KR20200027550A - 탄성 입자를 시각적으로 검사하기 위한 검사 장치 및 방법 - Google Patents

Abstract

탄성 입자를 시각적 검사하기 위한 검사 장치로서, 특히 주로 수평 방향으로 복수의 입자를 공급하기 위한 컨베이어 벨트(12); 중력으로 인해 상기 입자가 아래로 떨어지게 하는 낙하 채널(14)로서, 상기 컨베이어 벨트(12)의 하류에 배열된 상기 낙하 채널(14); 및 상기 컨베이어 벨트(12)를 떠나는 상기 입자의 수평 움직임 부분을 정지시키기 위한 적어도 하나의 플랩(16)으로서, 상기 컨베이어 벨트(12)의 하류에 배열된 상기 적어도 하나의 플랩(16)을 포함하고, 상기 플랩(16)은 수평 방향으로 정렬된 상기 입자의 운동 에너지의 적어도 일부, 특히 대부분을 소산시키기 위해 수평 방향으로 탄력적인, 상기 검사 장치가 제공된다. 탄력적인 플랩(16)으로 인해, 탄성 입자가 수평으로 되튕겨나가는 것이 감소되어, 시각적 검사 동안 복수의 탄성 입자로부터 원치 않는 입자를 양호한 정확도로 선별할 수 있다.

Description

탄성 입자를 시각적으로 검사하기 위한 검사 장치 및 방법

본 발명은 특히 입자의 특정 형태 및/또는 색상을 보호하기 위해 탄성 입자를 시각적으로 검사할 수 있는 검사 장치 및 방법에 관한 것이다. 입자의 표면 오염 여부를 검사할 수 있다.

EP 2 671 651 A1 및 EP 2 468 426 A1은 원치 않는 제품을 제거하기 위해 생두(green bean) 또는 견과류와 같은 식품을 시각적으로 검사할 수 있는 검사 장치를 개시하고 있다. 검사 장치는 식품을 낙하 채널로 이동시키는 컨베이어 벨트를 포함하고, 낙하 채널에서 식품의 형태 및 색상을 검출하기 위해 2개의 대향 측면으로부터 식품을 스캔한다. 원치 않는 제품은 거부 시스템에 의해 제거된다.

부틸 고무를 제조할 때, 부틸 고무는 중합 공정 후에 상이한 크기의 부스러기 형태로 존재한다. 이 부틸 고무 입자는 점착성이 있기 때문에, 몇몇 입자가 매우 큰 입자로 응집하여 후속 가공 단계에서 문제를 야기할 수 있다. 또한, 일부 입자가 올바르게 중합되지 않아서 후속 가공 단계에서 문제를 야기할 수도 있다. 올바르게 중합되지 않은 입자는 올바르게 중합된 입자와는 다른 색상을 포함한다. 따라서, 복수의 부틸 고무 입자로부터 원치 않는 부틸 고무 입자를 선별할 필요가 영구적으로 존재한다.

그러나, 부틸 고무 입자에 힘이 가해질 때 부틸 고무 입자가 예측할 수 없는 방향으로 튕겨나갈 수 있을 정도로 부틸 고무 입자는 매우 탄성적이다. 이러한 이유로, 탄성 부틸 고무 입자가 스캔 단계 동안 스캔 궤적으로부터 예측 가능하지 않게 튕겨나가면 거부 시스템이 요구되는 정확한 회수로 특정 입자를 제거할 수 없기 때문에 EP 2 671 651 A1 및 EP 2 468 426 A1에 개시된 검사 장치는 원치 않는 탄성 부틸 고무 입자를 선별하기에 적합하지 않은 것으로 입증되었다.

본 발명의 목적은 시각적 검사 동안 복수의 탄성 입자로부터 원치 않는 입자를 양호한 정확도로 선별할 수 있는 조치를 제공하는 것이다.

본 목적의 해결책은 본 발명에 따라 청구항 1의 특징에 따른 검사 장치 및 청구항 13에 따른 방법에 의해 제공된다. 본 발명의 바람직한 실시형태는 본 발명의 양태를 각각 단독으로 또는 조합으로 구성할 수 있는 종속 청구항 및 이하의 설명에 의해 주어진다.

본 발명에 따르면, 탄성 입자를 시각적으로 검사하기 위한 검사 장치로서, 특히 주로 수평 방향으로 복수의 입자를 공급하기 위한 컨베이어 벨트; 상기 입자들이 중력으로 인해 아래로 떨어지게 하는 낙하 채널로서, 상기 컨베이어 벨트의 하류에 배치된, 상기 낙하 채널; 및 상기 컨베이어 벨트를 떠나는 상기 입자의 수평 움직임 부분을 정지시키기 위한 적어도 하나의 플랩을 포함하고, 상기 적어도 하나의 플랩은 상기 컨베이어 벨트의 하류에 배열되고, 상기 플랩은 수평 방향으로 정렬된 입자의 운동 에너지 중 적어도 일부, 특히 대부분을 소산시키기 위해 수평 방향으로 탄력적인, 상기 검사 장치가 제공된다.

상기 입자는 상기 컨베이어 벨트에 의해 이동된다. 상기 입자가 상기 컨베이어 벨트의 단부에 도달할 때 입자의 운동량으로 인해, 상기 입자는 상기 컨베이어 벨트를 떠나 상기 플랩에 부딪친다. 특히, 상기 적어도 하나의 플랩은 상기 낙하 채널의 상류, 특히 상기 낙하 채널의 대부분의 적어도 상류, 또는 바람직하게는 상기 낙하 채널의 출구의 상류에 배열된다. 상기 플랩이 탄력적인 거동으로 인해, 상기 플랩은 입자의 운동 에너지에 의해 탄성적으로 변형되어 입자의 운동 에너지의 적어도 일부를 변형되는 플랩에 의해 소산시킬 수 있다. 상기 탄성 플랩은 입자의 움직임을 감쇠(damp)시키고/시키거나 상기 컨베이어 벨트의 움직임에 의해 활성화되는 입자의 운동량을 감소시킬 수 있다. 각각의 입자는 수평 방향으로 상당히 되튕겨나감이 없이 주로 수직 방향으로 상기 플랩 아래로 떨어질 수 있다. 바람직하게는, 각각의 입자가 2개의 플랩 및/또는 상기 낙하 채널의 벽 및 이와 같은 플랩 또는 적어도 하나의 추가 플랩 사이에 지그재그 코스로 되튕길 수 있도록 복수의 플랩이 제공된다. 입자가 플랩과 만날 때마다, 수평 방향으로 향하는 입자의 운동 에너지의 적어도 일부가 소산되어, 입자가 상기 적어도 하나의 플랩 또는 복수의 플랩의 시케인(chicane)을 떠날 때 주로 수직 아래로 떨어질 수 있다. 특히 상기 낙하 채널의 특히 적어도 하나의 벽, 바람직하게는 모든 벽이 수평 방향으로 탄력적이며/이거나, 수평 방향으로 정렬된 입자의 운동 에너지의 적어도 일부, 특히 대부분을 소산시키기 위한 탄성 재료를 포함하여, 상기 낙하 채널 자체가 입자가 수평 방향으로 되튕기는 것을 감쇠시킬 수도 있다. 상기 플랩에 의해, 탄성 입자, 특히 부틸 고무 입자는, 검출 시스템의 스캔 궤적으로부터 튕겨나가지 않도록 예측할 수 없이 튕겨나감이 없이 주로 수평 운동으로부터 주로 수직 운동으로 곡선을 수행할 수 있다. 이어서, 거부 시스템을 포함할 수 있는 편향 수단은 검출 시스템에 의해 식별된 특정 입자를 더 높은 정확도로 제거할 수 있다. 편향 수단, 특히 에어 건(air gun)이 식별된 입자를 놓치거나 심지어 잘못된 입자와 부딪칠 위험이 줄어든다. 검사 장치는 전체 내용이 본 발명의 일부로서 본 명세서에 병합된 EP 2 671 651 A1 및 EP 2 468 426 A1에 기술된 바와 같이 추가로 설계될 수 있다. 탄력적인 탄성 플랩으로 인해, 강성의 비-점착성 비-탄성 입자에 대해서만 적합한 검사 장치를 매우 탄성인 및/또는 점착성인 입자에 대해 사용하는 것이 가능하다. 탄력적인 플랩으로 인해, 탄성 입자가 수평으로 되튕기는 것이 감소되어, 시각적 검사 동안 복수의 탄성 입자로부터 원치 않는 입자를 양호한 정확도로 선별할 수 있다.

