KR20200027139A - Low gloss non-foaming floorings having radial flexure structure on surface - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to: a low-gloss and non-foaming flooring material having a radial flexure structure on the surface thereof; and a method for manufacturing the same. The non-foaming flooring material uses a specific range of short wavelength light in an acrylic resin composition by stages under different conditions to comprise a cured layer having the radial flexure structure on the surface thereof, thereby being able to realize a low surface gloss of less than 10 based on 60° gloss-meter, and excellent iodine resistance, and thus having excellent non-slip properties of the surface.

Description

표면에 방사형 굴곡 구조를 갖는 저광택의 비발포식 바닥재{Low gloss non-foaming floorings having radial flexure structure on surface}Low gloss non-foaming floorings having radial flexure structure on surface}

본 발명은 표면에 방사형 굴곡 구조를 갖는 저광택의 비발포식 바닥재 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 상세하게는 경화 시 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 단계적으로 사용하여 표면에 방사형 굴곡 구조를 유도시킴으로써 소광제 없이 낮은 광택도를 구현할 수 있고, 우수한 내요오드성과 논-슬립성을 나타내는 비발포식 바닥재 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a low-gloss, non-foaming flooring having a radially curved structure on the surface and a method for manufacturing the same, in detail by inducing a radially curved structure on the surface by using a specific range of short wavelength light stepwise under different conditions during curing. It relates to a non-foaming type flooring material and a method of manufacturing the same, which can realize low glossiness without a matting agent and exhibit excellent iodine resistance and non-slip resistance.

일반적으로 바닥재는 시멘트 바닥으로부터 먼지 및 냉기를 차단하여 위생적인 공간을 제공하고, 다양한 색상의 미려한 무늬가 인쇄되어 있어 고객 취향에 따라 실내분위기를 아늑하게 바꿔주는 등 장식효과도 가진다. 이러한 종래의 바닥재는 그 표면이 오염물질로 더럽혀진 경우 사용자가 오염물질의 흔적을 쉽게 지울 수 없기 때문에 오염물질 흔적을 가진 바닥재는 그 기본 기능을 다할 수 없게 되는 문제가 있다.In general, the flooring material provides a hygienic space by blocking dust and cold air from the cement floor, and the beautiful patterns of various colors are printed to change the atmosphere of the room according to the customer's taste and have a decorative effect. This conventional flooring has a problem that the flooring having a trace of the contaminant cannot perform its basic functions because the user cannot easily erase the trace of the contaminant when the surface is contaminated with the contaminant.

이러한 문제점을 극복하기 위해, 바닥재의 최상층에 표면처리층을 형성시킴으로써 내스크래치성을 갖게 된다. 그러나, 이 경우 표면처리층으로 인해 바닥재 표면이 매끄러워져 논-슬립성이 저하되므로 보행자의 안전성이 현저히 낮아지는 문제가 있다. 또한, 종래 바닥재의 경우 높은 내요오드성을 유지하면서 자연소재와 같은 자연광택을 부여하는 것은 어려운 한계가 있다. 구체적으로 기존의 바닥재는 요오드와 같은 오염물질에 의해 오염되었을 경우 광택이 60도 글로스-미터(60도 Gloss-Meter)를 기준으로 10 이상에서는 지워지지만 10 미만이 되면 기능을 발휘할 수 없고, 바닥재의 표면을 처리하는 자외선 경화 표면처리제에 포함된 실리콘의 마모로 인해 내요오드성이 급격히 감소하는 문제가 있다. 또한, 종래의 자외선 경화 표면처리제는 처리된 바닥재의 광택을 낮추기 위해 소광제로서 실리카의 함량을 전체 중량에 대하여 10 중량% 내외로 포함하지만, 상기 실리카는 다공질로서 겉보기 비중이 매우 낮으므로, 함량이 증가할수록 미세먼지, 습기, 기름때 등의 흡착이 용이하게 되어 내오염성이 급격하게 감소하고, 손, 발 땀자국 등의 자국이 표면 처리된 바닥재의 표면에 남게 되어, 그 외관이 안개가 낀 것과 같이 뿌옇게 되는 현상이 발생하게 된다.In order to overcome this problem, by forming a surface treatment layer on the top layer of the flooring material has a scratch resistance. However, in this case, there is a problem in that the safety of the pedestrian is significantly lowered because the surface of the flooring layer is smooth and the non-slip property is reduced. In addition, in the case of a conventional flooring material, it is difficult to provide natural gloss like natural materials while maintaining high iodine resistance. Specifically, when the existing flooring material is contaminated by contaminants such as iodine, the gloss is erased above 10 based on the 60-degree gloss-meter, but if it is less than 10, it cannot function. There is a problem in that the iodine resistance is rapidly decreased due to wear of silicone contained in the ultraviolet curing surface treatment agent for treating the surface. In addition, the conventional UV curing surface treatment agent includes a silica content of about 10% by weight based on the total weight as a matting agent in order to lower the gloss of the treated flooring material, but the silica is porous and has a very low apparent specific gravity. As it increases, dirt, moisture, grease, etc. are more easily adsorbed, so the stain resistance is drastically reduced, and marks such as hand and foot sweat marks remain on the surface of the surface-treated flooring material. Cloudiness will occur.

따라서, 무기 입자 등을 포함하는 소광제를 배제하거나 매우 소량을 사용하면서 바닥재의 저광택을 구현하고, 동시에 표면 조도를 제어하여 오염물이 바닥재 표면에 용이하게 부착되지 않도록 내요오드성을 개선하는 한편 논-슬립성을 향상시켜 보행자의 안전성이 향상된 바닥재의 개발이 절실히 요구되고 있다.Accordingly, while eliminating a matting agent including inorganic particles or using a very small amount, realizing low gloss of the flooring material, and simultaneously controlling surface roughness, improves iodine resistance so that contaminants do not easily adhere to the flooring surface, and non- There is an urgent need for the development of flooring materials with improved safety for pedestrians by improving slip properties.

대한민국 공개특허 제 2014-0089074호Republic of Korea Patent Publication No. 2014-0089074

본 발명의 목적은 무기 입자 등을 포함하는 소광제를 배제하거나 매우 소량을 사용하면서 바닥재의 저광택을 구현하고, 동시에 표면 조도를 제어하여 표면 접촉면적을 감소시킴으로써 내요오드성을 개선하는 한편 논-슬립성이 향상된 비발포식 바닥재를 제공하는데 있다.The object of the present invention is to improve the iodine resistance while reducing the surface contact area by controlling the surface roughness while realizing low gloss of the flooring while excluding a matting agent including inorganic particles or using a very small amount while simultaneously controlling the surface roughness. It is to provide a non-foaming type flooring with improved properties.

이에, 본 발명은 하나의 실시예에서,Thus, in one embodiment of the present invention,

기재층; 및Base layer; And

표면에는 한 점을 중심부로 하고 상기 중심부에서 주변부로 뻗어나가는 방사형의 굴곡 구조인 덴드라이트 형상을 갖는 아크릴 수지 조성물의 경화층을 포함하며,The surface includes a cured layer of an acrylic resin composition having a dendrite shape which is a radially curved structure extending from the center to the periphery with one point as the center,

상기 방사형 굴곡 구조의 평균 직경은 5㎛ 내지 500㎛이고;The radial bend structure has an average diameter of 5 μm to 500 μm;

표면 조도(Rz)가 평균 10㎛ 내지 40㎛인 비발포식 바닥재를 제공한다.It provides a non-foaming flooring having an average surface roughness (Rz) of 10 µm to 40 µm.

또한, 본 발명은 하나의 실시예에서,In addition, the present invention in one embodiment,

아크릴 수지 조성물에, 불활성 기체 조건 하에서 300㎚ 미만 파장의 광을 조사하여 상기 조성물을 활성화시키는 제1 광 조사 단계;A first light irradiation step of activating the composition by irradiating the acrylic resin composition with light having a wavelength less than 300 nm under inert gas conditions;

활성화된 조성물에, 공기(air) 조건 하에서 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 1차 광 경화시키는 제2 광 조사 단계; 및A second light irradiation step of irradiating the activated composition with light having a wavelength of 200 nm to 400 nm under air conditions to firstly cure the composition; And

1차 경화된 조성물에, 불활성 기체 조건 하에서 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 2차 광 경화시키는 제3 광 조사 단계를 포함하는 비발포식 바닥재의 제조방법을 제공한다.Provided is a method of manufacturing a non-foaming flooring comprising a third light irradiation step of irradiating light having a wavelength of 200 nm to 400 nm under an inert gas condition to a primary cured composition, thereby secondaryly curing the composition.

본 발명에 따른 비발포식 바닥재는 아크릴 수지 조성물에 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 단계적으로 사용하여 표면에 방사형 굴곡 구조를 갖는 경화층을 포함함으로써 60° 글로스-미터(60° Gloss-Meter) 기준 10 미만의 낮은 표면 광택과 우수한 내요오드성을 구현할 수 있고, 표면의 논-슬립성이 우수한 이점이 있다.The non-foaming flooring according to the present invention comprises a cured layer having a radially curved structure on the surface by using a short range of light in a specific range in different stages in an acrylic resin composition, thereby forming a 60 ° gloss-meter (60 ° Gloss-Meter) It has the advantage of being able to achieve low surface gloss and excellent iodine resistance of less than 10, and excellent surface non-slip properties.

도 1은 본 발명에 따른 경화층의 제조 시 사용되는 광 경화장치의 일례를 도시한 구조도이다.
도 2 및 3은 본 발명에 따른 실시예 1 및 3의 경화층의 표면을 주사 전자현미경(SEM) 촬영한 이미지이다.
도 4는 본 발명에 따른 비교예 3의 경화층의 표면을 주사 전자현미경(SEM) 촬영한 이미지이다.
1 is a structural diagram showing an example of an optical curing apparatus used in the manufacture of a cured layer according to the present invention.
2 and 3 are scanning electron microscope (SEM) images of the surfaces of the cured layers of Examples 1 and 3 according to the present invention.
4 is a scanning electron microscope (SEM) image of the surface of the cured layer of Comparative Example 3 according to the present invention.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다.The present invention can be applied to various changes and may have various embodiments, and specific embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description.

그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, and should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention.

본 발명에서, "포함한다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In the present invention, the terms "comprises" or "having" are intended to indicate that there is a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification, and one or more other features. It is to be understood that the present invention does not exclude the possibility of the presence or the addition of numbers, steps, operations, components, components, or a combination thereof.

또한, 본 발명에서 첨부된 도면은 설명의 편의를 위하여 확대 또는 축소하여 도시된 것으로 이해되어야 한다.In addition, it is to be understood that the accompanying drawings in the present invention are shown to be enlarged or reduced for convenience of description.

이하, 본 발명에 대하여 도면을 참고하여 상세하게 설명하고, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings, and the same or corresponding components are denoted by the same reference numerals regardless of the reference numerals, and redundant description thereof will be omitted.

본 발명에서, "표면 조도(surface profile)"는 표면에 존재하는 미세한 요철의 정도를 나타내는 것으로, "Rz"로 표현될 수 있다. 여기서, "Rz"은 표면의 단면 곡선으로 기준길이 L을 취하여 그 부분의 평균선에 평행으로 단면 곡선을 횡으로 자르지 않는 직선으로 굴곡 구조의 높은쪽부터 5번째까지의 봉우리와 깊은쪽에서 5번째까지의 계곡 사이의 간격을 측정하여 그 편차를 나타낸 것으로서, "10점 평균 거칠기 (ten point average roughness)"라고도 한다.In the present invention, the "surface roughness" indicates the degree of minute unevenness existing on the surface, and may be expressed as "Rz". Here, "Rz" is a straight line that does not cut the cross-section curve horizontally parallel to the average line of the section taking the reference length L as the cross-section curve of the surface, from the high to the fifth peaks of the bend structure and from the deep to the fifth. It measures the distance between valleys and shows the deviation. It is also called "ten point average roughness".

