KR20200028689A - 진동을 이용한 분말 플라즈마 처리장치 - Google Patents

진동을 이용한 분말 플라즈마 처리장치 Download PDF

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Abstract

분말 플라즈마 처리장치가 개시된다. 상기 분말 플라즈마 처리장치는 피처리분말이 공급되는 분말공급부; 상기 피처리분말을 향해 플라즈마 가스를 주입하는 플라즈마 가스 주입부; 상기 분말공급부 및 플라즈마 가스 주입부에 소통되고, 진동하여 상기 피처리분말 및 피처리가스를 제1 방향으로 이동시키는 제1 분말이송부; 상기 제1 분말이송부의 말단에 소통되고, 진동하여 상기 제1 분말이송부의 말단으로부터 공급되는 피처리분말 및 피처리가스를 상기 제1 방향의 역방향인 제2 방향으로 이동시키는 제2 분말이송부; 및 상기 제2 분말이송부의 말단에 소통되고, 상기 제2 분말이송부로부터 이송된 피처리분말은 포집하고 상기 피처리분말과 접촉후의 폐가스는 배출하는 피처리분말 포집부를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

진동을 이용한 분말 플라즈마 처리장치{PLASMA EQUIPMENT FOR TREATING POWDER USING VIBRATION}
본 발명은 분말 플라즈마 처리장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 분말의 표면을 균일하게 처리 가능한 분말 플라즈마 처리장치에 관한 것이다.
피처리물(예를 들어 분말 등)의 표면을 처리하는 방법은 다양한 방법이 있는데, 예를 들어 피처리물의 표면으로부터 유기 물질과 같은 오염물의 제거, 유기 필름 등의 접착, 표면 변형, 필름 형성의 향상, 금속 산화물의 환원 또는 세정, 식각 등이 있으며, 크게 화학 약품을 이용하는 방법과 플라즈마를 이용하는 방법으로 나뉠 수 있다. 이때 화학 약품을 이용하는 방법은 화학 약품이 환경에 나쁜 영향을 미치는 단점을 갖고 있다.
플라즈마를 이용한 표면 처리의 일례로는 저온, 저압 상태의 플라즈마를 이용하는 방법이 있는데, 이러한 방법은 저온, 저압의 진공조 내에서 플라즈마를 발생시켜 이들을 피처리물의 표면과 접촉시켜 표면을 처리하는 방식이다. 이러한 저온, 저압 상태의 플라즈마를 이용한 표면 처리 방법은 우수한 세정 효과에도 불구하고 널리 이용되지는 않는 실정이다. 왜냐하면 이러한 방법은 저압을 유지하기 위해 진공 장치가 필요하고, 대기압 상태에서 연속 공정을 수행하는데 적용되기 어렵기 때문이다. 따라서, 최근에는 대기압 상태에서 플라즈마를 발생시켜 표면 처리에 이용하는 연구가 진행되고 있다.
이러한 문제점을 해결하기 위해, 플라즈마 발생 공간에서 생성된 플라즈마를 발생 공간의 외부로 유도하여 피처리물과 접촉시켜 표면을 처리하려는 시도가 이루어지고 있다.
또한, 피처리물을 처리할 때 피처리물이 기판과 같은 판형 부재일 경우에는 일면 또는 양면을 처리하는데 특별한 어려움은 없지만, 분말일 경우 피처리물의 전체 면적이 처리되어야 할 경우에 어떻게 전체 면적을 처리할지가 문제이다. 왜냐하면 예를 들어 분말의 경우 한번 처리하더라도 완전하게 전체 면적을 처리하기는 쉽지 않으며 따라서 다수회 처리 과정이 필요하므로 비용 및 시간의 낭비가 발생하게 된다.
