KR20200024766A - Vacuum valve with position sensor - Google Patents
Vacuum valve with position sensor Download PDFInfo
- Publication number
- KR20200024766A KR20200024766A KR1020197035141A KR20197035141A KR20200024766A KR 20200024766 A KR20200024766 A KR 20200024766A KR 1020197035141 A KR1020197035141 A KR 1020197035141A KR 20197035141 A KR20197035141 A KR 20197035141A KR 20200024766 A KR20200024766 A KR 20200024766A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- valve
- adjustment
- vacuum
- vacuum valve
- opening
- Prior art date
Links
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 78
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 51
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 34
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 20
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 16
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 8
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 8
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims description 4
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000004590 computer program Methods 0.000 claims description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 16
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 10
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 7
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 229920001973 fluoroelastomer Polymers 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 3
- 229920002449 FKM Polymers 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 2
- 230000014616 translation Effects 0.000 description 2
- 101100190615 Mus musculus Plcd1 gene Proteins 0.000 description 1
- 101100408448 Mus musculus Plcd4 gene Proteins 0.000 description 1
- 229920006169 Perfluoroelastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000006735 deficit Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- -1 perfluoro Chemical group 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 238000010079 rubber tapping Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 230000003319 supportive effect Effects 0.000 description 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K51/00—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus
- F16K51/02—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus specially adapted for high-vacuum installations
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K3/00—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing
- F16K3/02—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor
- F16K3/04—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor with pivoted closure members
- F16K3/10—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor with pivoted closure members with special arrangements for separating the sealing faces or for pressing them together
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K3/00—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing
- F16K3/02—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor
- F16K3/16—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor with special arrangements for separating the sealing faces or for pressing them together
- F16K3/18—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor with special arrangements for separating the sealing faces or for pressing them together by movement of the closure members
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K37/00—Special means in or on valves or other cut-off apparatus for indicating or recording operation thereof, or for enabling an alarm to be given
- F16K37/0025—Electrical or magnetic means
- F16K37/0041—Electrical or magnetic means for measuring valve parameters
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K37/00—Special means in or on valves or other cut-off apparatus for indicating or recording operation thereof, or for enabling an alarm to be given
- F16K37/0075—For recording or indicating the functioning of a valve in combination with test equipment
- F16K37/0083—For recording or indicating the functioning of a valve in combination with test equipment by measuring valve parameters
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Sliding Valves (AREA)
- Details Of Valves (AREA)
- Indication Of The Valve Opening Or Closing Status (AREA)
Abstract
본 발명은 밸브 마개(4)를 갖고 밸브 마개(4)에 커플링되고 적어도 하나의 조정 요소(5)를 갖는 구동 유닛(7)을 갖는 진공 밸브(1)에 관한 것이다. 진공 밸브(1)는, 제로 위치, 특히 진공 밸브(1)의 개방 위치(O) 또는 폐쇄 위치(G)에 대한 밸브 마개(4)의 위치 및/또는 적어도 하나의 조정 요소(5)의 위치가 측정될 수 있도록 위치 센서(10, 10'), 특히 이동 또는 거리 센서를 추가로 갖는다.The present invention relates to a vacuum valve (1) with a valve stop (4) and with a drive unit (7) having at least one adjustment element (5) and coupled to the valve stop (4). The vacuum valve 1 is in the zero position, in particular the position of the valve plug 4 with respect to the open position O or the closed position G of the vacuum valve 1 and / or the position of the at least one adjustment element 5. It further has a position sensor 10, 10 ′, in particular a movement or distance sensor so that can be measured.
Description
본 발명은 적어도 하나의 위치 센서를 갖는 진공 밸브 및 위치 측정을 사용하여 진공 밸브를 제어하기 위한 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a vacuum valve having at least one position sensor and a method for controlling a vacuum valve using position measurement.
밸브 하우징에 형성된 개구를 통해 이어지는 유로(flow path)의 체적 또는 질량 흐름을 조절하기 위한 및/또는 본질적으로 가스-기밀 폐쇄를 위한 진공 밸브는 일반적으로 다양한 실시예에서 종래 기술로부터 알려져 있고 특히 오염 입자 없이 가능한 한 보호된 분위기에서 이루어져야 하는 IC, 반도체 또는 기판 생산 영역에서의 진공 챔버 시스템에서 사용된다. 이러한 진공 챔버 시스템은 특히 프로세싱되거나 생산될 반도체 요소 또는 기판을 수용하기 위해 제공되고 이를 통해 반도체 요소 또는 다른 기판이 진공 챔버로 그리고 진공 챔버로부터 안내될 수 있는 적어도 하나의 진공 챔버 개구를 갖는 적어도 하나의 배기 가능한 진공 챔버 및 진공 챔버를 배기시키기 위한 적어도 하나의 진공 펌프를 포함한다. 예를 들어, 반도체 웨이퍼 또는 액정 기판을 위한 생산 플랜트에서, 고감도 반도체 또는 액정 요소는 프로세스 진공 챔버 내에 위치된 부품이 각각 프로세싱 디바이스에 의해 프로세싱되는 몇몇 프로세스 진공 챔버를 순차적으로 통과한다. 프로세스 진공 챔버 내에서의 머시닝 프로세스 동안 및 챔버로부터 챔버로의 이송 동안, 고감도 반도체 요소 또는 기판은 언제나 보호된 분위기 - 특히 공기가 없는 환경에 있어야 한다.Vacuum valves for regulating the volume or mass flow of flow paths leading through openings formed in the valve housing and / or for essentially gas-tight closure are generally known from the prior art in various embodiments and in particular contaminated particles. It is used in vacuum chamber systems in IC, semiconductor or substrate production areas, where it must be done in a protected atmosphere without the need to. Such a vacuum chamber system is particularly provided for receiving a semiconductor element or substrate to be processed or produced, through which at least one vacuum chamber opening has at least one vacuum chamber opening through which the semiconductor element or other substrate can be guided into and out of the vacuum chamber. An evacuable vacuum chamber and at least one vacuum pump for evacuating the vacuum chamber. For example, in a production plant for a semiconductor wafer or liquid crystal substrate, the high sensitivity semiconductor or liquid crystal element sequentially passes through several process vacuum chambers in which components located within the process vacuum chamber are each processed by the processing device. During the machining process in the process vacuum chamber and during the transfer from the chamber to the chamber, the high sensitivity semiconductor element or substrate should always be in a protected atmosphere—especially in an air free environment.
이를 위해, 주변 밸브는 가스 입구 또는 출구를 개방 및 폐쇄하는 데 사용되고, 트랜스퍼 밸브는 부품을 삽입하고 제거하기 위한 진공 챔버의 트랜스퍼 개구를 개방 및 폐쇄하는 데 사용된다.To this end, peripheral valves are used to open and close gas inlets or outlets, and transfer valves are used to open and close the transfer openings of the vacuum chamber for inserting and removing parts.
반도체 부품이 통과하는 진공 밸브는 설명되는 응용 영역 및 관련 치수로 인해 진공 트랜스퍼 밸브, 주로 직사각형 개구 단면으로 인해 직사각형 밸브 및 또한 정상 동작 모드로 인해 슬라이드 밸브, 직사각형 슬라이더 또는 트랜스퍼 슬라이드 밸브로 칭해진다.The vacuum valve through which the semiconductor component passes is called a vacuum transfer valve, mainly a rectangular valve due to a rectangular opening cross section and also a slide valve, rectangular slider or transfer slide valve due to the application area and the associated dimensions described.
주변 밸브는 특히 진공 챔버와 진공 펌프 또는 다른 진공 챔버 사이의 가스 흐름을 제어하거나 조절하는 데 사용된다. 예를 들어, 주변 밸브는 프로세스 진공 챔버 또는 트랜스퍼 챔버와 진공 펌프, 대기 또는 다른 프로세스 진공 챔버 사이의 파이프 시스템 내에 위치된다. 펌프 밸브로도 알려진 이러한 밸브의 개구 단면은 일반적으로 진공 트랜스퍼 밸브의 개구 단면보다 작다. 주변 밸브는 개구를 완전히 개방 및 폐쇄하는 데 사용될 뿐만 아니라 완전 개방 위치와 가스-기밀 폐쇄 위치 사이의 개구 단면을 연속적으로 조정함으로써 흐름을 제어 또는 조절하는 데 사용되기 때문에 응용에 따라 제어 밸브라고도 칭해진다. 가스 흐름을 제어 또는 조절하기 위한 가능한 주변 밸브는 펜듈럼(pendulum) 밸브이다.Peripheral valves are used, in particular, to control or regulate the gas flow between the vacuum chamber and the vacuum pump or other vacuum chamber. For example, a peripheral valve is located in the pipe system between the process vacuum chamber or transfer chamber and the vacuum pump, atmosphere or other process vacuum chamber. The opening cross section of such a valve, also known as a pump valve, is generally smaller than the opening cross section of a vacuum transfer valve. Peripheral valves are also called control valves because they are used not only to fully open and close the opening, but also to control or regulate the flow by continuously adjusting the opening cross section between the fully open position and the gas-tight closed position. . Possible peripheral valves for controlling or regulating gas flow are pendulum valves.
통상적인 펜듈럼 밸브에서, US 6,089,537(Olmsted)로부터 알려진 바와 같이, 제1 단계는 통상적으로 둥근 밸브 플레이트를 개구를 해제하는 위치, 개방 위치로부터 또한 통상적으로 둥근 개구를 통해 개구를 덮는 중간 위치로 회전시키는 것이다. 슬라이드 밸브의 경우에, 예를 들어, US 6,416,037(Geiser) 또는 US 6,056,266(Blecha)에 설명된 바와 같이, 밸브 플레이트뿐만 아니라 개구는 통상적으로 직사각형이며 이러한 제1 단계에서 개구를 해제하는 위치로부터 개구를 덮는 중간 위치로 선형으로 푸시된다. 이러한 중간 위치에서, 펜듈럼 또는 슬라이드 밸브의 밸브 플레이트는 개구를 둘러싸는 밸브 시트(seat)로부터 거리를 두고 그리고 이에 대향하여 위치된다. 제2 단계에서, 밸브 플레이트와 밸브 시트 사이의 거리가 감소되어 밸브 플레이트와 밸브 시트가 서로에 대해 균등하게 가압되어 밸브 마개가 폐쇄 위치에 도달되고 개구는 본질적으로 가스-기밀하게 폐쇄된다. 이러한 제2 이동은 바람직하게는 밸브 시트에 실질적으로 수직인 방향으로 발생한다.In a typical pendulum valve, as known from US 6,089,537 (Olmsted), the first step typically involves rotating the round valve plate from a position to release the opening, from an open position to an intermediate position covering the opening, usually through the round opening. will be. In the case of a slide valve, as described, for example, in US 6,416,037 (Geiser) or US 6,056,266 (Blecha), the opening, as well as the valve plate, is typically rectangular and removes the opening from a position that releases the opening in this first step. It is pushed linearly to the covering intermediate position. In this intermediate position, the valve plate of the pendulum or slide valve is positioned at a distance from and opposite the valve seat surrounding the opening. In the second step, the distance between the valve plate and the valve seat is reduced such that the valve plate and the valve seat are evenly pressed against each other so that the valve cap is reached in the closed position and the opening is essentially gas-tightly closed. This second movement preferably occurs in a direction substantially perpendicular to the valve seat.
조정 이동의 각각의 종단 위치, 즉, 개방 위치 및 폐쇄 위치 (및 적어도 2개의 상이한 조정 방향으로 2개의 조합된 부분 이동으로 이루어진 조정 이동이 제공되는 경우, 또한 중간 위치)가 검출되고 및/또는 이 경우 기계식 종단 위치 스위치를 사용하여 유지된다. 정확한 폐쇄를 위해 좁은 공차 한계가 이러한 목적으로 유리하지 않게 유지되어야 한다.Each end position of the adjustment movement, ie the open position and the closed position (and an adjustment position, provided also an intermediate position if provided with two combined partial movements in at least two different adjustment directions, is also provided) is detected and / or The case is maintained using a mechanical end position switch. Narrow tolerance limits must be kept unfavorable for this purpose for correct closure.
시일링(sealing)은, 개구를 둘러싸는 밸브 시트 상에 가압되는 밸브 플레이트의 마개 측에 배열된 시일링 링을 통해, 또는 이에 대해 밸브 플레이트의 마개 측이 가압되는 밸브 시트 상의 시일링 링을 통해 발생할 수 있다. 2단계로 발생하는 폐쇄 절차로 인해, 밸브 플레이트와 밸브 시트 사이의 시일링 링은, 제2 단계에서 밸브 플레이트의 이동이 본질적으로 밸브 시트 상에 수직으로 선형으로 발생하기 때문에, 시일링 링을 파괴할만한 전단력을 거의 받지 않는다.The sealing is via a sealing ring arranged on the plug side of the valve plate pressed onto the valve seat surrounding the opening, or via a sealing ring on the valve seat against which the plug side of the valve plate is pressed. May occur. Due to the closing procedure occurring in two stages, the sealing ring between the valve plate and the valve seat breaks the sealing ring, since in the second stage the movement of the valve plate occurs essentially linearly and vertically on the valve seat. It receives little shear force.
다양한 종래 기술의 시일링 디바이스는 예를 들어, US 6,629,682 B2(Duelli)로부터 알려져 있다. 진공 밸브에서 시일링 링 및 시일에 대한 적절한 재료는 예를 들어, FKM으로도 알려진 플루오로 고무, 특히 상표명 "Viton"으로 알려진 플루오로 엘라스토머 및 축약하여 FFKM인 퍼플루오로 고무이다.Various prior art sealing devices are known, for example, from US Pat. No. 6,629,682 B2 (Duelli). Suitable materials for sealing rings and seals in vacuum valves are, for example, fluoro rubbers, also known as FKM, in particular fluoroelastomers known under the trade name "Viton" and perfluoro rubber, abbreviated FFKM.
종래 기술로부터, 상이한 구동 시스템이 예를 들어, 펜듈럼 밸브의 경우 US 6,089,537(Olmsted) 및 슬라이드 밸브의 경우 US 6,416,037(Geiser)로부터, 펜듈럼 밸브의 밸브 플레이트의 회전 이동 및 개구와 평행한 슬라이드 밸브의 밸브 플레이트의 병진 이동과 개구에 수직인 실질적으로 병진 이동을 달성하는 것으로 알려져 있다.From the prior art, different drive systems are available, for example from US 6,089,537 (Olmsted) for pendulum valves and US 6,416,037 (Geiser) for slide valves, valves of slide valves parallel to the rotational movement and opening of the valve plate of the pendulum valve. It is known to achieve translational movement of the plate and substantially translational movement perpendicular to the opening.
전체 압력 범위 내에서 필요한 가스 기밀성이 보장되고 과도한 압력 부하에 의해 야기되는, 시일링 매체, 특히 O-링 형태의 시일링 링에 대한 손상이 회피되는 방식으로 밸브 플레이트가 밸브 시트에 대해 가압되어야 한다. 이를 보장하기 위해, 공지된 밸브는 2개의 밸브 플레이트 측 사이에 존재하는 압력차에 따라 조절되는 밸브 플레이트의 압력 조절을 제공한다. 특히 큰 압력 변동 또는 부분 진공으로부터 과압(overpressure)으로 또는 그 반대로의 변경의 경우, 시일링 링의 전체 주위를 따라 균일한 힘 분포가 언제나 보장될 수는 없다. 일반적으로, 밸브에 가해지는 압력으로 인한 지지력으로부터 시일링 링을 커플링 해제하는 것이 목적이다. 예를 들어, US 6,629,682(Duelli)에서, 시일링 매체를 갖는 진공 밸브가 제안되며, 이는 시일링 링과 인접한 지지 링으로 구성되어, 시일링 링은 본질적으로 지지력이 없다.The valve plate must be pressed against the valve seat in such a way that damage to the sealing medium, in particular the sealing ring in the form of an O-ring, is avoided, which ensures the required gas tightness within the entire pressure range and is caused by excessive pressure loading. . To ensure this, known valves provide pressure regulation of the valve plate which is adjusted according to the pressure difference present between the two valve plate sides. Particularly in the case of large pressure fluctuations or changes from partial vacuum to overpressure or vice versa, a uniform force distribution cannot always be ensured along the entire circumference of the sealing ring. In general, the aim is to uncouple the sealing ring from the bearing force due to the pressure exerted on the valve. For example, in US Pat. No. 6,629,682 (Duelli), a vacuum valve with a sealing medium is proposed, which consists of a sealing ring and a support ring adjacent to it, so that the sealing ring is essentially supportive.
아마도 과압과 부분 진공 모두에 필요한 가스 기밀성을 달성하기 위해, 일부 공지된 펜듈럼 밸브 또는 슬라이드 밸브는 제2 이동 단계에 추가로 또는 대안적으로 밸브 플레이트에 수직으로 변위될 수 있고 개구를 둘러싸며 밸브 플레이트 상에 가압되어 가스-기밀 방식으로 밸브를 폐쇄하는 밸브 링을 제공한다. 밸브 플레이트에 대해 능동적으로 변위될 수 있는 밸브 링을 갖는 이러한 밸브는 예를 들어, DE 1 264 191 B1, DE 34 47 008 C2, US 3,145,969(von Zweck) 및 DE 77 31 993 U로부터 알려져 있다. US 5,577,707(Brida)는 개구를 갖는 밸브 하우징 및 개구를 통한 흐름을 제어하기 위해 개구에 걸쳐 평행하게 스위블링(swivelling)하는 밸브 플레이트를 갖는 펜듈럼 밸브를 설명한다. 개구를 둘러싸는 밸브 링은 몇몇 스프링 및 압축된 공기 실린더에 의해 밸브 플레이트 방향으로 수직으로 능동적으로 이동될 수 있다. 이러한 펜듈럼 밸브의 가능한 추가 개발이 US 2005/0067603 A1(Lucas 등)에 제안되어 있다.Perhaps some known pendulum valves or slide valves may be displaced perpendicularly to the valve plate in addition to or alternatively to the second moving step and enclose the valve plate to achieve the gas tightness necessary for both overpressure and partial vacuum. And pressurized onto the valve ring to close the valve in a gas-tight manner. Such valves having a valve ring that can be actively displaced with respect to the valve plate are known for example from
앞서 언급된 밸브는 무엇보다도 진공 챔버에서 고감도 반도체 요소의 생산에 사용되기 때문에, 이러한 프로세스 챔버에 대해 대응하는 시일링 효과가 또한 신뢰성 있게 보장되어야 한다. 이를 위해, 특히 압축 동안 시일링 재료 또는 시일링 재료와 접촉하는 시일링 표면의 상태가 특히 중요하다. 진공 밸브의 서비스 수명 동안, 시일링 재료 또는 시일링 표면의 마모가 통상적으로 발생할 수 있다.Since the aforementioned valves are used above all for the production of high-sensitivity semiconductor elements in the vacuum chamber, the corresponding sealing effect for this process chamber must also be reliably ensured. For this purpose, in particular the state of the sealing surface in contact with the sealing material or the sealing material during compression is particularly important. During the service life of the vacuum valve, wear of the sealing material or the sealing surface can typically occur.
또한, 예를 들어, 마모 또는 노화의 외관으로 인해 또는 기계적 충격 등과 같은 외부 간섭 영향으로 인해, 밸브의 구동 시스템 및/또는 기계적으로 이동하는 구성 요소는 결함에 취약하여, 일반적으로 진공 밸브의 시일링 작용 또는 기능 또는 신뢰성의 손상이 발생할 수 있다. 지금까지는 종래 기술에서 이러한 결함을 조기에 및/또는 사전에 인식할 수 있는 옵션이 없었다.Further, for example due to the appearance of wear or aging, or due to external interference effects such as mechanical shocks, the drive system and / or mechanically moving components of the valve are vulnerable to defects, thus generally sealing the vacuum valve. Impairment of function or functionality or reliability may occur. To date, there has been no option in the prior art to recognize such defects early and / or in advance.
따라서, 밸브 및/또는 시일의 품질을 충분히 높은 레벨로 일관되게 유지하기 위해, 밸브의 부품, 예를 들어, 시일, 구동 부품 또는 밸브 전체를 빈번하게 교체 또는 복구함으로써, 밸브의 유지 보수가 통상적으로 특정 시간 간격으로 이루어진다. 이러한 유지 보수 사이클은 이 경우에 통상적으로 특정 기간에 예측되는 개방 및 폐쇄 사이클의 수에 기초하여 크기가 결정된다. 따라서, 유지 보수는 통상적으로 누출 또는 다른 고장의 발생을 가능한 한 사전에 방지할 수 있도록 하기 위해 예방 조치로서 이루어진다.Thus, in order to maintain the quality of the valves and / or seals consistently at a sufficiently high level, maintenance of the valves is typically made by frequently replacing or restoring parts of the valves, for example seals, drive parts or the entire valve. At specific time intervals. Such maintenance cycles in this case are typically sized based on the number of open and closed cycles expected in a particular period of time. Thus, maintenance is usually done as a preventive measure to make it possible to prevent the occurrence of leaks or other failures in advance.
이러한 유지 보수 요건은 시일링 재료 또는 밸브 플레이트에만 제한되지 않고, 예를 들어, 밸브 플레이트에 대응하는 진공 밸브의 일부를 형성하는 밸브 시트까지 확장된다. 밸브 시트 측면 상의 시일링 표면의 구조, 예를 들어, 밸브 시트에 매립된 홈이 또한 기계적 응력에 의해 영향을 받는다. 따라서, 밸브 동작으로 인한 홈의 구조적 변화가 또한 시일을 손상시킬 수 있다. 적절한 유지 보수 간격이 또한 통상적으로 이 목적으로 규정된다.This maintenance requirement is not limited to sealing material or valve plate, but extends to, for example, a valve seat that forms part of a vacuum valve corresponding to the valve plate. The structure of the sealing surface on the valve seat side, for example a groove embedded in the valve seat, is also affected by mechanical stress. Thus, structural changes in the grooves due to valve operation can also damage the seal. Appropriate maintenance intervals are also typically defined for this purpose.
이러한 밸브 유지 보수의 단점은 그 예방 조치적 특성이다. 유지 보수의 영향을 받는 부품은 통상적으로 정기 또는 실제 수명이 만료하기 전에 갱신 또는 교체되며, 이는 상승된 비용 지출을 의미한다. 각각의 이러한 유지 보수 단계는 통상적으로 생산 프로세스에 대한 특정 다운타임(downtime) 및 증가된 기술 및 재정적 노력을 의미한다. 요컨대, 이는 필요한 것보다 짧고 필요할 수 있는 것보다도 더 빈번한 간격의 생산 중단을 의미한다.The disadvantage of such valve maintenance is its preventive nature. Parts affected by maintenance are typically renewed or replaced before their regular or actual life expires, which means increased costs. Each such maintenance step typically means a certain downtime and increased technical and financial effort for the production process. In short, this means stopping production at intervals that are shorter than necessary and more frequent than may be needed.
따라서, 본 발명은 최적의 동작을 허용하는 개선된 진공 밸브를 제공하는 목적에 기초한다.Accordingly, the present invention is based on the object of providing an improved vacuum valve that allows for optimal operation.
본 발명의 다른 목적은 최적화된 밸브 유지 보수를 가능하게 하여 개선, 즉, 가능한 프로세스 정지의 단축을 가능하게 하는 개선된 진공 밸브를 제공하는 것이다.It is a further object of the present invention to provide an improved vacuum valve which allows for optimized valve maintenance and thus improves, ie shortens possible process stops.
본 발명의 또 다른 목적은 개별 밸브 부품의 서비스 수명을 연장시킬 수 있는 개선된 진공 밸브를 제공하는 것이다.It is a further object of the present invention to provide an improved vacuum valve which can extend the service life of individual valve parts.
본 발명의 또 다른 목적은 개별 구성 요소에 대한 및/또는 생산에 대한 덜 엄격한 공차 요건을 두는 개선된 진공 밸브를 제공하는 것이다.It is a further object of the present invention to provide an improved vacuum valve which places less stringent tolerance requirements for the individual components and / or for production.
이들 목적은 독립 청구항의 특징적인 특징의 실현에 의해 해결된다. 대안적이거나 유리한 방식으로 본 발명을 추가로 발전시키는 특징은 종속 특허 청구항에서 찾을 수 있다.These objects are solved by the realization of the characteristic features of the independent claims. Further developments of the invention in an alternative or advantageous manner can be found in the dependent patent claims.
본 발명의 기본 사상은 진공 밸브에 위치 센서를 장착하고, 밸브의 적어도 하나의 기계적으로 이동된 부품의 위치의 바람직하게는 점진적인 결정 또는 모니터링이 가능하게 되는 방식으로 밸브 및 센서 배열을 설계하는 것이다.The basic idea of the invention is to equip the vacuum valve with a position sensor and to design the valve and sensor arrangement in such a way that it is possible to preferably determine or monitor the position of at least one mechanically moved part of the valve.
따라서, 본 발명의 주제는 체적 또는 질량 흐름의 조절 및/또는 유로의 가스-기밀 차단을 위한 진공 밸브, 바람직하게는 진공 슬라이드 밸브, 펜듈럼(pendulum) 밸브 또는 모노 밸브이며, 이는 개구 축을 규정하는 밸브 개구 및 밸브 개구를 둘러싸는 제1 시일링 표면을 갖는 밸브 시트를 갖는다. 밸브 시트는 이 경우에 진공 밸브의 필수 구성 요소 또는 구조적 구성 요소일 수 있고 특히 밸브 하우징의 일부를 구현할 수 있다. 대안적으로, 밸브 시트는 프로세스 챔버, 예를 들어, 진공 챔버의 개구에 의해 형성될 수 있고, 밸브 시트와 관련하여 이동 가능한 밸브 마개와 협업하여 본 발명의 의미에서 진공 밸브를 형성할 수 있다.Accordingly, the subject of the present invention is a vacuum valve, preferably a vacuum slide valve, a pendulum valve or a mono valve, for the regulation of volume or mass flow and / or gas-tight shutoff of the flow path, which defines the opening axis. And a valve seat having an opening and a first sealing surface surrounding the valve opening. The valve seat may in this case be an essential component or a structural component of the vacuum valve and in particular implement part of the valve housing. Alternatively, the valve seat may be formed by an opening in a process chamber, for example a vacuum chamber, and may cooperate with a valve stopper that is movable in relation to the valve seat to form a vacuum valve in the sense of the present invention.
또한, 진공 밸브는 체적 또는 질량 흐름을 조절하기 위한 및/또는 유로를 차단하기 위한, 밸브 마개, 특히 밸브 플레이트를 포함하고, 밸브 마개는 제1 시일링 표면에 대응하는 제2 시일링 표면을 갖고, 그 가변 위치가 밸브 마개의 각각의 위치 및 정렬에 의해 결정된다. 또한, 진공 밸브는 밸브 마개에 커플링되는 구동 유닛을 가지며, 구동 유닛은 적어도 하나의 이동 가능한 조정 요소, 예를 들어, 조정 아암(arm)을 포함하고, 여기서 구동 유닛은 조정 이동을 실행하도록 설계되어, 밸브 마개는 밸브 마개와 밸브 시트가 서로에 대해 접촉하지 않고 제공되는 개방 위치로부터 개구 축에 대한 축 방향 시일링 접촉이 특히 시일을 통해 제1 시일링 표면과 제2 시일링 표면 사이에 존재하고, 이에 의해 밸브 개구가 가스-기밀 방식으로 폐쇄되는 폐쇄 위치로, 그리고 다시 반대로 조정 가능하다.The vacuum valve also comprises a valve stopper, in particular a valve plate, for regulating volume or mass flow and / or for blocking the flow path, the valve stopper having a second sealing surface corresponding to the first sealing surface. The variable position is determined by the respective position and alignment of the valve stopper. In addition, the vacuum valve has a drive unit coupled to the valve stopper, the drive unit comprising at least one movable adjustment element, for example an adjustment arm, wherein the drive unit is designed to carry out an adjustment movement. The valve closure is such that there is an axial sealing contact with respect to the opening axis from the open position where the valve stopper and the valve seat are provided without contacting each other between the first sealing surface and the second sealing surface, in particular through the seal. It is thereby possible to adjust the valve opening to a closed position in which the valve opening is closed in a gas-tight manner and again in reverse.
특히, 2개의 시일링 표면 중 하나 또는 둘 모두는 시일링 재료로 이루어진 시일을 갖는다. 시일링 재료는, 예를 들어, 중합체-기반 재료(예를 들어, 엘라스토머, 특히 플루오로 엘라스토머)일 수 있으며, 이는 시일링 표면 상에 가황되거나 밸브 마개 또는 밸브 시트의 홈에 O-링으로서 제공된다. 따라서, 시일링 표면은 본 발명의 범위에서, 바람직하게는 시일링 재료로 이루어진 시일이 밸브 개구(폐쇄 위치)를 폐쇄하기 위해 압축된 형태로 제공되는 표면인 것으로 고려된다.In particular, one or both of the two sealing surfaces have a seal made of sealing material. The sealing material can be, for example, a polymer-based material (eg, an elastomer, in particular a fluoroelastomer), which is vulcanized on the sealing surface or provided as an O-ring in the groove of the valve plug or valve seat. do. Thus, the sealing surface is considered in the scope of the present invention to be a surface in which a seal, preferably made of a sealing material, is provided in compressed form to close the valve opening (closed position).
구동 유닛은 전기 모터(스테퍼(stepper) 모터)로서 또는 복수의 모터의 조합으로 또는 공압식 구동기로서 설계될 수 있다. 특히, 구동 유닛은 적어도 두 방향(본질적으로 서로 직교)으로 밸브 마개의 이동을 제공한다.The drive unit can be designed as an electric motor (stepper motor) or in combination of a plurality of motors or as a pneumatic driver. In particular, the drive unit provides for movement of the valve stopper in at least two directions (essentially orthogonal to each other).
본 발명에 따르면, 진공 밸브는 적어도 하나의 위치 센서를 가지며, 여기서 위치 센서는 널(null) 위치, 특히 개방 위치 또는 폐쇄 위치에 대하여 밸브 마개 및/또는 적어도 하나의 조정 요소, 특히 조정 아암의 위치가 바람직하게는 점진적으로 측정될 수 있도록 진공 밸브에 설계 및 배열된다.According to the invention, the vacuum valve has at least one position sensor, wherein the position sensor is in the position of the valve plug and / or at least one adjustment element, in particular the adjustment arm, relative to a null position, in particular an open position or a closed position. Is preferably designed and arranged in a vacuum valve so that it can be measured gradually.
위치 센서는 위치-변환 요소를 포함하는 바람직하게는 변위 센서이다. 대안적으로, 센서는 거리 센서로서 설계된다. 복수의 센서의 경우, 양쪽 유형이 또한 사용될 수 있다. 위치 센서는 바람직하게는 절대 위치 센서로서 설계되므로, 위치는 예를 들어, 룰러 상의 고유 위치 코드, 재료 측정 또는 센서의 스케일에 의해 널 위치에 접근하지 않고도 결정될 수 있다.The position sensor is preferably a displacement sensor that includes a position-conversion element. Alternatively, the sensor is designed as a distance sensor. In the case of a plurality of sensors, both types can also be used. Since the position sensor is preferably designed as an absolute position sensor, the position can be determined without approaching the null position, for example by the unique position code on the ruler, the material measurement or the scale of the sensor.
센서는 조정 이동의 적어도 일부의 시간 곡선이 결정될 수 있도록 진공 밸브에 설계 및 배열되는 것이 바람직하다. 따라서, 복수의 위치가 특정 시간 범위에 걸쳐 순차적으로 결정되어, 예를 들어, 조정 이동 또는 조정 요소 및/또는 밸브 마개의 적어도 하나의 속도가 조정 이동의 적어도 이러한 하나의 시간 범위 동안 이로부터 결정될 수 있거나 도출될 수 있다. 또한, 가속도가 위치 측정으로부터 또한 추가로 결정될 수 있다.The sensor is preferably designed and arranged in the vacuum valve so that the time curve of at least part of the adjustment movement can be determined. Thus, a plurality of positions are determined sequentially over a particular time range such that, for example, at least one speed of the adjustment movement or the adjustment element and / or the valve stopper can be determined therefrom during at least one such time range of the adjustment movement. Or can be derived. In addition, acceleration can also be further determined from the position measurement.
옵션으로서, 조정 이동은 적어도 본질적인 선형 이동을 포함하고, 위치 센서는 선형 이동의 적어도 일부 또는 전체를 획득하도록 설계 및 배열되며, 여기서 위치 센서는 바람직하게는 선형 인코더이다.Optionally, the adjustment movement comprises at least essential linear movement, and the position sensor is designed and arranged to obtain at least part or all of the linear movement, wherein the position sensor is preferably a linear encoder.
대안적으로 또는 추가적으로, 조정 이동은 적어도 본질적으로 회전 이동을 포함하며, 위치 센서는 회전 이동의 적어도 일부 또는 전체를 획득하도록 설계 및 배열되며, 여기서 위치 센서는 바람직하게는 각도 인코더이다.Alternatively or additionally, the adjustment movement comprises at least essentially rotation movement, wherein the position sensor is designed and arranged to obtain at least part or all of the rotation movement, wherein the position sensor is preferably an angular encoder.
위치 센서는 선택적으로 유도성, 광학, 자기, 자기 변형성, 전위차 및/또는 용량성 위치 센서이다. 추가적인 옵션으로서, 위치 센서는 진공 영역 외부에 배열되며, 이는 진공 밸브에 의해 규정되고 외부 환경으로부터 분리된다. 따라서, 이 경우에 센서 배열은 예를 들어, 센서 자체가 진공 영역으로 이동될 필요가 없으며, 그에 따라 비교적 더 적은 구축 비용이 보장될 수 있도록 설계될 수 있는 것이 유리하다.The position sensor is optionally an inductive, optical, magnetic, magnetostrictive, potential difference and / or capacitive position sensor. As an additional option, the position sensor is arranged outside the vacuum region, which is defined by the vacuum valve and is separated from the external environment. Thus, in this case it is advantageous for the sensor arrangement to be designed such that, for example, the sensor itself does not need to be moved to the vacuum region, so that relatively less construction costs can be ensured.
일부 실시예에서, 위치 센서는 하나의 위치 센서에 의해 서로에 대해 본질적으로 직교하는 적어도 2개의 조정 방향에 대하여 위치 측정이 수행될 수 있도록 진공 밸브에 설계 및 배열되며, 즉, 단일 위치 센서가 복수의 축 또는 방향에 대하여 위치를 결정할 수 있다. 이는 예를 들어, 센서의 타겟이 순차적으로, 예를 들어, 우선 제1 조정 방향을 따른 조정 시에 그리고 그 후 제2 조정 방향을 따른 조정시에, 또는 동시에, 예를 들어, 2D 위치 센서로서의 설계에 의해 복수의 룰러(ruler)로부터 수신되도록 이루어진다. 대안적으로, 진공 밸브는 적어도 2개의 위치 센서를 가지며, 이들은 진공 밸브에서 제1 조정 방향에 대한 위치가 제1 위치 센서에 의해 측정될 수 있고 제2 조정 방향에 대한 위치가 제2 위치 센서에 의해 측정될 수 있도록 설계 및 배열되며, 특히 여기서 양쪽 조정 방향은 본질적으로 서로에 대해 직교한다.In some embodiments, the position sensor is designed and arranged in a vacuum valve such that the position measurement can be performed with respect to at least two adjustment directions which are essentially orthogonal to one another by one position sensor, ie a single position sensor The position can be determined with respect to the axis or direction of. This means that, for example, the target of the sensor is sequentially, for example, first in the adjustment along the first adjustment direction and then in the adjustment along the second adjustment direction, or simultaneously, for example as a 2D position sensor. By design it is received from a plurality of rulers. Alternatively, the vacuum valve has at least two position sensors, in which the position with respect to the first adjustment direction in the vacuum valve can be measured by the first position sensor and the position with respect to the second adjustment direction to the second position sensor. It is designed and arranged so that it can be measured, in particular where both adjustment directions are essentially orthogonal to one another.
일 실시예에서, 진공 밸브는 개방 위치와 폐쇄 위치 사이에서 밸브 마개를 조정하기 위해 사전 규정된 제어 값을 사용하여 구동 유닛을 작동시키기 위한 모니터링 및 제어 유닛을 가지며, 여기서 구동 유닛, 밸브 마개 및 센서는 제어 값이 센서의 측정 신호에 기초하여 설정되도록, 특히 측정 신호가 사전 규정된 설정 값에 지속적으로 대응하도록 설계되고 상호 작용한다.In one embodiment, the vacuum valve has a monitoring and control unit for operating the drive unit using predefined control values to adjust the valve stopper between the open and closed positions, where the drive unit, valve stopper and sensor Is designed and interacts so that the control value is set based on the measurement signal of the sensor, in particular the measurement signal continues to correspond to a predefined set value.
이 경우, 진공 밸브, 센서 배열 및 모니터링 및 제어 유닛은 예를 들어, 센서가 예를 들어, 특정 신호의 준비 및 송신을 위해 모니터링 및 제어 유닛과 통상의 유선 또는 무선 접속을 통해 일방 또는 양방 통신하도록 선택적으로 구성된다.In this case, the vacuum valve, the sensor arrangement and the monitoring and control unit may be configured such that, for example, the sensor is in one or two way communication via a conventional wired or wireless connection with the monitoring and control unit, for example for the preparation and transmission of a specific signal. Optionally configured.
진공 밸브는 또한 예를 들어, 특히 모니터링 및 제어 유닛 또는 센서 배열에 의해 제공되는 획득된 측정 신호가 프로세싱 유닛에 의해 프로세싱될 수 있고 상태 정보의 항목이 획득된 측정 신호에 기초하여 생성될 수 있도록 설계된 프로세싱 유닛을 가질 수 있다. 그 후, 획득된 측정 신호는 예를 들어, 모니터링 및 제어 유닛에 의한 밸브 조절을 위해 평가될 수 있는 상태 정보의 항목 또는 사용자 정보로서의 제공을 위해 추가로 프로세싱 및 제공될 수 있다.The vacuum valve is also designed, for example, in particular so that the acquired measurement signal provided by the monitoring and control unit or sensor arrangement can be processed by the processing unit and an item of status information can be generated based on the obtained measurement signal. May have a processing unit. The acquired measurement signal can then be further processed and provided for provision as user information or an item of status information that can be evaluated, for example, for valve adjustment by the monitoring and control unit.
상태 정보의 항목은 예를 들어, 획득된 위치 측정 신호에 대한 실제-설정점 비교에 기초하여, 예를 들어, 구동 유닛의 기준 (설정) 위치에 대해 획득되고 예상되는 위치에 기초하여, 예를 들어, 밸브 마개 및/또는 조정 요소의 기계적 및/또는 구조적 완전성과 관련하여 정보의 항목을 제공할 수 있다.The item of state information is for example based on the actual-set point comparison to the acquired position measurement signal, for example on the basis of the position acquired and expected relative to the reference (set) position of the drive unit, for example. For example, an item of information may be provided in relation to the mechanical and / or structural integrity of the valve closure and / or the adjustment element.
또한, 상태 정보의 항목에 기초하여, 특정 공차 값에 대한 획득된 위치 센서 측정 신호의 관계를 특정하는 출력 신호가 제공될 수 있다. 따라서, 특히 진공 밸브에 의해 제어되는 프로세스에 관한 평가, 예를 들어, 필요한 시일링 작용이 달성되는지 또는 예를 들어, 조정 요소 또는 시일링 표면에 대한 가능한 손상이 인식될 수 있는지의 평가가 이루어질 수 있다. 예를 들어, (예를 들어, 조정 속도 또는 종단 위치에 기초하여) 프로세스가 요구된 공차 내에서 실행되는지 또는 이러한 공차 아래로의 원하지 않는 하락 또는 초과가 예상되는지 예를 들어, 시각적 또는 음향적 신호에 의해 사용자에게 표시될 수 있다.Further, based on the item of state information, an output signal may be provided that specifies the relationship of the acquired position sensor measurement signal to a specific tolerance value. Thus, in particular, an evaluation can be made regarding the process controlled by the vacuum valve, for example whether the required sealing action is achieved or whether for example possible damage to the adjusting element or the sealing surface can be recognized. have. For example, whether the process is running within the required tolerances (eg, based on the adjustment speed or the termination position) or whether an unwanted drop or excess below this tolerance is expected, for example a visual or acoustic signal Can be displayed to the user.
또한, 본 발명은 진공 밸브, 특히 진공 슬라이드 밸브, 펜듈럼 밸브 또는 모노 밸브를 제어하기 위한 방법을 포함하고, 진공 밸브는 체적 또는 질량 흐름을 조절하고 및/또는 유로의 가스-기밀 차단을 위해 설계된다. 제어되는 진공 밸브는, 이 경우 개구 축을 규정하는 밸브 개구 및 밸브 개구 주위를 둘러싸는 제1 시일링 표면을 갖는 밸브 시트, 체적 또는 질량 흐름을 조절하기 위한 및/또는 유로를 차단하기 위한, 밸브 마개, 특히 밸브 플레이트로서, 제1 시일링 표면에 대응하는 제2 시일링 표면을 갖고, 그 가변 위치는 밸브 마개의 각각의 위치 및 정렬에 의해 결정되는, 밸브 마개, 적어도 하나의 이동 가능 조정 요소를 포함하고 밸브 마개에 커플링되는 구동 유닛을 포함하고, 여기서 구동 유닛은 조정 이동을 실행하도록 설계되어, 밸브 마개는 밸브 마개와 밸브 시트가 서로에 대해 접촉하지 않고 제공되는 개방 위치로부터 개구 축에 대한 축 방향 시일링 접촉이 특히 시일을 통해 제1 시일링 표면과 제2 시일링 표면 사이에 존재하고, 따라서 밸브 개구가 가스-기밀 방식으로 폐쇄되는 폐쇄 위치로, 그리고 반대로 조정 가능하다.The invention also includes a method for controlling a vacuum valve, in particular a vacuum slide valve, a pendulum valve or a mono valve, the vacuum valve being designed for regulating volume or mass flow and / or gas-tight shutoff of the flow path. . The controlled vacuum valve is in this case a valve cap having a valve opening defining an opening axis and a first sealing surface surrounding the valve opening, for adjusting the volume or mass flow and / or for shutting off the flow path. A valve closure, at least one movable adjustment element, in particular a valve plate, having a second sealing surface corresponding to the first sealing surface, the variable position being determined by the respective position and alignment of the valve stopper. And a drive unit coupled to the valve stopper, wherein the drive unit is designed to perform an adjustment movement such that the valve stopper is provided with respect to the opening axis from an open position provided without contacting the valve stopper and the valve seat with respect to each other. An axial sealing contact is present between the first sealing surface and the second sealing surface, in particular through the seal, so that the valve opening is It is possible in the closed position are closed in such a way, and contrary adjustment.
본 발명에 따르면, 본 발명의 범위에서, 널(null) 위치, 특히 개방 위치 또는 폐쇄 위치에 대한 밸브 마개 및/또는 적어도 하나의 조정 요소의 특히 절대 위치가 특히 점진적으로 측정된다.According to the invention, in the scope of the invention, the particularly absolute position of the valve plug and / or at least one adjustment element relative to the null position, in particular the open position or the closed position, is measured in particular.
본 방법의 일 개선에서, 본 방법의 범위에서, 특히 밸브 마개 또는 밸브 요소의 기계적 및/또는 구조적 완전성과 관련하여, 진공 밸브의 상태 정보의 항목이 위치 측정에 기초하여 확인되고, 바람직하게는 상태 정보의 항목은 획득된 측정 신호에 대한 실제-설정점 비교에 의해 확인되고 및/또는 사전 규정된 공차 값에 대한 상태 정보의 항목의 비교에 기초하여, 출력 신호가 진공 밸브에 의해 제어되는 프로세스의 평가와 관련하여 제공된다.In one refinement of the method, in the scope of the method, in particular with regard to the mechanical and / or structural integrity of the valve stopper or valve element, an item of status information of the vacuum valve is identified on the basis of the position measurement and preferably the status The item of information is identified by a real-set point comparison to the acquired measurement signal and / or based on a comparison of the item of status information to a predefined tolerance value, so that the output signal is controlled by the vacuum valve. It is provided in connection with the evaluation.
밸브 마개 및/또는 적어도 하나의 조정 요소의 조정 속도는 위치 측정에 기초하여 본 방법의 범위에서 개방 위치로부터 폐쇄 위치로 및/또는 그 반대로의 조정 이동의 적어도 일부 및/또는 조정 이동의 구간에 대해 선택적으로 결정된다. 이러한 정보의 항목은 이 경우 분석을 위한 다이어그램 형태로 사용자에게 출력될 수 있고 및/또는 자동으로 분석될 수 있다.The adjustment speed of the valve plug and / or the at least one adjustment element is based on the position measurement for at least a portion of the adjustment movement and / or the interval of the adjustment movement from the open position to the closed position and / or vice versa in the scope of the method. Is optionally determined. This item of information can in this case be output to the user in the form of a diagram for analysis and / or analyzed automatically.
추가 옵션으로서, 밸브 마개 및/또는 적어도 하나의 조정 요소의 종단 위치, 특히 개방 위치 및/또는 폐쇄 위치의 검출 및/또는 조정 이동의 범위에서의 서로에 대한 시일링 표면의 가능한 충격 및/또는 서로에 대한 시일링 표면의 가능한 접착이 위치 측정에 기초하여 본 방법의 범위에서 이루어진다.As a further option, the possible impact of the sealing surfaces against each other in the range of detection and / or adjustment movement of the valve plug and / or the end position of the at least one adjustment element, in particular the open position and / or the closed position, and / or each other Possible adhesion of the sealing surface to is made in the scope of the present method based on the position measurement.
본 발명의 주제는 또한 머신-판독 가능 캐리어, 특히 본 발명에 따른 진공 밸브의 제어 및 프로세싱 유닛, 또는 전자파에 의해 구현된 컴퓨터 데이터 신호에 저장되는, 본 발명에 따른 방법을 수행하기 위한 프로그램 코드를 갖는 컴퓨터 프로그램 제품이다.The subject matter of the invention also relates to a program code for carrying out the method according to the invention, which is stored in a machine-readable carrier, in particular a control and processing unit of a vacuum valve according to the invention, or a computer data signal implemented by electromagnetic waves. Having a computer program product.
따라서, 본 발명은 조정 이동 또는 시퀀스가 모니터링 또는 점검될 수 있고 가능하게 평가될 수 있도록 밸브 마개 및/또는 조정 요소의 지속적인 또는 연속적인 위치 측정을 가능하게 하는 진공 밸브를 유리하게 제공한다. 또한, 위치 측정은 진공 밸브 및/또는 그 구성 요소 중 개별의 것, 예를 들어, 구동 유닛의, 시일의 또는 조정 요소의 자동적이고 지속적인 상태 검증을 가능하게 하며, 여기서 상태 정보의 항목은 이동 부품을 통해 직접 확인 또는 도출될 수 있을 뿐만 아니라, 오히려 고정식 부품을 통해 간접적으로 확인 또는 도출될 수도 있다. 이 경우, 장래의 결함을 나타내는 결함 또는 불규칙성은 단지 조기에 또는 모두 인식될 수 있고 및/또는 결함의 부족이 확립되므로 불필요한 유지 보수가 회피될 수 있다. 점검은 이 경우 정상 프로세스 시퀀스 동안 유리하게 이루어질 수 있으므로, 중단될 필요가 없다.Accordingly, the present invention advantageously provides a vacuum valve that allows for continuous or continuous position measurement of the valve plug and / or the adjustment element so that the adjustment movement or sequence can be monitored or checked and possibly evaluated. In addition, the position measurement enables automatic and continuous status verification of the individual of the vacuum valve and / or its components, for example of the drive unit, of the seal or of the adjustment element, where the item of status information is a moving part. Not only can be directly identified or derived through, but can also be indirectly identified or derived through fixed components. In this case, defects or irregularities representing future defects can only be recognized early or all and / or a lack of defects is established so that unnecessary maintenance can be avoided. The check can in this case be advantageous during the normal process sequence, so it does not need to be interrupted.
본 발명에 따른 진공 밸브는 도면에 개략적으로 나타낸 실시예에 의해 아래에서 더욱 상세하게 설명된다. 동일한 요소는 도면에서 동일한 참조 번호로 표시되어 있다. 원칙적으로, 설명된 실시예는 스케일대로가 아니며 제한적인 것으로 이해되어서는 안된다.The vacuum valve according to the invention is explained in more detail below by means of an embodiment schematically shown in the drawings. Like elements are designated by like reference numerals in the drawings. In principle, the described embodiments are not to scale and should not be understood as limiting.
도면은 이하를 상세하게 나타낸다:
도 1a 및 도 1b는 모노 밸브(monovalve)로서 본 발명에 따른 진공 밸브의 가능한 제1 실시예를 나타낸다.
도 2는 모노 밸브로서 본 발명에 따른 진공 밸브의 가능한 제2 실시예를 나타낸다.
도 3은 트랜스퍼 밸브로서 본 발명에 따른 진공 밸브의 가능한 추가 실시예를 나타낸다.
도 4a 및 도 4b는 펜듈럼 밸브로서 진공 밸브의 본 발명에 따른 추가 실시예의 개략도를 나타낸다.
도 5는 트랜스퍼 밸브로서 진공 밸브의 본 발명에 따른 추가 실시예의 개략도를 나타낸다.
도 6은 트랜스퍼 밸브로서 진공 밸브의 본 발명에 따른 추가 실시예의 개략도를 나타낸다.The drawings show the following in detail:
1a and 1b show a first possible embodiment of a vacuum valve according to the invention as a monovalve.
2 shows a second possible embodiment of a vacuum valve according to the invention as a mono valve.
3 shows a possible further embodiment of the vacuum valve according to the invention as a transfer valve.
4a and 4b show a schematic view of a further embodiment according to the invention of a vacuum valve as a pendulum valve.
5 shows a schematic view of a further embodiment according to the invention of a vacuum valve as a transfer valve.
6 shows a schematic view of a further embodiment according to the invention of a vacuum valve as a transfer valve.
도 1a 및 도 1b는 본 발명에 따른 진공 밸브(1)의 제1 실시예를 개략적으로 나타낸다. 이 예에서, 밸브(1)는 소위 모노 밸브로 구현되었으며 개방 위치(O)(도 1a)와 폐쇄 위치(G)(도 1b)에서 단면으로 도시된다.1a and 1b schematically show a first embodiment of a
선형 이동에 의해 유로의 가스-기밀 폐쇄를 위한 밸브(1)는 유로에 대한 개구(2)를 포함하는 밸브 하우징(24)을 가지며, 여기서 개구(2)는 유로를 따라 기하학적 개구 축(H)을 갖는다. 개구(2)는 도면에서 밸브(1)의 좌측에 위치된 제1 가스 영역(L) 및/또는 격벽(미도시)과 그 우측 상의 제2 가스 영역(R)을 접속시킨다. 이러한 격벽은 예를 들어, 진공 챔버의 챔버 벽에 의해 형성된다.The
마개 요소(4)는 예시적인 조정 아암에서 이동 가능 위치 결정 요소(5)를 갖는 구동 유닛(7)에 의해 폐쇄 방향 및 다시 역으로 개방 방향으로 개구(2)를 해제하는 개방 위치(O)로부터 개구(2) 위에서 선형으로 푸시(push)되는 폐쇄 위치(G)로 마개 요소 평면(22)에서 개구 축(H)에 횡방향으로 연장되는 기하 조정 축(V)을 따라 선형으로 변위 가능하다.The
예를 들어, 굴곡된 제1 시일링 표면(3)은 제1 평면(20a)에서 제1 섹션(21a)을 따라 그리고 제2 평면(20b)에서 제2 섹션(21b)을 따라 밸브 하우징(24)의 개구(2)를 둘러싼다. 제1 평면(20a) 및 제2 평면(20b)은 서로 이격되고, 서로 평행하게 연장되고, 마개 요소 평면(22)에 평행하게 연장된다. 따라서, 제1 섹션(21a) 및 대향하는 제2 섹션(21b)은 서로에 대해 조정 축(V)에 대해 횡방향으로 그리고 개구 축(H)의 방향으로 기하학적 오프셋을 갖는다. 개구(2)는 조정 축(V)을 따라 연장되는 영역에서 2개의 대향 섹션(21a, 21b) 사이에 배열된다.For example, the curved
마개 요소(4)는 제1 섹션 및 제2 섹션(21a, 21b)에 대응하는 섹션을 따라 연장되고 제1 시일링 표면(3)에 대응하는 제2 시일링 표면(6)을 갖는다.The
모노 밸브, 즉, 단일 선형 이동에 의해 폐쇄 가능한 진공 밸브는 예를 들어, 비교적 복잡하게 구성된 구동기를 필요로 하는 2개의 이동에 의해 폐쇄 가능한 트랜스퍼 밸브에 비해 예를 들어, 비교적 단순한 폐쇄 메커니즘의 이점을 갖는다. 마개 요소는 또한 하나의 단편으로 형성될 수 있으므로, 높은 가속력을 받을 수 있어, 이 밸브는 또한 신속하고 긴급한 마개용으로 사용될 수 있다. 폐쇄 및 시일링은 단일 선형 이동에 의해 이루어질 수 있으므로, 밸브(1)의 매우 신속한 폐쇄 및 개방이 가능하다.Mono valves, ie vacuum valves which can be closed by a single linear movement, for example have the advantage of a relatively simple closing mechanism, for example over a transfer valve which can be closed by two movements requiring a relatively complex configured actuator. Have The closure element can also be formed in one piece, so that it can be subjected to high acceleration forces, and this valve can also be used for quick and urgent closure. Closing and sealing can be accomplished by a single linear movement, which allows very fast closing and opening of the
특히, 모노 밸브의 하나의 이점은, 예를 들어, 폐쇄 동안의 프로파일 때문에 시일(3, 6)이 시일(3, 6)의 종방향 연장과 관련하여 횡방향으로 횡방향 부하를 받지 않는다는 것이다. 한편, 시일(3, 6)은 개구 축(H)에 대한 횡방향 연장으로 인해, 특히 마개 요소(4), 그 구동기 및 그 장착기의 견고한 구성을 필요로 하는 큰 차동 압력의 경우에, 마개 요소(4)에 작용할 수 있는 개구 축(H)을 따라 마개 요소(4) 상에서 발생하는 힘을 거의 흡수할 수 없다.In particular, one advantage of the monovalve is that the
본 발명에 따르면, 도 1a 및 도 1b에 도시된 진공 밸브(1)는 이 예에서 위치-변환 요소(타겟)(8) 및 그 검출을 위한 센서 표면(9)(룰러(ruler))을 갖는 변위 센서(10)를 포함한다. 변위 센서(10)는 예를 들어 (비접촉식) 유도성 변위 센서, 예를 들어, 변위 가능 코어를 갖는 차동 변압기, 펄스 유도 선형 위치 센서, PLCD 변위 센서(영구 선형 비접촉 변위 센서), 광전자 변위 센서, 전위차 변위 센서, 자기 변형 변위 센서, 용량성 변위 센서 또는 자기 변위 센서로서 설계된다. 센서(10)에 따라, 룰러(9)는 능동적이고 위치-변환 요소(8)는 수동적이거나 그 반대이며, 즉, (전기 또는 전자) 측정 신호 및/또는 분석 신호는 룰러(9) 또는 요소(8)에 의해 각각 생성되거나 탭핑(tapping)된다.According to the invention, the
이 예에서, 타겟(8)은 조정 요소(4) 상에 또는 그 내부에 고정되므로, 조정 축(V)을 따라 이와 함께 이동한다. 센서 표면(9)은 적어도 전체 조정 거리에 걸쳐 조정 방향(V)으로 연장되고, 따라서 타겟(8) 및 그에 따른 조정 요소(4)의 위치가 조정 요소(4)의 가능한 전체 선형 이동에 걸쳐 측정 가능하다. 이 경우, 위치가 시작 위치 또는 널 위치와 관련하여 확인되며, 이는 바람직하게는 개방 위치(O) 또는 폐쇄 위치(G) 중 어느 하나이다. 변위 센서(10)는 이 경우 절대 인코더인 것이 바람직하다. 대안적으로, 증분 변위 센서가 사용된다.In this example, the
따라서, 조정 요소(4)의 실제 위치는 유리하게 위치 센서(10)에 의해 결정될 수 있다. 이 경우 위치 측정은 하나 또는 몇몇 위치, 바람직하게는 예를 들어, 종단 위치 검출의 의미에서 종단 위치(즉, 개방 위치(O) 및/또는 폐쇄 위치(G))의 결정으로 제한될 수 있다. 그러나, 지속적이거나 연속적인 위치 결정이 바람직하게 이루어지므로, 조정 요소 (4)의 위치는 점진적으로 알려지고, 특히 시간 곡선이 알려진다.Thus, the actual position of the
본 발명에 따른 센서 배열에 의해, 예를 들어, 밸브의 폐쇄 능력은 프로세스 시퀀스 동안 그에 따라 점검될 수 있고, 이에 따라 접촉 압력이 조절될 수 있으며, 누출-기밀의 고장이 가능하게 예측될 수 있다. 특히, 예를 들어, 압축은 전기 구동 유닛(7)을 사용하여 개별적으로 설정될 수 있다. 공압식 구동기(7)를 사용하여, 밸브가 폐쇄되어 있는지 여부를 적어도 센서 배열을 사용하여 점검할 수 있다.By means of the sensor arrangement according to the invention, for example, the closing capability of the valve can be checked accordingly during the process sequence, the contact pressure can be adjusted accordingly, and a leak-tight failure can be predicted possibly. . In particular, for example, the compression can be set individually using the
연대기적 이동 곡선의 지식은 선택적으로 그로부터 마개 요소(4)의 선형 이동의 속도를 결정하는 데 사용된다. 이는 유리하게 개선된 종단 위치 결정에 사용될 수 있으며, 이에 의해 진공 밸브의 공차가 덜 중요해진다. 따라서 폐쇄 또는 개방 절차에 대한 정확한 구간이 또한 확인될 수 있으며, 이에 의해, 예를 들어, 최적화 또는 결함 인식이 가능해진다. 일반적으로, 예를 들어, 위치 센서(10) 및/또는 진공 밸브(1)가 접속되는 외부 데이터 프로세싱 시스템에 의해 수행되는 시간-변위 곡선의 분석은 밸브(1)의 상태에 대한 추론을 가능하게 한다. 따라서, 동작 사이클 과정에서의 불규칙성 또는 변화가 인식될 수 있고, 따라서 예를 들어, 이동 구성 요소 또는 시일링 표면(3, 6)의 상태를 결론지을 수 있다. 예를 들어, 폐쇄 위치(G)에서 2개의 시일링 표면(3, 6)이 서로 접착되면, 조정 요소(4)의 위치는 접착력으로 인해 특정 시간 길이 동안 일정하게 유지되기 때문에, 신속한 개방 이동 및 짧은 반동이 후속하여, 조정 요소(5)를 통해 구동 유닛(7)에 의해 구동되지만, 그에 따라 이동 시퀀스에서 인식될 수 있다.Knowledge of the chronological movement curve is optionally used to determine the speed of linear movement of the
도 2는 도 1a 및 도 1b에 따른 실시예의 대안을 나타낸다. 이 예에서, 진공 밸브(1)는 거리 센서로서 설계된 위치 센서(10)를 갖는다. 거리 센서(10)는, 예를 들어, 광전자 거리 센서 또는 초음파 센서이고, 조정 요소(4) 및/또는 수직 축(V)의 방향으로 방출기에 의해 대응하는 측정 신호(13), 예를 들어, 레이저 광을 방출하며, 따라서 신호(13)는 조정 요소(4)(본 예에서는 후방면)에 입사되고, 그로부터 적어도 부분적으로 반사되고, 센서(10)의 검출기에 의해 다시 수신된다. 이 경우, 센서(10)와 조정 요소(4) 사이의 거리 및 그에 따른 조정 요소(4)의 위치는 신호 런타임(펄스 런타임 방법) 및/또는 위상차 측정, 위상 또는 주파수 런타임 방법의 결정에 의해, 및/또는 피조(Fizeau) 원리에 따라 결정된다. 추가 옵션으로서, 위치 결정은 삼각 측량에 의해 이루어진다.2 shows an alternative of the embodiment according to FIGS. 1 a and 1b. In this example, the
거리 및/또는 위치 측정을 개선하기 위해, 이 예에서, 진공 밸브(1)는 조정 요소 상에 배열된 반사기(14)를 가지며, 이는 측정 신호(13)를 센서(10)를 향해 반사하여 수신된 측정 신호(13)의 신호 레벨을 향상시키도록 설계된다.In order to improve the distance and / or position measurement, in this example, the
도시된 배열에 대안적으로, 센서(10)는 이동 부분, 즉, 여기서 마개(4) 상에 배열되고, 밸브(1)의 정점(static point)을 향해 측정 방사선(13)을 방출한다(즉, 도면으로부터 반전된 배열).Alternatively to the arrangement shown, the
도 3은 상이한 마개 위치에서 도시된, 이 예에서 트랜스퍼 밸브로서 설계된, 본 발명에 따른 진공 밸브(1)의 추가 실시예를 나타낸다.3 shows a further embodiment of the
도시된 트랜스퍼 밸브는 특수한 형태의 슬라이드 밸브이다. 진공 밸브는 직사각형의 판형 마개 요소(4)(예를 들어, 밸브 플레이트)를 가지며, 이는 개구(2)의 가스-기밀 폐쇄를 위한 시일링 표면(6)을 갖는다. 개구(2)는 마개 요소(4)에 대응하는 단면을 가지며, 벽(12)에 형성된다. 개구(2)는 밸브 시트에 의해 둘러싸이며, 이는 차례로 또한 마개 요소(4)의 시일링 표면(6)에 대응하는 시일링 표면(3)을 제공한다. 마개 요소(4)의 시일링 표면(6)은 마개 요소(4)의 주위를 둘러싸고 시일링 재료(시일)를 갖는다. 폐쇄 위치에서, 시일링 표면(6, 3)은 서로에 대해 가압되고 시일링 재료는 동시에 압축된다.The illustrated transfer valve is a special type of slide valve. The vacuum valve has a rectangular plate closure element 4 (eg a valve plate), which has a sealing
개구(2)는 벽(12)의 좌측에 위치된 제1 가스 영역(L)과 벽(12)의 우측의 제2 가스 영역(R)을 접속시킨다. 벽(12)은 예를 들어, 진공 챔버의 챔버 벽에 의해 형성된다. 그 후, 진공 밸브(1)는 챔버 벽(12)과 마개 요소(4)의 상호 작용에 의해 형성된다.The
마개 요소(4)는 예를 들어, 여기에서 로드-형상이고 기하학적 조정 축(V)을 따라 연장되는 조정 아암(5) 상에 배열된다. 조정 아암(5)은 구동 유닛(7)에 기계적으로 커플링되며, 이에 의해 폐쇄 요소(4)는 중간 위치(Z)(도 3의 (b))를 통해 개방 위치(O)(도 3의 (a))와 폐쇄 위치(G)(도 3의 (c)) 사이에서 구동 유닛(7)에 의해 조정 아암(5)을 조정함으로써 벽(12)의 좌측 상의 제1 가스 영역(L)에서 조정 가능하다.The
개방 위치(O)에서, 마개 요소(4)는 도 3의 (a)에 나타낸 바와 같이, 개구(2)의 투사 영역 외부에 위치되고 이를 완전히 해제시킨다.In the open position O, the
조정 아암(5)을 제1, "수직" 조정 축(V)에 평행하고 벽(12)에 평행한 축 방향으로 조정함으로써, 마개 요소(4)는 개방 위치(O)로부터 중간 위치(Z)로 구동 유닛(7)에 의해 조정될 수 있다.By adjusting the
이러한 중간 위치(Z)(도 3의 (b))에서, 마개 요소(4)의 시일링 표면(6)은 개구(2)와 중첩되고, 개구(2)를 둘러싸는 밸브 시트의 시일링 표면(3)에 대향하여 이격된 위치에 위치된다.In this intermediate position Z (FIG. 3B), the sealing
조정 아암(5)을 제2 "수평" 조정 축(H)의 방향으로(제1 조정 축(V)에 횡방향으로), 즉, 예를 들어, 벽(12) 및 밸브 시트에 수직으로 조정함으로써, 마개 요소(4)는 중간 위치(Z)로부터 폐쇄 위치(G)로 조정될 수 있다(도 3의 (c)).The
폐쇄 위치(G)에서, 마개 요소(4)는 가스-기밀 방식으로 개구(2)를 폐쇄하고, 가스-기밀 방식으로 제1 가스 영역(L)을 제2 가스 영역(R)으로부터 분리한다.In the closed position G, the
따라서, 진공 밸브의 개방 및 폐쇄는 마개 요소(4) 및 조정 아암(5)의 서로에 대해 수직인 두 방향(H, V)으로 L-형 이동에 의해 구동 유닛(7)에 의해 이루어진다. 따라서, 도시된 트랜스퍼 밸브는 또한 L-형 밸브로 칭해진다.Thus, opening and closing of the vacuum valve are made by the
나타낸 바와 같은 트랜스퍼 밸브(1)는 통상적으로 프로세스 체적(진공 챔버)을 시일링하기 위해 그리고 체적을 로딩 및 언로딩하기 위해 제공된다. 이러한 사용의 경우 개방 위치(O)와 폐쇄 위치(G) 사이의 빈번한 변경이 일반적이다. 따라서, 시일링 표면(6, 3) 및 기계적으로 이동되는 구성 요소, 예를 들어, 조정 아암(5) 또는 구동 유닛(7)의 다른 부품의 증가된 마모의 외관이 발생할 수 있다.The
이러한 마모의 외관을 조기에 결정하기 위해, 무엇보다도 본 발명에 따른 진공 밸브(1)는 예에서 2-축 변위 센서로서 설계된 위치 센서(10)를 갖는다. 도 1a 및 도 1b의 예에 따른 실시예와 반대로, 위치는 조정 요소(5)에 부착된 타겟(8)에 의해 양쪽 조정 방향(V, H)으로 결정된다. 이를 위해, 진공 밸브(1)는 개방 위치(O)와 중간 위치(Z) 사이의 "수직" 이동의 위치 결정을 위한 제1 "수직" 룰러(9v) 및 중간 위치(Z)와 폐쇄 위치(G) 사이의 "수평" 이동의 위치 결정을 위한 제2 "수평" 룰러(9h)를 갖는다. 조정 요소(5) 및 제1 룰러(9v) 상에 배열된 타겟(8)에 의해, 순차적인 이동 시퀀스 개방 위치(O) - 중간 위치(Z) - 폐쇄 위치(G)(또는 그 반대)에 따른 순차적인 시퀀스에서, 조정 요소(5)의 위치는 그에 따라 제1 "수직" 조정 방향(V)으로 측정되고, 타겟(8)과 제2 룰러(9h)에 의해, 위치가 제2 "수평" 조정 방향(H)으로 측정된다.In order to prematurely determine the appearance of such wear, the
이 예에서, 밸브(1) 및/또는 위치 센서(10)는 제어 및/또는 분석 유닛(11)을 추가로 가지며, 이를 사용하여 위치 측정이 제어되고 및/또는 위치 데이터가 기록 또는 분석되므로, 예를 들어, 외부 컴퓨터가 (실질적으로) 생략될 수 있고, 예를 들어, 밸브(1)의 밸브-내부 모니터링 또는 상태 모니터링이 단독으로 이루어진다.In this example, the
도시된 순차적으로 배열된 2개의 선형 룰러(9v, 9h)에 대안적으로, 단일의 2D 센서 표면이 사용되며(미도시), 이는 예를 들어 광학적으로 스캐닝되고, 따라서 양쪽 축 또는 방향(V 및 H)으로의 조정 요소(5)의 위치의 동시 결정이 가능해진다.Alternatively to the two sequentially arranged
추가 대안으로서, 2개의 조정 방향(V, H) 또는 2개의 조정 이동에 대한 위치 결정은 단일 위치 센서(10)에 의해 이루어지는 것이 아니라, 오히려 밸브(1)는 각각의 조정 방향(V, H) 또는 조정 이동에 대해 하나의 위치 센서(10)를 가지며, 따라서 2개의 위치 센서(10)를 포함한다.As a further alternative, the positioning for two adjustment directions (V, H) or two adjustment movements is not made by a
도 4a 및 도 4b는 펜듈럼 밸브(1) 형태의 본 발명에 따른 밸브의 추가의 가능한 실시예를 개략적으로 나타낸다. 유로의 본질적인 가스-기밀 차단을 위한 밸브(1)는 개구(2)를 갖는 밸브 하우징을 갖는다. 개구(2)는 여기서 예를 들어, 원형 단면을 갖는다. 개구(2)는 밸브 시트에 의해 둘러싸인다. 이 밸브 시트는 밸브 플레이트(4)의 방향으로 축 방향으로 향하고 개구 축(H)에 횡방향으로 연장되는 (제1) 시일링 표면(3)에 의해 형성되고, 원형 링의 형상을 가지며 밸브 하우징에 형성된다. 밸브 플레이트(4)는 회전 축(R)을 주위로 피벗 가능하고 개구 축(H)에 실질적으로 평행하게 조정 가능하다. 밸브 플레이트(4)(밸브 마개)의 폐쇄 위치(G)(도 4b)에서, 개구(2)는 제2 시일링 표면(6)을 갖는 밸브 플레이트(4)에 의해 가스-기밀하게 폐쇄된다. 밸브 플레이트(4)의 개방 위치(O)가 도 4a에 도시된다.4a and 4b schematically show a further possible embodiment of the valve according to the invention in the form of a
밸브 플레이트(4)는 플레이트 상에 횡방향으로 배열되고 개구 축(H)에 수직으로 연장되는 아암(5)을 통해 구동 유닛(7)에 접속된다. 이 아암(5)은 밸브 플레이트(4)의 폐쇄 위치(G)에, 개구 축(H)을 따라 기하학적으로 투사된 개구(2)의 개구 단면 외부에 위치된다.The
구동기(7)는 모터 및 대응하는 기어링의 사용에 의해 설계되어, 펜듈럼 밸브에서 통상적인 밸브 플레이트(4)가 개구 축(H)에 횡방향으로, 그리고 개구(2)의 단면에 걸쳐 본질적으로 평행하게, 그리고 개구 축(H)에 수직으로 개방 위치(O)와 중간 위치 사이의 피벗 축(R) 주위의 피벗 이동(Br)의 형태로 구동기(7)의 횡방향 이동(x)에 의해 피벗 가능하며, 개구 축(5)에 평행하게 발생하는 구동기(7)의 종방향 이동(Bv)에 의해 선형으로 변위 가능하다. 개방 위치(O)에서, 밸브 플레이트(4)는 개구(2)에 횡방향으로 인접하게 배열된 드웰(dwell) 섹션에 위치되고, 따라서 개구(2) 및 유로가 해제된다. 중간 위치에서, 밸브 플레이트(4)는 개구(2) 위에 이격되어 위치되고 개구(2)의 개구 단면을 덮는다. 폐쇄 위치에서, 개구(2)는 가스-기밀하게 폐쇄되고 밸브 마개(4)(밸브 플레이트)의 시일링 표면(6)과 밸브 시트의 시일링 표면(3) 사이에 가스-기밀 접촉이 존재한다는 점에서 유로는 차단된다. The
밸브(1)의 자동화되고 조절된 개방 및 폐쇄를 가능하게 하기 위해, 밸브(1)는 예를 들어, 전자 조절 및 제어 유닛(미도시)을 제공하며, 이는 밸브 플레이트(4)가 프로세스 체적의 가스-기밀 종단을 위해 또는 이러한 체적의 내부 압력의 조절을 위해 그에 따라 조정 가능하도록 설계되고 구동기(7)에 접속된다.In order to enable automated and controlled opening and closing of the
본 예시적인 실시예에서, 구동기(7)는 전기 모터로서 설계되며, 여기서 기어링은 구동기(78)의 구동이 횡방향 이동(Br) 또는 종방향 이동(Bv) 중 어느 하나를 야기하도록 스위칭 가능하다. 기어링을 포함하는 구동기는 조절기에 의해 전자적으로 활성화된다. 특히 슬롯형 링크 시프트 유닛을 갖는 이러한 기어링은 종래 기술로부터 알려져 있다. 또한, 회전 이동(Br) 및 선형 이동(Bv)을 야기하기 위해 복수의 구동기를 사용하는 것이 또한 가능하며, 여기서 제어기는 구동기의 활성화를 가정한다.In the present exemplary embodiment, the
설명된 펜듈럼 밸브(1)를 사용한 유속의 정확한 조절 및/또는 설정은 횡방향 이동(Br)에 의해 개방 위치(O)와 중간 위치 사이에서 밸브 플레이트(4)의 피벗 조정에 의해서 가능할 뿐만 아니라, 무엇보다도 종방향 이동(Bv)에 의해 중간 위치와 폐쇄 위치 사이에서 개구 축(H 및/또는 R)을 따라 밸브 플레이트(4)를 선형 조정함으로써 가능하다. 설명되는 펜듈럼 밸브는 정확한 조절 작업에 사용될 수 있다.The precise adjustment and / or setting of the flow rate using the described
밸브 플레이트(4) 및 또한 밸브 시트 모두는 각각 시일링 표면 - 제1 및 제2 시일링 표면(3, 6)을 갖는다. 제1 시일링 표면(3)은 또한 시일(23)을 갖는다. 이러한 시일(23)은 예를 들어, 밸브 시트 상에 가황에 의해 중합체로서 가황될 수 있다. 대안적으로, 시일(23)은 예를 들어, 밸브 시트의 홈에 O-링으로서 구현될 수 있다. 시일링 재료는 또한 밸브 시트 상에 접착식으로 본딩되어 시일(23)을 구현할 수 있다. 대안적인 실시예에서, 시일(23)은 밸브 플레이트(4)의 측, 특히 제2 시일링 표면(6) 상에 배열될 수 있다. 이들 실시예의 조합이 또한 고려될 수 있다. 이러한 시일(23)은 물론, 예에서 설명된 밸브(1)에 제한되지 않고, 오히려 추가로 설명되는 밸브 실시예에도 적용될 수 있다.The
밸브 플레이트(4)는, 예를 들어, 조절 변수 및 출력 제어 신호에 기초하여 가변적으로 설정된다. 예를 들어, 밸브(1)에 접속된 프로세스 체적에서 현재의 압력 상태에 대한 정보의 항목이 입력 신호로서 수신된다. 또한, 추가적인 입력 변수, 예를 들어, 체적으로의 질량 유입이 조절기에 제공될 수 있다. 이들 변수에 기초하여 그리고 체적에 대해 설정 또는 달성되어야 하는 사전 규정된 설정점 압력에 기초하여, 밸브(1)의 조절된 설정은 조절 사이클 시간에 걸쳐 이루어지며, 따라서 체적으로부터의 대량 유출이 밸브(1)에 의해 시간의 경과에 따라 조절될 수 있다. 이를 위하여, 밸브(1) 뒤에 진공 펌프가 제공되며, 즉, 밸브(1)가 프로세스 챔버와 펌프 사이에 배열된다. 따라서 원하는 압력 곡선이 변조될 수 있다.The
밸브 개구(2)에 대한 각각의 개구 단면은 밸브 마개(4)의 설정에 의해 설정되며, 따라서 프로세스 체적으로부터 단위 시간 당 배출될 수 있는 가능한 가스량이 설정된다. 밸브 마개(4)는 이러한 목적을 위해, 특히 가장 가능한 층류의 매체 흐름을 달성하기 위해 원형으로부터 벗어난 형상을 가질 수 있다.Each opening cross section with respect to the
개구 단면을 설정하기 위해, 밸브 플레이트(4)는 개방 위치(O)로부터 중간 위치로 구동기(7)의 횡방향 이동(Br)에 의해, 그리고 중간 위치로부터 폐쇄 위치로 구동기(7)의 종방향 이동(Bv)에 의해 조절 및 제어 유닛에 의해 조절 가능하다. 유로를 완전히 개방하기 위해, 밸브 플레이트(4)는 폐쇄 위치(G)로부터 중간 위치로 구동기(7)의 종방향 이동(Bv)에 의해 그리고 중간 위치로부터 개방 위치(O)로 이로부터 구동기(7)의 회전 이동(Br)에 의해 제어기에 의해 조정 가능하다.In order to set the opening cross section, the
밸브 시트 상에의 밸브 시트(4)의 가압은, 필요한 가스-기밀성이 전체 압력 범위 내에서 보장되고 과도하게 큰 압력 변형으로 인한 밸브(1) 또는 보다 정확하게 시일링 표면(3, 6) 또는 시일(들)(23)에 대한 손상이 회피되도록 이루어져야 한다. 이를 보장하기 위해, 알려진 밸브 플레이트는 2개의 밸브 플레이트 측 사이에 존재하는 압력 차의 함수로서 조절된 밸브 플레이트(4)의 접촉 압력 조절을 제공한다.Pressurization of the
본 발명에 따르면, 밸브(1)는 예에서 선형 인코더(10) 및 각도 인코더(10')로서 설계된 2개의 위치 센서(10 및 10')를 갖는다.According to the invention, the
선형 위치 센서(10)는 아암(5) 상의 선형 이동 방향(Bv)을 따라 아암(5) 상에서 연장되고 따라서 예를 들어, 구동 유닛(7)의 밸브 하우징과 관련하여, 밸브(1)의 정지 부분과 관련하여 공급 방향(Bv)으로 이동 가능한 스케일(9)을 갖는다. 각각의 상대 위치는 판독 헤드(8)에 의해 선형 인코더에 의해 확인되며, 판독 헤드(8)는 이를 위하여 위치 코드를 갖는 스케일(9)을 스캐닝한다. 스케일(9) 및/또는 판독 헤드는 이 경우에 적어도 부분적으로 "와이드(wide)"로 형성되어, 선형 위치는 또한 아암(5)의 상이한 회전 위치에서 측정될 수 있다. 따라서, 스케일(9)은 개방 위치(O)와 또한 폐쇄 위치(G)에서 모두 그 일부가 검출기(8)에 대향되는 아암(5) 주위로 예를 들어, 충분히 멀리 연장되고, 스케일(9)은 검출기(8)의 "시야" 외부로 피벗될 수 없다.The
위치 코드는 바람직하게는 절대 위치 코드이다. 대안적으로, 위치 코드는 증분 코드이다. 절대 위치 센서(10, 10')에서, 위치는, 스케일(9)이 제어 및 분석 유닛에 의해 정확하게 하나의 위치와 연관될 수 있는 전체 측정 거리에 걸쳐 고유한 코드 워드로 이루어진 절대 위치 코드를 갖는다는 점에서, (이전에 규정된 널 위치와 관련되는) 스케일(9)에 대한 판독 헤드(8)의 모든 상대 위치와 직접 연관될 수 있다. 대조적으로, 위치의 증분 결정을 갖는 위치 인코더(10, 10')에서, 스캐닝 신호는 고유하지 않고 오히려 전체 측정 범위에 걸쳐 복수회 반복된다. 증분이 대응하는 거리는 인코더의 제어 및 분석 유닛에 저장된다. 따라서, 스케일(9)과 판독 헤드(8)의 상대 이동 동안 커버되는 거리가 절약될 수 있고, 상대 위치는 증분을 카운트함으로써 결정될 수 있다. 이러한 상대 위치를 절대적인 방식으로 위치 결정하기 위해, 상대 이동의 경우, 절대 기준점으로서 규정된 널 위치로부터 진행된다. 이러한 널 위치 또는 널 포인트는, 예를 들어, 스케일(9) 상에 (또는 고정 스케일(9)의 경우 판독 헤드(8) 상의) 판독 헤드(8)에 의해 검출되는 위치 기준 마커에 의해 규정된다. 트랜슬레이션(translation) 위치 또는 이에 대한 각도의 증분 결정을 갖는 센서(10, 10')는 따라서 측정 시스템의 재시작의 이벤트에서 각각의 시간에 널 또는 기준 위치로부터 진행해야 한다는 불리점을 갖는다. 대조적으로, 절대 선형 또는 각도 인코더는 서로에 대해 트랜슬레이팅되거나 회전될 수 있는 부품의 각각의 상대 위치에 대해 고유한 차별화 가능한 스캐닝 신호를 생성한다. 고유한 선형 위치 및/또는 고유한 각도는 따라서 각각의 상대 위치와 직접, 즉, 기준 또는 시작 위치에 접근하지 않고 연관될 수 있다.The location code is preferably an absolute location code. Alternatively, the location code is an incremental code. In
각도 인코더로서 설계된 제2 위치 센서(10')는 또한 절대 또는 증분 각도 코딩을 갖는 스케일(9')을 가지며, 이는 판독 헤드(8')에 의해 스캐닝되므로, 아암(5) 및 그에 따른 밸브 플레이트(4)의 각도 위치에 대한 정보의 항목을 얻을 수 있다. 이 예에서, 스케일(9')은 아암(5) 주위로 적어도 부분적으로 연장되고(적어도 회전 이동(Br)의 주위가 이에 의해 덮이기에 충분함), 따라서 고정 검출기(8') 또는 밸브(1)의 전체 고정 부분에 대해 아암(5)과 회전 가능하다.The second position sensor 10 'designed as an angular encoder also has a scale 9' with absolute or incremental angular coding, which is scanned by the read head 8 ', so that the
제1 및 제2 위치 센서(10, 10')에 의해, 밸브(1)의 이동 가능 부분, 특히 밸브 플레이트(4)의 위치, 따라서 특히 가스-기밀성 및/또는 가스-기밀 폐쇄 기능의 요구되는 신뢰성에 관한 진공 밸브(1)의 상태가 그에 따라 지속적인 방식으로 유리하게 모니터링 및 평가될 수 있다.By means of the first and
도시된 펜듈럼 밸브(1)에 대안적으로, 본 발명에 따른 진공 밸브(1)는 다른 진공 밸브 유형, 예를 들어, 플랩(flap) 밸브, 슬라이드 밸브 또는 소위 버터플라이(butterfly) 제어 밸브를 사용하여 구현될 수 있다. 또한 펜듈럼 밸브도 사용할 수 있으며, 그 마개는 한 방향으로만 조정될 수 있다.As an alternative to the illustrated
도 5는 폐쇄 위치(G)(도 5의 (a)) 및 개방 위치(O)(도 5의 (b))에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 트랜스퍼 밸브에서 추가의 가능한 위치 센서 배열을 개략적으로 나타낸다. 나타낸 도면에서, 밸브 시트(3)는 진공 밸브(1)의 하우징(24) 상에 형성된다. 그러나, 후술하는 설명은 실시예들에 본질적으로 유사하게 적용될 수 있다는 것이 본 기술 분야의 통상의 기술자에게 명백하며, 여기서 밸브 시트는 프로세스 챔버, 즉, 챔버 하우징에 의해 제공된다.5 schematically shows a further possible position sensor arrangement in the transfer valve according to the invention, as shown in the closed position G (FIG. 5 (a)) and the open position O (FIG. 5 (b)). Represented by In the figure shown, the
또한, 여기서는 단지 개략적으로 틸트(tilt) 기구로서 도시된 밸브 기구는 제한적인 것으로 이해되어서는 안된다는 것이 명백하며, 본 기술 분야의 통상의 기술자는 유사한 방식으로 본 발명에 따른 센서 배열을 예를 들어, 임의의 L-모션 구동기로 전환할 수 있으며, 예를 들어, L-모션 구동기는 서로 수직인 밸브 플레이트의 2개의 선형 조정 방향을 갖는다.It is also clear here that the valve mechanism, which is only schematically shown as a tilt mechanism, should not be understood to be limiting, and a person skilled in the art may, for example, take a sensor arrangement according to the invention in a similar manner. It can be switched to any L-motion driver, for example the L-motion driver has two linear adjustment directions of the valve plate perpendicular to each other.
조정 아암(5)의 모니터링된 안내를 위해, 진공 밸브(1)는 여기서 예를 들어, 안내 구성 요소(15)를 가지며, 여기서 구동 유닛(7)과 안내 구성 요소(15)는 여기서 예를 들어, 구동 유닛(7)과 또한 안내 구성 요소(15) 모두가 각각 밸브 하우징(24)에 제자리에 접속된다는 점에서 각각 서로에 대해 고정된 배열로 되어 있다. 조정 아암(5)은 또한 밸브 마개(4) 및 구동 유닛(7)에 기계적으로 커플링되며, 여기서 구동 유닛(7)에 의해 밸브 아암(5)을 조정함으로써, 밸브 마개(4)는 밸브 시트에 본질적으로 평행하게, 특히 도 3에 설명되는 바와 같이 L-모션 이동으로 개방 위치(O)와 폐쇄 위치(G) 사이에서 조정 가능하다.For the monitored guidance of the
본 발명에 따르면, 가이드 구성 요소는 위치 센서(10)를 갖는다. 이 경우에 위치 센서(10)는 아암(5) 및/또는 밸브 플레이트(4)의 이동의 "수직" 성분(V)과 또한 그 "수평" 성분(H) 모두가 측정될 수 있도록 설계된다. 위치 센서(10)는 이러한 목적을 위한 회전 인코더를 가지며, 예를 들어, 회전 인코더는 사전에 회전 이동으로 변환된다는 점에서 아암(5)의 틸트 위치(즉, "수평" 성분) 및 또한 그 선형 트랜슬레이션 모두를 결정하는 데 사용된다. 도면에 대해 대안적으로, 2개의 별개의 위치 센서가 사용되고 및/또는 위치 센서 또는 센서들이 예를 들어, 구동기(7) 상에서, 밸브의 다른 지점에 배열된다.According to the invention, the guide component has a
도 6은 도 5와 유사하게, 본 발명에 따른 진공 밸브(1)의 추가의 가능한 실시예를 나타낸다. 도 5에 따른 실시예와 대조적으로, 밸브 마개(4) 및/또는 조정 요소(5)의 위치를 측정하기 위한 위치 센서(10)는 여기서 조명 수단(16), 예를 들어, 조정 아암(5)의 후방 단부를 조명하기 위한 LED 및 조정 아암(5)으로부터 반사된 조명 방사를 획득하기 위한 카메라 시스템(17)을 갖는 시스템으로서 설계된다. 카메라 시스템(17)은 예를 들어, 위치-감지 검출기를 가지며, 따라서 조정 아암(5)의 위치는 입사 위치로부터 검출기 상으로 반사된 방사로부터 결론지을 수 있다. 대안적으로, 예를 들어, 획득된 방사에 의한 이미지의 생성 및 이미지 분석이 수행되어, 그로부터 위치가 결정될 수 있다. 카메라-기반 위치 결정은 원칙적으로 종래 기술로부터 알려져 있다. 이미징 위치 결정을 개선하기 위해 광학적으로 획득될 수 있는 패턴의 사용이 또한 알려져 있다. 따라서, 나타낸 바와 같이, 조정 요소(5)의 후방 단부는 이러한 광학 패턴(18)을 갖는다. 조정 요소(5)의 "수평" 위치는 카메라 이미지에서의 패턴(18)의 위치로부터 결론지을 수 있으며, "수직" 위치(카메라에 대한 거리)는 (저장된 기준 변수와의 비교에서) 이미지 패턴의 이미징된 크기로부터 또는 그 일부로부터 결론지을 수 있다.6 shows a further possible embodiment of the
이에 따라 도시된 도면은 가능한 예시적인 실시예를 단지 개략적으로 나타낸다는 것이 명백하다. 다양한 접근들은 상호간에 및 종래 기술의 방법 및 디바이스와 조합될 수 있다.It is thus evident that the figures shown are merely schematic illustrations of possible exemplary embodiments. Various approaches can be combined with each other and with prior art methods and devices.
Claims (15)
체적 또는 질량 흐름의 조절 및/또는 유로의 가스-기밀 차단을 위한 진공 슬라이드 밸브, 펜듈럼(pendulum) 밸브 또는 모노 밸브(monovalve)로서,
· 개구 축(H)을 규정하는 밸브 개구(2) 및 상기 밸브 개구(2) 주위를 둘러싸는 제1 시일링(sealing) 표면(3)을 갖는 밸브 시트(seat),
· 상기 체적 또는 질량 흐름의 조절 및/또는 상기 유로의 차단을 위한, 밸브 마개(4), 특히 밸브 플레이트로서, 상기 제1 시일링 표면(3)에 대응하는 제2 시일링 표면(6)을 갖고, 상기 제2 시일링 표면(6)의 가변 위치는 상기 밸브 마개(4)의 각각의 위치 및 정렬에 의해 결정되는, 밸브 마개,
· 상기 밸브 마개(4)에 커플링되는 구동 유닛(7)으로서, 적어도 하나의 이동 가능 조정 요소(5)를 포함하고, 상기 구동 유닛(7)은, 상기 밸브 마개(4)가
o 상기 밸브 마개(4)와 상기 밸브 시트가 서로에 대해 접촉하지 않고 제공되는 개방 위치(O)로부터
o 상기 개구 축(H)에 대한 축 방향 시일링 접촉이 특히 시일(23)을 통해 상기 제1 시일링 표면(3)과 상기 제2 시일링 표면(6) 사이에 존재하고, 이에 의해 상기 밸브 개구(2)가 가스-기밀 방식으로 폐쇄되는 폐쇄 위치(G)로, 그리고 다시 반대로 조정 가능하도록 조정 이동(Bv, Bh, Br)을 실행하도록 설계되는, 구동 유닛을 포함하고,
상기 진공 밸브(1)는 적어도 하나의 위치 센서(10, 10')를 더 포함하며, 상기 위치 센서(10, 10')는 특히 지속적인 방식으로 상기 밸브 마개(4) 및/또는 상기 적어도 하나의 조정 요소(5)의 위치가 널(null) 위치(O, G), 특히 개방 위치(O) 또는 폐쇄 위치(G)에 대해 측정될 수 있도록 상기 진공 밸브(1)에서 설계 및 배열되는 것을 특징으로 하는, 진공 밸브(1).As the vacuum valve 1, in particular
As a vacuum slide valve, pendulum valve or monovalve for the regulation of volume or mass flow and / or gas-tight shutoff of the flow path,
A valve seat having a valve opening (2) defining an opening axis (H) and a first sealing surface (3) surrounding the valve opening (2),
A valve closure (4), in particular a valve plate, for regulating the volume or mass flow and / or for shutoff of the flow path, the second sealing surface (6) corresponding to the first sealing surface (3) Wherein the variable position of the second sealing surface 6 is determined by the respective position and alignment of the valve closure 4,
A drive unit 7 coupled to the valve stopper 4, comprising at least one movable adjustment element 5, wherein the drive stopper 7 is provided with a valve stopper 4.
o from the open position O in which the valve cap 4 and the valve seat are provided without contacting each other.
o An axial sealing contact with respect to the opening axis H is present between the first sealing surface 3 and the second sealing surface 6, in particular via a seal 23, whereby the valve A drive unit, which is designed to carry out the adjustment movements Bv, Bh, Br so that the opening 2 is adjustable in the closed position G, which is closed in a gas-tight manner, and vice versa,
The vacuum valve 1 further comprises at least one position sensor 10, 10 ′, wherein the position sensor 10, 10 ′ is in particular in a continuous manner with the valve cap 4 and / or the at least one The position of the adjustment element 5 is designed and arranged in the vacuum valve 1 so that it can be measured with respect to the null position O, G, in particular the open position O or the closed position G. Vacuum valve (1).
상기 위치 센서(10, 10')는 상기 조정 이동(Bv, Bh, Br)의 적어도 일부의 시간 곡선이 결정될 수 있도록, 특히 상기 조정 이동(Bv, Bh, Br)의 적어도 하나의 속도가 상기 조정 이동(Bv, Bh, Br)의 적어도 하나의 시간 범위에 대해 결정될 수 있도록 상기 진공 밸브(1)에 설계 및 배열되는 것을 특징으로 하는, 진공 밸브(1).The method of claim 1,
The position sensor 10, 10 ′ is such that the time curve of at least a portion of the adjustment movements Bv, Bh, Br can be determined, in particular at least one speed of the adjustment movements Bv, Bh, Br is adjusted. Vacuum valve (1), characterized in that it is designed and arranged in the vacuum valve (1) so that it can be determined for at least one time range of movement (Bv, Bh, Br).
상기 위치 센서(10, 10')는 변위 센서 또는 거리 센서 및/또는 절대 위치 센서(10, 10')로서 설계되는 것을 특징으로 하는, 진공 밸브(1).The method according to claim 1 or 2,
Vacuum valve (1), characterized in that the position sensor (10, 10 ') is designed as a displacement sensor or distance sensor and / or an absolute position sensor (10, 10').
상기 조정 이동(Bv, Bh, Br)은 적어도 본질적으로 선형 조정 이동(Bv, Bh)을 포함하고, 상기 위치 센서(10)는 상기 선형 조정 이동(Bv, Bh)의 적어도 일부를 획득하도록 설계 및 배열되고, 특히 상기 위치 센서(10)는 선형 인코더인 것을 특징으로 하는, 진공 밸브(1).The method according to any one of claims 1 to 3,
The adjustment movements Bv, Bh, Br comprise at least essentially linear adjustment movements Bv, Bh and the position sensor 10 is designed to obtain at least a portion of the linear adjustment movements Bv, Bh. Vacuum valve (1), characterized in that the position sensor (10) is a linear encoder.
상기 조정 이동(Bv, Bh, Br)은 적어도 본질적으로 회전 조정 이동(Br)을 포함하고, 상기 위치 센서(10')는 상기 회전 조정 이동(Br)의 적어도 일부를 획득하도록 설계 및 배열되고, 특히 상기 위치 센서(10')는 각도 인코더인 것을 특징으로 하는, 진공 밸브(1).The method according to any one of claims 1 to 4,
The adjustment movements Bv, Bh, Br at least essentially comprise a rotation adjustment movement Br, the position sensor 10 'is designed and arranged to obtain at least a portion of the rotation adjustment movement Br, In particular, the position sensor (10 ′) is an angle encoder, vacuum valve (1).
상기 위치 센서(10, 10')는,
· 유도성, 광학, 자기, 자기 변형성, 전위차 및/또는 용량성 위치 센서(10, 10')이고, 및/또는
· 규정된 방식으로 상기 진공 밸브(1)에 의해 외부 환경으로부터 분리된 진공 범위 외부에 배열되는 것을 특징으로 하는, 진공 밸브(1).The method according to any one of claims 1 to 5,
The position sensors 10, 10 ',
Inductive, optical, magnetic, magnetostrictive, potential difference and / or capacitive position sensors 10, 10 ', and / or
Vacuum valve (1), characterized in that arranged in a prescribed manner outside the vacuum range separated from the external environment by the vacuum valve (1).
· 상기 위치 센서(10, 10')는, 상기 하나의 위치 센서(10, 10')에 의해 위치 측정이 특히 서로에 대해 본질적으로 서로 직교하는 적어도 2개의 조정 방향에 대해 수행될 수 있도록 상기 진공 밸브(1)에 설계 및 배열되거나,
· 상기 진공 밸브(1)는 제1 조정 방향에 대한 위치가 제1 위치 센서(10, 10')에 의해 측정될 수 있고, 제2 조정 방향에 대한 위치가 제2 위치 센서(10, 10')에 의해 측정될 수 있도록 상기 진공 밸브(1)에 설계 및 배열되는 적어도 2개의 위치 센서(10, 10')를 갖고, 특히 양쪽 조정 방향은 본질적으로 서로에 대해 직교하고, 및/또는
· 상기 밸브 시트는 상기 진공 밸브(1)에 구조적으로 접속된 상기 진공 밸브의 일부에 의해 형성되며, 특히 상기 밸브 시트는 상기 진공 밸브(1)의 하우징(24) 상에 형성되거나 프로세스 챔버, 특히 챔버 하우징에 의해 제공되는 것을 특징으로 하는, 진공 밸브(1).The method according to any one of claims 1 to 6,
The position sensor 10, 10 ′ is configured such that the position measurement by means of the one position sensor 10, 10 ′ can be performed in particular with respect to at least two adjustment directions which are essentially orthogonal to one another with respect to one another. Designed and arranged in the valve 1,
The vacuum valve 1 can be measured by a first position sensor 10, 10 ′ in a position with respect to a first adjustment direction, and a position with a second position sensor 10, 10 ′ with a second position in the second adjustment direction. Have at least two position sensors 10, 10 ′ designed and arranged in the vacuum valve 1 so that they can be measured by), in particular both adjustment directions are essentially orthogonal to one another and / or
The valve seat is formed by a part of the vacuum valve structurally connected to the vacuum valve 1, in particular the valve seat being formed on a housing 24 of the vacuum valve 1 or in a process chamber, in particular Vacuum valve (1), characterized in that provided by the chamber housing.
상기 진공 밸브(1)는 획득된 위치 센서 측정 신호가 프로세싱 유닛(11)에 의해 프로세싱될 수 있고 상기 진공 밸브(1)의 상태 정보의 항목이 상기 획득된 측정 신호에 기초하여 확인되도록 설계되는 상기 프로세싱 유닛(11)을 갖는 것을 특징으로 하는, 진공 밸브(1).The method according to any one of claims 1 to 7,
The vacuum valve 1 is designed such that the acquired position sensor measurement signal can be processed by the processing unit 11 and the item of status information of the vacuum valve 1 is identified based on the obtained measurement signal. Vacuum valve (1), characterized in that it has a processing unit (11).
상기 상태 정보의 항목은 상기 밸브 마개(4) 및/또는 상기 조정 유닛(5)의 기계적 및/또는 구조적 완전성과 관련하여 제공되며, 특히 상기 상태 정보의 항목은 상기 획득된 측정 신호에 대한 실제-설정점 비교에 의해 확인되는 것을 특징으로 하는, 진공 밸브(1).The method of claim 8,
The item of status information is provided in relation to the mechanical and / or structural integrity of the valve stopper 4 and / or the adjustment unit 5, in particular the item of status information is based on the actual- Vacuum valve (1), characterized in that it is confirmed by a set point comparison.
사전 규정된 공차 값들에 대한 상기 상태 정보의 항목의 비교에 기초하여, 출력 신호가 상기 진공 밸브(1)에 의해 제어되는 프로세스의 평가와 관련하여 제공되는 것을 특징으로 하는, 진공 밸브(1).The method according to claim 8 or 9,
Based on the comparison of the item of state information to predefined tolerance values, an output signal is provided in connection with the evaluation of the process controlled by the vacuum valve (1).
· 개구 축(H)을 규정하는 밸브 개구(2) 및 상기 밸브 개구(2) 주위를 둘러싸는 제1 시일링 표면(3)을 갖는 밸브 시트,
· 상기 체적 또는 질량 흐름의 조절 및/또는 상기 유로의 차단을 위한 밸브 마개(4), 특히 밸브 플레이트로서, 상기 제1 시일링 표면(3)에 대응하는 제2 시일링 표면(6)을 갖고, 상기 제2 시일링 표면(6)의 가변 위치는 상기 밸브 마개(4)의 각각의 위치 및 정렬에 의해 결정되는, 밸브 마개,
· 상기 밸브 마개(4)에 커플링되는 구동 유닛(7)으로서, 적어도 하나의 이동 가능 조정 요소(5)를 포함하고, 상기 구동 유닛(7)은 조정 이동(Bv, Bh, Br)을 실행하도록 설계되어, 상기 밸브 마개(4)는,
o 상기 밸브 마개(4)와 상기 밸브 시트가 서로에 대해 접촉하지 않고 제공되는 개방 위치(O)로부터
o 상기 개구 축(H)에 대한 축 방향 시일링 접촉이 특히 시일(23)을 통해 상기 제1 시일링 표면(3)과 상기 제2 시일링 표면(6) 사이에 존재하고, 이에 의해 상기 밸브 개구(2)가 가스-기밀 방식으로 폐쇄되는 폐쇄 위치(G)로, 그리고 다시 반대로 조정될 수 있는, 구동 유닛을 포함하고,
상기 방법의 범위에서, 특히 지속적인 방식으로, 특히 상기 밸브 마개(4) 및/또는 상기 적어도 하나의 조정 요소(5)의 절대 위치가 널 위치(O, G), 특히 개방 위치(O) 또는 폐쇄 위치(G)에 대해 측정되는 것을 특징으로 하는, 방법.As a method for controlling a vacuum valve 1, in particular a vacuum slide valve, a pendulum valve or a monovalve, the vacuum valve 1 is designed for the regulation of volume or mass flow and / or for gas-tight shutoff of the flow path, The vacuum valve 1,
A valve seat having a valve opening 2 defining an opening axis H and a first sealing surface 3 surrounding the valve opening 2,
A valve stopper 4, in particular a valve plate, for regulating the volume or mass flow and / or for blocking the flow path, having a second sealing surface 6 corresponding to the first sealing surface 3. The valve stopper, wherein the variable position of the second sealing surface 6 is determined by the respective position and alignment of the valve stopper 4,
A drive unit 7 coupled to the valve stopper 4, comprising at least one movable adjustment element 5, which drive unit 7 executes adjustment movements Bv, Bh, Br. Is designed so that the valve stopper 4
o from the open position O in which the valve cap 4 and the valve seat are provided without contacting each other.
o An axial sealing contact with respect to the opening axis H is present between the first sealing surface 3 and the second sealing surface 6, in particular via a seal 23, whereby the valve A drive unit, which can be adjusted to the closed position G, in which the opening 2 is closed in a gas-tight manner, and vice versa,
In the scope of the method, in a particularly continuous manner, in particular the absolute position of the valve plug 4 and / or the at least one adjustment element 5 is in the null position O, G, in particular in the open position O or in the closed position. Method, characterized in that it is measured relative to position (G).