특히, 상기 입자가 상기 플랩에 비-탄성 충돌하는 양은 상기 입자가 상기 플랩에 탄성 충돌하는 양보다 더 많다. 상기 탄성 입자가 상기 플랩에 충돌하는 것은 탄성 충돌하는 것과 비-탄성 충돌하는 것을 혼합한 것일 수 있다. 비-탄성 충돌하는 양이 더 많은 것으로 인해, 상기 입자의 운동 에너지의 대부분이 상기 플랩에 의해 흡수될 수 있다. 예를 들어, 상기 입자의 운동 에너지의 상당한 양이 상기 플랩의 변형 에너지 및/또는 마찰로 변환될 수 있다.

바람직하게는, 상기 플랩은 강철보다 더 높은 탄성을 포함하는 탄성 재료로 제조되고, 상기 플랩은 특히 직물에 제공된 고무 재료 및/또는 플라스틱 재료를 포함하는 인장된 시트 재료를 포함한다. 상기 플랩은 상기 입자의 운동 에너지의 상당한 양을 소산시킬 만큼 충분히 연질일 수 있다. 상기 플랩은 서로 반대쪽 두 단부에서 인장될 수 있으며, 특정 탄력 거동 및/또는 감쇠 거동은 가해진 장력에 의해 조정될 수 있다.

특히 상기 플랩 및/또는 상기 낙하 채널의 내부 표면은 점착 방지 재료 및/또는 탄성 재료, 특히 실리콘 바니쉬(silicon varnish)를 포함하는 코팅물로 코팅되는 것이 바람직하다. 이러한 코팅물로 인해, 심지어 점착성 입자도 상기 검사 장치에 의해 가공될 수 있다. 특히, 상기 플랩에서 및/또는 상기 낙하 채널의 벽에서 점착성 입자가 응집되는 것이 방지되어, 상기 장치가 오염되는 것이 방지된다. 특히 상기 코팅은 실리콘 층으로 코팅된 크롬 층을 포함하는 것이 바람직하다. 이 코팅은 부틸 고무 입자가 상기 검사 장치에 공급될 때 테플론 코팅에 비해 더 나은 시험 결과를 보여준다. 상기 점착 방지 재료는 예를 들어 플라즈마 용사(plasma thermal spraying)에 의해 상기 낙하 채널의 벽과 같이 지정된 기판 상에 도포된 Ni-Cr 합금을 포함할 수 있다. 세라믹 프라이머(ceramic primer)가 상기 플랩의 합금 및/또는 재료 상에 제공될 수 있으며, 이형제, 특히 열 가교된 실리콘이 상기 세라믹 프라이머 상에 제공되어 다층 점착 방지 재료를 제공한다. 상기 세라믹 프라이머는 상기 Ni-Cr 합금과 상기 이형제 사이 또는 상기 플랩의 재료와 상기 이형제 사이에 접착성을 제공할 수 있다. 상기 Ni-Cr 합금, 상기 세라믹 프라이머 및/또는 상기 이형제의 코팅 두께는 약 100㎛ 내지 175㎛일 수 있다.