따라서 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 분말의 표면을 균일하게 처리할 수 있고, 분말 표면의 처리 효율이 증대될 수 있도록 한 분말 플라즈마 처리장치를 제공하는데 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 분말 플라즈마 처리장치는 피처리분말이 공급되는 분말공급부; 상기 피처리분말을 향해 플라즈마 가스를 주입하는 플라즈마 가스 주입부; 상기 분말공급부 및 플라즈마 가스 주입부에 소통되고, 진동하여 상기 피처리분말 및 피처리가스를 제1 방향으로 이동시키는 제1 분말이송부; 상기 제1 분말이송부의 말단에 소통되고, 진동하여 상기 제1 분말이송부의 말단으로부터 공급되는 피처리분말 및 피처리가스를 상기 제1 방향의 역방향인 제2 방향으로 이동시키는 제2 분말이송부; 및 상기 제2 분말이송부의 말단에 소통되고, 상기 제2 분말이송부로부터 이송된 피처리분말은 포집하고 상기 피처리분말과 접촉후의 폐가스는 배출하는 피처리분말 포집부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
일 실시예에서, 상기 분말공급부는, 분말공급관; 상기 분말공급관의 내부에 모터에 의해 회전 가능하게 설치되는 분말이송스크류; 및 상기 분말이송스크류의 후단부를 향해 분말을 투입하도록 구비되는 호퍼를 포함할 수 있다. 이때, 상기 가스 주입부는 피처리분말이 배출되는 상기 분말이송스크류의 끝에 인접하게 배치될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 제1 분말이송부는, 상기 가스 주입부와 소통되는 제1 분말처리공간을 제공하는 제1 분말수용관; 및 상기 제1 분말수용관 내외에 구비되는 제1 진동수단을 포함하고, 상기 제2 분말수용부는, 상기 제1 분말처리공간과 소통되는 제2 분말처리공간을 제공하는 제2 분말수용관; 및 상기 제2 분말수용관 내외에 구비되는 제2 진동수단을 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 제1 분말이송부는, 상기 제1 분말이송부의 말단으로 갈수록 높이가 낮아지는 형태로 구비되는 제1 진동스테이지; 및 상기 제1 진동스테이지에 접하도록 구비되어 상기 제1 진동스테이지를 진동시키는 제1 바이브레이터를 포함하고, 상기 제2 분말이송부는, 상기 제2 분말이송부의 말단으로 갈수록 높이가 낮아지는 형태로 구비되는 제2 진동스테이지; 및 상기 제2 진동스테이지에 접하도록 구비되어 상기 제2 진동스테이지를 진동시키는 제2 바이브레이터를 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 제1 진동스테이지 및 제2 진동스테이지는 계단형으로 구비될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 분말포집부는, 상기 제2 분말이송부의 말단에 연결되고, 일측에 가스배출구가 구비되며, 상기 폐가스를 외부로 배출하는 덕트; 및 상기 덕트의 내부공간에 수용되어 상기 제2 분말이송부로부터 이송된 피처리분말을 수용하는 분말수용부재를 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 분말수용부재는 상기 제2 분말이송부로부터 이송된 피처리분말은 수용하고, 상기 폐가스는 상기 덕트 내부공간으로 배출되도록 메쉬타입으로 구비될 수 있다.
본 발명에 따른 분말 플라즈마 처리장치는 아래와 같은 이점이 있다.
첫째, 제1 분말이송부는 제1 방향으로 연장되고, 제2 분말이송부는 제1 방향의 역방향인 제2 방향으로 연장되어 있어서 제1 분말이송부 및 제2 분말이송부에서 이송되는 피처리분말이 플라즈마 가스와 접촉 및 반응하는 시간이 증가되므로 피처리분말 및 플라즈마 가스 간의 충분한 접촉 및 반응 시간이 확보되고, 이에 따라 대량의 피처리분말의 표면 처리가 가능해질 수 있다.
둘째, 이송되는 피처리분말이 진동에 의해 분산되면서 넓게 분포할 뿐만 아니라 진동에 의해 피처리분말이 공중으로 부유되었다가 낙하하는 과정이 반복되므로 피처리분말이 플라즈마 가스와 접촉되는 표면적이 증가, 즉 피처리분말의 전체 표면이 플라즈마 가스와 접촉 및 반응하므로 피처리분말의 표면 처리 효율이 증대될 수 있는 이점이 있다.
셋째, 피처리분말이 놓여 이송되는 제1 진동스테이지 및 제2 진동스테이지가 다단의 계단형으로 구비되므로 계단의 상층으로부터 하층으로 낙하될 때 피처리물이 더욱 쉽고 넓게 분산되고, 피처리분말의 공중으로의 부유 높이가 증가되므로 피처리분말의 표면 처리 효율이 더욱 증대될 수 있는 이점이 있다.
넷째, 피처리분말이 이송되는 경로의 끝에 피처리분말은 수용하고 플라즈마가스는 통과시키는 메쉬타입의 분말포집부가 배치되고, 분말포집부는 피처리분말과 접촉된 후의 폐가스를 배출하는 덕트 내에 수용되므로 피처리분말의 이송이 끝나고 분말포집부에 포집되는 시점까지 피처리분말이 플라즈마 가스와 접촉 및 반응하여 포집될 수 있어서 피처리분말의 표면 처리 효율이 더욱 더 증대될 수 있는 이점이 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 분말 플라즈마 처리장치의 구성을 나타낸 단면도이다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 분말 플라즈마 처리장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 분말 플라즈마 처리장치의 구성을 나타낸 단면도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 분말 플라즈마 처리장치는 분말공급부(110), 가스 주입부(120), 제1 분말이송부(130), 제2 분말이송부(140), 및 피처리분말 포집부(150)를 포함한다. 제1 분말이송부(130)는 제1 분말처리공간(101)을 제공하고, 제2 분말이송부(140)는 제2 분말처리공간(102)을 제공한다.
분말공급부(110)는 상기 제1 분말처리공간(101) 및 제2 분말처리공간(102)으로 피처리분말을 공급한다. 일 예로, 분말공급부(110)는 소정의 길이를 갖는 분말공급관(111), 분말공급관(111)의 내부에 모터에 의해 회전 가능하게 설치되고 회전하여 상기 분말공급관(111)의 길이방향을 따라 분말을 이송시키는 분말이송스크류(112), 분말공급관(111) 상에 구비되어 분말이송스크류(112)의 후단부를 향해 분말을 투입하도록 구비되는 호퍼(113)를 포함할 수 있다. 여기서, 분말이송스크류(112)의 후단부는 상기 모터에 연결되는 단부를 의미한다. 이러한 경우, 분말공급부(110)는 분말공급관(111)을 통해 제1 분말처리공간(101)과 소통 가능하게 연결될 수 있다.
가스 주입부(120)는 제1 분말처리공간(101) 및 제2 분말처리공간(102)으로 플라즈마 가스를 주입한다. 가스 주입부(120)는 분말공급부(110)의 상기 분말공급관(111)의 전단부, 즉 피처리분말이 배출되는 분말이송스크류(112)의 끝에 인접하게 배치될 수 있다.
상기 플라즈마 가스는 별도의 플라즈마 발생기로부터 생성된 활성가스를 의미하며, 활성가스 내의 라디칼이 피처리분말의 표면과 접촉하여 친수성기, 소수성기부착, 코팅, 종자의 살균, 소독, 기타표면개질 등의 기능을 부여한다.
제1 분말이송부(130)는 진동하여 피처리분말 및 플라즈마 가스를 제1 방향으로 이송한다. 상기 제1 방향은 가스 주입부(120)로부터 멀어지는 수평의 이송방향을 의미한다. 제1 분말이송부(130)는 제1 분말수용관(131) 및 제1 진동수단을 포함하고, 상기 제1 진동수단은 제1 진동스테이지(132) 및 제1 바이브레이터(133)를 포함한다.
제1 분말수용관(131)은 내부공간을 갖는 관 형태이고, 상기 내부공간은 제1 분말처리공간(101)을 제공한다. 제1 분말수용관(131)은 상기 제1 방향을 따라 연장된다. 일 예로, 제1 분말수용관(131)은 단면 형상이 사각 형상일 수 있다.
