본 발명에서 사용하는 (A) 착색제는, 상기 (A1) 유기 흑색 안료 이외에 그 밖의 착색제를 함유하고 있어도 된다. 그 밖의 착색제로는, 안료를 사용하는 것이 바람직하고, 안료는 유기 안료여도 되고 무기 안료여도 되지만, 고저항, 저유전율의 관점에서는, 유기 안료를 사용하는 것이 보다 바람직하고, 특히 유기 착색 안료 (이하 「(A2) 유기 착색 안료」 라고 칭하는 경우가 있다.) 를 사용하는 것이 더욱 바람직하다.The colorant (A) used in the present invention may contain other colorants in addition to the organic black pigment (A1). As other coloring agents, it is preferable to use a pigment, and the pigment may be an organic pigment or an inorganic pigment, but from the viewpoint of high resistance and low dielectric constant, it is more preferable to use an organic pigment, and particularly an organic coloring pigment (hereinafter It may be referred to as "(A2) organic coloring pigment.") It is more preferable to use.

이들 안료의 화학 구조는 특별히 한정되지 않지만, 아조계, 프탈로시아닌계, 퀴나크리돈계, 벤즈이미다졸론계, 이소인돌리논계, 디옥사진계, 인단트렌계, 페릴렌계 등의 유기 안료가 이용 가능하다. 이하, 사용할 수 있는 유기 안료의 구체예를 피그먼트 넘버로 나타낸다. 이하에 예시하는 「C.I. 피그먼트 레드 2」 등의 용어는, 컬러 인덱스 (C.I.) 를 의미한다.The chemical structure of these pigments is not particularly limited, but organic pigments such as azo-based, phthalocyanine-based, quinacridone-based, benzimidazone-based, isoindolinone-based, dioxazine-based, indanthrene-based, and perylene-based are available. Hereinafter, the specific example of the organic pigment which can be used is shown with a pigment number. "C.I. The term "pigment red 2" means a color index (C.I.).

적색 안료로는, C.I. 피그먼트 레드 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 37, 38, 41, 47, 48, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49, 49:1, 49:2, 50:1, 52:1, 52:2, 53, 53:1, 53:2, 53:3, 57, 57:1, 57:2, 58:4, 60, 63, 63:1, 63:2, 64, 64:1, 68, 69, 81, 81:1, 81:2, 81:3, 81:4, 83, 88, 90:1, 101, 101:1, 104, 108, 108:1, 109, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 147, 149, 151, 166, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 181, 184, 185, 187, 188, 190, 193, 194, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 214, 216, 220, 221, 224, 230, 231, 232, 233, 235, 236, 237, 238, 239, 242, 243, 245, 247, 249, 250, 251, 253, 254, 255, 256, 257, 258, 259, 260, 262, 263, 264, 265, 266, 267, 268, 269, 270, 271, 272, 273, 274, 275, 276 을 들 수 있다. 이 중에서도, 바람직하게는 C.I. 피그먼트 레드 48:1, 122, 149, 168, 177, 179, 194, 202, 206, 207, 209, 224, 242, 254, 더욱 바람직하게는 C.I. 피그먼트 레드 177, 209, 224, 254 를 들 수 있다.As a red pigment, C.I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 37, 38, 41, 47, 48 , 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 49, 49: 1, 49: 2, 50: 1, 52: 1, 52: 2, 53, 53: 1, 53: 2, 53 : 3, 57, 57: 1, 57: 2, 58: 4, 60, 63, 63: 1, 63: 2, 64, 64: 1, 68, 69, 81, 81: 1, 81: 2, 81 : 3, 81 : 4, 83, 88, 90 : 1, 101, 101 : 1, 104, 108, 108 : 1, 109, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 147, 149, 151 , 166, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 181, 184, 185, 187, 188, 190, 193, 194, 200, 202, 206, 207, 208 , 209, 210, 214, 216, 220, 221, 224, 230, 231, 232, 233, 235, 236, 237, 238, 239, 242, 243, 245, 247, 249, 250, 251, 253, 254 , 255, 256, 257, 258, 259, 260, 262, 263, 264, 265, 266, 267, 268, 269, 270, 271, 272, 273, 274, 275, 276. Among these, C.I. Pigment Red 48: 1, 122, 149, 168, 177, 179, 194, 202, 206, 207, 209, 224, 242, 254, more preferably C.I. Pigment Red 177, 209, 224, and 254.

또한, 분산성이나 차광성의 점에서, C.I. 피그먼트 레드 177, 254, 272 를 사용하는 것이 바람직하고, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 적색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C.I. 피그먼트 레드 254, 272 를 사용하는 것이 보다 바람직하다.In addition, in terms of dispersibility and light-shielding property, C.I. It is preferable to use Pigment Red 177, 254, 272, and when the colored photosensitive resin composition of the present invention is cured with ultraviolet rays, it is preferable to use those having a low UV absorption rate as a red pigment, and from this viewpoint, C.I. It is more preferable to use Pigment Red 254, 272.

등색 (橙色) (오렌지) 안료로는, C.I. 피그먼트 오렌지 1, 2, 5, 13, 16, 17, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 34, 36, 38, 39, 43, 46, 48, 49, 61, 62, 64, 65, 67, 68, 69, 70, 71, 72, 73, 74, 75, 77, 78, 79 를 들 수 있다. 이 중에서도, 분산성이나 차광성의 점에서, C.I. 피그먼트 오렌지 13, 43, 64, 72 를 사용하는 것이 바람직하고, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 등색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C.I. 피그먼트 오렌지 64, 72 를 사용하는 것이 보다 바람직하고, C.I. 피그먼트 오렌지 64 가 특히 바람직하다.As an orange (orange) pigment, C.I. Pigment Orange 1, 2, 5, 13, 16, 17, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 34, 36, 38, 39, 43, 46, 48, 49, 61, 62, 64, 65 , 67, 68, 69, 70, 71, 72, 73, 74, 75, 77, 78, 79. Among these, C.I. It is preferable to use Pigment Orange 13, 43, 64, 72, and when the colored photosensitive resin composition of the present invention is cured with ultraviolet rays, it is preferable to use those having a low ultraviolet absorption rate as an orange pigment, and from this viewpoint CI It is more preferable to use Pigment Orange 64, 72, and C.I. Pigment Orange 64 is particularly preferred.

청색 안료로는, C.I. 피그먼트 블루 1, 1:2, 9, 14, 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 17, 19, 25, 27, 28, 29, 33, 35, 36, 56, 56:1, 60, 61, 61:1, 62, 63, 66, 67, 68, 71, 72, 73, 74, 75, 76, 78, 79 를 들 수 있다. 이 중에서도, 바람직하게는 C.I. 피그먼트 블루 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 더욱 바람직하게는 C.I. 피그먼트 블루 15:6 을 들 수 있다.As a blue pigment, C.I. Pigment Blue 1, 1: 2, 9, 14, 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 17, 19, 25, 27, 28, 29, 33 , 35, 36, 56, 56: 1, 60, 61, 61: 1, 62, 63, 66, 67, 68, 71, 72, 73, 74, 75, 76, 78, 79. Among these, C.I. Pigment Blue 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, more preferably C.I. Pigment Blue 15: 6 is mentioned.

또한, 분산성이나 차광성의 점에서, C.I. 피그먼트 블루 15:6, 16, 60 을 사용하는 것이 바람직하고, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 청색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C.I. 피그먼트 블루 60 을 사용하는 것이 보다 바람직하다.In addition, in terms of dispersibility and light-shielding property, C.I. It is preferable to use Pigment Blue 15: 6, 16, 60, and when curing the colored photosensitive resin composition of the present invention with ultraviolet rays, it is preferable to use those having a low UV absorption rate as a blue pigment, and from this viewpoint CI It is more preferable to use Pigment Blue 60.

보라색 안료로는, C.I. 피그먼트 바이올렛 1, 1:1, 2, 2:2, 3, 3:1, 3:3, 5, 5:1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27, 29, 31, 32, 37, 39, 42, 44, 47, 49, 50 을 들 수 있다. 이 중에서도, 차광성의 점에서는, C.I. 피그먼트 바이올렛 19, 23 을 사용하는 것이 바람직하고, C.I. 피그먼트 바이올렛 23 을 사용하는 것이 보다 바람직하다.As a purple pigment, C.I. Pigment Violet 1, 1: 1, 2, 2: 2, 3, 3: 1, 3: 3, 5, 5: 1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27, 29, 31, 32 , 37, 39, 42, 44, 47, 49, 50. Among these, C.I. It is preferable to use pigment violet 19, 23, and C.I. It is more preferable to use Pigment Violet 23.

또한, 분산성이나 차광성의 점에서, C.I. 피그먼트 바이올렛 23, 29 를 사용하는 것이 바람직하고, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 자외선으로 경화시키는 경우에는, 보라색 안료로는 자외선 흡수율이 낮은 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 관점에서는 C.I. 피그먼트 바이올렛 29 를 사용하는 것이 보다 바람직하다.In addition, in terms of dispersibility and light-shielding property, C.I. It is preferable to use Pigment Violet 23, 29, and when curing the colored photosensitive resin composition of the present invention with ultraviolet rays, it is preferable to use those having a low ultraviolet absorption rate as the purple pigment, and from this viewpoint, C.I. It is more preferable to use Pigment Violet 29.

적색 안료, 등색 안료, 청색 안료, 보라색 안료 외에 사용할 수 있는 유기 착색 안료로는 예를 들어, 녹색 안료, 황색 안료 등을 들 수 있다.Examples of the organic coloring pigment that can be used in addition to the red pigment, the orange pigment, the blue pigment, and the purple pigment include green pigments, yellow pigments, and the like.

녹색 안료로는, C.I. 피그먼트 그린 1, 2, 4, 7, 8, 10, 13, 14, 15, 17, 18, 19, 26, 36, 45, 48, 50, 51, 54, 55, 58 을 들 수 있다. 이 중에서도, 바람직하게는 C.I. 피그먼트 그린 7, 36 을 들 수 있다.As a green pigment, C.I. Pigment Green 1, 2, 4, 7, 8, 10, 13, 14, 15, 17, 18, 19, 26, 36, 45, 48, 50, 51, 54, 55, 58. Among these, C.I. Pigment green 7, 36.

황색 안료로는, C.I. 피그먼트 옐로우 1, 1:1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 13, 14, 16, 17, 24, 31, 32, 34, 35, 35:1, 36, 36:1, 37, 37:1, 40, 41, 42, 43, 48, 53, 55, 61, 62, 62:1, 63, 65, 73, 74, 75, 81, 83, 87, 93, 94, 95, 97, 100, 101, 104, 105, 108, 109, 110, 111, 116, 117, 119, 120, 126, 127, 127: 1, 128, 129, 133, 134, 136, 138, 139, 142, 147, 148, 150, 151, 153, 154, 155, 157, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 165, 166, 167, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 180, 181, 182, 183, 184, 185, 188, 189, 190, 191, 191:1, 192, 193, 194, 195, 196, 197, 198, 199, 200, 202, 203, 204, 205, 206, 207, 208 을 들 수 있다. 이 중에서도, 바람직하게는 C.I. 피그먼트 옐로우 83, 117, 129, 138, 139, 150, 154, 155, 180, 185, 더욱 바람직하게는 C.I. 피그먼트 옐로우 83, 138, 139, 150, 180 을 들 수 있다.As a yellow pigment, C.I. Pigment Yellow 1, 1: 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 13, 14, 16, 17, 24, 31, 32, 34, 35, 35: 1, 36, 36 : 1, 37, 37: 1, 40, 41, 42, 43, 48, 53, 55, 61, 62, 62: 1, 63, 65, 73, 74, 75, 81, 83, 87, 93, 94 , 95, 97, 100, 101, 104, 105, 108, 109, 110, 111, 116, 117, 119, 120, 126, 127, 127: 1, 128, 129, 133, 134, 136, 138, 139 , 142, 147, 148, 150, 151, 153, 154, 155, 157, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 165, 166, 167, 168, 169, 170, 172, 173, 174 , 175, 176, 180, 181, 182, 183, 184, 185, 188, 189, 190, 191, 191: 1, 192, 193, 194, 195, 196, 197, 198, 199, 200, 202, 203 , 204, 205, 206, 207, 208. Among these, C.I. Pigment Yellow 83, 117, 129, 138, 139, 150, 154, 155, 180, 185, more preferably C.I. Pigment Yellow 83, 138, 139, 150, and 180.

이들 안료 중에서도, 적색 안료 및 등색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종과, 청색 안료 및 보라색 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 조합을 사용하는 것이 바람직하다. 이와 같이, 특정한 안료의 조합을 이용함으로써, 고차광성을 달성할 수 있는 경향이 있다.Among these pigments, it is preferable to use a combination of at least one selected from the group consisting of red pigments and orange pigments, and at least one selected from the group consisting of blue pigments and purple pigments. As described above, by using a specific combination of pigments, there is a tendency to achieve high light-shielding properties.

이들 중에서도, 차광성이나 색조의 관점에서는, 이하의 안료 중 적어도 1 종 이상을 함유하는 것으로 하는 것이 바람직하다.Among these, from a viewpoint of light-shielding property and color tone, it is preferable to contain at least 1 type or more of the following pigments.

적색 안료:C.I. 피그먼트 레드 177, 254, 272Red pigment: C.I. Pigment Red 177, 254, 272

등색 안료:C.I. 피그먼트 오렌지 43, 64, 72 Orange pigment: C.I. Pigment Orange 43, 64, 72

청색 안료:C.I. 피그먼트 블루 15:6, 60 Blue pigment: C.I. Pigment Blue 15 : 6, 60

보라색 안료:C.I. 피그먼트 바이올렛 23, 29Purple pigment: C.I. Pigment Violet 23, 29

또한, 색의 조합에 대해서는 특별히 한정되지 않지만, 차광성의 관점에서는 예를 들어, 적색 안료와 청색 안료의 조합, 청색 안료와 등색 안료의 조합, 청색 안료와 등색 안료와 보라색 안료의 조합 등을 들 수 있다.In addition, the combination of colors is not particularly limited, but from the viewpoint of light-shielding properties, for example, a combination of a red pigment and a blue pigment, a combination of a blue pigment and an orange pigment, a combination of a blue pigment and an orange pigment and a purple pigment, etc. You can.

또한, 그 밖의 착색제로는, 이들 유기 착색 안료 이외에, 그 밖의 흑색 착색제를 사용할 수 있다.Moreover, other black coloring agents other than these organic coloring pigments can be used as another coloring agent.

흑색 착색제 중에서도, 차광성이나 색조의 관점에서는, 상기 일반식 (I) 로 나타내는 것 이외의, 그 밖의 유기 흑색 안료를 사용해도 된다. 그 밖의 유기 흑색 안료로는, 아닐린 블랙, 페릴렌 블랙, 시아닌 블랙 등을 들 수 있다.Among the black colorants, other organic black pigments other than those represented by the general formula (I) may be used from the viewpoint of light shielding properties and color tone. Other organic black pigments include aniline black, perylene black, and cyanine black.

또, 본 발명에서는, 무기 흑색 안료를 사용할 수 있다. 무기 흑색 안료로는, 카본 블랙, 아세틸렌 블랙, 램프 블랙, 본 블랙, 흑연, 철흑, 티탄 블랙, 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 차광성, 화상 특성의 관점에서 카본 블랙 (이하 「(A3) 카본 블랙」 이라고 칭하는 경우가 있다.) 을 바람직하게 사용할 수 있다. 카본 블랙의 예로는, 이하와 같은 카본 블랙을 들 수 있다.Moreover, in this invention, an inorganic black pigment can be used. Carbon black, acetylene black, lamp black, bone black, graphite, iron black, titanium black, etc. are mentioned as an inorganic black pigment. Among these, carbon black (hereinafter sometimes referred to as "(A3) carbon black") can be preferably used from the viewpoint of light-shielding properties and image characteristics. The following carbon black is mentioned as an example of carbon black.

미츠비시 케미컬사 제조:MA7, MA8, MA11, MA77, MA100, MA100R, MA100S, MA220, MA230, MA600, MCF88, #5, #10, #20, #25, #30, #32, #33, #40, #44, #45, #47, #50, #52, #55, #650, #750, #850, #900, #950, #960, #970, #980, #990, #1000, #2200, #2300, #2350, #2400, #2600, #2650, #3030, #3050, #3150, #3250, #3400, #3600, #3750, #3950, #4000, #4010, OIL7B, OIL9B, OIL11B, OIL30B, OIL31B Manufactured by Mitsubishi Chemical: MA7, MA8, MA11, MA77, MA100, MA100R, MA100S, MA220, MA230, MA600, MCF88, # 5, # 10, # 20, # 25, # 30, # 32, # 33, # 40 , # 44, # 45, # 47, # 50, # 52, # 55, # 650, # 750, # 850, # 900, # 950, # 960, # 970, # 980, # 990, # 1000, # 2200, # 2300, # 2350, # 2400, # 2600, # 2650, # 3030, # 3050, # 3150, # 3250, # 3400, # 3600, # 3750, # 3950, # 4000, # 4010, OIL7B, OIL9B , OIL11B, OIL30B, OIL31B

데구사사 제조:Printex (등록상표. 이하 동일.) 3, Printex3OP, Printex30, Printex30OP, Printex40, Printex45, Printex55, Printex60, Printex75, Printex80, Printex85, Printex90, Printex A, Printex L, Printex G, Printex P, Printex U, Printex V, SpecialBlack550, SpecialBlack350, SpecialBlack250, SpecialBlack100, SpecialBlack6, SpecialBlack5, SpecialBlack4, Color Black FW1, Color Black FW2, Color Black FW2V, Color Black FW18, Color Black FW200, Color Black S160, Color Black S170 Manufactured by Degussa: Printex (registered trademark. Same as below) 3, Printex3OP, Printex30, Printex30OP, Printex40, Printex45, Printex55, Printex60, Printex75, Printex80, Printex85, Printex90, Printex A, Printex L, Printex G, Printex P, Printex U, Printex V, SpecialBlack550, SpecialBlack350, SpecialBlack250, SpecialBlack100, SpecialBlack6, SpecialBlack5, SpecialBlack4, Color Black FW1, Color Black FW2, Color Black FW2V, Color Black FW18, Color Black FW200, Color Black S160, Color Black S170

캐보트사 제조:Monarch (등록상표. 이하 동일.) 120, Monarch280, Monarch460, Monarch800, Monarch880, Monarch900, Monarch1000, Monarch1100, Monarch1300, Monarch1400, Monarch4630, REGAL (등록상표. 이하 동일.) 99, REGAL99R, REGAL415, REGAL415R, REGAL250, REGAL250R, REGAL330, REGAL400R, REGAL55R0, REGAL660R, BLACK PEARLS480, PEARLS130, VULCAN (등록상표. 이하 동일.) XC72R, ELFTEX (등록상표)-8Manufactured by Cabot: Monarch (registered trademark. Same as below) 120, Monarch280, Monarch460, Monarch800, Monarch880, Monarch900, Monarch1000, Monarch1100, Monarch1300, Monarch1400, Monarch4630, REGAL (registered trademark. Same as below) 99, REGAL99R, REGAL415 , REGAL415R, REGAL250, REGAL250R, REGAL330, REGAL400R, REGAL55R0, REGAL660R, BLACK PEARLS480, PEARLS130, VULCAN (registered trademark. Same as below.) XC72R, ELFTEX (registered trademark) -8

비를라사 제조:RAVEN (등록상표. 이하 동일.) 11, RAVEN14, RAVEN15, RAVEN16, RAVEN22, RAVEN30, RAVEN35, RAVEN40, RAVEN410, RAVEN420, RAVEN450, RAVEN500, RAVEN780, RAVEN850, RAVEN890H, RAVEN1000, RAVEN1020, RAVEN1040, RAVEN1060U, RAVEN1080U, RAVEN1170, RAVEN1190U, RAVEN1250, RAVEN1500, RAVEN2000, RAVEN2500U, RAVEN3500, RAVEN5000, RAVEN5250, RAVEN5750, RAVEN7000Manufactured by Birla: RAVEN (registered trademark. Same as below.) RAVEN1060U, RAVEN1080U, RAVEN1170, RAVEN1190U, RAVEN1250, RAVEN1500, RAVEN2000, RAVEN2500U, RAVEN3500, RAVEN5000, RAVEN5250, RAVEN5750, RAVEN7000

카본 블랙은, 수지로 피복된 것을 사용해도 상관없다. 수지로 피복된 카본 블랙을 사용하면, 유리 기판에 대한 밀착성이나 체적 저항값을 향상시키는 효과가 있다. 수지로 피복된 카본 블랙으로는, 예를 들어 일본 공개특허공보 평09-71733호에 기재되어 있는 카본 블랙 등을 적합하게 사용할 수 있다. 체적 저항이나 유전율의 점에서, 수지 피복 카본 블랙이 적합하게 사용된다.Carbon black may be used that is coated with a resin. When carbon black coated with a resin is used, there is an effect of improving adhesion to a glass substrate or volume resistance value. As the carbon black coated with the resin, for example, carbon black or the like described in JP-A-09-71733 can be suitably used. In terms of volume resistance and dielectric constant, a resin-coated carbon black is suitably used.

수지에 의한 피복 처리에 제공하는 카본 블랙으로는, Na 와 Ca 의 합계 함유량이 100 ppm 이하인 것이 바람직하다. 카본 블랙은, 통상적으로, 제조시의 원료유나 연소유 (또는 가스), 반응 정지수나 조립수 (造粒水), 나아가서는 반응로의 노재 (爐材) 등으로부터 혼입한 Na 나, Ca, K, Mg, Al, Fe 등을 조성으로 하는 회분이 퍼센트의 오더로 함유되어 있다. 이 중, Na 나 Ca 는, 각각 수 백 ppm 이상 함유되어 있는 것이 일반적이지만, 이들을 줄임으로써, 투명 전극 (ITO) 이나 그 밖의 전극에 대한 침투를 억제하여, 전기적 단락을 방지할 수 있는 경향이 있다.It is preferable that the total content of Na and Ca is 100 ppm or less as carbon black to be provided for the coating treatment with resin. Carbon black is usually Na, Ca, or K mixed from raw material oil or combustion oil (or gas) at the time of manufacture, reaction stop water or granulated water, and further, furnace material of the reaction furnace. , Mg, Al, Fe, etc. are contained as a percentage order. Among these, Na and Ca are generally contained in hundreds of ppm or more, respectively, but by reducing these, penetration into the transparent electrode (ITO) and other electrodes is suppressed, and electric short circuit tends to be prevented. .

이들 Na 나 Ca 를 포함하는 회분의 함유량을 저감하는 방법으로는, 카본 블랙을 제조할 때의 원료유나 연료유 (또는 가스) 그리고 반응 정지수로서, 이들의 함유량이 최대한 적은 것을 엄선하는 것 및 스트럭처를 조정하는 알칼리 물질의 첨가량을 극력 줄임으로써 가능하다. 다른 방법으로는, 노로부터 만들어낸 카본 블랙을 물이나 염산 등으로 씻고 Na 나 Ca 를 용해하여 제거하는 방법을 들 수 있다.As a method for reducing the content of ash containing Na or Ca, raw material oil or fuel oil (or gas) when producing carbon black, and reaction stop water are carefully selected from those with the smallest content and structure. This is possible by dramatically reducing the amount of the alkali substance to be adjusted. As another method, a method of washing carbon black produced from a furnace with water or hydrochloric acid or the like and dissolving and dissolving Na or Ca may be mentioned.

구체적으로는 카본 블랙을 물, 염산, 또는 과산화수소수에 혼합 분산시킨 후, 물에 난용인 용매를 첨가해 가면 카본 블랙은 용매측으로 이행하고, 물과 완전히 분리됨과 함께 카본 블랙 중에 존재한 대부분의 Na 나 Ca 는, 물이나 산에 용해, 제거된다. Na 와 Ca 의 합계량을 100 ppm 이하로 저감하기 위해서는, 원재료를 엄선한 카본 블랙 제조 과정 단독 혹은 물이나 산 용해 방식 단독으로도 가능한 경우도 있지만, 이 양 방식을 병용함으로써 더욱 용이하게 Na 와 Ca 의 합계량을 100 ppm 이하로 할 수 있다.Specifically, when carbon black is mixed and dispersed in water, hydrochloric acid, or hydrogen peroxide water, when a poorly soluble solvent is added, carbon black shifts to the solvent side, and is completely separated from water, and most of Na present in the carbon black B. Ca is dissolved and removed in water or acid. In order to reduce the total amount of Na and Ca to 100 ppm or less, the carbon black production process using carefully selected raw materials or the water or acid dissolution method alone may be possible, but the combined amount of Na and Ca can be more easily achieved by using both methods together. Can be made 100 ppm or less.

또 수지 피복 카본 블랙은, pH 6 이하의 이른바 산성 카본 블랙인 것이 바람직하다. 수중 (水中) 에서의 분산경 (分散徑) (아글로메레이트경) 이 작아지므로, 미세 유닛까지의 피복이 가능해져 적합하다. 또한 평균 입자경 40 ㎚ 이하, 디부틸프탈레이트 (DBP) 흡수량 140 ㎖/100 g 이하인 것이 바람직하다. 상기 범위 내로 함으로써, 차광성이 양호한 도막이 얻어지는 경향이 있다. 평균 입자경은 수 평균 입자경을 의미하며, 전자 현미경 관찰에 의해 수 만 배의 배율로 수 시야분 촬영하고, 얻어진 사진 중의 카본 블랙 입자를 화상 처리 장치에 의해 2000 ∼ 3000 개 정도 계측하는 입자 화상 해석에 의해 구해지는 원 상당경을 의미한다.Moreover, it is preferable that resin-coated carbon black is what is called acidic carbon black of pH 6 or less. Since the dispersion diameter (agglomerate diameter) in water becomes small, coating to a fine unit is possible and is suitable. Moreover, it is preferable that the average particle diameter is 40 nm or less and the dibutylphthalate (DBP) absorption amount is 140 ml / 100 g or less. By setting it within the said range, there exists a tendency for the coating film with favorable light-shielding property to be obtained. The average particle diameter means a number average particle diameter, and is used for particle image analysis in which 2000 to 3,000 carbon black particles in the obtained photograph are measured by an image processing apparatus, which is taken several minutes at a magnification of tens of times by electron microscope observation. It means a circle equivalent diameter obtained by.

수지로 피복된 카본 블랙을 조제하는 방법에는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 카본 블랙 및 수지의 배합량을 적절히 조정한 후, 1. 수지와 시클로헥사논, 톨루엔, 자일렌 등의 용제를 혼합하여 가열 용해시킨 수지 용액과, 카본 블랙 및 물을 혼합한 현탁액을 혼합 교반하고, 카본 블랙과 물을 분리시킨 후, 물을 제거하여 가열 혼련하여 얻어진 조성물을 시트상으로 성형하고, 분쇄한 후, 건조시키는 방법;2. 상기와 마찬가지로 하여 조제한 수지 용액과 현탁액을 혼합 교반하여 카본 블랙 및 수지를 입상화 (粒狀化) 한 후, 얻어진 입상물을 분리, 가열하여 잔존하는 용제 및 물을 제거하는 방법;3. 용제에 말레산, 푸마르산 등의 카르복실산을 용해시키고, 카본 블랙을 첨가, 혼합하여 건조시키고, 용제를 제거하여 카르복실산 첨착 카본 블랙을 얻은 후, 이것에 수지를 첨가하여 드라이 블렌드 하는 방법;4. 피복시키는 수지를 구성하는 반응성기 함유 모노머 성분과 물을 고속 교반하여 현탁액을 조제하고, 중합 후 냉각시켜 중합체 현탁액으로부터 반응성기 함유 수지를 얻은 후, 이것에 카본 블랙을 첨가하여 혼련하고, 카본 블랙과 반응성기를 반응시키고 (카본 블랙을 그래프트시키고), 냉각 및 분쇄하는 방법 등을 채용할 수 있다.The method for preparing the carbon black coated with the resin is not particularly limited, but, for example, after properly adjusting the blending amount of the carbon black and the resin, 1. Mixing the resin with a solvent such as cyclohexanone, toluene, or xylene After mixing and stirring the resin solution dissolved in heat and the suspension mixed with carbon black and water, and separating the carbon black and water, removing the water and kneading the composition obtained by heating and kneading to form a sheet, pulverized and dried How to make; 2. 3. After mixing and stirring the prepared resin solution and suspension in the same manner as above to granulate the carbon black and resin, the obtained granular material is separated and heated to remove residual solvent and water; 3. A method of dry blending by dissolving a carboxylic acid such as maleic acid or fumaric acid in a solvent, adding and mixing carbon black, drying, removing the solvent to obtain a carbon black impregnated with a carboxylic acid, and adding a resin to it; 4. After the monomer component and the water constituting the resin to be coated are stirred at high speed to prepare a suspension, and after polymerization, cooled to obtain a resin containing a reactive group from the polymer suspension, carbon black is added thereto to knead, and kneaded with carbon black. Reactive groups can be reacted (grafted with carbon black), and cooled and pulverized.

피복 처리하는 수지의 종류도 특별히 한정되는 것은 아니지만, 합성 수지가 일반적이고, 또한, 구조 중에 벤젠 고리를 갖는 수지 쪽이 양쪽성계 계면 활성제적인 기능이 보다 강하기 때문에, 분산성 및 분산 안정성의 점에서 바람직하다.Although the type of the resin to be coated is not particularly limited, synthetic resins are common, and since the resin having a benzene ring in the structure has a stronger amphoteric surfactant function, it is preferable in terms of dispersibility and dispersion stability. Do.

구체적인 합성 수지로는, 페놀 수지, 멜라민 수지, 자일렌 수지, 디알릴프탈레이트 수지, 글리프탈 수지, 에폭시 수지, 알킬벤젠 수지 등의 열경화성 수지나, 폴리스티렌, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 변성 폴리페닐렌옥사이드, 폴리술폰, 폴리파라페닐렌테레프탈아미드, 폴리아미드이미드, 폴리이미드, 폴리아미노비스말레이미드, 폴리에테르술포폴리페닐렌술폰, 폴리아릴레이트, 폴리에테르에테르케톤, 등의 열가소성 수지를 사용할 수 있다. 피복 수지의 양은, 카본 블랙과 피복 수지의 합계량에 대하여 1 ∼ 30 질량% 가 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 피복을 충분한 것으로 할 수 있는 경향이 있다. 한편, 상기 상한값 이하로 함으로써, 수지끼리의 점착을 막고, 분산성이 양호한 것으로 할 수 있는 경향이 있다.Specific synthetic resins include phenol resins, melamine resins, xylene resins, diallyl phthalate resins, phthalic resins, epoxy resins, alkyl benzene resins, thermosetting resins, polystyrene, polycarbonate, polyethylene terephthalate, and polybutylene tere Phthalate, modified polyphenylene oxide, polysulfone, polyparaphenylene terephthalamide, polyamideimide, polyimide, polyaminobismaleimide, polyether sulfopolyphenylene sulfone, polyarylate, polyether ether ketone, etc. Thermoplastic resins can be used. The amount of the coating resin is preferably 1 to 30% by mass relative to the total amount of carbon black and the coating resin. When it is more than the said lower limit, there exists a tendency for coating to be sufficient. On the other hand, by setting it below the said upper limit, there exists a tendency to prevent adhesion between resins and to make it excellent in dispersibility.

이와 같이 하여 수지로 피복 처리하여 이루어지는 카본 블랙은, 통상적인 방법에 따라서, 격벽, 착색 스페이서 등의 차광재로서 사용할 수 있으며, 이 격벽, 착색 스페이서를 구성 요소로 하는 유기 발광 소자, 컬러 필터를 통상적인 방법에 의해 제조할 수 있다. 이와 같은 카본 블랙을 사용하면, 고차광율이고 또한 저비용으로 할 수 있는 경향이 있다. 또, 카본 블랙 표면을 수지로 피복한 것에 의해, 고저항, 저유전율의 격벽, 착색 스페이서 등의 차광재를 제조할 수 있다.Carbon black formed by coating with a resin in this way can be used as a light blocking material such as a partition wall or a colored spacer according to a conventional method. It can be manufactured by a phosphorus method. When such a carbon black is used, there is a tendency that it is possible to achieve high light-shielding rate and low cost. Moreover, the light-shielding material, such as a partition wall of a high resistance and a low dielectric constant, a coloring spacer, can be manufactured by coating the carbon black surface with resin.

또, 그 밖의 착색제로서, 상기 서술한 유기 착색 안료, 흑색 착색제 외에, 염료를 사용해도 된다. 착색제로서 사용할 수 있는 염료로는, 아조계 염료, 안트라퀴논계 염료, 프탈로시아닌계 염료, 퀴논이민계 염료, 퀴놀린계 염료, 니트로계 염료, 카르보닐계 염료, 메틴계 염료 등을 들 수 있다.Moreover, you may use dye other than the organic coloring pigment and black coloring agent mentioned above as another coloring agent. Examples of the dye that can be used as a colorant include azo-based dyes, anthraquinone-based dyes, phthalocyanine-based dyes, quinoneimine-based dyes, quinoline-based dyes, nitro-based dyes, carbonyl-based dyes, and methine-based dyes.

아조계 염료로는, 예를 들어, C.I. 애시드 옐로우 11, C.I. 애시드 오렌지 7, C.I. 애시드 레드 37, C.I. 애시드 레드 180, C.I. 애시드 블루 29, C.I. 다이렉트 레드 28, C.I. 다이렉트 레드 83, C.I. 다이렉트 옐로우 12, C.I. 다이렉트 오렌지 26, C.I. 다이렉트 그린 28, C.I. 다이렉트 그린 59, C.I. 리액티브 옐로우 2, C.I. 리액티브 레드 17, C.I. 리액티브 레드 120, C.I. 리액티브 블랙 5, C.I. 디스퍼스 오렌지 5, C.I. 디스퍼스 레드 58, C.I. 디스퍼스 블루 165, C.I. 베이직 블루 41, C.I. 베이직 레드 18, C.I. 모르단트 레드 7, C.I. 모르단트 옐로우 5, C.I. 모르단트 블랙 7 등을 들 수 있다.As an azo dye, it is C.I. Acid Yellow 11, C.I. Acid Orange 7, C.I. Acid Red 37, C.I. Acid Red 180, C.I. Acid Blue 29, C.I. Direct Red 28, C.I. Direct Red 83, C.I. Direct Yellow 12, C.I. Direct Orange 26, C.I. Direct Green 28, C.I. Direct Green 59, C.I. Reactive Yellow 2, C.I. Reactive Red 17, C.I. Reactive Red 120, C.I. Reactive Black 5, C.I. Disperse Orange 5, C.I. Disperse Red 58, C.I. Disperse Blue 165, C.I. Basic Blue 41, C.I. Basic Red 18, C.I. Mordant Red 7, C.I. Mordant Yellow 5, C.I. Mordant black 7 and the like.

안트라퀴논계 염료로는, 예를 들어, C.I. 배트 블루 4, C.I. 애시드 블루 40, C.I. 애시드 그린 25, C.I. 리액티브 블루 19, C.I. 리액티브 블루 49, C.I. 디스퍼스 레드 60, C.I. 디스퍼스 블루 56, C.I. 디스퍼스 블루 60 등을 들 수 있다.As an anthraquinone dye, C.I. Bat Blue 4, C.I. Acid Blue 40, C.I. Acid Green 25, C.I. Reactive Blue 19, C.I. Reactive Blue 49, C.I. Disperse Red 60, C.I. Disperse Blue 56, C.I. And Disperse Blue 60.

이 외에, 프탈로시아닌계 염료로서, 예를 들어, C.I. 배트 블루 5 등이, 퀴논이민계 염료로서, 예를 들어, C.I. 베이직 블루 3, C.I. 베이직 블루 9 등이, 퀴놀린계 염료로서, 예를 들어, C.I. 솔벤트 옐로우 33, C.I. 애시드 옐로우 3, C.I. 디스퍼스 옐루우 64 등이, 니트로계 염료로서, 예를 들어, C.I. 애시드 옐로우 1, C.I. 애시드 오렌지 3, C.I. 디스퍼스 옐루우 42 등을 들 수 있다.In addition, as a phthalocyanine-based dye, for example, C.I. Bat Blue 5 and the like are quinoneimine dyes, for example, C.I. Basic Blue 3, C.I. Basic blue 9 and the like are quinoline-based dyes, for example, C.I. Solvent Yellow 33, C.I. Acid Yellow 3, C.I. Disperse Yellow 64 and the like are nitro-based dyes, for example, C.I. Acid Yellow 1, C.I. Acid Orange 3, C.I. And Dispers Yell 42.

이들 (A1) 유기 흑색 안료, (A2) 유기 착색 안료, 흑색 착색제 등의 안료는, 평균 입자경이 통상적으로 1 ㎛ 이하, 바람직하게는 0.5 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 0.25 ㎛ 이하가 되도록, 분산하여 사용하는 것이 바람직하다. 여기서 평균 입자경의 기준은 안료 입자의 수이다.These (A1) organic black pigments, (A2) organic colored pigments, and pigments such as black colorants are dispersed such that the average particle size is usually 1 µm or less, preferably 0.5 µm or less, and more preferably 0.25 µm or less. It is preferred to use. Here, the standard for the average particle diameter is the number of pigment particles.

또한, 이 안료의 평균 입자경은, 동적 광 산란 (DLS) 에 의해 측정된 안료 입자경으로부터 구한 값이다. 입자경 측정은, 충분히 희석된 착색 감광성 수지 조성물 (통상적으로는 희석하여, 안료 함유 비율 0.005 ∼ 0.2 질량% 정도로 조제. 단 측정 기기에 의해 추장된 농도가 있으면, 그 농도에 따른다.) 에 대하여 실시하고, 25 ℃ 에서 측정한다.In addition, the average particle diameter of this pigment is a value calculated | required from the pigment particle diameter measured by dynamic light scattering (DLS). Particle diameter measurement is carried out on a sufficiently diluted colored photosensitive resin composition (normally diluted and prepared at about 0.005 to 0.2% by mass of the pigment content. However, if there is a concentration recommended by the measuring device, it is dependent on the concentration). , Measured at 25 ° C.

[1-2] (B) 분산제[1-2] (B) Dispersant

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 및 안료 분산액에 있어서는, (A) 착색제를 미세하게 분산시키고, 또한 그 분산 상태를 안정화시키는 것이 품질의 안정성 확보에는 중요하기 때문에, (B) 분산제를 포함한다.In the colored photosensitive resin composition and pigment dispersion of the present invention, (A) dispersing the colorant finely and stabilizing the dispersing state are important for ensuring stability of quality, and therefore (B) a dispersing agent is included.

본 발명의 제 1 양태에 관련된 착색 감광성 수지 조성물, 및 본 발명의 제 3 양태에 관련된 안료 분산액에 있어서는, (B) 분산제가, 아크릴계 분산제를 포함한다. 아크릴계 분산제는, 직사슬형의 분자 구조의 유연한 주골격을 갖기 때문에, 흡착기의 대부분이 착색제에 흡착함으로써 착색 감광성 수지 조성물 및 안료 분산액 중에 착색제가 균일하게 분산되는 것으로 생각된다. 도포막 중에 착색제가 균일하게 배치됨으로써, 그 도포막이 치밀한 막이 되고, 또한, 알칼리 현상액에 불용인 성분인 착색제가 도포막 중에 균일하게 배치됨으로써, 현상 처리시에 도포막 내부로의 현상액의 침투가 억제되어 패턴 밀착성이 양호해지고, 특히 미세 패턴이더라도 밀착성이 양호해지는 것으로 생각된다.In the colored photosensitive resin composition according to the first aspect of the present invention and the pigment dispersion liquid according to the third aspect of the present invention, the dispersant (B) includes an acrylic dispersant. Since the acrylic dispersant has a flexible main skeleton with a linear molecular structure, it is believed that the colorant is uniformly dispersed in the colored photosensitive resin composition and the pigment dispersion by adsorbing most of the adsorber to the colorant. By uniformly disposing the colorant in the coating film, the coating film becomes a dense film, and the colorant, which is a component insoluble in the alkali developer, is uniformly disposed in the coating film, so that the penetration of the developer into the coating film during development is suppressed. As a result, it is considered that the pattern adhesiveness becomes good, and even if it is a fine pattern, the adhesiveness becomes good.

또 아크릴계 분산제로는, 관능기를 갖는 고분자 분산제가 바람직하다. 또 분산 안정성의 면에서 카르복실기;인산기;술폰산기;또는 이들의 염기;질소 원자를 함유하는 아크릴계 분산제가 바람직하고, 그 중에서도 질소 원자를 함유하는 아크릴계 분산제가 바람직하다. 나아가서는 1 급, 2 급 또는 3 급 아미노기;4 급 암모늄염기;피리딘, 피리미딘, 피라진 등의 함질소 헤테로 고리 유래의 기, 등의 염기성 관능기를 갖는 고분자 분산제가, 안료 등의 착색제를 분산할 때에 소량의 분산제로 분산할 수 있다는 관점에서 특히 바람직하다. 이들 관능기는, 착색제에 흡착하는 흡착기로서 작용한다.Further, as the acrylic dispersant, a polymer dispersant having a functional group is preferable. Moreover, from the viewpoint of dispersion stability, an acrylic dispersant containing a carboxyl group; a phosphate group; a sulfonic acid group; or a base thereof; a nitrogen atom is preferable, and an acrylic dispersant containing a nitrogen atom is preferable. Furthermore, polymer dispersants having basic functional groups such as primary, secondary, or tertiary amino groups; quaternary ammonium bases; groups derived from nitrogen-containing heterocycles such as pyridine, pyrimidine, and pyrazine, and dispersing colorants such as pigments It is particularly preferable from the viewpoint of dispersing with a small amount of dispersant. These functional groups act as adsorbers adsorbing to the colorant.

시판되고 있는 아크릴계 분산제로는, 예를 들어 DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001, BYK-LPN21116, BYK-LPN6919 등 (이상 모두 빅크케미사 제조) 을 들 수 있다.Commercially available acrylic dispersants include, for example, DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001, BYK-LPN21116, and BYK-LPN6919 (all of which are manufactured by BICK Chemical).

질소 원자를 함유하는 아크릴계 분산제로는, 관능기 (여기서 말하는 관능기란, 고분자 분산제에 함유되는 관능기로서 전술한 관능기이다.) 를 갖는 불포화기 함유 단량체와, 관능기를 갖지 않는 불포화기 함유 단량체의 랜덤 공중합체, 그래프트 공중합체, 블록 공중합체를 사용하는 것이 바람직하다. 이들 공중합체는 공지된 방법으로 제조할 수 있다.As an acrylic dispersant containing a nitrogen atom, a random copolymer of an unsaturated group-containing monomer having a functional group (the functional group referred to herein is a functional group described above as a functional group contained in a polymer dispersant), and an unsaturated group-containing monomer having no functional group. It is preferable to use a graft copolymer or a block copolymer. These copolymers can be produced by a known method.

관능기를 갖는 불포화기 함유 단량체로는, (메트)아크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산, 아크릴산 다이머 등의 카르복실기를 갖는 불포화 단량체;디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 디에틸아미노에틸(메트)아크릴레이트 및 이들의 4 급화물 등의 3 급 아미노기, 4 급 암모늄염기를 갖는 불포화 단량체를 구체예로서 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.As the unsaturated group-containing monomer having a functional group, (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylphthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylhexa Unsaturated monomers having carboxyl groups such as hydrophthalic acid and acrylic acid dimers; Unsaturated monomers having tertiary amino groups such as dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, and quaternates thereof, and quaternary ammonium bases And as specific examples. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

관능기를 갖지 않는 불포화기 함유 단량체로는, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 이소프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 페닐(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 페녹시메틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸(메트)아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, N-비닐피롤리돈, 스티렌 및 그 유도체, α-메틸스티렌, N-시클로헥실말레이미드, N-페닐말레이미드, N-벤질말레이미드 등의 N-치환 말레이미드, 아크릴로니트릴, 아세트산비닐 및 폴리메틸(메트)아크릴레이트 매크로 모노머, 폴리스티렌 매크로 모노머, 폴리2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트 매크로 모노머, 폴리에틸렌글리콜 매크로 모노머, 폴리프로필렌글리콜 매크로 모노머, 폴리카프로락톤 매크로 모노머 등의 매크로 모노머 등을 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다. 이들 단량체의 측사슬은, 용제에 상용하는 용매 친화부로서 작용한다.As a monomer containing an unsaturated group having no functional group, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, iso Butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxymethyl (Meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tricyclodecane (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, N-vinylpyrrolidone , N-substituted maleimides such as styrene and derivatives thereof, α-methylstyrene, N-cyclohexylmaleimide, N-phenylmaleimide, and N-benzylmaleimide, acrylonitrile, vinyl acetate, and polymethyl (meth) acrylic Rate macro Nomeo, there may be mentioned polystyrene macromonomer, poly 2-hydroxyethyl (meth) acrylate macromonomer, the macromonomer polyethylene glycol, polypropylene glycol macromonomer, polycaprolactone macromonomer such as a macromonomer or the like. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together. The side chain of these monomers acts as a solvent affinity portion compatible with the solvent.

아크릴계 분산제는, 분산성의 관점에서, 바람직하게는 관능기를 갖는 A 블록과 관능기를 갖지 않는 B 블록으로 구성되는 A-B 또는 B-A-B 블록 공중합체이다. 이 경우, A 블록 중에는 상기 관능기를 포함하는 불포화기 함유 단량체 유래의 부분 구조 외에, 상기 관능기를 포함하지 않는 불포화기 함유 단량체 유래의 부분 구조가 포함되어 있어도 되고, 이들이 그 A 블록 중에 있어서 랜덤 공중합 또는 블록 공중합의 어느 양태로 함유되어 있어도 된다. 또, 관능기를 포함하지 않는 부분 구조의, A 블록 중의 함유 비율은, 통상적으로 80 질량% 이하이고, 바람직하게는 50 질량% 이하, 보다 바람직하게는 30 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 10 질량% 이하, 가장 바람직하게는 0 질량% 이다.The acrylic dispersant is an A-B or B-A-B block copolymer composed of an A block having a functional group and a B block having no functional group, from the viewpoint of dispersibility. In this case, in the A block, in addition to the partial structure derived from the unsaturated group-containing monomer containing the functional group, a partial structure derived from the unsaturated group-containing monomer not containing the functional group may be included, and these may be randomly copolymerized in the A block or It may be contained in any aspect of the block copolymerization. Moreover, the content rate in A block of the partial structure which does not contain a functional group is 80 mass% or less normally, Preferably it is 50 mass% or less, More preferably, it is 30 mass% or less, More preferably, it is 10 mass%. Hereinafter, it is most preferably 0% by mass.

분산성의 관점에서, B 블록은 상기 관능기를 포함하지 않는 불포화기 함유 단량체 유래의 부분 구조만으로 구성되는 것인 것이 바람직하고, 1 개의 B 블록 중에 2 종 이상의 단량체 유래의 부분 구조가 함유되어 있어도 되고, 이들은, 그 B 블록 중에 있어서 랜덤 공중합 또는 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다.From the viewpoint of dispersibility, it is preferable that the B block is composed of only a partial structure derived from an unsaturated group-containing monomer not containing the functional group, and one B block may contain partial structures derived from two or more types of monomers, These may be contained in either the random copolymerization or the block copolymerization in the B block.

그 A-B 또는 B-A-B 블록 공중합체는, 예를 들어, 이하에 나타내는 리빙 중합법으로 조제된다.The A-B or B-A-B block copolymer is prepared by the living polymerization method shown below, for example.

리빙 중합법에는, 아니온 리빙 중합법, 카티온 리빙 중합법, 라디칼 리빙 중합법이 있으며, 이 중, 아니온 리빙 중합법은, 중합 활성종이 아니온이고, 예를 들어 하기 스킴으로 나타내어진다.The living polymerization method includes an anionic living polymerization method, a cationic living polymerization method, and a radical living polymerization method, of which the anionic living polymerization method is an anion that is not a polymerization active species, and is represented by, for example, the following scheme.

[화학식 13][Formula 13]

Figure pat00013
Figure pat00013

상기 스킴 중, Ar1 은 1 가의 유기기이고, Ar2 는 Ar1 과는 상이한 1 가의 유기기이고, M 은 금속 원자이고, s 및 t 는 각각 1 이상의 정수이다.In the above scheme, Ar 1 is a monovalent organic group, Ar 2 is a monovalent organic group different from Ar 1 , M is a metal atom, and s and t are each an integer of 1 or more.

라디칼 리빙 중합법은 중합 활성종이 라디칼이고, 예를 들어 하기 스킴으로 나타내어진다.In the radical living polymerization method, a polymerization active species is a radical, and is represented by the following scheme, for example.

[화학식 14][Formula 14]

Figure pat00014
Figure pat00014

상기 스킴 중, Ar1 은 1 가의 유기기이고, Ar2 는 Ar1 과는 상이한 1 가의 유기기이고, j 및 k 는 각각 1 이상의 정수이며, Ra 는 수소 원자 또는 1 가의 유기기이고, Rb 는 Ra 와는 상이한 수소 원자 또는 1 가의 유기기이다.In the above scheme, Ar 1 is a monovalent organic group, Ar 2 is a monovalent organic group different from Ar 1 , j and k are each an integer of 1 or more, R a is a hydrogen atom or a monovalent organic group, R b is a hydrogen atom different from R a or a monovalent organic group.

이 아크릴계 분산제를 합성할 때에는, 일본 공개특허공보 평9-62002호나, P.Lutz, P.Masson et al, Polym. Bull. 12, 79 (1984), B.C.Anderson, G.D.Andrews et al, Macromolecules, 14, 1601 (1981), K.Hatada, K.Ute, et al, Polym. J. 17, 977 (1985), 18, 1037 (1986), 우테 코이치, 하타다 코이치, 고분자 가공, 36, 366 (1987), 히가시무라 토시노부, 사와모토 미츠오, 고분자 논문집, 46, 189 (1989), M.Kuroki, T.Aida, J. Am. Chem. Sic, 109, 4737 (1987), 아이다 타쿠조, 이노우에 쇼헤이, 유기 합성 화학, 43, 300 (1985), D.Y.Sogoh, W.R.Hertler et al, Macromolecules, 20, 1473 (1987) 등에 기재된 공지된 방법을 채용할 수 있다.When synthesizing this acrylic dispersant, Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 9-62002, P.Lutz, P.Masson et al, Polym. Bull. 12, 79 (1984), B.C. Anderson, G.D.Andrews et al, Macromolecules, 14, 1601 (1981), K.Hatada, K.Ute, et al, Polym. J. 17, 977 (1985), 18, 1037 (1986), Ute Koichi, Kota Hatada, Polymer Processing, 36, 366 (1987), Toshinobu Higashimura, Mitsuo Sawamoto, Polymer Journal, 46, 189 (1989) , M.Kuroki, T.Aida, J. Am. Chem. Sic, 109, 4737 (1987), Ida Takuzo, Inoue Shohei, Organic Synthetic Chemistry, 43, 300 (1985), DYSogoh, WRHertler et al, Macromolecules, 20, 1473 (1987), employ known methods, etc. can do.

전술한 바와 같이, 본 발명에서 사용할 수 있는 아크릴계 분산제는 A-B 블록 공중합체여도 되고, B-A-B 블록 공중합체여도 되고, 그 공중합체를 구성하는 A 블록/B 블록비도 특별히 한정되지 않고, 1/99 ∼ 80/20 (질량비) 인 것이 바람직하고, 5/95 ∼ 60/40 (질량비) 인 것이 보다 바람직하다. 이 범위 내로 함으로써 분산성과 보존 안정성의 밸런스의 확보가 취하기 쉬운 경향이 있다.As described above, the acrylic dispersant that can be used in the present invention may be an AB block copolymer, a BAB block copolymer, or an A block / B block ratio constituting the copolymer is not particularly limited, and 1/99 to 80 It is preferable that it is / 20 (mass ratio), and it is more preferable that it is 5/95 to 60/40 (mass ratio). By setting it within this range, there exists a tendency for the balance of dispersibility and storage stability to be easy to take.

또, 본 발명에서 사용할 수 있는 A-B 블록 공중합체, B-A-B 블록 공중합체 1 g 중의 4 급 암모늄염기의 양은, 통상적으로 0.1 ∼ 10 m㏖ 인 것이 바람직하다. 이 범위 내로 함으로써 양호한 분산성을 확보하기 쉬운 경향이 있다.Moreover, it is preferable that the quantity of the quaternary ammonium base in 1 g of A-B block copolymer and B-A-B block copolymer which can be used by this invention is 0.1-10 mmol normally. By setting it within this range, it tends to be easy to ensure good dispersibility.

