KR20190095971A

KR20190095971A - 강화 유리의 제조 방법 및 강화 유리

Info

Publication number: KR20190095971A
Application number: KR1020180015171A
Authority: KR
Inventors: 김승; 김승호; 박원상; 박정우; 박준형; 이회관
Original assignee: 삼성디스플레이 주식회사
Priority date: 2018-02-07
Filing date: 2018-02-07
Publication date: 2019-08-19
Also published as: KR102565702B1; US20190241468A1

Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 강화 유리의 제조 방법은, 유리 기판을 열성형하는 단계와, 열성형에 의하여 형성된 결함홈을 갖는 유리기판의 표면에 산을 첨가하여 실리카 리치층(si-rich layer)을 형성하는 단계와, 실리카 리치층이 형성된 유리기판을 알칼리 세정하여 상기 실리카 리치층과 상기 결함홈 중 적어도 일부를 제거하는 단계 및 상기 결함홈 중 나머지 일부를 갖는 유리기판의 표면을 연마하여 상기 결함홈을 제거하는 단계를 포함한다.

Description

강화 유리의 제조 방법 및 강화 유리{STRENGTHENED GLASS SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD AND STRENGTHENED GLASS SUBSTRATE}

본 발명은 강화 유리의 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법에 관한 것으로, 특히 연마 공정 시간을 줄이고, 유리 강도를 향상시키는 강화 유리의 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법에 대한 것이다.

스마트폰과 같은 휴대용 단말기에는 액정패널의 터치 기능을 구현하기 위한 터치원도우 글래스라고 불리는 전면 유리가 장착되어 있다. 이러한 전면 유리는 전통적으로 평면 형상을 가지고 있었으나, 최근에는 글래스의 적어도 일 측면이 만곡된(curved) 형상으로 성형되는 3D 형상을 가지는 제품이 출시되고 있다.

만곡된(curved) 표시장치를 제조하기 위해 곡면 윈도우가 필요하다. 이러한 곡면 윈도우는 몰드를 이용하여 유리 기판을 가열 가압하여 만들어질 수 있다. 그런데, 유리 소재의 특성에 의해 가열 가압 과정에서 유리 기판의 표면에 결함 홈이 생성될 수 있다.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 연마 공정 시간을 줄이고, 유리 강도를 향상시키는 강화 유리의 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 강화 유리의 제조 방법은, 유리 기판을 열성형하는 단계와, 열성형에 의하여 형성된 결함홈을 갖는 유리기판의 표면에 산을 첨가하여 실리카 리치층(si-rich layer)을 형성하는 단계와, 실리카 리치층이 형성된 유리기판을 알칼리 세정하여 상기 실리카 리치층과 상기 결함홈 중 적어도 일부를 제거하는 단계 및 상기 결함홈 중 나머지 일부를 갖는 유리기판의 표면을 연마하여 상기 결함홈을 제거하는 단계를 포함한다.

상기 실리카 리치층을 형성하는 단계 이전에, 열 성형된 유리기판을 화학강화하는 단계를 더 포함한다.

상기 실리카 리치층은 상기 유리기판의 표면에서 결함 홈의 깊이의 일부 또는 전부의 깊이로 형성된다.

상기 실리카 리치층은 유리기판의 중심보다 5% 내지 10% 범위의 저 밀도를 갖는다.

상기 산은 HNO₃, HCl, H₂SO₄ 중 어느 하나를 포함한다.

상기 알칼리 세정은 NaOH, KOH 용액 중 어느 하나를 이용한다.

상기 화학강화는 500 ℃ 이상의 열을 제공하여 수행된다.

상기 화학강화는 400 ℃ 이상 500 ℃ 이하의 열과 첨가제를 제공하여 수행된다.

상기 첨가제는 K₂CO₃, Na₂CO₃, KHCO₃, K₃PO₄, Na₃PO₄, K₂SO₄, Na₂SO₄, KOH, NaOH 중 어느 하나 이상을 포함한다.

상기 실리카 리치층이 제거된 유리기판의 표면을 기계 연마한다.

상기 기계 연마는 폴리쉬(polish) 방법으로 수행된다.

상기 실리카 리치층이 제거된 유리기판의 표면을 연마하는 단계 이후에, 표면 거칠기를 조정하는 단계를 더 포함한다.

상기 표면 거칠기를 조정하는 단계는, 불산계 또는 비불산계 용액을 적용하여 수행된다.

본 발명의 일 실시예에 따른 강화 유리는 본 발명의 일 실시예에 의해 설명한 강화 유리 제조방법에 따라 제조되며, 4.5인치 글라스를 사용한 볼 드랍 테스트에서 화학강화만 수행한 유리기판보다 3배 높은 파손 높이를 갖는다.