본 발명은 표면에 방사형 굴곡 구조를 갖는 저광택의 비발포식 바닥재에 관한 것이다.The present invention relates to a low-gloss, non-foaming flooring having a radially curved structure on its surface.

기존의 바닥재는 그 표면이 오염물질로 더럽혀진 경우 사용자가 오염물질의 흔적을 쉽게 지울 수 없기 때문에 오염물질 흔적을 가진 바닥재는 그 기본 기능을 다할 수 없게 되는 문제점이 있다. 이러한 문제점을 극복하기 위해, 바닥재의 최상층에 표면처리층을 형성시킴으로써 바닥재의 내스크래치성은 물론 내요오드성을 부여하게 된다.Existing flooring has a problem that the flooring with a trace of the pollutant can not perform its basic function because the user can not easily erase the trace of the pollutant when the surface is soiled with contaminants. In order to overcome this problem, by forming a surface treatment layer on the top layer of the flooring, scratch resistance and iodine resistance of the flooring are imparted.

그러나, 이 경우 표면처리층으로 인해 바닥재 표면이 매끄러워져 논-슬립성이 저하되므로 보행자의 안전성이 낮아지는 문제가 있고, 종래 바닥재는 높은 내요오드성을 유지하면서 자연소재와 같은 자연광택을 부여하는 것은 어려운 한계가 있다.However, in this case, the surface treatment layer has a problem that the safety of pedestrians is lowered because the surface of the flooring material becomes smooth and the non-slip property decreases, and the conventional flooring material provides natural gloss like natural materials while maintaining high iodine resistance. Things have difficult limits.

이에, 본 발명은 표면에 방사형 굴곡 구조를 갖는 저광택의 비발포식 바닥재 및 이의 제조방법을 제공한다.Accordingly, the present invention provides a low-gloss, non-foaming flooring having a radially curved structure on the surface and a method for manufacturing the same.

본 발명에 따른 비발포식 바닥재는 아크릴 수지 조성물에 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 단계적으로 사용하여 표면에 방사형 굴곡 구조를 갖는 경화층을 포함함으로써 60° 글로스-미터(60° Gloss-Meter) 기준 10 미만의 낮은 표면 광택과 우수한 내요오드성을 구현할 수 있고, 표면의 논-슬립성이 우수한 이점이 있으므로 산업용 내부 인테리어 소재로 유용하게 사용될 수 있다.The non-foaming flooring according to the present invention comprises a cured layer having a radially curved structure on the surface by using a short range of light in a specific range in different stages in an acrylic resin composition, thereby forming a 60 ° gloss-meter (60 ° Gloss-Meter) It can realize low surface gloss and excellent iodine resistance of less than 10, and can be usefully used as an interior material for industrial use because it has the advantage of excellent non-slip property.

이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

비발포식 바닥재Non-foaming flooring

본 발명은 일실시예에서,The present invention in one embodiment,

기재층; 및Base layer; And

표면에는 한 점을 중심부로 하고 상기 중심부에서 주변부로 뻗어나가는 방사형의 굴곡 구조인 덴드라이트 형상을 갖는 경화층을 포함하는 비발포식 바닥재를 제공한다.On the surface, a non-foaming flooring material including a cured layer having a dendrite shape, which is a radially curved structure extending from the center to the periphery with one point as the center, is provided.

본 발명에 따른 비발포식 바닥재는 사무실 등에 사용되는 산업용 세라믹 타일이나 고무 타일(rubber flooring), 혹은 폴리염화비닐(PVC) 재질로 구성되는 가소성 바닥재로서, 단일층 시트 (single layer sheet, SLS) 형태의 타일 바닥재일 수 있다. 상기 바닥재는 기재층 상에 아크릴계 올리고머를 포함하는 조성물의 경화층을 구조체의 최외각층에 포함하고, 상기 경화층은 표면에 특정 형태를 갖는 굴곡 구조를 갖는다. 구체적으로, 상기 비발포식 바닥재는 표면에 미세한 굴곡 구조를 갖는 경화층을 최외각에 구비할 수 있다. 상기 굴곡 구조는 경화층 표면에 존재하는 임의의 한 점을 중심부로 하며, 상기 중심부에서 주변부로 뻗어나가되 중심부에서 주변부로 갈수록 높이가 낮아지는 방사형의 요철이 랜덤하게 분산된 구조를 갖는다. 예를 들어, 상기 방사형 굴곡 구조는 경화층 표면의 임의의 한 점을 중심부로 하는 수지상 구조(arborescence structure)나 덴드라이트 구조(dendrite structure)가 랜덤하게 분산된 구조를 포함할 수 있다.The non-foaming flooring according to the present invention is a plastic flooring material composed of industrial ceramic tiles, rubber flooring, or polyvinyl chloride (PVC) materials used in offices, etc., in the form of a single layer sheet (SLS). It may be a tile flooring. The flooring material includes a cured layer of a composition containing an acrylic oligomer on the base layer in the outermost layer of the structure, and the cured layer has a curved structure having a specific shape on the surface. Specifically, the non-foaming type flooring material may have a cured layer having a finely curved structure on its outermost surface. The curved structure has a structure in which a random point present on the surface of the cured layer is a central portion, and a radial irregularity that extends from the central portion to the peripheral portion but decreases in height from the central portion to the peripheral portion is randomly distributed. For example, the radially curved structure may include a structure in which an arborescence structure or a dendrite structure is randomly dispersed at an arbitrary point on the surface of the cured layer.

또한, 상기 방사형 굴곡 구조는 그 크기나 높이에 의해 표면 물성, 구체적으로는 표면 광택도, 내요오드성, 논-슬립성 등이 조절될 수 있으며, 이를 위하여 상기 방사형 굴곡 구조는 평균 직경이 특정 범위를 갖도록 제어될 수 있다. 구체적으로, 방사형 굴곡 구조의 평균 직경은 경화층 표면에 존재하는 개별 방사형 굴곡 구조의 평균 크기를 나타내는 것으로서, 상기 평균 직경은 5㎛ 내지 500㎛일 수 있으며, 보다 구체적으로는 5㎛ 내지 450㎛, 5㎛ 내지 400㎛, 5㎛ 내지 350㎛, 5㎛ 내지 300㎛, 5㎛ 내지 250㎛, 5㎛ 내지 200㎛, 5㎛ 내지 150㎛, 5㎛ 내지 100㎛, 5㎛ 내지 50㎛, 50㎛ 내지 200㎛, 50㎛ 내지 100㎛, 100㎛ 내지 500㎛, 100㎛ 내지 300㎛, 100㎛ 내지 200㎛, 80㎛ 내지 150㎛, 20㎛ 내지 100㎛, 25㎛ 내지 60㎛, 40㎛ 내지 80㎛, 80㎛ 내지 120㎛, 90㎛ 내지 110㎛, 5㎛ 내지 40㎛, 5㎛ 내지 30㎛, 5㎛ 내지 25㎛, 5㎛ 내지 20㎛, 5㎛ 내지 15㎛, 5㎛ 내지 10㎛, 10㎛ 내지 30㎛, 15㎛ 내지 30㎛, 15㎛ 내지 25㎛, 20㎛ 내지 30㎛, 1㎛ 내지 10㎛, 2㎛ 내지 10㎛, 4㎛ 내지 10㎛, 5㎛ 내지 10㎛, 7.5㎛ 내지 10㎛, 8㎛ 내지 10㎛¸0.5㎛ 내지 7.5㎛, 0.5㎛ 내지 5㎛, 0.5㎛ 내지 3㎛, 0.5㎛ 내지 2㎛, 0.5㎛ 내지 1㎛, 1㎛ 내지 5㎛¸1㎛ 내지 3㎛, 1㎛ 내지 2㎛, 2㎛ 내지 5㎛, 2㎛ 내지 3.5㎛, 4㎛ 내지 8㎛, 4㎛ 내지 6㎛, 5㎛ 내지 8㎛, 5㎛ 내지 6.5㎛, 6㎛ 내지 9㎛, 6㎛ 내지 8㎛, 7㎛ 내지 9㎛ 또는 3㎛ 내지 5㎛일 수 있다.In addition, the radial bend structure may have surface properties, specifically, surface glossiness, iodine resistance, non-slip property, etc., controlled by its size or height, and for this purpose, the radial bend structure has a specific range of average diameters. It can be controlled to have. Specifically, the average diameter of the radial curved structure indicates the average size of the individual radial curved structures present on the surface of the hardened layer, and the average diameter may be 5 μm to 500 μm, more specifically 5 μm to 450 μm, 5 μm to 400 μm, 5 μm to 350 μm, 5 μm to 300 μm, 5 μm to 250 μm, 5 μm to 200 μm, 5 μm to 150 μm, 5 μm to 100 μm, 5 μm to 50 μm, 50 μm To 200 µm, 50 µm to 100 µm, 100 µm to 500 µm, 100 µm to 300 µm, 100 µm to 200 µm, 80 µm to 150 µm, 20 µm to 100 µm, 25 µm to 60 µm, 40 µm to 80 Μm, 80 μm to 120 μm, 90 μm to 110 μm, 5 μm to 40 μm, 5 μm to 30 μm, 5 μm to 25 μm, 5 μm to 20 μm, 5 μm to 15 μm, 5 μm to 10 μm, 10 μm to 30 μm, 15 μm to 30 μm, 15 μm to 25 μm, 20 μm to 30 μm, 1 μm to 10 μm, 2 μm to 10 μm, 4 μm to 10 μm, 5 μm to 10 μm, 7.5 μm To 10 μm, 8 μm to 10 μm¸ 0.5 μm to 7.5 μm , 0.5 μm to 5 μm, 0.5 μm to 3 μm, 0.5 μm to 2 μm, 0.5 μm to 1 μm, 1 μm to 5 μm¸ 1 μm to 3 μm, 1 μm to 2 μm, 2 μm to 5 μm, 2 Μm to 3.5 μm, 4 μm to 8 μm, 4 μm to 6 μm, 5 μm to 8 μm, 5 μm to 6.5 μm, 6 μm to 9 μm, 6 μm to 8 μm, 7 μm to 9 μm or 3 μm to 5 μm.

아울러, 상기 경화층은 방사형 굴곡 구조가 표면에 형성되어 일정한 표면 조도를 가질 수 있다. 구체적으로, 상기 경화층은 표면에 존재하는 방사형 굴곡 구조의 표면조도 "Rz"의 평균값은 10㎛ 내지 40㎛㎛일 수 있으며, 보다 구체적으로는 10㎛ 내지 35㎛, 10㎛ 내지 30㎛, 10㎛ 내지 25㎛, 15㎛ 내지 40㎛, 20㎛ 내지 40㎛, 25㎛ 내지 40㎛, 15㎛ 내지 30㎛, 15㎛ 내지 25㎛, 18㎛ 내지 30㎛, 18㎛ 내지 25㎛, 15㎛ 내지 24㎛, 18㎛ 내지 24㎛, 또는 19㎛ 내지 23㎛일 수 있다.In addition, the cured layer may have a radially curved structure formed on the surface to have a constant surface roughness. Specifically, the cured layer may have an average value of the surface roughness "Rz" of the radially curved structure existing on the surface of 10 µm to 40 µm, more specifically 10 µm to 35 µm, 10 µm to 30 µm, 10 ㎛ to 25㎛, 15㎛ to 40㎛, 20㎛ to 40㎛, 25㎛ to 40㎛, 15㎛ to 30㎛, 15㎛ to 25㎛, 18㎛ to 30㎛, 18㎛ to 25㎛, 15㎛ to It may be 24 μm, 18 μm to 24 μm, or 19 μm to 23 μm.