한편, 이와 같은 아크릴계 분산제 중에는, 아미노기가 함유되어 있어도 된다. 아크릴계 분산제의 아민가는 통상적으로 1 ∼ 130 ㎎KOH/g 정도이다. 10 ㎎KOH/g 이상이 바람직하고, 30 ㎎KOH/g 이상이 보다 바람직하고, 50 ㎎KOH/g 이상이 더욱 바람직하고, 60 ㎎KOH/g 이상이 특히 바람직하고, 또, 120 ㎎KOH/g 이하가 바람직하고, 100 ㎎KOH/g 이하가 보다 바람직하고, 90 ㎎KOH/g 이하가 더욱 바람직하고, 80 ㎎KOH/g 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 분산성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 분산 후의 보존성이 양호해지는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 10 ∼ 120 ㎎KOH/g 이 바람직하고, 30 ∼ 100 ㎎KOH/g 이 보다 바람직하고, 50 ∼ 90 ㎎KOH/g 이 더욱 바람직하고, 60 ∼ 80 ㎎KOH/g 을 특히 바람직하게 들 수 있다.On the other hand, an amino group may be contained in such an acrylic dispersing agent. The amine value of the acrylic dispersant is usually about 1 to 130 mgKOH / g. 10 mgKOH / g or more is preferable, 30 mgKOH / g or more is more preferable, 50 mgKOH / g or more is more preferable, 60 mgKOH / g or more is particularly preferable, and 120 mgKOH / g or more The following is preferable, 100 mgKOH / g or less is more preferable, 90 mgKOH / g or less is more preferable, and 80 mgKOH / g or less is particularly preferable. When it is more than the said lower limit, there exists a tendency for dispersibility to become favorable, and when it is below the said upper limit, there exists a tendency for the preservation property after dispersion to become favorable. As a combination of an upper limit and a lower limit, 10 to 120 mgKOH / g is preferable, 30 to 100 mgKOH / g is more preferable, 50 to 90 mgKOH / g is more preferable, and 60 to 80 mgKOH / g It is particularly preferable.

여기서, 아크릴계 분산제의 아민가는, 분산제 시료 중의 용제를 제외한 고형분 1 g 당 염기량과 당량의 KOH 의 질량으로 나타내고, 다음의 방법에 의해 측정한다.Here, the amine value of the acrylic dispersant is expressed by the mass of the base amount and the equivalent of KOH per 1 g of solid content excluding the solvent in the dispersant sample, and is measured by the following method.

100 ㎖ 의 비커에 분산제 시료의 0.5 ∼ 1.5 g 을 정밀 칭량하고, 50 ㎖ 의 아세트산으로 용해한다. pH 전극을 구비한 자동 적정 장치를 사용하여, 이 용액을 0.1 ㏖/ℓ 의 HClO4 의 아세트산 용액으로 중화 적정한다. 적정 pH 곡선의 변곡점을 적정 종점으로 하고 다음 식에 의해 아민가를 구한다.0.5 to 1.5 g of the dispersant sample is precisely weighed into a 100 ml beaker and dissolved in 50 ml of acetic acid. This solution is neutralized and titrated with an acetic acid solution of 0.1 mol / L HClO 4 using an automatic titrator equipped with a pH electrode. The inflection point of the titration pH curve is taken as the titration end point, and the amine value is determined by the following equation.

아민가 [㎎KOH/g] = (561 × V)/(W × S) Amine value [mgKOH / g] = (561 × V) / (W × S)

[단, W:분산제 시료 저울량 [g], V:적정 종점에서의 적정량 [㎖], S:분산제 시료의 고형분 농도 [질량%] 를 나타낸다.] [However, W: Dispersant sample balance amount [g], V: Appropriate amount at the proper end point [ml], S: Solid component concentration [mass%] of dispersant sample.]

아크릴계 분산제의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 특별히 한정되지 않지만, 1000 이상이 바람직하고, 3000 이상이 보다 바람직하고, 4000 이상이 더욱 바람직하고, 5000 이상이 특히 바람직하고, 또, 50000 이하가 바람직하고, 20000 이하가 보다 바람직하고, 15000 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 분산성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 점도 변화가 잘 일어나지 않는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 1000 ∼ 50000 이 바람직하고, 3000 ∼ 20000 이 보다 바람직하고, 4000 ∼ 15000 이 더욱 바람직하고, 5000 ∼ 15000 을 특히 바람직하게 들 수 있다.Although the weight average molecular weight (Mw) of an acrylic dispersing agent is not specifically limited, 1000 or more are preferable, 3000 or more are more preferable, 4000 or more are more preferable, 5000 or more are especially preferable, and 50000 or less are preferable, 20000 or less is more preferable, and 15000 or less is still more preferable. When it is more than the said lower limit, there exists a tendency for dispersibility to become favorable, and when it is below the said upper limit, there exists a tendency for a viscosity change to hardly occur. As a combination of an upper limit and a lower limit, 1000-50000 is preferable, 3000-20000 is more preferable, 4000-15000 is more preferable, and 5000-15000 is especially preferable.

아크릴계 분산제가 4 급 암모늄염기를 관능기로서 갖는 경우, 4 급 암모늄염기를 포함하는 반복 단위의 화학 구조는 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서는, 아크릴계 분산제가 하기 일반식 (V) 로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (V)」 라고 하는 경우가 있다.) 를 갖는 것이 바람직하다.When the acrylic dispersant has a quaternary ammonium base as a functional group, the chemical structure of the repeating unit containing the quaternary ammonium base is not particularly limited, but from the viewpoint of dispersibility, the acrylic dispersant is a repeating unit represented by the following general formula (V) (hereinafter, It is preferable to have "repeating unit (V)."

[화학식 15][Formula 15]

Figure pat00015
Figure pat00015

상기 식 (V) 중, R31 ∼ R33 은 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기이고, R31 ∼ R33 중 2 개 이상이 서로 결합하여 고리형 구조를 형성해도 되고;In the formula (V), R 31 to R 33 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an aralkyl group which may have a substituent, and R 31 to R 33 Two or more of them may combine with each other to form a cyclic structure;

R34 는 수소 원자 또는 메틸기이고;R 34 is a hydrogen atom or a methyl group;

X 는 2 가의 연결기이고;X is a divalent linking group;

Y- 는 카운터 아니온이다.Y - is the counter anion.

상기 식 (V) 의 R31 ∼ R33 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상이고, 또, 10 이하인 것이 바람직하고, 6 이하인 것이 보다 바람직하고, 4 이하인 것이 더욱 바람직하고, 2 이하인 것이 특히 바람직하다. 알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 또는 헥실기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 또는 부틸기인 것이 보다 바람직하고, 메틸기 또는 에틸기인 것이 더욱 바람직하다. 또, 직사슬형, 분기사슬형 중 어느 것이어도 된다. 또, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기 등의 고리형 구조를 포함하는 것이어도 된다.Although the number of carbon atoms of the alkyl group which may have a substituent in R 31 to R 33 of the formula (V) is not particularly limited, it is usually 1 or more, preferably 10 or less, more preferably 6 or less, It is more preferably 4 or less, and particularly preferably 2 or less. Specific examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, and the like, and among these, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, Or it is preferably a hexyl group, more preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, and more preferably a methyl group or an ethyl group. Moreover, either a linear chain or a branch chain may be sufficient. Moreover, what may contain cyclic structures, such as a cyclohexyl group and a cyclohexyl methyl group, may be sufficient.

상기 식 (V) 의 R31 ∼ R33 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 6 이상이고, 또, 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하다. 아릴기의 구체예로는, 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 디에틸페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 또는 디에틸페닐기인 것이 바람직하고, 페닐기, 메틸페닐기, 또는 에틸페닐기인 것이 보다 바람직하다.The carbon number of the aryl group which may have a substituent in R 31 to R 33 of the formula (V) is not particularly limited, but is usually 6 or more, more preferably 16 or less, and more preferably 12 or less. . Specific examples of the aryl group include phenyl group, methylphenyl group, ethylphenyl group, dimethylphenyl group, diethylphenyl group, naphthyl group, anthracenyl group, and the like. Among these, phenyl group, methylphenyl group, ethylphenyl group, dimethylphenyl group, or di It is preferably an ethylphenyl group, and more preferably a phenyl group, methylphenyl group, or ethylphenyl group.

상기 식 (V) 의 R31 ∼ R33 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 7 이상이고, 또, 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하고, 10 이하인 것이 더욱 바람직하고, 8 이하인 것이 특히 바람직하다. 아르알킬기의 구체예로는, 페닐메틸기 (벤질기), 페닐에틸기 (페네틸기), 페닐프로필기, 페닐부틸기, 페닐이소프로필기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 페닐메틸기, 페닐에틸기, 페닐프로필기, 또는 페닐부틸기인 것이 바람직하고, 페닐메틸기, 또는 페닐에틸기인 것이 보다 바람직하다.Although carbon number of the aralkyl group which may have a substituent in R 31 -R 33 of the formula (V) is not particularly limited, it is usually 7 or more, preferably 16 or less, more preferably 12 or less. , It is more preferably 10 or less, and particularly preferably 8 or less. Specific examples of the aralkyl group include a phenylmethyl group (benzyl group), a phenylethyl group (phenethyl group), a phenylpropyl group, a phenylbutyl group, and a phenylisopropyl group. Among these, a phenylmethyl group, a phenylethyl group, a phenyl It is preferably a propyl group or a phenylbutyl group, and more preferably a phenylmethyl group or a phenylethyl group.

이들 중에서도, 분산성의 관점에서, R31 ∼ R33 이 각각 독립적으로 알킬기, 또는 아르알킬기인 것이 바람직하고, 구체적으로는, R31 및 R33 이 각각 독립적으로 메틸기, 또는 에틸기이고, 또한, R32 가 페닐메틸기, 또는 페닐에틸기인 것이 바람직하고, R31 및 R33 이 메틸기이고, 또한, R32 가 페닐메틸기인 것이 더욱 바람직하다.Among these, from the viewpoint of dispersibility, R 31 to R 33 are preferably each independently an alkyl group or an aralkyl group, specifically, R 31 and R 33 are each independently a methyl group or an ethyl group, and R 32 Is preferably a phenylmethyl group or a phenylethyl group, R 31 and R 33 are methyl groups, and more preferably R 32 is a phenylmethyl group.

또, 상기 고분자 분산제가 관능기로서 3 급 아민을 갖는 경우, 분산성의 관점에서는, 하기 일반식 (VI) 으로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (VI)」 이라고 하는 경우가 있다.) 를 갖는 것이 바람직하다.Moreover, when the said polymer dispersing agent has a tertiary amine as a functional group, from a dispersibility viewpoint, what has a repeating unit represented by the following general formula (VI) (it may be hereafter called a "repeating unit (VI)"). desirable.

[화학식 16][Formula 16]

Figure pat00016
Figure pat00016

상기 식 (VI) 중, R35 및 R36 은 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기이고, R35 및 R36 이 서로 결합하여 고리형 구조를 형성해도 되고;In the formula (VI), R 35 and R 36 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an aralkyl group which may have a substituent, and R 35 and R 36 You may combine with each other to form a cyclic structure;

R37 은 수소 원자 또는 메틸기이고;R 37 is a hydrogen atom or a methyl group;

Z 는 2 가의 연결기이다.Z is a divalent linking group.

또, 상기 식 (VI) 의 R35 및 R36 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기로는, 상기 식 (V) 의 R31 ∼ R33 으로서 예시한 것을 바람직하게 채용할 수 있다.Moreover, as the alkyl group which may have a substituent in R 35 and R 36 of the formula (VI), those exemplified as R 31 to R 33 of the formula (V) can be preferably employed.

마찬가지로, 상기 식 (VI) 의 R35 및 R36 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기로는, 상기 식 (V) 의 R31 ∼ R33 으로서 예시한 것을 바람직하게 채용할 수 있다. 또, 상기 식 (VI) 의 R35 및 R36 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기로는, 상기 식 (V) 의 R31 ∼ R33 으로서 예시한 것을 바람직하게 채용할 수 있다.Similarly, as the aryl group which may have a substituent in R 35 and R 36 in the formula (VI), those exemplified as R 31 to R 33 in the formula (V) can be preferably employed. Moreover, as the aralkyl group which may have a substituent in R 35 and R 36 of the formula (VI), those exemplified as R 31 to R 33 of the formula (V) can be preferably employed.

이들 중에서도, 분산성의 관점에서, R35 및 R36 이 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기인 것이 바람직하고, 메틸기, 또는 에틸기인 것이 보다 바람직하다.Among these, from the viewpoint of dispersibility, R 35 and R 36 are each independently preferably an alkyl group which may have a substituent, and more preferably a methyl group or an ethyl group.

상기 식 (V) 의 R31 ∼ R33 및 상기 식 (VI) 의 R35 및 R36 에 있어서의 알킬기, 아르알킬기 또는 아릴기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 할로겐 원자, 알콕시기, 벤조일기, 수산기 등을 들 수 있다.As a substituent which the alkyl group, aralkyl group, or aryl group in R 31 -R 33 of the formula (V) and R 35 and R 36 of the formula (VI) may have, a halogen atom, an alkoxy group, a benzoyl group, a hydroxyl group And the like.

상기 식 (V) 및 (VI) 에 있어서, 2 가의 연결기 X 및 Z 로는, 예를 들어, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기, 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴렌기, -CONH-R43- 기, -COOR44- 기 [단, R43 및 R44 는 단결합, 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기, 또는 탄소수 2 ∼ 10 의 에테르기 (알킬옥시알킬기) 이다] 등을 들 수 있으며, 바람직하게는 -COO-R44- 기, 보다 바람직하게는 -COO-C2H4- 기이다.In the formulas (V) and (VI), divalent linking groups X and Z include, for example, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, an arylene group having 6 to 12 carbon atoms, -CONH-R 43 -group, -COOR 44 -group [where R 43 and R 44 are a single bond, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, or an ether group having 2 to 10 carbon atoms (alkyloxyalkyl group)] and the like, and preferably -COO- R 44 -group, more preferably -COO-C 2 H 4 -group.

또, 상기 식 (V) 에 있어서, 카운터 아니온의 Y- 로는, Cl-, Br-, I-, ClO4 -, BF4 -, CH3COO-, PF6 - 등을 들 수 있다.Further, in the above formula (V), the counter anion Y - roneun, Cl -, and the like -, Br -, I -, ClO 4 -, BF 4 -, CH 3 COO-, PF 6.

상기 식 (V) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서, 상기 식 (V) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율과 상기 식 (VI) 으로 나타내는 반복 단위의 함유 비율의 합계에 대하여 바람직하게는 60 몰% 이하이고, 보다 바람직하게는 50 몰% 이하이고, 더욱 바람직하게는 40 몰% 이하이고, 특히 바람직하게는 35 몰% 이하이고, 또, 바람직하게는 5 몰% 이상이고, 보다 바람직하게는 10 몰% 이상이고, 더욱 바람직하게는 20 몰% 이상이고, 특히 바람직하게는 30 몰% 이상이다. 상한과 하한의 조합으로는, 5 ∼ 60 몰% 가 바람직하고, 10 ∼ 50 몰% 가 보다 바람직하고, 20 ∼ 40 몰% 가 더욱 바람직하고, 30 ∼ 35 몰% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.The content ratio of the repeating unit represented by the formula (V) is not particularly limited, but from the viewpoint of dispersibility, the total content of the repeating unit represented by the formula (V) and the repeating unit represented by the formula (VI) It is preferably 60 mol% or less, more preferably 50 mol% or less, more preferably 40 mol% or less, particularly preferably 35 mol% or less, and preferably 5 mol% or more Is, more preferably 10 mol% or more, still more preferably 20 mol% or more, and particularly preferably 30 mol% or more. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 5 to 60 mol%, more preferably 10 to 50 mol%, still more preferably 20 to 40 mol%, and particularly preferably 30 to 35 mol%.

또, 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (V) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서, 1 몰% 이상인 것이 바람직하고, 5 몰% 이상인 것이 보다 바람직하고, 8 몰% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 10 몰% 이상인 것이 특히 바람직하고, 또, 50 몰% 이하인 것이 바람직하고, 30 몰% 이하인 것이 보다 바람직하고, 20 몰% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 15 몰% 이하인 것이 특히 바람직하다. 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 50 몰% 가 바람직하고, 5 ∼ 30 몰% 가 보다 바람직하고, 8 ∼ 20 몰% 가 더욱 바람직하고, 10 ∼ 15 몰% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.Moreover, although the content rate of the repeating unit represented by said Formula (V) in all the repeating units of a dispersing agent is not specifically limited, From a dispersibility viewpoint, it is preferable that it is 1 mol% or more, More preferably, it is 5 mol% or more, 8 It is more preferable that it is mol% or more, particularly preferably 10 mol% or more, further preferably 50 mol% or less, more preferably 30 mol% or less, still more preferably 20 mol% or less, and 15 mol% or less Especially preferred. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 50 mol%, more preferably 5 to 30 mol%, further preferably 8 to 20 mol%, and particularly preferably 10 to 15 mol%.

상기 식 (VI) 으로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서, 상기 식 (V) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율과 상기 식 (VI) 으로 나타내는 반복 단위의 함유 비율의 합계에 대하여 바람직하게는 100 몰% 이하이고, 보다 바람직하게는 90 몰% 이하이고, 더욱 바람직하게는 80 몰% 이하이고, 특히 바람직하게는 70 몰% 이하이고, 또, 바람직하게는 10 몰% 이상이고, 보다 바람직하게는 30 몰% 이상이고, 더욱 바람직하게는 50 몰% 이상이고, 특히 바람직하게는 60 몰% 이상이다. 상한과 하한의 조합으로는, 10 ∼ 100 몰% 가 바람직하고, 30 ∼ 90 몰% 가 보다 바람직하고, 50 ∼ 80 몰% 가 더욱 바람직하고, 60 ∼ 70 몰% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.The content ratio of the repeating unit represented by the formula (VI) is not particularly limited, but from the viewpoint of dispersibility, the sum of the content of the repeating unit represented by the formula (V) and the repeating unit represented by the formula (VI) With respect to, it is preferably 100 mol% or less, more preferably 90 mol% or less, further preferably 80 mol% or less, particularly preferably 70 mol% or less, and preferably 10 mol% or more Is, more preferably 30 mol% or more, still more preferably 50 mol% or more, and particularly preferably 60 mol% or more. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 10 to 100 mol%, more preferably 30 to 90 mol%, still more preferably 50 to 80 mol%, and particularly preferably 60 to 70 mol%.

또, 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (VI) 으로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 분산성의 관점에서, 5 몰% 이상인 것이 바람직하고, 10 몰% 이상인 것이 보다 바람직하고, 15 몰% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 20 몰% 이상인 것이 특히 바람직하고, 또, 60 몰% 이하인 것이 바람직하고, 40 몰% 이하인 것이 보다 바람직하고, 30 몰% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 25 몰% 이하인 것이 특히 바람직하다. 상한과 하한의 조합으로는, 5 ∼ 600 몰% 가 바람직하고, 10 ∼ 40 몰% 가 보다 바람직하고, 15 ∼ 30 몰% 가 더욱 바람직하고, 20 ∼ 25 몰% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.Moreover, although the content ratio of the repeating unit represented by said Formula (VI) in all the repeating units of a dispersing agent is not specifically limited, From a dispersibility viewpoint, it is preferable that it is 5 mol% or more, It is more preferable that it is 10 mol% or more, 15 More preferably, it is more preferably 20 mol% or more, more preferably 60 mol% or less, more preferably 40 mol% or less, still more preferably 30 mol% or less, and more preferably 25 mol% or less Especially preferred. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 5 to 600 mol%, more preferably 10 to 40 mol%, still more preferably 15 to 30 mol%, and particularly preferably 20 to 25 mol%.

또, 아크릴계 분산제는, 용매 등의 바인더 성분에 대한 상용성을 높이고, 분산 안정성을 향상시킨다는 관점에서, 하기 일반식 (VII) 로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (VII)」 이라고 하는 경우가 있다.) 를 갖는 것이 바람직하다.Moreover, an acrylic dispersing agent is a repeating unit represented by the following general formula (VII) (hereinafter referred to as "repeating unit (VII)" in view of improving compatibility with a binder component such as a solvent and improving dispersion stability. It is preferred to have.)

[화학식 17][Formula 17]

Figure pat00017
Figure pat00017

상기 식 (VII) 중, R40 은 에틸렌기 또는 프로필렌기이고;In the formula (VII), R 40 is an ethylene group or a propylene group;

R41 은 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기이고;R 41 is an alkyl group which may have a substituent;

R42 는 수소 원자 또는 메틸기이고;R 42 is a hydrogen atom or a methyl group;

n 은 1 ∼ 20 의 정수이다.n is an integer of 1-20.

상기 식 (VII) 의 R41 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상이고, 2 이상인 것이 바람직하고, 또, 10 이하인 것이 바람직하고, 6 이하인 것이 보다 바람직하고, 4 이하인 것이 더욱 바람직하다. 알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 또는 헥실기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 또는 부틸기인 것이 보다 바람직하다. 또, 직사슬형, 분기사슬형 중 어느 것이어도 된다. 또, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기 등의 고리형 구조를 포함해도 된다.In R 41 of the formula (VII), the number of carbon atoms of the alkyl group which may have a substituent is not particularly limited, but is usually 1 or more, preferably 2 or more, and preferably 10 or less, more preferably 6 or less. It is preferable, and it is more preferable that it is 4 or less. Specific examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, and the like, and among these, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, Or it is preferable that it is a hexyl group, and it is more preferable that it is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group. Moreover, either a linear chain or a branch chain may be sufficient. Moreover, you may contain cyclic structures, such as a cyclohexyl group and a cyclohexyl methyl group.

또, 상기 식 (VII) 에 있어서의 n 은 용매 등 바인더 성분에 대한 상용성과 분산성의 관점에서, 1 이상인 것이 바람직하고, 2 이상인 것이 보다 바람직하고, 또, 10 이하인 것이 바람직하고, 5 이하인 것이 보다 바람직하다. 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 10 의 정수가 바람직하고, 2 ∼ 5 의 정수를 보다 바람직하게 들 수 있다.In addition, in the formula (VII), n is preferably 1 or more, more preferably 2 or more, and more preferably 10 or less, and more preferably 5 or less, from the viewpoint of compatibility and dispersibility with respect to a binder component such as a solvent. desirable. As a combination of an upper limit and a lower limit, an integer of 1 to 10 is preferable, and an integer of 2 to 5 is more preferable.

또, 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (VII) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 1 몰% 이상인 것이 바람직하고, 2 몰% 이상인 것이 보다 바람직하고, 4 몰% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 또, 30 몰% 이하인 것이 바람직하고, 20 몰% 이하인 것이 보다 바람직하고, 10 몰% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 상기 범위 내의 경우에는 용매 등 바인더 성분에 대한 상용성과 분산 안정성의 양립이 하기 쉬운 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 30 몰% 가 바람직하고, 2 ∼ 20 몰% 가 보다 바람직하고, 4 ∼ 10 몰% 를 더욱 바람직하게 들 수 있다.Moreover, although the content rate of the repeating unit represented by said Formula (VII) in all the repeating units of a dispersing agent is not specifically limited, It is preferable that it is 1 mol% or more, it is more preferable that it is 2 mol% or more, and it is more preferable that it is 4 mol% or more. Preferably, it is preferably 30 mol% or less, more preferably 20 mol% or less, and even more preferably 10 mol% or less. When it is within the above range, there is a tendency that compatibility with a binder component such as a solvent is easily compatible with dispersion stability. As a combination of an upper limit and a lower limit, 1 to 30 mol% is preferable, 2 to 20 mol% is more preferable, and 4 to 10 mol% is more preferable.

또, 아크릴계 분산제는, 분산제의 용매 등 바인더 성분에 대한 상용성을 높이고, 분산 안정성을 향상시킨다는 관점에서, 1 종 이상의 하기 일반식 (VIII) 로 나타내는 반복 단위 (이하, 「반복 단위 (VIII)」 이라고 하는 경우가 있다.) 를 갖는 것이 바람직하다.Moreover, an acrylic dispersing agent is a repeating unit (hereinafter referred to as "repeating unit (VIII)" represented by one or more of the following general formula (VIII) from the viewpoint of improving compatibility with a binder component such as a solvent of the dispersing agent and improving dispersion stability. It may be called.) It is preferable to have.

[화학식 18][Formula 18]

Figure pat00018
Figure pat00018

상기 식 (VIII) 중, R38 은 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기이고;In said formula (VIII), R 38 is an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, or an aralkyl group which may have a substituent;

R39 는 수소 원자 또는 메틸기이다.R 39 is a hydrogen atom or a methyl group.

상기 식 (VIII) 의 R38 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상이고, 2 이상인 것이 바람직하고, 4 이상인 것이 보다 바람직하고, 또, 10 이하인 것이 바람직하고, 8 이하인 것이 보다 바람직하다. 알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 2-에틸헥실기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 또는 2-에틸헥실기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 또는 2-에틸헥실기인 것이 보다 바람직하다. 또, 직사슬형, 분기사슬형 중 어느 것이어도 된다. 또, 시클로헥실기, 시클로헥실메틸기 등의 고리형 구조를 포함해도 된다.Although carbon number of the alkyl group which may have a substituent in R 38 of said Formula (VIII) is not specifically limited, Usually, it is 1 or more, 2 or more are preferable, 4 or more are more preferable, and 10 or less It is preferable, and it is more preferable that it is 8 or less. Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, and a 2-ethylhexyl group, among these, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, It is preferably a butyl group, pentyl group, hexyl group, or 2-ethylhexyl group, and more preferably a methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, or 2-ethylhexyl group. Moreover, either a linear chain or a branch chain may be sufficient. Moreover, you may contain cyclic structures, such as a cyclohexyl group and a cyclohexyl methyl group.

상기 식 (VIII) 의 R38 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 6 이상이고, 또, 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하고, 8 이하인 것이 더욱 바람직하다. 아릴기의 구체예로는, 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 디에틸페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 페닐기, 메틸페닐기, 에틸페닐기, 디메틸페닐기, 또는 디에틸페닐기인 것이 바람직하고, 페닐기, 메틸페닐기, 또는 에틸페닐기인 것이 보다 바람직하다.The carbon number of the aryl group which may have a substituent in R 38 in the formula (VIII) is not particularly limited, but is usually 6 or more, more preferably 16 or less, more preferably 12 or less, and more preferably 8 or less. It is more preferable. Specific examples of the aryl group include phenyl group, methylphenyl group, ethylphenyl group, dimethylphenyl group, diethylphenyl group, naphthyl group, anthracenyl group, and the like. Among these, phenyl group, methylphenyl group, ethylphenyl group, dimethylphenyl group, or di It is preferably an ethylphenyl group, and more preferably a phenyl group, methylphenyl group, or ethylphenyl group.

상기 식 (VIII) 의 R38 에 있어서의, 치환기를 갖고 있어도 되는 아르알킬기의 탄소수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 7 이상이고, 또, 16 이하인 것이 바람직하고, 12 이하인 것이 보다 바람직하고, 10 이하인 것이 더욱 바람직하다. 아르알킬기의 구체예로는, 페닐메틸기 (벤질기), 페닐에틸기 (페네틸기), 페닐프로필기, 페닐부틸기, 페닐이소프로필기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 페닐메틸기, 페닐에틸기, 페닐프로필기, 또는 페닐부틸기인 것이 바람직하고, 페닐메틸기, 또는 페닐에틸기인 것이 보다 바람직하다.The number of carbon atoms in the aralkyl group which may have a substituent in R 38 in the formula (VIII) is not particularly limited, but is usually 7 or more, more preferably 16 or less, more preferably 12 or less, and more preferably 10 or less. It is more preferable. Specific examples of the aralkyl group include a phenylmethyl group (benzyl group), a phenylethyl group (phenethyl group), a phenylpropyl group, a phenylbutyl group, and a phenylisopropyl group. Among these, a phenylmethyl group, a phenylethyl group, a phenyl It is preferably a propyl group or a phenylbutyl group, and more preferably a phenylmethyl group or a phenylethyl group.

이들 중에서도, 용제 상용성과 분산 안정성의 관점에서, R38 이 알킬기, 또는 아르알킬기인 것이 바람직하고, 메틸기, 에틸기, 부틸기, 2-에틸헥실기 또는 페닐메틸기인 것이 보다 바람직하다.Among these, from the viewpoint of solvent compatibility and dispersion stability, R 38 is preferably an alkyl group or an aralkyl group, and more preferably a methyl group, ethyl group, butyl group, 2-ethylhexyl group or phenylmethyl group.

R38 에 있어서의, 알킬기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 할로겐 원자, 알콕시기 등을 들 수 있다. 또, 아릴기 또는 아르알킬기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 사슬형의 알킬기, 할로겐 원자, 알콕시기 등을 들 수 있다. 또, R38 로 나타내는 사슬형의 알킬기로는, 직사슬형 및 분기사슬형 모두 포함된다.A halogen atom, an alkoxy group, etc. are mentioned as a substituent which R 38 may have in an alkyl group. Moreover, a chain-type alkyl group, a halogen atom, an alkoxy group, etc. are mentioned as a substituent which the aryl group or aralkyl group may have. Further, it is an alkyl group of chain represented by R 38 includes both straight-chain and branched.

또, 분산제의 전체 반복 단위에서 차지하는 상기 식 (VIII) 로 나타내는 반복 단위의 함유 비율 (2 종 이상의 상기 식 (VIII) 로 나타내는 반복 단위를 포함하는 경우에는 그 합계의 함유 비율) 은, 분산성의 관점에서, 30 몰% 이상인 것이 바람직하고, 40 몰% 이상인 것이 보다 바람직하고, 50 몰% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 또, 80 몰% 이하인 것이 바람직하고, 70 몰% 이하인 것이 보다 바람직하다. 상한과 하한의 조합으로는, 30 ∼ 80 몰% 가 바람직하고, 40 ∼ 70 몰% 가 보다 바람직하고, 50 ∼ 70 몰% 를 더욱 바람직하게 들 수 있다.Moreover, the content ratio of the repeating unit represented by the said formula (VIII) in all the repeating units of a dispersing agent (the content ratio of the sum total when it contains 2 or more types of repeating units represented by said formula (VIII)) is a viewpoint of dispersibility. In, it is preferable that it is 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, further preferably 50 mol% or more, further preferably 80 mol% or less, and more preferably 70 mol% or less. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 30 to 80 mol%, more preferably 40 to 70 mol%, and still more preferably 50 to 70 mol%.

아크릴계 분산제는, 반복 단위 (V), 반복 단위 (VI), 반복 단위 (VII) 및 반복 단위 (VIII) 이외의 반복 단위를 갖고 있어도 된다. 그러한 반복 단위의 예로는, 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 단량체;(메트)아크릴산클로라이드 등의 (메트)아크릴산염계 단량체;(메트)아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드 등의 (메트)아크릴아미드계 단량체;아세트산비닐;아크릴로니트릴;알릴글리시딜에테르, 크로톤산글리시딜에테르;N-메타크릴로일모르폴린 등의 단량체에서 유래하는 반복 단위를 들 수 있다.The acrylic dispersant may have repeating units other than repeating unit (V), repeating unit (VI), repeating unit (VII) and repeating unit (VIII). Examples of such repeating units include styrene-based monomers such as styrene and α-methylstyrene; (meth) acrylate monomers such as (meth) acrylic acid chloride; (meth) acrylamide, and (meth) acrylic compounds such as N-methylolacrylamide. ) Acrylamide-based monomers; vinyl acetate; acrylonitrile; allyl glycidyl ether, crotonic acid glycidyl ether; repeating units derived from monomers such as N-methacryloyl morpholine.

아크릴계 분산제는, 분산성을 보다 높인다는 관점에서, 반복 단위 (V) 및 반복 단위 (VI) 을 갖는 A 블록과, 반복 단위 (V) 및 반복 단위 (VI) 을 갖지 않는 B 블록을 갖는, 블록 공중합체인 것이 바람직하다. 그 블록 공중합체는, A-B 블록 공중합체 또는 B-A-B 블록 공중합체인 것이 바람직하다. A 블록에 4 급 암모늄염기 뿐만 아니라 3 급 아미노기도 도입함으로써, 의외로, 분산제의 분산 능력이 현저하게 향상되는 경향이 있다. 또, B 블록이 반복 단위 (VII) 을 갖는 것이 바람직하고, 또한 반복 단위 (VIII) 을 갖는 것이 보다 바람직하다.The acrylic dispersant is a block having an A block having a repeating unit (V) and a repeating unit (VI) and a B block not having a repeating unit (V) and a repeating unit (VI) from the viewpoint of further increasing dispersibility. It is preferably a copolymer. It is preferable that the block copolymer is an A-B block copolymer or a B-A-B block copolymer. By introducing not only a quaternary ammonium base but also a tertiary amino group into the A block, the dispersing ability of the dispersant tends to be remarkably improved. Moreover, it is preferable that a B block has a repeating unit (VII), and it is more preferable to have a repeating unit (VIII).

A 블록 중에 있어서, 반복 단위 (V) 및 반복 단위 (VI) 은, 랜덤 공중합, 블록 공중합 중 어느 양태로 함유되어 있어도 된다. 또, 반복 단위 (V) 및 반복 단위 (VI) 은, 1 개의 A 블록 중에 각각 2 종 이상 함유되어 있어도 되고, 그 경우, 각각의 반복 단위는, 그 A 블록 중에 있어서 랜덤 공중합, 블록 공중합의 어느 양태로 함유되어 있어도 된다.In the A block, the repeating unit (V) and the repeating unit (VI) may be contained in either random copolymerization or block copolymerization. Moreover, 2 or more types of repeating units (V) and repeating units (VI) may be contained in one A block, and in this case, each repeating unit may be random copolymerization or block copolymerization in the A block. It may contain in an aspect.

또, 반복 단위 (V) 및 반복 단위 (VI) 이외의 반복 단위가, A 블록 중에 함유되어 있어도 되고, 그러한 반복 단위의 예로는, 전술한 (메트)아크릴산에스테르계 단량체 유래의 반복 단위 등을 들 수 있다. 반복 단위 (V) 및 반복 단위 (VI) 이외의 반복 단위의, A 블록 중의 함유량은, 바람직하게는 0 ∼ 50 몰%, 보다 바람직하게는 0 ∼ 20 몰% 이지만, 이러한 반복 단위는 A 블록 중에 함유되지 않는 것이 가장 바람직하다.Moreover, repeating units other than repeating unit (V) and repeating unit (VI) may be contained in the A block, and examples of such repeating units include repeating units derived from the aforementioned (meth) acrylic acid ester monomers, etc. You can. The content of the repeating units other than the repeating unit (V) and repeating unit (VI) in the A block is preferably 0 to 50 mol%, more preferably 0 to 20 mol%, but these repeating units are in the A block. It is most preferably not contained.

반복 단위 (VII) 및 (VIII) 이외의 반복 단위가 B 블록 중에 함유되어 있어도 되고, 그러한 반복 단위의 예로는, 스티렌, α-메틸스티렌 등의 스티렌계 단량체;(메트)아크릴산클로라이드 등의 (메트)아크릴산염계 단량체;(메트)아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드 등의 (메트)아크릴아미드계 단량체;아세트산비닐;아크릴로니트릴;알릴글리시딜에테르, 크로톤산글리시딜에테르;N-메타크릴로일모르폴린 등의 단량체에서 유래하는 반복 단위를 들 수 있다. 반복 단위 (VII) 및 반복 단위 (VIII) 이외의 반복 단위의, B 블록 중의 함유 비율은, 바람직하게는 0 ∼ 50 몰%, 보다 바람직하게는 0 ∼ 20 몰% 이지만, 이러한 반복 단위는 B 블록 중에 함유되지 않는 것이 가장 바람직하다. Repeat units other than repeat units (VII) and (VIII) may be contained in the B block, and examples of such repeat units include styrene-based monomers such as styrene and α-methylstyrene; (meth) acrylic acid chloride (meth ) Acrylic acid-based monomers; (meth) acrylamide-based monomers such as (meth) acrylamide and N-methylol acrylamide; vinyl acetate; acrylonitrile; allyl glycidyl ether, crotonic acid glycidyl ether; N- And repeating units derived from monomers such as methacryloyl morpholine. The content ratio of the repeating units other than the repeating unit (VII) and repeating unit (VIII) in the B block is preferably 0 to 50 mol%, more preferably 0 to 20 mol%, but such repeating units are B blocks It is most preferably not contained in.

이들 아크릴계 분산제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 또는 2 종 이상을 병용해도 된다.These acrylic dispersants may be used alone or in combination of two or more.

또, 본 발명의 제 1 양태에 관련된 착색 감광성 수지 조성물, 및 본 발명의 제 3 양태에 관련된 안료 분산액에 있어서, (B) 분산제는 전술한 아크릴계 분산제 이외에, 이하에 나타내는 그 밖의 고분자 분산제를 포함하고 있어도 된다.Moreover, in the coloring photosensitive resin composition which concerns on 1st aspect of this invention, and the pigment dispersion liquid which concerns on 3rd aspect of this invention, (B) dispersing agent contains other polymer dispersing agents shown below besides the acrylic dispersing agent mentioned above. You may have.

그 밖의 고분자 분산제로는, 예를 들어 우레탄계 분산제, 폴리에틸렌이민계 분산제, 폴리알릴아민계 분산제, 아미노기를 갖는 모노머와 매크로 모노머로 이루어지는 분산제, 폴리옥시에틸렌알킬에테르계 분산제, 폴리옥시에틸렌디에스테르계 분산제, 폴리에테르인산계 분산제, 폴리에스테르인산계 분산제, 소르비탄 지방족 에스테르계 분산제, 지방족 변성 폴리에스테르계 분산제 등을 들 수 있다.Other polymer dispersants include, for example, urethane-based dispersants, polyethyleneimine-based dispersants, polyallylamine-based dispersants, dispersants consisting of amino group-containing monomers and macromonomers, polyoxyethylene alkyl ether-based dispersants, and polyoxyethylene diester-based dispersants. , Polyether phosphate dispersants, polyester phosphate dispersants, sorbitan aliphatic ester dispersants, aliphatic modified polyester dispersants, and the like.

이와 같은 분산제의 구체예로는, 상품명으로, EFKA (등록상표. BASF 사 제조.), DISPERBYK (등록상표. 빅크케미사 제조.), 디스퍼론 (등록상표. 쿠스모토 화성사 제조.), SOLSPERSE (등록상표. 루브리졸사 제조.), KP (신에츠 화학 공업사 제조), 폴리플로우 (쿄에이샤 화학사 제조), 아지스퍼 (등록상표. 아지노모토사 제조.) 등을 들 수 있다.Specific examples of such dispersants include EFKA (registered trademark. BASF Corporation.), DISPERBYK (registered trademark. BICKCHEMI Corporation.), Disperon (registered trademark. KUSMOTO Hwasung Corporation.), SOLSPERSE under the trade name. (Registered trademark. Manufactured by Lubrizol.), KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), polyflow (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Azisper (registered trademark. Manufactured by Ajinomoto).

그 밖의 고분자 분산제의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 통상적으로 700 이상, 바람직하게는 1000 이상이고, 또 통상적으로 100000 이하, 바람직하게는 50000 이하이다.The weight average molecular weight (Mw) of other polymer dispersants is usually 700 or more, preferably 1000 or more, and is usually 100000 or less, preferably 50000 or less.

그 밖의 고분자 분산제 중에서도, 안료의 분산성의 관점에서는, 우레탄계 고분자 분산제를 바람직하게 들 수 있다.Among other polymer dispersants, urethane-based polymer dispersants are preferably mentioned from the viewpoint of dispersibility of the pigment.

또 우레탄계 고분자 분산제 중에서도, 분산성, 보존성의 면에서, 염기성 관능기를 갖고, 폴리에스테르 결합 및/또는 폴리에테르 결합을 갖는 고분자 분산제가 바람직하다.Moreover, among the urethane-based polymer dispersants, polymer dispersants having a basic functional group and having a polyester bond and / or a polyether bond are preferred from the viewpoint of dispersibility and storage.

우레탄계 고분자 분산제로는, 예를 들어 DISPERBYK 160 ∼ 167, 182 시리즈를 들 수 있다.As a urethane type polymer dispersing agent, DISPERBYK 160-167, 182 series are mentioned, for example.

우레탄계 고분자 분산제로서 바람직한 화학 구조를 구체적으로 예시한다면, 예를 들어, 폴리이소시아네이트 화합물과, 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 수 평균 분자량 300 ∼ 10000 의 화합물과, 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물을 반응시킴으로써 얻어지는, 중량 평균 분자량 1000 ∼ 200000 의 분산 수지 등을 들 수 있다. 이들을 벤질클로라이드 등의 4 급화제로 처리함으로써, 3 급 아미노기의 전부 또는 일부를 4 급 암모늄염기로 할 수 있다.If the preferred chemical structure is specifically illustrated as a urethane-based polymer dispersant, for example, a polyisocyanate compound, a compound having a number average molecular weight of 300 to 10000 having one or two hydroxyl groups in the molecule, and an active hydrogen in the same molecule and a tertiary grade And dispersion resins having a weight average molecular weight of 1000 to 200,000 obtained by reacting a compound having an amino group. By treating these with a quaternizing agent such as benzyl chloride, all or part of the tertiary amino group can be used as a quaternary ammonium base.

상기의 폴리이소시아네이트 화합물의 예로는, 파라페닐렌디이소시아네이트, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 나프탈렌-1,5-디이소시아네이트, 톨리딘디이소시아네이트 등의 방향족 디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신메틸에스테르디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 다이머산 디이소시아네이트 등의 지방족 디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 4,4'-메틸렌비스(시클로헥실이소시아네이트), ω,ω'-디이소시네이트디메틸시클로헥산 등의 지환족 디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, α,α,α',α'-테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트 등의 방향 고리를 갖는 지방족 디이소시아네이트, 리신에스테르트리이소시아네이트, 1,6,11-운데칸트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이트-4-이소시아네이트메틸옥탄, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 비시클로헵탄트리이소시아네이트, 트리스(이소시아네이트페닐메탄), 트리스(이소시아네이트페닐)티오포스페이트 등의 트리이소시아네이트, 및 이들의 3 량체, 물 부가물, 및 이들의 폴리올 부가물 등을 들 수 있다. 폴리이소시아네이트로서 바람직한 것은 유기 디이소시아네이트의 3 량체이고, 가장 바람직한 것은 톨릴렌디이소시아네이트의 3 량체와 이소포론디이소시아네이트의 3 량체이다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Examples of the polyisocyanate compound include paraphenylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, naphthalene-1,5-diisocyanate, Aromatic diisocyanates such as tolidine diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, lysine methyl ester diisocyanate, aliphatic diisocyanates such as 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, dimer acid diisocyanate, isophorone diisocyanate, 4,4 Alicyclic diisocyanates such as '-methylene bis (cyclohexyl isocyanate), ω, ω'-diisocyanate dimethylcyclohexane, xylylene diisocyanate, α, α, α', α'-tetramethyl xylylene diisocyanate, etc. Aliphatic diisocyanate, lysine ester triisocyanate having 1,6,11-luck Decantriisocyanate, 1,8-diisocyanate-4-isocyanatemethyloctane, 1,3,6-hexamethylenetriisocyanate, bicycloheptanetriisocyanate, tris (isocyanatephenylmethane), tris (isocyanatephenyl) thiophosphate, etc. And triisocyanates, trimers thereof, water adducts, and polyol adducts thereof. Preferred polyisocyanates are trimers of organic diisocyanates, and most preferred are trimers of tolylene diisocyanate and trimers of isophorone diisocyanate. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

이소시아네이트의 3 량체의 제조 방법으로는, 상기 폴리이소시아네이트류를 적당한 3 량화 촉매, 예를 들어 제 3 급 아민류, 포스핀류, 알콕시드류, 금속 산화물, 카르복실산염류 등을 사용하여 이소시아네이트기의 부분적인 3 량화를 실시하고, 촉매독의 첨가에 의해 3 량화를 정지시킨 후, 미반응의 폴리이소시아네이트를 용제 추출, 박막 증류에 의해 제거하여 목적으로 하는 이소시아누레이트기 함유 폴리이소시아네이트를 얻는 방법을 들 수 있다.As a method for producing a trimer of isocyanate, the polyisocyanates are partially prepared of an isocyanate group using a suitable trimerization catalyst, for example, tertiary amines, phosphines, alkoxides, metal oxides, carboxylic acid salts, and the like. A method of obtaining a desired isocyanurate-containing polyisocyanate by performing a trimerization and stopping the trimmerization by adding a catalyst poison, and then removing the unreacted polyisocyanate by solvent extraction and thin film distillation You can.

동일 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 수 평균 분자량 300 ∼ 10000 의 화합물로는, 폴리에테르글리콜, 폴리에스테르글리콜, 폴리카보네이트글리콜, 폴리올레핀글리콜 등, 및 이들 화합물의 편말단 수산기가 탄소수 1 ∼ 25 의 알킬기로 알콕시화 된 것 및 이들 2 종류 이상의 혼합물을 들 수 있다.Examples of the compound having a number average molecular weight of 300 to 10000 having one or two hydroxyl groups in the same molecule include polyether glycol, polyester glycol, polycarbonate glycol, polyolefin glycol, and the like, and the terminal hydroxyl groups of these compounds have 1 to 25 carbon atoms. And alkoxylated alkyl groups and mixtures of two or more of these.

폴리에테르글리콜로는, 폴리에테르디올, 폴리에테르에스테르디올, 및 이들 2 종류 이상의 혼합물을 들 수 있다. 폴리에테르디올로는, 알킬렌옥사이드를 단독 또는 공중합시켜 얻어지는 것, 예를 들어 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리에틸렌-프로필렌글리콜, 폴리옥시테트라메틸렌글리콜, 폴리옥시헥사메틸렌글리콜, 폴리옥시옥타메틸렌글리콜 및 그들의 2 종 이상의 혼합물을 들 수 있다.As polyether glycol, polyether diol, polyether ester diol, and mixtures of these two or more types are mentioned. Examples of the polyetherdiol include alkylene oxides alone or by copolymerization, such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyethylene-propylene glycol, polyoxytetramethylene glycol, polyoxyhexamethylene glycol, polyoxyoctamethylene glycol, and And mixtures of two or more of them.

폴리에테르에스테르디올로는, 에테르기 함유 디올 혹은 다른 글리콜과의 혼합물을 디카르복실산 또는 그들의 무수물과 반응시키거나, 또는 폴리에스테르글리콜에 알킬렌옥사이드를 반응시킴으로써 얻어지는 것, 예를 들어 폴리(폴리옥시테트라메틸렌)아디페이트 등을 들 수 있다. 폴리에테르글리콜로서 가장 바람직한 것은 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리옥시테트라메틸렌글리콜 또는 이들 화합물의 편말단 수산기가 탄소수 1 ∼ 25 의 알킬기로 알콕시화 된 화합물이다.The polyether ester diol is obtained by reacting a mixture of an ether group-containing diol or other glycol with a dicarboxylic acid or anhydride thereof, or by reacting alkylene oxide with polyester glycol, for example, poly (poly And oxytetramethylene) adipates. The most preferred polyether glycol is polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyoxytetramethylene glycol, or a compound in which one terminal hydroxyl group of these compounds is alkoxylated with an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms.

폴리에스테르글리콜로는, 디카르복실산 (숙신산, 글루타르산, 아디프산, 세바크산, 푸마르산, 말레산, 프탈산 등) 또는 그들의 무수물과 글리콜 (에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 2,3-부탄디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 네오펜틸글리콜, 2-메틸-1,3-프로판디올, 2-메틸-2-프로필-1,3-프로판디올, 2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 2-메틸-2,4-펜탄디올, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올, 2-에틸-1,3-헥산디올, 2,5-디메틸-2,5-헥산디올, 1,8-옥타메틸렌글리콜, 2-메틸-1,8-옥타메틸렌글리콜, 1,9-노난디올 등의 지방족 글리콜, 비스하이드록시메틸시클로헥산 등의 지환족 글리콜, 자일릴렌글리콜, 비스하이드록시에톡시벤젠 등의 방향족 글리콜, N-메틸디에탄올아민 등의 N-알킬디알칸올아민 등) 을 중축합시켜 얻어진 것, 예를 들어 폴리에틸렌아디페이트, 폴리부틸렌아디페이트, 폴리헥사메틸렌아디페이트, 폴리에틸렌/프로필렌아디페이트 등, 또는 상기 디올류 또는 탄소수 1 ∼ 25 의 1 가 알코올을 개시제로서 사용하여 얻어지는 폴리락톤디올 또는 폴리락톤모노올, 예를 들어 폴리카프로락톤글리콜, 폴리메틸발레롤락톤 및 이들의 2 종 이상의 혼합물을 들 수 있다. 폴리에스테르글리콜로서 가장 바람직한 것은 폴리카프로락톤글리콜 또는 탄소수 1 ∼ 25 의 알코올을 개시제로 한 폴리카프로락톤이다.As the polyester glycol, dicarboxylic acids (succinic acid, glutaric acid, adipic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, phthalic acid, etc.) or their anhydrides and glycols (ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, Propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 2-methyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, 1,5-pentanediol, 1, 6-hexanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2,5-dimethyl-2, Aliphatic glycols, such as 5-hexanediol, 1,8-octamethylene glycol, 2-methyl-1,8-octamethylene glycol, and 1,9-nonanediol, alicyclic glycols, such as bishydroxymethylcyclohexane, and xylylene Aromatic glycerides such as glycol and bishydroxyethoxybenzene , N-alkyldialkanolamines such as N-methyldiethanolamine)), for example, polyethylene adipate, polybutylene adipate, polyhexamethylene adipate, polyethylene / propylene adipate, etc. Or polylactone diols or polylactone monools obtained by using the diols or monohydric alcohols having 1 to 25 carbons as an initiator, for example, polycaprolactone glycol, polymethyl valerolactone, and mixtures of two or more thereof You can. The most preferred polyester glycol is polycaprolactone glycol or polycaprolactone using an alcohol having 1 to 25 carbon atoms as an initiator.

폴리카보네이트글리콜로는, 폴리(1,6-헥실렌)카보네이트, 폴리(3-메틸-1,5-펜틸렌)카보네이트 등, 폴리올레핀글리콜로는 폴리부타디엔글리콜, 수소 첨가형 폴리부타디엔글리콜, 수소 첨가형 폴리이소프렌글리콜 등을 들 수 있다. As polycarbonate glycol, poly (1,6-hexylene) carbonate, poly (3-methyl-1,5-pentylene) carbonate, etc., polyolefin glycol is polybutadiene glycol, hydrogenated polybutadiene glycol, hydrogenated poly And isoprene glycol.

이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

동일 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 화합물의 수 평균 분자량은, 통상적으로 300 ∼ 10000, 바람직하게는 500 ∼ 6000, 더욱 바람직하게는 1000 ∼ 4000 이다.The number average molecular weight of the compound having one or two hydroxyl groups in the same molecule is usually 300 to 10000, preferably 500 to 6000, and more preferably 1000 to 4000.

본 발명에 사용되는 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물을 설명한다.A compound having active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule used in the present invention will be described.

활성 수소, 즉, 산소 원자, 질소 원자 또는 황 원자에 직접 결합하고 있는 수소 원자로는, 수산기, 아미노기, 티올기 등의 관능기 중의 수소 원자를 들 수 있으며, 그 중에서도 아미노기, 특히 1 급 아미노기의 수소 원자가 바람직하다.Active hydrogen, that is, a hydrogen atom directly attached to an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom includes a hydrogen atom in a functional group such as a hydroxyl group, an amino group, or a thiol group. Among them, the hydrogen value of an amino group, particularly a primary amino group desirable.

3 급 아미노기는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 갖는 아미노기, 또는 헤테로 고리 구조, 보다 구체적으로는 이미다졸 고리 또는 트리아졸 고리, 등을 들 수 있다.The tertiary amino group is not particularly limited, and examples thereof include an amino group having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a heterocyclic structure, more specifically an imidazole ring or a triazole ring, and the like.

이와 같은 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물을 예시한다면, N,N-디메틸-1,3-프로판디아민, N,N-디에틸-1,3-프로판디아민, N,N-디프로필-1,3-프로판디아민, N,N-디부틸-1,3-프로판디아민, N,N-디메틸에틸렌디아민, N,N-디에틸에틸렌디아민, N,N-디프로필에틸렌디아민, N,N-디부틸에틸렌디아민, N,N-디메틸-1,4-부탄디아민, N,N-디에틸-1,4-부탄디아민, N,N-디프로필-1,4-부탄디아민, N,N-디부틸-1,4-부탄디아민 등을 들 수 있다.If the compound having an active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule is exemplified, N, N-dimethyl-1,3-propanediamine, N, N-diethyl-1,3-propanediamine, N, N-di Propyl-1,3-propanediamine, N, N-dibutyl-1,3-propanediamine, N, N-dimethylethylenediamine, N, N-diethylethylenediamine, N, N-dipropylethylenediamine, N , N-dibutylethylenediamine, N, N-dimethyl-1,4-butanediamine, N, N-diethyl-1,4-butanediamine, N, N-dipropyl-1,4-butanediamine, N And N-dibutyl-1,4-butanediamine.

또, 3 급 아미노기가 함질소 헤테로 고리 구조인 경우의 그 함질소 헤테로 고리로는, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 트리아졸 고리, 테트라졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 인다졸 고리, 벤즈이미다졸 고리, 벤조트리아졸 고리, 벤조옥사졸 고리, 벤조티아졸 고리, 벤조티아디아졸 고리 등의 함질소 헤테로 5 원 고리, 피리딘 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 아크리딘 고리, 이소퀴놀린 고리 등의 함질소 헤테로 6 원 고리를 들 수 있다. 이들 함질소 헤테로 고리 중 바람직한 것은 이미다졸 고리 또는 트리아졸 고리이다.Moreover, when the tertiary amino group is a nitrogen-containing heterocyclic structure, the nitrogen-containing heterocyclic ring includes a pyrazole ring, an imidazole ring, a triazole ring, a tetrazole ring, an indole ring, a carbazole ring, an indazole ring, and a benz Nitrogen-containing hetero 5-membered rings such as imidazole rings, benzotriazole rings, benzoxazole rings, benzothiazole rings, benzothiadiazole rings, pyridine rings, pyridazine rings, pyrimidine rings, triazine rings, quinoline rings , A nitrogen-containing hetero 6-membered ring such as an acridine ring and an isoquinoline ring. Preferred of these nitrogen-containing hetero rings is an imidazole ring or a triazole ring.

