KR20210043156A - Floorings having excellent anti-pollution property - Google Patents

Floorings having excellent anti-pollution property Download PDF

Info

Publication number
KR20210043156A
KR20210043156A KR1020190125981A KR20190125981A KR20210043156A KR 20210043156 A KR20210043156 A KR 20210043156A KR 1020190125981 A KR1020190125981 A KR 1020190125981A KR 20190125981 A KR20190125981 A KR 20190125981A KR 20210043156 A KR20210043156 A KR 20210043156A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
surface treatment
area
treatment layer
less
Prior art date
Application number
KR1020190125981A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102671918B1 (en
Inventor
박민경
탁효원
최태이
Original Assignee
(주)엘지하우시스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)엘지하우시스 filed Critical (주)엘지하우시스
Priority to KR1020190125981A priority Critical patent/KR102671918B1/en
Publication of KR20210043156A publication Critical patent/KR20210043156A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102671918B1 publication Critical patent/KR102671918B1/en

Links

Images

Classifications

    • EFIXED CONSTRUCTIONS
    • E04BUILDING
    • E04FFINISHING WORK ON BUILDINGS, e.g. STAIRS, FLOORS
    • E04F15/00Flooring
    • E04F15/02Flooring or floor layers composed of a number of similar elements
    • E04F15/10Flooring or floor layers composed of a number of similar elements of other materials, e.g. fibrous or chipped materials, organic plastics, magnesite tiles, hardboard, or with a top layer of other materials
    • E04F15/105Flooring or floor layers composed of a number of similar elements of other materials, e.g. fibrous or chipped materials, organic plastics, magnesite tiles, hardboard, or with a top layer of other materials of organic plastics with or without reinforcements or filling materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/02Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres in the form of fibres or filaments
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • B32B17/066Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of foam
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • B32B27/304Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising vinyl halide (co)polymers, e.g. PVC, PVDC, PVF, PVDF
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B5/00Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts
    • B32B5/22Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by the presence of two or more layers which are next to each other and are fibrous, filamentary, formed of particles or foamed
    • B32B5/24Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by the presence of two or more layers which are next to each other and are fibrous, filamentary, formed of particles or foamed one layer being a fibrous or filamentary layer
    • B32B5/245Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by the presence of two or more layers which are next to each other and are fibrous, filamentary, formed of particles or foamed one layer being a fibrous or filamentary layer another layer next to it being a foam layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34Silicon-containing compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/28Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for wrinkle, crackle, orange-peel, or similar decorative effects
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/60Additives non-macromolecular
    • C09D7/61Additives non-macromolecular inorganic
    • EFIXED CONSTRUCTIONS
    • E04BUILDING
    • E04FFINISHING WORK ON BUILDINGS, e.g. STAIRS, FLOORS
    • E04F15/00Flooring
    • E04F15/02Flooring or floor layers composed of a number of similar elements
    • E04F15/10Flooring or floor layers composed of a number of similar elements of other materials, e.g. fibrous or chipped materials, organic plastics, magnesite tiles, hardboard, or with a top layer of other materials
    • E04F15/107Flooring or floor layers composed of a number of similar elements of other materials, e.g. fibrous or chipped materials, organic plastics, magnesite tiles, hardboard, or with a top layer of other materials composed of several layers, e.g. sandwich panels
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00Coating on the layer surface
    • B32B2255/26Polymeric coating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Civil Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)

Abstract

The present invention relates to flooring having excellent fouling resistance and wax affinity and a manufacturing method thereof, wherein the flooring can have excellent fouling resistance and wax affinity by using a small amount of silicone additive on a surface treatment layer and realizing a micro-wrinkle structure on a surface of the surface treatment layer with a high frequency.

Description

내오염성 및 왁스 친화성이 뛰어난 바닥재{Floorings having excellent anti-pollution property}Flooring with excellent stain resistance and wax affinity{Floorings having excellent anti-pollution property}

본 발명은 내오염성 및 왁스 친화성이 우수한 바닥재 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 상세하게는 바닥재 최상층인 표면 처리층의 조성을 제어하면서, 표면에 미세 주름 구조를 높은 빈도로 구현하여 우수한 내오염성과 왁스 친화성을 동시에 나타내는 바닥재 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a flooring material having excellent stain resistance and wax affinity, and a method for manufacturing the same, and in detail, while controlling the composition of the surface treatment layer, which is the top layer of the flooring material, a fine wrinkle structure is implemented on the surface at high frequency to provide excellent stain resistance and wax. It relates to a flooring material exhibiting affinity at the same time and a method of manufacturing the same.

일반적으로 바닥재는 시멘트 바닥으로부터 먼지 및 냉기를 차단하여 위생적인 공간을 제공하고, 다양한 색상의 미려한 무늬가 인쇄되어 있어 고객 취향에 따라 실내분위기를 아늑하게 바꿔주는 등 장식효과도 가진다. 이러한 종래의 바닥재는 그 표면이 오염물질로 더럽혀진 경우 사용자가 오염물질의 흔적을 쉽게 지울 수 없기 때문에 오염물질 흔적을 가진 바닥재는 그 기본 기능을 다할 수 없게 되는 문제가 있다.In general, the flooring material provides a sanitary space by blocking dust and cold air from the cement floor, and has decorative effects such as changing the indoor atmosphere according to the taste of the customer because the beautiful patterns of various colors are printed. In such a conventional flooring material, when the surface is contaminated with contaminants, the user cannot easily erase the traces of the contaminants, so that the flooring materials having the contaminant traces cannot perform their basic functions.

이에 따라 표면의 내오염성을 향상시키기 위하여 내오염성 첨가제를 사용한 표면 처리제가 개발된 바 있다. 그러나, 종래 일반적으로 사용되는 내오염성 첨가제는 표면 처리제의 표면 장력을 제어하여 이를 통해 형성되는 표면 처리층의 내오염성을 조절하는 원리를 갖는데, 이 경우 왁스에 대한 친화성이 현저히 저하되어 왁스 코팅이 어려운 한계가 있다.Accordingly, in order to improve the stain resistance of the surface, a surface treatment agent using a stain resistance additive has been developed. However, conventionally generally used stain resistance additives have the principle of controlling the stain resistance of the surface treatment layer formed through controlling the surface tension of the surface treatment agent. There is a difficult limit.

따라서, 트레이드-오프(trade-off) 관계인 바닥재의 내오염성과 왁스 친화성이 우수한 바닥재의 개발이 절실히 요구되고 있다.Accordingly, there is an urgent need to develop a flooring material having excellent stain resistance and wax affinity for flooring material in a trade-off relationship.

대한민국 공개특허 제2014-0089074호Republic of Korea Patent Publication No. 2014-0089074

본 발명의 목적은 내오염성과 왁스 친화성이 모두 우수한 바닥재를 제공하는데 있다.An object of the present invention is to provide a flooring material having excellent stain resistance and wax affinity.

이에, 본 발명은 하나의 실시예에서,Thus, the present invention in one embodiment,

기재층 및 아크릴 수지 조성물의 표면 처리층을 포함하고;Including a substrate layer and a surface treatment layer of an acrylic resin composition;

상기 표면 처리층은,The surface treatment layer,

단위 면적 당(0.1 mm X 0.1 mm) 5 내지 20개의 주름을 포함하는 표면 구조를 가지며,It has a surface structure including 5 to 20 wrinkles per unit area (0.1 mm X 0.1 mm),

단위 면적(200 mm X 200 mm)에 3g의 왁스를 도포하는 경우, 1분 경과 후 도포된 왁스의 면적은 최초 도포 면적의 90% 이상인 바닥재를 제공한다.When 3g of wax is applied to a unit area (200 mm X 200 mm), the area of the wax applied after 1 minute is 90% or more of the initial application area, providing a flooring material.

또한, 본 발명은 하나의 실시예에서,In addition, the present invention in one embodiment,

기재층 상에 도포된 아크릴 수지 조성물에, 공기 중에서 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 일부 경화시키는 제1 광 조사 단계,A first light irradiation step of partially curing the composition by irradiating light having a wavelength of 200 nm to 400 nm in air to the acrylic resin composition applied on the base layer,

300㎚ 미만 파장의 광을 조사하여 일부 경화된 조성물 표면에 주름을 유도하는 제2 광 조사 단계, 및A second light irradiation step of irradiating light with a wavelength of less than 300 nm to induce wrinkles on the surface of the partially cured composition, and

질소 가스 (N2) 조건 하에서, 표면에 주름이 유도된 조성물에 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 표면 처리층을 형성하는 제3 광 조사 단계를 포함하는 상기 바닥재의 제조방법을 제공한다.Under nitrogen gas (N 2 ) conditions, it provides a method of manufacturing the flooring material comprising a third light irradiation step of forming a surface treatment layer by irradiating light having a wavelength of 200 ㎚ to 400 ㎚ to the composition in which wrinkles are induced on the surface. .

본 발명에 따른 바닥재는 표면 처리층에 소량의 실리콘 첨가제를 사용하고, 표면 처리층의 표면에 미세 주름 구조를 높은 빈도로 구현하여 우수한 내오염성과 왁스 친화성을 구현할 수 있는 이점이 있다.The flooring material according to the present invention has the advantage of implementing excellent stain resistance and wax affinity by using a small amount of silicone additives in the surface treatment layer and implementing a fine wrinkle structure on the surface of the surface treatment layer at high frequency.

도 1은 본 발명에 따른 실시예 1의 바닥재 시편에 대한 주사 전자현미경 (SEM) 분석 결과를 도시한 이미지이다.
도 2는 본 발명에 따른 비교예 5의 바닥재 시편에 대한 주사 전자현미경 (SEM) 분석 결과를 도시한 이미지이다.
도 3은 제1 광 조사 단계 전·후, 아크릴 수지 조성물의 퓨리에 변환-적외선 분광을 분석한 결과를 도시한 그래프이다.
1 is an image showing a scanning electron microscope (SEM) analysis result of the flooring specimen of Example 1 according to the present invention.
2 is an image showing a scanning electron microscope (SEM) analysis result of the flooring specimen of Comparative Example 5 according to the present invention.
3 is a graph showing the results of analyzing the Fourier transform-infrared spectroscopy of the acrylic resin composition before and after the first light irradiation step.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다.In the present invention, various modifications may be made and various embodiments may be provided, and specific embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description.

그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.However, this is not intended to limit the present invention to a specific embodiment, it should be understood to include all changes, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention.

본 발명에서, "포함한다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In the present invention, terms such as "comprises" or "have" are intended to designate the presence of features, numbers, steps, actions, components, parts, or combinations thereof described in the specification, but one or more other features. It is to be understood that the presence or addition of elements or numbers, steps, actions, components, parts, or combinations thereof does not preclude in advance.

또한, 본 발명에서 첨부된 도면은 설명의 편의를 위하여 확대 또는 축소하여 도시된 것으로 이해되어야 한다.In addition, the accompanying drawings in the present invention should be understood as being enlarged or reduced for convenience of description.

이하, 본 발명에 대하여 도면을 참고하여 상세하게 설명하고, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings, and the same reference numerals are assigned to the same or corresponding components regardless of the reference numerals, and redundant descriptions thereof will be omitted.

본 발명에서, "분자량"이란 해당 중합체의 "중량 평균 분자량"으로서, 상기 중량 평균 분자량은 겔 침투 크로마토그래피 (GPC) 측정을 통해 측정된 값일 수 있다.In the present invention, "molecular weight" is the "weight average molecular weight" of the polymer, and the weight average molecular weight may be a value measured through gel permeation chromatography (GPC) measurement.

또한, 본 발명에서, "표면 조도"란 기재층 상에 형성된 표면 처리층의 "표면 거칠기" 혹은 표면 처리층 표면에 형성된 "주름의 높이"와 동일시 될 수 있다. 또한, 상기 표면 조도는 표면을 주사 전자 현미경(SEM) 촬영하여 분석된 값일 수 있으며, 경우에 따라서는 KS B 0161에 따른 중심선 평균 거칠기(Ra)에 따라 측정된 값일 수 있다.Further, in the present invention, "surface roughness" may be equated with "surface roughness" of the surface treatment layer formed on the base layer or "height of wrinkles" formed on the surface of the surface treatment layer. In addition, the surface roughness may be a value analyzed by photographing the surface with a scanning electron microscope (SEM), and in some cases, may be a value measured according to the centerline average roughness (Ra) according to KS B 0161.

본 발명은 내오염성과 왁스 친화성이 우수한 바닥재 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a flooring material having excellent stain resistance and wax affinity, and a method of manufacturing the same.

일반적으로 바닥재는 시멘트 바닥으로부터 먼지 및 냉기를 차단하여 위생적인 공간을 제공하고, 다양한 색상의 미려한 무늬가 인쇄되어 있어 고객 취향에 따라 실내분위기를 아늑하게 바꿔주는 등 장식효과도 가진다. 이러한 종래의 바닥재는 그 표면이 오염물질로 더럽혀진 경우 사용자가 오염물질의 흔적을 쉽게 지울 수 없기 때문에 오염물질 흔적을 가진 바닥재는 그 기본 기능을 다할 수 없게 되는 문제가 있다.In general, the flooring material provides a sanitary space by blocking dust and cold air from the cement floor, and has decorative effects such as changing the indoor atmosphere according to the taste of the customer because the beautiful patterns of various colors are printed. In such a conventional flooring material, when the surface is contaminated with contaminants, the user cannot easily erase the traces of the contaminants, so that the flooring materials having the contaminant traces cannot perform their basic functions.

이에 따라 표면의 내오염성을 향상시키기 위하여 내오염성 첨가제를 사용한 표면 처리제가 개발된 바 있다. 그러나, 종래 일반적으로 사용되는 내오염성 첨가제는 표면 처리제의 표면 장력을 제어하여 이를 통해 형성되는 표면 처리층의 내오염성을 조절하는 원리를 갖는데, 이 경우 왁스에 대한 친화성이 현저히 저하되어 왁스 코팅이 어려운 한계가 있다.Accordingly, in order to improve the stain resistance of the surface, a surface treatment agent using a stain resistance additive has been developed. However, conventionally generally used stain resistance additives have the principle of controlling the stain resistance of the surface treatment layer formed through controlling the surface tension of the surface treatment agent. There is a difficult limit.

이에, 본 발명은 내오염성과 왁스 친화성이 우수한 바닥재 및 이의 제조방법을 제공한다.Accordingly, the present invention provides a flooring material having excellent stain resistance and wax affinity, and a method for manufacturing the same.

상기 바닥재는 표면 처리층에 소량의 실리콘 첨가제를 사용하면서 표면 처리층의 표면에 미세 주름 구조를 높은 빈도로 구현하여 우수한 내오염성과 왁스 친화성을 구현할 수 있는 이점이 있다.The flooring material has an advantage of implementing a fine wrinkle structure on the surface of the surface treatment layer at high frequency while using a small amount of silicone additives in the surface treatment layer to realize excellent stain resistance and wax affinity.

이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

바닥재Flooring

본 발명은 일실시예에서,The present invention in one embodiment,

기재층 상에 아크릴 수지 조성물로부터 형성된 표면 처리층을 구비하는 바닥재를 제공한다.It provides a flooring material provided with a surface treatment layer formed from an acrylic resin composition on a base layer.

본 발명에 따른 바닥재는 가정이나 사무실 등에서 사용되는 실내용 바닥재로서, 표면 처리층은 아크릴 수지 조성물의 경화층으로서 바닥재의 최상층에 위치한다. 여기서, 상기 아크릴 수지 조성물은 아크릴레이트계 올리고머와 모노머를 포함하며, 상기 성분과 함께 소량의 실리콘 첨가제를 함유하여 표면의 내오염성이 우수한 특징을 나타낼 수 있다.The flooring material according to the present invention is an indoor flooring material used in homes or offices, and the surface treatment layer is a cured layer of an acrylic resin composition and is positioned on the uppermost layer of the flooring material. Here, the acrylic resin composition includes an acrylate-based oligomer and a monomer, and contains a small amount of a silicone additive together with the component, so that the surface may exhibit excellent stain resistance.

하나의 예로서, 상기 바닥재는 내오염성이 향상되어 하기 조건 1 및 2 중 어느 하나 이상을 만족할 수 있다:As an example, the flooring material has improved stain resistance and may satisfy any one or more of the following conditions 1 and 2:

[조건 1] 요오드 오염 20분 경과 후 세척된 바닥재을 육안으로 관찰하는 경우, 표면의 색상 차이가 없으며; 및[Condition 1] When the washed floor material is visually observed after 20 minutes of iodine contamination, there is no difference in color of the surface; And

[조건 2] 유성 매직 오염 30초 경과 후 세척된 바닥재의 잔류 오염면적이 최초 오염면적 기준 5% 미만이다.[Condition 2] After 30 seconds of oil magic contamination, the residual contamination area of the washed floor material is less than 5% of the original contamination area.

구체적으로, 상기 바닥재는 요오드에 대한 내오염성이 향상되어 표면에 요오드를 묻혀 오염시키고 20분이 경과한 후 세척하는 경우, 표면에 요오드 오염으로 인한 자국이 육안으로 관찰되지 않을 수 있다.Specifically, when the flooring material has improved contamination resistance to iodine and is contaminated with iodine on the surface and washed after 20 minutes elapse, marks due to iodine contamination on the surface may not be observed with the naked eye.

또한, 상기 바닥재는 유성 매직과 같은 유기 물질에 대한 내오염성이 향상되어 표면에 유성 매직을 칠하고 30초가 경과한 후 세척하는 경우, 세척된 바닥재 표면의 잔류 오염면적이 최초 오염면적 기준 5% 미만일 수 있고, 보다 구체적으로는 4% 미만, 3% 미만 또는 2% 미만일 수 있다.In addition, the floor material has improved contamination resistance to organic substances such as oil-based magic, so when washing the surface after 30 seconds have elapsed after applying oil-based magic, the residual contamination area on the surface of the washed flooring material must be less than 5% of the initial contamination area. It may be, and more specifically, it may be less than 4%, less than 3%, or less than 2%.

일반적으로 실리콘 첨가제는 표면장력이 낮아 표면 처리층에 일정량으로 사용하는 경우 표면에 오염물이 묻어 오염되는 것을 개선할 수 있다. 그러나, 이 경우 왁스에 대한 친화성이 낮아져 왁스 젖음성이나 코팅성이 저하되는 문제가 있다. 다시 말해, 표면 처리층에 실리콘 첨가제를 사용하는 경우 왁스가 잘 발리지 않거나 도포된 왁스가 건조 후 박리되는 문제가 있다.In general, silicone additives have a low surface tension, and when used in a certain amount in the surface treatment layer, contamination by contaminants on the surface can be improved. However, in this case, there is a problem in that the affinity for the wax is lowered and the wax wettability or coating property is deteriorated. In other words, when a silicone additive is used in the surface treatment layer, there is a problem that the wax is not applied well or the applied wax is peeled off after drying.

그러나, 본 발명의 바닥재는 표면 처리층의 표면 구조에 미세한 주름 구조를 도입함으로써 표면의 내오염성과 함께 왁스 친화성, 구체적으로는 왁스 젖음성, 코팅성, 접착성 등을 향상시킬 수 있다.However, in the flooring material of the present invention, by introducing a fine wrinkle structure to the surface structure of the surface treatment layer, it is possible to improve the stain resistance of the surface and the wax affinity, specifically, wax wettability, coating property, adhesion, and the like.

여기서, 「주름이 형성된 표면」이란 상기 수지층이 적어도 그 일면에 주름을 포함하고, 상기 주름에 의해 수지층이 3 차원의 표면 요철을 갖는 것을 의미한다. 예를 들어, 상기 표면은, 크고 작은 릿지(ridge), 밸리(valley), 및 이들로부터 형성되어 소정 형상으로 시인될 수 있는 주름(wrinkle)을 포함하는 요철을 갖는다. 상기 릿지, 밸리, 및 주름 각각은 규칙 또는 불규칙한 형상을 가질 수 있다. 이러한, 주름이 형성된 표면은 미세 폴딩 구조를 갖는 표면으로도 호칭될 수 있다.Here, the "surface on which wrinkles are formed" means that the resin layer includes wrinkles on at least one surface thereof, and the resin layer has three-dimensional surface irregularities due to the wrinkles. For example, the surface has large and small ridges, valleys, and irregularities including wrinkles formed therefrom and capable of being visually recognized in a predetermined shape. Each of the ridges, valleys, and corrugations may have a regular or irregular shape. Such a wrinkled surface may also be referred to as a surface having a fine folding structure.

수지층의 법선 방향에서 주름이 형성된 수지층 표면을 관찰하였을 때, 릿지, 밸리, 주름, 및 이들로부터 형성된 요철은 예를 들어, 하기 설명되는 경화 과정을 거치면서 상기 표면의 전 영역에 걸쳐 관찰된다.When observing the surface of the resin layer on which wrinkles are formed in the normal direction of the resin layer, ridges, valleys, wrinkles, and irregularities formed therefrom are observed, for example, over the entire area of the surface while undergoing a curing process described below. .

상기 주름은 방향성을 갖는 라인 형상(line shape)(예: 직선, 곡선)을 포함하는 형태로 관찰될 수 있다. 하나의 예로서, 상기 주름은 직선 및 곡선 형상이 반복되면서 형성된 표면의 주름은 산맥 형상과 같은 굴곡을 수지층 표면에 부여할 수 있다. 상기와 같이 라인 형상을 갖는 주름에 의해 형성된 표면 요철 구조는, 수지층 형성을 위한 조성물 내에 입자를 사용하는 방식이나 에멀전 분산을 이용하는 방식에 따라 형성된 소위 포인트-와이즈(point-wise) 요철 형상과는 분명히 구별된다.The wrinkles may be observed in a form including a line shape (eg, straight line, curved line) having a directionality. As an example, the wrinkles on the surface formed by repeating straight and curved shapes may give a curvature such as a mountain range shape to the surface of the resin layer. The surface uneven structure formed by corrugations having a line shape as described above is different from the so-called point-wise uneven shape formed by using particles in the composition for forming a resin layer or by using emulsion dispersion. It is clearly distinguished.

또한, 상기 표면 처리층은 소정 크기 및 형상으로 시인될 수 있는 주름을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 주름은, nm 수준(약 1 ㎛ 미만)의 폭을 가지며, 수 마이크로미터(㎛) 이상 연장하는 선(직선 또는 곡선) 형상을 가질 수 있다. 상기 주름의 폭 및/또는 높이와 주름이 연장하는 길이는 첨부된 도면에서와 같이 주름이 형성된 표면을 촬영한 이미지(예: SEM)로부터 확인할 수 있다. 아울러, 연장 방향에서의 길이는 폭보다 클 수 있다. 구체적으로, 직선 또는 곡선 형태로 연장한 주름의 말단은 높이가 점점 낮아지는 경사를 이루며 수지층에 혼입될 수 있다. 경우에 따라서, 상기 크기 및 형상을 갖는 어느 한 주름의 말단은 다른 주름의 시작점이나 다른 주름과의 연결부가 될 수 있다. 또한, 상기 주름의 연장 방향에 대한 수직 방향에서 주름 부근의 단면 곡선을 관찰할 경우, 주름의 폭은 주름의 높이를 형성하는 지점 또는 부분(예: 릿지)을 기점으로 양 방향으로 높이가 점점 낮아지는 경사를 이루며 수지층에 혼입될 수 있다. 한편, 릿지와 그에 인접하는 밸리가 주름 또는 그 일부를 형성하는 경우, 밸리를 포함하여 시인되는 형상의 영역은 주름의 폭으로 볼 수 있다.In addition, the surface treatment layer may include wrinkles that can be visually recognized in a predetermined size and shape. For example, the wrinkles may have a width of nm level (less than about 1 μm) and may have a line (straight or curved) shape extending several micrometers (μm) or more. The width and/or height of the wrinkle and the length of the wrinkle extension can be confirmed from an image (eg, SEM) photographing the wrinkled surface as shown in the accompanying drawings. In addition, the length in the extending direction may be greater than the width. Specifically, the ends of the wrinkles extending in the form of a straight line or a curve form a slope that gradually decreases in height and may be incorporated into the resin layer. In some cases, the end of any one wrinkle having the size and shape may be a starting point of another wrinkle or a connection part with another wrinkle. In addition, when observing the cross-sectional curve near the wrinkle in the direction perpendicular to the extension direction of the wrinkle, the width of the wrinkle gradually decreases in both directions from the point or part (e.g., ridge) forming the height of the wrinkle. The paper is inclined and can be incorporated into the resin layer. On the other hand, when a ridge and a valley adjacent thereto form a wrinkle or a part thereof, the area of the shape recognized including the valley may be viewed as the width of the wrinkle.

하나의 예로서, 상기 주름이 갖는 폭은 900 nm 이하일 수 있다. 구체적으로, 상기 주름이 갖는 폭은 800 nm 이하, 700 nm 이하, 600 nm 이하, 500 nm 이하, 400 nm 이하, 또는 300 nm 이하의 상한을 가질 수 있고, 150 nm 이상, 200 nm 이상, 250 nm 이상 또는 300 nm 이상의 하한을 가질 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 주름에 의해 형성된 표면이 내오염성과 왁스 친화성이 향상되고 무광 특성을 나타내는데 유리할 수 있다.As an example, the width of the wrinkles may be 900 nm or less. Specifically, the width of the wrinkles may have an upper limit of 800 nm or less, 700 nm or less, 600 nm or less, 500 nm or less, 400 nm or less, or 300 nm or less, and 150 nm or more, 200 nm or more, 250 nm It may have a lower limit of greater than or equal to 300 nm. If the above range is satisfied, it may be advantageous for the surface formed by wrinkles to improve stain resistance and wax affinity and exhibit matte properties.

또한, 상기 주름이 연장하는 길이는 상한이 200 ㎛ 이하, 100 ㎛ 이하 또는 50 ㎛ 이하일 수 있고, 하한이 5 ㎛ 이상, 10 ㎛ 이상, 20 ㎛ 이상, 30 ㎛ 이상, 40 ㎛ 이상, 50 ㎛ 이상, 60 ㎛ 이상, 70 ㎛ 이상, 80 ㎛ 이상 또는 90 ㎛ 이상일 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 주름에 의해 형성된 표면이 내오염성과 왁스 친화성이 향상되고 무광 특성을 나타내는데 유리할 수 있다.In addition, the length at which the wrinkles extend may have an upper limit of 200 µm or less, 100 µm or less, or 50 µm or less, and a lower limit of 5 µm or more, 10 µm or more, 20 µm or more, 30 µm or more, 40 µm or more, 50 µm or more , 60 μm or more, 70 μm or more, 80 μm or more, or 90 μm or more. If the above range is satisfied, it may be advantageous for the surface formed by wrinkles to improve stain resistance and wax affinity and exhibit matte properties.

상기 주름은 연장하는 길이의 대부분에서 소정의 높이를 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 주름은 2 ㎛ 이하, 1.5 ㎛ 이하, 1.0 ㎛ 이하 또는 0.1 내지 0.9 ㎛의 높이를 가질 수 있으며, 이는 표면 처리층의 "표면 조도"와 동일시 될 수 있다. 구체적으로, 주름의 연장 방향에 대한 수직 방향에서 주름의 단면 곡선을 관찰할 경우, 주름의 높이를 형성하는 지점 또는 부분(예: 릿지)과 상기 주름의 폭이 혼입하는 수지층의 지점이나 부분(예: 밸리)은 2 ㎛ 이하의 "높이 차이" 또는 "표면 조도"를 가질 수 있다. 본 발명은 주름의 높이 내지 표면 조도를 상기 범위로 제어함으로써 굵은 주름으로 인해 오염물이 주름 사이에 잔류하여 내오염성이 저하되는 것을 방지할 수 있다.The corrugation may have a predetermined height over most of its extending length. For example, the wrinkles may have a height of 2 μm or less, 1.5 μm or less, 1.0 μm or less, or 0.1 to 0.9 μm, which may be equated with “surface roughness” of the surface treatment layer. Specifically, when observing the cross-sectional curve of the wrinkle in the direction perpendicular to the extension direction of the wrinkle, the point or part that forms the height of the wrinkle (e.g., ridge) and the point or part of the resin layer where the width of the wrinkle is mixed ( Example: Valley) may have a "height difference" or "surface roughness" of 2 µm or less. According to the present invention, by controlling the height to the surface roughness of the wrinkles within the above range, it is possible to prevent contaminants from remaining between the wrinkles due to coarse wrinkles and deterioration of fouling resistance.