상기 강화 유리는 4.5인치 글라스를 사용한 볼 드랍 테스트에서 폴리싱 연마 후 화학강화를 수행한 유리기판보다 2배 높은 파손 높이를 갖는다.

본 발명에 따른 강화 유리의 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법은 다음과 같은 효과를 제공한다.

유리 기판의 열 성형시 발생되는 결함 홈의 연마 시간을 줄일 수 있다. 또한, 유리 강도를 향상시킬 수 있다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 강화 유리의 제조 방법을 개략적으로 나타낸 순서도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 유리 표면에 형성된 결함 홈을 설명하기 위해 예시한 유리기판의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 유리 표면에 실리카 리치층을 설명하기 위해 예시한 유리기판의 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따라 제조 공정에 따른 파장별 기판의 투과율을 나타낸 그래프이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 강화 유리의 특성을 나타내는 그래프이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 표면 거칠기를 나타낸 그래프이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따라 제조된 유리기판의 볼 드랍 테스트 결과를 나타내는 그래프이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따라 제조된 표시장치이다.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 따라서, 몇몇 실시예에서, 잘 알려진 공정 단계들, 잘 알려진 소자 구조 및 잘 알려진 기술들은 본 발명이 모호하게 해석되는 것을 피하기 위하여 구체적으로 설명되지 않는다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.

도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다. 또한, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "아래에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 아래에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 아래에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.

공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below)", "아래(beneath)", "하부(lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 소자를 뒤집을 경우, 다른 소자의 "아래(below)"또는 "아래(beneath)"로 기술된 소자는 다른 소자의 "위(above)"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "아래"는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 소자는 다른 방향으로도 배향될 수 있고, 이에 따라 공간적으로 상대적인 용어들은 배향에 따라 해석될 수 있다.

본 명세서에서 어떤 부분이 다른 부분과 연결되어 있다고 할 때, 이는 직접적으로 연결되어있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 전기적으로 연결되어 있는 경우도 포함한다. 또한, 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 포함한다고 할 때, 이는 특별히 그에 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.

본 명세서에서 제 1, 제 2, 제 3 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 이러한 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되는 것은 아니다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소들로부터 구별하는 목적으로 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위로부터 벗어나지 않고, 제 1 구성 요소가 제 2 또는 제 3 구성 요소 등으로 명명될 수 있으며, 유사하게 제 2 또는 제 3 구성 요소도 교호적으로 명명될 수 있다.

다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않은 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.

이하에서는 본 발명의 일 실시예에 따른 강화 유리의 제조 방법에 대하여 설명한다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 강화 유리의 제조 방법을 개략적으로 나타낸 순서도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 유리 표면에 형성된 결함 홈을 설명하기 위해 예시한 유리기판의 단면도이다. 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 유리 표면에 실리카 리치층을 설명하기 위해 예시한 유리기판의 단면도이다.

먼저, 도 1에 나타낸 바와 같이, 유리 기판을 원하는 형태로 열 성형한다(S100). 열 성형하기 전에, 유리기판 준비 공정을 거친다.

유리기판을 준비하는 공정은, 유리를 필요한 일정 크기로 절단하는 절단하는 공정, 절단된 면의 모서리를 깍아 둥글게 면취(Chamfer)하는 면취공정, 절단부분과 모서리 부분의 표면을 연마하는 절단면 연마공정을 포함할 수 있다. 이와 같이 준비된 유리기판을 열성형한다.

유리기판을 열성형하기 위해 유리기판을 예열하고, 예열된 유리기판을 성형몰드에 배치하고, 성형몰드에 배치된 유리기판을 가열하고 진공상태에서 새깅(sagging)하여 만곡부를 형성한 후 성형된 유리기판을 냉각시키는 과정을 거친다. 유리기판의 열성형 방법은 잘 알려진 기술로 상세한 설명은 생략한다.

열 성형에 의해 유리기판은 표면 압축 응력은 향상되는 반면, 표면에 압축 응력에 의한 결함 홈이 발생한다. 이러한 결함 홈은 열 성형 온도가 상승할수록 결함 홈의 수 및 결함 홈의 크기가 증가한다.

도 2에 도시한 바와 같이, 유리 기판 표면의 결함 홈(F1, F2, F3)은 유리 표면에서 깊이(depth) 방향으로 형성된다. 결함 홈은 복수개가 형성될 수 있고, 결함 홈의 깊이(d1, d2, d3)와 폭은 서로 상이할 수 있다. 결함 홈의 깊이는 유리 표면을 기준으로 한다.

다음, 열 성형된 유리기판을 화학 강화한다(S110). 화학강화는 이온 교환법을 이용한다.

이온교환법을 이용한 화학강화는 유리 내부의 알칼리 이온을 다른 알칼리 이온으로 변환하여, 유리 표면 응력에 압축응력 층을 형성하는 방법이다. 일반적으로 용융염에 유리를 침지시켜 유리 내부의 알칼리 이온과 용윰염 중의 알칼리 이온을 교환하는 방법이 사용된다.

이 방법은 일반적으로 용융염에 유리를 침지시켜 유리 중의 알칼리 이온(Na+)을 이온반경이 큰 알칼리 이온(K+)으로 교환한다. 이러한 교환에 의해 표면에 압축응력이 발생된다.

본 발명의 일 실시예에서는 강화할 유리기판을 질산칼륨 용액에 침지시켜 유리기판의 나트륨 이온을 질산칼륨 용액의 칼륨이온으로 치환한다. 이 때, 질산칼륨 용액과 유리기판의 나트륨의 이온 교환 깊이를 제어하기 위해 온도 및 첨가제 등을 변경할 수 있다.

일 실시예에서는 유리기판의 화학강화의 온도를 500 ℃ 이상으로 수행할 수 있다.

다른 변형예로서 유리기판을 화학강화하기 위하여, 유리기판에 첨가제를 첨가하면 400℃ 내지 500 ℃ 범위의 비교적 낮은 온도에서 수행될 수도 있다. 첨가제는 K₂CO₃, Na₂CO₃, KHCO₃, K₃PO₄, Na₃PO₄, K₂SO₄, Na₂SO₄, KOH, NaOH 중 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.

화학강화된 유리기판에 산을 첨가하여 실리카 리치층(si-rich layer)을 형성한다(S120). 여기서 산은 HNO₃, HCl, H₂SO₄ 중 어느 하나 일 수 있다.

열 성형 및 화학강화에 의하여 형성된 결함홈을 갖는 유리기판의 표면에 예를 들어 질산을 첨가하여 실리카 리치층을 형성한다.

여기서, 실리카 리치층이 형성되는 화학식 1 및 화학식 2는 다음과 같다.

[화학식 1]

Si-O-K + H⁺(HNO₃) + OH^-(H₂O) → Si-OH + K⁺ + OH^-(이온 교환)

[화학식 2]

Si-OH + HO-Si → Si-O-Si + H₂O (Si-Rich 층)

상기 화학식1과 화학식 2를 참조하면, 유리기판에 질산이 첨가되면, Si-O-K의 K⁺ 와 질산의 H⁺이 이온교환을 하여 Si-OH를 형성하고, Si-OH와 Si-OH가 결합하여, Si-O-Si를 형성하여 실리카 리치층이 형성된다.

도 3에 도시한 바와 같이, 이러한 화학 강화 공정에 의해 실리카 리치층(11)이 유리 기판의 표면에 형성된다. 또한, 이러한 화학 강화 공정에 의해 형성된 실리카 리치층(11)은 유리기판의 중심층(12)과 비교하여 저밀도이다. 실리카 리치층(11)은 유리기판의 중심층(12) 보다 5 % 내지 10% 정도 낮은 밀도를 갖는다.

실리카 리치층(11)은 유리기판(10)의 표면에서 일정한 깊이(d)로 형성된다. 즉, 실리카 리치층(11)은 결함 홈에 편재하여 응집되지 않는다.

실리카 리치층(11)은, 유리기판(10)의 표면에서 결함 홈의 깊이의 일부 또는 전부의 깊이로 형성된다.

산세정된 유리기판을 알칼리 세정하여 실리카 리치층을 제거한다(S130). 알칼리 세정은 NaOH, KOH 및 NaOH와 KOH의 혼합물 중 어느 하나 이상을 이용할 수 있다.

실리카 리치층이 형성된 유리기판을 예를 들어 수산화 나트륨과 같은 알칼리 수용액을 이용하여 실리카 리치층을 제거한다.

실리카 리치층이 제거되는 원리를 설명한 화학식 3은 다음과 같다.

[화학식 3]

Si-O-Si + OH^-(NaOH) → Si-O^- (망목 구조 파괴) + HO-Si

화학식 3을 참조하면, 실리카 리치층이 형성된 유리기판에 수산화 나트륨을 첨가하여, Si-O-Si의 망목 구조가 파괴되어, Si-O^- 가 형성된다.

실리카 리치층을 제거한 후에, 중화된 유리기판을 연마한다(S140).

중화된 유리기판은 폴리쉬(polish) 등의 기계 연마가 수행되어, 잔여 결함 홈이 제거된다.

연마 단계 이후에 유리기판 표면에 불산 또는 비불산계 용액을 사용하여 표면 거칠기를 조정할 수 있다.

각 단계 사이에 증류수를 이용한 세정 단계를 더 포함할 수 있다. 이 때 사용하는 증류수는 약 40 ℃ 일 수 있고, 약 1분~5분 정도의 세정 시간을 가질 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따른 강화 유리의 제조 방법에 따라, 유리 열 성형 및 강화시 유리기판의 표면에 발생되는 결함 홈의 연마 시간을 줄일 수 있다.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따라 실리카 리치층의 형성 전후의 파장별 투과율을 나타낸 그래프이다.

도 4의 (a)는 화학 강화 후 실리카 리치층을 형성하기 전 유리기판의 가시광선 파장별 투과율을 나타낸 그래프이고, 도 4의 (b)는 화학 강화된 유리기판에 실리카 리치층을 형성한 후의 유리기판의 가시광선 파장별 투과율을 나타낸 그래프이다. 마지막으로 도 4의 (c)는 유리기판에 실리카 리치층을 제거한 한 후의 유리기판의 가시광선 파장별 투과율을 나타낸 그래프이다.

도 4의 (a) ~ (c)를 참조하면 알 수 있는 바와 같이, 실리카 리치층 형성 전의 투과율과 실리카 리치층 제거후 투과율이 거의 비슷한 것을 통해, 실리카 리치층이 깨끗하게 제거됨을 확인할 수 있다.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 강화 유리의 특성을 나타내는 그래프이다.

도 5에 도시된 바와 같이, D-SIMS 장비를 이용하여 강화 유리의 깊이에 따른 수소 이온 농도를 확인할 수 있다.

D-SIMS(Dynamic Secondary ion mass spectrometry) 장비는 일차이온 빔을 고체시료 표면에 충돌시켜 시료표면으로부터 스퍼터링되어 방출된 이차이온의 질량을 선택하여 검출하는 분석법으로 극미량 성분의 깊이 분포를 분석하는 장비이다. D-SIMS(Dynamic Secondary ion mass spectrometry) 장비는 측정대상의 시간에 따른 수소 이온 농도의 측정값을 제공한다.

도 5를 참조하면, x축은 분단위의 시간을 나타내고 있으며, 이는 시간이 길어질수록 측정되는 유리의 깊이가 깊어지므로, 시간축을 유리의 깊이로 이해할 수 있다. 즉 도 5는 깊이에 따른 수소 이온의 농도를 상대적으로 보여주는 그래프이다.

도 5에서 기준값은 화학강화만 진행한 유리의 깊이에 따른 수소이온의 양을 나타낸다.

도 5에서 실험값은 화학강화된 유리기판에 실리카 리치층 제거한 이후의 수소이온의 양을 나타낸다.

도 5를 참조하면, 화학강화만 진행한 유리 기판은 측정 시간이 10분에 대응하는 유리 기판의 깊이까지 수소 이온의 농도가 급격히 감소 후, 측정 시간이 10분에 대응하는 유리 기판의 깊이 이후에 임의의 값(1e2)으로 일정해 지는 것을 확인할 수 있다.

반면, 화학강화된 유리기판에 실리카 리치층 제거한 이후에, 유리기판 표면부터 상기 임의의 값(1e2)과 유사한 수소 이온의 농도가 나타나는 것을 확인할 수 있다. 이를 통해, 실리카 리치층이 제거되었음을 확인할 수 있다.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 표면 거칠기를 나타낸 그래프이다.

도 6에서 기준은 화학강화만 적용한 유리기판의 표면 거칠기이고, 실험은 실리카 리치층을 제거한 이후의 표면 거칠기를 나타낸다.

일반적인 표시장치에 사용가능한 표면 거칠기는 3nm 이하이므로, 본 발명의 일 실시예를 통해 제작된 유리기판의 표면 거칠기 2.24nm로서, 표시장치에 사용가능한 수준임을 알 수 있다.

또한, 불산계 및 비불산계 용액을 이용한 표면처리를 통해 더 양호한 거칠기를 갖도록 제어할 수 있다.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따라 제조된 유리기판의 볼 드랍 테스트 결과를 나타내는 그래프이다.

본 발명의 일 실시예에서는 4.5인치 글라스 및 130.5 g의 스틸볼(steel ball)을 사용하였다.

실험대상의 4면을 지지하되, 볼이 드랍될 중심부에 홀이 형성된 지지대에 4.5 인치 글라스를 배치하고, 스틸볼을 떨어뜨려, 실험대상 글라스가 파손될 때의 높이를 표시하였다. 지지대와 글라스는 각각의 면은 5mm 길이가 접촉되어 있다.

그래프에는 개시되어 있지 않지만 화학강화 전 글라스의 볼 드랍 테스트 결과는 최대 20 cm이었다.

화학강화된 기준값은 약 40 cm 내지 55 cm 범위이고, 본 발명의 일 실시예에 따라 화학강화, 실리카 리치층 형성 후 실리카 리치층을 제거후 폴리싱 연마한 실험 1의 유리기판의 볼 드랍 테스트 결과는 약 95 cm 내지 140 cm 범위이고, 폴리싱 연마 후 화학강화 한 실험 2의 실리카 리치층의 파손 높이는 약 65 cm 내지 95 cm 범위이다.

즉, 본 발명의 일 실시예에 따라, 화학강화, 실리카 리치층 형성 후 실리카 리치층을 제거하여 폴리싱을 수행한 결과는 화학강화만 수행한 유리기판보다 약 3배 이상 파손 높이가 높아졌으며, 연마 후 화학강화한 경우와 비교하여도 약 2배 이상 파손 높이가 높아졌음을 확인할 수 있다.

이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.

10 : 유리기판
11 : 실리카 리치층
12 : 중심층

Claims

유리 기판을 열성형하는 단계;
열성형에 의하여 형성된 결함홈을 갖는 유리기판의 표면에 산을 첨가하여 실리카 리치층(si-rich layer)을 형성하는 단계;
실리카 리치층이 형성된 유리기판을 알칼리 세정하여 상기 실리카 리치층과 상기 결함홈 중 적어도 일부를 제거하는 단계; 및
상기 결함홈 중 나머지 일부를 갖는 유리기판의 표면을 연마하여 상기 결함홈을 제거하는 단계를 포함하는 강화 유리의 제조 방법.
제1항에 있어서,
상기 실리카 리치층을 형성하는 단계 이전에,
열 성형된 유리기판을 화학강화하는 단계;
를 더 포함하는 강화 유리의 제조 방법.
제1항에 있어서, 상기 실리카 리치층은 상기 유리기판의 표면에서 결함 홈의 깊이의 일부 또는 전부의 깊이로 형성되는 강화 유리의 제조 방법.
제1항에 있어서, 상기 실리카 리치층은 유리기판의 중심보다 5% 내지 10% 범위의 저 밀도를 갖는, 강화 유리의 제조 방법.
제1항에 있어서, 상기 산은 HNO₃, HCl, H₂SO₄ 중 어느 하나를 포함하는, 강화 유리의 제조 방법.
제1항에 있어서, 상기 알칼리 세정은 NaOH, KOH 용액 중 어느 하나를 이용하는, 강화 유리의 제조 방법.
제2항에 있어서,
상기 화학강화는 500 ℃ 이상의 열을 제공하여 수행되는, 강화 유리의 제조 방법.
제2항에 있어서,
상기 화학강화는 400 ℃ 이상 500 ℃ 이하의 열과 첨가제를 제공하여 수행되는, 강화 유리의 제조 방법.
제8항에 있어서,
상기 첨가제는 K₂CO₃, Na₂CO₃, KHCO₃, K₃PO₄, Na₃PO₄, K₂SO₄, Na₂SO₄, KOH, NaOH 중 어느 하나 이상을 포함하는 강화 유리의 제조 방법.
제1항에 있어서, 상기 실리카 리치층이 제거된 유리기판의 표면을 연마하는 단계는,
기계 연마로 수행되는 강화 유리의 제조 방법.
제10항에 있어서,
상기 기계 연마는 폴리쉬(polish) 방법으로 수행되는 강화 유리의 제조 방법.
제1항에 있어서, 상기 실리카 리치층이 제거된 유리기판의 표면을 연마하는 단계 이후에,
표면 거칠기를 조정하는 단계를 더 포함하는, 강화 유리의 제조 방법.
제12항에 있어서, 상기 표면 거칠기를 조정하는 단계는,
불산계 또는 비불산계 용액을 적용하여 수행되는 강화 유리의 제조 방법.
청구항 1 항 내지 12항 중 어느 한 항에 의해 제조된 강화 유리.
제14항에 있어서,
4.5인치 글라스를 사용한 볼 드랍 테스트에서 화학강화만 수행한 유리기판보다 3배 높은 파손 높이를 갖는 강화 유리.
제14항에 있어서,
4.5인치 글라스를 사용한 볼 드랍 테스트에서 폴리싱 연마 후 화학강화를 수행한 유리기판보다 2배 높은 파손 높이를 갖는 강화 유리.