특히, 상기 낙하 채널에는 상기 입자의 색상 및/또는 크기를 검출하기 위한 검출 시스템이 제공되며, 상기 검출 시스템은 일측으로부터만 상기 입자를 검사하도록 구성된다. 상기 검출 시스템은 상기 입자를 스캔하기 위한 레이저 또는 다른 광 생성기(light generator), 및 상기 입자에 의해 반사된 광을 검출하기 위한 광 검출기를 포함할 수 있다. 상기 광 검출기의 신호는 상기 입자의 크기 및/또는 색상을 결정할 수 있는 이미지 평가 시스템에서 분석될 수 있다. 분석된 데이터가 사전 정해진 범위 밖에 있는 파라미터를 나타내는 경우, 각각의 입자는 나머지 입자로부터 선별되어야 하는 원치 않는 입자인 것으로 규정될 수 있다. 이 경우, 편향 수단, 특히 에어 건은 원치 않는 입자에 수평력을 가하여 원치 않는 입자가 나머지 입자와는 다른 위치에 수집될 수 있도록 할 수 있다. 상기 플랩이 상기 탄성 입자가 예측할 수 없이 튕겨나가는 것을 방지하기 때문에, 상기 탄성 입자의 추가 궤적은 상기 검출 시스템에 의해 쉽게 계산될 수 있어서 상기 편향 수단은 더 높은 정확도로 올바른 입자를 찾을 수 있다. 상기 탄성 입자의 추가 궤적을 결정하기 위해 상기 검출 시스템의 계산 노력을 감소시켜 더 짧은 응답 시간이 가능하도록 할 수 있다. 이것은 원치 않는 입자를 선별할 수 있을 때까지 상기 탄성 입자에 더 짧은 낙하 높이를 가능하게 할 수 있다. 놀랍게도, 일측으로부터만 낙하하는 탄성 입자를 검사하는 것만으로도 충분해서 반대쪽으로부터 입자를 검사하기 위한 제2 시스템을 생략할 수 있다. 부틸 고무 입자가 올바르게 중합되지 않은 경우, 이 입자의 색상은 주로 균일해서, 일측에서 색상을 검출하는 것만으로도 충분하다. 하나의 입자가 두 가지 다른 색상을 갖는 경우는 일반적으로 일어나지 않는다. 또한, 부틸 고무 입자는 판형으로 형성된 것이 아니라 보다 구형으로 형성된다. 그리하여, 하나의 입자의 전체 3차원 형태를 결정할 필요는 없다. 대신, 전체 입자의 크기를 충분한 정확도로 추정하기 위해 하나의 스캔 평면에서 입자의 크기를 결정하는 것으로도 충분하다. 두 개 이상의 상이한 이미지를 비교하는 일이 생략될 수 있기 때문에, 입자의 크기 및/또는 색상을 결정하는 일이 상당히 촉진되고 가속된다. 이것은 원치 않는 입자를 선별할 때까지 탄성 입자에 더 짧은 낙하 높이를 가능하게 할 수 있다. 요구되는 낙하 높이가 감소하면 상기 탄성 입자가 하향 운동의 끝에서 지면에 부딪칠 때 상기 탄성 입자가 의도치 않은 영역으로 되튕기는 것을 방지하는데 사용될 수 있는 추가 형성 공간을 제공할 수 있다.

바람직하게는 상기 낙하 채널의 채널 벽의 적어도 일부는 상기 검출 시스템으로부터 제공된 검사 광에 반사성이며, 상기 반사성 채널 벽은 상기 검사 광이 상기 낙하 채널에 진입하는 것과 반대쪽에 제공된다. 상기 입자는 일측으로부터만 검사되기 때문에, 반대쪽은 상기 검출 시스템의 광에 대해 거울 같이 설계될 수 있다. 검출은 상기 입자의 크기 및/또는 색상을 결정하기 위해 상기 입자에 의해 반사된 광과 상기 채널 벽으로부터 반사된 광을 비교할 수 있다. 상기 채널 벽으로부터 반사된 광은 기준 광으로서 사용되어, 상기 검출 시스템은 상이한 및/또는 변하는 조명 상태에서도 잘 동작할 수 있다. 상기 검출 시스템에 의해 수행되는 에러의 위험이 감소될 수 있다.

특히 상기 검출 시스템으로부터 제공된 검사 광은 방출 개구를 통해 광 생성기를 떠나는 것이 특히 바람직하며, 여기서 상기 방출 개구와 상기 낙하 채널로의 입구 사이의 검사 광의 광 경로는 먼지 차폐물에 의해 적어도 부분적으로 덮여 입자가 상기 방출 개구 내로 침입하는 것을 방지한다. 예를 들어, 상기 입자의 마모로 인해 매우 미세한 먼지 입자가 상기 플랩 상에 발생할 수 있다. 상기 먼지 입자는 상기 검출 시스템에 의해 방출된 검사 광의 열에 의해 생성된 열풍에 의해 중력에 거슬러서 먼지 입자를 운반할 수 있을 만큼 낮은 중량을 포함할 수 있다. 상기 먼지 차폐물은 상기 방출 개구를 통해 상기 먼지 입자가 상기 검출 시스템의 광학 시스템으로 침입하는 것을 방지한다. 또한, 검사 광의 광 경로를 횡단하는 상기 먼지 입자의 그림자 효과가 방지되어 발생하는 먼지 입자에 의해 상기 검출 시스템의 정확도가 저하되지 않는다. 만약 그렇다면, 상기 먼지 차폐물의 외부 표면은 점착성 먼지 입자가 응집되는 것에 의해 오염될 수 있지만, 상기 방출 개구 및/또는 검사 광이 상기 낙하 채널로 진입하는 것이 점착성 먼지 입자를 응집시킴으로써 크게 좁아지지 않는다. 상기 검사 장치를 세정하는 2개의 유지 보수 사이의 시간 기간이 연장되어 상기 검사 장치의 작동 기간이 증가될 수 있다.

특히, 입자를 편향시키기 위한 보호 편향 수단, 특히 에어 건이 상기 방출 개구와 상기 먼지 차폐물 사이에 제공된다. 상기 보호 편향 수단은 먼지 입자가 상기 방출 개구에 들어가지 못하게 할 수 있고/있거나 검사 광이 상기 낙하 채널에 들어가지 못하게 할 수 있다. 상기 보호 편향 수단은 검사 광의 조명 상태를 광학적으로 방해하지 않으면서 상기 먼지 입자를 편향시키기 위한 힘을 제공하도록 구성된다.

바람직하게는 적어도 하나의 수집 용기가 상기 낙하 채널의 하류에 제공되며, 상기 수집 용기의 최대 충전 레벨과 상기 수집 용기의 상부 림(upper rim) 사이의 거리는 상기 최대 충전 레벨까지 상기 낙하 채널의 전체 높이의 거리를 떨어진 후 상기 최대 충전 레벨에 배열된 입자로부터 되튕겨나가는 입자의 최대 높이보다 더 크다. 상기 탄성 입자의 탄성이 높은 것으로 인해 상기 탄성 입자가 지면에 부딪칠 때 상기 탄성 입자가 되튕겨나갈 수 있다는 통찰력이 사용된다. 상기 최대 충전 레벨에 비해 상기 수집 용기의 크기가 상당한 것으로 인해, 상기 수집 용기로 떨어지는 탄성 입자는 상기 수집 용기를 다시 빠져 나가지도 않고 상기 수집 용기의 상부 림에서 되튕겨나가지도 않을 수 있다. 보통, 원하는 입자를 수집하기 위한 수집 용기, 및 원치 않는 입자를 수집하기 위한 수집 용기는 특히 분할 벽을 통해 나란히 배열된다. 적어도 하나의 상기 수집 용기의 높이로 인해, 하나의 수집 용기의 입자가 다른 수집 용기로 튕겨나가는 것이 방지된다. 상기 검출 시스템 및 상기 편향 수단의 하류 위치에서 원치 않는 입자를 선별하기 위한 정확도의 손상이 방지된다. 상기 수집 용기는 특히 입자를 추가 가공 단계로 이송하는 컨베이어에 공급하기 위해 바닥에 개구를 포함할 수 있다.

특히 상기 최대 충전 레벨과 상기 상부 림 사이의 상기 수집 용기의 적어도 일부는 수직 방향에 대해 경사져 있는 것이 바람직하다. 상기 수집 용기는 되튀는 탄성 입자가 상기 수집 용기의 상부 벽에 부딪힐 수 있도록 곡선 코스를 포함할 수 있다. 상기 탄성 입자가 튕겨나가서 상기 탄성 입자가 상기 수집 용기의 경사진 부분의 상부 벽과 하부 벽 사이에 지그재그 코스를 제공함으로써, 상기 최대 충전 레벨을 통과하기 전에 상기 탄성 입자가 상기 수집 용기의 벽에 부딪칠 때에도 상기 탄성 입자가 상기 수집 용기로부터 튕겨나가지 않게 된다.

특히, 상기 컨베이어 벨트는 상기 컨베이어 벨트에서 상기 입자를 요동시키기 위한 요동 유닛(shaking unit)을 포함한다. 상기 컨베이어 벨트의 요동은 상기 컨베이어 벨트 상에 위치된 점착성 탄성 입자가 응집되는 것을 방지할 수 있다. 응집된 입자는 의도된 크기를 포함할 수 있는 더 작은 입자로 파쇄될 수 있다. 응집된 입자가 더 작은 입자로 파쇄될 수 없다면, 이 응집된 입자는 선별될 수 있다. 그러나, 상기 요동 유닛이 응집되는 것을 방해하거나 또는 응집된 입자를 파쇄하는 경우, 원치 않는 입자의 양 및 거부된 폐기물의 양이 감소될 수 있다.

바람직하게는 너무 큰 입자를 분리하기 위한 선별 그릿(sorting grit)이 제공되며, 특히 상기 선별 그릿은 상기 컨베이어 벨트의 상류에 배열된다. 상기 선별 그릿은 점착성 탄성 입자가 더 많이 응집된 큰 입자를 상기 선별 그릿을 통과할 수 있는 더 작은 입자로 파쇄할 수 있다. 큰 입자가 더 작은 입자로 파쇄될 수 없는 경우, 이 입자는 상기 검출 시스템에 의해 이 입자를 제거할 필요 없이 상기 선별 그릿에 의해 제거될 수 있다. 상기 편향 시스템이 매우 크고 무거운 입자를 선별하기에 충분한 힘을 갖지 못할 위험이 방지된다. 매우 큰 입자가 주로 수직 낙하 채널을 막거나 차단할 위험이 방지되어, 유지 보수 간격들 사이에 상기 검출 장치의 연속 동작 시간이 증가한다.

본 발명은 또한 시각적 검사 동안 복수의 탄성 입자로부터 원치 않는 입자를 선별하기 위해 전술된 바와 같이 설계될 수 있는 검사 장치를 사용하는 것에 관한 것이다. 탄력적인 플랩으로 인해, 탄성 입자가 수평으로 되튕기는 것이 감소되어, 시각적 검사 동안 복수의 탄성 입자로부터 원치 않는 입자를 양호한 정확도로 선별할 수 있다.

본 발명은 탄성 입자를 검사하는 방법으로서, 전술된 바와 같이 설계될 수 있는 검사 장치에 탄성 입자를 공급하는 단계; 상기 탄성 입자의 형태 및/또는 색상을 상기 낙하 채널에서 검사하는 단계; 및 상기 입자의 낙하 경로로부터 상기 입자를 편향시킴으로써 주어진 파라미터 세트 내에 또는 밖에 있는 형태 및/또는 색상을 갖는 입자를 선별하는 단계를 포함하는, 상기 탄성 입자를 검사하는 방법에 관한 것이다. 탄력적인 플랩으로 인해, 상기 탄성 입자가 수평으로 되튕기는 것이 감소되어, 시각적 검사 동안 복수의 탄성 입자로부터 원치 않는 입자를 양호한 정확도로 선별할 수 있다.

특히, 상기 입자는 부틸 고무(IIR), 특히 할로겐화 부틸 고무로 제조된다. 대안적으로, 상기 입자는 BR, SSBR, NdBR, LiBR, EPDM 또는 유사한 탄성 및/또는 점착성 및/또는 흡습성 재료로 제조될 수 있다. 상기 플랩의 특정 디자인으로 인해, 특히 특정 점착 방지 코팅과 조합하여 심지어 이러한 탄성 및/또는 점착성 입자도 단기간 내에 오염의 위험 없이 상기 검사 장치에 공급될 수 있다.

바람직하게는 상기 입자는 DIN ISO 7619-1에 따라 23℃에서 40 ≤ h ≤ 85의 쇼어 A 경도(h)를 포함한다. 상기 플랩의 특정 디자인으로 인해, 상기 낙하 채널 내에서 탄성 입자가 튕겨나가는 현상이 상당히 감소되어 입자가 상기 검사 장치의 스캔 궤적으로부터 튕겨나가는 것을 방지할 수 있다.

본 발명의 이들 및 다른 양태는 이하에 설명된 실시형태로부터 명백해지고 이하 실시형태를 참조하여 명료해질 것이며, 여기서 설명된 특징은 각각 본 발명의 독립적인 양태를 단독으로 또는 조합으로 구성할 수 있다.

도 1은 검사 장치의 개략 사시도.

도 1에 도시된 검사 장치(10)는 탄성 채널을 낙하 채널(14)로 공급하는 컨베이어 벨트(12)를 포함한다. 낙하 채널(14)은 복수의 탄성 플랩(16)을 포함하고, 이 탄성 플랩은 탄성 입자가 적어도 플랩(16)의 일부와 만난 후 수평으로 튕겨나가지 않고 아래쪽으로 떨어지는 방식으로 탄성 입자를 정지시키기 위해 수평 방향으로 탄력적이다. 탄성 입자의 궤적(18)은 컨베이어 벨트(12)에서의 수평 방향으로부터 탄력적인 플랩(16)에 의해 낙하 채널(14) 내에서 대부분 수직 방향으로 굴곡될 수 있다.

탄성 입자는 낙하 채널(14) 내 일측으로부터만 또는 낙하 채널(14)을 떠난 후에 레이저 검사 광(20)에 의해 스캔된다. 검사 광(20)은 검출 시스템(24)의 광 생성기(22)에서 생성된다. 검사 광(20)은 탄성 입자 및/또는 낙하 채널(14)의 반사성 채널 벽(26)에 의해 반사된다. 반사된 광은 예를 들어 광전 셀 및/또는 카메라에 의해 검출 시스템(24)에 의해 검출되어 탄성 입자의 색상 및/또는 형태를 결정할 수 있다. 검사된 탄성 입자가 허용 가능하면, 탄성 입자는 허용된 탄성 입자를 수집하기 위해 수집 용기(28) 내로 떨어진다. 검사된 탄성 입자가 허용 가능하지 않으면, 에어 건 형태의 편향 수단(30)이 수평 방향으로 힘을 제공하고, 탄성 입자의 궤적(18)을 편향된 궤적(32)으로 변화시켜 허용된 탄성 입자로부터 제거되어야 하는 거부된 탄성 입자를 수집하기 위해 거부된 탄성 입자가 다른 수집 용기(34)에 떨어지게 한다. 수집 용기(28, 34)는 바닥에서 개방되어 수집된 입자가 다른 컨베이어로 떨어지게 하여 입자를 다른 가공 단계로 이송할 수 있게 한다.

예를 들어, 탄성 입자의 마모로 인해 매우 미세한 먼지 입자가 플랩(16) 상에 발생할 수 있다. 검출 시스템(24)의 검출 수단뿐만 아니라 광 생성기(22)는 검사 광(20) 위에 배열된 먼지 차폐물(36)에 의해 이들 먼지 입자가 침입하는 것을 방지한다. 특히 먼지 차폐물(36)은 검사 광(20)의 광 경로를 따라 돌출될 수 있다.

Claims (15)