이와 더불어, 상기 방사형 굴곡 구조는 단위 면적에 일정한 빈도, 예컨대 일정한 개수로 형성될 수 있고, 방사형 굴곡 구조의 개수는 단위 면적에 존재하는 방사형 굴곡 구조의 중심부 개수와 동일할 수 있다. 또한, 상기 방사형 굴곡 구조는 경화층 표면의 단위 면적(1㎜ X 1㎜)당 2 내지 400개 존재할 수 있으며, 구체적으로는 단위 면적(1㎜ X 1㎜)당 10 내지 350개, 10 내지 300개, 10 내지 250개, 10 내지 200개, 10 내지 150개, 100 내지 400개, 100 내지 350개, 150 내지 350개, 250 내지 350개, 200 내지 400개, 30 내지 100개, 5 내지 180개, 5 내지 150개, 5 내지 120개, 10 내지 100개, 10 내지 80개, 10 내지 50개, 20 내지 50개, 40 내지 60개, 80 내지 120개, 140 내지 180개, 30 내지 40개, 5 내지 15개, 10 내지 20개, 5 내지 16개, 또는 5 내지 20개 존재할 수 있다.In addition, the radial curved structure may be formed at a predetermined frequency, for example, a predetermined number in a unit area, and the number of the radial curved structures may be equal to the number of centers of the radial curved structure present in the unit area. In addition, the radial bending structure may be 2 to 400 per unit area (1 mm X 1 mm) of the surface of the cured layer, specifically 10 to 350 per unit area (1 mm X 1 mm), 10 to 300 Dogs, 10 to 250, 10 to 200, 10 to 150, 100 to 400, 100 to 350, 150 to 350, 250 to 350, 200 to 400, 30 to 100, 5 to 180 Dogs, 5 to 150, 5 to 120, 10 to 100, 10 to 80, 10 to 50, 20 to 50, 40 to 60, 80 to 120, 140 to 180, 30 to 40 Dogs, 5 to 15, 10 to 20, 5 to 16, or 5 to 20.

예를 들어, 상기 경화층은 평균 직경이 60 내지 70㎛이고, 표면 조도 (Rz) 18 내지 22㎛인 덴드라이트 형상을 단위 면적(1㎜ X 1㎜)당 80 내지 120개일 수 있다.For example, the cured layer may have 80 to 120 dendrite shapes having an average diameter of 60 to 70 μm and a surface roughness (Rz) of 18 to 22 μm per unit area (1 mm X 1 mm).

본 발명에 따른 비발포식 바닥재는 상기와 같은 형태와 빈도를 갖는 방사형 굴곡 구조를 표면에 포함하는 경화층을 최외각층으로 구비함으로써 표면 광택도, 내요오드성, 논-슬립성 등의 물성을 보다 용이하게 조절할 수 있다.The non-foaming flooring according to the present invention is provided with a hardened layer including a radially curved structure having the above-described shape and frequency as the outermost layer, thereby facilitating physical properties such as surface glossiness, iodine resistance, and non-slip property. Can be adjusted.

하나의 예로서, 본 발명에 따른 비발포식 바닥재는 경화층 표면에 형성된 방사형 굴곡 구조를 통해 표면에 입사되는 광의 산란을 유도함으로써 경화층 전체 100 중량부 (예컨대, 아크릴 수지 조성물 전체 중량) 기준 10 중량부 미만, 보다 구체적으로는 9 중량부 이하, 8 중량부 이하, 7 중량부 이하, 6 중량부 이하, 5 중량부 이하, 또는 5 중량부 미만의 소광제를 별도로 사용하거나, 경우에 따라서는 소광제를 사용하지 않고도 현저히 낮은 광택을 구현할 수 있다. 예를 들어, 상기 비발포식 바닥재는 광택 측정기(Gloss Meter)를 이용한 60° 광택도(글로스 60 ° 조건) 를 측정 시 표면 광택도가 10 미만일 수 있고, 구체적으로, 상한값이 9 이하, 8 이하, 7.5 이하, 7 이하, 6.5 이하, 6 이하, 또는 5 이하이고, 하한값이 0.1 이상, 0.5 이상, 1 이상, 1.5 이상, 2 이상, 2.5 이상 또는 3 이상일 수 있다. 하나의 예로서, 상기 비발포식 바닥재의 표면 광택도는 1 내지 9, 2 내지 9, 4 내지 9, 1 내지 8, 1 내지 7, 1 내지 6, 4 내지 8, 5 내지 8, 4 내지 6, 4 내지 7, 7 내지 9, 7.2 내지 8.7, 2 내지 6, 4 내지 6, 2 내지 5, 또는 3.2 내지 4.7일 수 있다.As one example, the non-foaming flooring according to the present invention induces the scattering of light incident on the surface through a radially curved structure formed on the surface of the cured layer, so that the total weight of the cured layer is 100 parts by weight (for example, the total weight of the acrylic resin composition). Less than 9 parts by weight, more specifically 9 parts by weight or less, 8 parts by weight or less, 7 parts by weight or less, 6 parts by weight or less, 5 parts by weight or less, or 5 parts by weight or less of a matting agent is used separately, or in some cases, quenching Significantly low gloss can be achieved without the use of agents. For example, the non-foaming type flooring may have a surface glossiness of less than 10 when measuring 60 ° glossiness (gloss 60 ° condition) using a gloss meter, specifically, an upper limit of 9 or less, 8 or less, 7.5 or less, 7 or less, 6.5 or less, 6 or less, or 5 or less, and the lower limit may be 0.1 or more, 0.5 or more, 1 or more, 1.5 or more, 2 or more, 2.5 or more, or 3 or more. As one example, the surface gloss of the non-foaming flooring is 1 to 9, 2 to 9, 4 to 9, 1 to 8, 1 to 7, 1 to 6, 4 to 8, 5 to 8, 4 to 6, 4 to 7, 7 to 9, 7.2 to 8.7, 2 to 6, 4 to 6, 2 to 5, or 3.2 to 4.7.

다른 하나의 예로서, 본 발명에 따른 비발포식 바닥재는 논-슬립(non-slip)성이 향상되어 DIN 51130에 따른 램프(ramp) 시험 시 미끄러짐이 발생되는 경사각의 등급이 R10 이상일 수 있고, 구체적으로는 R11 이상, 또는 R10 내지 R11일 수 있다. 여기서, R10은 미끄러짐이 발생되는 경사각의 각도가 10° 이상 19° 미만인 경우를 나타내고, R11은 미끄러짐이 발생되는 경사각의 각도가 19° 이상 27° 미만인 경우를 나타낸다.As another example, the non-foaming flooring according to the present invention has a non-slip property that is improved, so that a grade of an inclination angle at which slip occurs during a ramp test according to DIN 51130 may be R10 or more, and specifically It may be R11 or more, or R10 to R11. Here, R10 represents a case where the angle of the inclination angle at which the slip is generated is 10 ° or more and less than 19 °, and R11 represents a case where the angle of the inclination angle at which the slip is generated is 19 ° or more and less than 27 °.

또 다른 하나의 예로서, 본 발명에 따른 비발포식 바닥재는 표면의 내요오드성이 향상되어 22±1℃, 50±5% RH의 습도에서 1 부피%의 요오드 용액으로 오염시키고 20분 경과 후 세척 시, 최초 오염면적 기준 잔류하는 요오드의 면적이 1% 미만일 수 있고, 구체적으로는, 0.9% 이하, 0.8% 이하, 0.7% 이하, 0.6% 이하 또는 0.5% 이하일 수 있으며, 경우에 따라서는 표면의 요오드가 모두 제거되어 잔류 면적이 0%일 수 있다.As another example, the non-foaming flooring according to the present invention has improved surface iodine resistance, contaminated with a 1% by volume iodine solution at a humidity of 22 ± 1 ℃, 50 ± 5% RH, and washed after 20 minutes. At the time, the area of iodine remaining on the basis of the initial contamination area may be less than 1%, specifically, 0.9% or less, 0.8% or less, 0.7% or less, 0.6% or less, or 0.5% or less. All of the iodine is removed, so the residual area may be 0%.

한편, 상기 경화층에 형성하는 아크릴 수지 조성물은 아크릴계 올리고머, 중합성 반응기를 1개 이상 포함하는 모노머 및 개시제를 포함할 수 있다.Meanwhile, the acrylic resin composition formed on the cured layer may include an acrylic oligomer, a monomer containing at least one polymerizable reactor, and an initiator.

구체적으로, 상기 아크릴계 올리고머는 아크릴기를 포함하는 모노머를 이용하여 얻어지는 올리고머를 의미하며, 상기 모노머로는 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 펜틸(메트)아크릴레이트, 헥실(메트)아크릴레이트, 헵틸(메트)아크릴레이트, 옥틸(메트)아크릴레이트 및 벤질아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 (메트)아크릴레이트일 수 있다. 예를 들어, 상기 아크릴계 올리고머는 메틸아크릴레이트, (메타)아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 벤질아크릴레이트 또는 이들의 혼합물을 중합한, 메틸아크릴레이트 올리고머, (메타)아크릴레이트 올리고머, 메틸(메타)아크릴레이트 올리고머, 에틸아크릴레이트 올리고머, 벤질아크릴레이트 올리고머, 벤질(메타)아크릴레이트 올리고머 등을 포함할 수 있다.Specifically, the acrylic oligomer means an oligomer obtained using a monomer containing an acrylic group, and the monomer includes methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, and butyl (meth). It may be one or more (meth) acrylates selected from the group consisting of acrylates, pentyl (meth) acrylates, hexyl (meth) acrylates, heptyl (meth) acrylates, octyl (meth) acrylates and benzyl acrylates. have. For example, the acrylic oligomer is methyl acrylate, (meth) acrylate, ethyl acrylate, benzyl acrylate or a mixture of polymerized, methyl acrylate oligomer, (meth) acrylate oligomer, methyl (meth) acrylic Rate oligomers, ethyl acrylate oligomers, benzyl acrylate oligomers, benzyl (meth) acrylate oligomers, and the like.

또한, 상기 아크릴계 올리고머의 중량평균 분자량은 100 내지 50,000일 수 있고, 보다 구체적으로는 500 내지 30,000, 1,000 내지 10,000 또는 1,000 내지 5,000일 수 있다. 본 발명은 아크릴계 올리고머의 중량평균 분자량을 상기 범위로 조절함으로써 경화층의 내구성을 보다 향상시킬 수 있다.In addition, the weight average molecular weight of the acrylic oligomer may be 100 to 50,000, more specifically 500 to 30,000, 1,000 to 10,000 or 1,000 to 5,000. The present invention can further improve the durability of the cured layer by adjusting the weight average molecular weight of the acrylic oligomer in the above range.

아울러, 중합성 반응기를 1개 이상 포함하는 모노머는 아크릴계 모노머일 수 있다. 예를 들어, 상기 모노머로는 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트 또는 2-히드록시프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴산, 2-(메타)아크릴로일옥시아세트산, 3-(메타)아크릴로일옥시프로필산, 4-(메타)아크릴로일옥시부틸산, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 아크릴산 이중체, 이타콘산,말레산, 카프로락톤 변성 히드록시아크릴레이트(caprolactone modified hydroxyl acrylate, CHA), 폴리에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디아크릴레이트, 디프로필렌글리콜 디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트, 아크릴로일 모르폴린(acryloyl morpholine), 글리시딜 메타크릴레이트(glycidyl metacrylate), N-비닐피롤리돈(N-vinylpyrrolidone) 및 벤질 아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.In addition, the monomer containing at least one polymerizable reactor may be an acrylic monomer. For example, the monomers include (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 6-hydroxy Hydroxyhexyl (meth) acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethylene glycol (meth) acrylate or 2-hydroxypropylene glycol (meth) acrylate, acrylic acid, methacrylic acid, 2 -(Meth) acryloyloxyacetic acid, 3- (meth) acryloyloxypropyl acid, 4- (meth) acryloyloxybutyl acid, 1,6-hexanediol diacrylate, acrylic acid duplex, itaconic acid , Maleic acid, caprolactone modified hydroxyacrylate (CHA), polyethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, dipropylene glycol diacrylate, triethyl Renglycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropaneethoxytriacrylate, acryloyl morpholine, glycidyl metacrylate, N-vinylpyrrolidone ( N-vinylpyrrolidone) and benzyl acrylate.

이와 더불어, 상기 아크릴 수지 조성물은 아크릴계 올리고머 100 중량부 및 중합성 반응기를 1개 이상 포함하는 모노머 50 내지 150 중량부를 포함할 수 있고, 구체적으로는 아크릴계 올리고머 100 중량부와 함께, 중합성 반응기를 1개 이상 포함하는 모노머 50 내지 140 중량부, 50 내지 130 중량부, 50 내지 120 중량부, 50 내지 110 중량부, 50 내지 100 중량부, 50 내지 90 중량부, 50 내지 80 중량부, 75 내지 150 중량부, 90 내지 150 중량부, 100 내지 150 중량부, 120 내지 150 중량부, 130 내지 150 중량부, 75 내지 95 중량부, 90 내지 105 중량부, 105 내지 120 중량부, 115 내지 130 중량부, 120 내지 140 중량부, 또는 135 내지 150 중량부를 포함할 수 있다.In addition, the acrylic resin composition may include 100 parts by weight of an acrylic oligomer and 50 to 150 parts by weight of a monomer containing one or more polymerizable reactors, and specifically, 100 parts by weight of an acrylic oligomer, and a polymerizable reactor 1 50 to 140 parts by weight, 50 to 130 parts by weight, 50 to 120 parts by weight, 50 to 110 parts by weight, 50 to 100 parts by weight, 50 to 90 parts by weight, 50 to 80 parts by weight, 75 to 150 Parts by weight, 90 to 150 parts by weight, 100 to 150 parts by weight, 120 to 150 parts by weight, 130 to 150 parts by weight, 75 to 95 parts by weight, 90 to 105 parts by weight, 105 to 120 parts by weight, 115 to 130 parts by weight , 120 to 140 parts by weight, or 135 to 150 parts by weight.

또한, 상기 아크릴 수지 조성물은 아크릴계 올리고머 및 모노머 100 중량부에 대하여 10 중량부 이하, 구체적으로는 8 중량부 이하, 6 중량부 이하, 3 중량부 이하, 3 중량부 미만, 2 중량부 이하, 2 중량부 미만 또는 1 중량부 이하의 개시제를 포함할 수 있다. 본 발명은 조성물의 경화 시 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 단계적으로 사용함으로써 개시제를 상기 범위로 소량 포함하여도 높은 경화율을 나타낼 수 있다. 그 예로서, 본 발명에 따른 경화층의 경화율은 65% 이상, 70% 이상, 75% 이상, 80% 이상, 85% 이상, 90% 이상, 65% 내지 98%, 65% 내지 95%, 65% 내지 90%, 65% 내지 85%, 65% 내지 80%, 65% 내지 75%, 65% 내지 70%, 70% 내지 80%, 70% 내지 90%, 85% 내지 95%, 90% 내지 98% 또는 68% 내지 76%일 수 있다.In addition, the acrylic resin composition is 10 parts by weight or less, specifically 8 parts by weight or less, 6 parts by weight or less, 3 parts by weight or less, 3 parts by weight or less, 2 parts by weight or less, 2 based on 100 parts by weight of the acrylic oligomer and monomer Less than 1 part by weight or less than 1 part by weight of initiator. The present invention can exhibit a high curing rate even when a small amount of the initiator is included in the above range by stepwise use of a short range of light in a specific range at different conditions during curing of the composition. As an example, the curing rate of the cured layer according to the present invention is 65% or more, 70% or more, 75% or more, 80% or more, 85% or more, 90% or more, 65% to 98%, 65% to 95%, 65% to 90%, 65% to 85%, 65% to 80%, 65% to 75%, 65% to 70%, 70% to 80%, 70% to 90%, 85% to 95%, 90% To 98% or 68% to 76%.

나아가, 본 발명에 따른 조성물은 경화층 표면에 형성된 덴드라이트 형상의 씨드(seed) 역할을 일부 수행하면서 내구성을 향상시키기 위하여 경도가 높은 필러를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 필러로는 조성물의 경화 후 경화층의 광택에 영향을 미치지 않으면서 표면경도를 향상시킬 수 있는 것을 사용할 수 있다. 구체적으로, 상기 필러로서 콜로이달 실리카, 알루미나, 글래스 비드, 유기물 비드(고분자 입자 등) 등을 사용할 수 있으며, 이들의 평균 직경은 1 ㎛ 내지 15 ㎛일 수 있고, 보다 구체적으로는 1 ㎛ 내지 12 ㎛, 1 ㎛ 내지 10 ㎛, 2 ㎛ 내지 13 ㎛, 3 ㎛ 내지 10 ㎛, 3 ㎛ 내지 7 ㎛, 9 ㎛ 내지 12 ㎛, 11 ㎛ 내지 15 ㎛, 4 ㎛ 내지 11 ㎛ 또는 6 ㎛ 내지 9 ㎛일 수 있다. 본 발명은 필러의 평균 직경을 상기 범위로 제어함으로써 경화층의 광택에 영향을 미치지 않으면서 경화층의 크랙 발생을 방지하고 경화층과 다른 층간의 접착력을 증가시켜 내구성을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 필러는 경화층의 광택도와 내요오드성을 저해하지 않도록 조성물 100 중량부에 대하여 10 중량부 미만로 포함될 수 있다. 예를 들어, 상기 필러는 조성물 100 중량부에 대하여 10 중량부 이하를 포함할 수 있고, 보다 구체적으로 상기 필러의 함량은 상한값이 10 중량부 미만, 9 중량부 미만, 8 중량부 미만, 7 중량부 미만, 6 중량부 미만, 5 중량부 미만 또는 4 중량부 미만일 수 있고, 하한값이 0.01 중량부 이상, 0.05 중량부 이상, 0.1 중량부 이상, 0.5 중량부 이상, 또는 1 중량부 이상일 수 있다. 하나의 예로서, 상기 필러는 0.1 내지 3 중량부, 0.1 내지 2.5 중량부, 0.5 내지 2.5 중량부, 1 내지 3 중량부, 1.5 내지 3 중량부, 2.5 내지 3 중량부, 1.5 내지 2 중량부, 2 내지 2.5 중량부, 또는 2.2 내지 2.7 중량부로 포함될 수 있다.Furthermore, the composition according to the present invention may further include a filler having a high hardness in order to improve durability while performing a part of a dendrite-shaped seed formed on the surface of the cured layer. For example, as the filler, one that can improve the surface hardness without affecting the gloss of the cured layer after curing the composition may be used. Specifically, colloidal silica, alumina, glass beads, organic beads (polymer particles, etc.) may be used as the filler, and their average diameter may be 1 μm to 15 μm, more specifically 1 μm to 12 μm. Μm, 1 μm to 10 μm, 2 μm to 13 μm, 3 μm to 10 μm, 3 μm to 7 μm, 9 μm to 12 μm, 11 μm to 15 μm, 4 μm to 11 μm, or 6 μm to 9 μm You can. The present invention can improve the durability by controlling the average diameter of the filler in the above range to prevent cracking of the cured layer without increasing the gloss of the cured layer and to increase the adhesion between the cured layer and other layers. In addition, the filler may be included in less than 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the composition so as not to impair the glossiness and iodine resistance of the cured layer. For example, the filler may contain 10 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the composition, and more specifically, the content of the filler has an upper limit of less than 10 parts by weight, less than 9 parts by weight, less than 8 parts by weight, and 7 parts by weight It may be less than 6 parts by weight, less than 5 parts by weight, or less than 4 parts by weight, and the lower limit may be 0.01 parts by weight or more, 0.05 parts by weight or more, 0.1 parts by weight or more, 0.5 parts by weight or more, or 1 part by weight or more. As one example, the filler may be 0.1 to 3 parts by weight, 0.1 to 2.5 parts by weight, 0.5 to 2.5 parts by weight, 1 to 3 parts by weight, 1.5 to 3 parts by weight, 2.5 to 3 parts by weight, 1.5 to 2 parts by weight, 2 to 2.5 parts by weight, or 2.2 to 2.7 parts by weight.

한편, 본 발명에 따른 상기 경화층의 평균 두께는 내구성에 영향을 미치지 않는 적절한 범위로 조절될 수 있다. 예를 들어, 상기 경화층은 외부 자극에 찢어지거나 손실되지 않도록 3㎛ 내지 50㎛의 평균 두께를 가질 수 있고, 보다 구체적으로는 3㎛ 내지 30㎛, 3㎛ 내지 15㎛, 3㎛ 내지 10㎛, 10㎛ 내지 20㎛, 10㎛ 내지 30㎛, 25㎛ 내지 50㎛, 30㎛ 내지 50㎛, 20㎛ 내지 40㎛, 15㎛ 내지 20㎛, 15㎛ 내지 25㎛, 11㎛ 내지 24㎛ 또는 18㎛ 내지 28㎛일 수 있다. 본 발명에서 언급되는 경화층의 평균 두께는 도 2에 나타낸 바와 같이 덴드라이트의 높이를 배제한 경화층의 평균 두께 (Taver)를 의미할 수 있고, 경우에 따라서는 덴드라이트의 높이가 배제된 경화층의 평균 두께 (Taver)와 덴드라이트의 평균 최대 높이 (Rmax)의 1/2 값을 포함하는 두께를 의미할 수 있다.Meanwhile, the average thickness of the cured layer according to the present invention can be adjusted to an appropriate range that does not affect durability. For example, the cured layer may have an average thickness of 3 μm to 50 μm so as not to be torn or lost by external stimuli, more specifically 3 μm to 30 μm, 3 μm to 15 μm, 3 μm to 10 μm , 10㎛ to 20㎛, 10㎛ to 30㎛, 25㎛ to 50㎛, 30㎛ to 50㎛, 20㎛ to 40㎛, 15㎛ to 20㎛, 15㎛ to 25㎛, 11㎛ to 24㎛ or 18 It may be from µm to 28 µm. The average thickness of the cured layer referred to in the present invention may mean the average thickness (T aver ) of the cured layer excluding the height of dendrites as shown in FIG. 2, and in some cases, the dendrite height is excluded It may mean a thickness including 1/2 of the average thickness (T aver ) of the layer and the average maximum height (R max ) of the dendrites.

비발포식 바닥재의 제조방법Method for manufacturing non-foaming flooring

또한, 본 발명은 일실시예에서,In addition, the present invention in one embodiment,

아크릴 수지 조성물에, 불활성 기체 조건 하에서 300㎚ 미만 파장의 광을 조사하여 조성물을 활성화시키는 제1 광 조사 단계;A first light irradiation step of activating the composition by irradiating the acrylic resin composition with light of a wavelength less than 300nm under inert gas conditions;

활성화된 조성물에, 공기(air) 조건 하에서 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 1차 광 경화시키는 제2 광 조사 단계; 및A second light irradiation step of irradiating the activated composition with light having a wavelength of 200 nm to 400 nm under air conditions to firstly cure the composition; And

1차 경화된 조성물에, 불활성 기체 조건 하에서 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 2차 광 경화시키는 제3 광 조사 단계를 포함하는 비발포식 바닥재의 제조방법을 제공한다.Provided is a method of manufacturing a non-foaming flooring comprising a third light irradiation step of irradiating light having a wavelength of 200 nm to 400 nm under an inert gas condition to a primary cured composition, thereby secondaryly curing the composition.

본 발명에 따른 비발포식 바닥재의 제조방법은 아크릴 수지 조성물에 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 3 단계로 조사하여 경화시키는 단계를 갖는다.The method for producing a non-foaming flooring according to the present invention has a step of curing an acrylic resin composition in three stages under different conditions by irradiating short-wavelength light in a specific range.

구체적으로, 제1 광 조사 단계는 기재 상에 도포된 조성물에 광을 조사하는 첫 번째 단계로서, 조사된 광에 의해 발생된 엑시머(excimer)가 도포된 조성물 및/또는 경화층의 표면을 수축시켜 주름을 형성함으로써 표면에 입사되는 빛의 산란율을 증가시키는 단계이다. 본 발명은 엑시머를 이용하여 조성물 및/또는 경화층의 표면을 상술된 방사형 굴곡 구조로 수축시킴으로써 빛의 산란율을 증가시킬 수 있으므로 소광제를 사용하지 않고도 경화층의 광택도를 감소시킬 수 있다. 이를 위해 상기 제1 광 조사 단계는 고에너지를 갖는 300㎚ 미만, 구체적으로는 100 내지 200㎚ 또는 150 내지 195㎚의 파장을 광을 사용하여 산소(O2)를 소량 포함하는 질소(N2) 분위기에서 수행될 수 있다. 구체적으로, 제1 광 조사 단계에서 질소(N2)에 포함된 산소(O2)의 농도는 10 내지 30,000ppm일 수 있고, 구체적으로는 10 내지 20,000ppm, 10 내지 5,000ppm, 1,000 내지 2,000ppm, 2,000 내지 3,000ppm, 3,000 내지 4,000ppm, 4,000 내지 5,000ppm, 10 내지 2,000ppm, 10 내지 1,000ppm, 10 내지 500ppm, 100 내지 300ppm, 10 내지 200ppm, 50 내지 150ppm, 80 내지 120pp, 4,000 내지 6,000 ppm, 4,500 내지 5,500 ppm 또는 4,800 내지 5,200ppm일 수 있다. 또한, 제1 광 조사 단계에서 조성물과 광원의 거리는 5~100㎜일 수 있고, 구체적으로는 5~80㎜, 5~60㎜, 5~40㎜, 10~70㎜, 10~50㎜, 10~30㎜, 20~80㎜, 20~60㎜, 20~50㎜, 20~30㎜, 25~75㎜, 50~80㎜, 40~60㎜ 또는 45~55㎜일 수 있다.Specifically, the first light irradiation step is a first step of irradiating light to the composition applied on the substrate, and the surface of the composition and / or the cured layer to which the excimer generated by the irradiated light is applied is contracted This is a step of increasing the scattering rate of light incident on the surface by forming wrinkles. The present invention can increase the scattering rate of light by shrinking the surface of the composition and / or the cured layer into the above-described radially curved structure using an excimer, so that the gloss of the cured layer can be reduced without using a matting agent. To this end, the first light irradiation step includes nitrogen (N 2 ) containing a small amount of oxygen (O 2 ) using light having a wavelength of less than 300 nm, specifically, 100 to 200 nm or 150 to 195 nm with high energy. May be performed in an atmosphere. Specifically, the concentration of oxygen (O 2 ) contained in the nitrogen (N 2 ) in the first light irradiation step may be 10 to 30,000ppm, specifically 10 to 20,000ppm, 10 to 5,000ppm, 1,000 to 2,000ppm , 2,000 to 3,000 ppm, 3,000 to 4,000 ppm, 4,000 to 5,000 ppm, 10 to 2,000 ppm, 10 to 1,000 ppm, 10 to 500 ppm, 100 to 300 ppm, 10 to 200 ppm, 50 to 150 ppm, 80 to 120 ppm, 4,000 to 6,000 ppm , 4,500 to 5,500 ppm or 4,800 to 5,200 ppm. In addition, the distance between the composition and the light source in the first light irradiation step may be 5 to 100 mm, specifically 5 to 80 mm, 5 to 60 mm, 5 to 40 mm, 10 to 70 mm, 10 to 50 mm, 10 It may be ˜30 mm, 20-80 mm, 20-60 mm, 20-50 mm, 20-30 mm, 25-75 mm, 50-80 mm, 40-60 mm or 45-55 mm.

하나의 예로서, 상기 제1 광 조사 단계는 조성물 내에 엑시머를 형성하기 위하여 조성물에 172±2㎚ 파장을 갖는 광을 100ppm의 산소(O2)를 포함하는 질소(N2) 조건에서 5~100 mJ/㎠의 광량으로 1~2초의 매우 짧은 시간 동안 조사하여 수행될 수 있다.As one example, the first light irradiation step is 5 ~ 100 in nitrogen (N 2 ) conditions containing 100ppm of oxygen (O 2 ) of light having a wavelength of 172 ± 2nm in the composition to form an excimer in the composition. It can be performed by irradiating for a very short time of 1 to 2 seconds with a light amount of mJ / cm 2.

본 발명은 제1 광 조사 단계 수행 시 가스 조건 및 조성물과 광원의 거리를 상기 범위로 제어함으로써 경화층의 표면에 형성되는 랜덤 방사형의 미세 굴곡 구조의 평균 직경, 높이 및/또는 빈도를 용이하게 제어할 수 있다.The present invention can easily control the average diameter, height and / or frequency of the randomly-cured finely curved structure formed on the surface of the cured layer by controlling the gas conditions and the distance between the composition and the light source when performing the first light irradiation step. can do.

또한, 상기 제1 광 조사 단계에서 광 조사량은 1 mJ/㎠ 내지 100 mJ/㎠일 수 있고, 구체적으로는 1 mJ/㎠ 내지 80 mJ/㎠, 1 mJ/㎠ 내지 60 mJ/㎠¸1 mJ/㎠ 내지 40 mJ/㎠, 1 mJ/㎠ 내지 35 mJ/㎠, 1 mJ/㎠ 내지 30 mJ/㎠¸1 mJ/㎠ 내지 20 mJ/㎠, 1 mJ/㎠ 내지 10 mJ/㎠, 5 mJ/㎠ 내지 10 mJ/㎠, 5 mJ/㎠ 내지 20 mJ/㎠, 5 mJ/㎠ 내지 25 mJ/㎠, 5 mJ/㎠ 내지 35 mJ/㎠, 5 mJ/㎠ 내지 50 mJ/㎠, 15 mJ/㎠ 내지 25 mJ/㎠, 25 mJ/㎠ 내지 35 mJ/㎠, 25 mJ/㎠ 내지 50 mJ/㎠, 40 mJ/㎠ 내지 60 mJ/㎠, 70 mJ/㎠ 내지 100 mJ/㎠ 또는 5 mJ/㎠ 내지 33 mJ/㎠일 수 있다. 본 발명은 제1 광 조사 단계의 광 조사량을 상기 범위로 제어함으로써 경화층 표면에 형성되는 랜덤 방사형의 미세 굴곡 구조의 평균 직경, 높이 및/또는 빈도를 용이하게 제어할 수 있다.In addition, in the first light irradiation step, the light irradiation amount may be 1 mJ / cm 2 to 100 mJ / cm 2, specifically 1 mJ / cm 2 to 80 mJ / cm 2, 1 mJ / cm 2 to 60 mJ / cm 2 ¸ 1 mJ / Cm2 to 40 mJ / cm2, 1 mJ / cm2 to 35 mJ / cm2, 1 mJ / cm2 to 30 mJ / cm2 to 1 mJ / cm2 to 20 mJ / cm2, 1 mJ / cm2 to 10 mJ / cm2, 5 mJ / Cm2 to 10 mJ / cm2, 5 mJ / cm2 to 20 mJ / cm2, 5 mJ / cm2 to 25 mJ / cm2, 5 mJ / cm2 to 35 mJ / cm2, 5 mJ / cm2 to 50 mJ / cm2, 15 mJ / Cm 2 to 25 mJ / cm 2, 25 mJ / cm 2 to 35 mJ / cm 2, 25 mJ / cm 2 to 50 mJ / cm 2, 40 mJ / cm 2 to 60 mJ / cm 2, 70 mJ / cm 2 to 100 mJ / cm 2 or 5 mJ / Cm 2 to 33 mJ / cm 2. The present invention can easily control the average diameter, height and / or frequency of the randomly-radiated finely curved structure formed on the surface of the cured layer by controlling the light irradiation amount of the first light irradiation step to the above range.

아울러, 기재 상에 조성물을 도포하는 방법은 기술분야에서 공지된 방법에 의해 수행될 수 있으며, 예를 들어, 메이어(Mayer), 디-바(D-bar), 고무롤(rubber roll), G/V 롤(G/V roll), 에어나이프(air knife), 슬롯다이(slot die) 등을 이용하여 수행될 수 있다.In addition, the method of applying the composition on the substrate may be performed by a method known in the art, for example, Mayer (Mayer), D-bar (D-bar), rubber roll (rubber roll), G / It may be performed using a V roll (G / V roll), an air knife, or a slot die.

또한, 제2 광 조사 단계는 표면이 수축된 조성물 및/또는 경화층에 자외선(UV) 에너지를 가하여 가경화시키는 단계로서, 200 내지 400㎚ 이상의 파장, 구체적으로는 250 내지 380㎚, 280 내지 380㎚, 250 내지 350㎚, 또는 280 내지 320㎚ 파장의 광을 공기(air) 조건에서 조사하여 수행될 수 있다. 이때, 가경화된 조성물 및/또는 경화층의 표면 온도는 20 내지 90℃, 구체적으로는 20 내지 80℃ 또는 30 내지 70℃일 수 있다.In addition, the second light irradiation step is a step of temporarily curing by applying ultraviolet (UV) energy to the composition and / or cured layer of the surface shrinkage, wavelengths of 200 to 400nm or more, specifically 250 to 380nm, 280 to 380nm , 250-350 nm, or 280-320 nm light may be performed by irradiating in air conditions. At this time, the surface temperature of the provisionally cured composition and / or cured layer may be 20 to 90 ℃, specifically 20 to 80 ℃ or 30 to 70 ℃.

하나의 예로서, 상기 제2 광 조사 단계는 조성물 및/또는 경화층에 300±5㎚ 파장을 갖는 광을 공기 조건에서 20~800 mJ/㎠의 광량으로 1~2초의 매우 짧은 시간 동안 조사하여 수행될 수 있고, 이때 조성물 및/또는 경화층과 광원 사이의 거리는 0.5 내지 10㎜일 수 있다.As an example, the second light irradiation step may be performed by irradiating the composition and / or the cured layer with light having a wavelength of 300 ± 5 nm for a very short time of 1 to 2 seconds at a light amount of 20 to 800 mJ / cm 2 under air conditions. Where the distance between the composition and / or the cured layer and the light source can be 0.5 to 10 mm.

이와 더불어, 제3 광 조사 단계는 가경화된 조성물 및/또는 경화층에 자외선(UV)을 추가적으로 조사하여 진경화를 수행하는 단계로서, 400㎚ 이하의 파장, 구체적으로는 100 내지 400㎚, 200 내지 400㎚, 200 내지 300㎚, 300 내지 400㎚, 150 내지 300㎚, 200 내지 250㎚ 또는 270 내지 320㎚의 파장을 광을 사용하여 산소(O2)를 소량 포함하는 질소(N2) 분위기에서 수행될 수 있다. 여기서, 질소(N2)에 포함된 산소(O2)의 농도는 10 내지 30,000ppm일 수 있고, 구체적으로는 10 내지 5,000ppm, 1,000 내지 2,000ppm, 2,000 내지 3,000ppm, 3,000 내지 4,000ppm, 4,000 내지 5,000ppm, 100 내지 1,000ppm, 100 내지 500ppm, 100 내지 200ppm, 10 내지 2,000ppm, 10 내지 1,000ppm, 10 내지 500ppm, 100 내지 300ppm, 10 내지 200ppm, 50 내지 150ppm, 80 내지 120ppm, 15,000 내지 25,000 ppm, 17,000 내지 23,000 ppm, 19,000 내지 21,000 ppm, 또는 19,500 내지 20,500 ppm일 수 있다. 본 발명은 진경화가 수행되는 제3 광 조사 단계에서 산소(O2)의 농도를 상기 범위로 제어함으로써 조성물 및/또는 경화층의 경화율을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 산소 분자(O2)의 오존(O3) 전환을 통해 경화층의 표면을 세정하는 효과를 유도할 수 있다.In addition, the third light irradiation step is a step of additionally irradiating ultraviolet (UV) to the provisionally cured composition and / or the cured layer to perform the hardening, a wavelength of 400nm or less, specifically, 100 to 400nm, 200 Nitrogen (N 2 ) atmosphere containing a small amount of oxygen (O 2 ) using light at a wavelength of from 400 nm, 200 to 300 nm, 300 to 400 nm, 150 to 300 nm, 200 to 250 nm or 270 to 320 nm. It can be performed in. Here, the concentration of oxygen (O 2 ) contained in the nitrogen (N 2 ) may be 10 to 30,000ppm, specifically 10 to 5,000ppm, 1,000 to 2,000ppm, 2,000 to 3,000ppm, 3,000 to 4,000ppm, 4,000 To 5,000 ppm, 100 to 1,000 ppm, 100 to 500 ppm, 100 to 200 ppm, 10 to 2,000 ppm, 10 to 1,000 ppm, 10 to 500 ppm, 100 to 300 ppm, 10 to 200 ppm, 50 to 150 ppm, 80 to 120 ppm, 15,000 to 25,000 ppm, 17,000 to 23,000 ppm, 19,000 to 21,000 ppm, or 19,500 to 20,500 ppm. The present invention not only improves the curing rate of the composition and / or the cured layer by controlling the concentration of oxygen (O 2 ) in the above range in the third light irradiation step in which hardening is performed, but also ozone of oxygen molecules (O 2 ). Through the (O 3 ) conversion, the effect of cleaning the surface of the cured layer can be induced.

하나의 예로서, 상기 제3 광 조사 단계는 조성물 및/또는 경화층에 300±5㎚ 파장을 갖는 광을 100~3,000 mJ/㎠의 광량으로 1~2초의 매우 짧은 시간 동안 조사하여 수행될 수 있고, 이때 조성물 및/또는 경화층과 광원 사이의 거리는 50±10㎜일 수 있다.As one example, the third light irradiation step may be performed by irradiating the composition and / or cured layer with light having a wavelength of 300 ± 5 nm for a very short time of 1 to 2 seconds with a light amount of 100 ~ 3,000 mJ / ㎠ In this case, the distance between the composition and / or the cured layer and the light source may be 50 ± 10 mm.

본 발명에서 조사되는 광은 각 단계에서 요구되는 파장의 광을 조사할 수 있는 공지된 방법에 따라 조사될 수 있다. 예를 들어, UV 영역인 400㎚ 이하의 파장을 갖는 광은 수은 또는 메탈 할라이드 램프 등을 이용하여 조사될 수 있다.The light irradiated in the present invention can be irradiated according to a known method capable of irradiating light of a wavelength required in each step. For example, light having a wavelength of 400 nm or less, which is a UV region, may be irradiated using a mercury or metal halide lamp or the like.

또한, 본 발명에서 광이 조사되는 시간은 1~2초의 매우 짧은 시간일 수 있고, 이러한 광 조사 시간은 광 조사 시 조성물이 이동하는 속도, 예컨대 기재 상에 코팅된 조성물의 이동 속도에 의해 제어될 수 있다. 예를 들어, 상기 조성물 및/또는 조성물이 코팅된 기재의 이동 속도는 1 내지 50 m/min일 수 있고, 구체적으로는 5 내지 40 m/min, 10 내지 40 m/min, 20 내지 40 m/min, 30 내지 40 m/min, 15 내지 25 m/min, 5 내지 15 m/min, 15 내지 20 m/min, 35 내지 40 m/min 또는 18 내지 22 m/min일 수 있다.In addition, the time for which light is irradiated in the present invention may be a very short time of 1 to 2 seconds, which is controlled by the speed at which the composition moves during light irradiation, such as the rate of movement of the composition coated on the substrate. Can be. For example, the composition and / or the movement speed of the substrate coated with the composition may be 1 to 50 m / min, specifically 5 to 40 m / min, 10 to 40 m / min, 20 to 40 m / min, 30 to 40 m / min, 15 to 25 m / min, 5 to 15 m / min, 15 to 20 m / min, 35 to 40 m / min or 18 to 22 m / min.

한편, 본 발명에서 사용되는 조성물은 25℃에서 1,000 내지 1,500 cps, 구체적으로는 1,000 내지 1,450 cps, 1,000 내지 1,400 cps, 1,000 내지 1,350 cps, 1,000 내지 1,300 cps, 1,000 내지 1,250 cps, 1,000 내지 1,200 cps, 1,250 내지 1,500 cps, 1,300 내지 1,500 cps, 1,300 내지 1,400 cps, 1,350 내지 1,450 cps, 1,100 내지 1,300 cps, 또는 1,050 내지 1,200 cps의 낮은 점도를 가질 수 있다. 상기 조성물은 점도를 상기 범위로 제어함으로써 작업성이 우수한 이점을 갖는다.Meanwhile, the composition used in the present invention is 1,000 to 1,500 cps at 25 ° C, specifically 1,000 to 1,450 cps, 1,000 to 1,400 cps, 1,000 to 1,350 cps, 1,000 to 1,300 cps, 1,000 to 1,250 cps, 1,000 to 1,200 cps, It may have a low viscosity of 1,250 to 1,500 cps, 1,300 to 1,500 cps, 1,300 to 1,400 cps, 1,350 to 1,450 cps, 1,100 to 1,300 cps, or 1,050 to 1,200 cps. The composition has the advantage of excellent workability by controlling the viscosity in the above range.

이하, 본 발명을 실시예 및 실험예에 의해 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by examples and experimental examples.

단, 하기 실시예 및 실험예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기 실시예 및 실험예에 한정되는 것은 아니다.However, the following Examples and Experimental Examples are only illustrative of the present invention, and the content of the present invention is not limited to the following Examples and Experimental Examples.

실시예 1 내지 5.Examples 1 to 5.

메틸(메타)아크릴레이트 올리고머(분자량: 2,200±100) 40 중량부, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 20 중량부, 벤질아크릴레이트 20 중량부, 및 폴리에틸렌글리콜 디아크릴레이트 20 중량부와 개시제인 벤조페논 5 중량부, 및 필러인 콜로이달 실리카 (평균 직경: 5±0.5 ㎛)를 포함하는 조성물을 가로 10 ㎝ X 세로 10 ㎝의 폴리비닐클로라이드 (PVC) 기재에 도포하고 도 1에 나타낸 것과 같은 구조의 광 경화장치에 고정시켰다. 그 후 하기 표 1에 나타낸 바와 같이 9±0.5 m/min의 이동속도로 기재를 이동시키면서 단계적으로 광 조사를 수행하여 SLS 타입의 비발포식 타일 바닥재 시편을 제조하였다. 이때, 상기 경화층의 평균 두께는 20±1㎛이였다.40 parts by weight of methyl (meth) acrylate oligomer (molecular weight: 2,200 ± 100), 20 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate, 20 parts by weight of benzyl acrylate, and 20 parts by weight of polyethylene glycol diacrylate and benzophenone as an initiator A composition comprising 5 parts by weight, and a filler, colloidal silica (average diameter: 5 ± 0.5 μm), was applied to a 10 cm × 10 cm vertical polyvinylchloride (PVC) substrate and structured as shown in FIG. It was fixed to the light curing device. Then, as shown in Table 1 below, while moving the substrate at a moving speed of 9 ± 0.5 m / min, light irradiation was performed stepwise to prepare a non-foamed tile flooring specimen of SLS type. At this time, the average thickness of the cured layer was 20 ± 1㎛.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 실시예 4Example 4 실시예 5Example 5 필러 함량[조성물 전체
100 중량부 기준]
Filler content [total composition
100 parts by weight]
3 중량부3 parts by weight 3 중량부3 parts by weight 3 중량부3 parts by weight 3 중량부3 parts by weight 8 중량부8 parts by weight
제1 광 조사First light irradiation 파장범위Wavelength range 172±5 ㎚172 ± 5 nm 172±5 ㎚172 ± 5 nm 172±5 ㎚172 ± 5 nm 172±5 ㎚172 ± 5 nm 172±5 ㎚172 ± 5 nm 조사량Dose 32 mJ/㎠32 mJ / ㎠ 18 mJ/㎠18 mJ / ㎠ 7 mJ/㎠7 mJ / ㎠ 32 mJ/㎠32 mJ / ㎠ 32 mJ/㎠32 mJ / ㎠ 광원과의
거리
With light source
Street
50±1㎜50 ± 1 mm 50±1㎜50 ± 1 mm 50±1㎜50 ± 1 mm 50±1㎜50 ± 1 mm 50±1㎜50 ± 1 mm
가스 조건Gas condition N2 조건(O2 5,000 ppm 이하)N 2 condition (O 2 5,000 ppm or less) N2 조건
(O2 5,000 ppm이하)
N 2 condition
(O 2 5,000 ppm or less)
N2 조건
(O2 5,000 ppm이하)
N 2 condition
(O 2 5,000 ppm or less)
N2 조건
(O2 5,000 ppm 이하)
N 2 condition
(O 2 5,000 ppm or less)
N2 조건
(O2 5,000 ppm 이하)
N 2 condition
(O 2 5,000 ppm or less)
제2 광 조사Second light irradiation 파장 범위Wavelength range 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm 조사량Dose 280 mJ/㎠280 mJ / ㎠ 280 mJ/㎠280 mJ / ㎠ 280 mJ/㎠280 mJ / ㎠ 280 mJ/㎠280 mJ / ㎠ 280 mJ/㎠280 mJ / ㎠ 광원과의
거리
With light source
Street
2±1㎜2 ± 1㎜ 2±1㎜2 ± 1㎜ 2±1㎜2 ± 1㎜ 2±1㎜2 ± 1㎜ 2±1㎜2 ± 1㎜
가스 조건Gas condition 공기 조건Air condition 공기 조건Air condition 공기 조건Air condition 공기 조건Air condition 공기 조건Air condition 제3 광 조사Third light irradiation 파장 범위Wavelength range 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm 조사량Dose 600 mJ/㎠600 mJ / ㎠ 600 mJ/㎠600 mJ / ㎠ 600 mJ/㎠600 mJ / ㎠ 600 mJ/㎠600 mJ / ㎠ 600 mJ/㎠600 mJ / ㎠ 광원과의
거리
With light source
Street
100±1㎜100 ± 1 mm 50±1㎜50 ± 1 mm 50±1㎜50 ± 1 mm 50±1㎜50 ± 1 mm 50±1㎜50 ± 1 mm
가스 조건Gas condition N2 조건
(O2 10,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 10,000 ppm)
N2 조건
(O2 10,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 10,000 ppm)
N2 조건
(O2 10,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 10,000 ppm)
N2 조건
(O2 10,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 10,000 ppm)
N2 조건
(O2 10,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 10,000 ppm)
경화율Curing rate 68%68% 70%70% 70%70% 70%70% 70%70%

비교예 1 내지 4.Comparative Examples 1 to 4.

하기 표 2에 경화조건으로 조성물을 경화하는 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하여 SLS 타입의 비발포식 타일 바닥재 시편을 제조하였다.SLS type non-foaming tile flooring specimens were prepared in the same manner as in Example 1, except that the composition was cured under the curing conditions in Table 2 below.

비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 비교예 4Comparative Example 4 필러 함량[조성물 전체
100 중량부 기준]
Filler content [total composition
100 parts by weight]
3 중량부3 parts by weight 3 중량부3 parts by weight 3 중량부3 parts by weight 8 중량부8 parts by weight
제1

조사
First
ore
Research
파장범위Wavelength range 172±5 ㎚172 ± 5 nm -- 172±5 ㎚172 ± 5 nm --
조사량Dose 3 mJ/㎠3 mJ / ㎠ -- 118 mJ/㎠118 mJ / ㎠ -- 광원과의
거리
With light source
Street
50±1㎜50 ± 1 mm -- 10±1㎜10 ± 1㎜ --
가스 조건Gas condition N2 조건(O2 5,000 ppm)N 2 conditions (O 2 5,000 ppm) -- N2 조건
(O2 5,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 5,000 ppm)
--
제2

조사
2nd
ore
Research
파장 범위Wavelength range -- 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm
조사량Dose -- 280 mJ/㎠280 mJ / ㎠ 280 mJ/㎠280 mJ / ㎠ 280 mJ/㎠280 mJ / ㎠ 광원과의
거리
With light source
Street
-- 100±1㎜100 ± 1 mm 100±1㎜100 ± 1 mm 100±1㎜100 ± 1 mm
가스 조건Gas condition -- 공기 조건Air condition 공기 조건Air condition 공기 조건Air condition 제3

조사
The third
ore
Research
파장 범위Wavelength range 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm 200~400 ㎚200-400 nm
조사량Dose 600 mJ/㎠600 mJ / ㎠ 600 mJ/㎠600 mJ / ㎠ 600 mJ/㎠600 mJ / ㎠ 600 mJ/㎠600 mJ / ㎠ 광원과의
거리
With light source
Street
100±1㎜100 ± 1 mm 100±1㎜100 ± 1 mm 100±1㎜100 ± 1 mm 100±1㎜100 ± 1 mm
가스 조건Gas condition N2 조건
(O2 10,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 10,000 ppm)
N2 조건
(O2 10,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 10,000 ppm)
N2 조건
(O2 10,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 10,000 ppm)
N2 조건
(O2 10,000 ppm)
N 2 condition
(O 2 10,000 ppm)

실험예 1Experimental Example 1

본 발명에 따른 비발포식 바닥재의 최외각층인 경화층의 표면 구조를 확인하기 위하여 실시예 1 및 3과 비교예 2 및 3에서 제조된 비발포식 바닥재 시편을 대상으로 주사 전자현미경(SEM) 분석을 수행하였으며, 그 결과는 도 2 내지 4에 나타내었다.Scanning electron microscope (SEM) analysis was performed on the non-foaming flooring specimens prepared in Examples 1 and 3 and Comparative Examples 2 and 3 to confirm the surface structure of the cured layer, which is the outermost layer of the non-foaming flooring according to the present invention. The results are shown in Figures 2 to 4.

도 2 및 3을 살펴보면, 본 발명에 따른 실시예 1 및 3의 시편은 표면에 일정 크기와 빈도로 방사형 굴곡 구조를 포함하는 것으로 나타났으며, 상기 방사형 굴곡 구조는 중심부에서 주변부로 갈수록 높이가 낮아지는 구조를 갖는 것을 알 수 있다.2 and 3, the specimens of Examples 1 and 3 according to the present invention were found to include a radially curved structure at a certain size and frequency on the surface, and the radially curved structure was lower in height from the center to the periphery. It can be seen that the paper has a structure.

또한, 실시예 1과 3의 적층 필름을 살펴보면, 적층 필름의 경화층은 제1 광 경화 단계에서의 광 조사량이 강해질수록 미세 굴곡이 강하게 형성되면서 표면에 형성된 랜덤 방사형의 미세굴곡 구조의 크기(즉, 직경)은 작아지고, 중심부의 높이와 빈도는 증가하는 것으로 확인되었다. 구체적으로, 실시예 1의 경우 방사형 굴곡 구조의 평균 크기는 50±2 ㎛이고, 중심부의 높이는 19±1 ㎛이며, 단위 면적(1㎜ X 1㎜)당 140 내지 165개의 덴드라이트 형상을 포함하고, 실시예 3의 경우 방사형 굴곡 구조의 평균 크기는 70±2 ㎛이고, 중심부의 높이는 12±1 ㎛이며, 단위 면적(1㎜ X 1㎜)당 40 내지 60개를 포함하는 것으로 나타났다.In addition, when looking at the laminated films of Examples 1 and 3, the cured layer of the laminated film is formed with a fine bend stronger as the amount of light irradiation in the first photocuring step becomes stronger, and the size of the random-radial fine-bending structure formed on the surface (that is, , Diameter), it was confirmed that the height and frequency of the center increased. Specifically, in Example 1, the average size of the radially curved structure is 50 ± 2 μm, the center has a height of 19 ± 1 μm, and includes 140 to 165 dendrite shapes per unit area (1 mm X 1 mm). , In the case of Example 3, the average size of the radially curved structure was 70 ± 2 μm, the height of the center was 12 ± 1 μm, and it was found to include 40 to 60 per unit area (1 mm X 1 mm).

이에 반해, 제1 광 경화 단계를 수행하지 않은 비교예 2의 시편은 표면에 미세 굴곡 구조를 갖지 않는 것으로 나타났다. 또한, 도 4를 살펴보면, 제1 광 경화 단계를 수행하였으나 광의 조사량이 현저히 많은 비교예 3의 시편은 표면에 굴곡 구조를 포함하나 굴곡 정도가 커 중심부를 포함하지 않으므로 중심부에서 주변부로 갈수록 높이가 낮아지는 방사형의 구조를 갖지 않는 것으로 확인되었다.On the other hand, the specimen of Comparative Example 2, which did not perform the first photo-curing step, was found not to have a finely curved structure on the surface. In addition, referring to Figure 4, the first light curing step is performed, but the specimen of Comparative Example 3, which has a significant amount of light irradiation, includes a curved structure on the surface, but the degree of bending is large and does not include a central portion, so the height from the central portion to the peripheral portion is low. It has been found that paper has no radial structure.

이러한 결과로부터, 200 ㎚ 미만 파장의 광을 조사하는 제1 광 조사 단계는 엑시머를 발생시키고, 발생된 엑시머는 단파장 UV를 발생시켜 조성물 및/또는 경화층의 표면 경화를 빠르게 촉진시키며, 이에 따라 조성물 및/또는 경화층의 표면은 수축이 발생되어 미세한 굴곡 구조를 형성됨을 알 수 있다. 다시 말해, 상기 제1 광 조사 단계의 수행 조건을 특정 조건으로 조절함으로써 미세 굴곡 구조의 형태를 제어할 수 있음을 알 수 있다.From these results, the first light irradiation step of irradiating light with a wavelength of less than 200 nm generates an excimer, and the generated excimer generates short-wave UV, thereby rapidly promoting surface hardening of the composition and / or cured layer, and thus the composition And / or the surface of the cured layer can be seen that shrinkage occurs to form a fine curved structure. In other words, it can be seen that the shape of the fine bend structure can be controlled by adjusting the performance condition of the first light irradiation step to a specific condition.

실험예 2.Experimental Example 2.

본 발명에 따른 비발포식 바닥재의 광택성, 내요오드성 및 논-슬립성을 평가하기 위하여 실시예 1 내지 4와 비교예 1 내지 3에서 제조된 시편을 대상으로 표면조도, 광택도, 요오드 오염에 따른 색좌표 편차 및 논-슬립성 시험을 측정하였다. 구체적인 측정방법은 다음과 같으며, 측정된 결과는 하기 표 3에 나타내었다:In order to evaluate the glossiness, iodine resistance and non-slip resistance of the non-foaming type flooring according to the present invention, the surface roughness, glossiness, and iodine contamination of the specimens prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 The resulting color coordinate deviation and non-slip test were measured. The specific measurement method is as follows, and the measured results are shown in Table 3 below:

가) 표면 조도 평가A) Surface roughness evaluation

ISO 4287을 기준으로 실시예 및 비교예의 시편에 구비된 경화층의 표면 조도(Rz)를 측정하였다.Surface roughness (Rz) of the cured layer provided in the specimens of Examples and Comparative Examples was measured based on ISO 4287.

나) 광택도 평가B) gloss rating

실시예 및 비교예의 시편들을 대상으로 광택 측정기(Gloss Meter)를 이용하여 60° 광택도(글로스 60° 조건) 를 측정하였다.60 ° glossiness (gloss 60 ° condition) of the specimens of Examples and Comparative Examples was measured using a gloss meter.

다) 내요오드 평가C) Evaluation of iodine

시편 표면에 임의의 3지점 A 내지 C를 선정하고, 선정된 지점에 대하여 CIE 색공간에서의 색좌표를 측정하여 평균 색좌표 및 색좌표 편차를 구하였다. 구체적으로, 22±1℃, 50±5% RH의 습도에서 시편 표면에 1 부피%의 농도로 메탄올에 용해된 요오드(I2) 시험액(시약명: iodine tincture)을 1~2방울 떨어뜨려 원형으로 퍼지는 것을 확인하고, 20분이 경과하면 티슈로 2회 문질러 표면의 요오드를 제거한 다음, 요오드(I2)가 묻었던 지점의 상태를 육안으로 평가하였다. 이때, 상기 평가는 시편을 평가자의 눈 앞 10 cm 에 위치하여 형광등 아래 밝은 장소에서 보았을 때 경화층의 형태 변화(예컨대, 박리나 파괴 등), 광택 및 색상의 변화 여부를 확인하였으며, 등급 기준은 다음과 같다:Arbitrary 3 points A to C were selected on the surface of the specimen, and the color coordinates in the CIE color space were measured for the selected points to obtain average color coordinates and color coordinate deviations. Specifically, by dropping 1-2 drops of iodine (I 2 ) test solution (reagent name: iodine tincture) dissolved in methanol at a concentration of 1% by volume on the surface of the specimen at a humidity of 22 ± 1 ° C and 50 ± 5% RH. After confirming the spread, and after 20 minutes, rubbed twice with a tissue to remove the iodine on the surface, and then visually evaluated the state of the point where the iodine (I 2 ) was buried. At this time, the evaluation was confirmed whether the specimen was positioned 10 cm in front of the evaluator's eyes and viewed in a bright place under a fluorescent lamp to change the shape of the cured layer (e.g., peeling or breaking, etc.), and to change the gloss and color. As follows:

- 1 등급: 경화층의 박리나 파괴-Grade 1: Peeling or breaking of the cured layer

(최초 오염면적 기준 잔류하는 요오드의 면적이 40% 이상),(The area of iodine remaining in the initial contamination area is 40% or more),

- 2 등급: 경화층의 상당한 형태 변화와 광택 또는 색상 상당한 변화 발생-Grade 2: Significant change in shape of the hardened layer and significant change in gloss or color

(최초 오염면적 기준 잔류하는 요오드의 면적이 20% 이하 40% 미만),(The area of iodine remaining in the initial contamination area is less than 40% and less than 20%),

- 3 등급: 경화층의 형태 변화가 없거나 약간의 변화가 있고, 광택이나 색상의 상당한 변화 발생-Grade 3: There is no or little change in the shape of the cured layer, and a significant change in gloss or color occurs.

(최초 오염면적 기준 잔류하는 요오드의 면적이 5% 이하 20% 미만),(The area of iodine remaining in the initial contamination area is less than 5% and less than 20%),

- 4 등급: 경화층의 형태 변화 없이 광택이나 색상의 약간의 변화 발생-Grade 4: slight change in gloss or color without changing the shape of the cured layer

(최초 오염면적 기준 잔류하는 요오드의 면적이 1% 이하 5% 미만),(The area of iodine remaining on the basis of the initial contamination area is less than 1% and less than 5%),

- 5 등급: 경화층의 형태, 광택 및 색상의 변화 없음-Grade 5: No change in shape, luster and color of cured layer

(최초 오염면적 기준 잔류하는 요오드의 면적이 1% 미만).(The area of iodine remaining in the initial contamination area is less than 1%).

라) 논-슬립 평가D) Non-slip evaluation

DIN 51130에 따른 Ramp 시험을 수행하여 미끄러짐이 발생되는 경사각을 측정하였으며, 측정된 경사각을 하기 기준에 따라 분류하여 논-슬립 등급을 정하였다:A ramp test according to DIN 51130 was performed to measure the inclination angle at which slip occurs, and the measured inclination angle was classified according to the following criteria to determine the non-slip grade:

- R9: 미끄러짐이 발생되는 경사각의 각도가 6° 이상 10° 미만- R9: The angle of the inclination angle at which slip occurs is 6 ° or more and less than 10 °

- R10: 미끄러짐이 발생되는 경사각의 각도가 10° 이상 19° 미만- R10: The angle of the inclination angle at which the slip occurs is 10 ° or more and less than 19 °

- R11: 미끄러짐이 발생되는 경사각의 각도가 19° 이상 27° 미만- R11: Angle of inclination at which slip occurs is more than 19 ° and less than 27 °

- R12: 미끄러짐이 발생되는 경사각의 각도가 27° 이상 35° 미만- R12: Angle of inclination at which slipping occurs is more than 27 ° but less than 35 °

- R13: 미끄러짐이 발생되는 경사각의 각도가 35° 이상- R13: Angle of inclination at which slip occurs is more than 35 °

표면 조도 (Rz)Surface roughness (Rz) 광택도Glossiness 내요오드 평가Iodine evaluation 논-슬립성Non-slip 실시예 1Example 1 2121 6±0.56 ± 0.5 44 R10R10 실시예 2Example 2 2020 6±0.56 ± 0.5 44 R10R10 실시예 3Example 3 1717 8±0.58 ± 0.5 33 R9R9 실시예 4Example 4 2222 6±0.56 ± 0.5 44 R10R10 실시예 5Example 5 2020 5±0.55 ± 0.5 33 R10R10 비교예 1Comparative Example 1 1313 12±0.512 ± 0.5 22 R9R9 비교예 2Comparative Example 2 1313 12±0.512 ± 0.5 1One R9R9 비교예 3Comparative Example 3 1414 12±0.512 ± 0.5 44 R9R9 비교예 4Comparative Example 4 2020 9±0.59 ± 0.5 1One R10R10

상기 표 3에 나타낸 바와 같이 본 발명에 따른 비발포식 바닥재는 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 단계적으로 조사하여 경화시킴으로써 조성물에 소광제를 포함하지 않아도 낮은 광택도를 나타내고 내요오드성이 우수한 것으로 알 수 있다.As shown in Table 3, the non-foaming type flooring according to the present invention exhibits low gloss even if the composition does not contain a matting agent by irradiating and curing the short-wavelength light in a specific range step by step under different conditions. Able to know.

구체적으로, 실시예 1 내지 4의 비발포식 바닥재 시편들은 소광제를 소량 사용하여도 글로스 60° 조건에서의 광택도가 10 미만이고, 내요오드성이 뛰어나 요오드 오염 전후 표면의 형태 변화는 물론 광택이나 색상 변화도 없었다. 또한, 상기 실시예 1 내지 4의 시편들은 19° 미만의 경사각에서는 미끄러짐이 발생하지 않는 것으로 확인되었다.Specifically, the non-foaming flooring specimens of Examples 1 to 4 have a gloss of less than 10 under a gloss 60 ° condition even when a small amount of a matting agent is used, and excellent in iodine resistance, as well as changing the shape of the surface before and after iodine contamination, as well as gloss. There was no color change. In addition, it was confirmed that the specimens of Examples 1 to 4 did not generate slippage at an inclination angle of less than 19 °.

이러한 결과로부터 조성물의 광 경화 시 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 단계적으로 조사하여 경화하는 경우 조성물의 경화율이 향상될 뿐만 아니라 경화층의 광택도가 감소하고 내요오드성, 및 논-슬립성이 동시에 향상됨을 알 수 있다. 나아가, 상기 경화층들은 표면에 구현된 방사형 굴곡 구조의 평균 크기, 중심부의 높이 및 단위 면적당 빈도가 증가할수록 광택이 낮아지는 경향을 보였다. 이는 상기 방사형 굴곡 구조가 경화층의 표면 물성에 영향을 미침을 의미한다.From these results, when curing the composition by photo-curing a specific range of short-wavelength light step by step under different conditions, not only the curing rate of the composition is improved, but the glossiness of the cured layer is reduced, iodine resistance, and non-slip It can be seen that the sex is improved at the same time. Furthermore, the cured layers tended to have a lower gloss as the average size of the radially curved structure implemented on the surface, the height of the center portion, and the frequency per unit area increased. This means that the radially curved structure affects the surface properties of the cured layer.

100: 광 경화장치
110: 광 조사실
111: 제1 광 조사기 (UV 조사기)
112: 제2 광 조사기 (UV 조사기)
113: 제3 광 조사기 (UV 조사기)
120: 조사된 광
130: 컨베이어 벨트
140: 가스 격막
150: 시편
200: 비발포식 바닥재의 단면구조
210: 경화층
220: 기재층
211: 덴드라이트
100: light curing device
110: light irradiation chamber
111: first light irradiator (UV irradiator)
112: second light irradiator (UV irradiator)
113: third light irradiator (UV irradiator)
120: irradiated light
130: conveyor belt
140: gas septum
150: Psalms
200: cross-sectional structure of non-foaming flooring
210: hardened layer
220: substrate layer
211: dendrites

Claims (13)

기재층; 및
표면에는 한 점을 중심부로 하고 상기 중심부에서 주변부로 뻗어나가는 방사형의 굴곡 구조인 덴드라이트 형상을 갖는 아크릴 수지 조성물의 경화층을 포함하며,
상기 방사형 굴곡 구조의 평균 직경은 5㎛ 내지 500㎛이고;
표면 조도(Rz)가 평균 10㎛ 내지 40㎛인 비발포식 바닥재.
Base layer; And
The surface includes a cured layer of an acrylic resin composition having a dendrite shape which is a radially curved structure extending from the center to the periphery with one point as the center,
The radial bend structure has an average diameter of 5 μm to 500 μm;
Non-foaming flooring having an average surface roughness (Rz) of 10 µm to 40 µm.
제1항에 있어서,
방사형 굴곡 구조는 표면의 단위 면적 (1㎜ X 1㎜)당 2 내지 400개 존재하는 비발포식 바닥재.
According to claim 1,
Non-foaming flooring with 2 to 400 radial curved structures present per unit area (1 mm X 1 mm) of the surface.
제1항에 있어서,
표면 광택도가 글로스(Gloss) 60° 조건 하에서 10 미만인 비발포식 바닥재.
According to claim 1,
Non-foaming flooring with a surface gloss of less than 10 under Gloss 60 ° conditions.
제1항에 있어서,
상기 경화층은 DIN 51130에 따른 램프 시험 시 미끄러짐이 발생되는 경사각 등급은 R10 이상인 비발포식 바닥재.
According to claim 1,
The cured layer is a non-foaming flooring material having an inclination angle rating of R10 or higher when slipping occurs according to a DIN 51130 lamp test.
제1항에 있어서,
상기 경화층은 22±1℃, 50±5% RH의 습도에서 1 부피%의 요오드 용액으로 오염시키고 20분 경과 후 세척 시, 최초 오염면적 기준 잔류하는 요오드의 면적이 1% 미만인 비발포식 바닥재.
According to claim 1,
The cured layer is contaminated with 1% by volume of iodine solution at a humidity of 22 ± 1 ℃ and 50 ± 5% RH, and after 20 minutes of washing, a non-foaming flooring having an area of iodine remaining less than 1% based on the initial contamination area.
제1항에 있어서,
아크릴 수지 조성물은,
아크릴계 올리고머 100 중량부; 및
중합성 반응기를 1개 이상 포함하는 모노머 50 내지 150 중량부를 포함하고,
아크릴계 올리고머 및 모노머 100 중량부에 대하여 10 중량부 이하의 개시제를 포함하는 비발포식 바닥재.
According to claim 1,
Acrylic resin composition,
100 parts by weight of an acrylic oligomer; And
50 to 150 parts by weight of a monomer containing at least one polymerizable reactor,
A non-foaming flooring material comprising 10 parts by weight or less of an initiator based on 100 parts by weight of an acrylic oligomer and a monomer.
제1항에 있어서,
아크릴 수지 조성물은 실리카, 알루미나, 글래스 비드 및 유기물 비드로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 필러를 더 포함하는 비발포식 바닥재.
According to claim 1,
The acrylic resin composition is a non-foaming type flooring material further comprising at least one filler selected from the group consisting of silica, alumina, glass beads, and organic beads.
제6항에 있어서,
필러의 평균 직경은 1 ㎛ 내지 15 ㎛인 비발포식 바닥재.
The method of claim 6,
The non-foaming flooring having an average diameter of the filler is 1 μm to 15 μm.
제6항에 있어서,
필러의 함량은 조성물 100 중량부에 대하여 10 중량부 미만인 비발포식 바닥재.
The method of claim 6,
The content of the filler is a non-foaming type flooring material having less than 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the composition.
제1항에 있어서,
경화층의 평균 두께는 3 ㎛ 내지 50 ㎛인 비발포식 바닥재.
According to claim 1,
The non-foaming flooring having an average thickness of the cured layer is 3 μm to 50 μm.
아크릴 수지 조성물에, 불활성 기체 조건 하에서 300㎚ 미만 파장의 광을 조사하여 상기 조성물을 활성화시키는 제1 광 조사 단계;
활성화된 조성물에, 공기(air) 조건 하에서 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 1차 광 경화시키는 제2 광 조사 단계; 및
1차 경화된 조성물에, 불활성 기체 조건 하에서 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 2차 광 경화시키는 제3 광 조사 단계를 포함하는 비발포식 바닥재의 제조방법.
A first light irradiation step of activating the composition by irradiating the acrylic resin composition with light having a wavelength less than 300 nm under inert gas conditions;
A second light irradiation step of irradiating the activated composition with light having a wavelength of 200 nm to 400 nm under air conditions to firstly cure the composition; And
A method of manufacturing a non-foaming flooring comprising a third light irradiation step of irradiating light having a wavelength of 200 nm to 400 nm under an inert gas condition to a primary cured composition to secondary-cure the composition.
제11항에 있어서,
제1 광 조사 단계는 1 mJ/㎠ 내지 100 mJ/㎠의 광 조사량으로 수행되는 것을 특징으로 하는 비발포식 바닥재의 제조방법.
The method of claim 11,
The first light irradiation step is 1 mJ / ㎠ to 100 mJ / ㎠ method of manufacturing a non-foaming flooring characterized in that it is performed with a light irradiation amount.
제11항에 있어서,
제1 광 조사 단계 및 제3 광 조사 단계는, 산소(O2)의 농도가 10 ppm 내지 30,000 ppm인 질소(N2) 조건 하에서 수행되는 것을 특징으로 하는 비발포식 바닥재의 제조방법.
The method of claim 11,
The first light irradiation step and the third light irradiation step, the concentration of oxygen (O 2 ) The method of manufacturing a non-foaming type flooring, characterized in that performed under nitrogen (N 2 ) conditions of 10 ppm to 30,000 ppm.
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