이들 이미다졸 고리와 아미노기를 갖는 화합물을 구체적으로 예시한다면, 1-(3-아미노프로필)이미다졸, 히스티딘, 2-아미노이미다졸, 1-(2-아미노에틸)이미다졸 등을 들 수 있다. 또, 트리아졸 고리와 아미노기를 갖는 화합물을 구체적으로 예시한다면, 3-아미노-1,2,4-트리아졸, 5-(2-아미노-5-클로로페닐)-3-페닐-1H-1,2,4-트리아졸, 4-아미노-4H-1,2,4-트리아졸-3,5-디올, 3-아미노-5-페닐-1H-1,3,4-트리아졸, 5-아미노-1,4-디페닐-1,2,3-트리아졸, 3-아미노-1-벤질-1H-2,4-트리아졸 등을 들 수 있다. 그 중에서도, N,N-디메틸-1,3-프로판디아민, N,N-디에틸-1,3-프로판디아민, 1-(3-아미노프로필)이미다졸, 3-아미노-1,2,4-트리아졸이 바람직하다. Specific examples of these compounds having an imidazole ring and an amino group include 1- (3-aminopropyl) imidazole, histidine, 2-aminoimidazole, and 1- (2-aminoethyl) imidazole. Moreover, if a compound having a triazole ring and an amino group is specifically illustrated, 3-amino-1,2,4-triazole, 5- (2-amino-5-chlorophenyl) -3-phenyl-1H-1, 2,4-triazole, 4-amino-4H-1,2,4-triazole-3,5-diol, 3-amino-5-phenyl-1H-1,3,4-triazole, 5-amino And -1,4-diphenyl-1,2,3-triazole, 3-amino-1-benzyl-1H-2,4-triazole, and the like. Among them, N, N-dimethyl-1,3-propanediamine, N, N-diethyl-1,3-propanediamine, 1- (3-aminopropyl) imidazole, 3-amino-1,2,4 -Triazoles are preferred.

이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

우레탄계 고분자 분산제를 제조할 때의 원료의 바람직한 배합 비율은 폴리이소시아네이트 화합물 100 질량부에 대하여, 동일 분자 내에 수산기를 1 개 또는 2 개 갖는 수 평균 분자량 300 ∼ 10000 의 화합물이 10 ∼ 200 질량부, 바람직하게는 20 ∼ 190 질량부, 더욱 바람직하게는 30 ∼ 180 질량부, 동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물이 0.2 ∼ 25 질량부, 바람직하게는 0.3 ∼ 24 질량부이다.When the urethane-based polymer dispersant is prepared, the preferred mixing ratio of the raw materials is 10 to 200 parts by mass, preferably 100 to 100 parts by mass of the polyisocyanate compound, and a compound having a number average molecular weight of 300 to 10000 having one or two hydroxyl groups in the same molecule. Preferably, it is 20 to 190 parts by mass, more preferably 30 to 180 parts by mass, and the compound having active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule is 0.2 to 25 parts by mass, preferably 0.3 to 24 parts by mass.

우레탄계 고분자 분산제의 제조는, 공지된 폴리우레탄 수지 제조 방법에 따라서 실시할 수 있다. 제조할 때의 용매로는, 통상적으로, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 이소포론 등의 케톤류, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산셀로솔브 등의 에스테르류, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 헥산 등의 탄화수소류, 다이아세톤알코올, 이소프로판올, 제2부탄올, 제3부탄올 등 일부의 알코올류, 염화메틸렌, 클로로포름 등의 염화물, 테트라하이드로푸란, 디에틸에테르 등의 에테르류, 디메틸포름아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭사이드 등의 비프로톤성 극성 용매 등이 사용된다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.The production of the urethane-based polymer dispersant can be carried out according to a known polyurethane resin production method. As a solvent at the time of preparation, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, and isophorone, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, and cellosolve acetate , Hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, hexane, some alcohols such as diacetone alcohol, isopropanol, second butanol, and third butanol, chlorides such as methylene chloride and chloroform, tetrahydrofuran, diethyl ether, etc. Aprotic polar solvents such as ethers, dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, and dimethyl sulfoxide are used. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

상기 제조시에, 통상적으로, 우레탄화 반응 촉매가 사용된다. 이 촉매로는, 예를 들어, 디부틸틴디라우레이트, 디옥틸틴디라우레이트, 디부틸틴디옥토에이트, 스타나스옥토에이트 등의 주석계, 철아세틸아세토네이트, 염화제2철 등의 철계, 트리에틸아민, 트리에틸렌디아민 등의 3 급 아민계 등을 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용하여 사용해도 된다.In the above production, usually, a urethanization reaction catalyst is used. As this catalyst, for example, tin systems such as dibutyltin dilaurate, dioctyltin dilaurate, dibutyltin dioctoate, and stannas octoate, iron-based iron acetylacetonate, ferric chloride, and tri And tertiary amines such as ethylamine and triethylenediamine. These may be used alone or in combination of two or more.

동일 분자 내에 활성 수소와 3 급 아미노기를 갖는 화합물의 도입량은 반응 후의 아민가로 1 ∼ 100 ㎎KOH/g 의 범위로 제어하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 5 ∼ 95 ㎎KOH/g 의 범위이다. 아민가는, 염기성 아미노기를 산에 의해 중화 적정하고, 산가에 대응시켜 KOH 의 ㎎ 수로 나타낸 값이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 분산 능력이 향상되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 양호해지는 경향이 있다.It is preferable to control the introduction amount of a compound having an active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule in the range of 1 to 100 mgKOH / g by the amine value after reaction. More preferably, it is in the range of 5 to 95 mgKOH / g. The amine value is a value represented by the number of mg of KOH by neutralizing titration of a basic amino group with an acid and corresponding to the acid value. The dispersibility tends to be improved by setting it to the lower limit or higher, and the developability tends to be improved by setting the lower limit or lower.

또한, 이상의 반응으로 고분자 분산제에 이소시아네이트기가 잔존하는 경우에는 또한, 알코올이나 아미노 화합물로 이소시아네이트기를 부수면 생성물의 시간 경과적 안정성이 높아지므로 바람직하다.In addition, when the isocyanate group remains in the polymer dispersant by the above reaction, it is preferable because the breakdown of the isocyanate group with an alcohol or amino compound increases the stability of the product over time.

우레탄계 고분자 분산제의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 통상적으로 1000 ∼ 200000, 바람직하게는 2000 ∼ 100000, 보다 바람직하게는 3000 ∼ 50000 의 범위이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 분산성 및 분산 안정성이 양호해지는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 용해성이 향상되고 분산성이 양호해지고, 반응의 제어도 용이해지는 경향이 있다.The weight average molecular weight (Mw) of the urethane-based polymer dispersant is usually in the range of 1000 to 200000, preferably 2000 to 100000, more preferably 3000 to 50000. The dispersibility and the dispersion stability tend to be improved by setting the amount to the lower limit or more, and the solubility is improved, the dispersibility is improved, and the control of the reaction tends to be easy to be made below the upper limit.

또 분산 안정성 향상의 점에서, (B) 분산제는, 후술하는 안료 유도체와 병용하는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable to use a dispersing agent (B) together with the pigment derivative mentioned later from a viewpoint of improving dispersion stability.

한편, 본 발명의 제 2 양태에 관련된 착색 감광성 수지 조성물에 있어서의 (B) 분산제는, (A) 착색제를 분산할 수 있는 것이면 조금도 한정되지 않는다. 구체적으로는, 상기 서술한 아크릴계 분산제여도 되고, 상기 서술한 그 밖의 고분자 분산제여도 된다. 이들 중에서도, 분산성의 관점에서는 아크릴계 분산제, 또는 우레탄계 고분자 분산제를 포함하는 것이 바람직하다.Meanwhile, the dispersant (B) in the colored photosensitive resin composition according to the second aspect of the present invention is not limited at all as long as it can disperse the colorant (A). Specifically, the acrylic dispersant described above may be used, or other polymer dispersants described above may be used. Among these, from the viewpoint of dispersibility, it is preferable to include an acrylic dispersant or a urethane polymer dispersant.

[1-3] (C) 바인더 수지 [1-3] (C) Binder resin

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 및 안료 분산액은, (C) 바인더 수지를 포함한다. (C) 바인더 수지를 포함함으로써, 균질인 막을 얻는 것이 가능해진다. (C) 바인더 수지는 균질인 막이 얻어지는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 알칼리 현상액에 대한 용해성의 관점에서, 알칼리 가용성 수지인 것이 바람직하다.The colored photosensitive resin composition and pigment dispersion of the present invention contain (C) a binder resin. (C) By including a binder resin, it becomes possible to obtain a homogeneous film. (C) The binder resin is not particularly limited as long as a homogeneous film is obtained, but is preferably an alkali-soluble resin from the viewpoint of solubility in an alkali developer.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 및 안료 분산액에 있어서, (C) 바인더 수지는, 아웃 가스 저감의 관점에서 (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지를 포함하는 것을 특징으로 한다. (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지는 강직한 골격을 가지고 있고, 내열성이 높아 잘 열 분해되지 않고, 또, 골격이 강직하기 때문에 경화시에 배열 구조를 취하여 가교성이 높은 막이 형성되기 때문에, 경화물 형성 후에 발생하는 아웃 가스량이 적어지는 것으로 생각된다.In the colored photosensitive resin composition and pigment dispersion of the present invention, the (C) binder resin is characterized by containing (C1) an epoxy (meth) acrylate resin from the viewpoint of reducing outgassing. (C1) Since the epoxy (meth) acrylate resin has a rigid skeleton, has high heat resistance, does not undergo thermal decomposition, and because the skeleton is rigid, an array structure is taken upon curing to form a high crosslinking film. It is considered that the amount of outgas generated after formation of the cured product decreases.

또 알칼리 현상액에 대한 용해성의 관점에서, (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지는, 카르복실기 또는 수산기를 포함하는 것인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that (C1) epoxy (meth) acrylate resin contains a carboxyl group or a hydroxyl group from a viewpoint of solubility to an alkali developer.

(C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지는, 에폭시 수지에 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 산 또는 에스테르 화합물을 부가하고, 또한 다염기산 또는 그 무수물을 반응시킨 수지인 것이 바람직하다. 예를 들어, 에폭시 수지의 에폭시기에, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 산의 카르복실기가 개환 부가됨으로써, 에폭시 화합물에 에스테르 결합 (-COO-) 을 통해서 에틸렌성 불포화 결합이 부가됨과 함께, 그 때 생긴 수산기에, 다염기산 무수물의 일방의 카르복실기가 부가된 것을 들 수 있다. 또 다염기산 무수물을 부가할 때에, 다가 알코올을 동시에 첨가하여 부가된 것도 들 수 있다.(C1) It is preferable that the epoxy (meth) acrylate resin is a resin obtained by adding an acid or ester compound having an ethylenically unsaturated bond to the epoxy resin, and reacting a polybasic acid or anhydride thereof. For example, by adding a ring-opening addition of an carboxyl group of an acid having an ethylenically unsaturated bond to the epoxy group of the epoxy resin, an ethylenically unsaturated bond is added to the epoxy compound through an ester bond (-COO-), and the hydroxyl group generated at that time , What added a carboxyl group of polybasic acid anhydride is mentioned. Moreover, when adding a polybasic acid anhydride, the thing added by adding polyhydric alcohol simultaneously is mentioned.

또 상기 반응으로 얻어진 수지의 카르복실기에, 또한 반응할 수 있는 관능기를 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는 수지도, 상기 (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지에 포함된다.Moreover, the resin obtained by reacting the carboxyl group of the resin obtained by the above reaction with a compound having a functional group capable of reacting is also included in the (C1) epoxy (meth) acrylate resin.

이와 같이, 에폭시(메트)아크릴레이트 수지는 화학 구조상, 실질적으로 에폭시기를 갖지 않고, 또한 「(메트)아크릴레이트」 에 한정되는 것은 아니지만, 에폭시 화합물 (에폭시 수지) 이 원료이고, 또한, 「(메트)아크릴레이트」 가 대표예이므로 관용에 따라 이와 같이 명명되어 있다.As described above, the epoxy (meth) acrylate resin has substantially no epoxy group on the chemical structure, and is not limited to "(meth) acrylate", but an epoxy compound (epoxy resin) is a raw material, and also, "(meth ) Acrylate is a representative example, and is thus named according to convention.

여기서, 에폭시 수지란, 열 경화에 의해 수지를 형성하기 이전의 원료 화합물도 포함시켜 말하는 것으로 하고, 그 에폭시 수지로는, 공지된 에폭시 수지 중에서 적절히 선택하여 사용할 수 있다. Here, an epoxy resin is said to include the raw material compound before forming a resin by thermal curing, and the epoxy resin can be appropriately selected from known epoxy resins and used.

또, 에폭시 수지는, 페놀성 화합물과 에피할로히드린을 반응시켜 얻어지는 화합물을 사용할 수 있다. 페놀성 화합물로는, 2 가 혹은 3 가 이상의 페놀성 수산기를 갖는 화합물이 바람직하고, 단량체여도 되고 중합체여도 된다.Moreover, as the epoxy resin, a compound obtained by reacting a phenolic compound with epihalohydrin can be used. As the phenolic compound, a compound having a divalent or trivalent or higher phenolic hydroxyl group is preferable, and may be a monomer or a polymer.

구체적으로는, 예를 들어, 비스페놀 A 에폭시 수지, 비스페놀 F 에폭시 수지, 비스페놀 S 에폭시 수지, 페놀 노볼락 에폭시 수지, 크레졸 노볼락 에폭시 수지, 비페닐 노볼락 에폭시 수지, 트리스페놀에폭시 수지, 페놀과 디시클로펜탄의 중합 에폭시 수지, 디하이드로옥실플루오렌형 에폭시 수지, 디하이드로옥실알킬렌옥실플루오렌형 에폭시 수지, 9,9-비스(4'-하이드록시페닐)플루오렌의 디글리시딜에테르화물, 1,1-비스(4'-하이드록시페닐)아다만탄의 디글리시딜에테르화물, 등을 들 수 있으며, 이와 같이 주사슬에 방향족 고리를 갖는 것을 적합하게 사용할 수 있다.Specifically, for example, bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, bisphenol S epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, cresol novolac epoxy resin, biphenyl novolac epoxy resin, trisphenol epoxy resin, phenol and dish Polymeric epoxy resin of clopentane, dihydrooxylfluorene type epoxy resin, dihydrooxylalkyleneoxylfluorene type epoxy resin, diglycidyl etherified product of 9,9-bis (4'-hydroxyphenyl) fluorene , Diglycidyl etherified products of 1,1-bis (4'-hydroxyphenyl) adamantane, and the like, and those having an aromatic ring in the main chain can be suitably used.

그 중에서도, 높은 경화막 강도의 관점에서, 비스페놀 A 에폭시 수지, 페놀 노볼락 에폭시 수지, 크레졸 노볼락 에폭시 수지, 페놀과 디시클로펜타디엔의 중합체의 에폭시화물, 9,9-비스(4'-하이드록시페닐)플루오렌의 에폭시화물 (디글리시딜에테르화물), 아다만틸기를 갖는 에폭시 수지 등이 바람직하고, 페놀과 디시클로펜타디엔의 중합체의 에폭시화물, 9,9-비스(4'-하이드록시페닐)플루오렌의 에폭시화물, 아다만틸기를 갖는 에폭시 수지가 더욱 바람직하다.Among them, from the viewpoint of high cured film strength, bisphenol A epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, cresol novolac epoxy resin, epoxide of polymers of phenol and dicyclopentadiene, 9,9-bis (4'-hydride Epoxyides of oxyphenyl) fluorene (diglycidyl etherates), epoxy resins having an adamantyl group, and the like are preferred, and epoxides of polymers of phenol and dicyclopentadiene, 9,9-bis (4'- More preferred is an epoxy resin of hydroxyphenyl) fluorene, an epoxy resin having an adamantyl group.

에틸렌성 불포화 결합을 갖는 산 중에서도 에틸렌성 불포화 모노카르복실산이 바람직하다. 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 산으로는, 예를 들어, (메트)아크릴산, 크로톤산, 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 시트라콘산, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트 무수 숙신산 부가물, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트테트라하이드로 무수 프탈산 부가물, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트 무수 숙신산 부가물, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트 무수 프탈산 부가물, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트테트라하이드로 무수 프탈산 부가물, (메트)아크릴산과 ε-카프로락톤의 반응 생성물 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 감도의 관점에서, (메트)아크릴산이 바람직하다.Among the acids having ethylenically unsaturated bonds, ethylenically unsaturated monocarboxylic acids are preferred. As an acid having an ethylenically unsaturated bond, for example, (meth) acrylic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, pentaerythritol tri (meth) acrylate succinic anhydride adduct, pentaerythrate Litol tri (meth) acrylate tetrahydro phthalic anhydride adduct, dipentaerythritol penta (meth) acrylate succinic anhydride adduct, dipentaerythritol penta (meth) acrylate phthalic anhydride adduct, dipentaerythritol penta ( And meth) acrylate tetrahydro phthalic anhydride adducts, reaction products of (meth) acrylic acid and ε-caprolactone, and the like. Especially, from a viewpoint of sensitivity, (meth) acrylic acid is preferable.

다염기산 (무수물) 으로는, 예를 들어, 숙신산, 말레산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 3-메틸테트라하이드로프탈산, 4-메틸테트라하이드로프탈산, 3-에틸테트라하이드로프탈산, 4-에틸테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 3-메틸헥사하이드로프탈산, 4-메틸헥사하이드로프탈산, 3-에틸헥사하이드로프탈산, 4-에틸헥사하이드로프탈산, 트리멜리트산, 피로멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 비페닐테트라카르복실산, 및 그들의 무수물 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 아웃 가스 저감의 관점에서, 숙신산 무수물, 말레산 무수물, 테트라하이드로프탈산 무수물, 또는 헥사하이드로프탈산 무수물이 바람직하고, 숙신산 무수물 또는 테트라하이드로프탈산 무수물이 보다 바람직하고, 테트라하이드로프탈산 무수물이 더욱 바람직하다.As a polybasic acid (anhydride), for example, succinic acid, maleic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, 3-methyltetrahydrophthalic acid, 4-methyltetrahydrophthalic acid, 3-ethyltetrahydrophthalic acid, 4-ethyltetra Hydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, 3-methylhexahydrophthalic acid, 4-methylhexahydrophthalic acid, 3-ethylhexahydrophthalic acid, 4-ethylhexahydrophthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, And biphenyltetracarboxylic acids and anhydrides thereof. Among them, from the viewpoint of reducing outgas, succinic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, or hexahydrophthalic anhydride is preferred, succinic anhydride or tetrahydrophthalic anhydride is more preferred, and tetrahydrophthalic anhydride is more preferred. Do.

다가 알코올을 사용함으로써, (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 분자량을 증대시키고, 분자 중에 분기를 도입할 수 있고, 분자량과 점도의 밸런스를 잡을 수 있는 경향이 있다. 또, 분자 중으로의 산기의 도입률을 늘릴 수 있고, 감도나 밀착성 등의 균형을 잡기 쉬운 경향이 있다.By using a polyhydric alcohol, the molecular weight of the (C1) epoxy (meth) acrylate resin is increased, branching can be introduced into the molecule, and the molecular weight and viscosity tend to be balanced. Moreover, the introduction rate of an acidic radical into a molecule | numerator can be increased, and there exists a tendency to balance balance, such as sensitivity and adhesiveness.

다가 알코올로는, 예를 들어 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 트리메틸올에탄, 1,2,3-프로판트리올 중에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 다가 알코올인 것이 바람직하다.Examples of the polyhydric alcohol include one or more polyhydric alcohols selected from trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, trimethylolethane, and 1,2,3-propanetriol. It is preferred.

(C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 산가는 특별히 한정되지 않지만, 10 ㎎KOH/g 이상이 바람직하고, 20 ㎎KOH/g 이상이 보다 바람직하고, 40 ㎎KOH/g 이상이 더욱 바람직하고, 60 ㎎KOH/g 이상이 보다 더 바람직하고, 80 ㎎KOH/g 이상이 특히 바람직하고, 또, 200 ㎎KOH/g 이하가 바람직하고, 180 ㎎KOH/g 이하가 보다 바람직하고, 150 ㎎KOH/g 이하가 더욱 바람직하고, 130 ㎎KOH/g 이하가 보다 더 바람직하고, 120 ㎎KOH/g 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 미노광부의 현상성이 양화 (良化) 하는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막 감소 등을 억제할 수 있는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 10 ∼ 200 ㎎KOH/g 이 바람직하고, 20 ∼ 180 ㎎KOH/g 이 보다 바람직하고, 40 ∼ 150 ㎎KOH/g 이 더욱 바람직하고, 60 ∼ 130 ㎎KOH/g 이 보다 더 바람직하고, 80 ∼ 120 ㎎KOH/g 을 특히 바람직하게 들 수 있다.(C1) Although the acid value of the epoxy (meth) acrylate resin is not particularly limited, 10 mgKOH / g or more is preferable, 20 mgKOH / g or more is more preferable, and 40 mgKOH / g or more is more preferable, 60 mgKOH / g or more is more preferable, 80 mgKOH / g or more is particularly preferable, and 200 mgKOH / g or less is preferable, 180 mgKOH / g or less is more preferable, 150 mgKOH / g or less g or less is more preferable, 130 mgKOH / g or less is more preferable, and 120 mgKOH / g or less is particularly preferable. When it is more than the said lower limit, there exists a tendency for the developability of an unexposed part to be good, and when it is below the said upper limit, there exists a tendency which can suppress film reduction etc. As the combination of the upper limit and the lower limit, 10 to 200 mgKOH / g is preferable, 20 to 180 mgKOH / g is more preferable, 40 to 150 mgKOH / g is more preferable, and 60 to 130 mgKOH / g It is more preferable than this, and 80-120 mgKOH / g is especially preferable.

(C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1000 이상, 바람직하게는 2000 이상, 보다 바람직하게는 3000 이상, 더욱 바람직하게는 4000 이상, 특히 바람직하게는 5000 이상, 또, 통상적으로 30000 이하, 바람직하게는 20000 이하, 보다 바람직하게는 15000 이하, 더욱 바람직하게는 10000 이하, 특히 바람직하게는 8000 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 막 감소 등을 억제할 수 있는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 미노광부의 현상성이 양화하는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 1000 ∼ 30000 이 바람직하고, 2000 ∼ 20000 이 보다 바람직하고, 3000 ∼ 15000 이 더욱 바람직하고, 4000 ∼ 10000 이 더욱 바람직하고, 5000 ∼ 8000 을 특히 바람직하게 들 수 있다.The weight average molecular weight (Mw) of the (C1) epoxy (meth) acrylate resin is not particularly limited, but is usually 1000 or more, preferably 2000 or more, more preferably 3000 or more, even more preferably 4000 or more, particularly preferably Preferably it is 5000 or more, and it is 30000 or less normally, Preferably it is 20000 or less, More preferably, it is 15000 or less, More preferably, it is 10000 or less, Especially preferably, it is 8000 or less. When it is more than the said lower limit, there exists a tendency which can suppress film reduction etc., and when it is below the said upper limit, there exists a tendency for the developability of an unexposed part to improve. As a combination of an upper limit and a lower limit, 1000-30000 is preferable, 2000-20000 is more preferable, 3000-15000 is more preferable, 4000-10000 is more preferable, and 5000-8000 is particularly preferable.

(C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지는, 종래 공지된 방법에 의해 합성할 수 있다. 구체적으로는, 상기 에폭시 수지를 유기 용제에 용해시키고, 촉매와 열 중합 금지제의 공존하, 상기 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 산 또는 에스테르 화합물을 첨가하여 부가 반응시키고, 또한 다염기산 또는 그 무수물을 첨가하여 반응을 계속하는 방법을 이용할 수 있다.(C1) Epoxy (meth) acrylate resin can be synthesized by a conventionally known method. Specifically, the epoxy resin is dissolved in an organic solvent, and an acid or ester compound having the ethylenically unsaturated bond is added to react with it in the presence of a catalyst and a thermal polymerization inhibitor, and polybasic acid or anhydride thereof is added thereto. A method of continuing the reaction can be used.

여기서, 반응에 사용하는 유기 용제로는, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 디에틸렌글리콜에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 유기 용제의 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있다. 또, 상기 촉매로는, 트리에틸아민, 벤질디메틸아민, 트리벤질아민 등의 제 3 급 아민류, 테트라메틸암모늄클로라이드, 메틸트리에틸암모늄클로라이드, 테트라에틸암모늄클로라이드, 테트라부틸암모늄클로라이드, 트리메틸벤질암모늄클로라이드 등의 제 4 급 암모늄염류, 트리페닐포스핀 등의 인 화합물, 트리페닐스티빈 등의 스티빈류 등의 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있다. 또한, 열 중합 금지제로는, 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 메틸하이드로퀴논 등의 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있다.Here, as an organic solvent used for reaction, 1 type (s) or 2 or more types of organic solvents, such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, diethylene glycol ethyl ether acetate, and propylene glycol monomethyl ether acetate, are mentioned. Further, as the catalyst, tertiary amines such as triethylamine, benzyldimethylamine, and tribenzylamine, tetramethylammonium chloride, methyltriethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, tetrabutylammonium chloride, trimethylbenzylammonium chloride And quaternary ammonium salts such as phosphorus compounds such as triphenylphosphine and stibines such as triphenylstibin, and the like. Moreover, 1 type (s) or 2 or more types, such as a hydroquinone, a hydroquinone monomethyl ether, and methyl hydroquinone, are mentioned as a thermal polymerization inhibitor.

또, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 산 또는 에스테르 화합물로는, 에폭시 수지의 에폭시기의 1 화학 당량에 대하여 통상적으로 0.7 ∼ 1.3 화학 당량, 바람직하게는 0.9 ∼ 1.1 화학 당량이 되는 양으로 할 수 있다. 또, 부가 반응시의 온도로는, 통상적으로 60 ∼ 150 ℃, 바람직하게는 80 ∼ 120 ℃ 의 온도로 할 수 있다. 또한, 다염기산 (무수물) 의 사용량으로는, 상기 부가 반응으로 생긴 수산기의 1 화학 당량에 대하여, 통상적으로 0.1 ∼ 1.2 화학 당량, 바람직하게는 0.2 ∼ 1.1 화학 당량이 되는 양으로 할 수 있다.Moreover, as an acid or ester compound which has an ethylenically unsaturated bond, it can be set as the amount which becomes 0.7-1.3 chemical equivalent normally, Preferably 0.9-1.1 chemical equivalent with respect to 1 chemical equivalent of the epoxy group of an epoxy resin. Moreover, as a temperature at the time of addition reaction, it can be set to the temperature of 60-150 degreeC normally, Preferably it is 80-120 degreeC. In addition, the amount of polybasic acid (anhydride) used may be 0.1 to 1.2 chemical equivalents, preferably 0.2 to 1.1 chemical equivalents, relative to 1 chemical equivalent of the hydroxyl group produced by the addition reaction.

(C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 화학 구조는 특별히 한정되지 않지만, 아웃 가스 저감의 관점에서, 하기 일반식 (II) 로 나타내는 반복 단위 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 및/또는 하기 일반식 (III) 으로 나타내는 부분 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지를 함유하는 것이 바람직하다. 에폭시(메트)아크릴레이트 수지는 고감도이기 때문에 패터닝 성능이 양호하고, 또 소수 골격을 갖고, 용해 속도가 마일드하기 때문에 기판 밀착성이 양호하다. 또한, 아크릴 수지와 달리 강직한 골격을 갖고, 또 경화시에 배열 구조를 취하여 조밀하게 가교되기 때문에, 아웃 가스의 발생을 억제할 수 있는 것으로 생각된다.The chemical structure of the (C1) epoxy (meth) acrylate resin is not particularly limited, but from the viewpoint of reducing outgas, an epoxy (meth) acrylate resin having a repeating unit structure represented by the following general formula (II) and / or It is preferable to contain the epoxy (meth) acrylate resin which has a partial structure represented by general formula (III). Since the epoxy (meth) acrylate resin is highly sensitive, it has good patterning performance, has a small number of skeletons, and has a mild dissolution rate, so that substrate adhesion is good. In addition, unlike an acrylic resin, it has a rigid skeleton, and it is thought that it is possible to suppress the generation of outgas because it takes an arrangement structure during curing and is densely crosslinked.

특히, 하기 일반식 (II) 로 나타내는 반복 단위 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 및/또는 하기 일반식 (III) 으로 나타내는 부분 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지는, 중앙부에 부피가 크고 강직한 골격을 가지기 때문에, (메트)아크릴로일기 등의 친수 부위가 외측으로 전개되는 형태가 되고, 현상성이 양호해지는 것으로 생각된다.In particular, the epoxy (meth) acrylate resin having a repeating unit structure represented by the following general formula (II) and / or the epoxy (meth) acrylate resin having a partial structure represented by the following general formula (III) has a volume in the central portion. Since it has a large and rigid skeleton, hydrophilic sites such as a (meth) acryloyl group are formed to develop outward, and developability is considered to be improved.

[화학식 19][Formula 19]

Figure pat00019
Figure pat00019

식 (II) 중, R11 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고;In Formula (II), R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group;

R12 는 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 탄화수소기를 나타내고;R 12 represents a divalent hydrocarbon group which may have a substituent;

식 (II) 중의 벤젠 고리는, 또한 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 되고;The benzene ring in formula (II) may also be substituted with an arbitrary substituent;

* 는 결합손을 나타낸다.* Represents a bonding hand.

[화학식 20][Formula 20]

Figure pat00020
Figure pat00020

식 (III) 중, R13 은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고;In formula (III), R 13 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group;

R14 는, 고리형 탄화수소기를 측사슬로서 갖는 2 가의 탄화수소기를 나타내고;R 14 represents a divalent hydrocarbon group having a cyclic hydrocarbon group as a side chain;

R15 및 R16 은 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 지방족기를 나타내고;R 15 and R 16 each independently represent a divalent aliphatic group which may have a substituent;

m 및 n 은 각각 독립적으로 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고;m and n each independently represent an integer of 0 to 2;

* 는 결합손을 나타낸다.* Represents a bonding hand.

[(C1-1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지] [(C1-1) Epoxy (meth) acrylate resin]

다음으로, 상기 일반식 (II) 로 나타내는 반복 단위 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (이하, 「(C1-1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지」 라고 약기한다.) 에 대해서 상세히 서술한다.Next, the epoxy (meth) acrylate resin (hereinafter abbreviated as "(C1-1) epoxy (meth) acrylate resin") having a repeating unit structure represented by the general formula (II) will be described in detail. .

[화학식 21][Formula 21]

Figure pat00021
Figure pat00021

식 (II) 중, R11 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고;In Formula (II), R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group;

R12 는 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 탄화수소기를 나타내고;R 12 represents a divalent hydrocarbon group which may have a substituent;

식 (II) 중의 벤젠 고리는, 또한 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 되고;The benzene ring in formula (II) may also be substituted with an arbitrary substituent;

* 는 결합손을 나타낸다.* Represents a bonding hand.

(R12) (R 12 )

상기 식 (II) 에 있어서, R12 는 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 탄화수소기를 나타낸다.In the formula (II), R 12 represents a divalent hydrocarbon group which may have a substituent.

2 가의 탄화수소기로는, 2 가의 지방족기, 2 가의 방향족 고리기, 1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기를 들 수 있다.Examples of the divalent hydrocarbon group include a divalent aliphatic group, a divalent aromatic ring group, and a group in which one or more divalent aliphatic groups and one or more divalent aromatic ring groups are connected.

2 가의 지방족기는, 직사슬형, 분기사슬형, 고리형의 것을 들 수 있다. 이들 중에서도 현상 용해성의 관점에서는 직사슬형의 것이 바람직하고, 한편 노광부에 대한 현상액의 침투 저감의 관점에서는 고리형의 것이 바람직하다. 그 탄소수는 통상적으로 1 이상이고, 3 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 표면 거칠어짐이 잘 생기지 않고, 기판에 대한 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막의 표면 평활성이나 감도의 악화를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 3 ∼ 15 가 보다 바람직하고, 6 ∼ 10 을 더욱 바람직하게 들 수 있다.Examples of the divalent aliphatic group include linear, branched, and cyclic ones. Among these, a straight-chain type is preferable from the viewpoint of developing solubility, while a cyclic type is preferred from the viewpoint of reducing the penetration of the developer into the exposed portion. The carbon number is usually 1 or more, 3 or more is preferable, 6 or more is more preferable, 20 or less is preferable, 15 or less is more preferable, and 10 or less is still more preferable. By setting it to more than the said lower limit, a firm film is easy to be obtained, surface roughness does not arise easily, and adhesiveness with respect to a board | substrate tends to become favorable, and when it is below the said upper limit, it is easy to suppress the surface smoothness and deterioration of sensitivity of a film, Resolution tends to be improved. As a combination of an upper limit and a lower limit, 1-20 are preferable, 3-15 are more preferable, and 6-10 are more preferable.

2 가의 직사슬형 지방족기의 구체예로는, 메틸렌기, 에틸렌기, n-프로필렌기, n-부틸렌기, n-헥실렌기, n-헵틸렌기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성의 관점에서, 메틸렌기가 바람직하다.As a specific example of a bivalent linear aliphatic group, a methylene group, ethylene group, n-propylene group, n-butylene group, n-hexylene group, n-heptylene group, etc. are mentioned. Among these, a methylene group is preferable from the viewpoint of the rigidity of the skeleton.

2 가의 분기사슬형 지방족기의 구체예로는, iso-프로필기, sec-부틸기, tert-부틸기, iso-아밀기 등을 들 수 있다.As a specific example of a bivalent branched-chain aliphatic group, iso-propyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, iso-amyl group, etc. are mentioned.

2 가의 고리형의 지방족기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 또, 통상적으로 12 이하, 10 이하가 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 되어, 기판 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막의 표면 평활성이나 감도의 악화를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 2 가의 고리형의 지방족기의 구체예로는, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 트리시클로데칸 고리, 아다만탄 고리, 시클로도데칸 고리, 디시클로펜타디엔 등의 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기를 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성의 관점에서, 트리시클로데칸 고리, 아다만탄 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기가 바람직하다.The number of rings of the bivalent cyclic aliphatic group is not particularly limited, but usually 1 or more and 2 or more are preferable, and usually 12 or less and 10 or less are preferable. By setting it as more than the said lower limit, it becomes a strong film, and there exists a tendency for the board | substrate adhesiveness to become favorable, and when it is below the said upper limit, it is easy to suppress the deterioration of surface smoothness and sensitivity of a film, and there exists a tendency for resolution to improve. As a specific example of a bivalent cyclic aliphatic group, a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclodecane ring, a cyclododecan ring, a norbornane ring, an isobornane ring, a tricyclodecane ring, an adamantane ring, And a group in which two hydrogen atoms are removed from a ring such as a cyclododecane ring or dicyclopentadiene. Among these, from the viewpoint of the rigidity of the skeleton, a group in which two hydrogen atoms are removed from a tricyclodecane ring or an adamantane ring is preferable.

2 가의 지방족기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기;수산기;니트로기;시아노기;카르복실기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 합성 용이성의 관점에서, 무치환인 것이 바람직하다.Examples of the substituent which the divalent aliphatic group may have include an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group; a hydroxyl group; a nitro group; a cyano group; and a carboxyl group. Among these, it is preferable that it is unsubstituted from a viewpoint of ease of synthesis.

또, 2 가의 방향족 고리기로는, 2 가의 방향족 탄화수소 고리기 및 2 가의 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 그 탄소수는 통상적으로 4 이상이고, 5 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 표면 거칠어짐이 잘 생기지 않고, 기판에 대한 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막의 표면 평활성이나 감도의 악화를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다.Moreover, a bivalent aromatic hydrocarbon ring group and a divalent aromatic heterocyclic group are mentioned as a bivalent aromatic ring group. The number of carbon atoms is usually 4 or more, preferably 5 or more, more preferably 6 or more, furthermore preferably 20 or less, more preferably 15 or less, and even more preferably 10 or less. By setting it to more than the said lower limit, a firm film is easy to be obtained, surface roughness does not arise easily, and adhesiveness with respect to a board | substrate tends to become favorable, and when it is below the said upper limit, it is easy to suppress the surface smoothness and deterioration of sensitivity of a film, Resolution tends to be improved.

2 가의 방향족 탄화수소 고리에 있어서의 방향족 탄화수소 고리로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 된다. 2 가의 방향족 탄화수소 고리기로는, 예를 들어, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 페릴렌 고리, 테트라센 고리, 피렌 고리, 벤즈피렌 고리, 크리센 고리, 트리페닐렌 고리, 아세나프텐 고리, 플루오란텐 고리, 플루오렌 고리 등의 기를 들 수 있다.The aromatic hydrocarbon ring in the divalent aromatic hydrocarbon ring may be either a monocyclic ring or a condensed ring. As the divalent aromatic hydrocarbon ring group, for example, a benzene ring, a naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring having two free valences , Triphenylene ring, acenaphthene ring, fluoranthene ring, fluorene ring and other groups.

또, 2 가의 방향족 복소 고리기에 있어서의 방향족 복소 고리로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 된다. 2 가의 방향족 복소 고리기로는, 예를 들어, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 푸란 고리, 벤조푸란 고리, 티오펜 고리, 벤조티오펜 고리, 피롤 고리, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 옥사디아졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 피롤로이미다졸 고리, 피롤로피라졸 고리, 피롤로피롤 고리, 티에노피롤 고리, 티에노티오펜 고리, 푸로피롤 고리, 푸로푸란 고리, 티에노푸란 고리, 벤조이소옥사졸 고리, 벤조이소티아졸 고리, 벤조이미다졸 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 신놀린 고리, 퀴녹살린 고리, 페난트리딘 고리, 벤조이미다졸 고리, 페리미딘 고리, 퀴나졸린 고리, 퀴나졸리논 고리, 아줄렌 고리 등의 기를 들 수 있다.Moreover, as an aromatic heterocyclic ring in a divalent aromatic heterocyclic group, a monocyclic ring or a condensed ring may be sufficient as it. Divalent aromatic heterocyclic groups include, for example, furan rings, benzofuran rings, thiophene rings, benzothiophen rings, pyrrole rings, pyrazole rings, imidazole rings, oxadiazole rings having two free valences. , Indole ring, carbazole ring, pyrroloimidazole ring, pyrrolopyrazole ring, pyrrolopyrrole ring, thienopyrrole ring, thienothiophene ring, furopyrrole ring, furofuran ring, thienofuran ring, benzoisoox Sazol ring, benzoisothiazole ring, benzoimidazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, synnoline ring, quinoxaline ring, phenanthridine And groups such as rings, benzoimidazole rings, perimidine rings, quinazolin rings, quinazolinone rings, and azulene rings.

이들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 벤젠 고리 또는 나프탈렌 고리가 바람직하고, 2 개의 유리 원자가를 갖는 벤젠 고리가 보다 바람직하다.Among these, from the viewpoint of the patterning properties, a benzene ring or a naphthalene ring having two free valences is preferable, and a benzene ring having two free valences is more preferable.

2 가의 방향족 고리기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기, 글리시딜에테르기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 현상 용해성, 내흡습성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.Examples of the substituent that the divalent aromatic ring group may have include a hydroxyl group, a methyl group, a methoxy group, an ethyl group, an ethoxy group, a propyl group, a propoxy group, and a glycidyl ether group. Among these, unsubstituted is preferable from the viewpoint of developing solubility and moisture resistance.

또, 1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기로는, 전술한 2 가의 지방족기를 1 이상과, 전술한 2 가의 방향족 고리기를 1 이상을 연결한 기를 들 수 있다.Moreover, as a group which connected the 1 or more bivalent aliphatic group and the 1 or more bivalent aromatic ring group, the group which connected 1 or more of the above-mentioned divalent aliphatic groups and 1 or more of the above-mentioned divalent aromatic ring groups is mentioned.

2 가의 지방족기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 통상적으로 10 이하, 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 표면 거칠어짐이 잘 생기지 않고, 기판에 대한 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막의 표면 평활성이나 감도의 악화를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다.The number of divalent aliphatic groups is not particularly limited, but usually 1 or more and 2 or more are preferable, and usually 10 or less and 5 or less are preferable, and 3 or less is more preferable. By setting it to more than the said lower limit, a firm film is easy to be obtained, surface roughness does not arise easily, and adhesiveness with respect to a board | substrate tends to become favorable, and when it is below the said upper limit, it is easy to suppress the surface smoothness and deterioration of sensitivity of a film, Resolution tends to be improved.

2 가의 방향족 고리기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 통상적으로 10 이하, 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 표면 거칠어짐이 잘 생기지 않고, 기판에 대한 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막의 표면 평활성이나 감도의 악화를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다.The number of divalent aromatic ring groups is not particularly limited, but usually 1 or more and 2 or more are preferable, and usually 10 or less and 5 or less are preferable, and 3 or less are more preferable. By setting it to more than the said lower limit, a firm film is easy to be obtained, surface roughness does not arise easily, and adhesiveness with respect to a board | substrate tends to become favorable, and when it is below the said upper limit, it is easy to suppress the surface smoothness and deterioration of sensitivity of a film, Resolution tends to be improved.

1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기의 구체예로는, 하기 식 (II-A) ∼ (II-F) 로 나타내는 기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성과 막의 소수화의 관점에서, 하기 식 (II-A) 로 나타내는 기가 바람직하다. 화학식 중의 * 는 결합손을 나타낸다.Examples of the group in which one or more divalent aliphatic groups and one or more divalent aromatic ring groups are connected include groups represented by the following formulas (II-A) to (II-F). Among these, the group represented by the following formula (II-A) is preferable from the viewpoint of rigidity of the skeleton and hydrophobicity of the film. * In the formula represents a bonding hand.

[화학식 22][Formula 22]

Figure pat00022
Figure pat00022

상기한 바와 같이, 식 (II) 중의 벤젠 고리는, 또한 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 그 치환기로는, 예를 들어, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기 등을 들 수 있다. 치환기의 수도 특별히 한정되지 않고, 1 개여도 되고, 2 개 이상이어도 된다. As described above, the benzene ring in formula (II) may be further substituted with an arbitrary substituent. Examples of the substituent include hydroxyl group, methyl group, methoxy group, ethyl group, ethoxy group, propyl group and propoxy group. The number of substituents is not particularly limited, and may be one or two or more.

이들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 무치환인 것이 바람직하다.Among these, it is preferable to be unsubstituted from a viewpoint of a patterning characteristic.

또, 상기 식 (II) 로 나타내는 반복 단위 구조는, 합성의 간이성의 관점에서, 하기 식 (II-1) 로 나타내는 반복 단위 구조인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the repeating unit structure represented by said formula (II) is a repeating unit structure represented by following formula (II-1) from a viewpoint of synthetic simplicity.

[화학식 23][Formula 23]

Figure pat00023
Figure pat00023

식 (II-1) 중, R11 및 R12 는, 상기 식 (II) 의 것과 동일한 의미이고;In Formula (II-1), R 11 and R 12 have the same meanings as in Formula (II) above;

RX 는 수소 원자 또는 다염기산 잔기를 나타내고;R X represents a hydrogen atom or a polybasic acid residue;

* 는 결합손을 나타내고;* Represents a bonding hand;

식 (II-1) 중의 벤젠 고리는, 또한 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다.The benzene ring in formula (II-1) may also be substituted with an arbitrary substituent.

다염기산 잔기란, 다염기산 또는 그 무수물로부터 OH 기를 1 개 제거한 1 가의 기를 의미한다. 다염기산으로는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 메틸헥사하이드로프탈산, 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산, 클로렌드산, 메틸테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산에서 선택된 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있다. The polybasic acid residue means a monovalent group in which one OH group is removed from a polybasic acid or anhydride thereof. Examples of polybasic acids include maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, methylhexahydrophthalic acid, endomethylenetetrahydrophthalic acid and chlorendic acid. And 1 or 2 or more types selected from acid, methyltetrahydrophthalic acid, and biphenyltetracarboxylic acid.

이들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 바람직하게는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 비페닐테트라카르복실산이고, 보다 바람직하게는, 테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산이고, 더욱 바람직하게는 테트라하이드로프탈산 무수물이다.Among these, from the viewpoint of the patterning properties, maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, biphenyltetracarboxylic acid, more preferably , Tetrahydrophthalic acid, biphenyltetracarboxylic acid, more preferably tetrahydrophthalic anhydride.

(C1-1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 1 분자 중에 포함되는, 상기 식 (II-1) 로 나타내는 반복 단위 구조는, 1 종이어도 되고 2 종 이상이어도 되며, 예를 들어, RX 가 수소 원자의 것과, RX 가 다염기산 잔기의 것이 혼재하고 있어도 된다.(C1-1) The repeating unit structure represented by the formula (II-1) contained in one molecule of the epoxy (meth) acrylate resin may be one type or two or more types, for example, R X is hydrogen Atoms and R X may be mixed with polybasic acid residues.

또, (C1-1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 1 분자 중에 포함되는, 상기 식 (II) 로 나타내는 반복 단위 구조의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 표면 거칠어짐이 잘 발생하지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막의 표면 평활성이나 감도의 악화를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다.Moreover, the number of repeating unit structures represented by the formula (II) contained in one molecule of the (C1-1) epoxy (meth) acrylate resin is not particularly limited, but is preferably 1 or more, more preferably 3 or more. Moreover, 20 or less is preferable and 15 or less is more preferable. By setting it to more than the said lower limit, a firm film tends to be obtained and surface roughness tends to hardly occur, and when it is below the said upper limit, it is easy to suppress the deterioration of surface smoothness and sensitivity of a film, and the tendency to improve resolution There is this.

(C1-1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 특별히 한정되지 않지만, 1000 이상이 바람직하고, 1500 이상이 보다 바람직하고, 2000 이상이 더욱 바람직하고, 3000 이상이 특히 바람직하고, 또, 30000 이하가 바람직하고, 20000 이하가 보다 바람직하고, 10000 이하가 더욱 바람직하고, 8000 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 착색 감광성 수지 조성물의 잔막률이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 해상성이 양호해지는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 1000 ∼ 30000 이 바람직하고, 1500 ∼ 20000 이 보다 바람직하고, 2000 ∼ 10000 이 더욱 바람직하고, 3000 ∼ 8000 을 특히 바람직하게 들 수 있다.(C1-1) The weight average molecular weight (Mw) of polystyrene conversion of the epoxy (meth) acrylate resin measured by gel permeation chromatography (GPC) is not particularly limited, but is preferably 1000 or more, more preferably 1500 or more Preferably, 2000 or more are more preferable, 3000 or more are particularly preferable, 30000 or less are preferable, 20000 or less are more preferable, 10000 or less are more preferable, and 8000 or less are particularly preferable. By setting it as more than the said lower limit, there exists a tendency for the residual film rate of a coloring photosensitive resin composition to become favorable, and when it is below the said upper limit, resolution tends to become favorable. As a combination of an upper limit and a lower limit, 1000-30000 is preferable, 1500-20000 is more preferable, 2000-10000 is more preferable, and 3000-8000 are particularly preferable.

(C1-1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의, 산가는 특별히 한정되지 않지만, 10 ㎎KOH/g 이상이 바람직하고, 20 ㎎KOH/g 이상이 보다 바람직하고, 40 ㎎KOH/g 이상이 더욱 바람직하고, 50 ㎎KOH/g 이상이 보다 더 바람직하고, 80 ㎎KOH/g 이상이 특히 바람직하고, 또, 200 ㎎KOH/g 이하가 바람직하고, 150 ㎎KOH/g 이하가 보다 바람직하고, 130 ㎎KOH/g 이하가 보다 더 바람직하고, 100 ㎎KOH/g 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상 용해성이 향상되고, 해상성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 착색 감광성 수지 조성물의 잔막률이 양호해지는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 10 ∼ 200 ㎎KOH/g 이 바람직하고, 20 ∼ 150 ㎎KOH/g 이 보다 바람직하고, 40 ∼ 130 ㎎KOH/g 이 더욱 바람직하고, 50 ∼ 100 ㎎KOH/g 이 보다 더 바람직하고, 80 ∼ 100 ㎎KOH/g 을 특히 바람직하게 들 수 있다.(C1-1) Although the acid value of the epoxy (meth) acrylate resin is not particularly limited, 10 mgKOH / g or more is preferable, 20 mgKOH / g or more is more preferable, and 40 mgKOH / g or more is more It is preferable, 50 mgKOH / g or more is more preferable, 80 mgKOH / g or more is particularly preferable, and 200 mgKOH / g or less is preferable, 150 mgKOH / g or less is more preferable, 130 MGKOH / g or less is more preferable, and 100 mgKOH / g or less is particularly preferable. By setting it as more than the said lower limit, there exists a tendency for the developing solubility to improve, and resolution tends to become favorable, and when it is below the said upper limit, the residual film rate of a coloring photosensitive resin composition tends to become favorable. As the combination of the upper limit and the lower limit, 10 to 200 mgKOH / g is preferable, 20 to 150 mgKOH / g is more preferable, 40 to 130 mgKOH / g is more preferable, and 50 to 100 mgKOH / g More preferably, 80-100 mgKOH / g is particularly preferable.

이하에 (C1-1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 구체예를 든다.The specific example of (C1-1) epoxy (meth) acrylate resin is given below.

[화학식 24][Formula 24]

Figure pat00024
Figure pat00024

[화학식 25][Formula 25]

Figure pat00025
Figure pat00025

[화학식 26][Formula 26]

Figure pat00026
Figure pat00026

[화학식 27][Formula 27]

Figure pat00027
Figure pat00027

[(C1-2) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지]  [(C1-2) Epoxy (meth) acrylate resin]

다음으로, 상기 일반식 (III) 으로 나타내는 부분 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 (이하, 「(C1-2) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지」 라고 약기한다.) 에 대해서 상세히 서술한다.Next, the epoxy (meth) acrylate resin (hereinafter abbreviated as "(C1-2) epoxy (meth) acrylate resin") having a partial structure represented by the general formula (III) will be described in detail.

[화학식 28][Formula 28]

Figure pat00028
Figure pat00028

식 (III) 중, R13 은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고;In formula (III), R 13 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group;

R14 는, 고리형 탄화수소기를 측사슬로서 갖는 2 가의 탄화수소기를 나타내고;R 14 represents a divalent hydrocarbon group having a cyclic hydrocarbon group as a side chain;

R15 및 R16 은 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 지방족기를 나타내고;R 15 and R 16 each independently represent a divalent aliphatic group which may have a substituent;

m 및 n 은 각각 독립적으로 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고;m and n each independently represent an integer of 0 to 2;

* 는 결합손을 나타낸다.* Represents a bonding hand.

(R14) (R 14 )

상기 일반식 (III) 에 있어서, R14 는, 고리형 탄화수소기를 측사슬로서 갖는 2 가의 탄화수소기를 나타낸다.In the general formula (III), R 14 represents a divalent hydrocarbon group having a cyclic hydrocarbon group as a side chain.

고리형 탄화수소기로는, 지방족 고리기 또는 방향족 고리기를 들 수 있다.As a cyclic hydrocarbon group, an aliphatic cyclic group or an aromatic cyclic group is mentioned.

지방족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 또, 통상적으로 10 이하, 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 표면 거칠어짐이 잘 발생하지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막의 표면 평활성이나 감도의 악화를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 3 을 더욱 바람직하게 들 수 있다.Although the number of rings which an aliphatic cyclic group has is not specifically limited, Usually, 1 or more and 2 or more are preferable, and normally 10 or less and 5 or less are preferable, and 3 or less are more preferable. By setting it to more than the said lower limit, a firm film tends to be obtained and surface roughness tends to hardly occur, and when it is below the said upper limit, it is easy to suppress the deterioration of surface smoothness and sensitivity of a film, and the tendency to improve resolution There is this. As a combination of an upper limit and a lower limit, 1-10 are preferable, 2-5 are more preferable, and 2-3 are more preferable.

또, 지방족 고리기의 탄소수는 통상적으로 4 이상이고, 6 이상이 바람직하고, 8 이상이 보다 바람직하고, 또, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 표면 거칠어짐이 잘 발생하지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막의 표면 평활성이나 감도의 악화를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 30 이 보다 바람직하고, 8 ∼ 20 이 더욱 바람직하고, 8 ∼ 15 를 특히 바람직하게 들 수 있다.Moreover, the number of carbon atoms of the aliphatic ring group is usually 4 or more, preferably 6 or more, more preferably 8 or more, and more preferably 40 or less, more preferably 30 or less, and even more preferably 20 or less, 15 The following are particularly preferred. By setting it to more than the said lower limit, a firm film tends to be obtained and surface roughness tends to hardly occur, and when it is below the said upper limit, it is easy to suppress the deterioration of surface smoothness and sensitivity of a film, and the tendency to improve resolution There is this. As a combination of an upper limit and a lower limit, 4-40 are preferable, 6-30 are more preferable, 8-20 are more preferable, and 8-15 are especially preferable.

지방족 고리기에 있어서의 지방족 고리의 구체예로는 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리, 시클로도데칸 고리 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 착색 감광성 수지 조성물의 잔막률과 해상성의 관점에서, 아다만탄 고리가 바람직하다.Specific examples of the aliphatic ring in the aliphatic ring group include cyclohexane ring, cycloheptane ring, cyclodecane ring, cyclododecan ring, norbornane ring, isobornane ring, adamantane ring, cyclododecan ring, and the like. Can be lifted. Among these, the adamantane ring is preferable from the viewpoint of the residual film rate and resolution of the colored photosensitive resin composition.

한편, 방향족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 또, 통상적으로 10 이하, 5 이하가 바람직하고, 4 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 표면 거칠어짐이 잘 발생하지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막의 표면 평활성이나 감도의 악화를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 3 ∼ 4 를 더욱 바람직하게 들 수 있다.On the other hand, the number of aromatic ring groups is not particularly limited, but is usually 1 or more, 2 or more is preferable, 3 or more is more preferable, and usually 10 or less, 5 or less is preferable, and 4 or less is more desirable. By setting it to more than the said lower limit, a firm film tends to be obtained and surface roughness tends to hardly occur, and when it is below the said upper limit, it is easy to suppress the deterioration of surface smoothness and sensitivity of a film, and the tendency to improve resolution There is this. As a combination of an upper limit and a lower limit, 1-10 are preferable, 2-5 are more preferable, and 3-4 are more preferable.

방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기, 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 또, 방향족 고리기의 탄소수는 통상적으로 4 이상이고, 6 이상이 바람직하고, 8 이상이 보다 바람직하고, 10 이상이 보다 더 바람직하고, 12 이상이 특히 바람직하고, 또, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 표면 거칠어짐이 잘 발생하지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 패터닝 특성이 양호해지는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 30 이 보다 바람직하고, 8 ∼ 20 이 더욱 바람직하고, 10 ∼ 15 가 보다 더 바람직하고, 12 ∼ 15 를 특히 바람직하게 들 수 있다.Examples of the aromatic ring group include an aromatic hydrocarbon ring group and an aromatic heterocyclic group. Moreover, carbon number of an aromatic ring group is 4 or more normally, 6 or more are preferable, 8 or more are more preferable, 10 or more are more preferable, 12 or more are especially preferable, and 40 or less are preferable, 30 or less is more preferable, 20 or less is more preferable, and 15 or less is particularly preferable. When it is more than the above-mentioned lower limit, a firm film tends to be easily obtained, and surface roughness tends to be less likely to occur, and when it is equal to or less than the above-mentioned upper limit, patterning characteristics tend to be improved. As a combination of an upper limit and a lower limit, 4-40 are preferable, 6-30 are more preferable, 8-20 are more preferable, 10-15 are more preferable, and 12-15 are especially preferable. .

방향족 고리기에 있어서의 방향족 고리의 구체예로는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 페릴렌 고리, 테트라센 고리, 피렌 고리, 벤즈피렌 고리, 크리센 고리, 트리페닐렌 고리, 아세나프텐 고리, 플루오란텐 고리, 플루오렌 고리 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 플루오렌 고리가 바람직하다.Specific examples of the aromatic ring in the aromatic ring group include benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring, triphenylene ring, And an acenaphthene ring, a fluoranthene ring, and a fluorene ring. Among these, a fluorene ring is preferred from the viewpoint of patterning properties.

또, 고리형 탄화수소기를 측사슬로서 갖는 2 가의 탄화수소기에 있어서의, 2 가의 탄화수소기는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 2 가의 지방족기, 2 가의 방향족 고리기, 1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기를 들 수 있다.Moreover, in the bivalent hydrocarbon group which has a cyclic hydrocarbon group as a side chain, a bivalent hydrocarbon group is not specifically limited, For example, a bivalent aliphatic group, a bivalent aromatic ring group, 1 or more divalent aliphatic groups, and 1 or more 2 The group which connected the valent aromatic ring group is mentioned.

2 가의 지방족기는, 직사슬형, 분기사슬형, 고리형의 것을 들 수 있다. 이들 중에서도 현상 용해성의 관점에서는 직사슬형의 것이 바람직하고, 한편 노광부에 대한 현상액의 침투 저감의 관점에서는 고리형의 것이 바람직하다. 그 탄소수는 통상적으로 1 이상이고, 3 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 또, 25 이하가 바람직하고, 20 이하가 보다 바람직하고, 15 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 표면 거칠어짐이 잘 생기지 않고, 기판에 대한 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막의 표면 평활성이나 감도의 악화를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다.Examples of the divalent aliphatic group include linear, branched, and cyclic ones. Among these, a straight-chain type is preferable from the viewpoint of developing solubility, while a cyclic type is preferred from the viewpoint of reducing the penetration of the developer into the exposed portion. The number of carbon atoms is usually 1 or more, preferably 3 or more, more preferably 6 or more, furthermore preferably 25 or less, more preferably 20 or less, and even more preferably 15 or less. By setting it to more than the said lower limit, a firm film is easy to be obtained, surface roughness does not arise easily, and adhesiveness with respect to a board | substrate tends to become favorable, and when it is below the said upper limit, it is easy to suppress the surface smoothness and deterioration of sensitivity of a film, Resolution tends to be improved.

2 가의 직사슬형 지방족기의 구체예로는, 메틸렌기, 에틸렌기, n-프로필렌기, n-부틸렌기, n-헥실렌기, n-헵틸렌기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성의 관점에서, 메틸렌기가 바람직하다.As a specific example of a bivalent linear aliphatic group, a methylene group, ethylene group, n-propylene group, n-butylene group, n-hexylene group, n-heptylene group, etc. are mentioned. Among these, a methylene group is preferable from the viewpoint of the rigidity of the skeleton.

2 가의 분기사슬형 지방족기의 구체예로는, 전술한 2 가의 직사슬형 지방족기에, 측사슬로서 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-부틸기, iso-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등을 갖는 구조를 들 수 있다.As a specific example of a bivalent branched-chain aliphatic group, the above-mentioned divalent straight-chain aliphatic group, as a side chain, methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, and structures having a sec-butyl group, tert-butyl group, and the like.

2 가의 고리형의 지방족기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 또, 통상적으로 10 이하, 5 이하, 더욱 바람직하게는 3 이하가 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 되어, 기판 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막의 표면 평활성이나 감도의 악화를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 2 가의 고리형의 지방족기의 구체예로는, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리, 시클로도데칸 고리 등의 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기를 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성의 관점에서, 아다만탄 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기가 바람직하다.The number of rings of the bivalent cyclic aliphatic group is not particularly limited, but usually 1 or more and 2 or more are preferable, and usually 10 or less, 5 or less, and more preferably 3 or less. By setting it as more than the said lower limit, it becomes a strong film, and there exists a tendency for the board | substrate adhesiveness to become favorable, and when it is below the said upper limit, it is easy to suppress the deterioration of surface smoothness and sensitivity of a film, and there exists a tendency for resolution to improve. As a specific example of a bivalent cyclic aliphatic group, cyclohexane ring, cycloheptane ring, cyclodecane ring, cyclododecan ring, norbornane ring, isobornane ring, adamantane ring, cyclododecan ring, etc. And a group in which two hydrogen atoms have been removed from the ring. Among these, from the viewpoint of the rigidity of the skeleton, a group in which two hydrogen atoms are removed from the adamantane ring is preferable.

2 가의 지방족기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기;수산기;니트로기;시아노기;카르복실기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 합성 용이성의 관점에서, 무치환인 것이 바람직하다.Examples of the substituent which the divalent aliphatic group may have include an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group; a hydroxyl group; a nitro group; a cyano group; and a carboxyl group. Among these, it is preferable that it is unsubstituted from a viewpoint of ease of synthesis.

또, 2 가의 방향족 고리기로는, 2 가의 방향족 탄화수소 고리기 및 2 가의 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 그 탄소수는 통상적으로 4 이상이고, 5 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 또, 30 이하가 바람직하고, 20 이하가 보다 바람직하고, 15 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 표면 거칠어짐이 잘 생기지 않고, 기판에 대한 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막의 표면 평활성이나 감도의 악화를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다.Moreover, a bivalent aromatic hydrocarbon ring group and a divalent aromatic heterocyclic group are mentioned as a bivalent aromatic ring group. The carbon number is usually 4 or more, 5 or more is preferable, 6 or more is more preferable, 30 or less is preferable, 20 or less is more preferable, and 15 or less is still more preferable. By setting it to more than the said lower limit, a firm film is easy to be obtained, surface roughness does not arise easily, and adhesiveness with respect to a board | substrate tends to become favorable, and when it is below the said upper limit, it is easy to suppress the surface smoothness and deterioration of sensitivity of a film, Resolution tends to be improved.

2 가의 방향족 탄화수소 고리에 있어서의 방향족 탄화수소 고리로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 된다. 2 가의 방향족 탄화수소 고리기로는, 예를 들어, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 페릴렌 고리, 테트라센 고리, 피렌 고리, 벤즈피렌 고리, 크리센 고리, 트리페닐렌 고리, 아세나프텐 고리, 플루오란텐 고리, 플루오렌 고리 등의 기를 들 수 있다.The aromatic hydrocarbon ring in the divalent aromatic hydrocarbon ring may be either a monocyclic ring or a condensed ring. As the divalent aromatic hydrocarbon ring group, for example, a benzene ring, a naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring having two free valences , Triphenylene ring, acenaphthene ring, fluoranthene ring, fluorene ring and other groups.

또, 2 가의 방향족 복소 고리기에 있어서의 방향족 복소 고리로는, 단고리여도 되고 축합 고리여도 된다. 2 가의 방향족 복소 고리기로는, 예를 들어, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 푸란 고리, 벤조푸란 고리, 티오펜 고리, 벤조티오펜 고리, 피롤 고리, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 옥사디아졸 고리, 인돌 고리, 카르바졸 고리, 피롤로이미다졸 고리, 피롤로피라졸 고리, 피롤로피롤 고리, 티에노피롤 고리, 티에노티오펜 고리, 푸로피롤 고리, 푸로푸란 고리, 티에노푸란 고리, 벤조이소옥사졸 고리, 벤조이소티아졸 고리, 벤조이미다졸 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 트리아진 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 신놀린 고리, 퀴녹살린 고리, 페난트리딘 고리, 벤조이미다졸 고리, 페리미딘 고리, 퀴나졸린 고리, 퀴나졸리논 고리, 아줄렌 고리 등의 기를 들 수 있다. 이들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 2 개의 유리 원자가를 갖는, 벤젠 고리 또는 나프탈렌 고리가 바람직하고, 2 개의 유리 원자가를 갖는 플루오렌 고리가 보다 바람직하다.Moreover, as an aromatic heterocyclic ring in a divalent aromatic heterocyclic group, a monocyclic ring or a condensed ring may be sufficient as it. Divalent aromatic heterocyclic groups include, for example, furan rings, benzofuran rings, thiophene rings, benzothiophen rings, pyrrole rings, pyrazole rings, imidazole rings, oxadiazole rings having two free valences. , Indole ring, carbazole ring, pyrroloimidazole ring, pyrrolopyrazole ring, pyrrolopyrrole ring, thienopyrrole ring, thienothiophene ring, furopyrrole ring, furofuran ring, thienofuran ring, benzoisoox Sazol ring, benzoisothiazole ring, benzoimidazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, synnoline ring, quinoxaline ring, phenanthridine And groups such as rings, benzoimidazole rings, perimidine rings, quinazolin rings, quinazolinone rings, and azulene rings. Among these, from the viewpoint of patterning properties, a benzene ring or a naphthalene ring having two free valences is preferable, and a fluorene ring having two free valences is more preferable.

2 가의 방향족 고리기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 현상 용해성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.As a substituent which the bivalent aromatic ring group may have, a hydroxyl group, a methyl group, a methoxy group, an ethyl group, an ethoxy group, a propyl group, a propoxy group, etc. are mentioned. Among them, unsubstituted is preferable from the viewpoint of developing solubility.

또, 1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기로는, 전술한 2 가의 지방족기를 1 이상과, 전술한 2 가의 방향족 고리기를 1 이상을 연결한 기를 들 수 있다.Moreover, as a group which connected the 1 or more bivalent aliphatic group and the 1 or more bivalent aromatic ring group, the group which connected 1 or more of the above-mentioned divalent aliphatic groups and 1 or more of the above-mentioned divalent aromatic ring groups is mentioned.

2 가의 지방족기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 통상적으로 10 이하, 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 표면 거칠어짐이 잘 생기지 않고, 기판에 대한 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막의 표면 평활성이나 감도의 악화를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다.The number of divalent aliphatic groups is not particularly limited, but usually 1 or more and 2 or more are preferable, and usually 10 or less and 5 or less are preferable, and 3 or less is more preferable. By setting it to more than the said lower limit, a firm film is easy to be obtained, surface roughness does not arise easily, and adhesiveness with respect to a board | substrate tends to become favorable, and when it is below the said upper limit, it is easy to suppress the surface smoothness and deterioration of sensitivity of a film, Resolution tends to be improved.

2 가의 방향족 고리기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 통상적으로 10 이하, 5 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 표면 거칠어짐이 잘 생기지 않고, 기판에 대한 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막의 표면 평활성이나 감도의 악화를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다.The number of divalent aromatic ring groups is not particularly limited, but usually 1 or more and 2 or more are preferable, and usually 10 or less and 5 or less are preferable, and 3 or less are more preferable. By setting it to more than the said lower limit, a firm film is easy to be obtained, surface roughness does not arise easily, and adhesiveness with respect to a board | substrate tends to become favorable, and when it is below the said upper limit, it is easy to suppress the surface smoothness and deterioration of sensitivity of a film, Resolution tends to be improved.

1 이상의 2 가의 지방족기와 1 이상의 2 가의 방향족 고리기를 연결한 기의 구체예로는, 상기 식 (II-A) ∼ (II-F) 로 나타내는 기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성과 막의 소수화의 관점에서, 상기 식 (II-C) 로 나타내는 기 또는 상기 식 (II-D) 로 나타내는 기가 바람직하다.As a specific example of the group which connected the 1 or more bivalent aliphatic group and the 1 or more divalent aromatic ring group, group represented by said Formula (II-A)-(II-F) etc. are mentioned. Among these, the group represented by the formula (II-C) or the group represented by the formula (II-D) is preferable from the viewpoint of the rigidity of the skeleton and the hydrophobicity of the film.

이들 2 가의 탄화수소기에 대하여, 측사슬인 고리형 탄화수소기의 결합 양태는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 지방족기나 방향족 고리기의 수소 원자 1 개를 그 측사슬로 치환한 양태나, 지방족기의 탄소 원자의 1 개를 포함시켜 측사슬인 고리형 탄화수소기를 구성한 양태를 들 수 있다.Although the bonding mode of the cyclic hydrocarbon group which is a side chain with respect to these bivalent hydrocarbon groups is not specifically limited, For example, the aspect which substituted one hydrogen atom of an aliphatic group or an aromatic ring group with the side chain, or an aliphatic group The aspect which comprised the cyclic hydrocarbon group which is a side chain by including one carbon atom is mentioned.

(R15, R16) (R 15 , R 16 )

상기 일반식 (III) 에 있어서, R15 및 R16 은 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 지방족기를 나타낸다.In the general formula (III), R 15 and R 16 each independently represent a divalent aliphatic group which may have a substituent.

2 가의 지방족기는, 직사슬형, 분기사슬형, 고리형의 것을 들 수 있다. 이들 중에서도 현상 용해성의 관점에서는 직사슬형의 것이 바람직하고, 한편 노광부에 대한 현상액의 침투 저감의 관점에서는 고리형의 것이 바람직하다. 그 탄소수는 통상적으로 1 이상이고, 3 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 표면 거칠어짐이 잘 생기지 않고, 기판에 대한 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막의 표면 평활성이나 감도의 악화를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다.Examples of the divalent aliphatic group include linear, branched, and cyclic ones. Among these, a straight-chain type is preferable from the viewpoint of developing solubility, while a cyclic type is preferred from the viewpoint of reducing the penetration of the developer into the exposed portion. The carbon number is usually 1 or more, 3 or more is preferable, 6 or more is more preferable, 20 or less is preferable, 15 or less is more preferable, and 10 or less is still more preferable. By setting it to more than the said lower limit, a firm film is easy to be obtained, surface roughness does not arise easily, and adhesiveness with respect to a board | substrate tends to become favorable, and when it is below the said upper limit, it is easy to suppress the surface smoothness and deterioration of sensitivity of a film, Resolution tends to be improved.

2 가의 직사슬형 지방족기의 구체예로는, 메틸렌기, 에틸렌기, n-프로필렌기, n-부틸렌기, n-헥실렌기, n-헵틸렌기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성의 관점에서, 메틸렌기가 바람직하다.As a specific example of a bivalent linear aliphatic group, a methylene group, ethylene group, n-propylene group, n-butylene group, n-hexylene group, n-heptylene group, etc. are mentioned. Among these, a methylene group is preferable from the viewpoint of the rigidity of the skeleton.

2 가의 분기사슬형 지방족기의 구체예로는, 전술한 2 가의 직사슬형 지방족기에, 측사슬로서 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-부틸기, iso-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등을 갖는 구조를 들 수 있다.As a specific example of a bivalent branched-chain aliphatic group, the above-mentioned divalent straight-chain aliphatic group, as a side chain, methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, and structures having a sec-butyl group, tert-butyl group, and the like.

2 가의 고리형의 지방족기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 또, 통상적으로 12 이하, 10 이하가 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 되어, 기판 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막의 표면 평활성이나 감도의 악화를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 2 가의 고리형의 지방족기의 구체예로는, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리, 시클로도데칸 고리, 디시클로펜타디엔 등의 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기를 들 수 있다. 이들 중에서도 골격의 강직성의 관점에서, 디시클로펜타디엔 고리, 아다만탄 고리로부터 수소 원자를 2 개 제거한 기가 바람직하다.The number of rings of the bivalent cyclic aliphatic group is not particularly limited, but usually 1 or more and 2 or more are preferable, and usually 12 or less and 10 or less are preferable. By setting it as more than the said lower limit, it becomes a strong film, and there exists a tendency for the board | substrate adhesiveness to become favorable, and when it is below the said upper limit, it is easy to suppress the deterioration of surface smoothness and sensitivity of a film, and there exists a tendency for resolution to improve. Specific examples of the divalent cyclic aliphatic group include cyclohexane ring, cycloheptane ring, cyclodecane ring, cyclododecan ring, norbornane ring, isobornane ring, adamantane ring, cyclododecan ring, And groups in which two hydrogen atoms have been removed from rings such as dicyclopentadiene. Among these, from the viewpoint of the rigidity of the skeleton, a group in which two hydrogen atoms are removed from a dicyclopentadiene ring or an adamantane ring is preferable.

2 가의 지방족기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기;수산기;니트로기;시아노기;카르복실기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 합성 용이성의 관점에서, 무치환인 것이 바람직하다.Examples of the substituent which the divalent aliphatic group may have include an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group; a hydroxyl group; a nitro group; a cyano group; and a carboxyl group. Among these, it is preferable that it is unsubstituted from a viewpoint of ease of synthesis.

(m, n) (m, n)

상기 일반식 (III) 에 있어서, m 및 n 은 각각 독립적으로 0 ∼ 2 의 정수를 나타낸다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 패터닝 적정이 양호해지고, 표면 거칠어짐이 잘 발생하지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 양호해지는 경향이 있다. 현상성의 관점에서 m 및 n 이 0 인 것이 바람직하고, 한편, 패터닝 적정, 표면 거칠어짐의 관점에서 m 및 n 이 각각 독립적으로 1 이상인 것이 바람직하다.In the general formula (III), m and n each independently represent an integer of 0 to 2. Patterning titration becomes favorable by making it more than the said lower limit, and surface roughness tends to become less likely to occur, and developability tends to become favorable by making it below this upper limit. It is preferable that m and n are 0 from a viewpoint of developability, while it is preferable that m and n are each independently 1 or more from a viewpoint of patterning titration and surface roughness.

또, 상기 일반식 (III) 으로 나타내는 부분 구조는, 기판에 대한 밀착성의 관점에서, 하기 일반식 (III-1) 로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the partial structure represented by said general formula (III) is a partial structure represented by the following general formula (III-1) from a viewpoint of adhesiveness to a board | substrate.

[화학식 29][Formula 29]

Figure pat00029
Figure pat00029

식 (III-1) 중, R13, R15, R16, m 및 n 은 상기 식 (III) 과 동일한 의미이고;In formula (III-1), R 13 , R 15 , R 16 , m and n have the same meanings as in formula (III) above;

Rα 는, 치환기를 갖고 있어도 되는 1 가의 고리형 탄화수소기를 나타내고;R α represents a monovalent cyclic hydrocarbon group which may have a substituent;

p 는 1 이상의 정수이고;p is an integer greater than or equal to 1;

식 (III-1) 중의 벤젠 고리는, 또한 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 되고;The benzene ring in formula (III-1) may also be substituted with an arbitrary substituent;

* 는 결합손을 나타낸다.* Represents a bonding hand.

(Rα) (R α )

상기 일반식 (III-1) 에 있어서, Rα 는, 1 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다.In the general formula (III-1), R α represents a monovalent cyclic hydrocarbon group.

고리형 탄화수소기로는, 지방족 고리기 또는 방향족 고리기를 들 수 있다.As a cyclic hydrocarbon group, an aliphatic cyclic group or an aromatic cyclic group is mentioned.

지방족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 또, 통상적으로 6 이하, 4 이하가 바람직하고, 3 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 표면 거칠어짐이 잘 발생하지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 패터닝 특성이 양호해지는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 6 이 바람직하고, 2 ∼ 4 가 보다 바람직하고, 2 ∼ 3 을 더욱 바람직하게 들 수 있다.Although the number of rings which an aliphatic cyclic group has is not specifically limited, Usually 1 or more and 2 or more are preferable, and 6 or less and 4 or less are preferable normally, and 3 or less are more preferable. When it is more than the above-mentioned lower limit, a firm film tends to be easily obtained, and surface roughness tends to be less likely to occur, and when it is equal to or less than the above-mentioned upper limit, patterning characteristics tend to be improved. As a combination of an upper limit and a lower limit, 1-6 are preferable, 2-4 are more preferable, and 2-3 are more preferable.

또, 지방족 고리기의 탄소수는 통상적으로 4 이상이고, 6 이상이 바람직하고, 8 이상이 보다 바람직하고, 또, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 표면 거칠어짐이 잘 발생하지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 패터닝 특성이 양호해지는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 30 이 보다 바람직하고, 8 ∼ 20 이 더욱 바람직하고, 8 ∼ 15 를 특히 바람직하게 들 수 있다.Moreover, the number of carbon atoms of the aliphatic ring group is usually 4 or more, preferably 6 or more, more preferably 8 or more, and more preferably 40 or less, more preferably 30 or less, and even more preferably 20 or less, 15 The following are particularly preferred. When it is more than the above-mentioned lower limit, a firm film tends to be easily obtained, and surface roughness tends to be less likely to occur, and when it is equal to or less than the above-mentioned upper limit, patterning characteristics tend to be improved. As a combination of an upper limit and a lower limit, 4-40 are preferable, 6-30 are more preferable, 8-20 are more preferable, and 8-15 are especially preferable.

지방족 고리기에 있어서의 지방족 고리의 구체예로는 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리, 시클로도데칸 고리 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 강고한 막 특성의 관점에서, 아다만탄 고리가 바람직하다.Specific examples of the aliphatic ring in the aliphatic ring group include cyclohexane ring, cycloheptane ring, cyclodecane ring, cyclododecan ring, norbornane ring, isobornane ring, adamantane ring, cyclododecan ring, and the like. Can be lifted. Among these, adamantane rings are preferred from the viewpoint of strong membrane properties.

한편, 방향족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 또, 통상적으로 10 이하, 5 이하가 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 표면 거칠어짐이 잘 발생하지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 패터닝 특성이 양호해지는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 3 ∼ 5 를 더욱 바람직하게 들 수 있다.On the other hand, the number of rings of the aromatic ring group is not particularly limited, but usually 1 or more, 2 or more are preferable, 3 or more are more preferable, and usually 10 or less and 5 or less are preferable. When it is more than the above-mentioned lower limit, a firm film tends to be easily obtained, and surface roughness tends to be less likely to occur, and when it is equal to or less than the above-mentioned upper limit, patterning characteristics tend to be improved. As a combination of an upper limit and a lower limit, 1-10 are preferable, 2-5 are more preferable, and 3-5 are more preferable.

방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기, 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 또, 방향족 고리기의 탄소수는 통상적으로 4 이상이고, 5 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 또, 30 이하가 바람직하고, 20 이하가 보다 바람직하고, 15 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 표면 거칠어짐이 잘 발생하지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 패터닝 특성이 양호해지는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 4 ∼ 30 이 바람직하고, 5 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 6 ∼ 15 를 더욱 바람직하게 들 수 있다.Examples of the aromatic ring group include an aromatic hydrocarbon ring group and an aromatic heterocyclic group. Moreover, carbon number of an aromatic ring group is 4 or more normally, 5 or more are preferable, 6 or more are more preferable, 30 or less are preferable, 20 or less are more preferable, and 15 or less are still more preferable. When it is more than the above-mentioned lower limit, a firm film tends to be easily obtained, and surface roughness tends to be less likely to occur, and when it is equal to or less than the above-mentioned upper limit, patterning characteristics tend to be improved. As a combination of an upper limit and a lower limit, 4-30 are preferable, 5-20 are more preferable, and 6-15 are more preferable.

방향족 고리기에 있어서의 방향족 고리의 구체예로는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 플루오렌 고리 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 현상 용해성의 관점에서, 플루오렌 고리가 바람직하다.A benzene ring, a naphthalene ring, anthracene ring, a phenanthrene ring, a fluorene ring etc. are mentioned as a specific example of an aromatic ring in an aromatic ring group. Among these, from the viewpoint of developing solubility, a fluorene ring is preferable.

고리형 탄화수소기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 하이드록실기, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 아밀기, iso-아밀기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기;메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기;수산기;니트로기;시아노기;카르복실기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 합성의 용이성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.As a substituent which the cyclic hydrocarbon group may have, hydroxyl group, methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, amyl group, iso-ah And an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms such as a push group; an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group; a hydroxyl group; a nitro group; a cyano group; and a carboxyl group. Among these, unsubstituted is preferable from the viewpoint of the ease of synthesis.

p 는 1 이상의 정수를 나타내지만, 2 이상이 바람직하고, 또, 3 이하가 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 막 경화도와 잔막률이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 양호해지는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 3 이 바람직하고, 2 ∼ 3 을 보다 바람직하게 들 수 있다.p represents an integer of 1 or more, but 2 or more is preferable, and 3 or less is preferable. When it is more than the said lower limit, there exists a tendency for a film hardening degree and a residual film rate to become favorable, and when it is below the said upper limit, developability tends to become favorable. As a combination of an upper limit and a lower limit, 1-3 are preferable, and 2-3 are more preferable.

이들 중에서도, 강고한 막 경화도의 관점에서, Rα 가 1 가의 지방족 고리기인 것이 바람직하고, 아다만틸기인 것이 보다 바람직하다.Among these, it is preferable that R α is a monovalent aliphatic cyclic group, and more preferably an adamantyl group from the viewpoint of strong film cure.

상기한 바와 같이, 식 (III-1) 중의 벤젠 고리는, 또한 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 그 치환기로는, 예를 들어, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기 등을 들 수 있다. 치환기의 수도 특별히 한정되지 않고, 1 개여도 되고, 2 개 이상이어도 된다.As described above, the benzene ring in formula (III-1) may be further substituted with an optional substituent. Examples of the substituent include hydroxyl group, methyl group, methoxy group, ethyl group, ethoxy group, propyl group and propoxy group. The number of substituents is not particularly limited, and may be one or two or more.

이들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 무치환인 것이 바람직하다.Among these, it is preferable to be unsubstituted from a viewpoint of a patterning characteristic.

이하에 상기 식 (III-1) 로 나타내는 부분 구조의 구체예를 든다.Below, the specific example of the partial structure represented by said Formula (III-1) is given.

[화학식 30][Formula 30]

Figure pat00030
Figure pat00030

[화학식 31][Formula 31]

Figure pat00031
Figure pat00031

[화학식 32][Formula 32]

Figure pat00032
Figure pat00032

[화학식 33][Formula 33]

Figure pat00033
Figure pat00033

[화학식 34][Formula 34]

Figure pat00034
Figure pat00034

또, 상기 일반식 (III) 으로 나타내는 부분 구조는, 골격의 강직성, 및 막 소수화의 관점에서, 하기 일반식 (III-2) 로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the partial structure represented by said general formula (III) is a partial structure represented by the following general formula (III-2) from a viewpoint of rigidity of a skeleton and membrane hydrophobicity.

[화학식 35][Formula 35]

Figure pat00035
Figure pat00035

식 (III-2) 중, R13, R15, R16, m 및 n 은 상기 식 (III) 과 동일한 의미이고;In formula (III-2), R 13 , R 15 , R 16 , m and n have the same meanings as in formula (III) above;

Rβ 는, 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 고리형 탄화수소기를 나타내고;R β represents a divalent cyclic hydrocarbon group which may have a substituent;

식 (III-2) 중의 벤젠 고리는, 또한 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 되고;The benzene ring in formula (III-2) may also be substituted with an arbitrary substituent;

* 는 결합손을 나타낸다.* Represents a bonding hand.

(Rβ) (R β )

상기 식 (III-2) 에 있어서, Rβ 는, 2 가의 고리형 탄화수소기를 나타낸다.In the formula (III-2), R β represents a divalent cyclic hydrocarbon group.

고리형 탄화수소기로는, 지방족 고리기 또는 방향족 고리기를 들 수 있다.As a cyclic hydrocarbon group, an aliphatic cyclic group or an aromatic cyclic group is mentioned.

지방족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 또, 통상적으로 10 이하, 5 이하가 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 표면 거칠어짐이 잘 발생하지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막의 표면 평활성이나 감도의 악화를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 5 를 보다 바람직하게 들 수 있다.Although the number of rings which an aliphatic ring group has is not specifically limited, Usually, 1 or more and 2 or more are preferable, and normally 10 or less and 5 or less are preferable. By setting it to more than the said lower limit, a firm film tends to be obtained and surface roughness tends to hardly occur, and when it is below the said upper limit, it is easy to suppress the deterioration of surface smoothness and sensitivity of a film, and the tendency to improve resolution There is this. As a combination of an upper limit and a lower limit, 1-10 are preferable, and 2-5 are more preferable.

또, 지방족 고리기의 탄소수는 통상적으로 4 이상이고, 6 이상이 바람직하고, 8 이상이 보다 바람직하고, 또, 40 이하가 바람직하고, 35 이하가 보다 바람직하고, 30 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 현상시의 막 거칠어짐을 억제하는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막의 표면 평활성이나 감도의 악화를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 35 가 보다 바람직하고, 8 ∼ 30 을 더욱 바람직하게 들 수 있다.Moreover, carbon number of an aliphatic ring group is 4 or more normally, 6 or more are preferable, 8 or more are more preferable, 40 or less are preferable, 35 or less are more preferable, and 30 or less are still more preferable. When it is more than the said lower limit, there exists a tendency to suppress the film roughness at the time of image development, and when it is less than the said upper limit, it is easy to suppress the deterioration of surface smoothness and sensitivity of a film, and there exists a tendency for resolution to improve. As a combination of an upper limit and a lower limit, 4-40 are preferable, 6-35 are more preferable, and 8-30 are still more preferable.

지방족 고리기에 있어서의 지방족 고리의 구체예로는, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리, 시클로데칸 고리, 시클로도데칸 고리, 노르보르난 고리, 이소보르난 고리, 아다만탄 고리, 시클로도데칸 고리 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 보존 안정성의 관점에서, 아다만탄 고리가 바람직하다.Specific examples of the aliphatic ring in the aliphatic ring group include cyclohexane ring, cycloheptane ring, cyclodecane ring, cyclododecan ring, norbornane ring, isobornane ring, adamantane ring, cyclododecan ring, etc. Can be mentioned. Among these, an adamantane ring is preferred from the viewpoint of storage stability.

한편, 방향족 고리기가 갖는 고리의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 1 이상, 2 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 또, 통상적으로 10 이하, 5 이하가 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 표면 거칠어짐이 잘 발생하지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막의 표면 평활성이나 감도의 악화를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 5 가 보다 바람직하고, 3 ∼ 5 를 더욱 바람직하게 들 수 있다.On the other hand, the number of rings of the aromatic ring group is not particularly limited, but usually 1 or more, 2 or more are preferable, 3 or more are more preferable, and usually 10 or less and 5 or less are preferable. By setting it to more than the said lower limit, a firm film tends to be obtained and surface roughness tends to hardly occur, and when it is below the said upper limit, it is easy to suppress the deterioration of surface smoothness and sensitivity of a film, and the tendency to improve resolution There is this. As a combination of an upper limit and a lower limit, 1-10 are preferable, 2-5 are more preferable, and 3-5 are more preferable.

방향족 고리기로는, 방향족 탄화수소 고리기, 방향족 복소 고리기를 들 수 있다. 또, 방향족 고리기의 탄소수는 통상적으로 4 이상이고, 6 이상이 바람직하고, 8 이상이 보다 바람직하고, 10 이상이 더욱 바람직하고, 또, 40 이하가 바람직하고, 30 이하가 보다 바람직하고, 20 이하가 더욱 바람직하고, 15 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 표면 거칠어짐이 잘 발생하지 않게 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막의 표면 평활성이나 감도의 악화를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 4 ∼ 40 이 바람직하고, 6 ∼ 30 이 보다 바람직하고, 8 ∼ 20 이 더욱 바람직하고, 10 ∼ 15 를 특히 바람직하게 들 수 있다.Examples of the aromatic ring group include an aromatic hydrocarbon ring group and an aromatic heterocyclic group. Moreover, the carbon number of an aromatic ring group is 4 or more normally, 6 or more are preferable, 8 or more are more preferable, 10 or more are more preferable, 40 or less are preferable, 30 or less are more preferable, 20 The following are more preferable, and 15 or less are particularly preferable. By setting it above the said lower limit, a firm film tends to be obtained, and surface roughness tends to be less likely to occur, and when it is below the upper limit, it is easy to suppress deterioration of surface smoothness and sensitivity of the film, and tends to improve resolution There is this. As a combination of an upper limit and a lower limit, 4-40 are preferable, 6-30 are more preferable, 8-20 are more preferable, and 10-15 are especially preferable.

방향족 고리기에 있어서의 방향족 고리의 구체예로는, 벤젠 고리, 나프탈렌 고리, 안트라센 고리, 페난트렌 고리, 플루오렌 고리 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 현상성의 관점에서, 플루오렌 고리가 바람직하다.A benzene ring, a naphthalene ring, anthracene ring, a phenanthrene ring, a fluorene ring etc. are mentioned as a specific example of an aromatic ring in an aromatic ring group. Among these, from the viewpoint of developability, a fluorene ring is preferable.

고리형 탄화수소기가 갖고 있어도 되는 치환기로는, 하이드록실기, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 아밀기, iso-아밀기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기;메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기;수산기;니트로기;시아노기;카르복실기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 합성의 간이성의 관점에서, 무치환이 바람직하다.As a substituent which the cyclic hydrocarbon group may have, hydroxyl group, methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, amyl group, iso-ah And an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms such as a push group; an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms such as a methoxy group and an ethoxy group; a hydroxyl group; a nitro group; a cyano group; and a carboxyl group. Among these, unsubstituted is preferable from the viewpoint of the simplicity of synthesis.

이들 중에서도, 보존 안정성 및 전기 특성의 관점에서, Rβ 가 2 가의 지방족 고리기인 것이 바람직하고, 2 가의 아다만탄 고리기인 것이 보다 바람직하다.Among these, from the viewpoint of storage stability and electrical properties, it is preferable that R β is a divalent aliphatic ring group, and more preferably a divalent adamantane ring group.

한편, 도막의 저흡습성 및 패터닝 특성의 관점에서, Rβ 가 2 가의 방향족 고리기인 것이 바람직하고, 2 가의 플루오렌 고리기인 것이 보다 바람직하다.On the other hand, from the viewpoint of low hygroscopicity and patterning characteristics of the coating film, R β is preferably a divalent aromatic ring group, and more preferably a divalent fluorene ring group.

상기한 바와 같이, 식 (III-2) 중의 벤젠 고리는, 또한 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 그 치환기로는, 예를 들어, 하이드록실기, 메틸기, 메톡시기, 에틸기, 에톡시기, 프로필기, 프로폭시기 등을 들 수 있다. 치환기의 수도 특별히 한정되지 않고, 1 개여도 되고, 2 개 이상이어도 된다. 또, 이들 치환기를 개재하여, 식 (III-2) 중의 2 개의 벤젠 고리가 연결되어 있어도 된다. As described above, the benzene ring in formula (III-2) may also be substituted with an arbitrary substituent. Examples of the substituent include hydroxyl group, methyl group, methoxy group, ethyl group, ethoxy group, propyl group and propoxy group. The number of substituents is not particularly limited, and may be one or two or more. Moreover, two benzene rings in Formula (III-2) may be connected through these substituents.

이들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 무치환인 것이 바람직하다. 또, 감소 등을 잘 생기지 않게 하는 관점에서, 메틸기 치환인 것이 바람직하다.Among these, it is preferable to be unsubstituted from a viewpoint of a patterning characteristic. Moreover, it is preferable that it is a methyl group substitution from a viewpoint which does not produce reduction etc. easily.

이하에 상기 식 (III-2) 로 나타내는 부분 구조의 구체예를 든다.Below, the specific example of the partial structure represented by said Formula (III-2) is given.

[화학식 36][Formula 36]

Figure pat00036
Figure pat00036

[화학식 37][Formula 37]

Figure pat00037
Figure pat00037

[화학식 38][Formula 38]

Figure pat00038
Figure pat00038

[화학식 39][Formula 39]

Figure pat00039
Figure pat00039

한편, 상기 식 (III) 으로 나타내는 부분 구조는, 도막 잔막률과 패터닝 특성의 관점에서, 하기 식 (III-3) 으로 나타내는 부분 구조인 것이 바람직하다.On the other hand, the partial structure represented by the formula (III) is preferably a partial structure represented by the following formula (III-3) from the viewpoint of the coating film residual rate and patterning characteristics.

[화학식 40][Formula 40]

Figure pat00040
Figure pat00040

식 (III-3) 중, R13, R14, R15, R16, m 및 n 은 상기 식 (III) 과 동일한 의미이고;In formula (III-3), R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , m and n have the same meanings as in formula (III) above;

RZ 는 수소 원자 또는 다염기산 잔기를 나타낸다.R Z represents a hydrogen atom or a polybasic acid residue.

다염기산 잔기란, 다염기산 또는 그 무수물로부터 OH 기를 1 개 제거한 1 가의 기를 의미한다. 또한, 추가로 또 하나의 OH 기가 제거되고, 식 (III-3) 으로 나타내는 다른 분자에 있어서의 RZ 와 공용되고 있어도 되고, 요컨대, RZ 를 개재하여 복수의 식 (III-3) 이 연결되어 있어도 된다.The polybasic acid residue means a monovalent group in which one OH group is removed from a polybasic acid or anhydride thereof. Further, another OH group is further removed, and may be shared with R Z in other molecules represented by formula (III-3), i.e., plural formulas (III-3) are connected via R Z It may be.

다염기산으로는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 벤조페논테트라카르복실산, 메틸헥사하이드로프탈산, 엔도메틸렌테트라하이드로프탈산, 클로렌드산, 메틸테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산에서 선택된 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있다.Examples of polybasic acids include maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, methylhexahydrophthalic acid, endomethylenetetrahydrophthalic acid and chlorendic acid. And 1 or 2 or more types selected from acid, methyltetrahydrophthalic acid, and biphenyltetracarboxylic acid.

이들 중에서도 패터닝 특성의 관점에서, 바람직하게는, 말레산, 숙신산, 이타콘산, 프탈산, 테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 비페닐테트라카르복실산이고, 보다 바람직하게는, 테트라하이드로프탈산, 비페닐테트라카르복실산이다.Among these, from the viewpoint of the patterning properties, maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, biphenyltetracarboxylic acid, more preferably , Tetrahydrophthalic acid, biphenyltetracarboxylic acid.

(C1-2) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 1 분자 중에 포함되는, 상기 식 (III-3) 으로 나타내는 부분 구조는, 1 종이어도 되고 2 종 이상이어도 되고, 예를 들어, RZ 가 수소 원자의 것과, RZ 가 다염기산 잔기의 것이 혼재하고 있어도 된다.(C1-2) The partial structure represented by the said Formula (III-3) contained in 1 molecule of an epoxy (meth) acrylate resin may be 1 type, or 2 or more types, for example, R Z is a hydrogen atom And those of R Z having polybasic acid residues may be mixed.

또, (C1-2) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 1 분자 중에 포함되는, 상기 식 (III) 으로 나타내는 부분 구조의 수는 특별히 한정되지 않지만, 1 이상이 바람직하고, 3 이상이 보다 바람직하고, 또, 20 이하가 바람직하고, 15 이하가 보다 바람직하고, 10 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 표면 거칠어짐이 잘 생기지 않고, 전기 특성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막의 표면 평활성이나 감도의 악화를 억제하기 쉽고, 해상성이 향상되는 경향이 있다.Moreover, although the number of partial structures represented by said Formula (III) contained in one molecule of (C1-2) epoxy (meth) acrylate resin is not specifically limited, 1 or more are preferable and 3 or more are more preferable, Moreover, 20 or less is preferable, 15 or less is more preferable, and 10 or less is still more preferable. By setting it as more than the said lower limit, a firm film is easy to be obtained, surface roughness does not arise easily, and electrical properties tend to become favorable, and when it is below the said upper limit, it is easy to suppress the deterioration of the surface smoothness and sensitivity of a film, and resolution. This tends to improve.

(C1-2) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 특별히 한정되지 않지만, 1000 이상이 바람직하고, 2000 이상이 보다 바람직하고, 3000 이상이 더욱 바람직하고, 3500 이상이 특히 바람직하고, 또, 30000 이하가 바람직하고, 20000 이하가 보다 바람직하고, 10000 이하가 더욱 바람직하고, 7000 이하가 보다 더 바람직하고, 5000 이하가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 패터닝 특성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉽고, 표면 거칠어짐이 잘 발생하지 않게 되는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 1000 ∼ 30000 이 바람직하고, 2000 ∼ 20000 이 보다 바람직하고, 3000 ∼ 10000 이 더욱 바람직하고, 3500 ∼ 7000 이 보다 더 바람직하고, 3500 ∼ 5000 을 특히 바람직하게 들 수 있다.(C1-2) The weight average molecular weight (Mw) of polystyrene conversion of the epoxy (meth) acrylate resin measured by gel permeation chromatography (GPC) is not particularly limited, but is preferably 1000 or more, more preferably 2000 or more It is preferable, 3000 or more are more preferable, 3500 or more are particularly preferable, 30000 or less are preferable, 20000 or less are more preferable, 10000 or less are more preferable, 7000 or less are more preferable, 5000 or less Especially preferred. When it is more than the said lower limit, there exists a tendency for a patterning characteristic to become favorable, and when it is less than the said upper limit, a strong film tends to be obtained and surface roughness tends to become less likely to occur. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1000 to 30000, more preferably 2000 to 20000, more preferably 3000 to 10000, still more preferably 3500 to 7000, and particularly preferably 3500 to 5000. .

(C1-2) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 산가는 특별히 한정되지 않지만, 10 ㎎KOH/g 이상이 바람직하고, 20 ㎎KOH/g 이상이 보다 바람직하고, 40 ㎎KOH/g 이상이 더욱 바람직하고, 60 ㎎KOH/g 이상이 보다 더 바람직하고, 80 ㎎KOH/g 이상이 특히 바람직하고, 또, 200 ㎎KOH/g 이하가 바람직하고, 150 ㎎KOH/g 이하가 보다 바람직하고, 120 ㎎KOH/g 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉬워지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상 용해성이 향상되고, 해상성이 양호해지는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 10 ∼ 200 ㎎KOH/g 이 바람직하고, 20 ∼ 150 ㎎KOH/g 이 보다 바람직하고, 40 ∼ 150 ㎎KOH/g 이 더욱 바람직하고, 60 ∼ 120 ㎎KOH/g 이 보다 더 바람직하고, 80 ∼ 120 ㎎KOH/g 을 특히 바람직하게 들 수 있다.(C1-2) Although the acid value of the epoxy (meth) acrylate resin is not particularly limited, 10 mgKOH / g or more is preferable, 20 mgKOH / g or more is more preferable, and 40 mgKOH / g or more is more preferable. And more preferably 60 mgKOH / g or more, particularly preferably 80 mgKOH / g or more, further preferably 200 mgKOH / g or less, more preferably 150 mgKOH / g or less, and 120 mg or less KOH / g or less is more preferable. By setting it as more than the said lower limit, there exists a tendency for a firm film to be easy to be obtained, and when it is less than the said upper limit, the developing solubility improves and there exists a tendency for resolution to become favorable. As a combination of an upper limit and a lower limit, 10 to 200 mgKOH / g is preferable, 20 to 150 mgKOH / g is more preferable, 40 to 150 mgKOH / g is more preferable, and 60 to 120 mgKOH / g It is more preferable than this, and 80-120 mgKOH / g is especially preferable.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 및 안료 분산액에 포함되는 (C) 바인더 수지는, (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 이외의 바인더 수지 (이하, 「(C2) 그 밖의 바인더 수지」 라고 약기한다.) 를 포함하고 있어도 된다.The (C) binder resin contained in the coloring photosensitive resin composition of this invention and a pigment dispersion liquid is abbreviated as (C1) binder resin other than an epoxy (meth) acrylate resin (hereinafter "(C2) other binder resin"). ) May be included.

(C2) 그 밖의 바인더 수지로는, 예를 들어, 아크릴계 수지, 카르복실기 함유 에폭시 수지, 카르복실기 함유 우레탄 수지, 노볼락계 수지, 폴리비닐페놀계 수지 등을 들 수 있으며, 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 복수 종을 혼합하여 사용해도 된다.(C2) Other binder resins include, for example, acrylic resins, carboxyl group-containing epoxy resins, carboxyl group-containing urethane resins, novolak-based resins, and polyvinylphenol-based resins. You may use a mixture of multiple types.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 있어서, (C) 바인더 수지는, (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지를 75 질량% 이상 포함한다. (C) 바인더 수지 중에 (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지를 75 질량% 이상 포함시킴으로써, 경화물의 내열성도 향상되고, 경화물 형성 후에 발생하는 아웃 가스량을 줄일 수 있는 것으로 생각된다.In the coloring photosensitive resin composition of this invention, (C) binder resin contains (C1) epoxy (meth) acrylate resin 75 mass% or more. It is considered that by including (C1) an epoxy (meth) acrylate resin in the binder resin (C) 75% by mass or more, the heat resistance of the cured product is also improved, and the amount of outgas generated after formation of the cured product can be reduced.

(C) 바인더 수지에 대한 (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 함유 비율은 75 질량% 이상이면 특별히 한정되지 않고, 80 중량% 이상이 바람직하고, 85 중량% 이상이 보다 바람직하고, 90 중량% 이상이 더욱 바람직하고, 95 질량% 이상이 특히 바람직하다. 또, 통상적으로 100 질량% 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 아웃 가스가 억제되는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 75 ∼ 100 질량% 가 바람직하고, 80 ∼ 100 질량% 가 보다 바람직하고, 85 ∼ 100 질량% 가 더욱 바람직하고, 90 ∼ 100 질량% 가 보다 더 바람직하고, 95 ∼ 100 질량% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.The content ratio of (C1) epoxy (meth) acrylate resin to (C) binder resin is not particularly limited as long as it is 75% by mass or more, preferably 80% by weight or more, more preferably 85% by weight or more, and 90% by weight % Or more is more preferable, and 95 mass% or more is particularly preferable. Moreover, it is 100 mass% or less normally. When it is more than the said lower limit, outgas tends to be suppressed. As a combination of an upper limit and a lower limit, 75-100 mass% is preferable, 80-100 mass% is more preferable, 85-100 mass% is more preferable, 90-100 mass% is more preferable, and 95- 100 mass% is especially preferable.

[1-4] (D) 광 중합성 모노머[1-4] (D) Photopolymerizable monomer

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, (D) 광 중합성 모노머를 포함한다. (D) 광 중합성 모노머를 포함함으로써, 감도가 향상된다.The coloring photosensitive resin composition of this invention contains (D) photopolymerizable monomer. (D) By including a photopolymerizable monomer, sensitivity is improved.

본 발명에 사용되는 (D) 광 중합성 모노머는, 분자 내에 에틸렌성 불포화기를 적어도 1 개 갖는 화합물이다. 구체적으로는, 예를 들어 (메트)아크릴산, (메트)아크릴산알킬에스테르, 아크릴로니트릴, 스티렌, 및 에틸렌성 불포화 결합을 1 개 갖는 카르복실산과, 다가 또는 1 가 알코올의 에스테르, 등을 들 수 있다.The photopolymerizable monomer (D) used in the present invention is a compound having at least one ethylenically unsaturated group in a molecule. Specifically, examples thereof include (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid alkyl esters, acrylonitrile, styrene, and esters of carboxylic acids having one ethylenically unsaturated bond and polyhydric or monohydric alcohols, and the like. have.

본 발명에 있어서는, 특히, 1 분자 중에 에틸렌성 불포화기를 2 개 이상 갖는 다관능 에틸렌성 단량체를 사용하는 것이 바람직하다. 다관능 에틸렌성 단량체가 갖는 에틸렌성 불포화기의 수는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 2 개 이상이고, 바람직하게는 4 개 이상이고, 보다 바람직하게는 5 개 이상이고, 또, 바람직하게는 8 개 이하이며, 보다 바람직하게는 7 개 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 고감도가 되는 경향이 있고, 상기 상한값 이하로 함으로써 용매에 대한 용해성이 향상되는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 2 ∼ 8 개가 바람직하고, 4 ∼ 8 개가 보다 바람직하고, 5 ∼ 7 개를 더욱 바람직하게 들 수 있다.In the present invention, it is particularly preferable to use a polyfunctional ethylenic monomer having two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule. The number of ethylenically unsaturated groups of the polyfunctional ethylenic monomer is not particularly limited, but is usually 2 or more, preferably 4 or more, more preferably 5 or more, and preferably 8 It is the following, More preferably, it is seven or less. When it is more than the said lower limit, it tends to become high sensitivity, and when it is below the said upper limit, solubility in a solvent tends to improve. As a combination of an upper limit and a lower limit, 2-8 pieces are preferable, 4-8 pieces are more preferable, and 5-7 pieces are more preferable.

다관능 에틸렌성 단량체의 예로는, 예를 들어 지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르;방향족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르;지방족 폴리하이드록시 화합물, 방향족 폴리하이드록시 화합물 등의 다가 하이드록시 화합물과, 불포화 카르복실산 및 다염기성 카르복실산과의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 에스테르 등을 들 수 있다.Examples of polyfunctional ethylenic monomers include, for example, esters of aliphatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids; esters of aromatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids; aliphatic polyhydroxy compounds, aromatic polyhydroxy compounds, etc. The ester etc. which are obtained by the esterification reaction of polyhydric hydroxy compound, and unsaturated carboxylic acid and polybasic carboxylic acid are mentioned.

상기 지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르로는, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨디아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 글리세롤아크릴레이트 등의 지방족 폴리하이드록시 화합물의 아크릴산에스테르, 이들 예시 화합물의 아크릴레이트를 메타크릴레이트로 대신한 메타크릴산에스테르, 마찬가지로 이타코네이트로 대신한 이타콘산에스테르, 크로네이트로 대신한 크로톤산에스테르 혹은 말레에이트로 대신한 말레산에스테르 등을 들 수 있다.As the ester of the aliphatic polyhydroxy compound and the unsaturated carboxylic acid, ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, pentaerythritol diacrylate, Acrylic acid of aliphatic polyhydroxy compounds such as pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and glycerol acrylate Esters, methacrylic acid esters with acrylates of these exemplary compounds replaced with methacrylates, itaconic acid esters with itaconate, crotonic acid esters with chronate or maleic acid esters with maleate Field There.

방향족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카르복실산의 에스테르로는, 하이드로퀴논디아크릴레이트, 하이드로퀴논디메타크릴레이트, 레조르신디아크릴레이트, 레조르신디메타크릴레이트, 피로갈롤트리아크릴레이트 등의 방향족 폴리하이드록시 화합물의 아크릴산에스테르 및 메타크릴산에스테르 등을 들 수 있다. As an ester of an aromatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid, aromatic poly, such as hydroquinone diacrylate, hydroquinone dimethacrylate, resorcin diacrylate, resorcin dimethacrylate, pyrogallol triacrylate, etc. And acrylic acid esters and methacrylic acid esters of hydroxy compounds.

다염기성 카르복실산 및 불포화 카르복실산과, 다가 하이드록시 화합물의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 에스테르로는 반드시 단일물인 것은 아니지만, 대표적인 구체예를 들면, 아크릴산, 프탈산, 및 에틸렌글리콜의 축합물, 아크릴산, 말레산, 및 디에틸렌글리콜의 축합물, 메타크릴산, 테레프탈산 및 펜타에리트리톨의 축합물, 아크릴산, 아디프산, 부탄디올 및 글리세린의 축합물 등을 들 수 있다.The ester obtained by the esterification reaction of polybasic carboxylic acid and unsaturated carboxylic acid with a polyvalent hydroxy compound is not necessarily a single product, but typical examples include condensates of acrylic acid, phthalic acid, and ethylene glycol, acrylic acid, And condensates of maleic acid and diethylene glycol, condensates of methacrylic acid, terephthalic acid and pentaerythritol, condensates of acrylic acid, adipic acid, butanediol and glycerin.

그 외, 본 발명에 사용되는 다관능 에틸렌성 단량체의 예로는, 폴리이소시아네이트 화합물과 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르 또는 폴리이소시아네이트 화합물과 폴리올 및 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르를 반응시켜 얻어지는 우레탄 (메트)아크릴레이트류;다가 에폭시 화합물과 하이드록시(메트)아크릴레이트 또는 (메트)아크릴산과의 부가 반응물과 같은 에폭시아크릴레이트류;에틸렌비스아크릴아미드 등의 아크릴아미드류;프탈산디알릴 등의 알릴에스테르류;디비닐프탈레이트 등의 비닐기 함유 화합물 등이 유용하다.In addition, examples of the polyfunctional ethylenic monomer used in the present invention include urethane (meth) obtained by reacting a polyisocyanate compound with a hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid ester or a polyisocyanate compound with a polyol and a hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid ester. Acrylates; polyhydric epoxy compounds and epoxy acrylates such as addition reactants of hydroxy (meth) acrylate or (meth) acrylic acid; acrylamides such as ethylene bisacrylamide; allyl esters such as diallyl phthalate; Vinyl group-containing compounds such as divinyl phthalate are useful.

상기 우레탄 (메트)아크릴레이트류로는, 예를 들어, DPHA-40H, UX-5000, UX-5002D-P20, UX-5003D, UX-5005 (닛폰 화약사 제조), U-2PPA, U-6LPA, U-10PA, U-33H, UA-53H, UA-32P, UA-1100H (신나카무라 화학 공업사 제조), UA-306H, UA-510H, UF-8001G (쿄에이사 화학사 제조), UV-1700B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7630B, UV7640B (닛폰 합성 화학 공업사 제조) 등을 들 수 있다.As the urethane (meth) acrylates, for example, DPHA-40H, UX-5000, UX-5002D-P20, UX-5003D, UX-5005 (manufactured by Nippon Gunpowder Co., Ltd.), U-2PPA, U-6LPA , U-10PA, U-33H, UA-53H, UA-32P, UA-1100H (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industries Ltd.), UA-306H, UA-510H, UF-8001G (manufactured by Kyoeisa Chemical Ltd.), UV-1700B , UV-7600B, UV-7605B, UV-7630B, UV7640B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industries, Ltd.) and the like.

이들 중에서도, 경화성의 관점에서 (D) 광 중합성 모노머로서, (메트)아크릴산알킬에스테르를 사용하는 것이 바람직하고, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트를 사용하는 것이 보다 바람직하다.Among these, it is preferable to use (meth) acrylic-acid alkylester as (D) photopolymerizable monomer from a viewpoint of curability, and it is more preferable to use dipentaerythritol hexaacrylate.

이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

[1-5] (E) 광 중합 개시제 [1-5] (E) Photopolymerization initiator

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 (E) 광 중합 개시제를 함유한다. (E) 광 중합 개시제는, 광을 직접 흡수하고, 분해 반응 또는 수소 인발 반응을 일으키고, 중합 활성 라디칼을 발생하는 기능을 갖는 성분이다. 필요에 따라 중합 촉진제 (연쇄 이동제), 증감 색소 등의 부가제를 첨가하여 사용해도 된다.The colored photosensitive resin composition of this invention contains (E) photoinitiator. (E) The photopolymerization initiator is a component having a function of absorbing light directly, causing a decomposition reaction or a hydrogen drawing reaction, and generating a polymerization active radical. If necessary, an additive such as a polymerization accelerator (chain transfer agent) or a sensitizing dye may be added and used.

광 중합 개시제로는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 소59-152396호, 일본 공개특허공보 소61-151197호 각 공보에 기재된 티타노센 화합물을 포함하는 메탈로센 화합물;일본 공개특허공보 2000-56118호에 기재된 헥사아릴비이미다졸 유도체;일본 공개특허공보 평10-39503호 기재된 할로메틸화 옥사디아졸 유도체, 할로메틸-s-트리아진 유도체, N-페닐글리신 등의 N-아릴-α-아미노산류, N-아릴-α-아미노산염류, N-아릴-α-아미노산에스테르류 등의 라디칼 활성제, α-아미노알킬페논 유도체;일본 공개특허공보 2000-80068호, 일본 공개특허공보 2006-36750호 등에 기재되어 있는 옥심에스테르 유도체 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerization initiator include a metallocene compound containing the titanocene compound described in JP-A-59-152396 and JP-A-61-151197; JP 2000-2000; Hexaaryl biimidazole derivatives described in 56118; N-aryl-α-amino acids such as halomethylated oxadiazole derivatives, halomethyl-s-triazine derivatives, and N-phenylglycine described in Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 10-39503 Radical activators such as compounds, N-aryl-α-amino acid salts, and N-aryl-α-amino acid esters, α-aminoalkylphenone derivatives; Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2000-80068, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2006-36750, etc. And oxime ester derivatives described.

구체적으로는, 예를 들어, 티타노센 유도체류로는, 디시클로펜타디에닐티타늄디클로라이드, 디시클로펜타디에닐티타늄비스페닐, 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,3,4,5,6-펜타플루오로페니-1-일), 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,3,5,6-테트라플루오로페니-1-일), 디시클로펜타디에닐티타늄비스(2,4,6-트리플루오로페니-1-일), 디시클로펜타디에닐티타늄디(2,6-디플루오로페니-1-일), 디시클로펜타디에닐티타늄디(2,4-디플루오로페니-1-일), 디(메틸시클로펜타디에닐)티타늄비스(2,3,4,5,6-펜타플루오로페니-1-일), 디(메틸시클로펜타디에닐)티타늄비스(2,6-디플루오로페니-1-일), 디시클로펜타디에닐티타늄[2,6-디-플루오로-3-(피로-1-일)-페니-1-일] 등을 들 수 있다.Specifically, for example, as the titanocene derivatives, dicyclopentadienyl titanium dichloride, dicyclopentadienyl titanium bisphenyl, dicyclopentadienyl titanium bis (2,3,4,5,6) -Pentafluorophen-1--1-yl), dicyclopentadienyltitanium bis (2,3,5,6-tetrafluoropheny-1-yl), dicyclopentadienyltitanium bis (2,4,6) -Trifluoropheny-1-yl), dicyclopentadienyltitanium di (2,6-difluoropheny-1-yl), dicyclopentadienyltitanium di (2,4-difluoropheny- 1-yl), di (methylcyclopentadienyl) titanium bis (2,3,4,5,6-pentafluoropheny-1-yl), di (methylcyclopentadienyl) titanium bis (2,6) -Difluorophen-1--1-yl), dicyclopentadienyl titanium [2,6-di-fluoro-3- (pyro-1-yl) -phen-1--1-yl], and the like.

또, 비이미다졸 유도체류로는, 2-(2'-클로로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체, 2-(2'-클로로페닐)-4,5-비스(3'-메톡시페닐)이미다졸 2 량체, 2-(2'-플루오로페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체, 2-(2'-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체, (4'-메톡시페닐)-4,5-디페닐이미다졸 2 량체 등을 들 수 있다.Moreover, as the biimidazole derivatives, 2- (2'-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (2'-chlorophenyl) -4,5-bis (3 ' -Methoxyphenyl) imidazole dimer, 2- (2'-fluorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (2'-methoxyphenyl) -4,5-diphenyl Imidazole dimer, (4'-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, and the like.

또, 할로메틸화 옥사디아졸 유도체류로는, 2-트리클로로메틸-5-(2'-벤조푸릴)-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-[β-(2'-벤조푸릴)비닐]-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-[β-(2'-(6''-벤조푸릴)비닐)]-1,3,4-옥사디아졸, 2-트리클로로메틸-5-푸릴-1,3,4-옥사디아졸 등을 들 수 있다.Moreover, as the halomethylated oxadiazole derivatives, 2-trichloromethyl-5- (2'-benzofuryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- [β- ( 2'-benzofuryl) vinyl] -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- [β- (2 '-(6' '-benzofuryl) vinyl)]-1,3, 4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5-furyl-1,3,4-oxadiazole, and the like.

또, 할로메틸-s-트리아진 유도체류로는, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시카르보닐나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진 등을 들 수 있다.Moreover, as the halomethyl-s-triazine derivatives, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-ethoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-e And methoxycarbonylnaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine.

또, α-아미노알킬페논 유도체류로는, 2-메틸-1[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 4-디메틸아미노에틸벤조에이트, 4-디메틸아미노이소아밀벤조에이트, 4-디에틸아미노아세토페논, 4-디메틸아미노프로피오페논, 2-에틸헥실-1,4-디메틸아미노벤조에이트, 2,5-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로헥사논, 7-디에틸아미노-3-(4-디에틸아미노벤조일)쿠마린, 4-(디에틸아미노)칼콘 등을 들 수 있다.Moreover, as α-aminoalkylphenone derivatives, 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- ( 4-morpholinophenyl) -butanone-1, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 4-dimethylaminoethylbenzoate, 4-dimethylamino Isoamylbenzoate, 4-diethylamino acetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, 2-ethylhexyl-1,4-dimethylaminobenzoate, 2,5-bis (4-diethylaminobenzal) cyclohexa Paddy, 7-diethylamino-3- (4-diethylaminobenzoyl) coumarin, 4- (diethylamino) chalcone, and the like.

광 중합 개시제로는, 특히, 감도나 제판성의 점에서 옥심에스테르 유도체류 (옥심에스테르계 화합물 및 케토옥심에스테르계 화합물) 가 유효하고, 페놀성 수산기를 포함하는 알칼리 가용성 수지를 사용하는 경우 등은, 감도의 점에서 불리해지기 때문에, 특히 이와 같은 감도가 우수한 옥심에스테르 유도체류 (옥심에스테르계 화합물 및 케토옥심에스테르계 화합물) 가 유용하다.As a photopolymerization initiator, in particular, oxime ester derivatives (oxime ester-based compounds and ketooxime ester-based compounds) are effective from the viewpoint of sensitivity and plate making, and when an alkali-soluble resin containing a phenolic hydroxyl group is used, etc. Since it is disadvantageous in terms of sensitivity, oxime ester derivatives (oxime ester-based compounds and ketooxime ester-based compounds) excellent in such sensitivity are particularly useful.

옥심에스테르계 화합물로는, 하기 일반식 (IX) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 화합물을 들 수 있으며, 바람직하게는, 하기 일반식 (IX-A) 로 나타내는 옥심에스테르계 화합물을 들 수 있다.As an oxime ester type compound, the compound containing the partial structure represented by the following general formula (IX) is mentioned, Preferably, the oxime ester type compound represented by the following general formula (IX-A) is mentioned.

[화학식 41][Formula 41]

Figure pat00041
Figure pat00041

식 (IX) 중, R22 는, 각각 치환되어 있어도 되는, 탄소수 2 ∼ 12 의 알칸오일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴알칸오일기, 탄소수 3 ∼ 25 의 알켄오일기, 탄소수 3 ∼ 8 의 시클로알칸오일기, 탄소수 3 ∼ 20 의 알콕시카르보닐알칸오일기, 탄소수 8 ∼ 20 의 페녹시카르보닐알칸오일기, 탄소수 3 ∼ 20 의 헤테로아릴옥시카르보닐알칸오일기, 탄소수 2 ∼ 10 의 아미노알킬카르보닐기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴로일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴로일기, 탄소수 2 ∼ 10 의 알콕시카르보닐기, 또는 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴옥시카르보닐기를 나타낸다.In Formula (IX), R 22 may be substituted with an alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, a heteroaryl alkane oil group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl oil group having 3 to 25 carbon atoms, or 3 to 8 carbon atoms. Cycloalkane oil group, alkoxycarbonyl alkane oil group having 3 to 20 carbon atoms, phenoxycarbonyl alkane oil group having 8 to 20 carbon atoms, heteroaryloxycarbonyl alkane oil group having 3 to 20 carbon atoms, amino having 2 to 10 carbon atoms It represents an alkylcarbonyl group, an arylloyl group having 7 to 20 carbon atoms, a heteroaryloyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, or an aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms.

[화학식 42][Formula 42]

Figure pat00042
Figure pat00042

식 (IX-A) 중, R21a 는, 수소 원자, 또는 각각 치환되어 있어도 되는, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 25 의 알케닐기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴 알킬기, 탄소수 3 ∼ 20 의 알콕시카르보닐알킬기, 탄소수 8 ∼ 20 의 페녹시카르보닐알킬기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴옥시카르보닐알킬기 혹은 헤테로아릴티오알킬기, 탄소수 1 ∼ 20 의 아미노알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알칸오일기, 탄소수 3 ∼ 25 의 알켄오일기, 탄소수 3 ∼ 8 의 시클로알칸오일기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴로일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴로일기, 탄소수 2 ∼ 10 의 알콕시카르보닐기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴옥시카르보닐기, 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 시클로알킬알킬기를 나타내고;In formula (IX-A), R 21a is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 25 carbon atoms, a heteroaryl alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or 3 to 20 carbon atoms, which may each be substituted. Alkoxycarbonylalkyl group, 8-20 phenoxycarbonylalkyl group, 1-20 carbon atoms heteroaryloxycarbonylalkyl group or heteroarylthioalkyl group, 1-20 carbon atoms aminoalkyl group, 2-12 carbon atoms alkanoyl group , An alkenyl group having 3 to 25 carbon atoms, a cycloalkanoyl group having 3 to 8 carbon atoms, an arylloyl group having 7 to 20 carbon atoms, a heteroaryloyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, 7 to 7 carbon atoms Represents an aryloxycarbonyl group of 20 or a cycloalkylalkyl group having 1 to 10 carbon atoms;

R21b 는 방향족 탄화수소 고리 또는 방향족 복소 고리 (헤테로 방향 고리) 를 포함하는 임의의 치환기를 나타낸다.R 21b represents any substituent including an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle (heteroaromatic ring).

또한, R21a 는 R21b 와 연결하여 고리를 형성해도 되고, 그 연결기는, 각각 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기, 폴리에틸렌기 (-(CH=CH)r-), 폴리에티닐렌기 (-(C≡C)r-) 혹은 이들을 조합하여 이루어지는 기를 들 수 있다 (또한, r 은 0 ∼ 3 의 정수이다.).In addition, R 21a may be connected to R 21b to form a ring, and the linking groups may each have a substituent group having 1 to 10 alkylene groups, polyethylene groups (-(CH = CH) r- ), polyethynyl And a group formed by combining a ren group (-(C≡C) r- ) or a combination thereof (where r is an integer from 0 to 3).

식 (IX-A) 중, R22a 는, 각각 치환되어 있어도 되는, 탄소수 2 ∼ 12 의 알칸오일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴알칸오일기, 탄소수 3 ∼ 25 의 알켄오일기, 탄소수 3 ∼ 8 의 시클로알칸오일기, 탄소수 3 ∼ 20 의 알콕시카르보닐알칸오일기, 탄소수 8 ∼ 20 의 페녹시카르보닐알칸오일기, 탄소수 3 ∼ 20 의 헤테로아릴옥시카르보닐알칸오일기, 탄소수 2 ∼ 10 의 아미노카르보닐기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴로일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴로일기, 탄소수 2 ∼ 10 의 알콕시카르보닐기 또는 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴옥시카르보닐기를 나타낸다.In Formula (IX-A), R 22a may be substituted with an alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, a heteroaryl alkanoyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl oil group having 3 to 25 carbon atoms, or 3 to carbon atoms, respectively. 8 cycloalkane oil group, 3 to 20 carbon atoms alkoxycarbonyl alkane oil group, 8 to 20 carbon atoms phenoxycarbonyl alkane oil group, 3 to 20 carbon atoms heteroaryloxycarbonyl alkane oil group, 2 to 10 carbon atoms Represents an aminocarbonyl group, a C7-20 arylloyl group, a C1-20 heteroaryloyl group, a C2-10 alkoxycarbonyl group, or a C7-20 aryloxycarbonyl group.

상기 일반식 (IX) 에 있어서의 R22 및 상기 일반식 (IX-A) 에 있어서의 R22a 로는, 바람직하게는, 탄소수 2 ∼ 12 의 알칸오일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴알칸오일기, 탄소수 3 ∼ 8 의 시클로알칸오일기를 들 수 있다.As R 22 in the general formula (IX) and R 22a in the general formula (IX-A), preferably, an alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, a heteroaryl alkanoyl group having 1 to 20 carbon atoms And a cycloalkanoyl group having 3 to 8 carbon atoms.

상기 일반식 (IX-A) 에 있어서의 R21a 로는, 바람직하게는 무치환의 메틸기, 에틸기, 프로필기나, N-아세틸-N-아세톡시아미노기로 치환된 프로필기를 들 수 있다.As R 21a in the general formula (IX-A), preferably, an unsubstituted methyl group, ethyl group, propyl group, or a propyl group substituted with an N-acetyl-N-acetoxyamino group.

또, 상기 일반식 (IX-A) 에 있어서의 R21b 로는, 바람직하게는 치환되어 있어도 되는 카르바조일기, 치환되어 있어도 되는 플루오레닐기, 치환되어 있어도 되는 티오잔토닐기, 치환되어 있어도 되는 페닐술파이드기를 들 수 있다.In addition, the roneun formula R 21b of the (IX-A), preferably a carbazolyl group that may be substituted, a fluorenyl group which may be optionally substituted, phenyl that may be substituted thio janto group, an optionally substituted alcohol A firefighter is mentioned.

또, 상기 일반식 (IX) 및 (IX-A) 에 있어서의 임의의 치환기로는, 알킬기, 방향족 탄화수소 고리기 (아릴기), 지방족 고리기, 방향족 복소 고리기, 할로겐 기, 수산기, 카르복실기, 아미노기, 아미드기 등을 들 수 있다.Moreover, as arbitrary substituents in the said general formula (IX) and (IX-A), an alkyl group, an aromatic hydrocarbon ring group (aryl group), an aliphatic ring group, an aromatic heterocyclic group, a halogen group, a hydroxyl group, a carboxyl group, And amino groups and amide groups.

본 발명에 적합한 옥심에스테르계 화합물로서 구체적으로는, 이하에 예시되는 바와 같은 화합물을 들 수 있지만, 조금도 이들 화합물에 한정되는 것은 아니다.Although the compound as illustrated below is mentioned specifically as an oxime ester type compound suitable for this invention, It is not limited to these compounds at all.

[화학식 43][Formula 43]

Figure pat00043
Figure pat00043

[화학식 44][Formula 44]

Figure pat00044
Figure pat00044

케토옥심에스테르계 화합물로는, 하기 일반식 (X) 으로 나타내는 부분 구조를 포함하는 화합물을 들 수 있으며, 바람직하게는, 하기 일반식 (X-A) 로 나타내는 케토옥심에스테르계 화합물을 들 수 있다.As a ketooxime ester type compound, the compound containing the partial structure represented by the following general formula (X) is mentioned, Preferably, the ketooxime ester type compound represented by the following general formula (X-A) is mentioned.

[화학식 45][Formula 45]

Figure pat00045
Figure pat00045

상기 일반식 (X) 에 있어서, R24 는, 상기 일반식 (IX) 에 있어서의 R22 와 동일한 의미이다.In the general formula (X), R 24 has the same meaning as R 22 in the general formula (IX).

[화학식 46][Formula 46]

Figure pat00046
Figure pat00046

상기 일반식 (X-A) 에 있어서, R23a 는, 각각 치환되어 있어도 되는, 페닐기, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 25 의 알케닐기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴알킬기, 탄소수 3 ∼ 20 의 알콕시카르보닐알킬기, 탄소수 8 ∼ 20 의 페녹시카르보닐알킬기, 탄소수 2 ∼ 20 의 알킬티오알킬기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴옥시카르보닐알킬기 혹은 헤테로아릴티오알킬기, 탄소수 1 ∼ 20 의 아미노알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알칸오일기, 탄소수 3 ∼ 25 의 알켄오일기, 탄소수 3 ∼ 8 의 시클로알칸오일기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴로일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴로일기, 탄소수 2 ∼ 10 의 알콕시카르보닐기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴옥시카르보닐기, 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 시클로알킬알킬기를 나타내고;In the said general formula (XA), R 23a may be respectively substituted, a phenyl group, a C1-C20 alkyl group, a C2-C25 alkenyl group, a C1-C20 heteroaryl alkyl group, a C3-C20 Alkoxycarbonylalkyl groups, phenoxycarbonylalkyl groups having 8 to 20 carbon atoms, alkylthioalkyl groups having 2 to 20 carbon atoms, heteroaryloxycarbonylalkyl groups having 1 to 20 carbon atoms or heteroarylthioalkyl groups, aminoalkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, Alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, alkene oil group having 3 to 25 carbon atoms, cycloalkanoyl group having 3 to 8 carbon atoms, arylloyl group having 7 to 20 carbon atoms, heteroaryloyl group having 1 to 20 carbon atoms, 2 to 2 carbon atoms An alkoxycarbonyl group of 10, an aryloxycarbonyl group of 7 to 20 carbon atoms, or a cycloalkylalkyl group of 1 to 10 carbon atoms;

R23b 는 방향족 탄화수소 고리 또는 방향족 복소 고리 (헤테로 방향 고리) 를 포함하는 임의의 치환기를 나타낸다.R 23b represents any substituent including an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle (heteroaromatic ring).

또한, R23a 는 R23b 와 연결하여 고리를 형성해도 되고, 그 연결기는, 각각 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬렌기, 폴리에틸렌기 (-(CH=CH)r-), 폴리에티닐렌기 (-(C≡C)r-) 혹은 이들을 조합하여 이루어지는 기를 들 수 있다 (또한, r 은 0 ∼ 3 의 정수이다.).In addition, R 23a may be connected to R 23b to form a ring, and the linking group may be an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, a polyethylene group (-(CH = CH) r- ), or polyethynyl, respectively. And a group formed by combining a ren group (-(C≡C) r- ) or a combination thereof (where r is an integer from 0 to 3).

일반식 (X-A) 중, R24a 는, 각각 치환되어 있어도 되는, 탄소수 2 ∼ 12 의 알칸오일기, 탄소수 3 ∼ 25 의 알켄오일기, 탄소수 4 ∼ 8 의 시클로알칸오일기, 탄소수 7 ∼ 20 의 벤조일기, 탄소수 3 ∼ 20 의 헤테로아릴로일기, 탄소수 2 ∼ 10 의 알콕시카르보닐기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴옥시카르보닐기, 탄소수 2 ∼ 20 의 헤테로아릴기, 또는 탄소수 2 ∼ 20 의 알킬아미노카르보닐기를 나타낸다.In General Formula (XA), R 24a may be substituted with an alkane oil group having 2 to 12 carbon atoms, an alkenyl oil group having 3 to 25 carbon atoms, a cycloalkane oil group having 4 to 8 carbon atoms, or 7 to 20 carbon atoms. It represents a benzoyl group, a heteroaryloyl group having 3 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, an aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms, a heteroaryl group having 2 to 20 carbon atoms, or an alkylaminocarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms. .

상기 일반식 (X) 에 있어서의 R24 및 상기 일반식 (X-A) 에 있어서의 R24a 로는, 바람직하게는, 탄소수 2 ∼ 12 의 알칸오일기, 탄소수 1 ∼ 20 의 헤테로아릴알칸오일기, 탄소수 3 ∼ 8 의 시클로알칸오일기, 탄소수 7 ∼ 20 의 아릴로일기를 들 수 있다.As R 24 in the general formula (X) and R 24a in the general formula (XA), preferably, an alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, a heteroaryl alkanoyl group having 1 to 20 carbon atoms, or carbon number And 3 to 8 cycloalkanoyl groups and 7 to 20 carbon atoms.

상기 일반식 (X-A) 에 있어서의 R23a 로는, 바람직하게는 무치환의 에틸기, 프로필기, 부틸기나, 메톡시카르보닐기로 치환된 에틸기 또는 프로필기를 들 수 있다.As R 23a in the general formula (XA), preferably an unsubstituted ethyl group, a propyl group, a butyl group, or an ethyl group substituted with a methoxycarbonyl group or a propyl group.

또, 상기 일반식 (X-A) 에 있어서의 R23b 로는, 바람직하게는 치환되어 있어도 되는 카르바조일기, 치환되어 있어도 되는 플루오레닐기, 치환되어 있어도 되는 페닐술파이드기를 들 수 있다.Moreover, as R 23b in the said general formula (XA), Preferably, the carbazoyl group which may be substituted, the fluorenyl group which may be substituted, and the phenyl sulfide group which may be substituted are mentioned.

또, 상기 일반식 (X) 및 (X-A) 에 있어서의 임의의 치환기로는, 알킬기, 방향족 탄화수소 고리기 (아릴기), 지방족 고리기, 방향족 복소 고리기, 할로겐기, 수산기, 카르복실기, 아미노기, 아미드기 등을 들 수 있다.Moreover, as arbitrary substituents in the said general formula (X) and (XA), an alkyl group, an aromatic hydrocarbon ring group (aryl group), an aliphatic ring group, an aromatic heterocyclic group, a halogen group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, And amide groups.

본 발명에 적합한 케토옥심에스테르계 화합물로서 구체적으로는, 이하에 예시되는 바와 같은 화합물을 들 수 있지만, 조금도 이들 화합물에 한정되는 것은 아니다.As a ketoxime ester-based compound suitable for the present invention, specifically, the compounds exemplified below can be mentioned, but are not limited to these compounds at all.

[화학식 47][Formula 47]

Figure pat00047
Figure pat00047

[화학식 48][Formula 48]

Figure pat00048
Figure pat00048

이들 옥심에스테르계 화합물 및 케토옥심에스테르계 화합물은, 그 자체 공지된 화합물이며, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2000-80068호나, 일본 공개특허공보 2006-36750호에 기재되어 있는 일련의 화합물의 일종이다. 감도의 관점에서 본 발명에서는, (E) 광 중합 개시제가, 옥심에스테르계 화합물 및/또는 케토옥심에스테르계 화합물인 것이 바람직하다.These oxime ester-based compounds and ketooxime ester-based compounds are compounds known per se, and are, for example, a type of a series of compounds described in JP 2000-80068 A or JP 2006-36750 A. to be. From the viewpoint of sensitivity, in the present invention, it is preferable that the photopolymerization initiator (E) is an oxime ester-based compound and / or a ketooxime ester-based compound.

상기 광 중합 개시제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.As for the said photoinitiator, 1 type may be used individually and 2 or more types may be used together.

(E) 광 중합 개시제로는, 상기 서술한 것 외에, 벤조인메틸에테르, 벤조인페닐에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인이소프로필에테르 등의 벤조인알킬에테르류;2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논 등의 안트라퀴논 유도체류;벤조페논, 미힐러 케톤, 2-메틸벤조페논, 3-메틸벤조페논, 4-메틸벤조페논, 2-클로로벤조페논, 4-브로모벤조페논, 2-카르복시벤조페논 등의 벤조페논 유도체류;2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, α-하이드록시-2-메틸페닐프로파논, 1-하이드록시-1-메틸에틸-(p-이소프로필페닐)케톤, 1-하이드록시-1-(p-도데실페닐)케톤, 2-메틸-(4'-메틸티오페닐)-2-모르폴리노-1-프로파논, 1,1,1-트리클로로메틸-(p-부틸페닐)케톤 등의 아세토페논 유도체류;티오잔톤, 2-에틸티오잔톤, 2-이소프로필티오잔톤, 2-클로로티오잔톤, 2,4-디메틸티오잔톤, 2,4-디에틸티오잔톤, 2,4-디이소프로필티오잔톤 등의 티오잔톤 유도체류;p-디메틸아미노벤조산에틸, p-디에틸아미노벤조산에틸 등의 벤조산에스테르 유도체류;9-페닐아크리딘, 9-(p-메톡시페닐)아크리딘 등의 아크리딘 유도체류;9,10-디메틸벤즈페나진 등의 페나진 유도체류;벤즈안트론 등의 안트론 유도체류 등도 들 수 있다.(E) Examples of the photopolymerization initiator include benzoin alkyl ethers such as benzoin methyl ether, benzoin phenyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzoin isopropyl ether; 2-methyl anthraquinone; Anthraquinone derivatives, such as 2-ethyl anthraquinone, 2-t-butyl anthraquinone, and 1-chloro anthraquinone; Benzophenone, Mihiler ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone , Benzophenone derivatives such as 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, and 2-carboxybenzophenone; 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1- Hydroxycyclohexylphenylketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1-hydroxy-1- (p-dodecylphenyl ) Acetophenone derivatives such as ketone, 2-methyl- (4'-methylthiophenyl) -2-morpholino-1-propanone, 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylphenyl) ketone Thiothioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, etc. Thioxanthone derivatives; benzoic acid ester derivatives such as ethyl p-dimethylaminobenzoate and ethyl p-diethylaminobenzoate; acrisies such as 9-phenylacridine and 9- (p-methoxyphenyl) acridine Dean derivatives; phenazine derivatives such as 9,10-dimethylbenzphenazine; and anthrone derivatives such as benzanthrone.

이들 광 중합 개시제 중에서는, 감도, 용제에 대한 용해성, 현상시의 패턴 밀착성의 관점에서, 옥심에스테르 유도체류 중에서도, 상기 일반식 (IX) 로 나타내는 부분 구조를 포함하는 화합물인 이하의 화합물,Among these photopolymerization initiators, the following compounds, which are compounds containing a partial structure represented by the general formula (IX), among oxime ester derivatives, from the viewpoint of sensitivity, solubility to a solvent, and pattern adhesion during development,

[화학식 49][Formula 49]

Figure pat00049
Figure pat00049

[화학식 50][Formula 50]

Figure pat00050
Figure pat00050

또는, 상기 일반식 (X) 으로 나타내는 부분 구조를 포함하는 화합물인 이하의 화합물이 더욱 바람직하다.Or, the following compound which is a compound containing the partial structure represented by said general formula (X) is more preferable.

[화학식 51][Formula 51]

Figure pat00051
Figure pat00051

[화학식 52][Formula 52]

Figure pat00052
Figure pat00052

[화학식 53][Formula 53]

Figure pat00053
Figure pat00053

(E) 광 중합 개시제는, 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 조합하여 사용해도 된다.(E) Photopolymerization initiator may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more type.

(E) 광 중합 개시제에는, 필요에 따라, 감응 감도를 높일 목적으로, 화상 노광 광원의 파장에 따른 증감 색소, 중합 촉진제를 배합시킬 수 있다. 증감 색소로는, 일본 공개특허공보 평4-221958호, 일본 공개특허공보 평4-219756호에 기재된 잔텐 색소, 일본 공개특허공보 평3-239703호, 일본 공개특허공보 평5-289335호에 기재된 복소 고리를 갖는 쿠마린 색소, 일본 공개특허공보 평3-239703호, 일본 공개특허공보 평5-289335호에 기재된 3-케토 쿠마린 화합물, 일본 공개특허공보 평6-19240호에 기재된 피로메텐 색소, 그 외, 일본 공개특허공보 소47-2528호, 일본 공개특허공보 소54-155292호, 일본 특허공보 소45-37377호, 일본 공개특허공보 소48-84183호, 일본 공개특허공보 소52-112681호, 일본 공개특허공보 소58-15503호, 일본 공개특허공보 소60-88005호, 일본 공개특허공보 소59-56403호, 일본 공개특허공보 평2-69호, 일본 공개특허공보 소57-168088호, 일본 공개특허공보 평5-107761호, 일본 공개특허공보 평5-210240호, 일본 공개특허공보 평4-288818호에 기재된 디알킬아미노벤젠 골격을 갖는 색소 등을 들 수 있다.(E) As needed, a sensitizing dye and a polymerization accelerator according to the wavelength of the image exposure light source can be blended, for the purpose of increasing the sensitivity of the photosensitive initiator, if necessary. Examples of the sensitizing dye include xanthene dyes described in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 4-221958, Japanese Patent Laid-Open No. Hei 4-219756, Japanese Patent Laid-Open No. Hei 3-239703, and Japanese Patent Laid-Open No. Hei 5-289335. Coumarin pigment having a heterocyclic ring, Japanese Patent Application Publication No. Hei 3-239703, Japanese Patent Publication No. Hei 5-289335 3-keto coumarin compound, Japanese Patent Application Publication No. Hei 6-19240, pyromethene pigment, In addition, Japanese Patent Publication No. 47-2528, Japanese Patent Publication No. 54-155292, Japanese Patent Publication No. 45-37377, Japanese Patent Publication No. 48-84183, Japanese Patent Publication No. 52-112681 , Japanese Patent Application Publication No. 58-15503, Japanese Patent Application Publication No. 60-88005, Japanese Patent Application Publication No. 59-56403, Japanese Patent Application Publication No. 2-69, Japanese Patent Application Publication No. 57-168088 , Japanese Patent Application Publication No. Hei 5-107761, Japanese Patent Application Publication No. 5-210240, Japanese Patent Application Publication And dyes having a dialkylaminobenzene skeleton as described in Hei 4-288818.

이들 증감 색소 중 바람직한 것은, 아미노기 함유 증감 색소이며, 더욱 바람직한 것은, 아미노기 및 페닐기를 동일 분자 내에 갖는 화합물이다. 특히, 바람직한 것은, 예를 들어, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디에틸아미노벤조페논, 2-아미노벤조페논, 4-아미노벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노벤조페논, 3,4-디아미노벤조페논 등의 벤조페논계 화합물;2-(p-디메틸아미노페닐)벤조옥사졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤조옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조[4,5]벤조옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조[6,7]벤조옥사졸, 2,5-비스(p-디에틸아미노페닐)-1,3,4-옥사졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤조티아졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤조티아졸, 2-(p-디메틸아미노페닐)벤즈이미다졸, 2-(p-디에틸아미노페닐)벤즈이미다졸, 2,5-비스(p-디에틸아미노페닐)-1,3,4-티아디아졸, (p-디메틸아미노페닐)피리딘, (p-디에틸아미노페닐)피리딘, (p-디메틸아미노페닐)퀴놀린, (p-디에틸아미노페닐)퀴놀린, (p-디메틸아미노페닐)피리미딘, (p-디에틸아미노페닐)피리미딘 등의 p-디알킬아미노페닐기 함유 화합물 등이다. 이 중 가장 바람직한 것은, 4,4'-디알킬아미노벤조페논이다. Preferred of these sensitizing dyes are amino group-containing sensitizing dyes, and more preferred are compounds having an amino group and a phenyl group in the same molecule. Especially preferred are, for example, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, 2-aminobenzophenone, 4-aminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzo Benzophenone compounds such as phenone, 3,3'-diaminobenzophenone, and 3,4-diaminobenzophenone; 2- (p-dimethylaminophenyl) benzoxazole, 2- (p-diethylaminophenyl) Benzoxazole, 2- (p-dimethylaminophenyl) benzo [4,5] benzoxazole, 2- (p-dimethylaminophenyl) benzo [6,7] benzoxazole, 2,5-bis (p- Diethylaminophenyl) -1,3,4-oxazole, 2- (p-dimethylaminophenyl) benzothiazole, 2- (p-diethylaminophenyl) benzothiazole, 2- (p-dimethylaminophenyl) ) Benzimidazole, 2- (p-diethylaminophenyl) benzimidazole, 2,5-bis (p-diethylaminophenyl) -1,3,4-thiadiazole, (p-dimethylaminophenyl) Pyridine, (p-diethylaminophenyl) pyridine, (p-dimethylaminophenyl) quinoline, (p-diethylaminophenyl) quinoline, (p-dimethylaminophenyl) And p-dialkylaminophenyl group-containing compounds such as pyrimidine and (p-diethylaminophenyl) pyrimidine. The most preferable of these is 4,4'-dialkylaminobenzophenone.

증감 색소도 또한 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다.The sensitizing dye may also be used alone or in combination of two or more.

중합 촉진제로는, 예를 들어, p-디메틸아미노벤조산에틸, 벤조산2-디메틸아미노에틸 등의 방향족 아민, n-부틸아민, N-메틸디에탄올아민 등의 지방족 아민, 후술하는 메르캅토 화합물 등이 사용된다. 중합 촉진제는, 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 조합하여 사용해도 된다.Examples of the polymerization accelerator include aromatic amines such as ethyl p-dimethylaminobenzoate and 2-dimethylaminoethyl benzoate, aliphatic amines such as n-butylamine and N-methyldiethanolamine, and mercapto compounds described later. Is used. One type of polymerization accelerator may be used alone, or two or more types may be used in combination.

[1-6] 착색 감광성 수지 조성물의 그 밖의 배합 성분[1-6] Other compounding components of the colored photosensitive resin composition

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에는, 상기 서술한 성분 외에, 실란 커플링제 등의 밀착 향상제, 도포성 향상제, 현상 개량제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 계면 활성제, 안료 유도체 등을 적절히 배합할 수 있다.In addition to the components described above, the colored photosensitive resin composition of the present invention can be appropriately blended with an adhesion enhancer such as a silane coupling agent, a coating property improving agent, a developing improver, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a surfactant, and a pigment derivative.

[1-6-1] 밀착 향상제[1-6-1] Adhesion enhancer

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에는, 기판과의 밀착성을 개선하기 위해서, 밀착 향상제를 함유시켜도 된다. 밀착 향상제로는, 실란 커플링제, 인산기 함유 화합물 등이 바람직하다.In order to improve the adhesiveness with a board | substrate, you may contain the adhesion improving agent in the colored photosensitive resin composition of this invention. As an adhesion improver, a silane coupling agent, a phosphoric acid group containing compound, etc. are preferable.

실란 커플링제의 종류로는, 에폭시계, (메트)아크릴계, 아미노계 등 여러가지 것을 1 종 단독으로, 혹은 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.As a kind of silane coupling agent, various things, such as an epoxy type, (meth) acrylic type, and amino type, can be used individually or in mixture of 2 or more types.

바람직한 실란 커플링제로서, 예를 들어, 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 등의 (메트)아크릴옥시실란류, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란 등의 에폭시실란류, 3-우레이드프로필트리에톡시실란 등의 우레이드실란류, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등의 이소시아네이트실란류를 들 수 있지만, 특히 바람직하게는, 에폭시실란류의 실란 커플링제이다. As a preferable silane coupling agent, for example, (meth) acryloxysilanes, such as 3-methacryloxypropyl methyl dimethoxysilane and 3-methacryloxypropyl trimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclo Hexyl) Epoxysilanes such as ethyl trimethoxysilane, 3-glycidoxypropyl trimethoxysilane, 3-glycidoxypropyl methyl diethoxysilane, and 3-glycidoxypropyl triethoxysilane, 3-ureid Ureide silanes such as propyl triethoxysilane and isocyanate silanes such as 3-isocyanate propyl triethoxysilane, and the like, are particularly preferably silane coupling agents of epoxy silanes.

인산기 함유 화합물로는, (메트)아크릴로일기 함유 포스페이트류가 바람직하고, 하기 일반식 (XI-A), (XI-B) 또는 (XI-C) 로 나타내는 것이 바람직하다.As the phosphoric acid group-containing compound, (meth) acryloyl group-containing phosphates are preferred, and are preferably represented by the following general formulas (XI-A), (XI-B) or (XI-C).

[화학식 54][Formula 54]

Figure pat00054
Figure pat00054

상기 일반식 (XI-A), (XI-B) 및 (XI-C) 에 있어서, R51 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고;In the general formulas (XI-A), (XI-B) and (XI-C), R 51 represents a hydrogen atom or a methyl group;

l 및 l' 는 1 ∼ 10 의 정수를 나타내고;l and l 'represent the integer of 1-10;

m 은 1, 2 또는 3 을 나타낸다.m represents 1, 2 or 3.

이들 인산기 함유 화합물도 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.These phosphoric acid group-containing compounds may be used alone or in combination of two or more.

[1-6-2] 안료 유도체 [1-6-2] Pigment derivatives

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에는, 분산성, 보존성 향상을 위해, 분산 보조제로서 안료 유도체를 함유시켜도 된다.In the colored photosensitive resin composition of the present invention, in order to improve dispersibility and preservation, a pigment derivative may be contained as a dispersion aid.

안료 유도체로는 아조계, 프탈로시아닌계, 퀴나크리돈계, 벤즈이미다졸론계, 퀴노프탈론계, 이소인돌리논계, 디옥사진계, 안트라퀴논계, 인단트렌계, 페릴렌계, 페리논계, 디케토피롤로피롤계, 디옥사진계 등의 유도체를 들 수 있지만, 그 중에서도 프탈로시아닌계, 퀴노프탈론계가 바람직하다.Pigment derivatives include azo-based, phthalocyanine-based, quinacridone-based, benzimidazolone-based, quinophthalone-based, isoindolinone-based, dioxazine-based, anthraquinone-based, indanthrene-based, perylene-based, perinone-based, diketopyrrolo And derivatives such as pyrrole-based and dioxazine-based, among others, phthalocyanine-based and quinophthalone-based are preferable.

안료 유도체의 치환기로는 술폰산기, 술폰아미드기 및 그 4 급 염, 프탈이미드메틸기, 디알킬아미노알킬기, 수산기, 카르복실기, 아미드기 등이 안료 골격에 직접 또는 알킬기, 아릴기, 복소 고리기 등을 개재하여 결합한 것을 들 수 있으며, 바람직하게는 술폰산기이다. 또 이들 치환기는 하나의 안료 골격에 복수 치환하고 있어도 된다.As the substituent of the pigment derivative, sulfonic acid groups, sulfonamide groups and quaternary salts thereof, phthalimidemethyl groups, dialkylaminoalkyl groups, hydroxyl groups, carboxyl groups, amide groups, etc. are directly on the pigment skeleton or alkyl groups, aryl groups, heterocyclic groups, etc. What is bonded through is mentioned, Preferably it is a sulfonic acid group. Moreover, these substituents may be substituted by multiple in one pigment skeleton.

안료 유도체의 구체예로는 프탈로시아닌의 술폰산 유도체, 퀴노프탈론의 술폰산 유도체, 안트라퀴논의 술폰산 유도체, 퀴나크리돈의 술폰산 유도체, 디케토피롤로피롤의 술폰산 유도체, 디옥사진의 술폰산 유도체 등을 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Specific examples of the pigment derivatives include sulfonic acid derivatives of phthalocyanine, sulfonic acid derivatives of quinophthalone, sulfonic acid derivatives of anthraquinone, sulfonic acid derivatives of quinacridone, sulfonic acid derivatives of diketopyrrolopyrrole, sulfonic acid derivatives of dioxazine, and the like. . These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

[1-6-3] 광 산 발생제[1-6-3] Light acid generator

광 산 발생제란, 자외선에 의해 산을 발생할 수 있는 화합물이며, 노광을 실시했을 때에 발생하는 산의 작용에 의해, 예를 들어 멜라민 화합물 등 가교제가 있음으로써 가교 반응을 진행시키게 된다. 이러한 광 산 발생제 중에서도, 용제에 대한 용해성, 특히 감광성 착색 조성물에 사용되는 용제에 대한 용해성이 큰 것이 바람직한 것이고, 예를 들어, 디페닐요오드늄, 디톨릴요오드늄, 페닐(p-아니실)요오드늄, 비스(m-니트로페닐)요오드늄, 비스(p-tert-부틸페닐)요오드늄, 비스(p-클로로페닐)요오드늄, 비스(n-도데실)요오드늄, p-이소부틸페닐(p-톨릴)요오드늄, p-이소프로필페닐(p-톨릴)요오드늄 등의 디아릴요오드늄, 혹은 트리페닐술포늄 등의 트리아릴술포늄의 클로라이드, 브로마이드, 혹은 붕불화염, 헥사플루오로포스페이트염, 헥사플루오로아르세네이트염, 방향족 술폰산염, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트염 등이나, 디페닐페나실술포늄(n-부틸)트리페닐보레이트 등의 술포늄 유기 붕소 착물류, 혹은, 2-메틸-4,6-비스트리클로로메틸트리아진, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스트리클로로메틸트리아진 등의 트리아진 화합물 등을 들 수 있지만 이것에 한정되는 것은 아니다.The photo acid generator is a compound capable of generating acid by ultraviolet rays, and the crosslinking reaction proceeds by the presence of a crosslinking agent such as a melamine compound, for example, by the action of the acid generated when exposure is performed. Among these photo acid generators, those having a high solubility in a solvent, particularly in a solvent used in a photosensitive coloring composition, are preferred, for example, diphenyl iodonium, ditolyl iodonium, and phenyl (p-anisil). Iodonium, bis (m-nitrophenyl) iodonium, bis (p-tert-butylphenyl) iodonium, bis (p-chlorophenyl) iodonium, bis (n-dodecyl) iodonium, p-isobutylphenyl Diaryl iodonium such as (p-tolyl) iodonium, p-isopropylphenyl (p-tolyl) iodonium, or triarylsulfonium such as triphenylsulfonium chloride, bromide, or boride fluoride, hexafluoro Phosphate salts, hexafluoroarsenate salts, aromatic sulfonic acid salts, tetrakis (pentafluorophenyl) borate salts, sulfonium organic boron complexes such as diphenylphenacylsulfonium (n-butyl) triphenylborate, Or, 2-methyl-4,6-bistrichloromethyltria , 2-triazine and the like compounds, such as (4-methoxyphenyl) methyl-4,6-bis-trichloro-triazine as, but not limited to this.

[1-6-4] 가교제[1-6-4] Crosslinking agent

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에는, 또한 가교제를 첨가할 수 있으며, 예를 들어 멜라민 또는 구아나민계의 화합물을 사용할 수 있다. 이들 가교제로는, 예를 들어, 하기 일반식 (XII) 로 나타내는 멜라민 또는 구아나민계의 화합물을 들 수 있다.A crosslinking agent may also be added to the colored photosensitive resin composition of the present invention, and for example, melamine or guanamin compounds may be used. Examples of these crosslinking agents include melamine or guanamine compounds represented by the following general formula (XII).

[화학식 55][Formula 55]

Figure pat00055
Figure pat00055

식 (XII) 중, R61 은 -NR66R67 기 또는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기를 나타내고;In formula (XII), R 61 represents a -NR 66 R 67 group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms;

R61 이 -NR66R67 기인 경우에는 R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 중 하나, 그리고 R61 이 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기인 경우에는 R62, R63, R64 및 R65 중 하나가 -CH2OR68 기를 나타내고;When R 61 is -NR 66 R 67 group, the R 62, R 63, R 64 , R 65, R 66 and R 67 when one, and R 61 is an aryl group having 6 to 12 it is of the R 62, R 63, One of R 64 and R 65 represents a -CH 2 OR 68 group;

R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 의 나머지는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 -CH2OR68 기를 나타내고;The rest of R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 and R 67 each independently represent a hydrogen atom or a -CH 2 OR 68 group;

R68 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다.R 68 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

여기서, 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기는 전형적으로는 페닐기, 1-나프틸기 또는 2-나프틸기이고, 이들 페닐기나 나프틸기에는, 알킬기, 알콕시기, 할로겐 원자 등의 치환기가 결합하고 있어도 된다. 알킬기 및 알콕시기는, 각각 탄소수 1 ∼ 6 정도일 수 있다. R68 로 나타내는 알킬기는, 상기 중에서도, 메틸기 또는 에틸기가 바람직하고, 메틸기가 보다 바람직하다.Here, the aryl group having 6 to 12 carbon atoms is typically a phenyl group, a 1-naphthyl group, or a 2-naphthyl group, and substituents such as an alkyl group, an alkoxy group, and a halogen atom may be bonded to these phenyl groups or naphthyl groups. The alkyl group and the alkoxy group may each have about 1 to 6 carbon atoms. Among the above, the alkyl group represented by R 68 is preferably a methyl group or an ethyl group, and more preferably a methyl group.

일반식 (XII) 에 상당하는 멜라민계 화합물, 즉 하기 일반식 (XII-A) 의 화합물에는, 헥사메틸올멜라민, 펜타메틸올멜라민, 테트라메틸올멜라민, 헥사메톡시메틸멜라민, 펜타메톡시메틸멜라민, 테트라메톡시메틸멜라민, 헥사에톡시메틸멜라민 등이 포함된다.The melamine-based compounds corresponding to the general formula (XII), that is, the compounds of the following general formula (XII-A) include hexamethylolmelamine, pentamethylolmelamine, tetramethylolmelamine, hexamethoxymethylmelamine, and pentamethoxymethyl Melamine, tetramethoxymethylmelamine, hexaethoxymethylmelamine, and the like.

[화학식 56][Formula 56]

Figure pat00056
Figure pat00056

식 (XII-A) 중, R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 중 하나가 아릴기인 경우에는 R62, R63, R64 및 R65 중 하나가 -CH2OR68 기를 나타내고;In formula (XII-A), when one of R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 and R 67 is an aryl group, one of R 62 , R 63 , R 64 and R 65 is -CH 2 OR 68 group;

R62, R63, R64, R65, R66 및 R67 의 나머지는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 -CH2OR68 기를 나타내고;The rest of R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 and R 67 each independently represent a hydrogen atom or a -CH 2 OR 68 group;

R68 은 수소 원자 또는 알킬기를 나타낸다.R 68 represents a hydrogen atom or an alkyl group.

또, 일반식 (XII) 에 상당하는 구아나민계 화합물, 즉 일반식 (XII) 중의 R61 이 아릴인 화합물에는, 테트라메틸올벤조구아나민, 테트라메톡시메틸벤조구아나민, 트리메톡시메틸벤조구아나민, 테트라에톡시메틸벤조구아나민 등이 포함된다.Moreover, to the guanamine-based compound corresponding to the general formula (XII), that is, the compound in which R 61 in the general formula (XII) is aryl, tetramethylolbenzoguanamine, tetramethoxymethylbenzoguanamine, and trimethoxymethylbenzo Guanamine, tetraethoxymethylbenzoguanamine, and the like.

또한, 메틸올기 또는 메틸올알킬에테르기를 갖는 가교제를 사용할 수도 있다. 이하에 그 예를 든다.Further, a crosslinking agent having a methylol group or a methylol alkyl ether group can also be used. The example is given below.

2,6-비스(하이드록시메틸)-4-메틸페놀, 4-tert-부틸-2,6-비스(하이드록시메틸)페놀, 5-에틸-1,3-비스(하이드록시메틸)퍼하이드로-1,3,5-트리아진-2-온 (통칭 N-에틸디메틸올트리아존) 또는 그 디메틸에테르체, 디메틸올트리메틸렌우레아 또는 그 디메틸에테르체, 3,5-비스(하이드록시메틸)퍼하이드로-1,3,5-옥사디아진-4-온 (통칭 디메틸올유론) 또는 그 디메틸에테르체, 테트라메틸올글리옥살디우레인 또는 그 테트라메틸에테르체.2,6-bis (hydroxymethyl) -4-methylphenol, 4-tert-butyl-2,6-bis (hydroxymethyl) phenol, 5-ethyl-1,3-bis (hydroxymethyl) perhydro -1,3,5-triazine-2-one (collectively N-ethyldimethyloltriazone) or its dimethyl ether body, dimethyloltrimethylene urea or its dimethyl ether body, 3,5-bis (hydroxymethyl) Perhydro-1,3,5-oxadiazin-4-one (commonly known as dimethyloluron) or its dimethyl ether body, tetramethylolglyoxaldiurene or its tetramethyl ether body.

또한, 이들 가교제는 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 가교제를 사용할 때의 양은, 감광성 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여 0.1 ∼ 15 질량% 가 바람직하고, 특히 바람직하게는 0.5 ∼ 10 질량% 이다.Moreover, these crosslinking agents may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more type. The amount when a crosslinking agent is used is preferably 0.1 to 15% by mass, particularly preferably 0.5 to 10% by mass, based on the total solid content of the photosensitive coloring composition.

[1-6-5] 메르캅토 화합물[1-6-5] Mercapto Compound

중합 촉진제로서, 또, 기판에 대한 밀착성의 향상을 위해, 메르캅토 화합물을 첨가하는 것도 가능하다.As a polymerization accelerator, it is also possible to add a mercapto compound to improve adhesion to a substrate.

메르캅토 화합물의 종류로는, 2-메르캅토벤조티아졸, 2-메르캅토벤조옥사졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 헥산디티올, 데칸디티올, 1,4-디메틸메르캅토벤젠, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 부탄디올비스티오글리콜레이트, 에틸렌글리콜비스티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 펜타에리트리톨테트라키스티오프로피오네이트, 펜타에리트리톨테트라키스티오글리콜레이트, 트리스하이드록시에틸트리스티오프로피오네이트, 에틸렌글리콜비스(3-메르캅토부티레이트), 부탄디올비스(3-메르캅토부티레이트), 1,4-비스(3-메르캅토부티릴옥시)부탄, 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토부티레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토부티레이트), 펜타에리트리톨트리스(3-메르캅토부티레이트), 에틸렌글리콜비스(3-메르캅토이소부티레이트), 부탄디올비스(3-메르캅토이소부티레이트), 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토이소부티레이트), 1,3,5-트리스(3-메르캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온 등의 복소 고리를 갖는 메르캅토 화합물 또는 지방족 다관능 메르캅토 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 여러가지 것을 1 종류 단독으로, 혹은 2 종류 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.As a kind of mercapto compound, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzoimidazole, hexanedithiol, decandithiol, 1,4-dimethylmercaptobenzene, butanediol Bisthiopropionate, butanediol bisthioglycolate, ethylene glycol bisthioglycolate, trimethylolpropane tristhioglycolate, butanediol bisthiopropionate, trimethylolpropane tristhiopropionate, trimethylolpropane tristhioglycolate , Pentaerythritol tetrakisthiopropionate, pentaerythritol tetrakisthioglycolate, trishydroxyethyltristhiopropionate, ethylene glycol bis (3-mercaptobutyrate), butanediolbis (3-mercaptobutyrate) , 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane, trimethylolpropane tris (3-mercaptobutyrate), pentae Tritoltetrakis (3-mercaptobutyrate), pentaerythritol tris (3-mercaptobutyrate), ethylene glycol bis (3-mercaptoisobutyrate), butanediol bis (3-mercaptoisobutyrate), trimethyl All propane tris (3-mercaptoisobutyrate), 1,3,5-tris (3-mercaptobutyloxyethyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H And a mercapto compound having a heterocycle such as) -trione or an aliphatic polyfunctional mercapto compound. These can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

[1-6-6] 계면 활성제[1-6-6] Surfactant

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에는, 도포성 향상을 위해서, 계면 활성제를 함유시켜도 된다.The colored photosensitive resin composition of the present invention may contain a surfactant in order to improve the coatability.

계면 활성제로는, 예를 들어, 아니온계 계면 활성제, 카티온계 계면 활성제, 비이온계 계면 활성제, 양쪽성 계면 활성제 등의 여러가지 것을 사용할 수 있다. 그 중에서도, 여러 특성에 악영향을 미칠 가능성이 낮은 점에서, 비이온계 계면 활성제를 사용하는 것이 바람직하고, 그 중에서도 불소계나 실리콘계의 계면 활성제가 도포성의 면에서 효과적이다.As surfactant, various things, such as an anionic surfactant, a cationic surfactant, a nonionic surfactant, and an amphoteric surfactant, can be used, for example. Among them, it is preferable to use a nonionic surfactant from the viewpoint of low possibility of adversely affecting various properties, and among them, a fluorine-based or silicone-based surfactant is effective in terms of applicability.

이들 시판품으로는, 예를 들어, BM Chemie 사 제조 「BM-1000」, 「BM-1100」, DIC 사 제조 「메가팍 F-142D」, 「메가팍 F-172」, 「메가팍 F-173」, 「메가팍 F-183」, 「메가팍 F-470」, 「메가팍 F-475」, 「메가팍 F-478」, 「메가팍 F-554」, 「메가팍 F-559」, 쓰리엠 재팬사 제조 「FC430」, 네오스사 제조 「DFX-18」 등을 들 수 있다.As these commercial items, for example, "BM-1000", "BM-1100" manufactured by BM Chemie, "MegaPak F-142D" manufactured by DIC, "MegaPak F-172", "MegaPak F-173" "," MegaPak F-183 "," MegaPak F-470 "," MegaPak F-475 "," MegaPak F-478 "," MegaPak F-554 "," MegaPak F-559 ", 3M Japan Corporation "FC430", Neos Corporation "DFX-18", etc. are mentioned.

또, 실리콘계 계면 활성제로는, 예를 들어, 토오레·다오코닝사 제조 「DC3PA」, 「SH7PA」, 「DC11PA」, 「SH21PA」, 「SH28PA」, 「SH29PA」, 「8032 Additive」, 「SH8400」, 빅크케미사 제조 「BYK300」, 「BYK323」, 「BYK325」, 「BYK330」, 신에츠 실리콘사 제조 「KP340」 등의 시판품을 들 수 있다.Moreover, as a silicone surfactant, For example, "DC3PA", "SH7PA", "DC11PA", "SH21PA", "SH28PA", "SH29PA", "8032 Additive", "SH8400" manufactured by Toray Dao Corning Corporation , Commercial products such as "BYK300", "BYK323", "BYK325", "BYK330" manufactured by BICK Chemical, and "KP340" manufactured by Shin-Etsu Silicone.

계면 활성제로서, 불소계 계면 활성제 및 실리콘계 계면 활성제 이외의 것을 포함하고 있어도 되고, 그 밖의 계면 활성제로는, 비이온계 계면 활성제, 아니온계 계면 활성제, 카티온계 계면 활성제, 양쪽성 계면 활성제 등을 들 수 있다.As the surfactant, other than fluorine-based surfactants and silicone-based surfactants may be included, and other surfactants include nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants, and amphoteric surfactants. have.

또한, 계면 활성제는, 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 임의의 조합 및 비율로 병용해도 된다. 그 중에서도, 실리콘계 계면 활성제/불소계 계면 활성제의 조합이 바람직하다. 이 실리콘계 계면 활성제/불소계 계면 활성제의 조합에서는, 예를 들어, 빅크케미사 제조 「BYK-300」 또는 「BYK-330」/DIC 사 제조 「F-475」 「F-478」 「F-554」 또는 「F-559」 등을 들 수 있다.Moreover, surfactant may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be used together in arbitrary combinations and ratios. Especially, the combination of a silicone surfactant / fluorine surfactant is preferable. In the combination of this silicone-based surfactant / fluorine-based surfactant, for example, "BYK-300" manufactured by BICKCHEMI Corporation or "BYK-330" / "F-475" "F-478" manufactured by DIC Corporation "F-554" Or "F-559" etc. are mentioned.

[1-6-7] 발액제 [1-6-7] Liquid repellent

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 발액제를 함유하고 있어도 된다. 특히 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여 격벽을 작성하고, 잉크젯법으로 유기 전계 발광 소자를 작성하는 경우에는, 발액제를 함유하는 것이 바람직하다. 발액제를 함유함으로써 그것이 격벽의 표면에 발액성을 부여할 수 있기 때문에, 얻어지는 격벽을 유기종의 화소마다의 혼색을 방지하는 것으로 할 수 있다.The colored photosensitive resin composition of the present invention may contain a liquid repellent agent. Particularly, when a partition wall is formed using the colored photosensitive resin composition of the present invention and an organic electroluminescent element is formed by an inkjet method, it is preferable to contain a liquid repellent agent. Since the liquid repellent can be imparted to the surface of the partition by containing a liquid repellent, the resulting partition can be prevented from mixing in each pixel of the organic species.

발액제로는, 실리콘 함유 화합물이나 불소계 화합물을 들 수 있으며, 바람직하게는, 가교기를 갖는 발액제 (이하, 「가교기 함유 발액제」 라고 칭하는 경우가 있다.) 를 들 수 있다. 가교기로는, 에폭시기 또는 에틸렌성 불포화기를 들 수 있고, 현상액의 발액 성분의 유출 억제의 관점에서, 바람직하게는 에틸렌성 불포화기이다.Examples of the liquid repellent include a silicone-containing compound and a fluorine-based compound, and preferably a liquid repellent having a crosslinking group (hereinafter sometimes referred to as "crosslinking group-containing liquid repellent"). An epoxy group or an ethylenically unsaturated group is mentioned as a bridge | crosslinking group, It is an ethylenically unsaturated group from a viewpoint of suppressing the outflow of the liquid repellent component of a developing solution.

가교기 함유 발액제를 사용하는 경우에는, 형성한 도포막을 노광할 때에 그 표면에서의 가교 반응을 가속할 수 있고, 발액제가 현상 처리로 유출하기 어려워지고, 그 결과, 얻어지는 격벽을 높은 발액성을 나타내는 것으로 할 수 있는 것으로 생각된다.In the case of using a crosslinking group-containing liquid repellent agent, when exposing the formed coating film, the crosslinking reaction on its surface can be accelerated, and the repellent agent becomes difficult to flow out by developing treatment, and as a result, the resulting partition walls have high liquid repellency. It seems that it can be done by indicating.

발액제로서 불소계 화합물을 사용한 경우에는, 당해 불소계 화합물이 격벽의 표면에 배향하여, 잉크의 번짐이나 혼색을 방지하는 기능을 하는 경향이 있다. 또한 상세하게는, 불소 원자를 갖는 기가, 잉크를 튀기고, 잉크가 격벽을 넘어 인접하는 영역에 진입하는 것에 의한 잉크의 번짐이나 혼색을 방지하는 기능을 하는 경향이 있다.When a fluorine-based compound is used as the liquid repellent, the fluorine-based compound tends to function on the surface of the partition wall and prevent the ink from spreading or mixing. In addition, in detail, a group having a fluorine atom tends to function to prevent ink bleeding and color mixing due to splashing of the ink and ink entering the adjacent region beyond the partition wall.

가교기 함유 발액제, 특히 에틸렌성 불포화기 함유 불소계 화합물의 구체예로는, 예를 들어 퍼플루오로알킬술폰산, 퍼플루오로알킬카르복실산, 퍼플루오로알킬알킬렌옥사이드 부가물, 퍼플루오로알킬트리알킬암모늄염, 퍼플루오로알킬기와 친수기를 포함하는 올리고머, 퍼플루오로알킬기와 친유기를 포함하는 올리고머, 퍼플루오로알킬기와 친수기와 친유기를 포함하는 올리고머, 퍼플루오로알킬과 친수기를 포함하는 우레탄, 퍼플루오로알킬에스테르, 퍼플루오로알킬인산에스테르 등의 불소 함유 유기 화합물을 들 수 있다.As a specific example of a crosslinking group-containing liquid repellent agent, especially an ethylenically unsaturated group-containing fluorine-based compound, for example, perfluoroalkylsulfonic acid, perfluoroalkylcarboxylic acid, perfluoroalkylalkylene oxide adduct, perfluoro Alkyl trialkyl ammonium salts, oligomers containing perfluoroalkyl groups and hydrophilic groups, oligomers containing perfluoroalkyl groups and lipophilic groups, oligomers containing perfluoroalkyl groups and hydrophilic groups and hydrophilic groups, urethanes containing perfluoroalkyl and hydrophilic groups , Fluorine-containing organic compounds such as perfluoroalkyl esters and perfluoroalkyl phosphate esters.

이들 불소 함유 화합물의 시판품으로는, DIC 사 제조 「DEFENSAMCF-300」, 「DEFENSAMCF-310」, 「DEFENSAMCF-312」, 「DEFENSAMCF-323」, 「메가팍 RS-72-K」, 쓰리엠 재팬사 제조 「플루오라드 FC-431」, 「플루오라드 FC-4430」, 「플루오라드 FC-4432」, 아사히 가라스사 제조 「아사히가드 AG710」, 「서플론 S-382」, 「서플론 SC-101」, 「서플론 SC-102」, 「서플론 SC-103」, 「서플론 SC-104」, 「서플론 SC-105」, 「서플론 SC-106」, 다이킨 공업사 제조 「옵툴 DAC-HP」, 「HP-650」 등의 상품명으로 시판되고 있는 불소 함유 화합물을 사용할 수 있다.As commercially available products of these fluorine-containing compounds, "DEFENSAMCF-300", "DEFENSAMCF-310", "DEFENSAMCF-312", "DEFENSAMCF-323", "Megapac RS-72-K" manufactured by DIC, and 3M Japan `` Fluoride FC-431 '', `` Fluoride FC-4430 '', `` Fluoride FC-4432 '', `` AsahiGuard AG710 '' manufactured by Asahi Garas Co., `` Surflon S-382 '', `` Surflon SC-101 '', "Sufflon SC-102", "Sufflon SC-103", "Sufflon SC-104", "Sufflon SC-105", "Sufflon SC-106", "Optool DAC-HP" manufactured by Daikin Corporation , A commercially available fluorine-containing compound such as "HP-650" can be used.

이와 같이, 발액제로서 불소계 화합물을 사용하는 경우에 있어서, 발액제 중의 불소 원자 함유 비율은 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 불소 원자 함유 비율이 1 질량% 이상이 바람직하고, 5 질량% 이상이 보다 바람직하고, 또, 50 질량% 이하가 바람직하고, 25 질량% 이하가 보다 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 높은 접촉각을 나타내는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 화소부에 대한 유출을 억제할 수 있는 경향이 있다.As described above, in the case where a fluorine-based compound is used as the liquid repellent, the proportion of fluorine atoms in the liquid repellent is not particularly limited, but preferably the content of fluorine atoms is preferably 1% by mass or more, and more preferably 5% by mass or more. It is preferable, and 50 mass% or less is preferable, and 25 mass% or less is more preferable. When it is more than the said lower limit, there exists a tendency to show a high contact angle, and when it is less than the said upper limit, there exists a tendency which can suppress leakage to a pixel part.

발액제의 분자량은 특별히 제한되지 않고, 저분자량의 화합물이어도 되고, 고분자량체여도 된다. 고분자량체의 발액제의 쪽이, 소성에 의한 발액제의 유동성이 억제되기 때문에, 격벽 외로 발액제가 유출하는 것을 억제할 수 있는 경향이 있기 때문에 바람직하고, 이러한 관점에서 발액제의 수 평균 분자량은, 100 이상이 바람직하고, 500 이상이 보다 바람직하고, 100000 이하가 바람직하고, 10000 이하가 보다 바람직하다.The molecular weight of the liquid repellent is not particularly limited, and may be a low molecular weight compound or a high molecular weight body. The high molecular weight liquid repellent is preferable because the fluidity of the liquid repellent by firing is suppressed, and it is preferable because the liquid repellent tends to be suppressed from flowing out of the partition wall. In this respect, the number average molecular weight of the liquid repellent is , 100 or more are preferable, 500 or more are more preferable, 100000 or less are preferable, and 10000 or less are more preferable.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 중의 발액제의 함유 비율은, 전체 고형분에 대하여 통상적으로 0.01 질량% 이상, 바람직하게는 0.05 질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.1 질량% 이상, 통상적으로 1 질량% 이하, 바람직하게는 0.5 질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.3 질량% 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 높은 발액성을 나타내는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 발액제의 화소부에 대한 유출을 억제할 수 있는 경향이 있다.The content ratio of the liquid repellent agent in the colored photosensitive resin composition of the present invention is usually 0.01% by mass or more, preferably 0.05% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more, and usually 1% by mass or less, based on the total solid content. Preferably it is 0.5 mass% or less, More preferably, it is 0.3 mass% or less. When it is more than the said lower limit, there exists a tendency to show high liquid repellency, and when it is below the said upper limit, there exists a tendency which can suppress the liquid repellent agent from leaking into the pixel part.

[1-6-8] 자외선 흡수제[1-6-8] UV absorber

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 자외선 흡수제를 함유해도 된다. 자외선 흡수제는, 노광에 사용되는 광원의 특정한 파장을 자외선 흡수제에 의해 흡수시킴으로써, 광 경화 분포를 제어하는 목적으로 첨가되는 것이다. 자외선 흡수제의 첨가에 의해, 현상 후의 테이퍼 각도 및 형상을 개선하거나, 현상 후에 비노광부에 남는 잔류물을 없애거나 하는 등의 효과가 얻어지는 경향이 있다. 자외선 흡수제로는, 개시제의 광 흡수의 저해의 관점에서, 예를 들어, 파장 250 ㎚ 내지 400 ㎚ 사이에 흡수 극대를 갖는 화합물을 사용할 수 있다. The colored photosensitive resin composition of the present invention may contain an ultraviolet absorber. The ultraviolet absorber is added for the purpose of controlling the light curing distribution by absorbing a specific wavelength of the light source used for exposure with the ultraviolet absorber. By adding an ultraviolet absorber, effects such as improving the taper angle and shape after development or removing residues remaining on the non-exposed portion after development tend to be obtained. As the ultraviolet absorber, from the viewpoint of inhibiting light absorption of the initiator, for example, a compound having a maximum absorption between the wavelengths of 250 nm to 400 nm can be used.

자외선 흡수제로는, 벤조트리아졸계 화합물 및/또는 트리아진계 화합물이 바람직하다. 벤조트리아졸계 화합물 및/또는 트리아진계 화합물을 포함함으로써 개시제의 막저부에서의 광 흡수율이 감소하고, 막표층과 막저부의 경화 면적의 차이가 작아지는 것에 의해 테이퍼 각도의 증대 효과가 얻어지는 것으로 생각된다.As the ultraviolet absorber, benzotriazole-based compounds and / or triazine-based compounds are preferred. It is considered that the inclusion effect of the benzotriazole-based compound and / or the triazine-based compound reduces the light absorption at the membrane bottom of the initiator and decreases the difference in the curing area of the membrane surface layer and the membrane bottom, thereby increasing the taper angle. .

벤조트리아졸계 화합물로는, 2-(5메틸-2-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-5-tert-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 옥틸-3[3-tert-부틸-4-하이드록시-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)페닐]프로피오네이트와 2-에틸헥실-3-[3-tert-부틸-4-하이드록시-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)페닐]프로피오네이트의 혼합물, 2-[2-하이드록시-3,5-비스(α,α-디메틸벤질)페닐]-2H-벤조트리아졸, 2-(3-tert-부틸-5-메틸-2-하이드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3,5-디-tert-아밀-2-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-tert-옥틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-비스(1-메틸-1-페닐에틸)페놀, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-6-(1-메틸-1-페닐에틸)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀, 벤젠프로판산, 3-(2H-벤조트리아졸-2-일)-5-(1,1-디메틸에틸)-4-하이드록시, C7-9 측사슬 및 직사슬 알킬에스테르를 들 수 있다.As a benzotriazole type compound, 2- (5methyl-2-hydroxyphenyl) benzotriazole, 2- (2-hydroxy-5-tert-butylphenyl) -2H-benzotriazole, octyl-3 [3 -tert-butyl-4-hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl-4-hydride Mixture of hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate, 2- [2-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 2- (3-tert-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (3,5-di-tert-amyl-2-hydride Hydroxyphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-tert-octylphenyl) benzotriazole, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4,6-bis (1- Methyl-1-phenylethyl) phenol, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6- (1-methyl-1-phenylethyl) -4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl ) Phenol, benzenepropanoic acid, 3- (2H-benzotriazol-2-yl) -5- (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxy, C7-9 side chain and There may be mentioned a chain alkyl ester.

시판되고 있는 벤조트리아졸계 화합물로는 예를 들어, 스미소브 200, 스미소브 250, 스미소브 300, 스미소브 340, 스미소브 350 (스미토모 화학사 제조), JF77, JF78, JF79, JF80, JF83 (죠호쿠 화학 공업사 제조), TINUVIN PS, TINUVIN99-2, TINUVIN109, TINUVIN384-2, TINUVIN 326, TINUVIN900, TINUVIN 928, TINUVIN928, TINUVIN1130 (BASF 사 제조), EVERSORB70, EVERSORB71, EVERSORB72, EVERSORB73, EVERSORB74, EVERSORB75, EVERSORB76, EVERSORB234, EVERSORB77, EVERSORB78, EVERSORB80, EVERSORB81 (대만 영광 화학 공업사 제조), 토미소브 100, 토미소브 600 (에이피아이 코포레이션사 제조), SEESORB701, SEESORB702, SEESORB703, SEESORB704, SEESORB706, SEESORB707, SEESORB709 (시프로 화성사 제조), RUVA-93 (오츠카 화학사 제조) 등을 들 수 있다.Commercially available benzotriazole compounds include, for example, Sumib 200, Sumib 250, Sumib 300, Sumib 340, Sumib 350 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), JF77, JF78, JF79, JF80 , JF83 (manufactured by Johor Chemical Industries), TINUVIN PS, TINUVIN99-2, TINUVIN109, TINUVIN384-2, TINUVIN 326, TINUVIN900, TINUVIN 928, TINUVIN928, TINUVIN1130 (manufactured by BASF), EVERSORB70, EVERSORB71, EVERSORB72, EVERSORB72 EVERSORB75, EVERSORB76, EVERSORB234, EVERSORB77, EVERSORB78, EVERSORB80, EVERSORB81 (manufactured by Taiwan Yeonggwang Chemical Industry), TOMISOV 100, TOMISOB 600 (manufactured by AFIA Corporation), SEESORB701, SEESORB702, SEESORB703, SEESORB706, SEESORB703, SEESORB707 And SEESORB709 (produced by Cipro Chemicals), RUVA-93 (produced by Otsuka Chemical Co., Ltd.), and the like.

트리아진계 화합물로는, 2-[4,6-디(2,4-자일릴)-1,3,5-트리아진-2-일]-5-옥틸옥시페놀, 2-[4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진-2-일]-5-[3-(도데실옥시)-2-하이드록시프로폭시]페놀, 2-(2,4-디하이드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진과 (2-에틸헥실글리시드산에스테르의 반응 생성물, 2,4-비스[2-하이드록시-4-부톡시페닐]-6-(2,4-디부톡시페닐)-1,3-5-트리아진 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 테이퍼 각도와 노광 감도의 관점에서, 하이드록시페닐트리아진 화합물이 바람직하다.As the triazine-based compound, 2- [4,6-di (2,4-xylyl) -1,3,5-triazin-2-yl] -5-octyloxyphenol, 2- [4,6- Bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazin-2-yl] -5- [3- (dodecyloxy) -2-hydroxypropoxy] phenol, 2- (2,4 -Dihydroxyphenyl) -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine and reaction product of (2-ethylhexylglycidic acid ester, 2,4-bis [2- Hydroxy-4-butoxyphenyl] -6- (2,4-dibutoxyphenyl) -1,3-5-triazine, etc. Among these, from the viewpoint of taper angle and exposure sensitivity, hydroxy Phenyltriazine compounds are preferred.

시판되고 있는 트리아진계 화합물로는 예를 들어, TINUVIN400, TINUVIN405, TINUVIN460, TINUVIN477, TINUVIN479 (BASF 제조) 등을 들 수 있다.As a commercially available triazine-type compound, TINUVIN400, TINUVIN405, TINUVIN460, TINUVIN477, TINUVIN479 (made by BASF) etc. are mentioned, for example.

[1-6-9] 중합 금지제[1-6-9] Polymerization inhibitor

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 중합 금지제를 함유해도 된다. 중합 금지제를 함유함으로써 그것이 라디칼 중합을 저해하기 때문에, 얻어지는 경화물의 테이퍼 각도를 크게 할 수 있는 경향이 있다.The colored photosensitive resin composition of the present invention may contain a polymerization inhibitor. Since it inhibits radical polymerization by containing a polymerization inhibitor, there is a tendency that the taper angle of the resulting cured product can be increased.

중합 금지제로는, 하이드로퀴논, 하이드로퀴논모노메틸에테르, 메틸하이드로퀴논, 메톡시페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-크레졸 (BHT) 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 중합 금지 능력의 관점에서, 2,6-디-tert-부틸-4-크레졸, 하이드로퀴논 또는 메톡시페놀이 바람직하다.Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, methylhydroquinone, methoxyphenol, 2,6-di-tert-butyl-4-cresol (BHT), and the like. Among these, 2,6-di-tert-butyl-4-cresol, hydroquinone, or methoxyphenol is preferred from the viewpoint of the ability to inhibit polymerization.

중합 금지제는, 1 종 또는 2 종 이상을 함유하는 것이 바람직하다. 통상적으로, (C) 바인더 수지를 제조할 때에, 당해 수지 중에 중합 금지제가 포함되는 경우가 있으며, 수지 중에 포함되는 중합 금지제 외에, 그것과 동일, 또는 상이한 중합 금지제를 감광성 수지 조성물 제조시에 첨가해도 된다.It is preferable that a polymerization inhibitor contains 1 type or 2 or more types. Usually, when manufacturing (C) a binder resin, a polymerization inhibitor may be contained in the said resin, and the same or different polymerization inhibitors other than the polymerization inhibitor contained in the resin may be used when manufacturing the photosensitive resin composition. You may add.

착색 감광성 수지 조성물 중의 중합 금지제의 함유 비율은, 착색 감광성 수지 조성물의 전체 고형분에 대하여, 통상적으로 0.0005 질량% 이상, 바람직하게는 0.001 질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.01 질량% 이상이고, 또 통상적으로 0.1 질량% 이하, 바람직하게는 0.08 질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.05 질량% 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 테이퍼 각도를 높게 할 수 있는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 고감도를 유지할 수 있는 경향이 있다.The content ratio of the polymerization inhibitor in the colored photosensitive resin composition is usually 0.0005 mass% or more, preferably 0.001 mass% or more, more preferably 0.01 mass% or more, and is usually more than the total solid content of the colored photosensitive resin composition. Therefore, it is 0.1 mass% or less, preferably 0.08 mass% or less, and more preferably 0.05 mass% or less. When it is more than the said lower limit, there is a tendency to increase the taper angle, and if it is less than the upper limit, there is a tendency to maintain high sensitivity.

[1-6-10] 무기 충전제[1-6-10] Inorganic filler

또, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 또한, 경화물의 강도의 향상이나, (C) 바인더 수지와의 적당한 상호 작용 (매트릭스 구조의 형성) 에 의한 도포막의 평탄성과 테이퍼각의 향상 등을 목적으로 하여, 무기 충전제를 함유하고 있어도 된다. 그러한 무기 충전제로는, 예를 들어, 탤크, 실리카, 알루미나, 황산바륨, 산화마그네슘, 혹은, 이들을 각종 실란 커플링제에 의해 표면 처리한 것 등을 들 수 있다.The colored photosensitive resin composition of the present invention is also intended to improve the strength of a cured product or to improve the flatness and taper angle of a coated film by appropriate interaction with (C) a binder resin (formation of a matrix structure). Thus, it may contain an inorganic filler. Examples of such inorganic fillers include talc, silica, alumina, barium sulfate, magnesium oxide, or those surface-treated with various silane coupling agents.

이들 무기 충전제의 평균 입자경으로는, 통상적으로 0.005 ∼ 20 ㎛, 바람직하게는 0.01 ∼ 10 ㎛ 이다. 여기서 본 실시형태에 말하는 평균 입자경이란, 벡크만·쿨터사 제조 등의 레이저 회절 산란 입도 분포 측정 장치로 측정한 값이다. 이들 무기 충전제 중, 특히, 실리카 졸 및 실리카 졸 변성물은, 분산 안정성과 함께 테이퍼 각도의 향상 효과가 우수한 경향이 있기 때문에, 바람직하게 배합된다. 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물이 이들 무기 충전제를 포함하는 경우, 그 함유 비율로는, 감도의 관점에서, 전체 고형분에 대하여, 통상적으로 5 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상이고, 통상적으로 80 질량% 이하, 바람직하게는 70 질량% 이하이다.The average particle size of these inorganic fillers is usually 0.005 to 20 μm, preferably 0.01 to 10 μm. Here, the average particle diameter referred to in the present embodiment is a value measured by a laser diffraction scattering particle size distribution measuring device manufactured by Beckman Coulter. Among these inorganic fillers, silica sol and silica sol-modified product are particularly preferably blended because dispersion stability and the effect of improving the taper angle tend to be excellent. When the colored photosensitive resin composition of the present invention contains these inorganic fillers, in terms of the content thereof, from the viewpoint of sensitivity, it is usually 5% by mass or more, preferably 10% by mass or more, usually It is 80 mass% or less, preferably 70 mass% or less.

[1-7] 용제[1-7] Solvent

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 및 안료 분산액은, 통상적으로, 용제를 포함한다. 용제를 포함함으로써, 안료 등의 착색제를 용제 중에 분산할 수 있고, 또, 도포가 용이해진다.The colored photosensitive resin composition and pigment dispersion of the present invention usually contain a solvent. By including a solvent, coloring agents, such as a pigment, can be disperse | distributed in a solvent, and application becomes easy.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 통상적으로, (A) 착색제, (B) 분산제, (C) 바인더 수지, (D) 광 중합성 모노머, (E) 광 중합 개시제 및 필요에 따라 사용되는 그 밖의 각종 재료가, 용제에 용해 또는 분산된 상태로 사용된다. 마찬가지로, 본 발명의 안료 분산액은, 통상적으로, (A) 착색제, (B) 분산제, (C) 바인더 수지 및 필요에 따라 사용되는 그 밖의 각종 재료가, 용제에 용해 또는 분산된 상태로 사용된다. 용제 중에서도, 분산성이나 도포성의 관점에서 유기 용제가 바람직하다.The colored photosensitive resin composition of the present invention is usually (A) a colorant, (B) a dispersant, (C) a binder resin, (D) a photopolymerizable monomer, (E) a photopolymerization initiator, and others used as necessary. Various materials are used in a state dissolved or dispersed in a solvent. Similarly, the pigment dispersion of the present invention is usually used in a state in which (A) a colorant, (B) a dispersant, (C) a binder resin, and other various materials used as necessary are dissolved or dispersed in a solvent. Among the solvents, organic solvents are preferred from the viewpoint of dispersibility and coatability.

유기 용제 중에서도, 도포성의 관점에서 비점이 100 ∼ 300 ℃ (압력 1013.25 hPa 조건 아래. 이하, 비점에 관해서는 모두 동일.) 의 범위의 것을 선택하는 것이 바람직하고, 비점이 120 ∼ 280 ℃ 범위의 것을 선택하는 것이 보다 바람직하다.Among the organic solvents, it is preferable to select those having a boiling point of 100 to 300 ° C (under pressure 1013.25 hPa conditions. Hereinafter, all of the boiling points are the same.) From the viewpoint of coatability, and those having a boiling point of 120 to 280 ° C. It is more preferable to choose.

이와 같은 유기 용제로는, 예를 들어, 다음과 같은 것을 들 수 있다.As such an organic solvent, the following are mentioned, for example.

에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 프로필렌글리콜-t-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 메톡시메틸펜탄올, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 3-메톡시부탄올, 3-메틸-3-메톡시부탄올, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 트리프로필렌글리콜메틸에테르와 같은 글리콜모노알킬에테르류;Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, propylene glycol-t- Butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, methoxymethylpentanol, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, 3-me Glycol monoalkyl ethers such as methoxybutanol, 3-methyl-3-methoxybutanol, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, and tripropylene glycol methyl ether;

에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르와 같은 글리콜디알킬에테르류;Glycol dialkyl ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, and dipropylene glycol dimethyl ether ;

에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트와 같은 글리콜알킬에테르아세테이트류;Ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether Acetate, methoxybutyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, methoxypentyl acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, dipropylene glycol mono Glycol alkyl ether acetates such as methyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monoethyl ether acetate, and 3-methyl-3-methoxybutyl acetate;

에틸렌글리콜디아세테이트, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 1,6-헥산올디아세테이트 등의 글리콜디아세테이트류;Glycol diacetates such as ethylene glycol diacetate, 1,3-butylene glycol diacetate, and 1,6-hexanol diacetate;

시클로헥산올아세테이트 등의 알킬아세테이트류;Alkyl acetates such as cyclohexanol acetate;

아밀에테르, 디에틸에테르, 디프로필에테르, 디이소프로필에테르, 디부틸에테르, 디아밀에테르, 에틸이소부틸에테르, 디헥실에테르와 같은 에테르류;Ethers such as amyl ether, diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, diamyl ether, ethyl isobutyl ether, and dihexyl ether;

아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸아밀에톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸이소아밀케톤, 디이소프로필케톤, 디이소부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 에틸아밀케톤, 메틸부틸케톤, 메틸헥실케톤, 메틸노닐케톤, 메톡시메틸펜타논과 같은 케톤류;Acetone, methyl ethyl ketone, methyl amyltone, methyl isopropyl ketone, methyl isoamyl ketone, diisopropyl ketone, diisobutyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethyl amyl ketone, methyl butyl ketone, methyl Ketones such as hexyl ketone, methylnonyl ketone, and methoxymethylpentanone;

에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 메톡시메틸펜탄올, 글리세린, 벤질알코올과 같은 1 가 또는 다가 알코올류;Monohydric or polyhydric alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol, methoxymethylpentanol, glycerin, benzyl alcohol Ryu;

n-펜탄, n-옥탄, 디이소부틸렌, n-헥산, 헥센, 이소프렌, 디펜텐, 도데칸과 같은 지방족 탄화수소류;aliphatic hydrocarbons such as n-pentane, n-octane, diisobutylene, n-hexane, hexene, isoprene, dipentene and dodecane;

시클로헥산, 메틸시클로헥산, 메틸시클로헥센, 비시클로헥실과 같은 지환식 탄화수소류;Alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, methylcyclohexane, methylcyclohexene and bicyclohexyl;

벤젠, 톨루엔, 자일렌, 쿠멘과 같은 방향족 탄화수소류;Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and cumene;

아밀포르메이트, 에틸포르메이트, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산프로필, 아세트산아밀, 메틸이소부티레이트, 에틸렌글리콜아세테이트, 에틸프로피오네이트, 프로필프로피오네이트, 부티르산부틸, 부티르산이소부틸, 이소부티르산메틸, 에틸카프릴레이트, 부틸스테아레이트, 에틸벤조에이트, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, γ-부티로락톤과 같은 사슬형 또는 고리형 에스테르류;Amyl formate, ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate, propyl acetate, amyl acetate, methyl isobutyrate, ethylene glycol acetate, ethyl propionate, propyl propionate, butyl butyrate, isobutyl butyrate, methyl isobutyrate, ethyl Caprylate, butylstearate, ethylbenzoate, 3-ethoxypropionate methyl, 3-ethoxypropionate ethyl, 3-methoxypropionate methyl, 3-methoxypropionate ethyl, 3-methoxypropionate propyl, 3-meth Chain or cyclic esters such as butyl propionate and γ-butyrolactone;

3-메톡시프로피온산, 3-에톡시프로피온산과 같은 알콕시카르복실산류;Alkoxycarboxylic acids such as 3-methoxypropionic acid and 3-ethoxypropionic acid;

부틸클로라이드, 아밀클로라이드와 같은 할로겐화 탄화수소류;Halogenated hydrocarbons such as butyl chloride and amyl chloride;

메톡시메틸펜타논과 같은 에테르케톤류;Ether ketones such as methoxymethylpentanone;

아세토니트릴, 벤조니트릴과 같은 니트릴류 등.Nitriles such as acetonitrile and benzonitrile.

상기에 해당하는 시판되는 유기 용제로는, 미네랄 스피릿, 바르솔 #2, 아프코 #18솔벤트, 아프코 시너, 소컬 솔벤트 No.1 및 No.2, 솔벳소 #150, 쉘 TS28 솔벤트, 카르비톨, 에틸카르비톨, 부틸카르비톨, 메틸셀로솔브 (「셀로솔브」 는 등록상표. 이하 동일.), 에틸셀로솔브, 에틸셀로솔브아세테이트, 메틸셀로솔브아세테이트, 디글라임 (모두 상품명) 등을 들 수 있다. Commercially available organic solvents corresponding to the above are: mineral spirits, barsol # 2, apco # 18 solvent, apco thinner, solvate solvent No.1 and No.2, Solvesso # 150, shell TS28 solvent, carbitol , Ethyl carbitol, butyl carbitol, methyl cellosolve ("Cellosolve" is a registered trademark. The same applies hereinafter), ethyl cellosolve, ethyl cellosolve acetate, methyl cellosolve acetate, diglyme (all brand names) And the like.

이들 유기 용제는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

포토리소그래피법으로 격벽, 착색 스페이서를 형성하는 경우, 유기 용제로는 비점이 100 ∼ 200 ℃ 의 범위의 것을 선택하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 120 ∼ 170 ℃ 의 비점을 갖는 것이다.When forming a partition wall and a colored spacer by a photolithography method, it is preferable to select a thing with a boiling point in the range of 100-200 degreeC as an organic solvent. More preferably, it has a boiling point of 120 to 170 ° C.

상기 유기 용제 중, 도포성, 표면 장력 등의 밸런스가 좋고, 조성물 중의 구성 성분의 용해도가 비교적 높은 점에서는, 글리콜알킬에테르아세테이트류가 바람직하다.Among the organic solvents, glycol alkyl ether acetates are preferred from the viewpoints of good balance of coatability, surface tension, etc., and relatively high solubility of constituents in the composition.

또, 글리콜알킬에테르아세테이트류는, 단독으로 사용해도 되지만, 다른 유기 용제를 병용해도 된다. 병용하는 유기 용제로서, 특히 바람직한 것은 글리콜모노알킬에테르류이다. 그 중에서도, 특히 조성물 중의 구성 성분의 용해성으로부터 프로필렌글리콜모노메틸에테르가 바람직하다. 또한, 글리콜모노알킬에테르류는 극성이 높고, 첨가량이 지나치게 많으면 안료가 응집하기 쉽고, 후에 얻어지는 착색 감광성 수지 조성물의 점도가 올라가는 등의 보존 안정성이 저하되는 경향이 있으므로, 용제 중의 글리콜모노알킬에테르류의 비율은 5 질량% ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 5 질량% ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하다.Moreover, although glycol alkyl ether acetates may be used independently, you may use together other organic solvents. As the organic solvent to be used in combination, glycol monoalkyl ethers are particularly preferred. Especially, propylene glycol monomethyl ether is preferable from the solubility of the component in a composition. In addition, glycol monoalkyl ethers have high polarity, and when the amount of addition is too large, the pigment tends to aggregate, and the storage stability, such as the viscosity of the colored photosensitive resin composition obtained later, tends to decrease, and thus glycol monoalkyl ethers in the solvent. The proportion of is preferably 5% by mass to 30% by mass, and more preferably 5% by mass to 20% by mass.

또, 150 ℃ 이상의 비점을 갖는 유기 용제 (이하 「고비등점 용제」 라고 칭하는 경우가 있다.) 를 병용하는 것도 바람직하다. 이와 같은 고비등점 용제를 병용함으로써, 착색 감광성 수지 조성물은 마르기 어려워지지만, 조성물 중에 있어서의 안료의 균일한 분산 상태가, 급격한 건조에 의해 파괴되는 것을 방지하는 효과가 있다. 즉, 예를 들어 슬릿 노즐 선단에 있어서의, 착색제 등의 석출·고화에 의한 이물질 결함의 발생을 방지하는 효과가 있다. 이와 같은 효과가 높은 점에서, 상기 서술한 각종 용제 중에서도, 특히 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 및 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트가 바람직하다.Moreover, it is also preferable to use together the organic solvent which has a boiling point of 150 degreeC or more (it may be called "high boiling point solvent" hereafter.). By using such a high boiling point solvent together, the colored photosensitive resin composition becomes difficult to dry, but there is an effect of preventing the uniform dispersion state of the pigment in the composition from being destroyed by rapid drying. That is, for example, there is an effect of preventing the occurrence of foreign matter defects due to precipitation and solidification of a colorant or the like at the tip of the slit nozzle. Among these various solvents, diethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, and diethylene glycol monoethyl ether acetate are particularly preferable from the above-mentioned various solvents.

유기 용제 중의 고비등점 용제의 함유 비율은, 3 질량% ∼ 50 질량% 가 바람직하고, 5 질량% ∼ 40 질량% 가 보다 바람직하고, 5 질량% ∼ 30 질량% 가 특히 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써, 예를 들어 슬릿 노즐 선단에서 착색재 등이 석출·고화하여 이물질 결함을 야기하는 것을 억제할 수 있는 경향이 있고, 또 상기 상한값 이하로 함으로써 조성물의 건조 온도가 느려지는 것을 억제되고, 감압 건조 프로세스의 택트 불량이나, 프리베이크의 핀 자국과 같은 문제를 억제할 수 있는 경향이 있다.The content ratio of the high boiling point solvent in the organic solvent is preferably 3% by mass to 50% by mass, more preferably 5% by mass to 40% by mass, and particularly preferably 5% by mass to 30% by mass. By setting it as more than the said lower limit, it tends to suppress that a coloring material etc. precipitates and solidifies at the tip of a slit nozzle, for example, and it can suppress that it causes a foreign material defect, and when it is below the said upper limit, it suppresses that the drying temperature of a composition becomes slow. There is a tendency to suppress problems such as poor tact in the vacuum drying process and pin marks of the prebaking.

또한, 비점 150 ℃ 이상의 고비등점 용제가, 글리콜알킬에테르아세테이트류여도 되고, 또 글리콜알킬에테르류여도 되며, 이 경우에는, 비점 150 ℃ 이상의 고비등점 용제를 별도 함유시키지 않아도 상관없다.Further, the high boiling point solvent having a boiling point of 150 ° C or higher may be a glycol alkyl ether acetate or a glycol alkyl ether, and in this case, it is not necessary to separately contain a high boiling point solvent having a boiling point of 150 ° C or higher.

바람직한 고비등점 용제로서, 예를 들어 전술한 각종 용제 중에서는 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 1,6-헥산올디아세테이트, 트리아세틴 등을 들 수 있다.Preferred high boiling point solvents include, for example, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, and 1,3-butylene glycol diacetate among the various solvents described above. , 1,6-hexanol diacetate, triacetin, and the like.

<착색 감광성 수지 조성물 중의 성분 배합량><Component blending amount in the colored photosensitive resin composition>

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 있어서, (A) 착색제의 함유 비율은, 착색 감광성 수지 조성물 중의 전체 고형분량에 대하여 통상적으로 20 질량% 이상, 25 질량% 이상인 것이 바람직하고, 30 질량% 이상인 것이 보다 바람직하고 또, 60 질량% 이하인 것이 바람직하고, 50 질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 45 질량% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 40 질량% 이하인 것이 보다 더 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 충분한 광학 농도 (OD) 가 얻어지기 쉬워지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 충분한 화상 형성성이 확보하기 쉬워지는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 20 ∼ 60 질량% 가 바람직하고, 25 ∼ 50 질량% 가 보다 바람직하고, 30 ∼ 45 질량% 가 더욱 바람직하고, 30 ∼ 40 질량% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.In the colored photosensitive resin composition of the present invention, the content ratio of the colorant (A) is preferably 20% by mass or more, preferably 25% by mass or more, and more preferably 30% by mass or more with respect to the total amount of solids in the colored photosensitive resin composition. Preferably, it is preferably 60% by mass or less, more preferably 50% by mass or less, more preferably 45% by mass or less, and even more preferably 40% by mass or less. When it is more than the said lower limit, sufficient optical density (OD) tends to be easy to obtain, and when it is below the said upper limit, sufficient image formability tends to be easily secured. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 20 to 60% by mass, more preferably 25 to 50% by mass, still more preferably 30 to 45% by mass, and particularly preferably 30 to 40% by mass.

또, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 및 안료 분산액에 있어서, (A) 착색제에 대한 (A1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은, 통상적으로 10 질량% 이상, 바람직하게는 30 질량% 이상, 보다 바람직하게는 50 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 70 질량% 이상, 보다 더 바람직하게는 80 질량% 이상, 특히 바람직하게는 90 질량% 이상이고, 또, 통상적으로 100 질량% 이하이다. (A) 착색제 중의 (A1) 유기 흑색 안료의 함유 비율을 상기 하한값 이상으로 함으로써 보다 원하는 검은 색조의 도막이 얻어지고, 또, 강도가 높은 도막이 얻어지는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 10 ∼ 100 질량% 가 바람직하고, 30 ∼ 100 질량% 가 보다 바람직하고, 50 ∼ 100 질량% 가 더욱 바람직하고, 70 ∼ 100 질량% 가 보다 더 바람직하고, 80 ∼ 100 질량% 가 특히 바람직하고, 90 ∼ 100 질량% 를 가장 바람직하게 들 수 있다.Further, in the colored photosensitive resin composition and pigment dispersion of the present invention, the content ratio of the organic black pigment (A1) to the colorant (A) is usually 10% by mass or more, preferably 30% by mass or more, and more preferably Is 50 mass% or more, more preferably 70 mass% or more, even more preferably 80 mass% or more, particularly preferably 90 mass% or more, and is usually 100 mass% or less. When the content ratio of the organic black pigment (A1) in the colorant (A) is equal to or more than the above lower limit, a coating film having a more desired black color tone is obtained, and a coating film having high strength tends to be obtained. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 10 to 100% by mass, more preferably 30 to 100% by mass, even more preferably 50 to 100% by mass, even more preferably 70 to 100% by mass, and 80 to 80% by mass. 100 mass% is especially preferable and 90-100 mass% is most preferable.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 및 안료 분산액에 있어서, (A) 착색제 중에, (A1) 유기 흑색 안료와 함께 (A2) 유기 착색 안료를 함유하는 경우도 있다. 그 경우, (A) 착색제에 대한 (A1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은, 통상적으로 10 질량% 이상, 바람직하게는 20 질량% 이상, 보다 바람직하게는 30 질량% 이상, 또 통상적으로 90 질량% 이하, 바람직하게는 80 질량% 이하, 보다 바람직하게는 60 질량% 이하이다. 또, (A2) 유기 착색 안료의 함유 비율은, 통상적으로 10 질량% 이상, 바람직하게는 20 질량% 이상, 보다 바람직하게는 40 질량% 이상이고, 또 통상적으로 90 질량% 이하, 바람직하게는 80 질량% 이하, 보다 바람직하게는 70 질량% 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 테이퍼 각도가 낮아지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 보다 검은 색조의 도막이 얻어지는 경향이 있다. In the colored photosensitive resin composition and pigment dispersion of the present invention, in the colorant (A), the organic color pigment (A2) may be contained together with the organic black pigment (A1). In that case, the content ratio of the (A) organic black pigment to the colorant (A) is usually 10 mass% or more, preferably 20 mass% or more, more preferably 30 mass% or more, and usually 90 mass% Hereinafter, it is preferably 80 mass% or less, and more preferably 60 mass% or less. Moreover, the content rate of (A2) organic coloring pigment is 10 mass% or more normally, Preferably it is 20 mass% or more, More preferably, it is 40 mass% or more, Moreover, it is 90 mass% or less normally, Preferably it is 80 It is mass% or less, More preferably, it is 70 mass% or less. The taper angle tends to be lowered by setting it to the lower limit or more, and a blacker color coating film tends to be obtained by setting the lower limit to the upper limit or less.

또, (A2) 유기 착색 안료 100 질량부에 대한 (A1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은, 통상적으로 15 질량부 이상, 바람직하게는 20 질량부 이상, 통상적으로 900 질량부 이하, 바람직하게는 800 질량부 이하, 보다 바람직하게는 500 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 200 질량부 이하이다.Moreover, the content ratio of (A1) organic black pigment to 100 mass parts of (A2) organic coloring pigment is usually 15 parts by mass or more, preferably 20 parts by mass or more, and usually 900 parts by mass or less, preferably 800 It is below mass parts, more preferably below 500 parts by mass, still more preferably below 200 parts by mass.

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 및 안료 분산액에 있어서, (A) 착색제 중에, (A1) 유기 흑색 안료와 함께 (A3) 카본 블랙을 함유하는 경우도 있다. 그 경우, (A) 착색제에 대한 (A1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은, 통상적으로 50 질량% 이상, 바람직하게는 60 질량% 이상, 또, 통상적으로 95 질량% 이하, 바람직하게는 90 질량% 이하이다. 또, (A3) 카본 블랙의 함유 비율은, 통상적으로 5 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상, 또 통상적으로 50 질량% 이하, 바람직하게는 40 질량% 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 충분한 광학 농도 (OD) 가 얻어지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 높은 체적 저항값이나 낮은 비유전률이 얻어지고, 또 큐어시의 주름 등이 잘 발생하지 않게 되는 경향이 있다. 또, (A3) 카본 블랙 100 질량부에 대한 (A1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은, 통상적으로 100 질량부 이상, 바람직하게는 150 질량부 이상, 통상적으로 2000 질량부 이하, 바람직하게는 1000 질량부 이하이다.In the colored photosensitive resin composition and pigment dispersion of the present invention, (A) the colorant may contain (A3) carbon black together with the (A1) organic black pigment. In that case, the content ratio of the organic black pigment (A1) to the colorant (A) is usually 50% by mass or more, preferably 60% by mass or more, and usually 95% by mass or less, preferably 90% by mass Is below. Moreover, the content rate of (A3) carbon black is 5 mass% or more normally, Preferably it is 10 mass% or more, Moreover, it is 50 mass% or less normally, Preferably it is 40 mass% or less. When it is more than the above-mentioned lower limit, a sufficient optical density (OD) tends to be obtained, and if it is below the above-mentioned upper limit, a high volume resistivity value or a low relative dielectric constant is obtained, and wrinkles and the like during curing are less likely to occur. have. In addition, the content ratio of (A1) organic black pigment to 100 parts by mass of (A3) carbon black is usually 100 parts by mass or more, preferably 150 parts by mass or more, and usually 2000 parts by mass or less, preferably 1000 parts by mass Less than wealth.

또, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 및 안료 분산액에 있어서, (A) 착색제 중에, (A1) 유기 흑색 안료와 함께 (A2) 유기 착색 안료 및 (A3) 카본 블랙을 함유하는 경우도 있다. 그 경우, (A) 착색제에 대한 (A1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은, 통상적으로 10 질량% 이상, 바람직하게는 20 질량% 이상, 또 통상적으로 80 질량% 이하, 바람직하게는 70 질량% 이하이다. 또, (A2) 유기 착색 안료의 함유 비율은, 통상적으로 10 질량% 이상, 바람직하게는 20 질량% 이상, 또 통상적으로 60 질량% 이하, 바람직하게는 50 질량% 이하이다. 또한 (A3) 카본 블랙의 함유 비율은, 통상적으로 5 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상, 또 통상적으로 50 질량% 이하, 바람직하게는 40 질량% 이하이다. 이 경우, (A2) 유기 착색 안료 100 질량부에 대한 (A1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은, 통상적으로 15 질량부 이상, 바람직하게는 20 질량부 이상, 통상적으로 800 질량부 이하, 바람직하게는 700 질량부 이하이다. 또, (A3) 카본 블랙 100 질량부에 대한 (A1) 유기 흑색 안료의 함유 비율은, 통상적으로 40 질량부 이상, 바람직하게는 50 질량부 이상, 통상적으로 1000 질량부 이하, 바람직하게는 900 질량부 이하이다.Moreover, in the coloring photosensitive resin composition of this invention and a pigment dispersion liquid, (A) organic coloring pigment and (A2) organic coloring pigment and (A3) carbon black may be contained in a coloring agent. In that case, the content ratio of the organic black pigment (A1) to the colorant (A) is usually 10 mass% or more, preferably 20 mass% or more, and usually 80 mass% or less, preferably 70 mass% or less to be. Moreover, the content rate of (A2) organic coloring pigment is 10 mass% or more normally, Preferably it is 20 mass% or more, Moreover, it is 60 mass% or less normally, Preferably it is 50 mass% or less. The content ratio of (A3) carbon black is usually 5% by mass or more, preferably 10% by mass or more, and usually 50% by mass or less, preferably 40% by mass or less. In this case, the content ratio of (A1) organic black pigment to 100 parts by mass of (A2) organic coloring pigment is usually 15 parts by mass or more, preferably 20 parts by mass or more, and usually 800 parts by mass or less, preferably 700 parts by mass or less. In addition, the content ratio of (A1) organic black pigment to 100 parts by mass of (A3) carbon black is usually 40 parts by mass or more, preferably 50 parts by mass or more, and usually 1000 parts by mass or less, preferably 900 parts by mass Less than wealth.

(B) 분산제의 함유 비율은, 착색 감광성 수지 조성물의 고형분 중, 통상적으로 1 질량% 이상이고, 3 질량% 이상이 바람직하고, 5 질량% 이상이 보다 바람직하고, 또 통상적으로 30 질량% 이하, 20 질량% 이하가 바람직하고, 15 질량% 이하가 보다 바람직하고, 10 질량% 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 분산성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잉여인 분산제를 줄일 수 있고 현상성이 양호해지는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 3 ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하고, 5 ∼ 15 질량% 가 더욱 바람직하고, 5 ∼ 10 질량% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.(B) The content ratio of the dispersant is usually 1% by mass or more, preferably 3% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, and usually 30% by mass or less, among the solid content of the colored photosensitive resin composition, 20 mass% or less is preferable, 15 mass% or less is more preferable, and 10 mass% or less is more preferable. When it is more than the said lower limit, there exists a tendency for dispersibility to become favorable, and when it is less than the said upper limit, a dispersing agent which is excess can reduce and there exists a tendency for developability to become favorable. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 30 mass%, more preferably 3 to 20 mass%, still more preferably 5 to 15 mass%, and particularly preferably 5 to 10 mass%.

또, (A) 착색제 100 질량부에 대한 (B) 분산제의 함유 비율은, 통상적으로 5 질량부 이상, 10 질량부 이상이 바람직하고, 통상적으로 50 질량부 이하, 30 질량부 이하가 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 분산성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잉여인 분산제를 줄일 수 있고, 현상성이 양호해지는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 5 ∼ 50 질량부가 바람직하고, 10 ∼ 30 질량부를 보다 바람직하게 들 수 있다.In addition, the content ratio of the dispersant (B) to 100 parts by mass of the colorant (A) is preferably 5 parts by mass or more, preferably 10 parts by mass or more, and usually 50 parts by mass or less and preferably 30 parts by mass or less. The dispersibility tends to be improved by setting the amount to the lower limit or more, and the dispersant that is excessive can be reduced to be less than the upper limit, and the developability tends to be improved. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 5 to 50 parts by mass, more preferably 10 to 30 parts by mass.

본 발명의 제 1 양태에 관련된 착색 감광성 수지 조성물에 있어서, 아크릴계 분산제의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 착색 감광성 수지 조성물의 고형분 중, 통상적으로 1 질량% 이상이고, 3 질량% 이상이 바람직하고, 5 질량% 이상이 보다 바람직하고, 또 통상적으로 30 질량% 이하, 20 질량% 이하가 바람직하고, 15 질량% 이하가 보다 바람직하고, 10 질량% 이하가 더욱 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 분산성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잉여인 분산제를 줄일 수 있고, 현상성이 양호해지는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 3 ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하고, 5 ∼ 15 질량% 가 더욱 바람직하고, 5 ∼ 10 질량% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.In the colored photosensitive resin composition according to the first aspect of the present invention, the content ratio of the acrylic dispersant is not particularly limited, but is preferably 1 mass% or more, preferably 3 mass% or more, among the solid content of the colored photosensitive resin composition, 5 mass% or more is more preferable, and normally 30 mass% or less, 20 mass% or less is preferable, 15 mass% or less is more preferable, and 10 mass% or less is more preferable. The dispersibility tends to be improved by setting the amount to the lower limit or more, and the dispersant that is excessive can be reduced to be less than the upper limit, and the developability tends to be improved. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 30 mass%, more preferably 3 to 20 mass%, still more preferably 5 to 15 mass%, and particularly preferably 5 to 10 mass%.

또, 본 발명의 제 1 양태에 관련된 착색 감광성 수지 조성물 및 본 발명의 제 3 양태에 관련된 안료 분산액에 있어서, (A) 착색제 100 질량부에 대한 아크릴계 분산제의 함유 비율은, 통상적으로 5 질량부 이상, 10 질량부 이상이 바람직하고, 통상적으로 50 질량부 이하, 30 질량부 이하가 바람직하다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 분산성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잉여인 분산제를 줄일 수 있고, 현상성이 양호해지는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 5 ∼ 50 질량부가 바람직하고, 10 ∼ 30 질량부를 보다 바람직하게 들 수 있다.Moreover, in the coloring photosensitive resin composition which concerns on 1st aspect of this invention and the pigment dispersion liquid which concerns on 3rd aspect of this invention, (A) The content rate of the acrylic dispersing agent with respect to 100 mass parts of coloring agents is 5 mass parts or more normally. , 10 parts by mass or more is preferable, and usually 50 parts by mass or less and 30 parts by mass or less are preferable. The dispersibility tends to be improved by setting the amount to the lower limit or more, and the dispersant that is excessive can be reduced to be less than the upper limit, and the developability tends to be improved. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 5 to 50 parts by mass, more preferably 10 to 30 parts by mass.

(C) 바인더 수지의 함유 비율은 특별히 한정되지 않지만, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물의 전체 고형분에 대하여, 통상적으로 5 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상, 보다 바람직하게는 20 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 30 질량% 이상, 특히 바람직하게는 40 질량% 이상이고, 통상적으로 80 질량% 이하, 바람직하게는 70 질량% 이하, 보다 바람직하게는 60 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 50 질량% 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉬워지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 노광부에 대한 현상액의 침투를 낮게 억제하고, 막의 표면 평활성이나 감도의 악화를 억제하기 쉬워지는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 5 ∼ 80 질량% 가 바람직하고, 10 ∼ 70 질량% 가 보다 바람직하고, 20 ∼ 60 질량% 가 더욱 바람직하고, 30 ∼ 50 질량% 가 보다 더 바람직하고, 40 ∼ 50 질량% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.(C) Although the content ratio of the binder resin is not particularly limited, it is usually 5% by mass or more, preferably 10% by mass or more, and more preferably 20% by mass or more with respect to the total solid content of the colored photosensitive resin composition of the present invention. , More preferably 30 mass% or more, particularly preferably 40 mass% or more, usually 80 mass% or less, preferably 70 mass% or less, more preferably 60 mass% or less, still more preferably 50 mass% % Or less. When it is more than the above-mentioned lower limit, a strong film tends to be easily obtained, and if it is below the above-mentioned upper limit, penetration of the developer into the exposed portion is suppressed low, and surface smoothness and deterioration in sensitivity of the film tend to be easily suppressed. . The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 5 to 80 mass%, more preferably 10 to 70 mass%, still more preferably 20 to 60 mass%, even more preferably 30 to 50 mass%, and 40 to 50 mass% is especially preferable.

(C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 함유 비율은, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물의 전체 고형분에 대하여, 통상적으로 5 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상, 보다 바람직하게는 20 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 30 질량% 이상, 보다 더 바람직하게는 35 질량% 이상, 특히 바람직하게는 40 질량% 이상이고, 통상적으로 80 질량% 이하, 바람직하게는 70 질량% 이하, 보다 바람직하게는 60 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 50 질량% 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 강고한 막이 얻어지기 쉬워지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 막의 표면 평활성이나 감도의 악화를 억제하기 쉬워지는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 5 ∼ 80 질량% 가 바람직하고, 10 ∼ 70 질량% 가 보다 바람직하고, 20 ∼ 60 질량% 가 더욱 바람직하고, 30 ∼ 60 질량% 가 보다 더 바람직하고, 35 ∼ 60 질량% 가 특히 바람직하고, 40 ∼ 50 질량% 를 가장 바람직하게 들 수 있다.The content ratio of the (C1) epoxy (meth) acrylate resin is usually 5% by mass or more, preferably 10% by mass or more, and more preferably 20% by mass with respect to the total solid content of the colored photosensitive resin composition of the present invention. Above, more preferably 30% by mass or more, even more preferably 35% by mass or more, particularly preferably 40% by mass or more, usually 80% by mass or less, preferably 70% by mass or less, more preferably It is 60 mass% or less, More preferably, it is 50 mass% or less. When it is more than the said lower limit, a strong film tends to be easy to obtain, and when it is less than the said upper limit, it tends to become easy to suppress the deterioration of surface smoothness and sensitivity of a film. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 5 to 80 mass%, more preferably 10 to 70 mass%, still more preferably 20 to 60 mass%, even more preferably 30 to 60 mass%, and 35 to 60 mass% is especially preferable, and 40-50 mass% is most preferable.

본 발명에 있어서 (C) 바인더 수지에서 차지하는 상기 일반식 (II) 로 나타내는 반복 단위 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 및/또는 상기 일반식 (III) 으로 나타내는 부분 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 함유 비율 (양방을 포함하는 경우에는 그 합계의 함유 비율) 은 특별히 한정되지 않지만, 75 질량% 이상인 것이 바람직하고, 80 질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 85 질량% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 90 질량% 이상인 것이 보다 더 바람직하고, 95 질량% 이상인 것이 특히 바람직하다. 또, 통상적으로 100 질량% 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 아웃 가스 적성이 양호해지는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 75 ∼ 100 질량% 가 바람직하고, 80 ∼ 100 질량% 가 보다 바람직하고, 85 ∼ 100 질량% 가 더욱 바람직하고, 90 ∼ 100 질량% 가 보다 더 바람직하고, 95 ∼ 100 질량% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.In the present invention, the epoxy (meth) acrylate resin having a repeating unit structure represented by the general formula (II) occupied by the binder resin (C) and / or the epoxy (meth) having a partial structure represented by the general formula (III) The content ratio of the acrylate resin (when both are included, the total content ratio) is not particularly limited, but is preferably 75% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, even more preferably 85% by mass or more , More preferably 90% by mass or more, and particularly preferably 95% by mass or more. Moreover, it is 100 mass% or less normally. When it is more than the said lower limit, outgas aptitude tends to become favorable. As a combination of an upper limit and a lower limit, 75-100 mass% is preferable, 80-100 mass% is more preferable, 85-100 mass% is more preferable, 90-100 mass% is more preferable, and 95- 100 mass% is especially preferable.

(D) 광 중합성 모노머의 함유 비율은, 착색 감광성 수지 조성물의 전체 고형분에 대하여, 통상적으로 1 질량% 이상, 바람직하게는 5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 8 질량% 이상이고, 또, 통상적으로 30 질량% 이하, 바람직하게는 20 질량% 이하, 보다 바람직하게는 15 질량% 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 고감도가 되는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상성이 양호해지는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 1 ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 5 ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하고, 8 ∼ 15 질량% 를 더욱 바람직하게 들 수 있다.(D) The content ratio of the photopolymerizable monomer is usually 1% by mass or more, preferably 5% by mass or more, and more preferably 8% by mass or more, and usually with respect to the total solid content of the colored photosensitive resin composition. Therefore, it is 30% by mass or less, preferably 20% by mass or less, and more preferably 15% by mass or less. When it is more than the said lower limit, it tends to become high sensitivity, and when it is less than the said upper limit, developability tends to become favorable. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 1 to 30% by mass, more preferably 5 to 20% by mass, and more preferably 8 to 15% by mass.

(E) 광 중합 개시제의 함유 비율은, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물의 전체 고형분에 대하여, 통상적으로 0.1 질량% 이상, 바람직하게는 0.5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 1 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 2 질량% 이상, 특히 바람직하게는 3 질량% 이상이고, 통상적으로 15 질량% 이하, 바람직하게는 10 질량% 이하, 보다 바람직하게는 8 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 5 질량% 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 양호한 감도가 얻어지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 현상에 적성인 바인더 수지, 광 중합성 모노머의 양을 확보할 수 있는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 0.1 ∼ 15 질량% 가 바람직하고, 0.5 ∼ 10 질량% 가 보다 바람직하고, 1 ∼ 8 질량% 가 더욱 바람직하고, 2 ∼ 5 질량% 가 보다 더 바람직하고, 3 ∼ 5 질량% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.(E) The content ratio of the photopolymerization initiator is usually 0.1% by mass or more, preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more, and even more preferably, based on the total solid content of the colored photosensitive resin composition of the present invention. It is 2 mass% or more, especially preferably 3 mass% or more, and is usually 15 mass% or less, preferably 10 mass% or less, more preferably 8 mass% or less, still more preferably 5 mass% or less. . When it is more than the said lower limit, there exists a tendency for favorable sensitivity to be obtained, and when it is below the said upper limit, there exists a tendency which can ensure the quantity of binder resin suitable for image development and a photopolymerizable monomer. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 0.1 to 15 mass%, more preferably 0.5 to 10 mass%, still more preferably 1 to 8 mass%, still more preferably 2 to 5 mass%, and 3 to 5 mass% is especially preferable.

(E) 광 중합 개시제와 함께 중합 촉진제를 사용하는 경우, 중합 촉진제의 함유 비율은, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물의 전체 고형분에 대하여, 바람직하게는 0.05 질량% 이상이고, 통상적으로 10 질량% 이하, 바람직하게는 5 질량% 이하이다. 또, 중합 촉진제는 (D) 광 중합 개시제 100 질량부에 대하여, 통상적으로 0.1 질량부 이상, 바람직하게는 0.2 질량부 이상이고, 통상적으로 100 질량부 이하, 바람직하게는 50 중량부 이하이다.(E) When using a polymerization accelerator together with a photopolymerization initiator, the content rate of the polymerization accelerator is preferably 0.05 mass% or more, and usually 10 mass% or less, based on the total solid content of the colored photosensitive resin composition of the present invention , Preferably 5% by mass or less. Moreover, with respect to 100 mass parts of photopolymerization initiators (D), the polymerization accelerator is usually 0.1 parts by mass or more, preferably 0.2 parts by mass or more, and usually 100 parts by mass or less, preferably 50 parts by weight or less.

중합 촉진제의 함유 비율을 상기 하한값 이상으로 함으로써 양호한 감도가 얻어지는 경향이 있고, 또 상한값 이하로 함으로써 미노광 부분의 현상액에 대한 용해성이 양호해지는 경향이 있다. When the content ratio of the polymerization accelerator is more than the lower limit, good sensitivity tends to be obtained, and when the content ratio is less than or equal to the upper limit, solubility of the unexposed portion in the developer tends to be good.

또, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 중에서 차지하는 증감 색소의 배합 비율은, 감도의 관점에서, 착색 감광성 수지 조성물 중의 전체 고형분 중, 통상적으로 0.5 질량% 이상, 바람직하게는 1 질량% 이하이고, 통상적으로 20 질량% 이하, 바람직하게는 15 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 10 질량% 이하이다.Moreover, the blending ratio of the sensitizing dye occupied in the colored photosensitive resin composition of the present invention is usually 0.5 mass% or more, preferably 1 mass% or less, among the total solids in the colored photosensitive resin composition from the viewpoint of sensitivity, and is usually It is 20 mass% or less, preferably 15 mass% or less, and more preferably 10 mass% or less.

밀착 향상제를 사용하는 경우, 그 함유 비율은, 착색 감광성 수지 조성물 중의 전체 고형분에 대하여 통상적으로 0.1 ∼ 5 질량%, 바람직하게는 0.2 ∼ 3 질량%, 더욱 바람직하게는 0.4 ∼ 2 질량% 이다. 밀착 향상제의 함유 비율을 상기 하한값 이상으로 함으로써, 밀착성을 향상하는 경향이 있고, 또 상한값 이하로 함으로써, 양호한 감도가 얻어지고, 또 현상 후의 잔류물이 잘 발생하지 않는 경향이 있다.When the adhesion improver is used, the content ratio thereof is usually 0.1 to 5% by mass, preferably 0.2 to 3% by mass, and more preferably 0.4 to 2% by mass relative to the total solid content in the colored photosensitive resin composition. When the content ratio of the adhesion promoter is more than the lower limit, there is a tendency to improve adhesion, and when the content ratio is less than or equal to the upper limit, good sensitivity is obtained, and the residue after development tends to be less likely to occur.

또, 계면 활성제를 사용하는 경우, 그 함유 비율은, 착색 감광성 수지 조성물 중의 전체 고형분에 대하여 통상적으로 0.001 ∼ 10 질량%, 바람직하게는 0.005 ∼ 1 질량%, 더욱 바람직하게는 0.01 ∼ 0.5 질량%, 가장 바람직하게는 0.03 ∼ 0.3 질량% 이다. 계면 활성제의 함유 비율은 상기 하한값 이상으로 함으로써, 도포막의 평활성, 균일성이 얻어지는 경향이 있고, 또 상한값 이하로 함으로써, 불균일 등의 발생이 억제되는 경향이 있다.Moreover, when using surfactant, the content rate is 0.001-10 mass% normally with respect to the whole solid content in a coloring photosensitive resin composition, Preferably it is 0.005-1 mass%, More preferably, it is 0.01-0.5 mass%, Most preferably, it is 0.03 to 0.3 mass%. When the content ratio of the surfactant is greater than or equal to the above lower limit, the smoothness and uniformity of the coating film tends to be obtained, and when the content is less than or equal to the upper limit, occurrence of unevenness or the like tends to be suppressed.

또한, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 전술한 유기 용제를 사용하여, 그 고형분 농도가 통상적으로 5 ∼ 50 질량%, 바람직하게는 10 ∼ 30 질량% 가 되도록 조액 (調液) 된다.In addition, the colored photosensitive resin composition of the present invention is prepared by using the above-described organic solvent so that its solid content concentration is usually 5 to 50% by mass, preferably 10 to 30% by mass.

<착색 감광성 수지 조성물의 물성><Physical properties of the colored photosensitive resin composition>

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 격벽, 착색 스페이서 이외에도 블랙 매트릭스 형성용으로 적합하게 사용할 수 있고, 이러한 관점에서 흑색을 나타내고 있는 것이 바람직하고, 그 도막의 막두께 1 ㎛ 당 광학 농도 (OD) 가 0.5 이상인 것이 바람직하고, 0.8 이상인 것이 보다 바람직하고, 1.0 이상인 것이 더욱 바람직하고, 1.3 이상인 것이 특히 바람직하다.The colored photosensitive resin composition of the present invention can be suitably used for forming a black matrix in addition to partition walls and colored spacers, and preferably exhibits black in this respect, and has an optical density (OD) per 1 µm of the film thickness of the coating film. It is preferably 0.5 or more, more preferably 0.8 or more, still more preferably 1.0 or more, and particularly preferably 1.3 or more.

또, 유기 전계 발광 소자의 격벽 등과 같이, 화상 표시 장치의 화상 표시 영역에서 차지하는 면적 비율이 높은 부재에 적용하는 경우에는, 색조가 보다 흑색에 가까운 것이 바람직하다. 이러한 관점에서, 경화시켰을 때의 색도의 x 가 0.20 이상인 것이 바람직하고, 0.25 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.30 이상인 것이 더욱 바람직하고, 또, 0.50 이하인 것이 바람직하고, 0.45 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.40 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또, 색도의 y 가 0.20 이상인 것이 바람직하고, 0.25 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.30 이상인 것이 더욱 바람직하고, 또, 0.50 이하인 것이 바람직하고, 0.45 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.40 이하인 것이 더욱 바람직하다.In addition, when applied to a member having a high area ratio occupied in the image display area of the image display device, such as a partition wall of an organic electroluminescent element, the color tone is preferably closer to black. From this viewpoint, it is preferable that x of the chromaticity when cured is 0.20 or more, more preferably 0.25 or more, further preferably 0.30 or more, further preferably 0.50 or less, more preferably 0.45 or less, and more preferably 0.40 or less It is more preferable. Moreover, it is preferable that y of chromaticity is 0.20 or more, it is more preferable that it is 0.25 or more, it is more preferable that it is 0.30 or more, it is preferable that it is 0.50 or less, it is more preferable that it is 0.45 or less, and it is still more preferable that it is 0.40 or less.

[2] 안료 분산액의 성분 및 조성[2] composition and composition of pigment dispersion

본 발명의 안료 분산액을 구성하는 성분 및 그 조성에 대해서 설명한다.The components constituting the pigment dispersion of the present invention and its composition will be described.

본 발명의 안료 분산액 (이하, 간단히 「안료 분산액」 이라고 하는 경우가 있다) 은, (A) 착색제, (B) 분산제 및 (C) 바인더 수지를 함유한다. 통상적으로는, 또한 용제도 함유한다. 또, 본 발명의 안료 분산액은, 후술하는 바와 같이, 착색 감광성 수지 조성물을 제조할 때에 사용하는 원료의 하나로서 적합하게 사용할 수 있다.The pigment dispersion of the present invention (hereinafter sometimes simply referred to as "pigment dispersion") contains (A) a colorant, (B) a dispersant, and (C) a binder resin. Usually, it also contains a solvent. Moreover, the pigment dispersion liquid of this invention can be used suitably as one of the raw materials used when manufacturing a coloring photosensitive resin composition, as mentioned later.

안료 분산액에 사용하는 (A) 착색제, (B) 분산제, (C) 바인더 수지 및 용제로는, 착색 감광성 수지 조성물에 사용하는 것으로서 예시한 것을 적합하게 사용할 수 있다.As (A) coloring agent used for a pigment dispersion liquid, (B) dispersing agent, (C) binder resin, and a solvent, what was illustrated as what is used for a coloring photosensitive resin composition can be used conveniently.

본 발명의 안료 분산액에 있어서, (A) 착색제는, 전술한 (A1) 유기 흑색 안료를 포함한다. (A1) 유기 흑색 안료를 포함하는 안료 분산액을 사용하여 제조한 착색 감광성 수지 조성물을 도포하여 얻어진 도막이, 고저항, 저유전율 또한 고차광율을 실현할 수 있고, 보다 흑색에 가까운 색조의 경화물이 되는 경향이 있다.In the pigment dispersion of the present invention, the colorant (A) contains the organic black pigment (A1) described above. (A1) A coating film obtained by applying a colored photosensitive resin composition prepared using a pigment dispersion liquid containing an organic black pigment can achieve high resistance, low dielectric constant and high light shielding ratio, and becomes a cured product of a color closer to black Tend to

또, (B) 분산제는, 아크릴계 분산제를 포함한다. 아크릴계 분산제를 포함하는 안료 분산액을 사용하여 착색 감광성 수지 조성물을 제조함으로써, 현상시의 패턴 밀착성이 양호해지는 경향이 있다.Moreover, (B) dispersing agent contains an acrylic type dispersing agent. When a colored photosensitive resin composition is produced using a pigment dispersion liquid containing an acrylic dispersant, pattern adhesion during development tends to be good.

또, (C) 바인더 수지는, (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지를 포함한다. (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지를 포함하는 안료 분산액을 사용하여 착색 감광성 수지 조성물을 제조함으로써, 경화물 형성 후에 발생하는 아웃 가스량이 적어지는 경향이 있다.Moreover, (C) binder resin contains (C1) epoxy (meth) acrylate resin. (C1) By using a pigment dispersion liquid containing an epoxy (meth) acrylate resin to prepare a colored photosensitive resin composition, the amount of outgas generated after formation of the cured product tends to decrease.

<안료 분산액 중의 성분 배합량><The amount of ingredients in the pigment dispersion>

본 발명의 안료 분산액에 있어서, (A) 착색제의 함유 비율은, 안료 분산액 중의 전체 고형분에 대하여 통상적으로 10 질량% 이상, 바람직하게는 20 질량% 이상, 보다 바람직하게는 30 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 40 질량% 이상, 보다 더 바람직하게는 50 질량% 이상, 특히 바람직하게는 55 질량% 이상, 또, 통상적으로 100 질량% 이하, 바람직하게는 80 질량% 이하, 보다 바람직하게는 70 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 60 질량% 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 착색 감광성 수지 조성물을 적성인 고형분 농도로 제조할 수 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 분산성이 양호해지는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 10 ∼ 80 질량% 가 바람직하고, 20 ∼ 80 질량% 가 보다 바람직하고, 30 ∼ 70 질량% 가 더욱 바람직하고, 40 ∼ 70 질량% 가 보다 더 바람직하고, 50 ∼ 60 질량% 가 특히 바람직하고, 55 ∼ 60 질량% 를 가장 바람직하게 들 수 있다.In the pigment dispersion of the present invention, the content ratio of the colorant (A) is usually 10% by mass or more, preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, and even more preferably with respect to the total solid content in the pigment dispersion. Preferably, it is 40 mass% or more, even more preferably 50 mass% or more, particularly preferably 55 mass% or more, and usually 100 mass% or less, preferably 80 mass% or less, more preferably 70 mass% or more Hereinafter, it is more preferably 60% by mass or less. By making it more than the said lower limit, a colored photosensitive resin composition can be manufactured at a suitable solid content concentration, and when it is below the said upper limit, dispersibility tends to become favorable. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 10 to 80% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, even more preferably 30 to 70% by mass, even more preferably 40 to 70% by mass, and 50 to 50% by mass. 60 mass% is especially preferable and 55-60 mass% is most preferable.

본 발명의 안료 분산액에 있어서, (B) 분산제의 함유 비율은, 안료 분산액 중의 전체 고형분에 대하여 통상적으로 2 질량% 이상, 바람직하게는 5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 10 질량% 이상, 또, 통상적으로 50 질량% 이하, 바람직하게는 40 질량% 이하, 보다 바람직하게는 30 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 20 질량% 이하, 특히 바람직하게는 15 질량% 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 분산성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 잉여인 분산제를 줄어들게 하여, 얻어지는 착색 감광성 수지 조성물의 현상성이 양호해지는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 2 ∼ 50 질량% 가 바람직하고, 5 ∼ 40 질량% 가 보다 바람직하고, 5 ∼ 30 질량% 가 더욱 바람직하고, 5 ∼ 20 질량% 가 보다 더 바람직하고, 10 ∼ 15 질량% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.In the pigment dispersion of the present invention, the content ratio of the dispersant (B) is usually 2% by mass or more, preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, and It is usually 50% by mass or less, preferably 40% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, still more preferably 20% by mass or less, particularly preferably 15% by mass or less. When it is more than the said lower limit, there exists a tendency for dispersibility to become favorable, and when it is below the said upper limit, there exists a tendency for the dispersing agent which is excess to be reduced, and the developability of the obtained colored photosensitive resin composition tends to become favorable. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 2 to 50 mass%, more preferably 5 to 40 mass%, still more preferably 5 to 30 mass%, even more preferably 5 to 20 mass%, and 10 to 15 mass% is especially preferable.

본 발명의 안료 분산액에 있어서, 아크릴계 분산제의 함유 비율은, 안료 분산액 중의 전체 고형분에 대하여 통상적으로 2 질량% 이상, 바람직하게는 5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 10 질량% 이상, 또, 통상적으로 50 질량% 이하, 바람직하게는 40 질량% 이하, 보다 바람직하게는 30 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 20 질량% 이하, 특히 바람직하게는 15 질량% 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 분산성이 양호해짐과 함께 경화물의 현상시에 패턴 밀착성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 얻어지는 착색 감광성 수지 조성물의 현상성이 양호해지는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 2 ∼ 50 질량% 가 바람직하고, 5 ∼ 40 질량% 가 보다 바람직하고, 5 ∼ 30 질량% 가 더욱 바람직하고, 5 ∼ 20 질량% 가 보다 더 바람직하고, 10 ∼ 15 질량% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.In the pigment dispersion of the present invention, the content ratio of the acrylic dispersant is usually 2% by mass or more, preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, and usually, based on the total solid content in the pigment dispersion. It is 50 mass% or less, preferably 40 mass% or less, more preferably 30 mass% or less, still more preferably 20 mass% or less, particularly preferably 15 mass% or less. When it is more than the said lower limit, dispersibility becomes favorable and there exists a tendency for pattern adhesiveness to become favorable at the time of image development of a hardened | cured material, and there exists a tendency for the developability of the colored photosensitive resin composition obtained by making it below the said upper limit to become favorable. The combination of the upper limit and the lower limit is preferably 2 to 50 mass%, more preferably 5 to 40 mass%, still more preferably 5 to 30 mass%, even more preferably 5 to 20 mass%, and 10 to 15 mass% is especially preferable.

본 발명의 안료 분산액에 있어서, (C) 바인더 수지의 함유 비율은, 안료 분산액 중의 전체 고형분에 대하여 통상적으로 5 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상, 보다 바람직하게는 15 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 20 질량% 이상, 특히 바람직하게는 25 질량% 이상, 또, 통상적으로 50 질량% 이하, 바람직하게는 40 질량% 이하, 보다 바람직하게는 35 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 30 질량% 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 분산성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 얻어지는 착색 감광성 수지 조성물 중의 착색제량을 적정화할 수 있고, 충분한 차광성을 확보할 수 있는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 5 ∼ 50 질량% 가 바람직하고, 10 ∼ 40 질량% 가 보다 바람직하고, 15 ∼ 35 질량% 가 더욱 바람직하고, 20 ∼ 35 질량% 가 보다 더 바람직하고, 25 ∼ 30 질량% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.In the pigment dispersion of the present invention, the content ratio of (C) the binder resin is usually 5% by mass or more, preferably 10% by mass or more, more preferably 15% by mass or more, and more preferably with respect to the total solid content in the pigment dispersion Preferably 20 mass% or more, particularly preferably 25 mass% or more, and usually 50 mass% or less, preferably 40 mass% or less, more preferably 35 mass% or less, still more preferably 30 mass% Is below. The dispersibility tends to be improved by setting the amount to the lower limit or more, and the amount of the colorant in the colored photosensitive resin composition obtained by setting the amount to the upper limit or less tends to be appropriate, and there is a tendency to ensure sufficient light shielding properties. As a combination of an upper limit and a lower limit, 5-50 mass% is preferable, 10-40 mass% is more preferable, 15-35 mass% is more preferable, 20-35 mass% is more preferable, and 25- 30 mass% is especially preferable.

본 발명의 안료 분산액에 있어서, (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 함유 비율은, 안료 분산액 중의 전체 고형분에 대하여 통상적으로 5 질량% 이상, 바람직하게는 10 질량% 이상, 보다 바람직하게는 15 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 20 질량% 이상, 특히 바람직하게는 25 질량% 이상, 또, 통상적으로 50 질량% 이하, 바람직하게는 40 질량% 이하, 보다 바람직하게는 35 질량% 이하, 더욱 바람직하게는 30 질량% 이하이다. 상기 하한값 이상으로 함으로써 경화물의 아웃 가스 적성이 양호해지는 경향이 있고, 또, 상기 상한값 이하로 함으로써 얻어지는 착색 감광성 수지 조성물 중의 착색제량을 적정화할 수 있고, 충분한 차광성을 확보할 수 있는 경향이 있다. 상한과 하한의 조합으로는, 5 ∼ 50 질량% 가 바람직하고, 10 ∼ 40 질량% 가 보다 바람직하고, 15 ∼ 35 질량% 가 더욱 바람직하고, 20 ∼ 35 질량% 가 보다 더 바람직하고, 25 ∼ 30 질량% 를 특히 바람직하게 들 수 있다.In the pigment dispersion of the present invention, the content ratio of the (C1) epoxy (meth) acrylate resin is usually 5% by mass or more, preferably 10% by mass or more, more preferably 15 with respect to the total solid content in the pigment dispersion. Mass% or more, more preferably 20 mass% or more, particularly preferably 25 mass% or more, and usually 50 mass% or less, preferably 40 mass% or less, more preferably 35 mass% or less, further preferably It is 30 mass% or less. By setting it as more than the said lower limit, the outgas suitability of a hardened | cured material tends to become favorable, and the amount of the coloring agent in the coloring photosensitive resin composition obtained by making it below the said upper limit tends to be suitable, and there exists a tendency which can ensure sufficient light-shielding property. As a combination of an upper limit and a lower limit, 5-50 mass% is preferable, 10-40 mass% is more preferable, 15-35 mass% is more preferable, 20-35 mass% is more preferable, and 25- 30 mass% is especially preferable.

또한, 본 발명의 안료 분산액은, 전술한 유기 용제를 사용하여, 그 고형분 농도가 통상적으로 5 ∼ 50 질량%, 바람직하게는 10 ∼ 30 질량% 가 되도록 조액 된다.Moreover, the pigment dispersion liquid of this invention is adjusted so that the solid content concentration may be 5-50 mass% normally, Preferably it is 10-30 mass% using the above-mentioned organic solvent.

[3] 착색 감광성 수지 조성물의 제조 방법[3] Method for producing colored photosensitive resin composition

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물 (이하, 「레지스트」 라고 칭하는 경우가 있다.) 은, 통상적인 방법에 따라서 제조된다.The colored photosensitive resin composition of the present invention (hereinafter sometimes referred to as "resist") is produced according to a conventional method.

통상적으로, (A) 착색제는, 미리 페인트 컨디셔너, 샌드 그라인더, 볼 밀, 롤 밀, 스톤 밀, 제트 밀, 호모게나이저 등을 사용하여 분산 처리하는 것이 바람직하다. 분산 처리에 의해 (A) 착색제가 미립자화 되기 때문에, 레지스트의 도포 특성이 향상된다.Usually, the colorant (A) is preferably subjected to dispersion treatment using a paint conditioner, sand grinder, ball mill, roll mill, stone mill, jet mill, homogenizer, or the like. Since the colorant (A) becomes fine particles by the dispersion treatment, the coating properties of the resist are improved.

분산 처리는, 통상적으로, (A) 착색제, 유기 용제, 및 (B) 분산제, 그리고 (C) 바인더 수지의 일부 또는 전부를 병용한 계에서 실시하는 것이 바람직하다 (이하, 분산 처리에 제공하는 혼합물, 및 그 처리로 얻어진 조성물을 「잉크」 또는 「안료 분산액」 이라고 칭하는 경우가 있다). 특히 (B) 분산제로서 고분자 분산제를 사용하면, 얻어진 잉크 및 레지스트의 시간 경과적 증점이 억제되 (분산 안정성이 우수하다) 므로 바람직하다.It is preferable to perform the dispersion treatment in a system in which part or all of (A) a colorant, an organic solvent, and (B) a dispersant and (C) a binder resin are usually used (hereinafter, a mixture provided for the dispersion treatment) And, the composition obtained by the treatment may be referred to as "ink" or "pigment dispersion". Particularly, the use of a polymer dispersant (B) as a dispersant is preferable because the time-dependent thickening of the obtained ink and resist is suppressed (excellent dispersion stability).

이와 같이, 레지스트를 제조하는 공정에 있어서, (A) 착색제, 유기 용제, 및 (B) 분산제를 적어도 함유하는 안료 분산액을 제조하는 것이 바람직하다.Thus, in the process of manufacturing a resist, it is preferable to manufacture a pigment dispersion liquid containing at least (A) a colorant, an organic solvent, and (B) a dispersant.

또한, 착색 감광성 수지 조성물에 배합하는 전체 성분을 함유하는 액에 대하여 분산 처리를 실시한 경우, 분산 처리시에 생기는 발열 때문에, 고반응성의 성분이 변성할 가능성이 있다. 따라서, 고분자 분산제를 포함하는 계에서 분산 처리를 실시하는 것이 바람직하다. In addition, when a dispersion treatment is performed on a liquid containing all the components to be blended in the colored photosensitive resin composition, there is a possibility that a highly reactive component is denatured due to heat generated during dispersion treatment. Therefore, it is preferable to perform the dispersion treatment in a system containing a polymer dispersant.

샌드 그라인더로 (A) 착색제를 분산시키는 경우에는, 0.1 ∼ 8 ㎜ 정도 지름의 유리 비즈 또는 지르코니아 비즈가 바람직하게 사용된다. 분산 처리 조건은, 온도는 통상적으로 0 ℃ 부터 100 ℃ 이며, 바람직하게는 실온부터 80 ℃ 의 범위이다. 분산 시간은 액의 조성 및 분산 처리 장치의 사이즈 등에 의해 적정 시간이 상이하기 때문에 적절히 조절하면 된다. 레지스트의 20 도 경면 광택도 (JIS Z8741) 가 50 ∼ 300 의 범위가 되도록, 잉크의 광택을 제어하는 것이 분산의 기준이다. 레지스트의 광택도를 상기 하한값 이상으로 함으로써, 분산 처리가 충분하지 않고 거친 안료 (착색제) 입자의 잔존을 억제할 수 있고, 현상성, 밀착성, 해상성 등을 충분히 하기 쉬운 경향이 있다. 또, 광택값을 상기 상한값 이하로 함으로써, 안료가 파쇄하여 초미립자가 다수 생기는 것을 회피할 수 있고, 분산 안정성을 유지하기 쉬운 경향이 있다.When dispersing the colorant (A) with a sand grinder, glass beads or zirconia beads with a diameter of about 0.1 to 8 mm are preferably used. The dispersion treatment conditions, the temperature is usually from 0 ° C to 100 ° C, preferably in the range from room temperature to 80 ° C. Since the appropriate time varies depending on the composition of the liquid and the size of the dispersion processing device, the dispersion time may be appropriately adjusted. Controlling the gloss of the ink is the basis of dispersion so that the 20-degree specular glossiness of the resist (JIS Z8741) is in the range of 50 to 300. When the glossiness of the resist is set to be more than the above lower limit, the dispersion treatment is not sufficient and the residual of coarse pigment (coloring agent) particles can be suppressed, and tends to be easy to sufficiently develop, develop adhesiveness, and resolution. Moreover, when the glossiness value is below the above-mentioned upper limit, it is possible to avoid a large number of ultrafine particles due to crushing of the pigment, and tends to be easy to maintain dispersion stability.

또, 잉크 중에 분산된 안료의 분산 입경은 통상적으로 0.03 ∼ 0.3 ㎛ 이며, 동적 광 산란법 등에 의해 측정된다. 다음으로, 상기 분산 처리에 의해 얻어진 잉크와, 레지스트 중에 포함되는, 상기의 다른 성분을 혼합하고, 균일한 용액으로 한다. 레지스트의 제조 공정에 있어서는, 미세한 먼지가 액 중에 섞이는 경우가 많기 때문에, 얻어진 레지스트는 필터 등에 의해 여과 처리하는 것이 바람직하다.Further, the dispersed particle diameter of the pigment dispersed in the ink is usually 0.03 to 0.3 µm, and is measured by dynamic light scattering or the like. Next, the ink obtained by the dispersion treatment is mixed with the above-mentioned other components contained in the resist to obtain a uniform solution. In the manufacturing process of a resist, since fine dust is often mixed in a liquid, it is preferable to filter the obtained resist with a filter or the like.

[4] 경화물 및 그 형성 방법[4] Cured product and method for forming the same

[4-1] 경화물[4-1] Cured product

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 경화시킴으로써, 경화물을 얻을 수 있다. 착색 감광성 수지 조성물로 구성되는 경화물은, 격벽, 착색 스페이서로서 적합하게 사용할 수 있다.A cured product can be obtained by curing the colored photosensitive resin composition of the present invention. The cured product composed of the colored photosensitive resin composition can be suitably used as a partition wall and a colored spacer.

[4-1-1] 격벽[4-1-1] Bulkhead

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 격벽, 특히 유기 전계 발광 소자의 유기종을 구획하기 위한 격벽을 형성하기 위해서 적합하게 사용할 수 있다. 유기 전계 발광 소자에 사용하는 유기종으로는, 예를 들어 일본 공개특허공보 2016-165396호에 기재되어 있는 바와 같은, 정공 주입층, 정공 수송층 혹은 정공 주입층 상의 정공 수송층에 사용하는 유기종을 들 수 있다.The colored photosensitive resin composition of the present invention can be suitably used to form partition walls, particularly partition walls for partitioning organic species of organic electroluminescent devices. Examples of the organic species used in the organic electroluminescent device include organic species used in the hole injection layer, the hole transport layer or the hole transport layer on the hole injection layer, as described in JP 2016-165396, for example. .

[4-1-2] 착색 스페이서[4-1-2] Color spacer

또, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, 격벽 이외에 착색 스페이서용의 레지스트로서 적합하게 사용할 수 있다. 스페이서를 TFT 형 LCD 에 사용하는 경우, TFT 에 입사하는 광에 의해 스위칭 소자로서 TFT 가 오작동을 일으키는 경우가 있고, 착색 스페이서는 이것을 방지하기 위해서 사용된다 (예를 들어, 일본 공개특허공보 평8-234212호 참조).Moreover, the coloring photosensitive resin composition of this invention can be used conveniently as a resist for colored spacers other than a partition wall. When a spacer is used for a TFT type LCD, the TFT may malfunction as a switching element due to light incident on the TFT, and a colored spacer is used to prevent this (for example, Japanese Patent Application Publication No. Hei 8- 234212).

[4-2] 형성 방법[4-2] Formation method

다음으로 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 사용한 격벽, 착색 스페이서에 대해서, 그 제조 방법에 따라서 설명한다. 또 블랙 매트릭스나 그 이외의 경화물도 동일한 방법으로 형성할 수 있다.Next, the partition wall and the colored spacer using the colored photosensitive resin composition of the present invention will be described according to the production method. Moreover, a black matrix or other hardened | cured material can also be formed by the same method.

[4-2-1] 지지체[4-2-1] Support

격벽, 착색 스페이서를 형성하기 위한 지지체로는, 적당한 강도가 있으면, 그 재질은 특별히 한정되는 것은 아니다. 주로 투명 기판이 사용되지만, 재질로는, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 등의 폴리올레핀계 수지, 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리술폰 등의 열가소성 수지제 시트, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리(메트)아크릴계 수지 등의 열경화성 수지 시트, 또는 각종 유리 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 내열성의 관점에서 유리, 내열성 수지가 바람직하다. 또, 기판의 표면에 ITO, IZO 등의 투명 전극이 성막되어 있는 경우도 있다. 투명 기판 이외에는, TFT 어레이 상에 형성하는 것도 가능하다.As a support for forming the partition wall and the colored spacer, the material is not particularly limited as long as it has a suitable strength. Although a transparent substrate is mainly used, as the material, for example, polyester-based resins such as polyethylene terephthalate, polyolefin-based resins such as polypropylene and polyethylene, polycarbonates, polymethyl methacrylates, and thermoplastic resins such as polysulfones A thermosetting resin sheet, such as a 1st sheet, an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, and a poly (meth) acrylic-type resin, various glass, etc. are mentioned. Among these, glass and heat-resistant resin are preferable from the viewpoint of heat resistance. In addition, a transparent electrode such as ITO or IZO may be formed on the surface of the substrate. It is also possible to form on a TFT array other than a transparent substrate.

지지체에는, 접착성 등의 표면 물성의 개량을 위해, 필요에 따라, 코로나 방전 처리, 오존 처리, 실란 커플링제나, 우레탄계 수지 등의 각종 수지의 박막 형성 처리 등을 실시해도 된다.In order to improve the surface physical properties such as adhesion, the support may be subjected to corona discharge treatment, ozone treatment, silane coupling agent, thin film forming treatment of various resins such as urethane-based resin, and the like, if necessary.

투명 기판의 두께는, 통상적으로 0.05 ∼ 10 ㎜, 바람직하게는 0.1 ∼ 7 ㎜ 의 범위가 된다. 또 각종 수지의 박막 형성 처리를 실시하는 경우, 그 막두께는, 통상적으로 0.01 ∼ 10 ㎛, 바람직하게는 0.05 ∼ 5 ㎛ 의 범위이다.The thickness of the transparent substrate is usually in the range of 0.05 to 10 mm, preferably 0.1 to 7 mm. Moreover, when performing thin film formation process of various resin, the film thickness is normally 0.01-10 micrometers, Preferably it is the range of 0.05-5 micrometers.

[4-2-2] 착색 감광성 수지 조성물의 도포[4-2-2] Application of colored photosensitive resin composition

착색 감광성 수지 조성물의 기판 상에 대한 도포는, 스피너법, 와이어바법, 플로우 코트법, 다이 코트법, 롤 코트법, 또는 스프레이 코트법 등에 의해 실시할 수 있다. 그 중에서도, 다이 코트법에 의하면, 도포액 사용량이 대폭 삭감되고, 또한, 스핀 코트법에 따랐을 때에 부착되는 미스트 등의 영향이 전혀 없고, 이물질 발생이 억제되는 등, 종합적인 관점에서 바람직하다.The coloring photosensitive resin composition can be applied to the substrate by a spinner method, a wire bar method, a flow coat method, a die coat method, a roll coat method, or a spray coat method. Among them, according to the die coating method, the amount of the coating solution is greatly reduced, and there is no influence of mist or the like adhered when the spin coating method is followed.

도막의 두께는, 지나치게 두꺼우면, 패턴 현상이 곤란해지는 경우가 있고, 지나치게 얇으면 안료 농도를 높이는 것이 곤란해져 원하는 색 발현이 불가능해지는 경우가 있다. 도막의 두께는, 건조 후의 막두께로서, 통상적으로 0.2 ∼ 10 ㎛ 의 범위로 하는 것이 바람직하고, 보다 바람직한 것은 0.5 ∼ 6 ㎛ 의 범위, 더욱 바람직한 것은 1 ∼ 4 ㎛ 의 범위이다.When the thickness of the coating film is too thick, pattern development may be difficult, and when it is too thin, it is difficult to increase the pigment concentration, and sometimes desired color expression cannot be achieved. The thickness of the coating film is, as a film thickness after drying, usually in the range of 0.2 to 10 μm, more preferably in the range of 0.5 to 6 μm, and more preferably in the range of 1 to 4 μm.

[4-2-3] 도막의 건조[4-2-3] Drying of coating film

기판에 착색 감광성 수지 조성물을 도포한 후의 도막의 건조는, 핫 플레이트, IR 오븐, 또는 컨벡션 오븐을 사용한 건조법에 의해 실시하는 것이 바람직하다. 건조의 조건은, 상기 용제 성분의 종류, 사용하는 건조기의 성능 등에 따라 적절히 선택할 수 있다. 건조 시간은, 용제 성분의 종류, 사용하는 건조기의 성능 등에 따라, 통상적으로는, 40 ∼ 200 ℃ 의 온도에서 15 초 ∼ 5 분간의 범위에서 선택되며, 바람직하게는 50 ∼ 130 ℃ 의 온도에서 30 초 ∼ 3 분간의 범위에서 선택된다.It is preferable to dry the coating film after apply | coating a coloring photosensitive resin composition to a board | substrate by the drying method using a hot plate, an IR oven, or a convection oven. Drying conditions can be appropriately selected depending on the type of the solvent component, the performance of the dryer used, and the like. The drying time depends on the type of the solvent component, the performance of the dryer to be used, and the like, and is usually selected within a range of 15 to 5 minutes at a temperature of 40 to 200 ° C, preferably 30 at a temperature of 50 to 130 ° C It is selected in the range of seconds to 3 minutes.

건조 온도는, 높을수록 투명 기판에 대한 도막의 접착성이 향상되지만, 지나치게 높으면 (C) 바인더 수지가 분해되고, 열 중합을 유발하여 현상 불량을 일으키는 경우가 있다. 또한, 이 도막의 건조 공정은, 온도를 높이지 않고, 감압 챔버 내에서 건조를 실시하는, 감압 건조법이어도 된다.The higher the drying temperature, the better the adhesion of the coating film to the transparent substrate, but if it is too high, (C) the binder resin decomposes, causing thermal polymerization, which may cause poor development. Moreover, the drying process of this coating film may be a reduced pressure drying method in which drying is performed in a reduced pressure chamber without increasing the temperature.

[4-2-4] 노광[4-2-4] Exposure

화상 노광은, 착색 감광성 수지 조성물의 도막 상에, 네거티브의 마스크 패턴을 겹치고 이 마스크 패턴을 통해서, 자외선 또는 가시광선의 광원을 조사하여 실시한다. 이 때, 필요에 따라, 산소에 의한 광 중합성층의 감도의 저하를 방지하기 위해서, 광 중합성의 도막 상에 폴리비닐알코올층 등의 산소 차단층을 형성한 후에 노광을 실시해도 된다. 상기의 화상 노광에 사용되는 광원은, 특별히 한정되는 것은 아니다. 광원으로는, 예를 들어, 크세논 램프, 할로겐 램프, 텅스텐 램프, 고압 수은등, 초고압 수은등, 메탈 할라이드 램프, 중압 수은등, 저압 수은등, 카본 아크, 형광 램프 등의 램프 광원이나, 아르곤 이온 레이저, YAG 레이저, 엑시머 레이저, 질소 레이저, 헬륨 카드뮴 레이저, 반도체 레이저 등의 레이저 광원 등을 들 수 있다. 특정한 파장의 광을 조사하여 사용하는 경우에는, 광학 필터를 이용할 수도 있다.An image exposure is performed by superimposing a negative mask pattern on the coating film of a coloring photosensitive resin composition, and irradiating a light source of ultraviolet light or visible light through this mask pattern. At this time, if necessary, exposure may be performed after forming an oxygen blocking layer such as a polyvinyl alcohol layer on the photopolymerizable coating film in order to prevent deterioration of the sensitivity of the photopolymerizable layer by oxygen. The light source used for the above image exposure is not particularly limited. As the light source, for example, a lamp light source such as a xenon lamp, halogen lamp, tungsten lamp, high pressure mercury lamp, ultra high pressure mercury lamp, metal halide lamp, medium pressure mercury lamp, low pressure mercury lamp, carbon arc, fluorescent lamp, argon ion laser, YAG laser , Laser light sources such as excimer laser, nitrogen laser, helium cadmium laser, and semiconductor laser. When irradiating and using light of a specific wavelength, an optical filter can also be used.

[4-2-5] 현상[4-2-5] Phenomenon

본 발명에 관련된 격벽, 착색 스페이서는, 착색 감광성 수지 조성물에 의한 도막을, 상기의 광원에 의해 화상 노광을 실시한 후, 유기 용제, 또는, 계면 활성제와 알칼리성 화합물을 포함하는 수용액을 사용하는 현상에 의해, 기판 상에 화상을 형성하여 제조할 수 있다. 이 수용액에는, 추가로 유기 용제, 완충제, 착화제, 염료 또는 안료를 포함시킬 수 있다.The partition wall and the colored spacer according to the present invention are developed by using an organic solvent or an aqueous solution containing a surfactant and an alkaline compound after image exposure of the coating film with a colored photosensitive resin composition using the light source described above. , Can be produced by forming an image on a substrate. An organic solvent, a buffer, a complexing agent, a dye, or a pigment can be further included in this aqueous solution.

알칼리성 화합물로는, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화리튬, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 메타규산나트륨, 인산나트륨, 인산칼륨, 인산수소나트륨, 인산수소칼륨, 인산2수소나트륨, 인산2수소칼륨, 수산화암모늄 등의 무기 알칼리성 화합물이나, 모노-·디 또는 트리에탄올아민, 모노-·디 또는 트리메틸아민, 모노-·디 또는 트리에틸아민, 모노- 또는 디이소프로필아민, n-부틸아민, 모노-·디 또는 트리이소프로판올아민, 에틸렌이민, 에틸렌디이민, 테트라메틸암모늄하이드록시드 (TMAH), 콜린 등의 유기 알칼리성 화합물을 들 수 있다. 이들의 알칼리성 화합물은, 2 종 이상의 혼합물이어도 된다.As the alkaline compound, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium silicate, potassium silicate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium phosphate, sodium hydrogen phosphate, potassium hydrogen phosphate , Inorganic alkaline compounds such as sodium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, ammonium hydroxide, or mono-di or triethanolamine, mono-di or trimethylamine, mono-di or triethylamine, mono- or diiso And organic alkaline compounds such as propylamine, n-butylamine, mono- · di or triisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediimine, tetramethylammonium hydroxide (TMAH), and choline. These alkaline compounds may be a mixture of two or more.

계면 활성제로는, 예를 들어, 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌 알킬아릴에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬에스테르류, 소르비탄알킬에스테르류, 모노글리세리드알킬에스테르류 등의 논이온계 계면 활성제, 알킬벤젠술폰산염류, 알킬 나프탈렌술폰산염류, 알킬황산염류, 알킬술폰산염류, 술포숙신산에스테르염류 등의 아니온성 계면 활성제, 알킬베타인류, 아미노산류 등의 양쪽성 계면 활성제를 들 수 있다.Examples of the surfactant include nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkylaryl ethers, polyoxyethylene alkyl esters, sorbitan alkyl esters, and monoglyceride alkyl esters. And anionic surfactants such as alkylbenzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl sulfates, alkyl sulfonates, and sulfosuccinic ester salts, and amphoteric surfactants such as alkyl betaines and amino acids.

유기 용제로는, 예를 들어, 이소프로필알코올, 벤질알코올, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 페닐셀로솔브, 프로필렌글리콜, 디아세톤알코올 등을 들 수 있다. 유기 용제는, 단독으로 사용해도 되고, 또, 수용액과 병용해도 된다.Examples of the organic solvent include isopropyl alcohol, benzyl alcohol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve, propylene glycol, and diacetone alcohol. The organic solvent may be used alone or in combination with an aqueous solution.

현상 처리의 조건은 특별히 제한은 없고, 통상적으로, 현상 온도는 10 ∼ 50 ℃ 의 범위, 그 중에서도 15 ∼ 45 ℃, 특히 바람직하게는 20 ∼ 40 ℃ 에서, 현상 방법은, 침지 현상법, 스프레이 현상법, 브러쉬 현상법, 초음파 현상법 등 중 어느 것의 방법에 따를 수 있다.The conditions of the developing treatment are not particularly limited, and usually, the developing temperature is in the range of 10 to 50 ° C, particularly 15 to 45 ° C, particularly preferably 20 to 40 ° C, and the developing method is immersion developing method, spray developing. Method, brush developing method, ultrasonic developing method, or the like.

[4-2-6] 열 경화 처리[4-2-6] Heat curing treatment

현상 후의 기판에는, 열 경화 처리 또는 광 경화 처리, 바람직하게는 열 경화 처리를 실시한다. 이 때의 열 경화 처리 조건은, 온도는 100 ∼ 280 ℃ 의 범위, 바람직하게는 150 ∼ 250 ℃ 의 범위에서 선택되며, 시간은 5 ∼ 60 분간의 범위에서 선택된다.The substrate after development is subjected to a thermal curing treatment or a photo curing treatment, preferably a thermal curing treatment. The temperature for the heat curing treatment at this time is 100 to 280 ° C, preferably 150 to 250 ° C, and the time is 5 to 60 minutes.

[5] 유기 전계 발광 소자, 화상 표시 장치 및 조명[5] organic electroluminescent devices, image displays and lighting

[5-1] 유기 전계 발광 소자[5-1] Organic electroluminescent device

본 발명의 유기 전계 발광 소자는, 전술한 착색 감광성 수지 조성물로 구성되는 경화물, 예를 들어 격벽을 구비한다.The organic electroluminescent element of the present invention includes a cured product composed of the above-described colored photosensitive resin composition, for example, a partition wall.

예를 들어, 이상 설명한 방법에 의해 제조된 격벽 패턴을 구비하는 기판을 사용하여, 각종 유기 전계 발광 소자가 제조된다. 유기 전계 발광 소자를 형성하는 방법은 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는, 상기 방법에 의해 기판 상에 격벽의 패턴을 형성한 후에, 기능 재료를 진공 상태로 승화시키고, 기판 상의 격벽에 의해 둘러싸인 영역 내에 부착시켜 성막하는 증착법이나, 캐스트법, 스핀 코트법, 잉크젯 인쇄법과 같은 웨트 프로세스로 화소 등의 유기종을 형성함으로써, 유기 전계 발광 소자가 제조된다.For example, various organic electroluminescent devices are manufactured using a substrate having a partition wall pattern manufactured by the method described above. The method for forming the organic electroluminescent element is not particularly limited, but preferably, after forming the pattern of the partition wall on the substrate by the above method, the functional material is sublimed in a vacuum state, and within the area surrounded by the partition wall on the substrate. An organic electroluminescent element is manufactured by forming organic species such as pixels by a wet process such as a deposition method to deposit and form a film, a cast method, a spin coat method, or an inkjet printing method.

유기 전계 발광 소자를 화상 표시 장치의 화소로서 사용하는 경우에는, 어느 화소의 발광층의 광이 다른 화소에 누설되는 것을 방지할 필요가 있고, 또한, 전극 등이 금속인 경우에는 외광의 반사에 수반하는 화상 품질의 저하를 방지할 필요가 있기 때문에, 유기 전계 발광 소자를 구성하는 격벽에 차광성을 부여하는 것이 바람직하다.When an organic electroluminescent element is used as a pixel of an image display device, it is necessary to prevent light of a light emitting layer of one pixel from leaking to another pixel, and when an electrode or the like is a metal, it is accompanied by reflection of external light Since it is necessary to prevent deterioration of image quality, it is preferable to impart light shielding properties to the partition walls constituting the organic electroluminescent element.

또, 유기 전계 발광 소자에 있어서는, 격벽의 상면 및 하면에 전극을 부여하는 것이 필요하기 때문에, 절연성의 관점에서, 격벽은 고저항, 저유전율인 것이 바람직하다. 그 때문에, 격벽에 차광성을 부여하기 위해서 착색제를 사용하는 경우에는, 고저항 또한 저유전율인 상기 (A1) 유기 흑색 안료를 사용하는 것이 바람직하다.Moreover, in the organic electroluminescent element, since it is necessary to provide electrodes on the upper and lower surfaces of the partition, it is preferable that the partition has a high resistance and a low dielectric constant from the viewpoint of insulation. Therefore, when using a coloring agent in order to provide light-shielding property to a partition, it is preferable to use the said (A1) organic black pigment which has high resistance and low dielectric constant.

[5-2] 화상 표시 장치[5-2] Image display device

본 발명의 화상 표시 장치로는, 화상이나 영상을 표시하는 장치이면 특별히 한정은 받지 않지만, 액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치 등을 들 수 있다. 예를 들어, 전술한 착색 스페이서를 포함하는 액정 표시 장치나, 전술한 유기 전계 발광 소자를 포함하는 유기 EL 표시 장치 등을 들 수 있다.The image display device of the present invention is not particularly limited as long as it is an image or video display device, and examples thereof include a liquid crystal display device and an organic EL display device. For example, a liquid crystal display device including the above-described colored spacer, an organic EL display device including the above-described organic electroluminescent element, and the like can be mentioned.

[5-2-1] 액정 표시 장치[5-2-1] Liquid crystal display device

액정 표시 장치는, 전술한 착색 스페이서를 포함하는 것이면 형식이나 구조에 대해서는 특별히 제한은 없다. 예를 들어, TFT 소자 기판 상에, 본 발명의 블랙 매트릭스를 마련하고, 적색, 녹색, 청색의 화소를 형성하고, 필요에 따라 오버코트층을 형성한 후에, 또한 그 위에, 화상 상에 ITO, IZO 등의 투명 전극을 형성하여, 컬러 디스플레이, 액정 표시 장치 등의 부품의 일부로서 사용된다. 또 일부, 평면 배향형 구동 방식 (IPS 모드) 등의 용도에 있어서는, 투명 전극을 형성하지 않는 경우도 있다.The liquid crystal display device is not particularly limited in form and structure as long as it includes the colored spacers described above. For example, after preparing the black matrix of the present invention on a TFT element substrate, forming red, green, and blue pixels, and forming an overcoat layer, if necessary, further over thereon, ITO, IZO on the image It forms a transparent electrode such as, and is used as part of parts such as color displays and liquid crystal displays. Moreover, in some uses, such as a plane-oriented drive system (IPS mode), a transparent electrode may not be formed.

통상적으로, 컬러 필터 상에 배향막을 형성하고, 이 배향막 상에 포토 스페이서를 형성한 후, 대향 기판과 첩합 (貼合) 하여 액정 셀을 형성하고, 형성한 액정 셀에 액정을 주입하고, 대향 전극에 결선하여 완성한다. 배향막으로는, 폴리이미드 등의 수지막이 적합하다. 배향막의 형성에는, 통상적으로, 그라비아 인쇄법 및/또는 플렉소 인쇄법이 채용되며, 배향막의 두께는 수 10 ㎚ 가 된다. 열 소성에 의해 배향막의 경화 처리를 실시한 후, 자외선의 조사나 러빙 천에 의한 처리에 의해 표면 처리하고, 액정의 기울기를 조정할 수 있는 표면 상태로 가공된다.Usually, an alignment film is formed on a color filter, and after forming a photo spacer on the alignment film, a liquid crystal cell is formed by bonding with an opposing substrate, liquid crystal is injected into the formed liquid crystal cell, and a counter electrode Completed by wiring. As the alignment film, a resin film such as polyimide is suitable. In order to form an alignment film, a gravure printing method and / or a flexo printing method is usually employed, and the thickness of the alignment film is several 10 nm. After the alignment film is cured by heat firing, it is subjected to surface treatment by irradiation with ultraviolet rays or treatment with a rubbing cloth, and processed into a surface state capable of adjusting the inclination of the liquid crystal.

[5-2-2] 유기 EL 표시 장치[5-2-2] Organic EL display device

유기 EL 표시 장치는, 전술한 유기 전계 발광 소자를 포함하는 것이면 화상 표시 장치의 형식이나 구조에 대해서는 특별히 제한은 없고, 예를 들어 액티브 구동형 유기 전계 발광 소자를 사용하여 통상적인 방법에 따라서 조립할 수 있다. 예를 들어, 「유기 EL 디스플레이」 (오움사, 헤세이 16년 8월 20일 발행, 토키토 시즈오, 아다치 치하야, 무라타 히데유키 저) 에 기재되어 있는 방법으로, 본 발명의 화상 표시 장치를 형성할 수 있다. 예를 들어, 백색광을 발광하는 유기 전계 발광 소자와 컬러 필터를 조합하여 화상 표시시켜도 되고, RGB 등의 발광색이 상이한 유기 전계 발광 소자를 조합하여 화상 표시시켜도 된다.The organic EL display device is not particularly limited in the form and structure of the image display device as long as it includes the above-described organic electroluminescent element, and can be assembled according to a conventional method using, for example, an active driving type organic electroluminescent element. have. For example, the image display device of the present invention can be formed by the method described in "Organic EL Display" (Oumsa, published on August 20, 2007, Shizuo Tokito, Chihaya Adachi, Hideyuki Murata). have. For example, an image may be displayed by combining an organic electroluminescent element that emits white light and a color filter, or an image may be displayed by combining an organic electroluminescent element having different emission colors such as RGB.

[5-3] 조명[5-3] Lighting

본 발명의 조명은, 전술한 유기 전계 발광 소자를 포함하는 것이다. 형식이나 구조에 대해서는 특별히 제한은 없고, 본 발명의 유기 전계 발광 소자를 사용하여 통상적인 방법에 따라서 조립할 수 있다. 유기 전계 발광 소자로는, 단순 매트릭스 구동 방식으로 해도 되고, 액티브 매트릭스 구동 방식으로 해도 된다.The lighting of the present invention includes the above-described organic electroluminescent element. The form and structure are not particularly limited, and the organic electroluminescent device of the present invention can be used to assemble according to a conventional method. As the organic electroluminescent element, a simple matrix driving method or an active matrix driving method may be used.

본 발명의 조명이 백색광을 발광하는 것으로 하기 위해서, 백색광을 발광하는 유기 전계 발광 소자를 사용해도 된다. 또, 발광색이 상이한 유기 전계 발광 소자를 조합하여, 각 색이 혼색하여 백색이 되도록 구성해도 되고, 혼색 비율을 조정할 수 있도록 구성하여 조색 (調色) 기능을 부여해도 된다.In order for the illumination of the present invention to emit white light, an organic electroluminescent element that emits white light may be used. Further, the organic electroluminescent elements having different luminescence colors may be combined to be configured such that each color is mixed to become white, or may be configured such that the mixing ratio can be adjusted to impart a color matching function.

실시예Example

다음으로, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 그 요지를 넘지 않는 한 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. Next, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples unless the gist is exceeded.

이하의 실시예 및 비교예에서 사용한 착색 감광성 수지 조성물의 구성 성분은 다음과 같다.The constituent components of the colored photosensitive resin composition used in the following Examples and Comparative Examples are as follows.

<바인더 수지-I><Binder resin-I>

닛폰 화약사 제조 「ZCR-1642H」 (중량 평균 분자량 (Mw) 6500, 산가 98 ㎎KOH/g, 카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지). 이 수지는 (C1-1) 에 해당하고, 화학식 (II-1) 로 나타내는 반복 단위 구조를 갖고, 그 R11 은 메틸기이고, R12 는 상기 식 (II-A) 로 나타내는 기이고, RX 는 테트라하이드로프탈산 잔기이다."ZCR-1642H" manufactured by Nippon Chemical Co., Ltd. (weight average molecular weight (Mw) 6500, acid value 98 mgKOH / g, carboxyl group-containing epoxy (meth) acrylate resin). This resin corresponds to (C1-1), has a repeating unit structure represented by formula (II-1), R 11 is a methyl group, R 12 is a group represented by formula (II-A), and R X Is a tetrahydrophthalic acid residue.

<바인더 수지-II><Binder resin-II>

[화학식 57][Formula 57]

Figure pat00057
Figure pat00057

상기 구조의 에폭시 화합물 (에폭시 당량 264) 50 질량부, 아크릴산 13.65 질량부, 3-메톡시부틸아세테이트 60.5 질량부, 트리페닐포스핀 0.936 질량부, 및 파라메톡시페놀 0.032 질량부를, 온도계, 교반기, 냉각관을 장착한 플라스크에 넣고, 교반하면서 90 ℃ 에서 산가가 5 ㎎KOH/g 이하가 될 때까지 반응시켰다. 반응에는 12 시간을 필요로 하고, 에폭시아크릴레이트 용액을 얻었다.50 parts by weight of the epoxy compound of the above structure (epoxy equivalent 264), 13.65 parts by weight of acrylic acid, 60.5 parts by weight of 3-methoxybutyl acetate, 0.936 parts by weight of triphenylphosphine, and 0.032 parts by weight of paramethoxyphenol, thermometer, stirrer, The mixture was placed in a flask equipped with a cooling tube and reacted with stirring until the acid value became 5 mgKOH / g or less at 90 ° C. The reaction required 12 hours, and an epoxy acrylate solution was obtained.

상기 에폭시아크릴레이트 용액 25 질량부 및, 트리메틸올프로판 (TMP) 0.74 질량부, 비페닐테트라카르복실산 2 무수물 (BPDA) 3.95 질량부, 테트라하이드로프탈산 무수물 (THPA) 2.7 질량부를, 온도계, 교반기, 냉각관을 장착한 플라스크에 넣고, 교반하면서 105 ℃ 까지 천천히 승온하여 반응시켰다.25 parts by weight of the epoxy acrylate solution, 0.74 parts by weight of trimethylolpropane (TMP), 3.95 parts by weight of biphenyltetracarboxylic anhydride (BPDA), 2.7 parts by weight of tetrahydrophthalic anhydride (THPA), thermometer, stirrer, The flask was placed in a flask equipped with a cooling tube, and the mixture was slowly heated to 105 ° C while stirring to react.

수지 용액이 투명하게 된 시점에서, 3-메톡시부틸아세테이트로 희석하고, 고형분 50 질량% 가 되도록 조제하고, 산가 112 ㎎KOH/g, 중량 평균 분자량 (Mw) 4100 의 카르복실기 함유 에폭시(메트)아크릴레이트 수지를 얻었다. 이 수지는 (C1-2) 에 해당한다.When the resin solution became transparent, it was diluted with 3-methoxybutyl acetate, prepared to be 50% by mass of solid content, and carboxyl group-containing epoxy (meth) acryl having an acid value of 112 mgKOH / g and a weight average molecular weight (Mw) of 4100. A rate resin was obtained. This resin corresponds to (C1-2).

<바인더 수지-III><Binder resin-III>

[화학식 58][Formula 58]

Figure pat00058
Figure pat00058

상기 구조식으로 나타내는 에폭시 화합물 (DIC 사 제조 EPICLON HP7200HH, 디시클로펜타디엔·페놀 중합물의 폴리글리시딜에테르, 중량 평균 분자량 1000, 에폭시 당량 270) 155 질량부, 아크릴산 41 질량부, p-메톡시페놀 0.1 질량부, 트리페닐포스핀 2.5 질량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 130 질량부를 반응 용기에 투입하고, 100 ℃ 에서 산가가 3.0 ㎎KOH/g 이하가 될 때까지 가열 교반을 하였다. 산가가 목표에 이를 때까지 9 시간을 필요로 하였다 (산가 2.9 ㎎KOH/g). 이어서 추가로 테트라하이드로 무수 프탈산 74 질량부를 첨가하고, 120 ℃ 에서 4 시간 반응시켜, 산가 98 ㎎KOH/g, 중량 평균 분자량 (Mw) 3500 의 바인더 수지-III 용액을 얻었다. 이 수지는 (C1-1) 에 해당한다.Epoxy compound represented by the above structural formula (EPICLON HP7200HH manufactured by DIC, polyglycidyl ether of a dicyclopentadiene / phenol polymer, weight average molecular weight 1000, epoxy equivalent 270) 155 parts by weight, acrylic acid 41 parts by weight, p-methoxyphenol 0.1 part by mass, 2.5 parts by mass of triphenylphosphine, and 130 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate were added to the reaction vessel, and the mixture was heated and stirred at 100 ° C until the acid value became 3.0 mgKOH / g or less. It took 9 hours until the acid value reached the target (acid value 2.9 mgKOH / g). Subsequently, 74 parts by mass of tetrahydro phthalic anhydride was added and reacted at 120 ° C for 4 hours to obtain a binder resin-III solution having an acid value of 98 mgKOH / g and a weight average molecular weight (Mw) of 3500. This resin corresponds to (C1-1).

<바인더 수지-IV><Binder resin-IV>

[화학식 59][Formula 59]

Figure pat00059
Figure pat00059

상기 구조식으로 나타내는 에폭시 화합물 (에폭시 당량 245) 98.0 질량부, 아크릴산 28.8 질량부, 3-메톡시부틸아세테이트 113.0 질량부, 트리페닐포스핀 1.1 질량부, 및 파라메톡시페놀 0.02 질량부를, 온도계, 교반기, 냉각관을 장착한 플라스크에 넣고, 교반하면서 90 ℃ 에서 산가가 5 ㎎KOH/g 이하가 될 때까지 반응시켰다. 반응에는 15 시간을 필요로 하고, 에폭시아크릴레이트 용액을 얻었다.Epoxy compound represented by the above structural formula (epoxy equivalent 245) 98.0 parts by weight, acrylic acid 28.8 parts by weight, 3-methoxybutyl acetate 113.0 parts by weight, triphenylphosphine 1.1 parts by weight, and paramethoxyphenol 0.02 parts by weight, thermometer, stirrer , It was placed in a flask equipped with a cooling tube and reacted with stirring until the acid value became 5 mgKOH / g or less at 90 ° C. The reaction required 15 hours, and an epoxy acrylate solution was obtained.

상기 에폭시아크릴레이트 용액 189.1 질량부에, 비페닐테트라카르복실산 2 무수물 (BPDA) 11.8 질량부, 및 테트라하이드로프탈산 무수물 (THPA) 30.4 질량부를 넣고, 교반하면서 105 ℃ 까지 천천히 승온하여 반응시켰다.189.1 parts by mass of the epoxy acrylate solution, 11.8 parts by mass of biphenyltetracarboxylic acid anhydride (BPDA), and 30.4 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride (THPA) were added, and the mixture was slowly heated to 105 ° C while stirring to react.

수지 용액이 투명하게 된 시점에서 3-메톡시부틸아세테이트로 희석하고, 고형분 55 질량% 가 되도록 조제하고, 산가 110 ㎎KOH/g, 중량 평균 분자량 (Mw) 2800 의 바인더 수지-IV 를 얻었다. 이 수지는 (C1-2) 에 해당한다.When the resin solution became transparent, it was diluted with 3-methoxybutyl acetate, prepared to have a solid content of 55 mass%, and a binder resin-IV having an acid value of 110 mgKOH / g and a weight average molecular weight (Mw) of 2800 was obtained. This resin corresponds to (C1-2).

<바인더 수지-V><Binder resin -V>

프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 145 질량부를 질소 치환하면서 교반하고, 120 ℃ 로 승온하였다. 여기에 스티렌 10 질량부, 글리시딜메타크릴레이트 85.2 질량부 및 트리시클로데칸 골격을 갖는 모노메타크릴레이트 (히타치 화성사 제조 FA-513M) 66 질량부를 적하하고, 및 2,2'-아조비스-2-메틸부티로니트릴 8.47 질량부를 3 시간 걸쳐 적하하고, 추가로 90 ℃ 에서 2 시간 계속 교반하였다. 다음으로 반응 용기 내를 공기 치환으로 바꾸고, 아크릴산 43.2 질량부에 트리스디메틸아미노메틸페놀 0.7 질량부 및 하이드로퀴논 0.12 질량부를 투입하고, 100 ℃ 에서 12 시간 반응을 계속하였다. 그 후, 테트라하이드로 무수 프탈산 (THPA) 56.2 질량부, 트리에틸아민 0.7 질량부를 첨가하고, 100 ℃ 3.5 시간 반응시켰다. 이렇게 하여 얻어진 바인더 수지-V 의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 약 8400, 산가는 80 ㎎KOH/g, 이중 결합 당량은 480 g/㏖ 이었다.145 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate was stirred while nitrogen substitution, and the temperature was raised to 120 ° C. To this, 10 parts by mass of styrene, 85.2 parts by mass of glycidyl methacrylate and 66 parts by mass of monomethacrylate (FA-513M manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) having a tricyclodecane skeleton were added dropwise, and 2,2'-azobis 8.47 parts by mass of 2-methylbutyronitrile was added dropwise over 3 hours, and stirring was continued at 90 ° C for 2 hours. Next, the inside of the reaction vessel was changed to air displacement, 0.7 parts by mass of trisdimethylaminomethylphenol and 0.12 parts by mass of hydroquinone were added to 43.2 parts by mass of acrylic acid, and the reaction was continued at 100 ° C for 12 hours. Thereafter, 56.2 parts by mass of tetrahydro phthalic anhydride (THPA) and 0.7 parts by mass of triethylamine were added and reacted at 100 ° C for 3.5 hours. The weight average molecular weight (Mw) of the thus obtained binder resin-V was about 8400, the acid value was 80 mgKOH / g, and the double bond equivalent was 480 g / mol.

<착색제-I><Colorant-I>

BASF 사 제조, Irgaphor (등록상표) Black S 0100 CF (하기 식 (I-1) 로 나타내는 화학 구조를 갖는다) Manufactured by BASF, Irgaphor (registered trademark) Black S 0100 CF (has a chemical structure represented by the following formula (I-1))

[화학식 60][Formula 60]

Figure pat00060
Figure pat00060

<분산제-I><Dispersant-I>

빅크케미사 제조 BYK-LPN21116 (측사슬에 4 급 암모늄염기 및 3 급 아미노기를 갖는 A 블록과, 4 급 암모늄염기 및 3 급 아미노기를 갖지 않는 B 블록으로 이루어지는, 아크릴계 A-B 블록 공중합체. 아민가는 70 ㎎KOH/g. 산가는 1 ㎎KOH/g 이하.) BYK-LPN21116 manufactured by BICKCHEMI (Acrylic AB block copolymer consisting of A block having a quaternary ammonium base and a tertiary amino group in the side chain, and B block not having a quaternary ammonium base and a tertiary amino group. The amine value is 70 MgKOH / g.The acid value is 1 mgKOH / g or less.)

분산제-I 의 A 블록 중에는, 하기 식 (1a) 및 (2a) 의 반복 단위가 포함되고, B 블록 중에는 하기 식 (3a) 의 반복 단위가 포함된다. 분산제-I 의 전체 반복 단위에서 차지하는 하기 식 (1a), (2a), 및 (3a) 의 반복 단위의 함유 비율은 각각 11.1 몰%, 22.2 몰%, 6.7 몰% 이다.The repeating units of the following formulas (1a) and (2a) are included in the A block of the dispersant-I, and the repeating units of the following formula (3a) are included in the B block. The content ratio of the repeating units of the following formulas (1a), (2a), and (3a) in the total repeating units of the dispersant-I is 11.1 mol%, 22.2 mol%, and 6.7 mol%, respectively.

[화학식 61][Formula 61]

Figure pat00061
Figure pat00061

<분산제-II><Dispersant-II>

빅크케미사 제조 DISPERBYK-167 (우레탄계 고분자 분산제) DISPERBYK-167, manufactured by BIC Chemie (Urethane-based polymer dispersant)

<용제-I><Solvent-I>

PGMEA:프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트PGMEA: Propylene glycol monomethyl ether acetate

<용제-II><Solvent-II>

MB:3-메톡시-1-부탄올MB: 3-methoxy-1-butanol

<용제-III><Solvent-III>

MBA:3-메톡시부틸아세테이트MBA: 3-methoxybutyl acetate

<광 중합 개시제-I><Photopolymerization initiator-I>

<디케톤체><Diketone body>

에틸카르바졸 (5 g, 25.61 m㏖) 과 o-나프토일클로라이드 (5.13 g, 26.89 m㏖) 를 30 ㎖ 의 디클로로메탄에 용해하고, 빙수 배스에서 2 ℃ 로 냉각시켜 교반하고, AlCl3 (3.41 g, 25.61 m㏖) 을 첨가하였다. 또한 실온에서 3 시간 교반 후, 반응액에 크로토노일클로라이드 (2.81 g, 26.89 m㏖) 의 15 ㎖ 디클로로메탄 용액을 더하고, AlCl3 (4.1 g, 30.73 m㏖) 을 첨가하고, 추가로 1 시간 30 분 교반하였다. 반응액을 빙수 200 ㎖ 에 비우고, 디클로로메탄 200 ㎖ 를 첨가하고 유기종을 분액하였다. 회수한 유기종을 무수 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 감압하 농축하고, 백색 고체의 디케톤체 (10 g) 를 얻었다.Ethylcarbazole (5 g, 25.61 mmol) and o-naphthoyl chloride (5.13 g, 26.89 mmol) were dissolved in 30 ml of dichloromethane, cooled to 2 ° C in an ice-water bath, stirred, and AlCl 3 (3.41 g, 25.61 mmol). Further, after stirring at room temperature for 3 hours, a 15 ml dichloromethane solution of crotonoyl chloride (2.81 g, 26.89 mmol) was added to the reaction solution, AlCl 3 (4.1 g, 30.73 mmol) was added, and further 1 hour. Stir for 30 minutes. The reaction solution was emptied into 200 ml of ice water, 200 ml of dichloromethane was added, and the organic species was separated. The recovered organic species were dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure to obtain a diketone body (10 g) as a white solid.

<옥심체><Oxy Core>

디케톤체 (3.00 g, 7.19 m㏖), NH2OH·HCl (1.09 g, 15.81 m㏖), 및 아세트산나트륨 (1.23 g, 15.08 m㏖) 을 이소프로판올 30 ㎖ 에 혼합하고, 3 시간 환류하였다. Diketone body (3.00 g, 7.19 mmol), NH 2 OH.HCl (1.09 g, 15.81 mmol), and sodium acetate (1.23 g, 15.08 mmol) were mixed in 30 ml of isopropanol and refluxed for 3 hours.

반응 종료 후, 반응액을 농축하고, 얻어진 잔류물에 아세트산에틸 30 ㎖ 를 첨가하고, 포화 탄산수소나트륨 수용액 30 ㎖, 포화 식염수 30 ㎖ 로 세정하고, 무수 황산마그네슘으로 건조시켰다. 여과한 후, 유기종을 감압하 농축하고, 고체 3.01 g 을 얻었다. 이것을 칼럼 크로마토그래피로 정제하고, 담황색 고체의 옥심체 2.22 g 을 얻었다.After completion of the reaction, the reaction solution was concentrated, 30 ml of ethyl acetate was added to the obtained residue, washed with 30 ml of saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and 30 ml of saturated brine, and dried over anhydrous magnesium sulfate. After filtration, the organic species was concentrated under reduced pressure to obtain 3.01 g of a solid. This was purified by column chromatography to obtain 2.22 g of a pale yellow solid oxime body.

<옥심에스테르체><Oxime ester body>

옥심체 (2.22 g, 4.77 m㏖) 와 아세틸클로라이드 (1.34 g, 17.0 m㏖) 를 디클로로메탄 20 ㎖ 에 첨가하여 빙랭하고, 트리에틸아민 (1.77 g, 17.5 m㏖) 을 적하하여, 그대로 1 시간 반응하였다. 박층 크로마토그래피에 의해 원료의 소실을 확인한 후, 물을 첨가하여 반응을 정지시켰다. 반응액을 포화 탄산수소나트륨 수용액 5 ㎖ 로 2 회 세정하고, 포화 식염수 5 ㎖ 로 2 회 세정하고, 무수 황산나트륨으로 건조시켰다. 여과한 후, 유기종을 감압하에서 농축하고, 얻어진 잔류물을 칼럼 크로마토그래피 (아세트산에틸/헥산 = 체적비 2/1) 로 정제하여, 0.79 g 의 담황색 고체의 광 중합 개시제-I (이하의 화학 구조의 화합물) 을 얻었다. 광 중합 개시제-I 의 케미컬 시프트를 이하에 나타낸다.The oxime body (2.22 g, 4.77 mmol) and acetyl chloride (1.34 g, 17.0 mmol) were added to 20 mL of dichloromethane to ice-cool, triethylamine (1.77 g, 17.5 mmol) was added dropwise, and left to stand for 1 hour. Reacted. After confirming the disappearance of the raw materials by thin layer chromatography, water was added to stop the reaction. The reaction solution was washed twice with 5 ml of saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and twice with 5 ml of saturated brine, and dried over anhydrous sodium sulfate. After filtration, the organic species was concentrated under reduced pressure, and the obtained residue was purified by column chromatography (ethyl acetate / hexane = volume ratio 2/1) to obtain 0.79 g of a light yellow solid photopolymerization initiator-I (the following chemical structure: Compound). The chemical shift of photoinitiator-I is shown below.

Figure pat00062
Figure pat00062

[화학식 62][Formula 62]

Figure pat00063
Figure pat00063

<광 중합성 모노머><Photopolymerizable monomer>

DPHA:닛폰 화약사 제조 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트DPHA: Dipentaerythritol hexaacrylate manufactured by Nippon Gunpowder Co., Ltd.

<계면 활성제><Surfactant>

DIC 사 제조 메가팍 F-559Megapac F-559 manufactured by DIC

<첨가제><Additive>

닛폰 화약사 제조 KAYAMER PM-21 (메타크릴로일기 함유 포스페이트) KAYAMER PM-21 manufactured by Nippon Gunpowder (phosphate containing methacryloyl groups)

<안료 분산액 1 ∼ 6 의 조제><Preparation of pigment dispersions 1-6>

착색제 (안료), 분산제, 바인더 수지를, 그 고형분 중의 비율이 표 1 기재의 배합 비율이 되도록 첨가하고, 또한 용제가 표 1 기재의 질량비가 되도록 혼합하였다. 이 용액을 페인트 쉐이커에 의해 25 ∼ 45 ℃ 의 범위에서 3 시간 분산 처리를 실시하였다. 비즈로는, 0.5 ㎜φ 의 지르코니아 비즈를 사용하고, 분산액의 2.5 배의 질량을 더하였다. 분산 종료 후, 필터에 의해 비즈와 분산액을 분리하여, 안료 분산액 1 ∼ 6 을 조제하였다.The coloring agent (pigment), dispersing agent, and binder resin were added so that the ratio in the solid content became the compounding ratio of Table 1, and the solvent was mixed so that it might become the mass ratio of Table 1. The solution was subjected to dispersion treatment for 3 hours in the range of 25 to 45 ° C by a paint shaker. As beads, zirconia beads of 0.5 mmφ were used, and a mass of 2.5 times the dispersion was added. After the dispersion was completed, beads and dispersion were separated by a filter to prepare pigment dispersions 1 to 6.

Figure pat00064
Figure pat00064

[실시예 1 ∼ 6, 참고예 1, 및 비교예 1] [Examples 1 to 6, Reference Example 1, and Comparative Example 1]

상기 조제한 안료 분산액 1 ∼ 6 을 사용하여, 고형분 중의 비율이 표 2 의 배합 비율이 되도록 각 성분을 첨가하고, 또한 전체 고형분의 함유 비율이 22 질량% 가 되도록 PGMEA 를 첨가하고, 교반, 용해시켜, 착색 감광성 수지 조성물을 조제하였다. 얻어진 착색 감광성 수지 조성물을 사용하여, 후술하는 방법으로 패턴을 작성하고 평가를 실시하였다.Using the prepared pigment dispersions 1 to 6, each component was added so that the proportion in the solid content was the blending ratio of Table 2, and PGMEA was added, stirred and dissolved to make the total solid content content to be 22 mass%, A colored photosensitive resin composition was prepared. Using the obtained colored photosensitive resin composition, a pattern was created and evaluated by a method described later.

Figure pat00065
Figure pat00065

<격벽 기판의 제조 방법><Method for manufacturing bulkhead substrate>

ITO 기판 (막두께 1500 Å 의 ITO 를 증착한 유리 기판) 상에 스피너를 사용하여 각 착색 감광성 수지 조성물을 도포하였다. 이어서, 100 ℃ 에서 80 초간, 핫 플레이트 상에서 가열 건조시켜 도포막을 형성하였다.Each colored photosensitive resin composition was coated on an ITO substrate (a glass substrate on which ITO having a film thickness of 1500 mm 2 was deposited) using a spinner. Subsequently, the coating film was formed by heating and drying at 100 ° C. for 80 seconds on a hot plate.

얻어진 도포막에 대하여, 개구 폭 5 ∼ 50 ㎛ (5 ∼ 20 ㎛ :1 ㎛ 간격, 25 ∼ 50 ㎛ :5 ㎛ 간격) 의 각종 폭의 라인상의 개구부를 갖는 노광 마스크를 사용하여 노광 처리를 실시하였다. 노광 갭 (노광 마스크와 도포면간의 거리) 은, 5 ㎛ 였다. 조사 광으로는, 파장 365 ㎚ 에서의 강도가 32 mW/㎠ 인 자외선을 사용하고, 노광량은 60 mJ/㎠ 로 하였다. 또, 자외선 조사는 공기하에서 실시하였다.The obtained coating film was subjected to exposure treatment using an exposure mask having line-like openings of various widths of 5 to 50 µm (5 to 20 µm: 1 µm spacing, 25 to 50 µm to 5 µm spacing). . The exposure gap (distance between the exposure mask and the coated surface) was 5 µm. As the irradiation light, ultraviolet rays having an intensity at a wavelength of 365 nm of 32 mW / cm 2 were used, and the exposure amount was 60 mJ / cm 2. Moreover, ultraviolet irradiation was performed under air.

계속해서, 2.38 질량% 의 TMAH (수산화테트라메틸암모늄) 수용액으로 이루어지는 현상액을 사용하고, 25 ℃ 에 있어서 수압 0.05 ㎫ 의 샤워 현상을 실시한 후, 순수로 현상을 정지시키고, 수세 스프레이로 세정하였다. 샤워 현상 시간은 10 ∼ 120 초간의 사이에서 조정하고, 미노광부의 도막이 용해 제거되는 시간의 1.2 배로 하였다.Subsequently, a developer composed of a 2.38% by mass aqueous solution of TMAH (tetramethylammonium hydroxide) was used, after performing a shower development at a pressure of 0.05 MPa at 25 ° C, development was stopped with pure water and washed with a water spray. The shower development time was adjusted between 10 and 120 seconds, and was set to 1.2 times the time during which the unexposed coating film was dissolved and removed.

이들 조작에 의해, 불필요 부분을 제거한 패턴을 얻었다. 당해 패턴이 형성된 기판을 오븐 중, 230 ℃ 에서 45 분간 가열하여 패턴을 경화시키고, 막두께가 2.5 ㎛ 인 라인상 패턴 (패턴 1) 을 얻었다. 또, 노광 마스크를 사용하지 않은 것 이외에는 동일한 순서로 막두께가 2.5 ㎛ 인 전체면 피복 패턴 (패턴 2) 도 제조하였다.A pattern in which unnecessary portions were removed was obtained by these operations. The substrate on which the pattern was formed was heated in an oven at 230 ° C. for 45 minutes to cure the pattern, thereby obtaining a line pattern (pattern 1) having a film thickness of 2.5 μm. In addition, an entire surface covering pattern (pattern 2) having a film thickness of 2.5 μm was also produced in the same order except that no exposure mask was used.

<기판 밀착성의 평가><Evaluation of substrate adhesion>

5 ∼ 50 ㎛ 의 라인상 개구부에 대응하는 패턴에 있어서, 양호한 해상성으로 패턴이 기판 상에 남아 있는 것 중, 폭이 최소인 것의 마스크 개구 폭 (㎛) 의 값을 최소 밀착으로서 표 2 에 나타냈다. 이 값이 작을수록 기판 밀착성이 우수하고, 최소 밀착이 20 ㎛ 이하이면 현상에 대한 현상 밀착성이 실용상 충분하고, 특히 10 ㎛ 이하이면 현상에 대한 현상 밀착성이 우수하다고 말할 수 있다.In the pattern corresponding to the line-shaped opening of 5 to 50 µm, the value of the mask opening width (µm) of which the pattern remains on the substrate with good resolution is shown in Table 2 as the minimum adhesion. . It can be said that the smaller this value is, the better the adhesion to the substrate is, and the minimum adhesion is 20 µm or less, the sufficient development adhesion to development is practical, and particularly, 10 µm or less, the development adhesion to development is excellent.

<아웃 가스의 평가 방법><Evaluation method of outgas>

패턴 2 의 기판으로부터, 도막을 약 3 ㎎ 깎아내어 아웃 가스 측정용의 시료를 얻었다.About 3 mg of the coating film was scraped off from the substrate of pattern 2 to obtain a sample for outgas measurement.

TG-DTA6300 (히타치 하이테크 사이언스사 제조) 을 사용하여, 시료를 공기 분위기하 (Flow 200 ㎖/min), 실온에서 500 ℃ 까지 10 ℃/min 으로 승온하고, 그 때의 중량 감소를 측정하였다. 각 착색 감광성 수지 조성물에 포함되는 전체 바인더 수지량에 대한, 실온에서 400 ℃ 까지 상승했을 때의 중량 감소량 (질량%) 을 표 2 에 나타냈다. 또한, 각 착색 감광성 수지 조성물의 전체 고형분에 대한, 실온에서 400 ℃ 까지 상승했을 때의 중량 감소량 (질량%) 은, 실시예 1:26.8, 실시예 2:30.2, 실시예 3:29.7, 실시예 4:27.9, 실시예 5:30.8, 실시예 6:31.9, 참고예 1:25.6, 비교예 1:33.7 이었다.Using TG-DTA6300 (manufactured by Hitachi High-Tech Science), the sample was heated to 10 ° C./min from room temperature to 500 ° C. under air atmosphere (Flow 200 mL / min), and the weight loss at that time was measured. Table 2 shows the weight loss amount (% by mass) when the temperature was increased from room temperature to 400 ° C with respect to the total amount of binder resin contained in each colored photosensitive resin composition. Moreover, the weight loss amount (mass%) when it rose from room temperature to 400 degreeC with respect to the total solid content of each coloring photosensitive resin composition is Example 1: 26.8, Example 2: 30.2, Example 3: 29.7, Example It was 4: 27.9, Example 5: 30.8, Example 6: 31.9, Reference example 1: 25.6, and Comparative example 1: 33.7.

<색도><Chromaticity>

실시예 1 의 패턴 2 의 기판을 사용하여, 분광 광도계 UV-3100 (시마즈 제작소사 제조) 으로, 알루미늄 증착판을 기준판으로 하고, 파장 380 ∼ 780 ㎚ 에서의 5 도의 경면 반사율을 도막측으로부터 측정하고, XYZ 표색계에 있어서의 색도 (D65 광원) 를 산출하였다.Using the substrate of pattern 2 of Example 1, a spectrophotometer UV-3100 (manufactured by Shimadzu Corporation) was used as an aluminum deposition plate as a reference plate, and a specular reflectance of 5 degrees at a wavelength of 380 to 780 nm was measured from the coating film side. Then, chromaticity (D65 light source) in the XYZ colorimeter was calculated.

실시예 1 의 기판은 sx = 0.323, sy = 0.329 였다.The substrate of Example 1 was sx = 0.323 and sy = 0.329.

실시예 1 ∼ 6 및 참고예 1 의 착색 감광성 수지 조성물을 사용한 도포 기판은, 아웃 가스 특성이 우수한 것이 확인되었다.It was confirmed that the coated substrates using the colored photosensitive resin compositions of Examples 1 to 6 and Reference Example 1 had excellent outgas characteristics.

이에 반해, 비교예 1 의 착색 감광성 수지 조성물을 사용한 도포 기판은, 아웃 가스 특성이 나쁜 것이 확인되었다.On the other hand, it was confirmed that the coated substrate using the colored photosensitive resin composition of Comparative Example 1 had poor outgas characteristics.

비교예 1 의 착색 감광성 수지 조성물에 비해, 실시예 1 ∼ 6 및 참고예 1 의 착색 감광성 수지 조성물은 바인더 수지 중의 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 함유 비율이 높다. 에폭시(메트)아크릴레이트 수지는 강직한 골격을 갖기 때문에 열 분해되기 어렵고, 또, 골격이 강직하기 때문에 경화시에 배열 구조를 취하여 가교성이 높은 막이 형성되기 때문에, 바인더 수지 중의 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 함유 비율을 높게 함으로써, 아웃 가스 특성이 양호해진 것으로 생각된다.Compared with the colored photosensitive resin composition of Comparative Example 1, the colored photosensitive resin compositions of Examples 1 to 6 and Reference Example 1 have a high content of epoxy (meth) acrylate resin in the binder resin. Since epoxy (meth) acrylate resins have a rigid skeleton, it is difficult to be thermally decomposed, and because the skeleton is rigid, an array structure is formed upon curing to form a high crosslinking film, and thus epoxy (meth) acrylic in the binder resin is formed. It is considered that the outgas characteristics are improved by increasing the content ratio of the rate resin.

한편, 참고예 1 의 착색 감광성 수지 조성물을 사용한 도포 기판에 비해, 실시예 1 ∼ 6 의 착색 감광성 수지 조성물을 사용한 도포 기판 쪽이 세선 패턴의 현상 밀착성이 우수한 것이 확인되었다. 참고예 1 의 착색 감광성 수지 조성물이더라도 일반적인 해상도의 유기 전계 발광 소자의 격벽으로는 충분히 적용할 수 있지만, 실시예 1 ∼ 6 의 착색 감광성 수지 조성물이면 고해상도의 유기 전계 발광 소자의 격벽에도 적용할 수 있는 것이 시사되었다.On the other hand, it was confirmed that, compared to the coated substrate using the colored photosensitive resin composition of Reference Example 1, the coated substrate using the colored photosensitive resin compositions of Examples 1 to 6 was superior in developing adhesion of the thin wire pattern. Even if the colored photosensitive resin composition of Reference Example 1 can be sufficiently applied as a partition wall of an organic electroluminescent device of general resolution, the colored photosensitive resin compositions of Examples 1 to 6 can also be applied to partition walls of a high resolution organic electroluminescent device. Was suggested.

참고예 1 의 착색 감광성 수지 조성물에 포함되는 분산제는 아크릴계 분산제가 아니기 때문에, 현상시에 막 내에 현상액이 침투하기 쉽고, 세선 패턴이 기판 상에 잘 남지 않았던 것으로 생각된다.Since the dispersing agent contained in the colored photosensitive resin composition of Reference Example 1 is not an acrylic dispersing agent, it is believed that the developer easily penetrates into the film at the time of development, and the thin wire pattern does not easily remain on the substrate.

이에 반해 실시예 1 ∼ 6 의 착색 감광성 수지 조성물에 포함되는 분산제는 아크릴계 분산제이므로, 직사슬형의 분자 구조의 유연한 주골격을 갖기 때문에, 흡착기의 대부분이 착색제에 흡착함으로써 착색 감광성 수지 조성물 중에 착색제가 균일하게 분산되어, 얻어지는 도포막 중에 있어서도 현상액 불용 성분인 착색제가 균일하게 배치되어 치밀한 막이 되고, 현상시에 막 내로의 현상액의 침투가 억제되고, 세선 패턴이더라도 기판 상에 형성할 수 있었던 것으로 생각된다.On the other hand, since the dispersing agent contained in the colored photosensitive resin compositions of Examples 1 to 6 is an acrylic dispersing agent, since it has a flexible main skeleton with a linear molecular structure, the coloring agent in the coloring photosensitive resin composition is absorbed by most of the adsorbers It is thought that even in the coating film obtained by uniformly dispersing, a colorant serving as a developer-insoluble component is uniformly arranged to form a dense film, and the penetration of the developer into the film during development is suppressed, and even a thin wire pattern can be formed on the substrate. .

또, 실시예 1 ∼ 6 의 착색 감광성 수지 조성물에 있어서는, 바인더 수지로서 에폭시(메트)아크릴레이트 수지를 포함하는 안료 분산액 1 ∼ 5 를 사용하여 조제한 것으로, 얻어진 착색 감광성 수지 조성물에 포함되는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 함유 비율을 높일 수 있었다.Moreover, in the colored photosensitive resin composition of Examples 1-6, it was prepared using the pigment dispersion liquids 1-5 containing an epoxy (meth) acrylate resin as a binder resin, and the epoxy (meth) contained in the obtained colored photosensitive resin composition ) It was possible to increase the content ratio of the acrylate resin.

Claims (11)

(A) 착색제, (B) 분산제, (C) 바인더 수지, (D) 광 중합성 모노머 및 (E) 광 중합 개시제를 함유하는, 유기 전계 발광 소자의 격벽을 형성하기 위해 사용되는 착색 감광성 수지 조성물로서,
상기 (A) 착색제가, 하기 일반식 (I) 로 나타내는 화합물, 상기 화합물의 기하 이성체, 상기 화합물의 염, 및 상기 화합물의 기하 이성체의 염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 (A1) 유기 흑색 안료를 포함하고,
상기 (B) 분산제가, 아크릴계 분산제를 포함하고,
상기 (C) 바인더 수지가, (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지를 75 질량% 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물.
Figure pat00066

(식 (I) 중, Ra1 및 Ra6 은 각각 독립적으로, 수소 원자, CH3, CF3, 불소 원자 또는 염소 원자를 나타내고;
Ra2, Ra3, Ra4, Ra5, Ra7, Ra8, Ra9 및 Ra10 은 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, Ra11, COOH, COORa11, COO-, CONH2, CONHRa11, CONRa11Ra12, CN, OH, ORa11, COCRa11, OOCNH2, OOCNHRa11, OOCNRa11Ra12, NO2, NH2, NHRa11, NRa11Ra12, NHCORa12, NRa11CORa12, N=CH2, N=CHRa11, N=CRa11Ra12, SH, SRa11, SORa11, SO2Ra11, SO3Ra11, SO3H, SO3 -, SO2NH2, SO2NHRa11 또는 SO2NRa11Ra12 를 나타내고;
또한, Ra2 와 Ra3, Ra3 과 Ra4, Ra4 와 Ra5, Ra7 과 Ra8, Ra8 과 Ra9, 및 Ra9 와 Ra10 으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 조합은, 서로 직접 결합해도 되고, 또는 산소 원자, 황 원자, NH 혹은 NRa11 브릿지에 의해 서로 결합해도 되고;
Ra11 및 Ra12 는 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알킬기, 탄소수 2 ∼ 12 의 알케닐기, 탄소수 3 ∼ 12 의 시클로알케닐기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 알키닐기를 나타낸다.)
A colored photosensitive resin composition used to form partition walls of an organic electroluminescent device, comprising (A) a colorant, (B) a dispersant, (C) a binder resin, (D) a photopolymerizable monomer, and (E) a photopolymerization initiator. as,
The (A) coloring agent contains (A1) at least one selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula (I), a geometrical isomer of the compound, a salt of the compound, and a salt of the geometrical isomer of the compound. ) Contains an organic black pigment,
The dispersant (B) includes an acrylic dispersant,
The said (C) binder resin contains (C1) epoxy (meth) acrylate resin 75 mass% or more, The coloring photosensitive resin composition characterized by the above-mentioned.
Figure pat00066

(In formula (I), R a1 and R a6 each independently represent a hydrogen atom, CH 3 , CF 3 , a fluorine atom or a chlorine atom;
R a2, R a3, R a4, R a5, R a7, R a8, R a9 and R a10 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, R a11, COOH, COOR a11, COO -, CONH 2, CONHR a11 , CONR a11 R a12 , CN, OH, OR a11 , COCR a11 , OOCNH 2 , OOCNHR a11 , OOCNR a11 R a12 , NO 2 , NH 2 , NHR a11 , NR a11 R a12 , NHCOR a12 , NR a11 COR a12 , N = CH 2, N = CHR a11 , N = CR a11 R a12, SH, SR a11, SOR a11, SO 2 R a11, SO 3 R a11, SO 3 H, SO 3 -, SO 2 NH 2, SO 2 NHR a11 or SO 2 NR a11 R a12 ;
Further, at least one combination selected from the group consisting of R a2 and R a3 , R a3 and R a4 , R a4 and R a5 , R a7 and R a8 , R a8 and R a9 , and R a9 and R a10 , They may be directly bonded to each other, or may be bonded to each other by an oxygen atom, a sulfur atom, NH or an NR a11 bridge;
R a11 and R a12 are each independently an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 3 to 12 carbon atoms, or an alkynyl group having 2 to 12 carbon atoms. Indicates.)
제 1 항에 있어서,
상기 (C) 바인더 수지에 있어서의 상기 (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 함유 비율이 85 질량% 이상인, 착색 감광성 수지 조성물.
According to claim 1,
The coloring photosensitive resin composition whose content rate of the said (C1) epoxy (meth) acrylate resin in the said (C) binder resin is 85 mass% or more.
제 1 항에 있어서,
상기 (C1) 에폭시(메트)아크릴레이트 수지가, 하기 일반식 (II) 로 나타내는 반복 단위 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지 및 하기 일반식 (III) 으로 나타내는 부분 구조를 갖는 에폭시(메트)아크릴레이트 수지의 일방 또는 양방을 포함하는, 착색 감광성 수지 조성물.
Figure pat00067

(식 (II) 중, R11 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고;
R12 는 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 탄화수소기를 나타내고;
식 (II) 중의 벤젠 고리는, 또한 임의의 치환기에 의해 치환되어 있어도 되고;
* 는 결합손을 나타낸다.)
Figure pat00068

(식 (III) 중, R13 은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고;
R14 는, 고리형 탄화수소기를 측사슬로서 갖는 2 가의 탄화수소기를 나타내고;
R15 및 R16 은 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 2 가의 지방족기를 나타내고;
m 및 n 은 각각 독립적으로 0 ∼ 2 의 정수를 나타내고;
* 는 결합손을 나타낸다.)
According to claim 1,
The (C1) epoxy (meth) acrylate resin has an epoxy (meth) acrylate resin having a repeating unit structure represented by the following general formula (II) and an epoxy (meth) having a partial structure represented by the following general formula (III). A colored photosensitive resin composition comprising one or both of the acrylate resins.
Figure pat00067

(In formula (II), R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group;
R 12 represents a divalent hydrocarbon group which may have a substituent;
The benzene ring in formula (II) may also be substituted with an arbitrary substituent;
* Represents a bonding hand.)
Figure pat00068

(In formula (III), R 13 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group;
R 14 represents a divalent hydrocarbon group having a cyclic hydrocarbon group as a side chain;
R 15 and R 16 each independently represent a divalent aliphatic group which may have a substituent;
m and n each independently represent an integer of 0 to 2;
* Represents a bonding hand.)
제 1 항에 있어서,
상기 아크릴계 분산제가, 질소 원자를 함유하는 아크릴계 분산제인, 착색 감광성 수지 조성물.
According to claim 1,
The colored photosensitive resin composition, wherein the acrylic dispersant is an acrylic dispersant containing a nitrogen atom.
제 1 항에 있어서,
상기 (A) 착색제의 함유 비율이, 상기 착색 감광성 수지 조성물의 전체 고형분당 60 질량% 이하인, 착색 감광성 수지 조성물.
According to claim 1,
The coloring photosensitive resin composition in which the content rate of the said (A) coloring agent is 60 mass% or less per total solid content of the said coloring photosensitive resin composition.
제 1 항에 있어서,
상기 (A) 착색제가, 추가로 (A2) 유기 착색 안료 및 (A3) 카본 블랙의 일방 또는 양방을 포함하는, 착색 감광성 수지 조성물.
According to claim 1,
The coloring photosensitive resin composition in which the said (A) coloring agent further contains one or both of (A2) organic coloring pigment and (A3) carbon black.
제 1 항에 있어서,
상기 (A) 착색제에 있어서의 (A1) 유기 흑색 안료의 함유 비율이 10 질량% 이상인, 착색 감광성 수지 조성물.
According to claim 1,
The coloring photosensitive resin composition whose content rate of the (A1) organic black pigment in the said (A) coloring agent is 10 mass% or more.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 착색 감광성 수지 조성물로 구성되는 격벽.The partition wall which consists of the coloring photosensitive resin composition in any one of Claims 1-7. 제 8 항에 기재된 격벽을 구비하는 유기 전계 발광 소자.An organic electroluminescent device comprising the partition wall according to claim 8. 제 9 항에 기재된 유기 전계 발광 소자를 포함하는 화상 표시 장치.An image display device comprising the organic electroluminescent element according to claim 9. 제 9 항에 기재된 유기 전계 발광 소자를 포함하는 조명.An illumination comprising the organic electroluminescent element according to claim 9.
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Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190088972A (en) * 2016-12-02 2019-07-29 미쯔비시 케미컬 주식회사 Colored photosensitive resin composition, pigment dispersion, barrier rib, organic electroluminescent device, image display device and illumination
JP6950478B2 (en) * 2017-11-14 2021-10-13 東洋インキScホールディングス株式会社 Photosensitive coloring compositions and color filters for color filters
JP2019160473A (en) * 2018-03-09 2019-09-19 三菱ケミカル株式会社 Coloring photosensitive composition for forming organic electroluminescent element partition, partition, organic electroluminescent element, image display device, and lighting
TW202008078A (en) * 2018-07-20 2020-02-16 日商三菱化學股份有限公司 Photosensitive colored resin composition, cured product, image display device and lighting
JP7299036B2 (en) * 2019-02-21 2023-06-27 サカタインクス株式会社 Coloring composition and coloring resist composition
KR20220016451A (en) * 2019-05-31 2022-02-09 쇼와덴코머티리얼즈가부시끼가이샤 Photosensitive resin composition, photosensitive resin film, multilayer printed wiring board and semiconductor package, and manufacturing method of multilayer printed wiring board
TW202116409A (en) * 2019-09-06 2021-05-01 日商三菱化學股份有限公司 Photosensitive coloring composition, cured product, image display device and pigment dispersion liquid for image display devices
KR20210115839A (en) * 2020-03-16 2021-09-27 동우 화인켐 주식회사 A photosensitive resin composition for forming partition wall, a partition wall structure prepared using the composition, and a display device comprising the partition wall structure
KR20230076816A (en) 2020-09-28 2023-05-31 미쯔비시 케미컬 주식회사 Photosensitive coloring composition, cured product, organic electroluminescent device and image display device
JP2022065931A (en) 2020-10-16 2022-04-28 山陽色素株式会社 Black pigment dispersion
KR20230076845A (en) * 2020-11-13 2023-05-31 가부시끼가이샤 레조낙 Pigment Dispersion Composition and Photosensitive Coloring Composition
KR20220095288A (en) 2020-12-29 2022-07-07 삼성디스플레이 주식회사 Display device and tiled display device including the same
TW202244161A (en) 2021-02-18 2022-11-16 日商三菱化學股份有限公司 Photosensitive colored composition, cured object, banks, organic electroluminescent element, and image display device
WO2022196261A1 (en) * 2021-03-17 2022-09-22 東レ株式会社 Organic el display device
CN117222943A (en) 2021-04-28 2023-12-12 三菱化学株式会社 Photosensitive coloring resin composition, cured product, partition wall and image display device
JP2023004245A (en) 2021-06-25 2023-01-17 山陽色素株式会社 Black pigment dispersion and chromatic color pigment dispersion
WO2024025158A1 (en) 2022-07-29 2024-02-01 주식회사 엘지에너지솔루션 Slot die coater

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011146375A (en) * 2009-12-17 2011-07-28 Mitsubishi Chemicals Corp Photosensitive composition for partition, and display device of organic electroluminescent element
WO2015046178A1 (en) 2013-09-25 2015-04-02 三菱化学株式会社 Photosensitive coloring composition, black matrix, coloring spacer, image display device, and pigment dispersion
KR20190088972A (en) * 2016-12-02 2019-07-29 미쯔비시 케미컬 주식회사 Colored photosensitive resin composition, pigment dispersion, barrier rib, organic electroluminescent device, image display device and illumination

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5923960B2 (en) * 2011-08-05 2016-05-25 住友化学株式会社 Colored curable resin composition
KR101474803B1 (en) * 2014-03-27 2014-12-19 제일모직주식회사 Method of manufacturing black column spacer, black column spacer, and color filter
JP6344967B2 (en) * 2014-05-08 2018-06-20 東洋インキScホールディングス株式会社 Photosensitive coloring composition, brightness adjusting layer, color filter, and color display device
CN104238269A (en) * 2014-09-19 2014-12-24 江苏博砚电子科技有限公司 Photosensitive resin composition and application thereof
JP2016109763A (en) * 2014-12-03 2016-06-20 東レ株式会社 Photosensitive composition, solid state image sensor prepared therewith and method for producing the same
JP6464764B2 (en) * 2015-01-16 2019-02-06 Jsr株式会社 Radiation-sensitive coloring composition, spacer, method for forming the same, and liquid crystal display device
JP6543968B2 (en) * 2015-03-06 2019-07-17 三菱ケミカル株式会社 Photosensitive coloring composition, cured product, coloring spacer, and image display device
JP6528475B2 (en) * 2015-03-10 2019-06-12 三菱ケミカル株式会社 Photosensitive coloring composition, cured product, coloring spacer, and image display device
CN107409457B (en) * 2015-03-11 2018-11-13 东丽株式会社 Organic EL display device and its manufacturing method
TWI723994B (en) * 2015-05-22 2021-04-11 日商富士軟片股份有限公司 Colored composition, film, color filter, pattern forming method, method of manufacturing color filter, solid-state imaging element, and infrared sensor

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011146375A (en) * 2009-12-17 2011-07-28 Mitsubishi Chemicals Corp Photosensitive composition for partition, and display device of organic electroluminescent element
WO2015046178A1 (en) 2013-09-25 2015-04-02 三菱化学株式会社 Photosensitive coloring composition, black matrix, coloring spacer, image display device, and pigment dispersion
KR20160060645A (en) * 2013-09-25 2016-05-30 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 Photosensitive coloring composition, black matrix, coloring spacer, image display device, and pigment dispersion
KR20190088972A (en) * 2016-12-02 2019-07-29 미쯔비시 케미컬 주식회사 Colored photosensitive resin composition, pigment dispersion, barrier rib, organic electroluminescent device, image display device and illumination

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