1. 탄성 입자를 시각적 검사하기 위한 검사 장치로서,
   특히 주로 수평 방향으로 복수의 입자를 공급하기 위한 컨베이어 벨트(12);
   중력으로 인해 상기 입자가 아래로 떨어지게 하는 낙하 채널(14)로서, 상기 컨베이어 벨트(12)의 하류에 배열된, 상기 낙하 채널(14); 및
   상기 컨베이어 벨트(12)를 떠나는 상기 입자의 수평 움직임 부분을 정지시키기 위한 적어도 하나의 플랩(16)으로서, 상기 컨베이어 벨트(12)의 하류에 배열된, 상기 적어도 하나의 플랩(16)을 포함하되,
   상기 플랩(16)은 수평 방향으로 정렬된 상기 입자의 운동 에너지의 적어도 일부, 특히 대부분을 소산시키기 위해 수평 방향으로 탄력적인, 검사 장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 입자가 상기 플랩(16)에 비-탄성 충돌하는 양은 상기 입자가 상기 플랩(16)에 탄성 충돌하는 양보다 더 큰, 검사 장치.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 플랩(16)은 강철보다 더 높은 탄성을 포함하는 탄성 재료로 제조되고, 상기 플랩(16)은 특히 직물에 제공된 고무 재료 및/또는 플라스틱 재료를 포함하는 인장된 시트 재료를 포함하는, 검사 장치.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 플랩(16) 및/또는 상기 낙하 채널(14)의 내부 표면은 특히 점착 방지 재료 및/또는 탄성 재료, 특히 실리콘 바니쉬(silicon vanish)를 포함하는 코팅물로 코팅되는, 검사 장치.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 낙하 채널(14)에서 상기 입자의 색상 및/또는 크기를 검출하기 위한 검출 시스템(24)이 제공되고, 상기 검출 시스템(24)은 일측으로부터만 상기 입자를 검사하도록 구성된, 검사 장치.
6. 제5항에 있어서, 상기 낙하 채널(14)의 채널 벽(26)의 적어도 일부는 상기 검출 시스템(24)으로부터 제공된 검사 광(20)에 대해 반사성이고, 상기 반사성 채널 벽(26)은 상기 검사 광(20)이 상기 검사 채널(14)에 진입하는 것과 반대쪽에 제공되는, 검사 장치.
7. 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 검출 시스템(24)으로부터 제공된 검사 광(20)은 방출 개구를 통해 광 생성기(light generator)(22)를 떠나고, 상기 검사 광(20)이 상기 방출 개구와 상기 낙하 채널(14)로 진입하는 부분 사이의 광 경로는 상기 방출 개구 내로 입자가 침입하는 것을 방지하기 위해 먼지 차폐물(36)에 의해 적어도 부분적으로 덮이는, 검사 장치.
8. 제7항에 있어서, 입자를 편향시키기 위한 보호 편향 수단(30), 특히 에어 건(air gun)이 상기 방출 개구와 상기 먼지 차폐물(36) 사이에 제공되는, 검사 장치.
9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 하나의 수집 용기(28, 34)가 상기 낙하 채널(14)의 하류에 제공되고, 상기 수집 용기(28, 34)의 최대 충전 레벨과 상기 수집 용기(28, 34)의 상부 림(upper rim) 사이의 거리는 상기 최대 충전 레벨까지 상기 낙하 채널(14)의 최대 높이의 거리를 낙하한 후 상기 최대 충전 레벨에 배열된 입자로부터 되튀는 입자의 최대 높이보다 더 큰, 검사 장치.
10. 제9항에 있어서, 상기 최대 충전 레벨과 상기 상부 림 사이의 상기 수집 용기(28, 34)의 적어도 일부는 상기 수직 방향에 대해 경사져 있는, 검사 장치.
11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 컨베이어 벨트(12)는 상기 컨베이어 벨트(12) 상에서 상기 입자를 요동하기 위한 요동 유닛(shaking unit)을 포함하는, 검사 장치.
12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 너무 큰 입자를 분리하기 위한 선별 그릿(sorting grit)이 제공되고, 특히 상기 선별 그릿은 상기 컨베이어 벨트(12)의 상류에 배열된, 검사 장치.
13. 탄성 입자를 검사하는 방법으로서,
    제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 검사 장치(24)에 탄성 입자를 공급하는 단계;
    상기 탄성 입자의 형태 및/또는 색상을 상기 낙하 채널(14)에서 검사하는 단계; 및
    상기 입자의 낙하 경로로부터 상기 입자를 편향시킴으로써 주어진 파라미터 세트의 내에 또는 밖에 있는 형태 및/또는 색상을 갖는 입자를 선별하는 단계를 포함하는, 탄성 입자를 검사하는 방법.
14. 제13항에 있어서, 상기 입자는 부틸 고무, 특히 할로겐화 부틸 고무로 제조되는, 탄성 입자를 검사하는 방법.
15. 제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 입자는 DIN ISO 7619-1에 따라 23℃에서 40 ≤ h ≤ 85의 쇼어 A 경도(h)를 포함하는, 탄성 입자를 검사하는 방법.

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