한편, 상기 "높이가 관찰되는 길이의 대부분"이란, 주름이 그 형상을 따라 연속적으로 연장하는 길이의 70 % 이상, 75 % 이상, 80 % 이상, 85 % 이상 또는 90 % 이상 또는 95 % 이상인 길이를 의미한다. 주름의 연장 방향에서 높이차가 점차 줄어들어, 상기 높이가 현저히 낮아지는 경우에는 주름의 말단이 수지층에 혼입되는 형상이 관찰될 수 있고, 또는 크기나 형상이 상기 주름과 상이한 다른 주름과의 접점이 시작되는 형상이 관찰될 수도 있다. 후자의 경우, 보다 복잡한 주름 구조가 표면의 요철을 형성할 수 있다.Meanwhile, the "most of the length at which the height is observed" means a length that is 70% or more, 75% or more, 80% or more, 85% or more, 90% or more, or 95% or more of the length that the wrinkle continuously extends along its shape. Means. When the height difference gradually decreases in the extension direction of the wrinkles, and the height is significantly lowered, a shape in which the ends of the wrinkles are mixed into the resin layer can be observed, or contact with other wrinkles whose size or shape is different from the wrinkles starts. It may be observed that the shape becomes. In the latter case, a more complex corrugated structure can form irregularities on the surface.

상기 주름은 상기 표면의 전 영역에 걸쳐 관찰되고, 규칙 또는 불규칙한 분포를 보이면서 표면 주름 또는 요철을 형성할 수 있다. 예를 들어, 상기 표면에서 상기 주름은 하나의 특정할 수 있는 점으로부터 복수의 주름이 서로 다른 방향으로 분지되는 형상을 가지면서 표면 요철을 형성할 수 있다. 구체적으로, 상기 표면에서 상기 주름은 「Y」 또는 「〈」 와 유사한 형상을 가질 수 있다. 이때, 「Y」 또는 「〈」 와 유사한 형상의 주름은 치밀하게 배치되어 표면 요철을 형성할 수 있다.The wrinkles are observed over the entire area of the surface, and may form surface wrinkles or irregularities while showing a regular or irregular distribution. For example, the wrinkles on the surface may form surface irregularities while having a shape in which a plurality of wrinkles are branched in different directions from one specific point. Specifically, the wrinkles on the surface may have a shape similar to “Y” or “<”. At this time, wrinkles having a shape similar to "Y" or "<" may be densely arranged to form surface irregularities.

본 발명은 상술된 형상 및/또는 크기를 갖는 주름을 표면 처리층에 형성함으로써 보다 미세한 주름의 빈도를 높일 수 있으며, 이를 통해 표면 처리층에 소광제를 사용하지 않거나 소량의 소광제를 사용하여도 광택도를 낮출 수 있고, 주름 사이에 오염물이 잔류하여 표면이 오염되는 것을 방지할 수 있으며, 표면의 왁스 친화성을 향상시킬 수 있다.The present invention can increase the frequency of finer wrinkles by forming wrinkles having the above-described shape and/or size on the surface treatment layer, and through this, even if a matting agent is not used or a small amount of matting agent is used in the surface treatment layer. The glossiness can be lowered, the surface can be prevented from being contaminated by the remaining contaminants between the wrinkles, and the wax affinity of the surface can be improved.

하나의 예로서, 상기 바닥재는 표면 처리층 표면의 단위 면적(0.1㎜ X 0.1㎜)당 5 내지 20개의 주름을 포함 (1㎜ X 1㎜ 당 500 내지 2,000개와 동일)할 수 있다. 구체적으로, 상기 바닥재의 표면 처리층 표면에는 단위 면적(0.1㎜ X 0.1㎜)당 5 내지 18개, 5 내지 15개, 5 내지 12개, 5 내지 10개, 5 내지 8개, 7 내지 20개, 10 내지 20개, 12 내지 20개, 15 내지 20개, 18 내지 20개, 8 내지 18개, 10 내지 15개, 12 내지 18개, 또는 8 내지 14개의 주름이 존재할 수 있다.As an example, the flooring material may include 5 to 20 wrinkles per unit area (0.1 mm X 0.1 mm) of the surface of the surface treatment layer (the same as 500 to 2,000 per 1 mm X 1 mm). Specifically, on the surface of the surface treatment layer of the flooring, 5 to 18, 5 to 15, 5 to 12, 5 to 10, 5 to 8, 7 to 20 per unit area (0.1 mm X 0.1 mm) , 10 to 20, 12 to 20, 15 to 20, 18 to 20, 8 to 18, 10 to 15, 12 to 18, or 8 to 14 wrinkles may be present.

다른 하나의 예로서, 상기 바닥재는 왁스 친화성이 우수하여 3g의 왁스 (예컨대, 아크릴계 왁스 등)를 단위 면적(200 mm X 200 mm)에 도포하는 경우 1분 경과 후 도포된 왁스의 면적이 최초 도포 면적의 90% 이상을 차지할 수 있으며, 구체적으로는 93% 이상, 95% 이상, 97% 이상, 또는 98% 이상일 수 있다. 경우에 따라서는 왁스를 도포하고 1분 경과 후 도포된 왁스의 면적은 최초 도포 면적과 동일하게 100% 유지할 수 있다.As another example, the floor material has excellent wax affinity, and when 3g of wax (eg, acrylic wax, etc.) is applied to a unit area (200 mm X 200 mm), the area of the applied wax is first It may occupy 90% or more of the applied area, and specifically 93% or more, 95% or more, 97% or more, or 98% or more. In some cases, the area of the wax applied 1 minute after applying the wax can be maintained at 100% the same as the initial application area.

또 다른 하나의 예로서, 상기 바닥재는 7.5±2.5㎛ 두께로 왁스를 도포하고 24분 경과 후 ASTM D3359에 따른 크로스-컷 시험 수행 시 건조된 왁스의 전체 면적 중 박리 면적은 5% 이하일 수 있으며, 구체적으로는 상기 박리 면적은 전체 면적 대비 4.5% 이하, 4.0% 이하, 3.5% 이하, 3.0% 이하, 2.0% 이하, 0.1 내지 5%, 0.1 내지 4.5%, 0.1 내지 4.0%, 0.1 내지 3.5%, 0.1 내지 3.0%, 0.5 내지 4.0%, 0.5 내지 3.0%, 0.5 내지 2.0%, 1.0 내지 2.0%, 1.0 내지 3.0%, 1.0 내지 4.0%, 2.0 내지 4.0%, 또는 0.1 내지 2%일 수 있다. 경우에 따라서, 건조된 왁스의 박리가 전혀 발생되지 않아 손상된 면적이 0.1% 이하로 0%에 가까울 수 있다.As another example, when performing a cross-cut test according to ASTM D3359 after 24 minutes after applying the wax to a thickness of 7.5±2.5㎛ for the flooring material, the peeling area of the total area of the dried wax may be 5% or less, Specifically, the peeling area is 4.5% or less, 4.0% or less, 3.5% or less, 3.0% or less, 2.0% or less, 0.1 to 5%, 0.1 to 4.5%, 0.1 to 4.0%, 0.1 to 3.5% of the total area, 0.1 to 3.0%, 0.5 to 4.0%, 0.5 to 3.0%, 0.5 to 2.0%, 1.0 to 2.0%, 1.0 to 3.0%, 1.0 to 4.0%, 2.0 to 4.0%, or 0.1 to 2%. In some cases, peeling of the dried wax may not occur at all, and the damaged area may be 0.1% or less, close to 0%.

나아가, 상기 바닥재는 표면 처리층 표면에 형성된 주름 구조를 통해 표면에 입사되는 광의 산란을 유도함으로써 표면 처리층에 소광제를 사용하지 않거나 10 중량% 미만의 소량의 소광제를 사용하여도 현저히 낮은 광택을 구현할 수 있다.Furthermore, the flooring material induces scattering of light incident on the surface through the corrugation structure formed on the surface of the surface treatment layer, so that even if a matting agent is not used in the surface treatment layer or a small amount of matting agent is used in the surface treatment layer, it is significantly lower. Can be implemented.

하나의 예로서, 상기 바닥재는 광택 측정기(Gloss Meter)를 이용한 60° 광택도(글로스 60 ° 조건) 를 측정 시 표면 광택도가 3 미만일 수 있고, 보다 구체적으로, 상한이 2.8 이하, 2.5 이하, 2.2 이하, 2.0 이하, 1.8 이하, 1.5 이하, 1.2 이하, 또는 1.0 이하이고, 하한이 0.1 이상, 0.5 이상, 또는 1 이상일 수 있다. 예를 들어, 상기 바닥재의 평균 표면 광택도는 0.1 내지 2.8, 0.1 내지 2.5, 0.2 내지 2.2, 0.2 내지 2.0, 0.5 내지 1.8, 0.2 내지 1.5, 0.2 내지 1.7, 0.5 내지 1.5, 0.8 내지 1.6, 0.9 내지 1.5, 0.1 내지 1.4, 또는 1.1 내지 1.5일 수 있다.As an example, the floor material may have a surface gloss of less than 3 when measuring 60° gloss (gloss 60° condition) using a gloss meter, and more specifically, an upper limit of 2.8 or less, 2.5 or less, 2.2 or less, 2.0 or less, 1.8 or less, 1.5 or less, 1.2 or less, or 1.0 or less, and the lower limit may be 0.1 or more, 0.5 or more, or 1 or more. For example, the average surface gloss of the flooring material is 0.1 to 2.8, 0.1 to 2.5, 0.2 to 2.2, 0.2 to 2.0, 0.5 to 1.8, 0.2 to 1.5, 0.2 to 1.7, 0.5 to 1.5, 0.8 to 1.6, 0.9 to 1.5, 0.1 to 1.4, or 1.1 to 1.5.

이러한 상기 표면 처리층은 내구성에 영향을 미치지 않는 적절한 범위의 평균 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 표면 처리층은 외부 자극에 찢어지거나 손실되지 않도록 10㎛ 내지 30㎛의 평균 두께를 가질 수 있고, 보다 구체적으로는 10㎛ 내지 25㎛, 10㎛ 내지 20㎛, 10㎛ 내지 15㎛, 15㎛ 내지 30㎛, 20㎛ 내지 30㎛, 15㎛ 내지 25㎛, 18㎛ 내지 25㎛, 22㎛ 내지 28㎛, 11㎛ 내지 20㎛ 또는 12㎛ 내지 18㎛일 수 있다.The surface treatment layer may have an average thickness in an appropriate range that does not affect durability. For example, the surface treatment layer may have an average thickness of 10 µm to 30 µm so as not to be torn or lost by external magnetic poles, and more specifically 10 µm to 25 µm, 10 µm to 20 µm, 10 µm to 15 µm. It may be µm, 15µm to 30µm, 20µm to 30µm, 15µm to 25µm, 18µm to 25µm, 22µm to 28µm, 11µm to 20µm, or 12µm to 18µm.

한편, 본 발명에 따른 바닥재는 기재층 및 표면 처리층 이외에 비발포층, 유리 섬유층 및 인쇄층을 기재층을 더 포함할 수 있으며, 구체적으로는 발포층, 유리 섬유층, 인쇄층, 기재층 및 표면 처리층이 순차적으로 적층된 구조를 가질 수 있다.On the other hand, the flooring according to the present invention may further include a non-foaming layer, a glass fiber layer, and a printing layer in addition to the base layer and the surface treatment layer, and specifically, a foam layer, a glass fiber layer, a printing layer, a base layer and a surface. It may have a structure in which the treatment layers are sequentially stacked.

이때, 상기 비발포층은 바닥재의 최하부에 위치하는 층으로서 상부의 경화층, 기재층, 인쇄층, 치수 안정층 등을 지지하는 한편, 바닥재의 내충격성, 보행감 및 강도를 더 보완해 주는 역할을 한다.At this time, the non-foaming layer is a layer located at the bottom of the flooring material and supports the upper cured layer, the substrate layer, the printing layer, the dimensional stability layer, etc., while further supplementing the impact resistance, walking feeling, and strength of the flooring material. Do it.

상기 비발포층은 폴리염화비닐 수지를 포함하는 폴리염화비닐 수지 조성물로 형성될 수 있고, 상기 폴리염화비닐 수지 조성물은 중합도 900 내지 1200의 폴리염화비닐 수지 100 중량부를 기준으로, 가소제(예를 들어, 디옥틸테레프탈레이트) 35 내지 58 중량부, 필러(예를 들어, 탄산칼슘) 80 내지 100 중량부를 포함할 수 있다.The non-foaming layer may be formed of a polyvinyl chloride resin composition containing a polyvinyl chloride resin, and the polyvinyl chloride resin composition is based on 100 parts by weight of a polyvinyl chloride resin having a polymerization degree of 900 to 1200, and a plasticizer (for example, , Dioctyl terephthalate) may contain 35 to 58 parts by weight, and 80 to 100 parts by weight of a filler (eg, calcium carbonate).

상기 비발포층의 두께는 200 내지 2,000 ㎛일 수 있다. 상기 비발포층의 두께가 200 ㎛ 미만일 경우에 는 바닥재의 내충격성 및 보행감 등이 저하될 수 있고, 2,000 ㎛를 초과할 경우에는 바닥재가 필요 이상으로 두꺼워질 수 있다. 상기 투명층은 상기 섬유함침층 상에 형성되며, 내구성, 내마모성 및 탄성을 높이고, 강도를 보완하는 역할을 한다.The thickness of the non-foaming layer may be 200 to 2,000 μm. When the thickness of the non-foaming layer is less than 200 μm, the impact resistance and walking feeling of the flooring material may be deteriorated, and if it exceeds 2,000 μm, the flooring material may be thicker than necessary. The transparent layer is formed on the fiber-impregnated layer, and serves to increase durability, abrasion resistance, and elasticity, and to supplement strength.

또한, 상기 치수 안정층은 폴리염화비닐(PVC)계 수지, 폴리우레탄계 수지, 폴리유산계 수지, 폴리올레핀 수지 등의 바인더 수지에 유리섬유가 함침된 복합재로 형성될 수 있다. 이렇게 형성된 치수 안정층은 고온 고습 조건에서도 치수 변형률을 감소시켜 우수한 치수 안정성을 구현하면서도 상부 및 하부에 적층되는 다른 층들과의 접착력을 높은 수준으로 유지하여 뛰어난 내구성을 구현할 수 있다. 이때, 상기 치수 안정층의 평균 두께는 약 0.1 mm 내지 약 2.0 mm일 수 있다.In addition, the dimensionally stable layer may be formed of a composite material in which glass fibers are impregnated with a binder resin such as polyvinyl chloride (PVC) resin, polyurethane resin, polylactic acid resin, and polyolefin resin. The dimensional stability layer thus formed can achieve excellent dimensional stability by reducing dimensional strain even under high temperature and high humidity conditions, while maintaining high level of adhesion with other layers laminated on the upper and lower sides to achieve excellent durability. At this time, the average thickness of the dimensionally stable layer may be about 0.1 mm to about 2.0 mm.

아울러, 상기 유리 섬유의 평균 직경은 100 내지 900 ㎛, 100 내지 800 ㎛, 100 내지 700 ㎛, 100 내지 600 ㎛, 100 내지 500 ㎛, 100 내지 400 ㎛, 200 내지 1,000 ㎛, 200 내지 800 ㎛, 200 내지 600 ㎛, 200 내지 400 ㎛, 300 내지 800 ㎛, 400 내지 600 ㎛, 500 내지 1,000 ㎛, 300 내지 500 ㎛ 또는 150 내지 300 ㎛ 범위일 수 있다. 본 발명은 유리 섬유의 평균 직경을 상기 범위로 제어함으로써 낮은 평량을 갖는 유리 섬유층을 포함하여도 고강도 및 고내구성을 구현할 수 있다.In addition, the average diameter of the glass fibers is 100 to 900 ㎛, 100 to 800 ㎛, 100 to 700 ㎛, 100 to 600 ㎛, 100 to 500 ㎛, 100 to 400 ㎛, 200 to 1,000 ㎛, 200 to 800 ㎛, 200 To 600 µm, 200 to 400 µm, 300 to 800 µm, 400 to 600 µm, 500 to 1,000 µm, 300 to 500 µm, or 150 to 300 µm. In the present invention, by controlling the average diameter of the glass fibers within the above range, high strength and high durability can be realized even when a glass fiber layer having a low basis weight is included.

이와 더불어, 상기 유리 섬유층의 단위 면적당 평균 중량은 110 내지 140 g/m2 범위일 수 있고, 구체적으로 110 내지 135 g/m2, 110 내지 130 g/m2, 110 내지 125 g/m2, 115 내지 140 g/m2, 115 내지 135 g/m2, 115 내지 130 g/m2, 또는 118 내지 122 g/m2 범위에서 조절될 수 있다. 상기 유리 섬유층의 단위 면적당 평균 중량을 상기 범위로 제어함으로써, 중량이 지나치게 증가하는 것을 방지하면서, 기재의 경도를 우수하게 유지할 수 있다.In addition, the average weight per unit area of the glass fiber layer may range from 110 to 140 g/m 2 , specifically 110 to 135 g/m 2 , 110 to 130 g/m 2 , 110 to 125 g/m 2 , 115 to 140 g/m 2 , 115 to 135 g/m 2 , 115 to 130 g/m 2 , or 118 to 122 g/m 2 . By controlling the average weight per unit area of the glass fiber layer within the above range, it is possible to maintain excellent hardness of the substrate while preventing an excessive increase in weight.

또한, 상기 기재층은 투명 또는 반투명 폴리염화비닐(PVC)층으로서 약 0.05mm 내지 약 2.0mm의 두께를 가질 수 있고, 상기 범위 내의 두께를 가짐으로써 바닥재의 총 두께를 지나치게 증가시키지 않으면서 후술하는 바와 같이 하부에 적층되는 인쇄층의 무늬나 패턴을 충분히 보호할 수 있다.In addition, the base layer may have a thickness of about 0.05 mm to about 2.0 mm as a transparent or translucent polyvinyl chloride (PVC) layer, and by having a thickness within the above range, the total thickness of the flooring material to be described later is not excessively increased. As described above, the pattern or pattern of the printed layer laminated on the lower side can be sufficiently protected.

아울러, 상기 인쇄층은 베이스를 형성하는 백색층과 무늬를 구현하는 전사층을 포함할 수 있으며, 예를 들어, 전사 인쇄, 그라비어 인쇄, 스크린 인쇄, 오프셋 인쇄, 로터리 인쇄 또는 플렉소 인쇄 등의 다양한 방식으로 무늬를 부여함으로써 형성될 수 있다. 이때, 인쇄층은 약 1㎛ 내지 약 10㎛의 평균 두께를 가질 수 있다.In addition, the printing layer may include a white layer forming a base and a transfer layer implementing a pattern. For example, transfer printing, gravure printing, screen printing, offset printing, rotary printing, or flexographic printing, etc. It can be formed by giving a pattern in a manner. In this case, the printed layer may have an average thickness of about 1 μm to about 10 μm.

바닥재의 제조방법Manufacturing method of flooring material

또한, 본 발명은 일실시예에서,In addition, the present invention in one embodiment,

기재층 상에 도포된 아크릴 수지 조성물에, 공기 중에서 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 일부 경화시키는 제1 광 조사 단계,A first light irradiation step of partially curing the composition by irradiating light having a wavelength of 200 nm to 400 nm in air to the acrylic resin composition applied on the base layer,

300㎚ 미만 파장의 광을 조사하여 일부 경화된 조성물 표면에 주름을 유도하는 제2 광 조사 단계, 및A second light irradiation step of irradiating light with a wavelength of less than 300 nm to induce wrinkles on the surface of the partially cured composition, and

질소 가스 (N2) 조건 하에서, 표면에 주름이 유도된 조성물에 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 표면 처리층을 형성하는 제3 광 조사 단계를 포함하는 바닥재의 제조방법을 제공한다.Under nitrogen gas (N 2 ) conditions, it provides a method for manufacturing a flooring material comprising a third light irradiation step of forming a surface treatment layer by irradiating light having a wavelength of 200 ㎚ to 400 ㎚ to the composition in which wrinkles are induced on the surface.

본 발명에 따른 바닥재의 제조방법은 아크릴 수지 조성물에 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 3 단계로 조사하여 경화시키는 단계를 갖는다.The manufacturing method of the flooring material according to the present invention includes a step of irradiating an acrylic resin composition with short wavelength light in a specific range under different conditions in three steps to cure it.

구체적으로, 제1 광 조사 단계는 기재 상에 도포된 조성물에 광을 조사하는 첫 번째 단계로서, 공기 중에서 아크릴 수지 조성물에, 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 일부 경화, 구체적으로는 20~60%, 또는 30~50%의 경화율로 아크릴 수지 조성물을 예비 경화시키는 단계이다. 여기서, 상기 경화율은 아크릴 수지 조성물의 제1 광 조사 단계 전·후의 퓨리에 변환-적외선 분광(FT-IR) 측정을 통해 확인한 것일 수 있고, 구체적으로는 아크릴 수지 조성물의 제1 광 조사 단계 전·후 퓨리에 변환-적외선 분광(FT-IR) 측정 시 809.6±1 cm-1의 파수 범위에서 나타나는 C=C 결합의 스트레칭 피크의 강도 변화를 통해 알 수 있다.Specifically, the first light irradiation step is a first step of irradiating light to the composition applied on the substrate, and partially curing the composition by irradiating light having a wavelength of 200 nm to 400 nm to the acrylic resin composition in the air. Is a step of pre-curing the acrylic resin composition at a curing rate of 20 to 60%, or 30 to 50%. Here, the curing rate may be confirmed through Fourier transform-infrared spectroscopy (FT-IR) measurement before and after the first light irradiation step of the acrylic resin composition, and specifically, before and after the first light irradiation step of the acrylic resin composition. After Fourier transform-infrared spectroscopy (FT-IR) measurement, it can be seen from the change in the intensity of the stretching peak of the C=C bond that appears in the wavenumber range of 809.6±1 cm -1.

하나의 예로서, 상기 아크릴 수지 조성물은 퓨리에-적외선 분광 분석 시 하기 식 1을 만족할 수 있다:As an example, the acrylic resin composition may satisfy Equation 1 below in Fourier-infrared spectroscopy analysis:

[식 1] 0.5 ≤ Aharden/Aacryl ≤0.7[Equation 1] 0.5 ≤ A harden /A acryl ≤0.7

식 1에서,In Equation 1,

Aacryl는 광 조사가 되지 않은 아크릴 수지 조성물에 대한 퓨리에-적외선 분광 분석 시 809.6±1 cm-1의 파수에 나타내는 피크의 면적을 의미하고,A acryl refers to the area of a peak represented by a wave number of 809.6±1 cm -1 when Fourier-infrared spectroscopy analysis of an acrylic resin composition is not irradiated with light,

Aharden는 제1 광조사 단계가 수행된 아크릴 수지 조성물에 대한 퓨리에-적외선 분광 분석 시 809.6±1 cm-1의 파수에 나타내는 피크의 면적을 의미한다.A harden means the area of a peak represented by a wave number of 809.6±1 cm -1 when Fourier-infrared spectroscopy analysis of the acrylic resin composition in which the first light irradiation step has been performed is performed.

구체적으로, 상기 아크릴 수지 조성물은 제1 광 조사 단계에서 일부 경화가 진행되어, 제1 광 조사 단계 수행 전·후의 퓨리에-적외선 분광 분석 시 C=C 결합의 스트레칭을 나타내는 809.6±1 cm-1 파수 범위의 피크 면적 비율(Aharden/Aacryl)이 0.5 내지 0.7일 수 있으며, 구체적으로는 0.5 내지 0.65, 0.55 내지 0.7, 0.55 내지 0.65, 0.58 내지 0.64 또는 0.61 내지 0.66일 수 있다. Specifically, the acrylic resin composition partially cured in the first light irradiation step, and 809.6±1 cm -1 wavenumber indicating the stretching of the C=C bond during Fourier-infrared spectroscopy analysis before and after the first light irradiation step. The peak area ratio (A harden /A acryl ) of the range may be 0.5 to 0.7, specifically 0.5 to 0.65, 0.55 to 0.7, 0.55 to 0.65, 0.58 to 0.64, or 0.61 to 0.66.

또한, 상기 공기 조건은 일반적인 공기(air) 또는 건조된 공기(clean dry air) 조건에서 수행될 수 있고, 경우에 따라서는 산소 가스(O2)가 질소 가스(N2)에 혼합된 상태를 의미할 수 있다. 이 경우, 질소 가스(N2) 중 산소 가스(O2)의 농도는 전체 혼합 기체 100 부피부에 대하여 30 부피부 이하 또는 20 부피부 이하일 수 있으며, 보다 구체적으로는 5 내지 25 부피부, 10 내지 25 부피부, 또는 15 내지 22 부피부일 수 있다.In addition, the air condition may be performed under general air or clean dry air conditions, and in some cases, oxygen gas (O 2 ) refers to a state in which nitrogen gas (N 2) is mixed. can do. In this case, the concentration of the oxygen gas (O 2 ) in the nitrogen gas (N 2 ) may be 30 parts by volume or less or 20 parts by volume or less with respect to 100 parts by volume of the total mixed gas, and more specifically 5 to 25 parts by volume, 10 It may be from 25 to 25 parts by volume, or from 15 to 22 parts by volume.

본 발명은 제1 광 조사 단계를 통하여 아크릴 수지 조성물 표면에 주름을 형성하기 이전에 예비적으로 경화시킴으로써 주름의 빈도를 현저히 증가시킬 수 있다. 예컨대, 본 발명에 따른 바닥재는 제1 광 조사 단계를 수행함으로써 최종적으로 표면 처리층 표면에 0.1 mm X 0.1 mm의 단위 면적당 5 내지 20개의 주름(1 mm X 1 mm의 단위 면적당 500 내지 2,000개)을 포함하나, 제1 광 조사 단계를 수행하지 않는 경우 0.1 mm X 0.1 mm의 단위 면적당 400개 이하로 낮은 빈도를 갖는 주름 구조를 포함할 수 있다.The present invention can significantly increase the frequency of wrinkles by preliminarily curing before forming wrinkles on the surface of the acrylic resin composition through the first light irradiation step. For example, the flooring material according to the present invention has 5 to 20 wrinkles per unit area of 0.1 mm X 0.1 mm (500 to 2,000 per unit area of 1 mm X 1 mm) on the surface of the surface treatment layer by performing the first light irradiation step. However, when the first light irradiation step is not performed, a wrinkle structure having a low frequency of 400 or less per unit area of 0.1 mm X 0.1 mm may be included.

한편, 기재 상에 조성물을 도포하는 방법은 기술분야에서 공지된 방법에 의해 수행될 수 있으며, 예를 들어, 메이어(Mayer), 디-바(D-bar), 고무롤(rubber roll), G/V 롤(G/V roll), 에어나이프(air knife), 슬롯다이(slot die), 마이크로그라비아 등을 이용하여 수행될 수 있다.Meanwhile, the method of applying the composition on the substrate may be performed by a method known in the art, for example, Mayer, D-bar, rubber roll, G/ It can be performed using a V roll (G/V roll), an air knife, a slot die, a microgravure, or the like.

아울러, 제2 광 조사 단계는 조사된 광에 의해 발생된 엑시머(excimer)가 조성물 및/또는 표면 처리층의 표면을 수축시켜 주름을 형성함으로써 표면에 입사되는 빛의 산란율을 증가시키는 단계이다. 본 발명은 엑시머를 이용하여 조성물 및/또는 표면 처리층의 표면을 상술된 주름 구조로 수축시킴으로써 빛의 산란율을 증가시킬 수 있으므로 소광제를 사용하지 않거나 10 중량% 미만의 소량의 소광제를 사용하여도 표면 처리층의 광택도를 감소시킬 수 있다. 이를 위해 상기 제2 광 조사 단계는 고에너지를 갖는 300㎚ 미만, 구체적으로는 100 내지 200㎚ 또는 150 내지 195㎚의 파장을 광을 사용하여 비반응성 가스인 질소 (N2) 분위기에서 수행될 수 있고, 경우에 따라서는 산소(O2)를 소량, 구체적으로는 1,000 ppm 이하로 포함하는 질소(N2) 분위기에서 수행될 수 있다. 또한, 제2 광 조사 단계에서 조성물과 광원의 거리는 50~150㎜일 수 있고, 구체적으로는 50~120㎜, 60~120㎜, 80~130㎜, 70~150㎜, 100~150㎜, 120~140㎜, 80~110㎜, 90~110㎜, 또는 95~105㎜일 수 있다.In addition, in the second light irradiation step, the excimer generated by the irradiated light shrinks the surface of the composition and/or the surface treatment layer to form wrinkles, thereby increasing the scattering rate of light incident on the surface. The present invention can increase the scattering rate of light by shrinking the surface of the composition and/or the surface treatment layer into the above-described wrinkle structure using excimer, so that a matting agent is not used or a small amount of matting agent of less than 10% by weight is used. It is also possible to reduce the glossiness of the surface treatment layer. To this end, the second light irradiation step may be performed in an atmosphere of nitrogen (N 2 ), which is a non-reactive gas, using light having a wavelength of less than 300 nm with high energy, specifically 100 to 200 nm or 150 to 195 nm. And, in some cases, it may be carried out in a nitrogen (N 2 ) atmosphere containing a small amount of oxygen (O 2 ), specifically 1,000 ppm or less. In addition, the distance between the composition and the light source in the second light irradiation step may be 50 to 150 mm, specifically 50 to 120 mm, 60 to 120 mm, 80 to 130 mm, 70 to 150 mm, 100 to 150 mm, 120 It may be ~140mm, 80~110mm, 90~110mm, or 95~105mm.

아울러, 상기 제2 광 조사 단계에서 광 조사량은 100 mJ/㎠ 내지 500 mJ/㎠일 수 있고, 구체적으로는 100 mJ/㎠ 내지 400 mJ/㎠¸200 mJ/㎠ 내지 500 mJ/㎠, 200 mJ/㎠ 내지 400 mJ/㎠, 250 mJ/㎠ 내지 350 mJ/㎠, 320 mJ/㎠ 내지 400 mJ/㎠, 280 mJ/㎠ 내지 320 mJ/㎠ 또는 290 mJ/㎠ 내지 310 mJ/㎠일 수 있다.In addition, the amount of light irradiation in the second light irradiation step may be 100 mJ/cm 2 to 500 mJ/cm 2, and specifically 100 mJ/cm 2 to 400 mJ/cm 2 18 200 mJ/cm 2 to 500 mJ/cm 2, 200 mJ /Cm2 to 400 mJ/cm2, 250 mJ/cm2 to 350 mJ/cm2, 320 mJ/cm2 to 400 mJ/cm2, 280 mJ/cm2 to 320 mJ/cm2 or 290 mJ/cm2 to 310 mJ/cm2. .

하나의 예로서, 상기 제2 광 조사 단계는 조성물 내에 엑시머를 형성하기 위하여 조성물에 172±2㎚ 파장을 갖는 광을 100ppm 이하의 산소(O2)를 포함하는 질소(N2) 조건에서 295~305 mJ/㎠의 광량 (즉, 광 조사량)으로 1~2초의 매우 짧은 시간 동안 조사하여 수행될 수 있다.As an example, in the second light irradiation step, in order to form an excimer in the composition, light having a wavelength of 172±2 nm in the composition is 295 ~ 295 ~ under nitrogen (N 2 ) containing oxygen (O 2) of 100 ppm or less. It can be performed by irradiating for a very short time of 1 to 2 seconds with an amount of light of 305 mJ/cm 2 (ie, the amount of light irradiation).

본 발명은 제2 광 조사 단계 수행 시 가스 조건, 조성물과 광원의 거리 및/또는 광 조사량을 상기 범위로 제어함으로써 표면 처리층의 표면에 형성되는 미세 주름 구조의 크기 및/또는 형태를 용이하게 제어할 수 있다.The present invention easily controls the size and/or shape of the fine wrinkle structure formed on the surface of the surface treatment layer by controlling the gas conditions, the distance between the composition and the light source, and/or the amount of light irradiation during the second light irradiation step in the above range. can do.

나아가, 제3 광 조사 단계는 주름이 형성된 조성물에 자외선(UV)을 추가적으로 조사하여 조성물이 95% 이상으로 완전 경화, 다시 말해 "진경화"를 수행하는 단계로서, 400㎚ 이하의 파장, 구체적으로는 100 내지 400㎚, 200 내지 400㎚, 200 내지 300㎚, 300 내지 400㎚, 150 내지 300㎚, 200 내지 250㎚ 또는 270 내지 320㎚의 파장을 광을 사용하여 질소(N2) 분위기에서 수행될 수 있다.Furthermore, the third light irradiation step is a step in which the composition is completely cured to 95% or more by additionally irradiating the wrinkled composition with ultraviolet rays (UV), in other words, "semi-curing", with a wavelength of 400 nm or less, specifically Is performed in a nitrogen (N 2 ) atmosphere using light with a wavelength of 100 to 400 nm, 200 to 400 nm, 200 to 300 nm, 300 to 400 nm, 150 to 300 nm, 200 to 250 nm, or 270 to 320 nm Can be.

이때, 진경화된 조성물 및/또는 표면 처리층의 표면 온도는 20 내지 90℃일 수 있으며, 구체적으로는 20 내지 80℃또는 30 내지 70℃일 수 있다.At this time, the surface temperature of the cured composition and/or the surface treatment layer may be 20 to 90°C, specifically 20 to 80°C or 30 to 70°C.

하나의 예로서, 상기 제3 광 조사 단계는 조성물 및/또는 표면 처리층에 300±10㎚ 파장을 갖는 광을 100~3,000 mJ/㎠, 구체적으로는 500~900 mJ/㎠의 광량으로 1~2초의 매우 짧은 시간 동안 질소(N2) 분위기에서 조사하여 수행될 수 있고, 이때 조성물 및/또는 표면 처리층과 광원 사이의 거리는 100±10㎜일 수 있다.As an example, in the third light irradiation step, light having a wavelength of 300±10 nm to the composition and/or the surface treatment layer is 100 to 3,000 mJ/cm 2, specifically, 1 to 900 mJ/cm 2 It may be carried out by irradiation in a nitrogen (N 2 ) atmosphere for a very short time of 2 seconds, in which case the distance between the composition and/or the surface treatment layer and the light source may be 100±10 mm.

본 발명에서 조사되는 광은 각 단계에서 요구되는 파장의 광을 조사할 수 있는 공지된 방법에 따라 조사될 수 있다. 예를 들어, UV 영역인 400㎚ 이하의 파장을 갖는 광은 수은 또는 메탈 할라이드 램프 등을 이용하여 조사될 수 있다.The light irradiated in the present invention may be irradiated according to a known method capable of irradiating light of a wavelength required in each step. For example, light having a wavelength of 400 nm or less in the UV region may be irradiated using a mercury or metal halide lamp.

또한, 본 발명에서 광이 조사되는 시간은 1~2초의 매우 짧은 시간일 수 있고, 이러한 광 조사 시간은 광 조사 시 조성물이 이동하는 속도, 예컨대 기재 상에 코팅된 조성물의 이동 속도에 의해 제어될 수 있다. 예를 들어, 상기 조성물 및/또는 조성물이 코팅된 기재의 이동 속도는 1 내지 50 m/min일 수 있고, 구체적으로는 5 내지 40 m/min, 10 내지 40 m/min, 20 내지 40 m/min, 30 내지 40 m/min, 15 내지 25 m/min, 5 내지 15 m/min, 15 내지 20 m/min, 35 내지 40 m/min 또는 18 내지 22 m/min일 수 있다.In addition, in the present invention, the light irradiation time may be a very short time of 1 to 2 seconds, and this light irradiation time may be controlled by the speed at which the composition moves during light irradiation, for example, the speed at which the composition coated on the substrate moves. I can. For example, the movement speed of the composition and/or the substrate coated with the composition may be 1 to 50 m/min, specifically 5 to 40 m/min, 10 to 40 m/min, 20 to 40 m/ min, 30 to 40 m/min, 15 to 25 m/min, 5 to 15 m/min, 15 to 20 m/min, 35 to 40 m/min, or 18 to 22 m/min.

본 발명은 조성물의 경화 시 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 단계적으로 사용함으로써 개시제를 상기 범위로 소량 포함하여도 높은 경화율을 나타낼 수 있다.The present invention can exhibit a high curing rate even if a small amount of the initiator is included in the above range by stepwise using a specific range of short wavelength light under different conditions when curing the composition.

한편, 상기 아크릴 수지 조성물은 다관능성 아크릴레이트 올리고머, 다관능성 아크릴레이트 모노머 및 단관능성 아크릴레이트 모노머를 포함할 수 있다.Meanwhile, the acrylic resin composition may include a polyfunctional acrylate oligomer, a polyfunctional acrylate monomer, and a monofunctional acrylate monomer.

구체적으로, 상기 아크릴계 올리고머는 아크릴기를 포함하는 모노머를 이용하여 얻어지는 올리고머를 의미하며, 상기 모노머로는 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 펜틸(메트)아크릴레이트, 헥실(메트)아크릴레이트, 헵틸(메트)아크릴레이트, 옥틸(메트)아크릴레이트 및 벤질아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 (메트)아크릴레이트일 수 있다. 예를 들어, 상기 아크릴계 올리고머는 메틸아크릴레이트, (메타)아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 벤질아크릴레이트 또는 이들의 혼합물을 중합한, 메틸아크릴레이트 올리고머, (메타)아크릴레이트 올리고머, 메틸(메타)아크릴레이트 올리고머, 에틸아크릴레이트 올리고머, 벤질아크릴레이트 올리고머, 벤질(메타)아크릴레이트 올리고머 등을 포함할 수 있다.Specifically, the acrylic oligomer means an oligomer obtained using a monomer containing an acrylic group, and the monomers include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, butyl (meth) It may be one or more (meth)acrylates selected from the group consisting of acrylate, pentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, heptyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, and benzyl acrylate. have. For example, the acrylic oligomer is methyl acrylate, (meth) acrylate, ethyl acrylate, benzyl acrylate or a mixture thereof polymerized, methyl acrylate oligomer, (meth) acrylate oligomer, methyl (meth) acrylic Rate oligomers, ethyl acrylate oligomers, benzyl acrylate oligomers, benzyl (meth) acrylate oligomers, and the like may be included.

또한, 상기 아크릴계 올리고머의 중량평균 분자량은 100 내지 50,000일 수 있고, 보다 구체적으로는 500 내지 30,000; 1,000 내지 10,000; 5,000 내지 10,000; 6,000 내지 8,000; 1,000 내지 5,000 또는 1,500 내지 2,500일 수 있다. 본 발명은 아크릴계 올리고머의 중량평균 분자량을 상기 범위로 조절함으로써 경화층의 내구성을 보다 향상시킬 수 있다.In addition, the weight average molecular weight of the acrylic oligomer may be 100 to 50,000, more specifically 500 to 30,000; 1,000 to 10,000; 5,000 to 10,000; 6,000 to 8,000; It may be 1,000 to 5,000 or 1,500 to 2,500. The present invention can further improve the durability of the cured layer by adjusting the weight average molecular weight of the acrylic oligomer within the above range.

아울러, 상기 단관능성 및 다관능성 아크릴레이트 모노머는 탄소수 1 내지 7의 직쇄 또는 측쇄 알킬기와 아크릴기를 포함하는 화합물로서, 화합물에 포함된 아크릴기의 개수에 따라 단관능성과 다관능성으로 구분될 수 있다. 예컨대, 화합물 내에 아크릴기가 2개 이상인 경우 다관능성으로 구분될 수 있고, 본 발명에서 사용되는 다관능성 아크릴레이트 모노머는 2 관능성 모노머, 3 관능성 모노머, 4 관능성 모노머 및 6 관능성 모노머 중 1종 이상을 포함할 수 있다.In addition, the monofunctional and polyfunctional acrylate monomers are compounds containing a linear or branched alkyl group having 1 to 7 carbon atoms and an acrylic group, and may be classified into monofunctionality and polyfunctionality according to the number of acrylic groups contained in the compound. For example, when there are two or more acrylic groups in the compound, it may be classified as polyfunctional, and the polyfunctional acrylate monomer used in the present invention is one of a bifunctional monomer, a trifunctional monomer, a tetrafunctional monomer, and a 6 functional monomer. It may contain more than one species.

하나의 예로서, 상기 다관능성 아크릴레이트 모노머로는 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 디프로필렌글리콜 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 및 헥사메틸디아민 디아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 들 수 있으며, 경우에 따라서는 상기 아크릴레이트 모노머와 2관능성 우레탄 아크릴레이트, 3관능성 우레탄 아크릴레이트 또는 4관능성 우레탄 아크릴레이트를 병용하여 사용할 수 있다.As an example, as the polyfunctional acrylate monomer, 1,6-hexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, dipropylene glycol diacrylate , Pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropaneethoxytriacrylate, and hexamethyldiamine diacrylate. In some cases, at least one selected from the group consisting of the acrylate monomer and the bifunctional urethane An acrylate, a trifunctional urethane acrylate, or a tetrafunctional urethane acrylate can be used in combination.

또한, 상기 단관능성 아크릴 모노머는 화합물 내에 아크릴기가 1개 포함하는 화합물로서, 예를 들어, 메틸(메트아크릴레이트(methyl(meth)acrylate, 탄소수 1~2의 알킬기 포함), 에틸(메트아크릴레이트(ethyl(meth)acrylate, 탄소수 2~3의 알킬기 포함), 프로필(메트아크릴레이트(propyl(meth)acrylate, 탄소수 3~4의 알킬기 포함), 부틸(메트아크릴레이트(butyl(meth)acrylate, 탄소수 4~5의 알킬기 포함), 펜틸(메트아크릴레이트(pentyl(meth)acrylate, 탄소수 5~6의 알킬기 포함), 및 헥실(메트)아크릴레이트(hexyl(meth)acrylate, 탄소수 6~7의 알킬기 포함)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.In addition, the monofunctional acrylic monomer is a compound containing one acrylic group in the compound, for example, methyl (methacrylate, including an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms), ethyl (methacrylate ( ethyl(meth)acrylate, including an alkyl group having 2 to 3 carbon atoms), propyl (propyl(meth) acrylate, including an alkyl group having 3 to 4 carbon atoms), butyl (butyl(meth)acrylate, including 4 carbon atoms) ~5 alkyl group included), pentyl (methacrylate (pentyl(meth)acrylate, including C5-C6 alkyl group), and hexyl(meth)acrylate (hexyl(meth)acrylate, including C6-C7 alkyl group) It may include one or more selected from the group consisting of.

또한, 상기 단관능성 아크릴 모노머는 경우에 따라서 반응성 관능기를 1개 이상 포함하는 모노머를 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 반응성 관능기를 1개 이상 포함하는 모노머는 하이드록시기, 아민기, 아마이드기 등의 반응성 관능기를 함유하는 아크릴계 모노머일 수 있다.In addition, the monofunctional acrylic monomer may include a monomer including one or more reactive functional groups in some cases. Specifically, the monomer containing at least one reactive functional group may be an acrylic monomer containing a reactive functional group such as a hydroxy group, an amine group, or an amide group.

예를 들어, 상기 단관능성 아크릴 모노머는 2-하이드록시에틸 아크릴레이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트, 4-하이드록시부틸아크릴레이트, 6-하이드록시헥실아크릴레이트, 8-하이드록시옥틸아크릴레이트, 2-하이드록시에틸렌글리콜아크릴레이트, 2-하이드록시프로필렌글리콜아크릴레이트 및 카프로락톤 변성 하이드록시아크릴레이트(caprolactone modified hydroxyl acrylate, CHA)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 하이드록시 함유 아크릴계 모노머를 포함할 수 있다.For example, the monofunctional acrylic monomer is 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 6-hydroxyhexyl acrylate, 8-hydroxyoctyl acrylate, It contains at least one hydroxy-containing acrylic monomer selected from the group consisting of 2-hydroxyethylene glycol acrylate, 2-hydroxypropylene glycol acrylate, and caprolactone modified hydroxyl acrylate (CHA). I can.

또한, 상기 단관능성 아크릴 모노머는 1,3-디메틸아밀아민, 3-아미노 에틸아크릴레이트, 2-(디메틸아미노)에틸 아크릴레이트 및 2-(디에틸아미노)에틸 아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 아미노기 함유 아크릴계 모노머를 포함할 수 있다.In addition, the monofunctional acrylic monomer is 1, selected from the group consisting of 1,3-dimethylamylamine, 3-amino ethyl acrylate, 2- (dimethylamino) ethyl acrylate, and 2- (diethylamino) ethyl acrylate. It may contain an acrylic monomer containing more than a kind of amino group.

아울러, 상기 단관능성 아크릴 모노머는 아크릴아마이드, (메타)아크릴아마이드, N-메틸아크릴아마이드, N-메틸(메타)아크릴아마이드, N-디메틸아크릴아마이드, N-디메틸(메타)아크릴아마이드 및 N-부톡시 메틸(메타)아크릴아마이드로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 아마이드기 함유 아크릴계 모노머를 포함할 수 있다.In addition, the monofunctional acrylic monomer is acrylamide, (meth)acrylamide, N-methylacrylamide, N-methyl (meth)acrylamide, N-dimethylacrylamide, N-dimethyl (meth)acrylamide, and N-moiety It may include one or more amide group-containing acrylic monomers selected from the group consisting of oxy methyl (meth) acrylamide.

본 발명은 상기와 같은 단관능성 아크릴 모노머를 표면 처리제에 함유함으로써 표면 처리제의 점도를 적절히 낮출 수 있다.In the present invention, the viscosity of the surface treatment agent can be appropriately lowered by containing the monofunctional acrylic monomer as described above in the surface treatment agent.

본 발명에서 사용되는 아크릴 수지 조성물은 다관능성 아크릴레이트 올리고머 100 중량부에 대하여, 단관능성 아크릴레이트 모노머와 다관능성 아크릴레이트 모노머를 각각 50 내지 70 중량부 및 40 내지 70 중량부로 포함할 수 있다.The acrylic resin composition used in the present invention may contain 50 to 70 parts by weight and 40 to 70 parts by weight of a monofunctional acrylate monomer and a polyfunctional acrylate monomer, respectively, based on 100 parts by weight of the polyfunctional acrylate oligomer.

하나의 예로서, 상기 아크릴 수지 조성물은 다관능성 우레탄 아크릴레이트 올리고머 100 중량부에 대하여, 단관능성 아크릴레이트 모노머와 다관능성 아크릴레이트 모노머를 각각 57 내지 70 중량부 및 50 내지 63 중량부, 구체적으로는 각각 61 내지 68 중량부 및 51 내지 60 중량부로 포함할 수 있다.As an example, the acrylic resin composition comprises 57 to 70 parts by weight and 50 to 63 parts by weight, specifically, a monofunctional acrylate monomer and a polyfunctional acrylate monomer, respectively, based on 100 parts by weight of a polyfunctional urethane acrylate oligomer. It may contain 61 to 68 parts by weight and 51 to 60 parts by weight, respectively.

나아가, 상기 아크릴 수지 조성물은 표면 처리층의 내오염성을 개선하기 위하여 자외선 경화형의 액상 실리콘 첨가제를 더 포함할 수 있으며, 이러한 실리콘 첨가제로는 예를 들어, 고분자량의 양친매성 실리콘 첨가제를 사용할 수 있다. 이때, 상기 실리콘 첨가제의 분자량은 30,000 내지 90,000일 수 있다.Furthermore, the acrylic resin composition may further include an ultraviolet-curable liquid silicone additive to improve stain resistance of the surface treatment layer, and as such silicone additive, for example, a high molecular weight amphiphilic silicone additive may be used. . At this time, the molecular weight of the silicone additive may be 30,000 to 90,000.

또한, 실리콘 첨가제는 소량으로 사용될 수 있다. 구체적으로, 상기 실리콘 첨가제는 다관능성 아크릴레이트 올리고머 100 중량부에 대하여 0.1 내지 5 중량부로 사용될 수 있으며, 보다 구체적으로는 0.1 내지 4 중량부, 0.1 내지 3 중량부, 0.1 내지 2 중량부, 0.5 내지 1.5 중량부, 0.1 내지 1.1 중량부 또는 0.7 내지 1.3 중량부로 사용될 수 있다.In addition, silicone additives can be used in small amounts. Specifically, the silicone additive may be used in an amount of 0.1 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyfunctional acrylate oligomer, and more specifically 0.1 to 4 parts by weight, 0.1 to 3 parts by weight, 0.1 to 2 parts by weight, 0.5 to 1.5 parts by weight, 0.1 to 1.1 parts by weight, or 0.7 to 1.3 parts by weight may be used.

실리콘 첨가제를 사용하는 경우 아크릴 수지 조성물의 표면 장력이 낮아져 표면 처리층의 왁스 친화성이 저하되는 문제가 있다. 그러나, 본 발명은 표면 처리층의 표면에 미세한 주름 구조를 도입함과 동시에 실리콘 첨가제의 함량을 상기 범위로 제어함으로써 아크릴 수지 조성물의 표면장력을 적절히 낮춰 아크릴 수지 조성물을 이용하여 형성되는 표면 처리층의 내오염성을 향상시키면서, 왁스 친화성이 저하되는 것을 최소화할 수 있다. 아울러, 과량의 실리콘 첨가제로 인하여 경화율이 현저히 저하되는 것을 방지할 수 있다.When using a silicone additive, there is a problem that the surface tension of the acrylic resin composition is lowered, so that the wax affinity of the surface treatment layer is lowered. However, the present invention introduces a fine wrinkle structure on the surface of the surface treatment layer, and at the same time, by controlling the content of the silicone additive within the above range, the surface tension of the acrylic resin composition is appropriately lowered. While improving stain resistance, it is possible to minimize the decrease in wax affinity. In addition, it is possible to prevent the cure rate from being significantly lowered due to an excessive amount of the silicone additive.

이하, 본 발명을 실시예 및 실험예에 의해 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by examples and experimental examples.

단, 하기 실시예 및 실험예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기 실시예 및 실험예에 한정되는 것은 아니다.However, the following Examples and Experimental Examples are merely illustrative of the present invention, and the contents of the present invention are not limited to the following Examples and Experimental Examples.

제조예 1 내지 3. 아크릴 수지 조성물의 제조Preparation Examples 1 to 3. Preparation of acrylic resin composition

제1 아크릴레이트 올리고머 (2관능 올리고머, Mw: 2,000), 제2 아크릴레이트 올리고머 (3관능 올리고머, Mw: 7,000), 제1 아크릴레이트 모노머 (2관능 모노머, Mw: 225), 제2 아크릴레이트 모노머 (3관능 모노머, Mw: 296), 단관능성 아크릴레이트 모노머, 소광제 및 개시제를 함께 하기 표 1에 나타낸 바와 같이 혼합하여 무용제 타입의 아크릴 수지 조성물을 제조하였다.First acrylate oligomer (bifunctional oligomer, Mw: 2,000), second acrylate oligomer (trifunctional oligomer, Mw: 7,000), first acrylate monomer (bifunctional monomer, Mw: 225), second acrylate monomer (Trifunctional monomer, Mw: 296), a monofunctional acrylate monomer, a matting agent, and an initiator were mixed together as shown in Table 1 below to prepare a solvent-free type acrylic resin composition.

제조예 1Manufacturing Example 1 제조예 2Manufacturing Example 2 제조예 3Manufacturing Example 3 제조예 4Manufacturing Example 4 제1 아크릴레이트 올리고머 (2관능)First acrylate oligomer (bifunctional) 20g20g 20g20g 20g20g 20g20g 제2 아크릴레이트 올리고머 (3관능)Second acrylate oligomer (trifunctional) 20g20g 20g20g 20g20g 20g20g 제1 아크릴레이트 모노머 (2관능)First acrylate monomer (bifunctional) 14g14g 13.9g13.9g 13g13g 8g8g 제2 아크릴레이트 모노머 (3관능)Second acrylate monomer (trifunctional) 10g10g 10g10g 10g10g 10g10g 단관능성 아크릴레이트 모노머Monofunctional acrylate monomer 25g25g 25g25g 25g25g 25g25g 실리콘 첨가제Silicone additives 0g0g 0.1g0.1g 1g1g 6g6g 소광제Quencher 8g8g 광 개시제Photoinitiator 3g3g 총합total 100g100g 100g100g 100g100g 100g100g

실시예 1.Example 1.

제조예 3에서 얻은 아크릴 수지 조성물을 가로 10 ㎝ X 세로 10 ㎝의 폴리비닐클로라이드 (PVC) 기재에 도포하고 광 경화장치에 고정시켰다. 그 후 하기 표 2에 나타낸 바와 같이 9±0.5 m/min의 이동속도로 기재를 이동시키면서 단계적으로 광 조사를 수행하여 SLS 타입의 비발포식 타일 바닥재 시편을 제조하였다. 이때, 상기 경화층의 평균 두께는 20±1㎛이였다.The acrylic resin composition obtained in Preparation Example 3 was applied to a polyvinyl chloride (PVC) substrate having a width of 10 cm by a length of 10 cm and fixed to a light curing device. Thereafter, as shown in Table 2 below, light irradiation was performed step by step while moving the substrate at a moving speed of 9±0.5 m/min to prepare an SLS-type non-foaming tile flooring specimen. At this time, the average thickness of the cured layer was 20 ± 1㎛.

경화 조건 1Curing condition 1 제1 광 조사First light irradiation 파장범위Wavelength range 250~400 ㎚250~400 ㎚ 조사량Irradiation 100±2 mJ/㎠100±2 mJ/㎠ 광원과의 거리Distance from light source 50±1㎜50±1㎜ 가스 조건Gas condition 건조된 공기(clean dry air) 조건(O2 농도: 20±2 vol.%)Conditions of clean dry air (O 2 concentration: 20±2 vol.%) 제2 광 조사Second light irradiation 파장 범위Wavelength range 172±5 ㎚172±5 nm 조사량Irradiation 300±5 mJ/㎠300±5 mJ/㎠ 광원과의 거리Distance from light source 100±1㎜100±1㎜ 가스 조건Gas condition N2 조건
(O2 농도: 1,000 ppm 이하)
N 2 condition
(O 2 concentration: 1,000 ppm or less)
제3 광 조사3rd light irradiation 파장 범위Wavelength range 250~400 ㎚250~400 ㎚ 조사량Irradiation 700±10 mJ/㎠700±10 mJ/㎠ 광원과의 거리Distance from light source 100±1㎜100±1㎜ 가스 조건Gas condition N2 조건N 2 condition

비교예 1 내지 6.Comparative Examples 1 to 6.

하기 표 3 및 4와 같은 경화조건으로 조성물을 경화하는 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하여 바닥재 시편을 제조하였다. 이때, 상기 표면 처리층의 평균 두께는 15±1㎛이였다.A flooring specimen was prepared in the same manner as in Example 1, except that the composition was cured under the curing conditions shown in Tables 3 and 4 below. At this time, the average thickness of the surface treatment layer was 15 ± 1㎛.

비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 비교예 4Comparative Example 4 비교예 5Comparative Example 5 비교예 6Comparative Example 6 아크릴 조성물 종류Type of acrylic composition 제조예 1의 조성물Composition of Preparation Example 1 제조예 2의 조성물Composition of Preparation Example 2 제조예 4의 조성물Composition of Preparation Example 4 제조예 1의 조성물Composition of Preparation Example 1 제조예 3의
조성물
Of Preparation Example 3
Composition
제조예 3의
조성물
Of Preparation Example 3
Composition
경화조건Curing condition 경화조건 1Curing condition 1 경화조건 1Curing condition 1 경화조건 1Curing condition 1 경화조건 2Curing condition 2 경화조건 2Curing condition 2 경화조건 3Curing condition 3

경화조건 2Curing condition 2 경화조건 3Curing condition 3 제1 광 조사First light irradiation 파장범위Wavelength range 250~400 ㎚250~400 ㎚ -- 조사량Irradiation 100±2 mJ/㎠100±2 mJ/㎠ -- 광원과의 거리Distance from light source 50±1㎜50±1㎜ -- 가스 조건Gas condition 건조된 공기(clean dry air) 조건
(O2 농도: 20±2 vol.%)
Clean dry air condition
(O 2 concentration: 20±2 vol.%)
--
제2 광 조사Second light irradiation 파장 범위Wavelength range -- 172±5 ㎚172±5 nm 조사량Irradiation -- 300±5 mJ/㎠300±5 mJ/㎠ 광원과의 거리Distance from light source -- 50±1㎜50±1㎜ 가스 조건Gas condition -- N2 조건
(O2 농도: 1,000 ppm 이하)
N 2 condition
(O 2 concentration: 1,000 ppm or less)
제3 광 조사3rd light irradiation 파장 범위Wavelength range 250~400 ㎚250~400 ㎚ 250~400 ㎚250~400 ㎚ 조사량Irradiation 700±10 mJ/㎠700±10 mJ/㎠ 700±10 mJ/㎠700±10 mJ/㎠ 광원과의 거리Distance from light source 100±1㎜100±1㎜ 100±1㎜100±1㎜ 가스 조건Gas condition N2 조건N 2 condition N2 조건N 2 condition

실험예 1.Experimental Example 1.

본 발명에 따른 바닥재의 최외각층인 표면 처리층의 표면 구조를 확인하기 위하여 실시예 1과 비교예 6에서 제조된 바닥재 시편을 대상으로 주사 전자현미경(SEM) 분석을 수행하였으며, 그 결과는 도 1 및 2에 나타내었다.In order to confirm the surface structure of the surface treatment layer, which is the outermost layer of the flooring according to the present invention, a scanning electron microscope (SEM) analysis was performed on the flooring specimens prepared in Example 1 and Comparative Example 6, and the results are shown in FIG. And shown in 2.

도 1 및 2를 살펴보면, 본 발명에 따른 실시예 1의 시편은 표면에 일정 크기와 빈도로 미세한 주름 구조를 포함하는 것으로 나타났으며, 상기 주름 구조는 상기 주름 구조는 불규칙한 직선 및 곡선이 반복되면서 산맥 형상과 같은 굴곡을 갖는 것을 알 수 있다. 또한, 상기 주름은 폭이 평균 8±0.5㎛이고 높이는 약 1~2 ㎛이며, 약 10 내지 50㎛ 내에서 연장되는 것으로 나타났다. 또한, 상기 주름은 높은 빈도로 균일하게 형성되어 0.1 mm X 0.1 mm의 면적 당 5~20개 정도 존재하는 것이 확인되었다.Referring to Figures 1 and 2, it was found that the specimen of Example 1 according to the present invention includes a fine wrinkle structure on the surface with a certain size and frequency, and the wrinkle structure has an irregular straight line and a curved line. It can be seen that it has the same curvature as the mountain range shape. In addition, the wrinkles were found to have an average width of 8±0.5 μm, a height of about 1 to 2 μm, and extend within about 10 to 50 μm. In addition, it was confirmed that the wrinkles were uniformly formed at a high frequency and existed about 5 to 20 per area of 0.1 mm X 0.1 mm.

이에 반해, 비교예 6의 시편은 불규칙한 직선 및 곡선이 반복되는 산맥 형상을 갖는 주름을 포함하나, 상기 주름은 굵고 높으며, 하나의 특정 지점으로부터 복수의 주름이 서로 다른 방향으로 분지되는 형상을 가져 1 mm X 1 mm의 면적 당 주름이 5~8개 정도 존재하는 것이 확인되었다.In contrast, the specimen of Comparative Example 6 includes wrinkles having a mountain range shape in which irregular straight lines and curves are repeated, but the wrinkles are thick and high, and have a shape in which a plurality of wrinkles branch in different directions from one specific point. It was confirmed that there were about 5 to 8 wrinkles per area of mm X 1 mm.

이러한 결과로부터, 제1 광 조사 단계를 수행하는 경우 표면 처리층 표면에 형성된 주름 구조의 크기와 빈도를 제어할 수 있음을 알 수 있다.From these results, it can be seen that when the first light irradiation step is performed, the size and frequency of the wrinkle structure formed on the surface of the surface treatment layer can be controlled.

실험예 2.Experimental Example 2.

제1 광 조사 단계에 따른 표면 처리층의 변화를 확인하기 위하여, 퓨리에 변환-적외선 분광 분석을 수행하였다. 구체적으로, 제조예 3에서 얻은 아크릴 수지 조성물을 가로 10 ㎝ X 세로 10 ㎝의 폴리비닐클로라이드 (PVC) 시편에 도포하고, 시편을 대상으로 400~4,000 cm-1 파수 범위에서의 퓨리에 변환-적외선 분광을 측정하였다. 그런 다음, 시편에 제1 광 조사 단계를 수행한 후 400~4,000 cm-1 파수 범위에서의 퓨리에 변환-적외선 분광을 재측정하였으며, 그 결과를 도 3에 나타내었다.In order to confirm the change of the surface treatment layer according to the first light irradiation step, Fourier transform-infrared spectroscopy analysis was performed. Specifically, the acrylic resin composition obtained in Preparation Example 3 was applied to a polyvinyl chloride (PVC) specimen of 10 cm x 10 cm long, and the Fourier transform in the wavenumber range of 400 to 4,000 cm -1 targeting the specimen-infrared spectroscopy Was measured. Then, after performing the first light irradiation step on the specimen, the Fourier transform-infrared spectroscopy in the wavenumber range of 400 to 4,000 cm -1 was re-measured, and the results are shown in FIG. 3.

도 3을 살펴보면, 제1 광 조사 단계는 표면 처리층에 형성되는 주름 구조의 크기와 빈도를 제어하는 것을 알 수 있다.Referring to FIG. 3, it can be seen that the first light irradiation step controls the size and frequency of the wrinkle structure formed on the surface treatment layer.

구체적으로, 실시예 1에서 준비된 바닥재 시편에 대한 퓨리에 변환-적외선 분광 그래프를 참고하면, 아크릴 수지 조성물은 제1 광 조사 단계 전 퓨리에 변환-적외선 분광(FT-IR) 측정 시 810.2±2 cm-1의 파수 범위에서 나타나는 C=C 결합의 스트레칭 피크를 갖는 것을 확인할 수 있는데, 상기 피크는 제1 광 조사 단계 후 그 강도가 작아지는 것을 확인할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 피크는 제1 광 조사 단계 이후 강도가 작아지므로, 제1 광 조사 단계 이전의 피크 면적 (Aacryl) 대비 제1 광 조사 단계 이후의 피크 면적 (Aharden)의 비율(Aharden/Aacryl)이 0.5 내지 0.7인 것을 확인할 수 있다. 이는 아크릴 수지 조성물이 제1 광 조사 단계 이후 약 30% 내지 50%의 경화가 진행됨을 의미한다.Specifically, referring to the Fourier transform-infrared spectroscopy graph for the flooring specimen prepared in Example 1, the acrylic resin composition was 810.2±2 cm -1 in the Fourier transform-infrared spectroscopy (FT-IR) measurement before the first light irradiation step. It can be seen that it has a stretching peak of C=C bonds appearing in the wave number range of, and the intensity of the peak decreases after the first light irradiation step. More specifically, since the intensity of the peak decreases after the first light irradiation step, the ratio of the peak area (A harden ) after the first light irradiation step to the peak area (A acryl ) before the first light irradiation step (A harden /A acryl ) can be confirmed that is 0.5 to 0.7. This means that the acrylic resin composition undergoes curing of about 30% to 50% after the first light irradiation step.

이와 같은 제1 광 조사 단계에서의 아크릴 수지 조성물의 일부 경화는 제2 광 조사 단계에서 형성된 엑시머가 아크릴 수지 조성물의 표면에 주름 구조를 형성하는 정도를 약화시켜 주름 구조의 크기를 작게 하고 빈도를 증가시킬 수 있음을 알 수 있다Partial curing of the acrylic resin composition in the first light irradiation step as described above reduces the degree to which the excimer formed in the second light irradiation step forms a wrinkle structure on the surface of the acrylic resin composition, thereby reducing the size of the wrinkle structure and increasing the frequency. I can see that I can make it

실험예 3.Experimental Example 3.

본 발명에 따른 바닥재의 광택성, 내오염성 및 왁스 친화성을 평가하기 위하여 실시예 1과 비교예 1 내지 6에서 제조된 시편을 대상으로 광택도, 내오염성 및 왁스 친화도를 측정하였다. 구체적인 측정방법은 다음과 같으며, 측정된 결과는 하기 표 5에 나타내었다:In order to evaluate the gloss, stain resistance, and wax affinity of the flooring material according to the present invention, the gloss, stain resistance, and wax affinity of the specimens prepared in Example 1 and Comparative Examples 1 to 6 were measured. The specific measurement method is as follows, and the measured results are shown in Table 5 below:

가) 광택도 평가A) Glossiness evaluation

실시예 및 비교예의 시편들을 대상으로 광택 측정기(Gloss Meter)를 이용하여 60° 광택도(글로스 60° 조건) 를 측정하였다.For the specimens of Examples and Comparative Examples, 60° gloss (gloss 60° condition) was measured using a gloss meter.

나) 내오염성 (깔끄미) 평가B) Pollution resistance (smoothness) evaluation

KS M 3802에 따라 시험을 수행하되, 오염 재료로서 보드마카를 사용하여 표면에 약 10 cm의 선을 긋고 이후 30초가 경과하면 킴와이프스로 그어진 선을 문질러 제거하여 최초 오염면적 기준으로 지워지지 않고 잔류하는 면적 (예컨대, 흔적이나 번짐)을 육안으로 확인하였으며, 그 결과를 하기의 기준에 따라 분류하였다:Conduct the test in accordance with KS M 3802, but draw a line of about 10 cm on the surface using a vod marker as a contaminated material, and after 30 seconds, the line drawn with Kimwipes is rubbed off and left unerased based on the initial contaminated area. Areas (e.g., traces or smears) were visually checked, and the results were classified according to the following criteria:

- 1등급: 최초 오염면적 기준 잔류하는 면적이 90% 이상- Level 1: The remaining area based on the initial contaminated area is more than 90%

- 2등급: 최초 오염면적 기준 잔류하는 면적이 60% 이상 90% 미만- Level 2: The remaining area based on the initial contaminated area is 60% or more and less than 90%

- 3등급: 최초 오염면적 기준 잔류하는 면적이 20% 이상 60% 미만- Grade 3: The remaining area based on the initial contaminated area is 20% or more and less than 60%

- 4등급: 최초 오염면적 기준 잔류하는 면적이 5% 이상 20% 미만- Grade 4: The remaining area based on the initial contaminated area is 5% or more and less than 20%

- 5등급: 최초 오염면적 기준 잔류하는 면적이 5% 미만- Grade 5: The remaining area based on the initial contaminated area is less than 5%

다) 왁스 친화도 평가 I: 크로스-컷C) Wax affinity evaluation I: Cross-cut

실시예 및 비교예의 시편들 표면에 각각 7.5±2.5㎛ 두께로 왁스를 도포하고 24분 동안 건조 시켜 표면 처리층 상에 왁스를 코팅하였다. 그런 다음, ASTM D3359의 A 평가방법에 따라 적층 필름의 표면을 칼로 30~45°의 각도 및 약 40㎜ (1.5 inch) 길이를 갖는 X자 커팅을 하였다. 그 후 커팅된 표면에 X자를 따라 테이프(길이 약 75㎜ (3inch))를 견고하게 붙이고 빠르게 떼어내어 커팅된 X자의 박리 상태를 확인하였다. 확인된 박리 상태에 따라 부여하였으며, 그 기준은 다음과 같다:Wax was applied to the surfaces of the specimens of Examples and Comparative Examples to a thickness of 7.5±2.5 μm, and dried for 24 minutes to coat the wax on the surface treatment layer. Then, according to the A evaluation method of ASTM D3359, the surface of the laminated film was cut in an X shape with a knife at an angle of 30 to 45° and a length of about 40 mm (1.5 inch). Thereafter, a tape (about 75 mm (3 inches in length)) was firmly attached to the cut surface along the X-shape, and quickly peeled off to confirm the peeling state of the cut X-shape. It was given according to the confirmed peeling state, and the criteria are as follows:

0 등급: X자 영역이 완전히 벗겨짐,Grade 0: X-shaped area completely peeled off,

1 등급: 전체 면적의 약 50% 이상의 박리가 확인됨,Grade 1: delamination of about 50% or more of the total area was observed,

2 등급: 커팅된 X자의 직선 부위 양 옆으로 최대 3.2㎜ (1/8 inch)의 박리가 지그재그로 확인됨,Grade 2: Separation of up to 3.2 mm (1/8 inch) on both sides of the cut X-shaped straight portion was confirmed by zigzag,

3 등급: 커팅된 X자의 직선 부위 양 옆으로 약 1.6㎜ (1/6 inch) 내외의 박리가 지그재그로 확인됨,Grade 3: Separation within and outside of about 1.6 mm (1/6 inch) on both sides of the cut X-shaped straight portion was confirmed in zigzag,

4 등급: 커팅된 X자의 직선 부위 또는 교차점을 따라 전체 면적의 약 5% 이하의 박리 또는 제거 흔적이 확인됨,Grade 4: A trace of peeling or removal of less than about 5% of the total area is identified along the straight part or intersection of the cut X-shape.

5 등급: 커팅된 표면의 박리가 확인되지 않음.Grade 5: No delamination of the cut surface was observed.

라) 왁스 친화도 평가 II: 왁스 액적의 평균 크기 측정D) Wax affinity evaluation II: Measurement of average size of wax droplets

실시예 및 비교예의 시편들 표면에 22±2℃에서, 3g의 왁스 (아크릴 수지 및 물을 50~70 중량%로 포함하는 혼합액)를 떨어뜨리고, 스펀지를 이용하여 단위 면적(200 mm X 200 mm)을 모두 채우도록 도포하였다. 그 후 1분 경과하면 도포된 왁스의 면적을 측정하고, 최초 도포 면적 대비 1분 경과 후 도포된 면적 비율을 산출하였다.At 22±2° C. on the surfaces of the specimens of Examples and Comparative Examples, 3 g of wax (a mixture containing 50-70% by weight of acrylic resin and water) was dropped, and a unit area (200 mm X 200 mm) using a sponge ) Was applied to fill all. After 1 minute, the area of the applied wax was measured, and the ratio of the area applied after 1 minute compared to the initial application area was calculated.

광택도Gloss 깔끄미 평가Evaluation 왁스 친화도Wax affinity 크로스-컷Cross-cut 1분 경과 후
왁스 도포 면적율
After 1 minute
Wax application area ratio
실시예 1Example 1 1.5±0.11.5±0.1 5등급Level 5 5등급Level 5 100%100% 비교예 1Comparative Example 1 1.5±0.11.5±0.1 2등급Level 2 5등급Level 5 100%100% 비교예 2Comparative Example 2 1.6±0.11.6±0.1 2등급Level 2 5등급Level 5 100%100% 비교예 3Comparative Example 3 1.4±0.11.4±0.1 1등급Level 1 1등급Level 1 100%100% 비교예 4Comparative Example 4 5.0±0.15.0±0.1 1등급Level 1 5등급Level 5 100%100% 비교예 5Comparative Example 5 6.0±0.16.0±0.1 5등급Level 5 5등급Level 5 40%40% 비교예 6Comparative Example 6 3.5±0.13.5±0.1 1등급Level 1 5등급Level 5 100%100%

상기 표 5에 나타낸 바와 같이 본 발명에 따른 바닥재는 광택도가 3 이하로 현저히 낮고, 우수한 내오염성 및 왁스 친화성을 동시에 구현된 것을 알 수 있다.As shown in Table 5 above, it can be seen that the flooring material according to the present invention has a remarkably low gloss of 3 or less, and has excellent stain resistance and wax affinity at the same time.

구체적으로, 실시예 1의 바닥재 시편은 10 중량% 미만의 소량의 소광제를 사용하여도 글로스 60° 조건에서의 광택도가 2.0 미만이고, 내오염성이 뛰어나 요오드 오염 전후 육안으로 표면에 오염 흔적이 확인되지 않았으며, 보드마카 오염 및 세척 후 오염 면적이 5% 미만인 것으로 나타났다. 뿐만 아니라, 상기 바닥재 시편은 왁스 친화성이 우수하여 코팅된 왁스를 크로스-컷 탈착을 수행해도 왁스의 박리가 발생하지 않고, 표면에 왁스를 도포하고 1분이 경과된 후에도 최초 도포된 면적을 100% 유지하는 것으로 확인되었다.Specifically, the flooring specimen of Example 1 had a glossiness of less than 2.0 under a gloss 60° condition even when a small amount of matting agent of less than 10% by weight was used, and excellent stain resistance was observed, and there were no visible contamination marks on the surface before and after iodine contamination. It was not confirmed, and it was found that the area of contamination after vodmaka contamination and washing was less than 5%. In addition, the flooring specimen has excellent wax affinity, so that the wax does not peel off even if the coated wax is cross-cut and detached, and the first applied area is 100% after 1 minute has elapsed after applying the wax to the surface. Confirmed to maintain.

이러한 결과로부터 본 발명에 따른 바닥재는 표면 처리층에 다관능성의 우레탄 아크릴레이트 올리고머와 실리콘 아크릴레이트 올리고머를 특정 비율로 포함하고, 표면 처리층의 표면에 미세 주름 구조를 높은 빈도로 구현하여 별도의 첨가제 없이 낮은 광택도를 구현하고, 내오염성 및 왁스 친화성이 모두 우수한 것을 알 수 있다.From these results, the flooring material according to the present invention contains a polyfunctional urethane acrylate oligomer and a silicone acrylate oligomer in a specific ratio in the surface treatment layer, and a fine wrinkle structure is implemented on the surface of the surface treatment layer at high frequency, so that a separate additive It can be seen that it realizes low glossiness and has excellent stain resistance and wax affinity.

Claims (11)

기재층 및 아크릴 수지 조성물의 표면 처리층을 포함하고;
상기 표면 처리층은,
단위 면적 당(0.1 mm X 0.1 mm) 5 내지 20개의 주름을 포함하는 표면 구조를 가지며,
단위 면적(200 mm X 200 mm)에 3g의 왁스를 도포하는 경우, 1분 경과 후 도포된 왁스의 면적은 최초 도포 면적의 90% 이상인 바닥재.
Including a substrate layer and a surface treatment layer of an acrylic resin composition;
The surface treatment layer,
It has a surface structure including 5 to 20 wrinkles per unit area (0.1 mm X 0.1 mm),
When 3g of wax is applied to a unit area (200 mm X 200 mm), the area of the wax applied after 1 minute is at least 90% of the initial application area.
제1항에 있어서,
상기 표면 처리층은 7.5±2.5㎛ 두께로 왁스를 도포하고 24분 경과 후 ASTM D3359에 따른 크로스-컷 시험 수행 시 건조된 왁스의 전체 면적 중 박리 면적은 5% 이하인 특징으로 하는 바닥재.
The method of claim 1,
The surface treatment layer is a flooring material, characterized in that the peeling area of the total area of the dried wax is 5% or less when performing a cross-cut test according to ASTM D3359 after 24 minutes after applying the wax to a thickness of 7.5±2.5 μm.
제1항에 있어서,
표면 처리층의 표면 조도(Ra)는 2㎛ 이하인 바닥재.
The method of claim 1,
A flooring material having a surface roughness (Ra) of 2 μm or less of the surface treatment layer.
제1항에 있어서,
바닥재는 보드마카 오염 30초 경과 후 세척된 표면 처리층의 잔류 오염면적이 최초 오염면적 기준 5% 미만인 바닥재.
The method of claim 1,
Flooring is a flooring whose residual contaminated area of the surface treatment layer washed 30 seconds after vodmaka contamination is less than 5% of the original contaminated area.
제1항에 있어서,
표면 광택도가 글로스(Gloss) 60° 조건 하에서 3 미만인 바닥재.
The method of claim 1,
Flooring with a surface gloss of less than 3 under Gloss 60° conditions.
제1항에 있어서,
표면 처리층의 평균 두께는 10㎛ 내지 30㎛인 바닥재.
The method of claim 1,
Flooring with an average thickness of the surface treatment layer of 10 µm to 30 µm.
제1항에 있어서,
기재층은 하부에 비발포층, 유리 섬유층 및 인쇄층을 구비하는 바닥재.
The method of claim 1,
The base layer is a flooring material having a non-foaming layer, a glass fiber layer, and a printing layer at the bottom.
기재층 상에 도포된 아크릴 수지 조성물에, 공기 중에서 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 일부 경화시키는 제1 광 조사 단계,
300㎚ 미만 파장의 광을 조사하여 일부 경화된 조성물 표면에 주름을 유도하는 제2 광 조사 단계, 및
질소 가스 (N2) 조건 하에서, 표면에 주름이 유도된 조성물에 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 표면 처리층을 형성하는 제3 광 조사 단계를 포함하고;
하기 식 1을 만족하는 바닥재의 제조방법:
[식 1] 0.5 ≤ Aharden/Aacryl ≤0.7
식 1에서,
Aacryl는 광 조사가 되지 않은 아크릴 수지 조성물에 대한 퓨리에-적외선 분광 분석 시 809.6±1 cm-1의 파수에 나타내는 피크의 면적을 의미하고,
Aharden는 제1 광조사 단계가 수행된 아크릴 수지 조성물에 대한 퓨리에-적외선 분광 분석 시 809.6±1 cm-1의 파수에 나타내는 피크의 면적을 의미한다.
A first light irradiation step of partially curing the composition by irradiating light having a wavelength of 200 nm to 400 nm in air to the acrylic resin composition applied on the base layer,
A second light irradiation step of irradiating light with a wavelength of less than 300 nm to induce wrinkles on the surface of the partially cured composition, and
A third light irradiation step of forming a surface treatment layer by irradiating light having a wavelength of 200 nm to 400 nm on the composition in which wrinkles are induced on the surface under nitrogen gas (N 2) conditions;
Method for producing a flooring material that satisfies the following formula 1:
[Equation 1] 0.5 ≤ A harden /A acryl ≤0.7
In Equation 1,
A acryl refers to the area of a peak represented by a wave number of 809.6±1 cm -1 when Fourier-infrared spectroscopy analysis of an acrylic resin composition is not irradiated with light,
A harden means the area of a peak represented by a wave number of 809.6±1 cm -1 when Fourier-infrared spectroscopy analysis of the acrylic resin composition in which the first light irradiation step has been performed is performed.
제8항에 있어서,
아크릴 수지 조성물은,
다관능성 아크릴레이트 올리고머 100 중량부에 대하여,
다관능성 아크릴레이트 모노머 40 내지 70 중량부; 및
단관능성 아크릴레이트 모노머 50 내지 70 중량부로 포함하는 바닥재의 제조방법.
The method of claim 8,
The acrylic resin composition,
Based on 100 parts by weight of the polyfunctional acrylate oligomer,
40 to 70 parts by weight of a polyfunctional acrylate monomer; And
A method for producing a flooring material comprising 50 to 70 parts by weight of a monofunctional acrylate monomer.
제8항에 있어서,
아크릴 수지 조성물은 실리콘 첨가제를 더 포함하는 바닥재의 제조방법.
The method of claim 8,
Acrylic resin composition is a method of manufacturing a flooring material further comprising a silicone additive.
제10항에 있어서,
실리콘 첨가제의 함량은 다관능성 아크릴레이트 올리고머 100 중량부에 대하여 0.1 내지 5 중량부인 바닥재의 제조방법.
The method of claim 10,
The content of the silicone additive is 0.1 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyfunctional acrylate oligomer.
KR1020190125981A 2019-10-11 2019-10-11 Floorings having excellent anti-pollution property KR102671918B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190125981A KR102671918B1 (en) 2019-10-11 2019-10-11 Floorings having excellent anti-pollution property

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190125981A KR102671918B1 (en) 2019-10-11 2019-10-11 Floorings having excellent anti-pollution property

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20210043156A true KR20210043156A (en) 2021-04-21
KR102671918B1 KR102671918B1 (en) 2024-06-04

Family

ID=75743973

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190125981A KR102671918B1 (en) 2019-10-11 2019-10-11 Floorings having excellent anti-pollution property

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102671918B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024071126A1 (en) * 2022-09-30 2024-04-04 大日本印刷株式会社 Decorative sheet and decorative material

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040057225A (en) * 2002-12-26 2004-07-02 주식회사 엘지화학 Flooring matchcd textile & printing
JP2010531383A (en) * 2007-06-27 2010-09-24 モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド Curable silyl-containing polymer composition containing paint adhesion promoter
KR20140089074A (en) 2013-01-04 2014-07-14 세기하이테크건설 주식회사 A composite of eco-friendly organic·inorganic composite coating materials for stain protection of surface and construction method thereof
KR20180127922A (en) * 2017-05-22 2018-11-30 (주)엘지하우시스 Low gloss cured composition improved contamination resistance, and preparation method thereof

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040057225A (en) * 2002-12-26 2004-07-02 주식회사 엘지화학 Flooring matchcd textile & printing
JP2010531383A (en) * 2007-06-27 2010-09-24 モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド Curable silyl-containing polymer composition containing paint adhesion promoter
KR20140089074A (en) 2013-01-04 2014-07-14 세기하이테크건설 주식회사 A composite of eco-friendly organic·inorganic composite coating materials for stain protection of surface and construction method thereof
KR20180127922A (en) * 2017-05-22 2018-11-30 (주)엘지하우시스 Low gloss cured composition improved contamination resistance, and preparation method thereof

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024071126A1 (en) * 2022-09-30 2024-04-04 大日本印刷株式会社 Decorative sheet and decorative material
JP2024052132A (en) * 2022-09-30 2024-04-11 大日本印刷株式会社 Decorative sheet and decorative material

Also Published As

Publication number Publication date
KR102671918B1 (en) 2024-06-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102180634B1 (en) Floorings having excellent anti pollution and non-slip property
KR102331112B1 (en) Low gloss non-foaming decorative sheet having excellent texture
KR102519863B1 (en) Decorative sheet having excellent aesthetics and anti pollution, and preparation method thereof
JP7052901B2 (en) How to make a decorative sheet
KR102233551B1 (en) Low gloss cured composition improved contamination resistance, and preparation method thereof
KR102608459B1 (en) Decorative sheet having excellent anti scratch resistance and anti pollution, and preparation method thereof
WO2021149480A1 (en) Decorative sheet, decorative plate, and method for producing decorative sheet
KR20200032878A (en) Floorings having excellent anti scratch resistance and non-slip property
KR102467560B1 (en) Floorings having excellent anti-pollution property
KR20210043156A (en) Floorings having excellent anti-pollution property
JP2021115701A (en) Decorative sheet, decorative laminate and method for producing decorative sheet
KR20220003706A (en) Deco film having microfolding structure
KR102180633B1 (en) Non-foaming floorings with excellent in iodine resistance and having radial flexure structure on surface
KR101306350B1 (en) High gloss ultraviolet curable coating composition and coating method using the same
KR102269522B1 (en) Low gloss non-foaming floorings having radial flexure structure on surface
JP7272501B2 (en) Decorative sheet and board
KR102715790B1 (en) Flooring with excellent non-slip property and method of preparing the same
KR20230078169A (en) Flooring material
JP7215558B2 (en) Decorative sheet and board
KR102455676B1 (en) Decorative sheet having excellent printability, and preparation method thereof
KR102140971B1 (en) Low gloss cured composition having radial flexure structure on surface
KR20220056800A (en) Flooring with excellent non-slip property and method of preparing the same
JP2023086918A (en) Decorative sheet and decorative laminate
KR20240032801A (en) laminated film having wrinkle surface
KR20240034727A (en) laminated film having wrinkle surface

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant