KR20200010089A - Polyimide-based resin powder and method for producing polyimide-based resin powder - Google Patents

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Abstract

The present invention provides a polyimide-based resin powder having a high weight average molecular weight, good handling of the powder, and high solubility in a solvent, and a method for producing the powder. The amorphous polyimide-based resin powder has a specific surface area of 10 m^2/g or less, and a weight average molecular weight of 100,000 or more.

Description

폴리이미드계 수지 분체 및 폴리이미드계 수지 분체의 제조 방법{POLYIMIDE-BASED RESIN POWDER AND METHOD FOR PRODUCING POLYIMIDE-BASED RESIN POWDER}Polyimide resin powder and manufacturing method of polyimide resin powder {POLYIMIDE-BASED RESIN POWDER AND METHOD FOR PRODUCING POLYIMIDE-BASED RESIN POWDER}

본 발명은 폴리이미드계 수지 분체(粉體) 및 폴리이미드계 수지 분체의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing a polyimide resin powder and a polyimide resin powder.

현재, 액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치는, 텔레비전뿐만 아니라, 휴대전화나 스마트 워치 등의 여러 가지 용도로 널리 활용되고 있다. 이러한 용도의 확대에 따라, 플렉시블 특성을 갖는 화상 표시 장치(플렉시블 디스플레이)가 요구되고 있다.At present, image display apparatuses, such as a liquid crystal display device and an organic electroluminescence display, are widely utilized not only for television but for various uses, such as a mobile telephone and a smart watch. With the expansion of such use, the image display apparatus (flexible display) which has a flexible characteristic is calculated | required.

화상 표시 장치는, 액정 표시 소자 또는 유기 EL 표시 소자 등의 표시 소자 외에, 편광판이나 위상차판 및 전면판 등의 구성 부재로 구성된다. 플렉시블 디스플레이를 달성하기 위해서는, 이들 모든 구성 부재가 유연성을 가질 필요가 있다.An image display apparatus is comprised from structural members, such as a polarizing plate, a phase difference plate, and a front plate, in addition to display elements, such as a liquid crystal display element or an organic electroluminescence display element. In order to achieve a flexible display, all these components need to be flexible.

지금까지 전면판으로서는 유리가 이용되고 있다. 유리는, 투명도가 높고, 유리의 종류에 따라서는 고경도를 발현할 수 있는 반면, 매우 강직하여, 깨지기 쉽기 때문에, 플렉시블 디스플레이의 전면판 재료로서의 이용은 어렵다.Glass is used as a front panel so far. Since glass is high in transparency and can express high hardness depending on the kind of glass, since it is very rigid and fragile, it is difficult to use it as a front plate material of a flexible display.

그 때문에, 유리를 대신하는 재료로서 고분자 재료의 활용이 검토되고 있다. 고분자 재료로 이루어지는 전면판은 플렉시블 특성을 발현하기 쉽기 때문에, 여러 가지 용도에 이용하는 것을 기대할 수 있다. 유연성을 갖는 수지로서는 여러 가지의 것을 들 수 있지만, 예를 들면, 폴리이미드계 수지가 있다.Therefore, utilization of a polymeric material is examined as a material which replaces glass. Since the front plate which consists of a polymeric material tends to express flexible characteristics, it can be expected to use for various uses. Although various things are mentioned as resin which has flexibility, For example, polyimide-type resin is mentioned.

폴리이미드계 수지를 사용하여, 예를 들면, 필름 등의 고분자 재료를 제조할 때, 수송시에 용적을 적게 할 수 있다는 관점에서 폴리이미드계 수지를 분체로서 제조하고, 당해 분체를 제막 장소까지 수송하고, 당해 분체를 이용하여 조제된 폴리이미드계 수지의 바니시를 이용하여 제막이 행해지고 있다. 이와 같은 폴리이미드계 수지의 분체의 예로서, 특허문헌 1에는, 특정의 비표면적, 용해도를 갖는 폴리이미드 분체가 개시되어 있다.When using a polyimide-based resin, for example, when manufacturing a polymer material such as a film, the polyimide-based resin is produced as a powder from the viewpoint of reducing the volume during transportation, and the powder is transported to a film forming place. And film forming is performed using the varnish of polyimide-type resin prepared using the said powder. As an example of such a powder of polyimide-based resin, Patent Document 1 discloses a polyimide powder having a specific specific surface area and solubility.

일본 특허 제5833783호 공보Japanese Patent No. 5833783

플렉시블 디스플레이 등의 광학 부재로서 사용되는 고분자 재료에는, 높은 굴곡내성이 요구된다. 본 발명자의 검토에 의하면, 높은 굴곡내성을 달성하기 위해서는, 예를 들면, 높은 중량평균 분자량을 갖는 폴리이미드계 수지를 이용하는 것을 생각할 수 있다. 여기서, 특허문헌 1에는, 고상 중합법에 의한 폴리이미드 분체의 제조 방법이 기재되어 있지만, 특허문헌 1에 기재되는 방법에서는, 충분히 높은 중량평균 분자량을 갖는 폴리이미드 분체를 제조할 수 없고, 이와 같은 분체를 이용하는 경우에는 최종적인 고분자 재료의 굴곡내성이 충분하지 않다는 것을 알 수 있었다. 따라서, 고분자량의 폴리이미드계 수지를 포함하는 고분자 재료를 제조하기에 적합한, 분체로서의 취급성이 좋고, 바니시 등을 제조할 때에는 용매에의 용해성이 높은, 폴리이미드계 수지 분체에 대한 요구는 여전히 존재한다.High bending resistance is required for a polymer material used as an optical member such as a flexible display. According to the examination of the present inventors, in order to achieve high bending resistance, it is conceivable to use, for example, a polyimide resin having a high weight average molecular weight. Here, although patent document 1 describes the manufacturing method of the polyimide powder by solid-state polymerization method, in the method described in patent document 1, the polyimide powder which has a sufficiently high weight average molecular weight cannot be manufactured, and such In the case of using the powder, it was found that the bending resistance of the final polymer material was not sufficient. Therefore, there is still a need for a polyimide resin powder having good handleability as a powder suitable for producing a polymer material containing a high molecular weight polyimide resin and having high solubility in a solvent when producing varnishes and the like. exist.

따라서, 본 발명의 목적은, 높은 중량평균 분자량을 갖고, 분체의 취급성이 좋고, 용매에의 용해성이 높은 폴리이미드계 수지의 분체, 및, 당해 분체의 제조 방법을 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a powder of polyimide resin having a high weight average molecular weight, good handleability of powder, and high solubility in a solvent, and a method for producing the powder.

본 발명자는, 상기 과제를 해결하기 위하여, 폴리이미드계 수지의 분자량 및 폴리이미드계 수지 분체의 제조 조건에 착안하여, 예의 검토를 행하였다. 그 결과, 비표면적이 10 ㎡/g 이하이고, 또한, 중량평균 분자량이 100,000 이상인, 비정성(非晶性) 폴리이미드계 수지 분체에 의해서, 상기 과제가 해결된다는 것을 발견하여, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM In order to solve the said subject, it focused on the molecular weight of polyimide-type resin, and the manufacturing conditions of polyimide-type resin powder, and earnestly examined. As a result, it was found that the above-mentioned problems were solved by an amorphous polyimide resin powder having a specific surface area of 10 m 2 / g or less and a weight average molecular weight of 100,000 or more, completing the present invention. It came to the following.

즉, 본 발명은 이하의 적절한 태양을 포함한다.That is, this invention includes the following suitable aspects.

〔1〕 비표면적이 10 ㎡/g 이하이고, 또한, 중량평균 분자량이 100,000 이상인, 비정성 폴리이미드계 수지 분체.[1] An amorphous polyimide resin powder having a specific surface area of 10 m 2 / g or less and a weight average molecular weight of 100,000 or more.

〔2〕 안식각이 45° 이하인, 상기 〔1〕에 기재된 폴리이미드계 수지 분체.[2] The polyimide resin powder according to [1], wherein the angle of repose is 45 ° or less.

〔3〕 탭 밀도가 0.3∼0.6 g/㎤인, 상기 〔1〕 또는〔2〕에 기재된 폴리이미드계 수지 분체.[3] The polyimide resin powder according to the above [1] or [2], wherein the tap density is 0.3 to 0.6 g / cm 3.

〔4〕 L*a*b* 표색계에 기초하는 색차 측정에 있어서, L*≥90, -10≤a*≤10, 및 -10≤b*≤10을 만족시키는, 상기 〔1〕∼〔3〕 중 어느 것에 기재된 폴리이미드계 수지 분체.[4] In the color difference measurement based on the L * a * b * colorimeter, the above-mentioned [1] to [3] satisfying L * ≥90, -10≤a * ≤10, and -10≤b * ≤10. The polyimide resin powder in any one of].

〔5〕 상기 〔1〕∼〔4〕 중 어느 것에 기재된 폴리이미드계 수지 분체의 제조 방법으로서, 폴리이미드계 수지가 양(良)용매 중에 용해된 용액을 상기 폴리이미드계 수지에 대한 적어도 2종의 빈(貧)용매와 접촉시키는 것을 포함하고, 상기 폴리이미드계 수지의 용액과 제 1 빈용매를 접촉시키는 공정, 및, 상기 공정에서 얻어진 용액에 제 2 빈용매를 첨가하는 공정을 포함하는, 제조 방법.[5] A method for producing a polyimide resin powder according to any one of [1] to [4], wherein at least two kinds of a solution in which a polyimide resin is dissolved in a good solvent are used for the polyimide resin. Comprising contacting with a poor solvent of, comprising contacting the solution of the polyimide resin with the first poor solvent, and adding a second poor solvent to the solution obtained in the step; Manufacturing method.

〔6〕〔1〕∼〔4〕 중 어느 것에 기재된 폴리이미드계 수지 분체를 이용하여 형성되는 광학 필름.[6] An optical film formed by using the polyimide resin powder according to any one of [1] to [4].

〔7〕〔6〕에 기재된 광학 필름을 구비하는 플렉시블 디스플레이.[7] A flexible display comprising the optical film as described in [6].

〔8〕터치 센서를 추가로 구비하는,〔7〕에 기재된 플렉시블 디스플레이.[8] The flexible display according to [7], further comprising a touch sensor.

〔9〕편광판을 추가로 구비하는, 〔7〕 또는〔8〕에 기재된 플렉시블 디스플레이.[9] The flexible display according to [7] or [8], further comprising a polarizing plate.

본 발명에 의하면, 높은 중량평균 분자량을 갖고, 분체의 취급성이 좋고, 용매에의 용해성이 높은 폴리이미드계 수지의 분체를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a powder of polyimide resin having a high weight average molecular weight, good handleability of powder, and high solubility in a solvent.

이하에, 본 발명의 실시 형태에 대하여 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명의 범위는 여기에서 설명하는 실시 형태에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지 변경을 할 수 있다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, embodiment of this invention is described in detail. In addition, the scope of the present invention is not limited to embodiment described here, A various change can be made in the range which does not deviate from the meaning of this invention.

본 발명의 비정성 폴리이미드계 수지 분체(이하에 있어서, 「본 발명의 폴리이미드계 수지 분체」라고도 칭함)는, 비표면적이 10 ㎡/g 이하이고, 또한, 중량평균 분자량이 100,000 이상인, 비정성의 폴리이미드계 수지 분체이다.The amorphous polyimide resin powder of the present invention (hereinafter also referred to as "polyimide resin powder of the present invention") has a specific surface area of 10 m 2 / g or less and a weight average molecular weight of 100,000 or more. It is qualitative polyimide resin powder.

본 발명의 폴리이미드계 수지 분체의 비표면적은 10 ㎡/g 이하이다. 폴리이미드계 수지 분체의 비표면적이 10 ㎡/g을 초과하는 경우, 입자 표면의 미세한 요철이 증가함으로써, 입자의 유동성이 저하된다. 그 때문에, 입자끼리가 응집하기 쉬워져, 폴리이미드계 수지 분체의 취급성이 나빠진다. 폴리이미드계 수지 분체의 취급성을 높이기 쉽다는 관점에서는, 폴리이미드계 수지 분체의 비표면적은, 바람직하게는 5 ㎡/g 이하, 보다 바람직하게는 3 ㎡/g 이하, 더 바람직하게는 1 ㎡/g 이하이다. 또, 용해성의 관점에서는, 폴리이미드계 수지 분체의 비표면적은, 바람직하게는 0.01 ㎡/g 이상, 보다 바람직하게는 0.05 ㎡/g 이상, 더 바람직하게는 0.1 ㎡/g 이상이다. 또한, 상기 비표면적은, BET법에 의해 측정되는 비표면적이고, 구체적으로는 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다. 폴리이미드계 수지 분체의 비표면적을 상기 범위로 하는 방법으로서는, 예를 들면, 폴리이미드계 수지를 포함하는 용액을, 폴리이미드계 수지에 대한 적어도 2종의 빈용매와 접촉시키는 것을 포함하는 분체의 제조 방법을 들 수 있다. 폴리이미드계 수지에 대한 용해도가 다른 2종류의 빈용매, 환언하면, 폴리이미드계 수지에 대한 석출성이 다른 2종류의 빈용매를 이용함으로써, 먼저 처음에 제 1 빈용매와의 접촉에 의해 분체의 핵을 석출시키고, 제 2 빈용매에 의해 핵이 성장하여 분체 입자가 된다고 생각된다. 이와 같이 하여 분체를 석출시킴으로써, 비표면적이 10 ㎡/g 이하로서, 매끄러운 표면을 갖는 분체를, 제조하기 쉽다. 또한, 본 발명은 상기 메커니즘에 하등 한정되는 것은 아니며, 또한, 본 발명의 폴리이미드계 수지 분체는, 그 제조 방법도 하등 한정되지 않는다.The specific surface area of the polyimide resin powder of this invention is 10 m <2> / g or less. When the specific surface area of a polyimide resin powder exceeds 10 m <2> / g, the fine unevenness | corrugation of a particle surface increases, and the fluidity | liquidity of particle | grains falls. Therefore, particle | grains become easy to aggregate, and the handleability of a polyimide resin powder worsens. From the viewpoint of easy handling of the polyimide resin powder, the specific surface area of the polyimide resin powder is preferably 5 m 2 / g or less, more preferably 3 m 2 / g or less, and still more preferably 1 m 2. / g or less From the viewpoint of solubility, the specific surface area of the polyimide resin powder is preferably 0.01 m 2 / g or more, more preferably 0.05 m 2 / g or more, still more preferably 0.1 m 2 / g or more. In addition, the said specific surface area is a specific surface measured by the BET method, and can be measured by the method as described in an Example specifically. As a method of making the specific surface area of a polyimide-type resin powder into the said range, for example, the powder containing contacting the solution containing polyimide-type resin with at least 2 types of poor solvents with respect to polyimide-type resin A manufacturing method is mentioned. By using two kinds of poor solvents having different solubility in polyimide resins, in other words, two kinds of poor solvents having different precipitation properties for polyimide resins, the powder is firstly contacted with the first poor solvent. It is thought that the nucleus of is precipitated, and the nucleus is grown by the second poor solvent to form powder particles. By depositing powder in this way, it is easy to manufacture the powder which has a smooth surface with a specific surface area of 10 m <2> / g or less. In addition, this invention is not limited to the said mechanism at all, In addition, the manufacturing method of the polyimide resin powder of this invention is not limited at all.

본 발명의 폴리이미드계 수지 분체의 중량평균 분자량은 100,000 이상이다. 폴리이미드계 수지 분체에 있어서의 폴리이미드계 수지의 중량평균 분자량이 100,000 미만인 경우, 폴리이미드계 수지 분체를 이용하여 제조되는 고분자 재료의 내굴곡성이 충분하지 않다. 고분자 재료에 있어서의 내굴곡성을 높이기 쉽다는 관점에서는, 폴리이미드계 수지 분체의 중량평균 분자량은, 바람직하게는 150,000 이상, 보다 바람직하게는 200,000 이상, 더 바람직하게는 250,000 이상, 특히 바람직하게는 300,000 이상이다. 폴리이미드계 수지 분체의 중량평균 분자량은, 바니시의 제조의 용이함이나, 고분자 재료를 제조할 때의 제막성의 관점에서는, 바람직하게는 800,000 이하, 보다 바람직하게는 600,000 이하, 더 바람직하게는 500,000 이하, 특히 바람직하게는 450,000 이하이다. 상기 중량평균 분자량은, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC) 측정에 의해 측정된다. 측정 조건으로서는, 실시예에 기재하는 조건을 사용해도 된다.The weight average molecular weight of the polyimide resin powder of this invention is 100,000 or more. When the weight average molecular weight of the polyimide resin in the polyimide resin powder is less than 100,000, the flex resistance of the polymer material produced using the polyimide resin powder is not sufficient. From the viewpoint of increasing the flex resistance in the polymer material, the weight average molecular weight of the polyimide resin powder is preferably 150,000 or more, more preferably 200,000 or more, further preferably 250,000 or more, particularly preferably 300,000. That's it. The weight average molecular weight of the polyimide resin powder is preferably 800,000 or less, more preferably 600,000 or less, even more preferably 500,000 or less, from the viewpoint of ease of production of varnish or film forming property when producing a polymer material. Especially preferably, it is 450,000 or less. The said weight average molecular weight is measured by the gel permeation chromatography (GPC) measurement. As measurement conditions, you may use the conditions described in an Example.

본 발명의 폴리이미드계 수지 분체는, 비정성 폴리이미드계 수지 분체이다. 폴리이미드계 수지가 비정성이 아닌 경우, 예를 들면, 바니시의 제조시에 있어서, 폴리이미드계 수지 분체를 용매에 용해시킬 때의 용해성이 나빠진다. 본 명세서에 있어서 폴리이미드계 수지가 비정성인지 여부는, 광각 X선 회절 측정에 의해 결정할 수 있고, 구체적으로는, 광각 X선 회절 측정에 있어서, 결정질에 유래하는 회절 피크가 검출되지 않는 경우, 이러한 폴리이미드계 수지는 비정성이다. 또한, 광각 X선 회절의 측정은, 예를 들면, 실시예에 기재하는 측정 조건으로 행할 수 있다.The polyimide resin powder of the present invention is an amorphous polyimide resin powder. When the polyimide resin is not amorphous, for example, the solubility at the time of dissolving the polyimide resin powder in a solvent worsens at the time of preparation of a varnish. In the present specification, whether the polyimide resin is amorphous can be determined by wide-angle X-ray diffraction measurement, and specifically, when a diffraction peak derived from crystalline is not detected in the wide-angle X-ray diffraction measurement, Such polyimide resin is amorphous. In addition, the measurement of wide-angle X-ray diffraction can be performed, for example on the measurement conditions described in an Example.

본 발명의 폴리이미드계 수지 분체의 안식각은, 바람직하게는 45° 이하, 보다 바람직하게는 42° 이하, 더 바람직하게는 40° 이하이고, 일반적으로 20° 이상이다. 안식각이 상기의 상한값 이하인 경우, 분체의 유동성이 좋다. 안식각의 측정은, 분체 특성 평가 장치(예를 들면, 호소카와미크론(주) 제 파우더 테스터 PT-X)를 이용하여 행할 수 있고, 예를 들면, 실시예에 기재하는 방법에 의해 측정할 수 있다.The angle of repose of the polyimide resin powder of the present invention is preferably 45 ° or less, more preferably 42 ° or less, still more preferably 40 ° or less, and generally 20 ° or more. When the angle of repose is below the upper limit, the fluidity of the powder is good. The angle of repose can be measured using a powder property evaluation device (for example, Powder Tester PT-X manufactured by Hosokawa Micron Co., Ltd.), and can be measured by the method described in Examples.

본 발명의 폴리이미드계 수지 분체의 탭 밀도는, 보관이나 이송시의 용적 효율의 관점에서는, 바람직하게는 0.3 g/㎤ 이상, 보다 바람직하게는 0.33 g/㎤ 이상, 더 바람직하게는 0.36 g/㎤ 이상이다. 또, 폴리이미드계 수지 분체가 자중(自重)에 의해 압밀화되어 풀리기 어려워지기 때문에, 당해 탭 밀도는, 바람직하게는 0.6 g/㎤ 이하, 보다 바람직하게는 0.55 g/㎤ 이하, 더 바람직하게는 0.5 g/㎤ 이하이다. 탭 밀도의 측정은, 예를 들면, JIS K 7370:2000에 준거한 방법이나 실시예에 기재하는 방법에 의해 측정할 수 있다. 탭 밀도의 측정에는, 예를 들면, (주)세이신기업 제의 탭 덴서(Tap denser)(KYT-5000)와 같은 장치를 이용해도 된다.The tap density of the polyimide resin powder of the present invention is preferably 0.3 g / cm 3 or more, more preferably 0.33 g / cm 3 or more, and even more preferably 0.36 g / cm from the viewpoint of volumetric efficiency during storage and transportation. Cm 3 or more. In addition, since the polyimide resin powder becomes hard to be consolidated due to its own weight, the tap density is preferably 0.6 g / cm 3 or less, more preferably 0.55 g / cm 3 or less, further preferably 0.5 g / cm 3 or less. The measurement of a tap density can be measured by the method based on JISK7370: 2000, or the method described in an Example, for example. For measurement of the tap density, for example, a device such as Tap Denser (KYT-5000) manufactured by Seishin Corporation may be used.

본 발명의 폴리이미드계 수지 분체는, L*a*b* 표색계에 기초하는 색차 측정(JIS Z 8781-4:2013에 준거)에 있어서, L*≥90, -10≤a*≤10, 및 -10≤b*≤10을 만족시키는 것이 바람직하다. 상기 색차 측정에 있어서의 L*은, 최종적으로 얻어지는 고분자 재료의 투명성, 시인성을 높이기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 90 이상, 보다 바람직하게는 93 이상, 더 바람직하게는 95 이상이다. L*의 상한은 특별히 한정되지 않고, 100 이하이면 된다. 상기 색차 측정에 있어서의 a*은, 붉은기의 지표를 나타내고, 폴리이미드계 수지 분체를 이용하여 형성되는 필름 등에 있어서의 시인성을 높이기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 -10 이상 10 이하, 보다 바람직하게는 -7 이상 7 이하, 더 바람직하게는 -5 이상 5 이하이다. 상기 색차 측정에 있어서의 b*은, 푸른기의 지표를 나타내고, 폴리이미드계 수지 분체를 이용하여 형성되는 필름 등에 있어서의 시인성을 높이기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 -10 이상 10 이하, 보다 바람직하게는 -5 이상 10 이하, 더 바람직하게는 -3 이상 7 이하이다. 상기 색차는, 색차계를 이용하여 측정할 수 있고, 예를 들면, 실시예에 기재하는 방법에 의해 측정할 수 있다.Polyimide-based resin powder of the present invention, L * a * b * color difference measurement based on the color system: according to (JIS Z 8781-4 conforming to 2013), L * ≥90, -10≤a * ≤10, and It is preferable to satisfy −10 ≦ b * ≦ 10. L * in the color difference measurement is preferably 90 or more, more preferably 93 or more, and even more preferably 95 or more from the viewpoint of easily increasing the transparency and visibility of the finally obtained polymer material. The upper limit of L * is not specifically limited, What is necessary is just 100 or less. A * in the said color difference measurement shows the index | index of a red group, From a viewpoint of being easy to improve visibility in the film etc. which are formed using polyimide-type resin powder, Preferably it is -10 or more and 10 or less, More preferably, Preferably it is -7 or more and 7 or less, More preferably, it is -5 or more and 5 or less. B * in the said chrominance measurement shows the index | index of a blue group, From a viewpoint of being easy to improve visibility in the film etc. which are formed using polyimide-type resin powder, Preferably it is -10 or more and 10 or less, More preferably, Preferably it is -5 or more and 10 or less, More preferably, it is -3 or more and 7 or less. The said color difference can be measured using a color difference meter, for example, can be measured by the method of describing in an Example.

본 발명의 폴리이미드계 수지 분체의 입도 분포에 대해서는, 용매에 용해시킬 때의 용해 속도의 관점에서, d50이, 바람직하게는 20∼800 ㎛, 보다 바람직하게는 50∼500 ㎛, 더 바람직하게는 100∼300 ㎛이다. 입도 분포는, 입도분석계를 이용하여 측정할 수 있고, 예를 들면, 실시예에 기재하는 방법에 의해 측정할 수 있다. 분체의 비산성의 관점에서는, d10이, 바람직하게는 5∼500 ㎛, 보다 바람직하게는 30∼300 ㎛, 더 바람직하게는 70∼200 ㎛이다. 또, 덩어리의 발생을 억제한다는 관점에서는, d90이, 바람직하게는 50∼1,000 ㎛, 보다 바람직하게는 100∼700 ㎛, 더 바람직하게는 200∼500 ㎛이다.Regarding the particle size distribution of the polyimide resin powder of the present invention, d 50 is preferably 20 to 800 µm, more preferably 50 to 500 µm, further preferably from the viewpoint of the dissolution rate when dissolved in a solvent. Is 100-300 micrometers. Particle size distribution can be measured using a particle size analyzer, and can be measured by the method described in an Example, for example. From the viewpoint of scattering of the powder, d 10 is preferably 5 to 500 µm, more preferably 30 to 300 µm, still more preferably 70 to 200 µm. In addition, from the viewpoint of suppressing the generation of lumps, d 90 is preferably 50 to 1,000 µm, more preferably 100 to 700 µm, still more preferably 200 to 500 µm.

(폴리이미드계 수지 분체의 제조 방법)(Method for producing polyimide resin powder)

본 발명의 폴리이미드계 수지 분체는, 폴리이미드계 수지가 양용매 중에 용해된 용액을 상기 폴리이미드계 수지에 대한 적어도 2종의 빈용매와 접촉시키는 것을 포함하고, 상기 폴리이미드계 수지의 용액과 제 1 빈용매를 접촉시키는 공정, 및, 상기 공정에서 얻어진 용액에 제 2 빈용매를 첨가하는 공정을 포함하는 제조 방법에 의해, 제조할 수 있다. 본 발명은 상기 제조 방법도 제공한다(이하에 있어서 상기 제조 방법을, 「본 발명의 제조 방법」이라고도 칭함).The polyimide resin powder of the present invention comprises contacting a solution in which a polyimide resin is dissolved in a good solvent with at least two poor solvents for the polyimide resin, and the solution of the polyimide resin It can manufacture by the manufacturing method including the process of contacting a 1st poor solvent, and the process of adding a 2nd poor solvent to the solution obtained by the said process. This invention also provides the said manufacturing method (Hereinafter, the said manufacturing method is also called "the manufacturing method of this invention.").

본 발명의 제조 방법은, 폴리이미드계 수지가 양용매 중에 용해된 용액을 상기 폴리이미드계 수지에 대한 적어도 2종의 빈용매와 접촉시키는 것을 포함하고, 먼저, 상기 폴리이미드계 수지의 용액과 제 1 빈용매를 접촉시키는 공정을 포함한다. 폴리이미드계 수지가 양용매 중에 용해된 용액은, 폴리이미드계 수지가 양용매 중에 용해된 용액이다.The manufacturing method of this invention includes contacting the solution which the polyimide-type resin melt | dissolved in the good solvent with at least 2 types of poor solvents with respect to the said polyimide-type resin, First, the solution and the agent of the said polyimide-type resin 1 step of contacting the poor solvent. The solution in which the polyimide resin is dissolved in the good solvent is a solution in which the polyimide resin is dissolved in the good solvent.

상기 용액은, 모노머를 용매(특히 폴리이미드계 수지에 대한 양용매) 중에서 중합시켜 얻은 반응 용액이어도 되고, 단리(單離)한 폴리이미드계 수지를 양용매에 용해시켜 얻은 용액이어도 된다. 폴리이미드계 수지 용액을 제조하기 쉽다는 관점에서는, 모노머의 중합 반응을 후술하는 양용매 중에서 행하고, 얻어진 반응 용액을 폴리이미드계 수지 용액으로서 이용하는 것이 바람직하다.The solution may be a reaction solution obtained by polymerizing a monomer in a solvent (particularly a good solvent for a polyimide resin), or may be a solution obtained by dissolving the isolated polyimide resin in a good solvent. It is preferable to perform the polymerization reaction of a monomer in the good solvent mentioned later from a viewpoint of being easy to manufacture a polyimide-type resin solution, and to use the obtained reaction solution as a polyimide-type resin solution.

폴리이미드계 수지 용액에 포함되는 양용매는, 폴리이미드계 수지를 용해시키기 쉬운 용매이고, 예를 들면, 폴리이미드계 수지에 대한 실온(20∼30℃)에서의 용해도가 1 질량% 이상인 용매를 말한다. 폴리이미드계 수지 용액에 포함되는 양용매는, 1종류의 용매여도 되고, 2종 이상의 용매의 혼합물이어도 된다. 양용매로서는, 예를 들면, 아세톤, N,N-디메틸포름아미드(DMF), 디메틸술폭시드(DMSO), γ-부티로락톤(GBL), N,N-디메틸아세트아미드(DMAc)를 들 수 있다. 양용매의 폴리이미드계 수지에 대한 용해도는, 용적 효율의 관점에서, 바람직하게는 3 질량% 이상, 보다 바람직하게는 5 질량% 이상이다. 양용매의 폴리이미드계 수지에 대한 용해도의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 빈용매의 사용량을 삭감할 수 있다는 관점에서는, 바람직하게는 40 질량% 이하, 보다 바람직하게는 25 질량% 이하이다.The good solvent contained in the polyimide-based resin solution is a solvent which is easy to dissolve the polyimide-based resin, and, for example, refers to a solvent having a solubility of 1% by mass or more at room temperature (20 to 30 ° C) with respect to the polyimide-based resin. . One type of solvent may be sufficient as the good solvent contained in a polyimide-type resin solution, and the mixture of 2 or more types of solvent may be sufficient as it. Examples of the good solvent include acetone, N, N-dimethylformamide (DMF), dimethyl sulfoxide (DMSO), γ-butyrolactone (GBL), and N, N-dimethylacetamide (DMAc). have. The solubility of the good solvent in the polyimide resin is preferably 3% by mass or more, more preferably 5% by mass or more from the viewpoint of volumetric efficiency. Although the upper limit of the solubility with respect to polyimide resin of a good solvent is not specifically limited, From a viewpoint that the usage-amount of a poor solvent can be reduced, Preferably it is 40 mass% or less, More preferably, it is 25 mass% or less.

폴리이미드계 수지 용액에 있어서의 양용매의 함유량은, 조작상, 취급하기 쉬운 점도로 조정하기 쉽다는 관점에서, 폴리이미드계 수지 용액의 총량에 대하여 바람직하게는 60 질량% 이상, 보다 바람직하게는 75 질량% 이상이다. 또, 폴리이미드계 수지 용액에 있어서의 양용매의 함유량은, 빈용매의 사용량을 삭감할 수 있다는 관점에서, 폴리이미드계 수지 용액의 총량에 대하여 바람직하게는 98 질량% 이하, 보다 바람직하게는 95 질량% 이하이다.The content of the good solvent in the polyimide-based resin solution is preferably 60 mass% or more, more preferably relative to the total amount of the polyimide-based resin solution, from the viewpoint of being easy to adjust to an operation-friendly viscosity. It is 75 mass% or more. The content of the good solvent in the polyimide resin solution is preferably 98% by mass or less, more preferably 95 to the total amount of the polyimide resin solution from the viewpoint of reducing the amount of poor solvent used. It is mass% or less.

폴리이미드계 수지 용액에 있어서의 폴리이미드계 수지의 함유량은, 용적 효율의 관점에서, 폴리이미드계 수지 용액의 총량에 대하여 바람직하게는 1 질량% 이상, 보다 바람직하게는 3 질량% 이상이다. 또, 폴리이미드계 수지 용액에 있어서의 폴리이미드계 수지의 함유량은, 조작상, 취급하기 쉬운 점도로 조정하기 쉽다는 관점에서, 폴리이미드계 수지 용액의 총량에 대하여 바람직하게는 20 질량% 이하, 보다 바람직하게는 10 질량% 이하이다.The content of the polyimide resin in the polyimide resin solution is preferably 1% by mass or more and more preferably 3% by mass or more with respect to the total amount of the polyimide resin solution from the viewpoint of volumetric efficiency. The content of the polyimide resin in the polyimide resin solution is preferably 20% by mass or less with respect to the total amount of the polyimide resin solution from the viewpoint of being easy to adjust to a viscosity that is easy to handle in operation. More preferably, it is 10 mass% or less.

본 발명의 제조 방법은, 폴리이미드계 수지가 양용매 중에 용해된 폴리이미드계 수지 용액을, 폴리이미드계 수지에 대한 적어도 2종의 빈용매와 접촉시키는 것을 포함한다.The manufacturing method of this invention includes contacting the polyimide-type resin solution which polyimide-type resin melt | dissolved in the good solvent with at least 2 types of poor solvents with respect to polyimide-type resin.

폴리이미드계 수지에 대한 빈용매는, 폴리이미드계 수지를 용해시키기 어려운 용매이고, 예를 들면, 폴리이미드계 수지에 대한 실온(20∼30℃)에서의 용해도가 1 질량% 미만인 용매를 말한다. 빈용매는 1종류의 용매여도 되고, 2종 이상의 용매의 혼합물이어도 된다. 빈용매로서는, 예를 들면, 메탄올, 2-프로판올, 아세트산 에틸, 테트라히드로푸란, 톨루엔, 헥산, 물을 들 수 있다.The poor solvent with respect to polyimide-type resin is a solvent which is hard to melt | dissolve polyimide-type resin, For example, it means the solvent whose solubility in room temperature (20-30 degreeC) with respect to polyimide-type resin is less than 1 mass%. The poor solvent may be one kind of solvent or a mixture of two or more kinds of solvents. As a poor solvent, methanol, 2-propanol, ethyl acetate, tetrahydrofuran, toluene, hexane, water is mentioned, for example.

따라서, 사용하는 용매가 양용매인지 빈용매인지는 하기의 방법으로 확인할 수 있다. 용매에 폴리이미드계 수지를 1 질량%가 되도록 추가하고, 필요에 따라서 가열·교반 등을 함으로써 용매에 수지를 용해시키고, 실온(20∼30℃) 상태에서의 용액이 균일하게 투명해져 있으면 당해 용매는 양용매라고 판단하고, 용해 잔사가 존재한 경우나 한번 용해된 수지가 석출된 경우는, 빈용매라고 판단한다. 예를 들면, 본 실시예에 있어서는, 용기에 용매를 측정하여 넣고, 교반하고, 거기에, 1 질량%가 되도록 폴리이미드계 수지를 넣고, 실온(24℃)에서 3시간 교반을 행하였다. 그 결과, 용액이 균일하게 투명해져 있으면 양용매이고, 용해 잔사가 존재한 경우는 빈용매라고 판단하였다.Therefore, whether the solvent to be used is a good solvent or a poor solvent can be confirmed by the following method. When the polyimide resin is added to the solvent so as to be 1% by mass, the resin is dissolved in the solvent by heating and stirring if necessary, and the solution in the room temperature (20 to 30 ° C.) state becomes uniformly transparent. Is judged to be a good solvent, and it is judged to be a poor solvent when a dissolved residue is present or a resin once dissolved is precipitated. For example, in the present Example, the solvent was measured and put in the container, and it stirred, and the polyimide-type resin was put therein to be 1 mass%, and it stirred at room temperature (24 degreeC) for 3 hours. As a result, when a solution was uniformly transparent, it was a good solvent, and when a dissolved residue existed, it was judged as a poor solvent.

본 발명의 제조 방법은, 폴리이미드계 수지가 양용매 중에 용해된 폴리이미드계 수지 용액을, 상기 폴리이미드계 수지에 대한 적어도 2종의 빈용매와 접촉시키는 것을 포함한다. 여기서, 적어도 2종류의 빈용매와 접촉시킨다는 것은, 서로 다른 빈용매와 적어도 2회 접촉시키는 것을 의미한다. 이하에 있어서, 적어도 2종류의 빈용매를, 제 1 빈용매 및 제 2 빈용매라고 칭하고, 설명한다. 또한, 제 1 및 제 2 빈용매 외에, 3종류 이상의 빈용매를 이용해도 된다. 또, 제 1 빈용매와의 접촉 및 제 2 빈용매와의 접촉의 사이에, 제 3 빈용매와의 접촉이 행해져도 되지만, 폴리이미드계 수지 용액과 접촉시키는 빈용매가, 폴리이미드계 수지에 대한 용해도가 낮아지는 순서로 접촉시키는 것이 바람직하다.The manufacturing method of this invention includes contacting the polyimide-type resin solution which polyimide-type resin melt | dissolved in a good solvent, with at least 2 types of poor solvents with respect to the said polyimide-type resin. Here, contacting at least two kinds of poor solvents means contacting at least twice with different poor solvents. Below, at least two types of poor solvents are called a 1st poor solvent and a 2nd poor solvent, and it demonstrates. In addition to the first and second poor solvents, three or more types of poor solvents may be used. Moreover, although the contact with a 3rd poor solvent may be performed between the contact with a 1st poor solvent and a contact with a 2nd poor solvent, the poor solvent made to contact with a polyimide resin solution is a polyimide-type resin. It is preferable to make it contact in order that solubility to water may become low.

제 1 빈용매 및 제 2 빈용매는, 폴리이미드계 수지를 용해시키기 어려운 용매이고, 각각, 1종류의 용매여도 되고 2종 이상의 용매의 혼합물이어도 된다. 제 1 빈용매와 제 2 빈용매는, 각각이 서로 다른 1종류의 물질이어도 되고, 일방(一方)이 1종류의 물질이고, 타방(他方)이 2종 이상의 물질의 혼합물이어도 되고, 양방(兩方)이 2종 이상의 물질의 혼합물이어도 된다. 또한, 제 1 빈용매 및 제 2 빈용매가, 서로 혼합 비율에 있어서만 다른 2종 이상의 물질의 혼합물이어도 된다. 폴리이미드계 수지를 석출시키기 쉽다는 관점에서는, 제 1 빈용매 및 제 2 빈용매는, 용해도가 서로 다른 1종류의 용매인 것이 바람직하다.The first poor solvent and the second poor solvent are solvents which are difficult to dissolve the polyimide resin, and may be one kind of solvent or a mixture of two or more kinds of solvents, respectively. The first poor solvent and the second poor solvent may be one kind of different materials, one kind of one kind of substance, the other mixture of two or more kinds of substances, or both. The method may be a mixture of two or more substances. The first poor solvent and the second poor solvent may be a mixture of two or more kinds of substances different only in the mixing ratio of each other. From the viewpoint of easily precipitating the polyimide resin, the first poor solvent and the second poor solvent are preferably one kind of solvents having different solubility.

본 발명의 제조 방법은, 구체적으로는, 폴리이미드계 수지의 용액과 제 1 빈용매를 접촉시키는 공정, 및, 상기 공정에서 얻어진 용액에 제 2 빈용매를 첨가하는 공정을 적어도 포함한다. 여기서, 폴리이미드계 수지가 양용매 중에 용해된 폴리이미드계 수지의 용액에 빈용매를 첨가하면, 용매 전체로서의 폴리이미드계 수지의 용해도가 내려감으로써, 용해되지 못한 폴리이미드계 수지가 분체로서 석출된다. 빈용매의 첨가에 의한 용해도의 변화 속도가 빠른 경우, 폴리이미드계 수지가 고체화되어 석출되는 속도가 빨라진다. 석출 속도가 너무 빠르면, 폴리이미드계 수지의 분체에 촉매나 잔여 모노머 등의 불순물이 혼입되기 쉬워진다. 또, 폴리이미드계 수지와 양용매의 친화성의 높이에 기인하여, 석출된 폴리이미드계 수지 중에 양용매가 포함되고, 고무상의 혼합물이 되어, 분체가 얻어지지 않는 경우가 있다. 폴리이미드계 수지의 용액과 제 1 빈용매를 접촉시키는 공정, 및, 제 2 빈용매를 첨가하는 공정을 적어도 포함하는 본 발명의 제조 방법에 의하면, 폴리이미드계 수지 분체의 석출 속도를 컨트롤할 수 있고, 석출하는 폴리이미드계 수지 분체 중에 용매가 포함되는 것을 억제할 수 있기 때문에, 폴리이미드계 수지 분체를 효율적으로 제조할 수 있다.The manufacturing method of this invention contains at least the process of contacting the solution of polyimide-type resin, and a 1st poor solvent, and the process of adding a 2nd poor solvent to the solution obtained by the said process. Here, when a poor solvent is added to the solution of the polyimide-type resin in which the polyimide-type resin melt | dissolved in the good solvent, the solubility of the polyimide-type resin as a whole solvent will fall, and the polyimide-type resin which was not melt | dissolved will precipitate as powder. . When the rate of change of solubility due to the addition of the poor solvent is high, the rate at which the polyimide resin solidifies and precipitates is increased. If the precipitation rate is too fast, impurities such as catalysts and residual monomers easily enter the powder of the polyimide resin. Moreover, due to the height of the affinity between the polyimide resin and the good solvent, the good solvent may be contained in the precipitated polyimide resin, resulting in a rubbery mixture, and powder may not be obtained. According to the manufacturing method of this invention including the process of contacting the solution of a polyimide-type resin, and a 1st poor solvent, and the process of adding a 2nd poor solvent, the precipitation rate of a polyimide resin powder can be controlled. Since it can suppress that a solvent is contained in the polyimide resin powder which precipitates, a polyimide resin powder can be manufactured efficiently.

먼저, 폴리이미드계 수지의 용액과 제 1 빈용매를 접촉시키는 공정에 대하여 설명한다. 폴리이미드계 수지의 용액과 제 1 빈용매를 접촉시키는 방법으로서는, 이들이 접촉하는 한 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 폴리이미드계 수지 용액에 제 1 빈용매를 첨가하는 방법, 또는, 제 1 빈용매에 폴리이미드계 수지 용액을 첨가하는 방법을 들 수 있다. 분체를 얻기 쉽다는 관점에서는, 폴리이미드계 수지의 용액과 제 1 빈용매를 접촉시키는 공정을, 제 1 빈용매를 폴리이미드계 수지의 용액에 첨가함으로써 행하는 것이 바람직하다. 또, 첨가 속도를 조정하기 쉽다는 관점에서, 적하에 의해 첨가를 행하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 폴리이미드계 수지 용액 중에 있어서는, 적어도 일부의 폴리이미드계 수지가 용해된 상태인 한, 일부의 폴리이미드계 수지가 분체로서 석출되어 있어도 되고, 모든 폴리이미드계 수지가 용해되어 있어도 된다.First, the process of making the solution of a polyimide resin and a 1st poor solvent contact is demonstrated. The method of bringing the solution of the polyimide resin into contact with the first poor solvent is not particularly limited as long as they contact. For example, the method of adding the first poor solvent to the polyimide resin solution, or the first bin The method of adding a polyimide resin solution to a solvent is mentioned. It is preferable to perform the process of contacting the solution of polyimide-type resin, and a 1st poor solvent from a viewpoint of easy to obtain powder by adding a 1st poor solvent to the solution of polyimide-type resin. Moreover, it is more preferable to add by dripping from a viewpoint of being easy to adjust an addition rate. In addition, in a polyimide-type resin solution, as long as at least one part of polyimide-type resin is melt | dissolved, some polyimide-type resin may be precipitated as powder and all the polyimide-type resin may melt | dissolve.

다음으로, 본 발명의 제조 방법은, 상기의 공정에서 얻어진 용액(이하에 있어서, 「제 1 빈용매와 접촉 후의 폴리이미드계 수지 용액」이라고도 칭함)에 제 2 빈용매를 첨가하는 공정을 포함한다. 제 2 빈용매를 첨가함으로써, 폴리이미드계 수지를 석출시킬 수 있다. 제 2 빈용매를 첨가함으로써 폴리이미드계 수지를 석출시키기 쉽다는 관점에서, 제 2 빈용매의 폴리이미드계 수지에 대한 용해도는, 제 1 빈용매의 폴리이미드계 수지에 대한 용해도보다 낮은 것이 바람직하다.Next, the manufacturing method of this invention includes the process of adding a 2nd poor solvent to the solution (henceforth a "polyimide resin solution after contact with a 1st poor solvent") obtained at said process. . By adding the second poor solvent, the polyimide resin can be precipitated. It is preferable that the solubility with respect to the polyimide resin of a 2nd poor solvent is lower than the solubility with respect to polyimide resin of a 1st poor solvent from a viewpoint of making it easy to precipitate a polyimide resin by adding a 2nd poor solvent. .

제 1 빈용매는, 계속되는 제 2 빈용매를 첨가하는 공정에 있어서 폴리이미드계 수지를 석출시키기 쉽다는 관점에서, 탄소수 1∼4의 알콜을 주성분으로 하는 용매인 것이 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서, 주성분으로 한다는 것은, 70 질량% 이상을 차지하는 것을 의미한다. 제 1 빈용매 중의 탄소수 1∼4의 알콜의 비율은, 바람직하게는 70 질량% 이상, 보다 바람직하게는 80 질량% 이상, 더 바람직하게는 90 질량% 이상이다.It is preferable that a 1st poor solvent is a solvent which has a C1-C4 alcohol as a main component from a viewpoint of making it easy to precipitate a polyimide-type resin in the process of adding a following 2nd poor solvent. In addition, in this specification, making it a main component means that it occupies 70 mass% or more. The proportion of the alcohol having 1 to 4 carbon atoms in the first poor solvent is preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and still more preferably 90% by mass or more.

제 2 빈용매는, 폴리이미드계 수지를 석출시키기 쉽다는 관점에서, 물을 주성분으로 하는 용매인 것이 바람직하다. 제 2 빈용매 중의 물의 비율은, 바람직하게는 70 질량% 이상, 보다 바람직하게는 80 질량% 이상, 더 바람직하게는 90 질량% 이상이다.It is preferable that a 2nd poor solvent is a solvent which has water as a main component from a viewpoint of making it easy to precipitate a polyimide-type resin. The proportion of water in the second poor solvent is preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and still more preferably 90% by mass or more.

제 1 빈용매와 접촉 후의 폴리이미드계 수지 용액에 제 2 빈용매를 첨가하여 폴리이미드계 수지를 석출시키는 공정에 대하여, 제 2 빈용매의 첨가 속도(kg/분)와, 제 1 빈용매와 접촉 후의 폴리이미드계 수지 용액 중의 수지의 양(kg)은, 관계식:In the step of adding the second poor solvent to the polyimide resin solution after contact with the first poor solvent to precipitate the polyimide resin, the addition rate of the second poor solvent (kg / min), the first poor solvent and The amount (kg) of the resin in the polyimide resin solution after contact is

[수학식 1][Equation 1]

Figure pat00001
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을 만족시키는 것이 바람직하다. 수지의 양에 대한 제 2 빈용매의 첨가 속도를 상기 이하로 함으로써, 폴리이미드계 수지가 석출되는 속도를 제어할 수 있어, 수지가 석출될 때에 양용매를 포함하는 것을 방지하기 쉽다. 그 결과, 입자끼리가 밀착되어 덩어리가 되는 것을 방지하고, 분체가 얻어지기 쉬워진다. 상기 식에 의해 산출되는 값은, 양용매의 포함을 방지하면서 분체로서 석출시키기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 0.8 이하, 보다 바람직하게는 0.5 이하, 더 바람직하게는 0.3 이하, 특히 바람직하게는 0.2 이하이다. 상기 식에 의해 산출되는 값의 하한값은 특별히 한정되지 않지만, 폴리이미드계 수지 분체의 제조 효율의 관점에서는, 통상 0.01 이상 정도이다. 또, 상기 식에 있어서의 제 1 빈용매와 접촉 후의 폴리이미드계 수지 용액 중의 수지의 양은, 제 2 빈용매에서의 수지 석출시나, 후술의 폴리이미드계 수지 조성물의 여과 공정, 폴리이미드계 수지 조성물의 건조 공정에서의 로스가 없는 경우에는, 후술의 폴리이미드계 수지 조성물을 건조시킴으로써 얻어지는 폴리이미드계 수지 분체의 양과 동등하다. 통상은, 제 1 빈용매와 접촉 후의 폴리이미드계 수지 용액 중의 수지의 양 ≥ 건조 후의 폴리이미드계 수지 분체의 양이기 때문에, 상기 식을 만족시키고 있는지 여부는, 제 1 빈용매와 접촉 후의 폴리이미드계 수지 용액 중의 수지의 양을, 건조 후의 폴리이미드계 수지 분체의 양으로 치환하여 계산하는 것에 의해서도 확인할 수 있다.It is desirable to satisfy. By setting the addition rate of the second poor solvent relative to the amount of resin to the above value, the rate at which the polyimide resin is precipitated can be controlled, and it is easy to prevent the inclusion of a good solvent when the resin is precipitated. As a result, the particles are in close contact with each other to prevent agglomeration and powder is easily obtained. The value calculated by the above formula is preferably 0.8 or less, more preferably 0.5 or less, still more preferably 0.3 or less, particularly preferably 0.2 from the viewpoint of being easy to precipitate as powder while preventing the inclusion of a good solvent. It is as follows. Although the lower limit of the value computed by the said formula is not specifically limited, From a viewpoint of the manufacturing efficiency of a polyimide resin powder, it is about 0.01 or more normally. In addition, the quantity of resin in the polyimide-type resin solution after contact with the 1st poor solvent in the said formula is the time of resin precipitation in a 2nd poor solvent, the filtration process of the polyimide-type resin composition mentioned later, and a polyimide resin composition When there is no loss in the drying process, it is equivalent to the quantity of the polyimide resin powder obtained by drying the polyimide resin composition mentioned later. Usually, since the amount of resin in the polyimide-based resin solution after contact with the first poor solvent is the amount of polyimide-based resin powder after drying, whether the above formula is satisfied or not is polyimide after contact with the first poor solvent. It can also confirm by substituting and calculating the quantity of resin in system resin solution by the quantity of the polyimide resin powder after drying.

제 1 빈용매와 접촉시키는 공정에서 얻어진 폴리이미드계 수지의 용액에 제 2 빈용매를 첨가하는 공정에 대하여, 제 2 빈용매의 첨가 방법은 특별히 한정되지 않는다. 첨가 속도를 조정하기 쉽고, 빈용매의 국소적인 농도 상승을 억제하기 쉽다는 관점에서는, 적하에 의해 첨가를 행하는 것이 보다 바람직하다. 폴리이미드계 수지의 용액에 첨가된 제 2 빈용매에 관하여, 첨가 방법에 따라서도 다르지만, 첨가 직후는 국소적으로 빈용매의 농도가 높은 부분이 생기고, 그 후 폴리이미드계 수지의 용액 전체에 퍼진다. 제 2 빈용매의 농도가 국소적으로 너무 높아지면, 국소적으로 폴리이미드계 수지 분체가 급격하게 석출되어, 폴리이미드계 수지 분체에 불순물이 혼입되기 쉬워지거나, 고체화한 폴리이미드계 수지가 용매를 포함하거나 함으로써 분체를 얻기 어려워지는 경우가 있다. 그 때문에, 가능한 한 국소적인 석출이 생기지 않도록 첨가 방법이나 첨가 속도를 선택하는 것이, 효율적으로 높은 정밀도로 폴리이미드계 수지 분체를 석출시키기 쉽다는 관점에서 바람직하다.The method of adding the second poor solvent is not particularly limited with respect to the step of adding the second poor solvent to the solution of the polyimide resin obtained in the step of contacting with the first poor solvent. It is more preferable to add by dripping from a viewpoint that it is easy to adjust an addition rate and to suppress local concentration rise of a poor solvent easily. Regarding the second poor solvent added to the solution of the polyimide-based resin, the addition method is different depending on the addition method, but a portion having a high concentration of the poor solvent is formed locally immediately after the addition, and then spreads to the entire solution of the polyimide-based resin. . If the concentration of the second poor solvent is too high locally, the polyimide resin powder is rapidly precipitated locally, and impurities are easily mixed into the polyimide resin powder, or the solidified polyimide resin is used as a solvent. It may become difficult to obtain powder by including it. Therefore, it is preferable to select an addition method and an addition rate so that local precipitation does not occur as much as possible from a viewpoint of being easy to precipitate a polyimide resin powder efficiently and with high precision.

폴리이미드계 수지를 포함하는 용액에 제 2 빈용매를 첨가하는 방법으로서는, 국소적인 폴리이미드계 수지 분체의 석출을 억제하는 관점에서는, 제 2 빈용매의 국소적인 농도 상승을 억제할 수 있는 방법이 바람직하고, 폴리이미드계 수지 분체의 제조 효율을 높이기 쉽다는 관점에서는, 첨가 속도를 빠르게 할 수 있는 방법이 바람직하다. 이러한 관점에서, 폴리이미드계 수지를 포함하는 용액에 제 2 빈용매를 첨가하는 바람직한 방법으로서는, 제 2 빈용매를, 예를 들면, 복수의 노즐 또는 복수의 분지를 갖는 노즐을 이용하여, 라인 분할하여 첨가하는 방법, 샤워 노즐을 이용하여 첨가하는 방법, 제 2 빈용매의 토출구가 폴리이미드계 수지를 포함하는 용액 중에 침지된 상태로 첨가를 행하는 딥법, 노즐의 끝에 분산판을 장착하는 방법 등을 들 수 있다.As a method of adding the second poor solvent to the solution containing the polyimide resin, a method capable of suppressing the local concentration rise of the second poor solvent from the viewpoint of suppressing the precipitation of the local polyimide resin powder. It is preferable and the method which can speed up an addition speed is preferable from a viewpoint of being easy to raise the manufacturing efficiency of a polyimide resin powder. In view of this, as a preferable method of adding the second poor solvent to the solution containing the polyimide resin, the second poor solvent is divided into lines using, for example, a nozzle having a plurality of nozzles or a plurality of branches. Adding by using a shower nozzle, adding by dipping a second poor solvent outlet in a solution containing a polyimide resin, attaching a dispersion plate to the end of the nozzle, and the like. Can be mentioned.

본 발명의 제조 방법은, 폴리이미드계 수지의 용액과 제 1 빈용매를 접촉시키는 공정, 및, 상기 공정에서 얻어진 용액에 제 2 빈용매를 첨가하는 공정 외에, 당해 공정 후, 얻어진 혼합물을 여과하여 폴리이미드계 수지 조성물을 얻는 공정을 추가로 포함해도 된다. 또한, 여과에 의해 얻어지는 폴리이미드계 수지 조성물은, 웨트 케이크라고도 불리는 조성물이고, 폴리이미드계 수지 분체를 얻기 위한 중간체이다. 폴리이미드계 수지 조성물에는, 폴리이미드계 수지 분체와, 양용매 및/또는 빈용매가 포함되어 있고, 폴리이미드계 수지 조성물을 건조시킴으로써 폴리이미드계 수지 분체가 얻어진다.The manufacturing method of this invention filters the mixture obtained after the said process other than the process of contacting the solution of a polyimide-type resin, and a 1st poor solvent, and the process of adding a 2nd poor solvent to the solution obtained at the said process, You may further include the process of obtaining a polyimide-type resin composition. In addition, the polyimide resin composition obtained by filtration is a composition also called a wet cake, and is an intermediate for obtaining polyimide resin powder. The polyimide resin powder contains a polyimide resin powder, a good solvent and / or a poor solvent, and a polyimide resin powder is obtained by drying the polyimide resin composition.

얻어진 혼합물을 여과하여 폴리이미드계 수지 조성물을 얻는 공정에 대하여, 여과 방법은 특별히 한정되지 않고, 석출물과 용매의 투과성이 다른 필터를 거쳐, 중력에 의해 분리하는 방법, 원심력에 의해 분리하는 방법, 가압에 의해 분리하는 방법을 들 수 있다. 이와 같이 하여 얻은 폴리이미드계 수지 조성물에 있어서의 빈용매의 함유량은, 여과 방법에 따라 다르지만, 일반적으로, 당해 폴리이미드계 수지 조성물의 총 질량에 대하여 바람직하게는 5 질량% 이상, 보다 바람직하게는 10 질량% 이상, 더 바람직하게는 20 질량% 이상이다. 빈용매의 함유량의 상한은, 건조에 의해 폴리이미드계 수지 분체를 제조하기 쉽다는 관점에서는, 당해 폴리이미드계 수지 조성물의 총 질량에 대하여 바람직하게는 70 질량% 이하, 보다 바람직하게는 50 질량% 이하이다. 또, 폴리이미드계 수지 조성물에 있어서의 양용매의 함유량은, 바람직하게는 1 질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.3 질량% 이하이다. 양용매의 함유량의 하한값은 특별히 한정되지 않고, 적은 쪽이 바람직하다. 본 발명은, 본 발명의 제조 방법에 있어서의 중간체인, 상기 폴리이미드계 수지 조성물도 제공한다. 본 발명의 폴리이미드계 수지 조성물을 건조시켜 용매를 제거함으로써, 본 발명의 폴리이미드계 수지 분체를 제조할 수 있다.Filtration method is not specifically limited about the process of filtering the obtained mixture and obtaining a polyimide-type resin composition, The method of separating by gravity, the method of separating by centrifugal force, and the pressurization through the filter from which the precipitate and solvent permeability differ. The separation method can be mentioned. Although the content of the poor solvent in the polyimide-based resin composition thus obtained varies depending on the filtration method, it is generally 5% by mass or more, more preferably based on the total mass of the polyimide-based resin composition. 10 mass% or more, More preferably, it is 20 mass% or more. The upper limit of the content of the poor solvent is preferably 70% by mass or less, more preferably 50% by mass with respect to the total mass of the polyimide resin composition from the viewpoint of being easy to manufacture the polyimide resin powder by drying. It is as follows. Moreover, content of the good solvent in a polyimide-type resin composition becomes like this. Preferably it is 1 mass% or less, More preferably, it is 0.3 mass% or less. The lower limit of the content of the good solvent is not particularly limited, and the smaller one is preferable. This invention also provides the said polyimide-type resin composition which is an intermediate in the manufacturing method of this invention. The polyimide resin powder of this invention can be manufactured by drying the polyimide resin composition of this invention and removing a solvent.

본 발명의 제조 방법은, 얻어진 혼합물을 여과하여 폴리이미드계 수지 조성물을 얻는 공정 후, 추가로, 폴리이미드계 수지 조성물을 건조시켜, 폴리이미드계 수지 분체를 얻는 공정을 더 포함해도 된다. 건조 조건은, 폴리이미드계 수지 조성물 중의 용매가 제거되는 한 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 감압 또는 대기압 조건 하, 50∼250℃의 온도에서 1∼48시간 가열하는 방법에 의해 행해도 된다.The manufacturing method of this invention may further include the process of drying a polyimide resin composition and obtaining a polyimide resin powder after the process of filtering the obtained mixture and obtaining a polyimide resin composition. Drying conditions are not specifically limited as long as the solvent in a polyimide resin composition is removed. For example, you may carry out by the method of heating at the temperature of 50-250 degreeC for 1 to 48 hours under reduced pressure or atmospheric pressure conditions.

(폴리이미드계 수지)(Polyimide Resin)

본 발명의 폴리이미드계 수지 분체는, 폴리이미드 수지, 폴리아미드이미드 수지 또는 폴리아믹산 수지이다. 폴리이미드계 수지 분체는, 1종류의 폴리이미드계 수지를 함유하는 분체여도 되고, 2종 이상의 폴리이미드계 수지를 함유하는 분체여도 된다. 폴리이미드계 수지는, 제막성의 관점에서, 바람직하게는 폴리이미드 수지, 폴리아미드이미드 수지이고, 보다 바람직하게는 폴리아미드이미드 수지이다.The polyimide resin powder of the present invention is a polyimide resin, polyamideimide resin or polyamic acid resin. The polyimide resin powder may be a powder containing one kind of polyimide resin, or may be a powder containing two or more kinds of polyimide resins. The polyimide resin is preferably a polyimide resin, a polyamideimide resin, and more preferably a polyamideimide resin from the viewpoint of film forming properties.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지는, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위를 갖는 폴리이미드 수지이거나, 또는, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위를 갖는 폴리아미드이미드 수지인 것이 바람직하다. 폴리이미드계 수지는, 투명성이나 굴곡성의 관점에서, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위를 갖는 폴리아미드이미드 수지인 것이 보다 바람직하다. 이하에 있어서 식 (1) 및 식 (2)에 대하여 설명하지만, 식 (1)에 대한 설명은, 폴리이미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지의 양방에 관한 것이고, 식 (2)에 대한 설명은, 폴리아미드이미드 수지에 관한 것이다.In one embodiment of the present invention, the polyimide resin is a polyimide resin having a structural unit represented by formula (1), or is represented by a structural unit represented by formula (1) and formula (2) It is preferable that it is a polyamideimide resin which has a structural unit. The polyimide resin is more preferably a polyamideimide resin having a structural unit represented by the formula (1) and a structural unit represented by the formula (2) from the viewpoint of transparency and flexibility. Although Formula (1) and Formula (2) are demonstrated below, description about Formula (1) relates to both a polyimide resin and a polyamide-imide resin, and the description about Formula (2) is a poly It relates to an amideimide resin.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00002
Figure pat00002

폴리이미드계 수지가, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위를 갖는 폴리이미드 수지이거나, 또는, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위를 갖는 폴리아미드이미드 수지인 본 발명의 일 태양에 있어서, 식 (1) 중의 Y는, 각각 독립적으로, 4가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 탄소수 4∼40의 4가의 유기기를 나타낸다. 상기 유기기는, 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기이고, 그 경우, 탄화수소기 및 불소 치환된 탄화수소기의 탄소수는 바람직하게는 1∼8이다. 본 발명의 일 실시 태양인 상기 폴리이미드계 수지는, 복수 종의 Y를 포함할 수 있고, 복수 종의 Y는 서로 동일해도 되고 달라도 된다. Y로서는 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타내어지는 기; 그들 식 (20)∼식 (29)로 나타내어지는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기에 의해 치환된 기; 및 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.The polyimide resin is a polyimide resin having a structural unit represented by the formula (1) or a polyamideimide resin having a structural unit represented by the formula (1) and a structural unit represented by the formula (2) In one aspect of the present invention, Y in Formula (1) each independently represents a tetravalent organic group, and preferably a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms. The said organic group is the organic group in which the hydrogen atom in the organic group may be substituted by the hydrocarbon group or the fluorine-substituted hydrocarbon group, In that case, carbon number of a hydrocarbon group and a fluorine-substituted hydrocarbon group becomes like this. Preferably it is 1-8. The said polyimide resin which is one Embodiment of this invention may contain several types of Y, and several types of Y may mutually be same or different. As Y, formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) or formula (29) Group represented by; Groups in which the hydrogen atoms in the groups represented by those formulas (20) to (29) are substituted by a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; And a tetravalent hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms is exemplified.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00003
Figure pat00003

[식 (20)∼식 (29) 중,[In Formula (20)-(29),

*은 결합손을 나타내고,* Represents a bonding hand,

W1은 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -Ar-, -SO2-, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH2-Ar-, -Ar-C(CH3)2-Ar- 또는 -Ar-SO2-Ar-를 나타낸다. Ar은, 수소 원자가 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 6∼20의 아릴렌기를 나타내고, 구체예로서는 페닐렌기를 들 수 있다.]W 1 is a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2 -,- Ar-, -SO 2- , -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar-C (CH 3 ) 2 -Ar- or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents a C6-C20 arylene group in which a hydrogen atom may be substituted by the fluorine atom, and a phenylene group is mentioned as a specific example.]

식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타내어지는 기 중에서도, 당해 폴리이미드계 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재의 표면경도 및 유연성의 관점에서, 식 (26), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타내어지는 기가 바람직하고, 식 (26)으로 나타내어지는 기가 보다 바람직하다. 또, W1은, 당해 폴리이미드계 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재의 표면경도 및 유연성의 관점에서, 각각 독립적으로, 바람직하게는 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-, 보다 바람직하게는 단결합, -O-, -CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-, 더 바람직하게는 단결합, -O-, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-, 특히 바람직하게는 단결합, -O- 또는 -C(CF3)2-, 가장 바람직하게는 단결합 또는 -C(CF3)2-이다.With formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) and formula (29) Among the groups represented, the group represented by the formula (26), the formula (28) or the formula (29) is preferable from the viewpoint of the surface hardness and the flexibility of the optical member comprising the polyimide resin, and the formula (26) The group represented by is more preferable. In addition, from the viewpoint of surface hardness and flexibility of the optical member including the polyimide-based resin, W 1 is each independently, preferably a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2 -or -C (CF 3 ) 2- , more preferably a single bond, -O-, -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2 -or -C (CF 3 ) 2- , more preferably a single bond, -O-, -C (CH 3 ) 2 -or -C (CF 3 ) 2- , especially preferably a single bond, -O- or -C (CF 3) 2 -, most preferably a single bond or -C (CF 3) 2 - a.

상기 태양에 있어서, 식 (1) 중의 복수의 Y의 적어도 일부는, 식 (5)로 나타내어지는 구성 단위인 것이 바람직하다. 식 (1) 중의 복수의 Y의 적어도 일부가 식 (5)로 나타내어지는 기이면, 당해 폴리이미드계 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는, 높은 투명성을 발현함과 동시에, 높은 굴곡성 골격에 유래하여, 당해 폴리이미드계 수지의 용매에의 용해성을 향상하고, 폴리이미드계 수지를 포함하는 바니시의 점도를 낮게 억제할 수 있고, 또한 광학 부재의 가공을 용이하게 할 수 있다.In the said aspect, it is preferable that at least one part of some Y in Formula (1) is a structural unit represented by Formula (5). If at least one part of the some Y in Formula (1) is group represented by Formula (5), the optical member containing the said polyimide resin expresses high transparency, and originates in a high flexible frame | skeleton, The solubility to the solvent of the said polyimide resin can be improved, the viscosity of the varnish containing a polyimide resin can be suppressed low, and the process of an optical member can be made easy.

[화학식 3][Formula 3]

Figure pat00004
Figure pat00004

[식 (5) 중, R18∼R25는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, R18∼R25에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되고,[In Formula (5), R <18> -R <25> respectively independently represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, or a C6-C12 aryl group, and the hydrogen atom contained in R <18> -R <25> respectively Independently, they may be substituted with halogen atoms,

*은 결합손을 나타낸다.]* Represents a bonding hand.]

식 (5)에 있어서, R18, R19, R20, R21, R22, R23, R24 및 R25는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼3의 알킬기를 나타낸다. 여기서, R18∼R25에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 된다. R18∼R25는, 각각 독립적으로, 당해 폴리이미드계 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재의 표면경도 및 유연성의 관점에서, 더 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이고, 특히 바람직하게는 수소 원자 또는 트리플루오로메틸기이다.In Formula (5), R <18> , R <19> , R <20> , R <21> , R <22> , R <23> , R <24> and R <25> are respectively independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, or C6-C12 Aryl group of the compound, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Here, the hydrogen atoms contained in R 18 to R 25 may be each independently substituted with a halogen atom. R 18 to R 25 are each independently, from the viewpoint of surface hardness and flexibility of the optical member comprising the polyimide resin, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoro It is a methyl group, Especially preferably, it is a hydrogen atom or a trifluoromethyl group.

본 발명의 적절한 실시 태양에 있어서는, 식 (5)로 나타내어지는 구성 단위는, 식 (5')로 나타내어지는 기이고, 즉, 복수의 Y의 적어도 일부는, 식 (5')로 나타내어지는 구성 단위이다. 이 경우, 당해 폴리이미드계 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는, 높은 투명성을 가질 수 있다.In a suitable embodiment of the present invention, the structural unit represented by the formula (5) is a group represented by the formula (5 '), that is, at least a part of the plurality of Y is the structure represented by the formula (5'). Unit. In this case, the optical member containing the said polyimide resin can have high transparency.

[화학식 4][Formula 4]

Figure pat00005
Figure pat00005

[식 (5') 중, *은 결합손을 나타낸다][In formula (5 '), * represents a bond.]

본 발명의 적절한 실시 태양에 있어서, 상기 폴리이미드계 수지 중의 Y의, 바람직하게는 50 몰% 이상, 보다 바람직하게는 60 몰% 이상, 더 바람직하게는 70 몰% 이상이 식 (5), 특히 식 (5')로 나타내어진다. 상기 폴리이미드계 수지에 있어서의 상기 범위 내의 Y가 식 (5), 특히 식 (5')로 나타내어지면, 당해 폴리이미드계 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는 높은 투명성을 가질 수 있고, 추가로 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 당해 폴리이미드계 수지의 용매에의 용해성을 향상하고, 폴리이미드계 수지를 포함하는 바니시의 점도를 낮게 억제할 수 있고, 또한 광학 부재의 제조가 용이하다. 또한, 바람직하게는, 상기 폴리이미드계 수지 중의 Y의 100 몰% 이하가 식 (5), 특히 식 (5')로 나타내어진다. 상기 폴리이미드계 수지 중의 Y는 식 (5), 특히 식 (5')여도 된다. 상기 폴리이미드계 수지 중의 Y의 식 (5)로 나타내어지는 구성 단위의 함유율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a suitable embodiment of the invention, preferably at least 50 mol%, more preferably at least 60 mol%, even more preferably at least 70 mol% of Y in the polyimide resin is formula (5), in particular It is represented by Formula (5 '). When Y in the said range in the said polyimide-type resin is represented by Formula (5), especially Formula (5 '), the optical member containing the said polyimide-type resin can have high transparency, and also fluorine The frame | skeleton containing an element improves the solubility to the solvent of the said polyimide resin, can suppress the viscosity of the varnish containing a polyimide resin low, and it is easy to manufacture an optical member. Moreover, Preferably, 100 mol% or less of Y in the said polyimide resin is represented by Formula (5), especially Formula (5 '). Y in the said polyimide-type resin may be Formula (5), especially Formula (5 '). The content of the constituent unit represented by formula (5) of the Y in the polyimide-based resin is, for example, may be calculated from the number, and the raw material or doipbi be measured by using a 1 H-NMR.

폴리이미드계 수지가 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위를 갖는 폴리아미드이미드 수지인 본 발명의 일 태양에 있어서, 식 (2) 중의 Z는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기를 나타낸다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리아미드이미드 수지는, 복수 종의 Z를 포함할 수 있고, 복수 종의 Z는 서로 동일해도 되고 달라도 된다. 상기 2가의 유기기는, 바람직하게는 탄소수 4∼40의 2가의 유기기를 나타낸다. 상기 유기기는, 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되며, 그 경우, 탄화수소기 및 불소 치환된 탄화수소기의 탄소수는 바람직하게는 1∼8이다. Z의 유기기로서는 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타내어지는 기의 결합손 중, 인접하지 않는 2개가 수소 원자로 치환된 기및 탄소수 6 이하의 2가의 쇄식 탄화수소기가 예시된다. 광학 부재의 광학 특성을 향상, 예를 들면, 황색도를 저감하기 쉽다는 관점에서, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26) 또는 식 (27)로 나타내어지는 기의 결합손 중, 인접하지 않는 2개가 수소 원자로 치환된 기로 나타내어지는 기가 바람직하다.In one aspect of the present invention, wherein the polyimide resin is a polyamideimide resin having a structural unit represented by the formula (1) and a structural unit represented by the formula (2), Z in the formula (2) is each independently And a divalent organic group. In one embodiment of the present invention, the polyamide-imide resin may include a plurality of types of Z, and the plurality of types of Z may be the same as or different from each other. The said divalent organic group, Preferably it shows a C4-C40 divalent organic group. The said organic group may be substituted by the hydrocarbon group or the fluorine-substituted hydrocarbon group, and in that case, carbon number of a hydrocarbon group and a fluorine-substituted hydrocarbon group becomes like this. Preferably it is 1-8. Examples of the organic group of Z include formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28), or Among the bonds of the group represented by the formula (29), groups in which two adjacent groups are substituted with a hydrogen atom and a divalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified. From the viewpoint of improving the optical properties of the optical member, for example, reducing the yellowness, the formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), and formula (25) ), A group represented by a group in which two non-adjacent groups are substituted with a hydrogen atom among the bonds of the group represented by formula (26) or formula (27) is preferable.

본 발명의 적절한 실시 태양에 있어서, 광학 부재가 높은 내굴곡성 및 높은 표면경도에 추가하여, 우수한 광학 특성을 발현할 수 있다는 관점에서, Z의 적어도 일부가, 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위인 것이 바람직하다.In a suitable embodiment of the present invention, at least a part of Z is a structural unit represented by the formula (3) in view of the fact that the optical member can express excellent optical properties in addition to high bending resistance and high surface hardness. It is preferable.

[화학식 5][Formula 5]

Figure pat00006
Figure pat00006

[식 (3) 중, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 및 R8은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, R1∼R8에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되며,[In formula (3), R <1> , R <2> , R <3> , R <4> , R <5> , R <6> , R <7> and R <8> respectively independently represent a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, or C6-C12 Represents an aryl group, and the hydrogen atoms contained in R 1 to R 8 may be each independently substituted with a halogen atom,

A는 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-를 나타내고, R9는 수소 원자, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼12의 탄화수소기를 나타내고,A is a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -S-, -CO- or -N (R 9 )-is represented, R 9 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom,

m은 0∼4의 정수이고,m is an integer of 0 to 4,

*은 결합손을 나타낸다.]* Represents a bonding hand.]

식 (3)에 있어서, m은, 바람직하게는 0∼4의 범위의 정수이고, m이 이 범위 내이면, 당해 폴리이미드계 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재의 탄성률이나 유연성을 높이기 쉽다. 또, 식 (3)에 있어서, m은, 바람직하게는 0∼3의 범위의 정수, 보다 바람직하게는 0∼2의 범위의 정수, 더 바람직하게는 0 또는 1이고, m이 이 범위 내이면, 광학 적층체의 내굴곡성이나 탄성률이 양호함과 동시에, 원료의 입수성이 비교적 양호하다. 또, Z는, 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위를 1종 또는 2종류 이상 포함하고 있어도 되고, 광학 적층체의 탄성률 및 내굴곡성의 향상, 및 황색도(YI값) 저감의 관점에서, 특히 m의 값이 다른 2종류 이상의 구성 단위, 바람직하게는 m의 값이 다른 2종류의 구성 단위를 포함하고 있어도 된다. 그 경우, 광학 적층체가 높은 탄성률이나 내굴곡성, 낮은 황색도(YI값)를 발현하기 쉽다는 관점에서, m이 0과 1의 구성 단위를 양방 포함하는 것이 바람직하다.In Formula (3), m is preferably an integer in the range of 0-4, and when m is in this range, it will be easy to raise the elasticity modulus and flexibility of the optical member containing the said polyimide-type resin. In formula (3), m is preferably an integer in the range of 0 to 3, more preferably an integer in the range of 0 to 2, still more preferably 0 or 1, and m is within this range. The bending resistance and elastic modulus of the optical laminate are good, and the availability of the raw material is relatively good. Moreover, Z may contain 1 type, or 2 or more types of structural units represented by Formula (3), Especially from a viewpoint of the improvement of the elasticity modulus, bending resistance, and yellowness (YI value) of an optical laminated body, Two or more types of structural units from which the value of m differs, Preferably two types of structural units from which the value of m differs may be included. In that case, it is preferable that m contains both the structural units of 0 and 1 from a viewpoint that an optical laminated body is easy to express high elastic modulus, bending resistance, and low yellowness (YI value).

식 (3)에 있어서, A는, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-를 나타내고, 당해 폴리이미드계 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재의 유연성의 관점에서, 바람직하게는 -O- 또는 -S-를 나타내고, 보다 바람직하게는 -O-를 나타낸다. R1∼R8은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1∼6의 알킬기로서는, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 2-메틸-부틸기, 3-메틸부틸기, 2-에틸-프로필기, n-헥실기 등을 들 수 있다. 또, 탄소수 6∼12의 아릴기로서는, 예를 들면, 페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 나프틸기, 비페닐기 등을 들 수 있다. 당해 폴리이미드계 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재의 유연성 및 표면경도의 관점에서, R1∼R8은, 각각 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼3의 알킬기를 나타내고, 더 바람직하게는 수소 원자를 나타낸다. 여기서, R1∼R8에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 된다. R9는 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼12의 탄화수소기를 나타낸다.In the formula (3), A is, each independently, a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH (CH 3) -, -C (CH 3) 2 - , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -S-, -CO- or -N (R 9 )-, and from the viewpoint of the flexibility of the optical member comprising the polyimide-based resin, Preferably -O- or -S- is represented, More preferably, -O- is represented. R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group and 2-methyl-butyl Group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group, etc. are mentioned. Moreover, as a C6-C12 aryl group, a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group, a biphenyl group etc. are mentioned, for example. From the viewpoint of flexibility and surface hardness of the optical member including the polyimide resin, R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably A hydrogen atom or a C1-C3 alkyl group is shown, More preferably, a hydrogen atom is represented. Here, the hydrogen atoms contained in R 1 to R 8 may be each independently substituted with a halogen atom. R <9> represents the C1-C12 hydrocarbon group which may be substituted by the halogen atom.

본 발명의 적절한 실시 태양에 있어서는, 식 (3)은 식 (3')로 나타내어지는 구성 단위이고, 즉, 복수의 Z의 적어도 일부는 식 (3')로 나타내어지는 구성 단위이다. 이 경우, 당해 폴리이미드계 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는, 높은 표면경도를 발휘함과 동시에, 탄성률이 낮고, 높은 유연성을 가질 수 있다.In a suitable embodiment of the present invention, formula (3) is a structural unit represented by formula (3 '), that is, at least a part of the plurality of Z is a structural unit represented by formula (3'). In this case, the optical member including the polyimide-based resin exhibits high surface hardness, has a low elastic modulus, and can have high flexibility.

[화학식 6][Formula 6]

Figure pat00007
Figure pat00007

본 발명의 적절한 실시 태양에 있어서, Y 및 Z의 합계에 대하여, 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위의 함유율은, 바람직하게는 3 몰% 이상, 보다 바람직하게는 5 몰% 이상, 더 바람직하게는 7 몰% 이상, 보다 더 바람직하게는 9 몰% 이상, 특히 바람직하게는 15 몰% 이상, 매우 바람직하게는 30 몰% 이상이고, 바람직하게는 90 몰% 이하, 보다 바람직하게는 87 몰% 이하, 더 바람직하게는 85 몰% 이하, 특히 바람직하게는 83 몰% 이하, 매우 바람직하게는 80 몰% 이하이다. Y 및 Z의 합계에 대하여, 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위의 함유율이 상기 하한값 이상이면, 당해 폴리이미드계 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는 탄성률이 낮고, 유연성이 우수하고, 동시에 높은 표면경도를 발현할 수 있다. Y 및 Z의 합계에 대하여, 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위의 함유율이 상기 상한값 이하이면, 식 (3) 유래의 아미드 결합간 수소 결합에 의한 증점을 억제함으로써, 폴리이미드계 수지의 바니시의 점도를 억제할 수 있고, 광학 부재의 가공을 용이하게 할 수 있다. 또한, 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위의 함유율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a suitable embodiment of the present invention, the content of the structural unit represented by the formula (3) with respect to the sum of Y and Z is preferably 3 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, even more preferably Is at least 7 mol%, even more preferably at least 9 mol%, particularly preferably at least 15 mol%, very preferably at least 30 mol%, preferably at most 90 mol%, more preferably 87 mol% Or less, more preferably 85 mol% or less, particularly preferably 83 mol% or less, and very preferably 80 mol% or less. When the content rate of the structural unit represented by Formula (3) is more than the said lower limit with respect to the sum total of Y and Z, the optical member containing the said polyimide-type resin has low elasticity modulus, is excellent in flexibility, and at the same time high surface hardness Can be expressed. When the content rate of the structural unit represented by Formula (3) is below the said upper limit with respect to the sum total of Y and Z, it will suppress the thickening by the hydrogen bond between the amide bonds derived from Formula (3), Viscosity can be suppressed and the process of an optical member can be made easy. Further, the content of the structural unit represented by the formula (3) is, for example, may be calculated from the number, and the raw material or doipbi be measured by using a 1 H-NMR.

폴리이미드계 수지는, 본 발명의 적절한 실시 태양에 있어서, 상기 폴리이미드계 수지 중의 Z의, 바람직하게는 5 몰% 이상, 보다 바람직하게는 7 몰% 이상, 더 바람직하게는 9 몰% 이상, 특히 바람직하게는 11 몰% 이상이 식 (3)으로 나타내어진다. 상기 폴리이미드계 수지 중의 Z의 상기 하한값 이상이 식 (3)으로 나타내어지면, 당해 폴리이미드계 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는 높은 표면경도를 발현함과 동시에, 탄성률이 낮고, 높은 유연성을 가질 수 있다. 또한, 상기 폴리이미드계 수지 중의 Z의 100 몰% 이하가 식 (3)으로 나타내어지는 것이 바람직하다. 또한, 상기 폴리이미드계 수지 중의 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위의 함유율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다. 상기 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위는, m이 1∼4인 경우의 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위인 것이 바람직하다.In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide resin is preferably 5 mol% or more, more preferably 7 mol% or more, even more preferably 9 mol% or more of Z in the polyimide resin. Especially preferably, 11 mol% or more is represented by Formula (3). When more than the said lower limit of Z in the said polyimide-type resin is represented by Formula (3), the optical member containing the said polyimide-type resin expresses high surface hardness, and has low elastic modulus and can have high flexibility. have. Moreover, it is preferable that 100 mol% or less of Z in the said polyimide resin is represented by Formula (3). Further, the content of the structural unit represented by the formula (3) in the polyimide-based resin is, for example, may be calculated from the number, and the raw material or doipbi be measured by using a 1 H-NMR. It is preferable that the structural unit represented by said Formula (3) is a structural unit represented by Formula (3) when m is 1-4.

본 발명의 적절한 실시 태양에 있어서, 폴리이미드계 수지는, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위를 갖는 폴리아미드이미드 수지이다.In a suitable embodiment of the present invention, the polyimide resin is a polyamideimide resin having a structural unit represented by formula (1) and a structural unit represented by formula (2).

상기 실시 태양에 있어서, 폴리아미드이미드 수지에 있어서의 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위의 함유율은, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 합계에 대하여, 바람직하게는 10 몰% 이상, 보다 바람직하게는 15 몰% 이상, 더 바람직하게는 18 몰% 이상, 특히 바람직하게는 20 몰% 이상이고, 바람직하게는 90 몰% 이하, 보다 바람직하게는 70 몰% 이하, 더 바람직하게는 60 몰% 이하, 특히 바람직하게는 50 몰% 이하이다. 상기 폴리아미드이미드 수지에 있어서, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위의 함유율이 상기 하한값 이상이면, 식 (2) 중의 아미드 결합간의 수소 결합에 의한 증점을 억제하고, 폴리아미드이미드 바니시의 점도를 저감할 수 있고, 광학 부재의 제조가 용이하다. 상기 폴리아미드이미드 수지에 있어서, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위의 함유율이 상기 상한값 이하이면, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는, 높은 표면경도를 발휘한다. 또한, 상기 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In the said embodiment, content rate of the structural unit represented by Formula (1) in polyamideimide resin is with respect to the sum total of the structural unit represented by Formula (1) and the structural unit represented by Formula (2), Preferably it is 10 mol% or more, More preferably, it is 15 mol% or more, More preferably, it is 18 mol% or more, Especially preferably, it is 20 mol% or more, Preferably it is 90 mol% or less, More preferably, 70 mol% % Or less, More preferably, it is 60 mol% or less, Especially preferably, it is 50 mol% or less. In the said polyamideimide resin, when the content rate of the structural unit represented by Formula (1) is more than the said lower limit, the thickening by hydrogen bond between the amide bonds in Formula (2) is suppressed, and the viscosity of a polyamideimide varnish is reduced. It is possible to manufacture an optical member easily. In the said polyamideimide resin, when the content rate of the structural unit represented by Formula (1) is below the said upper limit, the optical member containing the said polyamideimide resin will exhibit high surface hardness. In addition, the said ratio can be measured using <1> H-NMR, for example, or it can calculate it from the introduction ratio of a raw material.

상기 실시 태양에 있어서, 폴리아미드이미드 수지에 있어서의 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 함유율은, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 합계에 대하여, 바람직하게는 20 몰% 이상, 보다 바람직하게는 30 몰% 이상, 더 바람직하게는 40 몰% 이상, 특히 바람직하게는 50 몰% 이상이고, 바람직하게는 90 몰% 이하, 보다 바람직하게는 80 몰% 이하, 더 바람직하게는 75 몰% 이하, 특히 바람직하게는 70 몰% 이하이다. 상기 폴리아미드이미드 수지에 있어서, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위의 함유율이 상기 상한값 이하이면, 식 (2) 중의 아미드 결합간의 수소 결합에 의한 증점을 억제하고, 폴리아미드이미드 바니시의 점도를 저감할 수 있고, 광학 부재의 제조가 용이하다. 상기 폴리아미드이미드 수지에 있어서, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위의 함유율이 상기 하한값 이상이면, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는, 높은 표면경도를 발휘한다. 또한, 상기 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In the said embodiment, content rate of the structural unit represented by Formula (2) in polyamideimide resin is with respect to the sum total of the structural unit represented by Formula (1) and the structural unit represented by Formula (2), Preferably it is 20 mol% or more, More preferably, it is 30 mol% or more, More preferably, it is 40 mol% or more, Especially preferably, it is 50 mol% or more, Preferably it is 90 mol% or less, More preferably, 80 mol% % Or less, More preferably, it is 75 mol% or less, Especially preferably, it is 70 mol% or less. In the said polyamideimide resin, when the content rate of the structural unit represented by Formula (1) is below the said upper limit, the thickening by the hydrogen bond between the amide bonds in Formula (2) is suppressed, and the viscosity of a polyamideimide varnish is reduced. It is possible to manufacture an optical member easily. In the said polyamideimide resin, if the content rate of the structural unit represented by Formula (1) is more than the said lower limit, the optical member containing the said polyamideimide resin will exhibit high surface hardness. In addition, the said ratio can be measured using <1> H-NMR, for example, or it can calculate it from the introduction ratio of a raw material.

상기 실시 태양에 있어서, 폴리아미드이미드 수지에 있어서의 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 합계에 대한, 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 바람직하게는 3 몰% 이상, 보다 바람직하게는 5 몰% 이상, 더 바람직하게는 7 몰% 이상, 보다 더 바람직하게는 9 몰% 이상, 특히 바람직하게는 15 몰% 이상, 매우 바람직하게는 30 몰% 이상이고, 바람직하게는 90 몰% 이하, 보다 바람직하게는 87 몰% 이하, 더 바람직하게는 85 몰% 이하, 특히 바람직하게는 83 몰% 이하, 매우 바람직하게는 80 몰% 이하이다. 폴리아미드이미드 수지 중의 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 합계에 대하여, 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위의 비율이 상기 하한값 이상이면, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는 탄성률이 낮고, 유연성이 우수하고, 동시에 높은 표면경도를 발현할 수 있다. 폴리아미드이미드 수지 중의 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 합계에 대하여, 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위의 비율이 상기 상한값 이하이면, 식 (3) 유래의 아미드 결합간 수소 결합에 의한 증점을 억제함으로써, 폴리아미드이미드 수지의 바니시의 점도를 억제할 수 있고, 광학 부재의 가공을 용이하게 할 수 있다. 또한, 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위의 함유율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In the said embodiment, the ratio of the structural unit represented by Formula (3) with respect to the sum total of the structural unit represented by Formula (1) and the structural unit represented by Formula (2) in a polyamide-imide resin, Preferably at least 3 mol%, more preferably at least 5 mol%, even more preferably at least 7 mol%, even more preferably at least 9 mol%, particularly preferably at least 15 mol%, very preferably 30 It is at least mol%, preferably at most 90 mol%, more preferably at most 87 mol%, even more preferably at most 85 mol%, particularly preferably at most 83 mol%, very preferably at most 80 mol%. Regarding the sum of the structural units represented by the formula (1) and the structural units represented by the formula (2) in the polyamideimide resin, the ratio of the structural units represented by the formula (3) is equal to or greater than the lower limit, the polyamideimide An optical member comprising a resin has a low elastic modulus, excellent flexibility, and high surface hardness. Formula (3) is a ratio of the structural unit represented by Formula (3) with respect to the sum total of the structural unit represented by Formula (1) in a polyamide-imide resin, and the structural unit represented by Formula (2) below the said upper limit. By suppressing the thickening by the hydrogen bond between the derived amide bonds, the viscosity of the varnish of the polyamideimide resin can be suppressed and the processing of the optical member can be facilitated. Further, the content of the structural unit represented by the formula (3) is, for example, may be calculated from the number, and the raw material or doipbi be measured by using a 1 H-NMR.

식 (1) 및 식 (2)에 있어서, X는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 탄소수 4∼40의 2가의 유기기이다. 상기 유기기는, 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기이고, 바람직하게는 탄화수소기 및 불소 치환된 탄화수소기의 탄소수는 1∼8이다. 또한, 식 (1)에 있어서의 X는, 식 (2)에 있어서의 X와 동일해도 되고 달라도 된다.In Formula (1) and Formula (2), X represents a bivalent organic group each independently, Preferably it is a C4-C40 divalent organic group. The said organic group is the organic group in which the hydrogen atom in the organic group may be substituted by the hydrocarbon group or the fluorine-substituted hydrocarbon group, Preferably carbon number of a hydrocarbon group and a fluorine-substituted hydrocarbon group is 1-8. In addition, X in Formula (1) may be the same as or different from X in Formula (2).

본 발명의 일 실시 태양에 있어서, 폴리이미드계 수지는, 복수 종의 X를 포함할 수 있고, 복수 종의 X는 서로 동일해도 되고 달라도 된다. X로서는 이하의 식 (10), 식 (11), 식 (12), 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16), 식 (17) 또는 식 (18)로 나타내어지는 기; 그들 식으로 나타내어지는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기에 의해 치환된 기; 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.In one embodiment of the present invention, the polyimide resin may include a plurality of types of X, and the plurality of types of X may be the same as or different from each other. As X, it is represented by the following formula (10), formula (11), formula (12), formula (13), formula (14), formula (15), formula (16), formula (17), or formula (18). Losing group; A group in which a hydrogen atom in the group represented by these formulas is substituted by a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; And a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms is exemplified.

[화학식 7][Formula 7]

Figure pat00008
Figure pat00008

[식 (10), 식 (11), 식 (12), 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16), 식 (17) 또는 식 (18) 중, *은 결합손을 나타내고,[In formula (10), formula (11), formula (12), formula (13), formula (14), formula (15), formula (16), formula (17) or formula (18), * is a bond. Hands up,

V1∼V3은, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -S-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -CO- 또는 -N(Q)를 나타낸다. 여기서, Q는 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼12의 탄화수소기를 나타낸다.]V 1 to V 3 each independently represent a single bond, -O-, -S-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, and -C (CH 3 ) 2 -, -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -CO- or -N (Q). Here, Q represents a C1-C12 hydrocarbon group which may be substituted by the halogen atom.]

V1과 V2의 각 환에 대한 결합 위치, 및, V2와 V3의 각 환에 대한 결합 위치는, 각각, 각 환에 대하여 바람직하게는 메타 위치 또는 파라 위치, 보다 바람직하게는 파라 위치이다.The bonding position for each ring of V 1 and V 2 and the bonding position for each ring of V 2 and V 3 are each preferably a meta position or a para position, more preferably a para position, for each ring. to be.

식 (10), 식 (11), 식 (12), 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16), 식 (17) 또는 식 (18)로 나타내어지는 기 중에서도, 당해 폴리이미드계 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재의 표면경도 및 유연성의 관점에서, 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16) 또는 식 (17)로 나타내어지는 기가 바람직하고, 식 (14), 식 (15) 또는 식 (16)으로 나타내어지는 기가 보다 바람직하다. 또, V1∼V3은, 당해 폴리이미드계 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재의 표면경도 및 유연성의 관점에서, 각각 독립적으로, 바람직하게는 단결합, -O- 또는 -S-, 보다 바람직하게는 단결합 또는 -O-이다.Among the groups represented by the formulas (10), (11), (12), (13), (14), (15), (16), (17) or (18), From the viewpoint of the surface hardness and the flexibility of the optical member comprising the polyimide resin, a group represented by formula (13), formula (14), formula (15), formula (16) or formula (17) is preferable. , Group represented by formula (14), formula (15) or formula (16) is more preferable. In addition, V 1 to V 3 are each independently from the viewpoint of surface hardness and flexibility of the optical member including the polyimide resin, preferably single bond, -O- or -S-, more preferably Is a single bond or -O-.

본 발명의 적절한 실시 태양에 있어서, 폴리이미드 수지의 경우는 식 (1) 중, 폴리아미드이미드 수지의 경우는 식 (1) 및 식 (2) 중의 복수의 X의 적어도 일부는, 식 (4)로 나타내어지는 구성 단위이다. 복수의 X의 적어도 일부가 식 (4)로 나타내어지는 기이면, 당해 폴리이미드계 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는, 높은 투명성을 발현함과 동시에, 높은 표면경도를 발현할 수 있다.In a suitable embodiment of the present invention, in the case of the polyimide resin, in the case of the polyamideimide resin, at least a part of the plurality of X in the formula (1) and the formula (2) is represented by the formula (4) It is a structural unit represented by. If at least one part of some X is group represented by Formula (4), the optical member containing the said polyimide resin can express high transparency, and can express high surface hardness.

[화학식 8][Formula 8]

Figure pat00009
Figure pat00009

[식 (4) 중, R10, R11, R12, R13, R14, R15, R16 및 R17은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, R10∼R17에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되며, *은 결합손을 나타낸다.][In Formula (4), R <10> , R <11> , R <12> , R <13> , R <14> , R <15> , R <16> and R <17> are respectively independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, or C6-C12 Represents an aryl group, and the hydrogen atoms contained in R 10 to R 17 may be each independently substituted with a halogen atom, and * represents a bond.]

식 (4)에 있어서, R10, R11, R12, R13, R14, R15, R16 및 R17은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기로서는, 식 (3)에 있어서의 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기로서 예시의 것을 들 수 있다. R10∼R17은, 각각 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼3의 알킬기를 나타내고, 여기서, R10∼R17에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 된다. 할로겐 원자로서는, 예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다. R10∼R17은, 각각 독립적으로, 당해 폴리이미드계 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재의 표면경도, 유연성 및 투명성의 관점에서, 더 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이고, 특히 바람직하게는 수소 원자 또는 트리플루오로메틸기이다.In Formula (4), R <10> , R <11> , R <12> , R <13> , R <14> , R <15> , R <16> and R <17> are respectively independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, or C6-C12 An aryl group is shown. As a C1-C6 alkyl group or a C6-C12 aryl group, an exemplary thing is mentioned as a C1-C6 alkyl group or C6-C12 aryl group in Formula (3). R 10 to R 17 each independently, preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, where R 10 to R 17 are The hydrogen atoms contained may be each independently substituted with a halogen atom. As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned, for example. R 10 to R 17 are each independently, from the viewpoint of surface hardness, flexibility and transparency of the optical member including the polyimide resin, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a tree It is a fluoromethyl group, Especially preferably, it is a hydrogen atom or a trifluoromethyl group.

본 발명의 적절한 실시 태양에 있어서는, 식 (4)로 나타내어지는 구성 단위는 식 (4')로 나타내어지는 구성 단위이고, 즉, 복수의 X의 적어도 일부는, 식 (4')로 나타내어지는 구성 단위이다. 이 경우, 당해 폴리이미드계 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는, 높은 투명성을 발현함과 동시에, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 당해 폴리이미드계 수지의 용매에의 용해성을 향상하고, 폴리이미드계 수지를 포함하는 바니시의 점도를 낮게 억제할 수 있고, 광학 부재의 가공을 용이하게 할 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by the formula (4) is a structural unit represented by the formula (4 '), that is, at least a part of the plurality of Xs is represented by the formula (4'). Unit. In this case, the optical member containing the said polyimide resin expresses high transparency, improves the solubility to the solvent of the said polyimide resin by the frame | skeleton containing a fluorine element, and polyimide-based resin The viscosity of the varnish containing can be suppressed low, and the process of an optical member can be made easy.

[화학식 9][Formula 9]

Figure pat00010
Figure pat00010

[식 (4') 중, *은 결합손을 나타낸다][In formula (4 '), * represents a bond.]

본 발명의 적절한 실시 태양에 있어서, 상기 폴리이미드계 수지 중의 X의, 바람직하게는 30 몰% 이상, 보다 바람직하게는 50 몰% 이상, 더 바람직하게는 60 몰% 이상, 특히 바람직하게는 70 몰% 이상이 식 (4), 특히 식 (4')로 나타내어진다. 상기 폴리이미드계 수지에 있어서의 상기 범위 내의 X가 식 (4), 특히 식 (4')로 나타내어지면, 당해 폴리이미드계 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재는, 높은 투명성을 발현함과 동시에, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 당해 폴리이미드계 수지의 용매에의 용해성을 향상하고, 폴리이미드계 수지를 포함하는 바니시의 점도를 낮게 억제할 수 있고, 또한 광학 부재의 가공을 용이하게 할 수 있다. 또한, 바람직하게는, 상기 폴리이미드계 수지 중의 X의 100 몰% 이하가 식 (4), 특히 식 (4')로 나타내어진다. 상기 폴리이미드계 수지 중의 X는 식 (4), 특히 식 (4')여도 된다. 상기 폴리이미드계 수지 중의 X의 식 (4)로 나타내어지는 구성 단위의 함유율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a suitable embodiment of the present invention, X in the polyimide resin, preferably at least 30 mol%, more preferably at least 50 mol%, even more preferably at least 60 mol%, particularly preferably 70 mol More than% is represented by Formula (4), especially Formula (4 '). When X in the said range in the said polyimide-type resin is represented by Formula (4), especially Formula (4 '), the optical member containing this polyimide-type resin expresses high transparency, and is fluorine The frame | skeleton containing an element can improve the solubility to the solvent of the said polyimide resin, can suppress the viscosity of the varnish containing a polyimide resin low, and can also process the optical member easily. Moreover, Preferably, 100 mol% or less of X in the said polyimide resin is represented by Formula (4), especially Formula (4 '). Formula (4), especially Formula (4 ') may be sufficient as X in the said polyimide resin. The content of the constituent unit represented by formula (4) X in the polyimide-based resin is, for example, may be calculated from the number, and the raw material or doipbi be measured by using a 1 H-NMR.

본 발명의 제조 방법에 있어서, 폴리이미드계 수지의 동적 점탄성 측정(DMA 측정)에 있어서의 tanδ에 의해 산출된 유리 전이 온도 Tg는, 바람직하게는 380℃ 미만, 보다 바람직하게는 379℃ 이하, 더 바람직하게는 378℃ 이하, 예를 들면, 370℃ 이하이다. 폴리이미드계 수지의 유리 전이 온도 Tg가 상기의 상한값 미만(또는 이하)이면, 폴리이미드계 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재가 높은 표면경도를 발현함과 동시에, 탄성률이 낮고, 높은 유연성을 가질 수 있다. 유리 전이 온도를 상기 범위로 제어하기 위해서는, 폴리이미드계 수지를 구성하는 모노머로서, 제막하여 얻어지는 폴리이미드계 수지 필름에 유연성을 부여할 수 있는 2가의 기를 갖는 모노머를 포함하는 것이 바람직하고, 유연성을 부여할 수 있는 2가의 기로서 구체적으로는, -O-, -CH2-, -CF2-, -C(CH3)2- 및 -C(CF3)2-를 들 수 있고, 유연성을 부여할 수 있는 2가의 기를 갖는 모노머로서, -O-를 포함하는 2가의 기를 갖는 모노머를 포함하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 폴리이미드계 수지의 상기 유리 전이 온도 Tg는 통상 300℃ 이상이다.In the production method of the present invention, the glass transition temperature Tg calculated by tanδ in the dynamic viscoelasticity measurement (DMA measurement) of the polyimide resin is preferably less than 380 ° C, more preferably 379 ° C or less. Preferably it is 378 degreeC or less, for example, 370 degreeC It is as follows. When the glass transition temperature Tg of the polyimide-based resin is less than or equal to the above upper limit, the optical member comprising the polyimide-based resin exhibits high surface hardness and has a low elastic modulus and high flexibility. . In order to control a glass transition temperature to the said range, it is preferable to include as a monomer which comprises polyimide-type resin, the monomer which has a bivalent group which can provide flexibility to the polyimide-type resin film obtained by film forming, and has flexibility Specific examples of the divalent group which can be given include -O-, -CH 2- , -CF 2- , -C (CH 3 ) 2-, and -C (CF 3 ) 2- . As a monomer which has a bivalent group which can be provided, it is more preferable to include the monomer which has a bivalent group containing -O-. In addition, the said glass transition temperature Tg of polyimide-type resin is 300 degreeC or more normally.

본 발명의 제조 방법에 있어서, 폴리이미드계 수지가 폴리아미드이미드 수지인 경우, 당해 폴리아미드이미드 수지는, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위 외에, 식 (10-2)로 나타내어지는 구성 단위, 및/또는 식 (11-2)로 나타내어지는 구성 단위를 포함해도 된다.In the manufacturing method of this invention, when a polyimide resin is a polyamideimide resin, the said polyamideimide resin is a formula (In addition to the structural unit represented by Formula (1) and the structural unit represented by Formula (2), The structural unit represented by 10-2) and / or the structural unit represented by Formula (11-2) may be included.

[화학식 10][Formula 10]

Figure pat00011
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식 (10-2)에 있어서, Y1은, 각각 독립적으로, 4가의 유기기이고, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기이다. Y1로서는 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타내어지는 기, 및 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다. 본 발명의 일 실시 태양인 폴리아미드이미드 수지는, 복수 종의 Y1을 포함할 수 있고, 복수 종의 Y1은 서로 동일해도 되고 달라도 된다.In Formula (10-2), Y <1> is a tetravalent organic group each independently, Preferably it is the organic group which the hydrogen atom in the organic group may be substituted by the hydrocarbon group or the fluorine-substituted hydrocarbon group. As Y 1, Formula (20), Formula (21), Formula (22), Formula (23), Formula (24), Formula (25), Formula (26), Formula (27), Formula (28), or Formula ( The group represented by 29) and a trivalent C6 or less chain hydrocarbon group are illustrated. Exemplary taeyangin polyamide-imide resin of the present invention, may include a plurality of types of Y 1, Y 1 of a plurality of species may be the same or different from each other.

식 (11-2)에 있어서, Y2는 3가의 유기기이고, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기이다. Y2로서는 상기의 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타내어지는 기의 결합손 중 어느 하나가 수소 원자로 치환된 기, 및 3가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다. 본 발명의 일 실시 태양인 폴리아미드이미드 수지는, 복수 종의 Y2를 포함할 수 있고, 복수 종의 Y2는 서로 동일해도 되고 달라도 된다.In Formula (11-2), Y <2> is a trivalent organic group, Preferably it is the organic group by which the hydrogen atom in the organic group may be substituted by the hydrocarbon group or the fluorine-substituted hydrocarbon group. Examples of Y 2 the equations (20), Equation 21, Equation 22, Equation 23, Equation 24, Equation 25, Equation 26, Equation 27, Equation 28, or Examples of the group in which one of the bonds of the group represented by the formula (29) are substituted with a hydrogen atom and a trivalent C 6 or less chain hydrocarbon group are exemplified. Exemplary taeyangin polyamide-imide resin of the present invention, may include a plurality of types of Y 2, Y 2 is a plurality of types may be the same or different from each other.

식 (10-2) 및 식 (11-2)에 있어서, X1 및 X2는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기이고, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기이다. X1 및 X2로서는 식 (10), 식 (11), 식 (12), 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16), 식 (17) 또는 식 (18)로 나타내어지는 기; 그들 식으로 나타내어지는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기에 의해 치환된 기; 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.In Formula (10-2) and Formula (11-2), X <1> and X <2> are respectively independently divalent organic groups, Preferably the hydrogen atom in an organic group is a hydrocarbon group or the fluorine-substituted hydrocarbon group. It is an organic group which may be substituted. X 1 and X 2 are represented by the following formulas (10), (11), (12), (13), (14), (15), (16), (17) or (18). Group represented by; A group in which a hydrogen atom in the group represented by these formulas is substituted by a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; And a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms is exemplified.

본 발명의 일 실시 태양에 있어서, 상기 폴리아미드이미드 수지는, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위, 및 경우에 따라 식 (10-2) 및/또는 식 (11-2)로 나타내어지는 구성 단위로 이루어진다. 또, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재의 유연성 및 표면경도의 관점에서, 상기 폴리아미드이미드 수지에 있어서, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 함유율은, 식 (1) 및 식 (2), 및 경우에 따라 식 (10-2) 및 식 (11-2)로 나타내어지는 전체 구성 단위의 합계 100%에 대하여, 바람직하게는 80% 이상, 보다 바람직하게는 90% 이상, 더 바람직하게는 95% 이상이다. 또한, 상기 폴리아미드이미드 수지에 있어서, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 함유율은, 식 (1) 또는 식 (2), 또는 경우에 따라 식 (10-2) 또는 식 (11-2)로 나타내어지는 전체 구성 단위에 기초하여, 통상 100% 이하이다. 또한, 상기 함유율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In one embodiment of the present invention, the polyamideimide resin is a structural unit represented by formula (1) and a structural unit represented by formula (2), and optionally formulas (10-2) and / or a formula. It consists of a structural unit represented by (11-2). Moreover, from the viewpoint of the flexibility and surface hardness of the optical member which consists of the said polyamideimide resin, in the said polyamideimide resin, the structural unit represented by Formula (1) and the structural unit represented by Formula (2) The content ratio is preferably 80% or more, based on 100% of the total of the entire structural units represented by the formulas (1) and (2) and, optionally, the formulas (10-2) and (11-2), More preferably, it is 90% or more, More preferably, it is 95% or more. In addition, in the said polyamideimide resin, the content rate of the structural unit represented by Formula (1) and the structural unit represented by Formula (2) is Formula (1) or Formula (2), or Formula (10) as needed. It is 100% or less normally based on -2) or all the structural units represented by Formula (11-2). In addition, the said content rate can be measured using <1> H-NMR, for example, or it can also calculate from the introduction ratio of a raw material.

본 발명의 제조 방법에 있어서의 폴리이미드계 수지에 관하여, 폴리이미드 수지는, 예를 들면, 후술하는 테트라카르본산 화합물 및 디아민 화합물을 주된 원료로 하여 제조할 수 있다. 또, 폴리아미드이미드 수지는, 예를 들면, 후술하는 테트라카르본산 화합물, 디카르본산 화합물 및 디아민 화합물을 주된 원료로 하여 제조할 수 있다.About the polyimide resin in the manufacturing method of this invention, a polyimide resin can be manufactured using the tetracarboxylic-acid compound and diamine compound mentioned later as a main raw material, for example. Moreover, polyamideimide resin can be manufactured using the tetracarboxylic acid compound, the dicarboxylic acid compound, and the diamine compound which are mentioned later as a main raw material, for example.

폴리이미드계 수지의 합성에 이용되는 테트라카르본산 화합물로서는, 방향족 테트라카르본산 및 그 무수물, 바람직하게는 그 2 무수물 등의 방향족 테트라카르본산 화합물; 및 지방족 테트라카르본산 및 그 무수물, 바람직하게는 그 2 무수물 등의 지방족 테트라카르본산 화합물 등을 들 수 있다. 테트라카르본산 화합물은 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 테트라카르본산 화합물은, 2 무수물 외에, 산 클로라이드 화합물 등의 테트라카르본산 화합물 유연체여도 된다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As tetracarboxylic acid compound used for the synthesis | combination of polyimide-type resin, Aromatic tetracarboxylic acid and its anhydride, Preferably aromatic tetracarboxylic acid compounds, such as the anhydride; And aliphatic tetracarboxylic acids and anhydrides thereof, preferably aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as dihydrides thereof. A tetracarboxylic acid compound may be used independently and may use 2 or more types together. A tetracarboxylic-acid compound flexible body, such as an acid chloride compound, may be sufficient as a tetracarboxylic-acid compound. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

방향족 테트라카르본산 2 무수물로서는 비축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물, 단환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물 및 축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물을 들 수 있다. 비축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물의 구체예로서는 4,4'-옥시디프탈산 2 무수물(OPDA라고 기재하는 경우가 있음), 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2 무수물(BPDA라고 기재하는 경우가 있음), 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 2 무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물(6FDA라고 기재하는 경우가 있음), 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물, 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물을 들 수 있다. 또, 단환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물로서는 1,2,4,5-벤젠테트라카르본산 2 무수물을, 축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물로서는 1,2,4,5-벤젠테트라카르본산 2 무수물을, 축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물로서는 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르본산 2 무수물을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.As aromatic tetracarboxylic dianhydride, non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, and condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride are mentioned. Specific examples of the non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include 4,4'-oxydiphthalic dianhydride (may be described as OPDA), 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid 2 Anhydrides, 2,2 ', 3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (may be described as BPDA), 2,2 ', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenylsulfontetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane 2 Anhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane 2 anhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane 2 anhydride, 4,4 '-(hexafluoroiso Propylidene) diphthalic acid dianhydride (may be described as 6FDA), 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane 2 anhydride, 1,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxype ) Ethane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 4,4 '-(p-phenylenedioxy) diphthalic acid dianhydride, And 4,4 '-(m-phenylenedioxy) diphthalic anhydride. Moreover, as monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-benzene tetracarboxylic dianhydride is used, and as condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride 1,2,4,5-benzene tetracarboxylic dianhydride As condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalene tetracarboxylic dianhydride is mentioned as main acid dianhydride. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

이들 중에서도 4,4'-옥시디프탈산 2 무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 2 무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물, 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물 및 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물이 바람직하고, 4,4'-옥시디프탈산 2 무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물이 보다 바람직하다.Among these, 4,4'- oxydiphthalic acid dianhydride, 3,3 ', 4,4'- benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'- benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3 , 3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 3,3 ', 4,4'-diphenylsulfontetracar Main acid dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (3,4- Dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid dianhydride, 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1- Bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, Bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 4,4 '-(p-phenylenedioxy) diphthalic acid dianhydride and 4,4'- (m- Nylenedioxy) diphthalic acid dianhydride is preferred, 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4'-(hexafluoro Isopropylidene) diphthalic anhydride is more preferable.

지방족 테트라카르본산 2 무수물로서는 환식 또는 비환식의 지방족 테트라카르본산 2 무수물을 들 수 있다. 환식 지방족 테트라카르본산 2 무수물이란, 지환식 탄화수소 구조를 갖는 테트라카르본산 2 무수물이고, 그 구체예로서는 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산 2 무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르본산 2 무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르본산 2 무수물 등의 시클로알칸테트라카르본산 2 무수물, 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르본산 2 무수물, 디시클로헥실-3,3',4,4'-테트라카르본산 2 무수물 및 이들의 위치이성체를 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 비환식 지방족 테트라카르본산 2 무수물의 구체예로서는 1,2,3,4-부탄테트라카르본산 2 무수물, 및 1,2,3,4-펜탄테트라카르본산 2 무수물 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 또, 환식 지방족 테트라카르본산 2 무수물 및 비환식 지방족 테트라카르본산 2 무수물을 조합하여 이용해도 된다.As aliphatic tetracarboxylic dianhydride, a cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride is mentioned. A cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride is tetracarboxylic dianhydride which has an alicyclic hydrocarbon structure, As an example, 1,2,4,5-cyclohexane tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclo Cycloalkanetetracarboxylic dianhydride, such as butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] oct-7-ene-2,3,5 And 6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl-3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride and regioisomers thereof. These can be used individually or in combination of 2 or more types. Specific examples of the acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride, and the like. Or it can use in combination of 2 or more type. Moreover, you may use combining cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride and acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride.

상기 테트라카르본산 2 무수물 중에서도, 광학 부재의 고표면경도, 고유연성, 고굴곡내성, 고투명성 및 저착색성의 관점에서, 4,4'-옥시디프탈산 2 무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물, 및 이들의 혼합물이 바람직하고, 4,4'-옥시디프탈산 2 무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2 무수물 및 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물, 및 이들의 혼합물이 보다 바람직하고, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물이 더 바람직하다.Among the tetracarboxylic dianhydrides, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3 ', 4,4 from the viewpoint of high surface hardness, high flexibility, high bending resistance, high transparency and low colorability of the optical member. '-Benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 ', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3' , 4,4'-diphenylsulfontetracarboxylic acid dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid dianhydride , And mixtures thereof are preferred, and 4,4'-oxydiphthalic anhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 4,4'-(hexafluoroisopropylidene ) Diphthalic anhydride and mixtures thereof are more preferable, and 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride is more preferable.

폴리아미드이미드 수지의 합성에 이용되는 디카르본산 화합물로서는, 식 (3")로 나타내어지는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.As a dicarboxylic acid compound used for the synthesis | combination of polyamideimide resin, it is preferable to include the compound represented by Formula (3 ").

[화학식 11][Formula 11]

Figure pat00012
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[식 (3")중, R1∼R8은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, R1∼R8에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되며,[Formula (3 ') of, R 1 ~R 8 are, each independently, a hydrogen atom contained in the hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group having a carbon number of 6 to 12 carbon atoms of 1~6, R 1 ~R 8 are, Each independently may be substituted by a halogen atom,

A는 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-를 나타내고, R9는 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼12의 탄화수소기를 나타내고,A is a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -S-, -CO- or -N (R 9 )-, R 9 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom,

m은 0∼4의 정수이고,m is an integer of 0 to 4,

R31 및 R32는, 각각 독립적으로, 히드록실기, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, n-부톡시기 또는 염소 원자를 나타낸다.]R 31 and R 32 each independently represent a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, n-butoxy group or a chlorine atom.]

적절한 실시 태양에 있어서는, 디카르본산 화합물은, m이 0인, 식 (3")로 나타내어지는 화합물이고, 나아가서는 A가 -O-인, 식 (3")로 나타내어지는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 또, 다른 적절한 실시 태양에 있어서는, 디카르본산 화합물은, R32가 -Cl인, 식 (3")로 나타내어지는 화합물이다. 또, 디아민 화합물 대신에, 디이소시아네이트 화합물을 이용해도 된다. 바람직하게는 테레프탈로일클로라이드가 이용되고, 그에 추가하여 기타의 디카르본산 화합물이 이용되어도 된다. 기타의 디카르본산 화합물로서는 4,4'-옥시비스 안식향산 및/또는 그 산 클로라이드 화합물이 이용되고, 구체적으로는 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)를 바람직한 예로서 들 수 있다. 또, 기타의 디카르본산 화합물로서는 방향족 디카르본산, 지방족 디카르본산 및 그들의 유연(類緣)의 산 클로라이드 화합물, 산 무수물 등을 들 수 있고, 2종 이상을 병용해도 된다. 구체예로서는 테레프탈산; 이소프탈산; 나프탈렌디카르본산; 4,4'-비페닐디카르본산; 3,3'-비페닐디카르본산; 탄소수 8 이하인 쇄식 탄화수소의 디카르본산 화합물 및 2개의 안식향산이 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 페닐렌기에 의해 연결된 화합물 및 그들의 산 클로라이드 화합물을 들 수 있다.In a suitable embodiment, the dicarboxylic acid compound is a compound represented by formula (3 ") wherein m is 0, and further includes a compound represented by formula (3") wherein A is -O-. desirable. Moreover, in another suitable embodiment, a dicarboxylic acid compound is a compound represented by Formula (3 ") whose R <32> is -Cl. Moreover, you may use a diisocyanate compound instead of a diamine compound. Terephthaloyl chloride may be used in addition to other dicarboxylic acid compounds, and other dicarboxylic acid compounds include 4,4′-oxybis benzoic acid and / or acid chloride compounds thereof. Examples of preferred dicarboxylic acid compounds include 4,4'-oxybis (benzoyl chloride), and other dicarboxylic acid compounds include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, and flexible acid chloride compounds. And an acid anhydride etc., and may use 2 or more types together as a specific example, Terephthalic acid; isophthalic acid; naphthalenedicarboxylic acid; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; 3,3'- ratio Carbonyl dicarboxylic acid; a carbon number of 8 or less dicarboxylic acid compound, and two coupling two of the acid swaesik hydrocarbon, -CH 2 -, -C (CH 3) 2 -, -C (CF 3) 2 -, -SO 2 - Or compounds linked by phenylene groups and their acid chloride compounds.

또한, 상기 폴리이미드계 수지는, 당해 폴리이미드계 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재의 각종 물성을 손상하지 않는 범위에서, 상기의 폴리이미드계 수지의 합성에 이용되는 테트라카르본산 화합물에 추가하여, 테트라카르본산 및 트리카르본산 및 그들의 무수물 및 유도체를 추가로 반응시킨 것이어도 된다.Moreover, the said polyimide resin is in addition to the tetracarboxylic-acid compound used for the synthesis | combination of said polyimide-type resin in the range which does not impair the various physical properties of the optical member which consists of the said polyimide-type resin, The carboxylic acid and tricarboxylic acid and their anhydrides and derivatives may be further reacted.

테트라카르본산으로서는, 상기 테트라카르본산 화합물의 무수물의 수(水)부가체를 들 수 있다.As tetracarboxylic acid, the water adduct of the anhydride of the said tetracarboxylic acid compound is mentioned.

트리카르본산 화합물로서는 방향족 트리카르본산, 지방족 트리카르본산 및 그들의 유연의 산 클로라이드 화합물, 산 무수물 등을 들 수 있고, 2종 이상을 병용해도 된다. 구체예로서는 1,2,4-벤젠트리카르본산의 무수물; 2,3,6-나프탈렌트리카르본산-2,3-무수물; 프탈산 무수물과 안식향산이 단결합, -O-, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 페닐렌기에 의해 연결된 화합물을 들 수 있다.Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acid, aliphatic tricarboxylic acid, their flexible acid chloride compounds, and acid anhydrides, and two or more kinds thereof may be used in combination. Specific examples include anhydrides of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic acid-2,3- anhydride; And phthalic anhydride and benzoic acid are linked by a single bond, -O-, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2 -or a phenylene group. .

폴리이미드계 수지의 합성에 이용되는 디아민 화합물로서는, 예를 들면, 지방족 디아민, 방향족 디아민 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. 또한, 본 실시 형태에 있어서 「방향족 디아민」이란, 아미노기가 방향환에 직접 결합해 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 지방족 기 또는 기타의 치환기를 포함하고 있어도 된다. 이 방향환은 단환이어도 되고 축합환이어도 되며, 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환 및 플루오렌환 등이 예시되지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 이들 중에서도 바람직하게는 벤젠환이다. 또, 「지방족 디아민」이란, 아미노기가 지방족 기에 직접 결합해 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 방향환이나 기타의 치환기를 포함하고 있어도 된다.As a diamine compound used for the synthesis | combination of a polyimide resin, aliphatic diamine, aromatic diamine, and mixtures thereof are mentioned, for example. In addition, in this embodiment, "aromatic diamine" shows the diamine which the amino group couple | bonded with the aromatic ring directly, and may contain the aliphatic group or other substituent in a part of the structure. The aromatic ring may be monocyclic or condensed ring, and examples thereof include, but are not limited to, a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring and a fluorene ring. Among these, a benzene ring is preferable. Moreover, "aliphatic diamine" shows the diamine which the amino group couple | bonded with the aliphatic group directly, and may contain the aromatic ring and other substituent in a part of the structure.

지방족 디아민으로서는, 예를 들면, 헥사메틸렌디아민 등의 비환식 지방족 디아민, 및 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산, 노르보르난디아민 및 4,4'-디아미노디시클로헥실메탄 등의 환식 지방족 디아민 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.Examples of the aliphatic diamine include acyclic aliphatic diamines such as hexamethylenediamine, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, norbornanediamine, and 4, Cyclic aliphatic diamine, such as 4'- diamino dicyclohexyl methane, etc. are mentioned. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

방향족 디아민으로서는, 예를 들면, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 2,4-톨루엔디아민, m-크실릴렌디아민, p-크실릴렌디아민, 1,5-디아미노나프탈렌, 및 2,6-디아미노나프탈렌 등의, 방향환을 1개 갖는 방향족 디아민; 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르(ODA라고 기재하는 경우가 있음), 3,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘(MB라고 기재하는 경우가 있음), 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(TFMB라고 기재하는 경우가 있음), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-메틸페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-클로로페닐)플루오렌, 및 9,9-비스(4-아미노-3-플루오로페닐)플루오렌 등의, 방향환을 2개 이상 갖는 방향족 디아민을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.Examples of the aromatic diamines include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, and Aromatic diamines having one aromatic ring, such as 2,6-diaminonaphthalene; 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether (may be described as ODA), 3,4'-diaminodi Phenylether, 3,3'-diaminodiphenylether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,4 -Bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy ) Phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine (May be described as MB), 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (may be described as TFMB), 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 9 , 9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-chlorophenyl) fluorene, and 9 , 9-bis (4-amino-3-fluoro There may be mentioned phenyl) fluorene, etc., an aromatic diamine having an aromatic ring at least two. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

방향족 디아민으로서는, 바람직하게는 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐을 들 수 있고, 보다 바람직하게는 4,4'-디아미노디페닐 메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As aromatic diamine, Preferably, 4,4'- diamino diphenylmethane, 4,4'- diamino diphenyl propane, 4,4'- diamino diphenyl ether, 3,3'- diamino diphenyl ether , 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] Sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy ) Phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) ratio Phenyl, more preferably 4,4'-diaminodiphenyl methane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylether, 4,4'-diamino Diphenylsulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] Propane, 2,2'-dimethylbenzidine, And 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine and 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

상기 디아민 화합물 중에서도, 광학 부재의 고표면경도, 고유연성, 고굴곡내성, 고투명성 및 저착색성의 관점에서는, 비페닐 구조를 갖는 방향족 디아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 바람직하다. 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐 및 4,4'-디아미노디페닐에테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 보다 바람직하고, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘을 이용하는 것이 보다 더 바람직하다.Among the diamine compounds, at least one member selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure is preferably used from the viewpoint of high surface hardness, high flexibility, high bending resistance, high transparency and low colorability of the optical member. Consisting of 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl and 4,4'-diaminodiphenylether It is more preferable to use 1 or more types selected from the group, and even more preferably to use 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine.

본 발명의 일 실시 태양인 폴리아미드이미드 수지는, 디아민 화합물과, 테트라카르본산 화합물(산 클로라이드 화합물, 테트라카르본산 2 무수물 등의 테트라카르본산 화합물 유연체) 및 디카르본산 화합물(산 클로라이드 화합물 등의 디카르본산 화합물 유연체), 및 경우에 따라 트리카르본산 화합물(산 클로라이드 화합물, 트리카르본산 무수물 등의 트리카르본산 화합물 유연체)과의 중축합 생성물인 축합형 고분자이다.The polyamideimide resin which is one embodiment of the present invention includes a diamine compound, a tetracarboxylic acid compound (tetracarboxylic acid compound flexible body such as an acid chloride compound and tetracarboxylic dianhydride), and a dicarboxylic acid compound (acid chloride compound, etc.). Dicarboxylic acid compound flexible body) and, optionally, a tricondensation polymer which is a polycondensation product with a tricarboxylic acid compound (tricarboxylic acid compound flexible body such as an acid chloride compound or a tricarboxylic acid anhydride).

식 (1) 및 식 (10-2)로 나타내어지는 구성 단위는, 통상, 디아민류 및 테트라카르본산 화합물로부터 유도된다. 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위는, 통상, 디아민 및 디카르본산 화합물로부터 유도된다. 식 (11-2)로 나타내어지는 구성 단위는, 통상, 디아민 및 트리카르본산 화합물로부터 유도된다.The structural units represented by the formulas (1) and (10-2) are usually derived from diamines and tetracarboxylic acid compounds. The structural unit represented by Formula (2) is usually derived from a diamine and a dicarboxylic acid compound. The structural unit represented by Formula (11-2) is usually derived from a diamine and a tricarboxylic acid compound.

본 발명의 바람직한 실시 태양에 있어서, 폴리이미드계 수지에는, 상기와 같이, 할로겐 원자가 포함될 수 있다. 함불소 치환기의 구체예로서는, 플루오로기 및 트리플루오로메틸기를 들 수 있다. 폴리이미드계 수지가 할로겐 원자를 포함함으로써, 폴리이미드계 수지를 포함하여 이루어지는 광학 부재의 황색도(YI라고 기재하는 경우가 있음)를 저감시킬 수 있는 경우가 있고, 또한 높은 유연성 및 굴곡내성을 양립시킬 수 있는 경향이 있다. 또, 광학 부재의 황색도의 저감(즉, 투명성의 향상), 흡수율의 저감, 및 내굴곡성의 관점에서, 할로겐 원자는 바람직하게는 불소 원자이다.In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide resin may include a halogen atom as described above. As a specific example of a fluorine-containing substituent, a fluoro group and a trifluoromethyl group are mentioned. When the polyimide resin contains a halogen atom, the yellowness (sometimes referred to as YI) of the optical member including the polyimide resin may be reduced, and both high flexibility and flex resistance can be achieved. There is a tendency to. In addition, the halogen atom is preferably a fluorine atom from the viewpoint of reducing the yellowness of the optical member (that is, improving transparency), decreasing the absorption rate, and the bend resistance.

폴리이미드계 수지에 있어서의 할로겐 원자의 함유율은, 황색도의 저감(투명성의 향상), 흡수율의 저감, 및 광학 부재의 변형 억제의 관점에서, 폴리이미드계 수지의 질량을 기준으로 하여, 바람직하게는 1∼40 질량%, 보다 바람직하게는 3∼35 질량%, 더 바람직하게는 5∼32 질량%이다.The content rate of the halogen atom in polyimide-type resin is based on the mass of polyimide-type resin from a viewpoint of the reduction of yellowness (improvement of transparency), a decrease in water absorption, and suppression of deformation of an optical member, Preferably Is 1-40 mass%, More preferably, it is 3-35 mass%, More preferably, it is 5-32 mass%.

본 발명의 일 실시 태양에 있어서, 폴리이미드계 수지의 합성 반응에 있어서, 이미드화 촉매가 존재해도 된다. 이미드화 촉매로서는, 예를 들면, 트리프로필아민, 디부틸프로필아민, 에틸디부틸아민 등의 지방족 아민; N-에틸피페리딘, N-프로필피페리딘, N-부틸피롤리딘, N-부틸피페리딘, 및 N-프로필헥사히드로아제핀 등의 지환식 아민(단환식); 아자비시클로[2.2.1]헵탄, 아자비시클로[3.2.1]옥탄, 아자비시클로[2.2.2]옥탄, 및 아자비시클로[3.2.2]노난 등의 지환식 아민(다환식); 및 피리딘, 2-메틸피리딘, 3-메틸피리딘, 4-메틸피리딘, 2-에틸피리딘, 3-에틸피리딘, 4-에틸피리딘, 2,4-디메틸피리딘, 2,4,6-트리메틸피리딘, 3,4-시클로펜테노피리딘, 5,6,7,8-테트라히드로이소퀴놀린, 및 이소퀴놀린 등의 방향족 아민을 들 수 있다.In one embodiment of the present invention, an imidation catalyst may be present in the synthesis reaction of the polyimide resin. As an imidation catalyst, For example, aliphatic amines, such as tripropylamine, dibutylpropylamine, and ethyl dibutylamine; Alicyclic amines (monocyclic) such as N-ethylpiperidine, N-propylpiperidine, N-butylpyrrolidine, N-butylpiperidine, and N-propylhexahydroazepine; Alicyclic amines (polycyclic) such as azabicyclo [2.2.1] heptane, azabicyclo [3.2.1] octane, azabicyclo [2.2.2] octane, and azabicyclo [3.2.2] nonane; And pyridine, 2-methylpyridine, 3-methylpyridine, 4-methylpyridine, 2-ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine, 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3 And aromatic amines such as, 4-cyclopentenopyridine, 5,6,7,8-tetrahydroisoquinoline, and isoquinoline.

디아민 화합물, 디카르본산 화합물, 및, 경우에 따라 테트라카르본산 화합물의 반응 온도는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 50∼350℃이다. 반응 시간도 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 30분∼10시간 정도이다. 필요에 따라서, 불활성 분위기 또는 감압의 조건 하에 있어서 반응을 행해도 된다. 또, 반응은 용제 중에서 행해도 되고, 용제로서는 예를 들면, 폴리이미드계 수지를 포함하는 바니시의 조제에 이용되는 후술하는 용제를 들 수 있다.Although the reaction temperature of a diamine compound, a dicarboxylic acid compound, and a tetracarboxylic acid compound in some cases is not specifically limited, For example, it is 50-350 degreeC. Although reaction time is not specifically limited, for example, It is about 30 minutes-about 10 hours. If necessary, the reaction may be performed under inert atmosphere or reduced pressure. Moreover, you may perform reaction in a solvent, As the solvent, the solvent mentioned later used for preparation of the varnish containing polyimide-type resin is mentioned, for example.

본 발명의 제조 방법에 의해 제조한 폴리이미드계 수지 분체는, 예를 들면, 광학 부재의 제조에 사용할 수 있다. 광학 부재로서는, 예를 들면, 광학 필름을 들 수 있다. 당해 광학 부재는, 유연성, 굴곡내성 및 표면경도가 우수하기 때문에, 화상 표시 장치의 전면판, 특히 플렉시블 디스플레이의 전면판(윈도우 필름)으로서 적당하다. 광학 부재는 단층이어도 되고 복층이어도 된다. 광학 부재가 복층인 경우, 각 층은 동일한 조성이어도 되고 다른 조성이어도 된다.The polyimide resin powder manufactured by the manufacturing method of this invention can be used, for example for manufacture of an optical member. As an optical member, an optical film is mentioned, for example. Since the said optical member is excellent in flexibility, bending resistance, and surface hardness, it is suitable as a front plate of an image display apparatus, especially a front plate (window film) of a flexible display. The optical member may be a single layer or a multilayer. In the case where the optical member is a multilayer, each layer may have the same composition or different compositions.

본 발명의 제조 방법에 의해 제조한 폴리이미드계 수지 분체를 광학 부재의 제조에 사용하는 경우, 광학 부재 중에 있어서의 폴리이미드계 수지의 함유율은, 광학 부재의 전체 질량에 대하여, 바람직하게는 40 질량% 이상, 보다 바람직하게는 50 질량% 이상, 더 바람직하게는 70 질량% 이상, 특히 바람직하게는 80 질량% 이상, 매우 바람직하게는 90 질량% 이상이다. 폴리이미드계 수지의 함유율이 상기 하한값 이상이면, 광학 부재의 굴곡내성이 양호하다. 또한, 광학 부재 중에 있어서의 폴리이미드계 수지의 함유율은, 광학 부재의 전체 질량에 대하여, 통상 100 질량% 이하이다.When using the polyimide resin powder manufactured by the manufacturing method of this invention for manufacture of an optical member, the content rate of the polyimide resin in an optical member becomes like this. Preferably it is 40 mass with respect to the total mass of an optical member. It is more than%, More preferably, it is 50 mass% or more, More preferably, it is 70 mass% or more, Especially preferably, it is 80 mass% or more, Very preferably 90 mass% or more. If the content rate of polyimide resin is more than the said lower limit, the bending resistance of an optical member is favorable. In addition, the content rate of polyimide resin in an optical member is 100 mass% or less normally with respect to the total mass of an optical member.

(무기재료)(Inorganic materials)

광학 부재에는, 폴리이미드계 수지 외에 무기입자 등의 무기재료를 추가로 함유해도 된다. 무기재료로서, 예를 들면, 티타니아 입자, 알루미나 입자, 지르코니아 입자, 실리카 입자 등의 무기입자, 및 오르토규산테트라에틸 등의 4급 알콕시실란 등의 규소 화합물 등을 들 수 있다. 광학 부재를 제조하기 위한 폴리이미드계 수지를 포함하는 바니시의 안정성의 관점에서, 무기재료는 무기입자, 특히 실리카 입자인 것이 바람직하다. 무기입자끼리는, 실록산 결합을 갖는 분자에 의해 결합되어 있어도 된다.The optical member may further contain inorganic materials such as inorganic particles in addition to the polyimide resin. Examples of the inorganic material include inorganic particles such as titania particles, alumina particles, zirconia particles, and silica particles, and silicon compounds such as quaternary alkoxysilanes such as tetraethyl orthosilicate. From the viewpoint of the stability of the varnish containing the polyimide resin for producing the optical member, the inorganic material is preferably inorganic particles, particularly silica particles. The inorganic particles may be bonded by a molecule having a siloxane bond.

무기입자의 평균 일차 입자경(徑)은, 광학 부재의 투명성, 기계 물성, 및 무기입자의 응집 억제의 관점에서, 통상 1∼100 ㎚ 이상, 바람직하게는 5∼80 ㎚, 보다 바람직하게는 7∼50 ㎚, 더 바람직하게는 10∼30 ㎚이다. 본 발명에 있어서, 평균 일차 입자경은, 투과형 전자현미경에 의한 정방향경(徑)의 10점 평균값을 측정함으로써 결정할 수 있다.The average primary particle size of the inorganic particles is usually 1 to 100 nm or more, preferably 5 to 80 nm, more preferably 7 to 8 from the viewpoint of transparency of the optical member, mechanical properties, and suppression of aggregation of the inorganic particles. 50 nm, More preferably, it is 10-30 nm. In this invention, an average primary particle diameter can be determined by measuring the 10-point average value of the forward diameter by a transmission electron microscope.

광학 부재 중의 무기재료의 함유율은, 광학 부재의 전체 질량을 기준으로 하여, 바람직하게는 0 질량% 이상 90 질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.01 질량% 이상 60 질량% 이하, 더 바람직하게는 5 질량% 이상 40 질량% 이하이다. 무기재료의 함유율이 상기 범위 내이면, 광학 부재의 투명성 및 기계 물성을 양립시키기 쉬운 경향이 있다.The content of the inorganic material in the optical member is preferably 0% by mass or more and 90% by mass or less, more preferably 0.01% by mass or more and 60% by mass or less, further preferably 5% by mass based on the total mass of the optical member. It is more than 40 mass% in%. When the content rate of the inorganic material is within the above range, there is a tendency to make both the transparency and mechanical properties of the optical member compatible.

(자외선흡수제)(UV absorber)

광학 부재는 1종 또는 2종 이상의 자외선흡수제를 함유하고 있어도 된다. 자외선흡수제는, 수지 재료의 분야에서 자외선흡수제로서 통상 이용되고 있는 것으로부터, 적절히 선택할 수 있다. 자외선흡수제는, 400 ㎚ 이하의 파장의 광을 흡수하는 화합물을 포함하고 있어도 된다. 자외선흡수제로서는, 예를 들면, 벤조페논계 화합물, 살리실레이트계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물, 및 트리아진계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 들 수 있다. 광학 부재가 자외선흡수제를 함유함으로써, 폴리이미드계 수지의 열화가 억제되기 때문에, 광학 부재의 시인성을 높일 수 있다.The optical member may contain 1 type, or 2 or more types of ultraviolet absorbers. A ultraviolet absorber can be suitably selected from what is normally used as a ultraviolet absorber in the field of resin materials. The ultraviolet absorber may contain the compound which absorbs the light of the wavelength of 400 nm or less. As an ultraviolet absorber, the at least 1 sort (s) of compound chosen from the group which consists of a benzophenone type compound, a salicylate type compound, a benzotriazole type compound, and a triazine type compound is mentioned, for example. Since an optical member contains a ultraviolet absorber, deterioration of polyimide resin can be suppressed, and the visibility of an optical member can be improved.

또한, 본 명세서에 있어서, 「계 화합물」이란, 당해 「계 화합물」이 붙여지는 화합물의 유도체를 가리킨다. 예를 들면, 「벤조페논계 화합물」이란, 모체 골격으로서의 벤조페논과, 벤조페논에 결합해 있는 치환기를 갖는 화합물을 가리킨다.In addition, in this specification, a "system compound" refers to the derivative of the compound to which the said "system compound" is affixed. For example, a "benzophenone type compound" refers to a compound having a benzophenone as a parent skeleton and a substituent bonded to the benzophenone.

광학 부재가 자외선흡수제를 함유하는 경우, 자외선흡수제의 함유율은, 광학 부재의 전체 질량에 대하여, 바람직하게는 1 질량% 이상, 보다 바람직하게는 2 질량% 이상, 더 바람직하게는 3 질량% 이상이고, 바람직하게는 10 질량% 이하, 보다 바람직하게는 8 질량% 이하, 더 바람직하게는 6 질량% 이하이다. 적절한 함유율은 이용하는 자외선흡수제에 따라 다르지만, 400 ㎚의 광선투과율이 20∼60% 정도가 되도록 자외선흡수제의 함유율을 조절하면, 광학 부재의 내광성이 높아짐과 함께, 투명성이 높은 광학 부재를 얻을 수 있다.When the optical member contains a ultraviolet absorber, the content of the ultraviolet absorber is preferably 1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more, further preferably 3% by mass or more, based on the total mass of the optical member. Preferably it is 10 mass% or less, More preferably, it is 8 mass% or less, More preferably, it is 6 mass% or less. Although an appropriate content rate changes with the ultraviolet absorber to be used, if the content rate of an ultraviolet absorber is adjusted so that the light transmittance of 400 nm may be about 20 to 60%, the light resistance of an optical member will become high and an optical member with high transparency can be obtained.

(기타의 첨가제)(Other additives)

광학 부재는, 추가로 기타의 첨가제를 함유하고 있어도 된다. 기타의 성분으로서는, 예를 들면, 산화방지제, 이형제, 안정제, 블루잉제, 난연제, pH 조정제, 실리카분산제, 활제, 증점제, 및 레벨링제 등을 들 수 있다.The optical member may further contain other additives. As other components, antioxidant, a mold release agent, a stabilizer, a bluing agent, a flame retardant, a pH adjuster, a silica dispersant, a lubricating agent, a thickener, a leveling agent, etc. are mentioned, for example.

기타의 첨가제의 함유율은, 광학 부재의 질량에 대하여, 바람직하게는 0 질량% 이상 20 질량% 이하, 보다 바람직하게는 0 질량% 이상 10 질량% 이하이다.The content rate of the other additives is preferably 0% by mass or more and 20% by mass or less, more preferably 0% by mass or more and 10% by mass or less with respect to the mass of the optical member.

광학 부재, 특히 광학 필름의 두께는, 용도에 따라서 적절히 조정되지만, 통상 10∼1000 ㎛, 바람직하게는 15∼500 ㎛, 보다 바람직하게는 20∼400 ㎛, 더 바람직하게는 25∼300 ㎛이다. 또한, 본 발명에 있어서, 두께는 접촉식의 디지매틱 인디케이터에 의해서 측정할 수 있다.Although the thickness of an optical member, especially an optical film is suitably adjusted according to a use, it is 10-1000 micrometers normally, Preferably it is 15-500 micrometers, More preferably, it is 20-400 micrometers, More preferably, it is 25-300 micrometers. In the present invention, the thickness can be measured by a contact type digital indicator.

광학 부재에 있어서의 전(全)광선투과율 Tt는, 바람직하게는 70% 이상, 보다 바람직하게는 80% 이상, 더 바람직하게는 85% 이상, 특히 바람직하게는 90% 이상이다. 광학 부재의 전광선투과율 Tt가 상기 하한값 이상이면, 광학 부재를 화상 표시 장치에 조립하였을 때에, 충분한 시인성을 확보하기 쉽고, 또한, 예를 들면, 투과율이 그 범위에 없는 경우와 비교하여, 시인측에서 동일한 밝기를 얻는 경우에, 백라이트의 조도를 낮추는 것이 가능해져, 에너지 절약에 공헌할 수 있다. 또한, 광학 부재의 전광선투과율 Tt의 상한값은 통상 100% 이하이다. 광학 부재에 있어서의 헤이즈(Haze)는, 스가시험기(주) 제의 직독 헤이즈 컴퓨터(타입 HGM-2DP)로 측정하여, 바람직하게는 1.0% 이하, 보다 바람직하게는 0.8% 이하, 보다 더 바람직하게는 0.5% 이하, 특히 바람직하게는 0.3% 이하이다. 광학 부재의 헤이즈가 상기의 상한값 이하이면, 광학 부재를 화상 표시 장치 등의 플렉시블 전자 디바이스에 조립하였을 때에, 충분한 시인성을 확보하기 쉽다. 또한, 상기 헤이즈의 하한값은 특별히 한정되지 않고, 0% 이상이면 된다. 본 발명의 제조 방법에 있어서 사용하는 폴리이미드계 수지 용액 (a)에 용해시킨 폴리이미드계 수지, 및/또는, 본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 폴리이미드계 수지의 분체는, 상기 전광선투과율 Tt 및/또는 헤이즈를 갖는 것이 바람직하다. 폴리이미드계 수지 및 폴리이미드계 수지 분체의 전광선투과율 Tt 및/또는 헤이즈는, 성형체(예를 들면, 필름)의 형상에서 측정된다. 전광선투과율은 JIS K 7105:1981 또는 JIS K 7361-1:1997에 준거하여 측정해도 된다.The total light transmittance Tt in the optical member is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, still more preferably 85% or more, and particularly preferably 90% or more. When the total light transmittance Tt of the optical member is equal to or greater than the lower limit, sufficient visibility can be easily secured when the optical member is assembled into the image display device, and, for example, on the visual side, compared with the case where the transmittance is not in the range. In the case of obtaining the same brightness, the illuminance of the backlight can be reduced, which can contribute to energy saving. In addition, the upper limit of the total light transmittance Tt of an optical member is 100% or less normally. Haze in the optical member is measured by a direct reading haze computer (type HGM-2DP) manufactured by Suga Tester Co., Ltd., preferably 1.0% or less, more preferably 0.8% or less, even more preferably Is 0.5% or less, particularly preferably 0.3% or less. When the haze of an optical member is below the said upper limit, sufficient visibility is easy to be ensured, when an optical member is assembled to flexible electronic devices, such as an image display apparatus. In addition, the lower limit of the said haze is not specifically limited, What is necessary is just 0% or more. The polyimide-based resin dissolved in the polyimide-based resin solution (a) used in the production method of the present invention, and / or the powder of the polyimide-based resin obtained by the production method of the present invention includes the total light transmittance Tt and It is preferred to have haze. The total light transmittance Tt and / or haze of polyimide-type resin and polyimide-type resin powder are measured in the shape of a molded object (for example, a film). The total light transmittance may be measured based on JIS K 7105: 1981 or JIS K 7361-1: 1997.

(광학 부재의 제조 방법)(Method for Manufacturing Optical Member)

본 발명의 제조 방법에 의해 제조한 폴리이미드계 수지 분체를 이용하여, 상기와 같은 광학 부재, 예를 들면, 광학 필름을 제조할 수 있다. 제조 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 이하의 공정:Using the polyimide resin powder manufactured by the manufacturing method of this invention, the above optical members, for example, an optical film can be manufactured. The manufacturing method is not particularly limited. For example, the following process:

(a) 폴리이미드계 수지 분체를 용제에 용해시켜 얻은 폴리이미드계 수지를 포함하는 액(폴리이미드계 수지의 바니시)을 기재에 도포하여 도막을 형성하는 공정(도포 공정), 및(a) Process of apply | coating the liquid (varnish of polyimide-type resin) containing polyimide-type resin obtained by melt | dissolving a polyimide-type resin powder to a solvent, and forming a coating film (coating process), And

(b) 도포된 액(폴리이미드계 수지의 바니시)을 건조시켜 광학 부재, 특히 광학 필름(폴리이미드계 수지 필름)을 형성하는 공정(형성 공정)(b) Process of forming the optical member, especially the optical film (polyimide resin film) by drying the applied liquid (varnish of polyimide resin) (forming step)

을 포함하는 제조 방법에 의해서 광학 부재를 제조할 수 있다. 공정 (a) 및 (b)는, 통상 이 순서로 행할 수 있다.An optical member can be manufactured by the manufacturing method containing this. Process (a) and (b) can be normally performed in this order.

도포 공정에 있어서는, 폴리이미드계 수지 분체를 용제에 용해시키고, 필요에 따라서 상기 자외선흡수제 및 기타의 첨가제를 첨가하고, 교반함으로써, 폴리이미드계 수지를 포함하는 액(폴리이미드계 수지의 바니시)을 조제한다.In the coating step, the polyimide resin powder is dissolved in a solvent, and the above-described ultraviolet absorber and other additives are added and stirred as necessary to prepare a liquid containing a polyimide resin (varnish of polyimide resin). To prepare.

바니시의 조제에 이용되는 용제는, 폴리이미드계 수지를 용해 가능하면 특별히 한정되지 않는다. 이러한 용제로서는, 예를 들면, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드계 용제; γ-부티로락톤, γ-발레로락톤 등의 락톤계 용제; 디메틸술폰, 디메틸술폭시드, 술포란 등의 함유황계 용제; 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 카보네이트계 용제; 및 그들의 조합을 들 수 있다. 이들 용제 중에서도 아미드계 용제 또는 락톤계 용제가 바람직하다. 또, 바니시에는 물, 알콜계 용제, 케톤계 용제, 비환상 에스테르계 용제, 에테르계 용제 등이 포함되어도 된다.The solvent used for preparation of the varnish is not particularly limited as long as it can dissolve the polyimide resin. As such a solvent, For example, Amide type solvents, such as N, N- dimethylacetamide and N, N- dimethylformamide; lactone solvents such as γ-butyrolactone and γ-valerolactone; Sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide and sulfolane; Carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; And combinations thereof. Among these solvents, amide solvents or lactone solvents are preferable. The varnish may also contain water, an alcohol solvent, a ketone solvent, an acyclic ester solvent, an ether solvent, or the like.

다음으로, 예를 들면, 공지의 롤·투·롤이나 배치 방식에 의해, 수지 기재, SUS 벨트, 또는 유리 기재 등의 기재 상에, 폴리이미드계 수지의 바니시를 이용하여, 유연(流涎) 성형 등에 의해서 도막을 형성할 수 있다.Next, casting is performed by using a varnish of polyimide-based resin on a substrate such as a resin substrate, an SUS belt, or a glass substrate by a known roll-to-roll or a batch method. A coating film can be formed by etc.

형성 공정에 있어서, 도막을 건조하고, 기재로부터 박리함으로써, 광학 부재를 형성할 수 있다. 박리 후에 추가로 광학 부재를 건조하는 건조 공정을 행해도 된다. 도막의 건조는, 통상 50∼350℃의 온도에서 행할 수 있다. 필요에 따라서여, 불활성 분위기 또는 감압의 조건 하에 있어서 도막의 건조를 행해도 된다.In a formation process, an optical member can be formed by drying a coating film and peeling from a base material. You may perform the drying process which dries an optical member further after peeling. Drying of a coating film can be performed at the temperature of 50-350 degreeC normally. As needed, you may dry a coating film under conditions of inert atmosphere or reduced pressure.

광학 부재의 적어도 일방의 표면에, 표면 처리를 실시하는 표면 처리 공정을 행해도 된다. 표면 처리로서는, 예를 들면, UV 오존 처리, 플라즈마 처리 및 코로나 방전 처리를 들 수 있다.You may perform the surface treatment process which surface-treats on at least one surface of an optical member. As surface treatment, UV ozone treatment, a plasma treatment, and a corona discharge treatment are mentioned, for example.

수지 기재의 예로서는, PET 필름, PEN 필름, 폴리이미드 필름 및 폴리아미드이미드 필름 등을 들 수 있고, 내열성이 우수하다는 관점에서, 바람직하게는 PET 필름, PEN 필름, 폴리이미드 필름, 및 기타의 폴리아미드이미드 필름을 들 수 있고, 또한, 광학 부재와의 밀착성 및 비용의 관점에서, 보다 바람직하게는 PET 필름을 들 수 있다.Examples of the resin substrate include PET films, PEN films, polyimide films, polyamideimide films and the like, and from the viewpoint of excellent heat resistance, preferably PET films, PEN films, polyimide films, and other polyamides A mid film is mentioned, More preferably, PET film is mentioned from a viewpoint of adhesiveness with an optical member, and a cost.

본 발명의 제조 방법에 의하여 얻은 폴리이미드계 수지 분체를 이용하여, 광학 부재를 제조할 수 있다. 이와 같은 광학 부재는, 높은 탄성률과 유연성을 갖는다. 본 발명의 적절한 실시 태양에 있어서, 상기 광학 부재의 탄성률은, 바람직하게는 3.0 ㎬ 이상, 보다 바람직하게는 4.0 ㎬ 이상, 더 바람직하게는 5.0 ㎬ 이상, 특히 바람직하게는 6.0 ㎬ 이상이고, 바람직하게는 10.0 ㎬ 이하, 보다 바람직하게는 8.0 ㎬ 이하, 더 바람직하게는 7.0 ㎬ 이하이다. 상기의 상한값 및 하한값은 임의로 조합할 수 있다. 광학 부재의 탄성률이 상기의 범위에 있으면, 플렉시블 디스플레이에 이용함에 있어서 충분한 경도를 갖고, 또한, 플렉시블 디스플레이가 굴곡될 때에, 상기 광학 부재에 의한 기타의 부재의 손상을 억제할 수 있다. 탄성률은, 예를 들면, (주)시마즈제작소 제 오토그래프 AG-IS를 이용하여, 10 ㎜ 폭의 시험편을 척(chuck) 간 거리 500 ㎜, 인장 속도 20 ㎜/분의 조건으로 S-S 곡선을 측정하여, 그 기울기로부터 측정할 수 있다. 본 발명의 제조 방법에 있어서 사용하는 폴리이미드계 수지 용액 (a)에 용해시킨 폴리이미드계 수지, 및/또는, 본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 폴리이미드계 수지의 분체는, 상기 탄성률을 갖는 것이 바람직하다. 폴리이미드계 수지 및 폴리이미드계 수지 분체의 탄성률은, 성형체, (예를 들면, 필름의 형상)에서 측정된다.An optical member can be manufactured using the polyimide resin powder obtained by the manufacturing method of this invention. Such an optical member has high elastic modulus and flexibility. In a suitable embodiment of the present invention, the elastic modulus of the optical member is preferably 3.0 GPa or more, more preferably 4.0 GPa or more, still more preferably 5.0 GPa or more, particularly preferably 6.0 GPa or more, preferably Is 10.0 kPa or less, More preferably, it is 8.0 kPa or less, More preferably, it is 7.0 kPa or less. Said upper limit and lower limit can be combined arbitrarily. When the elasticity modulus of an optical member exists in the said range, when using for a flexible display, it has sufficient hardness, and when the flexible display is bent, damage of the other member by the said optical member can be suppressed. The elastic modulus is measured, for example, using an autograph AG-IS manufactured by Shimadzu Corporation, and measuring the SS curve under conditions of a distance of 500 mm and a tensile speed of 20 mm / min for a 10 mm wide test piece. It can measure from the inclination. The polyimide resin dissolved in the polyimide resin solution (a) used in the production method of the present invention, and / or the powder of the polyimide resin obtained by the production method of the present invention has the above elastic modulus. desirable. The elasticity modulus of polyimide-type resin and polyimide-type resin powder is measured by a molded object (for example, the shape of a film).

상기 광학 부재, 특히 광학 필름은 우수한 굴곡내성을 갖는다. 본 발명의 적절한 실시 태양에 있어서, 광학 부재는, R=1 ㎜에서 135°를 하중 0.75 kgf로 속도 175 cpm에서 측정하였을 때에 파단할 때까지의 왕복 절곡 횟수가, 바람직하게는 10,000회 이상, 보다 바람직하게는 20,000회 이상, 더 바람직하게는 30,000회 이상, 보다 더 바람직하게는 40,000회 이상, 특히 바람직하게는 50,000회 이상, 매우 바람직하게는 100,000회 이상이다.The optical member, in particular the optical film, has excellent flex resistance. In a suitable embodiment of the present invention, the optical member has a reciprocating bending number of times until fracture when measured at a speed of 175 cpm at 135 ° at a load of 0.75 kgf at R = 1 mm, preferably 10,000 or more times. It is preferably at least 20,000 times, more preferably at least 30,000 times, even more preferably at least 40,000 times, particularly preferably at least 50,000 times, very preferably at least 100,000 times.

광학 부재의 왕복 절곡 횟수가 상기 하한값 이상이면, 광학 부재를 굴곡하였을 때에 생길 수 있는 접힘 주름을 보다 억제하기 쉽다. 또한, 광학 부재의 왕복 절곡 횟수는 횟수가 많을수록 좋고, 그 상한은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 1,000,000회 이하여도 된다. 왕복 절곡 횟수는, 예를 들면, (주)도요세이키제작소 제 MIT 내절피로시험기(타입 0530)로 두께 50 ㎛, 폭 10 ㎜의 시험편(광학 부재)을 이용하여 구할 수 있다. 본 발명의 제조 방법에 있어서 사용하는 폴리이미드계 수지 용액 (a)에 용해시킨 폴리이미드계 수지, 및/또는, 본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 폴리이미드계 수지의 분체는, 상기 굴곡내성을 갖는 것이 바람직하다. 폴리이미드계 수지 및 폴리이미드계 수지 분체의 굴곡내성은, 성형체(예를 들면, 필름)의 형상에서 측정된다.When the frequency | count of reciprocation bending of an optical member is more than the said lower limit, it is easier to suppress the folding wrinkle which may arise when bending an optical member. The number of reciprocating bends of the optical member is better as the number of times increases, and the upper limit thereof is not particularly limited. For example, 1,000,000 times or less may be sufficient. The number of reciprocating bends can be obtained, for example, by using a test piece (optical member) having a thickness of 50 μm and a width of 10 mm using an MIT internal fatigue tester (type 0530) manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd. The polyimide resin dissolved in the polyimide resin solution (a) used in the production method of the present invention, and / or the powder of the polyimide resin obtained by the production method of the present invention has the above bending resistance. It is preferable. Flexural resistance of a polyimide-type resin and polyimide-type resin powder is measured in the shape of a molded object (for example, a film).

상기 광학 부재는 우수한 투명성을 발현할 수 있다. 그 때문에, 상기 광학 부재는 화상 표시 장치, 특히 플렉시블 디스플레이의 전면판(윈도우 필름)으로서 매우 유용하다. 본 발명의 적절한 실시 태양에 있어서, 광학 부재는, JIS K 7373:2006에 준거한 황색도 YI가, 바람직하게는 5 이하, 보다 바람직하게는 3 이하, 더 바람직하게는 2.5 이하, 특히 바람직하게는 2.0 이하이다. 황색도 YI가 상기 상한값 이하인 광학 부재는, 표시 장치 등의 높은 시인성에 기여할 수 있다. 또한, 상기 광학 부재의 황색도는 바람직하게는 0 이상이다. 본 발명의 제조 방법에 있어서 사용하는 폴리이미드계 수지 용액 (a)에 용해시킨 폴리이미드계 수지, 및/또는, 본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 폴리이미드계 수지의 분체는, 상기 황색도 YI를 갖는 것이 바람직하다. 폴리이미드계 수지 및 폴리이미드계 수지 분체의 황색도 YI는, 성형체(예를 들면, 필름)의 형상에서 측정된다.The optical member can express excellent transparency. Therefore, the said optical member is very useful as an image display apparatus, especially the front plate (window film) of a flexible display. In a suitable embodiment of the present invention, the optical member has a yellowness YI in accordance with JIS K 7373: 2006, preferably 5 or less, more preferably 3 or less, still more preferably 2.5 or less, particularly preferably 2.0 or less. The optical member whose yellowness YI is below the said upper limit can contribute to high visibility, such as a display apparatus. In addition, the yellowness of the optical member is preferably 0 or more. The polyimide resin dissolved in the polyimide resin solution (a) to be used in the production method of the present invention, and / or the powder of the polyimide resin obtained by the production method of the present invention is the yellowness YI. It is desirable to have. Yellowness YI of polyimide-type resin and polyimide-type resin powder is measured in the shape of a molded object (for example, a film).

상기의 광학 부재는 자외선흡수층, 점착층, 색상조정층, 굴절률조정층 등의 기능층, 하드 코팅층을 구비해도 된다.The optical member may be provided with a functional layer such as an ultraviolet absorbing layer, an adhesive layer, a color adjusting layer, a refractive index adjusting layer, or a hard coating layer.

본 발명의 폴리이미드계 수지 분체를 이용하여 제조한 광학 부재(예를 들면, 광학 필름)는, 화상 표시 장치의 전면판, 특히 플렉시블 디스플레이의 전면판(윈도우 필름), 그 중에서도 폴더블 디스플레이나 롤러블 디스플레이의 전면판으로서 유용하다. 상기 광학 부재는 화상 표시 장치, 특히 플렉시블 디스플레이의 시인측 표면에 전면판으로서 배치할 수 있다. 이 전면판은, 플렉시블 디스플레이 내의 화상 표시 소자를 보호하는 기능을 갖는다. 상기 광학 부재를 구비하는 화상 표시 장치는, 높은 유연성 및 굴곡내성을 가짐과 동시에, 높은 표면경도를 갖기 때문에, 굴곡하였을 때에 다른 부재를 손상하는 일이 없고, 또한 광학 부재 자체에도 접힘 주름이 생기기 어려워, 표면의 흠집을 더 유리하게 억제할 수 있다.The optical member (for example, optical film) manufactured using the polyimide resin powder of this invention is a front panel of an image display apparatus, especially the front panel (window film) of a flexible display, especially a foldable display and a roller. It is useful as the front panel of a single display. The optical member can be arranged as a front plate on the visual side of an image display device, particularly a flexible display. This front plate has a function of protecting the image display element in the flexible display. Since the image display device including the optical member has high flexibility and flex resistance, and has a high surface hardness, it does not damage other members when bent, and it is difficult to form wrinkles in the optical member itself. The surface scratches can be more advantageously suppressed.

화상 표시 장치로서는 텔레비전, 스마트폰, 휴대전화, 카 네비게이션, 태블릿 PC, 휴대 게임기, 전자 페이퍼, 인디케이터, 게시판, 시계, 및 스마트 워치 등의 웨어러블 디바이스 등을 들 수 있다. 플렉시블 디스플레이로서는 플렉시블 특성을 갖는 화상 표시 장치, 예를 들면, 텔레비전, 스마트폰, 휴대전화, 카 네비게이션, 태블릿 PC, 휴대 게임기, 전자 페이퍼, 인디케이터, 게시판, 시계, 및 웨어러블 디바이스 등을 들 수 있다.As an image display apparatus, wearable devices, such as a television, a smart phone, a mobile telephone, car navigation, a tablet PC, a portable game machine, an electronic paper, an indicator, a bulletin board, a clock, and a smart watch, etc. are mentioned. As a flexible display, the image display apparatus which has a flexible characteristic, for example, a television, a smart phone, a mobile telephone, car navigation, a tablet PC, a portable game machine, an electronic paper, an indicator, a bulletin board, a clock, a wearable device, etc. are mentioned.

[플렉시블 디스플레이][Flexible Display]

본 발명은, 본 발명의 광학 필름을 구비하는, 플렉시블 디스플레이도 제공한다. 본 발명의 광학 필름은, 바람직하게는 플렉시블 디스플레이에 있어서 전면판으로서 이용되고, 당해 전면판은 윈도우 필름이라고 불리는 경우가 있다. 당해 플렉시블 디스플레이는, 플렉시블 디스플레이용 적층체와 유기 EL 표시 패널로 이루어지고, 유기 EL 표시 패널에 대하여 시인측에 플렉시블 디스플레이용 적층체가 배치되어, 절곡 가능하게 구성되어 있다. 플렉시블 디스플레이용 적층체는, 윈도우 필름, 편광판(바람직하게는 원 편광판), 터치 센서를 함유하고 있어도 되고, 그들의 적층 순서는 임의이지만, 시인측으로부터 윈도우 필름, 편광판, 터치 센서 또는 윈도우 필름, 터치 센서, 편광판의 순서로 적층되어 있는 것이 바람직하다. 터치 센서의 시인측에 편광판이 존재하면, 터치 센서의 패턴이 시인되기 어려워져 표시 화상의 시인성이 좋아지므로 바람직하다. 각각의 부재는 접착제, 점착제 등을 이용하여 적층할 수 있다. 또, 상기 윈도우 필름, 편광판, 터치 센서 중 어느 층의 적어도 일면에 형성된 차광 패턴을 구비할 수 있다.This invention also provides the flexible display provided with the optical film of this invention. The optical film of the present invention is preferably used as a front plate in a flexible display, and the front plate may be called a window film. The said flexible display consists of a laminated body for flexible displays, and an organic electroluminescent display panel, The flexible display laminated body is arrange | positioned at the visual recognition side with respect to an organic electroluminescent display panel, and is comprised so that it is bendable. The laminated body for flexible displays may contain a window film, a polarizing plate (preferably circularly polarizing plate), and a touch sensor, and although the lamination order is arbitrary, it is a window film, a polarizing plate, a touch sensor, or a window film, a touch sensor from the visual recognition side. It is preferable to laminate | stack in order of the polarizing plate. When a polarizing plate exists in the visual recognition side of a touch sensor, since the pattern of a touch sensor becomes difficult to see and the visibility of a display image becomes favorable, it is preferable. Each member can be laminated | stacked using an adhesive agent, an adhesive, etc. The light shielding pattern may be provided on at least one surface of any of the window film, the polarizing plate, and the touch sensor.

[편광판][Polarizing Plate]

본 발명의 플렉시블 디스플레이는, 편광판, 바람직하게는 원 편광판을 추가로 구비해도 된다. 원 편광판은, 직선 편광판에 λ/4 위상차판을 적층함으로써 우 또는 좌원 편광 성분만을 투과시키는 기능을 갖는 기능층이다. 예를 들면, 외광을 우원 편광으로 변환하여 유기 EL 패널에 의해 반사되어 좌원 편광이 된 외광을 차단하고, 유기 EL의 발광 성분만을 투과시킴으로써 반사광의 영향을 억제하여 화상을 보기 쉽게 하기 위하여 이용된다. 원 편광 기능을 달성하기 위해서는, 직선 편광판의 흡수축과 λ/4 위상차판의 지상(遲相)축은 이론상 45°일 필요가 있지만, 실용적으로는 45±10°이다. 직선 편광판과 λ/4 위상차판은 반드시 인접하여 적층될 필요는 없고, 흡수축과 지상축의 관계가 전술의 범위를 만족하고 있으면 된다. 전체 파장에 있어서 완전한 원 편광을 달성하는 것이 바람직하지만 실용상은 반드시 그럴 필요는 없으므로 본 발명에 있어서의 원 편광판은 타원 편광판도 포함한다. 직선 편광판의 시인측에 추가로 λ/4 위상차 필름을 적층하여, 출사광을 원 편광으로 함으로써 편광 선글래스를 쓴 상태에서의 시인성을 향상시키는 것도 바람직하다.The flexible display of the present invention may further include a polarizing plate, preferably a circular polarizing plate. A circular polarizing plate is a functional layer which has a function which transmits only right or left circularly polarizing component by laminating | stacking (lambda) / 4 phase (s) difference plate in a linear polarizing plate. For example, it is used to convert external light into right polarized light to block external light reflected by the organic EL panel to become left circularly polarized light, and to suppress the influence of reflected light by transmitting only the light emitting components of the organic EL to make the image easier to see. In order to achieve the circularly polarized light function, the absorption axis of the linear polarizing plate and the ground axis of the λ / 4 retardation plate need to be 45 ° in theory, but are practically 45 ± 10 °. The linear polarizing plate and the λ / 4 retardation plate do not necessarily have to be stacked adjacent to each other, and the relationship between the absorption axis and the slow axis only needs to satisfy the aforementioned range. Although it is preferable to achieve complete circular polarization in all wavelengths, since it does not necessarily need to be practical, the circular polarizing plate in this invention also includes an elliptical polarizing plate. It is also preferable to improve the visibility in the state which used polarized sunglass by laminating | stacking (lambda) / 4 phase (s) difference film further on the visual recognition side of a linear polarizing plate, and making outgoing light circularly polarized.

직선 편광판은, 투과축 방향으로 진동하고 있는 광은 통과시키지만, 그것과는 수직인 진동 성분의 편광을 차단하는 기능을 갖는 기능층이다. 상기 직선 편광판은, 직선 편광자 단독 또는 직선 편광자 및 그 적어도 일면에 첩부(貼付)된 보호 필름을 구비한 구성이어도 된다. 상기 직선 편광판의 두께는 200 ㎛ 이하여도 되고, 바람직하게는 0.5∼100 ㎛이다. 두께가 상기의 범위에 있으면 유연성이 저하되기 어려운 경향이 있다.The linear polarizer is a functional layer having a function of passing light that vibrates in the transmission axis direction but blocking polarization of the vibration component perpendicular to the linear polarizer. The linear polarizing plate may be a structure including a linear polarizer alone or a linear polarizer and a protective film affixed to at least one surface thereof. The thickness of the said linear polarizing plate may be 200 micrometers or less, Preferably it is 0.5-100 micrometers. When thickness exists in the said range, it exists in the tendency for flexibility to fall easily.

상기 직선 편광자는, 폴리비닐알콜(PVA)계 필름을 염색, 연신함으로써 제조되는 필름형 편광자여도 된다. 연신에 의해서 배향한 PVA계 필름에, 요오드 등의 2색성 색소가 흡착, 또는 PVA에 흡착한 상태로 연신됨으로써 2색성 색소가 배향하고, 편광 성능을 발휘한다. 상기 필름형 편광자의 제조에 있어서는, 그 외에 팽윤, 붕산에 의한 가교, 수용액에 의한 세정, 건조 등의 공정을 갖고 있어도 된다. 연신이나 염색 공정은 PVA계 필름 단독으로 행해도 되고, 폴리에틸렌테레프탈레이트와 같은 다른 필름과 적층된 상태로 행할 수도 있다. 이용되는 PVA계 필름의 두께는 바람직하게는 10∼100 ㎛이고, 연신 배율은 바람직하게는 2∼10배이다.The linear polarizer may be a film polarizer manufactured by dyeing and stretching a polyvinyl alcohol (PVA) film. A dichroic dye is orientated and exhibits polarization performance by extending | stretching in the state which the dichroic dye, such as iodine, adsorb | sucked to PVA system film oriented by extending | stretching, or adsorb | sucking to PVA. In manufacture of the said film polarizer, you may have other processes, such as swelling, bridge | crosslinking by boric acid, washing | cleaning by aqueous solution, and drying. The stretching or dyeing step may be performed by a PVA film alone, or may be performed in a state of being laminated with other films such as polyethylene terephthalate. The thickness of the PVA-based film used is preferably 10 to 100 µm, and the draw ratio is preferably 2 to 10 times.

또한 상기 편광자의 기타의 일례로서는, 액정 편광 조성물을 도포하여 형성하는 액정 도포형 편광자여도 된다. 상기 액정 편광 조성물은, 액정성 화합물 및 2색성 색소 화합물을 포함할 수 있다. 상기 액정성 화합물은 액정 상태를 나타내는 성질을 갖고 있으면 되며, 특히 스멕틱상 등의 고차의 배향 상태를 갖고 있으면 높은 편광 성능을 발휘할 수 있기 때문에 바람직하다. 또, 액정성 화합물은 중합성 관능기를 갖고 있는 것도 바람직하다.Moreover, as another example of the said polarizer, the liquid crystal coating type polarizer formed by apply | coating and forming a liquid crystal polarizing composition may be sufficient. The liquid crystal polarizing composition may include a liquid crystal compound and a dichroic dye compound. The said liquid crystalline compound should just have the property to show a liquid crystal state, and especially since it can exhibit high polarization performance, if it has high order orientation states, such as a smectic phase, it is preferable. Moreover, it is also preferable that a liquid crystalline compound has a polymeric functional group.

상기 2색성 색소는, 상기 액정 화합물과 함께 배향하여 2색성을 나타내는 색소로서, 2색성 색소 자신이 액정성을 갖고 있어도 되고, 중합성 관능기를 갖고 있을 수도 있다. 액정 편광 조성물 중의 어느 화합물은 중합성 관능기를 갖고 있다.The said dichroic dye is a pigment | dye which orientates together with the said liquid crystal compound, and shows dichroism, The dichroic dye itself may have liquid crystallinity, and may have a polymeric functional group. Any compound in the liquid crystal polarizing composition has a polymerizable functional group.

상기 액정 편광 조성물은 추가로 개시제, 용제, 분산제, 레벨링제, 안정제, 계면활성제, 가교제, 실란 커플링제 등을 포함할 수 있다.The liquid crystal polarizing composition may further include an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a crosslinking agent, a silane coupling agent, and the like.

상기 액정 편광층은, 배향막 상에 액정 편광 조성물을 도포하여 액정 편광층을 형성함으로써 제조된다.The said liquid crystal polarizing layer is manufactured by apply | coating a liquid crystal polarizing composition on an oriented film, and forming a liquid crystal polarizing layer.

액정 편광층은, 필름형 편광자에 비하여 두께를 얇게 형성할 수 있다. 상기 액정 편광층의 두께는 바람직하게는 0.5∼10 ㎛, 보다 바람직하게는 1∼5 ㎛여도 된다.The liquid crystal polarizing layer can be formed thinner than the film polarizer. The thickness of the liquid crystal polarizing layer is preferably 0.5 to 10 m, more preferably 1 to 5 m.

상기 배향막은, 예를 들면, 기재 상에 배향막 형성 조성물을 도포하고, 러빙, 편광 조사 등에 의해 배향성을 부여함으로써 제조할 수 있다. 상기 배향막 형성 조성물은, 배향제 외에 용제, 가교제, 개시제, 분산제, 레벨링제, 실란 커플링제 등을 포함하고 있어도 된다. 상기 배향제로서는, 예를 들면, 폴리비닐알콜류, 폴리아크릴레이트류, 폴리아믹산류, 폴리이미드류를 사용할 수 있다. 광 배향을 적용하는 경우에는 신나메이트기를 포함하는 배향제를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 배향제로서 사용되는 고분자의 중량평균 분자량이 10,000∼1,000,000 정도여도 된다. 상기 배향막의 두께는, 배향 규제력의 관점에서, 바람직하게는 5∼10,000 ㎚, 보다 바람직하게는 10∼500 ㎚이다. 상기 액정 편광층은 기재로부터 박리하여 전사하여 적층할 수도 있고, 상기 기재를 그대로 적층할 수도 있다. 상기 기재가, 보호 필름이나 위상차판, 윈도우의 투명 기재로서의 역할을 하는 것도 바람직하다.The said orientation film can be manufactured by apply | coating an orientation film formation composition on a base material, for example, and providing orientation by rubbing, polarized light irradiation, etc. The alignment film forming composition may contain a solvent, a crosslinking agent, an initiator, a dispersant, a leveling agent, a silane coupling agent, or the like in addition to the alignment agent. As said alignment agent, polyvinyl alcohol, polyacrylates, polyamic acid, polyimide can be used, for example. When applying photo-alignment, it is preferable to use the aligning agent containing a cinnamate group. The weight average molecular weight of the polymer used as the aligning agent may be about 10,000 to 1,000,000. The thickness of the alignment film is preferably 5 to 10,000 nm, more preferably 10 to 500 nm from the viewpoint of the orientation regulation force. The liquid crystal polarizing layer may be peeled off from the substrate, transferred and laminated, or the substrate may be laminated as it is. It is also preferable that the said base material plays a role as a transparent base material of a protective film, a retardation plate, and a window.

상기 보호 필름으로서는, 투명한 고분자 필름이면 되고, 상기 투명 기재에 사용되는 재료, 첨가제를 사용할 수 있다. 셀룰로스계 필름, 올레핀계 필름, 아크릴 필름, 폴리에스테르계 필름이 바람직하다. 에폭시 수지 등의 카티온 경화 조성물이나 아크릴레이트 등의 라디칼 경화 조성물을 도포하여 경화하여 얻어지는 코팅형의 보호 필름이어도 된다. 필요에 따라 가소제, 자외선흡수제, 적외선흡수제, 안료나 염료와 같은 착색제, 형광증백제, 분산제, 열안정제, 광안정제, 대전방지제, 산화방지제, 활제, 용제 등을 포함하고 있어도 된다. 상기 보호 필름의 두께는 200 ㎛ 이하여도 되고, 바람직하게는 1∼100 ㎛이다. 상기 보호 필름의 두께가 상기의 범위에 있으면, 보호 필름의 유연성이 저하되기 어렵다. 보호 필름은, 윈도우의 투명 기재의 역할을 겸할 수도 있다.As said protective film, what is necessary is just a transparent polymer film, and the material and additive used for the said transparent base material can be used. Cellulose films, olefin films, acrylic films, polyester films are preferred. The coating type protective film obtained by apply | coating and hardening cationic curing compositions, such as an epoxy resin, and radical curing compositions, such as an acrylate, may be sufficient. If necessary, plasticizers, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, coloring agents such as pigments and dyes, fluorescent brighteners, dispersants, thermal stabilizers, light stabilizers, antistatic agents, antioxidants, lubricants, solvents and the like may be included. The thickness of the said protective film may be 200 micrometers or less, Preferably it is 1-100 micrometers. When the thickness of the said protective film exists in said range, the flexibility of a protective film will not fall easily. A protective film can also serve as the transparent base material of a window.

상기 λ/4 위상차판은, 입사광의 진행 방향에 직교하는 방향(필름의 면 내 방향)으로 λ/4의 위상차를 부여하는 필름이다. 상기 λ/4 위상차판은, 셀룰로스계 필름, 올레핀계 필름, 폴리카보네이트계 필름 등의 고분자 필름을 연신함으로써 제조되는 연신형 위상차판이어도 된다. 필요에 따라 위상차조정제, 가소제, 자외선흡수제, 적외선흡수제, 안료나 염료와 같은 착색제, 형광증백제, 분산제, 열안정제, 광안정제, 대전방지제, 산화방지제, 활제, 용제 등을 포함하고 있어도 된다. 상기 연신형 위상차판의 두께는 200 ㎛ 이하여도 되고, 바람직하게는 1∼100 ㎛이다. 두께가 상기의 범위에 있으면 필름의 유연성이 저하되기 어려운 경향이 있다.The said (lambda) / 4 phase (s) difference plate is a film which provides the phase difference of (lambda) / 4 in the direction (in-plane direction of a film) orthogonal to the advancing direction of incident light. The λ / 4 retardation plate may be an oriented retardation plate produced by stretching a polymer film such as a cellulose film, an olefin film, or a polycarbonate film. If necessary, phase retarder, plasticizer, ultraviolet absorber, infrared absorber, colorant such as pigment or dye, fluorescent brightener, dispersant, heat stabilizer, light stabilizer, antistatic agent, antioxidant, lubricant, solvent and the like may be included. The thickness of the said stretchable phase difference plate may be 200 micrometers or less, Preferably it is 1-100 micrometers. When thickness exists in the said range, there exists a tendency for the flexibility of a film to fall easily.

또한 상기 λ/4 위상차판의 다른 일례로서는, 액정 조성물을 도포하여 형성하는 액정 도포형 위상차판이어도 된다. 상기 액정 조성물은 네마틱, 콜레스테릭, 스멕틱 등의 액정 상태를 나타내는 성질을 갖는 액정성 화합물을 포함한다. 액정 조성물 중의 액정성 화합물을 포함하는 어느 화합물은 중합성 관능기를 갖고 있다. 상기 액정 도포형 위상차판은 추가로 개시제, 용제, 분산제, 레벨링제, 안정제, 계면활성제, 가교제, 실란 커플링제 등을 포함할 수 있다. 상기 액정 도포형 위상차판은, 상기 액정 편광층에서의 기재와 마찬가지로 배향막 상에 액정 조성물을 도포 경화하여 액정 위상차층을 형성함으로써 제조할 수 있다. 액정 도포형 위상차판은, 연신형 위상차판에 비하여 두께를 얇게 형성할 수 있다. 상기 액정 편광층의 두께는, 통상 0.5∼10 ㎛, 바람직하게는 1∼5 ㎛여도 된다. 상기 액정 도포형 위상차판은 기재로부터 박리하여 전사하여 적층할 수도 있고, 상기 기재를 그대로 적층할 수도 있다. 상기 기재가, 보호 필름이나 위상차판, 윈도우의 투명 기재로서의 역할을 하는 것도 바람직하다.Moreover, as another example of the said (lambda) / 4 phase (s) difference plate, the liquid crystal coating type phase difference plate formed by apply | coating and forming a liquid crystal composition may be sufficient. The liquid crystal composition contains a liquid crystalline compound having properties such as nematic, cholesteric, smectic and so forth. Any compound containing the liquid crystalline compound in the liquid crystal composition has a polymerizable functional group. The liquid crystal coating type retardation plate may further include an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a crosslinking agent, a silane coupling agent, and the like. The said liquid crystal coating type phase difference plate can be manufactured by apply | coating and hardening a liquid crystal composition on an oriented film similarly to the base material in the said liquid crystal polarizing layer, and forming a liquid crystal phase difference layer. The liquid crystal coating type retardation plate can be formed thinner than the stretchable retardation plate. The thickness of the liquid crystal polarizing layer is usually 0.5 to 10 m, preferably 1 to 5 m. The liquid crystal coating type retardation plate may be peeled off from the substrate, transferred and laminated, or the substrate may be laminated as it is. It is also preferable that the said base material plays a role as a transparent base material of a protective film, a retardation plate, and a window.

일반적으로는, 단파장일수록 복굴절이 크고 장파장이 될수록 작은 복굴절을 나타내는 재료가 많다. 이 경우에는 전체 가시광 영역에서 λ/4의 위상차를 달성할 수는 없으므로, 시감도가 높은 560 ㎚ 부근에 대하여 λ/4가 되는 것과 같은 면 내 위상차 100∼180 ㎚, 바람직하게는 130∼150 ㎚가 되도록 설계되는 경우가 많다. 통상과는 반대의 복굴절률 파장 분산 특성을 갖는 재료를 이용한 역분산 λ/4 위상차판을 이용하는 것은 시인성을 좋게 할 수 있으므로 바람직하다. 이와 같은 재료로서는 연신형 위상차판의 경우는 일본 공개특허 특개2007-232873호 공보 등, 액정 도포형 위상차판의 경우에는 일본 공개특허 특개2010-30979호 공보에 기재되어 있는 것을 이용하는 것도 바람직하다.In general, the shorter the wavelength, the larger the birefringence, and the longer the wavelength, the more material exhibits the small birefringence. In this case, the phase difference of λ / 4 cannot be achieved in the entire visible light region. Therefore, in-plane retardation 100 to 180 nm, preferably 130 to 150 nm, such as λ / 4 with respect to the vicinity of 560 nm where the visibility is high It is often designed to be. It is preferable to use a reverse dispersion lambda / 4 retardation plate using a material having a birefringence wavelength dispersion characteristic opposite to that of normal, since the visibility can be improved. As such a material, it is also preferable to use what is described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-30979 in the case of a liquid crystal coating type retardation plate, such as Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-232873 in the case of a stretchable retardation plate.

또, 다른 방법으로서는 λ/2 위상차판과 조합함으로써 광대역 λ/4 위상차판을 얻는 기술도 알려져 있다(일본 공개특허 특개평10-90521호 공보). λ/2 위상차판도 λ/4 위상차판과 마찬가지의 재료 방법으로 제조된다. 연신형 위상차판과 액정 도포형 위상차판의 조합은 임의이지만, 어느 것도 액정 도포형 위상차판을 이용하는 것은 두께를 얇게 할 수 있으므로 바람직하다.As another method, a technique for obtaining a wideband [lambda] / 4 retardation plate by combining with a [lambda] / 2 retardation plate is also known (Japanese Patent Laid-Open No. 10-90521). The lambda / 2 phase difference plate is also manufactured by the same material method as the lambda / 4 phase difference plate. Although the combination of an extending | stretching retardation plate and a liquid crystal coating type retardation plate is arbitrary, it is preferable to use a liquid crystal coating type retardation plate in any case, since thickness can be made thin.

상기 원 편광판에는 비스듬한 방향의 시인성을 높이기 위하여, 정(正)의 C 플레이트를 적층하는 방법도 알려져 있다(일본 공개특허 특개2014-224837호 공보). 정의 C 플레이트도 액정 도포형 위상차판이어도 되고 연신형 위상차판이어도 된다. 두께 방향의 위상차는 -200∼-20 ㎚, 바람직하게는 -140∼-40 ㎚이다.In order to improve the visibility of an oblique direction, the method of laminating | stacking a positive C plate is also known to the said circularly polarizing plate (Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-224837). The liquid crystal coating type retardation plate may be sufficient as a positive C plate, and a extending | stretching retardation plate may be sufficient as it. The phase difference in the thickness direction is -200 to -20 nm, preferably -140 to -40 nm.

[터치 센서][Touch sensor]

본 발명의 플렉시블 디스플레이는, 터치 센서를 추가로 구비하고 있어도 된다. 터치 센서는 입력 수단으로서 이용된다. 터치 센서로서는 저항막 방식, 표면탄성파 방식, 적외선 방식, 전자 유도 방식, 정전용량 방식 등 여러 가지 양식이 제안되어 있고, 어느 방식이더라도 상관없다. 그 중에서도 정전용량 방식이 바람직하다. 정전용량 방식 터치 센서는 활성 영역 및 상기 활성 영역의 외곽부에 위치하는 비활성 영역으로 구분된다. 활성 영역은 표시 패널에 의해 화면이 표시되는 영역(표시부)에 대응하는 영역으로서, 사용자의 터치가 감지되는 영역이고, 비활성 영역은 표시 장치에 의해 화면이 표시되지 않는 영역(비표시부)에 대응하는 영역이다. 터치 센서는 플렉시블한 특성을 갖는 기판과; 상기 기판의 활성 영역에 형성된 감지 패턴과; 상기 기판의 비활성 영역에 형성되고, 상기 감지 패턴과 패드부를 개재하여 외부의 구동 회로와 접속하기 위한 각 센싱 라인을 포함할 수 있다. 플렉시블한 특성을 갖는 기판으로서는, 상기 윈도우의 투명 기판과 마찬가지의 재료를 사용할 수 있다. 터치 센서의 기판은, 그 인성(靭性)이 2,000 ㎫% 이상인 것이 터치 센서의 크랙 억제의 면에서 바람직하다. 보다 바람직하게는 인성이 2,000∼30,000 ㎫%여도 된다. 여기서, 인성은, 고분자 재료의 인장 실험을 통하여 얻어지는 응력(㎫)-변형(%) 곡선(Stress-strain curve)에서 파괴점까지의 곡선의 하부 면적으로서 정의된다.The flexible display of this invention may further be equipped with the touch sensor. The touch sensor is used as an input means. As a touch sensor, various forms, such as a resistive film type, a surface acoustic wave type, an infrared type, an electromagnetic induction type, and a capacitive type, are proposed, and may be any type. Among them, the capacitive method is preferable. The capacitive touch sensor is divided into an active region and an inactive region positioned at an outer portion of the active region. The active area corresponds to an area (display unit) on which a screen is displayed by the display panel. The active area corresponds to an area where a user's touch is detected. Area. The touch sensor includes a substrate having a flexible characteristic; A sensing pattern formed in an active region of the substrate; Each sensing line may be formed in an inactive region of the substrate and may be connected to an external driving circuit through the sensing pattern and the pad unit. As a board | substrate which has a flexible characteristic, the material similar to the transparent substrate of the said window can be used. It is preferable that the toughness of the board | substrate of a touch sensor is 2,000 Mpa% or more from the point of crack suppression of a touch sensor. More preferably, the toughness may be 2,000 to 30,000 MPa%. Here, toughness is defined as the lower area of the curve from the stress (MPa) -strain (%) curve obtained through the tensile test of the polymer material to the break point.

상기 감지 패턴은, 제 1 방향으로 형성된 제 1 패턴 및 제 2 방향으로 형성된 제 2 패턴을 구비할 수 있다. 제 1 패턴과 제 2 패턴은 서로 다른 방향으로 배치된다. 제 1 패턴 및 제 2 패턴은, 동일 층에 형성되고, 터치되는 지점을 감지하기 위해서는, 각각의 패턴이 전기적으로 접속되어야만 한다. 제 1 패턴은 각 단위 패턴이 이음매를 개재하여 서로 접속된 형태이지만, 제 2 패턴은 각 단위 패턴이 아일랜드 형태로 서로 분리된 구조로 되어 있으므로, 제 2 패턴을 전기적으로 접속하기 위해서는 별도의 브리지 전극이 필요하다. 감지 패턴은 주지의 투명 전극 소재를 적용할 수 있다. 예를 들면, 인듐주석 산화물(ITO), 인듐아연 산화물(IZO), 아연 산화물(ZnO), 인듐아연주석 산화물(IZTO), 인듐갈륨아연 산화물(IGZO), 카드뮴주석 산화물(CTO), PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)), 탄소 나노 튜브(CNT), 그래핀, 금속 와이어 등을 들 수 있고, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 바람직하게는 ITO를 사용할 수 있다. 금속 와이어에 사용되는 금속은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 은, 금, 알루미늄, 구리, 철, 니켈, 티탄, 셀레늄, 크롬 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The sensing pattern may include a first pattern formed in a first direction and a second pattern formed in a second direction. The first pattern and the second pattern are arranged in different directions. The first pattern and the second pattern are formed on the same layer and each pattern must be electrically connected in order to detect the touched point. The first pattern has a form in which each unit pattern is connected to each other via a seam, but the second pattern has a structure in which each unit pattern is separated from each other in an island form, so that a separate bridge electrode is used to electrically connect the second pattern. This is necessary. The sensing pattern may apply a well-known transparent electrode material. For example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc oxide (IZTO), indium gallium zinc oxide (IGZO), cadmium tin oxide (CTO), PEDOT (poly (3,4-ethylenedioxythiophene)), carbon nanotubes (CNT), graphene, metal wires, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more thereof. Preferably ITO can be used. The metal used for a metal wire is not specifically limited, For example, silver, gold, aluminum, copper, iron, nickel, titanium, selenium, chromium, etc. are mentioned. These can be used individually or in mixture of 2 or more types.

브리지 전극은 감지 패턴 상부에 절연층을 개재하여 상기 절연층 상부에 형성할 수 있고, 기판 상에 브리지 전극이 형성되어 있고, 그 위에 절연층 및 감지 패턴을 형성할 수 있다. 상기 브리지 전극은 감지 패턴과 동일한 소재로 형성할 수도 있고, 몰리브덴, 은, 알루미늄, 구리, 팔라듐, 금, 백금, 아연, 주석, 티탄 또는 이들 중 2종 이상의 합금 등의 금속으로 형성할 수도 있다. 제 1 패턴과 제 2 패턴은 전기적으로 절연되어야만 하므로, 감지 패턴과 브리지 전극의 사이에는 절연층이 형성된다. 절연층은 제 1 패턴의 이음매와 브리지 전극의 사이에만 형성할 수도 있고, 감지 패턴을 덮는 층의 구조에 형성할 수도 있다. 후자의 경우는, 브리지 전극은 절연층에 형성된 콘택트 홀을 통하여 제 2 패턴을 접속할 수 있다. 상기 터치 센서는 패턴이 형성된 패턴 영역과, 패턴이 형성되어 있지 않은 비패턴 영역간의 투과율의 차, 구체적으로는, 이들 영역에 있어서의 굴절률의 차에 의해서 유발되는 광 투과율의 차를 적절하게 보상하기 위한 수단으로서 기판과 전극의 사이에 광학조절층을 추가로 포함할 수 있고, 상기 광학조절층은 무기 절연 물질 또는 유기 절연 물질을 포함할 수 있다. 광학조절층은 광경화성 유기 바인더 및 용제를 포함하는 광경화 조성물을 기판 상에 코팅하여 형성할 수 있다. 상기 광경화 조성물은 무기입자를 추가로 포함할 수 있다. 상기 무기입자에 의해서 광학조절층의 굴절률을 상승시킬 수 있다.The bridge electrode may be formed on the insulating layer over the sensing pattern, the bridge electrode is formed on the substrate, and the insulating layer and the sensing pattern may be formed thereon. The bridge electrode may be formed of the same material as the sensing pattern, or may be formed of a metal such as molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium, or an alloy of two or more thereof. Since the first pattern and the second pattern must be electrically insulated, an insulating layer is formed between the sensing pattern and the bridge electrode. The insulating layer may be formed only between the joint of the first pattern and the bridge electrode, or may be formed in the structure of the layer covering the sensing pattern. In the latter case, the bridge electrode can connect the second pattern through the contact hole formed in the insulating layer. The touch sensor appropriately compensates for the difference in light transmittance caused by the difference in transmittance between the patterned pattern region and the non-patterned region in which the pattern is not formed, specifically, the refractive index difference in these regions. As a means for it may further comprise an optical control layer between the substrate and the electrode, the optical control layer may comprise an inorganic insulating material or an organic insulating material. The optical control layer may be formed by coating a photocurable composition including a photocurable organic binder and a solvent on a substrate. The photocurable composition may further include an inorganic particle. The refractive index of the optical control layer can be increased by the inorganic particles.

상기 광경화성 유기 바인더는, 예를 들면, 아크릴레이트계 단량체, 스티렌계 단량체, 카르본산계 단량체 등의 각 단량체의 공중합체를 포함할 수 있다. 상기 광경화성 유기 바인더는, 예를 들면, 에폭시기 함유 반복 단위, 아크릴레이트 반복 단위, 카르본산 반복 단위 등의 서로 다른 각 반복 단위를 포함하는 공중합체여도 된다.The photocurable organic binder may include, for example, a copolymer of each monomer such as an acrylate monomer, a styrene monomer, a carboxylic acid monomer, and the like. The said photocurable organic binder may be a copolymer containing each different repeating unit, such as an epoxy group containing repeating unit, an acrylate repeating unit, and a carboxylic acid repeating unit, for example.

상기 무기입자는, 예를 들면, 지르코니아 입자, 티타니아 입자, 알루미나 입자 등을 포함할 수 있다. 상기 광경화 조성물은, 광중합개시제, 중합성 모노머, 경화보조제 등의 각 첨가제를 추가로 포함할 수도 있다.The inorganic particles may include, for example, zirconia particles, titania particles, alumina particles, and the like. The said photocuring composition may further contain each additive, such as a photoinitiator, a polymerizable monomer, and a hardening adjuvant.

[접착층][Adhesive layer]

상기 플렉시블 디스플레이용 적층체를 형성하는 각 층(윈도우, 편광판, 터치 센서) 및 각 층을 구성하는 필름 부재(직선 편광판, λ/4 위상차판 등)는 접착제에 의해서 접착할 수 있다. 접착제로서는 수계 접착제, 유기용제계 접착제, 무용제계 접착제, 고체 접착제, 수계 용제 휘산형 접착제, 습기경화형 접착제, 가열경화형 접착제, 혐기경화형 접착제, 활성 에너지선 경화형 접착제, 경화제 혼합형 접착제, 열용융형 접착제, 감압형 접착제(점착제), 재습(再濕)형 접착제 등, 범용적으로 사용되고 있는 것을 사용할 수 있다. 그 중에서도 수계 용제 휘산형 접착제, 활성 에너지선 경화형 접착제, 점착제가 자주 이용된다. 접착층의 두께는, 요구되는 접착력 등에 따라서 적절히 조절할 수 있고, 예를 들면, 0.01∼500 ㎛, 바람직하게는 0.1∼300 ㎛이다. 접착층은, 상기 플렉시블 디스플레이용 적층체에는 복수 존재해도 되지만, 각각의 두께 및 이용되는 접착제의 종류는 동일해도 되고 달라도 된다.Each layer (window, polarizing plate, touch sensor) which forms the said laminated body for flexible displays, and the film member (linear polarizing plate, (lambda) / 4 phase (s) difference plate, etc.) which comprise each layer can be adhere | attached with an adhesive agent. Adhesives include water-based adhesives, organic solvent-based adhesives, solvent-free adhesives, solid adhesives, water-based solvent volatilized adhesives, moisture-curable adhesives, heat-curable adhesives, anaerobic-curable adhesives, active energy ray-curable adhesives, curing agent mixed adhesives, thermomelt adhesives, What is used universally can be used, such as a pressure-sensitive adhesive (adhesive) and a wet type adhesive. Among them, an aqueous solvent volatilized adhesive, an active energy ray curable adhesive, and an adhesive are often used. The thickness of an adhesive layer can be suitably adjusted according to the adhesive force requested | required etc., For example, it is 0.01-500 micrometers, Preferably it is 0.1-300 micrometers. Although two or more adhesive layers may exist in the said laminated body for flexible displays, each thickness and the kind of adhesive agent used may be same or different.

상기 수계 용제 휘산형 접착제로서는 폴리비닐알콜계 폴리머, 전분 등의 수용성 폴리머, 에틸렌-아세트산 비닐계 에멀전, 스티렌-부타디엔계 에멀전 등 수(水)분산 상태의 폴리머를 주제(主劑) 폴리머로서 사용할 수 있다. 물, 상기 주제 폴리머에 추가하여, 가교제, 실란계 화합물, 이온성 화합물, 가교 촉매, 산화방지제, 염료, 안료, 무기 필러, 유기용제 등을 배합해도 된다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제에 의해서 접착하는 경우, 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 피접착층간에 주입하여 피착층을 첩합(貼合)한 후, 건조시킴으로써 접착성을 부여할 수 있다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 이용하는 경우의 접착층의 두께는 0.01∼10 ㎛, 바람직하게는 0.1∼1 ㎛여도 된다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 복수 층의 형성에 이용하는 경우, 각각의 층의 두께 및 상기 접착제의 종류는 동일해도 되고 달라도 된다.As the aqueous solvent volatilized adhesive, a polymer in a water dispersion state such as a polyvinyl alcohol polymer, a water-soluble polymer such as starch, an ethylene-vinyl acetate emulsion, a styrene-butadiene emulsion, or the like can be used as the main polymer. have. In addition to water and the said main polymer, you may mix | blend a crosslinking agent, a silane compound, an ionic compound, a crosslinking catalyst, antioxidant, dye, a pigment, an inorganic filler, an organic solvent, etc. In the case of adhering with the aqueous solvent volatilized adhesive, the aqueous solvent volatilized adhesive may be injected between the layers to be bonded and bonded to each other, and then the adhesiveness can be imparted by drying. The thickness of the adhesive layer in the case of using the said aqueous solvent volatilization adhesive agent may be 0.01-10 micrometers, Preferably 0.1-1 micrometer may be sufficient. When using the said aqueous solvent volatilization adhesive agent for formation of multiple layers, the thickness of each layer and the kind of said adhesive agent may be same or different.

상기 활성 에너지선 경화형 접착제는, 활성 에너지선을 조사하여 접착제층을 형성하는 반응성 재료를 포함하는 활성 에너지선 경화 조성물의 경화에 의해 형성할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화 조성물은, 하드 코팅 조성물과 마찬가지의 라디칼 중합성 화합물 및 카티온 중합성 화합물의 적어도 1종의 중합물을 함유할 수 있다. 상기 라디칼 중합성 화합물이란, 하드 코팅 조성물과 마찬가지이고, 하드 코팅 조성물과 마찬가지의 종류의 것을 사용할 수 있다. 접착층에 이용되는 라디칼 중합성 화합물로서는 아크릴로일기를 갖는 화합물이 바람직하다. 접착제 조성물로서의 점도를 낮추기 위하여 단관능의 화합물을 포함하는 것도 바람직하다.The said active energy ray hardening-type adhesive agent can be formed by hardening of the active energy ray hardening composition containing the reactive material which irradiates an active energy ray and forms an adhesive bond layer. The active energy ray-curing composition may contain at least one polymer of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound similar to the hard coating composition. The said radically polymerizable compound is the same as that of a hard coating composition, The thing of the same kind as a hard coating composition can be used. As a radically polymerizable compound used for an adhesive layer, the compound which has an acryloyl group is preferable. It is also preferable to include a monofunctional compound in order to lower the viscosity as an adhesive composition.

상기 카티온 중합성 화합물은, 하드 코팅 조성물과 마찬가지이고, 하드 코팅 조성물과 마찬가지의 종류의 것을 사용할 수 있다. 활성 에너지선 경화 조성물에 이용되는 카티온 중합성 화합물로서는, 에폭시 화합물이 특히 바람직하다. 접착제 조성물의 점도를 낮추기 위하여 단관능의 화합물을 반응성 희석제로서 포함하는 것도 바람직하다.The said cationically polymerizable compound is the same as that of a hard coating composition, The thing of the same kind as a hard coating composition can be used. As a cationically polymerizable compound used for an active energy ray hardening composition, an epoxy compound is especially preferable. It is also preferable to include a monofunctional compound as the reactive diluent in order to lower the viscosity of the adhesive composition.

활성 에너지선 조성물에는 중합개시제를 추가로 포함할 수 있다. 중합개시제로서는 라디칼 중합개시제, 카티온 중합개시제, 라디칼 및 카티온 중합개시제 등이고, 적절히 선택하여 이용할 수 있다. 이들 중합개시제는, 활성 에너지선 조사 및 가열의 적어도 1종에 의해 분해되어, 라디칼 또는 카티온을 발생하여 라디칼 중합과 카티온 중합을 진행시키는 것이다. 하드 코팅 조성물의 기재 중에서 활성 에너지선 조사에 의해 라디칼 중합 또는 카티온 중합 중 적어도 어느 것을 개시할 수 있는 개시제를 사용할 수 있다.The active energy ray composition may further include a polymerization initiator. As a polymerization initiator, it is a radical polymerization initiator, a cationic polymerization initiator, a radical, and a cationic polymerization initiator, etc., It can select suitably and can use. These polymerization initiators are decomposed by at least one of active energy ray irradiation and heating to generate radicals or cations to advance radical polymerization and cation polymerization. In the base material of a hard coating composition, the initiator which can start at least any of radical polymerization or cationic polymerization by active energy ray irradiation can be used.

상기 활성 에너지선 경화 조성물은 추가로, 이온포착제, 산화방지제, 연쇄이동제, 밀착부여제, 열가소성 수지, 충전제, 유동 점도 조정제, 가소제, 소포제 용제, 첨가제, 용제를 포함할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제에 의해서 접착하는 경우, 상기 활성 에너지선 경화 조성물을 피접착층 중 어느 것 또는 양방에 도포 후 첩합하고, 어느 것인가의 피착층 또는 양방의 피착층을 통과시켜 활성 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써 접착할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 이용하는 경우의 접착층의 두께는 0.01∼20 ㎛, 바람직하게는 0.1∼10 ㎛여도 된다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 복수 층의 형성에 이용하는 경우에는, 각각의 층의 두께 및 이용되는 접착제의 종류는 동일해도 되고 달라도 된다.The active energy ray-curing composition may further include an ion trapping agent, an antioxidant, a chain transfer agent, an adhesion agent, a thermoplastic resin, a filler, a fluid viscosity modifier, a plasticizer, an antifoaming agent, an additive, and a solvent. In the case of adhering with the active energy ray-curable adhesive, the active energy ray-curing composition is applied to any one or both of the layers to be bonded and bonded together, and the active energy ray is irradiated by passing through any one of the layers or both layers. It can bond by hardening. The thickness of the adhesive layer in the case of using the said active energy ray hardening-type adhesive agent may be 0.01-20 micrometers, Preferably 0.1-10 micrometers may be sufficient. When using the said active energy ray hardening-type adhesive agent for formation of multiple layers, the thickness of each layer and the kind of adhesive agent used may be same or different.

상기 점착제로서는, 주제 폴리머에 따라서, 아크릴계 점착제, 우레탄계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제 등으로 분류되어 어느 것을 사용할 수도 있다. 점착제에는 주제 폴리머에 추가하여, 가교제, 실란계 화합물, 이온성 화합물, 가교 촉매, 산화방지제, 점착부여제, 가소제, 염료, 안료, 무기 필러 등을 배합해도 된다. 상기 점착제를 구성하는 각 성분을 용제에 용해·분산시켜 점착제 조성물을 얻어, 당해 점착제 조성물을 기재 상에 도포한 후에 건조시킴으로써, 점착층(접착층)이 형성된다. 점착층은 직접 형성되어도 되고, 별도 기재에 형성한 것을 전사할 수도 있다. 접착 전의 점착면을 커버하기 위해서는 이형 필름을 사용하는 것도 바람직하다. 상기 점착제를 이용하는 경우의 접착층의 두께는 1∼500 ㎛, 바람직하게는 2∼300 ㎛여도 된다. 상기 점착제를 복수 층의 형성에 이용하는 경우, 각각의 층의 두께 및 이용되는 점착제의 종류는 동일해도 되고 달라도 된다.As the pressure-sensitive adhesive, depending on the main polymer, any of them may be classified into an acrylic pressure-sensitive adhesive, a urethane pressure-sensitive adhesive, a rubber pressure-sensitive adhesive, a silicone pressure-sensitive adhesive, or the like. In addition to a main polymer, you may mix | blend a crosslinking agent, a silane compound, an ionic compound, a crosslinking catalyst, antioxidant, a tackifier, a plasticizer, dye, a pigment, an inorganic filler, etc. to an adhesive. The adhesive layer (adhesive layer) is formed by melt | dissolving and disperse | distributing each component which comprises the said adhesive in a solvent, obtaining an adhesive composition, and apply | coating this adhesive composition on a base material, and drying. The pressure-sensitive adhesive layer may be directly formed or may be transferred to what is formed on a separate substrate. In order to cover the adhesive surface before adhesion, it is also preferable to use a release film. The thickness of the adhesive layer in the case of using the said adhesive is 1-500 micrometers, Preferably it may be 2-300 micrometers. When using the said adhesive for formation of multiple layers, the thickness of each layer and the kind of adhesive used may be same or different.

[차광 패턴][Shading Pattern]

상기 차광 패턴은 상기 플렉시블 디스플레이의 베젤 또는 하우징의 적어도 일부로서 적용할 수 있다. 차광 패턴에 의해서 상기 플렉시블 디스플레이의 변연(邊緣)부에 배치되는 배선이 가려져 시인되기 어렵게 함으로써, 화상의 시인성이 향상된다. 상기 차광 패턴은 단층 또는 복층의 형태여도 된다. 차광 패턴의 컬러는 특별히 제한되는 일은 없고, 흑색, 백색, 금속색 등의 다양한 컬러를 가질 수 있다. 차광 패턴은 컬러를 구체화하기 위한 안료와, 아크릴계 수지, 에스테르계 수지, 에폭시계 수지, 폴리우레탄, 실리콘 등의 고분자에 의해 형성할 수 있다. 이들의 단독 또는 2종류 이상의 혼합물에 의해 사용할 수도 있다. 상기 차광 패턴은 인쇄, 리소그래피, 잉크젯 등 각종의 방법으로 형성할 수 있다. 차광 패턴의 두께는 통상 1∼100 ㎛, 바람직하게는 2∼50 ㎛이다. 또, 차광 패턴의 두께 방향으로 경사 등의 형상을 부여하는 것도 바람직하다.The light blocking pattern may be applied as at least a part of the bezel or the housing of the flexible display. The visibility of an image improves by shielding the wiring arrange | positioned at the edge part of the said flexible display by a light shielding pattern, and making it hard to see. The light shielding pattern may be in the form of a single layer or a multilayer. The color of the light shielding pattern is not particularly limited, and may have various colors such as black, white, and metallic color. The light shielding pattern can be formed of a pigment for specifying the color, and a polymer such as an acrylic resin, an ester resin, an epoxy resin, polyurethane, or silicone. It can also be used by these individually or in mixture of 2 or more types. The light shielding pattern may be formed by various methods such as printing, lithography, and inkjet. The thickness of a light shielding pattern is 1-100 micrometers normally, Preferably it is 2-50 micrometers. Moreover, it is also preferable to provide shapes, such as an inclination, in the thickness direction of a light shielding pattern.

[실시예]EXAMPLE

이하에, 실시예에 의해 본 발명을 더 상세하게 설명한다. 예 중의 「%」 및 「부(部)」는, 특별히 기재하지 않는 한, 질량% 및 질량부를 의미한다. 먼저 처음에 물성값의 측정 방법을 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. "%" And "part" in an example mean the mass% and a mass part, unless there is particular notice. First, the measuring method of a physical property value is demonstrated.

(중량평균 분자량(Mw)의 측정)(Measurement of Weight Average Molecular Weight (Mw))

겔 침투 크로마토그래피(GPC)를 이용하여 측정을 행하였다. 측정 시료의 조제 방법 및 측정 조건은 하기와 같다.The measurement was performed using gel permeation chromatography (GPC). The preparation method and measurement conditions of a measurement sample are as follows.

(1) 시료 조제 방법(1) Sample preparation method

수지를 20 ㎎ 측정하여 취하고, 10 mL의 DMF(10 ㎜ol/L 브롬화 리튬)를 추가하고, 완전히 용해시켰다. 이 용액을 크로마토디스크(구멍 직경 0.45 ㎛)로 여과하여, 시료 용액으로 하였다.20 mg of the resin was measured and 10 mL of DMF (10 mmol / L lithium bromide) was added and completely dissolved. This solution was filtered through a chromatographic disc (pore diameter 0.45 mu m) to obtain a sample solution.

(2) 측정 조건(2) measurement conditions

장치: HLC-8020GPCDevice: HLC-8020GPC

컬럼: 가드 컬럼+TSKgelα-M(300 ㎜×7.8 ㎜ 직경)×2개+α-2500(300 ㎜×7.8 ㎜ 직경)×1개Column: Guard column + TSKgelα-M (300 mm x 7.8 mm diameter) x 2 + α-2500 (300 mm x 7.8 mm diameter) x 1

용리액: DMF(10 ㎜ol/L의 브롬화 리튬 첨가)Eluent: DMF (with 10 mmol / L lithium bromide)

유량: 1.0 mL/분Flow rate: 1.0 mL / min

검출기: RI 검출기Detector: RI Detector

컬럼 온도: 40℃Column temperature: 40 ℃

주입량: 100 μLInjection volume: 100 μL

분자량 표준: 표준 폴리스티렌Molecular Weight Standard: Standard Polystyrene

(광각 X선 회절 측정)(Wide angle X-ray diffraction measurement)

유리 시료판의 위에, 폴리이미드계 수지 분체를 시료 상면이 평평해지도록 깔고, 측정 시료를 조제하고, 하기의 측정 조건으로 광각 X선 회절의 측정을 행하였다. 얻어진 측정 결과에 있어서, 결정질에 유래하는 회절 피크의 유무를 확인하고, 당해 피크가 검출되지 않는 것에 의해 수지 분체가 비정질이라는 것을 확인하였다.The polyimide resin powder was laid on the glass sample plate so that the sample top surface was flat, a measurement sample was prepared, and wide-angle X-ray diffraction was measured under the following measurement conditions. In the obtained measurement result, the presence or absence of the diffraction peak derived from crystalline was confirmed, and it was confirmed that the resin powder is amorphous by not detecting the peak.

< 측정 조건 ><Measurement condition>

X선 회절 장치: X′ Pert PRO MPD(스펙트리스(주) 제)X-ray diffractometer: X 'Pert PRO MPD (made by Spectress Co., Ltd.)

전압: 45 ㎸Voltage: 45 ㎸

전류: 40 ㎃Current: 40 mA

측정 범위: 2θ=5∼90°Measuring range: 2θ = 5 to 90 °

(비표면적)(Specific surface area)

전처리 장치로서 BELPREP-vacII(마이크로트랙·벨(주) 제)를 이용하여, 진공 조건 하, 120℃에서 8시간의 처리 조건으로 폴리이미드계 수지 분체를 전처리하여, 측정 시료를 조제하였다. 이러한 측정 시료에 대하여, 정용(定容)법을 이용하여 흡착 등온선을 측정하여, BET법에 의해 비표면적을 산출하였다.Using BELPREP-vacII (manufactured by Microtrack Bell Co., Ltd.) as a pretreatment apparatus, the polyimide resin powder was pretreated under vacuum conditions at 120 ° C. for 8 hours to prepare a measurement sample. About such a measurement sample, adsorption isotherm was measured using the normal method and the specific surface area was computed by the BET method.

< 측정 조건 ><Measurement condition>

측정 장치: BELSORP-Max(마이크로트랙·벨(주) 제)Measuring device: BELSORP-Max (manufactured by Microtrack Bell Co., Ltd.)

흡착 온도: 77 KAdsorption Temperature: 77 K

흡착질: KrAdsorbate: Kr

포화 증기압: 0.3320 ㎪Saturated vapor pressure: 0.3320 kPa

흡착질 단면적: 0.2020 nm2 Adsorbate Cross Section: 0.2020 nm 2

평형 대기 시간: 500초간의 압력 변화가 압력계의 읽음값의 0.2% 이내.Equilibrium wait time: The pressure change over 500 seconds is within 0.2% of the reading of the pressure gauge.

측정 횟수: N=1Number of measurements: N = 1

(안식각)Repose angle

파우더 테스터 PT-X(호소카와미크론(주) 제)를 측정 장치로서 이용하고, 폴리이미드계 수지 분체를 일정한 높이의 깔때기로부터 수평인 기판 위에 낙하시키고, 생성한 퇴적물의 각도를 측정하여 안식각이라고 하였다.Using powder tester PT-X (manufactured by Hosokawa Micron Co., Ltd.) as a measuring device, the polyimide resin powder was dropped from a funnel of a constant height onto a horizontal substrate, and the angle of the resulting deposit was measured to be referred to as an angle of repose.

(탭 밀도)(Tap density)

폴리이미드계 수지 분체를 20 mL의 매스실린더에 넣고, 3분간 탭핑하였다. 분체의 질량(g)을 탭핑 후의 체적(㎤)으로 나누어, 탭 밀도(g/㎤)를 계산하였다.The polyimide resin powder was put in a 20 mL mass cylinder and tapped for 3 minutes. The mass (g) of the powder was divided by the volume (cm 3) after tapping to calculate the tap density (g / cm 3).

(색도)(Color)

폴리이미드계 수지 분체를 샬레에 넣은 것을 측정 시료로 하고, 코니카미놀타(주) 제의 색채색차계 「CR-5」를 이용하여, 다음의 측정 조건으로 색도(JIS Z 8781-4:2013에 준거)를 측정하였다.What put the polyimide resin powder into the chalet as a measurement sample, and uses chromatic color difference meter "CR-5" made by Konica Minolta Co., Ltd., and is based on chromaticity (JIS Z 8781-4: 2013) under the following measurement conditions. ) Was measured.

< 측정 조건 ><Measurement condition>

관찰 조건: 2° 시야(CIE1931)Observation conditions: 2 ° field of view (CIE1931)

관찰 광원: CObservation light source: C

표색계: L*a*b* 색공간Color system: L * a * b * color space

색차 식: ΔE*ab(CIE1976) 색차식Color difference formula: ΔE * ab (CIE1976) color difference formula

인덱스: 없음Index: none

측정 타입: 샬레 측정Measurement Type: Chalet Measurement

측정 직경 φ: 30 ㎜Measurement diameter φ: 30 mm

(입도 분포)(Particle size distribution)

폴리이미드계 수지 분체를 측정 시료로 하고, 마이크로 트랙 입도 분석계 MT-3100II(니키소(주) 제)를 이용하여, 다음의 측정 조건으로 입도 분포를 측정하였다.Using the polyimide resin powder as a measurement sample, particle size distribution was measured under the following measurement conditions using a micro track particle size analyzer MT-3100II (manufactured by Nikiso Corporation).

< 측정 조건 ><Measurement condition>

입자 굴절률: 1.53Particle Refractive Index: 1.53

측정 방법: 건식 레이저 회절법Measurement Method: Dry Laser Diffraction

[수지의 용매에의 용해성의 확인][Confirmation of Solubility of Resin in Solvent]

제조예 1과 동일한 조성의 수지 분체를 준비하고, 하기의 방법으로 용매에의 용해성을 확인하였다.The resin powder of the composition similar to the manufacture example 1 was prepared, and the solubility to the solvent was confirmed by the following method.

30 mL의 유리제 스크류 관에 용매를 9.9 g 측정하여 취하고, 추가로 마그네틱 스터러를 넣어 교반하였다. 거기에 상기 수지 분체를 0.1 g 추가하고, 실온(24℃)에서 3시간 교반하고, 용해성을 확인하였다.9.9 g of a solvent was measured and taken in a 30 mL glass screw tube, and a magnetic stirrer was further added and stirred. 0.1g of the said resin powder was added there, it stirred at room temperature (24 degreeC) for 3 hours, and the solubility was confirmed.

그 결과, 수지 분체는, DMAc에는 용해되었지만, 메탄올과 이온 교환수에는 용해되지 않았다. 따라서, DMAc는 양용매이고, 메탄올과 이온 교환수는 빈용매이다. 또, 교반 중의 외관에 있어서, 수지 분체는 메탄올 중에 부유하고 있는 상태이지만, 수중으로는 들어가지 않고, 수면에서 머물러 있었다. 이것으로부터, 메탄올과 물을 비교하여, 물 쪽이 빈용매의 정도가 높다고 추정된다.As a result, the resin powder was dissolved in DMAc but not in methanol and ion-exchanged water. Therefore, DMAc is a good solvent and methanol and ion-exchanged water are poor solvents. In addition, in the external appearance during stirring, the resin powder was in a state of being suspended in methanol, but did not enter the water and remained on the water surface. From this, methanol and water are compared, and it is estimated that the water is high in the poor solvent.

(내굴곡성 시험)(Flexibility test)

실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 필름을, 덤벨 커터를 이용하여 10 ㎜×100 ㎜의 크기로 커트하였다. 커트한 필름을 MIT 내절피로시험기((주)도요세이키제작소 제 「MIT-DA」 형식: 0530) 본체에 세트하여, 시험 속도 175 cpm, 절곡 각도 135°, 하중 0.75 kg, 절곡 클램프의 R=1.0 ㎜의 조건으로, 표리 양 방향으로의 절곡 시험을 실시하고, 각 필름의 내굴곡 횟수(파단되지 않고 절곡 가능한 횟수)를 측정하였다.The optical film obtained by the Example and the comparative example was cut into the magnitude | size of 10 mm x 100 mm using the dumbbell cutter. The cut film is placed in an MIT anti-fatigue fatigue tester ("MIT-DA" model manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd. model: 0530), the test speed of 175 cpm, bending angle 135 °, load 0.75 kg, R of bending clamp = Under the conditions of 1.0 mm, bending tests in both front and back directions were performed, and the number of times of bending resistance (the number of times that can be bent without breaking) of each film was measured.

[제조예 1: 폴리이미드계 수지 1의 제조]Production Example 1: Preparation of Polyimide Resin 1

충분히 건조시킨 교반기와 온도계를 구비하는 반응 용기에, 질소를 도통(導通)시켜, 용기 내를 질소에 의해 치환하였다. 반응 용기 내를 10℃로 냉각하고, DMAc 1567.4 kg을 용기에 넣고, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(TFMB) 91.8 kg과 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물(6FDA) 38.6 kg을 추가하고, 3시간 교반하였다.Nitrogen was conducted to the reaction vessel provided with the stirrer and thermometer sufficiently dried, and the inside of the vessel was replaced with nitrogen. The reaction vessel was cooled to 10 ° C., 1567.4 kg of DMAc was placed in the vessel, 91.8 kg of 2,2′-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB) and 4,4 ′-(hexafluoroisopropylidene) 38.6 kg of diphthalic anhydride (6FDA) was added, and it stirred for 3 hours.

이어서, 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)(OBBC) 4.3 kg과 테레프탈로일클로라이드(TPC) 15.9 kg을 추가하고, 30분 교반하고, 동량의 OBBC 및 TPC를 첨가하고, 동시간 교반하였다. 생성된 반응액에 DMAc를 1567.4 kg, TPC 3.5 kg을 추가하고, 추가로 10℃에서 2시간 교반하였다.Subsequently, 4.3 kg of 4,4'-oxybis (benzoyl chloride) (OBBC) and 15.9 kg of terephthaloyl chloride (TPC) were added, stirred for 30 minutes, the same amount of OBBC and TPC were added, and stirred for the same time. . 1567.4 kg of DMAc and 3.5 kg of TPC were added to the resulting reaction solution, and further stirred at 10 ° C. for 2 hours.

이어서, 디이소프로필에틸아민 26.2 kg 및 무수 아세트산 62.1 kg을 추가하고, 10℃로 유지한 채 30분간 교반한 후, 4-피콜린 18.9 kg을 추가하고, 반응 용기를 75℃로 승온하고, 추가로 3시간 교반하여, 반응액을 얻었다.Subsequently, 26.2 kg of diisopropylethylamine and 62.1 kg of acetic anhydride were added and stirred for 30 minutes while maintaining at 10 ° C., then 18.9 kg of 4-picoline was added, and the reaction vessel was heated to 75 ° C. and further added. It stirred for 3 hours, and obtained the reaction liquid.

반응액을 냉각하고, 40℃ 이하로 내려간 지점에서, 메탄올 940.4 kg을 추가하였다. 이와 같이 하여 얻은 반응액을, 이하에 있어서 반응액 (1)이라고 칭한다. 이 단계에서는 반응액 (1)은 투명하고, 입자의 석출은 없었다.The reaction solution was cooled and 940.4 kg of methanol was added at the point where the temperature was lowered to 40 ° C. or lower. The reaction liquid thus obtained is referred to as reaction liquid (1) below. At this stage, the reaction solution (1) was transparent and no precipitation of particles occurred.

[제조예 2: 폴리이미드계 수지 2의 제조]Production Example 2: Preparation of Polyimide Resin 2

충분히 건조시킨 교반기와 온도계를 구비하는 반응 용기에, 질소를 도통시켜, 용기 내를 질소에 의해 치환하였다. 반응 용기 내에, DMAc 512.29 g, TFMB 30.00 g(93.68 mmol)을 추가하고, 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc에 용해시켰다. 다음으로, 6FDA 12.61 g(28.39 mmol)과, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2 무수물(BPDA) 2.78 g(9.46 mmol), 이어서, TPC 11.53 g(56.78 mmol)을 첨가하고, 실온에서 1시간 교반하였다.Nitrogen was conducted to the reaction vessel provided with the stirrer and thermometer dried sufficiently, and the inside of the vessel was replaced with nitrogen. In the reaction vessel, 512.29 g of DMAc and 30.00 g (93.68 mmol) of TFMB were added, and TFMB was dissolved in DMAc while stirring at room temperature. Next, 12.61 g (28.39 mmol) of 6FDA and 2.78 g (9.46 mmol) of 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) were added followed by 11.53 g (56.78 mmol) of TPC. And it stirred at room temperature for 1 hour.

이어서, 플라스크에 4-피콜린 5.29 g(56.78 mmol)과 무수 아세트산 27.05 g(264.95 mmol)을 추가하고, 실온에서 30분간 교반한 후, 반응 용기를 70℃로 승온하고, 추가로 3시간 교반하여, 반응액을 얻었다.Subsequently, 5.29 g (56.78 mmol) of 4-picoline and 27.05 g (264.95 mmol) of acetic anhydride were added to the flask, followed by stirring at room temperature for 30 minutes, and then the reaction vessel was heated to 70 DEG C, further stirred for 3 hours. And the reaction liquid was obtained.

반응액을 냉각하고, 40℃ 이하로 내려간 지점에서, 메탄올 307.36 g을 추가하였다. 이와 같이 하여 얻은 반응액을, 이하에 있어서 반응액 (2)라고 칭한다. 이 단계에서는 반응액 (2)는 투명하고, 입자의 석출은 없었다.The reaction solution was cooled, and 307.36 g of methanol was added at the point where the temperature was lowered to 40 ° C. or lower. The reaction liquid thus obtained is referred to as reaction liquid (2) below. At this stage, the reaction solution (2) was transparent and no precipitation of particles occurred.

[실시예 1: 폴리이미드계 수지 분체 1의 제조]Example 1: Preparation of Polyimide Resin Powder 1

교반기와 온도계를 구비하는 반응 용기에, 질소를 도통시켜, 용기 내를 질소에 의해 치환하였다. 20℃에서 교반하면서 반응 용기 내에 상기 반응액 (1) 1452.2 kg을 넣었다. 이어서, 30 kg/분의 속도로 제 1 빈용매로서 메탄올 1253.9 kg을 적하하고, 이어서 7 kg/분의 속도로 제 2 빈용매로서 이온 교환수 783.7 kg을 적하하여, 백색 고체를 석출시켰다. 석출한 백색 고체를 원심 여과에 의해 포집하고, 메탄올로 세정함으로써, 폴리이미드계 수지를 포함하는 웨트 케이크를 얻었다. 얻어진 웨트 케이크를 감압 하, 78℃에서 건조시킴으로써 52 kg의 폴리이미드계 수지 분체 1을 얻었다.Nitrogen was conducted to the reaction vessel provided with the stirrer and the thermometer, and the inside of the vessel was replaced with nitrogen. 1452.2 kg of the reaction solution (1) was placed in a reaction vessel with stirring at 20 ° C. Subsequently, 1253.9 kg of methanol was added dropwise as a first poor solvent at a rate of 30 kg / min, and then 783.7 kg of ion-exchanged water was dropped as a second poor solvent at a rate of 7 kg / min to precipitate a white solid. The precipitated white solid was collected by centrifugal filtration and washed with methanol to obtain a wet cake containing polyimide resin. 52 kg of polyimide resin powders 1 were obtained by drying the obtained wet cake at 78 degreeC under reduced pressure.

얻어진 폴리이미드계 수지 분체 1에 대한 각 측정의 결과를 하기에 나타낸다.The result of each measurement with respect to the obtained polyimide resin powder 1 is shown below.

중량평균 분자량(Mw): 343,000Weight average molecular weight (Mw): 343,000

광각 X선 회절: 비정질Wide angle X-ray diffraction: amorphous

BET 비표면적: 0.22 ㎡/gBET specific surface area: 0.22 m 2 / g

탭 밀도: 0.41 g/㎤Tap density: 0.41 g / cm 3

안식각: 37.8°Repose angle: 37.8 °

색도(L*a*b* 표색계): L*=98.22, a*=-2.29, b*=6.56Chromaticity (L * a * b * Colorimetric System): L * = 98.22, a * = -2.29, b * = 6.56

입도 분포: d10=152 ㎛, d50=205 ㎛, d90=264 ㎛Particle size distribution: d 10 = 152 µm, d 50 = 205 µm, d 90 = 264 µm

상기에서 제작한 폴리이미드계 수지 분체 1을 DMAc에 용해하여 수지 농도가 10 질량%인 폴리이미드 용액을 얻었다. 얻어진 폴리이미드 용액을 폴리에스테르 기재(도요보(주) 제, 상품명 「A4100」)의 평활면 상에 자립막의 두께가 55 ㎛가 되도록 애플리케이터를 이용하여 도포하고, 50℃에서 30분간, 이어서 140℃에서 15분간 건조 후, 얻어진 도막을 폴리에스테르 기재로부터 박리하여, 자립막을 얻었다. 자립막을 금속틀에 고정하고, 추가로 대기 하, 200℃에서 40분간 건조하여, 두께 50 ㎛의 폴리이미드계 수지 필름 1을 얻었다.The polyimide resin powder 1 produced above was dissolved in DMAc to obtain a polyimide solution having a resin concentration of 10% by mass. The obtained polyimide solution was applied on the smooth surface of the polyester base material (Toyobo Co., Ltd., brand name "A4100") using an applicator so that the thickness of a self-supporting film might be 55 micrometers, and then it was 140 degreeC at 50 degreeC for 30 minutes. After drying for 15 minutes at, the obtained coating film was peeled from the polyester substrate to obtain a freestanding film. The self-supporting film was fixed to a metal mold, and further dried at 200 ° C. for 40 minutes in the air to obtain a polyimide resin film 1 having a thickness of 50 μm.

얻어진 폴리이미드계 수지 필름 1의 내굴곡성 시험을 행한 바, 내굴곡 횟수는 10만회 초과였다.The bending resistance test of the obtained polyimide-based resin film 1 was carried out, and the number of bending resistance was more than 100,000 times.

[실시예 2: 폴리이미드계 수지 분체 2의 제조]Example 2: Preparation of Polyimide Resin Powder 2

교반기와 온도계를 구비하는 반응 용기에, 질소를 도통시켜, 용기 내를 질소에 의해 치환하였다. 20℃에서 교반하면서 반응 용기 내에 상기 반응액 (2) 0.500 kg을 넣었다. 이어서, 0.04 kg/분의 속도로 제 1 빈용매로서 메탄올 0.432 kg을 적하하고, 이어서 0.014 kg/분의 속도로 제 2 빈용매로서 이온 교환수 0.270 kg을 적하하여, 백색 고체를 석출시켰다. 석출한 백색 고체를 감압 여과에 의해 포집하고, 메탄올로 세정함으로써, 폴리이미드계 수지를 포함하는 웨트 케이크를 얻었다. 얻어진 웨트 케이크를 감압 하, 78℃에서 건조시켜, 0.031 kg의 폴리이미드계 수지 분체 2를 얻었다.Nitrogen was conducted to the reaction vessel provided with the stirrer and the thermometer, and the inside of the vessel was replaced with nitrogen. 0.500 kg of the reaction liquid (2) was placed in a reaction vessel with stirring at 20 ° C. Next, 0.432 kg of methanol was added dropwise as a first poor solvent at a rate of 0.04 kg / min, and 0.270 kg of ion-exchanged water was dropped as a second poor solvent at a rate of 0.014 kg / min to precipitate a white solid. The wet white cake containing the polyimide-type resin was obtained by collecting the precipitated white solid by vacuum filtration and wash | cleaning with methanol. The obtained wet cake was dried at 78 degreeC under reduced pressure, and 0.031 kg of polyimide-type resin powder 2 was obtained.

얻어진 폴리이미드계 수지 분체 2에 대한 각 측정의 결과를 하기에 나타낸다.The result of each measurement with respect to the obtained polyimide resin powder 2 is shown below.

중량평균 분자량(Mw): 340,000Weight average molecular weight (Mw): 340,000

광각 X선 회절: 비정질Wide angle X-ray diffraction: amorphous

BET 비표면적: 1.33 ㎡/gBET specific surface area: 1.33 ㎡ / g

색도(L*a*b* 표색계): L*=99.61, a*=-2.04, b*=4.95Chromaticity (L * a * b * Colorimetric System): L * = 99.61, a * = -2.04, b * = 4.95

상기에서 얻어진 폴리이미드계 수지 분체 2를 사용한 것 이외에는, 마찬가지의 방법으로, 두께 50 ㎛의 폴리이미드계 수지 필름 2를 얻었다.A polyimide resin film 2 having a thickness of 50 μm was obtained by the same method except that the polyimide resin powder 2 obtained above was used.

얻어진 폴리이미드계 수지 필름 2의 내굴곡성 시험을 행한 바, 내굴곡 횟수는 10만회 초과였다.The bending resistance test of the obtained polyimide-type resin film 2 was performed, and the frequency | count of bending resistance was more than 100,000 times.

(취급성 및 용매에의 용해성의 평가)(Evaluation of handleability and solubility in a solvent)

500 mL 유리 비이커에 190 g의 GBL을 넣고, 교반기로 교반하였다. 실시예 1 및 실시예 2에서 얻어진 분체 10 g을, 각각, 폴리에틸렌제 컵에 측정하여 취하였다. 다음으로 용매가 들어 있는 상기 유리 비이커에, 측정하여 취한 분체를 컵으로부터 흘려 넣었다. 분체를 흘려 넣을 때의 취급성, 및, 흘려 넣은 후의 용매에의 용해성을, 다음의 기준으로 평가하였다. 실시예 1 및 실시예 2에서 제작한 분체는, 깨끗하게 흘려 넣는 것이 가능하고, 덩어리 등의 발생은 없었다. 또, 1시간 교반을 행한 바, 무색 투명의 용액이 얻어졌다. 그 때문에, 취급성 및 용매에의 용해성 모두 이하의 평가 기준에서 ○의 평가여서, 취급성 및 용해성이 양호하다는 것이 확인되었다.190 g of GBL was added to a 500 mL glass beaker and stirred with a stirrer. 10 g of the powders obtained in Examples 1 and 2 were respectively measured by taking a cup made of polyethylene. Next, the measured and taken powder was poured from the cup into the glass beaker containing the solvent. The handleability at the time of pouring powder and the solubility to the solvent after pouring were evaluated based on the following reference | standard. The powder produced in Example 1 and Example 2 was able to flow cleanly, and there was no generation | occurrence | production of a lump. Moreover, when stirred for 1 hour, the colorless and transparent solution was obtained. Therefore, both the handleability and the solubility to a solvent were evaluation of (circle) in the following evaluation criteria, and it was confirmed that handleability and solubility are favorable.

< 취급성 ><Handling>

○: 분체를 깨끗하게 흘려 넣을 수 있고, 덩어리의 발생이 없었다.(Circle): The powder was able to be poured cleanly, and no lump was generated.

×: 분체를 깨끗하게 흘려 넣을 수 없고, 덩어리가 발생하였다.X: The powder could not be poured neatly, and lumps arose.

< 용매에의 용해성 >Solubility in solvent

○: 분체가 용매에 용해되고, 무색 투명의 용액이 얻어진다.(Circle): Powder melt | dissolves in a solvent and the colorless and transparent solution is obtained.

×: 분체가 용매에 용해되지 않는다.X: The powder is not dissolved in the solvent.

[비교예 1]Comparative Example 1

교반기와 온도계를 구비한 반응 용기에, 질소를 도통시켜, 용기 내를 질소에 의해 치환하였다. 20℃에서 교반하면서, 반응 용기 내에 제조예 1에서 얻은 반응액 (1) 1,452.2 kg을 넣었다. 이어서, 노즐(내경: 22 ㎜)로부터 30 kg/분의 속도로 제 1 빈용매로서 메탄올 1253.9 kg을 적하하였다. 적하 도중부터 용액이 백탁되기 시작하였다.Nitrogen was conducted to the reaction vessel provided with the stirrer and the thermometer, and the inside of the vessel was replaced with nitrogen. While stirring at 20 degreeC, 1,452.2 kg of reaction liquids (1) obtained by the manufacture example 1 were put into the reaction container. Next, 1253.9 kg of methanol was dripped as a 1st poor solvent from the nozzle (inner diameter: 22 mm) at the speed of 30 kg / min. From the middle of the dropping, the solution began to become cloudy.

이어서, 추가로, 노즐(내경: 22 ㎜)로부터 7 kg/분의 속도로 메탄올 783.7 kg을 적하하였다. 적하가 진행됨에 따라서, 용액의 백탁의 정도가 강해졌다.Next, 783.7 kg of methanol was dripped further at the speed | rate of 7 kg / min from a nozzle (inner diameter: 22 mm). As the dropping proceeded, the degree of clouding of the solution became stronger.

석출된 백색 고체를 원심 여과에 의해 포집하고, 메탄올로 세정함으로써, 폴리아미드이미드 수지를 포함하는 고무상의 혼합물을 얻었다. 얻어진 혼합물의 착색은 보이지 않지만, 고무상이고, 여포(濾布)에의 고착이 확인되어, 분체로서 회수할 수 없었다.The precipitated white solid was collected by centrifugal filtration and washed with methanol to obtain a rubbery mixture containing a polyamideimide resin. Although the coloring of the obtained mixture was not seen, it was rubbery, the fixation to the follicle was confirmed, and it was not able to collect | recover as powder.

Claims (9)

비표면적이 10 ㎡/g 이하이고, 또한, 중량평균 분자량이 100,000 이상인, 비정성 폴리이미드계 수지 분체.An amorphous polyimide resin powder having a specific surface area of 10 m 2 / g or less and a weight average molecular weight of 100,000 or more. 제 1 항에 있어서,
안식각이 45° 이하인, 폴리이미드계 수지 분체.
The method of claim 1,
Polyimide-type resin powder whose repose angle is 45 degrees or less.
제 1 항에 있어서,
탭 밀도가 0.3∼0.6 g/㎤인, 폴리이미드계 수지 분체.
The method of claim 1,
Polyimide resin powder whose tap density is 0.3-0.6 g / cm <3>.
제 1 항에 있어서,
L*a*b* 표색계에 기초하는 색차 측정에 있어서, L*≥90, -10≤a*≤10, 및 -10≤b*≤10을 만족시키는, 폴리이미드계 수지 분체.
The method of claim 1,
In the L * a * b * color difference measurement based on the color space, L * ≥90, -10≤a * ≤10 , and polyimide resin powder satisfying the -10≤b * ≤10.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재된 폴리이미드계 수지 분체의 제조 방법으로서,
폴리이미드계 수지가 양용매 중에 용해된 용액을 상기 폴리이미드계 수지에 대한 적어도 2종의 빈용매와 접촉시키는 것을 포함하고, 상기 폴리이미드계 수지의 용액과 제 1 빈용매를 접촉시키는 공정, 및, 상기 공정에서 얻어진 용액에 제 2 빈용매를 첨가하는 공정을 포함하는, 제조 방법.
As a manufacturing method of the polyimide resin powder in any one of Claims 1-4,
Contacting the solution in which the polyimide resin is dissolved in the good solvent with at least two poor solvents for the polyimide resin, and contacting the solution of the polyimide resin with the first poor solvent, and And the process of adding a 2nd poor solvent to the solution obtained at the said process.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재된 폴리이미드계 수지 분체를 이용하여 형성되는 광학 필름.The optical film formed using the polyimide resin powder in any one of Claims 1-4. 제 6 항에 기재된 광학 필름을 구비하는 플렉시블 디스플레이.The flexible display provided with the optical film of Claim 6. 제 7 항에 있어서,
터치 센서를 추가로 구비하는, 플렉시블 디스플레이.
The method of claim 7, wherein
A flexible display, further comprising a touch sensor.
제 7 항에 있어서,
편광판을 추가로 구비하는, 플렉시블 디스플레이.
The method of claim 7, wherein
A flexible display, further comprising a polarizing plate.
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