제1 진동스테이지(132)는 제1 분말수용관(131) 내에 수용되어, 제1 분말처리공간(101)으로 공급된 피처리분말을 상기 제1 방향을 따라 이송시킨다. 제1 진동스테이지(132)는 진동 가능한 두께를 갖는 패널 형태로 구비될 수 있고, 플레이트의 평면에 피처리분말이 놓여서 이송될 수 있다. 제1 진동스테이지(132)는 제1 분말이송부(130)의 말단으로 갈수록 높이가 낮아지는 형태로 구비될 수 있다. 바람직하게는, 제1 진동스테이지(132)는 높이가 점차 낮아지는 계단형으로 구비된다.
제1 바이브레이터(133)는 제1 진동스테이지(132)에 접하도록 구비되어 제1 진동스테이지(132)를 진동시킨다. 제1 바이브레이터(133)는 제1 진동스테이지(132)의 저면부에 부착될 수 있다. 제1 바이브레이터(133)의 진동 구조에는 특별한 제한은 없으며, 예를 들어, 1~100Hz 범위의 저주파수의 물리적 진동에너지를 제공하는 형태일 수 있다.
제2 분말이송부(140)는 진동하여 제1 분말이송부(130)의 말단으로부터 공급되는 피처리분말 및 플라즈마 가스를 상기 제1 방향의 역방향인 제2 방향으로 이송한다. 제2 분말이송부(140)는 제2 분말수용관(141) 및 제2 진동수단을 포함하고, 상기 제2 진동수단은 제2 진동스테이지(142) 및 제2 바이브레이터(143)를 포함한다. 제2 분말수용관(141), 제2 진동스테이지(142) 및 제2 바이브레이터(143)는 제1 분말수용관(131), 제1 진동스테이지(132) 및 제1 바이브레이터(133)의 구조와 동일 또는 유사하므로 구체적인 설명은 생략하기로 한다.
분말포집부(150)는 제2 분말이송부(140)의 말단에 소통되고, 제2 분말이송부(140)로부터 이송된 피처리분말은 포집하고 상기 피처리분말과 접촉후의 폐가스는 배출하도록 구성된다. 일 예로, 분말포집부(150)는 덕트(151) 및 분말수용부재(152)를 포함할 수 있다.
덕트(151)는 일측에 가스배출구(151a)가 구비되며, 상기 폐가스를 외부로 배출한다. 덕트(151)는 제2 분말이송부(140)의 제2 분말수용관(141)의 말단에 소통 가능하게 연결될 수 있다.
분말수용부재(152)는 덕트(151)의 내부공간에 배치되어 제2 분말이송부(140)로부터 이송된 피처리분말은 수용하고, 상기 폐가스는 덕트(151) 내부공간으로 배출되도록 하는 메쉬타입으로 구비된다. 일 예로, 분말수용부재(152)는 단면 형상이 사각 형상을 갖는 용기 또는 함체 형태일 수 있다.
이하에서는 이러한 본 발명의 일 실시예에 따른 분말 플라즈마 처리장치에서 피처리분말의 표면이 처리되는 과정을 설명한다.
피처리분말의 표면처리를 위해, 먼저 분말공급부(110)를 통해 피처리분말을 제1 분말처리공간(101)으로 공급하고, 이와 동시에 또는 직후에 가스 주입부(120)를 통해 플라즈마 가스를 제1 분말처리공간(101)으로 공급한다.
제1 분말처리공간(101)으로 공급된 피처리분말은 플라즈마 가스와 접촉하면서 제1 분말이송부(130)를 통해 제1 방향, 즉 제2 분말이송부(140)를 향해 이송된다. 이때, 피처리분말은 제1 진동스테이지(132) 상에 놓여서 이송되며, 제1 바이브레이터(133)가 구동되어 제1 진동스테이지(132)를 진동시키고, 제1 진동스테이지(132) 상에 놓인 피처리분말이 제1 진동스테이지(132)의 진동에 의해 분산되면서 제1 진동스테이지(132) 상에 넓게 분포할 뿐만 아니라 공중으로 부유되었다가 낙하하는 과정을 반복하면서 이동된다. 또한 이때, 제1 진동스테이지(132)가 다단의 계단식으로 구성되어 있으므로 피처리분말이 이동할 때 계단의 상층으로부터 하층으로 낙하될 때 피처리분말의 공중으로의 부유 높이가 증가되며 피처리물이 더욱 쉽고 넓게 분산된다.
제1 분말이송부(130)를 통과한 피처리분말은 제2 분말이송부(140)로 공급되고, 제2 분말이송부(140)는 피처리분말을 제1 분말이송부(130)의 피처리분말 이송 방향의 역방향으로 피처리분말을 한번 더 이송시킨다. 즉, 제2 분말이송부(140)에서 피처리분말은 분말포집부(150)를 향해 한번 더 이송된다. 이때, 제2 분말이송부(140)의 제2 바이브레이터(143)가 구동되어 제2 진동스테이지(142)가 진동되면서 피처리분말을 이송한다. 제2 분말이송부(140)에서 피처리분말이 이송되는 과정 및 제2 진동스테이지(142)의 진동에 의한 작용은 제1 분말이송부(130)에서 피처리분말이 이송되는 과정과 동일하므로 더 구체적인 설명은 생략하기로 한다.
제2 분말이송부(140)를 통과한 피처리분말은 분말포집부(150)로 공급된다. 이때, 제2 분말이송부(140)를 통과한 피처리분말은 분말포집부(150)의 분말수용부재(152)의 내측으로 공급되며, 제1 분말이송부(130) 및 제2 분말이송부(140)를 통과하면서 피처리분말과 접촉한 후의 폐가스는 분말포집부(150)의 메쉬를 통과하여 덕트(151)의 내부공간으로 유입된 후 덕트(151)의 일측의 가스배출구(151a)를 통해 덕트(151)의 외부로 배출된다.
이러한 과정을 거치면서 피처리분말이 표면처리되면 피처리분말은 피처리분말의 표면처리 목적에 따라, 친수성기, 소수성기 부착, 코팅, 종자의 살균, 소독, 기타표면개질 등의 기능이 부여될 수 있다.
이러한 본 발명의 일 실시예에 따른 분말 플라즈마 처리장치를 이용하면 아래와 같은 이점이 있다.
첫째, 제1 분말이송부(130)는 제1 방향으로 연장되고, 제2 분말이송부(140)는 제1 방향의 역방향인 제2 방향으로 연장되어 있어서 제1 분말이송부(130) 및 제2 분말이송부(140)에서 이송되는 피처리분말이 플라즈마 가스와 접촉 및 반응하는 시간이 증가되므로 피처리분말 및 플라즈마 가스 간의 충분한 접촉 및 반응 시간이 확보되고, 이에 따라 대량의 피처리분말의 표면 처리가 가능해질 수 있다.
둘째, 이송되는 피처리분말이 진동에 의해 분산되면서 넓게 분포할 뿐만 아니라 진동에 의해 피처리분말이 공중으로 부유되었다가 낙하하는 과정이 반복되므로 피처리분말이 플라즈마 가스와 접촉되는 표면적이 증가, 즉 피처리분말의 전체 표면이 플라즈마 가스와 접촉 및 반응하므로 피처리분말의 표면 처리 효율이 증대될 수 있는 이점이 있다.
셋째, 피처리분말이 놓여 이송되는 제1 진동스테이지(132) 및 제2 진동스테이지(142)가 다단의 계단형으로 구비되므로 계단의 상층으로부터 하층으로 낙하될 때 피처리물이 더욱 쉽고 넓게 분산되고, 피처리분말의 공중으로의 부유 높이가 증가되므로 피처리분말의 표면 처리 효율이 더욱 증대될 수 있는 이점이 있다.
넷째, 피처리분말이 이송되는 경로의 끝에 피처리분말은 수용하고 플라즈마가스는 통과시키는 메쉬타입의 분말포집부(150)가 배치되고, 분말포집부(150)는 피처리분말과 접촉된 후의 폐가스를 배출하는 덕트(151) 내에 수용되므로 피처리분말의 이송이 끝나고 분말포집부(150)에 포집되는 시점까지 피처리분말이 플라즈마 가스와 접촉 및 반응하여 포집될 수 있어서 피처리분말의 표면 처리 효율이 더욱 더 증대될 수 있는 이점이 있다.
제시된 실시예들에 대한 설명은 임의의 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 이용하거나 또는 실시할 수 있도록 제공된다. 이러한 실시예들에 대한 다양한 변형들은 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명백할 것이며, 여기에 정의된 일반적인 원리들은 본 발명의 범위를 벗어남이 없이 다른 실시예들에 적용될 수 있다. 그리하여, 본 발명은 여기에 제시된 실시예들로 한정되는 것이 아니라, 여기에 제시된 원리들 및 신규한 특징들과 일관되는 최광의의 범위에서 해석되어야 할 것이다.

Claims (8)

  1. 피처리분말이 공급되는 분말공급부;
    상기 피처리분말을 향해 플라즈마 가스를 주입하는 플라즈마 가스 주입부;
    상기 분말공급부 및 플라즈마 가스 주입부에 소통되고, 진동하여 상기 피처리분말 및 피처리가스를 제1 방향으로 이동시키는 제1 분말이송부;
    상기 제1 분말이송부의 말단에 소통되고, 진동하여 상기 제1 분말이송부의 말단으로부터 공급되는 피처리분말 및 피처리가스를 상기 제1 방향의 역방향인 제2 방향으로 이동시키는 제2 분말이송부; 및
    상기 제2 분말이송부의 말단에 소통되고, 상기 제2 분말이송부로부터 이송된 피처리분말은 포집하고 상기 피처리분말과 접촉후의 폐가스는 배출하는 피처리분말 포집부를 포함하는 것을 특징으로 하는,
    분말 플라즈마 처리장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 분말공급부는,
    분말공급관;
    상기 분말공급관의 내부에 모터에 의해 회전 가능하게 설치되는 분말이송스크류; 및
    상기 분말이송스크류의 후단부를 향해 분말을 투입하도록 구비되는 호퍼를 포함하는 것을 특징으로 하는,
    분말 플라즈마 처리장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 가스 주입부는 피처리분말이 배출되는 상기 분말이송스크류의 끝에 인접하게 배치되는 것을 특징으로 하는,
    분말 플라즈마 처리장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제1 분말이송부는,
    상기 가스 주입부와 소통되는 제1 분말처리공간을 제공하는 제1 분말수용관; 및
    상기 제1 분말수용관 내외에 구비되는 제1 진동수단을 포함하고,
    상기 제2 분말수용부는,
    상기 제1 분말처리공간과 소통되는 제2 분말처리공간을 제공하는 제2 분말수용관; 및
    상기 제2 분말수용관 내외에 구비되는 제2 진동수단을 포함하는 것을 특징으로 하는,
    분말 플라즈마 처리장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제1 분말이송부는,
    상기 제1 분말이송부의 말단으로 갈수록 높이가 낮아지는 형태로 구비되는 제1 진동스테이지; 및
    상기 제1 진동스테이지에 접하도록 구비되어 상기 제1 진동스테이지를 진동시키는 제1 바이브레이터를 포함하고,
    상기 제2 분말이송부는,
    상기 제2 분말이송부의 말단으로 갈수록 높이가 낮아지는 형태로 구비되는 제2 진동스테이지; 및
    상기 제2 진동스테이지에 접하도록 구비되어 상기 제2 진동스테이지를 진동시키는 제2 바이브레이터를 포함하는 것을 특징으로 하는,
    분말 플라즈마 처리장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 제1 진동스테이지 및 제2 진동스테이지는 계단형으로 구비되는 것을 특징으로 하는,
    분말 플라즈마 처리장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 분말포집부는,
    상기 제2 분말이송부의 말단에 연결되고, 일측에 가스배출구가 구비되며, 상기 폐가스를 외부로 배출하는 덕트; 및
    상기 덕트의 내부공간에 수용되어 상기 제2 분말이송부로부터 이송된 피처리분말을 수용하는 분말수용부재를 포함하는 것을 특징으로 하는,
    분말 플라즈마 처리장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 분말수용부재는 상기 제2 분말이송부로부터 이송된 피처리분말은 수용하고, 상기 폐가스는 상기 덕트 내부공간으로 배출되도록 메쉬타입으로 구비되는 것을 특징으로 하는,
    분말 플라즈마 처리장치.
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