상기 방법의 범위에서, 특히 상기 밸브 마개(4) 또는 상기 조정 요소(5)의 기계적 및/또는 구조적 완전성과 관련하여, 상기 진공 밸브(1)의 상태 정보의 항목이 상기 위치 측정에 기초하여 확인되고, 특히
· 상기 상태 정보의 항목은 상기 획득된 측정 신호에 대한 실제-설정점 비교에 의해 확인되고 및/또는
· 사전 규정된 공차 값들에 대한 상기 상태 정보의 항목의 비교에 기초하여, 출력 신호가 상기 진공 밸브(1)에 의해 제어되는 프로세스의 평가와 관련하여 제공되는 것을 특징으로 하는, 방법.The method of claim 11,
In the scope of the method, in particular with regard to the mechanical and / or structural integrity of the valve stopper 4 or the adjustment element 5, an item of status information of the vacuum valve 1 is identified based on the position measurement. Especially
The item of status information is identified by a real-set point comparison to the obtained measurement signal and / or
The output signal is provided in relation to the evaluation of the process controlled by the vacuum valve (1), based on a comparison of the item of state information to predefined tolerance values.
상기 방법의 범위에서, 상기 위치 측정에 기초하여,
· 상기 밸브 마개(4) 및/또는 상기 적어도 하나의 조정 요소(5)의 조정 속도는 상기 조정 이동(Bv, Bh, Br)의 적어도 일부에 대해 결정되고, 및/또는
· 상기 개방 위치(O)로부터 상기 폐쇄 위치(G)로 및/또는 그 반대로의 상기 조정 이동(Bv, Bh, Br)의 구간이 결정되는 것을 특징으로 하는, 방법.The method of claim 11 or 12,
In the scope of the method, based on the position measurement,
The speed of adjustment of the valve stopper 4 and / or the at least one adjustment element 5 is determined for at least a portion of the adjustment movement Bv, Bh, Br, and / or
The interval of said adjustment movement (Bv, Bh, Br) from said open position (O) to said closed position (G) and / or vice versa is determined.
상기 방법의 범위에서, 상기 위치 측정에 기초하여,
· 상기 밸브 마개(4) 및/또는 상기 적어도 하나의 조정 요소(5)의 종단 위치, 특히 상기 개방 위치(O) 및/또는 상기 폐쇄 위치(G) 및/또는
· 상기 조정 이동(Bv, Bh, Br)의 범위에서 서로에 대한 상기 시일링 표면들(3, 6)의 가능한 충격 및/또는
· 서로에 대한 상기 시일링 표면들(3, 6)의 가능한 접착의 검출이 수행되는 것을 특징으로 하는, 방법.The method according to any one of claims 11 to 13,
In the scope of the method, based on the position measurement,
The end position of the valve stopper 4 and / or the at least one adjustment element 5, in particular the open position O and / or the closed position G and / or
Possible impact of the sealing surfaces 3, 6 against each other in the range of the adjustment movement Bv, Bh, Br and / or
The detection of possible adhesion of the sealing surfaces (3, 6) to each other is carried out.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP17179066.0 | 2017-06-30 | ||
EP17179066.0A EP3421850A1 (en) | 2017-06-30 | 2017-06-30 | Vacuum valve with position sensor |
PCT/EP2018/067466 WO2019002491A1 (en) | 2017-06-30 | 2018-06-28 | Vacuum valve with position sensor |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20200024766A true KR20200024766A (en) | 2020-03-09 |
KR102609110B1 KR102609110B1 (en) | 2023-12-04 |
Family
ID=59269909
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020197035141A KR102609110B1 (en) | 2017-06-30 | 2018-06-28 | Vacuum valve with position sensor |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US11543051B2 (en) |
EP (1) | EP3421850A1 (en) |
JP (1) | JP7368236B2 (en) |
KR (1) | KR102609110B1 (en) |
CN (1) | CN110799786B (en) |
TW (1) | TWI766050B (en) |
WO (1) | WO2019002491A1 (en) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11415230B2 (en) * | 2020-03-31 | 2022-08-16 | Applied Material, Inc. | Slit valve pneumatic control |
DE102020125653B3 (en) * | 2020-10-01 | 2021-11-04 | Fette Compacting Gmbh | Sensor arrangement for a production facility and a method for transferring a sensor into a housing of a production facility and from a housing of a production facility |
CN112447511A (en) * | 2020-11-24 | 2021-03-05 | 上海华力集成电路制造有限公司 | Method for improving polymer defects of polysilicon etching cavity |
DE102021000787A1 (en) * | 2021-02-17 | 2022-08-18 | Vat Holding Ag | Valve with radio arrangement |
CN112855982B (en) * | 2021-03-03 | 2024-04-19 | 南京伶机宜动驱动技术有限公司 | Magneto-electric self-sensing flow control valve |
DE102021005995A1 (en) * | 2021-12-02 | 2023-06-07 | Vat Holding Ag | Pendulum valve with calibration device |
EP4336076A1 (en) * | 2022-09-08 | 2024-03-13 | Pittway Sarl | Systems and methods for measuring throttle position |
KR102574233B1 (en) * | 2023-03-14 | 2023-09-04 | 주식회사 에스알티 | U Motion gate valve |
CN116816961B (en) * | 2023-08-23 | 2023-11-21 | 成都中科唯实仪器有限责任公司 | Normally closed vacuum valve |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001311478A (en) * | 2000-05-01 | 2001-11-09 | Masanori Mogi | Signal output device for detecting opening and shutting position of valve |
KR20100015597A (en) * | 2007-04-27 | 2010-02-12 | 에드워즈 가부시키가이샤 | Plate rotating device, exhaust path opening degree changing device, exhausted device, transfer device, beam device, and gate valve |
KR20100046150A (en) * | 2007-07-24 | 2010-05-06 | 배트 홀딩 아게 | Method for controlling or regulating a vacuum valve |
KR20140085333A (en) * | 2012-12-27 | 2014-07-07 | 배트 홀딩 아게 | Vacuum slide gate valve |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3145969A (en) | 1961-07-03 | 1964-08-25 | High Voltage Engineering Corp | Gate valve having fluid pressure seal and limit stop means |
DE1264191B (en) | 1963-01-15 | 1968-03-21 | Hochvakuum Appbau Emil Kammere | Gate valve |
DE7731993U1 (en) | 1977-10-15 | 1978-01-26 | Emil Kammerer Kg, 5060 Bergisch Gladbach | GATE VALVE |
JPS60136671A (en) | 1983-12-26 | 1985-07-20 | Fuji Seikou Kk | Seal structure of gate valve |
KR890007306A (en) * | 1987-10-30 | 1989-06-19 | 제트.엘.더머 | Online valve diagnostic monitoring system |
JPH03234979A (en) * | 1990-02-09 | 1991-10-18 | Canon Inc | Sluice valve |
US5577707A (en) | 1995-12-18 | 1996-11-26 | Vat Holding Ag | Slide valve |
DE19723650B9 (en) * | 1997-06-05 | 2004-04-29 | Samson Ag | Method and device for monitoring an actuator |
DE19746241C2 (en) | 1997-10-20 | 2000-05-31 | Vat Holding Ag Haag | Device for closing an opening |
JP3234979B2 (en) | 1999-02-08 | 2001-12-04 | 株式会社住友シチックス尼崎 | Bath temperature and bath level control device for molten salt bath |
US6089537A (en) | 1999-06-23 | 2000-07-18 | Mks Instruments, Inc. | Pendulum valve assembly |
US6629682B2 (en) | 2001-01-11 | 2003-10-07 | Vat Holding Ag | Vacuum valve |
US6416037B1 (en) | 2001-01-11 | 2002-07-09 | Vat Holding Ag | Vacuum pipe |
JP3778866B2 (en) * | 2002-03-20 | 2006-05-24 | Smc株式会社 | Vacuum valve with heater |
JP4042507B2 (en) | 2002-09-18 | 2008-02-06 | Smc株式会社 | Gate valve with flow control mechanism |
KR100486431B1 (en) * | 2002-10-18 | 2005-04-29 | 주식회사 에스티에스 | Vacuum valve |
JP2004360754A (en) | 2003-06-03 | 2004-12-24 | Nippon Valqua Ind Ltd | Gate valve for vacuum |
JP4258806B2 (en) * | 2003-09-02 | 2009-04-30 | Smc株式会社 | Vacuum pressure control valve |
US7032882B2 (en) | 2003-09-29 | 2006-04-25 | Mks Instruments, Inc. | Valve assembly having novel flow characteristics |
JP4506437B2 (en) | 2004-04-30 | 2010-07-21 | Smc株式会社 | 2-port valve for vacuum pressure |
JP4196293B2 (en) * | 2004-08-02 | 2008-12-17 | Smc株式会社 | Vacuum pressure control valve |
DE102007030006B4 (en) * | 2006-07-19 | 2009-12-17 | Vat Holding Ag | vacuum valve |
DE102007034048B3 (en) | 2007-07-20 | 2008-06-12 | Hoerbiger Automatisierungstechnik Holding Gmbh | Piezo-electric valve has flexible pad with valve seat face resting against a jet insert that slides at right angles to the seat |
DE102008051349B3 (en) * | 2008-10-15 | 2009-11-12 | Vat Holding Ag | Vacuum valve e.g. pendulum valve, has pressure medium line blocked for pressurization of closing-cylinder chamber when closing valve by section of closing process and unblocked at end of section of closing process by control element |
JP5123428B2 (en) * | 2009-04-03 | 2013-01-23 | 株式会社酉島製作所 | Vacuum valve control device |
US9158308B2 (en) * | 2011-05-13 | 2015-10-13 | Fluke Corporation | Apparatus using electronically-controlled valves |
JP5397525B1 (en) * | 2012-11-13 | 2014-01-22 | Smc株式会社 | Vacuum pressure control system |
CN103711937B (en) * | 2014-01-09 | 2016-06-01 | 北京七星华创电子股份有限公司 | The microenvironment exhaust control device of a kind of semiconductor devices |
US10337647B2 (en) * | 2014-12-15 | 2019-07-02 | General Electric Company | Obstruction detection for a control valve |
WO2016205038A1 (en) * | 2015-06-17 | 2016-12-22 | Mathena, Inc. | Electric-actuated choke apparatus and methods |
DE102015016081A1 (en) * | 2015-12-10 | 2017-06-14 | Applied Materials, Inc. (N.D.Ges.D. Staates Delaware) | Lock or lock device for a vacuum chamber |
-
2017
- 2017-06-30 EP EP17179066.0A patent/EP3421850A1/en not_active Withdrawn
-
2018
- 2018-06-28 WO PCT/EP2018/067466 patent/WO2019002491A1/en active Application Filing
- 2018-06-28 TW TW107122231A patent/TWI766050B/en active
- 2018-06-28 KR KR1020197035141A patent/KR102609110B1/en active IP Right Grant
- 2018-06-28 CN CN201880043055.7A patent/CN110799786B/en active Active
- 2018-06-28 JP JP2019566096A patent/JP7368236B2/en active Active
- 2018-06-28 US US16/627,152 patent/US11543051B2/en active Active
-
2022
- 2022-10-13 US US18/046,461 patent/US20230057447A1/en active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001311478A (en) * | 2000-05-01 | 2001-11-09 | Masanori Mogi | Signal output device for detecting opening and shutting position of valve |
KR20100015597A (en) * | 2007-04-27 | 2010-02-12 | 에드워즈 가부시키가이샤 | Plate rotating device, exhaust path opening degree changing device, exhausted device, transfer device, beam device, and gate valve |
KR20100046150A (en) * | 2007-07-24 | 2010-05-06 | 배트 홀딩 아게 | Method for controlling or regulating a vacuum valve |
KR20140085333A (en) * | 2012-12-27 | 2014-07-07 | 배트 홀딩 아게 | Vacuum slide gate valve |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7368236B2 (en) | 2023-10-24 |
TW201920863A (en) | 2019-06-01 |
US20200182375A1 (en) | 2020-06-11 |
CN110799786B (en) | 2022-06-07 |
US11543051B2 (en) | 2023-01-03 |
JP2020525718A (en) | 2020-08-27 |
CN110799786A (en) | 2020-02-14 |
WO2019002491A1 (en) | 2019-01-03 |
US20230057447A1 (en) | 2023-02-23 |
KR102609110B1 (en) | 2023-12-04 |
TWI766050B (en) | 2022-06-01 |
EP3421850A1 (en) | 2019-01-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20200024766A (en) | Vacuum valve with position sensor | |
US20200166154A1 (en) | Vacuum valve having a pressure sensor | |
TWI752180B (en) | Vacuum valve with optical sensor | |
KR101425948B1 (en) | Shuttle valve having two drives | |
JP7350658B2 (en) | Vacuum valve with inertial sensor | |
KR20200024827A (en) | Vacuum valve with acoustic sensor | |
JP7105801B2 (en) | Vacuum valve with force sensor | |
JP7309621B2 (en) | Vacuum valve with temperature sensor |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |