KR100766771B1 - 초음파 장치를 구비한 플라즈마 장치 및 그 표면처리 방법 - Google Patents
초음파 장치를 구비한 플라즈마 장치 및 그 표면처리 방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
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- 피처리물 상에 배치되는 한 쌍의 전극판과,상기 한 쌍의 전극판 사이에 가스를 공급하는 가스 공급부와,상기 한 쌍의 전극판에 전원을 인가하여 대기압하에서 플라즈마를 형성시키는 전원부와,상기 한 쌍의 전극판 중 접지전극에 형성되어 상기 전극판 내에 유입된 가스 입자에 진동에너지를 인가하는 초음파 장치를 구비하여 구성되며;플라즈마 반응과 동시에 상기 초음파 장치를 통해 상기 가스 입자에 진동에너지가 인가되고, 가스 분출구를 통해 상기 진동에너지를 가진 플라즈마 반응된 가스가 상기 피처리물에 분사되어 표면 처리를 수행하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 장치.
- 제1항의 플라즈마 장치에 있어서,상기 가스를 공급하는 단계와,상기 공급된 가스를 대기압하에서 플라즈마 반응시키는 단계와,상기 플라즈마 반응과 동시에 진동에너지를 인가하는 단계와,상기 진동에너지를 가진 플라즈마 반응된 가스로 상기 피처리물을 표면처리하는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 표면처리 방법.
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH11335869A (ja) | 1998-05-20 | 1999-12-07 | Seiko Epson Corp | 表面処理方法及び装置 |
US20050227018A1 (en) | 2002-06-01 | 2005-10-13 | Surface Innovations Limited | Application of a coating forming material onto at least one substrate |
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